Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月5日(2019.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸（１６）に沿って連続して配置された第１および第２の補正構成要素（１２、１３、１４）であって、光学補正構成（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）のゼロ位置において全体として少なくともおおよそ合計でゼロとなる非球面輪郭（１８、２０）が設けられた、第１および第２の補正構成要素（１２、１３、１４）と、第１のスピードで第１の方向（２２）に前記第１の補正構成要素（１２）を変位させるため、および第２のスピードで第２の方向（２４）に前記第２の補正構成要素（１４）を変位させるためのマニピュレータとを備えた光学補正構成において、前記第１のスピードは前記第２のスピードより大きく、
前記第１のスピードは、前記第２のスピードより少なくとも１桁大きく、
前記マニピュレータは、前記第１の補正構成要素（１２）を、前記第１の方向に沿った振動運動に従って変位させるように構成される
ことを特徴とする光学補正構成。
【請求項２】
前記振動運動は周期的振動運動であり、その周期は半導体チップに対する露光持続時間と整合されることを特徴とする請求項１に記載の光学補正構成。
【請求項３】
前記振動運動の前記周期は１００ｍｓ未満、好ましくは８０ｍｓ未満、より好ましくは４０ｍｓ未満であることを特徴とする請求項２に記載の光学補正構成。
【請求項４】
前記第１の補正構成要素（１２）の前記第１のスピードは、前記振動運動の前記周期内で可変であることを特徴とする請求項２または３に記載の光学補正構成。
【請求項５】
前記第１の方向は、前記光軸（１６）に平行であることを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項６】
前記第２の方向は、前記光軸（１６）に直交することを特徴とする請求項１から５までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項７】
前記マニピュレータは、前記第１および前記第２の補正構成要素（１２、１３、１４）を同時に変位させるように構成されることを特徴とする請求項１から６までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項８】
前記マニピュレータは、前記第１および／または前記第２の補正構成要素（１２、１３、１４）の縁部領域（１９、２１）内で少なくとも一部において配置され、前記縁部領域（１９、２１）は前記非球面輪郭（１８、２０）の外側に形成されることを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項９】
前記マニピュレータは、磁気的構成を有することを特徴とする請求項１から８までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項１０】
前記磁気的構成は少なくとも１つの第１の磁石（３０ａ、３０ｂ）と、少なくとも１つの第２の磁石（３２ａ、３２ｂ）とを有し、前記少なくとも１つの第１の磁石（３０ａ、３０ｂ）は前記第１の補正構成要素（１２）において配置され、前記少なくとも１つの第２の磁石（３２ａ、３２ｂ）は前記第２の補正構成要素（１４）において配置されることを特徴とする請求項９に記載の光学補正構成。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの第１の磁石（３０ａ、３０ｂ）は永久磁石であり、および／または前記少なくとも１つの第２の磁石（３２ａ、３２ｂ）は電磁石であることを特徴とする請求項１０に記載の光学補正構成。
【請求項１２】
前記マニピュレータは、前記光軸（１６）に平行におよび／または直交して、前記第１および／または前記第２の補正構成要素（１２、１３、１４）を導くためのガイド手段（２６、２８）と相互作用することを特徴とする請求項１から１１までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項１３】
第３の補正構成要素を特徴とする請求項１から１２までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項１４】
前記光軸（１６）の方向における前記光学補正構成（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）の中央の補正構成要素は、前記光軸（１６）に対して静止するように構成されることを特徴とする請求項１３に記載の光学補正構成。
【請求項１５】
前記第１、前記第２、および／または前記第３の補正構成要素（１２、１３、１４）は、ばねデバイスによって保持されることを特徴とする請求項１から１４までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項１６】
前記マニピュレータは、少なくとも１つのアクチュエータ（３８ａ、３８ｂ）を有することを特徴とする請求項１から１５までのいずれか１項に記載の光学補正構成。
【請求項１７】
前記投影対物部（４６）であって、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の少なくとも１つの光学補正構成（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）を有することを特徴とするマイクロリソグラフィ用途のための投影対物部。
【請求項１８】
マイクロリソグラフィ装置、例えば投影露光装置（４０）であって、請求項１７に記載の投影対物部（４６）を有することを特徴とするマイクロリソグラフィ装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月26日(2019.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、該ベース基板の一面の非表示部に位置する非表示部パターンと、それと同一面の表示部に位置する液晶偏光層とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項２】
前記非表示部パターンは、ベース基板に直接接する、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項３】
前記非表示部パターンは、前記表示部と前記非表示部とを区画する第１のパターンと、前記第１のパターンが位置する前記非表示部を覆う遮光性の第２のパターンとを含む、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項４】
前記非表示部パターンは、前記液晶偏光層以上の厚さを有する、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項５】
前記液晶偏光層上に位置する位相差層をさらに含む、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項６】
前記位相差層は、１／４波長板である、請求項５に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項７】
