Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月1日(2007.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストを塗布し露光したウエハを水平に保持し、
前記ウエハと同じ直径を有する平らな円形の面に複数の吐出口を備えたノズルを、前記円形の面と前記レジスト表面との間が第１の距離となる位置で保持し、
前記ノズルから現像液を吐出し、
前記第１の距離となる位置で保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たして第１の状態とし、
前記ノズルの現像液の吐出を停止し、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第２の距離となる位置で、前記ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止し、
前記第２の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第２の状態とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
レジストを塗布し露光したウエハを水平に保持し、
前記ウエハと同じ直径を有する平らな円形の面に複数の吐出口を備えたノズルを、前記円形の面と前記レジスト表面との間が第１の距離となる位置で保持し、
前記ノズルから現像液を吐出し、
前記第１の距離となる位置で保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たして第１の状態とし、
前記ノズルの現像液の吐出を停止し、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第２の距離となる位置で、前記ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止し、
前記第２の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第２の状態とし、
前記ノズルを下降させ、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第３の距離となる位置で、前記ノズルの下降を停止し、
前記第３の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第３の状態とし、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第４の距離となる位置で、前記ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止し、
前記第４の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第４の状態とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記第４の状態とした後に、前記ノズルを下降させ、
前記第３の状態とし、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記第４の状態とすることを複数回繰り返すことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
レジストを塗布し露光した、半導体膜の設けられた円形の絶縁物基板を水平に保持し、
前記円形の絶縁物基板と同じ直径を有する平らな円形の面に複数の吐出口を備えたノズルを、前記円形の面と前記レジスト表面との間が第１の距離となる位置で保持し、
前記ノズルから現像液を吐出し、
前記第１の距離となる位置で保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たして第１の状態とし、
前記ノズルの現像液の吐出を停止し、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第２の距離となる位置で、前記ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止し、
前記第２の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第２の状態とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
レジストを塗布し露光した、半導体膜の設けられた円形の絶縁物基板を水平に保持し、
前記円形の絶縁物基板と同じ直径を有する平らな円形の面に複数の吐出口を備えたノズルを、前記円形の面と前記レジスト表面との間が第１の距離となる位置で保持し、
前記ノズルから現像液を吐出し、
前記第１の距離となる位置で保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たして第１の状態とし、
前記ノズルの現像液の吐出を停止し、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第２の距離となる位置で、前記ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止し、
前記第２の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第２の状態とし、
前記ノズルを下降させ、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第３の距離となる位置で、前記ノズルの下降を停止し、
前記第３の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第３の状態とし、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間が第４の距離となる位置で、前記ノズルの上昇及び現像液の吐出を停止し、
前記第４の距離となる位置に保持された前記ノズルの円形の面と前記レジスト表面との間を現像液で満たした第４の状態とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記第４の状態とした後に、前記ノズルを下降させ、
前記第３の状態とし、
前記ノズルを上昇させつつ現像液を吐出し、
前記第４の状態とすることを複数回繰り返すことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項４乃至請求項６のいずれか一において、
前記円形の絶縁物基板として、石英ガラス基板、ガラス基板、又はプラスチック基板を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記ノズルは、該ノズル下部の平面の中心から端部に向かうにつれて直径が大きくなる複数の吐出口を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記ノズルは、スリット状の吐出口を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記ノズルの下部が、円錐又は凸部の形状となることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月19日(2006.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板に形成された絶縁膜と、該絶縁膜に形成された配線用溝と、該配線用溝の内部および外部に形成された被研磨膜である配線用層とを有している被研磨対象物の該被研磨膜を研磨する研磨方法であって、
