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【手続補正書】
【提出日】平成19年12月7日(2007.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大部分がα−Ａｌ２Ｏ３からなるマイクロリソグラフィー投影用対物レンズの端部閉鎖プレート。
【請求項２】
複屈折に関して一軸性である結晶からなる、少なくとも２個の透過性光学素子、特にレンズ（Ｌ）または平面平行プレート（Ｐ）を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズにおいて、少なくとも２個の前記光学素子が、複屈折に関して少なくとも部分的に互いに補償するように選択される異なる結晶材料からなることを特徴とする、マイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項３】
石英結晶からなる少なくとも１個のレンズおよびサファイア結晶からなる少なくとも１個のレンズを有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項４】
第１光学素子の複屈折軸と第２光学素子の複屈折軸がそれぞれ投影用対物レンズ内部の幾何学的光線通路の光軸に対して平行に伸びている請求項２または３記載のマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項５】
前記レンズ（Ｌ）または光学素子（Ｐ）が画像面に最も近い瞳または装置開口（ＡＳ）の画像面に配置されている請求項２から４までのいずれか１項記載のマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項６】
前記レンズ（Ｌ）または光学素子（Ｐ）が画像面（Ｗ）に最も近くにある３つの光学素子の間に存在する請求項２から５までのいずれか１項記載のマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項７】
画像面の数字による開口が１.６より大きく、特に有利に１.８より大きい請求項２から６までのいずれか１項記載のマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項８】
請求項２から７までのいずれか１項記載のマイクロリソグラフィー投影用対物レンズを有するマイクロリソグラフィー投影装置。
【請求項９】
偏光した光が前記結晶レンズまたは結晶光学素子を通過する請求項８記載のマイクロリソグラフィー投影装置。
【請求項１０】
光が接線方向に偏光する請求項９記載のマイクロリソグラフィー投影装置。
【請求項１１】
光が線的に偏光する請求項９記載のマイクロリソグラフィー投影装置。
【請求項１２】
ＭｇＦ２、ＳｉＯ２、ＬａＦ３、サファイア、α−Ａｌ２Ｏ３の結晶からなる群からの材料を主に含有するレンズおよび平面平行プレートからなる群からの少なくとも２個の光学素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズであり、その際前記光学素子の少なくとも１つがα−Ａｌ２Ｏ３からなるマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【請求項１３】
ＭｇＦ２、ＳｉＯ２、ＬａＦ３、サファイア、α−Ａｌ２Ｏ３の結晶からなる群から選択される２種または３種の異なる材料が存在する請求項１２記載のマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナーを付着させた印刷材料（２）を放電させる方法であり、特に、電子写真印刷機用の方法において、
前記印刷材料（２）の特定の領域が放電され、前記印刷材料（２）のトナー密度が高いトナー領域（４，６，８，４０，６０）に、前記印刷材料（２）のトナー密度が低い領域（７）よりも高い放電エネルギが印加されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記印刷材料（２）が、前記印刷材料（２）の搬送方向を横断する方向にて、放電器（１０）により放電されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
印刷機用、特に、電子写真印刷機用の放電器（１０）であり、トナーを付着させた印刷材料（２）を放電させる放電器（１０）において、
前記放電器（１０）が交流電圧および直流電圧によって前記印刷材料（２）を放電させる放電部を有することを特徴とする印刷機用放電器（１０）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の課題は、請求項１および３の特徴により達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ベースと蓋とを有する少なくとも１つの容器、および
ｂ）前記ベースと前記蓋を接続する少なくとも１つのヒンジ手段、
を備える、表面に置き、物質、好ましくは歯科物質を貯蔵および／または運搬するためのパッケージアセンブリであって、
ｃ）前記ベースと前記蓋が少なくとも第１および第２のレバーを備え、前記第１および第２のレバーが、前記容器（２）の本質的にはヒンジ側に設けられ、前記第１および第２のレバーは、それらの自由端が本質的に前記ヒンジから離れる方向に延び、
前記第１および第２のレバーの端部を互いの方に動かすことによって、前記容器を開けることができる、または前記蓋を前記ベースから取り外すことができる、
パッケージアセンブリ。
【請求項２】
前記第２のレバーの端部が、前記第１のレバーから離れる方向に屈曲している、請求項1に記載のパッケージアセンブリ。
【請求項３】
前記アセンブリは、使用者がパッケージアセンブリをリングのように１本以上の指に装着できるように、リング部材を更に備える、請求項１または２に記載のパッケージアセンブリ。
【請求項４】
前記パッケージが、使い捨てアプリケータを備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載のパッケージアセンブリ。
【請求項５】
ブラシに吸収させるように構成されている領域、または、ブラシで成分を混合するためのミキシングキャビティを更に備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパッケージアセンブリ。
【請求項６】
前記容器に少なくとも１種類の歯科物質が予め充填されている、請求項1〜５のいずれか１項に記載のパッケージアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピルなどのための容器であって、容器の外面上に圧縮力を加えることにより解除される閉鎖部を有する容器において、
圧縮力が前記容器の対向する２つの位置の間に加えられ、そして、解除された後の閉鎖部は圧縮力に直角な圧力を加えることにより開封され、前記容器の内部に通じる開口が開くように、圧力は前記閉鎖部を圧縮力の方向に平行な軸の周りを回転させる容器。
