Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に精製された変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターであって、該変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターは、
配列番号１のアミノ酸配列を含み、
ただし、該アミノ酸配列は、アミノ酸１５７１〜１６２２および／または１６７４〜１７３０および／またはアミノ酸２３１１〜アミノ酸２５５６に１以上の変異を有し、その結果、該変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターは、γ−セクレターゼとのインキュベーションに応じて、変異していないＮＯＴＣＨ−１と比べて増強したシグナル伝達を示す、
実質的に精製された変異ＮＯＴＣＨ−１レセプター。
【請求項２】
前記１以上の変異を除いて、前記変異レセプターが、配列番号１のアミノ酸配列からなる、請求項１に記載の実質的に精製された変異レセプター。
【請求項３】
請求項１に記載の実質的に精製された変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターであって、ここで、前記１以上の変異が、以下：
ａ）配列番号１のアミノ酸配列のアミノ酸１５７１〜アミノ酸１６１８の部分が、配列番号１２〜配列番号２２、配列番号１０２〜配列番号１１８、および配列番号１４５からなる群より選択される配列で置換されている；
ｂ）配列番号１のアミノ酸配列のアミノ酸１５７１〜アミノ酸１６２２の部分が、配列番号２３〜配列番号２９、または配列番号１１９〜配列番号１２７からなる群より選択される配列で置換されている；
ｃ）配列番号１のアミノ酸配列のアミノ酸１６７４〜アミノ酸１７３０の部分が、配列番号７０〜配列番号７５または配列番号１２８〜配列番号１３７からなる群より選択される配列で置換されている；
ｄ）配列番号１のアミノ酸配列のアミノ酸２３１１〜アミノ酸２５５６の部分が、配列番号３０〜配列番号５９または配列番号１３８〜配列番号１４４からなる群より選択される配列で置換されている；
のうちの１以上を含む、実質的に精製された変異ＮＯＴＣＨ−１レセプター。
【請求項４】
前記１以上の変異を除いて、前記変異レセプターが、配列番号１のアミノ酸配列からなる、請求項２に記載の実質的に精製された変異レセプター。
【請求項５】
前記配列が、１５７１；１５７３；１５７５；１５７６；１５７８；１５７９；１５８３；１５８６；１５８８；１５９０；１５９３；１５９４；１５９５；１５９８；１６００〜１６０７；１６１０〜１６１８；１６７４；１６７５；１６７７；１６７９〜１６８４；１６８６；１６９５；１６９６；１７０３；１７０６；１７１５；１７２０；１７２５；および１７２８からなる群より選択される１以上のアミノ酸位置で変異されている、請求項１に記載の実質的に精製された変異ＮＯＴＣＨ−１レセプター。
【請求項６】
前記１以上の変異されたアミノ酸を除いて、前記レセプターが、配列番号１のアミノ酸配列からなる、請求項５に記載の実質的に精製されたレセプター。
【請求項７】
請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターをコードするヌクレオチド配列を含む、実質的に精製されたポリヌクレオチド。
【請求項８】
前記ポリヌクレオチドが、請求項１に記載の変異レセプターをコードするヌクレオチド配列からなる、請求項７に記載の実質的に精製されたポリヌクレオチド。
【請求項９】
実質的に精製されたポリヌクレオチドであって、該ポリヌクレオチドは、長さが少なくとも１５ヌクレオチドであり、ストリンジェントな条件下で請求項８に記載のポリヌクレオチドにハイブリダイズするが、変異されていないＮＯＴＣＨ−１をコードするポ
リヌクレオチドに同じ条件下でハイブリダイズしない、実質的に精製されたポリヌクレオチド。
【請求項１０】
請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターをコードするポリヌクレオチドに作動可能に連結されたプロモーターを含む、ベクター。
【請求項１１】
請求項１０に記載のベクターで形質転換された宿主細胞。
【請求項１２】
請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターに、配列番号１の変異されていないＮＯＴＣＨ−１レセプターに対する親和性よりも少なくとも１００倍大きい親和性で結合する、抗体。
【請求項１３】
癌細胞の存在について生物学的サンプルを診断的に試験する方法であって、
請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターについて該生物学的サンプルをアッセイする工程
を包含する、方法。
【請求項１４】
癌細胞の存在について生物学的サンプルを診断的に試験する方法であって、請求項７に記載のポリヌクレオチドを発現する細胞について該生物学的サンプルをアッセイする工程を包含する、方法。
【請求項１５】
癌細胞の存在について生物学的サンプルを診断的に試験する方法であって、
請求項８に記載のポリヌクレオチドを発現する細胞について該生物学的サンプルをアッセイする工程
を包含する、方法。
【請求項１６】
前記方法が、前記変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターをコードする全長ポリヌクレオチド、または該変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターをコードするポリヌクレオチドの一部のいずれかをＰＣＲ増幅することによって行われる、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターを有すると同定された細胞の増殖を遅延させるかまたは停止させる方法であって、
該細胞を有効量のγ−セクレターゼインヒビターと接触させる工程
を包含する、方法。
【請求項１８】
癌について患者を処置するための組成物であって、
ＮＯＴＣＨ−１レセプターのシグナル伝達を阻害する因子
を含み、
該患者由来の生物学的サンプルが、請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターを有する癌細胞の存在についてアッセイされ、該生物学的サンプルが該変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターを有すると見出された場合、該患者が該組成物で処置されることを特徴とする、組成物。
【請求項１９】
前記癌がＴ細胞急性リンパ芽球性白血病である、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記因子がγ−セクレターゼインヒビターである、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２１】
試験化合物を、変異したＮＯＴＣＨ−１レセプターの存在によって誘導される異常な細胞増殖をその試験化合物が阻害する能力についてアッセイする方法であって、
ａ）該試験化合物を、請求項１に記載の変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターを発現する細胞とインキュベートする工程であって、該インキュベーションがγ−セクレターゼの存在下で行われる、工程；
