【手続補正書】
【提出日】平成20年9月12日(2008.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2008514561.tif 000001
『式中、
Ｒ７は、式：
【化２】
2008514561.tif 000002
（ここで、
Ｒ１は、水素またはヒドロキシであり、
＊は、炭素原子に対する結合部位である）の基を表し、
Ｒ２は、水素、メチルまたはエチルを表し、
Ｒ３は、式：
【化３】
2008514561.tif 000003
「ここで、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ａは、結合またはフェニルを表し、
Ｒ４は、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５は、式：
【化４】
2008514561.tif 000004
［式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ２３は、水素または式：
＊−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨまたは＊−（ＣＨ２）ｏ−ＮＨ２
（ここで、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
ｎおよびｏは、互いに独立して１、２、３または４の数である）の基を表し、
ｍは、０または１の数である］の基を表し、
Ｒ８およびＲ１２は、互いに独立して式：
＊−ＣＯＮＨＲ１４または＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５
《式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して式：
【化５】
2008514561.tif 000005
〈式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ａは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ａは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ａは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジン
環を形成し、
Ｒ８ａおよびＲ１２ａは、互いに独立して、
＊−（ＣＨ２）Ｚ１ａ−ＯＨ、＊−（ＣＨ２）Ｚ２ａ−ＮＨＲ１３ａ、
＊−ＣＯＮＨＲ１４ａまたは＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５ａ
［式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｚ１ａおよびＺ２ａは、互いに独立して、１、２または３であり、
Ｒ１３ａは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｒ１４ａおよびＲ１５ａは、互いに独立して式：
【化６】
2008514561.tif 000006
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｃは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｃは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｃは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｃは、０または１の数であり、
そして、
ｌｃは、１、２、３または４の数である）の基を表す］を表し、
Ｒ９ａおよびＲ１１ａは、互いに独立して水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ａは、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ１６ａは、式：
【化７】
2008514561.tif 000007
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｄは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｄは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｄは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｄは、０または１の数であり、
そして、
ｌｄは、１、２、３または４の数である）の基を表し、
ｋａは、０または１の数であり、
そして、
ｌａ、ｗａ、ｘａおよびｙａは、互いに独立して、１、２、３または４の数であ
る〉の基を表す》の基を表し、
Ｒ９およびＲ１１は、互いに独立して、水素、メチル、＊−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ
または式：
【化８】
2008514561.tif 000008
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ２０は、水素または＊−（ＣＨ２）ｉ−ＮＨＲ２２
（式中、
Ｒ２２は、水素またはメチルを表し、
そして、
ｉは、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ２１は、水素またはメチルを表し、
ｆは、０、１、２または３の数であり、
ｇは、１、２または３の数であり、
そして、
ｈは、１、２、３または４の数である］を表すか、
または、
Ｒ８は、＊−（ＣＨ２）Ｚ１−ＯＨ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｚ１は、１、２または３の数である）を表し、
かつ、
Ｒ９は、式：
【化９】
2008514561.tif 000009
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
そして、
ｈは、１、２、３または４の数である）の基を表し、
Ｒ１０は、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ１６およびＲ１７は、互いに独立して、式：
【化１０】
2008514561.tif 000010
｛式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｂは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｂは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｂは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ｂおよびＲ６ｂは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラ
ジン環を形成し、
Ｒ８ｂおよびＲ１２ｂは、互いに独立して、＊−（ＣＨ２）Ｚ１ｂ−ＯＨ、
−（ＣＨ２）Ｚ２ｂ−ＮＨＲ１３ｂ、＊−ＣＯＮＨＲ１４ｂまたは
＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５ｂ
［式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１３ｂは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｚ１ｂおよびＺ２ｂは、互いに独立して、１、２または３の数であり、
そして、
Ｒ１４ｂおよびＲ１５ｂは、互いに独立して式：
【化１１】
2008514561.tif 000011
