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【手続補正書】
【提出日】平成20年5月29日(2008.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に構造を設ける方法であって、
前記基材上に調整可能耐エッチング性反射防止（ＴＥＲＡ：ｔｕｎａｂｌｅ  ｅｔｃｈ
ｒｅｓｉｓｔａｎｔ  ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ）コーティングを形成するステ
ップであって、前記ＴＥＲＡコーティングは、式Ｒ：Ｃ：Ｈ：Ｘにより定義される構造を
有し、式中、Ｒは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｂ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、およびそれらの組み合わせのう
ちの少なくとも１つを含む群から選ばれ、Ｘは、存在しないかまたはＯ、Ｎ、Ｓ、および
Ｆのうちの１つ以上を含む群から選ばれる、ステップと、
前記ＴＥＲＡコーティング上に感光材料層を形成するステップと、
前記感光材料層中にパターンを形成するステップと、
少なくともＳＦ６を含むエッチング・プロセスを用いて、前記パターンを前記ＴＥＲＡ
コーティングに転写するステップとを含む、
方法。
【請求項２】
前記エッチング・プロセスが、酸素含有ガスをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エッチング・プロセスが、Ｏ２、ＣＯ、およびＣＯ２のうちの少なくとも１つをさ
らに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記エッチング・プロセスが、不活性ガスをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記エッチング・プロセスが、希ガスをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記エッチング・プロセスが、ハロゲン含有ガスをさらに含む、請求項１に記載の方法
。
【請求項７】
前記エッチング・プロセスが、Ｃｌ２、ＨＢｒ、ＣＨＦ３、およびＣＨ２Ｆ２のうちの
少なくとも１つを用いるステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記エッチング・プロセスが、フルオロカーボン含有ガスをさらに含む、請求項１に記
載の方法。
【請求項９】
前記エッチング・プロセスが、ＣｘＦｙの構造を有するガスをさらに含み、ｘ、ｙが１
以上の整数である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記エッチング・プロセスが、圧力、温度、および高周波（ＲＦ）電力のうちの少なく
とも１つを設定するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
ＴＥＲＡコーティングをエッチングする方法であって、
基材をプラズマ処理システム中に配置するステップであって、前記基材は、前記ＴＥＲ
Ａコーティングを有し、該ＴＥＲＡコーティングは、式Ｒ：Ｃ：Ｈ：Ｘにより定義される
構造を有し、式中、Ｒは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｂ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、およびそれらの組み合わ
せのうちの少なくとも１つを含む群から選ばれ、Ｘは、存在しないかまたはＯ、Ｎ、Ｓ、
およびＦのうちの１つ以上を含む群から選ばれる、ステップと、
少なくともＳＦ６を含むプロセス・ガスを導入するステップと、
前記プロセス・ガスからプラズマを形成するステップと、
前記基材を前記プラズマにさらすステップとを含む、
方法。
【請求項１２】
前記プロセス・ガスが、酸素含有ガスをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記プロセスガスが、Ｏ２、ＣＯ、およびＣＯ２のうちの少なくとも１つをさらに含む
、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記プロセス・ガスが、不活性ガスをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記プロセス・ガスが、希ガスをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記プロセス・ガスが、ハロゲン含有ガスをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記プロセスガスが、Ｃｌ２、ＨＢｒ、ＣＨＦ３、およびＣＨ２Ｆ２のうちの少なくと
も１つをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記プロセス・ガスが、フルオロカーボン含有ガスをさらに含む、請求項１１に記載の
方法。
【請求項１９】
前記プロセス・ガスが、ＣｘＦｙの構造を有するガスをさらに含み、ｘ、ｙが１以上の
整数である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記プロセス・ガスを導入するステップが、圧力、温度、および高周波（ＲＦ）電力の
うちの少なくとも１つを設定するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月25日(2008.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタであって、
活性領域内に配置されたソース；
前記活性領域内に配置されたドレイン；
前記活性領域のソースとドレインを分離するチャネル領域の上に重なるゲート；および
前記活性領域内に配置され、ソースからドレインまで延び、ゲート、ソースおよびドレインに関連するキャパシタンスを減少させるためのゲートの下に重なる少なくとも１つの応力修正および容量減少特徴であって、予め除去された活性領域の一部分に対応する活性領域の一部分内に配置されると共に該活性領域の一部分により少なくとも部分的に画成された形状を有する誘電体を含む少なくとも１つの応力修正および容量減少特徴；
を備えたトランジスタ。
【請求項２】
少なくとも２つの所定のトランジスタビルディングブロックをさらに備え、前記少なくとも２つの所定のトランジスタビルディングブロックの各々は下位幅および側方周辺部を有し、前記少なくとも２つの所定のトランジスタビルディングブロックのうちの任意の２つが物理的に接合された場合に、その側方周辺部が前記少なくとも１つの応力修正および容量減少特徴を形成する請求項１に記載のトランジスタ。
【請求項３】
前記活性領域は少なくとも２つの応力修正ライナをさらに備え、第１のライナは活性領域の周辺部の少なくとも一部分を包囲し、第２のライナは前記少なくとも１つの応力修正および容量減少特徴の表面の少なくとも一部分を包囲する請求項２に記載のトランジスタ。
【請求項４】
