【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年10月24日(2019.10.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラーモジュールであって、
ミラー本体（１）及び光学有効面を有するミラーであり、前記ミラー本体（１）は第１材料を有するミラーと、
前記ミラー本体（１）を対物構造体（８）に接続する、第２材料を有する支持構造（２）とを備え、前記第１材料及び前記第２材料は、それらの熱膨張率（ＣＴＥ）に関して、前記支持構造（２）への前記ミラー本体（１）の接続の領域において２９０Ｋ〜３１０Ｋの温度範囲で０．５×１０−６Ｋ−１未満の差があり、
前記支持構造（２）は、動作中に、該支持構造（２）と前記対物構造体（８）との間の接続部で生じる変形が前記支持構造（２）と前記ミラー本体（１）との間の接続部に０．１％未満の量だけ伝わるように設計されるミラーモジュール。
【請求項２】
請求項１に記載のミラーモジュールにおいて、前記第１材料及び前記第２材料は、それらの熱膨張率（ＣＴＥ）に関して、前記温度範囲で０．３×１０−６Ｋ−１未満の差があることを特徴とするミラーモジュール。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のミラーモジュールにおいて、前記第１材料及び前記第２材料は相互に異なることを特徴とするミラーモジュール。
【請求項４】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のミラーモジュールにおいて、前記第２材料は、前記第１材料の剛性の少なくとも１．１倍大きい剛性を有することを特徴とするミラーモジュール。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のミラーモジュールにおいて、前記ミラー本体（１）は、前記ミラー本体に一体的に形成され、前記支持構造（２）への接続による変形を低減する接続形状部を備えることを特徴とするミラーモジュール。
【請求項６】
請求項５に記載のミラーモジュールにおいて、前記接続形状部はアンダーカットまたはピンの形態で形成されることを特徴とするミラーモジュール。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のミラーモジュールにおいて、該ミラーモジュールは、３０ｎｍ未満の動作波長用に構成されることを特徴とするミラーモジュール。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のミラーモジュールを有することを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項９】
請求項７に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置において、対物構造体（８）と支持構造（２）との間の接続部と光学有効面の中心点との間の最小間隔が、前記支持構造（２）とミラー本体（１）との間の接続部と前記光学有効面との間の最小間隔よりも少なくとも１．５倍大きいことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラーモジュール
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラーモジュール及びかかるミラーモジュールを備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置に関する。
【０００２】
［関連出願の相互参照］
本願は、２０１４年８月２１日付けで出願された独国特許出願第１０  ２０１４  ２１６  ６３１．４号の優先権を主張する。本願の内容を参照により本明細書に援用する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィは、例えば集積回路又はＬＣＤ等の微細構造コンポーネントの製造に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照明デバイス及び投影レンズを有するいわゆる投影露光装置で実行される。この場合、照明デバイスにより照明されたマスク（レチクル）の像を、投影レンズにより、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影レンズの像平面に配置された基板（例えばシリコンウェーハ）に投影することで、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するようにする。