少なくとも上記被研磨面に対して略平行に上記被研磨面上に処理液を流して、該処理液によるせん断応力により、上記配線用溝の外部に形成された被研磨膜を該被研磨膜の凸部から優先的に研磨除去し、平坦化する
研磨方法。
【請求項２】
上記被研磨膜が銅膜である
請求項１に記載の研磨方法。
【請求項３】
上記被研磨対象物として、上記配線用溝に連通するコンタクトホールが上記絶縁膜に形成されており、上記配線用層がさらに上記コンタクトホールの内部に埋め込んで形成されている被研磨対象物を研磨の対象とする
請求項１に記載の研磨方法。
【請求項４】
上記処理液として少なくともキレート剤を含む処理液を用い、
上記被研磨膜の表層部を上記キレート剤によりキレート化してキレート膜を形成し、
上記処理液によるせん断応力により上記キレート膜の凸部から優先的に研磨除去し、
上記凸部において露出した被研磨膜の表層部に再びキレート膜を形成し、上記キレート膜の凸部から優先的に研磨除去することを繰り返して、上記被研磨膜を平坦化する
請求項１に記載の研磨方法。
【請求項５】
上記処理液としてさらに酸化剤を含む処理液を用い、
上記被研磨膜の表層部を上記酸化剤により酸化して、得られた酸化物を上記キレート剤によりキレート化してキレート膜を形成する
請求項４に記載の研磨方法。
【請求項６】
被研磨面に被研磨膜を有する被研磨対象物の研磨方法であって、
少なくとも上記被研磨面と該被研磨面に対して対向して配置される陰極部材の間に上記被研磨面に対して略平行に電解液を流しながら、上記陰極部材を陰極とし上記被研磨膜を陽極として電圧を印加し、該電解液によるせん断応力により上記被研磨膜の凸部から優先的に研磨除去し、平坦化する
研磨方法。
【請求項７】
上記被研磨膜が銅膜である
請求項６に記載の研磨方法。
【請求項８】
上記被研磨対象物として、基板と、該基板に形成された絶縁膜と、該絶縁膜に形成された配線用溝と、該配線用溝の内部に埋め込んで、かつ、該配線用溝の外部に全面に形成された被研磨膜である配線用層とを有している被研磨対象物を研磨の対象とし、
上記配線用溝の外部に形成された被研磨膜である配線用層を研磨除去し、平坦化する
請求項６に記載の研磨方法。
【請求項９】
上記電解液としてキレート剤を含む電解液を用い、
上記陰極部材を陰極とし上記被研磨膜を陽極として電圧を印加することで、上記被研磨膜の表面を陽極酸化し、
上記酸化された被研磨膜の表層部を上記キレート剤によりキレート化してキレート膜を形成し、
上記電解液によるせん断応力により上記キレート膜の凸部から優先的に研磨除去し、
上記凸部において露出した被研磨膜の表層部に再びキレート膜を形成し、上記キレート膜の凸部から優先的に研磨除去することを繰り返して、上記配線用層を平坦化する
請求項６に記載の研磨方法。
【請求項１０】
被研磨面に被研磨膜を有する被研磨対象物の研磨装置であって、
少なくとも上記被研磨面に対して略平行に上記被研磨面上に処理液を流す処理液供給手段を有し、
上記処理液によるせん断応力により、上記配線用溝の外部に形成された被研磨膜を該被研磨膜の凸部から優先的に研磨除去し、平坦化する
研磨装置。
【請求項１１】
上記被研磨膜が銅膜である被研磨対象物を研磨する
請求項１０に記載の研磨装置。
【請求項１２】
上記処理液供給手段により少なくともキレート剤を含む処理液を供給する
請求項１０に記載の研磨装置。
【請求項１３】
被研磨面に被研磨膜を有する被研磨対象物の研磨装置であって、
上記被研磨面に対して対向して配置される陰極部材と、
上記被研磨面と上記陰極部材の間に少なくとも上記被研磨面に対して略平行に上記被研磨面上に電解液を流す電解液供給手段と、
上記陰極部材を陰極とし上記被研磨膜を陽極として電圧を印加する電源と
を有し、
上記電解液によるせん断応力により上記被研磨膜の凸部から優先的に研磨除去し、平坦化する
研磨装置。
【請求項１４】
上記被研磨膜が銅膜である被研磨対象物を研磨する
請求項１３に記載の研磨装置。
【請求項１５】
上記電解液供給手段により少なくともキレート剤を含む電解液を供給する
請求項１３に記載の研磨装置。
【請求項１６】
上記電解液供給手段によりさらに界面活性剤を含む電解液を供給する
請求項１５に記載の研磨装置。
【請求項１７】
上記電源は、上記陰極部材を陰極とし上記被研磨膜を陽極として所定の電圧を印加する直流電源である
請求項１５に記載の研磨装置。
【請求項１８】
上記被研磨面に対向して、上記陰極部材から所定の距離をもって離間させた陽極部材をさらに有し、
上記電解液供給手段により、上記被研磨面と上記陰極部材の間および上記被研磨面と上記陽極部材の間に電解液を供給し、
上記電源により、上記陰極部材および上記陽極部材に電圧を印加する
請求項１５に記載の研磨装置。
【請求項１９】
上記陰極部材と上記被研磨膜の間に流れる電流値を測定する電流計をさらに有する
請求項１５に記載の研磨装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月13日(2007.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
次に、写真製版技術を用いて、シリコン窒化膜８Ｐ上に素子分離領域となる領域以外を覆うレジスト（図示せず）を形成する。そして、当該レジストをマスクとする異方性エッチングによって、シリコン窒化膜８Ｐ，シリコン酸化膜７Ｐ及び基板１Ｐの一部をエッチングする。これにより、図２７に示すように、シリコン窒化膜８Ｐの露出表面から基板１Ｐの内部に至る溝２ａＰを形成する。そして、図２８に示すように、溝２ａＰの内面２ＳＰを熱酸化してシリコン酸化膜９ＡａＰを形成し、続いて、ＨＤＰ（high density plasma）−ＣＶＤ（chemical vapor deposition）法によって溝２ａＰ内を埋めるように基板１Ｐの主面１ＳＰ側全面を覆ってシリコン酸化膜９ＢａＰを堆積する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
次に、フッ酸用いてシリコン酸化膜７をウエットエッチングし、基板１の主面１Ｓを露出させる（図１８参照）。このとき、シリコン酸化膜９Ａａ，９Ｂｂの一部も除去されて、溝２ａの内で基板１内の部分である溝２が残り、又、既述のシリコン酸化膜９Ａ，９Ｂから成るシリコン酸化膜９が溝２内に残る。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板と、該基板の表面側に設けたスパイラルコイルとからなるチップ型コイル部品において、前記スパイラルコイルは前記基板の表面側に位置して同一平面上に複数個設けたことを特徴とするチップ型コイル部品。
【請求項２】  前記複数のスパイラルコイルは同一工法によって一緒に形成する構成としてなる請求項１に記載のチップ型コイル部品。
