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【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザ発振器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビームを発振するレーザ発振器であって、
基板上に設けられた第１の電極と、
前記第１の電極上に設けられた、有機物を含む第１の層と、
前記第１の層上に設けられた、少なくとも発光材料を含む有機物と金属酸化物とを含む第２の層と、
前記第２の層上に設けられた、有機物を含む第３の層と、
前記第３の層上に設けられた第２の電極と、で構成される発光素子を有することを特徴とするレーザ発振器。
【請求項２】
波長λのレーザビームを発振するレーザ発振器であって、
基板上に設けられた第１の電極と、
前記第１の電極上に設けられた、有機物を含む第１の層と、
前記第１の層上に設けられた、少なくとも発光材料を含む有機物と金属酸化物とを含む第２の層と、
前記第２の層上に設けられた、有機物を含む第３の層と、
前記第３の層上に設けられた第２の電極と、で構成される発光素子を有し、
前記第２の層の膜厚ｄｅは、前記第２の層の屈折率をｎｅとしてｄｅ＝ｍλ／２ｎｅ（ｍは１以上の整数）を満たすことを特徴とするレーザ発振器。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記金属酸化物は、ビスマス酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、タンタル酸化物、ニッケル酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、又はジルコニウムチタン酸化物であることを特徴とするレーザ発振器。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第２の層に含まれる有機物と金属酸化物の金属イオンとのモル比は、有機物／金属イオン＝０．１以上１０以下であることを特徴とするレーザ発振器。
【請求項５】
レーザビームを発振するレーザ発振器であって、
基板上に設けられた第１の電極と、
前記第１の電極上に設けられた、有機物を含む第１の層と、
前記第１の層上に設けられた、少なくとも発光材料を含む有機物と金属硫化物とを含む第２の層と、
前記第２の層上に設けられた、有機物を含む第３の層と、
前記第３の層上に設けられた第２の電極と、で構成される発光素子を有することを特徴とするレーザ発振器。
【請求項６】
波長λのレーザビームを発振するレーザ発振器であって、
基板上に設けられた第１の電極と、
前記第１の電極上に設けられた、有機物を含む第１の層と、
前記第１の層上に設けられた、少なくとも発光材料を含む有機物と金属硫化物とを含む第２の層と、
前記第２の層上に設けられた、有機物を含む第３の層と、
前記第３の層上に設けられた第２の電極と、で構成される発光素子を有し、
前記第２の層の膜厚ｄｅは、前記第２の層の屈折率をｎｅとしてｄｅ＝ｍλ／２ｎｅ（ｍは１以上の整数）を満たすことを特徴とするレーザ発振器。
【請求項７】
請求項５又は請求項６において、
前記金属硫化物は、ＺｎＳ又はＣｄＳであることを特徴とするレーザ発振器。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７のいずれか一項において、
前記第２の層に含まれる有機物と金属硫化物の金属イオンとのモル比は、有機物／金属イオン＝０．１以上１０以下であることを特徴とするレーザ発振器。
【請求項９】
請求項２又は請求項６において、
前記第１の層又は前記第３の層の膜厚ｄｆは、前記第１の層又は前記第３の層の屈折率をｎｆとすると、ｄｆ＝（２ｍ−１）λ／４ｎｆを満たすことを特徴とするレーザ発振器。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記第１の層は正孔注入層又は正孔輸送層を有し、
前記第３の層は電子輸送層又は電子注入層を有することを特徴とするレーザ発振器。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記第１の層は電子輸送層又は電子注入層を有し、
前記第３の層は正孔注入層又は正孔輸送層を有することを特徴とするレーザ発振器。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項において、
前記基板及び前記第１の電極は透光性を有することを特徴とするレーザ発振器。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項において、
前記第２の電極上に設けられた基板を有し、
前記第２の電極上に設けられた基板と前記第２の電極は透光性を有することを特徴とするレーザ発振器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
屈折率の高い金属化合物としては、Ｂｉ２Ｏ３に代表されるビスマス酸化物、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ３Ｏ５、ＴｉＯ２に代表されるチタン酸化物、ＺｒＯ２に代表されるジルコニウム酸化物、Ｔａ２Ｏ５に代表されるタンタル酸化物、ＮｉＯに代表されるニッケル酸化物、ＺｎＯに代表される亜鉛酸化物のような金属酸化物が好ましい。その他、ＺｎＳ、ＣｄＳのような金属硫化物などを用いることもできる。また、Ｉｎ２Ｏ３：ＳｎＯ２に代表されるインジウム錫酸化物や、ＺｒＯ２：ＴｉＯ２に代表されるジルコニウムチタン酸化物のような複合酸化物も用いることができる。なお、金属化合物の量は少なすぎると屈折率の上昇が充分でなく、多すぎると抵抗が上昇しすぎる等の弊害がある。したがって、発光層における発光材料やホストも含めた全ての有機物と、金属化合物の全金属イオンとのモル比は、好ましくは、有機物／金属イオン＝０．０１以上１００以下であり、より好ましくは、有機物／金属イオン＝０．１以上１０以下である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パケット入力回線に接続された複数の入力回線インタフェースと、パケット出力回線に接続された複数の出力回線インタフェースと、上記各入力回線インタフェースからの出力パケットを上記出力回線インタフェースのうちの１つに選択的にルーティングするためのパケット転送制御部とからなるパケット中継装置であって、
上記パケット転送制御部が、１つの宛先アドレスに対応して経路情報の異なる複数のテーブルエントリをもつマルチパスルーティングテーブルを備え、
該パケット転送制御部が、上記マルチパスルーティングテーブルが示す経路情報に従って、同一の宛先アドレスをもつ複数の受信パケットを少なくとも２つの出力回線インタフェースに選択的に振り分けることを特徴とするパケット中継装置。
【請求項２】
