【手続補正書】
【提出日】平成20年1月18日(2008.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  波面（９）を生成する波面源（７）と、
前記波面源（７）に後置接続された回折格子（１１）と、
前記回折格子（１１）に後置接続された空間分解能型検出器（１９）とを有する、波面検出のための装置（１）において、
前記波面源（７）が、測定すべき光学系の透過のために設けられる波面を生成するように設定され、さらに二次元構造を有していることを特徴とする装置。
【請求項２】  前記波面源（７）は、局所的に変化する透過機能を備えた照明マスク（８；８′；８″）を含んでいる、請求項１記載の装置（１）。
【請求項３】  前記照明マスク（８″）は、回転対称な透過分布を有する、請求項２記載の装置（１）。
【請求項４】  前記波面源（７）は、ホールマスク（８；８′；８″）を含んでいる、請求項１から３いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項５】  前記ホールマスク（８；８′）は、周期的に設けられた多数の開口部（５１，５３；５１′、５３′）を有している、請求項４記載の装置（１）。
【請求項６】  前記ホールマスク（８；８′）は、四方対称に設けられた多数の開口部（５１，５３；５１′、５３′）を有している、請求項５記載の装置（１）。
【請求項７】  前記ホールマスク（８′″）は、三方対称に設けられた多数の開口部（５７）を有している、請求項５記載の装置（１）。
【請求項８】  照明システムを有しており、該照明システムと回折格子（１１）の間に照明マスク（８；８′；８″）が設けられており、さらに前記照明システムと照明マスク（８；８′；８″）の間に散乱面（６；６′）が配設されている、請求項１から７いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項９】  前記照明システムは、光導波路（２９；２９′）を含んでいる、請求項８記載の装置（１）。
【請求項１０】  前記光導波路（２９；２９′）は、マルチモード型光導波路である、請求項９記載の装置（１）。
【請求項１１】  前記照明マスク（８；８′；８″）は、前記光導波路（２９）に接続されている、請求項９または１０記載の装置（１）。
【請求項１２】  前記照明マスク（８；８′；８″）に、入射した照明光を照明マスク（８；８′；８″；４０８；５０８；６０８）の方向に集中させる光学系（３０；３０′；４３０；５３０；６３０）が対応付けられている、請求項８から１０いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項１３】  前記回折格子（１１）は、波面源（７）の構造に依存して次のように構成されている、すなわち当該回折格子（１１）において所定の回折次数のみが寄与するように構成されている、請求項１から１２いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項１４】  前記回折格子（１１）は、異なる周期性方向においてそれぞれ１つの周期性回折構造を有している、請求項１から１３いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項１５】  前記回折格子（１１）は、相互に直交する２つの周期性方向を有している、請求項１４記載の装置（１）。
【請求項１６】  前記回折格子（１１）は、交差型格子（１１′）である、請求項１５記載の装置（１）。
【請求項１７】  前記回折格子（１１）は、チェス盤状格子（５５）である、請求項１５記載の装置（１）。
【請求項１８】  前記回折格子（１１′″）は、それぞれ対毎に１２０゜の角度を含む３つの周期性方向を有してる、請求項１４記載の装置（１）。
【請求項１９】  前記回折格子は、三角状格子（１１′″）である、請求項１８記載の装置（１）。
【請求項２０】  前記回折格子は、局所的に常に変化する透過性を有する格子である、請求項１から１９いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項２１】  前記回折格子は、正弦格子である、請求項２０記載の装置（１）。