ｂ）工程ａ）のインキュベーションの結果として生じるレセプター活性の量を、該試験化合物の非存在下で行われた同様のインキュベーションで生じる活性の量と比較する工程
；および
ｃ）該試験化合物の存在下で観察された活性の量が該試験化合物の非存在下で観察された活性の量よりも小さい場合、該試験化合物が変異ＮＯＴＣＨ−１レセプターを発現する細胞の増殖を阻害するはずであると結論付ける工程
を包含する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月30日(2008.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性BoNT/Aをコードする改変オープンリーディングフレームを含む核酸分子であって、
改変オープンリーディングフレームが、同じ活性BoNT/Aをコードする無改変オープンリーディングフレームと比較して、異種細胞が好む同義コドンの数を増加させるヌクレオチド変化を含み、
異種細胞が、原核細胞、酵母細胞、昆虫細胞、および哺乳動物細胞からなる群から選択され、そして
改変オープンリーディングフレームが、コードされている活性BoNT/Aの異種細胞における発現を、他の点では同一である核酸分子中の無改変オープンリーディングフレームからの異種細胞における同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、増加させる、
核酸分子。
【請求項２】
改変オープンリーディングフレームが、少なくとも500個の同義コドンを変化させるヌクレオチド変化を含む、請求項1の分子。
【請求項３】
改変オープンリーディングフレームが、少なくとも700個の同義コドンを変化させるヌクレオチド変化を含む、請求項1の分子。
【請求項４】
改変オープンリーディングフレームが、少なくとも1000個の同義コドンを変化させるヌクレオチド変化を含む、請求項1の分子。
【請求項５】
活性BoNT/Aが配列番号1、配列番号111または配列番号113を含む、請求項1の分子。
【請求項６】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも2倍は高い、請求項1の分子。
【請求項７】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも5倍は高い、請求項1の分子。
【請求項８】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも10倍は高い、請求項1の分子。
【請求項９】
発現コンストラクトである、請求項1から8のいずれかの分子。
【請求項１０】
活性BoNT/Aをコードする改変オープンリーディングフレームを含む核酸分子であって、
改変オープンリーディングフレームが、同じ活性BoNT/Aをコードする無改変オープンリーディングフレームと比較して、総G+C含量を異種細胞が好むレベルまで増加させるヌクレオチド変化を含み、
異種細胞が、原核細胞、酵母細胞、昆虫細胞、および哺乳動物細胞からなる群から選択され、そして
改変オープンリーディングフレームが、コードされている活性BoNT/Aの異種細胞における発現を、他の点では同一である核酸分子中の無改変オープンリーディングフレームからの異種細胞における同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、増加させる、
核酸分子。
【請求項１１】
改変オープンリーディングフレームが、総G+C含量を少なくとも30％まで増加させるヌクレオチド変化を含む、請求項10の分子。
【請求項１２】
改変オープンリーディングフレームが、総G+C含量を少なくとも40％まで増加させるヌクレオチド変化を含む、請求項10の分子。
【請求項１３】
改変オープンリーディングフレームが、総G+C含量を少なくとも50％まで増加させるヌクレオチド変化を含む、請求項10の分子。
【請求項１４】
活性BoNT/Aが配列番号1、配列番号111または配列番号113を含む、請求項10の分子。
【請求項１５】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも2倍は高い、請求項10の分子。
【請求項１６】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも5倍は高い、請求項10の分子。
【請求項１７】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも10倍は高い、請求項10の分子。
【請求項１８】
発現コンストラクトである、請求項10から17のいずれかの分子。
【請求項１９】
配列番号4、配列番号5、配列番号6、配列番号7、配列番号8、配列番号9、配列番号10、配列番号11、配列番号12、配列番号13、配列番号14、配列番号15、配列番号16、配列番号17、配列番号18、配列番号19、配列番号20、配列番号21、配列番号22、配列番号23、配列番号24、配列番号25、配列番号26、配列番号27、配列番号28、配列番号29、配列番号30、配列番号31、配列番号32、配列番号33、配列番号34、配列番号35、配列番号36、配列番号37、配列番号38、配列番号39、配列番号40、配列番号41、配列番号42、配列番号43、配列番号44、配列番号45、配列番号58、配列番号59、配列番号60、配列番号61、配列番号62、配列番号63、配列番号76、配列番号77、配列番号78、配列番号79、配列番号80、配列番号81、配列番号82、配列番号83、配列番号84、配列番号85、配列番号86、配列番号87、配列番号88、配列番号89、配列番号90、配列番号91、配列番号92、配列番号93、配列番号94、配列番号95、配列番号96、配列番号97、配列番号98、配列番号99、配列番号110、配列番号112、配列番号122、配列番号123、配列番号124、または配列番号125を含む改変オープンリーディングフレームを含む核酸分子。
【請求項２０】
発現コンストラクトである、請求項19の分子。
【請求項２１】
請求項9、18、または20の発現コンストラクトを含む異種細胞。
【請求項２２】
発現コンストラクトが異種細胞に一過性に含有される、請求項21の細胞。
【請求項２３】
発現コンストラクトが異種細胞に安定に含有される、請求項21の細胞。
【請求項２４】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも2倍は高い、請求項21の細胞。
【請求項２５】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも5倍は高い、請求項21の細胞。
【請求項２６】
改変オープンリーディングフレームからの活性BoNT/Aの増加した発現が、無改変オープンリーディングフレームからの同じ活性BoNT/Aの発現レベルと比較して、少なくとも10倍は高い、請求項21の細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月28日(2008.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）既存の押出機バレル・セクションの輪郭にマッチする試験金属のスペーサーを製造する工程と、