前記パケット転送制御部が、宛先アドレス毎に１つの経路情報エントリをもつシングルパスルーティングテーブルを備え、前記マルチパスルーティングテーブルに未定義の宛先アドレスをもつ受信パケットについては、上記シングルパスルーティングテーブルが示す経路情報によって特定される何れかの出力回線インタフェースにルーティングすることを特徴とする請求項１に記載のパケット中継装置。
【請求項３】
前記複数の入力回線インタフェースを含む受信パケット処理部と、前記複数の出力回線インタフェースを含む送信パケット処理部とを有し、
上記受信パケット処理部が、上記各入力回線インタフェースから出力された受信パケットのヘッダ情報を前記パケット転送制御部に通知し、該パケット転送制御部からの指示に従って、上記受信パケットを出力回線識別子を含む内部ヘッダ付きのパケットに変換するパケット変換部を備え、
上記送信パケット処理部が、上記受信パケット処理部からの出力パケットを受信し、受信パケットをその内部ヘッダが示す出力回線識別子で特定される何れかの出力回線インタフェースに振り分けるための手段を備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のパケット中継装置。
【請求項４】
前記パケット変換部が、前記パケット転送制御部からの指示に従って、前記何れかの入力回線インタフェースから出力された受信パケットに経路識別情報を含む制御ヘッダを付加する機能を備えたことを特徴とする請求項３に記載のパケット中継装置。
【請求項５】
前記マルチパスルーティングテーブルの各テーブルエントリが、宛先アドレスとパスインデクス値との組合せに対応して経路情報を定義しており、
前記パケット転送制御部が、受信パケット毎に検索キーとなるパスインデクス値を切り替えて、上記マルチパスルーティングテーブルから受信パケットの宛先アドレスと対応する経路情報を検索することを特徴とする請求項１〜請求項４の何れかに記載のパケット中継装置。
【請求項６】
前記パケット転送制御部が、それぞれフロー定義情報と対応してパスインデクスの現在値を示す複数のテーブルエントリからなるパケット出力制御テーブルを備え、
該パケット転送制御部が、受信パケット毎に、上記パケット出力制御テーブルからフロー定義情報が受信パケットのヘッダ情報に適合するテーブルエントリを検索し、該テーブルエントリが示すパスインデクス値を検索キーとして、前記マルチパスルーティングテーブルから受信パケットの宛先アドレスと対応する経路情報を検索することを特徴とする請求項５に記載のパケット中継装置。
【請求項７】
複数のノード装置からなり、エッジノード装置間に複数の通信経路をもつパケット通信ネットワークにおいて、
パケットを送受信する少なくとも１対のエッジノード装置が、パケット入力回線に接続された複数の入力回線インタフェースと、パケット出力回線に接続された複数の出力回線インタフェースと、上記各入力回線インタフェースからの出力パケットを上記出力回線インタフェースのうちの１つに選択的にルーティングするためのパケット転送制御部とからなり、
上記パケット転送制御部が、１つの宛先アドレスに対応して経路情報の異なる複数のテーブルエントリをもつマルチパスルーティングテーブルを備え、
該パケット転送制御部が、上記マルチパスルーティングテーブルが示す経路情報に従って、同一の宛先アドレスをもつ複数の受信パケットを少なくとも２つの出力回線インタフェースに選択的に振り分けることによって、受信パケットを異なる経路で対向エッジノード装置に転送することを特徴とするパケット通信ネットワーク。
【請求項８】
前記パケット転送制御部が、宛先アドレス毎に１つの経路情報エントリをもつシングルパスルーティングテーブルを備え、前記マルチパスルーティングテーブルに未定義の宛先アドレスをもつ受信パケットについては、上記シングルパスルーティングテーブルが示す経路情報によって特定される何れかの出力回線インタフェースにルーティングすることを特徴とする請求項７に記載のパケット通信ネットワーク。
【請求項９】
前記複数の入力回線インタフェースを含む受信パケット処理部と、前記複数の出力回線インタフェースを含む送信パケット処理部とを有し、
上記受信パケット処理部が、上記各入力回線インタフェースから出力された受信パケットのヘッダ情報を前記パケット転送制御部に通知し、該パケット転送制御部からの指示に従って、上記受信パケットを出力回線識別子を含む内部ヘッダ付きのパケットに変換するパケット変換部を備え、
上記送信パケット処理部が、上記受信パケット処理部からの出力パケットを受信し、受信パケットをその内部ヘッダが示す出力回線識別子で特定される何れかの出力回線インタフェースに振り分けるための手段を備えたことを特徴とする請求項７または請求項８に記載のパケット通信ネットワーク。
【請求項１０】
前記受信パケット処理部が、送信待ち受信パケットを一時的に蓄積するための送信待ちキューメモリを有し、
前記パケット転送制御部が、対向エッジノード装置からの受信パケットについて、既に転送済みの受信パケットと新たな受信パケットのヘッダが示す送信順序情報に基づいて、各受信パケットの到着順序をチェックし、新たな受信パケットよりも先に対向エッジノード装置から送信されたパケットが未着の場合、前記受信パケット処理部に、該受信パケットの上記送信待ちキューメモリへの蓄積を指示し、先行パケットが受信された時点で、該先行パケットの転送後に上記送信待ち受信パケットの前記送信パケット処理部への転送を指示することを特徴とする請求項９に記載のパケット通信ネットワーク。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月2日(2007.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緊急地震速報により家庭内に設置した家電機器を制御する情報家電防災システムであって、
地震の主要動到達前の前記緊急地震速報として地震の震源と発生時刻と大きさの情報を受信する受信手段と、
個別のパラメータとして建物の構造、高さ、地盤、位置の情報を保持するパラメータ保持手段と、
前記受信した緊急地震速報と前記パラメータ保持手段に保持したパラメータに基づき前記地震の主要動の到達予測時刻と予測震度を算出する地震情報演算手段と、
前記算出した地震の主要動の到達予測時刻と予測震度に応じて家庭内に設置した家電機器を制御する機器制御手段と
を備え、前記地震の主要動到達前に前記家電機器として、ガス遮断弁、電子錠、熱源遮断弁、又は電源コンセントを制御することを特徴とする情報家電防災システム。
【請求項２】
前記機器制御手段は、ホームネットインターフェースを介してホームネットワークに接続された家電機器を制御することを特徴とする請求項１記載の情報家電防災システム。
【請求項３】
前記機器制御手段は、無線リンクインターフェースを介して無線ネットワークに接続された家電機器を制御することを特徴とする請求項１記載の情報家電防災システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３０５６０４号公報
