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【手続補正書】
【提出日】平成30年12月12日(2018.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動歯ブラシのためのアクチュエータであって、該アクチュエータは、
ハウジングであって、該ハウジングは、内面、及び前記ハウジングの中心を通って長軸方向に延在する主軸を有し、前記ハウジングの前記内面に沿って配置された、一連の１つを超える磁石を有する、ハウジングと、
偏心コアであって、該偏心コアは、
二次軸に沿って延在する磁化可能材料のスピンドル、並びに
前記スピンドルの周りに半径方向に配置された第１のポールアセンブリであって、前記スピンドルから少なくとも第１の平均距離で半径方向に延在する少なくとも１つのポール部材を含むポール部材の第１のセット、及びスピンドルから第２の平均距離で半径方向に延在する少なくとも１つのポール部材を含むポール部材の第２のセットを含み、前記第１の平均距離の長さは前記第２の平均距離の長さよりも大きく、そのため、前記スピンドルは、前記主軸から半径方向に、付勢方向の付勢力を受け、それにより、前記二次軸は前記主軸からオフセットしている、第１のポールアセンブリ
を含む、偏心コアと、
を含む、アクチュエータ。
【請求項２】
前記ポール部材の前記第１のセットは前記ポール部材の前記第２のセットよりも多くのポール部材を含む、請求項１に記載のアクチュエータ。
【請求項３】
前記ポール部材の前記第１のセットは３つの連続したポール部材を含み、前記ポール部材の前記第２のセットは２つの連続したポール部材を含む、請求項２に記載のアクチュエータ。
【請求項４】
前記第１のセットは、前記第１のセット内の残りの前記ポール部材よりも半径方向に遠く延在する少なくとも１つのポール部材をさらに含む、請求項１に記載のアクチュエータ。
【請求項５】
前記ハウジングに結合され、使用時に前記スピンドルに対して半径方向の力を呈する出力取り付けシャフトであって、前記付勢方向は当該半径方向と実質的に反対である、出力取り付けシャフト
をさらに含む、請求項１に記載のアクチュエータ。
【請求項６】
前記ハウジングに結合され、使用時に前記スピンドルに対して半径方向の力を呈する出力取り付けシャフトであって、前記付勢方向は当該半径方向と実質的に同じ方向にある、出力取り付けシャフト
をさらに含む、請求項１に記載のアクチュエータ。
【請求項７】
前記偏心コアは、
前記スピンドルの周りに半径方向に配置された第２のポールアセンブリであって、前記スピンドルから第３の平均距離で半径方向に延在する少なくとも１つのポール部材を含むポール部材の第３のセット、及び前記スピンドルから第４の平均距離で半径方向に延在する少なくとも１つのポール部材を含むポール部材の第４のセットを含み、前記第３の平均距離の長さは前記第４の平均距離の長さよりも大きい、第２のポールアセンブリ
をさらに含む、請求項１に記載のアクチュエータ。
【請求項８】
ハウジングであって、該ハウジングは、内面、及び前記ハウジングの中心を通って長軸方向に延在する主軸を有し、前記ハウジングの前記内面に沿って配置された、一連の１つを超える磁石を有する、ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された軸受のセットであって、前記軸受は、主軸からオフセットした中心線を有する、軸受のセットと、
スピンドルであって、該スピンドルは、前記スピンドルの周りに半径方向に配置されたポールアセンブリを有し、前記スピンドルは、前記主軸からオフセットした二次軸に沿って前記軸受内に配置されている、スピンドルと、
を含む、電動歯ブラシのためのアクチュエータ。
【請求項９】
前記中心線は前記二次軸と同じである、請求項８に記載のアクチュエータ。
【請求項１０】
前記中心線は、前記二次軸と比べて異なるものである、請求項８に記載のアクチュエータ。
【請求項１１】
前記ポールアセンブリは実質的に同じ長さの複数のポール部材をさらに含む、請求項８に記載のアクチュエータ。
【請求項１２】
前記軸受は一般軸受である、請求項８に記載のアクチュエータ。
【請求項１３】
前記一般軸受はブッシング軸受である、請求項１２に記載のアクチュエータ。
【請求項１４】
ハウジングであって、該ハウジングは、内面、及び前記ハウジングの中心を通って長軸方向に延在する主軸を有し、前記ハウジングの前記内面に沿って配置された、一連の１つを超える磁石を有する、ハウジングと、
前記ハウジング内に配置されたスピンドルであって、該スピンドルは、前記スピンドルの周りに半径方向に配置されたポールアセンブリを有し、前記スピンドル及び前記ポールアセンブリは、前記ポールアセンブリと前記磁石との間に非対称磁石ギャップを形成するように構成され、構造化され、及び／又は位置付けられており、そのため、前記スピンドル及び前記ポールアセンブリは付勢力を受ける、スピンドルと、
を含む、電動歯ブラシのためのアクチュエータ。
【請求項１５】
請求項１乃至１４の何れか一項に記載のアクチュエータを有する、電動歯ブラシ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月13日(2018.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者に呼吸ガスを供給し、吸気相及び呼気相を含む呼吸サイクルを有するベンチレータ呼吸システムであって、当該ベンチレータ呼吸システムは、
ガス供給装置と、
前記ガス供給装置に結合された患者チューブ回路と、
前記患者チューブ回路に関連し、少なくとも流量及び圧力を監視するガス監視システムと、
前記ガス監視システムに結合され、前記呼吸サイクルの前記吸気相中に供給され前記呼吸サイクルの前記呼気相中に排出される決定されたガスの体積と、前記呼吸サイクルの前記吸気相及び呼気相中に前記患者チューブ回路内で監視された圧力とに基づいて患者肺コンプライアンス比を推定することにより、前記ベンチレータ呼吸システムからの患者分離を判定する、制御ユニットと、
を含み、
前記制御ユニットは、前記呼吸サイクルの前記吸気相中の吸気時患者肺コンプライアンスを推定し、前記呼吸サイクルの前記呼気相中の呼気時患者肺コンプライアンスを推定することにより前記患者肺コンプライアンス比を推定する、ベンチレータ呼吸システム。
【請求項２】
前記患者チューブ回路は、チューブ回路ワイを介して互いに流体連通する患者インターフェース、吸気ブランチ及び呼気ブランチを含み、前記ガス監視システムは、１つ以上の吸気ブランチセンサ及び１つ以上の呼気ブランチセンサを含む複数のセンサを含む、請求項１に記載のベンチレータ呼吸システム。
【請求項３】
前記ガス供給装置はポンプ及びリザーバを含む、請求項１に記載のベンチレータ呼吸システム。
【請求項４】
前記制御ユニットは、前記呼吸サイクルの前記吸気相中に供給される前記決定されたガスの体積、前記吸気相の開始時の前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力、及び前記吸気相の終了時の前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力に基づいて吸気時患者肺コンプライアンスを推定する、請求項１に記載のベンチレータ呼吸システム。
【請求項５】