（ｂ）スペーサーのスペーサー穴寸法を測定し、そして使用前に、暴露されるスペーサー表面の状態および特徴を評価する工程と、
（ｃ）所定の時間にわたって、スペーサーを押出機環境に暴露する工程と、
（ｄ）暴露されたスペーサーを調べて腐食速度を測定する工程と
を含むことを特徴とするポリマーまたはポリマー混合物を加工する押出機での腐食速度の測定方法。
【請求項２】
前記押出機のバレル・セクションの断面輪郭に実質的に適合する少なくとも１つのスペーサーを含み、その結果、前記１つまたは複数のスペーサーがバレル・セクションの少なくとも２つの間に挿入されていることを特徴とするポリマーまたはポリマー混合物を加工する押出機での腐食速度を測定するための装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
走査電子顕微鏡法および表面形状測定などの追加の表面キャラクタリゼーション技術を本発明の趣旨から逸脱することなく用いることができることは、当業者であれば気付くであろう。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  （ａ）既存の押出機バレル・セクションの輪郭にマッチする試験金属のスペーサーを製造する工程と、
（ｂ）スペーサーのスペーサー穴寸法を測定し、そして使用前に、暴露されるスペーサー表面の状態および特徴を評価する工程と、
（ｃ）所定の時間にわたって、スペーサーを押出機環境に暴露する工程と、
（ｄ）暴露されたスペーサーを調べて腐食速度を測定する工程と
を含むことを特徴とするポリマーまたはポリマー混合物を加工する押出機での腐食速度の測定方法。
［２］  前記スペーサー穴の寸法がレーザーマイクロメーターによって測定されることを特徴とする［１］に記載の方法。
［３］  前記押出機のバレル・セクションの断面輪郭に実質的に適合する少なくとも１つのスペーサーを含み、その結果、前記１つまたは複数のスペーサーがバレル・セクションの少なくとも２つの間に挿入されていることを特徴とするポリマーまたはポリマー混合物を加工する押出機での腐食速度を測定するための装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月29日(2008.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが各タイムスタンプを有するイベント・トランザクションをスケジューリングするための、所定のイベント規則を有するイベント駆動アプリケーションにおいて使用される方法であって、
前記所定のイベント規則に従ってイベント間の予想時間依存性を解消するステップと、
前記イベント・トランザクションが処理されるであろう時を判断するステップとを含み、それによって、前記イベント・トランザクションを並列処理のために分散型プロセッサへディスパッチするステップであって、
前記イベント・トランザクションが処理されるであろう時を判断するステップは、
登録されたイベントのリストを維持するように各入力イベントを登録するステップと、
各登録されたイベントについて、前記所定のイベント規則に従って、登録されたイベント間の予想時間依存性を、まだ検出されていないマーク付けされた状況と共に解消するステップと、
すべての依存性が解消された各イベント・トランザクションをイベント処理部へディスパッチするステップと、
前記イベント・トランザクションの処理結果を受信するステップと、
前記イベント・トランザクションをコミットすべきかまたは中止すべきかを判断するステップと、
前記イベント・トランザクションを中止すべきである場合には、前記イベント・トランザクションを中止して、再び処理部へディスパッチするステップとを含み、
前記各入力イベントを登録するステップは、
イベントを受信するステップと、
タイムスタンプを前記イベントに割り当てるステップと、
前記受信されたイベントによってトリガ可能なすべての状況を所定の規則を使用して判断するステップと、
前記受信されたイベントと、それによってトリガ可能なすべての状況とをイベント並列テーブル内の適切な欄に追加するステップと、
前記受信されたイベントによって生じたトランザクションを前記受信されたイベントのために開始できるかを前記所定の規則に従って判断するステップと、
前記トランザクションを前記受信されたイベントのために開始できない場合には、前記トランザクションが開始できるまで待機するステップと、
前記トランザクションを開始できる場合には、前記イベントをイベント処理部へディスパッチするステップと、
トランザクション処理結果を前記イベント処理部から受信するステップと、
前記トランザクションを前記受信されたイベントに対してコミットできるかを前記所定の規則に従って判断するステップと、
前記トランザクションを前記受信されたイベントに対してコミットできない場合には、前記処理結果を廃棄して前記トランザクションを再開するステップと、
前記トランザクションを前記受信されたイベントに対してコミットできる場合には、前記イベント並列テーブルを更新して、前記トランザクションをコミットするステップとを含む、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フローサイトメトリの方法であって、
フローサイトメータに粒子を含有した流体を供給するステップと、
前記流体に音響放射圧を印加するステップと、
前記流体内の前記粒子に対して作用させるステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項２】
粒子から磁気モーメント信号を収集するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
磁気モーメント信号の収集ステップは粒子の分子構造を決定するステップを含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
ハイドロダイナミックシースを利用しないことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
５．粒子を含有した流体を低通過速度で通流させるステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
粒子を分析するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
粒子を含有した流体を高体積流量で通流させるステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
粒子を濃縮するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項９】
粒子を配置するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１０】
粒子を分留するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１１】
フローサイトメータであって、粒子を含有した流体を受領するためのインレットを内蔵しており、前記流体内の前記粒子に対して作用するように本フローサイトメータに印加される音響放射圧を発生させることを特徴とするフローサイトメータ。
【請求項１２】
粒子を分析するインテロゲーション光源をさらに含んでいることを特徴とする請求項１１記載のフローサイトメータ。
【請求項１３】
