Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月11日(2007.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】
回転磁界を発生する磁界発生部と、
前記磁界発生部が発生した回転磁界を受け、回転して推力を得るロボット本体と、
前記ロボット本体の位置を検出する位置検出部と、
前記位置検出部が検出した前記ロボット本体の位置に基づき、前記ロボット本体を目的地へ到達させる方向へ向けるべく前記磁界発生部による回転磁界の向きを変更する磁界変向手段と、
からなることを特徴とする移動可能なマイクロマシンの移動制御システム。
【請求項２】
前記位置検出部が検出したロボット本体の位置と、ロボット本体を到達させたい目的位置との情報に基づいて、ロボット本体が進行する最適条件での方向を割出し、前記磁界変向手段による回転磁界の向きの変更を制御する制御部を有してなる請求項１に記載の移動可能なマイクロマシンの移動制御システム。
【請求項３】
回転磁界を発生させる磁界発生部と、前記磁界発生部が発生した回転磁界を受け、回転して推力を得るロボット本体とを有し、前記磁界発生部にて形成される回転磁界面が三次元空間内で所定方向に変向可能になっていることを特徴とする移動可能なマイクロマシンの移動制御システム。
【請求項４】
長手方向の軸と直角方向に磁化方向を有する磁石が搭載された棒状の本体に、回転運動を推進力に変換する推力発生部が設けられ、外部から回転磁界を与えることによって本体が軸方向へ移動可能になっているマイクロマシンであって、このマイクロマシン本体の長手方向端部にドリル部が設けられていることを特徴とする移動可能なマイクロマシン。
【請求項５】
マイクロマシン本体の長手方向である先端、後端に、ドリル部が設けられている請求項４に記載の移動可能なマイクロマシン。
【請求項６】
略円柱状の本体形状を有し、その長手方向の軸と直角方向に磁化方向を有する磁石と、前記軸を中心とした回転を該軸方向への推進力に変換するら旋構造とを備えた医用マイクロマシンと、
前記医用マイクロマシンの位置および移動方向を検出する位置検出部と、
前記医用マイクロマシンを回転させるよう前記磁石に対して回転磁界を発生する磁界発生部と、
前記磁界発生部を駆動する電力を供給する電源装置と、
前記電源装置の出力電力を制御する回転磁界制御手段と、
からなることを特徴とする医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項７】
前記位置検出部は、前記医用マイクロマシンが発生する磁界を検出する複数の磁界検出部を有し、前記磁界検出部が検出した磁界から前記医用マイクロマシンの位置および移動方向を検出することを特徴とする請求項６に記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項８】
前記位置検出部が検出した前記医用マイクロマシンの現在位置と目標位置とから最適な進行経路を決定する経路決定手段を備え、
前記回転磁界制御手段は、前記経路決定手段の出力に基づき、前記磁界発生部が発生する回転磁界の向きを変更するように前記電源装置の出力電力を制御することを特徴とする請求項６に記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項９】
前記医用マイクロマシンは、前記ら旋構造を長手方向の先端に備えることを特徴とする請求項６に記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項１０】
前記医用マイクロマシンは、前記ら旋構造を長手方向の先端および後端に備えることを特徴とする請求項６に記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項１１】
前記医用マイクロマシンは、前記ら旋構造を本体側面に備えることを特徴とする請求項６に記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項１２】
前記ら旋構造は、スパイラル状のワイヤにより形成されていることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一つに記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【請求項１３】
前記医用マイクロマシンを検出位置から排除したときに、前記磁界検出部が検出した磁界強度を記録するデータメモリを備えることを特徴とする請求項７に記載の医用マイクロマシン誘導システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】移動可能なマイクロマシンおよびその移動制御システム並びに医用マイクロマシン誘導システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
ステップＳ１に続いて、同期検波および積分された磁気センサーユニット２からの出力がＡ／Ｄ変換され（ステップＳ２）、Ａ／Ｄ変換された各磁気センサーユニット２，３からの出力を図示しないＡ／Ｄデータメモリに一旦記憶し、（ステップＳ３）、磁気センサーユニット３からの出力について実行されたか否かがチェックされ、全磁気センサーユニット２，３からの出力についてＡ／Ｄ変換がなされ、図示しないＡ／Ｄデータメモリに記憶がなされるまで繰り返す（ステップＳ４）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  インクを吐出する印字ヘッドを搭載したヘッドホルダが着脱自在に固定されたスライドベースを所定方向に往復動させながら前記印字ヘッドからインクを吐出させ、記録媒体のうち該印字ヘッドの前方の画像形成領域に位置する部分に画像を形成するインクジェット方式画像形成装置において、
前記ヘッドホルダが前記スライドベースに固定される固定位置を調整する調整機構を備え、
該調整機構は、複数の軸を中心軸として前記ヘッドホルダを回転させて前記固定位置を調整するものであることを特徴とするインクジェット方式画像形成装置。
【請求項２】  前記調整機構は、
前記ヘッドホルダを動かすことにより前記固定位置を調整するものであることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット方式画像形成装置。
【請求項３】  前記ヘッドホルダは、
前記所定方向に直交する第１方向に移動して突き当たる少なくとも３つの第１突当部と、前記所定方向に移動して突き当たる少なくとも１つの第２突当部と、前記第１方向及び前記所定方向双方に直交する第３方向に移動して突き当たる少なくとも２つの第３突当部とを備えたものであり、
前記スライドベースは、
前記第１突当部に突き当たる第４突当部と、前記第２突当部に突き当たる第５突当部と、前記第３突当部に突き当たる第６突当部とを備えたものであり、
前記調整機構は、