前記制御ユニットは、前記呼吸サイクルの前記呼気相中に排出される前記決定されたガスの体積、前記呼気相の終了時の前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力、及び前記吸気相の終了時の前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力に基づいて呼気時患者肺コンプライアンスを推定する、請求項１に記載のベンチレータ呼吸システム。
【請求項６】
前記制御ユニットは、推定された前記患者肺コンプライアンス比を閾値と比較することにより前記ベンチレータ呼吸システムからの前記患者分離を判定する、請求項１に記載のベンチレータ呼吸システム。
【請求項７】
前記制御ユニットは、前記呼吸サイクルの前記吸気相中の吸気時患者肺コンプライアンスを推定し、前記呼吸サイクルの前記呼気相中の呼気時患者肺コンプライアンスを推定することにより前記患者肺コンプライアンス比を推定し、ここで前記患者肺コンプライアンス比＝（Ｃｉｎｈ／Ｃｅｘｈ）であり、Ｃｉｎｈは前記吸気相中に推定される前記吸気時患者肺コンプライアンスであり、Ｃｉｎｈ＝Ｖｉｎｈ／（Ｐｅｏｉ−Ｐｂｏｉ）として計算され、Ｃｅｘｈは前記呼気相中に推定される前記呼気時患者肺コンプライアンスであり、Ｃｅｘｈ＝Ｖｅｘｈ／（Ｐｅｏｉ−Ｐｅｏｅ）として計算され、ここでＶｉｎｈ＝前記吸気相中に供給されるガスの体積、Ｖｅｘｈ＝前記呼気相中に排出されるガスの体積、Ｐｂｏｉ＝前記吸気相の開始時に前記患者チューブ回路内で監視される圧力、Ｐｅｏｉ＝前記吸気相の終了時に前記患者チューブ回路内で監視される圧力、Ｐｅｏｅ＝前記呼気相の終了時に前記患者チューブ回路内で監視される圧力であり、前記制御ユニットは、前記推定された患者肺コンプライアンス比を閾値と比較することにより前記ベンチレータ呼吸システムからの前記患者分離を判定する、請求項１に記載のベンチレータ呼吸システム。
【請求項８】
患者チューブ回路を介して患者に呼吸ガスを供給し、吸気相及び呼気相を含む呼吸サイクルを有するベンチレータ呼吸システムを制御するためプロセッサにより実行される機械可読命令を記憶した持続性コンピュータ可読記憶媒体であって、前記機械可読命令は、
前記患者チューブ回路内のガスの少なくとも流量及び圧力を監視することと、
前記呼吸サイクルの前記吸気相中に供給され前記呼吸サイクルの前記呼気相中に排出される決定されたガスの体積と、前記呼吸サイクルの前記吸気相及び呼気相中に前記患者チューブ回路内で監視された圧力とに基づいて患者肺コンプライアンス比を推定することと、
推定された前記患者肺コンプライアンス比を閾値と比較することにより患者分離を判定することと
を含む、前記ベンチレータ呼吸システムからの患者分離を判定するプロセスを前記ベンチレータ呼吸システムに実行させ、
前記患者肺コンプライアンス比を推定することは、前記呼吸サイクルの前記吸気相中の吸気時患者肺コンプライアンスを推定することと、前記呼吸サイクルの前記呼気相中の呼気時患者肺コンプライアンスを推定することとを含む、持続性コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項９】
前記患者チューブ回路は、チューブ回路ワイを介して互いに流体連通する患者インターフェース、吸気ブランチ及び呼気ブランチを含み、前記監視することは、前記吸気ブランチ及び前記呼気ブランチ内の複数のセンサからの信号を処理することを含む、請求項８に記載の持続性コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１０】
前記吸気時患者肺コンプライアンスを推定することは、前記呼吸サイクルの前記吸気相中に供給される前記決定されたガスの体積、前記吸気相の開始時に前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力、及び前記吸気相の終了時に前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力に基づく、請求項８に記載の持続性コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１１】
前記呼気時患者肺コンプライアンスを推定することは、前記呼吸サイクルの前記呼気相中に排出される前記決定されたガスの体積、前記呼気相の終了時に前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力、及び前記吸気相の前記終了時に前記患者チューブ回路内で監視されたガスの圧力に基づく、請求項８に記載の持続性コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１２】
前記患者肺コンプライアンス比を推定することは、前記呼吸サイクルの前記吸気相中の吸気時患者肺コンプライアンスを推定することと、前記呼吸サイクルの前記呼気相中の呼気時患者肺コンプライアンスを推定することとを含み、前記患者肺コンプライアンス比＝（Ｃｉｎｈ／Ｃｅｘｈ）であり、Ｃｉｎｈは前記吸気相中に推定される前記吸気時患者肺コンプライアンスであり、Ｃｉｎｈ＝Ｖｉｎｈ／（Ｐｅｏｉ−Ｐｂｏｉ）として計算され、Ｃｅｘｈは前記呼気相中に推定される前記呼気時患者肺コンプライアンスであり、Ｃｅｘｈ＝Ｖｅｘｈ／（Ｐｅｏｉ−Ｐｅｏｅ）として計算され、ここでＶｉｎｈ＝前記吸気相中に供給されるガスの体積、Ｖｅｘｈ＝前記呼気相中に排出されるガスの体積、Ｐｂｏｉ＝前記吸気相の開始時に前記患者チューブ回路内で監視される圧力、Ｐｅｏｉ＝前記吸気相の終了時に前記患者チューブ回路内で監視される圧力、Ｐｅｏｅ＝前記呼気相の終了時に前記患者チューブ回路内で監視される圧力である、請求項８に記載の持続性コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月30日(2018.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本質的に同じ長方形のフロアパネル（１、１’）のセットであって、フロアパネルの各々は、長縁部（４ａ、４ｂ）、第１の短縁部（４ｃ）及び第２の短縁部（４ｄ）を備え、第１の短縁部及び第２の短縁部は、メカニカル固定システムとともに設けられ、メカニカル固定システムは、第１の短縁部（４ｃ）の下方部分から水平に延在するストリップ（６）と、第２の短縁部（４ｄ）に形成された下方に開く固定溝（１４）とを具備し、ストリップ（６）は、上方へ突出する固定要素（８）を有し、固定要素（８）は、前記パネルの主平面に平行な水平方向へ及び水平方向に垂直な鉛直方向へ第１の短縁部及び第２の短縁部を固定するために、固定溝（１４）と協働するように構成され、固定要素（８）は、内側面（８ａ）、外側面（８ｂ）及び上方面（８ｃ）を有し、内側面（８ａ）は外側面（８ｂ）よりも第１のパネル（１）の上方縁部の近くに配置され、固定溝（１４）は、外側溝壁（１４ａ）、内側溝壁（１４ｂ）及び上側溝壁（１４ｃ）を有し、外側溝壁（１４ａ）は内側溝壁（１４ｂ）よりも第２のパネル（１’）の上方縁部の近くに配置され、
固定要素（８）は上方固定面（１１ａ）を有し、固定溝（１４）は下方固定面（１１ｂ）を有し、
固定位置において、
第１の短縁部及び第２の短縁部は、第１の短縁部及び第２の短縁部に沿って配置された第１の接合縁部セクション（７ａ）、第２の接合縁部セクション（７ｂ）及び水平面（ＨＰ）を有し、
