Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月9日(2007.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸水性樹脂粒子の表面を、架橋剤を用いて架橋して表面処理する表面処理工程（Ａ）と、表面処理された吸水性樹脂粒子を整粒する整粒工程（Ｂ）と、表面処理された吸水性樹脂粒子に添加物を添加する添加工程（Ｃ）と、添加物と表面処理された吸水性樹脂粒子とを混合する混合工程（Ｄ）とを含む粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法であって、
上記整粒工程（Ｂ）および混合工程（Ｄ）の合計時間が１０分以内であることを特徴とする粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項２】
上記添加工程（Ｃ）を行った後に整粒工程（Ｂ）を行うことを特徴とする請求項１に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項３】
上記整粒工程（Ｂ）と添加工程（Ｃ）とを同時に行うことを特徴とする請求項１に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項４】
上記整粒工程（Ｂ）と混合工程（Ｄ）とを同時に行うことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項５】
吸水性樹脂粒子の表面を、架橋剤を用いて架橋して表面処理する表面処理工程（Ａ）と、表面処理された吸水性樹脂粒子を整粒する整粒工程（Ｂ）と、表面処理された吸水性樹脂粒子に添加物を添加する添加工程（Ｃ）と、添加物と表面処理された吸水性樹脂粒子とを混合する混合工程（Ｄ）とを含む粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法であって、
上記整粒工程（Ｂ）を行うと同時に添加工程（Ｃ）を行うと共に、上記整粒工程（Ｂ）を行う間に混合工程（Ｄ）を行うことを特徴とする粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項６】
上記表面処理された吸水性樹脂粒子がＪＩＳ標準篩いで規定した８５０μｍ以上の凝集物を含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項７】
上記整粒工程（Ｂ）の後に、整粒された吸水性樹脂粒子と整粒されていない吸水性樹脂粒子とに分級する分級工程（Ｅ）をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項８】
上記整粒工程（Ｂ）の後に、整粒されていない吸水性樹脂粒子を再度整粒することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項９】
上記添加物が無機粉体であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１０】
粒子状吸水性樹脂組成物の０．７ｐｓｉでの加圧下吸収倍率（ＡＡＰ）が１５ｇ／ｇ以上、８０ｇ／ｇ以下、または、生理食塩水流れ誘導性（ＳＦＣ）が１０（×１０−７ｃｍ３ｓ／ｇ）以上であることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１１】
上記表面処理工程（Ａ）に次いで整粒工程（Ｂ）が行われることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１２】
上記架橋剤が脱水エステル反応性架橋剤であり、さらに８０〜２３０℃で加熱処理することを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１３】
上記混合工程（Ｄ）における吸水性樹脂粒子の温度が３５〜１００℃の範囲内であることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１４】
１ラインあたりの生産量が１００ｋｇ／ｈｒ以上であることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１５】
上記整粒工程（Ｂ）では、吸水性樹脂粒子またはその凝集物に対して、粉砕または分級を行うことを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１６】
上記添加物を、水を溶媒とした溶液または分散液として吸水性樹脂粒子に添加し、かつ、上記水の使用量が吸水性樹脂粒子１００重量部に対して、０．１〜３０重量部の範囲内であることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１７】
上記添加物が常温で粉末状であることを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１８】
上記添加物と表面処理された吸水性樹脂粒子との混合が乾式混合であることを特徴とする請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項１９】
表面処理された吸水性樹脂粒子１００重量部に対して添加物を０．０００１〜１００重量部添加することを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項２０】
整粒された粒子状吸水性樹脂組成物のＪＩＳ標準篩いで規定した重量平均粒子径が２８０〜５００μｍであり、目開きが８５０μｍの篩い未通過物の割合が１重量％以下、目開きが１５０μｍの篩い通過物の割合が５重量％以下であることを特徴とする請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項２１】
表面処理された吸水性樹脂粒子の無加圧下吸収倍率（ＣＲＣ）が２０ｇ／ｇ以上、８０ｇ／ｇ以下、０．７ｐｓｉでの加圧下吸収倍率（ＡＡＰ）が１５ｇ／ｇ以上、８０ｇ／ｇ以下、生理食塩水流れ誘導性（ＳＦＣ）が１（×１０−７ｃｍ３ｓ／ｇ）以上であることを特徴とする請求項１ないし２０のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【請求項２２】
上記添加物が水不溶性無機粉体であることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の粒子状吸水性樹脂組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月6日(2007.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保護ヘッドギアシステムであって、
支持シェルと、
前記支持シェルの周囲に顔面シールドを沿わせることによって前記支持シェルに装着されるように適合される顔面シールドと、
前記支持シェルの上部に取付けられ、かつそこに前記顔面シールドによって実質的に固定されるように適合される濾過装置と、
前記顔面シールドの下方部分に取付けられるように適合される保護カバーとを含む、保護ヘッドギアシステム。
【請求項２】
前記濾過装置を覆うために適合されるフィルタを含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項３】
前記顔面シールドに取付けられるように適合されるシールドプロテクタを含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項４】
