【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年1月9日(2019.1.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
式中、Ｊは、（ＲＫ）（ＲＬ）（ＲＸ）Ｐ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（（ＲＬ）（ＲＸ）Ｎ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｂ−Ｏ−、ＲＫＯ−、ＲＫＳ−、ＲＫＳ（Ｏ）−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｎ−、（ＲＫＮ＝Ｃ（ＲＬ）−Ｎ（ＲＸ）−、（ＲＫ）（ＲＬ）ＮＯ−、ＲＫＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＫＣ（Ｏ）ＮＨ−、及び（ＲＫ）（ＲＬ）Ｐ−から選択されるモノアニオン性部分であり、式中、各ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸは独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）２Ｎ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｌは、各出現箇所で独立して、ハロゲン、水素、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（Ｃ１〜Ｃ２０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−、ＲＫ（ＲＬ）Ｎ−、ＲＬＯ−、ＲＬＳ−、またはＲＫ（ＲＬ）Ｐ−であり、式中、ＲＫ及びＲＬの各々は独立して、上に定義される通りであり、Ｌの各出現箇所は、Ｍに結合しているモノアニオン性部分であり、Ｍは、元素周期表の第３、４、５、及び６族のうちのいずれか１つの金属であり、金属は、＋２、＋３、＋４、＋５、または＋６の形式上の酸化状態にあり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、各出現箇所で独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｘは、ＲＸＮ（ＲＫ）（ＲＬ）、ＲＸ＝Ｎ（ＲＫ）、ＲＫＯ（ＲＬ）、ＲＫＳ（ＲＬ）、及びＲＸＰ（ＲＫ）（ＲＬ）から選択される中性ルイス塩基性基であり、式中、ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸの各々は独立して、上に定義される通りであり、ｐは、０、１、２、または３（具体的には０または１）であり、ｑは、０または１であるが、但し、ｐ及びｑの合計が少なくとも１であることを条件とし、ｒは、２または３であり、Ｌの２つの出現箇所は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立して、水素、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、ＪならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｘの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｘ及びＪは、任意に一緒になって、モノアニオン性二座部分Ｘ−Ｊを形成するが、但し、Ｘ−ＪがＭに結合して以下の構造を有する断片を形成する場合、
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
式中、Ｊは、（ＲＫ）（ＲＬ）（ＲＸ）Ｐ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（（ＲＬ）（ＲＸ）Ｎ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｂ−Ｏ−、ＲＫＯ−、ＲＫＳ−、ＲＫＳ（Ｏ）−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｎ−、（ＲＫＮ＝Ｃ（ＲＬ）−Ｎ（ＲＸ）−、（ＲＫ）（ＲＬ）ＮＯ−、ＲＫＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＫＣ（Ｏ）ＮＨ−、及び（ＲＫ）（ＲＬ）Ｐ−から選択されるモノアニオン性部分であり、式中、各ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸは独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）２Ｎ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｌは、各出現箇所で独立して、ハロゲン、水素、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（Ｃ１〜Ｃ２０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−、ＲＫ（ＲＬ）Ｎ−、ＲＬＯ−、ＲＬＳ−、またはＲＫ（ＲＬ）Ｐ−であり、式中、ＲＫ及びＲＬの各々は独立して、上に定義される通りであり、Ｌの各出現箇所は、Ｍに結合しているモノアニオン性部分であり、Ｍは、元素周期表の第３、４、５、及び６族のうちのいずれか１つの金属であり、金属は、＋２、＋３、＋４、＋５、または＋６の形式上の酸化状態にあり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、各出現箇所で独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｘは、ＲＸＮ（ＲＫ）（ＲＬ）、ＲＸ＝Ｎ（ＲＫ）、ＲＫＯ（ＲＬ）、ＲＫＳ（ＲＬ）、及びＲＸＰ（ＲＫ）（ＲＬ）から選択される中性ルイス塩基性基であり、式中、ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸの各々は独立して、上に定義される通りであり、ｐは、０、１、２、または３（具体的には０または１）であり、ｑは、０または１であるが、但し、ｐ及びｑの合計が少なくとも１であることを条件とし、ｒは、２または３であり、Ｌの２つの出現箇所は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立してＨ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、ＪならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｘの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｘ及びＪは、任意に一緒になって、モノアニオン性二座部分Ｘ−Ｊを形成するが、但し、Ｘ−ＪがＭに結合して以下の構造を有する断片を形成する場合、
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
式（Ｉ）の一部の実施形態では、Ｌの２つの出現箇所は、一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
式（Ｉ）の一部の実施形態では、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
