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【手続補正書】
【提出日】平成20年7月29日(2008.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｅ１Ｂ−５５Ｋ遺伝子中に変異を含む組換えアデノウイルスであって、該遺伝子は、p53結合ドメインまたは転写抑制ドメイン中に単一アミノ酸変異を含む変異Ｅ１Ｂ−５５Ｋタンパク質をコードし、該変異は該Ｅ１Ｂ−５５Ｋ変異タンパク質が腫瘍サプレッサーｐ５３に結合する能力を野生型Ｅ１Ｂ−５５Ｋタンパク質に比較して実質的に減少させる変異であり、後期機能を実質的に保持するさらなる特性を有する該組換えアデノウイルス。
【請求項２】  単一アミノ酸変異がＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質のアミノ酸２４０〜４４４を含む領域中にある、請求項１記載の組換えアデノウイルス。
【請求項３】  単一アミノ酸変異がＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質のアミノ酸２２４〜３５４を含む領域中にある、請求項１記載の組換えアデノウイルス。
【請求項４】  単一アミノ酸変異がR240AおよびH260Aからなる群より選択される、請求項１に記載の組換えアデノウイルス。
【請求項５】  単一アミノ酸変異がR240Aである、請求項４記載の組換えアデノウイルス。
【請求項６】  単一アミノ酸変異がH260Aである、請求項４記載の組換えアデノウイルス。
【請求項７】  単一アミノ酸変異を含む単離されたアデノウイルスＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質であって、該変異は、該タンパク質の２４０位のアミノ酸または２６０位のアミノ酸に存在する、該単離されたアデノウイルスＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質。
【請求項８】  ２４０位に単一アミノ酸変異を含む、請求項７記載の単離されたアデノウイルスＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質。
【請求項９】  ２６０位に単一アミノ酸変異を含む、請求項７記載の単離されたアデノウイルスＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質。
【請求項１０】  変異アデノウイスルＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質をコードするポリヌクレオチドを含む、単離されたアデノウイスルポリヌクレオチドであって、該タンパク質がＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質のp53結合ドメインまたは転写抑制ドメイン中に単一アミノ酸変異を含み、該変異は該タンパク質が腫瘍サプレッサーｐ５３に結合する能力を野生型Ｅ１Ｂ−５５Ｋタンパク質に比較して実質的に減少させる、該単離されたアデノウイルスポリヌクレオチド。
【請求項１１】  単一アミノ酸変異がＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質のアミノ酸２４０〜４４４を含む領域中にある、請求項１０記載の単離されたアデノウイルスポリヌクレオチド。
【請求項１２】  単一アミノ酸変異がＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質のアミノ酸２２４〜３５４を含む領域中にある、請求項１０記載の単離されたアデノウイルスポリヌクレオチド。
【請求項１３】  ＤＮＡまたはＲＮＡである、請求項１０〜１２のいずれか１項記載の単離されたポリヌクレオチド。
【請求項１４】  癌の処置が必要な患者において癌を処置するための、請求項１〜６のいずれか１項記載の組換えアデノウイルス。
【請求項１５】  癌の処置が必要な患者において癌を治療するための医薬の製造における請求項１〜６のいずれか１項記載の組換えアデノウイルスの使用であって、アデノウイルスが該癌に感染するに十分な時間が与えられ、そして所望される場合は該処置が反復される、該使用。
【請求項１６】  癌の処置が必要な患者において癌を治療するための、請求項１０〜１３のいずれか１項記載の単離されたポリヌクレオチド。
【請求項１７】  癌の処置が必要な患者において癌を治療するための医薬の製造における請求項１０〜１３のいずれか１項記載の単離されたポリヌクレオチドの使用であって、アデノウイルスが該癌に感染するに十分な時間が与えられ、そして所望される場合は該処置が反復される、該使用。
【請求項１８】  ポリヌクレオチドがＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質をコードし、かつ該タンパク質が該タンパク質の２４０位に変異を含む、請求項１６記載の単離されたポリヌクレオチドまたは請求項１７記載の使用。
【請求項１９】  ポリヌクレオチドがＥ１Ｂ−５５Ｋタンパク質をコードし、かつ該タンパク質が該タンパク質の２６０位に変異を含む、請求項１６記載の単離されたポリヌクレオチドまたは請求項１７記載の使用。
【請求項２０】  アデノウイルスまたはポリヌクレオチドを化学療法剤と共に投与することを含む、請求項１５または１７記載の使用。
【請求項２１】  ポリヌクレオチドが、リポソームとともに投与される、請求項１５または１７〜２０のいずれか１項記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  内側の口鼻マスクであって、外側の顔面シールマスクの内部に取囲まれて、両者の間に空洞を形成するような前記口鼻マスクと、
内側マスクの内部へ吸気空気を導くための呼吸マスクの空気入口と、
前記吸気空気を濾過するためのフィルター手段と、
内側マスクの内部から呼気空気を導くための呼吸マスクの空気出口と、を備え、
正常動作時において、内側の口鼻マスクのみを介して空気は吸気及び呼気されて、
周辺空気を前記空洞へ侵入させるような、周辺大気と前記空洞との間の空気圧の差が実質的に存在せず、
前記空洞に加圧空気を供給するための手段をさらに備え、
少なくとも１つのアイピースをさらに備え、加圧空気供給手段から供給された空気、または、吸気空気のいずれかを用いて前記少なくとも１つのアイピースの曇除去を行なう、
ことを特徴とする呼吸マスク。
【請求項２】  前記加圧空気供給手段は前記フィルター手段で濾過された空気を吸引する、請求項１に記載の呼吸マスク。
【請求項３】  前記加圧空気供給手段は空気ポンプを備えている、請求項１又は２に記載の呼吸マスク。
【請求項４】  前記空気ポンプは、バッテリー手段により駆動される電気モータによって駆動される、請求項３に記載の呼吸マスク。
【請求項５】  外側マスクは少なくとも１つのアイピースを備えていて、加圧空気供給手段によって供給された空気の一部を用いて前記少なくとも１つのアイピースの曇除去を行なう、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の呼吸マスク。