前記支持シェルの内部に装着されるように適合されるヘッドバンドを含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項５】
前記支持シェルは、前記濾過装置を支持するために少なくとも１つのスペーサ装置を含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項６】
前記顔面シールドは、前記顔面シールドおよび前記濾過装置を取外し可能に前記支持シェルに封止するための封止手段を含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項７】
前記保護カバーは、空気透過性材料の層を含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項８】
前記保護カバーはアパチャーを含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項９】
前記保護カバーは、実質的に前記アパチャーを閉鎖するための調節可能な閉鎖手段を含む、請求項８に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１０】
前記調節可能な閉鎖手段は、前記アパチャーの少なくとも一部のまわりに弾性要素を含む、請求項９に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１１】
前記シールドプロテクタは、前記顔面シールドから選択的に取外し可能である、請求項３に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１２】
前記保護カバーは、前記支持シェルの下方で前記顔面シールドに取付けられる、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１３】
前記保護カバーを前記顔面シールドの底端縁に接続するためのファスナ手段を含む、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１４】
保護ヘッドギアシステムであって、
支持シェルと、
前記支持シェルに装着されるように適合される顔面シールドとを含み、前記顔面シールドは前記顔面シールドを取外し可能に前記支持シェルに封止するための封止手段を含み、前記保護ヘッドギアシステムはさらに、
前記支持シェルの上部に取付けられるように適合される濾過装置を含み、前記濾過装置は前記顔面シールドによって前記支持シェルに固定され、前記保護ヘッドギアシステムはさらに、
前記顔面シールドに取付けられるように適合される保護カバーと、
前記濾過装置を覆うために適合されるフィルタと、
前記顔面シールドに取付けられるように適合されるシールドプロテクタとを含む、保護ヘッドギアシステム。
【請求項１５】
前記保護カバーは、前記顔面シールドの形状に沿う、請求項１４に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１６】
前記フィルタは、前記濾過装置の形状に沿う、請求項１４に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１７】
前記濾過装置を前記支持シェルから離すために前記支持シェル上に支持手段を含む、請求項１４に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１８】
前記濾過装置の下方で前記支持シェルに取付けられる送風手段を含む、請求項１４に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項１９】
前記顔面シールドおよび前記シールドプロテクタは実質的に光を通す、請求項３に記載の保護ヘッドギアシステム。
【請求項２０】
前記保護カバーは、粒子状材料の透過を実質的に防ぐ柔軟な通気性材料で製造される、請求項１に記載の保護ヘッドギアシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ファンカバー１０１（図５を参照）は、ヘルメットシェル１００の外面の上方に延在する。ファンカバー１０１は、中央のフィン１０２に接合されるか、またはそれに一体化されて形成され、たとえば、米国特許第Ｄ  ４６０，５８４号、および第６，７９２，９４４号に説明されるように従来の種類の送風機構１０８のための保護的かつ外形を作るカバーを提供する。ファンカバー１０１は、ヘルメットシェル１００とフィルタ４００との間の距離を維持するためのスペーサを提供する。ファン開口部１０９は、ファンカバー１０１の側の部分を通って設けられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
発光ダイオード（ＬＥＤ）１５１および１５２、または類似の表示装置がヘルメットシェル１００の前部に取付けられる。これらダイオードは、視界を遮ることなく、またはさもなければ着用者の気を散らすことなくヘルメットアセンブリ１０の着用者によって容易に観察できるように配置される。ＬＥＤ１５１および１５２は、それぞれ赤または黄色などの異なる色であることが好ましい。一方のダイオードはバッテリ電力低下状態を選択的に示す働きをし、他方のダイオードは気流の低下状態を選択的に示す働きをする。ダイオード１５１および１５２は、ヘルメットシェル１００の内面に配置される導体（図示せず）によって、（上述の米国特許第６，７９２，９４４号に説明されるような）制御回路に接続される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月23日(2007.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
消極ドビーを備えた織機のヘルドフレームを制御するための牽引機構であって、前記機構は、各ヘルドフレームごとに、前記ドビーにより作動される部材と、戻しばね組立体またはレジスタとの間に延在する可撓性要素を有し、前記可撓性要素は前記部材に、前記組立体におよび各々が前記フレームに連結された２つの戻しレバーに留められている牽引機構において、前記可撓性要素（３０〜３３；１３０）が直接前記ドビー（１０）の揺動レバー (１１, １１′）に連結され、前記レバーは固定揺動振幅を有しかつ、前記揺動レバーを一時的に固定するために、ドビーの読取装置（２０）と選択的に協働するようになっているフック (１５) が設けられた両スイングレバー（１４）を備えていることと、前記可撓性要素がまた前記戻しレバー（４０，５０）のうちの１つ（４０）に調整可能に連結されることにより、前記可撓性要素と前記戻しレバーの枢軸（４５）の間の距離（ｄ）が可変であることと、前記可撓性要素（３０）が調整可能に連結されている戻しレバー（４０）には、前記戻しレバーに対して可動な（Ｆ2 ）かつ前記可撓性要素と固着したスターラップ要素（４１５）が設けられていることと、前記スターラップ要素（４１５）は前記可撓性要素（３０）の一部（３１ａ）を当接状態で受け入れるように形成されていることを特徴とする牽引機構。
【請求項２】
前記スターラップ（４１５）は、前記揺動レバー (１１, １１′）と前記戻しレバー (４０) との間に前記可撓性要素（３０）の方向（Ｂ−Ｂ′）にほぼ垂直な方向（Ａ−Ａ′）に延在する延長部（４３）に沿って可動であることを特徴とする、請求項１に記載の機構。
【請求項３】
