Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月12日(2008.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子的取引ゲートウェイのリンク・アクティブ化を管理する方法であって、
少なくとも１つの取引参加者の取引リンク・データを得るステップと、
前記取引リンク・データに基づいて、少なくとも１つの電子的プロセスの仕様を得るステップと、
前記少なくとも１つの取引参加者に関連付けられている登録データを得るステップと、
前記登録データに基づいて、前記少なくとも１つの参加者の対応度を評価するステップと、
前記仕様を用いて、前記少なくとも１つの電子的プロセスを実施化するステップと、および
前記少なくとも１つの電子的プロセスをテストするステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの取引参加者の前記取引リンク・データを得るステップが、前記少なくとも１つの参加者が電子的取引を行うために使用するソフトウェア・プラットフォームについての情報を得るステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの取引参加者の前記取引リンク・データを得るステップが、少なくとも１つの参加者コミュニティを構築するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの取引参加者の前記取引リンク・データを得るステップが、前記少なくとも１つの参加者が電子的取引を行うために使用する取引プロトコルについての情報を得るステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記取引プロトコルが、Ｒｏｓｅｔｔａｎｅｔプロトコル・データをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの電子的プロセスの前記仕様を得るステップが、前記少なくとも１つの電子的プロセスのうちの２つ以上が定義されるシーケンスを定義するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの電子的プロセスが、少なくとも１つのＰＩＰ（パートナー・インターフェース・プロセス）を定義することをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記登録データを得るステップが、前記少なくとも１つの取引参加者のリストを結合するための情報を得るステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
対応度を評価するステップが、前記少なくとも１つの参加者システムが前記取引リンク・データを確立するための１組の要件を満たすかどうかをテストするステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの電子的プロセスを実施化するステップが、少なくとも２つのコンピュータがメッセージを交換できるようにする少なくとも１つのネットワーク接続を実施化するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの電子的プロセスを実施化するステップが、前記少なくとも１つの電子的プロセスのためのスケジュールを実施化するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記スケジュールを実施化するステップが、ワークフロー・プロセスを管理するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの電子的プロセスをテストするステップが、ピーク・ボリューム性能をテストするステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの電子的プロセスをテストするステップが、否定応答テストをテストするステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの電子的プロセスをテストするステップが、コレオグラフィをテストするステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記コレオグラフィが、前記少なくとも１つの電子的プロセス内で受け取ったメッセージを有効化することをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
電子的取引ゲートウェイのリンク・アクティブ化を管理するシステムであって、
少なくとも１つの取引参加者の取引リンク・データを得て、
前記取引リンク・データに基づいて、少なくとも１つの電子的プロセスの仕様を得て、
前記少なくとも１つの取引参加者に関連付けられている登録データを得て、
前記登録データに基づいて、前記少なくとも１つの取引参加者の対応度を評価し、
前記仕様を用いて、前記少なくとも１つの電子的プロセスを実施化し、
前記少なくとも１つの電子的プロセスをテストする
ように構成されるユーザ・インターフェース
を含むシステム。
【請求項１８】
前記ユーザ・インターフェースが、コミュニティ管理者が前記少なくとも１つの取引参加者用のセキュリティ情報の入力を可能にするようにさらに構成される、請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの電子的取引プロセスの接続性ワークフロー・データを得るように構成されるコンポーネントをさらに含む、請求項１７に記載のシステム。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの取引参加者を前記システム上で認証するように構成されるコンポーネントをさらに含む、請求項１７に記載のシステム。
【請求項２１】
認証するように構成される前記コンポーネントが、ユーザにセキュリティ・アクセス・レベルを付与するようにさらに構成される、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
前記ユーザ・インターフェースが、前記少なくとも１つの取引参加者が少なくとも１つの質問票に応答することを可能にするようにさらに構成される、請求項１７に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月22日(2008.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水冷式原子炉の冷却システムの中に還元剤を導入する方法であって、
炉を停止する間および／またはそれに続く後冷却運転の間に冷却システムの中に還元剤を導入すること、および
冷却システムが開かれる保守作業の間に該還元剤によって放射性ヨウ素が結合されて大気中への漏出が防止されること、
を特徴とする前記方法。
【請求項２】
還元剤がハロゲンおよび硫黄を含んでいない請求項１に記載の方法。
【請求項３】
還元剤が還元成分として１種または複数種の有機化合物を含有する請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
