(57)【要約】    第一の保護フィルム１０２と第一の層間接着剤１０４が積層した層間接着剤付きフィルム１を用意する工程と、第一の基材２０２と、第一の基材２０２より突出した導体ポスト２０４を有する第一の回路基板２を用意する工程と、第一の層間接着剤面と導体ポストを有する面とを積層する積層工程と、第一の保護フィルム１０２を剥離する剥離工程と、導体ポスト２０４を受ける導体パッド３０２を有する第二の回路基板３を用意する工程と、第一の回路基板２と第二の回路基板３とを第一の層間接着剤１０４を介して、導体ポスト２０４と導体パッド３０２が対向するように積層接着する工程と、を含む回路基板の製造方法であって、剥離工程で、第一の保護フィルム１０２を剥離するとともに、導体ポストの頂部２０６の第一の層間接着剤１０４を選択的に除去する積層回路基板の製造方法である。
2007052584.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の保護フィルムと第一の層間接着剤が積層した第一のフィルムを用意する工程と、
第一の基材と、前記第一の基材より突出した導体ポストを有する第一の回路基板を用意する工程と、
前記第一の層間接着剤と前記導体ポストとが接触するように前記第一のフィルムと前記第一の回路基板とを積層する工程と、
前記第一の保護フィルムを前記第一の層間接着剤から剥離するとともに、前記導体ポストの頂部の前記第一の層間接着剤を選択的に除去し、前記頂部を露出する工程と、
導体パッドを有する第二の回路基板を用意する工程と、
前記第一の回路基板と前記第二の回路基板とを前記第一の層間接着剤を介して、前記導体ポストの露出部と、前記導体パッドが接合するように積層接着する工程と、
を含むことを特徴とする積層回路基板の製造方法。
【請求項２】
第一の保護フィルムと第一の層間接着剤が積層した第一のフィルムを用意する工程と、
第一の基材と、前記第一の基材より突出した導体ポストを有する第一の回路基板を用意する工程と、
前記第一の層間接着剤と前記導体ポストとが接触するように前記第一のフィルムと前記第一の回路基板とを積層する工程と、
前記第一の保護フィルムを前記第一の層間接着剤から剥離するとともに、前記導体ポストの頂部の前記第一の層間接着剤を選択的に除去し、前記頂部を露出する工程と、
第二の保護フィルムと第二の層間接着剤が積層した第二のフィルムを用意する工程と、
第二の基材と、前記第二の基材の一方の面側に、前記導体ポストを受ける導体パッドを有する第二の回路基板を用意する工程と、
前記第二の層間接着剤面と前記導体パッドとが接触するように前記第二のフィルムと前記第二の回路基板とを積層する工程と、
前記第二の保護フィルムを前記第二の層間接着剤から剥離するとともに、前記導体パッドの導体面上の前記第二の層間接着剤を選択的に除去し、前記導体面上を露出する工程と、
前記第一および第二の回路基板とを、前記第一および第二の層間接着剤を介して、前記導体ポストと前記導体パッドが対向するように積層接着する工程と、
を含むことを特徴とする積層回路基板の製造方法。
【請求項３】
前記第一の層間接着剤の高さは、前記導体ポストの前記第一の基材からの突出した高さより低い請求項１または２に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項４】
前記第二の層間接着剤の厚さは、前記導体パッドの厚さの半分以上、前記導体パッドの厚さ以下である請求項２に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項５】
前記第一および第二の層間接着剤の粘着性は、導体に対する粘着性＜絶縁体に対する粘着性である請求項２に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項６】
前記第一および第二の保護フィルムは、樹脂フィルムである請求項１ないし５のいずれかに記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項７】
前記樹脂フィルムは、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルムから選ばれる少なくとも一つの樹脂フィルムである請求項６に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項８】
前記第一の保護フィルムの厚さが、３μｍ以上、２５μｍ以下である請求項１ないし７のいずれかに記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項９】
前記第二の保護フィルムの厚さが、２５μｍ以上、５０μｍ以下である請求項２ないし８のいずれかに記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項１０】
前記導体ポストが、導体ポスト本体部と、前記導体ポスト本体部を覆う金属被覆層とから構成される、請求項１ないし９のいずれかに記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項１１】
前記第一の層間接着剤の厚さが、前記導体ポスト本体部が前記第一の基材より突起している高さ以上であり、前記導体ポストが前記第一の基材より突起している高さ以下である請求項１０に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項１２】
前記導体ポスト本体部が前記第一の基材より突起している高さは、５μｍ以上、１０μｍ以下である請求項１１に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項１３】
