【手続補正書】
【提出日】令和1年10月24日(2019.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイシステムであって、
導波管と、
前記導波管の表面上に配置される、光内部結合光学要素であって、前記光内部結合光学要素は、マルチレベルメタ表面を備え、前記マルチレベルメタ表面は、
あるピッチを有し、第１の光学透過性材料から形成される、複数の離間された突出部と、
前記離間された突出部にわたり、かつその間にある、第２の光学透過性材料と
を備える、光内部結合光学要素と
を備える、ディスプレイシステム。
【請求項２】
前記突出部のピッチは、前記導波管の表面を横断して変動する、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項３】
画像情報を備える光を前記導波管の中に投入するように構成される、画像投入デバイスをさらに備える、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項４】
前記導波管は、導波管のスタックのうちの１つであり、前記導波管のスタックはそれぞれ、関連付けられたマルチレベルメタ表面を備える、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項５】
前記導波管のうちの少なくともいくつかの関連付けられたマルチレベルメタ表面は、前記導波管のその他の関連付けられたマルチレベルメタ表面と異なる波長範囲の光を再指向するように構成される、請求項４に記載のディスプレイシステム。
【請求項６】
前記第１の光学透過性材料は、レジストを備える、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項７】
各突出部および直近突出部間の空間は、１０〜６００ｎｍの全幅を画定する、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項８】
前記第２の光学透過性材料は、離間された平坦域を前記突出部にわたって形成する、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項９】
前記第１の光学透過性材料および前記第２の光学透過性材料は、非晶質である、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項１０】
前記第２の光学透過性材料は、前記第１の光学透過性材料または前記導波管を形成する材料のいずれよりも高い屈折率を有する、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項１１】
前記第２の光学透過性材料は、１．７を上回る屈折率を有する、請求項１０に記載のディスプレイシステム。
【請求項１２】
前記光学透過性材料は、半導体を備える、請求項１０に記載のディスプレイシステム。
【請求項１３】
前記光学透過性材料は、シリコンを備える、請求項１２に記載のディスプレイシステム。
【請求項１４】
前記光学透過性材料は、窒化ケイ素または炭化ケイ素を備える、請求項１３に記載のディスプレイシステム。
【請求項１５】
前記光学透過性材料は、酸化物を備える、請求項１０に記載のディスプレイシステム。
【請求項１６】
前記光学透過性材料は、金属酸化物を備える、請求項１０に記載のディスプレイシステム。
【請求項１７】
前記光学透過性材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、または酸化亜鉛を備える、請求項１６に記載のディスプレイシステム。
【請求項１８】
前記メタ表面は、バイレベルメタ表面である、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【請求項１９】
前記メタ表面は、トライレベルまたはより高いレベルのメタ表面である、請求項１に記載のディスプレイシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の付加的および他の目的、特徴、ならびに利点は、詳細な説明、図、および請求項に説明される。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
光学導波管を形成するための方法であって、前記方法は、
メタ表面を形成するステップ
を含み、
前記メタ表面を形成するステップは、
光学透過性基板を覆って光学透過性レジスト層を提供するステップと、
突出部および介在間隙を備えるパターンで前記レジストをパターン化するステップであって、前記突出部は、１０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内のピッチを有する、ステップと、
光学透過性材料を前記突出部上および前記突出部間の間隙の中に堆積させるステップと
を含む、方法。
（項目２）
前記光学透過性材料は、非晶質である、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記光学透過性材料を堆積させるステップは、前記光学透過性材料の離間された平坦域を前記突出部の上方に形成する、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記光学透過性材料は、前記パターン化されたレジストまたは前記基板のいずれよりも高い屈折率を有する、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記光学透過性材料の屈折率は、１．７より高い、項目４に記載の方法。
（項目６）
前記光学透過性材料は、レジストである、項目４に記載の方法。
（項目７）
前記光学透過性基板は、導波管である、項目１に記載の方法。
（項目８）
前記レジストをパターン化するステップは、前記パターンを前記レジストの中にインプリントするステップを含む、項目１に記載の方法。
（項目９）
前記光学透過性材料を堆積させるステップは、前記光学透過性材料を前記パターン化されたレジスト上にスピンコーティングするステップを含む、項目１に記載の方法。
（項目１０）
前記光学透過性材料を堆積させるステップは、前記光学透過性材料の共形堆積または指向性堆積を行うステップを含む、項目１に記載の方法。
（項目１１）
前記共形堆積は、前記光学透過性材料の化学蒸着または原子層堆積を含む、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
前記指向性堆積は、前記光学透過性材料の蒸発またはスパッタリングを含む、項目１０に記載の方法。
（項目１３）
前記全幅は、３００〜５００ｎｍの範囲内である、項目１に記載の方法。
（項目１４）
光学透過性材料を堆積させるステップは、前記光学透過性材料を前記突出部の上方に１０ｎｍ〜１μｍの厚さまで堆積させる、項目１に記載の方法。
（項目１５）
前記突出部は、２つのレベルにおける段を含む、項目１に記載の方法。
（項目１６）
ディスプレイシステムであって、
導波管と、
前記導波管の表面上に配置される、光内部結合光学要素であって、前記光内部結合光学要素は、マルチレベルメタ表面を備え、前記マルチレベルメタ表面は、
あるピッチを有し、第１の光学透過性材料から形成される、複数の離間された突出部と、
前記離間された突出部にわたり、かつその間にある、第２の光学透過性材料と
を備える、光内部結合光学要素と
を備える、ディスプレイシステム。
