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【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生地を形成するために水と混合される乾燥粉組成物であって、該乾燥粉組成物は、以下：
軟質又は硬質小麦粉及び小麦グルテン粉から成る小麦粉成分（前記小麦粉成分は、該乾燥粉組成物の総重量に基づいて約１２〜２０重量％の粗蛋白質を提供し、前記粗蛋白質は、結果生じる生地においてマトリクス構造を提供する）；及び
オート小麦（ここで、前記オート小麦の量は、少なくとも前記乾燥粉組成物の総重量の５０重量％である）；
を含む。
【請求項２】
更にカードランガムを含む、請求項１に記載の乾燥粉組成物。
【請求項３】
前記乾燥粉組成物の総重量に基づいて０．１〜１．５重量％の量でカードランガムを更に含む、請求項１又は２に記載の乾燥粉組成物。
【請求項４】
前記乾燥粉組成物の総重量に基づいて、７．５〜１５重量％の量でカードランガムを更に含む、請求項１又は２に記載の乾燥粉組成物。
【請求項５】
塩を更に含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の乾燥粉組成物。
【請求項６】
前記塩の量が、前記乾燥粉組成物の総重量に基づいて、０．１〜１．５重量％である、請求項５に記載の乾燥粉組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の乾燥粉組成物から調製される生地プロダクト。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の乾燥粉組成物から調製されるパスタヌードル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上述のように、硬質または軟質小麦ヌードルおよびデュラム小麦ヌードルは、小麦粉の種類および加工条件が異なっているが、各々のヌードルを製造する原理（即ち、粉に含まれる蛋白質および澱粉により網状構造を形成させることによる）は類似している。オート麦粉は１２〜１５重量％の蛋白質を含有しているが、生地製造の間に必要な網状構造を形成するために十分な割合のグルテン蛋白質がない。従来の製法および装置によって、オート麦生地を従来のヌードルに加工することは難しい。さらに、オート麦生地はパスタ製麺機（pasta machine）によってヌードルに加工され得るが、それによって作製されるヌードルは、容易に切れる傾向にある。オート麦生地から作製されるヌードルは、調理時にペースト状になりやすい。比較的多量の非小麦穀物成分（例えば、オート麦など）を含有する粉組成物、およびそれから製造される麺製品が、現在でもまだ開発されなければならない。
【特許文献１】ＣＮ１２５１９５０
【非特許文献１】D. Sgrulletta et at., “Influence of different naked-oat cultivars on the nutritional value of pasta”, TecnicaMolitoria International, 54(2), 2003.
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月14日(2007.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】強度が７ｃＮ／ｄｔｅｘ以上、かつ単糸繊度が３．３ｄｔｅｘ以下のポリアミドマルチフィラメントであり、カバーファクターが２１００以上の高密度織物用ポリアミドマルチフィラメントであって、原糸の交絡度が１０〜３０個／ｍであることを特徴とするポリアミドマルチフィラメントヤーン。
カバーファクター＝√（経糸繊度 ｄｔｅｘ） × （経糸密度 本／2.54cm） ＋ √（緯糸繊度 ｄｔｅｘ） × （緯糸密度 本／2.54cm）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するための手段、即ち本発明の第１は、強度が７ｃＮ／ｄｔｅｘ以上、かつ単糸繊度が３．３ｄｔｅｘ以下のポリアミドマルチフィラメントであり、カバーファクターが２１００以上の高密度織物用ポリアミドマルチフィラメントであって、原糸の交絡度が１０〜３０個／ｍであることを特徴とするポリアミドマルチフィラメントヤーンであり、カバーファクター＝√（経糸繊度 ｄｔｅｘ） × （経糸密度 本／2.54cm） ＋ √（緯糸繊度 ｄｔｅｘ） × （緯糸密度 本／2.54cm）
その第２は、ポリアミドがナイロン６・６である請求項１記載のポリアミドマルチフィラメントヤーンであり、その第３は、強度が８ｃＮ／ｄｔｅｘ以上である請求項１または２に記載のポリアミドマルチフィラメントヤーンであり、その第４は、原糸の交絡度が１０〜２５個／ｍである請求項1乃至３のいずれかに記載のポリアミドマルチフィラメントヤーンであり、その第５は、残存交絡度指数が20以下である請求項１乃至４のいずれかに記載のポリアミドマルチフィラメントヤーンであり、その第６は、高密度織物がエアバッグ用である請求項１乃至５のいずれかに記載のポリアミドマルチフィラメントヤーンであり、高密度織物がウォータージェットルームで織られたものである請求項１乃至６のいずれかに記載のポリアミドマルチフィラメントヤーンである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明実施の形態】以下に本発明の詳細について説明する。本発明におけるポリアミドとはポリアミド６、ポリアミド６・６、ポリアミド４・６等のポリアミド類、あるいは共重合ポリアミド等である。これらのポリアミドからなる繊維であり原糸強度が７ｃＮ／ｄｔｘ以上、単糸繊度が３．３ｄｔｅｘ以下の低単糸繊度マルチフィラメントを使用した高密度織物でカバーファクター（経織密度（本／2.54cm）×（経糸繊度（ｄｔｅｘ））^(1/2)＋緯織密度（本／2.54cm）×（経糸繊度（ｄｔｅｘ））^(1/2)）が２１００以上の高密度織物に関するものである。このような織物では通常、経糸は整経工程で整経、あるいはビーミング等を得て調整され織機に掛けられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
実施例１〜３、比較例１〜２
硫酸粘度３．３のポリアミド６６を溶融紡糸し紡糸後、最大１９５℃の加熱ローラを使いローラ群により多段直接延伸し、３５０ｄｔｅｘ−１08フィラメントで強度8.4cN/dTex、沸水収縮率9％ののマルチフィラメントを巻取りパッケージとした。経糸このマルチフィラメントを整経、ビーミングした。このビームを使い緯糸には同じパッケージをウォータージェットルームで５８０回／分にて平織り製織した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【表２】
