(57)【要約】  単糸分散不織布と支持体を積層した２層以上の多層構造シートからなる研磨布であり、単糸分散不織布を研磨側の表層の第一層とし、単糸分散不織布を構成する単糸の数平均繊維径は０．１〜１．７μｍであり、第一層の表面が起毛されており、第一層表面の最大高さ粗さが７０μｍ以下であり、吸水速度が１００〜２４０ｍｍ、圧縮エネルギーが０．１０〜０．３０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２であることを特徴とする精密加工用研磨布。【特許請求の範囲】
【請求項１】
単糸分散不織布と支持体を積層した２層以上の多層構造シートからなる研磨布であり、単糸分散不織布を研磨側の表層の第一層とし、単糸分散不織布を構成する単糸の数平均繊維径は０．１〜１．７μｍであり、第一層の表面が起毛されており、第一層表面の最大高さ粗さが７０μｍ以下であり、吸水速度が１００〜２４０ｍｍ、圧縮エネルギーが０．１０〜０．３０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２であることを特徴とする精密加工用研磨布。
【請求項２】
単糸分散不織布がメルトブロー不織布であることを特徴とする請求項１に記載の精密加工用研磨布。
【請求項３】
第一層の単糸分散不織布の厚みが１００μｍ以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の精密加工用研磨布。
【請求項４】
第一層に使用する単糸分散不織布が、標準偏差０．０５０以下の吸光度を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項５】
第一層の単糸分散不織布がポリエステル繊維から成り、該ポリエステル繊維の結晶化度が３５％以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項６】
多層構造シート中に高分子弾性体が含浸されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項７】
高分子弾性体が、多層構造シートに対して３０ｗｔ％以下で付与されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項８】
高分子弾性体がポリウレタンであることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項９】
１．０ｋｇｆ／ｃｍ荷重時の長手方向の伸度が４％以下、幅方向の伸度が１２％以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項１０】
支持体が不織布であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【請求項１１】
支持体が、織物の両面に繊維径１０μｍ以下の極細繊維層を積層させた積層体であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスクの精密加工用研磨布、特に、ハードディスクのテクスチャー加工に用いられる研磨布（以下、テクスチャー加工用研磨布という）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピューター及びデジタルカメラ、携帯電話、映像音楽記録再生機器等の高性能化・小型化・記録の大容量化が進んでいる。これらを可能としている要因の一つが、情報の高密度記録化であり、ハードディスクはデータの書き込み及び読み出し等のアクセス速度が速く容量単価の安い磁気記録媒体の一つであるため、多くの電子機器類に搭載され、一般家庭にも広く普及してきている。【０００３】
ハードディスクの一般的な製法においては、磁性薄膜をコーティングする前にハードディスク基板に所望の微細な凹凸パターン、すなわちテクスチャーを加工形成する。このテクスチャーを加工形成することにより、磁気ヘッドと接触した際の傷の抑制、磁気ディスクへの磁気ヘッドの吸着防止、磁気異方性を高め情報記録密度の向上等の効果がある。【０００４】
近年、加速度的に開発が進むハードディスクの情報記録密度の向上のためには、（１）磁気ヘッドの低浮上化、（２）ＣＳＳ（コンタクト・スタート・アンド・ストップ）動作時のヘッドクラッシュと磁気ヘッドの吸着抑制、を目的としたテクスチャーの更なる微細化、すなわち、ディスク表面の凹凸の平均深さに代表される表面平均粗さ（Ｒａ）の低減が必要であり、そのためには、研磨精度の向上が極めて重要である。【０００５】
これら、ハードディスク基板のテクスチャー加工用研磨布としては、従来から、研磨布を構成する繊維の直径を細くすることにより研磨性能を向上させるという提案が数多くなされている。【０００６】
例えば、従来のテクスチャー加工の方法としては、加工用研磨布として植毛布や織編物が用いられていた（特開平６−２９５４３２号公報）。この方法によれば、繊維を細くすると研磨布の表面に研磨砥粒が均一に付着し、研磨布をディスクに押し付けた際に研磨砥粒が均等にディスク表面に押し付けられ、ディスクの表面粗さを低減することが可能となると言われている。しかし、研磨布の繊維径は３〜１５μｍであるため、加工精度を向上させるには限界があり、最近のハードディスクの高容量化には十分対応できなくなった。【０００７】
最近では、複合紡糸法により作製された海島糸から成る不織布において、不織布に高分子弾性体を含浸させた後、適当な溶媒で海成分を除去することによって極細繊維を形成させ、さらに片面、或いは、両面を起毛させることによりテクスチャー加工用研磨布を得るという提案が種々なされており（特開２００２−７９４７２号公報、特開２００３−１７０３４８号公報、特開２００４−１３０３９５号公報など）、テクスチャー加工用研磨布の主流となっている。この種の加工用研磨布は、海島糸を用いることによって単糸の繊維径が１．９μｍ以下の極細繊維となり、従来の織編物の繊維径（約５μｍ）よりはるかに細いため、テクスチャー加工の精度を向上させることが可能である。【０００８】
しかし、高分子弾性体を含浸させた海島糸から成る不織布から、適当な溶媒で海成分を除去して島成分を残すことにより極細繊維を得るという上記の方法は、１本の海島糸の中に数十本から数百本の島成分からなる単糸があるため、島成分の単糸の繊維径の数十倍から数百倍の太さである繊維束（単糸が偏って存在し、束状を形成している状態）が少なからず存在することとなる。【０００９】
このような繊維束が存在すると、テクスチャー加工用研磨布として用いたとき、研磨層の表面粗さを小さくすることが困難となる。即ち、ディスクに研磨面を均等な面圧で押し当てることが困難となり、ディスクの表面粗さを低減させるには限界がある。更に、繊維束の周辺では大きな凹部が発生し易く、そのため、繊維束周辺では研磨砥粒が凝集し易くなり、その凝集した研磨砥粒はディスク表面を局部的に研削し、深い傷を付けてしまうという問題があった。【００１０】
