【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに強固に結合され、それらの間に機密保護素子(３，４，１９，１９ａ，１９ｂ；１０３，１０４，１１９，１１９’)及び、必要に応じて、識別素子(５，６，７；１０５，１０６，１０７)が配置される、少なくとも２つのフィルム(１，２；１０１，１０２)を含み、前記フィルムの内の少なくとも１つ(２，１０２)が半透明または完全に透明であり、よって前記機密保護素子及び、必要に応じて、前記識別素子(３から７，１９，１９ａ，１９ｂ；１０３から１０７，１１９，１１９’)を前記透明フィルム(２，１０２)を通して見ることができ、さらに少なくとも１つの前記機密保護素子(１９，１９ａ，１９ｂ；１１９，１１９’)が、光回折効果を有し、相応する構造が付けられたラッカーまたは高分子材層(１２，１４；１１２，１１４)の表面によりつくられた３次元構造により形成され、前記表面に前記構造の認識性を向上させる被覆(１３，２４；１１３)が与えられているラミネートにおいて：前記機密保護素子及び、必要に応じて、前記識別素子(３から７，１９，１９ａ，１９ｂ；１０３から１０７，１１９，１１９’)が、少なくとも１つのインクまたはラッカー層(１２，１４；１１２，１１４)により、前記ラミネートの少なくとも１つの連続表面領域(３１；１３５)に、一方向における最大線幅または点の大きさ(ｓ，ｓ’)が５．０ｍｍより小さい微細グラフィック素子(３０；１１９，１１９’)または文字数字で形成され；前記微細グラフィック素子(３０；１１９，１１９’)または文字数字は、前記連続表面領域(３１；１３５)の全表面積の少なくとも５０％の部分において、前記機密保護素子及び、必要に応じて、前記識別素子を封入する前記フィルム(１，２；１０１，１０２)が互いに直接隣接するように配置されており；前記隣接するフィルム(１，２；１０１，１０２)は実質的に同じ組成のポリカーボネート(ＰＣ)からなり、前記隣接するフィルムの接触表面領域において互いに融着されていることを特徴とするラミネート。
【請求項２】  前記機密保護素子及び、必要に応じて、前記識別素子を形成する前記線(３０；１１９，１１９’)の線幅(ｓ，ｓ’)が０．１から３．０ｍｍの範囲にあることを特徴とする請求項１記載のラミネート。
【請求項３】  前記機密保護素子及び、必要に応じて、前記識別素子(３から７，１９，１９ａ，１９ｂ；１０３から１０７，１１９，１１９’)を封入している前記フィルム(１，２；１０１，１０２)が前記ラミネートの全表面積の少なくとも２５％の部分において互いに直接隣接していることを特徴とする請求項１または２記載のラミネート。
【請求項４】  前記微細グラフィック素子(３０；１１９，１１９’)または文字数字(６，７；１０７)を有する前記連続表面領域(３１；１３５)に前記機密保護素子及び、必要に応じて、前記識別素子(３から７，１９，１９ａ，１９ｂ；１０３から１０７，１１９，１１９’)を封入している前記フィルム(１，２；１０１，１０２)が、前記表面領域(３１；１３５)の表面積の６５から９５％の部分で互いに直接隣接していることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載のラミネート。
【請求項５】  カード形状の構成の場合において、前記カードの縁端に沿う幅(ｂ)が少なくとも３ｍｍの領域(２９；１２９)には、前記機密保護素子または前記識別素子(３から７，１９，１９ａ，１９ｂ；１０３から１０７，１１９，１１９’)がないことを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載のラミネート。
【請求項６】  少なくとも１つの前記機密保護素子（１９；１１９，１１９’）を形成する、光回折効果を有する前記構造の、前記構造の認識性を向上させるための前記被覆(１３；１１３)が、前記被覆に隣接し、視線方向で前記被覆の手前にある材料に対して著しく異なる屈折率を有する透明材料で形成されていることを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載のラミネート。
【請求項７】  前記被覆(１３；１１３)の屈折率と前記隣接する材料の屈折率との間の差が少なくとも０．３であることを特徴とする請求項６記載のラミネート。
【請求項８】  少なくとも１つの前記ラッカーまたは高分子材層(１２，１４；１１２，１１４)が前記少なくとも１つの機密保護素子(１９；１１９，１１９’)の前記３次元構造の前記被覆(１３；１１３)と前記フィルム(１，２；１０１，１０２)のそれぞれとの間に配置されていることを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載のラミネート。
