Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月21日(2006.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  (Ａ)平均組成式：ＲaＳｉＯ(4-a)/2（式中、Ｒは一価炭化水素基またはハロゲン原子置換一価炭化水素基であり、ａは１.９５〜２.０５の数である。）で示されるオルガノポリシロキサン生ゴム                          １００重量部、
(Ｂ)粉末状シリカ                                    ２５〜１００重量部、
(Ｃ)オルトほう酸またはメタほう酸              ０.００５〜５.００重量部、
(Ｄ)粉末状炭酸カルシウム                              ５〜１００重量部
および
(Ｅ)硬化剤                      （本発明組成物を硬化させるのに十分な量）
からなるシリコーンゴム組成物。
【請求項２】  （Ｄ）成分がＢＥＴ法比表面積８０,０００ｃｍ2／ｇ未満の重質炭酸カルシウムである請求項１記載のシリコーンゴム組成物。
【請求項３】  下記工程１および工程２からなることを特徴とするシリコーンゴム組成物の製造方法。
工程１；請求項１に記載の(Ａ)成分〜(Ｃ)成分を８０℃以上の温度条件下で加熱混練した後、８０℃未満まで冷却する工程。
工程２；前記工程１で得られたシリコーンゴムコンパウンドに、請求項１に記載の（Ｄ）成分を配合した後、請求項１に記載の（Ｅ）成分を配合する工程。
【請求項４】  押出成形用である請求項１記載のシリコーンゴム組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月19日(2007.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  駆動力を伝達するためのワイヤと；ワイヤの一端に接続され、ワイヤを引くためのハンドレバーと；ワイヤの他端と接続するワイヤ接続部と人体の部位を押圧する押圧部を有するスイングアームと；スイングアームをスイング可能に支持する支持部材と；支持部材に接続され、スイングアームがスイングして人体の押圧部を押圧するときに、人体の一部を保持する保持板と含むマッサージ器。
【請求項２】  さらに、ワイヤを内部に移動可能に収容するワイヤ管と、ハンドルレバーを回転可能に支持するハンドル支持部と備え、ワイヤ管の一端がハンドル支持部に結合され、ワイヤ管の他端が支持部材に連結されている請求項１に記載のマッサージ器。
【請求項３】  さらに、保持板とスイングアームの押圧部との間隔を調節する調節機構を備える請求項１に記載のマッサージ器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
揉み部１０は、スイング軸２６を中心としてスイング可能なスイングアーム１４と、スイング軸２６を支持するスイング軸支持部材１６とを含む。スイングアーム１４は、第１湾曲部１４ａと第２湾曲部１４ｂでそれぞれ湾曲してＪ字に形成されている。スイングアーム１４の第２湾曲部１４ｂ側の端部には、ゴムから形成された押圧部２２が取り付けられている。スイングアーム１４の第１湾曲部１４ａ側の端部には、円柱孔２４が形成されており、後述するワイヤ１８の一端に形成されたストッパ１８ａを収容する。図１に示すように、スイング軸２６には、ワイヤスプリング６０が取り付けられ、スイングアーム１４の第２湾曲部１４ｂが上方に（反時計回りに）回転するようにスイングアーム１４を付勢する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月24日(2007.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体が配置される計測空間に静磁場を発生する静磁場発生部と、前記計測空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生部と、前記被検体に高周波磁場を照射する高周波磁場発生部と、を有して成る磁場発生手段と、
前記静磁場の不均一を調整する磁場調整手段と、
を備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記磁場調整手段は、複数の磁性部材を着脱可能に形成された複数の非磁性部材を有して成り、
前記磁場発生手段は、前記複数の磁性部材が装着された複数の非磁性部材の各々を、前記静磁場発生部の中心に向けて放射状に挿入・引出可能なガイド部を有することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記磁場調整手段の少なくとも一部は、前記静磁場発生部と前記高周波磁場発生部との間に配置されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記磁場調整手段の少なくとも一部は、前記静磁場発生部と前記傾斜磁場発生部との間に配置されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記静磁場発生部の前記計測空間側には、中央側が窪んで外周側が前記計測空間方向に突出した凹部を有し、
前記傾斜磁場発生部は、前記凹部に配置され、
前記ガイド部は、前記凹部の突出部を貫通する挿通穴を有することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
請求項４記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記静磁場発生部は、永久磁石と磁極片を有し
前記凹部は、前記磁極片の前記計測空間側に形成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
被検体が配置される計測空間を挟んで対向配置された静磁場、傾斜磁場の各磁場発生手段と、前記静磁場発生手段の対向面側にそれぞれ配置され外周部に環状突起を有し内部に傾斜磁場発生手段を配置する磁極片を備えた磁場共鳴イメージング装置において、
前記磁極片は、外周部側面より中心部に向って形成されたガイド部を有し、
静磁場調整用のシム片が装着されて前記ガイド部に挿入・引出可能に配置される静磁場調整部材を備えた
