Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マイクロ流体製品を製造する方法において：
（ａ）（１）重合体又は重合体先駆物質でありかつ酸又はラジカルにより開始される化学反応を受ける能力をもつ少なくとも１つの反応種；及び
（２）（ｉ）少なくとも２つの光子を同時に吸収する能力をもつ少なくとも１つの多光子光増感剤、（ｉｉ）任意には、多光子光増感剤とは異なるかつ光増感剤の電子励起状態に対し電子を供与する能力をもつ少なくとも１つの電子供与体化合物及び（ｉｉｉ）光増感剤の電子励起状態から電子を受容することによって光増感されその結果少なくとも１つの遊離ラジカル及び／又は酸を形成させる能力をもつ少なくとも１つの電子受容体化合物を、光化学的に有効な量含んで成る少なくとも１つの多光子光重合開始剤系；
を含む光反応性組成物を調製する段階；
（ｂ）少なくとも２つの光子の同時吸収をひき起こすのに充分な光に前記組成物の一部分を露光し、かくして前記組成物の露光された部分と未露光部分を形成し、かくして前記露光部分内で酸又はラジカルにより開始される少なくとも１つの化学反応を誘発する段階；及び
（ｃ）少なくとも１つの入口、少なくとも１つの出口及びこの入口及び出口と流体連絡する能力をもち、かつそれ以外の部分は重合体母材の中に完全に封入されているマイクロ流体処理アーキテクチャを画定する継目無しの重合体母材を含んで成るマイクロ流体製品を形成するべく、前記組成物の前記露光部分又は前記未露光部分のいずれかを除去する段階、
を含んで成る方法。
【請求項２】  約１０-8〜１０-15秒のレーザーパルス持続時間及び約１０2〜１０9パルス／秒を用いて、約５〜約１００，０００ミクロン／秒の線形画像化速度を提供する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  マイクロ流体製品を製造する方法において：
（ａ）（１）重合体先駆物質でありかつラジカル又は酸により開始される化学反応を受ける能力をもつ少なくとも１つの反応種；及び
（２）（ｉ）ローダミンＢ；
（ｉｉ）任意には、少なくとも１つのアルキルアリールボレート塩；及び
（ｉｉｉ）少なくとも１つのヨードニウム塩、を光化学的に有効な量含んで成る少なくとも１つの多光子光重合開始剤系；
を含む光反応性組成物を調製する段階；
（ｂ）少なくとも２つの光子の同時吸収をひき起こすのに充分な光に前記組成物の一部分を露光し、かくして前記組成物の露光された部分と未露光部分を形成し、かくして、前記露光部分内でラジカルにより開始される少なくとも１つの化学反応を誘発する段階；及び
（ｃ）少なくとも１つの入口、少なくとも１つの出口及びこの入口及び出口と流体連絡する能力をもち、かつそれ以外の部分は重合体母材の中に完全に封入されているマイクロ流体処理アーキテクチャを画定する継目無しの重合体母材を含んで成るマイクロ流体製品を形成するべく、前記組成物の前記露光部分又は前記未露光部分のいずれかを除去する段階、
を含んで成る方法。
【請求項４】  重合体母材内に封入されたマイクロ流体処理アーキテクチャを製造する方法において：
（ａ）多光子吸収をひき起こすのに充分な光に露光された時点で重合体母材を形成する能力をもちかつ；
（１）熱可塑性プラスチック；
（２）硬化性種；及び
（３）フルオレセインのものよりも大きい２光子吸収断面積をもち少なくとも２つの光子の同時吸収時点で硬化性種の硬化を開始する能力をもつ少なくとも１つの光増感剤を含む光重合開始剤系；
を含んで成る光硬化性組成物を提供する段階；
（ｂ）前記光重合開始剤系に少なくとも２つの光子を吸収させるのに充分な光で前記光硬化性組成物の少なくとも一部分を画像通りに露光し、かくして前記光硬化性組成物の少なくとも一部分を硬化して、マイクロ流体処理アーキテクチャ、少なくとも１つの入口ポート及び少なくとも１つの出口ポートを画定する３次元パターンをもつ重合体母材を形成する段階であって、ここで前記マイクロ流体処理アーキテクチャを画定する前記重合体母材の全ての壁が前記多光子吸収によって形成されている段階；及び
（ｃ）前記マイクロ流体処理アーキテクチャに対応する空隙を作り出すべく未硬化の光硬化性組成物を除去する段階、
を含んで成る方法。
【請求項５】  重合体母材内に封入された内容積要素をもつマイクロ流体処理アーキテクチャを製造する方法において：
（ａ）重合体母材を提供する段階；
（ｂ）少なくとも２つの光子の同時吸収をひき起こし前記重合体母材の少なくとも一部分を除去可能な状態にして、少なくとも１つの入口ポート及び少なくとも１つの出口ポートと流体連絡する能力をもつマイクロ流体処理アーキテクチャの内容積要素に対応する３次元パターンを形成するべく充分な光に対し前記重合体母材の少なくとも一部分を露光する段階；及び
（ｃ）前記マイクロ流体処理アーキテクチャの前記内容積要素に対応する空隙を作り出すべく前記重合体母材の前記除去可能な部分を除去する段階、
を含んで成る方法。
【請求項６】  重合体母材内に封入された、画定された容積をもつマイクロ流体処理アーキテクチャを製造する方法において：
（ａ）エネルギーに露呈された時点で重合体母材を形成する能力をもちかつ多光子光禁止剤の存在下で少なくとも２つの光子の同時吸収をひき起こすのに充分な光に対する露光によって非硬化性にされ得る硬化性組成物を提供する段階；
（ｂ）前記光禁止剤に少なくとも２つの光子を吸収させるのに充分な光に対し前記硬化性組成物の少なくとも一部分を露光し、かくして前記硬化性組成物の少なくとも一部分を非硬化性にし、少なくとも１つの入口ポート及び少なくとも１つの出口ポートと流体連絡する能力をもつマイクロ流体処理アーキテクチャの容積を画定する３次元パターンを形成する段階；
（ｃ）前記硬化性組成物を硬化して重合体母材を形成するのに充分なエネルギーに該硬化性組成物を露呈する段階；及び
（ｄ）前記マイクロ流体処理アーキテクチャに対応する空隙を作り出すべく前記組成物の前記非硬化性部分を除去する段階、
を含んで成る方法。
【請求項７】  請求項１、３、４、５及び６のいずれか一項に記載された方法により製造されたマイクロ流体製品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月18日(2008.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱膨張補償マニホルド支持体において、
上記マニホルド支持体（４０）が、
ハウジング（５６）であって、同ハウジング内に開口を画定するくぼみ（６４）を有するハウジングと；
上記ハウジングのくぼみ（６４）内に位置し、当該ハウジングの開口の外方へ延びるバネ（６８）と；
上記開口の上方に位置し、上記バネ（６８）と表面接触するカバー（７０）であって、同カバー（７０）が間にギャップ（８６）を画定するように上記ハウジングの開口から離間しているカバーと；
