【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）コオレフィンを存在させず、一般式Ｉ、II、IIIまたはIV、
【化１】
2004190030.tif 000001
［式中、
MはOsまたはRuであり、
RおよびR1は、独立して、水素またはC2-C20アルケニル、C2-C20アルキニル、C1-C20アルキル、アリール、C1-C20カルボキシレート、C1-C20アルコキシ、C2-C20アルケニルオキシ、C2-C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2-C20アルコキシカルボニル、C1-C20アルキルチオ、C1-C20アルキルスルホニルおよびC1-C20アルキルスルフィニルよりなる群から選ばれる炭化水素であり、
XおよびX1は独立して任意のアニオン性配位子であり、
LおよびL1は、独立して任意の中性配位子であるが、場合により、LおよびL1は互いに結合して二座の中性配位子を形成してよい］
【化２】
2004190030.tif 000002
［式中、
M1はOsまたはRuであり、
R2およびR3は、独立して、水素または炭化水素C2-C20アルケニル、C2-C20アルキニル、C1-C20アルキル、アリール、C1-C20カルボキシレート、C1-C20アルコキシ、C2-C20アルケニルオキシ、C2-C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2-C20アルコキシカルボニル、C1-C20アルキルチオ、C1-C20アルキルスルホニルおよびC1-C20アルキルスルフィニルよりなる群から選ばれる炭化水素であり、
X2はアニオン性配位子であり、
L2は中性のモノ−または多環式π結合配位子であり、
L3はホスフィン、スルホン化ホスフィン、フッ素化ホスフィン、３個までのアミノアルキル−、アンモニウムアルキル−、アルコキシアルキル−、アルコキシカルボニルアルキル−、ヒドロキシカルボニルアルキル−、ヒドロキシアルキル−またはケトアルキル−基を有する官能化ホスフィン、ホスファイト、ホスフィナイト、ホスフォナイト、ホスフィナミン、アルシン、スチベン、エーテル、アミン、アミド、イミン、スルホキシド、チオエーテルおよびピリジンよりなる群から選ばれる配位子であり、
Y-は非配位アニオンであり、
nは０〜５の範囲の整数である］
【化３】
2004190030.tif 000003
［式中、
M2はMoまたはWであり、
R4、R5は、独立して、水素またはC2-C20アルケニル、C2-C20アルキニル、C1-C20アルキル、アリール、C1-C20カルボキシレート、C1-C20アルコキシ、C2-C20アルケニルオキシ、C2-C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2-C20アルコキシカルボニル、C1-C20アルキルチオ、C1-C20アルキルスルホニルおよびC1-C20アルキルスルフィニルよりなる群から選ばれる炭化水素であり、
R6およびR7は独立して、非置換もしくはハロ置換アルキル基、アリール基、アラルキル基またはこれらのケイ素含有類似物のいずれかから選択される］
【化４】
2004190030.tif 000004
［式中、
MはOsまたはRuであり、
RおよびR1は独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、および置換もしくは非置換のアルキルよりなる群から選択され、
XおよびX1は独立して、任意のアニオン性配位子であり、
LおよびL1は独立して、任意の中性配位子である］
の化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物の存在下でニトリルゴムを反応させるステップ、
および任意に
（ｂ）ステップ（ａ）の生成物を水素化するステップ
を含んで成る、場合により水素化された、ニトリルゴムの製造方法。
【請求項２】
均一接触還元をその場で、すなわちステップ（ａ）の生成物を単離せずに、行なう請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
複分解触媒が一般式Ｉの化合物［式中、LおよびL1は独立して、トリアルキルホスフィン、イミダゾリジニリデンまたはイミダゾリジンよりなる群から選択される］である請求項１〜２のいずれかに記載の製造方法。
【請求項４】
LまたはL1のいずれかがトリアルキルホスフィンであり、残りの配位子がイミダゾリジニリデンであり、XおよびX1が塩化物イオンであり、Mがルテニウムである請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランおよびシクロヘキサンよりなる群から選ばれる不活性溶媒中で製造を行なう請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
式：
【化５】
2004190030.tif 000005
［式中、それぞれのR8は独立してC1-C8-アルキル基、C4-C8-シクロアルキル基、C6-C15-アリール基およびC7-C15-アラルキル基よりなる群から選択され、Bはリン、ヒ素、イオウ、およびスルホキシド基（S=0）よりなる群から選択され、X3は水素およびアニオンよりなる群から選択され、ｌは2、3または4であり、mは2または3であり、nは1、2または3である］