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために本発明は以下のように構成している。被検体が配置される計測空間に静磁場を発生する静磁場発生部と、前記計測空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生部と、前記被検体に高周波磁場を照射する高周波磁場発生部と、を有して成る磁場発生手段と、前記静磁場の不均一を調整する磁場調整手段と、を備えた磁気共鳴イメージング装置において、前記磁場調整手段は、複数の磁性部材を着脱可能に形成された複数の非磁性部材を有して成り、前記磁場発生手段は、前記複数の磁性部材が装着された複数の非磁性部材の各々を、前記静磁場発生部の中心に向けて放射状に挿入・引出可能なガイド部を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体と、この本体に設けられた支柱と、この支柱にアームを介して取り付けられＸ線を照射するＸ線照射部と、このＸ線照射部にＸ線を照射させるための遠隔操作用の無線信号を発信する送信機と、この送信機に発信された無線信号を受信する受信ユニットとを具える移動型Ｘ線装置において、
前記受信ユニットは複数の検出素子を有し、前記複数の検出素子はそれぞれの隣接する検出素子の受信可能領域が重複するように配置されたことを特徴とする移動型Ｘ線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体へＸ線を照射するＸ線管と、Ｘ線照射に伴ってＸ線検出素子から出力される検出データを収集する信号収集手段を備えるＸ線検出器と、
前記信号収集手段によって収集される信号をワイヤレスに送信するワイヤレス信号送信装置と、
前記Ｘ線検出器に電源を供給するバッテリーと、
前記ワイヤレス信号送信装置からのワイヤレス信号を受信するワイヤレス受信装置を有する画像処理装置を備えたＸ線撮影装置において、
前記Ｘ線検出器とワイヤレス信号送信装置とバッテリーとを密封化する密封化手段と、
前記バッテリーと外部回路によって形成され、前記バッテリーを充電する非接触充電手段と、
を備えたことを特徴とするＸ線撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月26日(2007.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一対のクローラと、該一対のクローラへ走行駆動力を伝動する走行用無段変速手段と、歯車変速手段および前記一対のクローラに速度差を与えるための旋回用無段変速手段を有する走行装置において、
旋回用無段変速手段の出力をクローラ側に伝動する液圧作動クラッチ手段を設け、さらに前記走行用無段変速手段と前記旋回用無段変速手段を単一ユニットとして歯車変速手段を収納するケースに着脱自在に設けたことを特徴とする走行装置。
【請求項２】  前記旋回用無段変速手段は、可変ポンプ及び／又は可変モータを作動させる油圧式無段変速装置であることを特徴とする請求項１記載の走行装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【発明の効果】
本発明によれば、コンバインなどのクローラを有する走行装置において、走行用無段変速手段と、旋回用無段変速手段と、油圧クラッチとを用いることにより、旋回半径を緩旋回から急旋回まで無段階に選ぶことができ、クラッチ切換は油圧を利用したので、時間遅れ、衝撃、噛み合い不能を発生することが少なくなり、容易かつ円滑に旋回操作でき、安全性が高く、操作性、操舵性能が優れたコンバインなどの走行装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  遊戯者の操作する情報処理端末、ゲームの配信を行うゲームサーバ、及びスポンサーの製品広告を電子的に蓄積した広告サーバを備え、該ゲームサーバは情報処理端末からの要求に応じて、通信回線を介して当該情報処理端末にゲームコンテンツを配信し、各前記情報処理端末が返送したゲーム結果を収集し、さらに、前記情報処理端末による広告サーバへのアクセス回数を取得して、ゲームの参加者数、前記情報処理端末によりゲーム結果を返送した遊戯者数、及び上記アクセス回数のうち少なくとも何れかが予め定められた所定値を超えたときにゲーム成績の上位者にスポンサーから景品を送ることを決定する電子広告システム。
【請求項２】  前記ゲームサーバは情報処理端末に対してスポンサーのＵＲＬがリンクされている電子メールを自動的に配信する請求項１に記載の電子広告システム。
【請求項３】  前記ゲームサーバから広告サーバへリンクが設定されている請求項１又は請求項２に記載の電子広告システム。
【請求項４】  前記広告サーバからゲームサーバへリンクが設定されている請求項１乃至請求項３のうち何れか１項に記載の電子広告システム。
【請求項５】  前記ゲームサーバはゲームの成績上位者を表示する請求項１乃至請求項４のうち何れか１項に記載の電子広告システム。
【請求項６】  前記広告サーバはゲームの成績上位者を表示する請求項１乃至請求項５のうち何れか１項に記載の電子広告システム。
【請求項７】  前記情報処理端末は携帯端末であり、前記ゲームサーバは、該携帯端末にゲームコンテンツを配信し、遊戯者が操作する前記携帯端末が返送した前記携帯端末におけるゲーム結果の返送数、ゲーム参加者数、およびゲーム成績上位者を前記ゲームサーバおよび前記広告サーバの少なくとも一方に表示し、さらに前記携帯端末に対してスポンサーのＵＲＬがリンクされている電子メールを自動的に配信して前記広告サーバのホームページ閲覧を誘発する請求項１乃至請求項６のうち何れか１項に記載の電子広告システム。
【請求項８】  遊戯者の操作する情報処理端末からの要求に応じて、通信回線を介して当該情報処理端末にゲームコンテンツを配信し、各前記情報処理端末が返送したゲーム結果を収集し、さらに、スポンサーの製品広告を電子的に蓄積した広告サーバへの前記情報処理端末によるアクセス回数を取得し、ゲームの参加者数、前記情報処理端末によりゲーム結果を返送した遊戯者数、及び上記アクセス回数のうち少なくとも何れかが予め定められた所定値を超えたときにゲーム成績の上位者にスポンサーから景品を送ることを決定するゲームサーバ。
【請求項９】  前記ゲームサーバは情報処理端末に対してスポンサーのＵＲＬがリンクされている電子メールを自動的に配信する請求項８に記載のゲームサーバ。
【請求項１０】  前記ゲームサーバから広告サーバへリンクが設定されている請求項８又は請求項９に記載のゲームサーバ。
【請求項１１】  前記広告サーバからゲームサーバへリンクが設定されている請求項８乃至請求項１０のうち何れか１項に記載のゲームサーバ。
【請求項１２】  前記ゲームサーバは、前記情報処理端末としての携帯端末にゲームコンテンツを配信し、遊戯者が操作する前記携帯端末が返送した前記携帯端末におけるゲーム結果の返送数、ゲーム参加者数、およびゲーム成績上位者を前記ゲームサーバおよび前記広告サーバの少なくとも一方に表示し、前記携帯端末に対してスポンサーのＵＲＬがリンクされている電子メールを自動的に配信して前記広告サーバのホームページ閲覧を誘発する請求項８乃至請求項１１のうち何れか１項に記載のゲームサーバ。
