【手続補正書】
【提出日】平成30年12月14日(2018.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学装置であって、該装置は、
対応する複数のレーザービームを受け取り、該レーザービームを平面偏光させるように配置された複数の偏光子であって、
該偏光子は、該レーザービームのうちの少なくとも２つが異なる偏光配向で平面偏光させられるように構成されている、偏光子と、
該平面偏光させられたレーザービームを、レーザー放射のラインとしてワークピース上に投射するように構成および配置された複数の光学要素であって、該レーザービームの各々からの光線が該ライン上の任意の点に異なる角度で入射し、該光線の該偏光配向は、所定の様式において該ラインの長軸に沿った入射の角度によって異なる、光学要素と
を含む、装置。
【請求項２】
前記レーザービームは、横長軸および横短軸を有し、前記ビームおよび前記偏光子は、該レーザービームの長軸方向に沿って整列させられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
６つのレーザービームおよび６つの偏光子があり、該偏光子のうちの最も外側の２つは、第一の偏光配向において対応する該レーザービームを平面偏光させるように配置され、該偏光子のうちの最も内側の２つは、該第一の偏光配向に対して９０度の第二の偏光配向において対応する該レーザービームを平面偏光させるように配置され、残りの２つの該偏光子は、該第一および第二の偏光配向に対して非直交角度の第三の偏光配向において対応する該レーザービームを平面偏光させるように配置される、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第三の偏光配向は、前記第一および第二の配向に対して４５度にある、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
放射の前記投射されたライン上の任意の点で、最高および最低の入射角度で入射する光線は、前記第一および第二の偏光配向においてそれぞれ平面偏光させられ、最高および最低入射の中間の入射角度の角度を有する光線は、前記第三の偏光配向において平面偏光させられる、請求項３に記載の装置。
【請求項６】
各々の偏光子は、対応する前記レーザービームを伝達される第一の部分および反射される第二の部分に分離するように配置された偏光選択性ビームスプリッタであって、該第一および第二の部分は、互いに対して９０度でそれぞれ第一および第二の偏光配向で平面偏光させられる、偏光選択性ビームスプリッタと、該ビームの該第二の部分を、該ビームの該第一の部分に対して平行に方向づけるためのリフレクタと、第一および第二の偏光回転子であって、それぞれ該ビームの該第一および第二の部分の経路にあり、該ビームの該第一および第二の部分を共通の偏光配向で伝達するように配置された第一および第二の偏光回転子とを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記共通の偏光配向は、前記第一の偏光配向、前記第二の偏光配向、ならびに該第一および第二の偏光配向に対して非直交角度にある第三の偏光配向のうちの１つである、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
ワークピース上で複数のレーザービームをライン焦点に投射するための装置であって、該装置は、
該レーザービームを受け取るための偏光光学素子のセットと、
該偏光させられたビームを受け取るためのレンズシステムであって、該ビームを該ワークピース上でライン焦点に沿って投射するように配置されたレンズシステムと
を含み、該偏光光学素子およびレンズシステムは、該ライン焦点に沿う各々の位置で、前記ラインの長軸に沿った最低の入射角度を有する光線が第一の偏光を有し、該ラインの長軸に沿った最高の入射角度を有する光線が該第一の偏光に対して直交である第二の偏光を有し、該ラインの長軸に沿った中間の入射角度を有する光線が中間の偏光状態を有するように配置される、装置。
【請求項９】