【請求項６】  外側マスクは少なくとも１つのアイピースを備えていて、呼吸マスクは、使用中に前記少なくとも１つのアイピースの曇除去を行なうために加圧空気供給手段から供給された空気の一部を使用するような第１の動作状態と、使用中に前記少なくとも１つのアイピースの曇除去を行なうために吸気空気を使用するような第２の動作状態と、の間にて切替可能であるような空気案内手段をさらに備えている、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の呼吸マスク。
【請求項７】  少なくとも１つのアイピースは接眼マスクの一部分を形成し、
接眼マスクは外側の顔面シールマスクの内部に取囲まれていて、
接眼マスクには、接眼マスクの内部へ吸気空気を導くための接眼マスク空気入口と、
吸気空気を口鼻マスクの内部へ導くための接眼マスク空気出口とが備えられ、
使用中に空気は口鼻マスクへ入る前に接眼マスクを通って吸気される、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の呼吸マスク。
【請求項８】  前記空気出口は空気出口バルブを含んでいて、加圧空気供給手段から供給された空気の一部を使用して、空気が前記出口バルブから漏れて前記空洞へ侵入するあらゆる傾向を打消す、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の呼吸マスク。
【請求項９】  加圧空気供給手段から供給された空気は、前記空洞の内部の空気を連続的にパージすることを確保する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の呼吸マスク。
【請求項１０】  空洞の内部の圧力を検出するための少なくとも１つの圧力トランスデューサをさらに備えている、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の呼吸マスク。
【請求項１１】  少なくとも１つの圧力トランスデューサは制御手段に接続されていて、制御手段はさらに加圧空気供給手段に接続されており、使用中に空洞の内部の圧力が実質的に一定に維持される、請求項１０に記載の呼吸マスク。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電動ファン付空気浄化呼吸器（ＰＡＰＲ）装置において、第１部品と第２部品との間で流体を移送するために、前記第１部品を前記第２部品に結合する方法であって、
前記第１部品の流体出口を前記第２部品の流体入口に軸心に整列させる工程と、
前記第１部品を前記第２部品に対して完全な１回転より少なく回転させることによって、前記流体出口と前記流体入口とを流体連通状態に密閉して接続するように、前記流体出口のネジ付きセクションと、前記流体入口のネジ付きセクションとを結合する工程と、
前記流体出口および前記流体入口が密閉して接続されるときに、前記第１部品および前記第２部品の１対の対向する戻り止め素子の着座係合によって、前記第１部品を前記第２部品に着脱自在にロックする工程と、を含む方法。
【請求項２】  筐体に取り外し自在に取り付けられる、電動ファン付空気浄化呼吸器（ＰＡＰＲ）装置用のフィルタカートリッジであって、
内蔵される濾過材室と、該濾過材室と流体連通する流体入口と、該濾過材室と流体連通する流体出口とを有するカートリッジキャニスターと、
前記カートリッジキャニスターの前記流体出口と協働するネジ付きセクションであって、前記筐体のネジ部分に対して該ネジ付きセクションが１回転に満たない回転を行うことにより、前記カートリッジキャニスターの前記流体出口が前記筐体に密閉して取り付けられるように、前記筐体の前記ネジ部分と嵌合するように適合されたネジ山を含むネジ付きセクションと、
前記ネジ付きセクションから半径方向に間隔を置いて、それに沿って軸方向に伸びる、前記カートリッジキャニスターの第１の戻り止め素子であって、前記カートリッジキャニスターの前記流体出口が前記筐体に密閉して取り付けられるときに、前記筐体の対向する第２の戻り止め素子との着座係合に適合するように整列される第１の戻り止め素子と、を備えるフィルタカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月17日(2008.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  抗ウイルス活性および殺菌活性を有するがムラミダーゼ活性を欠く、配列番号８のアミノ酸配列を含むリゾチームのフラグメント。
【請求項２】  ９〜５０アミノ酸残基の配列からなる、請求項１記載のフラグメント。
【請求項３】  ９〜１８アミノ酸残基の配列からなる、請求項１記載のフラグメント。
【請求項４】  配列番号８を含む配列が、ヒトリゾチームに由来するアミノ酸配列である、請求項３記載のフラグメント。
【請求項５】  配列が配列番号１および配列番号８からなる群より選択される、請求項３記載のフラグメント。
【請求項６】  配列番号８のアミノ酸配列からなる、請求項１記載のフラグメント。
【請求項７】  配列番号８のすぐ周囲の領域において天然ヒトリゾチームのα−ヘリックス構造を保っている配列番号８のアミノ酸配列をフランキングするアミノ酸配列を更に含む、請求項１記載のフラグメント。
【請求項８】  天然哺乳動物リゾチームの変異体であって、配列番号８のアミノ酸配列をフランキングし、１〜５個のアミノ酸置換または欠失を有するフランキングアミノ酸配列を更に含む、請求項１記載のフラグメント。
【請求項９】  請求項１のフラグメント、および薬学的に許容され得る希釈剤、賦形剤、担体または補助剤を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  湾曲面と開口部とを有するマスクシェルと、
可動インターフェイスとを含み、前記可動インターフェイスは、前記可動インターフェイスの表面が前記マスクシェルの前記湾曲面に沿って動くように前記マスクシェルに対して回転し、前記可動インターフェイスはガス供給導管に動作可能に結合され、かつ前記ガス供給導管から前記マスクシェル開口部を通って前記マスクシェルの内部領域までガスを連通させる内部通路を含み、
前記可動インターフェイスは、ユーザの顔面の角度に対して前記マスクシェルの角度調節を可能にする、呼吸器マスク。
【請求項２】  前記マスクシェルの前記湾曲面は凸状の外面を含み、
前記開口部は前記凸状の外面に形成され、
前記可動インターフェイスが前記マスクシェルの前記凸状の外面上で回転する、請求項１に記載の呼吸器マスク。
【請求項３】  前記可動インターフェイスと前記マスクシェルとの間に位置決めされるガスケットをさらに含み、前記ガスケットは、前記マスクシェルに対する前記可動インターフェイスの移動を促進し、前記可動インターフェイスと前記マスクシェルとの間のガスの漏れを防ぐ、請求項１に記載の呼吸器マスク。
【請求項４】  前記可動インターフェイスは前記マスクシェルの体積を通って延在する軸のまわりに回転する、請求項１に記載の呼吸器マスク。
【請求項５】  前記可動インターフェイスはさらに、前記可動インターフェイスが前記マスクシェルに対して回転する間に前記マスクシェルに対して前記可動インターフェイスを保持するために前記マスクシェルの前記開口部の縁部を係合する１つ以上のタブを含む、請求項１に記載の呼吸器マスク。
【請求項６】  前記マスクはＣＰＡＰ装置とともに使用されるよう構成される、請求項１に記載の呼吸器マスク。
