【手続補正書】
【提出日】平成19年3月15日(2007.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層方向（１０４）に連続的に配置される複数の燃料電池ユニット（１０２）を包含する燃料電池スタック（１００）用の密閉配列であって、
前記密閉配列（１１８）が電気絶縁効果を有し、
前記密閉配列（１１８）が、セラミック材料と金属材料の混合物から形成される少なくとも一つのセラミック−金属層（１９２）を包含することを特徴とする、燃料電池スタック（１００）用の密閉配列。
【請求項２】
前記セラミック−金属層（１９２）が、サーメット層として形成されることを特徴とする、請求項１に記載の密閉配列。
【請求項３】
前記セラミック−金属層（１９２）が、熱的に溶射された層であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の密閉配列。
【請求項４】
前記セラミック−金属層（１９２）が、大気プラズマ溶射された、真空プラズマ溶射された、又はフレーム溶射された層であることを特徴とする、請求項３に記載の密閉配列。
【請求項５】
前記セラミック−金属層（１９２）が、高速プラズマ溶射層であることを特徴とする、請求項３に記載の密閉配列。
【請求項６】
前記セラミック−金属層（１９２）が、セラミック材料の粉末と金属粉との混合物から形成されることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項７】
前記金属粉が、高温耐腐食性合金を包含することを特徴とする、請求項６に記載の密閉配列。
【請求項８】
前記金属粉が、アルミニウムから酸化形成される合金を包含することを特徴とする、請求項６又は７に記載の密閉配列。
【請求項９】
主な金属成分に加えて、前記金属粉がまた、クロミウム、アルミニウム、及び／又はイットリウムを含有することを特徴とする、請求項６から８のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１０】
前記セラミック−金属層（１９２）のセラミック材料が、酸化アルミニウム及び／又は二酸化タイタニウム及び／又は二酸化ジルコニウム及び／又は酸化マグネシウムを包含することを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１１】
前記セラミック−金属層（１９２）のセラミック材料が、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを包含することを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１２】
前記セラミック−金属層（１９２）のセラミック材料が、アルミニウム−マグネシウムのスピネルを包含することを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１３】
前記セラミック−金属層（１９２）のセラミック材料対金属材料の、重量による平均混合比率が、約1:1から約8:1になることを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１４】
前記セラミック−金属層（１９２）のセラミック材料対金属材料の、重量による平均混合比率が、約2:1から約6:1になることを特徴とする、請求項１３に記載の密閉配列。
【請求項１５】
前記セラミック−金属層（１９２）のセラミック材料対金属材料の混合比率が、層の厚さ方向（１０４）で変化することを特徴とする、請求項１から１４のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１６】
前記セラミック−金属層（１９２）が、金属半田層（１９０）によって前記燃料電池スタック（１００）の構造部品（１１２）に半田付けされ、前記セラミック−金属層（１９２）の金属材料の重量割合が、前記半田層（１９０）からの距離の増加に伴って減少することを特徴とする、請求項１５に記載の密閉配列。
【請求項１７】
前記セラミック−金属層（１９２）の平均の層厚さが、約10μmから約100μmであることを特徴とする、請求項１から１６のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項１８】
前記セラミック−金属層（１９２）の平均の層厚さが、約30μmから約50μmであることを特徴とする、請求項１７に記載の密閉配列。
【請求項１９】
前記セラミック−金属層（１９２）に加えて、前記密閉配列（１１８）が、電気的に絶縁するセラミック材料から構成される絶縁層（１６２）を包含することを特徴とする、請求項１から１８のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項２０】
前記セラミック−金属層（１９２）が、金属半田層（１９０）によって前記燃料電池スタック（１００）の構造部品（１１２）に半田付けされ、前記絶縁層（１６２）が、前記セラミック−金属層（１９２）の前記半田層（１９０）と反対側に配置されることを特徴とする、請求項１９に記載の密閉配列。
【請求項２１】
前記絶縁層（１６２）が、熱的に溶射された層であることを特徴とする、請求項１９又は２０に記載の密閉配列。
【請求項２２】
前記絶縁層（１６２）が、大気プラズマ溶射された、真空プラズマ溶射された、又はフレーム溶射された層であることを特徴とする、請求項２１に記載の密閉配列。
【請求項２３】
前記絶縁層（１６２）が、高速プラズマ溶射層であることを特徴とする、請求項２１に記載の密閉配列。
【請求項２４】
前記絶縁層（１６２）のセラミック材料が、酸化アルミニウム及び／又は二酸化タイタニウム及び／又は二酸化ジルコニウム及び／又は酸化マグネシウムを包含することを特徴とする、請求項１９から２３のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項２５】
