(57)【要約】  陸送可能に分割できるとともに被処理基板に対する適正な処理を確保できるステージ装置を提供する。  被処理基板Ｗを支持する基板支持面と、基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレーム（１３Ｘ）と、一対のガイドフレーム（１３Ｘ）間にわたって延在し一対のガイドフレーム（１３Ｘ）に対して移動自在に支持されたガントリー（１３Ｙ）と、ガントリー（１３Ｙ）に設置された基板処理ユニット（１４）とを備え、ガイドフレーム（１３Ｘ）は、基板処理ユニット（１４）による基板処理に必要とされるガントリー（１３Ｙ）の移動経路（作業領域Ｒ１）を形成するメインフレーム部（１５Ａ）と、メインフレーム部（１５Ａ）の長さ方向の一端部または両端部に接続され、ガントリー（１３Ｙ）の非作業位置（非作業領域Ｒ２）までの移動経路を形成するサブフレーム部（１５Ｂ）との結合体で構成されている。
2007105455.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を支持する基板支持面と、
前記基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレームと、
前記一対のガイドフレーム間にわたって延在し前記一対のガイドフレームに対して移動自在に支持されたガントリーと、
前記ガントリーに設置された基板処理ユニットとを備えたステージ装置において、
前記ガイドフレームは、
前記基板処理ユニットによる基板処理に必要とされる前記ガントリーの移動経路を形成するメインフレーム部と、
前記メインフレーム部の長さ方向の一端部または両端部に接続され、前記ガントリーの非作業位置までの移動経路を形成するサブフレーム部との結合体からなる
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記メインフレーム部は、前記サブフレーム部に比べて、前記ガントリーの移動送り精度が高く設計されている
ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記ガイドフレームには、前記ガントリーの直進移動を案内するリニアガイドが敷設されており、
前記リニアガイドは、前記ガイドフレームの分割位置と異なる位置で継ぎ合わされている
ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記基板処理ユニットは、前記ガントリーに対して当該ガントリーの延在方向に沿って移動自在に支持されている
ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
被処理基板を設置し、前記被処理基板上でガントリーを移動させて、前記被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、
前記ガントリーが前記被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含む第１ガイド部と、
前記ガントリーが前記被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含まない第２ガイド部と、
前記第１ガイド部が設置され、前記被処理基板が載置される第１フレーム部と、
前記第２ガイド部が設置される第２フレーム部と、
を有し、
前記第１フレーム部と前記第２フレーム部は、分離運搬可能に構成されている
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項６】
前記第１フレーム部は、前記第２フレーム部より前記ガントリーの移動精度が高い
ことを特徴とする請求の範囲第５項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記第１ガイド部の一部が前記第１フレーム部より突出し、突出した前記第１ガイド部は前記第２フレーム部上に固定され、前記第１ガイド部と前記第２ガイド部が連続したガイド部を構成する
ことを特徴とする請求の範囲第５項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記第１フレーム部と前記第２フレーム部の接面が、前記ガントリーの移動方向に対して斜めに形成されている
ことを特徴とする請求の範囲第５項に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記第１フレーム部に設置される第１スケールと、
前記第２フレーム部に設置される第２スケールと、
前記ガントリーに設置され、スケールを検出して前記ガントリーの位置を特定するための少なくとも２つのリニアスケール検出部と、を備え、
前記ガントリーが、前記第１フレーム部と前記第２フレーム部の接続部を通過するときに、前記リニアスケール検出部の一方が前記第１スケールで位置を検出し、前記リニアスケール検出部の他方が前記第２スケールで位置を検出することで前記接続部での位置補正を行う
