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【手続補正書】
【提出日】令和1年10月10日(2019.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉｉｉ）複数の第四級アンモニウム基を含む陰イオン交換不織布基材を含む、第１の濾過媒体と、
（ｉｖ）複数のグアニジル基を含む官能化微多孔質膜を含む、第２の濾過媒体と、を含み、
前記第１の濾過媒体が前記第２の濾過媒体の上流に配置されている、濾過媒体配列。
【請求項２】
前記第１の濾過媒体が、前記第１の濾過媒体１グラム当たり少なくとも０．１ｍｍｏｌの第四級アンモニウム基を含む、請求項１に記載の濾過媒体配列。
【請求項３】
前記第２の濾過媒体が、前記第２の濾過媒体１グラム当たり少なくとも０．０１ｍｍｏｌのグアニジル基を含む、請求項１又は２に記載の濾過媒体配列。
【請求項４】
前記第１の濾過媒体が、不織布基材の表面にグラフトされたポリマーを含み、前記ポリマーが、
（ａ）８０〜９８重量％のアミノアルキル（メタ）アクリロイルモノマーと、
（ｂ）２〜２０重量％のポリ（アルキレンオキシド）モノマーと、
（ｃ）０〜１０重量％の第２の親水性モノマーと、が共重合したモノマー単位を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の濾過媒体配列。
【請求項５】
前記第２の濾過媒体が、不織布基材の表面にグラフトされたポリマーを含み、前記ポリマーが、
（ａ）１０〜５０重量％の第四級アンモニウム含有リガンドモノマーと、
（ｂ）１０〜８０重量％のアミドモノマーと、
（ｃ）１０〜４０重量％のオキシモノマーと、
（ｄ）０〜３０重量％のポリ（アルキレンオキシド）モノマーと、が共重合したモノマー単位を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の濾過媒体配列。
【請求項６】
前記官能化微多孔質膜がフリーラジカルグラフト化グアニジル官能性（メタ）アクリロイルモノマーを含み、前記グアニジル官能性（メタ）アクリロイルモノマーが、
【化１】
2018538127.tif 000001
及び
【化２】
2018538127.tif 000002
［式中、
Ｒ１はＨ又はＣ１〜Ｃ４アルキルであり、
Ｒ２は（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり、
各Ｒ３は独立してＨ又はヒドロカルビルであり、
Ｒ４はＨ、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル又は−Ｎ（Ｒ３）２であり、
Ｒ５はＨ又はヒドロカルビルであり、
Ｘ１は−Ｏ−又は−ＮＲ３−であり、
ｏは０又は１であり、かつ
ｎは１又は２である］のうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の濾過媒体配列。
【請求項７】
前記フリーラジカルグラフト化グアニジル官能性（メタ）アクリロイルモノマーが、微多孔質膜上に配置されたプライマー層にグラフトされ、
前記プライマー層が、エチレン性不飽和重合性基を有する架橋ポリアミンポリマーを含み、
エチレン性不飽和重合性基を有する前記架橋ポリアミンポリマーが、
（ａ）ポリアミンポリマーと、
（ｂ）前記ポリアミンポリマーのための多官能性架橋剤と、
（ｃ）アミン反応性官能基及びエチレン性不飽和重合性基を有するモノマーと、の反応生成物である、請求項６に記載の濾過媒体配列。
【請求項８】
前記第１の濾過媒体と前記第２の濾過媒体との間に配置された非官能化濾過媒体を更に含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の濾過媒体配列。
【請求項９】
流体入口と、
流体出口と、
前記流体入口及び前記流体出口を流体連通する濾過媒体と、を含み、
前記濾過媒体が、
（ｉ）複数の第四級アンモニウム基を含む陰イオン交換不織布基材を含む、第１の濾過媒体と、
（ｉｉ）複数のグアニジル基を含む官能化微多孔質膜を含む、第２の濾過媒体と、を含み、かつ
前記第１の濾過媒体が前記第２の濾過媒体の上流に配置されている、フィルタ装置。
【請求項１０】
生体流体の濾過方法であって、前記方法が、
（ａ）標的生体分子及び夾雑物を含む前記生体流体を準備することと、
（ｂ）前記生体流体を、請求項１〜８のいずれか一項に記載の濾過媒体配列に接触させて濾過流体を得ることと、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月2日(2019.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を操作するためのマイクロ流体装置であって、当該マイクロ流体装置は：
基板と；
第１の液体と；
前記の第１の液体と不混和性である、第２の液体とを有し；
ここで、前記の第１の液体は、前記の第２の液体によって覆われており；
ここで、前記の第１の液体は、所望の形状で前記基板の表面上に配置され、前記の第１の液体は、前記の第１の液体と前記の第２の液体との間の液体界面によって前記形状に保持され；かつ、
ここで、当該マイクロ流体装置が、少なくとも１つの液体導管を有する、
前記マイクロ流体装置。
【請求項２】
当該マイクロ流体装置が、少なくとも１つの液体導管と、前記の少なくとも１つの液体導管と液体連通する少なくとも１つの液体リザーバーとを有する、請求項１に記載のマイクロ流体装置。
【請求項３】
前記の第２の液体の密度が、前記の第１の液体の密度より高い、請求項１または２に記載のマイクロ流体装置。
【請求項４】
前記の少なくとも１つの液体導管が、用時、前記液体導管の長さに沿って１０−２０％またはこれより大きい高さのバリエーションを有し得るように構成される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項５】
前記の少なくとも１つの液体導管が、用時、前記液体導管の長さに沿って１０ミクロンまたはこれより大きい高さのバリエーションを有し得るように構成される、請求項１〜４のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項６】
前記の少なくとも１つの導管が、前記導管の長さに沿って一定である幅を有する導管を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項７】
前記基板がアパーチャを有し、該アパーチャは、前記基板を通る前記の第１の液体の接続を可能にするためのものである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項８】
前記の第１の液体が、前記基板の第１の側の上に第１の所望の形状で配置され、かつ、前記基板の第２の側の上に第２の所望の形状で配置され；
前記の第１の液体が、前記の第１および第２の液体の間の液体界面によって前記の第１および第２の所望の形状で保持され；かつ、
前記の第１の所望の形状の前記の第１の液体が、前記基板における前記アパーチャを介して前記の第２の所望の形状の前記の第１の液体に接続される、
請求項７に記載のマイクロ流体装置。
【請求項９】
前記の第１の液体が水性の液体であり、かつ、前記の第２の液体がフッ化炭素である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項１０】
前記の第２の液体が、パーフルオロトリ−ｎ−ブチルアミンおよび／またはパーフルオロ−ｎ−ジブチルメチルアミンを含む、請求項９に記載のマイクロ流体装置。
【請求項１１】
前記の第２の液体が、前記の第２の液体と不混和性である第３の液体によって覆われている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のマイクロ流体装置を通して液体を輸送する方法であって、
