【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の基板を保持する装置であって、前記各基板が、光エネルギー源でサンプルをイオン化する位置に１つ以上のサンプルを有し、前記各基板が、１つ以上のサンプルを収容する前面と背面とを有し、前記背面が、前記背面に沿って長さおよび幅を画定する１つ以上の背面縁部を有し、前記前面が、前記前面に沿って長さおよび幅を画定する１つ以上の前面縁部を有し、前記各基板が、厚みを有し、前記装置が、
収容板を備え、前記受容板が、背面、厚み、外形輪郭を画定する少なくとも１つの縁部、および少なくとも１つの収容表面とを有し、前記各収容表面が、基板の前記背面を収容し、前記各収容表面が、前記基板の少なくとも１つの縁部を収容するために、前記各収容表面から突き出る１つ以上の収容リップを有し、前記装置がさらに、
少なくとも１つの基板クリップを備え、各前記基板クリップが、少なくとも１つの前面フィンガと少なくとも１つの背面フィンガとを有し、前記前面フィンガが、幅、および前記基板および前記収容板の前記厚みを超えて延在する長さを有し、前記背面フィンガが、前記収容板の前記背面上に１つの位置を取るように前面フィンガから延在し、
前記収容板が、前記１つ以上の基板を収容し、前記各基板が、前記複数の収容表面の１つ上にあり、前記光エネルギー源によってサンプルをイオン化する位置に前記基板を位置合わせするために前記１つ以上の収容リップに当接し、前記各基板が、少なくとも１つの基板クリップにより、前記基板の前記前面縁部で係合され、前記少なくとも１つの基板クリップが、さらに前記基板を前記位置に保持するために前記収容板の前記背面を係合する、装置。
【請求項２】
前記各収容表面が、前記収容板の前記少なくとも１つの縁部の一部で形成される少なくとも１つの縁部を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記装置が、１つの前記基板を収容するために１つの前記収容表面を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記収容板が導電性である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記収容板が金属である、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記基板が半導体である、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記基板がシリコンまたはゲルマニウムである、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記基板と前記収容板との間が電気接続されている、請求項４に記載の装置。
【請求項９】
前記収容板が、マトリックス支援レーザ脱離イオン化質量分析計で使用する１つ以上の金属板の空間内で協働するように構成および配置されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記基板が、シリコン上の脱離／イオン化チップである、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記シリコン上の脱離／イオン化チップが、前記マトリックス支援レーザ脱離イオン化質量分析計のターゲットのパターンに配置された多孔質半導体領域を有する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記収容板が、前記外形輪郭に少なくとも１つのインデントを有し、該インデントが、前記基板クリップが前記インデントを横切る前記外形輪郭の投影内に留まる一方、前記前面フィンガが前記基板の前記前面に接触できる領域を提供する、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記基板クリップが、前面フィンガと前記１つ以上の収容リップとの間の前記基板に圧縮力を加えることにより前記基板を保持している、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
少なくとも１つの収容リップが、基板接触表面を有し、前記基板接触表面が、平坦であり、前記基板接触表面が、前記収容表面に対してある角度を形成している、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記角度は９０°以下である、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記角度は７５°から８５°である、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記収容リップが、前記収容表面の上方に、前記基板の前記厚みの約２倍の距離で延在する、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記収容板が、前記背面に少なくとも１つのくぼみを有し、前記少なくとも１つのくぼみが、幅、ベース表面、および