前記第１突当部から前記第６突当部までのうちの少なくとも一つを移動させるものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のインクジェット方式画像形成装置。
【請求項４】  前記複数の軸は、互いに直交する３本の軸であることを特徴とする請求項１、２、又は３に記載のインクジェット方式画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月15日(2007.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  印刷機（１）における胴位置調節方法において、第１のステップでは第１の胴（８，９）を、該第１の胴（８，９）の溝（１７，３２）が前記印刷機（１）の第２の胴（９，１３）を向く回転位置へ回転させ、第２のステップでは前記２つの胴（８，９）のうちの１つの胴（９）を移動させ、この際に前記第２の胴（９，１３）は前記溝（１７，３２）内に入り込むことを特徴とする胴位置調節方法。
【請求項２】  前記第２のステップでは前記第２の胴（９）を前記溝（１７）の外の第１の胴位置（９ａ，９ｂ）から前記溝（１７）内を通過して前記溝（１７）の外の第２の胴位置（９ｄ）へ揺動させる、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記第２のステップでは前記第２の胴（９）の前記揺動を供給ローラ（１３）の回転軸（３６）と同軸に行う、請求項２記載の方法。
【請求項４】  前記第１の胴（８）は圧胴（８）であり、前記第２の胴（９）は塗布胴（９）である、請求項２記載の方法。
【請求項５】  前記第２のステップでは前記第１の胴（９）を前記第２の胴（１３）の方向に移動させる、請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記第１の胴（９）は塗布胴（９）であり、前記第２の胴（１３）は供給ローラ  （１３）である、請求項５記載の方法。
【請求項７】  溝（１７）と、前記圧胴（８）上を送られる被印刷体（６）にインキ着けまたはニス塗布を施す塗布胴（９）とを備えた圧胴（８）を有する印刷機（１）、特に請求項１〜４記載の方法を実施する印刷機（１）において、
前記塗布胴（９）は、該塗布胴（９）を溝（１７）内へ入れ、該溝（１７）から再び出し前記圧胴（８）から隔った位置（Ｄ）へ移動させる支持部材（１６）に支持されていることを特徴とする印刷機。
【請求項８】  前記支持部材（１６）は、前記塗布胴（９）を揺動させる揺動支持部材（１６）として、前記塗布胴  （９）にインキ供給またはニス供給するために配置された供給ローラ（１３）の回転軸（３６）と同軸に構成されている、請求項７記載の印刷機。
【請求項９】  前記支持部材（１６）は、前記圧胴（８）による前記被印刷体（６）の搬送の際に同じ観察方向にみて前記圧胴（８）の回転方向（２６）とは反対の回転方向（２５）に、前記塗布胴（９）を前記揺支持部材（１６）のまわりに前記位置（Ｄ）へ揺動させる揺動支持部材（１６）として構成されている、請求項７記載の印刷機。
【請求項１０】  被印刷体（６）上にインキ着けまたはニス塗布を施す塗布胴（９）と、該塗布胴  （９）にインキ供給またはニス供給を行う供給ローラ  （１３）とを有する印刷機（１）、特に請求項１，５，６のいずれか１項に記載の胴位置調節方法を実施する印刷機において、
前記塗布胴（９）は、該塗布胴（９）を前記供給ローラ（１３）の方向に移動させる第１の支持部材（２７）に、また、前記供給ローラ（１３）は、前記塗布胴  （９）の前記移動の際に該供給ローラ（１３）を定位置に保持する第２の支持部材（３０）に支持されていることを特徴とする印刷機。
【請求項１１】  前記塗布胴には、該塗布胴（９）の溝（３２）が前記供給ローラ（１３）を向く回転位置で前記塗布胴（９）を強く保持する安全装置（３１）が付属している、請求項１０記載の印刷機。
【請求項１２】  前記第１の支持部材（２７）が直線状案内部材（２７）として構成されている、請求項１０記載の印刷機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月2日(2007.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  枚葉紙スタックから枚葉紙を印刷する機械に向かって枚葉紙を個別化して搬送する方法において、各枚葉紙を少なくとも１つの持ち上げサッカが吸着レベルの上方に位置する引き渡しレベルに持ち上げ、該引き渡しレベルで前記枚葉紙を少なくとも１つの送りサッカが受け取り、次いで前記引き渡しレベルにおいて前記送りサッカが前記枚葉紙を、枚葉紙を印刷する機械に向かって搬送し、前記持ち上げサッカが前記送りサッカに前記枚葉紙を引き渡したあとで、前記持ち上げサッカが前記引き渡しレベルの上方に位置する高さレベルに上昇するまえに、前記枚葉紙を持ち上げサッカから離すことを特徴とする、枚葉紙を個別化して搬送する方法。
【請求項２】  前記送りサッカ（２１）が、終了位置から別の終了位置への戻し運動時に、前記引き渡しレベルの上方に位置する戻し運動レベルで移動する、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記戻し運動レベルが、前記引き渡しレベルの上方に位置する高さレベルである、請求項２記載の方法。
【請求項４】  前記持ち上げサッカが、枚葉紙の送出のあとで前記高さレベルから吸着レベルに降下する、請求項３記載の方法。
【請求項５】  枚葉紙スタックから枚葉紙を個別化して搬送する方法を実施するための装置において、枚葉紙を枚葉紙スタックから分離するための持ち上げサッカが設けられており、枚葉紙を印刷する機械に向かって前記枚葉紙を搬送するための送りサッカが設けられており、前記持ち上げサッカを異なる３つの高さレベルに運動させるためのカム伝動装置が設けられており、これらの３つの高さレベルのうちの１つが吸着レベルであり、前記持ち上げサッカの吸着レベルが調節可能であり、前記持ち上げサッカによって、持ち上げられた枚葉紙が前記異なる３つの高さレベルのうちの最も高い高さレベルで離されるようになっていることを特徴とする、枚葉紙を個別化して搬送する装置。
【請求項６】  前記送りサッカが、前記異なる３つの高さレベルのうちの異なる２つの高さレベルで空気力式に調整可能である、請求項５記載の装置。
【請求項７】  枚葉紙輪転印刷機において、枚葉紙スタックから枚葉紙を個別化して搬送する方法を実施するための装置が設けられており、該装置に、枚葉紙を枚葉紙スタックから分離するための持ち上げサッカが設けられており、印刷ユニットに向かって枚葉紙を搬送するための送りサッカが設けられており、前記持ち上げサッカを異なる３つの高さレベルに運動させるためのカム伝動装置が設けられており、これらの３つの高さレベルのうちの１つが吸着レベルであり、前記持ち上げサッカの吸着レベルが調節可能であり、前記持ち上げサッカによって、持ち上げられた枚葉紙が前記異なる３つの高さレベルのうちの最も高い高さレベルで離されるようになっていることを特徴とする、枚葉紙輪転印刷機。