前記マイクロ流体装置が、液体導管によって第２の液体リザーバーに接続された第１の液体リザーバーを有し；かつ、
当該方法が、前記の第１の液体リザーバーにおいて前記の第２の液体リザーバーに対する圧力差を提供して、液体が前記の第１の液体リザーバーから前記の第２の液体リザーバーへと流れることを引き起こすことを有する、
前記方法。
【請求項１３】
前記圧力差が、前記液体導管が、前記液体導管の長さに沿って１０−２０％またはこれより大きい高さのバリエーションを有することを引き起こす、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記圧力差が、前記液体導管が、前記液体導管の長さに沿って１０ミクロンまたはこれより大きい高さのバリエーションを有することを引き起こす、請求項１２または１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月4日(2019.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開放貫通孔を備えたポリマー膜の製造方法であって、
該方法が、
構造的に結合された基礎面から伸びる犠牲マイクロポストのアレイによって画定されたマイクロポスト構造体内に硬化性ポリマー樹脂を導入するステップを有し、ここで、前記犠牲マイクロポストに対する導入された前記硬化性ポリマー樹脂のレベルが、最大で、前記犠牲マイクロポストの高さと等しく、前記マイクロポストの犠牲材料が、溶媒に可溶性であり、前記硬化性ポリマー樹脂が前記溶媒に不溶性であり、かつ、
該方法が、さらに、
前記ポリマー樹脂を硬化して、前記マイクロポスト構造体内にポリマー膜を形成し、前記マイクロポストのアレイが前記ポリマー膜を通って延在するようにするステップと、
前記溶媒を用いて前記犠牲マイクロポストのアレイを少なくとも部分的に溶解して、開放貫通孔が形成された前記ポリマー膜を取り出すステップと
を備えていることを特徴とする開放貫通孔を備えたポリマー膜の製造方法。
【請求項２】
前記基礎面が前記犠牲材料から成り、前記溶解するステップが、さらに、前記基礎面を溶解するステップを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記マイクロポストのアレイが、前記基礎面と、前記犠牲材料の対向する面との間でのび、それによって、前記マイクロポストがそれら面の間で包囲されるようにし、
かつ、前記硬化性ポリマー樹脂が、前記基礎面と前記対向する面との間に導入され、
さらに、該製造方法が、
前記基礎面上に前記マイクロポストのアレイを一体的に形成し、
前記マイクロポストの各々の遠位端を前記対向する面に結合して、前記マイクロポストのアレイを基礎面と対向する面との間で包囲するようにすることによって、
前記マイクロポスト構造体を形成するステップを含む
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記マイクロポストの少なくとも幾つかが、可変断面によって画定され、
形成されたポリマー膜内に画定される開放貫通孔の長手方向外形が、前記可変断面に対応するようにした
ことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記マイクロポストの各々が、前記基礎面から内方に向けて伸びるマイクロサイズ部分と、前記対向する面から内方に向けて伸びる前記ナノサイズ部分とを備えた複合ポストから成り、
前記ナノスケール部分が、前記複合ポストを一緒に形成する際に前記マイクロスケール部分と整列するようにされ、
前記マイクロポストを、前記基礎面と前記対向する面との間で囲み、
前記硬化性ポリマー樹脂が前記基礎面と前記対向面との間に導入され
ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
複数のナノサイズ開放貫通孔を備えたポリマー膜であって、
前記貫通孔の各々が、マイクロサイズ孔部分と、それに隣接する一つ又は複数の対応するナノサイズ孔部分とによって画定されている
ことを特徴とするポリマー膜。
【請求項７】
開放貫通孔を有するポリマー膜の製造方法であって、
該方法が、
それに構造的に結合された基礎面からのびるマイクロポストのアレイによって画定されたマイクロポスト構造体に硬化性ポリマー樹脂を導入するステップを備え、導入された前記マイクロポストに対する前記硬化性ポリマー樹脂のレベルが、最大で、前記マイクロポストの高さと等しく、前記マイクロポストのポスト材料及び前記硬化性ポリマー樹脂の何れか一方がリリース流体に対して反応性であるのに対して、前記ポスト材料及び前記硬化性ポリマー樹脂の他方が、前記リリース流体に対して非反応性であり、
該方法がさらに、
前記マイクロポストアレイが、前記ポリマー膜を通って延在するように、前記マイクロポスト構造体内にポリマー膜を形成するために前記ポリマー樹脂を硬化させるステップと、
前記マイクロポスト及び前記ポリマー樹脂の少なくとも前記反応性である方を前記リリース流体に対して露出させ、機械的に外して、前記ポリマー膜に開放貫通孔を生成するステップと
を備えていることを特徴とする開放貫通孔を有するポリマー膜の製造方法。
【請求項８】
前記マイクロポストが、前記リリース流体によって少なくとも部分的に溶解又は収縮されるか、又は、
前記ポリマー樹脂が、前記リリース流体によって膨潤され、
前記マイクロポストから前記膜が機械的に取り出される
ことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ポスト材料が環状オレフィン共重合体から成り、前記リリース流体がメタノールである
ことを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月21日(2019.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のポリマー材料から形成され、第１のゼータ電位を有する１つ以上の露出した第１の領域と、
第２のポリマー材料から形成され、第１のゼータ電位とは異なる第２のゼータ電位を有する１つ以上の露出した第２の領域と、
を備える研磨用物品。
【請求項２】
前記１つ以上の露出した第１の領域及び前記１つ以上の露出した第２の領域は、前記研磨用物品の底面から前記研磨用物品の頂面まで上昇するゼータ電位の勾配を形成するように配置されている、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項３】
前記１つ以上の露出した第１の領域及び前記１つ以上の露出した第２の領域は、前記研磨用物品の頂面から前記研磨用物品の底面まで上昇するゼータ電位の勾配を形成するように配置されている、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項４】
中性溶液を使って測定された前記第１のゼータ電位は、−７０ｍＶ以上０ｍＶ未満であり、中性溶液を使って測定された前記第２のゼータ電位は、０ｍＶ以上５０ｍＶ未満である、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項５】
中性溶液を使って測定された前記第１のゼータ電位は、０ｍＶ以上５０ｍＶ未満であり、中性溶液を使って測定された前記第２のゼータ電位は、−７０ｍＶ以上０ｍＶ未満である、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項６】
第１の溝付きの表面と、前記第１の溝付きの表面の反対側の第２の平坦な表面とを有する複合研磨パッド本体をさらに備える、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項７】
前記１つ以上の露出した第１の領域は１つ以上の第１の特徴部を含み、前記１つ以上の露出した第２の領域は１つ以上の第２の特徴部を含む、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項８】
