Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月7日(2008.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ感知領域を覆う電気抵抗膜と、
前記抵抗膜の上に配置され前記タッチ感知領域を包囲する間隙によって隔てられた２つ以上の実質的に平行な多角形の行の導電性セグメントと、を含み、各行の各縁は２つの端部の導電性セグメントの間に配置される１つ以上の中間部の導電性セグメントを有し、前記行の１つにおける第１の中間部の導電性セグメントは隣接する行における第２の中間部の導電性セグメントに完全に重なり、前記第１の中間部の導電性セグメントおよび前記第２の中間部の導電性セグメントの重なる部分は完全重畳領域を規定し、
前記完全重畳領域における前記抵抗膜に配置され、前記第１の中間部の導電性セグメントと前記第２の中間部の導電性セグメントとの間の電気抵抗を増大するための第１の離散的な電気絶縁性セグメントを含むタッチセンサ。
【請求項２】
前記完全重畳領域における前記抵抗膜に配置される１つ以上の別の離散的な電気絶縁性セグメントをさらに含む、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項３】
前記電気絶縁性セグメントは、前記完全重畳領域に限定される、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項４】
最も外側の行に近い前記電気絶縁性セグメントは、前記最も外側の行から遠い前記電気絶縁性セグメントより長い、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項５】
隣接する行における第４の導電性セグメントと部分的に重なる前記行の１つにおける第３の導電性セグメントをさらに含み、前記第３の導電性セグメントおよび前記第４の導電性セグメントの重なる部分は部分重畳領域を規定し、
前記部分重畳領域における前記抵抗膜に配置される第２の離散的な電気絶縁性セグメントをさらに含む、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項６】
隣接する行における第５の導電性セグメントと重なる前記行の１つにおける第１の間隙をさらに含み、前記第１の間隙と前記第５の導電性セグメントとの間の重なる部分は非重畳領域を規定し、
前記非重畳領域における前記抵抗膜に配置される第３の離散的な電気絶縁性セグメントをさらに含む、請求項１に記載のタッチセンサ。
【請求項７】
タッチ感知領域を覆う電気抵抗膜と、
前記抵抗膜の上に配置され、前記タッチ感知領域を包囲する２つ以上の実質的に平行な多角形の行の離散的な導電性セグメントと、を含み、各行の各縁は２つの端部の導電性セグメントの間に配置される１つ以上の中間部の導電性セグメントを有し、前記行の１つにおける第１の中間部の導電性セグメントは隣接する行における第２の中間部の導電性セグメントに完全に重なり、
前記第１の中間部の導電性セグメントと前記抵抗膜との間に配置され、前記第１の中間部の導電性セグメントと前記第２の中間部の導電性セグメントとの間の電気抵抗を増大するための第１の離散的な電気絶縁性セグメントを含むタッチセンサ。
【請求項８】
電気抵抗膜と、
前記抵抗膜の上に配置される２つの実質的に平行な行の離散的な導電性セグメントと、各行における隣接する離散的な導電性セグメントを隔てる間隙と、他の行における第２の導電性セグメントと完全に重なるある行における第１の導電性セグメントであって、前記第１の導電性セグメントと前記第２の導電性セグメントとの間の重畳領域が完全重畳領域を規定する第１の導電性セグメントと、他の行における第３の導電性セグメントと重なるある行における第１の間隙であって、前記第１の間隙と前記第３の導電性セグメントとの間の重畳領域が非重畳領域を規定する第１の間隙と、を含み、前記完全重畳領域および前記非重畳領域のそれぞれが少なくとも１つの離散的な電気絶縁性セグメントを含むタッチセンサ。
【請求項９】
タッチ感知領域を覆う電気抵抗膜と、
前記タッチ感知領域の周囲の前記抵抗膜の上に配置され、前記タッチ感知領域における電界を直線化するための直線化パターンと、を含み、前記直線化パターンは複数の側面を有し、前記直線化パターンの側面内部の局所領域で平行電流および垂直電流を導電するように構成され、前記平行電流は前記局所領域で前記直線化パターンの前記側面に平行な方向に流れ、前記垂直電流は前記局所領域で前記直線化パターンの前記側面に垂直な方向に流れ、
前記局所領域内部に配置される少なくとも１つの離散的な電気絶縁性セグメントを含み、前記電気絶縁性セグメントは前記平行電流に実質的に作用することなく、前記直線化パターンの前記側面に沿って電圧分布を制御するために、前記垂直電流に実質的に作用するタッチセンサ。
【請求項１０】
タッチ感知領域を覆う電気抵抗膜と、
前記タッチ感知領域の周囲の前記抵抗膜の上に配置され、前記タッチ感知領域における電界を直線化するための多角形の直線化パターンと、を含み、前記直線化パターンは複数の側面を有しかつ前記直線化パターンの側面内部の局所領域における平行な電圧勾配および垂直な電圧勾配を形成するように構成され、前記平行な電圧勾配は前記局所領域で前記直線化パターンの前記側面に平行な方向にあり、前記垂直な電圧勾配は前記局所領域で前記直線化パターンの前記側面に垂直な方向にあり、
前記局所領域内部に配置される少なくとも１つの離散的な電気絶縁性セグメントを含み、前記電気絶縁性セグメントは前記平行な電圧に実質的に作用することなく、前記直線化パターンの前記側面に沿って電圧分布を制御するために、前記垂直な電圧勾配に実質的に作用するタッチセンサ。
【請求項１１】
タッチ感知領域を覆う電気抵抗膜と、
前記抵抗膜の上に配置され前記タッチ感知領域を包囲する間隙によって隔てられた２つ以上の実質的に平行な多角形の行の導電性セグメントと、を含み、各行の各縁は２つの端部の導電性セグメントの間に配置される１つ以上の中間部の導電性セグメントを有し、第１の行における第１の中間部の導電性セグメントは前記第１の行に隣接する第２の行における第２の中間部の導電性セグメントに完全に重なり、前記第１の中間部の導電性セグメントおよび前記第２の中間部の導電性セグメントの重なる部分は完全重畳領域を規定し、第３の行における第１の間隙は前記第３の行に隣接する第４の行における第３の導電性セグメントと重なり、前記第１の間隙と前記第３の導電性セグメントとの間の前記重畳領域は非重畳領域を規定し、