【０００４】
ＥＵＶ領域用に、すなわち、例えば約１３ｎｍ又は約７ｎｍの波長の場合に設計した投影レンズでは、適当な透光性の屈折材料が利用可能でないことにより、ミラーを結像プロセス用の光学コンポーネントとして用いる。
【０００５】
これらのミラーは、ミラー本体（例えばガラスセラミックからなる）及び反射コーティングを有する。結像対象構造のサイズが小さいので、投影系の結像特性には厳しい要件が課される。結像誤差は、ごくわずかにしか許容可能でない。
【０００６】
アクチュエータにより位置に関して全６自由度内で調節できないミラー（「未調節ミラー」）を有するＥＵＶ領域用のミラーモジュールは、概して、ミラーが複数の結合要素を介して対物構造体に接続されるように設計される。結像要素は、ミラーと対物構造体との熱膨張率（ＣＴＥ）が異なることに起因した異なる熱膨張を補償すると共に、ミラー及び対物構造体の接続に必要な保持力を伝達する役割を実質的に有する。これらの結合要素は、種々の材料から製造することができる。特殊金属結合要素は、比較的低い熱膨張率を提供するが、非金属結合要素と比べて磁歪性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置に組み込まれた場合に、生じる結像誤差ができる限り小さいミラーモジュールを提供するという目的に基づく。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の本発明によるミラーモジュールは、
ミラー本体及び光学有効面を有するミラーであり、ミラー本体は第１材料を有するミラーと、
ミラー本体を対物構造体に接続する、第２材料を有する支持構造と
を有し、第１材料及び第２材料は、それらの熱膨張率（ＣＴＥ）に関して、支持構造へのミラー本体の接続の領域において動作中のミラーモジュールが達する動作温度付近の温度範囲で０．５×１０−６Ｋ−１未満の差がある。
【０００９】
一実施形態によれば、第１材料及び第２材料は、それらの熱膨張率（ＣＴＥ）に関して、この温度範囲で０．３×１０−６Ｋ−１未満、特に０．１×１０−６Ｋ−１未満の差がある。
【００１０】
一実施形態によれば、温度範囲は、動作温度の±１Ｋ、特に±５Ｋ、さらに特に±１０Ｋの範囲を含む。
【００１１】
一実施形態によれば、第１材料及び第２材料は相互に異なる。
【００１２】
一実施形態によれば、第２材料は、第１材料の剛性（又は硬度）の少なくとも１．１倍大きい、特に少なくとも１．２倍大きい、さらに特に少なくとも１．５倍大きい剛性（又は硬度）を有する。
【００１３】
本発明は、温度変化の場合に、支持構造とミラー本体との間に存在する熱膨張率の差に起因し得る不可避の拘束力をミラー本体に及ぼさないために、特に剛直な支持構造を実現するという概念に特に基づく。同時に、できる限り低く均一な熱膨張又はいわゆる「ゼロクロス温度」に関して最適な特性を有する材料を、ミラー本体の材料に選択することができる（これらの材料は通常は比較的低剛性である）。
【００１４】
本発明は、特に剛直な支持構造の実施を、対応して大きな体積又は対応する形状を有する支持構造を設けることにより行うことができるが、これが材料費及び製造費の増加並びに設置空間要件の増加に結び付くというさらなる考えに基づく。一方、本発明は、使用材料の目標通りの選択により特に剛直な支持構造を設けるという概念を追求し、その場合は支持構造とミラー本体との間に適当な継手を設けることができる。
【００１５】
ミラー本体の第１材料は、例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）ドープ石英ガラスとすることができ、例として、商標名ＵＬＥ（登録商標）（Corning. Inc.）で市販されている材料を用いることができる。さらに、商標名Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）（Schott AG）で市販されているガラスセラミック材料を用いることもできる。本発明によれば、支持構造に適した材料は、特にコーディエライト、Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）、及び非晶質石英ガラス（ＳｉＯ２）である。
【００１６】
ＵＬＥ（第１材料として）からのミラー本体の作製の場合、第２材料としてのＺｅｒｏｄｕｒ使用時の第１材料の弾性率に対する支持構造の第２材料の弾性率の比に関しては、１．３３という値が得られ、第２材料としてのコーディエライト使用時には２．１という値が得られる。Ｚｅｒｏｄｕｒ（第１材料として）からのミラー本体の作製時には、第２材料としてのコーディエライトの使用に関して１．５５という弾性率の比が得られる。
