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【手続補正書】
【提出日】令和1年9月20日(2019.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
胎児又は小児における自閉スペクトラム症の抑制又は発生減少のため、妊娠した母親における使用のための組成物であって、
Ｃａｓｐｒ２に対する抗体に結合する作用物質であって、前記作用物質は、Ｃａｓｐｒ２の細胞外部分の配列を含むペプチドを含む作用物質、及び
任意に、ＫＣＮＡＢ２に対する抗体に結合する作用物質、ＫＣＮＡＢ１に対する抗体に結合する作用物質、内皮インテグリンリガンド（ＥＤＩＬ３）に対する抗体に結合する作用物質、ＩＶＤに対する抗体に結合する作用物質、脳特異的スルホトランスフェラーゼ（ＳＵＬＴ４Ａ１）に対する抗体に結合する作用物質、ＴＮＩＰ２に対する抗体に結合する作用物質、レチノイン酸誘導性タンパク質１６（ＲＡＩ１６）に対する抗体に結合する作用物質又はＧＤＰ  Ｄ５に対する抗体に結合する作用物質であって、前記作用物質は、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５の細胞外部分の配列を含むペプチドをそれぞれ含む、作用物質
を含む、前記組成物。
【請求項２】
胎児又は小児における自閉スペクトラム症の抑制又は発生減少するための血液を調製する方法であって、Ｃａｓｐｒ２に対する抗体の血中レベルを減少させるために、胎児を身ごもっている母親から予め取得された血液を、Ｃａｓｐｒ２に対する抗体に結合する作用物質であって、前記作用物質は、Ｃａｓｐｒ２の細胞外部分の配列を含むペプチドを含む作用物質と体外で接触させることを含み、
任意に、ＫＣＮＡＢ２に対する抗体に結合する作用物質、ＫＣＮＡＢ１に対する抗体に結合する作用物質、内皮インテグリンリガンド（ＥＤＩＬ３）に対する抗体に結合する作用物質、ＩＶＤに対する抗体に結合する作用物質、脳特異的スルホトランスフェラーゼ（ＳＵＬＴ４Ａ１）に対する抗体に結合する作用物質、ＴＮＩＰ２に対する抗体に結合する作用物質、レチノイン酸誘導性タンパク質１６（ＲＡＩ１６）に対する抗体に結合する作用物質又はＧＤＰ  Ｄ５に対する抗体に結合する作用物質であって、前記作用物質は、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５の細胞外部分の配列を含むペプチドをそれぞれ含む、作用物質と、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５に対する抗体の血中レベルをそれぞれ減少させるために接触させることを含む、方法。
【請求項３】
前記組成物が、Ｃａｓｐｒ２、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５の細胞外部分の配列を含むペプチドを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ＫＣＮＡＢ２に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
ＥＤＩＬ３に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ＩＶＤに対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
ＳＵＬＴ４Ａ１に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ＴＮＩＰ２に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
ＲＡＩ１６に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
ＧＤＰ  Ｄ５に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
ＫＣＮＡＢ１に対する抗体に結合する作用物質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記作用物質は、Ｃａｓｐｒ２の細胞外部分の配列を含むペプチドを含む融合タンパク質を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記Ｃａｓｐｒ２、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５は、ヒトである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記任意の作用物質は、各々、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５の細胞外部分の配列を含むペプチドを含む融合タンパク質をそれぞれ含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
前記融合タンパク質は、免疫グロブリンＦｃ配列を含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】
前記免疫グロブリンは、ＩｇＧである、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記母親は、前記母親の血液の試料中のＣａｓｐｒ２、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５に対する抗体のレベルを定量し、こうして定量されたレベルを、それぞれの抗体の予め規定されたコントロールレベルと比較することを含む方法によって、その胎児において自閉スペクトラム症の危険性があると予め診断されており、ここで、コントロールレベルを上回る該試料中の抗体レベルが測定されることで、前記母親は、その胎児において自閉スペクトラム症の危険性があると診断される、請求項２に記載の方法。
【請求項１８】
妊娠見込みのある母親の胎児又は小児が自閉スペクトラム症を呈する可能性を判断する方法であって、その母親の血液から予め取得された試料中のＣａｓｐｒ２、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５の１種以上に対する抗体のレベルを定量し、各々の定量されたレベルを、それぞれの抗体について予め決められたコントロールレベルと比較することを含み、ここで、Ｃａｓｐｒ２、ＫＣＮＡＢ２、ＫＣＮＡＢ１、ＥＤＩＬ３、ＩＶＤ、ＳＵＬＴ４Ａ１、ＴＮＩＰ２、ＲＡＩ１６又はＧＤＰ  Ｄ５の１種以上に対する１種以上の抗体の高められた力価は、妊娠見込みのある母親の胎児又は小児が自閉スペクトラム症を呈する可能性が高いことを示すものである、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月24日(2019.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２，５−ジクロロアニリンを生成するためのプロセスであって：
水素と、２，５−ジクロロニトロベンゼン、水、アルコール及び／又は酸を含む溶媒を含む供給混合物とを、水素化ゾーンに供給することと；