ことを特徴とする請求の範囲第５項に記載のステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガントリー移動型のステージ装置に関し、更に詳しくは、例えば液晶パネル用のガラス基板に対するシール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材の塗布、あるいはカメラを用いた表面検査や表面段差計測等に用いられるステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えば、液晶パネル用のガラス基板に対するシール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材の塗布工程、あるいはカメラを用いた表面検査工程等においては、ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいはカメラをガラス基板の面内２方向に沿って移動させるガントリー移動型のステージ装置が用いられている（例えば下記特許文献１参照）。【０００３】
図９はこの種の従来のステージ装置の概略構成を示す平面図である。図示する従来のステージ装置１は、ＸＹ面内において被処理基板を支持する載置台２と、この載置台２を挟むように設置されＸ軸方向に延在する一対のガイドフレーム３Ｘと、これら一対のガイドフレーム間にわたって延在するガントリー３Ｙと、このガントリー３Ｙに設けられた基板処理ユニット４とを備えている。【０００４】
ガントリー３Ｙは、ガイドフレーム３Ｘ，３Ｘに対し当該ガイドフレーム３Ｘ，３Ｘの上面に沿って移動自在に取り付けられている。基板処理ユニット４は、シール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいは基板表面を観察するカメラユニット等で構成されており、ガントリー３Ｙに対し当該ガントリー３Ｙの下面に沿って移動自在に取り付けられている。ガントリー３Ｙおよび基板処理ユニット４は、リニアモータ等の駆動源によってそれぞれガイドフレーム３Ｘおよびガントリー３Ｙに沿って移動される。【０００５】
以上のように構成される従来のステージ装置１においては、載置台２の上に支持された被処理基板の表面に対向して基板処理ユニット４が送り移動され、被処理基板表面に対する上述した各種ペースト材の塗布あるいは表面性状の撮影などが行われる。そして、基板処理ユニット４をＸ軸，Ｙ軸方向にそれぞれ移動させることで、当該基板処理ユニット４による被処理基板全域に対する所定の処理動作が間欠的または連続的に行われる。【０００６】
また、この種のステージ装置においては、載置台２に対する被処理基板の搬入・搬出、あるいは基板処理ユニット４の保守・点検等のために、ガイドフレーム３Ｘは、基板処理に必要とされるガントリー３Ｙの移動経路を画定する作業領域Ｒ１とは別に、ガントリー３Ｙを載置台２の直上位置から退避させるための非作業領域Ｒ２が設けられている。すなわち、従来のステージ装置１におけるガイドフレーム３Ｘは、作業領域Ｒ１と非作業領域Ｒ２とを形成できる長さで構成されていた。【０００７】
【特許文献１】特許第３７０１８８２号公報
【特許文献２】特開２００６−１２９１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、被処理基板が益々大型化する傾向にあり、これに伴って、被処理基板を処理するステージ装置も大型化する必要性が生じている。【０００９】
ところが、ステージ装置の大型化が進むと、当該ステージ装置の輸送が不可能になるという問題がある。例えば、被処理基板の大きさが３０００ｍｍ×２８００ｍｍの場合、ステージ装置は短辺３５００ｍｍ以上の大きさが必要となるが、このような大きさになると、現在の道路事情では陸送は不可能となる。【００１０】
このような問題を解決するために、ステージ装置を複数に分割する方法がある（例えば上記特許文献２参照）。しかしながら、図９に示したようなガントリー移動型のステージ装置１においては、ガントリー３Ｙの移動経路上にガイドフレーム３Ｘの継ぎ目があると、この継ぎ目を通過する際に、ガントリー３Ｙの振動を誘発したり移動速度に変化を生じさせ、基板処理ユニット４による適正な基板処理が行えなくなるという問題がある。【００１１】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、陸送可能に分割できるとともに被処理基板に対する適正な処理を確保できるステージ装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
以上の課題を解決するに当たり、本発明のステージ装置は、被処理基板を支持する基板支持面と、前記基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレームと、前記一対のガイドフレーム間にわたって延在し前記一対のガイドフレームに対して移動自在に支持されたガントリーと、前記ガントリーに設置された基板処理ユニットとを備えたステージ装置において、前記ガイドフレームは、前記基板処理ユニットによる基板処理に必要とされる前記ガントリーの移動経路を形成するメインフレーム部と、前記メインフレーム部の長さ方向の一端部または両端部に接続され、前記ガントリーの非作業位置までの移動経路を形成するサブフレーム部との結合体で構成されている。【００１３】