【００１７】
好ましくは、本発明による支持構造の特に剛直な形成により、支持構造と対物構造体との間の接続点において動作中に、例えば機構の加熱中に生じる変形（すなわち局所シフト）は、支持構造とミラー本体との間の接続点に０．１％未満の量しか伝わらない。換言すれば、支持構造は、好ましくは非常に剛直に構成されるので、支持構造と対物構造体との間の領域で生じる変形（例えば熱誘起変形）のうち０．１％未満しか支持構造とミラー本体との間の接続点で生じない。
【００１８】
一実施形態によれば、少なくとも１つの分離要素が支持構造とミラー本体との間に配置される。特に、複数の分離要素を設けることもできる。単なる例として、少なくとも１つの分離要素はピンとして構成することができる。さらに他の実施形態では、少なくとも１つの分離要素は、支持構造と一体的に形成することもできる。
【００１９】
さらに、例えばブシュ等の付加的な要素を支持構造とミラー本体との間に配置することもできる（すなわち、支持構造及びミラー本体は、必ずしも相互に直接接続される必要はない）。
【００２０】
一実施形態によれば、ミラーモジュールは、３０ｎｍ未満、特に１５ｍ未満の動作波長用に構成される。
【００２１】
本発明はさらに、上記特徴を有するミラーモジュールを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置にも関する。
【００２２】
一実施形態によれば、対物構造体と支持構造との間の接続部と光学有効面の中心点との間の最小間隔は、支持構造とミラー本体との間の接続部と光学有効面との間の最小間隔よりも少なくとも１．５倍大きく、特に２倍大きく、さらに特に３倍大きい。
【００２３】
結果として、ミラー本体から見た場合、支持構造と対物構造体との間の接続部は、ミラー本体と支持構造との間の接続部よりも実質的に「外側に」位置付けられる（その結果として、ミラー本体から見た場合、熱誘起傾斜運動が対応して大きな半径で生じる）。
【００２４】
本発明による投影露光装置の設計により、ミラーの加熱による支持構造の加熱が有利に低減される。支持構造は、ミラー面中心から大きな距離でミラー本体を受けることができ、その結果として、従来の設計と比べてミラー面の向きの熱誘起変化の低減が得られる。さらに、ミラーの結像特性に対する支持構造の磁歪特性の効果も達成される。
【００２５】
本発明に従って構成されたミラーモジュールは、特に、ウェーハ露光区域に最も近いミラーであり得る。この場合、本発明によれば、対物構造体に結合されて対物構造体の変形として現れる外乱をウェーハ露光区域の領域に及ぼさないこと、またさらに、破壊的な相互作用効果、特に電磁場の結合をウェーハ露光区域の領域から主に排除することが可能となる。
【００２６】
実施形態において、対物構造体は、２７０Ｋ±３０Ｋの温度で０．７０ｐｐｍＫ−１未満の線熱膨張率を有する材料から製造することができる。対物構造体は、この目的で、特に商標名Ｉｎｖａｒ（又はＳｕｐｅｒｉｎｖａｒ）（Aperam alloys Imphy、フランス）で市販されている鉄−ニッケル合金から製造することができる。
【００２７】
本発明による概念に基づき、支持構造及び／又はミラー本体を磁歪材料から製造することがさらに可能である。
【００２８】
ウェーハ露光区域に最も近いミラーは、ウェーハ露光区域から離れる方向に光反射を引き起こすように配置することができる。このミラーにより反射された光は、続いてさらに別のミラーへ誘導されて当該さらに別のミラーにより露光対象のウェーハへと反射される。このミラーのうちウェーハ露光区域に近い方のミラー面は、ビーム経路において次の、好ましくは最後のミラーの表面よりも小さいことが好ましい。結果として、ミラー面から遠く離れた領域での対物構造体へのミラー本体の非常に剛直な接続を達成できつつも、その過程でミラー本体の熱膨張が制限されることもミラー本体が支持構造により変形されることもない、ＥＵＶ投影露光装置用のミラーモジュールをここで設けることが可能である。
【００２９】
ミラーモジュールの動作温度は、例えば、２９０Ｋ〜３１０Ｋの範囲、特に約３００Ｋであり得る。
【００３０】
