Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月27日(2007.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個人の視覚的又は認知的な障害情報を受信するステップ；
書類を受信するステップ；
前記書類を分析するステップ；及び
前記個人の前記障害情報に応じて前記書類を紙に再変換するステップ；
より成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記書類を分析するステップが：
前記書類中の図から前記書類中のテキストを分離するステップ；
語句境界枠抽出を実行するステップ；及び
レイアウト及び読み取る順序の分析を実行するステップ；
より成ることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記書類を分析するステップが、更に、光文字認識を実行するステップより成る
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記書類を再変換するステップが、前記書類中のテキストサイズを修正するステップより成る
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記書類を再変換するステップが、書類中のテキストコントラストを修正するステップより成る
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
読者の視覚的障害情報を受信するためのユーザインターフェース；
書類を走査するスキャナ；及び
走査された書類を分析し、前記読者の情報に応じて走査された書類を再変換するプロセッサ；
を有することを特徴とする装置。
【請求項７】
前記プロセッサが、前記走査された書類中の１以上の図から、走査された文書中のテキストを分離し、語句境界枠抽出を実行し、及びスキャンされた書類のレイアウト及び読み取り順序を分析する
ことを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記プロセッサが、光文字認識を実行する
ことを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記プロセッサが、前記書類中のテキストサイズを修正する
ことを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項１０】
前記プロセッサが、前記書類中のテキストコントラストを修正する
ことを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項１１】
前記プロセッサが、画素画像を拡張し、前記書類中の間隔の寸法を変更する
ことを特徴とする請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記プロセッサが、前記書類中の図のサイズ及び図のコントラストを修正する
ことを特徴とする請求項６記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月10日(2007.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記予め定められた条件とは、前記第２の操作が前記実行指示操作であり、かつ、前記第２の操作を検知したときの前記機器の状態がヘルプモードである場合に満たされる条件であることを特徴とする請求項２に記載の情報処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月1日(2007.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】    【従来の技術】  カラオケ楽曲には複数の声部にて受け持つ歌詞が同一でないか、または、同一歌詞でも発声タイミングが同一でない部分を含んだ合唱曲や重唱曲がある。多くのデュエット曲も合唱曲といえる。いわゆる歌謡曲に属するデュエット曲の多くは、２つの声部があるけれど、曲構成はモノフォニックであるので２つの声部に対応する歌詞字幕をそれぞれ区別できるように同時に画面表示し、一方の歌唱パートが演奏されているときにはそのパートを担当する歌唱者用の歌詞字幕を色変え表示する（特開平９−２１２１７７号公報）。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】  より多数の声部を持つグループ楽曲であっても、普通は主旋律に相当する１つの声部を歌唱者が歌い、歌詞字幕もその声部に対応する歌詞文字を色変えて表示するようにしている。他の声部は、伴奏音だけ音響出力する。主旋律の和音を歌唱者の声で音響出力するハーモニー機能を備えたカラオケ装置では、他の声部がハーモニーであれば、他の声部を歌唱者の歌声から擬似的に創出する（特開２０００−３１５１００号公報）。もちろん、他の声部をＡＤＰＣＭなど所定の形式でコーラス音声として記録しておき、演奏中に他の声部のコーラス音声を再生出力することも考えられる（特開２０００−２３１３９０号公報）。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月5日(2007.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【非特許文献１】"RFC3265 Session Initiation Protocol(SIP) - Specific Event Notification", [online], インターネット<URL:http://www.ietf.org/rfc/rfc3265.txt>
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月31日(2007.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膨張用ガスを流入させて車両の窓を覆うように展開膨張するエアバッグと、該エアバッグに膨張用ガスを供給するインフレーターと、前記エアバッグに設けられて前記インフレーターに外装される筒状の接続口部を外周側から押えて、前記インフレーターと前記接続口部とを接続させるクランプと、を備えて構成されるとともに、
前記エアバッグが、前記接続口部を備えた袋状のエアバッグ本体と、前記接続口部と前記インフレーターとの間に介在されて、前記インフレーターからの膨張用ガスの流れを規制して前記エアバッグ本体側へ前記膨張用ガスを流すインナチューブと、を備えて構成される頭部保護エアバッグ装置であって、
