【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年1月26日(2007.1.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ａ）
Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４及びＳｉＣ又はそれらの混合物の群から選択される無機粉末
１５〜７０容量％、
ここで成分Ａ）の粉末の平均粒子寸法が、平均粒子寸法から０〜３０％により偏移する粒子の８０％の粒子寸法で、３００〜１００,０００ｎｍであり、
Ｂ）ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエチレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテンのコポリマー、又はポリスチレンコポリマー、又はポリメチルメタクリレートコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、又はエチレンビニルアセテートコポリマー、又は
Ｂ１）ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー５０〜１００重量％と
Ｂ２）平均粒子寸法１μｍ未満で、均質にＢ１）中に溶解又は分散されたポリマー０〜５０重量％
の混合物３０〜８５容量％、
Ｃ）分散剤０〜１５容量％
からなる混合物を成形し、
３００〜６００℃での熱分解によりバインダーを除去し、引き続き６００〜１４００℃で前焼結し、かつ１回以上の浸漬、含浸、スプレー含浸、沈着、ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾燥により無機酸、ナトリウム、カリウム、鉄、銅及びそれらの混合物から選択される金属の群から選択される活性成分を成分Ａ）に又は前焼結した組成物に施すことにより製造された、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ２／ｇ及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔直径５０〜３００,０００ｎｍを有する単一モード又は多モード気孔寸法分布を有する単一モード又は多モードの触媒において、
ａ）気孔容積の１０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１００倍である及び／又は
ｂ）気孔容積の１０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１００倍である及び／又は
ｃ）気孔容積の５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１倍である及び／又は
ｄ）気孔容積の５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１倍である及び
ｅ）気孔寸法分布の半値幅が平均気孔直径の０．６倍より小さい
ことを特徴とする、非定常状態のディーコン法において塩化水素から塩素を製造するための単一モード又は多モードの触媒。
【請求項２】  
Ａ）
Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４及びＳｉＣ又はそれらの混合物の群から選択される無機粉末
１５〜７０容量％、
ここで成分Ａ）の粉末の平均粒子寸法が、平均粒子寸法から０〜３０％により偏移する粒子の８０％の粒子寸法で、３００〜１００,０００ｎｍであり、
Ｂ）ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエチレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテンのコポリマー、又はポリスチレンコポリマー、又はポリメチルメタクリレートコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、又はエチレンビニルアセテートコポリマー、又は
Ｂ１）ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー５０〜１００重量％と
Ｂ２）平均粒子寸法１μｍ未満で、均質にＢ１）中に溶解又は分散されたポリマー０〜５０重量％
の混合物３０〜８５容量％、
Ｃ）分散剤０〜１５容量％
からなる混合物を成形し、
３００〜６００℃での熱分解によりバインダーを除去し、引き続き６００〜１４００℃で前焼結し、かつ１回以上の浸漬、含浸、スプレー含浸、沈着、ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾燥により無機酸、ナトリウム、カリウム、鉄、銅及びそれらの混合物から選択される金属の群から選択される活性成分を成分Ａ）に又は前焼結した組成物に施すことにより製造されることを特徴とする、請求項１に記載の単一モード又は多モードの触媒を製造する方法。
【請求項３】  請求項１記載の触媒を使用することを特徴とする、非定常状態のディーコン法において塩化水素から塩素を製造する方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明に基づき使用される成分Ａ）の粉末の平均粒子寸法は、一般に、平均粒子寸法から０〜３０％、有利には０〜２０％、特に有利には０〜１０％により偏移する粒子の８０％、有利には９０％、特に９５％の粒子寸法で、５ｎｍ〜５００，０００ｎｍ、有利には３００〜１００,０００ｎｍ、特に有利には５００〜５０,０００ｎｍのナノ範囲の結晶質粉末であってもよい。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、本発明により、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ２／ｇ及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔直径５０〜３００,０００ｎｍを有する単一モード又は多モード気孔寸法分布を有する新規のかつ改良された単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒において、
