【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、該静電チャックに接触部
にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置装置を備えるプラズマ処理装置
において、
前記フォーカスリングは、前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記
静電チャックに対向する導電体部とを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記誘電体部の厚みは、前記フォーカスリングの半径方向に関して一定であることを特
徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記誘電体部は、前記導電体部を成す材料の酸化物から成ることを特徴とする請求項１
又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記導電体部を成す材料は、シリコンであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれ
か１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記誘電体部を成す材料は二酸化珪素であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれ
か１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックに接触部にて接触するフォー
カスリングにおいて、
前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記静電チャックに対向する導
電体部とを有することを特徴とするフォーカスリング。
【請求項７】
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、該静電チャックに接触部
にて接触するフォーカスリングとを備えた被処理体の載置装置において、
前記フォーカスリングは、前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記
静電チャックに対向する導電体部とを有することを特徴とする被処理体の載置装置。
【請求項８】
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺にお
いて前記静電チャックに接触面にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置
装置を備えるプラズマ処理装置において、
前記接触面に配設され、熱媒体が充填される溝である熱伝達部と、チャック電圧を制御する制御部とを備え、
前記静電チャックは、前記フォーカスリングを載置し、前記チャック電圧が印加される電極を有し、前記電極に印加された前記チャック電圧に起因する静電吸着力によって前記フォーカスリングを吸着し、
前記熱伝達部は、前記フォーカスリングの熱交換を行い、
前記制御部は、エッチング工程を含む複数の工程からなる前記プラズマ処理の各工程に応じて前記チャック電圧を変更し、前記エッチング工程では高電圧を前記電極に印加することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記充填される熱媒体の圧力を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、前記プラズマ処理の各工程に応じて前記充填される熱媒体の圧力を変更することを特徴とする請求項８記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記電極は、前記フォーカスリングに対向するように前記静電チャックに内包されることを特徴とする請求項８記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記フォーカスリングが前記溝を有することを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記静電チャックが前記溝を有することを特徴とする請求項項８乃至１０のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】
前記溝の深さは０．１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】
前記溝における隅角部はＲ形状に成形されていることを特徴とする請求項８乃至１３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１５】
前記溝は、前記フォーカスリングと同心の環状を呈する少なくとも１つの溝から成るこ
とを特徴とする請求項８乃至１４のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１６】
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックに、前記被処理体の周辺にお
いて接触面にて接触するフォーカスリングにおいて、
熱媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有することを特徴とするフォーカスリン
グ。
【請求項１７】
プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺にお
いて前記静電チャックに接触面にて接触するフォーカスリングとを備える被処理体の載置
装置において、
熱媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有することを特徴とする被処理体の載置
装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記目的を達成するために、請求項８記載のプラズマ処理装置は、プラズマ処理が施さ
れる被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺において前記静電チャック
に接触面にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置装置を備えるプラズマ
処理装置において、プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺において前記静電チャックに接触面にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置装置を備えるプラズマ処理装置において、前記接触面に配設され、熱媒体が充填される溝である熱伝達部と、チャック電圧を制御する制御部とを備え、前記静電チャックは、前記フォーカスリングを載置し、前記チャック電圧が印加される電極を有し、前記電極に印加された前記チャック電圧に起因する静電吸着力によって前記フォーカスリングを吸着し、前記熱伝達部は、前記フォーカスリングの熱交換を行い、前記制御部は、エッチング工程を含む複数の工程からなる前記プラズマ処理の各工程に応じて前記チャック電圧を変更し、前記エッチング工程では高電圧を前記電極に印加することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項９記載のプラズマ処理装置は、請求項８記載のプラズマ処理装置において、前記
