【手続補正書】
【提出日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式１の化合物：
【化１】
2008508406.tif 000001
｛式中、Xは、R1、二つのA1成分に結合する基-[CO2(CH2)nCO2]-(A1は、X以外のAであり、nは2〜4である)、C(=W)R、(CR3Z)iCHR3Z、OH、O(M+g)1/g及びOC(=W)R(式中、Wは酸素、硫黄、NR4及びNNR4R5から選ばれ、ZはOR6、NR6R7及びSR6から選ばれ、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7及びSR6から選ばれ、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-40-アルキル基、C2-40-アルケニル基、C2-40-アルキニル基、アリール基及びC1-40-アルキルアリール基からそれぞれ選ばれる)か
ら選ばれ；Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンであり、Vは所望により置換されていてもよいC1-40-アルキル基、C2-40-アルケニル基又はC2-40-アルキニル基又はアリール基又はC1-40-アルキルアリールスルフィド、スルホキシド、スルホン、アミン又はポリアルキルアミン又はホスフィン又は他のリン含有基であり；eは、整数の0〜2であり;fは、整数の0〜100であり、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、tは整数の1〜20であり;hは0又は1であり：
シリケート酸素原子の遊離原子価は以下の一つ以上により飽和されており：
一般式１の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のC1-12-アルキル基、又は末端基R83M1O1/2により、又は架橋メンバーにより、又は鎖R8qM1(OR9)mOk/2又はAl(OR9)3-pOp/2又はR8Al(OR9)2-rOr/2；（式中、M1はSi又はTiである）；
R9は、線状又は分岐のC1-40アルキル基、アリール基又はC1-40-アルキルアリール基であり；R8は、線状又は分岐のC1-40-アルキル基又はアリール基又はC1-40-アルキルアリール基であり；
kは、整数の1〜3であり、qは整数の1〜2であり、mは整数の0〜2であり；
m+k+q=4であるようにし；
pは、整数の1〜3であり；rは、整数の1〜2であり；
又は、金属がジルコニウム、ホウ素、マグネシウム、鉄、ニッケル又はランタニドの場合、他の公知のオキソ金属架橋系であり、
i）bが0の場合、a:cの比が0.00001〜100,000で変わり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bが0.00001〜100,000で変わり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBが常に存在するようになる、a、b、c及びdは整数である。｝
【請求項２】
一つ以上の末端基又は架橋又はポリマー鎖が、R82SiO R9O1/2、R8SiO1/2又はR82SiO2/2又はTiO4/2又はR8TiO3/2又はR82TiO2/2又はAlO3/2又はR8AlO2/2から選ばれ、R8及びR9が請求項１に定義の通りである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
金属複合体M(L)j(Mはコバルト、マンガン、鉄、ニッケル、パラジウム、プラチナ及びロジウムから選択されるランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導され、酸化状態0〜4であり、Lは、ハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアニド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれる一つ以上の所望により置換されていてもよいリガンドであり、jは整数の0〜8である)を含み、一般式１の化合物が前記金属複合体に結合している、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
Xが、R1、C(=W)R又は(CR3Z)iCHR3Z又はOHから選ばれ(式中、Wは酸素であり、ZはOR6、SR6又はNR6R7であり、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-12-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基、アリール基又はC1-12-アルキルアリール基であり、Mはコバルト、マンガン、鉄、ニッケル、パラジウム、プラチナ及びロジウムから選択されるランタニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである)、Vは所望により置換されていてもよいC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基又はアリール基であり、eは、整数の0〜2であり;fは、整数の1〜6、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜2であり、hは0〜1である、請求項１〜３のいずれかｌ項に記載の化合物。
【請求項５】
XがR1であり、R1がそれぞれ水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-12-アルキル、C2-6-アルケニル又はC2-6-アルキニル基、アリール基又はC1-12-アルキルアリール基であり、ここでアリール基は１以上のスルホン酸基を含み、Vが所望により置換されていてもよいC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基又はアリール基であり;eが、整数の0〜2であり;fが、整数の1〜6であり;hが0〜1である、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物を供給ストリームと接触させ：
