【手続補正書】
【提出日】平成20年3月18日(2008.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に注入するためのシステムであって：
触媒及び／又は添加物の１種を保持している少なくも１個の貯蔵ビンと連通している集塵装置；
触媒及び／又は添加物の１種を集塵装置内に引き入れる集塵装置内の真空を真空発生装
置が発生させるように集塵装置と連通している真空発生装置；及び
触媒及び／又は添加物の１種を集塵装置から受け入れるために集塵装置と連通しているトランスファーポットであって、トランスファーポットと流動触媒分解ユニットとの間の圧力差に応答して触媒及び／又は添加物の１種が流動触媒分解ユニットに移送されるように流動触媒分解ユニットと圧縮空気源とに連通しているトランスファーポット
を備えたシステム。
【請求項２】
集塵装置と貯蔵ビンとに結合されたホースを更に備えており、集塵装置と貯蔵ビンとが該ホースを通して連通するようにされており、場合により、
（ａ）集塵装置を選択的に貯蔵ビンから隔離するためにホースに結合された第１の弁
又は
（ｂ）集塵装置と別の貯蔵ビンとが別のホースを通って連通するように、集塵装置及び別の貯蔵ビンとに結合された別のホース及び該複数のホースを集塵装置と選択的に連通させるために集塵装置及び該複数のホースに連通して結合されたマニホールド
を更に備える
請求項１のシステム。
【請求項３】
集塵装置は、真空発生装置と連通しているフィルターを備えており、該フィルターが集塵装置内からの塵埃を収集するようにされているか、
集塵装置及びトランスファーポットの各々がそれぞれの側壁を備えるか、
少なくも１個の貯蔵ビンと集塵装置とが隣接していないか
又は
集塵装置がトランスファーポットに隣接する
請求項１のシステム。
【請求項４】
圧縮空気源により供給される空気を乾燥するために容積室と水分トラップとを更に備える請求項１のシステム。
【請求項５】
集塵装置、トランスファーポット、及び集塵装置内に引き入れられる触媒及び／又は添加物の１種の重量を測定するために複数のロードセルを更に備える請求項１のシステム。
【請求項６】
集塵装置とトランスファーポットとを収容するためのキャビネットを更に備え、集塵装置とトランスファーポットとは複数の脚の上に取り付けられ、脚の各々は共通の板材に固定され、板材はロードセル上に取り付けられ、そしてロードセルはキャビネットのベース上に取り付けられる請求項５のシステム。
【請求項７】
集塵装置が、実質的に円筒状の上方部分及び隣接している実質的に円錐状の下方部分を備え；更に
トランスファーポットが、集塵装置の下方部分に隣接している実質的に円筒状の上方部分、及びトランスファーポットの上方部分に隣接している実質的に円錐状の下方部分を備える
請求項１のシステム。
【請求項８】
集塵装置の下方部分が、集塵装置からトランスファーポットへの触媒及び／もしくは添加物の１種の流れを許容するために内部に形成された開口を有し、場合により、開口を選択的に覆うための弁を更に備えるか、ここで弁は圧縮空気の衝突に応答して上方位置と下方位置との間を動き得るプラグを有する、
又は
トランスファーポットの下方部分が、トランスファーポットから流動触媒分解ユニットへの触媒及び／もしくは添加物の１種の流れを許容するために内部に形成された開口を更に有する
請求項７のシステム。
【請求項９】
真空発生装置が圧縮空気源と連通し、更に：
真空発生装置を選択的に圧縮空気源から隔離するための第１の弁；
トランスファーポットを選択的に圧縮空気源から隔離するための第２の弁；
トランスファーポットを選択的に流動触媒分解ユニットから隔離するための第３の弁；
集塵装置を選択的に貯蔵ビンから隔離するための第４の弁；及び
ロードセル並びに第１、第２、第３、及び第４の弁の作動を制御するための第１、第２、第３、及び第４の弁のそれぞれのアクチュエーターに電気的に結合された制御器