上記バネ（６８）に対して上記カバー（７０）を保持するために上記ハウジング（５６）と当該カバー（７０）との間を延びるコネクタ（７９、８４）と；
を有することを特徴とするマニホルド支持体。
【請求項２】
上記バネ（６８）がベレビレワッシャを含むことを特徴とする請求項１に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項３】
上記バネが背中合わせの関係で一対のベレビレワッシャ（６８、６９）を含むことを特徴とする請求項２に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項４】
上記ハウジングのくぼみ（６４）内に担持され、上記バネ（６８）と当該ハウジング（５６）との間に位置するワッシャ（６６）を更に有することを特徴とする請求項１に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項５】
上記ワッシャ（６６）が上記バネ（６８）の硬度よりも大きな表面硬度を有することを特徴とする請求項４に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項６】
上記コネクタ（７９、８４）により担持され、上記ハウジング（５６）から上記カバー（７０）を所定の距離だけ離間させるために当該ハウジング（５６）及び当該カバー（７０）に接触するスリーブ（７６）を更に有することを特徴とする請求項１に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項７】
上記スリーブ（７６）が上記ハウジングのくぼみ（６４）の外方へ延びることを特徴とする請求項６に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項８】
上記カバー（７０）が上記バネ（６８）の硬度よりも大きな表面硬度を有することを特徴とする請求項１に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項９】
上記支持体（４０）が上記バネ（６８）のバネ定数に比例する圧縮荷重に対する第１の抵抗と、上記ハウジング（５６）の圧縮強度に比例する圧縮荷重に対する第２の抵抗とを有することを特徴とする請求項１に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項１０】
圧縮荷重に対する上記第２の抵抗が圧縮荷重に対する上記第１の抵抗よりも大きいことを特徴とする請求項９に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項１１】
上記ハウジングのくぼみ（６４）が環状の形をしていることを特徴とする請求項１に記載のマニホルド支持体（４０）。
【請求項１２】
請求項１に記載の熱膨張マニホルド支持体を有する、射出成形機のための高温湯道モールド成形装置であって、溶融モールド材料供給源と、上記溶融モールド材料供給源に流体連通する少なくとも１つのモールド空洞を有するモールドと、を有し、
上記高温湯道モールド成形装置は、
上記モールド材料供給源に接続するための開口（３８）を有する頂部クランプ板（１２）と；
ノズルリテーナ板（１４）であって、上記頂部クランプ板（１２）と上記ノズルリテーナ板（１４）との間にくぼみ（１６）を画定するように当該頂部クランプ板（１２）から離間し、当該ノズルリテーナ板（１４）がモールド空洞と連通するようになった少なくとも１つのモールド材料流れノズル（２０）を保持し、位置決めするのに役立つノズルリテーナ板と；
上記頂部クランプ板（１２）と上記ノズルリテーナ板（１４）との間で上記くぼみ（１６）間に位置し、上記供給源から少なくとも１つの流れノズル（２０）へモールド材料を運搬するように形状づけられたモールド材料分布マニホルド（１８）と；を有し、
上記熱膨張マニホルド支持体（４０）が、上記分布マニホルド（１８）と、上記頂部クランプ板（１２）及び上記ノズルリテーナ板（１４）のうちの少なくとも一方との間で位置決めされるようになっており、上記熱膨張マニホルド支持体（４０）が、上記分布マニホルド（１８）と実質上漏洩なく連通するように上記流れノズル（２０）を維持するように形状づけられた、高温湯道モールド成形装置。
【請求項１３】
頂部クランプ板（１２）と、ノズルリテーナ板（１４）であって、上記頂部クランプ板（１２）と上記ノズルリテーナ板（１４）との間にくぼみ（１６）を画定するように当該クランプ板（１２）から離間したノズルリテーナ板（１４）と、上記頂部クランプ板（１２）と上記ノズルリテーナ板（１４）との間で上記くぼみ（１６）内に位置するモールド材料分布マニホルド（１８）であって、上記供給源から少なくとも１つの流れノズル（２０）へモールド材料を運搬するように形状づけられたモールド材料分布マニホルド（１８）と、圧縮力を加えるための、上記分布マニホルド（１８）と上記クランプ板（１２）及び上記ノズルリテーナ板（１４）の少なくとも一方との間に挿入された支持体（４０）と、の間で互いに液密関係を維持する方法であって、
上記支持体（４０）は、ハウジング内にばねを有し、上記ばねは、上記モールド素子が上記作動開始前温度にあるときに、上記分布マニホルド（１８）と上記クランプ板（１２）及びノズルリテーナ板（１２）のうちの少なくとも一方とを所定のギャップだけ離間させるように作用し、上記モールド素子（１２、１４、１８）は、周囲の作動開始前温度から上昇した作動温度までの温度範囲にわたって異なる熱膨張量を受け、
上記方法は、上記支持部材内の上記バネにより、上記作動開始前温度から上記作動温度よりも低い温度までの温度範囲の第１の部分に対して、温度の増大につれて上記モールド素子（１２、１４、１８）が膨張するときに増大する第１の圧縮力を加える工程と；
上記モールド素子の熱膨張が上記ギャップを閉じるように上記バネを圧縮してしまった後の上記温度範囲の第２の部分に対して第２の圧縮力を加えて、当該モールド素子が上記作動温度に達する前に該モールド素子（１２、１４、１８）と上記支持部材（４０）との間で直接の金属対金属接触を生じさせる工程と；
を有し、上記第２の圧縮力が上記第１の圧縮力よりも大きく、金属対金属接触が達成された後の上記モールド素子の連続する熱膨張により主として発生されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月26日(2008.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック本体上に塗料フィルムをインサート成形することによってプラスチック製品を製造する方法であって、
