【手続補正書】
【提出日】令和1年10月21日(2019.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織をアブレーションするための医療デバイスであって、
一定の直径の剛性本体を備える非伝導性遠位部分であって、前記剛性本体は、複数のポートを画定する、非伝導性遠位部分と、
前記非伝導性遠位部分の外部表面に沿って位置付けられる複数の独立伝導性ワイヤであって、前記複数のワイヤのそれぞれ、または、ワイヤの組み合わせの１つまたは複数のセットは、標的組織をアブレーションするために、前記複数のポートのうちの１つまたは複数を通り抜ける伝導性流体によって搬送されるべきエネルギーを伝導するように構成される、複数の独立伝導性ワイヤと
を備える、デバイス。
【請求項２】
前記複数のポートは、複数の近位ポートおよび複数の遠位ポートを含み、前記複数のワイヤのそれぞれは、前記近位ポートのうちの少なくとも１つおよび前記遠位ポートのうちの対応するものを通過し、前記複数の近位ポートのそれぞれは、対応する近位ポートおよび遠位ポートのセットを通過する前記伝導性ワイヤが、前記対応する近位ポートおよび遠位ポートの間で前記非伝導性遠位部分の前記外部表面の少なくとも一部に沿って延在する長さを有するように、前記複数の遠位ポートのうちの離れたものに対応する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記ワイヤは、前記外部表面の長さの少なくとも２０％に沿って延在する、請求項２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記外部表面は、複数の溝を備え、前記ワイヤは、前記溝内に位置付けられる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記複数の伝導性ワイヤのそれぞれは、異なる遠位ポートを通過する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記複数の伝導性ワイヤのそれぞれは、異なる近位ポートを通過する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記複数の伝導性ワイヤのそれぞれは、高周波（ＲＦ）エネルギーを伝導するように構成される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記複数の伝導性ワイヤは、前記非伝導性遠位部分を中心として配列される複数の異なるアブレーション部分を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記複数の異なるアブレーション部分は、前記非伝導性遠位部分を中心として少なくとも２つの臨床軸を備える、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記少なくとも２つの臨床軸は、２つの象限を備える、請求項９に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記複数の異なるアブレーション部分のそれぞれは、前記複数の伝導性ワイヤのうちの少なくとも１つを備える、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記非伝導性遠位部分内に位置付けられ、前記流体を前記遠位部分の内部表面に沿って分散させるように構成される、少なくとも１つの親水性挿入体をさらに備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記非伝導性遠位部分の外部表面は、少なくとも一部分の表面テクスチャ化を備え、流体分散を向上させる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記伝導性流体は、前記伝導性ワイヤの位置に基づいて、所望のパターンにおける標的組織のアブレーションのために、前記複数の伝導性ワイヤのうちの少なくとも１つから前記エネルギーを搬送する、請求項１に記載のデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本開示のデバイスおよび方法は、そのような外科手術後治療に限定されず、本明細書で使用されるように、語句「体腔」は、尿管（例えば、前立腺治療のため）、子宮（例えば、子宮アブレーションまたは子宮筋腫治療のため）、卵管（例えば、滅菌のため）、および同等物等、天然体腔および通路等の非外科的に生成された空洞を含んでもよいことに留意されたい。加えて、または代替として、本開示の組織アブレーションデバイスは、身体および器官（例えば、肺、肝臓、膵臓等）の種々の部分内の周縁組織のアブレーションのために使用されてもよく、乳癌の治療に限定されない。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
組織をアブレーションするための医療デバイスであって、
それを通して少なくとも１つの管腔を有する非伝導性伸長シャフトおよび前記シャフトから延在する非伝導性遠位部分を備える、プローブであって、前記非伝導性遠位部分は、前記シャフトの少なくとも１つの管腔と連通する複数の遠位ポートおよび複数の近位ポートを含む、プローブと、