インテロゲーション光源から情報を受領する収集光学機器をさらに含んでいることを特徴とする請求項１２記載のフローサイトメータ。
【請求項１４】
ハイドロダイナミックシースを含まないことを特徴とする請求項１１記載のフローサイトメータ。
【請求項１５】
流体は粒子の希釈縣濁液を含んでいることを特徴とする請求項１１記載のフローサイトメータ。
【請求項１６】
流体内で粒子を音響放射圧に曝露する装置であって、前記粒子を含有する流体を受領するインレットと、音響放射圧を発生させる１体の音響信号発生トランスジューサとを含んでおり、前記音響放射圧は前記流体内の前記粒子を放射状に整合させるものであることを特徴とする装置。
【請求項１７】
ＲＦ電気信号を出力するファンクションジェネレータをさらに含んでいることを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
ハイドロダイナミックシースを含まないことを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項１９】
モニター用トランスジューサをさらに含んでいることを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項２０】
モニター用トランスジューサは共振周波数を維持するために音響放射圧をモニターすることを特徴とする請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
流体内の粒子を音響放射圧に曝露する方法であって、粒子を含有する流体を通流させるステップと、１体の音響信号発生トランスジューサを利用して前記流体を前記音響放射圧に曝露するステップと、前記流体内の前記粒子を放射状に整合させるステップとを含んでいることを特徴とする方法。
【請求項２２】
外側境界面の移動を促すステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
外側境界面の移動をモニターするステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
ハイドロダイナミックシースを利用しないことを特徴とする請求項２１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の一実施の形態による、SPMに用いられるナノニードル探針の製造方法を模式的に示す図である。
【図２】イオンビームを照射する前の、ナノニードルが付着されたチップ部分のSEM(Scanning Electron Microscope) 写真を示す図である。
【図３】イオンビームを照射した後の、ナノニードルが付着されたチップ部分のSEM写真を示す図である。
【図４】FIBシステムのパターニング領域を指定したことを模式的に示す図である。
【図５】図４のパターニング領域にイオンビームを照射した後の結果を示すSEM写真である。
【図６】図４のパターニング領域にイオンビームを照射した後の結果を示すSEM写真である。
【図７】本発明の他の実施の形態によるCD-SPMナノニードル探針の製造方法を模式的に示す図である。
【図８】図７に示す方法によって処理されたCD-SPMナノニードル探針の形状の模式図である。
【図９】図７に示す方法によって処理される前の、SPMナノニードル探針の写真である。
【図１０】図７に示す方法によって処理された後の、CD-SPMナノニードル探針の写真である。
【図１１】本発明によって製造されたCD-SPMナノニードル探針によって測定対象物の凹凸のある側壁を測定する方法を模式的に示す図である。
【図１２】従来のSPM探針による測定対象物の凹凸の側壁の測定過程と測定結果とを模式的に示す図である。
【図１３】従来のSPM探針による測定対象物の凹凸の側壁の測定過程と測定結果とを模式的に示す図である。
【図１４】従来のSPM探針による測定対象物の凹凸の側壁の測定過程と測定結果とを模式的に示す図である。
【図１５】従来の測定対象物の凹凸の側壁の測定のために製造された、SPM探針の先端部の種々の形状を模式的に示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
したがって、本発明の具体的な一実施形態によると、ＳＱＬデータベースを多重化することによって、シャード化されクラスタ化された拡張可能なデータベースシステム３００を作成する方法が提供される。ネットワーク化されたハードウェア上で実行される個々のＳＱＬ実装形態はリンクされており、データベースは断片化されて個々のクラスタ上にある。データベースの各断片は、データベース全体のなかの一シャード上で実行される。各データベースシャードは、複数のマシンからなる１つのクラスタで構成される。複数のマシンのうち、１つは読み書きマスタ３０２として機能し、残りはマスタのコピーを含有する読み出し専用スレーブ３０４として機能する。読み出し要求は、任意多数のスレーブ３０４に配信される。各シャードは、例えばブログＩＤなど単一の固有のインデックスにインデックス付けされ、そのインデックスに関連付けられた全ての情報を格納される。このアプローチは、全てのデータをＲＡＭ内に維持することを可能にするので、その結果、適度に速い応答時間が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光エネルギを捉えて合焦光エネルギをもたらし中間像を形成する合焦レンズを少なくとも１個含むレンズ群と、
中間像を捉えて中間光エネルギを出射するようその向きが設定された少なくとも１個の弗化カルシウム製の像面レンズと、
像面レンズからの中間光エネルギを捉えて制御光エネルギをもたらすよう配置されたマンジャンミラー列と、
を備え、
各像面レンズが、その像面レンズによる光分散効果が補償されるよう中間像とマンジャンミラー列の間に配置されており、且つ、その曲率半径及び厚みが、中間光エネルギ伝送初期に生じる現象如何によらず横方向色収差が小さくなるよう設定されており、
使用可能スペクトル域が広い標本イメージング用の対物系。
【請求項２】
請求項１記載の対物系であって、未補正使用可能スペクトル域が少なくとも２１２〜２６７ｎｍの領域に亘る対物系。
【請求項３】
請求項１記載の対物系であって、その像面位置における多色シュトレール比が約０．９超である対物系。
【請求項４】
請求項１記載の対物系であって、そのマンジャンミラー列が、マンジャンレンズ／ミラー素子に更に他のレンズを随伴させた構成を有する対物系。
【請求項５】
請求項１記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも１個が弗化カルシウムによって、他のレンズのうち少なくとも１個が熔融シリカによって、それぞれ形成された対物系。
【請求項６】
請求項５記載の対物系であって、像面レンズのうち少なくとも１個に加え、他のレンズのうち少なくとも１個が弗化カルシウムによって形成された対物系。
【請求項７】
請求項１記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも１個が中間像よりもマンジャンミラー列に近い位置に配置された対物系。
【請求項８】
請求項１記載の対物系であって、標本に射突した光エネルギのうち少なくとも一部が標本から戻り、マンジャンミラー列、像面レンズのうち少なくとも１個、並びにレンズ群のうち少なくとも一部を通り抜ける対物系。
【請求項９】
