【手続補正書】
【提出日】平成30年11月27日(2018.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2017537914.tif 000001
〔式中、
Ａは、（Ａ−ａ）〜（Ａ−ｆ）
【化２】
2017537914.tif 000002
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の窒素原子への結合を示している］
の群から選択されるラジカルであり；及び、
Ｇ１は、Ｎ又はＣ−Ｂ１であり；
Ｂ１は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハ
ロアルコキシ、並びに、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル及びシク
ロアルケニルの群から選択されるラジカルであり；
Ｂ２は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハ
ロアルコキシ、並びに、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル及びシク
ロアルケニルの群から選択されるラジカルであり；
Ｔは、酸素又は電子対であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルコキシ及びシアノの群から選択されるラジカルであり；
Ｒ２は、（ａ）  （Ｂ−１）〜（Ｂ−３６）
【化３】
2017537914.tif 000003
2017537914.tif 000004
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
の群から選択されるＢラジカルであり；又は、
Ｒ２は、（ｂ）  （Ｄ−１）〜（Ｄ−３）
【化４】
2017537914.tif 000005
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
の群から選択されるＤラジカルであり；又は、
Ｒ２は、（ｃ）  式
【化５】
2017537914.tif 000006
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
で表されるラジカルであり；又は、
Ｒ２は、（ｄ）  式
【化６】
2017537914.tif 000007
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
で表されるラジカルであり；又は、
Ｒ２は、（ｅ）  （Ｆ−１）〜（Ｆ−１１）
【化７】
2017537914.tif 000008
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
の群から選択されるＦラジカルであり；又は、
Ｒ２は、（ｆ）  ハロアルキル、カルボキシル及びアミノの群から選択されるラジカル
であり；
ここで、
Ｇ２は、水素であるか、又は、ハロゲン、ニトロ、アミノ、シアノ、アルキルアミノ、
ハロアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシカルボニ
ルアルキル、飽和若しくは不飽和のシクロアルキル（ここで、該シクロアルキルは、置換
されていてもよく、及び、１個以上のヘテロ原子で中断されていてもよい）、シクロアル
キルアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、ハロゲン化アルコキ
シアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニ
ルアルキル、ビス（アルコキシ）アルキル、ビス（ハロアルコキシ）アルキル、アルコキ
シ（アルキルスルファニル）アルキル、アルコキシ（アルキルスルフィニル）アルキル、
アルコキシ（アルキルスルホニル）アルキル、ビス（アルキルスルファニル）アルキル、
ビス（ハロアルキルスルファニル）アルキル、ビス（ヒドロキシアルキルスルファニル）
アルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、α−ヒドロキシイミ
ノアルコキシカルボニルアルキル、α−アルコキシイミノアルコキシカルボニルアルキル
、Ｃ（Ｘ２）ＮＲ３Ｒ４、ＮＲ６Ｒ７、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル
スルホニル、ヘテロシクリルラジカル［ジオキサニル、ジオキソラニル、ジオキセパニル
、ジオキソカニル、オキサチアニル、オキサチオラニル、オキサチエパニル、オキサチオ
カニル、ジチアニル、ジチオラニル、ジチエパニル、ジチオカニル、オキサチアニルオキ
シド、オキサチオラニルオキシド、オキサチエパニルオキシド、オキサチオカニルオキシ
ド、オキサチアニルジオキシド、オキサチオラニルジオキシド、オキサチエパニルジオキ
シド、オキサチオカニルジオキシド、モルホリニル、トリアゾリノニル、オキサゾリニル
、ジヒドロオキサジアジニル、ジヒドロジオキサジニル、ジヒドロオキサゾリル、ジヒド
ロオキサジニル及びピラゾリノニル（ここで、これらは、これらに関する限り、同様に、
アルキル、ハロアルキル、アルコキシ及びアルコキシアルキルで置換されていてもよい）
］、フェニル（ここで、これは、これに関する限り、同様に、ハロゲン、シアノ、ニトロ
、アルキル及びハロアルキルで置換されていてもよい）、ヘテロアリールラジカル［ピリ
ジル、ピリジルＮ−オキシド、ピリミジル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、
チアゾリル、フラニル、チエニル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサジアゾリル、チ
アジアゾリル、ピラジニル、トリアジニル、テトラジニル及びイソキノリニル（ここで、
これらは、これらに関する限り、同様に、ハロゲン、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、
アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキルチオアルキ
ル及びシクロアルキルで置換されていてもよい）］、及び、ヘテロアリールアルキルラジ
カル［トリアゾリルアルキル、ピリジルアルキル、ピリミジルアルキル及びオキサジアゾ
リルアルキル（ここで、これらは、これらに関する限り、同様に、ハロゲン及びアルキル
で置換されていてもよい）］の群から選択されるラジカルであり；又は、
Ｇ２は、（Ｃ−１）〜（Ｃ−９）
【化８】
2017537914.tif 000009
［ここで、破線は、ラジカル（Ｂ−１）〜ラジカル（Ｂ−３４）への結合を示している］
の群から選択されるラジカルであり；
Ｘは、酸素又は硫黄であり；
Ｘ１は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル
、アルコキシ及びハロアルコキシの群から選択されるラジカルであり；
Ｘ２は、酸素、硫黄、ＮＲ５又はＮＯＨであり；
Ｌは、酸素又は硫黄であり；
Ｖ−Ｚは、Ｒ２４ＣＨ−ＣＨＲ２５又はＲ２４Ｃ＝ＣＲ２５であり；
ｎは、１又は２であり；
ｍは、１、２、３又は４であり；
Ｒは、ＮＲ１８Ｒ１９であるか、又は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキ
シアルキル、アルキル−Ｓ−アルキル、アルキル−Ｓ（Ｏ）−アルキル、アルキル−Ｓ（
Ｏ）２−アルキル、Ｒ１８−ＣＯ−アルキル、ＮＲ１８Ｒ１９−ＣＯ−アルキル、シクロ
アルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、ヘ
テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、フェニル、フェニルアルキル、ヘタリール及び
ヘタリールアルキルの群から選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカル
であり；
Ｒ３は、水素又はアルキルであり；
Ｒ４は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシ
カルボニルアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキル
スルホニルアルキル、アリール、アリールアルキル及びヘタリールアルキルの群から選択
されるラジカルであり；
Ｒ５は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシ
カルボニルアルキル、アルキルチオアルキル、アリール、アリールアルキル及びヘタリー
ルアルキルの群から選択されるラジカルであり；又は、
Ｒ３とＲ４は、それらが結合している窒素原子と一緒に、環（ここで、該環は、窒素、
酸素及び硫黄の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子を含んでいてもよい）を
形成し；又は、
Ｒ３とＲ５は、それらが結合している窒素原子と一緒に、環を形成し；
Ｒ６は、水素又はアルキルであり；
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アル
キルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アル
コキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルチオアルキル、アリール、
アリールアルキル及びヘタリールアルキルの群から選択されるラジカルであり；又は、
Ｒ６とＲ７は、それらが結合している窒素原子と一緒に、環（ここで、該環は、窒素、
酸素及び硫黄の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子を含んでいてもよい）を
形成し；
Ｒ８は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロアルコキ
シ、アルケニル、アルコキシアルキル、いずれの場合にもハロゲンで置換されていてもよ
いアルキルカルボニル及びアルキルスルホニル、ハロゲンで置換されていてもよいアルコ
キシカルボニル、ハロゲン−、アルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−及びシアノ−
で置換されていてもよいシクロアルキルカルボニルの群から選択されるラジカルであるか
、又は、カチオンであるか、又は、アルキル−若しくはアリールアルキル−で置換されて
いてもよいアンモニウムイオンであり；
Ｒ９は、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルケニル及びアルキニル
、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルアルキル及び
シクロアルケニル（ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接
してはならない）及び窒素の群から選択される少なくとも１個のヘテロ原子を含んでいて
もよい）、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテロアリール、アリール
アルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていてもよいアミノ基の群から
選択されるラジカルであり；
（Ｃ−１）ラジカル及び（Ｆ−１）ラジカルにおけるＲ８とＲ９は、それらが結合して
いるＮ−Ｓ（Ｏ）ｎ基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい４〜８員の環（
ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）及
び窒素の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子並びに／又は少なくとも１のカ
ルボニル基を含んでいてもよい）を形成することもでき；
Ｒ１０は、水素又はアルキルであり；
（Ｃ−２）ラジカル及び（Ｆ−２）ラジカルにおけるＲ８とＲ１０は、それらが結合し
ている窒素原子と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい４〜８員の環（ここで
、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）及び窒素
の群から選択される少なくとも１個のさらなるヘテロ原子並びに／又は少なくとも１のカ
ルボニル基を含んでいてもよい）であることもでき；
（Ｃ−２）ラジカル及び（Ｆ−２）ラジカルにおけるＲ９とＲ１０は、それらが結合し
ているＮ−Ｓ（Ｏ）ｎ基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい４〜８員の環
（ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）
及び窒素の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子並びに／又は少なくとも１の
カルボニル基を含んでいてもよい）を形成することもでき；
Ｒ１１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アル
キニルオキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シク
ロアルキルアルコキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、フェノキシ、フェニルチオ、ベ
ンジルオキシ、ベンジルチオ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリ
ールアルコキシ及びヘテロアリールアルキルチオの群から選択されるいずれの場合にも置
換されていてもよいラジカルであり；
Ｒ１２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アル
キニルオキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シク
ロアルキルアルコキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、フェノキシ、フェニルチオ、ベ
ンジルオキシ、ベンジルチオ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリ
ールアルコキシ及びヘテロアリールアルキルチオの群から選択されるいずれの場合にも置
換されていてもよいラジカルであり；
（Ｃ−３）ラジカル及び（Ｆ−３）ラジカルにおけるＲ１１とＲ１２は、それらが結合
しているリン原子と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい５〜７員の環（ここ
で、該環は、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）及び硫黄の群
から選択される１個又は２個のヘテロ原子を含んでいてもよい）を形成することもでき；
Ｒ１３は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフェニルアルキルの群か