一方、繊維束が存在しないテクスチャー加工用研磨布として、特開平９−２６２７７５号公報には、割繊糸やメルトブロー不織布を用いた極細糸の研磨布が提案されている。この提案によれば、研磨面を構成するメルトブロー不織布は、不織布を構成する繊維同士の融着によって形態が保たれており、樹脂で固定していないため樹脂の脱落という問題は生じない。しかも繊維は未延伸で、繊維自体が柔らかいため、研磨粒子を過度にディスク表面に押圧しないので、ディスク表面に大きな傷を付けることが少ない。【００１１】
また、メルトブロー不織布層を構成する繊維が、主として繊維径１０μｍ以下の繊維であり、微細な研磨粒子の保持性に優れているため、ディスク表面を均一に研磨し、微細なテクスチャーを形成することができる。また、単糸が高分子弾性体などの樹脂に固定されていないので繊維に自由度があるため、表面研磨の際にディスク表面に深い傷を付けることを防止することができる。【００１２】
しかしながら、テクスチャー加工では、研磨布の背面をゴムロールで押さえてディスク表面に研磨面を押圧するため、繊維自体の柔らかさに加え、研磨布全体の柔らかさが重要となってくる。また、繊維径が細いメルトブロー不織布は、比表面積が大きいため、研磨砥粒と接触する面積は大きく、研磨性能の向上には効果的である。しかし、ポリプロピレンやポリエステルなどの疎水性熱可塑性樹脂からなるメルトブロー不織布の場合は、研磨砥粒を含んだスラリー液を滴下しても、スラリー液が均一に拡散せず、テクスチャー加工精度が不十分になるという問題があった。すわなち、特開平９−２６２７７５号公報に開示されている研磨布では、テクスチャーの加工精度を向上させるためには限界があった。【００１３】
以上のように、従来の技術では、最近求められているハードディスクの情報記録密度の向上に十分に対応できるテクスチャー加工用研磨布を得ることは困難であり、加工精度のさらなる向上が可能なテクスチャー加工用研磨布が切望されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、磁気ディスクの精密加工用研磨布、特に、ハードディスクのテクスチャー加工において研磨精度の優れるテクスチャー加工用研磨布を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、ハードディスクの情報記録密度を向上させるために、ハードディスクを精密加工するために用いられる研磨布について鋭意検討を進めた結果、研磨布の研磨層の単糸を細くすることに加え、水平方向には単糸分散であり、鉛直方向には研磨層の最大高さ粗さが７０μｍ以下であるという特定の三次元構造を有し、更に、特定の吸水性と圧縮特性を有する研磨布が、ハードディスク表面の表面平均粗さを画期的に低減させ得ることを見出し、本発明をなすに至った。
即ち、本発明は下記の通りである。【００１６】
（１）単糸分散不織布と支持体を積層した２層以上の多層構造シートからなる研磨布であり、単糸分散不織布を研磨側の表層の第一層とし、単糸分散不織布を構成する単糸の数平均繊維径は０．１〜１．７μｍであり、第一層の表面が起毛されており、第一層表面の最大高さ粗さが７０μｍ以下であり、吸水速度が１００〜２４０ｍｍ、圧縮エネルギーが０．１０〜０．３０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２であることを特徴とする精密加工用研磨布。【００１７】
（２）単糸分散不織布がメルトブロー不織布であることを特徴とする上記１に記載の精密加工用研磨布。
（３）第一層の単糸分散不織布の厚みが１００μｍ以上であることを特徴とする上記１または２に記載の精密加工用研磨布。【００１８】
（４）第一層に使用する単糸分散不織布が、標準偏差０．０５０以下の吸光度を有することを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
（５）第一層の単糸分散不織布がポリエステル繊維から成り、該ポリエステル繊維の結晶化度が３５％以上であることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の精密加工用研磨布。【００１９】
（６）多層構造シート中に高分子弾性体が含浸されていることを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
（７）高分子弾性体が、多層構造シートに対して３０ｗｔ％以下で付与されていることを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の精密加工用研磨布。【００２０】
（８）高分子弾性体がポリウレタンであることを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
（９）１．０ｋｇｆ／ｃｍ荷重時の長手方向の伸度が４％以下、幅方向の伸度が１２％以下であることを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の精密加工用研磨布。【００２１】
（１０）支持体が不織布であることを特徴とする上記１〜９のいずれかに記載の精密加工用研磨布。
（１１）支持体が、織物の両面に繊維径１０μｍ以下の極細繊維層を積層させた積層体であることを特徴とする上記１〜１０のいずれかに記載の精密加工用研磨布。【００２２】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の精密加工用研磨布は、単糸分散している不織布と支持体を積層した多層構造シートに、後述する吸水速度になるよう親水加工を施した後、単糸分散不織布を起毛することにより得られる。【００２３】
本発明において、単糸分散とは、全体的な観察において、単糸が偏って存在しておらず、束状（繊維束）を形成していないことを言い、好ましくは、単糸が４本以上固着していないで分散している状態をいう。単糸分散不織布は、繊維束を有していないため、研磨面の第一層の繊維分散性及び平滑性が極めて優れており、その結果、テクスチャー加工を行う際、研磨砥粒は凝集することがなく均一に分散し、更に、ディスクに研磨面を均等な面圧で押し当てることが容易であるため、テクスチャー加工などの精密加工用研磨布として好適である。【００２４】
また、支持体と積層する前に、単糸分散不織布を親水加工してもよい。なお、単糸分散不織布が親水性樹脂からなり、後述する吸水速度を有する場合には、親水加工を施す必要はない。【００２５】
