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【手続補正書】
【提出日】平成19年9月14日(2007.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電話番号から移動局の電話番号を選択する方法であって、
前記移動局がどのゾーンに位置するかを決定する決定ステップを有し、前記ゾーンの各々は対応する電話番号を有しており、さらに、
前記決定されたゾーンに対応する電話番号として、前記移動局の電話番号を設定する設定ステップとを有することを特徴とする方法。
【請求項２】  
前記電話番号の各々は、関連づけられた所定の特徴の組を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ゾーンはホームゾーンを有し、前記ホームゾーンは、前記移動局を使用する加入者の住居を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ゾーンはビジネスゾーンを有し、前記ビジネスゾーンは、前記移動局の加入者がビジネスを行う地域であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  
前記決定ステップは、前記移動局がワイヤレス通信システムのどのセクタと通信しているかを決定することにより、前記移動局がどのゾーンに位置するかを決定することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記決定ステップは、前記移動局のグローバルポジショニングセンサー（ＧＰＳ）からの出力に基づいて、前記移動局がどのセクタに位置するか決定することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
複数の電話番号から移動局の電話番号を選択する方法であって、
前記移動局から番号選択コードを受信する受信ステップを有し、少なくとも２つの電話番号が前記移動局と関連づけられており、さらに、
前記番号選択コードに基づいて、前記関連づけられた電話番号の１つを前記移動局の電話番号として設定する設定ステップとを有することを特徴とする方法。
【請求項８】
前記関連づけられた電話番号の各々は所定の特徴の組を有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記番号選択コードは前記移動局の特定の使用を識別し、そして前記設定ステップは、識別された前記使用に対応する関連づけられた電話番号として、電話番号を設定することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
複数の電話番号から移動局の電話番号を選択する方法であって、
番号選択コードが受信されたかを決定するステップを有し、少なくとも２つの電話番号が前記移動局に関連づけられており、そして前記電話番号の各々は、関連づけられた異なる番号選択コードを有しており、さらに、
前記番号選択コードが受信されたと前記決定ステップが決定した場合には、前記移動局と関連づけられた電話番号と受信した番号選択コードとを移動局の電話番号として設定する第１の設定ステップと、
前記番号選択コードが受信されてないと前記決定ステップが決定した場合には、前記移動局の電話番号としてデフォルトの電話番号を設定する第２の設定ステップとを有することを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記第２設定ステップは、前記番号選択コードが受信されていないと前記決定ステップが決定した場合には、前記移動局の電話番号として所定のデフォルトの電話番号を設定することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２の設定ステップは、
前記移動局がどのゾーンに位置するかを決定するステップを有し、前記ゾーンの各々は対応する電話番号を有しており、さらに、
前記決定されたゾーンに対応する電話番号として、前記移動局の電話番号を設定する第３の設定ステップとを有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
複数の電話番号から移動局の電話番号を選択する方法であって、
発呼中に、使用する電話番号を示すユーザの入力を受信する受信ステップを有し、前記移動局は少なくとも２つの関連する電話番号を有しており、さらに、
前記示された電話番号を前記移動局の電話番号をして確立する情報を送信する送信ステップとを有することを特徴とする方法。
【請求項１４】  
前記受信ステップは、発呼中に使用される電話番号を直接示すユーザ入力を受信することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  
前記受信ステップは、発呼中に電話番号を間接的に示すユーザ入力を受信することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月2日(2007.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）  バースト伝送の信号対干渉比（ＳＩＲ）が目標ＳＩＲから離れていることに基づいてバースト伝送のパワーを調整するステップと、
（Ｂ）  前記バースト伝送の間、目標ＳＩＲを調整するステップと、
（Ｃ）  バースト伝送の干渉レベルが許容範囲外となるような動作ＳＩＲと調整された目標ＳＩＲとを比較するステップと、
（Ｄ）  調整された目標ＳＩＲが許容範囲外の動作ＳＩＲよりも大きいことに基づいて、目標ＳＩＲを低下させるステップと、
（Ｅ）  前記調整された目標ＳＩＲが低下したことに基づいて、バースト伝送を停止するステップと
を有することを特徴とする移動局から基地局へのパースト伝送を終了する方法。
【請求項２】  前記目標ＳＩＲは、基地局により調整される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記目標ＳＩＲは、バースト伝送が所望のフレームエラーレートＦＥＲを達成するよう調整される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】  （Ａ）  移動局から基地局へのバースト伝送の干渉レベルが許容範囲外となるような動作信号対干渉比（ＳＩＲ）を決定するステップと、
（Ｂ）  前記バースト伝送の間目標ＳＩＲを調整するステップと、
（Ｃ）  バースト伝送の干渉レベルが許容範囲外となるような動作ＳＩＲと調整された目標ＳＩＲとを比較するステップと、
（Ｄ）  調整された目標ＳＩＲが許容範囲外の動作ＳＩＲよりも大きいと表す比較結果に基づいて、所定量だけ目標ＳＩＲを低下させるステップと、
（Ｅ）  前記調整された目標ＳＩＲが所定量だけ低下されたことに基づいて、バースト伝送を停止するステップと
を有することを特徴とする移動局から基地局へのパースト伝送を終了する方法。
【請求項５】  前記目標ＳＩＲは、基地局により調整される
ことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】  前記目標ＳＩＲは、バースト伝送が所望のフレームエラーレートＦＥＲを達成するよう調整される
ことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項７】  移動局から基地局へのバースト伝送の干渉レベルが許容範囲外となるような基地局の動作信号対干渉比（ＳＩＲ）を記憶するメモリと、