請求項２記載の対物系であって、その使用可能スペクトル域が少なくとも１９３〜２６６ｎｍの領域に亘る対物系。
【請求項１０】
光エネルギを捉えて中間像に変換する複数個のレンズと、
中間像を捉えて像面結像光エネルギをもたらす少なくとも１個の弗化カルシウム製の像面レンズと、
像面結像光エネルギを捉え標本にカタジオプトリックエネルギを供給するカタジオプトリック群と、
を備え、
各像面レンズが、その像面レンズによる光分散効果が補償されるよう中間像とカタジオプトリック群の間に配置されており、且つ、各弗化カルシウム製像面レンズの曲率半径及び厚みが、像面結像光エネルギ伝送初期に生じる現象如何によらず横方向色収差が小さくなるよう設定されており、
使用可能スペクトル域が広い標本イメージング用の対物系。
【請求項１１】
請求項１０記載の対物系であって、その使用可能スペクトル域が少なくとも１９３〜２６６ｎｍの領域に亘る対物系。
【請求項１２】
請求項１０記載の対物系であって、その像面位置における多色シュトレール比が約０．９超である対物系。
【請求項１３】
請求項１０記載の対物系であって、そのカタジオプトリック群が、マンジャンレンズ／ミラー素子に更に他のレンズを随伴させた構成を有する対物系。
【請求項１４】
請求項１０記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも１個が熔融シリカによって形成された対物系。
【請求項１５】
請求項１４記載の対物系であって、像面レンズのうち少なくとも１個に加え、他のレンズのうち少なくとも１個が弗化カルシウムによって形成された対物系。
【請求項１６】
請求項１０記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも１個が中間像とカタジオプトリック群の間に配置された対物系。
【請求項１７】
請求項１０記載の対物系であって、標本に射突した光エネルギのうち少なくとも一部が標本から戻り、カタジオプトリック群、並びに上記複数個のレンズのうち少なくとも１個を通り抜ける対物系。
【請求項１８】
請求項１１記載の対物系であって、その使用可能スペクトル域が少なくとも１９３〜２６６ｎｍの領域に亘る対物系。
【請求項１９】
標本をイメージングする方法であって、
光エネルギを捉えるステップと、
その光エネルギを中間像に変換するステップと、
少なくとも１個の弗化カルシウム製の像面レンズを用いその中間像から像面結像光エネルギを生成するステップと、
マンジャンレンズ／ミラー素子を用いてその像面結像光エネルギをカタジオプトリックエネルギに変換し更にそのカタジオプトリックエネルギを標本に供給するステップと、
を有し、
各像面レンズの曲率半径及び厚みが、像面結像光エネルギ伝送初期に生じる現象如何によらず横方向色収差が小さくなるよう設定されており、且つ、像面結像光エネルギの生成に際しては、中間像とマンジャンレンズ／ミラー素子の間に配置された像面レンズを用い像面レンズによる光分散効果を補償する方法。
【請求項２０】
請求項１９記載の方法であって、上記各ステップの実行によって少なくとも１９３〜２６６ｎｍの領域に亘る使用可能スペクトル域を得る方法。
【請求項２１】
請求項１９記載の方法であって、上記各ステップの実行によって像面位置にて約０．９超の多色シュトレール比を得る方法。
【請求項２２】
請求項２１記載の方法であって、上記各ステップの実行によって少なくとも１９３〜２６６ｎｍの領域に亘る使用可能スペクトル域を得る方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
以下のａ．〜ｄ．を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＬＣＤ。
ａ．以下の素子を含む液晶（ＬＣ）セル
−第一の基板面および第二の基板面であって、相互に平行であり、それらの少なくとも１つは入射光に対して透明であるもの、
−ＬＣセルの画素の切り換えを個別行うために用い得る、前記基板の１つの上のトランジスタなどの非直線電子素子アレイ、 
−前記基板の１つの上のカラーフィルタアレイであって、原色である赤、緑および青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の１つを透過せしめる異なる画素のパターンを有し、前記カラーフィルタが任意に平坦化層によって覆われているもの、
−第一の基板の内部に与えられる第一の電極層、
−任意の、第二の基板の内部に与えられる第二の電極層、
−任意の、前記第一および第二の電極上に与えられる第一および第二の配向層  
−ＬＣ媒体であって、電場の印加によって少なくとも２つの異なる配向間において切り換え可能なもの、
ｂ．ＬＣセルの第一の側面の第一の直線偏光子、
ｃ．任意の、ＬＣセルの第二の側面の第二の直線偏光子、および
ｄ．少なくとも１つの光学リタデーションフィルムであって、ＬＣセルの第一の基板と第二の基板との間に配置され、少なくとも１つの光異性化化合物を含む重合性液晶（ＬＣ）材料から得られ、液晶材料の異なる配向および／またはリタデーションを有するパターン領域を有するもの。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脈管遮断器具であって、
脈管を遮断するための拡張可能なキャップ状部と、
脈管において前記キャップ状部を安定化するための底部とを含むことを特徴とする器具。
【請求項２】
脈管遮断器具であって、
一方の幅細の端部と他方の幅細の端部とで接続された２つの凹形遮断器具と、
アンカー機構とを含むことを特徴とする器具。
【請求項３】
前記脈管遮断器具が、折り畳み可能であることを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項４】
前記脈管遮断器具が、砂時計形状を有することを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項５】
前記凹形遮断器具が各々リムを含み、前記リムが脈管に向かって拡張可能であることを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項６】
遮断器具を脈管に向けて拡張させるための拡張要素を含むことを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項７】
前記拡張可能な脈管遮断器具を脈管から引き抜くための抜去可能な機構を含むことを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項８】
吸収性ワイヤを含むことを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項９】
前記吸収性ワイヤが、閉塞物質で被覆されていることを特徴とする請求項８に記載の器具。
【請求項１０】
前記アンカー機構が、突起物を含むことを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項１１】
前記アンカー機構が、フックを含むことを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項１２】
カテーテル器具を含むことを特徴とする請求項２に記載の器具。
【請求項１３】
ガイドワイヤを含むことを特徴とする請求項１２に記載のカテーテル器具。
【請求項１４】
薬剤分注機構を含むことを特徴とする請求項１２に記載のカテーテル器具。
【請求項１５】