チャネル領域の幅方向の結晶配向が＜１００＞である請求項３に記載のトランジスタ。
【請求項５】
誘電体は前記活性領域に圧縮応力を及ぼす誘電体であり、該活性領域に圧縮応力を及ぼす誘電体は酸化物である請求項４に記載のトランジスタ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月4日(2008.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
第１の電流領域であって、その少なくとも一部が前記半導体基板内に存在する第１の電流領域と、
前記第１の電流領域の少なくとも一部と水平方向に隣接するチャンネル領域と、
前記チャンネル領域と水平方向に隣接する第２の電流領域とを備え、
前記第２の電流領域は、前記第１の電流領域での第１の元素の含有量より大きい合金の第１の元素の含有量を有し、
前記第２の電流領域は、前記チャンネル領域での第１の元素の含有量より大きい第１の元素の含有量を有し、
前記合金は、さらに第２の元素を含み、
前記第１の元素は第１の価電子数を有し、
前記第２の元素は第２の価電子数を有し、
前記第１の価電子数及び前記第２の価電子数の合計は８である半導体デバイス。
【請求項２】
請求項１記載の半導体デバイスにおいて、
前記チャンネル領域は、前記第１の元素を実質的に含まない半導体デバイス。
【請求項３】
請求項１記載の半導体デバイスにおいて、
前記合金は半導体材料である半導体デバイス。
【請求項４】
請求項１記載の半導体デバイスにおいて、
前記チャンネル領域は第３の元素を含み、第３の元素は前記合金の前記第２の元素と同じである半導体デバイス。
【請求項５】
半導体基板の形成方法であって、
半導体基板を提供するステップと、
前記半導体基板上にゲート絶縁体を形成するステップと、
前記ゲート絶縁体上に制御電極を形成するステップと、
前記ゲート絶縁体下にチャンネル領域を提供するステップであって、
前記チャンネル領域は第１の面及び第２の面を有し、
前記第２の面は前記第１の面と横方向で反対側にあるステップと、
前記半導体基板内の第１の電流電極の少なくとも一部を形成するステップであって、前記第１の電流電極が前記チャンネル領域の第１の面に横方向に隣接しているステップと、
前記チャンネル領域の第２の面に横方向に隣接する半導体基板の一部を除去することで凹部を形成するステップと、
前記凹部内に第２の電流電極領域の少なくとも一部を形成するステップとを備え、
前記第２の電流電極領域は合金の第１の元素を含み、
前記第２の電流領域は合金の第１の元素の含有量を有し、
前記合金は、さらに第２の元素を含み、
前記第１の元素は第１の価電子数を有し、
前記第２の元素は第２の価電子数を有し、
前記第１の価電子数及び前記第２の価電子数の合計は８であり、
前記第２の電流領域は、前記第１の電流領域における第１の元素の含有量より大きい合金の第1の元素の含有量を有し、
前記第２の電流領域は、前記チャンネル領域における第１の元素の含有量より大きい第１の元素の含有量を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月11日(2008.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
複数の請求項１記載の異方性の双曲線の平坦なメタマテリアルを有する材料であって、少なくとも２つの前記メタマテリアルに対して、それらの２つの前記メタマテリアルがｘ方向とｙ方向の周期性を交換した、複数の請求項１記載の異方性の双曲線の平坦なメタマテリアルを有する材料。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月4日(2008.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
付加的に上側及び下側遮蔽キャップ（５，６）が設けられており、その開口側が各々接触部（２）の方を向いていること、
遮蔽キャップ（７，８）が各々、孔（７３，７４；８３，８４）を各々有する側面の固
定ストラップ（７１，７２；８１，８２）を備えていること、そして
ピン（６，７）の各々一つが付加的に対応する孔（７３，７４；８３，８４）によって
も案内されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の接触装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
特許文献６は類似の接触装置を提案している。この場合接触部のシャフトはその横断面
の一定の領域が弱く、外側から押しつぶすことによりこの位置における隆起したシャフト
の太くなった部分が得られ、これにより固定が行なわれる。確かに記載されたような外側から押しつぶすことに関して、特別な工具は一切必要ではない−ハンマーで事足りる−が、                                                                        
再度形状一体的な接続以外にも、分解が同じように接触部を壊すことによってのみ可能で
あるという短所がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
絶縁棒状体１は固定されるべき各接触装置のために、その都度上側固定孔１１ならびに
下側固定孔１２を各々備えている。絶縁棒状体１にはＵ字状に形成されている接触部２が
設けられている。接触部は接触領域２１を備え、この接触領域は、接触領域が図示してい
ない可動な接触部から上下に接続可能な領域である。さらに接触部は長脚部２２と短脚部
２３を有しており、長脚部２２内には接続孔２４が設けられており、この接続孔に、制御
変圧器に各々コイルを接続するための図示していない電気的接続導管が接続可能である
。さらに長脚部２２は上側固定孔２５ならびに下側固定孔２６を備えている。短脚部２３
は絶縁棒状体１の相対する側で長脚部２２に対して平行に延びており、かつ上側固定孔２
７ならびに下側固定孔２８を備えている。固定孔２５と２７ならびに２６と２８は、固定
孔１１と１２に相応しており、この二つの孔は絶縁棒状体１を貫通している。上側では接
触部２が上側接触保持部３により固定される。接触保持部３は案内シャフト３１を有して
おり、その内側寸法は絶縁棒状体１の外側寸法に相応している。すなわち案内シャフトは
この絶縁棒状体１上で摺動している。さらに案内シャフトは取囲んでいるカラー３２を有
しており、このカラーには側方で、相対するように形成された接触収容部３３及び３４が
設けられている。接触収容部３３において、接触部２の長脚部２２の上側領域が組立てら
れた状態で接触収容部３４に相応して短脚部２３の上側領域が置かれている。接触収容部
３３及び３４の領域には、同様に互いに相対しているが、後で説明するピン５のための支
承部３５，３６が設けられている。最終的にそこには案内シャフト３１を貫通している孔
３７が設けられており、相対する側には案内シャフト３１を貫通している別の孔３８が設
けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
１        絶縁棒状体
１１      上側固定孔