前記位相差層は、１／４波長板および１／２波長板の複層である、請求項５に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項８】
前記位相差層上に位置する屈折率調整層をさらに含む、請求項５に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項９】
前記液晶偏光層上に位置する水系オーバーコート層と、前記オーバーコート層上に位置し、前記表示部および前記非表示部を平坦化するレベリング層とを含む、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１０】
前記オーバーコート層は、前記非表示部パターン及び前記液晶偏光層の上に位置する、請求項９に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１１】
前記レベリング層上に位置する位相差層をさらに含む、請求項９に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１２】
前記非表示部パターンは、前記非表示部の少なくとも一部に位置し、前記非表示部の残りの領域に前記レベリング層がさらに位置する、請求項１１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１３】
前記位相差フィルム上における前記非表示部の前記レベリング層の対応領域に色パターンをさらに含む、請求項１２に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１４】
前記色パターン上に遮光パターンをさらに含む、請求項１３に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板と、前記ベース基板の前記一面に貼り付けられたタッチパネルとを含む光学積層体。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学積層体を含む画像表示装置。
【請求項１７】
ベース基板の一面に表示部と非表示部とを区画する非表示部パターンを形成する段階と、
前記非表示部パターンによって区画された前記表示部に液晶偏光層を形成する段階とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項１８】
前記非表示部パターンは、前記液晶偏光層以上の厚さで形成する、請求項１７に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項１９】
前記液晶偏光層上に水系オーバーコート層を形成する段階と、前記オーバーコート層上にレベリング層を形成し、前記表示部と前記非表示部を平坦化する段階とを含む、請求項１７に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月30日(2019.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７７】
したがって、本開示は、適用法令によって許容される場合、本明細書に添付される特許請求の範囲に列挙される主題の全ての修正及び等価物を含む。さらに、その考えられる全てのバリエーションでの上記の要素の任意の組合せは、本明細書で別途示されるか、又は文脈により別途明確に否定されない限り、本開示によって包含される。
本件出願は、以下の構成の発明を提供する。
（構成１）
珪藻土を含む製品のオパール-C及びクリストバライト含有量を決定する方法であって:
熱処理を行って、該製品の試料の代表的な第一の部分の強熱減量を決定すること;
該試料の代表的な第二の部分に対する原末X線回折から得られる第一の回折パターン中に存在する第一及び第二のピークを同定及び定量すること;並びに
クリストバライトの既知の標準試料を用いて、該第一の回折パターン中に存在する第一及び第二のピークが該製品中のオパール-C又はクリストバライトの存在を示すかどうかを決定すること
を含む、前記方法。
（構成２）
前記熱処理を行うことが、前記代表的な第一の部分を約982℃で約1時間加熱した後に、前記強熱減量を測定することを含み:
前記代表的な第二の部分に対する原末X線回折を行って、前記第一の回折パターンを生じさせること
をさらに含む、構成1記載の方法。
（構成３）
前記同定及び定量することが、前記第一の回折パターンを、ピークシフト、FWHM、及び第二のピークの存在について精査することを含み、かつ
前記使用することが:
前記試料の代表的な第三の部分にNISTクリストバライト標準参照材料をスパイクすること;
スパイクされた代表的な第三の部分に対する原末X線回折を行って、第二の回折パターンを生じさせること;
該第二の回折パターンを、ピークシフト、FWHM、及び第二のピークの存在について精査すること;並びに
該第二の回折パターンを該第一の回折パターンと比較すること
を含む、構成2記載の方法。
（構成４）
前記代表的な第一、第二、又は第三の部分のうちの少なくとも1つが原末X線回折の前に粉砕される、構成3記載の方法。
（構成５）
前記第一の回折パターンの分析に基づいて、前記代表的な第二の部分中の石英又はトリディマイト含有量を決定することをさらに含む、構成1記載の方法。
（構成６）
前記製品のオパール-C含有量を定量すること;及び
前記製品中の結晶質シリカ含有量の総重量パーセンテージを決定すること
:をさらに含み、
ここで、該オパール-C含有量の定量の結果が、該製品中の結晶質シリカ含有量の総重量パーセンテージから除外される、構成1記載の方法。
（構成７）
前記熱処理を行うことが、前記代表的な第一の部分を、無水である乾燥製品が製造されるまで加熱すること、及びその後、該代表的な第一の部分の強熱減量を測定することを含み、かつ前記同定及び定量することが、該第一の回折パターンを、第一のピークの位置、強度、FWHM、及び第二のピークの存在について精査することを含み:
前記代表的な第二の部分に対する原末X線回折を行って、該第一の回折パターンを生じさせることをさらに含み、ここで、該代表的な第二の部分が微粉砕される、構成1記載の方法。
（構成８）
前記使用することが:
前記試料の代表的な第三の部分にNISTクリストバライト標準参照材料をスパイクすること(ここで、該代表的な第三の部分は微粉砕される);
スパイクされた代表的な第三の部分に対する原末X線回折を行って、第二の回折パターンを生じさせること;
該第二の回折パターンを、第一のピークの位置、強度、FWHM、及び第二のピークの存在について精査すること;並びに
該第二の回折パターンを前記第一のものと比較して、存在するシリカ相が該製品中のオパール-Cであるか、それともクリストバライトであるかを決定すること
を含む、構成7記載の方法。
（構成９）
前記代表的な第一の部分の加熱が980℃以上で少なくとも1時間行われる、構成8記載の方法。
（構成１０）
前記使用の結果により、オパール-Cが前記製品中に存在することが示される場合、前記試料の代表的な第四の部分を該代表的な第四の部分が完全に脱水されるまで加熱することにより、該製品の該オパール-C含有量を定量すること;
該代表的な第四の部分に対する原末X線回折を行って、第三の回折パターンを生じさせること;及び
