【手続補正書】
【提出日】平成19年4月11日(2007.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、
合成された前記レ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、
前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段がモニタした光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項２】
複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、
各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、
前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記検出光強度モニタ手段がモニタした光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項３】
複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、
合成された前記レ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、
各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、
前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段あるいは前記検出光強度モニタ手段がモニタした前記レーザ光あるいは前記検出光の光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、
前記レーザ光の基準光強度と前記検出光の基準光強度と前記制御手段が前記光源を制御する制御信号の応答比である基準応答比とを予め記憶する記憶手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記レーザ光の光強度と前記検出光の光強度と制御信号の応答比と、前記記憶手段に記憶された前記レーザ光の基準光強度と前記検出光の基準光強度と前記基準応答比と、をもとに当該走査型レーザ顕微鏡装置の異常箇所の特定を含めた異常の有無を判定することを特徴とする走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項４】
前記制御手段は、合成された前記レーザ光が照射される前記標本上の各照射位置毎に、少なくとも各レーザ光の全てに対する時分割出力を完了させる切替制御を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記検出光の光強度と前記検出光の基準光強度とを比較し、前記検出光の光強度が前記検出光の基準光強度に比して小さい場合、前記レーザ光源が異常であると特定することを特徴とする請求項３または４に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記検出光の光強度が前記検出光の基準光強度に比して小さくない場合、前記レーザ光の光強度と前記レーザ光の基準光強度とを比較し、前記レーザ光の光強度が前記レーザ光の基準光強度に比して小さい場合、前記レーザ光を前記標本に導く前記光学系あるいは前記光強度検出手段が異常であると特定することを特徴とする請求項５に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記レーザ光の光強度が前記レーザ光の基準光強度に比して小さくない場合、前記応答比と前記基準応答比とを比較し、前記応答比が前記基準応答比に比して小さい場合、劣化によって前記レーザ光源が異常であると特定することを特徴とする請求項６に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【請求項８】
前記複数のレーザ光源は、それぞれ高速スイッチングが可能な半導体レーザであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の走査型レーザ顕微鏡装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、請求項１にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、合成された前記レ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段がモニタした光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。  
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、請求項２にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記検出光強度モニタ手段がモニタした光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、請求項３にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、合成された前記レ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段あるいは前記検出光強度モニタ手段がモニタした前記レーザ光あるいは前記検出光の光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、前記レーザ光の基準光強度と前記反射光の基準光強度と前記制御手段が前記光源を制御する制御信号の応答比である基準応答比とを予め記憶する記憶手段と、を備え、前記制御手段は、前記レーザ光の光強度と前記検出光の光強度と制御信号の応答比と、前記記憶手段に記憶された前記レーザ光の基準光強度と前記検出光の基準光強度と前記基準応答比と、をもとに当該走査型レーザ顕微鏡装置の異常箇所の特定を含めた異常の有無を判定することを特徴とする。