前記絶縁層（１６２）のセラミック材料が、アルミニウム−マグネシウムのスピネルを包含することを特徴とする、請求項１９から２４のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項２６】
前記絶縁層（１６２）の平均の層厚さが、約50μmから約200μmであることを特徴とする、請求項１９から２５のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項２７】
前記絶縁層（１６２）の平均の層厚さが、約100μmから約140μmであることを特徴とする、請求項２６に記載の密閉配列。
【請求項２８】
前記セラミック−金属層（１９２）に加えて、前記密閉配列（１１８）が、金属半田層（１９０）を包含することを特徴とする、請求項１から２７のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項２９】
前記半田層（１９０）が、熱的に溶射された半田材料を含有することを特徴とする、請求項２８に記載の密閉配列。
【請求項３０】
前記半田層（１９０）が、添加の銅元素を含む銀ベース半田を含有することを特徴とする、請求項２８又は２９に記載の密閉配列。
【請求項３１】
前記半田層（１９０）が、添加の銅元素を含まない銀ベース半田を含有することを特徴とする、請求項２８から３０のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項３２】
前記銀ベース半田が、添加の酸化銅を含有することを特徴とする、請求項３１に記載の密閉配列。
【請求項３３】
前記半田層（１９０）が、添加のチタニウムを含む銀ベース半田を含有することを特徴とする、請求項２８から３２のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項３４】
前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の構造部品（１１４）にコーティングして形成されることを特徴とする、請求項１から３３のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項３５】
前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の金属構造部品（１１４）にコーティングして形成されることを特徴とする、請求項３４に記載の密閉配列。
【請求項３６】
前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の構造部品（１１２）に半田付けされることを特徴とする、請求項１から３５のいずれか一項に記載の密閉配列。
【請求項３７】
前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の金属構造部品（１１２）に半田付けされることを特徴とする、請求項３６に記載の密閉配列。
【請求項３８】
積層方向（１０４）に連続的に配列される複数の燃料電池ユニット（１０２）と、請求項１から３７のいずれか一項に記載の少なくとも一つの密閉配列とを具備する、燃料電池スタック。
【請求項３９】
積層方向（１０４）に連続的に配列される複数の燃料電池ユニット（１０２）を包含する燃料電池スタック（１００）用の電気的に絶縁する密閉配列（１１８）の製造のための工程であって、
次の工程段階、
・セラミック材料と金属材料との混合物からセラミック−金属層（１９２）の製造
を含む工程。
【請求項４０】
前記セラミック−金属層（１９２）が、サーメット層として形成されることを特徴とする、請求項３９に記載の工程。
【請求項４１】
前記セラミック−金属層（１９２）が、熱溶射によって生成されることを特徴とする、請求項３９又は４０に記載の工程。
【請求項４２】
前記セラミック−金属層（１９２）が、大気プラズマ溶射によって、真空プラズマ溶射によって、又はフレーム溶射によって生成されることを特徴とする、請求項４１に記載の工程。
【請求項４３】
前記セラミック−金属層（１９２）が、高速プラズマ溶射によって生成されることを特徴とする、請求項４１に記載の工程。
【請求項４４】
前記セラミック−金属層（１９２）が、セラミック材料の粉末と金属粉との混合物から形成されることを特徴とする、請求項３９から４３のいずれか一項に記載の工程。
【請求項４５】
高温耐腐食性合金を包含する金属粉が使用されることを特徴とする、請求項４４に記載の工程。
【請求項４６】
アルミニウムから酸化形成される合金を包含する金属粉が使用されることを特徴とする、請求項４４又は４５に記載の工程。
【請求項４７】
主な金属成分に加えて、クロミウム、アルミニウム、及び／又はイットリウムを含有する金属粉が使用されることを特徴とする、請求項４４から４６のいずれか一項に記載の工程。
【請求項４８】
前記セラミック−金属層（１９２）を製造するために、酸化アルミニウム及び／又は二酸化タイタニウム及び／又は二酸化ジルコニウム及び／又は酸化マグネシウムを包含するセラミック材料が使用されることを特徴とする、請求項３９から４７のいずれか一項に記載の工程。
【請求項４９】
前記セラミック−金属層（１９２）を製造するために、イットリウム安定化二酸化ジルコニウムを包含するセラミック材料が使用されることを特徴とする、請求項３９から４８のいずれか一項に記載の工程。
【請求項５０】
前記セラミック−金属層（１９２）を製造するために、アルミニウム−マグネシウムのスピネルを包含するセラミック材料が使用されることを特徴とする、請求項３９から４９のいずれか一項に記載の工程。
【請求項５１】