2003003340.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月11日(2007.5.11)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、粉体塗装に於いて発生する回収粉を塗装機の傍らで簡易に再生し、半永久的な再生使用を可能とすることで、廃棄処分する回収粉を大幅に削減することを目的とする。そして作業効率を損なうことなく、大幅なコスト削減を可能とすると共に、産業廃棄物を大幅に減少させ、かつ環境保全に大いに寄与することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
＜比較例２＞
上記回収粉Ａ１００部に対し、上記補充用粉体塗料Ａを使用せず、上記アルミナ０．４部を流動槽で直接ドライブレンドし、比較例２とした。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月10日(2007.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体を、対向する側部を備え、導体のための開口部が貫通して設けられた基板に対して、密封するグロメットであって、前記グロメットは、管状であり、弾性材料で作られ、前記グロメットは、軸方向の対向端部を有し、前記端部のうち一方は、導体に密封的に係合し、前記端部のうち他方は、導体から半径方向に間隔が隔てられ、基板を貫通した開口部よりも直径方向に大きい、
グロメット。
【請求項２】
前記端部のうち前記他方は、基板を貫通した開口部よりも直径方向に小さな半径方向内周面及び基板を貫通した開口部よりも直径方向に大きな半径方向外周面を備えた半径方向に延びる周囲フランジを有していることを特徴とする請求項１記載のグロメット。
【請求項３】
前記フランジは、軸方向外側フェース及び前記軸方向外側フェースから前記一方の端部に向かう方向に間隔を置いて位置した軸方向内側フェースを有していることを特徴とする請求項２記載のグロメット。
【請求項４】
前記内側フェースは、平らであることを特徴とする請求項３記載のグロメット。
【請求項５】
前記他方の端部は、前記フランジの前記内側フェースに隣接して設けられた半径方向内方に延びる周囲凹部を有していることを特徴とする請求項３記載のグロメット。
【請求項６】
前記凹部は、基板を貫通した開口部と密封関係をなすよう直径方向に寸法決めされた底部を有していることを特徴とする請求項５記載のグロメット。
【請求項７】
前記一方の端部と前記他方の端部との間に設けられていて、少なくとも１つの内曲した壁部分を含む壁を更に有していることを特徴とする請求項１記載のグロメット。
【請求項８】
前記一方の端部は、軸方向内側端部を有し、前記内曲壁部分は、前記内側端部のところに位置していることを特徴とする請求項７記載のグロメット。
【請求項９】
前記少なくとも１つの内曲壁部分は、第１の内曲壁部分及び前記第１の内曲壁部分と前記グロメットの前記他方の端部との間に位置する第２の内曲壁部分であることを特徴とする請求項７記載のグロメット。
【請求項１０】
前記一方の端部は、軸方向内側端部を有し、前記第１の内曲壁部分は、前記内側端部のところに位置していることを特徴とする請求項９記載のグロメット。
【請求項１１】
前記第２の内曲壁部分は、前記第１の内曲壁部分の半径方向外方に位置すると共に前記第１の内曲壁部分から前記他方の端部に向かう方向に軸方向にオフセットしていることを特徴とする請求項１０記載のグロメット。
【請求項１２】
前記壁は、グロメットの他方の端部からその前記一方の端部まで延びる連結壁部分を含み、前記連結壁部分は、少なくとも１つの内曲壁部分の半径方向厚さよりも大きな半径方向厚さを有していることを特徴とする請求項７記載のグロメット。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの内曲壁部分は、第１の内曲壁部分及び前記第１の内曲壁部分と前記グロメットの前記他方の端部との間に位置する第２の内曲壁部分であることを特徴とする請求項１２記載のグロメット。
【請求項１４】
前記連結壁部分の前記半径方向厚さは、前記第１及び第２の内曲壁部分の各々の半径方向厚さよりも大きいことを特徴とする請求項１３記載のグロメット。
【請求項１５】
前記一方の端部は、軸方向内側端部を有し、前記第１の内曲壁部分は、前記内側端部のところに位置し、前記第２の内曲壁部分は、前記第１の内曲壁部分の半径方向外方に位置すると共に前記第１の内曲壁部分から前記他方の端部に向かう方向に軸方向にオフセットし、前記連結壁部分は、前記第２の内曲壁部分から前記グロメットの前記他方の端部に向かって延びていることを特徴とする請求項１４記載のグロメット。
【請求項１６】
前記端部のうち前記他方は、基板を貫通した開口部よりも直径方向に小さな半径方向内周面及び基板を貫通した開口部よりも直径方向に大きな半径方向外周面を備えた半径方向に延びる周囲フランジを有し、前記フランジは、軸方向外側フェース及び前記軸方向外側フェースから前記一方の端部に向かう方向に間隔を置いて位置した軸方向内側フェースを有していることを特徴とする請求項７記載のグロメット。
【請求項１７】
前記内側フェースは、平らであることを特徴とする請求項１６記載のグロメット。
【請求項１８】
前記他方の端部は、前記フランジの前記内側フェースに隣接して設けられた半径方向内方に延びる周囲凹部を有していることを特徴とする請求項１６記載のグロメット。
【請求項１９】
前記端部のうち前記他方は、基板を貫通した開口部よりも直径方向に小さな半径方向内周面及び基板を貫通した開口部よりも直径方向に大きな半径方向外周面を備えた半径方向に延びる周囲フランジを有し、前記フランジは、軸方向外側フェース及び前記軸方向外側フェースから前記一方の端部に向かう方向に間隔を置いて位置した軸方向内側フェースを有し、前記内側フェースは、平らであることを特徴とする請求項１１記載のグロメット。
【請求項２０】
前記他方の端部は、前記フランジの前記内側フェースに隣接して設けられた半径方向内方に延びる周囲凹部を有していることを特徴とする請求項１９記載のグロメット。
【請求項２１】
前記端部のうち前記他方は、基板を貫通した開口部よりも直径方向に小さな半径方向内周面及び基板を貫通した開口部よりも直径方向に大きな半径方向外周面を備えた半径方向に延びる周囲フランジを有し、前記フランジは、軸方向外側フェース及び前記軸方向外側フェースから前記一方の端部に向かう方向に間隔を置いて位置した軸方向内側フェースを有し、前記内側フェースは、平らであることを特徴とする請求項１４記載のグロメット。
【請求項２２】
前記他方の端部は、前記フランジの前記内側フェースに隣接して設けられた半径方向内方に延びる周囲凹部を有していることを特徴とする請求項２１記載のグロメット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月2日(2007.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、前記第１の電極上の有機化合物層と、前記有機化合物層上の第２の電極と、を有し、