バースト期間の間、調整された目標ＳＩＲを許容範囲外の動作ＳＩＲと比較し、検出された目標ＳＩＲが決定された許容範囲外の動作ＳＩＲよりも大きいことを示す比較結果に基づいて、バースト伝送を終了させるのに必要な量だけ目標ＳＩＲを低下させるコントローラと、
前記目標ＳＩＲが終了させるのに必要な量だけ低下させたときにバースト伝送を終了させる出力デバイスと
を有することを特徴とするワイヤレス通信システムのパースト伝送を終了させる装置。
【請求項８】  前記コントローラは、バースト伝送が所望のフレームエラーレート（ＦＥＲ）を達成するよう目標ＳＩＲを調整する
ことを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項９】  前記出力デバイスは、移動局に、調整された目標ＳＩＲに基づいて、バースト伝送のパワーを増減させるよう指示するパワー制御ビットを出力する
ことを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項１０】  前記出力デバイスは、移動局に、目標ＳＩＲが終了させるのに必要な量だけ低下されたことに基づいて、バースト伝送のパワーを増減させるよう指示するパワー制御ビットを出力する
ことを特徴とする請求項７記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月20日(2007.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
望ましくない伝達関数ｓｉｎ（ｘ）／ｘを有するディジタル／アナログ（Ｄ／Ａ）変換器に結合され、サンプルのディジタル変調信号を供給する入力部を備えるディジタル変調器を含む回路における装置であって、
所定の周波数帯を有するサンプルのディジタル変調信号源と、
前記ディジタル変調信号源と前記ディジタル変調器の入力部との間に結合され、前記所定の周波数帯に対応する、前記Ｄ／Ａ変換器より供給される信号の周波数の部分を補償する、ｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償回路と、を備え、
前記ｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償回路の伝達関数が前記周波数の部分にわたりほぼ平坦な周波数応答を形成する、前記装置。
【請求項２】
前記ｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償回路が、縦続接続で所定の補償機能を提供する第１と第２の伝達関数を有する縦続接続されたトランスバーサル・フィルタに対応する伝達関数を有する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ディジタル変調器が複素ディジタル変調器であり、前記トランスバーサル・フィルタが、スペクトルの対称を呈するＮタップ実数フィルタとスペクトルの非対称を呈するＭタップ復素フィルタ（ＭとＮは整数）である、請求項２記載の装置。
【請求項４】
望ましくない伝達関数ｓｉｎ（ｘ）／ｘを有するＤ／Ａ変換器に結合され、サンプルのディジタル変調信号を供給する入力を備えるディジタル変調器を含むシステムにおいて、前記望ましくない伝達関数を補償する方法であって、
所定の周波数帯を有する信号を表すデータ・サンプル値のストリームを供給するステップと、
前記データ・サンプル値のストリームを、ｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償するステップと、
補償された前記データ・サンプル値のストリームを前記ディジタル変調器の入力に加えるステップと、を含み、
前記ｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償するステップは、前記所定の周波数帯に対応する、前記Ｄ／Ａ変換器より供給される被変調信号の周波数の部分について、前記周波数帯にわたりほぼ平坦な周波数応答を発生する、前記方法。
【請求項５】
前記ｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償するステップは、縦続接続されたスペクトル的に対称のトランスバーサル・フィルタおよび非対称のトランスバーサル・フィルタ（そのうち少なくとも１つは複素フィルタである）に対応する伝達関数で前記データ・サンプル値のストリームを瀘波するステップを含み、トランスバーサル・フィルタのうち少なくとも１つは複素フィルタである、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記ディジタル変調器の搬送波入力部に結合され、所定の搬送周波数を形成するサンプル値のストリームとして起こり、かつ所定のサンプリング周波数でサンプルされる、ディジタル搬送波源を更に含み、
前記所定のサンプリング周波数に関し、前記所定の搬送周波数は、アナログ信号の中心となる周波数の影像周波数である、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記ディジタル変調器が複素ディジタル変調器であり、
前記サンプルのディジタル変調信号が、前記所定の周波数帯域にわたるデータ・サンプル値から成る、ＤＣを中心とする実数（±Ｒ）と虚数（±Ｉ）の複素サンプルのデータストリームであり、サンプルの±Ｒおよび±Ｉデータストリームが、前記所定のサンプリング周波数で起こり、かつ特定の関数ｘ／ｓｉｎ（ｘ）に従って形状を修正される、請求項６記載の装置。
【請求項８】  前記ディジタルｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償回路が、
前記アナログ信号の周波数帯内で任意の周波数ｆを形成するデータ・サンプル値から成る、ＤＣを中心とする±Ｒおよび±Ｉ複素サンプル・データストリームのうち１つがサンプリング周波数ｆｓで加えられると、それに応答する３‐タップ・フィルタを含み、該フィルタは、
【数１】
2001136214.tif 000001
の形式の周波数応答を有し、
それによって、周波数の関数としてデータ信号の大きさのスロープが、ｆｓの値、前記アナログ信号の前記周波数帯にわたるｆの値、およびｆの値が定められる精度に依存する量だけ線形にプレチルトされ、
それによって、前記プレチルトされたスロープが前記特定の関数ｘ／ｓｉｎ（ｘ）の望ましい形状に近似する、請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記Ｄ／Ａ変換器に入力として加えられたサンプル値の前記ストリームが、１つの記号につき少なくとも４つのサンプル値から成り、その周波数帯域にわたり得られたアナログ信号の一部分が該アナログ信号の中心周波数に関して非平坦な形状を有し、かつ前記ディジタルｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償手段が、縦続接続されたスペクトル的に対称のフィルタおよび非対称のフィルタを含み、前記対称フィルタは第１の周波数特性を有し、前記非対称フィルタは第２の周波数特性を有し、縦続接続で、前記特定の関数ｘ／ｓｉｎ（ｘ）の周波数を発生する、請求項６記載の装置。
【請求項１０】