を備える請求項５のシステム。
【請求項１０】
制御器が：
第１の弁を開かせる第１の制御入力を発生させ；
所定量の触媒及び／又は添加物の１種が集塵装置内に引き入れられた後、それぞれ第１の弁及び第４の弁を閉鎖させる第２及び第３の制御信号を発生させ；
トランスファーポットを加圧するために第２の弁を開かせる第４の制御入力を発生させ；
トランスファーポットと流動触媒分解ユニットの再生装置との間の圧力差が所定のレベルに達した後、第２の弁を閉鎖させる第５の制御入力を発生させ；更に
第３の弁を開かせる第５の制御入力を発生させる
請求項９のシステム。
【請求項１１】
触媒及び／又は添加物を貯蔵しそして流動触媒分解ユニット内に装填するシステムであって、少なくも１種の触媒及び／又は添加物を第１の位置に貯蔵する貯蔵ビン、及び第１の位置から離れた第２の位置に置かれた装填ユニットであって貯蔵ビン及び流動触媒分解ユニットと選択的に連通する前記装填ユニットを備え、装填ユニットは負圧にして、装填ユニット内に得られた真空が少なくも１種の触媒及び／又は添加物を貯蔵ビンから引き出すようにすることができ、更に装填ユニットは少なくも１種の触媒及び／又は添加物が装填ユニットから流動触媒分解ユニットに移送されるように加圧することができる前記シス
テム。
【請求項１２】
装填ユニットが集塵装置及びトランスファーポットを備える請求項１１のシステム。
【請求項１３】
装填ユニットを負圧にするための真空発生装置、ここで好ましくは、集塵装置が、少なくも１種の触媒及び／もしくは添加物の貯蔵ビンから集塵装置への移送により発生した塵埃を収集するための、真空発生装置と連通しているフィルターを備える、
装填ユニット及び装填ユニット内の触媒及び／もしくは添加物の１種の重量を測定するために複数のロードセル、
又は
装填ユニットを収容するキャビネット、ここで装填ユニットは複数の脚の上に取り付けられ、脚の各々は共通の板材に固定され、板材はロードセル上に取り付けられ、そしてロードセルはキャビネットのベース上に取り付けられる
を更に備える請求項１１のシステム。
【請求項１４】
集塵装置が実質的に円筒状の上方部分及び隣接している実質的に円錐状の下方部分を備え；更に
トランスファーポットが、集塵装置の下方部分に隣接している実質的に円筒状の上方部分、及びトランスファーポットの上方部分と隣接している実質的に円錐状の下方部分を備える
請求項１２のシステム。
【請求項１５】
集塵装置の下方部分は、少なくも１種の触媒及び／又は添加物が貯蔵ビンから集塵装置内に引き入れられたとき集塵装置からトランスファーポットへの触媒及び／又は添加物の１種の流れを許容するために内部に形成された開口を有し、そして、システムは選択的に開口を覆う弁を更に備え、弁は圧縮空気の衝突に応答して上方位置と下方位置との間を動き得るプラグを有するか
又は
トランスファーポットの下方部分は、触媒及び／もしくは添加物の１種がトランスファーポットから流動触媒分解ユニットに流れることを許容するため、その中に形成された開口を有する
請求項１４のシステム。
【請求項１６】
集塵装置及びトランスファーポットの各々がそれぞれの側壁を備えるか又は集塵装置がトランスファーポットと隣接する請求項１２のシステム。
【請求項１７】
第２の位置が第１の位置から約１２フィートより遠くない所に置かれるか
又は
システムが少なくも２個の貯蔵ビンを備え、そして、装填ユニットが、場合により、装填ユニットを少なくも２個の貯蔵ビンと選択的に連通させるためのマニホールドを更に備える
請求項１１のシステム。
【請求項１８】
触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に装填するためのシステムであって：
第１の触媒及び／又は添加物を貯蔵するための第１のビン；
第２の触媒及び／又は添加物を貯蔵するための第２のビン；