前記完全重畳領域および前記非重畳領域の少なくとも１つの電気抵抗を増大するための手段を含み、前記完全重畳領域における電気抵抗は前記第１の中間部の導電性セグメントと前記第２の中間部の導電性セグメントとの間で測定され、前記非重畳領域における電気抵抗は前記第１の間隙と前記第３の導電性セグメントとの間で測定されるタッチセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月14日(2008.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インフルエンサ構造であって、
１つの誘導領域と１つまたは複数の境界領域を有する導波管の１つまたは複数の放射線を伝播する誘電体構造内に配置される導電素子であって、前記導波管の振幅制御特性に影響を及ぼすためにインフルエンサ信号に応える前記導電素子と、
前記導電素子に前記インフルエンサ信号を通信するための結合システムと、
を含んでいることを特徴とするインフルエンサ構造。
【請求項２】
導電素子は導波管の伝達軸に対して平行に磁場を生じさせることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項３】
導電素子は導波管の伝達軸に対して螺旋形の向きを有する部分を含むことを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項４】
導電素子は誘導領域内あるいはその周囲に配置されることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項５】
導電素子は１つまたは複数の境界領域の内に配置されることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項６】
導電素子は、それぞれが結合システムに通信される一連の連続導電素子を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項７】
捻られていないコア領域と協調して配置された、捻られた境界領域を有していることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項８】
導電素子は微細構造のドーピングされたロッドを含んでいることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項９】
導電素子は導波管の誘電体素子に印刷されることを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項１０】
導波管を操作する方法であって、
ａ）１つの誘導領域と１つまたは複数の境界領域を有する導波管の１つまたは複数の放射線伝播誘電体構造の中に配置される導電素子にインフルエンサ信号を通信するステップと、
ｂ）前記導波管の振幅制御特性に、前記インフルエンサ信号に応えて影響を及ぼすステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項１１】
導電素子は導波管の伝達軸に対して平行に磁場を生じさせることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ａ）導波管の１つまたは複数の放射線伝播誘電体構造と導電素子を、前記導波管の製造中に関連付けるステップであって、前記導波管は１つの誘導領域と１つまたは複数の境界領域とを有し、前記導電素子が前記誘導領域内での磁場の生成により前記導波管の振幅制御特性に影響を及ぼすためにインフルエンサ信号に応えるステップと、
ｂ）前記導電素子に前記インフルエンサ信号を通信するための結合システムを形成するステップと、
を含んでいることを特徴とする製造方法。
【請求項１３】
関連付けるステップは、導電素子を含む導電素子構造で誘電体構造をコーティングまたはラッピングするステップを含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
導電素子構造は導電素子と共に配置されるテープを含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１５】
導電素子は導電性高分子材料を含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１６】
関連付けるステップは、誘導チャネルの回りに配置される螺旋形の導電素子を作り出すために導波管製造プリフォームを捻るステップを含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１７】
捻りプロセスはファイバ引き抜きステップ前、最中あるいは後に実行されることを特徴とする請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
捻りが捻れ周期性を有する、捻れたファイバを作り出し、方法は捻れ周期性を保持するために導波管の回りに被覆物を配置するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１９】
被覆物は捻りプロセス前、最中または後に配置されることを特徴とする請求項１８に記載の製造方法。
【請求項２０】
関連付けるステップは、導電素子を含む導電素子構造付きの誘電体構造を印刷または埋め込むステップを含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項２１】
導波管は１つまたは複数のフォトニック結晶構造を含み、関連付けるステップは、誘電体構造内に、導電素子を含む導電素子構造として、１つまたは複数の導電性の長手方向フォトニック構造素子を提供するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項２２】
導電素子は製造中に１つまたは複数の導電性の長手方向フォトニック構造素子を捻ることから生じることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月19日(2008.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特に半導体素子製造用投影露光システムの投影レンズハウジングにおける、光学要素を取り付けるためのハウジング構造であって、支持構造に接続するための接続部品を有する取り付け箇所が、構造要素（９、１０）上に設けられており、さらに、接続部品が、支持構造（１１）に接続するための取り付けフランジ（１３）を備えた支持要素（１２）を含んでおり、さらにまた、支持要素（１２）が、支持力、特に重量力が、圧力及びせん断力により基本的に吸収されるように、構造要素上（９、１０）へ接続されていることを特徴とするハウジング構造。
【請求項２】
構造要素（９、１０）と、支持要素（１２）と、付随する取り付けフランジ（１３）との間の接続が、基本的に接着面（１７ａ、１７ｂ、１７ｃ）によって可能となることを特徴とする請求項１に記載のハウジング構造。
【請求項３】