前記２，５−ジクロロニトロベンゼンを、炭素支持体上に白金を含む不均一系水素化触媒の存在下で水素と反応させて、２，５−ジクロロアニリンを含む反応生成物を生成することと
を含む、前記プロセス。
【請求項２】
２，５−ジクロロアニリンを生成するためのプロセスであって：
水素と、２，５−ジクロロニトロベンゼンを含む供給混合物とを、水素化ゾーンに供給することと；
前記２，５−ジクロロニトロベンゼンを、炭素支持体上に白金を含む不均一系水素化触媒の存在下で水素と反応させて、２，５−ジクロロアニリンを含む反応生成物を生成することと
を含み、前記水素化触媒が未改質の水素化触媒であり、前記供給混合物が、脱ハロゲン化抑制剤を不含である、前記プロセス。
【請求項３】
前記水素化触媒が、焼成された水素化触媒である、請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】
２，５−ジクロロアニリンを生成するためのプロセスであって：
水素と、２，５−ジクロロニトロベンゼンを含む供給混合物とを、水素化ゾーンに供給することと；
前記２，５−ジクロロニトロベンゼンを、炭素支持体上に白金を含む不均一系水素化触媒の存在下で水素と反応させて、２，５−ジクロロアニリンを含む反応生成物を生成することと
を含み、前記水素化触媒が、焼成された水素化触媒である、前記プロセス。
【請求項５】
前記焼成された水素化触媒が、前記の表面に白金を有する炭素支持体を約５００℃〜約１０００℃の温度に加熱することによって調製される、請求項３または４に記載のプロセス。
【請求項６】
前記水素化触媒が、前記炭素支持体の表面に、最大寸法で１０ｎｍまでのサイズの白金金属粒子を含み、前記白金金属粒子の少なくとも約２５％（数基準）が、最大寸法で２ｎｍ〜１０ｎｍであり、及び／又は、前記白金金属粒子が約２．５から約８ｎｍの平均粒径を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記水素化触媒が、合計触媒重量の約５重量％以下である白金ローディングを有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記水素化触媒が、金属触媒改質剤を本質的に不含である、または不含である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記炭素支持体が、約５００ｍ２／ｇ〜約３０００ｍ２／ｇである合計ラングミュア比表面積、約７５０ｍ２／ｇ〜約２０００ｍ２／ｇであるラングミュアマイクロポア表面積、約０．５ｎｍ〜約５ｎｍの範囲である平均ポア直径、及び／又は少なくとも約０．３ｍｌ／ｇのポア体積を有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記水素化触媒の前記炭素支持体が、活性炭を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記溶媒がアルコールを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記アルコールが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記溶媒が、酸を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記酸が、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、クエン酸、及びこれらの混合物からなる群から選択される有機酸を含む、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記水素化反応が、約２０℃〜約１００℃である温度で行われる、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記供給混合物が、脱ハロゲン化抑制剤として機能する添加剤を不含であるまたは本質的に不含であり、及び／又は、マグネシウムの水酸化物または酸化物、脂環式アミン、及び酸性リン化合物を不含であるまたは本質的に不含である、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記反応生成物が、２−クロロアニリン及び３−クロロアニリンをさらに含み、３−クロロアニリン対２−クロロアニリンのモル比が、約６：１以下である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記反応生成物が白金をさらに含み、前記反応が前記反応生成物から白金を回収することをさらに含む、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１９】
３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸またはその塩もしくはエステルを調製するためのプロセスであって：
請求項１〜１８のいずれか一項により２，５−ジクロロアニリンを生成することと；
２，５−ジクロロアニリンをジアゾ化して２，５−ジクロロベンゼンジアゾニウムを付与することと；
２，５−ジクロロベンゼンジアゾニウムを加水分解して２，５−ジクロロフェノールを形成することと；
２，５−ジクロロフェノールをカルボキシル化して２−ヒドロキシ−３，６−ジクロロ安息香酸を形成することと；
２−ヒドロキシ−３，６−ジクロロ安息香酸をメチル化して、３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸塩及び／またはそのエステルを含むメチル化反応生成物を形成することと；
前記メチル化反応生成物を任意選択的に鹸化して３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸を形成することと
を含む前記プロセス。
【請求項２０】
ハロアミノ芳香族化合物を調製するためのプロセスであって：
水素と、ハロニトロ芳香族化合物を含む供給混合物とを、水素化ゾーンに供給することと；
前記ハロニトロ芳香族化合物を、炭素支持体上に白金を含む水素化触媒の存在下で水素と反応させて、前記ハロアミノ芳香族化合物を含む反応生成物を生成することと
を含み、
以下の特徴の１以上をさらに含む：
（１）前記水素化触媒が、焼成された水素化触媒である；
（２）前記供給混合物が、酸を含む溶媒をさらに含む；
（３）前記水素化触媒が未改質の水素化触媒である；
（４）前記供給混合物が脱ハロゲン化抑制剤を不含である；
（５）前記反応生成物が２−クロロアニリン及び３−クロロアニリンをさらに含み、３−クロロアニリン対２−クロロアニリンのモル比が約６：１以下である；
（６）前記反応生成物が２−クロロアニリン及び３−クロロアニリンをさらに含み、２，５−ジクロロアニリンから２−クロロアニリン及び３−クロロアニリンへの選択性損失が約０．４モル％未満である；かつ／または
（７）前記水素化触媒が、最大寸法で１０ｎｍまでのサイズの白金金属粒子を含み、前記白金金属粒子の約５０％（数基準）以下が最大寸法で２ｎｍ未満である；
前記プロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）７ＣＨ３とＣＦ３−（ＣＦ２）５−ＣＨ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）５−ＣＨ３とを含む組成物。