前記導体ポストが前記第一の基材より突起している高さは、１５μｍ以上、３０μｍ以下である請求項１１に記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項１４】
前記導体パッドの厚さが５μｍ以上、３０μｍ以下であり、かつ前記導体パッドが形成されている面において、前記導体パッドが前記第二の基板面積を占有する比率は、３０％以上、７０％以下である請求項１ないし１３のいずれかに記載の積層回路基板の製造方法。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の方法により得られる積層回路基板。
【請求項１６】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の方法により得られた積層回路基板をエッチング加工して得られる回路板の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６の方法により得られた回路板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層回路基板の製造方法、回路板およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の高密度化に伴い、これに用いられるフレキシブルプリント配線板等の回路基板の多層化、回路基板に形成される回路の細線化が要求されている。このような多層の回路基板を積層する技術として、ビルドアップ法が採用されている。ビルドアップ法とは、樹脂のみで構成される樹脂層と導体層とを積み重ねながら、単層間で層間接続をする方法である。【０００３】
このビルドアップ法は、樹脂層にビアホールを形成してから層間接続する方法と、層間接続部を形成してから樹脂層を積層する方法に大別される。また、層間接続部は、ビアホールをめっきで形成する場合と、導電性ペーストで形成する場合等に分けられる。【０００４】
スタックドビアが可能で、かつ高密度化および配線設計の簡易化できる技術として、樹脂層に層間接続用の微細ビアホールをレーザーで形成し、該ビアホールを銅ペースト等の導電性接着剤で穴埋めし、この導電性接着剤により電気的に接続を得る方法が開示されている（例えば特開平８−３１６５９８号公報参照）。
しかし、この方法では、層間の電気的接続を導電性接着剤で行っているため、信頼性が十分でない場合がある。また、微細なビアホールに導電性接着剤を埋め込む高度な技術も必要となり、配線パターンの更なる微細化に対応することが困難である。【０００５】
そこで、導電性接着剤をビアホールに埋め込む手法に代わって、金属製の突起物（導体ポスト）を使用する技術が使用されている。例えば、層間接続する際に層間接着剤を物理的に排除して、導体ポストと接続パッドとを接続する方法が開示されている（例えば特開平１１−５４９３４号公報参照）。
しかし、この方法では、導体ポストと接続パッドとの間の層間接着剤を完全に除去することは難しく、信頼性が不十分となる場合があった。【０００６】
また、細線化された回路を有する多層基板を形成する方法の一つにバンプめっきによる接合方式があり、例えば次のような方法で形成される。【０００７】
銅と金属、または銅と合金とで構成される導体ポスト２０４を有する基板２と、層間接着剤付きフィルム５を用意する（図２（ａ））。次に、導体ポスト２０４を有する基板２と層間接着剤付フィルム５を熱圧着する（図２（ｂ）、（ｃ））。【０００８】
このとき、層間接着剤１０４や保護フィルム１０６の厚み、種類により、導体ポスト２０４の突起が層間接着剤１０４で完全に埋め込むことができず、導体ポスト２０４の周辺に空隙部６０２を生じることがある（図２（ｄ））。【０００９】
保護フィルム１０６を剥がした際に（図２（ｅ））、空隙部６０２がそのまま残り、保護フィルム１０６を剥離する際、保護フィルム１０６に層間接着剤が取られ、導体ポストの周りの層間接着剤の欠如部した空隙部６０２が生じる（図２（ｆ））。【００１０】
次に、導体ポスト２０４と接続するためのランド３０２を有する基板３とを用意する（図２（ｆ））。そして、層間接着剤１０４を介して、導体ポスト２０４を有する基板２と、ランド３０２を有する基板３とを接合して多層基板を得ている（図２（ｈ））。
しかし、接着剤が欠如した空隙部６０２は、完全に積層圧着時の熱と圧力でも埋まらず空隙部が残存する（図２（ｇ）、（ｈ））。【００１１】
また、図３に示すように、導体ポスト２０４を有する基板２や導体パッド３０２を有する基板３が複雑なパターン形状の場合、また、複雑な導体回路の場合や回路密度が高い場合など、パターンの一部や回路への圧力が過不足になる場合があり、導体ポスト２０４が層間接着剤１０４を完全に排除できず（図３（ｄ），（ｅ），（ｆ）、（ｇ））、導体ポスト２０４の頂部２０６に層間接着剤１０４が残ることがある。従って、金属接合を行なっても、導体ポスト２０４と導体パッド３０２間に層間接着剤１０４が残り、十分な電気的接続が得られないことがある（図３（ｈ））。なお、図３（ａ）から（ｃ）については、図２と同様の工程である。【００１２】
また、導体ポストを受ける導体パッド３０２を有する回路基板３に層間接着剤付フィルム２５を熱圧着する（図８（ａ）、（ｂ））。このとき、導体ポスト１０４を有する回路基板２の場合と同様、複雑な導体回路の場合や、回路密度が高い場合など、回路への圧力が不足する場合があり、層間接着剤１２４が完全に排除できず導体パッド３０２や導体回路３０６の回路表面に層間接着剤１２４が残ることがある（図８（ｃ））。【００１３】