【請求項１３】  遊戯者の操作する情報処理端末からの要求に応じて、通信回線を介して当該情報処理端末にゲームコンテンツを配信し、各前記情報処理端末が返送したゲーム結果を収集し、さらに、スポンサーの製品広告を電子的に蓄積した広告サーバへの前記情報処理端末によるアクセス回数を取得し、ゲームの参加者数、前記情報処理端末によりゲーム結果を返送した遊戯者数、及び上記アクセス回数のうち少なくとも何れかが予め定められた所定値を超えたときにゲーム成績の上位者にスポンサーから景品を送ることを決定する手順をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月29日(2007.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
縫製枠４は、Ｘ方向に延びる前後一対の枠片４ａ，４ｂと、Ｙ方向（ミシン１の前後方向）に延びる左右一対の枠片４ｃ、４ｄとよりなる矩形枠状に形成されている。枠片４ａ，４ｂはＹ方向駆動機構７に駆動されるようになっており、各枠片４ａ，４ｂの下面側には、Ｙ方向駆動機構７が嵌合する、該各枠片４ａ，４ｂの長さ方向に延びる凹溝１４が形成されている。また、枠片４ｄはＸ方向駆動機構に駆動されるようになっており、該枠片４ｄの下面側にも、Ｘ方向駆動機構６が嵌合する、枠片４ｄの長さ方向に延びる凹溝１４が形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ダイナミックレンジが２のｑ乗より大きいとき、画素値に対するコードＱは、
［（Ｌ−ＭＩＮ＋０．５）×２q／ＤＲ］
で算出される。［］は、小数点以下の切り捨てを表す。Ｌは、画素値を表し、ＭＩＮは、ブロック内の画素の画素値の最小値を表す。ＤＲは、ブロックのダイナミックレンジを表す。ダイナミックレンジが２のｑ乗以下のとき、画素値に対するコードＱは、Ｌ−ＭＩＮで算出される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図１１に示すように、偶数フレーム（フレーム０）の８×８画素のブロックに含まれる偶数画素（４×８画素）と、奇数フレーム（フレーム１）の８×８画素のブロックに含まれる偶数画素（４×８画素）を集めたものが、偶数セグメントのＡＤＲＣブロックとされる。同時に、偶数フレーム（フレーム０）の８×８画素のブロックに含まれる奇数画素（４×８画素）と、奇数フレーム（フレーム１）の８×８画素のブロックに含まれる奇数画素（４×８画素）を集めたものが、奇数セグメントのＡＤＲＣブロックとされる。ＡＤＲＣブロックは、２つのフレームの、もとのフレーム上で１つおきの画素から構成される。偶数セグメントのＡＤＲＣブロックの画素の、もとのフレーム上で隣に位置する画素は、対応する奇数セグメントのＡＤＲＣブロックを構成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図１２のＢ２と表示された６４画素のブロックおよび図１３のＢ２と表示された６４画素のブロックの偶数画素により構成された偶数セグメントのＡＤＲＣブロックは、図１４に示すようにセグメント４として、図１２のＢ１と表示された６４画素のブロックおよび図１３のＢ１と表示された６４画素のブロックの奇数画素により構成された、セグメント１のＡＤＲＣブロックの図中右隣に配置される。図１２のＢ２と表示された６４画素のブロックおよび図１３のＢ２と表示された６４画素のブロックの奇数画素により構成された奇数セグメントのＡＤＲＣブロックは、図１４に示すようにセグメント１として、図１２のＢ２と表示された６４画素のブロックおよび図１３のＢ２と表示された６４画素のブロックの偶数画素により構成された偶数セグメントのＡＤＲＣブロックの図中右隣に配置される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月1日(2006.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カラー撮像装置およびそのカラー撮像方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を撮像する固体カラー撮像素子と、
この固体カラー撮像素子から出力された撮像信号から上記被写体の明るさを示す信号を形成する第１の形成回路と、
この第１の形成回路の出力信号の示す値と、基準値とを比較する比較回路と、
この比較回路の比較出力からＡＧＣ制御信号を形成する第２の形成回路と
を有し、
上記撮像信号のレベルを、上記ＡＧＣ制御信号によりフィードバック制御し、
上記被写体の明るさが低下したとき、その低下に応じた上記ＡＧＣ制御信号により、上記撮像信号から得られる色信号のレベルを小さくするとともに、
上記被写体の明るさが所定の明るさより低下したときには、上記比較信号に応じて上記色信号のレベルをさらに小さくする
ようにしたカラー撮像装置。
【請求項２】
被写体の像が投影される固体カラー撮像素子と、
この固体カラー撮像素子から出力される点順次信号の供給されるＡＧＣ用アンプと、
このＡＧＣ用アンプの出力信号からカラービデオ信号を形成する第１の回路と、
上記カラービデオ信号に含まれる色信号のレベルを制御する第２の回路と、
上記ＡＧＣ用アンプの出力信号から上記被写体の明るさを示す信号を形成する検波回路と、
この検波回路の出力信号の示す値と、基準値とを比較する比較回路と、
この比較回路の比較出力からＡＧＣ制御信号を形成する第３の回路と
を有し、
上記ＡＧＣ制御信号により上記ＡＧＣ用アンプの利得をフィードバック制御して上記点順次信号に対してＡＧＣを行い、
上記第２の回路において、上記被写体の明るさが低下したとき、その低下につれて上記ＡＧＣ制御信号により、上記カラービデオ信号に含まれる上記色信号のレベルを小さくしていくとともに、
上記被写体の明るさが所定の明るさより低下したとき、その低下に応じた上記比較回路の比較出力により、上記カラービデオ信号に含まれる上記色信号のレベルをさらに小さくする
ようにしたカラー撮像装置。
【請求項３】
被写体を固体カラー撮像素子により撮像して得られる撮像信号から上記被写体の明るさを示す第１の信号を形成し、
この第１の信号の示す値と、基準値とを比較し、
この比較出力からＡＧＣ制御信号を形成し、
上記撮像信号のレベルを上記ＡＧＣ制御信号によりフィードバック制御し、
上記被写体の明るさが低下したとき、その低下に応じた上記ＡＧＣ制御信号により、上記撮像信号から得られる色信号のレベルを小さくするとともに、
上記被写体の明るさが所定の明るさより低下したときには、上記比較出力に応じて上記色信号のレベルをさらに小さくする