【請求項２】
少なくとも８０ｗｔ％のＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）７ＣＨ３を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
２５ｗｔ％以下のＣＦ３−（ＣＦ２）５−ＣＨ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）５−ＣＨ３を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
９７ｗｔ％のＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）７ＣＨ３と、３ｗｔ％以下のＣＦ３−（ＣＦ２）５−ＣＨ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）５−ＣＨ３とを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
透明な液体溶液として調合されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
（ａ）ポリマー、
（ｂ）過フッ素化化合物、および／または
（ｃ）溶解した生理活性成分
を実質的に含まない、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
周囲温度および周囲圧力で１０ｍＰａ・ｓ以下の絶対粘度を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
医薬として使用するための、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
局所的に涙嚢、下眼瞼内、眼表面または眼組織に投与される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
１日あたり４回以下で前記組成物を投与することを含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
乾性角結膜炎および／もしくはマイボーム腺機能不全またはそれらに関連した症候もしくは症状の処置に使用するための、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
角膜損傷の処置に使用するための、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
眼表面の潤滑剤として使用するための、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の組成物と、前記組成物を保持するための容器とを含むキットであって、前記容器が、涙嚢、下眼瞼内、眼表面または眼組織への前記組成物の局所投与に適合した分注手段を備えている、キット。
【請求項１５】
前記分注手段が、８〜１５μＬの体積を有する滴を分注するなどのための点眼器寸法を備えている、請求項１４に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月9日(2019.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続疎水性担体、５〜２４重量％の１つまたは複数の揮発性シリコーン油、および複数の薬物ナノ粒子を含む、薬物ナノ粒子の皮膚中への浸透を増強するための組成物であって、
該薬物ナノ粒子の平均粒径（個数基準）が０．１ミクロン〜１．５ミクロンであり、
該組成物がＣ１〜Ｃ５脂肪族アルコールを含まず、かつ
薬物ナノ粒子がタキサンナノ粒子である、
組成物。
【請求項２】
揮発性シリコーン油がシクロメチコンである、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
シクロメチコンがシクロペンタシロキサンである、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
疎水性担体が炭化水素を含む、請求項１〜３のいずれか一項記載の組成物。
【請求項５】
炭化水素がワセリン、鉱油、もしくはパラフィンワックス；またはそれらの混合物である、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
タキサンナノ粒子がパクリタキセルナノ粒子、ドセタキセルナノ粒子、またはカバジタキセルナノ粒子である、請求項１〜５のいずれか一項記載の組成物。
【請求項７】
タキサンナノ粒子がパクリタキセルナノ粒子である、請求項６記載の組成物。
【請求項８】
パクリタキセルナノ粒子が少なくとも１８ｍ２／ｇの比表面積（ＳＳＡ）を有する、請求項７記載の組成物。
【請求項９】
半固体組成物である、請求項１〜８のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１０】
半固体組成物が軟膏である、請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
Ｔ−Ｅスピンドルを備えヘリパスをオンにしたヘリパススタンド上のＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ  ＲＶ粘度計により、１０ＲＰＭ、室温で４５秒間測定して、前記組成物の粘度が２５，０００ｃｐｓ〜５００，０００ｃｐｓである、請求項９または１０記載の組成物。
【請求項１２】
揮発性シリコーン油がシクロペンタシロキサンであり；
連続疎水性担体が不揮発性かつ非極性であり、該組成物の５０重量％より多く、ワセリン、重鉱油、およびパラフィンワックスを含み；
該組成物が無水半固体軟膏である、
請求項１記載の組成物。
【請求項１３】
シクロペンタシロキサン以外に追加の皮膚浸透増強剤も追加の揮発性溶媒も含まず；かつ
界面活性剤を含まない、
請求項１２記載の組成物。
【請求項１４】
薬物ナノ粒子がパクリタキセルナノ粒子であり、パクリタキセルナノ粒子が０．１〜５重量％の濃度であり、かつ前記組成物がタンパク質またはアルブミンを含まない、請求項１２または１３記載の組成物。
【請求項１５】
タキサンナノ粒子が０．１〜５重量％の濃度である、請求項１記載の組成物。
【請求項１６】
連続疎水性担体、５〜２４重量％の１つまたは複数の揮発性シリコーン油、および複数の薬物ナノ粒子を含む疎水性組成物であって、
該薬物ナノ粒子の平均粒径（個数基準）が０．１ミクロン〜１．５ミクロンであり、
該組成物がＣ１〜Ｃ５脂肪族アルコールを含まず、かつ
薬物ナノ粒子がタキサンナノ粒子である、
疎水性組成物。
【請求項１７】
揮発性シリコーン油がシクロメチコンである、請求項１６記載の組成物。
【請求項１８】
シクロメチコンがシクロペンタシロキサンである、請求項１７記載の組成物。
【請求項１９】
疎水性担体が炭化水素を含む、請求項１６〜１８のいずれか一項記載の組成物。
【請求項２０】
炭化水素がワセリン、鉱油、もしくはパラフィンワックス；またはそれらの混合物である、請求項１９記載の組成物。
【請求項２１】
タキサンナノ粒子がパクリタキセルナノ粒子、ドセタキセルナノ粒子、またはカバジタキセルナノ粒子である、請求項１６〜２０のいずれか一項記載の組成物。
【請求項２２】