該第三の回折パターンによって示されるクリストバライトを定量して、該オパール-C含有量を推定すること
:をさらに含み、ここで、追加の融剤が、加熱前に、該代表的な第四の部分に添加されず、かつ該加熱が1440℃未満の温度で行われる、構成8記載の方法。
（構成１１）
XRD法を用いて前記製品のオパール-C又はクリストバライト含有量を定量することをさらに含む、構成1記載の方法。
（構成１２）
前記使用の結果に基づいてシリカドキュメンテーションを作成することをさらに含み、ここで、前記珪藻土製品が直接焼成又は融剤焼成されている、構成1記載の方法。
（構成１３）
前記製品の光学特性を決定すること;及び
前記使用により、オパール-Cが該製品中に存在することが示される場合、該製品のオパール-C含有量を該製品の光学特性に基づいて推定すること
:をさらに含む、構成1記載の方法。
（構成１４）
前記光学特性が、以下の色空間値:b*値、a*値、又はL*値のうちの1つ又は複数を含む、構成13記載の方法。
（構成１５）
前記製品のオパール-C含有量を該製品の光学特性に基づいて推定することが、該オパール-C含有量を、該製品と同一又は同様のプロセスパラメータの下で製造される複数の試験製品の光学特性の関数として定量することを含む、構成13記載の方法。
（構成１６）
前記プロセスパラメータが、融剤の組成及び量、焼成温度、焼結温度、窯滞留時間、又は窯組成のうちの1つ又は複数を含む、構成15記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月2日(2019.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬学的に許容される担体及び薬学的有効量の一過性受容体電位メラスタチン8(TRPM8)拮抗薬を含む、対象において眼の疾患又は障害を処置又は予防するための組成物。
【請求項２】
眼の疾患又は障害を処置又は予防することが、眼の疾患又は障害の症状を処置又は予防することを含む、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
眼の疾患又は障害が、ドライアイ疾患又はドライアイの不快感である、請求項1に記載の組成物。
【請求項４】
眼の疾患又は障害が、眼の不快感である、請求項1に記載の組成物。
【請求項５】
眼の疾患又は障害が、加齢、コンタクトレンズの使用、環境疲労、ダイエット、水分過剰、全身性疾患、炎症又は薬の使用から選択される、1つ以上の原因に帰すことができる、請求項1に記載の組成物。
【請求項６】
眼の疾患又は障害が、過度に速い涙の蒸発(蒸発亢進型ドライアイ)又は不十分な涙の生成に起因する、請求項1に記載の組成物。
【請求項７】
眼の疾患又は障害が、屈折矯正手術と関連する、請求項1に記載の組成物。
【請求項８】
薬学的に許容される担体及び薬学的有効量の一過性受容体電位メラスタチン8(TRPM8)拮抗薬を含む、対象において眼の疼痛又は不快感を処置又は予防するための組成物。
【請求項９】
眼の疼痛又は不快感が、ドライアイ疾患によって引き起こされる、請求項8に記載の組成物。
【請求項１０】
ドライアイ疾患が、重度のドライアイ疾患である、請求項9に記載の組成物。
【請求項１１】
薬学的に許容される担体及び薬学的有効量の一過性受容体電位メラスタチン8(TRPM8)拮抗薬を含む、対象において涙液層を正常化するための組成物。
【請求項１２】
組成物が、眼に局所投与される、請求項1、8又は11のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
眼が、眼組織、対象の眼瞼、眼表面、マイボーム腺及び又は涙腺からなる群から選択される、眼内部の又は眼周囲の組織又は腺を含む、請求項12に記載の組成物。
【請求項１４】
組成物が、固形、ペースト、軟膏、ゲル、液、エアゾール、ミスト、ポリマー、フィルム、乳剤又は縣濁液の形態である、請求項1、8又は11のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
TRPM8拮抗薬が、小分子、核酸分子、アプタマー、アンチセンス分子、RNAi分子、タンパク質、ペプチド及び抗体又は抗体フラグメントからなる群から選択される、請求項1、8又は11のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
TRPM8拮抗薬が、小分子である、請求項15に記載の組成物。
【請求項１７】
TRPM8小分子拮抗薬が、化合物I： 
【化１】
2018534274.tif 000001
を含む、請求項16に記載の組成物。
【請求項１８】
TRPM8拮抗薬の薬学的有効量が、0.001〜5.0%(w/v)である、請求項1、8又は11のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１９】
TRPM8拮抗薬の薬学的有効量が、0.1%(w/v)である、請求項1、8又は11のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２０】
TRPM8拮抗薬が、別の剤と組み合わせて投与される、請求項1、8又は11のいずれか一項に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
参照文献の援用
本願で言及された各々の参照文献、特許及び特許出願は、本明細書により、各参照文献が個別に援用されていると特筆されたように、参照により援用される。
本発明の様々な実施形態を以下に示す。
１．薬学的に許容される担体及び薬学的有効量の一過性受容体電位メラスタチン8(TRPM8)拮抗薬を含む組成物を、対象に投与することを含む、対象において眼の疾患又は障害を処置又は予防する方法。
２．眼の疾患又は障害を処置又は予防することが、眼の疾患又は障害の症状を処置又は予防することを含む、上記1に記載の方法。
３．眼の疾患又は障害が、ドライアイ疾患又はドライアイの不快感である、上記1に記載の方法。
４．眼の疾患又は障害が、眼の不快感である、上記1に記載の方法。
５．眼の疾患又は障害が、加齢、コンタクトレンズの使用、環境疲労、ダイエット、水分過剰、全身性疾患、炎症又は薬の使用から選択される、1つ以上の原因に帰すことができる、上記1に記載の方法。
６．眼の疾患又は障害が、過度に速い涙の蒸発(蒸発亢進型ドライアイ)又は不十分な涙の生成に起因する、上記1に記載の方法。
７．眼の疾患又は障害が、屈折矯正手術と関連する、上記1に記載の方法。
８．薬学的に許容される担体及び薬学的有効量の一過性受容体電位メラスタチン8(TRPM8)拮抗薬を含む組成物を、対象に投与することを含む、対象において眼の疼痛又は不快感を処置又は予防する方法。
９．眼の疼痛又は不快感が、ドライアイ疾患によって引き起こされる、上記8に記載の方法。
１０．ドライアイ疾患が、重度のドライアイ疾患である、上記9に記載の方法。
１１．薬学的に許容される担体及び薬学的有効量の一過性受容体電位メラスタチン8(TRPM8)拮抗薬を含む組成物を、対象に投与することを含む、対象において涙液層を正常化する方法。
１２．組成物が、眼に局所投与される、上記1、8又は11のいずれかに記載の方法。
