【手続補正書】
【提出日】平成19年9月25日(2007.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に所定の処理を行う基板処理装置と露光装置との間に配置される基板乾燥装置であって、
前記露光装置による露光処理後に基板の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットを含む乾燥処理部と、
前記基板処理装置と前記乾燥処理部との間で基板の受け渡しを行うための第１の受け渡し部と、
前記乾燥処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための第２の受け渡し部とを備えることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項２】
前記乾燥処理ユニットは、基板の乾燥処理前にさらに基板の洗浄処理を行うことを特徴とする請求項１記載の基板乾燥装置。
【請求項３】
前記乾燥処理ユニットは、
基板を略水平に保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板上に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液供給手段により基板上に洗浄液が供給された後に基板上に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを備えることを特徴とする請求項２記載の基板乾燥装置。
【請求項４】
前記不活性ガス供給手段は、前記洗浄液供給手段により基板上に供給された洗浄液が基板上の中心部から外方へ移動することにより基板上から排除されるように不活性ガスを供給することを特徴とする請求項３記載の基板乾燥装置。
【請求項５】
前記乾燥処理ユニットは、前記洗浄液供給手段により洗浄液が供給された後であって前記不活性ガス供給手段により不活性ガスが供給される前に、基板上にリンス液を供給するリンス液供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項３記載の基板乾燥装置。
【請求項６】
前記不活性ガス供給手段は、前記リンス液供給手段により基板上に供給されたリンス液が基板上の中心部から外方へ移動することにより基板上から排除されるように不活性ガスを供給することを特徴とする請求項５記載の基板乾燥装置。
【請求項７】
前記乾燥処理部は、前記露光装置による露光処理前に基板の洗浄処理を行う洗浄処理ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の基板乾燥装置。
【請求項８】
前記洗浄処理ユニットは、基板の洗浄処理後にさらに基板の乾燥処理を行うことを特徴とする請求項７記載の基板乾燥装置。
【請求項９】
前記洗浄処理ユニットは、
基板を略水平に保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板上に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液供給手段により基板上に洗浄液が供給された後に基板上に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを備えることを特徴とする請求項８記載の基板乾燥装置。
【請求項１０】
前記不活性ガス供給手段は、前記洗浄液供給手段により基板上に供給された洗浄液が基板上の中心部から外方へ移動することにより基板上から排除されるように不活性ガスを供給することを特徴とする請求項９記載の基板乾燥装置。
【請求項１１】
前記洗浄処理ユニットは、前記洗浄液供給手段により洗浄液が供給された後であって前記不活性ガス供給手段により不活性ガスが供給される前に、基板上にリンス液を供給するリンス液供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項９記載の基板乾燥装置。
【請求項１２】
前記不活性ガス供給手段は、前記リンス液供給手段により基板上に供給されたリンス液が基板上の中心部から外方へ移動することにより基板上から排除されるように不活性ガスを供給することを特徴とする請求項１１記載の基板乾燥装置。
【請求項１３】
前記乾燥処理部は、前記第１の受け渡し部、前記洗浄処理ユニット、前記第２の受け渡し部および前記乾燥処理ユニットの間で基板を搬送する第１の搬送ユニットをさらに含み、
前記第１の搬送ユニットは、基板を保持する第１および第２の保持手段を含み、
前記第１の受け渡し部から前記洗浄処理ユニットへ基板を搬送する際、前記洗浄処理ユニットから前記第２の受け渡し部へ基板を搬送する際、および前記乾燥処理ユニットから前記第１の受け渡し部へ基板を搬送する際には、前記第１の保持手段により基板を保持し、
前記第２の受け渡し部から前記乾燥処理ユニットへ基板を搬送する際には、前記第２の保持手段により基板を保持することを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載の基板乾燥装置。
【請求項１４】
前記第２の保持手段は前記第１の保持手段より下方に設けられることを特徴とする請求項１３記載の基板乾燥装置。
【請求項１５】
前記第２の受け渡し部は、前記乾燥処理部と前記露光装置との間で基板を搬送する第２の搬送ユニットを含み、
前記第２の搬送ユニットは、基板を保持する第３および第４の保持手段を含み、
前記露光装置による露光処理前の基板を搬送する際には前記第３の保持手段により基板を保持し、
前記露光装置による露光処理後の基板を搬送する際には前記第４の保持手段により基板を保持することを特徴とする請求項１〜１４記載の基板乾燥装置。
【請求項１６】
前記第４の保持手段は前記第３の保持手段より下方に設けられることを特徴とする請求項１５記載の基板乾燥装置。
【請求項１７】
露光装置に隣接するように配置される基板処理システムであって、
基板に所定の処理を行うための基板処理装置と、
前記基板処理装置と前記露光装置との間に配置される請求項１〜１６のいずれかに記載の基板乾燥装置とを備えることを特徴とする基板処理システム。
【請求項１８】
前記基板処理装置は、基板に感光性材料からなる感光性膜を形成する感光性膜形成ユニットを含むことを特徴とする請求項１７記載の基板処理システム。
【請求項１９】
前記基板処理装置は、前記感光性膜を保護する保護膜を形成する保護膜形成ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１８記載の基板処理システム。
【請求項２０】
前記基板処理装置は、前記露光装置による露光処理後に前記保護膜を除去する除去ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１９記載の基板処理システム。
【請求項２１】
前記基板処理装置は、前記感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成前に基板に反射防止膜を形成する反射防止膜形成ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１８〜２０のいずれかに記載の基板処理システム。
【請求項２２】
前記基板処理装置は、基板の現像処理を行う現像処理ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１８〜２１のいずれかに記載の基板処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
近年、デバイスの高密度化および高集積化に伴い、レジストパターンの微細化が重要な課題となっている。従来の一般的な露光装置においては、レチクルのパターンを投影レンズを介して基板上に縮小投影することによって露光処理が行われていた。しかし、このような従来の露光装置においては、露光パターンの線幅は露光装置の光源の波長によって決まるため、レジストパターンの微細化に限界があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
第２の受け渡し部は、乾燥処理部と露光装置との間で基板を搬送する第２の搬送ユニットを含み、第２の搬送ユニットは、基板を保持する第３および第４の保持手段を含み、露光装置による露光処理前の基板を搬送する際には第３の保持手段により基板を保持し、露光装置による露光処理後の基板を搬送する際には第４の保持手段により基板を保持してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
第２の回動モータ６７１により第２の回動軸６７２が回転するとともに第２のアーム６７３が回動し、乾燥処理用ノズル６７０がスピンチャック６２１により保持された基板Ｗの上方に移動する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2007012997.tif 000001