【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学−機械研磨組成物であって、：
（ａ）化学的に不活性な、水溶性の塩、
（ｂ）腐食防止剤、
（ｃ）高分子電解質、
（ｄ）錯化剤、
（ｅ）アルコールであって、研磨組成物の総質量を基準として５質量％以上の量で研磨組成物中に存在しているアルコール、及び
（ｆ）水、を含む電気化学−機械研磨組成物。
【請求項２】
化学的に不活性な、水溶性の塩が硫酸カリウムであり、腐食防止剤がベンゾトリアゾールであり、高分子電解質がポリ（アクリル酸）であり、錯化剤が乳酸であり、かつアルコールがプロパノールである、請求項１に記載された研磨組成物。
【請求項３】
化学的に不活性な、水溶性の塩が研磨組成物の総質量を基準として０．５〜４質量％の量で研磨組成物中に存在し、そしてアルコールが研磨組成物の総質量を基準として１５〜２０質量％の量で研磨組成物中に存在する、請求項２に記載された研磨組成物。
【請求項４】
研磨組成物が：
（ａ）塩化物、リン酸化物、硫酸化物、及びこれらの混合物からなる群から選択される、化学的に不活性な、水溶性の塩、
（ｂ）１、２、３−トリアゾール、１、２、４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、及びそれらの混合物からなる群から選択される、腐食防止剤、
（ｃ）アラビアゴム、グアルゴム、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリ（アクリル酸）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−アクリルアミド）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−２、５−フランジオン）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−アクリルアミドメチルプロピルスルホン酸）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−メチルメタクリレート−ｃｏ−４−[（２−メチル−２−プロペニル）オキシ]−ベンゼンスルホン酸−ｃｏ−２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸）、ポリ（アクリルアミド）、ポリ（Ｎ−スルホプロピルアクリルアミド）、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸）、ポリ（ジアリルジメチルアンモニウム塩化物）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレンイミン）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（エチルメタクリレート）、ポリ（ナトリウムメタクリレート）、ポリ（スルホプロピルメタクリレート）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（マレイン酸−ｃｏ−オレフィン）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（アニリンスルホン酸）、ポリ（エテンスルホン酸）、ポリ（スチレンスルホネート）、ポリ（スチレン−ｃｏ−マレイン酸）、ポリ（ナトリウム４−スチレンスルホネート）、ポリ（ビニルスルホネート）、ポリ（ビニルピリジン）、ポリ（ナトリウムビニル硫酸塩）、コハク酸化ポリ−Ｌ−リジン、ポリ[アニリン−ｃｏ−Ｎ−（３−スルホプロピル）アニリン]、ナトリウムアルギン酸塩、キサンタンガム、及びこれらの混合物からなる群から選択される、高分子電解質、
（ｄ）カルボン酸、ジ−カルボン酸、トリ−カルボン酸、ポリカルボン酸及びこれらの混合物からなる群から選択される、錯化剤、
（ｅ）メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びこれらの混合物からなる群から選択されるアルコールであって、研磨組成物の総質量を基準として５質量％以上の量で研磨組成物中に存在しているアルコール、及び
（ｆ）水、を含んでなる請求項１に記載された研磨組成物。
【請求項５】
化学的に不活性な、水溶性の塩が研磨組成物の総質量を基準として０．５〜１０質量％の量で研磨組成物中に存在する、請求項１または４に記載された研磨組成物。
【請求項６】
腐食防止剤がベンゾトリアゾールである、請求項４に記載された研磨組成物。
【請求項７】
高分子電解質がポリ（アクリル酸）である、請求項４に記載された研磨組成物。
【請求項８】
錯化剤が乳酸、酒石酸、クエン酸、マロン酸、フタル酸、コハク酸、グリコール酸、プロピオン酸、酢酸、サリチル酸、ピコリン酸、２−ヒドロキシ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、２−メチル乳酸、これらの塩、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項４に記載された研磨組成物。
【請求項９】
錯化剤が乳酸である、請求項８に記載された研磨組成物。
【請求項１０】
アルコールがプロパノールである、請求項４に記載された研磨組成物。
【請求項１１】
アルコールが研磨組成物の総質量を基準として１５〜２５質量％の量で存在する、請求項４に記載された研磨組成物。
【請求項１２】
研磨組成物が７以下のｐＨを有する、請求項１または４に記載された研磨組成物。
【請求項１３】
一以上の導電性金属層を含む基材を研磨する方法であって、以下の工程：
（ａ）一以上の導電性金属層を含む基材を提供すること、