i) 望ましい生成物を製造するために供給ストリームの成分の触媒変換により化学反応を効率化するか；
ii) ストリームから供給ストリームの成分を除去するか；又は
iii) イオン交換方法において、供給ストリーム中のイオン種を除去すること
を含む供給材料の処理方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物及びキャリヤーを含む抗菌組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
キシレン(10ml)中に実施例３４で形成したパラジウム触媒(50mg)、4-ブロモトルエン(1.6mmol)、フェニルボロン酸(1.6mmol)及び炭酸カリウム(2.4mmol)を含む混合物を、攪拌しながら、1時間、110℃で温めた。その混合物をろ過し、固形物をエーテルで洗った。合わせた有機抽出物を水で洗い、乾燥し、その後濃縮し、4-メチルビフェニルを収率99％で得た。
ろ過した固形物を反応フラスコに戻し、さらに、キシレン(10ml)中の4-ブロモトルエン(1.6mmol)、フェニルボロン酸(1.6mmol)及び炭酸カリウム(2.4mmol)を加え、そのプロセスを繰り返し、4-メチルビフェニルを収率99％で得た。
4-ブロモトルエンの代わりに、4-ブロモアニソール、4-ヨードクロロベンゼン又は4-ブロモベンゼンで前記プロセスを繰り返した。対応するビフェニル生成物の収率は、それぞれの場合で95％より多かった。
以下に本発明の実施態様を示す。
1.  下記一般式１の化合物：
2008508406.tif 000002
｛式中、Xは、R1、二つのA1成分に結合する基-[CO2(CH2)nCO2]-(A1は、X以外のAであり、nは2〜4である)、C(=W)R、(CR3Z)iCHR3Z、OH、O(M+g)1/g及びOC(=W)R(式中、Wは酸素、硫黄、NR4及びNNR4R5から選ばれ、ZはOR6、NR6R7及びSR6から選ばれ、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7及びSR6から選ばれ、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-40-アルキル基、C2-40-アルケニル基、C2-40-アルキニル基、アリール基及びC1-40-アルキルアリール基からそれぞれ選ばれる)か
ら選ばれ；Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンであり、Vは所望により置換されていてもよいC1-40-アルキル基、C2-40-アルケニル基又はC2-40-アルキニル基又はアリール基又はC1-40-アルキルアリールスルフィド、スルホキシド、スルホン、アミン又はポリアルキルアミン又はホスフィン又は他のリン含有基であり；eは、整数の0〜2であり;fは、整数の0〜100であり、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、tは整数の1〜20であり;hは0又は1であり：
シリケート酸素原子の遊離原子価は以下の一つ以上により飽和されており：
一般式１の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のC1-12-アルキル基、又は末端基R83M1O1/2により、又は架橋メンバーにより、又は鎖R8qM1(OR9)mOk/2又はAl(OR9)3-pOp/2又はR8Al(OR9)2-rOr/2；（式中、M1はSi又はTiである）；
R9は、線状又は分岐のC1-40アルキル基、アリール基又はC1-40-アルキルアリール基であり；R8は、線状又は分岐のC1-40-アルキル基又はアリール基又はC1-40-アルキルアリール基であり；
kは、整数の1〜3であり、qは整数の1〜2であり、mは整数の0〜2であり；
m+k+q=4であるようにし；
pは、整数の1〜3であり；rは、整数の1〜2であり；
又は、金属がジルコニウム、ホウ素、マグネシウム、鉄、ニッケル又はランタニドの場合、他の公知のオキソ金属架橋系であり、
i）bが0の場合、a:cの比が0.00001〜100,000で変わり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bが0.00001〜100,000で変わり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBが常に存在するようになる、a、b、c及びdは整数である。｝
2.  末端基及び/又は架橋メンバー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比が、0〜999：1で変化する、末端基及び/又は架橋メンバー及び/又はポリマー鎖を含む、上記１に記載の化合物。
3.  トリアルキル又はトリアリールアルコキシシランから誘導される末端基、又はオルトシリケート、チタニウムアルコキシド又はアルミニウムトリアルコキシドから誘導される架橋メンバー又はモノアルキル又はモノアリールトリアルコキシシラン又はジアルキル又はジアリールジアルコキシシランから誘導されるポリマー鎖を含む、上記１又は２に記載の化合物。
4.  一つ以上の末端基又は架橋又はポリマー鎖が、R82SiO R9O1/2、R8SiO1/2又はR82SiO2/2又はTiO4/2又はR8TiO3/2又はR82TiO2/2又はAlO3/2又はR8AlO2/2から選ばれ、R8及びR9が上記１に定義の通りである、上記３に記載の化合物。
5.  R8が、線状又は分岐のC1-22-アルキル、アリール及びC1-22-アルキルアリール基から独立して選ばれる、上記４に記載の化合物。
6.  R8が、C1-6-アルキル、C2-12-アルケニル又はアリールである、上記５に記載の化合物。