（ａ）コア部分を有するオスの金型要素と凹面を定める表面を有するメスの要素とを準備し、前記オスの金型要素と前記メスの金型要素とがこれらの要素の間に金型キャビティを定め、かつ大体平坦な分割面に沿って合わされており、前記オスの金型要素が、前記成形金型の端に配置され、かつ前記分割面から離れている少なくとも一つの包み込み面を有し、
（ｂ）塗料フィルムを前記金型キャビティに挿入して、該フィルムの一端を前記包み込み面に隣接させて配置し、
（ｃ）前記金型キャビティに溶融プラスチックを射出して、該溶融プラスチックを前記包み込み面と該包み込み面に隣接配置された前記フィルム端とに導き、それによって、前記フィルムが、前記包み込み面に隣接配置される前記溶融プラスチックに重なり、したがって前記本体のへり部分が前記塗料フィルムによって実質的に完全に覆われた前記プラスチック製品が成形される、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
さらに、前記少なくとも一つの包み込み面を、前記分割面に大体平行な平面に沿って備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
一対の包み込み面を備え、該包み込み面の各々が前記金型キャビティの対向するへりに沿う端に沿って配置されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記包み込み面が凹面の形であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記包み込み面が実質的に平面であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記包み込み面が前記コア部分に備えられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
請求項１の方法によって製造されることを特徴とするプラスチック製品。
【請求項８】
請求項３の方法によって製造されることを特徴とするプラスチック製品。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月30日(2008.10.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定子（１）及び回転子（２）を備え、前記固定子（１）がｑ≦０．５の分数スロット巻線を有する巻線装置を備え、前記回転子（２）が永久磁石（３）と、分数調波ギャップ磁界を非同期で利用するためのかご形誘導巻線導体（４）とを備え、回転子（２）の磁極数が前記固定子（１）の巻線装置により発生されるギャップ磁界の基本磁極数より多いことを特徴とする同期機。
【請求項２】
前記固定子（１）の巻線装置が幾つかの歯コイルを備えることを特徴とする請求項１記載の同期機。
【請求項３】
前記回転子（２）の永久磁石（３）が磁束集中方向内に配置されたことを特徴とする請求項１又は２記載の同期機。
【請求項４】
前記回転子（２）が少なくとも１つの対称なかご形誘導巻線導体（４）を備え、前記永久磁石（３）の磁極ピッチτpが対称性を示すことを特徴とする請求項１から３の１つに記載の同期機。
【請求項５】
前記永久磁石（３）及びかご形誘導巻線導体（４）が、互いに放射方向に積重配置されるか、互いに軸方向に並置されたことを特徴とする請求項４記載の同期機。
【請求項６】
前記かご形誘導巻線導体（４）が銅又はアルミニウムからなることを特徴とする請求項４又は５記載の同期機。
【請求項７】
前記かご形誘導巻線導体（４）が撚線により形成されたことを特徴とする請求項４又は５記載の同期機。
【請求項８】
前記固定子（１）の基本磁極数を２ｐGSとして、同期利用磁極数２ｐNS≦４×２ｐGS、非同期利用磁極数２ｐNA≧２ｐGS及び磁極ピッチτPに対するコイル幅τSPの比が２．６６≦τSP／τPであることを特徴とする請求項１から７の１つに記載の同期機。
【請求項９】
請求項１から８の１つに記載の同期機の、牽引駆動装置又は生産機械への応用方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
固定子１の分数スロット巻線においてのみ、一緒に回転する分数調波が生じる。その際ｑ＝ｚ／Ｎとして、スロットの数ｑを決める分母Ｎは６より大きい。即ちＮ＞６でなければならない。この結果、図８に従って実施する巻線の変形例が目的達成に導く。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
【図１】永久磁石界磁及びかご形ダンパを有する回転子の第１実施例を示す展開図。
【図２】永久磁石界磁及びかご形ダンパを有する回転子の第２実施例を示す展開図。
【図３】永久磁石界磁及びかご形ダンパを有する回転子の第３実施例を示す展開図。
【図４】永久磁石の磁束を集中させる磁束集中装置を備えた回転子の展開図。
【図５】本発明による回転電機の横断面図。
【図６】図５の回転電機の回転子の横断面図。
【図７】この回転電機の他の回転子の例を示す端面図。
【図８】固定子のスロット数Ｎ1及び基本磁極数ＰGSに関連した、巻線の実施例のスロット１極１相のスロット数を示す図表。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
味細胞において味シグナル変換を調節する化合物を同定する方法であって、該方法は、
（ｉ）該化合物を、少なくとも１つのＴ１Ｒ３ポリペプチドを含むがＴ１Ｒ１もＴ１Ｒ２も含まない味レセプターと接触させる工程；および
（ｉｉ）該レセプターに対する該化合物の機能的効果を決定し、それによって味シグナル変換を調節する化合物を同定する工程
を包含する、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記Ｔ１Ｒ３ポリペプチドは、配列番号１５、配列番号２０、配列番号２３、配列番号２５、または配列番号３１のアミノ酸配列をコードするヌクレオチド配列に対して少なくとも９０％同一であるヌクレオチド配列によってコードされる、方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法であって、前記味レセプターは、少なくとも２つのＴＩＲ３ポリペプチドを含む、方法。
【請求項４】
前記レセプターが、組換え型である、請求項１、２、または３に記載の方法。
【請求項５】