１２      下側固定孔
２        接触部
２１      接触領域
２２      長脚部
２３      短脚部
２４      ２２における接続孔
２５      ２２における上側固定孔
２６      ２２における下側固定孔
２７      ２３における上側固定孔
２８      ２３における下側固定孔
３        上側接触保持部
３１      案内シャフト
３２      取囲んでいるカラー
３３      ２２用の形成された接触収容部
３４      ２３用の形成された接触収容部
３５      支承部
３６      支承部
３７      孔
３８      孔
３９      ポケット
４        下側接触保持部
４１      案内シャフト
４２      取囲んでいるカラー
４３      ２２用の形成された接触収容部
４４      ２３用の形成された接触収容部
４５      支承部
４６      支承部
４７      孔
４８      孔
４９      ポケット
５        上側ピン
６        下側ピン
７        上側遮蔽キャップ
７１      固定ストラップ
７２      固定ストラップ
７３      孔
７４      孔
８        上側遮蔽キャップ
８１      固定ストラップ
８２      固定ストラップ
８３      孔
８４      孔
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状超電導体からなる複数の並置された巻線を有する長方形コイルであって、この超電導体が、常電導母材中に埋め込まれた高ＴC超電導体材料からなる少なくとも１つのコアを含むものにおいて、
帯状超電導体がその外面に酸化物材料からなる製造に起因する不純物を有し、
長方形コイルの隣接する巻線の間に主として酸化不純物により帯状超電導体の外面に生じる少なくとも１０μΩの接触抵抗が設けられる、
ことを特徴とする長方形コイル。
【請求項２】
帯状超電導体（６ｊ）が少なくとも片側に、製造に起因した酸化物材料からなる不純物を有することを特徴とする請求項１記載の長方形コイル。
【請求項３】
酸化物材料がＡｌ2Ｏ3であることを特徴とする請求項２記載の長方形コイル。
【請求項４】
長方形コイルの巻線が硬化性樹脂により保持されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載の長方形コイル。
【請求項５】
１０Ｗの最大損失電力と少なくとも１００ｍΩの分路抵抗とを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の長方形コイル。
【請求項６】
隣接する巻線（５ｊ）の間の少なくとも２０μΩの接触抵抗を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の長方形コイル。
【請求項７】
電気機械の一部として形成されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の長方形コイル。
【請求項８】
加速器またはＭＲ装置の磁石の一部として形成されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の長方形コイル。
【請求項９】
帯状超電導体からなる複数の巻線を有し、超電導体が、常電導母材中に埋め込まれた高ＴC超電導体材料からなる少なくとも１つのコアを含み、その外面に酸化物材料からなる製造上に起因する不純物を有する長方形コイルの製造方法において、
超電導体を樹脂で含浸し、
含浸された超電導体を長方形コイルに加工し、
長方形コイルの隣接する巻線の間に主として酸化不純物により帯状超電導体の外面に生じる少なくとも１０μΩの接触抵抗を設ける
ことを特徴とする長方形コイルの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月1日(2008.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３２】
対向する２つの端面であって、端面はそれぞれ、切削インサートの端面図が概して長方形である端面と、
各端面が４つのコーナー部を有し、対角線上に対向した２つの低いコーナー部および対角線上に対向した２つの高いコーナー部であって、前記低いコーナー部は、前記高いコーナー部より前記切削インサートの中心面Ｍに近く、前記中心面Ｍは、前記対向する端面の間に位置するコーナー部と、
対向する２つの副側面に連結された対向する２つの主側面を備え、前記対向する２つの端面の間を延びる周囲側面と、
前記主側面の間を延び内腔軸を有する貫通穴と、
各端面と前記周囲側面との交差部分に形成された周囲切刃であって、周囲切刃はそれぞれ前記主側面と端面との交差部分において形成された主切刃を含む周囲切刃と、
前記主側面の間に位置し前記中心面Ｍに垂直である主平面Ｐ２と、
前記副側面の間に位置し前記中心面Ｍと前記主平面Ｐ２の両方に垂直である副平面Ｐ１とを備え、
端面はそれぞれ、（ａ）前記副平面Ｐ１の両側に位置し（ｂ）互いに間隔をあけて配置された、第１および第２の当接面を備え、
前記第１の当接面は、前記主平面Ｐ２の第１の側にある第１の当接領域を備え、
前記第２の当接面は、やはり前記主平面Ｐ２の前記第１の側にある第２の当接領域を備え、
（ａ）前記副平面Ｐ１に平行な平面における（ｂ）所与の端面の前記第１の当接領域を貫通する、前記切削インサートの各断面において、前記第１の当接領域は、前記主平面Ｐ２に対して第１の方向に傾斜し、
（ａ）前記副平面Ｐ１に平行な平面における（ｂ）前記所与の端面の前記第２の当接領域を貫通する、前記切削インサートの各断面において、前記第２の当接領域は、前記主平面Ｐ２に対して第２の方向に傾斜し、前記第２の方向は、前記第１の方向とは反対であることを特徴とするタンジェンシャル切削インサート。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月28日(2008.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血液流路に針アクセスを提供する装置であって、
動脈に取り付けられるグラフト導管と、
静脈に挿入されるカテーテル導管と、
自己シール要素を備え、
該自己シール要素は、残留圧縮応力を持つ材料を備え、
該自己シール要素は、前記グラフト導管及び前記カテーテル導管と流体連通する内部通路を少なくとも部分的に画定することによって使用時に前記グラフト導管及び前記カテーテル導管並びに前記内部通路が前記血液流路を形成できるようにする、壁構造を備え、
該壁構造は、針で穿刺されると前記内部通路への針アクセスを可能にすることができ前記針を引き抜くと再閉する管状材料から形成される、装置。
【請求項２】
前記自己シール要素が、前記カテーテル導管の壁に形成されるか、又は前記グラフト導管と前記カテーテル導管との間に位置付けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