第１の縁部セクション（７ａ）は、水平面（ＨＰ）に沿った固定要素（８）の内側面（８ａ）及び固定溝（１４）の外側溝壁（１４ａ）がお互いに接触して第１の短縁部及び第２の短縁部を水平に固定するように構成され、第２の縁部セクション（７ｂ）は、水平面（ＨＰ）に沿って、固定溝（１４）の外側溝壁（１４ａ）と固定要素（８）の内側面（８ａ）との間に空間（Ｓ）が設けられるように構成され、
固定要素（８）の上方固定面（１１ａ）及び固定溝（１４）の下方固定面（１１ｂ）は、お互いに接触するとともに、第１の短縁部及び第２の短縁部を鉛直に固定するように構成される、本質的に同じ長方形のフロアパネル（１、１’）のセット。
【請求項２】
第１の縁部セクション（７ａ）は、第２の縁部セクション（７ｂ）よりも、長縁部（４ａ、４ｂ）の近くに配置される請求項１に記載のフロアパネルのセット。
【請求項３】
前記固定システムは、第２の短縁部の前記第１の短縁部に対する鉛直変位によって固定されるように構成される請求項１又は２に記載のフロアパネルのセット。
【請求項４】
第１の短縁部に対する第２の短縁部の鉛直変位が鉛直変位の初期段階の間に第２のパネルに向けて上方へストリップを曲げて、上方固定面（１１ａ）及び下方固定面（１１ｂ）が相互に重なるように、前記固定システムは構成される請求項３に記載のフロアパネルのセット。
【請求項５】
前記上方への曲げは、ストリップ（６）のねじり及び/又は圧縮と組み合わされる請求項４に記載のフロアパネルのセット。
【請求項６】
下方固定面（１１ｂ）は本質的に水平である請求項１〜５のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項７】
下方固定面（１１ｂ）に対する接線（ＴＬ）は、固定溝（１４）の外側壁（１４ａ）と交わる、請求項１〜６のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項８】
上方固定面（１１ａ）は、固定要素（８）の外側面（８ｂ）に配置され、下方固定面（１１ｂ）は、固定溝（１４）の内側溝壁（１４ｂ）に配置されている請求項１〜７のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項９】
前記上方固定面（１１ａ）は、上方ストリップ面（６ａ）から鉛直上方へ離間している、請求項１〜８のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項１０】
外側溝壁（１４ａ）と内側面（８ａ）との間の空間（Ｓ）は、固定要素（８）の内側面（８ａ）に配置される空洞である請求項１〜９のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項１１】
前記空間（Ｓ）は、固定溝（８）の外側溝壁（１４ａ）に配置される空洞である請求項１〜９のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項１２】
第１の縁部セクション（７ａ）には上方固定面（１１ａ）が設けられていない請求項１〜１１のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項１３】
第１の縁部セクション（７ａ）には下方固定面（１１ｂ）が設けられていない請求項１〜１１のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項１４】
固定要素（８）の上方固定面（１１ａ）及び固定溝（１４）の下方固定面（１１ｂ）は、第２の縁部セクション（７ｂ）においてお互いに接触するように構成されている請求項１〜１３のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【請求項１５】
縁部に沿って複数の第１の縁部セクション（７ａ）及び複数の第２の縁部セクション（７ｂ）を備える請求項１〜１４のいずれか一項に記載のフロアパネルのセット。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月3日(2019.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主反応器壁によって規定される主反応器と；
少なくとも２つの有機蒸気を前記主反応器に導入するように構成された、少なくとも２つのソースバレルと；
前記主反応器内に設置された基板ステージ；と
キャリアガスを前記主反応器壁に沿って導入することで、基板ステージに向けて前記有機蒸気が流れるときに前記有機蒸気の反応器壁上での凝縮を低減するように構成された、少なくとも１つのキャリアガス注入路と、を有する有機気相蒸着システム。
【請求項２】
前記少なくとも２つのソースバレルの温度が個別に制御可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも２つのソースバレルの温度が、少なくともソースバレルの一部分を取り囲む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記少なくとも１つのキャリアガス注入路が環状で前記主反応器壁に向けて同心円状に広がる、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記少なくとも１つのキャリアガス注入路がキャリアガスの電荷を打消し、前記キャリアガスはアルゴンガスおよび窒素ガスの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記ソースバレルの１つが約２００℃の温度に制御されるように構成され、前記ソースバレルの他の１つが約５００℃の温度に制御されるように構成されるとともに、前記主反応器が約３００℃の温度に制御されるように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記有機蒸気が約２０ｓｃｃｍで前記主反応器に供給されるとともに、前記キャリアガスが前記主反応器に約２０ｓｃｃｍで導入される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記少なくとも１つのキャリアガス注入路は、前記２つの有機蒸気が主反応器に注入される位置より上部で、前記キャリアガスを前記主反応器壁に沿って導入し始める、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
垂直の向きに設置され、前記有機蒸気が前記基板ステージの上部に導入される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
主反応器と；
前記主反応器の第１の端部に第１の有機蒸気を導入するように構成された第１のソースバレルと；
前記主反応器の第２の端部に位置するように設置された基板ステージと；
第２のソースバレルの取り出し口から前記主反応器に第２の有機蒸気を供給するように構成された、前記第２の有機蒸気より低い温度の第２のソースバレルと；
を有し、
