Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月10日(2019.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレス通信のための装置であって、
トランシーバと、
第1の周波数範囲における通信をサポートするように構成された第1の1次アンテナと、
前記第1の周波数範囲とは異なる第2の周波数範囲における通信をサポートするように構成された第2の1次アンテナであって、前記第2の周波数範囲が前記第1の周波数範囲に部分的に重なる、第2の1次アンテナと、
前記トランシーバに結合され、前記第1の1次アンテナを介した前記第1の周波数範囲にある第1のバンド幅にわたる送信のみのために1つまたは複数の第1の信号を処理するように構成された第1の回路ブロックと、
前記トランシーバに結合され、前記第2の1次アンテナを介した前記第2の周波数範囲にある第2のバンド幅にわたる受信のみのために1つまたは複数の第2の信号を処理するように構成された第2の回路ブロックであって、前記第2のバンド幅が前記第1のバンド幅に少なくとも部分的に重なる、第2の回路ブロックと
を備える、装置。
【請求項２】
前記第1のバンド幅が前記第2のバンド幅に等しい、請求項1に記載の装置。
【請求項３】
前記第1の回路ブロックまたは前記第2の回路ブロックのうちの少なくとも1つが、それぞれ、前記第1のバンド幅または前記第2のバンド幅のうちの少なくとも1つにおける複数の構成要素キャリアを使用したキャリアアグリゲーションをサポートする、請求項1に記載の装置。
【請求項４】
前記第1のバンド幅が、前記送信のために3つの構成要素キャリアを備え、
前記第1の回路ブロックが、前記3つの構成要素キャリアを使用したキャリアアグリゲーションに基づく前記送信のために前記1つまたは複数の第1の信号を処理するように構成されたトリプレクサを備える、または、
前記第2のバンド幅が、前記受信のために3つの構成要素キャリアを備え、
前記第2の回路ブロックが、前記3つの構成要素キャリアを使用したキャリアアグリゲーションに基づく前記受信のために前記1つまたは複数の第2の信号を処理するように構成されたトリプレクサを備える、
請求項1に記載の装置。
【請求項５】
前記トランシーバに結合され、前記第1の1次アンテナを介した第3のバンド幅にわたる送信または受信のうちの少なくとも1つのために1つまたは複数の第3の信号を処理するように構成された第3の回路ブロックであって、前記第3のバンド幅が前記第1のバンド幅の周波数よりも低い周波数を有する、第3の回路ブロックと、
前記トランシーバに結合され、前記第2の1次アンテナを介した第4のバンド幅にわたる送信または受信のうちの少なくとも1つのために1つまたは複数の第4の信号を処理するように構成された第4の回路ブロックであって、前記第4のバンド幅が前記第2のバンド幅の周波数よりも高い周波数を有する、第4の回路ブロックと
をさらに備える、請求項1に記載の装置。
【請求項６】
前記第3の回路ブロックまたは前記第4の回路ブロックのうちの少なくとも1つが、それぞれ、前記第3のバンド幅または前記第4のバンド幅のうちの少なくとも1つにおける複数の構成要素キャリアを使用したキャリアアグリゲーションをサポートする、請求項5に記載の装置。
【請求項７】
前記第1の1次アンテナに結合され、前記第1の回路ブロックおよび前記第3の回路ブロックを前記第1の1次アンテナとインターフェース接続するように構成された第1のダイプレクサと、
前記第2の1次アンテナに結合され、前記第2の回路ブロックおよび前記第4の回路ブロックを前記第2の1次アンテナとインターフェース接続するように構成された第2のダイプレクサと
をさらに備える、請求項5に記載の装置。
【請求項８】
前記第3のバンド幅が、前記送信または前記受信のうちの少なくとも1つのために2つの構成要素キャリアを備え、
前記第3の回路ブロックが、前記2つの構成要素キャリアを使用したキャリアアグリゲーションに基づく前記送信または前記受信のうちの前記少なくとも1つのために前記1つまたは複数の第3の信号を処理するように構成されたクアッドプレクサを備える、
請求項5に記載の装置。
【請求項９】
前記第4の回路ブロックが、
前記第4のバンド幅にわたる送信または受信のうちの少なくとも1つのために構成された1つまたは複数のフィルタと、
前記第4のバンド幅内で、前記送信または前記受信のうちの前記少なくとも1つを、超高周波数バンド(UHB)ベースの通信からロングタームエボリューション/アンライセンスト(LTEU)時分割複信(TDD)ベースの通信に切り替えるように構成されたスイッチング回路と
を備える、請求項5に記載の装置。
【請求項１０】
前記第4の回路ブロックが、前記第4のバンド幅のバンドにわたる前記LTEU TDDベースの通信と前記UHBベースの通信とを分割するように構成された1つまたは複数の受動デュプレクサをさらに備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１１】
前記第1の1次アンテナが前記装置の第1の側に配置され、前記第2の1次アンテナが、前記第1の側とは反対の前記装置の第2の側に配置される、請求項1に記載の装置。
【請求項１２】
前記第1の1次アンテナおよび前記第2の1次アンテナが、異なるサイズを有する、請求項1に記載の装置。
【請求項１３】
前記第1の周波数範囲における通信をサポートするように構成された第1の2次アンテナと、
前記第2の周波数範囲における通信をサポートするように構成された第2の2次アンテナと、
前記トランシーバに結合されるとともに前記第1の2次アンテナを介した前記第1のバンド幅にわたる送信のために1つまたは複数の第3の信号を処理するように構成された前記第1の回路ブロックを複製する第3の回路ブロックと、
前記トランシーバに結合されるとともに前記第2の2次アンテナを介した前記第2のバンド幅にわたる受信のために1つまたは複数の第4の信号を処理するように構成された前記第2の回路ブロックを複製する第4の回路ブロックと
をさらに備える、請求項1に記載の装置。
【請求項１４】
ワイヤレス通信のための方法であって、
トランシーバに結合された第1の回路ブロックによって、第1の周波数範囲における通信をサポートするように構成された第1の1次アンテナを介した前記第1の周波数範囲にある第1のバンド幅にわたる送信のみのために1つまたは複数の第1の信号を処理するステップと、
前記トランシーバに結合された第2の回路ブロックによって、前記第1の周波数範囲とは異なる第2の周波数範囲における通信をサポートするように構成された第2の1次アンテナを介した前記第2の周波数範囲にある第2のバンド幅にわたる受信のみのために1つまたは複数の第2の信号を処理するステップであって、前記第2の周波数範囲が前記第1の周波数範囲と部分的に重なり、前記第2のバンド幅が前記第1のバンド幅と少なくとも部分的に重なる、ステップと
を備える、方法。
【請求項１５】
前記第1および第2のバンド幅が、1400MHzから2800MHzの間の範囲にある、請求項14に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月3日(2019.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に酸化ケイ素層を選択的に形成する方法であって、
基板の表面上にパターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積することを含み、