前記第１の電極又は前記第２の電極の少なくとも一方は、反射鏡として機能し、
非可干渉性の光と可干渉性の光とを放射することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
第１の電極と、前記第１の電極上の有機化合物層と、前記有機化合物層上の第２の電極と、を有し、
前記有機化合物層の少なくとも一方の面には反射体が備えられ、
非可干渉性の光と可干渉性の光とを放射することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記有機化合物層の厚さに屈折率をかけた値は、前記可干渉性の光の波長の二分の一倍、またはその整数倍であることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
発光ピークの半値幅が１０ｎｍ以下である前記可干渉性の光を放射することを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記非可干渉性の光を前記発光装置の上面から取り出し、
前記可干渉性の光を前記発光装置の側面から取り出すことを特徴とする発光装置。
【請求項６】
第１の電極と、前記第１の電極上の有機化合物層と、前記有機化合物層上の第２の電極と、を有し、
前記第１の電極又は前記第２の電極の少なくとも一方は、反射鏡として機能し、
ルミネセンス光とレーザー光とを放射することを特徴とする発光装置。
【請求項７】
第１の電極と、前記第１の電極上の有機化合物層と、前記有機化合物層上の第２の電極と、を有し、
前記有機化合物層の少なくとも一方の面には反射体が備えられ、
ルミネセンス光とレーザー光とを放射することを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項６又は７において、
前記有機化合物層の厚さに屈折率をかけた値は、前記レーザー光の波長の二分の一倍、またはその整数倍であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一において、
発光ピークの半値幅が１０ｎｍ以下である前記レーザー光を放射することを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項６乃至９のいずれか一において、
前記ルミネッセンス光を前記発光装置の上面から取り出し、
前記レーザー光を前記発光装置の側面から取り出すことを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記有機化合物層をマトリクス状に配置した画素部と、前記有機化合物層の発光を制御するトランジスタを有することを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線を発生するカソードと、前記電子線を細いビームに集束するために前記電子線の経路に配置される複数個のグリッド電極から成る電子集束系と、前記電子線が衝突することによりX線を発生する陽極と、前記カソードと前記電子集束系と前記陽極を真空気密に封入する外囲器とを備え、前記電子集束系の複数個のグリッド電極はそれぞれ前記電子線を通過させるための開口を有し、それぞれのグリッド電極に前記カソードを基準にして電位を印加することにより前記電子線を集束するための電子レンズを形成するマイクロフォーカスX線管において、前記電子集束系は少なくとも３個のグリッド電極から成り、前記グリッド電極のうちの前記カソードに第２番目に近接するグリッド電極（以下、第２グリッド電極という）の開口径を、前記カソードに最も近接するグリッド電極（以下、第１グリッド電極という）の開口径より小さくしたことを特徴とするマイクロフォーカスX線管。
【請求項２】
請求項１記載のマイクロフォーカスX線管において、前記第１グリッド電極の電位は、前記カソードの電位に対し正の電位であることを特徴とするマイクロフォーカスX線管。
【請求項３】
微小焦点を有するマイクロフォーカスX線管と、該マイクロフォーカスＸ線管に高電圧を供給する高電圧電源部と、前記マイクロフォーカスX線管の陰極の複数個のグリッド電極にグリッド電圧を供給するグリッド電源部と、前記マイクロフォーカスＸ線管の電極を絶縁支持する電極絶縁支持部と、前記マイクロフォーカスＸ線管と前記高電圧電源部と前記グリッド電源部と前記電極絶縁支持部を内包し支持する筺体と、前記筐体内に充填され、前記マイクロフォーカスＸ線管およびその他構成要素を浸漬して絶縁する絶縁油と、該絶縁油の膨張、収縮を緩衝するために前記筺体に取り付けられたベローズを含むＸ線発生装置において、前記マイクロフォーカスＸ線管として請求項１又は２に記載のマイクロフォーカスＸ線管を用いたことを特徴とするX線発生装置。
【請求項４】
X線を発生するＸ線発生装置と、前記X線発生装置から発生し、被検体を透過したX線を検出するX線検出装置と、前記X線検出装置から出力される検出X線量に対応する信号を入力して前記披検体のX線画像を作成する画像形成装置と、前記X線発生装置、前記X線検出装置および前記画作形成装置を制御する制御装置とを有するX線装置において、前記X線発生装置として請求項３記載のX線発生装置を用いたことを特徴とするX線装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明のマイクロフォーカスＸ線管では、更に前記電子集束系の複数個のグリッド電極のうち少なくとも第１グリッド電極と第２グリッド電極を融点2000℃以上の高融点金属材料またはその合金で構成したものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明のマイクロフォーカスX線管では、更に前記複数個のグリッド電極のうち少なくとも第1グリッド電極と第2グリッド電極の表面に放熱処理を施したものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明のマイクロフォーカスX線管では、更に前記複数個のグリッド電極のうち少なくとも第1グリッド電極と第2グリッド電極に放熱フィンを取り付けたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本発明のＸ線発生装置は、微小焦点を有する本発明に係るマイクロフォーカスX線管と、該マイクロフォーカスＸ線管に高電圧を供給する高電圧電源部と、前記マイクロフォーカスX線管の陰極の複数個のグリッド電極にグリッド電圧を供給するグリッド電源部と、前記マイクロフォーカスＸ線管の電極を絶縁支持する電極絶縁支持部と、前記マイクロフォーカスＸ線管と前記高電圧電源部と前記グリッド電源部と前記電極絶縁支持部を内包し支持する筺体と、前記筐体内に充填され、前記マイクロフォーカスＸ線管およびその他構成要素を浸漬して絶縁する絶縁油と、該絶縁油の膨張、収縮を緩衝するために前記筺体に取り付けられたベローズを含むものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、本発明のＸ線装置は、X線を発生する本発明に係るＸ線発生装置と、前記X線発生装置から発生し、被検体を透過したX線を検出するX線検出装置と、前記X線検出装置から出力される検出X線量に対応する信号を入力して前記披検体のX線画像を作成する画像形成装置と、前記X線発生装置、前記X線検出装置および前記画像形成装置を制御する制御装置とを有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、本発明のマイクロフォーカスＸ線管では、その陰極の電子集束系の第１グリッド電極と第２グリッド電極を融点2000℃以上の高融点金属材料またはその合金で構成しているので、両グリッド電極の開口の近傍がカソードから放射された一部の電子線の衝突によって加熱されて温度上昇しても、熱変形や2次電子放出などが起らず、X線管の焦点寸法およびX線管電流などの特性は安定した動作を示すことができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
