【手続補正書】
【提出日】平成20年8月19日(2008.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）分子状酸素を含む酸化剤流を気泡塔型反応器の反応ゾーン中に導入し；
（ｂ）前記反応ゾーン中に含まれる多相反応媒体の液相中において被酸化性化合物を酸化させ（前記酸化は、前記被酸化性化合物の少なくとも１０重量％に、反応媒体中で固相生成物を形成させ、前記反応媒体の１／２高さにおける時間平均空塔速度が少なくとも０．３ｍ／秒である）；そして
（ｃ）１個又はそれ以上の高位置開口部を経て、前記反応ゾーンから前記固体生成物の少なくとも一部を回収する（前記分子状酸素の少なくとも一部は前記高位置開口部の下方において前記反応ゾーンに入る）
ことを含んでなる方法。
【請求項２】
前記反応ゾーンから回収される総固相生成物の少なくとも５０重量％が前記高位置開口部を経て回収される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分子状酸素の少なくとも５０重量％が前記高位置開口部の下方において反応ゾーンに入る請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記反応ゾーンから回収される固相生成物の実質的に全てを前記高位置開口部を経て回収し、分子状酸素の実質的に全てを前記高位置開口部の下方で前記反応ゾーンに入れ、前記反応媒体が最大高さ（Ｈ）を有し、前記高位置開口部が前記反応ゾーンの底部から少なくとも１Ｈに位置する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記方法が被酸化性化合物を含む供給流を反応ゾーン中に導入することを含み、前記供給流の少なくとも一部が高位置開口部の下方において前記反応ゾーンに入る請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記反応ゾーンから回収される総固相生成物の少なくとも５０重量％を前記高位置開口部を経て回収する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記被酸化性化合物の少なくとも５０重量％が前記高位置開口部の下方において前記反応ゾーンに入る請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記反応媒体が最大幅（Ｗ）を有し、前記高位置開口部が反応ゾーンの底部から少なくとも１Ｗに位置する請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記分子状酸素の実質的に全てが前記高位置開口部の下方において前記反応ゾーンに入る請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記反応媒体が最大高さ（Ｈ）、最大幅（Ｗ）及び少なくとも３：１のＨ：Ｗ比を有する請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
前記高位置開口部が前記反応ゾーンの底部から少なくとも２Ｗに位置する請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記Ｈ：Ｗ比が８：１〜２０：１の範囲である請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記分子状酸素の大部分が、前記反応ゾーンの底部の０．２５Ｗ及び０．０２５Ｈ以内において前記反応ゾーンに入る請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記被酸化性化合物の少なくとも３０重量％が、前記分子状酸素が前記反応ゾーンに入る最も低い位置の１．５Ｗ以内において前記反応ゾーンに入る請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記供給流を複数の供給開口部を経て前記反応ゾーンに導入し、前記供給開口部の少なくとも２つが互いに垂直方向に少なくとも０．５Ｗの間隔をあけて配置されている請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記方法が、前記高位置開口部を経て回収された反応媒体を脱気ゾーンにおいて脱気することによって、５容量％未満の気体を含む、実質的に脱気されたスラリーを生成することを更に含み、前記脱気が、主に前記反応媒体の固相及び液相中における前記反応媒体の気相の自然浮揚性によって引き起こされる請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記脱気ゾーンが脱気容器の１つ又はそれ以上の直立側壁の間に規定され、前記脱気ゾーンの最大水平断面積が前記反応ゾーンの最大水平面積の２５％未満である請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記被酸化性化合物が芳香族化合物である請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記被酸化性化合物がｐ−キシレンである請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記反応媒体が時間平均及び容量平均ベースで５〜４０重量％の範囲の固体を含む請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記酸化をコバルトを含む触媒系の存在下で実施する請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記触媒系が臭素及びマンガンを更に含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記気泡塔型反応器から回収された固相生成物の少なくとも一部を二次酸化反応器中における酸化に供することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記二次酸化反応器中における前記酸化を、前記気泡塔型反応器中における前記酸化よりも少なくとも１０℃高い平均温度で実施する請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記二次酸化反応器における前記酸化を、前記気泡塔型反応器の平均温度よりも２０〜８０℃高い範囲の平均温度で実施し、前記気泡塔型反応器中の前記酸化を１４０〜１８０℃の範囲の平均温度で実施し、前記二次酸化反応器における前記酸化を１８０〜２２０℃の範囲の平均温度で実施する請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
細長い反応ゾーンを規定する容器シェル（前記反応ゾーンは互いに軸方向距離（Ｌ）の間隔をあけて配置された常態での下端及び常態での上端を含み、前記反応ゾーンは最大直径（Ｄ）を有し、前記反応ゾーンは少なくとも６：１のＬ：Ｄ比を有する）；
気相流を前記反応ゾーンに導入するための１つ又はそれ以上の気体用開口部；
液相流を前記反応ゾーン中に導入するための１つ又はそれ以上の液体用開口部；
前記反応ゾーンから固相生成物を回収するための１つ又はそれ以上の生成物用高位置開口部（前記生成物用開口部は、少なくとも１つの前記気体用開口部の及び少なくとも１つの前記液体用開口部よりも常態での下端から軸方向に遠くに位置する）
を含む気泡塔型反応器；
前記気泡塔型反応器から独立した下流容器；並びに
少なくとも１つの前記生成物用開口部から回収された固相生成物の少なくとも一部を前記下流容器に運搬するための導管
を含んでなる装置。
【請求項２７】
少なくとも１つの前記気体用開口部が、前記反応ゾーンの常態での下端から０．２５Ｄ未満の軸方向距離をあけて配置された請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記液体用開口部の全てによって規定される累積孔面積の少なくとも５０％を、前記の常態での下端に最も近い位置の気体用開口部から２．５Ｄ未満の間隔をあけて配置する請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記気体用開口部の全てによって規定される累積孔面積の少なくとも５０％を、前記生成物用開口部よりも前記の常態での下端の近くに配置する請求項２６に記載の気泡塔型反応器。
【請求項３０】
前記液体用開口部の全てによって規定される累積孔面積の少なくとも５０％を、前記生成物用開口部よりも前記の常態での下端の近くに配置する請求項２６に記載の気泡塔型反応器。
【請求項３１】
前記気体用開口部の全てによって規定される累積孔面積の実質的に全てを、前記生成物用開口部より前記の常態での下端の近くに配置し、前記液体用開口部の全てによって規定される累積孔面積の実質的に全てを、前記生成物用開口部より前記の常態での下端の近くに配置する請求項２６に記載の気泡塔型反応器。
【請求項３２】
前記生成物用開口部が前記反応ゾーンの前記の常態での下端から少なくとも１Ｄに配置する請求項２６に記載の気泡塔型反応器。
【請求項３３】
前記生成物開口部を、反応ゾーンの前記の常態での下端から少なくとも２Ｄに配置する請求項２６に記載の気泡塔型反応器。
【請求項３４】
前記反応ゾーンが８：１〜２０：１の範囲のＬ：Ｄ比を有する請求項２６に記載の気泡塔型反応器。