前記エアバッグと前記インフレーターとの接続部位における前記接続口部の内周側と前記インナチューブの外周側との間、及び、前記インフレーターの外周側と前記インナチューブの内周側との間、にガス漏れ防止用のシール剤が配設されていることを特徴とする頭部保護エアバッグ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る頭部保護エアバッグ装置は、膨張用ガスを流入させて車両の窓を覆うように展開膨張するエアバッグと、エアバッグに膨張用ガスを供給するインフレーターと、エアバッグに設けられてインフレーターに外装される筒状の接続口部を外周側から押えて、インフレーターと接続口部とを接続させるクランプと、を備えて構成されるとともに、
エアバッグが、接続口部を備えた袋状のエアバッグ本体と、接続口部とインフレーターとの間に介在されて、インフレーターからの膨張用ガスの流れを規制してエアバッグ本体側へ膨張用ガスを流すインナチューブと、を備えて構成される頭部保護エアバッグ装置であって、
エアバッグとインフレーターとの接続部位における接続口部の内周側とインナチューブの外周側との間、及び、インフレーターの外周側とインナチューブの内周側との間、にガス漏れ防止用のシール剤が配設されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る頭部保護エアバッグ装置では、エアバッグが膨張用ガスを流入させて展開膨張を完了させた後でも、シール剤によって、インフレーターと接続口部との接続箇所からの膨張用ガスの漏れが、抑制される。すなわち、ガス漏れ防止用のシール剤が、エアバッグとインフレーターとの接続部位における接続口部の内周側とインナチューブの外周側との間、及び、インフレーターの外周側とインナチューブの内周側との間、に配設されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
なお、この場合のシール剤は、インフレーター等の所定部材の外周面側や内周面側に、塗布、貼着、接着、浸漬等により、配設させればよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月10日(2005.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】追加
【補正の内容】
【００１２】
【図１】
本発明の可動部分が折れ曲がっていない状態を平面的に図示した１例である。
【図２】
図１の可動部分が少し折れ曲がっている状態を平面的に図示した１例である。
【図３】
図１の可動部分が大分、折れ曲がりきっている状態を平面的に図示した１例である。
【符号の説明】
【００１３】
１１、１２  平面的な可動部分の例
１３        回転（立体的）する可動部部の例
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月27日(2007.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステアリングシャフトが挿通される開口を有して車体側のステータ部材に固定されるハウジングと、スイッチボックスの外方へ突出する操作杆を有するストークスイッチとを備え、前記スイッチボックスを前記ハウジング内に側方から挿入することにより、前記スイッチボックスの外壁に突設したスナップ片を前記ハウジングの壁部に開設した係止孔にスナップ結合させるようにした車載用コンビネーションスイッチであって、
前記ハウジング内に弾性片を突設し、この弾性片を前記スイッチボックスの挿入方向先端部に弾接させることにより、前記スナップ片の爪部を前記係止孔の周縁部に弾接させたことを特徴とする車載用コンビネーションスイッチ。
【請求項２】
請求項１の記載において、前記スナップ片を前記スイッチボックスの略平行な一対の外壁にそれぞれ突設すると共に、前記係止孔を前記ハウジングの略平行な一対の壁部にそれぞれ開設したことを特徴とする車載用コンビネーションスイッチ。
【請求項３】
請求項１または２の記載において、前記スイッチボックスの挿入方向先端部に凹所を設け、この凹所内に前記弾性片を入り込ませたことを特徴とする車載用コンビネーションスイッチ。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項の記載において、前記スイッチボックスが前記ハウジングにスナップ結合されると、前記弾性片が、前記スイッチボックスの挿入方向先端部に対して前記スイッチボックスの挿入方向とは逆向きの付勢力を作用するように前記ハウジングに突設されることを特徴とする車載用コンビネーションスイッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月8日(2006.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
座席前方に設けられ、該座席側に向って開放する開口を有したリテーナと、
該リテーナ内に収納されたエアバッグと、
該エアバッグを膨張させるためのガス発生器と、
該開口を覆っており、該エアバッグが膨張するときに開き出すカバーと、
を有する乗員脚部保護装置であって、
該カバーにボルトを挿通させるためのボルト挿通孔が設けられ、
該ボルト挿通孔には、該ボルトを前面側から覆うためのキャップが装着されていることを特徴とする乗員脚部保護装置。
【請求項２】
請求項１において、前記カバーには、前面から凹陥する凹部が設けられ、該凹部の中央に前記ボルト挿通孔が設けられており、前記キャップは該凹部に該カバーの前面と面一状に装着されていることを特徴とする乗員脚部保護装置。
【請求項３】
請求項２において、前記キャップに設けられた爪により該キャップが該凹部に装着されていることを特徴とする乗員脚部保護装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、該カバーは前記リテーナよりも大きいものであり、
該カバーは、該リテーナの開口を覆う部分が開き出し可能部となっており、
