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【手続補正書】
【提出日】平成20年5月15日(2008.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
心臓の機能をモニタするシステムにおいて：
患者の心臓の各位置に取り付けるように構成した複数の検出デバイスであって、
心臓の収縮に関する生理学的データを検出するように構成されたセンサと；
前記センサによって検出されたデータを送信するように構成されたワイヤレス送信器と；
を各々が具える検出デバイスと；
コントローラであって：
前記複数の検出デバイスによって送信された検出データを受信するように構成された受信器と；
プロセッサと；
を具えるコントローラと；を具え、
各検出デバイスが、他の検出デバイスと別々にインプラント可能であり、前記プロセッサが患者の心臓の収縮度を決定するために前記受信して検出したデータを分析するように構成されていることを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスの少なくとも一つが、前記患者の心臓の外側に位置する心臓組織に取り付けるように構成されていることを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスの少なくとも一つが、前記患者の心臓の内側に位置する心臓組織に取り付けるように構成されていることを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記コントローラが患者の外側で使用するように構成されていることを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記コントローラが外付パルス発生器に接続されていることを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記コントローラが患者にインプラントするように構成されていることを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項１乃至３のいずれか１項、あるいは請求項６に記載のシステムにおいて、前記コントローラが治療用医療デバイスに組み込まれていることを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、前記治療用デバイスが、ペースメーカ、細動除去器、インプラント可能な電気細動除去器、ＣＲＴペースメーカ、ＣＲＴ細動除去器、神経刺激器からなる群から選択されたインプラント可能なパルス発生器を具えることを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項７又は８に記載のシステムにおいて、前記検出したデータが前記治療用医療デバイスの出力を制御するのに使用されることを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項９に記載のシステムにおいて、前記医療デバイスが、前記患者に治療用薬剤を送出するポンプを具えることを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項１乃至４のいずれか１項、あるいは請求項６に記載のシステムにおいて、前記コントローラが診断用医療デバイスの中に組み込まれていることを特徴とするシステム。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記データが、位置、速度、加速度、位置の変化、速度の変化、加速度の変化、剛性、歪、電気インピーダンス、温度、電気活性からなる群から選択されることを特徴とするシステム。
【請求項１３】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスの各センサが、位置センサ、速度センサ、加速度センサ、歪センサ、触覚センサ、温度センサ、心電図モニタ、及び、電気インピーダンスセンサからなる群から選択されることを特徴とするシステム。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスが、高周波、磁気誘導、および赤外線からなる群から選択された信号を用いて、前記検出したデータを前記コントローラに送信することを特徴とするシステム。
【請求項１５】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスが前記検出したデータを前記コントローラに音響的に送信することを特徴とするシステム。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスのワイヤレストランスミッタと前記コントローラの受信器の各々がトランシーバを具え、前記コントローラと検出デバイスの各々が、音響通信ネットワークを形成していることを特徴とするシステム。
【請求項１７】
請求項１６に記載のシステムにおいて、前記検出デバイスのトランシーバが、音響エネルギィを前記検出デバイスを操作するのに使用される電気エネルギィに変換するように構成されていることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体供給装置で使用する柔軟な使い捨てカップにおいて、前記流体供給装置は、再使用可能なカップホルダと、開口部を有した外蓋とを具備し、前記再使用可能なカップホルダは前記外蓋に嵌合するようになっており、前記使い捨てカップは前記再使用可能なカップホルダに装着されるようになっており、前記使い捨てカップが、前記再使用可能なカップホルダと前記外蓋内に密封され、
前記使い捨てカップが、内部を画成する、側壁、開いた出口端および閉じた底部を具備し、前記使い捨てカップは帯電防止材料から成り、コーティング材混合物に含まれる帯電性粒子が前記使い捨てカップに付着せず、以て、該コーティング材混合物が供給される間、該コーティング材混合物の均一性が維持されるようにした柔軟な使い捨てカップ。
【請求項２】
前記帯電防止材料が、帯電防止添加剤を含有したポリマー材料から成る請求項１に記載の使い捨てカップ。
【請求項３】
前記帯電防止添加剤は、長鎖の脂肪族アミン類及びアミド類、リン酸塩類、第４アンモニウム化合物、ポリエチレングリコール、グリコールエステル、エトキシル化した長鎖脂肪族アミン類、親水性共重合体からなる高分子の帯電防止添加剤、固有導電性の重合体、例えばポリアニリン及びポリチオフェン、そして導電性充填剤、例えばカーボンブラック、金属粉末及び繊維、ならびにグラファイト繊維から選択される請求項２に記載の使い捨てカップ。
【請求項４】
前記ポリマー材料が、ポリエチレンまたはポリプロピレンから選択される請求項２に記載の使い捨てカップ。
【請求項５】
前記ポリマー材料が、実質的に透明なポリマー材料から成る請求項２に記載の使い捨てカップ。
【請求項６】
前記側壁が、前記出口端に隣接した第１の部分と、前記底部に隣接した第２の部分と、前記出口端と前記底部との間の第３の部分とを有し、前記第１と第２の部分が前記第３の部分よりも厚く形成されている請求項１に記載の使い捨てカップ。
【請求項７】
前記流体供給装置が塗料供給装置であって、前記コーティング材混合物が塗料混合物であり、前記帯電性粒子が金属粒子であって、前記コーティング材混合物の欽一性が、前記塗料混合物の色の均一性である請求項６に記載の使い捨てカップ。
【請求項８】
供給の間、コーティング材混合物の均一性を保持する方法において、
再使用可能なカップホルダと、開口部を有した外蓋とを準備し、該再使用可能なカップホルダは前記外蓋に嵌合するようになっており、
