(57)【要約】  陸送可能に分割できるとともに被処理基板に対する適正な処理を確保する。被処理基板が設置される基板支持面を挟むように対向配置された一対のガイドフレーム（１３Ｘ１），（１３Ｘ２）と、これら一対のガイドフレーム（１３Ｘ１），（１３Ｘ２）の上面に移動自在に支持されるガントリー（１３Ｙ）とを備えたステージ装置（１１）であって、当該ステージ装置（１１）を、一方のガイドフレーム（１３Ｘ１）を含む第１構成体Ｖ１と、他方のガイドフレーム（１３Ｘ２）を含む第２構成体Ｖ２と、ガントリー（１３Ｙ）を含む第３構成体Ｖ３との結合体で構成する。これにより、大型のステージ装置であっても、各構成体Ｖ１〜Ｖ３に分離自在であるので陸送が可能となり、また、ガントリー（１３Ｙ）の移動経路上に継ぎ目が存在しないので、ガントリー（１３Ｙ）の移動送り精度を損なわずに適正な基板処理を確保できる。
2007102321.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を支持する基板支持面と、
前記基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレームと、
前記一対のガイドフレーム間にわたって延在し前記一対のガイドフレームに対して移動自在に支持されたガントリーと、
前記ガントリーに設置された基板処理ユニットとを備えたステージ装置であって、
前記一対のガイドフレームのうち一方のガイドフレームを含む第１の構成体と、
前記一対のガイドフレームのうち他方のガイドフレームを含む第２の構成体と、
前記ガントリーを含む第３の構成体との結合からなる
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
被処理基板を設置し、前記被処理基板上でガントリーを移動させて、前記被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、
前記ガントリーの両脚部を移動自在に支持する一対のガイド部を備え、
前記一対のガイド部は、分離運搬可能に構成されている
ことを特徴とするステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガントリー移動型のステージ装置に関し、更に詳しくは、例えば液晶パネル用のガラス基板に対するシール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材の塗布、あるいはカメラを用いた表面検査や表面段差計測等に用いられるステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えば、液晶パネル用のガラス基板に対するシール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材の塗布工程、あるいはカメラを用いた表面検査工程等においては、ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいはカメラをガラス基板の面内２方向に沿って移動させるガントリー移動型のステージ装置が用いられている（例えば下記特許文献１参照）。【０００３】
図４はこの種の従来のステージ装置の概略構成を示す平面図である。図示する従来のステージ装置１は、ＸＹ面内において被処理基板を支持する載置台２と、この載置台２を挟むように設置されＸ軸方向に延在する一対のガイドフレーム３Ｘ，３Ｘと、これら一対のガイドフレーム３Ｘ，３Ｘ間にわたって延在するガントリー３Ｙと、このガントリー３Ｙに設けられた基板処理ユニット４とを備えている。【０００４】
ガントリー３Ｙは、ガイドフレーム３Ｘ，３Ｘに対し当該ガイドフレーム３Ｘ，３Ｘの上面に沿って移動自在に取り付けられている。基板処理ユニット４は、シール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいは基板表面を観察するカメラユニット等で構成されており、ガントリー３Ｙに対し当該ガントリー３Ｙの下面に沿って移動自在に取り付けられている。ガントリー３Ｙおよび基板処理ユニット４は、リニアモータ等の駆動源によってそれぞれガイドフレーム３Ｘ，３Ｘおよびガントリー３Ｙに沿って移動される。【０００５】
以上のように構成される従来のステージ装置１においては、載置台２の上に支持された被処理基板の表面に対向して基板処理ユニット４が送り移動され、被処理基板表面に対する上述した各種ペースト材の塗布あるいは表面性状の撮影などが行われる。そして、基板処理ユニット４をＸ軸、Ｙ軸方向にそれぞれ移動させることで、当該基板処理ユニット４による被処理基板全域に対する所定の処理動作が間欠的または連続的に行われる。【０００６】
また、この種のステージ装置においては、載置台２に対する被処理基板の搬入・搬出、あるいは基板処理ユニット４の保守・点検等のために、ガイドフレーム３Ｘは、基板処理に必要とされるガントリー３Ｙの移動経路を画定する作業領域Ｒ１とは別に、ガントリー３Ｙを載置台２の直上位置から退避させるための非作業領域Ｒ２が設けられている。すなわち、ガイドフレーム３Ｘは、作業領域Ｒ１と非作業領域Ｒ２とを形成できる長さで構成されている。【０００７】
【特許文献１】特許第３７０１８８２号公報