【請求項７】  前記インターフェイスコンポーネントは実質的に剛性であり、
前記マスクシェルは実質的に剛性であり、
前記マスクシェルは、ユーザの顔とのシールを形成するよう構成される可撓性マスククッションに結合される、請求項１に記載の呼吸器マスク。
【請求項８】  マスクシェルの第１の側面に規定される開口部と前記マスクシェル開口部のまわりに間隔を空けて配置される少なくとも１つの取付部分とを含むマスクシェル
と、
マスクシールとを含み、前記マスクシールは、
遠位端と近位端とを有する可撓性側壁と、
前記側壁の前記遠位端に位置し、ユーザの顔と接触すると内向きに変形するよう構成される少なくとも１つのシール部分と、
前記側壁の前記近位端に隣接する前記側壁に恒久的に結合される支持リングとを含み、前記支持リングは、前記可撓性側壁よりも剛性であって、前記マスクシールを前記マスクシェルに解放可能に添えるために前記マスクシェルの前記少なくとも１つの取付部分を解放可能に係合するよう適合された前記少なくとも１つの取付部分を含む、呼吸器マスク機器。
【請求項９】  前記支持リングは前記マスクシール側壁に対して成形される、請求項８に記載の呼吸器マスク。
【請求項１０】  前記支持リングの少なくとも１つの取付部分は、バーブ、ノブ、ヒンジフックのうち少なくとも１つを含む、請求項８に記載の呼吸器マスク。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月5日(2008.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
関連出願
本出願は、本願と同日に同一の譲受人によって出願された米国特許出願第０９／６３４，１１７号、発明の名称「蛇行経路注入装置及び方法」の関連出願である。本出願は、さらに、本願と同日に同一譲受人によって出願された米国特許出願第０９／６３３，９２４号、発明の名称「深さ制御注入装置及び方法」の関連出願である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
第２の長尺シャフト６２６は、外側表面６３８と、遠位端部６３６と、近位端部６４６とを有している。多くの用途においては、第１の長尺シャフト６２４の遠位端部６３４に対して既知の距離だけ第２の長尺シャフト６２６の遠位端部６３６を前進させることが所望される。図８の実施形態では、第２の長尺シャフト６２６の外側表面６３８上において第２の長尺シャフト６２６の先端６５８に隣接して、複数の印６５２が設けられている。好ましい実施形態では、印６５２は、放射線不透過性材料から構成されている。幾つかの用途において適したものとなり得る材料の例には、金、プラチナ、タングステン、鉄、銀、及び放射線不透過性充填材を埋め込まれた熱可塑性材料を含んでいる。幾つかの用途において適したものとなり得る放射線不透過性充填材の例には、硫酸バリウム、次炭酸ビスマス、三酸化ビスマス、オキシ塩化ビスマス、タングステン、及び劣化ウランが含まれる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブロー剤計量システムであって、ブロー剤送出導管と、絞りオリフィスに掛かるブロー剤圧力差を計量するように構成配置された圧力差計量装置と、前記絞りオリフィスの上流側導管に関連した上流側圧力調整装置とからなり、前記ブロー剤送出導管はブロー剤源に接続可能でかつポリマ処理装置内に成形されたブロー剤出口にも接続可能であり、前記導管は前記ブロー剤源からのブロー剤を前記ポリマ処理装置内のポリマ材料に送出でき、前記導管は絞りオリフィスを画定する部分を備えた、ブロー剤計量システム。
【請求項２】
前記圧力差計量装置は、前記絞りオリフィスの上流側に配置された導管に関連した上流側圧力計量装置と、前記絞りオリフィスの下流側に配置された導管に関連した下流側圧力計量装置とからなる、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項３】
前記制御器は、選択された流量に対応する圧力差を与えるように、前記上流側圧力調整装置を調節するように設計されている、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項４】
前記絞りオリフィスは固定寸法を有している、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項５】
前記絞りオリフィスは交換可能ブロック内に画定される、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項６】
ブロー剤の流れの通過を許す開放形態とブロー剤の流れの通過を阻止する閉鎖形態との間で可動であって、前記絞りオリフィスの下流側に配置された遮断弁からさらになる、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項７】
前記ブロー剤計量システム内のブロー剤圧力を増加させるポンプからさらになる、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項８】
約０．４５ｇ／ｈｒと約４５４００ｇ／ｈｒ（約０．００１ｌｂ／ｈｒと約１００ｌｂ／ｈｒ）との間でブロー剤の質量流れを計量できる、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項９】
約９ｇ／ｈｒと約４５４０ｇ／ｈｒ（約０．０２ｌｂ／ｈｒと約１０ｌｂ／ｈｒ）との間でブロー剤の質量流れを計量できる、請求項１に記載のブロー剤計量システム。
【請求項１０】
ポリマ処理システムであって、押出機と、ブロー剤送出システムとからなり、前記押出機はポリマ処理スクリューを有し、該ポリマ処理スクリューは該スクリューと胴部との間に成形されたポリマ処理空間にあるポリマ材料を下流方向に搬送するために前記胴部内で回転するように構成配置され、前記胴部はブロー剤出口を有し、前記ブロー剤送出システムはブロー剤源およびブロー剤出口に接続可能な導管を有し、該導管は絞りオリフィスを画定する部分を有し、前記ブロー剤送出システムは前記絞りオリフィスに掛かるブロー剤圧力差を計量するように構成配置された圧力差計量装置とおよび前記絞りオリフィスの上流側導管に関連した上流側圧力調整装置とを有する、ポリマ処理システム。
【請求項１１】
前記圧力差計量装置は、前記絞りオリフィスの上流側に配置された導管に関連した上流側圧力計量装置と、前記絞りオリフィスの下流側に配置された導管に関連した下流側圧力計量装置とからなる、請求項１４に記載のポリマ処理システム。
【請求項１２】
前記絞りオリフィスの下流側導管に関連した下流側圧力調整器を調節することによって、前記ブロー剤計量システムは前記押出機内でブロー剤をポリマ材料に流すことおよび前記押出機内でブロー剤をポリマ材料内に流さないことができる、請求項１０に記載のポリマ処理システム。
【請求項１３】
前記押出機の下流端に取り付けられた押出ダイからさらになる、請求項１０に記載のポリマ処理システム。
【請求項１４】
ブロー成形ダイと該ブロー成形ダイに関連したブロー鋳型とからさらになる、請求項１０に記載のポリマ処理システム。
【請求項１５】
前記押出機の出口端に流体結合された成形室からさらになる、請求項１０に記載のポリマ処理システム。
【請求項１６】