１３．眼が、眼組織、対象の眼瞼、眼表面、マイボーム腺及び又は涙腺からなる群から選択される、眼内部の又は眼周囲の組織又は腺を含む、上記12に記載の方法。
１４．組成物が、固形、ペースト、軟膏、ゲル、液、エアゾール、ミスト、ポリマー、フィルム、乳剤又は縣濁液の形態である、上記1、8又は11のいずれかに記載の方法。
１５．TRPM8拮抗薬が、小分子、核酸分子、アプタマー、アンチセンス分子、RNAi分子、タンパク質、ペプチド及び抗体又は抗体フラグメントからなる群から選択される、上記1、8又は11のいずれかに記載の方法。
１６．TRPM8拮抗薬が、小分子である、上記15に記載の方法。
１７．TRPM8小分子拮抗薬が、化合物I： 
【化４】
2018534274.tif 000002
を含む、上記16に記載の方法。
１８．TRPM8拮抗薬の薬学的有効量が、0.001〜5.0%(w/v)である、上記1、8又は11のいずれかに記載の方法。
１９．TRPM8拮抗薬の薬学的有効量が、0.1%(w/v)である、上記1、8又は11のいずれかに記載の方法。
２０．TRPM8拮抗薬が、別の剤と組み合わせて投与される、上記1、8又は11のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月30日(2019.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式(I)
【化１】
2018534267.tif 000001
(I)
（式中、
R1は、-S(O)nR6,-S(O)nNR7R8、及び-S(O)(NH)R6から選択され、
ここで、
R6は、
C1-3アルキルであり、
R7及びR8は、それぞれ-Hであり、かつ
nは1又は2であり；
R2及びR3は、
C1-3アルキル、
シクロプロピル、及び
メトキシ
から独立に選択され；
R4は、C1-6アルキルであり、任意に
C3-6シクロアルキル、
ハロゲン、
-CF3、及び
-CN
から独立に選択される1又は2個の基で置換されていてもよく；
R5は、
任意に1〜3個のフルオロ基で置換されていてもよいC1-3アルキル、
-CH2OH、
-CH2OC(O)C1-3アルキル、及び
-OC1-3アルキル
から選択され；
Wは、
ピリジニル、
ピリミジニル、
ピラジニル、
フェニル、及び
ピペリジニル
から選択される）
の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項２】
R1が、-S(O)nR6、-S(O)nNR7R8、及び-S(O)(NH)R6から選択され、
ここで、
R6は、C1-3アルキルであり、
R7及びR8は、それぞれ-Hであり、かつ
nは2であり；
R2及びR3が、
メチル、
シクロプロピル、及び
メトキシ
から独立に選択され；
R4が、C1-4アルキルであり、任意に
シクロプロピル、
-F、
-CF3、及び
-CN
から独立に選択される1又は2個の基で置換されていてもよく；
R5が、
-CH3、
-CH2F、
-CH2OH、
-CH2OC(O)CH3、及び
-OCH3
から選択され；
Wが、
2-ピリジニル、3-ピリジニル、2-ピリミジニル、2-ピラジニル及びフェニルから選択される、
請求項1に記載の式(I)の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項３】
R1が、-S(O)nR6、-S(O)nNR7R8、及び-S(O)(NH)R6から選択され、
ここで、
R6は、C1-2アルキルであり、
R7及びR8は、それぞれ-Hであり、かつ
nは2であり；
R2及びR3が、
メチル、
シクロプロピル、及び
メトキシ
から独立に選択され；
R4が、C1-4アルキルであり、任意に
シクロプロピル、
-F、
-CF3、及び
-CN
から独立に選択される1又は2個の基で置換されていてもよく；
R5が、
-CH3、
-CH2F、
-CH2OH、
-CH2OC(O)CH3、及び
-OCH3
から選択され；
Wが、
2-ピリジニル、3-ピリジニル、2-ピリミジニル、2-ピラジニル及びフェニルから選択される、
請求項1〜2のいずれか1項に記載の式(I)の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項４】
R1が、-S(O)nR6、-S(O)nNR7R8、及び-S(O)(NH)R6から選択され、
ここで、
R6は、C1-2アルキルであり、
R7及びR8は、それぞれ-Hであり、かつ
nは2であり；
R2が、メチル又はメトキシであり；
R3が、シクロプロピルであり；
R4が、C1-4アルキルであり、任意に
シクロプロピル及び-CF3から選択される基で置換されていてもよく；
R5が、
-CH3、
-CH2F、及び
-CH2OH
から選択され；
Wが、
2-ピリジニル、3-ピリジニル、2-ピリミジニル、及びフェニル
から選択される、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の式(I)の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項５】
R2が、メチル又はメトキシであり；
R3が、シクロプロピルであり；
R4が、C1-4アルキルであり、任意に
シクロプロピル及び-CF3から選択される基で置換されていてもよく；
R5が、-CH3であり；
Wが、
2-ピリジニル、3-ピリジニル、2-ピリミジニル、及びフェニルから選択される、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の式(I)の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項６】
Wが、2-ピリジニル及び3-ピリジニルから選択される、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の式(I)の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項７】
下記化合物
【化２】
2018534267.tif 000002
2018534267.tif 000003
2018534267.tif 000004
2018534267.tif 000005
2018534267.tif 000006
2018534267.tif 000007
2018534267.tif 000008
2018534267.tif 000009
2018534267.tif 000010
2018534267.tif 000011
から成る群より選択される、
請求項1に記載の化合物
又はその医薬的に許容される塩。
【請求項８】
請求項1〜7のいずれか1項に記載の化合物を含み及び任意に医薬的に許容される賦形剤又は担体を含んでいても良い医薬組成物。
【請求項９】
患者の自己免疫疾患又はアレルギー障害の治療のための、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記自己免疫疾患又はアレルギー障害が、関節リウマチ、乾癬、全身性エリテマトーデス、ループス腎炎、強皮症、喘息、アレルギー性鼻炎、アレルギー性湿疹、多発性硬化症、若年性関節リウマチ、若年性特発性関節炎、I型糖尿病、炎症性腸疾患、移植片対宿主病、乾癬性関節炎、反応性関節炎、強直性脊椎炎、クローン病、潰瘍性大腸炎及びブドウ膜炎から選択される、請求項9に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
