【手続補正書】
【提出日】平成19年2月26日(2007.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発振器と、入射する前記レーザ発振器から出力されたレーザを第１の方向または第１の方向に対して所定の角度偏向した第２の方向に出射する光路偏向手段と、第１と第２の２個のレーザ照射部と、前記光路偏向手段から出射される第１の方向の前記レーザを前記第１のレーザ照射部に導く第１の光学系と、前記光路偏向手段から出射される第２の方向の前記レーザを前記第２のレーザ照射部に導く第２の光学系と、を備え、前記レーザ発振器から出力される前記レーザを前記光路偏向手段により選択して前記２個のレーザ照射部のいずれか一方に供給するようにしたレーザ加工機において、
入射するレーザを、光軸が入射するレーザの光軸と同軸の第１の分岐レーザと、光軸が入射するレーザの光軸と交差する第２の分岐レーザに分岐して出射させるビームスプリッタと、
このビームスプリッタを、前記レーザ発振器と前記光路偏向手段との間で、前記レーザ発振器から出力される前記レーザの光軸に交差させる動作位置と前記レーザの光軸から外れる待機位置との間で移動させる移動手段と、
前記動作位置に位置決めされた前記ビームスプリッタから分岐される前記第２の分岐レーザを前記光路偏向手段にて前記第１の分岐レーザが供給されない方に選択された前記第２の光学系の前記レーザ照射部に導く第３の光学系と、をさらに備え、
前記レーザを、前記２個のレーザ照射部のいずれか一方または両方に供給することを選択できるようにしたことを特徴とするレーザ加工機。
【請求項２】
前記第３の光学系に第２の光路偏向手段を配置してなる、
請求項１記載のレーザ加工機。
【請求項３】
前記第３の光学系にエネルギー調節手段を配置してなる、
請求項１記載のレーザ加工機。
【請求項４】
前記光路偏向手段が、直列に配置された２個の光路偏向器からなる、
請求項１記載のレーザ加工機。
【請求項５】
前記２個の光路偏向器が、接触して配置され、
前記第３の光学系が、前記２個の光路偏向器を通過した後の前記第２の光学系と共通してなる、
請求項１記載のレーザ加工機。
【請求項６】
前期２個の光路偏向器が、離れて配置され、
前記第３の光学系が、前記２個の光路偏向器の間において前記第２の光学系と共通してなる、
請求項１記載のレーザ加工機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明は、レーザ発振器（１）と、入射する前記レーザ発振器から出力されたレーザを第１の方向（２ｐ）または第１の方向に対して所定の角度偏向した第２の方向（２ｑ）に出射する光路偏向手段（２０，２１）と、第１と第２の２個のレーザ照射部（７ａ，７ｂ）と、前記光路偏向手段（２０，２１）から出射される第１の方向（２ｐ）の前記レーザを前記第１のレーザ照射部（７ａ）に導く第１の光学系（２２，２３）と、前記光路偏向手段（２０，２１）から出射される第２の方向（２ｑ）の前記レーザを前記第２のレーザ照射部（７ｂ）に導く第２の光学系（２４，２５）（３４，２５）と、を備え、前記レーザ発振器（１）から出力される前記レーザを、前記光路偏向手段（２０，２１）により選択して前記２個のレーザ照射部（７ａ，７ｂ）のいずれか一方に供給するようにしたレーザ加工機において、入射するレーザを、光軸が入射するレーザの光軸と同軸の第１の分岐レーザ（２ｓ）と、光軸が入射するレーザの光軸と交差する第２の分岐レーザ（２ｒ）に分岐して出射させるビームスプリッタ（３０）と、このビームスプリッタを、前記レーザ発振器（１）と前記光路偏向手段（２０，２１）との間で、前記レーザ発振器から出力される前記レーザの光軸に交差させる動作位置と前記レーザの光軸から外れる待機位置との間で移動させる移動手段と、前記動作位置に位置決めされた前記ビームスプリッタ（３０）から分岐される前記第２の分岐レーザ（２ｒ）を前記光路偏向手段（２０，２１）（２１）にて前記第１の分岐レーザ（２ｓ）が供給されない方に選択された前記第２の光学系（２４，２５）の前記レーザ照射部（７ｂ）に導く第３の光学系（３２，３３，３４）（３２，４０，２４）と、をさらに備え、前記レーザを、前記２個のレーザ照射部のいずれか一方または両方に供給することを選択できるようにしたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ビームスプリッタ３０は、入射するレーザの５０％を透過させ（透過ビーム２ｓ）、残りの５０％を反射する（反射ビーム２ｒ）。