本発明において、研磨側の表層の第一層に用いられる単糸分散不織布の単糸の数平均繊維径は０．１〜１．７μｍであり、好ましくは０．４〜１．５μｍ、さらに好ましくは０．４〜１．３μｍである。単糸の数平均繊維径が０．１μｍ未満であると、単糸強力が低下するためテクスチャー加工時に加わる力に耐えることができず単糸は破断してしまう。そのため、研磨砥粒は固定され難く、テクスチャー加工において研削力不足や不均一な研磨となる。一方、数平均繊維径が１．７μｍを超えた場合は、表層の起毛繊維の緻密性が低下し、また、起毛繊維の粗密斑が大きくなるため、研磨砥粒は均一に分散され難くなり、その結果、高精度の研磨を行うことが困難となる。【００２６】
テクスチャー加工用研磨布に求められているのは、前記の如く、ディスク表面の凹凸の平均深さに代表される表面平均粗さ（Ｒａ）の低減である。そのためには、テクスチャー加工時における研磨砥粒の凝集の抑制と、均一分散が重要である。
前記の、研磨側の表面の第一層が繊維束を含まない単糸分散不織布から成り、単糸分散不織布を構成する単糸の数平均繊維径が０．１〜１．７μｍであるという構成要件は、精密加工用研磨布の水平方向へ砥粒を均一に分散させるために必要な要件である。【００２７】
しかしながら、上記の要件だけでは現在求められている加工精度に十分応えられる精密加工用研磨布とは言えない。なぜなら、研磨側の表面の第一層に用いられる単糸分散不織布は、鉛直方向に少なからず凹凸を有しており、その凹凸の大きさによっては、一定加圧で加工されるテクスチャー加工工程において、ディスク表面に該第一層の表面が均一に接触しない部分が発生するため、研磨砥粒の凝集や偏り（不均一分散）が起こり、高精度の研磨を行うことが困難となるからである。【００２８】
従って、鉛直方向への凹凸を低減させ、さらに、精密加工用研磨布の水平方向へ砥粒を均一に分散させる要件と合わせて、三次元的な砥粒分散性を制御することが重要なのである。【００２９】
このような考えから、本発明の精密加工用研磨布の第一層表面の最大高さ粗さは７０μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下、更に好ましくは４０μｍ以下であることが重要である。７０μｍを超えた場合、一定加圧で加工されるテクスチャー加工工程において、ディスク表面に研磨布の第一層の表面が均一に接触しない部分が発生するため、砥粒の凝集や偏りが起こり、高精度の研磨を行うことが困難となる。なお、研磨布の第一層表面の最大高さ粗さは、後記の方法によって測定することができる。【００３０】
また、精密加工用研磨布の構成及び製造方法と、研磨層の最大高さ粗さについては、以下の（１）〜（３）のような関係がある。
（１）複合紡糸法により作製された海島糸から成る不織布において、不織布に高分子弾性体を含浸させた後、適当な溶媒で海成分を除去することで極細繊維を形成させるという製造方法は、少なからず繊維束が残存してしまい、その繊維束の影響によって研磨層の最大高さ粗さを７０μｍ以下にすることは困難である。【００３１】
（２）バフィングなどによって表面仕上げ加工を行った後の研磨側第一層である単糸分散不織布の厚みは、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは１２０〜５００μｍである。それより厚みが小さい場合には、研磨側第一層に支持体の影響が現れ、最大高さ粗さが大きくなる。【００３２】
（３）単糸分散不織布に積層する支持体として不織布を用いる場合、不織布を構成する繊維の単糸直径は、好ましくは８．０μｍ未満、より好ましくは４．０μｍ未満、更に好ましくは３．３μｍ未満である。繊維の単糸直径が太くなるほど支持体である不織布の凹凸は大きくなり、それにより研磨側第一層の単糸分散不織布の最大高さ粗さも大きくなる。【００３３】
本発明の精密加工用研磨布は、吸水速度が１００〜２４０ｍｍであり、好ましくは１１０〜２００ｍｍ、さらに好ましくは１２０〜１８０ｍｍである。吸水速度が１００ｍｍ未満である場合には、加工中に研磨砥粒を含んだスラリー液が研磨布の表面に十分に吸液されないため、研磨砥粒を十分に把持することが困難であり、その結果、十分な研削量を得ることが困難となる。一方、吸水速度が２４０ｍｍを超えると、スラリー液が、研磨布の水平方向に十分拡散する前に、垂直方向に吸液されてしまうため、研磨砥粒を均一に拡散させることが困難である。その結果、研磨砥粒分布に斑が生じ、その斑が原因となり、加工精度の高いテクスチャーを実施することが困難になる。【００３４】
上記のような吸水性を具備させる方法は、特に限定されず、グラフト重合処理、プラズマ処理など物理的な表面処理法、表面をイオン交換性樹脂や酸化物で被覆して親水性を付与する表面コート処理法、濃硫酸処理により表面をスルフォン化するなどの化学的な表面処理法などが挙げられる。また、界面活性剤などの親水性成分の溶液を用いて、親水加工を施す方法も、吸水性を具備させる方法として挙げられる。【００３５】
なお、界面活性剤としては、イオン系と非イオン系とがあるが、磁気ディスクの精密加工用研磨布として用いることを考慮すると、金属イオンを含まない非イオン系界面活性剤が好ましい。さらに、ポリエチレンテレフタレートとポリエチレングリコールとの共重合ポリエステルなど、親水性を有する樹脂を用いることも、吸水性を具備させるために好ましい。なお、吸水速度は後記の方法により測定することができる。【００３６】
また、本発明の精密加工用研磨布は、圧縮エネルギーが０．１０〜０．３０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２であり、好ましくは０．１０〜０．２５ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２である。圧縮エネルギーは被評価物の硬さを示す指標であり、圧縮エネルギーの値が大きいほど柔らかいことを示す。圧縮エネルギーが０．１０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２未満の場合、すなわち、研磨布が硬すぎると、研削量は大きいがディスク基板の表面に傷が付きやすい。一方、圧縮エネルギーが０．３０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２を超える場合、すなわち、研磨布が柔らかすぎると、基板表面に傷は付き難いが、研削量が小さく加工性が悪いという問題が生じる。【００３７】
研削量とテクスチャー加工精度の両方を満足させるためには、圧縮エネルギーが０．１０〜０．３０ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２であることが必要である。なお、圧縮エネルギーは、後記の方法により測定することができる。【００３８】
加工精度を向上させるためには、単糸分散不織布の数平均繊維径が０．１〜１．７μｍであることが必要である。しかし、このような数平均繊維径の単糸分散不織布のみから構成された研磨布では、上記の圧縮エネルギー範囲を満足することは困難である。なぜなら、繊維径が細いために空隙率が小さくなり、クッション性に劣るからである。【００３９】