微孔質材料を成形するように設計された、請求項１０に記載のポリマ処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月4日(2008.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  閉塞ストリップを有する熱可塑性フィルムを形成する方法であって、
（ａ）封止表面を有する熱可塑性フィルムウェブ（４１）を提供するステップであって、前記フィルムウェブの温度が該フィルムウェブの溶融温度より低いステップと、
（ｂ）第１フランジ部と第１閉塞要素を有するメス型閉塞ストリップ（２０）と第２フランジ部と第２閉塞要素を有するオス型閉塞ストリップ（３０）、を有する熱可塑性閉塞ストリップ（２０、３０）を提供するステップであって、前記閉塞ストリップの温度が該閉塞ストリップの溶融温度より低いステップと、
（ｃ）第１の熱可塑性バインダ層（２８ａ）及び第２の熱可塑性バインダ層（２８ｂ）を押出成形するステップと、
（ｄ）前記第１及び第２のバインダ層が前記フィルムウェブ（４１）の前記溶融温度より低い温度まで冷める前に前記第１及び第２のバインダ層が前記フィルムウェブ（４１）の前記封止表面と接触するように、かつ、前記第１及び第２のバインダ層が前記閉塞ストリップ（２０、３０）の前記溶融温度より低い温度まで冷める前に前記第１及び第２のバインダ層が前記メス型閉塞ストリップ（２０）と前記オス型閉塞ストリップ（３０）の前記第１フランジ部と前記第２フランジ部と接触するように、前記第１閉塞要素と前記第２閉塞要素から離れた位置に、前記フィルムウェブ（４１）の前記封止表面と前記メス型閉塞ストリップ（２０）の第１フランジ部だけの内側表面との間で前記第１のバインダ層を位置決めし、前記フィルムウェブ（４１）の前記封止表面と前記オス型閉塞ストリップ（３０）の第２フランジ部だけの内側表面との間で前記第２のバインダ層を位置決めするステップと、
（ｅ）その後、前記フィルムウェブ（４１）及び前記閉塞ストリップ（２０、３０）に圧力を加え、前記閉塞ストリップ（２０、３０）と前記フィルムウェブ（４１）を前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）に結合させるステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】  前記フィルムウェブ（４１、５１）の厚さが、０．００２５ｃｍ乃至０．０２５ｃｍである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）の厚さが、０．００２５ｃｍ乃至０．０１５ｃｍである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  閉塞ストリップを有する熱可塑性フィルムを形成する方法であって、
（ａ）表面及び回転軸を有する第１の円筒形ローラ（４４）と表面及び回転軸を有する第２の円筒形ローラ（４３）とを提供するステップであって、前記第１のローラ（４４）の軸と前記第２のローラ（４３）の軸が略同一平面上にあり、前記第１のローラ（４４）の表面と前記第２のローラ（４３）の表面との間にピンチ領域が形成されるように、前記第１のローラと前記第２のローラが離間された関係で位置合わせされるステップと、
（ｂ）封止表面を有し、連続的に長い熱可塑性フィルムウェブ（４１）を、前記フィルムウェブの温度が該フィルムウェブ（４１）の溶融温度より低い間、前記フィルムウェブが前記第１のローラ（４４）の表面に巻かれるように送るステップと、
（ｃ）第１フランジ部と第１閉塞要素を有するメス型閉塞ストリップ（２０）と第２フランジ部と第２閉塞要素を有するオス型閉塞ストリップ（３０）、を有し、連続的に長い熱可塑性閉塞ストリップ（２０、３０）を、前記閉塞ストリップ（２０、３０）の温度が該閉塞ストリップの溶融温度より低い間、前記閉塞ストリップが前記第２のローラの表面に巻かれるように送るステップと、
（ｄ）第１の熱可塑性バインダ層（２８ａ）及び第２の熱可塑性バインダ層（２８ｂ）を押出成形するステップと、
（ｅ）前記フィルムウェブ（４１）の前記封止表面と前記メス型閉塞ストリップ（２０）の第１フランジ部だけの内側表面との間で前記第１のバインダ層を位置決めし、前記フィルムウェブ（４１）の前記封止表面と前記オス型閉塞ストリップ（３０）の第２フランジ部だけの内側表面との間で前記第２のバインダ層を位置決めするステップと、
（ｆ）前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）が前記フィルムウェブ（４１）の溶融温度より低い温度まで冷める前に、前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）が前記フィルムウェブ（４１）の前記封止表面と接触するように、かつ、前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）が前記閉塞ストリップ（２０、３０）の溶融温度より低い温度まで冷める前に、前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）が、前記第１閉塞要素と前記第２閉塞要素の各々から離れた位置で、前記閉塞ストリップ（２０、３０）の前記前記第１フランジ部と前記第２フランジ部だけと接触するように、前記ピンチ領域を介して、前記フィルムウェブ（４１）、前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）、及び前記閉塞ストリップ（２０、３０）を送るステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項５】  ステップ（ｅ）が、前記閉塞ストリップ（２０、３０）が前記ピンチ領域に到達する前に、前記バインダ層（２８ａ、２８ｂ）を前記メス型閉塞ストリップ（２０）及び前記オス型閉塞ストリップ（３０）の前記第１閉塞要素と前記第２閉塞要素の各々にもたらすステップを含み、
ステップ（ｆ）が、前記ピンチ領域を介して前記フィルムウェブ（４１）と前記閉塞ストリップ（２０、３０）を送り、該フィルムウェブ（４１）と該閉塞ストリップ（２０、３０）に圧力を加えるステップを含む、
請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月29日(2008.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アルミニウム(Ａｌ)、マグネシウム(Ｍｇ)、珪素(Ｓｉ)及び亜鉛(Ｚｎ)からなる群から選択される金属を、有効量の触媒の存在下、ｐＨ４〜１０で水と反応させて、水素を含む反応生成物を生成することを含んでおり、触媒は、金属との反応生成物の沈積(反応に悪影響を及ぼす)を防止又は鈍化する作用を有し、これによって金属と水との反応を促進し、水素の発生を増大させる、水素製造方法。
【請求項２】  金属と触媒を混合して、親密な物理的接触がもたらされる請求項１に記載の方法。
【請求項３】  金属粒子と触媒粒子は、サイズ範囲が０.０１μｍ〜１０００μｍの粒子である請求項２に記載の方法。
【請求項４】  親密な物理的接触をもたらす混合は、金属と触媒を混合機の中で混合することを含んでおり、金属と触媒を粉砕し、金属の新たな表面を露出させる請求項２に記載の方法。
