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【手続補正書】
【提出日】平成20年11月6日(2008.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗微生物性を持つ基板の製造のための方法において、それが次の段階：
（ｉ）基板の少なくとも一つの露出された表面の上への金属、コロイド、キレートまたはイオンの形の前駆体から初めに得られた無機抗微生物剤を含む金属非ゲル化層の付着；
（ｉｉ）２００〜７５０℃の温度での熱処理による基板の前記少なくとも一つの露出された表面中またはその下への無機抗微生物剤の拡散；
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
熱処理の温度が４５０℃未満、より好ましくは３８０℃未満、特に好ましくは３５０℃未満であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
熱処理の温度が２００℃より高く、好ましくは２２０℃より高く、特に好ましくは２４０℃より高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
熱処理による無機抗微生物剤の拡散が焼戻し工程時に実現されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
熱処理が２分〜２時間、好ましくは６分〜１時間、特に好ましくは８分〜４０分の範囲の時間の間、実行されることを特徴とする請求項１から４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
熱処理が２００〜３５０℃の範囲の温度で１０から３０分までで変わる時間の間、実行されることを特徴とする請求項１から５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
段階（ｉ）で使用される前駆体が金属またはイオンの形であり、特にイオンの形であり、水溶液中に溶解されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
抗微生物剤を含む層が熱分解噴霧、真空スパッタリングによるかまたは金属抗微生物剤の対応する塩の還元による沈殿を含む方法によるかのいずれかで付着されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】
抗微生物剤が銀、銅及び亜鉛から選ばれることを特徴とする請求項１から８のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
基板の前記少なくとも一つの表面上に付着された抗微生物剤の量が５ｍｇ／ｍ２より多く、好ましくは１０ｍｇ／ｍ２より多く、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ２より多いことを特徴とする請求項１から９のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
基板が段階（ｉ）の付着前にアンダーコートにより被覆されること、及び段階（ｉｉ）の拡散が主として被覆内で起こることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１２】
アンダーコートが抗微生物剤の移動を阻止するまたは減速する機能を持つ第一アンダー層、及び抗微生物剤のための貯蔵層として作用する第二アンダー層を含むことを特徴とする請求項１から１１のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１３】
阻止するアンダー層が熱分解及びスパッター層の中から、特にＰｄ，Ｎｉ−Ｃｒ，ＴｉＯｘ，ＮｉＣｒＯｘ，Ｎｂ，Ｔａ，Ａｌ，ＺｒまたはＺｎＡｌ、またはそれらの混合物のような金属酸化物、金属または金属合金化合物を含む層の中から選ばれることを特徴とする請求項１から１２のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１４】
アンダーコートがＺｒＯ２に基づく第一層及びＴｉＯ２、特にアナターゼ結晶形のＴｉＯ２に基づく第二層を含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
基板がガラスタイプの基板、特に透明ソーダ石灰ガラスであることを特徴とする請求項１から１４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１６】
抗微生物性を持つ基板の製造方法において、それが次の段階：
（ｉ）基板の少なくとも一つの表面上への金属、コロイド、キレートまたはイオンの形の前駆体から初めに得られた無機抗微生物剤を含む金属非ゲル化層の付着；
（ｉｉ）トップコートの付着；
（ｉｉｉ）２００〜７５０℃の温度での熱処理による前記トップコート中への無機抗微生物剤の拡散；
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
基板の少なくとも一つの露出された表面に存在する抗微生物剤を含む基板において、それが含む抗微生物剤の合計量が抗微生物表面のｍ２当り０．１ｍｇより多く、好ましくは１ｍｇより多く、特に好ましくは１０ｍｇより多いことを特徴とする基板。
【請求項１８】
次の細菌：大腸菌、黄色ブドウ球菌、緑膿菌の少なくとも一つに対して、（標準規格ＪＩＳ  Ｚ  ２８０１に従って測定すると）ｌｏｇ１より高い、好ましくはｌｏｇ２より高い、特に好ましくはｌｏｇ２．５より高い殺細菌効果を持つことを特徴とする請求項１７に記載の基板。
【請求項１９】
次の促進老化試験：湿式噴霧（９５％より高い湿度及び４０℃の室内での２０日間の試験）、ＵＶ照射の５００時間（４  ３４０Ａ  ＡＴＬＡＳランプ、６０℃の室）、Ｈ２ＳＯ４の溶液（０．１Ｎ）中に２４時間浸漬後、ＮａＯＨの溶液（０．１Ｎ）中に２４時間浸漬後、の少なくとも一つの後で抗微生物効果を持つことを特徴とする請求項１７から１８のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２０】
抗微生物剤が銀、銅及び亜鉛から選ばれることを特徴とする請求項１７から１９のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２１】
ガラス基板であることを特徴とする請求項１７から２０のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２２】