そこで本発明では、単糸分散不織布を支持体と積層して多層構造シートとすることにより、圧縮エネルギーを適切な範囲内とすることを可能とした。すなわち、支持体の素材、目付、厚み、空隙率を調整因子とすることで、圧縮エネルギーを調整することが可能である。また、後述するように、高分子弾性体を、圧縮エネルギーの調整因子として用いることも可能である。このように、支持体の素材や空隙率等を調整することにより、研磨層として、単糸分散不織布だけでは達成することが困難である適当なクッション性を具備させることで、高精度で安定的な研磨を行うことが可能となった。【００４０】
本発明の精密加工用研磨布の研磨側第一層は起毛されていることが必要である。起毛させることには、次の三つの効果がある。
（１）研磨砥粒と接触する表面積が大きくなり、その結果、研磨砥粒の把持能力が向上し、研削量が向上する。【００４１】
（２）研磨側第一層の繊維の配向性が向上し、テクスチャー加工時に円周方向に繊維が接触する。その結果、高精度の研磨を行うことが可能となる。
（３）研磨布の表面の接触抵抗が小さくなるため、ディスク基板表面に深い傷が付き難くなる。【００４２】
一般に、起毛は、サンドペーパー等のバフィングペーパーを用いて、表面を高速で擦過して起毛させるバフィング法とよばれる方法で行われるが、バフィング前に界面活性剤を表面に塗布することが好ましい。界面活性剤を塗布することで、バフィングペーパーと研磨側第一層の摩擦力を低下させ、単糸の切断防止、繊維配向性の向上を図ることが可能となる。【００４３】
研磨側第一層の起毛長は、５０〜３０００μｍであることが好ましく、より好ましくは５０〜２０００μｍ、さらに好ましくは５０〜１０００μｍである。起毛長が５０μｍ以上であると、研磨砥粒の把持能力が十分であるため十分な研削量が得られ、表面のタッチ性も柔らかいためディスク基板の表面に傷がつくことが殆どない。また、起毛長が３０００μｍ以下であると、繊維の自由度が大き過ぎず適度であるため、研磨側第一層の極細繊維は、加工時にディスク基板の半径方向と垂直に接触することが容易であり、円周方向に沿った溝を均一に付けることができる。また、研磨砥粒の把持能力が過度に大きくならないため、ディスク基板の表面粗さを小さくすることができる。【００４４】
本発明において、研磨側第一層の単糸分散不織布としては、繊維の粗密斑が極めて小さい不織布を用いることが好ましい。その指標として、第一層に使用する単糸分散不織布の吸光度の標準偏差は０．０５０以下であることが好ましい。吸光度の標準偏差が０．０５０以下であると、繊維分散性が良く、単糸分散不織布が均一で部分的な粗密斑が小さいため、研磨砥粒が均一に分散し易く、高精度の加工を行うことができる。なお、吸光度の標準偏差は後記の方法によって測定することができる。【００４５】
本発明において、単糸分散不織布の製造方法としては、例えば、メルトブロー法、湿式スパンレース法などを挙げることができる。この中でもメルトブロー法は、他の製造方法に比べて単糸の数平均繊維径を細くすることが容易であるため、第一層に用いる単糸分散不織布の製造方法として好適である（以下、メルトブロー法により製造される不織布をメルトブロー不織布という）。【００４６】
また、本発明に用いられる単糸分散不織布の一つとして好適であるメルトブロー不織布は、前記した吸光度の標準偏差が０．０５０以下となるよう、単糸の捕集条件に工夫を加え、高速ガス流と随伴流の流れを制御したメルトブロー法により製造される。ポリエステルメルトブロー不織布の製造方法としては、例えば、ノズル直径が０．２〜０．４ｍｍ、ノズルピッチが０．３〜１．０ｍｍで配置された紡口を使用し、固有粘度が０．４０〜０．７５のポリエステル重合体を加熱溶融後、２５０〜３５０℃に加熱されたダイに送り込む。【００４７】
次いで、ノズル当りの吐出量を０．０５〜０．５０ｇ／分でノズルから吐出させ、この紡口の開口端近傍から２８０〜３８０℃に加熱されたガスを０．１８〜０．４０ＭＰaの圧力で噴射させ、さらに、単糸の飛散、凝集を防ぐために、例えば、特公昭６２−１２３４５号公報に記載されているような整流器を用いて、高速ガス流と随伴流の流れを制御し、所望の目付、厚み、嵩密度となるように捕集し、プレスするという方法が挙げられる。【００４８】
本発明において、単糸分散不織布を構成する樹脂としては、繊維形成能がある熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート系共重合体などのポリエステル類；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリアミド系共重合体などのポリアミド類；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン類；ポリアクリロニトリル類；ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどのビニル系重合体類；ポリ乳酸、乳酸共重合体、ポリグリコール酸などの脂肪族ポリエステル系重合体類；脂肪族ポリエステルアミド系共重合体類などが挙げられる。【００４９】
不織布の処理方法としては、ニードルパンチ処理やウォータージェット処理等の三次元交絡、熱接着、接着剤などが挙げられるが、中でもウォータージェット処理による三次元交絡が、繊維の高密度化、および、研磨布表面の平滑化という観点から好ましい。【００５０】
本発明において、単糸分散不織布を構成する繊維がポリエステルである場合、ポリエステル繊維の結晶化度は３５％以上であることが好ましい。結晶化度が３５％以上であると、単糸強力が高いため、テクスチャー加工時に加わる力に耐えることができ、単糸が破断しない。そのため研磨砥粒は固定され易く、テクスチャー加工において十分な研削力が得られ、均一な研磨ができる。更に、バフィングペーパーの砥粒や負荷などの条件によっても、バフィング加工中に単糸の切断がなく、研磨布の作製が容易である。【００５１】
また、紡糸条件が同一である場合、固有粘度が小さくなるにつれ、ポリエステル繊維の結晶化度は低下する傾向があるが、結晶化度が３５％以上であると、第一層の単糸分散不織布の数平均繊維径を小さくするために、固有粘度の小さなポリエステルを選択した場合にも良好な結果が得られる。【００５２】
研磨布の圧縮エネルギーを制御するという点、及び、第一層の表面を平滑化するという点から、高分子弾性体を含浸させることが好ましい。また、樹脂による繊維の固定不足に起因した繊維の偏りなどが発生する場合、テクスチャー加工条件によっては、加工の均一性が悪化する可能性があるが、そのような場合、繊維の偏りを防ぐために高分子弾性体を含浸させることは効果的である。【００５３】
