【手続補正書】
【提出日】平成19年2月20日(2007.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
ｘ方向の走査を経て、またはｘ方向の走査を経ることなく、ｘ方向の寸法が当該ｘ方向と実質的に直交するｙ方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する装置であって、当該イオンビームのビーム電流を計測する複数の検出器が前記ｘ方向にそれぞれ並設されて成る前段多点ファラデーおよび後段多点ファラデーをターゲットの上流側および下流側にそれぞれ有しており、かつ前段多点ファラデーの複数の入口の上端を結ぶ線および同下端を結ぶ線の少なくとも一方が前記ｘ方向に実質的に平行であるイオン注入装置において、
前記前段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームが通過する開口を有するマスクと、
前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動する前段ファラデー駆動装置と、
前記後段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームを遮ることができるものであって前記ｘ方向に実質的に平行な一辺を有する後段ビーム制限シャッターと、
この後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動する後段シャッター駆動装置とを備えており、
更に、（ａ）前記前段ファラデー駆動装置によって前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動しつつ、前記マスクの開口を通過して前記前段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める前段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｂ）この前段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向の中心位置ｙcfを求める前段中心位置算出処理と、（ｃ）前記後段シャッター駆動装置によって前記後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動しつつ、当該後段ビーム制限シャッターの前記一辺の外側を通過して前記後段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める後段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｄ）この後段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向の中心位置ｙcbを求める後段中心位置算出処理と、（ｅ）前記前段中心位置算出処理で求めた前記中心位置ｙcf、前記後段中心位置算出処理で求めた前記中心位置ｙcbおよび前記前段多点ファラデーの入口と前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌを用いて、次式またはそれと数学的に等価な式に基づいて、前記イオンビームの前記ｙ方向における角度偏差θy を求める角度偏差算出処理とを行う制御装置を備えていることを特徴とするイオン注入装置。
θy ＝ｔａｎ-1｛（ｙcb−ｙcf）／Ｌ｝
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
ｘ方向の走査を経て、またはｘ方向の走査を経ることなく、ｘ方向の寸法が当該ｘ方向と実質的に直交するｙ方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する装置であって、当該イオンビームのビーム電流を計測する複数の検出器が前記ｘ方向にそれぞれ並設されて成る前段多点ファラデーおよび後段多点ファラデーをターゲットの上流側および下流側にそれぞれ有しており、かつ前段多点ファラデーの複数の入口の上端を結ぶ線および同下端を結ぶ線の少なくとも一方が前記ｘ方向に実質的に平行であるイオン注入装置において、
前記前段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームが通過する開口を有するマスクと、
前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動する前段ファラデー駆動装置と、
前記後段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームを遮ることができるものであって前記ｘ方向に実質的に平行な一辺を有する後段ビーム制限シャッターと、
この後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動する後段シャッター駆動装置とを備えており、
更に、（ａ）前記前段ファラデー駆動装置によって前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動しつつ、前記マスクの開口を通過して前記前段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める前段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｂ）この前段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄyfを求める前段ビーム寸法算出処理と、（ｃ）前記後段シャッター駆動装置によって前記後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動しつつ、当該後段ビーム制限シャッターの前記一辺の外側を通過して前記後段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める後段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｄ）この後段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄybを求める後段ビーム寸法算出処理と、（ｅ）前記前段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄyf、前記後段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄybおよび前記前段多点ファラデーの入口と前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌを用いて、次式またはそれと数学的に等価な式に基づいて、前記イオンビームの前記ｙ方向における発散角αmax を求める発散角算出処理とを行う制御装置を備えていることを特徴とするイオン注入装置。
αmax ＝ｔａｎ-1｛（ｄyb−ｄyf）／２Ｌ｝