該カバーの該開き出し可能部以外を該開口の周囲の内装パネルよりも高強度とする手段が設けられていることを特徴とする乗員脚部保護装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、カバーにボルト挿通孔が設けられ、このボルト挿通孔にキャップが装着された乗員脚部保護装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の乗員脚部保護装置は、座席前方に設けられ、該座席側に向って開放する開口を有したリテーナと、該リテーナ内に収納されたエアバッグと、該エアバッグを膨張させるためのガス発生器と、該開口を覆っており、該エアバッグが膨張するときに開き出すカバーと、を有する乗員脚部保護装置であって、該カバーにボルトを挿通させるためのボルト挿通孔が設けられ、該ボルト挿通孔には、該ボルトを前面側から覆うためのキャップが装着されていることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の乗員脚部保護装置によれば、カバー等を取り付けるためのボルトの頭部がキャップで覆われる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
このバックアップ部２５はボルト１８及びナット１８ａによってブラケット１９に留め付けられ、該ブラケット１９を介して車体側強度メンバに支承されている。バックアップ部２５には、このボルト１８を通すためのボルト挿通孔２０ｈが設けられている。ボルト１８の頭部は該孔２０ｈ内に配置され、且つ該孔２０ｈに装着されたキャップによってボルト１８の頭部が覆い隠されている。キャップの構成例については後述する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月14日(2006.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された固定金型と可動金型を有し、可動金型側の可動型板にバネを介して接続されているスライド盤を固定金型のパーティング面に対しバネ力で当接させ、金型内のキャビティに樹脂を供給した後に可動金型をさらに前進させ、スライド盤を貫通する状態で可動金型に設けられているコアーによってキャビティに充填された樹脂を圧縮し成形を行う圧縮成形方法において、
上記固定金型と上記可動金型との間に熱可塑性樹脂フィルムを配置し、キャビティ内の樹脂の一方面をその熱可塑性樹脂フィルムを介して上記コアーで圧縮することを特徴とする圧縮成形方法。
【請求項２】
上記熱可塑性樹脂フィルムとして厚さ２０〜２００μｍのポリエステルフィルムを使用する請求項１記載の圧縮成形方法。
【請求項３】
上記熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルムとし図柄が形成された転写フィルムを使用し、図柄を固定金型側に向けて位置決め配置し、金型内のキャビティに樹脂を供給し、キャビティに充填された樹脂の被加飾面を上記転写フィルムを介して上記コアーで圧縮し、図柄を上記被加飾面に転写する請求項１または２記載の圧縮成形方法。
【請求項４】
上記固定金型と可動金型の間に配置された上記熱可塑性樹脂フィルムまたは上記転写フィルムを上記コアーの圧縮面に吸着させた後、上記キャビティに樹脂を供給する請求項１〜３のいずれか１項に記載の圧縮成形方法。
【請求項５】
対向配置された固定金型と可動金型を有し、可動金型側の可動型板にバネを介して接続されているスライド盤を固定金型のパーティング面に対しバネ力で当接させ、金型内のキャビティに樹脂を射出した後に可動金型をさらに前進させ、スライド盤を貫通する状態で可動金型に設けられているコアーによってキャビティに充填された樹脂を圧縮し成形を行う圧縮成形装置において、
圧縮成形時にキャビティ内の樹脂の一方面と上記コアーとの間を熱可塑性樹脂フィルムによって仕切るように構成されていることを特徴とする圧縮成形装置。
【請求項６】
上記固定金型と上記可動金型との間に配置された上記熱可塑性樹脂フィルムを上記コアーの圧縮面に密着させるように、上記可動金型内に、上記コアー摺動部分の隙間に連通するとともに真空ポンプと接続される吸引通路が設けられている請求項５記載の圧縮成形装置。
【請求項７】
上記熱可塑性樹脂フィルムは帯状の樹脂フィルムからなり、ロールから巻き解かれて金型内を断続的に通過するように構成されている請求項５または６記載の圧縮成形装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明において、上記可動金型内に、上記コアー摺動部分の隙間に連通するとともに真空ポンプと接続される吸引通路を設ければ、上記固定金型と上記可動金型との間に配置された上記熱可塑性樹脂フィルムを上記コアーの圧縮面に密着させることができる。
本発明において、上記熱可塑性樹脂フィルムを帯状の樹脂フィルムで構成し、ロールから巻き解いて金型内を断続的に通過させるように構成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月11日(2007.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主索８の一方にかご９が吊持され、他方に釣合錘７が吊持されたエレベータの巻上機６及びこの巻上機を駆動する巻上電動機１０を制御する制御装置において、
上記制御装置は、上記かごの積載量Ｃを計測する秤装置１９と、上記秤装置によって計測された積載量と運転方向から負荷トルクを演算する負荷トルク演算装置２６と、上記かごの積載量Ｃに基づいて、かごの実速度Ｖａの最高速度Ｖｍを設定する最高速度設定装置２４とを備え、上記かごが上記巻上電動機に駆動されて実際に昇降するときの実速度Ｖａの内、定格積載量Ｃｏで上昇するときの最高速度Ｖｍを上記巻上機又は上記巻上電動機の能力から定められる実定格速度Ｖａｆで上記巻上電動機を制御すると共に、定格速度として呼称される呼称定格速度Ｖｒｔを上記実定格速度Ｖａｆに対して所定の範囲内で高くなるように設定し、上記かごの積載量Ｃが上記釣合錘と釣り合う平衡積載量Ｃｂ（＝Ｃｏ／２）を含む所定の平衡積載域（Ｃｂ1〜Ｃｂ２）内では、上記積載域内の実速度Ｖａの最高速度Ｖｍが上記呼称定格速度Ｖｒｔを基準に決まる許容限度を超えない範囲で上記呼称定格速度Ｖｒｔよりも高い平衡域速度Ｖａｔｔとなるように上記巻上電動機を制御し、かつ、上記平衡積載域外では、上記実速度Ｖａの上記最高速度Ｖｍが上記巻上機又は上記巻上電動機の能力から定められる速度となるように上記巻上電動機を制御するようにしたことを特徴とするエレベータの制御装置。
【請求項２】
呼称定格速度Ｖｒｔを実定格速度Ｖａｆの１１１％とし、平衡域速度Ｖａｔｔを上記呼称定格速度Ｖｒｔの１２５％とした請求項１に記載のエレベータの制御装置。
【請求項３】
主索８の一方にかご９が吊持され、他方に釣合錘７が吊持されたエレベータの巻上機６及びこの巻上機を駆動する巻上電動機１０を制御する制御装置において、既設のエレベータの少なくとも既設の巻上機は継続して使用することとし、上記巻上機を駆動する巻上電動機を制御する制御装置を既設制御装置から新設制御装置に取り替えるエレベータの改修方法であって、