の触媒を用いて水素化を行なう請求項１〜２のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
水素化触媒が、
【化６】
2004190030.tif 000006
である請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
分子量(MW)が20,000〜250,000の範囲であり、ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が1〜50の範囲であり、MWD（多分散性指数）が2.5より小さい、場合により水素化されたニトリルゴム。
【請求項９】
ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50〜30の範囲であり、少なくとも１種のフィラー、および任意に少なくとも１種の架橋剤を有する、少なくとも１種の、場合により水素化されたニトリルゴムポリマーを含んで成る高分子複合材料。
【請求項１０】
ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50〜30の範囲であり、少なくとも１種のフィラー、および任意に少なくとも１種の架橋剤を有する、少なくとも１種の、場合により水素化されたニトリルゴムポリマーを混合する請求項９に記載の高分子複合材料の製造方法。
【請求項１１】
ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50〜30の範囲であり、少なくとも１種のフィラー、および少なくとも１種の架橋剤を有する、少なくとも１種の、場合により水素化されたニトリルゴムポリマーを含む高分子複合材料をインジェクション成形する工程を含んで成る成形品の製造方法。
【請求項１２】
成形品がシール、ホース、ベアリングパッド、固定子、井戸先端シール、バルブプレート、ケーブル外装、ホイール、ロール、インプレースガスケットまたはパイプシールである請求項１１に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明の高分子複合材料は、例えばインジェクション成形技術によって製造される、シール、ホース、ベアリングパッド、固定子、井戸先端シール、バルブプレート、ケーブル外装、ホイール、ロール、パイプシール、インプレースガスケットまたはフットウェア部品などの成形品の製造に極めて好適である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
表４から、高分子複合材料３で用いた低ムーニーHNBRの分子量（Mw）がTherban（登録商標） A3406のものの僅か66％であるにも拘らず、物理特性は非常に良好なままであることが明らかである。
本発明の主たる態様および好ましい態様は、以下を包含する。
〔１〕  （ａ）コオレフィンを存在させず、一般式Ｉ、II、IIIまたはIV、
【化１】
2004190030.tif 000007
［式中、
MはOsまたはRuであり、
RおよびR1は、独立して、水素またはC2-C20アルケニル、C2-C20アルキニル、C1-C20アルキル、アリール、C1-C20カルボキシレート、C1-C20アルコキシ、C2-C20アルケニルオキシ、C2-C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2-C20アルコキシカルボニル、C1-C20アルキルチオ、C1-C20アルキルスルホニルおよびC1-C20アルキルスルフィニルよりなる群から選ばれる炭化水素であり、
XおよびX1は独立して任意のアニオン性配位子であり、
LおよびL1は、独立して任意の中性配位子であるが、場合により、LおよびL1は互いに結合して二座の中性配位子を形成してよい］
【化２】
2004190030.tif 000008
［式中、
M1はOsまたはRuであり、
R2およびR3は、独立して、水素または炭化水素C2-C20アルケニル、C2-C20アルキニル、C1-C20アルキル、アリール、C1-C20カルボキシレート、C1-C20アルコキシ、C2-C20アルケニルオキシ、C2-C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2-C20アルコキシカルボニル、C1-C20アルキルチオ、C1-C20アルキルスルホニルおよびC1-C20アルキルスルフィニルよりなる群から選ばれる炭化水素であり、
X2はアニオン性配位子であり、
L2は中性のモノ−または多環式π結合配位子であり、
L3はホスフィン、スルホン化ホスフィン、フッ素化ホスフィン、３個までのアミノアルキル−、アンモニウムアルキル−、アルコキシアルキル−、アルコキシカルボニルアルキル−、ヒドロキシカルボニルアルキル−、ヒドロキシアルキル−またはケトアルキル−基を有する官能化ホスフィン、ホスファイト、ホスフィナイト、ホスフォナイト、ホスフィナミン、アルシン、スチベン、エーテル、アミン、アミド、イミン、スルホキシド、チオエーテルおよびピリジンよりなる群から選ばれる配位子であり、
Y-は非配位アニオンであり、
nは０〜５の範囲の整数である］
【化３】
2004190030.tif 000009
［式中、
M2はMoまたはWであり、