高分子弾性体としては、特に限定はないが、含浸加工が容易であること及び研磨布としてのクッション性が良好であることからポリウレタンが好ましい。ポリウレタンとしては、溶剤系ポリウレタン、水系ポリウレタン等を用いることができ、環境への負荷が小さいこと、製造コストが安価であることから水系ポリウレタンが好ましい。【００５４】
水系ポリウレタンはエマルジョンで用いることが好ましく、ポリウレタン成分としては、以下のものが例示される。ポリオール成分としては、ポリエチレンアジペートグリコール、ポリブチレンアジペートグリコールなどのポリエステルポリオール類；ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルポリオール類；ポリカーボネートポリオール類等が挙げられる。イソシアネート成分としては、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート；４，４'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート；ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。また、鎖伸長剤としては、エチレングリコール等のグリコール類；エチレンンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４'−ジシクロヘキシルメタンジアミン等のジアミン類などを挙げることができる。また、上記各種成分を適宜組み合わせたポリウレタンを用いることができる。【００５５】
高分子弾性体の含有量は、研磨布に対して３０ｗｔ％以下が好ましく、より好ましくは０．５〜２０ｗｔ％、さらに好ましくは１〜１０ｗｔ％であり、高分子弾性体の含有量によって研磨布の表面状態、クッション性、硬度、研磨性能を調整することができる。高分子弾性体の含有量が３０ｗｔ％以下であると、高分子弾性体を含有させたことによる効果が十分に得られ、十分な研削量と研削の精密な制御が可能となり、良好なテクスチャー加工性および生産性が得られる。【００５６】
本発明において、精密加工用研磨布を構成する単糸分散不織布の厚みは１００μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１２０〜５００μｍである。テクスチャー加工では、研磨布は研磨層とは反対側からゴムロールなどでディスクに押し当てられる。その際に、単糸分散不織布の厚みが１００μｍ未満である場合、支持体の影響が研磨層側に現れ、高精度の加工が困難になるという懸念がある。特に、支持体として織物や太径の繊維から成る不織布を用いる場合には、単糸分散不織布の厚みが１００μｍ以上であることが好ましい。【００５７】
本発明の研磨布は、１．０ｋｇｆ／ｃｍ荷重時の長手方向（ＭＤ方向）の伸度が４％以下であることが好ましく、より好ましくは３％以下であり、また、１．０ｋｇｆ／ｃｍ荷重時の長手方向（ＣＤ方向）の伸度が１２％以下であることが好ましく、より好ましくは９％以下である。ＭＤ方向の伸度及びＣＤ方向の伸度が上記の範囲であると、均一に、且つ、研磨布をディスク基板の表面に安定して押圧させることができるので、微細で均一な凹凸パターンを加工することが可能である。【００５８】
本発明の研磨布において、研磨側第１層をバフィング処理することが好ましい。バフィング材としては、例えば、＃１００〜＃１０００のバフィングペーパーを用いることができ、処理速度、回数は適宜、好適な範囲を選択することができる。【００５９】
本発明において、高分子弾性体が含浸されている場合は、研磨側第１層の繊維の固定化が十分になされており、比較的目の粗い＃１５０〜＃３００のバフィングペーパーを用いることができる。また、高分子弾性体が含浸されていない場合は、比較的目の細かい＃４００〜＃６００のバフィングペーパーを用いて、数回処理することにより、研磨側第１層の平滑性を高め、最大高さ粗さ性能を改善することができる。【００６０】
本発明において、支持体としては、例えば、短繊維不織布、長繊維不織布などの不織布、多孔質体、フィルムなどが挙げられる。なかでも、空隙率が高くクッション性に富むこと及び加工性に優れる点から不織布が望ましい。【００６１】
支持体として用いる不織布の製造方法としては、例えば、カーディングした後、クロスレイヤー、エアーレイヤー等でシート化して、針布により交絡させるニードルパンチ法、柱状水流により交絡させる乾式スパンレース法、繊維を水分散させて抄造法でシート化した後、柱状水流で交絡させる湿式スパンレース法、通常のスパンボンド法等が挙げられる。なかでも、得られる不織布の目付斑及び厚み斑が小さく、物性の等方性に優れる点で、湿式スパンレース法を使用することが好ましい。【００６２】
研磨布の寸法安定性をさらに向上させるために、織物を内在させる方法も挙げられる。その場合には、支持体として、織物の両面に繊維径１０μｍ以下の極細繊維層を積層させた積層体を用いることが好ましい。【００６３】
織物は表面粗さが大きいため、研磨側第１層の単糸分散不織布を織物に直接積層させると、表面が織物の表面粗さの影響を大きく受ける。その結果、研磨側第１層の表面粗さが大きくなり、精密なテクスチャー加工が困難となる場合がある。また、織物を構成する繊維と研磨側第１層の単糸分散不織布の繊維径には大きな差異があるため、両者を直接交絡させて不織布とすることは困難となる場合がある。以上の理由から、織物の両面に極細繊維層を積層させた積層体を、支持体として用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００６４】
本発明の精密加工用研磨布は、水平方向には単糸分散であり、鉛直方向には研磨側の第一層表面の最大高さ粗さが７０μｍ以下であるという三次元構造の単糸分散不織布を用い、特定の吸水速度と圧縮特性を有することにより、ハードディスク用テクスチャー加工において、高精度の研磨を行うことが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６５】
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに説明するが、本発明は実施例のみに限定されるものではない。なお、測定方法、評価方法等は下記のとおりである。【００６６】
（１）数平均繊維径（μｍ）
研磨側第一層の単糸分散不織布表面の任意な１０箇所を、走査型電子顕微鏡（ＪＳＭ−５５１０：日本電子株式会社製）により観察し、加速電圧２０ｋＶで倍率３５００倍の画像を撮影した。１枚の画像につき任意の１０本の単糸の直径を測定し、これを１０枚の写真について行った。合計１００本の単糸直径の測定値を求め、それらの算術平均値を数平均繊維径とした。【００６７】
（２）研磨側第１層の単糸分散不織布の厚み（ｍｍ）