【請求項２２】  前記回折格子は、位相格子である、請求項１から２１いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項２３】  前記回折格子（１１″）は、異なる周期性方向でそれぞれ１つの周期性回折構造を有する格子（５８）とこれと同一平面上のライン格子（５９）を有している、請求項１から２２いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項２４】  前記波面源（７）と回折格子（１１）の間に、波面（９）を変形する光学系（５）が配設されており、この場合前記波面源（７）は、光学系（５）の物体面（３）におかれ、前記回折格子（１１）は当該物体面（３）に共役な前記光学系（５）の像面におかれている、請求項１から２３いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項２５】  前記回折格子（１１）に、該回折格子（１１）のシフトのための移動モジュール（３７）が異なる周期性方向で対応付けられている、請求項１から２４いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項２６】  前記波面源（７）に、該波面源（７）を物体面（３）内でシフトさせるシフトモジュール（３１）が対応付けられている、請求項１から２５いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項２７】  前記シフトモジュール（３１）は、物体面（３）内での波面源（７）のシフトの際に検出器（１９）も像面に対して平行にシフトさせる、請求項２６記載の装置（１）。
【請求項２８】  前記検出器（１９；３１９）は、ビーム感応性のセンサ面（２０；３２０）であり、回折格子（１１；３１１）とセンサ面（２０；３２０）の間に配設された結像系（２２；３２２）を含んでいる、請求項１から２７いずれか１項記載の装置（１；３０１）。
【請求項２９】  前記結像系（２２；３２２）は、アッベの正弦条件に関して修正されている、請求項２８記載の装置（１；３０１）。
【請求項３０】  前記結像系（２２；３２２）は、テレセントリックである、請求項２８または２９記載の装置（１；３０１）。
【請求項３１】  ビーム源（４３）と波面源（７）の間に、波面源（７）に供給されるビームの一部を減結合する第１のビームスプリッタ（４５）が配設されており、前記回折格子（１１）に後置接続された第２のビームスプリッタ（４７）は、前記第１のビームスプリッタ（４５）から減結合されたビーム成分をセンサ面（２０）の方に偏向させる、請求項１から３０いずれか１項記載の装置（１）。
【請求項３２】  参照光導波路（４９）は、第１のビームスプリッタ（４５）によって減結合されたビーム成分を第２のビームスプリッタ（４７）まで伝送する、請求項３１記載の装置（１）。
【請求項３３】  検出器（１１９；２１９；３１９；４１９）が二次照射面（１６１；２６１；３６１；４６１）を含んでいる、請求項１から３２いずれか１項記載の装置（１０１；２０１；３０１；４０１）。
【請求項３４】  前記検出器は、多数の光導波路（１６０；２６０；４６０）を含んでいる、請求項１から３３いずれか１項記載の装置（１０１；２０１；４０１）。
【請求項３５】  波面源（５０７；６０７）が作動毎に、投影対物レンズ（５０５；６０５）の物体面へもたらされるかまたは投影対物レンズ（５０５；６０５）の物体面から遠ざけられる、請求項１から３４のいずれかに記載の装置と、投影対物レンズ（５０５；６０５）とを有するマイクロリソグラフィ用の装置（５０２；０２）。
【請求項３６】  回折格子（５１１；６１１）が作動毎に、投影対物レンズ（５０５；６０５）の像面へもたらされるかまたは投影対物レンズ（５０５；６０５）の像面から遠ざけられる、請求項１から３４のいずれかに記載の装置と、投影対物レンズ（５０５；６０５）とを有するマイクロリソグラフィ用装置（５０２；０２）
【請求項３７】  前記投影対物レンズ（６０５）は、少なくとも１つの光学素子（６７３，６７５，６７７）を含み、前記投影対物レンズ（６０５）の光学素子（６７３，６７５，６７７）の少なくとも１つには、作用素子（６７９，６８１，６８３）が対応付けられており、該作用素子を用いて前記光学素子（６７３，６７５，６７７）の結像特性が変更可能であり、前記作用素子（６７９，６８１，６８３）は、波面検出装置（６０１）を介して制御可能である、請求項３５または３６記載のマイクロリソグラフィ用装置（６０２）。