支持構造は、対物構造体に対する結合点での取付け時の高レベルの固有剛性と同時に小質量を特徴とすることが好ましい。したがって、支持構造の第１固有振動数は、支持構造の剛直部分に対する接触点域での取付け時のミラーの第１固有振動数よりも大きいことが好ましく、補償要素がミラーに属する。支持構造がミラー面の側に位置付けられる場合、上記支持構造は、非円形トーラス状に構成されることによりリングの形態に近い基本体を備えるよう構成できることが好ましい。トーラスは、この場合、ミラー面の面積割合の０．６４倍よりも大きい、好ましくは少なくとも０．８倍〜１．４倍である開口断面を有するトーラス開口を区画するよう構成することができる。結果として、支持構造は、対応する投影露光装置の動作を通して、ミラーへ指向された放射線により捉えられないか、又はわずかに捉えられるだけである。トーラス開口の輪郭は、この場合、ミラー本体を捉える電磁放射線によりトーラスができる限り捉えられないが、高度の剛性を達成するためにできる限り小さい開口断面を有するように整合され得る。
【００３１】
支持構造のこのトーラス状構成の場合、さらに有利なことに、結合部が非常に剛直な構造の一体コンポーネントを形成し、したがって相互に対して高度の剛性で位置決めもされるように、支持構造を形成する基本体と一体的に結合部を製造することが可能である。
【００３２】
本発明による投影露光装置では、対物構造体自体は、ミラー本体の材料とは異なる材料を含む。本発明による解決概念により、支持構造の一体コンポーネントとして実現され且つミラーを支持する分離要素がミラー中心からできる限り遠くに配置されるように、ミラーを懸架することが可能となる。この手法は、磁場が通常はミラー近傍で最も顕著であることから磁気歪みに関する利点と、ミラー加熱によりミラーの温度が最高であることから熱膨張に関する利点との両方をもたらす。さらに、相互から遠く離れた分離要素又は支持要素における軸方向膨張が、ミラーの傾斜をあまり発生させない。
【００３３】
ミラー及び支持フレームの分離は、ミラーの製造に好都合であり、製造及び設置の両方の観点からモノリシック実施形態よりも費用的に有利である。必要な継手の領域においていずれにせよ生じる変形を、機械的応力を少なくとも部分的に補償する機械的インタフェース（例えば、ピン形状、突出リングショルダ）を介してこの場合は補償することができる。
【００３４】
投影露光装置の動作中に例えばＥＵＶ光からの入熱により支持構造よりも大きくミラー本体が加熱された場合、支持構造も能動的に焼き戻されることにより支持構造と光学素子との間に結果として生じ得る応力を回避することができる。結果として、光学素子の光学的に関連する変形を回避することができる。
【００３５】
本発明のさらに別の態様によれば、生じた可能性のある不正確な位置決め又は別の形での変形を（例えば光学素子のフィードフォワード制御／調節により）回避又は補償するために、例えば光学素子、支持構造、及び保持機構の局所加熱が、ミラーモジュール、特に支持構造及びミラー本体の領域に設けられた温度センサにより検出される。
【００３６】
ミラーは、粘着接続、例えば最終接着結合により支持構造に直接接続することができる（但し、本発明はそれに限定されない）。接合効果の分離は、例えばアンダーカットにより区画されてミラー本体と一体的に製造された中実又は中空のピンの形態の、上記幾何学的インタフェースを介して行われる。この代替として、又はこの手法と組み合わせて、ミラー本体に作用する力の出力又は低減を、付加的な付属要素、特にブシュを組み込むことにより達成することもできる。
【００３７】
ミラー本体への支持構造のアーム状結合部の接続が、ミラー本体のうちミラー面の光学機能領域から径方向に突出する部分を介して行われる場合、ミラー軸の方向に測定した場合のこれらの接続区域における上記ミラー本体の厚さを減らして、強制変形が脆弱領域で起きてミラー面を支持する領域に及ばない（又は及ぶ範囲がはるかに小さい）ようにすることも特に可能である。
【００３８】
支持構造は、磁歪性が小さい可能性のある磁歪材料から非常に剛直なコンポーネント部品として製造されることが好ましい。しかしながら、支持構造が複数の最初は少なくとも部分的に別個に製造されたコンポーネント部品部分から構成されることも可能である。
【００３９】
ミラー本体への支持構造の接続は、２つのコンポーネント部品をミラーモジュールの動作に向けた動作温度まで最初に完全に加熱することにより行われることが好ましい。さらに、対物構造体への取付けに必要な取付け力を支持構造に加えることにより、その変形への寄与がミラー本体における応力を引き起こさないようにすることができる。特に、ミラー本体と支持構造との間の接続は、コンポーネント部品を設置状態に対応する空間的向きにして、コンポーネントの接続を動作中の負荷にできる限り近くなる負荷・応力状態で行うことにより行うことができる。
【００４０】