前記レセプターが、Ｇタンパク質共役型レセプター活性を有する、請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記機能的効果が、インビトロで測定される、請求項１〜５のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記機能的効果が、物理的効果である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記レセプターが、固相に結合される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記機能的効果が、前記レセプターへの前記化合物の結合を測定することによって決定される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記機能的効果が、前記レセプターの細胞外ドメインへの前記化合物の結合を測定することによって決定される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のうちのいずれか１項に記載の方法であって、前記レセプターは、細胞または細胞膜において発現され、該細胞は、Ｔ１Ｒ１もＴ１Ｒ２も発現しない、方法。
【請求項１２】
前記機能的効果が、物理的効果である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記機能的効果が、前記レセプターへ結合している化合物を測定することによって決定される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記機能的効果が、前記レセプターの細胞外ドメインへの前記化合物の結合を測定することによって決定される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記機能的効果が、化学的効果または表現型効果である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記機能的効果が、細胞内のｃＡＭＰ、ＩＰ３、またはＣａ２＋の変化を測定することによって決定される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記細胞が、哺乳動物細胞である、請求項１１〜１６のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記細胞が、ヒト細胞である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記細胞が、マウス細胞である、請求項１７に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月22日(2008.10.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）アルキルアルコキシル化リン酸エステル
ｂ）アリールアルコキシル化リン酸エステル
ｃ）線形第四級アンモニウム抗微生物剤、及び
ｄ）水、
を含んで成る抗微生物性リン酸エステルコンベアー滑剤。
【請求項２】  前記アルキルアルコキシル化リン酸エステル及び前記アリールアルコキシル化リン酸エステルが前記第四級アンモニウム抗微生物剤に対し１．５：１〜１０．０：１の重量比で入っている、請求項１記載の滑剤。
【請求項３】  前記アルキルアルコキシル化リン酸エステル及び前記アリールアルコキシル化リン酸エステルの総重量が線形第四級アンモニウム抗微生物剤である前記第四級アンモニウム抗微生物剤に対し２．０：１〜１０．０：１の重量比である、請求項１記載の滑剤。
【請求項４】  容器を搬送するのに利用されるコンベアーを滑性にする方法であって、コンベアーの搬送面にリン酸エステル抗微生物滑性組成物を塗布し、それから当該コンベアー上で容器を移動させることを含んで成り、ここで前記組成物は
ａ）アルキルアルコキシル化リン酸エステル、
ｂ）アリールアルコキシル化リン酸エステル、
ｃ）線形第四級アンモニウム抗微生物剤及び
ｄ）水
を含んで成る、方法。
【請求項５】  前記アルキルリン酸エステル及び前記アリールリン酸エステルの総重量が線形第四級アンモニウム抗微生物剤である前記線形第四級アンモニウム抗微生物剤に対し２．０：１〜１０．０：１の重量比である、請求項４記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
【表３】
2002500263.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年6月18日(2008.6.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
図に記載されたとおり、本発明は、航空機のための改良された景観カメラ・システムにおいて実施される。景観カメラ・システムは、異なる視界を有する一つのビデオ・フレームからか、又は複数のカメラから、航空機に乗っている乗客が見るために、個別に及び独立して選択可能である複数の視界を入手するために、デジタル・ビデオ技術を利用する。図３及び４を参照すると、景観カメラ・システム１０の一つの現在の好ましい実施形態においては、ビデオ・カメラ制御装置及びファイル・サーバ装置１２は、航空機の外板への接線ＬＭに対して垂直である搭載軸ＪＫに関して９０度回転することができる、典型的には水平方向に１４０度垂直方向に１２８度の視界レンズを有するビデオ・カメラ１４からのビデオ入力を受信し、およそ垂直に１４０度及び水平に１２８度であるビデオ・フレームの最大角度を供給し、それは前記レンズの通常のアスペクト比方向から９０度である。前記ファイル・サーバ装置１２は、リマッパ・ボード（remapper board）及びＳＥＢを収納する。前記ビデオ・カメラは典型的には対話式であり、カメラ制御装置によって一括表示フレーム（omniview frame）を生成するために縫い合わされた、ビデオ・カメラにおける５つの異なるセンサからの５つの個別の画像を供給する。図３を参照すると、水平の及び垂直の基準は、図２に対するそれと同じである。しかしながら、新しい基準線ＬＭと及び基準線ＪＫが、景観カメラ・システムの角度のついた配置のために使用される。角ＮＢＯは、線ＪＫに沿って配置されたその中心と成す１４０度の視界を表す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月5日(2008.8.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
別の動作モードでは、ビットストリームトリマ１１０は、テレビジョン受像機のネイティブ表示モードを示す制御信号ＭＯＤＥをコントローラ（図示せず）から受取る。即ち、テレビジョン受像機は、高精細度ビデオ信号、例として１０８０ｘ１９２０信号を受信しているかもしれないが、しかし、標準精細度画像、例として４８０ｘ６４０を表示する能力があるだけかもしれない。このように、標準又は低精細度のネイティブ動作モードを有するディスプレイ装置の場合には、ビットストリームトリマ１１０は、ディスプレイ装置のネイティブモード能力以外のピクチャ情報に関連する全てのマクロブロックを切捨てることに使用される。この場合、メモリ及び処理の要件は、ディスプレイ装置のネイティブモードだけをサポートするように設計される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピクチャを含む可変長符号化デジタルビデオデータを、前記ピクチャの全サイズより小さいサイズに、復号化するための方法であって、各ピクチャは複数のマクロブロックを含み、