構造要素（９、１０）が、ガラス、セラミック及びガラスセラミックを含むグループが属する部材で製作されていることを特徴とする請求項１に記載のハウジング構造。
【請求項４】
支持要素（１２）が金属製の支持要素（１２）を含むことを特徴とする請求項１に記載のハウジング構造。
【請求項５】
周囲に分配された、少なくとも３個の支持要素（１２）が、構造要素（９、１０）に作用することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のハウジング構造。
【請求項６】
支持要素（１２）が、少なくともほぼ中央に配置された構造強化プレート（１０）に作用することを特徴とする請求項５に記載のハウジング構造。
【請求項７】
支持要素（１２）がそれぞれ、少なくともほぼＬ字型であり、取り付けフランジ（１３）を備えていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のハウジング構造。
【請求項８】
付随する構造要素（９、１０）が、Ｌ字型の水平脚上に位置し、さらにＬ字型の垂直脚が構造要素（９、１０）の外周に接しており、取り付けフランジ（１３）が少なくともほぼ水平方向に、Ｌ字型の垂直脚に接していることを特徴とする請求項７に記載のハウジング構造。
【請求項９】
支持要素（１２）のＬ字型の２つの脚と、付随する構造要素（９、１０）との間に、接着面が配されていることを特徴とする請求項８に記載のハウジング構造。
【請求項１０】
Ｌ字型の水平脚部分における構造要素（９、１０）に貫通穴（２０）が提供されており、予め応力が加えられたネジ（１８ａ）が該貫通穴を貫通しており、さらに該ネジがＬ字型の水平脚（１５）に接続されていることを特徴とする請求項７、８又は９に記載のハウジング構造。
【請求項１１】
Ｌ字型の垂直脚（１６）部分における構造要素（９、１０）に貫通穴（２１）が提供されており、予め応力が加えられたネジ（１８ｂ）が該貫通穴を貫通しており、さらに該ネジによりＬ字型の垂直脚（１６）が構造要素（９、１０）に接続されていることを特徴とする請求項７、８又は９に記載のハウジング構造。
【請求項１２】
支持要素（１２）が、断面で見るとＵ字型であり、さらに該支持要素から固定フランジ（１３）が分岐しており、付随する構造要素（９、１０）がＵ字型の２つの脚の間に納まっていることを特徴とする請求項１〜５の１つに記載のハウジング構造。
【請求項１３】
構造要素（９、１０）に貫通穴（２０）が提供されており、ネジ（１８ｃ）が該貫通穴を貫通しており、さらに該ネジが支持要素（１２）のＵ字型の２つの脚に接続され、この２つの脚（１５、２２）が、予め加えられた応力を、構造要素（９、１０）に及ぼすことを特徴とする請求項１２に記載のハウジング構造。
【請求項１４】
支持要素（１２）は、互いに距離を置いて配置された２つの固定プレート（１５、２２）を有しており、該固定プレートの間には付随する構造要素（９、１０）が納まっており、また周辺プレート（１６）が構造要素（９、１０）の外壁に平行に配置されており、さらに取り付けフランジ（１３）が２つの固定プレート（１５、２２）と周辺プレート（１６）とに接続されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載のハウジング構造。
【請求項１５】
取り付けフランジ（１３）が少なくともほぼＴ字型であり、該Ｔ字型の１つの脚は取り付けフランジを形成しており、この脚と直角に配置された脚（２４）に接続要素が配置され、さらにこの接続要素によって、２つの固定プレート（１５、２２）と周辺プレート（１６）が取り付けフランジ（１３）に接続されていることを特徴とする請求項１４に記載のハウジング構造。
【請求項１６】
接続要素がバネ要素（１９）を有するネジ（１８ｅ）として設計されていることを特徴とする請求項１５に記載のハウジング構造。
【請求項１７】
接着面（１７ａ、１７ｂ、１７ｃ）が、固定プレート（１５、２２）と、周辺プレート（１６）と、構造要素（９、１０）との間に配置されていることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれか１つに記載のハウジング構造。
【請求項１８】
２つの固定プレート（１５、２２）にネジ（１８ｄ）が提供されており、該ネジが構造要素（９、１０）に締め込まれており、さらに予め加えられた応力が接着面（１７ａ、１７ｃ）上に及ぶことを特徴とする請求項１４〜１７の１つに記載のハウジング構造。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動力手段と、
該動力手段により駆動される駆動端部、および動力手段を持たない非駆動端部を有するコンベアとを含み、該コンベアは、
一定の間隔を置いて互いに平行であり、それぞれがエンドレスループを形成する第１の駆動部材および第２の駆動部材と、
連続して配設され、第１の駆動部材および第２の駆動部材へ固定されたパレットまたは階段などの、複数の搬送プラットホームと、
前記駆動端部に配置され、第１の駆動部材が通過する第１の駆動用プーリであって、前記動力手段により回転可能な第１の駆動用プーリと、
前記非駆動端部に配置され、第１の駆動部材が通過する第１の方向転換用プーリと、
前記駆動端部に配置され、第２の駆動部材が通過する第２の駆動用プーリであって、前記動力手段により回転可能な第２の駆動用プーリと、
前記非駆動端部に配置され、第２の駆動部材が通過する第２の方向転換用プーリと、
前記駆動端部に配設され、第１の駆動用プーリおよび第２の駆動用プーリを互いに同期化する第１の同期化手段とを含む動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記コンベアは、第２の同期化手段を含み、第２の同期化手段は、前記非駆動端部に配設され、第１の方向転換用プーリおよび第２の方向転換用プーリを互いに同期化することを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項２】
請求項１に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記駆動端部における第１の同期化手段は、
前記動力手段と連結して回転する第１の同期シャフトと、
第１の同期シャフトに設けられた第３の駆動用プーリと、
第１の駆動用プーリと同じシャフトに設けられた第３の方向転換用プーリと、
第３の駆動プーリおよび第３の方向転換用プーリ上をエンドレスループとして通過する第３の駆動部材と、
第１の同期シャフトに第３の駆動用プーリから一定の距離を置いて設けられた第４の駆動用プーリと、
第２の駆動用プーリと同じシャフトに設けられた第４の方向転換用プーリと、
第４の駆動用プーリおよび第４の方向転換用プーリ上をエンドレスループとして通過する第４の駆動部材とを含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項３】