残留圧縮応力を持つ前記材料が少なくとも２つの層を備える、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項４】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層が裏返し構造を持つ、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層がねじれた構造を持つ、請求項３に記載の装置。
【請求項６】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層が円周上の残留圧縮応力を持つ、請求項３乃至５の何れか１項に記載の装置。
【請求項７】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層が軸方向の残留圧縮応力を持つ、請求項３乃至６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記材料が、異なる向きの圧縮応力を受ける少なくとも２つの層を含む、請求項３乃至７のいずれか1項に記載の装置。
【請求項９】
残留圧縮応力を持つ前記材料が、一貫した外径の中性外層を持つ、請求項３乃至８のいずれか1項に記載の装置。
【請求項１０】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層がスプレーコーティングで形成される、請求項３乃至９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層が浸漬コーティングで形成される、請求項３乃至１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
残留圧縮応力を持つ前記材料の少なくとも１つの層が既存のチューブである、請求項３乃至１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
前記グラフト導管と前記カテーテル導管とを接続する導管コネクターをさらに備える、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記導管コネクタが製造の時点でグラフト導管と予め接続している、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記導管コネクタが、前記グラフト導管と一体である、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記カテーテル導管のまわりにストレインリリーフチューブをさらに備え、該ストレインリリーフチューブが第１の端及び第２の端を有し、該第２の端が、２つ以上の屈曲部及び該屈曲部の間に２つ以上の分岐部を備える、請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
前記血液流路内の血流量を制御する手段をさらに備える、請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１８】
前記血液流路内の血流量をモニタリングする手段をさらに備える、請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の人工器官モジュール（２）および第２の人工器官モジュール（２）と、
第１の人工器官モジュールは、血管側枝に配置される第１の人工器官側枝（４）と一体化する、主血管内に配置される第１の人工器官要部（３）を備え、
第２の人工器官モジュールは、主血管内に配置される第２の人工器官要部を備え、第２の人工器官要部は第１の切り欠き（１１）を有し、第１の切り欠きは、第１および第２の人工器官モジュールが相互接続される時に、第１の切り欠きと第１の人工器官側枝が揃うように配置され；
第１の人工器官側枝は、主血管の側から分岐する血管側枝を配置するためものであり；
第１の人工器官要部と第２の人工器官要部との間のはめ込み相互接続は、第１および第２の人工器官モジュールが相互接続される時に確立されるので、装置は、第１の人工器官要部と第２の人工器官要部との間に双少の重なりを設けることにより調整され得る、
人体の管腔で展開する、モジュール式腔内人工器官。
【請求項２】
第１の切り欠きが開窓および波形のうちのいずれかである、請求項１に記載の人工器官。
【請求項３】
第２の人工器官要部の一方の端に第１の切り欠き（１１）が設けられる、請求項１もしくは２に記載の人工器官。
【請求項４】
第２の人工器官モジュールと一体化した第２の人工器官側枝（４２）をさらに備えた、請求項１、２または３に記載の人工器官。
【請求項５】
第１の人工器官側枝および第２の人工器官側枝が、概して人工器官の対向する側にある、請求項４に記載の人工器官。
【請求項６】
第１の人工器官側枝および第２の人工器官側枝が、概して人工器官の片側にある、請求項４に記載の人工器官。
【請求項７】
第１の人工器官モジュールは第２の切り欠き（５３）をさらに備えた、請求項４、５ま
たは６に記載の人工器官。
【請求項８】
第１および第２の人工器官モジュールが相互連結される時、第２の切り欠きおよび第２の人工器官側枝が揃えられる、請求項７に記載の人工器官。
【請求項９】
第３の人工器官モジュール（６４）をさらに備え、第２および第３の人工器官モジュールが相互接続する時に、第２のはめ込み相互接続が確立される、先行する請求項のいずれかに記載の人工器官。
【請求項１０】
はめ込み相互接続が、返し（５０２）、２点接着剤、１点接着剤、および面ファスナーのうちのいずれかをさらに備えた、先行する請求項のいずれかに記載の人工器官。
【請求項１１】
はめ込み相互接続が、第２の人工器官モジュールの一方の端の外側を向いたカフと係合する、第１の人工器官モジュールの一方の端の内側を向いたカフを備えた、請求項１から９のいずれかに記載の人工器官。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月5日(2008.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
心臓の不整脈を治療する方法であって、
短い取得時間に亙って連続的な順序で採取された心臓の一連の像を有する心臓の像データをデジタル映像システムから取得するステップと、
三次元的表面及び容積減少法のうち少なくともいずれか一方を使用して前記心臓の像データから心室及び取り囲む構造体の三次元モデルを生成するステップと、
前記三次元モデルを電子データファイルとして保存するステップと、
保存された前記三次元モデルを、介入システムに結合されたコンピュータワークステーションに移送するステップと、
前記三次元モデルを前記介入システムと整合させるステップと、
整合した前記三次元モデルを前記介入システムの上にて視覚化するステップと、
カテーテル装置を前記心室内に配置するステップと、
前記介入システムの上で整合した前記三次元モデルの上方にて前記カテーテル装置を視覚化するステップと、
整合した前記三次元モデルを利用して前記カテーテル装置を前記心室内にて操縦するステップと、
選択した箇所の心臓組織を渡る電気伝導を妨害するために生物学的材料を前記カテーテル装置を通して送り出すステップと、を含む方法。
【請求項２】