前記管腔を通して延在し、前記非伝導性遠位部分の外部表面に沿って位置付けられる、複数の独立伝導性ワイヤを備える、電極アレイであって、前記複数のワイヤのそれぞれは、前記近位ポートのうちの少なくとも関連付けられた１つを通して、かつ前記遠位ポートのうちの少なくとも対応する１つを通して通過し、前記複数のワイヤのそれぞれまたはワイヤの組み合わせの１つまたはそれを上回るセットは、電流を受容し、アクティブ化された１つまたはそれを上回る部分に対応する標的組織のアブレーションのために、前記電極アレイの１つまたはそれを上回る部分のアクティブ化を生じさせるように構成される、電極アレイと、
を備える、デバイス。
（項目２）
前記遠位ポートのそれぞれは、対応する遠位および近位ポートを通して通過する前記ワイヤが前記非伝導性遠位部分の長さに沿って延在するように、１つの近位ポートに対応する、項目１に記載のデバイス。
（項目３）
前記ワイヤは、前記遠位部分の長さの少なくとも２０％に沿って延在する、項目２に記載のデバイス。
（項目４）
前記外部表面は、複数の溝を備え、前記ワイヤは、前記溝内に位置付けられる、項目１に記載のデバイス。
（項目５）
前記複数のワイヤのそれぞれは、異なる遠位ポートを通して延在する、項目１に記載のデバイス。
（項目６）
前記複数のワイヤのそれぞれは、異なる近位ポートを通して延在する、項目１に記載のデバイス。
（項目７）
前記複数のワイヤは、少なくとも２つのワイヤを含み、前記ワイヤは、前記デバイスの縦軸に沿って軸方向に平行移動するように構成される、項目１に記載のデバイス。
（項目８）
前記非伝導性遠位部分は、送達構成から展開された構成に拡張可能である、項目１に記載のデバイス。
（項目９）
前記複数のワイヤは、送達構成直径から展開された構成直径に遷移するとき、前記非伝導性遠位部分の直径まで拡張するように構成される、項目８に記載のデバイス。
（項目１０）
前記非伝導性遠位部分の拡張された直径は、約２ｍｍ〜８０ｍｍまで及ぶ、項目９に記載のデバイス。
（項目１１）
前記非伝導性遠位部分の拡張された直径は、約８ｃｍである、項目９に記載のデバイス。
（項目１２）
前記複数のワイヤのそれぞれは、前記電流の受容に応じて、エネルギーを前記非伝導性遠位部分から伝達するように構成され、前記エネルギーは、ＲＦエネルギーを含む、項目１に記載のデバイス。
（項目１３）
前記電極アレイは、前記伸長シャフトの非伝導性遠位部分を中心として配列される、複数の異なるアブレーション部分を備える、項目１に記載のデバイス。
（項目１４）
前記複数の異なるアブレーション部分は、前記伸長シャフトの非伝導性遠位部分を中心として少なくとも２つの臨床軸を備える、項目１３に記載のデバイス。
（項目１５）
前記少なくとも２つの臨床軸は、前記電極アレイの２つの象限を備える、項目１４に記載のデバイス。
（項目１６）
前記電極アレイの複数の異なるアブレーション部分のそれぞれは、少なくとも１つの伝導性ワイヤを備える、項目１３に記載のデバイス。
（項目１７）
前記非伝導性遠位部分は、エラストマ材料を含む、項目１に記載のデバイス。
（項目１８）
前記ワイヤのうちの少なくとも１つは、形状記憶材料を含む、項目１に記載のデバイス。
（項目１９）
前記管腔は、流体が、前記管腔流動から、前記非伝導性遠位部分上の１つまたはそれを上回る中間ポートを通して、前記非伝導性遠位部分の外部表面に送達されるように、流体
送達管腔として構成される、項目１に記載のデバイス。
（項目２０）
前記伝導性ワイヤのうちの少なくとも１つへの前記電流の受容に応じて、前記流体は、前記伝導性ワイヤの位置に基づいて、所望のパターンにおける標的組織のアブレーションのために、前記少なくとも１つの伝導性ワイヤから放出されるエネルギーを前記遠位部分の外部表面に沿って搬送するように構成される、項目１９に記載のデバイス。
（項目２１）
前記非伝導性遠位部分内に位置付けられ、前記流体を前記遠位部分の内部表面に沿って分散させるように構成される、少なくとも１つの親水性挿入体をさらに備える、項目１９に記載のデバイス。
（項目２２）
前記非伝導性遠位部分の外部表面は、少なくとも一部分の表面テクスチャ化を備え、流体分散を向上させる、項目１９に記載のデバイス。
（項目２３）
前記非伝導性遠位部分は、バルーン拡張可能である、項目１に記載のデバイス。
（項目２４）
前記非伝導性遠位部分内に位置付けられる拡張可能バルーンをさらに備え、前記拡張可能バルーンは、前記管腔からの流体の送達に応じてバルーン壁を通した流体の通過を可能にするように構成される、複数の穿孔を有する、バルーン壁を備える、項目２３に記載のデバイス。
（項目２５）
前記管腔は、流体が、前記管腔流動から、前記拡張可能バルーンの中に、前記複数の穿孔のうちの１つまたはそれを上回るものを通して、さらに、非伝導性遠位部分上の少なくとも１つまたはそれを上回る中間ポートを通して、前記非伝導性遠位部分の外部表面に送達されるように、流体送達管腔として構成される、項目２４に記載のデバイス。
（項目２６）
前記伝導性ワイヤのうちの少なくとも１つへの前記電流の受容に応じて、前記流体は、前記伝導性ワイヤの位置に基づいて、所望のパターンにおける標的組織のアブレーションのために、前記少なくとも１つの伝導性ワイヤから放出されるエネルギーを前記遠位部分の外部表面に沿って搬送するように構成される、項目２５に記載のデバイス。
（項目２７）
前記非伝導性遠位部分の外部表面は、少なくとも一部分の表面テクスチャ化を備え、流体分散を向上させる、項目２５に記載のデバイス。
（項目２８）
前記バルーンは、そこへの流体の送達に応答して、拡張された構成に遷移するように構成され、前記バルーンの拡張された構成は、少なくとも部分的に、前記非伝導性遠位部分を拡張させる、項目２４に記載のデバイス。