前記第１のゼータ電位及び前記第２のゼータ電位とは異なる第３のゼータ電位を有する第３の材料から形成された１つ以上の第３の領域をさらに備える、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項９】
前記第１のポリマー材料は、カチオン系モノマー、アニオン系モノマー、ノニオン系モノマー、またはその組み合わせから選択された第１のゼータ電位調整剤を含む第１の組成物から形成される、請求項１に記載の研磨用物品。
【請求項１０】
前記第２のポリマー材料は、第２の組成物から形成される、請求項９に記載の研磨用物品。
【請求項１１】
第１のゼータ電位を有する第１のポリマー材料を含む１つ以上の露出した第１の領域と、第１のゼータ電位とは異なる第２のゼータ電位を有する第２のポリマー材料を含む１つ以上の露出した第２の領域とを含む、第１の溝付きの表面、
前記第１の溝付きの表面と反対側の第２の平坦な表面、及び、
前記第１の溝付きの表面から前記第２の平坦な表面に向かって延びるゼータ電位の勾配であって、前記第１のゼータ電位と前記第２のゼータ電位とを含む、ゼータ電位勾配
を有する、複合研磨パッド本体を備える、研磨用物品。
【請求項１２】
前記ゼータ電位の勾配は、前記第１の溝付きの表面に向かってより電気陽性になっている、請求項１１に記載の研磨用物品。
【請求項１３】
前記ゼータ電位の勾配は、前記第１の溝付きの表面に向かってより電気陰性になっている、請求項１１に記載の研磨用物品。
【請求項１４】
前記第１の溝付きの表面が、
前記第１のポリマー材料から形成された複数の研磨用特徴部と、
前記第２のポリマー材料から形成された１つ以上のベース特徴部と
を備え、前記１つ以上のベース特徴部が共同して前記複数の研磨用特徴部を取り囲む、請求項１１に記載の研磨用物品。
【請求項１５】
中性溶液を使って測定される前記ゼータ電位の勾配は、約−７０ｍＶから約＋５０ｍＶの範囲内で変動する、請求項１２に記載の研磨用物品。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月23日(2019.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
睡眠セッション中に被験者に送られる感覚刺激の強度を調節するように構成されるシステムにおいて、前記システムは、
前記被験者に感覚刺激を与えるように構成される１つ以上の感覚刺激器、
前記睡眠セッション中の前記被験者の脳の活動に関する情報を伝える出力信号を生成するように構成される１つ以上のセンサ、並びに
前記１つ以上の感覚刺激器及び前記１つ以上のセンサと動作可能なように通信する１つ以上のハードウェア処理器、
を有し、前記１つ以上のハードウェア処理器は、機械可読命令により、
前記出力信号に基づいて、前記睡眠セッション中の前記被験者の脳の活動のパラメタを決定し、前記脳の活動のパラメタは、高周波（ベータ）帯域におけるパワーに対する脳波（ＥＥＧ）信号の低速周波数（デルタ）帯域におけるパワーの比、前記被験者の徐波の密度又は前記被験者の徐波のピーク間振幅の１つ以上を含んでいる、
前記比、前記徐波の密度又は前記徐波のピーク間振幅の１つ以上に基づいて、前記睡眠セッション中の前記被験者の睡眠の深さを決定する、並びに
前記決定した睡眠の深さに基づいて、前記睡眠セッション中に前記被験者に与えられる前記感覚刺激の強度を調節するように前記１つ以上の感覚刺激器を制御する
ように構成される、システム。
【請求項２】
前記１つ以上の感覚刺激器は、前記感覚刺激が可聴音を有するように構成される、及び前記１つ以上のハードウェア処理器は、前記１つ以上の感覚刺激器に、前記決定した睡眠の深さに基づいて、前記可聴音の量を最小しきい量と最大しきい量との間において徐々に増大又は減少させるように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記１つ以上のハードウェア処理器は、前記最小しきい量及び前記最大しきい量が前記睡眠セッション中に変化しないままである、並びに以前の睡眠セッションからの前記被験者の脳の活動に関する情報に基づいて決定されるように構成される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記１つ以上のハードウェア処理器は、前記睡眠セッション中に以前の睡眠の深さの推定に基づいて、前記睡眠セッション中の前記最小しきい量及び前記最大しきい量を調節するように構成される、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記１つ以上のハードウェア処理器は、人口統計学的に類似の集団に対する対応する量のしきい値に基づいて、前記最小しきい量及び最大しきい量を調節するように構成される、請求項２に記載のシステム。
【請求項６】
前記１つ以上のハードウェア処理器は、前記決定した睡眠の深さは、最小の睡眠の深さのしきい値と最大の睡眠の深さのしきい値との間にあり、前記最小の睡眠の深さのしきい値及び前記最大の睡眠の深さのしきい値は、人口統計学的に類似の集団に対する対応する睡眠の深さのしきい値に基づいて決定される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記１つ以上のハードウェア処理器は、前記感覚刺激器の強度を調節するように前記感覚刺激器を制御することは、前記睡眠セッション中の前記睡眠の深さの変化率を決定することを有するように構成される、及び
前記１つ以上の感覚刺激器は、前記睡眠の深さの前記決定した変化率に基づいて、前記睡眠セッション中に前記被験者に与えられる前記感覚刺激の強度を調節するように制御される、
請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
調節システムを用いて、睡眠セッション中に被験者に送られる感覚刺激の強度を調節する方法において、前記システムは、１つ以上の感覚刺激器、１つ以上のセンサ及び１つ以上のハードウェア処理器を有し、前記方法は、
前記１つ以上のセンサを用いて、前記睡眠セッション中の前記被験者の脳の活動に関する情報を伝える出力信号を生成するステップ、
前記１つ以上のハードウェア処理器を用いて、前記出力信号に基づいて、前記睡眠セッション中の前記被験者の脳の活動のパラメタを決定するステップであり、前記脳の活動のパラメタは、高周波数（ベータ）帯域におけるパワーに対する脳波（ＥＥＧ）信号の低速周波数（デルタ）帯域におけるパワーの比、前記被験者の徐波の密度又は前記被験者の徐波のピーク間振幅の１つ以上を含んでいる、前記脳の活動パラメタを決定するステップ、
前記比、前記徐波の密度又は前記徐波のピーク間振幅の１つ以上に基づいて、前記睡眠セッション中の前記被験者の眠りの深さを決定するステップ、並びに
前記決定した睡眠の深さに基づいて、前記睡眠セッション中に前記被験者に与えられる前記感覚刺激の強度を調節するように前記１つ以上の感覚刺激器を制御するステップ
を有する、方法。
【請求項９】
前記感覚刺激器は可聴音を有する、及び前記方法はさらに、前記決定した睡眠の深さに基づいて、前記可聴音の量を最小しきい量と最大しきい量との間において徐々に増大又は減少させるステップを有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記最小しきい量及び前記最大しきい量は、前記睡眠セッション中に変化しないままである、並びに以前の睡眠セッションからの前記被験者の脳の活動に関する情報に基づいて決定される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記睡眠セッション中に以前の睡眠の深さの推定に基づいて、前記睡眠セッション中の前記最小しきい量及び前記最大しきい量を調節するステップをさらに有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
