【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の段階を含む、ナノリソグラフィの方法：
基板を提供する段階；
複数の走査プローブ顕微鏡チップを提供する段階であって、該複数のチップがイメージングチップおよび少なくとも1つの書き込みチップ(writing tip)を含む段階；
該チップを1つのパターニング化合物または複数のパターニング化合物で被覆する段階；および
複数の所望のパターンを生成するために、該被覆したチップを使用して該化合物を該基板に塗布する段階であって、各書き込みチップが該イメージングチップと同一パターンを生成する段階。
【請求項２】  すべてのチップが同一のパターニング化合物で被覆される、請求項1に記載の方法。
【請求項３】  1つのパターンを他のパターンに対して位置合わせさせるための位置決めシステムを提供する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項４】  チップが第一のパターニング化合物で被覆され、かつ基板にすでに塗布された第二のパターニング化合物の一部または全部に該第一のパターニング化合物を塗布するために使用される、請求項1に記載の方法であって、該第二のパターニング化合物が該第一のパターニング化合物と反応するか、または安定的に結合することが可能な方法。
【請求項５】  チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法によりパターン作成される基板。
【請求項７】  以下の段階を含む、アレイを作成する方法：
基板を提供する段階；
走査プローブ顕微鏡チップを提供する段階；
チップをパターニング化合物で被覆する段階；および
所定の形状の複数の個別の試料領域のアレイを作成するために、該被覆したチップを使用して該化合物を該基板に塗布する段階。
【請求項８】  複数のチップが提供される、請求項7に記載の方法。
【請求項９】  複数のチップの各々が同一のパターニング化合物で被覆される、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】  複数のチップが複数のパターニング化合物で被覆される、請求項8に記載の方法。
【請求項１１】  複数のチップがイメージングチップおよび少なくとも1つの書き込みチップを含み、かつ、各書き込みチップがイメージングチップと同じく所定の形状を作成する、請求項8に記載の方法。
【請求項１２】  チップの各々が同一のパターニング化合物で被覆される、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】  チップが複数のパターニング化合物で被覆される、請求項11に記載の方法。
【請求項１４】  1つの所定の形状を他の所定の形状に対して位置合わせさせるための位置決めシステムを提供する段階をさらに含む、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項１５】  所定の形状がドットまたはラインである、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項１６】  各試料領域が、化学分子、化学分子の混合物、生物分子、または生物分子の混合物を含む、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項１７】  各試料領域がマイクロ粒子またはナノ粒子の種類を含む、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項１８】  アレイがコンビナトリアルアレイである、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項１９】  試料領域の各々の寸法のうち、深さを除く少なくとも1つが1 μm未満である、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項２０】  チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項7、8、または11に記載の方法。
【請求項２１】  請求項7、8、または11に記載の方法で作成されるアレイ。
【請求項２２】  基板上のパターン内に配置された複数の個別の試料領域と、
所定の形状を有する各試料領域と、
該試料領域の各々の寸法のうち、深さを除く少なくとも1つが1 μm未満である試料領域とを含む、マイクロメートル以下のアレイ。
【請求項２３】  所定の形状がドットまたはラインである、請求項22に記載のアレイ。
【請求項２４】  各試料領域がパターニング化合物を含む、請求項22に記載のアレイ。
【請求項２５】  各試料領域が、生物分子、生物分子の混合物、化学分子、または化学分子の混合物を含む、請求項22に記載のアレイ。
【請求項２６】  各試料領域がマイクロ粒子またはナノ粒子の種類を含む、請求項22に記載のアレイ。
【請求項２７】  アレイがコンビナトリアルアレイである、請求項22〜26のいずれか一項に記載のアレイ。
【請求項２８】  基板の受取および保持用に適合させた試料ホルダと、
パターニング化合物を保持する少なくとも1つのウェルであって、該試料ホルダに基板を取り付けた場合に基板に隣接するように位置決めされたウェルとを含む、ナノリソグラフィの実施用に適合させた原子間力顕微鏡。
【請求項２９】  少なくとも1つのウェルがパターニング化合物を保持し、他のウェルがパターニング化合物または洗浄溶媒を保持する複数のウェルであって、試料ホルダに基板を取り付けた場合に基板に隣接するように位置決めされたウェルを含む、請求項28に記載の顕微鏡。
【請求項３０】  複数の走査プローブ顕微鏡チップと、
基板の受取および保持用に適合させた試料ホルダの受取および保持用に適合させた傾斜ステージとを含む、ナノリソグラフィの実施用に適合させた原子間力顕微鏡。