【請求項８】  枚葉紙輪転印刷機を操作する方法における、枚葉紙スタックから枚葉紙を印刷する機械に向かって枚葉紙を個別化して搬送する方法において、各枚葉紙を少なくとも１つの持ち上げサッカが吸着レベルの上方に位置する引き渡しレベルに持ち上げ、該引き渡しレベルで前記枚葉紙を少なくとも１つの送りサッカが受け取り、次いで前記引き渡しレベルにおいて前記送りサッカが前記枚葉紙を、枚葉紙を印刷する機械に向かって搬送し、前記持ち上げサッカが前記送りサッカに前記枚葉紙を引き渡したあとで、前記持ち上げサッカが前記引き渡しレベルの上方に位置する高さレベルに上昇するまえに、前記枚葉紙を持ち上げサッカから離すことを特徴とする、枚葉紙を個別化して搬送する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月1日(2006.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
請求項７記載の発明の目的は、特性値検出手段を、製版装置本体の内部および外部の湿度のうちの少なくとも一方の湿度を検出する湿度検出手段で構成することにより、その湿度の高低に応じて、請求項６記載の発明の目的を達成することにある。  
請求項８記載の発明の目的は、特性値検出手段を、マスタに形成される製版画像量を検出する画像量検出手段で構成することにより、製版画像量の多少に応じて、請求項６記載の発明の目的を達成することにある。  
請求項９記載の発明の目的は、特性値検出手段を、製版装置本体の内部および外部の温度のうちの少なくとも一方の温度を検出する温度検出手段で構成することにより、その温度の高低に応じて、請求項６記載の発明の目的を達成することにある。  
請求項１０記載の発明の目的は、特性値検出手段を、サーマルヘッドの温度を検出するサーマルヘッド温度検出手段で構成することにより、サーマルヘッドの温度の高低に応じて、請求項６記載の発明の目的を達成することにある。  
請求項１１記載の発明の目的は、少なくとも二つ以上の特性値検出手段からの各信号に基づいて、押付け力を変えるように押付け力可変手段を制御する制御手段を有して構成することにより、マスタ搬送性等関係要因の特性値の大小・高低等に応じて、より木目細かに対応できるようになって、請求項６ないし１０の何れか一つに記載の発明の目的を達成することにある。  
請求項１２記載の発明の目的は、プラテンローラよりもマスタ搬送方向上流側に、該プラテンローラを従動回転させるための駆動部材とは別の駆動部材を有して構成することにより、請求項１ないし１１の何れか一つに記載の発明の目的に加えて、プラテンローラのマスタ搬入経路側で搬送負荷を掛けることなく、マスタの搬送力をいわば増加させた形態でサーマルヘッドとプラテンローラとのニップ部に向けてマスタを搬送でき、より確実なマスタの搬送力を得ることができると共に、例えばプラテンローラを従動回転させるマスタ排出経路側でのマスタの搬送力を低減することも可能とすることにある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７９】
請求項７記載の発明によれば、特性値検出手段は、製版装置本体の内部および外部の湿度のうちの少なくとも一方の湿度を検出する湿度検出手段からなることにより、その湿度の高低に応じて、請求項６記載の発明の効果を奏する。  
請求項８記載の発明によれば、特性値検出手段は、マスタに形成される製版画像量を検出する画像量検出手段からなることにより、製版画像量の多少に応じて、請求項６記載の発明の効果を奏する。  
請求項９記載の発明によれば、特性値検出手段は、製版装置本体の内部および外部の温度のうちの少なくとも一方の温度を検出する温度検出手段からなることにより、その温度の高低に応じて、請求項６記載の発明の効果を奏する。  
請求項１０記載の発明によれば、特性値検出手段は、サーマルヘッドの温度を検出するサーマルヘッド温度検出手段からなることにより、サーマルヘッドの温度の高低に応じて、請求項６記載の発明の効果を奏する。  
請求項１１記載の発明によれば、制御手段は、少なくとも二つ以上の特性値検出手段からの各信号に基づいて、押付け力を変えるように押付け力可変手段を制御することにより、マスタ搬送性等関係要因の特性値の大小・高低等に応じて、より木目細かに対応できるようになって、請求項６ないし１０の何れか一つに記載の発明の効果を奏する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  鉄材／冷間圧延により接合したアルミニウム材（第１アルミニウム材）／熱間圧延により接合したアルミニウム材（第２アルミニウム材）の３層構成からなるアルミニウム−鉄系クラッド材を製造するに際し、鉄材に第１アルミニウム材を冷間圧延で接合した後、この第１アルミニウム材面に第２アルミニウム材を重ねた２組を、第２アルミニウム材同士が内側になるように重ねて熱間圧延を行い、それぞれの第１アルミニウム材面と第２アルミニウム材を接合した後に、この接合面で剥離することを特徴とするアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。
【請求項２】  第２アルミニウム材同士の間に離型材を挟んで熱間圧延を行う請求項１に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。
【請求項３】  鉄材が軟鋼またはステンレススチールである請求項１または２に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。
【請求項４】  第１アルミニウム材が純アルミニウムである請求項１または２に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。、
【請求項５】  第２アルミニウム材が純アルミニウムまたはアルミニウム−マグネシウム系もしくはアルミニウム−マグネシウム−けい素系の合金である請求項１または２に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。
【請求項６】  熱間圧延の温度が３００〜５５０℃、第２アルミニウム材の圧下率が４０〜６０％となるようにした請求項１に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。
【請求項７】  離型材が、炭素系化合物、フッ素系化合物、二硫化モリブデンの粉末またはフィルム状成形品である請求項２に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
［１］  鉄材／冷間圧延により接合したアルミニウム材（第１アルミニウム材）／熱間圧延により接合したアルミニウム材（第２アルミニウム材）の３層構成からなるアルミニウム−鉄系クラッド材を製造するに際し、鉄材に第１アルミニウム材を冷間圧延で接合した後、この第１アルミニウム材面に第２アルミニウム材を重ねた２組を、第２アルミニウム材同士が内側になるように重ねて熱間圧延を行い、それぞれの第１アルミニウム材面と第２アルミニウム材を接合した後に、この接合面で剥離することを特徴とするアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法、