前記延長部は２枚の板（４３ａ，４３ｂ）により形成され、その板の間に前記スターラップ要素（４１５）が挿入されていることを特徴とする、請求項２に記載の機構。
【請求項４】
前記スターラップ要素（４１５）は前記可撓性要素（３０）の前記一部（３１ａ）を受け入れて案内するための少なくとも１つの溝（４２１，４２２，４２６）を区画することを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項５】
前記スターラップ要素（４１５）上に前記可撓性要素（３０）の前記一部（３１ａ）を受け入れるための領域（４２１，４２２，４２６）の少なくとも１つの部分（４２１）が凸状であり、その際その凹面が前記戻しレバー（１４０）の枢軸（４５）の方向に向けられていることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項６】
前記受け入れ領域の前記凸状部分（４２１）はほぼ円弧の形をしておりかつ前記スターラップ要素（４１５）の外形 (図２）において前記戻しレバー（４０）の枢軸（４５）上に中心が置かれるようになっていることを特徴とする、請求項５に記載の機構。
【請求項７】
前記スターラップ要素（４１５）上に当接状態にある前記可撓性要素（３０）の前記一部（３１ａ）は、約１８０°を通じて曲げられた部分（３１ｅ）により一緒に連結された２つのストランド（３１ｃ，３１ｄ）からなることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項８】
前記可撓性要素（３０）は複数の部分（３１、３２、３３）により形成され、その部分の１つが前記揺動レバーと第一の戻しレバー (４０) の間に延在しており、前記スターラップ（４１５）に当接している前記可撓性要素（３０）の部分が、前記スターラップ要素上に固定されたその端部の１つ（３１ｂ）に隣接する前記部分の一部により形成されることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項９】
機構は前記スターラップ（４１５）を前記延長部（４３）上の所定の位置に閉塞するための手段（４１６，４３６）を有することを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１０】
前記可撓性要素（３０）は複数の部分（３１，３２，３３）により形成され、これらの部分はそれぞれ、前記揺動レバー (１１, １１′）と第１の戻しレバー（４０）の間に、前記戻しレバー（４０、５０）の間におよび第２の戻しレバー（５０）と戻しばね（６１）の組立体（６０）の間に延在していることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１１】
機構は、共通の軸（１２）に枢着された複数の揺動レバー (１１, １１′）を有し、各揺動レバー上に可撓性要素（３０）を留める領域（１１１）と前記軸の間の距離（Ｒ，Ｒ′）が前記揺動レバーの全てについて同一であることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１２】
前記揺動レバー (１１, １１′）は、前記可撓性要素（３０）を留める領域と前記共通の軸（１２）の間の距離（Ｒ，Ｒ′）が同一である少なくとも２つのグループに分配され、前記距離は一方のグループから他方のグループまで異なっていることを特徴とする請求項１１に記載の機構。
【請求項１３】
前記距離（Ｒ，Ｒ′）の値はヒ口の前方から後方に向かって増大することを特徴とする、請求項１１または１２に記載の機構。
【請求項１４】
機構は、上方に開放したほぼＵ字形をした横断面を有しかつ前記フレーム (７０) より上にほぼ水平方向（Ｘ−Ｘ′）に配置されたビーム（８０）からなる上部構造により支持されることを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１５】
前記可撓性要素（３０〜３３）がほぼ前記第１のレバーの枢軸（４５）と前記フレーム（７０）の間に位置する、第１の戻しレバー（４０）の領域（Ｚ4 ）と、前記第２のレバー（５０）の枢軸（５５）に関して前記フレームと反対側に位置する、第２の戻しレバー（５０）の領域（Ｚ5 ）との間に延在すると共に、前記組立体（６０）がほぼ前記レバー（４０，５０）の間に配置され、前記可撓性要素が、ほぼ前記第２のレバー（５０）の枢軸（５５）と前記フレーム（７０）の間に位置する、第２のレバーの領域（Ｚ′5 ）と、前記フレームの揺動方向（Ｚ−Ｚ′）にほぼ垂直である前記組立体との間に延在していることを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１６】
前記可撓性要素（３０〜３３）は、ほぼ前記第１のレバーの長手方向軸（４５）と前記フレーム (７０) の間に位置する、第１の戻しレバー（４０）の領域（Ｚ4)と、ほぼ前記第 2のレバーの枢軸（５５）と前記フレームの間に位置する、第２の戻しレバー（５０）の領域（Ｚ5 ）との間に延在していると共に、前記組立体（６０）はほぼ前記レバー（４０，５０）の間に配置され、前記可撓性要素は前記第２のレバー（５０）の枢軸（５５）に関して前記フレーム（７０）の反対側に位置する、第２のレバーの領域（Ｚ′5 ）と、前記フレームの揺動方向（Ｚ−Ｚ′）にほぼ垂直である前記組立体との間に延在していることを特徴とする請求項１から１４までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１７】
前記固定揺動振幅レバー (１１, １１′）が前記可撓性要素（３０〜３３）の当接と案内のためのシュー（１１１）を備えていることを特徴とする、請求項１から１６までのいずれか１つに記載の機構。
【請求項１８】
請求項１から１７までのいずれか１つに記載の牽引機構（１０〜４３６）を備えた織機（Ｍ）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
式
【化１】
2005097323.tif 000001
（式中、Ｒ１およびＲ２は同一かまたは異なる独立した直鎖状、枝分れ状または環式の飽和または不飽和Ｃ１〜２０アルキル基であって、この基は場合によりハロゲン（Ｃｌ、Ｆ、Ｉ、Ｂｒ）、ヒドロキシ基、Ｃ１〜４アルコキシ基、ニトロ基またはシアノ基によって置換されていてもよい）で表わされる１種またはそれ以上のジアルキルフマレートを活性成分として含有する、ｉ）器官および細胞の移植における宿主対移植片反応または移植片対宿主反応、またはｉｉ）多発性関節炎、多発性硬化症、若年性初期糖尿病、橋本甲状腺炎、グレーブス病、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）、ショーグレン症候群、悪性貧血および慢性活動性（狼瘡様）肝炎からなる群から選択された自己免疫疾患を治療するための薬剤調合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従って本発明は、一方において、特に受給者による移植の拒絶反応、すなわち宿主対移植片反応、または移植による受給者の拒絶反応すなわち移植片対宿主反応の治療、軽減または抑制のための薬剤調合物を製造するためにジアルキルフマレートを使用することに関するものである。他方において、本発明は多発性関節炎、多発性硬化症、若年性初期糖尿病、橋本甲状腺炎、グレーブス病、全身性狼瘡エリテマトーレス（ＳＬＥ）、ショーグレン症候群、悪性貧血および慢性活動性（狼瘡様）肝炎のような自己免疫疾患を治療するための薬剤調合物を製造するためのジアルキルフマレートを使用することに関するものであ