図示を省略するビームスプリッタ移動装置はビームスプリッタ３０を、レーザ発振器１と光路偏向器２０との間で、点線で示すレーザビーム２の光軸上または実線で示すレーザビーム２と干渉しない位置に位置決めする。以下、実線で示すビームスプリッタ３０の位置を「待機位置」、点線で示すビームスプリッタ３０の位置を「動作位置」という。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
光路偏向器３３は、光路偏向器２１と同様に、予め定める超音波発生電圧が印加されている場合は、入射する反射ビーム２ｒの光軸を角度−θ偏向させ、その他の場合は反射ビーム２ｒを透過させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
全反射ミラー３４は、反射ビーム２ｒの光軸（図中の点線）が、全反射ミラー２４で反射されて全反射ミラー２５に入射するレーザビーム２ｑの光軸（図中の二点鎖線）と同軸になるように、すなわち、第２の光学系の光軸と同軸になるように位置決めされている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
光路偏向器２０、３３をオン、光路偏向器２１をオフさせた状態でレーザ発振器１にレーザビーム２を出力させる。すると、ビームスプリッタ３０を透過した透過ビーム２ｓは第１の光学系を介して加工ヘッド７ａに入射し、ビームスプリッタ３０で反射された反射ビーム２ｒは点線で示す光路を通り、第３の光学系および第２の光学系を介して加工ヘッド７ｂに入射する。この結果、スキャン領域１０ａ、１０ｂ内の加工を同時に行うことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
なお、通常、反射ビーム２ｒのエネルギは透過ビーム２ｓのエネルギよりも大きくなるので、図２に示すように、光路偏向器３３に代えてエネルギ調節手段３５（例えば透明なガラス）を設け、反射ビーム２ｂのエネルギを減衰させて反射ビーム２ｂのエネルギ強度と透過ビーム２ａエネルギ強度がほぼ等しくなるように構成してもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
この実施例の場合、光路偏向器２０と光路偏向器２１は距離を隔てて直列に配置されており、レーザビーム２ｐは光路偏向器２１を透過しないように構成されていると共に、光路偏向器２１はビーム出射方向が光路偏向器２０のビーム出射方向と平行になるように構成されている。また、全反射ミラー２４は図示を省略する全反射ミラー２４移動装置により光路偏向器２０と光路偏向器２１との間に位置決め可能に配置されている。反射位置に配置された全反射ミラー２４により反射される反射ビーム２ｒの光軸は光路偏向器２１に入射するレーザビーム２ｑの光軸と同軸である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
全反射ミラー３２と反射位置においた全反射ミラー２４との間には、全反射ミラー３２で反射された反射ビーム２ｒを全反射ミラー２４に入射させる固定の全反射ミラー４０が配置されている。そして、この実施例では、全反射ミラー３２、全反射ミラー４０および全反射ミラー２４により第３の光学系が構成されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
光路偏向器２０、２１をオンさせた状態でレーザ発振器１にレーザビーム２を出力させる。すると、ビームスプリッタ３０を透過した透過ビーム２ｓは第１の光学系を介して加工ヘッド７ａに入射し、ビームスプリッタ３０で反射された反射ビーム２ｒは点線で示す光路を通り、第３の光学系を介して加工ヘッド７ｂに入射する。この結果、スキャン領域１０ａ、１０ｂ内の加工を同時に行うことができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
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