前記使い捨てカップは前記再使用可能なカップホルダに装着され、前記使い捨てカップは、内部を画成する、側壁、開いた出口端および閉じた底部を具備し、前記使い捨てカップは帯電防止材料から成り、
帯電性粒子を含んだコーティング材混合物を前記使い捨てカップに満たし、
前記使い捨てカップを再使用可能なカップホルダ内に配置し、
前記外蓋を前記再使用可能なカップホルダに取付、前記使い捨てカップを前記再使用可能なカップホルダと前記外蓋内に密封し、
前記塗料混合物を供給して、コーティング材混合物に含まれる帯電性粒子が前記使い捨てカップに付着せず、以て、該コーティング材混合物が供給される間、該コーティング材混合物の均一性が維持されるようにしたコーティング材混合物の均一性を保持する方法。
【請求項９】
前記コーティング材混合物が塗料混合物であり、前記帯電性粒子が金属粒子であって、前記コーティング材混合物の欽一性が、前記塗料混合物の色の均一性である請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼の前房または後房と流体連通するための眼移植片であって、
近位端および遠位端を有し、前房および後房の少なくとも一方から眼の外表面まで延びる本体と、
前記眼の前記外表面に対して係合するように、前記本体の前記近位端に位置決めされているヘッドと、
前房および後房の少なくとも一方内に係合されるように前記本体の前記遠位端に位置決めされた脚部とを備え、
前記本体、前記ヘッドおよび前記脚部は、突起、侵入および漏洩を実質的に防ぐような形状および寸法をしていることを特徴とする眼移植片。
【請求項２】
前記本体、前記ヘッドおよび前記脚部の少なくとも１つは、脱水状態および水和状態を有する眼ヒドロゲルから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項３】
前記水和状態は、前記脱水状態より約１０％から約５０％だけ大きい本体、ヘッドおよび脚部寸法の少なくとも１つを提供することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項４】
前記水和状態は、前記脱水状態より約２３％だけ大きい本体、ヘッドおよび脚部寸法の少なくとも１つを提供することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項５】
前記脚部は円形断面を備え、前記本体は円形断面を備え、
前記脚部円形断面の直径と前記本体円形断面の直径の比は、脚部円形断面の直径／本体円形断面の直径と規定され、約１．３から約３．００の間の値を有することを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項６】
前記脚部は円形断面を備え、前記本体は円形断面を備え、
前記脚部円形断面の直径と前記本体円形断面の直径の比は、脚部円形断面の直径／本体円形断面の直径と規定され、約１．９の値を有することを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項７】
前記脚部はある長さを有する切開部内に挿入される円形断面を備え、
前記切開部の長さと前記脚部円形断面の直径の比は、切開部の長さ／脚部円形断面の直径と規定され、前記脱水状態で約１．０から約１．３の間の値を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項８】
前記脚部はある長さを有する切開部内に挿入される円形断面を備え、
前記切開部の長さと前記脚部円形断面の直径の比は、切開部の長さ／脚部円形断面の直径と規定され、前記脱水状態で約１．１０の値を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項９】
前記脚部はある長さを有する切開部内に挿入される円形断面を備え、
前記切開部の長さと前記脚部円形断面の直径の比は、切開部の長さ／脚部円形断面の直径と規定され、前記水和状態で約０．７５から約１．０の間の値を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１０】
前記脚部はある長さを有する切開部内に挿入される円形断面を備え、
前記切開部の長さと前記脚部円形断面の直径の比は、切開部の長さ／脚部円形断面の直径と規定され、前記水和状態で約０．９７の間の値を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１１】
前記本体はある長さを有する切開部内に挿入される円形断面を備え、
前記切開部の長さと前記本体円形断面の直径の比は、切開部の長さ／本体円形断面の直径と規定され、前記水和状態で約１．２５から約２．０の間の値を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１２】
前記本体はある長さを有する切開部内に挿入される円形断面を備え、
前記切開部の長さと前記本体円形断面の直径の比は、切開部の長さ／本体円形断面の直径と規定され、前記水和状態で約１．８５の値を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１３】
約０．０５７インチから約０．０６５インチの間の脚部直径を有することを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項１４】
約０．０２９インチから約０．０３４インチの間の本体直径を有することを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項１５】
前記脱水状態で約０．０３０インチの本体長さ、および前記水和状態で約０．０３５インチの本体長さを有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１６】
前記脱水状態で約０．０３６インチの本体長さ、および前記水和状態で約０．０４２インチの本体長さを有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１７】
約０．０１９６インチから約０．０３９３インチの間の本体長さを有することを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項１８】
前記眼移植片は前記移植片を実質的に剛性のある形で提供する前記脱水状態で挿入され、
前記眼移植片は挿入後に水和され、前記水和状態は前記移植片を実質的に軟らかく柔軟性のある形で提供することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【請求項１９】
前記ヘッドは円形断面を備え、前記本体は円形断面を備え、
前記ヘッド円形断面の直径と前記本体円形断面の直径の比は、ヘッド円形断面の直径／本体円形断面の直径と規定され、約１．６２の値を有することを特徴とする請求項１に記載の眼移植片。
【請求項２０】
前記眼移植片は、前記脱水状態で約０．０４７インチのヘッド直径、および前記脱水状態で約０．０５７インチの脚部直径を有し、
前記眼移植片は、前記水和状態で約０．０５５インチのヘッド直径、および前記水和状態で約０．０６５インチの脚部直径を有することを特徴とする請求項２に記載の眼移植片。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月18日(2008.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
CDRH1に配列番号2、CDRH2に配列番号4、CDRH3に配列番号6、CDRL1に配列番号10、CDRL2に配列番号12、およびCDRL3に配列番号14からなる群から選択される、1個または複数個の相補性決定領域を含む単離ヒト抗体または抗体断片。
