【手続補正書】
【提出日】平成31年3月28日(2019.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティング溶液であって、
有機溶媒；
第一の有機金属組成物であって、式ＲｚＳｎＯ（２−（ｚ／２）−（ｘ／２））（ＯＨ）ｘ（ここで、０＜ｚ≦２および０＜（ｚ＋ｘ）≦４である）、式Ｒ’ｎＳｎＸ４−ｎ（ここで、ｎ＝１または２である）、またはそれらの混合物によって表され、ここで、ＲおよびＲ’が、独立して、１〜３１個の炭素原子を有するヒドロカルビル基であり、およびＸが、Ｓｎに対する加水分解性結合を有する配位子またはそれらの組合せである、第一の有機金属組成物；ならびに
加水分解性の金属化合物であって、式ＭＸ’ｖ（ここで、Ｍが、元素周期表の第２〜１６族から選択される金属であり、ｖ＝２〜６の数であり、およびＸ’が、加水分解性のＭ−Ｘ結合を有する配位子またはそれらの組合せである）によって表される、加水分解性の金属化合物
を含む、コーティング溶液。
【請求項２】
ＭがＳｎであり、ｖ＝４である、請求項１に記載のコーティング溶液。
【請求項３】
約２〜約６０モルパーセントの前記Ｓｎが前記加水分解性の金属化合物中に存在する、請求項２に記載のコーティング溶液。
【請求項４】
前記溶液中に約０．００２５Ｍ〜約１．５Ｍのスズを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項５】
ＸおよびＸ’が、独立して、アルキルアミドまたはジアルキルアミド（−ＮＲ１Ｒ２（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））、シロキソ（−ＯＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３（ここで、Ｒ１、Ｒ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基である））、シリルアミド（−Ｎ（ＳｉＲ１３）（Ｒ２）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基である））、ジシリルアミド（−Ｎ（ＳｉＲ１３）（ＳｉＲ２３）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基である））、アルコキソおよびアリールオキソ（−ＯＲ（ここで、Ｒが、１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアリール基である））、アジド（−Ｎ３）、アルキニド（−Ｃ≡ＣＲ（ここで、Ｒが、１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基である））、アミダト（−ＮＲ１（ＣＯＲ２）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜７個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））、アミジナト（−ＮＲ１Ｃ（ＮＲ２）Ｒ３）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜８個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））、イミド（−Ｎ（ＣＯＲ１）（ＣＯＲ２）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜８個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））もしくはそれらのフッ素化類似体またはそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項６】
ＸおよびＸ’が、独立して、−ＮＲ１Ｒ２または−ＯＲ３配位子であり、ここで、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３がＣ１〜Ｃ１０のアルキル基もしくはシクロアルキル基またはそれらの組合せである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項７】
ＲまたはＲ’がメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、またはｔ−ブチル基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項８】
前記溶媒がアルコール、エステル、またはそれらの混合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項９】
コーティング溶液であって、
有機溶媒；
全金属含量を基準にして少なくとも約１０モルパーセントの第一の有機金属組成物であって、式ＲｚＳｎＯ（２−（ｚ／２）−（ｘ／２））（ＯＨ）ｘ（ここで、０＜ｚ≦２および０＜（ｚ＋ｘ）≦４である）、式ＲｎＳｎＸ４−ｎ（ここで、ｎ＝１または２である）、またはそれらの混合物によって表され、ここで、Ｒが、１〜３１個の炭素原子を有するヒドロカルビル基であり、およびＸが、加水分解性のＳｎ−Ｘ結合を有する配位子またはそれらの組合せである、第一の有機金属組成物；ならびに