基板の少なくとも一つの露出された表面に存在する抗微生物剤を、比Ｉ（ＣｓＡｇ）／Ｉ（ＣｓＳｉ）が（ダイナミックＳＩＭＳ法を用いてその表面内で測定すると）０．０１５より高く、好ましくは０．０２０より高く、特に好ましくは０．０２５より高いように含むことを特徴とする請求項１７から２１のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２３】
基板が反射光に無彩色を持つこと、すなわち比色指数ａ＊とｂ＊が−１０〜６、好ましくは−５〜３、特に好ましくは−２〜０の範囲内にあり、かつ純度が１５％未満、好ましくは１０％未満、特に好ましくは５％未満であることを特徴とする請求項２１から２２のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２４】
基板が１．５％未満、好ましくは１．４％未満、特に好ましくは１．３％未満の可視光積算吸収を持つことを特徴とする請求項２１から２３のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２５】
基板がアニールされた特性を与えることを特徴とする請求項２１から２４のいずれか一つに記載の基板。
【請求項２６】
少なくとも一つの露出されたガラス表面に存在する抗微生物剤を含むことを特徴とするアニールされたガラス基板。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）（１）熱可塑性ポリマーと（２）次式Ｉで表されるフルオロケミカルエステル組成物との混合物を形成させること、
Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｎ（Ｑ1）（ＣＨ2）a−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ2）n−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）bＮＱ2ＳＯ2Ｃ4Ｆ9    （Ｉ）
（式中、Ｑ1およびＱ2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれが水素または１個〜４個の炭素原子のアルキル基であり、ａは２〜１１の整数であり、ｂは２〜１１の整数であり、ｎは少なくとも１０である）；および
（ｂ）前記混合物を溶融押出すること
によって調製される材料を含む組成物。
【請求項２】
前記熱可塑性ポリマーが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリウレタン、ならびにそれらのブレンドおよびコポリマーからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記組成物が、次式
Ｒf1ＳＯ2Ｎ（Ｑ1）（ＣＨ2）a−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ2）n−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ2）bＮＱ2ＳＯ2Ｒ
（式中、Ｒf1はＦ（ＣＦ2）x−であり、ここでｘは４〜２０である）、または次式
ＲＳＯ2Ｎ（Ｑ1）（ＣＨ2）a−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ2）n−Ｃ（Ｏ）（ＣＨ2）bＮＱ2ＳＯ2Ｒ
（式中、Ｒは約１２個〜約６６個の炭素原子を有する飽和脂肪族炭化水素である）で表される化合物を実質的に含まない、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
Ａnq-Ｑpm+（Ｉ）
（式中、ｍ、ｎ、ｐ、およびｑは、正の整数であり、ｍ＊ｐ＝ｎ＊ｑであり、Ｑm+は
、有機オニウムであり、少なくとも１つのＡq-が、式ＩＩ：
【化１】
2008524375.tif 000001
（式中、Ｒはそれぞれ独立して、Ｈ、ハロ、アルキル、アリール、アラルキル、またはシクロアルキルであり、かつハロゲン化、フッ素化、または完全フッ素化されていてもよく、ＲおよびＲ'基のうちの２つ以上が共に環を形成し得、Ｒ基がそれぞれ独立して、１つまたは複数のヘテロ原子を含有し得、Ｒ'がハロであることができないという条件で、Ｒ'がＲと同じであり得る）から選択されるという条件で、Ａq-は、アニオンである）のカチオンおよびアニオンを含有する硬化剤組成物。
【請求項２】
式ＩＩＩ：
【化２】
2008524375.tif 000002
（式中、Ｒｆはそれぞれ独立して、Ｒ−ＣＦ2または炭素原子１〜８個を有するパーフルオロアルキル基であり、Ｒは、Ｈ、ハロ、炭素原子８個までを有するアルキル、アリール、またはシクロアルキルであり、かつハロゲン化、フッ素化、または完全フッ素化されていてもよく、かつヘテロ原子を含有することができ、Ｘは、結合性基であり、ｎは、正の整数である）
のアニオンを含有するフルオロエラストマーに適している硬化剤組成物。
【請求項３】
窒素含有硬化部位を含むフルオロエラストマー；ならびに
式Ｉ：
Ａnq-Ｑpm+（Ｉ）
（式中、ｍ、ｎ、ｐ、およびｑが正の整数であり、ｍ＊ｐ＝ｎ＊ｑであり、Ｑが、Ｈまたは第Ｉ族または第ＩＩ族の金属であるか、またはＱm+が、有機オニウムであり、少なくとも１つのＡq-が、式ＩＩ：
【化３】
2008524375.tif 000003
（式中、Ｒはそれぞれ独立して、Ｈ、ハロ、アルキル、アリール、アラルキル、またはシクロアルキルであり、かつハロゲン化、フッ素化、または完全フッ素化されていてもよく、ＲおよびＲ'基のうちの２つ以上が共に環を形成し得、Ｒ基がそれぞれ独立して、１つまたは複数のヘテロ原子を含有し得、Ｒ'がハロであることができないという条件でＲ'はＲと同じであり得る）から選択されるという条件で、Ａq-がアニオンである）のカチオンおよびアニオン；
を含むフルオロエラストマー組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の硬化剤組成物とフルオロエラストマーとを含むフルオロエラストマー組成物を含む成形物品であって、前記成形物品は、少なくとも３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、および９５％から選択される可視光線透過率を有し、６５％、６０％、５５％、５０％、４５％、４０％、３５％、３０％、２５％、および２０％未満から選択される、２３０℃以上で７０時間後の圧縮永久ひずみ値、または６５％、６０％、５５％、５０％、４５％、および４０％未満から選択される、３００℃以上で７０時間後の圧縮永久ひずみ値を有する、物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
