【手続補正書】
【提出日】平成19年6月11日(2007.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】移動装置及び露光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ガイド面を有する基準構造体と、
該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、
該可動部側に設けられた可動子と、該ガイド面に沿って平面方向に移動可能で、該可動部を駆動するときの反力により該ガイド面上を移動する固定子とを有するリニアモータと、
前記固定子を互いに直交する２軸方向に駆動するアクチュエータと
を備えることを特徴とする移動装置。
【請求項２】  互いに分離された２個以上の前記固定子を有することを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項３】  前記固定子を位置決めするための位置計測手段を有することを特徴とする請求項１または２に記載の移動装置。
【請求項４】  前記可動部を位置決めするための位置計測手段を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の移動装置。
【請求項５】  前記可動部は６軸に可動であること特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の移動装置。
【請求項６】  前記アクチュエータを駆動したときの駆動反力が前記基準構造体とは異なる構造体に伝達されるように構成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の移動装置。
【請求項７】  原版のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、前記露光のために前記原版及び／または基板を移動させる請求項１乃至６のいずれかに記載の移動装置とを備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項８】  前記露光が、前記投影光学系に対して前記原版と基板を移動させて共に走査することにより前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する走査露光であり、前記可動部により前記走査のために前記原版及び／または基板を移動させることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】  前記基準構造体は前記投影光学系が取り付けられた鏡筒定盤と結合していることを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
【請求項１０】  露光光としてフッ素エキシマレーザまたはＡｒＦエキシマレーザが用いられることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】  ガイド面を有する基準構造体と、
該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、
該可動部側に設けられた可動子と、該ガイド面に沿って移動可能で、該可動部を駆動するときの反力により該ガイド面上を移動する固定子とを有するリニアモータとを備え、
前記リニアモータの固定子と可動子の関係を、開放構造にし、かつ前記固定子の内側に照明光学系及び／または投影光学系から前記可動部を包み前記基準構造体までの端面に、遮へい壁を設けることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】  前記遮へい壁の内側を不活性ガスでパージすることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】  前記可動部の位置計測手段に用いる干渉計が前記遮へい壁の内側のパージエリアに設けられていることを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】  請求項７乃至１３のいずれかに記載の露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体リソグラフィ工程等の高精度の加工に好適に用いられる移動装置、及びこの移動装置を備える露光装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
すなわち、本発明の移動装置は、ガイド面を有する基準構造体と、該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、該可動部側に設けられた可動子と、該ガイド面に沿って平面方向に移動可能で、該可動部を駆動するときの反力により該ガイド面上を移動する固定子とを有するリニアモータと、前記固定子を互いに直交する２軸方向に駆動するアクチュエータとを備えることを特徴とする。この移動装置は、互いに分離された２個以上の前記固定子を有することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の移動装置は、前記固定子を位置決めするための位置計測手段を有することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明の移動装置は、前記可動部が６軸に可動であることができる。また、前記アクチュエータを駆動したときの駆動反力が前記基準構造体とは異なる構造体に伝達されるように構成することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明に係る第１の露光装置は、原版のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、前記露光のために前記原版及び／または基板を移動させる上記いずれかの移動装置とを備えていることを特徴とする。ここで、前記露光が、前記投影光学系に対して前記原版と基板を移動させて共に走査することにより前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する走査露光であり、前記可動部により前記走査のために前記原版及び／または基板を移動させることが好ましい。
また、本発明の露光装置において、前記基準構造体は前記投影光学系が取り付けられた鏡筒定盤と結合していることができる。
また、本発明の露光装置は、露光光として、フッ素エキシマレーザまたはＡｒＦエキシマレーザまたはＫｒＦエキシマレーザを用いることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明に係る第２の露光装置は、ガイド面を有する基準構造体と、該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、該可動部側に設けられた可動子と、該ガイド面に沿って移動可能で、該可動部を駆動するときの反力により該ガイド面上を移動する固定子とを有するリニアモータとを備え、前記リニアモータの固定子と可動子の関係を、開放構造にし、かつ前記固定子の内側に照明光学系及び／または投影光学系から前記可動部を包み前記基準構造体までの端面に、遮へい壁を設けることができる。前記遮へい壁の内側を不活性ガスでパージする場合に好適である。ここで、前記可動部の位置計測手段に用いる干渉計は前記遮へい壁の内側のパージエリアに設けることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の半導体デバイス製造方法は、上記の露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを有する
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
【発明の効果】
本発明の移動装置では、可動部が移動する際の加減速時反力を固定子が受け、反力を受けた固定子が移動することにより、反力が固定子の運動エネルギーに変換・吸収され、固定子が反力カウンタとして作用する。これにより、移動装置及びステージの反力が装置の基準構造体を加振することを防止することができる。また、左右２個の固定子（反力カウンタ）が移動体の加速度に応して装置基準構造体上を移動するので、移動体が移動する時の偏荷重を小さくできる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
上記移動装置を有する本発明の露光装置によれば、第１に、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減することで、オーバーレイ精度、線幅精度、スループットの向上等、従来以上の高精度を達成することができる。また、移動体が移動する時の偏荷重を小さくできることにより、オーバーレイ精度の向上が図れる。更に、ステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さくすることができるとともに、床への設置面積の増大を防ぐことができる。