Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月12日(2008.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】  主走査ビーム（１４）と２つの副走査ビーム（１３、１５）を発生し、前記光学記録媒体（７）から反射された前記主及び副走査ビームは、各々が４つの光検出器素子を有する光検出器（１０〜１２）によって検出され、
前記補正された焦点エラー信号ＤＦＥＮは、Ａ〜Ｄが前記反射された主走査ビームを検出する前記光検出器（１１）の前記光検出器素子の出力信号を意味し、Ｅ〜Ｈ及びＩ〜Ｌが前記反射された副走査ビームを検出する前記光検出器（１０、１２）の前記光検出器素子の出力信号を意味する、関係式
ＤＦＥＮ＝((Ａ＋Ｃ)−(Ｂ＋Ｄ))／(Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ)＋
ｇ×(((Ｅ＋Ｇ)−(Ｆ＋Ｈ))／(Ｅ＋Ｆ＋Ｇ＋Ｈ)＋
((Ｉ＋Ｋ)−(Ｊ＋Ｌ))／(Ｉ＋Ｊ＋Ｋ＋Ｌ))
に従って得られることを特徴とする請求項２又は５に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
これら事実を表すために、図８Ａ及び図８Ｂは、例えば光検出器９を用いて光学記録媒体７から反射された主及び副ビームの検出を表している。それは、３マルチゾーン光検出器１０〜１２を有する。２つの光検出器１０及び１２の各々は、副ビームの検出のために備えられ、光検出器１１は、反射された主ビームの検出を提供する。各光検出器１０〜１２は、Ｅ〜ＨとＡ〜ＤとＩ〜Ｌとのそれぞれによって指示された４つの光検出器素子を有する。この指示はまた、対応する光検出器素子によって発生した出力信号を参照するために以下で用いられる。図８Ａは、焦点エラーなしにトラック位置依存焦点オフセット成分の存在を与える光検出器影像の例を表す。図８Ｂは、焦点エラーを有するが、トラック位置依存オフセットを有しない光検出器の影像の例を表す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
この正規化されたオフセット補償された焦点エラー信号ＤＦＥＮを発生する、対応する回路配置は、図１に表されている。図１から理解できるように、最初に、正規化されたＣＦＥＮ信号と正規化されたＯＦＥＮ信号とが、前述の式（４）及び（５）に従って発生され、ＯＦＥＮ信号は、２つの中間信号ＯＦＥ１及びＯＦＥ２から得られる。オフセット補償された焦点エラー信号ＤＦＥＮは、これら２つの正規化エラー信号ＣＦＥＮとｇ＝０．５を有するＯＦＥＮとの和の組み合わせによって得られる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
正規化の結果として、３つのトラックに向けられた光の強度は、また、副ビームの場合に結合正規化によることを除いて、付随して正規化される。従って、２つの寄与から発生したエラー信号の振幅は、正規化の後で同じ大きさのものとなる。これは、トラック位置依存焦点オフセット成分と、焦点エラー成分との両方に適用される。焦点オフセット成分を零に等しくするために、それゆえ、以下の式がｇに対して正確に維持されなければならない。
ＤＦＥＮｏ＝ＣＦＥＮｏ＋ｇ×ＯＦＥＮｏ＝０；
ＯＦＥＮｏ＝ＣＦＥＮｏ                                      （１１）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
その結果、本発明によれば、補正又は補償された焦点エラー信号ＤＦＥＮ又はトラックエラー信号ＤＰＰＮは、光学記録媒体７の隣接トラック上に投射する主及び副走査ビームを発生し、光学記録媒体から反射された主及び副ビームを、主ビーム及び副ビーム焦点エラー信号ＣＦＥ及びＯＦＥ、又は、主ビーム及び副ビームトラックエラー信号ＣＰＰ及びＯＰＰをそれらから導出するために検出し、続いて、重み付けられた組み合わせを用いて正規化された主ビーム及び副ビームエラー信号ＣＦＥＮ、ＯＦＥＮ；ＣＰＰＮ、ＯＰＰＮから、補償された焦点エラー信号ＤＦＥＮ又はトラックエラー信号ＤＰＰＮを得るために正規化されることによって得られる。正規化の結果として、補正又は補償された焦点エラー信号ＤＦＥＮ又はトラックエラー信号ＤＰＰＮを、それぞれ走査されたトラックの反射特性に独立して発生することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）融解温度が６６０℃よりも高く、自然酸化物を有し、任意にステンレス鋼と、チタンと、ニッケルと、鉄と、コバルトと、クロムと、ジルコニウムと、これらを含有する合金と、から選択されてもよい第１の金属材料と、
前記第１の金属材料の前記酸化物の還元用金属であり、任意にアルミニウムであってもよい、前記第１の材料に隣接した第１の還元用金属と、
前記還元用金属に隣接し、任意に銅と、銀と、スズと、インジウムと、これらを含有する合金と、から選択される材料を含んでもよいロウ材と、
融解温度が６６０℃よりも高い材料を含み、任意に溶融研磨体であってもよい、前記ロウ材に隣接した第２の材料と、を含む多層アセンブリを形成するステップ、
（ｂ）前記アセンブリの周りに任意に少なくとも０．６パスカルであってもよい真空を作るステップ、
（ｃ）前記アセンブリを前記還元用金属と前記ロウ材とを溶かすのに充分な温度に加熱するステップであって、任意に、
（ｉ）前記温度が４５０℃〜８００℃であってもよく、かつ／または
（ｉｉ）前記温度が１分〜１５分間維持されてもよい、ステップ、
（ｄ）前記アセンブリを冷却することで接合体を形成するステップを含む、接合体の製造方法。
【請求項２】
前記第２の材料が第２の酸化物を形成でき、前記アセンブリが、前記第２の材料に隣接した第２の還元用金属をさらに含み、前記還元用金属が、前記第２の材料上の前記第２の酸化物の少なくとも一部を還元できる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ａ）融解温度が６６０℃よりも高い第１の材料を含む第１の層と、
（ｂ）融解温度が６６０℃よりも高い第２の材料を含む第２の層と、
（ｃ）前記第１の層と前記第２の層との間に設けられたフィラー層であって、ロウ材と酸化アルミニウムとを含有する複合組織合金を含む前記フィラー層と、
（ｄ）任意に前記第１の層または第２の層の中の研磨粒子と、
を含む、接合体。