インナーカテーテル器具を含むことを特徴とする請求項１２に記載のカテーテル器具。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
椎間円板修復用のインプラントシステムであって、
椎間円板内に埋め入れ可能であり、髄核を置換し又は補完する生体適合性物質と、
前記生体適合性物質を接近させるために、隣接した椎骨内に形成されたチャネルと、を有し、前記チャネルは、隣接した椎骨の終板平面に対する鋭角の垂直方向接近角度を定め、
更に、前記生体適合性物質に圧力を及ぼすために前記チャネル内に位置決めされるプラグを有する、インプラントシステム。
【請求項２】
前記プラグによって及ぼされる圧力は、前記椎間円板の生来の機能を少なくともほぼ修復するのに十分である、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項３】
前記プラグによって及ぼされる圧力は、生来の椎骨間隔を少なくともほぼ修復するのに十分である、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項４】
前記生体適合性物質は、髄核の生来の圧力に近い圧力まで加圧される、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項５】
前記生体適合性物質は、約４ＭＰａ以下の圧縮弾性率を有する、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項６】
前記生体適合性物質は、約０．３０〜０．５０のポアソン比を有する、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項７】
前記生体適合性物質はヒドロゲルである、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項８】
前記ヒドロゲルは、ポリ（ビニルアルコール）と、ポリ（ビニルアルコール）及びポリ（ビニルピロリドン）の混合物である会合ヒドロゲルとから成る群から選択された物質で構成される、請求項７に記載のインプラントシステム。
【請求項９】
前記ヒドロゲルは、細いストリングである、請求項７に記載のインプラントシステム。
【請求項１０】
前記生体適合性物質は、ポリウレタン及びシリコーンから成る群から選択される、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項１１】
前記埋め入れられる物質と前記プラグとの間において、前記チャネル内に配置される一定量のほぼ非圧縮性の物質を更に有する、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項１２】
前記ほぼ非圧縮性の物質は、骨セメント、自家移植片、同種移植片及び異種移植片から成る群から選択される、請求項１１に記載のインプラントシステム。
【請求項１３】
前記プラグは、骨ねじ及び有刺プラグから成る群から選択される、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項１４】
前記隣接した椎骨は上椎骨である、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項１５】
前記鋭角の垂直方向接近角度は約１０〜約６０度の範囲にある、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項１６】
前記鋭角の垂直方向接近角度は約３５〜約４５度の範囲にある、請求項１５に記載のインプラントシステム。
【請求項１７】
前記鋭角の垂直方向接近角度の鋭角は約４０度である、請求項１６に記載のインプラントシステム。
【請求項１８】
前記チャネルは、隣接した椎骨の骨棘平面に対する鋭角の横方向接近角度を定める、請求項１に記載のインプラントシステム。
【請求項１９】
前記鋭角の横方向接近角度は、約２０〜約６０度である、請求項１６に記載のインプラントシステム。
【請求項２０】
前記鋭角の横方向接近角度は約５０度である、請求項１７に記載のインプラントシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線の通路に沿って配置された少なくとも１つのコリメーション用リーフ部材を有する単一リーフＸ線コリメータであって、
前記コリメーション用リーフ部材が少なくとも１つのコリメーション用開口を有し、また前記コリメーション用リーフ部材が水平又は垂直平面の少なくとも１つに対して回転するように構成されている、単一リーフＸ線コリメータ。
【請求項２】
更に、前記Ｘ線通路に沿って配置された少なくとも１つの補助リーフ部材を含んでいる請求項１記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項３】
前記補助リーフ部材は前記コリメーション用リーフ部材と組み合わせて設けられている、請求項２記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項４】
前記コリメーション用リーフ部材はＸ線に関して線源側とイメージャ側とを有し、前記補助リーフ部材は前記コリメーション用リーフ部材の前記線源側に配置されている、請求項２記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項５】
前記補助リーフ部材は、前記線源側から所定の距離においてＸ線の場の全体を覆うように予め定められたサイズを有しており、
前記補助リーフ部材は、当該補助リーフ部材の中にＸ線を通過させる少なくとも１つの補助開口を含んでおり、
前記コリメーション用リーフ部材及び前記補助リーフ部材はＸ線減衰材料で作られており、
前記補助リーフ部材は更に、前記コリメーション用リーフ部材を操作するための手段を含んでいる、請求項２記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項６】
ハウジングと、
前記ハウジング内でＸ線ビームをコリメートするコリメーション用部材を有し、該コリメーション用部材は、水平又は垂直平面の少なくとも１つに対して回転するように構成され、前記Ｘ線ビームがほぼ楕円形にコリメートされる単一リーフ・コリメータ。
【請求項７】
更に、前記コリメーション用部材と組み合わさる補助リーフ部材を含んでいる請求項６記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項８】
前記補助リーフ部材は、前記コリメーション用部材と組み合わさって、Ｘ線通路に沿って摺動するように構成されており、
前記コリメーション用部材はＸ線に関して線源側とイメージャ側とを有し、前記補助リーフ部材は前記コリメーション用部材の前記線源側に配置されており、
前記補助リーフ部材はＸ線の場のほぼ全体を覆うように構成され、
前記補助リーフ部材は、それを通って前記コリメーション用部材へＸ線を通過させるように構成され、
前記コリメーション用部材及び前記補助リーフ部材はＸ線減衰材料で作られている、請求項７記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項９】
前記補助リーフ部材は、前記コリメーション用部材を操作するための手段を含むように構成されている、請求項７記載の単一リーフ・コリメータ。
【請求項１０】