以上のように構成される本発明のステージ装置においては、ガントリーの移動案内を行うガイドフレームが、上記メインフレーム部とサブフレーム部との分割構造とされているので、ステージ装置を陸送が可能な長さにまで短くすることができる。また、ガイドフレームの分割位置がガントリーの作業領域上に存在しないので、ガントリーに振動や移動速度の変化が生じることはなく、被処理基板に対して適正な処理を確保することができる。【００１４】
また、本発明のステージ装置においては、少なくとも、基板処理に必要とされるガントリーの移動経路を形成する領域のみ高い移動送り精度が確保されていれば十分とされる。このため、上記メインフレーム部が、サブフレーム部に比べて、ガントリーの移動送り精度が高く設計されている。これにより、ガイドフレーム全体を高精度に作製する必要がなくなるので、ガイドフレームの作製コスト及び設置作業負担の低減を図ることができる。【００１５】
更に、ガイドフレームには、ガントリーの直進移動を案内するリニアガイドが敷設されており、このリニアガイドは、ガイドフレームの分割位置と異なる位置で継ぎ合わされている。これにより、ガイドレールの分割位置におけるガントリーの移動送り精度の劣化を低減できるとともに、上記メインフレーム部とサブフレーム部間の組付精度を緩和して作業性の向上を図ることができる。【００１６】
また、本発明の他のステージ装置は、被処理基板を設置し、ガントリーが被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含む第１ガイド部と、ガントリーが被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含まない第２ガイド部と、第１ガイド部が設置され被処理基板が載置される第１フレーム部と、第２ガイド部が設置される第２フレーム部とを有し、第１フレーム部と第２フレーム部は、分離運搬可能に構成されている。【００１７】
上記第１，第２ガイド部は、例えば、ガントリーの直進移動案内を行うリニアガイドに相当する。これら第１，第２ガイド部をそれぞれ分離自在に構成された上記第１，第２フレーム部に設置することで、上述と同様な作用効果を得ることができる。この場合において、第１，第２ガイド部は、第１，第２フレーム部上にそれぞれ一対ずつ設置することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上述べたように、本発明によれば、ガントリーの移動案内を行うガイドフレームを分割構造としたので、ステージ装置を陸送が可能な長さにまで短くすることができる。また、ガイドフレームの分割位置がガントリーの作業領域上に存在しないので、ガントリーに振動や移動速度の変化が生じることはなく、被処理基板に対して適正な処理を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態によるステージ装置の概略構成図であり、Ａは組立後の状態を示す全体斜視図、Ｂは組立前の状態を示す全体斜視図である。
【図２】本発明の実施形態によるステージ装置のＸ軸方向から見たときの断面図である。
【図３】本発明の実施形態によるステージ装置の可動部の概略構成を示す断面斜視図である。
【図４】本発明の実施形態によるステージ装置のガイドフレームの要部側面図である。
【図５】本発明の実施形態によるステージ装置のガイドフレームの要部側面図である。
【図６】本発明の実施形態によるステージ装置のガイドフレームの変形例を示す要部側面図である。
【図７】本発明の実施形態によるステージ装置の変形例を示す概略平面図である。
【図８】本発明の実施形態によるステージ装置の変形例を示す概略斜視図である。
【図９】従来のステージ装置の構成を示す概略平面図である。
【符号の説明】
【００２０】
１１    ステージ装置
１２    載置台
１３Ｘ    ガイドフレーム
１３Ｙ    ガントリー
１４    基板処理ユニット
１５Ａ    メインフレーム部（第１フレーム部）
１５Ｂ    サブフレーム部（第２フレーム部）
１６    架台
１７    リニアガイド
１７ａ    ガイド軸
１７ａ１，１７ａ２    第１，第２ガイド部
１７ｂ    ガイド軸受
１８    マグネット
１９    電機子コイル
２０    可動部
２１    位置検出センサ
２２    リニアスケール
２２ａ，２２ｂ    第１，第２スケール
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。【００２２】
図１Ａ，Ｂは本発明の実施形態によるステージ装置１１の概略構成を示す全体斜視図であり、Ａは組立後、Ｂは組立前の状態をそれぞれ示している。図２は、ステージ装置１１をＸ軸方向から見たときの断面図である。【００２３】
