【手続補正書】
【提出日】平成19年2月6日(2007.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶化に用いられる結晶化用基板であって、
基材の表面が液体に非親和性を示す有機分子膜で被覆され、且つ、前記基材表面と前記有機分子膜とは共有結合によって結合していることを特徴とする結晶化用基板。
【請求項２】
前記有機分子膜と前記基材表面との間で形成される共有結合が、シロキサン結合（−ＳｉＯ−）および−ＳｉＮ−結合から選択される少なくとも一つの結合であることを特徴とする請求項１に記載の結晶化用基板。
【請求項３】
前記結晶化用基板の表面が微細な凹凸形状を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の結晶化用基板。
【請求項４】
前記有機分子膜が単分子膜、単分子累積膜又は隣接結合分子膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の結晶化用基板。
【請求項５】
前記有機分子膜が、下記化学式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選択される式で示される少なくとも１種の有機分子又はその誘導体から形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか1項に記載の結晶化用基板。
Ｆ（ＣＦ2）m（ＣＨ2）nＳｉＲqＸ3-q            ・・・（１）
Ｆ（ＣＦ2）r（ＣＨ2）SＡ（ＣＨ2）PＳｉＲqＸ3-q ・・・（２）
Ｈ（ＣＨ2）m（ＣＨ2）nＳｉＲqＸ3-q             ・・・（３）
Ｈ（ＣＨ2）r（ＣＨ2）SＡ（ＣＨ2）PＳｉＲqＸ3-q  ・・・（４）
（前記式（１）および（３）において、ｍは１〜１５の整数、ｎは０〜１５の整数、「ｍ+ｎ」は５〜３０の整数、ｑは０〜２の整数であり、Ｘは、ハロゲン、アルコキシまた
はイソシアンであり、Ｒは水素または炭化水素である。
前記式（２）および（４）において、ｒは１〜８の整数、ｓは０〜２の整数、ｐは５〜２５の整数、ｑは０〜２の整数、「ｒ＋ｓ」は１〜１０の整数であり、Ａは、酸素原子（-O-）、オキシカルボニル基（-COO-）またはジメチルシリル基（-Si(CH3)2-）であり、Ｘは、ハロゲン、アルコキシまたはイソシアンであり、Ｒは水素または炭化水素である。）
【請求項６】
前記有機分子が、下記（１１）〜（４４）式で表される少なくとも１種の有機分子から選択されることを特徴とする請求項５に記載の結晶化用基板。
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                       ・・・（１１）
Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3              ・・・（１２）
ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（１３）
Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3    ・・・（１４）
Ｆ（ＣＦ2）8Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3            ・・・（１５）
ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3          ・・・（１６）
ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（１７）
ＣＨ3（ＣＨ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                       ・・・（１８）
Ｈ（ＣＨ2）4（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3              ・・・（１９）
ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                         ・・・（２０）
Ｈ（ＣＨ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3    ・・・（２１）
Ｈ（ＣＨ2）8Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3             ・・・（２２）
ＣＨ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3         ・・・（２３）
ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（２４）
ＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3                                ・・・（２５）
ＣＨ3（ＣＨ2）18ＳｉＣｌ3                                ・・・（２６）
ＣＦ3（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3                                 ・・・（２７）
ＣＨ3（ＣＨ2)9ＳｉＢｒ3                                  ・・・（２８）
ＣＦ3（ＣＨ2）6ＳｉＢｒ3                                 ・・・（２９）
ＣＨ3（ＣＨ2）9ＳｉＨ2Ｃｌ                              ・・・（３０）
ＣＨ3（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）                  ・・・（３１）
ＣＦ2Ｈ（ＣＦ2）2（ＣＨ2）2ＳｉＨ2Ｃｌ                    ・・・（３２）
ＣＦ3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3         ・・・（３３）
ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3 ・・・（３４）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3 ・・・（３５）
ＣＦ3（ＣＦ2）7Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3          ・・・（３６）
ＣＦ3（ＣＦ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）                 ・・・（３７）
ＣＦ3（ＣＦ2）6ＳｉＣｌ3                                ・・・（３８）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3                 ・・・（３９）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＢｒ3                       ・・・（４０）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＮ）3                  ・・・（４１）
