【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物転化装置（１００）であって、次の（ａ）〜（ｃ）、
（ａ）廃棄物の柱状体を収容するように構成された、上端部を有する廃棄物転化チャンバ（１０）と、
（ｂ）高温ガスジェットをその出力端にて生成し、前記ジェットをチャンバの長手方向底部へと向けさせるための少なくとも一個の第一プラズマトーチ手段（４０）及び、
（ｃ）前記チャンバの長手方向下方部分に設けられた少なくとも一個の液状物排出手段とを有し、
前記装置は前記廃棄物転化装置（１００）を実質的に詰まりのない状態で維持するための第一の詰まり解消システム（２００）を更に有しており、該第一のシステム（２００）は、
前記チャンバ内の廃棄物の流量の第一の所定状態を少なくとも検出するための、少なくとも一個の廃棄物流量感知手段（３３）と、
前記チャンバ内の液状物レベルの第二の所定状態を少なくとも検出するための、少なくとも一個の液状物レベル感知手段（４６）と、
前記チャンバからブリッジ型の詰まり（Ａ，Ｂ）を少なくとも部分的に除去するための及び／又はこのような詰まりの発生や伝播を実質的に防止するための、前記システムの稼動時に前記転化チャンバ（１０）内に高温ゾーンが選択的に提供され得るように前記チャンバ内に排出口を有する、少なくとも一個の第二プラズマトーチ手段（２４０）とを有し、
前記第二プラズマトーチ手段は、少なくとも、前記第一の所定状態又は前記第二の所定状態の検出に呼応して、選択的に稼動されることが可能なシステムであることを特徴とする前記廃棄物転化装置。
【請求項２】
前記少なくとも一個の第二プラズマトーチ手段（２４０）は、前記第一プラズマトーチ手段（４０）と前記チャンバの上方部分との中間部に配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記廃棄物転化装置（１００）は、チャンバ（１０）の長手方向上方部分に少なくとも一個のガス排出手段（５０）を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段（２４０）を、前記第一プラズマトーチ手段（４０）と前記ガス排出手段（５０）の間で前記チャンバ（１０）の鉛直方向下から１／３の範囲に存在させる、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段（２４０）を、前記第一プラズマトーチ手段（４０）と前記ガス排出手段（５０）の間で前記チャンバ（１０）の鉛直方向中間１／３の範囲内に存在させる、請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記第一の所定状態は所定の最小値より低い被検出廃棄物流量に対応する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第二の所定状態は所定の最大値以下の被検出液状物レベルに対応する、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
複数の前記第二プラズマトーチ手段（２４０）を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記複数の第二プラズマトーチ手段（２４０）の少なくとも一部を、前記チャンバ（１０）の長手方向に分散配置させる、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記複数の第二プラズマトーチ手段（２４０）の少なくとも一部を、前記チャンバ（１０）の円周方向に分散配置させる、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記チャンバに対しプラズマトーチ手段（２４０）を選択的に導入するようにした少なくとも一個の適用ポイント（２６０）を更に有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記適用ポイントの各々は、前記第二プラズマトーチの稼動時にチャンバ内の前記各適用ポイント（２６０）に対応する所定の場所に高温ゾーンが提供されるように前記第二プラズマトーチ（２４０）を収容するための適切なスリーブ（２５０）を有し、且つ、前記第二プラズマトーチが前記スリーブに収容されていない場合に、チャンバ（１０）とその外部との連通を防止するように前記スリーブが選択的にシール可能である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
複数の前記適用ポイント（２６０）を含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記複数の適用ポイント（２６０）の少なくとも一部は、前記チャンバ（１０）の長手方向に分散配置される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記複数の適用ポイント（２６０）の少なくとも一部は、前記チャンバ（１０）の円周方向に分散配置される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記少なくとも一個の廃棄物流量感知手段、前記少なくとも一個の液状物レベル感知手段及び前記少なくとも一個の第二プラズマトーチ手段に作用的に接続される制御手段、前記第一の詰まり解消システムの稼動を制御するための適切な制御手段（５００）を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記ガス排出手段（５０）を介して前記装置によって提供される生成ガスの体積流