（ｂ）基材の一部を電気化学−機械研磨組成物に浸し、該研磨組成物が：
（ｉ）化学的に不活性な、水溶性の塩、
（ii）腐食防止剤、
（iii ）高分子電解質、
（iv）錯化剤、
（ｖ）アルコールであって、研磨組成物の総質量を基準として５質量％以上の量で研磨組成物中に存在しているアルコール、及び
（vi）水、を含むこと
（ｃ）基材に陽極電位を適用し、該陽極電位が少なくとも研磨組成物に浸された基材の該部分に適用されていること、そして
（ｄ）基材を研磨するために基材の浸された部分の少なくとも一部を磨り減らすこととを含んでなる方法。
【請求項１４】
導電性金属層が銅を含んでなる、請求項１３に記載された方法。
【請求項１５】
化学的に不活性な、水溶性の塩が硫酸カリウムであり、腐食防止剤がベンゾトリアゾールであり、高分子電解質がポリ（アクリル酸）であり、錯化剤が乳酸であり、かつアルコールがプロパノールである、請求項１４に記載された方法。
【請求項１６】
化学的に不活性な、水溶性の塩が研磨組成物の総質量を基準として０．５〜４質量％の量で研磨組成物中に存在し、そしてアルコールが研磨組成物の総質量を基準として１５〜２０質量％の量で研磨組成物中に存在する、請求項１３に記載された方法。
【請求項１７】
研磨組成物が：
（ｉ）塩化物、リン酸化物、硫酸化物、及びこれらの混合物からなる群から選択される、化学的に不活性な、水溶性の塩、
（ii）１、２、３−トリアゾール、１、２、４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、及びそれらの混合物からなる群から選択される、腐食防止剤、
（iii ）アラビアゴム、グアルゴム、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリ（アクリル酸）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−アクリルアミド）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−２、５−フランジオン）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−アクリルアミドメチルプロピルスルホン酸）、ポリ（アクリル酸−ｃｏ−メチルメタクリレート−ｃｏ−４−[（２−メチル−２−プロペニル）オキシ]−ベンゼンスルホン酸−ｃｏ−２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸）、ポリ（アクリルアミド）、ポリ（Ｎ−スルホプロピルアクリルアミド）、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸）、ポリ（ジアリルジメチルアンモニウム塩化物）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレンイミン）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（エチルメタクリレート）、ポリ（ナトリウムメタクリレート）、ポリ（スルホプロピルメタクリレート）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（マレイン酸−ｃｏ−オレフィン）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（アニリンスルホン酸）、ポリ（エテンスルホン酸）、ポリ（スチレンスルホネート）、ポリ（スチレン−ｃｏ−マレイン酸）、ポリ（ナトリウム４−スチレンスルホネート）、ポリ（ビニルスルホネート）、ポリ（ビニルピリジン）、ポリ（ナトリウムビニル硫酸塩）、コハク酸化ポリ−Ｌ−リジン、ポリ[アニリン−ｃｏ−Ｎ−（３−スルホプロピル）アニリン]、ナトリウムアルギン酸塩、キサンタンガム、及びこれらの混合物からなる群から選択される、高分子電解質、
（iv）カルボン酸、ジ−カルボン酸、トリ−カルボン酸、ポリカルボン酸及びこれらの混合物からなる群から選択される、錯化剤、
（ｖ）メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びこれらの混合物からなる群から選択されるアルコールであって、研磨組成物の総質量を基準として５質量％以上の量で研磨組成物中に存在しているアルコール、及び
（vi）水、を含んでなる請求項１３に記載された方法。
【請求項１８】
導電性金属層が銅を含んでなる、請求項１７に記載された方法。
【請求項１９】
化学的に不活性な、水溶性の塩が研磨組成物の総質量を基準として０．５〜１０質量％の量で研磨組成物中に存在する、請求項１３または１７に記載された方法。
【請求項２０】
腐食防止剤がベンゾトリアゾールである、請求項１７に記載された方法。
【請求項２１】
高分子電解質がポリ（アクリル酸）である、請求項１６に記載された研磨組成物。
【請求項２２】
錯化剤が乳酸、酒石酸、クエン酸、マロン酸、フタル酸、コハク酸、グリコール酸、プロピオン酸、酢酸、サリチル酸、ピコリン酸、２−ヒドロキシ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、２−メチル乳酸、これらの塩、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１７に記載された方法。
【請求項２３】
錯化剤が乳酸である、請求項２２に記載された方法。
【請求項２４】
アルコールがプロパノールである、請求項１７に記載された方法。
【請求項２５】
アルコールが研磨組成物の総質量を基準として１５〜２５質量％の量で研磨組成物中に存在する、請求項１７に記載された方法。
【請求項２６】
研磨組成物が７以下のｐＨを有する、請求項１３または１７に記載された方法。