【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系を有し、真空雰囲気中で前記光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学系の少なくとも一部を内包する第１空間と前記第１空間に隣接した第２空間とを仕切り、かつ光を通過させるための開口を有する隔壁と、
前記第１空間内の圧力を調整する第１圧力調整器と、
前記第２空間内の圧力を調整する第２圧力調整器と、
前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力する制御器とを有し、
前記制御器は、前記第１空間内の圧力が前記第２空間内の圧力より高い圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を真空から大気圧までの範囲にわたって変化させるように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御器は、前記圧力関係が満たされるように前記第１空間内の圧力を上昇させた後、前記圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を真空から大気圧へ変化させるように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御器は、前記圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を大気圧から真空へ変化させるように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御器は、前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力が予め設定された圧力まで低下した後に、前記第１空間内の圧力が前記第２空間内の圧力より低い圧力関係を満たすように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記予め設定された圧力は、希薄気体境界圧力以下の圧力であることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器のそれぞれは、排気系および給気系を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器のそれぞれは、圧力センサを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記光学系は、原版のパターンを前記基板に投影するための投影光学系および前記原版を照明するための照明光学系の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第２空間に配された、原版を移動させるための原版ステージ機構、前記第２空間に配された、前記基板を移動させるための基板ステージ機構、および前記第２空間に配された光源のいずれかを更に有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
光学系と、前記光学系の少なくとも一部を内包する第１空間と前記第１空間に隣接した第２空間とを仕切り、かつ光を通過させるための開口を有する隔壁とを有し、真空雰囲気中で前記光学系を介して基板を露光する露光装置に適用される圧力制御方法であって、
前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を測定し、
前記測定に基づき、前記第１空間内の圧力が前記第２空間内の圧力より高い圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を真空から大気圧までの範囲にわたって変化させる、
ことを特徴とする圧力制御方法。
【請求項１１】
デバイス製造方法であって、
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、真空雰囲気中で基板を露光する露光ステップと、
前記露光された基板を現像する現像ステップと、
前記現像された基板を処理する処理ステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本発明の露光装置は、例えば、半導体ウエハや液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用のガラス基板のような基板に塗布された感光剤を露光して当該感光剤に潜像パターンを形成するように構成されうる。当該露光には、原版のパターンを介して感光基板を露光するもの、又は感光基板にパターンを描画して当該感光基板を露光するものが含まれうる。露光光には、例えば、紫外光、極紫外（ＥＵＶ：ｅｘｔｒｅｍｅ  ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光、Ｘ線等の電磁波、電子線等の粒子線、等の輻射線（ｒａｄｉａｔｉｏｎ）が含まれうる。また、当該露光装置における光学系には、紫外光、極紫外光、Ｘ線等に対する光学系のみならず、当該光学系の作用と同様または類似の作用を電子線等の粒子線に対し及ぼす構成（いわゆる電子光学系等）も含まれ得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図１４は、本発明の好適な実施形態の露光装置１１０の概略構成を例示的に示す図である。図１４において、１は励起用パルスレーザー、２は集光レンズ、３はターゲットガス供給装置、４はプラズマ、５はＥＵＶ光である。６は照明系第一ミラー、７はオプティカルインテグレータ、８は照明系第二ミラー、９は画角制限アパーチャ、１０は照明系第三ミラーである。１１は反射型レチクル、１２はレチクルチャック（レチクル保持装置）、１３はレチクルステージ機構、１４はレチクルアライメント光学系（レチクルアライメント検出機構）である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
次に照明光学系について説明する。光源空間３８と照明光学系空間３７とを分離する隔壁３５には、光源空間３８から照明光学系空間３７に提供されるＥＵＶ光を通過させるための開口部が設けられている。また、照明光学系空間３７は、光学素子表面がアウトガスによって汚染されることを回避するため排気系４０と圧力計４９によって高真空に保たれる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