前記デジタルビデオデータに含まれるマクロブロックを識別するように前記デジタルビデオデータを分析するステップ、
所定の視認可能な表示領域に該当するピクチャ領域に関連しないマクロブロックを前記デジタルビデオデータから切捨てるステップであって、前記所定の視認可能な表示領域は、前記ピクチャの固定の中央部を含んでいる、ステップ、及び、
切捨てられずに残った前記デジタルビデオデータをデコーダの入力バッファへ格納するステップ、を含む方法。
【請求項２】
前記分析するステップは、前記デジタルビデオデータからマクロブロックのアドレス印及びスライスの位置印の一方を抽出するステップを含み、
前記切捨てるステップは、所定のマクロブロックのアドレス印、又は所定のスライスの位置印に関連するマクロブロックを切捨てるステップを含む、請求項１の方法。
【請求項３】
更に、切捨てられるマクロブロックに関連する予測情報を利用する切捨てでないマクロブロックを識別するステップ、及び、
前記識別された切捨てでないマクロブロックが更に切捨てでないマクロブロックに関連する予測情報を利用する場合には、前記識別された切捨てでないマクロブロックを形成するために、切捨てでないマクロブロックに関連する前記予測情報だけを利用するステップ、を含む、請求項１の方法。
【請求項４】
更に、切捨てられるマクロブロックに関連する予測情報を利用する切捨てでないマクロブロックを識別するステップ、
各識別された切捨てでないマクロブロックに対して、それぞれの近接して表示されるマクロブロック領域を識別するステップ、
各識別された切捨てでないマクロブロックに対して、それぞれの領域のモーション補償パラメータを推定するために前記それぞれの近接して表示されるマクロブロック領域を利用するステップ、及び、
各識別された切捨てでないマクロブロックに対して、前記それぞれの領域のモーション補償パラメータを利用してモーション補償パラメータを計算するステップ、を含む、請求項１の方法。
【請求項５】
ピクチャを含む可変長符号化デジタルビデオデータを、前記ピクチャの全サイズより小さいサイズに、復号化するためのシステムで使用するための装置であって、各ピクチャは複数のマクロブロックを含み、
前記デジタルビデオデータに含まれるマクロブロックを識別するように前記デジタルビデオデータを分析し、データ低減符号化デジタルビデオデータを生成するように所定の視認可能な表示領域に関連しないマクロブロックを前記デジタルビデオデータから切捨てるためのビットストリームトリマであって、前記所定の視認可能な表示領域は、前記ピクチャの固定の中央部を含んでいる、ビットストリームトリマ、及び
前記ビットストリームトリマに接続され、ビデオ信号を生成するように前記データ低減符号化デジタルビデオデータを復号化するためのビデオデコーダ、を備える、装置。
【請求項６】
更に、前記ビットストリームトリマと前記ビデオデコーダへ接続され、前記データ低減符号化デジタルビデオデータが前記デコーダにより復号化されるのに先立ち、前記データ低減符号化デジタルビデオデータをバッファするためのバッファメモリ、を備える、請求項５の装置。
【請求項７】
前記ビットストリームトリマは、ディスプレイ装置のネイティブモードを示す表示モード制御信号に応答して、前記指示される表示モードに関連しないピクチャ領域に関連するマクロブロックを応答して切捨てる、請求項５の装置。
【請求項８】
前記ビデオデコーダは、前記デジタルビデオデータ内に含まれるモーション予測情報に応答するモーション補償器を含む、請求項５の装置。
【請求項９】
前記モーション補償器は、切捨てられるマクロブロックからのモーション予測情報を利用するマクロブロックの場合には、前記モーション補償情報を必要とする前記マクロブロックに近接するマクロブロック領域の平均モーション推定を利用することにより、前記切捨てられるモーション補償情報を推定する、請求項８の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月2日(2008.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次部品（２１、２２、５２〜５７）と二次部品（１５、１６、１７）とを有する電気機械（１〜８）であって、一次部品（２１、２２、５２〜５７）と二次部品（１５，１６，１７）の間に空隙（８０）が形成され、該空隙が完全に又は部分的に、少なくとも１つの滑り層面で置換され、一次部品（２１、２２、５２〜５７）および／又は二次部品が滑り層（２５、２６）を有し、電気機械（１〜８）がリニアモータ（１〜８）であり、リニアモータ（１〜８）が、第１および第２の一次部品（５６、５７）と、該部品に付設された二次部品（１３）とを有するものにおいて、第１および第２の一次部品（５６，５７）が該部品に付設された二次部品(１３)に対して偏心配置されていることを特徴とする電気機械。
【請求項２】
リニアモータ（１〜８）が、二次部品（１２、１３）の周りで少なくとも３つの群をなす一次部品（５２〜５５）で自己支持されたことを特徴とする請求項１記載の電気機械。
【請求項３】
二次部品（１２、１３）が、一次部品（５２〜５７）の間に偏心配置されたことを特徴とする請求項１又は２記載の電気機械。
【請求項４】
滑り層（２５，２６）が種々の厚さをを有することを特徴とする請求項１〜３の１つに記載の電気機械。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月17日(2008.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像光に対してばらつきのある応答を有する画像信号を生成する画像センサであって、
標準フォトサイト及び非標準フォトサイトに分けられるフォトサイト配列と、
光露出に対する所定の標準応答を前記標準フォトサイトに備え、同じ光露出に対して所定のより遅い応答を前記非標準フォトサイトに備えるリミタとを有しており、
前記標準フォトサイト及び前記非標準フォトサイトはともに所定のパターンにおいて前記配列をまばらにサンプリングする画像センサ。
【請求項２】
画像光に対してばらつきのある応答を有する画像信号を生成する画像センサであって、
標準フォトサイト及び非標準フォトサイトの２つのタイプに分けられるフォトサイト配列と、
光露出に対する所定の標準応答を前記標準フォトサイトに備え、同じ光露出に対して、より遅い応答を前記非標準フォトサイトに備えるリミタと、
