Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月26日(2006.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】   
【請求項１】 変速装置４１，４３の変速位置を現位置からアップ若しくはダウン指令する一対のスイッチ式変速操作部３６を備え、この変速操作部３６のスイッチ信号に応じてアクチュエータ６０，６１を駆動させて前記変速装置４１，４３を切換える作業車両の変速制御装置に於いて、この変速制御装置には、前記変速操作部３６による変速パターンを前記スイッチの押し操作毎に現位置から１段ずつアップ若しくはダウンさせる第１変速制御状態及び前記スイッチの押し操作中の規定時間毎に１段ずつアップ若しくはダウンさせる第２変速制御状態に設定する制御手段３０が備えられており、更に、車体の状態が作業状態か或いは非作業状態かを検出する検出手段７３を設け、前記検出手段７３の検出結果に応じて前記第１若しくは第２変速制御状態の何れか一方を牽制するように構成したことを特徴とする作業車両の変速制御装置。  
【請求項２】 上記検出手段は左右のブレーキペダル２８の連結状態を検出するセンサ７３であって、このセンサ７３によりブレーキペダル２８が非連結状態であると検出されたときは前記第２変速制御状態を牽制するように構成した請求項１記載の作業車両の変速制御装置。  
【請求項３】 変速装置４１，４３の変速位置を現位置からアップ若しくはダウン指令する一対のスイッチ式変速操作部３６と、この変速操作部３６のスイッチ信号に応じて変速位置を切換えるアクチュエータ６０，６１と、前進若しくは後進を切換えるための前後進切換え装置４２とを備えた作業車両に於いて、前記変速操作部３６による変速パターンを前記スイッチの押し操作毎に現位置から１段ずつアップ若しくはダウンさせる第１変速制御状態及び前記スイッチの押し操作中の規定時間毎に１段ずつアップ若しくはダウンさせる第２変速制御状態に設定する制御手段３０を設け、前記前後進切換え装置４２が中立位置にあるときは前記第２変速制御状態を可能にしたことを特徴とする作業車両の変速制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】   
【課題を解決するための手段】 
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、変速装置４１，４３の変速位置を現位置からアップ若しくはダウン指令する一対のスイッチ式変速操作部３６を備え、この変速操作部３６のスイッチ信号に応じてアクチュエータ６０，６１を駆動させて前記変速装置４１，４３を切換える作業車両の変速制御装置に於いて、この変速制御装置には、前記変速操作部３６による変速パターンを前記スイッチの押し操作毎に現位置から１段ずつアップ若しくはダウンさせる第１変速制御状態及び前記スイッチの押し操作中の規定時間毎に１段ずつアップ若しくはダウンさせる第２変速制御状態に設定する制御手段３０が備えられており、更に、車体の状態が作業状態か或いは非作業状態かを検出する検出手段７３を設け、前記検出手段７３の検出結果に応じて前記第１若しくは第２変速制御状態の何れか一方を牽制するように構成した作業車両の変速制御装置、及び、上記検出手段は左右のブレーキペダル２８の連結状態を検出するセンサ７３であって、このセンサ７３によりブレーキペダル２８が非連結状態であると検出されたときは前記第２変速制御状態を牽制するように構成した作業車両の変速制御装置、及び、変速装置４１，４３の変速位置を現位置からアップ若しくはダウン指令する一対のスイッチ式変速操作部３６と、この変速操作部３６のスイッチ信号に応じて変速位置を切換えるアクチュエータ６０，６１と、前進若しくは後進を切換えるための前後進切換え装置４２とを備えた作業車両に於いて、前記変速操作部３６による変速パターンを前記スイッチの押し操作毎に現位置から１段ずつアップ若しくはダウンさせる第１変速制御状態及び前記スイッチの押し操作中の規定時間毎に１段ずつアップ若しくはダウンさせる第２変速制御状態に設定する制御手段３０を設け、前記前後進切換え装置４２が中立位置にあるときは前記第２変速制御状態を可能にした作業車両の変速制御装置を提供するものである。  
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
請求項３記載の発明は、スイッチ式の変速操作部３６による変速パターンをスイッチの押し操作毎に現位置から１段ずつアップ若しくはダウンさせる第１変速制御状態及びスイッチの押し操作中の規定時間毎に現位置から１段ずつアップ若しくはダウンさせる第２変速制御状態に設定する制御手段３０を設け、前記前後進切換え装置４２が中立位置にあるときは前記第２変速制御状態を可能にしたので、中立時は多段化した変速位置に対して変速操作を簡易化できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月11日(2007.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｍｎ：０．１〜１．０質量％およびＣａ：０．０５〜１．０質量％を含有し、残部がＭｇと不可避不純物よりなることを特徴とする流電陽極用マグネシウム合金。
【請求項２】  Ｍｎ：０．１〜１．０質量％、Ｃａ：０．０５〜１．０質量％、Ｉｎおよび／またはＺｎ：０．００５〜０．１質量％を含有し、残部がＭｇと不可避不純物よりなることを特徴とする流電陽極用マグネシウム合金。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一は、Ｍｎ：０．１〜１．０質量％およびＣａ：０．０５〜１．０質量％を含有し、残部がＭｇと不可避不純物よりなることを特徴とする流電陽極用マグネシウム合金に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第二は、Ｍｎ：０．１〜１．０質量％、Ｃａ：０．０５〜１．０質量％、Ｉｎおよび／またはＺｎ：０．００５〜０．１質量％を含有し、残部がＭｇと不可避不純物よりなることを特徴とする流電陽極用マグネシウム合金に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明におけるＭｎは、Ｍｇ地金中に不可避不純物として含有されている鉄によって生ずる発生電気量の低下という悪影響を低減するのに有効な元素であるが、その含有量が０．１質量％未満ではその作用は十分ではなく、一方、１．０質量％を超えると発生電気量の低下を招くので、その含有量を０．１〜１．０質量％とする必要があるが、好ましくは０．５〜１．０質量％である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明におけるＣａは、Ｍｎ１．０質量％含有Ｍｇ合金の発生電気量を向上させる作用を有する元素であるが、０．０５質量％未満ではその作用は十分でなく、一方、１．０質量％を超えると発生電気量の低下を招くので、その含有量を０．０５〜１．０質量％とする必要があるが、好ましくは０．０５〜０．７３質量％である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