る。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月11日(2007.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（I）：
【化１】
2005097305.tif 000001
［式中、R1およびR2は、互いに独立に、水素、任意に置換され、1〜5個の酸素原子および／または硫黄原子によって任意に中断されたC1〜C20アルキル基またはC1〜C20オキシアルキル基を表すか、または一緒になって、任意に置換されたC1〜C20ジオキシアルキレン基またはC1〜C20ジオキシアリーレン基を表す］
で示されるチオフェンの精製法であって、チオフェンの融解温度より低い温度において、溶媒または溶媒混合物中のチオフェンの溶液を冷却することによるか、または冷却した溶媒または溶媒混合物、またはチオフェンの冷却溶液にチオフェンを導入することによって、室温で液体の一般式（I）のチオフェンを固体として沈殿させることを特徴とする精製法。
【請求項２】
使用される一般式（I）のチオフェンが、一般式（II）：
【化２】
2005097305.tif 000002
［式中、
Aは、任意に置換されたC1〜C5アルキレン基またはC1〜C12アリーレン基を表し；
Rは、直鎖または分岐鎖の任意に置換されたC1〜C18アルキル基、任意に置換されたC5〜C12シクロアルキル基、任意に置換されたC6〜C14アリール基、任意に置換されたC7〜C18アラルキル基、任意に置換されたC1〜C4ヒドロキシアルキル基、またはヒドロキシル基を表し；
xは、0〜8の整数を表し；
いくつかのR基がAに結合している場合、これらの基は同じかまたは異なっていてよい］
で示される化合物であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項３】
使用される一般式（I）のチオフェンが、一般式（IIa）：
【化３】
2005097305.tif 000003
［式中、Rは請求項2に記載した意義を有し、yは0、1、2、3または4を表す］
で示される化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
使用される一般式（I）のチオフェンが、Rが請求項2に記載した意義を有し、yが0または1である一般式（IIa）の化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の方法。
【請求項５】
1つまたはそれ以上のアルコール、好ましくはエタノールおよび／またはメタノールを、アルコールでない1つまたはそれ以上の付加的溶媒と混合して、溶媒として使用することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の方法。
【請求項６】
液体チオフェンを添加した際に固体チオフェンと液体との混合物が形成される温度に、溶媒または溶媒混合物またはチオフェン溶液を先ず冷却し、次に、液体チオフェンを、冷却した溶媒、溶媒混合物または冷却チオフェン溶液に添加することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の方法。
【請求項７】
チオフェンと合わす前のチオフェン溶液または溶媒または溶媒混合物を、式（I）のチオフェンの融点より少なくとも20℃低い温度に冷却することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載の方法。
【請求項８】
式（I）のチオフェンの融点より少なくとも20℃低い温度において、固体チオフェンを液体から分離することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の方法。
【請求項９】
固体チオフェンに場合により残留する溶媒を、付加的精製段階によって、特にチオフェンの蒸留によって、除去することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも99.50％の純度を有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1つに記載の方法によって得られる精製チオフェン。
【請求項１１】
一般式（I）：
【化４】
2005097305.tif 000004
［式中、R1およびR2は、互いに独立に、水素、任意に置換され、1〜5個の酸素原子および／または硫黄原子によって任意に中断されたC1〜C20アルキル基またはC1〜C20オキシアルキル基を表すか、または一緒になって、任意に置換されたC1〜C20ジオキシアルキレン基またはC1〜C20ジオキシアリーレン基を表す］
で示され、少なくとも99.50wt％の純度を有することを特徴とするチオフェン。
【請求項１２】
チオフェンが3,4−エチレンジオキシチオフェンであることを特徴とする請求項11に記載のチオフェン。
【請求項１３】
チオフェンが0.05％wt未満のジメトキシチオフェン含有量を有することを特徴とする請求項11または12に記載のチオフェン。
【請求項１４】
導電性ポリマーまたは有機半導体の製造における、特にコンデンサーまたは印刷回路板の製造用材料としての、請求項10〜13のいずれか1つに記載のチオフェンの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着材料を蒸着して成膜を行う成膜装置であって、
加熱ヒータを有する加熱部と、
開口部を有し蒸着材料が充填される蒸着容器とを有し、
前記蒸着容器は前記加熱部により加熱され、
前記蒸着容器は前記加熱ヒータに対して相対的に移動することにより、前記加熱ヒータに対して第１の位置と第２の位置をとり、
前記蒸着容器が前記第１の位置にあるときは、前記加熱ヒータにより前記蒸着容器内の蒸着材料が加熱され、前記蒸着容器が前記第２の位置にあるときは、前記蒸着容器の前記開口部が加熱されることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
蒸着材料を蒸着して成膜を行う成膜装置であって、
第１加熱ヒータと第２加熱ヒータを有する加熱部と、
開口部を有し蒸着材料が充填される蒸着容器とを有し、
前記蒸着容器は前記加熱部により加熱され、
前記蒸着容器は前記第１及び前記第２加熱ヒータに対して相対的に移動することにより、前記第１及び前記第２加熱ヒータに対して第１の位置と第２の位置をとり、
前記蒸着容器が前記第１の位置にあるときは、前記第１加熱ヒータにより前記蒸着容器内の蒸着材料が加熱され、前記蒸着容器が前記第２の位置にあるときは、前記蒸着容器の前記開口部が前記第１加熱ヒータにより加熱され且つ前記蒸着材料が前記第２加熱ヒータにより加熱されることを特徴とする成膜装置。
【請求項３】
請求項２において、前記第１加熱ヒータと前記第２加熱ヒータは、前記蒸着容器を独立して加熱することを特徴とする成膜装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３において、前記第２加熱ヒータの加熱温度は前記第１加熱ヒータの加熱温度よりも低いことを特徴とする成膜装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記加熱部は前記蒸着容器を囲う構成であることを特徴とする成膜装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記加熱部と前記蒸着容器を有する蒸着源を有し、前記蒸着源をＸ方向またはＹ方向に移動する手段を有していることを特徴とする成膜装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記蒸着容器は坩堝であることを特徴とする成膜装置。