還元剤が還元成分として、もっぱら炭素、水素、および酸素からできている１種または複数種の化合物を含有する請求項３に記載の方法。
【請求項５】
還元剤が還元成分として１種または複数種の炭化水素を含有する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
還元剤が還元成分として不飽和炭素結合を持つ１種または複数種の化合物を含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
還元成分がアルデヒド、好ましくはヒドロキノン、レゾルシノールおよび／またはピロカテコール、アルコールおよび／またはカルボン酸、好ましくはアスコルビン酸である請求項２〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
還元剤が冷却媒に加えられる請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
冷却システムの液体運搬部分には第１の還元剤または還元剤の第１の成分が用いられ、冷却システムの蒸気運搬部分には第２の還元剤または還元剤の第２の成分が用いられる請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
後冷却運転の間に還元剤が少なくとももう１回加えられる請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
冷却媒中の還元剤の濃度が特定の値、好ましくは0.1μモル/kg、特には0.5μモル/kgより低下することが還元剤のさらなる添加によって防がれる請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
冷却システムを持つ水冷式原子炉であって、該冷却システムの中には冷却媒があり、該冷却媒は、原子炉の後冷却運転の間は有機還元剤を少なくとも10μモル/kgの濃度、好ましくは100μモル/kgの濃度で含有する前記原子炉。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶装置に記憶された元のバージョンのコンテンツから、更新されたバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる順方向更新、及び又は、
前記記憶装置に記憶された前記更新されたコンテンツ又は中間のコンテンツから、前記元のバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる逆方向更新を、
更新パッケージに含まれる方向指示、更新コマンド、及び更新シーケンスに基づいて行う方法であって、
更新装置が、
前記更新パッケージに含まれる前記方向指示に基づいて、前記順方向更新と前記逆方向更新のいずれの更新を行うのかを決定し、
前記順方向更新を行うことが決定された場合、前記更新パッケージの前記更新コマンド及び前記更新シーケンスに基づいて、前記記憶装置に記憶された前記元のバージョンのコンテンツから、前記更新されたバージョンのコンテンツを生成し、当該生成された更新されたバージョンのコンテンツを前記記憶装置に記憶させ、
前記逆方向更新を行うことが決定された場合、前記更新パッケージの前記更新シーケンスに基づいてロールバック更新シーケンスを生成し、当該生成したロールバック更新シーケンス及び前記更新パッケージの前記更新コマンドに基づいて、前記記憶装置に記憶された前記更新されたコンテンツ又は前記中間のコンテンツから、前記元のバージョンのコンテンツを生成し、当該生成された元のバージョンのコンテンツを前記記憶装置に記憶させること、
を含む方法。
【請求項２】
前記更新装置が、
前記更新コマンドが、前記記憶装置に記憶された前記元のバージョンのコンテンツ、前記更新されたコンテンツ、又は前記中間のコンテンツの一部を削除するための削除コマンドである場合、当該コンテンツの一部を削除する前に、当該コンテンツの一部を保持する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記更新装置が、
削除される前に保持された前記コンテンツの一部を用いて、前記削除コマンドを反転させる、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
記憶装置に記憶された元のバージョンのコンテンツから、更新されたバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる順方向更新、及び又は、
前記記憶装置に記憶された前記更新されたコンテンツ又は中間のコンテンツから、前記元のバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる逆方向更新を、
更新パッケージに含まれる方向指示、更新コマンド、及び更新シーケンスに基づいて行う方法であって、
更新装置が、
前記更新パッケージの前記方向指示に基づいて、前記更新パッケージの前記更新コマンドを反転させることにより、前記順方向更新又は前記逆方向更新を反転させる、
方法。
【請求項５】
更新パッケージに含まれる更新コマンドに基づいて、記憶装置に記憶された第１のバージョンのコンテンツから第２のバージョンのコンテンツを生成し、当該第２のバージョンのコンテンツを前記記憶装置に記憶させる方法であって、
更新装置が、
前記第１のバージョンのコンテンツに基づいて前記第２のバージョンのコンテンツを生成するために使用された前記更新コマンドを用いて、前記第２のコンテンツから前記第１のバージョンのコンテンツを生成する、
方法。
【請求項６】
記憶装置に記憶された元のバージョンのコンテンツから、更新されたバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる順方向更新、及び又は、
前記記憶装置に記憶された前記更新されたコンテンツ又は中間のコンテンツから、前記元のバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる逆方向更新を、
更新パッケージに含まれる方向指示、更新コマンド、及び更新シーケンスに基づいて行うシステムであって、
前記更新パッケージの前記方向指示に基づいて、前記順方向更新と前記逆方向更新のいずれの更新を行うのかを決定する方向決定ユニットと、
前記順方向更新を行うことが決定された場合、前記更新パッケージの前記更新コマンド及び前記更新シーケンスに基づいて、前記記憶装置に記憶された前記元のバージョンのコンテンツから、前記更新されたバージョンのコンテンツを生成し、当該生成された更新されたバージョンのコンテンツを前記記憶装置に記憶させる順方向更新処理装置と、
前記逆方向更新を行うことが決定された場合、前記更新パッケージの前記更新シーケンスに基づいてロールバック更新シーケンスを生成するロールバック更新シーケンス生成器と、
前記生成されたロールバック更新シーケンスと前記更新パッケージの前記更新コマンドに基づいて、前記記憶装置に記憶された前記更新されたコンテンツ又は前記中間のコンテンツから、前記元のバージョンのコンテンツを生成し、当該生成された元のバージョンのコンテンツを前記記憶装置に記憶させるロールバック更新処理装置と、
を備えるシステム。
【請求項７】
