(57)【要約】  本発明は、長時間にわたり高温高湿等の環境におかれた場合でも、リターデーション安定性が高いセルロースエステル系の偏光板保護フィルム、それを用いた視野角安定性の優れた偏光板、液晶表示装置を提供する。この偏光板保護フィルムは、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物とセルロースエステルとを含有し、フィルム面内リターデーション値Ｒｏが０ｎｍ以上１０ｎｍ以下で、フィルム厚み方向リターデーション値Ｒｔが−３０ｎｍ以上、＋２０ｎｍ以下であることを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物とセルロースエステルとを含有し、下記式（ｉ）で表されるＲｏが０ｎｍ以上１０ｎｍ以下で、下記式（ii）で表されるＲｔが−３０ｎｍ以上、＋２０ｎｍ以下であることを特徴とする偏光板保護フィルム。
式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【請求項２】
更に、重量平均分子量が５００以上、３００００以下であるアクリルポリマー、もしくは重量平均分子量が５００以上、１００００以下の芳香環を持たないポリエステルを含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の偏光板保護フィルム。
【請求項３】
前記アクリルポリマーとして、少なくとも分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下のポリマーＸを含有することを特徴とする請求の範囲第２項に記載の偏光板保護フィルム。
【請求項４】
前記アクリルポリマーとして、少なくとも分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下の下記一般式（Ｘ）で表されるポリマーＸと、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量が５００以上、３０００以下の下記一般式（Ｙ）で表されるポリマーＹとを含有することを特徴とする請求の範囲第２項に記載の偏光板保護フィルム。
一般式（Ｘ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−（Ｘｃ）ｐ−
（式中、ＸｃはＸａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ、ｐは、各々モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００）
一般式（Ｙ）
−（Ｙａ）ｋ−（Ｙｂ）ｑ−
（式中、ＹｂはＹａと共重合可能なモノマー単位を表す。ｋ、ｑは、各々モル組成比を表す。ただしｋ＋ｑ＝１００）
【請求項５】
前記ポリマーＸが下記一般式（Ｘ−１）で示され、前記ポリマーＹが下記一般式（Ｙ−１）で示されることを特徴とする請求の範囲第３項または第４項に記載の偏光板保護フィルム。
一般式（Ｘ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ1）（−ＣＯ2Ｒ2）］ｍ−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ3）（−ＣＯ2Ｒ4−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
一般式（Ｙ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）−］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ5は、各々ＨまたはＣＨ3を表す。Ｒ2は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ4、Ｒ6は各々−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−または−Ｃ3Ｈ6−を表す。Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。Ｙｂは、Ｙａに共重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ、ｋ、ｐおよびｑは、各々モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００、ｋ＋ｑ＝１００である。）
【請求項６】
前記ポリエステルが、下記一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第２項に記載の偏光板保護フィルム。
一般式（Ｂ１）
Ｂ1−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ1
（式中、Ｂ1は炭素数１〜１２のモノカルボン酸を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ1、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍは繰り返し数を表す。）
一般式（Ｂ２）
Ｂ2−（Ａ−Ｇ−）ｎＡ−Ｂ2
（式中、Ｂ2は炭素数１〜１２のモノアルコールを表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ2、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｎは繰り返し数を表す。）
【請求項７】
更に、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）及び（１４）から選ばれる少なくとも１種の添加剤を含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の偏光板保護フィルム。
【化１】
2008015911.tif 000041
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表す。）
【化２】
2008015911.tif 000042
（式中、Ｘ2はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは、水素原子または置換基を表す。）、またはＮを表す。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34ないしＲ35は各々水素原子または置換基を表す。）
一般式（３）
Ｒ１−（ＯＨ）ｎ
（式中、Ｒ１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す。）
【化３】
2008015911.tif 000043
（式中、Ｙ31〜Ｙ70は、それぞれ独立に、炭素原子数が１ないし２０のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１〜２０のアミド基、炭素原子数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基である。Ｖ31〜Ｖ43は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜２０の脂肪族基である。Ｌ31〜Ｌ80は、それぞれ独立に、単結合であるか、あるいは総原子数が１〜４０かつ炭素原子数が０〜２０の２価の飽和連結基である。Ｖ31〜Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、更に置換基を有していてもよい。）
【化４】
2008015911.tif 000044
（式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3は、それぞれ独立に、５員環または６員環を有する基である。環は、炭化水素環および複素環を含む。環は、他の環と縮合環を形成してもよい。）
【化５】
2008015911.tif 000045
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基を表し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基またはアリーレン基、Ｙは、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。）
【請求項８】
請求の範囲第１項乃至第７項のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求の範囲第８項に記載の偏光板を、液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
ＩＰＳモード型液晶表示装置であることを特徴とする請求の範囲第９項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくは低Ｒｔで、かつ湿度変動によるリターデーション値変動を抑制して表示品位が安定した偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の高性能・高品位化に伴い、偏光板に用いられる偏光板保護フィルムにも、様々な要求がなされている。【０００３】
一般の液晶表示装置用偏光板保護フィルムとしては、セルロースエステルを材料としたフィルムが主に用いられている。セルロースエステルフィルムは一般に平面性の確保等の観点から溶液流延製膜法がとられており、フィルム面内の屈折率に対して厚み方向の屈折率が低くなる傾向がある。【０００４】
特許文献１においてエチレン性ポリマーを添加することによって光学的異方性が低減されたセルロースエステルフィルムについて記載されており、特に厚み方向のリターデーション値Ｒｔを低減したフィルムが得られる。【０００５】
また、ＩＰＳモード型（ｉｎ−ｐｌａｉｎ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ型）液晶表示装置においては、液晶ディスプレーの表示性能（視野角、色味、階調）を向上する為に、従来のセルロースエステルフィルムを用いた偏光板より、リターデーション値が低いセルロースエステルフィルムを用いた偏光板を用いた方が好適であり、上記特許文献１に記載のフィルムは中でも優れた光学特性を発揮する。【０００６】
しかしながら、上記光学的異方性が低減されたセルロースエステルフィルムを有する偏光板を液晶表示装置に使用すると、長時間にわたり高温高湿等の環境におかれた場合、バックライトからの大量の発熱により、コントラスト低下、カラーシフト等の視認性の変化があることが分かり早急な改善が望まれていた。
【特許文献１】特開２００３−１２８５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、長時間にわたり高温高湿等の環境におかれた場合でも、リターデーション安定性が高いセルロースエステル系の偏光板保護フィルム、それを用いた視野角安定性の優れた偏光板、液晶表示装置を提供することにある。特に、ＩＰＳ、ＦＦＳ等のＩＰＳ型液晶表示装置に好適な偏光板保護フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。【０００９】
１．フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物とセルロースエステルとを含有し、下記式（ｉ）で表されるＲｏが０ｎｍ以上１０ｎｍ以下で、下記式（ii）で表されるＲｔが−３０ｎｍ以上、＋２０ｎｍ以下であることを特徴とする偏光板保護フィルム。【００１０】
式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
２．更に、重量平均分子量が５００以上、３００００以下であるアクリルポリマー、もしくは重量平均分子量が５００以上、１００００以下の芳香環を持たないポリエステルを含有することを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルム。【００１１】
３．前記アクリルポリマーとして、少なくとも分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下のポリマーＸを含有することを特徴とする前記２に記載の偏光板保護フィルム。【００１２】
４．前記アクリルポリマーとして、少なくとも分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下の下記一般式（Ｘ）で表されるポリマーＸと、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量が５００以上、３０００以下の下記一般式（Ｙ）で表されるポリマーＹとを含有することを特徴とする前記２に記載の偏光板保護フィルム。【００１３】
一般式（Ｘ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−（Ｘｃ）ｐ−
（式中、ＸｃはＸａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ、ｐは、各々モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００）
一般式（Ｙ）
−（Ｙａ）ｋ−（Ｙｂ）ｑ−
（式中、ＹｂはＹａと共重合可能なモノマー単位を表す。ｋ、ｑは、各々モル組成比を表す。ただしｋ＋ｑ＝１００）
５．前記ポリマーＸが下記一般式（Ｘ−１）で示され、前記ポリマーＹが下記一般式（Ｙ−１）で示されることを特徴とする前記３または４に記載の偏光板保護フィルム。【００１４】
一般式（Ｘ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ1）（−ＣＯ2Ｒ2）］ｍ−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ3）（−ＣＯ2Ｒ4−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
一般式（Ｙ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）−］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ5は、各々ＨまたはＣＨ3を表す。Ｒ2は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ4、Ｒ6は各々−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−または−Ｃ3Ｈ6−を表す。Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。Ｙｂは、Ｙａに共重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ、ｋ、ｐおよびｑは、各々モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００、ｋ＋ｑ＝１００である。）
６．前記ポリエステルが、下記一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される化合物を含有することを特徴とする前記２に記載の偏光板保護フィルム。【００１５】
一般式（Ｂ１）
Ｂ1−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ1
（式中、Ｂ1は炭素数１〜１２のモノカルボン酸を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ1、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍは繰り返し数を表す。）
一般式（Ｂ２）
Ｂ2−（Ａ−Ｇ−）ｎＡ−Ｂ2
（式中、Ｂ2は炭素数１〜１２のモノアルコールを表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ2、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｎは繰り返し数を表す。）
７．更に、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）及び（１４）から選ばれる少なくとも１種の添加剤を含有することを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルム。【００１６】
【化１】
2008015911.tif 000002
【００１７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表す。）【００１８】
【化２】
2008015911.tif 000003
【００１９】
（式中、Ｘ2はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは、水素原子または置換基を表す。）、またはＮを表す。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34ないしＲ35は各々水素原子または置換基を表す。）
一般式（３）
Ｒ１−（ＯＨ）ｎ
（式中、Ｒ１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す。）【００２０】
【化３】
2008015911.tif 000004
【００２１】