【請求項８】
基板投入室と、
前記基板投入室に連結した搬送室と、
前記搬送室に連結した成膜室と、
前記成膜室に連結した蒸着容器の設置室とを有し、
前記成膜室は、加熱ヒータを有する加熱部と、開口部を有し蒸着材料が充填される蒸着容器とを有し、
前記蒸着容器は前記加熱部により加熱され、
前記蒸着容器は前記加熱ヒータに対して相対的に移動することにより、前記加熱ヒータに対して第１の位置と第２の位置をとり、
前記蒸着容器が前記第１の位置にあるときは、前記加熱ヒータにより前記蒸着容器内の蒸着材料が加熱され、前記蒸着容器が前記第２の位置にあるときは、前記蒸着容器の前記開口部が加熱されることを特徴とする製造装置。
【請求項９】
基板投入室と、
前記基板投入室に連結した搬送室と、
前記搬送室に連結した成膜室と、
前記成膜室に連結した蒸着容器の設置室とを有し、
前記成膜室は、第１加熱ヒータと第２加熱ヒータを有する加熱部と、開口部を有し蒸着材料が充填される蒸着容器とを有し、
前記蒸着容器は前記加熱部により加熱され、
前記蒸着容器は前記第１及び前記第２加熱ヒータに対して相対的に移動することにより、前記第１及び前記第２加熱ヒータに対して第１の位置と第２の位置をとり、
前記蒸着容器が前記第１の位置にあるときは、前記第１加熱ヒータにより前記蒸着容器内の蒸着材料が加熱され、前記蒸着容器が前記第２の位置にあるときは、前記蒸着容器の前記開口部が前記第１加熱ヒータにより加熱され且つ前記蒸着材料が前記第２加熱ヒータにより加熱されることを特徴とする製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月20日(2007.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無電解めっき浴槽を用意し、
ニッケル及びコバルトのうち少なくとも一方を含む溶液を形成するために、水中にニッケルもしくはコバルトを含む物質を溶解し、
第一安定度定数を備えた第一キレート剤をその溶液に添加し、
その第一キレート剤と同様に溶液中に浮遊するニッケル及びコバルトのうち少なくとも一方を保持するように機能し、第一安定度定数とは異なる第二安定度定数を備えた第二キレート剤をその溶液に添加し、
緩衝剤として機能し、異なったｐＨ値を伴う、異なった組成を備えた第一及び第二ｐＨ調整剤を前記溶液のｐＨを増加させるためにその溶液に添加し、
その溶液に拡散障壁物質を添加し、
めっきの均一性を高め、かつ前記溶液を化学的に安定化させるために、その溶液に少なくとも一つの界面活性剤を添加し、
ニッケルもしくはコバルトを含む物質のニッケル及びコバルトのうち少なくとも一方を固体に変化させるためにその溶液にホウ素を含む物質を添加し、
予め定められた温度までその溶液を加熱し、
無電解めっき浴槽中に露出金属を備えた半導体装置を配置し、
露出金属を覆うとともに、ホウ素、拡散障壁物質並びにニッケル及びコバルトのうち少なくとも一方の組み合せを含む障壁膜を形成するようにその半導体装置をめっきし、
その溶液からその半導体装置を取り外すことを含んだ半導体処理方法。
【請求項２】
半導体処理方法において、銅上の拡散障壁物質の膜の無電解めっきのための処理組成物は、
コバルトを含む化合物と、
コバルトを選択的にキレートするための第一キレート剤と、
その組成物中のいかなる溶解金属をも選択的にキレートする第一キレート剤とは異なる第二キレート剤と、
その組成物を緩衝し、かつ予め定められた量だけその組成物のｐＨを調整するための第一ｐＨ調整剤と、
第一金属源を提供するためのタングステンを含む化合物と、
拡散障壁物質の膜におけるタングステン析出量を増加させる第一表面張力低下特性を備えた第一界面活性剤と、
拡散障壁物質の膜における析出の均一性を向上させる第二表面張力低下特性を備えた第二界面活性剤とを含む処理方法。
【請求項３】
銅上の拡散障壁物質の膜の無電解めっきにおいて使用するための半導体処理溶液であって、その半導体処理溶液は、
金属を含む化合物と、
その金属を選択的にキレートするための第一キレート剤と、
組成物中の他のいかなる金属をも選択的にキレートする第一キレート剤とは異なる第二キレート剤と、
組成物を緩衝し、かつその組成物のｐＨを予め定められた量だけ調整するための第一ｐＨ調整剤と、
第一金属源を提供するタングステンを含む化合物と、
拡散障壁物質の膜におけるタングステン析出量を増加させる第一表面張力低下特性を備えた第一界面活性剤と、
拡散障壁物質の膜における析出の均一性を向上させる第二表面張力低下特性を備えた第二界面活性剤とを含む半導体処理溶液。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラクトン環含有重合体を主成分として含む、光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項２】
前記ラクトン環含有重合体は、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する、請求項１に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【化１】
2006096960.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいても良い。）
【請求項３】
光学用保護フィルムである、請求項１または２に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項４】
偏光板に用いられる保護フィルムである、請求項３に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項５】
延伸フィルムであり、面方向の位相差が２０〜５００ｎｍである、請求項３または４に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項６】
位相差フィルムとしても機能する、請求項５に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項７】
光学フィルムであり、面方向の位相差が２０〜５００ｎｍである、請求項１または２に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項８】
位相差フィルムである、請求項７に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項９】
視野角補償フィルムである、請求項７に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１０】
延伸フィルムである、請求項７から９までのいずれかに記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１１】
光学シートであり、面方向の位相差が１０ｎｍ未満である、請求項１または２に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１２】
拡散板である、請求項１１に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１３】