（項目１７）
前記突出部のピッチは、前記導波管の表面を横断して変動する、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目１８）
画像情報を備える光を前記導波管の中に投入するように構成される、画像投入デバイスをさらに備える、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目１９）
前記導波管は、導波管のスタックのうちの１つであり、前記導波管のスタックはそれぞれ、関連付けられたマルチレベルメタ表面を備える、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目２０）
前記導波管のうちの少なくともいくつかの関連付けられたマルチレベルメタ表面は、前記導波管のその他の関連付けられたマルチレベルメタ表面と異なる波長範囲の光を再指向するように構成される、項目１９に記載のディスプレイシステム。
（項目２１）
前記第１の光学透過性材料は、レジストを備える、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目２２）
各突出部および直近突出部間の空間は、１０〜６００ｎｍの全幅を画定する、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目２３）
前記第２の光学透過性材料は、前記離間された平坦域を前記突出部にわたって形成する、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目２４）
前記第１および第２の光学透過性材料は、非晶質である、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目２５）
前記第２の光学透過性材料は、前記第１の光学透過性材料または前記導波管を形成する材料のいずれよりも高い屈折率を有する、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目２６）
前記第２の光学透過性材料は、１．７を上回る屈折率を有する、項目２５に記載のディスプレイシステム。
（項目２７）
前記光学透過性材料は、半導体を備える、項目２５に記載のディスプレイシステム。
（項目２８）
前記光学透過性材料は、シリコンを備える、項目２７に記載のディスプレイシステム。
（項目２９）
前記光学透過性材料は、窒化ケイ素または炭化ケイ素を備える、項目２８に記載のディスプレイシステム。
（項目３０）
前記光学透過性材料は、酸化物を備える、項目２５に記載のディスプレイシステム。
（項目３１）
前記光学透過性材料は、金属酸化物を備える、項目２５に記載のディスプレイシステム。
（項目３２）
前記光学透過性材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、または酸化亜鉛を備える、項目３１に記載のディスプレイシステム。
（項目３３）
前記メタ表面は、バイレベルメタ表面である、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目３４）
前記メタ表面は、トライレベルまたはより高いレベルのメタ表面である、項目１６に記載のディスプレイシステム。
（項目３５）
ディスプレイシステムであって、
導波管と、
前記導波管の表面上に配置される、光外部結合光学要素であって、前記光外部結合光学要素は、マルチレベルメタ表面を備え、前記マルチレベルメタ表面は、
あるピッチを有し、第１の光学透過性材料から形成される、複数の離間された突出部と、
前記離間された突出部にわたり、かつその間にある、第２の光学透過性材料と
を備える、光外部結合光学要素と
を備える、ディスプレイシステム。
（項目３６）
前記突出部のピッチは、前記導波管の表面を横断して変動する、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目３７）
画像情報を備える光を前記導波管の中に投入するように構成される、画像投入デバイスをさらに備える、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目３８）
前記導波管は、導波管のスタックのうちの１つであり、前記導波管のスタックはそれぞれ、関連付けられたマルチレベルメタ表面を備える、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目３９）
前記導波管のうちの少なくともいくつかの関連付けられたマルチレベルメタ表面は、前記導波管のその他の関連付けられたマルチレベルメタ表面と異なる波長範囲の光を再指向するように構成される、項目３８に記載のディスプレイシステム。
（項目４０）
前記導波管の表面上に配置される、光内部結合光学要素をさらに備え、前記光内部結合光学要素および光外部結合光学要素は両方とも、マルチレベルメタ表面を備える、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目４１）
各突出部および直近突出部間の空間は、２００〜５００ｎｍの全幅を画定する、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目４２）
前記第２の光学透過性材料は、前記離間された平坦域を前記突出部にわたって形成する、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目４３）
前記第１および第２の光学透過性材料は、非晶質である、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目４４）
前記第１の光学透過性材料は、ナノインプリントレジストである、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目４５）
前記第２の光学透過性材料は、前記第１の光学透過性材料または前記導波管を形成する材料のいずれよりも高い屈折率を有する、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目４６）
前記第２の光学透過性材料は、１．７を上回る屈折率を有する、項目４５に記載のディスプレイシステム。
（項目４７）
前記光学透過性材料は、半導体を備える、項目４６に記載のディスプレイシステム。
（項目４８）
前記光学透過性材料は、シリコンを備える、項目４７に記載のディスプレイシステム。
（項目４９）
前記光学透過性材料は、窒化ケイ素または炭化ケイ素を備える、項目４８に記載のディスプレイシステム。
（項目５０）
前記光学透過性材料は、酸化物を備える、項目４６に記載のディスプレイシステム。
（項目５１）
前記光学透過性材料は、金属酸化物を備える、項目５０に記載のディスプレイシステム。
（項目５２）
前記光学透過性材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、または酸化亜鉛を備える、項目５１に記載のディスプレイシステム。
（項目５３）
前記導波管は、１．６またはより高い屈折率を有する材料から形成される、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目５４）
前記突出部は、単一レベル構造である、項目３５に記載のディスプレイシステム。
（項目５５）
前記突出部は、段付きマルチレベル構造である、項目３５に記載のディスプレイシステム。