［２］  第２アルミニウム材同士の間に離型材を挟んで熱間圧延を行う上記［１］に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法、
［３］  鉄材が軟鋼またはステンレススチールである上記［１］または［２］に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法、
［４］  第１アルミニウム材が純アルミニウムである上記［１］または［２］に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法。、
［５］  第２アルミニウム材が純アルミニウムまたはアルミニウム−マグネシウム系もしくはアルミニウム−マグネシウム−けい素系の合金である上記［１］または［２］に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法、
［６］  熱間圧延の温度が３００〜５５０℃、第２アルミニウム材の圧下率が４０〜６０％となるようにした上記［１］に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法、及び
［７］  離型材が、炭素系化合物、フッ素系化合物、二硫化モリブデンの粉末またはフィルム状成形品である上記［２］に記載のアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法、を開発することに依り上記の課題を解決した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の実施の形態】
クラッド材の製造方法は、目的とするクラッド材の金属の組み合わせ、クラッド材の形状などにより、極めて多種多様の方法により製造されている。例えば代表的な方法としては圧延法、爆発圧接法、ろう付け法、共押出法、鋳ぐるみ法、熱間あるいは冷間加工による線材製造法、粉末燒結圧延法、高液圧押出法などが挙げられるが、本発明におけるクラッド材としては、圧延法によるアルミニウム−鉄系クラッド材の製造法であり、板状またはシート状のものに限られる。
本発明の対象とするアルミニウム−鉄系クラッド材の製造方法は、鉄材とアルミニウム材をロール圧延する方法で、大面積の物を高速で生産性良く製造できる製造方法の改良方法である。冷間圧延と熱間圧延を組み合わせることにより酸化皮膜の発生を防止し、構造材である第２アルミニウム材を鉄材と一体化したクラッド材を効率よく製造する方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
欧州特許公開第0 934 786号明細書には、金属を連続鋳造する方法および垂直に向いた真っ直ぐな鋳型とこれに続くこの鋳型の中に形成された直線の連続体の引出部を備えた前記方法のために設けた連続鋳造設備が開示されている。その場合、真っ直ぐな連続体を先ず湾曲区域で遷移曲線に沿って半径Ｒend の円弧形状に曲げ、半径Ｒend の円弧案内部に沿って案内し、次いで最終調整区域で遷移曲線に沿って真っ直ぐに向け、その後にほぼ水平な直線案内部を経由して排出する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
円弧鋳型を備えた連続鋳造設備を前提として真っ直ぐな鋳型を備えた設備を提供するため、欧州特許公開第 0 934 786号明細書により以下のようになっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
オーストリア特許第 373 518号明細書には、金属の溶湯を連続鋳造する連続鋳造設備のための連続体案内部が開示されている。この連続体案内部は、遷移曲線に続く連続体案内部の一部のローラが連続体の戻しバネ作用により今までよりも小さい応力を受け、連続体に対する引出し力が低減するように設計されている。このためその最終領域の遷移曲線の湾曲度は主にこの遷移曲線に後続する連続体の一部の湾曲度より大きく。その最終領域の遷移曲線の湾曲度は主にこの遷移曲線に後続する連続体の一部の湾曲度より変形の弾性部分の程度だけ大きく選択されているので、遷移曲線を有する連続体案内部の一部から出ると連続体は丁度後続する連続体案内部の一部が最初の部分で有する湾曲度を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、請求項１の上位概念である、湾曲区域、遷移調整区域、主半径案内区域および遷移最終調整区域を有し、真っ直ぐな鋳型と、垂直湾曲区間に前置する垂直区間と、後置された水平区間とを備え、円弧設備から改造により生じる垂直湾曲連続鋳造設備の連続体案内部の半径配置にあって、湾曲区域が湾曲度の少なくとも比較的集中する第一領域とそれに続く湾曲度の比較的穏やかな第二領域とで形成され、連続体案内部が第一領域で垂直区間の無限な半径から始まり、徐々に小さくなる一連の半径Ｒ１i の曲率で、またそれに続く第二領域で第一領域に比べて比較的小さく集中する曲率Ｒ２i で湾曲し、湾曲区域と主半径案内区域の間の遷移部を形成する遷移調整区域がこの区域を形成する半径ΔＲの長さの増加と共に単調に増加する曲率を有することにより解決されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月11日(2006.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板の分断方法及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
線状レーザー光を基板に照射して当該基板に線状の罫書き線を形成し、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する基板の分断方法。
【請求項２】
パルス発振するレーザー発振器から放射されるレーザー光を、シリンドリカルレンズにより線状レーザー光とし、
前記線状レーザー光を基板に照射して当該基板に線状の罫書き線を形成し、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する基板の分断方法。
【請求項３】
パルス発振するレーザー発振器から放射されるレーザー光を、マイクロレンズアレイで集光し、
前記マイクロレンズアレイにより集光されたレーザー光を光伝送媒体の第１の面から入射し第２の面から放射して長方形状のレーザー光とし、
前記長方形状のレーザー光をシリンドリカルレンズにより線状レーザー光とし、
前記線状レーザー光を基板に照射して当該基板に線状の罫書き線を形成し、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する基板の分断方法。
【請求項４】
パルス発振するレーザー発振器から放射されるレーザー光を２つの光路に分割し、
前記分割された２つの光路のうちの一方において第１の光学系により線状レーザー光を形成するとともに、他方において第２の光学系により線状レーザー光を形成し、