前記パターン形成された特徴は、前記パターン形成された特徴の底部に堆積面及び一又は複数の側壁を含み、前記側壁の各々はベース及びキャップを有し、前記キャップは窒化ケイ素を含み、前記ベースは酸化ケイ素を含み、前記キャップの第１の表面積は、前記側壁の表面積の少なくとも３分の１であり、前記ベースの第２の表面積は、前記側壁の表面積の少なくとも一部であり、
前記堆積面は基本的にシリコンからなり、且つ、
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層は、前記パターン形成された特徴をオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）及びオゾンに曝露することによって前記堆積面上に形成され、前記選択的に堆積された酸化ケイ素層が前記ベース及び前記キャップに隣接するように、前記パターン形成された特徴を前記パターン形成された特徴の前記底部から充填する、方法。
【請求項２】
前記パターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積した後、前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をアニールすることを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をアニールした後、前記酸化ケイ素層を湿式エッチングすることを更に含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記オゾンは質量で１０％から１８％の割合で処理チャンバに流れ込む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
動作中の処理チャンバ内の圧力は、２００Ｔｏｒｒから７００Ｔｏｒｒの間である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
パターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積する前に、前記パターン形成された特徴に窒素含有プラズマを曝露することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記パターン形成された特徴に窒素含有プラズマを曝露することは、窒素含有プラズマから形成されたイオンビームで前記パターン形成された特徴を指向性処理することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
基板上に酸化ケイ素層を選択的に形成する方法であって、
基板の表面上にパターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積することを含み、
前記パターン形成された特徴は、前記パターン形成された特徴の底部に堆積面及び一又は複数の側壁を含み、前記側壁の各々はベース及びキャップを有し、前記キャップは窒化ケイ素を含み、前記ベースは酸化ケイ素を含み、
前記堆積面は基本的にシリコンからなり、また、
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層は、
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層が前記ベース及び前記キャップに隣接するように、前記パターン形成された特徴を前記パターン形成された特徴の前記底部から充填するために、前記パターン形成された特徴の上にオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）及びオゾンを流すことと、
前記パターン形成された特徴の前記選択的に堆積された酸化ケイ素層が前記キャップから優先的にエッチングされて、前記ベースに沿った前記選択的に堆積された酸化ケイ素層がそのまま残るように、前記パターン形成された特徴を充填した後に、前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をエッチングすることと、
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をエッチングした後に、前記パターン形成された特徴の上にオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）及びオゾンを流すことを反復することと
によって前記堆積面上に形成される、方法。
【請求項９】
前記基板の表面にパターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積した後、前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をアニールすることを更に含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をアニールした後、前記酸化ケイ素層を湿式エッチングすることを更に含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記オゾンは質量で１０％から１８％の割合で処理チャンバに流れ込む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
動作中の処理チャンバ内の圧力は、２００Ｔｏｒｒから７００Ｔｏｒｒの間である、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
基板の表面上にパターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積する前に、前記パターン形成された特徴の上に窒素含有プラズマを流すことを更に含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記パターン形成された特徴の上に窒素含有プラズマを流すことは、窒素含有プラズマで前記パターン形成された特徴を指向性処理することを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
基板上に酸化ケイ素層を選択的に形成する方法であって、
基板の表面上にパターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積することを含み、
前記パターン形成された特徴は、前記パターン形成された特徴の底部に堆積面及び一又は複数の側壁を含み、前記側壁の各々はベース及びキャップを有し、
前記一又は複数の側壁のキャップは窒化ケイ素を含み、前記ベースは酸化ケイ素を含み、
前記キャップの第１の表面積は、前記側壁の表面積の少なくとも３分の１を含み、前記ベースの第２の表面積は、前記側壁の表面積の少なくとも一部であり、
前記堆積面は基本的にシリコンからなり、
前記選択的に堆積された酸化ケイ素層は、前記パターン形成された特徴の上にオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）及びオゾンを流すことによって前記堆積面上に形成され、
前記方法は更に、
前記基板の表面上にパターン形成された特徴内に酸化ケイ素層を選択的に堆積した後、前記選択的に堆積された酸化ケイ素層をアニールすることを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月24日(2019.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレス通信のための方法であって、