【請求項２】
ピルなどのための容器であって、シェル、そのシェルのための閉鎖部、その閉鎖部のためのシェル内の回転軸部、を具備する容器であり、その容器の外面上に圧縮力を加えることにより解除される容器において、
前記閉鎖部は、シェルを密封する閉鎖位置と、ピルなどをシェルの内部から開口を通して供給することが可能な開封位置との間を揺動するよう軸の周りを回転するために設けられ、閉鎖位置に閉鎖部を確実に保持するよう設けられた係合部と、そして圧縮力が係合部を解放するよう加えられ、閉鎖部を閉鎖位置から開封位置へ揺動可能となる、シェルの表面のポイントと、を有する容器。
【請求項３】
閉鎖部を閉鎖位置に保持するために２つの対向する係合部と、そして係合部を解放し、閉鎖部を閉鎖位置から開封位置へ揺動可能とする圧力が加えられる、シェルの表面上の２つの対向するポイントと、を有する請求項２において請求された容器。
【請求項４】
閉鎖部材を解除するために圧力が直接的に加えられる請求項１乃至３のいずれか一つに請求された容器。
【請求項５】
閉鎖部を解除するために適切な屈曲可能なポイントまたは外側部分のポイントまたは容器の部分または容器シェルを通して圧力が加えられる請求項１乃至３のいずれか一つに請求された容器。
【請求項６】
開口が、圧力が加えられる位置に対して前記軸の反対側にある請求項１乃至５のいずれか一つに請求された容器。
【請求項７】
容器は、ピルやピルの一部を安全に保存するために協動して密閉可能である小さな空間を有する請求項１乃至６のいずれか一つに請求された容器。
【請求項８】
小さな密閉可能な空間が閉鎖部に配置された請求項７に請求された容器。
【請求項９】
子供安全性を高めるために閉鎖部材の背面に追加のボタンがある請求項１乃至８のいずれか一つに請求された容器。
【請求項１０】
スリーブまたはチャンネルが容器を保持し、そして容器内に収納されるピルに関する連絡や説明をかかげるために使用される請求項１乃至９のいずれか一つに請求された容器。
【請求項１１】
容器の２つのハーフ部分を互いに近接して配置し、閉鎖部が揺動できるように閉鎖部を部品の間に保持する工程、そしてスリーブまたはチャンネルで２つのハーフ部分をロックする工程、を有する請求項１乃至１０のいずれか一つに請求された容器の形成方法。
【請求項１２】
２つのハーフ部分が屈曲可能なヒンジラインに沿って一緒に接続されており、その結果ヒンジラインの周りで２つのハーフ部分を一緒に折り曲げることにより互いに近接して配置できる請求項１１に請求された方法。
【請求項１３】
２つのハーフ部分が分割物として互いに近接して配置される請求項１１に請求された方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくとも１つの運搬体（１０）と、運搬体（１０）と動作上接続する転動体（１および１’および／または８）とを備えた運搬装置であって、転動体（１および１’および／または８）は複数だが少なくとも２つのローラ（２，２’，２”）を有し、転動体は、少なくとも１つの運搬体の変位中に、ローラ（２，２’，２”）が回転可能である態様でガイドレール（６および６’および／または５’）と少なくとも１つの運搬体との間に配置され、運搬装置は異なる湾曲方向で動作可能であり、
転動体（１，１’）あたり１つの接続体（４）が存在し、接続体（４）はローラ（２）間の距離を決定し、ガイドレール（６，６’，５’）、転動体（１，１’，８）および運搬体（１０）は互いに相対して緩く導かれる、運搬装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の(a)〜(c)のステップからなるタイヤの硬化後の均一性を改良する方法：
(a)タイヤの硬化後のラジアルフォースバリエーションを見積るための一組のベクトル係数を決定し、
(b)下記のサブステップ(i)と（ii）から成るステップで各タイヤの硬化後の均一性を見積り、
(i)  各タイヤの硬化の前のラジアルランアウト特性測定値を測定し、
(ii)ラジアルフォースバリエーションが最適化されるように高調波を選択し、
(c) 下記のサブステップ(i)と（ii）から成るステップで上記のベクトル係数から各タイヤの硬化後の均一性を最適化する：
(i)  最適化基準に従って一つまたは複数のタイヤ成分の装填角度を見積り、
(ii)対応する製造工具上に前記装填角度で前記タイヤ成分を装墳し、タイヤを硬化（cure）させる。
【請求項２】
上記の各タイヤを所定の硬化室方位角度に整合させ、硬化金型中に上記の各タイヤを装墳し、各タイヤに硬化処理をするステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項３】
上記のタイヤ成分がタイヤカーカスから成り、上記工具が第２段のドラムから成る請求項1に記載の方法。
【請求項４】
上記のタイヤ成分がトレッド・ベルト組立体から成り、上記工具が組立型（building form）から成る請求項1に記載の方法。
【請求項５】
上記の最適化基準がタイヤ室エフェクトベクトル（tire room effect vector）の大きさであり、硬化室エフェクトベクトルの大きさに実質的に等しい請求項1に記載の方法。
【請求項６】
上記の最適化基準がタイヤ室エフェクトベクトルの大きさであり、実質的にゼロである請求項1に記載の方法。
【請求項７】
上記のベクトル係数が硬化室エフェクトベクトル（curing room effect vector）から成る請求項1に記載の方法。
【請求項８】
上記の硬化室エフェクトベクトルが硬化前のタイヤエフェクトベクトル、成形ドラムベクトルおよびインターセプトベクトルのベクトル和から成る請求項1に記載の方法。
【請求項９】
ベクトル係数を決定する上記ステップを多変量最小２乗回帰法で行う請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
上記のラジアルランアウト特性を一つまたは複数のタイヤカーカス、タイヤトレッドおよびベルト組立体または最終タイヤで測定する請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
上記のラジアルランアウト特性を仕上げ後のタイヤで測定する請求項1に記載の方法。
【請求項１２】
以下の(a)〜(c)に記載のステップから成るタイヤの均一性を改良する方法：
(a)タイヤの硬化後のラジアルフォースバリエーションを見積るための一組のベクトル係数を決定し、
(b)各タイヤを製造し、
(c)下記のサブステップ(i)〜(iii)から成るステップで各硬化後の均一性を見積り：
(i) 各タイヤの硬化前のラジアルランアウト特性を測定し、
(ii)最適化されるようにラジアルフォースバリエーションの高調波を選択し、
(iii)前記のベクトル係数から硬化後の均一性を見積り、
(c) 各タイヤを所定の硬化室方位角で並べ、硬化金型中に各タイヤを装墳し、各タイヤに硬化処理をする。
【請求項１３】
