【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の空間を画成する容器と、前記容器内のガスを所定の排気管を介して排出する排気手段と、前記排気管に設けられ、前記排出されるガスの流量を規制する少なくとも１つの排気規制手段と、前記少なくとも１つの排気規制手段と前記排気手段の間において前記排気管に設けられ、前記排気管内のパーティクルをモニタするパーティクルモニタ手段とを備える真空装置において、前記容器内にパージガスを所定の供給管を介して供給するパージ手段と、前記パージ手段と前記容器との間において前記供給管に設けられ、前記供給されるパージガスの流量を規制する供給規制手段とを備え、前記供給規制手段は、前記少なくとも１つの排気規制手段が前記ガスの排出を許容しているときに、前記パージガスの供給を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記パージガスの供給により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とする真空装置。
【請求項２】
前記容器内に腐食性の処理用ガスを供給する処理用ガス供給手段と、前記処理用ガスを排出する他の排気手段とを備え、前記少なくとも１つの排気規制手段は、前記他の排気手段により前記処理用ガスを排出しているときに、前記ガスの排出を禁止することを特徴とする請求項１記載の真空装置。
【請求項３】
前記供給規制手段は、前記パージガスの圧力値が前記容器内の圧力値の２倍以上となるように、前記供給されるパージガスの流量を規制することを特徴とする請求項１又は２記載の真空装置。
【請求項４】
前記容器内に放電する電力供給手段を備え、前記電力供給手段は、前記少なくとも１つの排気規制手段が前記ガスの排出を許容しているときに、前記放電を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記放電により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項５】
所定の空間を画成する容器と、前記容器内のガスを所定の排気管を介して排出する排気手段と、前記排気管に設けられ、前記排出されるガスの流量を規制する少なくとも１つの排気規制手段と、前記少なくとも１つの排気規制手段と前記排気手段の間において前記排気管に設けられ、前記排気管内のパーティクルをモニタするパーティクルモニタ手段とを備える真空装置において、前記容器内に放電する電力供給手段を備え、前記電力供給手段は、前記少なくとも１つの排気規制手段が前記ガスの排出を許容しているときに、前記放電を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記放電により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とする真空装置。
【請求項６】
前記電力供給手段は、前記放電により前記容器内に電磁応力を発生させることを特徴とする請求項５記載の真空装置。
【請求項７】
前記容器内にパージガスを所定の供給管を介して供給するパージ手段と、前記パージ手段と前記容器との間において前記供給管に設けられ、前記供給されるパージガスの流量を規制する供給規制手段とを備え、前記供給規制手段は、前記少なくとも１つの排気規制手段が前記ガスの排出を許容しているときに、前記パージガスの供給を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記パージガスの供給により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とする請求項５又は６記載の真空装置。
【請求項８】
所定の空間を画成する容器を備える真空容器のパーティクルモニタ方法であって、前記容器内のガスを所定の排気管を介して排出する排気ステップと、前記排気管内のパーティクルをモニタするパーティクルモニタステップとを有するパーティクルモニタ方法において、前記排出されるガスの流量を規制する排気規制ステップと、前記容器内にパージガスを所定の供給管を介して供給するパージステップと、前記供給されるパージガスの流量を規制する供給規制ステップとを有し、前記供給規制ステップでは、前記排気規制ステップにおいて前記ガスの排出が許容されているときに、前記パージガスの供給を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記パージガスの供給により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とするパーティクルモニタ方法。
【請求項９】
前記容器内に腐食性の処理用ガスを供給する処理用ガス供給ステップと、前記処理用ガスを排出する他の排気ステップとを有し、前記排気規制ステップでは、前記他の排気ステップにおいて前記処理用ガスを排出しているときに、前記ガスの排出を禁止することを特徴とする請求項８記載のパーティクルモニタ方法。
【請求項１０】
前記供給規制ステップでは、前記パージガスの圧力値が前記容器内の圧力値の２倍以上となるように、前記供給されるパージガスの流量を規制することを特徴とする請求項８又は９記載のパーティクルモニタ方法。
【請求項１１】
前記容器内に放電する放電ステップを有し、前記放電ステップでは、前記排気規制ステップにおいて前記ガスの排出が許容されているときに、前記放電を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記放電により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のパーティクルモニタ方法。
【請求項１２】
所定の空間を画成する容器を備える真空装置のパーティクルモニタ方法であって、前記容器内のガスを所定の排気管を介して排出する排気ステップと、前記排出されるガスの流量を規制する排気規制ステップと、前記排気管内のパーティクルをモニタするパーティクルモニタステップとを有するパーティクルモニタ方法において、前記容器内に放電する放電ステップを有し、前記放電ステップでは、前記排気規制ステップにおいて前記ガスの排出が許容されているときに、前記放電を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記放電により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とするパーティクルモニタ方法。