各々が異なる空間ストリームに割り当てられる複数の直交トレーニングフィールドシーケンスを有するフレームを生成するステップと、
シングルユーザ(SU)送信、マルチユーザ(MU)多入力多出力(MIMO)送信、または直交周波数分割多元接続(OFDMA)送信としての送信のために前記フレームを出力するステップとを含み、
前記フレームは、Nss個の空間ストリームを含み、前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、Nss個よりも少ない数の直交トレーニングフィールドシーケンスを含む方法。
【請求項２】
前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、
前記Nss個の空間ストリームのうちの第1のストリームに関する第1の直交トレーニングフィールドシーケンスと、
前記Nss個の空間ストリームのうちの残りのストリームに関する第2の直交トレーニングフィールドシーケンスとを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
ワイヤレス通信のための方法であって、
各々が異なる空間ストリームに割り当てられる複数の直交トレーニングフィールドシーケンスを有するフレームを取得するステップであって、前記フレームが、シングルユーザ(SU)送信、マルチユーザ(MU)多入力多出力(MIMO)送信、または直交周波数分割多元接続(OFDMA)送信を介して取得される、ステップと、
前記トレーニングフィールドシーケンスに基づいてチャネル推定または位相追跡の少なくとも一方を実行するステップとを含み、
前記フレームは、Nss個の空間ストリームを含み、前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、Nss個よりも少ない数の直交トレーニングフィールドシーケンスを含む方法。
【請求項４】
前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、
前記Nss個の空間ストリームのうちの第1のストリームに関する第1の直交トレーニングフィールドシーケンスと、
前記Nss個の空間ストリームのうちの残りのストリームに関する第2の直交トレーニングフィールドシーケンスとを含む、請求項3に記載の方法。
【請求項５】
ワイヤレス通信のための装置であって、
各々が異なる空間ストリームに割り当てられる複数の直交トレーニングフィールドシーケンスを有するフレームを生成するための手段と、
シングルユーザ(SU)送信、マルチユーザ(MU)多入力多出力(MIMO)送信、または直交周波数分割多元接続(OFDMA)送信としての送信のために前記フレームを出力するための手段とを備え、
前記フレームは、Nss個の空間ストリームを含み、前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、Nss個よりも少ない数の直交トレーニングフィールドシーケンスを含む装置。
【請求項６】
前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、
前記Nss個の空間ストリームのうちの第1のストリームに関する第1の直交トレーニングフィールドシーケンスと、
前記Nss個の空間ストリームのうちの残りのストリームに関する第2の直交トレーニングフィールドシーケンスとを含む、請求項5に記載の装置。
【請求項７】
ワイヤレス通信のための装置であって、
各々が異なる空間ストリームに割り当てられる複数の直交トレーニングフィールドシーケンスを有するフレームを取得するための手段であって、前記フレームが、シングルユーザ(SU)送信、マルチユーザ(MU)多入力多出力(MIMO)送信、または直交周波数分割多元接続(OFDMA)送信を介して取得される手段と、
前記トレーニングフィールドシーケンスに基づいてチャネル推定または位相追跡の少なくとも一方を実行するための手段とを備え、
前記フレームは、Nss個の空間ストリームを含み、前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、Nss個よりも少ない数の直交トレーニングフィールドシーケンスを含む装置。
【請求項８】
前記直交トレーニングフィールドシーケンスは、
前記Nss個の空間ストリームのうちの第1のストリームに関する第1の直交トレーニングフィールドシーケンスと、
前記Nss個の空間ストリームのうちの残りのストリームに関する第2の直交トレーニングフィールドシーケンスとを含む、請求項7に記載の装置。
【請求項９】
請求項1から2または3から4のいずれか一項に記載の方法を実施するための命令を含む、コンピュータプロログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月9日(2019.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電子モジュールであって、
光を出射するように動作可能なエミッタと、
前記エミッタによって出射された光を用いて前記光電子モジュール外側の対象物を照明するように、前記エミッタと位置合わせられたエミッタ光学組立体と、
前記エミッタによって出射された１つ以上の波長の光を検出するように動作可能な検出器と、
前記対象物によって反射された光を前記検出器に導くように、前記検出器と位置合わせられた検出器光学組立体とを含み、
前記エミッタ光学組立体および前記エミッタは、前記検出器の線形光電流応答を拡大またはシフトするように動作可能であり、
前記検出器によって検出された前記線形光電流応答は、前記光電子モジュールと前記対象物との間の距離に相関させられる、光電子モジュール。
【請求項２】
前記エミッタ光学組立体は、アナモフィックレンズ素子を含み、
前記光学組立体および前記エミッタは、エミッタ視界を前記検出器に向かって偏向させるように動作可能である、請求項１に記載の光電子モジュール。
【請求項３】
前記光学組立体および前記エミッタは、横方向に変化する強度を有する照明光を前記対象物に投光するように動作可能である、請求項１に記載の光電子モジュール。
【請求項４】
前記エミッタ光学組立体は、離散的照明特徴を有する照明光を投光するように動作可能な光学素子を含む、請求項１に記載の光電子モジュール。
【請求項５】
前記光学素子は、回折光学素子を含む、請求項４に記載の光電子モジュール。
【請求項６】
前記離散的照明特徴の各々は、前記検出器によって検出される段階状の光電流応答を生成するように動作可能である、請求項４に記載の光電子モジュール。
【請求項７】
前記離散的照明特徴の少なくとも１つは、前記離散的照明特徴のうち別の照明特徴と異なる強度を有する、請求項４に記載の光電子モジュール。
【請求項８】
前記光電子モジュールから前記対象物に投光された照明光は、幾何学的形状または一連の形状を含む、請求項１に記載の光電子モジュール。
【請求項９】
光電子モジュールであって、
光を出射するように動作可能なエミッタと、
前記エミッタによって出射された光を用いて前記光電子モジュール外側の対象物を照明するように、前記エミッタと位置合わせられたエミッタ光学組立体と、
前記エミッタによって出射された１つ以上の波長の光を検出するように動作可能な検出器と、
前記対象物によって反射された光を前記検出器に導くように、前記検出器と位置合わせられた検出器光学組立体とを含み、
前記光電子モジュールは、第１モードおよび第２モードで動作可能であり、