【請求項５】  金属と触媒をペレットに形成し、得られたペレットを水と混合する請求項４に記載の方法。
【請求項６】  金属はアルミニウム(Ａｌ)であり、触媒は、アルミナ、チャイナクレイ及びボールクレイを含むアルミニウムイオン含有セラミック、炭素(Ｃ)、炭酸カルシウム(ＣａＣＯ3)及び水酸化カルシウム(Ｃａ(ＯＨ)2)からなる群から選択される請求項２、３、４又は５に記載の方法。
【請求項７】  触媒は、アルミナ及び／又はアルミニウムイオンを含有するセラミック化合物である請求項６に記載の方法。
【請求項８】  触媒は、アルミニウムイオン化合物を含有するセラミックであり、該セラミックは、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びそれらの組合せからなる群から選択される請求項６に記載の方法。
【請求項９】  触媒は炭素である請求項６に記載の方法。
【請求項１０】  金属はアルミニウム(Ａｌ)であり、触媒は、水溶性有機化合物からなる群から選択される添加剤を含んでいる請求項１、２、３又は４に記載の方法。
【請求項１１】  水溶性有機化合物はポリエチレングリコール(ＰＥＧ)である請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  金属はマグネシウム(Ｍｇ)であり、触媒は酸化マグネシウム(ＭｇＯ)である請求項１、２、３又は４に記載の方法。
【請求項１３】  金属は珪素(Ｓｉ)であり、触媒は二酸化珪素(ＳｉＯ2)である請求項１、２、３又は４に記載の方法。
【請求項１４】  金属は亜鉛(Ｚｎ)であり、触媒は酸化亜鉛(ＺｎＯ)である請求項１、２、３又は４に記載の方法。
【請求項１５】  金属はアルミニウム(Ａｌ)であり、触媒は、アルミナ及びアルミニウムイオン化合物を含む他のセラミックからなる群から選択される少なくとも１種の添加剤と、水溶性有機化合物からなる群から選択される少なくとも１種の添加剤との組合せを含んでいる請求項１、２、３又は４に記載の方法。
【請求項１６】  水溶性有機化合物はポリエチレングリコール(ＰＥＧ)である請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月17日(2008.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １枚の紙または同様の印刷可能な材料からなる書簡用紙（１）であって、該紙または同様の材料に自己密封接触接着剤（１０）を塗布し、用紙（１）が折り畳まれたときに接着剤区域を互いに接触させると共に折り畳まれた状態に用紙（１）を一時的に密封するため第１押圧力を接着剤区域に付加させることにより接着剤区域を互いに剥離可能に接着させ、折り畳まれた状態に用紙（１）を永久的に密封するため第１押圧力より高い第２押圧力を接着剤区域に付加させることにより接着剤区域を互いに剥離不能に接着させることを特徴とする書簡用紙。
【請求項２】  接着剤（１０）が接着剤のない区域を残して不連続外周細片として塗布され、接着剤のない区域が折り畳まれかつ密封された用紙（１）に閉じ込められた空気を逃がすことができるように接着剤で接着された区域間に１つまたはそれ以上の間隙（１１）を形成するために用紙（１）の折り畳まれた状態において互いに対応して配置されることを特徴とする請求項１に記載の書簡用紙。
【請求項３】  用紙（１）が折り畳まれた状態において用紙（１）の第１印刷可能区域（９）と整列するように配置された第１窓（７）を有すると共に折り畳まれた状態において用紙（１）の第２印刷可能区域（２１）と整列するように配置された第２窓（２０）を任意に有することを特徴とする請求項１または２に記載の書簡用紙。
【請求項４】  用紙（１）を折り畳まれた状態に密閉および密封することが所望されているとき、用紙（１）が半分に折り畳まれるように構成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の書簡用紙。
【請求項５】  用紙（１）が頂縁（２）と底縁（３）との間の中間の両側縁（４，５）間の中心を通る単一の畳み目または折り目線（６）を備えていることを特徴とする請求項４に記載の書簡用紙。
【請求項６】  複数の用紙（１）が互いに貼り付くことなく折り畳まない状態において互いの上に積み重ね可能にしたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の書簡用紙。
【請求項７】  接着剤区域が別の接着剤領域にのみに貼りつくように、接着剤（１０）が選定され、用紙（１）が折り畳まない状態において互いの上に積み重ねられるとき、１つの用紙（１）上の接着剤区域が隣接する用紙（１）上の接着剤区域に接触しないようにしたことを特徴とする請求項６に記載の書簡用紙。
【請求項８】  用紙（１）が半分に折り畳まれるように構成され、接着剤（１０）が用紙（１）の片側においてのみその端縁（２，３，４，５）に塗布され、それによって複数の用紙（１）を接着剤区域間の接触なしで互いの上に積み重ね可能にしたことを特徴とする請求項７に記載の書簡用紙。
【請求項９】  用紙（１）が１回以上折り畳まれるように構成され、接着剤（１０）が用紙（１）の両側の端縁に塗布され、１側の接着剤区域が他側の接着剤区域からずらして配置され、複数の用紙（１）が接着剤区域間の接触なしで積み重ね可能にしたことを特徴とする請求項７に記載の書簡用紙。
【請求項１０】  一枚の紙と接触接着剤（１０）がレーザープリンターに適合され得るように選択可能にしたことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の書簡用紙。
【請求項１１】  一枚の紙が頂縁（２）と、底縁（３）と、対向の側縁（４，５）とを備え、接着剤（１０）が各端縁（２，３，４，５）の内側寄りに外周細片として塗布され、ミシン目（１２）が接着剤（１０）の内側寄りに設けられていることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の書簡用紙。
【請求項１２】  用紙（１）がミシン目の折り目線（６）に沿って折り畳み可能であり、ミシン目の折り目線（６）が開封されかつ折り畳まれないとき用紙（１）の完全な状態を維持するために中断地点（２２）を備えていることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の書簡用紙。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムであって、前記第２局は、前記第１局からの電力制御命令を受信する受信手段と、前記電力制御命令に応答して前記第１局に対する送信の電力を調整する電力制御手段とを有し、前記第１局は、前記第２局からの送信に同期したことを判定する手段と、同期が確立されたことを前記第２局に信号送信する信号送信手段とを有し、前記第２局は、同期が確立したことの通知に応答し、送信電力の変化率を、前記第１局による同期の信号送信の後に以前よりも大きくすることができるよう前記第２局の動作を修正する手段を有することを特徴とする無線通信システム。
【請求項２】
前記第２局から前記第１局への通信チャネルが、制御情報を伝送するための制御チャネルと、データを伝送するためのデータ・チャネルとを有し、前記第２局が前記データ・チャネルの初期伝送を、制御チャネルの初期伝送の後まで遅延させる手段を有することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