ようにしたカラー撮像方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、カラー撮像装置およびそのカラー撮像方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【課題を解決するための手段】
この発明においては、
被写体を撮像する固体カラー撮像素子と、
この固体カラー撮像素子から出力された撮像信号から上記被写体の明るさを示す信号を形成する第１の形成回路と、
この第１の形成回路の出力信号の示す値と、基準値とを比較する比較回路と、
この比較回路の比較出力からＡＧＣ制御信号を形成する第２の形成回路と
を有し、
上記撮像信号のレベルを、上記ＡＧＣ制御信号によりフィードバック制御し、
上記被写体の明るさが低下したとき、その低下に応じた上記ＡＧＣ制御信号により、上記撮像信号から得られる色信号のレベルを小さくするとともに、
上記被写体の明るさが所定の明るさより低下したときには、上記比較信号に応じて上記色信号のレベルをさらに小さくする
ようにしたカラー撮像装置
とするものである。
したがって、ＡＧＣの制御範囲が拡大されるとともに、色消し特性の傾きは緩やかになる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
以下、この発明の一例について、図１により説明する。  
図１において、被写体が撮像レンズ１１により撮像され、その像が絞り機構１２を通じて固体カラー撮像素子、例えばＣＣＤカラー撮像素子２１に投影され、この撮像素子２１からは例えば補色の色信号が点順次に取り出される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
【発明の効果】
この発明によれば、固体撮像素子として、小型化したものや高画素化したものを使用することができるとともに、そのとき、被写体の照度が低くても、再生画面の暗くなることがない。また、色消し特性の傾きを緩やかに設定することができるので、色消しに不自然さが出ない色消しの効果を得ることができる。さらに、ソフトウェアにより実現することができるので、コストの上昇を抑えることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本実施の形態ではカレンダーを月単位とし、後に言及する図に示すように、１週間の７日を１行として複数行に並べて配置したマトリックス状のカレンダー表示としている。「付加情報表示エリア」は後述するように、着目した日の統計情報や、着目したメールの内容等の付加的な情報を表示するエリアである。画像表示エリア６３０は、着目したメールの送信者を表す画像（写真等）や予め用意したプリセット画像などを表示するエリアである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
（２）保護メール（の有無）
ユーザ（受信者）が誤って削除されることを禁止したメールを保護メールという。着目する日に受信されたメールのうち、このような保護メールが１通でも存在すれば、その日に対して、保護メールに予め対応づけられた画像を割り当てる。また、付加情報表示エリアに当該保護メールの内容を表示する。また、カレンダーの各日付の欄には保護メールを表すアイコン（後述する図９の７０４）を表示する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
〔グラフ表示〕
図１２は、上記画面６００または８００において、ユーザによる所定の指示（ここでは右ソフトキー（星印）６４０の指示）により表示されるグラフ表示画面８００を示している。この画面は、カレンダー表示とは別に、統計情報に基づいて、所定の期間における送信数と受信数のの推移をグラフ表示エリア８１０にグラフ表示したものである。ここでは、単位期間（この例では１週間）毎の受信数を折れ線グラフ８２１で示し、送信数を折れ線グラフ８２２で示している。図ではそれぞれ１日平均の数として示しているが、これに代えてまたは加えて１週間の総数を表示してもよい。また、各単位期間内で最も受信数の多い相手の登録画像８６１〜８６２を所定のサイズに縮小して、折れ線グラフの各受信数に対応づけて表示している。さらに、現在着目している単位期間において最も受信数の多い相手の登録画像（ここでは画像８６２）を、グラフ表示エリア８１０とは別の画像表示エリア８２０内に表示している。さらに、画像表示エリア８２０の隣の付加情報表示エリア８３０に付加情報を表示している。この例では、当該単位期間「７／１１〜７／１７」および「今週のマイブームは△△さん」というメッセージを表示している。ここでの「△△」には当該画像の相手の名前が組み込まれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
ケータイ白書２００５よれば、平均的な日本人の生活の中で、受信数が送信数よりも多いというデータがある。送受信数のグラフもほとんどの場合が送信数を受信数を上回ると想定される。したがって、受信数を送信数が上回る場合は送信者が孤独を感じ寂しいと分析ことができる。このような分析結果をテキストやグラフィックにより表示するようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
ステップＳ３２で保護メールがないと判定された場合、当日の受信総数の５０％以上が同一人からのメールであるか否かをチェックする（Ｓ３４）。そうであれば、その送信者の名前を表示対象とする（Ｓ３５）。また、その送信者の顔写真がアドレス帳に登録済であれば（Ｓ３６）、その顔写真を画像表示エリア６３０への表示対象とする（Ｓ３８）。登録済でなければ、予め定めた画像（プリセット画像）を画像表示エリア６３０への表示対象とする（Ｓ３７）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
当該表示対象期間の通信データ（ここではメールの送信数および受信数）を単位期間毎に集計する（Ｓ５２）。そこで、単位期間毎に送信数の推移および受信数の推移をグラフで表示する（Ｓ５３）。また、単位期間毎に最多受信者の顔写真（なければプリセット画像）をグラフ表示エリア内の各単位期間に対応づけて表示する（Ｓ５４）。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのターミナル及び少なくとも１つのネットワーク要素を備え、そして少なくとも電力制御要素と、信号のクオリティを表わす値を決定するための手段とを含むように構成されたテレコミュニケーションシステムにおける送信電力の制御方法において、
上記信号のクオリティを表わす値を制限するために基準範囲を定義し、
上記信号のクオリティを表わす値に対してターゲットレベルを定義し、そして  上記信号のクオリティを表わす値に対する上記ターゲットレベルを、上記基準範囲に限定する、