前記ディジタルｓｉｎ（ｘ）／ｘ補償回路は、それに入力として加えられ前記サンプリング周波数で生じる、１記号につき少なくとも４サンプルの±Ｒおよび±Ｉデータストリームに作用し、
前記対称フィルタが、−Ａ＋Ｂ・ｚ−1−Ａｚ−２の形式のインパルス応答を有する、３タップ実数フィルタから成り、
前記非対称フィルタは、−Ｃ・ｊ＋ｚ−１＋−Ｃ・ｊ・ｚ−２（Ａ、Ｂ、Ｃは定数）の形式のインパルス応答を有する３タップ複素フィルタから成り、
前記アナログ信号は、第１と第２の搬送波をそれぞれ中心とする第１と第２チャンネルのテレビジョン信号のうち１つを構成し、そのチャンネル帯域幅にわたりほぼ平坦な大きさを有する、請求項９記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄ベルト（３９）を用いてインクジェットプリンタ（３）の印刷ヘッド（４）を洗浄する方法において、
吸引装置（３１）によって前記印刷ヘッド（４）から印刷インキ（４０）を吸引除去し、前記洗浄ベルト（３９）によって前記印刷ヘッド（４）を拭き取り、またはこすることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記吸引装置（３１）によって前記印刷ヘッド（４）から印刷インキ（４０）を吸引除去し、同時に、前記洗浄ベルト（３９）によって前記印刷ヘッド（４）を拭き取り、またはこする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
洗浄ベルト（３９）を用いてインクジェットプリンタ（３）の印刷ヘッド（４）を洗浄する、特に請求項１または２記載の方法において、吸引装置（３１）によって印刷インキ（４０）を前記印刷ヘッド（４）から前記洗浄ベルト（３９）に吸引することを特徴とする方法。
【請求項４】
前記吸引装置（３１）によって印刷インキ（４０）を前記印刷ヘッド（４）の少なくとも１つのノズル（８）の内部から吸い出す、請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
洗浄ベルト（３９）と吸引装置（３１）で構成されており、特に請求項１から４のいずれか１項記載の方法を実施する、インクジェットプリンタ（３）の印刷ヘッド（４）を洗浄する装置において、
前記洗浄ベルト（３９）が前記印刷ヘッド（４）と前記吸引装置（３１）との間に配置されていることを特徴とする装置。
【請求項６】
前記洗浄ベルト（３９）が前記印刷ヘッド（４）にも前記吸引装置（３１）にも当接する、請求項５記載の装置。
【請求項７】
前記洗浄ベルト（３９）が空気を通過させる材料でできている、請求項５または６記載の装置。
【請求項８】
前記洗浄ベルト（３９）が吸収性のある材料でできている、請求項５から７のいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
請求項５から８のいずれか１項に基づいて構成された装置を備えているインクジェットプリンタ。
【請求項１０】
印刷モジュール（４８）と洗浄モジュール（１２）で構成されており、これらのモジュール（１２，４８）は、前記洗浄モジュール（１２）が必要に応じて前記印刷モジュール（４８）と組み合わせ可能であるように、互換性があるように構成されている、特に請求項９記載のインクジェットプリンタ。
【請求項１１】
請求項９または１０に従って構成されたインクジェットプリンタ（３）が一体化されている、またはインライン運転のために請求項９または１０に従って構成されたインクジェットプリンタと連結可能である、オフセット印刷機および／または輪転印刷機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月11日(2007.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
粉砕した石膏とファイバ補強材のホスト粒子と十分量の流体とを混合して流体が少なくとも７０重量％を含む希釈スラリを形成する工程と、希釈スラリを加圧下で加熱し、ホスト粒子の存在下で石膏を焼成して針状の硫酸カルシウム半水物結晶を形成する工程と、表面に希釈スラリを堆積してスラリの池を作る工程と、スラリ池に対し流体噴霧を配向してエネルギをスラリ池の表面に与える工程と、スラリ池を脱水してフィルタケーキを形成する工程と、フィルタケーキを加圧してボードを形成し、ボードから更に水を除去する工程と、ボードを乾燥して残りの自由水を除去する工程とを包有する平滑な表面を有する石膏ファイバボードパネルの製造方法。
【請求項２】 
スラリ池上に湿潤ラインを形成し、スラリ池の表面に対し湿潤ライン近傍で流体噴霧を配向する工程を包有する請求項１記載の製造方法。
【請求項３】 
流体噴霧によりエネルギがスラリ池に対しその表面からスラリ池の深さの約１／１０までの部位に与えられてなる請求項２記載の製造方法。
【請求項４】 
スラリ池の表面での針状の結晶とセルロース系ファイバが混合された凝集塊はその最大寸法が実質的に６ｍｍ（１／４インチ）程度までになるまで分解されてなる請求項２記載の製造方法。
【請求項５】 
スラリ池の表面からスラリ池の深さの１／１０での部位の針状の結晶とセルロース系ファイバが混合された凝集塊はその最大寸法が約６ｍｍ（１／４インチ）より小さくされてなる請求項３記載の製造方法。
【請求項６】
流体が水である請求項１記載の製造方法。
【請求項７】 
流体噴霧を配向する工程はスラリ池の表面に対し実質的に垂直方向に流体噴霧を向ける工程を包有してなる請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
流体が空気である請求項１記載の製造方法。
【請求項９】 
空気流を向ける工程はスラリ池の表面に対し約最大１０度の角度で空気流を向ける工程を包有してなる請求項８記載の製造方法。
【請求項１０】 
粉砕した石膏とファイバ補強材のホスト粒子と十分量の流体とを混合して流体が少なくとも７０重量％を含む希釈スラリを形成する工程と、希釈スラリを加圧下で加熱し、ホスト粒子の存在下で石膏を焼成して硫酸カルシウム半水物結晶を形成する工程と、表面に硫酸カルシウム半水物及びホスト粒子を堆積してスラリの池を作る工程と、湿潤ラインをスラリの上に形成する工程と、スラリ池に向け流体噴霧を配向する工程と、主部分の流体をスラリ池から除去しファイバボードを形成する工程と、石膏を再水和処理する工程と、フィルタケーキを加圧してボードを形成する工程と、ボードを乾燥する工程とを包有する平滑な表面を有する石膏ファイバボードパネルの製造方法。
【請求項１１】 
セルロース系ファイバと混合された針状の石膏結晶の複合材料からなる石膏ファイバボードから作られ、石膏結晶の最大寸法がパネルの厚さの最大１／１０の表面領域で実質的に６ｍｍより小さくされてなる、平滑な表面を有するパネル。
【請求項１２】 
流体流を供給する流体供給源と、流体流を入力する分配マニホルドと、分配マニホルドと連結され進行する湿潤ラインを有した移動中のスラリ池の表面上に流体流を再配向する複数のノズルとを備えるスラリ状態の間に硬化可能な複合材料の表面を平滑にする流体噴霧装置。
【請求項１３】 
流体供給源が水圧ポンプである請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項１４】
流体供給源が送風機である請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項１５】 