本実施形態のステージ装置１１は、ガラス基板等の被処理基板Ｗを支持する載置台１２と、この載置台１２を挟むように設置されＸ軸方向に延在する一対のガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘと、これら一対のガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘ間にわたって延在するガントリー１３Ｙと、このガントリー１３Ｙに設けられた基板処理ユニット１４とを備えている。【００２４】
載置台１２は、ＸＹ面内において被処理基板Ｗを支持する基板支持面を有している。載置台１２は、一対のガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘを互いに平行にかつ所定の間隔を維持して対向配置させるための架台１６の上に設置されている。一対のガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘは架台１６を介して一体的に固定されている。載置台２０は、基板支持面上で被処理基板Ｗを例えば真空吸着等により保持する機構を備えている。なお、図１Ａ，Ｂにおいては載置台１２の図示を省略している。また、架台１６の一部が上記基板支持面を構成するようにしてもよい。【００２５】
ガントリー１３Ｙは、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの延在方向（Ｘ軸方向）に対して交差する方向、特に本実施形態では直交する方向（Ｙ軸方向）に延在している。ガントリー１３Ｙの両脚部は、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘに対し、可動部２０を介して当該ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの上面に沿って移動自在に支持されている。【００２６】
基板処理ユニット１４は、載置台１２の上に支持された被処理基板Ｗの表面にシール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいは基板表面を観察するカメラユニット等で構成されている。この基板処理ユニット１４は、ガントリー１３Ｙに対して当該ガントリー１３Ｙの下面に沿って移動自在に支持されている。【００２７】
ガントリー１３Ｙおよび基板処理ユニット１４は、リニアモータを駆動源として、それぞれガイドフレーム１３Ｘおよびガントリー１３Ｙに沿って移動される。図３は、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘとガントリー１３Ｙとの間に設置された可動部２０の一構成例を示している。なお、以下の構成は、ガントリー１３Ｙと基板処理ユニット１４との間にも同様に適用されている。【００２８】
図３に示すように、可動部２０は、リニアガイド１７と、マグネット１８と、電機子コイル１９とを備えている。リニアガイド１７は、ガイドフレーム１３Ｘの上面に敷設された一対のガイド軸１７ａ，１７ａと、ガントリー１３Ｙの脚部下面に設置された一対のガイド軸受１７ｂ，１７ｂとで構成されている。マグネット１８は、ガイドフレーム１３Ｘの上面において一対のガイド軸１７ａ，１７ａの間に直線的に設置されている。電機子コイル１９は、マグネット１８と間隙をおいて対向するようにガントリー１３Ｙの脚部下面に取り付けられている。これらマグネット１８および電機子コイル１９によってリニアモータが構成されている。【００２９】
可動部２０には更に、ガイドフレーム１３Ｘに対するガントリー１３Ｙの相対位置を検出するための位置検出センサ２１が設けられている。位置検出センサ２１は、ガイドフレーム１３Ｘの側面に設置されたリニアスケール２２を光学的に検出することで、ガントリー１３Ｙの位置検出を行う。【００３０】
なお、ステージ装置１１は、図示せずとも、上記構成の位置検出センサの検出出力を受けてガントリー１３Ｙおよび基板処理ユニット１４の移動制御を行う制御部を備えているが、その説明は省略する。【００３１】
ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘに対するガントリー１３ＹのＸ軸方向への水平移動と、ガントリー１３Ｙに対する基板処理ユニット１４のＹ軸方向の水平移動とにより、載置台１２に支持された被処理基板Ｗの表面全域に対して基板処理ユニット１４をＸＹ面内２方向に対向配置させることが可能となる。これにより、ステージ装置１１は、基板処理ユニット１４による被処理基板Ｗに対する所定の基板処理動作（本例では、シール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂の塗布処理あるいは表面検査）を連続的または間欠的に行うことが可能なＸＹステージとして構成される。【００３２】