心臓の不整脈を治療するシステムであって、
短い取得時間に亙って連続的な順序で採取された心臓の一連の像を有する心臓の像データを取得するデジタル映像システムと、
三次元的表面及び容積減少法のうち少なくともいずれか一方を使用して心室の及び取り囲む構造体の三次元モデルを前記心臓の像データから生成し、当該三次元モデルを電子データファイルとして保存する像生成システムと、
保存した前記三次元モデルを移送させ、当該三次元モデルを介入システムと整合させて整合した当該三次元モデルを当該介入システムの上にて視覚化するワークステーションと、
選択した位置にて前記心室内の心臓組織を渡る電気伝導を妨害するために生物学的材料を送り出し、これにより前記介入システムの上にて整合させた前記三次元モデルの上方にて視覚化されるカテーテル装置と、を備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月28日(2008.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼室を有した燃焼動力式締結具駆動工具で使用するための駆動ブレードにおいて、
燃焼側端部と駆動側端部とを有し駆動ブレード室を形成した細長い中空本体であって、前記駆動側端部の先端と前記燃焼側端部との間に定義される所定長さの中空体を具備し、
前記燃焼側端部は開口して前記燃焼室に連通しており、かつ、前記燃焼側端部にはネジが形成されピストンに取付けられるようになっており、
前記ピストンに取付けると、前記駆動側端部は、前記中空体の前方へ移動する間、前側の端部となり、また、前記駆動側端部は中実断面を有しており、
前記駆動ブレード室が、前記所定長さの半分以上に亘って延設された補助燃焼室を形成するようにした駆動ブレード。
【請求項２】
前記駆動ブレード室は底端部が閉じている請求項１に記載の駆動ブレード。
【請求項３】
前記中空本体は、前記本体の長さの約８５％に亘って延設されている請求項１に記載の駆動ブレード。
【請求項４】
前記燃焼側端部には、ピストンと係合する半径方向に太くした部分が設けられている請求項１に記載の駆動ブレード。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月17日(2008.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＩＰ工程を使用した熱交換器を有する産業設備からの汚れのクリーニング方法であって、以下を含む方法：
（ａ）汚れへの酸性前処理溶液の適用工程であって、該溶液が、０．２５〜１．５重量％の酸、０．０１〜１重量％のオキシダント、および０．２重量％〜２．５重量％の浸透剤を含む、少なくとも０．２５重量％の活性成分を含み；
（ｂ）汚れの除去を促進させるために一定期間、該前処理溶液を、該汚れ上に部分的に残留させる工程
（ｃ）該設備に、加熱された第１のＣＩＰ溶液を通過させる工程、
該ＣＩＰ溶液は、ＮａＯＨを含む０．５重量％のアルカリ洗剤を含み、前処理溶液の
適用工程と、該第１のＣＩＰ溶液の適用工程との間に、すすぎ工程がない。
（ｄ）設備をすすぐ工程。
【請求項２】
前処理溶液が
（ａ）０．２５〜１．５重量％の酸がリン酸、硝酸、硫酸、乳酸、酢酸、ヒドロキシ酢酸およびクエン酸の少なくとも一つであり；且つ、
（ｂ）０．０１〜１重量％のオキシダントがペルオキシジェン化合物であること、
を含む、請求項１による方法。
【請求項３】
ペルオキシジェン化合物が０．０５〜０．５重量％のレベルで存在する請求項２による方法。
【請求項４】
該前処理溶液が、０．２５〜１．５重量％の酸および０．０１〜１重量％のオキシダントを含む、請求項１による方法。
【請求項５】
ＣＩＰ工程を用いた熱交換器を有する産業設備からの汚れのクリーニング方法であって、以下を含む方法：
（ａ）少なくとも０．５重量％の活性成分を含む前処理溶液での汚れの前処理、該活性成分は、アルカリ源、酸源、浸透剤、酸化剤、界面活性剤、およびビルダーのいずれかを含み；そしてすぐその後に、
（ｂ）該希釈洗剤溶液が浸透した汚れの少なくとも一部分を除去する工程、
該前処理溶液と該希釈洗剤溶液との間で化学反応があり、そして、該前処理
溶液の適用工程と該希釈洗剤溶液の適用工程との間にすすぎ工程がない；および、
（ｃ）設備をすすぐ工程。
【請求項６】
（ａ）前処理溶液がアルカリ源を含み；および、
（ｂ）希釈洗剤溶液が酸を含む、
請求項５による方法。
【請求項７】
（ａ）前処理溶液が酸源を含み；および、
（ｂ）希釈洗剤溶液がアルカリを含む、
請求項５による方法。
【請求項８】
前処理溶液がさらにオキシダントを含む請求項７による方法。
【請求項９】
ＣＩＰ工程を使用した熱交換器を有する産業設備からの汚れのクリーニング方法であって、以下を含む方法：
（ａ）汚れへ前処理溶液を適用する工程であって、該溶液が、０．２５〜１．５重量％の酸、０．０１〜１重量％のオキシダント、および０．２重量％〜２．５重量％の浸透剤を含む、少なくとも０．２５重量％の活性成分を含み；
（ｂ）汚れの除去を促進させるために一定期間、該前処理溶液を、該汚れ上に部分的に残留させる工程
（ｃ）該前処理溶液の後、設備に加熱された第１のＣＩＰ溶液を通過させる工程であって、該ＣＩＰ溶液が希釈洗剤を含み、前処理溶液の適用工程と、該第１のＣＩＰ溶液の適用工程との間に、すすぎ工程がない。
（ｄ）第１のＣＩＰ溶液の後、設備に第２のＣＩＰ溶液を通過させる工程；そして、
（ｅ）設備をすすぐ工程。
【請求項１０】
前処理溶液の適用ステップが以下を含む、請求項９による方法：
（ａ）０．２５〜１．５重量％の酸および０．０１〜１重量％のオキシダントを含む前処理溶液の適用。
【請求項１１】
前処理溶液の適用ステップが以下を含む、請求項１０による方法：
（ａ）０．２５〜１．５重量％の酸および０．０５〜０．５重量％のオキシダントを含む前処理溶液の適用。
【請求項１２】
オキシダントがパーオキサイドである請求項１０による方法。
【請求項１３】
前処理溶液が酸性であり、第１のＣＩＰ溶液がアルカリ性である請求項９による方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
実施例１
テスト手順
固体ミルクペレットが、３グラムの乾燥ミルク粉と３グラムの汚れを混合することで調製された。結果として生じた混合物が４５３６ｋｇ（１０，０００ポンド）で３０秒間ダイプレスされた。さらに再び３０秒間４５３６ｋｇ（１０，０００ポンド）の圧力が加えられた。ペレットは、網に入れられ下に記載するように、５分間前処理溶液に漬けられ、除去され、そして５分間排出された。網に入れられた乾燥されたペレットは、０．５重量％ＮａＯＨで４９℃（華氏１２０度）のビーカー内に置かれた。（「なし」と示されたテストは、前処理ステップがなく；「なし＊」と示されたテストは前処理ステップがなく４９℃（華氏１２０度）での０．５％ＮａＯＨでなく３．０％ＮａＯＨでクリーニングがされた）。ビーカーは、３５０回転／分で大きい攪拌子が回転しており、４９℃（華氏約１２０度）に設定されたホットプレート上に置かれた．３０分後に、網に入れられたペレットは、クリーニング溶液から除去され、５回脱イオン水に静かに漬けられ除去され、一晩５０℃のオーブンで乾燥された。テストの結果を下に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
