【手続補正書】
【提出日】平成19年3月19日(2007.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動の光学要素を含む投影光学系を有し、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置であって、
前記光学要素を駆動する駆動機構と、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量と、前記調整量の２次関数で表現された前記光学系の波面収差のＲＭＳの平方を第２許容値で正規化した２次評価量とを得る第１ブロックと、
前記１次評価量の上限値としてダミー変数を用い、線形計画法によって前記ダミー変数の最小値を得る第２ブロックと、
前記１次評価量の上限値が前記第２ブロックで得られた前記ダミー変数の最小値に緩和量を加えた値であるとの制約条件下で前記２次評価量が最小化されるように、２次計画法によって前記調整量を得る第３ブロックと、
を備え、
前記第３ブロックは、前記加えた値と前記加えた値を用いて得られた前記２次評価量とに基づいて前記緩和量を調整することにより、前記２次評価量を最小化し、
前記駆動機構は、前記第３ブロックにより得られた調整量にしたがって前記光学要素を駆動する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
可動の光学要素を含む投影光学系を有し、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置であって、
前記光学要素を駆動する駆動機構と、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量を得る第１ブロックと、
前記光学系の波面収差のZernike係数の絶対値の上限として第１ダミー変数を用い、第２許容値で正規化した前記波面収差のＲＭＳを前記第１ダミー変数の１次関数で近似した１次評価量を得る第２ブロックと、
前記第１ブロック及び前記第２ブロックでそれぞれ得られた１次評価量の上限として第２ダミー変数を用い、前記第２ダミー変数が最小化されるように線形計画法によって前記調整量を得る第３ブロックと、
を備え、
前記駆動機構は、前記第３ブロックにより得られた調整量にしたがって前記光学要素を駆動する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
可動の光学要素を含む投影光学系と、前記光学要素を駆動する駆動機構とを備え、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置の調整方法であって、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量と、前記調整量の２次関数で表現された前記光学系の波面収差のＲＭＳの平方を第２許容値で正規化した２次評価量とを得る第１工程と、
前記１次評価量の上限値としてダミー変数を用い、線形計画法によって前記ダミー変数の最小値を得る第２工程と、
前記１次評価量の上限値が前記第２工程で得られた前記ダミー変数の最小値に緩和量を加えた値であるとの制約条件下で前記２次評価量が最小化されるように、２次計画法によって前記調整量を得る第３工程と、
前記第３工程で得られた調整量にしたがって前記駆動機構により前記光学要素を駆動する第４工程と、
を有し、
前記第３工程では、前記加えた値と前記加えた値を用いて得られた前記２次評価量とに基づいて前記緩和量を調整することにより、前記２次評価量を最小化する、
ことを特徴とする調整方法。
【請求項４】
可動の光学要素を含む投影光学系と、前記光学要素を駆動する駆動機構とを備え、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置の調整方法であって、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量を得る第１工程と、
前記光学系の波面収差のZernike係数の絶対値の上限として第１ダミー変数を用い、第２許容値で正規化した前記波面収差のＲＭＳを前記第１ダミー変数の１次関数で近似した１次評価量を得る第２工程と、
前記第１工程及び前記第２工程でそれぞれ得られた１次評価量の上限として第２ダミー変数を用い、前記第２ダミー変数が最小化されるように線形計画法によって前記調整量を得る第３工程と、
前記第３工程で得られた調整量にしたがって前記駆動機構により前記光学要素を駆動する第４工程と、
を有することを特徴とする調整方法。
【請求項５】
デバイス製造方法であって、
感光剤が塗布された基板の前記感光剤に請求項１又は請求項２に記載の露光装置によって潜像パターンを形成する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項６】
デバイス製造方法であって、
露光装置を請求項３又は請求項４に記載の調整方法にしたがって調整する工程と、
感光剤が塗布された基板の前記感光剤に前記露光装置によって潜像パターンを形成する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記のような課題認識を基礎としてなされたものであり、波面収差を含む各種収差を調整する技術を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第１の側面は、可動の光学要素を含む投影光学系を有し、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置に係り、前記露光装置は、前記光学要素を駆動する駆動機構と、前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量と、前記調整量の２次関数で表現された前記光学系の波面収差のＲＭＳの平方を第２許容値で正規化した２次評価量とを得る第１ブロックと、前記１次評価量の上限値としてダミー変数を用い、線形計画法によって前記ダミー変数の最小値を得る第２ブロックと、前記１次評価量の上限値が前記第２ブロックで得られた前記ダミー変数の最小値に緩和量を加えた値であるとの制約条件下で前記２次評価量が最小化されるように、２次計画法によって前記調整量を得る第３ブロックとを備え、前記第３ブロックは、前記加えた値と前記加えた値を用いて得られた前記２次評価量とに基づいて前記緩和量を調整することにより、前記２次評価量を最小化し、前記駆動機構は、前記第３ブロックにより得られた調整量にしたがって前記光学要素を駆動する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第２の側面は、可動の光学要素を含む投影光学系を有し、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置に係り、前記露光装置は、前記光学要素を駆動する駆動機構と、前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量を得る第１ブロックと、前記光学系の波面収差のZernike係数の絶対値の上限として第１ダミー変数を用い、第２許容値で正規化した前記波面収差のＲＭＳを前記第１ダミー変数の１次関数で近似した１次評価量を得る第２ブロックと、前記第１ブロック及び前記第２ブロックでそれぞれ得られた１次評価量の上限として第２ダミー変数を用い、前記第２ダミー変数が最小化されるように線形計画法によって前記調整量を得る第３ブロックとを備え、前記駆動機構は、前記第３ブロックにより得られた調整量にしたがって前記光学要素を駆動する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第３の側面は、可動の光学要素を含む投影光学系と、前記光学要素を駆動する駆動機構とを備え、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置の調整方法に係り、前記調整方法は、前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量と、前記調整量の２次関数で表現された前記光学系の波面収差のＲＭＳの平方を第２許容値で正規化した２次評価量とを得る第１工程と、前記１次評価量の上限値としてダミー変数を用い、線形計画法によって前記ダミー変数の最小値を得る第２工程と、前記１次評価量の上限値が前記第２工程で得られた前記ダミー変数の最小値に緩和量を加えた値であるとの制約条件下で前記２次評価量が最小化されるように、２次計画法によって前記調整量を得る第３工程と、前記第３工程で得られた調整量にしたがって前記駆動機構により前記光学要素を駆動する第４工程とを有し、前記第３工程では、前記加えた値と前記加えた値を用いて得られた前記２次評価量とに基づいて前記緩和量を調整することにより、前記２次評価量を最小化する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第４の側面は、可動の光学要素を含む投影光学系と、前記光学要素を駆動する駆動機構とを備え、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置の調整方法に係り、前記調整方法は、前記駆動機構による前記光学要素の調整量の１次関数で表現された前記光学系の収差を第１許容値で正規化した１次評価量を得る第１工程と、前記光学系の波面収差のZernike係数の絶対値の上限として第１ダミー変数を用い、第２許容値で正規化した前記波面収差のＲＭＳを前記第１ダミー変数の１次関数で近似した１次評価量を得る第２工程と、前記第１工程及び前記第２工程でそれぞれ得られた１次評価量の上限として第２ダミー変数を用い、前記第２ダミー変数が最小化されるように線形計画法によって前記調整量を得る第３工程と、前記第３工程で得られた調整量にしたがって前記駆動機構により前記光学要素を駆動する第４工程と有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、波面収差を含む各種収差を調整する技術を提供することができる。