量をモニターするための少なくとも一個の適切なガス流量感知手段を更に有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記制御手段（５００）は、前記ガス流量感知手段に作用的に接続される、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記チャンバの前記上方部分に関連させた廃棄物投入手段を更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記廃棄物取込手段は、前記チャンバの内部から及び前記チャンバの外部から所定量の前記廃棄物を順次的に分離するための充填チャンバ（３６）を含むエアロック手段（３０）を有する、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記チャンバ（１０）に供給される廃棄物の組成を少なくとも部分的に決定するための廃棄物組成決定手段（２１）を更に有する、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記廃棄物組成決定手段（２１）は前記制御手段（５００）に作用的に接続される、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の廃棄物転化装置（１００）であって、更に、前記廃棄物転化装置内の廃棄物の詰まりを解消するための第二の詰まり解消システム（３００）を有し、該第二の詰まり解消システムは、
固形物堆積型の詰まり及び／又は高粘度液状物型の詰まりを前記チャンバから少なくとも部分的に除去するために、及び／又はこのような詰まりの発生や伝播を実質的に防止するために、前記チャンバの下方部分に少なくとも一種類の融剤の少なくとも一定の量を選択的に提供するための、前記廃棄物取込手段とは別に前記チャンバ（１０）内に設けられた少なくとも一個の融剤取込手段（３２０）と、
前記チャンバ内の液状物レベルの第三の所定状態を少なくとも検出するための、少なくとも一個の前記液状物レベル感知手段（４６）とを有し、
前記少なくとも一個の融剤取込手段が、検出される前記第三の所定状態に少なくとも呼応して、選択的に稼動されることが可能なシステムである装置。
【請求項２４】
前記第三の所定状態は、所定の最大値より実質的に高い被検出液状物レベルに対応する、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記少なくとも一個の液レベル感知手段（４６）は、液状物レベルの前記第二の所定状態又は前記第三の所定状態を選択的に検出するように構成される、請求項２３に記載の装置。
【請求項２６】
前記少なくとも一個の液状物レベル感知手段（４６）は、前記装置のオペレータが直接前記液レベルを見ることができる目視用インジケータを有する、請求項２３に記載の装置。
【請求項２７】
前記目視用インジケータが適切な窓を有する、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記少なくとも一個の融剤取込手段（３２０）は、前記少なくとも一個の液状物排出手段と前記廃棄物取込手段の中間部に配置される、請求項２３に記載の装置。
【請求項２９】
前記少なくとも一個の融剤取込手段（３２０）は、前記第一プラズマトーチ手段と前記廃棄物取込手段との中間に配置される、請求項２３に記載の装置。
【請求項３０】
少なくとも一個の前記融剤取込手段（３２０）は、該手段によって前記チャンバ（１０）に提供される融剤が前記第一プラズマトーチ手段によって実質的に溶融されるように、前記第一プラズマトーチ手段（４０）から縦方向に所定の間隔で離間される、請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記融剤取込手段（３２０）は、少なくとも一個の適切な融剤源に作用的に接続されている、請求項２３に記載の装置。
【請求項３２】
前記融剤取込手段（３２０）を介して前記チャンバに提供される融剤が前記第二プラズマトーチ手段によって実質的に溶融されるべく前記システム（３００）の稼動時に前記転化チャンバ内に高温ゾーンが選択的に提供され得るように前記チャンバ内（１０）に排出口を有する、少なくとも一個の第二プラズマトーチ手段（２４０）を更に有する、請求項２３に記載の装置。
【請求項３３】
前記少なくとも一個の融剤取込手段（３２０）と前記少なくとも一個の第二プラズマトーチ手段（２４０）は、前記チャンバに連通するミキシングチャンバ内に設けられる、請求項３２に記載の装置。
【請求項３４】
少なくとも一種類の前記融剤は、粉末の形状で提供される、請求項２３に記載の装置。
【請求項３５】
少なくとも一種類の前記融剤は、顆粒の形状で提供される、請求項２３に記載の装置。
【請求項３６】
少なくとも一種類の前記融剤は、ＳｉＯ２（あるいは砂）やＣａＯ（あるいはＣａＣＯ３）、ＭｇＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、ＣａＦ２、ホウ砂、ドロマイト、及び少なくとも一種類の適切な融解材料を包含する適切な組成物等のその他の適切な融解材料から選択される、請求項２３に記載の装置。
【請求項３７】
廃棄物転化装置（１００）の詰まりを解消する方法であって、
該装置は、
廃棄物（３５）の柱状体を収容するように構成した廃棄物転化チャンバ（１０）と、
高温ガスジェットをその出力端にて生成し、前記ジェットをチャンバの長手方向下方部分へと向けさせるための少なくとも一個の第一プラズマトーチ手段（４０）と、
前記チャンバの長手方向下方部分に設けられた少なくとも一個の液状物排出手段とを有しており、