結果は、クリーニング工程内での一貫性と、方法を比較したときの差を表す。結果は、低レベルのＮａＯＨが高レベルより良いこと、および前処理溶液３および４は、前処理溶液１および２より優れていることを示す。しかし、この差は、使用されたテスト手順による可能性がある。テスト３および４が第２のホットプレート上で行われたのに対し。テスト１および２は、一つのホットプレート上で行われた。これらの２つのホットプレートが４９℃（華氏１２０度）を保つ上で等しくなかった可能性がある。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つのプラットフォーム（２０）と、略平行四辺形の昇降装置（１０）とを備え、前記昇降装置が前記プラットフォーム（２０）を担持するための２つの水平に離間した支持アーム（１２、１４）と、旋回軸（１９）周りに該プラットフォームの垂直の走行位置から該プラットフォームの水平の作業位置へ及びその逆へ前記プラットフォーム（２０）を旋回するための少なくとも１つの平行シリンダ（１３）と、プラットフォーム（２０）をその作業位置へ上昇及び下降するための少なくとも１つのリフトシリンダ（１５）とを含む、車両に固定するための昇降式荷積みプラットフォーム（１）であって、
プラットフォーム（２０）またはプラットフォーム固定部（２０’）が一方の第２支持アーム（１４）から横方向に離間し、かつこの横の間隔（Ｄ）を利用して橋渡しするクロスメンバ（２３）を第２支持アーム（１４）で旋回軸（１９）周りに回転可能に軸支されており、前記プラットフォーム固定部（２０’）の前記第２支持アーム（１４）を向く側にプラットフォーム折畳部（２５）が１８０°旋回可能に軸支されていることを特徴とする昇降式荷積みプラットフォーム。
【請求項２】
前記プラットフォーム（２０）もしくは前記プラットフォーム固定部（２０’）が、第１支持アーム（１２）及び平行シリンダ（１３）が係合する連結ヘッド（２１）を有することを特徴とする、請求項１に記載の昇降式荷積みプラットフォーム。
【請求項３】
前記クロスメンバ（２３）が前記プラットフォーム（２０）もしくは前記プラットフォーム固定部（２０’）にネジ止めされることを特徴とする、請求項１または２に記載の昇降式荷積みプラットフォーム。
【請求項４】
前記クロスメンバ（２３）が、前記第２支持アーム（１４）に軸支されたボルト状の端部を有することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の昇降式荷積みプラットフォーム。
【請求項５】
前記プラットフォーム折畳部（２５）が前記クロスメンバ（２３）上に載置することを特徴とする、請求項１に記載の昇降式荷積みプラットフォーム。
【請求項６】
前記プラットフォーム（２０）または前記プラットフォーム固定部（２０’）が２つの離間する床面ローラ（２４）を有することを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の昇降式荷積みプラットフォーム。
【請求項７】
前記リフトシリンダ（１５）が、前記支持アーム（１２、１４）の旋回軸周りに回転可能に軸支された少なくとも１つのリフトシリンダレバー（１４ａ）に係合し、かつこのリフトシリンダレバーと共に力の三角形を形成し、その際、前記第２支持アーム（１４）がリフトシリンダレバー（１４ａ）と弾性的に上昇方向へ運動連結されており、かつ、前記第１支持アーム（１２）が捩り及び曲げプロフィール（１７）を利用してリフトシリンダレバー（１４ａ）と連結されていることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の昇降式荷積みプラットフォーム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月11日(2008.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート部および／または背もたれに調節可能な側部チーク（lateral cheek）を有している自動車用座席において、
中央のシート表面および／または背もたれ表面（２）に対する前記側部チーク（１）の長さおよび向きを変化させる前記側部チーク（１）の複合調節が可能に設定されている自動車用座席。
【請求項２】
請求項１において、前記側部チーク（１）の断面形状が調節可能であることを特徴とする自動車用座席。
【請求項３】
請求項１〜２の何れか一項において、制御された経路での移動を生み出すため、直線および回転の複合ガイド（６、７、８）を備えている側部チーク調節装置（４）を有することを特徴とする自動車用座席。
【請求項４】
請求項３において、前記側部チーク調節装置（４）が、側部チークのクッション（２０）を支持し、制御された経路での移動を実行する回動／スライド接続部（６、７、８）に接続されている支持弓状部（５）を有することを特徴とする自動車用座席。
【請求項５】
請求項４において、前記回動／スライド接続部（６、７、８）が案内溝（８）を含んでおり、シートまたは背もたれに固定されたピボット点（６）に対する前記案内溝（８）の形状、長さ、および向きが、前記側部チーク（１）の調節運動を決定することを特徴とする自動車用座席。
【請求項６】
請求項４または５において、支持弓状部（５）が、前記シートまたは背もたれに固定された前記ピボット点を形成するピボットボルト（６）を中心として回動可能であり、かつ調節駆動部（９）に接続されて前記案内溝（８）に沿って変位できる案内棒（７）に接続されていることを特徴とする自動車用座席。
【請求項７】
請求項６において、前記案内溝（８）が、前記ピボットボルト（６）と交差せず、かつ前記ピボットボルト（６）に沿って直線的に延びないように、前記ピボットボルト（６）に対して方向付けられていることを特徴とする自動車用座席。
【請求項８】
請求項５〜７の何れか一項において、前記案内溝（８）が直線状の細長い形状であることを特徴とする自動車用座席。
【請求項９】
請求項５〜７の何れか一項において、前記案内溝（８）が湾曲した形状であることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１０】
請求項６〜９の何れか一項において、前記ピボットボルト（６）の案内孔（６１、６２）を貫いて挿入された支持弓状部（５）の押し棒（５１、５２）の端部が、前記案内溝（８）内を案内される前記案内棒（７）に接続されていることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１１】
請求項６〜１０の何れか一項において、前記調節駆動部（９）が自由に移動可能に設けられていることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１２】
請求項６〜１１の何れか一項において、前記調節駆動部（９）が、前記案内棒（７）に接続されたスピンドル・ナット（９４）を有し、このスピンドル・ナット（９４）が、ウォーム機構（９１、９２）を介して駆動モータ（９０）に接続されたスピンドル（９３）が歯合していることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１３】