前記第１の光学系により形成された線状レーザー光を基板の一方の面に照射して当該基板に線状の罫書き線を形成するとともに、前記第２の光学系により形成された線状レーザー光を当該基板の他方の面に照射し、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する基板の分断方法。
【請求項５】
パルス発振するレーザー発振器から放射されるレーザー光を２つの光路に分割し、
前記分割された２つの光路のうちの一方において第１の光学系により線状レーザー光を形成するとともに、他方において第２の光学系により線状レーザー光を形成し、
前記第１の光学系により形成された線状レーザー光を基板の一方の面に照射して当該基板に線状の罫書き線を形成するとともに、前記第２の光学系により形成された線状レーザー光を当該基板の一方の面に照射し、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する基板の分断方法。
【請求項６】
請求項４または５において、前記第２の光学系により形成された線状レーザー光の幅は、前記第１の光学系により形成された線状レーザー光の幅よりも広いことを特徴とする基板の分断方法。
【請求項７】
請求項６において、前記第１の光学系により形成された線状レーザー光の幅は１０〜４００μｍであり、前記第２の光学系により形成された線状レーザー光の幅は１００〜１０００μｍであることを特徴とする基板の分断方法。
【請求項８】
請求項４乃至７のいずれか一において、前記第１の光学系及び前記第２の光学系に導入されるレーザー光の波長は、互いに異なることを特徴とする基板の分断方法。
【請求項９】
請求項４乃至８のいずれか一において、前記第２の光学系により形成された線状レーザー光の前記照射により、前記基板を局所的に加熱することを特徴とする基板の分断方法。
【請求項１０】
請求項２乃至９のいずれか一において、前記レーザー発振器はＣＯ２レーザー、ＣＯレーザー、ＹＡＧレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ＹＬＦレーザー、ＹＡｌＯ３レーザーから選ばれた一つであることを特徴とする基板の分断方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、前記罫書き線を形成する線状レーザー光は線幅に対する長手方向の長さが２０倍から２０００倍であることを特徴とする基板の分断方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、前記罫書き線の幅は１０〜４００μｍであり、深さは１〜１０μｍであることを特徴とする基板の分断方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一において、前記基板はガラス基板または石英基板であることを特徴とする基板の分断方法。
【請求項１４】
基板上に画素電極と該画素電極に接続するＴＦＴとを各画素毎に少なくとも一つ設けた画素部を複数個形成する工程と、
前記画素部の外側に設けられたマーカーを用いて所定の領域に線状レーザー光を照射して罫書き線を形成する工程と、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
一方の基板上に画素電極と該画素電極に接続するＴＦＴとを各画素毎に少なくとも一つ設けた画素部を複数個形成する工程と、
前記画素電極上に配向膜を形成する工程と、
他方の基板に共通電極及び該共通電極上に配向膜を形成する工程と、
前記一方の基板と前記他方の基板とをスペーサを介して貼り合わせる工程と、
前記一方の基板と前記他方の基板のそれぞれに、前記画素部の外側に設けられたマーカーを用いて所定の領域に線状レーザー光を照射して罫書き線を形成する工程と、
前記罫書き線に沿って前記一方の基板及び前記他方の基板を分断する工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
基板上に画素電極と該画素電極に接続するＴＦＴとを各画素毎に少なくとも一つ設けた画素部を複数個形成する工程と、
前記画素電極上に自発光層を形成する工程と、
前記自発光層の上方に封止層を形成する工程と、
前記基板の外側に設けられたマーカーを用いて所定の領域に線状レーザー光を照射して罫書き線を形成する工程と、
前記罫書き線に沿って前記基板を分断する工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１４乃至１６のいずれか一において、前記線状レーザー光はパルス発振するＣＯ２レーザー、ＣＯレーザー、ＹＡＧレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ＹＬＦレーザー、ＹＡｌＯ３レーザーから選ばれた一つを用いて形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１４乃至１７のいずれか一において、前記線状レーザー光は線幅に対する長手方向の長さが２０倍から２０００倍であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１９】
請求項１４乃至１８のいずれか一において、前記罫書き線の幅は１０〜４００μｍであり、深さは１〜１０μｍであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２０】
請求項１４乃至１９のいずれか一において、前記基板はガラス基板または石英基板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月1日(2007.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  金属系基材の表面に少なくとも１層のボンドコートを施す方法であって、
（ａ）ボンドコートを含む箔を基材表面に取り付け、次いで
（ｂ）箔を基材表面に溶着し、ボンドコートを基材に密着させる
工程を含む、方法。
【請求項２】  前記箔が、ボンドコート材料を除去可能な支持シートに溶射して箔を形成し、次いで箔を除去可能な支持シートから分離することにより製造された、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  溶射を、真空プラズマ溶射、高速酸素−燃料溶射（ＨＶＯＦ）および空気プラズマ溶射のいずれかの方法で行う、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  箔を基材表面にろう付けまたは溶接法により溶着する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  ろう付け法が、ろう付け組成物のスラリーを箔の表面に被着し、ろう付け組成物が基材表面と接触するように箔を基材表面に取り付け、次いでろう付け組成物を適当なろう付け温度に露呈することにより行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  ろう付け法が、ろう付け組成物のスラリーを基材表面に被着し、箔がろう付け組成物と接触するように箔を基材表面に取り付け、次いでろう付け組成物を適当なろう付け温度に露呈することにより行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項７】  箔を基材表面に溶着する方法が、