ＣＦ3（ＣＦ2）6ＳｉＨ2Ｃｌ                              ・・・（４２）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＨ2Ｃｌ                      ・・・（４３）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）        ・・・（４４）
【請求項７】
前記基材の表面が微細な凹凸形状であることによって、結晶化用基板の表面が微細な凹凸形状となっている請求項３に記載の結晶化用基板。
【請求項８】
前記基材の表面に金属酸化物微粒子が存在することにより、結晶化用基板の表面が微細な凹凸形状となっている請求項３に記載の結晶化用基板。
【請求項９】
表面粗さが、０．００３〜５００μｍの範囲である請求項１〜８のいずれか１項に記載の結晶化用基板。
【請求項１０】
前記結晶化用基板の表面に液滴の転がり防止用の凹部が少なくとも１つ設けられていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の結晶化用基板。
【請求項１１】
前記基材の材質が、ガラス、シリコン、雲母、金属および樹脂からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の結晶化用基板。
【請求項１２】
結晶化用基板に対する水の接触角が１２０度以上１８０度未満であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか1項に記載の結晶化用基板。
【請求項１３】
高分子の結晶化に使用することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の結晶化用基板。
【請求項１４】
前記高分子がタンパク質であることを特徴とする請求項１３に記載の結晶化用基板。
【請求項１５】
表面に活性水素を有する基材の表面または表面に活性水素が付与された基材の表面に、
一方の末端に前記基材表面と共有結合を形成可能な末端結合官能基を含み、他方の末端に、液体に非親和性の特性を示す官能基を含む有機分子を接触させ、
前記有機分子の末端結合官能基と前記基材表面の活性水素とを反応させて共有結合を形成させることにより、前記基材表面に前記液体に非親和性を示す有機分子膜を形成させることを特徴とする結晶化用基板の製造方法。
【請求項１６】
前記結晶化用基板の表面が、微細な凹凸形状を有することを特徴とする請求項１５記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項１７】
前記有機分子膜が単分子膜、単分子累積膜又は隣接結合有機分子膜であることを特徴とする請求項１５記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項１８】
表面に微細な凹凸形状を有する基材を用いて、結晶化用基板の表面に微細な凹凸形状を形成させることを特徴とする請求項１５に記載の結晶化用基板。
【請求項１９】
金属酸化物微粒子と有機分子とを含有する化学吸着液を基材の表面に塗布し、前記基材表面の活性水素及び前記金属酸化物微粒子表面の活性水素と前記有機分子の末端結合官能基とを反応させて共有結合を形成させるとともに、前記有機分子同士の末端結合官能基同士を反応させて共有結合を形成させることにより前記基材表面及び前記金属酸化物微粒子表面に液体に非親和性を示す有機分子膜を形成させることを特徴とする請求項１５記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２０】
雰囲気中に含まれる水蒸気量が６．８０ｇ／ｍ３未満の条件下で前記基材の表面と前記有機分子とを接触させることにより、結晶化用基板の表面に単分子膜又は単分子累積膜を形成させることを特徴とする請求項１７に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２１】
雰囲気中に含まれる水蒸気量が６．８０ｇ／ｍ３以上の条件下で隣接結合有機分子膜を形成させることを特徴とする請求項１７に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２２】
結晶化用基板の表面粗さが、０．００３〜５００μｍの範囲である請求項１５に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２３】
前記基材の材質が、ガラス、シリコン、雲母、金属および樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１５〜２２のいずれか１項に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２４】
前記有機分子膜が、化学吸着法により形成されることを特徴とする請求項１５〜２３のいずれか１項に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２５】
前記有機分子の末端結合官能基が、ハロゲン化シリル基、アルコキシシリル基またはイソシアネートシリル基であり、前記末端結合官能基と前記基材表面の活性水素との反応が、脱ハロゲン化水素反応、脱アルコール反応または脱イソシアネート反応であることを特徴とする請求項１５〜２４のいずれか１項に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２６】
前記末端結合官能基と前記基材表面の活性水素との反応により形成される共有結合が、シロキサン結合（−ＳｉＯ−）および−ＳｉＮ−結合から選択される少なくとも一つの結合であることを特徴とする請求項１５〜２５のいずれか1項に記載の結晶化用基板の製造方法。
【請求項２７】
前記有機分子が、下記化学式（１）、（２）、（３）および（４）からなる群から選択される少なくとも１種の有機分子又はその誘導体であることを特徴とする請求項１５〜２６のいずれか１項に記載の結晶化用基板の製造方法。
Ｆ（ＣＦ2）m（ＣＨ2）nＳｉＲqＸ3-q            ・・・（１）
Ｆ（ＣＦ2）r（ＣＨ2）SＡ（ＣＨ2）PＳｉＲqＸ3-q ・・・（２）
Ｈ（ＣＨ2）m（ＣＨ2）nＳｉＲqＸ3-q             ・・・（３）
Ｈ（ＣＨ2）r（ＣＨ2）SＡ（ＣＨ2）PＳｉＲqＸ3-q  ・・・（４）
（前記式（１）および（３）において、ｍは１〜１５の整数、ｎは０〜１５の整数、「ｍ+ｎ」は５〜３０の整数、ｑは０〜２の整数であり、Ｘは、ハロゲン、アルコキシまた
はイソシアンであり、Ｒは水素または炭化水素である。
前記式（２）および（４）において、ｒは１〜８の整数、ｓは０〜２の整数、ｐは５〜２５の整数、ｑは０〜２の整数、「ｒ＋ｓ」は１〜１０の整数であり、Ａは、酸素原子（-O-）、オキシカルボニル基（-COO-）またはジメチルシリル基（-Si(CH3)2-）であり、Ｘは、ハロゲン、アルコキシまたはイソシアンであり、Ｒは水素または炭化水素である。）
【請求項２８】
前記有機分子が、下記（１１）〜（４４）式で表される有機分子からなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１５〜２７のいずれか１項に記載の結晶化用基板の製造方法。
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                       ・・・（１１）
Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3              ・・・（１２）
ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（１３）
Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3    ・・・（１４）
Ｆ（ＣＦ2）8Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3            ・・・（１５）
ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3          ・・・（１６）
ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（１７）
ＣＨ3（ＣＨ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                       ・・・（１８）
Ｈ（ＣＨ2）4（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3              ・・・（１９）
ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                         ・・・（２０）
Ｈ（ＣＨ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3    ・・・（２１）
Ｈ（ＣＨ2）8Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3             ・・・（２２）
ＣＨ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3         ・・・（２３）
ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（２４）
ＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3                                ・・・（２５）
ＣＨ3（ＣＨ2）18ＳｉＣｌ3                                ・・・（２６）
ＣＦ3（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3                                 ・・・（２７）
ＣＨ3（ＣＨ2)9ＳｉＢｒ3                                  ・・・（２８）
ＣＦ3（ＣＨ2）6ＳｉＢｒ3                                 ・・・（２９）
ＣＨ3（ＣＨ2）9ＳｉＨ2Ｃｌ                              ・・・（３０）
ＣＨ3（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）                  ・・・（３１）
ＣＦ2Ｈ（ＣＦ2）2（ＣＨ2）2ＳｉＨ2Ｃｌ                    ・・・（３２）
ＣＦ3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3         ・・・（３３）
ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3 ・・・（３４）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3 ・・・（３５）
ＣＦ3（ＣＦ2）7Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3          ・・・（３６）
ＣＦ3（ＣＦ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）                 ・・・（３７）
ＣＦ3（ＣＦ2）6ＳｉＣｌ3                                ・・・（３８）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3                 ・・・（３９）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＢｒ3                       ・・・（４０）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＮ）3                  ・・・（４１）
ＣＦ3（ＣＦ2）6ＳｉＨ2Ｃｌ                              ・・・（４２）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＨ2Ｃｌ                      ・・・（４３）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）        ・・・（４４）

【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
ここで、前記接触角としては、１２０度以上１８０度未満であり、好ましくは１５０度以上１８０度未満、さらに好ましくは１６０度以上１８０度未満である。なお、接触角の測定方法としては、例えば、被結晶化溶液が水溶液である場合には、試料として４μｌの水を結晶化用基板表面に滴下し、その液滴について、例えば、静的接触角計装置（商品名接触角計；協和界面科学（株）製）によって測定すればよい。また、拡大写真からその接触角を測定してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
下記式（１）、（３）において、ｍは１〜１５の整数、ｎは０〜１５の整数、「ｍ+ｎ」は５〜３０の整数であることが好ましい。
下記式（２）、（４）において、ｒは１〜８の整数、ｓは０〜２の整数、ｐは５〜２５の整数、「ｒ＋ｓ」は１〜１０の整数であることが好ましく、Ａは、酸素原子（-O-）、オキシカルボニル基（-COO-）またはジメチルシリル基（-Si(CH3)2-）が好ましい。また、下記（１）〜（４）式において、ｑは、０〜２の整数、Ｘは、ハロゲン、アルコキシまたはイソシアンのいずれかであることが好ましく、「X3-q」が「X3またはX2」の場合、全てが同じでもよいし異なっていてもよい。下記（１）〜（４）式において、Ｒは、水素原子または炭化水素基であることが好ましい。前記炭化水素基としては、不飽和炭化水素基、飽和炭化水素基のいずれでもよく、炭素数は、例えば、炭素数１〜３が好ましい。具体的には、下記（１）〜（４）式における「−SiRqX3-q」としては、先に列挙したような「末端結合官能基」があげられる。
Ｆ（ＣＦ2）m（ＣＨ2）nＳｉＲqＸ3-q            ・・・（１）
Ｆ（ＣＦ2）r（ＣＨ2）SＡ（ＣＨ2）PＳｉＲqＸ3-q ・・・（２）
Ｈ（ＣＨ2）m（ＣＨ2）nＳｉＲqＸ3-q             ・・・（３）
Ｈ（ＣＨ2）r（ＣＨ2）SＡ（ＣＨ2）PＳｉＲqＸ3-q  ・・・（４）
前記式で表される有機分子としては、具体的には下記（１１）〜（４４）式に示すようなものが一例としてあげられる。