前記第２のソースバレルの取り出し口は、前記主反応器の前記第１の端部と前記基板ステージとの間に前記基板とある距離で位置し、前記距離は前記第１の有機蒸気が前記基板ステージに向かって移動するときに、より高温の前記第２の有機蒸気への前記第１の有機蒸気の暴露を最小化するように選択される、有機気相蒸着システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのソースバレルの取り出し口は、シャワーヘッドの環形状であり、前記第２の有機蒸気を前記基板に向かって供給するように構成される、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第２のソースバレルの取り出し口の前記基板ステージとは反対側に設置された遮断板をさらに有する、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１の有機蒸気が約２００℃の温度で導入されるように構成され、前記第２の有機蒸気が約５００℃の温度で導入されるように構成されるとともに、前記基板ステージが約３０℃の温度である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】
第１の有機蒸気を第１の温度で周囲隔壁によって規定される主反応器に導入し；
第２の有機蒸気を、前記第１の温度より高い、第２の温度で主反応器に導入し；
キャリアガスを前記周囲隔壁に沿うように前記主反応器に供給する；
工程を含み、
前記キャリアガスは前記第２の有機蒸気を前記隔壁への凝縮を低減し、前記第１の有機蒸気と前記第２の有機蒸気が前記主反応器を通って基板に向かって流れるように構成される、有機気相蒸着法を用いて有機膜を製造する方法。
【請求項１５】
前記第１の温度は約２００℃であり、前記第２の温度は約５００℃であり、前記主反応器の温度は約３００℃である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の有機蒸気を前記第１の温度に、前記第２の有機蒸気を前記第２の温度に、第１のソースバレルおよび第２のソースバレルを囲む加熱コイルを用いて個別に制御することをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記キャリアガスがアルゴンガスおよび窒素ガスの少なくとも１つを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の有機蒸気および第２の有機蒸気をそれぞれ前記主反応器に約２０ｓｃｃｍで導入するとともに、前記キャリアガスを約２０ｓｃｃｍで供給する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記キャリアガスの供給を、前記第１の有機蒸気および前記第２の有機蒸気が前記主反応器に導入される位置よりも上部で行う、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記キャリアガスを、前記主反応器に沿って延びる環から供給する、請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
第１の有機蒸気を基板の位置する主反応器の第２の端部に対して、第１の有機蒸気が向くように第１の有機蒸気を第１の温度で主反応器の第１の端部に導入し；
第２の有機蒸気を、前記第１の温度より高い第２の温度で前記基板に向けて導入する；
ことを含み、
前記主反応器に供給される前記第２の有機蒸気は、前記主反応器の第１の端部と前記基板との間に前記基板とある距離で位置し、前記距離は第１の有機蒸気が基板に向かって移動するときに、より高い温度の前記第２の有機蒸気への前記第１の有機蒸気の暴露を最小化するように選択される、有機気相蒸着法を用いて有機膜を製造する方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年3月8日(2019.3.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１５】
変性層状シリケートが、５０ｍ２／ｇ〜１０００ｍ２／ｇの表面積を有することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一つに記載の感圧接着剤。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月14日(2018.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
本開示の様々な修正及び変更が、本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく、当業者により行うことができ、特許請求されている本発明は、本明細書において説明されている例示的な実施形態に過度に限定されるものではないことを理解すべきである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］〜［１５］に記載する。
［１］
ポリオレフィンと、
ポリマー加工用添加剤組成物であって、
モルあたり少なくとも約５０，０００グラムの重量平均分子量を有する第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマー、及び
カルボン酸、スルホン酸又はアルキル硫酸エステルの金属塩を含む、ポリマー加工用添加剤組成物と、
を含む、熱可塑性組成物。
［２］
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーの重量平均分子量が、モルあたり最大で約５００，０００グラムである、項目１に記載の熱可塑性組成物。
［３］
前記ポリマー加工用添加剤組成物が、モルあたり最大で約２０，０００グラムの重量平均分子量を有する第２のポリ（オキシアルキレン）ポリマーを更に含む、項目１に記載の熱可塑性組成物。
［４］
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーの重量平均分子量が、モルあたり最大で約１，０００，０００グラムである、項目３に記載の熱可塑性組成物。
［５］
フルオロポリマー及びシリコーンを本質的に含まない、項目１又は４に記載の熱可塑性組成物。
［６］
前記金属塩がカルボン酸の金属塩である、項目１〜５のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
［７］
前記カルボン酸がステアリン酸以外である、項目６に記載の熱可塑性組成物。
［８］
酸化防止剤、金属酸化物又はヒンダードアミン光安定化剤のうちの少なくとも１つを更に含む、項目１〜７のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
［９］
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーがポリエチレングリコールである、項目１〜８のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
［１０］
前記ポリオレフィンが直鎖状低密度ポリエチレンである、項目１〜９のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
［１１］
前記ポリオレフィンが均一触媒によるポリオレフィンである、項目１〜１０のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
［１２］
項目１〜１１のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物を押出成形することを含む、前記ポリオレフィンの押出成形中の溶融欠陥を低減する方法。
［１３］
前記熱可塑性組成物を押出成形する前に、前記ポリマー加工用添加剤組成物と前記ポリオレフィンとを混合して、前記熱可塑性組成物を得ること、
