【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源と、
位相格子と、
分析格子と、
Ｘ線検知器と、
処理ユニットとを備える、関心オブジェクトを撮像するためのＸ線撮像システムであって、
前記Ｘ線源、前記位相格子、前記分析格子、及び前記Ｘ線検知器は、光路内に配置され、
前記Ｘ線源は、前記光路内に位置し得る関心オブジェクトにＸ線を照射し、
前記分析格子は、前記Ｘ線検知器の近傍に備えられるか、又は前記Ｘ線検知器と一体的に形成され、
前記位相格子は、前記分析格子の透明セクションの幅に比べて狭い半値全幅距離を有する強度ピークを有する強度プロファイルを備える、Ｘ線放射における干渉パターンを生成し、前記干渉パターンの前記強度ピークは、前記分析格子の前記透明セクションを通過して前記Ｘ線検知器に入射し、
前記Ｘ線検知器は、第１の干渉パターンを測定することによって第１のＸ線信号を生成し、及び第２の干渉パターンを独立して測定することによって第２のＸ線信号を生成し、前記干渉パターンは、前記Ｘ線放射と前記光路内の前記関心オブジェクトとの相互作用を示し、
前記処理ユニットは、前記第１及び前記第２のＸ線信号を使用して、前記第１及び前記第２の干渉パターンの減衰コンポーネント及び暗視野コンポーネントを計算し、
前記第１の干渉パターンと前記第２の干渉パターンとを生成する際に使用されるＸ線放射の物理的特性は異なる、
Ｘ線撮像システム。
【請求項２】
前記Ｘ線検知器は、第１の光子エネルギーを検知することによって前記第１のＸ線信号を生成し、第２の光子エネルギーを検知することによって前記第２のＸ線信号を生成するエネルギー感受性検知器であり、前記第１及び前記第２の光子エネルギーは互いに異なる、
請求項１に記載のＸ線撮像システム。
【請求項３】
前記Ｘ線撮像システムは、前記第１のＸ線信号及び前記第２のＸ線信号の各々を合成信号として生成し、前記第１のＸ線信号は干渉性Ｘ線によって行われる第１の測定及び非干渉性Ｘ線によって行われる第２の測定に基づき、前記第２のＸ線信号は干渉性Ｘ線によって行われる第３の測定及び非干渉性Ｘ線によって行われる第４の測定に基づく、
請求項１に記載のＸ線撮像システム。
【請求項４】
前記光路内に位置し得る、前記Ｘ線が干渉性である第１の状態と前記Ｘ線と相互作用して前記Ｘ線が非干渉性になるようにする第２の状態とに構成され得る選択式Ｘ線散乱体を更に備え、
前記第１及び前記第３の測定は前記第１の状態にある前記選択式Ｘ線散乱体とともに行われ、前記第２及び前記第４の測定は前記第２の状態にある前記選択式Ｘ線散乱体とともに行われ、
前記減衰及び前記暗視野コンポーネントは、前記第１の測定、前記第２の測定、前記第３の測定、及び前記第４の測定を使用して計算される、
請求項３に記載のＸ線撮像システム。
【請求項５】
前記Ｘ線検知器は、Ｘ線散乱体によって覆われた第１のセクションと、前記Ｘ線散乱体によって覆われていない第２のセクションとを備え、
前記Ｘ線撮像システムは、前記Ｘ線検知器の前記第１のセクションを使用して前記第１のＸ線信号を生成し、前記Ｘ線検知器の前記第２のセクションを使用して前記第２のＸ線信号を生成する、
請求項１に記載のＸ線撮像システム。
【請求項６】
前記位相格子は、前記干渉パターンを、前記干渉パターンの周期の半分よりも小さい前記半値全幅距離を有する前記強度ピークを有するように生成する、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のＸ線撮像システム。
【請求項７】
前記Ｘ線撮像システムは、ＣＴスキャナ、Ｃアームスキャナ、乳房Ｘ線撮影スキャナ、トモシンセシススキャナ、診断Ｘ線スキャナ、前臨床撮像スキャナ、非破壊試験スキャナ、又は荷物セキュリティスキャナのグループから選択される、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＸ線撮像システム。
【請求項８】
ａ）Ｘ線源を使用して、関心オブジェクトにＸ線放射を照射するステップと、
ｂ）位相格子に前記Ｘ線放射を照射するステップであって、
前記位相格子は、分析格子の透明セクションの幅に比べて狭い半値全幅距離を有する強度ピークを有する強度プロファイルを備える、前記Ｘ線放射における干渉パターンを生成し、前記干渉パターンの前記強度ピークは、前記分析格子の前記透明セクションを通過してＸ線検知器に入射する、ステップと、
ｃ）前記分析格子に前記Ｘ線放射を照射するステップであって、