請求項１または２の前段に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記非駆動端部における第２の同期化手段は、
第２の同期シャフトと、
第２の同期シャフトに設けられた第５の方向転換用プーリと、
第１の方向転換用プーリと同じシャフトに設けられた第６の方向転換用プーリと、
第５の方向転換用プーリおよび第６の方向転換用プーリ上をエンドレスループとして通過する第５の駆動部材と、
第２の同期シャフトに第５の方向転換用プーリから一定の距離を置いて設けられた第７の方向転換用プーリと、
第２の方向転換用プーリと同じシャフトに設けられた第８の方向転換用プーリと、
第７の方向転換用プーリおよび第８の方向転換用プーリ上をエンドレスループとして通過する第６の駆動部材とを含むことを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項４】
請求項３に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第１の方向転換用プーリの回転軸は、第２の方向転換用プーリの回転軸と同じ第１の軸線上にあり、第２の同期シャフトは、第１の軸線から一定の距離を置いたところにあることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項５】
請求項４に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第２の同期シャフトは、前記搬送プラットホームの運動軌道の外側にあることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項６】
請求項４に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、前記搬送プラットホームの運動軌道は、上部搬送部分と、下部戻り部分とを含み、第２の同期シャフトは、該搬送プラットホームの運動軌道の内側で、該搬送部分と戻り部分との間に配設されていることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項７】
請求項３ないし６のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第１の駆動用プーリの回転軸は、第２の駆動用プーリの回転軸と同じ第２の軸線上にあり、第１の同期シャフトは、第２の軸線から一定の距離を置いたところにあることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項８】
請求項７に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第１の同期シャフトは、前記搬送プラットホームの運動軌道の外側にあることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項９】
請求項７に記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第１の同期シャフトは、前記搬送プラットホームの運動軌道の内側で、前記搬送部分と戻り部分との間に配設されていることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第１の駆動部材および第２の駆動部材は、リンクチェーンであることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、第１の駆動部材および第２の駆動部材は、歯付ベルトであることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータにおいて、該動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータは、床または他の支持体などの固定基盤に設けられた低構造の動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータであることを特徴とする動く歩道、動くスロープ、またはエスカレータ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
ウインドスクリーンワイパ装置１は、さらに、揺動ワイパアーム８のためのプラスチック材料の連結装置７で構成されている。連結装置７は、この連結装置７と一体である締め付け固定部材を備え、この締め付け固定部材は、互いに反対向きのストリップ４の丸い縦方向側部に係合し、この結果として、連結装置７は、ワイパブレード２とストリップ４とから成るユニットに堅固に取り付けられている。揺動ワイパアーム８は、その一方の末端に近い回動軸を中心として連結装置７に回動自在に連結されている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子フィルタであって、
フルオロポリマー・フィルタ膜と、
前記フィルタ膜の第１および第２の面上に印刷された識別記号と、
前記フィルタ膜の外縁部に融着された支持リングとを備え、
前記微粒子フィルタが実質的に非吸湿性であり、水分が不変で、有機溶媒による溶解に対してほぼ不活性の微粒子フィルタ。
【請求項２】
前記フィルタ膜が、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）材料を含み、前記支持リングが前記フィルタ膜に溶着されている請求項１に記載の微粒子フィルタ。
【請求項３】
前記支持リングが、ＰＴＦＥ；テトラフルオロエチレン、パーフルオロビニルエーテルおよびパーフルオロアルコキシのポリマー；テトラフルオロエチレンとエチレンのポリマー；フッ化ポリビニリデン；テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンのポリマー；エチレン−クロロトリフルオロエチレン・コポリマー；ポリメチルペンテン；ポリエステル；ポリプロピレン；ポリエチレン；金属箔；および成形可能なサーモプラスチックからなるグループから選択した材料を含む請求項２に記載の微粒子フィルタ。
【請求項４】
前記フィルタ膜が、ＰＴＦＥ材料および前記微粒子フィルタの導電特性を変えるために、炭素充填材、炭素粉末、炭素繊維およびセラミック材料からなるグループから選択した材料を含む請求項２に記載の微粒子フィルタ。
【請求項５】
微粒子フィルタを使用して分析重量測定計量を行うための方法であって、
フルオロポリマー・フィルタ膜およびパーフルオロアルコキシ・ポリマー支持リングを備える微粒子フィルタを周囲の試験前の環境と平衡させるステップと、
前記微粒子フィルタの第１および第２の面に印刷された識別記号により前記微粒子フィルタを識別するステップと、
