【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）第１の主面、および前記第１の主面と反対側の第２の主面を有するポリマーフィルム基板と、
ｂ）少なくとも前記基板の第１の主面上に設けられた保護構造であって、酸化ホウ素の層および無機バリヤ層を含む保護構造と、
を含む保護されたポリマーフィルム。
【請求項２】
ａ）第１の主面、前記第１の主面と反対側の第２の主面を有するポリマーフィルム基板、ならびに、酸化ホウ素の層および無機バリヤ層を含む、前記基板の第１の主面上の保護構造と、
ｂ）第１の電極、第２の電極、および前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置された発光構造を含むエレクトロルミネセンスアセンブリであって、（ｉ）前記基板の第１の主面上に、かつ前記保護構造の下または上に、または（ｉｉ）前記基板の第２の主面上に配置されるエレクトロルミネセンスアセンブリと、
を含む保護された有機エレクトロルミネセンスデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
酸化ホウ素は、また、用途によっては望ましいであろう特定の処理利点を提供する。たとえば、スパッタリング、化学蒸着、電子ビーム堆積、および熱的蒸発（たとえば、蒸着）を含むいくつかの技術によって、酸化ホウ素をポリマーフィルム基板に適用することができる。ターゲット表面が、スパッタリングなどのより強力な適用方法からの損傷を受けやすい場合、蒸着が好ましい方法である。望ましくは、酸化ホウ素を、受入れられる速度で、適度な条件（たとえば、約１０から５０Å／秒の堆積速度を約１．３×１０-4（１０-6）から１．３３×１０-2Ｐａ（１０-4トル）の蒸気圧力下で達成することができる）下で、分解の徴候（たとえば、ソース材料の変色）を示さずに、蒸着することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
実施例１
本発明による保護されたポリマーフィルムを組入れるＯＬＥＤデバイスを、実施例１で作製した。ＭＥＫ１０００グラムに溶解した、８０グラムのエベクリル６２９、２０グラムのＳＲ３９９、および２グラムのイルガキュア１８４を組合せることによって、ＵＶ硬化性溶液を作製した。結果として生じる溶液を、６．１０ｍ／分（２０フィート／分）で動作するＣＡＧ  １５０マイクログラビアコータを使用して、幅１６．５ｃｍ（６．５インチ）のＨＳＰＥ  １００  ＰＥＴフィルム基板のロール上にコーティングした。その後、コーティングを、７０℃でインライン乾燥させ、次に、１００％のパワーで動作するフュージョンＤ  ＵＶランプで、窒素雰囲気下で硬化させた。これは、上に厚さ約０．７μｍの透明なコーティングを有する透明なＰＥＴフィルム基板をもたらした。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
３Ｍカンパニーから商品名スコッチパク（Ｓｃｏｔｃｈｐａｋ）１２２０で市販されるポリマーウェブマスクを、ダイカットし、次に、ロールツーロールラミネータを使用して、ＰＥＴフィルム基板のコーティング表面に熱積層した。１．３×１０−１Ｐａ（１ｍトル）の圧力、１ｋＷの電力、ならびに、ＩＴＯをコーティングするための、それぞれ、１５０ｓｃｃｍおよび６ｓｃｃｍのアルゴン流量および酸素流量、およびＡｇをコーティングするための１５０ｓｃｃｍのアルゴン流量を使用するＤＣスパッタリングプロセスを用いて、厚さ約３５ｎｍのＩＴＯ層、次いで、厚さ約１０ｎｍのＡｇ層、次いで、別の厚さ約３５ｎｍのＩＴＯ層を、ＰＥＴフィルム基板のコーティング表面上に順次堆積させた。これらのコーティング条件は、１０オーム／平方のシート抵抗をもたらした。ＩＴＯ層は、アノードとして、および、その後形成されるＯＬＥＤデバイスのためのカソードのための頑丈なコンタクトとして役立った。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
