【手続補正書】
【提出日】令和1年6月13日(2019.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶デバイスを製造する方法であって、前記方法は、
レジスト材料を基板上に堆積することと、
インプリントテンプレートを使用して前記レジスト材料上にパターンをインプリントすることであって、前記インプリントテンプレートは、積層幾何学形状を有するインプリントパターンを備える、ことと、
液晶材料の層を前記パターン化されたレジスト材料上にジェット堆積することであって、それによって、前記液晶材料の分子が前記パターンに自己整合される、ことと、
前記液晶材料を不動態化プロセスにさらすことによって、前記液晶材料の前記分子を不動態化することと
を含む、方法。
【請求項２】
前記レジスト材料を堆積することは、前記レジスト材料をジェット堆積することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記インプリントテンプレートは、表面起伏特徴を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記インプリントテンプレートは、約１０ｎｍ〜約２００ｎｍのサイズを有する特徴を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記インプリントテンプレートは、約２０ｎｍ〜約１ミクロンのサイズを有する特徴を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記インプリントテンプレートは、ＰＢＰＥ構造を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記液晶デバイスは、メタ表面を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記液晶デバイスは、メタ材料を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記インプリントテンプレートは、格子アレイを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記インプリントテンプレートは、曲線溝または弧を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記液晶材料の層にわたって液晶材料の付加的層を堆積することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記液晶材料の付加的層は、前記パターンに自己整合される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
パターンが、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、前記レジスト材料上にインプリントされたパターンと異なる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記レジスト材料上にインプリントされたパターンに整合された前記液晶材料の層は、第１の波長に作用するように構成され、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、第２の波長に作用するように構成される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記インプリントパターンは、３つの層を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記レジスト材料を前記基板上に堆積することは、前記レジスト材料の複数の別個の液滴をジェット堆積することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記不動態化プロセスは、硬化を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記硬化は、ＵＶ硬化、熱硬化、または凍結を含む、請求項１８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本明細書に説明される主題の１つまたは複数の実施形態の詳細は、付随の図面および以下の説明に記載される。他の特徴、側面、および利点は、説明、図面、ならびに請求項から明白となるであろう。以下の図の相対的寸法は、正確な縮尺で描かれない場合があることに留意されたい。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
液晶デバイスを製造する方法であって、前記方法は、
液晶材料の層を基板上に堆積することと、
インプリントテンプレートを使用して前記液晶材料の層上にパターンをインプリントすることであって、それによって、前記液晶材料の分子が前記パターンに自己整合される、ことと
を含む、方法。
（項目２）
前記液晶材料の屈折率より低い屈折率を有する材料の層を堆積することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
低屈折率材料の前記層は、平坦化テンプレートを使用して平坦化層として構成される、項目２に記載の方法。
（項目４）
前記インプリントテンプレートは、表面起伏特徴を含む、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記インプリントテンプレートは、約２０ｎｍ〜約１ミクロンのサイズを有する特徴を含む、項目１に記載の方法。
（項目６）
前記インプリントテンプレートは、約１０ｎｍ〜約２００ｎｍのサイズを有する特徴を含む、項目１に記載の方法。
（項目７）
前記インプリントテンプレートは、ＰＢＰＥ構造を含む、項目１に記載の方法。
（項目８）
前記液晶デバイスは、メタ表面を含む、項目１に記載の方法。