導光板である、請求項１１に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１４】
表裏面の少なくとも一面に機能性コーティング層が積層されてなる、請求項１または２に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１５】
前記機能性コーティング層が、粘接着剤層、防眩（ノングレア）層、光拡散層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層および電磁波遮蔽層からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１４に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体。
【請求項１６】
請求項１または２に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体を光学用保護フィルムとして用いてなる、偏光板。
【請求項１７】
請求項１６に記載の偏光板を含む、液晶表示装置。
【請求項１８】
請求項１または２に記載の光学用面状熱可塑性樹脂成形体を含む、液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記光学シートは、導光板であることがある。
本発明にかかる前記光学用面状熱可塑性樹脂成形体は、表裏面の少なくとも一面に機能性コーティング層が積層されてなることがある。
前記機能性コーティング層は粘接着剤層、防眩（ノングレア）層、光拡散層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層および電磁波遮蔽層からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがある。
本発明にかかる偏光板は、前記光学用面状熱可塑性樹脂成形体を光学用保護フィルムとして用いてなる。
本発明にかかる液晶表示装置は、前記偏光板を含むことがある。
本発明にかかる液晶表示装置は、前記光学用面状熱可塑性樹脂成形体を含むことがある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月18日(2007.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大麦由来原料を、イソプロパノール又はエタノールの少なくとも一方と、ヘキサン又はアセトンの少なくとも一方と、を混合した非ハロゲン系のアルコール系溶媒と混合し、当該原料混合物を１００〜１６０℃に加熱する抽出工程と、前記抽出工程で得られた抽出物から脂肪酸類を除去する脂肪酸類除去工程と、を含むことを特徴とする植物性スフィンゴ糖脂質含有油の製造方法。
【請求項２】
前記抽出工程及び脂肪酸類除去工程を不活性ガス下で行うことを特徴とする請求項１に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油の製造方法。
【請求項３】
前記脂肪酸類除去工程は、前記抽出工程で得られた抽出物を溶媒処理後、冷却分離させる工程を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油の製造方法。
【請求項４】
前記大麦由来原料は、大麦フスマ由来原料であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油の製造方法。
【請求項５】
前記脂肪酸類除去工程において、前記溶媒はヘキサン或いはアセトンを含むことを特徴とする請求項４又は５に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油の製造方法により製造された植物性スフィンゴ糖脂質含有油。
【請求項７】
モノグリコシルセラミドを質量％で８％以上含有する請求項６に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油。
【請求項８】
モノグリコシルセラミドを質量％で２０％以上含有する請求項６に記載の植物性スフィンゴ糖脂質含有油。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月22日(2007.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記２０℃における比誘電率が１０．０以上３０．０未満である水溶性有機溶剤の含有量（質量％）が、インクジェット用濃インクに含有される水溶性有機溶剤の含有量の合計（質量％）に対して５０．０％以上である請求項４又は５に記載のインクジェット用濃インク。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月22日(2007.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
褐藻類こんぶ目こんぶ科のマコンブ（Ｌａｍｉｎａｒｉａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、褐藻類こんぶ目ちがいそ科のアラメ（Ｅｉｓｅｎｉａ  ｂｉｃｙｃｌｉｓ）、サガラメ（Ｅｉｓｅｎｉａ  ａｒｂｏｒｅａ）、ツルアラメ（Ｅｃｋｌｏｎｉａ  ｓｔｌｏｎｉｆｅｒａ）、クロメ（Ｅｃｋｌｏｎｉａ  ｋｕｒｏｍｅ）、カジメ（Ｅｃｋｌｏｎｉａ  ｃａｖａ）、ワカメ（Ｕｎｄａｒｉａ  ｐｉｎｎａｔｉｆｉｄａ）、アオワカメ（Ｕｎｄａｒｉａ  ｐｅｔｅｒｓｅｎｉａｎａ）、ヒロメ（Ｕｎｄａｒｉａ  ｕｎｄａｒｉｏｉｄｅｓ）、アイヌワカメ（（Ａｌａｒｉａ  ｐｒａｅｌｏｍｇａ）、およびチガイソ（Ａｌａｒｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）；褐藻類ひばまた目ほんだわら科のホンダワラ（Ｓａｒｇａｓｓｕｍ  ｆｕｌｕｖｅｌｌｕｍ）、ヒジキ（Ｈｉｚｉｋｉａ  ｆｕｓｉｆｏｒｍｅ）、およびアカモク（Ｓａｒｇａｓｓｕｍ  ｈｏｒｎｅｒｉ）；褐藻類まがまつも目もずく科のモズク（Ｎｅｍａｃｙｓｔｕｓ  ｄｅｃｉｐｉｅｕｓ）およびオキナワモズク（Ｃｌａｄｏｓｉｐｈｏｎ  ｏｋａｍｕｒａｎｕｓ）；および、紅藻類スギノリ目すぎのり科に属する海藻；からなる群より選択される少なくとも１種の海藻由来の抽出物を有効成分として含有する、プロリルエンドペプチダーゼ阻害剤。
【請求項２】
前記抽出物が、溶媒として水を用いた前記海藻由来の粗抽出物を含有する５０（ｖ／ｖ）％以上のＣ１〜Ｃ３アルコール液の上清から得られた抽出物である、請求項１に記載のプロリルエンドペプチダーゼ阻害剤。
【請求項３】
前記抽出物が、前記上清の濃縮物を、４０（ｖ／ｖ）％から９０（ｖ／ｖ）％のＣ１〜Ｃ３アルコール水溶液を用いるカラムクロマトグラフィーにかけることにより得られた画分由来の抽出物である、請求項２に記載のプロリルエンドペプチダーゼ阻害剤。
【請求項４】
プロリルエンドペプチダーゼ阻害剤の製造方法であって、