という段階を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月15日(2007.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電力変換回路における各相が、複数の半導体モジュールを電気的に並列接続してなる電力変換装置において、
上記半導体モジュールはそれぞれ、スイッチング素子と該スイッチング素子が配線により接続された複数の主端子とを有し、
上記半導体モジュール相互の同一極性の主端子同士を直接接触させて接続したことを特徴とする電力変換装置。
【請求項２】
上記半導体モジュールはそれぞれ、上記主端子の組を複数組有し、上記半導体モジュール相互の上記同一極性の主端子同士が鏡面対象に配列されていることを特徴とする請求項１記載の電力変換装置。
【請求項３】
上記同一極性の主端子同士の接続が、金属接合によることを特徴とする請求項１または２記載の電力変換装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数のセルを直列に接続した電池パックを充電する充電装置であって、電池パックの温度を検出する電池温度検出手段と、電池パックの電池電圧を検出する電池電圧検出手段と、前記電池温度検出手段及び前記電池電圧検出手段の出力より、充電開始前に、前記電池パックの充電完了までの充電時間を予測し、該時間を複数区分に分類する手段と、該区分に応じて充電完了までの充電時間を、充電前に、複数段階に表示する表示手段と、前記電池温度検出手段又は前記電池電圧検出手段の出力より、電池パックが満充電間際の状態になったことを判別する手段とを有し、前記充電開始前の表示区分において、少なくとも充電完了までの時間が最も長い表示区分の場合は、電池の充電開始から所定時間を経過した後に、前記表示を、次ぎの表示区分に変更すると共に、前記判別手段により満充電間際の状態になったことを判別したときには、前記表示手段の表示を、充電所要時間の最も短い段階の表示とすることを特徴とする充電装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するために本発明充電装置は、複数のセルを直列に接続した電池パックを充電する充電装置であって、電池パックの温度を検出する電池温度検出手段と、電池パックの電池電圧を検出する電池電圧検出手段と、前記電池温度検出手段及び前記電池電圧検出手段の出力より、充電開始前に、前記電池パックの充電完了までの充電時間を予測し、該時間を複数区分に分類する手段と、該区分に応じて充電完了までの充電時間を、充電前に、複数段階に表示する表示手段と、前記電池温度検出手段又は前記電池電圧検出手段の出力より、電池パックが満充電間際の状態になったことを判別する手段とを有し、前記充電開始前の表示区分において、少なくとも充電完了までの時間が最も長い表示区分の場合は、電池の充電開始から所定時間を経過した後に、前記表示を、次ぎの表示区分に変更すると共に、前記判別手段により満充電間際の状態になったことを判別したときには、前記表示手段の表示を、充電所要時間の最も短い段階の表示とすることに一つの特徴を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水相が油相に分散されてなるｗ／ｏ（ウォーターインオイル）型の乳化物であり、
水相には、アニオン性、両性、非イオン性界面活性剤の中から選ばれる少なくとも１種以上の界面活性剤が含有され、
油相には、洗浄作業中に皮膚上でｏ／ｗ（オイルインオォーター）型に転相することを可能にする配合で、増粘剤と、水相を乳化させる乳化剤と、シリコーンとが含有されてなることを特徴とする油性化粧料用洗浄剤。
【請求項２】
シリコーンとして、平均重合度１０以下のジメチルポリシロキサンが、洗浄剤全体の３０重量％以上の含有量で用いられている請求項１記載の油性化粧料用洗浄剤。
【請求項３】
シリコーンとして少なくとも１種以上の揮発性環状シリコーンが含まれている請求項２記載の油性化粧料用洗浄剤。
【請求項４】
増粘剤として、ＨＬＢ３以下、分子量５５０００以上のジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン）シロキサンコポリマーが用いられている請求項１ないし３の何れか１記載の油性化粧料用洗浄剤。
【請求項５】
油相の乳化剤として、分子量が５０００以上、オキシエチレン重量が分子中３０重量％以下であるジメチルポリシロキサン・メチル（ポリオキシエチレン）シロキサンコポリマーが、洗浄剤全体の１重量％以上の含有量で用いられている請求項１ないし４の何れか１記載の油性化粧料用洗浄剤。
【請求項６】
水相の界面活性剤が、洗浄剤全体の８重量％以上の含有量で用いられている請求項１ないし５の何れか１記載の油性化粧料用洗浄剤。
【請求項７】
水相と油相との比率が３０：７０〜６５：３５となされた請求項１ないし６の何れか１記載の油性化粧量方洗浄剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するための本発明の油性化粧料用洗浄剤は、水相が油相に分散されてなるウォーターインオイル（以下、単に「ｗ／ｏ」と言う。）型の乳化物であり、水相には、アニオン性、両性、非イオン性界面活性剤の中から選ばれる少なくとも１種以上の界面活性剤が含有され、油相には、洗浄作業中に皮膚上でｏ／ｗ型に転相することを可能にする配合で、増粘剤と、水相を乳化させる乳化剤と、シリコーンとが含有されてなるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月25日(2007.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングがエッチャント・ガスの濃度の影響を受け、前記エッチャント・ガスがマス・フロー・コントローラを介してエッチング室に入力される、半導体基板上でエッチ・トリミングを制御するための方法であって、
所望のエッチャント・ガス濃度を決定する工程と、
前記エッチング室に不活性ガスを供給する工程と、
実際のエッチャント・ガス濃度を表す第１の信号を生成する工程と、
不活性ガス濃度を表す第２の信号を生成する工程と、
正規化されたエッチャント・ガス濃度信号を生成するために前記第１および第２の信号を関連付ける工程と、
前記正規化されたエッチャント・ガス濃度信号を、前記所望のエッチャント・ガス濃度を表す信号と比較する工程と、
前記比較工程に応じて前記マス・フロー・コントローラを制御する工程と
を備える方法。
【請求項２】
前記第１の信号が、前記エッチャント・ガスによって形成されたスペクトル放出線を表す信号を備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の信号が、前記不活性ガスによって形成されたスペクトル放出線を表す信号を備える請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記関連付ける工程が、