【特許文献２】特開２００５−２９５２９０号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明では、課題を解決するための手段として、特許請求の範囲に記載するように構成している。すなわち、緊急地震速報により家庭内に設置した家電機器を制御する情報家電防災システムであって、地震の主要動到達前の前記緊急地震速報として地震の震源と発生時刻と大きさの情報を受信する受信手段と、個別のパラメータとして建物の構造、高さ、地盤、位置の情報を保持するパラメータ保持手段と、前記受信した緊急地震速報と前記パラメータ保持手段に保持したパラメータに基づき前記地震の主要動の到達予測時刻と予測震度を算出する地震情報演算手段と、前記算出した地震の主要動の到達予測時刻と予測震度に応じて家庭内に設置した家電機器を制御する機器制御手段とを備え、前記地震の主要動到達前に前記家電機器として、ガス遮断弁、電子錠、熱源遮断弁、又は電源コンセントを制御することを特徴とする。また、前記機器制御手段は、ホームネットインターフェースを介してホームネットワークに接続された家電機器を制御し、無線リンクインターフェースを介して無線ネットワークに接続された家電機器を制御することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、前記地震の主要動到達前に前記家電機器として、ガス遮断弁、電子錠、熱源遮断弁、又は電源コンセントを制御するので、情報家電に対して確実な防災システムが得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、家庭に対してホームネットワークや無線ネットワークによって、緊急地震速報を確実にまた、正確に伝達することが可能となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
そして、使える無線ネットワークとしては、ＩＥＥＥ８０２．１１ｂ
（Ｗｉ−Ｆｉ）、ＩＥＥＥ８０２．１５／（Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ：登録商標）、ＩＥＥＥ８０２．１５．４（Ｚｉｇｂｅｅ）がある。これらを比較すると表２の様になる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月25日(2007.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に固着して形成された電極層と、その電極層上に固着して形成された圧電／電歪層と、からなる圧電／電歪素子の製造方法において、
前記基板上に前記電極層を形成するために、当該基板上に金属を含む第１の層を形成する第１層形成工程と、
前記第１層形成工程により形成された前記第１の層の上に圧電／電歪材料を含む第２の層を形成する第２層形成工程と、
前記第１及び第２の層が形成された前記基板を焼成温度に加熱して、少なくとも前記第２層形成工程により形成された前記第２の層を焼成することで、前記基板よりも熱膨張率が大きな前記圧電／電歪素子を形成する焼成工程と、
前記焼成工程の後に前記圧電／電歪素子を冷却する冷却工程と、
を含み、
前記冷却工程の途中に、温度を前記焼成温度よりも低い一定温度に保持する温度保持工程を含む、
圧電／電歪素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の圧電／電歪素子の製造方法であって、
前記冷却工程は、前記焼成工程を経た前記圧電／電歪素子を自然冷却以上の降温速度で冷却する、
圧電／電歪素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の圧電／電歪素子の製造方法であって、
前記一定温度は、前記電極層を構成する前記金属が高温クリープする温度域内の温度である、
圧電／電歪素子の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の圧電／電歪素子の製造方法であって、
前記一定温度は、前記電極層を構成する前記金属の融点Ｔｍ（Ｋ）の０．３倍以上の温度である、
圧電／電歪素子の製造方法。
【請求項５】
基板と、その基板上に固着して形成された電極層と、その電極層上に固着して形成された圧電／電歪層と、からなる圧電／電歪素子において、
前記電極層は、高温クリープにより変形されている、
圧電／電歪素子。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換を行う画素が表面に複数配置された画素部を形成するための半導体基板の製造方法であって、
酸素濃度Ｄが１．３Ｅ１８≦Ｄ≦１．５Ｅ１８  ａｔｏｍｓ／ｃｍ3(ｏｌｄ  ＡＳＴＭ)の半導体基板の一部に無欠陥領域を形成する工程と、
前記無欠陥領域を形成した後、前記半導体基板中にバルクマイクロディフェクトを形成する工程と、
前記バルクマイクロディフェクトを形成した後、前記半導体基板の裏面にポリシリコンを形成する工程と、を有することを特徴とする半導体基板の製造方法。
【請求項２】
前記バルクマイクロディフェクトの密度が１Ｅ５／ｃｍ2以上であることを特徴とする請求項１記載の半導体基板の製造方法。
【請求項３】
前記ポリシリコンの厚さＴが０．５≦Ｔ≦２．０μｍであることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体基板の製造方法。
【請求項４】
前記無欠陥領域を形成する工程は、１１００℃以上の熱処理であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の半導体基板の製造方法。
【請求項５】
前記バルクマイクロディフェクトを形成する工程は、２段階の熱処理であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の半導体基板の製造方法。
【請求項６】
前記ポリシリコンを前記半導体基板に形成した後、前記半導体基板に金属配線を形成する前に、温度Ｈが４５０℃≦Ｈ≦７５０℃の熱処理を１時間以上行う工程をさらに有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の半導体基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の課題を解決するために、本発明は、光電変換を行う画素が表面に複数配置された画素部を形成するための半導体基板の製造方法であって、酸素濃度Ｄが１．３Ｅ１８≦Ｄ≦１．５Ｅ１８  ａｔｏｍｓ／ｃｍ3(ｏｌｄ  ＡＳＴＭ)の半導体基板の一部に無欠陥領域を形成する工程と、前記無欠陥領域を形成した後、前記半導体基板中にバルクマイクロディフェクトを形成する工程と、前記バルクマイクロディフェクトを形成した後、前記半導体基板の裏面にポリシリコンを形成する工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月9日(2007.