褐藻類こんぶ目こんぶ科のマコンブ（Ｌａｍｉｎａｒｉａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、褐藻類こんぶ目ちがいそ科のアラメ（Ｅｉｓｅｎｉａ  ｂｉｃｙｃｌｉｓ）、サガラメ（Ｅｉｓｅｎｉａ  ａｒｂｏｒｅａ）、ツルアラメ（Ｅｃｋｌｏｎｉａ  ｓｔｌｏｎｉｆｅｒａ）、クロメ（Ｅｃｋｌｏｎｉａ  ｋｕｒｏｍｅ）、カジメ（Ｅｃｋｌｏｎｉａ  ｃａｖａ）、ワカメ（Ｕｎｄａｒｉａ  ｐｉｎｎａｔｉｆｉｄａ）、アオワカメ（Ｕｎｄａｒｉａ  ｐｅｔｅｒｓｅｎｉａｎａ）、ヒロメ（Ｕｎｄａｒｉａ  ｕｎｄａｒｉｏｉｄｅｓ）、アイヌワカメ（（Ａｌａｒｉａ  ｐｒａｅｌｏｍｇａ）、およびチガイソ（Ａｌａｒｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）；褐藻類ひばまた目ほんだわら科のホンダワラ（Ｓａｒｇａｓｓｕｍ  ｆｕｌｕｖｅｌｌｕｍ）、ヒジキ（Ｈｉｚｉｋｉａ  ｆｕｓｉｆｏｒｍｅ）、およびアカモク（Ｓａｒｇａｓｓｕｍ  ｈｏｒｎｅｒｉ）；褐藻類まがまつも目もずく科のモズク（Ｎｅｍａｃｙｓｔｕｓ  ｄｅｃｉｐｉｅｕｓ）およびオキナワモズク（Ｃｌａｄｏｓｉｐｈｏｎ  ｏｋａｍｕｒａｎｕｓ）；および、紅藻類スギノリ目すぎのり科に属する海藻；からなる群より選択される少なくとも１種の海藻を、６０℃から１００℃の水中で抽出して粗抽出物を得る工程；
該粗抽出物に、Ｃ１〜Ｃ３アルコールまたはＣ１〜Ｃ３アルコール水溶液と合わせて、５０（ｖ／ｖ）％以上の該アルコールを含有するアルコール液を得る工程；ならびに
該アルコール液の上清を分取する工程；
を包含する、方法。
【請求項５】
さらに、前記上清を濃縮して、該上清の濃縮物を得る工程；および該上清の濃縮物を、４０（ｖ／ｖ）％から９０（ｖ／ｖ）％のＣ１〜Ｃ３アルコール水溶液を用いるカラムに通す工程；を包含する、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月4日(2007.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち本発明は、（１）グリセリンに、薄片状微細結晶からなる管状の塩基性炭酸マグネシウムをゲル化剤として配合することを特徴とするグリセリンゲル状組成物や、（２）管状の塩基性炭酸マグネシウムが、内径０．５〜５μｍ、外径０．５〜１０μｍ、長径１０〜５０μｍであることを特徴とする上記（１）記載のグリセリンゲル状組成物や、（３）管状の塩基性炭酸マグネシウムを１〜３０質量％配合することを特徴とする上記（１）又は（２）記載のグリセリンゲル状組成物に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
（比較例７〜１０）
比較例７〜１０においては、ゲル化剤として親水性無水ケイ酸（ＡＥＲＯＳＩＬ ２００ 日本アエロジール社製）を１．０％、５．０％、２０．０％、３０．０％を用いた以外は、実施例４〜７と同様の方法によりゲル状洗顔料を得た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
（比較例１１〜１４）
比較例１１〜１４においては、ゲル化剤として、球状炭酸マグネシウム（神島化学工業株式会社製）を１．０％、５．０％、２０．０％、３０．０％を用いた以外は、実施例４〜７と同様の方法によりゲル状洗顔料を得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
表２の結果から明らかなように、管状塩基性炭酸マグネシウムを配合したグリセリンゲル状組成物を用いて調製した実施例４〜７のゲル状洗顔料は、比較例７〜１４のゲル状洗顔料と比較して「高温安定性」、「後肌のきしみ感のなさ」、「泡立ちやすさ」の点で優れており、即ち、サンプル種は手で伸ばしやすく、水又は温水との馴染みがよいことがわかった。これによって、本発明のゲル状製品が、きしみ感がなく、伸びの良さに優れ、高温においても安定であることがわかった。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月25日(2007.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
特許文献４（特開平８−２０８５６１号公報）記載の従来技術では、結晶性状に対する課題の解決手段として、第１段，第２段の晶析温度ならびに撹拌条件を主体的な操作条件としている。また、特許文献２（特公昭５３−２４０５７号公報）では、ｐ−ｔＡ含有量を低減するために、華氏３６０〜３２０度（１８２〜１６０℃）までまたはそれ以下の温度にわたって、最初に溶解されたテレフタル酸を減少比率で晶出せしめるようにしている。さらに、特許文献５（特開平１１−２２８４９２号公報）では、ｐ−ｔＡの量と析出するテレフタル酸結晶の量とのバランスを適切にし所望の純度で所望の量の高純度テレフタル酸を得るために、各晶析槽の温度をｙ＝２６６exp（−０.６１ｘ）±５に設定するようにしている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
その後、直列に連結された５段の晶析槽６〜１０に水溶液を順次送給し、前述の関係式（１）で求められた温度となるようにその温度になる圧力でフラッシュ蒸発させる。また、各段の晶析槽６〜１０での滞留時間を約２５分としテレフタル酸を部分晶析させ、第５晶析槽１０においてほぼ全量のテレフタル酸を析出させる。ここで、各晶析槽６〜１０には温度センサ２１及び圧力センサ２２がそれぞれ設けられ、各晶析槽の圧力・温度状態を制御装置３０によって監視し、各晶析槽の水蒸気排出ラインに設けた減圧弁２０を制御して各晶析槽内の圧力を調整し、各晶析槽の操作温度を所定の温度に制御している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、制御装置３０は、スラリー調整槽１への純水の供給量を制御弁２４で制御し、スラリー調整槽１から出るスラリーのテレフタル酸濃度を所定の濃度に調整する。制御装置３０は、ポンプ２による加圧及びスラリーの供給量を調整し、加熱器３による加熱温度を調整する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
例えば、粗テレフタル酸２９重量％スラリーに調製し、温度２９０℃で水素化精製反応を行った後、順次晶析させた場合、第５晶析槽内のテレフタル酸濃度は約４０％となり、同様に粗テレフタル酸３３重量％スラリーに調製し、温度２９０℃で水素化精製反応を行った後、順次晶析させた場合、第５晶析槽内のテレフタル酸濃度は約４５％となる。このように粗テレフタル酸２９重量％以上のスラリーに調製されたものでは、第５晶析槽内のスラリー濃度が４０％を越えるので、スラリーの流れを良好にするために第５晶析槽で発生する水蒸気を凝縮して第５晶析槽に還流することが望ましい。そのため本実施例では定量性を確保するため、第５晶析槽に温水を供給して水蒸気の凝縮による還流水に代えた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
１…スラリー調整槽、２，１２，１５…ポンプ、３…加熱器、４…溶解槽、５…水素化反応槽、６…第１晶析槽、７…第２晶析槽、８…第３晶析槽、９…第４晶析槽、１０…第５晶析槽、１１…還流凝縮器、１３，１６…固液分離器、１４…再スラリー化槽、１７…乾燥器、２０…減圧弁、２１…温度センサ、２２…圧力センサ、２３…流量制御弁、２４…流量制御弁、３０…制御装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006096710.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月13日(2007.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
