【手続補正書】
【提出日】平成19年5月14日(2007.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に形成するパターンの照明プロファイルを所与のマスクに対して最適化する方法であって、
（ａ）前記所与のマスクの１つ又は複数の解像可能な画像構造を数学的に表現するステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）から干渉マップ表示を生成するステップと、
（ｃ）前記干渉マップ表示を修正して、前記解像可能な画像構造に対応する強度を最大化するステップと、
（ｄ）１つ又は複数の補助画像構造サイズを、ステップ（ｃ）の前記修正した干渉マップ表示に基づき、強度サイド・ローブがプリントされないように決定するステップと
を含む方法。
【請求項２】
ステップ（ｃ）が、１つ又は複数の前記解像可能な画像構造の中心に関して前記干渉マップ表示が最大化されるように前記表示を離散マスクトランスミッションに置き換えることによって、前記表示を修正することを含む、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３】
ステップ（ｄ）が、１つ又は複数の前記解像可能な画像構造の外側の１つ又は複数の領域に関して前記表示が最小化されるように、離散マスクトランスミッションを選択することを含む、請求項２に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項４】
ステップ（ｄ）に従って露光寛容度を最適化することをさらに含む、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項５】
（ｅ）ステップ（ｃ）に続いて、焦点深度（ＤＯＦ）を最大化するため、ピーク強度の変化を焦点に関して最小化するステップ
をさらに含む、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項６】
ステップ（ｅ）が、
（ｉ）焦点に関して偏導関数をとることによって前記干渉マップ表示を修正するステップと、
（ｉｉ）前記偏導関数を最小化する１つ又は複数の離散マスクトランスミッションを選択するステップと
を含む、請求項５に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項７】
ステップ（ｅ）が、前記所与のマスクの限界寸法（ＣＤ）の係数である範囲内でＤＯＦを最大化することを含む、請求項５に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項８】
前記範囲が前記ＣＤの３倍である、請求項７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項９】
ステップ（ｂ）が、ステップ（ａ）の結果と照明に対応する少なくとも１つの固有関数との畳込みをとって前記干渉マップを生成することを含む、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの固有関数が第１固有関数である、請求項９に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項１１】
ステップ（ａ）が、ディラックのデルタ関数によって正方形コンタクト・ホールを表現することを含む、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項１２】
ステップ（ａ）が、行関数によって長方形コンタクト・ホールを表現することを含む、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項１３】
交代ＰＳＭのため、ステップ（ａ）において、位相シフトが１８０°のコンタクトを逆ディラックのデルタ関数に置き換える、請求項１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項１４】
少なくとも１つの機械可読媒体によって移送可能な実行可能コードを含むプログラム製品において、少なくとも１つのプログラム可能コンピュータによる前記コードの実行によって、基板の表面に形成するパターンの照明プロファイルを所与のマスクに対して最適化するための一連のステップを、前記少なくとも１つのプログラム可能コンピュータが実行するプログラム製品であって、前記一連のステップが、
（ａ）前記所与のマスクの１つ又は複数の解像可能な画像構造を数学的に表現するステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）から干渉マップ表示を生成するステップと、
（ｃ）前記干渉マップ表示を修正して、前記解像可能な画像構造に対応する強度を最大化するステップと、
（ｄ）１つ又は複数の補助画像構造サイズを、強度サイド・ローブがプリントされないように決定するステップと
を含むプログラム製品。
【請求項１５】
ステップ（ｃ）が、１つ又は複数の前記解像可能な画像構造の中心に関して前記干渉マップ表示が最大化されるように前記表示を離散マスクトランスミッションに置き換えることによって、前記表示を修正することを含む、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項１６】
ステップ（ｄ）が、１つ又は複数の前記解像可能な画像構造の外側の１つ又は複数の領域に関して前記表示が最小化されるように、離散マスクトランスミッションを選択することを含む、請求項１５に記載のプログラム製品。
【請求項１７】
ステップ（ｄ）に従って露光寛容度を最適化することをさらに含む、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項１８】