式（Ｉ）の一部の実施形態では、Ｘの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７は各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−である。これらの実施形態では、Ｘ−Ｊは、Ｒ５、Ｒ６、またはＲ７のうちの１つを介して、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、またはＲ４のうちの１つに結合し得る。よって、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４のうちの１つは、任意に、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７のうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する。また、Ｘ及びＪが一緒になってモノアニオン性二座部分Ｘ−Ｊを形成し、かつＸ−Ｊがアニオン性窒素及びルイス塩基窒素を介してＭに結合する場合、Ｘ−Ｊ及びＭは、４員メタロサイクル（例えば、この段落で上に示されるもの）または６員メタロサイクル（５員メタロサイクルではない）を形成する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
式中、Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、式（Ｉ）に定義される通りであり、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７は各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７のうちの１つは、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｌの２つの出現箇所は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルである。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
式中、Ｌ、Ｍ、ｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸは、式（Ｉ）に関するように定義され、Ｊ１は、ＮまたはＰであり、Ｒ８及びＲ９は各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｌの２つの出現箇所は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ８及びＲ９は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ８及びＲ９は、任意に一緒になって、Ｊ１に２重結合する基を形成し、Ｒ８及びＲ９のうちの１つは、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ８及びＲ９のうちの１つは、任意に、Ｘに共有結合し、ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つは、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
式中、Ｌ、Ｍ、ｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸは、式（Ｉ）に定義される通りであり、Ｊ２は、ＯまたはＳであり、Ｒ１０は、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つは、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１０は、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１０は、任意に、Ｘに共有結合する。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
式中、Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、式（Ｉ）に定義される通りであり、Ｊ３は、ＯまたはＮＲ１２であり、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｒ１１及びＲ１２は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１１及びＲ１２のうちの１つは、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｌの２つの出現箇所は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン形成し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７０】
式中、Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸは、式（Ｉ）に定義される通りであり、Ｌの２つの出現箇所は、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つは、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つは、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２４６】
【表１】
2017502934.tif 000001
本発明に関連する発明の実施態様の一部を以下に示す。
［態様１］
式（Ｉ）の金属−配位子錯体であって、
【化１】
2017502934.tif 000002
式中、
Ｊが、（ＲＫ）（ＲＬ）（ＲＸ）Ｐ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（（ＲＬ）（ＲＸ）Ｎ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｂ−Ｏ−、ＲＫＯ−、ＲＫＳ−、ＲＫＳ（Ｏ）−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｎ−、（ＲＫＮ＝Ｃ（ＲＬ）−Ｎ（ＲＸ））−、（ＲＫ）（ＲＬ）ＮＯ−、ＲＫＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＫＣ（Ｏ）ＮＨ−、及び（ＲＫ）（ＲＬ）Ｐ−から選択されるモノアニオン性部分であり、式中、各ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸが独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０））ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）３Ｓｉ、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）２Ｎ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌが、各出現箇所で独立して、ハロゲン、水素、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（Ｃ１〜Ｃ２０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−、ＲＫ（ＲＬ）Ｎ−、ＲＬＯ−、ＲＬＳ−、またはＲＫ（ＲＬ）Ｐ−であり、式中、ＲＫ及びＲＬの各々が独立して、上に定義される通りであり、Ｌの各出現箇所が、Ｍに結合しているモノアニオン性部分であり、