フォトサイトに重なる複数の色から成るカラー・フィルタ配列とを備えており、前記標準フォトサイトは、前記配列の色それぞれと関連付けられ、前記非標準フォトサイトは、前記配列の前記色全てよりも少ない色と関連付けられる画像センサ。
【請求項３】
画像光に対してばらつきのある応答を有する画像信号を生成する画像センサであって、
標準フォトサイト及び非標準フォトサイトの２つのタイプに分けられるフォトサイト配列と、
光露出に対する所定の標準応答を前記標準フォトサイトに備え、同じ光露出に対して、より遅い応答を前記非標準フォトサイトに備えるリミタと、
フォトサイトに重なる２つ以上の色から成るカラー・フィルタ配列とを備えており、前記標準フォトサイト及び前記非標準フォトサイトは、前記配列の前記色それぞれと関連付けられ、
前記フォトサイトのタイプと、前記カラー・フィルタ配列の色が併せて、4×4画素よりも大きな反復単位を有する反復パターンを規定する画像センサ。
【請求項４】
画像キャプチャ・システムであって、
標準フォトサイト及び非標準フォトサイトに分けられるフォトサイト配列を含む画像センサであって、前記標準フォトサイト及び前記非標準フォトサイトはともに、所定のパターンにおいて前記配列をまばらにサンプリングする画像センサと、
通常モード及び拡張モードを有するシステム・コントローラとを備え、前記システム・コントローラが、前記通常モードでは、前記標準フォトサイトによって前記画像センサを動作させ、前記非通常フォトサイトは同じ光露出に対して同様な応答を有しており、光露出に対する第１の応答を有する標準フォトサイトと、同じ光露出に対する第２の、より遅い応答を有する非標準フォトサイトとによって前記画像センサを動作させるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯を有する電気機械（１、３）の二次部品（５、７）であって、該部品（５、７）の単数又は複数の歯（１３）が非成層型であるものにおいて、歯（１３）が  少なくとも２つの材料を含みおよび／又はダイカスト法又は粉末プレス成形法で製造され、歯（１３）が空洞を持ち、該空洞が鉄を含む材料で充填されたことを特徴とする二次部品。
【請求項２】
二次部品（５、７）が歯支持体（１９）を有し、歯（１３）が歯支持体（１９）と一体に形成されたことを特徴とする請求項１記載の二次部品。
【請求項３】
二次部品（５、７）が歯支持体（１９）を有し、少なくとも１つの歯（１３）が結合手段（２９）によって歯支持体（１９）と結合されたことを特徴とする請求項１記載の二次部品。
【請求項４】
歯（１３）が板（３３）で形成され、板（３３）が歯のプロフィルを定めることを特徴とする請求項１乃至３の１つに記載の二次部品。
【請求項５】
歯（１３）が管（２５）からなることを特徴とする請求項１乃至４の１つに記載の二次部品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の周波数信号を発生する位相ロックループ回路と、
前記第１の周波数信号を分割比によって分割して、予め定めた周波数帯域内に存在する第２の周波数信号を発生する可変周波数分割器と、
第１の参照周波数信号と前記第２の周波数信号とを比較する、前記位相ロックループ回路内の第１の検出器と、
第２の参照周波数信号を少なくとも第３の周波数信号と比較する第２の検出器と、
前記第２の検出器により実行された、前記第２の参照周波数信号を前記少なくとも第３の周波数信号と比較した結果に基づいて、前記可変周波数分割器の前記分割比を制御する第１の制御器と、
前記位相ロックループ回路の電圧制御発振器を調節して前記第１の周波数信号を制御する第２の制御器と
を備える、周波数を発振する装置であって、
前記第１の制御器は、第１の量だけ前記第２の周波数信号を変化させ、前記第２の制御器は、第２の量だけ前記第２の周波数信号を変化させ、前記第２の周波数信号が、前記予め定めた周波数帯域内に存在するようにすることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記電圧制御発振器は、
共振回路と、
前記共振回路から出力される信号を発振して、前記第１の周波数信号を形成する能動回路と
を備え、
前記第２の制御器は、前記共振回路のパラメータを調節して、前記第２の量だけ前記第２の周波数信号を調節し、
前記パラメータは、印加電圧に従って変わる前記共振回路のキャパシタンス値であり、
前記共振回路は、
共振周波数を発生する複数のＬＣタンク回路と、
前記複数のＬＣタンクから１つを選択して、前記第１の周波数信号を発生するスイッチング回路と
を備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の参照周波数信号は、前記第２の参照周波数信号と等しく、
前記第１の制御器と第２の制御器とは、異なる回路であり、
前記第２の周波数信号は、前記第１の検出器によって比較される前に固定値で分割されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第３の周波数信号は、前記予め定めた周波数帯域の最小の周波数に対応し、
前記最小の周波数が前記第２の参照周波数信号よりも大きい場合は、前記第１の制御器は、前記可変周波数分割器の分割比を増大して、前記第２の周波数信号を前記帯域内に存在する値となるまで低下させることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記最小周波数が前記第２の参照周波数信号よりも低い場合には、前記第１の制御器は、前記第２の参照周波数信号を、前記予め定めた周波数帯域の最大周波数に対応する第４の周波数信号と比較し、
前記最大周波数が前記第２の参照周波数信号よりも低い場合には、前記第１の制御器は、前記可変周波数分割器の前記分割比を低減して、前記第２の周波数信号を前記帯域内に存在する値にまで増大させることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記第３の周波数信号は、前記予め定めた周波数帯域の平均周波数に対応し、
前記第３の周波数信号は、前記第２の周波数信号に基づき、
前記第２の周波数信号は、前記位相ロックループ回路の出力周波数に対応し、
前記位相ロックループ回路は、前記出力周波数に基づいてベースバンド信号またはＲＦ信号を発生する通信装置のチューナに含まれることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
位相ロックループ回路から第１の周波数信号を発生するステップと、
前記第１の周波数信号を分割比によって分割して予め定めた周波数帯域内に存在する第２の周波数信号を発生するステップであって、前記分割比は、前記位相ロックループ回路に入力される参照周波数信号とフィードバック周波数信号との比較に基づいて変えられるステップと、