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記パターン形成されたビームを前記目標部分上に投影中、前記基板テーブルを調節方向に移動させるように構成された基板テーブル調節装置をさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記パターン形成されたビームを前記目標部分上に投影中、前記支持体を前記調節方向に移動させるように構成された支持体調節装置をさらに含む、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記パターン形成されたビームを前記目標部分上に投影中、前記基板テーブルを、前記軸線に垂直な方向に成分を有する動きに沿った、所定のゼロ以外の距離のところにある少なくとも第１の位置及び第２の位置内に位置決め可能な、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記投影の段階中、前記パターン形成されたビームにパターンを供給するパターン形成装置の支持体を、前記走査方向に、前記軸線に垂直な方向に成分を有し且つ前記軸線を少なくとも２回横切る動きとともに移動させる工程をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月12日(2007.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パケットが入力される複数の入力回線と、
パケットを出力する複数の出力回線と、
入力パケットの出力回線を示す経路情報を該入力パケットのヘッダに含まれる情報より判定する経路制御部と、
該経路情報に対応する出力回線に該パケットを転送するデータ中継部を備え、
上記経路制御部が、
パケットヘッダに含まれる情報の一部或いは全部を抽出して、これを検索キーとして検索を行うフォワーディングテーブル制御部と、
上記検索キーに基づいて、メモリ内で検索条件が収容されている物理的位置に関する情報を出力するためのフォワーディングテーブルと、
上記物理的位置に収容される該検索条件に対応する経路情報を収容する経路情報テーブルと、
上記物理的位置に関する情報に基づいて上記経路情報テーブルから上記経路情報を検索する経路情報テーブル制御部とからなるデータ転送装置であって、
上記フォワーディングテーブルは同一検索ビット幅を持つ複数の物理バンクによって構成されるアレイに格納され、
上記フォワーディングテーブル制御部は、
上記検索キーから検索すべき物理バンクを決定する為の計算を行う関数部と、
該関数部の出力値を変換するレジスタとを有し、
該レジスタからの出力値に対応する上記物理バンクに検索を指示することを特徴とするデータ転送装置。
【請求項２】
上記フォワーディングテーブル制御部が、
上記パケットヘッダに含まれる情報の一部或いは全部を抽出して上記検索キーを生成する検索キー生成部と、
上記フォワーディングテーブルが収容する上記検索条件を生成する検索条件生成部と、
上記フォワーディングテーブルに対し、上記検索キーに対応する上記物理的位置に関する情報を検索する時に検索コマンドを生成し、上記フォワーディングテーブルに上記検索条件を収容する時には書き込みコマンドを生成するコマンド制御部と、
上記フォワーディングテーブルに対し、上記検索キーに対応する上記物理的位置に関する情報を検索する時に検索すべき物理バンクを決定し、上記検索条件から収容すべき物理バンクを決定する物理バンク決定部とからなることを特徴とする請求項１記載のデータ転送装置。
【請求項３】
上記物理バンク決定部が、
上記検索キー或いは上記検索条件を入力とし、
上記検索キーに対応する上記物理的位置に関する情報を検索する時に検索すべき物理バンクの番号を示す値を出力し、または上記検索条件から収容すべき物理バンクの番号を示す番号を出力する上記関数部と、
上記関数部からの出力値に対応する物理バンクの番号を示すレジスタと、
上記出力値を該レジスタに示される物理バンクの番号に変換し、変換値が示す物理バンクに対して検索または登録を指示する出力値変換部とからなることを特徴とする請求項２記載のデータ転送装置。
【請求項４】
上記入力回線から入力されたパケットを一時的に蓄積するためのバッファメモリと、
上記パケットを選択的に上記バッファメモリに入力するためのセレクタと、
上記バッファメモリへの上記パケットの書き込みと読み出しを制御するバッファ制御部とからなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のデータ転送装置。
【請求項５】
上記フォワーディングテーブルが連想メモリ内に構成されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載されたデータ転送装置。
【請求項６】
パケットが入力される複数の入力回線と、
パケットを出力する複数の出力回線と、
入力パケットの転送優先度を示すフロー制御情報を該入力パケットのヘッダに含まれる情報より判定するフロー制御部と、
該フロー制御情報に対応する転送優先度に従って該パケットを転送または廃棄するデータ中継部を備え、
上記フロー制御部が、
パケットヘッダに含まれる情報の一部或いは全部を抽出して、これを検索キーとして検索を指示するフロー識別テーブル制御部と、
上記検索キーに基づいてメモリ内で検索条件が収容されている物理的位置に関する情報を出力するためのフロー識別テーブルと、
上記物理的位置に収容される上記検索条件に対応するフロー制御情報を収容するフロー制御テーブルと、
上記物理的位置に関する情報に基づいて上記フロー制御テーブルから上記フロー制御情報を検索する経路情報テーブル制御部とからなるデータ転送装置であって、
上記フロー識別テーブルは同一検索ビット幅を持つ複数の物理バンクによって構成されるアレイに格納され、
上記フロー識別テーブル制御部は、
上記検索キーから検索すべき物理バンクを決定する為の計算を行う関数部と、
該関数部の出力値の変換を促すレジスタとを有し、
該レジスタに記述された上記物理バンクに検索を指示することを特徴とするデータ転送装置。
【請求項７】
上記フロー識別テーブル制御部が、
上記パケットヘッダに含まれる情報の一部或いは全部を抽出して上記検索キーを生成する検索キー生成部と、
上記フロー識別テーブルが収容する上記検索条件を生成する検索条件生成部と、
上記フロー識別テーブルに対し、上記検索キーに対応する上記物理的位置に関する情報を検索する時に検索コマンドを生成し、上記フロー識別テーブルに上記検索条件を収容する時には書き込みコマンドを生成するコマンド制御部と、
上記フロー識別テーブルに対し、上記検索キーに対応する上記物理的位置に関する情報を検索する時に検索すべき物理バンクを決定し、上記検索条件から収容すべき物理バンクを決定する物理バンク決定部とからなることを特徴とする請求項６記載のデータ転送装置。
【請求項８】
上記物理バンク決定部が、
上記検索キー或いは上記検索条件を入力とし、
上記検索キーに対応する上記物理的位置に関する情報を検索する時に検索すべき物理バンクの番号を示す値を出力し、または上記検索条件から収容すべき物理バンクの番号を示す値を出力する上記関数部と、