第１と第２のビン及び流動触媒分解ユニットと連通している装填ユニット；
第１のビンを選択的に装填ユニットから隔離するための第１の弁；
第２のビンを選択的に装填ユニットから隔離するための第２の弁；及び
装填ユニットを選択的に流動触媒分解ユニットから隔離するための第３の弁
を備えるシステム。
【請求項１９】
第１及び第２の弁を備えたマニホールド、
第１及び第２のビンをそれぞれ装填ユニットに結合させるための第１及び第２のホース、
又は
制御器、ここで制御器は、制御器が第１、第２、及び第３の弁を開閉し得るように第１、第２、及び第３の弁のそれぞれのアクチェーターに電気的に結合されている、
を更に備える請求項１８のシステム。
【請求項２０】
装填ユニットは第１及び第２の触媒及び／又は添加物が真空によりそれぞれ第１及び第２のビンから装填ユニット内に引き入れられるように内部の真空を維持することができ、
更に装填ユニットは第１及び第２の触媒及び／又は添加物が装填ユニットの加圧に応答して流動触媒分解ユニット内に注入され得るように加圧することができる請求項１８のシステム。
【請求項２１】
装填ユニットが集塵装置及びトランスファーポットを備える請求項２０のシステム。
【請求項２２】
集塵装置は第１及び第２の触媒及び／もしくは添加物が真空によりそれぞれ第１及び第２のビンから集塵装置内に引き入れられるように内部の真空を維持することができ、更にトランスファーポットはトランスファーポットの加圧に応答して第１及び第２の触媒及び／もしくは添加物を流動触媒分解ユニット内に注入し得るように加圧することができるか、
集塵装置が、少なくも１種の触媒及び／もしくは添加物のそれぞれ第１及び第２のビンから装填ユニットへの移送により発生した塵埃を収集するためのフィルターを備えるか
集塵装置が、実質的に円筒状の上方部分に隣接している実質的に円錐状の下方部分を備え、そして、トランスファーポットが、集塵装置の下方部分に隣接している実質的に円筒状の上方部分、及びトランスファーポットの上方部分と隣接している実質的に円錐状の下方部分を備えるか、
トランスファーポット及び集塵装置は、各々がそれぞれの側壁を備えるか
又は
集塵装置がトランスファーポットに隣接している
請求項２１のシステム。
【請求項２３】
装填ユニット内に真空を発生させるための真空発生装置
又は
装填ユニットを加圧するために使用される空気を乾燥するために容積室及び水分トラップ
を更に備える請求項２０のシステム。
【請求項２４】
第１のビンと装填ユニットとが隣接せず、かつ第２のビンと装填ユニットとが隣接しない請求項１８のシステム。
【請求項２５】
触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に導入するためのシステムであって：
触媒及び／又は添加物の１種を保持している貯蔵ビンと連通している集塵手段；
真空発生手段が１種の触媒及び／又は添加物を集塵手段内に引き入れるように、集塵手段と連通している真空発生手段；及び
触媒及び／又は添加物の１種を集塵手段から受け入れそして触媒及び／又は添加物の１種を流動触媒分解ユニット内に注入する手段
を備えたシステム。
【請求項２６】
触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に導入する方法であって：
装填ユニット内に真空を発生させ；
真空に応答して１種の触媒及び／又は添加物を貯蔵ビンから装填ユニット内に引き入れ；
装填ユニットを加圧し；更に
装填ユニットの加圧に応答して触媒及び／又は添加物の１種を流動触媒分解ユニット内に注入する
ことを含む方法。
【請求項２７】
装填ユニット内に吸引される触媒及び／又は添加物の１種の重量を監視し、そして重量が所定値に達したとき真空の発生を停止させる請求項２６の方法。
【請求項２８】