人口統計学的に類似の集団に対する対応する量のしきい値に基づいて、前記最小しきい量及び前記最大しきい量を調節するステップをさらに有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記決定した睡眠の深さは、最小の睡眠の深さのしきい値と最大の睡眠の深さのしきい値との間にあり、前記最小の睡眠の深さのしきい値及び前記最大の睡眠の深さのしきい値は、人口統計学的に類似の集団に対する対応する睡眠の深さに基づいて決定される、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記感覚刺激の強度を調節するように前記感覚刺激器を制御するステップは、前記睡眠セッション中の前記睡眠の深さの変化率を決定するステップを有する、及び
前記睡眠セッション中に前記被験者に与えられる前記感覚刺激の強度は、前記睡眠の深さの前記決定した変化率に基づいて調節される、
請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月21日(2019.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚの周波数帯域の電磁波を生成する制御器と、
該制御器により生成した電磁波を脳に送信する送信部と、
該送信部により送信され、被検者の脳内を伝播した電磁波を受信する受信部と、
前記送信部により送信された電磁波と前記受信部で受信した電磁波に基づいて、被検者の脳内における変動周波数を演算する解析部と、を備える
脳活動検出装置。
【請求項２】
前記変動周波数は、
脳内における細胞外液の誘電体の変動により引き起こされた分極密度の変動周波数である
請求項１に記載の脳活動検出装置。
【請求項３】
前記制御器で生成される電磁波の周波数帯域は、より好ましくは２７０ＭＨｚ〜３０ＧＨｚである
請求項１または請求項２に記載の脳活動検出装置。
【請求項４】
前記制御器は、前記解析部で解析された変動周波数に基づいて非対称のパルス波形を生成する
請求項１から請求項３の何れか一項に記載の脳活動検出装置。
【請求項５】
１００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚの周波数帯域の電磁波を生成する制御器と、
該制御器により生成した電磁波を脳に送信する送信部と、を備える
脳活動調節装置。
【請求項６】
１００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚの周波数帯域の電磁波を生成するステップと、
前記電磁波を被検者の脳に送信するステップと、
被検者の脳内を伝播した前記電磁波を受信するステップと、
被検者の脳内を伝播する前の前記電磁波の周波数と被検者の脳内を伝播した後の前記電磁波の周波数から変動周波数を演算するステップと、
前記変動周波数から脳活動を検出するステップと、を備える
脳活動検出方法。
【請求項７】
前記電磁波の周波数帯域は、検出対象となる脳機能部位に応じて所定の周波数帯域に設定される
請求項６に記載の脳活動検出方法。
【請求項８】
前記電磁波を生成するステップで生成される電磁波の周波数帯域は、より好ましくは２７０ＭＨｚ〜３０ＧＨｚである
請求項６または請求項７に記載の脳活動検出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】脳活動検出装置、脳活動調節装置、及び脳活動検出方法
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月16日(2019.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端部（１０６）であって、
近位端（１１）と、先細の遠位端（１１３）と、前記近位端（１１１）および前記遠位端（１１３）の間に延びる長手方向軸と、
１つ以上の縫合糸（１０）を受け入れるように寸法決めされたアイレット（１１２）であって、前記先端部（１０６）の前記長手方向軸を横断して延びるアイレット（１１２）と、
前記アイレット（１１２）と連通して前記先端部内に形成されたカニューレ挿入部（１１４）であって、該カニューレ挿入部（１１４）の近位端から前記アイレット（１１２）の遠位端に近接する領域に延びるネジ山を有するカニューレ挿入部（１１４）と、
を備える先端部（１０６）と、
前記先端部（１０６）とは別個に形成された細長いアンカー本体（１０８）であって、近位端から遠位端まで延びる開放カニューレ（１１６）を含み、前記開放カニューレ（１１６）の遠位端が、前記先端部（１０６）の前記近位端を受け入れるように寸法決めされているアンカー本体（１０８）と、
前記アンカー本体（１０８）と前記先端部（１０６）との両方とは別個に形成されたネジ山付きプラグ（１１０）であって、前記先端部（１０６）の前記カニューレ挿入部（１１４）に係合するように構成されたネジ山付きプラグ（１１０）と、
を含むアンカー（１０２）と、
前記アンカー本体（１０８）の前記開放カニューレ（１１６）内に受容されるように寸法決めされた外側シャフト（１２０）であって、前記プラグ（１１０）のネジ山と係合可能なネジ山を内側表面に含む外側シャフト（１２０）と、
前記外側シャフト（１２０）内に受容されるように寸法決めされた内側シャフト（１２２）であって、前記先端部（１０６）の前記カニューレ挿入部（１１４）内に前記プラグ（１１０）を下降させて、一つ以上の前記縫合糸（１０）を前記プラグ（１１０）の遠位端と前記先端部（１０６）の前記カニューレ挿入部（１１４）の遠位端との間で捕らえるように、前記外側シャフト（１２０）とは独立して軸方向および回転可能に動くことができる内側シャフト（１２２）と、
を含むインサータ（１０４）と、
を含んでなることを特徴とする縫合糸アンカー組立体。
【請求項２】
前記先端部（１０６）は、前記アンカー本体（１０８）の材料よりも硬質な材料が選択されて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項３】
前記先端部（１０６）は、プラスチック、チタンおよびステンレス鋼のうちの１つから形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項４】
前記アンカー本体（１０８）が生体吸収性材料から形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項５】
前記先端部（１０６）の前記近位端が前記アンカー本体（１０８）の前記開放カニューレ（１１６）の遠位端に挿入された時、先端アイレット（１１２）とアンカー本体アイレット（１１８）とが整列するように、前記アンカー本体（１０８）上に横方向の前記アンカー本体アイレット（１１８）が配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項６】
前記先端アイレット（１１２）と前記アンカー本体アイレット（１１８）とを横切って延びる縫合糸（１０）をさらに含んでなることを特徴とする請求項５に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項７】
前記インサータ（１０４）の前記内側シャフト（１２２）は、前記プラグ（１１０）への挿入用に構成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項８】
ネジ山付き前記プラグ（１１０）が、前記インサータ（１０４）の前記外側シャフト（１２０）のネジ山付きカニューレ挿入部と、前記先端部（１０６）のネジ山付きカニューレ挿入部（１１４）と係合するとき、前記アンカー本体（１０８）は、前記インサータ（１０４）と前記先端部（１０６）との間で軸方向に閉じ込められることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項９】