タキサンナノ粒子がパクリタキセルナノ粒子である、請求項２１記載の組成物。
【請求項２３】
パクリタキセルナノ粒子が少なくとも１８ｍ２／ｇの比表面積（ＳＳＡ）を有する、請求項２２記載の組成物。
【請求項２４】
半固体組成物である、請求項１６〜２３のいずれか一項記載の組成物。
【請求項２５】
半固体組成物が軟膏である、請求項２４記載の組成物。
【請求項２６】
Ｔ−Ｅスピンドルを備えヘリパスをオンにしたヘリパススタンド上のＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ  ＲＶ粘度計により、１０ＲＰＭ、室温で４５秒間測定して、前記組成物の粘度が２５，０００ｃｐｓ〜５００，０００ｃｐｓである、請求項２４または２５記載の組成物。
【請求項２７】
揮発性シリコーン油がシクロペンタシロキサンであり；
連続疎水性担体が不揮発性かつ非極性であり、該組成物の５０重量％より多く、ワセリン、重鉱油、およびパラフィンワックスを含み；
該組成物が無水半固体軟膏である、
請求項１６記載の組成物。
【請求項２８】
シクロペンタシロキサン以外に追加の皮膚浸透増強剤も追加の揮発性溶媒も含まず；かつ
界面活性剤を含まない、
請求項２７記載の組成物。
【請求項２９】
薬物ナノ粒子がパクリタキセルナノ粒子であり、パクリタキセルナノ粒子が０．１〜５重量％の濃度であり、かつ前記組成物がタンパク質またはアルブミンを含まない、請求項２７または２８記載の組成物。
【請求項３０】
タキサンナノ粒子が０．１〜５重量％の濃度である、請求項１６記載の組成物。
【請求項３１】
タキサンナノ粒子が結晶性タキサンナノ粒子である、請求項１記載の組成物。
【請求項３２】
前記組成物の５０重量％より多い連続疎水性担体、および前記組成物の０．１〜５重量％より多い結晶性タキサンナノ粒子を含む、請求項３１記載の組成物。
【請求項３３】
半固体軟膏であり、抗生物質および噴射剤を含まない、請求項３２記載の組成物。
【請求項３４】
タキサンナノ粒子が結晶性タキサンナノ粒子である、請求項１６記載の組成物。
【請求項３５】
前記組成物の５０重量％より多い連続疎水性担体、および前記組成物の０．１〜５重量％より多い結晶性タキサンナノ粒子を含む、請求項３４記載の組成物。
【請求項３６】
半固体軟膏であり、抗生物質および噴射剤を含まない、請求項３５記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月29日(2019.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機械において、単一の動作で表面を望ましい形状に研削し、前記表面に望ましい粗さを付与し、且つ汚染を除去する処理ツールを含み、前記処理ツールは、研削及び粗化対象の表面に接触するように構成された接触表面を含み、前記接触表面は、（ａ）研削及び粗化対象の表面と類似の硬度を有し、（ｂ）トロイダル形状を有し、そのトロイダル面と平坦な表面との接触が円を画定することを特徴とする機械。
【請求項２】
請求項１に記載の機械において、前記処理ツールは、単一のツールであることを特徴とする機械。
【請求項３】
請求項１に記載の機械において、前記表面に対して決定論的に動作するように構成されていることを特徴とする機械。
【請求項４】
請求項１に記載の機械において、前記処理ツールは、最小限に制約されていることを特徴とする機械。
【請求項５】
請求項１に記載の機械において、前記処理ツールは、リング、リングの組立体、及びリングであって、前記リングの環帯内に配置された処理表面を有するリングからなる群から選択される形状を含むことを特徴とする機械。
【請求項６】
請求項１に記載の機械において、前記表面に対する前記処理ツールの圧力を制御する手段を更に含むことを特徴とする機械。
【請求項７】
請求項６に記載の機械において、前記圧力は、前記表面上における前記処理ツールの（ｉ）時間及び（ｉｉ）場所の少なくとも１つの関数として制御されることを特徴とする機械。
【請求項８】
請求項１に記載の機械において、ディザーを前記処理ツールに付与する手段を更に含むことを特徴とする機械。
【請求項９】
請求項１に記載の機械において、２つ以上の処理ツールを更に含むことを特徴とする機械。
【請求項１０】
請求項１に記載の機械において、第１の表面と異なる高さの第２の表面を加工するように構成されていることを特徴とする機械。
【請求項１１】
請求項１に記載の機械において、更に、前記機械は、複数の独立した入力変数を同時に制御するように構成されており、前記制御可能な変数は、前記処理ツールの（ｉ）速度、（ｉｉ）回転、及び（ｉｉｉ）ディザー、並びに（ｉｖ）前記表面に対する前記処理ツールの圧力からなる群から選択されることを特徴とする機械。
【請求項１２】
被加工物の表面を仕上げるように構成された既知の処理ツールを含む機械において、異なる処理ツールで前記既知の処理ツールを置換する補完モジュールは、（ｉ）前記被加工物の硬度とほぼ同じ硬度、及び（ｉｉ）トロイダル形状を有することからなる群から選択される特性の少なくとも１つを含むことを特徴とする機械。
【請求項１３】
請求項１２に記載の機械において、前記補完モジュールは、（ｉ）前記処理ツールが前記被加工物に印加する圧力、及び（ｉｉ）前記処理ツールの速度の少なくとも１つを制御可能に変更するように前記機械に指示する命令を更に含むことを特徴とする機械。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の機械において、半導体リソグラフィ機械を含むことを特徴とする機械。
【請求項１５】
請求項１に記載の機械において、半導体リソグラフィ機械を含むことを特徴とする機械。
【請求項１６】
請求項１に記載の機械において、ツールチェンジャを更に含むことを特徴とする機械。
【請求項１７】
請求項１に記載の機械において、２つ以上の処理ツールを更に含み、更に、１つの処理ツールを別のものとスワップすることができることを特徴とする機械。
【請求項１８】
請求項１に記載の機械において、前記処理ツールの接触表面は炭化ケイ素を含むことを特徴とする機械。
【請求項１９】
請求項１に記載の機械において、前記処理ツールの接触表面は、研削及び粗化対象の表面とほぼ同じ硬度を有することを特徴とする機械。
【請求項２０】
請求項１２に記載の機械において、前記処理ツールの接触表面は、研削及び粗化対象の表面とほぼ同じ硬度を有することを特徴とする機械。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月5日(2019.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体における総コレステロール（ＴＣ）レベルおよび低密度リポタンパク質コレステロール（ＬＤＬ−Ｃ）レベルの低減または調整において使用するための、ラクトバチルス・プランタルム（Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｌａｎｔａｒｕｍ）２８３０（ＥＣＧＣ１３１１０４０２）またはその１つもしくは複数の変異株を含む組成物。
【請求項２】
個体における上昇した総コレステロール（ＴＣ）レベルおよび低密度リポタンパク質コレステロール（ＬＤＬ−Ｃ）レベルの管理、処置または予防において使用するための、ラクトバチルス・プランタルム２８３０（ＥＣＧＣ１３１１０４０２）またはその１つもしくは複数の変異株を含む組成物。
