【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチブロックコポリマーの調製に使用される組成物であって、
（Ａ）第１のオレフィン重合触媒と、
（Ｂ）同等の重合条件下で触媒（Ａ）によって調製されるポリマーとは化学的性質又は物理的性質が異なるポリマーを調製可能な第２のオレフィン重合触媒と、
（Ｃ）重合条件下、触媒（Ａ）及び（Ｂ）の活性触媒部位の間でポリマーフラグメントを移動させることができる鎖シャトリング剤と、
を組み合わせて得られる混合物又は反応生成物を含む組成物。
【請求項２】
触媒（Ｂ）が、触媒（Ａ）のコモノマー混入指数未満のコモノマー混入指数を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記シャトリング剤が、１から１２個の炭素を有する少なくとも１つのヒドロカルビル置換基を含有するアルミニウム化合物、亜鉛化合物、又はガリウム化合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記シャトリング剤が、ジアルキル亜鉛化合物である、請求項３に記載の触媒組成物。
【請求項５】
触媒（Ａ）が、元素周期表の４〜８族から選択される遷移金属と、１又はそれ以上の非局在化π結合したリガンド又は多価ルイス塩基リガンドとを含む錯体を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
触媒（Ａ）が次式：
【化１】
2007529617.tif 000001
（式中：
Ｒ11は、水素以外に１から３０個の原子を含有するアルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール、及び不活性に置換されたそれらの誘導体、あるいはそれらの二価の誘導体から選択され；
Ｔ1は、水素以外に１から４１個の原子の二価の架橋基であり；
Ｒ12は、ルイス塩基官能性を有するＣ5〜20ヘテロアリール基であり；
Ｍ1は４族金属であり；
Ｘ1はアニオン、中性、又はジアニオンのリガンド基であり；
ｘ'は、このようなＸ1基の数を示す０から５の数であり；
結合、場合による結合、及び電子供与性相互作用が、それぞれ線、点線、及び矢印で表されている）
に対応する、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
触媒（Ｂ）が次式：
【化２】
2007529617.tif 000002
（式中、
Ｍ2は、元素周期表の４〜１０族の金属であり；
Ｔ2は、窒素、酸素、又はリンを含有する基であり；
Ｘ2は、ハロ、ヒドロカルビル、又はヒドロカルビルオキシであり；
ｔは１又は２であり；
ｘ"は、電荷バランスが得られるように選択される数であり；
Ｔ2及びＮは架橋性リガンドによって結合している）
に対応する、請求項８に記載の組成物。
【請求項８】
１又はそれ以上の付加重合性モノマーを、付加重合条件下で、請求項１に記載の組成物と接触させるステップを含む、マルチブロックコポリマーの調製方法。
【請求項９】
重合した形態のエチレンと１又はそれ以上の共重合性コモノマーとを含む、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマーであって、前記コポリマーがコモノマー含有率、結晶性、密度、融点、又はガラス転移温度の異なる２つ以上のセグメント又はブロックを含有する、マルチブロックコポリマー。
【請求項１０】
少なくとも１つの融点Ｔm（単位、摂氏温度）、及び密度ｄ*（単位、グラム／立方センチメートル）を有し、変数の数値が下記の関係に対応し：
Ｔm＞−２００２．９＋４５３８．５（ｄ*）−２４２２．２（ｄ*）2、
前記インターポリマーのＭw／Ｍnが１．７から３．５である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１１】
Ｍｗ／Ｍｎが１．７から３．５であり、
式：
ｙ*＞−０．１２９９（ΔＨ）＋６２．８１
で定義される量ｙ*よりも大きなデルタ量（最高ＤＳＣピークから最高クリスタッフピークを引いた値）を有し、
融解熱が最高１３０Ｊ／ｇであり、