7.  金属複合体M(L)j(Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導され、酸化状態0〜4であり、Lは、ハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアニド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれる一つ以上の所望により置換されていてもよいリガンドであり、jは整数の0〜8である)を含み、一般式１の化合物が前記金属複合体に結合している、上記１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
8.  Mが、コバルト、マンガン、鉄、ニッケル、パラジウム、プラチナ、ロジウムから誘導され、0〜4の酸化状態であり、Lが、ハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアナイド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選ばれる一つ以上の所望により置換されていてもよいリガンドであり、jが整数0〜4である、金属複合体M(L)jをさらに含み、一般式１の化合物が前記金属複合体に結合している、上記１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
9.  Xが、R1、C(=W)R又は(CR3Z)iCHR3Z又はOH又はO(M+g)1/gから選ばれ（式中、Wは酸素であり、ZはOR6、SR6又はNR6R7であり、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-20-アルキル基、C2-20-アルケニル基又はC2-20-アルキニル基、アリール基又はC1-20-アルキルアリール基であり、Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである）、Vは所望により置換されていてもよいC1-20-アルキル基、C2-20-アルケニル基又はC2-20-アルキニル基又はアリール基であるか又はC1-20-アルキルアリールスルフィド、スルホキシド、スルホン、アミン又はポリアルキルアミン又はホスフィン又は他のリン含有基であり;eは、整数の0〜2であり;fは、整数の1〜20、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、hは0〜1である、上記１〜８のいずれか１項に記載の化合物。
10.  Xが、R1、C(=W)R又は(CR3Z)iCHR3Z又はOHから選ばれ(式中、Wは酸素であり、ZはOR6、SR6又はNR6R7であり、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-12-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基、アリール基又はC1-12-アルキルアリール基であり、Mはランタニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである)、Vは所望により置換されていてもよいC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基又はアリール基であり、eは、整数の0〜2であり;fは、整数の1〜6、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜2であり、hは0〜1である、上記９に記載の化合物。
11.  Xが、C(=W)R又は(CR3Z)iCHR3Zから選ばれ(式中、Wは酸素であり、ZはOR6であり、RはOR6、O(M+g)1/g、NR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-12-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基、アリール基又はC1-12-アルキルアリール基であり、Mはランタニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである)、Vは所望により置換されていてもよいC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基又はアリール基であり、fは、整数の1〜6、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜2であり、e及びhは0である、上記１０に記載の化合物。
12.  Mが、コバルト、マンガン、ニッケル、パラジウム、プラチナ、ロジウムから誘導され、0〜4の酸化状態であり、Lが、一つ以上の所望により置換されていてもよいリガンド、例えばハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアナイド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシであり、jが整数の0〜4である金属複合体M(L)jを含む、上記１１に記載の化合物。
13.  XがR1であり、R1がそれぞれ水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のC1-12-アルキル、C2-6-アルケニル又はC2-6-アルキニル基、アリール基又はC1-12-アルキルアリール基であり、Vが所望により置換されていてもよいC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基又はアリール基であり;eが、整数の0〜2であり;fが、整数の1〜6であり;hが0〜1である、上記９に記載の化合物。
14.  Xが、一つ以上のスルホン酸基を含むアリール基であり、Vが所望により置換されていてもよいC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基又はC2-6-アルキニル基又はアリール基であり、eが整数の0〜2であり;fが整数の1〜6であり、hが0である、上記１３に記載の化合物。
