(57)【要約】  本発明は、放射線像変換パネル周辺部における物理的衝撃から放射線像変換パネルを保護し、また輝尽性蛍光体層の吸湿等によるパネルの劣化が防止された放射線像変換パネルを提供する。この手段として、支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び軟化点を有する保護層を有する放射線像変換パネルであって、該放射線像変換パネルは、該輝尽性蛍光体層の少なくとも端部を該保護層と共に封止する、軟化点を有する被覆部を有し、且つ、該保護層の少なくとも１層と該被覆部の軟化点の差が０〜３０℃である放射線像変換パネルを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び軟化点を有する保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、該放射線像変換パネルは、該輝尽性蛍光体層の少なくとも端部を該保護層と共に封止する、軟化点を有する被覆部を有し、且つ、該保護層の少なくとも１層と該被覆部の軟化点の差が０〜３０℃であることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記保護層の少なくとも１層と前記被覆部はそれぞれ熱可塑性エラストマーを含有し、それぞれの熱可塑性エラストマーは、同一のモノマーユニットを含有してなり、該同一のモノマーユニットの含有率は、該保護層に含有される熱可塑性エラストマーを基準として３０〜１００％であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記保護層の少なくとも１層が前記保護層の最外層であることを特徴とする請求の範囲第２項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記輝尽性蛍光体層が下記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体を含有することを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
一般式（１）  Ｂａ1-xＭ2xＦＢｒyＩ1-y：ａＭ1，ｂＬｎ，ｃＯ
（式中、Ｍ1はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属原子、Ｍ2はＢｅ、Ｍｇ、Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属原子、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ及びＹｂから選ばれる少なくとも一種の希土類元素、ｘ、ｙ、ａ、ｂ及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３、０≦ｙ≦１．０、０≦ａ≦０．０５、０＜ｂ≦０．２、０＜ｃ≦０．１を表す。）
【請求項５】
前記保護層が転写箔で形成されることを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線像変換パネルに関し、詳しくは、放射線像変換パネル周辺部における物理的衝撃から放射線像変換パネルを保護し、輝尽性蛍光体層の吸湿等によるパネルの劣化が防止された放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用等に多く用いられている。このＸ線画像を得るために被写体を通過したＸ線を蛍光体（蛍光スクリーン）に照射し、これにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真を撮るときと同じように銀塩を使用したフィルムに照射して現像した、いわゆる放射線写真が従来、広範囲に利用されている。【０００３】
しかし、近年、従来の放射線写真法に代わる方法として、例えば、特許文献１、２に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線等の電磁波（励起光）で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生するものである。読み取りを終えた該パネルは、残存する画像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線像変換パネルは繰り返し使用される。【０００４】
この放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線像変換方法では放射線像変換パネルをくり返し使用するので資源保護、経済効率の面からも有利である。【０００５】
このような輝尽性蛍光体は、放射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す輝尽性蛍光体であるが、実用上では、波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が一般的に利用される。【０００６】
そして、輝尽性蛍光体層の表面（支持体に面していない側の表面）には通常、保護層が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。保護層には、セルロース誘導体やポリメチルメタクリレート等のような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフタレート等の有機高分子フィルムや透明なガラス板等の保護層形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤を介して固着したもの、あるいは無機化合物を蒸着等によって蛍光体層上に成膜したもの等が知られている。【０００７】
放射線像変換方法の実施において、放射線像変換パネルは、放射線の照射（放射線像の記録）・励起光の照射（記録された放射線像の読出し）・消去光の照射（残存する放射線像の消去）というサイクルで繰り返し使用される。そして放射線像変換パネルの各ステップへの移行はベルト、ローラー等の搬送手段により行なわれ、一サイクル終了後パネルは通常積層して保存される。ところが、上記のような、塗布によって形成された保護層を有する放射線像変換パネルを、このように繰返し使用していると、例えば保護層表面に汚れや擦り傷が発生する等の理由により、当該放射線像変換パネルが形成する放射線画像の画質が徐々に低下する傾向がある。【０００８】
放射線像変換パネルも従来の放射線写真法と同様に、高感度であってかつ画質（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるものであることが望まれるから、上記のような汚れや擦り傷の発生を防止することは重要な課題である。【０００９】
特許文献３には、架橋性フッ素系樹脂を含む樹脂組成物層を設けた保護層を輝尽性蛍光体層の表面に積層（ラミネート）して、防汚性、防傷性及び耐久性に優れる放射線像変換パネルを得る方法が開示されている。この方法は防汚性、防傷性はあるものの、薄膜化が困難であり、保護層に用いられるＰＥＴの延伸ムラ防止に表面に散乱層が必要である、厚膜のため鮮鋭性、コントラストが低下するといった問題がある。【００１０】
特許文献４には、支持体上に輝尽性蛍光体層を有する蛍光体シートと、該蛍光体シートの上下に配置され、該蛍光体シートの全表面を被覆するように設けられた保護フィルム（いわゆる封止フィルム）を有する放射線像変換パネルが開示されている。この方法は防汚性、防傷性はあるものの、生産性が悪いという問題がある。【００１１】
また、放射線像変換パネルの周辺部には縁部被膜を設け、パネル周辺部における物理的衝撃からパネルを保護し、また蛍光体層の吸湿等によるパネルの劣化を防止する方法が特許文献５、６に開示されている。しかしながら、さらなる強度・バリア性が要求されている。
【特許文献１】米国特許第３，８５９，５２７明細書
【特許文献２】特開昭５５−１２１４４号公報
【特許文献３】特開２００１−１３２９８号公報
【特許文献４】特開２００２−１３１４９８号公報
【特許文献５】特開２００２−１４８３９５号公報
【特許文献６】特開２００２−１７４６９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、放射線像変換パネル周辺部における物理的衝撃から放射線像変換パネルを保護し、また輝尽性蛍光体層の吸湿等によるパネルの劣化が防止された放射線像変換パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。【００１４】
（１）支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び軟化点を有する保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、該放射線像変換パネルは、該輝尽性蛍光体層の少なくとも端部を該保護層と共に封止する、軟化点を有する被覆部を有し、且つ、該保護層の少なくとも１層と該被覆部の軟化点の差が０〜３０℃であることを特徴とする放射線像変換パネル。【００１５】
（２）前記保護層の少なくとも１層と前記被覆部はそれぞれ熱可塑性エラストマーを含有し、それぞれの熱可塑性エラストマーは、同一のモノマーユニットを含有してなり、該同一のモノマーユニットの含有率は、該保護層に含有される熱可塑性エラストマーを基準として３０〜１００％であることを特徴とする上記（１）に記載の放射線像変換パネル。【００１６】
（３）前記保護層の少なくとも１層が前記保護層の最外層であることを特徴とする上記（２）に記載の放射線像変換パネル。【００１７】
（４）前記輝尽性蛍光体層が下記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体を含有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。【００１８】
一般式（１）
Ｂａ1-xＭ2xＦＢｒyＩ1-y：ａＭ1，ｂＬｎ，ｃＯ
（式中、Ｍ1はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属原子、Ｍ2はＢｅ、Ｍｇ、Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属原子、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ及びＹｂから選ばれる少なくとも一種の希土類元素、ｘ、ｙ、ａ、ｂ及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３、０≦ｙ≦１．０、０≦ａ≦０．０５、０＜ｂ≦０．２、０＜ｃ≦０．１を表す。）
