【手続補正書】
【提出日】平成19年4月19日(2007.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記構造式（１）
【化１】
2004269844.tif 000001
（式中、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレンを表し、ＲあるいはＸの異なるホスホン酸残基をともに含んでもよい。）で示される繰り返し単位と、下記構造式（２）
【化２】
2004269844.tif 000002
（式中、Ｒ'は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｐとｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数であり、Ｙは下記構造式（７）で示される。）
【化３】
2004269844.tif 000003
（式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）
で示される繰り返し単位と、下記構造式（３）
【化４】
2004269844.tif 000004
で示される繰り返し単位を含み、前記構造式（１）の繰り返し単位と前記構造式（３）の繰り返し単位のモル分率が、次式（４）
（ａ)／{（ａ）＋（ｂ）}≧０．０５        式（４）
を満足する熱可塑性樹脂。
【請求項２】
１軸配向させて得られた単層状態のシート状物の４５０ｎｍおよび５５０ｎｍおよび６５０ｎｍの光線における位相差（レタデーション値）が、下記式（５）および下記式（６）を満足する請求項１記載の熱可塑性樹脂。
Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≦１  （５）
Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≧１  （６）
[式中、Ｒ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)およびＲ(６５０ｎｍ)は、それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍにおける面内位相差である。］
【請求項３】
光弾性係数Ｋ（Ｐa−１）が３×１０−１３≦Ｋ≦４．５×１０−１１  である請求項１または２記載の熱可塑性樹脂。
【請求項４】
構造式（２）で示される繰り返し単位が、下記構造式（８）または／および下記構造式（９）
【化５】
2004269844.tif 000005
【化６】
2004269844.tif 000006
（両式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）で示される繰り返し単位であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
【請求項５】
構造式（１）で示されるホスホン酸残基において、該ホスホン酸残基の代わりに、一部ホスホナイト残基により構成され、その置換比率が５０％以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
【請求項６】
ガラス転移点温度が１００℃以上でかつ２５０℃以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
【請求項７】
ｄ線屈折率が１．５９以上１．７０以下であり、かつアッベ数が２０以上４０以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
【請求項８】
数平均分子量が１０,０００以上５００,０００以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の熱可塑性樹脂からなる成形体。
【請求項１０】
膜厚が１０μｍ以上３ｍｍ以下のシート状物である請求項９記載の成形体。
【請求項１１】
波長５８９ｎｍにおける位相差が０ｎｍ以上２,０００ｎｍ以下である請求項９または１０記載の成形体。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載の熱可塑性樹脂からなる光学用品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（式中、Ｒ'は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｐとｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数であり、Ｙは下記構造式（７）で示される。）
【化７】
2004269844.tif 000007
（式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）
で示される繰り返し単位と、下記構造式（３）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
で示される繰り返し単位を含み、前記構造式（１）の繰り返し単位と前記構造式（３）の繰り返し単位のモル分率が、次式（４）
（ａ)／{（ａ）＋（ｂ）}≧０．０５        式（４）
を満足する熱可塑性樹脂である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≦１  （５）
Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≧１  （６）
[式中、Ｒ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)およびＲ(６５０ｎｍ)は、それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍにおける面内位相差である。］
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
光弾性係数Ｋ（Ｐa−１）は３×１０−１３≦Ｋ≦４．５×１０−１１  であることが好ましい。
また、本発明の熱可塑性樹脂の好ましい態様の一つは、前記構造式（２）で示される繰り返し単位が、下記構造式（８）または／および下記構造式（９）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明の熱可塑性樹脂は、基本的に、３つの繰り返し単位、すなわち、上記構造式（１）で示されるホスホン酸残基、上記構造式（２）で示される、上記構造式（７）のようなフルオレン骨格を持つ２価フェノール残基および上記構造式（３）で示されるカーボネート残基を含むものであり、本発明では効果を妨げない範囲で、その他の繰り返し単位を含むことも許容する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≦１        （５）
Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≧１        （６）
[以下、式中それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内位相差をそれぞれＲ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)、Ｒ(６５０ｎｍ)と呼ぶ。]
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明では、更に側鎖方向の屈折率を向上させるため前記構造式（１）だけでなく、側鎖方向にベンゼン環２つを配向することができる前記構造式（７）に示されるフルオレン骨格を有する前記構造式（２）と組み合わせて用いる。フルオレン骨格は、負の屈折率異方性（ポリマー側鎖方向に高屈折率）を有する高分子化合物のモノマー単位として用いられ、分子鎖が配向した状態時の配向方向と直交方向の屈折率を近似させることが可能である。フルオレン骨格を有する前記構造式（２）の分子構造は特に限定されるものではないが、例を挙げると、９,９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、フルオレンビスフェノール、９,９−ビス（４−ヒドロキシ３，５ジメチルフェニル）フルオレン、９,９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９,９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビスフェノール、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−メチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［４−メチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２，５−ジメチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２，６−ジメチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−シクロヘキシルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−フルオロフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［４−フルオロフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−フェニルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［４−フェニルフェノール］、４，４'−ジヒドロキシテトラフェニルメタンおよび２，２’−ジヒドロキシ−９，９’−スピロビフルオレン等が挙げられ、中でもフルオレンビスフェノール（ＦＢＰ、構造式（８）に対応）やビスクレゾールフルオレン（ＢＣＦ、構造式（９）に対応）を含む共重合体または高分子化合物ブレンドが最も好ましく用いられる。これらの成分の配合比は、好ましくは１〜９９モル％で用いられ、より好ましくは５〜９０モル％、さらには２０〜８０モル％で最も好ましく用いられる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
（参考例１９）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２４ｍｍｏｌ)、フェノールフタレイン(５６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を２１０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
（参考例２０）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(３２ｍｍｏｌ)、フェノールフタレイン(４８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９０％）し、つづいて、延伸温度を２０３℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
（参考例２１）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、１，１ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(８０ｍｍｏｌ)、およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９０％）し、つづいて延伸温度を１５０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
（参考例２２）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(８０ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８８％）し、つづいて延伸温度を１７０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
【表１】
2004269844.tif 000008
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】
【表２】
2004269844.tif 000009