【手続補正書】
【提出日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  場合により官能基で置換されている芳香族基を表面に結合させることにより、表面が修飾された金属材料であって、表面と、それを修飾する芳香族基との間の結合が、超音波洗浄に耐えるような共有結合型の炭素−金属結合である、金属材料。
【請求項２】  表面と、それを修飾する芳香族基との間の結合が、アノード掃引を、金属材料の表面を形成する金属の腐蝕電位から出発して実施すると、前記金属の検出しうる量の溶解に関与するが、前記結合を破壊しない、少なくとも１つの電位があるような性質である、請求項１記載の金属材料。
【請求項３】  表面と、それを修飾する芳香族基との間の結合の性質が、表面が修飾された金属材料に、腐蝕電位から、約７５mV、よりアノードの電位までの範囲でアノード掃引を適用すると、前記結合の破壊は生じないが、金属材料の表面を形成する金属の検出しうる量の溶解があるような性質である、請求項２記載の金属材料。
【請求項４】  芳香族基が、場合により１個以上の官能置換基で置換されているＣ6−Ｃ14芳香族残基であるか、または場合により酸素、窒素、硫黄もしくはリンから選択される１個以上のヘテロ原子を含む１個以上の官能置換基で置換されている４〜１４個の原子を有するへテロ芳香族残基である、請求項１〜３のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項５】  芳香族基が：
−  場合により、１個以上の二重または三重結合を含み、場合により、以下の基：カルボキシル、ＮＯ2、ジ置換保護アミノ、モノ置換保護アミノ、シアノ、ジアゾニウム、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、１〜２０個の炭素原子を有するアルキルカルボニルオキシ、場合によりフッ素化されているビニルまたはアリル、ハロゲン原子により置換されている、１〜２０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の脂肪族基、
−  場合により、以下の基：カルボキシル、ＮＯ2、ジ置換保護アミノ、モノ置換保護アミノ、シアノ、ジアゾニウム、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、１〜２０個の炭素原子を有するアルキルカルボニルオキシ、場合によりフッ素化されているビニルまたはアリル、ハロゲン原子により置換されている、アリール基、
−  以下の基：カルボキシル、ＮＯ2、ジ置換保護アミノ、モノ置換保護アミノ、シアノ、ジアゾニウム、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル、１〜２０個の炭素原子を有するアルキルカルボニルオキシ、場合によりフッ素化されているビニル、ハロゲン原子
からなる群より選択される１個以上の置換基を有する、請求項１〜４のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項６】  芳香族基が、直接基質と反応することができる１個以上の置換基か、または、変換後に基質と反応することができる１個以上の前駆置換基を有し、前記基質が、有機樹脂、生物学的分子、化学的分子または錯生成剤からなる群より選択される、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項７】  芳香族基が、有機樹脂と直接反応することができ、かつアリルもしくはビニル基、−（ＣＨ2）n−ＣＯＯＨ、−（ＣＨ2）n−ＣＨ2−ＯＨ、（ＣＨ2）n−ＮＨ2（ここで、ｎは０〜１０の整数である）からなる群より選択される１個以上の置換基か、または変換後に有機樹脂と反応することができ、かつＮＯ2、Ｎ2+、（ＣＨ2）n−ＣＮ、（ＣＨ2）n−ＣＨＯ、（ＣＨ2）n−ＣＯＯＰｒ（ここで、Ｐｒは保護基である）、（ＣＨ2）n−ＮＨＰ′ｒ、（ＣＨ2）n−Ｎ（Ｐ′ｒ）2、（ＣＨ2）n−Ｎ＝Ｐ″ｒ（ここで、Ｐ′ｒおよびＰ″ｒは保護基であり、ｎは１〜１０の整数である）からなる群より選択される１個以上の前駆置換基を有する、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項８】  芳香族基が、生物学的分子と直接反応することができ、かつ−（ＣＨ2）n−ＣＯＯＨ、（ＣＨ2）n−ＮＨ2（ここで、ｎは０〜１０の整数である）からなる群より選択される１個以上の置換基か、または変換後に生物学的分子と反応することができ、かつＮＯ2、Ｎ2+、（ＣＨ2）n−ＣＮ、（ＣＨ2）n−ＣＨＯ、（ＣＨ2）n−ＣＯＯＰｒ（ここで、Ｐｒは保護基であり、ｎは０〜１０の整数である）からなる群より選択される１個以上の前駆置換基を有する、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項９】  