【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＩＩ）
【化１】
2001072695.tif 000001
｛式中、Ｍは、Ｔｉ、ＺｒまたはＨｆを表し、特にＺｒが好ましく、
Ｒ3は、水素原子、Ｃ1−Ｃ18−アルキル基、Ｃ2−Ｃ10−アルケニル基、Ｃ3−Ｃ15−アルキルアルケニル基、Ｃ6−Ｃ18−アリール基、Ｃ5−Ｃ18−ヘテロアリール基、Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基、フッ素化Ｃ1−Ｃ12−アルキル基、フッ素化Ｃ6−Ｃ18−アリール基、フッ素化Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基またはフッ素化Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基を表し、
Ｒ5は、水素原子を表し、
Ｒ4およびＲ6は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、Ｃ1−Ｃ18−アルキル基、Ｃ2−Ｃ10−アルケニル基、Ｃ3−Ｃ15−アルキルアルケニル基、Ｃ6−Ｃ18−アリール基、Ｃ5−Ｃ18−ヘテロアリール基、Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基、フッ素化Ｃ1−Ｃ12−アルキル基、フッ素化Ｃ6−Ｃ18−アリール基、フッ素化Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基またはフッ素化Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基を表し、
Ｒ20およびＲ21は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、または直鎖状または分枝状のＣ1−Ｃ18−アルキル基、Ｃ2−Ｃ10−アルケニル基、Ｃ3−Ｃ15アルキルアルケニル基、フェニル、トリル、キシリル、ｔ−ブチルフェニル、エチルフェニル、ナフチル、アセナフチル、フェナントレニル、またはアントラセニル、Ｃ5−Ｃ18−ヘテロアリール基、Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基、フッ素化Ｃ1−Ｃ12−アルキル基、フッ素化Ｃ6−Ｃ18−アリール基、フッ素化Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基またはフッ素化Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基を表し、または、２個の基Ｒ20または基Ｒ21は、単環または多環（これらの環もまた置換されていてもよい。）を形成してもよく、
Ｘは、ハロゲン原子を表し、
Ｑは、Ｃ4−Ｃ24−アリール環（該環もまた置換基としてＲ20基を有していてもよい。）、またはシクロペンタジエニル環と共にアザペンタレン、チアペンタレン、またはホスファペンタレン（これらもまた置換基としてＲ20基を有していてもよい。）を形成するヘテロアリールを表し、
ｌ、ｌ′は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ０〜４までの整数であり、１または２が好ましく、１が特に好ましく、
Ｂは、２個のインデニル基の間の架橋構造構成部分を表す。｝
で表される化合物。
【請求項２】
ＢがＭ3Ｒ13Ｒ14基（式中、Ｍ3はケイ素を表し、Ｒ13およびＲ14は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ、Ｃ1−Ｃ10−アルキル基、Ｃ6−Ｃ14−アリール基、トリメチルシリル、トリアリールシリル基、またはアルキルアリールシリル基を表す。）を表すことを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｂが、Ｓｉ（Ｍｅ）2、Ｓｉ（Ｐｈ）2、Ｓｉ（ＭｅＥｔ）、Ｓｉ（ＰｈＭｅ）、Ｓｉ（ＰｈＥｔ）、Ｓｉ（Ｅｔ）2（式中、Ｐｈは置換または非置換のフェニル、Ｅｔはエチル、Ｍｅはメチルを表す。）を表すことを特徴とする、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
式（ＩＩａ）
【化２】
2001072695.tif 000002
｛式中、Ｍは、Ｔｉ、ＺｒまたはＨｆを表し、特にＺｒが好ましく、
Ｒ3は、水素原子、Ｃ1−Ｃ18−アルキル基、Ｃ2−Ｃ10−アルケニル基、Ｃ3−Ｃ15−アルキルアルケニル基、Ｃ6−Ｃ18−アリール基、Ｃ5−Ｃ18−ヘテロアリール基、Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基、フッ素化Ｃ1−Ｃ12−アルキル基、フッ素化Ｃ6−Ｃ18−アリール基、フッ素化Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基またはフッ素化Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基を表し、
Ｒ5は、水素原子を表し、
Ｒ4およびＲ6は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、Ｃ1−Ｃ18−アルキル基、Ｃ2−Ｃ10−アルケニル基、Ｃ3−Ｃ15−アルキルアルケニル基、Ｃ6−Ｃ18−アリール基、Ｃ5−Ｃ18−ヘテロアリール基、Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基、フッ素化Ｃ1−Ｃ12−アルキル基、フッ素化Ｃ6−Ｃ18−アリール基、フッ素化Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基またはフッ素化Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基を表し、
Ｒ20およびＲ21は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、または直鎖状または分枝状のＣ1−Ｃ18−アルキル基、Ｃ2−Ｃ10−アルケニル基、Ｃ3−Ｃ15−アルキルアルケニル基、フェニル、トリル、キシリル、ｔ−ブチルフェニル、エチルフェニル、ナフチル、アセナフチル、フェナントレニル、またはアントラセニル、Ｃ5−Ｃ18−ヘテロアリール基、Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基、Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基、フッ素化Ｃ1−Ｃ12−アルキル基、フッ素化Ｃ6−Ｃ18−アリール基、フッ素化Ｃ7−Ｃ20−アリールアルキル基またはフッ素化Ｃ7−Ｃ20−アルキルアリール基を表し、または、２個の基Ｒ20または基Ｒ21は単環または多環（これらの環もまた置換されていてもよい。）を形成してもよく、
Ｑは、Ｃ4−Ｃ24−アリール環（該環もまた置換基としてＲ20基を有していてもよい。）、またはシクロペンタジエニル環と共にアザペンタレン、チアペンタレン、またはホスファペンタレン（これらもまた置換基としてＲ20基を有していてもよい。）を形成するヘテロアリールを表し、
ｌ、ｌ′は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ０〜４までの整数であり、１または２が好ましく、１が特に好ましく、
Ｂは、２個のインデニル基の間の架橋構造構成部分を表す。｝
で表される化合物。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の１種以上の式（ＩＩ）で表される化合物と１種以上の助触媒および／または担体を含む触媒。
【請求項６】
請求項１に記載の式（ＩＩ）で表される化合物を合成するために、請求項４に記載の式（ＩＩａ）で表される化合物を使用する方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれかに記載の１種以上の式（ＩＩ）で表される化合物をポリオレフィンを製造するために使用する方法。
【請求項８】
請求項５に記載の触媒をポリオレフィンを製造するために使用する方法。
【請求項９】
前記触媒をモル質量が５００００〜３０００００g／molであるポリオレフィンを製造するために使用することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記触媒をモル質量が５００００〜３０００００g／molであるアイソタクチック構造のポリプロピレンを製造するために使用することを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記触媒をモル質量が７００００〜２５００００g／molであるアイソタクチック構造のポリプロピレンを製造するために使用することを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１〜３のいずれかに記載の１種以上の式（ＩＩ）に記載の化合物の存在下で１種以上のオレフィンを重合することによりポリオレフィンを製造する方法。
【請求項１３】
ポリプロピレン、特に、モル質量が５００００〜３０００００g／molであるアイソタクチック構造のポリプロピレンを製造することを特徴とする、請求項１２に記載の製造方法。