前記インサータ（１０４）と前記アンカー本体（１０８）との間のインターフェースが滑り嵌めであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項１０】
前記アンカー本体（１０８）と前記先端部（１０６）との間のインターフェースが滑り嵌めであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項１１】
前記プラグ（１１０）は、ポリマー、プラスチックおよび金属のうちの１つから形成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項１２】
前記プラグ（１１０）の直径が約２ｍｍで、任意選択で、前記プラグ（１１０）の長さが約５．２５ｍｍであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項１３】
前記アンカー本体（１０８）が、骨内での保持を助ける表面特徴を含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項１４】
前記インサータ（１０４）の前記内側シャフト（１２２）は、丸型近位部（１３２）と多角形遠位部（１３４）との間にテーパ部（１３０）を画定していることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の縫合糸アンカー組立体。
【請求項１５】
前記内側シャフト（１２２）の前記多角形遠位部（１３４）は三角形であることを特徴とする請求項１４に記載の縫合糸アンカー組立体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月20日(2019.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織処理システムであって、
容器であって、
組織保持のための内部容積を取り囲む外壁と、
組織処理のためのフィルタとを含む、前記容器と、
チューブ管理装置であって、
複数のチューブ貫通孔を有するチューブリストリクタプレートと、
複数のチューブ貫通孔を有するチューブスタビライザプレートと、
前記複数のチューブ貫通孔に隣接する前記チューブリストリクタプレート上に配置された複数の流量制限装置と、
多位置スイッチと含む、前記チューブ管理装置とを備える、前記システムであって、
複数のチューブは前記チューブ貫通孔を貫通し、かつ前記多位置スイッチを第１位置に配置することで、患者から前記内部容積へと組織を輸送するよう前記複数の流量制限装置に前記複数のチューブの第１サブセットでの流れを制限させ、前記多位置スイッチを第２位置に配置することで、前記内部容積内で前記組織の処理を可能にするよう前記複数の流量制限装置に前記複数のチューブの第２サブセットでの流れを制限させ、かつ前記多位置スイッチを第３位置に配置することで、前記組織を前記内部容積から排出する輸送を可能にするよう前記複数の流量制限装置に前記複数のチューブの第３サブセットでの流れを制限させる、前記システム。
【請求項２】
前記複数の流量制限装置が、前記チューブリストリクタプレート上に配置された湾曲放射状スロットを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記チューブリストリクタプレートが、異なる湾曲放射状スロットを備えた少なくとも２つのプレートを有する１セットのチューブリストリクタプレートから選択される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記１つ以上の流量制限装置が、複数のスライディングブロックを含み、前記複数のスライディングブロックのサブセットが前記複数のチューブの第１サブセット内で流れを制限するよう係合する、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
キャリーハンドルをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記多位置スイッチが、一方向にのみ切り替えを可能にするよう構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記多位置スイッチの一方向だけでの移動を可能にするラチェット機構をさらに備える、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
組織洗浄または処理を促進するよう混合ブレードまたはフィルタのうち少なくとも１つをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記多位置スイッチの前記配置が、組織洗浄または処理処置における処理工程に対応している、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記多位置スイッチの少なくとも１つの配置が、前記組織洗浄または処理処置における組織吸引工程に対応している、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記多位置スイッチの少なくとも１つの配置が、前記組織洗浄または処理処置における組織洗浄工程に対応している、請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記多位置スイッチの少なくとも１つの配置が、組織が前記容器から出て輸送される前記組織洗浄または処理処置の工程に対応している、請求項９に記載のシステム。
【請求項１３】
前記複数のチューブ貫通孔を貫通する前記複数のチューブをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
手術導管を管理する方法であって、
複数のチューブ及び複数の流量制限装置を本体内に供給することであって、前記複数のチューブのうち少なくとも１つの近位にある、前記供給することと、
多位置スイッチを供給することであって、前記多位置スイッチが第１位置にある時に前記複数のチューブの第１サブセットでの流れが前記複数の流量制限装置によって制限され、かつ前記多位置スイッチが第２位置にある時に前記第１サブセットとは異なる前記複数のチューブの第２サブセットでの流れが前記複数の流量制限装置によって制限される、前記供給することと、
前記多位置スイッチの前記第１位置から前記多位置スイッチの前記第２位置に切り替えることと、
を含む、前記方法。
【請求項１５】
前記複数の流量制限装置が、チューブリストリクタプレート上に配置された湾曲放射状スロットを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記チューブを安定させるよう前記複数のチューブが通り抜けるチューブスタビライザプレートをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記チューブリストリクタプレートが、異なる湾曲放射状スロットを備えた少なくとも２つのディスクを有する１セットの回転可能なディスクから選択される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記１つ以上の流量制限装置が、複数のスライディングブロックを含み、前記複数のスライディングブロックのサブセットが前記複数のチューブの第１サブセット内で流れを制限するよう係合する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記本体がキャリーハンドルをさらに備える、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記多位置スイッチが、一方向にのみ切り替えを可能にするよう構成される、請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
前記多位置スイッチの一方向のみでの移動を可能にするラチェット機構をさらに備える、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