前記エッチャント・ガスによって形成されたスペクトル放出線を表すフィルタリングされた第１の信号を生成するために第１の信号をフィルタリングする工程と、
前記不活性ガスによって形成されたスペクトル放出線を表すフィルタリングされた前記第２の信号を生成するために第２の信号をフィルタリングする工程と、
前記正規化されたエッチャント・ガス濃度信号を生成するために前記第１および第２のフィルタリングされた信号を関連付ける工程と
を備える請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記関連付ける工程が、短期間一時変動を除去するために前記正規化されたエッチャント・ガス信号をフィルタリングすることをさらに備える請求項４に記載の方法。
【請求項６】
等方性エッチングがマス・フロー・コントローラを介してエッチング室に入力されるエッチャント・ガスの濃度の影響を受け、異方性エッチングも前記エッチング室で起こる、半導体基板上での異方性エッチングを制御するための方法であって、
所望のエッチャント・ガス濃度を決定する工程と、
前記エッチング室にパッシベーティング・ガスを供給する工程と、
実際のエッチャント・ガス濃度を表す第１の信号を生成する工程と、
前記パッシベーティング・ガス濃度を表す第２の信号を生成する工程と、
第３の信号を生成するために前記第１および第２の信号を関連付ける工程と、
前記第３の信号を所定の基準と比較する工程と、
前記比較工程に応じて前記エッチャント・ガスおよび前記パッシベーティング・ガスの少なくとも１つの濃度を制御する工程と
を備える方法。
【請求項７】
エッチ・トリム・プロセスがエッチャント・ガスの濃度の影響を受け、前記エッチャント・ガスが第１のマス・フロー・コントローラを介してエッチング室に入力され、不活性ガスが第２のマス・フロー・コントローラを介して前記エッチング室に入力される、半導体基板上でのエッチ・トリム・プロセスを制御するための装置であって、
実際のエッチャント・ガス濃度を表す第１の信号を生成するための第１の光信号デバイスと、
不活性ガス濃度を表す第２の信号を生成するための第２の光信号デバイスと、
正規化されたエッチャント・ガス濃度信号を生成するために前記第１および第２の信号を関連付けるための要素と、
前記正規化されたエッチャント・ガス濃度信号を所望のエッチャント・ガス濃度を表す信号と比較し、それに応じて正規化された信号を生成するための比較要素と
を備える装置。
【請求項８】
前記第２の信号が、プラズマと相互作用する不活性ガスによって形成されるスペクトル放出線を表す第２の信号を備える請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第１および第２の信号を関連付けるための要素が分割器を備えている請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１の光デバイスが、前記エッチング室内から光エネルギーを受け取るように配置された光ファイバ、光ファイバおよび前記第１の信号を生成するための光検出器を直列関係で備える請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記第２の光デバイスが、前記エッチング室内から光エネルギーを受け取るように配設された光ファイバ、光ファイバおよび前記第２の信号を生成するための光検出器を直列関係で備える請求項７に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１および第２の光デバイスが、エッチング室における開口内に配設された分岐光ファイバに応答し、エッチング室におけるスペクトル放出に応答し、前記光ファイバが前記実際のエッチャント・ガス濃度および前記不活性ガス濃度を表す光信号を搬送する請求項７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザ照射装置及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス発振でレーザ光を出力するレーザ発振器と、
複数の光学系を有するレンズアッセンブリと、
前記パルス発振と同期して前記レンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系から少なくとも２つの光学系を選択する位置制御手段とを有し、
前記複数の光学系のうち、少なくとも一つの光学系が他の光学系と異なる構成を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項２】
パルス発振でレーザ光を出力するレーザ発振器と、
複数の光学系を有するレンズアッセンブリと、
前記パルス発振と同期して前記レンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系から少なくとも第１の光学系又は第２の光学系を選択する位置制御手段とを有し、
前記第１の光学系における前記レーザ光の空間的なエネルギー分布の反転又は回転の軸と、前記第２の光学系における前記レーザ光の空間的なエネルギー分布の反転又は回転の軸が、互いに交差することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項３】
パルス発振でレーザ光を出力するレーザ発振器と、
複数の光学系を有するレンズアッセンブリと、
前記パルス発振と同期して前記レンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系から少なくとも２つの光学系を選択する第１の位置制御手段と、
レンズアレイ及び集光レンズを有するビームホモジナイザと、
前記レンズアレイの位置を前記レーザ光の入射方向に垂直な平面上で、又は前記レーザ光の入射方向と平行な軸上で平行移動するように制御する第２の位置制御手段とを有し、
前記複数の光学系のうち、少なくとも一つの光学系が他の光学系と異なる構成を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項４】
パルス発振でレーザ光を出力するレーザ発振器と、
複数の光学系を有するレンズアッセンブリと、
前記パルス発振と同期して前記レンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系から少なくとも第１の光学系又は第２の光学系を選択する第１の位置制御手段と、
レンズアレイ及び集光レンズを有するビームホモジナイザと、
前記レンズアレイの位置を前記レーザ光の入射方向に垂直な平面上で、又は前記レーザ光の入射方向と平行な軸上で平行移動するように制御する第２の位置制御手段とを有し、