【請求項９】  前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子からなる群より選択される少なくとも１つ(４，１９；１０４)が移植フィルムの化粧層により形成されていることを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載のラミネート。
【請求項１０】  単層または多層のラベル様表面素子の形態の、前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子(１３１) からなる群より選択される少なくとも１つが前記微細素子(３０；１１９，１１９’)を有する前記連続表面領域(３１；１３５)の外側に与えられていることを特徴とする請求項１から９いずれか１項記載のラミネート。
【請求項１１】  前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子からなる群より選択される少なくとも１つ(４，１９；１９ａ，１９ｂ)が表面に接着剤層(１５，２５，２７)を有することを特徴とする請求項９または１０記載のラミネート。
【請求項１２】  前記フィルム(１，２)の内の少なくとも１つに、前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子(１９，１９ａ) からなる群より選択される少なくとも１つと位置合わせされた関係にある接着剤塗布層(２０，２０ａ)が与えられていることを特徴とする請求項１から１１いずれか１項記載のラミネート。
【請求項１３】  前記フィルムの内の少なくとも１つ(１)に、前記少なくとも１つのフィルムの自由表面(１６)において、前記自由表面の全表面積または前記自由表面の表面積の一部にわたり、被覆が施されていることを特徴とする請求項１から１２いずれか１項記載のラミネート。
【請求項１４】  少なくとも２つのフィルム(１，２；１０１，１０２)を含み、前記フィルムの内の少なくとも１つ(２；１０１，１０２)は半透明または完全に透明であり、前記フィルムの間には機密保護素子(４，１９，１９ａ，１９ｂ；１０４，１１９，１１９’)及び、必要に応じて、識別素子(５，６，７；１０７)が配置されており、前記素子は、請求項１から１３いずれか１項記載の、光回折効果を有する構造(９，１０，２３)を有し、前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子(３から７，１９；１０３，１０４，１０７，１１８，１１９’) からなる群より選択される少なくとも１つが第１のフィルム(１；１０１)に与えられ、次いで第２のフィルム(２；１０２)が熱及び圧力の作用の下に全表面積にわたる貼合せにより与えられる、ラミネート(１３３)を作成するためのプロセスにおいて：ポリカーボネートフィルムが前記フィルムとして用いられ；少なくとも２つの硬化または乾燥透明ラッカーまたは高分子材層(１２，１４；１１２，１１４)及び構造の認識性を向上させるための透明被覆(１３；１１３)を含む機密保護素子(４，１９；１０４，１１９，１１９’)並びに、必要に応じて、識別素子(５，７；１０７)が前記第１のフィルム(１；１０１)に移植またはラミネートプロセスで与えられ；前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子からなる群より選択される少なくとも１つは前記ラミネートの全表面積の多くとも６５％を覆い；次いで前記第２のフィルム(２；１０２)が与えられ；次いで、前記形成された層配置(１３３)が、機密保護素子も識別素子もない、相互に隣接する領域において前記２つのフィルム(１，２；１０１，１０２)が互いに融着するような、ホットプレス処理にかけられることを特徴とするプロセス。
【請求項１５】  前記ホットプレス処理が、１７０から２１０℃の温度において、１分から６０分間行われることを特徴とする請求項１４記載のプロセス。
【請求項１６】  少なくとも第１のフィルム(１)に、前記機密保護素子及び存在する場合には前記識別素子(３から７，１９；１０３，１０４，１０７，１１８，１１９’) からなる群より選択される少なくとも１つを与える前に、区分領域態様、好ましくは前記素子の内の少なくとも指定された素子と位置合わせした関係で、プライマーまたは接着剤の塗布層(２０，２０ａ)が与えられることを特徴とする請求項１４または１５記載のプロセス。