前記クリスタッフピークは、累積ポリマーの少なくとも５％を使用して決定され、５％未満のポリマーが特定可能なクリスタッフピークを有する場合は、そのクリスタッフ温度は３０℃であり、ΔＨは、融解熱の数値（単位、Ｊ／ｇ）である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１２】
クロスヘッド分離速度１１ｃｍ／分において、引張強度が１０ＭＰａを超え、破断時伸びが少なくとも６００％である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１３】
デルタ量（最高ＤＳＣピーク（ベースラインから測定）から最高クリスタッフピークを引いた値）が４８℃を超え、融解熱が１３０Ｊ／ｇ以上であり、前記クリスタッフピークは、累積ポリマーの少なくとも５％を使用して決定され、５％未満のポリマーが特定可能なクリスタッフピークを有する場合は、前記クリスタッフ温度は３０℃である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１４】
貯蔵弾性率比Ｇ'（２５℃）／Ｇ'（１００℃）１〜５０であり、７０℃圧縮永久ひずみが８０％未満である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１５】
融解熱が８５Ｊ／ｇ未満であり、ペレットブロッキング強度が１００ポンド／平方フィート（４８００Ｐａ）以下である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１６】
重合した形態の少なくとも５０モル％のエチレンを含み、７０℃圧縮永久ひずみが８０％未満である、請求項８に記載の方法によって調製可能な未架橋のエラストマー性マルチブロックコポリマー。
【請求項１７】
ＤＳＣによって測定される１つの結晶融点（Ｔｍ）を有する、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１８】
少なくとも９０℃の温度において１ｍｍの熱機械分析貫入深さを有し、曲げ弾性率が３ｋｐｓｉ（２０ＭＰａ）から１３ｋｐｓｉ（９０ＭＰａ）である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項１９】
少なくとも９０℃の温度において１ｍｍの熱機械分析貫入深さを有し、曲げ弾性率が３ｋｐｓｉ（２０ＭＰａ）から１３ｋｐｓｉ（９０ＭＰａ）である、請求項１８に記載のマルチブロックオレフィンコポリマー。
【請求項２０】
ＩＳＯ  ４６４９に準拠した耐摩耗性体積減少が９０ｍｍ3未満である、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項２１】
ＩＳＯ  ４６４９に準拠した耐摩耗性体積減少が９０ｍｍ3未満である、請求項１８に記載のマルチブロックコポリマー。
【請求項２２】
ＩＳＯ  ４６４９に準拠した耐摩耗性体積減少が９０ｍｍ3未満であり、１００℃の温度においてｌｏｇ（Ｇ'）が０．４ＭＰａ以上となる貯蔵弾性率Ｇ'を有する、請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー。
【請求項２３】
ＩＳＯ  ４６４９に準拠した耐摩耗性体積減少が９０ｍｍ3未満であり、１００℃の温度においてｌｏｇ（Ｇ'）が０．４ＭＰａ以上となる貯蔵弾性率Ｇ'を有する、請求項１８に記載のマルチブロックコポリマー。
【請求項２４】
１００℃の温度においてｌｏｇ（Ｇ'）が１．０ＭＰａ以上となる貯蔵弾性率Ｇ'を有する、請求項２０に記載のマルチブロックコポリマー。
【請求項２５】
１００℃の温度においてｌｏｇ（Ｇ'）が１．０ＭＰａ以上となる貯蔵弾性率Ｇ'を有する、請求項２１に記載のマルチブロックコポリマー。
【請求項２６】
請求項９から２５のいずれか一項に記載のマルチブロックコポリマーの、又は請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマーの架橋誘導体。
【請求項２７】
フィルム、多層フィルムの少なくとも１層、積層物品の少なくとも１層、発泡物品、繊維、不織布、射出成形物品、吹き込み成形物品、回転成形物品、又は接着剤の形態の、請求項９から２５のいずれか一項に記載のマルチブロックコポリマー、又は請求項８に記載の方法によって調製可能なマルチブロックコポリマー、あるいはそれを含む組成物。