【請求項４】
（ａ）溶融研磨体を含む第１の層と、
（ｂ）融解温度が６６０℃よりも高い材料を含む第２の層と、
（ｃ）前記第１の層と前記第２の層との間に設けられたフィラー層であって、ロウ材と還元用金属酸化物とで構成された複合組織合金を含むフィラー層と、
を含み、任意に前記第１の層が複数の研磨粒子を含んでいてもよく、前記第２の層が６６０℃よりも高い融解温度を有する金属であってもよく、任意に前記金属がステンレス鋼であってもよい、研磨物品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月23日(2008.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも部分的に重なり合う関係で配置された少なくとも２層の液体不透過性材料と、
少なくとも一つの層の縁に沿って前記少なくとも２層の液体不透過性材料を互いに結合する複数の超音波結合点と、
を含み、
前記結合点が少なくとも３つの平行な列に整列され、前記各々の列の隣接する結合点が、互いに約０．００１インチと約０．２インチとの間の距離で離間し、前記各々の列の少なくとも一つの結合点が少なくとも３つの別の結合点から均等に離間しており、隣接する列の前記結合点が互いにオフセットしていることを特徴とする、漏れ防止シール。
【請求項２】  隣接する結合点が、互いに約０．００２５インチと約０．１７５インチとの間の距離にあることを特徴とする、請求項１に記載の漏れ防止シール。
【請求項３】  隣接する結合点が、互いに約０．００５インチと約０．１５インチとの間の距離にあることを特徴とする、請求項１に記載の漏れ防止シール。
【請求項４】  各結合点が、約０．００５インチと約０．２５インチとの間の直径を有することを特徴とする、請求項１に記載の漏れ防止シール。
【請求項５】  各結合点が、約０．０１０インチと約０．１７５インチとの間の直径を有することを特徴とする、請求項１に記載の漏れ防止シール。
【請求項６】  各結合点が、約０．０１５インチと約０．１５インチとの間の直径を有することを特徴とする、請求項１に記載の漏れ防止シール。
【請求項７】  隣接する列の前記結合点が、互いに約０°から約８９°オフセットしていることを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の漏れ防止シール。
【請求項８】  隣接する列の前記結合点が、互いに約１５°から約７５°オフセットしていることを特徴とする、請求項７に記載の漏れ防止シール。
【請求項９】  隣接する列の前記結合点が、互いに約３０°から約６０°オフセットしていることを特徴とする、請求項７に記載の漏れ防止シール。
【請求項１０】  少なくとも４つの平行な結合点の列を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の漏れ防止シール。
【請求項１１】  液体不透過性材料の前記層の少なくとも１つが、通気性であることを特徴とする、請求項１から１０のいずれかに記載の漏れ防止シール。
【請求項１２】  液体不透過性材料の前記層の少なくとも１つが、通気性フィルムであることを特徴とする、請求項１から１１のいずれかに記載の漏れ防止シール。
【請求項１３】  液体不透過性材料の前記層の少なくとも１つが、不織ウェブであることを特徴とする、請求項１から１２のいずれかに記載の漏れ防止シール。
【請求項１４】  第１の液体不透過性の不織ラミネートと、該ラミネートに結合された第２の液体不透過性材料との組合わせであって、該組合わせは、前記請求項１から１３のいずれかに記載の漏れ防止シールを備えており、
前記第１の液体不透過性の不織ラミネートと前記第２の液体不透過性材料が、少なくとも部分的に重なり合う関係で配置された少なくとも２層の液体不透過性材料を備えていることを特徴とする組合わせ。
【請求項１５】  第２の液体不透過性材料を含む衣類に結合された第１の液体不透過性材料を含む少なくとも一つの収納フラップの組合わせであって、
前記請求項１から１３のいずれかの漏れ防止シールを備えており、
前記第１の液体不透過性材料と前記第２の液体不透過性材料が、少なくとも部分的に重なり合う関係で配置された少なくとも２層の液体不透過性材料を備えるものであることを特徴とする組合わせ。
【請求項１６】  前記第２の液体不透過性材料が液体不透過性フィルムに接合された不織材料を備えていることを特徴とする請求項１５に記載の組合わせ。
【請求項１７】  前記請求項１４から１６のいずれかの組合わせを備える吸収性衣類。
【請求項１８】  前記衣類は、おむつ、トイレトレーニングパンツ、女性衛生物品及び吸収性下着からなる群から選択されるものである請求項１７に記載の吸収性衣類。
【請求項１９】  請求項１から１３のいずれかの漏れ防止シールを形成する結合方法であって、
少なくとも一つの層の縁に沿って液体不透過性材料の２つの層の間に漏れ防止結合を超音波で形成する段階を備え、別個の結合点が少なくとも３つの平行な列に整列され、前記各々の列の隣接する結合点が、互いに約０．００１インチと約０．２インチとの間の距離で離間し、前記各々の列の少なくとも一つの結合点が少なくとも３つの別の結合点から均等に離間し、隣接する列の前記結合点が互いにオフセットしており、
各層の材料の部分を変位させる段階を含み、前記変位された部分の各々が少なくとも１つの他の変位された部分と接触していることを特徴とする、結合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月6日(2008.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェーハの研磨方法であって、
塩化物イオンを有する研磨用流体組成物を供給する工程、
研磨用流体組成物で、半導体ウェーハ上のバリア層を研磨して、バリア層を除去し、そして銅配線上の高点を研磨し、研磨用組成物を有する溶液中に銅イオンを可溶化する工程、及び、
塩化物イオンが高点近傍に移動し、高点上における溶液からの銅イオンの再メッキを抑えつつ、溶液からの銅イオンを再メッキして、銅配線の表面を平坦化する工程、
を含む方法。
【請求項２】
導電性金属配線、バリア層又はライナー層、及び絶縁層で構築されている半導体ウェーハをＣＭＰ研磨する方法であって、
（ａ）研磨パッドを含むＣＭＰ研磨装置に半導体ウェーハを配置する工程、
（ｂ）研磨パッドと半導体ウェーハとの界面に塩化物イオンを供給する化合物を含む水性化合物を供給する工程、