ユニット内の真空を発生させることが、装填ユニットと連通している真空発生装置を通る圧縮空気の流れを開始することを含むか、
装填ユニットの加圧に応答して触媒及び／もしくは添加物の１種を流動触媒分解ユニット内に注入することが、触媒及び／もしくは添加物の１種を流動触媒分解ユニットの再生装置内に注入することを含むか、
真空に応答して触媒及び／又は添加物の１種を貯蔵ビンから装填ユニット内に引き入れることが、貯蔵ビンを装填ユニットと連通状態にするために弁を開くことを含み、そして、場合により更に、別の貯蔵ビンを装填ユニットと連通状態にするために別の弁を開くことにより、真空に応答して別の触媒及び／もしくは添加物を別の貯蔵ビンから装填ユニットへ引き入れることを含むか、
装填ユニットを加圧することが、装填ユニットを圧縮空気源と連通状態にするように弁を開くことを含むか、
ユニット内に真空を発生させそして真空に応答して触媒及び／もしくは添加物の１種を貯蔵ビンから装填ユニット内に引き入れることが、装填ユニットの集塵装置において真空を発生させそして真空に応答して触媒及び／もしくは添加物の１種を貯蔵ビンから集塵装置内に引き入れることを含むか、
又は
装填ユニットを加圧しそして触媒及び／もしくは添加物の１種を装填ユニットの加圧に応答して流動触媒分解ユニット内に注入することが、装填ユニットのトランスファーポットを加圧しそして触媒及び／もしくは添加物の１種をトランスファーポットから流動触媒分解ユニット内に注入することを含む
請求項２６の方法。
【請求項２９】
触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に装填する方法であって：
少なくも１種の触媒及び／又は添加物を第１の位置において貯蔵し；
少なくも１種の触媒及び／又は添加物を第２の位置に置かれたユニット内に排気により吸引し；更に
少なくも１種の触媒及び／又は添加物を装填ユニットから流動触媒分解ユニット内に注入する
ことを含んだ方法。
【請求項３０】
流体の流れの中に１種又はそれ以上の粒子状物質を導入するためのシステムであって：
１種又はそれ以上の粒子状物質を保持している少なくも１個の貯蔵ビンと連通している集塵手段；
１種又はそれ以上の粒子状物質を真空により少なくも１個の貯蔵ビンから集塵手段内に引き入れるように、集塵手段と連通している真空発生手段；及び
１種又はそれ以上の粒子状物質を集塵手段から受け入れそして１種又はそれ以上の粒子状物質を流体の流れの中に注入するための手段
を備えたシステム。
【請求項３１】
第１の貯蔵ビンと連通している第１の案内管、及び第２の貯蔵ビンと連通している第２の案内管を更に備え、第１の案内管の第１の端部及び第２の案内管の第１の端部の各々が集塵装置の側壁に固定される請求項１のシステム。
【請求項３２】
第１の案内管の第２の端部が第２の案内管の第２の端部に固定される請求項３１のシステム。
【請求項３３】
第１の案内管の第２の端部が集塵装置内で第２の案内管の第２の端部に固定され、そして第１及び第２の案内管が集塵装置の中心線に近い位置において触媒及び／又は添加物を排出する請求項３２のシステム。
【請求項３４】
第３の貯蔵ビンと連通している第３の案内管、及び第４の貯蔵ビンと連通している第４の案内管を更に備え、第３の案内管の第１の端部と第４の案内管の第１の端部の各々が集塵装置の側壁に固定され、第３の案内管の第２の端部が第２の案内管の第２の端部に固定され、そして第４の案内管の第２の端部が第３の案内管の第２の端部に固定される請求項３２のシステム。
【請求項３５】
集塵装置を選択的に第１の貯蔵ビンと連通状態に置くために第１の案内管に取り付けられた第１の弁、及び集塵装置を選択的に第２の貯蔵ビンと連通状態に置くために第２の案内管に取り付けられた第２の弁を更に備える請求項３１のシステム。
【請求項３６】