前記第１の光学系における前記レーザ光の空間的なエネルギー分布の反転又は回転の軸と、前記第２の光学系における前記レーザ光の空間的なエネルギー分布の反転又は回転の軸が、互いに交差することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項において、
前記レーザ発振器はエキシマレーザ、ガラスレーザ、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ又はＧｄＶＯ４レーザを用いていることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項６】
パルス発振でレーザ光を出力し、
前記パルス発振に同期して、複数の光学系を有するレンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系のうち少なくとも２つの光学系が選択され、
前記選択された少なくとも２つの光学系によって、レーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに異なる複数のパルスを形成し、
前記複数のパルスを、半導体膜の同一領域に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
パルス発振でレーザ光を出力し、
前記パルス発振に同期して、複数の光学系を有するレンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系のうち少なくとも２つの光学系が選択され、
前記選択された少なくとも２つの光学系によって、レーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに反転又は回転した複数のパルスを形成し、
前記複数のパルスを、半導体膜の同一領域に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
パルス発振でレーザ光を出力し、
前記パルス発振に同期して、複数の光学系を有するレンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系のうち少なくとも第１の光学系及び第２の光学系が選択され、
前記第１の光学系により第１の直線を軸としてレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに反転又は回転した第１のパルスを形成し、
前記第２の光学系により前記第１の直線と交差する第２の直線を軸としてレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに反転又は回転した第２のパルスを形成し、
前記第１のパルスと前記第２のパルスを含む複数のパルスを、半導体膜の同一領域に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
パルス発振でレーザ光を出力し、
前記パルス発振に同期して、複数の光学系を有するレンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系のうち少なくとも２つの光学系が選択され、
前記選択された少なくとも２つの光学系によって、レーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに反転又は回転した第１の複数のパルスを形成し、
前記パルス発振に同期してビームホモジナイザが有するレンズアレイの位置を前記レーザ光の入射方向に垂直な平面上で、又は前記レーザ光の入射方向と平行な軸上で平行移動させて制御することによって、前記第１の複数のパルスが前記レンズアレイに入射する位置が選択され、
前記第１の複数のパルスが前記レンズアレイに入射する位置によってレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに異なる、第２の複数のパルスを前記ビームホモジナイザで形成し、
前記第２の複数のパルスを半導体膜の同一領域に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
パルス発振でレーザ光を出力し、
前記パルス発振に同期して、複数の光学系を有するレンズアッセンブリの位置を制御することによって、前記複数の光学系のうち少なくとも第１の光学系及び第２の光学系が選択され、
前記第１の光学系により第１の直線を軸としてレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに反転又は回転した第１のパルスを形成し、
前記第２の光学系により前記第１の直線と交差する第２の直線を軸としてレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに反転又は回転した第２のパルスを形成し、
前記パルス発振に同期してビームホモジナイザが有するレンズアレイの位置を前記レーザ光の入射方向に垂直な平面上で、又は前記レーザ光の入射方向と平行な軸上で平行移動させて制御することによって、前記第１のパルス又は前記第２のパルスが前記レンズアレイに入射する位置が選択され、
前記第１のパルスが前記レンズアレイに入射する位置によってレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに異なる、第３のパルスを前記ビームホモジナイザで形成し、
前記第２のパルスが前記レンズアレイに入射する位置によってレーザ光の空間的なエネルギー分布が互いに異なる、第４のパルスを前記ビームホモジナイザで形成し、
前記第３のパルス及び前記第４のパルスを含む複数のパルスを、半導体膜の同一領域に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月3日(2007.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属で形成されたワイヤボンディングパッドと、
前記ワイヤボンディングパッド下であってそれと接触して形成された補強層と、ここで、前記金属補強層は、延伸領域に渡ってボンディング力を分散させて前記ワイヤボンディングパッドを強固させるように構成され、
前記金属補強層の下であってそれと接触するように配置された少なくとも一つの金属層と、
前記少なくとも一つの金属補強層下の集積回路内に延伸する少なくとも一つの脆弱インターレベル誘電体層とを備えた集積回路。
【請求項２】
前記補強層の前記金属が、チタン、タングステン、窒化チタン、窒化タングステン、ニッケル、窒化ニッケル、及びそれらの混合及び合金からなる郡より選択された耐熱性金属である請求項１に記載の集積回路。
【請求項３】
前記補強層がパタン形成された構造である請求項１に記載の集積回路。
【請求項４】