局であり、前記局と他の局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムで使用される局であって、前記他の局からの送信に同期したことを判定する手段が設けられ、同期が確立したことを前記他の局に信号送信を行う信号送信手段が設けられることを特徴とする局。
【請求項４】
前記信号送信手段が規則的に送信される信号を修正することによって同期の確立に対する信号送信を行うことを特徴とする請求項３記載の局。
【請求項５】
局であり、前記局と他の局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムで使用される局であって、前記他の局からの電力制御命令を受信する受信手段が設けられ、前記電力制御命令に応答して前記他の局に対する送信の電力を調整する電力制御手段が設けられ、同期が確立したことの通知に応答して、送信電力の変化率を、前記他の局による同期の信号送信の後に以前よりも大きくすることができるように前記局の動作を修正する手段が設けられることを特徴とする局。
【請求項６】
同期が確立したことの信号送信に応答して、受信した電力制御命令に対する前記電力制御手段の応答を修正する手段が設けられることを特徴とする請求項５記載の局。
【請求項７】
前記電力制御手段は、同期が確立した後に以前よりも大きな電力制御ステップ・サイズを利用するよう動作することが可能であることを特徴とする請求項６記載の局。
【請求項８】
前記電力制御手段は、同期が確立される前に受信した前記電力制御命令の一部を無視するよう動作することが可能であることを特徴とする請求項５ないし７の何れか１項に記載の局。
【請求項９】
前記受信手段が、電力制御命令が無視されるべき場合にターン・オフされることを特徴とする請求項８記載の局。
【請求項１０】
第１及び第２局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムの動作方法であって、前記第２局は、前記第１局からの電力制御命令を受信する受信機と、前記電力制御命令に応答して前記第１局に対する送信の電力を調整する電力コントローラとを有し、前記第１局が、前記第２局からの送信に同期したことを判定し、および同期が確立されたことを前記第２局に信号送信し、前記第２局が、同期が確立したことの通知に応答して、送信電力の変化率を、前記第１局による同期の信号送信の後に以前よりも大きくすることができるようにその動作を修正することを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記第１局が規則的に送信される信号を修正することによって同期の確立を信号送信することを特徴とする請求項１０記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の形態によれば、第１及び第２局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムであって、前記第２局は、前記第１局からの電力制御命令を受信する受信手段と、前記電力制御命令に応答して前記第１局に対する送信の電力を調整する電力制御手段とを有し、前記第１局は、前記第２局からの送信に同期したことを判定する手段と、同期が確立されたことを前記第２局に信号送信する信号送信手段とを有し、前記第２局は、同期が確立したことの通知に応答し、送信電力の変化率を、前記第１局による同期の信号送信の後に以前よりも大きくすることができるよう前記第２局の動作を修正する手段を有する無線通信システムが提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第２形態によれば、局であり、前記局と他の局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムで使用される局であって、前記他の局からの送信に同期したことを判定する手段が設けられ、同期が確立したことを前記他の局に信号送信を行う信号送信手段が設けられる局が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第３形態によれば、局であり、前記局と他の局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムで使用される局であって、前記他の局からの電力制御命令を受信する受信手段が設けられ、前記電力制御命令に応答して前記他の局に対する送信の電力を調整する電力制御手段が設けられ、同期が確立したことの通知に応答して、送信電力の変化率を、前記他の局による同期の信号送信の後に以前よりも大きくすることができるように前記局の動作を修正する手段が設けられる局が提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の第４形態によれば、第１及び第２局の間で通信チャネルを持つ無線通信システムの動作方法であって、前記第２局は、前記第１局からの電力制御命令を受信する受信機と、前記電力制御命令に応答して前記第１局に対する送信の電力を調整する電力コントローラとを有し、前記第１局が、前記第２局からの送信に同期したことを判定し、および同期が確立されたことを前記第２局に信号送信し、前記第２局が、同期が確立したことの通知に応答して、送信電力の変化率を、前記第１局による同期の信号送信の後に以前よりも大きくすることができるようにその動作を修正する方法が提供される。
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施例を説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月1日(2008.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体素子の製造方法であって、
銅（Ｃｕ）またはＣｕ合金の表面を、アンモニアを含むプラズマを用いて反応室において第１の圧力で処理するステップと、
約３０秒から約６０秒の時間をかけて、前記第１の圧力を約５０ｍ  Ｔｏｒｒから約１００ｍ  Ｔｏｒｒの第２の圧力に下げるステップと、
前記反応室にシランを導入するステップと、
前記反応室において、前記ＣｕまたはＣｕ合金層の表面上にシリコンナイトライドバリア層を堆積するステップとを順に含む、方法。
【請求項２】  前記ＣｕまたはＣｕ合金層の表面を、約５  Ｔｏｒｒから約８  Ｔｏｒｒの第１の圧力で処理するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  少なくとも約１５０  ｓｃｃｍのシランの流量で、前記シリコンナイトライドキャップ層を堆積するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記シリコンナイトライドキャップ層の堆積を開始する前に、少なくとも約１５０  ｓｃｃｍの流量に達するまで、前記反応室に前記シランを徐々に導入するステップを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  少なくとも約１５０  ｓｃｃｍの流量に達するまで、複数の段階で前記反応室に前記シランを導入するステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  半導体素子の製造方法であって、