【請求項３】  前記複数のスパイラルコイルのうち相互に隣合う２つのスパイラルコイルの巻線部分は、互いに接近して配置された角部を有し、該角部を挟んでＬ字状に屈曲して互いに離れる方向に向けて延びる構成としてなる請求項１または２に記載のチップ型コイル部品。
【請求項４】  前記基板の表面側には前記複数のスパイラルコイルを覆って絶縁膜を設け、該絶縁膜を挟んで該絶縁膜の表面側に前記各スパイラルコイルと直列接続した他のスパイラルコイルを設けてなる請求項１，２または３に記載のチップ型コイル部品。
【請求項５】  前記複数のスパイラルコイルはスパッタリング、蒸着、フォトリソグラフィによる微細加工技術を用いて形成してなる請求項１，２，３または４に記載のチップ型コイル部品。
【請求項６】  前記基板には前記各スパイラルコイルに対応して信号を入出力するための２個の入出力端子と接地するための１個の接地端子とを設け、前記各スパイラルコイルは、その一端側を接続配線を用いて前記２個の入出力端子間に接続し、他端側を前記接地端子に接続する構成としてなる請求項１，２，３，４または５に記載のチップ型コイル部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項３の発明では、複数のスパイラルコイルのうち相互に隣合う２つのスパイラルコイルの巻線部分は、互いに接近して配置された角部を有し、該角部を挟んでＬ字状に屈曲して互いに離れる方向に向けて延びる構成としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
一方、四角形状をなすスパイラルコイル３４，３５は互いにその角部３４Ｄ，３５Ｄが接近した状態で配置されている。このため、スパイラルコイル３４，３５のうち最外周側に位置して相互に隣合う巻線部分３４Ｃ，３５Ｃは、互いに非平行な状態で配置され、角部３４Ｄ，３５Ｄを挟んでＬ字状に屈曲して互いに離れる方向に向けて延びている。これにより、巻線部分３４Ｃ，３５Ｃは、接近した状態で平行に延伸する部分がなく、相互間の距離が広がっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
かくして、本実施の形態でも第１の実施の形態と同様の作用効果を得ることができる。しかし、本実施の形態では、相互に隣合うスパイラルコイル３４，３５の巻線部分３４Ｃ，３５Ｃは、互いに接近して配置された角部３４Ｄ，３５Ｄを有し、該角部３４Ｄ，３５Ｄを挟んでＬ字状に屈曲して互いに離れる方向に向けて延びる構成としたから、相互の辺部分が平行に延伸した場合に比べて、スパイラルコイル３４，３５間の磁気結合、静電結合を抑制することができ、スパイラルコイル３４，３５間のクロストークを低減できる。また、スパイラルコイル３４，３５間の磁気結合等によるインダクタンス値のばらつきを低減できるから、スパイラルコイル３４，３５のインダクタンス値を略等しい値にすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2002110422.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月5日(2007.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  正極及び負極が電極活物質として平均細孔径２．５ｎｍ以下の活性炭を含有し、電解液として常温溶融塩を使用する電気二重層キャパシタに用いる電解液であって、常温溶融塩を構成する陽イオンがＮ，Ｎ′-ジアルキルイミダゾリウムであり、これに対する陰イオンがファンデルワールス体積で０．０１０〜０．０６０ｎｍ３の範囲にある陰イオンであることを特徴とする電気二重層キャパシタ用電解液。
【請求項２】 Ｎ，Ｎ′-ジアルキルイミダゾリウムが、１-エチル-３-メチルイミダゾリウムであることを特徴とする請求項１記載の電気二重層キャパシタ用電解液。
【請求項３】 陰イオンが、テトラフルオロホウ酸イオンであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気二重層キャパシタ用電解液。
【請求項４】  正極及び負極が電極活物質として平均細孔径２．５ｎｍ以下の活性炭を含有し、電解液として常温溶融塩を使用する電気二重層キャパシタにおいて、電解液が請求項１ないし３のいずれかに記載の電解液を用いることを特徴とする電気二重層キャパシタ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月28日(2007.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ．電気化学的にリチウムを挿入脱離し得る炭素材料を活物質とする負極と、リチウムを含有するカルコゲナイドを活物質とする正極を準備する工程：
Ｂ．それぞれの電極の内部へ第１の混合割合を有するイオン伝導性ポリマーの前駆体と非水電解液との混液を浸透させる工程；
Ｃ．それぞれの電極上へ、第１の混合割合よりイオン伝導性ポリマー前駆体の割合が高い第２の混合割合を有する、イオン伝導性ポリマーの前駆体と非水電解液との混液を適用する工程；
Ｄ．適用した混液を電極上で重合することにより、それぞれの電極と一体化したポリマー電解質層を形成する工程；
を含むことを特徴とするリチウム二次電池の製造方法。
【請求項２】
Ａ．電気化学的にリチウムを挿入／脱離し得る炭素材料を活物質とする負極と、リチウムを含有するカルコゲナイドを活物質とする正極を準備する工程；
Ｂ．それぞれの電極の内部へ非水電解液を浸透させる工程；
Ｃ．それぞれの電極上へ、イオン伝導性ポリマーの前駆体と非水電解液との混液を適用する工程；
Ｄ．適用した混液を電極上で重合することにより、それぞれの電極と一体化したポリマー電解質層を形成する工程；
を含むことを特徴とするリチウム二次電池の製造方法。
【請求項３】
Ａ１．電気化学的にリチウムを挿入脱離し得る炭素材料を活物質とする負極と、リチウムを含有するカルコゲナイドを活物質とする正極と、セパレータ基材とを準備する工程；
Ａ２．負極または正極のどちらか一方の電極にセパレータ基材を重ねる工程；
Ｂ．それぞれの電極の内部及びセパレータ基材へ第１の混合割合を有するイオン伝導性ポリマーの前駆体と非水電解液との混液を浸透させる工程；
Ｃ．一方の電極に重ねられたセパレータ基材上及び他方の電極上のそれぞれへ、第１の混合割合よりイオン伝導性ポリマー前駆体の割合が高い第２の混合割合を有する、イオン伝導性ポリマーの前駆体と非水電解液との混液を適用する工程；
Ｄ．適用した混液を重合することにより、一方の電極並びにセパレータ基材と一体化したポリマー電解質層、及び、他方の電極と一体化したポリマー電解質層を形成する工程；
を含むことを特徴とするリチウム二次電池の製造方法。
【請求項４】
Ａ１．電気化学的にリチウムを挿入脱離し得る炭素材料を活物質とする負極と、リチウムを含有するカルコゲナイドを活物質とする正極と、セパレータ基材とを準備する工程；
Ａ２．負極または正極のどちらか一方の電極にセパレータ基材を重ねる工程；
Ｂ．それぞれの電極の内部及びセパレータ基材へ非水電解液を浸透させる工程；
Ｃ．一方の電極に重ねられたセパレータ基材上および他方の電極上のそれぞれへ、イオン伝導性ポリマーの前駆体と非水電解液との混液を適用する工程；
Ｄ．適用した混液を重合することにより、一方の電極並びにセパレータ基材と一体化したポリマー電解質層、及び、他方の電極と一体化したポリマー電解質層を形成する工程；