図７（ｆ）で得られた基板２１１と図８（ｃ）で得られた基板３１１を、接着剤面が対向するようにセットし（図９（ａ））、加熱硬化して多層基板２３を得る（図９（ｃ））。しかし、接着剤に覆われた導体パッド頂部１０６や、導体回路表面３０２、３０６の接着剤が完全に排除されず（図９（ｂ））層間接着剤１０４、１２４が残り、十分な電気的接続が得られないことがある（図９（ｃ））。【００１４】
そこで、導体ポストや、導体回路上の接着剤を完全に除去させるために、あらかじめ導体ポストや、導体回路上の接着剤を研磨により除去する方法がある（例えば、特開２０００−０５９０２８号公報参照）。しかし、この方法では、研磨する工程が追加されるため工数が増加することと、高い研磨精度を要求されるという技術的な課題があった。【００１５】
また、例えば特開平８−１９５５６０号公報には以下の方法が開示されている。先端部に半田層を形成した導体ポストを用いて、半田の溶融温度より低温で未硬化の樹脂層および未硬化の接着剤層に該導体ポストを貫通させる。接続パッドに２．５ＭＰａ程度で加圧した後、該接着剤層を硬化させる。さらに前記半田を溶融・冷却することで半田接合を形成する。
しかし、このように加圧により層間接続を行って回路基板を製造する際には、内層回路が歪んだり、内層回路の歪みに起因して回路基板が波打つ形になったりする現象があった。特に内層回路を重ねる枚数が多いほど、前記歪みや浪打ちは顕著となる傾向があった。【００１６】
【特許文献１】特開平８−３１６５９８号公報
【特許文献２】特開平１１−５４９３４号公報
【特許文献３】特開２０００−０５９０２８号公報
【特許文献４】特開平８−１９５５６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、簡便な工程で安定的な層間接続が可能な積層回路基板の製造方法、回路板またはその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の積層回路基板の製造方法は、第一の保護フィルムと第一の層間接着剤が積層した第一のフィルムを用意する工程と、第一の基材と、前記第一の基材より突出した導体ポストを有する第一の回路基板を用意する工程と、前記第一の層間接着剤と前記導体ポストとが接触するように前記第一のフィルムと前記第一の回路基板とを積層する工程と、前記第一の保護フィルムを前記第一の層間接着剤から剥離するとともに、前記導体ポストの頂部の前記第一の層間接着剤を選択的に除去し、前記頂部を露出する工程と、導体パッドを有する第二の回路基板を用意する工程と、前記第一の回路基板と前記第二の回路基板とを前記第一の層間接着剤を介して、前記導体ポストの露出部と、前記導体パッドが接合するように積層接着する工程と、を含むことを特徴とする。【００１９】
また、本発明の積層回路基板の製造方法は、第一の保護フィルムと第一の層間接着剤が積層した第一のフィルムを用意する工程と、第一の基材と、前記第一の基材より突出した導体ポストを有する第一の回路基板を用意する工程と、前記第一の層間接着剤と前記導体ポストとが接触するように前記第一のフィルムと前記第一の回路基板とを積層する工程と、前記第一の保護フィルムを前記第一の層間接着剤から剥離するとともに、前記導体ポストの頂部の前記第一の層間接着剤を選択的に除去し、前記頂部を露出する工程と、第二の保護フィルムと第二の層間接着剤が積層した第二のフィルムを用意する工程と、第二の基材と、前記第二の基材の一方の面側に、前記導体ポストを受ける導体パッドを有する第二の回路基板を用意する工程と、前記第二の層間接着剤面と前記導体パッドとが接触するように前記第二のフィルムと前記第二の回路基板とを積層する工程と、前記第二の保護フィルムを前記第二の層間接着剤から剥離するとともに、前記導体パッドの導体面上の前記第二の層間接着剤を選択的に除去し、前記導体面上を露出する工程と、前記第一および第二の回路基板とを、前記第一および第二の層間接着剤を介して、前記導体ポストと前記導体パッドが対向するように積層接着する工程と、を含むことを特徴とする。【００２０】
上記製造方法では、層間接着剤を積層する工程の中で、導体ポスト頂部の層間接着剤、または導体パッドの導体面上と導体ポスト頂部の層間接着剤を選択的に除去するため、工程の増える研磨を行なう必要がなく、さらには、高い研磨精度を必要としないため、簡便な方法で信頼性の高い積層回路基板が得られる。【００２１】
また、上記の方法で得られた積層回路基板をエッチング加工することによって回路板の製造方法とすることができ、さらに、この方法で回路板を得ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、簡便な工程で安定的な層間接続が可能な積層回路基板の製造方法、回路板およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。【００２４】
【図１】本発明の一実施形態を示す積層回路基板の製造工程断面図である。
【図２】従来例を示す積層回路基板の製造工程断面図である。
【図３】従来例を示す積層回路基板の製造工程断面図である。
【図４】本発明の一実施形態を示す回路基板の製造工程断面図である。
【図５】本発明の一実施形態を示す回路基板の製造工程断面図である。
【図６】本発明の一実施形態を示す積層回路基板の製造工程断面図である。
【図７】従来の回路基板の製造方法を説明する工程断面図である。
【図８】従来の回路基板の製造方法を説明する工程断面図である。