研磨布試料を、ウルトラミクロトーム（ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｎ：ＲＥＩＣＨＥＲＴ製）を使用して断面方向にカットし、これを走査型電子顕微鏡（ＪＳＭ−５５１０：日本電子株式会社）で観察し、加速電圧２０ｋＶで倍率５０倍の画像を撮影した。任意の１０点の単糸分散不織布の厚みを測定し、それらの算術平均値を単糸分散不織布の厚みとした。【００６８】
（３）メルトブロー不織布の目付及び厚み
目付（ｇ／ｍ２）は、ＪＩＳ  Ｌ  １０９６−１９９９に準拠して測定し、厚み（ｍｍ）は、ダイヤルシックネスゲージ（ピーコック：（株）尾崎製作所製）を用い、サンプルを２０点測定して、その平均値を用いた。【００６９】
（４）吸光度の標準偏差
２５ｃｍ×１８ｃｍの試料を、温度２０℃、湿度６０％の雰囲気に１２時間以上放置した後、地合計（フォーメーションテスターＦＭＴ−ＭIII：野村商事社製）にセットし、各画素の透過率を測定した。得られた透過率から、定義された吸光度換算式を用いて、吸光度とその標準偏差を算出した。【００７０】
（５）最大高さ粗さ（μｍ）
４ｃｍ×１０ｃｍの研磨布試料を、温度２０℃、湿度６０％の雰囲気に１２時間以上放置した後、単糸分散不織布の表面を３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡（ＶＥ−９８００：株式会社キーエンス社製）で観察し、倍率５０倍の画像を撮影した。得られた画像の断面プロファイルを解析することにより、１回の測定につき２ｍｍ長さの研磨布試料の最大高さ粗さ（粗さ曲線の山頂部と谷底部の高さの差異）を測定し、この測定を１０回行った。得られた１０回の測定値の平均値で評価した。【００７１】
（６）テクスチャー加工結果（Ｒａ）（ｎｍ）
ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に準拠して行った。
原子間力顕微鏡（Ｎａｎｏ Ｓｃｏｐｅ ＩＶ Ｄ３１００：Digital Instruments社製）を使用して、ディスク基板サンプルの任意の直線状表面１０箇所について算術平均粗さを測定し、１０箇所の測定値を平均することにより、表面平均粗さ（Ｒa）を求めた。【００７２】
（７）繊維束の有無
研磨布試料を、ウルトラミクロトーム（ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｎ：ＲＥＩＣＨＥＲＴ製）を使用して断面方向にカットし、これを走査型電子顕微鏡（ＪＳＭ−５５１０：日本電子株式会社製）で観察し、加速電圧２０ｋＶで倍率５００倍の画像を撮影した。任意の１０枚の画像を観察し、単糸が偏って存在しており、束状を形成している繊維束の有無を確認した。【００７３】
（８）結晶化度（％）
研磨側第一層の単糸分散不織布を研磨シートから剥離し、示差走査型熱量計（ＤＳＣ−６０：島津製作所株式会社製）で融解熱量を測定した（昇温速度は２０℃／分、試料重量は約５ｍｇ）。測定した単位質量当たりの融解熱量をΔＨｍとすると、結晶化度（Ｘｃ）は次式から算出することができる。ここで、ΔＨ０は、結晶の単位質量当たりの融解熱量である。
Ｘｃ（％）＝〔ΔＨｍ／ΔＨ０〕×１００【００７４】
（９）吸水速度（ｍｍ）
ＪＩＳ Ｌ １９０７−２００３に準じて、鉛直に吊るした試験片の下端を水中に浸し、一定時間（１０分間）放置した後、上昇した水の高さを測定した。【００７５】
（１０）圧縮エネルギー（ｇｆ・ｃｍ／ｃｍ２）
測定機器は、ＫＥＳ−Ｇ５（カトーテック株式会社製）を用いた。試験条件は、以下の通りである。【００７６】
・ＳＥＮＳ（記録感度）：２
・力計の種類：１ｋｇ
・ＳＰＥＥＤ  ＲＡＮＧＥ：０．０２ｍｍ／秒
・加圧面積：２ｃｍ２
・ＳＴＲＯＫＥ  ＳＥＴ：５．０
・取り込み間隔：０．５
・上限荷重：５０ｇｆ／ｃｍ２【００７７】
上記の試験条件下で圧縮し、圧力と変形量との相関図から圧縮エネルギーを得た。圧縮エネルギーが大きい程、圧縮されやすい、即ち、柔らかいことを意味する。圧縮エネルギーが小さいほど硬いことを意味する。【００７８】
（１１）伸度（％）
ＪＩＳ  Ｌ  １０９６−２００３に準じて、定速伸長型引張試験機（テンシロンＲＴＣ−１２１０Ａ：（株）オリエンテック社製）を用いて測定した。試験条件は、以下の通りである。
・試験片の寸法：幅２．５ｃｍ、長さ２０ｃｍ
・つかみ間隔：１０ｃｍ
・引張速度：１０ｃｍ／分【００７９】
［実施例１］
固有粘度が０．５１のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）ペレットを、押出機で加熱溶融後、３１０℃に加熱したダイに送り込んだ。溶融ＰＥＴを、直径０．３ｍｍのノズルが１．０ｍｍピッチで一列に配列された紡口から、ノズル当りの吐出量０．２０ｇ／分で吐出し、この紡口の開口端近傍から３６５℃に加熱された空気を０．２４ＭＰaの圧力で噴射させ、生成した単糸群を紡口下６０ｃｍに位置せしめた移動する捕集面上に連続的に集積し、メルトブロー不織布として巻き取った。【００８０】
得られたメルトブロー不織布は、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２であった。
一方、直接紡糸法によって単糸直径３．２μｍのＰＥＴ繊維を製造し、長さ５．０ｍｍに切断した短繊維を水中に分散せしめ抄造用スラリーとした。このスラリーを抄造し、目付量４２ｇ／ｍ２の抄造シート（Ａ）、及び、目付量１７ｇ／ｍ２の抄造シート（Ｂ）を製造した。【００８１】
１００デニール／４８フィラメントのＰＥＴ繊維仮撚り加工糸からなる目付量４１ｇ／ｍ２の平織物（経糸密度４６本／２．５４ｃｍ、緯糸密度５４本／２．５４ｃｍ、無撚）の両面に抄造シート（Ａ）及び（Ｂ）を積層して、抄造シート（Ｃ）を製造した。【００８２】
上記で得られたメルトブロー不織布を、抄造シート（Ｃ）のシート（Ａ）側に積層した後、静圧が２０ｋＰaになるよう下方から吸引しながら、高速水流を噴射して三次元交絡させ多層構造シートを製造した。高速水流は、３．０ｍｍピッチで一列に配列された直径０．２ｍｍのノズルより、３．０ＭＰaの圧力で連続的に噴射させ、ノズルから３０ｍｍの位置で、シートに高圧水流を衝突させた。【００８３】
次いで、この多層構造シートに、水系のポリエーテル系ポリウレタンエマルジョン（ＡＰ−１８：日華化学株式会社製）を、多層構造シートに対して１２ｗｔ％となるよう含浸させ、熱風乾燥機で乾燥（１３０℃×３分）してポリウレタンを凝固させた。
次いで、界面活性剤（エマルゲン１２０：花王株式会社製）を０．５ｗｔ％となるよう含浸させ、熱風乾燥機で乾燥（１３０℃×２分）した。この加工により、吸水性を向上させることが可能となる。【００８４】
さらに、＃２４０のバフィングペーパー（Ｗ５４Ｐ２４０：理研化学社製）を用い、ペーパー速度１０００ｍ／分で、研磨側第一層であるメルトブロー不織布面をバフィングして、テクスチャー加工用研磨布を得た。【００８５】