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｇは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｇは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｇは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｇは、０または１の数であり、
そして、
ｌｇは、１、２、３または４の数である）の基を表す］を表し、
Ｒ９ｂおよびＲ１１ｂは、互いに独立して水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ｂは、アミノまたはヒドロキシを表し、
ｋｂは、０または１の数であり、
ｌｂ、ｗｂ、ｘｂおよびｙｂは、互いに独立して、１、２、３または４の数である｝
の基を表し、
Ｒ１８およびＲ１９は、互いに独立して、水素または式：
【化１２】
2008514561.tif 000012
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｅは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｅは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｅは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ｅおよびＲ６ｅは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジン環
を形成し、
Ｒ８ｅおよびＲ１２ｅは、互いに独立して、＊−（ＣＨ２）Ｚ１ｅ−ＯＨ
または＊−（ＣＨ２）Ｚ２ｅ−ＮＨＲ１３ｅ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１３ｅは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｚ１ｅおよびＺ２ｅは、互いに独立して、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ９ｅおよびＲ１１ｅは、互いに独立して、水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ｅは、アミノまたはヒドロキシを表し、
ｋｅは、０または１の数であり、
そして、
ｌｅ、ｗｅ、ｘｅおよびｙｅは、互いに独立して、１、２、３または４の数である］
の基を表し、
ここで、Ｒ１８およびＲ１９は、同時に水素ではなく、
Ｒ２４は、式＊−ＣＯＮＨＲ２５
｛式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ２５は、式：
【化１３】
2008514561.tif 000013
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｆは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｆは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｆは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ｆおよびＲ６ｆは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジ
ン環を形成し、
Ｒ８ｆおよびＲ１２ｆは、互いに独立して、
＊−（ＣＨ２）Ｚ１ｆ−ＯＨまたは＊−（ＣＨ２）Ｚ２ｆ−ＮＨＲ１３ｆ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１３ｆは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｚ１ｆおよびＺ２ｆは、互いに独立して、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ９ｆおよびＲ１１ｆは、互いに独立して、水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ｆは、アミノまたはヒドロキシを表し、
ｋｆは、０または１の数であり、
そして、
ｌｆ、ｗｆ、ｘｆおよびｙｆは、互いに独立して、１、２、３または４の数である
］の基を表す｝の基を表し、
ｄおよびｅは、互いに独立して、１、２または３の数であり、
ｋは、０または１の数であり、
ｌ、ｗ、ｘおよびｙは、互いに独立して、１、２、３または４の数であり、
【化１４】
2008514561.tif 000014
は、互いに独立して、ｗ、ｘまたはｙが３である場合には、ヒドロキシ基を持っていて
もよい」の基を表す』
の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つ。
【請求項２】
式：
【化１５】
2008514561.tif 000015
（式中、
Ｒ１は、水素またはヒドロキシを表し、
Ｒ２は、水素、メチルまたはエチルを表し、
Ｒ３は、請求項１の定義と同様である）
に該当することを特徴とする請求項１に記載の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つ。
【請求項３】
Ｒ３が、式：
【化１６】
2008514561.tif 000016
《ここで、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４は、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５は、式：
【化１７】
2008514561.tif 000017
［式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ２３は、水素または式：
＊−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨまたは＊−（ＣＨ２）ｏ−ＮＨ２
（ここで、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
ｎおよびｏは、互いに独立して１、２、３または４の数である）の基を表し、
ｍは、０または１の数である］の基を表し、
Ｒ８は、式：
＊−ＣＯＮＨＲ１４または＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５
〈式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して式：
【化１８】
2008514561.tif 000018
｛式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ａは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ａは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ａは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジン環
を形成し、
Ｒ８ａおよびＲ１２ａは、互いに独立して、＊−（ＣＨ２）Ｚ１ａ−ＯＨ、
＊−（ＣＨ２）Ｚ２ａ−ＮＨＲ１３ａ、＊−ＣＯＮＨＲ１４ａまたは
＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５ａ
［式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｚ１ａおよびＺ２ａは、互いに独立して、１、２または３の数であり、
Ｒ１３ａは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｒ１４ａおよびＲ１５ａは、互いに独立して式：
【化１９】
2008514561.tif 000019