【図９】従来の積層回路基板の製造方法を説明する工程断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態を示す積層回路基板の断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態を示す回路基板の断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、共通する構成要素には同一符号を付し、以下の説明において詳細な説明を適宜省略する。【００２６】
図１は、本発明による積層回路基板の製造方法の一実施形態を示す断面図である。
この製造方法は、図１に示すように以下の工程を有する。
（１）第一の保護フィルム１０２と第一の層間接着剤１０４が積層した第一のフィルム１を用意する工程（図１（ａ））、
（２）基材２０２と、基材２０２より突出した導体ポスト２０４を有する第一の回路基板２を用意する工程と（図１（ａ））、
（３）第一の層間接着剤１０４と導体ポスト２０４とが接触するように第一のフィルム１と第一の回路基板２とを積層する工程（図１（ｃ）、（ｄ））、
（４）第一の保護フィルム１０２を第一の層間接着剤１０４から剥離するとともに、導体ポスト２０４の頂部の第一の層間接着剤を選択的に除去し、頂部を露出させ、第一の保護フィルム１０２側に除去部１０５を付着させる工程（図１（ｅ））、
（５）導体パッド３０２を有する第二の回路基板３を用意する工程（図１（ｆ））、
（６）第一の回路基板２と第二の回路基板３とを第一の層間接着剤１０４を介して、導体ポスト２０４の露出部と、導体パッド３０２が接合するように積層接着する工程（図１（ｇ）、（ｈ））、
を含む積層回路基板の製造方法である。【００２７】
以下、各工程について説明する。【００２８】
第一の保護フィルム１０２と第一の層間接着剤１０４が積層した層間接着剤付き保護フィルム１を用意する工程では、（図１（ａ））に示すように第一の保護フィルム１０２上に第一の層間接着剤１０４を塗布し乾燥させて層間接着剤付き保護フィルム１を形成する。
第一の保護フィルム１０２は、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルムから選ばれる少なくとも一つの樹脂フィルムを用いることが、層間接着剤１０４と保護フィルム１０２の離型性の面から好ましい。
これら樹脂フィルムの中で、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが経済性の面からもより好ましい。【００２９】
第一の保護フィルム１０２の厚さは、３μｍ以上、２５μｍ以下であることが好ましい。より好ましい第一の保護フィルム１０２の厚みは９μｍ以上、１５μｍである。第一の保護フィルム１０２の厚みがこの範囲内であれば、確実に導体ポストの突起を埋め込み、容易に第一の保護フィルム１０２を剥離することができる。【００３０】
第一の層間接着剤１０４の厚さは、導体ポスト２０４の基板面から突出した高さより薄い方が好ましい。第一の層間接着剤１０４の厚さの方が薄いと、導体ポスト２０４の頂点から第一の保護フィルム１０２を剥離する際に導体ポストの頂部２０６の第一の層間接着剤１０４を除去しやすくなる。【００３１】
次に、導体ポスト２０４を有する第一の回路基板２を用意する。基材２０２としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム等の樹脂フィルム、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂、液晶ポリマーなどの樹脂を硬化させたもの、またはこれらの積層板を用いることができる。これらの中でもポリイミドフィルムに代表される樹脂フィルムが好ましい。これにより、耐熱性を向上することができる。さらに、フレキシブル性を発揮することもできる。導体ポスト２０４の基材面からの突起高さは、前述した通り、層間接着剤１０４の厚さより、導体ポスト２０４の高さの方が高い方が好ましい。【００３２】
基材の厚さは、特に限定されないが、９μｍ以上、５０μｍ以下が好ましく、特に１２μｍ以上、２５μｍ以下が好ましい。厚さが前記範囲内であると、導体ポストを形成するためのめっき時間を短縮することができる。【００３３】
次に、第一の層間接着剤１０４と導体ポスト２０４とを積層する工程について説明する（図１（ｂ）、（ｃ）、（ｄ））。【００３４】
真空ラミネータ等で、加熱により第一の層間接着剤１０４を軟化させ、加圧により導体ポスト２０４の突起分を第一の層間接着剤１０４でボイドなく埋め込む（図１（ｄ））。この時、導体ポストの頂部２０６の第一の層間接着剤１０４は、導体ポスト２０４の突起高さ分を埋め込んでいるが、導体ポストの頂部２０６には第一の層間接着剤１０４が除去されず薄く残存している。【００３５】
次に、第一の保護フィルム１０２を剥離する工程（図１（ｅ））について説明する。第一の層間接着剤１０４と導体ポスト２０４が積層された状態（図１（ｄ））で、第一の保護フィルム１０２を引き剥がす。第一の保護フィルム１０２を引き剥がすフィルムの角度は約１８０°の角度であることが好ましい。引き剥がしの角度が１８０°に近いほど、引き剥がし力が小さく、第一の回路基板２側の基材２０２面へ第一の層間接着剤１０４が剥離されることがなく均一に残すことができる。このとき、導体ポスト２０４の頂部２０６の第一の層間接着剤１０４が薄いため、第一の保護フィルム１０２剥離と同時に導体ポストの頂部２０６の第一の層間接着剤１０４が、第一の保護フィルム１０２側に貼付いた状態で残り除去される。一方、導体ポスト２０４の頂部２０６が露出することになり、導体パッドの接続が安定して行なうことができる。【００３６】
次に導体ポスト２０４を受ける導体パッド３０２を有する第二の回路基板３を用意する。基材３０４は、第一の回路基板２と同じ材料でもかまわないし、異なっていてもよい。【００３７】