さらに別の態様によれば、本開示は、ミラー本体とミラー本体を対物構造体に接続する支持構造とを有するミラーモジュールを備えた、投影露光装置を作動させる方法であって、投影露光装置の動作中に、ミラー本体の熱状態を検出し、支持構造をミラー本体の熱状態に従って能動的に焼き戻す方法にも関する。
【００４１】
結果として、支持構造及びミラー本体の熱変形を相互に同期させることができ、ミラー本体により支持されたミラー面の光学的に関連する変形が回避される。
【００４２】
この方法の範囲内で、支持構造及びミラー本体における温度センサにより局所加熱を検出し、且つ生じた可能性のある不正確な位置決め又は変形を調節により回避又は補償することも可能である。
【００４３】
本説明に関連して、用語「熱膨張率」及び「ＣＴＥ」は、ミラー又は支持構造の各材料の線膨張率を示す。これは、長さ変化と温度変化との間の材料固有の比例定数である。
【００４４】
本説明に関連して、ミラー軸又は主ミラー軸に言及する場合、この軸は、第１にミラー面の面積重心を通り、第２に下記の基準面に対して垂直である。上記基準面は、ミラー面に近い平面と実質的に平行に延びる。この基準面は、ミラー面を基準面に投影した場合にミラー面と基準面との間の投影の上下の空間で同じ空間体積が得られるようにミラー面を通る。
【００４５】
本発明のさらに他の構成は、説明及び従属請求項に記載されている。
【００４６】
添付図面に示す例示的な実施形態を参照して、本発明を以下でより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】ミラー本体と対物構造体にミラー本体を接続する支持構造とを備えた、本発明によるミラーモジュールの斜視図を示す。
【図２】支持構造及びミラー本体を結合する結合部の領域のミラーモジュールの設計を説明する簡略断面図を示す。
【図３】対物構造体へのミラー本体の接続の本発明による概念をさらに詳細に説明する概略図を示す。
【図４】ビーム経路の最後の２つのミラーの領域におけるマイクロリソグラフィ投影露光装置の設計を説明する概略図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
図１は、本発明によるミラーモジュールの設計を示す。このミラーモジュールは、ＥＵＶ投影露光装置の一部であり、ミラー面１ａを支持する比較的中実なミラー本体１と、ミラー本体１を対物構造体に接続する支持構造２とを備え、対物構造体はこの図にはこれ以上詳細には示さない（図３の参照符号８を適宜参照）。本発明によるこのミラーモジュールにおいて、支持構造２及びミラー本体１は、複数の結合部２ａ、２ｂ、２ｃを介して相互に接続され（結合部２ｃはミラー本体１で隠れている）、これらの結合部２ａ、２ｂ、２ｃは、ミラー面１ａの面積中心Ｚからのその各距離ａ１、ａ２、ａ３がミラー本体１のミラー面１ａに面積が同等である円の半径の０．８倍よりも大きいように位置決めされる。
【００４９】
ここで図示する本発明によるミラーモジュールはさらに、支持構造２が閉鎖トーラス状に構成された基本体を有するように設計される。トーラスは、ミラー面１ａの面積部分の０．６４倍よりも大きな開口断面を有する、この場合は略矩形のトーラス開口を区画するように具現される。結合部２ａ、２ｂ、２ｃは、この例では、支持構造を形成する基本体と一体的に形成される。この点で、上記結合部は、支持構造のリング状の基本体と同じ材料からなる。ミラー本体１の材料及び支持構造２の材料は、このミラーモジュールを構成部品とする対応するＥＵＶ投影露光装置の動作中に達する動作温度付近で、材料のＣＴＥの差が０．５×１０−６Ｋ−１未満、特に０．１×１０−６Ｋ−１未満の値であるように相互に整合される。この場合のミラーモジュールの動作温度は、結合部２ａ、２ｂ、２ｃの接続領域においてミラー本体で設定されるミラー本体の平均材料温度に相当する。さらに、支持構造２は、ミラー本体１よりも高い構造機械的剛性を有するように設計される。この例では、ミラー面１ａは、ミラー本体１のうち支持構造２に面する側に位置付けられ、ビームアクセスは、支持構造２により区画された開口３を介してなされる。
【００５０】
対物構造体に対する接続区域４、５、６（接続区域６はこの図ではミラー本体１で完全に隠れている）の位置及び構成に関して、支持構造２は、操作力の一部として生じる対物構造体に対する支持構造２の接続の変形割合が、支持構造２の結合部２ａ、２ｂ、２ｃとミラー本体１との間の接続領域に０．１％未満程度まで伝わるように設計される。対物構造体への支持構造の固定は、接続区域４、５、６の領域における支持構造２の変形ができる限り小さい状態で行われる。接続区域４、５、６は、ミラー面１ａの面積重心から非常に遠く離れているので、接続区域４、５、６の支持中心により規定される基準面へのミラー面１ａの光学関連領域の投影外にある。