Ｍが、元素周期表の第３、４、５、及び６族のうちのいずれか１つの金属であり、前記金属が＋２、＋３、＋４、＋５、または＋６の形式上の酸化状態にあり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、各出現箇所で独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｘが、ＲＸＮ（ＲＫ）（ＲＬ）、ＲＸ＝Ｎ（ＲＫ）、ＲＫＯ（ＲＬ）、ＲＫＳ（ＲＬ）、及びＲＸＰ（ＲＫ）（ＲＬ）から選択される中性ルイス塩基性基であり、式中、ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸの各々が独立して、上に定義される通りであり、
ｐが、０、１、２、または３であり、ｑが、０または１であるが、但し、ｐ及びｑの合計が少なくとも１であることを条件とし、
ｒが、２または３であり、
Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
ＪならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｘの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｘ及びＪが、任意に一緒になって、モノアニオン性二座部分Ｘ−Ｊを形成するが、但し、Ｘ−ＪがＭに結合して以下の構造を有する断片を形成する場合、
【化２】
2017502934.tif 000003
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であることを条件とし、かつＸ−Ｊがアニオン性窒素及びルイス塩基窒素を介してＭに結合する場合、Ｘ−Ｊ及びＭは、４員メタロサイクルまたは６員メタロサイクルを形成することを条件とし、
前記上述の（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレン、及び（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンの各々が独立して、同一または異なり、かつ非置換であるか、またはハロゲン、非置換（Ｃ１〜Ｃ１８）ヒドロカルビル、Ｆ３Ｃ−、ＦＣＨ２Ｏ−、Ｆ２ＨＣＯ−、Ｆ３ＣＯ−、オキソ、Ｒ３Ｓｉ−、ＲＯ−、ＲＳ−、ＲＳ（Ｏ）−、ＲＳ（Ｏ）２−、Ｒ２Ｐ−、Ｒ２Ｎ−、Ｒ２Ｃ＝Ｎ−、ＮＣ−、ＲＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、及びＲ２ＮＣ（Ｏ）−から選択される１つ以上の置換基ＲＳで置換され、各Ｒが独立して、非置換（Ｃ１〜Ｃ１８）ヒドロカルビルである、前記金属−配位子錯体。
［態様２］
Ｍが、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆである、上記態様１に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様３］
Ｒ１及びＲ２のうちの１つならびにＲ３及びＲ４のうちの１つが、一緒になって、
【化３】
2017502934.tif 000004
を形成する、上記態様１または２に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様４］
式（ＩＩ）を有し、
【化４】
2017502934.tif 000005
式中、
Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、上記態様１に定義される通りであり、
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７のうちの１つが、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
前記Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルである、上記態様１〜３のいずれか一項に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様５］
【化５−１】
2017502934.tif 000006
【化５−２】
2017502934.tif 000007
またはこれらの組み合わせを含む、上記態様４に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様６］
式（ＩＩＩ）を有し、
【化６】
2017502934.tif 000008
式中、
Ｌ、Ｍ、ｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸが、上記態様１に定義される通りであり、
Ｊ１が、ＮまたはＰであり、
Ｒ８及びＲ９が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
前記Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ８及びＲ９が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ８及びＲ９が、任意に一緒になって、Ｊ１に２重結合する基を形成し、
Ｒ８及びＲ９のうちの１つが、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ８及びＲ９のうちの１つが、任意に、Ｘに共有結合し、
ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する、上記態様１〜３のいずれか一項に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様７］
【化７】
2017502934.tif 000009
またはこれらの組み合わせを含む、上記態様６に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様８］
式（ＩＶ）を有し、
【化８】
2017502934.tif 000010
式中、
Ｌ、Ｍ、ｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸが、上記態様１に定義される通りであり、
Ｊ２が、ＯまたはＳであり、
Ｒ１０が、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１０が、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１０が、任意に、Ｘに共有結合する、上記態様１〜３のいずれか一項に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様９］
【化９】
2017502934.tif 000011
またはこれらの組み合わせを含む、上記態様８に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様１０］
式（Ｖ）を有し、
【化１０】
2017502934.tif 000012
式中、
Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、式（Ｉ）に定義される通りであり、
Ｊ３が、ＯまたはＮＲ１２であり、