得られたテクスチャー加工用研磨布の研磨側第一層である単糸分散不織布は、数平均繊維径が１．０μｍ、厚みが１６０μｍ、最大高さ粗さが４２μｍであり、繊維束は観察されなかった。
得られた研磨布を３８ｍｍ幅にスリットして用い、以下の条件で、アルミニウム板にＮｉ−Ｐメッキ後ポリッシュ加工を施したディスク基板をテクスチャー加工した。【００８６】
（テクスチャー加工条件）
砥粒：ダイヤモンド遊離砥粒
砥粒平均粒径：０．３μｍ
基板回転数：５００ｒｐｍ
研磨布供給速度：１０ｃｍ／分
トラバース条件：振幅１ｍｍ、６００回／分（１０Ｈｚ）
加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．３１ｎｍであった。【００８７】
［実施例２］
メルトブロー不織布の製造において、単孔吐出量を０．１０ｇ／分とした以外は実施例１と同様にして、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径０．６μｍ、吸光度の標準偏差０．０２８のメルトブロー不織布を得た。次いで、得られたメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。【００８８】
単孔吐出量を実施例１の半分に低下させることによりメルトブロー不織布を構成する単糸の数平均繊維径を０．６μｍに小さくすることができ、単糸の細径化によって、得られたテクスチャー加工用研磨布の研磨側第１層表面の最大高さ粗さは３４μｍまで小さくすることが可能となり、また、繊維束は観察されなかった。テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．２６ｎｍであった。【００８９】
［実施例３］
メルトブロー不織布の製造において、ポリマーにナイロン６（ＵＢＥナイロン１０１１ＦＢ：宇部興産株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．４μｍ、吸光度の標準偏差０．０３８のメルトブロー不織布を得た。次いで、得られたメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。【００９０】
得られたテクスチャー加工用研磨布の研磨側第一層である単糸分散不織布の数平均繊維径は１．４μｍ、厚みは１２０μｍ、最大高さ粗さは４８μｍであり、繊維束は観察されなかった。テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．３９ｎｍであった。【００９１】
［実施例４］
実施例１と同様にして得られた、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２のメルトブロー不織布を用い、多層構造シートにポリエーテル系水系ポリウレタンエマルジョンを含浸させず、＃５００のバフィングペーパー（Ｃ５４Ｐ５００：理研化学社製）を用い、ペーパー速度１０００ｍ／分で研磨側第一層である単糸分散不織布面を４回バフィングした以外は、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。【００９２】
得られたテクスチャー加工用研磨布の研磨側第一層である単糸分散不織布の数平均繊維径は１．０μｍ、厚みは１１０μｍ、最大高さ粗さは５６μｍであり、繊維束は観察されなかった。テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．４２ｎｍであった。【００９３】
［比較例１］
実施例１と同様にして得られた、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２のメルトブロー不織布を用い、多層構造シートにポリエーテル系水系ポリウレタンエマルジョンを含浸させない以外は、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。【００９４】
高分子弾性体を含浸させずに、比較的目の粗いバフィングペーパーを用いてバフィングしたため、研磨層の平滑性が悪く、研磨側第一層である単糸分散不織布の表面の最大高さ粗さは９８μｍであり、高分子弾性体を含浸させた実施例１と比較して約２倍の最大高さ粗さであった。テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．６８ｎｍであった。【００９５】
［比較例２］
実施例１と同様にして得られた、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２のメルトブロー不織布を用い、抄造シート（Ａ）と（Ｂ）を構成する短繊維の単糸直径を１０．１μｍとした以外は、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。
テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．６１ｎｍであった。【００９６】
［比較例３］
アルカリ減量し易いポリエステル共重合体ポリマー（分子量４０００のポリエチレングリコールを１０ｗｔ％共重合したＰＥＴ）を海成分に用い、レギュラータイプのＰＥＴ（固有粘度０．６５）を島成分に用いた。この２種のポリマーを各々ギアポンプで計量し、海成分３５ｗｔ％、島成分６５ｗｔ％の割合で、島本数１００本／ホールの紡口を用いて２９０℃で溶融紡糸して未延伸糸を得た。【００９７】
得られた未延伸糸を、温度７５℃、延伸倍率２．８倍で熱延伸し、１３０℃で熱セットして、島成分の繊維径１．２μｍの海島型複合繊維（繊維径１４．８μｍ）を得た。
得られた海島型複合繊維を５．０ｍｍに切断し、水中に分散せしめて抄造用スラリーとした。このスラリーを抄造し、目付量１７ｇ／ｍ２の抄造シート（Ｂ）及び目付量１５０ｇ／ｍ２の抄造シート（Ｄ）を製造した。【００９８】
次いで、実施例１と同様にして、１００デニール／４８フィラメントのＰＥＴ繊維からなる目付量４１ｇ／ｍ２の平織物の両面に、抄造シート（Ｄ）と抄造シート（Ｂ）を積層した後、静圧が１５ｋＰａになるよう下方から吸引しながら、高速水流を噴射して三次元交絡させ多層構造シート（Ｅ）を製造した。高速水流は、３．０ｍｍピッチで一列に配列された直径０．２ｍｍのノズルより、３．０ＭＰaの圧力で連続的に噴射させ、ノズルから３０ｍｍの位置で該シートに高圧水流を衝突させた。【００９９】
得られた多層構造シート（Ｅ）に溶剤系のポリエーテル系ポリウレタンエマルジョンのジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶液を、多層構造シートに対して２６ｗｔ％となるよう含浸させ、水槽に浸漬させることでポリウレタンを凝固（湿式凝固）後、熱風乾燥機で乾燥（１３０℃×３分）した。さらに、８０℃の５ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液で海成分を溶出して、数平均繊維径１．２μｍである極細繊維を形成させた。なお、走査型電子顕微鏡（ＪＳＭ−５５１０：日本電子株式会社製）で観察した際、繊維束の存在が確認された。【０１００】
