【手続補正書】
【提出日】令和1年9月27日(2019.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面と、前記第１の表面から離れて対向する第２の表面を備え、前記第２の表面は、前記第１の表面から第１の距離にある第１の部分と、前記第１の表面から第２の距離にある第２の部分と、前記第１の部分と前記第２の部分の間に延びる第３の部分とを有し、
更に、
前記第１の表面から前記第２の表面に延びる個別の開孔を画定および分離する壁を有するハニカム構造を備え、前記個別の開孔は、
中心領域内の第１の複数の六角形開孔であって、前記第１の複数の六角形開孔の各々が第１のアスペクト比を有し、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第２の部分に延びている、第１の複数の六角形開孔と、
周辺領域内の第２の複数の開孔であって、前記第２の複数の開孔の各々が前記第１のアスペクト比より小さい第２のアスペクト比を有し、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第１の部分に延びている、第２の複数の六角形開孔と、
前記中心領域から前記周辺領域に配置された遷移領域内の第３の複数の開孔とを含み、
前記遷移領域の前記第３の複数の開孔の各々を画定する前記壁の少なくとも１つが、前記第２の表面の前記第３の部分を備え、前記第３の部分が円錐形の突起に沿って存在する、
コリメータ。
【請求項２】
前記壁の少なくとも１つの壁の上部は、約２度〜約１６度の所定の角度を有する入口角部分を含む、請求項１に記載のコリメータ。
【請求項３】
前記所定の角度は、約２．５度であり、約２．５４センチメートルの長さを有する、請求項２に記載のコリメータ。
【請求項４】
前記所定の角度は、約１５度であり、約３．８１ミリメートルの長さを有する、請求項２に記載のコリメータ。
【請求項５】
前記第１のアスペクト比は、約２．５：１〜約３：１であり、前記第２のアスペクト比は、約１：１〜約２：１である、請求項１に記載のコリメータ。
【請求項６】
コリメータ部分であって、
第１の表面と、前記第１の表面から離れて対向する第２の表面を備え、前記第２の表面は、前記第１の表面から第１の距離にある第１の部分と、前記第１の表面から第２の距離にある第２の部分と、前記第１の部分と前記第２の部分の間に延びる第３の部分とを有し、
更に、
前記第１の表面から前記第２の表面に延びる個別の開孔を画定および分離する壁を有するハニカム構造を備え、前記個別の開孔は、
中心領域内の第１の複数の六角形開孔であって、前記第１の複数の六角形開孔の各々が第１のアスペクト比を有し、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第２の部分に延びている、第１の複数の六角形開孔と、
周辺領域内の第２の複数の開孔であって、前記第２の複数の開孔の各々が前記第１のアスペクト比より小さい第２のアスペクト比を有し、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第１の部分に延びている、第２の複数の六角形開孔と、
前記周辺領域から前記中心領域に配置された遷移領域内の第３の複数の開孔とを含み、
前記遷移領域の前記第３の複数の開孔の各々を画定する前記壁の少なくとも１つが、前記第２の表面の前記第３の部分を備え、前記第２の表面の前記第３の部分が円錐形の突起に沿って存在する、コリメータ部分と、
前記コリメータに結合された遮蔽部分であって、
頂部リング、
半径方向外方へ延びる前記頂部リングの下の支持レッジ、および
前記支持レッジから前記第２の複数の開孔の下の高さまで下方へ延びる円筒形バンドを備える遮蔽部分と
を備え、前記円筒形バンドは、
第１の略垂直な部分と、
前記第１の略垂直な部分から下方に延びている半径方向内方へ傾斜した部分と、
前記半径方向内方へ傾斜した部分から下方に延びている第２の略垂直な部分とを備え、
前記第２の略垂直な部分は、前記第１の複数の六角形開孔の下の高さまでは延びておらず、
前記半径方向内方へ傾斜した部分は、前記周辺領域内の前記第２の複数の開孔の一部分にわたって延びている、コリメータアセンブリ。
【請求項７】
前記第１の複数の六角形開孔、前記第２の複数の開孔、および前記第３の複数の開孔は、テキスチャ化される、請求項６に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項８】
前記壁の少なくとも１つの壁の上部は、約２度〜約１６度の所定の角度を有する入口角部分を含む、請求項６に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項９】
前記所定の角度は、約２．５度であり、約２．５４センチメートルの長さを有する、請求項８に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項１０】
前記第１の複数の六角形開孔の前記第１のアスペクト比は、約２．５：１〜約３：１である、請求項６に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項１１】
前記第２のアスペクト比は、約１：１〜約２：１である、請求項１０に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項１２】
前記半径方向内方へ傾斜した部分は、前記第１の略垂直部分に対して約４０〜約５０度の角度を有する、請求項６に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項１３】
前記第１のアスペクト比は、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第１の部分までの前記第１の距離である深さを前記六角形開孔の対向する壁の間の距離である幅によって割ることによって画定される、請求項１１に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項１４】
前記第２のアスペクト比は、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第２の部分まで延びる前記第２の距離である深さを前記第２の複数の開孔の対向する壁の間の幅によって割ることによって画定される、請求項１１に記載のコリメータアセンブリ。
【請求項１５】
基板処理チャンバであって、
内部体積を画定するチャンバ本体と、
前記内部体積の上部に配置されるスパッタリングターゲットと、
前記スパッタリングターゲットの下に配置される基板支持部と、
前記スパッタリングターゲットを取り囲むコリメータアセンブリとを備え、
前記コリメータアセンブリは、
コリメータ部分であって、
第１の表面と、前記第１の表面から離れて対向する第２の表面を備え、前記第２の表面は、前記第１の表面から第１の距離にある第１の部分と、前記第１の表面から第２の距離にある第２の部分と、前記第１の部分と前記第２の部分の間に延びる第３の部分とを有し、
更に、
前記第１の表面から前記第２の表面に延びる個別の開孔を画定および分離する壁を有するハニカム構造を備え、前記個別の開孔は、
中心領域内の第１の複数の六角形開孔であって、前記第１の複数の六角形開孔の各々が第１のアスペクト比を有し、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第２の部分に延びている、第１の複数の六角形開孔と、
周辺領域内の第２の複数の開孔であって、前記第２の複数の開孔の各々が前記第１のアスペクト比より小さい第２のアスペクト比を有し、前記第１の表面から前記第２の表面の前記第２の部分に延びている、第２の複数の六角形開孔と、
前記周辺領域から前記中心領域に配置された遷移領域内の第３の複数の開孔とを含み、
前記遷移領域の前記第３の複数の開孔の各々を画定する前記壁の少なくとも１つが、前記第２の表面の前記第３の部分を備え、前記第２の表面の前記第３の部分が円錐形の突起に沿って存在する、コリメータ部分と、
前記コリメータに結合された遮蔽部分であって、
頂部リング、
半径方向外方へ延びる前記頂部リングの下の支持レッジ、および
前記支持レッジから前記第２の複数の開孔の下の高さまで下方へ延びる円筒形バンドを備える遮蔽部分と
を備え、前記円筒形バンドは、
第１の略垂直な部分と、
前記第１の略垂直な部分から下方に延びている半径方向内方へ傾斜した部分と、
前記半径方向内方へ傾斜した部分から下方に延びている第２の略垂直な部分とを備え、
前記第２の略垂直な部分は、前記第１の複数の六角形開孔の下の高さまでは延びておらず、
前記半径方向内方へ傾斜した部分は、前記周辺領域内の前記第２の複数の開孔の一部分にわたって延びている、基板処理チャンバ。