【特許文献２】特開２００６−１２９１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、被処理基板が益々大型化する傾向にあり、これに伴って、被処理基板を処理するステージ装置も大型化する必要性が生じている。【０００９】
ところが、ステージ装置の大型化が進むと、当該ステージ装置の輸送が不可能になるという問題がある。例えば、被処理基板の大きさが３０００ｍｍ×２８００ｍｍの場合、ステージ装置は短辺３５００ｍｍ以上の大きさが必要となるが、このような大きさになると、現在の道路事情では陸送が不可能となる。【００１０】
このような問題を解決するために、ステージ装置を複数に分割する方法がある（例えば上記特許文献２参照）。しかしながら、図４に示したようなガントリー移動型のステージ装置１においては、ガントリー３Ｙの移動経路上にガイドフレーム３Ｘの継ぎ目があると、この継ぎ目を通過する際に、ガントリー３Ｙの振動を誘発したり移動速度に変化を生じさせ、基板処理ユニット４による適正な基板処理が行えなくなるという問題がある。【００１１】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、陸送可能に分割できるとともに被処理基板に対する適正な処理を確保できるステージ装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
以上の課題を解決するに当たり、本発明のステージ装置は、被処理基板を支持する基板支持面と、基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレームと、一対のガイドフレーム間にわたって延在し一対のガイドフレームに対して移動自在に支持されたガントリーと、ガントリーに設置された基板処理ユニットとを備えたステージ装置であって、一対のガイドフレームのうち一方のガイドフレームを含む第１の構成体と、一対のガイドフレームのうち他方のガイドフレームを含む第２の構成体と、ガントリーを含む第３の構成体との結合体で構成されている。【００１３】
以上のように構成される本発明のステージ装置においては、ガントリーと、このガントリーの移動案内を行う一対のガイドフレームの各々のガイドフレームとの分割構造とされているので、ステージ装置を陸送が可能な長さにまで短くすることができる。また、各ガイドフレームはそれ自身が分割構造とされていないため、ガントリーの移動経路上に継ぎ目は存在しない。従って、ガントリーに振動や移動速度の変化を生じさせることはなく、被処理基材に対して適正な処理を確保することができる。【００１４】
また、本発明の他のステージ装置は、被処理基板を設置し、被処理基板上でガントリーを移動させて、被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、ガントリーの両脚部を移動自在に支持する一対のガイド部を備え、これら一対のガイド部は、分離運搬可能に構成されている。【００１５】
上記一対のガイド部は、例えば、ガントリーの直進移動案内を行うリニアガイドに相当する。これら一対のガイド部をそれぞれ分離自在に構成したガイドフレーム上に設置することで、上述と同様な作用効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上述べたように、本発明によれば、ガントリーの移動案内を行う一対のガイドフレームあるいはガイド部を相互に分離自在な構造としたので、ステージ装置を陸送が可能な長さにまで短くすることができる。また、ガイドフレームの分割位置がガントリーの作業領域上に存在しないので、ガントリーに振動や移動速度の変化が生じることはなく、被処理基板に対して適正な処理を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施形態によるステージ装置の概略構成図であり。Ａは組立後の状態を示す全体斜視図、Ｂは組立前の状態を示す全体斜視図である。
【図２】本発明の実施形態によるステージ装置のＸ軸方向から見たときの断面図である。
【図３】本発明の実施形態によるステージ装置の可動部の概略構成を示す断面斜視図である。
【図４】従来のステージ装置の構成を示す概略平面図である。
【符号の説明】
【００１８】
１１    ステージ装置
１２    載置台
１３Ｘ１，１３Ｘ２    ガイドフレーム
１３Ｙ    ガントリー
１４    基板処理ユニット
１６，１６ａ，１６ｂ    架台
１７    リニアガイド
１７ａ    ガイド軸（第１，第２ガイド部）
１７ｂ    ガイド軸受
１８    マグネット
１９    電機子コイル
２０    可動部
２１    位置検出センサ
２２    リニアスケール
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。【００２０】
図１Ａ，Ｂは本発明の実施形態によるステージ装置１１の概略構成を示す全体斜視図であり、Ａは組立後、Ｂは組立前の状態をそれぞれ示している。図２は、ステージ装置１１をＸ軸方向から見たときの断面図である。【００２１】