前記微粒子フィルタ上に蓄積した静電荷を消散させるステップと、
前記微粒子フィルタを予備計量するステップと、
前記微粒子フィルタを使用して試験的使用を行うステップと、
前記微粒子フィルタを周囲の試験後の環境と平衡させるステップと、
前記微粒子フィルタのクリーンな面上に印刷された前記識別記号により前記微粒子フィルタを識別するステップと、
前記微粒子フィルタを後計量するステップと、
前記予備計量および前記後計量に基づいて試験的使用中に前記微粒子フィルタにより集めた微粒子の正味の重量を測定するステップとを含む方法。
【請求項６】
微粒子フィルタを使用して多環式芳香族炭化水素（ＰＡＨ）を検出するための方法が、
前記フィルタ膜の第１および第２の面に印刷してある識別記号により、ポリテトラフルオロエチレン・フィルタ膜およびパーフルオロアルコキシ・ポリマー支持リングを備える微粒子フィルタを識別するステップと、
前記フィルタにより微粒子サンプルを収集するステップと、
前記フィルタ膜の前記第１および第２の面の少なくとも一方上に印刷された前記識別記号により前記フィルタを識別するステップと、
前記フィルタから微粒子サンプルを抽出するステップと、
ＰＡＨの抽出したサンプルを分析するステップとを含む方法。
【請求項７】
分析重量測定計量のために使用する微粒子フィルタを製造するための方法であって、
フルオロポリマーを含むフィルタ膜に、パーフルオロアルコキシのポリマーを含む支持リングを溶着するステップと、
前記フィルタ膜の第１の面上に識別記号を印刷するステップと、
前記第１の面上の前記識別記号から偏倚している前記フィルタ膜の第２の面上に前記識別記号を印刷するステップとを含む方法。
【請求項８】
微粒子フィルタであって、
フルオロポリマー膜と、
ポリプロピレン支持体スクリムとを含み、
前記ポリマー支持体スクリムが、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンおよびポリアミドからなるグループから選択した材料を含む微粒子フィルタ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
接合面の加熱および結合の前に、第１の部分に燃焼ボウルを最終機械加工することと、第２の部分にピン突起およびピン穴を最終機械加工することとを含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第１の部分１２は、燃焼ボウル１８および任意に１つ以上のバルブポケット２０を有して形成される上部壁１６を有する。燃焼ボウル１８は、ピストン１０の長手方向の軸Ａを中心に対称形である場合もあれば、特定の用途によって要求されれば、示されるように非対称形である場合もある。バルブポケット２０は、下部部分１４に対して非対称形である。言い換えれば、バルブポケット２０および燃焼ボウル１８は、下部部分１４に対して特定の位置または向きを有するように形成され、そのため、このような非対称形の機能がピストン１０にもたらされる場合、下部部分１４に対するバルブポケット２０の角位置および燃焼ボウルの位置１８はピストン１０の動作に極めて重要である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上部頭頂部１２および下部頭頂部１４の外壁２４、４２は、径方向に縮小されたまたは括れた領域６４、６６を有して自由な端部に隣接して形成されてもよく、径方向に縮小されたまたは括れた領域６４、６６は、より薄く、括れた領域６４、６６から離れたすぐのところにある壁２４、４２の領域における断面である。接合面２８、４６は、好ましい実施例に従って、括れた領域６４、６６の自由な端部に形成され、そのため、頭頂部１２、１４が図５に示されるように接合されるとき、オイル排液溝６８がピストンにおいてピン突起３４のすぐ上に形成され、溶接接合部７０が接合面２６、４４および２８、４６の位
置においてそれぞれにオイル排液溝６８を横切って形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調温可能な設置面（２）と凝縮面（５）とを有する室（１）を使用して生産物をフリーズドライする方法であって、生産物から水蒸気の形で発生する水が前記凝縮面の表面に結露し、フリーズドライプロセスの経過する間に、該プロセスのドキュメンテーションと制御とのための測定が実施され、該測定が生産物と前記凝縮面（５）との間の水蒸気流の連続的な検出並びに水蒸気分圧測定を含んでいる方法において、水蒸気流を、水蒸気分圧の連続的な測定と、前記設置面と前記凝縮面（５）との間の水蒸気のための流動抵抗とから求め、水蒸気の形で生産物から発生する水量を水蒸気流の時間的な積分を介して算出することを特徴とする、生産物をフリーズドライする方法。
【請求項２】
前記流動抵抗をフリーズドライ装置において種々異なる圧力のためにそれぞれ１度測定し、この値を計算機に記憶させ、水蒸気流の検出を圧力に関連して行なう、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記水蒸気分圧が秒あたりしばしば、有利には１０〜１００回測定される、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
赤外線スペクトル領域の水素吸着帯域を利用する測定装置（１５）を使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記測定装置（１５）の温度があらかじめ選択された所定の温度に調節される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記測定装置（１５）の温度依存性を検出し計算機（１７）に記憶し、送られた測定値をそれぞれ一定の温度に換算する、請求項４又は５記載の方法。
【請求項７】
前記計算機（１７）に制御装置（１９）が対応配置され、前記計算機（１７）により求められた値をベースとして当該フリーズドライ方法を制御する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
調温可能な設置面（２）と凝縮面とを有する室（１）を使用して生産物をフリーズドライする装置であって、水蒸気の形で生産物から発生する水が前記凝縮面の表面に結露し、フリーズドライプロセスの経過する間に、該フリーズドライプロセスのドキュメンテーションのため及び制御するための測定が実施される形式の装置において、当該装置が水蒸気分圧を連続的に測定する測定装置（１５）を備えておりかつ計算機（１７）が設けられ、この計算機（１７）を用いて、水蒸気分圧の連続的な測定と、前記設置面（１２）と前記凝縮面（５）との間の水蒸気の流動抵抗とから、水蒸気流が算出されかつそれから時間的な積分を介して、生産物から発生する水量が算出されることを特徴とする、生産物をフリーズドライする装置。