（５）前記保護層が転写箔で形成されることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、放射線像変換パネル周辺部における物理的衝撃から放射線像変換パネルを保護し、また輝尽性蛍光体層の吸湿等によるパネルの劣化が防止された放射線像変換パネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第一の実施形態を示す放射線像変換パネルの断面図である。
【図２】本発明の第二の実施形態を示す放射線像変換パネルの断面図である。
【図３】本発明の第三の実施形態を示す放射線像変換パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００２１】
１０  放射線像変換パネル
１１  支持体層
１２  輝尽性蛍光体層
１３  保護層
１４  被覆部
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明者は鋭意検討の結果、支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び軟化点を有する保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、該放射線像変換パネルは、該輝尽性蛍光体層の少なくとも端部を該保護層と共に封止する、軟化点を有する被覆部を有し、且つ、該保護層の少なくとも１層と該被覆部の軟化点の差が０〜３０℃であることを特徴とする放射線像変換パネルにより、感度、画質の低下がなく、放射線像変換パネル周辺部における物理的衝撃から放射線像変換パネルを保護し、また輝尽性蛍光体層の吸湿等によるパネルの劣化が防止された放射線像変換パネルが得られるとの本願発明の効果を見出した。【００２３】
また、上記する輝尽性蛍光体層の封止は、被覆部と保護層と支持体により封止されることが好ましく、この場合も、上記保護層の少なくとも１層と該被覆部の軟化点の差が０〜３０℃であることにより本願発明の効果が奏される。【００２４】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明の第一の実施形態を示す放射線像変換パネルの断面図、図２は本発明の第二の実施形態を示す放射線像変換パネルの断面図、図３は本発明の第三の実施形態を示す放射線像変換パネルの断面図である。【００２５】
図１に示すように、本発明の第一の実施形態を示す放射線像変換パネル１０は、支持体１１の上に輝尽性蛍光体層１２が積層され、輝尽性蛍光体層１２の上にさらに保護層１３が積層されており、輝尽性蛍光体層１２の端部が被覆部１４により封止されているものである。このように被覆部１４は、輝尽性蛍光体層１２を封止するものであればよく、図１に示すように支持体１１、輝尽性蛍光体層１２、保護層１３の全体を包み込んで輝尽性蛍光体層１２を封止するものが好ましい。【００２６】
また、図２に示すように、輝尽性蛍光体層２２が支持体２１よりも小さい状態の放射線像変換パネル２０である場合には、被覆部２４が支持体２１の縁部分に載って輝尽性蛍光体層２２を封止するものであってもよい。ただし、この場合、輝尽性蛍光体層２２の側面部分が露出していると、わずかな露出部分から吸湿が起こるため、保護層２３の側面部分まで被覆部２４を設けることが必要であり、図２に示すように、保護層２３の上面部分まで封止することがより好ましい。【００２７】
また、図３に示すように、輝尽性蛍光体層３２が支持体３１よりも小さく、保護層３３よりも小さい放射線像変換パネル３０の場合には、輝尽性蛍光体層３２が露出しないように例えば、図３に示すように輝尽性蛍光体層３２にキャップをするように被覆部３４を設けることが好ましい。【００２８】
被覆部の輝尽性蛍光体層の端面における厚みは、被覆部の、輝尽性蛍光体層の端面に接触している部分における輝尽性蛍光体層の端面に対して垂直方向の厚みを意味し、図１ではｄ１、図２ではｄ２、図３ではｄ３である。この被覆部の厚みは輝尽性蛍光体層に対する防湿や強度の面及び生産性の面から５〜１０００μｍが好ましく、１０〜５００μｍであることがより好ましい。【００２９】
以下、本発明の放射線像変換パネルの各層について、輝尽性蛍光体層、支持体、保護層、被覆部の順に説明する。【００３０】
《輝尽性蛍光体層》
本発明に係る輝尽性蛍光体層について説明する。【００３１】
輝尽性蛍光体層は、少なくともバインダと輝尽性蛍光体粒子とを含有している。輝尽性蛍光体とは、最初の光または高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱的、機械的、科学的または電気的等の刺激（輝尽励起）により、最初の光または高エネルギー放射線の照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体をいうが、実用的な面からは、光刺激（輝尽励起）により輝尽発光を示す蛍光体が好ましく、波長が５００ｎｍ〜１μｍの輝尽励起光によって輝尽発光を示す蛍光体が好ましい。【００３２】
（輝尽性蛍光体）
以下に本発明に用いられる輝尽性蛍光体の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。【００３３】
１．特開平２−５８５９３号に記載の一般式ａＢａＸ2・（１−ａ）ＢａＹ2：ｂＥｕ2+
（式中、Ｘ、Ｙは、各々Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種を表し、Ｘ≠Ｙであり、ａ、ｂは、０＜ａ＜１、１０-5＜ｂ＜１０-1を満たす数を表す。）で表される輝尽性蛍光体。【００３４】
２．特開昭６１−７２０８７号に記載の一般式ＭIＸ・ａＭIIＸ′2・ｂＭIIIＸ″3：ｃＡ（ただし、ＭIは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓの少なくとも１種のアルカリ金属を表し、ＭIIは、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｃｕ、Ｎｉの少なくとも１種の２価の金属を表し、ＭIIIは、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎの少なくとも１種の３価の金属を表し、Ｘ、Ｘ′、Ｘ″は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種のハロゲンを表し、Ａは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｌ、Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｍｇの少なくとも１種の金属を表し、ａ、ｂ、ｃは、０≦ａ＜０．５、０≦ｂ＜０．５、０≦ｃ＜０．２を満たす数を表す。）で表されるアルカリハライド輝尽性蛍光体。【００３５】
３．特開昭５５−１２１４５号に記載の一般式（Ｂａ1-x（ＭI）x）ＦＸ：ｙＡ（ただし、ＭIは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｃｄの少なくとも１種を表し、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種を表し、Ａは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒの少なくとも１種を表し、ｘ、ｙは、０≦ｘ＜０．６、０≦ｙ＜０．２を満たす数を表す。）で表される輝尽性蛍光体。【００３６】
４．特開昭５５−１６００７８号に記載の一般式ＭIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ（ただし、ＭIは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｃｄの少なくとも１種を表し、ＡはＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＧｅＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＴｈＯ2の少なくとも１種を表し、Ｌｎは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｓｍ、Ｇｄの少なくとも１種を表し、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種を表し、ｘ、ｙは、５×１０-5≦ｘ≦０．５、０＜ｙ≦０．２を満たす数を表す。）で表される輝尽性蛍光体。【００３７】
〈一般式（１）で表される輝尽性蛍光体〉
中でも、下記一般式（１）で表される輝尽性蛍光体が好ましい。【００３８】
一般式（１）  Ｂａ1-xＭ2xＦＢｒyＩ1-y：ａＭ1，ｂＬｎ，ｃＯ
式中、Ｍ1はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属原子、Ｍ2はＢｅ、Ｍｇ、Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属原子、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ及びＹｂから選ばれる少なくとも一種の希土類元素、ｘ、ｙ、ａ、ｂ及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３、０≦ｙ≦１．０、０≦ａ≦０．０５、０＜ｂ≦０．２、０＜ｃ≦０．１を表す。【００３９】
液相法による輝尽性蛍光体前駆体製造については、特開平１０−１４０１４８号に記載された前駆体製造方法、特開平１０−１４７７７８号に記載された前駆体製造装置が好ましく利用できる。ここで輝尽性蛍光体前駆体とは、前記一般式（１）で示される物質が６００℃以上の高温を経ていない状態を示し、輝尽性蛍光体前駆体は、輝尽発光性や瞬時発光性をほとんど示さない。本発明では以下の液相合成法により前駆体を得ることが好ましい。【００４０】
上記一般式（１）からなる輝尽性蛍光体の製造は、粒子形状の制御が難しい固相法ではなく、粒径の制御が容易である液相法により行なうことが好ましい。特に、下記の液相合成法により輝尽性蛍光体を得ることが好ましい。【００４１】