前記第１モードにおいて、エミッタ視界と検出器視界との横向重なり部の増加は、前記対象物から反射され且つ前記検出器によって収集された光の強度の増加をもたらし、前記検出器の光電流応答は、前記光電子モジュールと前記対象物との間の距離に相関させられ、
前記第２モードにおいて、前記検出器は、前記対象物から反射された光に基づいて位相シフトを検出し、前記位相シフトは、前記光電子モジュールと前記対象物との間の距離に相関させられる、光電子モジュール。
【請求項１０】
前記光電子モジュールと前記対象物との間の距離が前記検出器の光電流応答の線形領域に相関させられた場合、前記光電子モジュールは、前記第１モードで動作し、
前記光電子モジュールと前記対象物との間の距離が前記検出器の光電流応答の非線形領域に相関させられた場合、前記光電子モジュールは、前記第２モードで動作する、請求項９に記載の光電子モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
エミッタ８０１および検出器８０２は、スペーサ８０４によって横方向に囲まれることができる。スペーサ８０４は、スペーサ８０４は、エミッタ８０１によって出射されおよび／または検出器８０２によって検出可能な波長の光に対して実質的に非透過である。スペーサ８０４は、例えば、射出成形、真空射出成形または他の複製プロセスによって、硬化性ポリマー材料（例えば、エポキシ）から製造することができ、実質的に不透明な充填材および／または低熱膨張充填材（例えば、カーボンブラックおよび／または無機充填材）をさらに含むことができる。また、スペーサ８０４は、実質的に不透明なウエハ（例えば、ＰＣＢガラス繊維ラミネート）から製造することができる。光電子モジュール８００は、エミッタ８０１と位置合わせられたエミッタ光学組立体８０５と、検出器８０２と位置合わせられた検出器光学組立体８０６とをさらに含む。光学組立体８０５および８０６の各々は、回折格子、マイクロレンズアレイ、レンズ、アナモフィックレンズ、プリズム、マイクロプリズムアレイおよび回折光学素子を含む光学素子のうち１つ、複数またはそれらの組み合わせを含むことができる。光学組立体８０５および８０６内の光学素子は、射出成形、真空射出成形または他の複製プロセスによって、硬化性ポリマー材料（例えば、エポキシ）から製造することができる。光学組立体８０５および８０６の各々は、絞り、フィルタ、スペーサ、位置合わせ機構、および対応の機能に関連する他の要素をさらに含むことができる。光学組立体８０５および８０６は、スペーサ８０４に設けられまたは一体化されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月25日(2019.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サイズが２マイクロメートルを超え、かつ６マイクロメートル未満の小さな体性幹細胞であり、かつ、ＣＤ３４９（＋）体性幹細胞とＬｇｒ５（＋）体性幹細胞を含む小さな体性幹細胞、を有効量含有する、レシピエント被験体におけるヒストンデアセチラーゼ活性を低減するための注射用組成物。
【請求項２】
前記レシピエント被験体におけるヒストンデアセチラーゼ活性が前記組成物の投与前に測定される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記レシピエント被験体におけるヒストンデアセチラーゼ活性が前記組成物の投与の後に測定される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記レシピエント被験体におけるヒストンデアセチラーゼ活性が前記組成物の投与の前後に測定される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記レシピエント被験体から得られた末梢血サンプル中の有核細胞においてヒストンデアセチラーゼ活性が測定される、請求項２〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物が、１０００万個〜５億個の前記小さな体性幹細胞を含有する、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物が、二価カチオンキレート剤を含有する、請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
血液サンプルと二価カチオンキレート剤とを含有する混合物を準備することと、
２℃〜１２℃の温度にて３時間〜７２時間、前記混合物を保存することにより、上層と下層とに該混合物を分離すること（ここで、上層が前記小さな体性幹細胞を含有する）と、
前記上層を回収することにより、前記注射溶液を調製することと、
を含む手順によって注射溶液が調製される、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
前記血液サンプルを前記レシピエント被験体又はドナー被験体から得る、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記血液サンプルを得る前に、前記レシピエント被験体又はドナー被験体に対して幹細胞数を増やす操作が実施される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記操作が、フコイダン又は顆粒球−コロニー刺激因子の投与である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記血液サンプル１ミリリットル当たり１．５ｍｇ〜２．０ｍｇの二価カチオンキレート剤が該血液サンプルに添加され、前記混合物が得られる、請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
前記二価カチオンキレート剤がエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記注射溶液を調製する手順が、前記上層を回収した後に、回収した上層に薬学的に許容可能な賦形剤を添加することを更に含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１５】
前記薬学的に許容可能な賦形剤が生理食塩溶液である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記小さな体性幹細胞には、ＣＤ１３３（＋）細胞と、ＣＤ３４（＋）細胞と、ＣＤ６６ｅ（＋）細胞とが含まれている、請求項１〜１５のいずれかに記載の組成物。
【請求項１７】
前記レシピエント被験体が、自己免疫障害、糖尿病、癌、神経変性障害、又はウイルス感染症を患っている、請求項１〜１６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１８】
前記レシピエント被験体が、認知症、パーキンソン病、関節炎、強直性脊椎炎、又は糖尿病を患っている、請求項１〜１７のいずれかに記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月24日(2019.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア；
銅含有粒子；及び
チオシアン酸ナトリウム
を含む、無色材料であって、
上記材料は、ＣＩＥ  Ｌ＊ａ＊ｂ＊系において、約９１〜約１００のＬ＊値、及び約７未満のＣ＊値を示し、Ｃ＊は√（ａ＊２＋ｂ＊２）に等しく、
上記材料は、殺菌剤試験条件としての銅合金の効力に関するＥＰＡ試験法の下で、黄色ブドウ球菌の濃度の対数減少値３超を示す、無色材料。