Ｒ１１及びＲ１２が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｒ１１及びＲ１２が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１１及びＲ１２のうちの１つが、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する、上記態様１〜３のいずれか一つに記載の前記金属−配位子錯体。
［態様１１］
【化１１】
2017502934.tif 000013
またはこれらの組み合わせを含む、上記態様１０に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様１２］
式（ＶＩ）を有し、
【化１２】
2017502934.tif 000014
式中、
Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸが、式（Ｉ）に定義される通りであり、
Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）〜Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する、上記態様１〜３のいずれか一つに記載の前記金属−配位子錯体。
［態様１３］
【化１３−１】
2017502934.tif 000015
【化１３−２】
2017502934.tif 000016
またはこれらの組み合わせを含む、上記態様１２に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様１４］
【化１４−１】
2017502934.tif 000017
【化１４−２】
2017502934.tif 000018
【化１４−３】
2017502934.tif 000019
またはこれらの組み合わせを含む、上記態様１に記載の前記金属−配位子錯体。
［態様１５］
上記態様１〜１４のいずれか一つに記載の１つ以上の金属−配位子錯体と、１つ以上の活性化助触媒とを含む、またはそれらの反応生成物を含む触媒であって、前記１つ以上の金属−配位子錯体の総モル数と前記１つ以上の活性化助触媒の総モル数との比率が、１：１０，０００〜１００：１である、前記触媒。
［態様１６］
ポリオレフィンを調製するためのプロセスであって、少なくとも１つの重合可能なオレフィンと上記態様１５に記載の前記触媒とを、前記少なくとも１つの重合可能なオレフィンのうちの少なくとも一部を重合するのに十分な条件下で接触させ、それによりポリオレフィンを生成することを含む、前記プロセス。
［態様１７］
前記少なくとも１つの重合可能なオレフィンが、エチレン及びオクテンを含む、上記態様１６に記載の前記プロセス。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の金属−配位子錯体を含むオレフィン重合用触媒であって、
【化１５】
2017502934.tif 000020
式中、
Ｊが、（ＲＫ）（ＲＬ）（ＲＸ）Ｐ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（（ＲＬ）（ＲＸ）Ｎ）Ｃ＝Ｎ−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｂ−Ｏ−、ＲＫＯ−、ＲＫＳ−、ＲＫＳ（Ｏ）−、（ＲＫ）（ＲＬ）Ｎ−、（ＲＫＮ＝Ｃ（ＲＬ）−Ｎ（ＲＸ））−、（ＲＫ）（ＲＬ）ＮＯ−、ＲＫＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＫＣ（Ｏ）ＮＨ−、及び（ＲＫ）（ＲＬ）Ｐ−から選択されるモノアニオン性部分であり、式中、各ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸが独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０））ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）２Ｎ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌが、各出現箇所で独立して、ハロゲン、水素、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（Ｃ１〜Ｃ２０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−、ＲＫ（ＲＬ）Ｎ−、ＲＬＯ−、ＲＬＳ−、またはＲＫ（ＲＬ）Ｐ−であり、式中、ＲＫ及びＲＬの各々が独立して、上に定義される通りであり、Ｌの各出現箇所が、Ｍに結合しているモノアニオン性部分であり、
Ｍが、元素周期表の第４族の金属であり、前記金属が＋２、＋３、または＋４の形式上の酸化状態にあり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、各出現箇所で独立して、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｘが、ＲＸＮ（ＲＫ）（ＲＬ）、ＲＫＯ（ＲＬ）、ＲＫＳ（ＲＬ）、及びＲＸＰ（ＲＫ）（ＲＬ）から選択される中性ルイス塩基性基であり、式中、ＲＫ、ＲＬ、及びＲＸの各々が独立して、上に定義される通りであり、
ｐが、０、１、２、または３であり、ｑが、０または１であるが、但し、ｐ及びｑの合計が少なくとも１であることを条件とし、
ｒが、２または３であり、
Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
ＪならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｘの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｘ及びＪが、任意に一緒になって、モノアニオン性二座部分Ｘ−Ｊを形成するが、但し、Ｘ−ＪがＭに結合して以下の構造を有する断片を形成する場合、
【化１６】
2017502934.tif 000021
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、または（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−であることを条件とし、
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７のうちの１つは、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｘ−Ｊがアニオン性窒素及びルイス塩基窒素を介してＭに結合している場合、Ｘ−Ｊ及びＭは、４員メタロサイクルまたは６員メタロサイクルを形成することを条件とし、
前記（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレン、及び（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンの各々が独立して、同一または異なり、かつ非置換であるか、またはハロゲン、非置換（Ｃ１〜Ｃ１８）ヒドロカルビル、Ｆ３Ｃ−、ＦＣＨ２Ｏ−、Ｆ２ＨＣＯ−、Ｆ３ＣＯ−、オキソ、Ｒ３Ｓｉ−、ＲＯ−、ＲＳ−、ＲＳ（Ｏ）−、ＲＳ（Ｏ）２−、Ｒ２Ｐ−、Ｒ２Ｎ−、Ｒ２Ｃ＝Ｎ−、ＮＣ−、ＲＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、及びＲ２ＮＣ（Ｏ）−から選択される１つ以上の置換基ＲＳで置換され、各Ｒが独立して、非置換（Ｃ１〜Ｃ１８）ヒドロカルビルである、前記オレフィン重合用触媒。
【請求項２】