15.  シリケート酸素原子の遊離原子価が、一般式１の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のC1-6-アルキル基により、又は末端基R83SiO1/2により、又は架橋メンバーにより、又はポリマー鎖R8qSiOk/2(式中、R8は線状又は分岐のC1-4アルキル基であり；kは、整数の2〜3であり、qは整数の1〜2であり；k+q=4であるようにし；i）bが0の場合、a:cの比が0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bが0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBが常に存在するようにされており、末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dの比が0〜999:1で変化するような、a、b、c及びdは整数である）の一つ以上により飽和されている、上記９〜１４のいずれか１項に記載の化合物。
16.  整数a、b、c及びdが、i）bが0の場合、a:cの比が0.01〜100であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bが0.01〜100であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBの両方が常に存在し、末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比が0〜99:1で変わるような整数である、上記１５に記載の化合物。
17.  整数a、b、c及びdが、i）bが0の場合、a:cの比が0.01〜5であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bが0.01〜5であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBの両方が常に存在し、末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比が0〜10:1であるような整数である、上記１６に記載の化合物。
18.  上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物を供給ストリームと接触させ：
i) 望ましい生成物を製造するために供給ストリームの成分の触媒変換により化学反応を効率化するか；
ii) ストリームから供給ストリームの成分を除去するか；又は
iii) イオン交換方法において、供給ストリーム中のイオン種を除去すること
を含む供給材料の処理方法。
19.  炭素−炭素結合形成反応、酸化、還元、アルキル化、ポリマー化、ヒドロホルミル化、アリール化、アシル化、異性化、アルキル化、カルボキシル化、カルボニル化、エステル化、エステル交換又は転移反応を行うための、上記１８に記載の方法。
20.  液体基質から不必要な有機化合物又は無機化合物を除去又はそれらの量低減するための、スカベンジャーとしての上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
21.  不必要な化合物を、反応混合物、老廃物ストリーム又は排水から除去するか、又は他の有機化合物に結合又は付着させる、上記２０に記載の使用。
22.  反応混合物、廃棄ストリーム又は排水から、プラチナ、パラジウム、ロジウム、ルテニウム又はニッケルの金属又はイオンを除去するか又はそれらの量を低減するため、又は他の有機化合物に結合又は付着するためのスカベンジャーとしての、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
23.  酸触媒としての、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
24.  酸化、還元、炭素−炭素結合形成反応、アルキル化、ポリマー化、ヒドロホルミル化、アリール化、アシル化、異性化、カルボキシル化、カルボニル化、エステル化、エステル交換又は転移反応のための、不均一系触媒としての上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
25.  カチオン又はアニオン交換体としての、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
26.  生物分子、例えば酵素、ペプチド、タンパク及び核酸の固定化のための、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
27.  上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物及びキャリヤーを含む抗菌組成物。
28.  上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用及び抗菌剤としての上記２７に記載の組成物。
29.  親水性モディファイヤ、耐炎剤、帯電防止剤、生物医学的装置用コーティング剤、撥水剤として、及びコーティング剤としての、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
30.  固相合成又は固相抽出及び精製のための、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
31.  不均一系触媒担体としての上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
32.  気体、液体及び固体の環境から、有機、生物学的又は無機の分子を分離又は精製するための、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
33.  キラル分離のための、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
34.  ゲルろ過、サイズ排除又はクロマトグラフィー媒体としての、上記１〜１７のいずれか１項に記載の化合物の使用。
35.  有機化合物又は生物学的化合物の精製及び/又は同定のための、上記３４に記載の使用。