（ｃ）研磨パッドと半導体ウェーハとの間に相対運動を与えて半導体ウェーハを研磨して、導電性金属イオンを研磨組成物を有する溶液中に可溶化する工程、及び
（ｄ）塩化物イオンが高点近傍に移動し、高点における溶液からの導電性金属イオンの再メッキを抑えつつ、溶液からの導電性金属イオンを再メッキして導電性金属配線表面を平坦化する工程
を含む方法。
【請求項３】
半導体ウェーハを研磨する研磨組成物であって、
溶液中に銅イオンを形成する錯化剤と、腐食インヒビターと、ポリマーと、半導体ウェーハの研磨表面の下の銅配線上の高点に移動し、高点における銅イオンの再メッキを抑える塩化物イオン供給源５〜２０００ppmと、を含む溶液を
含む組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月27日(2008.8.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
一般的に、前記共鳴の励起波長は、共鳴が最大となるピークを中心とする、相当に広範囲の波長に対応する。前記導波管の共鳴波長はすべて３５０乃至１１００ｎｍであることが好ましい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
伝統的な陰極ベースのリソグラフィ法を使用すると、同一の寸法を有するが種類の異なる導波管１及び２が、１．５の屈折率を有するガラス基板4上に配される。よって図１に概略的に図示された素子が得られる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
第1導波管１はアルミニウム製であり、第2導波管２は金製である。これらの導波管の寸法はいずれも、２０００  ｎｍ×４０  ｎｍ×４０  ｎｍである。これらの導波管は約０．１μｍの間隔、つまり導波管間での如何なる直接結合効果をも回避するのに十分大きい間隔だが同一の光ビームを用いてこれらのナノ導波管のうちの2つの隣り合う端部を同時に励起可能とするには十分小さい間隔、をもって平行に配される。そこでこれら2つの端部のうち、一端は入口端と呼ばれ、他端は出口端と呼ばれる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面に空洞を有する絶縁性ハウジングと、
該空洞内の、絶縁性層と導電性シェルとによって包囲される信号プローブを有するプローブコネクタと、
該空洞内の導電性接地プローブと、
該ハウジングの該前面に隣接して該空洞内に配置された導電性リテーナであって、該プローブコネクタと該接地プローブとを収納する通路を有し、該接地プローブが該導電性リテーナおよび該プローブコネクタの該導電性シェルと電気的に接触している導電性リテーナと、
を備えることを特徴とするスプリングプローブブロックアセンブリ。
【請求項２】
長手方向スプリングプローブを収納する収納手段を有するハウジングと、
該収納手段内に配置される長手方向スプリングプローブと、
を備え、
該収納手段が、該スプリングプローブを弾力的に偏向させ摩擦嵌合により該収納手段内に該スプリングプローブを保持する偏向部を有することを特徴とするスプリングプローブブロックアセンブリ。
【請求項３】
直線状スプリングプローブを収納するように構成されたハウジングと、
該ハウジング内に配置された直線状スプリングプローブと、
を備え、
該スプリングプローブが該ハウジングによって弾力的に偏向されることにより、該スプリングプローブと該ハウジングとの間に垂直力がもたらされ、それにより該ハウジング内に該スプリングプローブが保持されることを特徴とするスプリングプローブブロックアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
呼吸装置マスクを第１型の身体シールから第２型の身体シールへ取り換える方法であって、
呼吸装置マスクは顔面レンズを有し、該レンズはレンズの周りに延在する周辺シーリング縁を有し、
レンズの周辺シーリング縁と第１型の身体シールのレンズ開口との間のシールをはずす工程と、
レンズを第１型の身体シールのレンズ開口から取り外す工程と、
レンズを第２型の身体シールのレンズ開口内に整列させる工程と、
レンズの周辺シーリング縁と第２型の身体シールのレンズ開口との間にシールを形成する工程と、を含む方法。
【請求項２】
上記第１型の身体シールが、全面体シール、呼吸装置フード、および全身呼吸装置スーツからなる群より選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記第２型の身体シールが、全面体シール、呼吸装置フード、および全身呼吸装置スーツからなる群より選択される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
上記呼吸装置マスクが、上記レンズの上記周辺シーリング縁の対向した縁部分および上記第１型の身体シールの上記レンズ開口を付勢するクランプ素子を有し、上記取り外す工程がクランプ素子を緩める工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
呼吸装置マスクを全面体呼吸装置からフード呼吸装置へ取り換える方法であって、
呼吸装置マスクは顔面レンズを有し、該レンズはレンズの周りに延在する周辺シーリング縁を有し、
全面体呼吸装置のシールをその周辺シーリング縁の周りのマスクの顔面レンズに対する気密の係合からはずす工程と、
レンズを全面体呼吸装置から取り外す工程と、
フード呼吸装置のレンズ開口をマスクの周辺シーリング縁と気密の係合状態で整列させる工程と、
フード呼吸装置のレンズ開口をマスクの周辺シーリング縁に気密状態で取り付ける工程と、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （a）リンカーによってVL-CL免疫グロブリンドメインのCLに接続された第一の一本鎖Fv結合部位（scFv）を含む第一のポリペプチド、および
（b）リンカーによってVH-CH1免疫グロブリンドメインのCH1のカルボキシル末端に接続された第二の一本鎖Fv結合部位（scFv）を含む第二のポリペプチド
を含む標的結合タンパク質であって、
該第一および第二のscFvがそれぞれ独立して標的結合部位を形成し、かつVL-CL-リンカー-scFvがVH-CH1-リンカー-scFvと会合して、第三のFv結合部位を形成し、
i．CLがヒトκであり、
