【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホスホン酸残基を生じさせ得るエステル化合物と、カーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物と、２価フェノール残基を生じさせ得る化合物から溶融重合して得られるホスホン酸残基とカーボネート残基を有する樹脂の製造方法であって、下記式（１）〜下記式（３）を満足することを特徴とする樹脂の製造方法。
１≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５                  式（１）
１．０１＜｛（ｃ）＋（ｄ）｝／（ｅ）≦１．５０            式（２）
（ｄ）／（ｅ）≧０．０１                                式（３）
（ここで、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数、（ｃ）はホスホン酸残基を生じさせ得るエステル化合物のモル数、（ｄ）はカーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物のモル数、（ｅ）は２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル数をそれぞれ示す。）
【請求項２】
２価フェノールのモル量に対して０．０１倍〜０．５倍の範囲のモル量のカーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物を重合中に留出させることを特徴とする請求項１記載の樹脂の製造方法。
【請求項３】
ホスホン酸を生じさせ得るエステル化合物と、カーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物と、２価フェノール残基を生じさせ得る化合物と、カーボネート残基と２価フェノール残基を有する重合体から溶融重合して得られるホスホン酸残基とカーボネート残基を有する樹脂の製造方法であって、下記式（４）〜下記式（６）を満足することを特徴とする樹脂の製造方法。
１≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５                          式（４）
１．０１＜｛（ｃ）＋（ｄ）＋（ｆ）｝／｛（ｅ）＋（ｇ）｝≦１．５０  式（５）
｛（ｄ）＋（ｆ）｝／｛（ｅ）＋（ｇ）｝≧０．０１                      式（６）
（ここで、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数、（ｃ）はホスホン酸残基を生じさせ得るエステル化合物のモル数、（ｄ）はカーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物のモル数、（ｅ）は２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル数、（ｆ）はカーボネート残基と２価フェノール残基を有する重合体中のカーボネート残基のモル数、（ｇ）はカーボネート残基と２価フェノール残基を有する重合体中の２価フェノール残基のモル数をそれぞれ示す。）
【請求項４】
２価フェノールのモル量に対して０．０１倍〜０．５倍の範囲のモル量のカーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物を重合中に留出させることを特徴とする請求項３記載の樹脂の製造方法。
【請求項５】
２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル数に対して１０-8〜１０-2モル量の範囲の金属化合物を触媒として用いることを特徴とする請求項１または３記載の樹脂の製造方法。
【請求項６】
ホスホン酸残基を生じさせ得るエステル化合物が、下記一般式（７）
【化１】
2005126575.tif 000001
（式中、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄およびセレン、Ａｒはアリール基からそれぞれ選択される。）で示されるホスホン酸ジアリールエステルであることを特徴とする請求項１または３記載の樹脂の製造方法。
【請求項７】
カーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物がジアリールカーボネートであることを特徴とする請求項１または３記載の樹脂の製造方法。
【請求項８】
２価フェノール残基を生じさせ得る化合物が、下記一般式（８）
一般式（８）
【化２】
2005126575.tif 000002
（式中、Ｒ'は各々独立に水素原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれる。ｐとｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数であり、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基、分岐鎖含有アルキリデン基および分岐鎖含有シクロアルキリデン基からなる群から選ばれる。）で示される２価フェノールであることを特徴とする請求項１または３記載の樹脂の製造方法。
【請求項９】
金属化合物がアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物であることを特徴とする請求項５記載の樹脂の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
１≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５                式（１）
１．０１＜｛（ｃ）＋（ｄ）｝／（ｅ）≦１．５０          式（２）
（ｄ）／（ｅ）≧０．０１                              式（３）
（ここで、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数、（ｃ）はホスホン酸残基を生じさせうるエステル化合物のモル数、（ｄ）はカーボネート残基を生じさせうるエステル化合物のモル数、（ｅ）は２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル数をそれぞれ示す。）
本発明の樹脂の製造方法の他の態様は、ホスホン酸残基を生じさせ得るエステル化合物と、カーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物と、２価フェノール残基を生じさせ得る化合物と、カーボネート残基と２価フェノール残基を有する重合体から溶融重合して得られるホスホン酸残基とカーボネート残基を有する樹脂の製造方法であって、下記式（４）〜下記式（６）を満足することを特徴とする樹脂の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
１≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５                          式（４）
１．０１＜｛（ｃ）＋（ｄ）＋（ｆ）｝／｛（ｅ）＋（ｇ）｝≦１．５０  式（５）
｛（ｄ）＋（ｆ）｝／｛（ｅ）＋（ｇ）｝≧０．０１                      式（６）
（ここで、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数、（ｃ）はホスホン酸残基を生じさせ得るエステル化合物のモル数、（ｄ）はカーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物のモル数、（ｅ）は２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル数、（ｆ）はカーボネート残基と２価フェノール残基を有する重合体中のカーボネート残基のモル数、（ｇ）はカーボネート残基と２価フェノール残基を有する重合体中の２価フェノール残基のモル数をそれぞれ示す。）
また、本発明の好ましい形態によれば、上記２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル量に対して０．０１倍〜０．５倍の範囲のモル量のカーボネート残基を生じさせ得るエステル化合物を重合中に留出させることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の好ましい形態によれば、上記２価フェノール残基を生じさせ得る化合物のモル数に対して１０-8〜１０-2モル量の範囲の金属化合物を触媒として用いることが好ましい。