【手続補正書】
【提出日】平成19年6月11日(2007.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】投影光学系、投影露光装置、及びパターン転写方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影原版を保持するための第１の保持部材と基板を保持するための第２の保持部材とを備え、前記投影原版上のパターンを前記基板へ転写するための投影露光装置に用いられ、前記投影原版上のパターンを前記基板へ投影する投影光学系において、
前記投影原版側から順に、
正屈折力を有する第１レンズ群と；
負屈折力を有する第２レンズ群と；
正屈折力を有する第３レンズ群と；
負屈折力を有する第４レンズ群と；
正屈折力を有する第５レンズ群と；
を備え、
前記第５レンズ群は少なくとも１面の非球面レンズ面を含み、
以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．５＜ＴG5／ＬG5＜０．８５
但し、
ＴG5：前記第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
ＬG5：前記第５レンズ群中の最も投影原版側に位置するレンズ面から前記第５レンズ群中の最も基板側に位置するレンズ面までの光軸上の距離、
である。
【請求項２】
前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間には開口絞りが配置され、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１記載の投影光学系。
０．５＜ＴG1-G5／ＬG1-G5＜０．６４
但し、
ＴG1-G5：前記第１乃至第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
ＬG1-G5：前記第１レンズ群中の最も投影原版側に位置するレンズ面から前記第５レンズ群中の最も基板側に位置するレンズ面までの光軸上の距離、
である。
【請求項３】
以下の条件を満足することを特徴とする請求項２記載の投影光学系。
０．５＜ＴG1-G5／Ｌ＜０．６４
但し、
ＴG1-G5：前記第１乃至第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
Ｌ ：前記投影光学系の物像間距離、
である。
【請求項４】
前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間には開口絞りが配置され、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１記載の投影光学系。
０．５＜ＴG1-G5／Ｌ＜０．６４
但し、
ＴG1-G5：前記第１乃至第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
Ｌ ：前記投影光学系の物像間距離、
である。
【請求項５】
投影原版を保持するための第１の保持部材と基板を保持するための第２の保持部材とを備え、前記投影原版上のパターンを基板へ転写するための投影露光装置に用いられ、前記投影原版上のパターンを前記基板へ投影する投影光学系において、
前記投影原版側から順に、
正屈折力を有する第１レンズ群と；
負屈折力を有する第２レンズ群と；
正屈折力を有する第３レンズ群と；
負屈折力を有する第４レンズ群と；
正屈折力を有する第５レンズ群と；
を備え、
前記第５レンズ群は少なくとも１面の非球面レンズ面を含み、
以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．５＜ＴG1-G5／ＬG1-G5＜０．６４
但し、
ＴG1-G5：前記第１乃至第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
ＬG1-G5：前記第１レンズ群中の最も投影原版側に位置するレンズ面から前記第５レンズ群中の最も基板側に位置するレンズ面までの光軸上の距離、
である。
【請求項６】
以下の条件を満足することを特徴とする請求項５記載の投影光学系。
０．５＜ＴG1-G5／Ｌ＜０．６４
但し、
ＴG1-G5：前記第１乃至第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
Ｌ ：前記投影光学系の物像間距離、
である。
【請求項７】
投影原版を保持するための第１の保持部材と基板を保持するための第２の保持部材とを備え、前記投影原版上のパターンを基板へ転写するための投影露光装置に用いられ、前記投影原版上のパターンを前記基板へ投影する投影光学系において、
前記投影原版側から順に、
正屈折力を有する第１レンズ群と；
負屈折力を有する第２レンズ群と；
正屈折力を有する第３レンズ群と；
負屈折力を有する第４レンズ群と；
正屈折力を有する第５レンズ群と；
を備え、
前記第５レンズ群は少なくとも１面の非球面レンズ面を含み、
以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
０．５＜ＴG1-G5／Ｌ＜０．６４
但し、
ＴG1-G5：前記第１乃至第５レンズ群中の各レンズ素子の軸上厚の総和、
Ｌ ：前記投影光学系の物像間距離、
である。
【請求項８】
前記投影原版上の光軸上の一点からの光線を前記投影光学系へ入射させた際に前記第５レンズ群中において前記光軸から最も離れ、
開口絞りは前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間に配置されることを特徴とする請求項１，５または７記載の投影光学系。
【請求項９】
前記投影光学系の像側開口数は０．６以上であることを特徴とする請求項１，５または８記載の投影光学系。
【請求項１０】
前記投影原板はエキシマレーザ光源を含む照明光学系で照明され、
開口絞りは前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間に配置されることを特徴とする請求項１，５または７記載の投影光学系。
【請求項１１】
前記投影原版上の光軸上の一点からの光線を前記投影光学系へ入射させた際に前記第５レンズ群中において前記光軸から最も離れることを特徴とする請求項２，３，４または６記載の投影光学系。
【請求項１２】
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１１記載の投影光学系。
０．２１＜ｈasp／ｈmax＜１
但し、
ｈasp：前記投影原版上の光軸上の一点からの最周縁光線が前記第５レンズ群中の前記非球面に到達した点と光軸との距離、
ｈmax：前記投影原版上の光軸上の一点からの最周縁光線と光軸との距離のうちの最大値、
である。
【請求項１３】
前記投影光学系の露光領域の直径は前記基板上で２４．６５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項９記載の投影光学系。
【請求項１４】
前記投影光学系は全体として、
前記第１レンズ群を含んでいる第１主レンズ群と；
前記第２レンズ群、前記第３レンズ群、前記第４レンズ群、及び前記第５レンズ群中の最も投影原版側に位置するレンズを含んでいる第２主レンズ群と；
前記第５レンズ群中の前記最も投影原版側に位置するレンズを除いた前記第５レンズ群を含んでいる第３主レンズ群と；
を含み、
以下の条件を満足することを特徴とする請求項２または４記載の投影光学系。
ｒo／ｒi ≦４．３４
但し、
ｒo：前記第２主レンズ群から射出される軸上最周縁光線の高さ、
ｒi：前記第２主レンズ群へ入射する軸上最周縁光線の高さ、
である。
【請求項１５】
以下の条件を満足することを特徴とする請求項１４記載の投影光学系。
０．９３≦ｆIII／ｆI ≦１．１
但し、
ｆIII：前記第３主レンズ群の焦点距離、
ｆI ：前記第１主レンズ群の焦点距離、
である。
【請求項１６】
投影原版上のパターンを基板へ転写するための投影露光装置において、
前記投影原版を保持する第１の保持部材と；
前記基板を保持する第２の保持部材と；
前記投影原版上のパターンを照明するための照明光学系と；
前記投影原版上のパターンを前記基板へ投影するための請求項１乃至１５の何れか一項記載の投影光学系と；
を備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の投影露光装置を用いてレチクル上のパターンをウエハ上へ転写する方法であって、
前記投影原版としての前記レチクルを照明すること；及び
前記投影光学系を通して前記基板としての前記ウエハ上へ前記パターンを転写すること；
を含むことを特徴とするパターン転写方法。