共重合に当たっては重合触媒が用いられ、かかる重合触媒としては、例えばアゾビスイソブチロニトリル、過酸化アセチル、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル等の公知のラジカル重合触媒やアゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビスメトキシジメチルバレロニトリル等の低温活性ラジカル重合触媒等が挙げられ、重合触媒の使用量は、重合触媒により異なり一概には決められないが、重合速度に応じて任意に選択される。例えば、アゾビスイソブチロニトリルや過酸化アセチルを用いる場合、ビニルエステル系モノマー（i）に対して０．０１〜０．２ｍｏｌ％が好ましく、特には０．０２〜０．１５ｍｏｌ％が好ましい。
また、共重合反応の反応温度は４０℃〜沸点（使用する溶媒による）程度とすることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
かかる方法においては、化合物（ii）の含有量は特に限定されないが、０．１〜２０ｍｏｌ％とすることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５ｍｏｌ％、特に好ましくは１〜１０ｍｏｌ％、殊に好ましくは２〜７ｍｏｌ％である。かかる化合物（ii）の含有量が０．１ｍｏｌ％未満では架橋剤等との反応性が低く、水溶液の粘度安定性の点で改善効果は認められず、更に高速塗工時の塗工性も低くなり、２０ｍｏｌ％を越えるとＰＶＡ系樹脂被膜の耐水性が低くなり好ましくない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
かかる方法においては、化合物（iii）の含有量は特に限定されないが、０．１〜２０ｍｏｌ％とすることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５ｍｏｌ％、特に好ましくは１〜１０ｍｏｌ％である。かかる化合物（iii）の含有量が０．１ｍｏｌ％未満では得られる１，２−ジオールを側鎖に有するＰＶＡ系樹脂の架橋剤等との反応性が低く、水溶液の粘度安定性にも劣り、更には高速塗工時の塗工性にも改善効果は認められず、２０ｍｏｌ％を越えるとＰＶＡ系樹脂の結晶性が低く成りすぎるためか、耐水性が低下し好ましくない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本方法において、重合時のモノマー成分の仕込方法としては、一括仕込み、分割仕込み、連続仕込み等の方法が採用されることが好ましく、滴下重合も行うことは可能である。また、重合触媒の使用量については、アゾビスイソブチロニトリルや過酸化アセチルを用いる場合、ビニルエステル系モノマー（i）に対して０．０５〜０．７ｍｏｌ％とすることが好ましく、特には０．１〜０．５ｍｏｌ％とすることが好ましい。なお、共重合モノマーとして化合物（iv）を用いた場合には、当然のことながら、脱炭酸することなく１，２−ジオール基を有するＰＶＡ系樹脂を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月3日(2007.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピニオン歯が形成されたピニオン軸と、前記ピニオン歯に噛み合うラック歯を備えたラック軸とから構成されるピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置において、
前記ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形に発生する曲げ応力が、ラック軸の最端部以外の歯形に発生する曲げ応力よりも小さい歯形形状であること
を特徴とするピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置。
【請求項２】
前記ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形が、最端部以外の歯形よりも歯形溝の底が浅い歯形形状であること
を特徴とする請求項１記載のピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置。
【請求項３】
前記ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形が、最端部以外の歯形よりも歯形溝の底部が曲率半径の大きい曲面に形成された歯形形状であること
を特徴とする請求項１記載のピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置は、電動パワーステアリング装置に組み合わせて使用されること
を特徴とするラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明は上記課題を解決するもので、請求項１の発明は、ピニオン歯が形成されたピニオン軸と、前記ピニオン歯に噛み合うラック歯を備えたラック軸とから構成されるピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置において、前記ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形に発生する曲げ応力が、ラック軸の最端部以外の歯形に発生する曲げ応力よりも小さい歯形形状であることを特徴とするピニオン・ラック機構を備えたラック・アンド・ピニオン式ステアリング装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そして、前記ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形が、最端部以外の歯形よりも歯形溝の底が浅い歯形形状とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形が、最端部以外の歯形よりも歯形溝の底部が曲率半径の大きい曲面に形成された歯形形状としてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以上説明したとおり、この発明によれば、ラック軸に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形に発生する曲げ応力が、ラック軸の最端部以外の歯形に発生する曲げ応力よりも小さい歯形形状に形成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図２に示すように、ラック軸１２に形成されたラック歯１２ａの歯形形状は、ラック軸上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置するラック歯１２ａ１の歯元Ａに発生する曲げ応力が、ラック軸の最端部以外のラック歯１２ａに発生する曲げ応力よりも小さい歯形形状に形成されている。具体的には、ラック軸１２に形成されたラック歯１２ａの歯形形状は、ラック歯列の最端部に位置するラック歯１２ａ１が、最端部以外のラック歯１２ａの歯形よりも歯形溝の底が浅い歯形に形成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図３に示すように、ラック軸１２に形成されたラック歯の歯形形状は、ラック軸１２上に形成されたラック歯列において、ピニオンと噛み合う歯の中で最端部に位置する歯形１２ａ２が、最端部以外のラック歯１２ａの歯形よりも歯形溝の底部が曲率半径Ｒの大きい曲面で下に向かう程広くなる形状に形成されている。