第１の検出器を用いて、第１の参照周波数信号と、前記第２の参照周波数信号とを比較するステップと、
第２の検出器を用いて、第２の参照周波数信号を、少なくとも第３の周波数信号と比較するステップと、
前記第２の参照周波数信号を、前記少なくとも第３の周波数信号と比較した結果に基づいて、前記分割比を制御するステップと、
前記位相ロックループ回路の電圧制御発振器を調節して、前記第１の周波数信号を制御するステップと
を含み、
前記分割比を制御するステップは、前記第２の周波数信号を第１の量だけ変化させ、前記電圧制御発振器を調節するステップは、前記第２の周波数信号を第２の量だけ変化させて、前記第２の周波数信号が、前記予め定めた周波数帯域内に存在するようにすることを特徴とする周波数を発振する方法。
【請求項８】
前記電圧制御発振器は、
共振回路と、
前記共振回路から出力される信号を発振して、前記第１の周波数信号を形成する能動回路と
を備え、
前記調節するステップは、前記共振回路のパラメータを調節して、前記第２の周波数信号を前記第２の量だけ調節し、
前記パラメータは、印加電圧に従って変わるキャパシタンス値であり、
前記共振回路は、
共振周波数を発生する複数のＬＣタンク回路と、
前記複数のＬＣタンクから１つを選択して前記第１の周波数信号を発生するスイッチング回路と
を備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第３の周波数信号は、前記予め定めた周波数帯域の最小周波数に対応し、
前記分割比を制御するステップは、
前記最小周波数が前記第２の参照周波数信号よりも大きいときは、前記分割比を増加して、前記第２の周波数信号を前記帯域内に存在する値にまで低下させるステップを含み、前記最小周波数が前記第２の参照周波数信号よりも低い場合は、
前記第２の参照周波数信号を、前記予め定めた周波数帯域の最大周波数に対応する第４の周波数信号と比較するステップと、
前記最大周波数信号が前記第２の参照周波数信号よりも低い場合には、前記分割比を低減して、前記第２の周波数信号を前記帯域内に存在する値にまで増大させるステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月14日(2008.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣｒｇＥおよび／またはＣｒｇＲの発現がノックアウトされている、連鎖球菌属の細菌。
【請求項２】
Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｐｙｏｇｅｎｅｓである、請求項１に記載の細菌。
【請求項３】
配列番号２または配列番号４のアミノ酸配列を含む、ポリペプチド。
【請求項４】
（ａ）配列番号２もしくは配列番号４から選択されるアミノ酸配列と配列同一性を有するアミノ酸配列および／または（ｂ）配列番号２もしくは配列番号４から選択されるアミノ酸配列のフラグメントを含むアミノ酸配列を含む、ポリペプチド。
【請求項５】
ＣｒｇＥまたはＣｒｇＲを含む、融合タンパク質。
【請求項６】
ＣｒｇＥポリペプチドの基質に結合できない、変異体ＣｒｇＥポリペプチド。
【請求項７】
ＣｒｇＥを含む、治療において使用するための組成物。
【請求項８】
移植片拒絶を予防および／または処置するための組成物であって、
ＣｒｇＥ
を含む、組成物。
【請求項９】
移植片拒絶の予防および／または処置のための医薬の製造における、ＣｒｇＥの使用。
【請求項１０】
ＣｒｇＥを含む、アジュバントとして使用するための組成物。
【請求項１１】
ワクチン接種を増強するための組成物であって、
ＣｒｇＥ
を含む、組成物。
【請求項１２】
試験化合物がＣｒｇＥポリペプチドの発現をダウンレギュレートするか否かを決定するための方法であって、
（ａ）試験化合物とＳｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ．ｐｙｏｇｅｎｅｓ細菌とを接触させて混合物を形成する工程；
（ｂ）該混合物をインキュベートして該化合物と該細菌とを相互作用させる工程；および
（ｃ）該ポリペプチドの発現がダウンレギュレートされるか否かを決定する工程
を包含する、方法。
【請求項１３】
試験化合物がＣｒｇＥポリペプチドまたはＣｒｇＲポリペプチドに結合するか否かを決定するための方法であって、
（ａ）該試験化合物と該ポリペプチドとを接触させて混合物を形成する工程；
（ｂ）該混合物をインキュベートして該化合物と該ポリペプチドとを相互作用させる工程；および
（ｃ）該化合物と該ポリペプチドとが相互作用するか否かを決定する工程
を包含する、方法。
【請求項１４】
試験化合物がＣｒｇＥポリペプチドまたはＣｒｇＲポリペプチドの酵素活性を阻害するか否かを決定するための方法であって、
（ａ）該試験化合物と、該ポリペプチド、および該ポリペプチドによって触媒される酵素反応についての基質とを接触させる工程；
（ｂ）該混合物をインキュベートして該化合物と該ポリペプチドと該基質とを相互作用させる工程；ならびに
（ｃ）該ポリペプチドの酵素活性による該基質の改変が該試験化合物によって阻害されるか否かを決定する工程
を包含する、方法。
【請求項１５】
請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の方法によって同定される、化合物。
【請求項１６】
ＣｒｇＥポリペプチドまたはＣｒｇＲポリペプチドを発現する細菌を検出するための方法であって、
（ａ）Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ．ｐｙｏｇｅｎｅｓ細菌と、ＣｒｇＲに特異的な抗体またはＣｒｇＥに特異的な抗体とを接触させる工程；
（ｂ）該混合物をインキュベートして該抗体と該細菌とを相互作用させる工程；および
（ｃ）該細菌に対する該抗体の結合を検出する工程
を包含する、方法。
【請求項１７】
ＣｒｇＥポリペプチドまたはＣｒｇＲポリペプチドを発現する細菌を検出するための方法であって、
（ａ）Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ．ｐｙｏｇｅｎｅｓ細菌と、ＣｒｇＲに特異的な第１の抗体またはＣｒｇＥに特異的な第１の抗体とを接触させる工程；
（ｂ）該混合物をインキュベートして該第１の抗体と該細菌とを相互作用させる工程；
（ｃ）該混合物と、該第１の抗体に特異的な標識した第２の抗体とを接触させる工程；および
（ｄ）該第１の抗体に対する該標識した第２の抗体の結合を検出する工程
を包含する、方法。
【請求項１８】
ＣｒｇＥまたはそのホモログを含有する、薬学的組成物。
【請求項１９】
薬学的に受容可能なキャリアをさらに含有する、請求項１８に記載の薬学的組成物。
