Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月15日(2007.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  内部に冷却水を通流させるように側面に冷却水入口及び冷却水出口が設けられた略筒状のボディと、
上記ボディの両端をそれぞれ閉塞する端板と、
上記ボディ内に配設され、かつ両端がそれぞれ上記端板の取付孔に接続される略ベローズ形状の熱交換チューブと、
上記ボディの両端にそれぞれ接続され、かつガス入口及びガス出口を構成する入口側及び出口側のキャップ状部材と、を備え、上記ボディと上記端板と上記熱交換チューブとが、クーラーエレメントとしてろう付けされていると共に、排気ガスが通流する上記熱交換チューブ内部に略スパイラル形状の乱流促進板が配設された内燃機関のＥＧＲガスクーラーにおいて、
上記乱流促進板は、上記熱交換チューブの内周面に対して密接する２つの保持部を備え、該各保持部によって熱交換チューブと固定されていると共に、上記保持部以外の部分が、上記熱交換チューブの内周面に対して所定間隔を空け離間するよう形成されていることを特徴とする内燃機関のＥＧＲガスクーラー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
そこで、請求項１に記載の発明は、内部に冷却水を通流させるように側面に冷却水入口及び冷却水出口が設けられた略筒状のボディと、上記ボディの両端をそれぞれ閉塞する端板と、上記ボディ内に配設され、かつ両端がそれぞれ上記端板の取付孔に接続される略ベローズ形状の熱交換チューブと、上記ボディの両端にそれぞれ接続され、かつガス入口及びガス出口を構成する入口側及び出口側のキャップ状部材と、を備え、上記ボディと上記端板と上記熱交換チューブとが、クーラーエレメントとしてろう付けされていると共に、排気ガスが通流する上記熱交換チューブ内部に略スパイラル形状の乱流促進板が配設された内燃機関のＥＧＲガスクーラーにおいて、上記乱流促進板は、上記熱交換チューブの内周面に対して密接する２つの保持部を備え、該各保持部によって熱交換チューブと固定されていると共に、上記保持部以外の部分が、上記熱交換チューブの内周面に対して所定間隔を空け離間するよう形成されていることを特徴としている。これによって、熱交換チューブに振動が生じても、乱流促進板は、その両端の保持部以外が熱交換チューブの内周面に接触することはない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、乱流促進板は、保持部以外が熱交換チューブの内周面に接触することはないので、上記乱流促進板と熱交換チューブとの間でフレッチングが発生してしまうことを確実に防止することができ、熱交換チューブの内壁を傷つけ孔をあけることがなくなるので、ＥＧＲガスクーラーの耐久性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】筒状のハウジング部に、このハウジング部の周壁に、軸線方向に間隔をおいて設けた水流入口及び湯流入口と、前記水流入口と湯流入口との間で軸線方向に移動可能に組み込んだほぼ中空円筒状の弁体と、前記水流入口側で前記弁体の軸線方向の一端面に対向する水弁座と、前記湯流入口側で前記弁体の軸線方向の他端面に対向する湯弁座と、前記水弁座の下流側のハウジングの周壁に開けた混合水流出口と、前記水弁座から混合水流出口までの混合水流路中に組み込まれ前記弁体を前記湯弁座側に付勢する感温素子と、温度設定用の操作部に連接して前記弁体を前記水弁座側に付勢するばねとを備え、このハウジング部を湯水混合栓の本体にカートリッジ状に装着する湯水混合栓において、前記水流入口と前記湯流入口との間で前記ハウジングを軸線方向に垂直に分割し、分割された各々の端面を軸線方向に一定間隔を置いて対峙させ、該端面に挟まれた位置に前記弁体を配置すると共に、前記弁体の外周面に前記水流入口と前記湯流入口とを遮断するシール材を配置すると共に、分割した各ハウジングを連結する連結部材を備えていることを特徴とする湯水混合栓。
【請求項２】  前記分割された各々のハウジングが、前記温度設定用スピンドルと一体またはこれに連結された軸棒を介して連結されたことを特徴とする請求項１に記載の湯水混合栓。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】  上記目的を達成するためになされた本発明は、筒状のハウジング部に、このハウジング部の周壁に、軸線方向に間隔をおいて設けた水流入口及び湯流入口と、前記水流入口と湯流入口との間で軸線方向に移動可能に組み込んだほぼ中空円筒状の弁体と、前記水流入口側で前記弁体の軸線方向の一端面に対向する水弁座と、前記湯流入口側で前記弁体の軸線方向の他端面に対向する湯弁座と、前記水弁座の下流側のハウジングの周壁に開けた混合水流出口と、前記水弁座から混合水流出口までの混合水流路中に組み込まれ前記弁体を前記湯弁座側に付勢する感温素子と、温度設定用の操作部に連接して前記弁体を前記水弁座側に付勢するばねとを備え、このハウジング部を湯水混合栓の本体にカートリッジ状に装着する湯水混合栓において、前記水流入口と前記湯流入口との間で前記ハウジングを軸線方向に垂直に分割し、分割された各々の端面を軸線方向に一定間隔を置いて対峙させ、該端面に挟まれた位置に前記弁体を配置すると共に、前記弁体の外周面に前記水流入口と前記湯流入口とを遮断するシール材を配置すると共に、分割した各ハウジングを連結する連結部材を備えていることを特徴とした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
さらに、前記シール材が前記弁体の外周面に装着されていることにより、ハウジングに流入する湯と水を遮断するシール材が弁体に装着されているため、弁体の外径そのものをハウジングの外径とほぼ同一の寸法まで大きくすることが可能で、これにより弁体の外径をさらに大きくすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明は、前記分割された各々のハウジングが、前記温度設定用スピンドルと一体またはこれに連結された軸棒を介して連結されたことを特徴とした。これにより分割された各ハウジングを連結するための部材である軸棒が、ハウジングのほぼ中心軸線付近に位置するため、各々のハウジングが対峙して設けられてシール材が位置する環形状の場所には何ら影響することはない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の実施例を示した湯水混合栓の構造を示す正面縦断面図である。図１において湯水混合栓の本体３０の中に組み込まれる湯側ハウジング１ａと水側ハウジング１ｂとから成るハウジング１の周壁には軸線方向に間隔をおいて水流入口ａ及び湯流入口ｂをそれぞれ開けると共に、これらの流入口ａ，ｂに連通する下流側には混合水流出口ｃを開けている。水流入口ａはハウジング１の中の水室ｄに連通し、同様に湯流入口ｂと混合水流出口ｃはそれぞれ湯室ｅ及び混合室ｆに連通し、この混合室ｆを経由して混合水が吐出端から吐出される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月29日(2007.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気圧と真空圧とを供給することができ、空気貯留器を備えている単一の空気圧組立体と、