ら選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであり；
Ｒ１４は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフェニルアルキルの群か
ら選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであり；
Ｒ１５は、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルケニル及びアルキニ
ル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルアルキル及
びシクロアルケニル（ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣
接してはならない）及び窒素の群から選択される少なくとも１個のヘテロ原子を含んでい
てもよい）、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテロアリール、アリー
ルアルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていてもよいアミノ基の群か
ら選択されるラジカルであり；
（Ｃ−６）ラジカル及び（Ｆ−６）ラジカルにおけるＲ８とＲ１５は、それらが結合し
ているＮ−Ｓ（Ｏ）ｎ基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい４〜８員の環
（ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）
及び窒素の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子並びに／又は少なくとも１の
カルボニル基を含んでいてもよい）を形成することもでき；
Ｒ１６は、水素、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アル
ケニル及びアルキニル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロ
アルキルアルキル及びシクロアルケニル（ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原
子は、互いに直接隣接してはならない）及び窒素の群から選択される少なくとも１個のヘ
テロ原子を含んでいてもよい）、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテ
ロアリール、アリールアルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていても
よいアミノ基の群から選択されるラジカルであり；
（Ｃ−７）ラジカル及び（Ｆ−７）ラジカルにおけるＲ８とＲ１６は、それらが結合し
ている窒素原子と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい４〜８員の環（ここで
、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）及び窒素
の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子並びに／又は少なくとも１のカルボニ
ル基を含んでいてもよい）を形成することもでき；
Ｒ１７は、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルケニル
及びアルキニル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキ
ルアルキル及びシクロアルケニル（ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、
互いに直接隣接してはならない）及び窒素の群から選択される少なくとも１個のヘテロ原
子を含んでいてもよい）、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテロアリ
ール、アリールアルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていてもよいア
ミノ基の群から選択されるラジカルであり；
（Ｃ−８）ラジカル及び（Ｆ−８）ラジカルにおけるＲ８とＲ１７は、それらが結合し
ているＮ−Ｃ（Ｘ）基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい４〜８員の環（
ここで、該環は、硫黄、酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）及
び窒素の群から選択される１個以上のさらなるヘテロ原子並びに／又は少なくとも１のカ
ルボニル基を含んでいてもよい）を形成することもでき；
Ｒ１８は、水素、ヒドロキシ、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アル
コキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、
アルキルスルホニルアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニル
及びアルキニル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキ
ルアルキル、シクロアルケニル及びシクロアルケニルアルキル（ここで、該環は、硫黄、
酸素（ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない）及び窒素の群から選択され
る少なくとも１個のヘテロ原子を含んでいてもよい）、いずれの場合にも置換されていて
もよいアリール、アリールアルキル、ヘテロアリール及びヘテロアリールアルキル、並び
に、置換されていてもよいアミノ基の群から選択されるラジカルであり；
Ｒ１９は、水素の群から選択されるラジカルであるか、又は、アルカリ金属イオン若し
くはアルカリ土類金属イオンであるか、又は、Ｃ１−Ｃ４−アルキルで１〜４置換されて
いてもよいアンモニウムイオンであるか、又は、いずれの場合にもハロゲン−若しくはシ
アノ−で置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチ
オアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキルラジカルであ
り；
Ｙ１及びＹ２は、独立して、Ｃ＝Ｏ又はＳ（Ｏ）２であり；
Ｙ３は、水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコ
キシ、ハロアルコキシ及びＮＲ２０Ｒ２１の群から選択されるラジカルであり；
Ｗは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ及びＳＯ２の群から選択されるラジカルであり；
Ｒ２２は、アルキル、ハロゲン−、カルバモイル−、チオカルバモイル−若しくはシア
ノ−で置換されていてもよいシクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキ
シ、アルコキシアルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホ
ニル、ハロアルキルチオ、ハロアルキルスルフィニル、ハロアルキルスルホニル、アルキ
ルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アルキ