記憶装置に記憶された元のバージョンのコンテンツから、更新されたバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる順方向更新、及び又は、
前記記憶装置に記憶された前記更新されたコンテンツ又は中間のコンテンツから、前記元のバージョンのコンテンツを生成して前記記憶装置に記憶させる逆方向更新を、
更新パッケージに含まれる方向指示、更新コマンド、及び更新シーケンスに基づいて行うシステムであって、
前記更新パッケージの前記方向指示に基づいて、前記更新パッケージの前記更新コマンドを反転させることにより、前記順方向更新又は前記逆方向更新を反転させる更新コマンド反転ユニット、
を備えるシステム。
【請求項８】
請求項１から５のいずれかに記載の方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体構造であって、
感応素子であって、前記応力感応素子の特性が前記半導体構造（１００）内の応力状態を表している応力感応素子と、
電気素子（１１０）と、を有し、
前記応力感応素子と前記電気素子（１１０）とは、共通の層構造（１０７）の一部を有する半導体構造。
【請求項２】
前記応力感応素子は、透過性材料のライン（１０３）を有する請求項１に記載の半導体構造。
【請求項３】
前記応力感応素子は、弾性素子（５０９），（７０９）を有する請求項１に記載の半導体構造。
【請求項４】
前記弾性素子（５０９），（７０９）と底面の間に間隔を画定するように構成された少なくとも１つのマウント（５１１），（５１２）を更に有する請求項３に記載の半導体構造。
【請求項５】
前記層構造（１０７）は、少なくとも２層の異なる材料の層を有する請求項１に記載の半導体構造。
【請求項６】
半導体構造内の応力を測定するためのシステムであって、前記半導体構造（１００）に形成された応力感応素子と、
前記半導体構造に形成された電気素子（１１０）と、を有し、前記応力感応素子と前記電気素子（１１０）とは、共通の層構造（１０７）の一部を有し、
前記半導体構造（１００）内の応力状態を表している前記応力感応素子の特性を決定するように適合された第１の分析部と、
前記電気素子（１１０）の特性を決定するように適合された第２の分析部と、を有するシステム。
【請求項７】
前記応力感応素子は、透過性材料のライン（１０３）を有する請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記応力感応素子は、弾性素子（５０９），（７０９）を有する請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
前記層構造（１０７）は、少なくとも２層の異なる材料の層を有する請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
前記弾性素子（５０９），（７０９）と底面の間に間隔を画定するように構成された少なくとも１つのマウント（５１１），（５１２）を更に有する請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
半導体構造内の応力を測定するためのシステムであって、前記半導体構造（１００）に形成された応力感応素子と、
光源（２０１）および光検出器（２０９）を有する分析部と、を有し、前記分析部は、前記半導体構造（１００）内の応力状態を表している前記応力感応素子の特性を決定するように適合されているシステム。
【請求項１２】
前記応力感応素子は、透過性材料のライン（１０３）を有し、前記分析部は、
前記光源（２０１）によって出射された光を前記透過性材料のライン（１０３）に結合するように適合された入力カプラと、
前記透過性材料のライン（１０３）から出る光を結合するように構成された出力カプラと、を有する請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
半導体構造の製造プロセスを調整するための方法であって、
前記製造プロセスによって第１の半導体構造（１００）を形成するステップと、
前記第１の半導体構造（１００）に応力感応素子を形成するステップと、
前記第１の半導体構造（１００）内の応力状態を表している前記応力感応素子の特性を決定するステップと、
前記決定された前記応力感応素子の特性に基づいて前記製造プロセスを変更するステップと、
前記変更された製造プロセスによって第２の半導体構造を形成するステップと、
前記第２の半導体構造に電気素子（１１０）を形成するステップと、を有する方法。
【請求項１４】
前記応力感応素子を形成するステップは、前記第１の半導体構造に透過性材料のライン（１０３）を形成するステップを有する請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記応力感応素子の前記特性を決定するステップは、前記透過性材料のライン（１０３）で反射された光の波長を決定するステップを有する請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記応力感応素子の前記特性を決定するステップは、前記透過性材料のライン（１０３）の光路長の変化を測定するステップを有する請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記応力感応素子を形成するステップは、弾性素子（５０９），（７０９）を形成するステップを有する請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記応力感応素子の前記特性を決定するステップは、前記弾性素子（５０９），（７０９）の撓みを決定するステップを有する請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
半導体構造の電気素子への応力の影響を調べるための方法であって、
前記半導体構造（１００）に応力感応素子を形成するステップと、
前記半導体構造（１００）に電気素子を形成するステップと、
前記半導体構造（１００）内の応力状態を表している前記応力感応素子の特性を決定するステップと、
前記電気素子の特性を決定するステップと、
前記電気素子の前記特性を前記応力感応素子の前記特性と関連付けるステップと、を有する方法。
【請求項２０】
前記応力感応素子を形成するステップは、前記半導体構造に透過性材料のライン（１０３）を形成するステップを有する請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記応力感応素子を形成するステップは、弾性素子（５０９），（７０９）を形成するステップを有する請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記応力感応素子を形成するステップは、第１の材料の層と第２の材料の層とを堆積するステップを有する請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記応力感応素子を形成するステップは、
前記第２の材料の層をパターニングするステップ、および、
前記半導体構造を前記第１の材料を選択的に除去するように適合されたエッチング剤に曝すステップを有する請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記応力感応素子の前記特性を測定するステップは、前記弾性素子の剛性を測定するステップを有する請求項２１記載の方法。