第１の端部及び第２の端部を有した中空ボアと、前記中空ボア内で該第１の端部と該第２の端部との間に移動可能に配設されているプランジャとを有したシリンジと、
前記中空ボアの前記第１の端部を前記空気貯留器に流体的に結合している配管とを備え、第１の網膜充填流体を目の後眼部に注入すると同時に、第２の網膜充填流体を該後眼部から吸引するための外科用システムにおいて、
前記空気貯留器の空気、前記配管、及び前記プランジャを挟んで前記第１の端部に近い側の前記中空ボアの体積が、前記後眼部の体積よりも大きくなっているので、前記第１の網膜充填流体の注入圧力がほぼ一定圧な力に維持され、同時に前記単一の空気圧組立体は、前記第２の網膜充填流体を吸引するために真空圧を供給している、
外科用システム。
【請求項２】
前記外科用システムがハウジングをさらに備え、
前記組立体が、前記ハウジング内に配置されており、
前記配管及び前記シリンジが前記ハウジングの外側に配置されている、請求項１に記載の外科用システム。
【請求項３】
前記組立体が、
調整された圧力源と、
前記調整された圧力源に流体的に結合されている比例弁と、
前記比例弁と流体的に結合されている真空ポンプと、
をさらに備え、前記貯留器が前記比例弁に流体的に結合されている、請求項２に記載の外科用システム。
【請求項４】
前記第１の網膜充填流体がシリコン油であり、前記第２の網膜充填流体がペルフルオロカーボン液である、請求項１に記載の外科用システム。
【請求項５】
前記ほぼ一定な圧力が約１２％以下の注入圧力低下を含んでいる、請求項１に記載の外科用システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを含む製剤を含む、疼痛を治療するための埋め込み用装置であって、２ml/日以下の低容量速度で装置から製剤を送達するのに適している装置。
【請求項２】
装置が、少なくとも３日間から１０日間、被験者の疼痛を治療するのに有効な量のフェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを送達するのに充分な量の製剤を含む、請求項１に記載の埋め込み用装置。
【請求項３】
装置が、少なくとも４週間の期間、被験者の疼痛を治療するのに有効な量のフェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを送達するのに充分な量の製剤を含む、請求項１に記載の埋め込み用装置。
【請求項４】
装置が、少なくとも１００日間、被験者の疼痛を治療するのに有効な量のフェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを送達するのに充分な量の製剤を含む、請求項１に記載の埋め込み用装置。
【請求項５】
装置が、０．０１μｇ／時間から２００μｇ／時間までの速度でフェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを送達するのに適している、請求項１に記載の埋め込み用装置。
【請求項６】
製剤が、スフェンタニルを含む、請求項５に記載の埋め込み用装置。
【請求項７】
装置が、０．０１μｌ／日から２ｍｌ／日までの容量速度でフェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを含む製剤を送達するのに適する、請求項１に記載の埋め込み用装置。
【請求項８】
フェンタニルまたはフェンタニルコンジナーが、フェンタニル塩基またはフェンタニルコンジナー塩基として製剤中に存在している、請求項１に記載の埋め込み用装置。
【請求項９】
疼痛に苦しむ被験者の疼痛の治療に使用する薬剤の製造のための、フェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを含む製剤の使用であって、前記治療がフェンタニルまたはフェンタニルコンジナーを被験者に全身的な送達により投与することを含む、使用。
【請求項１０】
前記投与が、被験者の埋め込み部位への薬物送達装置の埋め込みによって行われる、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
前記埋め込み部位が、皮下部位である、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記製剤がスフェンタニルを含む、請求項９〜１１のいずれかに記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月25日(2007.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼球側の屈折面を転写する第１成形型と物体側の屈折面を転写する第２成形型とを対向配置し、これらの成形型間の間隙を封止してキャビティを形成した成形モールドの前記キャビティに液状の硬化性樹脂組成物を注入ノズルから注入して前記キャビティを前記硬化性樹脂組成物で満たす原料注入方法において、
前記第１成形型が前記第２成形型の上になるような方向に前記成形モールドを鉛直方向から傾斜させながら、前記硬化性樹脂組成物を鉛直方向下向きに吐出させ前記第１成形型の屈折面に沿って流下させることにより注入することを特徴とする原料注入方法。
【請求項２】
請求項１記載の原料注入方法において、
前記モールドの鉛直方向からの傾斜角度が３°〜３０°の範囲であることを特徴とする原料注入方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】研磨装置、研磨工具及び研磨部材
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被研磨材を保持するトップリングと、
イオン交換体を有する研磨部材と、
研磨液を供給するための研磨液供給手段と、
研磨液中に電界を形成するための電源を有することを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記トップリングと前記電源が接続されていることを特徴とする請求項１記載の研磨装置。
【請求項３】
前記研磨装置は、
前記研磨部材を配置するターンテーブルを有し、
前記ターンテーブルと前記電源が接続されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記研磨液は、超純水であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項５】
前記研磨液供給手段は、前記ターンテーブルに設けられた給水溝と排水溝を有することを特徴とする請求項３又は４記載の研磨装置。