【請求項３１】  複数の走査プローブ顕微鏡チップがイメージングチップおよび少なくとも1つの書き込みチップを含む、請求項30に記載の顕微鏡。
【請求項３２】  各ウェルがパターニング化合物または洗浄溶媒を保持する複数のウェルであって、試料ホルダに基板を取り付けた場合に基板に隣接するように位置決めされたウェルをさらに含む、請求項31に記載の顕微鏡。
【請求項３３】  少なくとも1つのチップがパターニング化合物で被覆される、請求項31に記載の顕微鏡。
【請求項３４】  試料ホルダ内の基板をさらに含む、請求項33に記載の顕微鏡。
【請求項３５】  すべてのチップが同時に基板に接触し、かつ各チップが同一パターンを生成するように傾斜ステージが調整される、請求項34に記載の顕微鏡。
【請求項３６】  各チップが別々の所望のパターンを生成するように、複数のチップの各々が別々に基板に接触するよう傾斜ステージが調整される、請求項34に記載の顕微鏡。
【請求項３７】  チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項30〜36のいずれか一項に記載の顕微鏡。
【請求項３８】  つけペン(dip-pen)ナノリソグラフィを実施するためのソフトウェアを搭載したコンピュータに操作可能な状態で接続された、請求項30〜36のいずれか一項に記載の顕微鏡。
【請求項３９】  つけペンナノリソグラフィを実施するためのソフトウェアを搭載したコンピュータに操作可能な状態で接続された、請求項37に記載の顕微鏡。
【請求項４０】  以下を含む、基板上に化合物を付着させるための装置：
1つまたは複数のジオメトリエンティティ用のジオメトリエンティティデータを含む第一のデータ集合であって、第一のジオメトリエンティティとして、該第一のデータ集合に対応する第一の部分と、該化合物、該基板、該基板上に該化合物を付着させるための1つまたは複数のチップ、および該基板表面に対する少なくとも1つの該チップの接触力のうち、少なくとも1つを定義するための値に対応する第二のデータ集合とが存在する、第一のデータ集合；
描画データ提供装置であって、該第二のデータ集合が該描画データ提供装置に供給された場合に、該第一のジオメトリエンティティの描画に使用するための拡散関連情報を取得するための描画データ提供装置；
該基板上に該第一のジオメトリエンティティを描画するための1つまたは複数の描画コマンドを決定するためのパターントランスレータであって、該描画コマンドのうち、少なくとも1つが、該第一のジオメトリエンティティの少なくとも一部を描画するための時間に関連する第一の値および該第一のジオメトリエンティティの少なくとも一部の描画速度に関連する第二の値のうち、少なくとも1つを用いて生成され、該第一および第二の値のうち、少なくとも1つが（i）該拡散関連情報から取得された情報、（ii）該第一の部分から取得された第一の情報、および（iii）該第二のデータ集合から取得された第二の情報を用いて決定される、パターントランスレータ；
該1つまたは複数の描画コマンドが提供された場合に該基板上に該第一のジオメトリエンティティを描画するための描画システムであって、該描画コマンドのうち、少なくとも1つに反応して広がりが20センチメートル未満である該第一のジオメトリエンティティを描画する描画チップを含む描画システム。
【請求項４１】  描画情報が拡散係数を含む、請求項40に記載の装置。
【請求項４２】  少なくとも1つは以下である、請求項40に記載の装置：
第一の値が保持時間を表す；
第二の値が描画速度を表す。
【請求項４３】  第一のデータ集合を取得するためのコンピュータ支援設計システムをさらに含む、請求項40に記載の装置。
【請求項４４】  描画システムが走査プローブ顕微鏡を含む、請求項40に記載の装置。
【請求項４５】  走査プローブ顕微鏡が原子間力顕微鏡を含む、請求項44に記載の装置。
【請求項４６】  描画データ提供装置が、ユーザーが描画情報を手動で入力するユーザーインターフェース、描画情報を取得するためにクエリーが入力されるデータベース、および描画情報を内挿するための内挿システムのうち1つを含む、請求項44に記載の装置。
【請求項４７】  第一のエンティティの広がりが約1ナノメートル〜20センチメートルの範囲である、請求項44に記載の装置。
【請求項４８】  以下の段階を含む、基板上に化合物を付着させる方法：
（i）第一のジオメトリエンティティのための第一のジオメトリエンティティデータと、（ii）該化合物、該基板、および該基板上に該化合物を付着させるための1つまたは複数のチップのうち、少なくとも1つを定義するための1つまたは複数の値に対応する第二のデータ集合と、（iii）該基板表面に対する少なくとも1つの該チップの接触力とを含む、第一のデータ集合を取得する第一の段階；
該第一のジオメトリエンティティの描画に使用するための拡散関連情報を取得する段階；
該基板上に該第一のジオメトリエンティティを描画するための1つまたは複数の描画コマンドを決定する段階であって、該描画コマンドのうち、少なくとも1つが、該第一のジオメトリエンティティの少なくとも一部を描画するための時間に関連する第一の値および該第一のジオメトリエンティティの少なくとも一部の描画速度に関連する第二の値のうち、少なくとも1つを用いて生成され、該第一および第二の値のうち、少なくとも1つが（i）該拡散関連情報から取得された情報、（ii）該第一の部分から取得された第一の情報、および（iii）該第二のデータ集合から取得された第二の情報を用いて決定される段階；
該1つまたは複数の描画コマンドが提供された場合に該基板上に該第一のジオメトリエンティティを描画する段階であって、描画チップが該描画コマンドのうち、少なくとも1つに反応して広がりが20センチメートル未満である該第一のジオメトリエンティティを描画する段階。