【請求項１３】
前記放電ステップでは、前記放電により前記容器内に電磁応力を発生させることを特徴とする請求項１２記載のパーティクルモニタ方法。
【請求項１４】
前記容器内にパージガスを所定の供給管を介して供給するパージステップと、前記供給されるパージガスの流量を規制する供給規制ステップとを有し、前記供給規制ステップでは、前記排気規制ステップにおいて前記ガスの排出が許容されているときに、前記パージガスの供給を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記パージガスの供給により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とする請求項１２又は１３記載のパーティクルモニタ方法。
【請求項１５】
所定の空間を画成する容器を備える真空容器のパーティクルモニタ方法をコンピュータに実行させるプログラムであって、前記容器内のガスを所定の排気管を介して排出する排気モジュールと、前記排気管内のパーティクルをモニタするパーティクルモニタモジュールと、前記排出されるガスの流量を規制する排気規制モジュールと、前記容器内にパージガスを所定の供給管を介して供給するパージモジュールと、前記供給されるパージガスの流量を規制する供給規制モジュールとを備え、前記供給規制モジュールは、前記排気規制モジュールが前記ガスの排出を許容しているときに、前記パージガスの供給を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記パージガスの供給により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とするプログラム。
【請求項１６】
所定の空間を画成する容器を備える真空装置のパーティクルモニタ方法をコンピュータに実行させるプログラムであって、前記容器内のガスを所定の排気管を介して排出する排気モジュールと、前記排出されるガスの流量を規制する排気規制モジュールと、前記排気管内のパーティクルをモニタするパーティクルモニタモジュールと、前記容器内に放電する放電モジュールを備え、前記放電モジュールは、前記排気規制モジュールが前記ガスの排出を許容しているときに、前記放電を開始し、前記モニタされるパーティクルは、前記放電により前記容器内に遊離したパーティクルを含むことを特徴とするプログラム。
【請求項１７】
内部にガスを有する部材に設けられる透明な基材から成るパーティクルモニタ用窓部材において、前記パーティクルモニタ用窓部材は前記ガスと受光素子との間に配され、前記基材は、透明なベースと、該ベースにおける前記部材内のガスに対面する面に所定の処理が施された表面処理層とから成ることを特徴とする窓部材。
【請求項１８】
前記表面処理層は、炭素、イットリウム、イットリア、及びフッ化カルシウムから成る材料の群から選択された一の材料を含有することを特徴とする請求項１７記載の窓部材。
【請求項１９】
前記炭素は、結晶状ダイヤモンド又はダイヤモンド状炭素から成ることを特徴とする請求項１８記載の窓部材。
【請求項２０】
前記一の材料は、その含有量が前記表面処理層の全質量において１０〜１００質量％の範囲内であることを特徴とする請求項１８又は１９記載の窓部材。
【請求項２１】
前記表面処理層はアルミニウム又はアルミナを含有することを特徴とする請求項１７記載の窓部材。
【請求項２２】
前記アルミニウム又はアルミナは、その含有量が前記表面処理層の全質量において１０〜１００質量％の範囲内であることを特徴とする請求項２１記載の窓部材。
【請求項２３】
前記所定の処理はコーティングであることを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれか１項に記載の窓部材。
【請求項２４】
前記所定の処理はドーピングであることを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれか１項に記載の窓部材。
【請求項２５】
前記表面処理層は、その厚さが１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１７乃至２４のいずれか１項に記載の窓部材。
【請求項２６】
前記ベースはケイ素を主成分とするガラスから成り、前記表面処理層は前記部材内のガスに含まれる活性な分子に曝されることを特徴とする請求項１７乃至２５のいずれか１項に記載の窓部材。
【請求項２７】
内部にガスを有する部材に設けられる透明な基材から成るパーティクルモニタ用窓部材において、前記パーティクルモニタ用窓部材は前記ガスと受光素子との間に配され、前記基材はフッ化カルシウムから成ることを特徴とする窓部材。
【請求項２８】
前記部材は容器又は配管から成ることを特徴とする請求項１７乃至２７のいずれか１項に記載の窓部材。
【請求項２９】
内部にガスを有する部材に設けられる透明な基材から成る窓部材において、前記基材は、透明なベースと、該ベースにおける前記部材内のガスに対面する面に所定の処理が施された表面処理層とから成ることを特徴とする窓部材。
【請求項３０】
前記表面処理層は、炭素、イットリウム、イットリア、及びフッ化カルシウムから成る材料の群から選択された一の材料を含有することを特徴とする請求項２９記載の窓部材。
【請求項３１】
前記所定の処理はコーティングであることを特徴とする請求２９又は３０記載の窓部材。
【請求項３２】
前記表面処理層は、その厚さが１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項２９乃至３１のいずれか１項に記載の窓部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】真空装置、そのパーティクルモニタ方法、プログラム、パーティクルモニタ窓部材、及び窓部材