【請求項６】
前記研磨液供給手段は、前記給水溝に連通するマニホールドと、該マニホールドに連通する給水配管を有することを特徴とする請求項５記載の研磨装置。
【請求項７】
研磨部材と、
前記研磨部材が取り付けられる定盤と、
被研磨材を保持し、前記研磨部材に該被研磨材を摺接させ、相対移動により該被研磨材を研磨するためのトップリングと、
前記定盤と前記トップリングの間に電圧を付加するために、該定盤と該トップリングに接続された電源と、
研磨液を供給するための研磨液供給手段を有することを特徴とする研磨装置。
【請求項８】
前記研磨部材は、通水性を有することを特徴とする請求項７記載の研磨装置。
【請求項９】
前記研磨部材は、イオン交換体を有することを特徴とする請求項７又は８記載の研磨装置。
【請求項１０】
前記研磨液は、超純水であることを特徴とする請求項７乃至９のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項１１】
定盤と、該定盤の取付面に取り付けられる水の解離を促進させる触媒と、該解離促進部材の他面に取り付けられる研磨部材と、前記定盤に通電する通電手段とを有することを特徴とする研磨工具。
【請求項１２】
研磨に際して被研磨材と接触することによって被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材の少なくとも一部がイオン交換体を含む又はイオン交換体からなる通水性を有する素材で形成されていることを特徴とする研磨部材。
【請求項１３】
被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材は、イオン交換体を含む素材とイオン交換膜が積層されて構成されていることを特徴とする研磨部材。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、研磨装置、研磨工具及び研磨部材に関し、特に、半導体ウエハ、金属、セラミックス等の被研磨材を平坦かつ鏡面状に研磨するのに用いる研磨装置、研磨工具及び研磨部材に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、ケミカルの使用を抑制しつつ、研磨後のウエハの洗浄や排液処理の負荷を減少させ、かつ効率的に研磨を行なう研磨装置、研磨工具及び研磨部材を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
研磨部材の少なくとも一部を、イオン交換体を含む又はイオン交換体からなる通水性を有する素材で形成するようにしてもよい。例えば、研磨部材を、イオン交換膜と通常の研磨パッドで構成してもよいし、イオン交換体不織布のようなイオン交換体を含む素材やイオン交換体からなる素材で形成してもよく、もしくはイオン交換膜の上にイオン交換体不織布を取り付けることによりイオン交換膜のイオン偏在化作用をさらに助長するようにしても良い。このような素材は、研磨部材中のイオンの移動性を高めるので、イオンの移動に必要な電圧を大幅に低下させることができる。イオン交換体不織布はそれ自身がＯＨ−イオン又はＨ＋イオンを保持する機能を有するので、被研磨材面の近くに偏在したイオンを維持して処理速度を高める作用を有する。
このような素材としては、例えば、グラフト重合、放射線グラフト重合等の方法で繊維状に作製されたイオン交換体不織布が好適に用いられる。
本発明の研磨工具は、定盤と、該定盤の取付面に取り付けられる水の解離を促進させる触媒と、該解離促進部材の他面に取り付けられる研磨部材と、前記定盤に通電する通電手段とを有する。
本発明の研磨部材は、研磨に際して被研磨材と接触することによって被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材の少なくとも一部がイオン交換体を含む又はイオン交換体からなる通水性を有する素材で形成されている。
本発明の他の研磨部材は、被研磨材を研磨する研磨部材であって、前記研磨部材は、イオン交換体を含む素材とイオン交換膜が積層されて構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月22日(2006.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
このような構成であれば、画像データの階調値に基づいて該当する画像データ自体をドット形成パターンデータに置換するので、面積階調に変換した後の階調を算出する必要がなくなり、処理を単純化することができるという効果が得られる。更に、置き換え対象となる位置については、置き換え前の面積階調算出処理を行う必要がなくなるので、処理を高速化できるという効果が得られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
このような構成であれば、２種類以上のドット形成パターンの組み合わせで置換することが可能となるので、同じパターンの繰り返しによって人の目に知覚される模様による画質の劣化を防ぐことができるという効果が得られる。
ここで、上記所定の面積階調とは、ある面積階調幅を１つの面積階調で取り扱うことを指す。例えば、面積階調において、０〜２５５という面積階調を設定し、１階調毎に階調量を刻むとすると、例えば、１２４という面積階調は、１２４．５以上１２５．５未満の面積階調を代表する階調と定義される。つまり、ある幅を持った階調を代表する面積階調であり、所定の面積階調に対して複数種類の形成パターン内容のデータが生成されたとは、例えば、１２４という面積階調（１２４．５以上１２５．５未満の幅を有する面積階調）を表現するためのバンディング回避用ドット形成パターンデータが複数種類生成された状態を指すことになる。以下、「印刷装置制御プログラム」に関する形態、「印刷装置制御方法」に関する形態、「印刷用データ生成装置」に関する形態、「印刷用データ生成プログラム」に関する形態、「印刷用データ生成方法」に関する形態、並びに「前記プログラムを記録した記録媒体」に関する形態、発明を実施するための最良の形態の欄などの記載において同じである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
〔形態９〕  更に、形態９の印刷装置は、形態６又は７の印刷装置において、
前記複数種類の形成パターン内容は、パターンサイズの異なる複数種類のドット形成パターンであることを特徴としている。
このような構成であれば、パターンサイズが異なる２種類以上のドット形成パターンの組み合わせで置換することが可能となるので、同じパターンの繰り返しによって人の目に知覚される模様による画質の劣化を防ぐことができるという効果が得られる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５１】
Ｎ値化処理部１１ａは、Ｎ値化情報を取得すると、当該Ｎ値化情報に基づき、画像データにおける置換されていない部分のデータに対して、Ｎ値化処理を実行する。ここで、本実施の形態においては、Ｎ値化処理の方法として誤差拡散の手法を用いており、これによって、上記した面積階調による階調表現が可能となる。