また、本発明のマイクロフォーカスX線管では、複数個のグリッド電極のうち少なくとも第1グリッド電極と第2グリッド電極に放熱フィンを取り付けているので、両グリッド電極の放熱が十分行われることにより、温度上昇は抑制され、両グリッド電極に電子線の一部が衝突しても熱変形や2次電子放出などを起こさず、また両グリッド電極を支持する絶縁物の過熱を防止するため、X線管は安定した動作を維持することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、本発明のX線発生装置では、微小焦点を有する本発明に係るマイクロフォーカスX線管と共に、高電圧電源部やグリッド電源部などを一つの筺体内に収容して一体に纏められているので、低圧交流電圧供給用の電源コードを接続するのみで、マイクロフォーカスX線管を駆動させることができる。その結果、X線発生装置は非常にコンパクトに纏まり、その取り扱いは非常に簡便になっている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
また、本発明のX線装置は、本発明に係るマイクロフォーカスX線管を内包するX線発生装置を用いているので、10μm以下の焦点寸法と実用的な値のX線管電流が得られ、このX線装置を用いて、微小焦点によるX線拡大撮影による精密診断や工業製品などの微細な内部構造の非破壊検査などを効果的に実施することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置及び発光装置を用いた電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、補助電極とを各画素に有し、
前記発光素子は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極の間に設けられた電界発光層とを有し、
前記第１の電極は、絶縁膜に形成された第１の開口部において前記電界発光層を間に挟んで前記第２の電極と重なっており、
前記補助電極は、前記絶縁膜に形成された第２の開口部において前記第２の電極と電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成された第１の電極及び補助電極と、
前記第１の電極の端部及び前記補助電極の端部を覆うように形成された第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜に形成された第１の開口部において前記第１の電極と接する電界発光層と、
前記第１の開口部において前記電界発光層と接し、かつ前記第２の絶縁膜に形成された第２の開口部において前記補助電極と接する第２の電極とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成された第１の電極及び補助電極と、
前記第１の電極の端部を覆うように形成された第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜に形成された第１の開口部において前記第１の電極と接し、かつ前記第２の絶縁膜に形成された第２の開口部において前記補助電極の上部と接する電界発光層と、
前記第１の開口部において前記電界発光層と接し、かつ前記第２の開口部において前記補助電極の側面と接する第２の電極とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項２または３において、前記第１の絶縁膜は感光性有機樹脂であることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれか一において、前記第２の絶縁膜は感光性有機樹脂であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項４または５において、前記感光性有機樹脂はクレゾール樹脂を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、前記第２の電極を覆うように形成された透明導電膜を有することを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、前記第１の電極は、透明導電膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一において、前記第１の電極は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウムに２〜２０％の酸化亜鉛が混合された透明導電膜、チタン膜、または窒化チタン膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一において、前記第２の電極は、透光性を有することを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか一において、前記第２の電極は、Ｃａ、Ａｌ、ＣａＦ、ＭｇＡｇ、またはＡｌＬｉであることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成された陽極及び補助電極と、
前記陽極の端部及び前記補助電極の端部を覆うように形成された第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜に形成された第１の開口部において前記陽極と重なる発光層と、
前記第１の開口部において前記発光層と重なり、かつ前記第２の絶縁膜に形成された第２の開口部において前記補助電極と重なる電子注入層とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項１３】
請求項１２において、前記電子注入層上に形成された保護膜と、前記電子注入層及び前記保護膜の間に形成された透明導電膜とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項１４】