前記ワイヤボンディングパッドの前記金属が、アルミニウム、銅、ならびにアルミニウムおよび銅の合金を含むグループから選択される請求項１に記載の集積回路。
【請求項５】
前記補強層の前記金属が、チタン、窒化チタン、タングステン、窒化タングステン、ニッケル、およびそれらの合金またはそれらの混合を含むグループから選択される請求項１に記載の集積回路。
【請求項６】
前記補強層の厚さが１００〜６００ナノメートルである請求項１に記載の集積回路。
【請求項７】
半導体集積回路内の接触パッドを補強する方法であって、
前記接触パッドの下に少なくとも１つの金属層を提供する工程と、
前記接触パッドと前記少なくとも１つの金属層との間に、少なくとも１つの補強層を提供する工程とを含み、前記接触パッド、補強層、および少なくとも１つの金属層が導電接触した状態である半導体集積回路内の接触パッドを補強する方法。
【請求項８】
前記接触パッドが、アルミニウム、銅又はそれらの混合又は合金であり、前記少なくとも一つの金属層が、アルミニウム、銅又はそれらの混合又は合金であり、前記補強層が、耐熱性金属である請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記補強層の厚さが約１００〜６００ナノメートルである請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記補強層が複数の接続されていない構造要素の積層を含む請求項７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図１〜２は本発明の好適な実施形態を示している。図１は、ワイヤ・ボンディング、フリップチップ・ボンディング、およびテープ自動ボンディング（ＴＡＢ）などであるがこれに限定されない従来のボンディング技術を用いてパッケージ基板（図示せず）に取り付けられる接触パッド層１０を示す好適な実施形態の断面図である。典型的にはアルミニウム、金、銅、はんだ等から作られるボール・ボンディング（図示せず）が接触パッド１０に結合されるのが好ましい。この接触パッドは保護酸化物層１２から露出され、剥がされる。この接触パッド層は、好適には金属、さらに好適にはアルミニウムおよび／または銅を含んだ導電性材料から作られる。この接触パッド層１０の直下には補強層１４が存在する。この補強層は強力なチタン、窒化チタン、タングステン、窒化タングステン、ニッケル、窒化ニッケル、タンタル、窒化タンタル、窒化タンタル・シリコン、およびそれらを組みあわせたもの／それらの合金などの「耐熱性（高融点）」金属から作られる。補強層１４の下にはアルミニウムまたは銅、あるいはそれらを組みあわせたもの／それらの合金から作られた第１の金属層１８が存在する。この第１の金属層１８の下には、第１の誘電体層３０および第１の金属層１８と第２の金属層２２とを導電接続する第１のバイア２０が存在する。第２の金属層２２の下には、第２の誘電体層３２および第３の金属層２６に第２の金属層２０を接続する第２のバイア２４が存在する。第３の金属層２６の下には第３の誘電体層および第３のバイア２８が存在する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月31日(2007.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンタクトホール内で露出された第１の導電層上に選択的に金属元素を含む領域を形成し、
前記金属元素を含む領域上に極細炭素繊維を形成し、
前記コンタクトホール内に第２の導電層を形成し、加熱することによって前記極細炭素繊維の間に前記第２の導電層を充填して導電性部材を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
コンタクトホール内で露出された第１の導電層上に選択的に金属元素を含む領域を形成し、
前記金属元素を含む領域上に極細炭素繊維を形成し、
前記露出された第１の導電層上に第２の導電層を形成し、加熱することによって前記第２の導電層を流動化して前記極細炭素繊維の間に前記第２の導電層を充填して導電性部材を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第１の導電層は、珪素を含む半導体であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記金属元素は、ニッケル、鉄、コバルト、白金、ゲルマニウム、チタン、又はパラジウムであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記金属元素を含む領域は、ニッケル、鉄、コバルト、白金、ゲルマニウム、チタン、パラジウム、又はこれらのシリサイドを含む領域であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記極細炭素繊維を、炭化水素、又はアルコールを用いて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記極細炭素繊維は、グラファイトナノファイバ、カーボンナノファイバ、カーボンナノチューブ、チューブ状グラファイト、カーボンナノコーン、又はコーン状グラファイトであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
第１の導電層と、
前記第１の導電層上に設けられたコンタクトホールを有する絶縁層と、
極細炭素繊維と、前記極細炭素繊維の間を充填する第２の導電層とを有し、前記コンタクトホールを充填する導電性部材と、
前記導電性部材上に設けられた第３の導電層と、を有し、
前記極細炭素繊維は、前記第１の導電層上に選択的に形成された金属元素を含む領域上に形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記金属元素は、ニッケル、鉄、コバルト、白金、ゲルマニウム、チタン、又はパラジウムであることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項８において、
前記金属元素を含む領域は、ニッケル、鉄、コバルト、白金、ゲルマニウム、チタン、パラジウム、又はこれらのシリサイドを含む領域であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか一項において、
前記第１の導電層は、珪素を含む半導体であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
請求項８乃至１１のいずれか一項において、
前記極細炭素繊維は、グラファイトナノファイバ、カーボンナノファイバ、カーボンナノチューブ、チューブ状グラファイト、カーボンナノコーン、又はコーン状グラファイトであることを特徴とする半導体装置。