この誤差拡散処理とは、Ｍ値のデータをある閾値を境にＮ値化処理する際に、その閾値との差を捨ててしまうのではなく、誤差としてこれから処理する複数の画素に拡散させて活用するようにしたものであり、従来公知のものそのものである。例えば、２値化処理を例に挙げると、処理対象となる注目画素が８ビット（２５６階調）で表現可能でその階調が「１０１」であった場合、通常の２値化処理では、その階調は閾値（中間値）である「１２８」に満たないため、「０」すなわちドットを形成しない画素として処理されてしまい、「１０１」は、そのまま捨てられてしまう。これに対し、誤差拡散処理の場合は、その「１０１」が所定の誤差拡散マトリックスに従ってその周囲の未処理の画素に対して拡散されることになるため、例えば、選択画素の右隣の画素が通常の２値化処理のみでは選択画素と同じく閾値に満たないことから「ドットを形成しない」として処理されてしまっていたのが、選択画素の誤差を受け取ることによってその濃度値が閾値を超えて「ドットを形成する」というような取り扱いを受けることとなり、より元の画像データに近い２値化データを得ることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月19日(2007.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶接開始に際して、溶接ワイヤを被溶接物に接触させた後に、溶接ワイヤを被溶接物から引き離して初期アークを発生させ、この初期アークを維持しながら再接触が発生しない値以上でかつアーク切れが発生する値未満の速度での引き離しによってワイヤ先端・被溶接物間距離が予め定めた後退距離設定値に達した後に、前記初期アークから定常アークへと移行させる、ことを特徴とするアークスタート制御方法。
【請求項２】
前記後退距離設定値を、定常アーク長に略等しい値に設定する、ことを特徴とする請求項１記載のアークスタート制御方法。
【請求項３】
前記引き離しの速度を、シールドガスの種類、定常の送給速度又は被溶接物の板厚の少なくとも１つに応じた適正値に設定する、ことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のアークスタート制御方法。
【請求項４】
溶接開始に際して、溶接ワイヤを被溶接物に接触させた後に、溶接ワイヤを被溶接物から引き離して初期アークを発生させ、この初期アークを維持しながら再接触が発生しない値以上でかつアーク切れが発生する値未満の速度で定常アーク長と略等しくなるまでの所定時間引き離した後に、前記初期アークから定常アークへと移行させる、ことを特徴とするアークスタート制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
第３の発明は、前記引き離しの速度を、シールドガスの種類、定常の送給速度又は被溶接物の板厚の少なくとも１つに応じた適正値に設定する、ことを特徴とする第１又は第２の発明記載のアークスタート制御方法である。
また、第４の発明は、溶接開始に際して、溶接ワイヤを被溶接物に接触させた後に、溶接ワイヤを被溶接物から引き離して初期アークを発生させ、この初期アークを維持しながら再接触が発生しない値以上でかつアーク切れが発生する値未満の速度で定常アーク長と略等しくなるまでの所定時間引き離した後に、前記初期アークから定常アークへと移行させる、ことを特徴とするアークスタート制御方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶接電圧を検出するステップと、前記溶接電圧の変化量を算出するステップと、前記溶接電圧の変化量と溶滴のくびれ判定閾値とに基づいて溶滴のくびれ判定を行うステップと、くびれと判定した場合にその時の短絡処理状態を記憶するステップと、くびれと判定した後に溶接電圧に基づいてアーク期間であるのか短絡期間であるのかを判定し、くびれと判定してから所定期間経過後に短絡期間であると判定した場合には前記記憶した短絡処理状態から短絡処理を行うステップとからなるアーク溶接装置の制御方法。
【請求項２】
溶接電圧を検出するステップと、前記溶接電圧の変化量を算出するステップと、前記溶接電圧の変化量と溶滴のくびれ判定閾値とに基づいて溶滴のくびれ判定を行うステップと、くびれと判定した場合にその時の短絡処理状態を記憶するステップと、くびれと判定した後に溶接電圧に基づいてアーク期間であるのか短絡期間であるのかを判定し、くびれと判定してから所定期間経過後に短絡期間であると判定した場合には前記記憶した短絡処理状態から短絡処理を行うステップと、前記記憶した短絡処理状態から短絡処理を行う時点から所定期間内はアーク期間であるのか短絡期間であるのかの判定を禁止するステップとからなるアーク溶接装置の制御方法。
【請求項３】
溶接電圧と短絡開放判定閾値とに基づいて短絡開放の判定を行うステップと、短絡開放と判定した場合にその時の短絡処理状態を記憶するステップと、短絡開放と判定した後に溶接電圧に基づいてアーク期間であるのか短絡期間であるのかを判定するステップと、短絡開放と判定してから所定期間内に短絡期間であると判定した場合には前記記憶した短絡処理状態から短絡処理を行うステップとからなるアーク溶接装置の制御方法。
【請求項４】
短絡開放と判定してから所定期間内に短絡期間であると判定されなかった場合には、記憶していた短絡処理状態を破棄してアーク処理を行う請求項３記載のアーク溶接装置の制御方法。
【請求項５】
溶接電圧の変化量とくびれ判定閾値とに基づいて溶滴のくびれ判定を行うくびれ判定部と、くびれと判定した場合にその時の短絡処理状態を記憶する記憶部と、くびれと判定した後に溶接電圧に基づいてアーク期間であるのか短絡期間であるのかを判定するアーク／短絡判定部と、くびれと判定してから所定期間経過後に短絡期間であると判定した場合には前記記憶部に記憶した短絡処理状態から短絡処理を行う制御部とからなるアーク溶接装置。
【請求項６】
溶接電圧の変化量とくびれ判定閾値とに基づいて溶滴のくびれ判定を行うくびれ判定部と、くびれと判定した場合にその時の短絡処理状態を記憶する記憶部と、くびれと判定した後に溶接電圧に基づいてアーク期間であるのか短絡期間であるのかを判定するアーク／短絡判定部と、くびれと判定してから所定期間経過後に短絡期間であると判定した場合には前記記憶部に記憶した短絡処理状態から短絡処理を行い、この短絡処理を開始した時点から所定期間内はアーク期間であるのか短絡期間であるのかの判定を禁止する制御部とからなるアーク溶接装置。
【請求項７】
溶接電圧と短絡開放判定閾値とに基づいて短絡開放の判定を行う短絡開放判定部と、短絡開放と判定した場合にその時の短絡処理状態を記憶する記憶部と、短絡開放と判定した後に溶接電圧に基づいてアーク期間であるのか短絡期間であるのかを判定するアーク／短絡判定部と、短絡開放と判定してから所定期間内に短絡期間であると判定した場合には前記記憶部に記憶した短絡処理状態から短絡処理を行う制御部とからなるアーク溶接装置。