（式中、Ｙ31〜Ｙ70は、それぞれ独立に、炭素原子数が１ないし２０のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１〜２０のアミド基、炭素原子数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基である。Ｖ31〜Ｖ43は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜２０の脂肪族基である。Ｌ31〜Ｌ80は、それぞれ独立に、単結合であるか、あるいは総原子数が１〜４０かつ炭素原子数が０〜２０の２価の飽和連結基である。Ｖ31〜Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、更に置換基を有していてもよい。）【００２２】
【化４】
2008015911.tif 000005
【００２３】
（式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3は、それぞれ独立に、５員環または６員環を有する基である。環は、炭化水素環および複素環を含む。環は、他の環と縮合環を形成してもよい。）【００２４】
【化５】
2008015911.tif 000006
【００２５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基を表し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基またはアリーレン基、Ｙは、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。）
８．前記１乃至７のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。【００２６】
９．前記８に記載の偏光板を、液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。【００２７】
１０．ＩＰＳモード型液晶表示装置であることを特徴とする前記９に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２８】
本発明により、長時間にわたり高温高湿等の環境におかれた場合でも、リターデーション安定性が高いセルロースエステル系の偏光板保護フィルム、それを用いた視野角安定性の優れた偏光板、液晶表示装置を提供することが出来る。特に、ＩＰＳ、ＦＦＳ等のＩＰＳ型液晶表示装置に好適な偏光板保護フィルムを提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００３０】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物とセルロースエステルとを含有し、下記式（ｉ）で表されるＲｏが０ｎｍ以上１０ｎｍ以下で、下記式（ii）で表されるＲｔが−３０ｎｍ以上、＋２０ｎｍ以下であることを特徴とする偏光板保護フィルムにより、長時間にわたり高温高湿等の環境におかれた場合でも、リターデーション安定性が高いセルロースエステル系偏光板保護フィルム、並びにそれを用いた視野角安定性の優れた偏光板、液晶表示装置を提供することが出来ることを見出したものである。【００３１】
式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
中でも添加剤として、重量平均分子量が５００以上、３００００以下であるアクリルポリマー、または重量平均分子量が５００以上、１００００以下の芳香環を持たないポリエステル、もしくは前記一般式（１）〜一般式（１４）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルムであることが好ましいことも見出したものである。【００３２】
以下、本発明を詳細に説明する。【００３３】
《本発明に係るフラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物》
本発明の偏光板保護フィルムは、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物（以下、これらの化合物を糖エステル化合物ともいう。）とセルロースエステルとを含むことを特徴とする。【００３４】
好ましい化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の例としては、以下に示す化合物を挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００３５】
化合物（Ａ）の例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース等が挙げられる。【００３６】
また、化合物（Ｂ）の例としては、ラクトース、スクロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、ケストースなどが挙げられる。これらの化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の中で、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。【００３７】
本発明に係る化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物（糖エステル化合物）」を合成する際に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いてエステル化し、本発明に用いられる糖エステル化合物を合成することが出来る。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。【００３８】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。【００３９】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。【００４０】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に１〜５個のアルキル基もしくはアルコキシ基等の置換基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来るが、特に安息香酸が好ましい。【００４１】
これら化合物の製造方法の詳細は、特開平８−２４５６７８号公報に記載されている。【００４２】
上記化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）のエステル化化合物に加えて、オリゴ糖のエステル化化合物を、本発明に係るフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を３〜１２個結合した化合物として適用できる。【００４３】
オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本発明に適用できるオリゴ糖としては、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。オリゴ糖も上記化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）と同様な方法でアセチル化できる。【００４４】
次に、糖エステル化合物の製造例の一例を記載する。【００４５】
グルコース（２９．８ｇ、１６６ｍｍｏｌ）にピリジン（１００ｍｌ）を加えた溶液に無水酢酸（２００ｍｌ）を滴下し、２４時間反応させた。その後、エバポレートで溶液を濃縮し氷水へ投入した。１時間放置した後、ガラスフィルターにてろ過し、固体と水を分離し、ガラスフィルター上の固体をクロロホルムに溶かし、これが中性になるまで冷水で分液した。有機層を分離後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過により除去した後、クロロホルムをエバポレートにより除き、更に減圧乾燥することによりグリコースペンタアセテート（５８．８ｇ、１５０ｍｍｏｌ、９０．９％）を得た。なお、上記無水酢酸の替わりに、上述のモノカルボン酸を使用することが出来る。【００４６】
以下に、本発明に係る糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。【００４７】
【化６】
2008015911.tif 000007
【００４８】
【化７】
2008015911.tif 000008
【００４９】
【化８】
2008015911.tif 000009
【００５０】
【化９】
2008015911.tif 000010
【００５１】
【化１０】
2008015911.tif 000011
【００５２】
【化１１】
2008015911.tif 000012
【００５３】
【化１２】
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【００５４】
【化１３】
2008015911.tif 000014
【００５５】
本発明の偏光板保護フィルムは、位相差値の湿度変動を抑制して、表示品位を安定化する為に、前記フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２〜１２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した糖エステル化合物を、フィルム中に１〜３５質量％、特に５〜３０質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の優れた効果を呈すると共に、原反保管中におけるブリードアウトなどもなく好ましい。中でもＯＨ基をすべてエステル化した糖エステル化合物とＯＨ基が１つ以上残存している糖エステル化合物とを併用することが好ましい。これによりＯＨ基をすべてエステル化した化合物を用いる場合と比べても、さらにブリードアウトも少なく、視野角変動も少なく好ましい。例えば、スクロースオクタアセテート、スクロースヘプタアセテート、スクロースヘキサアセテートの混合物が好ましい。混合の比率は特に限定はないが、例えば、３０：３０：３０、４０：３０：３０、４０：５０：１０、５０：３０：２０、６０：３０：１０、８０：１０：１０、９０：７：３、９５：５：０、などの組み合わせが挙げられる。これらは、糖のエステル化の際に反応時間あるいは糖と反応させるモノカルボン酸の添加量を調整することで制御してもよいし、それぞれを混合してもよい。【００５６】
《アクリルポリマー、ポリエステル》
本発明の偏光板保護フィルムに含有することの出来るポリマー樹脂は、リターデーション値を制御する為に、重量平均分子量が５００以上、３００００以下であるアクリルポリマーを含有することが好ましく、中でも分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下のポリマーＸ、更に好ましくは５０００以上、３００００以下のポリマーＸを含有することであり、より好ましくは、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下のポリマーＸと、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量が５００以上、３０００以下のポリマーＹとを含有することが好ましい。【００５７】
〔ポリマーＸ、ポリマーＹ〕
本発明に係るポリマーＸは、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量が２０００以上、３００００以下のポリマーである。【００５８】
好ましくは、Ｘａは分子内に芳香環と親水性基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Ｘｂは分子内に芳香環を有せず親水性基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。【００５９】
本発明に係るポリマーＸは、下記一般式（Ｘ）で表される。【００６０】
一般式（Ｘ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−（Ｘｃ）ｐ−
さらに好ましくは、下記一般式（Ｘ−１）で表されるポリマーである。【００６１】
一般式（Ｘ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ1）（−ＣＯ2Ｒ2）］ｍ−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ3）（−ＣＯ2Ｒ4−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
（式中、Ｒ1、Ｒ3は、各々ＨまたはＣＨ3を表す。Ｒ2は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ4は−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−または−Ｃ3Ｈ6−を表す。Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎおよびｐは、各々モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。）
本発明に係るポリマーＸを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるが、これに限定されない。【００６２】
Ｘにおいて、親水性基とは、水酸基、エチレンオキシド連鎖を有する基をいう。【００６３】
分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることが出来る。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）であることが好ましい。【００６４】
分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることが出来、好ましくは、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）及びメタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）である。【００６５】
Ｘｃとしては、Ｘａ、Ｘｂ以外のものでかつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。【００６６】
Ｘａ、ＸｂおよびＸｃのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲が好ましく、更に好ましくは９５：５〜７５：２５の範囲である。Ｘｃのｐは０〜１０である。Ｘｃは複数のモノマー単位であってもよい。【００６７】
Ｘａのモル組成比が多いとセルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のリターデーション値Ｒｔｈが大きくなる。Ｘｂのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Ｒｔｈを低減させる効果が高い。また、Ｘｂのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りＸａ、Ｘｂのモル組成比を決めることが好ましい。【００６８】
ポリマーＸの分子量は、重量平均分子量が２０００以上、３００００以下であり、更に好ましくは５０００以上、３００００以下であり、特に好ましくは８０００以上２５０００以下である。【００６９】
重量平均分子量を２０００以上、特に５０００以上とすることにより、セルロースエステルフィルムの、高温高湿下における寸法変化が少ない、偏光板保護フィルムとしてカールが少ない等の利点が得られ好ましい。重量平均分子量が３００００を以内とした場合は、セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、さらには製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。【００７０】
本発明に係るポリマーＸの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが出来る。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。また、重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで可能である。【００７１】
重量平均分子量の測定方法は下記方法によることが出来る。【００７２】
（重量平均分子量測定方法）
重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。【００７３】
測定条件は以下の通りである。【００７４】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。【００７５】
本発明に係るポリマーＹは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下のポリマーである。重量平均分子量５００以上ではポリマーの残存モノマーが減少し好ましい。また、３０００以下とすることは、リターデーション値Ｒｔの低下性能を維持するために好ましい。Ｙａは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。【００７６】
本発明に係るポリマーＹは、下記一般式（Ｙ）で表される。【００７７】
一般式（Ｙ）
−（Ｙａ）ｋ−（Ｙｂ）ｑ−
さらに好ましくは、下記一般式（Ｙ−１）で表されるポリマーである。【００７８】
一般式（Ｙ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
