【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  レチクルの位置決めを行ない、位置決めされた前記レチクル上のパターンを基板に露光する露光装置であって、
第１ステージと、前記第１ステージに載置された前記レチクルを外形基準で位置決めする位置決め機構と、前記位置決め機構により外形基準で位置決めされた前記レチクル上のアライメントマークの位置検出を行なう第１撮像機構とを有する第１位置決め手段と、
第２ステージと、前記第２ステージに載置された前記レチクル上の前記アライメントマークの位置検出を行なう第２撮像機構とを有する第２位置決め手段と、
前記第１ステージから前記第２ステージへ前記レチクルを搬送する搬送手段とを備え、
前記第２撮像機構は、前記第１撮像機構よりも高倍率であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記アライメントマークは前記レチクルの表面上にパターニングされた２つのマークを含み、前記第１撮像機構は前記２つのマークの位置検出を行なうことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記第１位置決め手段、前記第２位置決め手段および前記搬送手段は、前記位置決め機構によって外形基準で位置決めされた前記レチクル上の前記アライメントマークが前記第１撮像機構の検出範囲に収まり、前記第１撮像機構による検出結果に基づいて位置決めされ、前記搬送手段によって前記第１ステージから前記第２ステージに搬送された前記レチクル上の前記アライメントマークが前記第２撮像機構の検出視野内に収まるように配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】  レチクルの位置決めを行ない、位置決めされた前記レチクル上のパターンを基板に露光する露光装置であって、
第１ステージと、前記第１ステージに載置された前記レチクルの表面上にパターニングされた第１マークの位置検出を行なう第１撮像機構とを有する第１位置決め手段と、
第２ステージと、前記第２ステージに載置された前記レチクルの表面上にパターニングされた、前記第１マークとは異なる第２マークの位置検出を行なう第２撮像機構とを有する第２位置決め手段と、
前記第１ステージから前記第２ステージへ前記レチクルを搬送する搬送手段とを備え、
前記第２撮像機構は、前記第１撮像機構よりも高倍率であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】  前記第１位置決め手段は、前記第１撮像機構による位置検出に先立って前記第１ステージに載置された前記レチクルを外形基準で位置決めする位置決め機構をさらに有することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】  前記第１マークは２つのマークを含み、前記第１撮像機構は前記２つのマークの位置検出を行なうことを特徴とする請求項４または５に記載の露光装置。
【請求項７】  前記第１位置決め手段、前記第２位置決め手段および前記搬送手段は、前記第１撮像機構による検出結果に基づいて位置決めされ、前記第１ステージから前記第２ステージに搬送された前記レチクル上の前記第２マークが前記第２撮像機構の検出視野内に収まるように、配置されることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】  前記第２位置決め手段による位置決め処理の実行中に、前記第１ステージに新たに載置されたレチクルに対して前記第１位置決め手段による位置決め処理を実行可能であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】  前記第２のステージに載置された前記レチクルを用いて露光を行なう露光手段をさらに備え、
前記第２位置決め手段による位置決め処理の実行中、または、前記露光手段による露光処理の実行中に、前記第１ステージに新たに載置されたレチクルに対して前記第１位置決め手段による位置決め処理を実行可能であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】  前記第１位置決め手段は、前記第１撮像機構による検出結果に基づいて前記第１ステージを駆動させて前記レチクルの位置決めを行なうことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】  前記第１位置決め手段は、前記第１撮像機構による検出結果に基づいて前記レチクルの外形に突き当たる突き当て部材を用いて前記レチクルの位置決めを行なうことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】  前記第２位置決め手段は、前記第２撮像機構による検出結果に基づいて前記第２ステージを駆動させて前記レチクルの位置決めを行なうことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】    第１ステージに載置されたレチクルを外形基準で位置決めし、第１撮像機構を用いて外形基準で位置決めされた前記レチクル上のアライメントマークの位置検出を行なう工程と、
前記第１撮像機構による検出結果に基づいて前記レチクルを位置決めする工程と、
前記レチクルを前記第１ステージから第２ステージへ搬送する工程と、
第２撮像機構を用いて前記第２ステージに載置されたレチクル上のアライメントマークの位置検出を行なう工程と、
前記第２撮像機構による検出結果に基づいて前記レチクルを位置決めする工程と、
前記レチクル上のパターンを基板に露光する工程とを備え、
前記第２撮像機構は、前記第１撮像機構よりも高倍率であることを特徴とする露光方法。
【請求項１４】    第１撮像機構を用いて第１ステージに載置されたレチクルの表面上にパターニングされた第１マークの位置検出を行なう工程と、
前記第１撮像機構による検出結果に基づいて前記レチクルを位置決めする工程と、
前記レチクルを前記第１ステージから第２ステージへ搬送する工程と、
第２撮像機構を用いて前記第２ステージに載置されたレチクルの表面上にパターニングされた、前記第１マークとは異なる第２マークの位置検出を行なう工程と、
前記第２撮像機構による検出結果に基づいて前記レチクルを位置決めする工程と、
前記レチクル上のパターンを基板に露光する工程と、を備え、
前記第２撮像機構は、前記第１撮像機構よりも高倍率であることを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明の一態様による露光装置は以下の構成を備える。すなわち、
レチクルの位置決めを行ない、位置決めされた前記レチクル上のパターンを基板に露光する露光装置であって、
第１ステージと、前記第１ステージに載置された前記レチクルを外形基準で位置決めする位置決め機構と、前記位置決め機構により外形基準で位置決めされた前記レチクル上のアライメントマークの位置検出を行なう第１撮像機構とを有する第１位置決め手段と、
第２ステージと、前記第２ステージに載置された前記レチクル上の前記アライメントマークの位置検出を行なう第２撮像機構とを有する第２位置決め手段と、
前記第１ステージから前記第２ステージへ前記レチクルを搬送する搬送手段とを備え、
前記第２撮像機構は、前記第１撮像機構よりも高倍率である。
また、上記の目的を達成するための本発明の他の態様による露光装置は以下の構成を備える。すなわち、
レチクルの位置決めを行ない、位置決めされた前記レチクル上のパターンを基板に露光する露光装置であって、
第１ステージと、前記第１ステージに載置された前記レチクルの表面上にパターニングされた第１マークの位置検出を行なう第１撮像機構とを有する第１位置決め手段と、
第２ステージと、前記第２ステージに載置された前記レチクルの表面上にパターニングされた、前記第１マークとは異なる第２マークの位置検出を行なう第２撮像機構とを有する第２位置決め手段と、
前記第１ステージから前記第２ステージへ前記レチクルを搬送する搬送手段とを備え、
前記第２撮像機構は、前記第１撮像機構よりも高倍率である。