【請求項３】
個体における高コレステロール血症の管理、処置または予防において使用するための、ラクトバチルス・プランタルム２８３０（ＥＣＧＣ１３１１０４０２）またはその１つもしくは複数の変異株を含む組成物。
【請求項４】
前記高コレステロール血症が軽度高コレステロール血症である、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ラクトバチルス・プランタルムが１×１０５〜１×１０１２細胞の範囲内の量で存在する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ラクトバチルス・プランタルムが１×１０８〜１×１０１０細胞の範囲内の量で存在する、請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
前記ラクトバチルス・プランタルムが約１．８×１０９細胞を与える活性株約１２０ｍｇの量で存在する、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
以下の物質、トウモロコシデンプン、ステアリン酸マグネシウム、および二酸化ケイ素のうちの１つ以上をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
１日２回の投与のための、請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
カプセル化されている、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ラクトバチルス・プランタルムが濃縮された形態および／または凍結乾燥された形態にある、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
ビタミン、ミネラル、植物性化学物質、酸化防止剤、充填剤材料、およびそれらの組合せから選択される１つ以上の活性成分をさらに含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記充填剤材料が、マルトデキストリン、スクロース、またはコレステロール低減能を持つ充填剤のうちの１つ以上を含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
充填剤材料がベータグルカンである、請求項１２または１３に記載の組成物。
【請求項１５】
以下の物質、スタチン、ステロール、および／またはスタノールのうちの１つ以上をさらに含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記ラクトバチルス・プランタルムの株の成長に特異的なプレバイオティック成長培地をさらに含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１７】
前記プレバイオティック成長培地が、逆酵素反応により、同じ前記ラクトバチルス・プランタルムの株によって生産される、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記プレバイオティック成長培地がオリゴ糖を含む、請求項１６または１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記オリゴ糖がガラクト−オリゴ糖（ＧＯＳ）を含む、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
１日１回または２回、１×１０５〜１０１２細胞の範囲内の量で投与される、高コレステロール血症を予防し、処置し、または調整する方法において使用するための、ラクトバチルス・プランタルム２８３０（ＥＣＧＣ１３１１０４０２）、またはその１つもしくは複数の変異株。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月5日(2019.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子増幅装置であって、
進行波管増幅器（ＴＷＴＡ）と、
リミッタとを備え、
前記ＴＷＴＡの構成は、飽和を下回る動作点における動作のために最適化され、前記リミッタは、前記ＴＷＴＡの出力電力が予め定められた限度を超えることを防止するべく配置される、電子増幅装置。
【請求項２】
前記リミッタは、飽和を下回る点まで前記ＴＷＴＡの動作を制限するべく配置される、請求項１に記載の電子増幅装置。
【請求項３】
前記リミッタは、予め定められた閾値未満まで前記ＴＷＴＡへの入力信号の電力を制限するべく配置される、請求項１または２に記載の電子増幅装置。
【請求項４】
前記リミッタは、予め定められた閾値未満の、前記ＴＷＴＡのパラメータ、または前記ＴＷＴＡの電力調整器、ＥＰＣのパラメータを制限するべく配置される、請求項１または２に記載の電子増幅装置。
【請求項５】
前記ＥＰＣの前記パラメータは、前記ＥＰＣの電圧または電流である、請求項４に記載の電子増幅装置。
【請求項６】
前記リミッタは、前記電子増幅装置への入力信号の変化に対してほぼ瞬時の応答を有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の電子増幅装置。
【請求項７】
マルチポート増幅器（ＭＰＡ）システムであって、
複数の信号入力を受信するための入力段と、
複数の信号出力を提供するための出力段と、
前記入力段で受信された複数の信号を増幅し、かつ、前記出力段に増幅された前記複数の信号を提供するための増幅段と、
前記増幅段がそれぞれの１または複数の電子増幅装置の１または複数の増幅器を含む、１または複数の、請求項１から６のいずれか一項に記載の電子増幅装置とを備える、
ＭＰＡシステム。
【請求項８】
それぞれの前記１または複数の増幅器の１または複数のリミッタは、前記入力段より前に、または前記増幅段に配置される、請求項７に記載のＭＰＡシステム。
【請求項９】
前記入力段と前記出力段との間の信号経路の各々の線形性を向上させるべく、前記増幅段にリニアライザ段をさらに有し、前記リニアライザ段は、それぞれの前記１または複数の電子増幅装置の１または複数のリミッタを含む、請求項７に記載のＭＰＡシステム。
【請求項１０】
マルチフィード、マルチ増幅器フェーズドアレイタイプのアンテナシステムであって、
複数の信号入力を受信するための入力段と、
複数の信号出力を提供するための出力段と、
前記入力段で受信された複数の信号を増幅し、かつ、前記出力段に増幅された前記複数の信号を提供するための増幅段と、
前記増幅段がそれぞれの１または複数の電子増幅装置の１または複数の増幅器を含む、１または複数の、請求項１から６のいずれか一項に記載の電子増幅装置とを備える、
アンテナシステム。
【請求項１１】
それぞれの前記１または複数の増幅器の１または複数のリミッタは、前記入力段より前に、または前記増幅段に配置される、請求項１０に記載のアンテナシステム。
【請求項１２】
前記入力段と前記出力段との間の信号経路の各々の線形性を向上させるべく、前記増幅段にリニアライザ段をさらに有し、前記リニアライザ段は、それぞれの１または複数の前記電子増幅装置の１または複数のリミッタを含む、請求項１０に記載のアンテナシステム。
