【手続補正書】
【提出日】平成20年9月19日(2008.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式で表される（メタ）アクリレートアミドアセタール組成物。
【化１】
2008514727.tif 000001
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
Ｒ52は水素またはメチルであり、そして
ｎは１〜１０である）
【請求項２】
（メタ）アクリレートアミドアセタールの形成方法であって、式
【化２】
2008514727.tif 000002
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを、触媒量の塩基の存在下で、式
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ’
（ここで、Ｒは水素またはメチルであり、そしてＲ’はＣ1〜Ｃ20アルキルである）
のエステルと反応させる工程を含む方法。
【請求項３】
（メタ）アクリレートアミドアセタールの形成方法であって、式
【化３】
2008514727.tif 000003
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−Ｘ
（ここで、ＸはＣｌおよびＢｒよりなる群から選択されたハロゲンであり、Ｒは水素またはメチルである）
のような、酸ハロゲン化物と反応させる工程を含み、前記反応がトリエチルアミンおよびピリジンよりなる群から選択された塩基の存在下で行われる方法。
【請求項４】
（メタ）アクリレートアミドアセタールの形成方法であって、式
【化４】
2008514727.tif 000004
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここでＲ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを、式
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ2
（ここで、各Ｒは独立して水素またはメチルである）
の（メタ）アクリル酸無水物と反応させる工程を含み、前記反応がトリエチルアミンおよびピリジンよりなる群から選択された塩基の存在下で行われる方法。
【請求項５】
【化５】
2008514727.tif 000005
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
ｎは１〜１０であり、
Ｒ52は水素またはメチルであり、
Ｒ’は水素またはメチルであり、
Ｒ”はＣ1〜Ｃ30アルキルまたはＣ3〜Ｃ30芳香族であり、そして
Ｎ、ＭおよびＰは、Ｎ＋Ｍ＋Ｐ＝１００％であるように１００％の百分率を表す）
を含む組成物。
【請求項６】
式
【化６】
2008514727.tif 000006
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
Ｒ52は水素またはメチルであり、そして
ｎは１〜１０である）
の（メタ）アクリレートアミドアセタールを反応させる工程を含む、（メタ）アクリレートアミドアセタールを含むポリマーの製造方法。
【請求項７】
【化７】
2008514727.tif 000007
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
ｎは１〜１０であり、
Ｒ52は水素またはメチルであり、
Ｒ’は水素またはメチルであり、
Ｒ”はＣ1〜Ｃ30アルキルまたはＣ3〜Ｃ30芳香族であり、
Ｎ、ＭおよびＰは、Ｎ＋Ｍ＋Ｐ＝１００％であるように１００％の百分率を表す）、ならびに
架橋部分を含む組成物。
【請求項８】
請求項７に記載のポリ（メタ）アクリレートアミドアセタールを含むコーティング組成物の形成方法であって、ポリ（メタ）アクリレートアミドアセタールを前記架橋部分と反応させる工程を含む方法。
【請求項９】
透明度および硬度の特性を有する、請求項８に記載の方法によって製造されたコーティング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
機械撹拌機、還流冷却器を備えた、窒素下の乾燥したフラスコに酢酸ブチル（１１８．１ｇ）を加えた。この溶媒を次に１００℃に加熱した。１００℃に維持した撹拌される溶媒に上記モノマー溶液を３．３１ｇ／分の速度（約３時間にわたった添加）でおよび上記触媒溶液を０．３１ｇ／分の速度（約４時間にわたって添加）で同時に加えた。触媒溶液の完了後、重合溶液を１００℃で３０分間保持し、次に室温に冷却した。追加の１０３ｇの酢酸ブチルを加えた。ＧＰＣ分析は、ポリマーがＭｎ＝６２５５およびＭｗ＝１３０４９、ＰＤ＝２．０８で、残留モノマーをほとんど全く含有しないことを示した。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  下記式で表される（メタ）アクリレートアミドアセタール組成物。
2008514727.tif 000008
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
Ｒ52は水素またはメチルであり、そして
ｎは１〜１０である）
2.  Ｒ42〜Ｒ49がそれぞれ独立して水素およびＣ1〜Ｃ10アルキル基を表す、上記１に記載の（メタ）アクリレートアミドアセタール。
3.  （メタ）アクリレートアミドアセタールの形成方法であって、式
2008514727.tif 000009