背景
フルオロエラストマーは硬化または架橋され、一般に、高温および苛酷な化学的環境に対して耐性がある。フルオロエラストマーは特に、高温および／または腐蝕性物質にさらされるシステムにおけるシール、ガスケット、および成形品として有用である。大部分の極限条件に対する耐性が必要とされるシール用途では、完全フッ素化（過フッ素化）（perfluorinated）エラストマーが使用される。かかる部品は、特に自動車、化学処理、半導体、航空宇宙、および石油産業などの用途で使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月23日(2008.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項１ないし４のいずれか１項記載の化合物と薬学的に許容される担体とを含有する、治療を必要とするほ乳類において癌を治療又は予防するための医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
癌が、組織球性リンパ腫、肺腺癌、小細胞肺癌、膵臓癌、グリア芽腫及び乳癌から選択される、請求項７記載の医薬組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項１ないし４のいずれか１項記載の化合物と薬学的に許容される担体とを含有する、治療を必要とするほ乳類において紡錘体形成を調節するための医薬組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９２】
放射線は好ましくは、２８０〜６５０ｎｍの範囲にある。どの便利な化学線源も使用できるが、レーザーは特に適する。有効なレーザーは、ＨｅＣｄ、アルゴン、窒素、金属蒸気、及びＮｄＹＡＧレーザーを包含する。露光エネルギーは好ましくは、１０〜７５Ｊ／ｃｍ２の範囲にある。露出及び三次元物品の製造を行うための適する方法及び装置は、例えば、米国特許第４，９８７，０４４号、第５，０１４，２０７号、及び第５，４７４，７１９号に記載されており、それらはプソイドプラスチック、プラスチックフロー、チオキソトロピック、ゲル、半固体及び固体のフォトポリマー材料をソリッドイメージングプロセスに使用することを教示している。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
図面を詳細に参照すると、図１及び図２は、２つの椎体１３及び１４とともにプレート１１及びケージ１２の最終的な設置を示す。このプレートは、骨ネジ１６，１７，１８によって椎体に保持される。ケージは、プレートの中央開口１１Ａ（図１５参照）を通って受けられたねじつきステム１９を有する。ステムは、プレートをケージに取り付けるナット２１を受ける。ケージは、プレート１１の凹形状の内側ケージ着座面２３を受ける凸形状のドーム形状の外端２２を有する。ナット２１は、以下に説明するようにねじステム１９にナット２１を取り付けるために外面の円周方向に間隔を置いた４つの器具受け切欠き部２４を有する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
図８Ａと同様のプレート及びナット組立体を通るが、図１の線１３−１３に沿った断面図であり、ステムのない図１３は、ナット２１が凹形状着座面２１Ｓを有することを示しており、この凹形状着座面２１Ｓは、壁の外面の凸形状面１１Ｘに配置され、内側着座面２３は、ケージのドーム２２に係合している。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
手術場所に対する前方側方からの接近のために患者の通常の準備に続いて、手順が内視鏡の手順を使用する場合、患者に３つまたは４つのアクセス開口が設けられる。外科入口３６がケージを導入する場所を準備するために器具の導入用の開口の１つに配置され、ケージ自身が導入される。ケージは、器具５１に取付けられ（図１０）、この場合、ケージのドーム型の端部２２は、設置器具の遠位端部分５２に受け入れられ、器具部分５２のタブ５３はケージの切欠き部２８に受けられる。器具の中央軸５４のめねじが形成された遠位端は、ケージのステムのスレッド２６とねじによって係合される。中央軸は、軸５４の上端でノブ５５によって回転可能であり、それによってケージは、器具部分５２の遠位端に対して引くことができる。椎体間のスペースに取り付けるために、ケージは開口（図１１の３６）を通って案内され、ハンドル５６を使用してケージをスペースに回転する通常の方法でスペースに設置される。観察者がケージが適当に設置されたことを確認すると、ノブ５５は、ハンドル５６が静止的に配置される間回転され、軸をケージの端部ステムから外す。設置器具５１は、ケージのドーム型の端部から除去し、開口から引く。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
骨ねじの取付け及び設置した後、プレート着座面２３とケージドーム２２の接触領域は、その場所でゆるみがないか、結合がないように２つの部品の間の接触があることを確認するように検査される。もしそれらの２つの間にスペースが残ってている場合には、ハンドル３４Ｈは、ドームの半球状面とプレートがしっかりと嵌合するように半時計方向にケージを引くように回転することができる。ケージのドーム形状の性質とプレートの合致面は、ドームに対するプレートの必要な角度に適合し、これは、身体、プレート、ケージの応力を避けるために最小限にするために必要とされる。軸ハンドル３４Ｈは、ケージの回転を防止するように保持される。ナットドライバハンドル３３Ｈは、時計方向に回転され、ドライバの端部プロング３３Ｐはナットの溝２４に係合し、それによってナット２１は、ねじ３４Ｔからナットを離すようにケージステム１９のねじ２６に時計方向に回転され、ケージステム１９は、ケージの受け開口２７に軸３４の６角形の遠位端部分３４Ｅを連続的に受けることによって軸３４と完全に整列する。次にナットは、ケージを軸３４によって静止するように保持する間、ドライバ３３によってプレートに締め付けられる。ナットの内面のわずかな凹形状の球形面によって、それは、プレートの球形面１１Ｘに係合し、ナットがケージの軸線に整列し、例えば、図１３に示すようなケージの軸線に対してプレートが傾斜してもプレートの傾斜に容易に適合することができる。他の形状の凹形状及び凸形状の支承面を使用してもよいが、好ましい球形支承面２２及び２３による角度は、図１７に示すように自在に変化し、プレートは、図１及び図２及び図１３に示すように上方及び下方に、並びに図１７に示すように角度Ｂで前方及び後方に傾斜している。要するに、外科手術場所において椎体への取付け及び嵌合時にプレートは、ケージの軸線の周りで３６０°で所望なようにケージの軸線を含む平面においてケージに対して傾斜することができる。ケージステムでナットを締め付ける過程が終了した後、プレートホルダ３１は、スポンジ３８が点線位置３８Ｓに広がりそれらをプレートの回転オイン４１から解放することができるようにノブ４３を回転することによってコンストリクタ管３２を後退させることによってプレートから離脱させる。図７、８及び図９の器具全体の組み合わせは、開口の位置から取り除くことができる。ケージ及びプレートの設定は、完了する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１５】