【請求項２】
上記銅含有粒子は銅含有ガラスを含む、請求項１に記載の材料。
【請求項３】
上記銅含有粒子は酸化第一銅を含む、請求項１に記載の材料。
【請求項４】
上記銅含有粒子は、上記キャリア１ガロン（３．７８５４１２ｌ）あたり約２００ｇの量で存在する、請求項１〜３のいずれか１つに記載の材料。
【請求項５】
上記キャリアは、ポリマー、モノマー、バインダ又は溶媒を含む、請求項１〜５のいずれか１つに記載の材料。
【請求項６】
上記銅含有ガラスは、複数のＣｕ１＋イオンを含み、かつＢ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５及びＲ２Ｏのうちの少なくとも１つを含む、赤銅鉱相を含む、請求項２に記載の材料。
【請求項７】
ガラス相を更に含み、
上記ガラス相は、４０モル％超のＳｉＯ２を含む、請求項６に記載の材料。
【請求項８】
上記赤銅鉱相は、上記ガラス相中に分散される、請求項７に記載の材料。
【請求項９】
キャリア；
銅含有粒子；及び
二酸化チタン
を含む、無色材料であって、
上記材料をある表面に層として塗布し、１０分以上乾燥させた後、上記層は、ＣＩＥ  Ｌ＊ａ＊ｂ＊系において、約９１〜約１００のＬ＊値、及び約７未満のＣ＊値を示し、Ｃ＊は√（ａ＊２＋ｂ＊２）に等しく、
上記材料は、殺菌剤試験条件としての銅合金の効力に関するＥＰＡ試験法の下で、黄色ブドウ球菌の濃度の対数減少値３超を示す、無色材料。
【請求項１０】
上記銅含有粒子は銅含有ガラスを含む、請求項９に記載の材料。
【請求項１１】
上記銅含有粒子は酸化第一銅を含む、請求項９に記載の材料。
【請求項１２】
上記銅含有粒子は、上記約２００ｇ／ガロン（５２．８３４４０７５ｇ／ｌ）の量で存在する、請求項９〜１１のいずれか１つに記載の材料。
【請求項１３】
上記二酸化チタンは、約５重量％以下の量で存在する、請求項９〜１２のいずれか１つに記載の材料。
【請求項１４】
上記キャリアは、ポリマー、モノマー、バインダ又は溶媒を含む、請求項９〜１３のいずれか１つに記載の材料。
【請求項１５】
上記キャリアは塗料を含む、請求項９〜１４のいずれか１つに記載の材料。
【請求項１６】
上記銅含有ガラスは、複数のＣｕ１＋イオンを含み、かつＢ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５及びＲ２Ｏのうちの少なくとも１つを含む、赤銅鉱相を含む、請求項１０に記載の材料。
【請求項１７】
上記４０モル％超のＳｉＯ２を含むガラス相を更に含む、請求項１６に記載の材料。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月31日(2019.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の抗原結合ドメイン（「ＡＢＤ」）と、第２のＡＢＤと、ヒトＣＤ１６Ａに結合することができるＦｃポリペプチド又はその一部とを含む多重特異的抗原結合タンパク質であって、前記第１又は第２のＡＢＤの一方がヒトＮＫｐ４６ポリペプチドに結合し、且つ他方が目的の抗原に結合し、前記多重特異的タンパク質が一価で前記ＮＫｐ４６ポリペプチドに結合し、且つ前記多重特異的タンパク質が、ＮＫｐ４６発現ＮＫ細胞を誘導して、前記目的の抗原を発現する標的細胞を溶解させることができ、前記標的細胞の前記溶解がＮＫｐ４６シグナル伝達によって媒介される、多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項２】
前記標的細胞の溶解が、ＮＫｐ４６シグナル伝達と、ＣＤ１６に媒介される抗体依存性細胞介在性細胞傷害（「ＡＤＣＣ」）との組み合わせによって媒介される、請求項１に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項３】
ＮＫ細胞上でのＣＤ１３７発現を上方制御する、請求項１〜２のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項４】
Ｆｃポリペプチドが、対応する野生型Ｆｃ領域と比べてＣＤ１６Ａ結合を増強する少なくとも１つの改変を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項５】
ヘテロ二量体又はヘテロ三量体タンパク質である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項６】
各抗原結合ドメインがＶＨ及び／又はＶＬドメインを含み、Ｆｃドメインが二量体Ｆｃドメインである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項７】
ポリペプチドが、表面プラズモン共鳴によって決定された場合に、１０−７Ｍ未満のＮＫｐ４６に対するＫＤ（一価結合親和性）を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項８】
抗原結合部位の少なくとも１つが、従来のヒトＩｇＧ１抗体における抗原結合部位と比較してより大きい鎖内ドメイン運動を有するように構成されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項９】
少なくとも１つのポリペプチド鎖を含み、前記少なくとも１つのポリペプチド鎖が、可撓性リンカーによって、任意選択により可撓性ポリペプチドリンカーによって定常ドメイン又はＦｃドメインに結合された抗原結合ドメインを含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項１０】
前記Ｆｃドメインが、アミノ酸残基Ｎ２９７（Ｋａｂａｔ  ＥＵ付番）においてＮ連結グリコシル化を含む二量体Ｆｃドメインである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項１１】
表面上で固定されて、Ｂｉａｃｏｒｅを使用する表面プラズモン共鳴によって決定された場合に、２０００ｎＭ以下、任意選択により１３００ｎＭ以下、任意選択により１１００ｎＭ以下である一価結合に対するＫＤで可溶性ヒトＣＤ１６に結合する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項１２】
前記目的の抗原が癌抗原である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項１３】
ＮＫｐ４６ポリペプチドへの結合に関してモノクローナル抗体ＮＫｐ４６−１、ＮＫｐ４６−２、ＮＫｐ４６−３、ＮＫｐ４６−４、ＮＫｐ４６−６の任意の１つ又は任意の組み合わせと競合する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項１４】
多重特異的抗原結合タンパク質が、野生型ＮＫｐ４６への結合と比較して変異型ＮＫｐ４６ポリペプチドへの減少した結合を有し、変異型ＮＫｐ４６ポリペプチドが、
ａ．野生型ＮＫｐ４６への結合と比較して残基Ｒ１０１、Ｖ１０２、Ｅ１０４及びＬ１０５での変異を有する変異型ＮＫｐ４６ポリペプチド、
ｂ．前記野生型ＮＫｐ４６への結合と比較して残基Ｋ４１、Ｅ４２、Ｅ１１９、Ｙ１２１及びＹ１９４の任意の１つ以上での変異を有する変異型ＮＫｐ４６ポリペプチド、及び
ｃ．前記野生型ＮＫｐ４６への結合と比較して残基Ｐ１３２、Ｅ１３３、Ｉ１３５及びＳ１３６の任意の１つ以上での変異を有する変異型ＮＫｐ４６ポリペプチド
からなる群から選択される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質。