組織洗浄または処理を促進するよう混合ブレードまたはフィルタのうち少なくとも１つをさらに備える、請求項１４に記載の方法。
【請求項２３】
前記多位置スイッチの前記配置が、組織洗浄または処理処置における処理工程に対応している、請求項１４に記載の方法。
【請求項２４】
前記多位置スイッチが第１位置にある時、組織洗浄または処理処置の組織吸引工程を実行することをさらに含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記多位置スイッチが第２位置にある時、組織洗浄または処理処置の組織洗浄工程を実行することをさらに含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記多位置スイッチが第３位置にある時、組織洗浄または処理処置の組織輸送工程を実行することをさらに含む、請求項２３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月24日(2019.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能的医用撮像における定量的マップ生成の自動最適化の方法であって、
ａ：定量的マップの最初のセットを生成するように、医用撮像データの最初のセットに、ノイズ低減スキームの最初のノイズ低減レベルを適用するステップと、
ｂ：前記ノイズ低減スキームの最後のノイズ低減レベルの値よりも高い値に、前記ノイズ低減スキームの新しいノイズ低減レベルを設定するステップと、
ｃ：定量的マップの新しいセットを生成するように、医用撮像データの前記最初のセットに、前記ノイズ低減スキームの前記新しいノイズ低減レベルを適用するステップと、
ｄ：定量的マップの最近の２つのセットに基づいて、平均定量バイアス差を推定するステップと、
ｅ：推定された前記平均定量バイアス差が、所与の閾値よりも高い場合、ステップｂ乃至ステップｅを繰り返すステップと、
ｆ：医用撮像データの前記最初のセットを含む関心の医用撮像データのセットに、前記ノイズ低減スキームの前記最後のノイズ低減レベルを適用するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記平均定量バイアス差は、最適化評価に使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
関心の医用撮像データの前記セットは、３Ｄ画像セット若しくは４Ｄ画像セット、又は、トモグラフィ再構成の以前のステップからのシノグラムのうちから選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記ノイズ低減レベルは、ノイズ低減の強さレベルである、請求項１乃至３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記ノイズ低減レベルは、ノイズ低減の強度レベルである、請求項１乃至３の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
ステップｃとステップｄとの間に少なくとも１つの画像処理ステップを更に含み、前記画像処理ステップは、画像再構成ステップである、請求項１乃至５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記所与の閾値は、別のパラメータの関数である、請求項１乃至６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記所与の閾値は、所定の一定値である、請求項１乃至６の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記最初のノイズ低減レベルは、撮像条件及び／又は臨床的条件による所定リストから選択される、請求項１乃至８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ステップｂにおいて設定される前記ノイズ低減レベルの値は、撮像条件及び／又は臨床的条件に依存する、請求項１乃至９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ノイズ低減スキームの前記新しいノイズ低減レベルの値と前記最後のノイズ低減レベルの値との差は、ステップｂが行われる度に同じである、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記ノイズ低減スキームの前記新しいノイズ低減レベルの値と前記最後のノイズ低減レベルの値との差は、ステップｂが行われる度に、所定のアルゴリズムに従って選択される、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
医用撮像データの前記最初のセットは、自動的に選択された関心領域に対応する、請求項１乃至１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１３の何れか一項に記載の方法を実施する、デバイス。
【請求項１５】
プロセッサによって実行されると、前記プロセッサに、請求項１乃至１３の何れか一項に記載の方法を行わせるコンピュータ可読命令で符号化されている、コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月5日(2019.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者環境の環境パラメータを制御する方法において、
パルスオキシメータにおける少なくとも１つの生理学的センサを使用して生理学的センサデータを監視するステップと、
少なくとも１つの環境センサを介して少なくとも１つの環境パラメータに対応する環境センサデータを監視するステップであって、前記少なくとも１つの環境パラメータが、温度、周囲ノイズ、煙の存在、及び患者の過度の動きを含む、ステップと、
前記監視された環境センサデータが少なくとも１つの警告基準を満たすことを環境コントローラにより識別するステップであって、前記警告基準が、前記少なくとも１つの環境パラメータに関する対応する閾値範囲を含む、ステップと、
前記少なくとも１つの環境パラメータが前記対応する閾値範囲の外側にあるとき前記環境センサデータが前記少なくとも１つの警告基準を満たすことに基づき、前記少なくとも１つの環境パラメータの影響を補正するため、前記パルスオキシメータにより前記生理学的センサデータを調整するステップと、
環境コントローラが前記少なくとも１つの環境パラメータを調整することができるかどうかを決定するステップと、
前記環境コントローラが前記少なくとも１つの環境パラメータを調整することができる場合、前記少なくとも１つの環境パラメータを調整するステップと、
前記生理学的センサデータと前記環境センサデータとを相関させて相関データを得るステップと、
前記得られた相関データに基づき、前記少なくとも１つの警告基準を更新するステップとを有する、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの警告基準が、治療計画の順守及び不順守に基づかれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記得られた相関データに基づき、患者の状況を決定するステップを更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記生理学的センサデータと前記環境センサデータとを相関させるステップが、単回帰を実行するステップを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記相関データが、Ｒ二乗数、ピアソン相関係数、順位相関係数、又は２つ以上のデータセットが相関されるレベルを示すスコアの少なくとも１つである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記警告基準が、少なくとも１つの生理学的センサ又は環境センサに関する１つ又は複数の条件を示す、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記条件が、最小閾値又は最大閾値を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
