【手続補正書】
【提出日】平成19年2月22日(2007.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】バッフル板及びガス処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ダクトから処理空間を分離するバッフル板であって、
供給されたガスにより該処理空間内で化学処理が行われ、
該ダクトは該化学処理の結果として生成される排ガスを吐出するために該処理空間に近接しており、
該バッフル板は所定の位置に形成された複数の貫通孔を含み、
該バッフル板は該所定の位置のうち２つ以上の位置において厚みが変化している
ことを特徴とするバッフル板。
【請求項２】  請求項１記載のバッフル板であって、
前記複数の貫通孔は、ハーゲン・ポアズイユの式により計算された前記貫通孔を流れる前記排ガスの流量が一定となるように形成されていることを特徴とするバッフル板。
【請求項３】  ダクトから処理空間を分離するバッフル板であって、
供給されたガスにより該処理空間内で化学処理が行われ、
該ダクトは該化学処理の結果として生成される排ガスを吐出するために該処理空間に近接しており、
該バッフル板は、前記ダクト内における前記排ガスの流路に沿って形成された複数のスリットを含み、
該スリットは前記バッフル板を貫通し且つ一様な幅を有し、
前記バッフル板は該流路に沿って厚みが変化している
ことを特徴とするバッフル板。
【請求項４】  請求項３記載のバッフル板であって、
前記スリットは、ハーゲン・ポアズイユの式により計算された前記スリットを流れる前記排ガスの流量が一定となるように形成されていることを特徴とするバッフル板。
【請求項５】  処理対象物が載置される台と該台に載置された該処理対象物にガスを供給して化学処理を行うためのガス供給手段とを含む処理空間と、
該処理空間に近接して該化学処理の結果として生成された排ガスを排気するダクトと、
前記ダクトに接続され、該排ガスを排気するための排気手段と、
前記処理空間を前記ダクトから分離し、境界面の両側の圧力差により前記処理空間から前記ダクトへ流れる前記排ガスの流量を調節する仕切手段と
を有し、
該圧力差は前記処理空間と前記ダクトの間の前記境界面上の位置により変化し、
前記仕切手段は前記排ガスの流れの方向に厚みを有するバッフル板を含み、
該バッフル板の該厚みは、該バッフル板の該厚みの差により発生するコンダクタンスを変えることにより前記排ガスの流量を調節するために変化することを特徴とするガス処理装置。
【請求項６】  供給されたガスにより化学処理が行われる処理空間と、該処理空間に隣接し該化学処理の結果生じた排ガスを排気するためのダクトとを仕切る、リング状のバッフル板であって、
複数の貫通孔又は溝を有するとともに、周方向において厚さが異なる部分を有することを特徴とするバッフル板。
【請求項７】  請求項６記載のバッフル板と、前記処理空間と、前記ダクトと、処理対象物を載置する台と、前記ダクトに接続され前記排ガスを排気する排気手段とを有することを特徴とするガス処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、ダクトから処理空間を分離するバッフル板であって、供給されたガスにより該処理空間内で化学処理が行われ、該ダクトは該化学処理の結果として生成される排ガスを吐出するために該処理空間に近接しており、該バッフル板は所定の位置に形成された複数の貫通孔を含み、該バッフル板は該所定の位置のうち２つ以上の位置において厚みが変化していることを特徴とするバッフル板を提供することにより達成される。このような手段によれば、均一性が要求される化学的処理において必要とされる均等排気を確実に実現することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の目的は、ダクトから処理空間を分離するバッフル板であって、供給されたガスにより該処理空間内で化学処理が行われ、該ダクトは該化学処理の結果として生成される排ガスを吐出するために該処理空間に近接しており、該バッフル板は、前記ダクト内における前記排ガスの流路に沿って形成された複数のスリットを含み、該スリットは前記バッフル板を貫通し且つ一様な幅を有し、前記バッフル板は該流路に沿って厚みが変化していることを特徴とするバッフル板を提供することにより達成される。このような手段によれば、均一性が要求される化学的処理において必要とされる均等排気を確実に実現することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の目的は、ダクトから処理空間を分離するバッフル板であって、供給されたガスにより該処理空間内で化学処理が行われ、該ダクトは該化学処理の結果として生成される排ガスを吐出するために該処理空間に近接しており、該バッフル板は、前記ダクト内における前記排ガスの流路に沿って形成された複数のスリットを含み、該スリットは前記バッフル板を貫通し且つ一様な幅を有し、前記バッフル板は該流路に沿って厚みが変化していることを特徴とするバッフル板を提供することにより達成される。このような手段によれば、均一性が要求される化学的処理において必要とされる均等排気を確実に実現することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明の目的は、処理対象物が載置される台と該台に載置された該処理対象物にガスを供給して化学処理を行うためのガス供給手段とを含む処理空間と、該処理空間に近接して該化学処理の結果として生成された排ガスを排気するダクトと、前記ダクトに接続され、該排ガスを排気するための排気手段と、前記処理空間を前記ダクトから分離し、境界面の両側の圧力差により前記処理空間から前記ダクトへ流れる前記排ガスの流量を調節する仕切手段とを有し、該圧力差は前記処理空間と前記ダクトの間の前記境界面上の位置により変化し、前記仕切手段は前記排ガスの流れの方向に厚みを有するバッフル板を含み、該バッフル板の該厚みは、該バッフル板の該厚みの差により発生するコンダクタンスを変えることにより前記排ガスの流量を調節するために変化することを特徴とするガス処理装置を提供することにより達成される。このような手段によれば、均一性が要求される化学的処理において必要とされる均等排気を確実に実現することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明の目的は、供給されたガスにより化学処理が行われる処理空間と、該処理空間に隣接し該化学処理の結果生じた排ガスを排気するためのダクトとを仕切る、リング状のバッフル板であって、複数の貫通孔又は溝を有するとともに、周方向において厚さが異なる部分を有することを特徴とするバッフル板を提供することによっても達成される。さらに、前記バッフル板と、前記処理空間と、前記ダクトと、処理対象物を載置する台と、前記ダクトに接続され前記排ガスを排気する排気手段とを有することを特徴とするガス処理装置を提供することによっても達成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】