【請求項１５】
癌の処置のための、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の多重特異的抗原結合タンパク質の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年11月12日(2019.11.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（１２３４ｙｆ）を調製するための統合されたプロセスであって、
（ａ）フッ素化反応器中で３，３，３−トリフルオロ−２−クロロ−プロパ−１−エン（ＣＦ３ＣＣｌ＝ＣＨ２、１２３３ｘｆ）を含む第１の組成物をフッ化水素（ＨＦ）で気相触媒フッ素化して、１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（２４５ｃｂ）、ＨＦ、及びＨＣｌを含むフッ素化生成物流を生成することと、
（ｂ）脱フッ化水素化反応器中で２４５ｃｂを含む第２の組成物を気相触媒脱フッ化水素化して、１２３４ｙｆ及びＨＦを含む脱フッ化水素化生成物流を生成することと、
前記フッ素化生成物流と前記脱フッ化水素化生成物流を合流させ、（ｃ）精製を施して、２４５ｃｂ及び１２３４ｙｆの生成物流を含む組成物を生成することと、を含み、前記精製工程（ｃ）が、蒸留工程を含み、ここで、２４５ｃｂ、１２３４ｙｆ、任意の１２３４ｚｅ（Ｅ）、及び一部のＨＦを含む、軽質留分が蒸留されて、ＨＦの大部分及び未反応１２３３ｘｆを含む、重質留分を残し、前記軽質留分が、蒸留塔から取り出され、スクラビングトレインに通される、プロセス。
【請求項２】
２４５ｃｂ及び１２３４ｙｆの生成物流を含む前記組成物が、前記第２の組成物として前記脱フッ化水素化反応器に供給される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記１２３４ｙｆの少なくとも一部が、２４５ｃｂ及び１２３４ｙｆの生成物流を含む前記組成物から除去され、前記得られた組成物が、前記第２の組成物として前記脱フッ化水素化反応器に供給される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記１２３４ｙｆの少なくとも一部が除去された後、前記得られた組成物が、精製工程を施され、ここで、前記組成物中に存在し得る任意の１２３４ｚｅの少なくとも一部が、低減された１２３４ｙｆ濃度を有する前記組成物が前記第２の組成物として前記脱フッ化水素化反応器に供給される前に除去される、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
前記精製工程（ｃ）が、１つ以上の相分離工程を含む、請求項１〜４のいずれかに記載のプロセス。
【請求項６】
前記精製工程（ｃ）における前記スクラビングトレインが、順番に、バルク酸除去工程、微量の酸除去工程、及び１つ以上の乾燥工程を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
ＨＦが、少なくとも１つの蒸留塔から回収され、任意に反応（ａ）での使用のためにリサイクルされる、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記ＨＦが、リサイクルする前に、さらなる精製を施される、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記ＨＦが、相分離によって精製される、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記プロセスが、２４３ｄｂの脱塩化水素化によって、反応（ａ）で使用される前記１２３３ｘｆを得る工程を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記脱塩化水素化反応が、ＨＦの存在下及び／または空気の非存在下で行われる、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記脱塩化水素化反応が、亜鉛／クロミア触媒の存在下で行われる、請求項１０または１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記脱塩化水素化反応が、ＨＦの存在下で行われ、前記ＨＦの少なくとも一部が、工程（ｃ）からリサイクルされる、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４】
反応（ａ）が、空気の存在下で行われる、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記フッ素化生成物流は、この生成物流が前記脱フッ化水素化生成物流と合流される前に、精製工程を施されて、前記ＨＣｌの少なくとも一部及び前記空気の少なくとも一部を除去する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
蒸留が、前記ＨＣｌの少なくとも一部及び前記空気の少なくとも一部を除去するために使用される、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
反応（ａ）が、亜鉛／クロミア触媒の存在下で行われる、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８】
反応（ｂ）が、アルミナまたは亜鉛／クロミア触媒上のクロムの存在下で行われる、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９】
反応（ａ）が、２００〜３００℃の温度及び５００〜１５００ＫＰａの圧力で行われる、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０】
反応（ｂ）が、３００〜５００℃の温度及び／または０〜１５００ｋＰａの圧力で行われる、請求項１〜１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
以下は、本発明で使用される精製プロセス（ｃ）の非限定的な例である。フッ素化生成物流及び脱フッ化水素化生成物流は両方とも、第１の蒸留器に供給される。好ましい実施形態においてリサイクルされ得る、重質／高沸点留分（ＨＦの大部分及び未反応１２３３ｘｆを含む）を残して、混合物から供給混合物の軽質／低沸点成分（２４５ｃｂ、１２３４ｙｆ、１２３４ｚｅ（Ｅ）及び一部のＨＦを含む）を蒸留する。蒸留された（低沸点の）成分は、スクラビングトレインを通過する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８７】
図２に示す工程（ｃ）の構成では、Ｙ及びＺは蒸留工程であり、Ｘはスクラビングトレインであり、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３はスクラビングトレイン内のスクラバーである。一例として、Ｘ１は水スクラバーであってもよく、Ｘ２はＫＯＨスクラバーなどの塩基スクラバーであってもよく、Ｘ３はＨ２ＳＯ４スクラバーなどの酸スクラバーであってもよい。蒸留工程Ｙでは、重質／高沸点留分（ＨＦの大部分及び未反応１２３３ｘｆを含む）を残して、混合物から供給混合物の軽質／低沸点成分（２４５ｃｂ、１２３４ｙｆ、１２３４ｚｅ（Ｅ）及び一部のＨＦを含む）を蒸留する。留出物は、スクラビングトレインＸに送られる。スクラブトレインは、流出物を除去する。スクラビングトレインを出る生成物流は、１２３４ｙｆ、２４５ｃｂ、及び低沸点不純物、例えばＴＦＭＡを含む。蒸留装置Ｚは、低沸点不純物、例えばＴＦＭＡを除去するために使用され得る。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月7日(2019.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボプラチン（ＣＢＰ）及び環状アミドを含む共結晶であって、環状アミドが、以下のものから選択される、共結晶：