上記のベクトル係数を決定するステップが下記のサブステップ(i)〜(vi)をさらに有する請求項１２に記載の方法：
(i) タイヤ製造中に、少なくとも一つの所定のステップの間に、複数のタイヤの硬化前のラジアルランアウト特性を測定し、
(ii)各タイヤの硬化金型内での装填角を記録し、各タイヤを硬化し、
(iii)各タイヤのための硬化後のラジアルフォースバリエーションを測定し、
(iv)上記タイヤの硬化前のラジアルランアウトとラジアルフォースバリエーションの少なくとも一つの高調波を抜き出し、
(v)金型中で硬化した上記タイヤの硬化後のラジアルフォースバリエーションに対する硬化前のラジアルランアウトに関する一組のベクトル係数を決定し、
(vi)上記ベクトル係数を格納する。
【請求項１４】
上記の一組のベクトル係数を決定するステップが測定用取付具上のタイヤカーカスの装填角を記録するサブステップをさらに含み、各タイヤの硬化後の均一性を見積るステップ
が測定用取付具上の各タイヤのカーカスの装填角を記録するサブステップをさらに含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
一組のベクトル係数を決定するステップと、硬化後の均一性を見積もるステップとが多重成形ドラムおよび多重硬化キャビティに対応する一組の最少二乗回帰から成る請求項1に記載の方法。
【請求項１６】
各成形ドラムおよび各硬化キャビティのための識別子を記録するステップをさらに含む請求項1に記載方法。
【請求項１７】
一組のベクトル係数を決定するステップが、均一性測定機械上で硬化後のタイヤの装填角を記録するステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１８】
一組のベクトル係数を決定するステップが各タイヤからのデータを繰り返しアップデートすることを含む請求項1に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタ装置であって、
フィルタ筐体（１１）に保持することができ、接続システム（９）によって流体手段に流体接続部（５、７）を経由して流体を運ぶために接続することができ、締結手段（１７、１９）によって前記流体手段に取外し可能に固定することができる、少なくとも一つのフィルタ要素（１３）を具備するフィルタ装置において、
前記締結手段が、前記フィルタ筐体（１１）を回転することによって固定し、外すことが可能なバヨネット式留め金（１７、１９）であることと、
前記接続システム（９）が、遮断の位置においてそれぞれの割当てられた流体接続部（５、７）を遮断し、開の位置に移動した後にそれを外す、少なくとも一つの移動可能な遮断要素（３３）を備えることと、
前記遮断要素（３３）が、前記バヨネット式留め金（１７、１９）を外し、固定するために行われる前記フィルタ筐体（１１）の回転運動によって、前記遮断の位置又は開の位置に移動することが出来ることと、
を特徴とする、フィルタ装置。
【請求項２】
前記遮断要素が、前記流体手段で軸回転する回転ディスク弁（３３）である、請求項１に記載のフィルタ装置。
【請求項３】
前記回転ディスク弁（３３）が、前記接続システムの一部として前記フィルタ筐体（１１）の内部に延伸する、少なくとも一つの接続スリーブ（３７、３９）を有し、動力伝導部として前記回転ディスク弁（３３）に伝達される回転運動を有する、請求項２に記載のフィルタ装置。
【請求項４】
前記フィルタ筐体（１１）が、汚れ側に流体を供給するための入口開口部（４１）と前記フィルタ筐体（１１）から濾過された流体を流出するための出口開口部（４３）とを有し、前記フィルタ筐体の各々の開口部のための前記回転ディスク弁（３３）が、前記割当てられた開口部を貫通する一つの接続スリーブ（３７、３９）を有する、請求項３に記載のフィルタ装置。
【請求項５】
前記入口開口部（４１）と前記出口開口部（４３）とで、前記フィルタ筐体（１１）が、前記閉の位置で前記フィルタ筐体（１１）から流体出口を遮断し、閉じるバネ（５５、５７）によって閉じる位置になるように予め引張られている、各々一つの弁（５１、５３）を有し、前記回転ディスク弁（３３）の各々の接続スリーブ（３７、３９）が、端部側面に前記フィルタ筐体（１１）の内部の軸方向に突出ていて、前記フィルタ筐体（１１）が、前記流体手段に取付けられ、閉じる力に抗して前記閉の位置から前記開の位置へ制御ラグ（４７）を押し進める場合に、前記割当てられた弁（５１、５３）の前記遮断体（４９）と直接接触する、少なくとも一つの制御ラグ（４７）を有する、請求項４に記載のフィルタ装置。
【請求項６】
大方の部分が円筒形状である前記フィルタ筐体（１１）が、前記流体手段に接続される端部で、入口開口部（４１）と出口開口部（４３）とを有する底の部分（４５）によって閉じられ、反対側の端部で、蓋の部分（２３）によって密閉されていて、
前記底の部分（４５）を取り囲む前記筐体（１１）の周縁端面に、前記バヨネット式留め金の構成要素として、互いに正反対に位置する半径方向に突出たバヨネットリブ（１９）があり、さらなる構成要素として、前記流体手段の接続プレート（９）に取付けられ、前記接続プレート（９）で軸回転する前記回転ディスク弁（３３）を取り囲むバヨネットリング（１７）を有し、それによって前記接続プレート（９）に形成される前記流体接続部（５と７）が、固定され外される、請求項５に記載のフィルタ装置。
【請求項７】
前記接続プレート（９）が、油圧タンク（１）の中に設置されるタンクの仕切り部（３）の底部に形成され、前記フィルタ筐体（１１）が、前記底部と、前記タンクの仕切り部（３）にアクセスが可能であるタンクの蓋（１５）との間で保持することができる、請求項６に記載のフィルタ装置。
【請求項８】
前記フィルタ筐体（１１）の蓋の部分（２３）が、前記バヨネット式留め金（１７、１９）を作動する回転運動を行うために、軸方向に突出す取っ手（２５）を有していて、タンクの開く位置とタンクの閉じる位置との間で動くことが可能な前記タンクの蓋（１５）が、前記バヨネット式留め金（１７、１９）の固定位置に一致する前記フィルタ筐体（１１）の唯一の回転位置のために、前記タンクの閉じる位置で前記取っ手（２５）を掴むことが出来るようにする凹部（２７）を有する、請求項７に記載のフィルタ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月18日(2008.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮空気または圧縮ガスを空圧／ガス圧駆動型工具へ供給する空気／ガスラインに設置する使捨てカートリッジ型空気／ガスドライヤー装置において、
圧力容器と、
前記圧力容器に設けた入口ポートと、
前記圧力容器に設けた出口ポートと、
ケーシング、および該ケーシング内に収納された所定量の乾燥組成物を備えて前記圧力容器内にされた使捨てドライヤーカートリッジであって、下側の第１の端部と上側の第２の端部とを有したドライヤーカートリッジと、