を含むことを特徴とするリチウム二次電池の製造方法。
【請求項５】
前記イオン伝導性高分子の前駆体は、高分子鎖中にエチレンオキシド（ＥＯ）単位単独、またはＥＯとプロピレンオキシド（ＰＯ）単位の両方を含むポリエーテルポリオールの（メタ）アクリル酸エステルである請求項１ないし４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
Ｂ工程に使用する非水電解液の溶媒は、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、エチルメチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートおよびそれらの混合溶媒よりなる群から選ばれる請求項１ないし５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
Ｃ工程に使用する非水電解液の溶媒はエチレンカーボネートと、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、エチルメチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の他の溶媒との混合溶媒よりなる請求項１ないし６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
負極活物質は、黒鉛粒子の表面に非晶質炭素を付着させたものである請求項１ないし７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月22日(2007.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、このスピネル型マンガン酸リチウムに混合される第２成分としては、組成式がＬｉＮｉ1+XＭXＯ2（但し、ＭはＢ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｗ，Ｙ，Ｒｈから選択される少なくとも一種の元素であり、０≦Ｘ≦０．４である）で表されるニッケル酸リチウムを用いれば、同様な結果が得られるが、このうち、特に容量と熱的安定性の点からＬｉＮｉ0.8Ｃｏ0.2Ｏ2、ＬｉＮｉ0.6Ｃｏ0.3Ｍｎ0.1Ｏ2、ＬｉＮｉ0.8Ｃｏ0.175Ａｌ0.025Ｏ2等が望ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
５．リチウム二次電池の充放電試験
これらの各電池Ａ１〜Ａ１２およびＢ１〜Ｂ６を用いて、室温（約２５℃）で、６０ｍＡ（０．１Ｉｔ：Ｉｔは定格容量（ｍＡｈ）／１ｈ（時間）で表される数値）の充電電流で、電池電圧が４．２Ｖになるまで定電流充電した後、６００ｍＡ（１Ｉｔ）の放電電流で電池電圧が３．０Ｖになるまで放電させるという充放電を１回だけ行って、放電時間から放電容量（ｍＡｈ）を求めると、下記の表４に示すような結果となった。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月26日(2007.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板の処理装置及び処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を回転させながら処理する基板の処理装置において、
上記基板の周縁部を回転駆動されるローラによって保持してこの基板を回転駆動する第１の回転駆動手段と、
この第１の回転駆動手段に保持された基板の上面を洗浄処理する上部洗浄ツールを有する上部処理手段と、
上記第１の回転保持手段に保持された基板の下面を洗浄処理する下部洗浄ツールが交換可能に設けられた下部処理手段と、
上記基板に行なう処理の種類に応じて上記下部処理手段の下部洗浄ツールを他の処理ツールに交換するツール交換手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
【請求項２】  上記ツール交換手段によって交換される処理ツールは、上記基板を上記第１の回転駆動手段よりも高速度で回転駆動する第２の回転駆動手段であることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項３】  上記第２の回転駆動手段は、上記第１の回転駆動手段から基板を受けて保持する保持ツールと、この保持ツールを基板とともに上記第１の回転駆動手段よりも高速度で回転させる高速駆動源とを備えていることを特徴とする請求項２記載の基板の処理装置。
【請求項４】  上記下部処理手段は、先端に上記下部洗浄ツールが設けられた下部アームと、この下部アームを旋回駆動及び上下駆動する下部駆動手段とを具備し、
上記ツール交換手段は、上記下部アームを先端が上記第１の回転駆動手段に保持された基板から外れる位置に旋回させた状態で、この下部アームの先端に設けられた下部洗浄ツールを他の処理ツールに交換する構成であることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項５】  基板を回転させながら処理する基板の処理方法において、
請求項１に記載された処理装置を用いて基板を処理することを特徴とする基板の処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は基板を回転させながら上下面を洗浄処理することができる基板の処理装置及び処理方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明は、基板の上下両面を洗浄する場合に、その基板の洗浄処理と乾燥処理とを連続的に行うことができるようにした基板の処理装置及び処理方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４の発明は、上記下部処理手段は、先端に上記下部洗浄ツールが設けられた下部アームと、この下部アームを旋回駆動及び上下駆動する下部駆動手段とを具備し、
上記ツール交換手段は、上記下部アームを先端が上記第１の回転駆動手段に保持された基板から外れる位置に旋回させた状態で、この下部アームの先端に設けられた下部洗浄ツールを他の処理ツールに交換する構成であることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置にある。
請求項５の発明は、基板を回転させながら処理する基板の処理方法において、
請求項１に記載された処理装置を用いて基板を処理することを特徴とする基板の処理方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月26日(2007.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スピン処理装置及び基板の処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を保持して回転させることで処理するスピン処理装置において、
駆動源と、
この駆動源によって回転駆動される回転体と、
この回転体に回転可能に設けられた歯車と、
上記歯車に噛合する歯面を有し、歯車の回転によって歯車の接線方向に直線移動可能に設けられた複数の可動体と、
