Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月22日(2008.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  入口端部と、出口端部と、前記入口端部から前記出口端部までの軸線に沿って延びる複数のセルとを備えた、ディーゼルエンジンに用いられるハニカム構造体において、
該ハニカム構造体が第１部分および第２部分をさらに備え、前記第１部分は前記入口端部から前記軸線に沿って或る距離延び、前記第２部分は前記第１部分から連続して前記軸線に沿って前記出口端部まで延び、前記第２部分におけるセルは、前記第１部分におけるセルよりも厚い壁を有し、前記双方の部分におけるセルの壁の厚さは各部分に亘って一様であり、
前記入口端部における前記セルの一部および前記出口端部における前記セルの一部には栓が施され、排気ガスが前記入口端部における開放セルを通って前記ハニカム構造体内に流入し、多孔質の壁を通り抜け、かつ前記出口端部における開放セルを通って前記ハニカム構造体外に流出するように、前記入口端部において栓が施された前記セルの一部は前記出口端部において栓が施された前記セルの一部と異なるセルであり、
前記出口端部における前記セル内の前記栓は、前記入口端部における前記セル内の前記栓よりも厚いことを特徴とするハニカム構造体。
【請求項２】  前記入口端部が低質量・薄壁の前端部を備えていることを特徴とする請求項１記載のハニカム構造体。
【請求項３】  前記入口端部における前記セルにおける前記栓は、該入口端部が低質量・薄壁・栓なしの前端部を備えるように、前記軸線に沿って前記ハニカム構造体の内部に或る距離ずらされていることを特徴とする請求項１記載のハニカム構造体。
【請求項４】  前記より薄い壁部分が２０マイクロメートルよりも厚い厚さを有することを特徴とする請求項１記載のハニカム構造体。
【請求項５】  前記より薄い壁部分が４５マイクロメートルよりも厚い厚さを有することを特徴とする請求項４記載のハニカム構造体。
【請求項６】  前記より厚い壁部分が３００マイクロメートルよりも厚い厚さを有することを特徴とする請求項１記載のハニカム構造体。
【請求項７】  前記より厚い壁部分が４００マイクロメートルよりも厚い厚さを有することを特徴とする請求項６記載のハニカム構造体。
【請求項８】  前記ハニカム構造体が、前記入口端部から前記出口端部までの１本の軸線に沿って、８．５×１０−３ｃａｌ／ｃｍ３・Ｋよりも高く０．２５ｃａｌ／ｃｍ３・Ｋよりも低い範囲の熱容量を有することを特徴とする請求項１記載のハニカム構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を機械的に処理する方法であって、
（ａ）機械的処理の対象となる基板を提供するステップと、（該基板は、硬質ディスクまたは硬質ディスク基板からなる群より選択される）
（ｂ）圧力を加えて該基板に接触させた状態で研磨物品を提供するステップと、（該研磨物品は、
第１の主面と第２の主面とを有するバッキングと、
次のコーティング、すなわち、
該可撓性バッキングに接着された第１の表面と複数の正確に造形された突起を含む第２の構造化表面とを有し、研磨粒子を含まない硬化バインダーコーティング、および
該硬化バインダーコーティングの構造化表面の少なくとも一部分に重ねて接着されたダイヤモンド様炭素コーティング、
から本質的になる研磨コーティングと、
を含む）
（ｃ）該基板および該研磨物品の少なくとも一方を他方に対して移動させて機械的処理を提供するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】  前記基板が、対向する主面を有する金属ベースと該主面の少なくとも一方上に形成された金属コーティングとを含む硬質ディスク基板である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記基板が、中心を有する円形であり、ステップ（ｃ）が、該中心を軸として前記基板を回転させて、前記基板に実質的に円周方向の引掻傷を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記研磨物品と前記硬質ディスクまたは硬質ディスク基板との間に液体を導入するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  ステップ（ｃ）が、前記基板の進行方向に実質的に垂直な方向に前記研磨物品を振動させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  第１の主面と第２の主面とを有するバッキングと、
次のコーティング、すなわち、
該可撓性バッキングに接着された第１の表面と複数の正確に造形された突起を含む第２の構造化表面とを有し、研磨粒子を含まない硬化バインダーコーティング、および
該硬化バインダーコーティングの構造化表面の少なくとも一部分に重ねて接着されたダイヤモンド様炭素コーティング、
から本質的になる研磨コーティングと、
を含む、研磨物品。
【請求項７】  前記複数の正確に造形された突起が、立方体、角柱、円錐、円錐台、角錐、および角錐台からなる群より選択される形状を有する、請求項６に記載の研磨物品。
【請求項８】  前記バッキングが機械方向軸および対向する側縁を有し、それぞれの側縁が該機械方向軸に平行であり、前記構造化表面が、前記バッキング上の固定位置に配置された複数の平行な細長い突条を含み、該突条のそれぞれが約０°〜約９０°の角度で該側縁と交差する、請求項６に記載の研磨物品。
【請求項９】  前記ダイヤモンド様炭素コーティングが約５ｎｍ〜１μｍの範囲の厚さを有する、請求項６に記載の研磨物品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月26日(2008.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  高温安定ポリマー材料の層を含む第１の層と、
難燃性接着剤で前記第１の層に接着結合された非金属ファイバーを含む第２の層とを含む、５００ｇ／ｍ２未満の重量を有する可撓性ラミネート材料であって、
少なくとも前記第１および第２の層が集合的に、前記ラミネートシート材料が合格可燃度値Ｉ、合格可燃度値ＩＩ、合格火炎伝搬値Ｉ、合格火炎伝搬値ＩＩまたは合格溶落ち値のうち少なくとも一つを有することに寄与する、可撓性ラミネートシート材料。
【請求項２】  少なくとも前記第１および第２の層が、集合的に、前記ラミネートシート材料に合格可燃度値Ｉ、合格可燃度値ＩＩ、合格火炎伝搬値Ｉ、合格火炎伝搬値ＩＩまたは合格溶落ち値のうち少なくとも一つを提供するのに十分である、請求項１に記載のラミネートシート材料。
【請求項３】  前記ラミネートシート材料が直径６ミリメートルのロッドに一回巻き付け、それを解いたときに一体性を保持している請求項１又は２記載のラミネートシート材料。
