【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
実質的に均一な厚さを有し、平均値の約±０．２５の範囲の△曇り度（％）を有する実質的に均一な耐摩耗性を有するプラズマ蒸着耐摩耗性被覆を有する非平面状物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
耐摩耗性が、約１０％△曇り度より小さい、請求項１に記載の物品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
耐摩耗性が、約５％△曇り度より小さい、請求項１６に記載の物品。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
耐摩耗性が、約２％△曇り度より小さい、請求項１７に記載の物品。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３３】
耐摩耗性が、約１０％△曇り度より小さい、請求項２４に記載の方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３４】
耐摩耗性が、約５％△曇り度より小さい、請求項３３に記載の方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３５】
耐摩耗性が、約２％△曇り度より小さい、請求項３４に記載の方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
（要約）
一般に、本発明は、実質的に均一な厚さを有し、平均値の約±０．２５の範囲にある△曇り度（％）を有する実質的に均一な摩耗抵抗を有するプラズマ蒸着耐摩耗性被覆を有する非平面状物品に関する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
例１
この例では、ゼネラル・エレクトリックからのレキサンＭＲ１０シートを、プラズマ重合及び酸化Ｄ４で被覆した。被覆処理では、二つの静止ＥＴＰ源１４を、それらの中心線が平行に約１６ｃｍ離れて配置されるように配列した。この構成を用いて、基体の約６４ｉｎ２を被覆した。４つの４ｉｎ×４ｉｎ試料３９を、図２に示したように、アルミニウム保持器上に取付けた。それら試料を１Ｔ（右上）、１Ｂ（右下）、２Ｔ（左上）、及び２Ｂ（左下）として記号を付けた。基体を約２．３ｃｍ／秒の走査速度でＥＴＰ源１４に対し垂直に移動させた。四角形４０は、珪素チップの典型的な位置を示している。これらのチップの上の被覆厚さを、偏光法により測定した。珪素チップは、被覆厚さのプロファイルを生じさせる実験中、垂直及び水平の両方の直線上で基体に沿って１ｉｎ毎に配置した。陰影４２は、６５℃の水に３日間浸漬する前及び後で被覆の接着性を測定した場所である。リング４４は、ＡＳＴＭ  Ｄ１０４４摩耗試験後のテーバー輪の軌跡を示している。テーバー摩耗試験は、ＣＳ１０Ｆ輪を用い１０００サイクル行なわれた。リング４４中の９０°の角度で４つの場所で△曇り度を測定した。垂直の点線は、基体を移動させた時の夫々のＥＴＰ源１４の中心線の通路を示している。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
表１には、例番号、試料の位置、ＷＤ、各ＥＴＰ源へのアルゴン流、第一及び第二層の指定、基体を横切る３つの位置で測定した予熱温度、各ＥＴＰ源への酸素流、各ＥＴＰ源へのＤ４流、二つのＥＴＰ源への電流、平均初期温度（予熱温度）、被覆処理中の最高温度、被覆処理中の温度変化（△Ｔ）、被覆の厚さ、テーバー摩耗試験（ＡＳＴＭ  Ｄ１０４４）中の曇り度の変化、初期接着性、ＡＳＴＭ  Ｄ３３５９クロスハッチ・テープ試験（ｃｒｏｓｓ  ｈａｔｃｈ  ｔａｐｅ  ｔｅｓｔ）により測定した６５℃の水に３日間浸漬した後の接着性が示されている。この場合も、基体上のテーバー摩耗輪軌跡及び水浸漬クロスハッチの位置が図２に示されている。テーバー摩耗試験で測定された△曇り度が低い程、耐摩耗性が大きいことに相当する。自動車嵌込み窓ガラスについての全国輸送高速道路交通局（Ｎａｔｉｏｎａｌ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔａｔｉｏｎ  Ｈｉｇｈｗａｙ  Ｔｒａｆｆｉｃ  Ａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｏｎ）（ＮＨＴＳＡ）基準はテーバー△曇りは２％未満である。全ての試料は約２．１μの被覆厚さを有し、テーバー△曇り度は約１．７％で、水浸漬前の接着性は５Ｂで、浸漬後は４Ｂであった。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
例２
処理条件は例１の場合と同様であった。但しＷＤを３１ｃｍに増大した。最終被覆厚さは２．１μで、例１と同じであったが、平均テーバー△曇り度は約３％に増大し、二つの実験については約４％に増大した。このように、希望の被覆厚さを得ることは、必ずしも良好な耐摩耗性を有する被覆を確実に与えるものとは限らず、特にＷＤを大きくして製造した被覆の場合にはそうである。従って、閾値ＷＤを越えるＷＤを用いた非平面状部品は、被覆厚さが均一であったとしても、均一な耐摩耗性を持たないことがある。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
例３
処理条件は例１の場合と同様であった。但し基体保持器を約２０°に傾斜させ（図３に示したように）、基体の上端の所でのＷＤが３１ｃｍ、下端で２４ｃｍであった。約２．１μの均一な被覆厚さが得られたが、テーバー△曇り度は下端（即ち、作用距離が一層短い所）での約４％から上端での１０％まで増大した。このように、例１〜３を比較すると、これらの処理条件で被覆したフラットな又は傾斜した部品の両方で、作用距離が比較的長くなるとテーバーは悪くなることを示している。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
例４
処理条件は例２のものと同様であったが、基体上に４つの層を蒸着し、全被覆厚さを約４μとした。層２〜４についての条件は、例２の層２の場合と同じであった。従って、耐摩耗性層の組成は同じままであったが、被覆厚さだけが変化した。テーバー△曇り度は、２．４％〜３．１％であった。このように、厚さを増大しただけでは、２％未満のテーバー△曇り度を与える結果にはならなかった。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
例５
この例では、耐摩耗性層２〜４についてアルゴン流を２．５ｓｌｍに増大し、それはイオンフラックスを５２．５Ａに増大した。予熱温度を約７５℃に低下し、第２〜第４層の時の酸素流量は２ｓｌｍであった。他の条件は例４の場合と同じであった。３つの異なった試料について夫々３１、２０、及び２５ｃｍのＷＤを用いて３つの異なった実験を行なった。得られた被覆厚さは、例４の場合と同様であり、夫々４．５、４．７、及び５．４μであった。テーバー△曇り度は、夫々１．２％、１．１％、及び１．２％に改善した。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
フラット基体１２ｉ、１２ｊ、前面基体１２ｆ、１２ｈ、及び後面基体１２ｅ、１２ｇについての平均厚さは、夫々４．８μｍ、４．７μｍ、及び３．９μｍであった。フラット基体１２ｉ、１２ｊ、前面基体１２ｆ、１２ｈ、及び後面基体１２ｅ、１２ｇについての平均テーバー△曇り度は、夫々２．２％、２．１％、及び７．９％であった。このように、これらの処理条件を用いて、大きな範囲のＷＤ及び入射角について、優れたテーバー耐摩耗性が得られ、後面基体１２ｅ、１２ｇでさえも良好な耐摩耗性を持っていた。