第一の回路基板２と第二の回路基板３とを第一の層間接着剤１０４を介して、導体ポスト２０４と導体パッド３０２が対向するように積層接着する工程（図１（ｆ）、（ｇ））について説明する。
導体ポスト２０４と導体パッド３０２の位置を合わせるため、導体パターンとして予め形成されている位置決めマークを画像認識装置により読み取り位置合わせする方法、位置合わせ用のピンで位置合わせする方法など用いればよい。次に真空状態で加熱加圧を行い、第二の回路基板３の導体パターンを第一の層間接着剤１０４で埋め込み成形する。さらに、はんだが溶融するまで温度上げて、導体ポスト２０４と導体パッド３０２を電気的に接合する（図１（ｈ））。【００３８】
次に、本発明の他の実施形態について説明する。図４ないし図６は、本実施形態における積層回路基板の製造方法を示す断面図である。
この製造方法は、図４ないし図６に示すように以下の工程を有する。
（１）第一の保護フィルム１０２と第一の層間接着剤１０４が積層した第一のフィルム１を用意する工程（図４（ａ））、
（２）第一の基材２０２と、第一の基材２０２より突出した導体ポスト２０４を有する第一の回路基板２を用意する工程（図４（ａ））、
（３）第一の層間接着剤１０４と導体ポスト２０４とが接触するように第一のフィルム１と第一の回路基板２とを積層する工程（図４（ｂ）、（ｃ）、（ｄ））、
（４）第一の保護フィルム１０２を第一の層間接着剤１０４から剥離するとともに、導体ポスト２０４の頂部２０６の第一の層間接着剤１０４を選択的に除去１０５し、頂部２０６を露出する工程と（図４（ｅ）、（ｆ））、
（５）第二の保護フィルム１１２と第二の層間接着剤１１４が積層した第二のフィルム１０を用意する工程と（図５（ｂ））、
（６）第二の基材３０４と、第二の基材３０４の一方の面側に、導体ポスト２０４を受ける導体パッド３０２を有する第二の回路基板３を用意する工程と（図５（ａ））、
（７）第二の層間接着剤１１４面と導体パッド３０２とが接触するように第二のフィルム１０と第二の回路基板３とを積層する工程と（図５（ｂ）、（ｃ）、（ｄ））、
（８）第二の保護フィルム１１２を第二の層間接着剤１１４から剥離するとともに、導体パッド３０２の導体面上の第二の層間接着剤１１４を選択的に除去１１５し、導体面上を露出する工程と（図５（ｅ）、（ｆ））、
（９）第一および第二の回路基板２、３とを、第一および第二の層間接着剤１０４、１１４を介して、導体ポスト２０４と導体パッド３０２が対向するように積層接着する工程と（図６（ａ），（ｂ）、（ｃ））、
を含む積層回路基板の製造方法である。【００３９】
以下、各工程について説明する。【００４０】
第一の保護フィルム１０２と第一の層間接着剤１０４が積層した層間接着剤付き保護フィルム１を用意する工程（図４（ａ））、導体ポスト２０４を有する第一の回路基板２を用意する工程、第一の層間接着剤１０４と導体ポスト２０４とを積層する工程（図４（ｂ）、（ｃ）、（ｄ））、第一の保護フィルム１０２を剥離する工程（図４（ｅ））については、前述と同様の工程を用いることができる。【００４１】
次に導体ポスト２０４を受ける導体パッド３０２を有する第二の回路基板３を用意する（図５（ａ））。基材３０４は、第一の回路基板２と同じ材料でもかまわないし、異なっていてもよい。導体ポスト２０４と導体パッド３０２を積層する際に加熱するため、材料が膨張収縮し内部応力が発生しやすくなる。そのため、材料の熱膨張係数が同等のものを用いるほうが、内部応力の発生を防止することができるため、より好ましい。【００４２】
第二の保護フィルム１１２と第二の層間接着剤１１４が積層した層間接着剤付き保護フィルム１０を用意する工程では、（図５（ｂ））に示すように第二の保護フィルム１１２上に第二の層間接着剤１１４を塗布し乾燥させて層間接着剤付き保護フィルム１０を形成する。この第二の層間接着剤１１４の粘着性は、導体に対する粘着性の方が絶縁体に対する粘着性よりも小さいものを用いる。粘着性が導体に対する粘着性が絶縁体に対する粘着性よりも大きい場合、第二の保護フィルム１１２剥離の際に、導体パッド３０２上に多くの層間接着剤１１４が残存することになる。【００４３】
第二の保護フィルム１１２は、前述の保護フィルムと同様の樹脂フィルムを好ましく用いることができる。これら樹脂フィルムの中で、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが経済性の面からもより好ましい。【００４４】
第二の保護フィルム１１２の厚みは、２５μｍ以上、５０μｍ以下であることが好ましい。より好ましい第二の保護フィルム１１２の厚みは３３μｍ以上、４３μｍである。第二の保護フィルム１１２の厚みがこの範囲内であれば、確実に導体パッド間を埋め込み、第二の保護フィルム１１２を剥離する際に破材することなく容易に引き剥がすことができる。【００４５】
第二の層間接着剤１１４の厚さは、導体パッド３０２の厚さの半分以上、導体パッドの厚さ以下であることが好ましい。第二の層間接着剤１１４の厚さが小さすぎる場合、導体パッド間を層間接着剤１１４が埋め込むことができずボイドが発生しやすくなる。また、第二の層間接着剤１１４の厚さが大きすぎる場合、層間接着剤１１４が余剰となり、導体パッド３０２の上に厚く存在することになる。そのため、第二の保護フィルム１１２を剥離する際に導体パッド３０２上に第二の層間接着剤１１４が多く残存しやすくなる。【００４６】
次に、第二の層間接着剤１１４と導体パッド３０２とを積層する工程について説明する（図５（ｃ）、（ｄ））。【００４７】