【請求項９】
前記測定装置（１５）がフリーズドライ室（１）の内部に配置され、しかも水蒸気の流速が音速に較べて小さい個所に配置されている、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
測定装置（１５）に有利には調温可能な遮蔽板（１６）が対応配置されている、請求項８又は９記載の装置。
【請求項１１】
前記設置面（２）と室内面の少なくとも１部との間に遮蔽体（２１）が存在している、請求項８から１０までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】
前記設置面（２）と前記凝縮面（５）とがそれぞれ１つの室（１）もしくは（４）内にあり、両方の室（１）もしくは（４）が開口（１０）を介して接続されている、請求項８から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
前記開口（１０）に有利にはフリーズドライ室（１）に向かって彎曲された弁皿（１２）を備えた、凝縮器側で作動可能な弁（１１）が対応配置されている、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記凝縮面（５）の領域に押除け体（２３）が存在しており、該押し除け体（２３）の直径が蒸気容積の減少に相応して流動方向に増大している、請求項８から１３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
前記開口（１０）が長く延び、例えばスリット形に構成されている、請求項１２から１４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】
前記凝縮面（５）がフリーズドライ室（１）内にある、請求項８から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】
前記凝縮面（５）が前記遮蔽体（２１，２９）内にある、請求項１６及び１０記載の装置。
【請求項１８】
計算機（１７）から送られた信号をベースとして室（１）内で経過するフリーズドライプロセスを少なくとも部分的に制御する制御装置（１９）が設けられている、請求項８から１７までのいずれか１項記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月12日(2007.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材の外面の少なくとも一部の上の第一反射層であって、反射層および基材の組合せが少なくとも約２５％の最小直接太陽反射率値（ｍｉｎｉｍｕｍ ｄｉｒｅｃｔ ｓｏｌａｒ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ ｖａｌｕｅ）を示す第一反射層と、
前記第一反射層の少なくとも一部の上の第二反射層であって、前記第一反射層および前記第二反射層の組合せが前記基材に７７０〜２５００ｎｍの間の波長範囲の実質上すべての点で少なくとも約２０％の反射率を与える第二反射層と、
生物成長阻害剤、自己清浄成分、またはこれらの組合せから選択される保存剤と、
を備える非白色建物表面。
【請求項２】
前記保存剤が前記第一層の一部である、請求項１に記載の表面。
【請求項３】
基材と、
前記基材の外面の少なくとも一部の上の第一反射層であって、前記反射層を有する前記基材が少なくとも約２５％の最小直接太陽反射率値を示す第一反射層と、
前記第一反射層の少なくとも一部の上の第二反射層であって、前記第一反射層および前記第二反射層の組合せが前記基材に７７０〜２５００ｎｍの間（７７０および２５００ｎｍを含む）の範囲で測定される少なくとも約７，０００の加算反射率値を与える第二反射層と、
生物成長阻害剤、自己清浄成分、またはこれらの組合せから選択される保存剤と、
を備える非白色建物表面。
【請求項４】
前記保存剤が前記第一層の一部である、請求項３に記載の表面。
【請求項５】
基材の外面の少なくとも一部に第一塗料を供給するステップと、
前記第一塗料を硬化して基材上に第一反射層を形成するステップであって、前記第一反射層が少なくとも約２５％の最小直接太陽反射率値を示す、ステップと、
前記塗装基材上の少なくとも一部を覆って第二塗料を施すステップと、
前記第二塗料を硬化して第二反射層を形成するステップであって、前記第一反射層と前記第二反射層の組合せが、
（ｉ）７７０〜２５００ｎｍの間の波長範囲の実質上すべての点で少なくとも約２０％の反射率、および
（ｉｉ）７７０〜２５００ｎｍの間（７７０および２５００ｎｍを含む）の範囲で測定される少なくとも約７，０００の加算反射率値
の少なくとも一方をもたらす、ステップと、
前記基材上に保存剤を供給するステップであって、前記保存剤が生物成長阻害剤、自己清浄成分、またはこれらの組合せから選択される、ステップと
を含む、非白色建物表面を作成する方法。
【請求項６】
前記保存剤が前記第一層の一部である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
こけら板基材と、
前記こけら板基材の外面の少なくとも一部の上の第一反射層であって、反射層および基材の組合せが少なくとも約２５％の最小直接太陽反射率値を示す第一反射層と、
前記第一反射層の少なくとも一部の上の第二反射層であって、前記第一反射層および前記第二反射層の組合せが前記こけら板基材に７７０〜２５００ｎｍの間の波長範囲の実質上すべての点で少なくとも約２０％の反射率を与える第二反射層と、
生物成長阻害剤、自己清浄成分、またはこれらの組合せから選択される保存剤と、
を備える非白色こけら板。
【請求項８】
こけら板基材と、
前記こけら板基材の外面の少なくとも一部の上の第一反射層であって、前記反射層を有する前記基材が少なくとも約２５％の最小直接太陽反射率値を示す第一反射層と、
前記第一反射層の少なくとも一部の上の第二反射層であって、前記第一反射層および前記第二反射層の組合せが前記こけら板基材に７７０〜２５００ｎｍの間（７７０および２５００ｎｍを含む）の範囲で測定される少なくとも約７，０００の加算反射率値を与える第二反射層と、
生物成長阻害剤、自己清浄成分、またはこれらの組合せから選択される保存剤と、
を備える非白色こけら板表面。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で下記の組成：
Ｎｉ：１％未満、
Ｃｒ：１５〜２５％、
Ａｌ：４．５〜１２％、
Ｍｏ：０．５〜４％、
Ｎｂ：０．０１〜１．２％、
Ｔｉ：０〜０．５％、
Ｙ、Ｓｃ、Ｚｒおよび／またはＨｆ：０〜０．０５％、
例えばＣｅまたはＬａのような希土類金属（ＲＥＭ）の１種以上：０〜０．２％、
