【手続補正書】
【提出日】平成19年3月5日(2007.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層構造体であって、
第１の内部電極層と、
前記第１の内部電極層上に形成された誘電体層と、
前記誘電体層上に形成された第２の内部電極層と、
前記積層構造体の第１の側面領域において前記第１の内部電極層の端面に形成された被膜であって、少なくとも一部に金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、及び、金属硫化物の内のいずれか１つを含む第１の被膜と、
前記積層構造体の前記第１の側面領域とは異なる第２の側面領域において前記第２の内部電極層の端面に形成された被膜であって、少なくとも一部に金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、及び、金属硫化物の内のいずれか１つを含む第２の被膜と、
を具備する前記積層構造体。
【請求項２】
前記第１の内部電極層が、前記第１の側面領域に延在し、所定の温度で磁性を有する第１の導電材料と、前記第２の側面領域に延在し、所定の温度で磁性を有さない第２の導電材料とを含み、
前記第２の内部電極層が、前記積層構造体の第１の側面領域に延在する第２の導電材料と、前記積層構造体の第２の側面領域に延在する第１の導電材料とを含む、
請求項１記載の積層構造体。
【請求項３】
前記積層構造体の第１の側面領域に形成され、前記第２の内部電極層に接続されると共に、前記第１の被膜によって前記第１の内部電極層から絶縁された第１の側面電極と、
前記積層構造体の第２の側面領域に形成され、前記第１の内部電極層に接続されると共に、前記第２の被膜によって前記第２の内部電極層から絶縁された第２の側面電極と、
をさらに具備する請求項１又は２記載の積層構造体。
【請求項４】
前記誘電体層が、強誘電性を有する、請求項１〜３のいずれか１項記載の積層構造体。
【請求項５】
前記誘電体層が、圧電性を有する、請求項１〜３のいずれか１項記載の積層構造体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載の積層構造体を複数具備し、複数の前記積層構造体が１次元状に配置されている、積層構造体アレイ。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項記載の積層構造体を複数具備し、複数の前記積層構造体が２次元状に配置されている、積層構造体アレイ。
【請求項８】
積層構造体の製造方法であって、
第１の誘電体層を形成するステップ（ａ）と、
前記第１の誘電体層上に導電材料を配置することにより、第１の内部電極層を形成するステップ（ｂ）と、
前記第１の内部電極層上に第２の誘電体層を形成するステップ（ｃ）と、
前記第２の誘電体層上に導電材料を配置することにより、第２の内部電極層を形成するステップ（ｄ）と、
ステップ（ａ）〜（ｄ）において形成された前記第１の誘電体層と前記第１の内部電極層と前記第２の誘電体層と前記第２の内部電極層とを含むワークピースに溝を形成することにより、部分的に互いに繋がっている複数の構造体を生成すると共に、前記第１及び第２の内部電極層の端面を、各々の構造体における第１の側面領域、及び、前記第１の側面領域とは異なる第２の側面領域にそれぞれ露出させて、前記第１及び第２の内部電極層の端面にそれぞれ第１の導電材料膜及び第２の導電材料膜を選択的に形成するステップ（ｅ）と、
ステップ（ｅ）において形成された前記第１及び第２の導電材料膜の各々の少なくとも一部を絶縁化することにより、第１の皮膜及び第２の皮膜を形成するステップ（ｆ）と、
を具備する製造方法。
【請求項９】
ステップ（ａ）及び（ｃ）の各々が、原料の粉体を下層に吹き付けて堆積させるエアロゾルデポジション法を用いて前記第１又は第２の誘電体層を形成することを含む、請求項８記載の製造方法。
【請求項１０】
ステップ（ｆ）が、前記第１及び第２の導電材料膜の少なくとも一部を酸化、窒化、フッ化、又は、硫化することを含む、請求項８又は９記載の製造方法。
【請求項１１】
ステップ（ｅ）が、電着法を用いて前記第１及び第２の導電材料膜の少なくとも一部を形成することを含む、請求項８〜１０のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１２】
ステップ（ｅ）が、電着法として、電気メッキ法又は電気による泳動力を用いた成膜法を用いることを含む、請求項１１記載の製造方法。
【請求項１３】
ステップ（ｂ）が、前記第１の誘電体層上に、前記構造体の第１の側面領域に延在するように所定の温度で磁性を有する第１の導電材料を配置すると共に、前記構造体の第２の側面領域に延在するように所定の温度で磁性を有さない第２の導電材料を配置することを含み、
ステップ（ｄ）が、前記第２の誘電体層上に、前記構造体の第１の側面領域に延在するように前記第２の導電材料を配置すると共に、前記構造体の第２の側面領域に延在するように前記第１の導電材料を配置することを含み、