次に、ポリマーマスクを剥離し、ＰＥＴフィルム基板上の導電パターンをもたらした。５０ｍｍ×５０ｍｍである導電パターニングされた基板のサンプルを、ロールからカットし、これは、各々が０．２５ｃｍ2である４のピクセルを含有した。約５分間の温かい（約４３．３℃（１１０°Ｆ））洗剤溶液（デコネックス１２  ＮＳ、スイス、ズックウィルのボーラー・ケミー（Ｂｏｒｅｒ  Ｃｈｅｍｉｅ，  Ｚｕｃｈｗｉｌ，  Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ））中での超音波処理、約１０分間の温かい（約４３．３℃（１１０°Ｆ））脱イオン水中でのすすぎ、および、少なくとも４時間の、窒素パージされたオーブン内での乾燥によって、サンプルを超音波洗浄した。次に、マサチューセッツ州ビルリカのＡＳＴインコーポレイテッド（ＡＳＴ，  Ｉｎｃ．，  Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ，  ＭＡ）から商品名モデルＰＳ  ５００で市販されるプラズマ処理装置内で、４．０×１０１Ｐａ（３００ｍトル）の圧力、５００ｓｃｃｍの酸素流量、および４００ワットのＲＦ電力で、２分間、ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯ表面をプラズマ処理した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
正孔注入層（ＭＴＤＡＴＡ：ＦＴＣＮＱ（２．８％のドーピング））を、１．８Å／秒の速度で、ＰＥＴフィルム基板上の導電パターンの上に、３，０００Åの厚さに蒸着した。次に、緑色発光ＯＬＥＤスタックを、約６．７×１０−４Ｐａ（５×１０-6トル）で真空チャンバ内で熱的蒸発を用いて、正孔注入層の上に蒸着した。より具体的には、正孔注入層の上の次の順次堆積によって、ＯＬＥＤスタックを設けた：ＮＰＤ（４００Å、１Å／秒）／ＡｌＱ：Ｃ５４５Ｔ（１％のドーピング、３００Å、１Å／秒）／ＡｌＱ（２００Å、１Å／秒）／ＬｉＦ（７Å、０．５Å／秒）／Ａｌ（２５００Å、２５Å／秒）。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
ＳｉＡｌＯ層（「層２」）。次に、ポリマー１でコーティングされたＰＥＴベースフィルム（すなわち、層１）を、ロールツーロールスパッタコータ内に装填し、堆積チャンバを２．７×１０−４Ｐａ（２×１０-6トル）の圧力にポンピングした。２ｋＷおよび６００Ｖ、５１ｓｃｃｍのアルゴンおよび３０ｓｃｃｍの酸素を含有するガス混合物を使用して、１．３×１０−１Ｐａ（１ｍトル）の圧力、および０．４３ｍ／分のウェブ速度で、Ｓｉ−Ａｌターゲット（ニューメキシコ州アルバカーキのアカデミー・プレシジョン・マテリアルズ（Ａｃａｄｅｍｙ  Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，  Ａｌｂｕｑｕｅｒｑｕｅ，  ＮＭ）から市販される９０％−１０％のＳｉ−Ａｌターゲット）を反応性スパッタリングすることによって、厚さ６０ｎｍのＳｉＡｌＯ無機酸化物層をポリマー１の上に堆積させた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
次に、次の手順に従って、無機バリヤ層を作製した。４０５グラムのＭＥＫ中で２．２５グラムのＵＶＩ−６９７４を４２．７５グラムのＥＨＰＥ３１５０と組合せることによって、ＵＶ硬化性ポリマー溶液を作製した。４．５７ｍ／分（１５フィート／分）の速度で動作するＣＡＧ  １５０マイクログラビアコータを使用して、結果として生じる溶液を、イタリアのフェラニア・イメージング・テクノロジーズ（Ｆｅｒｒａｎｉａ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，  Ｉｔａｌｙ）から商品名アリーライト（Ａｒｙｌｉｔｅ）で市販される、幅１６．５ｃｍ（６．５インチ）、厚さ１００ミクロンのフッ素ポリエステルフィルム上にコーティングした。その後、コーティングを、７０℃でインライン乾燥させ、次に、１００％のパワーで動作するフュージョンＤ  ＵＶランプで、窒素雰囲気下で硬化させた。これは、上に厚さ約０．７μｍの透明なコーティングを有する透明なフィルムをもたらした。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
コーティングされたフィルムを、スパッタコータ内に装填し、堆積チャンバを２．７×１０−４Ｐａ（２×１０-6トル）の圧力にポンピングした。３７０Ｗおよび３７５Ｖ、２０ｓｃｃｍのアルゴンおよび１８ｓｃｃｍの酸素を含有するガス混合物を使用して、８×１０−１Ｐａ（６ｍトル）の圧力、および１７．８ｃｍ（７インチ）／分のウェブ速度で、厚さ６０ｎｍのＳｉＡｌＯ無機酸化物層を堆積させた。ニューメキシコ州アルバカーキのアプライド・プレシジョン・マテリアルズ（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，  Ａｌｂｕｑｕｅｒｑｕｅ，  ＮＭ）から入手可能なＳｉ／Ａｌの９０／１０ターゲットを、ターゲット材料として使用した。