【請求項２】
CDRH1に配列番号2、CDRH2に配列番号4、およびCDRH3に配列番号6を含む、請求項1に記載の抗体または抗体断片。
【請求項３】
配列番号8を含む、請求項1に記載の抗体または抗体断片。
【請求項４】
CDRL1に配列番号10、CDRL2に配列番号12、およびCDRL3に配列番号14を含む、請求項1に記載の抗体または抗体断片。
【請求項５】
配列番号16を含む、請求項1に記載の抗体または抗体断片。
【請求項６】
CDRH1に配列番号2、CDRH2に配列番号4、CDRH3に配列番号6、CDRL1に配列番号10、CDRL2に配列番号12、およびCDRL3に配列番号14を含む、請求項1に記載の抗体または抗体断片。
【請求項７】
配列番号8および配列番号16を含む、請求項1に記載の抗体または抗体断片。
【請求項８】
EGFRと選択的に結合する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の抗体または抗体断片。
【請求項９】
EGFRがEGFRのリガンドと結合するのを阻害する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の抗体または抗体断片。
【請求項１０】
EGFRを中和する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の抗体または抗体断片。
【請求項１１】
単鎖抗体、Fab、単鎖Fv、ダイアボディー、およびトリアボディーからなる群から選択される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の抗体または抗体断片。
【請求項１２】
請求項1〜7のいずれか1項に記載の前記抗体または抗体断片の複合体。
【請求項１３】
抗悪性腫瘍薬、標的部分、またはリポーター部分を含む、請求項12に記載の複合体。
【請求項１４】
抗体または抗体断片をコードし、かつCDRH1に配列番号1、CDRH2に配列番号3、CDRH3に配列番号5、CDRL1に配列番号9、CDRL2に配列番号11、およびCDRL3に配列番号13からなる群から選択される、1個または複数個のヌクレオチド配列を含む単離ポリヌクレオチド。
【請求項１５】
配列番号7を含む、請求項14に記載の単離ポリヌクレオチド。
【請求項１６】
請求項15を含む、請求項14に記載の単離ポリヌクレオチド。
【請求項１７】
請求項14〜16のいずれか1項に記載の前記ポリヌクレオチドを含む発現ベクター。
【請求項１８】
請求項17に記載の前記発現ベクターを含む組換え宿主細胞。
【請求項１９】
配列番号8を含むポリペプチドと配列番号16を含むポリペプチドとを産生する、請求項18に記載の組換え宿主細胞。
【請求項２０】
配列番号8および配列番号16を含むポリペプチドを産生する、請求項18に記載の組換え宿主細胞。
【請求項２１】
治療有効量の請求項1〜11のいずれか1項に記載の抗体を含む、哺乳動物において腫瘍成長を阻害するための医薬組成物。
【請求項２２】
前記腫瘍がEGFRを発現する、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２３】
前記腫瘍がEGFRを過剰発現する、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
前記腫瘍が原発性腫瘍である、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
前記腫瘍が転移性腫瘍である、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
前記腫瘍が難治性腫瘍である、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
前記腫瘍が脈管化腫瘍である、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
前記腫瘍が、結腸直腸の腫瘍、頭部および頸部の腫瘍、膵臓の腫瘍、肺の腫瘍、乳房の腫瘍、腎臓細胞の癌腫、および神経膠芽腫からなる群から選択される、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項２９】
前記抗体または抗体断片が抗悪性腫瘍薬と併用して投与される、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項３０】
前記抗悪性腫瘍薬が化学療法薬である、請求項29に記載の医薬組成物。
【請求項３１】
前記抗悪性腫瘍薬がイリノテカン（CPT-11）である、請求項29に記載の医薬組成物。
【請求項３２】
前記抗悪性腫瘍薬が放射線である、請求項29に記載の医薬組成物。
【請求項３３】
EGFR拮抗薬と共に投与される、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項３４】
前記EGFR拮抗薬が細胞内EGFR拮抗薬である、請求項33に記載の医薬組成物。
【請求項３５】
治療有効量の脈管内皮因子受容体（VEGFR）拮抗薬がさらに投与される、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項３６】
治療有効量のインスリン様成長因子受容体（IGFR）拮抗薬がさらに投与される、請求項21に記載の医薬組成物。
【請求項３７】
治療有効量の請求項1から11のいずれか1項に記載の抗体を含む、過剰増殖性疾患の治療のための医薬組成物。
【請求項３８】
前記過剰増殖性疾患が乾癬である、請求項37に記載の医薬組成物。
【請求項３９】
乾癬用の局所または全身薬と併用して投与される、請求項38に記載の医薬組成物。
【請求項４０】
コルチコステロイドと併用して投与される、請求項38に記載の医薬組成物。
【請求項４１】
レチノイドと併用して投与される、請求項38に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食用支持マトリックスに固体形態で懸濁クレアチンを含んで成るヒト消費用の固体または半固体スナックバーであって、全体としての食品バーが５５未満の血糖上昇指数を有するスナックバー。
【請求項２】
フルーツ、シリアル、ナッツ、ココア、チョコレート、ビタミン、ミネラル、脂質、炭水化物、繊維、香味料、人工甘味料および防腐剤から成る群から選択される１つまたはそれ以上の付加的成分を含んで成る請求項１に記載のスナックバー。
【請求項３】
１つまたはそれ以上のタンパク質濃縮物を含んで成る請求項１または２に記載のスナックバー。
【請求項４】
タンパク質濃縮物がダイズタンパク質、乳漿タンパク質およびカゼイン塩を含んで成る群から選択される請求項３に記載のスナックバー。
【請求項５】
食用支持マトリクスが塗り広げられる固体を含んで成る請求項１〜４のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項６】
塗り広げられる固体が、バター、マーガリンまたは他の脂肪を含んで成る請求項５に記載のスナックバー。
【請求項７】
天然甘味料を含んで成る請求項１〜６のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項８】
天然甘味料が、フルクトースシロップまたは高フルクトース含有グリセロール、ソルビトールおよびマルチトールから成る群から選択される請求項７に記載のスナックバー。
【請求項９】