ナットの外面は、ナットドライバの凹形状受け部材面で受けられるように凸形状である請求項１４に記載の組立体。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１７】
前記ナット及びプレートの前記相互係合支承面は、プレートに凸形状の球形面を含む請求項１６に記載の組立体
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  分散した熱可塑性物質の粒子を内部に有するポリメタクリル酸メチルのマトリックスを含むアクリル組成物であって、前記粒子のモルフォロジー（形態）が、０．１８〜１２．８ｍｍの幅と０．１８〜７．６２ｍｍの長さと０．０５〜９．５３ｍｍの厚さの範囲のサイズを有する形状の薄いウエハーに似ている、前記のアクリル組成物。
【請求項２】  ７５〜９０重量％のポリメタクリル酸メチル及びメタクリル酸メチルと共重合するエチレン系不飽和モノマーを含むコモノマーを含む分散した粒子を内部に有するポリメタクリル酸メチルのマトリックスを含むアクリル組成物であって、前記粒子が０．０５重量％より多い架橋剤を含み、前記粒子のモルフォロジーが、０．１８〜１２．８ｍｍの幅と０．１８〜７．６２ｍｍの長さと０．０５〜９．５３ｍｍの厚さの範囲のサイズを有する形状の薄いウエハーに似ている、前記のアクリル組成物。
【請求項３】  前記粒子が１０〜２５重量％の前記コモノマーを含有する、請求項２に記載のアクリル組成物。
【請求項４】  ９０重量％より多くのポリメタクリル酸メチル及びメタクリル酸メチルと共重合するエチレン系不飽和モノマーを含むコモノマーを含む分散した粒子を内部に有するポリメタクリル酸メチルのマトリックスを含むアクリル組成物であって、前記粒子が０．０５重量％より多い架橋剤を含み、前記粒子のモルフォロジーが、０．１８〜１２．８ｍｍの幅と０．１８〜７．６２ｍｍの長さと０．０５〜９．５３ｍｍの厚さの範囲のサイズを有する形状の薄いウエハーに似ている、前記のアクリル組成物。
【請求項５】  前記粒子が１０重量％までの前記コモノマーを含有する、請求項４に記載のアクリル組成物。
【請求項６】  前記コモノマーが、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸イソブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル及びメタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｔ−ブチル及びメタクリル酸イソブチルからなる群から選択される、請求項２または４に記載のアクリル組成物。
【請求項７】  前記コモノマーが、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル及びアクリル酸エチルからなる群から選択される、請求項６に記載のアクリル組成物。
【請求項８】  前記架橋剤が、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、トリアリルホスフェート、マレイン酸ジアリル、アクリル酸メタリル、メタクリル酸ビニル、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項２または４に記載のアクリル組成物。
【請求項９】  前記架橋剤がエチレングリコールジメタクリレートである、請求項８に記載のアクリル組成物。
【請求項１０】  ０．３〜１．５重量％の量の前記架橋剤が使用される、請求項２または４に記載のアクリル組成物。
【請求項１１】  ０．５〜１．０重量％の量の前記架橋剤が使用される、請求項１０に記載のアクリル組成物。
【請求項１２】  前記粒子が８００〜５６６０ミクロンの粒子サイズを有する、請求項２または４に記載のアクリル組成物。
【請求項１３】  請求項１に記載の組成物から調製された熱成形品。
【請求項１４】  分散した熱可塑性物質の粒子を内部に有するポリメタクリル酸メチルのマトリックスを含む硬化アクリル組成物を熱成形することを包含する物品の調製方法であって、前記粒子のモルフォロジー（形態）が、０．１８〜１２．８ｍｍの幅と０．１８〜７．６２ｍｍの長さと０．０５〜９．５３ｍｍの厚さの範囲のサイズを有する形状の薄いウエハーに似ている、前記の調製方法。
【請求項１５】  ７５〜９０重量％のポリメタクリル酸メチル及びメタクリル酸メチルと共重合するエチレン系不飽和モノマーを含むコモノマーを含む分散した粒子を内部に有するポリメタクリル酸メチルのマトリックスを含む硬化アクリル組成物を熱成形することを包含する物品の調製方法であって、前記粒子が０．０５重量％より多い架橋剤を含み、前記粒子のモルフォロジーが、０．１８〜１２．８ｍｍの幅と０．１８〜７．６２ｍｍの長さと０．０５〜９．５３ｍｍの厚さの範囲のサイズを有する形状の薄いウエハーに似ている、前記の調製方法。
【請求項１６】  前記粒子が１０〜２５重量％の前記コモノマーを含有する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  ９０重量％より多くのポリメタクリル酸メチル及びメタクリル酸メチルと共重合するエチレン系不飽和モノマーを含むコモノマーを含む分散した粒子を内部に有するポリメタクリル酸メチルのマトリックスを含む硬化アクリル組成物を熱成形することを包含する物品の調製方法であって、前記粒子が０．０５重量％より多い架橋剤を含み、前記粒子のモルフォロジーが、０．１８〜１２．８ｍｍの幅と０．１８〜７．６２ｍｍの長さと０．０５〜９．５３ｍｍの厚さの範囲のサイズを有する形状の薄いウエハーに似ている、前記の調製方法。