真空プレス等で、加熱により第二の層間接着剤１１４を軟化させ、加圧により導体パッド３０２間を第二の層間接着剤１１４でボイドなく埋め込む（図２（ｃ））。この時、導体パッド３０２上の第二の層間接着剤１１４は、導体パッド３０２間へ第二の層間接着剤１１４が流れ込んでいるため、元の層間接着剤の厚みより薄くなっている。更に、加熱加圧により第二の層間接着剤１１４と第二の保護フィルム１１２が接着する。この接着を安定させるため、低湿度環境で２４時間以上保管することが好ましい。【００４８】
次に、第二の保護フィルム１１２を剥離する工程（図５（ｄ））について説明する。第二の層間接着剤１１４と導体パッド３０２が積層された状態（図５（ｄ））で、第二の保護フィルム１１２を引き剥がす。第二の保護フィルム１１２を引き剥がすフィルムの角度は約１８０°の角度であることが好ましい。引き剥がしの角度が１８０°に近いほど、引き剥がし力が小さく均一に剥がすことができる。このとき、第二の層間接着剤１１４の粘着性は、導体に対する粘着性＜絶縁体に対する粘着性であるため、第二の回路基板３側の基材３０４面に多くの第二の層間接着剤１１４が残り、導体パッド３０２上には第二の保護フィルム１１２側に貼付いた状態で第二の層間接着剤１１４が除去され、部分的に導体パッドが露出することになる。また、この方法を用いれば第二の回路基板３の導体率に関わらず、均一な層間接着剤１１４の厚みである回路基板３０を得ることができる。【００４９】
第一の回路基板２と第二の回路基板３とを第一の層間接着剤１０４及び、第二の層間接着剤１１４を介して、導体ポスト２０４と導体パッド３０２が対向するように積層接着する工程（図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ））について説明する。
導体ポスト２０４と導体パッド３０２の位置を合わせるため、導体パターンとして予め形成されている位置決めマークを画像認識装置により読み取り位置合わせする方法、位置合わせ用のピンで位置合わせする方法など用いればよい。次に真空状態で加熱加圧を行い、第二の回路基板３の導体パターンを第一の層間接着剤１０４で埋め込み成形する。さらに、はんだが溶融するまで温度上げて、導体ポスト２０４と導体パッド３０２を電気的に接合する（図６（ｃ））。【００５０】
このようにして得られた、積層回路基板をエッチング加工する工程を含む回路板の製造方法とすることができる。そして、これらの方法により、工程の増える研磨を行なう必要がなく、さらには、高い研磨精度を必要としないため、安価に信頼性の高い回路板とすることができる。【００５１】
以下、本発明のさらに他の実施形態について図面を用いて説明する。【００５２】
以下、各工程について説明する。【００５３】
図１０および図１１は、本発明による積層回路基板の製造方法の一実施形態を示す断面図である。図１０は本実施形態で得られた積層回路基板の断面図であり、図１１（ａ）は第一の基板、図２（ｂ）は第二の基板の断面図である。【００５４】
まず、第一の基材１２と導体ポスト１６を有する第一の基板１７、および第二の基材１９と導体ポスト１６を受ける第二の導体パッド１８を有する第二の基板２０を用意する（図２（ａ）、（ｂ））。【００５５】
第一および第二の基材１２、１９としては、上述のものと同様のものを用いることができる。第一および第二の基材の材料は同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、第一および第二の基材の厚さは同じであってもよいし、異なっていてもよい。【００５６】
第一の導体パッド１１及び第二の導体パッド１８を構成する材料としては、例えば銅箔、アルミニウム等が挙げられる。これらの中でも銅箔が好ましい。厚みは５μｍ以上、３０μｍ以下が好ましく、特に９μｍ以上、２２μｍ以下が好ましい。厚さが前記範囲内であると、特にエッチング処理による回路形成性に優れ、さらに、第一の導体パッド１１、及び第二の導体パッド１８を形成した後の基材１２のハンドリング性（取り扱い性）にも優れる。【００５７】
第二の導体パッド１８が形成されている面側の、第二の導体パッドが第二の基板を占有する面積の比率は、３０％以上、７０％以下であることが好ましい。特に４０％以上、５０％以下が好ましい。この占有比率が小さすぎると、第二の基板２０のハンドリング性に劣る場合があり、占有率が大きすぎると、導体ポスト１６と第二の導体パッド１８との間の層間接着剤１３が排除されにくく、接合安定性が低下する場合がある。【００５８】
導体ポスト１６は、導体ポスト本体部１４と、前記導体ポスト本体部を覆う金属被覆層１５とから構成される。導体ポスト１６は、例えばペースト又はめっき法等で、まず導体ポスト本体部１４を形成する。導体ポスト本体部１４の高さは、第一の基材１２の第一の導体パッド１１が形成されている面と反対側の面から５μｍ以上、１０μｍ以下突出されることが好ましい。高さが前記範囲にあると、めっき時間の短縮ができ、第一の基板１７と第二の基板２０の層間平滑性に優れる。
引き続き、金属被覆層１５を合金等で形成する。このように、導体ポスト本体部と導体ポスト本体部を覆う金属被覆層とから構成される導体ポストが形成される。導体ポスト１６の高さは、第一の基材１２の第一の導体パッド１１が形成されている面と反対側の面から１５μｍ以上、３０μｍ以下突出されることが好ましい。高さが前記範囲にあると、導体ポスト１６と第二の導体パッド１８との接合安定性に優れる。【００５９】