（項目９）
前記液晶デバイスは、メタ材料を備える、項目１に記載の方法。
（項目１０）
前記インプリントテンプレートは、格子アレイを含む、項目１に記載の方法。
（項目１１）
前記インプリントテンプレートは、曲線溝または弧を含む、項目１に記載の方法。
（項目１２）
液晶材料の層を堆積することは、前記液晶材料の層をジェット堆積することを含む、項目１に記載の方法。
（項目１３）
前記液晶材料の層にわたって液晶材料の付加的層を堆積することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目１４）
前記液晶材料の付加的層は、前記液晶材料の層のパターンに自己整合される、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
パターンが前記液晶材料の付加的層上にインプリントされる、項目１３に記載の方法。
（項目１６）
前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、前記液晶材料の層上にインプリントされたパターンと異なる、項目１５に記載の方法。
（項目１７）
前記液晶材料の層上にインプリントされたパターンは、第１の波長に作用するように構成され、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、第２の波長に作用するように構成される、項目１５に記載の方法。
（項目１８）
液晶デバイスを製造する方法であって、前記方法は、
レジストの層を基板上に堆積することと、
インプリントテンプレートを使用して前記レジスト層上にパターンをインプリントすることと、
液晶材料の層を前記パターン化されたレジスト層上に堆積することであって、それによって、前記液晶材料の分子が前記パターンに自己整合される、ことと
を含む、方法。
（項目１９）
レジストの層を堆積することは、前記レジスト層をジェット堆積することを含む、項目１８に記載の方法。
（項目２０）
前記インプリントテンプレートは、表面起伏特徴を含む、項目１８に記載の方法。
（項目２１）
前記インプリントテンプレートは、約１０ｎｍ〜約２００ｎｍのサイズを有する特徴を含む、項目１８に記載の方法。
（項目２２）
前記インプリントテンプレートは、約２０ｎｍ〜約１ミクロンのサイズを有する特徴を含む、項目１８に記載の方法。
（項目２３）
前記インプリントテンプレートは、ＰＢＰＥ構造を含む、項目１８に記載の方法。
（項目２４）
前記液晶デバイスは、メタ表面を含む、項目１８に記載の方法。
（項目２５）
前記液晶デバイスは、メタ材料を備える、項目１８に記載の方法。
（項目２６）
前記インプリントテンプレートは、格子アレイを含む、項目１８に記載の方法。
（項目２７）
前記インプリントテンプレートは、曲線溝または弧を含む、項目１８に記載の方法。
（項目２８）
液晶材料の層を堆積することは、前記液晶材料の層をジェット堆積することを含む、項目１８に記載の方法。
（項目２９）
前記液晶材料の層にわたって液晶材料の付加的層を堆積することをさらに含む、項目１８に記載の方法。
（項目３０）
前記液晶材料の付加的層は、前記液晶材料の層のパターンに自己整合される、項目１８に記載の方法。
（項目３１）
パターンが、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされる、項目１８に記載の方法。
（項目３２）
前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、前記液晶材料の層上にインプリントされたパターンと異なる、項目３１に記載の方法。
（項目３３）
前記液晶材料の層上にインプリントされたパターンは、第１の波長に作用するように構成され、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、第２の波長に作用するように構成される、項目３１に記載の方法。
（項目３４）
偏光子を製造する方法であって、前記方法は、
ポリマーを備える光学的に透過性の材料の層を基板上に堆積することと、
インプリントテンプレートを使用して前記ポリマー層上にパターンをインプリントすることと、
偏光子材料の溶液を前記パターン化されたポリマー層上に堆積することと
を含む、方法。
（項目３５）
前記偏光子材料の溶液を前記パターン化されたポリマー層上に堆積することは、前記偏光子材料の溶液を前記パターン化されたポリマー層上にジェット堆積することを含む、項目３４に記載の方法。
（項目３６）
偏光子材料の溶液を前記パターン化されたポリマー層上に堆積することは、前記偏光子材料の溶液を前記パターン化されたポリマー層上にスピンコーティングすることを含む、項目３４に記載の方法。
（項目３７）
偏光子材料は、溶媒中のヨウ素および二色性染料の溶液を備える、項目３４に記載の方法。
（項目３８）
前記偏光子は、少なくとも４７％の透過率を有する、項目３４に記載の方法。
（項目３９）
ＰＢＰＥ構造を備える液晶偏光格子の層を備える液晶デバイス。
（項目４０）
ＰＢＰＥ構造を備える液晶偏光格子の別の層をさらに備える、項目３９に記載の液晶デバイス。
（項目４１）
ディスプレイシステムの導波路内に含まれる、項目３９に記載の液晶デバイス。
（項目４２）
多重化された光流からの少なくとも１つの光流を前記導波路の中に選択的に内部結合し、前記多重化された光流からの１つまたは複数の他の光流を伝送するように構成される、項目４１に記載の液晶デバイス。
（項目４３）
前記導波路は、頭部搭載型ディスプレイの接眼レンズ内に含まれる、項目４１に記載の液晶デバイス。
（項目４４）
ＰＢＰＥ構造を含む光学デバイスを製造する方法であって、前記方法は、
入射光を伝送および／または反射させることが可能な材料の層を基板上に配置することと、
ＰＢＰＥ構造を含むパターンを前記材料上にインプリントすることと
を含む、方法。