さて、本実施形態のステージ装置１１においては、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘが、その延在方向に関して分割されたメインフレーム部（第１フレーム部）１５Ａとサブフレーム部（第２フレーム部）１５Ｂとの結合体で構成されている。従って、ステージ装置１１は、図１Ｂに示すように、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘがメインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとの間で分割可能とされている。この場合、被処理基板Ｗはメインフレーム１５Ａ側に載置される。【００３３】
上記のようにガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘをその延在方向に関して分離自在に構成することにより、ステージ装置１１をＸ軸方向に関して２分割して運搬することができる。
例えば、ステージ装置１１のＸ軸方向の長さ寸法が５５００ｍｍ以上、Ｙ軸方向の幅寸法が４５００ｍｍ以上のサイズを有する場合であっても、ステージ装置１１をＸ軸方向に関して２分割することで、個々の分割構成体単位でＸ軸方向の長さ寸法を３５００ｍｍ以内に抑えることが可能となる。これにより、道路事情等に基づく制限が解消されるので、ステージ装置１１の陸送が可能となる。【００３４】
本実施形態において、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの分割位置、すなわちメインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとの間の境界線Ｄは、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘ上において、基板処理ユニット１４による基板処理が必要なガントリー１３Ｙの移動経路を画定する作業領域Ｒ１と、ガントリー１３Ｙを載置台１２上の直上位置から退避させるための非作業領域Ｒ２との境界位置に設定されている。
なお、非作業領域Ｒ２は、載置台１２に対する被処理基板Ｗの搬入・搬出、基板処理ユニット１４の保守・点検等の際に、ガントリー１３Ｙの退避位置となる非作動位置を画定する。【００３５】
従って、メインフレーム部１５Ａは、基板処理ユニット１４による基板処理に必要とされるガントリー１３Ｙの移動経路を形成する。また、サブフレーム部１５Ｂは、メインフレーム部１５Ａの長手方向の一端側に接続され、ガントリー１３Ｙの非作業位置までの移動経路を形成する。【００３６】
以上のように、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘを構成するメインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂ間の境界Ｄを、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘ上におけるガントリー１３Ｙの作業領域Ｒ１と非作業領域Ｒ２との境界線上に設置することにより、以下の効果を得ることができる。【００３７】
第１に、一般にガントリー移動型のステージ装置においては、基板処理に際してガントリーの高精度な移動送り制御が必要となるが、本実施の形態によれば、ガントリー１３Ｙの作業領域Ｒ１を画定するメインフレーム部１５Ａのみを所定の高水準な移動送り精度が得られる構成に設計するだけで足りる。従って、サブフレーム部１５Ｂはメインフレーム部１５Ａに比べて厳密な移動送り精度が必要なくなるので、ステージ装置１１全体として製作コストの低減を図ることができる。【００３８】
ここで、ガントリー１３Ｙの移動送り精度には、ガントリー１３Ｙの移動面の剛性、平坦度、ガントリー１３Ｙの等速移動性などが要求され、この要求を満足するために、ガイドフレームには花崗岩（グラナイト）や大理石などの石材、ＳｉＣ等の硬質セラミックスのような加工精度が高く比較的高価な材料が用いられている。本実施形態においては、メインフレーム部１５Ａのみをこのような材料で作製することができ、これに比べてサブフレーム部１５Ｂは、一定の移動送り精度が得られる程度の比較的安価な材料で作製することができるようになる。【００３９】
第２に、ガントリー１３Ｙの作業領域Ｒ１内においてガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの継ぎ目（境界Ｄ）が存在しないので、当該継ぎ目の通過時に発生するガントリー１３Ｙの振動や速度変化を回避でき、基板処理ユニット１４による被処理基板Ｗに対する適正な基板処理を確保することができる。【００４０】
第３に、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの分割位置（境界Ｄ）をガントリー１３Ｙの作業領域Ｒ１と非作業領域Ｒ２との境界上に設定することにより、ステージ装置１１の組立て作業性を向上させることができる。
すなわち、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの分割位置がガントリー１３Ｙの作業領域Ｒ１内にあると、ガントリー１３Ｙの高精度の移動送り精度を確保するためにガイドフレームの接続を高精度に行う必要が生じ設置作業負担が大きくなるが、本実施形態によれば、このような問題を回避でき、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの設置作業負担の低減を図ることができる。【００４１】