ノズルがスラリ池の表面平面に対し実質的に垂直に向けられるよう配置された請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項１６】 
流体流がスラリ池の深さの最大約１／１０の部位までエネルギを与える十分な圧力にされる請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項１７】 
ノズルは平担な扇形の噴霧パターンを与え、スラリ池の表面が、平面に対し実質的に垂直に向けられるように配置される請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項１８】 
スラリ池の表面の平面に対し約１０度以下の角度でノズルから流体が向けられる請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項１９】 
流体が水であり、水は実質的に０．０１７３ｇａｌ／ｆｔ２〜０．０３３０ｇａｌ／ｆｔ２でスラリ池の表面へ供給される請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項２０】
流体が水であり、ノズルでの水圧が１０〜５０ｐｓｉの範囲内にある請求項１２記載の流体噴霧装置。
【請求項２１】 
スラリ材料を与える工程と、スラリ材料を表面に置きスラリ池を形成する工程と、スラリ池の表面に対し流体噴霧を向ける工程と、スラリ池内に存在する大部分の水を除去しフィルタケーキを形成する工程と、フィルタケーキを加圧してパネルにする工程とを包有してなる平滑な表面を有するファイバボードパネルの製造方法。
【請求項２２】 
流体噴霧がスラリ池の表面に対し実質的に垂直に向けられる請求項２１記載の製造方法。
【請求項２３】 
スラリ池の表面に向けられた流体噴霧によりエネルギがスラリ池の深さの数分の一に与えられる請求項２２記載の製造方法。
【請求項２４】 
スラリ池の表面に向けられた流体噴霧によりエネルギがスラリ池の深さの最大約１／１０の深さに対し与えられる請求項２３記載の製造方法。
【請求項２５】 
スラリ池の数分の一の深さに与えられるエネルギにより、その深さ内に存在する凝集塊がその最大寸法で実質的に６ｍｍ（１／４インチ）より小さく分解される請求項２３記載の製造方法。
【請求項２６】 
面上に置かれるスラリ材料の流体湿潤ラインの位置を決定する工程を包有する請求項２１記載の製造方法。
【請求項２７】 
配向工程には全体として流体湿潤ラインを横断して流体噴霧を配向する工程が含まれる請求項２６記載の製造方法。
【請求項２８】 
流体噴霧装置を調整し、次に流体噴霧を配向する工程と、流体噴霧装置を位置決めして流体噴霧を全体として流体湿潤ラインを横断して与える工程とを包有する請求項２７記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧されるように構成された容器（１４）と、
前記容器（１４）内に配置された燃料電池（１２）と、
前記容器（１４）と前記燃料電池（１２）との間に配置され、前記容器（１４）から離間された位置にあって、前記容器（１４）との間に冷却流体を通すための流路（４４）を形成する熱シールド（１６）とを具備する燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項２】
前記燃料電池（１２）は固体酸化物燃料電池、陽子交換膜燃料電池、溶融炭酸塩燃料電池、リン酸燃料電池、アルカリ燃料電池、ダイレクトメタノール燃料電池、再生燃料電池、亜鉛空気燃料電池及びプロトニックセラミック燃料電池より成る群から選択される請求項１記載の燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項３】
加圧されるように構成された容器（１４）と、
前記容器（１４）内に配置された燃料電池（１２）と、
前記燃料電池の周囲をほぼ包囲し、前記容器（１４）と前記燃料電池（１２）との間に配置され、前記容器（１４）から離間された位置にあって、前記容器（１４）との間に冷却流体を通すための流路（４４）を形成する金属シールド（１６）とを具備する燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項４】
前記金属シールド（１６）は、前記金属シールド（１６）の内面（５４）に断熱層（６２）を規定するように構成されている請求項３記載の燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項５】
加圧されるように構成された容器（１４）と、
前記容器（１４）内に配置された燃料電池（１２）と、
前記燃料電池の周囲をほぼ包囲し、前記容器（１４）と前記燃料電池（１２）との間に配置され、前記容器（１４）から離間された位置にあって、前記容器（１４）との間に冷却流体を通すための流路（４４）を形成するシールド（１６）とを具備する燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項６】
前記燃料電池（１２）の周囲をほぼ包囲する前記シールド（１６）は、前記燃料電池（１２）の周囲でほぼ一様な熱遮蔽を行うために前記容器（１４）の内周面（５８）をほぼ包囲するように構成されている請求項５記載の燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項７】
加圧されるように構成された容器（１４）と、
前記容器（１４）内に配置された燃料電池（１２）と、
前記燃料電池（１２）の周囲でほぼ一様な熱遮蔽を行うために前記容器（１４）の内周面（５８）をほぼ包囲し、前記容器（１４）と前記燃料電池（１２）との間に配置され、前記容器（１４）から離間された位置にあって、前記容器（１４）との間に冷却流体を通すための流路（４４）を形成するシールド（１６）とを具備する燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項８】
前記シールド（１６）は熱伝導材料から形成されている請求項７記載の燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項９】
加圧されるように構成された容器（１４）と、
前記容器（１４）内に配置された燃料電池（１２）と、
前記燃料電池の周囲をほぼ包囲し、前記容器（１４）と前記燃料電池（１２）との間に配置され、前記容器（１４）から離間された位置にあって、前記容器（１４）との間に冷却流体を通すための流路（４４）を形成する熱伝導シールド（１６）とを具備する燃料電池アセンブリ（１０）。
【請求項１０】
前記熱伝導シールド（１６）は、金属材料を含む請求項９に記載の燃料電池アセンブリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
既存のいくつかの燃料電池構造は、容器の一部の内部に、通常は容器壁と一体である断熱材を利用している。他の構造は容器壁自体の中に冷却通路を形成している。しかし、そのような一体型冷却通路を使用する従来の燃料電池は一般に容器全体を通して等温条件を維持することができず、容器壁の加熱を低減しない。更に、燃料電池により発生された廃熱流束を燃料電池アセンブリの外に排除するため、燃料電池アセンブリの熱性能が低下するという結果を招くこともある。同様に、既存の構成で使用されている型の区画又は流路は実際には容器壁に沿って相当に大きな熱勾配を発生させ、その結果、回避すべき種類の加熱差が生じてしまう。
【特許文献１】米国特許 ５７５０２７８号明細書