【請求項８】
短絡開放と判定してから所定期間内に短絡期間であると判定しなかった場合には、記憶部に記憶していた短絡処理状態を破棄してアーク処理を行う請求項７記載のアーク溶接装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月17日(2006.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアリーレンサルファイド樹脂（Ａ）及びレーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が２０Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導性充填材（Ｂ）を含有してなるヒートシンク用錠剤であって、（Ａ）及び（Ｂ）の合計１００容量％に対し、（Ａ）成分５〜４０容量％、（Ｂ）成分９５〜６０容量％であるヒートシンク用錠剤。
【請求項２】
ポリアリーレンサルファイド樹脂（Ａ）及びレーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が２０Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導性充填材（Ｂ）を含有してなり、（Ａ）及び（Ｂ）の合計１００容量％に対し、（Ａ）成分５〜４０容量％、（Ｂ）成分９５〜６０容量％であるヒートシンク用錠剤であって、該錠剤を溶融成形することによりレーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が５Ｗ／ｍＫ以上となるヒートシンクが得られるヒートシンク用錠剤。
【請求項３】
さらに２５〜２５０℃の温度範囲で固体から液体または気体に変化する脂肪酸の一価アルコールエステル、リン酸エステル、脂肪族金属塩、多塩基酸の一価アルコールエステル、多価アルコールの脂肪酸エステル、およびそれらの誘導体、グリセリンの脂肪酸エステル、シリコーンレジン、フェノール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アミド基含有化合物、シアヌレート化合物およびその塩から選択される少なくとも１種の物質（Ｃ）を（Ａ）成分および（Ｂ）成分の合計１００重量部に対し、０．０１〜３０重量部含有してなる請求項１または２記載のヒートシンク用錠剤。
【請求項４】
さらに２５℃における粘度が１〜１００００ｍPa・sの脂肪酸の一価アルコールエステル、多塩基酸の一価アルコールエステル、多価アルコールの脂肪酸エステル、およびそれらの誘導体、グリセリンの脂肪酸エステル、シリコーンオイル、ホスファイト系化合物等から選択される少なくとも１種の液状有機化合物（Ｄ）を（Ａ）成分および（Ｂ）成分の合計１００重量部に対し、０．０１〜３０重量部含有してなる請求項１または２記載のヒートシンク用錠剤。
【請求項５】
熱伝導性充填材（Ｂ）が累積粒度分布曲線において２５体積％以上が累積度５０％粒子径（Ｄ５０）×１．５より大きい粒子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載のヒートシンク用錠剤。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載のヒートシンク用錠剤を溶融成形してなるヒートシンク。
【請求項７】
ヒートシンクがシャーシ、筐体、あるいはその一部を構成するヒートシンクである請求項６記載のヒートシンク。
【請求項８】
フィン状突起物を有する請求項６または７記載のヒートシンク。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれか記載のヒートシンク用錠剤を射出成形することを特徴とするヒートシンクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
すなわち本発明は、
（１）ポリアリーレンサルファイド樹脂（Ａ）及びレーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が２０Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導性充填材（Ｂ）を含有してなるヒートシンク用錠剤であって、（Ａ）及び（Ｂ）の合計１００容量％に対し、（Ａ）成分５〜４０容量％、（Ｂ）成分９５〜６０容量％であるヒートシンク用錠剤、
（２）ポリアリーレンサルファイド樹脂（Ａ）及びレーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が２０Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導性充填材（Ｂ）を含有してなり、（Ａ）及び（Ｂ）の合計１００容量％に対し、（Ａ）成分５〜４０容量％、（Ｂ）成分９５〜６０容量％であるヒートシンク用錠剤であって、該錠剤を溶融成形することによりレーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が５Ｗ／ｍＫ以上となるヒートシンクが得られるヒートシンク用錠剤、
（３）さらに２５〜２５０℃の温度範囲で固体から液体または気体に変化する脂肪酸の一価アルコールエステル、リン酸エステル、脂肪族金属塩、多塩基酸の一価アルコールエステル、多価アルコールの脂肪酸エステル、およびそれらの誘導体、グリセリンの脂肪酸エステル、シリコーンレジン、フェノール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アミド基含有化合物、シアヌレート化合物およびその塩から選択される少なくとも１種の物質（Ｃ）を（Ａ）成分および（Ｂ）成分の合計１００重量部に対し、０．０１〜３０重量部含有してなる上記（１）または（２）記載のヒートシンク用錠剤、
（４）さらに２５℃における粘度が１〜１００００ｍPa・sの脂肪酸の一価アルコールエステル、多塩基酸の一価アルコールエステル、多価アルコールの脂肪酸エステル、およびそれらの誘導体、グリセリンの脂肪酸エステル、シリコーンオイル、ホスファイト系化合物等から選択される少なくとも１種の液状有機化合物（Ｄ）を（Ａ）成分および（Ｂ）成分の合計１００重量部に対し、０．０１〜３０重量部含有してなる上記（１）または（２）記載のヒートシンク用錠剤、
（５）熱伝導性充填材（Ｂ）が累積粒度分布曲線において２５体積％以上が累積度５０％粒子径（Ｄ５０）×１．５より大きい粒子であることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか記載のヒートシンク用錠剤、
（６）上記（１）〜（５）のいずれか記載のヒートシンク用錠剤を溶融成形してなるヒートシンク、
（７）ヒートシンクがシャーシ、筐体、あるいはその一部を構成するヒートシンクである上記（６）記載のヒートシンク、
（８）フィン状突起物を有するものである上記（６）または（７）記載のヒートシンク、