【請求項１８】  前記粒子が１０重量％までの前記コモノマーを含有する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  前記コモノマーが、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル及びメタクリル酸ｎ−オクチルからなる群から選択される、請求項１５または１７に記載の方法。
【請求項２０】  前記コモノマーが、アクリル酸ブチル及びアクリル酸エチルからなる群から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  前記架橋剤が、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、トリアリルホスフェート、マレイン酸ジアリル、アクリル酸メタリル、メタクリル酸ビニル、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１５または１７に記載の方法。
【請求項２２】  前記架橋剤がエチレングリコールジメタクリレートである、請求項１５または１７に記載の方法。
【請求項２３】  ０．３〜１．５重量％の量の前記架橋剤が使用される、請求項１５または１７に記載の方法。
【請求項２４】  ０．５〜１．０重量％の量の前記架橋剤が使用される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】  前記粒子が８００〜５６６０ミクロンの粒子サイズを有する、請求項１５または１７に記載の方法。
【請求項２６】  請求項１４に記載の方法により調製された熱成形品。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年4月23日(2008.4.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス・サンプリング・システム（３６）の部分流ダイリューション・トンネル（３８）への希釈用空気供給量の制御方法であって、
前記ガス・サンプリング・システムの空気減衰を低減させるように前記部分流ダイリューション・トンネルに近接して配置された過渡的希釈用空気流制御装置（１１０）によって、希釈用空気を固定質量流量ストリーム（１１２）と可変質量流量ストリーム（１１４）とに分割するステップと、
非定常状態の間の内燃機関（１６）への吸気量の変移をモニタするステップと、
吸気量の変移に応答して、前記部分流ダイリューション・トンネルへの希釈用空気供給量を制御すべく前記可変質量流量ストリームの量を変えることによって、吸気量の変移に５００ｍｓ以内で反応するステップと、を含む方法。
【請求項２】
吸気量の変移に応答して、前記部分流ダイリューション・トンネルへの希釈用空気供給量を制御すべく前記可変質量流量ストリームの量を変えることによって、吸気量の変移に３００ｍｓ以内で反応するステップを含む、請求項１に記載の希釈用空気供給量の制御方法。
【請求項３】
内燃機関からの排気ストリーム中の排気粒子のサンプリング方法であって、
内燃機関の排気ストリームに、ガス・サンプリング・システムの部分流ダイリューション・トンネルを接続するステップと、
前記ガス・サンプリング・システムの空気減衰を低減させるように前記部分流ダイリューション・トンネルに近接して配置された過渡的希釈用空気流制御装置によって、フィルタリングおよびスクラビングされた希釈用空気を固定質量流量ストリームと可変質量流量ストリームとに分割するステップと、
部分流ダイリューション・トンネルに、フィルタリングおよびスクラビングされた希釈用空気を供給するステップと、
前記内燃機関の吸気量の変移に応答して、前記部分流ダイリューション・トンネルへのフィルタリングおよびスクラビングされた希釈用空気の供給量を制御すべく前記可変質量流量ストリームの量を変えることによって、吸気量の変移に５００ｍｓ以内で反応するステップと、
部分流ダイリューション・トンネルから、排気ガス・サンプルと前記供給量のフィルタリングおよびスクラビングされた希釈用空気とを引き出すステップと、
排気ガス・サンプルと前記供給量のフィルタリングおよびスクラビングされた希釈用空気とをフィルタリングして、部分流ダイリューション・トンネルの出口端で排気粒子を捕捉するステップと、を含む方法。
【請求項４】
吸気量の変移に応答して、前記部分流ダイリューション・トンネルへのフィルタリングおよびスクラビングされた希釈用空気の供給量を制御すべく前記可変質量流量ストリームの量を変えることによって、吸気量の変移に３００ｍｓ以内で反応するステップを含む、請求項３に記載の排気粒子のサンプリング方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】希釈用空気供給量の制御方法、排気粒子のサンプリング方法
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、内燃機関の排気ガスストリーム中の粒子状物質の測定システムに関し、より詳細には、非定常エンジン状態の間のガス・サンプリング・システム内の部分流ダイルーション・トンネルへの希釈用空気供給量の制御方法および排気粒子のサンプリング方法に関する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
したがって、非定常状態の下でオフ・ハイウェイ・ディーゼル・エンジンを試験および認定するために使用でき、おそらく非定常状態の下でのオン・ハイウェイ・エンジンの試験にも使用されるＰＦＤＴを開発することが望ましい。このようなシステムの１つは、米国特許公報（特許文献２）（２０００年５月１６日にクリストファ・ウィーバ（Ｃｈｒｉｓｔｏｐｈｅｒ Ｗｅａｖｅｒ）に付与）に開示されている。なおこの特許は、エンジン、ヒューエル、アンド・エミッションズ・エンジニアリング、インコーポレーテッド（Ｅｎｇｉｎｅ，Ｆｕｅｌ，ａｎｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）に譲渡されている。このシステムは、エンジンからの排気流内の変化に基づいてサンプリング中の排気ガスの比率を変えるために、フィードバック装置を用いている。しかしこのシステムでは、排気ガス流ストリームとフィードバック用のサンプリング・プローブ内部の圧力との間の圧力差を用いて、ダイリューション・トンネル内での排気ガス・サンプルと希釈用空気との比例を制御している。このシステムでは、エンジン・ガス流内での変移をチェックするための試験システム内の可能な最終点を用いて、試験変化（すなわち排気ガス流ストリーム）をサンプリングしており、システムの空気減衰については検討も考慮もしていない。空気減衰は、非定常状態の下でのシステムの変化に反応するサンプリング・システム内の抵抗である。加えて、米国特許公報（特許文献２）の先行技術は、熱泳動によって引き起こされる粒子堆積を考慮していない。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