実施例２
表２に示すとおり、Ｉｎおよび／またはＺｎを含む組成の本発明合金および比較合金、並びにＡＺ６３合金、Ｍｎ１．０質量％含有Ｍｇ合金を、実施例１と同様にして試験片を調整し、実施例１と同様に試験して陽極電位、発生電気量および溶解面の状況を調べた。それらの結果を表２に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
これと共に、ターゲット１０６から飛散したターゲット粒子の他の一部は、下地１１０の表面１１０Ａ上に既に形成されている導電性の下地被膜１１２に付着されたときの衛撃により散乱粒子となって、近接領域の端面１０４Ｃに付着して、新たな導電性のマスク被膜１２２ｂを形成する。このマスク被膜１２２ｂは、近接領域の端面１０４Ｃ上を、場合によっては、下地１１０に達して下地面１１０Ａと接触するように形成されてしまう場合がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成する為に、この発明のスパッタ成膜装置は、サセプタ、マスク及びターゲットを具える。サセプタには、下地を載置する。マスクは、サセプタに載置された下地の所定表面領域に接触して設置される。ターゲットは、サセプタに対向して配置されていて、かつ、スパッタリングによってターゲット粒子を下地の表面に飛散させて導電性の第１被膜すなわち下地被膜を形成する。この構成において、マスクは、ターゲット粒子が飛散して当該マスクの表面に直接形成される導電性の第２被膜すなわちマスク被膜と、下地に接触して形成される第１被膜との短絡を防止する短絡防止部を具える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
このような構成によれば、短絡防止部によって、第２被膜と第１被膜とが短絡して、すなわち不所望に接触して形成されるのを防止することができるから、サセプタの電位を安定させることができる。又、第２被膜と第１被膜との間で短絡に基づくアーク放電の点弧を防止することができるから、例えば、下地上に形成された第１被膜が破壊されない。このため、スパッタリングによって下地の表面上に、良質な第１被膜を形成することができる。よって、良質な製品を製造することができる。又、マスクの表面上に形成された導電性の第２被膜を逐次除去する作業が必要ないので、当該製品の生産効率は向上する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この発明の実施に当たり、好ましくは、マスクは、所定表面領域と接触する接触面を有する底面と、第１被膜と対向する例の端面とを具える。尚、この端面はマスクの上面と底面とをつなぐ、すなわち接続する端面である。短絡防止部は、この端面上に第２被膜が不連続に形成されるようにするための凹部と、上述の接触面から凹部に至る、マスクの端面側部分を少なくとも構成している絶縁体とを具える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
この凹部は、形成される第２被膜が不連続となるように機能すれば、マスクの上面と接触面との間の端面上のいずれの箇所に設けられていてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
例えば、端面が上面側の垂直端面と底面側のＬ字状端面から成る場合には、このＬ字状端面は、下地の表面に沿っていてかつこの下地に近接している下向き端面領域を具える。下向き端面領域に、この凹部を設けるのが好適である。そして、この凹部は、その内面に、ターゲット粒子の、下地側からの散乱粒子を非被着状態にする凹部非被着領域を具えるのが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
上述の発明の実施に当たり、好ましくは、下地は、サセプタに載置されるガラス基板と、このガラス基板上に形成されて、かつ所定表面領域を有する導電層と、この導電層上に形成された中間層とを具えるのが良い。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
この下地２０は、薄い平板状であって、下地２０の主表面である表面２０Ａの平面形状は、図２に示すように、長方形である。表面２０Ａは、この長方形のより長い方の辺の近傍であってかつこの辺から所定の距離内に、所定表面領域２０Ｂを具える。後述のように、この所定表面領域２０Ｂ上に、マスク１４の底面１４Ａ（図３参照）が載置される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
第４端面１４Ｂ４の延長線と下地２０との交差点Ｐから凹部１４Ｂ５を見たとき、この凹部１４Ｂ５中に陰となる部分がある。よって、ターゲット１６からのターゲット粒子は、交差点Ｐの第１被膜２２を弾き飛ばしても、陰となる部分には直接付着しない。ターゲット粒子の付着後のマイグレーション距離は、高々１０μｍであって、凹部１４Ｂ５の半径と比較して遥かに小さい。よって、このマイグレーションを考慮しても、下地２０と接触している第２被膜３２b（すなわち、第１端面１４Ｂｌ、第２端面１４Ｂ２、及び凹部非被着領域１４Ｂ５Ａ以外の領域の凹部（凹面）１４Ｂ５に連続的に形成された領域部分の第２被膜）は、第３端面１４Ｂ３に形成されて、かつ第２被膜３２aと接触している第２被膜３２bと接触することは、起こらない。すなわち、下地２０と接触している第２被膜３２bは、常に、第２被膜３２aと不連続である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月8日(2007.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  前記制振材の外側に、ゴム又はプラスチック製の拘束材が設けられていることを特徴とする、請求項２記載の制振材。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  シリンダヘッド内に形成される動弁室内にカムシャフトを有するＯＨＣ形式の４サイクルエンジンを縦置きに搭載する船外機のブリーザ装置において、上記シリンダヘッド外壁に上記動分室の内外を連通するブリーザ出口を形成し、このブリーザ出口をブリーザカバーで覆ってその内部にブリーザ室を形成すると共に、上記エンジンの側部に吸気装置を配置し、この吸気装置と同じ側のシリンダヘッド側部に上記ブリーザ室を配設したことを特徴とする船外機のブリーザ装置。