前記カートリッジに設けられたハンドルであって、前記カートリッジを前記圧力容器内に挿入する際、或いは、前記カートリッジを前記圧力容器から取出す際に前記カートリッジを下げたり持ち上げるためのハンドルと、
前記圧力容器内に設けられ前記カートリッジの第１の端部を支持するカートリッジ支持面と、
前記圧力容器の上端部分に設けられたカートリッジ受容開口部であって、前記カートリッジの前記圧力容器内への挿入、または、前記カートリッジの前記圧力容器からの取出しのためのカートリッジ受容開口部と、
前記圧力容器の上端部分の前記カートリッジ受容開口部を覆うように前記圧力容器に着脱自在に配置され、かつ、前記カートリッジが前記圧力容器内に配置されているとき、該カートリッジの第２の端部を押えるカバーとを具備した使捨てカートリッジ型空気／ガスドライヤー装置。
【請求項２】
前記入口ポートと前記出口ポートは、各々、前記第１と第２の端部の近傍に配設されている請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記カートリッジは、濾過機能を果たす布帛から形成された袋状ケーシングを具備する請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記カートリッジは、孔が形成されたエンドキャップと、前記各エンドキャップ内に配設されたフィルタ媒体とを有した剛性のケーシングを具備する請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ハンドルは、前記カバーに隣接する前記カートリッジの第２の端部に配設されている請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記カートリッジ支持面はコアレッサー集成体を具備し、該コアレッサー集成体は、前記カートリッジが着座するプレートと、前記プレートに形成された穴であって、空気／ガスを前記カートリッジ内に流入させる穴と、前記プレートから空気／ガスの流路内に突出し、液滴を捕らえる併合バッフルとを具備する請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記圧力容器は、前記コアレッサー集成体の集成体の下側に配設され前記バッフルからの液滴を捕捉する水溜領域と、前記水溜領域から排出するためのドレンポートとを具備する請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記入口ポートが前記コアレッサー集成体よりも下側で、かつ、前記水溜領域よりも上側に配設されており、前記出口ポートが前記前記カートリッジの前記第２の端部近傍において前記カートリッジの側部に隣接、対向するように配設されている請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記圧力容器に設けられた床スタンドまたは壁取付部材を更に具備する請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記圧力容器において前記出口ポートの近傍に設けられた乾燥度表示器を更に具備する請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料流体を使用する電気発生用のバイオ燃料電池であって、
基材と、
該基材で支持され、電子の存在下に酸化剤を還元して水を生成する反応ができるカソードと、
該基材で支持され、該燃料流体を酸化する反応ができるアノードと、
を含み、
前記アノードとカソードのうちの少なくとも1つは、そのそれぞれの反応を行うために使用される酵素を含み、
（ｉ）前記アノードとカソードのうちの少なくとも1つは、電流発生に用いるための燃料流体がその内部を流れるように形成されている；
（ii）カソードは、ミセル構造または逆ミセル構造を含む酵素固定化物質を含む；
または
（iii）アノードおよびカソードの少なくとも1つは約200μm未満の幅を有し、少なくとも1つの表面は、前記表面上に燃料流体および／または酸化剤の対流を誘発することができる不規則な三次元形状を有する
のいずれかであるバイオ燃料電池。
【請求項２】
アノードが、
（a）電子導体と、
（b）還元形態が前記電子導体に電子を放出することができる電子メディエータと、
（c）該電子メディエータの酸化形態および燃料流体と反応して、該燃料流体の酸化形態および前記電子メディエータの還元形態を形成することができる少なくとも1つの酵素と、
（d）該酵素を固定化し安定化することができ、前記燃料流体および電子メディエータに対して透過性であり、所望により電子メディエータを含む酵素固定化物質と、
を含む請求項1に記載のバイオ燃料電池。
【請求項３】
アノードが、
（a）電子導体と、
（b）電子メディエータ
（c）該電子メディエータの酸化形態および燃料流体と反応し、該燃料流体の酸化形態および前記電子メディエータの還元形態を形成することができる少なくとも1つの酵素と、
（c）所望により電子メディエータおよび／または電気触媒を含む酵素固定化物質であって、酵素を固定化し安定化することができ、燃料流体に対して透過性である酵素固定化物質と、
（d）電子導体に近接する電気触媒であって、電気触媒の酸化形態が、電子メディエータの還元形態と反応して、電子メディエータの酸化形態および電気触媒の還元形態を形成することができ、電気触媒の還元形態が電子導体に電子を放出することができる電気触媒と、
を含む請求項1に記載のバイオ燃料電池。
【請求項４】
アノードの電子メディエータが、ピロロキノリンキノン（PQQ）、フェナジンメトスルフェート、ジクロロフェノール、インドフェノール、短鎖ユビキノンまたはフェリシアン化カリウムを含む請求項2に記載のバイオ燃料電池。
【請求項５】
酵素が、CH-OH基またはCH-NH基に作用するオキシドレダクターゼ、デヒドロゲナーゼ、アルコールデヒドロゲナーゼ、アルデヒドデヒドロゲナーゼ、ギ酸デヒドロゲナーゼ、ホルムアルデヒドデヒドロゲナーゼ、グルコースデヒドロゲナーゼ、グルコースオキシダーゼ、乳酸デヒドロゲナーゼ、ラクトースデヒドロゲナーゼ、ピルビン酸デヒドロゲナーゼまたはPQQ−依存性デヒドロゲナーゼを含む請求項1〜4のいずれかに記載のバイオ燃料電池。
【請求項６】
カソードが、
（a）電子導体と、
（b）電子メディエータの還元形態および酸化剤と反応し、該電子メディエータの酸化形態および水を生成することができる少なくとも1つの酵素と、
（c）所望により電子メディエータを含む酵素固定化物質であって、酵素を固定化し安定化することができ、酸化剤透過性であり、電子メディエータの酸化形態は、電子導体から電子を得て電子メディエータの還元形態を形成することができる酵素固定化物質と、
を含む請求項1〜5のいずれかに記載のバイオ燃料電池。
【請求項７】
カソードが、
（a）電子導体と、
（b）電子メディエータの還元形態および酸化剤と反応し、該電子メディエータの酸化形態および水を生成することができる少なくとも1つの酵素と、
