【手続補正書】
【提出日】令和1年5月24日(2019.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の反応物質を第２の反応物質と不活性雰囲気下に気相中少なくとも５００℃の温度で接触させることを含む、フッ素化オレフィンを製造する方法であって、
前記第１の反応物質は、構造（Ｉａ）：
ＣＨyＦ(3-y)Ｘ  （Ｉａ）
（ここで、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、ｙは１又は２である）；
又は構造（Ｉｂ）：
ＣＦy’−Ｈ(3-y’)−ＣＨzＦ(2-z)Ｘ’  （Ｉｂ）
（ここで、Ｘ’はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、ｙ’は１、２又は３であり、ｚは１又は２である）
を有し、
前記第２の反応物質は、構造（ＩＩ）：
ＣＨwＸ”(3-w)−（ＣＨxＸ”(2-x)）z’−ＣＨy”Ｘ”(3-y”)  （ＩＩ）
（ここで、それぞれのＸ”はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩから独立して選択され、ｗは０、１、２又は３であり、ｘは０、１又は２であり、ｙ”は０、１、２又は３であり、但し、構造（ＩＩ）におけるｗ、ｘ及びｙ”はすべてが０であることはなく、式（ＩＩ）中に少なくとも１個のＸ”が存在し、ｚ’は０、１又は２である）
を有する、前記方法。
【請求項２】
前記第２の反応物質が少なくとも１個のＸ”を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の反応物質が少なくとも１個のＦを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の反応物質が構造（Ｉａ）を有し、ＸがＣｌである、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記第１の反応物質が構造（Ｉｂ）を有し、Ｘ’がＣｌである、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記第２の反応物質におけるｚ’が０又は１である、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記第１の反応物質が構造（Ｉａ）を有し、ＸがＣｌであり、前記第２の反応物質におけるｚ’が０又は１である、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記第２の反応物質における１個のみのＸ”がＦ以外のハロゲン化物である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記第２の反応物質におけるそれぞれのＸ”がＦである、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の反応物質が少なくとも２個のＸ”基を含み、前記第２の反応物質におけるそれぞれのＸ”がＦであり、但し、前記第２の反応物質における１個のＸ”がＣｌであることを条件とする、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の反応物質が少なくとも３個のＸ”基を含み、前記第２の反応物質におけるそれぞれのＸ”がＦであり、但し、２個のＸ”基がＣｌであることを条件とする、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記温度が５００℃〜１２００℃である、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記温度が６００℃〜１１００℃である、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記接触が触媒の非存在下で行われる、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記接触が触媒の存在下で行われる、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記触媒が少なくとも１種の金属から構成される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記触媒が少なくとも１種の遷移金属から構成される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の反応物質が、ＣＨＦ2Ｃｌ、ＣＨ2ＦＣｌ、ＣＨ2ＣｌＣＦ3、Ｃ2Ｈ4ＣｌＦ、Ｃ2Ｈ3ＣｌＦ2、Ｃ2Ｈ2Ｆ4及びＣ2ＨＣｌ2Ｆ3からなる群から選択される、請求項１〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