請求項１２または１３において、前記電子注入層は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または遷移金属のいずれか一が添加されたベンゾオキサゾール誘導体を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項１５】
請求項１４において、前記ベンゾオキサゾール誘導体と、前記アルカリ金属、前記アルカリ土類金属、または前記遷移金属のいずれか一とのモル比が、０．１〜１０であることを特徴とする発光装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか一に記載の発光装置を用いた電子機器。
【請求項１７】
請求項１乃至１５のいずれか一に記載の発光装置を用いたモバイルコンピュータ。
【請求項１８】
請求項１乃至１５のいずれか一に記載の発光装置を用いた音響再生装置。
【請求項１９】
請求項１乃至１５のいずれか一に記載の発光装置を用いた携帯型ゲーム機。
【請求項２０】
請求項１乃至１５のいずれか一に記載の発光装置を用いた携帯電話。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月18日(2007.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１の電極、発光物質を含む層、および第２の電極からなる発光素子を有し、
前記第１の電極は透光性を有し、
前記基板と前記第１の電極との間に反射体を有し、かつ前記反射体は、前記発光物質を含む層と重なる位置に設けられ、
前記反射体は、開口部を有し、
前記開口部は、六角形状、四角形状、または三角形状であることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記反射体は、前記基板上に形成される絶縁膜の一部に形成され、かつ前記反射体と前記絶縁膜は同一表面を有し、
前記発光物質を含む層の屈折率をｎ１、前記絶縁膜の屈折率をｎ２とすると、
前記反射体の傾斜角φは、
ｎ１≧ｎ２の時は、
φ＝４５＋１／２・ｓｉｎ−１（１／ｎ２）±１０（°）
ｎ１＜ｎ２の時は、
φ＝９０−１／２（ｓｉｎ−１（ｎ１／ｎ２）−ｓｉｎ−１（１／ｎ２））
±１０（°）
（但し、ｎ１、ｎ２＝１〜３）
であることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記絶縁膜に設けられた溝に前記反射体を設けたことを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記反射体を複数有し、
前記発光物質を含む層の屈折率をｎ１、前記反射体の反射率をｒ１、前記第２の電極の反射率をｒ２とする時、
前記反射体の配置密度ｘは、
【数１】
2005038837.tif 000001
であることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記反射体は、銀、アルミニウム、タンタル、ニオブ、モリブデン、銅、マグネシウム、ニッケル、または鉛からなることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月21日(2007.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の発光素子と前記第１の発光素子上に形成された第２の発光素子とを有する画素が基板上にマトリクス状に配置され、
前記第１の発光素子は、第１の方向に発光し、
前記第２の発光素子は、前記第１の方向と逆の方向である第２の方向に発光し、
前記第１の発光素子の第１の電極には、半導体素子が電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第１の発光素子及び前記基板の間に、前記半導体素子及び前記第２の発光素子が形成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１において、前記第２の発光素子及び前記基板の間に、前記第１の発光素子及び前記半導体素子が形成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
第１の発光素子、前記第１の発光素子上に形成された第２の発光素子、及び前記第１の発光素子の第１の電極に電気的に接続された半導体素子を有する画素が、基板上にマトリクス状に配置され、
前記第１の発光素子と前記第２の発光素子との間には、絶縁膜が形成され、前記第１の発光素子は、第１の電極、第１の発光物質を含む層、及び第２の電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第２の発光素子は、第３の電極、第２の発光物質を含む層、及び第４の電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第１の発光素子と前記基板との間に前記第２の発光素子及び前記半導体素子が形成され、
前記第２の電極及び前記第３の電極が透光性を有することを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４において、前記第１の電極及び前記第４の電極が、透光性を有し、かつ前記絶縁膜が着色していることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項４において、前記第１の電極または前記第４の電極が、透光性を有し、かつ前記絶縁膜が着色していることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
第１の発光素子、及び前記第１の発光素子上に形成された第２の発光素子、並びに前記第１の発光素子の第１の電極に電気的に接続された半導体素子を有する画素が、基板上にマトリクス状に配置され、
前記第１の発光素子と前記第２の発光素子との間には、絶縁膜が形成され、前記第１の発光素子は、第１の電極、第１の発光物質を含む層、及び第２の電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第２の発光素子は、第３の電極、第２の発光物質を含む層、及び第４の電極が、前記基板側から順に設けられた積層構造を有し、
前記第２発光素子と前記基板との間に前記第１の発光素子及び前記半導体素子が形成され、前記第１の電極及び前記第４の電極が透光性を有することを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項７において、前記第２の電極及び前記第３の電極が、透光性を有し、かつ前記絶縁膜が着色していることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項７において、前記第２の電極又は前記第３の電極が、透光性を有し、かつ前記絶縁膜が着色していることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項５、請求項６、請求項８、又は請求項９において、前記着色している絶縁膜は、