前記偏光光学素子のセットは、少なくとも１つの部分的に伝達する偏光子および１つの偏光回転子含み、該部分的に伝達する偏光子は、前記第一または第二の偏光のうちの１つを伝達するためおよび残りの偏光を反射するためのものであり、該偏光回転子は、前記光の該伝達された部分または該反射された部分のいずれかを９０度回転させるように設置される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記偏光光学素子のセットは、少なくとも１つの部分的に伝達する偏光子と、第一および第二の偏光回転子とを含み、該部分的に伝達する偏光子は、前記第一または第二の偏光のうちの１つを伝達するためおよび残りの偏光を反射するためのものであり、該第一の偏光回転子は、前記光の該伝達された部分を４５度回転させるように設置され、該第二の偏光回転子は、該光の該反射された部分を４５度回転させるように設置される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
ワークピース上でライン焦点に複数のレーザービームを投射するための装置であって、該装置は、
該レーザービームを受け取るための偏光光学素子のセットと、
該偏光させられたビームを受け取るためのレンズシステムであって、該ワークピース上でライン焦点に沿って該ビームを投射するように配置されたレンズシステムと
を含み、該偏光光学素子およびレンズシステムは、該ライン焦点に沿う各々の位置で、該ラインの長軸に沿った最低の入射角度を有する光線が第一の偏光状態を有し、該ラインの長軸に沿った最高の入射角度を有する光線が第二の偏光状態を有するように配置される、装置。
【請求項１２】
前記ラインの長軸に沿った中間の入射角度を有する光線は、第三の偏光状態を有する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
ワークピース上に第一および第二の平面偏光させられたレーザービームを投射するための光学装置であって、該第一のビームは、第一の偏光状態を有し、該第二のビームは、該第一の偏光状態とは異なる第二の偏光状態を有し、該装置は、
該第一および第二のビームを、レーザー放射のラインとして該ワークピース上に投射するための一連のレンズであって、該レーザービームの各々からの光線が該ラインに沿った任意の点に異なる入射角度で入射し、偏光配向は、所定の様式において該ラインの長軸に沿った入射の角度によって異なる、一連のレンズ
を含む、装置。
【請求項１４】
最低の入射角度を有する光線の偏光状態は、主に、前記ラインの長軸に平行に平面偏光させられ、最高の入射角度を有する光線は、主に、該ラインの長軸に垂直に平面偏光させられる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記ワークピース上に第三の平面偏光させられたレーザービームを投射するための請求項１６に記載の装置であって、該第三の平面偏光させられたビームは、前記第一および第二の偏光状態の中間の第三の偏光状態を有し、最高の入射角度および最低の入射角度の中間の入射角度を有する光線は、中間の偏光状態を有する、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
ワークピース上に第一、第二、および第三の平面偏光させられたレーザービームを投射するための光学装置であって、該第一のビームは、第一の偏光状態を有し、該第二のビームは、該第一の偏光状態に直交する第二の偏光状態を有し、該第三のビームは、該第一および第二の偏光状態の中間の偏光状態を有し、該装置は、
該第一、第二、および第三のビームを、レーザー放射のラインとして該ワークピース上に投射するための一連のレンズであって、該ラインの長軸に沿った最低の入射角度を有する光線は、該第一の偏光状態を有し、該ラインの長軸に沿った最高の入射角度を有する光線は、該第二の偏光状態を有し、該ラインの長軸に沿った中間の入射角度を有する光線は、該中間の偏光状態を有する、一連のレンズ
を含む、装置。
【請求項１７】
前記最低の入射角度を有する光線の偏光状態は、主に、前記ラインの長軸に平行に平面偏光させられ、前記最高の入射角度を有する光線は、主に、該ラインの長軸に垂直に平面偏光させられ、前記中間の入射角度の角度を有する光線は、中間の偏光状態を有するように平面偏光させられる、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記レーザービームは、１つまたは複数のエキシマレーザーによって生成され、前記装置は、前記レーザービームを受け取るように配置された複数の偏光子をさらに含み、該偏光子は、前記第一のビームが前記第一の偏光状態を有し、前記第二のビームが前記第二の偏光状態を有し、前記第三のビームが前記中間の偏光状態を有するように構成されている、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記レーザービームは、１つまたは複数のエキシマレーザーによって生成され、前記偏光光学素子は、前記レーザービームを受け取るように配置され、該偏光光学素子は、第一のビームが前記第一の偏光を有し、第二のビームが前記第二の偏光を有し、第三のビームが前記中間の偏光を有するように構成されている、請求項８に記載の装置。