患者の環境における環境パラメータを制御するシステムであって、
第１の通信モジュールと少なくとも１つの生理学的センサとを持つパルスオキシータと、
第２の通信モジュールと少なくとも１つの環境センサとを持ち、少なくとも１つの環境システムを制御する、環境コントローラであって、前記少なくとも１つの環境センサが、温度、周囲ノイズ、煙の存在、及び患者の過度の動きを含む少なくとも１つの環境パラメータを測定する、環境コントローラと、
少なくとも１つの生理学的センサデータと少なくとも１つの環境センサデータとの間の少なくとも１つの相関データを取得するための第１のソフトウェアと、前記取得された少なくとも１つ相関データに基づき、少なくとも１つの生理学的センサデータを調整するための第２のソフトウェアとを含む少なくとも１つのメモリユニットであって、前記パルスオキシメータ及び前記環境コントローラの少なくとも１つに含まれる、少なくとも１つのメモリユニットとを有し、
前記環境コントローラが、前記環境センサデータが少なくとも１つの警告基準を満たすことを決定し、前記警告基準が、前記少なくとも１つの環境パラメータに関する対応する閾値範囲を含み、
前記調整が、前記少なくとも１つの環境パラメータが前記対応する閾値範囲の外側にあるとき前記環境センサデータが前記少なくとも１つの警告基準を満たすことに基づき、前記少なくとも１つの環境パラメータの影響を補正するため、前記生理学的センサデータを調整することを含む、システム。
【請求項９】
前記少なくとも１つの警告基準が、治療計画の順守及び不順守に基づかれる、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記得られた相関データに基づき、患者の状況を決定するため、メモリに格納される命令を実行するプロセッサを更に有する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
単回帰を実行することにより、前記生理学的センサデータと前記環境センサデータとを相関させるため、メモリに格納される命令を実行するプロセッサを更に有する、請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記相関データが、Ｒ二乗数、ピアソン相関係数、順位相関係数、又は２つ以上のデータセットが相関されるレベルを示すスコアの少なくとも１つである、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記警告基準が、少なくとも１つの生理学的センサ又は環境センサに関する１つ又は複数の条件を示す、請求項８に記載のシステム。
【請求項１４】
前記条件が、最小閾値又は最大閾値を含む、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
プロセッサに、請求項１に記載の方法を実行させるプログラムを含む非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月10日(2019.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続的な健康モニタリングのためのウェアラブルデバイスにおいて：
ａ．被検体の第１身体部分に適合するバンドと；
ｂ．撮像ユニットであって、該撮像ユニットは前記バンド内に接続されており、該撮像ユニットは前記被検体の身体から一連の画像を取得するように構成され、当該デバイスは接触モードと非接触モードで動作可能であり、
ｉ．前記接触モードにおいて、前記撮像ユニットは、前記第１身体部分の領域の前記一連の画像を取得するように、前記被検体の前記第１身体部分に実質的に近接しており、
ｉｉ．前記非接触モードにおいて、前記撮像ユニットは、前記被検体の第２身体部分の前記一連の画像を取得するようリモート位置にある、
前記撮像ユニットと；
ｃ．前記接触モードでは第１プロセスに従い、前記非接触モードでは第２プロセスに従って、前記取得された一連の画像からＰＰＧ信号を導出するように構成されるコントローラユニットであって、前記ＰＰＧ信号は前記被検体の健康を示す、前記コントローラユニットと；
を備え、
前記コントローラユニットは、当該ウェアラブルデバイスの動作中に、当該デバイスが前記接触モードで動作すべきか又は前記非接触モードで動作すべきかを示す少なくとも１つの所定の条件をチェックし、該少なくとも１つの所定の条件が満たされるかどうかに応じて、前記ＰＰＧ信号を前記第１プロセス又は前記第２プロセスに従って導出すべきかどうかを決定し、該決定されたプロセスに従って前記取得された一連の画像から前記ＰＰＧ信号を導出するよう構成される、
ウェアラブルデバイス。
【請求項２】
前記第２身体部分は、前記被検体の顔であり、前記コントローラユニットは、前記第２プロセスに従って前記ＰＰＧ信号を導出するために、前記の取得された画像内の前記被検体の少なくとも１つの顔特徴の存在を検出するように構成され、前記少なくとも１つの顔特徴の存在が検出されないとき、前記コントローラユニットは、前記第１プロセスに従って前記ＰＰＧ信号を導出するように構成され、前記被検体の前記少なくとも１つの顔特徴の存在又は非存在を検出することが、前記少なくとも１つの所定の条件である、
請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項３】
環境光を感知するための環境光センサを更に備え、前記コントローラユニットは、前記環境光が所定の環境光閾値を超えるとき、前記第２プロセスに従って前記ＰＰＧ信号を導出するように構成され、前記環境光が前記所定の環境光閾値未満であるとき、前記コントローラユニットは、前記第１プロセスに従って前記ＰＰＧ信号を導出するように構成され、前記環境光が前記所定の環境光閾値を超えるか又はそれ未満であるかをチェックすることが、前記少なくとも１つの所定の条件である、
請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項４】
前記撮像ユニットは、前記バンドに取外し可能に接続される、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項５】
前記バンドは開口部を備え、前記取外し可能な撮像ユニットは、該撮像ユニットが前記開口部の前にある前記被検体の前記領域から前記一連の画像を取得することができるように、前記接触モードで前記開口部の上に配置される、
請求項４に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項６】
前記取外し可能な撮像ユニットは、別のエンティティに取り付けられることから前記一連の画像を取得するように構成され、前記別のエンティティは前記バンドとは異なる、
請求項４に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項７】
前記コントローラユニットは、各モードにおいて、取得された一連の画像から導出される前記ＰＰＧ信号から、バイタルサイン情報を導出するよう更に構成される、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項８】
前記コントローラユニットと通信する前記撮像ユニットは、前記被検体の１つ以上の顔特徴を検出することによって、前記非接触モードで前記被検体を認識するように更に構成される、
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項９】
