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【手続補正書】
【提出日】平成19年11月5日(2007.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）  入力光波を受光し遅延線に入力する入力点（１２ａ）と、
（Ｂ）  前記遅延線から受光し出力パス遅延補償光波信号を出力する出力点（１４ａ）と、
（Ｃ）  入力光波信号を受光し、この受光した光波信号を前記出力点の方向に反射させる入力点から所定の距離にある反射機（１６）を有するマイクロマシーンリニアラック（１８）であって、前記距離が、光学遅延線による所定のパス遅延補償に応じて可変であるマイクロマシーンリニアラック（１８）と、
（Ｄ）  前記マイクロマシーンリニアラックに接続され、前記反射機と入力点との間の距離を所定のパス遅延補償に基づいて制御するよう選択的に変化するコントローラと、
を備えることを特徴とするマイクロ電子機械可変光学遅延線。
【請求項２】  前記（Ｄ）コントローラは、
（Ｄ１）  駆動モータ（２４）と、
（Ｄ２）  前記駆動モータに接続された一端と他端とを有するアーム（２２）と、
（Ｄ３）  前記アームの他端に接続され、前記マイクロマシーンリニアラックに係合する歯車（２１）と、
を有し、
前記駆動モータを駆動することにより、前記アームが前記歯車をマイクロマシーンリニアラックを移動させるよう駆動し、
これにより所定のパス遅延補償を達成するために対応する入力点と反射機との間の距離が変化する
ことを特徴とする請求項１記載の光学遅延線。
【請求項３】  前記反射機は、前記マイクロマシーンリニアラック上に搭載された第１ミラー（１６ａ）と第２ミラー（１６ｂ）とを有し、
前記第１ミラー（１６ａ）は、前記入力点からの入力光波を受光し、この受光した入力光波を前記第２ミラーの方向に反射させ、
前記第２ミラー（１６ｂ）は、前記第１ミラーから反射した光波をさらに前記出力点の方向に反射させる
ことを特徴とする請求項１記載の光学遅延線。
【請求項４】  前記反射機は、
前記マイクロマシーンリニアラックと共に、移動するよう配置された可動のミラーステージと、
前記マイクロマシーンリニアラックの動きに反して固定位置に配置された固定ミラーステージと、
を有し、
前記可動ミラーステージと固定ミラーステージは、前記入力点から受領した入力光波を所定のパス遅延補償に基づいて前記出力点の方向に反射させることを特徴とする請求項１記載の光学遅延線。
【請求項５】  前記反射機は、ＭＥＭＳミラーを含む
ことを特徴とする請求項１記載の光学遅延線。
【請求項６】  （Ａ）  入力光波を受光する入力点と、
（Ｂ）  光学遅延線により生成されたパス遅延補償された光波信号を受光し出力する出力点と、
（Ｃ）  入力点から受領した入力光波信号を所定の方向に反射させるよう入力点から所定の距離離れた位置にある第１ピボット駆動可能なミラー（４６）と、
（Ｄ）  前記第１ピボット駆動可能なミラーから反射された光波信号を受領し、この受領した光波信号を出力点の方向に反射させるように、前記第１ピボット駆動可能なミラーに対し配置された第２ピボット駆動可能なミラー（５０）とを備え、
前記第１と第２のミラーを選択的に制御してピボット駆動することにより出力点でパス遅延補償された光波信号を生成するように、入力光波信号のパス遅延補償を制御するようになっている
ことを特徴とするマイクロ電子機械可変光学遅延線。
【請求項７】  前記第１と第２のピボット駆動可能なミラーは、ＭＥＭＳミラーを含む
ことを特徴とする請求項６記載の光学遅延線。
【請求項８】  （Ｅ）  前記入力点と出力点の間を切り換える光学サーキュレータ（４２）
をさらに有し、
これにより光学遅延線へ単一の光波信号の接続を行う
ことを特徴とする請求項６記載の光学遅延線。
【請求項９】  前記第２ピボット駆動可能なミラーは、
前記第２ミラーの選択的なピボット運動により、前記第１ミラーと第２ミラーとの間の距離を変更させ、これにより入力光波信号の可変パス遅延補償が選択可能となる
ことを特徴とする請求項６記載の光学遅延線。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月29日(2006.12.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明者が行った実験結果の一例を図５に示す。この実験では、図３のように加熱炉の石英チューブ12内に装填したウェーハ10の周縁端部と中央部に実験用の温度センサーを直接に取付け、ウェーハ表面の端部温度M1及び中央部温度M2を測定した。熱電対の感温部１を内蔵する図３の温度検出素子５の測定値を熱電対出力温度MTC-Cとした。この熱電対出力温度MTC-Cを温度制御装置（図示せず）に加えて石英チューブ12によりウェーハ10を熱処理したときの温度を記録した。図５の実験結果では、ウェーハ表面温度M1・M2は設定値を約70℃オーバーシュートしている。ウェーハ中央部温度M2と熱電対出力温度MTC-Cとの間の温度差の最大瞬時値もオーバーシュートとほぼ同程度である。このオーバーシュートはシリコン基板への膜付けの品質と膜厚の面内バラツキに大きく影響する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、昇温速度が大きい場合は処理対象の加熱が主として熱放射による点に注目した。ウェーハ10等の加熱処理対象は比較的大きな放射熱入射面積を持つが、図４の従来の温度検出素子５の感温部１はウェーハ10に比し実質上点と考えられるほどの僅かな放射熱入射面積しか持たない。この放射熱入射面積の差が原因となって、測定対象の温度変化に対する温度検出素子出力の遅れが生じる。本発明者は、感温部１の放射熱入射面積を大きくすれば前記遅れを抑えることができるとの着想を得、本発明を完成するに到った。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の温度検出素子５を用いて図５と同じ温度制御装置による実験を行った。その結果を図６に示す。設定値に対するウェーハ表面温度のオーバーシュート、及びウェーハ中央部温度M2と熱電対出力温度MTCとの間の温度差の瞬時値は何れも約30℃となり、図５の従来例のものに比べ約40℃減少した。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