上記新設制御装置は、上記かごの積載量Ｃを計測する秤装置１９と、上記秤装置によって計測された積載量と運転方向から負荷トルクを演算する負荷トルク演算装置２６と、上記かごの積載量Ｃに基づいて、かごの実速度Ｖａの最高速度Ｖｍを設定する最高速度設定装置２４とを備え、上記新設制御装置によるかごの実定格速度Ｖａｆを、上記既設制御装置による上記実定格速度Ｖａｆと同値となるように上記巻上電動機を制御すると共に、改修後のエレベータの呼称定格速度Ｖｒｔを上記実定格速度Ｖａｆよりも所定の範囲内で高くなるように改変し、上記かごの積載量Ｃが上記釣合錘と釣り合う平衡積載量Ｃｂ（＝Ｃｏ／２）を含む所定の平衡積載域（Ｃｂ1〜Ｃｂ２）内では、上記かごの上記積載域内の実速度Ｖａの最高速度Ｖｍが上記呼称定格速度Ｖｒｔを基準に設定された許容限度を超えない範囲で上記呼称定格速度Ｖｒｔよりも高い平衡域速度Ｖａｔｔで上記巻上電動機を制御し、かつ、上記平衡積載域外では、上記かごの上記実速度Ｖａの上記最高速度Ｖｍが上記巻上機又は上記巻上電動機の能力から定められる速度となるように上記巻上電動機を制御するようにしたことを特徴とするエレベータの改修方法。
【請求項４】
改修後のエレベータの呼称定格速度Ｖｒｔを実定格速度Ｖａｆの１１１％とし、平衡域速度Ｖａｔｔを上記呼称定格速度Ｖｒｔの１２５％とした請求項３に記載のエレベータの改修方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明に係るエレベータの制御装置は、主索８の一方にかご９が吊持され、他方に釣合錘７が吊持されたエレベータの巻上機６及びこの巻上機を駆動する巻上電動機１０を制御する制御装置において、上記制御装置は、上記かごの積載量Ｃを計測する秤装置１９と、上記秤装置によって計測された積載量と運転方向から負荷トルクを演算する負荷トルク演算装置２６と、上記かごの積載量Ｃに基づいて、かごの実速度Ｖａの最高速度Ｖｍを設定する最高速度設定装置２４とを備え、上記かごが上記巻上電動機に駆動されて実際に昇降するときの実速度Ｖａの内、定格積載量Ｃｏで上昇するときの最高速度Ｖｍを上記巻上機又は上記巻上電動機の能力から定められる実定格速度Ｖａｆで上記巻上電動機を制御すると共に、定格速度として呼称される呼称定格速度Ｖｒｔを上記実定格速度Ｖａｆに対して所定の範囲内で高くなるように設定し、上記かごの積載量Ｃが上記釣合錘と釣り合う平衡積載量Ｃｂ（＝Ｃｏ／２）を含む所定の平衡積載域（Ｃｂ1〜Ｃｂ２）内では、上記積載域内の実速度Ｖａの最高速度Ｖｍが上記呼称定格速度Ｖｒｔを基準に決まる許容限度を超えない範囲で上記呼称定格速度Ｖｒｔよりも高い平衡域速度Ｖａｔｔとなるように上記巻上電動機を制御し、かつ、上記平衡積載域外では、上記実速度Ｖａの上記最高速度Ｖｍが上記巻上機又は上記巻上電動機の能力から定められる速度となるように上記巻上電動機を制御するようにしたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、この発明に係るエレベータの改修方法は、主索８の一方にかご９が吊持され、他方に釣合錘７が吊持されたエレベータの巻上機６及びこの巻上機を駆動する巻上電動機１０を制御する制御装置において、既設のエレベータの少なくとも既設の巻上機は継続して使用することとし、上記巻上機を駆動する巻上電動機を制御する制御装置を既設制御装置から新設制御装置に取り替えるエレベータの改修方法であって、上記新設制御装置は、上記かごの積載量Ｃを計測する秤装置１９と、上記秤装置によって計測された積載量と運転方向から負荷トルクを演算する負荷トルク演算装置２６と、上記かごの積載量Ｃに基づいて、かごの実速度Ｖａの最高速度Ｖｍを設定する最高速度設定装置２４とを備え、上記新設制御装置によるかごの実定格速度Ｖａｆを、上記既設制御装置による上記実定格速度Ｖａｆと同値となるように上記巻上電動機を制御すると共に、改修後のエレベータの呼称定格速度Ｖｒｔを上記実定格速度Ｖａｆよりも所定の範囲内で高くなるように改変し、上記かごの積載量Ｃが上記釣合錘と釣り合う平衡積載量Ｃｂ（＝Ｃｏ／２）を含む所定の平衡積載域（Ｃｂ1〜Ｃｂ２）内では、上記かごの上記積載域内の実速度Ｖａの最高速度Ｖｍが上記呼称定格速度Ｖｒｔを基準に設定された許容限度を超えない範囲で上記呼称定格速度Ｖｒｔよりも高い平衡域速度Ｖａｔｔで上記巻上電動機を制御し、かつ、上記平衡積載域外では、上記かごの上記実速度Ｖａの上記最高速度Ｖｍが上記巻上機又は上記巻上電動機の能力から定められる速度となるように上記巻上電動機を制御するようにしたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月26日(2007.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロプロセッサ（１６）と、減磁回路（２２）と、通常モード及び低電力モードを有するスイッチモード電源とを包含する装置であって、
前記マイクロプロセッサ（１６）は同一の出力側（１９）を介して、制御信号（Ｕｃ）により前記低電力モード及び前記減磁回路（２２）を制御するために、前記スイッチモード電源及び前記減磁回路（２２）と接続されている装置において、
論理ＡＮＤ結合素子（２３，２４）を有し、該論理ＡＮＤ結合素子（２３，２４）には前記マイクロプロセッサ（１６）からの前記制御信号（Ｕｃ）が入力され、且つ電力オン指示信号（Ｕ４）が前記減磁回路（２２）を制御するために結合され、前記制御信号（Ｕｃ）を前記電力オン指示信号（Ｕ４）に依存して前記減磁回路（２２）に結合するために、前記電力オン指示信号（Ｕ４）は前記スイッチモード電源が通常モードにある場合のみ供給され、
前記制御信号（Ｕｃ）は、前記低電力モードにおいて前記スイッチモード電源のバーストモード動作を発生させるための矩形波信号であることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記マイクロプロセッサは前記低電力モード並びに前記減磁回路（２２）を制御するための単一ピン（１９）を包含する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記マイクロプロセッサ（１６）からの前記制御信号（Ｕｃ）と前記電力オン指示信号（Ｕ４）とは前記減磁回路（２２）を制御するためにＡＮＤゲートを介して結合される、請求項１または２記載の装置。
【請求項４】
前記電力オン指示信号（Ｕ４）は前記通常モードの間にのみ前記スイッチモード電源によって供給される供給電圧である、請求項１または３記載の装置。
