【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理チャンバを洗浄するための方法であって、
ガス混合物をリモートプラズマ源に導入するステップであって、前記ガス混合物が、六フッ化硫黄および酸素を備える、ステップと、
前記ガス混合物の一部分をイオンに解離するステップと、
前記ガス混合物を前記チャンバの処理領域に移送するステップと、
前記イオンとの反応によって、前記チャンバ内から堆積物を洗浄するステップと、
を備える、方法。
【請求項２】
前記ガス混合物が、搬送ガスを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガス混合物が、アルゴンを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記チャンバの前記処理領域に高周波出力を適用するステップを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ガス混合物中の酸素と六フッ化硫黄との比が、約０．１対約１０．０である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
酸素と六フッ化硫黄との比が、およそ１対１である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記チャンバの圧力が、約０．１〜約１トールである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
基板処理チャンバを洗浄するための方法であって、
ガス混合物をリモートプラズマ源に導入するステップであって、前記ガス混合物が、六フッ化硫黄および酸素を備える、ステップと、
前記ガス混合物の一部分をイオンに解離するステップと、
前記ガス混合物を前記チャンバの処理領域に移送するステップと、
前記イオンとの反応によって、前記チャンバ内から堆積物を洗浄するステップと、
前記ガス混合物と堆積物との組み合わせを前記チャンバから排出するステップと、を備える、方法。
【請求項９】
エンドポイント検出器からコントローラへ信号を送信するステップを更に備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ガス混合物が、搬送ガスを更に備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記ガス混合物が、アルゴンを更に備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記チャンバの前記処理領域に高周波出力を適用するステップを更に備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記ガス混合物中の酸素と六フッ化硫黄との比が、約０．１対約１０．０である、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
酸素と六フッ化硫黄との比が、およそ１対１である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記チャンバの圧力が、約０．１〜約１トールである、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
基板処理チャンバを洗浄するための方法であって、
ガス混合物をリモートプラズマ源に導入するステップであって、前記ガス混合物が、六フッ化硫黄および酸素を備える、ステップと、
前記ガス混合物の一部分をイオンに解離するステップと、
前記ガス混合物を前記チャンバの処理領域に移送するステップと、
前記チャンバの前記処理領域に高周波出力を適用するステップと、
前記イオンとの反応によって、前記チャンバ内から堆積物を洗浄するステップと、
エンドポイント検出器からコントローラへ信号を送信するステップと、
を備える、方法。
【請求項１７】
前記チャンバの圧力が、約０．１〜約１トールである、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記リモートプラズマ源への出力が、約１３ｋＷを上回るものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記リモートプラズマ源への出力が、約０．０から約１４．６ｋＷである、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記リモートプラズマ源への出力が、約１３ｋＷを上回るものである、請求項８に記載の方法。
【請求項２１】
前記リモートプラズマ源への出力が、約０．０から約１４．６ｋＷである、請求項８に記載の方法。
【請求項２２】
前記リモートプラズマ源への出力が、約１３ｋＷを上回るものである、請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
前記リモートプラズマ源への出力が、約０．０から約１４．６ｋＷである、請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
基板処理チャンバを洗浄するための方法であって、
ガス混合物をリモートプラズマ源に導入するステップであって、前記ガス混合物が、フッ素含有ガスおよび酸素含有ガスを備える、ステップと、
前記ガス混合物の一部分をイオンに解離するステップと、
前記ガス混合物を前記チャンバの処理領域に移送するステップと、
イオン化されたフッ素にイン・シトゥープラズマを適用するステップと、
前記イオンとの反応によって、前記チャンバ内から堆積物を洗浄するステップと、
を備える、方法。
【請求項２５】
前記フッ素含有ガスは、六フッ化硫黄、フッ素分子、三フッ化窒素、フッ化水素、四フッ化炭素、ペルフルオロエタンから成る群から選択される、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記リモートプラズマ源にアルゴンガスを導入するステップを更に備える、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記フッ素含有ガスは、六フッ化硫黄を備え、前記酸素含有ガスは、酸素を備える、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
前記六フッ化硫黄と酸素とのガス流速比は、約０．１対約１０．０である、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記リモートプラズマ源への出力が、約１３ｋＷを上回るものである、請求項２４に記載の方法。
【請求項３０】
前記リモートプラズマ源への出力が、約０．０から約１４．６ｋＷである、請求項２４に記載の方法。
【請求項３１】
前記イン・シトゥープラズマは、１．５ｋＷ以上の出力で適用される、請求項２４に記載の方法。
【請求項３２】
前記イン・シトゥープラズマは、２．５ｋＷの出力で適用される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記洗浄するステップは、６０００Å／分の速度で実行される、請求項２４に記載の方法。
【請求項３４】
基板処理チャンバを洗浄するための方法であって、
ガス混合物をリモートプラズマ源に導入するステップであって、前記ガス混合物が、フッ素含有ガスおよび酸素含有ガスを備える、ステップと、
前記ガス混合物の一部分をイオンに解離するステップと、
前記ガス混合物を前記チャンバの処理領域に移送するステップと、
前記フッ素と酸素を均一に解離するステップと、
前記イオンとの反応によって、前記チャンバ内から堆積物を洗浄するステップと、
エンドポイント検出器からコントローラへ信号を送信するステップと、
を備える、方法。
【請求項３５】
前記フッ素含有ガスは、六フッ化硫黄、フッ素分子、三フッ化窒素、フッ化水素、四フッ化炭素、ペルフルオロエタンから成る群から選択される、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記リモートプラズマ源にアルゴンガスを導入するステップを更に備える、請求項３４に記載の方法。
【請求項３７】
前記フッ素含有ガスは、六フッ化硫黄を備え、前記酸素含有ガスは、酸素を備える、請求項３４に記載の方法。
【請求項３８】
前記六フッ化硫黄と酸素とのガス流速比は、約０．１対約１０．０である、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
前記リモートプラズマ源への出力が、約１３ｋＷを上回るものである、請求項３４に記載の方法。
【請求項４０】
前記リモートプラズマ源への出力が、約０．０から約１４．６ｋＷである、請求項３４に記載の方法。
【請求項４１】
前記イン・シトゥープラズマは、１．５ｋＷ以上の出力で適用される、請求項３４に記載の方法。
【請求項４２】
前記イン・シトゥープラズマは、２．５ｋＷの出力で適用される、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記洗浄するステップは、６０００Å／分の速度で実行される、請求項３４に記載の方法。