（項目４５）
前記材料は、液晶を備える、項目４４に記載の方法。
（項目４６）
前記材料を配置することは、前記材料を前記基板上にジェット堆積することを含む、項目４４に記載の方法。
（項目４７）
パターンをインプリントすることは、ＰＢＰＥ構造を含むインプリントテンプレートを使用して前記材料上にパターンをインプリントすることを含む、項目４４に記載の方法。
（項目４８）
前記材料上にインプリントされたパターンは、光の１つまたは複数の波長に選択的に作用するように構成される、項目４４に記載の方法。
（項目４９）
メタ表面を含む光学デバイスを製造する方法であって、前記方法は、
入射光を伝送および／または反射させることが可能な材料の層を基板上に配置することと、
メタ表面を含むパターンを前記材料上にインプリントすることと
を含む、方法。
（項目５０）
前記材料は、液晶を備える、項目４９に記載の方法。
（項目５１）
前記材料を配置することは、前記材料を前記基板上にジェット堆積することを含む、項目４９に記載の方法。
（項目５２）
パターンをインプリントすることは、メタ表面を含むインプリントテンプレートを使用して前記材料上にパターンをインプリントすることを含む、項目４９に記載の方法。
（項目５３）
前記材料上にインプリントされたパターンは、光の１つまたは複数の波長に選択的に作用するように構成される、項目４９に記載の方法。
（項目５４）
液晶デバイスを製造する方法であって、前記方法は、
層を基板上に堆積することと、
インプリントテンプレートを使用して前記層上にパターンをインプリントすることと、
液晶材料の層を前記パターン化された層上に堆積することであって、それによって、前記液晶材料の分子が前記パターンに自己整合される、ことと
を含む、方法。
（項目５５）
前記層は、レジスト層を備える、項目５４に記載の方法。
（項目５６）
層を堆積することは、前記層をジェット堆積することを含む、項目５４に記載の方法。
（項目５７）
前記インプリントテンプレートは、表面起伏特徴を含む、項目５４に記載の方法。
（項目５８）
前記インプリントテンプレートは、約１０ｎｍ〜約２００ｎｍのサイズを有する特徴を含む、項目５４に記載の方法。
（項目５９）
前記インプリントテンプレートは、約２０ｎｍ〜約１ミクロンのサイズを有する特徴を含む、項目５４に記載の方法。
（項目６０）
前記インプリントテンプレートは、ＰＢＰＥ構造またはメタ表面を含む、項目５４に記載の方法。
（項目６１）
前記インプリントテンプレートは、格子アレイを含む、項目５４に記載の方法。
（項目６２）
前記インプリントテンプレートは、曲線溝または弧を含む、項目５４に記載の方法。
（項目６３）
液晶材料の層を堆積することは、前記液晶材料の層をジェット堆積することを含む、項目５４に記載の方法。
（項目６４）
前記液晶材料の層にわたって液晶材料の付加的層を堆積することをさらに含む、項目５４に記載の方法。
（項目６５）
前記液晶材料の付加的層は、前記液晶材料の層のパターンに自己整合される、項目５４に記載の方法。
（項目６６）
パターンが、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされる、項目５４に記載の方法。
（項目６７）
前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、前記液晶材料の層上にインプリントされたパターンと異なる、項目６６に記載の方法。
（項目６８）
前記液晶材料の層上にインプリントされたパターンは、第１の波長に作用するように構成され、前記液晶材料の付加的層上にインプリントされたパターンは、第２の波長に作用するように構成される、項目６６に記載の方法。
（項目６９）
液晶デバイスであって、
基板と、
前記基板に隣接する第１の表面および前記第１の表面と反対の第２の表面を有する液晶材料の層と、
前記第２の表面上の複数の特徴であって、前記複数の特徴は、約１０ｎｍ〜約２００ｎｍのサイズを有する、複数の特徴と
を備える、液晶デバイス。
（項目７０）
前記複数の特徴は、ＰＢＰＥ構造を備える、項目６９に記載の液晶デバイス。
（項目７１）
前記複数の特徴は、メタ表面を備える、項目６９に記載の液晶デバイス。
（項目７２）
前記複数の特徴は、メタ材料を備える、項目６９に記載の液晶デバイス。
（項目７３）
前記複数の特徴は、偏光格子として構成される、項目６９に記載の液晶デバイス。
（項目７４）
ディスプレイシステムの導波路とともに含まれる、項目６９に記載の液晶デバイス。
（項目７５）
多重化された光流からの少なくとも１つの光流を前記導波路の中に選択的に内部結合し、前記多重化された光流からの１つまたは複数の他の光流を伝送するように構成される、項目７４に記載の液晶デバイス。
（項目７６）
頭部搭載型ディスプレイの接眼レンズとともに含まれる、項目６９に記載の液晶デバイス。
（項目７７）
液晶デバイスであって、
基板と、
前記基板に隣接する第１の表面および前記第１の表面と反対の第２の表面を有する材料であって、前記材料は、約１０ｎｍ〜約２００ｎｍのサイズを有する前記第２の表面上の複数の特徴を備える、材料と、
前記材料の前記第２の表面上の液晶材料と
を備える、液晶デバイス。
（項目７８）
前記材料は、レジストを備える、項目７７に記載の液晶デバイス。
（項目７９）
前記複数の特徴は、メタ表面を備える、項目７７に記載の液晶デバイス。
（項目８０）
前記複数の特徴は、メタ材料を備える、項目７７に記載の液晶デバイス。
（項目８１）
ディスプレイシステムの導波路とともに含まれる、項目７７に記載の液晶デバイス。
（項目８２）
多重化された光流からの少なくとも１つの光流を前記導波路の中に選択的に内部結合し、前記多重化された光流からの１つまたは複数の他の光流を伝送するように構成される、項目８１に記載の液晶デバイス。
（項目８３）
頭部搭載型ディスプレイの接眼レンズとともに含まれる、項目７７に記載の液晶デバイス。