【手続補正書】
【提出日】平成20年7月22日(2008.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2004505952.tif 000001
の化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩であって、
式中、
Ｒ20は
【化２】
2004505952.tif 000002
であり、
ここで、ＲAおよびＲBは独立に、水素、アルキル、ハロゲン化アルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、アルコキシアルキル、アリールオキシ、アリールオキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキルおよびデヒドロアビエチルから選択され、ここで、あらゆる基のアリール  シクロアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロシクロアルキル部分は場合によっては、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、アミド、アルキルアミド、ジアルキルアミド、アリールアミド、アラルキルアミド、アゾ、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、アリールオキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルＮ（Ｈ）、もしくはアルキルスルホニルＮ（アルキル）から独立に選択される１個以上の置換基で置換される、
あるいはまた、ＲAおよびＲBは、それらが結合されている窒素原子と一緒になって、ヘテロアリールおよびヘテロシクロアルキルの群から選択される化合物を形成し、そこでヘテロアリールもしくはヘテロシクロアルキルは場合によっては、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ハロゲン化アルキル、アルキルカルボニル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールアミノ、アゾ、ニトロもしくはシアノから独立に選択される１個以上の置換基で置換される、
Ｒ21は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニルおよびアラルキルカルボニルから成る群から選択され、ここで、アリール部分は場合によっては、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルキルもしくはニトロから独立に選択される１個以上の置換基で置換される。
【請求項２】
請求項１における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩であって、
式中、
ＲAが水素、低級アルキルおよびアラルキルから成る群から選択され、
ＲBが水素、低級アルキル、ハロゲン化低級アルキル、アラルキル、置換アラルキル（ここで、アラルキル上の置換基はハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシもしくはトリフルオロメチルから独立に選択される１〜３個である）、アルコキシアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、シクロアルキル−アルキル、デヒドロアビエチル、ジ（低級アルキル）−アミノ−低級アルキル、ビフェニル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール（ここで、ヘテロアリール基上の置換基はハロゲンもしくは低級アルキルから独立に選択される１〜２個である）、ヘテロアリール−低級アルキル、アリールオキシ−低級アルキルおよび低級アルコキシカルボニル−低級アルキルから成る群から選択され、そして
Ｒ21が水素である。
【請求項３】
請求項２における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩であって、
式中、
ＲAが水素、メチル、エチルおよびベンジルから成る群から選択され、そして
ＲBが水素、メチル、プロピル、ｎ−ブチル、ベンジル、フェニルエチル、メトキシプロピル、シクロヘキシルメチル、モルホリノエチル、ピロリジニルエチル、３−クロロベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、２−エトキシベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、デヒドロアビエチル、３，４−ジメトキシベンジル、ジエチルアミノプロピル、４−ブロモ−２−ピリジル、ジメチルアミノエチル、４−ビフェニル、２−フラニルメチル、３−ヨードベンジル、２，２，２−トリフルオロエチル、３，４−ジフルオロベンジル、２−チエニルエチル、３，５−ジメチル−２−ピリジル、２−（エトキシ）アセチル、２−メトキシベンジル、４−ブロモベンジル、３，５−ジトリフルオロメチルベンジル、３−メトキシフェニルエチル、３，４，５−トリメトキシベンジル、４−メトキシフェニルエチル、４−イミダゾリルエチル、２−トリフルオロメチルベンジル、３−メトキシベンジル、３−メチルベンジル、３，５−ジメトキシベンジル、２−ブロモベンジル、４−フルオロベンジル、１−ナフチルメチル、フェノキシエチル、４−トリフルオロメチルベンジル、３−ピリジル、２−メチルベンジル、２−フルオロベンジルおよび３，４−ジメトキシフェニルエチルから成る群から選択される。
【請求項４】
請求項３における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩であって、
式中、
ＲAが水素、メチルおよびベンジルから選択され、そして
ＲBがメチル、メトキシプロピル、シクロヘキシルメチル、モルホリノエチル、ピロリジニルエチル、３−クロロベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、フェニルエチル、４−ブロモ−２−ピリジル、ジメチルアミノエチル、ｎ−ブチル、２−フラニルメチル、３，４−ジフルオロベンジル、２−チエニルエチル、４−ブロモベンジル、３−メトキシフェニルエチル、３，４，５−トリメトキシベンジル、ベンジル、３−メチルベンジルおよびフェノキシエチルから成る群から選択される。
【請求項５】
請求項４における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩であって、
式中、
ＲAが水素およびメチルから成る群から選択され、そして
ＲBがメチル、メトキシプロピル、モルホリノエチル、ピロリジニルエチル、２，５−ジフルオロベンジル、３，４−ジフルオロベンジル、４−ブロモベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジル、ベンジル、３−メチルベンジルおよびｎ−ブチルから成る群から選択される。
【請求項６】
ＲAがメチルであり、そしてＲBがメチル、モルホリノエチルもしくはピロリジニルエチルである請求項５における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩。
【請求項７】
請求項１における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩であって、
式中、
ＲAおよびＲBが、それらが結合されている窒素原子と一緒になって、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキルおよびｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル置換ヘテロシクロアルキルから成る群から選択される環構造を形成し、そして
Ｒ21が水素である。
【請求項８】
ＲAおよびＲBが、それらが結合されている窒素原子と一緒になって、Ｎ−ピロリジニル、Ｎ−モルホリニル、Ｎ−イミダゾリル、Ｎ−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリニル、Ｎ−ヘキサメチレンイミンおよびＮ−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペラジニルから成る群から選択される環構造を形成する、請求項７における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩。
【請求項９】
ＲAおよびＲBが、それらが結合されている窒素原子と一緒になって、Ｎ−モルホリニルおよびＮ−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペラジニルから成る群から選択される環構造を形成する、請求項８における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩。
【請求項１０】
ＲAおよびＲBが、それらが結合されている窒素原子と一緒になってＮ−モルホリニルを形成する、請求項９における化合物もしくは製薬学的に許容されうるその塩。