（c）電子メディエータ、電気触媒、又は電子メディエータおよび電気触媒のいずれかを含む酵素固定化物質であって、酵素を固定化し安定化することができ、酸化剤透過性であり、電気触媒の酸化形態は、電子導体から電子を得て電気触媒を還元形態とすることができ、該電気触媒の還元形態は電子メディエータの酸化形態と反応し、電子メディエータの還元形態および電気触媒の酸化形態を形成することのできる酵素固定化物質と、
を含む請求項1〜5のいずれかに記載のバイオ燃料電池。
【請求項８】
酵素が、ラッカーゼ、オキシダーゼ、グルコースオキシダーゼ、アルコール系オキシダーゼ、コレステロール系オキシダーゼ、酸素オキシドレダクターゼまたはビリルビンオキシダーゼを含む請求項6または7に記載のバイオ燃料電池。
【請求項９】
燃料流体および／または酸化剤が、バイオ燃料電池中を、約0.01μL/分と約10μL/分との間の流速で移動される請求項1〜8のいずれかに記載のバイオ燃料電池。
【請求項１０】
酵素固定化物質が、ミセルまたは逆ミセル構造を含む請求項2〜9のいずれかに記載のバイオ燃料電池。
【請求項１１】
（ａ）約200μm未満の幅を有する電子導体を含み、少なくとも1つの表面は、該表面上に燃料流体の対流を誘発することができる不規則な三次元形状を有するか、または
（ｂ）幾何学的表面積より少なくとも1.5倍の有効表面積を有する電子導体を含む電極であって、電極の一寸法が100μm未満である
電極。
【請求項１２】
電極の幅が約10μmと50μmとの間である請求項11に記載の電極。
【請求項１３】
電極が炭素系インクを含む請求項11または12に記載の電極。
【請求項１４】
バイオ燃料電池に用いられる電極を形成する方法であって、
基材上で少なくとも1つの電気コネクタを形成すること、
電極を不動態化せず、基材に可逆的に封止されうる物質で構成される非導電性キャスティング金型中に少なくとも1つのマイクロ管路を形成すること、
キャスティング金型を基材に付着することと、
マイクロ管路を介して電子導体溶液を流し込むこと、
電子導体溶液を硬化させ、電極を形成すること、
を含む方法。
【請求項１５】
（ａ）キャスティング金型中のマイクロ管路がソフトリソグラフィーを使用して形成されるか、
（ｂ）基材が平坦であるか、または
（ｃ）電子導体溶液が炭素系インクを含む、
請求項14に記載の方法。
【請求項１６】
さらに、キャスティング金型を取り除き、それを、大きなマイクロ管路を持つガス透過性型と交換することを含む請求項14または15に記載の方法。
【請求項１７】
ガス透過性型中のマイクロ管路がソフトリソグラフィーを使用して形成される請求項16に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器と、
ＥＵＶ生成プラズマ発生器と、
生成ＥＵＶ光を前記容器の一端で中間焦点に集束させる集光器と、
ＥＵＶ光通路があり、かつ前記容器を第１の圧力の区域と第２の圧力の区域に分離する、前記プラズマ発生器と前記中間焦点の間の前記容器内の中間壁と、
を含み、
前記ＥＵＶ開口部は、集束ＥＵＶ光のための通路を含む低圧トラップをそこに有し、かつ前記第１の圧力と前記第２の圧力の間の差による該低圧トラップにわたる圧力降下を維持するように構成されている、
ことを特徴とするＥＵＶ光源。
【請求項２】
更に、前記低圧トラップは、集束させた細い光通路が形成された中実球体の断面を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
更に、前記ＥＵＶ生成プラズマ発生器は、照射サイトに個別のターゲットを送出するターゲット送出機構を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項４】
更に、前記照射サイトは、第１の圧力の区域内にあり、第１の圧力は第２の圧力よりも大きい、
ことを特徴とする請求項３に記載の機器。
【請求項５】
更に、複数の冷間フィンガを含み、前記冷間フィンガは、第１の圧力の区域内にある、
ことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項６】
更に、第２の圧力を維持するための真空ポンプを含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項７】
更に、前記ＥＵＶ生成プラズマ発生器は、照射サイトに液滴を送出するターゲット送出機構を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項８】
更に、前記集光器は楕円ミラーである、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項９】
更に、前記集光器は、前記照射サイトに焦点を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項１０】
更に、前記容器内に配置された複数の冷間フィンガを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月21日(2008.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
OLEDデバイスであって、
(a)金属もしくは合金又はその両方を含む反射性且つ導電性の二層アノードと、
(b)該反射性且つ導電性の二層アノード上に形成された正孔注入構造体と、
(c)該正孔注入構造体上に形成された1つ以上の有機層とを含み、
(d)該反射性且つ導電性の二層アノードが、駆動電圧の安定性を改善するように構成されていること
を特徴とするOLEDデバイス。
【請求項２】
該1つ以上の有機層が発光層及び電子輸送層を含む、請求項1に記載のOLEDデバイス。
【請求項３】
さらに、反射性且つ導電性のカソードを含み、そして該反射性且つ導電性の二層アノードの反射率及び透過率、並びに該1つ以上の有機層及び該カソードの厚さが、光の内部反射を変化させ、これにより発光を改善するように選択されている、請求項1に記載のOLEDデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月17日(2008.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イングルーブ（Ｉｎ−Ｇｒｏｏｖｅ）レコーディング方式またはオングルーブ（Ｏｎ−Ｇｒｏｏｖｅ）レコーディング方式と関される情報を記録媒体の特定領域に記録することになり、
前記特定領域は再書込み可能なブルーレイディスク（ＢＤ−ＲＥ）又は一回記録可能なブルーレイディスク（ＢＤ−Ｒ）のＢＣＡとリードイン領域に皆割り当てられて前記情報が前記ＢＣＡとリードイン領域の内の少なくとも一つから読み出しできるようにすることを特徴とする記録媒体のデータ記録方法。
【請求項２】