ii．CH1がヒトIgG1であり、かつ
iii．第一のポリペプチドおよび第二のポリペプチドが、第一のポリペプチドのCL内のスルフヒドリル基と第二のポリペプチドのリンカー内のスルフヒドリル基との間のS-S結合によって接続され、かつ
iv．システインが第二のポリペプチドのリンカーの5番目のアミノ酸である、
標的結合タンパク質。
【請求項２】  CH1のカルボキシル末端に接続されたリンカーの第一のアミノ酸が、EPKSCである、請求項1記載の標的結合タンパク質。
【請求項３】  3つの結合部位が同じ標的結合特異性を有する、請求項1記載の標的結合タンパク質。
【請求項４】  結合部位のうち2つが同じ標的結合特異性を有し、3つ目は異なる標的結合特異性を有する、請求項1記載の標的結合タンパク質。
【請求項５】  3つの結合部位がそれぞれ、互いに異なる標的結合特異性を有する、請求項1記載の標的結合タンパク質。
【請求項６】  第一のポリペプチドまたは第二のポリペプチドが、付加的アミノ酸配列に、そのN末端またはC末端のいずれかで結合している、請求項1〜5のいずれか一項記載の標的結合タンパク質。
【請求項７】  付加的アミノ酸配列が、ペプチドタグ、シグナルペプチド、酵素、サイトカイン、毒素、薬剤、細胞毒性タンパク質、およびその他の機能的タンパク質からなる群より選択されるポリペプチドを含む、請求項6記載の標的結合タンパク質。
【請求項８】  第一のポリペプチドまたは第二のポリペプチドのいずれかが、さらにN-グリコシル化認識配列を含む、請求項1〜7のいずれか一項記載の標的結合タンパク質。
【請求項９】  糖鎖がN-グリコシル化認識配列に結合している、請求項8記載の標的結合タンパク質。
【請求項１０】  糖鎖が、薬剤、放射性化合物、キレート剤、酵素、毒素、サイトカイン、細胞毒性タンパク質、およびその他の機能的作用物質からなる群より選択される作用物質に結合している、請求項9記載の標的結合タンパク質。
【請求項１１】  標的結合タンパク質が、薬剤、放射性化合物、キレート剤、酵素、毒素、サイトカイン、細胞毒性タンパク質、およびその他の機能的作用物質からなる群より選択される作用物質に結合している、請求項1〜10のいずれか一項記載の標的結合タンパク質。
【請求項１２】  1つの標的結合部位が、毒素、薬剤、サイトカイン、キレート剤、酵素、放射性化合物、細胞毒性タンパク質、またはその他の機能的作用物質に結合することができ、かつ他の2つの標的結合部位が腫瘍抗原に結合することができる、請求項1〜11のいずれか一項記載の標的結合タンパク質。
【請求項１３】  1つの標的結合部位が腫瘍抗原に結合することができ、かつ他の2つの標的結合部位が、毒素、薬剤、サイトカイン、キレート剤、酵素、放射性化合物、細胞毒性タンパク質、またはその他の機能的作用物質に結合することができる、請求項1〜11のいずれか一項記載の標的結合タンパク質。
【請求項１４】  1つの標的結合部位が腫瘍抗原に結合することができ、かつ他の2つの標的結合部位が、T細胞または別のエフェクター細胞の表面タンパク質に結合することができる、請求項1〜11のいずれか一項記載の標的結合タンパク質。
【請求項１５】  T細胞の表面タンパク質がCD28およびCD3である、請求項14記載の標的結合タンパク質。
【請求項１６】  請求項1記載の第一および第二のポリペプチドをコードするポリヌクレオチドを含む、単離された核酸分子。
【請求項１７】  請求項16記載の核酸を含むベクター。
【請求項１８】  請求項17記載のベクターを含む宿主細胞。
【請求項１９】  対象における腫瘍を治療するのに有用な薬剤であって、請求項1〜15のいずれか一項記載の標的結合タンパク質を含む薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動ベースと、
上記移動ベース近傍にある投映スクリーンと、
旋回点を中心に旋回可能な乗客プラットフォ−ムと、
上記旋回点で回転可能なシャフトを介して上記乗客プラットフォ−ムと機械的に連結するモータとを有し、
上記旋回点は上記乗客プラットフォ−ムの中心からずれている娯楽用乗物。
【請求項２】
上記乗客プラットフォ−ムの下側にローラを有し、
上記移動ベースが上記ローラと係合する軌道部を有する請求項１の娯楽用乗物。
【請求項３】
上記移動ベース上に間隔をあけて配置されている一対の動作ストッパと、
上記投映スクリーン上に投映された画像と同期して上記移動ベースおよび上記観客プラットフォ−ムを移動させる手段を有する請求項１の娯楽用乗物。
【請求項４】
複数の自由度を備える移動ベースと、
上記移動ベース近傍にある投映スクリーンと、
上記移動ベースの上部に設けられ、且つ、旋回点を中心として旋回可能な乗客プラットフォ−ムであって、
上記旋回点は上記乗客プラットフォ−ムの中央部からずれているものと、
上記旋回点に配置された回転可能なシャフトを介して上記移動ベースと機械的に連結されたモータと、
を有する娯楽用乗物。
【請求項５】
上記観客プラットフォ−ムの下側に上記移動ベースの上面と係合するためのローラと、
上記観客プラットフォ−ムの動作を制動するブレーキを有する請求項４の娯楽用乗物。
【請求項６】
上記観客プラットフォ−ムにあり且つ上記観客プラットフォ−ムの前端部に対向する複数の座席を有し、上記プラットフォームの前端部近傍に旋回点を有する請求項４の娯楽用乗物。
【請求項７】
上記移動ベースは観客プラットフォームを横転させる手段を有し、上記横転動作は重力によって上記旋回点を中心として上記観客プラットフォームを旋回させる請求項４の娯楽用乗物。
【請求項８】
上記移動ベースと上記観客プラットフォ−ムが上記投映スクリーン上に投映された画像と同期して移動される請求項４の娯楽用乗物。
【請求項９】
複数の自由度を備える移動ベースと、
上記移動ベースに支持された乗客プラットフォ−ムであって、該乗客プラットフォ−ムの中央部からずれた旋回点を中心として旋回可能な乗客プラットフォ−ムと、
上記旋回点に配置された回転可能なシャフトを介して上記移動ベースと機械的に連結されたモータと、
上記乗客プラットフォ−ム上の乗物車両と、
上記乗物車両に搭載された投映スクリーンと、
を有する娯楽用乗物。
【請求項１０】
移動ベースと、
上記移動ベース近傍にある投映スクリーンと、
その中央部からずれた旋回点を中心として旋回可能な乗客プラットフォ−ムと、
上記移動ベース上に設けられ、間隔を置いて配置された一対の動作ストッパとを有する娯楽用乗物。
【請求項１１】
移動ベースと、
