【手続補正書】
【提出日】平成20年1月8日(2008.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板用の真空輸送チャンバであって、
内側面を有するベースプレートと、
前記ベースプレートの内側面と実質的に平行かつ対向する内側面を有するカバープレートと、
前記ベースプレートおよび前記カバープレートの１つにおける、前記ベースプレートおよび前記カバープレート内側面に実質的に直交する第１の開口軸を有し、少なくとも１つの基板程度にまで適合される、第１の基板穴と、
前記ベースプレートおよび前記カバープレートの１つにおける、前記ベースプレートおよび前記カバープレート内側面に実質的に直交する第２の開口軸を有し、少なくとも１つの基板程度にまで適合される、第２の基板穴と、
少なくとも１つの基板受入れ領域を有し、前記少なくとも１つの基板受入れ領域を前記第１および第２の基板穴の１つとそれぞれ整合されるようにするために、前記ベースプレートおよび前記カバープレート内側面にもっぱら平行に、かつその間で可動である輸送装置と、
前記第１および第２の基板穴の１つの境界と、いったん前記１つの穴と整合された前記基板受入れ領域のまわりとに沿って制御可能にシールを確立する、制御可能シール装置と、
前記制御可能シール装置と動作的に協働するために前記制御可能シール装置と対向し、前記１つの穴と対向する領域において前記１つの穴に向かって、かつ前記輸送装置に対して前記制御可能シール装置によって及ぼされる封止力に反して前記輸送装置を偏位する、制御可能反偏位装置とを含み、前記制御可能シール装置および前記制御可能反偏位装置は、シール効果および偏位効果を確立するために、空気圧および油圧作動式の少なくとも１つで膨張し得る、チャンバ。
【請求項２】  前記基板穴の１つはシールするよう閉じることができる蓋を備える、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項３】  前記制御可能反偏位装置は制御可能シール装置であって、前記１つの穴の中心軸に相対して実質的に同軸に配置される、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項４】  前記穴の１つはシールするよう閉じることができる蓋を備え、前記制御可能シール装置および前記偏位装置によって前記１つの穴のまわりに限界付けられた空
間はポンプ接続口に動作的に接続される、請求項３に記載のチャンバ。
【請求項５】  前記蓋は駆動モータに動作的に結合される、請求項２に記載のチャンバ。
【請求項６】  前記制御可能反偏位装置は制御可能シール装置であって、前記穴の１つの中心軸に相対して実質的に同軸に配置され、
前記穴の１つはシールするよう閉じることができる蓋を備え、前記シール装置および前記制御可能反偏位装置によって前記穴の１つのまわりに限界付けられた空間はポンプ接続口に動作的に接続される、請求項５に記載のチャンバ。
【請求項７】  前記輸送装置に向いた前記蓋の内側面は、前記基板受入れ領域とともに、基板受入れ間隙を規定する、請求項２に記載のチャンバ。
【請求項８】  前記偏位装置は空気圧および油圧作動式の１つである、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項９】  前記制御可能シール装置および前記制御可能反偏位装置の少なくとも１つは、円環状の構成を有し、前記穴の１つの中心軸に対して同心である、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項１０】  前記輸送装置は、貫通穴を備えたプレート状基板受入れ領域を有する、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項１１】  前記蓋は、前記蓋が閉じている場合に前記穴の１つの縁部から前記輸送装置へと突出す内側面を有する、請求項２に記載のチャンバ。
【請求項１２】  前記制御可能反偏位装置は制御可能シール装置であって、前記穴の１つの中心軸に相対して実質的に同軸に配置され、
前記穴の１つはシールするよう閉じることができる蓋を備え、前記制御可能シール装置および前記制御可能反偏位装置によって前記穴の１つのまわりに限界付けられた空間はポンプ接続口に動作的に接続される、請求項１１に記載のチャンバ。
【請求項１３】  前記輸送装置は、前記穴に向かって上部から見た場合に、前記第１および第２の穴の開口軸を接続する想像線からオフセットされた回転軸を中心に回転可能に可動である、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項１４】  上部図から見た場合に、前記回転軸から前記開口軸への２つの想像線は、前記回転軸において１２０°以下の角度を規定する、請求項１３に記載のチャンバ。
【請求項１５】  前記穴の１つおよび前記穴の別の１つは、組み付けフランジが前記穴の１つのまわりに組付可能であるように互いに離間されている、請求項１４に記載のチャンバ。
【請求項１６】  前記第１および第２の穴の１つに対向する基板せり上げ駆動をさらに含む、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項１７】  前記少なくとも１つの基板受入れ領域の少なくとも一部は、前記ベースプレートおよびカバープレート内側面に直交して可動である、請求項１６に記載のチャンバ。