そして、上記円柱部３６を上記係合筒部６９内に、更に進入させる事で、上記鍔部３８ｂの外側面と上記カバー１７ｃの内側面とを互いに押し付け合わせると共に、上記鍔部３８ｂの外側面に設けた各係合用凸部７０と、上記塞ぎ板部２８の内側面に設けた各係合用凹部７１、７１とを凹凸係合させる。この状態では、上記挿入孔３２及び係合筒部６９の内側で上記円柱部３６が、不用意に回転する事が阻止された状態となる。又、この状態では、上記各係合溝６５、６５と各係合用突起３４ａ、３４ａとが係合する為、上記円柱部３６が上記挿入孔３２及び係合筒部６９の内側から抜け出る事が防止されて、上記センサユニット３５ｃが上記カバー１７ｃに結合される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１    外輪
２、２ａ  ハブ
３、３ａ、３ｂ、３ｃ  エンコーダ
４    センサ
５    外輪軌道
６    ナット
７    内輪
８    内輪軌道
９    転動体
１０    保持器
１１    フランジ
１２    取付部
１３    シールリング
１４    円筒部
１５    円輪部
１６    透孔
１７、１７ａ〜１７ｄ  カバー
１８    嵌合筒部
１９    塞ぎ板部
２０    挿入孔
２１    検知部
２２    取付フランジ
２３    止めねじ
２４    スタッド
２５、２５ａ  支持環
２６、２６ａ  永久磁石
２７、２７ａ  嵌合筒部
２８    塞ぎ板部
２９    小径円筒部
３０    段部
３１    大径円筒部
３２、３２ａ    挿入孔
３３    回転阻止用通孔
３４、３４ａ  係合用突起
３５、３５ａ〜３５ｆ  センサユニット
３６、３６ａ、３６ｂ  円柱部
３７    ハーネス
３８、３８ａ〜３８ｃ  鍔部
３９    センサ側通孔
４０    小径柱部
４１、４１ａ、４１ｂ  大径柱部
４２    ねじ部
４３    逃げ部
４４    第一の係止ピン
４５    第二の係止ピン
４６    円輪部
４７    係止筒部
４８    円筒部
４９    弾性変形部
５０    スリット
５１    鍔部
５２    円柱部
５３    係止溝
５４、５４ａ  Ｏリング
５５    駆動軸
５６    スプライン孔
５７    ハウジング部
５８    ねじ部
５９    円輪部
６０    シールリング
６１    肩部
６２    折り返し部
６３    平坦部
６４    組み合わせシールリング
６５    係合溝
６６    進入部
６７    傾斜部
６８    係止溝
６９    係合筒部
７０、７０ａ  係合用凸部
７１    係合用凹部
７２    円孔
７３    係止部材
７４    係止用通孔
７５、７５ａ  係止筒部
７６    係止部材
７７    基部
７８    係止突起
７９    挿入孔
８０    円筒面
８１    テーパ面
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４３】
2001208763.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月5日(2006.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクを載置する載置部と、
前記載置部を内部に備える筐体とを備え、
前記載置部は、前記ディスクの再生時に、前記筐体の少なくとも一部に対して傾斜して配置されることを特徴とするディスク再生装置。
【請求項２】
ディスクを載置する載置部と、
前記載置部を内部に備える筐体とを備え、
前記載置部は、前記ディスクの再生時に、ディスク挿排時のディスクの記録面に対して傾斜して配置されることを特徴とするディスク再生装置。
【請求項３】
前記ディスクの再生時に、前記ディスクの記録面側に配置するように前記筐体内に設けられたベース部材を更に備え、
前記ベース部材は、前記ディスクの再生時に、前記傾斜の方向の下流側に位置する前記ディスクの記録面の少なくとも一部と対向する位置に配置されないことを特徴とする請求項１及び２に記載のディスク再生装置。
【請求項４】
前記ディスクの再生時に、前記ディスクの記録面側に配置するように前記筐体内に設けられたベース部材を更に備え、
前記ベース部材の少なくとも一部の前記傾斜の方向の上流側が、前記傾斜の方向の下流側より高くなるように形成されることを特徴とする請求項１及び２に記載のディスク再生装置。
【請求項５】
前記ベース部材の少なくとも一部は、前記載置部の傾斜と同方向に傾斜していることを特徴とする請求項４記載のディスク再生装置。
【請求項６】
前記載置部は、前記ディスクの挿排方向に傾斜していることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のディスク再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を達成するもので、ディスクを載置する載置部と、前記載置部を内部に備える筐体とを備え、前記載置部は、前記ディスクの再生時に、前記筐体の少なくとも一部に対して傾斜して配置されることを特徴とする。
また、ディスクを載置する載置部と、前記載置部を内部に備える筐体とを備え、前記載置部は、前記ディスクの再生時に、ディスク挿排時のディスクの記録面に対して傾斜して配置されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記ディスクの再生時に、前記ディスクの記録面側に配置するように前記筐体内に設けられたベース部材を更に備え、前記ベース部材は、前記ディスクの再生時に、前記傾斜の方向の下流側に位置する前記ディスクの記録面の少なくとも一部と対向する位置に配置されないことを特徴とする。
また、前記ディスクの再生時に、前記ディスクの記録面側に配置するように前記筐体内に設けられたベース部材を更に備え、前記ベース部材の少なくとも一部の前記傾斜の方向の上流側が、前記傾斜の方向の下流側より高くなるように形成されることを特徴とする。  
また、前記ベース部材の少なくとも一部は、前記載置部の傾斜と同方向に傾斜していることを特徴とする。
また、前記載置部は、前記ディスクの挿排方向に傾斜していることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月8日(2006.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、好ましい実施形態としては、前記ドライエッチング用真空発生装置および前記排ガス処理装置の間に介装された中間真空発生装置と、この中間真空発生装置に窒素を供給するための追加の窒素供給手段を含み、前記追加の窒素供給手段が、前記中間真空発生装置に供給される窒素を加熱するための追加の窒素加熱手段をさらに備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
さらに前記中間真空発生装置から下流の排ガス通路（下流排ガス通路）の少なくとも一部を加熱する配管加熱手段とともに、前記ドライエッチング用真空発生装置の排気口から、前記中間真空発生装置に至る排ガス通路（上流排ガス通路）の少なくとも一部を加熱する配管加熱手段を有していてもよい。この配管加熱手段としては、前記と同様のものが用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
