【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記一般式（Ｉ）を有するメタンジフェニルジアミンまたはメタンジフェニルジアミンとその高級同族体の混合物
【化１】
2004513086.tif 000001
（式中、Ｒは、独立して、水素、Ｃ１ないしＣ８アルキル基、Ｃ４ないしＣ１０シクロアルキル基およびＣ６ないしＣ１２芳香族基より選択され、ｎは、１以上の整数であって官能価２ないし６を与えるように１ないし５が適当である）の調製方法であって、
上記方法は、一般式Ｓｉ（ＯＸ）４またはＳｉＸ４（式中、Ｘは、独立して、一又はそれ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい、Ｃ１ないしＣ２０アルキル基、Ｃ４ないしＣ２０シクロアルキル基、またはＣ６ないしＣ２０芳香族基もしくはアルキル−芳香族基を表す）を有する一又はそれ以上の有機ケイ素化合物で表面が修飾された、「スペーシャスネス・インデックス」２．５ないし１９をもった酸状態のゼオライトであって焼成されたゼオライトの存在下で、下記式（II）を有する中間体
【化２】
2004513086.tif 000002
の転位反応を行うことを含んで成る方法。
【請求項２】  前記ゼオライトが下記組成（III）：
【化３】
2004513086.tif 000003
（式中、ｘは１よりも小さく、ｐは１以上の整数であり、ＭはＩＡ族もしくはIIＡ族より選択される金属であるか又はランタニドであり、ｎはＭの価数であり、ここでＭの一部又は全部がＨ＋、（ＮＨ４）＋または（ＮＲ’４）＋で置換されていてもよく、Ｒ’はアルキル基またはアリール基である）を有する合成の結晶性物質である請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ゼオライトが「スペーシャスネス・インデックス」２．５ないし１９を有する請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記ゼオライトがベータゼオライト、モルデナイト、ＺＳＭ−１２、ＭＣＭ−２２およびＥＲＢ−１より選択される請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記酸ゼオライトのシラン化処理は、請求項１で定義される式Ｓｉ（ＯＸ）４および／またはＳｉＸ４の有機ケイ素化合物を含んで成る液体中で、当該ゼオライトを２０ないし８０℃の温度で接触させることにより行われる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  前記ゼオライトが２回またはそれ以上有機ケイ素化合物と接触され、各接触段階がその後の液体の除去および焼成を伴う請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記ゼオライトが、ホウ素、鉄およびガリウムより選択される金属でアルミニウムを部分的に同形置換することにより修飾され、次にシラン化される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】  前記ゼオライトが結合剤と混合される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】  前記転位反応が５０ないし２５０℃の温度で行われる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】  前記転位反応が、置換されてよい脂肪族炭化水素、置換されてよい芳香族炭化水素、ハロゲン化芳香族炭化水素およびアニリンより選択される溶媒の存在下で起こる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】  前記溶媒がアニリンおよび塩素化芳香族溶媒より選択される請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記一般式（II）の中間体の含水量が３質量％以下である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】  一般式（Ｉ）のメタンジフェニルジアミン
【化４】
2004513086.tif 000004
の調製方法であって、一般式Ｓｉ（ＯＸ）４またはＳｉＸ４（式中、Ｘは、独立して、一又はそれ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい、Ｃ１ないしＣ２０アルキル基、Ｃ４ないしＣ２０シクロアルキル基、またはＣ６ないしＣ２０芳香族基もしくはアルキル−芳香族基を表す）を有する一又はそれ以上の有機ケイ素化合物で表面が修飾された、「スペーシャスネス・インデックス」２．５ないし１９をもった酸状態のゼオライトであって焼成されたゼオライトと、アニリンまたはアニリン誘導体とホルムアルデヒドまたは反応条件においてホルムアルデヒドを生成可能な化合物とを含んで成る反応混合物とを接触させることによって転位反応が行われる方法。
【請求項１４】  前記反応が、反応剤および溶媒として作用する過剰量のアニリンまたはその誘導体を用いて行われる請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  一般式（Ｉ）を有する化合物
【化５】
2004513086.tif 000005
の生産方法であって、
（ａ）式（II）のアミン
【化６】
2004513086.tif 000006
を生成するように、アニリンまたはアニリン誘導体と、ホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド前駆体とを反応させ、
（ｂ）水が存在する場合には、上記アミン（II）の３質量％以下の水残留濃度まで上記アミン（II）から水を除去し、
（ｃ）必要により工程（ｂ）の生成物を溶媒で希釈し、
（ｄ）一般式Ｓｉ（ＯＸ）４および／またはＳｉＸ４（式中、Ｘは、独立して、Ｃ１ないしＣ２０アルキル基、Ｃ４ないしＣ２０シクロアルキル基、またはＣ６ないしＣ２０芳香族もしくはアルキル−芳香族基を表し、必要により一又はそれ以上のハロゲン原子で置換されてもよい）を有する一又はそれ以上の有機ケイ素化合物で表面が修飾された、「スペーシャスネス・インデックス」２．５ないし１９をもった酸状態のゼオライトであって焼成されたゼオライトを含有する反応ゾーンに上記アミン（II）を供給することによって、上記アミン（II）を異性化し（ここにおいて、工程ｄ）の上記反応ゾーンは、周囲圧力または５０ないし２５０℃の温度において反応混合物を液体状態に維持するような圧力にある）、
（ｅ）メタンジフェニルジアミン、および／またはその高級同族体を回収することを含んで成る方法。
【請求項１６】  前記アミン（II）が、二又はそれ以上の側方入口を備えた垂直反応器を用いて交互になるように前記反応ゾーンに供給される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  異性化後に得られた混合物が工程ａ）または工程ｄ）において全体的に又は部分的に再循環される請求項１５または請求項１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】  一般式（Ｉ）を有する化合物
【化７】
2004513086.tif 000007
の生産方法であって、
一般式Ｓｉ（ＯＸ）４またはＳｉＸ４（式中、Ｘは、独立して、一又はそれ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい、Ｃ１ないしＣ２０アルキル基、Ｃ４ないしＣ２０シクロアルキル基、またはＣ６ないしＣ２０芳香族もしくはアルキル−芳香族基を表す）を有する一又はそれ以上の有機ケイ素化合物で表面が修飾された、「スペーシャスネス・インデックス」２．５ないし１９をもった酸状態のゼオライトであって焼成されたゼオライトの存在下で、単一反応工程において、アニリンまたはその誘導体の一つと、ホルムアルデヒドまたはその前駆体の一つとを反応させることを含んで成る方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
実施例１６  −  ＯＭＴＳで２回処理したベータゼオライトによる触媒試験
４ｇのアミン、１０ｇのアニリン、および実施例６で述べたようにＯＭＴＳで処理した酸状態のベータゼオライトの１２５ｍｇを、ガラスオートクレーブ内に供給する。このオートクレーブを閉め、１５０℃にて６時間撹拌する。
この一体物を次に周囲温度にて冷却し、反応溶媒を減圧での蒸留により除去する。
この反応生成物を、ジャーナル・フュア・プラクティシェ・ケミー、バンド３２８、ヘフト１、１９８６、１４２−１４８に記載された分析方法に従って、ＨＰＬＣにより分析した。
転化率：１００％；
４，４’−ＭＤＡの選択性：５７．１０％；
２，４’＋２，２’−ＭＤＡの選択性：１０．１５％；
モル比４，４’／（２，４’＋２，２’）：５．６３
三量体：２３．８３％；
重質粒子：８．３８％。