本実施形態のステージ装置１１は、ガラス基板等の被処理基板Ｗを支持する載置台１２と、この載置台１２を挟むように設置されＸ軸方向に延在する一対のガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２と、これら一対のガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２間にわたって延在するガントリー１３Ｙと、このガントリー１３Ｙに設けられた基板処理ユニット１４とを備えている。【００２２】
載置台１２は、ＸＹ面内において被処理基板Ｗを支持する基板支持面を有している。載置台１２は、一対のガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２を互いに平行にかつ所定の間隔を維持して対向配置させるための架台１６の上に設置されている。また、載置台１２は、基板支持面上で被処理基板Ｗを例えば真空吸着等により保持する機構を備えている。なお、図１Ａ，Ｂにおいては載置台１２の図示を省略している。また、架台１６の一部が上記基板支持面を構成するようにしてもよい。【００２３】
一対のガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２は架台１６を介して一体的に固定されている。ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２は、基板処理に必要とされるガントリー１３Ｙの作業領域を画定する移動経路と、ガントリー１３Ｙを被処理基板Ｗの直上位置から退避させるための非作業領域を画定する移動経路とを構成する長さに形成されている。【００２４】
ガントリー１３Ｙは、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２の延在方向（Ｘ軸方向）に対して交差する方向、特に本実施形態では直交する方向（Ｙ軸方向）に延在している。ガントリー１３Ｙの両脚部は、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２に対し、可動部２０を介して当該ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２の上面に沿って移動自在に支持されている。【００２５】
基板処理ユニット１４は、載置台１２の上に支持された被処理基板Ｗの表面にシール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂等の各種ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいは基板表面を観察するカメラユニット等で構成されている。この基板処理ユニット１４は、ガントリー１３Ｙに対して当該ガントリー１３Ｙの下面に沿って移動自在に支持されている。【００２６】
ガントリー１３Ｙおよび基板処理ユニット１４は、リニアモータを駆動源として、それぞれガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２およびガントリー１３Ｙに沿って移動される。図３は、ガイドフレーム１３Ｘ１とガントリー１３Ｙとの間に設置された可動部２０の一構成例を示している。なお、以下の構成は、ガイドフレーム１３Ｘ２とガントリー１３Ｙとの間およびガントリー１３Ｙと基板処理ユニット１４との間にも同様に適用されている。【００２７】
図３に示すように、可動部２０は、リニアガイド１７と、マグネット１８と、電機子コイル１９とを備えている。リニアガイド１７は、ガイドフレーム１３Ｘ１の上面に敷設された一対のガイド軸１７ａ，１７ａと、ガントリー１３Ｙの脚部下面に設置された一対のガイド軸受１７ｂ，１７ｂとで構成されている。マグネット１８は、ガイドフレーム１３Ｘ１の上面において一対のガイド軸１７ａ，１７ａの間に直線的に設置されている。電機子コイル１９は、マグネット１８と間隙をおいて対向するようにガントリー１３Ｙの脚部下面に取り付けられている。これらマグネット１８および電機子コイル１９によってリニアモータが構成されている。【００２８】
可動部２０には更に、ガイドフレーム１３Ｘ１に対するガントリー１３Ｙの相対位置を検出するための位置検出センサ２１が設けられている。位置検出センサ２１は、ガイドフレーム１３Ｘ１の側面に設置されたリニアスケール２２を光学的に検出することで、ガントリー１３Ｙの位置検出を行う。【００２９】
なお、ステージ装置１１は、図示せずとも、上記構成の位置検出センサの検出出力を受けてガントリー１３Ｙおよび基板処理ユニット１４の移動制御を行う制御部を備えているが、その説明は省略する。【００３０】
ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２に対するガントリー１３ＹのＸ軸方向への水平移動と、ガントリー１３Ｙに対する基板処理ユニット１４のＹ軸方向への水平移動とにより、載置台１２に支持された被処理基板Ｗの表面全域に対して基板処理ユニット１４をＸＹ面内２方向に対向配置させることが可能となる。これにより、ステージ装置１１は、基板処理ユニット１４による被処理基板Ｗに対する所定の基板処理動作（本例では、シール剤や液晶材料、スペーサ含有樹脂の塗布処理あるいは表面検査）を連続的または間欠的に行うことが可能なＸＹステージとして構成される。【００３１】