以上述べたドライエッチング排ガス処理装置はいずれも、加熱された窒素を混合されて昇温した排ガス（加熱排ガス）により排ガス通路を加熱する態様を含んでいるが、本発明においては、必ずしも、加熱排ガスによって配管の加熱を行なう必要はなく、排ガス通路の少なくとも一部を加熱するための配管加熱手段を設け、この配管加熱手段により配管の加熱だけを行なってもよい。また、同時に排ガス通路を真空に保つための中間真空発生装置を設け、前記配管加熱手段とを併せて用いることにより、真空と加熱の両効果により昇華性物質の析出を防止することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
前記下流排ガス通路の加熱温度は、通常、６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃の範囲とされ、このような温度に保つことによって、昇華性物質の析出を防止することができる。また、配管加熱手段としては、前記と同様にジャケットヒータ、リボンヒータ、テープヒータ、マントルヒータ等作業性のよいもの、また、温度調整の可能なものが好ましく用いられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
上記のようにして、昇華性物質を気体状態に保ったまま、ドライポンプ５の吸気とされた加熱排ガスは、このドライポンプ５の排気口から、圧力上昇して、自吸式微細気泡発生装置Ｄの給気管に至る下流排ガス通路７に排出される。このとき、ドライポンプ５の吸気口に前記加熱排ガスと混合するため、６０〜１５０℃に加熱された窒素が供給される。追加の窒素供給手段８は、電気ヒータ（追加の窒素加熱手段）９を備えており、ボンベ窒素、液体窒素等からの窒素を前記温度に加熱して、ドライポンプ５の吸気口に供給する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
自吸式微細気泡発生装置Ｄの給気管１２の上部から吸引され、微細気泡として水中に分散された排ガスは、水と接触して塩化アルミニウム等の水溶性物質、余剰の塩素系ガス等が溶解、除去された後、水洗塔１５でさらに水洗され、大気中に放出される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また自吸式微細気泡発生装置Ｄのロータ１３を、液槽の下方に設けた駆動部により回転する方式とした場合、下流排ガス通路７の一部を構成する給気管１２の内部には、長時間の使用により三塩化アルミニウム等が析出する場合がある。このときは、給気管１２への排ガス導入部より上方に水供給手段１６を設けて水をスプレイ状に噴射して、水の持つ溶解力あるいは水勢により、固形物を除去する。水洗後、水−窒素導入切替弁１７を切替えて水洗ラインに窒素を流し、水供給手段１６等を乾燥させ、同時に給気管１２の乾燥も行なう。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
このとき、上流排ガス通路４を真空に保つとともに、加熱排ガスを自吸式微細気泡発生装置Ｄに送入するドライポンプ５の吸気口にも、ボンベからの窒素（２５ｄｍ3／ｍｉｎ）を、窒素供給手段８に備えられた電気ヒータ９によって１００℃に加熱し、供給した。また、このドライポンプ５の排気口から、自吸式微細気泡発生装置Ｄの給気管１２に至る下流排ガス通路７もジャケットヒータ１０により１２０℃に加熱した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
ドライポンプ５の排気とされたドライエッチング排ガスは、ついで自吸式微細気泡発生装置Ｄの給気管１２に導入され、高速回転するロータ１３によって、液槽の水の中に分散され、溶解された。自吸式微細気泡発生装置Ｄの運転中は、給気管１２は、シリコン樹脂で封入されたジャケットヒータ（配管加熱手段）１４により９０℃に加熱した。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１電気接点（２０）を有する可動電極（１２）と第２電気接点（１８）を有する固定電極（２８）とを有するデバイスの駆動装置において、
前記可動電極と固定電極の一方の上に配置され、外部磁界に曝されたことに応答して磁化方向が変化するラッチ性磁性材料（１４）と、
前記ラッチ性磁性材料に対し所定の間隔を空けて配置された少なくとも１つの導電体（１０）と、
前記可動電極と固定電極の他方の上に、前記ラッチ性磁性材料に対し所定の間隔を空けて配置された第２磁性材料（１６）と、
からなり、
前記少なくとも１つの導電体（１０）内に電流を流すことにより形成された外部磁界に前記ラッチ性磁性材料（１４）を曝すことにより、前記ラッチ性磁性材料の磁化方向の変化が引き起こされ、前記変化した磁化方向は、形成された外部磁界への露出が終わった後も前記ラッチ性磁性材料（１４）内で維持され、
前記第２磁性材料（１６）は、前記ラッチ性磁性材料（１４）の磁化方向に応答して、前記ラッチ性磁性材料（１４）に引きつけられたりあるいは前記ラッチ性磁性材料（１４）から反発したりし、
前記第１電気接点（２０）と第２電気接点（１８）は、前記少なくとも１つの導電体（１０）に電流を選択的に流して、前記ラッチ性磁性材料が曝される外部磁界を形成し、前記ラッチ性磁性材料（１４）の磁化方向を前記少なくとも１つの導電体（１０）の外部磁界によって変化させることにより、前記可動電極を前記固定電極に対し移動させることにより、選択的に接続及び切断される
ことを特徴とする可動電極と固定電極を有するデバイスの駆動装置。
【請求項２】  前記第２磁性材料（１６）は、前記第２電気接点（１８）が配置される面の上に配置される
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】  前記駆動装置は、機械的リレーを含む
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】  前記駆動装置は、マイクロ電子−機械システム（ＭＥＭＳ）マイクロリレーを含む
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】  前記少なくとも１つの導電体内に第１方向に電流を流すことにより、前記ラッチ性磁性材料（１４）と前記第２磁性材料（１６）との間に引力を引き起こす第１の外部磁界が形成され、
前記少なくとも１つの導電体内に前記第１方向とは逆の第２方向に電流を流すことにより、前記ラッチ性磁性材料（１４）と前記第２磁性材料（１６）との間に反発力を引き起こす前記第１の外部磁界とは反対方向の第２の外部磁界が形成される
