【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年9月27日(2019.9.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リン配位子Ｌ１及び二座Ｎ，Ｎ配位子Ｌ２と［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ）３］錯体をケトン溶媒中で反応させて、［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体を形成する工程を含む［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体の調製方法であって、
ここで、
Ｍは、ルテニウム又はオスミウムであり、
Ｘは、陰イオン配位子であり、
Ｌは、第三級ホスフィン配位子ＰＲ１Ｒ２Ｒ３であって、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
Ｌ１は、リン原子が３個の炭素原子に対してか、又はｎ個のヘテロ原子及び３−ｎ個の炭素原子（ここで、ｎ＝１，２又は３）に対して共有結合的に結合している、Ｌとは異なるキラル若しくはアキラルな単座リン配位子又はキラル若しくはアキラルな二座リン配位子であり、
ｍは、１又は２であり、ここで、
ｍが１の場合、Ｌ１は、二座リン配位子であり、
ｍが２の場合、各Ｌ１は、単座リン配位子であり、
Ｌ２は、窒素含有ヘテロアリール基、及びアミノ基を含む二座Ｎ，Ｎ配位子であり、
ケトン溶媒は、１．０１３５×１０５Ｐａの大気圧下で１６０℃未満の沸点を有する液体ケトンであり、かつ
リン配位子Ｌ１が置換されていないか又は置換されているＢｉｎａｐ配位子、ＰＰｈｏｓ配位子、ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子、ＱＰｈｏｓ配位子、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子、及びＢｏｐｈｏｚ配位子からなる群より選択されるか、または
ケトン溶媒がアセトン又はメチルエチルケトンである、
方法。
【請求項２】
［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ）３］錯体をケトン溶媒中で二座Ｎ，Ｎ配位子Ｌ２と反応させて、［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ）２（Ｌ２）］錯体を形成する工程を含む［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ）２（Ｌ２）］錯体の調製方法であって、
ここで、
Ｍは、ルテニウム又はオスミウムであり、
Ｘは、陰イオン配位子であり、
Ｌは、第三級ホスフィン配位子ＰＲ１Ｒ２Ｒ３であって、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
Ｌ２は、窒素含有ヘテロアリール基、及びアミノ基を含む二座Ｎ，Ｎ配位子であり、
ケトン溶媒は、１．０１３５×１０５Ｐａの大気圧下で１６０℃未満の沸点を有する液体ケトンである
方法。
【請求項３】
［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ）３］錯体をケトン溶媒中でリン配位子Ｌ１と反応させて、［Ｍ（Ｘ）２Ｌ（Ｌ１）ｍ］錯体を形成する工程を含む［Ｍ（Ｘ）２Ｌ（Ｌ１）ｍ］錯体の調製方法であって、
ここで、
Ｍは、ルテニウム又はオスミウムであり、
Ｘは、陰イオン配位子であり、
Ｌは、第三級ホスフィン配位子ＰＲ１Ｒ２Ｒ３であって、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
Ｌ１は、リン原子が３個の炭素原子に対してか、又はｎ個のヘテロ原子及び３−ｎ個の炭素原子（ここで、ｎ＝１，２又は３）に対して共有結合的に結合している、Ｌとは異なるキラル若しくはアキラルな単座リン配位子又はキラル若しくはアキラルな二座リン配位子であり、
ｍは、１又は２であり、ここで、
ｍが１の場合、Ｌ１は、二座リン配位子であり、
ｍが２の場合、各Ｌ１は、単座リン配位子であり、
ケトン溶媒は、１．０１３５×１０５Ｐａの大気圧下で１６０℃未満の沸点を有する液体ケトンである
方法。
【請求項４】
以下の工程：
ａ）トランス‐［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体をアルコール溶媒、又はアルコール溶媒及び芳香族溶媒の混合物中で処理する工程、及び
ｂ）その反応混合物を加熱して、シス‐［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体を形成する工程
を含むシス‐［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体の調製方法であって、
ここで、
Ｍは、ルテニウム又はオスミウムであり、
Ｘは、陰イオン配位子であり、
Ｌ１は、リン原子が３個の炭素原子に対してか、又はｎ個のヘテロ原子及び３−ｎ個の炭素原子（ここで、ｎ＝１，２又は３）に対して共有結合的に結合している、キラル若しくはアキラルな単座リン配位子又はキラル若しくはアキラルな二座リン配位子であり、
ｍは、１又は２であり、ここで、
ｍが１の場合、Ｌ１は、二座リン配位子であり、
ｍが２の場合、各Ｌ１は、単座リン配位子であり、
Ｌ２は、窒素含有ヘテロアリール基、及びアミノ基を含む二座Ｎ，Ｎ配位子である
方法。
【請求項５】