さらなる利点は、過渡的希釈用空気流制御装置１１０が、部分流ダイリューション・トンネル３８に近接して配置されていることである。このことによって、ガス・サンプリング・システム３６の空気減衰が低減されて、応答時間が５００ｍｓ以下になる。大抵の場合、過渡的希釈用空気制御装置１１０のおかげで、ガス・サンプリング・システム３６は３００ｍｓ以内で応答することができる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図５】
2005507984.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
塩素含有雰囲気中で脱水中、塩素がスート体に入り込み、ＧｅＯ２含有スート体の場合にはＧｅＯ２が浸出し得る。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月27日(2008.8.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）基材を提供し、
（ｂ）１以上のポリスチレンブロック、ゴム、又はスチレン−エチレン−ブテン−スチレン型ブロックコポリマーを含むブロックコポリマーである、マレイン化されたゴムの熱可塑性エラストマーと、
Ｃ2〜Ｃ30のα−オレフィンモノマーを含む、ハロゲン化されていないポリオレフィンと、
ガラス転移温度が約０℃〜約100℃である炭化水素樹脂と、
アルデヒド、ケトン、キノン、チオキサントロン又はビニルハロメチル−ｓｙｍ−トリアジンである、化学線で活性化される第１の架橋剤と
を含むプライマーを、前記基材に適用し、
（ｃ）前記プライマー上に感圧接着剤を適用し、前記感圧接着剤は、天然ゴム、合成ゴム、スチレンブロックコポリマー、ポリビニルエーテル、ポリ（メタ）アクリレート〔ポリアクリレートとポリメタクリレートを含む。〕、ポリオレフィン又はシリコーンに基づくものであり、化学線で活性化される第２の架橋剤を含み、前記第２の架橋剤はアルデヒド、ケトン、キノン、チオキサントロン又はビニルハロメチル−ｓｙｍ−トリアジンであり、そして
（ｄ）化学線を適用して前記プライマー及び前記感圧着剤を架橋する
工程を含む、テープの製造方法。
【請求項２】
前記プライマーが、少なくとも１つのオキシラン環を含む脂肪族、脂環式、ヘテロ環式、シクロ脂肪族又は芳香族のエポキシをさらに含む、請求項１に記載のテープの製造方法。
【請求項３】
前記プライマーが、フュームドアモルファスシリカをさらに含む、請求項１又は２に記載のテープの製造方法。
【請求項４】
前記基材が、ポリエステル、ポリオレフィン、紙、箔、ポリアクリレート、ポリウレタン、パーフルオロポリマー、ポリカーボネート、エチレン酢酸ビニル共重合体、ビニル樹脂、布帛、発泡体、ポリマー塗工紙、再帰反射シート材から選択される材料を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のテープの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法で製造されたテープ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
このプライマーはさらにエポキシ樹脂を含んでもよい。本発明のプライマー組成物中に有用なエポキシ樹脂は、少なくとも１つのオキシラン環を有する任意の有機化合物である。エポキシ樹脂は開環反応によって重合させることができる。エポキシド類と総称されるこの種の材料には、エポキシドのモノマーおよびポリマーの両方が包含され、これらは脂肪族、脂環式、複素環式、シクロ脂肪族、または芳香族であってもよく、また、これらの組合せであってもよい。これらは液体もしくは固体またはその混合物であってもよい。通常、これらの材料は、１分子中に平均して少なくとも２つのエポキシ基を有しており、「ポリエポキシド」とも称される。高分子量エポキシドとしては、末端エポキシ基を有する直鎖状ポリマー（例えばポリオキシアルキレングリコールのジグリシジルエーテル）、骨格中にオキシラン単位を有するポリマー（例えばポリブタジエンポリエポキシド）、および側鎖にエポキシ基を有するポリマー（例えばメタクリル酸グリシジルのポリマーまたはコポリマー）が挙げられる。このエポキシ樹脂の分子量は、約７４から約１０００００以上まで変化してもよい。各種エポキシ樹脂の混合物も同様に、本発明のホットメルト組成物中に使用してもよい。１分子当たりのエポキシ基の「平均」個数は、エポキシ樹脂中のエポキシ基の数を、存在するエポキシ分子の総数で除したものと定義する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年9月11日(2008.9.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ１及び２による野生型と比較して、ｃＧＭＰに対するよりも、ｃＡＭＰに対する高い感受性及び／又はｃＡＭＰに対する高い選択性を有するように、ウシ由来のα３−サブユニット中のトレオニンＴ５３７に相当する位置で修飾されているサブユニットからなる遺伝子修飾された環状ヌクレオチド作動性イオンチャネル（ＣＮＧチャネル）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項３】
同じサブユニットからなるホモオリゴマー構造又は種々のサブユニットからなるヘテロオリゴマー構造を有することを特徴とする、請求項１又は請求項２記載の遺伝子修飾されたＣＮＧチャネル。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、環状ヌクレオチド作動性イオンチャネル（ＣＮＧチャネル）をコードする遺伝子修飾された核酸、有利にはＤＮＡ及び対応するタンパク質並びにそれらの使用方法に関する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