【請求項２】  前記吸気装置を構成するキャブレタを、インレットパイプを介して前記シリンダヘッドに接続すると共に、前記ブリーザカバーを上記インレットパイプと一体に形成した請求項１に記載の船外機のブリーザ装置。
【請求項３】  上記エンジンのクランクケース内と上記動分室とを連通するブリーザ通路を、上記エンジンの前後を結ぶ中心線を挟んで上記ブリーザ室とは反対側に形成した請求項１または２に記載の船外機のブリーザ装置。
【請求項４】  上記ブリーザ出口に弁装置を設け、この弁装置をブローバイガスが上記動弁室内から動弁室外に向かってのみ通行可能に設定した請求項１，２または３に記載の船外機のブリーザ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
芝刈り機や発電機，船外機等の小型４サイクルエンジンに用いられるブリーザ装置の例としては、例えばエンジンのシリンダブロック上部にブリーザ室を形成したもの（例えば実開昭６４−２５４１５号公報参照）や、シリンダヘッドとシリンダヘッドカバーとの間でブリーザ室を形成したもの、また、エンジンのシリンダヘッドカバーにブリーザ室を別体に形成してブリーザ装置を構成したもの（例えば特開平７−１１９４３２号公報参照）等がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るエンジンのブリーザ装置は、上述した課題を解決するために、請求項１に記載したように、シリンダヘッド内に形成される動弁室内にカムシャフトを有するＯＨＣ形式の４サイクルエンジンを縦置きに搭載する船外機のブリーザ装置において、上記シリンダヘッド外壁に上記動分室の内外を連通するブリーザ出口を形成し、このブリーザ出口をブリーザカバーで覆ってその内部にブリーザ室を形成すると共に、上記エンジンの側部に吸気装置を配置し、この吸気装置と同じ側のシリンダヘッド側部に上記ブリーザ室を配設したものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上述した課題を解決するために、請求項２に記載したように、前記吸気装置を構成するキャブレタを、インレットパイプを介して前記シリンダヘッドに接続すると共に、前記ブリーザカバーを上記インレットパイプと一体に形成したものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、上述した課題を解決するために、請求項３に記載したように、上記エンジンのクランクケース内と上記動分室とを連通するブリーザ通路を、上記エンジンの前後を結ぶ中心線を挟んで上記ブリーザ室とは反対側に形成したものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
さらにまた、上述した課題を解決するために、請求項４に記載したように、上記ブリーザ出口に弁装置を設け、この弁装置をブローバイガスが上記動弁室内から動弁室外に向かってのみ通行可能に設定したものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るエンジンのブリーザ装置によれば、簡単な構造で動弁室内の動弁装置を充分に潤滑可能になる。また、ブローバイガス中に混入しているオイル分を分離することが可能になる。さらに、エンジンのコンパクト化を図ることができる。さらにまた、部品点数の削減を図ることができ、組付性も向上する。そして、エンジンの保管姿勢によってブリーザ室から潤滑オイルが漏れ出すことはない。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源を有する光源部と、
前記光源部から光を導き、面状に発光させる導光部とを備える面状光源装置であって、
非点灯時の前記光源が、他の前記光源からの光量を検出し、当該光量に基づき他の前記光源の発光量を調整することを特徴とする面状光源装置。
【請求項２】
請求項１に記載の面状光源装置であって、
前記光源は、点灯期間と非点灯期間とを所定のタイミングで繰り返すことを特徴とする面状光源装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の面状光源装置であって、
前記光源部は、発光する光の波長が異なる前記光源を複数備え、前記波長毎に、非点灯時の前記光源が、他の前記光源からの光量を検出し、当該前記光量に基づき他の前記光源の発光量を調整することを特徴とする面状光源装置。
【請求項４】
請求項３に記載の面状光源装置であって、
前記光源部は、赤色、青色及び緑色の単色光の波長を発光する前記光源を備えていることを特徴とする面状光源装置。
【請求項５】
請求項４に記載の面状光源装置であって、
前記光源部は、前記赤色の単色光の波長より長波長の光を発光する前記光源をさらに備えていることを特徴とする面状光源装置。
【請求項６】
請求項５に記載の面状光源装置であって、
前記長波長の光は、赤外光であることを特徴とする面状光源装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１つに記載の面状光源装置であって、
前記光源部は、２以上の光源駆動制御ブロックに区分され、当該前記光源駆動制御ブロック毎に、前記光源の発光又は光量検出を行うことを特徴とする面状光源装置。
【請求項８】
請求項７に記載の面状光源装置であって、
前記光源駆動制御ブロックに実装される前記光源が非点灯である場合、当該前記光源が光量検出を行い、当該前記光量に基づき他の前記光源駆動制御ブロックに実装される前記光源の発光量を調整することを特徴とする面状光源装置。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載の面状光源装置であって、
前記光源は、前記光源駆動制御ブロック単位で、点灯期間と非点灯期間とを所定のタイミングで繰り返すことを特徴とする面状光源装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の面状光源装置であって、