【請求項５】
前記制御信号（Ｕｃ）の前記矩形波信号のデューティ率は低電力モードにおいて前記スイッチモード電源の切り替え周期を規定する、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
前記減磁回路（２２）を制御するための前記マイクロプロセッサ（１６）からの制御信号（Ｕｃ）は、前記スイッチモード電源が通常モードに切り替えられたときに受像管を減磁させるには十分な時間にわたる「イネーブル」信号である、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオ会議セッションと関連付けられたビデオ会議データを受け取ると共に前記ビデオ会議データをストレージメディアに保存できるフォーマットに変換するメディア管理サーバーと、ビデオ会議の間に発生するイベントを捉えるイベントデータベースと、前記保存されたビデオ会議データを解析して、前記イベントデータベースの捉えられたイベントを示すインデックスを挿入するメディア解析サーバーと、前記メディア管理サーバーとの接続を確立するメディア再生ユニットを有し、前記メディア再生ユニットは前記接続を維持しながら前記メディア管理サーバーから前記メディア再生ユニットに引き渡されるビデオストリームの位置制御を可能にすることを特徴とするビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項２】
前記ストレージメディアを有するストレージサーバーを有し、前記ストレージサーバーは保存されているビデオ会議データの検索を可能にするアプリケーションプログラミングインタフェース（ＡＰＩ）を提供することを特徴とする請求項１に記載のビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項３】
前記メディア管理サーバーは、ウェブサーバー、再生サービスモジュール、及びミーティングスケジュールサービスモジュールを有することを特徴とする請求項１に記載のビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項４】
前記ビデオ会議データは、POWERPOINTプレゼンテーション、ビデオ／音声クリップ、ラスタ／ベクトルイメージ、注釈、及びドキュメントファイルからなるグループから選択されたメディアを含むことを特徴とする請求項１に記載のビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項５】
前記捉えられたイベントは、ビデオ会議の開始、ビデオ会議の取消し、参加者の到着、参加者の退出、及びスライドプレゼンテーション変更からなるグループから選択されたビデオ会議イベントであることを特徴とする請求項１に記載のビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項６】
前記インデックスは前記捉えられたイベントの開始時点と関連付けられることを特徴とする請求項１に記載のビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項７】
前記メディア再生ユニットはメディアプレーヤーモジュールとメディアコントローラモジュールとを有し、前記メディアプレーヤーモジュールは前記保存されているビデオ会議データを表示スクリーンにレンダリングし、前記メディアコントローラは前記メディア管理サーバーから前記メディアプレーヤーモジュールに引き渡されるべきビデオストリームのセグメントを指示することを特徴とする請求項１に記載のビデオ会議データを再生するシステム。
【請求項８】
サーバーコンポーネントはビデオ会議セッションと関連付けられたビデオ／音声データ及びイベントを保存するメディアサーバーを有し、前記メディアサーバーは前記保存されたビデオ／音声データを解析して前記保存されたビデオ／音声データに前記イベントを識別するマーカーを挿入し、クライアントコンポーネントはクライアントモニターと通信するクライアントを有し、前記クライアントコンポーネントは前記メディアサーバーとの接続を確立するメディア再生ユニットを有し、前記メディア再生ユニットは前記接続を維持しながら前記メディアサーバーから前記メディア再生ユニットに引き渡される前記保存されたビデオ／音声データにより定義されるビデオストリームの位置の制御を可能にし、前記クライアントコンポーネントと前記サーバーコンポーネントとの間には、第１の経路と第２の経路が定義され、前記第１の経路によってビデオ会議中に前記クライアントコンポーネントと前記サーバーコンポーネントの会議終点との間でリアルタイムのビデオ／音声データが交換され、前記第２の経路によって前記クライアントモニターと前記サーバーコンポーネントとの間でシステム情報が交換されることを特徴とするビデオ会議システム。
【請求項９】
ビデオ会議プレゼンテーションと関連付けられたメディアフォーマットを一般的なフォーマットのビデオ会議データに変換するステップと、前記一般的なフォーマットのビデオ会議データを保存するステップと、前記保存されたビデオ会議データと関連付けられたイベントを識別するステップと、前記保持されたビデオ会議データにイベントを示すマーカーを挿入するステップと、前記マーカーに対応する前記保存されているビデオ会議データのセグメントを表示するステップとからなることを特徴とする保存されたビデオ会議データを表示する方法。
【請求項１０】
前記マーカーは前記イベントの開始タイムポジションに対応することを特徴とする請求項９に記載の保存されたビデオ会議データを表示する方法。
【請求項１１】
前記マーカーに対応する前記保存されているビデオ会議データのセグメントを表示するステップは、表示されている前記セグメントの各々に対して同じ接続を維持することを特徴とする請求項９に記載の保存されたビデオ会議データを表示する方法。
【請求項１２】
前記マーカーに対応する前記保存されているビデオ会議データのセグメントを表示するステップは、  表示されている前記保存されたビデオコンテンツの第１セグメントと関連付けられた場所から第２セグメントの開始位置への移動は、前記第１及び第２セグメントの接続を維持したまま進むことを特徴とする請求項９に記載の保存されたビデオ会議データを表示する方法。
【請求項１３】
前記保存されているビデオ会議データのセグメントを選択するステップをさらに有することを特徴とする請求項９に記載の保存されたビデオ会議データを表示する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陰極線管と、主電圧が供給される消磁回路を有するディスプレイ装置であって、
