【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内に配置される材料に特定処理を施す処理装置と、
前記チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、
前記処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査装置と、
を備える半導体製造システムにおいて、
前記処理装置によって前記材料に特定処理を施しつつ前記スペクトル検出手段によってスペクトルを検出し、検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び前記特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段を備えることを特徴とする製造システム。
【請求項２】
チャンバ内に配置される材料に特定処理を施す処理装置に組み合わせられる製造システムにおいて、
前記チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、
前記処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査装置と、
を備え、
前記処理装置によって前記材料に特定処理を施しつつ前記スペクトル検出手段によってスペクトルを検出し、検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び前記特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段を備えることを特徴とする製造システム。
【請求項３】
材料の特定処理中にスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、
特定処理後の材料の特性検査を行う特性検査装置と、
を備える製造システムにおいて、
前記特定処理中に検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び前記特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段と、
を備えることを特徴とする製造システム。
【請求項４】
前記特定処理は、プラズマ処理であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の製造システム。
【請求項５】
前記スペクトルは、プラズマの発光スペクトルであることを特徴とする請求項４に記載の製造システム。
【請求項６】
前記特性検査装置は、前記特定処理後に、前記材料の表面に形成された素子・配線の抵抗率、膜厚、形状、異物量、トレンチ深さ、成膜ストレス又は特定元素濃度を検出し、検査に合格したものは良品として、合格しないものは不良品とする合否結果として前記評価手段に入力し、
前記評価手段は、前記材料のウエハ番号と共に前記処理装置におけるスペクトル毎の前記合否結果を記憶し、過去に記憶されたスペクトルと前記特性検査の合否結果に基づいて現在のスペクトルを評価する、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか1項に記載の製造システム。
【請求項７】
前記評価手段による評価は、合格となる過去の複数のスペクトルから求められる評価値の範囲内に、現在のスペクトルの評価値が入るか否かで行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか1項に記載の製造システム。
【請求項８】
前記評価手段は、現在のスペクトルの評価結果が合格範囲外の場合には、前記特定処理を行う処理装置を停止させる、又は前記材料を前記処理装置のチャンバ内から排出することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか1項に記載の製造システム。
【請求項９】
処理装置のチャンバ内の材料に特定処理を施しつつ、前記チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出工程と、
前記処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査工程と、
を備える製造方法において、
前記スペクトル検出工程において検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び前記特性検査工程の特性検査結果に基づいて評価する評価工程を備えることを特徴とする製造方法。
【請求項１０】
前記特定処理は、プラズマ処理であることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記スペクトルは、プラズマの発光スペクトルであることを特徴とする請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記特性検査工程は、前記特定処理後に、前記材料の表面に形成された素子・配線の抵抗率、膜厚、形状、異物量、トレンチ深さ、成膜ストレス又は特定元素濃度を検出し、検査に合格したものは良品として、合格しないものは不良品とする合否結果として前記評価工程を行う評価手段に入力し、
前記評価手段は、前記材料のウエハ番号と共に前記処理工程におけるスペクトル毎の前記合否結果を記憶し、過去に記憶されたスペクトルと前記特性検査の合否結果に基づいて現在のスペクトルを評価する、
ことを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記評価工程の評価は、合格となる過去の複数のスペクトルから求められる評価値の範囲内に、現在のスペクトルの評価値が入るか否かで行うことを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項１４】
現在のスペクトルの評価結果が合格範囲外の場合には、前記処理装置を停止させる工程、又は前記材料を前記チャンバ内から排出する工程を更に備えることを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか1項に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するため、請求項１に記載の半導体製造システムは、チャンバ内に配置される材料に特定処理を施す処理装置と、チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査装置と、を備える半導体製造システムにおいて、処理装置によって材料に特定処理を施しつつスペクトル検出手段によってスペクトルを検出し、検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段を備えることを特徴とする。
請求項２の製造システムは、上記製造システムにおいて、チャンバ内に配置される材料に特定処理を施す処理装置に組み合わせられる製造システムにおいて、上記チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、上記処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査装置と、を備え、上記処理装置によって上記材料に特定処理を施しつつ上記スペクトル検出手段によってスペクトルを検出し、検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び上記特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段を備えることを特徴とする。
請求項３の製造システムは、材料の特定処理中にスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、特定処理後の材料の特性検査を行う特性検査装置と、を備える製造システムにおいて、上記特定処理中に検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び上記特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段と、を備えることを特徴とする。
請求項４の製造システムは、上記製造システムにおいて、上記特定処理は、プラズマ処理であることを特徴とする。
請求項５の製造システムは、上記製造システムにおいて、上記スペクトルは、プラズマの発光スペクトルであることを特徴とする。
請求項６の製造システムでは、上記製造システムにおいて、上記特性検査装置は、上記特定処理後に、上記材料の表面に形成された素子・配線の抵抗率、膜厚、形状、異物量、トレンチ深さ、成膜ストレス又は特定元素濃度を検出し、検査に合格したものは良品として、合格しないものは不良品とする合否結果として上記評価手段に入力し、上記評価手段は、上記材料のウエハ番号と共に上記処理装置におけるスペクトル毎の上記合否結果を記憶し、過去に記憶されたスペクトルと上記特性検査の合否結果に基づいて現在のスペクトルを評価する、ことを特徴とする。
請求項７の製造システムは、上記製造システムにおいて、上記評価手段による評価は、合格となる過去の複数のスペクトルから求められる評価値の範囲内に、現在のスペクトルの評価値が入るか否かで行うことを特徴とする。
請求項８の製造システムは、上記製造システムにおいて、上記評価手段は、現在のスペクトルの評価結果が合格範囲外の場合には、上記特定処理を行う処理装置を停止させる、又は前記材料を前記処理装置のチャンバ内から排出することを特徴とする。
請求項９の製造方法は、処理装置のチャンバ内の材料に特定処理を施しつつ、上記チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出工程と、上記処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査工程と、を備える製造方法において、上記スペクトル検出工程において検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び上記特性検査工程の特性検査結果に基づいて評価する評価工程を備えることを特徴とする。
請求項１０の製造方法では、上記製造方法において、上記特定処理は、プラズマ処理であることを特徴とする。
請求項１１の製造方法では、上記製造方法において、上記スペクトルは、プラズマの発光スペクトルであることを特徴とする。
請求項１２の製造方法では、上記製造方法において、上記特性検査工程は、上記特定処理後に、上記材料の表面に形成された素子・配線の抵抗率、膜厚、形状、異物量、トレンチ深さ、成膜ストレス又は特定元素濃度を検出し、検査に合格したものは良品として、合格しないものは不良品とする合否結果として上記評価工程を行う評価手段に入力し、上記評価手段は、上記材料のウエハ番号と共に上記処理工程におけるスペクトル毎の上記合否結果を記憶し、過去に記憶されたスペクトルと上記特性検査の合否結果に基づいて現在のスペクトルを評価する、ことを特徴とする。
請求項１３の製造方法では、上記製造方法において、上記評価工程の評価は、合格となる過去の複数のスペクトルから求められる評価値の範囲内に、現在のスペクトルの評価値が入るか否かで行うことを特徴とする。
請求項１４の製造方法では、上記製造方法において、現在のスペクトルの評価結果が合格範囲外の場合には、上記処理装置を停止させる工程、又は前記材料を前記チャンバ内から排出する工程を更に備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の製造システム及び製造方法によれば、過去のスペクトルと特性検査結果を用い、現在処理中のスペクトルを処理中或いは処理直後に評価できるため、不良品の製造を事前に抑制することができる。