（１）ろう付け合金材料の層を除去可能な支持シートに施し、
（２）ボンドコート材料をろう付け合金材料の層上に溶射してろう付け合金材料とボンドコート材料の二重層を形成し、
（３）二重層を除去可能な支持シートから分離し、
（４）二重層を基材表面に、ろう付け合金材料が基材表面と接触するように取り付け、次いで
（５）ろう付け材料を適当なろう付け温度に露呈する
工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】  ろう付け法が、ボンドコート材料を含む箔を基材表面にグリーンろう付けテープで取り付け、次いでグリーンろう付けテープを適当なろう付け温度に露呈することにより行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項９】  ボンドコートが式ＭＣｒＡｌＹ（式中のＭはＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏおよびこれら２種以上の混合物から選ばれる）で表される合金からなる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  箔が少なくとも２層のボンドコートを含む、請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記２層のボンドコートが、
（ｉ）緻密な第一ボンドコートと、
（ｉｉ）緻密な第一ボンドコート上に形成され、気孔の相互連結した開放網状組織からなるミクロ構造を有する第二ボンドコート
からなる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記２層のボンドコートが、
（ｉ）緻密な第一ボンドコートと、
（ｉｉ）緻密な第一ボンドコート上に形成された、白金アルミナイドまたは白金−ニッケル−アルミナイドからなる第二ボンドコート
からなる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】  箔が少なくとも３層のボンドコートを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】  前記３層のボンドコートが、
（ｉ）緻密な第一ボンドコートと、
（ｉｉ）緻密な第一ボンドコート上に形成され、気孔の相互連結した開放網状組織からなるミクロ構造を有する第二ボンドコートと、
（ｉｉｉ）第二ボンドコート上に形成された、白金アルミナイドまたは白金−ニッケル−アルミナイドからなる第三ボンドコート
からなる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記箔がさらにボンドコート上に施された断熱皮膜を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  前記断熱皮膜がジルコニアを主成分とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】  前記断熱皮膜を溶射法により施す、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】  前記金属系基材が超合金である、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  前記超合金がニッケル基である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  前記金属系基材がタービンエンジンの構成部品である、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  金属系基材の上に施された、摩耗または損傷を受けた断熱皮膜系を修理する方法であって、
（ｉ）基材上の選択区域から摩耗または損傷された断熱皮膜系を除去し、
（ｉｉ）交換断熱皮膜系を含む箔を基材表面に、前記選択区域を覆うように取り付け、次いで
（ｉｉｉ）箔を基材に溶着し、これにより断熱皮膜系を基材上の選択区域に密着させる工程を含み、
前記断熱皮膜系は、基材と接触するボンドコート少なくとも１層と、このボンドコート上に施された断熱皮膜とを含む、
方法。
【請求項２２】  （ｉ）金属系基材と、
（ｉｉ）前記基材に溶着された、少なくとも１層のボンドコートを含む箔
とを備え、前記箔が基材にろう付け材料の層を介して溶着されている、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月26日(2006.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】気相反応による有機化合物の合成に伴い生ずる排ガス、ならびに前記反応で派生する化学的酸素要求物質（ＣＯＤ物質）と多量の水を含む廃液を処理する方法であって、
前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を設け、
濃縮された前記廃液に対して、それに含まれる化学的酸素要求物質（ＣＯＤ物質）を燃焼処理する工程を設けることを特徴とする廃液及び排ガス処理方法。
【請求項２】前記気相反応による有機化合物の合成工程が、イソブチレンまたはtert−ブチルアルコール、あるいは両者の混合物を原料として、気相接触酸化反応を用いるメタクロレインの合成工程、メタクロレインを原料として、気相接触酸化反応を用いるメタクリル酸の合成工程、ないしは、前記二段階の合成反応の双方を行う合成工程である際、
前記気相接触酸化反応に伴い生ずる排ガスならびに前記反応で派生する化学的酸素要求物質（ＣＯＤ物質）と多量の水を含む廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を設け、濃縮された前記廃液を燃焼処理する工程を設けることを特徴とする請求項１に記載の廃液及び排ガス処理方法。
【請求項３】前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を、一段で行うことを特徴とする請求項１または２に記載の廃液及び排ガス処理方法。
【請求項４】前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を、二段以上に分けて行うことを特徴とする請求項１または２に記載の廃液及び排ガス処理方法。
【請求項５】前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程において、廃液と排ガスの気液接触を気液接触塔で行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の廃液及び排ガス処理方法。