マニホールドを更に備え、マニホールドは、マニホールドが集塵装置内に置かれるように、第１の案内管の第２の端部及び第２の案内管の第２の端部に固定されている請求項３１のシステム。
【請求項３７】
マニホールドが、集塵装置を第１の貯蔵ビンと選択的に連通状態に置くために第１の貯蔵ビンと連通している第１の弁、及び集塵装置を第２の貯蔵ビンと選択的に連通状態に置くために第２の貯蔵ビンと連通している第２の弁を備える請求項３６のシステム。
【請求項３８】
マニホールドが、触媒及び／又は添加物をマニホールドから集塵装置の内部容積内に排出するための排出案内管を更に備える請求項３６のシステム。
【請求項３９】
第３の貯蔵ビンと連通している第３の案内管、及び第４の貯蔵ビンと連通している第４の案内管を更に備え、第３及び第４の案内管が集塵装置内に伸びるように第３の案内管の第１の端部と第４の案内管の第１の端部の各々が集塵装置の側壁に固定され、そしてマニホールドが更に第３の案内管の第２の端部及び第４の案内管の第２の端部に固定される請求項３８のシステム。
【請求項４０】
排出案内管が、触媒及び／又は添加物を集塵装置の中心線に近い位置において排出する請求項３８のシステム。
【請求項４１】
装填ユニットの集塵装置内に真空を発生させ；
粒子状材料が集塵装置に隣接した装填ユニットのトランスファーポットに入るように真空に応答して粒子状材料を貯蔵ビンから集塵装置内に引き入れ；
トランスファーポットを加圧し；そして
トランスファーポットの加圧に応答して粒子状材料をトランスファーポットから排出する
ことを含む輸送プロセス。
【請求項４２】
第２の粒子状材料がトランスファーポットに入るように真空に応答して第２の粒子状材料を第２の貯蔵ビンから集塵装置内に引き入れ；
トランスファーポットを再加圧し；そして
トランスファーポットの再加圧に応答して第２の粒子状材料をトランスファーポットから排出する
ことを更に含んだ請求項４１のプロセス。
【請求項４３】
粒子状材料が吸湿性材料、引火性材料、触媒、及び添加物から選択される請求項４１のプロセス。
【請求項４４】
キャビネットが、システム用の輸送コンテナーとして機能するように適合された請求項６又は１３のシステム。
【請求項４５】
第１の貯蔵ビンと連通している第１の案内管、及び第２の貯蔵ビンと連通している第２の案内管を更に備え、第１の案内管の第１の端部と第２の案内管の第１の端部との各々が集塵装置の側壁に固定される請求項１７又は１８のシステム。
【請求項４６】
第１の案内管の第２の端部が第２の案内管の第２の端部に固定される請求項４５のシステム。
【請求項４７】
第１の案内管の第２の端部が装填ユニット内で第２の案内管の第２の端部に固定され、そして第１及び第２の案内管が装填ユニットの中心線に近い位置において触媒及び／又は添加物を排出する請求項４６のシステム。
【請求項４８】
第３の貯蔵ビンと連通している第３の案内管、及び第４の貯蔵ビンと連通している第４の案内管を更に備え、第３の案内管の第１の端部と第４の案内管の第１の端部の各々が装填ユニットの側壁に固定され、第３の案内管の第２の端部が第２の案内管の第２の端部に固定され、そして第４の案内管の第２の端部が第３の案内管の第２の端部に固定される請求項４６のシステム。
【請求項４９】
マニホールドを更に備え、マニホールドはマニホールドが装填ユニット内に置かれるように、第１の案内管の第２の端部及び第２の案内管の第２の端部に固定される請求項４５のシステム。
【請求項５０】
マニホールドが、集塵装置を第１の貯蔵ビンと選択的に連通状態に置くために第１の貯蔵ビンと連通している第１の弁、及び集塵装置を第２の貯蔵ビンと選択的に連通状態に置くために第２の貯蔵ビンと連通している第２の弁を備える請求項１７に従属する請求項４９のシステム。
【請求項５１】
マニホールドが、触媒及び／又は添加物をマニホールドから集塵装置の中心線の近くの位置で集塵装置の内部容積内に排出するための排出案内管を更に備える請求項４９のシステム。