患者の自己免疫疾患又はアレルギー障害の治療用薬物の製造のための、請求項1〜7のいずれか1項に記載の式(I)の化合物、又はその医薬的に許容される塩の使用。
【請求項１２】
前記自己免疫疾患又はアレルギー障害が、関節リウマチ、乾癬、全身性エリテマトーデス、ループス腎炎、強皮症、喘息、アレルギー性鼻炎、アレルギー性湿疹、多発性硬化症、若年性関節リウマチ、若年性特発性関節炎、I型糖尿病、炎症性腸疾患、移植片対宿主病、乾癬性関節炎、反応性関節炎、強直性脊椎炎、クローン病、潰瘍性大腸炎及びブドウ膜炎から選択される、請求項11に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月16日(2019.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０７７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０７７５】
特定の実施態様が本明細書に示され、記載されているが、そのような実施態様が単なる例として提供されていることが当業者には明白であろう。以下の特許請求の範囲が本発明の範囲を規定すること、並びにこれらの特許請求の範囲の範囲内の方法及び構造並びにそれらの等価物がそれにより網羅されることが意図される。
本件出願は、以下の構成の発明を提供する。
（構成１）
その必要がある患者におけるマンモグラフィ乳房密度及び/又は乳房硬度を低下させる方法であって、該患者に：
i）有効量のアンドロゲン剤；及び
ii）有効量のアロマターゼ阻害剤
を投与することを含む、前記方法。
（構成２）
前記患者が7.5％以上のマンモグラフィ乳房密度を有する、構成1記載の方法。
（構成３）
前記アンドロゲン剤が選択的アンドロゲン受容体モジュレーターである、構成1〜2のいずれか一項記載の方法。
（構成４）
前記患者が閉経前である、構成1〜3のいずれか一項記載の方法。
（構成５）
前記患者が周閉経期である、構成1〜3のいずれか一項記載の方法。
（構成６）
前記患者が閉経後である、構成1〜3のいずれか一項記載の方法。
（構成７）
前記マンモグラフィ乳房密度の低下が、治療から1年、2年、3年、4年、又は5年後に、5％〜25％又は10％〜25％の範囲にある、構成1〜6のいずれか一項記載の方法。
（構成８）
前記乳房硬度が、治療から1年、2年、3年、4年、又は5年後に、少なくとも10％低下する、構成1〜7のいずれか一項記載の方法。
（構成９）
前記アンドロゲン剤が、テストステロン、メチルテストステロン、テストステロンウンデカノエート、テストステロンプロピオネート、選択的アンドロゲン受容体モジュレーター、又はこれらの組合せからなる群から選択される、構成1〜8のいずれか一項記載の方法。
（構成１０）
治療を受けた患者が1回以上の年次介入的マンモグラフィ検出間で乳癌を発症するリスクを低下させる、構成1〜9のいずれか一項記載の方法。
（構成１１）
以下のうちの1つ又は複数を提供する、構成1〜10のいずれか一項記載の方法：
i）乳房密度の低下によってマンモグラフィ検出を強化して、マンモグラムが悪性腫瘍をより早い及び/又はより侵襲性の低い段階で可視化することを可能にする；
ii）少なくとも部分的には疼痛の軽減によって、マンモグラフィによるより良好な圧迫を達成する能力を強化する；
iii）定期的マンモグラフィ検査を行う際により良好な患者コンプライアンスを達成する能力を強化する；
iv）患者を治療し、同時に、視床下部下垂体軸及び/又は他の内分泌軸に混乱を引き起こさない能力を強化する；
v）患者における乳房痛を軽減する；
vi）患者における乳房の弾力性を低下させる；
vii）患者における悪性形質転換のリスクを低下させるために細胞のゲノム上でのメカノトランスダクションを減少させる；
viii）患者における線維腺と脂肪組織の比を増大させる；
ix）患者におけるCD36を増大させる；
x）患者の乳房組織におけるアンドロゲン受容体発現のレベルを安定及び/又は増大させる；
xi）患者におけるGCDFP15のレベルを増大させる；
xii）患者のMRI乳房画像におけるBPEを低下させる； 
xiii）患者のMRI乳房画像におけるBPEの低下によって、乳房の異常の検出を改善する；並びに
xiv）患者の乳房における嚢胞の大きさ及び/又は量を低下させる。
（構成１２）
その必要がある患者におけるVBD％及び/又はAVBDを低下させる方法であって、該患者に：
i）有効量のアンドロゲン剤；及び
ii）有効量のアロマターゼ阻害剤
を投与することを含む、前記方法。
（構成１３）
その必要がある患者におけるABD％及び/又はAABDを低下させる方法であって、該患者に：
i）有効量のアンドロゲン剤；及び
ii）有効量のアロマターゼ阻害剤
を投与することを含む、前記方法。
（構成１４）
前記患者が7.5％以上のVBD％を有する、構成12記載の方法。
（構成１５）
前記患者が20％以上のABD％を有する、構成13記載の方法。
（構成１６）
前記アンドロゲン剤が選択的アンドロゲン受容体モジュレーターである、構成12〜13のいずれか一項記載の方法。
（構成１７）
前記患者が、閉経前、周閉経期、又は閉経後である、構成12〜16のいずれか一項記載の方法。
（構成１８）
前記VBD％又はABD％の低下が、治療から1年、2年、3年、4年、又は5年後に、10％〜25％の範囲にある、構成12〜17のいずれか一項記載の方法。
（構成１９）
前記乳房硬度が、1年、2年、3年、4年、又は5年後に、少なくとも10％低下する、構成12〜18のいずれか一項記載の方法。
（構成２０）
前記アンドロゲン剤が、テストステロン、メチルテストステロン、テストステロンウンデカノエート、テストステロンプロピオネート、選択的アンドロゲン受容体モジュレーター、又はこれらの組合せからなる群から選択される、構成12〜19のいずれか一項記載の方法。
（構成２１）
治療を受けた患者が1回以上の年次介入的マンモグラフィ検出間で乳癌を発症するリスクを軽減し又は低下させる、構成12〜20のいずれか一項記載の方法。
（構成２２）
以下のうちの1つ又は複数を提供する、構成12〜21のいずれか一項記載の方法：
i）乳房密度の低下によってマンモグラフィ検出を強化して、マンモグラムが悪性腫瘍をより早い及び/又はより侵襲性の低い段階で可視化することを可能にする；
ii）少なくとも部分的には疼痛の軽減によって、マンモグラフィによるより良好な圧迫を達成する能力を強化する；
iii）定期的マンモグラフィ検査を行う際により良好な患者コンプライアンスを達成する能力を強化する；
iv）患者を治療し、同時に、視床下部下垂体軸及び/又は他の内分泌軸に混乱を引き起こさない能力を強化する；
v）患者における乳房痛を軽減する；
vi）患者における乳房の弾力性を低下させる；
vii）患者における悪性形質転換のリスクを低下させるために細胞のゲノム上でのメカノトランスダクションを減少させる；
viii）患者における線維腺と脂肪組織の比を増大させる；
ix）患者におけるCD36を増大させる；
x）患者の乳房組織におけるアンドロゲン受容体発現のレベルを安定及び/又は増大させる；