Ｍが、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆである、請求項１に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項３】
Ｒ１及びＲ２のうちの１つならびにＲ３及びＲ４のうちの１つが、一緒になって、
【化１７】
2017502934.tif 000022
を形成する、請求項１または２に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項４】
前記金属−配位子錯体が、式（ＩＩ）を有し、
【化１８】
2017502934.tif 000023
式中、
Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、請求項１に定義される通りであり、
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、または（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−であり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７のうちの１つが、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
前記Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項５】
前記金属−配位子錯体が、式（ＩＩＩ）を有し、
【化１９】
2017502934.tif 000024
式中、
Ｌ、Ｍ、ｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸが、請求項１に定義される通りであり、
Ｊ１が、ＮまたはＰであり、
Ｒ８及びＲ９が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
前記Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｊ１がＰである場合には、Ｒ８及びＲ９が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｊ１がＰである場合には、Ｒ８及びＲ９が、任意に一緒になって、Ｊ１に２重結合する基を形成し、
Ｒ８及びＲ９のうちの１つが、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ８及びＲ９のうちの１つが、任意に、Ｘに共有結合し、
ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項６】
前記金属−配位子錯体が、式（ＩＶ）を有し、
【化２０】
2017502934.tif 000025
式中、
Ｌ、Ｍ、ｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸが、請求項１に定義される通りであり、
Ｊ２が、ＯまたはＳであり、
Ｒ１０が、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ１５）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１０が、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１０が、任意に、Ｘに共有結合する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項７】
式（Ｖ）を有する金属−配位子錯体であって、
【化２１】
2017502934.tif 000026
式中、
Ｌは、各出現箇所で独立して、ハロゲン、水素、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）（Ｃ１〜Ｃ２０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、Ｌの各出現箇所はＭに結合しているモノアニオン性部分であり、
Ｍは、元素周期表の第３、４、５、及び６族のうちのいずれか１つの金属であり、前記金属は＋２、＋３、＋４、＋５、または＋６の形式上の酸化状態にあり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、各出現箇所で独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｊ３が、ＯまたはＮＲ１２であり、
Ｒ１１及びＲ１２が各々独立して、水素、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｏ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）Ｓ−、（（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビル）３Ｓｉ−、または（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル−であり、
Ｒ１１及びＲ１２が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１１及びＲ１２のうちの１つが、任意に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＬのうちの１つと一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する、前記金属−配位子錯体。
【請求項８】
前記金属−配位子錯体が、式（ＶＩ）を有し、
【化２２】
2017502934.tif 000027
式中、
Ｌ、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸが、式（Ｉ）に定義される通りであり、
Ｌの２つの出現箇所が、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、または（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成し、式中、各ＲＤが独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルであり、
Ｌの１つの出現箇所ならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
ＸならびにＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちの１つが、任意に一緒になって、（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４のうちのいずれか２つが、任意に一緒になって、（Ｃ２〜Ｃ４０）ヒドロカルビレンまたは（Ｃ１〜Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の１つ以上の金属−配位子錯体と、１つ以上の活性化助触媒とを含む、またはそれらの反応生成物を含む触媒であって、前記１つ以上の金属−配位子錯体の総モル数と前記１つ以上の活性化助触媒の総モル数との比率が、１：１０，０００〜１００：１である、前記触媒。
【請求項１０】
ポリオレフィンを調製するためのプロセスであって、少なくとも１つの重合可能なオレフィンと請求項９に記載の前記触媒とを、前記少なくとも１つの重合可能なオレフィンのうちの少なくとも一部を重合するのに十分な条件下で接触させ、それによりポリオレフィンを生成することを含む、前記プロセス。