【手続補正書】
【提出日】平成18年12月11日(2006.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  物体面上の部分の面位置を測定する測定手段と、
パターン構造を有する領域を前記測定手段に対して相対走査しながら該領域内の計測ポイントの面位置を該測定手段を用いて検出する検出手段と、
前記検出手段による前記領域の面位置の検出に先立って、該領域に適用される相対走査の速度に応じて、前記計測ポイントに対する前記測定手段の計測領域が予め設定された範囲となるように該測定手段の駆動パラメータを決定する決定手段と
を備えることを特徴とする面位置検出装置。
【請求項２】  前記測定手段は、物体の面上に光束を斜めに照射する投光部と、該物体の面上からの前記光束の反射光を受光する時間蓄積型センサとを用いて、当該面上の該光束が照射された部分の面位置を測定するものであり、
前記決定手段は、前記測定手段による計測の開始時間と終了時間を前記駆動パラメータとして決定することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出装置。
【請求項３】  前記測定手段は、物体の面上に光束を斜めに照射する投光部と、該物体の面上からの前記光束の反射光を受光する時間平均型センサとを用いて、当該面上の該光束が照射された部分の面位置を測定するものであり、
前記決定手段は、前記時間平均型センサの平均化回数を前記駆動パラメータとして決定することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出装置。
【請求項４】  前記測定手段は、非光学式の時間平均型センサにより、物体面上の部分の面位置を測定するものであり、
前記決定手段は、前記時間平均型センサの平均化回数を前記駆動パラメータとして決定することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出装置。
【請求項５】  前記測定手段の計測領域を、予め定められた走査速度と予め定められた蓄積時間に基づいて設定する設定手段を更に備えることを特徴とする請求項２に記載の面位置検出装置。
【請求項６】  前記測定手段の計測領域を、予め定められた走査速度と予め定められた平均化回数に基づいて設定する設定手段を更に備えることを特徴とする請求項３に記載の面位置検出装置。
【請求項７】  前記測定手段の計測領域をマニュアルにて設定する設定手段を更に備えることを特徴とする請求項２または３に記載の面位置検出装置。
【請求項８】  予め定められた領域をプリスキャンして、前記投光部からの照射光を変化させながらその受光結果を記憶する調光手段を更に備え、
前記決定手段は、さらに、前記計測の開始時間と終了時間によって決まる蓄積時間と前記調光手段で記憶された受光結果とに基づいて前記測定手段の駆動を調整することを特徴とする請求項２に記載の面位置検出装置。
【請求項９】  前記調整は、前記投光部の駆動電流および前記蓄積型センサからの信号のゲインの少なくとも一方を調整することを特徴とする請求項８に記載の面位置検出装置。
【請求項１０】  前記パターン構造を有する所定の領域を所定の速度で相対走査しながら前記測定手段による計測を実施し、前記投光部による照明を調整することを特徴とする請求項３に記載の面位置検出装置。
【請求項１１】  前記領域に適用すべき相対走査の速度を決定する手段を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の面位置検出装置。
【請求項１２】  前記決定手段は、前記パターン構造を有する領域毎に実行されることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の面位置検出装置。
【請求項１３】  前記調光手段は、ロット中の所定数の物体について実行され、
前記決定手段は、前記パターン構造を有する領域毎に実行されることを特徴とする請求項８に記載の面位置検出装置。
【請求項１４】  
物体面上の部分の面位置を測定する測定手段を用い、パターン構造を有する領域を前記測定手段に対して相対走査しながら該領域内の計測ポイントの面位置を該測定手段を用いて検出する検出工程と、