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】  前記引力が、前記可動電極と前記固定電極の相対的移動を起こさせ、前記第１電気接点（２０）と前記第２電気接点（１８）が相対的に移動して互いに接触する
ことを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項７】  前記反発力が、前記可動電極と前記固定電極の相対的移動を起こさせ、前記第１電気接点（２０）と前記第２電気接点（１８）が相対的に移動して互いに接触しなくなる
ことを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項８】  前記反発力が、前記可動電極と前記固定電極の相対的移動を起こさせ、前記第１電気接点（２０）と前記第２電気接点（１８）が相対的に移動して互いに接触する
ことを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項９】  前記引力が前記可動電極と前記固定電極の相対的移動を起こさせ、前記第１電気接点（２０）と前記第２電気接点（１８）が相対的に移動して互いに接触しなくなる
ことを特徴とする請求項８記載の装置。
【請求項１０】  前記少なくとも１つの導電体は、ＭＥＭＳマイクロリレー内の平行な導体組立体を含み、
前記平行な導体の各々により形成された磁界は、局部的に組み合わされるかあるいはうち消され、その結果前記ラッチ性磁気材料を駆動するのに適した平面内の磁界を生成する
ことを特徴とする請求項４記載の装置。
【請求項１１】  前記少なくとも１つの導電体（１０）により形成された磁界の抗磁力は、２乃至２０００エルステッドの範囲内にある
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１２】  前記ラッチ性磁性材料（１４）の磁化飽和は、１０００乃至２４０００ガウスの範囲内にある
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１３】  前記ラッチ性磁性材料（１４）は、Ｔａ−Ｎ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ｔａ−Ｎ，Ｆｅ−Ｚｒ−Ｎ，Ｃｏ−Ｆｅ，Ｎｉ−Ｆｅ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ｃｏ，Ｆｅベースの強磁性フィルム、Ｃｏベースの強磁性フィルム、Ｎｉベースの強磁性フィルムからなるグループから選択されたものである
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１４】  前記第２磁性材料（１６）は、Ｓｍ−Ｃｏ，Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ｃｏ，Ｃｏ−Ｆｅ−ＶおよびＣｕ−Ｎｉ−Ｆｅからなるグループから選択された永久薄膜材料を含む
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】  請求項１または２記載の半導体露光装置を用いてウエハを露光する工程と、該露光したウエハを現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
次に、上記請求項１または２記載の半導体露光装置を用いてウエハを露光する工程と、該露光したウエハを現像する工程とを有するデバイス製造方法の実施例を説明する。図５は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、あるいは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造フローを示す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成したレチクルであるマスクを製作する。ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いて基板であるウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組立）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月7日(2006.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】無機粉末と、ポリイミド前駆体を含有するペーストにおいて、熱分解または揮発による重量減少が、３００℃において９５％以上であるアゾール化合物をポリイミド前駆体の１０ｗｔ％以上２００ｗｔ％以下含有することを特徴とするペースト。
【請求項２】アゾール化合物が、１，２，３−ベンゾトリアゾール化合物および／またはその誘導体であることを特徴とする請求項１記載のペースト。
【請求項３】無機粉末は、ペーストの全固形分に対して５０ｗｔ％以上９５ｗｔ％未満であることを特徴とする請求項１記載のペースト。
【請求項４】無機粉末の平均粒子径は０．０１μｍ以上５．０μｍ未満であることを特徴とする請求項１記載のペースト。
【請求項５】無機粉末が、磁性体であることを特徴とする特徴とする請求項１記載のペースト。
【請求項６】無機粉末がフェライトであることを特徴とする請求項１記載のペースト。
【請求項７】無機粉末がニッケル／亜鉛系またはマンガン／亜鉛系のフェライトであることを特徴とする請求項１記載のペースト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
無機粉末と、ポリイミド前駆体を含有するペーストにおいて、熱分解または揮発による重量減少が、３００℃において９５％以上であるアゾール化合物をポリイミド前駆体の１０ｗｔ％以上２００ｗｔ％以下含有することを特徴とするペーストにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下本発明を具体的に説明する。
本発明は、無機粉末と、ポリイミド前駆体を含有するペーストにおいて、熱分解または揮発による重量減少が、３００℃において９５％以上であるアゾール化合物をポリイミド前駆体の１０ｗｔ％以上２００ｗｔ％以下含有することを特徴とするペーストである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