各可動体にこの可動体の移動方向に沿って設けられ一端部に上記基板の周辺部を保持する保持部を有する第１の杆状部材と、
上記歯車と上記回転体とを連結し歯車を所定の回転方向に弾性的に付勢して上記保持部が上記基板の周辺部を保持する方向に上記可動体を移動させる付勢手段と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。
【請求項２】  上記第１の杆状部材の他端には、基板の回転によって上記保持部に発生する遠心力を相殺もしくは上記保持部を基板に圧接する方向に付勢するためのウエイトが設けられていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
【請求項３】  上記回転体には、先端に上記保持部に保持された基板の周辺部の下面を支持する支持部が設けられた複数の第２の杆状部材の他端が周方向に所定間隔で連結されていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
【請求項４】  上記回転体の外径寸法は、上記基板の外径寸法に比べて十分小さく形成されていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
【請求項５】  基板を保持して回転させることで処理する基板の処理方法において、
請求項１に記載されたスピン処理装置を用いて上記基板を処理することを特徴とする基板の処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は基板を回転させながら洗浄処理したり、乾燥処理するためのスピン処理装置及びそのスピン処理装置を用いた基板の処理方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明は、慣性力を低減できるようにするとともに、回転によって発生する遠心力の影響をほとんど受けることなく基板を保持できるようにしたスピン処理装置及びそのスピン処理装置を用いた基板の処理方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項４の発明は、上記回転体の外径寸法は、上記基板の外径寸法に比べて十分小さく形成されていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
請求項５の発明は、基板を保持して回転させることで処理する基板の処理方法において、
請求項１に記載されたスピン処理装置を用いて上記基板を処理することを特徴とする基板の処理方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素が複数設けられた第１の基板と、
遮光性を有する第２の基板と、
紫外線により硬化する材料を用いて形成され、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるシール材とを有し、
前記シール材と前記第１の基板との間に第１の配線が形成され、
前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の基板と、前記第２の基板と、前記シール材とによって囲まれた領域に、液晶を封入されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記シール材は、前記第１の基板上に形成された無機膜に接していることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記画素は有機物質で形成された層間絶縁膜を有し、
前記第１の基板上の前記シール材と重なる領域において、前記第１の配線と前記第１の基板との間には前記層間絶縁膜が形成されていないことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
ＥＬ素子を有する画素が複数設けられた基板と、
遮光性を有するカバー材と、
紫外線により硬化する材料を用いて形成され、前記基板と前記カバー材とを貼り合わせるシール材とを有し、
前記シール材と前記基板との間に第１の配線が形成され、
前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記シール材は、前記基板上に形成された無機膜に接していることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記画素は有機物質で形成された層間絶縁膜を有し、
前記基板上の前記シール材と重なる領域において、前記第１の配線と前記基板との間には前記層間絶縁膜が形成されていないことを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記並列に接続された複数の第２の配線それぞれの幅Ｌと、前記並列に接続された複数の第２の配線の間隔Ｓの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５の値をとることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記並列に接続された複数の第２の配線それぞれの幅Ｌは、１００μｍ〜２００μｍの値をとり、
前記並列に接続された複数の第２の配線の間隔Ｓは、５０μｍ〜１５０μｍの値をとることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記第１の配線は、複数の前記画素が有する薄膜トランジスタのソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同じ物質で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一に記載の前記表示装置を用いることを特徴とするビデオカメラ、画像再生装置、ヘッドマウントディスプレイ、携帯電話、携帯情報端末。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月27日(2007.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
一方、給紙ローラ５７により給紙カセット５８内の被記録材Ｐが一枚づつ搬送され、シートパス５９を通って所定のタイミングで転写ニップ部ｎへ導入され、転写ローラ５６により被記録材Ｐの背面からトナーと逆極性の電界が加えられて感光ドラム５２側のトナー画像が被記録材Ｐの面に転写されていく。即ち、被記録材Ｐに未定着画像が形成担持される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
（２）加熱定着装置２００
図２は本実施例の加熱定着装置２００の横断面模型図である。本例の加熱定着装置２００は、特開平４−４４０７５〜４４０８３，４−２０４９８０〜２０４９８４号公報等に開示の円筒状の定着フィルムを用いたフィルム加熱方式・加熱ローラ駆動方式・テンションレスタイプの加熱装置である。
即ち、本実施例の加熱定着装置２００は、加熱体にフィルムを接触摺動させ、フィルムの加熱体側とは反対側の面に被加熱材（被記録材）を密着させて、該フィルムと共に加熱体位置を通過させて加熱体から該フィルムを介して被加熱材に熱エネルギーを付与する加熱装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