反応室を約３００℃から約４２０℃の温度に加熱するステップと、
前記反応室を前記約３００℃から約４２０℃の温度で窒素を用いてパージするステップと、
前記室にウェハを導入するステップとを含み、前記ウェハは、銅（Ｃｕ）またはＣｕ合金の露出された表面を含み、前記方法はさらに、
前記ＣｕまたはＣｕ合金層の表面を、アンモニアを含むプラズマを用いて処理するステップと、
前記反応室において、前記ＣｕまたはＣｕ合金層の処理された表面上にバリア層を形成するステップとを順に含む、方法。
【請求項７】  前記反応室を、約１  Ｔｏｒｒを超えない圧力で窒素を用いてパージするステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記反応室を、複数の段階で窒素を用いてパージするステップを含み
、各段階は、
前記反応室に窒素を導入するステップと、
前記反応室への窒素の導入を停止するステップと、
前記反応室から窒素をポンプで吸引するステップとを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記ＣｕまたはＣｕ合金層の表面を、アンモニアを含むプラズマを用いて第１の圧力で処理するステップと、
約３０秒から約６０秒の時間をかけて、前記第１の圧力を約５０ｍ  Ｔｏｒｒから約１００ｍ  Ｔｏｒｒの第２の圧力に下げるステップと、
前記反応室にシランを導入するステップと、
前記反応室において、前記ＣｕまたはＣｕ合金層の表面上にシリコンナイトライドバリア層を堆積するステップとを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記ＣｕまたはＣｕ合金層の表面を、約５  Ｔｏｒｒから約８  Ｔｏｒｒの第１の圧力で処理するステップを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  少なくとも約１５０  ｓｃｃｍのシランの流量で、シリコンナイトライドバリア層を堆積するステップを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記シリコンナイトライドバリア層の堆積を開始する前に、少なくとも約１５０  ｓｃｃｍの流量に達するまで、前記反応室に前記シランを徐々に導入するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  少なくとも約１５０  ｓｃｃｍの流量に達するまで、複数の段階で前記反応室に前記シランを導入するステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月21日(2008.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＲＦ位相シフタ回路において、
第１および第２のＲＦポート(104, 106)と、
スイッチ回路とを具備し、このスイッチ回路は制御信号に応答する複数の単極多投（ＳＰＭＴ）マイクロ電子機械（“ＭＥＭ”）スイッチ（50Ａ−50Ｄ）を具備し、前記スイッチ回路は位相シフタ回路により第１のＲＦポートと第２のＲＦポートとの間を通過したＲＦ信号に生成された複数のディスクリートな位相シフト値の１つを選択するように構成され、前記スイッチ回路は単極多投（ＳＰＭＴ）または多極多投（ＭＰＭＴ）スイッチ機能を行うように接続されている位相シフタ回路。
【請求項２】  前記位相シフタ回路は切換えライン位相シフト回路であり、さらに、基準位相信号路（108 ）と少なくとも１つの位相シフト路（110 ）とを含んでおり、前記スイッチ回路は位相シフト制御信号に応答して、前記基準の１つまたは前記少なくとも１つの信号路を選択するように構成されている請求項１記載の回路。
【請求項３】  単一のＭＥＭ（176A）スイッチは前記基準信号路を選択する請求項２記載の回路。
【請求項４】  前記単一のＭＥＭスイッチは前記基準信号路を提供する請求項３記載の回路。
【請求項５】  単極多投（ＳＰＭＴ）または多極多投スイッチ（ＭＰＭＴ）機能をＲＦ信号に対して与えるように構成されたＲＦスイッチ回路（224 ）において、
スイッチの開−閉状態を制御するためにＤＣ制御信号にそれぞれ応答する複数の単極単投（ＳＰＳＴ）マイクロ電子機械（“ＭＥＭ”）ＲＦスイッチを具備しており、前記ＳＰＳＴ  ＭＥＭスイッチはそれぞれ第１のＲＦポートと第２のＲＦポートを含んでおり、前記ＳＰＳＴスイッチの少なくとも第１および第２のスイッチは共通の接続部に接続されている前記第１のポートを有しているＲＦスイッチ回路。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月14日(2007.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ｉ）ゲート電極と、
ｉｉ）前記ゲート電極に近接した絶縁層と、
ｉｉｉ）前記ゲート電極とは反対側において前記絶縁層と近接しかつ相互に間隔のあけられたソース電極およびドレイン電極と、
ｉｖ）前記ソース電極と前記ドレイン電極とを接続する半導体層とを有し、
前記ゲート電極での電圧によって前記半導体が前記ソース電極と前記ドレイン電極とを電気的に接続するようになるよう前記ゲート電極が配置されているトランジスターにおいて、
前記絶縁層が
ａ）ポリマーマトリックスと、
ｂ）前記マトリックス中に分散した平均直径が約２００ｎｍ未満のセラミック粒子とを含んでいることを特徴とする、トランジスター。
【請求項２】  ａ）金属ゲート電極と、
ｂ）前記ゲート電極に近接する絶縁層であって、
ｉ）硬化エポキシ樹脂を含んでいるポリマーマトリックスと、
ｉｉ）前記マトリックス中に分散した平均直径が約５０ｎｍのチタン酸バリウム粒子とを含んでいる、絶縁層と、
ｃ）前記ゲート電極とは反対側において前記絶縁層と近接しかつ相互に間隔のあけられた金属ソース電極および金属ドレイン電極と、
ｄ）前記ソース電極と前記ドレイン電極とを接続するペンタセンを含んでいる半導体層と
を備えており、前記ゲート電極での電圧によって前記半導体が前記ソース電極と前記ドレイン電極とを電気的に接続するようになるように前記ゲート電極が配置されている、トランジスター。
【請求項３】  請求項１に記載のトランジスターが複数個、作動可能な仕方で接続したものを備えた集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月5日(2008.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクをコピー保護する方法であって、署名が、一般的には、記録可能ディスクについての書き込み機によりディスク上に正確に書き込まれることができないように配置された、データパターンより構成される認証する署名を使用し、そのマスタリング処理中に、認証する署名を、光ディスク上に加える、方法。
【請求項２】
光ディスク上の特定のセクタ内の壊れた又はその他の不正確なデータの存在が、ディスクはオリジナルではないことを意味するために使用され、それにより光ディスクの使用が防止される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
