【手続補正書】
【提出日】平成20年9月1日(2008.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、該基体上の下部層と、該下部層上の上部層とを含む画像形成性要素であって：
該要素は、光熱変換材料を含み；
該上部層は、インク受容性であり；
熱画像形成前は、該上部層はアルカリ性現像剤によって除去可能ではなく；
熱画像形成により該上部層内に画像形成された領域を形成した後は、該画像形成された領域は該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
該下部層は、アルカリ性現像剤によって除去可能であり；そして
該上部層が、重合形態で、グループ(a)のモノマー及びグループ(b)のモノマーを含むコポリマーから成る群から選択されたコポリマーを含み：
グループ(a)のモノマーが：
【化１】
2008518276.tif 000001
、及びこれらの混成から成る群から選択され；
グループ(b)のモノマーが：
【化２】
2008518276.tif 000002
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、ヒドロキシスチレン、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)、及びこれらの混成
から成る群から選択され；
R1、R2、R4、及びR5はそれぞれ独立して、水素、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜6のアルキル、炭素原子数1〜6のアルコキシ、炭素原子数1〜7のアシル、炭素原子数1〜7のアシルオキシ、炭素原子数1〜7のカルボアルコキシ、又はこれらの混成であり；
R3、R6、及びR7はそれぞれ-CH2-であり；
各R8及びR9はそれぞれ独立して、水素又はメチル、又はこれらの混成であり；
各R10は、水素、ヒドロキシル、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、置換型フェニル、ベンジル、又はこれらの混成であり；そして、
各R11は、水素、メチル、又はこれらの混成であり；
各R12は、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、置換型フェニル、又はこれらの混成であり；そして、
該コポリマーが、15モル%以上のグループ(a)のモノマーと、10モル%以上のグループ(b)のモノマーとを含む
ことを特徴とする画像形成性要素。
【請求項２】
グループ(b)のモノマーが：
【化３】
2008518276.tif 000003
、及びこれらの混成から成る群から選択され；そして
該上部層が、90重量%以上の該コポリマーを含む請求項1に記載の要素。
【請求項３】
該上部層が、該光熱変換材料を実質的に有していない請求項1又は2に記載の要素。
【請求項４】
グループ(a)のモノマーが、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、及びこれらの混成から成る群から選択され、そして、グループ(b)のモノマーが、無水マレイン酸、マレイミド、N-フェニルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、及びこれらの混成から成る群から選択される請求項1〜3のいずれか一項に記載の要素。
【請求項５】
該コポリマーが、ノルボルネンと、無水マレイン酸、マレイミド、N-フェニルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、及びこれらの混成から成る群から選択されるモノマーとの1:1のコポリマーである請求項1〜4のいずれか一項に記載の要素。
【請求項６】
該上部層が、該光熱変換材料を実質的に有しておらず、そして該下部層が、重合形態で、25〜75モル%のN-フェニルマレイミド；10〜50モル%のメタクリルアミド；及び5〜30モル%のメタクリル酸を含むコポリマーを含み；そして
該上部層が90重量%以上の該コポリマーを含む請求項5に記載の要素。
【請求項７】
画像を形成する方法であって、該方法は：
i)  請求項1〜6のいずれか一項に記載の画像形成性要素を熱画像形成する工程、及び
ii)  該画像形成された画像形成性要素を該アルカリ性現像剤で現像し、そして画像形成された領域を除去することにより、該画像を形成する工程
の各工程を含んで成る。
【請求項８】
画像を形成する方法であって、該方法は：
i)  基体と、該基体上の上部層とを含む画像形成性要素を熱画像形成し；そして、画像形成された領域と、相補的な画像未形成領域とを上部層内に含む画像形成された画像形成性要素を形成する工程、
ここで、該要素は、光熱変換材料を含み；
該上部層は、インク受容性であり；
熱画像形成前は、該上部層はアルカリ性現像剤によって除去可能ではなく；
熱画像形成により該上部層内に画像形成された領域を形成した後は、該画像形成された領域は該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
該上部層は、重合形態で、グループ(a)のモノマーとグループ(b)のモノマーとを含むコポリマーから成る群から選択されたコポリマーを含み：