前記特定領域は前記リードイン領域のＰＩＣ（Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ＆  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ｄａｔａ）領域に割り当てられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記情報は前記オングルーブレコーディング方式又は前記オングルーブレコーディング方式の代わりに留保された状態を指し示すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
オングルーブレコーディング方式またはイングルーブレコーディング方式と関される情報が記録された特定領域を含み、
前記特定領域は再書込み可能なブルーレイディスク（ＢＤ−ＲＥ）又は一回記録可能なブルーレイディスク（ＢＤ−Ｒ）のＢＣＡとリードイン領域に皆割り当てられて前記情報が前記ＢＣＡとリードイン領域の内の少なくとも一つから読み出しできるようにすることを特徴とする記録媒体。
【請求項５】
前記情報は前記リードイン領域のＰＩＣ（Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ＆  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ｄａｔａ）領域に記録されていることを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項６】
前記情報は前記オングルーブレコーディング方式又は前記オングルーブレコーディング方式の代わりに留保された状態を指し示すことを特徴とする請求項４に記載の記録媒体。
【請求項７】
記録媒体ＢＣＡとリードイン領域の内の少なくとも一つからオングルーブレコーディング方式またはイングルーブレコーディング方式と関される情報を読み出しするが、前記情報は前記ＢＣＡとリードイン領域に皆に記録されている、ステップと、
前記情報に基づいて前記オングルーブレコーディング方式またはイングルーブレコーディング方式のうちの何れかのレコーディング方式が使用されるかを判別するステップ、及び
前記決められた方式によってデータを記録又は再生するステップを含むことを特徴とする記録媒体のデータ記録／再生方法。
【請求項８】
前記情報は前記リードイン領域のＰＩＣ（Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ＆  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ｄａｔａ）領域に記録されていることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記記録又は再生するステップは、前記決められた方式に対応するサーボ動作を制御するステップを含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
記録媒体の特定領域に記録されたデータをオングルーブレコーディング方式に対応する再生方式でデコーディングするステップ（ａ）、及び、
前記再生方式によりデコーディングが正常に遂行されない場合、前記イングルーブレコーディング方式又は前記イングルーブレコーディング方式に対応する方式でデータを記録又は再生するステップ（ｂ）を備えることを特徴とする記録媒体のデータ記録／再生方法。
【請求項１１】
前記特定領域はリードイン領域であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記特定領域は前記リードイン領域内のバイフェーズ方式で変調したＰＩＣ領域であることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ステップ（ｂ）は、前記オングルーブレコーディング方式に対応する再生方式によるデコーディングが正常に遂行されない場合、前記記録媒体のデータ記録又は再生のためのサーボ動作を変更するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
記録媒体または前記記録媒体からのデータを記録するとか読み出しするピックアップと、
前記記録媒体に記録されるデータをエンコーディングして前記記録媒体から読み出しされるデータをデコーディングする記録／再生部と、
記録方式または再生方式を決めて、前記決められた方式にデータを記録するとか読み出しするように前記ピックアップと記録／再生部を制御する制御部を含み、
前記ピックアップと記録／再生部は、前記制御部の制御によって、前記記録媒体のＢＣＡとリードイン領域の内の少なくとも一つからオングルーブレコーディング方式またはイングルーブレコーディング方式と関される情報を読み出しして前記情報をデコーディングして、
前記制御部は前記情報に基づいて記録または再生方式を決めて、
前記情報は前記ＢＣＡとリードイン領域の皆に記録されていることを特徴とする記録媒体のデータ記録／再生装置。
【請求項１５】
前記制御部は前記ピックアップを制御して前記リードイン領域のＰＩＣ領域から前記情報を読み出しすることを特徴とする請求項１４に記載の記録媒体のデータ記録／再生装置。
【請求項１６】
前記記録／制御部は前記制御部の制御によって前記決められた方式に対応するサーボ動作を遂行することを特徴とする請求項１４に記載の記録媒体のデータ記録／再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月7日(2008.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれか一つに記載の鋼−セラミック複合体を高温型燃料電池で使用する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
請求項６〜１０に記載の鋼−セラミック複合体を高温型燃料電池スタックで使用する方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この粉末自体はインタコネクタの上に懸濁物またはペーストの状態で適用する。この目的に適する方法、例えば粉末スプレー法またはドクターブレードまたはローラー塗工が従来技術から公知である。塗工される懸濁物またはペーストに適する層厚さは２０〜１００μｍの範囲内にある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
かゝる鋼−セラミック複合体（１）、即ちＦｅ２２ＣｒＭｎ−Ｌａ０．８Ｓｒ０．２Ｍｎ０．５Ｃｏ０．５Ｏ３−δ−複合体での結果を図１に示す。この複合体は測定開始時に非常に少ない抵抗Ｒ０＝０．００８Ωｃｍ２を示した。全測定期間の間に抵抗は０．００２Ωｃｍ２/ １０００ｈしか変化せず、従って極めて安定している。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
点火電圧を発生するための変圧装置であって、
１次電圧を印加可能な１次巻線（１２）と、
２次電圧が誘導可能な２次巻線（２６）と、
前記１次巻線（１２）及び前記２次巻線（２６）に配置される強磁性コア（２８）と、
前記強磁性コア（２８）の端部（３８）に対向し、前記２次巻線（２６）と結合され、また火花区間と結合可能である電極（３２）と、を有し、