（式中、Ｒ5は、ＨまたはＣＨ3を表す。Ｒ6は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なモノマー単位を表す。ｋおよびｑは、各々モル組成比を表す。ただしｋ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。）
Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ｙｂは複数であってもよい。ｋ＋ｑ＝１００、ｑは好ましくは０〜３０である。【００７９】
芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーＹを構成するエチレン性不飽和モノマーＹａは、アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの；不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることが出来る。【００８０】
Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ｙｂは複数であってもよい。【００８１】
ポリマーＸ、Ｙを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量をあまり大きくしない方法で出来るだけ分子量を揃えることの出来る方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号または同２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、あるいは該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることが出来、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、ポリマーＹは、分子中にチオール基と２級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。この場合、ポリマーＹの末端には、重合触媒および連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、Ｙとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。【００８２】
ポリマーＸおよびＹの水酸基価は、３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。【００８３】
（水酸基価の測定方法）
水酸基価の測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０（１９９２）に準ずる。この水酸基価は、試料１ｇをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価は、次の式によって算出する。【００８４】
水酸基価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
（式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、また、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す）
上述のポリマーＸ、ポリマーＹは、何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。【００８５】
ポリマーＸとポリマーＹのセルロースエステルフィルム中での含有量は、1〜４０質量％の範囲で含有させることができるが、下記式（iii）、式（iV）を満足する範囲であることが好ましい。ポリマーＸの含有量をＸｇ（質量％＝ポリマーＸの質量／セルロースエステルの質量×１００）、ポリマーＹの含有量をＹｇ（質量％）とすると、
式（iii）
５≦Ｘｇ＋Ｙｇ≦３５（質量％）
式（iV）
０．０５≦Ｙｇ／（Ｘｇ＋Ｙｇ）≦０．４
式（iii）の好ましい範囲は、１０〜２５質量％である。【００８６】
ポリマーＸとポリマーＹは総量として５質量％以上であれば、リターデーション値Ｒｔの低減に十分な作用をする。また、総量として３５質量％以下であれば、ポリビニルアルコール系の偏光子との接着性が良好である。【００８７】
ポリマーＸとポリマーＹは後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することが出来る。【００８８】
〔ポリエステル〕
（一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるポリエステル）
本発明の偏光板保護フィルムは、リターデーション値を制御する為に、下記一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるポリエステルを含有することも好ましい。これは炭素数２〜１２の２価のアルコールＧと炭素数２〜１２の２塩基酸、炭素数１〜１２のモノカルボン酸Ｂ１、もしくは炭素数１〜１２のモノアルコールであるＢ２から得られたポリエステルある。【００８９】
一般式（Ｂ１）
Ｂ1−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ1
（式中、Ｂ1は炭素数１〜１２のモノカルボン酸を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ1、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍは繰り返し数を表す。）
一般式（Ｂ２）
Ｂ2−（Ａ−Ｇ−）ｎＡ−Ｂ2
（式中、Ｂ2は炭素数１〜１２のモノアルコールを表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ2、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｎは繰り返し数を表す。）
Ｂ1で表されるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることが出来る。【００９０】
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。【００９１】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。【００９２】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。【００９３】
Ｂ2で表されるモノアルコール成分としては、特に制限はなく、公知のアルコール類を用いることが出来る。例えば、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。【００９４】
Ｇで表される２価のアルコール成分としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等を挙げることが出来るが、これらのうちエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールが好ましく、更に、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールを好ましく用いられる。【００９５】
Ａで表される２塩基酸（ジカルボン酸）成分としては、脂肪族２塩基酸、脂環式２塩基酸が好ましく、例えば、脂肪族２塩基酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等、特に、脂肪族ジカルボン酸としては炭素原子数４〜１２もの、これらから選ばれる少なくとも一つのものを使用する。つまり、２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用してよい。【００９６】
ｍ、ｎは繰り返し数を表し、１以上で１７０以下が好ましい。【００９７】
ポリエステルの重量平均分子量は２００００以下が好ましく、１００００以下であることが更に好ましい。特に、重量平均分子量が５００〜１００００のポリエステルは、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜中において蒸発も揮発も起こりにくく好ましい。【００９８】
ポリエステルの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記２塩基酸とグリコールの直接反応、上記の２塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば２塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により容易に合成し得るが、重量平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応によるのが好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルはセルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に優れる偏光板保護フィルムを得ることが出来る。【００９９】
分子量の調整方法は、特に制限なく従来の方法を使用出来る。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸（モノカルボン酸）または１価のアルコール（モノアルコール）で分子末端を封鎖する方法では、これら１価の化合物の添加量をコントロールすることで、分子量を調整することができる。この場合、１価の酸がポリマーの安定性の点からから好ましい。【０１００】
例えば、１価の酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等を挙げることが出来るが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して反応系外にこのような１価の酸を系外に除去するときに溜去し易いものが選ばれるが、これらを混合使用してもよい。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることによっても、重量平均分子量を調節出来る。その他、仕込むグリコールまたは２塩基酸のモル数を偏らせることによっても出来るし、反応温度をコントロールしても調節出来る。【０１０１】
本発明に係るポリエステルは、セルロースエステルに対し１〜４０質量％含有することが好ましい。更に、２〜３０質量％含有することが好ましい。特に５〜１５質量％含有することが好ましい。【０１０２】
《一般式（１）〜一般式（１４）で表される化合物》
次に、本発明において、リターデーション値を制御するのに好ましい一般式（１）で表される化合物について説明する。【０１０３】
前記一般式（１）において、Ｒ1およびＲ2の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。【０１０４】
Ｒ1およびＲ2の置換基としては、フッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。【０１０５】
また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル等の各基）が特に好ましい。【０１０６】
アリール基としては、炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル等の各基）が特に好ましい。【０１０７】
一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１０８】
【化１４】
2008015911.tif 000015
【０１０９】
【化１５】
2008015911.tif 000016
【０１１０】
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する。【０１１１】
前記一般式（２）において、ＸはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは、水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、またはＰ＝Ｏを表す。Ｘとしては、好ましくはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Ｎ、Ｐ＝Ｏであり、更に好ましくはＣ−Ｒ、Ｎであり、特に好ましくはＣ−Ｒである。【０１１２】
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用出来る。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えば、イミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル等）、シリル基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。【０１１３】
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。【０１１４】
以下に、前述の置換基Ｒについて説明する。置換基Ｒとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えば、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの各基が挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどの各基が挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどの各基が挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどの各基が挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどの各基が挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどの各基が挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどの各基が挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどの各基が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどの各基が挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどの各基が挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、ジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどの各基が挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えば、イミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどの各基が挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。【０１１５】
以下に一般式（２）で表される化合物について具体例を挙げて詳細に説明するが、本発明は、以下の具体例によって限定されるものではない。【０１１６】
【化１６】
2008015911.tif 000017
【０１１７】
【化１７】
2008015911.tif 000018
【０１１８】
多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。特に脂肪族カルボン酸エステルであることが好ましい。【０１１９】
本発明に用いられる多価アルコールは、前記一般式（３）で表される。【０１２０】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどを挙げることが出来る。中でも、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。【０１２１】
本発明に係る多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると、透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。【０１２２】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を用いるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。【０１２３】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に、安息香酸が好ましい。【０１２４】
多価アルコールエステルの分子量は、３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。【０１２５】
【化１８】
2008015911.tif 000019
【０１２６】
【化１９】
2008015911.tif 000020
【０１２７】
【化２０】
2008015911.tif 000021
【０１２８】
【化２１】
2008015911.tif 000022
【０１２９】