充填される熱媒体の圧力を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、前記プラズマ処理の各工程に応じて前記充填される熱媒体の圧力を変更することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項１０記載のプラズマ処理装置は、請求項８記載のプラズマ処理装置において、前記電極は、前記フォーカスリングに対向するように前記静電チャックに内包されることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
請求項１１記載のプラズマ処理装置は、請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置において、前記フォーカスリングが前記溝を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
請求項１２記載のプラズマ処理装置は、請求項８乃至１０のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置において、前記静電チャックが前記溝を有することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
請求項１３記載のプラズマ処理装置は、請求項８乃至１２のいずれか１項に記載のプ
ラズマ処理装置において、前記溝の深さは０．１ｍｍ以上であることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
請求項１４記載のプラズマ処理装置は、請求項８乃至１３のいずれか１項に記載のプ
ラズマ処理装置において、前記溝における隅角部はＲ形状に成形されていることを特徴と
する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項１５記載のプラズマ処理装置は、請求項８乃至１４のいずれか１項に記載のプ
ラズマ処理装置において、前記溝は、前記フォーカスリングと同心の環状を呈する少なく
とも１つの溝から成ることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
上記目的を達成するために、請求項１６記載のフォーカスリングは、プラズマ処理が施
される被処理体を載置する静電チャックに、前記被処理体の周辺において接触面にて接触
するフォーカスリングにおいて、熱媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有するこ
とを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
上記目的を達成するために、請求項１７記載の被処理体の載置装置は、プラズマ処理が
施される被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺において前記静電チャ
ックに接触面にて接触するフォーカスリングとを備える被処理体の載置装置において、熱
媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有することを特徴とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
請求項８記載のプラズマ処理装置によれば、接触面に配設され、熱媒体が充填される溝である熱伝達部を有し、該熱伝達部はフォーカスリングの熱交換を行うので、静電チャック及びフォーカスリングの間に冷却ユニットを必要とせず、また、熱媒体を静電チャック及びフォーカスリングの間において十分拡散させることができ、その結果、静電チャックとフォーカスリングと間の熱伝達性を十分に改善でき、これにより、コストの上昇を防止すると共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善することができる。また、制御部は、エッチング工程を含む複数の工程からなるプラズマ処理の各工程に応じて電極に印加される電圧を変更するので、プラズマ発生のための高周波電圧が工程毎に変化しても、高周波電圧の変化に応じてフォーカスリングと静電チャックとの熱伝達能力を変化させることができ、フォーカスリングの冷却を安定して行うことができる。したがって、被処理体におけるエッチング特性の局所的な悪化の発生を防止できる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
請求項１１記載のプラズマ処理装置によれば、フォーカスリングが溝を有するので、フ
ォーカスリングと熱媒体との接触面積を増加させることができると共に、フォーカスリン
グの剛性を適度に低下させることによってフォーカスリングを静電チャックの形状に倣っ
て変形させることができ、これにより、静電チャック及びフォーカスリングの密着度を向
上させることができる。その結果、フォーカスリングの冷却効率をさらに飛躍的に改善す
ることができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
請求項１２記載のプラズマ処理装置によれば、静電チャックが溝を有するので、フォー
カスリングにおいて溝を形成する必要が無く、これにより、フォーカスリングのイニシャ
ルコストを低減することができ、もって、コストの上昇を防止することができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
請求項１３記載のプラズマ処理装置によれば、溝の深さは０．１ｍｍ以上であるので、
コンダクタンスを大きくすることができ、もって熱媒体の迅速な溝への充填を行うことが
でき、その結果、フォーカスリングの冷却効率を著しく改善することができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
請求項１４記載のプラズマ処理装置によれば、溝における隅角部はＲ形状に成形されて
いるので、溝における亀裂の発生を防止することができ、もって、フォーカスリングの耐
久性を向上することができ、その結果、メンテナンスコストの上昇を防止することができ
る。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
請求項１５記載のプラズマ処理装置によれば、溝は、フォーカスリングと同心の環状を
呈する少なくとも１つの溝から成るので、フォーカスリング及び静電チャックの接触面に
おいて熱媒体を均等に拡散させることができ、もってフォーカスリングを均等に冷却する
ことができる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
請求項１６記載のフォーカスリングによれば、熱媒体が充填される熱伝達部を接触面に
有するので、静電チャック及びフォーカスリングの間に冷却ユニットを必要とせず、また
、熱媒体を静電チャック及びフォーカスリングの間において十分拡散させることができ、
その結果、静電チャックとフォーカスリングと間の熱伝達性を十分に改善でき、これによ
り、コストの上昇を防止すると共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善するこ
とができる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
請求項１７記載の被処理体の載置装置によれば、熱媒体が充填される熱伝達部を接触面
に有するので、静電チャック及びフォーカスリングの間に冷却ユニットを必要とせず、ま
た、熱媒体を静電チャック及びフォーカスリングの間において十分拡散させることができ
、その結果、静電チャックとフォーカスリングと間の熱伝達性を十分に改善でき、これに
より、コストの上昇を防止すると共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善する
ことができる。