【手続補正書】
【提出日】平成19年2月2日(2007.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１部材および第２部材を接合してなる真空外囲器の製造方法において、
真空槽内に第１および第２部材を配置し、
真空槽内を真空排気し、
上記第１部材の内面の所定領域をカバー部材で覆い、上記カバー部材内でゲッタを飛散させることにより上記第１部材の内面の所定領域上にゲッタ膜を形成した後、上記第１および第２部材を互いに接合することを特徴とする真空外囲器の製造方法。
【請求項２】
上記第１部材のほぼ内面全域をカバー部材で覆い、第１部材のほぼ内面全体に上記ゲッタ膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の真空外囲器の製造方法。
【請求項３】
所定の隙間を持って対向配置された第１基板および第２基板の周縁部を接合部材を介して互いに接合してなる真空外囲器の製造方法において、
真空槽内に第１および第２基板を配置し、
真空槽内を真空排気し、
上記第１基板の内面上の所定領域をカバー部材で覆い、上記カバー部材内でゲッタを飛散させることにより上記第１基板の内面の所定領域上にゲッタ膜を形成した後、上記接合部材を介して上記第１および第２基板同志を接合することを特徴とする真空外囲器の製造方法。
【請求項４】
内面に蛍光体層が形成された第１基板と、上記第１基板と所定の隙間を置いて対向配置されているとともに上記蛍光体層を励起する蛍光体励起手段が設けられた第２基板と、上記第１および第２基板の周縁部同志を接合した枠状の側壁と、を備えた真空外囲器の製造方法において、
真空槽内に第１および第２基板を配置し、
真空槽内を真空排気し、
上記第１基板の内面上の所定領域をカバー部材で覆い、上記カバー部材内でゲッタを飛散させることにより上記第１基板の内面の所定領域上にゲッタ膜を形成した後、上記側壁を介して上記第１および第２基板同志を接合することを特徴とする真空外囲器の製造方法。
【請求項５】
上記第１基板のほぼ内面全域をカバー部材で覆い、第１基板のほぼ内面全体に上記ゲッタ膜を形成することを特徴とする請求項４に記載の真空外囲器の製造方法。
【請求項６】
上記真空槽を真空排気した後、上記真空槽内に配置した密閉容器の中でゲッタを飛散させて密閉容器の内面にゲッタ膜を形成し、次いで、上記密閉容器を開放して上記ゲッタ膜を真空槽内に露出させ、真空槽内のガスを吸着することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の真空外囲器の製造方法。
【請求項７】
内面に蛍光体層が形成された第１基板と、上記第１基板と所定の隙間を置いて対向配置されているとともに上記蛍光体層を励起する蛍光体励起手段が設けられた第２基板と、上記第１および第２基板の周縁部同志を接合した枠状の側壁と、を有する真空外囲器を備えた画像表示装置の製造方法において、
真空槽内に第１および第２基板を配置し、
真空槽内を真空排気し、
上記第１基板の内面上の所定領域をカバー部材で覆い、上記カバー部材内でゲッタを飛散させることにより上記第１基板の内面の所定領域上にゲッタ膜を形成した後、上記側壁を介して上記第１および第２基板同志を接合することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項８】
上記第１基板のほぼ内面全域をカバー部材で覆い、第１基板のほぼ内面全体に上記ゲッタ膜を形成することを特徴とする請求項７に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項９】
上記真空槽を真空排気した後、上記真空槽内に配置した密閉容器の中でゲッタを飛散させて密閉容器の内面にゲッタ膜を形成し、次いで、上記密閉容器を開放して上記ゲッタ膜を真空槽内に露出させ、真空槽内のガスを吸着することを特徴とする請求項７又は８に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項１０】
所定の隙間を持って対向配置された第１基板および第２基板の周縁部を接合部材を介して互いに接合してなる真空外囲器の製造装置において、
真空槽と、