【請求項２５】
前記応力感応素子の前記特性を測定するステップは、前記弾性素子に設けられるフィーチャの間隔を決定するステップを有する請求項２１記載の方法。
【請求項２６】
前記電気素子の特性を測定するステップはさらに、前記電気素子の抵抗を測定するステップを有する請求項１９記載の方法。
【請求項２７】
前記電気素子はトランジスタを有し、前記電気素子の前記特性を測定するステップはさらに、前記電気素子のチャネル抵抗を測定するステップを有する請求項１９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個人についてバイオメトリック測定を実施する方法であって、該方法は、
単一の照射セッションの間に、複数の異なる光学的条件下で、該個人の対象とする皮膚部位を照射する工程；
該対象とする皮膚部位の表面下から散乱された光を、該複数の異なる光学的条件の各々について別々に受容する工程；
該受容した光から該対象とする皮膚部分のマルチスペクトル画像を得る工程；及び
該得られたマルチスペクトル画像でバイオメトリック機能を実行する工程、
を包含する、方法。
【請求項２】
前記バイオメトリック機能を実行する工程が、前記個人の同一性を照合する工程を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記バイオメトリック機能を実行する工程が、
前記マルチスペクトル画像と、人間の同一性に複数の非マルチスペクトル画像を関係づけるデータベースに蓄積された該複数の非マルチスペクトル画像とを比較する工程、及び
該マルチスペクトル画像と、該データベースに蓄積された該複数の非マルチスペクトル画像の一つとの間の一致を発見することにより、個人を同定する工程、
を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記データベースが前記非マルチスペクトル画像から得られた値を含み、
前記マルチスペクトル画像と前記複数の非マルチスペクトル画像とを比較する工程が、該マルチスペクトル画像から特徴を抽出する工程及び該抽出した特徴を該値と比較する工程を包含する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記複数の異なる光学的条件が異なる偏光条件を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記複数の異なる光学的条件が異なる照射波長を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の異なる光学的条件が照射光の異なる波長を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
単一の照射セッションの間に、複数の異なる光学的条件下で前記個人の前記対象とする皮膚部位を照射する工程が、前記対象とする皮膚部位を複数の異なる波長の照明で同時に照射する工程を包含し、
前記対象とする皮膚部位の前記表面下から散乱された光を前記複数の光学的条件の各々について別々に受容する工程が、前記散乱光を濾波して該複数の異なる波長を分離する工程を包含する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
複数の異なる光学的条件下で前記個人の前記対象とする皮膚部位を照射する工程が、前記対象とする皮膚部位を、前記異なる光学的条件の各々について第一の偏光を有する光で照射する工程を包含し、
前記対象とする皮膚部位の前記表面下から散乱された光を別々に受容する工程が、該受容した光を第二の偏光で偏光させる工程を包含し、
該第一の偏光及び第二の偏光が、実質的に交差偏光条件を規定する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記皮膚部位の表面構造の画像を収集する工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記皮膚部位の表面構造の表面の画像を収集する工程が、前記プラテンと該プラテンの外部環境との界面によって規定される臨界角より大きな角度で、該プラテン内からの光で該皮膚部位を照射する工程を包含し、該表面構造は、該プラテンに接触する該皮膚部位の部分に対応する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
個人によって対象とする皮膚部位に配置されるように適合したプラテン；
該対象とする皮膚部位が該プラテン上に置かれたときに該皮膚部位を照射するように配設された、照射源；
該対象とする皮膚部位の表面下から散乱された光を受容するように配設された画像化システム；及び、
該照射源及び前記画像化システムと接続されたコントローラ、
を備え、該コントローラは、
単一の照射セッションの間に、複数の異なる光学的条件下で該対象とする皮膚部位を該照射源で照射する指令、
該複数の光学的条件の各々について別々に該画像化システムによって受容された光から、該対象とする皮膚部分のマルチスペクトル画像を得る指令、及び
該得られたマルチスペクトル画像でバイオメトリック機能を実行する指令、
を含む、マルチスペクトルセンサー。
【請求項１３】
前記照射源によって供給される光を偏光するように配設された第一の偏光器を更に備え、
前記画像化システムが、前記対象とする皮膚部位の前記表面下から散乱された光を偏光するように配設された第二の偏光器を備え、
前記複数の異なる光学的条件が異なる相対的偏光条件を含む、
請求項１２に記載のマルチスペクトルセンサー。
【請求項１４】
前記照射源によって供給される光を偏光するように配設された第一の偏光器を更に含み、
前記画像化システムが、前記対象とする皮膚部位の前記表面下から散乱された光を偏光するように配設された第二の偏光器を備え、
該第一及び第二の偏光器が実質的に交差する配置にある、
請求項１２に記載のマルチスペクトルセンサー。
【請求項１５】
前記画像化システムが、複数の分散されたフィルター部材を有するカラーフィルターアレイを備え、各フィルター部材が、制限された数の特定の狭い帯域の波長範囲の一つの光を透過するように適合され、
前記複数の異なる光学的条件が、特定の狭い帯域の波長範囲内の照射光の異なる波長を含む、
請求項１２に記載のマルチスペクトルセンサー。
【請求項１６】
前記複数の異なる光学的条件下で前記対象とする皮膚部位を前記照射源で照射するための前記指令が、該対象とする皮膚部位を異なる波長で連続的に照射する指令を含む、請求項１５に記載のマルチスペクトルセンサー。
【請求項１７】
前記コントローラが、
前記プラテンと該プラテンの外部環境との界面によって規定される臨界角より大きな角度で、該プラテン内からの光で前記皮膚部位を照射する指令、及び
該プラテンの界面に入射する光から、該皮膚部位の表面構造の画像を得る指令を更に含み、該界面において、該皮膚部位が該プラテンと接触する、請求項１２に記載のマルチスペクトルセンサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
（連邦政府に支援された研究または開発の下でなされた発明に対する権利に関する陳述）