【請求項６】前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程において、廃液と排ガスの気液接触を気液接触塔で行い、常圧以下に減圧せずに廃液の濃縮を行うことを特徴とする請求項５に記載の廃液及び排ガス処理方法。
【請求項７】 前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を、廃液と排ガスの気液接触を気液接触塔を用いて一段で行い、前記気液接触塔を常圧以下に減圧せず、塔底温度を６０℃以上８０℃以下の範囲に選択することを特徴とする請求項１または２に記載の廃液及び排ガス処理方法。
【請求項８】 前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を、廃液と排ガスの気液接触を気液接触塔を用いて二段で行い、前記気液接触塔を常圧以下に減圧せず、塔底温度を４０℃以上８０℃以下の範囲に選択することを特徴とする請求項１または２に記載の廃液及び排ガス処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明の廃液及び排ガス処理方法は、気相反応による有機化合物の合成に伴う排ガス、ならびに前記反応で派生する化学的酸素要求物質（ＣＯＤ物質）と多量の水を含む廃液を処理する方法であって、前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を設け、濃縮された前記廃液に対して、それに含まれる化学的酸素要求物質（ＣＯＤ物質）を燃焼処理する工程を設けることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
例えば、本発明の廃液及び排ガス処理方法は、前記気相反応による有機化合物の合成工程が、イソブチレンまたはtert−ブチルアルコール、あるいは両者の混合物を原料として、気相接触酸化反応を用いるメタクロレインの合成工程、メタクロレインを原料として、気相接触酸化反応を用いるメタクリル酸の合成工程、ないしは、前記二段階の合成反応の双方を行う合成工程である際、前記気相接触酸化反応に伴い生ずる排ガスならびに前記反応で派生する化学的酸素要求物質（ＣＯＤ物質）と多量の水を含む廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を設け、濃縮された前記廃液を燃焼処理する工程を設けることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なお、本発明の廃液及び排ガス処理方法においては、前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を、気液接触塔で行うことが好ましい。加えて、本発明の廃液及び排ガス処理方法においては、前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を一段で行うことも可能であるが、この工程を二段以上に分けて行うことがより好ましい。加えて、本発明の廃液及び排ガス処理方法においては、前記排ガスと前記廃液とを直接接触させ、廃液を濃縮する工程を、前記気液接触塔を用いて二段で行い、塔底温度を４０℃以上８０℃以下、より好ましくは５０℃以上８０℃以下の範囲に選択すると更に好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月29日(2006.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  押出材料が成形されるベアリング部（11）出側において、ベアリング部（11）とベアリング部（11）直後に設けられらた退入部の逃げ部（13）との角度（14）が、曲率半径（ｒ）０．２〜１．０mmの円弧状に形成されているか、または面取り量（ｃ）０．２〜１．０mmの直線状に面取りされていることを特徴とする押出用ダイス。
【請求項２】  前記逃げ部（13）の表面粗さが、最大高さ（Ｒｙ）９μｍ以下に形成されている請求項１に記載の押出用ダイス。
【請求項３】  前記ダイスがポートホールダイスである請求項１または２に記載の押出用ダイス。
【請求項４】  前記角部(14)が円弧状に形成されているか、または直線状に面取りされているダイスが雌型である請求項１〜３のいずれかに記載の押出用ダイス。
【請求項５】  前記ベアリング部（11）の表面粗さが、最大高さ（Ｒｙ）９μｍ以下に形成されている請求項２〜４のいずれかに記載の押出用ダイス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月29日(2007.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ネットワークシステム、情報提供装置、及びネットワーク端末装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報提供装置からネットワークを介して提供情報がネットワーク端末装置に送信されるネットワークシステムにおいて、
上記情報提供装置から上記ネットワーク端末装置に上記提供情報を送信する際に、上記ネットワーク端末装置から上記情報提供情報に送信された上記ネットワーク端末装置の属性情報に基づいて上記提供情報を上記ネットワーク端末装置の機能に適合させるようにした
ことを特徴とするネットワークシステム。
【請求項２】
上記ネットワーク端末装置は、当該ネットワーク端末装置の機能を上記受信した提供情報に対応させるようにした
ことを特徴とする請求項１に記載のネットワークシステム。
【請求項３】
上記ネットワーク端末装置は、当該ネットワーク端末装置の操作入力手段を有し、上記操作入力手段の機能を上記受信した提供情報に対応させるようにした
ことを特徴とする請求項１に記載のネットワークシステム。
【請求項４】
ネットワーク端末装置に所定の提供情報を送信する情報提供装置において、
上記ネットワーク端末装置に上記提供情報を送信する際に、上記ネットワーク端末装置から上記情報提供情報に送信された上記ネットワーク端末装置の属性情報に基づいて上記提供情報を上記ネットワーク端末装置の機能に適合させるようにした
ことを特徴とする情報提供装置。
【請求項５】
ネットワークを介して所定の提供情報を取得するようになされたネットワーク端末装置において、
上記ネットワーク端末装置の機能を上記取得した提供情報に対応させるようにした
ことを特徴とするネットワーク端末装置。
【請求項６】
上記ネットワーク端末装置は、当該ネットワーク端末装置の操作入力手段を有し、上記操作入力手段の機能を上記取得した提供情報に対応させるようにした