xi）患者におけるGCDFP15のレベルを増大させる；
xii）患者のMRI乳房画像におけるBPEを低下させる； 
xiii） 患者のMRI乳房画像におけるBPEの低下によって、乳房の異常の検出を改善する； 並びに
xiv）患者の乳房における嚢胞の大きさ及び/又は量を低下させる。
（構成２３）
患者における乳癌を発症するリスクを低下させる、構成1〜22のいずれか一項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月29日(2019.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８８】
ある実施形態では、Ｐｙｒｖ−２４、ＣＯＨＰ２４は、化合物のＥ異性体を指す。ある実施形態では、Ｐｙｒｖ−２４、ＣＯＨＰ２４は、化合物のＺ異性体を指す。ある実施形態では、Ｐｙｒｖ−２４、ＣＯＨＰ２４は、化合物のＥ異性体とＺ異性体との混合物を指す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８９】
ある実施形態では、Ｐｙｒｖ−７、ＣＯＨＰ７は、化合物のＥ異性体を指す。ある実施形態では、Ｐｙｒｖ−７、ＣＯＨＰ７は、化合物のＺ異性体を指す。ある実施形態では、Ｐｙｒｖ−７、ＣＯＨＰ７は、化合物のＥ異性体とＺ異性体との混合物を指す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４６２】
６−ジメチルアミノ−１，２−ジメチルキノリニウムトシレート（１１−１４６−４ｐｐ）。ＭｃＤｏｎａｌｄ  ｅｔ  ａｌ．（ＷＯ２０００６  ０７８７５４）の手順を改変して用いた：４ｍＬのクロロホルム中の６−ジメチルアミノキナルジン（Ａ、４４０ｍｇ、２．３７ｍｍｏｌ）及びメチルｐ−トルエンスルホネート（Ｂ、９４５ｍｇ、５．０８ｍｍｏｌ）の溶液を１４時間加熱還流した。溶媒を蒸発させ、残渣を還流酢酸エチルで２回粉砕し、次いで冷却し、濾過した。得られた粗橙色沈殿物（８５０ｍｇ、収率９７％）、融点１７８〜１８１℃を、さらに精製することなく次の工程で利用した。還流酢酸エチル中で反応を行ったところ、同様の結果が得られた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４６４】
【化６２】
2018534243.tif 000001

【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４９５】
【表２】
2018534243.tif 000002
【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年1月7日(2019.1.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項５】
塗料、コーティング、水性エマルション、ラテックス、接着剤、インク、顔料分散物、家庭用または工業用洗浄剤、洗剤、食器用洗剤、鉱物スラリーポリマーエマルション、コーキング剤、接着剤、テープ接合混合物、消毒剤、殺菌剤、金属加工流体、建造品、パーソナルケア製品、布地用の流体、スピン仕上げ剤、工業プロセス水、油田及びガス田において注入／破砕、逆流、及び随伴する水及び流体、ならびに機能性流体、燃料、空気洗浄機、廃水、バラスト水、濾過システム、水泳プールまたは温泉水である、請求項１に記載の殺生物組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
前記水性または水含有系は、塗料、コーティング、水性エマルション、ラテックス、接着剤、インク、顔料分散物、家庭用または工業用洗浄剤、洗剤、食器用洗剤、鉱物スラリーポリマーエマルション、コーキング剤、接着剤、テープ接合混合物、消毒剤、殺菌剤、金属加工流体、建造品、パーソナルケア製品、布地用の流体、スピン仕上げ剤、工業プロセス水、油田及びガス田において注入／破砕、逆流、及び随伴する水及び流体、ならびに機能性流体、燃料、空気洗浄機、廃水、バラスト水、濾過システム、水泳プールまたは温泉水である、請求項６に記載の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明の組成物は、様々な水性及び水含有系における微生物の制御に有用である。そのような系の例は、これらに限定されないが、塗料及びコーティング、水性エマルション、ラテックス、接着剤、インク、顔料分散物、家庭用及び工業用洗浄剤、洗剤、食器用洗剤、鉱物スラリーポリマーエマルション、コーキング剤及び接着剤、テープ接合混合物、消毒剤、殺菌剤、金属加工流体、建造品、パーソナルケア製品、布地用の流体、例えばスピン仕上げ剤、工業プロセス水（例えば、油田及びガス田において注入／破砕、逆流及び随伴する水及び流体、パルプ及び製紙用水、冷却水）、油田機能性流体、例えば掘削泥水、仕上げ及び改修用流体、パッカー流体、ならびに水圧試験用流体、燃料、空気洗浄機、廃水、バラスト水、濾過システム、ならびに水泳プール及び温泉水を含む。好ましい水系は、金属加工流体、パーソナルケア、家庭用及び工業用洗浄剤、工業プロセス水、ならびに塗料及びコーティングである。特に好ましいのは、工業プロセス水、塗料及びコーティング、金属加工流体、ならびに布地用の流体、例えばスピン仕上げ剤である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年12月28日(2018.12.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上の活性剤を含む開口フィルム壁材を含むパウチであって、前記活性剤が粉末の形態であり、前記活性剤が界面活性剤、漂白剤、酵素、抑泡剤、泡増量剤、布地用柔軟剤、義歯洗浄剤、毛髪洗浄剤、ヘアケア剤、パーソナルヘルスケア剤、色相剤、発泡剤、及びこれらの混合物から成る群より選択され、前記開口フィルム壁材がパウチの内容積を規定し、前記内容積が活性剤を含み、前記パウチが本出願の明細書の振盪試験方法に記載された手順により測定した場合に、１０％未満の％重量喪失を呈する、パウチ。
【請求項２】
前記パウチが、本出願の明細書の破壊試験方法に記載された手順により測定した場合に、２４０秒未満の平均破壊時間を呈する、請求項１に記載のパウチ。
【請求項３】
前記開口フィルム壁材がヒドロキシルポリマーを含む、請求項１又は２に記載のパウチ。
【請求項４】
前記ヒドロキシルポリマーが、プルラン、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム、キサンタンガム、トラガカントガム、グアーガム、アカシアガム、アラビアガム、ポリアクリル酸、デキストリン、ペクチン、キチン、コラーゲン、ゼラチン、ゼイン、グルテン、大豆タンパク質、カゼイン、ポリビニルアルコール、デンプン、デンプン誘導体、ヘミセルロース、ヘミセルロース誘導体、タンパク質、キトサン、キトサン誘導体、ポリエチレングリコール、テトラメチレンエーテルグリコール、ヒドロキシメチルセルロース、及びこれらの混合物から成る群より選択される、請求項３に記載のパウチ。
【請求項５】
前記パウチが、本出願の明細書の振盪試験方法に記載された手順により測定した場合に、５％未満の％重量喪失を呈する、請求項１に記載のパウチ。
【請求項６】
