【手続補正書】
【提出日】平成19年6月27日(2007.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】荷電粒子線露光装置および荷電粒子線露光方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光装置であって、
前記荷電粒子線を少なくとも２つの方向に偏向可能な偏向器を有し、前記荷電粒子線を偏向して前記被露光基板への照射を制御するブランキング手段と、
前記偏向器による前記荷電粒子線のブランキング方向を調整する調整手段とを備えることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
【請求項２】
前記ブランキング手段は、前記荷電粒子線を通過させるためのブランキングアパーチャを有し、
前記偏向器は、前記ブランキングアパーチャを挟んで異なる４つの方向に配置された４対の電極を含み、前記荷電粒子線を少なくとも４つの方向に偏向可能である請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項３】
前記被露光基板に対して前記荷電粒子線を走査させる走査手段をさらに備え、
前記調整手段は、前記荷電粒子線のスキャン方向に基づいて前記偏向器による荷電粒子線のブランキング方向を調整する請求項１又は２に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項４】
前記調整手段は、前記荷電粒子線のブランキング方向を前記荷電粒子線のスキャン方向と垂直な方向に調整する請求項３に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項５】
前記調整手段は、前記被露光基板上での前記荷電粒子線のビーム形状に基づいて前記偏向器のブランキング方向を調整する請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項６】
前記調整手段は、前記露光基板上の露光フィールドを複数のブランキングフィールドに分け、該複数のブランキングフィールドごとに、前記荷電粒子線のビーム形状に基づいて前記偏向器のブランキング方向を調整する請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項７】
前記調整手段は、前記荷電粒子線のブランキング方向を前記被露光基板上での前記荷電粒子線のビーム径が最も短い方向に調整する請求項６に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項８】
複数の荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光装置であって、
前記複数の荷電粒子線の各々に対応して設けられ、荷電粒子線を少なくとも２つの方向に偏向する複数の偏向器を有し、前記複数の荷電粒子線のそれぞれを偏向して前記被露光基板への照射を制御するブランキングアレイ手段と、
前記複数の偏向器の各々について荷電粒子線のブランキング方向を調整する調整手段とを備えることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
【請求項９】
前記調整手段は、前記複数の荷電粒子線の各々について、前記被露光基板上での荷電粒子線のビーム形状に基づいて対応する偏向器のブランキング方向を調整する請求項８に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１０】
前記調整手段は、前記露光基板上の露光フィールドを複数のブランキングフィールドに分け、該複数のブランキングフィールドごとに、前記複数の偏向器の各々のブランキング方向を調整する請求項８に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１１】
前記調整手段は、前記荷電粒子線のブランキング方向を前記被露光基板上での前記荷電粒子線のビーム径が最も短い方向に調整する請求項８に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１２】
荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光方法であって、
前記被露光基板上の露光フィールドを、複数のブランキングフィールドに分割するステップと、
前記ブランキングフィールドごとに、ビーム形状を検出するステップと、
前記ブランキングフィールドごとに、検出されたビーム形状からビーム短径方向を算出するステップと、
前記ブランキングフィールドごとに、算出されたビーム短径方向に前記荷電粒子線を偏向して前記被露光基板への照射を制御するステップとを備えることを特徴とする荷電粒子線露光方法。
【請求項１３】
複数の荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光方法であって、
前記複数の荷電粒子線の各々のビーム形状を検出するステップと、
前記複数の荷電粒子線の各々について、検出された前記ビーム形状からビーム短径方向を算出するステップと、
前記複数の荷電粒子線の各々を、それぞれに算出されたビーム短径方向に偏向して前記被露光基板への照射を制御するステップとを備えることを特徴とする荷電粒子線露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明の荷電粒子線露光装置は、荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光装置であって、前記荷電粒子線を少なくとも２つの方向に偏向可能な偏向器を有し、前記荷電粒子線を偏向して前記被露光基板への照射を制御するブランキング手段と、  前記偏向器による前記荷電粒子線のブランキング方向を調整する調整手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
さらに、本発明の荷電粒子線露光装置は、複数の荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光装置であって、前記複数の荷電粒子線の各々に対応して設けられ、荷電粒子線を少なくとも２つの方向に偏向する複数の偏向器を有し、前記複数の荷電粒子線のそれぞれを偏向して前記被露光基板への照射を制御するブランキングアレイ手段と、前記複数の偏向器の各々について荷電粒子線のブランキング方向を調整する調整手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
さらに、本発明の荷電粒子線露光方法は、荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光方法であって、前記被露光基板上の露光フィールドを、複数のブランキングフィールドに分割するステップと、前記ブランキングフィールドごとに、ビーム形状を検出するステップと、前記ブランキングフィールドごとに、検出されたビーム形状からビーム短径方向を算出するステップと、前記ブランキングフィールドごとに、算出されたビーム短径方向に前記荷電粒子線を偏向して前記被露光基板への照射を制御するステップとを備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに、本発明の荷電粒子線露光方法は、複数の荷電粒子線を用いて被露光基板上にパターンを露光する荷電粒子線露光方法であって、前記複数の荷電粒子線の各々のビーム形状を検出するステップと、前記複数の荷電粒子線の各々について、検出された前記ビーム形状からビーム短径方向を算出するステップと、前記複数の荷電粒子線の各々を、それぞれに算出されたビーム短径方向に偏向して前記被露光基板への照射を制御するステップとを備えることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、パターン寸法精度の良い荷電粒子線露光装置および露光方法を提供することができる。