【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主電極膜と第１対向電極膜とで挟まれた第１圧電体薄膜と、第２主電極膜と第２対向電極膜とで挟まれた第２圧電体薄膜とが、前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とを対向させ、かつ前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とを物理的および電気的に接続した構造体と、
前記構造体の厚み部分の外周領域を覆う絶縁層とを有し、
前記第１主電極膜は前記第１圧電体薄膜よりも一部延長した第１主電極膜突出部を有し、前記第１主電極膜突出部上の前記絶縁層に第１開口部を形成し、前記第１開口部を介して前記第１主電極膜突出部と前記第２主電極膜とを接続した第１接続配線が配置された構成を有することを特徴とする薄膜圧電体素子。
【請求項２】
前記第１接続配線が前記構造体の前記第２主電極膜側の表面に配置された構成を有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項３】
第１主電極膜と第１対向電極膜とで挟まれた第１圧電体薄膜と、第２主電極膜と第２対向電極膜とで挟まれた第２圧電体薄膜とが、前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とを対向させ、前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とを物理的および電気的に接続した構造体と、
前記構造体の厚み部分の外周領域を覆う絶縁層とを有し、
電極取り出し領域の前記第１主電極膜は前記第１圧電体薄膜よりも一部延長した第１主電極膜突出部を有し、前記第１主電極膜突出部上の前記絶縁層に形成された第１開口部を介して前記第１主電極膜突出部と前記第２主電極膜とを接続する第１接続配線が配置され、かつ、
前記電極取り出し領域の前記第２主電極膜、前記第２圧電体薄膜および前記第２対向電極膜の幅は前記第１対向電極膜の幅より狭く形成されて前記第１対向電極膜上に前記絶縁層が積層された領域を有し、前記領域の前記第１対向電極膜上の前記絶縁層に形成された第２開口部を介して前記第１対向電極膜と電気的に接続された第２接続配線が配置された構成を有することを特徴とする薄膜圧電体素子。
【請求項４】
前記第１接続配線と前記第２接続配線とが前記構造体の前記第２主電極膜側の同じ表面にまでそれぞれ延長して配置された構成を有することを特徴とする請求項３に記載の薄膜圧
電体素子。
【請求項５】
一対の素子部があらかじめ設定した設定間隔を保持して平面上に配置された構成からなり、一対の前記素子部の圧電体として作用する圧電機能領域が前記設定間隔の中心線に対して鏡面対称形状を有し、かつ前記素子部間は前記設定間隔の一部において前記素子部を構成する材料のうちの少なくとも１種類により連結された連結部を含み、
一対の前記素子部のそれぞれは、
第１主電極膜と第１対向電極膜とで挟まれた第１圧電体薄膜と、第２主電極膜と第２対向電極膜とで挟まれた第２圧電体薄膜とが、前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とを対向させ、かつ前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とを物理的および電気的に接続した構造体と、
前記構造体の厚みに沿った外周領域を覆う絶縁層とを含み、
電極取り出し領域の前記第１主電極膜は前記第１圧電体薄膜よりも一部延長した第１主電極膜突出部を有し、前記第１主電極膜突出部上の前記絶縁層に形成された第１開口部、および前記電極取り出し領域の前記第２主電極膜、前記第２圧電体薄膜および前記第２対向電極膜の幅を前記第１対向電極膜の幅より狭く形成して前記第１対向電極膜上に前記絶縁層が形成された領域部を設け、前記領域部の前記第１対向電極膜上の前記絶縁層に形成された第２開口部のうち、少なくともどちらか一方を設け、
前記第１開口部または前記第２開口部を介して、前記第１対向電極膜または第１主電極膜と接続し、表面層まで引き出された接続配線を有することを特徴とする薄膜圧電体素子。
【請求項６】
前記連結部は前記絶縁層により形成され、前記構造体には前記第１開口部と前記第２開口部とが形成され、
前記接続配線は、前記第１開口部を介して前記第１主電極膜突出部と前記第２主電極膜とを接続する第１接続配線と、前記第２開口部を介して前記領域部の前記第１対向電極膜と接続して表面層まで引き出された第２接続配線とからなることを特徴とする請求項５に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項７】
前記連結部は少なくとも前記第１対向電極膜と前記第１圧電体薄膜とにより形成され、前記構造体には前記第１開口部と、前記素子部に共通して１個設けられた前記第２開口部とが形成され、
前記接続配線は、前記第１開口部を介して前記第１主電極膜突出部と前記第２主電極膜とを接続する第１接続配線と、前記第２開口部を介して前記領域部の前記第１対向電極膜と接続して表面層まで引き出された第２接続配線とからなることを特徴とする請求項５に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項８】
前記連結部は少なくとも前記第１対向電極膜と前記第１圧電体薄膜とにより形成され、前記構造体には前記第１主電極膜突出部上の前記絶縁層に前記第１の開口部が形成され、
前記接続配線は、前記第１の開口部を介して前記第１主電極膜突出部と前記第２主電極膜とを接続した構成からなることを特徴とする請求項５に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項９】
前記連結部は、前記第１主電極膜、前記第１圧電体薄膜、前記第２主電極膜および前記第２圧電体薄膜により形成され、前記構造体には前記第１対向電極膜突出部上の前記絶縁層に前記第２開口部が形成され、
前記接続配線は、前記第２開口部を介して前記第１対向電極膜突出部から表面層まで引き出した構成を有することを特徴とする請求項５に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項１０】
前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とは導電性の接着層により物理的および電気的な接続が行なわれていることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれかに記載の薄膜圧電体素子。
【請求項１１】
前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とは二層以上からなり、それぞれの上層膜が金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）および銅（Ｃｕ）からなる第１の群と、スズ（Ｓｎ）、カドミウム（ｃｄ）、金含有スズ合金および金含有カドミウム合金からなる第２群とからそれぞれ任意に選択した組み合せとし、前記導電性の接着層は前記上層膜同士が合金化することにより形成されることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項１２】
前記第１対向電極膜と前記第２対向電極膜とは二層以上からなり、それぞれの上層膜がハンダ、またはハンダとこのハンダを構成する材料の少なくとも１種類からなり、前記導電性の接着層は前記上層膜同士が溶融一体化することにより形成されることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項１３】
前記導電性の接着層は、導電性の粒子と接着性を有する結着材とを含む樹脂ペーストまたは導電性高分子で構成される接着剤からなることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜圧電体素子。
【請求項１４】
支持部材と、
前記支持部材上に配置され、それぞれが逆方向に伸縮動作する一対の薄膜圧電体素子を含み、
前記一対の薄膜圧電体素子が請求項５から請求項９までのいずれかに記載の構成からなることを特徴とするアクチュエータ。
【請求項１５】
ディスク状の記録媒体と、
前記記録媒体に記録と再生の少なくとも一方を行なうヘッドと、
前記ヘッドを前記記録媒体の所定位置に位置決めする第１の位置決め手段と第２の位置決め手段とを有し、
前記第１の位置決め手段は前記ヘッドが取り付けられた支持部材を保持するアームを回転させる駆動手段であり、
前記第２の位置決め手段は前記支持部材とこの支持部材上に取り付けられた一対の薄膜圧電体素子とからなるアクチュエータであり、前記アクチュエータが請求項１４に記載の構成からなることを特徴とするディスク装置。