前記パウチが使用されるときに曝される温度条件、物理的条件、化学的条件、及び／又は機械的条件下で、前記パウチが１つ以上の前記活性剤を放出する、請求項１に記載のパウチ。
【請求項７】
前記パウチが、本出願の明細書の含水量試験方法に記載された手順に従って測定されたときに、０％〜２０％の含水量を呈する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項８】
前記パウチが前記パウチ中に存在する別個のインナーパウチを更に含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項９】
前記インナーパウチが２番目の内容積を規定するフィルム壁材を含む、請求項８に記載のパウチ。
【請求項１０】
前記インナーパウチのフィルム壁材が開口フィルム壁材及び／又は非開口フィルム壁材を含む、請求項９に記載のパウチ。
【請求項１１】
前記インナーパウチが活性剤を含む、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１２】
前記インナーパウチが、本出願の明細書の破壊試験方法に記載された手順により測定した場合に、前記パウチの破壊時間以上の破壊時間を呈する、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１３】
前記開口フィルム壁材が、本出願の明細書の引張試験方法に記載された手順に従って測定されたときに、０．１ｋＮ／ｍ超のＧＭ引張強度を呈する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１４】
前記開口フィルム壁材が、本出願の明細書の引張試験方法に記載された手順に従って測定されたときに、１０００％未満のＧＭ破断点伸びを呈する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１５】
前記開口フィルム壁材が、規則的な開口のパターンを含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１６】
前記開口フィルム壁材が、繰り返しの無い開口のパターンを含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１７】
前記開口フィルム壁材が、異なるサイズの開口を含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のパウチ。
【請求項１８】
前記開口フィルム壁材が、異なる形状の開口を含む、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のパウチ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６６】
一実施例では、開口フィルム壁材（例えば、水溶性開口フィルム壁材）を含む本発明のパウチは、本明細書に記載の破壊試験方法に従って測定されたとき、２４０秒未満、及び／又は１２０秒未満、及び／又は６０秒未満、及び／又は３０秒未満、及び／又は１０秒未満、及び／又は５秒未満、及び／又は２秒未満、及び／又は即時、の平均破壊時間を呈する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年1月9日(2019.1.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の集積回路を載せ、前記集積回路の金属ピラー／はんだバンプ対間に配置され、前記集積回路の金属ピラー／はんだバンプ対を被覆するポリイミドパッシベーション層を有する前面を備える半導体ウエハをダイシングする方法であって、前記方法は、
前記半導体ウエハを露出するスクライブラインを提供するため、マスク層を使用せずに前記ポリイミドパッシベーション層をレーザスクライビングすること、
前記集積回路を個片化するため、前記スクライブラインを通って、前記半導体ウエハをプラズマエッチングすることを含み、前記プラズマエッチングの少なくとも一部の間に前記ポリイミドパッシベーション層は前記集積回路を保護し、更に
前記集積回路の前記金属ピラー／はんだバンプ対を部分的に露出するため、プラズマアッシング処理を使用することによって、前記ポリイミドパッシベーション層を最終厚みまで薄くすることを含む方法。
【請求項２】
前記ポリイミドパッシベーション層を薄くすることは、Ｏ２に基づいてプラズマアッシング処理を使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ポリイミドパッシベーション層を薄くすることは、前記ポリイミドパッシベーション層の最終厚みを約３５〜５０ミクロンまで薄くすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記半導体ウエハを露出するスクライブラインを提供するため前記ポリイミドパッシベーション層をレーザスクライビングすることは、前記半導体ウエハにトレンチを形成することを含み、前記スクライブラインを通って前記半導体ウエハをプラズマエッチングすることは、前記トレンチを通ってプラズマエッチングすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ポリイミドパッシベーション層をレーザスクライビングすることは、フェムト秒ベースのレーザスクライビング処理を使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記フェムト秒ベースのレーザスクライビング処理を使用することは、約５４０ナノメートル以下の波長を有し、約４００フェムト秒以下のレーザパルス幅を有するレーザを使用することを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記半導体ウエハをプラズマエッチングすることは、高密度プラズマエッチング処理を使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
複数の集積回路を備える半導体ウエハをダイシングするためのシステムであって、
ファクトリインターフェース、
前記ファクトリインターフェースに結合されたレーザスクライビング装置であって、半導体ウエハの集積回路間のストリートのレーザアブレーションを実施するように構成されたレーザスクライビング装置、
前記ファクトリインターフェースに結合されたプラズマエッチングチャンバであって、前記レーザアブレーションの後で前記集積回路を個片化するために前記半導体ウエハをエッチングするように構成されたプラズマエッチングチャンバ、及び
前記ファクトリインターフェースに結合されたプラズマアッシングチャンバであって、Ｏ２に基づくプラズマアッシング処理を使用して、前記集積回路のパッシベーション層を取り除くことなく、パッシベーション層を制御して薄くするように構成されたプラズマアッシングチャンバ
を備えるシステム。
【請求項９】
前記レーザスクライビング装置はフェムト秒ベースのレーザを備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記プラズマエッチングチャンバ及び前記プラズマアッシングチャンバは、前記ファクトリインターフェースに結合されたクラスタツールに含まれており、前記クラスタツールは、前記レーザアブレーション、前記エッチング、又は前記アッシングの後に前記半導体ウエハを洗浄するように構成された湿式／乾式ステーションを更に備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