【請求項２０】
前記レーザービームは、１つまたは複数のエキシマレーザーによって生成され、前記偏光光学素子は、前記レーザービームを受け取るように配置され、該偏光光学素子は、第一のビームが第一の偏光状態を有し、第二のビームが第二の偏光状態を有するように構成されている、請求項１１に記載の装置。
【請求項２１】
前記レーザービームは、１つまたは複数のエキシマレーザーによって生成され、前記装置は、前記レーザービームを受け取るように配置された複数の偏光子をさらに含み、該偏光子は、前記第一のビームが前記第一の偏光状態を有し、前記第二のビームが前記第二の偏光状態を有するように構成されている、請求項１３に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（発明の概要）
１つの局面において、本発明に従う光学装置は、対応する複数のレーザービームを受け取って、レーザービームを平面偏光させるように配置された複数の偏光子を含む。偏光子は、レーザービームのうちの少なくとも２つが、異なる偏光配向で平面偏光させられるように構成される。複数の光学要素は、レーザー放射のラインとしてワークピース上に平面偏光させられたレーザービームを投射するように構成および配置され、レーザービームの各々からの光線は、ライン上の任意の点に異なる角度で入射する。光線の偏光配向は、所定の様式において入射角度によって異なる。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
光学装置であって、該装置は、
対応する複数のレーザービームを受け取り、該レーザービームを平面偏光させるように配置された複数の偏光子であって、
該偏光子は、該レーザービームのうちの少なくとも２つが異なる偏光配向で平面偏光させられるように構成されている、偏光子と、
該平面偏光させられたレーザービームを、レーザー放射のラインとしてワークピース上に投射するように構成および配置された複数の光学要素であって該レーザービームの各々からの光線が該ライン上の任意の点に異なる角度で入射し、該光線の該偏光配向は、所定の様式において入射の角度によって異なる、光学要素と
を含む、装置。
（項目２）
前記レーザービームは、横長軸および横短軸を有し、前記ビームおよび前記偏光子は、該レーザービームの長軸方向に沿って整列させられる、項目１に記載の装置。
（項目３）
６つのレーザービームおよび６つの偏光子があり、該偏光子のうちの最も外側の２つは、第一の偏光配向において対応する該レーザービームを平面偏光させるように配置され、該偏光子のうちの最も内側の２つは、該第一の偏光配向に対して９０度の第二の偏光配向において対応する該レーザービームを平面偏光させるように配置され、残りの２つの該偏光子は、該第一および第二の偏光配向に対して非直交角度の第三の偏光配向において対応する該レーザービームを平面偏光させるように配置される、項目２に記載の装置。
（項目４）
前記第三の偏光配向は、前記第一および第二の配向に対して４５度にある、項目３に記載の装置。
（項目５）
放射の前記投射されたライン上の任意の点で、最高および最低の入射角度で入射する光線は、前記第一および第二の偏光配向においてそれぞれ平面偏光させられ、最高および最低入射の中間の入射角度の角度を有する光線は、前記第三の偏光配向において平面偏光させられる、項目３に記載の装置。
（項目６）
各々の偏光子は、対応する前記レーザービームを伝達される第一の部分および反射される第二の部分に分離するように配置された偏光選択性ビームスプリッタであって、該第一および第二の部分は、互いに対して９０度でそれぞれ第一および第二の偏光配向で平面偏光させられる、偏光選択ビーム性ビームスプリッタと、該ビームの該第二の部分を、該ビームの該第一の部分に対して平行に方向づけるためのリフレクタと、それぞれ該ビームの該第一および第二の部分の経路にあり、該ビームの該第一および第二の部分を共通の偏光配向で伝達するように配置された第一および第二の偏光回転子とを含む、項目１に記載の装置。
（項目７）
前記共通の偏光配向は、前記第一の偏光配向、前記第二の偏光配向、ならびに該第一および第二の偏光配向に対して非直交角度にある第三の偏光配向のうちの１つである、項目６に記載の装置。
（項目８）
ワークピース上で複数のレーザービームをライン焦点に投射するための装置であって、該装置は、
該レーザービームを受け取るための偏光光学素子のセットと、
