【手続補正書】
【提出日】平成18年11月21日(2006.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  線状ハロゲン化ホスホニトリル化合物を２級アミンもしくは２級アミンの塩またはその金属アミドと反応させてアミン化ホスファゼン物質を造り、次いでイオン交換反応によりアミン化ホスファゼン物質のアニオンを求核剤で置換することを特徴とする線状ホスファゼン塩基触媒の製法。
【請求項２】  下記の式で表わされる塩化ホスホニトリル
（Ｃｌ３Ｐ＝Ｎ−（Ｃｌ２Ｐ＝Ｎ）n−ＰＣｌ３）＋Ｚ−
（式中、ｎは１〜１０で、Ｚ−はＣｌ−またはＰＣｌ６−アニオンである）
を式ＮＲ２（各Ｒは独立的に１０個までの炭素原子の炭化水素を表わすか、２個のＲがＮ原子と複素環式基を形成する）で表わされる２級アミンと反応させ、得られたアミン化ホスファゼン物質を塩基性求核剤でイオン交換反応により処理して下記一般式
【化１】
2000197823.tif 000001
（式中、Ｘ−は塩基性求核剤のアニオンを示す）
で表わされる線状ホスファゼン塩基触媒を造ることを特徴とする請求項１に記載の製法。
【請求項３】  ２級アミンが、ジメチルアミン及びピロリジンから選ばれることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の製法。
【請求項４】  アミン化反応を、交換したハライドイオンを捕捉できる物質の存在下で行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の製法。
【請求項５】  下記一般式（１）
【化２】
2000197823.tif 000002
（式中、Ｒは１０個までの炭素原子をもつ炭化水素基か、各Ｎ上の２個のＲ基がＮ原子と複素環式基を形成し、Ｘはアニオンで、ｎは１．２〜１０の平均値をもつ）で表わされる線状ホスファゼン塩基触媒。
【請求項６】  Ｘが、ヒドロキシル基、２５個までの炭素原子をもつアルコキシ基、シラノレート基及びフッ化物基から選ばれることを特徴とする請求項５に記載の線状ホスファゼン塩基触媒。
【請求項７】  下記一般式（１）
【化３】
2000197823.tif 000003
（式中、Ｒは独立的に１０個までの炭素原子をもつ炭化水素基か、１個のＮ原子上の２個のＲ基がＮ原子と複素環式基を形成し、Ｘはアニオンを示し、ｎは１〜１０の値をもつ）
で表わされる線状ホスファゼン塩基触媒の存在下でシロキサンを重合させることを特徴とする平衡及び／または縮合によるシロキサンの重合方法。
【請求項８】  シロキサンがシクロシロキサンであり、一般式ＭＤｘＭ（式中、Ｍは（ＣＨ３)３ＳｉＯ１／２でＤは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ２／２であり、ｘは０〜２０の値をもつ）
で表わされるポリジメチルシロキサン末端停止剤か、１個のヒドロキシル基、ビニル基または水素官能基をもつポリジメチルシロキサン末端停止剤の存在下で重合を行うことを特徴とする請求項７に記載の重合方法。
【請求項９】  シロキサンが、珪素と結合したヒドロキシル基、または重合操作中にシラノール基を生成できる加水分解可能な基をもつオルガノポリシロキサンを含むことを特徴とする請求項７または請求項８に記載の重合方法。
【請求項１０】  シロキサンが、下記一般式（３）
【化４】
2000197823.tif 000004
（式中、Ｒ３は水素原子、８個までの炭素原子をもつ適宜置換されたアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルカリール基またはアラルキル基を示し、Ｒ４は同一または異なる基で、好適には１から１８個までの炭素原子をもつ１価炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基であり、ｔは少なくとも２の値をもつ）
で表わされるオルガノポリシロキサンを含むことを特徴とする請求項９に記載の重合方法。
