【手続補正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備する基板処理装置であって、
前記発熱体は蛇行状に構成され、この発熱体を複数有し、各発熱体の上側端を支持体に固定し、前記各発熱体の下側端を上下方向に移動自在な状態とし、発熱体の上側端と他の発熱体の下側端とを近接させて配置し、前記各発熱体の中間部を絶縁体から離隔させてある基板処理装置。
【請求項２】
蛇行状の発熱体を複数有し、各発熱体の上側端を支持体に固定し、前記各発熱体の下側端を上下方向に移動自在な状態とし、発熱体の上側端と他の発熱体の下側端とを近接させて配置し、前記各発熱体の中間部を絶縁体から離隔させてある基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項３】
前記発熱体の前記上側端よりも前記下側端を前記絶縁体から離隔させてある請求項２記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項４】
前記発熱体の上側端に折曲部を形成してこの折曲部を支持体に掛止してある請求項２又は３記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項５】
前記折曲部が略直角に折り曲げられ、前記支持体の掛止部もこの折曲部を受け入れる略直角に形成されている請求項４に記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項６】
前記掛止部は折曲部が掛止される下壁部と下壁部に略平行で折曲部の上側への抜けを防止する上壁部と折曲部の水平方向への脱落を防止するための上壁部から垂下する横壁部とを備え、下壁部は上壁部及び横壁部とは分割可能である請求項５に記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項７】
前記発熱体の上解放スリットにおける前記折曲部にこの上解放スリット間での発熱体の短絡を防ぐ第一絶縁片を介在させてある請求項４〜６のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項８】
前記発熱体の上側端を固定するための前記支持体が、前記発熱体の下解放スリットを貫通する請求項２〜７のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項９】
前記支持体が前記発熱体と前記絶縁体との間に介在する絶縁片を貫通する請求項８に記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項１０】
前記発熱体の下端側は下固定体をスリットに貫通させ、スリット長手方向に移動自在で且つスリット垂直方向の移動を規制する状態で絶縁体に保持してある請求項２〜９のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項１１】
下側の発熱体の上端を支持する支持体に上側の発熱体の下端を水平方向視で重ねてある請求項２〜１０のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項１２】
発熱体の上端と下端との間に放熱側に対するオフセット距離を設けながら、発熱体の一部を垂下させるように発熱体の上部側に湾曲部を形成してある請求項２〜１１のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーター。
【請求項１３】
発熱体の上下方向中間部を絶縁体とは反対側に突出するよう湾曲させてある請求項２〜１１のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーター。  
【請求項１４】
請求項２〜１３のいずれかに記載の基板処理装置用電気ヒーターを備えた基板処理装置。
【請求項１５】
蛇行状の発熱体を複数有し、各発熱体の上側端を支持体に固定し、前記各発熱体の下側端を上下方向に移動自在な状態とし、発熱体の上側端と他の発熱体の下側端とを近接させて配置すると共に、前記各発熱体の中間部を絶縁体から離隔させる基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造。
【請求項１６】
請求項１に記載の基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法であって、
前記処理室に前記基板を装入する工程と、
前記発熱体により前記処理室内の基板を熱処理する工程と、
熱処理された前記基板を引出す工程とを有する
半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備し、前記発熱体は一端のみを保持部によって保持され、少なくとも一部が前記基板に向かって凸となる様に形成されている基板処理装置。
【請求項１８】
基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備し、前記発熱体は一端のみを保持部によって保持され、前記発熱体の上側端よりもこの発熱体の下側端を絶縁体から離隔させた基板処理装置。
【請求項１９】
蛇行状の発熱体と複数の保持部とを有し、該発熱体の上側端を第一の保持部によって保持し、前記発熱体の下側端を第二の保持部に当接若しくは近接させて上下方向に移動自在な状態とし、前記発熱体の中間部を絶縁体から離隔させる基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はシリコンウェーハ、ガラス基板等の基板に半導体装置を製造する基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
次に、図２３〜図２５に於いて前記加熱装置２について説明する。
円筒形状の周囲断熱材１５，１６が前記反応管４と同心に設けられ、前記周囲断熱材１５，１６は天井断熱材１７によって上端が閉塞されている。前記周囲断熱材１５の外面は図示しないヒータケースにより覆われている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
