【手続補正書】
【提出日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５は同様に構成されているので、図４に示す塗布膜形成用の第３の単位ブロックＢ３を例にして以下に説明する。この単位ブロックＢ３のほぼ中央には、当該単位ブロックＢ３の長さ方向（図中Ｙ軸方向）に、キャリアブロックＳ１とインターフェイスブロックＳ３とを接続するための、ウエハＷの搬送領域Ｒ１が形成されている。この搬送領域Ｒ１のキャリアブロックＳ１側から見た両側には、手前側（キャリアブロックＳ１側）から奥側に向かって右側に、前記液処理ユニットとして、レジスト膜の下層側の反射防止膜（以下「第１の反射防止膜」という）を形成するために、ウエハＷに対して第１の反射防止膜用の薬液を塗布するための第１の反射防止膜ユニット３１と、ウエハＷにレジスト液を塗布するための塗布ユニット３２と、レジスト膜の上層側の反射防止膜（以下「第２の反射防止膜」という）を形成するために、ウエハＷに対して第２の反射防止膜用の薬液を塗布するための第２の反射防止膜ユニット３３とが夫々前記搬送領域Ｒ１に沿って並んで設けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
一方、処理ブロックＳ２における棚ユニットＵ３の奥側には、インターフェイスブロックＳ３を介して露光装置Ｓ４が接続されている。インターフェイスブロックＳ３には、処理ブロックＳ２の棚ユニットＵ３と露光装置Ｓ４とに対してウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアームＥと、複数枚のウエハＷを棚状に保持するためのバッファ８３とを備えている。前記インターフェイスアームＥは、処理ブロックＳ２と露光装置Ｓ４との間に介在するウエハＷの搬送手段をなすものであり、この例では、第１〜第５の単位ブロックＢ１〜Ｂ５の第２の受け渡しステージＴＲＳ６〜ＴＲＳ１０とバッファ８３の各部に対してウエハＷの受け渡しを行うように、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在、Ｘ軸方向に移動自在に構成され、この例では第２の受け渡しステージＴＲＳ６〜ＴＲＳ１０がインターフェイスブロック用受け渡しステージに相当する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
前記バッファ８３は、露光装置Ｓ４のスループットと処理ブロックＳ２のスループットとを調整する際や、露光条件の切り替えの間に、例えば塗布処理後のウエハＷを一旦ストックしておき、順次露光装置Ｓ４に搬送するような場合に用いられる。このようにすると、露光装置Ｓ４のスループットに合わせることができ、またロット毎に、露光強度やマスク種等の適切な露光条件に切り替えて露光処理を行なうことができる。さらに露光条件の切り替えの間にも、塗布処理は連続して行なうことができるので、生産性が向上する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
前記第１の反射防止膜ユニット３１は、レジスト液を塗布する前にウエハＷに反射防止膜用の薬液を塗布するためのもの、第２の反射防止膜ユニット３３は、レジスト液を塗布した後にウエハＷに反射防止膜用の薬液を塗布するためのものであり、これらのユニット３１，３３は、薬液ノズルから夫々反射防止膜用の薬液を供給する以外は、夫々塗布ユニット３２と同様に構成される。そして塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５では、これら第１及び第２の反射防止膜ユニット３１，３３、塗布ユニット３２が夫々収納容器５０に収納されて、搬送領域Ｒ１に臨むように横方向（Ｙ軸方向）に配列した状態で共通のベースプレート４３に設けられている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
またメインアームＡは、例えば図４に示すように、ウエハＷの裏面側周縁領域を支持するための２本のアーム６１，６２を備えており、これらアーム６１，６２は基台６３に沿って互いに独立して進退自在に構成されている。またこの基台６３は回転機構６４により鉛直軸回りに回転自在に構成される共に、移動機構６５により、棚ユニットＵ１を支持する台部６６の搬送領域Ｒ１に臨む面に取り付けられたＹ軸レール６７に沿ってＹ軸方向に移動自在、かつ昇降レール６８に沿って昇降自在に構成されている。こうしてアーム６１，６２は、進退自在、Ｙ軸方向に移動自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在に構成され、棚ユニットＵ１の各ユニットや第１及び第２の受け渡しステージ、液処理ユニットとの間でウエハＷの受け渡しを行うことができるようになっている。このようなメインアームＡは、後述する制御部からの指令に基づいて図示しないコントローラにより駆動が制御される。またアームの加熱ユニットでの蓄熱を防止するために、ウエハＷの受け取り順番をプログラムで任意に制御できるようになっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また前記インターフェイスアームＥは、例えば図８に示すように、ウエハＷの裏面側中央領域を支持するための１本のアーム７１が基台７２に沿って進退自在に設けられている。前記基台７２は、昇降台７３に回転機構７４により鉛直軸回りに回転自在に取り付けられ、前記昇降台７３は昇降レール７５に沿って昇降自在に設けられている。また例えば昇降レール７５は、Ｘ軸レール７６に沿ってＸ軸方向に移動自在に設けられている。こうしてアーム７１は、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在、Ｘ軸方向に移動自在に構成され、棚ユニットＵ３の第２の受け渡しステージＴＲＳ６〜ＴＲＳ１０、バッファ８３との間でウエハＷの受け渡しを行うことができるようになっている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
前記補助ブロックＳ５には、塗布膜形成後露光処理前及び／又は露光処理後現像処理前並びに現像処理後の処理を行なうユニット、例えば塗布膜形成後露光処理前に行う検査や、露光処理後現像処理前の検査や、現像処理後の検査を行うための検査ユニット８１や、液浸露光後の例えば洗浄処理を行なうための洗浄ユニット８２と、インターフェイスブロックＳ３のインターフェイスアームＥとの間でウエハＷの受け渡しを行なうための受け渡しステージＴＲＳを多段に設けた棚ユニットＵ４と、処理ブロックＳ２の棚ユニットＵ３の例えば受け渡しステージＴＲＳ６〜ＴＲＳ１０と、検査ユニット８１と、洗浄ユニット８２と、棚ユニットＵ４の各部に対してウエハＷの受け渡しを行うための第３の受け渡しアームＦと、を備えている。これら検査ユニット８１や洗浄ユニット８２は多段に構成されてもよいし、受け渡しアームＦの両側に、洗浄ユニット８２又は検査ユニット８１のみを設けるようにしてもよく、配置は自在である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
さらにこの実施の形態では、前記キャリアブロックＳ１とインターフェイスブロックＳ３との間のウエハＷの搬送を塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５の少なくとも一つを介してのみ行なうようにしてもよい。具体的に、例えば塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５の全てにおいてキャリアブロックＳ１とインターフェイスブロックＳ３との間でウエハＷの搬送が行なわれ、第１の受け渡しアームＤ１にて単位ブロックＢ１〜Ｂ５間のウエハＷの受け渡しを行う場合を例にして説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
一方露光後のウエハＷは、塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５のいずれかのインターフェイスブロック用受け渡しステージを介してこれら単位ブロックＢ３〜Ｂ５に搬入され、第１の受け渡しステージ、第１の受け渡しアームＤ１を介して現像処理用の単位ブロックＢ１，Ｂ２に搬送され、ここで現像処理される。現像処理後のウエハＷは第１の受け渡しステージに搬送され、第１の受け渡しアームＤ１により塗布膜形成用単位ブロックＢ３〜Ｂ５に設けられたキャリア用受け渡しステージに搬送されて、ここからキャリアブロックＳ１に受け渡される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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