クレアチンをカプセル封入形態または他の持続放出形態で含んで成る請求項１〜８のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項１０】
人工甘味料を含んで成る請求項１〜９のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項１１】
人工甘味料が、アスパルテーム、アセスルファム  Ｋ、サッカリンおよびスクラロースから成る群から選択される請求項１０に記載のスナックバー。
【請求項１２】
下記から成る群から選択される１つまたはそれ以上のビタミンおよびミネラルを含んで成る請求項１〜１１のいずれか１つに記載のスナックバー：燐酸二カルシウム、燐酸二カリウム、酸化マグネシウム、燐酸一カルシウム、アスコルビン酸、オルト燐酸第二鉄、ビタミンＥ酢酸、ナイアシンアミド、酸化亜鉛、グルコン酸銅、パントテン酸ｄ−カルシウム、硫酸マンガン、ビタミンＡパルミチン酸、塩酸ピリドキシン、硝酸チアミン、リボフラビン、モリブデン酸ナトリウム、塩化クロム、葉酸、ビオチン、亜セレン酸ナトリウム、ヨウ化カリウム、ビタミンＫ１（フィトナジオン）およびビタミンＢ１２。
【請求項１３】
１つのバーにつき少なくとも０．２５ｇのクレアチンを含んで成る請求項１〜１２のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項１４】
１つのバーにつき少なくとも２ｇのクレアチンを含んで成る請求項１３に記載のスナックバー。
【請求項１５】
１つのバーにつき少なくとも５ｇのクレアチンを含んで成る請求項１３に記載のスナックバー。
【請求項１６】
１５〜２５０ｇの質量を有する請求項１〜１５のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項１７】
３０〜１５０ｇの質量を有する請求項１６に記載のスナックバー。
【請求項１８】
食用コーティングを含んで成る請求項１〜１７のいずれか１つに記載のスナックバー。
【請求項１９】
コーティングが、チョコレートまたはチョコレート風味コーティングまたはヨーグルトコーティングを含んで成る請求項１８に記載のスナックバー。
【請求項２０】
下記の工程を含んで成るヒト消費用のクレアチン含有の低い血糖上昇指数スナックバーの製造法：混合物全体の血糖上昇指数が５５またはそれ以下の数値になるように、固体クレアチンを、食用支持マトリックス、および任意に１つまたはそれ以上の付加的成分と混合する工程；得られた混合物をバーに形成する工程；および、バーを包装する工程。
【請求項２１】
食用支持マトリックスとの混合前に、全ての固体成分を混合する請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
食用支持マトリックスが、バター、マーガリンまたは他の脂肪を含んで成る請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
混合物をバーに形成する工程が、混合物を押出および／またはカッティングする工程を含んで成る請求項２０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
事実上、パラジウムと、０．００５％〜１．５％の硼素と、３％〜２０％のレニウムとから成り、装置に形成される鍛錬合金。
【請求項２】
前記鍛錬合金が、冷間加工されかつ少なくとも部分的に焼鈍されたものに相当する組織を有する請求項１に記載された鍛錬合金。
【請求項３】
前記鍛錬合金の前記組織が、最大７５％の冷間加工を施されたものに相当する請求項２に記載された鍛錬合金。
【請求項４】
前記鍛錬合金の前記組織が、７５％を超える冷間加工を施されたものに相当する請求項２に記載された鍛錬合金。
【請求項５】
パラジウムと、硼素と、レニウムとから成る合金を冷間加工によって成形した製品。
【請求項６】
前記製品が身体内医療装置である請求項５に記載された製品。
【請求項７】
前記製品が電気接点である請求項５に記載された製品。
【請求項８】
前記電気接点が摺動接点である請求項７に記載された製品。
【請求項９】
前記電気接点が静止接点である請求項７に記載された製品。
【請求項１０】
事実上、パラジウム、レニウムおよび硼素から成る合金であり、パラジウム含有量が７８．５〜９６．９９５％、硼素含有量が０．００５〜１．５％、レニウム含有量が３〜２０％である合金。
【請求項１１】
下記３つの主元素である、
合金の残部としての第１の主元素Ｐｄと、
１０．５％±０．５％の範囲の第２の主元素Ｒｅと、
０．０８％±０．０５％の範囲の第３の主元素Ｂとを含む合金。
【請求項１２】
下記の３つの主元素である、
合金の残部としての第１の主元素Ｐｄと、
５％±０．５％の範囲の第２の主元素Ｒｅと、
０．０８％±０．０５％の範囲の第３の主元素Ｂとを含む合金。
【請求項１３】
下記の４つの主元素である、
合金の残部としての第１の主元素Ｐｄと、
４％±０．５％の範囲の第２の主元素Ｒｕと、
０．０８％±０．０５％の範囲の第３の主元素Ｂと、
１０％±０．５％の範囲の第４の主元素Ｗとを含む合金。
【請求項１４】
下記の４つの主元素である、
合金の残部としての第１の主元素Ｐｄと、
４％±０．５％の範囲の第２の主元素Ｒｕと、
０．０８％±０．０５％の範囲の第３の主元素Ｂと、
２０％±１％の範囲の第４の主元素Ｒｅとを含む合金。
【請求項１５】
下記の３つの元素である、
合金の残部としての第１の主元素Ｐｄと、
２％±０．５％の範囲の第２の主元素Ｒｕと、
０．０８％±０．０５％の範囲の第３の主元素Ｂとを含む合金。
【請求項１６】
パラジウムと、最大２０％のレニウムと、最大１．５％の硼素と、第４の元素とから成る合金であり、前記第４の元素が、ルテニウム、イリジウム、プラチナ、タングステン、金、ジルコニウム、コバルト、ニッケルおよびタンタルのうちの少なくとも一種である合金。
【請求項１７】
パラジウムと、最大２０％のレニウムと、最大１．５％の硼素と、第４の元素とから成る合金で形成された製品であり、前記第４の元素が、ルテニウム、イリジウム、プラチナ、タングステン、金、ジルコニウム、コバルト、ニッケル、およびタンタルのうちの少なくとも一種である製品。
【請求項１８】
前記製品が身体内医療装置である請求項１７に記載された製品。
【請求項１９】
前記製品が電気接点である請求項１７に記載された製品。
【請求項２０】
前記電気接点が摺動接点である請求項１９に記載された製品。
【請求項２１】
前記電気接点が静止接点である請求項１９に記載された製品。
【請求項２２】
前記製品が加工されたワイヤまたはストリップである請求項５に記載された製品。
【請求項２３】
事実上、パラジウムと、硼素と、レニウムとから成る合金を冷間加工して形成され、少
なくとも部分的に焼鈍が施されて成る製品。
【請求項２４】
前記製品が身体内医療装置である請求項２３に記載された製品。
【請求項２５】
パラジウムと、最大２０％のレニウムと、最大１．５％の硼素と、第４の元素とから成る合金で形成された製品であって、
前記第４の元素が、ルテニウム、イリジウム、プラチナ、タングステン、金、ジルコニウム、コバルト、ニッケルおよびタンタルのうちの少なくとも一種であり、
前記合金を冷間加工して形成され、少なくとも部分的に焼鈍が施されて成る製品。
【請求項２６】
前記製品が身体内医療装置である請求項２５に記載された製品。
【請求項２７】
前記製品が電気接点である請求項２５に記載された製品。
【請求項２８】
前記電気接点が摺動接点である請求項２７に記載された製品。
【請求項２９】
前記電気接点が静止接点である請求項２７に記載された製品。
【請求項３０】
身体内医療用に適する生体親和性を有する請求項１に記載された鍛錬合金。
【請求項３１】