複数のＤＲＡＭ回路を載せ、前記ＤＲＡＭ回路の金属ピラー／はんだバンプ対間に配置され、前記ＤＲＡＭ回路の金属ピラー／はんだバンプ対を被覆するポリイミド層を有する前面を含むシリコンウエハをダイシングする方法であって、前記方法は、
前記シリコンウエハを露出するスクライブラインを提供するため、マスク層を使用せずに前記ポリイミド層をレーザスクライビングすることであって、前記ポリイミド層と前記シリコンウエハとの間に双方とも配置された低誘電率材料層と銅の層を通って実施され、フェムト秒ベースのレーザスクライビング処理を含むレーザスクライビングすること、
前記ＤＲＡＭ回路を個片化するためにスクライブラインを通って前記シリコンウエハをプラズマエッチングすることであって、前記ポリイミド層は前記プラズマエッチングの少なくとも一部の間に前記ＤＲＡＭ回路を保護するプラズマエッチングすること、及び
前記ポリイミド層を最終厚さまで薄くして、前記ＤＲＡＭ回路の前記金属ピラー／はんだバンプ対を部分的に露出するため、前記ポリイミド層をプラズマアッシングすること
を含む方法。
【請求項１２】
前記ポリイミド層をプラズマアッシングすることは、Ｏ２に基づくプラズマアッシング処理を使用することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポリイミド層をプラズマアッシングすることは、前記ポリイミド層を約３５〜５０ミクロンの範囲の最終厚みまで薄くすることを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記シリコンウエハを露出するスクライブラインを提供するため、前記ポリイミド層をレーザスクライビングすることは、前記シリコンウエハにトレンチを形成することを含み、前記スクライブラインを通って前記シリコンウエハをプラズマエッチングすることは、前記トレンチを通ってプラズマエッチングすることを含む、請求項１１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
［００６３］  クラスタツール９０６は、個片化方法における機能を実施するのに適切な他のチャンバを含みうる。例えば、一実施形態では、追加のエッチングチャンバの代わりに、湿式／乾式ステーション９１４が含まれる。湿式／乾式ステーションは、基板又はウエハのレーザスクライビング及びプラズマエッチング／アッシング個片化処理後に、残留物及び破片を洗浄するのに適しうる。一実施形態では、計測ステーションはまた、処理ツール９００の構成要素として、含まれうる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年2月20日(2019.2.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
１．発明の分野
本発明は、チロシンキナーゼシグナル伝達を調節、制御及び／または阻害することができる新規な化合物に関する。また、本発明は、受容体型または非受容体型にかかわらず、細胞増殖、代謝的及び血管増殖性疾患を含む異常チロシンキナーゼシグナル伝達に関する疾患の予防及び／または治療のためにチロシンキナーゼを制御、調節または阻害する方法も対象とする。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明は、ＶＥＧＦ及び／またはＰＤＧＦ受容体を遮断することによってチロシンキナーゼシグナル伝達を調節、制御及び／または阻害することが可能な有機分子に関する。そのような化合物は、糖尿病性網膜症、加齢黄斑変性症及び未熟児網膜症のような増殖性脈管疾患を含む異常チロシンキナーゼシグナル伝達に関する疾患の治療に有用である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
１つの例証の実施形態では本発明の化合物は以下の一般式Ｉを有し、更に、そのプロドラッグ、薬剤的に許容される塩、ラセミ混合物及びエナンチオマーをも含む。
2016539995.tif 000001
上式において、
Ｒ1は、水素またはＮＨ2であり、
Ｒ2は、水素またはＮＨ2であり
Ｘ＝
2016539995.tif 000002
Ｙは、ＣＨまたはＮであり、
Ａｒ1は、アリール、すなわち炭素環式アリールまたはヘテロアリール基あり、
Ｒ3は水素または低級アルキルであり、または、
2016539995.tif 000003
であり、
Ｒ4は、水素、低級アルキル、（ＣＨ2）nＣＯＯＲ6または（ＣＨ2）nＣＯＲ7であり、
Ｒ5は水素または低級アルキルであり、
Ｒ6は水素または低級アルキルであり、
Ｒ7はアミン、例えば、
2016539995.tif 000004
からなる基から選択されてもよい置換アミンであり、ｎは０、または１〜６の整数である。好ましくは、式ＩにおいてＸは−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−である。
好ましくは、式ＩにおいてＹはＣＨである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
別の例証の実施形態では、本発明の化合物は以下の式ＩＩを有し、更に、そのプロドラッグ、薬剤的に許容される塩、ラセミ混合物及びエナンチオマーをも含む。
2016539995.tif 000005
上式において、
Ｒ1は、水素またはＮＨ2であり、
Ｒ2は、水素またはＮＨ2であり
Ｘは
2016539995.tif 000006
であり、ＹはＣＨまたはＮであり、
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
Ａｒ1はアリール基、すなわち炭素環式アリール基またはヘテロアリール基である。前記炭素環式アリールまたはヘテロアリール基は、任意選択で１つ以上のアルコキシ、ハロゲン、トリハロアルキル（例えば、トリフルオロメチル）または低級アルキル基で置換されてもよい。好ましくは、式ＩＩにおいて、Ｘは−ＮＨＣ（Ｏ）−または−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−であり、好ましくは、式ＩＩにおいてＹはＣＨである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
式Ｉ及びＩＩの化合物はキナーゼ阻害剤として有用である。したがって、式Ｉの化合物は異常チロシンキナーゼシグナル伝達に関する疾患、例えば、癌、血管増殖性疾患、線維症及び神経変性疾患の治療に有用である。特に、本発明の化合物は、メサンギウム細胞増殖性疾患、代謝疾患、翼状片（Ｐｔｅｒｉｇｉｕｍ）、関節炎、再狭窄、肝硬変、アテローム性動脈硬化、乾癬、酒さ、糖尿病、創傷治癒及び神経変性疾患及び、好ましくは眼科疾患、すなわち糖尿病性網膜症、加齢黄斑変性症、未熟児網膜症、翼状片、眼瞼結膜炎、慢性アレルギー結膜炎、再発性上強膜炎、乾性角結膜炎の治療に有用である。加えて、以下の皮膚科兆候、日焼け、湿疹、乾癬、接触皮膚炎は本発明の化合物で治療してもよい。