前記光源は、複数の前記光源駆動制御ブロック間で、点灯期間及び非点灯期間が所定の期間重複することを特徴とする面状光源装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか１つに記載の面状光源装置であって、
前記光源は、発光ダイオードまたはレーザダイオードであることを特徴とする面状光源装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか１つに記載の面状光源装置と、
前記面状光源装置の出射面側に配置され、所望の画像を表示させる表示素子とを備える表示装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の表示装置であって、
前記表示素子は、液晶表示素子であることを特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る解決手段は、複数の光源を有する光源部と、光源部から光を導き、面状に発光させる導光部とを備える面状光源装置であって、非点灯時の光源が、他の光源からの光量を検出し、当該光量に基づき他の光源の発光量を調整する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に記載の面状光源装置は、非点灯時の光源が、他の光源からの光量を検出し、当該光量に基づき他の光源の発光量を調整するので、専用の光センサを用いることなく、安定した光源の発光量を得ることができ、輝度、色度が安定した面状光源装置を実現することができる効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月29日(2007.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
指の腹面を下に向けて置く部位を設けたケースと、
前記ケース面より突起し且つ所定間隔離して配置する１対の突起部と、
前記突起部間の前記指に対してその側面から光を照射する光源部と、
前記突起部間で且つ前記ケース面に配置され光の任意波長に対して光透過性を有する干渉フィルタ部と、
前記干渉フィルタ部の下部に配置され且つ前記干渉フィルタ部を透過した透過光を撮像する撮像部と、
前記指の先端を支える指先支えガイドと、
前記指の根元を支える指根元支えガイドと、
掌を支える掌支えガイドとを有し、
前記掌支えガイドは、前記指先支えガイド及び前記指根元支えガイドと平行して配置することを特徴とする個人認証装置。
【請求項２】
請求項１記載の個人認証装置において、
前記掌支えガイドの幅は、前記指根元支えガイドまたは前記指規制ガイドの幅よりも広いことを特徴とする個人認証装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の個人認証装置において、前記突起部は前記指の長手方向に沿って細長い形状であることを特徴とする個人認証装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月30日(2006.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力装置および表示装置を有し、前記入力装置と前記表示装置とを用いてグラフィカルユーザインタフェースを実現するための手段を備えた情報処理装置であって、
前記入力装置による入力操作の種類を特定する操作特定手段と、
前記操作特定手段により特定された入力操作の種類に関連付けられた第１の処理を実行する第１処理手段と、
前記第１処理手段により実行された第１の処理と異なる処理を実行するように指示する再処理指示手段と、
前記再処理指示手段による指示に応じて、前記操作特定手段により特定された入力操作の種類に関連づけられた、前記第１の処理と異なる第２の処理を実行する第２処理手段と
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記第１及び第２処理手段により実行された前記第１及び第２の処理の結果を前記表示装置に表示するように制御する表示制御手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記再処理指示手段による指示に応じて、前記第１処理手段により実行された前記第１の処理を取り消す取消手段を有し、
前記第２処理手段は、前記取消手段による取消の後に前記第２の処理を実行することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記第１の処理の処理結果と共に、該処理結果を確定するかどうかを指示するためのアイコンを前記表示装置に表示し、
前記入力装置による入力操作により前記処理結果を確定しないことが指示された場合に、前記再処理指示手段は、前記第１の処理と異なる処理を実行するように指示することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記操作特定手段は、前記表示装置に表示された画面上のどのエリアで入力操作が行われたかにより前記入力操作の種類を特定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
入力装置および表示装置を有し、前記入力装置と前記表示装置とを用いてグラフィカルユーザインタフェースを実現するための手段を備えた情報処理装置で実行される情報処理方法であって、
前記入力装置による入力操作の種類を特定する操作特定ステップと、
前記操作特定ステップで特定された入力操作の種類に関連付けられた第１の処理を実行する第１処理ステップと、
前記第１処理ステップで実行された第１の処理と異なる処理を実行するように指示する再処理指示ステップと、
前記再処理指示ステップでの指示に応じて、前記操作特定ステップで特定された入力操作の種類に関連づけられた、前記第１の処理と異なる第２の処理を実行する第２処理ステップと
を有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項７】
前記第１及び第２処理ステップで実行された前記第１及び第２の処理の結果を前記表示装置に表示する表示制御ステップを更に有することを特徴とする請求項６に記載の情報処理方法。
【請求項８】
前記再処理指示ステップにおける指示に応じて、前記第１処理ステップで実行された前記第１の処理を取り消す取消ステップを有し、
前記第２処理ステップでは、前記取消ステップにおける取消の後に前記第２の処理を実行することを特徴とする請求項６に記載の情報処理方法。
