【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）供給原料および水素を、位置Ｒ1、Ｒ2、．．．Ｒn（ｎは反応器の数である）において直列に連結された少なくとも２つの、それぞれが触媒を含有する反応器に、二次触媒反応のために少なくとも１つの最上流の反応器内の触媒が不活性化されるまで、または最下流の反応器からの生成物が所望の規格を満たさなくなるまでの間通過させるステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）の不活性化触媒を含有する少なくとも１つの最上流の反応器をバイパスして、供給原料および水素を少なくとも１つの下流反応器内に送るステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）の少なくとも１つのバイパスされた反応器に触媒を再装填するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の少なくとも１つの再装填済み反応器を、ステップ（ｃ）において新鮮な触媒で再装填されていない直列に連結された反応器の少なくとも１つの下流に配置するステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）を反復して生成物規格を満たすステップと
を含む、触媒の利用を延長する方法。
【請求項２】
（ａ）有機供給原料および水素を、位置Ｒ1、Ｒ2、．．．Ｒn（ｎは反応器の数である）において直列に連結された少なくとも２つの、それぞれが多孔性金属または担持された触媒を含有する反応器に、脱硫化のために少なくとも１つの最上流の反応器内の触媒が不活性化されるまで、または最下流の反応器からの生成物が所望の規格を満たさなくなるまでの間通過させるステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）の少なくとも１つの最上流の不活性化反応器をバイパスして、供給原料および水素を下流の反応器内に送るステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）の少なくとも１つのバイパスされた反応器に新鮮な触媒を再装填するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の少なくとも１つの再装填済み反応器を下流に配置するステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）を反復して所望の規格を満たすステップと
を含む、触媒の利用を延長する方法。
【請求項３】
（ａ）１，３−プロパンジオールを含有する生化学的に誘導された有機供給原料および水素を、位置Ｒ1、Ｒ2、．．．Ｒn（ｎは反応器の数である）において直列に連結された少なくとも２つの、それぞれがシリカ／アルミナ押出し物上に担持される高ニッケル装填量のニッケルを含む触媒を含有する反応器に、脱硫化のために最上流の反応器内の触媒が不活性化されるまで、または最下流の反応器からの生成物が所望の規格を満たさなくなるまでの間通過させるステップと、
（ｂ）位置Ｒ1の反応器をバイパスして、供給原料および水素を位置Ｒ2の反応器内に送るステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）のバイパスされた反応器に新鮮な触媒を再装填するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の再装填済み反応器を反応器列下流の位置Ｒnに配置するステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）を反復して所望の規格を満たすステップと
を含む、触媒の利用を延長する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
このような適切な操作条件下では、金属は、多段階反応器システム中の最上流の反応器（群）中の比較的狭い帯域内に付着できる。ひとたび上流触媒がその金属除去のための二次的反応性を失うと、工程反応器列中で反応器を除去またはバイパスし、次に反応器に新鮮な触媒を再装填できる。この再装填済み反応器をこの時点で反応器列中の下流（好ましくは最下流位置）に配置して一次触媒反応を提供し、所望の程度の水素化処理を完了できる。この様式で反応器を循環させることで、触媒の全体的利用を延長させる。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  （ａ）供給原料および水素を、位置Ｒ1、Ｒ2、．．．Ｒn（ｎは反応器の数である）において直列に連結された少なくとも２つの、それぞれが触媒を含有する反応器に、二次触媒反応のために少なくとも１つの最上流の反応器内の触媒が不活性化されるまで、または最下流の反応器からの生成物が所望の規格を満たさなくなるまでの間通過させるステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）の不活性化触媒を含有する少なくとも１つの最上流の反応器をバイパスして、供給原料および水素を少なくとも１つの下流反応器内に送るステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）の少なくとも１つのバイパスされた反応器に触媒を再装填するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の少なくとも１つの再装填済み反応器を、ステップ（ｃ）において新鮮な触媒で再装填されていない直列に連結された反応器の少なくとも１つの下流に配置するステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）を反復して生成物規格を満たすステップと
