【手続補正書】
【提出日】令和1年7月11日(2019.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
第１の反応性成分を含む第１の水性組成物を基板の金属層上に堆積させるステップと、
堆積された前記第１の水性組成物の選択された部分上に第２の反応性成分を含む第２の水性組成物を堆積させて、前記第１の反応性成分と前記第２の反応性成分との間の化学反応により、前記金属層の選択された領域を保護するためのパターンで二成分材料マスクを形成するステップと、
エッチ溶液を堆積させて、前記二成分材料マスクによって保護されていない領域の前記金属層を除去するステップと
を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分は固定化反応性成分であり、前記第２の反応性成分はエッチレジスト反応性成分であることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分はエッチレジスト反応性成分であり、前記第２の反応性成分は固定化反応性成分であることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分および前記第２の反応性成分のうちの一方が、カチオン性成分を含み、そして前記第１の反応性成分および前記第２の反応性成分のうちの他方が、アニオン性成分を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
前記カチオン性成分が、少なくとも１個のイミン基、少なくともアミン基、またはその両方を含み、
前記アニオン性成分が、少なくとも１個のホスフェート基、少なくとも１個のスルホネート基、少なくとも１個のアクリレート基、またはこれらの任意の組み合わせを含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載の方法であって、
前記カチオン性成分および前記アニオン性成分のうちの少なくとも１つがポリマーを含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法であって、
前記二成分材料マスクは、水および前記エッチ溶液のうちの少なくとも１つに不溶性であることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法であって、
前記第２の水性組成物を堆積させるステップの前に、前記金属層上に堆積された前記第１の水性組成物を乾燥させるステップを更に含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法であって、
前記金属層上に堆積された前記第１の水性組成物の、前記化学反応を起こさない１つまたはそれより多くの追加の成分を除去するステップを更に含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、
前記第１の水性組成物の１つまたはそれより多くの追加の成分を除去するステップと、前記エッチ溶液を堆積させるステップとが同時に実施されることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法であって、
前記エッチ溶液を堆積させるステップの後に、前記二成分材料マスクを除去するステップを更に含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法であって、
前記第１の水性組成物、前記第２の水性組成物、またはその両方が、インクジェット印刷によって堆積されることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法であって、
前記金属層が銅を含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法であって、
前記第２の水性組成物が染料を更に含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
本発明の特定の特徴を本明細書および図面において説明されてきたが、当業者であれば多くの改変態様、要素の置換および変更、および均等物を容易に想到されよう。したがって、添付の特許請求の範囲は、本発明の精神の範囲に含まれる、あらゆるそのような修正および変更を含むことが意図されていることを理解されたい。
本発明は、例えば、以下を提供する：
（項目１）
方法であって、
第１の反応性成分を含む第１の液体組成物を金属表面上に適用してプライマー層を形成するステップと、
ノンインパクト印刷プロセスによる像様の印刷により前記プライマー層上に第２の反応性成分を含む第２の液体組成物を適用して所定のパターンに従ってエッチレジストマスクを生成するステップとを含み、
前記第２の液体組成物の液滴が前記プライマー層に接触すると、前記第２の反応性成分は液滴を固定化するように前記第１の反応性成分と化学反応を起こすことを特徴とする方法。
（項目２）
項目１に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分は固定化反応性成分であり、前記第２の反応性成分はエッチレジスト反応性成分であることを特徴とする方法。
（項目３）
項目１に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分はエッチレジスト反応性成分であり、前記第２の反応性成分は固定化反応性成分であることを特徴とする方法。
（項目４）
項目２または３に記載の方法であって、
前記固定化反応性成分および前記エッチレジスト反応性成分は水溶性であり、化学反応は水および酸性エッチ溶液に不溶性の二成分材料を生成することを特徴とする方法。
（項目５）
項目１に記載の方法であって、
前記化学反応に関与しなかった前記プライマー層の部分を除去するステップと、
前記エッチレジストマスクで覆われていない露出した金属部分を除去するために、金属エッチング溶液を用いてエッチングプロセスを実行するステップとを更に含むことを特徴とする方法。
（項目６）
項目５に記載の方法であって、
前記プライマー層の部分を除去するステップと、前記エッチングプロセスを実行するステップとが同時に実施されることを特徴とする方法。
（項目７）
項目１に記載の方法であって、
前記第１の液体組成物の適用が、ノンインパクト印刷によって像様に行われることを特徴とする方法。
（項目８）
項目１に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分および前記第２の反応性成分のいずれか一方が固定化成分であり、
前記固定化成分は、ポリエチレンイミン、二価の金属塩、酸、ビニルピロリドンのヘテロポリマー、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルアミノプロピルラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリ四級アミン、天然形態かまたはアンモニウム塩として存在するポリアミン、またはそれらの任意の混合物の少なくとも１つを含むことを特徴とする方法。
（項目９）
項目１に記載の方法であって、
前記第１の反応性成分および前記第２の反応性成分のいずれか一方は、アクリレート、スチレンアクリレート、ホスフェート、スルホネートおよびそれらの任意の混合物の少なくとも１つを含むエッチレジスト成分であることを特徴とする方法。
（項目１０）
金属層上にエッチングレジストマスクを適用するための二液型インク組成物セットであって、
固定化反応性成分を含む第１の液体組成物と、
エッチレジスト反応性成分を含む第２の液体組成物とを含み、
前記固定化反応性成分および前記エッチレジスト反応性成分は化学反応を起こして水および酸性エッチ溶液に不溶性の二成分材料を形成することができることを特徴とする二液型インク組成物セット。
（項目１１）
項目１０に記載の二液型インク組成物セットであって、
前記固定化成分は、ポリエチレンイミン、二価の金属塩、酸、ビニルピロリドンのヘテロポリマー、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルアミノプロピルラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリ四級アミン、天然形態かまたはアンモニウム塩として存在するポリアミン、またはそれらの任意の混合物の少なくとも１つを含むことを特徴とする二液型インク組成物セット。
（項目１２）
項目１０に記載の二液型インク組成物セットであって、
前記エッチレジスト成分は、アクリレート、スチレンアクリレート、ホスフェート、スルホネートおよびそれらの任意の混合物の少なくとも１つを含むことを特徴とする二液型インク組成物セット。