【手続補正書】
【提出日】平成19年12月12日(2007.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、選択的CYP26B阻害剤の使用であって、前記選択的CYP26B阻害剤が、CYP26Aと比較してCYP26Bに対し少なくとも10倍の選択性を有する、使用。
【請求項２】
前記阻害剤が末梢投与される、請求項１記載の使用。
【請求項３】
前記阻害剤が経口投与される、請求項２記載の使用。
【請求項４】
前記個体がヒトである、請求項１記載の使用。
【請求項５】
前記選択的CYP26B阻害剤が式：
2007515433.tif 000001
（式中、
R＝t-ブチル、CH2N(Me)(cyc-Pr)、又はN(Me)(cyc-Pr);及び
X＝H又はMe）
を有する、請求項１記載の使用。
【請求項６】
前記選択的CYP26B阻害剤が式：
2007515433.tif 000002
（式中、
R＝t-ブチル、CH2N(Me)(cyc-Pr)、又はN(Me)(cyc-Pr);及び
X＝H又はMe）
を有する、請求項１記載の使用。
【請求項７】
前記選択的CYP26B阻害剤が式：
2007515433.tif 000003
（式中、
n＝0又は1;及び
R1＝R2＝Me;
X＝O、S、ここでR＝低級アルキル;及び
Y＝シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、低級アルコキシ、ハロ、
若しくはハロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝-CH2CH2-;
X＝O若しくはS;及び
Y＝シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、低級アルコキシ、ハロ、
若しくはハロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝-CHCH2N(Me)(cyc-Pr);及び
Y＝H、低級アルキル、シクロアルキル、アルケニル、低級アルコキシ、ハロ、
若しくはハロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝CMe2;及び
Y＝H、低級アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、
低級アルコキシ、ハロ若しくはハロアルキル）
を有する、請求項１記載の使用。
【請求項８】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000004
（式中、
R3＝H若しくは低級アルキル;及び
R1＝R2＝H、Me若しくはEt;
X＝O若しくはS;及び
Y＝CH2N(Me)(cyc-Pr)、H、ハロ、OH、低級アルコキシ、低級アルキル、
ハロアルキル、シクロアルキル、アルケニル、若しくはアルキニル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝H(C)CH2N(Me)(cyc-pr);及び
Y＝H、ハロ、低級アルコキシ、低級アルキル、シクロアルキル若しくは
ハロアルキル;又は
R1＝Me、
R2＝H;
X＝C＝O;及び
Y＝H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルコキシ、シクロアルキル、
アルケニル若しくはアルキニル）
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項９】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000005
（式中、
R3＝H若しくは低級アルキル;
R1＝R2＝H、Me若しくはEt;
X＝O若しくはS;及び
Y＝CH2N(Me)(cyc-Pr)、H、ハロ、OH、低級アルコキシ、低級アルキル、
ハロアルキル、シクロアルキル、アルケニル、若しくはアルキニル;又は
R3＝H若しくは低級アルキル;及び
R1＝Me;
R2＝H;
X＝H(C)CH2N(Me)(cyc-Pr);及び
Y＝H、ハロ、低級アルコキシ、低級アルキル、シクロアルキル若しくは
ハロアルキル;又は
R3＝H若しくは低級アルキル;及び
R1＝Me;
R2＝H;
X＝C＝O;及び
Y＝H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルコキシ、シクロアルキル、
アルケニル若しくはアルキニル）
又はその薬学的に許容され得る塩、エステル、アミド、立体異性体若しくはラセミ混合物
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項１０】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000006
（式中、
R1＝R2＝Me;
X＝O若しくはS;及び
Y＝CH2N(Me)(cyc-Pr)、OR、COOR、ここでR＝低級アルキル、 
シクロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝H(C)CH2N(Me)(cyc-Pr);及び
Y＝OR、COORここでR＝低級アルキル、若しくはシクロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝C＝O;及び
Y＝アルケニル）、
又はその薬学的に許容され得る塩、エステル、アミド、立体異性体若しくはラセミ混合物
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項１１】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000007
（式中、
R1＝R2＝Me;
X＝O若しくはS;及び
Y＝低級アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、CH2N(Me)(cyc-Pr)、OR、
若しくはCOOR、ここでR＝低級アルキル、若しくはシクロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝H(C)CH2N(Me)(cyc-Pr);及び
Y＝低級アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、OR、COOR、
ここでR＝低級アルキル若しくはシクロアルキル;又は
R1＝Me;
R2＝H;
X＝C＝O;及び
Y＝アルケニル、低級アルキル、若しくはシクロアルキル）
又はその薬学的に許容され得る塩、エステル、アミド、立体異性体若しくはラセミ混合物
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項１２】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000008
（式中、
R3＝低級アルキル;及び
R1＝H及びR2＝H;並びに
Y＝アルケニル、若しくはアルキニル;又は
R1＝Me及びR2＝H若しくはMe;並びに
Y＝低級アルキル、アルケニル、若しくはアルキニル;又は
R1＝H若しくはMe及びR2＝Me;並びに
Y＝低級アルキル、アルケニル、若しくはアルキニル）
又はその薬学的に許容され得る塩、エステル、アミド、立体異性体若しくはラセミ混合物
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項１３】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000009
（式中、
R＝低級アルキル；および
R１＝H、および
R２＝Me；または
R１＝R２＝MeもしくはH）
またはその薬学的に許容され得る塩、エステル、アミド、立体異性体もしくはラセミ混合物
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項１４】
レチノイド反応性障害を有する個体を処置するための医薬の製造における、式：
2007515433.tif 000010
（式中、
X＝COOR、C(CH３)２COOR、CH２N(CH３)(cyc-Pr)、ここでR＝低級アルキル；
Y＝H、低級アルキル、ハロアルキル、アルケニルもしくはアルキニル；ならびに
R１＝HおよびR２＝Me；または
R１＝R２＝MeもしくはH）
またはその薬学的に許容され得る塩、エステル、アミド、立体異性体もしくはラセミ混合物
を有する選択的CYP26A阻害剤の使用。
【請求項１５】
前記レチノイド反応性障害が皮膚障害である、請求項１〜１４いずれか記載の使用。
【請求項１６】
前記レチノイド反応性障害が、自己免疫性障害、炎症性障害、増殖性障害、神経障害、視覚障害、および肺障害から成る群より選択される障害である、請求項１〜１４いずれか記載の使用。
【請求項１７】
前記皮膚障害が、ざ瘡である、請求項１６記載の方法。