金属被覆層１５は、例えば金属または合金で構成されている。前記金属としては、例えば錫で構成されていることが好ましい。前記合金としては、錫、鉛、銀、亜鉛、ビスマス、アンチモン、銅からなる群より選ばれる少なくとも２種類以上の金属で構成される金属被覆層１５であることが好ましい。例えば、錫−鉛系、錫−銀系、錫−亜鉛系、錫−ビスマス系、錫−アンチモン系、錫−銀−ビスマス系、錫−銅系等があるが、金属組み合わせや組成に限定されず、最適なものを選択することができる。【００６０】
層間接着剤１３を構成する材料としては、例えばエポキシ樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤等が挙げられる。これらの中でもフラックス活性を有するエポキシ樹脂系接着剤が好ましい。これにより、金属被覆層１５と第二の導体パッド１８の表面の酸化皮膜が除去され、導体ポスト１６と第二の導体パッド１８の接合安定性が向上する。また、第一の基材１２としてポリイミドフィルム等を用いた場合、密着性が特に優れたものとなる。【００６１】
層間接着剤１３の厚さは、導体ポスト本体部１４の第一の基材１２より突起している高さ以上、導体ポスト１６の第一の基材１２より突起している高さ以下であることが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に導体ポスト１６と第二の導体パッド１８の接合安定性に優れ、密着性及び接着剤の染み出し抑制の双方にも優れる。また、厚さが前記範囲内であると、第二の導体パッド１８の層間接着剤１３による埋め込み性が良く、ボイドが発生しない。【００６２】
層間接着剤１３は、液状塗布する方法、真空ラミネータ等で加熱加圧する方法等により第一の基材１２に積層できる。後者の方がより簡便で、層間接着剤１３の厚みが安定する。【００６３】
次に金属被覆層１５と第二の導体パッド１８との間の層間接着剤１３を排除して、第一の基板１６と第二の基板２０が電気的接続を得る工程について説明する。【００６４】
予め、第一の基板１７と第二の基板２０の位置を合わせるため、導体パターンとして形成されているマークを画像認識装置により読み取り位置合わせする方法、ピンで位置合わせする方法など用いて、位置合わせを行う。位置合わせした基板を真空中で所定の温度、圧力でプレスする。【００６５】
前記所定の温度は、予め約２３０℃〜約２８０℃まで熱板を加熱しておくことが好ましく、特に約２５０℃〜約２７０℃が好ましい。温度が前記範囲内であると層間接着剤１３の粘度が約１０Ｐａ・Ｓ〜約４００Ｐａ・Ｓで軟化するため、金属被覆層１５と導体パッド１８との間の層間接着剤１３を排除することができる。同時に金属被覆層１５が溶融するため、導体ポスト１６への圧力集中が緩和されるので、第一の基板１７及び第二の基板２０が歪んだり、歪みに起因して基板が波打つ形になることを防止することができる。且つ、良好なフィレットを形成することで、第一の基板１７と第二の基板２０の電気的接続性が安定する。【００６６】
前記所定の圧力は、約０．５ＭＰａ〜約２ＭＰａが好ましく、特に約１．５ＭＰａ〜約２ＭＰａが好ましい。圧力が前記範囲内であると金属被覆層１５と第二の導体パッド１８との間の層間接着剤１３を排除することができる。圧力が低すぎると完全には層間接着剤１３を排除することができない場合がある。圧力が高すぎると第一の基板１７及び第二の基板２０が歪み、歪みに起因して基板が波打つ形になる場合がある。また層間接着剤の染み出し量も多くなり、層間厚みが不安定になる可能性がある。【００６７】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。
たとえば、本実施形態では、第一、第二の回路基板を積層接着する工程について説明してきたが、第一の回路基板に導体パッドを形成し、第一の回路基板の上層に導体ポストを含む第二の回路基板を積層接着した積層回路基板の製造方法であってもよい。この様に、複数の層を所望する第一の回路基板や第二の回路基板に追加すれば良い。
【実施例】
【００６８】
以下の実験例において積層回路基板を作製し、得られた回路基板の接合率を測定した。【００６９】
［接合率の測定］
電気チェッカーを用いて、積層回路基板における各接合点の導通を測定した。接合率は全接合数に対する導通数（導通率）で表され、全点導通していれば接合率１００％となる。【００７０】
実験例Ａ１
図１で説明した工程にそって実施した。
すなわち、保護フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム１２μｍを準備し、層間接着剤１３μｍをコーターにて塗布乾燥させた。次に銅はくが１２μｍ、基材がポリイミドフィルム厚み２５μｍの２層片面回路基板（宇部興産製  ＳＥ１３１０）を、銅箔とは反対面から、ＵＶレーザーにより５０μｍ径のビアを形成した。めっき高さを基材からの突起量を２３μｍとし、エッチングにより回路を形成した。この導体ポスト付基板と層間接着材付フィルムを真空ラミネータにて１２０℃、０．４ＭＰａの条件で熱圧着した。そして、保護フィルムポリエチレンテレフタレートフィルムを１８０°の角度で引き剥がし、導体ポスト頂部の層間接着剤を選択的に除去した回路基板を形成した。次に銅はくが１２μｍ、基材がポリイミドフィルム厚み２５μｍの２層両面回路基板（有沢製作所製  ＰＫＷ１０１２ＥＣＵ）をエッチングにより回路形成した。このようにして、導体ポストを有する第一の回路基板が形成された。
また、導体パッドを有する第二の回路基板を用意した。
次にこの２つの回路基板を導体パターンによる画像認識で、自動位置合わせを行い、１５０℃、０．８ＭＰａで９０秒、次に２７０℃、０．３ＭＰａで真空熱圧着した。【００７１】
実験例Ａ２
保護フィルムにポリイミド樹脂をフィルムを用い、これにより、図１に示した工程に沿って導体ポストの頂部の層間接着剤を選択的に除去した積層回路基板を形成した。【００７２】