身体内医療用である請求項１０に記載された合金。
【請求項３２】
事実上、パラジウム、レニウムおよび硼素から成る合金で形成された製品であり、該合金のパラジウム含有量が７８．５〜９６．９９５％、硼素含有量が０．００５〜１．５％、レニウム含有量が３〜２０％であって、機械加工されて成る製品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の高アスペクト比のナノ形体内に、該ナノ形体の幅の半分未満の厚さの薄膜を蒸着する方法であり、
分散型のプラズマ源から、基板を支持するように構成された基板ホルダーを有するプロセスチャンバ内にＲＦエネルギーを結合する段階であって、前記基板ホルダー上に支持された前記基板に近接し少なくとも１０１２ｃｍ−３の電子密度を有するプラズマを形成するためにＲＦエネルギーを結合する段階と、
分散型の金属源から前記プロセスチャンバに金属を導入する段階と、
金属が前記基板上に蒸着される際は常に、前記基板近傍のプラズマ被膜部に近接するプラズマの境界におけるプラズマ密度が、前記境界における金属密度よりも大きくなるように、前記ＲＦエネルギーを結合する段階及び前記金属を導入する段階を制御しながら、前記ナノ形体の側壁表面上に金属膜を蒸着する段階とを備えた方法。
【請求項２】
前記金属密度と前記プラズマ密度との間の比が、前記基板の表面にわたって実質的に一様であるように維持する段階を更に備えた請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属密度と前記プラズマ密度との間の比が時間の関数として変化するように維持する段階を更に備えた請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記プラズマ源が一つ以上のプラズマ発生素子を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記金属源が、前記基板上の前記金属密度の空間分布の調節または制御の少なくとも一つを実施するように構成された分散型の金属源を含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記プロセスチャンバにバッファ装置を結合する段階と、前記プロセスチャンバ内の前記基板近傍の前記プラズマ密度または前記金属密度の少なくとも一つを調節するために前記バッファ装置を制御する段階とを更に備えた請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記バッファ装置を制御するために前記バッファ装置を電気的にバイアスする段階を更に備えた請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記プロセスチャンバ内の前記基板近傍の前記プラズマ密度または前記金属密度の少なくとも一つを調節するために前記バッファ装置に磁石システムを結合する段階を更に備えた請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記磁石システムが、永久磁石のアレイ、電磁石、回転する磁石、並進移動可能な磁石、または、静止した磁石の少なくとも一つを含む請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記プロセスチャンバ内の前記基板近傍の前記プラズマ密度または前記金属密度の少なくとも一つを調節するために、前記バッファ装置が、前記基板に対して実質的に垂直な方向に並進移動可能である請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
基板上の高アスペクト比の形体内に薄膜を蒸着する方法であり、
蒸着システム内の基板ホルダー上に前記基板を配置する段階と、
コーティング材料イオン化ポテンシャルを有するコーティング材料のコーティング材料源を前記蒸着システムに提供する段階と、
前記コーティング材料イオン化ポテンシャルよりも大きなイオン化ポテンシャルを有するプロセスガスを前記蒸着システム内に導入する段階と、
プラズマ源を用いて前記蒸着システム内部にプラズマ密度を有するプラズマを前記プロセスガスと共に形成する段階と、
前記コーティング材料源を用いて前記蒸着システム内部に、前記プラズマ密度以下に維持されているコーティング材料密度で前記コーティング材料を導入する段階と、
前記基板上の前記コーティング材料密度対前記プラズマ密度の比が一よりも大きくならないように維持しながら、前記基板上の前記形体内部に±２５％の一様性を有する前記コーティング材料のコンフォーマルな蒸着を実施する段階とを備えた方法。
【請求項１２】
前記比が前記基板の表面にわたって実質的に一様である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記プラズマ源が、１０１２ｃｍ−３を超えるプラズマ密度を生じさせるように構成されている請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記コンフォーマルな蒸着を実施する段階が、前記基板上の最大厚さが前記形体の幅の半分未満である膜を蒸着する段階を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記コンフォーマルな蒸着を実施する段階が、前記基板上の最大厚さが前記形体の幅の略１０分の１未満である膜を蒸着する段階を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
基板上の高アスペクト比の形体内に、６．２５ｎｍ以下の厚さ及び２５％以下のコンフォーマル性を有する金属薄膜の境界層またはシード層を蒸着する方法であり、
蒸着システム内の基板ホルダー上に前記基板を配置する段階と、
プラズマ源を用いて前記蒸着システム内部に少なくとも１０１２電子数／ｃｍ３のプラズマ密度を有するプラズマを形成する段階と、
金属源を用いて前記蒸着システム内部に前記プラズマ密度未満に維持されている金属密度を有する金属を導入する段階と、
蒸着を実施する全時間に対して前記基板近傍の前記金属密度対前記プラズマ密度の比を一以下に設定及び維持しながら、前記基板上の前記形体内部に、６．２５ｎｍ以下の厚さ及び±２５％の一様性を有するコンフォーマルな蒸着を実施する段階とを備えた方法。
【請求項１７】
前記プラズマ源を用いて前記プラズマ密度を調節することによって前記比を設定する段階を更に備えた請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記金属源を用いて前記金属密度を調節することによって前記比を設定する段階を更に備えた請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記コンフォーマルな蒸着を実施する段階が、前記基板上の最大厚さが前記形体の幅の半分未満である膜を蒸着する段階を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記コンフォーマルな蒸着を実施する段階が、前記基板上の最大厚さが前記形体の幅の略１０分の１未満である膜を蒸着する段階を含む請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月8日(2008.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバの中心軸に対して垂直な面内に配設された基板支持体を有するプラズマ処理反応装置における、前記中心軸を中心に配置された個別に制御可能な電磁石コイルのアレーであって、コイルのうちの少なくとも２つが中心軸から異なる半径で配設されているアレー（array）。
