【手続補正書】
【提出日】平成20年4月22日(2008.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
ポリビニルアルコール星形ポリマーが、下記の工程、すなわち
Ａ）ラジカル形成剤の存在下、および場合によってはラジカル捕獲剤の存在下におけるビニルエステルの溶液または塊状ラジカル重合、
Ｂ）架橋性ポリアルケニル化合物の添加、
Ｃ）必要に応じて行う、生成ポリビニルエステルコポリマーの後処理および単離、
Ｄ）Ｂ）で製造されたポリビニルエステル／ポリビニルエステル−ポリアルケン混合物またはＣ）で単離されたポリビニルエステル−ポリアルケンコポリマーを塩基により鹸化し、ポリビニルアルコール／ポリビニルアルコール−ポリアルケン混合物またはポリビニルアルコール−ポリアルケンコポリマーを形成し、該生成物を単離する、
各過程を含む方法によって得られるポリビニルエステルコポリマーをベースとするポリビニルアルコールコポリマーであり、
工程Ｂ）で使用されるポリアルケニル化合物が、
式ＩＶで表わされる化合物であることを特徴とする請求項１に記載のハイドロゲル。
【化２】
2007533810.tif 000001
Ｒ６：  一つ以上の直接隣り合わないＣ原子が、周期表第５または第６族の元素、好ましくは窒素、燐、酸素または硫黄、特に好ましくは窒素または酸素によって置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ５〜Ｃ２０のヘテロアリール基、Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基またはＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、
Ｒ７：  同じ又は異なり、水素、酸素、硫黄、またはヒドロキシ基、カルバモイル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリールオキシ基、イミノ基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキルイミノ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ５〜Ｃ２０のヘテロアリール基、Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０のアルキルアリール基、Ｃ７〜Ｃ３０のアリールアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のα−オキシアルケニル基またはハロゲン含有Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０：  同じ又は異なり、水素またはＣ１〜Ｃ２０の炭素含有基および
ｅ：  ０〜４０の自然整数。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
ここで、
Ｒ６：  一つ以上の直接隣り合わないＣ原子が、周期表第５または第６族の元素、好ましくは窒素、燐、酸素または硫黄、特に好ましくは窒素または酸素によって置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ５〜Ｃ２０のヘテロアリール基、Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基またはＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、
Ｒ７：  同じ又は異なり、水素、酸素、硫黄、またはヒドロキシ基、カルバモイル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリールオキシ基、イミノ基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキルイミノ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ５〜Ｃ２０のヘテロアリール基、Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０のアルキルアリール基、Ｃ７〜Ｃ３０のアリールアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のα−オキシアルケニル基またはハロゲン含有Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０：  同じ又は異なり、水素またはＣ１〜Ｃ２０の炭素含有基および
ｅ：  ０〜４０の自然整数
である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明おいて、Ｃ１〜Ｃ２０の炭素含有基は、好ましくはＣ１〜Ｃ２０のアルキル残基、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｓ−ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−オクチルまたはシクロオクチルであり、Ｃ１〜Ｃ２０のアルケニル、特に好ましくはエテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル、オクテニルまたはシクロオクテニルであり、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキニル、特に好ましくはエチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニルまたはオクチニルであり、Ｃ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル、特に好ましくはトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルまたは２，２，２−トリフルオロエチルであり、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール、特に好ましくはフェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラセニル、トリフェニレニル、［１，１’；３’，１’’］トリフェニル−２’−イル、ビナフチルまたはフェナントレニルであり、Ｃ６〜Ｃ２０のフルオロアリール、特に好ましくはテトラフルオロフェニルまたはヘプタフルオロナフチルであり、Ｃ１〜Ｃ２０のアルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｓ−ブトキシまたはｔ−ブトキシであり、Ｃ６〜Ｃ２０のアリールオキシ、特に好ましくはフェノキシ、ナフトキシ、ビフェニルオキシ、アントラセニルオキシ、フェナントレニルオキシであり、Ｃ７〜Ｃ２０のアリールアルキル、特に好ましくはｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、２，６−ジメチルフェニル、２，６−ジエチルフェニル、２，６−ジ−ｉ−プロピルフェニル、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル、ｏ−ｔ−ブチルフェニル、ｍ−ｔ−ブチルフェニル、ｐ−ｔ−ブチルフェニルであり、Ｃ７〜Ｃ２０のアルキルアリール、特に好ましくはベンジル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチルまたはナフタリニルメチルであり、Ｃ７〜Ｃ２０のアリールオキシアルキル、特に好ましくはｏ−メトキシフェニル、ｍ−フェノキシメチル、ｐ−フェノキシメチルであり、Ｃ１２〜Ｃ２０のアリールオキシアリール、特に好ましくはｐ−フェノキシフェニルであり、Ｃ５〜Ｃ２０のヘテロアリール、特に好ましくは２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、キノリニル、イソキノリニル、アクリジニル、ベンゾキノリニルまたはベンゾイソキノリニルであり、Ｃ４〜Ｃ２０のヘテロシクロアルキル、特に好ましくはフリル、ベンゾフリル、２−ピロリジニル、２−インドリル、３−インドリル、２，３−ジヒドロインドリルであり、Ｃ８〜Ｃ２０のアリールアルケニル、特に好ましくはｏ−ビニルフェニル、ｍ−ビニルフェニル、ｐ−ビニルフェニルとし、Ｃ８〜Ｃ２０のアリールアルキニル、特に好ましくはｏ−エチニルフェニル、ｍ−エチニルフェニルまたはｐ−エチニルフェニルであり、Ｃ２〜Ｃ２０のヘテロ原子含有基、特に好ましくはカルボニル、ベンゾイル、オキシベンゾイル、ベンゾイルオキシ、アセチル、アセトキシまたはニトリルである。但し、一つ以上のＣ１〜Ｃ２０の炭素含有基が環状系を形成していてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明において、架橋性のＣ１〜Ｃ２０炭素含有基は、好ましくはＣ１〜Ｃ２０のアルキレン、特に好ましくはメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、シクロペンチレン、ヘキシレンまたはシクロヘキシレンであり、Ｃ１〜Ｃ２０のアルケニル、特に好ましくはエテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニルまたはシクロヘキセニルであり、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキニル、特に好ましくはエチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルまたはヘキシニルであり、Ｃ１〜Ｃ２０のアリール、特に好ましくはｏ−フェニレン、ｍ−フェニレンまたはｐ−フェニレンであり、Ｃ１〜Ｃ２０のヘテロ原子含有基、特に好ましくはカルボニル、オキシカルボニル、カルボニルオキシ、カルバモイルまたはアミドである。