前記接触モードで前記被検体の皮膚を照明するための照明ユニットを更に備える、
請求項１乃至８のいずれか一項に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項１０】
前記コントローラユニットは、前記接触モードで前記一連の画像からＰＰＧ信号が導出可能であるかどうかをチェックするように構成され、前記コントローラユニットは、前記ＰＰＧ信号が存在しない場合、前記照明ユニットをスイッチオフするように構成される、
請求項９に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項１１】
前記被検体の動き情報を提供するための加速度計を更に備え、前記コントローラユニットは、動き情報を受け取ると、前記接触モードで前記一連の画像を取得するよう前記撮像ユニットに指示するように構成される、
請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項１２】
当該ウェアラブルデバイスは、前記被検体の手首から前記一連の画像を取得するように構成される手首装着型デバイスであり、前記手首が前記第１身体部分である、
請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項１３】
前記非接触モードにおいて、前記コントローラユニットは、前記被検体が前記撮像ユニットを好ましい位置に配置することができるように前記被検体にフィードバックを提供するように更に構成され、前記好ましい位置は、前記一連の画像を取得するために前記撮像ユニットが前記被検体の顔特徴をキャプチャする位置である、
請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項１４】
連続的な健康モニタリングのための方法において、当該方法は：
ａ．被検体の身体から一連の画像を取得する取得ステップであって、前記画像は撮像ユニットによって取得されており、前記撮像ユニットは接触モード又は非接触モードのいずれかに置かれ、
前記接触モードにおいて、前記撮像ユニットは、第１身体部分の領域の前記一連の画像を取得するように、前記被検体の前記第１身体部分に実質的に近接し、
前記非接触モードにおいて、前記撮像ユニットは、前記被検体の第２身体部分の前記一連の画像を取得するようリモート位置にある、
前記取得ステップと；
ｂ．前記撮像ユニットが前記接触モードに置かれるか又は前記非接触モードに置かれるかを示す少なくとも１つの所定の条件をチェックするステップであって、該チェックが、前記接触モードでは第１プロセスに従い、前記非接触モードでは第２プロセスに従って、取得された一連の画像から被検体の健康を示すＰＰＧ信号を導出するように構成される、コントローラユニットによって実行されるステップと；
ｃ．前記チェックの結果に基づいて、前記第１プロセス又は前記第２プロセスに従って前記取得された一連の画像から前記ＰＰＧ信号を導出するステップであって、前記ＰＰＧ信号が前記コントローラユニットによって導出されるステップと；
を含む、方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１３のいずれかに記載のウェアラブルデバイスによって実行されると、前記ウェアラブルデバイスに請求項１４に記載の方法を実行させるコンピュータ読取可能なプログラムコードを有する、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月10日(2018.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）熱可塑性樹脂、
Ｂ）機能性シェルポリマーを含まない、機能性シェルポリマーと反応するこができる衝撃改質剤、および
Ｃ）コアシェル形態であり、機能性シェルポリマーを含む衝撃改質剤
を含んでなる、熱可塑性組成物。
【請求項２】
前記成分Ｂがシロキサンを含んでなる、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項３】
前記成分Ｂがアクリルを含んでなる、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項４】
前記成分Ｂが、エポキシ官能基を含まず、エポキシ官能基と反応するこができる衝撃改質剤を含んでなる、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項５】
前記成分Ｂまたは成分Ｃがアクリレートを含んでなる、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項６】
前記成分Ｃの機能性シェルポリマーがエポキシ官能性である、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項７】
前記成分Ｃのエポキシ官能性が（メタ）クリル酸グリシジルである、請求項６に記載の熱可塑性組成物。
【請求項８】
前記成分Ｂおよび成分Ｃが粒子の低凝集体を形成し、該低凝集体の少なくとも５０％が、該低凝集体の面積の３１〜６０％の空間を含んでなる、請求項１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項９】
前記低凝集体が、直径０．４〜４．０ミクロンの粒子を含んでなる、請求項８に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１０】
請求項１に記載の熱可塑性組成物を含んでなる、成形部品。
【請求項１１】
−熱可塑性樹脂、および
−粒子の低凝集体
を含んでなる熱可塑性組成物であって、
前記低凝集体の少なくとも５０％が、前記低凝集体の面積の３１〜６０％の空間を含んでなり、かつ、
前記粒子の低凝集体がコアシェル形態である粒子を含んでなる、熱可塑性組成物。
【請求項１２】
前記低凝集体が、衝撃改質剤である成分Ｂおよび第２の衝撃改質剤である成分Ｃを含んでなる、請求項１１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１３】
前記成分Ｂが機能性シェルポリマーを含まない、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１４】
前記成分Ｃが機能性シェルポリマーを含んでなる、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１５】
前記成分Ｂがコアシェル形態である、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１６】
前記成分Ｂが、エポキシ官能性を含まず、エポキシ官能性と反応するこができる衝撃改質剤を含んでなる、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１７】
前記成分Ｂまたは成分Ｃがアクリレートゴムを含んでなる、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１８】
前記成分Ｃの機能性シェルポリマーがエポキシ官能性である、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項１９】
前記成分Ｃのエポキシ官能性が（メタ）クリル酸グリシジルである、請求項１２に記載の熱可塑性組成物。
【請求項２０】
前記低凝集体が、直径０．４〜４．０ミクロンの粒子を含んでなる、請求項１１に記載の熱可塑性組成物。
【請求項２１】
請求項１１に記載の熱可塑性組成物を含んでなる、成形部品。
【請求項２２】
−熱可塑性樹脂、および
−粒子の低凝集体
を含んでなる成形部品であって、
前記低凝集体の少なくとも５０％が、前記低凝集体の面積の３１〜６０％の空間を含んでなり、かつ、
前記粒子の低凝集体がコアシェル形態である粒子を含んでなる、成形部品。