さて、本実施形態のステージ装置１１においては、図１Ｂに示すように、一方側のガイドフレーム１３Ｘ１を含む第１構成体Ｖ１と、他方側のガイドフレーム１３Ｘ２を含む第２構成体Ｖ２と、ガントリー１３Ｙを含む第３構成体Ｖ３との結合体で構成されている。従って、ステージ装置１１は、ガイドフレーム１３Ｘ１とガイドフレーム１３Ｘ２とガントリー１３Ｙとの間で分離自在とされている。【００３２】
第１構成体Ｖ１は、ガイドフレーム１３Ｘ１、架台１６の一部１６ａ等からなり、第２構成体Ｖ２は、ガイドフレーム１３Ｘ２と架台１６の一部１６ｂ等からなる。ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２の上にリニアガイドのガイド軸１７ａやマグネット１８等があらかじめ敷設されていてもよい。なお、ガイドフレーム１３Ｘ１およびガイドフレーム１３Ｘ２上に各々敷設されるガイド軸１７ａは、本発明における「一対のガイド部」に相当する。【００３３】
第３構成体Ｖ３は、ガントリー１３Ｙ、基板処理ユニット１４等からなり、ガントリー１３Ｙの両脚部には可動部２０の一部を設置しておいてもよい。なお、載置台１２は架台１６に対して着脱自在に構成しておき、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２の組立後に架台１６上に取り付けられる。【００３４】
以上のように、本実施の形態によれば、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２をその延在方向に対して直交する方向に関して分離自在に構成することにより、ステージ装置１１のフレーム部分をＹ軸方向に関して２分割して運搬することができる。
例えば、ステージ装置１１のＸ軸方向の長さ寸法が５５００ｍｍ以上、Ｙ軸方向の幅寸法が４５００ｍｍ以上のサイズを有する場合であっても、ステージ装置１１をＹ軸方向に関して２分割することで個々の分割構成体単位で短辺の長さ寸法を３５００ｍｍ以下に抑えることが可能となる。これにより、道路事情等に基づく制限が解消されるので、ステージ装置１１の陸送が可能となる。【００３５】
ここで、一方のガイドフレーム１３Ｘ１側と他方のガイドフレーム１３Ｘ２側との間の境界線Ｄ（図１Ａ）は、これら一対のガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２を連結する架台１６のＹ軸方向略中央部に設定されている。分割された架台１６ａ，１６ｂは図１Ｂに示すようにガイドフレーム１３Ｘ１およびガイドフレーム１３Ｘ２にそれぞれ固定され、ステージの組立時に各架台１６ａ，１６ｂの端部が互いに継ぎ合わされる。【００３６】
なお、境界線Ｄの位置、すなわち架台１６の分割位置は上記の例に限られない。また、架台１６の分割面をその法線方向がＹ軸方向となるように構成したが、分割面の法線方向がＹ軸方向と交差する方向に構成してもよい。さらに、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２をその対角線位置で分割しても構わない。【００３７】
また、各ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２はそれ自身が分割構造とされていないため、ガントリー１３Ｙの移動経路上に継ぎ目は存在しない。従って、ガントリー１３Ｙに振動や移動速度の変化を生じさせることはなく、被処理基材Ｗに対して適正な処理を確保することができる。また、ガントリー１３Ｙの所望の移動送り精度が得られる設計精度を確保でき、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２の製作および設置作業が容易となる。【００３８】
ここで、ガントリー１３Ｙの移動送り精度には、ガントリー１３Ｙの移動面の剛性、平坦度、ガントリー１３Ｙの等速移動性などが含まれる。これらの特性を得るために、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２には花崗岩（グラナイト）や大理石などの石材、ＳｉＣ等の硬質セラミックスのような加工精度の高い材料が用いられている。【００３９】
また、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２がその延在方向に関して分割されない構成であるため、ガイドフレーム１３Ｘ１，１３Ｘ２上にリニアガイド（ガイド部）やリニアスケールを敷設し直動案内の調整を行った状態で出荷することが可能となる。これにより、現地での設置作業および調整作業を簡略化でき、作業性の向上を図ることができる。
【図１】
2007102321.tif 000003
【図２】
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【図３】
2007102321.tif 000005
【図４】
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【国際調査報告】
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2007102321.tif 000008
2007102321.tif 000009