【手続補正書】
【提出日】平成19年2月6日(2007.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を位置決めする位置決め装置であって、
位置決め基準として前記基板の中心および前記基板の端部の所定部分のうちいずれか１つを予め与えられた情報に従って選択的に設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定された前記位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段と、を備えることを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記位置決め手段は、前記基板の端部の位置を計測する計測手段を含み、前記計測手段の出力に基づいて前記基板の位置決めを行うことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記位置決め手段は、前記基板の端部の位置を計測する複数の計測手段を含み、前記位置決め基準に基づいて、前記複数の計測手段のうちの少なくとも一部を選択して用いることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項４】
基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板が載置される基板処理ステージと、
位置決め基準として前記基板の中心及び前記基板の端部の所定部分のうちいずれか１つを予め与えられた情報に従って選択的に設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定された前記位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段と、
前記位置決め手段によって位置決めされた前記基板を前記基板処理ステージに搬送する基板搬送機構と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
前記基板に原版パターンを転写する露光処理を行う露光部を更に備えることを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記基板処理ステージに載置された基板に形成されたマークの位置を検出するマーク検出器を更に備えることを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記位置決め手段は、前記位置決め基準に基づいて、前記基板処理ステージにおける前記基板の載置位置を決定することを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記位置決め手段は、前記位置決め基準に基づいて、前記基板が載置された前記基板処理ステージの位置を決定することを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項９】
位置決め基準に基づいて基板を位置決めする位置決め手段と、
前記位置決め手段の位置決め動作を切り替える制御手段と、を備え、
前記制御手段によって切り替えられる前記位置決め手段の位置決め動作には、前記基板の中心を前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作、および、前記基板のノッチを前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作が含まれることを特徴とする位置決め装置。
【請求項１０】
位置決め基準に基づいて基板を位置決めする位置決め手段と、
前記位置決め手段の位置決め動作を切り替える制御手段と、を備え、
前記制御手段によって切り替えられる前記位置決め手段の位置決め動作には、前記基板の中心を前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作、および、前記基板のオリエンテーションフラットを前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作が含まれることを特徴とする位置決め装置。
【請求項１１】
基板を露光する露光部を含む露光装置であって、
位置決め基準として前記基板の中心および前記基板の端部の所定部分のうちいずれか１つを予め与えられた情報に従って選択的に設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定された前記位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
基板を露光する露光部を含む露光装置であって、
位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段と、
前記位置決め手段の位置決め動作を切り替える制御手段と、を備え、
前記制御手段によって切り替えられる前記位置決め手段の位置決め動作には、前記基板の中心を前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作、および、前記基板のノッチを前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作が含まれることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
基板を露光する露光部を含む露光装置であって、
位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段と、
前記位置決め手段の位置決め動作を切り替える制御手段と、を備え、
前記制御手段によって切り替えられる前記位置決め手段の位置決め動作には、前記基板の中心を前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作、および、前記基板のオリエンテーションフラットを前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作が含まれることを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の第１の側面に係る位置決め装置は、位置決め基準として前記基板の中心および前記基板の端部の所定部分のうちいずれか１つを予め与えられた情報に従って選択的に設定する設定手段と、前記設定手段によって設定された前記位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の好適な実施形態によれば、前記基板の端部の位置を計測する計測手段を含み、前記計測手段の出力に基づいて前記基板の位置決めを行うことが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の好適な実施形態によれば、前記基板の端部の位置を計測する複数の計測手段を含み、前記位置決め基準に基づいて、前記複数の計測手段のうちの少なくとも一部を選択して用いることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の第２の側面に係る基板処理装置は、基板を処理する基板処理装置として構成され、前記基板が載置される基板処理ステージと、位置決め基準として前記基板の中心及び前記基板の端部の所定部分のうちいずれか１つを予め与えられた情報に従って選択的に設定する設定手段と、前記設定手段によって設定された前記位置決め基準に基づいて前記基板を位置決めする位置決め手段と、前記位置決め手段によって位置決めされた前記基板を前記基板処理ステージに搬送する基板搬送機構と備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の好適な実施形態によれば、前記基板処理装置は、前記基板に原版パターンを転写する露光処理を行う露光部を更に備えることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の好適な実施形態によれば、前記基板処理装置は、前記基板処理ステージに載置された基板に形成されたマークの位置を検出するマーク検出器を更に備えることが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の好適な実施形態によれば、前記プリアライメント手段は、前記位置決め基準に基づいて、前記基板処理ステージにおける前記基板の載置位置を決定する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の好適な実施形態によれば、前記位置決め手段は、前記位置決め基準に基づいて、前記基板が載置された前記基板処理ステージの位置を決定することが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の好適な実施形態によれば、前記位置決め手段は、前記位置決め基準に基づいて、前記基板が載置された前記基板ステージの位置を決定することが好ましい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の第３の側面に係る位置決め装置は、位置決め基準に基づいて基板を位置決めする位置決め手段と、前記位置決め手段の位置決め動作を切り替える制御手段とを備え、前記制御手段によって切り替えられる前記位置決め手段の位置決め動作には、前記基板の中心を前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作、および、前記基板のノッチを前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作が含まれることを特徴とする。
本発明の第４の側面に係る位置決め装置は、位置決め基準に基づいて基板を位置決めする位置決め手段と、前記位置決め手段の位置決め動作を切り替える制御手段とを備え、前記制御手段によって切り替えられる前記位置決め手段の位置決め動作には、前記基板の中心を前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作、および、前記基板のオリエンテーションフラットを前記位置決め基準として前記基板を位置決めする動作が含まれることを特徴とする位置決め装置。
本発明の第５の側面に係る露光装置は、第1、第３又は第４の側面に係る位置決め装置を含んで構成される。
本発明のデバイス製造方法は、上記の基板処理装置を用いて基板を処理することを特徴とする。該デバイス製造方法は、例えば、リソグラフィ工程によってデバイスを製造する。リソグラフィ工程は、例えば、基板に塗布された感光剤に、露光装置として構成された上記の基板処理装置によってパターンを転写する工程と、パターンが転写された感光剤を現像する工程とを含みうる。