上記移動ベース近傍にある投映スクリーンと、
旋回点を中心に旋回可能な乗客プラットフォ−ムと、
上記旋回点で回転可能なシャフトを介して上記移動ベースと機械的に連結するモータとを有し、
上記旋回点は上記乗客プラットフォ−ムの中心からずれている娯楽用乗物。
【請求項１２】
複数の自由度を備える移動ベースと、
上記移動ベース近傍にある投映スクリーンと、
上記移動ベースの上部に設けられ、且つ、旋回点を中心として旋回可能な乗客プラットフォ−ムであって、
上記旋回点は上記乗客プラットフォ−ムの中央部からずれているものと、
上記旋回点に配置された回転可能なシャフトを介して上記乗客プラットフォ−ムと機械的に連結されたモータと、
を有する娯楽用乗物。
【請求項１３】
複数の自由度を備える移動ベースと、
上記移動ベースによって支持され且つ旋回点について旋回可能な観客プラットフォ−ムであって、
上記旋回点が上記観客プラットフォームの中央部からずれて偏心しているものと、
上記観客プラットフォームと機械的に連結されたモータと、
観客プラットフォーム上にある乗物車両部と、
上記乗物車両部内にある投映スクリーンと、
を有する娯楽用乗物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
したがって、乗物の旋回動作をより現実的にシミュレートする改良された娯楽用乗物が必要とされている。本発明の目的は、複数の自由度を有し、魚の尾に似て偏心した揺れ動作をする移動ベースを提供することである。
【特許文献１】米国特許第５７７２５１３号
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
保護フィルムと空隙の透過率は、コンピュータにＣａｌＣとして保存される。その後、サンプル材料が試験セル内に密封される。再度、水蒸気が、空隙を通り保護フィルムと試験材料へ拡散して、その後、試験材料をさっと通過する乾燥ガス流と混合される。同様に、この混合物は蒸気センサへ運ばれる。その後、コンピュータが、空隙、保護フィルム及び試験材料の組合せの透過率を計算する。この情報は、水分が試験材料を透過するときの透過率を次式によって計算するために使用される。
ＴＲ-1試験材料＝ＴＲ-1試験材料、保護フィルム、空隙−ＴＲ-1保護フィルム、空隙
計算：
ＷＶＴＲ：  ＷＶＴＲの計算は次式を用いる。
ＷＶＴＲ＝Ｆρsat（Ｔ）ＲＨ／Ａｐsat（Ｔ）（１−ＲＨ）
ここで、
Ｆ＝ｃｃ／分での水蒸気の流れ、
ρsat（Ｔ）＝温度Ｔにおける飽和空気中の水の密度、
ＲＨ＝セル内の指定位置における相対湿度、
Ａ＝セルの断面積、
ｐsat（Ｔ）＝温度Ｔにおける水蒸気の飽和蒸気圧。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の皮膚の皮膚病学手術における前処置のための組成物であって、
該組成物が少なくとも１つの甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物を局所塗布に適した薬理学的に許容可能な基剤と一緒に含み、該甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物が５×１０−６Ｍ未満の平衡解離定数ＫｄでTＲ−αまたはＴＲ−βと結合し、
Ｋｄ＝（Ｒ）・（Ｌ）／（ＲＬ）
（式中、（Ｒ）は受容体の濃度であり、（Ｌ）はリガンドの濃度であり、（ＲＬ）は受容体−リガンド複合体の濃度）
である組成物。
【請求項２】
患者の皮膚の易打撲傷性を減少させるための組成物であって、
該組成物が少なくとも１つの甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物を局所塗布に適した薬理学的に許容可能な基剤と一緒に含み、該甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物が５×１０−６Ｍ未満の平衡解離定数ＫｄでTＲ−αまたはＴＲ−βと結合し、
Ｋｄ＝（Ｒ）・（Ｌ）／（ＲＬ）
（式中、（Ｒ）は受容体の濃度であり、（Ｌ）はリガンドの濃度であり、（ＲＬ）は受容体−リガンド複合体の濃度）
である組成物。
【請求項３】
患者の真皮の細胞充実性及び厚みを増大させるための組成物であって、
該組成物が少なくとも１つの甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物を局所塗布に適した薬理学的に許容可能な基剤と一緒に含み、該甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物が５×１０−６Ｍ未満の平衡解離定数ＫｄでTＲ−αまたはＴＲ−βと結合し、
Ｋｄ＝（Ｒ）・（Ｌ）／（ＲＬ）
（式中、（Ｒ）は受容体の濃度であり、（Ｌ）はリガンドの濃度であり、（ＲＬ）は受容体−リガンド複合体の濃度）
である組成物。
【請求項４】
甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物が、［４−（４−ヒドロキシ−３−ヨードフェノキシ）−３，５−ジヨードフェニル］酢酸（トリアック）又はその薬学的に許容される塩である請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
前記薬理学的に許容可能な基剤が、リノール、オレイン、およびパルミチンからなる群から選択される１つまたはそれ以上の脂肪酸、エステルまたはトリグリセリド、およびリノレン脂肪酸、エステルまたはトリグリセリドを含む請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
前記少なくとも１つの甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物が、組成物１００ｍｌ当たり、５００ｍｇ未満である請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記少なくとも１つの甲状腺ホルモン化合物または甲状腺ホルモン様アゴニスト化合物が、組成物１００ｍｌ当たり、２００ｍｇ未満である請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
患者が多因子性真皮萎縮を有する患者である請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１０】
さらに、