該偏光させられたビームを受け取るためのレンズシステムであって、該ビームをワークピース上でライン焦点に沿って投射するように配置されたレンズシステムと
を含み、該偏光光学素子およびレンズシステムは、該ライン焦点に沿う各々の位置で、最低の入射角度の光線が第一の偏光を有し、最高の入射角度の光線が該第一の偏光に対して直交である第二の偏光を有し、中間の入射角度の光線が中間偏光状態を有するように配置される、装置。
（項目９）
前記偏光光学素子のセットは、少なくとも１つの部分的に伝達する偏光子および１つの偏光回転子含み、該部分的に伝達する偏光子は、前記第一または第二の偏光のうちの１つを伝達するためおよび残りの偏光を反射するためのものであり、該偏光回転子は、前記光の該伝達された部分または該反射された部分のいずれかを９０度回転させるように設置される、項目８に記載の装置。
（項目１０）
前記偏光光学素子のセットは、少なくとも１つの部分的に伝達する偏光子と、第一および第二の偏光回転子とを含み、該部分的に伝達する偏光子は、前記第一または第二の偏光のうちの１つを伝達するためおよび残りの偏光を反射するためのものであり、該第一の偏光回転子は、前記光の該伝達された部分を４５度回転させるように設置され、該第二の偏光回転子は、該光の該反射された部分を４５度回転させるように設置される、項目９に記載の装置。
（項目１１）
ワークピース上でライン焦点に３つのレーザービームを投射するための装置であって、該３つのレーザービームは、第二のビームが第一および第三のビームの間にある配列で整列させられ、該装置は、
該第一のレーザービームを受け取るための偏光光学素子の第一のセットであって、該偏光光学素子の第一のセットは、部分的に伝達する偏光子および１つの偏光回転子を含み、該部分的に伝達する偏光子は、Ｐ偏光させられた光を伝達するためおよびＳ偏光させられた光を反射するためのものであり、該偏光回転子は、該光の該伝達された部分を９０度回転させるように設置される、偏光光学素子の第一のセットと、
該第三のレーザービームを受け取るための偏光光学素子の第二のセットであって、該偏光光学素子の第二のセットは、部分的に伝達する偏光子および１つの偏光回転子を含み、該部分的に伝達する偏光子は、Ｐ偏光させられた光を伝達するためおよびＳ偏光させられた光を反射するためのものであり、該偏光回転子は、該光の該反射された部分を９０度回転させるように設置される、偏光光学素子の第二のセットと、
該第一のセットと第三のセットとの間に位置づけられ、該第二のレーザービームを受け取る、偏光光学素子の第三のセットであって、該偏光光学素子の第三のセットは、部分的に伝達する偏光子ならびに第一および第二の偏光回転子を含み、該部分的に伝達する偏光子は、Ｐ偏光させられた光を伝達するためおよびＳ偏光させられた光を反射するためのものであり、該第一の偏光回転子は、該光の該伝達された部分を４５度回転させるように設置され、該第二の偏光回転子は、該光の該反射された部分を４５度回転させるように設置される、偏光光学素子の第三のセットと、
該偏光させられたビームを受け取るためのレンズシステムであって、該ワークピース上でライン焦点に沿って該ビームを投射するように配置されるレンズシステムと
を含み、該偏光光学素子およびレンズシステムは、該ライン焦点に沿う各々の位置で、最低の入射角度の光線がＰ偏光させられ、最高の入射角度の光線がＳ偏光させられ、中間の入射角度の光線が中間偏光配向を有するように配置される、装置。
（項目１２）
ワークピース上でライン焦点に複数のレーザービームを投射するための装置であって、該装置は、
該レーザービームを受け取るための偏光光学素子のセットと、
該偏光させられたビームを受け取るためのレンズシステムであって、該ワークピース上でライン焦点に沿って該ビームを投射するように配置されたレンズシステムと
を含み、該偏光光学素子およびレンズシステムは、該ライン焦点に沿う各々の位置で、異なる入射角度の光線が、異なる偏光状態を有するように配置される、装置。
（項目１３）
ワークピース上でライン焦点に複数のレーザービームを投射するための装置であって、該装置は、
該レーザービームを受け取るための偏光光学素子のセットと、
該偏光させられたビームを受け取るためのレンズシステムであって、該ワークピース上でライン焦点に沿って該ビームを投射するように配置されたレンズシステムと
を含み、該偏光光学素子およびレンズシステムは、該ライン焦点に沿う各々の位置で、最低の入射角度の光線が第一の偏光状態を有し、最高の入射角度の光線が第二の偏光状態を有するように配置される、装置。
（項目１４）
中間の入射角度の光線は、第三の偏光状態を有する、項目１３に記載の装置。