安全対策用素子である温度ヒューズ１０はＡＣラインの給電路（給電線）に直列に挿入されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
また、このときの加圧バネ３４の加圧力は、ヒーター１の異常昇温時に温度ヒューズ１０を支持している突起部２ｄが溶融する際に温度ヒューズ１０をヒーター１方向へ移動させ、しっかりとヒーター１と接触させるに足る加圧力を有している。
即ち、加圧バネ３４は温度ヒューズ１０をヒーター１の方向へ付勢する付勢部材であり、ヒーター１の異常昇温時のヒーター１からの熱によるヒーターホルダ２の突起部２ｄの溶融に伴い、温度ヒューズ１０をヒーター１へ移動させ接触させるに足る付勢力を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
また、ヒューズ加圧板３２の前後両端部は、ヒーターホルダ２の係合突起２ｂ、２ｃに嵌合し、端止め３５により抜け防止が図られている。その際、端子３１は係合突起２ｂ，２ｃに遊嵌状態で嵌合して係合孔部３１ａの径方向へのある程度の移動の自由度が確保されると共に係合突起の軸方向への移動が許容され、温度ヒューズ１０は、ヒューズ加圧板３２とヒーターホルダ２の間でフローティング状態に保持されて、加圧軸３３により所定の圧力を損なうことなくヒーター１の方向へヒーターホルダ２の突起部２ｄに保持される。
即ち、突起部２ｄの形状は片持ち梁形状で、温度ヒューズ１０の外形近傍を支持するような形状である。そして、突起部２ｄは、個々の突起部の熱容量が小さくなるように分割され、かつ、温度ヒューズ１０が安定して支持できるように複数個設けられている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
以上のような構成で、通常使用時には温度ヒューズ１０とヒーター１との間には１ｍｍの空隙Ｇが設けられるようになる。このような構成であれば、通常のプリント動作の中で最も制御温度が高く通紙が連続したとしても温度ヒューズ１０の温度は最高でも２０５℃程度までしか上昇しなので、通常のプリント動作においては、温度ヒューズ１０が動作することはなく、故障などのトラブルも発生しない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
一方、安全対策用温度検知素子である温度ヒューズ１０の本来の役割であるヒーター１の暴走による異常昇温時には、異常発生から約３秒後にはヒーター裏面の温度はヒーターホルダ２の材料の溶融温度である３５０℃に達するため、同材の突起部２ｄも溶融が始まり、それに伴って、温度ヒューズ１０を押圧している加圧バネ３４の力により温度ヒューズ１０がヒーター１と接触する。即ち、温度ヒューズ１０の作動温度は前記したように２２６℃であり、素子支持部材である、ヒーターホルダ２の同材の突起部２ｄは軟化点が温度ヒューズ１０の作動温度より大である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
（第２の実施例）
図９は本実施例の要部図である。本実施例においては、温度ヒューズ１０が、ヒーター長手方向（加熱体長手方向）に平行な円筒形状であり、ヒーターホルダ２の突起部２ｄに支持され、対向する位置であり、暴走時温度ヒューズ１０が接触（対向）する位置のヒーター１の裏面（加熱体面）に凹溝部（凹み形状）１ｓが形成具備されている。この溝形状は、本実施例では三角溝となっているが、円弧溝などであっても構わない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月13日(2007.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装着具と漏出液の吸収体から成る筒型電池用カバーであって、
前記装着具は、正極および負極側の端面用部材を弾性体で連結したものであり、
前記吸収体は、シート状カバーであり、
前記シート状カバーは、前記弾性体と筒型電池との間に挟み込んで装着される
ことを特徴とする筒型電池用カバー。
【請求項２】
前記弾性体は、自然長では装着対象の筒型電池の長さより短く、前記装着具を前記筒型電池に取り付けると２つの端面用部材を筒型電池の両端面に押し付けるように復元力を働かせる
ことを特徴とする請求項１記載の筒型電池用カバー。
【請求項３】
前記シート状カバーは、
ポリプロピレン繊維、ポリエチレン繊維、ビニロン、綿花、パルプ繊維またはポリウレタン繊維を素材として、編む、接着するまたは圧縮することにより作製されることにより、伸縮性と液体吸収性とを有する
ことを特徴とする請求項１記載の筒型電池用カバー。
【請求項４】
前記筒型電池は、水系の電解液を有する電池であり、
前記シート状カバーは、
ビニロン、綿花またはパルプ繊維を素材として、編む、接着するまたは圧縮することにより作製されている
ことを特徴とする請求項１記載の筒型電池用カバー。
【請求項５】
前記筒型電池は、非水系の電解液を有する電池であり、
前記シート状カバーは、
ポリプロピレン繊維またはポリエチレン繊維を素材として、編む、接着するまたは圧縮することにより作製されている
ことを特徴とする請求項１記載の筒型電池用カバー。
【請求項６】
前記シート状カバーは、
前記ポリウレタン繊維を芯に有するカバード糸またはコアスパン糸を編むことにより作成されている
ことを特徴とする請求項１記載の筒型電池用カバー。
【請求項７】
前記シート状カバーは、
前記弾性体用の溝を有している
ことを特徴とする請求項１記載の筒型電池用カバー。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月13日(2007.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屋内に置かれた燃料電池システムの運転試験に用いられる排気処理装置であって、
燃料電池に供給された反応ガスのオフガスを排出する排気口から前記オフガスを吸引して屋外に排出するオフガス排出手段と、
前記燃料電池の運転停止を検出する運転停止検出手段と、を備え、
前記燃料電池の運転停止を検出したときに、前記オフガス排出手段による前記オフガスの吸引を停止することを特徴とする排気処理装置。
【請求項２】
前記反応ガスまたは前記オフガスの流量を検知する流量検知手段を備え、
前記運転停止検出手段は、前記流量が所定値以下になったときに前記燃料電池の運転停止と判断することを特徴とする請求項１に記載の排気処理装置。
【請求項３】
前記反応ガスまたは前記オフガスの圧力を検知する圧力検知手段を備え、
前記運転停止検出手段は、前記圧力が所定値以下になったときに、前記燃料電池の運転停止と判断することを特徴とする請求項１に記載の排気処理装置。
【請求項４】
前記燃料電池システムは、車両に搭載され、
前記屋内には、前記車両の駆動輪の駆動力を検出する駆動力検出手段が設けられ、
前記運転停止検出手段は、前記駆動力に基づき前記燃料電池の運転停止を判断することを特徴とする請求項１に記載の排気処理装置。
【請求項５】