【請求項３８】  比較装置（６８５）が波面検出装置（６０１）によって与えられる、検出された波面に相応する信号（６８６）を、前記投影対物レンズ（６０５）の所望の結像品質に相応する目標値と比較し、さらに前記比較装置（６８５）は前記作用素子（６７９，６８１，６８３）の制御のための信号（６８９）を送出する、請求項３６記載のマイクロリソグラフィ用装置（６０２）。
【請求項３９】  波面（１１０）によって透過される回折格子（１１１；３１１；４１１９と、該回折格子（１１１；３１１；４１１）に後置接続された局所分解能型検出器（１１９；３１９；４１９）とを有している、波面検出のための装置（１０１；３０１；４０１）において、
前記検出器（１１９；３１９；４１９）が、少なくとも領域毎に回折格子（１１１；３１１；４１１）の方向に湾曲していることを特徴とする装置。
【請求項４０】  波面源（８）によって波面を生成し、
前記波面と、異なる周期性方向でそれぞれ１つの周期的回折構造を有する回折格子（１１）とを用いてインターフェログラムを生成し、
ビーム感応性の検出器によってインターフェログラムの像を撮影する、波面検出のための方法において、
前記波面源（８）または回折格子（１１）を、周期性方向で、相応する格子周期の整数倍分だけシフトさせるようにしたことを特徴とする方法。
【請求項４１】  波面源（８）によって波面を生成し、
前記波面と、異なる周期性方向でそれぞれ１つの周期的回折構造を有する回折格子（１１）とを用いてインターフェログラムを生成する、波面検出のための方法において、
シフトステップにおいて波面源（８）または回折格子（１１）を、相応する格子周期の一部分だけシフトさせ、
結果として生じたインターフェログラムを検出し、
シフトステップを繰返し、
波面検出に対して、個々のシフトステップ中に検出されたインターフェログラムを平均化するようにしたことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
検出器は、テレセントリック光学結像系を含んでいてもよい。それにより、センサ面のサイズにマッチしたインターフェログラムの結像が、ビーム感応性のセンサ面上で可能となる。また有利には前記検出器は少なくとも領域毎に球面状であってもよい。さらに前記検出器は、回折格子とビーム感応性のセンサ面の間に配置された、少なくとも領域毎に湾曲した二次照射面を含んでいてもよい。前記二次照射面は有利には周波数変化され得る。また有利には前記検出器は、回折格子側に多数の光導波路を含み、それらの回折格子側の光導波路端部は、球状キャロット部に配設され得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明による装置は、特にそのコンパクト性と効果的な評価および高精度な特徴に基づいて、マイクロリソグラフィのための投影対物レンズの検査に特に適している。また有利には前記波面検出装置１において、回折格子を支持する回折格子支持体が、二次照射面を有していてもよい。さらに有利には、前記回折格子は、半球状部の平坦な表面領域に設けられ、前記半球状部の球面状の表面領域が二次照射面として構成されていてもよい。有利には前記回折格子側の光導波路端部が、周波数変化させるパテによって半球状部の球面状表面領域に結合される。また有利には、前記回折格子の前方に多数の波面源が配設され得る。その他に前記検出器は各波面源毎に多数の光導波路４６０を含んでいてもよい。また前記検出器は波面源毎に球面状の二次照射面を含んでいてもよい。有利には前記光学系は、マイクロリソグラフィ用の投影対物レンズである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
さらに本発明によれば有利には、前記波面源または回折格子を検出器の画像撮影期間中に相応する格子周期の整数倍分だけシフトさせてもよい。また前記波面源または回折格子の相応する格子周期の整数倍分だけのシフト期間中に、多数のインターフェログラム像を撮影し、それらの多数のインターフェログラム像を波面検出のために利用することも可能である。さらに有利には、前記波面源または回折格子を、異なる周期性方向の指向性の重畳によって定められる方向においてシフトさせてもよい。また前記波面源または回折格子の全シフト量を相応する格子周期以下にしてもよい。これらの本発明の観点は、以下の問題に基づくものである。