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パーティクルモニタが設けられた真空装置、そのパーティクルモニタ方法、プログラム、パーティクルモニタ窓部材、及び窓部材に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の第２の目的は、効率的に活性な分子に対する耐性を発揮して交換頻度を低下さ
せることができるパーティクルモニタ用窓部材、及び窓部材を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
上記第２の目的を達成するために、請求項１７記載のパーティクルモニタ用窓部材は、内部にガスを有する部材に設けられる透明な基材から成るパーティクルモニタ用窓部材において、前記パーティクルモニタ用窓部材は前記ガスと受光素子との間に配され、前記基材は、透明なベースと、該ベースにおける前記部材内のガスに対面する面に所定の処理が施された表面処理層とから成ることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
請求項２６記載の窓部材は、請求項１７乃至２５のいずれか１項に記載の窓部材において、前記ベースはケイ素を主成分とするガラスから成り、前記表面処理層は前記部材内のガスに含まれる活性な分子に曝されることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
上記第２の目的を達成するために、請求項２７記載のパーティクルモニタ用窓部材は、内部にガスを有する部材に設けられる透明な基材から成るパーティクルモニタ用窓部材において、前記パーティクルモニタ用窓部材は前記ガスと受光素子との間に配され、前記基材はフッ化カルシウムから成ることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
請求項２８記載の窓部材は、請求項１７乃至２７のいずれか１項に記載の窓部材において、前記部材は容器又は配管から成ることを特徴とする。
上記第２の目的を達成するために、請求項２９記載の窓部材は、内部にガスを有する部材に設けられる透明な基材から成る窓部材において、前記基材は、透明なベースと、該ベースにおける前記部材内のガスに対面する面に所定の処理が施された表面処理層とから成ることを特徴とする。
請求項３０記載の窓部材は、請求項２９記載の窓部材において、前記表面処理層は、炭素、イットリウム、イットリア、及びフッ化カルシウムから成る材料の群から選択された一の材料を含有することを特徴とする。
請求項３１記載の窓部材は、請求項２９又は３０記載の窓部材において、前記所定の処理はコーティングであることを特徴とする。
請求項３２記載の窓部材は、請求項２９乃至３１のいずれか１項に記載の窓部材において、前記表面処理層は、その厚さが１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内にあることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
請求項１７記載のパーティクルモニタ用窓部材及び請求項２９記載の窓部材によれば、透明な基材が、透明なベースと、該ベースにおける容器内のガスに対面する面に所定の処理が施された表面処理層とから成るので、効率的に活性な分子に対する耐性を発揮することができ、交換頻度を低下させることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
請求項１８記載のパーティクルモニタ用窓部材及び請求項３０記載の窓部材によれば、表面処理層が、炭素、イットリウム、イットリア、及びフッ化カルシウムから成る材料の群から選択された一の材料を含有するので、表面処理層において活性な分子に対する耐性をより効率的に発揮して、交換頻度を確実に低下させることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
請求項２３記載のパーティクルモニタ用窓部材及び請求項３１記載の窓部材によれば、所定の処理がコーティングであるので、ベース上に表面処理層を容易に設けることができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
請求項２５記載のパーティクルモニタ用窓部材及び請求項３２記載の窓部材によれば、表面処理層の厚さが１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内にあるので、活性な分子に対する耐性を向上させることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
請求項２６記載のパーティクルモニタ用窓部材によれば、ベースがケイ素を主成分とするガラスから成り、表面処理層が部材内のガスに含まれる活性な分子に曝されるので、ケイ素が活性な分子に曝されるのを防止しつつ表面処理層において活性な分子に対する耐性をより効率的に発揮して、交換頻度を確実に低下させることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５１】
また、上記パーティクルモニタ用窓部材２１９は、他の真空容器、例えば、図１におけるプロセスチャンバ１００や、図６におけるパーティクルモニタ装置２１０’や配管などの部材にも適用することができる。さらには、パーティクルモニタ装置以外の他の部材に用いてもよい。それらの具体例を図９を用いて説明する。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
本発明の実施の形態に係る真空装置、そのパーティクルモニタ方法、プログラム、及び窓部材は、半導体製造装置のプロセスチャンバやロードロックチャンバに限られず、排気可能な所定の空間を画成する容器、例えばフラットパネルディスプレイなどの液晶製造装置、他の基板処理装置に適用することができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５９】
また、本発明の実施の形態に係るパーティクルモニタ用窓部材は、部材内のガスと受光素子との間に設けられる透明なパーティクルモニタ用窓部材に適用することができる。