【００５１】
図２に関連してより詳細に述べるように、支持構造２へのミラー本体１の接着結合又は別のタイプの接続を通して得られる応力を出力又は低減するための結合形状部が、支持構造２の結合部２ａ、２ｂ、２ｃに対する各接続の領域においてミラー本体１に形成される。結合部２ａ、２ｂ、２ｃは、図示のように、支持構造２と一体的に形成されたアーム部として構成されることが好ましい。ここで図示する例示的な実施形態では、各アーム部は、相互に対して斜めに設定されて貫通開口２ｂ３を画定する２つの肢２ｂ１、２ｂ２を有するいわゆる二脚構造を形成する。
【００５２】
ここで図示する実施形態からの逸脱として、ミラー本体１は、ミラー面１ａの面積重心を通るミラー軸Ｘの方向から見た場合に非円形断面を有するように構成することもできる。この場合は支持構造２の結合部２ａ、２ｂ、２ｃに接続されたミラー本体１の部分１ｂ、１ｃ、１ｄは、その場合、例えば径方向に突出する支持部として具現することができ、これらは、その際にミラー軸Ｘに対して垂直な平面内にトーラス開口３の投影よりも径方向に突出する。
【００５３】
ミラー本体１を支持する支持構造２の結合部２ａ、２ｂは、トーラス開口３に関して支持構造の相互に反対側に位置付けられる。これらの結合部２ａ、２ｂへのミラー本体１の接続は、ここで図示するように、すなわちミラー本体１に対するトーラス開口３の垂直投影外にあるミラー本体１の領域で行われることが好ましい。ミラー本体の外形輪郭が非円形構成である場合、結合部２ａ、２ｂ、及び場合によっては２ｄに接続されたミラー本体１の領域は、ラグの形態で局所的に張り出す部分１ｂ及び１ｃとして働くように構成することができる。これらの結合部２ａ、２ｂは、懸架軸Ｘ１を規定する。二脚としてここで実現された結合部２ａ、２ｂは、この懸架軸Ｘ１に関してある程度の傾斜自由度があるように構成される。この軸Ｘ１に関する傾斜に対するミラー本体１のこの場合の静定的な固定は、この図では隠れている第３結合部２ｃにより達成される。この第３結合部２ｃの幾何学的配置は、第３結合部２ｃの領域でミラー１を支持する力系の中心が軸Ｘ２上に位置付けられるようなものであることが好ましく、この軸Ｘ２は、この場合はＸ１に対して垂直な平面に延び、この場合は結合部２ａ、２ｂの支持中心間の中心に延びる。
【００５４】
対物構造体（ここではこれ以上詳細に図示しない）への支持構造２の接続は、３つの接続領域４、５、６を介して行われる。ミラー本体１への支持構造２の結合も同様に、説明したように３つの接続領域を介して行われることが好ましい。
【００５５】
図２は、結合部２ａの領域における本発明によるミラーモジュールの設計を詳細図の形態で断面により示す。この説明は、図１に示すさらに他の結合部２ｂ及び２ｃの領域におけるミラーモジュールの設計にも当てはまる。
【００５６】
支持構造２の基本体は、ミラー本体１に対して軸方向にオフセットしている。オフセット距離は、各結合部、この場合は結合部２ａにより埋められる。結合部２ａは、ここで図示するように支持構造２の基本体と一体的に形成されることが好ましく、この場合は二脚として構成される。この二脚は２つの肢を形成するが、そのうち「後」肢２ａ２のみをこの図で見ることができる。これらの肢は、図示のように相互に対して傾いて（「斜めに」）配置されることが好ましく、橋頭部２ａ３を介して相互に接続される。
【００５７】
橋頭部２ａ３は、継手７を介してミラー本体１に接続される。この場合は例として円筒形アンダーカット１ｅの形態の、応力の出力に用いられる特殊形状が、ミラー本体１において継手７の近傍で実現される。ここでは単に例として示すこの特殊形状は、継手７の領域における局部応力に起因するミラー面１ａの領域におけるミラー本体１の変形の低減をもたらす。この例示的な実施形態では、継手７は、アンダーカット１ｅ及びミラーボア１ｆにより画定されたリング面に沿って延び、ミラーボア１ｆはボア２ａ４と位置合わせされている。アンダーカットの底部領域１ｇは丸い。アンダーカット１ｅのここで図示する構成の代替として、上記アンダーカットにより区画されたピン１ｈが非円筒形の外側面、特に円錐面により外側を画定されるように、このアンダーカット１ｅを構成することも可能である。
【００５８】