本発明は、Ｕ．Ｓ．Ａｉｒ  Ｆｏｒｃｅ  Ｃｏｎｔｒａｃｔ  Ｎｏ．ＦＡ８７５０−０４−Ｃ−０１９０によって授与された資金の下で米国政府によって支援され、この資金によって、本発明における一定の権利が米国政府に与えられることが示される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関、過給器および振動を軽減させるための装置を備えたシステムであって、
前記振動を軽減させるための装置が、少なくとも一つのバイブレーションダンパと、振動を減衰させるための手段を有しており、
前記バイブレーションダンパおよび／または振動を減衰させるための手段が、過給器に対して固定されており、かつモーターターボチャージャーシステムの低い固有振動数の固有形状の主要振動方向に、すなわちターボチャージャー軸方向でそれに対して横方向に作用していることを特徴とするシステム。
【請求項２】
振動を減衰させるための手段がショックアブソーバを備えていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項３】
振動を減衰させるための手段がバイブレーションダンパ内で一体化されていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
過給器がケーシングを備えていることと、
バイブレーションダンパおよび／または振動を減衰させるための手段が、過給器のケーシング内で一体化されていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項５】
過給器が多数の構成部品を備えていることと、
過給器の構成部品の少なくとも一つがバイブレーションダンパとして形成されていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項６】
バイブレーションダンパおよび／または振動を減衰させるための手段が、露出されかつ強く振動するシステムの位置に固定されていることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項７】
過給器が内燃機関の露出した位置に固定されていることと、
バイブレーションダンパおよび／または振動を減衰させるための手段（７）が、
過給器に固定されていることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
(A)少なくとも一つの変性されたポリオレフィン、及び
(B)一価アルコール、エポキシ官能性シラン、及びこれらの混合物より成る群から選ばれる少なくとも一つの成分
を含む溶剤系接着促進剤添加物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
変性されたポリオレフィンが、一価アルコール又はエポキシ官能性シランと一緒にされるとき、コーティング組成物中に組み込まれ得、それにより、該組成物が、慣用の前処理法の使用なしに、多種類のプラスチック基材上に直接にコーティングされることを許すところの新規な溶剤系接着促進剤添加物が形成されることが発見された。更なる利点がまた、該添加物がまた、コーティング組成物を柔軟にする必要性を減らすことにおいて発見された。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月26日(2008.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜４０単位長の無塩基オリゴヌクレオチドと治療薬とのコンジュゲート
を含む、組成物。
【請求項２】
前記無塩基オリゴヌクレオチドが、無塩基デオキシリボヌクレオチドのホモポリマー、無塩基リボヌクレオチドのホモポリマー、または無塩基リボヌクレオチドと無塩基デオキシリボヌクレオチドとのヘテロポリマーである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記無塩基オリゴヌクレオチドが、プロパン−１，３−ジオールから誘導されるＣ３スペーサーのホモポリマーである、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記単位が、ホスホジエステル結合および／またはホスホロチオエート結合によって連結されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記治療薬が、抗原、免疫活性化核酸分子、および／またはＣｐＧオリゴヌクレオチドである、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記治療薬が小分子である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記小分子が、Ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）シグナル伝達アゴニストまたはＴｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）シグナル伝達アンタゴニストである、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記治療薬が、複数の同一の治療薬または同一ではない治療薬である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記無塩基オリゴヌクレオチドと前記治療薬とが共有結合している、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記無塩基オリゴヌクレオチドが、５’末端及び３’末端を含み、
前記治療薬が、前記無塩基オリゴヌクレオチドの３’末端または５’末端と共有結合している、
請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記無塩基オリゴヌクレオチドと前記治療薬とが、リンカーによって共有結合している、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記リンカーが酵素によって切断されやすいものである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記無塩基オリゴヌクレオチドが少なくとも２０単位長である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記無塩基オリゴヌクレオチドが２０単位長である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
薬学上許容し得る担体をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
対象における感染症の処置のための薬物の製造のために使用するための、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
対象におけるアレルギー症状の処置のための薬物の製造のために使用するための、請求項１に記載の組成物。
【請求項１８】
前記アレルギー症状がアレルギー喘息である、請求項１７に記載の使用。
【請求項１９】
対象における癌、自己免疫疾患、および／または炎症性応答の処置のための薬物の製造のために使用するための、請求項１に記載の組成物。