【請求項４】  絶縁材料、電気配線および請求項１又は２記載のラミネートシート材料を含み、前記ラミネートシート材料が絶縁材料と電気配線との間に配置され、前記ラミネートシート材料の前記第１の層が前記絶縁材料に近接している、航空機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  発電機を有する中央ユニット（１）と少なくとも１つの外部ユニット（２）とを備えて構成され、前記中央ユニット（１）と当該中央ユニット（１）の接続位置に無接点結合するように構成された前記少なくとも１つの外部ユニット（２）との間で電気エネルギーまたは信号を伝送するための装置であって、
電位を隔離された電源の一次側回路構成が、前記中央ユニットの接続位置に設けられ、前記外部ユニットの各々が二次側の対応する回路構成を備え、電力の伝送のために、こうした電源に一般に用いられる変圧器に代わって誘導結合素子（３，４）が設けられ、前記少なくとも１つの外部ユニット（２）から前記中央ユニット（１）に逆に伝送されるフィードバック信号の伝送のために、他の無接点結合素子（５，６）が設けられる、装置において、
前記中央ユニット（１）が、複数の外部ユニット（２）の接続のために、こうした様々な接続位置を有すること、および
前記発電機が前記フィードバック信号によって制御されるように構成されたこと
を特徴とする装置。
【請求項２】  電位を隔離された前記電源の前記一次側回路構成および二次側回路構成が共振変換器に対応していることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  信号をフィードバックするための前記他の無接点結合素子（５，６）が誘導結合素子、容量結合素子または光結合素子であることを特徴とする、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】  容量結合素子が、前記フィードバック信号を伝送するために、誘導結合素子の磁界の範囲内に配置されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】  前記容量結合素子が、誘導結合素子の機械的なカバーを同時に構成するプリント基板内に組み込まれていることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月26日(2008.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  無線通信システムにおいて、
アンテナ・アレイを採用した通信デバイスと通信する第１のリモート・ユーザ端末についての受信した信号の品質の指示を取得するステップと、
前記通信デバイスに関する、少なくとも１つの混信源に対する第１のヌル制御量を生成する第１のオペレーション・モードを提供するステップと、
前記通信デバイスに関する、前記第１のヌル制御量よりも相対的に多い、前記少なくとも１つの混信源に対する第２のヌル制御量を提示することを特徴とする第２のオペレーション・モードを提供するステップと、
前記指示に基づいて前記通信デバイスが前記第１と前記第２のモードのうちの一方で動作するステップと、
から構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】  前記ヌル制御量は、前記第２のオペレーション・モードで生成されるヌルの量が前記第１のオペレーション・モードで生成されるヌルの量よりも多くなるように、前記通信デバイスによって生成されるヌルの量によって定義されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ヌル制御量は、前記第２のオペレーション・モードで生成される少なくとも１つのヌルの強度が前記第１のオペレーション・モードで生成される前記少なくとも１つのヌルの強度よりも強くなるように、前記通信デバイスによって生成される少なくとも１つのヌルの強度で定義されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記ヌル制御量は、前記第１および第２の各オペレーション・モードで生成されるヌルの数と、前記第１および第２のオペレーション・モードで生成される少なくとも１つのヌルの強度との両方によって定義されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記指示は、前記通信デバイスから前記第１のリモート・ユーザ端末に送信されるダウンリンク信号の相対的な信号強度によて定義され、前記相対的な信号強度は前記第１のリモート・ユーザ端末によって測定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記指示は、前記第１のリモート・ユーザ端末から前記通信デバイスに送信されるアップリンク信号の相対的な信号強度によって定義され、前記相対的な信号強度は前記通信デバイスによって測定されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記第１のリモート・ユーザ端末が、アップリンク信号に含まれる情報として前記指示を前記通信デバイスに提供するステップをさらに有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】  前記第１の混信源が前記通信デバイスと通信する第２のリモート・ユーザ端末を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記第１の混信源は第２のリモート・ユーザ端末を有し、前記通信デバイスは通信ネットワークに結合された第１の基地局を有し、前記第２のリモート・ユーザ端末は前記ネットワークに結合された第２の基地局と通信することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記指示を所定の時間間隔で決定するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  前記第１のリモート・ユーザ端末からアップリンク信号を受信したときに、前記通信デバイスが前記指示を決定するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記第１のリモート・ユーザ端末が前記通信デバイスから複数のダウンリンク信号を受信するステップ、および、
前記第１のリモート・ユーザ端末が前記複数のダウンリンク信号それぞれについて前記指示を前記通信デバイスに送信するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  前記第１および第２のリモート・ユーザ端末が搬送波周波数を構成する通信チャネルを同時に共用するステップをさらに有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１４】  前記第１および第２のリモート・ユーザ端末が搬送波周波数を構成する通信チャネルを同時に共用するステップをさらに有することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１５】  前記第１および第２のリモート・ユーザ端末が隣接する通信チャネルを同時に使用するステップをさらに有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１６】  通信デバイスであって、
前記通信デバイスと通信する第１のリモート・ユーザ端末とアップリンク信号およびダウンリンク信号を転送し、少なくとも１つの混信源をヌル制御するためのアンテナ・アレイと、
