【手続補正書】
【提出日】平成19年10月18日(2007.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物に近接自在な加工電極と、
前記被加工物に給電する給電電極と、
前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加する電源と、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方とを相対運動させる駆動部と、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に液体を供給する液体供給部と、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に配置されるイオン交換体と、
前記被加工物と前記イオン交換体との距離を検出する検出器と、
前記検出器からの信号を基に前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に制御する制御部を有することを特徴とする電解加工装置。
【請求項２】
前記被加工物を前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方に接離する方向に移動自在にフローティング支持する保持部を有することを特徴とする請求項１記載の電解加工装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に供給される液体の圧力、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間の相対運動速度、または前記加工電極と前記給電電極との間に印加される電圧の少なくとも１つを制御することを特徴とする請求項１または２に記載の電解加工装置。
【請求項４】
被加工物に近接自在な加工電極と、
前記被加工物に給電する給電電極と、
前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加する電源と、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方とを相対運動させる駆動部と、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に液体を供給する液体供給部と、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に配置されるイオン交換体と、
前記被加工物と前記イオン交換体との間に配置される厚さが１００μｍ以下の絶縁スペーサを有することを特徴とする電解加工装置。
【請求項５】
前記絶縁スペーサは、多孔質材料からなることを特徴とする請求項４記載の電解加工装置。
【請求項６】
前記液体供給部は、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に、液体の噴流が前記被加工物に衝突する方向、または側方の少なくとも一方から液体を供給することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電解加工装置。
【請求項７】
被加工物に近接自在な加工電極と被加工物に給電する給電電極を用意し、
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間にイオン交換体を配置し、
前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に保持しながら、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方とを液体の存在下で相対運動させ、
前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加することを特徴とする電解加工方法。
【請求項８】
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に存在する液体の圧力により、前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に保持することを特徴とする請求項７記載の電解加工方法。
【請求項９】
前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間の相対運動で発生する液体の圧力により、前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に保持することを特徴とする請求項７記載の電解加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項１に記載の発明は、被加工物に近接自在な加工電極と、前記被加工物に給電する給電電極と、前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加する電源と、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方とを相対運動させる駆動部と、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に液体を供給する液体供給部と、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に配置されるイオン交換体と、前記被加工物と前記イオン交換体との距離を検出する検出器と、前記検出器からの信号を基に前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に制御する制御部を有することを特徴とする電解加工装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
被加工物とイオン交換体との距離を検出する検出器としては、例えば光学式（反射式）や渦電流式の距離センサが使用される。電解加工のエンドポイントを検出する、いわゆるエンドポイントセンサを備えている場合には、エンドポイントセンサにこの検出器としての役割を併用させても良く、この場合、導電性膜等の膜厚と、被加工物とイオン交換体との距離とを単一のセンサ（エンドポイントセンサ）で同時に計測することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項２に記載の発明は、前記被加工物を前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方に接離する方向に移動自在にフローティング支持する保持部を有することを特徴とする請求項１記載の電解加工装置である。
これにより、電解加工の際に液体を介して被加工物に加えられる力の大きさに応じて、加工電極または前記給電電極の少なくとも一方に接離する方向に被加工物を容易に移動させて、被加工物と加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との距離を調整することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項３に記載の発明は、前記制御部は、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に供給される液体の圧力、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間の相対運動速度、または前記加工電極と前記給電電極との間に印加される電圧の少なくとも１つを制御することを特徴とする請求項１または２に記載の電解加工装置である。
被加工物と加工電極または給電電極の少なくとも一方との間の相対運動速度を制御することで、この相対運動により発生するハイドロプレーニング現象による液体力（動圧）を介して、電解加工の際に液体を介して被加工物に加えられる力の大きさを制御することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項４に記載の発明は、被加工物に近接自在な加工電極と、前記被加工物に給電する給電電極と、前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加する電源と、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方とを相対運動させる駆動部と、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に液体を供給する液体供給部と、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に配置されるイオン交換体と、前記被加工物と前記イオン交換体との間に配置される厚さが１００μｍ以下の絶縁スペーサを有することを特徴とする電解加工装置である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
被加工物と加工電極または給電電極の少なくとも一方との間に配置されるイオン交換体と、被加工物との間に厚さが１００μｍ以下の絶縁スペーサを配置することで、イオン交換体と被加工物との間の距離を、互いに非接触な１００μｍ以下にすることができる。この絶縁スペーサの厚さは、５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下、更には１μｍ以下であることがより好ましい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項５に記載の発明は、前記絶縁スペーサは、多孔質材料からなることを特徴とする請求項４記載の電解加工装置である。
これにより、絶縁スペーサの通水性を確保して、液体が絶縁スペーサ内部を流通するようにすることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項６に記載の発明は、前記液体供給部は、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に、液体の噴流が前記被加工物に衝突する方向、または側方の少なくとも一方から液体を供給することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電解加工装置である。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
請求項７に記載の発明は、被加工物に近接自在な加工電極と被加工物に給電する給電電極を用意し、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間にイオン交換体を配置し、前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に保持しながら、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方とを液体の存在下で相対運動させ、前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加することを特徴とする電解加工方法である。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項８に記載の発明は、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に存在する液体の圧力により、前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に保持することを特徴とする請求項７記載の電解加工方法である。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
請求項９に記載の発明は、前記被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間の相対運動で発生する圧力により、前記被加工物と前記イオン交換体との距離を１００μｍ以下で互いに非接触な所定値に保持することを特徴とする請求項７記載の電解加工方法である。
前記相対運動は、例えば回転運動、並進運動、直線運動、スクロール運動または往復運動のいずれか、またはそれらの組合せであり、相対運動速度は、１ｍ／ｓ以上であることが好ましく、２ｍ／ｓ以上であることが更に好ましい。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
つまり、電極部４４と基板保持部４２のチャッキングプレート７２で保持した基板Ｗとの間に所定の圧力の液体を供給しつつ電解加工を行いながら、基板Ｗの下面と加工電極６２及び給電電極６４の上面との距離Ｓを検出器８０で検出する。そして、この距離Ｓが、例えば１μｍ以下の所定値より小さい場合には、液体供給源６６から供給される液体の圧力を増大させてチャッキングプレート７２のフローティング位置を上昇させ、大きい場合には、液体供給源６６から供給される液体の圧力を減少させてチャッキングプレート７２のフローティング位置を下降させる。これによって、電解加工中、基板Ｗの下面と加工電極６２及び給電電極６４の上面との距離Ｓが、常に、例えば１μｍ以下の所定値となるようにする。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
つまり、電極部４４と基板保持部４２のチャッキングプレート７２で保持した基板Ｗとの間に液体供給ノズル（液体供給部）８２から液体を供給しつつ両者を相対運動させて電解加工を行いながら、基板Ｗの下面と加工電極６２及び給電電極６４の上面との距離Ｓを検出器８０で検出する。そして、この距離Ｓが、例えば１μｍ以下の所定値より小さい場合には、電極部４４と基板Ｗとの相対運動速度を増大させてチャッキングプレート７２のフローティング位置を上昇させ、大きい場合には、電極部４４と基板Ｗとの相対運動速度を減少させてチャッキングプレート７２のフローティング位置を下降させる。これによって、電解加工中、基板Ｗの下面と加工電極６２及び給電電極６４の上面との距離Ｓが、常に、例えば１μｍ以下の所定値となるようにする。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2006128576.tif 000001