（９）上記（１）〜（５）のいずれか記載のヒートシンク用錠剤を射出成形することを特徴とするヒートシンクの製造方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
なかでも、樹脂に充填した際にヒートシンクとしての高放熱性を付与するためには、レーザーフラッシュ法により測定した熱伝導率が２０Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導性充填材（Ｂ）を用いる。このような熱伝導性充填材の具体例としては金属粉、金属フレーク、金属リボン、金属繊維、ベリリア、アルミナ、酸化亜鉛、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化珪素などの窒化物、熱伝導性物質で被覆された無機フィラー、カーボン粉末、黒鉛、ＰＡＮ系あるいはピッチ系炭素繊維、カーボンフレーク、鱗片状カーボンおよびカーボンナノチューブなどが挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月30日(2006.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱膨張性硫酸-黒鉛粒子の膨張特性を制御するにあたり、硫酸を用いての酸化剤存在下での黒鉛粒子からの転換によって製造する硫酸-黒鉛粒子を、膨張特性に影響を及ぼす化合物含有の水性洗浄液を用いて洗浄するが、洗浄する硫酸-黒鉛粒子から分離された洗浄液における測定で2から8までの範囲のpH値、とりわけ、3から7までの範囲のpH値にまで洗浄し、及び次いで乾燥させることを特徴とする、方法。
【請求項２】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の膨張特性に影響を及ぼす化合物として、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、マンガン、鉄、銅、亜鉛及びアルミニウムについての硫酸塩、硫酸水素塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、硝酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩及び酢酸塩；過酸化水素、ヨウ素酸、臭素酸、過マンガン酸、過塩素酸及びペルオキシ二硫酸；過酸化物、ナトリウム及びカリウムについてのヨウ素酸塩、臭素酸塩、過マンガン酸塩、過塩素酸塩及びペルオキシ二硫酸塩；ベンゼンスルホン酸、1,3-ベンゼンジスルホン酸、C1〜C30アルキルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、芳香族及び脂肪族のアミノスルホン酸、及びC1〜C30アルキルスルホン酸についてのナトリウム塩；ナトリウムのC1〜C30アルキル硫酸塩；飽和又は不飽和の脂肪族C2〜C30カルボン酸のナトリウム塩；及び式N(R)4＋X-で表される、飽和又は不飽和の、脂肪族の、四級アンモニウム塩で、そこでRは互いに無関係なC1〜C30アルキル基を、及びX-は陰イオンを意味するものを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1の方法。
【請求項３】
洗浄液が、膨張特性に影響を及ぼす化合物を、10-5から10モル/lまで、とりわけ、10-4から1モル/lまでの濃度において含むことを特徴とする、請求項1又は2の方法。
【請求項４】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の膨張容量[%・mg-1]を高める化合物として、Na2SO4、K2SO4、MgSO4、CuSO4、ZnSO4、Al2(SO4)3、(NH4)2S2O8、NaBrO3、CH3COONa、NaH2PO4、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ナフタレントリスルホン酸三ナトリウム塩、1-ブタンスルホン酸ナトリウム、1-デカンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム塩、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化デシルトリメチルアンモニウム、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、臭化テトラデシルトリメチルアンモニウム、塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウムを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項の方法。
【請求項５】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の膨張速度[%・℃-1]をオンセット範囲において高める化合物として、Na2SO4、K2SO4、MgSO4、MnSO4、CuSO4、ZnSO4、Al2(SO4)3、(NH4)2S2O8、KMnO4、NaBrO3、H2O2、NaNO3、NaH2PO4、0.0125モル/lより少ない濃度におけるベンゼンスルホン酸ナトリウム、1-ブタンスルホン酸ナトリウム、1-デカンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム塩、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウムを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項の方法。
【請求項６】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の平均膨張係数[K-1]を高める化合物として、Na2SO4、K2SO4、MgSO4、MnSO4、CuSO4、ZnSO4、Al2(SO4)3、(NH4)2S2O8、NaBrO3、NaH2PO4、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、1-ブタンスルホン酸ナトリウム、1-デカンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム塩、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化デシルトリメチルアンモニウム、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、臭化テトラデシルトリエチルアンモニウム、塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウムを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項の方法。