前記消磁回路は少なくとも１つのＰＴＣ抵抗（Ｒ１,Ｒ２；Ｒ）と、
少なくとも消磁コイル（ＤＧＣ；ＤＧＣ１, ＤＧＣ２）を有している形式のものにおいて、
前記主電圧を測定する電圧センサ回路（２；１２）と、
前記消磁回路のインピーダンスを前記主電圧に基づいて選択する、前記電圧センサ回路によってコントロールされる第１のスイッチ（６；１５、１７）とを有している、
ことを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第１のスイッチは選択的に、消磁回路内の第１のＰＴＣ抵抗（Ｒ１）または第２のＰＴＣ抵抗（Ｒ２）と接続される、請求項１記載のディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１のスイッチと前記消磁コイルの間に接続されている第２のスイッチを含み、
当該第２のスイッチが操作されて、前記第１のスイッチによって選択されたＰＴＣ抵抗と前記消磁コイルの接続が遅延させられる、請求項２記載のディスプレイ装置。
【請求項４】
メインスイッチを含み、
前記第２のスイッチが操作されて、ＰＴＣ抵抗と前記消磁コイルとの接続が、前記メインスイッチが起動された後に前記主電圧が安定するのに充分な時間遅延させられる、請求項３記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
前記消磁回路は、第１の消磁コイル（ＤＧＣ１）および第２の消磁コイル（ＤＧＣ２）を含み、
当該第１の消磁コイル（ＤＧＣ１）および第２の消磁コイル（ＤＧＣ２）は、前記主電圧に依存して選択的に直列または並列に接続される、請求項１記載のディスプレイ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
前述の課題は、陰極線管と、主電圧が供給される消磁回路を有するディスプレイ装置であって、前記消磁回路は少なくとも１つのＰＴＣ抵抗と、少なくとも消磁コイルを有している形式のものにおいて、前記主電圧を測定する電圧センサ回路と、前記消磁回路のインピーダンスを前記主電圧に基づいて選択する、前記電圧センサ回路によってコントロールされる第１のスイッチとを有している、ことを特徴とするディスプレイ装置によって解決される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月21日(2007.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  面積が相対的に広い主感光部と狭い従感光部とからなる感光部を有する画素を多数配列した固体撮像素子を用い、主感光部からの出力データと従感光部からの出力データとを合成して撮影画像を生成する撮像装置において、
主感光部からの出力データと従感光部からの出力データとの合成比率をユーザーの操作により任意に設定できる操作手段を設けたことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】  前記固体撮像素子への入射光量を算出する入射光量算出手段と、
算出された入射光量に応じて前記合成比率の設定可能範囲を算出するデータ比設定手段とを備えることを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】 前記入射光量算出手段は、前記従感光部からの出力データの輝度信号を積分することにより、前記入射光量を算出することを特徴とする請求項２記載の撮像装置。
【請求項４】 前記設定可能範囲を表示する第一表示手段を備えることを特徴とする請求項２または３記載の撮像装置。
【請求項５】 前記操作手段は、前記設定可能範囲内でのみ前記合波比率の設定が可能であることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか記載の撮像装置。
【請求項６】 前記操作手段は、前記設定可能範囲、および前記設定可能範囲以外の前記合波比率の設定が可能であることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか記載の撮像装置。
【請求項７】  前記操作手段による合成比率の設定変更に応じてその都度設定された合成比率による画像合成を行う画像合成処理手段を備えることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか記載の撮像装置。
【請求項８】 前記画像合成処理手段で合成された画像を表示する第二表示手段を備えることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか記載の撮像装置。
【請求項９】 前記操作手段で設定された合波比率を表示する第三表示手段を備えることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか記載の撮像装置。
【請求項１０】 前記操作手段で設定された合波比率を保存する保存手段を備えることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第一の画像と第二の画像との互いに対応する座標点における画像信号を差分処理して差分画像を生成する差分画像生成手段と、
前記差分画像を表示する際に、差分画像の表示方法を選択する選択手段と、
前記選択手段で選択された表示方法で、前記差分画像を表示する表示手段と、を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】  前記表示方法は、前記差分画像全体を表示する方法、前記差分画像の基準値以上の画素値を示す画素領域を表示する方法、及び前記差分画像の基準値以下の画素値を示す画素領域を表示する方法のうちのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】  前記基準値は、前記差分画像のヒストグラムの中で最も頻度の高い値を示す画素値であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】  前記差分画像全体を表示する方法、前記差分画像の基準値以下の画素値を示す画素領域を表示する方法、前記差分画像の基準値以上の画素値を示す画素領域を表示する方法は、それぞれ、全ての陰影を表示する方法、陰影増大のみを表示する方法、陰影消去のみを表示する方法に対応することを特徴とする請求項２又は３に記載の画像処理装置。