アゾール化合物としては、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１Ｈ−テトラゾール、あるいはそれらの誘導体が特に有効である。多くの芳香族複素環化合物について、金属あるいは金属を含む無機物表面に配位し、表面を安定化する効果が知られている。それらのうち、特にアゾール化合物は、銅の防錆剤として実績があり、金属または金属を含む無機物表面に不溶性の非常に強固な錯体被膜を形成し、表面の反応性の抑制に効果が高い。さらに、アゾール化合物の好ましい添加量は、ポリイミド前駆体の１０重量％以上２００重量％以下であり、より好ましくは５０重量％以上１５０重量％以下である。また芳香族複素環化合物およびポリイミド前駆体の分析手段については、ペーストの有機溶媒可溶分を赤外分光分析やＧＣ／ＭＳ分析、あるいはＮＭＲ分析、ＨＰＬＣなどにより容易に定量的に検出することが出来る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
得られたポリイミド前駆体の塗布膜を、加熱することで無機粉末を含有するポリイミド膜を得る。このときの加熱温度プロファイルは、例えば室温から１２０℃乃至１８０℃まで３０分で昇温し、３０分保持した後、再び昇温して１時間で３００℃乃至４００℃にして１時間保持し、その後冷却する。この加熱工程により、塗膜中の残留溶媒は完全に除去され、ポリイミド前駆体は脱水閉環反応を経てイミド化し、ポリイミド膜となる。このとき、機械強度の良好なポリイミド膜を得るためには、アゾール化合物は、この加熱工程で熱分解乃至揮発し、最終的に膜中に残らないものを選ぶことが重要である。具体的には、ポリイミド前駆体をイミド化する加熱工程の最高温度が通常３００℃乃至４００℃程度であることから、３００℃以下で９５％以上が熱分解乃至揮発によって消失するアゾール化合物が望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月4日(2007.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波照射により関節部位のＭＭＰ活性を低下させる装置であり、少なくとも１つの超音波トランスデューサー、超音波発信器及び該超音波トランスデューサーの関節部位への装着手段を備え、周波数１．３〜２ＭＨｚ、繰り返し周期１００〜１，０００Ｈｚ、バースト幅１０〜２０００μｓ、出力１００ｍＷ／ｃｍ２（SATA：Spatial Average-Temporal Average、空間時間平均）以下の超音波を照射する手段であるＭＭＰ活性低下装置。   
【請求項２】
超音波を照射することによって、マトリックス金属プロテアーゼ（ＭＭＰ）活性を低下させることを特徴とするＭＭＰ活性低下方法。         
【請求項３】
該超音波の特性が、周波数１．３〜２ＭＨｚ、繰り返し周期１００〜１，０００Ｈｚ、バースト幅１０〜２０００μｓ、出力１００ｍＷ／ｃｍ２（SATA：Spatial Average-Temporal Average、空間時間平均）以下であることを特徴とする請求項２記載のＭＭＰ活性低下方法。
【請求項４】
該ＭＭＰがＭＭＰ−１、ＭＭＰ−３、及び／又はＭＭＰ−１３であることを特徴とする請求項２又は３に記載のＭＭＰ活性低下方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月26日(2007.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気口と排気口を有し、内部に排気送風機を設けた排気ユニットと、この排気ユニットの吸気口に連通し設けられる固定フードと、この固定フードに連通し、前記固定フードの前面よりスライド自在に設けられるスライドフードとを備え、前記固定フードおよび前記スライドフードの内周部での風速を早くする整流部を前記固定フードと前記スライドフードのそれぞれに、前記固定フード側を外側に前記スライドフード側を内側にして設け、前記スライドフードを前記固定フード内に収納した時に、空気が前記固定フードに設けた整流部側から前記排気ユニット内に吸い込まれて、常時換気を行う構成としたレンジフード。
【請求項２】
固定フードの内面にスライドフードが接触しないように隙間を形成し、前記隙間の空気の流通を遮断する形状の遮断凸部を、前記スライドフードの後端部近傍に立設した請求項１記載のレンジフード。
【請求項３】
吸気口と排気口を有し、内部に排気送風機を設けた排気ユニットと、この排気ユニットの吸気口に連通し設けられる固定フードと、この固定フードに連通し、前記固定フードの前面よりスライド自在に設けられるスライドフードとを備え、前記固定フードおよび前記スライドフードのそれぞれの内周部に開口率の大きいフィルターを、前記固定フード側を外側に前記スライドフード側を内側にして設け、前記開口率の大きいフィルターのそれぞれの内側に開口率の小さいフィルターを設け、前記スライドフードを前記固定フード内に収納した時に、前記固定フードに設けた開口率の大きいフィルター側から前記排気ユニット内に吸い込まれて、常時換気を行う構成としたレンジフード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の請求項１記載の発明は、吸気口と排気口を有し、内部に排気送風機を設けた排気ユニットと、この排気ユニットの吸気口に連通し設けられる固定フードと、この固定フードに連通し、前記固定フードの前面よりスライド自在に設けられるスライドフードとを備え、前記固定フードおよび前記スライドフードの内周部での風速を早くする整流部を前記固定フードと前記スライドフードのそれぞれに、前記固定フード側を外側に前記スライドフード側を内側にして設け、前記スライドフードを前記固定フード内に収納した時に、空気が前記固定フードに設けた整流部側から前記排気ユニット内に吸い込まれて、常時換気を行う構成としたものであり、レンジから上昇する油煙を排気するときには、固定フードからスライドフードを引き出し、レンジフードの下面の吸込範囲を大きくするとともに、整流部を配設し吸い込みの風速が速いことにより、上昇した油煙は固定フードおよびスライドフード外に漏れなくなり、油煙の捕集効率が高められ、スライドフードを固定フード内に収納したときにおいても、固定フードに設けた整流部側から室内の空気を吸い込んで排気することにより常時換気を行うことができ、レンジフードとは別個に常時換気用の換気扇を設置する必要もなくなるという作用を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、請求項２記載の発明は、固定フードの内面にスライドフードが接触しないように隙間を形成し、前記隙間の空気の流通を遮断する形成の遮断凸部を前記スライドフードの後端部近傍に立設したものであり、スライドフードをスライドするときには、スライドフードの後端部近傍に設けた遮断凸部が固定フードの内面に接触しながらスライドすることとなるので、固定フードに対しては、線接触状態となりスライドフード全体が固定フード内面に接触させながらスライドする面接触の状態に比較し、スライドを軽やかに行なうことができるとともに、遮断凸部により隙間を通り、固定フード内に流入する空気が遮断され、排気送風機の送