製造法：ＢａＩ2とＬｎのハロゲン化物を含み、一般式（１）のｘが０でない場合にはさらに、Ｍ2のハロゲン化物を、ｙが０でない場合はＢａＢｒ2を、そしてＭ1のハロゲン化物を含み、それらが溶解したのち、ＢａＩ2濃度が３．３ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは３．５ｍｏｌ／Ｌ以上の溶液を調製する工程；上記の溶液を５０℃以上、好ましくは８０℃以上の温度に維持しながら、これに濃度５ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは８ｍｏｌ／Ｌ以上の無機弗化物（弗化アンモニウムもしくはアルカリ金属の弗化物）の溶液を添加して輝尽性蛍光体前駆体結晶の沈澱物を得る工程；上記の無機弗化物を添加しつつ、反応液から溶媒を除去する工程上記の前駆体結晶沈澱物を反応液から分離する工程；そして、分離した前駆体結晶沈澱物を焼結を避けながら焼成する工程を含む製造方法である。【００４２】
なお、本発明では粒子（結晶）は平均粒径が１〜１０μｍで、かつ単分散性のものが好ましく、平均粒径が１〜５μｍ、平均粒径の分布が２０％以下のものが好ましく、特に平均粒径が１〜３μｍ、平均粒径の分布が１５％以下のものが好ましい。【００４３】
本発明における平均粒径とは、粒子（結晶）の電子顕微鏡写真より無作為に粒子２００個を選び、球換算の体積粒子径で平均を求めたものである。【００４４】
以下に輝尽性蛍光体の製造法の好ましい例について詳細について説明する。【００４５】
最初に、水系媒体中を用いて弗素化合物以外の原料化合物を溶解させる。すなわち、ＢａＩ2とＬｎのハロゲン化物、そして必要によりさらにＭ2のハロゲン化物、そしてさらにＭ1のハロゲン化物を水系媒体中に入れ充分に混合し、溶解させて、それらが溶解した水溶液を調製する。ただし、ＢａＩ2濃度が３．３ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは３．５ｍｏｌ／Ｌ以上となるように、ＢａＩ2濃度と水系溶媒との量比を調整しておく。【００４６】
このときバリウム濃度が低いと所望の組成の前駆体が得られないか、得られても粒子が肥大化する。よって、バリウム濃度は適切に選択する必要があり、本発明者らの検討の結果、３．３ｍｏｌ／Ｌ以上で微細な前駆体粒子を形成することができることが分かった。【００４７】
このとき、所望により、少量の酸、アンモニア、アルコール、水溶性高分子ポリマー、水不溶性金属酸化物微粒子粉体等を添加してもよい。ＢａＩ2の溶解度が著しく低下しない範囲で低級アルコール（メタノール、エタノール）を適当量添加しておくのも好ましい態様である。この水溶液（反応母液）は８０℃に維持される。【００４８】
次に、この８０℃に維持され、撹拌されている水溶液に、無機弗化物（弗化アンモニウム、アルカリ金属の弗化物等）の水溶液を注入する。この注入は、撹拌が特に激しく実施されている領域部分に行なうのが好ましい。この無機弗化物水溶液の反応母液への注入によって、前記一般式（１）に該当する蛍光体前駆体結晶が析出する。【００４９】
本発明においては、無機弗化物水溶液の添加時に反応液から溶媒を除去することが好ましい。溶媒を除去する時期は添加中であれば、特に問わない。溶媒の除去後の全質量が除去前の質量（反応母液の質量と添加した水溶液の質量の和）に対する比率（以下、除去比率という）が０．９７以下であることが好ましい。０．９７を超えると結晶がＢａＦＩになりきらない場合がある。そのため除去比率は０．９７以下であることが好ましく、０．９５以下がより好ましい。また、除去しすぎても反応溶液の粘度が過剰に上昇する等、ハンドリングの面で不都合が生じる場合がある。【００５０】
そのため溶媒の除去比率は０．５まで（０．５０以上）が好ましい。溶媒の除去に要する時間は生産性に大きく影響するばかりでなく、粒子の形状、粒径分布も溶媒の除去方法に影響されるので、除去方法は適切に選択する必要がある。一般的に溶媒の除去に際しては溶液を加熱し、溶媒を蒸発する方法が選択される。本発明においてもこの方法は有用である。溶媒の除去により、意図した組成の前駆体を得ることができる。さらに、生産性を挙げるため、また、粒子形状を適切に保つため、他の溶媒除去方法を併用することが好ましい。併用する溶媒の除去方法は特に問わない。逆浸透膜等の分離膜を用いる方法を選択することも可能である。本発明では生産性の面から、以下の除去方法を選択することが好ましい。【００５１】
１．乾燥気体を通気する反応容器を密閉型とし、少なくとも２箇所以上の気体が通過できる孔を設け、そこから乾燥気体を通気する。気体の種類は任意に選ぶことができる。安全性の面から、空気、窒素が好ましい。通気する気体の飽和水蒸気量に依存し、溶媒が気体に同伴され、除去される。反応容器の空隙部分に通気する方法の他、液相中に気体を気泡として噴出させ、気泡中に溶媒を吸収させる方法もまた有効である。【００５２】
２．よく知られるように減圧にすることにより、溶媒の蒸気圧は低下する。蒸気圧降下により効率的に溶媒を除去することができる。減圧度としては溶媒の種類により適宜選択することができる。溶媒が水の場合８６ｋＰａ以下が好ましい。【００５３】
３．液膜蒸発面積を拡大することにより溶媒の除去を効率的に行うことができる。一定容積の反応容器を用いて加熱、攪拌し、反応を行わせる場合、加熱方法しては、加熱手段を液体中に浸漬するか、容器の外側に加熱手段を装着する方法が一般的である。該方法によると、伝熱面積は液体と加熱手段が接触する部分に限定され、溶媒除去に伴い、伝熱面積が減少し、よって、溶媒除去に要する時間が長くなる。これを防ぐため、ポンプ、あるいは攪拌機を用いて反応容器の壁面に散布し、伝熱面積を増大させる方法が有効である。このように反応容器壁面に液体を散布し、液膜を形成する方法は“濡れ壁”として知られている。濡れ壁の形成方法としては、ポンプを用いる方法のほか、特開平６−３３５６２７号、同１１−２３５５２２号に記載の攪拌機を用いる方法が挙げられる。【００５４】
これらの方法は単独のみならず、組み合わせて用いてもかまわない。液膜を形成する方法と容器内を減圧にする方法の組み合わせ、液膜を形成する方法と乾燥気体を通気する方法の組み合わせ等が有効である。特に前者が好ましく、特開平６−３３５６２７号、特開２００３−２３６３０３号に記載の方法が好ましく用いられる。【００５５】
次に、上記の蛍光体前駆体結晶を、濾過、遠心分離等によって溶液から分離し、メタノール等によって充分に洗浄し、乾燥する。この乾燥蛍光体前駆体結晶に、アルミナ微粉末、シリカ微粉末等の焼結防止剤を添加、混合し、結晶表面に焼結防止剤微粉末を均一に付着させる。なお、焼成条件を選ぶことによって焼結防止剤の添加を省略することも可能である。【００５６】
次に、蛍光体前駆体の結晶を、石英ポート、アルミナ坩堝、石英坩堝等の耐熱性容器に充填し、電気炉の炉心に入れて焼結を避けながら焼成を行う。焼成温度は４００〜１，３００℃の範囲が適当であり、５００〜１，０００℃の範囲が好ましい。焼成時間は、蛍光体原料混合物の充填量、焼成温度及び炉からの取出し温度等によっても異なるが、一般には０．５〜１２時間が適当である。【００５７】
焼成雰囲気としては、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気、あるいは少量の水素ガスを含有する窒素ガス雰囲気、一酸化炭素を含有する二酸化炭素雰囲気等の弱還元性雰囲気、あるいは微量酸素導入雰囲気が利用される。焼成方法については、特開２０００−８０３４号に記載の方法が好ましく用いられる。上記の焼成によって目的の輝尽性蛍光体が得られ、これを用いて形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルが作製される。【００５８】
（バインダ）
本発明に係る輝尽性蛍光体層に用いられるバインダ（結合剤ともいう）について説明する。【００５９】
本発明に用いられるバインダの例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分子物質；及び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステル等のような合成高分子物質等により代表されるバインダを挙げることができるが、バインダが熱可塑性エラストマーを主成分とする樹脂であることが好ましい。熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、ポリブタジェン系熱可塑性エラストマー、エチレン酢酸ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、天然ゴム系熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム系熱可塑性エラストマー、ポリイソプレン系熱可塑性エラストマー、塩素化ポリエチレン系熱可塑性エラストマー、スチレン−ブタジエンゴム及びシリコンゴム系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。これらのうち、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー及びポリエステル系熱可塑性エラストマーは、蛍光体との結合力が強いため分散性が良好であり、また延性にも富み、放射線増感スクリーンの対屈曲性が良好となるので好ましい。なお、これらのバインダは、架橋剤により架橋されたものでもよい。【００６０】
塗布液におけるバインダと輝尽性蛍光体との混合比は、目的とする放射線像変換パネルのヘイズ率の設定値によって異なるが、蛍光体に対し１〜２０質量部が好ましく、さらには２〜１０質量部がより好ましい。【００６１】
（輝尽性蛍光体層の形成）
輝尽性蛍光体層塗布液の調製に用いられる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル、トリオール、キシロール等の芳香族化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素及びそれらの混合物等が挙げられる。【００６２】
なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、また、形成後の輝尽性蛍光体層中におけるバインダと蛍光体との間の結合力を向上させるための可塑剤等の種々の添加剤が混合されていてもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等を挙げることができる。また、可塑剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール酸エステル；そして、トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等を挙げることができる。また、輝尽性蛍光体層塗布液中に、輝尽性蛍光体粒子の分散性を向上させる目的で、ステアリン酸、フタル酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等の分散剤を混合してもよい。【００６３】
輝尽性蛍光体層用塗布液の調製は、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速インペラー分散機、Ｋａｄｙミル、あるいは超音波分散機等の分散装置を用いて行なわれる。【００６４】
上記のようにして調製された塗布液を、後述する支持体表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。用いることのできる塗布方法としては、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーター、コンマコーター、リップコーター等を用いることができる。【００６５】
上記の手段により形成された塗膜を、その後加熱、乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の形成を完了する。輝尽性蛍光体層の膜厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の種類、バインダと蛍光体との混合比等によって異なるが、１０〜１０００μｍが好ましく、さらに好ましくは、１０〜５００μｍである。【００６６】
《支持体》
本発明に係る放射線像変換パネルの支持体としては、例えば、ガラス、ウール、コットン、紙、金属等の種々の素材から作られたものが使用することができるが、情報記録材料としての取り扱い上、可撓性のあるシートあるいはロールに加工できるものが好ましい。この点から、例えば、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスティックフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔等の金属シート、一般紙及び例えば写真用原紙、コート紙、もしくはアート紙のような印刷用原紙、バライタ紙、レジンコート紙、ベルギー特許第７８４，６１５号明細書に記載されているようなポリサッカライド等でサイジングされた紙、二酸化チタン等の顔料を含むピグメント紙、ポリビニールアルコールでサイジングした紙等の加工紙が特に好ましい。これら支持体の膜厚は、用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には８０〜１０００μｍであり、取り扱い上の観点から、さらに好ましくは８０〜５００μｍである。これらの支持体の表面は滑面でもよいし、下引き層との接着力を向上させる目的でマット面としてもよい。【００６７】
《保護層、被覆部》
輝尽性蛍光体層の吸湿等による劣化を防ぎ、放射線像変換パネルの機械的強度を高めるために、放射線像変換パネルの各層の端部、すなわち放射線像変換パネル稜部は、樹脂等で被覆して輝尽性蛍光体層を封止することが行われる。【００６８】
本発明は、支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び軟化点を有する保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、該放射線像変換パネルは、該輝尽性蛍光体層の少なくとも端部を該保護層と共に封止する、軟化点を有する被覆部を有し、且つ、該保護層の少なくとも１層と該被覆部の軟化点の差が０〜３０℃であることが特徴である。保護層の少なくとも１層と被覆部の軟化点の差はより好ましくは０〜１５℃である。軟化点はＴＭＡ（熱機械分析）の針入測定やＤＳＣ（示差走査熱量測定）を用いての測定により得られる。【００６９】
具体的には、「プラスチック加工技術ハンドブック」（高分子学会編）、日刊工業新聞社発行、第1版、第１４３７頁に記載するＴＭＡを用いる方法により求めることができる。【００７０】
このような保護層及び被覆部を形成する材料としては、熱可塑性エラストマー（以下、ＴＰＥともいう）を用いることが好ましい。【００７１】
本発明で言う熱可塑性エラストマーとは、常温では加硫ゴムの性質（エラストマーとしての性質）を示すが、高温では塑性変形が可能となってプラスチックの加工機等で成形が可能となる高分子材料のことを言う。ＴＰＥはゴム成分（ソフトセグメント）と樹脂成分（ハードセグメント）から形成されており、本発明で言う熱可塑性エラストマーのモノマーユニットとは上記ソフトセグメント及びハードセグメントを表す。本発明で用いられるＴＰＥとしては、ハードセグメントとしてポリスチレン、ソフトセグメントとしてポリジエンを用いたポリスチレン系ＴＰＥや、ハードセグメントにポリプロピレン等のポリオレフィン、ソフトセグメントにエチレン・プロピレンのようなゴムを用いたポリオレフィン系ＴＰＥ、ハードセグメントとして結晶性ポリブタジエン、ソフトセグメントとして無定形ポリブタジエン等を用いたポリジエン系ＴＰＥ、ハードセグメントとしてポリ塩化ビニル、ソフトセグメントとして部分架橋型ＮＢＲ等のゴムを用いてアロイ化したポリ塩化ビニル系ＴＰＥ、ハードセグメントとして短鎖グリコールとイソシアネートの反応で得られるポリウレタンと、ソフトセグメントとして長鎖グリコールとイソシアネートの反応で得られるポリウレタンとの直鎖状のマルチブロックコポリマーであるポリウレタン系ＴＰＥ、ハードセグメントとしてポリエステルを、ソフトセグメントとしてガラス転移温度（Ｔｇ）の低いポリエーテルあるいはポリエステルを用いたマルチブロックコポリマーであるポリエステル系ＴＰＥ、ハードセグメントとしてポリアミドを、ソフトセグメントとしてガラス転移温度（Ｔｇ）の低いポリエーテルあるいはポリエステルを用いたマルチブロックコポリマーであるポリアミド系ＴＰＥ、ハードセグメントとしてフッ素樹脂を、ソフトセグメントとしてフッ素ゴムからなるフッ素系ＴＰＥ等、例えば「熱可塑性エラストマー  −基礎・応用・市場・将来展望−」（日刊工業新聞社）や「プラスチック成形材料商取引便覧２００５年版」（化学工業日報社）に記載のＴＰＥが挙げられる。なお、ポリウレタン系ＴＰＥのソフトセグメントやハードセグメントを形成するポリオールと、ポリエステル系ＴＰＥやポリアミド系ＴＰＥのソフトセグメントやハードセグメントを形成するポリエステル・ポリエーテルが同一構造であればモノマーユニットとして同一としてみなすことができる。【００７２】
本発明の放射線像変換パネルの保護層や被覆部に用いられるＴＰＥは、ソフトセグメントとハードセグメントの比率としてソフトセグメントの量が１０質量％以上が軟質性の点で好ましく、エラストマーとしての物性も好ましい。また、この量が９０質量％以下の場合、ハードセグメントの平均連鎖長が短くなり過ぎず、物理的架橋点であるハードブロックが外力に対して抵抗でき機械強度も良好でエラストマー材料として機能でき好ましい。より好ましいソフトセグメントの量は２５〜７５質量％である。このハード／ソフトセグメントの比率は1Ｈ−ＮＭＲを用いて正確に定量することが可能である。【００７３】
また、本発明の放射線像変換パネルの保護層や被覆部の軟化点の調整については、用いるＴＰＥのソフトセグメントやハードセグメントの分子量による調整方法（ポリオール成分とポリイソシアネート成分とのモル比、高分子量ポリオールの使用、高分子ポリマーの使用等）、ポリエステルポリオールのエチレン鎖の結晶による調整方法、ポリオール成分やポリイソシアネート成分の芳香族環の構造による調整方法、ウレタン結合の量による調整方法等が挙げられる。【００７４】
本発明に好ましく用いられる熱可塑性エラストマーを表１に示す。【００７５】
【表１】
2007029492.tif 000002
【００７６】
吸湿等による劣化を防ぎ、かつ放射線像変換パネルの機械的強度を高めるためには、保護層と被覆部を構成する材料の物性、化学構造は似ていることが好ましく、本発明においては、保護層の少なくとも１層と被覆部は熱可塑性エラストマーを含有し、保護層の少なくとも１層を構成する熱可塑性エラストマーのモノマーユニットと被覆部を構成する熱可塑性エラストマーのモノマーユニットが３０〜１００％同一であることが好ましい。なお、ここで言う「３０〜１００％同一である」とは、後述の様に、保護層の熱可塑性エラストマーを基準にしてのモノマーユニット３０〜１００％が同一であることを言う。さらに、多層保護層では最外層の保護層の熱可塑性エラストマーのモノマーユニットと被覆部を構成する熱可塑性エラストマーのモノマーユニットが３０〜１００％同一であることが好ましい。【００７７】
本発明に係る熱可塑性エラストマーのモノマーユニットの同一性について説明する。例えば、保護層の熱可塑性エラストマーＡが、互いに化学式が異なるＡ１、Ａ２、Ａ３の３種のモノマーユニットからなり、Ａ１、Ａ２、Ａ３の質量分率がそれぞれ３０％、３０％、４０％であり、被覆部の熱可塑性エラストマーＢが、互いに化学式が異なるＢ１、Ｂ２の２種のモノマーユニットからなり、Ａ１＝Ｂ１で他のモノマーユニットが全て異なる時は、Ｂ１、Ｂ２の質量分率に係わらず、３０％同一であるという。Ａ１＝Ｂ１、Ａ２＝Ｂ２で他のモノマーユニットが全て異なる時は、６０％同一であるという。【００７８】
〔保護層〕
本発明の放射線像変換パネルの保護層としては、上記被覆部の軟化点との関係を保持することの他に、光学的に透明度の非常に高いものが求められる。ＡＳＴＭＤ−１００３に記載の方法により測定したヘイズ率は画像ムラや線状ノイズの解消効果及び鮮鋭性の向上効果の点から５％以上６０％未満が好ましく、より好ましくは１０％以上５０％未満である。【００７９】
また、保護層としては輝尽性蛍光体の吸湿劣化防止を考慮して、防湿性が求められる。透湿度は少なくとも５．０ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましい。保護層を多層とし、樹脂フィルムや樹脂フィルムに金属酸化物、窒化珪素等の薄膜を蒸着した蒸着フィルムを複数枚積層することで最適な防湿性とすることができる。樹脂フィルムの積層方法としては、特に制限はなく、公知のいずれの方法を用いてもよい。【００８０】