少なくとも１つの側壁を有し、前記少なくとも１つのくぼみが、前記少なくとも１つの基板クリップの前記背面フィンガを収容するためのものである、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの側壁が、側壁平面を画定し、前記ベース表面が、ベース平面を画定し、ベース平面および側壁平面が、ある角度を画定している、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記角度が４０°から５０°である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記少なくとも１つのくぼみが、前記背面フィンガとスライド可能に係合している、請求項１８に記載の装置。
【請求項２２】
前記少なくとも１つのくぼみが、前記収容板の前記少なくとも１つの縁部と交差している、請求項１８に記載の装置。
【請求項２３】
前記収容板が、前記外形輪郭に少なくとも１つのインデントを有し、該インデントが、前記基板クリップが前記インデントを横切る前記外形輪郭の投影内に留まる一方、前記前面フィンガが前記基板の前記前面に接触できる領域を提供し、前記インデントが、前記くぼみに中心合わせされ、前記くぼみの前記幅以上の幅を有する、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記基板クリップが、弾性材料で形成されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項２５】
前記基板クリップが、金属材料で形成され、前記基板クリップと前記基板との間が電気接続されている、請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記基板クリップの前記背面フィンガが、第１の面、第２の面、少なくとも１つの縁部、幅、および前記基板クリップを前記くぼみ内に保持する張力手段を有する、平面部材を備えている、請求項１８に記載の装置。
【請求項２７】
前記背面フィンガが、前記くぼみに収容されて、前記第１の面が、前記くぼみの前記ベース表面に接して配置されると、前記第２の面が、前記収容板の前記背面の下に引き込まれる、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
背面フィンガが、前記少なくとも１つの側壁に係合するための少なくとも１つのばね要素を有する、請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記ばね要素が、前記背面フィンガの前記縁部から突き出ている、請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
前記背面フィンガが、前記側壁に係合するための２つのばね要素を有する、請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記前面フィンガが、第１の面、第２の面、および先端を有する平面ブレードを備え、前記第１の面が、背面フィンガとある角度を形成している、請求項２４に記載の装置。
【請求項３２】
前記角度が７５°から８５°である、請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記クリップが前記基板の前記前縁部に係合すると、前記前面フィンガの前記第１の面が、前記基板を前記収容表面に押し付ける、請求項３１に記載の装置。
【請求項３４】
前記前面フィンガが、前記基板の前記前面に係合するために、前記先端で厚くされる、請求項３１に記載の装置。
【請求項３５】
前記収容板が、４つの縁部を備える矩形形状を有し、第１の縁部が、第３の縁部とは反対側にあり、第２の縁部が、第４の縁部とは反対側にあり、前記第２および第４の縁部が、前記第１および第３の縁部に対して直角である、請求項９に記載の装置。
【請求項３６】
前記１つ以上の収容リップが、
前記収容表面の前記第１の縁部に沿って配置された少なくとも１つの第１の収容リップと、
前記収容表面の前記第２の縁部に沿って配置された少なくとも１つの第２の収容リップとを備える、請求項３５に記載の装置。
【請求項３７】
前記第１の収容リップが、基板接触表面を有し、前記基板接触表面が、平坦であり、前記基板接触表面が、前記収容表面に対してある角度を形成している、請求項３６に記載の装置。
【請求項３８】
前記角度が９０°以下である、請求項３７に記載の装置。
【請求項３９】
前記角度が７５°から８５°である、請求項３３に記載の装置。
【請求項４０】
前記収容板が、前記第３の縁部および前記第４の縁部から選択される縁部に少なくとも１つのインデントを有し、該インデントが、前記基板クリップが前記インデントを横切る前記縁部の投影内に留まる一方、前記前面フィンガが前記基板の前記前面に接触できる領域を提供する、請求項３５に記載の装置。
【請求項４１】