このほか、トリメチロールプロパントリアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテートなども好ましく用いられる。【０１３０】
上記一般式（１）〜（３）で表される化合物は、セルロースエステル１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部、好ましくは０．５〜２５量部用いられる。該化合物の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、ドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。【０１３１】
次いで、前記一般式（４）〜（１２）で表される化合物について説明する。【０１３２】
前記一般式（４）〜（１２）において、Ｙ31〜Ｙ70は、それぞれ独立に、炭素原子数が１〜２０のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が１〜２０のアミド基、炭素原子数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基である。Ｖ31〜Ｖ43は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜２０の脂肪族基である。Ｌ31〜Ｌ80は、それぞれ独立に、単結合であるか、あるいは総原子数が１〜４０かつ炭素原子数が０〜２０の２価の飽和連結基である。Ｖ31〜Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、更に置換基を有していてもよい。【０１３３】
アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１６が好ましく、２〜１２が更に好ましい。アシルオキシ基の例は、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、２，２−ジメチルプロピオニルオキシ、２−メチルブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、２，２−ジメチルブチリルオキシ、ヘプタノイルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、２−エチルヘキキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、デカノイルオキシ、ドデカノイルオキシ、フェニルアセトキシ、１−ナフトイルオキシ、２−ナフトイルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシを含む。【０１３４】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１６が好ましく、２〜１２が更に好ましい。アルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルなど、１−エチルプロピルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニルを含む。【０１３５】
アミド基の炭素原子数は、１〜１６が好ましく、１〜１２が更に好ましい。アミド基の例は、アセタミド、プロピオンアミド、ブチルアミド、イソブチルアミド、ペンタンアミド、２，２−ジメチルプロピオンアミド、３−メチルブチルアミド、３−メチルブチルアミド、ヘキサンアミド、２，２−ジメチルブチルアミド、ヘプタンアミド、シクロヘキシルカルボキサミド、２−エチルヘキサンアミド、２−エチルブタンアミド、オクタンアミド、ノナンアミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、デカンアミド、トリデカンアミド、ヘキサデカンアミド、ヘプタデカンアミドを含む。【０１３６】
カルバモイル基の炭素原子数は、１〜１６が好ましく、１〜１２が更に好ましい。カルバモイル基の例は、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、イソブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ヘプチルカルバモイル、オクチルカルバモイル、１−アダマンチルカルバモイル、２−アダマンチルカルバモイル、デシルカルバモイル、ドデシルカルバモイル、テトラデシルカルバモイル、ヘキサデシルカルバモイルを含む。【０１３７】
Ｙ31〜Ｙ70の置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子）、直鎖、分岐、環状のアルキル基（ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル、ヒドロキシ、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返して含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−アルキルスルホニルウレイド基、Ｎ−アリールスルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例、ピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、リン酸エステル基を含む。【０１３８】
Ｙ31〜Ｙ70は、各々上記置換基を複合した置換基を形成してもよい。複合した置換基の例は、エトキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、エトキシカルボニルエチル基を含む。【０１３９】
Ｖ31〜Ｖ43の脂肪族基の炭素原子数は、各々１〜１６が好ましく、１〜１２が更に好ましい。脂肪族基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、鎖状、分岐状および環状のアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基が更に好ましい。【０１４０】
アルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ｔ−アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルの各基を含む。【０１４１】
アルケニル基の例は、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルの各基を含む。【０１４２】
アルキニル基の例は、エチニル基、プロパルギル基を含む。【０１４３】
Ｖ31〜43の置換基の例は、各々Ｙ31〜Ｙ70の置換基の例と同様である。【０１４４】
Ｌ31〜Ｌ80の連結基の例は、アルキレン基（例、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルエチレン、エチルエチレン等の各基）、２価の環式基（例、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキシレン、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキシレン、１，３−シクロペンチリデン）、エーテル、チオエーテル、エステル、アミド、スルホン、スルホキシド、スルフィド、スルホンアミド、ウレイレン、チオウレイレンの各基を含む。【０１４５】
二以上の連結基が結合して二価の複合連結基を形成してもよい。複合置換基の例は、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）−、−
（ＣＨ2）2−Ｓ−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）2−を含む。【０１４６】
Ｌ３１〜Ｌ８０は、更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、前記のＲ１１〜Ｒ１３に置換していても良い基を挙げることが出来る。【０１４７】
前記一般式（４）〜（１２）で表される化合物の例は、クエン酸エステル（例えば、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリ（エチルオキシカルボニルメチレン）エステル）、オレイン酸エステル（例えば、オレイン酸エチル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２−エチルヘキシル、オレイン酸フェニル、オレイン酸シクロヘキシル、オレイン酸オクチル）、リシノール酸エステル（例えば、リシノール酸メチルアセチル）、セバシン酸エステル（例えば、セバシン酸ジブチル）、グリセリンのカルボン酸エステル（例えば、トリアセチン、トリブチリン）、グリコール酸エステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート）、ペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラブチレート）、ジペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサブチレート、ジペンタエリスリトールテトラアセテート）、トリメチロールプロパンのカルボン酸エステル（例えば、トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパンジアセテートモノプロピオネート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、トリメチロールプロパントリブチレート、トリメチロールプロパントリピバロエート、トリメチロールプロパントリ（ｔ−ブチルアセテート）、トリメチロールプロパンジ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンテトラ−２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンジアセテートモノオクタネート、トリメチロールプロパントリオクタネート、トリメチロールプロパントリ（シクロヘキサンカルボキシレート））、ピロリドンカルボン酸エステル類（２−ピロリドン−５−カルボン酸メチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸エチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸ブチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸２−エチルヘキシル）、シクロヘキサンジカルボン酸エステル（例えば、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル）、キシリトールカルボン酸エステル（例えば、キシリトールペンタアセテート、キシリトールテトラアセテート、キシリトールペンタプロピオネート）を含む。【０１４８】
グリセロールエステルは、特開平１１−２４６７０４号公報に記載がある。ジグリセロールエステルは、特開２０００−６３５６０号公報に記載がある。クエン酸エステルは、特開平１１−９２５７４号公報に記載がある。【０１４９】
前記一般式（１３）の化合物において、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3は、それぞれ独立に、５員環または６員環を有する基である。環は、炭化水素環および複素環を含む。環は、他の環と縮合環を形成してもよい。【０１５０】
炭化水素環は、置換または無置換のシクロヘキサン環、置換または無置換のシクロペンタン環または芳香族炭化水素環が好ましく、芳香族炭化水素環が更に好ましい。【０１５１】
芳香族炭化水素環は、炭素原子数６〜３０の単環または二環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環）が好ましい。炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１２が更に好ましい。ベンゼン環が最も好ましい。【０１５２】
複素環は、ヘテロ原子として、酸素原子、窒素原子または硫黄原子を含むことが好ましい。複素環は、芳香族性を有することが好ましい。【０１５３】
複素環の例は、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンを含む。ピリジン、トリアジン、キノリンが好ましい。【０１５４】
Ｑ1、Ｑ2およびＱ3は、各々置換基を有していてもよい。【０１５５】
置換基の例は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ、置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル、置換スルファモイル基、カルバモイル、置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ、スルホ、カルボキシル、ニトロ、ヒドロキサム酸基、スルフィノ、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基、シリル基を含む。これらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。複数の置換基は、互いに異なってもよい。また、複数の置換基が互いに連結して環を形成してもよい。【０１５６】
アルキル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２が更に好ましく、１〜８が最も好ましい。アルキル基の例は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルの各基を含む。【０１５７】
アルケニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１２が更に好ましく、２〜８が最も好ましい。アルケニル基の例は、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルの各基を含む。【０１５８】
アルキニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１２が更に好ましく、２〜８が最も好ましい。アルキニル基の例は、プロパルギル基、３−ペンチニル基を含む。【０１５９】
アリール基の炭素原子数は、６〜３０が好ましく、６〜２０が更に好ましく、６〜１２が最も好ましい。アリール基の例は、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルの各基を含む。【０１６０】
置換アミノ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１０が更に好ましく、１〜６が最も好ましい。置換アミノ基の例は、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノの各基を含む。【０１６１】
アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２が更に好ましく、１〜８が最も好ましい。アルコキシ基の例は、メトキシ、エトキシ、ブトキシの各基を含む。【０１６２】
アリールオキシ基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１６が更に好ましく、６〜１２が最も好ましい。アリールオキシ基の例は、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基を含む。【０１６３】
アシル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。アシル基の例は、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルの各基を含む。【０１６４】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１６が更に好ましく、２〜１２が最も好ましい。アルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基を含む。【０１６５】
アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７〜２０が好ましく、７〜１６が更に好ましく、７〜１０が最も好ましい。アリールオキシカルボニル基の例は、フェニルオキシカルボニル基を含む。【０１６６】
アシルオキシ基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１６が更に好ましく、２〜１０が最も好ましい。アシルオキシ基の例は、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基を含む。【０１６７】
アミド基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１６が更に好ましく、２〜１０が最も好ましい。アミド基の例は、アセアミド基、ベンズアミド基を含む。【０１６８】
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１６が更に好ましく、２〜１２が最も好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例は、メトキシカルボニルアミノ基を含む。【０１６９】
アリールオキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、７〜２０が好ましく、７〜１６が更に好ましく、７〜１２が最も好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例は、フェニルオキシカルボニルアミノ基を含む。【０１７０】
スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。スルホンアミド基の例は、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基を含む。【０１７１】
置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。置換スルファモイル基の例は、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルの各基を含む。【０１７２】
置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１６が更に好ましく、２〜１２が最も好ましい。置換カルバモイル基の例は、カルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルの各基を含む。【０１７３】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。アルキルチオ基の例は、メチルチオ基、エチルチオ基を含む。【０１７４】
アリールチオ基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１６が更に好ましく、６〜１２が最も好ましい。アリールチオ基の例は、フェニルチオ基を含む。【０１７５】
スルホニル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。スルホニル基の例は、メシル基、トシル基を含む。【０１７６】
スルフィニル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。スルフィニル基の例は、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基を含む。【０１７７】
ウレイド基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。ウレイド基の例は、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドの各基を含む。【０１７８】
リン酸アミド基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１６が更に好ましく、１〜１２が最も好ましい。リン酸アミド基の例は、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基を含む。【０１７９】
ヘテロ環基の炭素原子数は、１〜３０が好ましく、１〜１２が更に好ましい。ヘテロ原子の例は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含む。ヘテロ環基の例は、イミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルを含む。【０１８０】
シリル基の炭素原子数は、炭素原子数３〜４０が好ましく、３〜３０が更に好ましく、３〜２４が最も好ましい。シリル基の例は、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基を含む。【０１８１】
次に、一般式（１３）の化合物について説明する。【０１８２】
前記一般式（１３）において、Ｘは、Ｂ、Ｃ−Ｒ（Ｒは、水素原子または置換基）、Ｎ、ＰおよびＰ＝Ｏから選ばれる三価の基である。Ｘは、Ｂ、Ｃ−Ｒ、Ｎが好ましく、Ｃ−Ｒ、Ｎが更に好ましく、Ｃ−Ｒが最も好ましい。【０１８３】
Ｒの置換基の例は、アリール基、アミノ、置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基を含む。Ｒの置換基は、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基が更に好ましく、ヒドロキシ基が最も好ましい。【０１８４】
一般式（１３）で表される化合物は、更に下記一般式（ａ）で表される化合物であることが好ましい。【０１８５】
【化２２】
2008015911.tif 000023
【０１８６】
一般式（ａ）において、Ｘ2は、Ｂ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基）およびＮから選ばれる三価の基である。Ｘ2の詳細は、一般式（１３）のＸと同様である。【０１８７】
一般式（ａ）において、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は、それぞれ独立に、水素原子または置換基である。【０１８８】
置換基の詳細は、一般式（１３）におけるＱ1、Ｑ2およびＱ3の置換基と同様である。【０１８９】
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は、各々アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基、シリル基が好ましく、アルキル基、アリール基、アミノ、置換アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基が更に好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基が最も好ましい。【０１９０】
これらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。複数の置換基は、互いに異なってもよい。また、複数の置換基が互いに連結して環を形成してもよい。【０１９１】
次に一般式（１４）で表される化合物において、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミル、イソアミル）であることが好ましく、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の少なくとも１つ以上が炭素原子数１〜３のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルの各基）であることが特に好ましい。Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基（好ましくは炭素原子数１〜６、より好ましくは１〜３のもの、例えばメチレン、エチレン、プロピレンの各基）またはアリーレン基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１２のもの。例えば、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレンの各基）から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、アルキレン基またはアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが特に好ましい。Ｙは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数２〜２５、より好ましくは２〜２０のもの。例えば、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ドデシル、シクロヘキシル、ジシクロヘキシル、アダマンチルの各基）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１８のもの。例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチルの各基）またはアラルキル基（好ましくは炭素原子数７〜３０、より好ましくは７〜２０のもの。例えば、ベンジル、クレジル、ｔ−ブチルフェニル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチルの各基）であることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアラルキル基であることが特に好ましい。−Ｘ−Ｙの組み合わせとしては、−Ｘ−Ｙの総炭素数が０〜４０であることが好ましく、１〜３０であることが更に好ましく、１〜２５であることが最も好ましい。【０１９２】
一般式（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。【０１９３】
【化２３】
2008015911.tif 000024
【０１９４】
【化２４】
2008015911.tif 000025
【０１９５】
この他、本発明の偏光板保護フィルムには、下記の化合物を添加することが好ましい。【０１９６】
【化２５】
2008015911.tif 000026
【０１９７】
（式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ1およびＸ２はそれぞれ水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。【０１９８】
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。特に好ましくはベンゼン環である。【０１９９】
芳香族ヘテロ環として好ましくは、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。【０２００】
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。【０２０１】
Ｑ1およびＱ2は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えば、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの各基が挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどの各基が挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどの各基が挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどの各基が挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどの各基が挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどの各基が挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどの各基が挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどの各基が挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えば、フェニルオキシカルボニルなどの基が挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどの各基が挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどの各基が挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（���ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどの各基が挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどの各基が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどの各基が挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メチルチオ、エチルチオなどの各基が挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メシル、トシルなどの各基が挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどの各基が挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどの各基が挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、ジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどの各基が挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどの各基が挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどの各基が挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。【０２０２】
Ｘ1およびＸ2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ1およびＸ2で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することが出来る。また、Ｘ1およびＸ2はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ1およびＸ2はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。【０２０３】
Ｘ1およびＸ2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの））である。【０２０４】
一般式（１７）として好ましくは、下記一般式（１８）で表される化合物である。【０２０５】
【化２６】
2008015911.tif 000027
【０２０６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ1およびＸ2は一般式（１７）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用出来る。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。【０２０７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9、およびＲ10として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。【０２０８】
Ｒ3、およびＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。【０２０９】
一般式（１７）として、より好ましくは下記一般式（１９）で表される化合物である。【０２１０】
【化２７】
2008015911.tif 000028
【０２１１】
（式中、Ｒ3およびＲ8は一般式（１７）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ3は水素原子、または置換基を表す。）
Ｘ3は水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用出来、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、Ｒは炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。【０２１２】
一般式（１７）として更に好ましくは一般式（２０）で表される化合物である。【０２１３】
【化２８】
2008015911.tif 000029
【０２１４】
（式中、Ｒ3およびＲ8は一般式（１８）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ21は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）
Ｒ21として好ましくはＲ3およびＲ8が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。【０２１５】
Ｒ21として、好ましくはＲ3およびＲ8が水素原子以外の場合には、一般式（２０）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。【０２１６】
一般式（１７）で表される化合物はＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ６３巻  ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成出来る。【０２１７】
以下、一般式（１７）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。【０２１８】
【化２９】
2008015911.tif 000030
【０２１９】
【化３０】
2008015911.tif 000031
【０２２０】
【化３１】
2008015911.tif 000032
【０２２１】
これらの化合物は、本発明の偏光板保護フィルム中に０．１〜１５質量％含有させることが出来る。【０２２２】
前記アクリルポリマー、またはポリエステル、もしくは一般式（１）〜一般式（１４）で表される化合物が添加されたフィルムを用いることにより、高温高湿による劣化の少ない偏光板が得られる。また、この偏光板を用いることにより、コントラストや視野角安定性が長時間維持され、表面の平面性に優れるＩＰＳモード型液晶表示装置が得られる。【０２２３】