風量は固定フードおよびスライドフードの下面側から吸気される全風量となり、換気効率の低下するのが防止できるという作用を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、請求項３記載の発明は、固定フードおよびスライドフードのそれぞれの内周部に開口率の大きいフィルターを、前記固定フード側を外側に前記スライドフード側を内側にして設け、前記開口率の大きいフィルターのそれぞれの内側に開口率の小さいフィルターを設け、前記スライドフードを前記固定フード内に収納した時に、前記固定フードに設けた開口率の大きいフィルター側から前記排気ユニット内に吸い込まれて、常時換気を行う構成としたものであり、開口率の大きいフィルターでは通風が容易となり大量の空気が流れ、また、開口率の小さいフィルターを設けたところでは通風量が少なくなり、レンジから上昇する油煙のほとんどは、大量の空気が吸気される開口率の大きいフィルターを通り吸気されることとなり、固定フードおよびスライドフードの外方に流れようとする油煙の漏れるのが防止でき、効率よく油煙を捕集して排気することができるという作用を有する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に排気送風機を設けた排気ユニットの空気流路に連通し設けられる固定フードと、この固定フードにスライド自在に設けられるスライドフードと、このスライドフードをスライド方向に駆動する駆動装置とを備えたレンジフードにおいて、前記排気ユニットは前記固定フード上の中央部に載置され、前記駆動装置は、正逆回転可能な駆動モータと、前記駆動モータの回転軸に設けられ、上プーリと下プーリを２段組みとしたメインプーリと、前記上プーリと下プーリにその一端と他端を互いに反対方向に巻回したワイヤーと、前記ワイヤーに前記スライドフードを連結固定する連結固定部と、前記駆動モータの運転を制御する位置検知手段とを一枚の板材に配設し、ユニット化して前記固定フード上の側方に設けられたレンジフードにおけるスライドフードの駆動装置。
【請求項２】
駆動装置をスライドフードの左右を駆動するように固定フードの両側に設けた請求項１記載のレンジフードにおけるスライドフードの駆動装置。
【請求項３】
駆動装置をスライドフードの一方側を駆動するように固定フードの一方側に設け、前記固定フードの他方側に、前記駆動装置による前記スライドフードのスライド時に、前記スライドフードの他方側の移動に一定の抵抗を与える従動装置を設けた請求項１記載のレンジフードにおけるスライドフードの駆動装置。
【請求項４】
連結固定部がスライドフードのスライドに対し抵抗を与える構成による従動装置を設けた請求項３載のレンジフードにおけるスライドフードの駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の請求項１記載の発明は、内部に排気送風機を設けた排気ユニットの空気流路に連通し設けられる固定フードと、この固定フードにスライド自在に設けられるスライドフードと、このスライドフードをスライド方向に駆動する駆動装置とを備えたレンジフードにおいて、前記排気ユニットは前記固定フード上の中央部に載置され、前記駆動装置は、正逆回転可能な駆動モータと、前記駆動モータの回転軸に設けられ、上プーリと下プーリを２段組みとしたメインプーリと、前記上プーリと下プーリにその一端と他端を互いに反対方向に巻回したワイヤーと、前記ワイヤーに前記スライドフードを連結固定する連結固定部と、前記駆動モータの運転を制御する位置検知手段とを一枚の板材に配設し、ユニット化して前記固定フード上の側方に設けられたものであり、正逆回転可能な駆動モータと、駆動モータにより駆動されるワイヤーの駆動により直線方向に移動されるスライドフードの連結固定部と、連結固定部が移動し、スライドフードが所定の位置に移動したときに検知し、前記駆動モータの運転を停止する位置検知手段等の多数の部材を一枚の板材に配設してユニット化し、さらに、ワイヤーの一端はメインプーリの上側のプーリに取り付け、ワイヤーの他端はメインプーリの下側のプーリに取り付けることができ、駆動モータにより反時計方向にメインプーリが回転されるときには、例えば上側のプーリはワイヤーの一端を巻き取る方向に回転し、下側のプーリはワイヤーの他端を巻き戻す方向に回転することにより、ワイヤーの端部における絡みをなくすことができる駆動装置が形成されることにより、駆動装置を、スライドフードをスライド自在に固定する固定フードに設けることが容易となり組立性が向上するとともに、駆動装置の駆動モータやワイヤー等が損傷し新しい駆動装置に取替えたりメンテナンスを行なうときには、板材を取り外し新しい駆動装置に交換したりメンテナンスを行なうことができるという作用を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、請求項２記載の発明は、駆動装置をスライドフードの左右を駆動するように固定フードの両側に設けたものであり、同一能力の駆動装置がスライドフードの右側と左側においてスライド駆動するように設けられていることにより、スライドフードの右側と左側の両側において駆動されるスライドフードには左右同一のスライド駆動力が加わり、スライドフードは、こじれることなくスムーズにスライドすることができるという作用を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、請求項３記載の発明は、駆動装置をスライドフードの一方側を駆動するように固定フードの一方側に設け、前記固定フードの他方側に、前記駆動装置による前記スライドフードのスライド時に、前記スライドフードの他方側の移動に一定の抵抗を与える従動装置を設けたものであり、駆動装置をスライドフードの一方側を駆動するように設け、他方を自由に移動するようにフリーな状態に設けた場合には、スライドフードの他方側が勝手に前後に移動し駆動装置によるスライドフードの移動とは異なる移動が生じ、スライドフードのこじれにより、しゃくりやがたつきが発生しスライドフードがスムーズに移動しないこととなるが、他方側に駆動モータの有さない従動装置を設けることにより、従動装置が一定の抵抗となり、スライドフードの他方側が勝手に前後に移動することがなくなることとなり、一方側に設けた駆動装置と、他方側に設けた従動装置により、駆動のバランスが取れ、スライドフードがしゃくりやがたつくことなくスライドすることができるという作用を有する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、請求項４記載の発明は、連結固定部がスライドフードのスライドに対し抵抗を与える構成による従動装置を設けたものであり、駆動装置を設けた一方側に対し、他方側には連結固定部による抵抗があることにより、スライドフードの他方側が勝手に前後に移動することがなくなり、スライドフードのスライド時にスライドフードの他方側がしゃくりやがたつくことがなくなりスライドできるという作用を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月30日(2007.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の粒子の入った溶液を収納する容器と、