請求項６〜１２の何れか一項において、前記ピボットボルト（６）が、離間した２つのハウジング・プレート（３１、３２）の相互に整列した孔を貫いて挿入され、該孔に、切り欠き形状の前記案内溝（８）が配置されていることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１４】
請求項６〜１３の何れか一項において、前記調節駆動部（９）がラック式の駆動部であることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１５】
請求項６〜１４の何れか一項において、前記調節駆動部（９）が、柔軟な引っ張り手段を前記案内棒（７）への力伝達部材として有しており、該引っ張り手段が、前記側部チーク調節装置（４）を第１の端部位置（Ａ）へと位置させる復帰ばねの作用に抗して調節運動を生じさせることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１６】
請求項３〜１５の何れか一項において、前記シート部および／または背もたれの両方の側部チーク（１）の側部チーク調節装置（４）が、互いに別個に駆動されることを特徴とする自動車用座席。
【請求項１７】
請求項３〜１６の何れか一項において、前記側部チーク調節装置（４）の駆動モータ（９０）を、側部チーク（１）の前記シート部および／または背もたれの端部ストッパにおいて同期可能であることを特徴とする自動車用座席。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月20日(2008.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下を含む、眼薬デリバリーのためのカウンター圧力デバイス：ハンドル；該ハンドルの終端に連結されたヘッド、結膜と接触するためのカーブした凹面の表面を含み、取り外しできるカニューレの受けのための切り込みを有するヘッド。
【請求項２】
該ヘッドがセルロースを含む請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項３】
該セルロースが圧縮セルロースである請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項４】
当該表面が１０ｍｍ〜１４ｍｍの曲率半径を有する請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項５】
当該曲率半径が１２ｍｍである請求項４のカウンター圧力デバイス。
【請求項６】
当該切り込みが該表面上の中心に配置されている請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項７】
当該切り込みが０．２ｍｍ〜１ｍｍの曲率半径を有する請求項６のカウンター圧力デバイス。
【請求項８】
当該該曲率半径が０．５６ｍｍである請求項７のカウンター圧力デバイス。
【請求項９】
前記ヘッドが発泡体材料を含む請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項１０】
前記ヘッドがゴム様材料を含む請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項１１】
前記セルロースをさらにしっかりとし、吸収性を少なくするために、前記セルロースがγ線に暴露される請求項３のカウンター圧力デバイス。
【請求項１２】
前記表面が織り目を含む請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項１３】
前記織り目が滑り防止織り目である請求項１２のカウンター圧力デバイス。
【請求項１４】
前記表面が節を含む請求項１のカウンター圧力デバイス。
【請求項１５】
前記ヘッドがシリコーンを含む請求項１０のカウンター圧力デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ＡＲＭＤは、先進国の高齢者における盲目の主要な原因である。ＡＲＭＤは、視覚中心点を攻撃し、視力をぼやけさせて、読書、ドライブ、および他の込み入った仕事を困難または不能にする。ＡＲＭＤの約２００，０００の新しい症例が、毎年米国のみでも起こっている。最近の予測は、７５歳以上人口の約４０％、および６０歳以上人口の約２０％がある程度の黄斑変性症に苦しんでいることを明らかにする。“ウェット（Ｗｅｔ）”ＡＲＭＤは、もっともしばしば盲目を起こすＡＲＭＤのタイプである。ウェットＡＲＭＤでは、新たに形成された脈絡膜血管（ＣＮＶ）は、流体を漏らし、網膜に進行性の障害を起こす。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ＡＲＭＤ中のＣＮＶの特別なケースでは、次の３つの主な治療の方法が現在のところ開発されている、（ａ）光凝固、（ｂ）光力学的治療、および（ｃ）血管形成阻害剤の利用。光凝固は、ＣＮＶの最も一般的な治療様式である。しかし、光凝固は、網膜に有害であり得、ＣＮＶ中心窩の近くにあるときは、実用的ではない。さらに、長い間に、光凝固は、多くの場合結果としてＣＮＶの再発となる。光力学的治療は、比較的新しい技術である。ＡＲＭＤを治療するための光力学的治療の長期の有効性は、まだ概して知られていない。反血管由来化合物の経口または非経口の（非接眼）投与も、またＡＲＭＤのための全身の（systemic）治療としてテストされている。しかし、薬物に特異的な代謝制限によって、全身の投与は、通常治療量以下の薬物レベルを眼に与える。したがって、効果的な眼球内の薬物濃度を達成するためには、受け入れ難い高投与または反復的な従来の投与のいずれかが必要である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月5日(2008.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療器具を体管内に配置するための搬送システムであって、
近位端と遠位端とを備え、所定の距離を有する中間部分によって軸線方向に分離された第１及び第２の取付領域を有する細長い部材と、
前記第１の取付領域に配置された第１の拡張可能な医療器具と、
前記第２の取付領域に配置された第２の拡張可能な医療器具と、
前記細長い部材と前記第１及び第２の拡張可能な医療器具との少なくとも一部分を覆うように配置されたシースと、を備え、
前記所定の距離は、展開後の、前記第１及び第２の拡張可能な医療器具の間の所望の距離に基づく、
ことを特徴とする搬送システム。
【請求項２】
前記第１の拡張可能な医療器具は、前記体管内で第１の処置箇所に適した第１の寸法を有し、前記第２の拡張可能な医療器具は、前記体管内で第２の処置箇所に適した第２の寸法を有している、
請求項１に記載の搬送システム。
【請求項３】
前記第１及び第２の拡張可能な医療器具のうち、少なくともひとつは、補綴バルブを備えている、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項４】