前記コリメーション用部材は、流体圧又は空気圧式作動器又は直流サーボモータを含む、請求項７記載の単一リーフ・コリメータ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】耐食性の流体伝導部品および耐食性の流体伝導部品を用いて装置と部品を交換する方法
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月10日(2008.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか１つに記載の底革(10,100,200,300)を備えてなることを特徴とする、靴。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織に線状切断を生じさせるべく構成かつ配置された装置であって：
アイスボール(58)の形成を介して組織との関係で安定に位置決めすることができる低温カテーテル(30)と；
該線状切断を生じさせるための長尺線状切断部(14)と；
を具備してなり、該線状切断部(14)が使用時に該低温カテーテルに係留されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記低温カテーテル(30)が前記線状切断部(14)から作動的に分離されている請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記線状切断部(14)が係留部材(22,74)により前記低温カテーテルに係留されている請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】
前記係留部材(22,74)が前記線状切断部の先端に連結されている請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記係留部材が枢動取着点(74)である請求項３又は４記載の装置。
【請求項６】
前記係留部材がワイヤーループ(22)を有する請求項３又は４記載の装置。
【請求項７】
前記ワイヤーループ(22)が、ループ制御ワイヤー(20)を用いた遠隔制御により調整自在となっている請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記制御ワイヤー(20)が、案内路(18)を介して、前記線状切断部の長さに沿って経由している請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記案内路(18)が前記線状切断部の中心に沿って形成されている請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記案内路が前記線状切断部の外側に沿って形成されている請求項８記載の装置。
【請求項１１】
前記ワイヤーループ(22)が、前記ワイヤーループ(22)の可能な最小径を設定するループ径レストリクターを有する請求項６ないし１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
前記線状切断部を囲み、線状切断部から後退可能なシース(16)を更に具備してなる請求項１ないし１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
前記低温カテーテルを囲むシース(32)を更に具備してなる請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記線状切断部を囲むシース(16)と、前記低温カテーテルを囲むシース(32)とが同一のシース(72)からなっている請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
前記シースシース(16)の外径が、係留部材を形成するワイヤーループ(22)の最小径よりも大きく、該ワイヤーループ(22)が前記低温カテーテルから滑り落ちないようにしている請求項１２記載の装置。
【請求項１６】
前記線状切断部(14)が長尺の低温切断ヘッドであり、組織表面の温度を低下させることにより該組織表面を切断するものである請求項１ないし１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１７】
低温切断を行うため、長尺の低温切断ヘッドを介して低温流体を循環させるための低温流体回路を更に具備してなる請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
前記線状切断部(14)が長尺の高周波線状切断ヘッドである請求項１ないし１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１９】
前記線状切断部(14)がステアリング制御ワイヤーを用いた遠隔操作により舵取り可能となっている請求項１ないし１８のいずれかに記載の装置。
【請求項２０】
前記低温カテーテルが恒久的に湾曲した先端(24)を有し、組織に対し増大した表面積を提供し、それにより組織との関係で低温カテーテルの安定的位置決めを助けるようにした請求項１ないし１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
前記線状切断部が線状切断カテーテルの一部である請求項１ないし２０のいずれかに記載の装置。
【請求項２２】
前記低温カテーテル(30)が前記線状切断カテーテルを支持するため、並びに前記線状カテーテルを沿わせて前進させるためのガイドブラケット(70)を有する請求項２１記載の装置。
【請求項２３】
組織に線状切断を生じさせるべく構成かつ配置されたカテーテルであって：
線状切断ヘッド(14)と；
ワイヤーループ(22)を有する係留部材と；を有して、
前記係留部材は、前記線状切断ヘッドの一部を係留して一つの構造物となるように前記線状切断ヘッドと結合されて、前記線状切断ヘッドの残りの部分が、前記組織の上に線状切断を形成するように位置決めされるカテーテル。
【請求項２４】
前記係留部材(22)は、前記線状切断ヘッド(14)の末端と結合されている請求項２３記載のカテーテル。
【請求項２５】
前記ワイヤーループ(22)は、ループ制御ワイヤー(20)を用いて、遠隔制御により調整自在である請求項２３又は２４記載のカテーテル。
【請求項２６】
前記制御ワイヤー(20)は、前記線状切断部の長さに沿って、案内路(18)を介して経由している請求項２５記載のカテーテル。
【請求項２７】
前記案内路(18)は、前記線状切断部の中心に沿って形成されている請求項２６記載のカテーテル。
【請求項２８】
前記案内路は、前記線状切断部の外側に沿って形成されている請求項２６記載のカテーテル。
【請求項２９】
前記ワイヤーループ(22)は、前記ワイヤーループ(22)の可能な最小径を設定するループ径レストリクターを有する請求項２３から２８のいずれかの請求項記載のカテーテル。
【請求項３０】
前記線状切断ヘッドを囲み、前記線状切断ヘッドから引き込み可能なシースを更に有する請求項２３から２９のいずれかの請求項記載のカテーテル。
【請求項３１】
前記シース(16)の外径は、前記ワイヤーループ(22)の最小径よりも大きく、該ワイヤーループ(22)が前記低温カテーテルから滑り落ちないようにしている請求項３０記載のカテーテル。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒーター(7; 27)と、