ａ）気孔容積の１０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１００倍である及び／又は
ｂ）気孔容積の１０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１００倍である及び／又は
ｃ）気孔容積の５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１倍である及び／又は
ｄ）気孔容積の５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１倍である及び
ｅ）気孔寸法分布の半値幅が平均気孔直径の０．６倍より小さい
ことにより、及びまた
Ａ）
Ｉ）元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又はそれらの混合物から選択される無機粉末及び／又は
II）元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマリウム、ジスポロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの金属及び合金、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＶＣ又はそれらの混合物、 ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-コバルト、ＴａＣ-コバルト、ＶＣ-コバルト又はそれらの混合物、及びまた炭素のうちから選択される金属性粉末及び／又は
III）無機酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、亜硫酸塩、セレン化物、テルル化物、窒化物、硫化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オスニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択される活性成分及び／又は
IV）テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉末
１５〜７０容量％、
Ｂ）ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエチレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレートコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、又は
Ｂ１）ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー５０〜１００重量％と
Ｂ２）平均粒子寸法１μｍ未満で、均質にＢ１）中に溶解又は分散されたポリマー０〜５０重量％
の混合物３０〜８５容量％、
の混合物３０〜８５容量％、
Ｃ）分散剤０〜１５容量％
からなる混合物を成形し、
３００〜６００℃での残滓熱分解によりバインダーを除去し、引き続き６００〜１４００℃で前焼結し、かつ所望により、１回以上の浸漬、含浸、スプレー含浸、沈着、ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾燥により活性成分IIIを成分Ａ）に又は前焼結した組成物に施すことよりなり、その際バインダーの熱分解的除去後の触媒担体又は触媒が、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ２/ｇ及び水銀圧多孔度測定法により測定した気孔寸法分布５０〜３００,０００ｎｍを有する前記触媒担体及び触媒の製造方法、及びまた
該単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を、非定常状態のディーコン法において塩化水素から塩素を製造するため、非定常状態オキシ水素化においてチルベンゼンの反応させることによるスチレンの製造のため、エタノールアミンからアジリジンを製造するため、トリメチルシクロヘキセノンを反応させることによるトリメチルフェノールの製造のため、還元、水素添加、酸化、脱水素化、酸又は塩基触媒反応又は流動床における反応のため、ディーゼル排気ガスから燃焼残留物を除去するため、廃ガスからＮＯｘを除去するため、細菌と一緒にバイオ反応器で使用するため及び固定した酵素又は微生物と一緒にバイオ触媒として使用することにより解決されることが判明した。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明による触媒担体又は触媒は、有利にはゼオライトではなくかつＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ２／ｇ、有利には０．１〜２００ｍ２／ｇ 、特に有利には０．５〜１２０ｍ２／ｇ及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔直径５０〜３００,０００ｎｍ、有利には１００〜５０,０００ｎｍ、特に有利には１５０〜２５,０００ｎｍを有する単一モード又は多モード、即ちバイモード、トリモード、テトラモード又はそれ以上のモード、有利にはバイモード、トリモードの気孔寸法分布を有し、かつ
ａ）気孔容積の１０〜９５％、有利には３０〜９５％、特に有利には５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１００倍である及び／又は
ｂ）気孔容積の１０〜８０％、有利には３０〜８０％、特に有利には５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１００倍である及び／又は
ｃ）気孔容積の５０〜９５％、有利には７０〜９５％、特に有利には８0〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１倍である及び／又は
ｄ）気孔容積の５０〜８０％、有利には６０〜８０％、特に有利には６５〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１倍である及び
ｅ）気孔寸法分布の半値幅が平均気孔直径の０．６倍より小さい、即ち０．００１〜０．５９倍、有利には０．００５〜０．４倍、特に有利には０．１〜０．３５倍である。