ｄ）前記データキャリアの前記識別データブロックの所定部分の伝送チャンネルへの割り当てを評価することによって、関連する伝送チャンネルを決定する手段と、前記伝送チャンネルの決定に使用される前記識別データブロックの前記所定部分のデータ伝送を抑止する手段、及び、
ｅ）前記識別データブロックの所定部分の、前記データ要求コマンド中で受信したビットマスクとの一致を識別する手段と、前記ビットマスクに対応する前記識別データブロックの前記所定部分のデータ伝送を抑止する手段
の少なくとも一方を具えていることを特徴とする請求項９に記載の電気回路。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１１】
請求項１０に記載の電気回路、及び前記電気回路に接続されたデータキャリア伝送手段を具えていることを特徴とするデータキャリア。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図５】
2004519933.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年6月17日(2008.6.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッセージを受信するための、無線通信システムにおける無線通信装置であって、該無線通信装置は、
メッセージを受信する受信機と、
受信機に連結され前記メッセージを処理するプロセッサと、
プロセッサに連結されたメモリと、
プロセッサに連結された作動モード管理アプリケーションとを備え、
該メモリは、メッセージを記憶するメッセージメモリと、位置情報を記憶する位置メモリとを含み、
該作動モード管理アプリケーションは、
位置メモリにアクセスし、
位置メモリ内に記憶された位置情報を使用して現在速度を計算し、
現在速度を速度制限と比較し、
現在速度が速度制限を超えたとき、あらかじめ設定された時間中、前記アクセスする工程、前記計算する工程、および前記比較する工程を反復し、
前記あらかじめ設定された時間中、現在速度が速度制限を超えるとき、作動モードを識別するよう、プログラミングされている装置。
【請求項２】
請求項１に記載の無線通信装置であって、プロセッサは、作動モードを識別する作動モード管理アプリケーションに応答して、作動モードをエネーブルにする装置。
【請求項３】
請求項１に記載の無線通信装置であって、該無線通信装置はさらにハンドフリー回路を備え、さらに該作動モードはハンドフリー作動であり、さらにプロセッサは、作動モードがハンドフリー作動であることを識別する作動モード管理アプリケーションに応答して、ハンドフリー回路を作動させる装置。
【請求項４】
請求項１に記載の無線通信装置であって、該無線通信装置はさらにクロックを含み、該クロックは現在時間を含み、さらに位置メモリに記憶された位置情報は、現在時間を含む装置。
【請求項５】
請求項４に記載の無線通信装置であって、該位置情報は現在位置、現在時間、複数の以前の位置、及び複数の以前の時間を含む装置。
【請求項６】
請求項１に記載の無線通信装置であって、該無線通信装置は、複数のＧＰＳ信号を受信するための、プロセッサと連結するＧＰＳ受信機をさらに含み、該プロセッサは複数のＧＰＳ信号を使用して現在速度を計算する装置。
【請求項７】
プロセッサ、メモリ、及び作動モード管理アプリケーションを有する無線通信装置における速度感応作動のための方法であって、該速度感応作動のための方法は、
プロセッサによって現在位置と現在時間を決定し、
現在位置と現在時間をメモリ内に記憶し、
現在位置と、現在時間と、メモリに記憶される複数の以前の位置情報とを使用して、作動モード管理アプリケーションによって現在速度を計算し、
現在速度を速度制限と比較し、
現在速度が速度制限を超えたとき、あらかじめ設定された時間中、前記決定する工程、前記記憶する工程、および前記計算する工程を反復し、
前記あらかじめ設定された時間中、現在速度が速度制限を超えるとき、作動モードを識別し、
作動モードをエネーブルにすることからなる方法。
【請求項８】
請求項７に記載の無線通信装置における速度感応作動のための方法であって、該方法はさらに、
現在速度が速度制限をもはや超えないとき、識別された作動モードをディスエーブルにすることからなる方法。
【請求項９】
プロセッサ、メモリ、及び作動モード管理アプリケーションを有する無線通信装置における速度感応作動のための方法であって、速度感応作動のための方法は、
プロセッサによって現在速度を決定し、
現在速度をメモリ内に記憶し、
現在速度を速度制限と比較し、
現在速度が速度制限を超えたとき、あらかじめ設定された時間中、前記決定する工程、前記記憶する工程、および前記比較する工程を反復し、
前記あらかじめ設定された時間中、現在速度が速度制限を超えるとき、作動モードを識別し、
作動モードをエネーブルにすることからなる方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の無線通信装置における速度感応作動のための方法であって、無線通信装置はＧＰＳ受信機を備え、該方法はさらに、現在速度の決定に先立ち、
ＧＰＳ受信機により複数のＧＰＳ信号を受信し、
受信した複数のＧＰＳ信号を用いて複数の位置を計算し、
該複数の位置を位置メモリに記憶すること、を含み、
現在速度は記憶された複数の位置を用いて、前記決定する工程において決定される方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
もし現在速度１０８が、続いて所定の速度制限を下回るときは、作動モード管理アプリケーション９０は、ハンドフリーモードをディスエーブルにする。代替として、作動モード管理アプリケーション９０によって使用者は、モードがエネーブル、又はディスエーブルにされる前にあらかじめ設定された時間中保持されるように、現在速度１０８を要求する時間パラメータを設定し得る。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月5日(2007.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の第１のキャパシタ（130,133,136）と、
第１のキャパシタとそれぞれ制御可能に結合された複数のイメージセンサユニットセル入力（113,116,119）と、
複数のグループのｎ個の第２のキャパシタ（131,132;134,135）と、