上記関数部からの出力値に対応する検索または収容すべき物理バンクの番号を示すレジスタと、
上記出力値を該レジスタに示される物理バンクの番号に変換し、変換値が示す物理バンクに対して検索または登録を指示する出力値変換部とからなることを特徴とする請求項７記載のデータ転送装置。
【請求項９】
上記入力回線から入力されたパケットを一時的に蓄積するためのバッファメモリと、
上記パケットを選択的に上記バッファメモリに入力するためのセレクタと、
上記バッファメモリへの上記パケットの書き込みと読み出しを制御するバッファ制御部とからなることを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載のデータ転送装置。
【請求項１０】
上記フロー識別テーブルが連想メモリ内に構成されたことを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載のデータ転送装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月15日(2007.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
又パスサーチ結果に基づいて選択したパス対応に複数のフィンガに割り当てるものであるが、その場合に、前回の選択したパスが今回も選択される場合、前回指定したフィンガに対するタイミング情報の変更を行わないように、今回も前回のフィンガと同一のフィンガを指定する手段が提案されている(例えば、特許文献１参照)。
【特許文献１】特開２０００−４０９８１号公報
【特許文献２】特開２０００−３１２１６５号公報
【特許文献３】特開２００５−０５１４７６号公報
【特許文献４】特開２０００−２０１１０１号公報
【特許文献５】特開２００５−２０９０９２号公報
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月6日(2007.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図１３は、本実施形態の結晶化装置を用いて結晶化された領域に電子デバイスを作製する工程を示す工程断面図である。図１３（ａ）に示すように、絶縁基板８０（例えば、アルカリガラス、石英ガラス、プラスチック、ポリイミドなど）の上に、下地膜８１（例えば、膜厚５０ｎｍのＳｉＮおよび膜厚１００ｎｍのＳｉＯ2積層膜など）および非晶質半導体膜８２（例えば、膜厚５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度のＳｉ，Ｇｅ，ＳｉＧｅなど）および不図示のキャップ膜８２ａ（例えば、膜厚３０ｎｍ〜３００ｎｍのＳｉＯ2膜など）を、化学気相成長法やスパッタ法などを用いて成膜した被処理基板５を準備する。そして、本実施形態にしたがう結晶化装置を用いて、非晶質半導体膜８２の表面の予め定められた領域に、レーザ光８３（例えば、ＫｒＦエキシマレーザ光やＸｅＣｌエキシマレーザ光や固体パルスレーザ光など）を照射する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月19日(2007.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
Ｘ線光電子分光分析法（ＸＰＳ）を用いて、サンプルＡ，Ｂにおける各上部電極の表面組成を調べた。その結果を図１０，図１１に示す。ここで、図１０がアニール処理を施さない場合、図１１がアニール処理のみを施した場合であり、両図共に（ａ）がサンプルＢ、（ｂ）がサンプルＡを用いた場合をそれぞれ示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2006165128.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
前記支持基板はシリコン(Si)であり、前記熱応力制御層は厚みが２〜５μｍの酸化チタン(TiO2)であることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
請求項１９に示すように請求項１乃至１４のいずれかに記載の圧電アクチュエータにおいて、前記支持基板はシリコン(Si)であり、前記熱応力制御層は厚みが２〜５μｍの酸化チタン(TiO2)であることを特徴としている。NiよりもTiO2の方が熱膨張係数が小さいため、TiO2熱応力制御層の厚みは、Ni熱応力制御層の厚みよりも厚くなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図４（Ａ）に示すように液体吐出ヘッドの液滴サイズ（体積目標）をｘピコリットル（ｐｌ）、圧力目標をｙメガパスカル（ＭＰａ）とすると、体積目標及び圧力目標の両者を満足するＰＺＴの厚みは１０μｍとなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
同様に、図４（Ｂ）に示すように体積目標をｘ（ｐｌ）、圧力目標をｙ（ＭＰａ）とすると、体積目標及び圧力目標の両者を満足する振動板の厚みは１５μｍとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
前記応力バッファ層６６は、スパッタ法、メッキ法、若しくはＡＤ法によりZrO2基板６２上に形成され、ＰＺＴ圧電膜６４は、ＡＤ法により応力バッファ層６６上に形成される。尚、ＡＤ法での成膜時の温度は、約６００°Ｃである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
応力バッファ層を導入しない場合は、ＰＺＴ圧電膜９３部分のSi振動板９５が応力変形して、変位量がばらつくことが確認されたが、応力バッファ層の導入により変位量が±１０％以内に安定することが確認された。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
［液体吐出ヘッドの構造］
図１２は液体吐出ヘッドの要部断面図である。尚、図１１と共通する部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2006165102.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2006165102.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2006165102.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月4日(2006.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機関の初期運転の間は第１の燃料（１０３）を、そして一旦機関が予定の長さの時間の間運転されたら、第２の燃料（１４２）をタービン機関に送出すように構成された少なくとも１つの燃料配管（１０８）と、
前記燃料配管（１０８）と流体が連通する燃料ノズル（２００）と、を有し、