前記強磁性コア（２８）の前記端部（３８）と前記電極（３２）との間に、前記２次電圧によって電場（５０）が形成される変圧装置において、
前記強磁性コア（２８）の前記端部（３８）が、外面（３８ａ）と前面（３８ｂ）との間に連続的に湾曲した移行部を有することを特徴とする変圧装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
特に請求項１〜８のいずれか１項に記載の点火電圧を発生するための変圧装置であって、
前記変圧装置の構成要素の間の中間空間が、合成樹脂と充填材料とを含むシーリング材料（４８）で充填される変圧装置において、
前記充填材料の誘電率が、前記合成樹脂の誘電率の０．５倍〜１．５倍、好ましくは０．８倍〜１．２５倍、特に好ましくは０．９倍〜１．２倍であることを特徴とする変圧装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
特に請求項１〜１４のいずれか１項に記載の点火電圧を発生するための変圧装置であって、
１次電圧を印加可能な１次巻線（１２）と、
２次電圧が誘導可能な２次巻線（２６）と、を有する変圧装置において、
前記１次巻線（１２）と前記２次巻線（２６）との間に、接地電位と結合される導電層（１８）が配置される変圧装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】点火電圧を発生するための変圧装置
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、点火電圧を発生するための請求項１の前提部分による変圧装置に関する。このような変圧装置は、１次電圧を印加可能な１次巻線と、２次電圧が誘導可能な２次巻線と、１次巻線及び２次巻線に配置される強磁性コアと、強磁性コアの端部に対向し、２次巻線と結合され、また火花区間と結合可能である電極とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光時間中フォトレジスト層を露光するのに露光光学系を用い、該露光光学系と露光されるべき該フォトレジスト層（２０）との間に浸漬媒体を挿入し、露光後、現像液を用いて該フォトレジスト層を現像する浸漬リソグラフィー方法であって、該フォトレジスト層（２０）に該フォトレジスト層（２０）と該浸漬媒体との接触を防ぐためのシールド層（３０）を提供する工程を備え、該シールド層は前記露光波長で透明であり且つ該浸漬媒体を通さないことを特徴とする、浸漬リソグラフィー方法。
【請求項２】
前記シールド層（３０）は、前記露光時間中、前記浸漬媒体が前記フォトレジスト層（２０）と接触することを防ぐのに十分な程度に前記浸漬媒体に不溶性である材料で形成される、請求項１に記載の浸漬リソグラフィー方法。
【請求項３】
前記シールド層（３０）は、前記現像液によって除去される材料で形成される、請求項１又は２に記載の浸漬リソグラフィー方法。
【請求項４】
前記浸漬媒体は水であり、前記現像液はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドであり、前記シールド層（３０）はｐＨ依存性の溶解性を有する材料で形成される、請求項３に記載の浸漬リソグラフィー方法。
【請求項５】
特定の浸漬媒体を用いる浸漬リソグラフィープロセスでの露光に適した中間体製品であって、フォトレジスト層（２０）を有する基板（１０）から成り、該基板（１０）から離れた前記フォトレジスト層（２０）の表面が、前記浸漬リソグラフィープロセスで用いられる前記露光波長で透明であり且つ前記特定の浸漬媒体を通さないシールド層（３０）で覆われていることを特徴とする、特定の浸漬媒体を用いる浸漬リソグラフィープロセスでの露光に適した中間体製品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月6日(2008.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜と、この薄膜上に形成されたハードマスクと、このハードマスク上に形成された感光材料の層とを備えた膜スタックを準備することと；
前記感光材料の層にパターンを形成することと；
前記ハードマスクに前記パターンを転写することと；
前記感光材料の層を除去することと；
前記ハードマスクの表面層を改質するために前記表面層を処理することと；
前記パターンを前記薄膜に転写することとを具備する基板上に構造を準備する方法。
【請求項２】
前記準備することは、有機シリコン層および有機金属層のうちの少なくとも一方を含む前記ハードマスクを形成することを有している請求項１の方法。
【請求項３】
前記準備することは、構造式Ｒ：Ｃ：Ｈ：Ｘを有する前記膜スタック内に形成される調整可能な反射防止コーティングを含む前記ハードマスクを形成することを含み、
前記Ｒは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｂ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、およびその組み合わせからなる群から選択され、
前記Ｘは、存在しないか、またはＯ、Ｎ、Ｓ、およびＦの１つ以上からなる群から選択される請求項１の方法。
【請求項４】
前記感光材料を前記除去することは、酸素を含有するプラズマに前記感光材料を曝すことを有している請求項１の方法。
【請求項５】
前記ハードマスクの前記表面層を前記処理することは、酸素を含有するプラズマに前記ハードマスク層を曝すことを有している請求項１の方法。
【請求項６】
前記酸素を含有するプラズマに前記ハードマスク層を前記曝すことは、酸素（Ｏ２）の導入から形成されたプラズマに前記ハードマスク層を曝すことを有している請求項４または５の方法。
【請求項７】
前記感光層を前記除去することと、前記ハードマスクの前記表面層を前記処理することとは、同時に実行される請求項１の方法。
【請求項８】
前記感光材料の層を前記除去することの完了についての終点を決定することを、更に具備する請求項１の方法。
【請求項９】
前記ハードマスクの前記表面層を前記処理することの完了についての終点を決定することを更に具備する請求項１の方法。
【請求項１０】
ハードマスク層と；
前記ハードマスク層の化学的に変更された表面層とを具備する化学的に変更されたハードマスク。
【請求項１１】
前記ハードマスク層は、有機ケイ酸塩層を含んでいる請求項１０の化学的に変更されたハードマスク。
【請求項１２】
前記ハードマスク層は、構造式Ｒ：Ｃ：Ｈ：Ｘを有する調整可能な反射防止コーティングを含み、
前記Ｒは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｂ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、およびそれの組合せからなる群から選択され、
前記Ｘは、存在しないか、またはＯ、Ｎ、Ｓ、およびＦの１つ以上からなる群から選択される請求項１０の化学的に変更されたハードマスク。