を含む、触媒の利用を延長する方法。
2.  触媒が、周期表の第８族元素の１つ以上の０価元素よりなる群から選択される、上記１に記載の方法。
3.  触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、およびＰｔよりなる群から選択される、上記２に記載の方法。
4.  触媒が多孔性金属構造物である、上記２に記載の方法。
5.  触媒がＲａｎｅｙ（登録商標）ニッケルを含む、上記４に記載の方法。
6.  触媒が担体上に担持される、上記２に記載の方法。
7.  担体が、炭素、アルミナ、シリカ、チタニア、シリカ−アルミナ、シリカ−チタニア、チタニア−アルミナ、粘土、アルミノケイ酸塩、ゼオライト、カルシウムの水不溶性塩、バリウムの水不溶性塩、ストロンチウムの水不溶性塩、それらの化合物、およびそれらの組み合わせよりなる群から選択される、上記６に記載の方法。
8.  触媒が、シリカ／アルミナ押出し物上に担持される高ニッケル装填量のニッケルを含む、上記７に記載の方法。
9.  圧力が約１００ｋＰａ〜約２０ＭＰａである、上記１に記載の方法。
10.  水素が反応器の１つ以上に供給される、上記１に記載の方法。
11.  温度が約マイナス５０℃〜約４００℃である、上記１に記載の方法。
12.  所望の規格の生成物を得るために、温度を調節して、（ｂ）および（ｄ）の各ステップ中の直列に連結された反応器の数を補填するステップをさらに含む、上記１に記載の方法。
13.  供給原料が、周期表の第８族元素の１つ以上の触媒によって水素化されることができる化合物を含む有機液体である、上記１に記載の方法。
14.  ステップ（ｄ）において、少なくとも１つの再装填済み反応器が、ステップ（ｃ）において新鮮な触媒で再装填されなかった最下流の反応器の下流に配置される、上記１に記載の方法。
15.  （ａ）有機供給原料および水素を、位置Ｒ1、Ｒ2、．．．Ｒn（ｎは反応器の数である）において直列に連結された少なくとも２つの、それぞれが多孔性金属または担持された触媒を含有する反応器に、脱硫化のために少なくとも１つの最上流の反応器内の触媒が不活性化されるまで、または最下流の反応器からの生成物が所望の規格を満たさなくなるまでの間通過させるステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）の少なくとも１つの最上流の不活性化反応器をバイパスして、供給原料および水素を下流の反応器内に送るステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）の少なくとも１つのバイパスされた反応器に新鮮な触媒を再装填するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の少なくとも１つの再装填済み反応器を下流に配置するステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）を反復して所望の規格を満たすステップと
を含む、触媒の利用を延長する方法。
16.  温度が約マイナス５０℃〜約４００℃である、上記１５に記載の方法。
17.  圧力が約１００ｋＰａ〜約２０ＭＰａである、上記１５に記載の方法。
18.  温度を調節して、（ｂ）および（ｄ）各ステップ中の直列に連結された反応器の数を補填して、所望の生成物規格を満たすステップをさらに含む、上記１５に記載の方法。
19.  供給原料が１，３−プロパンジオールを含む、上記１５に記載の方法。
20.  ステップ（ｄ）において、少なくとも１つの再装填済み反応器が、反応器列の最後尾の位置Ｒnに配置される、上記１５に記載の方法。
21.  触媒が、シリカ／アルミナ押出し物上に担持される高ニッケル装填量のニッケルを含む、上記１５に記載の方法。
22.  （ａ）１，３−プロパンジオールを含有する生化学的に誘導された有機供給原料および水素を、位置Ｒ1、Ｒ2、．．．Ｒn（ｎは反応器の数である）において直列に連結された少なくとも２つの、それぞれがシリカ／アルミナ押出し物上に担持される高ニッケル装填量のニッケルを含む触媒を含有する反応器に、脱硫化のために最上流の反応器内の触媒が不活性化されるまで、または最下流の反応器からの生成物が所望の規格を満たさなくなるまでの間通過させるステップと、
（ｂ）位置Ｒ1の反応器をバイパスして、供給原料および水素を位置Ｒ2の反応器内に送るステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）のバイパスされた反応器に新鮮な触媒を再装填するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の再装填済み反応器を反応器列下流の位置Ｒnに配置するステップと、
（ｅ）ステップ（ａ）から（ｄ）を反復して所望の規格を満たすステップと
を含む、触媒の利用を延長する方法。
23.  温度を調節して、（ｂ）および（ｄ）の各ステップ中の直列に連結された反応器の数を補填するステップをさらに含む、上記２２に記載の方法。
24.  温度が約マイナス５０℃〜約２００℃である、上記２２に記載の方法。
25.  温度が約８０℃〜約１４０℃である、上記２２に記載の方法。