前記アンテナ・アレイに結合され、前記第１のリモート・ユーザ端末と前記通信デバイスとの間で転送される前記アップリンク信号およびダウンリンク信号を処理するプロセッサと、
前記プロセッサに結合され、前記第１のリモート・ユーザ端末の受信品質がしきい値よりも低いときは前記通信デバイスに関する第１のオペレーション・モードを選択し、前記第１のリモート・ユーザ端末の受信品質がしきい値よりも高いときは前記通信デバイスに関する第２のオペレーション・モードを選択するセレクタと、
から構成され、前記第２のオペレーション・モードは、前記第１のオペレーション・モードで前記混信源に向けるヌル制御の量に比べて多くのヌル制御量を前記混信源に向けて提供することを特徴とする通信デバイス。
【請求項１７】  前記第１のリモート・ユーザ端末についての受信品質を、前記アンテナ・アレイによって前記第１のリモート・ユーザ端末から受信されたアップリンク信号の測定強度に応じて決定するための信号品質測定ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項１６に記載の通信デバイス。
【請求項１８】  前記第１のリモート・ユーザ端末は、前記通信デバイスから受信したダウンリンク信号の受信品質を決定するための信号品質測定ユニットを備えることを特徴とする請求項１６に記載の通信デバイス。
【請求項１９】  前記ヌル制御量は、前記第２のオペレーション・モードで前記通信デバイスによって生成されるヌルの数が前記第１のオペレーション・モードで前記通信デバイスによって生成されるヌルの数よりも多くなるように、前記第１および第２のオペレーション・モードで前記通信デバイスによって生成されるヌルの数によって定義されることを特徴とする請求項１６に記載の通信デバイス。
【請求項２０】  前記ヌル制御量は、前記通信デバイスによって生成される前記少なくとも１つのヌルの強度が、前記第１のオペレーション・モードで前記通信デバイスによって生成される前記少なくとも１つのヌルの強度よりも強くなるように、前記第１および第２のオペレーション・モードで前記通信デバイスによって生成される少なくとも１つのヌルの強度によって定義されることを特徴とする請求項１６に記載の通信デバイス。
【請求項２１】  混信源はチャネルを占める第２のリモート・ユーザ端末を有し、前記チャネルは前記第１のリモート・ユーザ端末と前記第２のリモート・ユーザ端末との間の通信に対する混信を引き起こすことを特徴とする請求項１６に記載の通信デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディジタル論理回路とディジタル・メモリとを備え、
前記ディジタル論理回路と前記ディジタル・メモリとが、前記ディジタル論理回路および前記ディジタル・メモリに加えられるビット・ストリームの一次元圧縮を実施するように結合されていることを特徴とする集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
足踏みペダル52は、ライン66に沿い本体48に回転的に連結される。足踏みペダル52は、図２に示された如く完全に踏み込み解除された位置から、該足踏みペダル52がヒール・レスト54と概略的に同一平面に位置するという完全踏み込み位置まで移動すべく、外科医の足の前部を用いて踏み込まれ得る。足踏みペダル52は外科医により、顕微手術システム10の一定の機能に対する線形制御を提供すべく用いられる。たとえばシステム10の動作モードに依存して足踏みペダル52は、硝子体切除プローブの切断速度、超音波ハンドピースの電力、または、ハンドピースに供給される真空レベルの比例的制御を提供すべく使用され得る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
足動式制御器26は、襲用の技術を用いて作成され得る。足動式制御器26は好適には、テキサス州、フォートワース(Fort Worth)のAlcon Laboratories, Inc.から入手可能である処のAccurus（登録商標）手術システムと共に販売されている足動式制御器と構造が類似しているが、該制御器26は付加的な二元スィッチすなわち右側ヒール・スィッチ62を含むべく改変されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
“次のメモリ”および“前のメモリ”機能は、各外科医に対してシステム10が好適に割当て得る種々の“医師メモリ”を指している。たとえば前眼部領域および超音波水晶体乳化吸引モードにおいて線形、バーストおよび固定の各下位モードはシステム10に対する一定の動作パラメータと関連ハンドピースとを有する。また“線形”下位モードは、真空レベル、超音波用電力、パルス速度およびパルス有効化の各パラメータを有し得る。“バースト”下位モードは、真空レベル、超音波用電力および長さの各パラメータを有し得る。“固定”下位モードは、真空レベル、超音波用電力、パルス速度およびパルス有効化の各パラメータを有し得る。システム10によれば外科医は好適には、前眼部領域に対する複数の医師メモリおよび後眼部領域に対する複数の医師メモリを生成して保存し得る。これらの医師メモリは好適には、ディスプレイ16のタッチ画面を用いて生成される。図６を参照すると左側ヒール・スィッチ60に“次のメモリ”機能が割当てられたなら、外科医はスィッチ60を反復して踏み込み且つ解除することで、自身が現在手術している領域に対する種々の医師メモリを循環し得る。同様に、右側ヒール・スィッチ62に“前のメモリ”機能が割当てられたなら、外科医はスィッチ62を反復して踏み込み且つ解除することで、自身が現在手術している領域に対する種々の医師メモリを循環し得る。“次のメモリ”の循環の方向は、“前のメモリ”の循環の方向と逆である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一遺伝子および第二遺伝子が標的細胞特異的異種転写調節因子（TRE）の転写制御下にあり、第二遺伝子が、その内在性プロモーターにおける突然変異または内在性プロモーターの欠失を有し、かつ内部リボソーム接近部位（Internal ribosome entry site；IRES）の翻訳制御下にあり、ベクターが、遺伝子に機能的に連結されIRESを欠く標的細胞特異的TREを含むアデノウイルスベクターよりも高い、標的細胞に対する特異性を表す、単一のmRNAとして共転写される第一遺伝子および第二遺伝子を含む、複製受容能のあるアデノウイルスベクター。
【請求項２】
第一遺伝子および第二遺伝子の1つまたは両方がアデノウイルス遺伝子である、請求項1記載のベクター。
【請求項３】
第一アデノウイルス遺伝子および第二アデノウイルス遺伝子の1つまたは両方がウイルス複製に必須である、請求項2記載のベクター。
【請求項４】
ウイルス複製に必須であるアデノウイルス遺伝子の少なくとも1つが、アデノウイルス初期遺伝子である、請求項3記載のベクター。
【請求項５】
アデノウイルス初期遺伝子がE1A、E1B、E2、およびE4から選択される、請求項4記載のベクター。
【請求項６】
ウイルス複製に必須であるアデノウイルス遺伝子の少なくとも1つがアデノウイルス後期遺伝子である、請求項3記載のベクター。
【請求項７】
