【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【化１】
2006016497.tif 000001
（式中、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ'は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｙは炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す。ｍは０〜４の整数であり、ｒは２〜４５０の整数である。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、一般式（１）で表されるヒドロキシ安息香酸類又はそのエステル化物と一般式（２）で表されるポリアルキレングリコールとの反応により、一般式（３）で表されるジエステルジオールと、一般式（４）で表される副生成物であるモノエステルジオールの混合物が得られる。上記一般式（１）、（３）及び（４）において、Ｒで示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。Ｒが複数ある場合、複数のＲは互いに同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ'のうちの低級アルキル基としては、メチル基、エチル基及びプロピル基などが挙げられる。
上記一般式（２）において、Ｙで示される炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基及びイソペンチレン基などのアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基及びイソペンチリデン基などのアルキリデン基が挙げられる。ｒは２〜２００であることが好ましく、より好ましくは６〜７０である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
エステル化率（ｍｏｌ％）＝［エステル基のα位プロトンの積分値
／（脂肪族ヒドロキシル基のα位プロトンの積分値＋エステル基のα位プロトンの積分値）］×１００
本発明において用いるジエステルジオール含有モノマーは、ヒドロキシ安息香酸類の含有量が０．０５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％以下である。ジエステルジオール含有モノマーからヒドロキシ安息香酸類を除く方法としては、ヒドロキシ安息香酸化合物類とジエステルジオールの水への溶解度の差を利用する方法が好ましい。この方法においては、温度、ｐＨ、攪拌条件、分離条件、溶剤等を適宜選択することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【化２】
2006016497.tif 000002
（式中、Ｒ、Ｙ、ｍ及びｒは上記と同じであり、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、ａ及びｂについては後述する。）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
で表される結合を示す。
上記一般式（Ｉａ）で表される二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称：ビスフェノールＡ］が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン；２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルネン；等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４’−ジヒドロキシフェニルエーテル；４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド；４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド；４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン；４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類、４，４’−ジヒロキシジフェニルなどのジヒドロキシジフェニル類、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン；９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンなどのジヒドロキシジアリールフルオレン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタンなどのジヒドロキシジアリールアダマンタン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノールなどが挙げられる。また、二価フェノールとして、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタエン、α，ω−ビスヒドロキシフェニルポリジメチルシロキサン化合物などを用いることもできる。これらの二価フェノールは、それぞれ��独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
分岐剤として、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール；α，α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−［α−メチル−α−（４’−ヒドロキシフェニル）エチル］−４−［α’，α’−ビス（４”−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン；フロログルシン，トリメリト酸，イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
製造例１（ジエステルジオール含有モノマーの合成）
窒素導入管、真空装置、温度計及び攪拌機を備えた容量１００ｍＬのフラスコに、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝２０００）２０ｇ（０．０１モル）とｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル２．３ｇ（０．０１５モル）とジブチル錫オキシド０．０１ｇを入れ、減圧、窒素による復圧を３回繰り返した後、撹拌しながら窒素中、２２０℃で４時間反応させた。冷却後、装置を開放し生成物を得た。この反応生成物（ジエステルジオール含有モノマー）のエステル化率は７２ｍｏｌ％であった。上記エステル化率は、1Ｈ−ＮＭＲによる測定結果から、下記計算式により算出した。
エステル化率（ｍｏｌ％）＝［エステル基のα位プロトンの積分値
／（脂肪族ヒドロキシル基のα位プロトンの積分値＋エステル基のα位プロトンの積分値）］×１００
ポリテトラメチレンエーテルグリコールのヒドロキシル基のα位プロトンは３．６ｐｐｍ、エステル基のα位プロトンは４．３ｐｐｍに観測された。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
製造例２〜６（ジエステルジオール含有モノマーの合成）
製造例１において、反応条件を表１に示す条件に変更した以外は製造例１と同様にして反応生成物を得た。得られた反応生成物（ジエステルジオール含有モノマー）のエステル化率を表１に示す。