また、画質向上の面から保護層に励起光吸収層を設けることが好ましいが、積層された樹脂フィルム間に励起光吸収層を設けることによって、励起光吸収層が物理的な衝撃や化学的な変質から保護され安定したプレート性能が長期間維持でき好ましい。また、励起光吸収層は複数設けてもよいし、積層するための接着剤層に色材を含有して、励起光吸収層としてもよい。【００８１】
保護層の形成方法は、一般に樹脂組成物層を設けたＰＥＴフィルム等の保護層（保護フィルム）を輝尽性蛍光体層の表面に積層する方法（ラミネート法）、支持体上に輝尽性蛍光体層を有する蛍光体シートと、該蛍光体シートの上下に配置され、該蛍光体シートの全表面を被覆するように設けられた保護フィルム（いわゆる封止フィルム）を用いる方法（封止法）、輝尽性蛍光体層の上に、保護層塗布液を塗布、乾燥することにより保護層を形成する方法（塗布法）等がある。【００８２】
しかしながら、ラミネート法は防汚性、防傷性はあるものの、薄膜化が困難であり、厚膜のため鮮鋭性、コントラストが低下しやすいといった問題がある。封止法は、防汚性、防傷性はあるものの、生産性が悪いという問題がある。また、塗布法は一般に輝尽性蛍光体層との接着強度が強く、また比較的簡単な工程で製造できるという利点を持っているが、保護層を塗布によって形成する場合、塗布ムラや塗布欠陥を生じる場合があり、得られる放射線像変換パネルの画像上のムラの原因となり、微妙な診断を妨げる可能性があり、従来から低減させることが望まれていた。【００８３】
このような問題を解決するため、転写箔を用いて保護層を形成することが好ましい。【００８４】
《転写箔保護層》
（転写箔の層構成）
転写箔の層構成の例としては下記のような例が挙げられる。【００８５】
（１）支持体−樹脂層                                                  １層型
（２）支持体−樹脂層−接着層                                          ２層型
（３）支持体−樹脂層（低屈折率層）−樹脂層（高屈折率層）−接着層      ３層型
（支持体、仮支持体）
上記する転写箔の支持体（輝尽性蛍光体層の下に設けられた支持体とは別の支持体であり、放射線像変換パネルの使用時までに剥離、除去されるため仮支持体ともいう）としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の各樹脂フィルム、さらには上記樹脂を２層以上積層して成る樹脂フィルム等を挙げることができる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。支持体の厚みは通常５〜１００μｍ程度、好ましくは１０〜５０μｍである。【００８６】
本発明に係る転写箔は、上記の様に、仮支持体上に転写層（保護層）を有している。【００８７】
（樹脂層、転写層）
転写箔の転写層は樹脂層からなることが好ましい。樹脂層は樹脂エマルジョンを塗工して形成することが好ましい。樹脂エマルジョンとは、溶媒中に完全に溶解せず、ある一定の粒径分布を有する樹脂微粒子が必要に応じて界面活性剤等の分散助剤を用いて分散された分散液の状態のものを意味する。溶媒中に完全に溶解する樹脂を用いた場合、塗布乾燥後の塗膜が均一かつ平坦になるため、転写箔支持体との密着性が高まることにより輝尽性蛍光体層上に加熱加圧する際の転写性が低下し、そのために転写後の接着性が不十分になる。【００８８】
〈樹脂〉
樹脂エマルジョンに用いる樹脂としては、前記熱可塑性エラストマーを主成分に用い、他に、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体やスチレン−イソプイレン共重合体等のスチレン−ゴム共重合体樹脂；アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のエチレン系樹脂；ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の塩ビ系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にポリエステル系樹脂が接着性や耐久性の点で好ましい。【００８９】
本発明においては、この樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が２０〜７０℃であり、かつ、その含有量が転写層全固形分の５０質量％以上が好ましい。これにより、装置内での放射線像変換パネルの搬送時における滑りが低減され、さらに輝尽性蛍光体層との接着性（密着性）が高くなる。【００９０】
〈溶媒〉
上記樹脂エマルジョンは、分散溶媒中に樹脂を微粒子分散物の状態で存在させるものであり、この様な状態とさせるためには、樹脂溶解性の乏しい分散溶媒を単独または２種以上の混合して用いることが好ましい。【００９１】
好ましく用いられる樹脂エマルジョンの分散溶媒としては、水またはメタノール、エタノール、直鎖もしくは分岐のプロパノール、ブタノール等のアルコール類が好ましい。これら以外にも、分散性を損ねない範囲で他の有機溶媒を混合して用いてもよい。【００９２】
本発明に用いられる転写箔の転写層の厚みは２〜１５μｍが好ましい。これより薄い場合は十分な耐久性が確保できず、これよりも厚い場合は転写箔を密着させて加熱・加圧後、支持体を剥離する際に、十分な接着性が得られない場合がある。【００９３】
転写箔の転写層の転写後の耐久性を向上させる目的で、シリコーン化合物やワックス類、固形のモリブデン化合物、テフロン（登録商標）パウダー等の滑剤を添加することが好ましい。これら滑剤の添加量は通常、転写層の全固形分に対し０．１〜５０質量％、好ましくは１〜１０質量％である。【００９４】
〈着色剤〉
本発明に係る転写層（保護層）は膜厚の２／３〜３／３が青色〜緑色に着色されていることが好ましい。すなわち、本発明の効果を好ましく得る観点から、本発明においては転写層に励起光吸収能を付与することが好まし好ましく、従って、下記する様に転写層が吸収波長域６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲において吸収する様に着色されていることが好ましい。そのためには、例えば、励起光を選択的に吸収する着色剤を含有する層を塗設すること等により励起光吸収機能を付与することができる。本発明においては励起光吸収機能を付与する手段としては、転写層自体を着色剤等により着色することが好ましい。吸収の程度は、励起光波長における光透過率が５０〜９７％であることが好ましい。【００９５】
本発明に係る転写層に励起光吸収機能を付与するために用いられる着色剤としては、放射線像変換パネルに用いる輝尽性蛍光体の種類によって決まるが、放射線像変換パネル用の輝尽性蛍光体としては、通常、波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が用いられるため、着色剤としては通常、青色〜緑色の有機系もしくは無機系の着色剤が好ましく用いられる。【００９６】
上記の有機系着色剤としては、ザボンファーストブルー３Ｇ（ヘキスト社製）、エストロールブリルブルーＮ−３ＲＬ（住友化学（株）製）、スミアクリルブルーＦ−ＧＳＬ（住友化学（株）製）、Ｄ＆ＣブルーＮｏ１（ナショナル・アニリン社製）、スピリットブルー（保土谷化学（株）製）、オイルブルーＮｏ６０３（オリエント（株）製）、キトンブルーＡ（チバ・ガイギー社製）、アイゼンカチロンブルーＧＬＨ（保土谷化学（株）製）、レイクブルーＡ、Ｆ、Ｈ（協和産業（株）製）、ローダリンブルー６ＧＸ（協和産業（株）製）、ブリモシアニン６ＧＸ（稲畑産業（株）製）、ブリルアシッドグリーン６ＢＨ（保土谷化学（株）製）、シアニンブルーＢＮＲＳ（東洋インキ（株）製）、ライオノルブルーＳＬ（東洋インキ（株）製）が挙げられる。青色〜緑色の無機系着色剤の例としては、群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、ＴｉＯ2−ＺｎＯ−ＣｏＯ−ＮｉＯ系顔料が挙げられる。本発明においては着色剤としては染料より顔料が好ましい。【００９７】
〈低屈折率層及び高屈折率層〉
本発明においては、転写層は、少なくとも低屈折率層及び高屈折率層からなり、その屈折率の差が０．２〜０．７であり、かつ、前記低屈折率層が輝尽性蛍光体層側にあることが好ましい。【００９８】
〈低屈折率層〉
本発明に係る低屈折率層は、上記樹脂に加えて、シリカ系微粒子と下記シランカップリング剤を含むことが好ましい。【００９９】
具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。【０１００】
また、珪素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。【０１０１】
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して２置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。【０１０２】
シランカップリング剤の具体例としては、信越化学工業株式会社製ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＥ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３等が挙げられる。【０１０３】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。【０１０４】
カップリング剤による表面処理の具体的方法は、下記に示す。【０１０５】
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、シリカ系微粒子及び有機基を有するシリカ系微粒子の表面が反応しやすく、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えてもよい。【０１０６】
低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。【０１０７】
また、本発明に係る低屈折率層が、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の架橋からなる低屈折率層であってもよい。【０１０８】