《セルロースエステル》
本発明の偏光板保護フィルムに用いるセルロースエステルには特に限定はないが、セルロースエステルとしては炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味している。水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数２〜６のアシル基の中で選択することが好ましい。前記セルロースエステルとしての炭素数が２〜４であることが好ましく、炭素数が２〜３であることがより好ましい。【０２２４】
前記セルロースエステルは、混合酸由来のアシル基を用いることも出来、特に好ましくは炭素数が２と３、或いは炭素数が２と４のアシル基を用いることが出来る。本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。尚、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。本発明において好ましく用いられるセルロースエステルとしては、特にセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレートが好ましく用いられる。【０２２５】
また、リターデーション値は、セルロースエステルの前記アシル基の種類とセルロース樹脂骨格のピラノース環へのアシル基の置換度等によって、適宜制御することが出来る。【０２２６】
本発明に好ましいセルロースエステルとしては、下記式（１）及び（２）を同時に満足するものが好ましい。【０２２７】
式（１）
２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（２）
０≦Ｙ≦２．０
式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。上記２式を満足するものは、本発明の目的に叶う、優れた光学特性を示す偏光板保護フィルムを製造するのに適している。【０２２８】
この中で特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートでは、１．０≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦１．５、２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０であることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することが出来る。【０２２９】
前記アシル基の置換度が低過ぎると、セルロース樹脂の骨格を構成するピラノース環の水酸基に対して未反応部分が多くなり、該水酸基が多く残存することにより、リターデーションの湿度変化や偏光板保護フィルムとして偏光子を保護する能力が低下してしまうことがあり、好ましくない。【０２３０】
本発明に用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に７００００〜２０００００のものが好ましく用いられる。【０２３１】
セルロースエステルの数平均分子量は下記のように測定出来る。【０２３２】
高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定する。【０２３３】
溶媒：アセトン
カラム：ＭＰＷ×１（東ソー（株）製）
試料濃度：０．２（質量／容量）％
流量：１．０ｍｌ／分
試料注入量：３００μｌ
標準試料：標準ポリスチレン
温度：２３℃
本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。【０２３４】
本発明に係るセルロースエステルは、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応が行われる。アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ3ＣＯＣｌ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＣｌ、Ｃ3Ｈ7ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参考にして合成することが出来る。【０２３５】
本発明で用いられるセルロースエステルにおいて、グルコース単位の６位のアシル基の平均置換度が０．５〜０．９であることが好ましい。【０２３６】
セルロースエステルを構成するグルコース単位の６位には、２位及び３位と異なり、反応性の高い一級ヒドロキシル基が存在し、この一級ヒドロキシル基は、硫酸を触媒とするセルロースエステルの製造過程で硫酸エステルを優先的に形成する。そのため、セルロースのエステル化反応において、触媒硫酸量を増加させることにより、通常のセルロースエステルに比べて、グルコース単位の６位よりも２位及び３位の平均置換度を高めることが出来る。更に、必要に応じて、セルロースをトリチル化すると、グルコース単位の６位のヒドロキシル基を選択的に保護出来るため、トリチル化により６位のヒドロキシル基を保護し、エステル化した後、トリチル基（保護基）を脱離することにより、グルコース単位の６位よりも２位及び３位の平均置換度を高めることが出来る。具体的には、特開２００５−２８１６４５号記載の方法で製造されたセルロースエステルも好ましく用いることが出来る。【０２３７】
アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起こり、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値で規定出来る。即ち、セルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行せるための反応度合いの一つの指標である重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値を用いることが出来る。【０２３８】
セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター１００質量部を解砕して、４０質量部の酢酸を添加し、３６℃で２０分間前処理活性化をした。その後、硫酸８質量部、無水酢酸２６０質量部、酢酸３５０質量部を添加し、３６℃で１２０分間エステル化を行った。２４％酢酸マグネシウム水溶液１１質量部で中和した後、６３℃で３５分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを１０倍の酢酸水溶液（酢酸：水＝１：１（質量比））を用いて、室温で１６０分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度２．７５の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはＭｎが９２０００、Ｍｗが１５６０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．７であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件（温度、時間、攪拌）、加水分解条件を調整することによって置換度、Ｍｗ／Ｍｎ比の異なるセルロースエステルを合成することが出来る。セルロースエステルのＭｗ／Ｍｎ比は１．４〜５．０が好ましく用いられる。【０２３９】
尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去すること、未酢化または低酢化度の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。【０２４０】
また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法で得ることが出来る。【０２４１】
また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄（Ｆｅ）成分については、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分については、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成しやすく、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）を形成する。【０２４２】
カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍであることが好ましい。鉄（Ｆｅ）分の含量、カルシウム（Ｃａ）分含量、マグネシウム（Ｍｇ）分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析することが出来る。【０２４３】
（可塑剤）
本発明の偏光板保護フィルムは、本発明の効果を得る上で必要に応じて可塑剤を含有することが出来る。可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を２種以上用いる場合は、少なくとも１種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。【０２４４】
多価アルコールエステル系可塑剤は、前述の一般式（３）で表される化合物である。【０２４５】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。【０２４６】
フタル酸エステル系可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。【０２４７】
クエン酸エステル系可塑剤としては、例えば、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。【０２４８】
脂肪酸エステル系可塑剤として、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。【０２４９】
リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。【０２５０】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。【０２５１】
多価カルボン酸は、下記一般式（２１）で表される。【０２５２】
一般式（２１）
Ｒ2（ＣＯＯＨ）ｍ（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒ2は（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシル基、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。）
好ましい多価カルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることが出来る。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。【０２５３】
本発明に用いることができる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては、特に制限はなく、公知のアルコール、フェノール類を用いることが出来る。例えば、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることが出来る。【０２５４】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性の水酸基を、モノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。【０２５５】
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。【０２５６】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。【０２５７】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。【０２５８】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。【０２５９】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は、特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。【０２６０】
本発明に用いることの出来る多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は、１種類でも良いし、２種以上の混合であっても良い。【０２６１】
本発明に用いることの出来る多価カルボン酸エステル化合物の酸価は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。【０２６２】
（酸価）
酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。【０２６３】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。【０２６４】
ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることが出来る。ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（２２）で表される芳香族末端エステル系可塑剤を用いることが出来る。【０２６５】
一般式（２２）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（２２）で表される化合物は、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。【０２６６】
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することが出来る。【０２６７】
本発明に用いることの出来るポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。【０２６８】
また、上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用出来る。【０２６９】
芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。【０２７０】
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。【０２７１】
以下、本発明に用いることの出来る芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。【０２７２】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１．３３×１０４Ｐａ〜最終的に４×１０２Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。【０２７３】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価                      ；０．２
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、エチレングリコール３４１部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。【０２７４】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３１０００
酸価                      ；０．１
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。【０２７５】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３８０００
酸価                      ；０．０５
〈サンプルＮｏ．４（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。【０２７６】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３７０００
酸価                      ；０．０５
以下に、本発明に用いることの出来る芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。【０２７７】
【化３２】
2008015911.tif 000033
【０２７８】
【化３３】
2008015911.tif 000034
【０２７９】
（紫外線吸収剤）
本発明の偏光板保護フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも出来る。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。【０２８０】
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。【０２８１】
例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり好ましく使用出来る。【０２８２】
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。【０２８３】