全金属含量を基準にして少なくとも１０モルパーセントの第二の有機金属組成物であって、式Ｒ’ｙＳｎＸ’４−ｙ（ここで、ｙ＝１または２である）によって表され、ここで、Ｒ’が、Ｒと異なるヒドロカルビル基であり、およびＸ’が、Ｘと同一であるかまたは異なる、加水分解性のＳｎ−Ｘ’結合を有する配位子またはそれらの組合せである、第二の有機金属組成物
を含む、コーティング溶液。
【請求項１０】
Ｒがｔ−ブチルであり、およびＲ’がメチルである、請求項９に記載のコーティング溶液。
【請求項１１】
ＸおよびＸ’が、独立して、アルキルアミドまたはジアルキルアミド（−ＮＲ１Ｒ２（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））、シロキソ（−ＯＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３（ここで、Ｒ１、Ｒ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基である））、シリルアミド（−Ｎ（ＳｉＲ１３）（Ｒ２）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基である））、ジシリルアミド（−Ｎ（ＳｉＲ１３）（ＳｉＲ２３）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基である））、アルコキソおよびアリールオキソ（−ＯＲ（ここで、Ｒが、１〜１０個の炭素原子を有するアルキルまたはアリール基である））、アジド（−Ｎ３）、アルキニド（−Ｃ≡ＣＲ（ここで、Ｒが、１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基である））、アミダト（−ＮＲ１（ＣＯＲ２）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜７個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））、アミジナト（−ＮＲ１Ｃ（ＮＲ２）Ｒ３）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜８個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））、イミド（−Ｎ（ＣＯＲ１）（ＣＯＲ２）（ここで、Ｒ１およびＲ２が、独立して、１〜８個の炭素原子を有する炭化水素基または水素である））もしくはそれらのフッ素化類似体またはそれらの組合せからなる群から選択される、請求項９または１０に記載のコーティング溶液。
【請求項１２】
前記溶液中に約０．００２５Ｍ〜約１．５Ｍのスズを有し、および前記溶媒がアルコール、エステル、またはそれらの混合物である、請求項９〜１２のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項１３】
全金属含量を基準にして少なくとも１０モルパーセントの第三の有機金属組成物であって、式Ｒ”ｙＳｎＸ”４−ｙ（ここで、ｙ＝１または２である）によって表され、ここで、Ｒ”が、ＲおよびＲ’と異なるヒドロカルビル基であり、およびＸ”が、Ｘおよび／またはＸ’と同一であるかまたは異なる、加水分解性のＳｎ−Ｘ”結合を有する配位子またはその組合せである、第三の有機金属組成物をさらに含む、請求項９〜１２のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項１４】
ＲまたはＲ’がメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、またはｔ−ブチル基である、請求項９〜１３のいずれか一項に記載のコーティング溶液。
【請求項１５】
放射線でパターン形成可能なコーティングを形成するための方法であって、
基板上の前駆体コーティングを水に暴露させる工程であって、前記前駆体コーティングが、
第一の有機金属組成物ＲｚＳｎＯ（２−（ｚ／２）−（ｘ／２））（ＯＨ）ｘ（ここで、０＜ｚ≦２および０＜（ｚ＋ｘ）≦４である）またはＲ’ｎＳｎＸ４−ｎ（ここで、ｎ＝１または２である）であって、ＲおよびＲ’が、独立して、１〜３１個の炭素原子を有するヒドロカルビル基であり、およびＸが、加水分解性のＳｎ−Ｘ結合を有する配位子もしくはそれらの組合せまたはそれらの混合物である、第一の有機金属組成物；および
第二の有機金属組成物Ｒ”ｙＳｎＸ’４−ｙ（ここで、ｙ＝１または２であり、およびＲ”がＲ’と異なり、およびＸ’が、Ｘと同一であるかまたは異なる、加水分解性のＳｎ−Ｘ’結合を有する配位子またはそれらの組合せである）、または無機組成物ＭＬｖ（ここで、ｖが、２≦ｖ≦６であり、およびＬが、ＸおよびＸ’と同一であるかまたは異なる、加水分解性のＭ−Ｌ結合を有する配位子もしくはその組合せまたはそれらの混合物である）
を含み、