【請求項５】  前記表示手段は、差分画像の階調変換処理方法を前記選択手段での選択に応じて選択し、選択した階調変換処理方法で前記差分画像を階調変換処理することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】  差分画像生成手段が、第一の画像と第二の画像との互いに対応する座標点における画像信号を差分処理して差分画像を生成する差分画像生成工程と、
選択手段が、前記差分画像を表示する際に、差分画像の表示方法を選択する選択工程と、
表示手段が、前記選択工程で選択された表示方法で、前記差分画像を表示する表示工程と、を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項７】  コンピュータを、
第一の画像と第二の画像との互いに対応する座標点における画像信号を差分処理して差分画像を生成する差分画像生成手段と、
前記差分画像を表示する際に、差分画像の表示方法を選択する選択手段と、
前記選択手段で選択された表示方法で、前記差分画像を表示する表示手段と、として機能させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の画像処理装置は、第一の画像と第二の画像との互いに対応する座標点における画像信号を差分処理して差分画像を生成する差分画像生成手段と、前記差分画像を表示する際に、差分画像の表示方法を選択する選択手段と、前記選択手段で選択された表示方法で、前記差分画像を表示する表示手段と、を備えることを特徴とする。
本発明の画像処理方法は、差分画像生成手段が、第一の画像と第二の画像との互いに対応する座標点における画像信号を差分処理して差分画像を生成する差分画像生成工程と、選択手段が、前記差分画像を表示する際に、差分画像の表示方法を選択する選択工程と、表示手段が、前記選択工程で選択された表示方法で、前記差分画像を表示する表示工程と、を備えることを特徴とする。
本発明のコンピュータプログラムは、コンピュータを、第一の画像と第二の画像との互いに対応する座標点における画像信号を差分処理して差分画像を生成する差分画像生成手段と、前記差分画像を表示する際に、差分画像の表示方法を選択する選択手段と、前記選択手段で選択された表示方法で、前記差分画像を表示する表示手段と、として機能させることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、読影の指標となる陰影変化をより観察し易くすることができるとともに、経過観察における判断を行い易くすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月27日(2007.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板ホルダで、この基板を押え込むための保持力を与えるための手段を備えるホルダ、
前記基板を前記保持力に抗して前記基板ホルダから解放するために解放力を加えるための解放手段、
このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム、および
最終解放の直前に弱めた解放力を加えるための制御装置、
を含むリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記制御装置は、前記解放力が最終解放において最大解放力の７０％未満であるように、前記解放力を制御するように構成されている請求項１に記載されたリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
前記制御装置は、前記解放手段の事前設定解放高さに比例して前記解放力を制御するように構成されている請求項２に記載されたリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
前記解放力を最大撓み角２ｍｒａｄになるように選択する請求項１から請求項３までの何れか一項に記載されたリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
２００ｍｍ基板に対する所定の解放高さが１．０ｍｍ未満、好ましくは０．５ｍｍ未満である請求項３または請求項４に記載されたリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
前記基板ホルダが摩耗エネルギーを吸収するための保護リムを含む請求項１から請求項５までの何れか一項に記載されたリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記基板ホルダが複数の突起を含み、それらの先端が実質的に平坦な基板を支持するための実質的に平坦な支持平面を形成する請求項１から請求項６までの何れか一項に記載されたリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板ホルダで、この基板を押え込むための保持力を与えるための手段を備えるホルダ、
前記基板を前記保持力に抗して前記基板ホルダから解放するために解放力を加えるための解放手段、および
このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム、
を含み、
前記基板ホルダが摩耗エネルギーを吸収するための保護リムを含む、
投影装置。
【請求項９】
少なくとも部分的に放射線感応性材料の層で覆われた基板を用意する工程、
前記基板を基板ホルダに押え込むための保持力を用意する工程、
放射線システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程、
この投影ビームの断面にパターンを付けるためにパターニング手段を使う工程、
この放射線のパターン化したビームをこの放射線感応性材料の層の目標部分上に投影する工程、
前記基板を前記保持力に抗して前記基板ホルダから解放するように解放力を加える工程、および
最終解放の直前に前記解放力が弱まるように、前記解放力の印加を制御する工程、
を含むデバイス製造方法。
【請求項１０】
前記解放力を加えることに使用される解放手段の事前設定解放高さに比例して前記解放力の印加を制御する工程をさらに含む請求項９に記載された方法。
【請求項１１】
前記解放力および／または前記解放高さを処理中に反復する方法で決める請求項１０に記載された方法。
【請求項１２】
前記解放力および／または前記解放高さを最近処理中に加えた解放力および／または解放高さに基づいて決める請求項１０または請求項１１に記載されたデバイス製造方法。
【請求項１３】
少なくとも部分的に放射線感応性材料の層で覆われた基板を用意する工程、
前記基板を基板ホルダに押え込むための保持力を用意する工程、