次にレチクルステージ空間３４について説明する。レチクル１１は、反射型レチクルで、ミラーの上に転写されるべき回路パターン（または像）が形成され、レチクルステージ機構１３により支持および駆動される。レチクル１１から発せられた回折光は、投影光学系を介して基板２１上に投影される。レチクル１１と基板２１とは、光学的に共役の関係に配置される。露光装置１１０がステップ・アンド・スキャン方式（スキャナー）として構成される場合には、レチクル１１と基板２１とを投影光学系の縮小倍率比（例えば４：１）の速度比でスキャンすることによりレチクル１１のパターンを基板２１上に転写する。露光装置１１０がステップ・アンド・リピート方式（ステッパー）として構成される場合には、レチクル１１と基板２１とを静止させた状態で露光が行われる。レチクルステージ空間３４は、不活性ガスを供給する供給バルブ４６を用いることで真空を解除することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
基板ステージ機構２３は、基板チャック２２を介して基板２１を支持し、図示しない駆動機構を含む。基板ステージの位置とレチクルステージの位置は、例えば、レーザー干渉計等の計測装置により監視されうる。露光装置１１０がスキャナーとして構成される場合には、計測装置による計測結果にしたがって基板ステージとレチクルステージとが一定の速度比率で駆動される。基板ステージ機構２３は、粗動ステージ、微動ステージ等を含んで構成されうる。基板ステージ空間２６は、不活性ガスを供給する供給バルブ４７を用いることで真空を解除することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
フォーカス位置検出機構６０は、基板２１の表面の位置、すなわち光軸方向のフォーカス位置を計測し、基板ステージの位置及び角度を制御する。これによって、露光中に常に基板２１の表面を投影光学系の像面に一致させる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
（適用例３）
図１０に示すように、照明光学系空間３７と光源空間３８を制御対象とする。そして、上記実施形態における基板ステージ空間２６に対する圧力制御を光源空間３８に対して行い、投影光学系空間２８に対する圧力制御を照明光学系空間３７に対して行う。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
（適用例７）
図１２に示すように、照明光学系空間（３７）とレチクルステージ空間（３４）との間の隔壁（３３）を取り払って１つのレチクル照明光学系空間６５とする。そして、上記実施形態におけるウエハステージ空間２６に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間６５に対して行う。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
（適用例８）
上記（適用例７）において、ウエハステージ空間２６に対する圧力制御を光源空間３８に対して行い、投影光学系空間２８に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間６５に対して行う。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
（変形例４）
投影光学系空間２８に対する圧力制御を光学系空間５４に対して行い、レチクルステージ空間３４に対する圧力制御を光源空間３８に対して行う。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
（変形例５）
基板ステージ空間２６に対する圧力制御をレチクルステージ空間３４に対して行い、投影光学系空間２８に対する圧力制御を光学系空間５４に対して行い、レチクルステージ空間３４に対する圧力制御を光源空間３８に対して行う。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
（変形例６）
レチクルステージ空間３４に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間６５に対して行う。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
（変形例７）
基板ステージ空間２６に対する圧力制御を光源空間３８に対して行い、レチクルステージ空間３４に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間６５に対して行う。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
【図１】本発明の好適な実施形態の圧力制御（圧力制御１）を示す図である。
【図２】本発明の好適な実施形態の圧力制御（圧力制御２）を示す図である。
【図３】図１４から構成要素の一部を抜き出して示した図である。
【図４】本発明の好適な実施形態における圧力制御のフローチャートである。
【図５】本発明の好適な実施形態の圧力制御（圧力制御３）を示す図である。
【図６】本発明の好適な実施形態の圧力制御（圧力制御４）を示す図である。
【図７】本発明の好適な実施形態の圧力制御（圧力制御４の変形例）を示す図である。
【図８】図１４から構成要素の一部を抜き出して示した図である。
【図９】図１４から構成要素の一部を抜き出して示した図である。
【図１０】図１４から構成要素の一部を抜き出して示した図である。
【図１１】本発明の一実施形態における圧力制御対象の空間（光学系空間−基板ステージ空間）を示す図である。
【図１２】本発明の一実施形態における圧力制御対象の空間（投影光学系−レチクル照明光学系空間）を示す図である。
【図１３】真空解除時におけるアウトガス流入・拡散問題を説明するための図である。
【図１４】本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。
【図１５】本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法を示す図である。
【図１６】本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法を示す図である。