【請求項９】
前記表示制御ステップでは、前記第１の処理の処理結果と共に、該処理結果を確定するかどうかを指示するためのアイコンを前記表示装置に表示し、
前記入力装置による入力操作により前記処理結果を確定しないことが指示された場合に、前記再処理指示ステップでは、前記第１の処理と異なる処理を実行するように指示することを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項１０】
前記操作特定ステップでは、前記表示装置に表示された画面上のどのエリアで入力操作が行われたかにより前記入力操作の種類を特定することを特徴とする請求項６に記載の情報処理方法。
【請求項１１】
入力装置および表示装置を有し、前記入力装置と前記表示装置とを用いてグラフィカルユーザインタフェースを実現するための手段を備えたコンピュータに、
前記入力装置による入力操作の種類を特定する操作特定ステップと、
前記操作特定ステップで特定された入力操作の種類に関連付けられた第１の処理を実行する第１処理ステップと、
前記第１処理ステップで実行された第１の処理と異なる処理を実行するように指示する再処理指示ステップと、
前記再処理指示ステップでの指示に応じて、前記操作特定ステップで特定された入力操作の種類に関連づけられた、前記第１の処理と異なる第２の処理を実行する第２処理ステップと
を実行させるためのプログラム。
【請求項１２】
前記コンピュータに、前記第１及び第２処理ステップで実行された前記第１及び第２の処理の結果を前記表示装置に表示する表示制御ステップを更に実行させることを特徴とする請求項１１に記載のプログラム。
【請求項１３】
前記コンピュータに、前記再処理指示ステップにおける指示に応じて、前記第１処理ステップで実行された前記第１の処理を取り消す取消ステップを更に実行させると共に、前記取消ステップにおける取消の後に前記第２処理ステップにおける前記第２の処理を実行させることを特徴とする請求項１１に記載のプログラム。
【請求項１４】
前記表示制御ステップでは、前記コンピュータに、前記第１の処理の処理結果と共に、該処理結果を確定するかどうかを指示するためのアイコンを前記表示装置に表示させ、
前記入力装置による入力操作により前記処理結果を確定しないことが指示された場合に、前記再処理指示ステップにおいて、前記第１の処理と異なる処理を実行するように前記コンピュータに指示することを特徴とする請求項１２に記載のプログラム。
【請求項１５】
前記操作特定ステップでは、前記コンピュータに、前記表示装置に表示された画面上のどのエリアで入力操作が行われたかにより前記入力操作の種類を特定させることを特徴とする請求項１１に記載のプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
該基板上に設けられた第１の金属下地層、該第１の金属下地層上に設けられ、開孔をもつ第２の金属下地層、及び該第２の金属下地層上に設けられ、該第１の金属下地層に対し固溶性を有し、かつ該第２の金属下地層に対し非固溶性を有する第３の金属下地層を含む多層下地層と、
該多層下地層上に設けられた磁気記録層とを具備することを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
前記第２の金属下地層及び前記第３の金属下地層は、六方最密充填構造または面心立方格子構造であることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
前記第３の金属下地層は、ルテニウムであることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
前記ルテニウムの結晶粒径が８ｎｍ未満であることを特徴とする請求項３に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
前記第２の金属下地層は、銅、銀、及び金からなる群から選択されることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項６】
前記第２の金属下地層は、銅であることを特徴とする請求項５に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項７】
前記第２の金属下地層の開孔に、さらに酸化物層が設けられている請求項１ないし６のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項８】
前記酸化物は、チタン酸化物である請求項７に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項９】
前記第１の金属下地層は、六方最密充填構造及び面心立方格子構造のうち１つである請求項１ないし８のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項１０】
前記第１の金属下地層は、チタン、ニッケル、パラジウム、及び白金からなる群から選択される請求項１ないし９のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項１１】
前記第２の金属層は、その平均層厚がその十点平均粗さＲｚよりも小さいことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項１２】
前記基板と、前記第１の金属下地層との間に軟磁性層をさらに具備することを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体と、単磁極型磁気ヘッドとを具備する垂直磁気記録再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
２ｎｍ相当の平均層厚でスパッタリングされた上記Ｃｕ層の上に、第３の金属下地層として、Ｒｕを平均層厚で２ｎｍ相当までスパッタリングした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