第１および第２基板を支持したキャリアと、
上記真空槽に対して上記キャリアを搬入および搬出する搬送機構と、
上記真空槽内を真空排気する真空排気装置と、
上記第１基板の所定領域を覆う処理位置と上記第１基板から離間する退避位置との間を移動可能に設けられたカバー部材と、上記カバー部材内に設けられたゲッタと、を有し、上記カバー部材内でゲッタを飛散させ上記カバー部材により覆われた上記所定領域にゲッタ膜を形成するゲッタ機構と、
上記第１および第２基板を加熱および加圧して接合する加熱および加圧機構と、
を備えたことを特徴とする真空外囲器の製造装置。
【請求項１１】
上記ゲッタ機構のカバー部材は上記キャリアに設けられていることを特徴とする請求項１０に記載の製造装置。
【請求項１２】
上記ゲッタ機構は、上記キャリアが上記真空槽内の所定位置に搬入された際、上記真空槽の外方から上記カバー部材を移動させる駆動機構を備えていることを特徴とする請求項１１に記載の製造装置。
【請求項１３】
上記ゲッタ機構は、それぞれ上記第１基板側に開放したほぼ皿状の一対のカバー部材を有し、各カバー部材は、上記第１基板内面のほぼ半分に対応した開口面積を有していることを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の製造装置。
【請求項１４】
内面に蛍光体層が形成された第１基板と、上記第１基板と所定の隙間を置いて対向配置されているとともに上記蛍光体層を励起する蛍光体励起手段が設けられた第２基板と、上記第１および第２基板の周縁部同志を接合した枠状の側壁と、を有する真空外囲器を備えた画像表示装置の製造装置において、
真空槽と、
第１および第２基板を支持したキャリアと、
上記真空槽に対して上記キャリアを搬入および搬出する搬送機構と、
上記真空槽内を真空排気する真空排気装置と、
上記第１基板の所定領域を覆う処理位置と上記第１基板から離間する退避位置との間を移動可能に設けられたカバー部材と、上記カバー部材内に設けられたゲッタと、を有し、上記カバー部材内でゲッタを飛散させ上記カバー部材により覆われた上記所定領域にゲッタ膜を形成するゲッタ機構と、
上記第１および第２基板を加熱および加圧して接合する加熱および加圧機構と、
を備えたことを特徴とする画像表示装置の製造装置。
【請求項１５】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする真空外囲器。
【請求項１６】
請求項７ないし９のいずれか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１７】
請求項１０ないし１３のいずれか１項に記載の製造装置により製造されたことを特徴とする真空外囲器。
【請求項１８】
請求項１４に記載の製造装置により製造されたことを特徴とする画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明に係る製造方法は、第１部材および第２部材を接合してなる真空外囲器の製造方法において、真空槽内に第１および第２部材を配置し、真空槽内を真空排気し、上記第１部材の内面の所定領域をカバー部材で覆い、上記カバー部材内でゲッタを飛散させることにより上記第１部材の内面の所定領域上にゲッタ膜を形成した後、上記第１および第２部材を互いに接合することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
一方、この発明に係る真空外囲器の製造装置は、所定の隙間を持って対向配置された第１基板および第２基板の周縁部を接合部材を介して互いに接合してなる真空外囲器の製造装置において、真空槽と、第１および第２基板を支持したキャリアと、上記真空槽に対して上記キャリアを搬入および搬出する搬送機構と、上記真空槽内を真空排気する真空排気装置と、上記第１基板の所定領域を覆う処理位置と上記第１基板から離間する退避位置との間を移動可能に設けられたカバー部材と、上記カバー部材内に設けられたゲッタと、を有し、上記カバー部材内でゲッタを飛散させ上記カバー部材により覆われた上記所定領域にゲッタ膜を形成するゲッタ機構と、上記第１および第２基板を加熱および加圧して接合する加熱および加圧機構と、を備えたことを特徴としている。