【請求項７】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の膨張容量[%・mg-1]を下げる化合物として、MnSO4、Fe2SO4、KMnO4、H2O2、NaNO3、ナフタレンスルホン酸ナトリウム塩、ナフタレン-1,5-二スルホン酸二ナトリウム塩及びカプリル酸ナトリウムを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項の方法。
【請求項８】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の膨張速度[%・℃-1]をオンセット範囲において下げる化合物として、FeSO4、≧0.0125モル/lの濃度におけるベンゼンスルホン酸ナトリウム、臭化デシルトリメチルアンモニウム、臭化テトラデシルトリメチルアンモニウム、ナフタレンスルホン酸ナトリウム塩、ナフタレン-1,5-二スルホン酸二ナトリウム塩、ナフタレン三スルホン酸三ナトリウム塩、及びカプリル酸ナトリウムを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項の方法。
【請求項９】
洗浄液が、硫酸-黒鉛粒子の平均膨張係数[K-1]を下げる化合物として、FeSO4、KMnO4、H2O2、NaNO3、ナフタレンスルホン酸ナトリウム塩、ナフタレン-1,5-二スルホン酸二ナトリウム塩、ナフタレン三スルホン酸三ナトリウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びカプリル酸ナトリウムを包含する群の少なくとも1種の代表を、溶解又は分散する形態において含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項の方法。
【請求項１０】
請求項1〜9の何れか一項の方法の使用であって、入手可能な熱膨張性の硫酸-黒鉛粒子の、火炎保護-組成物の製造のための、特に、建物の壁、床及び/又は天井における裂け目、展開部及びその他の開口部についての防火対策材料のための膨大する防火対策添加剤としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月1日(2006.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成機構と組み合わせて使用されるように構成された自動ドキュメントフィーダであって、
前記画像形成機構の走査窓に対して間隔を置いてその上に重なるように支持されているフィードガイドと、
互いに間隔を置くと共に、前記走査窓に近接するように支持されている第１及び第２ドキュメントガイドであって、シート媒体を前記フィードガイド及び前記走査窓間へ案内するように構成された第１及び第２ドキュメントガイドと、を備えており、
使用時に、前記シート媒体が、前記走査窓及び前記フィードガイド間に存在する唯一のものとなることを特徴とする自動ドキュメントフィーダ。
【請求項２】
自動ドキュメントフィーダであって、ハウジングをさらに備えており、前記フィードガイド及び前記第１ドキュメントガイド及び前記第２ドキュメントガイドは、前記ハウジングによって支持されていることを特徴とする請求項１に記載の自動ドキュメントフィーダ。
【請求項３】
自動ドキュメントフィーダであって、それぞれ前記第１及び第２ドキュメントガイドを支持する第１及び第２ガイド支持部材をさらに備えており、該第１及び第２ガイド支持部材は、前記ハウジングによって支持されていることを特徴とする請求項２に記載の自動ドキュメントフィーダ。
【請求項４】
上面として走査窓を有する走査装置と協働する自動ドキュメントフィーダに使用されるシートガイド装置であって、
その間に空隙が形成されるよう互いに間隔を置いて配置される第１及び第２ドキュメントガイドを備え、
前記空隙はブリッジ部材によってまたがれておらず、
前記第１及び第２ドキュメントガイドが、フィードガイドの下面と前記走査窓の上面によって画定されるギャップを通って、前記空隙を横切ってシート媒体を案内するように構成されていることを特徴とするシートガイド装置。
【請求項５】
シートガイド装置であって、前記第２ドキュメントガイドは、前記走査窓の横に支持されているダイバータと協働するようにさらに構成されていることを特徴とする請求項４に記載のシートガイド装置。
【請求項６】
走査装置であって、
光学的に透明な材料からなり、走査窓を画定する領域を有するフラットベッドと、
走査窓に対して間隔を置いてその上に重なるように支持されており、フィードガイドと前記走査窓によって画定されるギャップを通ってシート媒体を案内するよう構成されているフィードガイドと、
前記シート媒体を前記ギャップ内へ案内するように構成されており、前記走査窓の横で前記走査窓に対して傾斜するよう支持された第１ドキュメントガイドと、
前記シート媒体を前記ギャップの外へ案内するように構成されており、前記走査窓の横で前記走査窓に対して傾斜するように支持された第２ドキュメントガイドと、を備えることを特徴とする走査装置。
【請求項７】
走査窓手段とともに使用される自動ドキュメントフィーダ装置であって、
フィードガイド手段と、
前記フィードガイド手段と前記走査窓手段によって画定されるギャップを通ってシート媒体を案内する第１ガイド手段と、
前記シート媒体を前記ギャップの外へ案内する第２ガイド手段と、を備えることを特徴とする自動ドキュメントフィーダ装置。
【請求項８】
ドキュメントを自動的に送る方法であって、
走査窓領域を有するフラットベッドを設けること、
フィードガイドを設けること、
該フィードガイドを前記走査窓に対して間隔を置くように支持すること、
前記走査窓及び前記フィードガイドによって画定されるギャップ内へシート媒体を案内すること、及び
前記シート媒体を前記ギャップの外へ案内すること、
を含むことを特徴とするドキュメントを自動的に送る方法。
【請求項９】
前記ギャップ内へ前記シート媒体を案内し前記シート媒体を前記ギャップの外へ案内する間に、前記シート媒体が前記ギャップ内に存在する唯一のものであることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ドキュメントを自動的に送る方法であって、
フィードガイドの下面とフラットベッドの上側表面によって画定されるギャップを妨げなく通して、シート媒体を案内することを含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月17日(2006.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ａ１）で表されるエポキシシランに、アクリル酸またはメタクリル酸を反応させて下記一般式（ａ）または（ａ’）で表されるシリコーンモノマーを合成する反応を、触媒を該エポキシシランに対して２５ｍｏｌ％以上、反応系において該触媒が溶解しうる量以下加えて行うことを特徴とするシリコーンモノマー製造方法。
【化１】
2004182724.tif 000001
【化２】
2004182724.tif 000002
（ここで、Ａはシロキサニル基を表す。Ｒ１は水素またはメチル基を表す。Ｘは置換されていてもよい炭素数１〜２０の２価の置換基を表す。）