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
ｘ方向の走査を経て、またはｘ方向の走査を経ることなく、ｘ方向の寸法が当該ｘ方向と実質的に直交するｙ方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する装置であって、当該イオンビームのビーム電流を計測する複数の検出器が前記ｘ方向にそれぞれ並設されて成る前段多点ファラデーおよび後段多点ファラデーをターゲットの上流側および下流側にそれぞれ有しており、かつ前段多点ファラデーの複数の入口の上端を結ぶ線および同下端を結ぶ線の少なくとも一方が前記ｘ方向に実質的に平行であるイオン注入装置において、
前記前段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームが通過する開口を有するマスクと、
前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動する前段ファラデー駆動装置と、
前記後段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームを遮ることができるものであって前記ｘ方向に実質的に平行な一辺を有する後段ビーム制限シャッターと、
この後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動する後段シャッター駆動装置とを備えており、
更に、（ａ）前記前段ファラデー駆動装置によって前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動しつつ、前記マスクの開口を通過して前記前段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める前段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｂ）この前段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄyfを求める前段ビーム寸法算出処理と、（ｃ）前記後段シャッター駆動装置によって前記後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動しつつ、当該後段ビーム制限シャッターの前記一辺の外側を通過して前記後段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める後段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｄ）この後段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄybを求める後段ビーム寸法算出処理と、（ｅ）前記前段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄyf、前記後段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄyb、前記前段多点ファラデーの入口と前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌ、前記前段多点ファラデーの入口と前記ターゲットとの間の距離Ｌ1 および前記ターゲットと前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌ2 を用いて、次式またはそれと数学的に等価な式に基づいて、前記ターゲット上でのイオンビームの前記ｙ方向におけるビーム寸法ｄytを求めるビーム寸法算出処理とを行う制御装置を備えていることを特徴とするイオン注入装置。
ｄyt＝（Ｌ2 ／Ｌ）ｄyf＋（Ｌ1 ／Ｌ）ｄyb、（但しＬ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 ）
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
ｘ方向の走査を経て、またはｘ方向の走査を経ることなく、ｘ方向の寸法が当該ｘ方向と実質的に直交するｙ方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する装置であって、当該イオンビームのビーム電流を計測する複数の検出器が前記ｘ方向にそれぞれ並設されて成る前段多点ファラデーおよび後段多点ファラデーをターゲットの上流側および下流側にそれぞれ有しており、かつ前段多点ファラデーの複数の入口の上端を結ぶ線および同下端を結ぶ線の少なくとも一方が前記ｘ方向に実質的に平行であるイオン注入装置において、
前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動する前段ファラデー駆動装置と、
前記後段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームを遮ることができるものであって前記ｘ方向に実質的に平行な一辺を有する後段ビーム制限シャッターと、
この後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動する後段シャッター駆動装置とを備えており、
更に、（ａ）前記前段ファラデー駆動装置によって前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動しつつ、前記前段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める前段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｂ）この前段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向の中心位置ｙcfを求める前段中心位置算出処理と、（ｃ）前記後段シャッター駆動装置によって前記後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動しつつ、当該後段ビーム制限シャッターの前記一辺の外側を通過して前記後段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める後段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｄ）この後段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向の中心位置ｙcbを求める後段中心位置算出処理と、（ｅ）前記前段中心位置算出処理で求めた前記中心位置ｙcf、前記後段中心位置算出処理で求めた前記中心位置ｙcbおよび前記前段多点ファラデーの入口と前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌを用いて、次式またはそれと数学的に等価な式に基づいて、前記イオンビームの前記ｙ方向における角度偏差θy を求める角度偏差算出処理とを行う制御装置を備えていることを特徴とするイオン注入装置。