第一アデノウイルス遺伝子がE1Aであり、第二アデノウイルス遺伝子がE1Bである、請求項3記載のベクター。
【請求項８】
E1Aの内在性プロモーターが欠失している、または不活性化している、請求項7記載のベクター。
【請求項９】
E1Aが、不活性化したE1AエンハンサーIを有する、請求項7または8記載のベクター。
【請求項１０】
E1Bの内在性プロモーターが不活性化している、請求項7、8または9記載のベクター。
【請求項１１】
E1Bの19kDa領域が欠失している、請求項7から10のいずれか一項記載のベクター。
【請求項１２】
第一アデノウイルス遺伝子の内在性プロモーターが欠失している、請求項4記載のベクター。
【請求項１３】
第一アデノウイルス遺伝子がE1Aである、請求項12記載のベクター。
【請求項１４】
第一アデノウイルス遺伝子および/または第二アデノウイルス遺伝子のエンハンサー領域が欠失している、請求項4記載のベクター。
【請求項１５】
第一遺伝子がE1Aであり、エンハンサーがE1AエンハンサーIである、請求項14記載のベクター。
【請求項１６】
内部リボソーム接近部位（IRES）がEMCV由来またはVEGF由来である、請求項1記載のベクター。
【請求項１７】
IRESがHCVの5'UTR；BiPの5'UTR；およびPDGFの5'UTRから選択される、請求項1記載のベクター。
【請求項１８】
TREが、前立腺癌細胞、乳癌細胞、肝臓癌細胞、黒色腫細胞、膀胱癌細胞および結腸癌細胞から任意で選択される癌細胞である標的細胞に対して特異的である、請求項1記載のベクター。
【請求項１９】
TREが、プロバシン（PB）TRE、前立腺特異的抗原（PSA）TRE、ムチン（MUC1）TRE、α-フェトタンパク質（AFP）TRE、hKLK2 TRE、チロシナーゼTRE、ヒトウロプラキンII（hUPII）TREおよび癌胎児性抗原（CEA）TREから選択される、請求項18記載のベクター。
【請求項２０】
TREが内在性サイレンサー因子を欠失している、請求項1記載のベクター。
【請求項２１】
アデノウイルスベクターがE3領域を含む、請求項1または7記載のベクター。
【請求項２２】
アデノウイルス死タンパク質遺伝子（ADP）をさらに含む、請求項21記載のベクター。
【請求項２３】
導入遺伝子をさらに含む、請求項7記載のアデノウイルスベクター。
【請求項２４】
メラノサイト特異的TREの転写制御下にある遺伝子を含むアデノウイルスベクター。
【請求項２５】
遺伝子がアデノウイルス遺伝子である、請求項24記載のベクター。
【請求項２６】
アデノウイルス遺伝子が複製に必須な遺伝子である、請求項25記載のベクター。
【請求項２７】
導入遺伝子が第一遺伝子および第二遺伝子と共転写され、該導入遺伝子が別々の内部リボソーム接近部位（IRES）の翻訳制御下にある、請求項23記載のベクター。
【請求項２８】
IRESがEMCV由来またはVEGF由来である、請求項27記載のベクター。
【請求項２９】
導入遺伝子が細胞毒性遺伝子である、請求項23記載のベクター。
【請求項３０】
第一アデノウイルス遺伝子がウイルス複製に必須であり、第二アデノウイルス遺伝子がアデノウイルス死タンパク質遺伝子（ADP）である、請求項1記載のベクター。
【請求項３１】
第一アデノウイルス遺伝子がE1Aである、請求項30記載のベクター。
【請求項３２】
E1Aの内在性プロモーターが欠失している、請求項31記載のベクター。
【請求項３３】
E1AがE1AエンハンサーIの欠失を有する、請求項31記載のベクター。
【請求項３４】
第一遺伝子がウイルス複製に必須であり、かつ第二遺伝子がE3である、請求項1記載のベクター。
【請求項３５】
第一遺伝子がE1Aである、請求項34記載のベクター。
【請求項３６】
E1Bが19kDa領域の一部または全部を欠失している、標的細胞特異的異種TREの転写制御下にあるE1Bを含むアデノウイルスベクター。
【請求項３７】
前記請求項のいずれか一項記載のベクターを含む組成物。
【請求項３８】
薬学的に許容されうる賦形剤をさらに含む、請求項37記載の組成物。
【請求項３９】
請求項1から36のいずれか一項記載のベクターを含む宿主細胞。
【請求項４０】
標的細胞特異的TREを含む、複製受容能のあるアデノウイルスベクターを増殖させる方法であり、以下の段階を含む方法：
アデノウイルスベクターが細胞に入り、それにより該アデノウイルスベクターが増殖されるように、請求項1記載のアデノウイルスベクターを、標的細胞特異的TREを機能させる哺乳動物細胞とエクスビボで組み合わせる段階。
【請求項４１】
以下の方法に使用するための、請求項30記載のアデノウイルスベクター：
標的細胞をベクターと接触させ、それによりベクターが細胞に入る段階を含む、標的細胞における選択的細胞毒性を与える方法。
【請求項４２】
以下の方法に使用するための、請求項1記載のアデノウイルスベクター：
標的細胞をベクターと接触させ、それによりベクターが細胞に入る段階を含む、標的細胞の遺伝子型を改変する方法。
【請求項４３】
以下の方法に使用するための、請求項30記載のアデノウイルスベクター：
アデノウイルスベクターが腫瘍細胞に入って、腫瘍細胞に対する選択的細胞毒性を表すように、腫瘍細胞をベクターと接触させる段階を含む、腫瘍細胞の増殖を抑制する方法。
【請求項４４】
腫瘍細胞の増殖を抑制する医薬を製造するための、請求項1または30記載のアデノウイルスベクターの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  可動の安全適合装置において、
基部と、頂部と、該基部及び該頂部の間にある複数のほぼ垂直壁と、該垂直壁に接続されて少なくとも１つの開放区画室を形成する複数のほぼ水平壁とを有する殻体と、
該殻体にヒンジ止め可能に取り付けられた少なくとも１つの扉であって、少なくとも１つの扉が前記殻体に隣接して配置されたとき、前記少なくとも１つの区画室を閉じ、前記殻体から離れた位置に配置されたとき、前記少なくとも１つの区画室へのアクセスを可能にするように配置され、前記殻体から迅速に且つ容易に取り外される前記少なくとも１つの扉と、
水を保持し、前記少なくとも１つの開放区画室の１つ内に保持された前記少なくとも１つの給水タンクと、その内部に保持された水を分配し得るように前記少なくとも１つの給水タンクに接続された装置とを含む給水システムと、
前記区画室の１つ内の少なくとも１つの排水収集タンクを含む排水収集システムと、
前記殻体に接続された容器であって、該容器によって収集された水を受け取り得るように前記排水収集システムと流体的に連通した前記容器とを備える、可動の安全適合装置。
【請求項２】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
前記基部にて前記殻体に取り付けられ、装置の移動を容易にし得るように配置された少なくとも１つの地面係合車輪を更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項３】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
殻体の基部の下方に配置され且つ殻体の下方にほぼ中心決めされた隔たった１対の地面係合キャスタを更に備え、該装置はキャスタ上で釣り合ったとき、僅かに持ち上げられ、これにより、移動を容易にするようにした、可動の安全適合装置。