【特許文献２】米国特許 ５９５２１１６号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第 ２００３／００５４２１５号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００４／００２３０８９号
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月21日(2006.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図３は、本発明に係わる基板上のアラインメントマークを覆う物質を取り除くシステム３００の一つの実施の形態を図示している。図３に示す実施の形態は、荷電粒子ビームシステム３０９とホストコンピュータ３４２と表示装置３４４と（たとえば、キーボードやマウスのような）オペレータインタフェース３４６と、メモリ３４３とホストインタフェース３４０からなる。いくつかの実施の形態においては、ホストコンピュータ３０１の機能の一部又は全部を一又はそれ以上の組み込み式のコンピュータに置き換えることもできる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図４は、本発明の好適な実施の形態である基板上のアラインメントマークを覆う物質を取り除く方法の各工程を示すフローチャートである。任意の工程４０１において、アラインメントマークが既に金属化層によって覆われている半導体ウェハのようなワークピースが多くのウェハ（たとえば２５枚）を内蔵するカセットから取り出される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004179165.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線通信機器における通信方法及び無線通信機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  他の無線通信機器を検出し、この検出の結果に基づいて、通信相手の無線通信機器と通信する無線通信機器における通信方法であって、
通信相手の無線通信機器の識別情報を予め登録する登録工程と、
上記登録工程において登録されている識別情報を、無線通信制御を行うプログラムに与える工程と、
上記識別情報が上記プログラムに与えられると、上記プログラムを起動し、上記識別情報に基づいて、上記通信相手との通信路を確立する工程と、
を有することを特徴とする無線通信機器における通信方法。
【請求項２】 上記登録工程は、上記識別情報をファイルとして保存し、
上記プログラムは、
通信圏内に存在している無線通信機器を検索する工程と、
上記検索による検索結果と、上記ファイルとして保存されている識別情報とを比較する比較工程と、
上記比較による上記比較の結果が一致した場合に、上記通信相手との通信路の確立動作を行い、上記比較による上記比較の結果が不一致であった場合は、通信路の確立動作を中断することを特徴とする請求項１に記載の無線通信機器における通信方法。
【請求項３】 上記登録工程は、通信相手の無線通信機器の識別情報と共に上記通信相手の機能情報も登録することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の無線通信機器における通信方法。
【請求項４】 上記無線通信機器の表示画面に表示された、上記通信相手に対応するアイコンと、上記無線通信制御を行うプログラムに対応するアイコンとが、ユーザの操作により指示されると、上記登録工程において登録されている識別情報を上記プログラムに与える工程は行われることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の無線通信機器における通信方法。
【請求項５】 上記無線通信機器の表示画面に表示された、上記通信相手に対応するアイコンと、上記通信相手に処理させる情報が含まれるファイルに対するアイコンとが、ユーザの操作により指示されると、上記登録工程において登録されている識別情報を上記プログラムに与える工程は行われることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の無線通信機器における通信方法。
【請求項６】 他の無線通信機器を検出し、この検出の結果に基づいて、通信相手の無線プリンタと通信する無線通信機器における通信方法であって、
印刷制御プログラムの起動に連動して無線通信のための通信プログラムを起動する起動工程と、
上記起動工程において起動された上記通信プログラムの動作により検出された通信相手の無線プリンタと無線通信し、印刷処理を実行する印刷工程と、
を有することを特徴とする無線通信機器における通信方法。
【請求項７】 上記無線プリンタを利用するためのドライバのインストールの際に、上記無線プリンタを検索する検索工程と、
上記検索工程における検索の結果に応じて、上記無線プリンタを登録する登録工程と、
を有することを特徴とする請求項６に記載の無線通信機器における通信方法。
【請求項８】 他の無線通信機器を検出し、この検出の結果に基づいて、通信相手の無線通信機器と通信する無線通信機器であって、
通信相手の無線通信機器の識別情報を予め登録する登録手段と、
上記登録手段により登録されている識別情報を、無線通信制御を行うプログラムに与える手段と、
上記識別情報が上記プログラムに与えられると、上記プログラムを起動し、上記識別情報に基づいて、上記通信相手との通信路を確立する手段と、
を有することを特徴とする無線通信機器。
【請求項９】 他の無線通信機器を検出し、この検出の結果に基づいて、通信相手の無線プリンタと通信する無線通信機器であって、
印刷制御プログラムの起動に連動して無線通信のための通信プログラムを起動する起動手段と、
上記起動手段により起動された上記通信プログラムの動作により検出された通信相手の無線プリンタを無線通信し、印刷処理を実行するための印刷手段と、
を有することを特徴とする無線通信機器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、他の無線通信機器を検出し、この検出の結果に基づいて、通信相手の無線通信機器と通信する無線通信機器における通信方法であって、通信相手の無線通信機器の識別情報を予め登録する登録工程と、上記登録工程において登録されている識別情報を、無線通信制御を行うプログラムに与える工程と、上記識別情報が上記プログラムに与えられると、上記プログラムを起動し、上記識別情報に基づいて、上記通信相手との通信路を確立する工程とを有することを特徴とする無線通信機器における通信方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月28日(2007.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一部にイオンビームアシスト法を用いることで基板上に中間膜を形成し、前記中間膜上に下部電極を形成し、前記下部電極上に圧電体膜を形成し、前記圧電体膜上に上部電極を形成する、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記中間膜のうち下部電極側の部分の形成に、イオンビームアシスト法を用いる、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項３】