上記架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることができる。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えば、ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー（例えば、（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等）が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう１つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光（好ましくは紫外線、電子ビーム等）の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。【０１０９】
また上記モノマーに加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。【０１１０】
架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは２０〜７０モル％、より好ましくは４０〜７０モル％、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは１〜２０モル％、より好ましくは５〜２０モル％、併用されるその他のモノマーが好ましくは１０〜７０モル％、より好ましくは１０〜５０モル％の割合である。【０１１１】
含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることができる。【０１１２】
架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することができる。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ（旭硝子製）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン製）、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン（旭硝子製）、オプスター（ＪＳＲ製）等が挙げられる。【０１１３】
架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が０．０３〜０．１５の範囲、水に対する接触角が９０〜１２０度の範囲にあることが好ましい。【０１１４】
本発明に用いられる希釈用の有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。【０１１５】
希釈率は、塗布液の粘度を制御する作用により、前記シリカ系微粒子の低屈折率層内での偏在化の程度を決定する因子となるため、適宜選択される。【０１１６】
低屈折率層の塗布方法は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許第２，６８１，２９４号）により、塗布により形成することができる。また、２以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第２，７６１，７９１号、同第２，９４１，８９８号、同第３，５０８，９４７号、同第３，５２６，５２８号及び原崎勇次著、塗布工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。【０１１７】
本発明に係る低屈折率層の各膜厚は５０〜２００ｎｍであることが好ましく、６０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。【０１１８】
〈高屈折率層〉
本発明においては、反射率の低減のために、前記低屈折率層の上に、高屈折率層を設けることが好ましい。また、支持体と低屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のためにさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．３０であることが好ましく、１．５７〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。【０１１９】
本発明に係る中、高屈折率層は、上記樹脂に加えて、下記一般式（１）で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率１．５５〜２．５の層であることが好ましい。【０１２０】
一般式（１）  Ｔｉ（ＯＲ1）4
式中、Ｒ1としては炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ｔｉ−Ｏ−Ｔｉ−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。【０１２１】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ｔｉ（ＯＣＨ3）4、Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4の２〜１０量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。中でもＴｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4の２〜１０量体が特に好ましい。【０１２２】
本発明に用いられる中、高屈折率層用塗布液は、水と後述する有機溶媒が順次添加された溶液中に上記有機チタン化合物を添加することが好ましい。水を後から添加した場合は、加水分解／重合が均一に進行せず、白濁が発生したり、膜強度が低下する。水と有機溶媒は添加された後、よく混合させるために攪拌し混合溶解されていることが好ましい。【０１２３】
また、別法として有機チタン化合物と有機溶媒を混合させておき、この混合溶液を、上記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に添加することも好ましい態様である。【０１２４】
また、水の量は有機チタン化合物１モルに対して、０．２５〜３モルの範囲であることが好ましい。０．２５モル未満であると、加水分解、重合の進行が不十分で膜強度が低下する。３モルを超えると加水分解、重合が進行し過ぎて、ＴｉＯ2の粗大粒子が発生し白濁するため好ましくない。従って水の量は上記範囲で調整する必要がある。【０１２５】
また、水の含有率は塗布液総量に対して１０質量％未満であることが好ましい。水の含有率を塗布液総量に対して１０質量％以上にすると、塗布液の経時安定が劣り白濁を生じたりするため好ましくない。【０１２６】
中、高屈折率層に用いられる有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。これらの有機溶媒の使用量は、前述したように、水の含有率が塗布液総量に対して１０質量％未満であるように、水と有機溶媒のトータルの使用量を調整すればよい。【０１２７】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の５０．０〜９８．０質量％を占めていることが望ましい。固形分比率は５０〜９０質量％がより好ましく、５５〜９０質量％がさらに好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー（予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの）または酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。【０１２８】
本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。【０１２９】
上記塗布液調製法で加水分解／重合した有機チタン化合物（上記有機チタン化合物の重合物またはその加水分解物）と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解／重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることができる。【０１３０】
高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好ましい。金属酸化物粒子の１次粒子の重量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、１〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、２０〜３０ｎｍ以上であれば光散乱法により、２０〜３０ｎｍ以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。【０１３１】
金属酸化物粒子の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳ等が挙げられる。【０１３２】
金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、前記シランカップリング剤が最も好ましい。【０１３３】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよく、前記シランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。【０１３４】
カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸（例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸）、有機酸（例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこれらの塩（例えば、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加してもよい。【０１３５】
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応しやすく、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解／重合に用いることができる。【０１３６】