【請求項４】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
装置を持ち上げる持上げ装置を取り付けるべく殻体の前記頂部に設けられた持上げ手段を更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項５】  請求項４に記載の可動の安全適合装置において、
前記持上げ手段が、前記殻体の前記頂部及び前記基部を貫通して伸びる垂下ロッドと、前記基部の下方に配置され且つ前記垂下ロッドに係合する支持部材と、前記殻体の前記頂部にて前記ロッドに係合するアイレットとを備え、これにより装置が該アイレットにより持ち上げられたとき、装置が前記支持部材により支持されるようにした、可動の安全適合装置。
【請求項６】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
前記少なくとも１つの扉が、該少なくとも１つの扉がテーブルとして機能することを許容し得るように前記扉の一側部に接続された支持脚部を更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項７】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
前記殻体に取り付けられ、前記給水システムから水を受け取り且つ該水を分配する洗眼器を更に備え、前記排水収集システムが分配された水を収集する、可動の安全適合装置。
【請求項８】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
前記給水システム内に保持された水の少なくとも一部分を加熱する加熱装置を更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項９】  請求項１に記載の可動の安全適合装置において、
外部電源に係合可能な形態とされた電源を含み、装置に一時的な電力を供給する蓄電池を更に有する電気システムを更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項１０】  可動の安全適合装置において、
複数のほぼ垂直壁を有し、該垂直壁がその間に形成された少なくとも１つの開放区画室を有する殻体と、
該殻体に取り外し可能に取り付けられた少なくとも１つの扉であって、前記殻体から迅速に且つ容易に取り外し可能な前記少なくとも１つの扉と、
前記少なくとも１つの開放した区画室内に保持された少なくとも１つの給水タンクと、その内部に保持された水を分配し得るように給水タンクに接続された分配装置とを含む給水システムと、
前記区画室の１つ内に格納された少なくとも１つの排水収集タンクと、排水を受け取り得るように前記少なくとも１つの排水収集タンクと流体的に連通する排水容器とを含む排水収集システムとを備える、可動の安全適合装置。
【請求項１１】  請求項１０に記載の可動の安全適合装置において、
前記排水収集タンクが選択的に取り外し可能である安全適合装置。
【請求項１２】  請求項１０に記載の可動の安全適合装置において、
前記殻体に取り付けられて、前記給水システムから水を受け取り且つ該水を分配する洗眼器を更に備え、
前記排水収集システムが、分配された水を収集する、可動の安全適合装置。
【請求項１３】  請求項１０に記載の可動の安全適合装置において、
前記給水システム内に保持された水の少なくとも一部分を加熱する加熱装置を更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項１４】  請求項１０に記載の可動の安全適合装置において、
外部電源と係合可能な形態とされた電源を含み、装置に対し一時的な電力を供給する蓄電池を更に有する電気システムを更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項１５】  請求項１０に記載の可動の安全適合装置において、
前記給水システムが、複数の水タンクを含み、該複数の水タンクの少なくとも１つが飲用水を保持する目的に専用とされる、可動の安全適合装置。
【請求項１６】  請求項１５に記載の可動の安全適合装置において、
水冷却装置を更に備え、これにより前記複数の水タンクの前記少なくとも１つ内に保持された引用水が冷却される、可動の安全適合装置。
【請求項１７】  地域の健康安全基準に適合する装置及び非常用供給品を保持する可動の安全適合装置において、
形成された複数の区画室を有し、該複数の区画室が、特定の選んだ非常時を予想し且つ地域の健康安全基準に適合して装置及び非常用供給品を保持し得るよう予め形態設定されたハウジングと、
該ハウジング内に格納され、全地球測位人工衛星受信装置と、ラジオと、電話又はコンピュータ通信装置とから成る群から選ばれた電子通信装置とを備える、可動の安全適合装置。
【請求項１８】  請求項１７に記載の可動の安全適合装置において、
前記複数の区画室の少なくとも１つ内に保持された少なくとも１つの給水タンクと、内部に保持された水を分配し得るように該給水タンクに流体的に接続された分配装置とを含む給水システムを更に備える、可動の安全適合装置。
【請求項１９】  請求項１７に記載の可動の安全適合装置において、
前記ハウジングに選択的に取り付けられ、代替的な用途のため迅速に取り外し得る形態とされた少なくとも１つの扉を更に備える、可動の安全適合装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月10日(2008.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定された目の実際の光学的エラーから目の矯正処置の計画を生成する工程、及び
この処置の計画を検定するために、前記計測された光学的エラーに基づいた検定レンズを形成する工程、
から成る方法。
【請求項２】
前記測定された光学的エラーが目の不規則な光学的エラーであり、検定レンズはこの不規則なエラーを補償する、ところの請求項１の方法。
【請求項３】
前記不規則な光学的エラーが、波面センサーで、目の光学的構成成分を通過する光の波面を計測したことにものである、請求項２の方法。
【請求項４】
前記検定レンズは、アブレーションパターンに従ってレンズ材をアブレーションすることによって生成され、
前記目の計測された光学的エラー、及び
前記レンズ材の屈折率、前記レンズ材のアブレーションレート、及び前記レンズ材のアブレーション形状からなるグループから選択される少なくとも一つのもの、
から前記検定レンズのアブレーションパターンを計算する工程をさらに含む、請求項３の方法。
【請求項５】
目の角膜組織が前記アブレーションパターンに従ってアブレーションされ、
前記目の計測された光学的エラー、及び
前記目の角膜組織の屈折率、前記目の角膜組織のアブレーションレート、及び前記目の角膜組織のアブレーション形状からなるグループから選択される少なくとも一つのもの、
から角膜組織のアブレーションパターンを計算する工程からさらに成る、請求項４の方法。
【請求項６】
目の瞳孔サイズ及び波面センサーで測定された患者の目の実際の光学的エラーからアブレーションパターンを生成し、目のアブレーションパターンに一致するレンズ材のアブレーションパターンを生成する工程、