また、図１Ｂに示したように、ガントリー１３Ｙをメインフレーム１５Ａに組み上げた状態で輸送することが可能となるので、現地での可動部２０の組付作業を省略できるので、ステージ装置１１の設置作業性を高めることができる。また、メインフレーム部１５Ａに対するガントリー１３Ｙの高い組付精度を確保した状態で、ステージ装置１１を出荷することが可能となる。【００４２】
一方、ガイドフレーム１３Ｘ上においてガントリー１３Ｙの移動案内を行うリニアガイド１７もまた、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘと同様に分割構成とされるが、本実施形態では、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの分割位置と異なる位置で、リニアガイド１７が継ぎ合わされている。【００４３】
図４は、ガイドフレーム１３Ｘの分割位置を示す側面図である。ガイドフレーム１３Ｘはメインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとの結合で構成され、これらフレーム部１５Ａ，１５Ｂの上面にリニアガイド１７のガイド軸（第１，第２ガイド部）１７ａ１，１７ａ２がそれぞれ敷設されている。第１ガイド部１７ａ１は、ガントリー１３Ｙが被処理基板Ｗ上を移動する時にガイドする部分（作業領域Ｒ１）を含むように構成されている。また、第２ガイド部１７ａ２は、ガントリー１３Ｙが被処理基板Ｗ上を移動する時にガイドする部分を含まないように構成されている。【００４４】
第１，第２ガイド部１７ａ１，１７ａ２は互いに同一軸線上に敷設され、その継ぎ目ｄは、ガイドフレーム１３Ｘの分割位置（境界Ｄ）と異なる位置に設定されている。すなわち、図４に示すように、第１ガイド部１７ａ１はメインフレーム部１５Ａよりもサブフレーム部１５ｂ側に突出し、突出した第１ガイド部１７ａ１の部分がサブフレーム部１５Ｂ上に固定されている。第２ガイド部１７ａ２は、サブフレーム１５Ｂ上において第１ガイド部１７ａ１の突出端に継ぎ合わされており、これにより連続したガイド軸１７ａを構成している。【００４５】
図４に示したように、第１，第２ガイド部１７ａ１，１７ａ２の継ぎ目ｄをガイドフレーム１３Ｘの分割位置Ｄと異なる位置に設けることにより、ガイドフレーム１３Ｘの分割位置Ｄの上を第１ガイド部１７ａ１で覆うことが可能となるので、メインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとの間の組付時に発生したフレーム上面の段差が第１ガイド部１７ａ１で吸収できるようになる。これにより、ガントリー１３Ｙが分割位置Ｄを通過する際の振動の発生を効果的に抑えることが可能となる。また、メインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとの間の接続に厳密な組付精度が要らなくなり、ガイドフレーム１３Ｘの設置作業性の更なる向上を図ることができる。
なお、第１，第２ガイド部１７ａ１，１７ａ２は、メインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとを接続した後、この組み上げられたガイドフレーム１３Ｘ上にネジ部材２３を用いて固定される。【００４６】
また、ステージ装置１１の設置作業性を向上させる目的で、ガントリー１３Ｙの位置検出に必要なリニアスケール２２をもガイドフレーム１３Ｘに対して分割構成されている。すなわち、図５に模式的に示すように、リニアスケール２２は、メインフレーム部１５Ａに設置される第１スケール２２ａと、サブフレーム部１５Ｂに設置される第２スケール２２ｂとに分割構成されている。この構成により、長尺のリニアスケールを用いたときの熱膨張による精度の劣化が発生しないので、ガントリー１３Ｙの移動送り精度の向上が図れるようになる。【００４７】
この場合、第１，第２スケール２２ａ，２２ｂを検出するリニアスケール検出部をガントリー１３Ｙにその進行方向に並べて少なくとも２つ設置する。当該リニアスケール検出部は、上述した位置検出センサ２１を２つ以上設置してもよいし、ひとつの位置検出センサ２１に２つの検出部（素子）を並べて配置してもよい。これらの検出部は、スケール２２ａ，２２ｂの設置間隔よりも大きな間隔をおいて配置されることで、スケール２２ａ，２２ｂ間を跨いでの位置検出を可能とする。【００４８】
上記構成において、ガントリー１３Ｙがメインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂの接続部を通過するときに、上記リニアスケール検出部の一方が第１スケール２２ａを検出し、他方が第２スケール２２ｂを検出することで、フレーム接続部での位置補正を行う。具体的に、スケールの接続部を一方の検出部が通過する際には、他方の検出出力とこれら検出部間の配置間隔とに基づいて当該一方の検出部の位置を演算により求める。これにより、スケール２２ａ，２２ｂが分離設置される場合でもガントリー１３Ｙの高精度な位置検出が可能となるとともに、スケール２２ａ，２２ｂの設置間隔に高い精度が不要となり、作業性の向上を図ることができる。