前記第１及び第２の拡張可能な医療器具は、補綴バルブを備えている、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項５】
前記所定の距離は、前記体管の中の第１及び第２の生体バルブ間の予想される距離に基づく、請求項４に記載の搬送システム。
【請求項６】
前記所定の距離は、前記体管の１又は２以上の特徴に基づく、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項７】
前記第１及び第２の拡張可能な医療器具は、異なった休止直径を有する、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項８】
前記シースが、前記取付領域を含む細長い部材の一部分のみを覆って摺動可能に配置される、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項９】
前記シースは、前記シースを前記細長い部材から取り外すのを容易にするタブを含む、請求項８に記載の搬送システム。
【請求項１０】
前記第１の拡張可能な医療器具は、前記体管内の第１の処置箇所に適した第１の寸法を有している補綴バルブを備え、
前記第２の拡張可能な医療器具は、前記体管内の第２の処置箇所に適した第２の寸法を有している補綴バルブを備えている、
請求項１に記載の搬送システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液相と固相を有する半凝固金属スラリーを準備するための坩堝であって、
（ａ）下方端部を有する開口管を形成する側壁と、
（ｂ）側壁の下方端部に係合および離間可能な塞ぎ板と、
（ｃ）塞ぎ板を側壁の下方端部に接触して保持するためのクランプ手段と、
を含むことを特徴とする坩堝。
【請求項２】
塞ぎ板が、塞ぎ板および側壁を支持する支持板に取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の坩堝。
【請求項３】
塞ぎ板および支持板を貫いて形成され、塞ぐことが可能で、坩堝から液相の少なくとも一部を排出できる、少なくとも１つの独立した穴を更に含むことを特徴とする請求項２に記載の坩堝。
【請求項４】
クランプ手段が、支持板に取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載の坩堝。
【請求項５】
クランプ手段が、支持板に取り付けられ、塞ぎ板を側壁に解放可能にクランプする馬蹄形のクランプを含むことを特徴とする請求項４に記載の坩堝。
【請求項６】
側壁が、下方端部に近接したフランジであって、側壁を塞ぎ板にクランプできるように、クランプ手段が係合可能なフランジを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の坩堝。
【請求項７】
クランプ手段が、空気圧または液圧により作動する手段を有することを特徴とする請求項６に記載の坩堝。
【請求項８】
クランプ手段が、クランプ手段を遠隔作動できる遠隔作動手段を有することを特徴とする請求項７に記載の坩堝。
【請求項９】
下方端がより大きい直径を有するように、チューブがテーパーを付けられていることを特徴とする請求項１に記載の坩堝。
【請求項１０】
チューブが耐火材料または金属より作られていることを特徴とする請求項９に記載の坩堝。
【請求項１１】
チューブが金属より作られていることを特徴とする請求項１０に記載の坩堝。
【請求項１２】
金属が、鋼またはステンレス鋼であることを特徴とする請求項１１に記載の坩堝。
【請求項１３】
金属が保護皮膜により被覆されていることを特徴とする請求項１２に記載の坩堝。
【請求項１４】
保護皮膜が、マイカウォッシュまたは窒化ホウ素であることを特徴とする請求項１３に記載の坩堝。
【請求項１５】
塞ぎ板が、耐火材料または金属よりできていることを特徴とする請求項１に記載の坩堝。
【請求項１６】
耐火材料がアルミノシリケート耐火板であることを特徴とする請求項１５に記載の坩堝。
【請求項１７】
金属は、鋼、ステンレス鋼およびチタンよりなる群から選択された金属であることを特徴とする請求項１５に記載の坩堝。
【請求項１８】
金属が、保護皮膜により被覆されていることを特徴とする請求項１７に記載の坩堝。
【請求項１９】
保護皮膜は、マイカウォッシュまたは窒化ホウ素であることを特徴とする請求項１８に記載の坩堝。
【請求項２０】
塞ぎ板が、上を向き円錐形の輪郭を有することを特徴とする請求項１に記載の坩堝。
【請求項２１】
側壁の下方端部の近接部が、より小さい直径を有するように、少なくとも１つの穴が、テーパーを付けられていることを特徴とする請求項２に記載の坩堝。
【請求項２２】
少なくとも１つのテーパーを付けられた穴のより小さい直径が、３ｍｍから５ｍｍであることを特徴とする請求項２１に記載の坩堝。
【請求項２３】
少なくとも１つの穴を塞ぐために、少なくとも１つのプラグを更に含むことを特徴とする請求項２２に記載の坩堝。
【請求項２４】
少なくとも１つのプラグが、溶融金属に対し耐久性のある材料より作られていることを特徴とする請求項２３に記載の坩堝。
【請求項２５】
少なくとも１つのプラグが窒化ホウ素より作られていることを特徴とする請求項２４に記載の坩堝。
【請求項２６】
穴へのプラグの出し入れ操作を可能にする枢動するカンチレバーアームの上に、プラグが載置されていることを特徴とする請求項２５に記載の坩堝。
【請求項２７】
枢動するカンチレバーアームが、穴への出し入れのアームの遠隔作動を可能にする遠隔作動手段を有することを特徴とする請求項２６に記載の坩堝。
【請求項２８】
枢動するカンチレバーアームが、空気圧または液圧により作動する手段を有することを特徴とする請求項２７に記載の坩堝。
【請求項２９】
液相と固相を有する半凝固スラリーの製造方法であって、
（ａ）下方端部を有する開口管を形成する側壁と、塞ぎ板とを有する坩堝を準備する工程と、
（ｂ）塞ぎ板を側壁の下方端部に接触して保持する工程と、
（ｃ）坩堝を溶融金属で満たす工程と、
（ｄ）半凝固スラリーを形成するように溶融金属を冷却する工程と、
（ｅ）側壁の下方端部を塞ぎ板との接触から解放する工程と、
（ｆ）半凝固スラリーを側壁から鋳造装置に移動する工程と、
を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項３０】
溶融金属を冷却した後、坩堝の塞ぎ板の少なくとも１つの独立した穴を通って、液相の少なくとも一部を排出する工程を更に含むことを特徴とする請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３１】
塞ぎ板が側壁から解放された後、少なくとも１つの独立した穴を、圧縮空気を吹きつけて清掃する工程を更に含むことを特徴とする請求項３０に記載の製造方法。
【請求項３２】
溶融金属を冷却するように、坩堝の中の溶融金属を攪拌することを更に含むことを特徴とする請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３３】
坩堝を溶融金属で満たす前に、側壁を冷却することを更に含むことを特徴とする請求項２９に記載の製造方法。