請求項１において、基板上に、イオンビームアシスト法で中間膜第１層を形成し、前記第１層上に中間膜第２層を形成することで前記中間膜を形成する、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項４】
請求項３において、前記中間膜の第１層上にエピタキシャル成長によって前記第２層が形成される、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４の何れか一項において、前記中間膜は、振動板として機能する、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４の何れか一項において、前記中間膜は、バッファ層として機能する、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６の何れか一項において、前記中間膜上に前記下部電極がエピタキシャル成長によって形成され、前記下部電極上に前記圧電体膜がエピタキシャル成長によって形成される、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７の何れか一項において、前記圧電体膜は、
Ｐｂ（Ｍ1/3Ｎ2/3）Ｏ3（Ｍ＝Ｍｇ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎ＝Ｎｂ、Ｔａ）、Ｐｂ（Ｍ1/2Ｎ1/2）Ｏ3（Ｍ＝Ｓｃ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｙｂ、Ｈｏ、Ｌｕ、Ｎ＝Ｎｂ、Ｔａ）、Ｐｂ（Ｍ1/2Ｎ1/2）Ｏ3（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎ＝Ｗ、Ｒｅ）、Ｐｂ（Ｍ2/3Ｎ1/3）Ｏ3（Ｍ＝Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎ＝Ｗ、Ｒｅ）、のいずれかあるいは混相からなるリラクサ材料ＰＭＮと、
Ｐｂ（ＺｒxＴｉ1-x）Ｏ3（ＰＺＴ、０．０≦ｘ≦１．０）との固溶体ＰＭＮy−ＰＺＴ1-yを含み、かつ
立方晶（１００）、正方晶（００１）、菱面体晶（１００）、擬立方晶（１００）、のいずれかの方向で配向していることを特徴とする圧電体デバイスの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８の何れか一項において、前記下部電極は、Ｍ2ＲｕＯ4（Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、ＲＥ2ＮｉＯ4（ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ）、ＲＥＢａ2Ｃｕ3Ｏx（ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ）、ＭＲｕＯ3（Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、（ＲＥ、Ｍ）ＣｒＯ3（ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、（ＲＥ、Ｍ）ＭｎＯ3（ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、（ＲＥ、Ｍ）ＣｏＯ3（ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、ＲＥＮｉＯ3（ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ）、のいずれかあるいは固溶体を含み、かつ立方晶（１００）、正方晶（００１）、菱面体晶（１００）、擬立方晶（１００）、のいずれかの方向で配向していることを特徴とする圧電体デバイスの製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９の何れか一項において、前記中間膜のうち前記イオンビームアシスト法を用いて形成される部分は、フルオライト構造化合物によって形成される、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９の何れか一項において、前記中間膜のうち前記イオンビームアシスト法を用いて形成される部分は、ＮａＣｌ構造化合物によって形成される、圧電体デバイスの製造方法。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項９の何れか一項において、前記中間膜のうち前記イオンビームアシスト法を用いて形成される部分は、
フルオライト構造のＲＥx（Ｚｒ1-yＣｅy）1-xＯ2-0.5x（０．０≦ｘ≦１．０、０．０≦ｙ≦１．０、ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ）のいずれかあるいは固溶体、または、
パイロクロア構造のＲＥ2（Ｚｒ1-yＣｅy）2Ｏ7（０．０≦ｙ≦１．０、ＲＥ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ）のいずれかあるいは固溶体、のいずれかを含み、かつ立方晶（１００）配向していることを特徴とする圧電体デバイスの製造方法。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２の何れか一項に記載の製造方法により圧電体デバイスを形成する工程と、
前記圧電体デバイスの前記圧電体膜の変形によって内容積が変化するキャビティを、前記圧電体デバイスの前記基板に形成する工程と、
を備えた液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造方法により形成された液体吐出ヘッドを用いることを特徴とする、液体吐出装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】圧電体デバイスの製造方法、及び液体吐出ヘッドの製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月21日(2006.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
あるバンドギャップ・エネルギ及び屈折率を有する第１の半導体材料からなる量子井戸層と、
該量子井戸層を挟み、前記第１の半導体材料より大きいバンドギャップ・エネルギ及び小さい屈折率を有する第２の半導体材料からなるバリヤ層と、
前記１つ以上の量子井戸層の前記第１の半導体材料と前記バリヤ層の前記第２の半導体材料との間の、Ｖ族副格子上における空間的に選択性のある原子の相互混合により形成される第３の半導体材料から形成される領域であって、該第３の半導体材料が、前記第１の半導体材料のバンドギャップ・エネルギ及び屈折率と、前記第２の半導体材料のバンドギャップ・エネルギ及び屈折率との中間のバンドギャップ・エネルギ及び屈折率をそれぞれ有するものである、第３の半導体材料から形成される領域と
を含んでなるＩＩＩ−Ｖ族半導体素子。
【請求項２】
前記混合を促進するアクセプタ不純物が、前記第３の半導体材料にドープされている請求項１に記載の半導体素子。
【請求項３】
前記半導体素子が埋め込みヘテロ構造導波路レーザの一部を構成しており、
前記領域が第１の領域であり、
前記埋め込みヘテロ構造導波路レーザが、