複数の経路セグメントを通って直列に結合された複数の転送ゲート（122,124,126,128;125,127,129）を含む複数のｎ個の電荷転送路とを具備し、電荷転送路の経路セグメントは交互に第１のキャパシタの１つおよび第２のキャパシタのグループの１つのそれぞれ第２のキャパシタとに結合されているドエル当りｎ個のサンプルを取得する時間遅延積分回路。
【請求項２】  さらに、第１のキャパシタとそれぞれ制御可能に結合された複数のリセット入力（111,114,117）を含んでいる請求項１記載の時間遅延積分回路。
【請求項３】  さらに、第１の位相クロックノード（Φ１）および第２の位相クロックノード（Φ２）を含んでおり、第１の各キャパシタは第２のクロックノードに結合され、第２の各キャパシタは第１の位相クロックノードに結合される請求項１または２記載の時間遅延積分回路。
【請求項４】  複数ｎの第１の経路制御信号ノード（ΦＢＢ、ΦＯＢ）と、第１の伝送制御信号ノード（ΦＣ１／Ｓｗ、ΦＳＷ／Ｃ１）と、および第２の伝送制御信号ノード（ΦＣ２／Ｓｗ、ΦＳＷ／Ｃ２）を含んでおり、各電荷転送路の転送ゲートは各経路制御信号ノードの１つに結合され、電荷転送路の隣接する転送ゲートは各第１の伝送制御信号ノードおよび第２の伝送制御信号ノードにそれぞれ結合されている請求項１乃至３のいずれか１項記載の時間遅延積分回路。
【請求項５】  ｎが２であり、電荷転送路の１つが奇数番号の経路であり、電荷転送路の他のものが偶数番号の経路である請求項１乃至４のいずれか１項記載の時間遅延積分回路。
【請求項６】  転送ゲートはＭＯＳＦＥＴトランジスタである請求項１乃至５のいずれか１項記載の時間遅延積分回路。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月5日(2007.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の端部と第２の端部との間に直列に配置された第１のゲート（113,121,129,137）および第２のゲート（114,122,130,138）を有している第１の電荷転送路セグメントと、
第１の端部と第２の端部との間に直列に配置された第１のゲート（115,123,131,139）および第２のゲート（116,124,132,140）を有しており、その第１の端部が第１の電荷転送路の第２のゲートに接続されている第２の電荷転送路セグメントと、
第１の電荷転送路セグメントの第１の端部に接続された第１の端子と第２の端子とを有する第１のキャパシタ（151,155,159,163）と、
第２の電荷転送路セグメントの第１の端部に接続された第１の端子と第２の端子とを有する第２のキャパシタ（152,156,160,164)とをそれぞれ含んでいる複数の直列接続された回路グループと、
第２のキャパシタの第１の端子にそれぞれ制御可能に接続された複数の映像センサユニットセル入力（101,103,105,107）と、
第１のゲートに第１の回路モードにおいて制御可能に接続され、第２のゲートに第２の回路モードにおいて制御可能に接続されるスクリーン電圧ノード（φＢ）と、
第１のキャパシタの第２の端子に結合され、第２の電荷転送路セグメントの第２のゲートに第１の回路モードにおいて制御可能に接続され、第１の電荷転送路セグメントの第１のゲートに第２の回路モードにおいて制御可能に接続された第１の位相クロックノード（φ１，φＣ１）と、
第２のキャパシタの第２の端子に結合され、第１の電荷転送路セグメントの第２のゲートに第１の回路モードにおいて制御可能に接続され、第２の電荷転送路セグメントの第１のゲートに第２の回路モードにおいて制御可能に接続された第２の位相クロックノード（φ２，φ２Ｃ，）とを備えている時間遅延積分回路（110）。
【請求項２】  第２のキャパシタの第１の端子にそれぞれ制御可能に接続された複数のリセット入力（102,104,106,108）をさらに含んでいる請求句尾１記載の時間遅延積分回路。
【請求項３】  第２のキャパシタにそれぞれ接続された分極端子と、映像センサユニットセル入力にそれぞれ接続された第１のスイッチ端子と、およびリセット入力にそれぞれ接続された第２のスイッチ端子とを有している複数のスイッチ回路（170,171,172,173）をさらに含んでいる請求項１または２記載の時間遅延積分回路。
【請求項４】  スイッチ回路はＭＯＳＦＥＴトランジスタスイッチ回路である請求項３記載の時間遅延積分回路。
【請求項５】  直列接続された回路グループはさらに、
第１の端部と第２の端部との間に直列に配置された第１のゲート（117,125,133,141）および第２のゲート（118,126,134,142）を有している第３の電荷転送路セグメントと、
第１の端部と第２の端部との間に直列に配置された第１のゲート（119,127,135,111）および第２のゲート（120,128,136,112）を有し、第２の電荷転送路の第１の端部が第１の電荷転送路の第２のゲートに接続されている第４の電荷転送路セグメントと、
第３の電荷転送路セグメントの第１の端部に接続された第１の端子と、第２の端子とを有する第３のキャパシタ（153,157,161,165）と、
第４の電荷転送路セグメントの第１の端部に接続された第１の端子と、第２の端子とを有する第４のキャパシタ（154,158,162,166)とをそれぞれ含んでおり、
スクリーンの電圧ノード（φＢ）はさらに、第３および第４の電荷転送路セグメントの第１のゲートに第１の回路モードにおいて制御可能に接続され、第３および第４の電荷転送路セグメントの第２のゲートに第２の回路モードにおいて制御可能に接続され、
第１の位相クロックノード（φ１，φＣ１）はさらに、第３のキャパシタの第２の端子に結合され、第４の電荷転送路セグメントの第２のゲートに第１の回路モードにおいて制御可能に接続され、第３の電荷転送路セグメントの第１のゲートに第２の回路モードにおいて制御可能に接続され、
第２の位相クロックノード（φ２，φ２Ｃ，）はさらに、第４のキャパシタの第２の端子に結合され、第３の電荷転送路セグメントの第２のゲートに第１の回路モードにおいて制御可能に接続され、第４の電荷転送路セグメントの第１のゲートに第２の回路モードにおいて制御可能に接続されている請求項１乃至４のいずれか１項記載の時間遅延積分回路。