本発明では２種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状であることが好ましい。２種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層及び中屈折率層に併用してもよい。【０１３７】
高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、該層において５〜６５体積％であることが好ましく、より好ましくは１０〜６０体積％であり、さらに好ましくは２０〜５５体積％である。【０１３８】
上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。【０１３９】
また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。【０１４０】
中屈折率層及び高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状（脂環式または芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることができる。【０１４１】
反射防止層の各層またはその塗布液には、前述した成分（金属酸化物粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤）以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。【０１４２】
本発明に係る中〜高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解または硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。【０１４３】
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、さらに好ましくは、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。【０１４４】
紫外線を用いる場合、多層の反射防止層を１層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。【０１４５】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。【０１４６】
反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚は、各層の屈折率に応じて各々適切な膜厚を選択することが好ましい。【０１４７】
〈熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂〉
本発明においては、転写層（保護層）の最表面層が、熱または光により硬化された樹脂を用いることもできる。【０１４８】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂系、メラミン樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、エポキシアクリレート樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリエステルアクリレート樹脂系、ウレタンアクリレート樹脂系、スピラン樹脂系、ジアリルフタレート樹脂系等が挙げられる。また無機系樹脂の例として、コロイダルシリカ、シリコーンモノマーを加水分解してから重合させるもの等が挙げられる。これらの中から選ばれた１種類以上の成分を混合して使用するが、必要に応じて各種硬化剤、カップリング剤等を適量添加して用いると効果的である。【０１４９】
光硬化性樹脂としては、付加重合性または開環重合性を有する素材からなるものであり、付加重合成化合物とは、ラジカル重合性化合物、例えば特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号等の各号公報に記載されている光重合成（熱重合性も含む）組成物を用いた光硬化型材料であってもよい。付加重合成化合物とは、カチオン重合系の光硬化型材料が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化材料も例えば、特開平６−４３６３３号公報等に公開されている。本発明の目的においてはどちらを用いても構わない。【０１５０】
ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６０１０４号等の各公報記載のトリジアン誘導体、特開昭５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許第３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５２，３７９号及び同２，９４０，８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号等の各公報及びマクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９、８５１号、ヨーロッパ特許第１２６、７１２号等の各明細書、ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特開平５−２１３８６１号公報及び特開平５−２５５３４７号公報に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類、コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗ）、第８４巻、第８５〜第２７７頁（１９８８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二重体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。本発明において重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物１００質量部に対して０．５〜５質量部の範囲で含有されるのが好ましい。さらに好ましくは、１〜５質量％の範囲が好ましい。【０１５１】
ラジカル重合性化合物を含有する感光性組成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤として、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネルギーを与えることにより重合性のラジカルを発生することが可能な化合物である。【０１５２】
このような化合物としては、例えば、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビスプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラワロイル、過酸化アセチル、過安息酸ｔ−ブチル、α−クミルヒドロパ−オキサイド、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイド、ジイソプロピルパ−オキシジカーボネート、ｔ−ブチルパ−オキシイソプロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカルバメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換アルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフォン類等のアゾまたはジアゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリキルキサントゲン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルフォン類、１−アルカンスルフィン酸類等を挙げることができる。これらの中で特に好ましいものは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時に無色となる化合物であり、このようなものとしては、過酸化ベンゾイル、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。また、本発明では、これらの熱重合開始剤を１種または２種以上混合して用いることができる。さらに、熱重合開始剤は、熱重合性の組成物中通常０．５〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％の範囲がより好ましい。【０１５３】
カチオン重合により高分子化の起こるタイプ（主にエポキシタイプ）のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、１分子内にエポキシ基を２個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。前記紫外線硬化保護層形成用コーティング剤中の、エポキシ基を１分子内に２個以上有するプレポリマーの含有量は７０質量％以上であることが好ましい。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合性化合物としては、他に例えば下記の（１）スチレン誘導体、（２）ビニルナフタレン誘導体、（３）ビニルエーテル類及び（４）Ｎ−ビニル化合物類を挙げることができる。【０１５４】
本発明においてはラジカル重合系が好ましい。【０１５５】
〈転写層の表面粗さ〉
転写層（保護層）の最表面層の表面粗さは０．１〜１μｍであることが好ましい。本発明で表面粗さとはＪＩＳ−Ｂ−０６０１（２００１）により定義される表面粗さＲａ（平均表面粗さ）をいう。測定装置としては、例えば、触針法やレーザ干渉測長法といった周知の表面粗さ測定法で測定することができる。【０１５６】