前記方法は、
（ａ）前記システムの稼動時に前記転化チャンバ内に高温ゾーンが選択的に提供され得るように前記チャンバ内に排出口を有する少なくとも一個の第二プラズマトーチ手段（２４０）を設けて、前記チャンバからブリッジ型の詰まり（Ａ，Ｂ）を少なくとも部分的に除去する及び／又はこのような詰まりの発生や伝播を実質的に防止するステップと、
（ｂ）適切な廃棄物流量感知手段（３３）によって前記チャンバ内の廃棄物の流量（ＩＩ）をモニターするステップと、
（ｃ）適切な液状物レベル感知手段（４６）によって前記装置の長手方向下方部分における液状物のレベル（ＩＩ）をモニターするステップと、
（ｄ）ステップ（ｂ）でモニターされた体積流量が所定の最小値を下回って低下し、ステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルが所定の最大値（ＩＩＩ(ｂ)）を超えては実質的に上昇しなかった場合に、少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段（Ｘ）を稼動させるステップと、
（ｅ）ステップ（ｂ）でモニターされた廃棄物流量がその所定の最小値に実質的に戻るか又はステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルがその所定の最大値に実質的に戻るまで、前記第二プラズマトーチ手段を稼動させ続けるステップとを含み、
ここにおいてステップ（ｂ）〜（ｅ）は繰り返されることを特徴とする前記詰まり解消方法。
【請求項３８】
請求項３７に記載の方法であって、ステップ（ａ）における前記少なくとも一個の第二プラズマトーチ（２４０）を前記チャンバ（１０）の下部に設け、前記下部に対して前記チャンバの上部に少なくとも一個の他の前記第二プラズマトーチを設け、ステップ（ｄ）及び（ｅ）を次のステップ（ｆ）〜（ｇ）で置き換え、
（ｆ）ステップ（ｂ）でモニターされた体積流量が所定の最小値を下回って低下し、ステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルが所定の最大値（ＩＩＩ(ｂ)）を超えては実質的に上昇しなかった場合に、第一の動作モードに従って前記チャンバの前記下端部に設けられた少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段（２４０）を稼動させる（ＸＩＩ）ステップと、
（ｇ）ステップ（ｂ）でモニターされた体積流量が前記所定の最小値をなお下回っており、ステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルが前記所定の最大値（ＩＩＩ(ｂ)）を超えては実質的に上昇しなかった場合に、前記チャンバの前記上部に設けられた少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段（２４０）を稼動させる（ＸＩ）ステップと、
（ｈ）ステップ（ｂ）でモニターされた廃棄物流量がその所定の最小値に実質的に戻るか又はステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルがその所定の最大値に実質的に戻るまで、前記チャンバの上部に設けられた前記第二プラズマトーチ手段の稼動を維持するステップ、ここにおいてステップ（ｂ）、（ｃ）、（ｆ）、（ｇ）及び（ｈ）は繰り返される方法。
【請求項３９】
前記第一の動作モードは、前記チャンバ（１０）の下端部に設けられた前記少なくとも一個の第二プラズマトーチ（４０）を所定の時間間隔で稼動させることと、次いで同トーチの稼動を停止させることとを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
請求項３７〜３９のいずれか一項に記載の方法であって、前記装置（１００）は、更に固形物堆積型の詰まり及び／又は高粘度液状物型の詰まりを前記チャンバから少なくとも部分的に除去するために、及び／又はこのような詰まりの発生や伝播を実質的に防止するために、前記チャンバの下方部分に少なくとも一種類の融剤の少なくとも一定の量を選択的に提供するための、前記廃棄物取込手段とは別に前記チャンバ（１０）内に設けられた少なくとも一個の融剤取込手段（３２０）を有し、該方法は更に次のステップ（ｉ）〜（ｋ）、
（ｉ）ステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルが所定の最大値（ＩＩＩ(ａ)）を実質的に超えて上昇した場合に、第二の動作モードに従って前記チャンバの前記下端部に設けられた少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段（２４０）を稼動（ＶＩＩ）させるステップと、
（ｊ）ステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルが少なくとも前記所定の最大値まで低下しなかった場合に、前記チャンバの前記上方部分に設けられた少なくとも一個の前記第二プラズマトーチ手段を稼動させるステップと、
（ｋ）ステップ（ｃ）でモニターされた液状物レベルがその所定の最大値に実質的に戻るまで、前記融剤投入手段を介してチャンバに少なくとも一種類の融剤を所定の量提供するステップとを含み、ここにおいてステップ（ｂ）、（ｃ）、（ｉ）、（ｊ）及び（ｋ）が繰り返される方法。
【請求項４１】
前記第二の操作モードは、前記チャンバの前記下端部に設けられた前記少なくとも一個の第二プラズマトーチ（２４０）を所定の時間間隔で稼動させることと、次いで同トーチの稼動を停止させることを含む、請求項４０に記載の方法。