を更に含む、項目１２に記載の方法。
［１４］
モルあたり少なくとも約５０，０００グラムの重量平均分子量を有する第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーと、
モルあたり最大で約２０，０００グラムの重量平均分子量を有する第２のポリ（オキシアルキレン）ポリマーと、
カルボン酸、スルホン酸又はアルキル硫酸エステルの金属塩と、
を含む、ポリマー加工用添加剤組成物。
［１５］
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーがポリエチレンオキシドであり、前記第２のポリ（オキシアルキレン）ポリマーがポリエチレングリコールである、項目１４に記載のポリマー加工用添加剤組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィンと、
ポリマー加工用添加剤組成物であって、
モルあたり少なくとも約５０，０００グラムの重量平均分子量を有する第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマー、及び
カルボン酸、スルホン酸又はアルキル硫酸エステルの金属塩を含む、ポリマー加工用添加剤組成物と、
を含む、熱可塑性組成物。
【請求項２】
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーの重量平均分子量が、モルあたり最大で約５００，０００グラムである、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項３】
前記ポリマー加工用添加剤組成物が、モルあたり最大で約２０，０００グラムの重量平均分子量を有する第２のポリ（オキシアルキレン）ポリマーを更に含む、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項４】
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーの重量平均分子量が、モルあたり最大で約１，０００，０００グラムである、請求項３に記載の熱可塑性組成物。
【請求項５】
前記金属塩がカルボン酸の金属塩である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
【請求項６】
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーがポリエチレングリコールである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物を押出成形することを含む、前記ポリオレフィンの押出成形中の溶融欠陥を低減する方法。
【請求項８】
モルあたり少なくとも約５０，０００グラムの重量平均分子量を有する第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーと、
モルあたり最大で約２０，０００グラムの重量平均分子量を有する第２のポリ（オキシアルキレン）ポリマーと、
カルボン酸、スルホン酸又はアルキル硫酸エステルの金属塩と、
を含む、ポリマー加工用添加剤組成物。
【請求項９】
前記第１のポリ（オキシアルキレン）ポリマーがポリエチレンオキシドであり、前記第２のポリ（オキシアルキレン）ポリマーがポリエチレングリコールである、請求項８に記載のポリマー加工用添加剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月15日(2019.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図２Ｂに示すように、メモリ２３６は、データ処理システム２００において使用される複数のカテゴリのソフトウェア及びデータ；オペレーティングシステム１３５２；アプリケーションプログラム１３５４；入出力（Ｉ／Ｏ）デバイスドライバ３５８；並びにデータ３５６を含んでよい。当業者には理解されるように、オペレーティングシステム１３５２は：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｂｕｓｉｎｅｓｓ  Ｍａｃｈｉｎｅｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ニューヨーク州アーモンク））製のＯＳ／２、ＡＩＸ若しくはｚＯＳ；マイクロソフト・コーポレーション（Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ワシントン州レドモンド））製のＷｉｎｄｏｗｓ９５、Ｗｉｎｄｏｗｓ９８、Ｗｉｎｄｏｗｓ２０００、ＷｉｎｄｏｗｓＸＰ若しくはＶｉｓｔａ；Ｕｎｉｘ；Ｌｉｎｕｘ（登録商標）；ＬａｂＶｉｅｗ；又はＱＮＸ若しくはＶｘＷｏｒｋｓ等のリアルタイムオペレーティングシステムといった、データ処理システムと共に使用するために好適ないずれのオペレーティングシステムであってよい。Ｉ／Ｏデバイスドライバ３５８は典型的には、アプリケーションプログラム１３５４が、１つ又は複数のＩ／Ｏデータポート２４６及び特定のメモリ２３６といったデバイスと通信するために、オペレーティングシステム１３５２を通してアクセスする、ソフトウェアルーチンを含む。アプリケーションプログラム１３５４は、本発明概念のいくつかの実施形態によるシステムに含まれるデータ処理システム２００の様々な特徴を実装するプログラムの実例であり、好ましくは、本発明概念のいくつかの実施形態による動作をサポートする少なくとも１つのアプリケーションを含む。最終的には、データ３５６は、アプリケーションプログラム１３５４、オペレーティングシステム１３５２、Ｉ／Ｏデバイスドライバ３５８、及びメモリ２３６内に存在し得る他のソフトウェアプログラムによって使用される、静的及び動的データを提示する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図２Ｂに更に示すように、アプリケーションプログラム１３５４は、本発明概念のいくつかの実施形態によると、調整モジュール３５１、画像キャプチャモジュール３５２、ＮＩＲ／可視光モジュール３５３、及びＶＦＡ処理モジュール３５４を含んでよい。本発明概念を、例えば図２Ｂにおける、調整モジュール３５１、画像キャプチャモジュール３５２、ＮＩＲ／可視光モジュール３５３、及びＶＦＡ処理モジュール３５４がアプリケーションプログラムであるものを参照して例示しているが、当業者には理解されるように、本発明概念の教示からの利益を依然として得ながら、他の構成を利用することもできる。例えば調整モジュール３５１、画像キャプチャモジュール３５２、ＮＩＲ／可視光モジュール３５３、及びＶＦＡ処理モジュール３５４を、オペレーティングシステム１３５２、又はデータ処理システム３００の他のこのような論理区分に組み込んでもよい。従って本発明概念は、図２Ｂの構成に限定されるものと解釈してはならず、本明細書に記載の動作を実施できるいずれの構成を包含することを意図している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２Ｂ】
2017538458.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月4日(2019.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脳内の内腔で妨げられている流れに関し、障害物の場所に存在するバブルの振動により、前記妨げられている流れを緩和するために適用される超音波の圧力振幅を定量化するように構成される装置であって：