ルチオアルキルオキシ、アルキルスルフィニルアルキルオキシ、アルキルスルホニルアル
キルオキシ、ハロアルキルチオアルキル、ハロアルキルスルフィニルアルキル、ハロアル
キルスルホニルアルキル、アルキルチオアルケニル、アルキルスルフィニルアルケニル、
アルキルスルホニルアルケニル、アルケニルチオアルキル、アルケニルスルフィニルアル
キル、アルケニルスルホニルアルキル、アルキルカルボニルアルキル、ハロアルキルカル
ボニルアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルコキシカルボニル
アルキル、ハロアルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミノスルホニル、ジ（アルキ
ルアミノ）スルホニルの群から選択されるラジカルであり；又は、
Ｒ２＝（ｄ）である場合は、
Ｒ２２は、さらに、置換されていてもよいアリールであるか、又は、（Ｅ−１）〜（Ｅ
−５１）
【化９】
2017537914.tif 000010
2017537914.tif 000011
の群から選択されるラジカルであり；
Ｒ２０は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、並びに、いずれの
場合にも置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シ
クロアルキルアルキル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアル
キルオキシ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカル
ボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アルキ
ルスルホニルオキシ、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロア
ルキルアミノ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シ
クロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルカルボニル、
アルコキシイミノアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アルキルアミノ
カルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノチオカルボニル、アルキルアミノスル
ホニル、アルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニル
アミノ、アルキニルカルボニルアミノ、シクロアルキルカルボニルアミノ、アルコキシカ
ルボニルアミノ、アルキルチオカルボニルアミノ、ビシクロアルキル、アリール、アリー
ルオキシ、ヘテロアリール及びヘテロアリールオキシ（ここで、該置換基は、互いに独立
して、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、アルキル及びハロアルキルから
選択される）の群から選択されるラジカルであり；
Ｒ２１は、水素、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル
、シクロアルキルアルキル、シアノアルキル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニ
ル、ハロアルキルカルボニル、ハロアルケニルカルボニル、アルコキシアルキル、アルコ
キシカルボニル、アルキルスルホニル及びハロアルキルスルホニルの群から選択されるラ
ジカルであり；
Ｒ２３は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケ
ニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、アル
キルチオアルキル、アルケニルチオアルキル、シアノアルキル、アルコキシアルキルの群
から選択されるラジカルであり；及び、
Ｒ２４は、水素であるか、又は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフ
ェニルアルキルの群から選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであ
り；及び、
Ｒ２５は、水素であるか、又は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフ
ェニルアルキルの群から選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであ
り；
Ｒ２７は、水素又はアルキルであり；及び、
Ｒ２６は、水素、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル
、シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスル
フィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル及びシアノアルキルの群から選択される
ラジカルである〕
で表される化合物。
【請求項２】
Ａが、ラジカル
【化１０】
2017537914.tif 000012
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の窒素原子への結合を示している］
であり；
Ｇ１が、Ｃ−Ｂ１であり；
Ｂ１が、水素であり；
Ｔが、電子対であり；
Ｒ１が、水素であり；
Ｒ２が、（ａ）
【化１１】
2017537914.tif 000013
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
であり；又は、
Ｒ２が、（ｂ）  （Ｄ−２）ラジカル
【化１２】
2017537914.tif 000014
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
であり；又は、
Ｒ２が、（ｃ）  式
【化１３】
2017537914.tif 000015
［ここで、破線は、式（Ｉ）で表される二環式系の炭素原子への結合を示している］
で表されるラジカルであり；又は、
Ｇ２が、水素及びＣ１−Ｃ４−アルキルの群から選択されるラジカルであり；
Ｘが、酸素であり；
Ｘ１が、水素、フッ素、塩素及び臭素の群から選択されるラジカルであり；
Ｒが、１、２、３、４又は５個のフッ素−又は塩素−で置換されていてもよいＣ１−Ｃ
４−アルキルであり；
Ｗが、Ｓ、ＳＯ及びＳＯ２の群から選択されるラジカルであり；
Ｙ３が、メチル又はエチルであり；
Ｒ２２が、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル及びＣ１−Ｃ４−アルキ
ルチオ−Ｃ１−Ｃ４−アルキルの群から選択されるラジカルであり；及び、
Ｒ２３が、水素又はＣ１−Ｃ６−アルキルである；
請求項１に記載の式（Ｉ）で表される化合物。
【請求項３】
組成物であって、請求項１及び２のいずれかに記載の式（Ｉ）で表される少なくとも１
種類の化合物並びに慣習的な増量剤及び／又は界面活性剤を含んでいることを特徴とする
、前記組成物。
【請求項４】
有害生物を防除するための、請求項１及び２のいずれかに記載の式（Ｉ）で表される化
合物又は請求項３に記載の組成物の使用。
【請求項５】
式
【化１４】
2017537914.tif 000016
で表される化合物。
【請求項６】
式
【化１５】
2017537914.tif 000017
で表される化合物。