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                       ・・・（１１）
Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3              ・・・（１２）
ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（１３）
Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3    ・・・（１４）
Ｆ（ＣＦ2）8Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3            ・・・（１５）
ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3          ・・・（１６）
ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（１７）
ＣＨ3（ＣＨ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                       ・・・（１８）
Ｈ（ＣＨ2）4（ＣＨ2）2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3              ・・・（１９）
ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                         ・・・（２０）
Ｈ（ＣＨ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3    ・・・（２１）
Ｈ（ＣＨ2）8Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3             ・・・（２２）
ＣＨ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3         ・・・（２３）
ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3                          ・・・（２４）
ＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3                                ・・・（２５）
ＣＨ3（ＣＨ2）18ＳｉＣｌ3                                ・・・（２６）
ＣＦ3（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3                                 ・・・（２７）
ＣＨ3（ＣＨ2)9ＳｉＢｒ3                                  ・・・（２８）
ＣＦ3（ＣＨ2）6ＳｉＢｒ3                                 ・・・（２９）
ＣＨ3（ＣＨ2）9ＳｉＨ2Ｃｌ                              ・・・（３０）
ＣＨ3（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）                  ・・・（３１）
ＣＦ2Ｈ（ＣＦ2）2（ＣＨ2）2ＳｉＨ2Ｃｌ                    ・・・（３２）
ＣＦ3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3         ・・・（３３）
ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3 ・・・（３４）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3 ・・・（３５）
ＣＦ3（ＣＦ2）7Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3          ・・・（３６）
ＣＦ3（ＣＦ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）                 ・・・（３７）
ＣＦ3（ＣＦ2）6ＳｉＣｌ3                                ・・・（３８）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3                 ・・・（３９）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＢｒ3                       ・・・（４０）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＮ）3                  ・・・（４１）
ＣＦ3（ＣＦ2）6ＳｉＨ2Ｃｌ                              ・・・（４２）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＨ2Ｃｌ                      ・・・（４３）
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＯＣＨ3）        ・・・（４４）
また、形成される有機分子膜の臨界表面エネルギー（ｍＮ/ｍ）が低い程、撥水性が向上することから、前記有機分子の中では、特性官能基がフッ素原子を有していることが好ましく、さらに好ましくは、三フッ化炭素を有している有機分子が好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
また、本実施例において使用した有機分子膜を形成するための有機分子とその略号を以下に示す。
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3                          ：有機分子  Ｆ１７a
ＣＨ3（ＣＨ2）18ＳｉＣｌ3                                  ：有機分子  Ｆ０
ＣＦ3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3            ：有機分子  Ｆ３
ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3  ：有機分子  Ｆ９
ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3  ：有機分子  Ｆ１７
ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）6ＳｉＣｌ3                          ：有機分子  Ｆ９ａ
ＣＦ3（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3                                    ：有機分子  Ｆ３ａ
ＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3                                  ：有機分子  ＯＴＳ