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを、触媒量の塩基の存在下で、式
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ’
（ここで、Ｒは水素またはメチルであり、そしてＲ’はＣ1〜Ｃ20アルキルである）
のエステルと反応させる工程を含む方法。
4.  Ｒ42〜Ｒ49がそれぞれ独立して水素およびＣ1〜Ｃ10アルキル基を表す、上記３に記載の方法。
5.  （メタ）アクリレートアミドアセタールの形成方法であって、式
2008514727.tif 000010
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−Ｘ
（ここで、ＸはＣｌおよびＢｒよりなる群から選択されたハロゲンであり、Ｒは水素またはメチルである）
のような、酸ハロゲン化物と反応させる工程を含み、前記反応がトリエチルアミンおよびピリジンよりなる群から選択された塩基の存在下で行われる方法。
6.  Ｒ42〜Ｒ49がそれぞれ独立して水素およびＣ1〜Ｃ10アルキル基を表す、上記５に記載の方法。
7.  （メタ）アクリレートアミドアセタールの形成方法であって、式
2008514727.tif 000011
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここでＲ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを、式
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ2
（ここで、各Ｒは独立して水素またはメチルである）
の（メタ）アクリル酸無水物と反応させる工程を含み、前記反応がトリエチルアミンおよびピリジンよりなる群から選択された塩基の存在下で行われる方法。
8.  Ｒ42〜Ｒ49がそれぞれ独立して水素およびＣ1〜Ｃ10アルキル基を表す、上記６に記載の方法。
9.  上記３〜８のいずれか一項に記載の方法の生成物。
10.
2008514727.tif 000012
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
ｎは１〜１０であり、
Ｒ52は水素またはメチルであり、
Ｒ’は水素またはメチルであり、
Ｒ”はＣ1〜Ｃ30アルキルまたはＣ3〜Ｃ30芳香族であり、そして
Ｎ、ＭおよびＰは、Ｎ＋Ｍ＋Ｐ＝１００％であるように１００％の百分率を表す）
を含む組成物。
11.  式
2008514727.tif 000013
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
Ｒ52は水素またはメチルであり、そして
ｎは１〜１０である）
の（メタ）アクリレートアミドアセタールを反応させる工程を含む、（メタ）アクリレートアミドアセタールを含むポリマーの製造方法。
12.  （メタ）アクリレートアミドアセタールが、
Ｒ’−Ｃ（ＣＨ2）−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ”
（式中、Ｒ’は水素またはメチルであり、そしてＲ”はＣ1〜Ｃ30アルキル基または芳香族基である）、
スチレンおよび置換スチレンよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上のモノマーと反応させられる、上記１１に記載の方法。
13.  生成物が式
2008514727.tif 000014
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
ｎは１〜１０であり、
Ｒ52は水素またはメチルであり、
Ｒ’は水素またはメチルであり、
Ｒ”はＣ1〜Ｃ30アルキルまたはＣ3〜Ｃ30芳香族であり、そして
Ｎ、ＭおよびＰは、Ｎ＋Ｍ＋Ｐ＝１００％であるように１００％の百分率を表す）
で表される、上記１２に記載の方法。
14.  前記方法がフリーラジカル法である、上記１３に記載の方法。
15.  前記方法がグループ移動重合法である、上記１３に記載の方法。
16.  前記方法がコバルト連鎖移動重合法である、上記１３に記載の方法。
17.
2008514727.tif 000015
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）nであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、
ｎは１〜１０であり、
Ｒ52は水素またはメチルであり、
Ｒ’は水素またはメチルであり、
Ｒ”はＣ1〜Ｃ30アルキルまたはＣ3〜Ｃ30芳香族であり、
Ｎ、ＭおよびＰは、Ｎ＋Ｍ＋Ｐ＝１００％であるように１００％の百分率を表す）、ならびに
架橋部分を含む組成物。
18.  前記架橋部分がイソシアネート、エポキシド、カルボン酸無水物、メラミンおよびシランよりなる群から選択される、上記１７に記載の組成物。
19.  上記１７に記載のポリ（メタ）アクリレートアミドアセタールを含むコーティング組成物の形成方法であって、ポリ（メタ）アクリレートアミドアセタールを前記架橋部分と反応させる工程を含む方法。
20.  前記架橋部分がイソシアネート、エポキシド、カルボン酸無水物、メラミンおよびシランよりなる群から選択される、上記１９に記載の方法。
21.  透明度および硬度の特性を有する、上記１９に記載の方法によって製造されたコーティング。
22.  ベースコート−クリアコート系の一部として使用される上記２１に記載のコーティング。