気体を供給するための入口(4; 24)および供給された気体を排出するための出口(5; 25)を有するケーシング(1; 21)であって、液体(16; 36)で部分的に満たされる蒸発スペース(2; 22)を形成する前記ケーシング(1; 21)とを含む蒸発器であって、
該ケーシング(1; 21)は、該ヒーター(7; 27)と熱接触する加熱スペース(3; 23)を形成し、該入口(4; 24)が加熱スペース(3; 23)へ、そして該蒸発スペース(2; 22)が該出口(5; 25)と気体で連結して、気体が該入口(4;
24)から該加熱スペース(3; 23)を通って該蒸発スペース (2;
22)、さらに該出口(5; 25)へと流れることが可能であり、
前記ケーシング(1; 21)は、該液体(16; 36)を受け入れるために上端にて開口しかつ底面にて気密な内側タブ(10; 30)を含み、該内側タブ(10; 30)の周面が該蒸発スペース(2;
22)を該加熱スペース(3;
23)から規定することを特徴とする前記蒸発器。
【請求項２】
前記ケーシング(1; 21)は、外側タブ(8; 28)および蓋(9; 29)を含み、該外側タブ(8; 28)および該蓋(9; 29)が、耐圧的に閉鎖可能であることを特徴とする、請求項1に記載の蒸発器。
【請求項３】
前記ヒーター(7; 27)は、該外側タブ(8; 28)の大部分をヒーター(7; 27)が均一加熱するように該外側タブ(8;
28)の外側に取り付けられることを特徴とする、請求項２に記載の蒸発器。
【請求項４】
前記入口(4; 24)は、該加熱スペース(3; 23)内へ流れる気体が接戦方向、すなわち、該内側および外側タブ(10, 8; 30, 28)の壁に対して平行に流れて、該入口(4; 24)のデザインが、内側タブ(10; 30)の周りの加熱スペース内の気体の循環方向を規定するように形成されることを特徴とする、請求項３に記載の蒸発器。
【請求項５】
孔(11;
31)が該内側タブ(10; 30)内に位置し、該孔(11; 31)が、該加熱スペース(3; 23)を該蒸発スペース(2; 22)と連結し、該孔は、該循環方向内に見られる入口 (4;
24)のちょうど後方に位置することを特徴とする、請求項４に記載の蒸発器。
【請求項６】
該蓋(9; 29)は、該気体を送るための内部パーツ(12; 32)を備え、該内部パーツは、操作中に、該液体(16; 36)と供給気体との間に高い相対速度を与えることを特徴とする、請求項２〜５のいずれか一項に記載の蒸発器。
【請求項７】
前記内側タブ(10)の周面が、胴部分(15)と結合する二個の円筒状部分（14）を有し、該孔(11)が一方の円筒状部分内に位置し、出口チャンネル(13)が他方の円筒状部分の中心から該出口(5)へ延在することを特徴とする、請求項５または６に記載の蒸発器。
【請求項８】
前記内側および外側タブ(10, 8)の周面が円筒状であり、そして、出口チャンネル(33)が、該内側タブ(30)の中心から該出口(25)へ延在することを特徴とする、請求項５または６に記載の蒸発器。
【請求項９】
前記内側タブ(10; 30)、前記外側タブ(8; 28)および／または前記蓋(9; 29)が、ステンレス鋼でできていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の蒸発器。
【請求項１０】
前記外側タブ(8; 28)がステンレス鋼でできており、かつ前記内側タブ(10; 30)の底部表面(41; 51; 61)がシリコーンでできていることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の蒸発器。
【請求項１１】
気体を加熱スペース(3; 33)で加熱すること（7;27）、および
該気体が加熱スペース(3; 33)で加熱された後、該気体を液面上に送ること(2; 22)を含む蒸発方法であって、
該加熱スペース(3; 33)が内側タブ(10;
30)と外側タブ(8;
28)との間にあり; 
該外側タブ(8; 28)を加熱し;そして、
蒸発スペース(2; 22)内の該気体を液面上へ送り、ここで、該蒸発スペースおよび液体(16; 26)が該内側タブ(10; 30)の内側に位置することを特徴とする前記蒸発方法。
【請求項１２】
さらに、前記気体を該加熱スペース(3; 33)内に接戦方向に導いて、該気体を内側タブ(10; 30)の周りに流し、これにより、循環方向を規定することを特徴とする、請求項１１に記載の蒸発方法。
【請求項１３】
さらに、前記気体が該加熱スペース(3; 33)に導入される場所のちょうど後方の、循環方向に見られる位置で該気体を該加熱スペース(3; 33)から該蒸発スペース(2; 22)内へ移動することを特徴とする、請求項１２に記載の蒸発方法。
【請求項１４】
前記気体を、該蒸発スペース(2; 22)の円筒状部分内へ螺旋状に円筒状部分の中心へ向けた、そしてそこから出口チャンネル(13; 33)を通って出口(5; 25)へ向けて送ることを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の蒸発方法。
【請求項１５】
前記内側タブ(10; 30)を該外側タブ(8; 28)内に挿入し;そして、
該内側タブ(10; 30)の底部形状を各挿入ごとに該外側タブ(8; 28)の底部形状に適合させることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の蒸発方法。
【請求項１６】
外側タブ(8; 29);
該外側タブ(8; 28)に熱的に連結されたヒーター(7; 27);および
該外側タブ(8; 28)内に挿入することができ、かつウォータリザーブ(16; 36)を受け入れ可能な内側タブ(10; 30);
を含む蒸発器であって、
該外側タブ(8; 28)の底部上側または該内側タブ(10; 30)の底部下側が軟弾性材料でできていることを特徴とする、前記蒸発器。
【請求項１７】
前記軟弾性材料がシリコーンであることを特徴とする、請求項１６に記載の蒸発器。
【請求項１８】
内側タブ(10; 30)に液体(16; 36)を満たし;
該内側タブ(10; 30)を外側タブ(8; 28)に挿入し;
該外側タブ(8; 28)を加熱すること(7; 27)を含む蒸発方法であって、各挿入ごとに以下の工程の一つ：
該内側タブ(10; 30)の底部(41; 51; 61)下側に該外側タブ(8; 28)の底部上側を適合させ;あるいは
該外側タブ(8; 28)の底部上側に該内側タブ(10; 30)の底部下側を適合させることを実行することを特徴とする前記蒸発方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯列矯正器具において、
ベースと、
前記ベースから外向きに延在する本体と、
歯列矯正器具上で略近心−遠心方向へ外向きに延在するアーチワイヤスロットと、
前記本体から外向きに延在するポストと、
前記アーチワイヤスロットにアーチワイヤを取り外し可能に保持するためのラッチとを備え、
前記ラッチは、前記アーチワイヤスロットの隣でアーチワイヤを収容する領域を有するクリップを備え、該クリップは、前記ポストを収容するくぼみをさらに有し、該くぼみは該領域に連通しており、前記ポストは、該領域に面する側部を有し、該クリップは、該領域と該くぼみとの間に、前記ポストの該側部に沿って延在する少なくとも１つの突出部をさらに有すること、
を特徴とする歯列矯正器具。