１つ以上のサンプルを有する基板を、前記サンプルを光エネルギー源でイオン化する位置に保持する方法であって、前記基板が、１つ以上のサンプルを収容する前面と背面とを有し、前記背面が、前記背面に沿って長さおよび幅を画定する１つ以上の背面縁部を有し、前記前面が、前記前面に沿って長さおよび幅を画定する１つ以上の前面縁部を有し、前記基板が、厚みを有し、前記方法が、
収容板を提供することを含み、前記収容板が、背面、厚み、外形輪郭を画定する少なくとも１つの縁部、および少なくとも１つの収容表面とを有し、前記各収容表面が、基板の前記背面を収容するためのものであり、前記各収容表面が、前記基板の少なくとも１つの縁部を収容するために、前記収容表面から突き出る１つ以上の収容リップを有し、前記方法がさらに、
少なくとも１つの基板クリップを提供することを含み、各基板クリップが、少なくとも１つの前面フィンガと少なくとも１つの背面フィンガとを有し、前記前面フィンガが、幅、および前記基板および前記収容板の厚みを超えて延在する長さを有し、前記背面フィンガが、前記収容板の前記背面上に１つの位置を取るように前面フィンガから延在し、前記方法がさらに、
前記基板を前記収容表面の１つの上に配置することを含み、少なくとも１つの前面縁部が、光エネルギー源によってサンプルをイオン化する位置に前記基板を位置合わせするために、１つ以上の収容リップに当接し、
前記少なくとも１つの基板クリップにより、前記基板を前記位置に保持するために前記基板の前記前面の縁部と前記収容板の前記背面とを係合することを含む、方法。
【請求項４２】
前記収容板が、マトリックス支援レーザ脱離イオン化質量分析計で使用する１つ以上の金属板の空間内で協働するように構成および配置され、前記方法がさらに、前記マトリックス支援レーザ脱離イオン化質量分析計で使用する１つ以上の金属板の空間内に、前記装置を配置することを含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記収容板が導電性である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４４】
前記基板が半導体である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４５】
前記収容板が、前記外形輪郭に少なくとも１つのインデントを有し、該インデントが、前記基板クリップが前記インデントを横切る前記外形輪郭の投影内に留まる一方、前記前面フィンガが前記基板の前記前面に接触できる領域を提供する、請求項４１に記載の方法。
【請求項４６】
前記収容板の前記背面が、前記基板クリップの前記背面フィンガを収容するための少なくとも１つのくぼみを有し、前記方法がさらに、前記少なくとも１つのくぼみで前記背面フィンガがスライド可能に係合することを含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４７】
前記基板クリップが、金属材料で形成され、前記基板クリップと前記基板との間が電気接続される、請求項４１に記載の方法。
【請求項４８】
前記基板クリップの前記背面フィンガが、第１の面、第２の面、少なくとも１つの縁部、幅、および前記基板クリップを前記くぼみ内に保持する張力手段を有する、平面部材を備える、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記背面フィンガを前記くぼみに収容して、前記第１の面が、前記くぼみの前記ベース表面に接触するように配置することをさらに含み、これにより、前記第２の面が、前記収容板の前記背面の下に引き込まれる、請求項４８に記載の方法。
【請求項５０】
１つ以上の基板を保持する方法であって、前記各基板が、光エネルギー源でサンプルをイオン化する位置に１つ以上のサンプルを有し、前記各基板が、１つ以上のサンプルを収容する前面と背面とを有し、前記背面が、前記背面に沿って長さおよび幅を画定する１つ以上の背面縁部を有し、前記前面が、前記前面に沿って長さおよび幅を画定する１つ以上の前面縁部を有し、前記基板が、厚みを有し、前記方法が、
収容板を提供することを含み、前記収容板が、背面、厚み、外形輪郭を画定する少なくとも１つの縁部、および少なくとも１つの収容表面とを有し、前記各収容表面が、基板の前記背面を収容するためのものであり、前記各収容表面が、前記基板の少なくとも１つの縁部を収容するために前記各収容表面から突き出る１つ以上の収容リップを有し、前記方法がさらに、
少なくとも１つの基板クリップを提供することを含み、各基板クリップが、少なくとも１つの前面フィンガと少なくとも１つの背面フィンガとを有し、前記前面フィンガが、幅、および前記基板および前記収容板の厚みを超えて延在する長さを有し、前記背面フィンガが、前記収容板の前記背面上に１つの位置を取るように前記前面フィンガから延在し、前記方法がさらに、
前記各基板を前記収容表面の１つの上に配置することを含み、少なくとも１つの前面縁部が、光エネルギー源によってサンプルをイオン化する位置に前記基板を位置合わせするために、１つ以上の収容リップに当接することを含み、前記方法がさらに、
前記少なくとも１つの基板クリップにより、前記基板を前記位置に保持するために前記各基板の前記前面の縁部と前記収容板の前記背面とを係合することを含む、方法。