また、ＸＲＤによりＲｕ層の結晶配向の評価を行ったところ、開孔を有するＣｕ層を設けた場合でも、開孔を有するＣｕ層がない場合と同じくらい良好な配向が得られた。上述の構造解析の結果に加え、Ｒｕ粒子の方がＣｕ粒子よりも粒径が小さくかつ密度も高いことから推定しても、Ｒｕ層はＴｉ層上だけではなくＣｕ層の上にも形成されていることは明らかである。および、Ｃｕ層の結晶性が悪いか（１１１）配向ではなかった場合にはその上のＲｕ層の結晶配向が悪化することは容易に想像できる。よって、Ｃｕの量が少ないためにＸＲＤでＣｕ自体のピークを得ることは難しいものの、Ｒｕ層が結晶性が良好な状態で（００．２）配向しているという結果は、Ｃｕ層の（１１１）配向、およびその良好な結晶性、さらにＣｕ層上のＲｕ結晶粒子のエピタキシャル成長を表しているということができる。言い換えると、Ｃｕ層の結晶構造および結晶性は重要な役割を果たしており、中間層の結晶構造が、ｈｃｐまたはｆｃｃのような最密構造であれば、その前に形成される金属層の結晶構造も最密構造であるのが好ましく、結晶性も高い方が好ましいと考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明において使用することができる架橋構造に炭素−炭素結合を導入することができる架橋剤としては１，６−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジベンジルチオカルバモイルドチオ）−ヘキサン〔（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2）2Ｎ−（Ｃ＝Ｓ）−Ｓ−Ｓ−（ＣＨ2）6−Ｓ−Ｓ−（Ｃ＝Ｓ）−Ｎ（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2）2〕などのヘキサメチレン系化合物や、ジハロゲン化合物とアルカリ金属の多硫化物とを非相溶混合溶媒中で反応させることによって得られる以下の式（Ｉ）で表わされる環状ポリスルフィドなど（例えば特開２００２−２９３７８３号公報参照）をあげることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月14日(2007.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
成分(A)のトルエンスルホン酸としては、o-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸が挙げられ、またそれらの塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。成分(A)の含有量は、洗髪時の使用感、跳ねたりうねったりした毛先を本来の真っ直ぐな状態に回復させる効果の観点より、本発明の毛髪洗浄剤中に0.1〜３重量％が好ましく、更には0.1〜２重量％、特に0.2〜1.5重量％が好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
成分(B)であるベンジルアルコール、ベンジルオキシエタノール、分子量200〜5000のポリプロピレングリコール及びγ-カプロラクトンから選ばれる有機溶剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができ、その含有量は、洗髪時の使用感、跳ねたりうねったりした毛先を本来の真っ直ぐな状態に回復させる効果の観点より、本発明の毛髪洗浄剤中に0.1〜10重量％が好ましく、更には0.1〜７重量％、特に0.2〜３重量％が好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
アニオン界面活性剤は２種以上を併用してもよく、またその含有量は、泡立ちなど、洗髪時の使用感の観点から、本発明の毛髪洗浄剤中に0.1〜50重量％が好ましく、更には１〜30重量％、特に６〜22重量％が好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
両性界面活性剤の含有量は、本発明の毛髪洗浄剤中に0.1〜15重量％が好ましく、更には0.5〜８重量％、特に1〜６重量％が、良好な増泡効果が得られるので好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
非イオン界面活性剤の含有量は、本発明の毛髪洗浄剤中に0.1〜15重量％が好ましく、更には0.5〜８重量％、特に１〜６重量％が、良好な増泡効果が得られるので好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
カチオン界面活性剤は、２種以上を併用してもよく、洗髪時からすすぎ時までの滑らかさの点から、その含有量は、本発明の水性毛髪洗浄剤中に0.01〜10重量％が好ましく、更には0.05〜６重量％、特に0.3〜３重量％、とりわけ0.5〜2重量％が好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
カチオン性ポリマーは、２種以上を併用してもよく、またその含有量は、洗浄時の泡質向上と、感触の向上の点から、本発明の毛髪洗浄剤中に0.02〜５重量％が好ましく、更には0.05〜１重量％、特に0.1〜0.8重量％が好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
シリコーン類は、２種以上を併用してもよく、その含有量は、本発明の水性毛髪洗浄剤中に0.01〜10重量％が好ましく、更には0.05〜６重量％、特に0.3〜３重量％が好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
更に、本発明の毛髪洗浄剤には、洗浄剤の質感と安定性の向上の観点から、エチレングリコールモノ脂肪酸エステル又はエチレングリコールジ脂肪酸エステルを含有することができる。エチレングリコールモノ脂肪酸エステルとしては、エチレングリコールモノステアレート、エチレングリコールモノベヘネートなどが挙げられる。また、エチレングリコールジ脂肪酸エステルとしては、エチレングリコールジステアレート、エチレングリコールジベヘネートなどが挙げられる。これらは２種以上を併用してもよく、またその含有量は、本発明の毛髪洗浄剤中に0.5〜８重量％が好ましく、更には0.7〜５重量％、特に１〜３重量％が好ましい。洗浄剤の安定性向上の点から、本発明の毛髪洗浄剤中の上記エチレングリコール脂肪酸エステルを含むパール化剤と硫酸塩型界面活性剤との含有重量比（パール化剤／硫酸塩型界面活性剤）は、１／10〜２／５が好ましく、更には１／７〜３／10、特に１／６〜１／４が好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