又、発熱線の拡大、収縮により発熱線が保持ピースと共に縦型炉の半径方向に移動し、或は熱歪みで不規則に変形し、変形が円周方向の場合は発熱線同士が接触する虞れがあり、或は変形が半径方向の場合は前記発熱線が導電性のある均熱管と接触する虞れがある。
【特許文献１】特開平１１−６７４２４号公報
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第一の目的を達成するため、本発明は、基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備する構成において、前記発熱体は蛇行状に構成され、この発熱体を複数有し、各発熱体の上側端を支持体に固定し、前記各発熱体の下側端を上下方向に移動自在な状態とし、発熱体の上側端と他の発熱体の下側端とを近接させて配置し、前記各発熱体の中間部を絶縁体から離隔させてある基板処理装置に係るものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記第二、第三の目的を達成するため、本発明に係る基板処理装置用電気ヒーターの特徴は、蛇行状の発熱体を複数有し、各発熱体の上側端を支持体に固定し、前記各発熱体の下側端を上下方向に移動自在な状態とし、発熱体の上側端と他の発熱体の下側端とを近接させて配置し、前記各発熱体の中間部を絶縁体から離隔させたことにある。上側端と下側端とを近接させてあるので、発熱体間の距離が開かずにより均一な加熱が可能となる。この場合、前記発熱体の前記上側端よりも前記下側端を前記絶縁体から離隔させることが望ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記各特徴において、下側の発熱体の上端を支持する支持体に上側の発熱体の下端を水平方向視で重ねるとよい。また、発熱体の上端と下端との間に放熱側に対するオフセット距離を設けながら、発熱体の一部を垂下させるように発熱体の上部側に湾曲部を形成してもよい。さらに、発熱体の上下方向中間部を絶縁体とは反対側に突出するよう湾曲させてもよい。
上記いずれかの特徴に記載の電気ヒーターはこれを備えた基板処理装置として実施することができる。また、基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造の特徴は、蛇行状の発熱体を複数有し、各発熱体の上側端を支持体に固定し、前記各発熱体の下側端を上下方向に移動自在な状態とし、発熱体の上側端と他の発熱体の下側端とを近接させて配置すると共に、前記各発熱体の中間部を絶縁体から離隔させることにある。
基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法の特徴は、上記特徴に記載の基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法において、前記処理室に前記基板を装入する工程と、前記発熱体により前記処理室内の基板を熱処理する工程と、熱処理された前記基板を引出す工程とを有することにある。
本発明に係る基板処理装置の他の特徴は、基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備し、前記発熱体は一端のみを保持部によって保持され、少なくとも一部が前記基板に向かって凸となる様に形成されていることにある。
また、本発明に係る基板処理装置のさらに他の特徴は、基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備し、前記発熱体は一端のみを保持部によって保持され、前記発熱体の上側端よりもこの発熱体の下側端を絶縁体から離隔させたことにある。
また、基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造の他の特徴は、蛇行状の発熱体と複数の保持部とを有し、該発熱体の上側端を第一の保持部によって保持し、前記発熱体の下側端を第二の保持部に当接若しくは近接させて上下方向に移動自在な状態とし、前記発熱体の中間部を絶縁体から離隔させることにある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明に係る基板処理装置によれば、基板を収納し処理する処理室と、発熱体を有し該発熱体により前記処理室内を加熱する加熱装置とを具備し、前記発熱体は一端のみを保持部によって保持され、少なくとも一部が前記基板に向かって凸となる様に形成されたので、発熱体が高温となり強度が低下した場合も、座屈現象が防止され、又発熱体が熱膨張した場合は発熱体の凸形状により変形が基板側に誘導され、又熱収縮した場合は変形が凸形状によって吸収されるので、発熱体に於ける熱歪みの発生が抑制され、発熱体間或は発熱体の均熱管等構造物への接触を防止して、発熱体の長寿命化を図ることができる等の優れた効果を発揮する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
一方、上記本発明に係る基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法の特徴によれば、上側端と下側端とを近接させてあるので、加熱が均一に行える。また、同発熱体の中間部を絶縁体から離隔させてあるので、放熱効率が良く均一な加熱が可能となる。しかも、上側端を固定し、下側端は自由であるので、熱膨張や変形が発生しても脱落の恐れがなくて確実に支持でき、組み付け精度も要せずに安価に製造が可能である。
本発明の他の目的、構成及び効果については以下に示す発明の実施の形態の項で明らかになるであろう。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前記外層断熱体４２、内層断熱体４５の材質としては、例えばアルミナ（酸化アルミニウム：Ａｌ2 Ｏ3 ）とシリカ（ＳｉＯ2 ）を主成分としている。又、前記発熱体４３には急速加熱が可能である発熱材料、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｃｒ合金が用いられ、発熱表面積が大きくなる様に、断面は平板形状等の形状が採用される。