θy ＝ｔａｎ-1｛（ｙcb−ｙcf）／Ｌ｝
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
ｘ方向の走査を経て、またはｘ方向の走査を経ることなく、ｘ方向の寸法が当該ｘ方向と実質的に直交するｙ方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する装置であって、当該イオンビームのビーム電流を計測する複数の検出器が前記ｘ方向にそれぞれ並設されて成る前段多点ファラデーおよび後段多点ファラデーをターゲットの上流側および下流側にそれぞれ有しており、かつ前段多点ファラデーの複数の入口の上端を結ぶ線および同下端を結ぶ線の少なくとも一方が前記ｘ方向に実質的に平行であるイオン注入装置において、
前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動する前段ファラデー駆動装置と、
前記後段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームを遮ることができるものであって前記ｘ方向に実質的に平行な一辺を有する後段ビーム制限シャッターと、
この後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動する後段シャッター駆動装置とを備えており、
更に、（ａ）前記前段ファラデー駆動装置によって前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動しつつ、前記前段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める前段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｂ）この前段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄyfを求める前段ビーム寸法算出処理と、（ｃ）前記後段シャッター駆動装置によって前記後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動しつつ、当該後段ビーム制限シャッターの前記一辺の外側を通過して前記後段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める後段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｄ）この後段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄybを求める後段ビーム寸法算出処理と、（ｅ）前記前段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄyf、前記後段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄybおよび前記前段多点ファラデーの入口と前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌを用いて、次式またはそれと数学的に等価な式に基づいて、前記イオンビームの前記ｙ方向における発散角αmax を求める発散角算出処理とを行う制御装置を備えていることを特徴とするイオン注入装置。
αmax ＝ｔａｎ-1｛（ｄyb−ｄyf）／２Ｌ｝
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
ｘ方向の走査を経て、またはｘ方向の走査を経ることなく、ｘ方向の寸法が当該ｘ方向と実質的に直交するｙ方向の寸法よりも大きいリボン状の形をしているイオンビームをターゲットに照射する装置であって、当該イオンビームのビーム電流を計測する複数の検出器が前記ｘ方向にそれぞれ並設されて成る前段多点ファラデーおよび後段多点ファラデーをターゲットの上流側および下流側にそれぞれ有しており、かつ前段多点ファラデーの複数の入口の上端を結ぶ線および同下端を結ぶ線の少なくとも一方が前記ｘ方向に実質的に平行であるイオン注入装置において、
前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動する前段ファラデー駆動装置と、
前記後段多点ファラデーの上流側近傍に設けられていて前記イオンビームを遮ることができるものであって前記ｘ方向に実質的に平行な一辺を有する後段ビーム制限シャッターと、
この後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動する後段シャッター駆動装置とを備えており、
更に、（ａ）前記前段ファラデー駆動装置によって前記前段多点ファラデーを前記ｙ方向に駆動しつつ、前記前段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める前段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｂ）この前段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記前段多点ファラデーの入口の位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄyfを求める前段ビーム寸法算出処理と、（ｃ）前記後段シャッター駆動装置によって前記後段ビーム制限シャッターを前記ｙ方向に駆動しつつ、当該後段ビーム制限シャッターの前記一辺の外側を通過して前記後段多点ファラデーに入射するイオンビームのビーム電流の変化を計測して、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム電流密度分布を求める後段ビーム電流密度分布計測処理と、（ｄ）この後段ビーム電流密度分布計測処理で求めたビーム電流密度分布から、前記後段ビーム制限シャッターの位置での前記イオンビームの前記ｙ方向のビーム寸法ｄybを求める後段ビーム寸法算出処理と、（ｅ）前記前段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄyf、前記後段ビーム寸法算出処理で求めた前記ビーム寸法ｄyb、前記前段多点ファラデーの入口と前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌ、前記前段多点ファラデーの入口と前記ターゲットとの間の距離Ｌ1 および前記ターゲットと前記後段ビーム制限シャッターとの間の距離Ｌ2 を用いて、次式またはそれと数学的に等価な式に基づいて、前記ターゲット上でのイオンビームの前記ｙ方向におけるビーム寸法ｄytを求めるビーム寸法算出処理とを行う制御装置を備えていることを特徴とするイオン注入装置。
ｄyt＝（Ｌ2 ／Ｌ）ｄyf＋（Ｌ1 ／Ｌ）ｄyb、（但しＬ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 ）