【請求項６】  複数の直列接続されたＭＯＳＦＥＴトランジスタ（111,112,113,114,115,116,117,118,119,120,121,122,123,124,125,126,127,128,129,130,131,132,133,134,135,136,137,138,139,140,141,142）をさらに含んでおり、第１および第２のゲートはＭＯＳＦＥＴトランジスタである請求項１乃至５のいずれか１項記載の時間遅延積分回路。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本発明によれば、ノズルは前記帯体の走行方向（ＸＸ′）に直角な少なくとも１つの平面上に流体の噴流を生じさせ、また前記ファンの軸線（ＺＺ′）は一般に閉込め装置の長手方向軸線の近くに配置されている。概して、軸線（ＺＺ′）は方向（ＸＸ′）に対して直角である。軸線（ＺＺ′）は例えば、閉込め装置の幅方向の中央部から幅の３５％未満の、もしくは２５％未満の範囲内の距離にある。軸線（ＺＺ′）は、特に本発明の装置が断面で薄い要素の一側に２つの放射方向の出口（図１の装置に関して）を有する単一のファンだけを具備している時に、閉込め装置の長手方向軸線と交差する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月30日(2008.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理用装置において、
チャンバと、
前記チャンバ内に配置され、上面を有する基板支持部と、
前記基板支持部上に配置されたエッジリングと、
を備え、
前記エッジリングは、リップ部を有し、
前記リップ部は、少なくとも部分的に前記上面に張り出して前記リップ部と前記上面との間に隙間を形成し、前記リッブ部の内側エッジ部は、前記上面に配置される基板のエッジ部と位置合わせされ、前記基板の前面は、前記内側エッジ部によって覆われない、前記装置。
【請求項２】
パージガスを、前記隙間を通じて前記リップ部の下方に移送する為に前記隙間に結合されたパージガスシステムを更に備える、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記リップ部は、概して平坦な内側エッジ部を有し、前記内側エッジ部は、基板プロファイルに合致するように適合されている、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記基板は、ＪＭＦ型基板である、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記エッジリングは、窒化アルミニウムを備える、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記エッジリングは、セラミックを備える、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記基板支持部は、セラミックを備える、請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記基板支持部は、アルミニウムを備える、請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記リップ部は、前記基板支持部のエッジ部から所定間隔を前記上面の上方に伸ばし、前記間隔は、約１．５ｍｍと約３．０ｍｍの間にある、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
基板処理用の装置において、
チャンバと、
前記チャンバ内に配置され、上面を有する基板支持部と、
前記基板支持部上に配置された第１エッジリングと、
前記第１エッジリングと結合する為の第２エッジリングと、
を備え、
前記弟２エッジリングは、リップ部を有し、
前記リップ部は、前記上面に配置される基板のエッジ部と位置合わせされる内側エッジ部を有して、前記リップ部と前記上面との間に隙間を形成し、前記基板の前面は、前記内側エッジ部によって覆われない、前記装置。
【請求項１１】
前記第１エッジリングは、パージガス用リングを備え、前記第２エッジリングは、シャドウ用リングを備える、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
パージガスを、前記隙間を通じて前記リップ部の下方に移送する為に前記隙間に結合されたパージガスシステムを更に備える、請求項１０記載の装置。
【請求項１３】
前記リップ部は、概して平坦な内側エッジ部を有し、前記内側エッジ部は、基板プロファイルに合致するように適合されている、請求項１０記載の装置。
【請求項１４】
前記リップ部は、前記支持部のエッジ部から前記上面の上方に所定の距離だけ延ばし、前記所定の距離は、約１．５ｍｍから約３．０ｍｍの間にある、請求項１０記載の装置。
【請求項１５】
チャンバ内に基板を支持する方法において、
基板処理用装置を提供するステップであって、前記装置は、
チャンバと、
前記チャンバ内に配置され、上面を有する基板支持部と、
前記基板支持部上に配置されたエッジリングであって、前記エッジリングは、リップ部を有し、前記リップ部は、少なくとも部分的に前記基板支持部の上面に張り出し、前記リップ部と前記上面間の隙間を形成する、前記エッジリングと、
を備える、前記ステップと、
前記支持部上に基板を位置決めするステップであって、前記基板は上面とエッジ部を有し、前記リップ部の内側エッジ部が、前記基板の前面を覆わないように前記基板のエッジ部と位置合わせされる、前記ステップと、
前記リップ部と前記支持部の上面との間の前記隙間内にパージガスを流すステップであって、前記パージガスは、前記基板のエッジ部に当たる、前記ステップと、
を備える、前記方法。
【請求項１６】
前記リップ部は、概して平坦な内側エッジ部を有し、前記内側エッジ部は、基板プロファイルに合致するように適合されている、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記基板を位置決めするステップは、前記基板エッジ部の概して平坦な部分を前記リップ部と合わせるステップを更に備える、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記基板の上面に材料を堆積するステップであって、前記パージガスは、前記基板エッジ部上に前記材料が堆積することを実質的に防止するように流れる、請求項１５記載の方法。
【請求項１９】
前記基板を位置決めするステップは、前記基板エッジ部の概して平坦な部分を前記リップ部と合わせるステップを更に備える、請求項１５記載の方法。