レンズ材の目印とアブレーションシステムのレチクルとを一直線に合わせることによってそのアブレーションシステムに関してレンズ材を位置決めする工程、
前記アブレーションシステムと一直線に合わせた前記レンズ材で検定レンズをアブレーションする工程、
前記目の瞳孔サイズに応答して選択されるアパーチャーと検定レンズとを一直線に合わせる工程、
目が前記検定レンズと一直線に合うように、前記検定レンズと前記アパーチャーを患者に取り付ける工程、及び
前記目のアブレーションパターンを検定するように、目の矯正された視覚的明瞭度が許容範囲内にあるか否かを決定するために、前記検定レンズと前記アパーチャーを通じて、目でアイチャートを読む工程、
から成る方法。
【請求項７】
目の光学的エラーを矯正するシステムであって、
目の光学的エラーを計測するためのセンサー、
目の屈折に関する処置の計画に一致するレーザーエネルギーの検定パターンを生成するためのプロセッサであって、この処置の計画が、計測された光学的エラーを矯正するものである、ところのプロセッサ、
レンズ材、及び
前記レンズ材から検定レンズを形成するように、前記検定パターンに従って前記レンズ材にレーザーエネルギーを向けるためのレーザーシステムであって、前記検定レンズによって矯正されるような目の光学的特性が、前記処置の計画を検定できる、ところのレーザーシステム、
から成るシステム。
【請求項８】
目の実際の光学的エラーを矯正するためのシステムであって、
前記目の光学的エラーを計測するためのセンサー、
前記計測された光学的エラーを矯正するように目のアブレーションのためのレーザーエネルギーパターンを生成し、前記目のアブレーションパターンに一致するレーザーエネルギーの検定パターンを生成するためのプロセッサ、
一直線に合わせることの目印を有するレンズ材、
該レンズ材から検定レンズを形成するように検定パターンに従ってレンズ材にレーザーエネルギーを向けるためのレーザーシステムであって、このレーザーシステムは、前記レンズ材に前記検定パターンを確実に位置合わせするように、一直線に合わせるための目印に一致するレチクルを有する、ところのレーザーシステム、
アパーチャーと前記検定レンズを一直線に合わせるためのアパーチャー手段、及び
患者の頭部が、アイチャートを読むために動いている間、前記検定レンズと前記アパーチャーを患者と一直線に合わせて支持するための取付手段、
から成り、
前記アパーチャー手段が、目の瞳孔のサイズに応答して選択されるアパーチャーサイズを有する、
ことを特徴とするシステム。
【請求項９】
屈折に関する外科手術のための患者の目を選択するための方法であって、
波形センサーで測定して患者の目の実際の光学的エラーからアブレーションパターンを生成し、目のためのアブレーションパターンに一致するレンズ材のアブレーションパターンを生成する工程、
検定レンズが固定された患者の頭部の回転によって、前記アブレーションパターンと目を一直線に合わせる工程、及び
アイチャートを読ませて、目の視覚的明瞭度を計測する工程、
から成る方法。
【請求項１０】
一直線に合わせる工程は、前記アブレーションパターンと目を自動的に一直線に合わせる工程から成る、ところの請求項９の方法。
【請求項１１】
患者の特定的な屈折に関するエラーを検定するためのシステムであって、
患者の特定的な屈折に関するエラーを補償する光学的な特性を有する検定レンズ、
前記検定レンズと一直線に合わせられるアパーチャー、及び
前記検定レンズと前記アパーチャーを支持する試行眼鏡フレームと、
から成るシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月23日(2008.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  女性患者の子宮を処置するためのシステムであって、
子宮腔の中に導入されるように構成され、実質的に永久に移植することが可能である非硬質の移植片；
該移植片を該子宮腔の下側２分の１に配置するための手段；
該移植片を該子宮腔の中に残して、該子宮を処置するために十分な組織応答を引き起こすための手段；
を含み、ここで該移植片は、少なくとも該処置が月経過多症を排除するまで該子宮腔中に残される、システム。
【請求項２】  前記移植片は、フレームを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  前記移植片を配置するための手段は、前記子宮腔の下側２分の１の壁を通過するように前記フレームを拡張するための手段を含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】  前記移植片は、メッシュ材料を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】  前記移植片は、ポリエステルから構成されるメッシュ材料を有する、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】  女性患者の子宮を処置するためのシステムであって、
子宮腔に導入されるように構成された移植片；
該移植片を該子宮腔の下側２分の１に配置するための手段；
少なくとも該処置が月経過多症を排除するまで該移植片を該子宮腔の中に残すための手段；
を含む、システム。
【請求項７】  前記移植片はポリエステルから構成されるメッシュ材料を有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】  前記移植片はフレームを有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】  前記移植片を配置するための手段は、前記子宮腔の下側２分の１の壁を通過するように前記フレームを拡張するための手段を含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】  前記移植片はメッシュ材料を有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項１１】  前記移植片は、ポリエステルから構成されるメッシュ材料を有する請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】  前記非硬質の移植片はプラグを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】  前記移植片はプラグを含む、請求項６に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004511269.tif 000001
【図２】
2004511269.tif 000002
【図３】
2004511269.tif 000003
【図４】
2004511269.tif 000004
【図５】
2004511269.tif 000005
【図６】
2004511269.tif 000006
【図７】
2004511269.tif 000007
【図８】
2004511269.tif 000008
【図９Ａ】
2004511269.tif 000009
【図９Ｂ】
2004511269.tif 000010
【図１０】
2004511269.tif 000011
【図１１】