【請求項２】
矩形パターンで配置された４つのコイルを有する、請求項１に記載のアレー。
【請求項３】
前記コイルのうちの少なくとも２つと熱的に接触するマルチラップ冷却コイルを更に備える、請求項１に記載のアレー。
【請求項４】
アセンブリ内に固定された電磁石コイルのアレーであって、前記コイルの全ての両端部が前記アセンブリの外側で利用でき、前記電磁石コイルが前記アセンブリ内で接着剤によって固定されているアレー。
【請求項５】
矩形のアレーで配置され且つ軸を中心に巻回された４つの前記電磁石コイルを備える、請求項４に記載のアレー。
【請求項６】
１つの軸を中心とする矩形パターンの環状アセンブリの形態を成す４つの電磁石コイルを備えるとともに、内部に置かれた基板を処理する為のプラズマ処理反応装置の壁部の外側周囲に配設されるように構成された四重アレー。
【請求項７】
前記４つの電磁石コイルと熱的に接触する、１つの螺旋状に巻き付けられた流体冷却コイルを更に備える、請求項１４に記載のアレー。
【請求項８】
プラズマ処理反応装置であって、
中心軸を中心に略対称的に配置されたチャンバ本体と、
その前面がプラズマ処理される基板を前記反応装置内で支持するための支持体と、
前記前面の上側に偏位した軸方向距離において且つ前記中心軸からの少なくとも２つの半径において前記チャンバ本体の周りに巻き付けられ、そのうちの少なくとも幾つかが独立に給電可能である複数の電磁石のアレーと、
を備えるプラズマ処理反応装置。
【請求項９】
前記アレーが、矩形アレーとして配置される４つの前記電磁石を備える、請求項８に記載の反応装置。
【請求項１０】
前記４つの電磁石の対向する端部に対する８個の接近可能で且つ再構成可能な電気接続部を含む端子構造体を更に備える、請求項９に記載の反応装置。
【請求項１１】
前記チャンバに固定され且つ前記中心軸を中心に配置されたスッパタリングターゲットと、前記中心軸に沿って前記アレイと重複するように配置されたＲＦコイルと、を更に備える、請求項８に記載の反応装置。
【請求項１２】
スパッタチャンバ内で行なわれるとともに、耐熱金属を備えるターゲットと対向して前記チャンバ内のペデスタル電極上に置かれた基板の誘電体層中に形成されるホール内にバリア層を堆積させるプロセスであって、
連続的に、
（ａ）窒化物堆積ステップであって、
前記ターゲットに第１のレベルのＤＣ電力を印加してプラズマを励起することにより前記ターゲットをスパッタする工程と、
第１のレベルのＲＦ電力を前記ペデスタル電極に対して印加する工程と、
２つの軸方向位置で前記軸を中心に巻回された２つの第１の電磁石コイルに給電して、対向する磁場を生成する工程と、
前記チャンバ内に窒素ガスを流して、前記耐熱金属の窒化物を前記基板上に形成する工程と、含む前記窒化物堆積ステップと、
（ｂ）耐熱金属堆積ステップであって、
第２のレベルのＤＣ電力を前記ターゲットに印加してプラズマを励起することにより前記ターゲットをスパッタする工程と、
第２のレベルのＲＦ電力を前記ペデスタル電極に対して印加する工程と、
前記２つの第１の電磁石コイルに給電して、対向する磁場を生成する工程と、
前記チャンバ内に窒素ガスを流すことを実質的に中止する工程と、を含む前記耐熱金属堆積ステップと、
（ｃ）エッチングステップであって、
前記チャンバ内にアルゴンを流す工程と、
前記ＲＦコイルにＲＦ電力を印加して、前記アルゴンをプラズマへと励起する工程と、
２つの軸方向位置で前記軸を中心に巻回された２つの第２の電磁石コイルに給電して、対向する磁場を生成する工程と、
第３のレベルのＲＦ電力を前記ペデスタル電極に対して印加する工程と、を含む前記エッチングステップと、
が行なわれる、前記プロセス。
【請求項１３】
（ｄ）フラッシュ堆積ステップであって、
前記第１及び第２のレベルのＤＣ電力よりも小さいレベルのＤＣ電力を前記ターゲットに印加して、前記ターゲットをスパッタする工程と、
前記２つの第１の電磁石コイルに給電して、対向する磁場を生成する工程と、
前記第１、第２、第３のレベルのＲＦ電力よりも小さい第４のレベルのＲＦ電力を前記ペデスタル電極に印加する工程と、
を含む前記フラッシュ堆積ステップをその後に備える、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記エッチングステップが、第１及び第２のレベルのＤＣ電力の１０％未満のレベルのＤＣ電力を前記ターゲットに対して印加する工程を含む、請求項１２に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月22日(2008.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレンコポリマーおよびプロピレンポリマーを含む、熱可塑性ポリマーブレンドを含むまたはそれらから製造される組成物であって、前記エチレンコポリマーは、（１）エチレン、および、アルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、またはこれらの２つ以上の組み合わせ、および、任意に一酸化炭素またはエポキシ含有コモノマーから誘導される繰り返し単位、（２）エチレン、および、第２のα−オレフィンから誘導される繰り返し単位を含むメタロセン触媒エチレンポリマー、または（３）（１）および（２）の組み合わせを含み、前記プロピレンポリマーは、プロピレン、および、任意に、エチレン、ブテン、またはこれらの組み合わせを含むα−オレフィンであるコモノマーから誘導される繰り返し単位を含む、組成物。
【請求項２】
請求項１に特徴付けられる組成物を含むまたはそれから製造されるシーラントまたはシール層を含む、多層フィルム。
【請求項３】
包装容器が、包装容器内に剥離性シールを含み、前記フィルムが請求項２に特徴付けられるものである、多層フィルムを含むまたはそれから製造される包装容器。
【請求項４】
シーラント含有フィルムを製造するため、ポリマーおよびシーラントを共押出しし、シーラント層を含有する多層フィルムを製造する工程；任意に、前記シーラント含有フィルムを配向ポリエステルまたは配向ポリプロピレンの第２のフィルムに貼付し、第２の多層フィルムを製造する工程を含み、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムが請求項１に特徴付けられる組成物を含み、前記フィルムが請求項２に特徴付けられるものである、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
剥離力−フィルムＤ
2008500450.tif 000001
1Ｎ／１５ｍｍ
2Ｎ／６ｍｍ
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  エチレンコポリマーおよびプロピレンポリマーを含む、熱可塑性ポリマーブレンドを含むまたはそれらから製造される組成物であって、前記エチレンコポリマーは、（１）エチレン、および、アルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、またはこれらの２つ以上の組み合わせ、および、任意に一酸化炭素またはエポキシ含有コモノマーから誘導される繰り返し単位、（２）エチレン、および、第２のα−オレフィンから誘導される繰り返し単位を含むメタロセン触媒エチレンポリマー、または（３）（１）および（２）の組み合わせを含み、前記プロピレンポリマーは、プロピレン、および、任意に、エチレン、ブテン、またはこれらの組み合わせを含むα−オレフィンであるコモノマーから誘導される繰り返し単位を含む、組成物。