【請求項１３】
１または複数の請求項７から９のいずれか一項に記載のＭＰＡシステムをさらに備える、請求項１０から１２のいずれか一項に記載のアンテナシステム。
【請求項１４】
１または複数の請求項１から６のいずれか一項に記載の電子増幅装置を備える、衛星通信システム。
【請求項１５】
１または複数の請求項７から９のいずれか一項に記載のＭＰＡシステムを備える、衛星通信システム。
【請求項１６】
１または複数の請求項１０から１３のいずれか一項に記載のマルチフィード、マルチ増幅器フェーズドアレイタイプのアンテナシステムを備える、衛星通信システム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月19日(2019.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャネル品質表示（ＣＱＩ）情報の受信方法であって、
基地局から、上位層構成シグナリングメッセージを携帯装置に送信するステップと、
前記基地局においてＣＱＩ情報を前記携帯装置から受信し、前記ＣＱＩ情報を前記上位層構成シグナリングメッセージに従う１以上のＣＱＩ表に基づいて判定するステップと
を含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、第１のＣＱＩ表と第２のＣＱＩ表とを含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、１５通り未満の変調スキームと符号レートの組合せを含み、各組合せは４ビットにより表現され、
前記第１のＣＱＩ表における変調スキームと符号レートの組合せのサブセットは、前記第２のＣＱＩ表に含まれ、
前記第２のＣＱＩ表は、４位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）及び符号レートｒの組合せを含み、ｒは７８／１０２４よりも小さい実数である、方法。
【請求項２】
前記上位層構成シグナリングメッセージが有効範囲レベルを示す情報を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有効範囲レベルは、深い有効範囲又は中程度の拡張有効範囲を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記上位層構成シグナリングメッセージは、ダウンリンク制御チャネル向けの反復数、又は搬送波周波数のための周波数帯表示の少なくとも１つを示す情報を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２のＣＱＩ表において隣接する組み合わせの全てのペアにおけるスペクトル効率比のうち、前記第２のＣＱＩ表における第１の組合せのスペクトル効率に対する、第２の組合せのスペクトル効率の比が最も高い、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
チャネル品質表示（ＣＱＩ）情報の送信方法であって、
基地局から、上位層構成シグナリングメッセージを携帯装置において受信するステップと、
ＣＱＩ情報を前記上位層構成シグナリングメッセージに従う１以上のＣＱＩ表に基づいて前記携帯装置により判定するステップと、
前記ＣＱＩ情報を前記携帯装置から前記基地局に送信するステップと
を含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、第１のＣＱＩ表と第２のＣＱＩ表とを含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、１５通り未満の変調スキームと符号レートの組合せを含み、各組合せは４ビットにより表現され、
前記第１のＣＱＩ表における変調スキームと符号レートの組合せのサブセットは、前記第２のＣＱＩ表に含まれ、
前記第２のＣＱＩ表は、４位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）及び符号レートｒの組合せを含み、ｒは７８／１０２４よりも小さい実数である、方法。
【請求項７】
前記上位層構成シグナリングメッセージが有効範囲レベルシグナリングを示す情報を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記有効範囲レベルは、深い有効範囲又は中程度の拡張有効範囲を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記上位層構成シグナリングメッセージは、ダウンリンク制御チャネル向けの反復数、又は搬送波周波数のための周波数帯表示の少なくとも１つを示す情報を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２のＣＱＩ表において隣接する組み合わせの全てのペアにおけるスペクトル効率比のうち、前記第２のＣＱＩ表における第１の組合せのスペクトル効率に対する、第２の組合せのスペクトル効率の比が最も高い、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
チャネル品質表示（ＣＱＩ）情報の受信装置であって、
上位層構成シグナリングメッセージを携帯装置に送信するよう構成される送信モジュールと、
ＣＱＩ情報を前記携帯装置から受信し、前記ＣＱＩ情報を前記上位層構成シグナリングメッセージに従う１以上のＣＱＩ表に基づいて判定するよう構成される受信モジュールと
を含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、第１のＣＱＩ表と第２のＣＱＩ表とを含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、１５通り未満の変調スキームと符号レートの組合せを含み、各組合せは４ビットにより表現され、
前記第１のＣＱＩ表における変調スキームと符号レートの組合せのサブセットは、前記第２のＣＱＩ表に含まれ、
前記第２のＣＱＩ表は、４位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）及び符号レートｒの組合せを含み、ｒは７８／１０２４よりも小さい実数である、装置。
【請求項１２】
前記上位層構成シグナリングメッセージが有効範囲レベルを示す情報を含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記有効範囲レベルは、深い有効範囲又は中程度の拡張有効範囲を含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記上位層構成シグナリングメッセージは、ダウンリンク制御チャネル向けの反復数、又は搬送波周波数のための周波数帯表示の少なくとも１つを示す情報を含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
前記第２のＣＱＩ表において隣接する組み合わせの全てのペアにおけるスペクトル効率比のうち、前記第２のＣＱＩ表における第１の組合せのスペクトル効率に対する、第２の組合せのスペクトル効率の比が最も高い、請求項１１に記載の装置。
【請求項１６】
チャネル品質表示（ＣＱＩ）情報の送信装置であって、