ことを特徴とする請求項５に記載のネットワーク端末装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はネットワークシステム、情報提供装置、及びネットワーク端末装置に関し、ネットワークに接続されたネットワーク端末装置に対して情報提供装置であるサーバから種々のサービスを提供するネットワークシステム、情報提供装置、ネットワーク端末装置及び情報提供方法に適用して好適なものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、各ネットワーク端末装置の形態に応じたサービスを提供し得るネットワークシステム、情報提供装置、及びネットワーク端末装置を提案しようとするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  所定の情報を表示する表示部と、スピーカと、半導体メモリとを有し、音声情報を上記半導体メモリに記録するとともに、上記半導体メモリに記録された音声情報を上記スピーカより再生可能に構成した音声記録再生装置であって、
電源としての円筒形の２つの電池が上記スピーカを中心にして略対象に配置されたときに上記２つの電池の間に位置するように設けられた回路基板を有するとともに、
上記音声記録再生装置を正面から見たときに、上記スピーカの振動部と上記の位置に配置された電池とが一部で重なり合うように上記スピーカを配置したことを特徴とする音声記録再生装置。
【請求項２】  上記音声記録再生装置を正面から見たときに、上記表示部を該音声記録再生装置の上部に配置し、この表示部の下方に上記スピーカを配置したことを特徴とする請求項１に記載の音声記録再生装置。
【請求項３】  所定の情報を表示する表示部とスピーカと半導体メモリを有し、音声情報を上記半導体メモリに記録するとともに、上記半導体メモリに記録された音声情報を上記スピーカより再生可能に構成した音声記録再生装置であって、電源としての円筒形の２つの電池を、該音声記録再生装置の両脇に個々に配置したことを特徴とする音声記録再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、第１の発明は、所定の情報を表示する表示部と、スピーカと、半導体メモリとを有し、音声情報を上記半導体メモリに記録するとともに、上記半導体メモリに記録された音声情報を上記スピーカより再生可能に構成した音声記録再生装置であって、電源としての円筒形の２つの電池が上記スピーカを中心にして略対象に配置されたときに上記２つの電池の間に位置するように設けられた回路基板を有するとともに、上記音声記録再生装置を正面から見たときに、上記スピーカの振動部と上記の位置に配置された電池とが一部で重なり合うように上記スピーカを配置する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、第２の発明は第１の発明に係る音声記録再生装置において、上記音声記録再生装置を正面から見たときに、上記表示部を該音声記録再生装置の上部に配置し、この表示部の下方に上記スピーカを配置する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、第３の発明は、所定の情報を表示する表示部とスピーカと半導体メモリを有し、音声情報を上記半導体メモリに記録するとともに、上記半導体メモリに記録された音声情報を上記スピーカより再生可能に構成した音声記録再生装置であって、電源としての円筒形の２つの電池を、該音声記録再生装置の両脇に個々に配置する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月27日(2007.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜トランジスタと、ＥＬ素子とを含む画素を複数有し、
前記ＥＬ素子は、前記薄膜トランジスタに電気的に接続された陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極に挟まれたＥＬ層とを有し、
複数の前記画素において隣り合う画素間の前記陰極の隙間と重なるように、前記陽極に接して金属膜を設け、
前記金属膜のシート抵抗は前記第２の電極のシート抵抗よりも小さいことを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記金属膜は遮光性を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記金属膜はＴｉ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｇのいずれかからなることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記陽極は透明導電膜でなることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記透明導電膜は、酸化インジウムと酸化スズとの化合物、酸化インジウムと酸化亜鉛との化合物、酸化スズ、または酸化亜鉛であることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記薄膜トランジスタは、活性層が単結晶半導体膜、多結晶半導体膜、微結晶半導体膜のいずれかを用いて形成されたものであることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記薄膜トランジスタは逆スタガ型であることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一に記載のＥＬ表示装置を用いたことを特徴とする電気器具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、前記発光素子に電気的に接続された第１の配線群と、を有する第１の基板と、
端子部と、前記端子部に電気的に接続された第２の配線群を有する第２の基板と、
前記第１の配線群と前記第２の配線群とを電気的に接続する導電体と、を有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記端子部は、前記第２の基板の一方の面側に配置されており、
前記導電体は、前記第２の基板の他方の面側に配置された前記第２の配線群と接していることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記発光素子及び前記第１の配線群は、前記第１の基板の一方の面側に配置されており、
前記導電体は、前記第１の基板の他方の面側に配置された接続配線と接しており、
前記接続配線は、前記第１の基板を貫通するビアホールを介して前記第１の配線群と電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずか一項において、
前記端子部には、ＦＰＣが取り付けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第２の配線群は、前記第１の配線群よりも低抵抗の材料を用いて形成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第２の配線群は、銅、銀、金、アルミニウム、又はニッケルを含む金属膜を用いて形成されていることを特徴とする発光装置。