2.  前記エチレンコポリマーが、前記組成物中に約７０重量％〜約９５重量％、少なくとも約８５重量％、または約９０重量％〜約９５重量％存在し、前記プロピレンポリマーが前記組成物中に約５重量％〜約３０重量％存在する、上記１に記載の組成物。
3.  前記組成物が、比較的低い温度範囲内にある第１の温度で加熱されるとき剥離性シールを形成し；前記組成物が、比較的高い温度範囲内にある第２の温度で加熱されるとき永久シールまたはロックアップシールを形成し；前記比較的低い温度範囲が少なくとも約１５℃にわたる、上記１または２に記載の組成物。
4.  前記エチレンコポリマーが、エチレン、および、メタクリル酸、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、またはこれらの２つ以上の組み合わせであるコモノマーから誘導される繰り返し単位を含み；前記プロピレンポリマーのメルトフローレートが好ましくは≧２である、上記１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
5.  前記コモノマーが、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸、アクリル酸ブチルとメタクリル酸の両方、またはこれらの２つ以上の組み合わせを含む、上記５に記載の組成物。
6.  上記１〜５のいずれか一項に特徴付けられる組成物を含むまたはそれから製造されるシーラントまたはシール層を含む、多層フィルム。
7.  前記フィルムが、更に、配向ポリエステルまたは配向ポリプロピレンを含むまたはそれから製造される、上記６に記載のフィルム。
8.  包装容器が、包装容器内に剥離性シールを含み、前記フィルムが上記６または７に特徴付けられるものである、多層フィルムを含むまたはそれから製造される包装容器。
9.  シーラント含有フィルムを製造するため、ポリマーおよびシーラントを共押出しし、シーラント層を含有する多層フィルムを製造する工程；任意に、前記シーラント含有フィルムを配向ポリエステルまたは配向ポリプロピレンの第２のフィルムに貼付し、第２の多層フィルムを製造する工程を含み、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムが上記１〜５のいずれか一項に特徴付けられる組成物を含み、前記フィルムが上記６または７に特徴付けられるものである、方法。
10.  （１）開口部を有する包装容器を製造するため、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムを折り畳み、前記フィルムの二辺の縁部をシールし、それによって、シールを作り出し、開口部を有する包装容器のシールされた周辺を画定する工程、または、開口部を有する包装容器を製造するため、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムを２枚重ね合わせ、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムの三辺の縁部をシールし、それによってシールを作り出し、開口部を有する包装容器のシールされた周辺を画定する工程、または、開口部を有する包装容器を製造するため、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムを別のフィルムと重ね合わせ、前記多層フィルムまたは前記第２の多層フィルムの三辺の縁部をシールし、それによってシールを作り出し、開口部を有する包装容器のシールされた周辺を画定する工程；および（２）任意に、前記包装容器の周辺の内側にある前記フィルムの１つ以上の部分をシールし、それによって、境界を形成し且つ包装容器を別々の区画に分割する１つ以上の剥離性シールを作り出す工程；（３）１種類以上の成分を１つ以上の区画に閉じ込める工程であって、前記成分が固体、流体、または気体を含む工程；および（４）前記開口部をシールする工程を更に含む上記９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）有機ポリマー基材及び
（Ｂ）有効難燃化量の、式Ｉ及び／又はＩＩ
【化１】
2008500416.tif 000001
【化２】
2008500416.tif 000002
［式中、
ｎは１又は２又は３であり；
Ａｒは部分式
【化３】
2008500416.tif 000003
（式中、Ｒ2は第三ブチル基又は１，１−ジメチルベンジル基を表し、Ｒ3はＨ又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、及びＲ5はメチル基又はフェニル基を表し；及び
ＲはＡｒに対し定義されたとおりである。）
で表される基を表すか；
又はＲ及びＡｒは一緒になって部分式
【化４】
2008500416.tif 000004
（式中、Ｄは直接結合又は炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表す。）で表される基を表し；
ｎが１の場合、Ｒ’は炭素原子数６ないし１２のアリール基又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基により置換された炭素原子数６ないし１２のアリール基を表すか、又はＲ’は炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し；
ｎが２の場合、Ｒ’は炭素原子数６ないし１２のアリーレン基又は架橋基−Ｏ−Ｌ−Ｏ−（式中、Ｌは炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表す。）を表すか；又はＯ−ＲとＲ’が一緒になって前記構造を表し、
ｎが３の場合、Ｒ’はＬ−（Ｏ−）3（式中、Ｌはトリ（炭素原子数２ないし４のアル
キレン）アミノ基を表す。）を表し；
Ｒ4はＨ又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表すか又はＡｒに対して定義され
たとおりである。］
で表される少なくとも１種の化合物
を含む難燃ポリマー組成物。
【請求項２】
（ａ）立体障害性ニトロキシル安定剤；
（ｂ）立体障害性ヒドロキシルアミン安定剤；及び
（ｃ）立体障害性アルコキシアミン又はシクロアルコキシアミン安定剤
からなる群より選択される少なくとも１種の化合物をさらに含む、請求項１に記載の難燃ポリマー組成物。
【請求項３】
前記ポリマー組成物の総質量に基づき、０．２５ないし１０．０質量％の量で成分（Ｂ）を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
成分（Ｂ）の式（Ｉ）及び（ＩＩ）において、Ｒ2は４−第三ブチル基又は４−（１，１
−ジメチルベンジル）基を表し、Ｒ3はＨ又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、炭素原子数６ないし１２のアリール基として定義されるＲ’はフェニル基又はビフェニル基を表し、ハロゲン原子として定義されるＲ’はフッ素原子を表し、及び炭素原子数６ないし１２のアリーレン基として定義されるＲ’はフェニレン基又はビフェニレン基を表すところの、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
式Ｉで表される化合物は、式
【化５】
2008500416.tif 000005
【化６】
2008500416.tif 000006
【化７】
2008500416.tif 000007
【化８】
2008500416.tif 000008
【化９】
2008500416.tif 000009
【化１０】
2008500416.tif 000010