セカンドメッセンジャーの細胞内濃度は、まずシグナル伝達カスケードによって調節され、このカスケードでは細胞の膜中のＧタンパク質共役型レセプター（ＧＰＣＲ）が細胞外シグナルを感知し、次いで相応するＧタンパク質を活性化し、かつこのＧタンパク質は再び相応のエフェクタータンパク質の活性を刺激するか、又は阻害する（Ｍｏｒｒｉｓ，  Ａ．Ｊ．及びＭａｌｂｏｎ，  Ｃ．Ｃ．著  （１９９９）：“Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｉｃａｌ  ｒｅｇｕｌａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｇ  ｐｒｏｔｅｉｎ−ｌｉｎｋｅｄ  ｓｉｇｎａｌｉｎｇ”，  Ｐｈｙｓｉｏｌ  Ｒｅｖ．，  ７９，  １３７３−１４３０）。更にそれぞれ個々の成分の活性は多様なフィードバック機構の枠組みの中で他のタンパク質によって調節することができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
このようなＣＮＧチャネルは（１）別の生物のα３−サブユニット、（２）ウシ又は別の生物由来の別のＣＮＧチャネル−サブユニットを含み、並びに（３）これらのサブユニットからなるホモオリゴマーもしくはヘテロオリゴマーの構造を有することができる。これらのサブユニットは（４）ウシ由来のＣＮＧチャネルのα３−サブユニット中の位置Ｔ５３７に相当する位置でそれぞれ遺伝子修飾されていてよい。前記の位置でトレオニンはメチオニン又はバリンによって置換されていてよいが、又は別のアミノ酸（セリンを除く）によって置換されていてもよい。このようなサブユニットは（５）別の位置に更なる遺伝子修飾を有することができる。更にこれらのＣＮＧチャネルは（６）前記の位置で同様に遺伝子修飾されているキメラサブユニットを有することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月14日(2008.10.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２５】
請求項２４の装置において、前記保持要素が、該保持要素を前記第二の方位に連結し得るように前記保持要素から伸長可能なばねブレードを有する、装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２８】
請求項２７の装置において、前記保持要素の各々が、ねじが前記隣接する穴内に挿入可能な第一の形態を有し、前記保持要素が前記隣接する穴の上方を伸びる第二の形態に変形可能である、装置。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４９】
請求項４１の装置において、前記ねじを閉じ込める手段が、３つの突き出すフランジと、該フランジの間の切欠きとを有する保持要素を備え、これにより、前記フランジの各々が、ねじを挿入するため、前記上側穴および前記１対の下側穴のうちそれぞれ隣接する穴の間に配置可能であり、前記保持要素が、前記フランジの各々が前記上側穴および前記１対の下側穴のうちそれぞれ１つを少なくとも部分的に覆う第二の位置まで可動である、装置。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
図３ａ乃至図３ｄには、板７が更に詳細に示してある。図示するように、板７の端縁１６、１７、１８は、節部８ａ、９ａ、１０ａの間で板７が横方向に且つ尾側の伸び程度を最少にし得るように凹状とされている。板７は、脊柱の解剖学的形態に一層良く順応し得るようその後面又は下面２３に僅かに凹状の曲率を有し、また、前方への突き出しを最少にし得るよう前面又は上面１９に沿って僅かに凸状の曲率を有している。ねじ１１をＬ５内に植え込むための穴８は、板７の前面１９に垂直な方向に対して、角度αの顕著な勾配をねじ１１に与え得るような形態とされている。ねじ１２、１３をＳ１内に植え込むための穴９、１０は、ねじ１２、１３に対し板７の前面１９に対し実質的に垂直な方位を与え得るような形態とされている。上述したように、ねじ１２、１３には球形の下側支承面を有する頭部を設け、ねじ１２、１３が前面１９に対し多数の角度方位の任意の１つを取り得るようにすることも考えられる。板７は、その下端縁１７付近に開口部２０を有し、その下側節部９ａ、１０ａ付近に凹み部２１、２２をそれぞれ有している。開口部２０及び凹み部２１、２２は、この目的に適応し得るようにされたツールによって板７を把持することを許容し、穴２０及び凹み部２１、２２は、把持ツールと協働することのできるかかる手段の単に１つの特定例を構成するに過ぎないことが理解される。かかる工具の例について以下に説明する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
板７の後面２３は、椎骨に向けることを目的とする。後面２３は、その幅の全体の少なくとも一部又は実質的に全体に沿って伸びる突出物２４を有している。突出物２４は、図２にて理解し得るように、Ｌ５の下側端板の前方縁部１４の下側リップ部と当接し得るような配置及び形態とされた上面２５を有している。ねじ１１の斜めの方位は、突出物２４をＬ５に対し押し付ける傾向となり、このことは板７をＬ５に保持する力を強化すると共に、脊柱が横方向に曲がったときに生ずるであろうねじ１１の周りの板７の枢動作用に抵抗する。図示するように、板７は、板７の端縁に沿って下側節部９ａ、１０ａの領域内でその後面２３に突出物２６、２７も有している。突出物２６、２７は、板７を所要位置に保持するのを助け得るように、図２に示すように、Ｓ１に沿って配置され且つ縁部１５に隣接してＳ１の前面に当接する。板７をＬ５に定着することは、リッジ形状の上側リップ部２８（図３ｂ及び図３ｃ）又は端縁１６、１８に隣接して形成され且つＬ５の前面と接触する区域内で上側節部８ａの領域内にて板７の後面２３から伸びる１つ又はより多数の点７３４（図２３）により行うことも考えられる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年6月6日(2008.6.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
図２は、図１に示される可変コンプレッサ１０９の利得関数の関係を示す。コンプレッサ入力２０１（デシベル表記）は、コンプレッサ出力２０２（デシベル表記）に対してマッピングされる。コンプレッサ入力２０１がＩ１  ２０６より上にあるときはいつでも、曲線２０３によって表されるように、可変コンプレッサ１０９は圧縮操作を実行する。グラフィックポイント２０５は、関連するコンプレッサ出力がＯ１  ２０７であるＩ１  ２０６に対応する。コンプレッサ入力２０１がＩ１  ２０６の下にある場合、可変コンプレッサ１０９は、曲線２０４によって示されるような本質的に１の増幅度を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光信号に反応して第１および第２の電荷をそれぞれ生じるべく、第１および第２の領域を有する基板と；