関連温度範囲における熱膨張率がミラー本体１の熱膨張率に相当する材料から特に製造されたピン要素を、ここで図示するボア２ａ４に挿入することが可能である。少なくとも１つの温度センサ及び場合によっては加熱デバイスも、肢２ａ２に接続することができ、この加熱デバイスは、肢２ａ２の温度及び場合によってはその能動温度制御を可能にする。結合部２ａは、足領域２ａ５を介して支持構造のリングトーラスに結合される。リングトーラスのうち足領域２ａ５から離れた側で、完全充填設計と比べてこの領域における支持構造２の剛性を低下させる凹部２ａ６が上記リングトーラスに形成される。
【００５９】
ここに示す変形形態では、ミラー本体１への結合部２ａの接続は突合せ接着結合を介して行われる。結合部２ａとミラー本体１との間のこの接続領域に相補的形状を設けることが可能であり、その相補的形状によりこの接続点の構造力学的特性をさらに調整することができる。これらの相補的形状は、接続領域の支持中心に対して特に円対称な軸プロファイルとして具現することができる。この領域において、さらに他の中間要素を設けることもでき、これらの中間要素自体は、操作力の伝達の過程で生じる材料応力及び変形に関して操作力の伝達に必要なコンポーネント部品負荷に好都合であるか、又はミラー面１ａの光学機能領域で生じる変形ができる限り小さくなるようにこのような負荷に少なくとも影響を及ぼす。
【００６０】
図３は、本発明に従って構成された支持構造を用いた対物構造体へのミラー本体１の接続の概念をより詳細に概略図の形態で示す。ミラー本体１及び支持構造２は、支持構造２を介してＥＵＶ投影露光装置の対物構造体８に固定されたミラーモジュールを形成する。ここで支持構造２及びミラー本体１に用いられる材料の熱膨張率の差は、動作温度で０．５×１０−６Ｋ−１未満、特に０．１×１０−６Ｋ−１未満である。
【００６１】
ミラー本体１は、ミラー本体自体に一体的に形成された（例えば図２に示すように、アンダーカット又はピンの形態の）接続形状部を形成し、これがさらに支持構造２への接続による変形を低減する。支持構造２及びミラー本体１の接続形状部の領域における系の剛性は、ここではばねＳ１として表す。支持構造２は、高度の構造機械的剛性を有する。この剛性は、対物構造体８への接続の領域からの変形の好ましくは０．１％未満の割合しかミラー本体１に関する各継手の領域に伝達されないように調整される。支持構造２は、ミラー本体１よりも高度の構造機械的剛性を有することが好ましい。ここで図示するように、ミラー本体１は、継手を介して支持構造２に直接接続されることが好ましい。局所接合効果からの分離は、例えばアンダーカットにより区画されてミラー本体１と一体的に製造され且つミラー本体１の径方向に張り出した部分１ｂに延びるピンの形態の、上記幾何学的インタフェースを介して行われる。
【００６２】
ミラー本体と支持構造２との間の接続点の位置は、当該接続点がミラー中心からできる限り大きな距離と共にＥＵＶ放射線に能動的に照明されたミラー本体の領域からできる限り大きな距離を得るよう選択される。支持構造２は、結合部２ａ（２ｂ、２ｃ）を高剛性と組み合わせ、適切な場合には、ミラー本体１のうちミラー面１ａに面する側でＥＵＶ放射線により捉えられたままの領域外にリング状構造ができる限り完全に延びるように全体的に構成される。
【００６３】
対物構造体８への接続構造２の接続は、ばね符号Ｓ２で表す。
【００６４】
支持構造２へのミラー本体１の接続は、図示の実施形態では少なくとも３つの支持接続点を介して行われる。対物構造体８への支持構造２の接続も同様に、少なくとも３つの接続点を介して行われる。
【００６５】
図４に示す図は、ウェーハ露光区域ＲＺにおけるウェーハＷを露光するマイクロリソグラフィ投影露光装置の設計を示す。投影露光装置は、この場合、対物構造体８と、ウェーハ露光区域ＲＺから異なる距離に配置された複数のミラーＭ５、Ｍ６を含むミラー機構とを備える。本発明による投影露光装置では、ミラー面１ａの位置に関してウェーハ露光区域ＲＺから最短距離にあるミラー機構のミラーＭ５は、ミラー面１ａを有するミラー本体１とミラー本体１を対物構造体８に接続する支持構造２とを備えたミラーモジュールにより提供される。対物構造体８への支持構造２の接続は、ミラー面１ａがウェーハ露光区域ＲＺから離間しているよりも大きくウェーハ露光区域ＲＺから離間した領域で行われる。「ウェーハ露光区域からの距離」は、この状況ではウェーハ露光区域上の点とミラー面１ａ上の点との間で得られる最短距離を意味すると理解されたい。
【００６６】
ミラーＭ５を備えたミラーモジュールは、ウェーハ露光区域ＲＺから最短距離にあるミラーを有する。このミラーモジュールは、上記支持構造２を備える。支持構造２は、ミラーＭ５のミラー本体１を支持構造２に接続する第１接続部を形成する。支持構造２はさらに、支持構造２を対物構造体８に接続する第２接続部を形成する。