前記燃料ノズル（２００）は共通の予備混合部分（２１０）を備え、前記共通の予備混合部分（２１０）は、複数の液体燃料回路（１１８、１２０）と流れ連通するよう接続された少なくとも一つのガス燃料回路（１０４）及び少なくとも一つの蒸気回路（１３２）と流れ連通して、前記燃料ノズルに供給された蒸気とガス燃料とが予備混合され、
前記蒸気回路は、蒸気計量弁（１３６）又は締切り弁（１３４）の少なくとも一方を持つ蒸気配管（１３８）を備え、前記蒸気配管（１３８）が蒸気を前記燃料ノズル（２００）を介して前記タービンに蒸気を供給する、タービン機関の燃料送出し装置（１００）。
【請求項２】 
前記燃料ノズルが、複数個の燃料入口（１２８、１３０）を有する請求項１記載の燃料送出し装置。
【請求項３】
前記複数個の燃料入口が、ガス燃料入口（１１２、２０２）及び少なくとも１つの液体燃料入口（１２８、１３０、２０４）を含む、請求項１記載の燃料送出し装置（１００）。
【請求項４】
前記ガス燃料入口（１１２、２０２）が前記少なくとも１つの液体燃料入口（１２８、１３０、２０４）より大きく、前記ガス燃料回路（１０４）が前記前記ガス燃料入口（１１２、２０２）に接続されたガス燃料配管を有する、請求項３記載の燃料送出し装置（１００）。
【請求項５】
前記少なくとも１つの液体燃料入口（２０４）は第１の液体燃料入口（１２８）及び第２の液体燃料入口（１３０）を含み、
前記複数の液体燃料回路が前記第1の液体燃料入口（１２８）に接続された第１の液体燃料配管（１２４）と前記第２の液体燃料入口（１３０）に接続された第２の液体燃料配管（１２６）とを有し、
前記ガス燃料配管（１０８）が前記第１の液体燃料配管及び前記第２の液体燃料配管より大きい、請求項４記載の燃料送出し装置（１００）。
【請求項６】
前記ガス燃料配管（１０８）を前記第１の液体燃料配管（１２４）に接続する第１の接続配管（１１４）と、前記ガス燃料配管（１０８）を前記第２の液体燃料配管（１２６）に接続する第２の接続配管（１１６）と、蒸気配管（１３８）と流れが連通するボイラーとを有し、
前記ノズル（２００）は更に蒸気入口（１４０、２０８）を含み、前記蒸気配管（１３８）は蒸気を前記蒸気入口（１４０、２０８）を介して前記共通の予備混合部分（２１０）に供給するように構成されている請求項５記載の燃料送出し装置（１００）。
【請求項７】
機関の運転中、ガス燃料（１０３）をそれぞれ前記第１の液体燃料配管（１２４）及び前記第２の液体燃料配管（１２６）を介して前記第1の接続配管及び第２の接続配管に供給し、前記共通の予備混合部分内が所定の圧力に達した後にガス燃料を前記ガス燃料入口を介して前記共通の予備混合部分（２１０）に供給するように構成されている請求項６記載の燃料送出し装置（１００）。
【請求項８】
前記前記第１の液体燃料配管及び前記第２の液体燃料配管から前記第1の接続配管及び第２の接続配管を介して前記ガス燃料配管にガス燃料を差し向けるよう構成され、
一旦機関が予定の長さの時間の間運転されたら、液体燃料を前記第１及び第２の液体燃料配管（１２４、１２６）に差し向けるように構成されている請求項７記載の燃料送出し装置（１００）。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月22日(2007.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項３記載の発明によれば、版材が、搬送されながら主走査方向に引っ張られる状態となるので、版材が主走査方向に収縮しようとするのが、より効果的に防止される。したがって、版材の主走査方向における熱収縮を、より効果的に抑制できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
請求項９記載の発明によれば、そのような版材を用いても、上記構成の製版装置によって、版材が副走査方向や主走査方向に熱収縮するのを、防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
スライド部材１６０に設けたスライド部材連結孔１６１はシート材の切断幅方向の長孔とした。該長孔の長辺を駆動ピン４０の外径の回転軌跡よりも小さい該駆動ピン４０の回転直径と同じ１１．５ｍｍ、短辺を１２ｍｍとし、スライド部材１６０が切断幅方向に５．５ｍｍだけ移動できるようにした。また、スライド部材１６０に設けた接触部１６２、１６３は、ステンレス鋼を切削加工した固定ピンを、可動刃２０に設けた異形孔２６、２７のシート材の幅方向の配置間隔と同じになるようにスライド部材１６０にかしめて配置した。更に、図５に示すように可動刃２０に設けた異形孔２６、２７の上側の端面２６ｃ、２７ｃに該接触部１６２、１６３が接触しないように各部品の位置関係を配置した。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、光重合開始剤（Ａ）、高分子結合剤（Ｂ）、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体（Ｃ）、増感色素（Ｄ）を含有する感光性組成物を塗設してなる感光性平版印刷版材料において、前記支持体が粗面化処理、陽極酸化処理およびポリビニルホスホン酸水溶液による処理を施されたアルミニウム版であり、支持体表面のポリビニルホスホン酸処理の水洗水温度が４０〜９５℃であることを特徴とする感光性平版印刷版材料。
【請求項２】
前記ポリビニルホスホン酸水溶液のｐＨが１．５〜７．８であることを特徴とする請求項１に記載の感光性平版印刷版材料。
【請求項３】
前記増感色素（Ｄ）が、波長３５０〜４５０ｎｍの間に吸収極大を有することを特徴とする請求項１または２に記載の感光性平版印刷版材料。
【請求項４】
前記光重合開始剤（Ａ）が、鉄アレーン錯体化合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版材料。
【請求項５】
前記感光性組成物が、トリハロアルキル化合物（Ｅ）、光で酸化し得る基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体（Ｆ）、を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版材料。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版材料を、波長が３５０〜４５０ｎｍのレーザー光により画像露光して画像様に該感光性組成物層を光硬化させた後、未露光部分の感光性組成物層をアルカリ現像液で支持体から除去することを特徴とする感光性平版印刷版材料の画像形成方法。
【請求項７】
光重合開始剤（Ａ）、高分子結合剤（Ｂ）、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体（Ｃ）、増感色素（Ｄ）を含有する感光性組成物を塗設してなる感光性平版印刷版材料に用いるアルミニウム支持体の製造方法であって、前記アルミニウム支持体が粗面化処理、陽極酸化処理およびポリビニルホスホン酸水溶液による処理が施された後、水温が４０〜９５℃の水洗水で水洗処理することを特徴とするアルミニウム支持体の製造方法。