前記セラミック−金属層（１９２）を製造するために、セラミック材料対金属材料の重量による平均混合比率が、約1:1から約8:1である混合物が使用されることを特徴とする、請求項３９から５０のいずれか一項に記載の工程。
【請求項５２】
前記セラミック−金属層（１９２）を製造するために、セラミック材料対金属材料の重量による平均混合比率が、約2:1から約6:1である混合物が使用されることを特徴とする、請求項５１に記載の工程。
【請求項５３】
セラミック材料対金属材料の混合比率が、前記セラミック−金属層（１９２）の製造中に変化することを特徴とする、請求項３９から５２のいずれか一項に記載の工程。
【請求項５４】
製造される前記セラミック−金属層（１９２）が、金属半田層（１９０）によって前記燃料電池スタック（１００）の構造部品（１１２）に半田付けされ、前記セラミック−金属層（１９２）の金属材料の重量割合が、前記半田層（１９０）からの距離の増加に伴って減少するように、セラミック材料対金属材料の混合比率が、前記セラミック−金属層（１９２）の製造中に変化することを特徴とする、請求項５３に記載の工程。
【請求項５５】
前記セラミック−金属層（１９２）が、約10μmから約100μmの平均の層厚さで製造されることを特徴とする、請求項３９から５４のいずれか一項に記載の工程。
【請求項５６】
前記セラミック−金属層（１９２）が、約30μmから約50μmの平均の層厚さで製造されることを特徴とする、請求項５５に記載の工程。
【請求項５７】
電気的に絶縁するセラミック材料から構成される絶縁層（１６２）が、前記セラミック−金属層（１９２）に加えて形成されることを特徴とする、請求項３９から５６のいずれか一項に記載の工程。
【請求項５８】
製造される前記セラミック−金属層（１９２）が、金属半田層（１９０）によって前記燃料電池スタック（１００）の構造部品（１１２）に半田付けされ、前記絶縁層（１６２）が、前記セラミック−金属層（１９２）の前記半田層（１９０）と反対側に配置されるように製造されることを特徴とする、請求項５７に記載の工程。
【請求項５９】
前記絶縁層（１６２）が、熱溶射によって生成されることを特徴とする、請求項５７又は５８に記載の工程。
【請求項６０】
前記絶縁層（１６２）が、大気プラズマ溶射によって、真空プラズマ溶射によって、又はフレーム溶射によって生成されることを特徴とする、請求項５９に記載の工程。
【請求項６１】
前記絶縁層（１６２）が、高速プラズマ溶射によって生成されることを特徴とする、請求項５９に記載の工程。
【請求項６２】
前記絶縁層（１６２）の製造のために、酸化アルミニウム及び／又は二酸化タイタニウム及び／又は二酸化ジルコニウム及び／又は酸化マグネシウムを包含する、セラミック材料が使用されることを特徴とする、請求項５７から６１のいずれか一項に記載の工程。
【請求項６３】
前記絶縁層（１６２）の製造のために、アルミニウム−マグネシウムのスピネルを包含する、セラミック材料が使用されることを特徴とする、請求項５７から６２のいずれか一項に記載の工程。
【請求項６４】
前記絶縁層（１６２）が、約50μmから約200μmの平均の層厚さで製造されることを特徴とする、請求項５７から６３のいずれか一項に記載の工程。
【請求項６５】
前記絶縁層（１６２）が、約100μmから約140μmの平均の層厚さで製造されることを特徴とする、請求項６４に記載の工程。
【請求項６６】
金属半田層（１９０）が、前記セラミック−金属層（１９２）に加えて生成されることを特徴とする、請求項３９から６５のいずれか一項に記載の工程。
【請求項６７】
前記半田層（１９０）が、半田材料の熱溶射によって少なくとも部分的に生成されることを特徴とする、請求項６６に記載の工程。
【請求項６８】
添加の銅元素を含む銀ベース半田が、前記半田層（１９０）を製造するために使用されることを特徴とする、請求項６６又は６７に記載の工程。
【請求項６９】
添加の銅元素を含まない銀ベース半田が、前記半田層（１９０）を製造するために使用されることを特徴とする、請求項６６から６８のいずれか一項に記載の工程。
【請求項７０】
添加の酸化銅を含有する銀ベース半田が、前記半田層（１９０）を製造するために使用されることを特徴とする、請求項６９に記載の工程。
【請求項７１】
添加のチタニウムを含む銀ベース半田が、前記半田層（１９０）を製造するために使用されることを特徴とする、請求項６６から７０のいずれか一項に記載の工程。
【請求項７２】
前記セラミック−金属層（１９２）を包含する前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の構造部品（１１４）にコーティングして形成されることを特徴とする、請求項３９から７１のいずれか一項に記載の工程。
【請求項７３】
前記セラミック−金属層（１９２）を包含する前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の金属構造部品（１１４）にコーティングして形成されることを特徴とする、請求項７２に記載の工程。
【請求項７４】
前記セラミック−金属層（１９２）を包含する前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の構造部品（１１２）に半田付けされることを特徴とする、請求項３９から７３のいずれか一項に記載の工程。
【請求項７５】
前記セラミック−金属層（１９２）を包含する前記密閉配列（１１８）が、前記燃料電池スタック（１００）の燃料電池ユニット（１０２）の金属構造部品（１１２）に半田付けされることを特徴とする、請求項７４に記載の工程。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本発明に従う工程の特定の形態は、請求項４０から７５の主題であり、その利点は、本発明に従う密閉配列の特定の形態に関連して、上記ですでに説明されている。