前記分析格子は、前記Ｘ線検知器の近傍に備えられるか、又は前記Ｘ線検知器と一体的に形成される、ステップと、
ｄ）前記Ｘ線検知器によって第１の干渉パターンを測定することによって第１のＸ線信号を生成するステップと、
ｅ）前記Ｘ線検知器によって第２の干渉パターンを独立して測定することによって、第２のＸ線信号を生成するステップと、
ｆ）前記第１及び前記第２のＸ線信号を使用して、照射されたＸ線の減衰コンポーネント及び暗視野コンポーネントを計算するステップとを有する、Ｘ線撮像のための方法であって、
前記第１及び前記第２の干渉パターンは、前記Ｘ線放射と光路内の前記関心オブジェクトとの相互作用を示し、
前記第１の干渉パターンと前記第２の干渉パターンとを生成する際に使用されるＸ線放射の物理的特性は異なる、
方法。
【請求項９】
前記ステップｄ）において、前記第１のＸ線信号は第１の光子エネルギーを検知することによって生成され、
前記ステップｅ）において、前記第２のＸ線信号は第２の光子エネルギーを検知することによって生成され、検知された前記第１及び前記第２の光子エネルギーは互いに異なる、
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ステップｄ）において、前記第１のＸ線信号は、干渉性Ｘ線によって行われる第１の測定及び非干渉性Ｘ線によって行われる第２の測定に基づく合成信号として生成され、
前記ステップｅ）において、前記第２のＸ線信号も、干渉性Ｘ線によって行われる第３の測定及び非干渉性Ｘ線によって行われる第４の測定に基づく合成信号として生成される、
請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
ｄ１）前記光路内に位置し得る選択式Ｘ線散乱体を、前記Ｘ線が干渉性であるように第１の状態に切り換えるステップと、
ｄ２）前記第１の測定を実施するステップと、
ｄ３）前記選択式Ｘ線散乱体を、前記Ｘ線と相互作用し前記Ｘ線が非干渉性になるように前記光路内で第２の状態に位置づけるステップと、
ｄ４）第２の測定を実施するステップと、
ｅ１）前記選択式Ｘ線散乱体を、前記Ｘ線が干渉性になるように前記光路外で前記第１の状態に位置づけるステップと、
ｅ２）第３の測定を実施するステップと、
ｅ３）前記選択式Ｘ線散乱体を、前記Ｘ線と相互作用し前記Ｘ線が非干渉性になるように前記光路内で前記第２の状態に位置づけるステップと、
ｅ４）第４の測定を実施するステップと、をさらに有し、
前記ステップｆ）において、前記減衰及び前記暗視野コンポーネントは、前記第１の測定、前記第２の測定、前記第３の測定、及び前記第４の測定を使用して計算される、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ステップｄ）において、前記第１のＸ線信号は、Ｘ線散乱体によって覆われた前記Ｘ線検知器の第１のセクションを使用して生成され、
前記ステップｅ）において、前記第２のＸ線信号は、前記Ｘ線散乱体によって覆われていない前記Ｘ線検知器の第２のセクションを使用して生成される、
請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
処理ユニットによって実行されたときに、請求項８乃至１２のいずれか一項に記載の方法のステップを実施する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のＸ線撮像システムを制御するためのコンピュータプログラム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコンピュータプログラムを記憶したコンピュータ可読媒体。
【請求項１５】
Ｘ線検知器であって、前記Ｘ線検知器の近傍に又は前記Ｘ線検知器と一体的に形成された静的な分析格子を有する前記Ｘ線検知器と、
前記分析格子の透明セクションの幅に比べて狭い半値全幅距離を有する強度ピークを有する強度プロファイルを備える、Ｘ線放射における干渉パターンを生成するように構成され、前記干渉パターンの前記強度ピークは、前記分析格子の前記透明セクションを通過して設置された前記Ｘ線検知器に入射する、位相格子と、
請求項１４に記載のコンピュータ可読媒体とを備える、旧来のＸ線スキャナをレトロフィットするための部品のキットであって、
前記旧来のＸ線スキャナに前記部品のキットを設置することで、前記旧来のＸ線スキャナが前記第１及び前記第２の干渉パターンの減衰コンポーネントと暗視野コンポーネントとを計算することを可能にする、
部品のキット。