前記容器を振動させるための振動発生機と、
先端に粒子を捕捉する細長い粒子捕捉ノズルと、
前記粒子捕捉ノズルに連結した吸引機と、
前記粒子捕捉ノズルの先端部を前記容器中の溶液に挿入し、引き上げるためのアクチュエータと
を有することを特徴とする粒子捕捉装置。
【請求項２】
請求項１記載の粒子捕捉装置において、前記粒子捕捉ノズルの先端に開口する孔は前記粒子の直径より小さく、前記粒子捕捉ノズルの先端の外径は前記粒子の直径より大きいことを特徴とする粒子捕捉装置。
【請求項３】
請求項１記載の粒子捕捉装置において、前記振動発生機は周波数２０Hz以上の振動を発生することを特徴とする粒子捕捉装置。
【請求項４】
請求項３記載の粒子捕捉装置において、前記振動発生機が発生する振動の振幅は０．１ｍｍ以上であることを特徴とする粒子捕捉装置。
【請求項５】
請求項１記載の粒子捕捉装置において、前記振動発生機は、前記容器を前記粒子捕捉ノズルの軸方向に対して垂直な方向に振動させることを特徴とする粒子捕捉装置。
【請求項６】
請求項１記載の粒子捕捉装置において、前記振動発生機は、前記容器の中心が前記粒子捕捉ノズルの軸方向に垂直な面内で回転するような振動を発生することを特徴とする粒子捕捉装置。
【請求項７】
生体分子プローブを表面に固定した粒子が複数入った溶液中に、先端に前記粒子の直径より小さい孔が開口し、先端の外径が前記粒子の直径より大きい粒子捕捉ノズルを挿入する工程と、
前記粒子捕捉ノズルの先端に吸引力を作用させる工程と、
前記容器を振動させる工程と、
先端に１個の粒子を吸引保持した前記粒子捕捉ノズルを前記容器の溶液から引き出す工程と、
前記粒子捕捉ノズルの先端に吸引保持している粒子を粒子配列容器に導入する工程とを有することを特徴とする粒子配列方法。
【請求項８】
請求項７記載の粒子配列方法において、前記粒子配列容器中に、異なる生体分子プローブを固定した粒子を複数種類、順番を制御して１列に配列することを特徴とする粒子配列方法。
【請求項９】
それぞれ複数の粒子が入った溶液を収納する複数の容器を保持するステージと、
先端に前記粒子の直径より小さい孔が開口し、先端の外径が前記粒子の直径より大きい粒子捕捉ノズルと、
前記粒子捕捉ノズルを駆動するアクチュエータと、
前記粒子捕捉ノズルの先端に正又は負の圧力を発生させる吸引加圧手段と、
前記ステージを振動させる手段と、
粒子を収容する粒子配列容器を保持する粒子配列容器保持部と、
制御部とを備え、
前記制御部は、前記アクチュエータを制御して、振動している前記ステージ上の容器に前記粒子補足ノズルを挿入し、前記吸引加圧手段を制御して前記粒子捕捉ノズルの先端に負の圧力を発生させて先端に１個の粒子を捕捉した状態で、前記アクチュエータを制御して前記粒子捕捉ノズルを前記容器から引き上げ、次に、前記アクチュエータを制御して、先端に１個の粒子を捕捉した前記粒子補足ノズルを前記粒子配列容器の位置に移動させ、前記吸引加圧手段を制御して前記先端に正の圧力を発生させて捕捉した粒子を前記粒子配列容器に導入することを特徴とする粒子配列装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月30日(2007.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電潜像が形成される像担持体と、
前記静電潜像を現像する現像剤を収納する現像剤収納容器と、
前記現像剤収納容器内の前記現像剤の残量検知を行う検知装置と、
前記現像剤収納容器内の現像剤を攪拌する現像剤攪拌部材と、を有する画像形成装置であって、
前記検知装置は非画像形成時に残量検知を行ない、前記現像剤攪拌部材の回転速度は、画像形成動作時よりも前記残量検知時の方が遅くなり、第一の残量検知時に前記検知装置により検知された第一現像剤残量と、前記第一の残量検知時よりも後の第二の残量検知時に前記検知装置により検知された第二現像剤残量とに基いて、前記第二の残量検知時と前記第二の残量検知の次回の第三の残量検知時との検知間隔を変更することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記第一現像剤残量と、前記第二現像剤残量との差分が所定値より大きい場合に、前記検知間隔を短くすることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記第一現像剤残量と、前記第二現像剤残量との差分が所定値より小さい場合に、前記検知間隔を長くすることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第一の残量検知時と、前記第二の残量検知時とは、連続する二回の残量検知時であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項５】
静電潜像が形成される像担持体と、
前記静電潜像を現像する現像剤を収納する現像剤収納容器と、
前記現像剤収納容器内の前記現像剤の残量検知を行う検知装置と、
前記現像剤収納容器内の現像剤を攪拌する現像剤攪拌部材と、を有する画像形成装置において、
前記検知装置は非画像形成時に残量検知を行ない、前記現像剤攪拌部材の回転速度は、画像形成動作時よりも前記残量検知時の方が遅くなり、画像情報に基いて次回に行なわれる残量検知時を変更することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
前記現像剤を担持する現像剤担持体を有し、
前記現像剤は、前記現像剤収納容器から前記現像剤担持体に供給され、
前記検知間隔は、前記現像剤担持体の累積回転数により決定され、
前記検知間隔の変更は、前記現像剤担持体の累積回転数を変更することで行なわれることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記検知装置は、前記現像剤収納容器内に設けられた透過窓を透過する検知光によって前記現像剤の残量を検知することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記現像剤攪拌部材は、前記透過窓に接触することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