増加モード及び減少モードのうち少なくとも何れかを有するように構成され、前記バブルを振動させるための前記障害物の場所への超音波の放出を制御するように構成される超音波スキャナ制御ユニットを有し、前記超音波スキャナ制御ユニットは：
前記障害物の場所へ放出される超音波の圧力振幅を第１インターバルで徐々に及び個別に増加又は減少させるように、前記少なくとも何れかによる現在のモードに関し、前記超音波スキャナ制御ユニットに結合されるトランスデューサが、前記場所にインテロゲーションを行い；
反復毎に、プロセッサが、放出された前記超音波のエコーから、超音波エネルギ信号の大きさを導出し；及び
前記定量化のために、複数の反復のうちの直前の反復と比較して、前記超音波エネルギ信号の大きさを増加させることに失敗した反復を、前記複数の反復の中から自動的に識別し；
放出される超音波の前記圧力振幅は励起振幅であり、
前記超音波スキャナ制御ユニットは、前記識別の際に：
ａ）開始ポイントとして、前記直前の反復の励起振幅を利用して、反復的なインテロゲーション及び識別を継続し、前記現在のモードに応じて、前記識別の前に使用された前記第１インターバルより小さな第２インターバルで関連する増加分又は減少分とともに前記励起振幅を徐々に増加又は減少させ続けること；及び
ｂ）開始ポイントとして、前記現在の反復の励起振幅を利用して、前記識別の前に使用された第１インターバルより小さな第３インターバルで関連する増加分又は減少分とともに前記励起振幅を徐々に増加させることを徐々に減少させることへ又はその逆へ切り替えるように、反復的なインテロゲーション及び識別を継続すること；
のうち双方又は一方により微調整を行うように更に構成されている
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記超音波スキャナ制御ユニットは、前記緩和のための前記バブルに適用される超音波の前記圧力振幅の定量化が、前記直前の反復における前記大きさに基づくように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記超音波スキャナ制御ユニットは、ａ）又はｂ）に応じて識別及び微調整を行う場合に、励起振幅を増やす第１反復又は励起振幅を減らす第１反復が、ステップａ）により、前記大きさの減少をもたらす結果となったか否かを検出するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記超音波スキャナ制御ユニットは、前記大きさの減少が検出された場合に、定量化のために、前記場所のインテロゲーション及び識別を反復する際に、励起振幅を徐々に増やす又は徐々に減らすように切り替えるために、モードを相応に切り替えるように構成される、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記超音波スキャナ制御ユニットは、ウルトラ・ハーモニック周波数を生成するようなインテロゲーションと、ウルトラ・ハーモニック信号に基づく導出と、前記ウルトラ・ハーモニック信号を取り出すためのバンドパス・フィルタリングとを行うように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記超音波スキャナ制御ユニットは、超音波信号を取り出すために、前記エコーにより搬送される非ウルトラハーモニック周波数信号をフィルタリングするように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記導出は、撮像深度の寸法にわたって、ある方向から運ばれて来る信号の二乗値を加算し、複数の関連する方向の信号についての加算を繰り返し、それらの方向にわたって平均化することを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記インテロゲーションは、１０−４０マイクロ秒の期間の長さを有するパルスを放出することを含み、前記インテロゲーションは、前記パルスと同じ方向に、１０−４０マイクロ秒の期間の長さを有する別のパルスを続いて放出することを含み、前記超音波スキャナ制御ユニットは、２つのパルスにより返ってくる夫々の信号間の差分を算出するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記超音波スキャナ制御ユニットは、定量化された振幅に基づいて及び前記定量化された振幅を越えない振幅で、超音波を定量化、適用及び緩和するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
１つのプローブにより、前記インテロゲーション及び適用を行うように構成される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
脳内の内腔で妨げられている流れに関し、障害物の場所に存在するバブルの振動により、前記妨げられている流れを緩和するために適用される超音波の圧力振幅を定量化するためのコンピュータ読み取り可能な記憶媒体であって、複数の動作を実行するために、請求項１に記載の前記装置の超音波スキャナ制御ユニットにより実行可能な命令を有するプログラムを組み込み、前記複数の動作は増加モード及び減少モードのうち少なくとも何れかを含み、前記複数の動作は：
前記超音波スキャナ制御ユニットに結合されるトランスデューサが、前記障害物の場所へ放出される超音波の圧力振幅を第１インターバルで徐々に及び個別に増加又は減少させるように、前記少なくとも何れかによる現在のモードに関し、反復的に、前記場所にインテロゲーションを行うステップ；
反復毎に、プロセッサが、放出された前記超音波のエコーから、超音波エネルギ信号の大きさを導出するステップ；及び
前記定量化のために、プロセッサが、複数の反復のうちの直前の反復と比較して、前記超音波エネルギ信号の大きさを増加させることに失敗した反復を、前記複数の反復の中から識別するステップ；
を有し、放出される超音波の前記圧力振幅は励起振幅であり、
前記複数の動作は、前記識別の際に：
ａ）開始ポイントとして、前記直前の反復の励起振幅を利用して、反復的なインテロゲーション及び識別を継続し、前記現在のモードに応じて、前記識別の前に使用された前記第１インターバルより小さな第２インターバルで関連する増加分又は減少分とともに前記励起振幅を徐々に増加又は減少させ続けること；及び
ｂ）開始ポイントとして、前記現在の反復の励起振幅を利用して、前記識別の前に使用された第１インターバルより小さな第３インターバルで関連する増加分又は減少分とともに前記励起振幅を徐々に増加させることを徐々に減少させることへ又はその逆へ切り替えるように、反復的なインテロゲーション及び識別を継続すること；
のうち双方又は一方により微調整を行うステップを更に含む、記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】超音波圧力振幅定量化装置及び記憶媒体
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月17日(2018.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳類細胞を培養する方法であって、該方法は、