基地局から、上位層構成シグナリングメッセージを受信するよう構成される受信モジュールと、
ＣＱＩ情報を前記上位層構成シグナリングメッセージに従う１以上のＣＱＩ表に基づいて判定するよう構成される判定モジュールと、
前記判定されたＣＱＩ情報を前記基地局に送信するよう構成される送信モジュールと
を含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、第１のＣＱＩ表と第２のＣＱＩ表とを含み、
前記１以上のＣＱＩ表は、１５通り未満の変調スキームと符号レートの組合せを含み、各組合せは４ビットにより表現され、
前記第１のＣＱＩ表における変調スキームと符号レートの組合せのサブセットは、前記第２のＣＱＩ表に含まれ、
前記第２のＣＱＩ表は、４位相シフトキーイング（ＱＰＳＫ）及び符号レートｒの組合せを含み、ｒは７８／１０２４よりも小さい実数である、装置。
【請求項１７】
前記上位層構成シグナリングメッセージが有効範囲レベルを示す情報を含む、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記有効範囲レベルは、深い有効範囲又は中程度の拡張有効範囲を含む、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記上位層構成シグナリングメッセージは、ダウンリンク制御チャネル向けの反復数、又は搬送波周波数のための周波数帯表示の少なくとも１つを示す情報を含む、請求項１６に記載の装置。
【請求項２０】
前記第２のＣＱＩ表において隣接する組み合わせの全てのペアにおけるスペクトル効率比のうち、前記第２のＣＱＩ表における第１の組合せのスペクトル効率に対する、第２の組合せのスペクトル効率の比が最も高い、請求項１６に記載の装置。
【請求項２１】
コードを記憶し、前記コードは、プロセッサにより実行された場合に、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法を前記プロセッサに実行させる、非一時性コンピュータ読取媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月13日(2019.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光デバイスと、
前記発光デバイスの上に配置された波長変換構造と、
基板と、
透光層と
を有し、
前記波長変換構造は、前記基板と前記発光デバイスとの間に配置され、
前記基板の第１の表面の第１の部分が、前記波長変換構造と接続され、前記基板の前記第１の表面の第２の部分が、前記波長変換構造と前記基板の前記第１の表面の当該第２の部分との間の前記透光層と接触し、
前記基板の第２の表面がテクスチャ加工されている、
構造体。
【請求項２】
前記第１の表面の前記第１の部分が複数のピラーを有し、前記透光層が前記ピラーの間に配置されるようにされている、請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
前記基板の前記第２の表面は、アレイにて配列された複数のフィーチャを有するようにテクスチャ加工されており、フィーチャ間のピークツーピーク間隔が、５０ｎｍと５００ｎｍとの間である、請求項１に記載の構造体。
【請求項４】
前記フィーチャは、柱、角錐、円錐、角錐台、円錐台、ジョンソンの立体、及び近ジョンソンの立体からなる群から選択された形状を有する、請求項３に記載の構造体。
【請求項５】
前記基板はサファイアである、請求項１に記載の構造体。
【請求項６】
前記基板は、
本体と、
該本体上に成長された誘電体層であり、当該誘電体層がテクスチャ加工されて前記テクスチャ加工された第２の表面を形成している、誘電体層と
を有する、請求項１に記載の構造体。
【請求項７】
前記本体はサファイアであり、前記誘電体層は、前記本体上に成長されたＩＩＩ族窒化物層を有する、請求項６に記載の構造体。
【請求項８】
前記本体は、接着層によって前記波長変換構造に取り付けられている、請求項７に記載の構造体。
【請求項９】
前記接着層は非ＩＩＩ族窒化物材料である、請求項８に記載の構造体。
【請求項１０】
前記基板は第１の基板であり、当該構造体は更に、前記第１の基板の上に配置された第２の基板を有し、該第２の基板の第２の表面が、テクスチャ加工され、且つ前記第１の基板に面しない側にある、請求項１に記載の構造体。
【請求項１１】
前記波長変換構造の屈折率が前記透光層の屈折率よりも高い、請求項１に記載の構造体。
【請求項１２】
前記透光層の前記屈折率が前記基板の屈折率よりも低い、請求項１１に記載の構造体。
【請求項１３】
前記基板の前記屈折率と前記透光層の前記屈折率との間の差が少なくとも０．５である、請求項１２に記載の構造体。
【請求項１４】
半導体発光デバイスと、
前記半導体発光デバイスの上に配置された波長変換構造と、
前記波長変換構造の上に配置された基板であり、前記波長変換構造と当該基板の第１の表面の第１の部分との間に透光層が位置するように且つ前記基板の前記第１の表面の第２の部分が前記波長変換構造と接続されるように配置され、当該基板は、
本体と、
該本体上に成長された誘電体層であり、当該誘電体層の第２の表面がテクスチャ加工されている、誘電体層と
を有する、基板と、
を有する構造体。
【請求項１５】
前記本体はサファイアであり、前記誘電体層はＩＩＩ族窒化物材料である、請求項１４に記載の構造体。
【請求項１６】
前記本体と前記波長変換構造との間に配置された非ＩＩＩ族窒化物接着材、を更に有する請求項１４に記載の構造体。
【請求項１７】
前記基板は第１の基板であり、当該構造体は更に、前記半導体発光デバイスの上に配置された第２の基板を有し、該第２の基板の第２の表面が、前記半導体発光デバイスに面しない側にあり、且つテクスチャ加工されている、請求項１６に記載の構造体。
【請求項１８】
半導体発光デバイスの上に波長変換構造を付与することと、
前記波長変換構造の上に基板を付与することであり、前記波長変換構造に面しない前記基板の第２の表面がテクスチャ加工され、前記基板の第１の表面の第１の部分が、前記波長変換構造と接続するようにされ、前記基板の前記第１の表面の第２の部分が、前記波長変換構造と前記基板の前記第１の表面の当該第２の部分との間の透光層と接触するようにされる、付与することと、
を有する方法。
【請求項１９】
前記第１の表面の前記第１の部分が複数のピラーを有し、前記透光層が前記ピラーの間に配置されるようにされる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記基板が誘電体層を有し、該誘電体層がテクスチャ加工されて前記テクスチャ加工された第２の表面を形成するようにされる、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月7日(2019.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にスタックされた複数の多重量子井戸セットを備え、
第１の前記多重量子井戸セットは、前記基板に隣接し、低いインジウム濃度を有し；
前記第１の多重量子井戸セットの上方の各前記多重量子井戸セットは、漸進的に上昇する濃度を有し；
最上部の前記多重量子井戸セットは、琥珀色〜赤色の光を放出するよう選択された最も高いインジウム濃度を有し；