次いで、＃２４０のバフィングペーパー（理研化学社製、Ｗ５４Ｐ２４０）を用い、ペーパー速度１０００ｍ／分で第一層表面をバフィングして起毛し、テクスチャー加工用研磨布を得た。研磨層第一層である不織布を構成する単糸の数平均繊維径が１．２μｍであり、また、高分子弾性体を含浸しているにも関らず、繊維束が存在していたため、テクスチャー加工用研磨布の研磨側第一層の最大高さ粗さは１２０μｍであり、きわめて大きかった。
実施例１と同様にして、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した結果、テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）は０．８４ｎｍであった。【０１０１】
［比較例４］
加熱空気温度を３４０℃としたこと以外は、実施例１と同様にしてメルトブロー不織布を製造した。得られたメルトブロー不織布は、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．８μｍ、吸光度の標準偏差０．０４６であった。
このメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した結果、テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）は０．５２ｎｍであった。【０１０２】
研磨側第一層である単糸分散不織布の表面の最大高さ粗さは７０μｍ以下であるが、メルトブロー不織布の製造における加熱空気温度が低かった（実施例１では３６５℃で実施）ため、メルトブロー不織布の数平均繊維径が増大して、研磨砥粒の水平方向への分散性が悪くなり、その結果、テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）が大きくなったと考えられる。【０１０３】
［比較例５］
加熱空気温度を３１５℃として、整流器を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にしてメルトブロー不織布を製造した。得られたメルトブロー不織布は、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径２．５μｍ、吸光度の標準偏差０．０６８であった。
このメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した結果、テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）は０．６５ｎｍであった。【０１０４】
［比較例６］
メルトブロー不織布の製造において、ポリマーにナイロン６（ＵＢＥナイロン１０１１ＦＢ：宇部興産株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２のメルトブロー不織布を得た。【０１０５】
得られたメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして多層構造シートを作製し、次いで、界面活性剤を含浸させないこと、溶剤系のポリエーテル系ポリウレタンエマルジョンのジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶液を、多層構造シートに対して１１ｗｔ％となるように含浸させたこと以外は、実施例３と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。
テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．５８ｎｍであった。【０１０６】
［比較例７］
実施例１と同様にして得られた、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２のメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして多層構造シートを作製した。【０１０７】
次いで、多層構造シートに溶剤系のポリカーボネート系ポリウレタンエマルジョンのジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶液を、多層構造シートに対して３４ｗｔ％となるように含浸させ、水槽に浸漬することによってポリウレタンを凝固（湿式凝固）させた後、熱風乾燥機で乾燥（１３０℃×３分）したこと以外は、実施例１と同様にして、テクスチャー加工用研磨布の作製、及び、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。
テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．５９ｎｍであった。【０１０８】
［比較例８］
固有粘度が０.３９のＰＥＴペレットを用いた以外は、実施例１と同様にして得られた、目付量６０ｇ／ｍ２、厚み２８０μｍ、単糸の数平均繊維径０．９μｍ、吸光度の標準偏差０．０４５のメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして多層構造シートを作製した。【０１０９】
得られたメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にしてテクスチャー加工用研磨布の作製を試みた。研磨側第一層であるメルトブロー不織布面をバフィングしたところ、多くの単糸が切断してしまい、評価に値するテクスチャー加工用研磨布を作製することができなかった。研磨側第一層である単糸分散不織布の結晶化度を測定したところ、２７．２％であった。【０１１０】
［比較例９］
実施例１と同様にして得られた、目付量３０ｇ／ｍ２、厚み１４０μｍ、単糸の数平均繊維径１．０μｍ、吸光度の標準偏差０．０３２のメルトブロー不織布を用い、実施例１と同様にして多層構造シートを作製した。
この多層構造シートからなるテクスチャー加工用研磨布を用いて、テクスチャー加工・Ｒａ測定を実施した。テクスチャー加工後のディスク基板の表面平均粗さ（Ｒａ）を測定したところ、０．６３ｎｍであった。
以上の実施例、比較例で作製された研磨布の構造および物性を、表１、２に示す。
【表１】
2007142235.tif 000002
【表２】
2007142235.tif 000003
【国際調査報告】
2007142235.tif 000004
2007142235.tif 000005
2007142235.tif 000006
2007142235.tif 000007