Ｃ  ：０〜０．２％、
Ｎ  ：０〜０．２％、
残部：鉄および通常存在する不純物、
を有することを特徴とするフェライト鋼。
【請求項２】
請求項１において、Ｍｏの全部または一部をＷに置換したことを特徴とするフェライト鋼。
【請求項３】
請求項１または２において、希土類金属を１種以上含有することを特徴とするフェライト鋼。
【請求項４】
請求項１において、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒおよび／またはＨｆを合計で０．１％以上含有することを特徴とするフェライト鋼。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項記載のフェライト鋼を製造する方法において、基材合金をＡｌまたはＡｌ合金で被覆する工程を含み、該基材合金は質量％で下記の組成：
Ｎｉ：１％未満、
Ｃｒ：１５〜２７％、
Ａｌ：０〜５％、
Ｍｏ：０．５〜５％、
Ｎｂ：０．０１〜２％、
Ｔｉ：０〜０．５％、
Ｙ、Ｓｃ、Ｚｒおよび／またはＨｆ：０〜０．５％、
例えばＣｅまたはＬａのような希土類金属（ＲＥＭ）の１種以上：０〜０．２％、
Ｃ  ：０〜０．２％、
Ｎ  ：０〜０．２％、
残部：鉄および通常存在する不純物、
を有することを特徴とする方法。
【請求項６】
高温用途用のワイヤ、ストリップ、フォイルおよび／またはチューブの形態の製品であって、請求項１から４までのいずれか１項記載のフェライト鋼から製造されていることを特徴とする製品。
【請求項７】
請求項１から４までのいずれか１項において、触媒コンバータ用途における支持材料として使用することを特徴とするフェライト鋼。
【請求項８】
請求項１から４までのいずれか１項において、加熱用途および炉用途に使用することを特徴とするフェライト鋼。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＧＰＳ衛星信号を用いてユーザのための位置を決定するための方法であって、
ＧＰＳ衛星から伝送された実時間ＧＰＳデータストリームを受信するステップと、
前記ＧＰＳ衛星から生じるフィードフォワードＧＰＳデータストリームをＬＥＯ衛星から受信するステップと、
少なくとも実時間データが損なわれた場合、フィードフォワード信号が実時間データを補うように、実時間およびフィードフォワード信号を処理し、本質的にＧＰＳコードおよび搬送波をともに追跡するステップと、
前記処理された信号に基づいて前記ユーザのための位置を決定するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記実時間データが、ジャミング、ＲＦ干渉または構造上の干渉のうちの少なくとも１つの結果として損なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記処理するステップは、蓄積および時間同期バッファリングを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記処理するステップは、前記フィードフォワードデータストリームの復調を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
位置を決定する前に慣性基準ユニットにアクセスするステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
少なくとも１つの付加的な実時間ＧＰＳデータストリームを受信し、少なくとも１つの付加的なフィードフォワードＧＰＳデータストリームを前記ＬＥＯ衛星から受信するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記フィードフォワードＧＰＳデータストリームは、前記ＬＥＯ衛星に相互リンクされ、前記ユーザに同報通信される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ＧＰＳ信号に基づいてユーザのための位置を決定するための装置であって、
第１のＧＰＳ衛星から受信した第１の実時間ＧＰＳ信号を処理するよう構成された第１の受信機と、
前記第１の受信機に連結された第２の受信機とを含み、前記第２の受信機は、ＬＥＯ衛星から伝送された第１のＬＥＯ信号を処理するよう構成され、前記第１のＬＥＯ信号は、前記第１の実時間ＧＰＳ信号に対応し、前記第１のＧＰＳ衛星から生じる第１のフィードフォワードＧＰＳ信号を含み、前記第２の受信機はさらに、ＧＰＳ支援データを前記第１の受信機に送信するよう構成され、
前記第１の受信機は、前記第１の実時間ＧＰＳ信号を前記第１のフィードフォワードＧＰＳ信号で補うことによって、より正確なＧＰＳ信号を獲得するよう構成される、装置。
【請求項９】
前記第１の受信機はさらに、前記第１の実時間ＧＰＳ信号を前記第１のフィードフォワードＧＰＳ信号に同期させるよう構成される同期バッファを含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１の受信機および前記第２の受信機に連結される共通のクロックをさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１のＧＰＳ衛星および前記第１のＬＥＯ衛星から伝送を受信するよう適合されたアンテナをさらに含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記アンテナと信号通信するフィルタと、前記フィルタならびに前記第１および第２の受信機と信号通信するプリアンプとをさらに含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１の受信機に連結される慣性基準ユニットをさらに含み、前記第１の受信機は、前記ユーザの位置を決定するために前記慣性基準ユニットからの慣性支援データを用いるよう構成される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１の受信機は、デジタル信号プロセッサと、前記デジタル信号プロセッサに連結されたメモリとをさらに含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
ＧＰＳ信号に基づいてユーザのための位置を決定するための装置であって、
第１のＧＰＳ衛星から受信した第１の実時間ＧＰＳ信号を処理するための第１の手段と、
第１のＧＰＳ支援データを生成するためにＬＥＯ衛星から伝送された第１のＬＥＯ信号を処理するための第２の手段とを含み、前記第１のＬＥＯ信号は、前記第１の実時間ＧＰＳ信号に対応し、前記第１のＧＰＳ衛星から生じる第１のフィードフォワードＧＰＳ信号を含み、前記装置はさらに、
本質的にＧＰＳコードおよび搬送波位相をともに追跡し、前記第１の実時間ＧＰＳ信号および前記ＧＰＳ支援データの関数として前記ユーザの位置を決定するための手段を含む、装置。