【００６７】
対物構造体８への支持構造２の第２接続部は、ミラー面１ａがウェーハ露光区域ＲＺから離間しているよりも大きくウェーハ露光区域ＲＺから離間した領域に位置付けられる。対物構造体８への支持構造２の接続は、この場合は好ましくは、ミラー面１ａがこのウェーハ露光区域ＲＺから離間している最短距離の１．５倍〜５倍だけウェーハ露光区域ＲＺから離間した領域で行うことができる。
【００６８】
さらに、有利には対物構造体８への支持構造２の接続を、ウェーハ露光区域ＲＺからの第１接続部及び第２接続部の距離間の差の大きさがウェーハ露光区域ＲＺからのミラー面１ａの上記最短距離の４倍未満であるように行うことができる。
【００６９】
対物構造体８への支持構造２の接続を行うことができるウェーハ露光区域からの距離はさらに、ウェーハ露光区域ＲＺからのミラー面１ａの距離よりも、好ましくはミラー面１ａに対して横方向に測定したミラー本体１の平均厚さに少なくとも対応するクリアランスだけ大きい。
【００７０】
ここに示す例示的な実施形態では、支持構造２及びミラー本体は、非磁歪ガラスセラミック材料から製造される。しかしながら、本発明によるミラー本体１の懸架概念に基づき、支持構造はウェーハ露光区域ＲＺから大きな距離を有するので、特に支持構造を、磁歪特性を有する可能性のある材料から製造することも可能である。
【００７１】
図示の例示的な実施形態では、ウェーハ露光区域ＲＺに最も近接したミラー機構のミラーＭ５を介して、ウェーハ露光区域ＲＺから離れる方向に光反射が起こる。ビーム経路で最後から２番目のミラーＭ５を形成するミラーモジュールは、支持構造２及びミラー本体１が複数の結合部２ａ、２ｂ、２ｃを介して相互に接続され、且つこれらの結合部２ａ、２ｂ、２ｃがミラー軸Ｘに関してミラー面１ａの表面中心から径方向に離間するように設計され、ミラー本体１の材料及び支持構造２の材料は、投影露光装置内で結合部２ａ、２ｂ、２ｃの領域においてミラーモジュールがその動作中に達する動作温度付近で、材料のＣＴＥの差が０．５×１０−６Ｋ−１未満の値であるように相互に整合される。この温度の付近は、結合部の領域で投影露光装置の動作中に生じる平均温度に対して±２５Ｋの幅を有する。
【００７２】
本発明のさらに別の態様によれば、有利には、投影露光装置の動作中にミラー本体及び支持構造に関して得られる内部温度分布を求めるか又はこの温度分布を計算によりシミュレートし、続いて支持構造及びミラー本体の熱変形を動作的に起こり得る温度分布の偏差に関して求め且つ／又は計算し、且つ／又は上記変形を近似的にモデリングしてから、相互に接続されているか又は相互に近接したミラー本体及び支持構造の領域の熱誘起位置変化の同期最大値又はできる限り類似した同期性がこれらの温度分布の偏差に関して得られるように、ミラー本体及び支持構造のＣＴＥ特性を相互に整合させることが可能である。この同期性は、設置状態の支持構造及びミラー本体の負荷状態に対応する負荷状態に関して求められることが好ましい。
【００７３】
ミラー本体及び支持構造は、別個の構造として最初に製造されて相互に接続され、例えば上記アンダーカットの形態の幾何学的構造が、ミラー本体への支持構造の接続に用いられるコンポーネント部品区域の領域に形成され、これらの幾何学的構造は、ミラー本体への支持構造の接続から得られる力系からミラー面を支持する領域でのミラー本体の変形が生じた場合に上記変形を回避又は低減する目的を果たす。
【００７４】
本発明が特定の実施形態に関しても記載されている場合、例えば個々の実施形態の特徴の組み合わせ及び／又は交換の結果として多くの変形形態及び代替的な実施形態が当業者には明らかである。それに対応して、本発明のこのような変形形態及び代替的な実施形態も包含され、且つ本発明の範囲が添付の特許請求の範囲及びその等価物の意味にのみ制限されることが当業者には自明である。
【符号の説明】
【００７５】
１  ミラー本体
１ａ  ミラー面
１ｂ  部分
１ｃ  部分
１ｄ  部分
１ｅ  アンダーカット
１ｆ  ミラーボア
１ｇ  底部領域
１ｈ  ピン
２  支持構造
２ａ  結合部
２ｂ  結合部
２ｃ  結合部
２ａ２  肢
２ｂ１  肢
２ｂ２  肢
２ｂ３  貫通開口
２ａ３  橋頭部
２ａ４  ボア
２ａ５  足領域
２ａ６  凹部
３  トーラス開口
４  接続区域
５  接続区域
６  接続区域
７  継手
８  対物構造体
ａ１  距離
ａ２  距離
ａ３  距離
Ｍ５  ミラー
Ｍ６  ミラー
ＲＺ  ウェーハ露光区域
Ｓ１  ばね
Ｓ２  ばね符号
Ｗ  ウェーハ
Ｘ  主ミラー軸
Ｘ１  懸架軸
Ｘ２  軸