2018524320.tif 000001
式中、Ｒは、水素、ハロゲン、アミノ基、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、シアニド基、ヒドロキシル基、アシル基、ホスホリル基、ホスホロアミド基、ヒドロキシルカルボキシル基、フェニル基、又は脂肪族基を表わす。
【請求項２】
環状アミドが、式ＣＦ−０５である、請求項１に記載の共結晶。
【請求項３】
環状アミドが、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）であり、カルボプラチンと環状アミドが、１：１の比で結合される、請求項１に記載の共結晶。
【請求項４】
共結晶が、１６．０°の回折角２−シータでのピーク及び２４．５°±０．２の回折角２−シータでのピークを含むＸ線回折パターンを有する、請求項３に記載の共結晶。
【請求項５】
共結晶の固体状態が、いかなる結晶多形形態も含む、請求項１〜３のいずれかに記載の共結晶。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の共結晶を含む医薬組成物。
【請求項７】
少なくとも一種の治療薬又はアジュバント療法薬をさらに含む、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
治療薬又はアジュバント療法薬が、葉酸、補酵素Ｑ１０、クルクミン、グルタチオン（ＧＳＨ）、アロエ、オリザノール、５−フルオロウラシル、及びボルテゾミブからなる群から選択される、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
対象における疾患をその必要において治療するための医薬組成物であって、疾患が、がん及びウイルス感染からなる群から選択され、医薬組成物が、請求項６〜８のいずれかに記載のものであり、医薬組成物中の共結晶が、治療有効量である、医薬組成物。
【請求項１０】
がんが、前立腺がん、大腸がん、腎臓腺がん、及び白血病からなる群から選択される、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
ウイルス感染が、Ｂ型肝炎ウイルス（ＨＢＶ）、Ｃ型肝炎ウイルス（ＨＣＶ）、ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）、又はハンターンウイルスによって起こされる、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
共結晶の治療有効量が、約０．０１〜約１０ｍｇ／ｋｇ体重である、請求項９〜１１のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項１３】
医薬組成物が、請求項４に記載の共結晶の有効量、及び医薬的に許容可能な担体又は水性媒体に溶解又は分散された少なくとも一種の治療薬又はアジュバント療法薬の医薬的に許容可能な量を含む水性組成物である、請求項９〜１１のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項１４】
（ｉ）カルボプラチンと環状アミドを適切な溶媒中で混合し；（ｉｉ）工程（ｉ）からの混合物を十分な時間期間スラリー化又は攪拌し；そして（ｉｉｉ）それによって形成された共結晶を単離することを含む、請求項１の共結晶を製造する方法。
【請求項１５】
環状アミドがＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
カルボプラチンと環状アミドのモル比が１：１〜１：２０である、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月27日(2019.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式の化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩、溶媒和物、立体異性体、もしくはアイソトポログを含む、黒色腫を治療、予防、または管理するための医薬組成物であって、
【化１】
2018524347.tif 000001
治療上または予防上有効な量のニボルマブと共投与される、前記医薬組成物。
【請求項２】
前記黒色腫が、新たに診断されたもの、再発性、難治性、または再発・難治性である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記患者が、前記黒色腫に対するいかなる療法も過去に受けたことがない、請求項１又は２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記患者が、小児または若年成人の患者である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、経口投与される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１日当たり約１ｍｇ〜約５ｍｇの量で投与される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１日当たり約１ｍｇの量で投与される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１日当たり約２ｍｇの量で投与される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項９】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１日当たり約３ｍｇの量で投与される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１日当たり約４ｍｇの量で投与される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１日当たり約５ｍｇの量で投与される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、２８日サイクルで、２８日間連続して１日１回投与される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、２８日サイクルで、５日間連続して１日１回投与され、続く２日間は投与されない、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、２８日サイクルで、２１日間連続して１日１回投与され、続く７日間は投与されない、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１以上の７日サイクルで、５日間連続して１日１回投与され、続く２日間は投与されず、ニボルマブが、２週に１回投与される、請求項１４に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