2004511269.tif 000012
【図１２Ａ】
2004511269.tif 000013
【図１２Ｂ】
2004511269.tif 000014
【図１２Ｃ】
2004511269.tif 000015
【図１２Ｄ】
2004511269.tif 000016
【図１２Ｅ】
2004511269.tif 000017
【図１２Ｆ】
2004511269.tif 000018
【図１３Ａ】
2004511269.tif 000019
【図１３Ｂ】
2004511269.tif 000020
【図１３Ｃ】
2004511269.tif 000021
【図１４Ａ】
2004511269.tif 000022
【図１４Ｂ】
2004511269.tif 000023
【図１４Ｃ】
2004511269.tif 000024
【図１５】
2004511269.tif 000025
【図１６Ａ】
2004511269.tif 000026
【図１６Ｂ】
2004511269.tif 000027
【図１６Ｃ】
2004511269.tif 000028
【図１６Ｄ】
2004511269.tif 000029
【図１７】
2004511269.tif 000030
【図１８Ａ】
2004511269.tif 000031
【図１８Ｂ】
2004511269.tif 000032
【図１９Ａ】
2004511269.tif 000033
【図１９Ｂ】
2004511269.tif 000034
【図２０Ａ】
2004511269.tif 000035
【図２０Ｂ】
2004511269.tif 000036
【図２１Ａ】
2004511269.tif 000037
【図２１Ｂ】
2004511269.tif 000038
【図２２Ａ】
2004511269.tif 000039
【図２２Ｂ】
2004511269.tif 000040
【図２３】
2004511269.tif 000041
【図２４】
2004511269.tif 000042
【図２５】
2004511269.tif 000043
【図２６】
2004511269.tif 000044
【図２７】
2004511269.tif 000045
【図２８Ａ】
2004511269.tif 000046
【図２８Ｂ】
2004511269.tif 000047
【図２８Ｃ】
2004511269.tif 000048
【図２９】
2004511269.tif 000049
【図３０Ａ】
2004511269.tif 000050
【図３０Ｂ】
2004511269.tif 000051
【図３０Ｃ】
2004511269.tif 000052
【図３１Ａ】
2004511269.tif 000053
【図３１Ｂ】
2004511269.tif 000054
【図３２】
2004511269.tif 000055
【図３３】
2004511269.tif 000056
【図３４】
2004511269.tif 000057
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月15日(2008.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ニオブスパッタ要素、ニオブ金属およびそれを含む物品
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ニオブスパッタ要素であって、２５μｍ以下の平均粒径を有し、当該要素の厚さにわたって１次の（１１１）型または混合（１１１）型の均一組織を有するニオブスパッタ要素。
【請求項２】  前記ニオブスパッタ要素が、５０ｐｐｍ以下の金属不純物を有する請求項１記載のニオブスパッタ要素。
【請求項３】  １００ｐｐｍ以下の金属不純物を有する請求項１記載のニオブスパッタ要素。
【請求項４】  実質的に（１００）組織バンドのない請求項１記載のニオブスパッタ要素。
【請求項５】  タンタル、モリブデンおよびタングステンの合計量が１００ｐｐｍ未満である請求項１記載のニオブスパッタ要素。
【請求項６】  タンタル、モリブデンおよびタングステンの合計量が１０ｐｐｍ未満である請求項１記載のニオブスパッタ要素。
【請求項７】  １００ｐｐｍ以下の金属不純物および１５０μｍ以下の平均粒径を有するニオブ金属であって、当該金属は、
ａ）（１００）極図形が、任意の５％増加厚さ内で、０〜５ランダムの中央ピーク強度を有する組織；および
ｂ）同じ増加厚さ内で、−１．５〜７または−３〜５の（１１１）：（１００）中央ピーク強度の自然対数比
を有する。
【請求項８】  前記金属が、十分に再結晶化されている請求項７記載のニオブ金属。
【請求項９】  前記金属の８０％以上が、再結晶化されている請求項７記載のニオブ金属。
【請求項１０】  ５０μｍ以下の平均粒径を有する請求項７記載のニオブ金属。
【請求項１１】  純度９９．９９５％〜９９．９９９％を有する請求項７記載のニオブ金属。
【請求項１２】  平均粒径１０〜１００μｍを有する請求項７記載のニオブ金属。
【請求項１３】  前記金属が、前記ニオブ金属の厚さにわたって１次の（１１１）型組織を有する請求項７記載のニオブ金属。
【請求項１４】  前記金属が、前記ニオブ金属の厚さ内に（１００）組織バンドがない請求項１３記載のニオブ金属。
【請求項１５】  スパッタターゲット、キャパシタおよびキャパシタかんから選ばれる、請求項７〜１４のいずれか一項に記載のニオブ金属を含む物品。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）第３族又はランタノイド金属由来の金属、
ｂ）少なくとも１の第１５族成分が当該金属に結合している少なくとも３の第１５族成分を含む中性の多座配位子、
ｃ）金属に結合したモノアニオン、
ｄ）モノアニオンを多座配位子に結合させる架橋、
ｅ）引き抜き可能な配位子、
ｆ）オレフィン挿入配位子、
を含む重合触媒前駆体。
【請求項２】
ａ）モノマーを供給し、
ｂ）以下の構成を備える重合触媒前駆体を供給し、
（ｉ）第３族又はランタノイド金属由来の金属、
（ｉｉ）以下を含む多座配位子；
・少なくとも３つの第１５族成分を含む第１配位子の部分であって、少なくとも２つの第１５族成分が互いに少なくとも１の第１４族成分を通じて結合し、第１配位子の部分が金属に結合しており、各第１５族成分が置換又は無置換の有機基に任意に結合する当該部分、
・金属に結合したモノアニオン、
・モノアニオンを第１配位子の部分に結合する架橋、及び
・少なくとも１の引き抜き可能な配位子、
・少なくとも１のオレフィン挿入配位子、
ｃ）触媒前駆体を活性化し、及び
ｄ）モノマーを適切な重合条件下で触媒と接触させる、
ことを含むオレフィン重合法。
【請求項３】
金属錯体がＩ又はＩＩで示される式を有する活性化剤及び金属錯体を含む触媒であって、
【化１】
2004511632.tif 000001
式中、
ａ）Ｍは第３族又はランタノイド金属、
ｂ）Ｔは少なくとも１の第１４乃至１５族原子を含む共有架橋基、
ｃ）Ｒ及びＲ”は各々、
（ｉ）水素、
（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基、