ステップ（ｅ）が、前記ワークピースに溝を形成することにより、前記第１の内部電極層において、前記第１の導電材料を各々の構造体の前記第１の側面領域に露出させると共に、前記第２の導電材料を各々の構造体の前記第２の側面領域に露出させ、前記第２の内部電極層において、前記第１の導電材料を各々の構造体の前記第２の側面領域に露出させると共に、前記第２の導電材料を各々の構造体の前記第１の側面領域に露出させて、各々の構造体の前記第１の側面領域において、前記第１の内部電極層の端面に磁性を有する粒子を付着させることにより前記第１の導電材料膜を形成すると共に、各々の構造体の前記第２の側面領域において、前記第２の内部電極層の端面に磁性を有する粒子を付着させることにより前記第２の導電材料膜を形成することを含む、
請求項８〜１０のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１４】
ステップ（ｅ）が、磁性を有する導電材料の粒子を液体に分散させたサスペンション中に、前記複数の構造体を浸すことを含む、請求項１３記載の製造方法。
【請求項１５】
ステップ（ａ）〜（ｄ）を繰り返すことにより、前記第１の誘電体層と前記第１の内部電極層と前記第２の誘電体層と前記第２の内部電極層との複数の組が積層される、請求項８〜１４のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１６】
各々の構造体の前記第１の側面領域に、前記第２の内部電極層に接続されると共に、ステップ（ｆ）において形成された第１の被膜によって前記第１の内部電極層から絶縁される第１の側面電極を形成し、各々の構造体の前記第２の側面領域に、前記第１の内部電極層に接続されると共に、ステップ（ｆ）において形成された第２の被膜によって前記第２の内部電極層から絶縁される第２の側面電極を形成するステップをさらに具備する請求項８〜１５のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１７】
ステップ（ｆ）の後で、各々の構造体に対して、ステップ（ｅ）におけるのと異なる方向に溝を形成して、複数組の部分的に互いに繋がっている積層構造体を生成するステップ（ｇ）をさらに具備する請求項８〜１６のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１８】
ステップ（ｅ）及び／又は（ｇ）において形成された溝に充填材を充填するステップと、
前記充填材が硬化した後で、前記部分的に互いに繋がっている複数の構造体、又は、前記複数組の部分的に互いに繋がっている積層構造体から、互いに繋がっている部分を削除するステップと、
をさらに具備する請求項８〜１７のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１９】
ステップ（ｅ）又は（ｇ）の後で、前記部分的に互いに繋がっている複数の構造体、又は、前記複数組の部分的に互いに繋がっている積層構造体を分離して、複数の積層構造体を生成するステップをさらに具備する請求項８〜１８のいずれか１項記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明に係る積層構造体は、第１の内部電極層と、該第１の内部電極層上に形成された誘電体層と、該誘電体層上に形成された第２の内部電極層と、積層構造体の第１の側面領域において第１の内部電極層の端面に形成された被膜であって、少なくとも一部に金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、及び、金属硫化物の内のいずれか１つを含む第１の被膜と、積層構造体の第１の側面領域とは異なる第２の側面領域において第２の内部電極層の端面に形成された被膜であって、少なくとも一部に金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、及び、金属硫化物の内のいずれか１つを含む第２の被膜とを具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明に係る積層構造体の製造方法は、第１の誘電体層を形成するステップ（ａ）と、第１の誘電体層上に導電材料を配置することにより、第１の内部電極層を形成するステップ（ｂ）と、第１の内部電極層上に第２の誘電体層を形成するステップ（ｃ）と、第２の誘電体層上に導電材料を配置することにより、第２の内部電極層を形成するステップ（ｄ）と、ステップ（ａ）〜（ｄ）において形成された第１の誘電体層と第１の内部電極層と第２の誘電体層と第２の内部電極層とを含むワークピースに溝を形成することにより、部分的に互いに繋がっている複数の構造体を生成すると共に、第１及び第２の内部電極層の端面を、各々の構造体における第１の側面領域、及び、第１の側面領域とは異なる第２の側面領域にそれぞれ露出させて、第１及び第２の内部電極層の端面にそれぞれ第１の導電材料膜及び第２の導電材料膜を選択的に形成するステップ（ｅ）と、ステップ（ｅ）において形成された第１及び第２の導電材料膜の各々の少なくとも一部を絶縁化することにより、第１の皮膜及び第２の皮膜を形成するステップ（ｆ）とを具備する。