グループ(a)のモノマーは：
【化４】
2008518276.tif 000004
、及びこれらの混成
から成る群から選択され；
グループ(b)のモノマーは：
【化５】
2008518276.tif 000005
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、ヒドロキシスチレン、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)、及びこれらの混成から成る群から選択され；
R1、R2、R4、及びR5は、それぞれ独立して、水素、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜6のアルキル、炭素原子数1〜6のアルコキシ、炭素原子数1〜7のアシル、炭素原子数1〜7のアシルオキシ、炭素原子数1〜7のカルボアルコキシ、又はこれらの混成であり；
R3、R6、及びR7は、それぞれ-CH2-であり；
各R8及びR9は、それぞれ独立して、水素もしくはメチル、又はこれらの混成であり；
各R10は、水素、ヒドロキシル、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、置換型フェニル、ベンジル、又はこれらの混成であり；そして、
各R11は、水素、メチル、又はこれらの混成であり；
各R12は、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、置換型フェニル、又はこれらの混成であり；そして、
該コポリマーは、15モル%以上のグループ(a)のモノマーと、10モル%以上のグループ(b)のモノマーとを含み；そして
ii)  該画像形成された画像形成性要素を該アルカリ性現像剤で現像し、そして画像形成された領域を除去することにより、該画像を形成する工程
の各工程を含んで成る。
【請求項９】
i)  基体と、該基体上の上部層とを含む画像形成性要素を熱画像形成し；そして、画像形成された領域と、相補的な画像未形成領域とを上部層内に含む画像形成された画像形成性要素を形成する工程、
ここで、該要素は、光熱変換材料を含み；
該上部層は、インク受容性であり；
熱画像形成前は、該上部層はアルカリ性現像剤によって除去可能ではなく；
熱画像形成により該上部層内に画像形成された領域を形成した後は、該画像形成された領域は該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
該上部層は、重合形態で、グループ(a)のモノマーとグループ(b)のモノマーとを含むコポリマーから成る群から選択されたコポリマーを含み：
グループ(a)のモノマーが：
【化６】
2008518276.tif 000006
、及びこれらの混成から成る群から選択され；
グループ(b)のモノマーが：
【化７】
2008518276.tif 000007
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、ヒドロキシスチレン、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)、及びこれらの混成から成る群から選択され；
R1、R2、R4、及びR5は、それぞれ独立して、水素、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜6のアルキル、炭素原子数1〜6のアルコキシ、炭素原子数1〜7のアシル、炭素原子数1〜7のアシルオキシ、炭素原子数1〜7のカルボアルコキシ、又はこれらの混成であり；
R3、R6、及びR7は、それぞれ-CH2-であり；
各R8及びR9は、それぞれ独立して、水素又はメチル、又はこれらの混成であり；
各R10は、水素、ヒドロキシル、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、置換型フェニル、ベンジル、又はこれらの混成であり；そして、
各R11は、水素、メチル、又はこれらの混成であり；
各R12は、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、置換型フェニル、又はこれらの混成であり；そして、
該コポリマーは、15モル%以上のグループ(a)のモノマーと、10モル%以上のグループ(b)のモノマーとを含み；そして
ii)  該画像形成された画像形成性要素を、該アルカリ性現像剤で現像し、そして画像形成された領域を除去することにより、該画像を形成する工程
の各工程を含む方法によって調製された画像。
【請求項１０】
該要素が、該上部層と該基体との間に下部層をさらに含み；
該下部層が、該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
該下部層が、基体上にあり；
該上部層が、該光熱変換材料を実質的に有しておらず；
グループ(a)のモノマーが、ノルボルネンであり；
グループ(b)のモノマーが、無水マレイン酸、マレイミド、N-フェニルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、及びこれらの混成から成る群から選択され；そして
該上部層が、90重量%以上の該コポリマーを含む請求項9に記載の画像。