【請求項８】
光重合開始剤（Ａ）、高分子結合剤（Ｂ）、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体（Ｃ）、増感色素（Ｄ）を含有する感光性組成物を塗設してなる感光性平版印刷版材料に用いるアルミニウム支持体であって、前記アルミニウム支持体は、粗面化処理、陽極酸化処理およびポリビニルホスホン酸水溶液による処理が施された後、水温が４０〜９５℃の水洗水で水洗処理されたものであることを特徴とするアルミニウム支持体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】感光性平版印刷版材料、画像形成方法、アルミニウム支持体の製造方法及びアルミニウム支持体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（請求項６）
請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性平版印刷版材料を、波長が３５０〜４５０ｎｍのレーザー光により画像露光して画像様に該感光性組成物層を光硬化させた後、未露光部分の感光性組成物層をアルカリ現像液で支持体から除去することを特徴とする感光性平版印刷版材料の画像形成方法。
（請求項７）
光重合開始剤（Ａ）、高分子結合剤（Ｂ）、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体（Ｃ）、増感色素（Ｄ）を含有する感光性組成物を塗設してなる感光性平版印刷版材料に用いるアルミニウム支持体の製造方法であって、前記アルミニウム支持体が粗面化処理、陽極酸化処理およびポリビニルホスホン酸水溶液による処理が施された後、水温が４０〜９５℃の水洗水で水洗処理することを特徴とするアルミニウム支持体の製造方法。
（請求項８）
光重合開始剤（Ａ）、高分子結合剤（Ｂ）、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する単量体（Ｃ）、増感色素（Ｄ）を含有する感光性組成物を塗設してなる感光性平版印刷版材料に用いるアルミニウム支持体であって、前記アルミニウム支持体は、粗面化処理、陽極酸化処理およびポリビニルホスホン酸水溶液による処理が施された後、水温が４０〜９５℃の水洗水で水洗処理されたものであることを特徴とするアルミニウム支持体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
操舵トルクを検出するとともに、所定の基準電圧に基づき決定されたトルク中立電圧を有するトルク信号を出力するトルクセンサと、
前記基準電圧を発生させる基準電圧発生部と、
前記トルク信号および前記基準電圧をＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換部と、
Ａ／Ｄ変換された前記トルク信号に基づき操舵補助トルクを演算する演算部と、
前記補助トルクに応じた駆動電流を操舵補助モータに供給する電流制御部と、
前記基準電圧を発生させるとともに、当該基準電圧を前記Ａ／Ｄ変換部に出力する基準電圧発生部と、
Ａ／Ｄ変換された前記基準電圧を監視し、所定の故障診断処理を実行する故障診断部とを有するパワーステアリング制御装置。
【請求項２】
前記基準電圧の変動に応じて前記トルク信号の中立電圧を補正する中立補正部をさらに有することを特徴とする請求項１に記載のパワーステアリング制御装置。
【請求項３】
前記故障診断部は、前記基準電圧が予め定められた閾値の範囲外となった場合には、操舵補助トルクの発生を禁止する指令を前記演算部に与えることを特徴とする請求項１に記載のパワーステアリング制御装置。
【請求項４】
前記故障診断部は、前記基準電圧が、前記トルクセンサのトルク中立電圧に比例して変動した場合には、操舵補助トルクの発生を継続する指令を前記演算部に与えることを特徴とする請求項１に記載のパワーステアリング制御装置。
【請求項５】
前記故障診断部は、前記基準電圧の変動量に応じて、操舵補助トルクの上限値を変化させる指示を前記演算部に与えることを特徴とする請求項１に記載のパワーステアリング制御装置。
【請求項６】
トルクセンサにより操舵トルクを検出するとともに、所定の基準電圧に基づき決定されたトルク中立電圧を有するトルク信号を出力するステップと、
前記基準電圧を発生させるステップと、
前記トルク信号および前記基準電圧をＡ／Ｄ変換するステップと、
Ａ／Ｄ変換された前記トルク信号に基づき操舵補助トルクを演算するステップと、
前記補助トルクに応じた駆動電流を操舵補助モータに供給するステップと、
前記基準電圧を発生させるとともに、当該基準電圧をＡ／Ｄ変換器に出力するステップと、
Ａ／Ｄ変換された前記基準電圧を監視し、所定の故障診断処理を実行するステップとを有するパワーステアリング制御方法。
【請求項７】
前記基準電圧の変動に応じて前記トルク信号の中立電圧を補正するステップをさらに有することを特徴とする請求項６に記載のパワーステアリング制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一端部に毛髪取り込み口を有する細長形状の可撓性材料からなる毛髪保持具と、該毛髪保持具内に毛髪を挿入する毛髪挿入具と、該毛髪保持具に保持された毛髪を所定の形状に巻き上げ、湾曲又は屈曲させる巻き上げ手段とが備えられている毛髪処理器具であって、
前記毛髪保持具は細長筒形状からなり、該毛髪保持具をその長手方向に引き伸ばした状態から、所定の巻き上げ形態に巻き上げられた状態へ自発的に巻き上げられるようにくせ付けされており、該くせ付けが前記巻き上げ手段を構成しており、
前記毛髪保持具における横断面の少なくとも半周部分の部分は、該毛髪保持具の長手方向全長に亘って、テーバーこわさが０．４ｍＮ・ｍ以下である毛髪処理器具。
【請求項２】
一端部に毛髪取り込み口を有する細長形状の可撓性材料からなる毛髪保持具と、該毛髪保持具内に毛髪を挿入する毛髪挿入具と、該毛髪保持具に保持された毛髪を所定の形状に巻き上げ、湾曲又は屈曲させる巻き上げ手段とが備えられている毛髪処理器具であって、
前記毛髪保持具は、複数枚の帯状シートを互いに接合して筒状に形成されており、複数枚の前記帯状シートのうちの少なくとも１枚が、前記巻き上げ手段としての熱収縮性シートからなり、その他の帯状シートが熱収縮性を有していないシートからなり、
前記毛髪保持具における横断面の少なくとも半周部分の部分は、該毛髪保持具の長手方向全長に亘って、テーバーこわさが０．４ｍＮ・ｍ以下である毛髪処理器具。
【請求項３】
前記毛髪挿入具は、その先端に毛髪のフック部を有し、前記毛髪保持具内に、前記毛髪挿入具がそのフック部を前記毛髪保持具の毛髪取り込み口側に向けて挿入された状態で使用される請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項４】
前記フック部はループ形状であってその周長が前記毛髪取り込み口の周長よりも大きくなされていると共に該フック部が変形可能になされている請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項５】