工程（ａ）がリン配位子Ｌ１をさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ）２（Ｌ２）］錯体をアルコール溶媒、又はアルコール溶媒及び芳香族溶媒の混合物中でリン配位子Ｌ１と反応させて、シス‐［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体を形成させる工程を含むシス‐［Ｍ（Ｘ）２（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）］錯体の調製方法であって、
ここで、
Ｍは、ルテニウム又はオスミウムであり、
Ｘは、陰イオン配位子であり、
Ｌは、第三級ホスフィン配位子ＰＲ１Ｒ２Ｒ３であって、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
Ｌ１は、リン原子が３個の炭素原子に対してか、又はｎ個のヘテロ原子及び３−ｎ個の炭素原子（ここで、ｎ＝１，２又は３）に対して共有結合的に結合している、Ｌとは異なるキラル若しくはアキラルな単座リン配位子又はキラル若しくはアキラルな二座リン配位子であり、
ｍは、１又は２であり、ここで、
ｍが１の場合、Ｌ１は、二座リン配位子であり、
ｍが２の場合、各Ｌ１は、単座リン配位子であり、
Ｌ２は、窒素含有ヘテロアリール基、及びアミノ基を含む二座Ｎ，Ｎ配位子である
方法。
【請求項７】
Ｍがルテニウムである、請求項１から４、又は６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ｎ個のヘテロ原子がＮ及びＯからなる群より選択される、請求項１、３、４又は６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
リン配位子Ｌ１が置換されていないか又は置換されているＢｉｎａｐ配位子、ＰＰｈｏｓ配位子、ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子、ＱＰｈｏｓ配位子、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子、及びＢｏｐｈｏｚ配位子からなる群より選択される、請求項１、３、４、６又は８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
リン配位子Ｌ１がＰＰｈ３、ｄｐｐｆ（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）、ｄｐｐｐ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ｄｐｐｂ（１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン）、Ｄｉｐｆｃ（１，１’−ビス（ジ−イソプロピルホスフィノ）フェロセン）、及びｄＣｙＰｆｃからなる群より選択される、請求項１、３、４、６又は８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
Ｌ２が以下の配位子（１）、（２）、及び（３）：
2017504569.tif 000001
［式中、
Ｒ３１及びＲ３２、Ｒ４１及びＲ４２、並びにＲ５１及びＲ５２は、−Ｈ、無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
Ｒ３３及びＲ３４、Ｒ４３及びＲ４４、並びにＲ５３及びＲ５４は、−Ｈ、無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
Ｒ３５、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ５５、Ｒ５６、及びＲ５７は、−Ｈ、無置換Ｃ１−２０−アルキル、置換Ｃ１−２０−アルキル、無置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、置換Ｃ３−２０−シクロアルキル、無置換Ｃ１−２０−アルコキシ、置換Ｃ１−２０−アルコキシ、無置換Ｃ６−２０−アリール、置換Ｃ６−２０−アリール、無置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、置換Ｃ１−２０−ヘテロアルキル、無置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ２−２０−ヘテロシクロアルキル、無置換Ｃ４−２０−ヘテロアリール、及び置換Ｃ４−２０−ヘテロアリールからなる群より独立して選択され、
ｃは、０、１、２、３又は４であり、
ｄは、０、１、２又は３であり、
ｅは、０、１、２、３、４又は５であり、
ｆは、０、１又は２であり、
ｇは、０、１又は２であり、
ｈは、０、１、２、３又は４である］
からなる群より選択される、請求項１、２、４又は６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
Ｘがハロゲン化物である、請求項１から４、又は６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
ケトン溶媒がアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、及びジエチルケトンからなる群より選択される、請求項２又は３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
ケトン溶媒がアセトン又はメチルエチルケトンである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
アルコール溶媒がメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノールからなる群より選択される、請求項４又は６に記載の方法。
【請求項１６】
アルコール溶媒がイソプロパノールである、請求項１５に記載の方法。