R4、R5は、独立して、水素またはC2-C20アルケニル、C2-C20アルキニル、C1-C20アルキル、アリール、C1-C20カルボキシレート、C1-C20アルコキシ、C2-C20アルケニルオキシ、C2-C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2-C20アルコキシカルボニル、C1-C20アルキルチオ、C1-C20アルキルスルホニルおよびC1-C20アルキルスルフィニルよりなる群から選ばれる炭化水素であり、
R6およびR7は独立して、非置換もしくはハロ置換アルキル基、アリール基、アラルキル基またはこれらのケイ素含有類似物のいずれかから選択される］
【化４】
2004190030.tif 000010
［式中、
MはOsまたはRuであり、
RおよびR1は独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、および置換もしくは非置換のアルキルよりなる群から選択され、
XおよびX1は独立して、任意のアニオン性配位子であり、
LおよびL1は独立して、任意の中性配位子である］
の化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物の存在下でニトリルゴムを反応させるステップ、
および任意に
（ｂ）ステップ（ａ）の生成物を水素化するステップ
を含んで成る、場合により水素化された、ニトリルゴムの製造方法。
〔２〕  水素化を均一触媒条件下で行なう上記〔１〕に記載の製造方法。
〔３〕  均一接触還元をその場で、すなわちステップ（ａ）の生成物を単離せずに、行なう上記〔２〕に記載の製造方法。
〔４〕  ステップ（ｂ）の前またはステップ（ｂ）の間に、更なる水素化触媒を添加しない上記〔１〕に記載の製造方法。
〔５〕  複分解触媒が一般式Ｉの化合物［式中、LおよびL1は独立して、トリアルキルホスフィン、イミダゾリジニリデンまたはイミダゾリジンよりなる群から選択される］である上記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６〕  LまたはL1のいずれかがトリアルキルホスフィンであり、残りの配位子がイミダゾリジニリデンであり、XおよびX1が塩化物イオンであり、Mがルテニウムである上記〔５〕に記載の製造方法。
〔７〕  ニトリルゴムに対する前記化合物の割合が0.005〜5の範囲である上記〔１〕〜上記〔６〕のいずれかに記載の製造方法。
〔８〕  モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランおよびシクロヘキサンよりなる群から選ばれる不活性溶媒中で製造を行なう上記〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の製造方法。
〔９〕  式：
【化５】
2004190030.tif 000011
［式中、それぞれのR8は独立してC1-C8-アルキル基、C4-C8-シクロアルキル基、C6-C15-アリール基およびC7-C15-アラルキル基よりなる群から選択され、Bはリン、ヒ素、イオウ、およびスルホキシド基（S=0）よりなる群から選択され、X3は水素およびアニオンよりなる群から選択され、ｌは2、3または4であり、mは2または3であり、nは1、2または3である］
の触媒を用いて水素化を行なう上記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の製造方法。
〔１０〕  水素化触媒が、
【化６】
2004190030.tif 000012
である上記〔９〕に記載の製造方法。
〔１１〕  分子量(MW)が20,000〜250,000の範囲であり、ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が1〜50の範囲であり、MWD（多分散性指数）が2.5より小さい、場合により水素化されたニトリルゴム。
〔１２〕  ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50〜30の範囲であり、少なくとも１種のフィラー、および任意に少なくとも１種の架橋剤を有する、少なくとも１種の、場合により水素化されたニトリルゴムポリマーを含んで成る高分子複合材料。
〔１３〕  原料ポリマーのムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50より小さい上記〔１２〕に記載の高分子複合材料。
〔１４〕  高分子複合材料が過酸化物系を含む上記〔１２〕または〔１３〕に記載の高分子複合材料。
〔１５〕  ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50〜30の範囲であり、少なくとも１種のフィラー、および任意に少なくとも１種の架橋剤を有する、少なくとも１種の、場合により水素化されたニトリルゴムポリマーを混合する上記〔１２〕〜〔１４〕のいずれかに記載の高分子複合材料の製造方法。
〔１６〕  ムーニー粘度(100℃でのML 1+4)が50〜30の範囲であり、少なくとも１種のフィラー、および少なくとも１種の架橋剤を有する、少なくとも１種の、場合により水素化されたニトリルゴムポリマーを含む高分子複合材料をインジェクション成形する工程を含んで成る成形品の製造方法。
〔１７〕  成形品がシール、ホース、ベアリングパッド、固定子、井戸先端シール、バルブプレート、ケーブル外装、ホイール、ロール、インプレースガスケットまたはパイプシールである上記〔１６〕に記載の製造方法。