前記量子井戸層の前記第１の半導体材料と前記バリヤ層の前記第２の半導体材料との間に、Ｖ族副格子上の原子の空間的に選択性のある混合により形成される、前記第３の半導体材料からなる第２の領域であって、前記第１の領域とこの第２の領域とによってその間に導波路を規定する側方閉じ込め構造を構成するものである、第２の領域と、
該導波路がその間に置かれている、ＡｌＧａＡｓを含む複数のクラッディング層と
を含む請求項１に記載の半導体素子。
【請求項４】
前記第３の半導体材料が、前記量子井戸層の前記第１の半導体材料と前記バリヤ層の前記第２の半導体材料との間の、ＩＩＩ族副格子上の空間的に選択性のある原子の相互混合によりさらに形成される請求項１に記載の半導体素子。
【請求項５】
前記半導体素子は、前記第１の半導体材料からなる追加の量子井戸層と、前記第２の半導体材料からなるそれぞれの追加の第２のバリヤ層とをさらに含み、
前記第３の半導体材料は、前記量子井戸層の前記第１の半導体材料と前記バリヤ層に隣接するある層の前記第２の半導体材料との間に、Ｖ族副格子上の原子の空間的に選択性のある混合により形成されている請求項１に記載の半導体素子。
【請求項６】
前記半導体素子が、共通導波路を共用する分布フィードバック・レーザ及び電子吸収変調器の一部を構成することと、
前記１つ以上の量子井戸層及び障壁層が、前記分布フィードバック・レーザの活性層の少なくとも一部を構成することと、
前記第３の半導体材料の前記領域が、前記電子吸収変調器の制御領域を構成することと  を含む請求項１に記載の半導体素子。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月24日(2006.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の部材と第二の部材との間に封止を形成するための方法であって、
前記第一の部材と前記第二の部材との間にはんだ部材を配置するステップと、
前記第一及び第二の部材を係合関係に配置することにより前記部材間に画定された容量を作るステップと、
前記容量の外側の周囲圧力と前記容量内に圧力装置で形成された圧力との間に差圧を設けるステップであり、前記差圧を設けるステップが、前記第一の部材と前記第二の部材のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの開口を通じて前記容量内の領域を脱気するステップであること
を有する方法。       
【請求項２】
第一の部材と第二の部材との間に封止を形成するための方法であって、
前記第一の部材と前記第二の部材との間にはんだ部材を配置するステップと、
前記第一及び第二の部材を係合関係に配置することにより前記部材間に画定された容量を作るステップであり、前記封止部材を配置するステップが、前記第一の部材と前記第二の部材のうちの少なくとも一方に機械的アライメント手段を適用するステップであることと
前記容量の外側の周囲圧力と前記容量内に圧力装置で形成された圧力との間に差圧を設けるステップと、
前記差圧を維持しつつ、前記機械的アライメント手段を除去するステップと、
前記差圧を除去するステップと
を有する方法。
【請求項３】
前記配置のステップが、
前記第一の部材の平坦な面を、前記はんだ部材の第一の面に向き合って配置し、
前記第二の部材の平坦な面を、前記はんだ部材の第二の面に向き合って配置するステップであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第一の部材と第二の部材との間に封止を形成するための方法であって、
前記第一の部材と前記第二の部材との間にはんだ部材を配置するステップと、
前記第一及び第二の部材を係合関係に配置することにより前記部材間に画定された容量を作るステップと、
前記容量の外側の周囲圧力と前記容量内に圧力装置で形成された圧力との間に、８２ｋPaから９３kＰaまでの範囲で差圧を設けるステップと、
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
この例は、アンダーフィル剤が撮像素子の受光部に向かって流れた場合には、流れ込みを防止することができず、レンズ，鏡筒，ホルダを含めたレンズユニットはそのときどきに要求される仕様ごとに専用に設計しなければならず開発効率が悪いという問題が考えられる。さらに、レンズユニット６２はメタルプレート６４に接着搭載される構成であるため、光学フィルタ７０，レンズ７１の位置決めについて精度を求める作業が必要となり、加えてレンズの高さが大きくなることが考えられる。
上記各問題を解決するために本件発明者は小形モジュールカメラ（特許文献１）を提案している。
なお、反射板を用いたレンズ系として特許文献２乃至４がある。また、携帯電話に使用される小型モジュールカメラとして、特許文献５がある。
【特許文献１】特願２００２−１８８９４２号
【特許文献２】特開平８−１２２６４１号公報
【特許文献３】特開平１０−２８８７３７号公報
【特許文献４】特開２００１−１３４１２号公報
【特許文献５】特開２００２−３３０３１９公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
図７は、上記提案した特許文献１のカメラモジュールの構成を示す断面図で、撮像素子部分およびレンズ部に改良を施しカメラモジュール全体の小形化を図ったものである。
受光部８３が形成された撮像素子８２はセラミック基板８６の下面に光学系収容部８７に対面するようにバンプ８４で電気接続され、その上にアンダーフィル剤８５が塗布されている。
光学系収容部８７の下端に設けた突起８６ａにＩＲカットフィルタ８８が搭載され、この突起８６ａによりアンダフィル剤８６の受光部への流れ込みを防止している。レンズ８１の外周にはネジ８１ａが形成されており、このレンズ８１をセラミック基板８６の光学系収容部８７の内壁に設けられたネジ８６ｂに螺合することにより、セラミック基板８６に取り付けるとともに焦点調整を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、第２基板と、発光素子と、シール材と、を有し、
前記シール材は、前記第１基板と前記第２基板との間、かつ、前記発光素子の周りに配置されており、
前記第１基板のシール材の外側に複数の開口部を備えていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記発光素子を露呈させる開口窓を有する筐体を備え、
前記筐体と前記第１基板とは、前記開口窓と前記開口部において固定されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記固定は、前記開口窓と前記開口部に差し込まれた固定部材を有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記開口部は、切り欠きであることを特徴とする画像表示装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記開口部は、孔であることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月25日(2007.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像剤を担持し、静電潜像を担持する静電潜像担持体に該現像剤を搬送するための現像剤担持体であって、
現像剤担持体に担持される現像剤の量は現像剤層厚規制部材により規制され、