化合物Ａまたはその薬学的に許容される塩もしくは溶媒和物が、１以上の７日サイクルで、５日間連続して１日１回、約２ｍｇの用量で投与され、続く２日間は投与されず、ニボルマブが、２週に１回、約３ｍｇの用量で投与される、請求項１５に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
ニボルマブが、約０．１ｍｇ／ｋｇ〜約５ｍｇ／ｋｇの用量で、２週ごとに投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月18日(2019.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局所適用のための可撓性定形システムの形態の、レボノルゲストレルおよびエチニルエストラジオールを経皮送達するための経皮的薬物送達システムであって、レボノルゲストレルと、エチニルエストラジオールと、ヒドロキシ官能性アクリルポリマーを含むアクリルポリマーと、保湿剤と、グリセリルモノオレアート、ジプロピレングリコール、およびメチルラウラートからなる群から選択される第１のエンハンサーと、第１のエンハンサーと異なり、グリセリルモノオレアート、ジプロピレングリコール、メチルラウラート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、およびジメチルイソソルビドからなる群から選択される第２のエンハンサーとを含み、第１および第２のエンハンサーと異なり、グリセリルモノオレアート、ジプロピレングリコール、メチルラウラート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、およびジメチルイソソルビドからなる群から選択される第３のエンハンサーを含んでもよいポリマーマトリックスを含む、経皮的薬物送達システム。
【請求項２】
ポリマーマトリックスが、乾燥質量％基準で、約０．１〜３％のレボノルゲストレルと、約０．１〜５％のエチニルエストラジオールと、約１〜３０％の第１、第２および任意選択の第３の透エンハンサーと、約３〜１０％の保湿剤と、残余のアクリルポリマーとを含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項３】
保湿剤が、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、架橋ＰＶＰ（クロスポビドン）およびポリビニルピロリドン／ビニルアセタート（コポビドン）からなる群から選択される、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項４】
第１および第の２エンハンサーが、ジプロピレングリコールおよびジエチレングリコールモノエチルエーテルである、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項５】
第１、第２および第３のエンハンサーが、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルおよびグリセリルモノオレアートである、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項６】
第１および第２のエンハンサーが、ジプロピレングリコールおよびジエチレングリコールモノエチルエーテルであり、組成物が第３のエンハンサーとしてイソプロピルミリスタートをさらに含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項７】
ポリマーマトリックスが、シリコーン感圧接着剤をさらに含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項８】
少なくとも３日、少なくとも４日、または少なくとも７日の期間にわたりレボノルゲストレルの持続的な送達を実現するのに十分なレボノルゲストレル量を含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項９】
少なくとも３日、少なくとも４日、または少なくとも７日の期間にわたりエチニルエストラジオールの持続的な送達を実現するのに十分なエチニルエストラジオール量を含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１０】
バッキング層をさらに含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１１】
剥離ライナーをさらに含む、請求項１に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１２】
ポリマーマトリックスの皮膚接触側に配置された表面接着層をさらに含む、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１３】
表面接着層が、シリコーン感圧接着剤を含む、請求項１２に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１４】
ポリマーマトリックスが、第３のエンハンサーとしてイソプロピルミリスタートをさらに含む、請求項１３に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１５】
レボノルゲストレルおよびエチニルエストラジオールをそれを必要とする対象に経皮的に送達する場合に使用するための、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の経皮的薬物送達システムであって、ポリマーマトリックスの皮膚接触側に配置された表面接着層を含んでもよく、対象の皮膚または粘膜に適用される、経皮的薬物送達システム。
【請求項１６】
それを必要とする女性対象を避妊させる場合に使用するための、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の経皮的薬物送達システムであって、ポリマーマトリックスの皮膚接触側に配置された表面接着層を含んでもよく、対象の皮膚または粘膜に適用される、経皮的薬物送達システム。
【請求項１７】
最大７日間継続して適用される、請求項１５または１６に記載の経皮的薬物送達システム。
【請求項１８】
それを必要とする女性対象を避妊させる医薬を調製するためのレボノルゲストレルおよびエチニルエストラジオールの使用であって、医薬が、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の経皮的薬物送達システムの形態であり、経皮的薬物送達システムがポリマーマトリックスの皮膚接触側に配置された表面接着層を含んでもよい、使用。
【請求項１９】
局所適用のための可撓性定形システムの形態でレボノルゲストレルおよびエチニルエストラジオールを含む経皮的薬物送達システムを調製する方法であって、レボノルゲストレルと、エチニルエストラジオールと、ヒドロキシル官能性アクリルポリマーと、保湿剤と、グリセリルモノオレアート、ジプロピレングリコール、およびメチルラウラートからなる群から選択される第１のエンハンサーと、第１エンハンサーと異なり、グリセリルモノオレアート、ジプロピレングリコール、メチルラウラートからなる群から選択される第の２エンハンサーとを含み、第１および第２のエンハンサーと異なり、グリセリルモノオレアート、ジプロピレングリコール、メチルラウラート、およびイソプロピルミリスタートからなる群から選択される第３エンハンサーを含んでもよいポリマーマトリックスを調製することを含む、方法。
【請求項２０】
ポリマーマトリックスに表面接着層を適用することをさらに含む、請求項１９に記載の方法。