【請求項２】
前記触媒が、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子を含むものである請求項１記載のシリコーンモノマー製造方法。
【請求項３】
前記触媒が、（メタ）アクリル酸アルカリ金属塩である請求項１記載のシリコーンモノマー製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は下記の構成を有する。
（１）下記一般式（ａ１）で表されるエポキシシランに、アクリル酸またはメタクリル酸を反応させて下記一般式（ａ）または（ａ’）で表されるシリコーンモノマーを合成する反応を、触媒を該エポキシシランに対して２５ｍｏｌ％以上、反応系において該触媒が溶解しうる量以下加えて行うことを特徴とするシリコーンモノマー製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（２）前記触媒が、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子を含むものである上記（１）項記載のシリコーンモノマー製造方法。
（３）前記触媒が、（メタ）アクリル酸アルカリ金属塩である上記（１）項記載のシリコーンモノマー製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【化３】
2004182724.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
実施例２〜４
触媒およびその添加量を表１のようにかえて、上記実施例１と同様の方法で実験を行った。ＧＣ測定を行ったところ、表１のような結果が得られた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
比較例１〜６
触媒およびその添加量を表１のようにかえて、上記実施例１と同様の方法で実験を行った。ＧＣ測定を行ったところ、表１のような結果が得られた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【表１】
2004182724.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月21日(2007.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ステンレス鋼の旋削、並びに低及び中合金鋼及びステンレス鋼の湿式及び乾式フライス削りに特に有益な、焼結炭化物合金体及びコーティングを含む切削工具インサートであって、前記コーティングが複数層のコーティングを含み、この複数層コーティングの厚さが、７つの個々の層で２μｍ〜４１の個々の層で２０μｍまでであり、またこの複数層コーティングが、０．１〜０．４μｍの厚さのκ−Ａｌ2Ｏ3の層、及び０．３〜０．６μｍの厚さのＴｉＮ又はＴｉ（Ｃ，Ｎ）の層で構成されていること、並びに前記焼結炭化物合金体が、平均切片長さが０．５〜０．９μｍのＷＣ、９．０〜１０．９ｗｔ％のＣｏ、及びＴａとＮｂとの重量濃度の比が７．０〜１２．０の０．５〜２．５ｗｔ％のＴａＣ＋ＮｂＣ、及びＳ値が０．８１〜０．９２のバインダー相からなること、を特徴とする、焼結炭化物合金体及びコーティングを含む切削工具インサート。
【請求項２】  前記複数層コーティングの厚さが、２〜８μｍであり、このコーティングが３〜６の炭素でドープされたＴｉＮ層と４〜７のκ−Ａｌ2Ｏ3の層で構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の切削インサート。
【請求項３】  前記κ−Ａｌ2Ｏ3の複数層コーティングが、ＭＴＣＶＤ層に直接に堆積していることを特徴とする、請求項１又は２に記載の切削インサート。
【請求項４】  ＴｉＮ、ＴｉＣ、Ｔｉ（Ｃ，Ｏ）及び（Ｔｉ，Ａｌ）（Ｃ，Ｏ）の少なくとも１つを含む０．５〜２．０μｍの厚さの結合層が、前記κ−Ａｌ2Ｏ3の層と、前記ＴｉＮ又はＴｉ（Ｃ，Ｎ）の層の間に堆積していることを特徴とする、請求項１又は２に記載の切削インサート。
【請求項５】  前記複数層コーティング上部がＴｉＮ層であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の複数層コーティングを有する切削インサート。
【請求項６】  前記焼結炭化物合金の組成が、９．９〜１０．５ｗｔ％のＣｏ及び１．２〜１．８ｗｔ％のＴａＣ＋ＮｂＣであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の切削インサート。
【請求項７】  Ｓ値が０．８５〜０．８９であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の切削インサート。
【請求項８】  ＴａとＮｂの重量濃度比が１．０〜５．０であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の切削インサート。
【請求項９】  ２〜８μｍの、内側のＭＴＣＶＤによるＴｉ（Ｃ，Ｎ）の層を特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の切削インサート。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月10日(2007.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
ビーム・ブランクのウェブに相当する鋳片の長辺中央部とフランジに相当する鋳片外周の残りの部分をほぼ同等の圧下比（＝圧接後厚さ／圧接前実質厚さ）で圧接することを特徴とする請求項１に記載のビーム・ブランクの連続鋳造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
上記鋳造ビーム・ブランクにより鋼片のブレイク・ダウン工程が省略されるという効果が得られる。他方、特異な断面形状の故に表面割れ、内部割れ、中心偏析などの品質問題やブレイクアウト等の操業問題の克服が困難で、結果的に鋳込速度が上げられていない。その上断面積も相対的に小さいので鋳造能率は高々６０ｔ／時間程度である。スラブ状鋼片の８０〜１６０ｔ／時間に比較して不利という問題がある。鋳造の困難性からブランクの肉厚も通常９０ｍｍ以上であってこれが当該方法のニア・ネット・シェイピングの限度になっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【発明の効果】本発明によると製品形鋼に対して、従来よりも外形が近似し、従来よりも薄肉であり且つウェブ／フランジ肉厚比が近似したビーム・ブランクを容易に連続鋳造法によって製造することができる。鋳造能率は大きく、芯部欠陥が無く均質微細な組織により鍛錬比の制限も緩和されニア・ネット・シェイピングが大きく前進する。複雑な成形圧延工程が大幅に簡素化され、形鋼の連続圧延の可能性、鋳造・圧延一貫の可能性が大きくなる。