前記第２の反応物質が、Ｃ2Ｈ3Ｆ3、Ｃ2Ｈ4Ｆ2、Ｃ2Ｈ5Ｆ、Ｃ2Ｈ2Ｆ4及びＣ2ＨＦ5並びに１分子当たり少なくとも１個のＣｌ、少なくとも１個のＦ及び少なくとも１個のＨを含むそれらの塩素化類似物からなる群から選択される、請求項１〜１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
前記フッ素化オレフィンが、Ｆ2Ｃ＝ＣＦ−ＣＦ3、シスＦＨＣ＝ＣＦ−ＣＦ3、トランスＦＨＣ＝ＣＦ−ＣＦ3、Ｈ2Ｃ＝ＣＦ−ＣＦ3、Ｈ2Ｃ＝ＣＣｌ−ＣＦ3、シスＣｌＨＣ＝ＣＨ−ＣＦ3、トランスＣｌＨＣ＝ＣＨ−ＣＦ3、シスＦＨＣ＝ＣＨＣＦ3、トランスＦＨＣ＝ＣＨＣＦ3及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜１９のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明の態様には、以下が含まれる：
１．第１の反応物質を第２の反応物質と不活性雰囲気下に気相中少なくとも５００℃の温度で接触させることを含む、フッ素化オレフィンを製造する方法であって、
第１の反応物質は、構造（Ｉａ）：
ＣＨyＦ(3-y)Ｘ  （Ｉａ）
（ここで、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、ｙは、１又は２である）；
又は構造（Ｉｂ）：
ＣＦy’−Ｈ(3-y’)−ＣＨzＦ(2-z)Ｘ’  （Ｉｂ）
（ここで、Ｘ’は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、ｙ’は、１、２又は３であり、ｚは、１又は２である）
を有し、
第２の反応物質は、構造（ＩＩ）：
ＣＨwＸ”(3-w)−（ＣＨxＸ”(2-x)）z’−ＣＨy”Ｘ”(3-y”)  （ＩＩ）
（ここで、それぞれのＸ”は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩから独立して選択され、ｗは、０、１、２又は３であり、ｘは、０、１又は２であり、ｙ”は、０、１、２又は３であり、但し、構造（ＩＩ）におけるｗ、ｘ及びｙ”は、すべてが０であることはなく、ｚ’は、０、１又は２であることを条件とする）
を有する、方法。
２．第２の反応物質が、少なくとも１個のＸ”を含む、態様１に記載の方法。
３．第２の反応物質が、少なくとも１個のＦを含む、態様１又は２に記載の方法。
４．第１の反応物質が、構造（Ｉａ）を有し、Ｘが、Ｃｌである、態様１〜３のいずれか一つに記載の方法。
５．第１の反応物質が、構造（Ｉｂ）を有し、Ｘ’が、Ｃｌである、態様１〜４のいずれか一つに記載の方法。
６．第２の反応物質におけるｚ’が、０又は１である、態様１〜５のいずれか一つに記載の方法。
７．第１の反応物質が、構造（Ｉａ）を有し、ＸがＣｌであり、第２の反応物質におけるｚ’が、０又は１である、態様１〜６のいずれか一つに記載の方法。
８．第２の反応物質における１個のみのＸ”が、Ｆ以外のハロゲン化物である、態様１〜７のいずれか一つに記載の方法。
９．第２の反応物質におけるそれぞれのＸ”が、Ｆである、態様１〜８のいずれか一つに記載の方法。
１０．第２の反応物質が、少なくとも２個のＸ”基を含み、第２の反応物質におけるそれぞれのＸ”が、Ｆであり、但し、第２の反応物質における１個のＸ”が、Ｃｌであることを条件とする、態様１に記載の方法。
１１．第２の反応物質が、少なくとも３個のＸ”基を含み、第２の反応物質におけるそれぞれのＸ”が、Ｆであり、但し、２個のＸ”基が、Ｃｌであることを条件とする、態様１〜１０のいずれか一つに記載の方法。
１２．温度が、５００℃〜１２００℃である、態様１〜１１のいずれか一つに記載の方法。
１３．温度が、６００℃〜１１００℃である、態様１〜１２のいずれか一つに記載の方法。
１４．接触が、触媒の非存在下で行われる、態様１〜１３のいずれか一つに記載の方法。
１５．接触が、触媒の存在下で行われる、態様１〜１４のいずれか一つに記載の方法。
１６．触媒が、少なくとも１種の金属から構成される、態様１５に記載の方法。
１７．触媒が、少なくとも１種の遷移金属から構成される、態様１５又は１６に記載の方法。
１８．第１の反応物質が、ＣＨＦ2Ｃｌ、ＣＨ2ＦＣｌ、ＣＨ2ＣｌＣＦ3、Ｃ2Ｈ4ＣｌＦ、Ｃ2Ｈ3ＣｌＦ2、Ｃ2Ｈ2Ｆ4及びＣ2ＨＣｌ2Ｆ3からなる群から選択される、態様１〜１７のいずれか一つに記載の方法。
１９．第２の反応物質が、Ｃ2Ｈ3Ｆ3、Ｃ2Ｈ4Ｆ2、Ｃ2Ｈ5Ｆ、Ｃ2Ｈ2Ｆ4及びＣ2ＨＦ5並びに１分子当たり少なくとも１個のＣｌ、少なくとも１個のＦ及び少なくとも１個のＨを含むそれらの塩素化類似物からなる群から選択される、態様１〜１８のいずれか一つに記載の方法。
２０．フッ素化オレフィンが、Ｆ2Ｃ＝ＣＦ−ＣＦ3、シスＦＨＣ＝ＣＦ−ＣＦ3、トランスＦＨＣ＝ＣＦ−ＣＦ3、Ｈ2Ｃ＝ＣＦ−ＣＦ3、Ｈ2Ｃ＝ＣＣｌ−ＣＦ3、シスＣｌＨＣ＝ＣＨ−ＣＦ3、トランスＣｌＨＣ＝ＣＨ−ＣＦ3、シスＦＨＣ＝ＣＨＣＦ3、トランスＦＨＣ＝ＣＨＣＦ3及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、態様１〜１９のいずれか一つに記載の方法。