なお、リニアスケール検出部の設置数は２つに限らず、更にその数を増やしてもよい。また、リニアスケールの分割位置も上記各フレーム部の接続位置だけに限られない。【００４９】
以上、本発明の実施形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。【００５０】
例えば以上の実施の形態では、ガイドフレーム１３Ｘを構成するメインフレーム部１５Ａおよびサブフレーム部１５Ｂの各々の接面を、ガントリー１３Ｙの進行方向に対して垂直な面で構成したが、勿論これに限られない。図６は、メインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂの各々の接面をガントリー１３Ｙの進行方向に対して斜めに形成した例を示している。この構成により、メインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとの境界Ｄにおけるフレーム上面の高さ精度を容易に出すことが可能となり、ガイドフレーム１３Ｘの設置作業性の向上を図ることができる。【００５１】
また、以上の実施形態では、ステージ装置１１のガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘを２分割構造としたが、図７に模式的に示すように、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘを３分割構造とすることも可能である。この例では、メインフレーム部１５Ａの両端部に各々サブフレーム１５Ｂを接続した構成を示している。
なお、ガイドフレーム１３Ｘ，１３Ｘの分割数を更に増やすことも可能である。この場合、図８に示すように、メインフレーム部１５Ａとサブフレーム部１５Ｂとを交互に接続したステージ装置の構成を示している。この構成により、同一のステージ装置上で複数枚の被処理基板Ｗを並列的に処理することができるようになる。
【図１】
2007105455.tif 000003
【図２】
2007105455.tif 000004
【図３】
2007105455.tif 000005
【図４】
2007105455.tif 000006
【図５】
2007105455.tif 000007
【図６】
2007105455.tif 000008
【図７】
2007105455.tif 000009
【図８】
2007105455.tif 000010
【図９】
2007105455.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、
前記被処理基板を支持する基板支持面と、
前記基板支持面に支持された被処理基板を処理または検査する基板処理ユニットと、
前記基板処理ユニットを支持し、かつ、前記基板支持面に支持された被処理基板の上を移動自在なガントリーと、
前記基板支持面を挟んで対向配置され、前記基板処理ユニットによる基板処理に必要とされる前記ガントリーの作業領域の移動経路を形成する前記第１ガイド部と、前記第１ガイド部に対して当該第１ガイド部の延在方向に沿って分離自在に接続され前記ガントリーの非作業領域の移動経路を形成する第２ガイド部とをそれぞれ有する一対のガイド部と、
前記第１ガイド部を支持するメインフレームと、
前記第２ガイド部を支持し、かつ、前記メインフレームと分離自在なサブフレームと
を具備するステージ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のステージ装置であって、
前記メインフレームは、前記サブフレームに比べて、前記ガントリーの移動送り精度が高く設計されているステージ装置。
【請求項３】
請求項１に記載のステージ装置であって、
前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部は、前記ガントリーの直進移動を案内するリニアガイドをそれぞれ含み、
前記各リニアガイドは、前記メインフレームと前記サブフレームの分割位置と異なる位置で継ぎ合わされているステージ装置。
【請求項４】
請求項１に記載のステージ装置であって、
前記基板処理ユニットは、前記ガントリーに対して当該ガントリーの延在方向に沿って移動自在に支持されているステージ装置。
【請求項５】
被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、
前記被処理基板が載置される第１フレーム部と、
前記第１フレーム部に対して分離して運搬可能に構成された第２フレーム部と、
前記被処理基板の上を移動するガントリーと、
前記第１フレーム部に設置され、前記ガントリーが前記被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含む長手方向に一体の第１ガイド部と、