【請求項２０】
抗原と共有結合している１０〜４０単位長の無塩基オリゴヌクレオチドを含む、ワクチン。
【請求項２１】
前記抗原が感染性因子の抗原特性を有する、請求項２０に記載のワクチン。
【請求項２２】
前記抗原が癌の抗原特性を有する、請求項２０に記載のワクチン。
【請求項２３】
前記抗原がアレルゲンである、請求項２０に記載のワクチン。
【請求項２４】
抗原提示細胞（ＡＰＣ）による抗原の取り込みを増大させることにおいて使用するための組成物であって、
該ＡＰＣによる抗原の取り込みを可能にするために有効な量の、１０〜４０単位長の無塩基オリゴヌクレオチドと抗原とのコンジュゲート
を含み、
所定量の該抗原に対して、該ＡＰＣを該抗原のみと接触させた場合よりも、該ＡＰＣを該コンジュゲートと接触させた場合の方が、該ＡＰＣにより取り込まれる該抗原の量が多いことを特徴とする、
組成物。
【請求項２５】
前記抗原がポリペプチドを含む、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記抗原が感染性因子の抗原特性を有する、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２７】
前記抗原が癌の抗原特性を有する、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２８】
前記抗原がアレルゲンである、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２９】
前記接触がｉｎ  ｖｉｖｏで行われることを特徴とする、請求項２４に記載の組成物。
【請求項３０】
ワクチンとして使用するための組成物であって、
１０〜４０単位長の無塩基オリゴヌクレオチドと抗原とのコンジュゲート
を含み、該コンジュゲートは、対象において該抗原に対する抗原特異的免疫応答を付与するために有効な量である、組成物。
【請求項３１】
Ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）シグナル伝達アゴニストのＴＬＲへの送達を増大させることにおいて使用するための組成物であって、
該ＴＬＲへ該ＴＬＲシグナル伝達アゴニストを送達させるために有効な量の、１０〜４０単位長の無塩基オリゴヌクレオチドと該ＴＬＲに対して特異的なＴＬＲシグナル伝達アゴニストとのコンジュゲート
を含み、
所定量の該ＴＬＲシグナル伝達アゴニストに対して、細胞を該ＴＬＲシグナル伝達アゴニストのみと接触させた場合よりも、該細胞を該コンジュゲートと接触させた場合の方が、該ＴＬＲに送達される該ＴＬＲシグナル伝達アゴニストの量が多いことを特徴とする、
組成物。
【請求項３２】
前記ＴＬＲが、ＴＬＲ９、ＴＬＲ８、ＴＬＲ７、および／またはＴＬＲ３である、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
前記ＴＬＲシグナル伝達アゴニストが、ＣｐＧオリゴヌクレオチド、小分子、またはＲＮＡ分子である、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３４】
前記接触がｉｎ  ｖｉｖｏで行われることを特徴とする、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３５】
少なくとも１個の無塩基オリゴヌクレオチドと免疫活性化核酸分子とのコンジュゲートを含む組成物であって、
該コンジュゲートは少なくとも４個の無塩基単位を含み、
該免疫活性化核酸は少なくとも６個のヌクレオチドを含み、
該コンジュゲートが１０〜４０単位長及び１０〜４０ヌクレオチド長である
組成物。
【請求項３６】
前記無塩基オリゴヌクレオチドが前記免疫活性化核酸分子の５’側および／または前記免疫活性化核酸分子の３’側に位置する、請求項３５に記載の組成物。
【請求項３７】
前記免疫活性化核酸分子が、５’側無塩基オリゴヌクレオチド及び３’側無塩基オリゴヌクレオチドによって隣接され、
該５’側無塩基オリゴヌクレオチド及び該３’側無塩基オリゴヌクレオチドのそれぞれが、独立して少なくとも１単位長である、
請求項３５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月22日(2008.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験体の眼の表面への適用またはコンタクトレンズの少なくとも片面への適用に適合された眼用調製物であって、シクロメチコーン、シリコーンゴム、フッ素化アルコールおよび過フッ素化ポリエーテルのうちの少なくとも１つを含み；そして必要に応じてジメチコーン、フッ素化シリコーンまたはペルフルオロカーボンをさらに含む、眼用調製物。
【請求項２】
前記組成物が１〜１５，０００センチストークスの粘度を有する、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項３】
前記組成物が３００〜１０，０００センチストークスの粘度を有する、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項４】
前記組成物が被験体の眼に直接適用される、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項５】
前記組成物が被験体の眼に装着されたコンタクトレンズの少なくとも片面に適用される、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項６】
前記組成物がコンタクトレンズを包装するために適合されている、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項７】
前記組成物が液体、ゲル、または乳濁液の形態である、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項８】
前記組成物が眼球上皮の欠損を保護および／または処置するために適合されている、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項９】
前記組成物が治療剤をさらに含む、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項１０】
前記治療剤が親油性である、請求項９に記載の眼用調製物。
【請求項１１】
前記治療剤が日焼け止め剤である、請求項９に記載の眼用調製物。
【請求項１２】
前記治療剤が徐放性処方物である、請求項９に記載の眼用調製物。
【請求項１３】
前記組成物がシリコーンポリマーを含む、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項１４】
前記シリコーンポリマーがジメチコーンを含む、請求項１３に記載の眼用調製物。
【請求項１５】
前記シリコーンポリマーがシクロメチコーンを含む、請求項１３に記載の眼用調製物。
【請求項１６】
前記シリコーンポリマーが、ジメチコーン、シクロメチコーン、およびシリコーンゴムのうちの少なくとも２つのブレンドを含む、請求項１３に記載の眼用調製物。
【請求項１７】
前記シリコーンポリマーがフッ素化されている、請求項１３に記載の眼用調製物。
【請求項１８】