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｃは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｃは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｃは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｃは、０または１の数であり、
そして、
ｌｃは、１、２、３または４の数である）の基を表す］を表し、
Ｒ９ａおよびＲ１１ａは、互いに独立して水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ａは、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ１６ａは、式：
【化２０】
2008514561.tif 000020
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｄは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｄは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｄは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｄは、０または１の数であり、
そして、
ｌｄは、１、２、３または４の数である）の基を表し、
ｋａは、０または１の数であり、
そして、
ｌａ、ｗａ、ｘａおよびｙａは、互いに独立して、１、２、３または４の数であ
る｝の基を表す〉の基を表し、
Ｒ９およびＲ１１は、互いに独立して、水素、メチル、＊−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨまたは式：
【化２１】
2008514561.tif 000021
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ２０は、水素または＊−（ＣＨ２）ｉ−ＮＨＲ２２
（式中、
Ｒ２２は、水素またはメチルを表し、
そして、
ｉは、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ２１は、水素またはメチルを表し、
ｆは、０、１、２または３の数であり、
ｇは、１、２または３の数であり、
そして、
ｈは、１、２、３または４の数である］の基を表すか、
または、
Ｒ８は、＊−（ＣＨ２）Ｚ１−ＯＨ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｚ１は、１、２または３の数である）を表し、
かつ、
Ｒ９は、式：
【化２２】
2008514561.tif 000022
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
そして、
ｈは、１、２、３または４の数である）の基を表し、
Ｒ１０は、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ２４は、式＊−ＣＯＮＨＲ２５
｛式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ２５は、式：
【化２３】
2008514561.tif 000023
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｆは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｆは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｆは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ｆおよびＲ６ｆは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジ
ン環を形成し、
Ｒ８ｆおよびＲ１２ｆは、互いに独立して、
＊−（ＣＨ２）Ｚ１ｆ−ＯＨまたは＊−（ＣＨ２）Ｚ２ｆ−ＮＨＲ１３ｆ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１３ｆは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｚ１ｆおよびＺ２ｆは、互いに独立して、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ９ｆおよびＲ１１ｆは、互いに独立して、水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ｆは、アミノまたはヒドロキシを表し、
ｋｆは、０または１の数であり、
そして、
ｌｆ、ｗｆ、ｘｆおよびｙｆは、互いに独立して、１、２、３または４の数である
］の基である｝の基を表し、
ｋは、０または１の数であり、
ｌ、ｗおよびｘは、互いに独立して、１、２、３または４の数であり、
【化２４】
2008514561.tif 000024
は、互いに独立して、ｗまたはｘが３である場合には、ヒドロキシ基を持っていてもよい》の基を表すことを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つ。
【請求項４】
Ｒ３が、式：
【化２５】
2008514561.tif 000025
《ここで、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１２は、式＊−ＣＯＮＨＲ１４または＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５
〈式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１４およびＲ１５は、互いに独立して、式：
【化２６】
2008514561.tif 000026
｛式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ａは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ａは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ａは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジン環
を形成し、
Ｒ８ａおよびＲ１２ａは、互いに独立して、
＊−（ＣＨ２）Ｚ１ａ−ＯＨ、＊−（ＣＨ２）Ｚ２ａ−ＮＨＲ１３ａ、
＊−ＣＯＮＨＲ１４ａまたは＊−ＣＨ２ＣＯＮＨＲ１５ａ
［式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｚ１ａおよびＺ２ａは、互いに独立して、１、２または３の数であり、
Ｒ１３ａは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｒ１４ａおよびＲ１５ａは、互いに独立して式：
【化２７】
2008514561.tif 000027
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｃは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｃは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｃは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｃは、０または１の数であり、
そして、
ｌｃは、１、２、３または４の数である）の基を表す］を表し、
Ｒ９ａおよびＲ１１ａは、互いに独立して水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ａは、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ１６ａは、式：