【請求項１３】
前記化学的に変更された表面層は、酸化されたハードマスク表面層を含んでいる請求項１０の化学的に変更されたハードマスク。
【請求項１４】
前記酸素を含有するプラズマに前記感光材料を前記曝すことは、曝す時間と、前記曝すあいだの基板ホルダ温度とを設定することを含んでいる請求項４の方法。
【請求項１５】
前記曝す時間を前記設定することは、前記曝す時間をほぼ１０秒間〜ほぼ２００秒間に設定することを含んでいる請求項１４の方法。
【請求項１６】
前記基板ホルダ温度を前記設定することは、前記基板ホルダ温度をほぼ２０℃〜４００℃に設定することを含んでいる請求項１４の方法。
【請求項１７】
前記酸素を含有するプラズマに前記ハードマスク層を前記曝すことは、曝す時間と、前記曝すあいだの基板ホルダ温度とを設定することを含んでいる請求項５の方法。
【請求項１８】
前記曝す時間を前記設定することは、前記曝す時間をほぼ１０秒間〜ほぼ１２００秒間に設定することを含んでいる請求項１７の方法。
【請求項１９】
前記基板ホルダ温度を前記設定することは、前記基板ホルダ温度をほぼ２０℃〜４００℃に設定することを含んでいる請求項１７の方法。
【請求項２０】
前記感光材料を前記除去することの後は、前記ハードマスクの前記表面層を前記処理することであり、
曝すことと、前記処理することとは、前記基板を基板ホルダ温度で曝す時間の間、酸素を含有するプラズマに曝すことを含んでいる請求項１の方法。
【請求項２１】
前記基板を前記基板ホルダ温度で前記曝す時間の間、前記酸素を含有するプラズマに前記曝すことは、前記基板をほぼ２０℃から４００℃までの範囲の前記基板ホルダ温度で、ほぼ２０秒から１４００秒までの範囲の前記曝す時間の間、曝すことを含んでいる請求項２０の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラム可能アレイモジュールを製造する方法であって、
ベースウェハ上に、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ（ＦＰＧＡ）および複数の金属パッドを有する少なくとも１つの第１集積回路機能素子を形成すること、
前記第１集積回路機能素子の上に、第１エピタキシャル層を形成すること、
前記第１エピタキシャル層に、メモリアレイを有する少なくとも１つの第２集積回路機能素子を形成すること
を備え、
前記第２集積回路機能素子は複数の金属パッドを有し、前記複数の金属パッドのうち少なくとも１つは前記第１集積回路機能素子の前記金属パッドと電気的に接続されている方法。
【請求項２】
前記第１集積回路機能素子の表面上に、第１二酸化シリコン層を形成すること
をさらに備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１二酸化シリコン層の表面上に、前記第１エピタキシャル層を形成すること
をさらに備える請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１エピタキシャル層の形成は、ポリシリコン層を形成することを含む
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１エピタキシャル層を貫通するようにエッチングすることをさらに備え、
前記第１集積回路機能素子の前記金属パッドおよび前記第２集積回路機能素子の前記金属パッドの間に相互接続子が形成される
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１集積回路機能素子の表面上に形成された第１二酸化シリコン層に対して、貫通するようにエッチングすること
をさらに備える請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１エピタキシャル層上に第２エピタキシャル層を形成することをさらに備え、
第３機能素子が前記第１機能素子および前記第２機能素子と一体化した状態で形成される
請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第３機能素子の形成は、Ｉ／Ｏコントローラ、メモリ、ＦＰＧＡまたはマイクロプロセッサを形成することを含む
請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第２エピタキシャル層の表面上に、第２二酸化シリコン層を形成すること
をさらに備える請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２エピタキシャル層の形成は、ポリシリコン層を形成することを含む
請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
プロセッサモジュールを製造する方法であって、
ベースウェハ上に、マイクロプロセッサなどである第１集積回路機能素子を少なくとも１つ形成すること、
ウェハ製造プロセスを用いて、前記第１集積回路機能素子上に、ＦＰＧＡなどの第２集積回路機能素子を少なくとも１つ形成すること
を備え、
前記第２集積回路機能素子の形成は、エピタキシャル層を形成することを含む方法。
【請求項１２】
前記第１集積回路機能素子に対応する複数の金属パッドのうち少なくとも１つと前記第２集積回路機能素子に対応する複数の金属パッドのうち少なくとも１つとを電気的に接続すること
をさらに備える請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記エピタキシャル層の形成は、ポリシリコン層を形成することを含む
請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１集積回路機能素子の上面に、二酸化シリコン層を形成すること
をさらに備える請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１集積回路機能素子と前記第２集積回路機能素子とを電気的に接続するべく、前記第２集積回路機能素子を貫通するようにエッチングすること
をさらに備える請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
ウェハ製造プロセスを用いて、前記第１集積回路機能素子および前記第２集積回路機能素子と一体化された第３機能素子を形成すること
をさらに備える請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記第３機能素子の形成は、エピタキシャル層を形成することを含む
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記エピタキシャル層の形成は、ポリシリコン層を形成することを含む
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記第３機能素子の形成は、Ｉ／Ｏコントローラ、メモリ、ＦＰＧＡまたはマイクロプロセッサを形成することを含む
請求項１６に記載の方法。