前記暴露が、前記前駆体コーティングの加水分解をもたらして、（（Ｒおよび／またはＲ’）ａＲ”ｂ）ＳｎＯ（２−（（ａ＋ｂ）／２）−（ｗ／２））（ＯＨ）ｗ（ここで、０＜（ａ＋ｂ）≦２および０＜（ａ＋ｂ＋ｗ）＜４である）を含むか、またはｙ（（ＲまたはＲ’）ａＲ”ｂ）ＳｎＯ（２−（（ａ＋ｂ）／２）−（ｗ／２））（ＯＨ）ｗ・ｚＭＯ（（ｍ／２）−ｌ／２）（ＯＨ）ｌ（ここで、０＜（ａ＋ｂ）≦２であり、０＜（ａ＋ｂ＋ｗ）＜４であり、ｍ＝Ｍｍ＋のホルマール原子価であり、０≦ｌ≦ｍであり、ｙ／ｚ＝（０．０５〜０．６）であり、およびＭ＝Ｍ’またはＳｎであり、ここで、Ｍ’が、周期表の第２〜１６族の、スズではない金属である）を含むコーティングを形成する、方法。
【請求項１６】
前記暴露工程が、前記基板を約０．５分〜約３０分にわたり約４５℃〜約２５０℃の温度に加熱することを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記前駆体コーティングが、有機溶媒中に約０．００２５Ｍ〜約１．５Ｍのスズを有する溶液を使用して形成される、請求項１５または１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記溶液がスピンコートされて、前記前駆体コーティングを形成する、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記第一の有機金属組成物がＲ’ｎＳｎＸ４−ｎを含む、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記無機組成物がＳｎＬ４を含む、請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
金属炭素結合および金属酸素結合を有する有機配位子を有する金属カチオンとのオキソ−ヒドロキソネットワークを含む放射線でパターン形成可能なコーティングを形成するための方法であって、
周囲大気から密閉された堆積チャンバー内に、式ＲｎＳｎＸ４−ｎ（ここで、ｎ＝１または２であり、Ｒが、金属−炭素結合でＳｎと結合されている１〜３１個の炭素原子を有する有機配位子であり、ｎ＝１または２であり、およびＸが、Ｓｎとの加水分解性結合を有する配位子である）によって表される組成物を含む第一の前駆体蒸気を導入する工程、および
その後または同時に、前記第一の前駆体蒸気中の前記組成物と反応することが可能な酸素含有化合物を含む第二の前駆体蒸気を、１つまたは複数のＸ配位子を有する反応生成物を含む複数の非揮発性成分および揮発性成分を有する組成物を形成するための前記堆積チャンバー内の条件下において導入する工程
を含み、基板が、前記組成物の前記非揮発性成分を受け取る表面で構成されている、方法。
【請求項２２】
前記第二の前駆体蒸気が水蒸気を含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記堆積チャンバーが約０．０１Ｔｏｒｒ〜約２５Ｔｏｒｒの圧力を有する、請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記堆積チャンバーが約４０℃〜約１７５℃の温度を有する、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前駆体蒸気を導入するそれぞれのサイクル間に不活性なパージガスを導入する工程をさらに含む、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
第三の前駆体が個別に前記チャンバーに導入され、前記前駆体が、ＭＬｖ（ここで、ｖが２≦ｖ≦６であり、およびＬが、酸化可能な配位子もしくは加水分解性のＭ−Ｌ結合を有する配位子またはそれらの組合せであり、およびＭが、周期表の第２〜１６族から選択される金属である）を含む、請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
表面および前記表面上のコーティングを有する基板を含むコーティングされた基板であって、式ｙ（ＲｚＳｎＯ（２−（ｚ／２）−（ｗ／２））（ＯＨ）ｗ・ｚＭＯ（（ｍ／２）−ｌ／２）（ＯＨ）ｌ（ここで、Ｒが、１〜３１個の炭素原子を有するヒドロカルビル基またはそれらの組合せであり、０＜ｚ≦２であり、０＜（ｚ＋ｗ）≦４であり、ｍ＝Ｍｍ＋のホルマール原子価であり、０≦ｌ≦ｍであり、ｙ／ｚ＝（０．０５〜０．６）であり、およびＭ＝Ｍ’またはＳｎであり、ここで、Ｍ’が、周期表の第２〜１６族の、スズではない金属である）によって表される有機金属組成物を含む基板。
【請求項２８】
基板と、約６．１２５ｍＪ／ｃｍ２以下の線量対ゲル値（Ｄｇ）を有するアルキル金属オキシドヒドロキシドを含む放射線感受性コーティングとを含む構造物。
【請求項２９】
表面に沿って無機半導体層および放射線感受性コーティング材料を含む基板を含む構造物であって、前記放射線コーティング材料が、１３．５ｎｍの波長のＥＵＶ光によって３２ｎｍピッチで１６ｎｍの線のパターンでパターン化されて、約８ｍＪ／ｃｍ２〜約２５ｍＪ／ｃｍ２の線量によって約４ｎｍ以下の線幅粗さで１６ｎｍの限界寸法を達成することができる、構造物。
【請求項３０】
前記放射線感受性コーティング材料が少なくとも５重量パーセントの金属を有する、請求項２９に記載の構造物。
【請求項３１】
前記放射線感受性コーティング材料が少なくとも２０重量パーセントの金属を有する、請求項２９に記載の構造物。