【請求項１６】
前記第１の処理手段は、前記第１の実時間ＧＰＳ信号を前記第１のフィードフォワードＧＰＳ信号に同期させるよう構成された同期バッファを含む、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記第１の処理手段と前記第２の処理手段とに連結される共通のクロックをさらに含む、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
ＧＰＳ信号に基づいてユーザの位置を決定するためのシステムであって、
複数のＧＰＳ衛星を含み、前記複数のＧＰＳ衛星の各々は、実時間ＧＰＳ信号を前記ユ
ーザに伝送するよう構成され、前記システムはさらに、
地球から伝送された信号を受信し、複数の付加的なＬＥＯ衛星に前記信号を随意に相互リンクし、前記信号をユーザに同報通信するよう構成された第１のＬＥＯ衛星と、
前記複数のＧＰＳ衛星のうちの少なくとも１つから前記実時間ＧＰＳ信号を受信し、前記実時間ＧＰＳ信号に基づいてフィードフォワードＧＰＳ信号を前記第１のＬＥＯ衛星に伝送するよう構成された監視および制御局と、
前記第１のＬＥＯ衛星または前記複数の付加的なＬＥＯ衛星のうちの１つから前記実時間ＧＰＳ信号および前記フィードフォワードＧＰＳ信号を受信するよう構成されたユーザ受信機とを含み、前記ユーザ受信機は、本質的にＧＰＳコードおよび搬送波をともに追跡して前記ユーザの位置を決定するために、前記実時間ＧＰＳ信号と前記フィードフォワードＧＰＳ信号とを用いる、システム。
【請求項１９】
前記ユーザ受信機はさらに、
前記実時間ＧＰＳ信号を処理するよう構成された第１の受信機と、
前記第１の受信機に連結された第２の受信機とを含み、前記第２の受信機は、前記ＬＥＯフィードフォワードＧＰＳ信号を処理し、前記第１の受信機にＧＰＳ支援データを送信するよう構成され、
前記第１の受信機は、前記第１の実時間ＧＰＳ信号を前記第１のフィードフォワードＧＰＳ信号で補うことによって、より正確なＧＰＳ信号を獲得するよう構成される、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記第１の受信機はさらに、前記実時間ＧＰＳ信号を前記フィードフォワードＧＰＳ信号に同期させるよう構成された同期バッファを含む、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記複数のＧＰＳ衛星のうちの少なくとも１つから、ならびに、前記第１のＬＥＯ衛星および前記複数の付加的なＬＥＯ衛星のうちの少なくとも１つから伝送を受信するよう適合されたアンテナをさらに含む、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２２】
前記第１の受信機に連結された慣性基準ユニットをさらに含み、前記第１の受信機は、前記ユーザの位置を決定するために、前記慣性基準ユニットからの慣性支援データを用いるよう構成される、請求項２１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導波管軸を画定する１つのチャネル領域と、１つまたは複数の境界領域とを含む導波管と、
前記導波管軸に対して実質的に垂直な磁場を生じさせるために前記領域の内の少なくとも１つに配置される複数の磁気成分と、
を備える導波管。
【請求項２】
前記導波管はファイバであり、前記チャネル領域はコアであり、前記１つまたは複数の境界領域は前記コアのためのクラッディング領域である請求項１に記載の導波管。
【請求項３】
インフルエンサが、前記導波管軸に沿って伝播される放射線の偏光を変更するために前記導波管軸に対し概して平行に前記導波管に磁場を適用し、前記磁気成分が前記偏光に大きく影響を及ぼさない請求項１に記載の導波管。
【請求項４】
前記磁気成分が単分子磁石を含む請求項１に記載の導波管。
【請求項５】
前記磁気成分が、十分に強力な磁場が前記磁性体に提示され、前記磁性体から除去されるときに、特定の磁化を保持する請求項１に記載の導波管。
【請求項６】
前記チャネル領域は複数の磁区を含み、前記特定の磁化は前記導波管軸に沿って伝播される放射線の光学的損失をかなり減少させるのに十分なほど前記チャネル領域の前記複数の磁区の多数を飽和させる請求項５に記載の導波管。
【請求項７】
前記チャネル領域は複数の磁区を含み、前記特定の磁化は、前記導波管軸に沿って伝播される放射線の、前記導波管軸に平行な第２の磁場に対する磁気反応をかなり高めるのに十分なほど前記チャネル領域の前記複数の磁区の多数を飽和させる請求項５に記載の導波管。
【請求項８】
前記チャネル領域は複数の磁区を含み、前記特定の磁化は、前記導波管軸に沿って伝播される放射線の、前記導波管軸に平行な第２の磁場に対する磁気反応をかなり高めるのに十分なほど前記チャネル領域の前記複数の磁区の多数を飽和させる請求項６に記載の導波管。
【請求項９】
前記導波管軸に沿って伝播される前記放射線が特定の偏光を含み、前記磁気反応が前記特定の偏光の変化である請求項８に記載の導波管。
【請求項１０】
前記磁気成分が光ファイバ製造プロセスの相対的に高温で前記特定の磁化を構成する請求項５に記載の導波管。
【請求項１１】
前記領域の内の少なくとも１つが結晶構造を有し、前記結晶構造の中の前記磁気成分が前記所望される磁場を生じさせる請求項１に記載の導波管。
【請求項１２】
放射線信号を送信するために導波管を操作するための方法であって、
ａ）導波管軸を画定する１つのチャネル領域と、１つまたは複数の境界領域とを含む該導波管を通して前記放射線信号を送信することと、
ｂ）前記領域の内の少なくとも１つに配置される複数の磁気成分を使用して前記導波管軸に対して実質的なに垂直な磁場を生じさせることと、
を備える方法。
【請求項１３】
前記導波管はファイバであり、前記チャネル領域はコアであり、前記１つまたは複数の境界領域は前記コアのためのクラッディング領域である請求項１２に記載の導波管。
【請求項１４】
ｃ）前記導波管軸に沿って伝播される放射線信号の偏光を変更するために前記導波管軸に対し概して平行に前記導波管に磁場を適用し、前記磁気成分が前記偏光に大きく影響を及ぼさないことと、
をさらに備える請求項１２に記載の導波管。
【請求項１５】
前記磁気成分が単分子磁石を含む請求項１２に記載の導波管。
【請求項１６】
前記磁気成分が、十分な磁性の磁場が前記磁性体に提示され、前記磁性体から除去されるときに特定の磁化を保持する請求項１２に記載の導波管。
【請求項１７】
前記チャネル領域が複数の磁区を含み、
ｃ）前記導波管軸に沿って伝播される該放射線信号の光学的損失をかなり減少させるために十分なほど前記チャネル領域の前記複数の磁区の多数を飽和させることと、
をさらに備える請求項１６に記載の導波管。