【請求項２０】
医薬としての請求項１８または請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
哺乳動物において免疫応答を惹起するための医薬の製造における、ＣｒｇＥの使用。
【請求項２２】
哺乳動物において免疫応答を惹起するための、請求項１８または請求項１９に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変調信号を取得し、前記変調信号を復元し、前記変調信号からデジタルデータの記号を再構築し、前記デジタルデータを第１の基準信号と同期させる受信機であって、
前記受信機は前記デジタルデータを前記第１の基準信号と同期させるためのジッタ管理ユニットを含み、
前記ジッタ管理ユニットは、
前記再構築されたデジタルデータを受信し、前記同期化されたデジタルデータを後の処理のために送信するＦＩＦＯデータ保持装置と、
前記デジタルデータの同期化に前記第１の基準信号を提供するためにＦＩＦＯデータ保持装置に接続された可変基準信号発生器と、
前記変調信号から抽出されたマーカー信号を受信するために接続され、ＦＩＦＯデータ保持装置内に存在するデジタルデータの量を示す占有信号を受信するために前記ＦＩＦＯデータ保持装置と通信し、前記マーカー信号および前記占有信号は発生器制御信号を作成して、前記第１の基準信号が前記デジタルデータを前記デジタルデータが送信されるタイミングに同期させるように前記基準信号の調整を行わせる発生器制御回路と、を備える、
受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔測定装置と通信して、デジタル通信受信機で受信された信号のサンプリングから得られる複数のビットから構成される記号のシリーズを受信し、前記複数のビットの受信時に、前記レジスタ内の前記ビットの位置を調節するレジスタと、
前記レジスタと通信し、前記複数のビットを検査して前記複数のビットについての記号値を決定する記号エバリュエータと、を備え、
前記記号値は、前記信号のタイミングを示す同期値と、データメッセージの先頭を示す開始値と、前記データメッセージの少なくとも１つのデータビットを示すデータ値とを含み、前記記号値は、すべての可能な記号値のうちの最確値である、
デジタル通信受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月23日(2008.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉ：約４％〜約９％、
Ｍｇ：約０.１％〜約０.７％、
Ｚｎ：約２％〜約５％、
Ｆｅ：約０.１５％未満、
Ｃｕ：約２.０％未満、
Ｍｎ：約０.３％未満、
Ｂ：約０.０５％未満、及び
Ｔｉ：約０.１５％未満、
を含んでいる、アルミニウム鋳造合金。
【請求項２】
Ｃｕは約１.０％以下、Ｚｎは約３％〜約５％である、請求項１のアルミニウム鋳造合金。
【請求項３】
Ｍｇは約０.５５〜０.６５％であり、Ｓｉは約７％である、請求項２のアルミニウム鋳造合金。
【請求項４】
Ｚｎは約３％未満である、請求項１のアルミニウム鋳造合金。
【請求項５】
Ｍｇは約０.４５〜約０.５５％、Ｓｉは約７％である、請求項４のアルミニウム鋳造合金。
【請求項６】
Ｅ３５７合金鋳物よりも高い強度特性を有している、請求項１のアルミニウム鋳造合金。
【請求項７】
Ｓｉ：約４％〜約９％、
Ｍｇ：約０.１％〜約０.７％、
Ｚｎ：約２％〜約５％、
Ｆｅ：約０.１５％未満、
Ｃｕ：約２.０％未満、
Ｍｎ：約０.３％未満、
Ｂ：約０.０５％未満、及び
Ｔｉ：約０.１５％未満、
を含んでいる、形状鋳物。
【請求項８】
Ｔ５状態又はＴ６状態に熱処理されている、請求項７の形状鋳物。
【請求項９】
Ｃｕは約１.０％以下、Ｚｎは約３％〜約５％、Ｍｇは０.５５〜０.６５％、Ｓｉは約７％である、請求項８の形状鋳物。
【請求項１０】
Ｔ６状態に熱処理された形状鋳物の高温での最大引張強さは、Ｅ３５７合金から同じ様に処理された鋳物より１０％〜２０％大きい、請求項９の形状鋳物。
【請求項１１】
高温は１００℃〜２５０℃の範囲である、請求項１０の形状鋳物。
【請求項１２】
Ｚｎは約３％未満、Ｍｇは約０.４５〜０.５５ｗｔ％、Ｓｉは約７％である、請求項８の形状鋳物。
【請求項１３】
Ｔ６状態に熱処理された形状鋳物は、高温での最大引張強さが、Ｅ３５７合金から同じ様に処理された鋳物よりも２０％〜３０％大きい、請求項１２の形状鋳物。
【請求項１４】
高温は１００℃〜２５０℃の範囲である、請求項１３の形状鋳物。
【請求項１５】
アルミニウム合金の形状鋳物を製造する方法であって、
Ｓｉ：約４％〜約９％、
Ｍｇ：約０.１％〜約０.７％、
Ｚｎ：約２.０〜約５％、
Ｆｅ：約０.１５％未満、
Ｃｕ：２.０％未満、
Ｍｎ：約０.３％未満、
Ｂ：約０.０５％未満、及び
Ｔｉ：約０.１５％未満、
を含む溶融金属塊を調製し、該溶融金属塊からアルミニウム合金製品を形成する、
ことを含んでいる、アルミニウム合金形状鋳物の製造方法。
【請求項１６】
アルミニウム合金製品の形成は、インベストメント鋳造、低圧鋳造若しくは重力鋳造、永久鋳型鋳造若しくは半永久鋳型鋳造、スクイズ鋳造、ダイカスト鋳造、一方向性鋳造、又は砂型鋳造により、溶融金属塊をアルミニウム合金鋳物に鋳造することを含んでいる、請求項１５の方法。
【請求項１７】
チル及びライザーを有する鋳型を準備し、
前記鋳型内で溶融金属塊を鋳造してアルミニウム合金製品を形成する、
ことをさらに含んでいる、請求項１６の方法。
【請求項１８】
前記鋳物をＴ５状態又はＴ６状態に熱処理することをさらに含んでいる、請求項１５の方法。
【請求項１９】
Ｚｎは約３％未満、Ｍｇは０.４５〜０.５５％、Ｓｉは約７％である請求項１５の方法。
【請求項２０】
Ｃｕは約１.０％以下、Ｚｎは約３％〜約５％、Ｍｇは０.５５〜０.６５％、Ｓｉは約７％である、請求項１５の方法。
【請求項２１】
溶融金属塊は、チキソトロピック金属塊を含み、アルミニウム合金製品の形成は半固体鋳造又は成形を含んでいる請求項１５の方法。
【請求項２２】
アルミニウム鋳造合金は、約０.５℃／秒よりも遅い速度で冷却される、請求項１のアルミニウム鋳造合金。
【請求項２３】
アルミニウム鋳造合金のデンドライトアーム間隔は約６０ミクロン以上である、請求項１のアルミニウム鋳造合金。
【請求項２４】
形状鋳物は、約０.５℃／秒よりも遅い速度で冷却される、請求項７の形状鋳物。
【請求項２５】
形状鋳物のデンドライトアーム間隔は約６０ミクロン以上である、請求項７の形状鋳物。
【請求項２６】
溶融金属塊を約０.５℃／秒よりも遅い速度で冷却することを含んでいる、請求項１５の方法。
【請求項２７】
溶融金属塊のデンドライトアーム間隔は約６０ミクロン以上である、請求項１５の方法。