【請求項１８】  前記第１および第２の穴の１つにフランジ接合される真空処理ステーションをさらに含む、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項１９】  前記真空処理ステーションはマグネトロンスパッタステーションである、請求項１８に記載のチャンバ。
【請求項２０】  前記マグネトロンスパッタステーションのスパッタ面に直交する中心軸は前記穴の１つの開口軸に対して傾斜している、請求項１９に記載のチャンバ。
【請求項２１】  前記蓋は前記穴の間にヒンジ結合され、前記穴の１つに組付けられるフランジはフランジ穴を有し、フランジ穴の軸は前記穴の軸に対して傾斜し、前記蓋のための駆動は前記フランジに組付けられる、請求項２に記載のチャンバ。
【請求項２２】  前記制御可能反偏位装置は制御可能シール装置であって、前記穴の１つの中心軸に相対して実質的に同軸に配置され、
前記穴の１つはシールするよう閉じることができる蓋を備え、前記制御可能シール装置
および前記制御可能反偏位装置によって前記穴の１つのまわりに限界付けられた空間はポンプ接続口に動作的に接続される、請求項２１に記載のチャンバ。
【請求項２３】  前記内側面に実質的に平行な軸を中心に回転可能に、前記穴の１つに組付けられる基板処理源をさらに含む、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項２４】  
コーティングされた円環状の基板を製造するための方法であって、
（ａ）スパッタチャンバにおいて半径を有する円環状領域を与えるステップと、
（ｂ）前記半径の１つの基板または前記半径の領域を組合せにおいて規定する１つを超える基板を前記スパッタチャンバに導入するステップと、
（ｃ）前記少なくとも１つの基板を前記円環状領域の第１の中心軸のまわりに回転するステップと、
（ｄ）円環状スパッタ面を備え、前記第１の中心軸に対して傾斜してこれと交差する第２の中心軸を有する、単一のマグネトロンスパッタ源を与えるステップと、
（ｅ）前記円環状領域の直径を前記円環状スパッタ面の直径よりも大きく選択するステップと、
（ｆ）前記第１および第２の中心軸の交差角を
４３°≦β≦５０°
として選択するステップと、さらに
（ｇ）前記単一のマグネトロンスパッタ源によって前記少なくとも１つの基板をマグネトロンスパッタコーティングするステップとを含む、方法。
【請求項２５】  前記交差角βを約４５°として選択するステップをさらに含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】  前記スパッタ面において、前記単一のマグネトロンスパッタ源を用いて少なくとも１つの円環状の浸食溝を生成するステップをさらに含み、前記浸食溝は円環状の個所ｒTrを含み、前記第２の中心軸は、前記スパッタ面から距離Ｄにある前記少なくとも１つの基板と交差し、ｒTrを、
１／４≦ｒTr／Ｄ≦２／３
として選択する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】  前記円環状のスパッタ面は直径φTを有し、前記第２の中心軸は、前記スパッタ面から距離Ｄにある前記少なくとも１つの基板と交差し、φTを、
３／４≦φT／Ｄ≦２
として選択するステップをさらに含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】  φT≒１．２Ｄとして選択するステップをさらに含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  前記円環状の領域は直径φSを有し、前記第２の中心軸は、前記スパッタ面から距離Ｄにある前記少なくとも１つの基板と交差し、φSを、
φS／４Ｄ≦１．８
として選択するステップをさらに含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項３０】  前記円環状の領域は直径φSを有し、前記円環状のスパッタ面は直径φTを有し、φTを、
１＜φS／φT≦２．４
として選択するステップをさらに含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項３１】  前記円環状の領域は、
５０ｍｍ≦φS≦４００ｍｍ
として選択される直径φSを有する、請求項２４に記載の方法。
【請求項３２】  φSは、
５０ｍｍ≦φS≦３００ｍｍ
として選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】  前記少なくとも１つの基板はデータ記憶ディスクおよびウェハの１つである、請求項２４に記載の方法。
【請求項３４】  前記少なくとも１つの基板の直径は、６４ｍｍ、１２０ｍｍ、１６０ｍｍ、２４０ｍｍの１つである、請求項２４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
ここでスパッタ源８０の中心軸ＺSは―傾斜取付けされるスパッタ源８０用の組み付けフランジ８２に蓋６５の旋回運動用リニア駆動装置８８を取付けることができるように―他方の穴５１ａから引き離されて傾けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
スパッタ源８０は好ましい実施形態において軸８７を中心に旋回し得るようにして取付けられており、この軸８７は穴５１ｂを挟んで蓋６５の軸６７と対向し、該軸と平行に配置されている。これによってスパッタ源８０は、フランジ８２に取付けられた蓋駆動装置８８に支障をもたらすことなく、保守またはターゲット交換のために図８にΩで示されているように折り返すことができる。