金属粒子、カーボン粒子、又は黒色顔料が分散された有機樹脂であることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、前記第１の発光素子は、アクティブマトリクス駆動方式の発光素子であり、前記第２の発光素子は、パッシブマトリクス駆動方式の発光素子であることを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、前記第１の発光素子は、アクティブマトリクス駆動方式の発光素子であり、前記第２の発光素子は、エリアカラー用の発光素子であることを特徴とする発光装置。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一項において、前記第１の発光素子又は前記第２の発光素子は、有機化合物から発光を呈する発光素子であることを特徴とする発光装置。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一項において、前記半導体素子は、薄膜トランジスタ、ＭＯＳトランジスタ、有機トランジスタ、又はダイオードであることを特徴とする発光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれかに記載の発光装置を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上の下部強磁性層と、上部強磁性層と、該上下の強磁性層の間の非磁性スペーサ層を持つ積層磁気記録層を有し、前記下部及び上部強磁性層の少なくとも一方が反強磁性結合された(AFC)層であって、該AFC層は第１の強磁性膜と、第２の強磁性膜と、該第１及び第２強磁性膜の間に位置し当該第１及び第２強磁性膜の反強磁性交換結合を生ずるような厚さと組成を有する反強磁性カップリング膜を含む磁気記録ディスクと、
前記下部及び上部強磁性層の領域内の平行である磁化方向を変化させるための磁界を発生する誘導書込みヘッドと、
前記書込みヘッドからの磁界に曝されている前記下部強磁性層の領域に熱を送るためのヒータと、
を有することを特徴とする磁気記録ディスク・ドライブ。
【請求項２】
前記下部強磁性層のみがAFC層であることを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項３】
前記AFC層の第１強磁性膜はt1の厚さとM1の磁化の強さを有し、前記非磁性スペーサ層に隣接しており、前記AFC層の第２強磁性膜はt2の厚さとM2の磁化の強さを有し、該第２強磁性膜の単位面積当たりの磁気モーメント(M2×t2)は前記第１強磁性膜の単位面積当たりの磁気モーメント(M1×t1)よりも小さいことを特徴とする請求項２記載のディスク・ドライブ。
【請求項４】
前記AFC層の反強磁性カップリング膜が、ルテニウム(Ru)、クロム(Cr)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、銅(Cu)、及びそれらの合金から成る群から選ばれた材料で作られていることを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項５】
前記第１及び第２強磁性層が、コバルト(Co)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、及びそれらの合金から成る群から選ばれた材料で作られていることを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項６】
前記基板上に、該基板と前記磁気記録層の間に位置する下地層をさらに有することを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項７】
前記磁気記録層の上に形成された保護用オーバーコートをさらに有することを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項８】
基板と、該基板上の下部強磁性層と、上部強磁性層と、該上下の強磁性層の間の非磁性スペーサ層を持つ積層磁気記録層を有する磁気記録ディスクと、
前記下部及び上部強磁性層の領域内の平行である磁化方向を変化させるための磁界を発生する誘導書込みヘッドと、
前記書込みヘッドからの磁界に曝されている前記下部強磁性層の領域に熱を送るための電気抵抗ヒータと、
を有することを特徴とする磁気記録ディスク・ドライブ。
【請求項９】
前記ヒータがレーザであることを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項１０】
前記誘導書込みヘッドを支えるためのスライダをさらに有することを特徴とする請求項１記載のディスク・ドライブ。
【請求項１１】
前記ヒータが前記スライダ上に支えられていることを特徴とする請求項１０記載のディスク・ドライブ。
【請求項１２】
基板と、該基板上の下部強磁性層と、上部強磁性層と、該上下の強磁性層の間の非磁性スペーサ層を持つ積層磁気記録層を有し、前記上部強磁性層が、前記下部強磁性層の固有保磁力よりも十分に高い固有保磁力を持つ材料で作られている磁気記録ディスクと、
前記下部及び上部強磁性層の領域内の平行である磁化方向を変化させるための磁界を発生する誘導書込みヘッドと、
前記書込みヘッドからの磁界に曝されている前記下部強磁性層の領域に熱を送るためのヒータと、
を有することを特徴とする磁気記録ディスク・ドライブ。
【請求項１３】
基板と、該基板上の下部強磁性層と、上部強磁性層と、該上下の強磁性層の間の非磁性スペーサ層を持つ積層磁気記録層を有する磁気記録ディスクと、
前記下部及び上部強磁性層の領域内の平行である磁化方向を変化させるための磁界を発生する誘導書込みヘッドと、
前記書込みヘッドからの磁界に曝されている前記下部強磁性層の領域に熱を送るためのヒータと、を有し、
前記下部強磁性層における書込み磁界の強さが前記ヒータからの熱がない場合には該下部強磁性層の固有保磁力よりも弱くなるように、前記下部強磁性層が前記書込みヘッドから距離をおいて位置していることを特徴とする磁気記録ディスク・ドライブ。
【請求項１４】
磁界を発生させるための誘導書込みヘッドと、
基板と、該基板上の下部強磁性層、上部強磁性層と、該上下の強磁性層の間の非磁性スペーサ層を持つ積層磁気記録層を含み、前記上部強磁性層は前記書込みヘッドから距離Sの位置、前記下部強磁性層は前記書込みヘッドから距離S+Xの位置にあり、前記下部強磁性層は前記書込みヘッドからSの距離における磁界に曝されたときには磁化を逆転させ得るが、前記書込みヘッドからS+Xの距離における磁界に曝されたときには磁化の逆転が妨げられるような固有保磁力を有する磁気記録ディスクと、
前記下部強磁性層を加熱して固有保磁力を低下せしめ、それによって前記書込みヘッドからS+Xの距離における磁界に曝された時に磁化の逆転を可能にする加熱手段と、
を有することを特徴とする磁気記録ディスク・ドライブ。
【請求項１５】
