【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期律表の第VIB族および第VIII族からの元素によって形成される群から選択される少なくとも１種の水素化脱水素元素と、０．６〜２．５％のリンと、アルミナ−シリカをベースとする非ゼオライト性担体とを含み、水銀多孔度測定法によって測定される総細孔容積が０．３５〜０．７４ｍｌ／ｇである触媒であって、
該アルミナーシリカは、
・シリカの百分率が５〜９５重量％であり；
・ナトリウム含有量が０．０３重量％未満であり；
・水銀多孔度測定法によって測定される総細孔容積が０．４５〜０．９６ｍｌ／ｇであり；
・多孔度が、
i）４０〜１５０Åの径を有し、かつ、８０〜１４０Åの平均細孔径を有するメソ孔の容積が、水銀多孔度測定法によって測定される総細孔容積の４０〜７０％を示し；
ii）５００Å超の径を有するマクロ孔の容積が、水銀多孔度測定法によって測定される総細孔容積の３０〜６０％を示す
ようになっており；
・ＢＥＴ比表面積が１００〜５５０ｍ２／であり；
・Ｘ線回折図は、アルファ、ロー、カイ、エータ、ガンマ、カッパ、シータおよびデルタのアルミナからなる群に含まれる遷移アルミナの少なくとも１つの主要特徴ピークを少なくとも含む
という特徴を有する、触媒。
【請求項２】
シリカの百分率は、厳格に２５重量％超かつ５０重量％未満である、請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
シリカの百分率は、厳格に２５重量％超かつ４２重量％未満である、請求項２に記載の触媒。
【請求項４】
水銀多孔度測定法によって測定される触媒の総細孔容積は、０．４〜０．６ｍｌ／ｇである、請求項１〜３のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項５】
沈降充填密度は、０．７ｇ／ｃｍ３超である、請求項１〜４のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項６】
リンの含有量は、酸化物の重量で０．０１〜４％である、請求項１〜５のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項７】
リンの含有量は、酸化物の重量で０．０１〜２．５％である、請求項６に記載の触媒。
【請求項８】
触媒は、ホウ素および／またはケイ素をも含む、請求項１〜５のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項９】
モリブデンおよびタングステンをベースとする、請求項１〜８のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１０】
ニッケルおよびタングステンをベースとする、請求項１〜９のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１１】
固体２７Ａｌ  ＭＡＳ  ＮＭＲ分析によって測定される八面体ＡｌＶＩの比率が５０％超である、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１２】
アルミナ−シリカは、３０〜５０％のＱ２サイト（ここでは、１つのＳｉ原子は、ＳｉまたはＡｌの２原子と、２つのＯＨ基と結合させられる）を含み、さらに、１０〜３０％のＱ３サイト（ここでは、１つのＳｉ原子は、ＳｉまたはＡｌの３原子と１つのＯＨ基と結合させられる）を含む、請求項１〜１１のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１３】
担体は、アルミナ−シリカによって構成される、請求項１〜１２のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１４】
担体は、１〜４０重量％のバインダを含む、請求項１〜１３のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１５】
担体は、アルミナ−シリカと、シリカ、アルミナ、粘土、酸化チタン、酸化ホウ素およびジルコニアによって形成される群から選択される少なくとも１種のバインダとを混合することに由来する、請求項１４に記載の触媒。
【請求項１６】
担体は、２５０Å超の径を有する細孔容積が総細孔容積（水銀多孔度測定法によって測定される）の少なくとも３０％を示すような多孔度を有する、請求項１〜１５のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１７】
第VIIB族からの少なくとも１種の元素を含む、請求項１〜１６のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１８】
第VB族からの少なくとも１種の元素を含む、請求項１〜１７のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項１９】
Ｘ線回折図が、エータ、シータ、デルタおよびガンマアルミナからなる群に含まれる少なくとも１種の遷移アルミナの主要特徴ピークを少なくとも含む、請求項１〜１８のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２０】
ＢＥＴ比表面積が１５０〜５００ｍ２／ｇである、請求項１〜１９のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２１】
担体は、Ｘ線蛍光により測定される全体のＳｉ／Ａｌ比より大きいまたはより小さいＳｉ／Ａｌ比を有する少なくとも２つのアルミノ−シリケート領域を含む、請求項１〜２０のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２２】
担体は、Ｘ線蛍光によって測定される全体のＳｉ／Ａｌ比に等しく、かつ２．３未満であるＳｉ／Ａｌ比を有する単一のアルミノ−シリケート領域を含む、請求項１〜２０のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２３】