【請求項１１】  重合操作中に反応剤として使用したシロキサンの全重量に基づいて１〜５００ｐｐｍの濃度で触媒を使用することを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の重合方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
重合実施例１３：
オクタメチルシクロテトラシロキサン９０ｇと線状ポリジメチルシロキサン油末端停止剤（粘度１００ｍｍ２／秒、水分含量約６０ｐｐｍ）１０ｇとを窒素雰囲気下の反応容器に装入し、得られた反応混合物を１００℃に加熱し、３０分間減圧下（６００ミリバール）に保ち、溶解しているＣＯ２を除いた。次いで反応混合物を窒素雰囲気下に置き、１５０℃に加熱した後で合成例７の線状ポリアミノホスファゼニウムトリメチルシラノレート５０ｐｐｍを添加した。６０秒後に反応混合物を中和すれば不揮発性含量（ＮＶＣ）が８６．５％の重合体が得られ、その揮発分を除去すれば粘度約８，２００ｍｍ２／秒、最終不揮発分含量９７．９％の重合体が得られた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
重合実施例１４：
オクタメチルシクロテトラシロキサン９０ｇとポリジメチルシロキサン末端停止剤（粘度１００ｍｍ２／秒の油、水分含量約６０ｐｐｍ）１０ｇとを窒素雰囲気下の反応容器に装入し、得られた反応混合物を１００℃に加熱し、３０分間減圧下（６００ミリバール）に保って溶解しているＣＯ２を除いた。次いで反応混合物を窒素雰囲気下に置き、１５０℃に加熱した後で合成例６の線状フッ化ポリアミノホスファゼニウム５０ｐｐｍを添加した。６０秒後に反応混合物を中和すればＮＶＣ８６．５％の重合体が得られ、その揮発分を除去すれば粘度約１０，２２３ｍｍ２／秒、最終ＮＶＣ９６．４％の重合体が得られた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
重合実施例１５：
シラノール末端停止ポリジメチルシロキサン（粘度１４ｍｍ２／秒）（７０ｇ）とシクロジメチルシロキサン（２５ｇ）とポリジメチルシロキサン末端停止剤（２５℃での粘度１０ｍｍ２／秒）（５ｇ）とを反応容器中で混合し、得られた反応混合物を５００ミリバールの圧力下で１３５℃に加熱し、その温度で合成例７の線状ポリアミノホスファゼニウムトリメチルシラノレート（２００ｐｐｍ）を添加し、１５分後に反応混合物を冷却し、中和した後で強減圧下、１６０℃で１時間ストリッピングした。最終生成物は２５℃で１２８８ｍｍ２／秒の粘度と９６．９０％の不揮発分含量（ＮＶＣ）と８５．７ｐｐｍの残存シラノール含量とを含むものであった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
重合実施例１６：
シラノール末端停止ポリジメチルシロキサン（粘度１４ｍｍ２／秒）（７０ｇ）とシクロジメチルシロキサン（２５ｇ）とポリジメチルシロキサン末端停止剤（２５℃での粘度１０ｍｍ２／秒）（５ｇ）を反応容器中で混合し、得られた反応混合物を６００ミリバールの圧力下で１３５℃に加熱し、その温度で合成例６の線状フッ化ポリアミノホスファゼニウム（１８０ｐｐｍ）を添加し、１５分後に反応物を冷却し、中和した後で強減圧下、１６０℃で１時間ストリッピングした。最終生成物は２５℃で７０５ｍｍ２／秒の粘度と９９％のＮＶＣと１０４ｐｐｍの残存シラノール含量とを含むものであった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
重合実施例１７：
シラノール末端停止ポリジメチルシロキサン（粘度１４ｍｍ２／秒）（２５ｇ）、シクロジメチルシロキサン（７０ｇ）及びポリジメチルシロキサン末端停止剤（２５℃での粘度１０ｍｍ２／秒）（５ｇ）を反応容器中で混合し、得られた反応混合物を６００ミリバールの圧力下で１３０℃に加熱し、その温度で合成例８の線状ポリピロリジノホスファゼニウムトリメチルシラノレート（３６０ｐｐｍ）を添加し、３０分後に反応混合物を冷却し、中和した後で強減圧下、１６０℃で１時間ストリッピングした。最終生成物は２５℃で１１０７ｍｍ２／秒の粘度と９７．６％のＮＶＣと６０．３ｐｐｍの残存シラノール含量を含むものであった。