前記下部及び上部強磁性層の少なくとも一方が反強磁性結合された (AFC)層であって、該AFC層は第１強磁性膜と、第２強磁性膜と、該第１及び第２強磁性膜の間に位置し当該第１及び第２強磁性膜の反強磁性交換結合を生ずるような厚さと組成を有する反強磁性カップリング膜を含むことを特徴とする請求項１４記載のディスク・ドライブ。
【請求項１６】
前記下部強磁性層のみがAFC層であることを特徴とする請求項１５記載のディスク・ドライブ。
【請求項１７】
前記AFC層の第１強磁性膜はt1の厚さとM1の磁化の強さを有し、前記非磁性スペーサ層に隣接しており、前記AFC層の第２強磁性膜はt2の厚さとM2の磁化の強さを有し、該第２強磁性膜の単位面積当たりの磁気モーメント(M2×t2)は前記第１強磁性膜の単位面積当たりの磁気モーメント(M1×t1)よりも小さいことを特徴とする請求項１６記載のディスク・ドライブ。
【請求項１８】
前記ヒータが電気抵抗ヒータであることを特徴とする請求項１４記載のディスク・ドライブ。
【請求項１９】
前記ヒータがレーザであることを特徴とする請求項１４記載のディスク・ドライブ。
【請求項２０】
前記誘導書込みヘッドを支えるためのスライダをさらに含むことを特徴とする請求項１４記載のディスク・ドライブ。
【請求項２１】
前記ヒータがスライダ上に支えられていることを特徴とする請求項２０記載のディスク・ドライブ。
【請求項２２】
前記上部強磁性層が、前記下部強磁性層の固有保磁力よりも十分に高い固有保磁力を持つ材料で作られていることを特徴とする請求項１４記載のディスク・ドライブ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月18日(2007.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザービームを放射可能な発光素子と、
前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、
トランジスタで形成された信号処理回路部とが同一基板上に形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項２】
レーザービームを放射可能な発光素子と、
前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系と、
前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、
トランジスタで形成された信号処理回路部とを有し、
前記発光素子、前記受光素子、及び前記信号処理回路部が同一基板上に形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項３】
レーザービームを放射可能な発光素子と、
前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系と、
前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、
前記発光素子を駆動する第１の制御回路と、
前記電気信号を読み取る第２の制御回路とを有し、
前記発光素子、前記受光素子、前記第１の制御回路、及び前記第２の制御回路が同一基板上に形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項４】
レーザービームを放射可能な発光素子と、
前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系と、
前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、
前記発光素子を駆動する第１の制御回路と、
前記電気信号を読み取る第２の制御回路とを複数個有し、
前記複数個の発光素子、受光素子、第１の制御回路、及び第２の制御回路が同一基板上に形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記発光素子は、一対の基板間に形成された有機化合物層を有し、前記有機化合物層から放射される光の発光スペクトルは複数のピークを有し、前記発光スペクトルの内、特定波長の光に対して定在波が立つように、前記有機化合物層の膜厚が、前記特定波長の半波長またはその整数倍の厚さで形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項６】
請求項５において、前記発光素子の光出力側に、前記特定波長の光を選択的に透過する光学フィルターが備えられていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記発光素子は、複数の発光ピークを有し、少なくとも一つの発光ピークの半値幅が、１０ｎｍ以下であるピーク波長の光を放射する有機化合物層が一対の電極間に備えられていることを特徴とする光ピックアップ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
以上説明したように、本発明の実施の形態２によれば、従来、メッキによる金属層の形成を困難または不可能にしていた、無機材料をレジストとして用いることが可能となる。それにより、例えば、無機材料が一定温度以上で変化する性質を利用して原盤を製作することが可能となる。また、有機層を真空蒸着法で形成することによって、スピンコート法を採用する前記の実施の形態１の製造方法で得られるスタンパに比べて、凹凸パターンの高さがより高いスタンパの製造が可能となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
次に第２の条件を満たす厚さの範囲を決定した。ここでは、実施の形態１と同様にして、凹凸パターンの高さがそれぞれ３５ｎｍおよび９０ｎｍである２種類の原盤６を用意し、各原盤６を用いて有機層７の厚さの異なる７種類の積層体（計１４種類）を製作し、各積層体の有機層７の凹凸パターンの高さを測定した。その結果を表６に示す。ここでは、先の第１の条件を満たす厚さの範囲を決定したときと同様に、ポリ尿素から成る有機層７が形成されるように、蒸着重合法により形成した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
図４（Ｂ）〜（Ｄ）は、記録補助層２２の厚さを一定として、熱伝導率が異なる材料を用いて記録補助層２２を形成した場合の、レジスト２が昇温により状態変化した部分、即ち潜像５の断面形状を模式的に示している。記録補助層２２を構成する材料の熱伝導率は、図４（Ｂ）＞図４（Ｃ）＞図４（Ｄ）の順で高い。図４（Ｂ）〜（Ｄ）より、記録補助層２２を構成する材料の熱伝導率によって、潜像５の断面形状が変化することがわかる。記録補助層がレジストと基板との間に位置する記録原盤において、記録補助層を構成する材料の熱伝導率だけを変化させると、熱伝導率が小さいほど、レジストの基板側表面から放出される熱量がより小さくなる。即ち、記録補助層の熱伝導率が小さいほど、レジストの表面からより深い部分が昇温することが可能となるので、図４（Ｄ）に示すように、状態変化した部分５と状態変化していない部分との境界がより急な傾きを有することとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月2日(2007.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