更に、本発明の毛髪洗浄剤には、粘度調整剤を含有させてもよく、粘度調整剤としては、エタノール、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ポリエチレングリコール、粘土鉱物、塩類（塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、クエン酸ナトリウム等）などが挙げられ、中でも塩類、特に塩化ナトリウム、クエン酸ナトリウムが好ましい。粘度調整剤は２種以上を併用してもよく、またその使用量は、泡量、泡質の点から、本発明の水性毛髪洗浄剤中に0.01〜５重量％、特に0.05〜４重量％が好ましい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
pHの調整は酸を添加して行うのが好ましい。酸としては、少なくとも１種の水溶性有機酸を用いるのが好ましく、水溶性有機酸としては、アルキル硫酸、アルキルリン酸、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸、ポリカルボン酸、アミノ酸等が挙げられる。このうち、カルボン酸が好ましく、特にヒドロキシカルボン酸、ジカルボン酸、芳香族カルボン酸が好ましい。ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、リンゴ酸、酒石酸が挙げられ、特にマロン酸、コハク酸、マレイン酸、リンゴ酸が好ましい。ヒドロキシカルボン酸としては、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシアクリル酸、オキシ酪酸（特にα-オキシ酪酸）、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、サリチル酸等が挙げられ、なかでもα-ヒドロキシカルボン酸、特に乳酸及びリンゴ酸が好ましい。芳香族カルボン酸としては、サリチル酸、安息香酸等が挙げられる。アミノ酸としては、グリシン、アラニン、グルタミン酸、アスパラギン酸等が挙げられ、特に、グリシン、グルタミン酸が好ましい。水溶性有機酸の配合量は、本発明の毛髪洗浄剤中の0.1〜10重量％が好ましく、更には0.2〜5重量％、特に0.3〜2重量％が好ましい。pHの調整には、酸として上記有機酸のほかリン酸、硫酸などの無機酸や、塩基物質として水酸化ナトリウム等も併用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）と、１官能性エポキシ化合物（ａ２）とを（ａ１）／（ａ２）＝１／１〜１／３（モル比）で開環反応させて得られる多分岐ポリエーテルポリオールであって、その分子構造中に１級水酸基（Ｈ１）と２級水酸基（Ｈ２）とを有しており、かつ、その分子構造中に２級水酸基（Ｈ２）を、全水酸基数に対して２０〜７０％の割合で有しており、前記多分岐ポリエーテルポリオールの数平均分子量（Ｍｎ）が１０００〜３５００、水酸基価が１５０〜３５０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであることを特徴とする多分岐ポリエーテルポリオール。
【請求項２】
前記１官能性エポキシ化合物（ａ２）が、オレフィンエポキサイドである請求項１記載の多分岐ポリエーテルポリオール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】多分岐ポリエーテルポリオール
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
すなわち本発明は、ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）と、１官能性エポキシ化合物（ａ２）とを（ａ１）／（ａ２）＝１／１〜１／３（モル比）で開環反応させて得られる多分岐ポリエーテルポリオールであって、その分子構造中に１級水酸基（Ｈ１）と２級水酸基（Ｈ２）とを有しており、かつ、その分子構造中に２級水酸基（Ｈ２）を、全水酸基数に対して２０〜７０％の割合で有しており、前記多分岐ポリエーテルポリオールの数平均分子量（Ｍｎ）が１０００〜３５００、水酸基価が１５０〜３５０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであることを特徴とする多分岐ポリエーテルポリオールに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（方法１）
方法１は、ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）と、１官能性エポキシ化合物（ａ２）とを、モル基準で、（ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）／１官能性エポキシ化合物（ａ２））＝１／１〜１／３となる割合で混合し、これらをパーオキサイドフリーの有機溶媒、例えば、ジエチルエーテル、ジ−ｉ−プロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ジ−ｉ−ブチルエーテル、ジ−ｔ−ブチルエーテル、ｔ−アミルメチルエーテル、又はジオキソランで、原料成分／有機溶剤の質量比が１／１〜１／５、好ましくは１／１．５〜１／２．５となる割合で溶解する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（方法２）
方法２は、ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）と、１官能性エポキシ化合物（ａ２）とを、モル基準で、（ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）／１官能性エポキシ化合物（ａ２））＝１／１〜１／３となる割合で、７０℃以上の沸点を有する炭化水素系溶媒中に溶解する。ここで、炭化水素系溶媒は、例えば、ｎ−ヘプタン、ｉ−オクタン、シクロヘキサンが挙げられ、とりわけ溶解性の点からシクロヘキサンが好ましい。また、原料モノマーと炭化水素系溶媒との比率は、前者：後者が１：１〜１：１０、特に１：２．５〜１：３．５であることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この溶液に対して、ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）と、１官能性エポキシ化合物（ａ２）とを、モル基準で、（ヒドロキシアルキルオキセタン（ａ１）／１官能性エポキシ化合物（ａ２））＝１／１〜１／３となる割合で、混合した混合物を、系内の温度が２０〜３５℃になるように連続的に滴下する。滴下終了後も系内の温度が２０〜２５℃になるまで攪拌を行う。次いで、反応混合物を４０〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃まで加熱して、１〜５時間、好ましくは２〜３時間の間、原料モノマーが全て転化するまで反応を行う。原料モノマーの転化率は、ＧＣ、ＮＭＲ、又はＩＲスペクトルによって確認することによって制御できる。反応終了後は、方法１と同様にして中和、濾過し、次いで、溶媒を留去する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