第１の領域から第２の領域へと延在して前記基板に配置され、該基板の導電性を変化させて第１および第２の電荷を該画像化回路の出力部へ移動させる導電材料と；
前記第１の領域に形成された第１の画素回路と；
前記第２の領域に形成された第２の画素回路と；を備え、前記第１の画素回路および第２の画素回路は基板の軸について対称に配置されている画像化回路。
【請求項２】  第１の電荷を生じるために前記第１の領域に配置された第１の光活性デバイスと；
第２の電荷を生じるために前記第２の領域に配置された第２の光活性デバイス；とをさらに備えた請求項１に記載の画像化回路。
【請求項３】  前記第１の光活性デバイスから第１の電荷を移動させるために前記第１の領域に配置された第１のトランジスタと；
前記第２の光活性デバイスから第２の電荷を移動させるために前記第２の領域に配置された第２のトランジスタ；とをさらに備えた請求項２に記載の画像化回路。
【請求項４】  導電材料が前記第１、第２のトランジスタのそれぞれ第１、第２のゲート電極として機能する、請求項３に記載の画像化回路。
【請求項５】  前記第１および第２のトランジスタが導電材料に与えられた制御信号に反応して機能する、請求項４に記載の画像化回路。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月30日(2008.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）  裏面とチャック面とを有するチャック本体と、
ｂ）  前記チャック本体内の電極と、
ｃ）  前記裏面と前記チャック面との間を流体的に通じさせる少なくとも１つの管路とを備え、該管路に前記チャック本体と一体化される多孔領域が設けられる静電チャック。
【請求項２】  前記チャック本体がセラミック製チャック本体である請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】  前記多孔領域が該静電チャックの前記裏面から前記チャック面まで延びる請求項２に記載の静電チャック。
【請求項４】  前記多孔領域が前記管路を通って部分的に延びる請求項２に記載の静電チャック。
【請求項５】  前記チャック本体の化学組成と前記多孔領域の化学組成とが本質的に同一である請求項２に記載の静電チャック。
【請求項６】  前記多孔領域が結合成分を含む請求項５に記載の静電チャック。
【請求項７】  前記結合成分がアルミン酸イットリウムまたはイットリアを含む請求項６に記載の静電チャック。
【請求項８】  前記電極が上面および下面を有し、前記チャック本体が、
ａ）  前記上面と前記チャック面との間の第一誘電層と、
ｂ）  前記下面と前記裏面との間の基材とを有し、
前記多孔領域が前記第一誘電層または前記基材のうちの一方またはその両方に一体的に接合される請求項１に記載の静電チャック。
【請求項９】  前記セラミック製チャック本体および前記多孔領域が、窒化アルミニウム、Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＣ、ＢＮ、Ｙ2Ｏ3およびアルミン酸イットリウムのうちの少なくとも一つを含む請求項１に記載の静電チャック。
【請求項１０】  前記多孔領域の気孔率が約１０〜約６０％である請求項１に記載の静電チャック。
【請求項１１】  少なくとも２つの多孔領域があり、該少なくとも二つの多孔領域の気孔率が異なる請求項１０に記載の静電チャック。
【請求項１２】  ａ）  裏面とチャック面とを有するチャック本体と、
ｂ）  前記チャック本体内の電極とを備え、
前記チャック本体が、本体裏面と前記チャック面との間を流体的に通じさせるための多孔構造を有する静電チャック。
【請求項１３】  ａ）  静電チャック本体の未処理本体を形成する工程であって、前記未処理本体が除去可能な粒子を含む少なくとも１つの領域を有する、工程と、
ｂ）  前記静電チャック本体を形成するために前記未処理本体を加熱する工程と、
ｃ）  前記粒子を取り除いて、前記静電チャック本体に多孔領域を形成する工程とを具備する静電チャックの生産方法。
【請求項１４】  ａ）  静電チャック本体の未処理本体に該未処理本体の焼き締め後に多孔質となる少なくとも１つの未処理領域を形成する工程と、
ｂ）  前記未処理本体を焼き締めて、セラミック製静電チャック本体を形成する工程とを具備し、前記セラミック製静電チャック本体が少なくとも１つの多孔領域を有する静電チャックの生産方法。
【請求項１５】  前記形成された未処理領域が焼結助剤を含む請求項１４に記載の生産方法。
【請求項１６】  前記形成された未処理領域が、Ｙ2Ｏ3、ハロゲン化カルシウム、酸化カルシウム、硝酸カルシウム、Ｃｒ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＢＮのうちの少なくとも１つの焼結助剤を含む請求項１５に記載の生産方法。
【請求項１７】  前記形成された未処理領域が重合体成分を含み、該重合対成分は該未処理本体の焼き締め中に分解され、それによって気孔が残されて前記静電チャック本体の多孔領域が形成される請求項１４に記載の生産方法。
【請求項１８】  前記形成された未処理領域が、Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＣ、ＢＮ、Ｙ2Ｏ3およびアルミン酸イットリウムのうちの少なくとも１つを含む請求項１４に記載の生産方法。
【請求項１９】  ａ）  静電チャックの高密度なセラミック本体に少なくとも１つの多孔プラグを形成する工程を具備し、前記多孔プラグが結合剤を含み、
ｂ）  前記多孔プラグを加熱して、前記多孔プラグを前記静電チャックの前記高密度なセラミック本体と一体化する工程をさらに具備する静電チャックの生産方法。
【請求項２０】  ウェハーの工程温度を調整する調整方法であり、
ａ）  ウェハーをセラミック製静電チャックのチャック面で支える工程を具備し、前記静電チャックが該静電チャックの裏面から前記チャック面まで延びる多孔管路を有し、
ｂ）  前記多孔管路を通って前記チャック面まで熱伝導流体を流通させて、ウェハーの処理温度を調整する工程をさらに具備する調整方法。
【請求項２１】  ウェハーの工程温度を調整する調整方法であり、
ａ）  ウェハーを静電チャックのチャック面で支える工程を具備し、前記静電チャックが前記裏面から前記チャック面まで延びる管路を有し、該管路に多孔領域が設けられ、
ｂ）  前記管路を通って前記チャック面まで熱伝導流体を流通させて、ウェハーの処理温度を調整する工程をさらに具備する調整方法。