（ｉｉｉ）少なくとも１の水素を有するＣ１−Ｃ２０置換のヒドロカルビル基（少なくとも１の水素のうち１はハロゲン、アミド、ホスフィド、アルコキシ、又はアリールオキシ基で置換される）、及び
（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル置換の第１３−１４族メタロイド基、
から選択され、
ｄ）Ｒ’は各々、
（ｉ）Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基、
（ｉｉ）少なくとも１の水素を有するＣ１−Ｃ２０置換のヒドロカルビル基（少なくとも１の水素のうち１がハロゲン、アミド、ホスフィド、アルコキシ、又はアリールオキシ基で置換される）、及び
（ｉｉｉ）Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル置換の第１３−１４族メタロイド基、
から選択され、
ｅ）Ｑは各々、ヒドリド、ヒドロカルビル、アルコキシド、アリールオキシド、アミド又はホスフィド基；アルキリデニル又はシクロメタル化ヒドロカルビル基、又はジエンから選択され、
ｆ）Ｌ’はルイス塩基性配位子、
ｇ）ｗは０、１、又は２、
ｈ）Ｘは第１５族原子、及び
ｉ）Ｊはｚ＝１の場合に第１５族原子又はＺ＝０の場合に第１６族原子、
ｊ）ｘはＣＲ２”基の数、
である当該触媒。
【請求項４】
式Ｉ又はＩＩの活性化剤及び金属錯体を含む触媒であって、
【化２】
2004511632.tif 000002
式中、
ａ）Ｍは第３族又はランタノイド金属、
ｂ）Ｒ、Ｒ”、及びＲ’’’は各々、
（ｉ）水素、
（ｉｉ）Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基、
（ｉｉｉ）少なくとも１の水素を有するＣ１−Ｃ２０置換のヒドロカルビル基（少なくとも１の水素のうち１はハロゲン、アミド、ホスフィド、アルコキシ、又はアリールオキシ基で置換される）、
（ｉｖ）Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル置換の第１３−１４族メタロイド基、
から選択され、
ｃ）Ｔは少なくとも１の第１４族又は１５族元素を含む共有架橋基、
ｄ）Ｑは各々、ヒドリド、ヒドロカルビル、アルコキシド、アリールオキシド、アミド又はホスフィド基；アルキリデニル又はシクロメタル化ヒドロカルビル基、又はジエンから選択され、
ｅ）Ｘは第１５族金属、
ｆ）Ｌ’はルイス塩基性配位子、
ｇ）ｗは０、１、又は２、
ｈ）ｘはＣＲ２”基の数、
である当該触媒。
【請求項５】オレフィンと、請求項３または請求項４に記載の触媒とを、重合条件下で接触させるオレフィン重合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月31日(2008.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下式(I)の化合物、その混合物及びその塩。
【化１】
2004511610.tif 000001
（上式中、Ｒ1は
【化２】
2004511610.tif 000002
であり、
Ｘは塩素又はフッ素原子であり、
Ｒ2は水素、Ｃ1-2アルキル基、又は−ＯＨ、−ＮＨ2及び−ＣＯＯＨより選ばれる１以上の基で置換されたＣ1-2アルキル基であり、
Ｒ3はＣ5-8シクロアルキル基、−ＯＨ、−ＮＨ2、−ＣＯＯＨ及び−ＳＯ3Ｈより選ばれる１以上の基で置換しているＣ1-2アルキル、−Ａ−ＳＯ2−Ｂ、
【化３】
2004511610.tif 000003
であり、ここでＡはＣ2-4アルキレン基、−Ｏ−、−ＮＲ4−及び−ＳＯ2−からなる群より選ばれる１以上のヘテロ原子を間に有していてもよいＣ2-4アルキレン基、又はフェニレン基であり、Ｒ4は以下の規定と同じであり、Ｂは−ＣＨ＝ＣＨ2又は−ＣＨ2-ＣＨ2-Ｚであり、ここでＺはアルカリにより脱離可能な基であり、
Ｒ4は水素又はＣ1-4アルキル基であり、
Ｒ2及びＲ3はそれが結合している窒素原子と共に６個の原子のヘテロ環を形成してもよく、Ｏ、Ｎ及びＳからなる群より選ばれる追加ヘテロ原子を含んでいてもよい）
【請求項２】  下式(Ia)〜(Id)
【化４】
2004511610.tif 000004
で表される、請求項１記載の化合物。
【請求項３】  下式(II)
【化５】
2004511610.tif 000005
の化合物を化合物Ｒ1Ｘ（Ｒ1及びＸは請求項１の規定と同じである）に縮合させることを特徴とする、請求項１又は２記載の化合物の製造方法。
【請求項４】  ヒドロキシル含有もしくは窒素含有有機基材を染色もしくは捺染するための、請求項１又は２に記載の式(I)、(Ia)、(Ib)、(Ic)もしくは(Id)の化合物、又はこれらの混合物、又はこれらの塩の使用。
【請求項５】  請求項４記載の使用により染色もしくは捺染された、ヒドロキシル含有もしくは窒素含有有機基材。
【請求項６】  インクジェットプリントインク中の成分としての、請求項１に記載の式(I)の化合物、又はその混合物、又はその塩の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源及び蛍光体組成物を含む発光装置であって、前記蛍光体組成物が少なくともランタニド（Ｌｎ）と少なくともβ−ジケトナト配位子（Ａ）と１種以上の追加配位子（Ｂ）とが式ＬｎＡＸＢＹ（式中、Ｘ及びＹは整数である）に従って化合したものからなる発光装置。
【請求項２】
複数のβ−ジケトナト配位子が一般式ＲＣＯＣＨ２ＣＯＲ’で表される配位子からなる群から選択される請求項１記載の発光装置。
【請求項３】
前記Ｂ配位子が一般式Ｒ’’（Ｚ’ＣＨ２ＣＨ２）ｎＺ’’Ｒ’’’（式中、Ｒ’’及びＲ’’’は独立にアルキル基、置換アルキル基又はそれらの混合物である）で表される配位子からなる群から選択され、かつ前記配位子はある組合せのＬｎ及びＡと安定な錯体を生成し得る請求項１記載の発光装置。
【請求項４】
Ｚ’ 及びＺ’’が酸素、硫黄、第二級ホスフィン、第三級ホスフィン、第二級アミン、第三級アミン及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項３記載の発光装置。
【請求項５】
前記Ｂ配位子がテトラヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、２，２’−ビピリジン、フェナントロリン、それらの誘導体及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項１記載の発光装置。
【請求項６】
Ｘ及びＹが約１〜約１０の範囲内の整数である請求項１記載の発光装置。
【請求項７】
蛍光体混合物から所望の色を得るために追加の蛍光体をさらに含む請求項１記載の発光装置。
【請求項８】
前記光源がメタルハライドランプのような放電ランプ、蛍光ランプ、ＬＥＤ又はＬＤである請求項１記載の発光装置。
【請求項９】
ＬＥＤ及び蛍光体を含む発光装置であって、前記蛍光体が式ＬｎＡＸＢＹ（式中、Ｌｎはランタニド、Ａは１種以上のβ−ジケトナト配位子、Ｂは１種以上の追加配位子、Ｘは約１〜約１２の範囲内の整数、かつＹは約１〜約１２の範囲内の整数である）で表される化合物からなる発光装置。
【請求項１０】
前記蛍光体が、個々の成分を変えることによって蛍光体の吸収特性及び発光特性を変化させることができる分子化合物である請求項９記載の発光装置。