コピー保護されたディスクの成功する動作は、ディスクはドライブ中に存在し且つ正確な署名がそこから読み出せることを要求する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
認証する署名のデータパターンは、ＣＤ書き込み機にＤＳＶ問題を発生させるように選択される、請求項１乃至３のうちいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
データパターンは、ＤＳＶが大きな絶対値を有することを保証するように選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、値の繰返されたパターンである、請求項４あるいは５に記載の方法。
【請求項７】
ＤＳＶ問題を発生させるデータパターンのサイズは、予め定められた量である、請求項４乃至６のうちいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、速いレートの変化を有するＤＳＶを有するように構成される、請求項４乃至７のうちいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、実質的に低周波数成分を有するＤＳＶを発生するように構成される、請求項４乃至８のうちいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
認証する署名は、選択されたデータパターンを含むセクタの、前と後の両方に設けられた、ゼロのみを含むセクタより構成もされる、請求項１乃至９のうちいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
マスタリング中にそこに与えられた認証する署名を有するコピー保護された光ディスクであって、認証する署名は、署名が、一般的には、記録可能ディスクについての書き込み機によりディスク上に正確に書き込まれることができないように配置された、データパターンより構成される、コピー保護された光ディスク。
【請求項１２】
認証する署名のデータパターンは、認証する署名のデータパターンが、ＣＤ書き込み機により正確に書き込まれることができないことを保証するサイズ及び／又は性質を有する、請求項１１に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１３】
前記データパターンは、ＣＤ書き込み機にＤＳＶ問題を発生するように選択される、請求項１１或は１２に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１４】
データパターンは、ＤＳＶが大きな絶対値を有することを保証するように選択される、請求項１３に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１５】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、値の繰返されたパターンである、請求項１３或は１４に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１６】
ＤＳＶ問題を発生させるデータパターンのサイズは、予め定められた量である、請求項１３乃至１５のうちいずれか一項に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１７】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、速いレートの変化を有するＤＳＶを有するように構成される、請求項１３乃至１６のうちいずれか一項に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１８】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、実質的な低周波数成分を有するＤＳＶを発生するように構成される、請求項１３乃至１７のうちいずれか一項に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項１９】
選択されたデータパターンが、光ディスク上の複数のセクタにコピーされた、請求項１３乃至１８のうちいずれか一項に記載のコピー保護された光ディスク。
【請求項２０】
認証する署名を有するコピー保護された光ディスクを認証する方法であって、ディスクの動作を可能化するために、ディスク上の認証する署名の位置を捜すことをディスクドライブに要求するステップと、ディスク上の認証する署名を正確に読み出すことをディスクドライブに要求するステップとを有し、認証する署名は、署名が、一般的には、記録可能ディスクについての書き込み機によりディスク上に正確に書き込まれることができないように配置された、データパターンより構成される、コピー保護された光ディスクを認証する方法。
【請求項２１】
コピー保護されたディスク上の認証する署名は、ＤＳＶ問題を発生するように選択されるデータパターンである、請求項２０に記載のコピー保護された光ディスクを認証する方法。
【請求項２２】
許可された符号化器により光ディスクのマスタリングを可能とする方法であって、その符号化器に関連するドライブが、マスタリング処理中にデータを読み出す記録可能ディスクは、ディスクドライブにより一般的に正確に読み出されないデータパターンより構成されるブロッキングファイルを記録し、この方法は、記録可能ディスク上に、ブロッキングファイルの存在と位置に関する情報を設けるステップを有し、その符号化器に関連するそのドライブは、前記存在及び位置情報に応答してブロッキングファイルを読み出さないように構成される、方法。
【請求項２３】
光ディスクをマスタリングする処理で使用する記録可能なディスクであって、記録可能なディスクは、その光ディスクに記録されるデータを記録し、記録可能ディスクは、オーサリング又はプリマスタリング処理中に記録可能ディスクに加えられたデータパターンより構成されるブロッキングファイルを記録し、且つ、データパターンは一般的には、ディスクドライブにより正確に読み出されることができない、記録可能ディスク。
【請求項２４】
ブロッキングファイルのデータパターンは、ＤＳＶ問題を発生するように選択される、請求項２３に記載の光ディスクをマスタリングする処理で使用する記録可能なディスク。
【請求項２５】
データパターンは、大きな絶対値を有するＤＳＶを有する、請求項２４に記載の記録可能なディスク。
【請求項２６】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、値の繰返されたパターンである、請求項２４或は２５に記載の記録可能なディスク。
【請求項２７】
要求されるＤＳＶを発生するデータパターンのサイズは、予め定められた量である、請求項２４乃至２６のうちいずれか一項に記載の記録可能なディスク。
【請求項２８】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、速いレートの変化を有するＤＳＶを有するように構成される、請求項２４乃至２７のうちいずれか一項に記載の記録可能なディスク。
【請求項２９】
ＤＳＶ問題を発生させるように選択されるデータパターンは、実質的な低周波数成分を有するＤＳＶを発生するように構成される、請求項２４乃至２８のうちいずれか一項に記載の記録可能なディスク。