例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、下記一般式（ｂ）で示される化合物を用いることが出来る。【０２８４】
【化３４】
2008015911.tif 000035
【０２８５】
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ4とＲ5は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。【０２８６】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。【０２８７】
以下に本発明に用いられるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。【０２８８】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９）
更に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式（ｃ）で表される化合物が好ましく用いられる。【０２８９】
【化３５】
2008015911.tif 000036
【０２９０】
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、またはフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。【０２９１】
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。【０２９２】
以下に一般式（ｃ）で表されるベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。【０２９３】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。【０２９４】
本発明の偏光板保護フィルムは、紫外線吸収剤を２種以上を含有することが好ましい。【０２９５】
また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることが出来、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。【０２９６】
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。【０２９７】
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、偏光板保護フィルムの乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、偏光板保護フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。【０２９８】
（微粒子）
本発明の偏光板保護フィルムは、微粒子を含有することが好ましい。【０２９９】
本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。【０３００】
微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍが好ましく、更に好ましいのは１０〜３００ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径１００〜４００ｎｍの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。偏光板保護フィルムにおけるこれらの微粒子の含有量は、０．０１〜１質量％であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成の偏光板保護フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。【０３０１】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。【０３０２】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。【０３０３】
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。【０３０４】
これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが偏光板保護フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる偏光板保護フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。【０３０５】
（染料）
本発明の偏光板保護フィルムには、色味調整のため染料を添加することも出来る。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。【０３０６】
アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの１位から８位迄の任意の位置に任意の置換基を有することが出来る。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開２００１−１５４０１７号記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。【０３０７】
各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。【０３０８】
添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部で、より好ましくは、３〜５質量部である。【０３０９】
本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。【０３１０】
（偏光板保護フィルムの製造方法）
次に、本発明の偏光板保護フィルムの製造方法について説明する。【０３１１】
本発明の偏光板保護フィルムは、溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延で製造されたフィルムであっても好ましく用いることが出来る。【０３１２】
本発明の偏光板保護フィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。【０３１３】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。【０３１４】
本発明に係るドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度（アセチル基置換度）によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。【０３１５】
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。【０３１６】
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。回収溶剤中に、セルロースエステルに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。【０３１７】
上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると、常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。【０３１８】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。【０３１９】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。【０３２０】
もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることが出来る。【０３２１】
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。【０３２２】
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。【０３２３】
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に偏光板保護フィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ2以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ2以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ2以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ2以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。【０３２４】
ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。【０３２５】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。【０３２６】
ここで、ドープの流延について説明する。【０３２７】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることが出来る。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度は０〜４０℃であり、５〜３０℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。【０３２８】
偏光板保護フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。【０３２９】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。【０３３０】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。【０３３１】
また、偏光板保護フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。【０３３２】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。【０３３３】
本発明の偏光板保護フィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後で、ウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向（縦方向）に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。【０３３４】
剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力を２１０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは２２０〜３００Ｎ／ｍである。【０３３５】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。【０３３６】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２００℃で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。【０３３７】
偏光板保護フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは２０〜６０μｍである。【０３３８】
本発明の偏光板保護フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。【０３３９】
（延伸操作、屈折率制御）
本発明の偏光板保護フィルムは、下記式で表されるリターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが−３０〜＋２０ｎｍであることを特徴とする。【０３４０】
式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
上記屈折率は、例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることが出来る。【０３４１】
更に、リターデーション値Ｒｏは０〜５ｎｍの範囲であり、かつＲｔが−１０〜１０ｎｍの範囲にあることが、本発明の効果を高める上でより好ましい。【０３４２】
上記リターデーション値Ｒｏ、Ｒｔを得るには、偏光板保護フィルムが本発明の構成をとり、更に延伸操作により屈折率制御を行うことが好ましい。【０３４３】
例えば、フィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することが出来る。【０３４４】
互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。【０３４５】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことが出来、破断等の危険性が減少出来るので好ましい。【０３４６】
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。【０３４７】
本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。このθ１は配向角として定義出来、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことが出来る。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与出来、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与出来る。【０３４８】
〈物性〉
本発明の偏光板保護フィルムの透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで１０〜１２００ｇ／ｍ2・２４ｈが好ましく、更に２０〜１０００ｇ／ｍ2・２４ｈが好ましく、２０〜８５０ｇ／ｍ2・２４ｈが特に好ましい。透湿度はＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い測定することが出来る。【０３４９】
本発明の偏光板保護フィルムは、破断伸度が１０〜８０％であることが好ましく２０〜５０％であることが更に好ましい。【０３５０】
本発明の偏光板保護フィルムの可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることが更に好ましい。【０３５１】
本発明の偏光板保護フィルムのヘイズは、１％未満であることが好ましく、０〜０．１％であることが特に好ましい。【０３５２】
《偏光板》
本発明の偏光板、それを用いた本発明の液晶表示装置について説明する。【０３５３】
本発明の偏光板は、前記本発明の偏光板保護フィルムにより、偏光子の少なくとも一方の面を挟持してなる偏光板であることが特徴である。本発明の液晶表示装置は、少なくとも一方の液晶セル面に、本発明に係る偏光板が、粘着層を介して貼り合わされたものであることが特徴である。【０３５４】
本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することが出来る。本発明の偏光板保護フィルムの偏光子側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該偏光板保護フィルムを用いても、また別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、以上コニカミノルタオプト（株）製）も好ましく用いられる。本発明の偏光板保護フィルムに対して、液晶セルを介して反対側の偏光板に用いられる偏光板保護フィルムは波長５９０ｎｍで測定した面内リターデーションＲｏが１５０〜３５０ｎｍ、Ｒｔが−１００〜１００ｎｍの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開２００５−１９６１４９号、特開２００５−２７５１０４号記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開２００５−２７５０８３号記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。上記位相差フィルムは、本発明の偏光板保護フィルムと組み合わせて使用することによって、安定した視野角拡大効果を有する液晶表示装置を得ることが出来る。【０３５５】
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜して、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜３０μｍが好ましく、特に１０〜２０μｍであることが好ましい。【０３５６】
また、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。中でも熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。又、フィルムのＴＤ方向に５ｃｍ離れた二点間の熱水切断温度の差が１℃以下であることが、色斑を低減させるうえで更に好ましく、更にフィルムのＴＤ方向に１ｃｍ離れた二点間の熱水切断温度の差が０．５℃以下であることが、色斑を低減させるうえで更に好ましい。【０３５７】
このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能および耐久性能に優れているうえに、色斑が少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。【０３５８】
以上のようにして得られた偏光子は、通常、その両面または片面に保護フィルムが貼合されて偏光板として使用される。貼合する際に用いられる接着剤としては、ＰＶＡ系の接着剤やウレタン系の接着剤などを挙げることが出来るが、中でもＰＶＡ系の接着剤が好ましく用いられる。【０３５９】
（ＩＰＳモード型液晶表示装置）
本発明の偏光板を市販のＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード型液晶表示装置に組み込むことによって、視認性に優れ、視野角が拡大された本発明の液晶表示装置を作製することが出来る。【０３６０】
本発明に係るＩＰＳモードには、フリンジ−フィールドスイッチング（ＦＦＳ：Ｆｒｉｎｇｅ−Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードも本発明に含まれる。本発明の偏光板を組み込むことにより、同様の効果をもつ本発明の液晶表示装置を作製することが出来る。【０３６１】
液晶表示装置に本発明の偏光板保護フィルムを設置する場合、通常液晶セルの両側に視認側偏光子とバックライト側偏光子が構成されるが、このとき液晶セルと視認側偏光子もしくは液晶セルとバックライト側偏光子のどちらか一方の間で、かつ本発明の偏光板保護フィルムが液晶セル側になるように偏光板保護フィルムを少なくとも１枚設置することが好ましい。
【実施例】
【０３６２】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０３６３】
実施例１
《アクリルポリマーの合成》
〔ＡＣ１〜７の合成〕
攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管および温度計の付いたガラスフラスコに、表１記載の種類及び比率のモノマー混合液４０ｇ、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸３．０ｇおよびトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、表１記載の種類及び比率のモノマー混合液６０ｇを３時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを３時間かけて滴下した。その後更に、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間かけて滴下した後、更に２時間反応を継続させ、ＡＣ１を得た。次いで、ＡＣ１の合成において、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸の添加量を変えて同様の合成を行い、ＡＣ２〜７を得た。【０３６４】
該ＡＣ１〜７の重量平均分子量は下記測定法により表１に示した。【０３６５】
表１に記載のＭＡ、ＭＭＡ、ＨＥＭＡ及びＨＥＡは、それぞれ以下の化合物の略称である。【０３６６】
ＭＡ  ：メチルアクリレート
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＨＥＡ：β−ヒドロキシエチルアクリレート
（分子量測定）
重量平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。【０３６７】
測定条件は以下の通りである。【０３６８】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。【０３６９】
（ＡＣ８〜１０の合成）
特開２０００−１２８９１１号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーとして下記メチルアクリレートを投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換した下記チオグリセロールを攪拌下添加した。【０３７０】
チオグリセロール添加後、４時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン５質量％テトラヒドロフラン溶液を２０質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、８０℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、アクリルポリマーＡＣ８〜１０を得た。【０３７１】
【表１】
2008015911.tif 000037
【０３７２】
《偏光板保護フィルムの作製》
（偏光板保護フィルム１の作製）
（二酸化珪素分散液）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）                      １２質量部
（一次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）
エタノール                                                        ８８質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。【０３７３】
（インライン添加液の作製）
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          １１質量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）            ５質量部
メチレンクロライド                                                １００質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過した。【０３７４】
これに二酸化珪素分散希釈液を３６質量部、撹拌しながら加えて、更に３０分間撹拌した後、下記セルローストリアセテート６質量部を撹拌しながら加えて、更に６０分間撹拌した後、アドバンテック東洋（株）のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎで濾過し、インライン添加液を調製した。【０３７５】
（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（表中ＴＡＣと記載）（酢化度：６１．５％、Ｍｎ：１１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０）                                      １００質量部
添加剤１（糖エステル）：化合物１（アセチルスクロース）            １５質量部
メチレンクロライド                                              ４３０質量部
エタノール                                                        ４０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。【０３７６】
製膜ライン中で日本精線（株）製のファインメットＮＦでドープ液を濾過した。インライン添加液ライン中で、日本精線（株）製のファインメットＮＦでインライン添加液を濾過した。濾過したドープ液を１００質量部に対し、濾過したインライン添加液を２質量部加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度３５℃、１．８ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１２０％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルのウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、その後、テンターでＴＤ方向（フィルムの搬送方向と直交する方向）に１．０５倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で、乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は３０％であった。【０３７７】
その後、１１０℃、１２０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１５ｍｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施し、平均膜厚が４０μｍの偏光板保護フィルム１を作製した。フィルム幅は１．４ｍ、巻き取り長は３０００ｍとした。巻き取り張力は、初期張力１５０Ｎ／１３００ｍｍ、最終巻張力１００Ｎ／１．４ｍとした。【０３７８】
（偏光板保護フィルム２〜３９の作製）
偏光板保護フィルム１の作製において、セルロースエステル、添加剤１（糖エステル）、添加剤２、添加剤３、添加剤４の種類とその添加量を表２、３に記載の化合物とその添加量に変え、膜厚を表２、３に記載のように変えて偏光板保護フィルム２〜３９を作製した。【０３７９】
表中の略称は以下の通りである。【０３８０】
ＣＡＰ：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度：２．０、プロピオニル基置換度：０．９、Ｍｎ：８００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５）
ＴＰＰ：トリフェニルホスフェート
ＥＰＥＧ：エチルフタリルエチルグリコレート
ＴＭＰＢ：トリメチロールプロパントリベンゾエート（一般式（３）で表される多価アルコールエステル）
ＡＴＢＣ：アセチルトリブチルシトレート
Ａ−１０：一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ａ−１０
Ａ−３１：一般式（１）で表される化合物の例示化合物Ａ−３１
ＰＬ−２２：一般式（１４）で表される化合物の例示化合物ＰＬ−２２
ＵＶ−２０１：一般式（２０）で表される化合物の例示化合物ＵＶ−２０１【０３８１】
【表２】
2008015911.tif 000038
【０３８２】
【表３】
2008015911.tif 000039
【０３８３】
〔評価〕
得られた上記偏光板保護フィルム１〜３４について下記の評価を行った。【０３８４】
（Ｒｏ、Ｒｔの測定）
アッベ屈折率計（４Ｔ）を用いて偏光板保護フィルムの平均屈折率を測定した。また、市販のマイクロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。【０３８５】
自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下２４時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長が５９０ｎｍにおけるフィルムのリターデーション測定を行った。上述の平均屈折率と膜厚を下記式に入力し、面内リターデーション（Ｒｏ）及び厚み方向のリターデーション（Ｒｔ）の値を得た。【０３８６】
式（ｉ）    Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）    Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リターデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
（Ｒｔ安定性の評価）
作製した偏光板保護フィルムを、２３℃２０％ＲＨで１０時間処理した後Ｒｔを測定し、次いで５０℃８０％ＲＨで１００時間処理した後にＲｔを測定し、ΔＲｔを下記式により求め、下記基準で４段階評価した。【０３８７】
ΔＲｔ（ｎｍ）＝｜Ｒｔ（２３℃２０％ＲＨ）−Ｒｔ（５０℃８０％ＲＨ）｜
◎：ΔＲｔが５ｎｍ未満
○：ΔＲｔが５〜１０ｎｍ未満
△：ΔＲｔが１０〜２０ｎｍ未満
×：ΔＲｔが２０ｎｍ以上
以上の評価結果を表２、３に示した。【０３８８】
表２、３に記載の結果より明らかな様に、本発明の構成である偏光板保護フィルム１〜３１、３７〜３９は、リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが−３０〜＋２０ｎｍの範囲にあり、かつＲｔ変動が優れていることがわかる。【０３８９】
《偏光板の作製》
（偏光子Ｐ１の作製）
エチレン単位の含有量２．１モル％、けん化度９９．９２モル％、重合度３０００のエチレン変性ポリビニルアルコール１００質量部に、グリセリン１０質量部、水２００質量部を含浸させ、これを溶融混練し、脱泡した後、Ｔダイから金属ロールに溶融押出し、乾燥させて膜厚４０μｍのエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを得た。【０３９０】
得られたエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを予備膨潤、染色、一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で連続的に処理して偏光子Ｐ１を作製した。即ち、前記エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを３０℃の水中に６０秒間浸して予備膨潤し、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、ヨウ素濃度０．４ｇ／リットル、ヨウ化カリウム６０ｇ／リットルの３５℃の水溶液中に２分間浸した。続いて、ホウ酸濃度４％の５５℃の水溶液中で６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度６０ｇ／リットル、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、塩化亜鉛濃度１０ｇ／リットルの３０℃の水溶液中に５分間浸漬して固定処理を行った。この後、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを取り出し、常湿下、４０℃で熱風乾燥し、更に１００℃で５分間熱処理を行った。【０３９１】
得られた偏光子Ｐ１の透過率は４３％、偏光度は９９．９％であった。膜厚は１５μｍであった。【０３９２】
（偏光板１〜３９作製）
上記偏光板保護フィルム１〜３９を、４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、３分間水洗して鹸化処理層を形成し、アルカリ処理フィルムを得た。【０３９３】
次に上記作製した偏光子Ｐ１の両面にアルカリ処理を行った偏光板保護フィルム１〜３９を、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ、偏光板１〜３９を作製した。【０３９４】
《液晶表示装置の作製》
上記偏光板１〜３９を用いて、視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。【０３９５】
ＩＰＳモード型液晶表示装置である日立製液晶テレビＷｏｏｏ  Ｗ１７−ＬＣ５０の予め貼合されていた表側（観察者側）の偏光板のみを剥がして、上記作製した偏光板１〜３９をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。【０３９６】
その際、偏光板の貼合の向きは予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１〜３９を各々作製した。【０３９７】
次に、液晶表示装置１〜３９に対して下記の評価を行った。【０３９８】
２３℃、５５％ＲＨの環境で、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて液晶表示装置の視野角測定を行った。視野角は、コントラスト（白表示と黒表示の比）が２０以上の領域を有効視野角とした。続いて上記偏光板を６０℃、９０％ＲＨで５００時間処理し、同様に測定を行った。更に、上記偏光板を６０℃、９０％ＲＨで１０００時間処理したものを同様に測定し、下記基準で４段階評価した。【０３９９】
◎：有効視野角に変動がない
○：有効視野角がやや変動する
△：有効視野角が狭くなる
×：有効視野角が著しく狭くなる
以上の評価の結果を、表４に示す。【０４００】
【表４】
2008015911.tif 000040
【０４０１】
表４に記載の結果より明らかな様に、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は視野角安定性に優れたＩＰＳモード型液晶表示装置であることが分かる。【０４０２】
実施例２
実施例１で使用したＩＰＳモード型液晶表示装置である日立製液晶テレビＷｏｏｏ  Ｗ１７−ＬＣ５０の替わりに、ＦＦＳモード型液晶表示装置である日立製液晶テレビＷｏｏｏ  Ｗ３２−Ｌ７０００を使用した以外は実施例１と同様な液晶表示装置を作製し、実施例１と同様な評価をしたところ、実施例１を再現し本発明に係る液晶表示装置は優れた視野角安定性を示した。
【国際調査報告】
2008015911.tif 000046
2008015911.tif 000047