【化２８】
2008514561.tif 000028
（式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｄは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｄは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｄは、水素またはアミノエチルを表し、
ｋｄは、０または１の数であり、
そして、
ｌｄは、１、２、３または４の数である）の基を表し、
ｋａは、０または１の数であり、
そして、
ｌａ、ｗａ、ｘａおよびｙａは、互いに独立して、１、２、３または４の数である｝
の基を表す〉の基を表し、
ｙは、１、２、３または４の数であり、
【化２９】
2008514561.tif 000029
は、ｙが３である場合には、ヒドロキシ基を持っていてもよい》の基を表すことを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つ。
【請求項５】
Ｒ３が、式：
【化３０】
2008514561.tif 000030
｛ここで、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ａは、結合またはフェニルを表し、
Ｒ１６およびＲ１７は、互いに独立して、式：
【化３１】
2008514561.tif 000031
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｂは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｂは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｂは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ｂおよびＲ６ｂは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジン環を
形成し、
Ｒ８ｂおよびＲ１２ｂは、互いに独立して、＊−（ＣＨ２）Ｚ１ｂ−ＯＨ
または＊−（ＣＨ２）Ｚ２ｂ−ＮＨＲ１３ｂ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１３ｂは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｚ１ｂおよびＺ２ｂは、互いに独立して、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ９ｂおよびＲ１１ｂは、互いに独立して、水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ｂは、アミノまたはヒドロキシを表し、
ｋｂは、０または１の数であり、
ｌｂ、ｗｂ、ｘｂおよびｙｂは、互いに独立して１、２、３または４の数である］の基  を表し、
ｄは、１、２または３の数である｝の基を表すことを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つ。
【請求項６】
Ｒ３が、式：
【化３２】
2008514561.tif 000032
｛ここで、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１８およびＲ１９は、互いに独立して、水素または式：
【化３３】
2008514561.tif 000033
［式中、
＊は、窒素原子に対する結合部位であり、
Ｒ４ｅは、水素、アミノまたはヒドロキシを表し、
Ｒ５ｅは、水素、メチルまたはアミノエチルを表し、
Ｒ６ｅは、水素またはアミノエチルを表すか、
または、
Ｒ５ｅおよびＲ６ｅは、それらが結合している窒素原子と一体となってピペラジン環を
形成し、
Ｒ８ｅおよびＲ１２ｅは、互いに独立して、＊−（ＣＨ２）Ｚ１ｅ−ＯＨ
または＊−（ＣＨ２）Ｚ２ｅ−ＮＨＲ１３ｅ
（式中、
＊は、炭素原子に対する結合部位であり、
Ｒ１３ｅは、水素またはメチルを表し、
そして、
Ｚ１ｅおよびＺ２ｅは、互いに独立して、１、２または３の数である）を表し、
Ｒ９ｅおよびＲ１１ｅは、互いに独立して、水素またはメチルを表し、
Ｒ１０ｅは、アミノまたはヒドロキシを表し、
ｋｅは、０または１の数であり、
そして、
ｌｅ、ｗｅ、ｘｅおよびｙｅは、互いに独立して、１、２、３または４の数である］の
基を表し、
ここで、Ｒ１８およびＲ１９は、同時に水素ではなく、
ｅは、１、２または３の数である｝の基を表すことを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つ。
【請求項７】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物またはその塩、その溶媒和物若しくはその塩の溶媒和物の一つの製造方法であって、
［Ａ］式：
【化３４】
2008514561.tif 000034
（式中、Ｒ２およびＲ７は、請求項１に示される意味を有し、そしてｂｏｃは、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルを表す）
の化合物を、二段階工程において、最初に一つまたはそれ以上の脱水剤の存在下で式：
Ｈ２ＮＲ３      （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ３は、請求項１に示される意味を有する）
の化合物と反応せしめ、そして、続いて酸と共におよび/または水素化分解によって反応させること、
または、
［Ｂ］式：
【化３５】
2008514561.tif 000035
（式中、Ｒ２およびＲ７は、請求項１に示される意味を有し、そしてＺは、ベンジルオキシカルボニルを表す）
の化合物を、二段階工程において、最初に一つまたはそれ以上の脱水剤の存在下で式：
Ｈ２ＮＲ３      （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ３は、請求項１に示される意味を有する）
の化合物と反応せしめ、そして、続いて酸と共にまたは水素化分解によって反応させること、
を特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物またはその溶媒和物の一つの製造方法であって、該化合物の塩または該化合物の塩の溶媒和物を、クロマトグラフィーによって塩基を添加して該化合物に変換することを特徴とする、方法。
【請求項９】
疾患の処置および/または予防のための請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の化合物。
【請求項１０】
疾患の処置および/または予防用の薬剤を製造するための、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の化合物の使用。
【請求項１１】
細菌性疾患の処置および/または予防用の薬剤を製造するための請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の化合物の使用。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の少なくとも１種の化合物と、少なくとも１種の不活性な、非毒性の薬学的に許容し得る補助剤を含む薬剤。
【請求項１３】
細菌性感染症の処置および/または予防のための請求項１２に記載の薬剤。
【請求項１４】
抗菌的に有効な量の少なくとも１種の請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の化合物または請求項１２または請求項１３に記載の薬剤を投与することによる、ヒトおよび動物の細菌性感染症を制御する方法。