【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面を有する透明高分子層と、
該表面から外向きに延在する複数の突起であって、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する突起と、
を含む、光学フィルム。
【請求項２】
高分子組成物を基材上にコーティングする工程であって、該高分子組成物が高分子材料と極性溶媒と非極性溶媒とを含むものである、工程と、
該極性溶媒および該非極性溶媒の少なくとも一部分を蒸発させて透明高分子層を形成する工程と、
を含む、縞模様発生の少ないフィルムの形成方法であって、
該透明高分子層が、表面と該表面から外向きに延在する複数の突起とを有し、該突起が、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する、方法。
【請求項３】
光学素子と、
該光学素子の近傍に配設されたディスプレイハウジングと、
該光学素子に隣接して配設された透明高分子層であって、該透明高分子層は表面を有し、かつ該透明高分子層は、該表面から外向きに延在する複数の突起を有し、該突起が、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する透明高分子層と、
を含む、光学ディスプレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  表面を有する透明高分子層と、該表面から外向きに延在する複数の突起であって、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する突起と、を含む、光学フィルム。
２．  前記透明高分子層が２〜１０μｍの厚さを有する、態様１に記載の光学フィルム。
３．  前記透明高分子層が、５〜７５ｎｍの平均粒径を有する無機粒子を含む、態様１に記載の光学フィルム。
４．  前記無機粒子がシリカ粒子を含む、態様３に記載の光学フィルム。
５．  前記透明高分子層が１０〜１００ｐｈｒの無機粒子を含む、態様３に記載の光学フィルム。
６．  前記複数の突起が前記表面上にランダムに配置される、態様１に記載の光学フィルム。
７．  前記透明高分子層がポリマー材料とＣ7〜Ｃ12アルカンと極性溶媒とから形成される、態様１に記載の光学フィルム。
８．  前記透明高分子層がポリアクリレートを含む、態様１に記載の光学フィルム。
９．  前記透明高分子層が、第１の屈折率を有する基材上に配設され、前記透明高分子層が第２の屈折率を有し、かつ該第１の屈折率が該第２の屈折率と値が０．０５〜０．２だけ異なる、態様１に記載の光学フィルム。
１０．  高分子組成物を基材上にコーティングする工程であって、該高分子組成物が高分子材料と極性溶媒と非極性溶媒とを含むものである、工程と、該極性溶媒および該非極性溶媒の少なくとも一部分を蒸発させて透明高分子層を形成する工程と、を含む、縞模様発生の少ないフィルムの形成方法であって、該透明高分子層が、表面と該表面から外向きに延在する複数の突起とを有し、該突起が、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する、方法。
１１．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有する高分子材料と、極性溶媒と、第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有する非極性溶媒と、を含み、該第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターが、該第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターと値が少なくとも２だけ異なる、態様１０に記載の方法。
１２．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有する高分子材料と、極性溶媒と、第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有する非極性溶媒と、を含み、該第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターが、該第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターと値が少なくとも３だけ異なる、態様１０に記載の方法。
１３．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、高分子材料と、極性溶媒と、Ｃ7〜Ｃ12アルカンを含む非極性溶媒とを含む、態様１０に記載の方法。
１４．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、高分子材料と、第１の沸点を有する極性溶媒と、第２の沸点を有する非極性溶媒と、を含み、該第２の沸点が、該第１の沸点よりも２５℃以上高い、態様１０に記載の方法。
１５．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、５〜７５ｎｍの平均粒径を有する無機粒子をさらに含む、態様１０に記載の方法。
１６．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が１０〜１００ｐｈｒの無機粒子をさらに含む、態様１５に記載の方法。
１７．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が１〜１００ｐｈｒの非極性溶媒を含む、態様１０に記載の方法。
１８．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、Ｃ8〜Ｃ12アルカンを含む２０〜８５ｐｈｒの非極性溶媒を含む、態様１０に記載の方法。
１９．  前記基材が第１の屈折率を有し、前記透明高分子層が第２の屈折率を有し、かつ該第１の屈折率が該第２の屈折率と値が０．０５〜０．２だけ異なる、態様１０に記載の方法。
２０．  高分子組成物を基材上にコーティングする工程であって、該高分子組成物は、高分子材料と該高分子材料用の良溶媒と該高分子材料用の貧溶媒とを含み、該高分子材料は第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有し、該貧溶媒は第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有し、該第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターは該第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターと値が少なくとも２だけ異なるものである、工程と、
該良溶媒および該貧溶媒の少なくとも一部分を蒸発させて透明高分子層を形成する工程と、
を含む、縞模様発生の少ないフィルムの形成方法であって、該透明高分子層が、表面と該表面から外向きに延在する複数の突起とを有し、該突起が、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する、方法。
２１．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、５〜７５ｎｍの平均粒径を有する無機粒子をさらに含む、態様２０に記載の方法。
２２．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有する高分子材料と、第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターを有する貧溶媒と、を含み、該第１のヒルデブランドの溶解度パラメーターが、該第２のヒルデブランドの溶解度パラメーターと値が少なくとも３だけ異なる、態様２０に記載の方法。
２３．  前記コーティング工程が、高分子組成物を基材上にコーティングすることを含み、該高分子組成物が、高分子材料と、第１の沸点を有する該高分子材料用の良溶媒と、第２の沸点を有する該高分子材料用の貧溶媒と、を含み、該第２の沸点が、該第１の沸点よりも２５℃以上高い、態様２０に記載の方法。
２４．  前記蒸発工程が、前記良溶媒および前記貧溶媒の少なくとも一部分を蒸発させて２〜１０μｍの厚さを有する透明高分子層を形成することを含む、態様２０に記載の方法。
２５．  前記基材が第１の屈折率を有し、前記透明高分子層が第２の屈折率を有し、かつ該第１の屈折率が該第２の屈折率と値が０．０５〜０．２だけ異なる、態様２０に記載の方法。
２６．  前記コーティング工程が、高分子組成物を光学素子上にコーティングすることを含む、態様２０に記載の方法。
２７．  光学素子と、該光学素子の近傍に配設されたディスプレイハウジングと、該光学素子に隣接して配設された透明高分子層であって、該透明高分子層は表面を有し、かつ該透明高分子層は、該表面から外向きに延在する複数の突起を有し、該突起が、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する透明高分子層と、を含む、光学ディスプレイ。
２８．  前記光学素子が液晶基材を含む、態様２７に記載の光学ディスプレイ。
本開示の例示的な実施形態について考察し、本開示の範囲内に包含される可能な変更形態について言及してきた。本開示のこれらのおよび他の変更形態および修正形態は、本開示の範囲から逸脱することなく当業者に自明なものとなろう。また、当然のことながら、本開示は、本明細書に記載の例示的な実施形態に限定されるものではない。したがって、本開示は、冒頭に提供される特許請求の範囲によってのみ限定されるべきものである。