前記現像剤担持体は静電潜像が担持された静電潜像担持体に対向して配置され、静電潜像担持体との対向部の現像領域へ現像剤を担持搬送し、この現像剤により静電潜像担持体上の静電潜像を現像して可視化するための現像方法に用いられ、
前記現像剤担持体の表面に、少なくとも、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子が、静電的に付着していることを特徴とする現像剤担持体。
【請求項２】
前記現像剤担持体は、少なくとも基体と、該基体の表面に形成された被覆層とを有し、更に該被覆層の表面に、前記導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子が、静電的に付着していることを特徴とする請求項１記載の現像剤担持体。
【請求項３】
前記被覆層が導電性を有することを特徴とする請求項２記載の現像剤担持体。
【請求項４】
前記被覆層がメッキ層又は導電性粉末を含有する樹脂被覆層であることを特徴とする請求項２又は３記載の現像剤担持体。
【請求項５】
（１）静電潜像を担持する静電潜像担持体に対向して配置された現像剤担持体上に現像剤を担持させる工程と、
（２）現像剤層厚規制部材によって現像剤担持体上の現像剤の量を規制し、現像剤担持体と静電潜像担持体の対向部の現像領域へ現像剤担持体から現像剤を担持搬送し、この現像剤により静電潜像担持体上の静電潜像を現像して可視化する工程とを有する現像方法であって、
前記工程（１）は、現像剤担持体の、現像剤が存在しない表面に、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子を静電的に付着させ、その後、該現像剤担持体上に現像剤を担持させる工程を含むことを特徴とする現像方法。
【請求項６】
前記現像剤担持体は、少なくとも基体と、該基体の表面に形成された被覆層とを有し、前記工程（１）は、該被覆層の表面に、前記導電性を有する微粒子が付着又は固着された
粒子を静電的に付着させ、その後、該現像剤担持体上に現像剤を担持させる工程を含むことを特徴とする請求項５記載の現像方法。
【請求項７】
前記被覆層が導電性を有することを特徴とする請求項６記載の現像方法。
【請求項８】
前記被覆層がメッキ層又は導電性粉末を含有する樹脂被覆層であることを特徴とする請求項６又は７記載の現像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明者らは、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子を現像剤担持体の表面に静電的に付着させることにより、特に画出し初期に発生しやすい現像剤のチャージアップに起因する画像不良の発生を防止し、初期から良好な画像を形成することを見出し、本発明を完成させた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（Ｉ）現像剤を担持し、静電潜像を担持する静電潜像担持体に該現像剤を搬送するための現像剤担持体であって、
現像剤担持体に担持される現像剤の量は現像剤層厚規制部材により規制され、
前記現像剤担持体は静電潜像が担持された静電潜像担持体に対向して配置され、静電潜像担持体との対向部の現像領域へ現像剤を担持搬送し、この現像剤により静電潜像担持体上の静電潜像を現像して可視化するための現像方法に用いられ、
前記現像剤担持体の表面に、少なくとも、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子が、静電的に付着していることを特徴とする現像剤担持体。
（ＩＩ）前記現像剤担持体は、少なくとも基体と、該基体の表面に形成された被覆層とを有し、更に該被覆層の表面に、前記導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子が、静電的に付着していることを特徴とする（Ｉ）の現像剤担持体。
（ＩＩＩ）前記被覆層が導電性を有することを特徴とする（ＩＩ）の現像剤担持体。
（ＩＶ）前記被覆層がメッキ層又は導電性粉末を含有する樹脂被覆層であることを特徴とする（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の現像剤担持体。
（Ｖ）（１）静電潜像を担持する静電潜像担持体に対向して配置された現像剤担持体上に現像剤を担持させる工程と、
（２）現像剤層厚規制部材によって現像剤担持体上の現像剤の量を規制し、現像剤担持体と静電潜像担持体の対向部の現像領域へ現像剤担持体から現像剤を担持搬送し、この現像剤により静電潜像担持体上の静電潜像を現像して可視化する工程とを有する現像方法であって、
前記工程（１）は、現像剤担持体の、現像剤が存在しない表面に、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子を静電的に付着させ、その後、該現像剤担持体上に現像剤を担持させる工程を含むことを特徴とする現像方法。
（ＶＩ）前記現像剤担持体は、少なくとも基体と、該基体の表面に形成された被覆層とを有し、前記工程（１）は、該被覆層の表面に、前記導電性を有する微粒子が付着又は固着
された粒子を静電的に付着させ、その後、該現像剤担持体上に現像剤を担持させる工程を含むことを特徴とする（Ｖ）の現像方法。
（ＶＩＩ）前記被覆層が導電性を有することを特徴とする（ＶＩ）の現像方法。
（ＶＩＩＩ）前記被覆層がメッキ層又は導電性粉末を含有する樹脂被覆層であることを特徴とする（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）の現像方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明によれば、少なくとも、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子を現像剤担持体の表面に静電的に付着させることにより、画出し初期において、現像剤の帯電量の不均一化、チャージアップを起因とする画像濃度低下、画像濃度ムラ、及びスリーブゴースト等の画像不良の発生を抑制することができ、種々の環境下において初期から長期にわたって良好な画像形成を行うことが可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明者らは鋭意検討を行った結果、導電性を有する微粒子が付着又は固着された粒子を表面に静電的に付着している現像剤担持体を使用することによって、上述した課題を解決できることを見出した。背景技術において述べたように、潤滑剤として塗布される粒子は、絶縁性である場合、潤滑剤自身も現像スリーブや現像ブレード等により摩擦帯電を付与されやすく、トナーの帯電に影響を及ぼす場合がある。本発明において現像剤担持体の表面に静電的に付着されている粒子は、その粒子表面に導電性の微粒子を付着又は固着させているため、粒子自身が現像剤に対して帯電付与性を有しつつも導電性を有している。このため現像剤への過剰な帯電付与を防止することができ、現像剤の帯電量が均一且つ適切な値になることで、現像剤のチャージアップ及び帯電ムラを軽減できる。更に、粒子自身のチャージアップも抑制することができるので、粒子が凝集したり現像剤担持体表面に強固に付着したりすることも防止できる。よって、現像剤のチャージアップや帯電ムラ等を起因とした画像濃度低下・画像濃度ムラ・ブロッチ・スリーブゴースト等の画像不良の発生を防止することが可能となったのである。