芳香族基が、機能性有機分子と直接反応することができ、かつＮＯ2、（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ2、（ＣＨ2）n−ＣＮ、（ＣＨ2）n−ＣＨＯ、（ＣＨ2）n−ＣＯＯＨ、（ＣＨ2）n−ＣＨ2ＯＨ、（ＣＨ2）n−ＮＨ2（ここで、ｎは０〜１０の整数である）、ＳＯ2Ｈ、ＳＯ3Ｈ、ＳＯ2Ｒ、ＳＯ3Ｒ（ここで、Ｒは１〜２０個の炭素原子を有する脂肪族または芳香族炭素鎖である）からなる群より選択される１個以上の置換基か、または変換後に機能性有機分子と反応することができ、かつＮＯ2、（ＣＨ2）n−ＣＯＮＨ2、（ＣＨ2）n−ＣＯＯＰｒ（ここで、Ｐｒは保護基である）、（ＣＨ2）n−ＮＨＰ′ｒ、（ＣＨ2）n−Ｎ（Ｐ′ｒ）2、（ＣＨ2）n−Ｎ＝Ｐ″ｒ（ここで、Ｐ′ｒおよびＰ″ｒは保護基である）、（ＣＨ2）n−ＣＮ、（ＣＨ2）n−ＣＨＯ、（ＣＨ2）n−ＣＯＯＨ、（ＣＨ2）n−ＣＨ2ＯＨ（ここで、ｎは０〜１０の整数である）、ＳＯ2Ｐｒ、ＳＯ3Ｐｒ（ここで、ＰｒはＲの意味から選択される保護基である）からなる群より選択される１個以上の前駆置換基を有する、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項１０】  芳香族基が：
【化１】
2003522832.tif 000001
より選択される、請求項１〜９のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項１１】  金属が、純金属または合金、特に、鉄、ニッケル、白金、金、銅、亜鉛、コバルト、チタン、クロム、銀、ステンレス鋼、チタン合金、クロム−コバルト合金、モリブデン、マンガン、バナジウムから選択される、請求項１〜１０のいずれか１項記載の金属材料。
【請求項１２】  請求項１〜１１のいずれか１項記載の表面が修飾された金属材料を得るための金属材料の表面修飾法であって、金属材料を溶媒中のジアゾニウム塩溶液と接触させて、そして同じくジアゾニウム塩溶液と接触させたアノードに比して、金属材料を負に分極させることによって（場合により、例えば、隔膜または膜を介して、アノードとカソードを互いから分離することができる）、芳香族基を含有するジアゾニウム塩の電気化学的還元により、前記材料の表面に芳香族基を結合させることからなることを特徴とする方法。
【請求項１３】  電気化学的反応が電解質の存在下に行われ、場合によりアノード部およびカソード部が分離され、アノード部が溶媒および電解質を含み、かつカソード部が溶媒、電解質およびジアゾニウム塩を含むことを特徴とする、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  ジアゾニウム塩が、式：ＡｒＮ+2Ｘ-（式中、Ａｒはジアゾニウム塩の芳香族基を表し、Ｘはアニオンを表す）に対応し、ジアゾニウム塩が、ジアゾニウム塩の芳香族基に対応するラジカルＡｒの還元電位より負ではない還元電位を有し、ジアゾニウム塩のアニオンＸ-が、ハロゲン、硫酸塩、リン酸塩、過塩素酸塩、テトラフルオロホウ酸、カルボン酸塩およびヘキサフルオロリン酸塩から有利に選択されることを特徴とする、請求項１２または１３記載の方法。
【請求項１５】  電気化学的手段により、表面が芳香族アミノ化基で修飾された金属材料を製造するための、請求項１２〜１４のいずれか１項記載の方法であって、芳香族ジアゾニウム塩をニトロラジカルで置換すること、およびニトロラジカルのアミノラジカルへの還元があるまで電気化学的還元を保持することを特徴とする方法。
【請求項１６】  ジアゾニウム塩の電気化学的還元を、特に、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびベンゾニトリルからなる群より選択される非プロトン性溶媒中で行う、請求項１２〜１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】  ジアゾニウム塩溶液が、第四級アンモニウム塩またはリチウム塩、特にテトラアルキルアンモニウムテトラフルオロボレートからなる支持電解質を含むことを特徴とする、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】  有機ジアゾニウム塩の電気化学的還元を、酸性媒体中のプロトン性溶媒中で行う、請求項１２〜１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１９】  プロトン性溶媒が、水、メタノール、エタノールもしくはそれらの混合物からなる群より選択されるか、またはプロトン性溶媒と非プロトン性溶媒を混合すること（得られた混合物がプロトン性溶媒の特性を有するものとする）を特徴とする、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】  酸が、硫酸、塩酸、硝酸、亜硝酸、リン酸またはテトラフルオロホウ酸から選択されることを特徴とする、請求項１８または１９記載の方法。