【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも一つの透明なカバー層（２）と一つの保護層（５）とから成る積層体（１）に埋め込まれる複数の表層区域（８、９、１５、１６、１７）から成る、目視可能なモザイクを備える表層パターン（１８）であって、前記一つの表層区域が透明ウィンドウー（９）を成し、他の表層区域（８、１５、１６、１７）が少なくとも一部が反射層（３）に覆われた鏡面（８）、微細レリーフ構造体（４，４‘）を有する光回折面（１５、１６）、および入射光ビーム（１０）を散乱する表層区域（１７）から成る表層パターンにおいて、
所定の可視スペクトル限界波長（λＧ）に対し、少なくとも一つの光回折面（１５、１６）であって、座標ｘ、ｙで規定されるエリア（１６）において、前記微細レリーフ構造体が、前記限界波長（λＧ）との積（Ｐ）が１以上となる空間周波数（ｆ）を有するＺＯＭ構造体（４’）を成し、
他の光回折面（１５）において、他の微細構造体（４）の空間周波数（ｆ）が前記積（Ｐ）を１未満とする条件を満たし、
前記座標（ｘ、ｙ）で規定される前記エリア（１６）の各位置において、前記ＺＯＭ構造体（４’）のプロフィール高（ｈ）が光学的に有効であり、該ＺＯＭ構造体（４’）の格子構造体（Ｇ{ｘ、ｙ}）が、周波数（Ｆ）が５周期/ｍｍ未満の低周波包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）で変調されることを特徴とする表層パターン。
【請求項２】  前記包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）によって、前記プロフィール高（ｈ）が０から、１５０ｎｍより大きいが１２００ｎｍ未満である最高値までの値に決定され、前記ＺＯＭ構造体（４’）を有する前記エリア（１６）が反射サブエリア（２４、２４’）を備えることを特徴とする請求項１記載の表層パターン（１８）。
【請求項３】  前記包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）が、前記プロフィール高（ｈ）に対する５０〜２００ｎｍの定数Ｋを有し、該包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）が、該プロフィール高（ｈ）に対し、Ｋから、１５０ｎｍより大きいが１２００ｎｍ未満である最高値までの値をとり、前記ＺＯＭ構造体（４’）を有する前記エリア（１６）が反射サブエリア（２４、２４’）を有しないことを特徴とする請求項１記載の表層パターン（１８）。
【請求項４】  前記包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）が周期性を帯びる三角関数であることを特徴とする請求項２または３記載の表層パターン（１８）。
【請求項５】  前記包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）が周期性を帯びる一次関数であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項６】  前記二次元包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）が、特定の方向（ｚ）に対し一次元関数（Ｈ{ｚ}）であり、前記ＺＯＭ構造体（４’）を有する前記エリア（１６）が反射光（１４）において帯状の色彩および/またはグレーバリューパターンを呈することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項７】  前記二次元包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）が、一つの座標軸（ｘ）方向のみを変化させるサブ関数（Ｈ１）と他の座標軸（ｙ）方向のみを変化させるサブ関数（Ｈ２）との積であり、前記エリア（１６）が反射光（１４）においてチェスボードに似た規則的な色彩および/またはグレーバリューパターンを呈することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項８】  前記パターンの色彩および/またはグレーバリューの寸法が観察条件に依存し、軸を中心に前記エリア（１６）の面を傾けることによって変化することを特徴とする請求項６または７項記載の表層パターン（１８）。
