【手続補正書】
【提出日】平成19年3月2日(2007.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１層と前記第１層の上に積層された第２層とを有する配線を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記配線の側壁を少なくとも覆い、かつ、前記第２層の上面の一部を露出させるように前記配線の上から第３層をエッチングによりパターニングする工程と、
少なくとも前記第２層が露出している部分に第４層を形成する工程とを備え、
前記第２層は前記第３層のエッチングに用いるエッチャントにて対して耐食性を有する一方、前記第１層は前記エッチャントに対して侵食性を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】  前記第１層および前記第３層は、同一の材料によって構成されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】  前記第４層を形成する工程の一部は、酸素を含む雰囲気中で行われ、前記第３層と前記第４層との界面には、前記第２層の単位面積当たりの抵抗値と比較して単位面積の当たりの抵抗値が高い酸化膜が形成され、
前記第２層の材料は、前記第３層の材料と比較して酸化されにくい導電材料を用いることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】  前記配線は、前記第１層の下に下層を有する３層構造であり、
前記配線を形成する工程は、前記下層、前記第１層および前記第２層を順にパターニングすることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載した電気光学装置の製造方法。
【請求項５】  前記第１層はアルミニウムを含み、前記第２層は窒化チタンを含み、前記第４層はインジウム・ティン・オキサイドを含むことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載した電気光学装置の製造方法。
【請求項６】  基板上に複数の電極を有する半導体素子をマトリックス状に形成する工程と、
外部からの信号供給を受けるための接続端子と接続され、第１層と前記第１層の上に積層された第２層とを有する配線を形成する工程と、
前記各半導体素子の上から絶縁層を形成する工程と、
第１材料を用いて、前記各半導体素子に対応して前記絶縁層の上に複数の反射電極を形成するとともに、前記配線の側壁を少なくとも覆い、かつ、前記接続端子の一部では前記第２層を露出させるように前記配線の上から第３層を形成する工程と、
第２材料を用いて、前記反射電極を覆うように透明電極を形成するとともに、
前記配線のうち、少なくとも前記第２層が露出している部分の上から第４層を形成する工程とを備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】  前記第１層は前記第１材料によって構成されることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】  前記透明電極および前記第４層を形成する工程の一部は、酸素を含む雰囲気中で行われ、前記第３層と前記第４層との界面には、前記第２層の単位面積当たりの抵抗値と比較して単位面積の当たりの抵抗値が高い酸化膜が形成され、
前記第２層の材料は、前記第３層の材料と比較して酸化されにくい導電材料を
用いることを特徴とする請求項６または７に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】  前記配線は、前記第１層の下に下層を有する３層構造であり、
前記配線を形成する工程は、前記下層、前記第１層および前記第２層を順にパターニングすることを特徴とする請求項６乃至８のうちいずれか１項に記載した電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】  前記第１層はアルミニウムを含み、前記第２層は窒化チタンを含み、前記第１材料はアルミニウムを含み、前記第２材料はインジウム・ティン・オキサイドを含むことを特徴とする請求項６乃至９のうちいずれか１項に記載した電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】  基板上に、外部からの信号供給を受けるための接続端子が配置されて構成される電気光学装置であって、
前記接続端子は、第１層と、前記第１層の上に積層された第２層と、前記第１層および前記第２層の側壁を少なくとも覆い、かつ、前記接続端子の一部において前記第２層を露出させるように形成された第３層と、
前記第２層が露出している部分に形成された第４層と、
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】  前記電気光学装置は、反射導電性材料によって構成された反射電極および透明導電性材料によって構成された透明電極により形成される画素を備えることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１３】  前記反射電極と前記第３層とは同一の反射導電性材料によって構成され、かつ、前記透明電極と前記第４層とは同一の透明導電性材料によって構成されることを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
【請求項１４】  基板上に、外部からの信号供給を受けるための接続端子と、該接続端子に接続される配線とが配置されて構成される電気光学装置であって、
前記配線は、第１層と、前記第１層の上に積層された第２層と、前記第１層および前記第２層の側壁を少なくとも覆うように形成された第３層と、
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】  基板上に、外部からの信号供給を受けるための接続端子が配置されて構成される電気光学装置であって、