実験例Ａ３
ポリエチレンテレフタレートフィルム５０μｍを用い、これにより、図２に示した工程に沿って回路基板を形成した。保護フィルムの厚さが厚いため、突出した導体ポストの形状に追随できず、保護フィルム剥離の工程では、図２（ｅ）のように、大きく層間接着剤が保護フィルムに取られ、積層接着したとき、図２（ｈ）のように、導体ポスト周辺の層間接着剤が大きく欠如し空隙となっている積層回路基板が形成されていることを確認した。【００７３】
実験例Ａ４
層間接着剤３０μｍを用い、これにより、図３に示した工程に沿って回路基板を形成した。層間接着剤の厚さが厚いため、突出した導体ポストの頂部に層間接着剤が残り、保護フィルム剥離後の工程では、図３（ｆ）のように、層間接着剤が導体ポストの頂部に残り、積層接着したとき、図３（ｈ）のように、導体ポストと導体パッド間に層間接着剤が残っている積層回路基板が形成されていることを確認した。【００７４】
実験例Ａ１〜Ａ３の方法で処理した基板の電気的接合率の結果を表１に示す。実験例Ａ１、Ａ２は良好な接合率であったが、実験例Ａ３は、導体ポストと導体パッドの接合部の周囲が空隙のため、接合時の空隙部が膨張し、接合率が低かった。また、実験例Ａ４は、層間接着剤が導体ポストと導体パッド間に介在し、接合率が低かった。【００７５】
【表１】
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【００７６】
実験例Ｂ１
図４〜６で説明した工程に沿って実施した。
実施例Ａ１と同様の方法により導体ポストを有する第一の回路基板を形成した。
次に保護フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム３８μｍを準備し、層間接着剤８μｍをコーターにて塗布乾燥させた。この２層両面回路基板と層間接着材付フィルムを真空プレスにて１５０℃、０．８ＭＰａの条件で熱圧着し、湿度１０％以下の環境で２４時間放置した。そして、保護フィルムを１８０°の角度で引き剥がし、導体パッド上の層間接着剤を選択的に除去した回路基板を形成した。このようにして、導体パッドを有する第二の回路基板を形成した。
次にこの２つの回路基板を導体パターンによる画像認識で、自動位置合わせを行い、１５０℃、０．３ＭＰａで９０秒、次に２６０℃、０．３ＭＰａで真空熱圧着した。【００７７】
実験例Ｂ２
保護フィルムにポリイミド樹脂をフィルムを用い、これにより、図５に示した工程に沿って導体パッド上の層間接着剤を選択的に除去した回路基板を形成した。それ以外は、実験例Ｂ１と同様の方法で積層回路基板を作成した。【００７８】
実験例Ｂ３
２層両面回路基板に積層する層間接着剤の厚みを１２μｍとした以外は、実験例Ｂ１と同様の方法で積層回路基板を作成した。【００７９】
実験例Ｂ４
２層両面回路基板に積層する層間接着剤の粘着性を、導体に対する粘着性と絶縁体に対する粘着性とを略同じようにした以外は、実験例Ｂ１と同様な方法で積層回路基板を作成した。保護フィルム剥離の際に、導体パッド上に層間接着剤がわずかに残存していること確認した。【００８０】
実験例Ｂ１〜Ｂ４の方法で処理した積層回路基板の電気的接合率の結果を表２に示す。実験例Ｂ１〜Ｂ４は良好な接合率であった。【００８１】
【表２】
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【００８２】
実施例Ｃ１
図１０〜１１で説明した工程に沿って実施した。
すなわち、銅はくが１２μｍ、基材がポリイミドフィルム厚み２５μｍの２層片面回路基板（宇部興産製  ＳＥ１３１０）を、銅箔とは反対面から、ＵＶレーザーにより５０μｍ径のビアを形成した。銅ポスト高さを基材からの突起量を８μｍとし、金属被覆層を１５μｍ形成し、導体ポスト高さを基材からの突起量を２３μｍとした。次にエッチングにより回路を形成し、この導体ポスト付基板と層間接着剤の厚み１３μｍを真空ラミネータにて１２０℃、０．１ＭＰａの条件で熱圧着した。次に銅はくが１２μｍ、基材がポリイミドフィルム厚み２５μｍの２層両面回路基板（有沢製作所製  ＰＫＷ１０１２ＥＣＵ）をエッチングにより回路形成した。この時の導体回路が占有する比率は５０％とした。画像処理による位置合わせ積層を行い、真空プレスにて熱板を予め２６０℃に加熱しておき、２ＭＰａで５分間プレスした。【００８３】
実施例Ｃ２
層間接着剤の厚みを１６μｍとした。それ以外は、実施例Ｃ１と同様な方法で積層回路基板を作製した。【００８４】
実験例Ｃ３
層間接着剤の厚みを２５μｍとした。それ以外は、実施例Ｃ１と同様の方法で積層回路基板を作製した。【００８５】
実験例Ｃ４
導体ポスト高さを基材からの突起量を３５μｍとした。それ以外は、実施例Ｃ１と同様の方法で積層回路基板を作製した。【００８６】
実験例Ｃ５
基材より突出した導体ポストを有しない第一の回路基板を用いた。それ以外は実験例Ａ１と同様の方法により積層回路基板を作製した。【００８７】
実験例Ｃ６
保護フィルムの厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、図２に示した工程に沿って積層回路基板を形成した。導体ポスト頂部に層間接着剤が多く残存していることを確認した。【００８８】
実験例Ｃ１〜Ｃ６の方法で処理した積層回路基板の評価結果を表３に示す。実施例Ｃ１〜Ｃ４は良好であるが、比較例Ｃ５、Ｃ６は、基板の性能上不具合があった。【００８９】
【表３】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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