組み換えタンパク質をコードする核酸を含む哺乳類細胞を、組み換えタンパク質を産生するのに十分な条件下で灌流培養すること
を含み、灌流培養は、１．８ｇ／Ｌの濃度または１．８ｇ／Ｌより高い濃度のポロクサマー−１８８を含む液体培地において培養することを含み、ポロクサマー−１８８は、培地に存在する、および／または培養工程の前に培地に添加される、および／または培養工程中に培地に添加される、前記方法。
【請求項２】
培地は消泡剤をさらに含み、培地中のポロクサマー−１８８（ｇ／Ｌ）に対する消泡剤（ｇ／Ｌ）の割合は、液体培地中約０．５％〜約６．０％である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
培養工程の前にポロクサマー−１８８を培地に添加し、および／または培養工程中にポロクサマー−１８８を培地に添加して、培地中のポロクサマー−１８８を１．８ｇ／Ｌの濃度または１．８ｇ／Ｌより高い濃度にすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ポロクサマー−１８８は培地に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
培地中のポロクサマー−１８８濃度を経時的に増大させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
培地中のポロクサマー−１８８濃度を経時的に増大させることは、培地中の生細胞密度に基づく、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
培地中の生細胞密度が約３５×１０６細胞／ｍＬ〜約６０×１０６細胞／ｍＬである場合、培地中のポロクサマー−１８８濃度を１．８ｇ／Ｌより高くまで増大させること；
培地中の生細胞密度が約６０×１０６細胞／ｍＬ〜約９０×１０６細胞／ｍＬである場合、該培地中のポロクサマー−１８８濃度を３．０ｇ／Ｌより高くまで増大させること；および
培地中の生細胞密度が９０×１０６細胞／ｍＬより高い場合、該培地中のポロクサマー−１８８濃度を６．０ｇ／Ｌより高くまで増大させること；
を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
灌流培養は、
第１の液体培地において配置された哺乳類細胞を含む容器を用意すること；
該容器を撹拌しながら、少なくとも約７日の培養期間、温度約３２℃〜約４０℃でインキュベートすること；および
培養期間の最初の４８〜９６時間後、連続的または定期的に、第１の体積の該第１の液体培地を取り出し、該第１の液体培地に第２の体積の第２の液体培地を添加することを含み、該第１および第２の体積がほぼ等しい、
請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第２の液体培地は、第１の液体培地中の濃度より高い濃度のポロクサマー−１８８を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第１の液体培地は、１．８ｇ／Ｌの濃度または１．８ｇ／Ｌ未満の濃度のポロクサマー−１８８を含み、第２の液体培地は、１．８ｇ／Ｌより高い濃度のポロクサマー−１８８を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
組み換えタンパク質を哺乳類細胞から、第１の液体培地、もしくは第２の液体培地、またはその任意の組み合わせから収集すること；および
収集された組み換えタンパク質を医薬組成物に製剤化すること；
をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
哺乳類細胞を培養する方法であって、該方法は、
容器と、該容器内に配置された液体培地と、該容器内に配置されたスパージャであって、該スパージャを介して該液体培地中にガスを分配するように構成された複数の孔を含む該スパージャとを含む培養系を用意すること；ならびに
培養系において組み換えタンパク質をコードする核酸を含む哺乳類細胞を、系において組み換えタンパク質を産生するのに十分な条件およびガス流速下で灌流培養すること
を含み、培地は、孔サイズ、孔タイプ、ガス流速、培地中の生細胞密度、および細胞ストレスに関連するマーカーからなる群から選択される１つまたはそれ以上の因子に基づき選択されるポロクサマー−１８８濃度を含む、前記方法。
【請求項１３】
選択されたポロクサマー−１８８濃度は、培養工程の前にポロクサマー−１８８を培地に添加すること、および／または培養工程中にポロクサマー−１８８を培地に添加することにより達成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
因子は孔タイプであり、孔タイプは、焼結孔またはドリル孔である、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
孔タイプおよび孔サイズに基づき、孔タイプがドリル孔であり、孔サイズが約７５０μｍ〜約１．５ｍｍである場合は、約２．３ｇ／Ｌ〜約３．３ｇ／Ｌの濃度のポロクサマー−１８８を選択すること；
孔タイプおよび孔サイズに基づき、孔タイプがドリル孔であり、孔サイズが約２５０μｍ〜約７５０μｍである場合は、約３．３ｇ／Ｌ〜約４．３ｇ／Ｌの濃度のポロクサマー−１８８を選択すること；
孔タイプおよび孔サイズに基づき、孔タイプがドリル孔であり、孔サイズが約１μｍ〜約２５０μｍである場合は、４．３ｇ／Ｌより高い濃度のポロクサマー−１８８を選択す
ること；
孔タイプおよび孔サイズに基づき、孔タイプが焼結孔であり、孔サイズが１５０μｍより大きい場合は、約１．８ｇ／Ｌ〜約３．３ｇ／Ｌの濃度のポロクサマー−１８８を選択すること；または
孔タイプおよび孔サイズに基づき、孔タイプが焼結孔であり、孔サイズが約１μｍ〜約８０μｍである場合は、４．５ｇ／Ｌより高い濃度のポロクサマー−１８８を選択すること
を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
灌流培養は、
第１の液体培地を含む培養系を撹拌しながら、少なくとも約７日の培養期間、温度約３２℃〜約４０℃でインキュベートすること；および
培養期間の最初の４８〜９６時間後、連続的または定期的に、第１の体積の第１の液体培地を取り出し、第１の液体培地に第２の体積の第２の液体培地を添加すること
を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
第２の液体培地は、第１の液体培地中のポロクサマー−１８８の濃度より高い濃度のポロクサマー−１８８を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
第２の培地は、選択されたポロクサマー−１８８濃度を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
組み換えタンパク質を哺乳類細胞の内部から、第１の液体培地、もしくは第２の液体培地、またはその任意の組み合わせから収集すること；および
収集された組み換えタンパク質を医薬組成物に製剤化すること；
をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
