【手続補正書】
【提出日】平成19年7月2日(2007.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子線源と、荷電粒子線レンズと、荷電粒子線偏向器と、前記荷電粒子源から発生した荷電粒子ビームを複数本のビームに分割する分割手段とを有し、前記分割された複数本のビームを露光対象上に転写する荷電粒子線露光装置であって、前記複数本のビームのうち所定のビームが前記露光対象上に転写できない際に、代替ビームを用いて前記露光対象上に所定のパターンを転写することを特徴とする荷電粒子線露光装置。
【請求項２】
露光に用いられるビームはｍ行ｎ列のアレイ状であり、前記分割手段はｍ行ｎ+１列以上の開口アレイと、ｍ行ｎ+１列以上のアレイ状偏向器群を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項３】
ｍ行ｎ+１列以上のアレイ状ビームのうちｘ行ｙ列のビームが露光対象上に転写できない際に、ｘ＋１行ｙ列のビームがｘ行y列のビームの本来転写すべきパターンを転写し、
ｘ＋２行ｙ列のビームがｘ＋１行ｙ列のビームの本来転写すべきパターンを転写することを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項４】
ｍ行ｎ+１列以上のアレイ状ビームのうち転写できないビームを補完するように前記転写できないビームと同じ行のビーム群を少なくとも１列マイナス側にシフトする手段、前記転写できないビームと同じ行のビームを少なくとも１列プラス側にシフトする手段、前記転写できないビームと同じ列のビームを少なくとも１行プラス側にシフトする手段及び前記転写できないビームと同じ列のビームを少なくとも１行マイナス側にシフトする手段のうちの少なくとも１つの手段を有することを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項５】
前記分割手段にて分割された複数本のビームを個別に偏向する手段及び前記複数本のビームを個別に収束する手段の少なくとも１つの手段を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項６】
ビームを露光対象上に照射して所定のパターンを露光する荷電粒子線露光装置であって、
荷電粒子線源と、
ｍ行ｎ列に配置された複数の開口とその外側に配置された少なくとも１つの開口を有し、前記荷電粒子線源からの荷電粒子線ビームを複数本のビームに分割するアパーチャアレイと、
前記ｍ行ｎ列に配置された複数の開口からの複数本のビームのうち所定のビームが前記露光対象上に照射されない際に、前記所定のビームの代替ビームとして、前記その外側に配置された少なくとも１つの開口からのビームを用いるためのビーム偏向器と、を備えることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
【請求項７】
荷電粒子線源と、荷電粒子線レンズと、荷電粒子線偏向器と、前記荷電粒子源から発生した荷電粒子ビームを複数本のビームに分割する分割手段とを有し、前記分割された複数本のビームを露光対象上に転写する荷電粒子線露光装置を用いる荷電粒子線露光方法であって、前記複数本のビームのうち所定のビームが露光対象上に転写できない際に、代替ビームを用いて露光対象上に所定のパターンを転写する工程を含むことを特徴とする荷電粒子線露光方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の荷電粒子線露光装置を用いて露光対象を露光する工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明では、以下の方法を用いてスループットの低下を招かずに所望のパタンを描画する装置及び方法を提案する。本発明は、荷電粒子線源と、荷電粒子線レンズと、荷電粒子線偏向器と、前記荷電粒子源から発生した荷電粒子ビームを複数本のビームに分割する分割手段とを有し、前記分割された複数本のビームを露光対象上に転写する荷電粒子線露光装置であって、前記複数本のビームのうち所定のビームが前記露光対象上に転写できない際に、代替ビームを用いて前記露光対象上に所定のパターンを転写することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の荷電粒子線露光方法の一形態では、荷電粒子線源と、荷電粒子線レンズと、荷電粒子線偏向器と、前記荷電粒子源から発生した荷電粒子ビームを複数本のビームに分割する分割手段とを有し、前記分割された複数本のビームを露光対象上に転写する荷電粒子線露光装置を用いる荷電粒子線露光方法であって、前記複数本のビームのうち所定のビームが露光対象上に転写できない際に、代替ビームを用いて露光対象上に所定のパターンを転写する工程を含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１において、荷電粒子線源としての電子源１より放射状に放出される電子ビームは、荷電粒子線レンズ２によって成形された後、アパーチャアレイ３にほぼ垂直入射される。開口アレイであるアパーチャアレイ3は、50ミクロンの開口がｍ行ｎ＋1列以上の1例として12行12列に配置されており、分割されたマルチ電子ビーム16を形成する。形成されたマルチ電子ビーム１６はレンズアレイ４によって収束される。レンズアレイ４は12行12列のアレイ状の静電レンズ群である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
さらにビームはマルチ偏向器５，６を用い独立に位置微調整された後、ブランキングアレイ７を通過する。ブランキングアレイ７はビームを独立に偏向することができ、偏向されたビームは制限絞り１２によって遮蔽される。また、ブランキングアレイ７は10行10列のアレイ状偏向器群である。ブランキングアレイ７を通過したマルチ電子ビーム１６はレンズ8,9,10,11によって成形され、荷電粒子線偏向器１３によって露光対象であるウエハ14上、すなわち露光対象上の所望の位置に転写される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（所定のビーム不良発生時における救済法の説明）
しかしながら、レンズアレイ4のレンズ群のうち、１つのレンズが製作ミス、ごみの付着等により不良になった場合を考えると、10×10即ち100個のレンズのうち、99個のレンズしか使用することができない。これは不良となった1レンズ分のパタン不良を引き起こす。また、パタン不良を避けるために、正常な99レンズのうちの１個のレンズを使用して不良レンズの本来描画すべきパタンを描画すると、スループットの低下が避けられない。そこで、本実施例では以下の方法を用いて、スループットの低下を招かずに所望のパタンを描画可能とした。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本実施例に係るマルチソースモジュール100の拡大図を図２に示す。図２（ａ）では全てのレンズが正常に動作している場合を示し、図２（ｂ）では、１８のビームであるｘ行ｙ列のビームが露光対象上に転写できない場合の例として開口不良１７が発生した場合を示している。開口不良１７が発生すると、本来描画に使用すべきビーム１８が遮蔽され、正常な描画を行うことができなくなる。そこで本実施例では開口不良１７より外側の代替ビーム群１９は、マルチ偏向器５，６を用いて、１開口分内側にシフトさせる。以上の調整を行うことにより、スループットを落とすことなく通常の描画と全く同様の描画を行うことができる。すなわち、代替ビーム１９であるｘ＋１行ｙ列のビームが、１８のビームであるｘ行ｙ列のビームの本来転写すべきパターンを転写し、代替ビーム１９であるｘ＋２行ｙ列のビームが、ｘ＋１行ｙ列のビームの本来転写すべきパターンを転写する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記実施例では欠陥が１つの場合を示したが、欠陥が複数個存在した場合の実施例３を以下に説明する。図３（a）〜（ｃ）はビームアレイを上から書き表した平面図であり、欠陥ビームが生じた場合の代替ビーム作成法をそれぞれあらわしている。複数の欠陥が一つの行に無い場合には、図３（a）に示す如く、実施例１，２で用いた手法を用いる。通常描画に使用するビーム領域２２の外側に代替ビーム領域を設け、欠陥ビームに従って代替ビームを、ビーム偏向器であるマルチ偏向器を用いて矢印に示すように１ビーム分シフトさせることによって、代替ビームを作成することができる。