ジルコニアおよびチタンによって形成される群から選択される少なくとも１種のプロモーター元素を低比率で含む、請求項１〜２２のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２４】
硫化処理を経る、請求項１〜２３のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２５】
水熱処理を経る、請求項１〜２４のいずれか１つに記載の触媒。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか１つに記載の触媒を用いる炭化水素供給材料の水素分解／水素化転化方法。
【請求項２７】
単流法を用いて行われる、請求項２６に記載の水素化分解／水素化転化方法。
【請求項２８】
少なくとも１つの水素化精製第一反応帯域と、少なくとも１つの第二反応帯域とを含み、該少なくとも１つの第二反応帯域は、第一領域からの流出物の少なくとも一部を水素化分解することを含み、かつ、第一帯域を出る流出物からアンモニアを不完全に分離することを含む、請求項２６に記載の水素化分解／水素化転化方法。
【請求項２９】
・供給材料が、標準活性試験において１０重量％未満のシクロヘキサン転化度を有する少なくとも１種の水素化精製触媒と接触させられる、水素化精製の第一反応帯域と、
・水素化精製工程からの流出物の少なくとも一部が、標準活性試験において１０重量％超のシクロヘキサン転化度を有する少なくとも１種のゼオライト性水素化分解触媒と接触させられる、水素化分解の第二反応帯域と
を含む、請求項２７または２８に記載の水素化分解／水素化転化方法。
【請求項３０】
二段階法での請求項２６に記載の水素化分解／水素化転化方法。
【請求項３１】
水素の存在下に操作し、その際の温度が２００℃超であり、圧力が１ＭＰａ超であり、空間速度が０．１〜２０ｈ−１であり、導入される水素の量が、水素（リットル）／炭化水素（リットル）の容積比が８０〜５０００Ｌ／Ｌであるようにされる、請求項２６〜３０のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３２】
２〜６ＭＰａの圧力で操作し、４０％より下の転化率をもたらす、請求項２６〜３１に記載の水素化分解／水素化転化方法。
【請求項３３】
固定床様式において操作する、請求項２６〜３２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３４】
沸騰床様式において操作する、請求項２６〜３２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３５】
請求項１〜２５のいずれか１つに記載の触媒を用いる炭化水素供給材料の水素化処理方法。
【請求項３６】
水素化分解法の上流に配置される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
水素化分解触媒は、ニッケルおよびタングステンをベースとする、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
炭化水素供給材料は、単独でまたは混合物として用いられる、ＬＣＯ（ライトサイクルオイル−接触分解装置からの軽油）、常圧蒸留液、減圧蒸留液、潤滑油ベースまたは潤滑油ベースを脱ろうする溶媒から芳香族を抽出するための装置からの供給材料、脱硫または固定床水素化転化または常圧残渣沸騰床水素化転化および／またはＲＳＶ（減圧残渣）および／または脱アスファルト油からの蒸留液、または脱アスファルト油から選択される、請求項２６〜３７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３９】
供給材料は、最初に、水素化分解／水素化転化または水素化処理の触媒とは異なる触媒または吸着剤の床上を通過する、請求項２６〜３８のいずれか１つに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
細孔分布をより良好に特徴付けるために、本発明者らは、水銀細孔分布の特徴についての基準を規定する：容積Ｖ１’は、５００Å超の径を有するマクロ孔の容積に対応し、容積Ｖ２’は、２５０Å超の径を有するマクロ孔の容積に対応する。細孔分布をより良好に特徴付けるために、本発明者らは、最終的に水銀細孔分布の特徴について次の基準を規定する：容積Ｖ１は、径が（平均径−３０Å）未満の細孔に含まれる容積に対応する。容積Ｖ２は、（平均径−３０Å）以上、かつ、（平均径＋３０Å）未満の径を有する細孔に含まれる容積に対応する。容積Ｖ３は、（平均径＋３０Å）以上の径を有する細孔に含まれる容積に対応する。容積Ｖ４は、（平均径−１５Å）未満の径を有する細孔に含まれる容積に対応する。容積Ｖ５は、（平均径−１５Å）以上かつ（平均径＋１５Å）未満の径を有する細孔に含まれる容積に対応する。容積Ｖ６は、（平均径＋１５Å）以上の径を有する細孔に含まれる容積に対応する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
（操作条件）
温度、圧力、水素再循環、毎時空間速度等の操作条件は、幅広く、供給材料の性質、産物の所望の品質および精油所において利用可能な設備に応じて変動し得る。水素化分解／水素化転化触媒または水素化処理触媒は、一般的には、水素の存在下に、上記の供給材料と接触させられ、その際の温度は、２００℃超、通常２５０〜４８０℃、有利には３２０〜４５０℃、好ましくは３３０〜４３５℃、圧力は１ＭＰａ超、通常２〜２５ＭＰａ、好ましくは３〜２０ＭＰａであり、空間速度は、０．１〜２０ｈ−１、好ましくは０．１〜６ｈ−１、好ましくは０．２〜３ｈ−１であり、導入される水素の量は、水素（Ｌ）／炭化水素（Ｌ）の容積比が８０〜５０００Ｌ／Ｌ、通常１００〜２０００Ｌ／Ｌであるようにされる。