前記第２フレーム部に設置され、前記ガントリーが前記被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含まない第２ガイド部と
を具備するステージ装置。
【請求項６】
請求項５に記載のステージ装置であって、
前記第１フレーム部は、前記第２フレーム部よりも前記ガントリーの移動送り精度が高いステージ装置。
【請求項７】
請求項５に記載のステージ装置であって、
前記第１ガイド部は、前記第１フレーム部よりも突出する部分を有し、突出した前記第１ガイド部の部分は前記第２フレーム上に固定され、前記第１ガイド部と前記第２ガイド部が連続したガイド部を構成するステージ装置。
【請求項８】
請求項５に記載のステージ装置であって、
前記第１フレーム部と前記第２フレーム部の接面が、前記ガントリーの移動方向に対して斜めに形成されているステージ装置。
【請求項９】
請求項５に記載のステージ装置であって、
前記第１フレーム部に設置された第１リニアスケールと、
前記第２フレーム部に設置された第２リニアスケールと、
前記ガントリーに設置され、前記ガントリーが前記第１フレーム部と前記第２フレーム部の接続部を通過するときに前記第１リニアスケールで前記ガントリーの位置を検出し、かつ前記第２リニアスケールで前記ガントリーの位置を検出することで、前記接続部での位置補正を行うための少なくとも２つのリニアスケール検出部と
を更に具備するステージ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
以上の課題を解決するに当たり、本発明のステージ装置は、被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、前記被処理基板を支持する基板支持面と、前記基板支持面に支持された被処理基板を処理または検査する基板処理ユニットと、前記基板処理ユニットを支持し、かつ、前記基板支持面に支持された被処理基板の上を移動自在なガントリーと、前記基板支持面を挟んで対向配置され、前記基板処理ユニットによる基板処理に必要とされる前記ガントリーの作業領域の移動経路を形成する前記第１ガイド部と、前記第１ガイド部に対して当該第１ガイド部の延在方向に沿って分離自在に接続され前記ガントリーの非作業領域の移動経路を形成する第２ガイド部とをそれぞれ有する一対のガイド部と、前記第１ガイド部を支持するメインフレームと、前記第２ガイド部を支持し、かつ、前記メインフレームと分離自在なサブフレームとを具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以上のように構成される本発明のステージ装置においては、ガントリーの移動案内を行うガイド部が、上記第１ガイド部と第２ガイド部との分割構造とされているので、ステージ装置を陸送が可能な長さにまで短くすることができる。また、ガイド部の分割位置がガントリーの作業領域上に存在しないので、ガントリーに振動や移動速度の変化が生じることはなく、被処理基板に対して適正な処理を確保することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明のステージ装置においては、少なくとも、基板処理に必要とされるガントリーの移動経路を形成する領域のみ高い移動送り精度が確保されていれば十分とされる。このため、上記メインフレームが、サブフレームに比べて、ガントリーの移動送り精度が高く設計されている。これにより、ガイドフレーム全体を高精度に作製する必要がなくなるので、ガイドフレームの作製コスト及び設置作業負担の低減を図ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
更に、ガイドフレームには、ガントリーの直進移動を案内するリニアガイドが敷設されており、このリニアガイドは、ガイドフレームの分割位置と異なる位置で継ぎ合わされている。これにより、ガイドレールの分割位置におけるガントリーの移動送り精度の劣化を低減できるとともに、上記メインフレームとサブフレーム間の組付精度を緩和して作業性の向上を図ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の他のステージ装置は、被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、前記被処理基板が載置される第１フレーム部と、前記第１フレーム部に対して分離して運搬可能に構成された第２フレーム部と、前記被処理基板の上を移動するガントリーと、前記第１フレーム部に設置され、前記ガントリーが前記被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含む長手方向に一体の第１ガイド部と、前記第２フレーム部に設置され、前記ガントリーが前記被処理基板上を移動する時にガイドする部分を含まない第２ガイド部とを具備する。
【国際調査報告】
2007105455.tif 000012
2007105455.tif 000013