放射線システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程、
該投影ビームの断面にパターンを付けるためにパターニング手段を使う工程、
この放射線のパターン化したビームをこの放射線感応性材料の層の目標部分上に投影する工程、
前記基板を前記保持力に抗して前記基板ホルダから解放するように解放力を加える工程、および
前記解放力および／または解放高さを処理中に反復する方法で決める工程、を含むデバイス製造方法。
【請求項１４】
前記解放力および／または前記解放高さを最近処理中に加えた解放力および／または解放高さに基づいて決める請求項１３に記載のデバイス製造方法。
【請求項１５】
後のリソグラフィプロセスにおいて基板のバッチが基板ホルダから取り出されるバッチ処理において、
最新の結果の平均解放力に基づいて基板を排出する排出ルーチンをさらに含む請求項１３または請求項１４に記載されたデバイス製造方法。
【請求項１６】
最後の所定数の解放力の統計的平均値が、後の解放力を決定するのに使用される請求項１３または請求項１４に記載されたデバイス製造方法。
【請求項１７】
平均を超える解放力が後の反復工程において加えられる請求項１６に記載されたデバイス製造方法。
【請求項１８】
前記平均を超える解放力は事前設定最大解放力である請求項１７に記載されたデバイス製造方法。
【請求項１９】
最終解放の直前に弱められた解放力を加えることに適用される請求項１３または請求項１４に記載されたデバイス製造方法。
【請求項２０】
前記基板ホルダの保護リムを用いて摩耗エネルギーを吸収する工程をさらに含む請求項１３または請求項１４に記載されたデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月26日(2006.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物半導体（ＭＯＳ）デバイスであって、
第１の導電型の半導体層と、
前記半導体層内に形成された第２の導電型の第１のソース／ドレイン領域と、
前記半導体層内に形成され、かつ前記第１のソース／ドレイン領域から離隔された第２の導電型の第２のソース／ドレイン領域と、
前記半導体層の上側表面の近縁に、かつ前記第１と第２のソース／ドレイン領域の間に少なくとも部分的に形成され、互いに離隔された複数の区画を有する第１のゲートと、
前記半導体層の上側表面の近縁に形成された第２のゲートであって、第２のゲートが前記第１のゲートの複数の区画のうちの少なくとも２つの間に形成された第１の端部および前記第１の端部の反対側にあって前記第１のゲートの少なくとも一部分の上に形成された第２の端部を有し、前記第２の端部が前記第１の端部よりも広く、前記第１と第２のゲートが互いに電気的に分離された第２のゲートとを含むデバイス。
【請求項２】
前記第１のゲートに印加される第１の周波数範囲の第１の信号に応答して前記第１と第２のソース／ドレイン領域の間にチャネルが形成されるように構成され、前記チャネルが前記第２のゲートに印加される第２の周波数範囲の第２の信号に応答して少なくとも部分的に調節される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記第１のソース／ドレイン領域が前記デバイスのソースであり、前記第２のソース／ドレイン領域が前記デバイスのドレインである、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
拡散型ＭＯＳ（ＤＭＯＳ）デバイスを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記第１のゲートの下で第１の厚さを有し、前記第２のゲートの第１の端部の下で第２の厚さを有する前記第１と第２のゲートの下に絶縁層が形成され、前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも小さい、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記第２のゲートがＴ字構造を含み、前記Ｔ字構造の基部の少なくとも一部分が前記第１のゲートの複数の区画のうちの少なくとも２つの間に形成される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記第２の周波数範囲が前記第１の周波数範囲よりも実質的に高い、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記第２のゲートが逆Ｌ字構造を含み、前記逆Ｌ字構造の基部の少なくとも一部分が前記第１のゲートの複数の区画のうちの少なくとも２つの間に形成される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
少なくとも１つの金属酸化物半導体（ＭＯＳ）デバイスを含む集積回路であって、前記少なくとも１つのＭＯＳデバイスが、
第１の導電型の半導体層と、
前記半導体層内に形成された第２の導電型の第１のソース／ドレイン領域と、
前記半導体層内に形成され、かつ前記第１のソース／ドレイン領域から離隔された第２の導電型の第２のソース／ドレイン領域と、
前記半導体層の上側表面の近縁に、かつ前記第１と第２のソース／ドレイン領域の間に少なくとも部分的に形成され、互いに離隔された複数の区画を有する第１のゲートと、
前記半導体層の上側表面の近縁に形成された第２のゲートであって、第２のゲートが前記第１のゲートの複数の区画のうちの少なくとも２つの間に形成された第１の端部および前記第１の端部の反対側にあって前記第１のゲートの少なくとも一部分の上に形成された第２の端部を有し、前記第２の端部が前記第１の端部よりも広く、前記第１と第２のゲートが互いに電気的に分離された第２のゲートとを含む集積回路。
【請求項１０】
金属酸化物半導体（ＭＯＳ）デバイスを形成する方法であって、
半導体層の上側表面の近縁で、互いに離隔された複数の第１のゲート構造を含む第１のゲートを形成する工程と、
前記半導体層の上側表面の近縁で少なくとも第２のゲートを形成する工程であって、前記第２のゲートが前記複数の第１のゲート構造のうちの少なくとも２つの間に形成された第１の端部および前記第１の端部の反対側にあって前記第１のゲートの少なくとも一部分の上に形成された第２の端部を有し、前記第２の端部が前記第１の端部よりも広くなるように前記第２のゲートが構成され、前記第１のゲートと前記第２のゲートが互いに電気的に分離された工程と、
前記第１と第２のゲートの近縁で前記半導体層内に第１と第２のソース／ドレイン領域を形成する工程とを含む方法。