下光透過窓は、攪拌部材の回転中心の下方に配され、上光透過窓は、攪拌部材の回転中心の上方に配される。そして、攪拌部材は下光透過窓と上光透過窓に回転する毎に接触し、それぞれの窓の内側に付着したトナーを拭き取っている。そして、トナーが消費され、攪拌部材の回転領域のトナーが少なくなると、下光透過窓から上光透過窓へ光が透過し、トナーの残量が検知可能な状態になる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するための手段の一つとして次のようなものがある。静電潜像が形成される像担持体と、前記静電潜像を現像する現像剤を収納する現像剤収納容器と、前記現像剤収納容器内の前記現像剤の残量検知を行う検知装置と、前記現像剤収納容器内の現像剤を攪拌する現像剤攪拌部材と、を有する画像形成装置であって、前記検知装置は非画像形成時に残量検知を行ない、前記現像剤攪拌部材の回転速度は、画像形成動作時よりも前記残量検知時の方が遅くなり、第一の残量検知時に前記検知装置により検知された第一現像剤残量と、前記第一の残量検知時よりも後の第二の残量検知時に前記検知装置により検知された第二現像剤残量とに基いて、前記第二の残量検知時と前記第二の残量検知の次回の第三の残量検知時との検知間隔を変更することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
以下に、本実施例でのトナー残量検知シーケンスについて図９のフローチャートを用いて説明する。
Ｓ１：イニシャライズ時トナー残量検知を開始。
（イニシャライズは、電源ＯＮ時及びプロセスカートリッジの交換やジャム処理等で装置本体の前カバーを開閉した時に行なわれる。）
Ｓ２：残量検知シーケンスを実行し、検知光の通過時間からトナー残量％値Ｑ（ｎ）を算出する。そして、画像形成装置に備えたＣＰＵに記憶する。
（ここで、ｎは残検シーケンスを行なった回数を示しており、イニシャライズ毎にリセットされる。）
Ｓ３：画像形成動作開始。
Ｓ４：現像ローラ回転時間Ｔｓ１が、２００ｓ以上、２４０ｓ以下の範囲内に至った時点で画像形成動作を停止する。本実施例では、現像ローラ回転時間Ｔｓ１が、本実施例では、２２０ｓのタイミングで画像形成動作停止。
Ｓ５：トナー残量検知を開始。
Ｓ６：残量検知シーケンスを実行し、検知光の通過時間からトナー残量％値Ｑ（ｎ）を算出する。そして、画像形成装置に備えたＣＰＵに記憶する。
Ｓ７：Ｑ（ｎ）−Ｑ（ｎ−１）≧Ｎ（＝７）の場合、即ち、トナー消費量が多い場合は、Ｓ８に移行する。また、Ｑ（ｎ）−Ｑ（ｎ−１）＜Ｎの場合、即ち、トナー消費量が少ない場合はＳ３に移行する。ここで、Ｎは、トナー消費量を判断するための閾値。
Ｓ８：画像形成開始。
Ｓ９：現像ローラ回転時間Ｔｓ２が、１００ｓ以上、１４０ｓ以下の範囲内に至った時点で画像形成動作を停止する。本実施例では、現像ローラ回転時間Ｔｓ２が、本実施例では１２０ｓのタイミングで画像形成動作停止。
Ｓ１０：トナー残量検知を開始。
Ｓ１１：残量検知シーケンスを実行し、検知光の通過時間からトナー残量％値Ｑ（ｎ）を算出する。そして、画像形成装置に備えたＣＰＵに記憶する。
Ｓ１２：Ｑ（ｎ）−Ｑ（ｎ−１）≧Ｍ（＝４）の場合、即ち、トナー消費量が多い場合はＳ８に移行し、残量検知タイミングは早めた状態に維持する。また、Ｑ（ｎ）−Ｑ（ｎ−１）＜Ｍの場合、即ち、トナー消費量が少ない場合はＳ３に移行し、残量検知タイミングは遅くする。ここで、Ｍはトナー消費量を判断するための閾値。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月17日(2007.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスフラグメントスペクトルの一部にアクセスするステップと、
前記マスフラグメントスペクトルの一部の強度バランスに応じて、前記マスフラグメントスペクトルの一部を評価するステップと、
前記評価ステップに応じて前記マスフラグメントスペクトルを処理するステップと、
を含むことを特徴とするコンピュータにより制御される方法。
【請求項２】
前記評価ステップが、
前記マスフラグメントスペクトルの前記強度バランスに応じて、ベクトルを構築するステップと、
訓練データにより定められる少なくとも１つの表面により分離される複数の領域を含む多次元空間に前記ベクトルを配置するステップと、
をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、前記マスフラグメントスペクトルの前記強度バランスに応じて、ベクトルを構築するステップを含み、前記ベクトルが、およそ１８デカ(Da)だけ異なるｍ／ｚ値をもつピーク対の正規化された強度に応じるものである請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記正規化ステップが、順位に基づく強度正規化方式を使用することを含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】
マスフラグメントスペクトルを生成するマス分光計(mass spectrometer)と、
前記マスフラグメントスペクトルの少なくとも一部にアクセスし、前記スペクトルの強度バランスに応じたベクトルを構築し、前記ベクトルに応じてスペクトルを選択するフィルタを採用するコンピュータと、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項６】
マスフラグメントスペクトルの一部にアクセスするステップと、
ピーク対の差異に応じて前記マスフラグメントスペクトルの一部を評価するステップと、
前記評価ステップに応じて前記マスフラグメントスペクトルを処理するステップと、
を含むことを特徴とするコンピュータにより制御される方法。
【請求項７】
前記評価ステップが、
前記ピーク対の差異に応じてベクトルを構築するステップと、
訓練データにより定められる少なくとも１つの表面により分離される複数の領域を含む多次元空間に前記ベクトルを配置するステップと、
をさらに含む請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ピーク対の差異が、およそ１８デカ(Da)だけ異なるｍ／ｚ値をもつ一対のピークからなる請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記評価ステップが、ピーク対の正規化された強度にも応じるものであり、強度ピークを正規化することは、順位に基づく強度正規化方式を使用することを含む請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
マスフラグメントスペクトルを生成するマス分光計(mass spectrometer)と、
前記マスフラグメントスペクトルの少なくとも一部にアクセスし、ピーク対の差異に応じたベクトルを構築し、前記ベクトルに応じてスペクトルを選択するフィルタと、
を備えることを特徴とする装置。