前記運転停止検出手段は、前記駆動力が回生状態であることを検知したときに、前記燃料電池の運転停止と判断することを特徴とする請求項４に記載の排気処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項４に係る発明は、前記燃料電池システムは、車両に搭載され、前記屋内には、前記車両の駆動輪の駆動力を検出する駆動力検出手段が設けられ、前記運転停止検出手段は、前記駆動力に基づき前記燃料電池の運転停止を判断することを特徴とする。
請求項５に係る発明は、前記運転停止検出手段は、前記駆動力が回生状態であることを検知したときに、前記燃料電池の運転停止と判断することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項５に係る発明によれば、燃料電池の運転停止は、車両の走行中に回生が行われたときに起こるので、燃料電池の運転停止を判断するためのセンサを新たに設ける必要がなく、排気処理装置を安価に構成できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ところで、本実施形態におけるアイドルストップ（燃料電池の運転停止）機能を備えた車両２０では、遮断弁１４を開弁した状態、つまり水素の供給は停止しない状態でエアコンプレッサ１７が停止され、燃料電池ＦＣのカソード極ｐ２への空気の供給を停止する。このため、アイドルストップ状態でＦＡＮ５を駆動させ続けていると、排気口２１が吸引され続けることになる。排気口２１は、燃料電池システム１０の各配管を通って車両２０の空気の取り入れ口であるエアコンプレッサ１７（図２参照）と一続きである。このため、カソード極ｐ２では、ＦＡＮ５による吸引力によってエアコンプレッサ１７側の給気口（図示せず）から空気が取り込まれるため燃料電池ＦＣのカソード極ｐ２を空気が流通し、アノード極ｐ１では遮断弁１４を閉じずに燃料電池ＦＣへの水素の供給を継続しているため、燃料電池ＦＣでは発電する必要がないにもかかわらず（走行モータなどの負荷が電力を要求していないにもかかわらず）水素と酸素とが反応し、燃料電池ＦＣが高電位になる。また、ＦＡＮ５の吸引力によって、燃料電池ＦＣのカソード極ｐ２を空気が流通することにより、燃料電池ＦＣ（特に、固体高分子電解質膜ｍ）が乾燥する。ちなみに、空気を加湿するための加湿器の加湿源としては、燃料電池の発電によって生成された水が利用されるため、アイドルストップによって燃料電池での発電が停止すると水が生成されなくなるため、非加湿や低加湿の空気が燃料電池ＦＣに導入されることになって、燃料電池ＦＣが乾燥することになる。したがって、燃料電池ＦＣが高電位になることや、燃料電池ＦＣが乾燥することによって、燃料電池ＦＣの性能が低下(劣化)することになる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月6日(2007.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔制御信号を出力する遠隔制御装置と、
１つの前輪と２つの後輪を有して前記遠隔制御信号により遠隔制御される電動モータを備えた遠隔制御走行玩具と、
走行面上を前記遠隔制御走行玩具が走行する遊戯盤とを備えた遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置であって、
前記遠隔制御走行玩具の前記２つの後輪の直径寸法が異なることを特徴とする遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項２】
前記遠隔制御装置は、通常の速度で電動モータを回転させる信号を出力する際に操作されるスイッチと、前記通常の速度よりも速い速度で前記電動モータを回転させる加速信号を出力する際に操作される加速スイッチとを備えている請求項１に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項３】
前記遠隔制御走行玩具は、
前記電動モータと該電動モータに接続される１以上のバッテリが車体に搭載され、
前記１以上のバッテリはその長軸が、前記車体の前後方向に延びる車体の中心線と交差するように横置き配置された構造を有することを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項４】
前記遠隔制御走行玩具は、
前記２つの後輪の間に前記電動モータが配置され、
前記電動モータと前記前輪との間に前記１以上のバッテリが配置され、
前記１以上のバッテリはその長軸が、前記２つの後輪が並ぶ方向と同じ方向に向かって延びるように横置き配置された構造を有することを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項５】
前記遊戯盤は、前記走行面が周方向に連続し且つ中央部に向かうに従って設置面からの高さが低くなる形状を有しており、
前記中央部には前記前輪及び／または前記後輪が完全に入り得る大きさを有し且つ前記遠隔制御走行玩具が自力で脱出可能な深さを有する凹部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項６】
前記凹部の内周面と前記設置面との間の角度が９３±１°の角度である請求項５に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項７】
前記走行面の主要部が、前記凹部に隣接して第１の曲率半径を有する第１の傾斜面と、前記第１の傾斜面の外側に連続して曲率半径が無限大に近い第２の曲率半径を有する第２の傾斜面とからなり、
前記第２の傾斜面の前記設置面からの角度が３２．２°〜４２．２°の範囲にあることを特徴とする請求項５または６に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項８】
前記走行面は、前記凹部に隣接して第１の曲率半径を有する第１の傾斜面と、前記第１の傾斜面の外側に連続して曲率半径が無限大に近い第２の曲率半径を有する第２の傾斜面と、前記第２の傾斜面の外側に連続して曲率半径が前記第１の曲率半径よりも小さい第３の曲率半径を有する第３の傾斜面と、前記第３の傾斜面の外側に連続して曲率半径が前記第３の曲率半径よりも小さい第４の曲率半径を有する第４の傾斜面とを有し、
前記第２の傾斜面、前記第１の傾斜面、前記第３の傾斜面、前記第４の傾斜面の順に幅寸法が小さく、
前記第２の傾斜面の前記設置面からの角度が３２．２°〜４２．２°の範囲にあることを特徴とする請求項５または６に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項９】
前記第３の傾斜面と前記設置面との間の角度が４８±２°の角度範囲にあり、
前記第４の傾斜面と前記設置面との間の角度が８９±１°の角度範囲にある請求項８に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項１０】
前記第４の傾斜面の外側にほぼ水平な水平面がある請求項９に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項１１】
前記前輪は角度の設定変更が可能であり、
角度の設定変更が可能な前記前輪と前記遊戯盤との間の動摩擦抵抗が前記後輪と前記遊戯盤との間の動摩擦抵抗よりも小さくなるように、前記前輪及び前記後輪の輪部が形成されている請求項１に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項１２】