（ｅ）ステップ（ｃ）に続いて、焦点深度（ＤＯＦ）を最大化するため、ピーク強度の変化を焦点に関して最小化するステップ
をさらに含む、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項１９】
ステップ（ｅ）が、
（ｉ）焦点に関して偏導関数をとることによって前記干渉マップ表示を修正するステップと、
（ｉｉ）前記偏導関数を最小化する１つ又は複数の離散マスクトランスミッションを選択するステップと
を含む、請求項１８に記載のプログラム製品。
【請求項２０】
ステップ（ｅ）が、前記所与のマスクの限界寸法（ＣＤ）の係数である範囲内でＤＯＦを最大化することを含む、請求項１８に記載のプログラム製品。
【請求項２１】
前記範囲が前記ＣＤの３倍である、請求項２０に記載のプログラム製品。
【請求項２２】
ステップ（ｂ）が、ステップ（ａ）の結果と照明に対応する少なくとも１つの固有関数との畳込みをとって前記干渉マップを生成することを含む、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの固有関数が第１固有関数である、請求項２２に記載のプログラム製品。
【請求項２４】
ステップ（ａ）が、ディラックのデルタ関数によって正方形コンタクト・ホールを表現することを含む、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項２５】
ステップ（ａ）が、行関数によって長方形コンタクト・ホールを表現することを含む、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項２６】
交代ＰＳＭのため、ステップ（ａ）において、位相シフトが１８０°のコンタクトを逆ディラックのデルタ関数に置き換える、請求項１４に記載のプログラム製品。
【請求項２７】
最適なマスクを設計する方法であって、
（ａ）基板の表面に形成するパターンの照明プロファイルを所与のマスクに対して生成するステップと、
（ｂ）前記所与のマスクの１つ又は複数の解像可能な画像構造を数学的に表現するステップと、
（ｃ）ステップ（ｂ）から干渉マップ表示を生成するステップと、
（ｄ）前記干渉マップ表示を修正して、前記解像可能な画像構造に対応する強度を最大化するステップと、
（ｅ）１つ又は複数の補助画像構造サイズを、強度サイド・ローブがプリントされないように決定するステップと、
（ｆ）ステップ（ｅ）からの１つ又は複数のそれぞれのサイズの補助画像構造を前記マスク上に配置することによって前記最適なマスクを生成するステップと
を含む方法。
【請求項２８】
ステップ（ｄ）が、１つ又は複数の前記解像可能な画像構造の中心に関して前記干渉マップ表示が最大化されるように前記表示を離散マスクトランスミッションに置き換えることによって、前記表示を修正することを含む、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項２９】
ステップ（ｅ）が、１つ又は複数の前記解像可能な画像構造の外側の１つ又は複数の領域に関して前記表示が最小化されるように離散マスクトランスミッションを選択することを含む、請求項２８に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３０】
ステップ（ｅ）に従って露光寛容度を最適化することをさらに含む、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３１】
（ｇ）ステップ（ｄ）に続いて、焦点深度（ＤＯＦ）を最大化するため、ピーク強度の変化を焦点に関して最小化するステップ
をさらに含む、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３２】
ステップ（ｇ）が、
（ｉ）焦点に関して偏導関数をとることによって前記干渉マップ表示を修正するステップと、
（ｉｉ）前記偏導関数を最小化する１つ又は複数の離散マスクトランスミッションを選択するステップと
を含む、請求項３１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３３】
ステップ（ｇ）が、前記所与のマスクの限界寸法（ＣＤ）の係数である範囲内でＤＯＦを最大化することを含む、請求項３１に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３４】
前記範囲が前記ＣＤの３倍である、請求項３３に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３５】
ステップ（ｃ）が、ステップ（ｂ）の結果と照明に対応する少なくとも１つの固有関数との畳込みをとって前記干渉マップを生成することを含む、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３６】
前記少なくとも１つの固有関数が第１固有関数である、請求項３５に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３７】
ステップ（ｂ）が、ディラックのデルタ関数によって正方形コンタクト・ホールを表現することを含む、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３８】
ステップ（ｂ）が、行関数によって長方形コンタクト・ホールを表現することを含む、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。
【請求項３９】
交代ＰＳＭのため、ステップ（ｂ）において、位相シフトが１８０°のコンタクトを逆ディラックのデルタ関数に置き換える、請求項２７に記載の照明プロファイルの最適化方法。