更に、分子構造中に１級水酸基（Ｈ１）のみならず、２級水酸基（Ｈ２）を有することから、該２級水酸基（Ｈ１）の反応遅延性に起因して可使時間を長時間確保することができる。本発明においてこのような反応性の低い２級水酸基（Ｈ２）を有しながらも、最終的な硬化物の硬度が良好となるのは、当該多分岐ポリエーテルポリオールの分子構造が球状形状をとり、該球状体の外側に向けて水酸基が存在するため、反応速度が低下しても、最終的には殆どの水酸基が十分に反応に寄与し、硬化物の架橋密度が極めて高くなるためである。このような可使時間と硬化物硬度とのバランスの点から特に前記２級水酸基（Ｈ２）の存在割合が全水酸基数に対して２０〜７０％となる割合である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月1日(2007.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ−１）着色剤を含有するポリマー粒子、（Ｂ）ポリマー粒子、及び（Ｃ）水１００ｇに対する溶解量（２０℃）が５ｇ以下である水不溶性有機化合物を含む、インクジェット記録用水分散体。
【請求項２】
（Ａ−２）自己分散型顔料（Ｂ）自己乳化ポリマー粒子、及び（Ｃ）水１００ｇに対する溶解量（２０℃）が５ｇ以下である水不溶性有機化合物を含む、インクジェット記録用水分散体。
【請求項３】
（Ｂ）ポリマー粒子が、塩生成基含有モノマー由来の構成単位を含む自己乳化ポリマー粒子である、請求項１又は２に記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項４】
（Ｂ）ポリマー粒子が、反応性界面活性剤の存在下、エチレン性不飽和モノマーを乳化重合してなるポリマー粒子である、請求項１に記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項５】
（Ｃ）水不溶性有機化合物が、分子中に、エステル又はエーテル結合を２個以上有する、エステル又はエーテル化合物（ｆ）、及び／又は、分子中に、エステル又はエーテル結合を１個以上と、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸残基、カルボニル基、エポキシ基及び水酸基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を１個以上有する、エステル又はエーテル化合物（ｇ）である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項６】
（Ｃ）水不溶性有機化合物が、リン酸エステル、脂肪族ジ又はトリカルボン酸エステル、及びグリセリルアルキルエーテルからなる群より選ばれる１種以上である、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項７】
（Ｃ）水不溶性有機化合物のＬｏｇＰ値が、−１〜１１である請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項８】
水分散体中の（Ｃ）水不溶性有機化合物の含有量が０．４〜１０重量％である、請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項９】
〔（Ｂ）ポリマー粒子／（Ｃ）水不溶性有機化合物〕の重量比が、１５／１〜１／２である、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット記録用水分散体。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の水分散体を含有する、インクジェット記録用水系インク。
【請求項１１】
請求項１０に記載の水系インクを、インクジェット記録方法により普通紙上に印字する、印字物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明者らは、着色剤と、ポリマー粒子、及び水不溶性有機化合物を含有する水分散体が、インクジェット記録用水系インクに十分な印字濃度を付与し、耐マーカー性に優れたものとなることを見出した。
すなわち、本発明は、次の〔１〕〜〔４〕に関する。
〔１〕（Ａ−１）着色剤を含有するポリマー粒子、（Ｂ）ポリマー粒子、及び（Ｃ）水１００ｇに対する溶解量（２０℃）が５ｇ以下である水不溶性有機化合物を含む、インクジェット記録用水分散体。
〔２〕（Ａ−２）自己分散型顔料（Ｂ）自己乳化ポリマー粒子、及び（Ｃ）水１００ｇに対する溶解量（２０℃）が５ｇ以下である水不溶性有機化合物を含む、インクジェット記録用水分散体。
〔３〕前記〔１〕又は〔２〕の水分散体を含有する、インクジェット記録用水系インク。
〔４〕前記〔３〕の水系インクを、インクジェット記録方法により普通紙上に印字する、印字物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
一方、III族窒化物半導体結晶表面にＳｉＯ２やＳｉＮｘからなる開口部を有する選択成長マスクを形成し、III族窒化物半導体結晶を選択成長した例としては、レーザーダイオード用の電流狭窄構造作製を意図したもの（特許文献１参照）や、貫通転位密度の低減を意図したもの（特許文献２参照）が挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のIII族窒化物半導体素子の製造方法は、基板あるいはIII族窒化物半導体結晶上に形成するＳｉＯ２膜をラジカルシャワーＣＶＤ法で作製したものである。ラジカルシャワーＣＶＤ法はプラズマ領域と成膜領域を分離し、基板あるいはIII族窒化物半導体結晶にプラズマダメージを与えないＣＶＤ法である。但し、成膜したい元素の中性ラジカルの寿命は各元素により異なるため、基板に到達可能な寿命の長い元素に対して有効な手法である。酸素の中性ラジカルは寿命が長いので本ラジカルシャワーＣＶＤ法が有効である。その反応過程は
ＳｉＨ４＋Ｏ＊→Ｈ３ＳｉＯ→Ｈ２ＳｉＯ→ＳｉＯ２
と推測され、基板表面上でＳｉＯ２が形成される。