前記検出工程による前記領域の面位置の検出に先立って、該領域に適用される相対走査の速度に応じて、前記計測ポイントに対する前記測定手段の計測領域が予め設定された範囲となるように該測定手段の駆動パラメータを決定する決定工程と
を備えることを特徴とする面位置検出方法。
【請求項１５】  前記測定手段は、物体の面上に光束を斜めに照射する投光部と、該物体の面上からの前記光束の反射光を受光する時間蓄積型センサとを備え、当該面上の該光束が照射された部分の面位置を測定するものであり、
前記決定工程は、前記測定手段による計測の開始時間と終了時間を前記駆動パラメータとして決定することを特徴とする請求項１４に記載の面位置検出方法。
【請求項１６】  前記測定手段は、物体の面上に光束を斜めに照射する投光部と、該物体の面上からの前記光束の反射光を受光する時間平均型センサとを用いて、当該面上の該光束が照射された部分の面位置を測定するものであり、
前記決定工程は、前記時間平均型センサの平均化回数を前記駆動パラメータとして決定することを特徴とする請求項１４に記載の面位置検出方法。
【請求項１７】  前記測定手段は、非光学式の時間平均型センサにより、物体面上の部分の面位置を測定するものであり、
前記決定工程は、前記時間平均型センサの平均化回数を前記駆動パラメータとして決定することを特徴とする請求項１４に記載の面位置検出方法。
【請求項１８】  前記投光部と前記蓄積型センサによる計測領域を、予め定められた走査速度と予め定められた蓄積時間に基づいて設定する設定工程を更に備えることを特徴とする請求項１５に記載の面位置検出方法。
【請求項１９】  前記投光部と前記時間平均型センサの計測領域を、予め定められた走査速度と予め定められた平均化回数に基づいて設定する設定工程を更に備えることを特徴とする請求項１６に記載の面位置検出方法。
【請求項２０】  前記測定手段における計測領域をマニュアルにて設定する設定工程を更に備えることを特徴とする請求項１５または１６に記載の面位置検出方法。
【請求項２１】  予め定められた領域をプリスキャンして、前記投光部からの照射光を変化させながらその受光結果をメモリに記憶する調光工程を更に備え、
前記決定工程は、さらに、前記計測の開始時間と終了時間によって決まる蓄積時間と前記調光工程で記憶された受光結果とに基づいて前記測定手段の駆動を調整することを特徴とする請求項１５に記載の面位置検出方法。
【請求項２２】  前記調整は、前記投光部の駆動電流および前記蓄積型センサからの信号のゲインの少なくとも一方を調整することを特徴とする請求項２１に記載の面位置検出方法。
【請求項２３】  前記パターン構造を有する所定の領域を予め定められた速度で相対走査しながら前記測定手段による計測を実施し、前記投光部による照明を調整することを特徴とする請求項１６に記載の面位置検出方法。
【請求項２４】  前記領域に適用すべき相対走査の速度を決定する工程を更に備えることを特徴とする請求項１４に記載の面位置検出方法。
【請求項２５】  前記決定工程は、前記パターン構造を有する領域毎に実行されることを特徴とする請求項１４乃至２４のいずれか１項に記載の面位置検出方法。
【請求項２６】  前記調光工程は、ロット中の所定数の物体について実行され、
前記決定工程は、前記パターン構造を有する領域毎に実行されることを特徴とする請求項２１に記載の面位置検出方法。
【請求項２７】  ウエハ上の部分の面位置を測定する測定手段と、
パターン構造を有する前記ウエハ上のショット領域を前記測定手段に対して相対走査しながら、該領域内の計測ポイントの面位置を該測定手段を用いて検出する検出手段と、
前記検出手段による前記領域の面位置の検出に先立って、該領域に適用される相対走査の速度に応じて、前記計測ポイントに対する前記測定手段の計測領域が予め設定された範囲となるように該測定手段の駆動パラメータを決定する決定手段と、
前記決定手段で決定されたパラメータに従って前記測定手段を駆動しながらショット領域中の面位置を測定し、露光処理を実行する露光手段と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２８】  請求項２７に記載の露光装置を用いて露光転写したパターンを現像し、これをもとに回路パターンを形成することを特徴とするデバイスの製造方法。