前記シリコーンポリマーのフッ素濃度の増大によって前記組成物の疎油性が増大する、請求項１７に記載の眼用調製物。
【請求項１９】
前記フッ素化シリコーンポリマーがペルフルオロシリコーンである、請求項１７に記載の眼用調製物。
【請求項２０】
前記ペルフルオロシリコーンがペルフルオロノニルジメチコーンである、請求項１９に記載の眼用調製物。
【請求項２１】
前記シリコーンポリマーが、ペルフルオロカーボンポリマーおよびペルフルオロアルカンポリマーのうちの少なくとも１つをさらに含む、請求項１３に記載の眼用調製物。
【請求項２２】
前記組成物がフッ素化アルコールを含む、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項２３】
前記フッ素化アルコールがクエン酸ジオクチルドデシルフルオロヘプチルである、請求項２２に記載の眼用調製物。
【請求項２４】
前記組成物が過フッ素化ポリエーテルを含む、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項２５】
前記過フッ素化ポリエーテルがＦｏｍｂｌｉｎ  Ｚである、請求項２４に記載の眼用調製物。
【請求項２６】
前記過フッ素化ポリエーテルがＦｏｍｂｌｉｎ  Ｚ−ＤＯＬである、請求項２４に記載の眼用調製物。
【請求項２７】
前記組成物が、シリコーンポリマー、フッ素化シリコーンポリマー、ペルフルオロカーボンポリマー、フッ素化アルコール、および過フッ素化ポリエーテルのうちの少なくとも２つのブレンドを含む、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項２８】
前記ペルフルオロカーボンポリマーがペルフルオロ−ｎ−オクタンである、請求項２７に記載の眼用調製物。
【請求項２９】
前記ペルフルオロカーボンポリマーがペルフルオロアルカンポリマーである、請求項２７に記載の眼用調製物。
【請求項３０】
前記組成物が単回用量用のアプリケーターまたは複数回用量用のアプリケーターに含まれている、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項３１】
前記組成物によって、ドライアイに関連する症状が軽減する、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項３２】
前記組成物によって、ドライアイに関連する症状が軽減する、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項３３】
前記組成物によってコンタクトレンズ上への表面沈着が遅延し、そしてレンズの快適性および視力が改善する、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項３４】
前記組成物がコンタクトレンズを滑らかにし、眼の上での該コンタクトレンズの移動を改善し、そしてタイトコンタクトレンズ症候群に関連する症状を軽減する、請求項３３に記載の眼用調製物。
【請求項３５】
前記組成物によって眼球上皮の剥離が防止される、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項３６】
前記組成物によってコンタクトレンズの取り外しの容易性が改善される、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項３７】
前記組成物によってコンタクトレンズがシーリングされる、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項３８】
前記組成物によってコンタクトレンズ中での自由水の保持が改善される、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項３９】
適切な自由水によってコンタクトレンズの表面の曲線、屈折率、および視力が維持される、請求項３８に記載の眼用調製物。
【請求項４０】
前記組成物がコンタクトレンズと前記眼との間にクッションを形成する、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項４１】
前記組成物によってコンタクトレンズの酸素透過性が維持される、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項４２】
前記組成物が眼球上皮の欠損を保護および／または処置するために適合されている、請求項５に記載の眼用調製物。
【請求項４３】
前記組成物の色が透明である、請求項１に記載の眼用調製物。
【請求項４４】
コンタクトレンズにポリマー組成物を送達するための方法であって、該方法は、以下の工程：
ポリマー組成物を提供する工程であって、該ポリマー組成物は、シリコーン、フッ素化シリコーン、ペルフルオロアルカン、フッ素化アルコールおよび過フッ素化ポリエーテルのうちの少なくとも１つを含み；そして必要に応じてペルフルオロカーボンをさらに含む、工程；および
コンタクトレンズに該組成物を導入する工程
を包含し、該組成物が、該コンタクトレンズの少なくとも片面全体に該組成物のマイクロフィルムを堆積させるために十分な量で導入される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記ＢＥＯ又はＭＢＥＯ由来の臭素が少なくとも３重量％である、請求項９に記載の難燃性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記ＢＥＯ又はＭＢＥＯ由来の臭素が少なくとも３重量％である、請求項１０に記載の難燃性組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記ＢＥＯ由来の臭素濃度は約３重量％である、請求項１５に記載の難燃化スチレン含有ポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月2日(2008.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（a）金属含有塩の水溶液とチオールもしくはカルバミン酸塩の非水溶液とを混合して反応させ、非水溶液中金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩を形成する工程；
（b）金属含有チオールもしくはカルバミン酸塩非水溶液を収集する工程；
（c）収集した非水溶液を高分子溶液と混合する工程；及び
（d1）工程（c）からの混合物と開裂剤とを反応させ、乾燥させて、高分子ナノ複合材料を形成する工程；又は
（d2） 工程（c）からの混合物を乾燥させ、開裂剤と反応させて、高分子ナノ複合材料を形成する工程
を含む高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項２】
前記金属塩は、金属酢酸塩もしくは金属カルバミン酸塩、金属塩化物及び金属アルコキシド又は金属アルキルアリール酸化物からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属塩中の金属は、鉛、カドミウム、ゲルマニウム、スズ、鉄、コバルト、ニッケル、銅、水銀、亜鉛及びこれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