隣接する前記多重量子井戸セットは、ＡｌxＧａ1-xＮ（０＜ｘ≦１）中間歪補償層によって隔てられ、各前記ＡｌxＧａ1-xＮ（０＜ｘ≦１）中間歪補償層は、前記最上部多重量子井戸セットにおける総歪みを低減するために、各前記ＡｌxＧａ1-xＮ（０＜ｘ≦１）中間歪補償層の上下にバリア層を有する、III族窒化物半導体ＬＥＤ。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月18日(2019.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2018531958.tif 000001
（式中：
Ｘは、ＣＨ又はＮであり；
ｎは、０、１又は２であり；
Ｒ１は、独立に、ＯＨ、ハロ又は（Ｃ１〜４）アルキルであり；
Ｒ２は、独立に、ＯＨ、ハロ、（Ｃ１〜４）アルキル、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２又はＣＦ３であり；及び
Ｒ３は、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２又はＣＦ３である）に係る化合物又はその薬学的に許容可能な塩。
【請求項２】
式ＩＩ：
【化２】
2018531958.tif 000002
（式中：
Ｘは、ＣＨ又はＮであり；
ｎは、１又は２であり；
Ｒ２は、独立に、ＯＨ、ハロ、（Ｃ１〜４）アルキル、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２又はＣＦ３であり；及び
Ｒ３は、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２又はＣＦ３である）によって表される、請求項１に記載の化合物又はその薬学的に許容可能な塩。
【請求項３】
式ＩＩＩ：
【化３】
2018531958.tif 000003
（式中：
Ｘは、ＣＨ又はＮであり；
Ｒ２は、独立に、Ｈ、Ｃｌ、Ｆ、ＣＨ３又はＣＨＦ２であり；及び
Ｒ３は、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２又はＣＦ３である）によって表される、請求項１に記載の化合物又はその薬学的に許容可能な塩。
【請求項４】
Ｒ１は、クロロ又はフルオロである、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１は、フルオロである、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
ｎは、１である、請求項１、２、４又は５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ２は、クロロ又はフルオロである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ２は、クロロである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項９】
Ｘは、Ｎである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｘは、ＣＨである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ３は、ＣＦ３である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１２】
遊離酸の形態である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１３】
３−フルオロ−４−（１−（２−メチル−６−（１−（トリフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）安息香酸；
４−（１−（２−クロロ−６−（１−（ジフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）−３−フルオロ安息香酸；
４−（１−（２−クロロ−６−（１−（トリフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）−３−フルオロ安息香酸；
４−（１−（２−クロロ−３−フルオロ−６−（１−（トリフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）−３−フルオロ安息香酸；
４−（１−（２−（ジフルオロメチル）−６−（１−（トリフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）−３−フルオロ安息香酸；
４−（１−（２−クロロ−６−（１−（ジフルオロメチル）シクロプロピル）−３−フルオロベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）−３−フルオロ安息香酸；
３−フルオロ−４−（１−（３−フルオロ−２−メチル−６−（１−（トリフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｂ］ピリジン−３−イル）安息香酸；及び
４−（１−（２−クロロ−６−（１−（トリフルオロメチル）シクロプロピル）ベンゾイル）−１Ｈ−ピロロ［３，２−ｂ］ピリジン−３−イル）−３−フルオロ安息香酸
から選択される化合物又はその薬学的に許容可能な塩。
【請求項１４】
【化４】
2018531958.tif 000004
である請求項１に記載の化合物又はその薬学的に許容可能な塩。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物又はその薬学的に許容可能な塩と、１つ以上の薬学的に許容可能な担体とを含む医薬組成物。
【請求項１６】
医薬組成物が、
【化５】
2018531958.tif 000005
又はその薬学的に許容可能な塩を含む、請求項１５に記載の薬学的組成物。
【請求項１７】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の化合物を含む、自己免疫障害及び炎症性障害からなる群から選択される障害を治療するための医薬。
【請求項１８】
前記障害は、自己免疫障害である、請求項１７に記載の医薬。
【請求項１９】
前記自己免疫障害は、関節リウマチ、乾癬、クローン病、炎症性腸疾患、多発性硬化症、強直性脊椎炎、全身性エリテマトーデス、慢性移植片対宿主病、急性移植片対宿主病、セリアックスプルー、特発性血栓性血小板減少性紫斑病、重症筋無力症、シェーグレン症候群、強皮症、潰瘍性大腸炎、又は表皮過形成である、請求項１７又は１８に記載の医薬。
【請求項２０】
前記自己免疫障害は、関節リウマチ、乾癬、クローン病、炎症性腸疾患、又は多発性硬化症である、請求項１７又は１８に記載の医薬。
【請求項２１】
前記障害は、炎症性障害である、請求項１７に記載の医薬。
【請求項２２】
前記炎症性障害は、呼吸器疾患又は骨関節炎である、請求項１７又は２１に記載の医薬。
【請求項２３】
前記炎症性障害は、骨関節炎又は喘息である、請求項１７又は２１に記載の医薬。
【請求項２４】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の化合物を含む、ＲＯＲγの活性を阻害するための医薬。