前記フック部が櫛歯を有している請求項４記載の毛髪処理器具。
【請求項６】
前記毛髪取り込み口及びその近傍の部位が、前記毛髪保持具における他の部位よりも高剛性となされている請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項７】
前記毛髪保持具の他端部が開閉可能になされている請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項８】
前記毛髪保持具の内面に、毛髪処理剤が施されている請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項９】
前記毛髪保持具がその短手方向に伸縮性を有している請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項１０】
前記毛髪保持具は、２枚のシートを、その長手方向に沿う側端部同士を接合させて形成されており、少なくとも一方の該シートのテーバーこわさが０．４ｍＮ・ｍ以下である請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【請求項１１】
前記毛髪処理器具の使用前に、前記毛髪挿入具が、予め前記毛髪保持具に取り付けられている請求項１又は２記載の毛髪処理器具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目標とする注入率で原水にオゾンを注入し、処理を行う水処理方法であって、
オゾン注入後における処理水の酸化副生成物濃度を測定し、この測定された酸化副生成物濃度が、予め設定された目標値となるようにオゾン注入率を制御する
ことを特徴とする水処理方法。
【請求項２】
目標とする注入率で原水にオゾンを注入し、処理を行う水処理方法であって、
オゾン注入後における処理水の酸化副生成物濃度を測定し、この測定された酸化副生成物濃度が、予め設定された目標値となるようにオゾン注入率を制御すると共に、
前記原水の水質を測定し、原水の水質がオゾン注入による酸化副生成物の生成に与える影響を示す予め求められた相関関係により、前記オゾン注入率を補正する
ことを特徴とする水処理方法。
【請求項３】
目標とする注入率で原水にオゾンを注入し、処理を行う水処理装置であって、
オゾン注入後における処理水の酸化副生成物濃度を測定する酸化副生成物濃度測定手段と、
オゾン注入後における処理水の溶存オゾン濃度を測定する溶存オゾン濃度測定手段と、
前記酸化副生成物測定手段により測定された酸化副生成物濃度と酸化副生成物濃度目標値とに基づいて、溶存オゾン濃度目標値を求める溶存オゾン濃度設定手段と、
前記溶存オゾン濃度測定手段により測定された溶存オゾン濃度と前記溶存オゾン濃度設定手段により求められた溶存オゾン濃度目標値とに基づいて、オゾン注入率を決定するオゾン注入率設定手段と、
前記オゾン注入率設定手段により決定されたオゾン注入率に基づいて、オゾン注入量を制御する制御手段と
を具備したことを特徴とする水処理装置。
【請求項４】
原水の水質を測定する水質測定手段と、
オゾン注入に対して酸化副生成物濃度を一定にする水質と溶存オゾン濃度との相関関係と、前記水質測定手段により求められた水質とに基づいて、前記溶存オゾン濃度目標値を補正する溶存オゾン濃度補正手段と
を具備したことを特徴とする請求項３に記載の水処理装置。
【請求項５】
酸化副生成物濃度測定手段が、オンライン型の液体クロマトグラフィであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の水処理装置。
【請求項６】
酸化副生成物濃度測定手段が、オンライン型のイオンクロマトグラフィであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の水処理装置。
【請求項７】
水質測定手段が、原水の蛍光強度を測定する蛍光強度計であることを特徴とする請求項４に記載の水処理装置。
【請求項８】
水質測定手段が、原水の紫外線吸光度を測定する紫外線吸光度計であることを特徴とする請求項４に記載の水処理装置。
【請求項９】
水質測定手段が、原水の全有機炭素濃度を測定する全有機炭素濃度計であることを特徴とする請求項４に記載の水処理装置。
【請求項１０】
水質測定手段が、原水の過マンガン酸消費量を測定する過マンガン酸消費量計であることを特徴とする請求項４に記載の水処理装置。
【請求項１１】
水質測定手段が、原水の化学的酸素要求量を測定する化学的酸素要求量計であることを特徴とする請求項４に記載の水処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明による水処理装置は、オゾン注入後における処理水の酸化副生成物濃度を測定する酸化副生成物濃度測定手段と、オゾン注入後における処理水の溶存オゾン濃度を測定する溶存オゾン濃度測定手段と、前記酸化副生成物測定手段により測定された酸化副生成物濃度と酸化副生成物濃度目標値とに基づいて、溶存オゾン濃度目標値を求める溶存オゾン濃度設定手段と、前記溶存オゾン濃度測定手段により測定された溶存オゾン濃度と前記溶存オゾン濃度設定手段により求められた溶存オゾン濃度目標値とに基づいて、オゾン注入率を決定するオゾン注入率設定手段と、前記オゾン注入率設定手段により決定されたオゾン注入率に基づいて、オゾン注入量を制御する制御手段とを具備したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明による水処理装置は、原水の水質を測定する水質測定手段と、オゾン注入に対して酸化副生成物濃度を一定にする水質と溶存オゾン濃度との相関関係と、前記水質測定手段により求められた水質とに基づいて、前記溶存オゾン濃度目標値を補正する溶存オゾン濃度補正手段とをさらに加えた構成でもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を発酵させるための密閉構造の発酵槽を有する有機物発酵処理装置において、該発酵槽は外部空気が自然流入するための開口部を有し、かつ該発酵槽を構成する壁部の少なくとも一部は、間に空間部が形成された二重構造体であって、該壁部のうち被処理物に接する面に小孔が設けられた剛性材料から構成され、該開口部と該空間部と該小孔とによって通気路を形成し、発酵熱によって発生する上昇気流の吸引力が該開口部から外部の空気の自然流入を誘導して、該空間部を通して該小孔から該発酵槽内に該空気を供給し、供給された空気と該二重構造体の保温性とによって該被処理物の発酵を促進するようにしたことを特徴とする有機物発酵処理装置。
【請求項２】
予め準備され含水量が調整された被処理物を、請求項１に記載の有機物発酵処理装置の発酵槽内に投入後、放置し一次発酵を行なうことを特徴とする有機物発酵処理方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法によって処理し得られた発酵物。