前記前輪の輪部は低密度ポリエチレンと高密度ポリエチレンとを含有するエチレン重合体から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項１３】
前記エチレン重合体中の前記低密度ポリエチレンの含有量が３０重量パーセント以下である請求項１２に記載の遠隔制御走行玩具を用いた遊戯玩具装置。
【請求項１４】
１つの前輪と２つの後輪を有する遠隔制御走行玩具であって、
前記２つの後輪の直径寸法が異なることを特徴とする遠隔制御走行玩具。
【請求項１５】
１つの前輪と２つの後輪を有し、１以上のバッテリを電源として電動モータを駆動する遠隔制御走行玩具であって、
前記後輪の２つの車輪の直径寸法が異なり、
前記電動モータと該電動モータに接続される１以上のバッテリが車体に搭載され、
前記１以上のバッテリはその長軸が、前記車体の前後方向に延びる車体の中心線と交差するように横置き配置された構造を有することを特徴とする遠隔制御走行玩具。
【請求項１６】
前記前輪は角度の設定変更が可能であり、
角度の設定変更が可能な前記前輪と設置面との間の動摩擦抵抗が前記後輪と前記設置面との間の動摩擦抵抗よりも小さくなるように、前記前輪の輪部及び前記後輪の輪部が形成されている請求項１４または１５に記載の遠隔制御走行玩具。
【請求項１７】
前記前輪の輪部は低密度ポリエチレンと高密度ポリエチレンとを含有するエチレン重合体から形成されていることを特徴とする請求項１６に記載の遠隔制御走行玩具。
【請求項１８】
前記エチレン重合体中の前記低密度ポリエチレンの含有量が３０重量パーセント以下である請求項１７に記載の遠隔制御走行玩具。
【請求項１９】
走行面上を遠隔制御走行玩具が走行する遊戯盤であって、
前記走行面が周方向に連続し且つ中央部に向かうに従って設置面からの高さが低くなる形状を有しており、
前記中央部には前記前輪及び／または前記後輪が完全に入り得る大きさを有し且つ前記遠隔制御走行玩具が自力で脱出可能な深さを有する凹部が形成されていることを特徴とする遊戯盤。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月16日(2007.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基端部と末端部とを有する針カニューレと、
該末端部から離隔された位置で該針カニューレに取り付けられるハブと、
完全に引き込まれた位置と、該針カニューレの該末端部を封入する完全に伸ばされた位置との間で該針カニューレを覆う軸方向にスライド可能なシールドと、
該完全に伸ばされた位置に向かって該シールドを付勢する第一の付勢部材と、
該シールドを完全に引き込まれた位置に解放可能に維持するためのロックと、
該ロックを解放するためのアクチュエータと、
該シールドと係合可能な保持部材と、
を備え、
該保持部材は係合されているとき該シールドが完全に伸ばされた位置に向かって動くことを妨げると共に、該アクチュエータの作動は該ロックに解放させることを引き起こし、そして、該保持部材が該シールドから解放されるまで、該シールドは完全に伸ばされた位置に動くことを妨げられることを特徴とする保護可能な針アセンブリ。
【請求項２】
該アクチュエータは、該ロックを解放するために、該ハブにスライド可能に取り付けられている、少なくとも一つの作動アームを含むことを特徴とする請求項１に記載の針アセンブリ。
【請求項３】
該ハブと該シールドとの内の一つはラッチを含み、該ハブと該シールドとの内のもう一つはラッチに解放可能に係合するためのデテントを含み、該ラッチおよび該デテントは完全に引き込まれた位置に該シールドを解放可能に維持するために該ロックを形成し、そして、該作動アームは該ロックを解放すべく該ラッチを対応する該デテントから解放することを特徴とする請求項２に記載の針アセンブリ。
【請求項４】
該ハブから該針カニューレの末端部に向かって突出し、且つ、該針カニューレから外側へ間隔を空けられたハウジングをさらに備えていることを特徴とする請求項３に記載の針アセンブリ。
【請求項５】
該シールドはラッチを含み、該ハウジングは該ラッチと解放可能に係合するためにデテントを含んでいることを特徴とする請求項３に記載の針アセンブリ。
【請求項６】
該保持部材は、該ハブにスライド可能に取り付けられた保持アームを含み、該保持部材は、該作動アームが該ラッチを該デテントから解放した後、該シールドの保持突起と係合することを特徴とする請求項３に記載の針アセンブリ。
【請求項７】
該保持突起との係合から離れるように該保持アームを付勢する第二の付勢部材をさらに含んでいることを特徴とする請求項６に記載の針アセンブリ。
【請求項８】
該アクチュエータの作動に続くある期間、該第二の付勢部材が該保持突起との係合から離れるように該保持アームを動かすことを妨げられるように該第二の付勢部材が位置付けられていることを特徴とする請求項７に記載の針アセンブリ。
【請求項９】
該ハブは針ホルダと係合すべく適用され、且つ、該アクチュエータは該針ホルダへの採取容器の挿入を介して加えられる力によって作動されることを特徴とする請求項８に記載の針アセンブリ。
【請求項１０】
該第二の付勢部材は、該針ホルダからの該採取容器の引き抜きに基づいて、該保持突起との係合から離れるように該保持アームを付勢することを特徴とする請求項９に記載の針アセンブリ。
【請求項１１】
該第一の付勢部材はバネであり、該バネは該保持突起との係合から離れるように該保持アームを解放するために必要とされる力よりも弱いバネ力を有することを特徴とする請求項１０に記載の針アセンブリ。
【請求項１２】
完全に伸ばされた位置において、該シールドを固定する第二のロックをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の針アセンブリ。
【請求項１３】
該保持部材は、該ハブにスライド可能に取り付けられた保持アームを含み、該保持部材は、該アクチュエータが該ロックを解放した後、該シールドと係合することを特徴とする請求項１に記載の針アセンブリ。
【請求項１４】
該シールドとの係合から離れるように該保持アームを付勢する第二の付勢部材をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の針アセンブリ。
【請求項１５】
該アクチュエータの作動に続くある期間、該第二の付勢部材が該シールドとの係合から離れるように該保持アームを動かすことを妨げられるように該第二の付勢部材が位置付けられていることを特徴とする請求項１４に記載の針アセンブリ。
【請求項１６】
該ハブは針ホルダと係合すべく適用され、且つ、該アクチュエータは該針ホルダへの該採取容器の挿入を介して加えられる力によって作動されることを特徴とする請求項１５に記載の針アセンブリ。
【請求項１７】
該第二の付勢部材は、該針ホルダからの該採取容器の引き抜きに基づいて、該シールドとの係合から離れるように該保持アームを付勢することを特徴とする請求項１６に記載の針アセンブリ。
【請求項１８】
該第一の付勢部材はバネであり、該バネは該シールドとの係合から離れるように該保持アームを解放するために必要とされる力よりも弱いバネ力を有することを特徴とする請求項１７に記載の針アセンブリ。