第１の液体培地および／または第２の液体培地は、既知組成の液体培養培地、無血清の液体培養培地、血清を含有する液体培養培地、動物由来の成分を含まない液体培養培地、およびタンパク質を含まない培地からなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項２１】
哺乳類細胞は、チャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞、ヒト胎児由来腎臓（ＨＥＫ）細胞、ＮＳＯ細胞、ベビーハムスター腎臓（ＢＨＫ）細胞、ＰｅｒＣ６細胞、Ｖｅｒｏ細胞、またはＨＴ−１０８０細胞株である、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
組み換えタンパク質は、免疫グロブリン、酵素、成長因子、タンパク質フラグメント、または操作されたタンパク質である、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月28日(2018.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組換えタンパク質におけるフコシル化グリカン含量を操作するための方法であって、
バイオリアクターに、組換えタンパク質を発現する哺乳類宿主細胞を接種すること、
前記哺乳類宿主細胞を、無血清の化学的に規定された細胞培養培地中で培養すること、ここで、前記細胞培養培地は、ｐＨ７．０で銅１０〜１００ｐｐｂ及びマンガン５０〜１０００ｎＭを包含する、
前記哺乳類宿主細胞によって産生された組換えタンパク質を採取すること、ここで、前記組換えタンパク質におけるアフコシル化グリカンのレベルが、より低いｐＨの同じ細胞培養培地中で得られたアフコシル化グリカンレベルと比較して、上昇している
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記組換えタンパク質におけるβ−ガラクトシル化のレベルの上昇をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記銅の濃度が１００ｐｐｂである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記マンガンの濃度が１０００ｎＭである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記フコシル化グリカン含量を、前記組換えタンパク質のエフェクター機能に影響を及ぼすように操作する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
温度を下げる温度シフトをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記温度シフトが３６℃から３１℃への変化である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記温度シフトを増殖相と産生相との間の移行期に行う、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記温度シフトを前記産生相中に行う、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記組換えタンパク質を発現する哺乳類宿主細胞を、バッチ培養、供給バッチ培養、潅流培養、またはそれらの組合せにおいて培養する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記培養が潅流培養である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
潅流が連続潅流を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
潅流速度が一定である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記潅流を１日当たり１．０作業容積以下の速度で行う、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記潅流を交互接線流によって達成する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記バイオリアクターが少なくとも５００Ｌの容量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記バイオリアクターが少なくとも５００Ｌ〜２０００Ｌの容量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記バイオリアクターが少なくとも１０００Ｌ〜２０００Ｌの容量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記バイオリアクターに、少なくとも０．５×１０６細胞／ｍＬを接種する、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記無血清の化学的に規定された細胞培養培地が、潅流細胞培養培地である、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記哺乳類宿主細胞がチャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞である、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記組換えタンパク質が糖タンパク質である、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
前記組換えタンパク質が、ヒト抗体、ヒト化抗体、キメラ抗体、組換え融合タンパク質、またはサイトカインからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記哺乳類宿主細胞によって産生された組換えタンパク質が、精製され、薬学的に許容される製剤に製剤化される、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
請求項１に記載の方法によって生産された組換えタンパク質。
【請求項２６】
精製されている、請求項２５に記載の組換えタンパク質。
【請求項２７】
薬学的に許容される製剤に製剤化された、請求項２５に記載の組換えタンパク質。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月4日(2018.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
期間を通して、気化装置の使用者に供給された気化可能な材料の投与量を決定する方法であって、
前記期間は、複数の順次的な時間の間隔を備え、前記気化装置は、ヒータコントローラと、ヒータと、気化可能な材料の源と、気化された投与量を予測するユニットを含み、
順次的な時間の間隔のそれぞれの間、部分的な投与量を計算し、前記部分的な投与量は、部分的な投与量の時間の間隔の間、気化可能な材料を気化するために、ヒータコントローラによってヒータへ、供給される電力、部分的な投与量の時間の間隔の間、気化されている気化可能な材料の温度、及び部分的な投与量の時間の間隔の前に、気化されている気化可能な材料の温度、から計算され、
前記期間の間、供給された気化ガスのすべての投与量を決定するために、前記気化された投与量を予測するユニットにおいて、計算された部分的な投与量を足し合わせること、を備える方法。