【請求項９】  前記包絡線面（２８、Ｈ{ｘ、ｙ}）の一周期が、空間周波数（ｆ）を有する前記ＺＯＭ構造体（４’）の多数の周期Ｍを含み、前記パターンがＭ/ｆｍｍの間隔で繰り返されることを特徴とする請求項１〜８いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項１０】  前記格子構造体（Ｇ{ｘ、ｙ}）が関数sinb(ｚ)(2πfz)に比例し、該ｂ（ｚ）が、前記座標（ｘ、ｙ）によって規定される前記エリア（１６）の特定の方向（ｚ）において少なくとも区域毎に規則的な関数であることを特徴とする請求項１〜９いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項１１】  少なくとも一つの透明なカバー層（２）と一つの保護層（５）とから成る積層体（１）に埋め込まれる複数の表層区域（８、９、１５、１６、１７）から成る、目視可能なモザイクを備える表層パターン（１８）であって、前記一つの表層区域が透明ウィンドウー（９）を成し、他の表層区域（８、１５、１６、１７）が少なくとも一部が反射層（３）に覆われた鏡面（８）、微細レリーフ構造体（４，４‘）を有する光回折面（１５、１６）、および入射光ビーム（１０）を散乱する表層区域（１７）から成る表層パターンにおいて、
所定の可視スペクトル限界波長（λＧ）に対し、少なくとも一つの光回折面（１５、１６）であって、座標ｘ、ｙで規定されるエリア（１６）において、前記微細レリーフ構造体が、前記限界波長（λＧ）との積（Ｐ）が１以上となる空間周波数（ｆ）を有するＺＯＭ構造体（４’）を成し、
他の光回折面（１５）において、他の微細構造体（４）の空間周波数（ｆ）がＰ＝λ・ｆが１未満という条件を満たし、
前記座標（ｘ、ｙ）で規定される前記エリア（１６）の各位置において、前記ＺＯＭ構造体（４’）のプロフィール高（ｈ）が光学的に有効であり、該ＺＯＭ構造体（４’）が第一周期関数（Ｇ１）と第二周期関数（Ｇ２）とを重畳したものであり、振幅（Ａ）を有する前記第一関数（Ｇ１）が前記ＺＯＭ構造体（４’）の空間周波数（ｆ）を決定し、前記第二関数（Ｇ２）が前記第一関数（Ｇ１）の第一高調波であって、前記振幅（Ａ）の１／２の振幅を有し、前記第一関数（Ｇ１）に対し位相（θ）だけずれて成り、前記二つの関数（Ｇ１、Ｇ２）および前記位相（θ）が前記座標（ｘ、ｙ）に依存する関数であることを特徴とする表層パターン（１８）。
【請求項１２】  前記位相（θ）が周期関数（θ）であり、該関数の一周期が空間周波数（ｆ）を有する前記ＺＯＭ構造体（４’）の多数の周期Ｎを含み、前記ＺＯＭ構造体（４’）のレリーフがＮ/ｆｍｍの間隔で繰り返されることを特徴とする請求項１１記載の表層パターン（１８）。
【請求項１３】  前記位相（θ）が、前記座標（ｘ、ｙ）で規定されるエリア（１６）の特定方向（ｚ）に沿って、１ｍｍ当たり９０〜７２０°の速度で変化することを特徴とする請求項１１記載の表層パターン（１８）。
【請求項１４】  前記二つの関数（Ｇ１、Ｇ２）のグレーティングベクトルの角度が、絶対値で１０°未満であることを特徴とする請求項１１記載の表層パターン（１８）。
【請求項１５】  前記所定の限界波長λGが、辛うじて目にみえる光の波長の内、最も短い波長λであることを特徴とする請求項１〜１４いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項１６】  ＺＯＭ構造体（４’）を有するエリア（１６）が、一定の距離、光回折機能を有する表層区域（１５）と共通の境界（１９）を有することを特徴とする請求項１〜１５いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項１７】  前記エリア（１６）内の区域（３２）が情報を形成し、該区域のＺＯＭ構造体（４’）が、前記エリア（１６）内の他の区域のＺＯＭ構造体（４’）と、入射光ビーム（１０）に対する偏光機能の点だけが異なることを特徴とする請求項１〜１６いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【請求項１８】  前記エリア（１６）に隣接して、入射光ビーム（１０）を回折または反射するマーキング表層（２６”）を備え、該マーキング表層（２６”）が、所定の観察方向（２３）から見たとき、前記ＺＯＭ構造体（４’）の色彩および/またはグレーバリューパターンの鏡面反射が色彩反射に変化する限界点を特定し、別の観察条件において、前記マーキング表層（２６”）に対し、前記遷移点が移動することを特徴とする請求項１〜１７いずれか１項記載の表層パターン（１８）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
発明の属する技術分野
本発明は請求項１および１１の前提部に記載の類に属する表層パターンに関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、高空間周波数の作用を利用し、明確に認識できるパターンを有し、偽造および複写が不可能な回折構造体を提供することである。前記目的は請求項１および１１記載の特徴的な機能によって達成される。効果的な構成方法は従属請求項に記載してある。