【手続補正書】
【提出日】令和1年5月29日(2019.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズを製造する方法であって、
基板にわたりフォトレジストの層をエッチングして複数のレンズを有するレンズアレイを形成すること、ここで前記レンズアレイが第１のレンズセットを有する内側部分と第２のレンズセットを有する外側部分とをさらに含み、前記第２のレンズセットが前記第１のレンズセットに隣接して位置決められてそれを囲み、前記第１のレンズセットの各レンズが前記第１のレンズセットまたは前記第２のレンズセットのいずれかの同じ数のレンズによって取り囲まれ；
複数のレーザ間の各レーザが前記第１のレンズセットの各レンズに対応するように、複数のレーザを位置決めし、前記第２のレンズセットの前記レンズのいずれかに対応するレーザがないよう位置決めすること
を含む、方法。
【請求項２】
前記フォトレジストの層をエッチングすることは、ウェットエッチングプロセス、異方性ウェットエッチングプロセス、プラズマエッチングプロセス、およびドライエッチングプロセスのうちの少なくとも１つによって達成される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
層をエッチングすることは、前記レンズアレイのパターンをフォトレジストから前記基板に転写することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記レンズアレイが円形の構成である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記複数のレーザが、前記レンズアレイから前記基板の反対側に位置決めされ、各レーザは、前記第１のレンズセットの各レンズに光を放射するように構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
第１のレーザが前記第１のレンズセット由来の第１のレンズの中心に位置合わせされ、第２のレーザが前記第１のレンズセット由来の第２のレンズの中心外に位置合わせされる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
保護する高さの障壁として機能し、傷を防止するように、前記基板を厚い材料で堆積する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１のレンズセットの各レンズは、実質的に同様の曲率半径（ＲＯＣ）を含み、前記第１のレンズセットの各レンズは、前記基板の境界に由来する数本のレンズの長さであるように構成されている、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のレンズセットまたは前記第２のレンズセットのうちのいずれかのレンズの中心から、任意の隣接するレンズの中心までの距離が同じである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２のレンズセットの第１のレンズは、前記第２のレンズセットの第２のレンズよりも小さいピッチを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
レンズを製造するためのシステムであって、
プロセッサ；および
前記システムが動作しているときに前記プロセッサと通信する１つ以上のメモリであって、前記プロセッサが前記システムに少なくとも、
複数のレンズを有するレンズアレイを形成すること、ここで前記レンズアレイが第１のレンズセットを有する内側部分と第２のレンズセットを有する外側部分とをさらに含み、前記第２のレンズセットが前記第１のレンズセットに隣接して位置決められてそれを囲み、前記第１のレンズセットの各レンズが前記第１のレンズセットまたは前記第２のレンズセットのいずれかの同じ数のレンズによって取り囲まれ；
複数のレーザ間の各レーザが前記第１のレンズセットの各レンズに対応するように、複数のレーザを位置決めし、前記第２のレンズセットの前記レンズのいずれかに対応するレーザがないよう位置決めすること
を実行させる命令を内部に記憶している１つ以上のメモリ
を含む、システム。
【請求項１２】
前記システムにレンズアレイを形成させる前記命令によって、前記システムは前記レンズアレイを形成するために基板にわたってフォトレジストの層をエッチングし、前記エッチングは、ウェットエッチングプロセス、異方性ウェットエッチングプロセス、プラズマエッチングプロセス、およびドライエッチングプロセスの少なくとも１つにより達成させる、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記システムに前記レンズアレイを形成するために前記層をエッチングさせる前記命令によって、前記システムがフォトレジストから前記基板にパターンを転写する、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記レンズアレイが円形の構成である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記複数のレーザが、前記レンズアレイから前記基板の反対側に位置決めされ、各レーザは、前記第１のレンズセットの各レンズに光を放射するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】
第１のレーザが前記第１のレンズセット由来の第１のレンズの中心に位置合わせされ、第２のレーザが前記第１のレンズセット由来の第２のレンズの中心外に位置合わせされる、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
保護する高さの障壁として機能し、傷を防止するように、前記基板を厚い材料で堆積する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１８】
前記第１のレンズセットの各レンズは、実質的に同様の曲率半径（ＲＯＣ）を含み、前記第１のレンズセットの各レンズは、前記基板の境界に由来する数本のレンズの長さであるように構成されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１９】
前記第１のレンズセットまたは前記第２のレンズセットのうちのいずれかのレンズの中心から、任意の隣接するレンズの中心までの距離が同じである、請求項１１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記第２のレンズセットの第１のレンズは、前記第２のレンズセットの第２のレンズよりも小さいピッチを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項２１】
前記システムに前記レンズアレイを形成させる前記命令は、グレースケールフォトリソグラフィプロセスを制御する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項２２】
前記システムに前記レンズアレイを形成させる前記命令によって、前記システムはレンズ形状のパターンを前記基板に転写させる、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
レンズを製造する方法であって、
複数のレンズを有するレンズアレイを形成すること、ここで前記レンズアレイが第１のレンズセットを有する内側部分と第２のレンズセットを有する外側部分とをさらに含み、前記第２のレンズセットが前記第１のレンズセットに隣接して位置決められてそれを囲み、前記第１のレンズセットの各レンズが前記第１のレンズセットまたは前記第２のレンズセットのいずれかの同じ数のレンズによって取り囲まれ；
複数のレーザ間の各レーザが前記第１のレンズセットの各レンズに対応するように、複数のレーザを位置決めし、前記第２のレンズセットの前記レンズのいずれかに対応するレーザがないよう位置決めすること
を含む、方法。
【請求項２４】
前記レンズアレイを形成することが、グレースケールフォトリソグラフィによって達成される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記レンズアレイを形成することが、レンズ形状のパターンを前記基板に転写することを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記レンズアレイを形成することが、フォトレジストの層および前記基板をエッチングすることを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
フォトレジストの層をエッチングすることは、ウェットエッチングプロセス、異方性ウェットエッチングプロセス、プラズマエッチングプロセス、およびドライエッチングプロセスのうちの少なくとも１つを含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記レンズアレイが円形の構成である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２９】
前記複数のレーザが、前記レンズアレイから前記基板の反対側に位置決めされ、各レーザは、前記第１のレンズセットの各レンズに光を放射するように構成される、請求項２３に記載の方法。
【請求項３０】
第１のレーザが前記第１のレンズセット由来の第１のレンズの中心に位置合わせされ、第２のレーザが前記第１のレンズセット由来の第２のレンズの中心外に位置合わせされる、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
保護する高さの障壁として機能し、傷を防止するように、前記基板を厚い材料で堆積する、請求項２３に記載の方法。
【請求項３２】
前記第１のレンズセットの各レンズは、実質的に同様の曲率半径（ＲＯＣ）を含み、前記第１のレンズセットの各レンズは、前記基板の境界に由来する数本のレンズの長さであるように構成される、請求項２３に記載の方法。
【請求項３３】
前記第１のレンズセットまたは前記第２のレンズセットのうちのいずれかのレンズの中心から、任意の隣接するレンズの中心までの距離が同じである、請求項２３に記載の方法。
【請求項３４】
前記第２のレンズセットの第１のレンズは、前記第２のレンズセットの第２のレンズよりも小さいピッチを含む、請求項２３に記載の方法。