工程（d1）において、前記混合物はさらに架橋剤と反応する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
架橋化学物質により、熱により、紫外線（UV light）により、γ線により、又は電子線により、架橋される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記金属チオールもしくはカルバミン酸塩が高分子とより相溶性を有し、工程（c）において相溶化剤が添加される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
工程（a）は、相間移動触媒の存在下で生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記チオールもしくはカルバミン酸塩は、アルキルチオール、アルキルカルバミン酸塩、アリールチオールもしくはポリ（オキシエーテル）チオール及びアリールカルバミン酸塩からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記相間移動触媒は、ハロゲン化テトラブチルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、ハロゲン化ベンジルトリエチルアンモニウム、硫酸水素ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、臭化トリブチルヘキサデシルホスホニウム及びジベンゾ-18-クラウン-6,4,7,13,16,21,24-ヘキサオキサ-1,10-ジアザビシクロ｛8,8,8｝ヘキサコサン（Dibenzo-18-crown-6,4,7,13,16,21,24-Hexaoxa-1,10-diazabicyclo{8.8.8}hexacosane）からなる群より選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
高分子ナノ複合材料中にナノ結晶が形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記開裂剤は、硫化水素、過酸化水素、金属硫化物及び金属含有過酸化物からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
（a）金属塩の水溶液とチオール又はカルバミン酸塩の非水溶液とを混合して反応させ、非水溶液中金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩を形成させる工程；
（b）前記金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩非水溶液を収集する工程；
（c）金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩は高分子とより相溶性であり及び／又は凝集を防止するものであり、前記非水溶液を乾燥させて、表面処理をする工程；
（d1）工程（c）からの表面処理された材料を加熱した高分子と混合して、開裂剤と反応させ、高分子ナノ複合材料を形成する工程；又は
（d2a）工程（c）からの表面処理された材料を溶媒中に溶解もしくは分散させ、高分子溶液と混合させる工程；及び
（d2b）工程（d2a）の生成物と開裂剤とを反応させ、乾燥させて、高分子ナノ複合材料を形成させる工程
を含む高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項１３】
高分子ナノ複合材料中にナノ結晶が形成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記金属塩は、金属酢酸塩もしくは金属カルバミン酸塩、金属塩化物及び金属アルコキシド又は金属アルキルアリール酸化物からなる群より選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
工程（d1）及び（d2）において、前記混合物はさらに架橋剤と反応する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
架橋化学物質により、熱により、紫外線（UV light）により、γ線により、又は電子線により、架橋される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記開裂剤は、硫化水素、過酸化水素、金属硫化物及び金属含有過酸化物からなる群より選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
（a）金属含有塩の水溶液とチオールもしくはカルバミン酸塩の非水溶液とを混合して反応させて、非水溶液中金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩を形成させる工程；
（b）金属含有チオールもしくはカルバミン酸塩非水溶液を収集する工程；
（c）収集した非水溶液と高分子溶液とを混合する工程；及び
（d1）工程（c）からの混合物と開裂剤とを反応させ、乾燥させて、高分子ナノ複合材料を形成させる工程；又は
（d2）工程（c）からの混合物を乾燥させ、開裂剤と反応させて、高分子ナノ複合材料を形成させる工程
を含む工程により製造された高分子ナノ複合材料。
【請求項１９】
前記高分子ナノ複合材料は、高分子中にナノ結晶を含む、請求項１８に記載の高分子ナノ複合材料。
【請求項２０】
前記開裂剤は、硫化水素、過酸化水素、金属硫化物及び金属含有過酸化物からなる群より選択される、請求項１８に記載の高分子ナノ複合材料。
【請求項２１】
（a）金属塩の水溶液とチオールもしくはカルバミン酸塩の非水溶液を混合して反応させて、非水溶液中金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩を形成させる工程；
（b）金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩非水溶液を収集する工程；
（c）金属含有チオールもしくは金属含有カルバミン酸塩は高分子とより相溶性であり及び／又は凝集を防止し、非水溶液を乾燥させ表面処理する工程、；
（d1）工程（c）からの表面処理された材料を加熱した高分子と混合し、開裂剤と反応させて、高分子ナノ複合材料を形成させる工程；又は
（d2a）工程（c）からの表面処理された材料を溶媒中に溶解又は分散させて、高分子溶液と混合させる工程；及び
（d2b）工程（d2a）の生成物を開裂剤と反応させ、乾燥させて、高分子ナノ複合材料を形成させる工程
を含む工程により製造された高分子ナノ複合材料。
【請求項２２】
前記高分子ナノ複合材料は膜である、請求項２１に記載の高分子ナノ複合材料。
【請求項２３】
前記高分子ナノ複合材料は、高分子内にナノ結晶を含む、請求項２１に記載の高分子ナノ複合材料。
【請求項２４】
前記開裂剤は、硫化水素、過酸化水素、金属硫化物及び金属含有過酸化物からなる群より選択される、請求項２１に記載の高分子ナノ複合材料。
【請求項２５】
（a）非水性溶媒中に溶解している高分子と金属塩とを混合する工程；
（b）前記混合物に開裂剤を添加し、反応させて高分子ナノ複合材料を形成させる工程
を含む、高分子ナノ複合材料の製造方法。