実施例２Ａ
５−〔ビス（２−メトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチル
５−アミノ−３−（カルボキシメチル）−４−シアノ−２−チオフェンカルボン酸ジメチルエステル４００kg、炭酸カリウム４７８kg、アセトン２８１０リットル、アドジェン（Ａｄｏｇｅｎ）４６４（登録商標）１６kg及びブロモ酢酸メチル５２９．６kgを反応器に導入した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
実施例２Ｂ
５−〔ビス（２−メトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチル
実施例２Ａと同じ方法で、但しアドジェン（Ａｄｏｇｅｎ）４６４（登録商標）をアリクォット（Ａｌｉｑｕａｔ）３３６（登録商標）に置き換えて、５−〔ビス（２−メトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチルが得られた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
実施例２Ｃ
５−〔ビス（２−メトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチル
実施例２Ａと同じ方法で、但しアセトンをアセトニトリルに置き換えて、５−〔ビス（２−メトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチルが得られた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
実施例２Ｄ
５−〔ビス（２−エトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチル
実施例２Ａと同じ方法で、但しブロモ酢酸メチル５２９．６kgをブロモ酢酸エチル５７８．１kgに置き換えて、５−〔ビス（２−エトキシ−２−オキソエチル）アミノ〕−４−シアノ−３−（２−メトキシ−２−オキソエチル）−２−チオフェンカルボン酸メチルが得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月16日(2006.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学成分が質量％で、Ｃ：０．０３％以下、Ｓｉ：１．０％以下、Ｍｎ：３．０％以下、Ｐ：０．０８％以下、Ｓ：０．０３％以下、Ａｌ：０．０１〜０．１０％、Ｎ：０．０１％以下で、残部は実質的に鉄からなり、かつＳｉ、Ｍｎ、Ｐの含有量と引張強度ＴＳが次の関係を満たすことを特徴とする表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板。
Ｓｉ／１２＋Ｍｎ／３３＋Ｐ≦０．０００８ＴＳ−０．２４３
但し、ＴＳ≧３４０ＭＰａとする。
【請求項２】
請求項１記載の表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板において、化学成分としてさらに、Ｃｒ：１．０％以下、Ｍｏ：１．０％以下、Ｖ：１．０％以下、Ｂ：０．０１％以下、Ｔｉ：０．１％以下、Ｎｂ：０．１％以下の内1種以上を含有することを特徴とする表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板。
【請求項３】
前記複合組織鋼板は、亜鉛系めっきを施した亜鉛系めっき鋼板であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板。
【請求項４】
前記亜鉛系めっき鋼板は、溶融亜鉛めっき鋼板であることを特徴とする 請求項３に記載の表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板。
【請求項５】
請求項１または請求項２記載の化学成分を有する鋼の熱延板を、冷間圧延し、Ａｃ１点以上Ａｃ３点以下の温度範囲で焼鈍し、１次冷却として４℃／秒超１０℃／秒未満の冷却速度で４５０〜７００℃まで冷却し、その後、2次冷却として１０℃／秒以上の冷却速度でMs変態点以下に冷却することにより、低温変態相の体積率１０%未満のミクロ組織を得ることを特徴とする表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板の製造方法。
【請求項６】
前記焼鈍後、亜鉛系めっきを施すことを特徴とする請求項５に記載の表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板の製造方法。
【請求項７】
前記亜鉛系めっきは溶融亜鉛系めっきであることを特徴とする請求項６に記載の表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するために、本発明は、化学成分が質量％で、Ｃ：０．０３％以下、Ｓｉ：１．０％以下、Ｍｎ：３．０％以下、Ｐ：０．０８％以下、Ｓ：０．０３％以下、Ａｌ：０．０１〜０．１０％、Ｎ：０．０１％以下で、残部は実質的に鉄からなり、かつＳｉ、Ｍｎ、Ｐの含有量と引張強度ＴＳが次の関係を満たすことを特徴とする表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板を提供する。
Ｓｉ／１２＋Ｍｎ／３３＋Ｐ≦０．０００８ＴＳ−０．２４３
但し、ＴＳ≧３４０ＭＰａとする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の複合組織鋼板において、化学成分としてさらに、Ｃｒ：１．０％以下、Ｍｏ：１．０％以下、Ｖ：１．０％以下、Ｂ：０．０１％以下、Ｔｉ：０．１％以下、Ｎｂ：０．１％以下の内1種以上を含有することもできる。また、亜鉛系めっきを施した亜鉛系めっき鋼板とすることもできる。この場合に亜鉛系めっき鋼板として溶融亜鉛めっき鋼板とすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明はまた、上記化学成分を有する鋼の熱延板を、冷間圧延し、Ａｃ１点以上Ａｃ３点以下の温度範囲で焼鈍し、１次冷却として４℃／秒超１０℃／秒未満の冷却速度で４５０〜７００℃まで冷却し、その後、2次冷却として１０℃／秒以上の冷却速度でMs変態点以下に冷却することにより、低温変態相の体積率１０%未満のミクロ組織を得ることを特徴とする表面性状に優れた高成形性高強度複合組織鋼板の製造方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記製造方法において、前記焼鈍後、亜鉛系めっきを施すようにすることができる。また、前記亜鉛系めっきとして溶融亜鉛系めっきを用いることができる。