この表面粗さを得るためには転写層に微粒子を含有させることが好ましい。このような微粒子としては、有機化合物ではメラミン、ＰＭＭＡ等の樹脂微粒子、無機化合物としては酸化チタン、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、クレー、シリカ、タルク、雲母等が挙げられる。分散性の点からシリカが好ましく、特に吸油量（比表面積、嵩比重）が大きいものほど好ましい。転写箔の支持体の平滑性が高い場合は、これらの微粒子の添加量を調節して良好な面を得ることができる。添加量は微粒子の平均粒径が０．１μｍ〜１０μｍの場合、通常、転写層の全固形分に対し０．１〜４０質量％、好ましくは１〜３０質量％である。【０１５７】
また、この表面粗さを得るための別方としては、凹凸のある支持体を用いることである。凹凸のある支持体は市販されている。【０１５８】
（接着層）
本発明で転写層に熱接着性（ジートシール性）のない樹脂を用いる場合には、熱接着性樹脂からなる接着層を用いることが好ましい。【０１５９】
熱接着性樹脂からなる接着層は、耐熱性の支持体、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム上に塗工によって形成された透明層リボンまたは透明箔をあらかじめ用意しておき、これを、例えば、サーマルヘッドや熱転写ロールを用いて、熱転写することによって形成することができる。【０１６０】
前記熱接着性樹脂としては、例えば塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、及びそれらの変性物等を挙げることができる。【０１６１】
上述した樹脂の中でも本発明の目的に好ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂である。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。【０１６２】
（保護層の形成）
転写層は、別の支持体上に存在する輝尽性蛍光体層の面に対面接触させ、加熱・加圧後、転写層を保持していた支持体を剥離することにより輝尽性蛍光体層の表面を保護するように転写される。加熱・加圧条件は、転写層の樹脂の軟化点以上の温度で加熱・圧着することが好ましい。加熱する温度の上限は、軟化点＋１００℃が好ましい。【０１６３】
転写層のみを輝尽性蛍光体層上に転写することにより保護層を形成することが普通であるが、本発明においては、放射線像変換パネルの使用時までの製造や輸送工程の搬送等による傷を防止するため、転写箔の支持体を剥離することなく保持し、使用直前に剥離することが好ましい。【０１６４】
保護層を形成するための加熱・加圧手段には、密着性に優れ、気泡等が混入せずに加圧または加熱・加圧処理できるものであれば特に制限なく用いることができ、加圧する場合には、圧力ロールやスタンパー等を、加熱・加圧処理する場合には、サーマルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ等を用いることができる。【０１６５】
圧力ロールを用いる場合の圧力は通常１〜２００Ｎ／ｃｍ2、好ましくは５〜１００Ｎ／ｃｍ2であり、また、搬送速度は通常０．１〜２００ｍｍ／秒、好ましくは０．５〜１００ｍｍ／秒であり、スタンパーを用いる場合の圧力としては通常０．５〜１００Ｎ／ｃｍ2、好ましくは５〜５０Ｎ／ｃｍ2、また、加圧時間は通常０．１〜５０秒、好ましくは０．５〜２０秒である。ヒートロールを用いる場合の加熱温度は通常６０〜２００℃、好ましくは１５０〜１９０℃の範囲であり、圧力は通常１〜２００Ｎ／ｃｍ2、好ましくは５〜１００Ｎ／ｃｍ2であり、また、搬送速度は通常０．１〜２００ｍｍ／秒、好ましくは０．５〜１００ｍｍ／秒である。【０１６６】
加圧または加熱・加圧後に転写箔の支持体を引き剥がす方法としては、剥離板、剥離ロールによる剥離角度固定方法、手で転写箔と支持体上に存在する輝尽性蛍光体層を固定せずに引き剥がす手剥離方法等、輝尽性蛍光体層に影響を与えない限り、種々の剥離方法を用いることができる。
【実施例】
【０１６７】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「％」は「質量％」を表す。【０１６８】
実施例１
《放射線像変換パネルの作製》
（輝尽性蛍光体粒子の作製）
ユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ2水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕＩ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／Ｌ）３２２ｍｌを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈澱物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続けて沈澱物の熟成を行なった。次に沈澱物をろ別後、エタノールにより洗浄した後真空乾燥させてユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を０．２％添加し、ミキサーで充分撹拌して、結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボートに充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体粒子を得た。次に上記蛍光体粒子を分級することにより平均粒径７μｍの粒子を得た。【０１６９】
（蛍光体層を有するシートの作製）
蛍光体層形成材料として、上記で得たユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体４２７ｇ、ポリウレタン樹脂（住友バイエルウレタン社製、デスモラック４１２５）１５．８ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂２．０ｇをメチルエチルケトン−トルエン（１：１）混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、粘度２．５〜３．０Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。この塗布液をドクターブレードを用いて厚さ１００μｍの黒色ＰＥＴ支持体上に塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて、２７０μｍの厚さの蛍光体層を形成した。【０１７０】
（保護層の作製）
表２に示すＴＰＥ（熱可塑性エラストマー）Ｅ１〜Ｅ５を固形分濃度が１５％になるように、すべり剤として信越化学（株）製Ｘ−２２−２８０９を固形分濃度が０．１％になるようにＭＥＫに溶解しドクターブレードを用いて厚さ１０μｍでシリコーン系離形剤が塗布されているＰＥＴ仮支持体上にドライ膜厚が１０μｍになるように塗布し保護層の転写箔を形成した。【０１７１】
続いて、表３に示す様に、得られた転写箔を保護層面と前記蛍光体層が接するように重ねあわせ６０〜７０℃の加熱ロールで加熱圧着し蛍光体シートを作製した。【０１７２】
（被覆部の作製）
表２に示すＴＰＥ（熱可塑性エラストマー）Ｅ１〜Ｅ７を固形分濃度が１５％になるように、すべり剤として信越化学（株）製Ｘ−２２−２８０９を固形分濃度が０．１％になるようにＭＥＫに溶解させ、表３に示す様に、前記蛍光体シートの端部全周に塗布し６０℃で３０分間乾燥させて放射線像変換パネル１−１〜１−１９を得た。【０１７３】
【表２】
2007029492.tif 000003
【０１７４】
《放射線像変換パネルの評価》
（耐湿性）
作製した放射線像変換パネルについて、８０℃、９０％ＲＨの条件で１週間放置して放置前後の放射線像変換パネルの質量変化（質量増加率％）を測定することにより耐湿性を評価した。【０１７５】
（強度）
西華産業社製Ｉｐａｎｅｍａ  ＳａＣ−２００タイプの搬送試験機で放射線像変換パネルの被覆部の破損が生じるまで搬送繰り返し、その数を強度の指標とした。【０１７６】
評価の結果を表３に示す。【０１７７】
【表３】
2007029492.tif 000004
【０１７８】
表３から、保護層と被覆部の軟化点の差が３０℃以下の本発明の放射線像変換パネルは、軟化点の差がこれより大きい比較例の放射線像変換パネルに比べ、耐湿性及び強度に優れていることが分かる。【０１７９】
なお、感度及び画質については何れの放射線像変換パネルも良好であった。【０１８０】
実施例２
《放射線像変換パネルの作製》
保護層と被覆部を下記の方法で作製した以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを得た。【０１８１】
（保護層の作製）
実施例１の表２に示すＴＰＥ（熱可塑性エラストマー）Ｅ１〜Ｅ５を固形分濃度が１５％になるように、すべり剤として信越化学（株）製Ｘ−２２−２８０９を固形分濃度が０．１％になるようにＭＥＫに溶解しドクターブレードを用いて厚さ５μｍのＰＥＴ支持体上にドライ膜厚が１０μｍになるように塗布した。この反対側に不飽和ポリエステル樹脂（東洋紡（株）：バイロン３０ＳＳ）溶液をドライ膜厚５μｍになるように塗布し接着層を形成し、接着層付き保護層（保護層が２層で最外層に熱可塑性エラストマーを含有）を作製した。【０１８２】
次いで、表４に示す様に、この接着層付き保護層の接着層と実施例１で作製した蛍光体層が接するように重ね合わせ、６０〜７０℃の加熱ロールで加熱圧着し蛍光体シートを作製した。【０１８３】
（被覆部の作製）
実施例１の表２に示すＴＰＥ（熱可塑性エラストマー）Ｅ１〜Ｅ７を固形分濃度が１５％になるように、すべり剤として信越化学（株）製Ｘ−２２−２８０９を固形分濃度が０．１％になるようにＭＥＫに溶解させ、表４に示す様に、前記蛍光体シートの端部全周に塗布し６０℃で３０分間乾燥させて放射線像変換パネル２−１〜２−１９を得た。【０１８４】
《放射線像変換パネルの評価》
作製した放射線像変換パネルについて実施例１と同様に評価した。評価の結果を表４に示す。【０１８５】
【表４】
2007029492.tif 000005
【０１８６】
表４から、保護層の最外層と被覆部の軟化点の差が３０℃以下の本発明の放射線像変換パネルは、軟化点の差がこれより大きい比較例の放射線像変換パネルに比べ、耐湿性及び強度に優れていることが分かる。【０１８７】
なお、感度及び画質については何れの放射線像変換パネルも良好であった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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