【化１１】
2008500416.tif 000011
【化１２】
2008500416.tif 000012
【化１３】
2008500416.tif 000013
で表されるものから選択されるところの、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月22日(2008.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴霧乾燥および凝集されたヒアルロン酸またはその塩を含んでなる生成物。
【請求項２】
前記ヒアルロン酸またはその塩が、好ましくはグラム陽性細菌、より好ましくはバシラス (Bacillus) 属の細菌により、組換え的に産生されている、請求項１に記載の生成物。
【請求項３】
前記ヒアルロン酸またはその塩が300,000〜3,000,000、好ましくは400,000〜2,500,000、より好ましくは500,000〜2,000,000、最も好ましくは600,000〜1,800,000の範囲の分子量を有する、請求項１または２に記載の生成物。
【請求項４】
前記ヒアルロン酸またはその塩が10,000〜800,000 Da、好ましくは20,000〜600,000 Da、より好ましくは30,000〜500,000 Da、なおより好ましくは40,000〜400,000 Da、最も好ましくは50,000〜300,000 Daの範囲の低平均分子量を有する、請求項１または２に記載の生成物。
【請求項５】
ここにおいて決定して、5%より低い湿分、好ましくは2%より低い湿分、最も好ましくは1%より低い湿分を含んでなる、請求項１〜４のいずれかに記載の生成物。
【請求項６】
イソプロパノール中に懸濁させた粒子のレーザー回折測定により決定して、粒度の50百分位D50が10〜1,000ミクロン、好ましくは100〜1,000ミクロン、より好ましくは150〜900ミクロン、なおより好ましくは200〜800ミクロンである粒度を有する、請求項１〜５のいずれかに記載の生成物。
【請求項７】
ここにおいて決定して、水性溶媒中で30分より短い、好ましくは20分より短い、より好ましくは15分より短い、より好ましくは10分より短い、より好ましくは5分より短い、より好ましくは3分より短い、より好ましくは2分より短い、最も好ましくは1分より短い分散性を有する、請求項１〜６のいずれかに記載の生成物。
【請求項８】
ここにおいて決定して、水性溶媒中で60分より短い、好ましくは45分より短い、より好ましくは40分より短い、なおより好ましくは35分、30分、25分、20分、15分、10分より短い、最も好ましくは5分より短い溶解性を有する、請求項１〜７のいずれかに記載の生成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の生成物と、活性成分とを含んでなり、好ましくは活性成分が薬理学的活性剤である、組成物。
【請求項１０】
下記の工程を含んでなる、ヒアルロン酸またはその塩を含んでなる噴霧乾燥および凝集された生成物を製造する方法:
a)   ヒアルロン酸またはその塩を含んでなる生成物を噴霧乾燥し、そして
b)   噴霧乾燥した生成物を凝集させる。
【請求項１１】
前記ヒアルロン酸またはその塩が、好ましくはグラム陽性細菌、より好ましくはバシラス (Bacillus) 属の細菌により、組換え的に産生されている、請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
前記ヒアルロン酸またはその塩が300,000〜3,000,000、好ましくは400,000〜2,500,000、より好ましくは500,000〜2,000,000、最も好ましくは600,000〜1,800,000の範囲の分子量を有する、請求項10または11に記載の方法。
【請求項１３】
前記ヒアルロン酸またはその塩が10,000〜800,000 Da、好ましくは20,000〜600,000 Da、より好ましくは30,000〜500,000 Da、なおより好ましくは40,000〜400,000 Da、最も好ましくは50,000〜300,000 Daの範囲の低平均分子量を有する、請求項10または11に記載の方法。
【請求項１４】
噴霧乾燥器またはロータリーアトマイザー、好ましくは2流体ノズル (TFN) 噴霧乾燥器を使用して乾燥工程を実施する、請求項10〜13のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
TFN噴霧乾燥器および下記の条件範囲を使用して噴霧乾燥を実施する、請求項14に記載の方法:
入口温度:                    100〜200℃
出口温度:                     40〜 90℃
ノズル噴霧化圧力:              2〜 10バール
ノズル空気温度:               40〜100℃
供給温度:                     40〜100℃
【請求項１６】
流動床を使用して凝集工程を実施する、請求項10〜15のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
流動床入口温度が30〜80℃の範囲であり、そして粉末の水溶液を25〜50℃の出口温度に対応する速度で乾燥した粉末上に噴霧する、請求項16に記載の方法。
【請求項１８】
好ましくは0:100〜50:50の水:溶媒比、より好ましくは0:100〜20:80の水:溶媒比を有する、水-溶媒混合物を使用して凝集工程を実施する、請求項10〜15のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
前記溶媒がアルコール、好ましくはイソプロパノールである、請求項18に記載の方法。
【請求項２０】
噴霧乾燥工程および凝集工程を1工程で、好ましくは流動化噴霧乾燥器を使用して実施する、請求項10〜17のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月7日(2008.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイ内に位置するオリフィスにポリマー溶融ストリームを通過させることであって、前記オリフィスが、入口、出口、および前記入口から前記出口まで延在する内部表面を含み、前記オリフィスが半双曲線状（ｓｅｍｉ−ｈｙｐｅｒｂｏｌｉｃ）の収束オリフィスを含み、前記ポリマー溶融ストリームが前記入口でオリフィスに入り、前記出口でオリフィスから出ることと、
前記ポリマー溶融ストリームとは別に、潤滑剤を前記オリフィスに配送することであって、前記潤滑剤が前記オリフィスの入口で導入されることと、
前記ポリマー溶融ストリームが前記オリフィスの出口を出た後、前記ポリマー溶融ストリームを含む繊維を捕集することと、
を含む高分子繊維の製造方法。
【請求項２】
前記オリフィスが０．５ｍｍ2の断面積を有する出口を含み、そして前記ポリマー溶融ストリームが３０メガパスカル以下の圧力で前記オリフィスの入口に配送されるときに、前記ポリマー溶融ストリームが、１０グラム／分以上の質量流量速度で前記オリフィスを通過する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記オリフィスの入口に入る前記ポリマー溶融ストリームの平均温度が、前記ポリマー溶融ストリームの溶融加工温度よりも１０℃以下の温度だけ高い範囲内である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリマー溶融ストリームが、多相ポリマー溶融ストリームを含む、請求項１に記載の方法。