前記基板上にマトリックス状に配列された複数の半導体素子と、
前記各半導体素子に対応して、反射導電性材料によって構成された反射電極および透明導電性材料によって構成された透明電極により形成される画素が配置され、
前記接続端子と、
第１層と前記第１層の上に積層された第２層とを有する配線とが接続されて配置され、
前記接続端子は、前記第１層および前記第２層の側壁を少なくとも覆い、かつ、少なくとも前記接続端子の一部では前記第２層を露出させるように形成された第３層と、前記第２層が露出している部分に形成された前記第４層と
を備えていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１６】  前記半導体素子の上に凹凸形状を有する有機絶縁膜を備え、
前記反射電極は、前記有機絶縁膜の上に形成されることにより凹凸形状を有し、
前記透明電極は前記反射電極を覆うように形成され、
前記反射電極と前記第３層とは同一の反射導電性材料によって構成され、
前記透明電極と前記第４層とは同一の透明導電性材料によって構成されることを特徴とする請求項１５に記載の電気光学装置。
【請求項１７】  前記配線は前記第１層の下に下層を備える３層構造で構成され、前記下層はチタンを含み、前記第１層はアルミニウムを含み、前記第２層は窒素化チタンを含み、前記反射電極および前記第３層はアルミニウムを含み、前記透明電極と前記第４層はインジウム・ティン・オキサイドを含むことを特徴とする請求項１６に記載の電気光学装置。
【請求項１８】  請求項１６または１７に記載した前記電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、第１層と前記第１層の上に積層された第２層とを有する配線を有する電気光学装置の製造方法であって、前記配線の側壁を少なくとも覆い、かつ、前記第２層の上面の一部を露出させるように前記配線の上から第３層をエッチングによりパターニングする工程と、少なくとも前記第２層が露出している部分に第４層を形成する工程とを備え、前記第２層は前記第３層のエッチングに用いるエッチャントにて対して耐食性を有する一方、前記第１層は前記エッチャントに対して侵食性を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に複数の電極を有する半導体素子をマトリックス状に形成する工程と、外部からの信号供給を受けるための接続端子と接続され、第１層と前記第１層の上に積層された第２層とを有する配線を形成する工程と、前記各半導体素子の上から絶縁層を形成する工程と、第１材料を用いて、前記各半導体素子に対応して前記絶縁層の上に複数の反射電極を形成するとともに、前記配線の側壁を少なくとも覆い、かつ、前記接続端子の一部では前記第２層を露出させるように前記配線の上から第３層を形成する工程と、第２材料を用いて、前記反射電極を覆うように透明電極を形成するとともに、前記配線のうち、少なくとも前記第２層が露出している部分の上から第４層を形成する工程とを備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
次に、本発明の電気光学装置は、基板上に、外部からの信号供給を受けるための接続端子が配置されて構成される電気光学装置であって、前記接続端子は、第１層と、前記第１層の上に積層された第２層と、前記第１層および前記第２層の側壁を少なくとも覆い、かつ、前記接続端子の一部において前記第２層を露出させるように形成された第３層と、前記第２層が露出している部分に形成された第４層と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本発明の電気光学装置は、基板上に、外部からの信号供給を受けるための接続端子と、該接続端子に接続される配線とが配置されて構成される電気光学装置であって、前記配線は、第１層と、前記第１層の上に積層された第２層と、前記第１層および前記第２層の側壁を少なくとも覆うように形成された第３層と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ここで、前記反射膜と前記第３層とは同一の反射導電性材料によって構成され、かつ、前記透明電極と前記第４層とは同一の透明導電性材料によって構成されることを特徴とする。このような構成により、製造工程の簡略化が可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
次に、本発明の電気光学装置は、基板上に、外部からの信号供給を受けるための接続端子が配置されて構成される電気光学装置であって、前記基板上にマトリックス状に配列された複数の半導体素子と、前記各半導体素子に対応して、反射導電性材料によって構成された反射電極および透明導電性材料によって構成された透明電極により形成される画素が配置され、前記接続端子と、第１層と前記第１層の上に積層された第２層とを有する配線とが接続されて配置され、前記接続端子は、前記第１層および前記第２層の側壁を少なくとも覆い、かつ、少なくとも前記接続端子の一部では前記第２層を露出させるように形成された第３層と、前記第２層が露出している部分に形成された前記第４層とを備えていることを特徴とする電気光学装置。この発明によれば、配線の側壁は第３層により覆われるから、第３層をエッチングによりパターニングする工程において、そのエッチャントが第１層を侵食することはない。したがって、信頼性の高い電気光学装置を提供できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に、本発明の電気光学装置は、前記半導体素子の上に凹凸形状を有する有機絶縁膜を備え、前記反射電極は、前記有機絶縁膜の上に形成されることにより凹凸形状を有し、前記透明電極は前記反射電極を覆うように形成され、前記反射電極と前記第３層とは同一の反射導電性材料によって構成され、前記透明電極と前記第４層とは同一の透明導電性材料によって構成されることを特徴とする。この場合は製造工程を簡略化することが可能となる。