【手続補正書】
【提出日】平成19年11月14日(2007.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）親水性表面を含む基材；
ｂ）親水性表面上の下地層；及び
ｃ）下地層上のトップ層
を含む画像形成可能なエレメントであって、
前記トップ層はインキ受容性であり、
前記下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、
前記下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わせを含み、
前記トップ層は第３のポリマー物質を含み、
前記下地層の耐薬品性パラメーターが０．４を超え、
前記エレメントが８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲内の波長を有する放射を吸収することを特徴とする画像形成可能なエレメント。
【請求項２】  前記下地層が、第１のポリマー物質と第２のポリマー物質を含み、下地層中の第１のポリマー物質と第２のポリマー物質の合計重量に対して、第１のポリマー物質は１０重量％から９０重量％、第２のポリマー物質は１０重量％から９０重量％であり、
８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、前記第１のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、２０％未満であり
８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、２０％未満である、請求項１記載のエレメント。
【請求項３】  前記下地層がさらに、８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲内の波長を有する放射を吸収する吸収剤を、１重量％乃至３０重量％含む、請求項１又は２記載のエレメント。
【請求項４】  前記第３のポリマー物質が、フェノール性のヒドロキシル基を含み、トップ層が少なくとも一の溶解抑制成分を含む請求項１乃至３のいずれか１項記載のエレメント。
【請求項５】  前記第３のポリマー物質が、ノボラック樹脂である請求項４記載のエレメント。
【請求項６】  第１のポリマー物質が、カルボン酸、Ｎ−置換環状イミド、アミドからなる群より選択される少なくとも一の官能基を含むものであるか、又はＮ−置換マレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸を含むコポリマーであり、
第２のポリマー物質が、ニトリル及びスルホンアミドからなる群より選択される少なくとも一の官能基を含むものであるか、又はペンダント尿素基を含むコポリマー、ペンダントスルホンアミド基を含むコポリマー、もしくはペンダント尿素基を含むコポリマーとペンダントスルホンアミド基を含むコポリマーとの組み合わせである、請求項１乃至５のいずれか１項記載のエレメント。
【請求項７】  第２のポリマー物質が、下式：
［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］
（式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である）
で表される１以上のモノマーを２０乃至８０重量％含む請求項１乃至６のいずれか１項記載のエレメント。
【請求項８】  （１）請求項１乃至７のいずれか１項記載の画像形成可能なエレメントを画像形成して、画像形成されたエレメントを形成する工程であって、該画像形成可能なエレメントは、
ａ）親水性表面を含む基材；
ｂ）親水性表面上の下地層；及び
ｃ）下地層上のトップ層
を含む画像形成可能なエレメントであって、
前記トップ層はインキ受容性であり、
前記下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、
前記下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わせを含み、
前記トップ層は第３のポリマー物質を含み、かつ
前記下地層の耐薬品性パラメーターが０．４を超えるものである工程；及び
（２）  画像形成されたエレメントを、水性アルカリ現像液で現像して、画像形成及び現像済みエレメントを形成し、画像形成及び現像済みエレメントは画像を含むものである工程；
を含む、画像形成方法。
【請求項９】  請求項８記載の方法で調製された、リソグラフ印刷部材として有用な画像形成及び現像済みエレメント。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】
本発明の以上の説明に基づき、特許請求の範囲とその均等物をクレームする。
本発明のさらなる態様を、特許請求の範囲の記載と関連して、以下に記載する。
〔態様１〕  ａ）親水性表面を含む基材；
ｂ）親水性表面上の下地層；及び
ｃ）下地層上のトップ層
を含む画像形成可能なエレメントであって、
前記トップ層はインキ受容性であり、
前記下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、
前記下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わせを含み、
前記トップ層は第３のポリマー物質を含み、
前記下地層の耐薬品性パラメーターが約０．４を超え、
前記エレメントが８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲内の波長を有することを特徴とする画像形成可能なエレメント。
〔態様２〕  前記下地層が、第１のポリマー物質と第２のポリマー物質を含み、下地層中の第１のポリマー物質と第２のポリマー物質の合計重量に対して、第１のポリマー物質は約１０重量％から約９０重量％、第２のポリマー物質は約１０重量％から約９０重量％であり、
８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、前記第１のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、２０％未満であり
８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、２０％未満である、上記態様１に記載のエレメント。
〔態様３〕  前記下地層の耐薬品性パラメーターが、約０．５を超える、上記態様１又は２に記載のエレメント。
〔態様４〕  ８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、前記第１のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、１０％未満であり、
８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、１０％未満である、上記態様１乃至３のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様５〕  前記下地層の耐薬品性パラメーターが、約０．６を超える、上記態様１乃至４のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様６〕  ８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、前記第１のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、５％未満であり、
８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、５％未満である、上記態様１乃至５のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様７〕  前記下地層がさらに、約８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射を吸収する吸収剤を、約１重量％乃至約３０重量％含む、上記態様１乃至６のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様８〕  前記第３のポリマー物質が、フェノール性のヒドロキシル基を含み、トップ層が少なくとも一の溶解抑制成分を含む上記態様１乃至７のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様９〕  前記第３のポリマー物質が、ノボラック樹脂である上記態様８に記載のエレメント。
〔態様１０〕  前記トップ層が、ｏ−ジアゾナフトキノン部分を含む化合物を含む上記態様１乃至９のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様１１〕  前記下地層がさらに、ノボラック樹脂を含み、前記下地層中の第１のポリマー物質、第２のポリマー物質、及びノボラック樹脂の合計重量に対して、ノボラック樹脂が約１乃至約２０重量％である、上記態様１乃至１０のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様１２〕  第１のポリマー物質が、カルボン酸、Ｎ−置換環状イミド、及びアミドらなる群より選択される少なくとも一の官能基を含み、
第２のポリマー物質が、ニトリル及びスルホンアミドからなる群より選択される少なくとも一の官能基を含む、上記態様１乃至１１のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様１３〕  第１のポリマー物質が、Ｎ−置換マレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸を含む、コポリマーであり、
第２のポリマー物質が、（１）ペンダント尿素基を含むコポリマー、（２）ペンダントスルホンアミド基を含むコポリマー、又は（３）又はそれらの組み合わせのいずれかである、上記態様１乃至１２のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様１４〕  第１のポリマー物質が、約２５乃至約７５モル％のＮ−フェニルマレイミド；約１０乃至約５０モル％のメタクリルアミド；及び約５乃至約３０モル％のメタクリル酸を含む上記態様１３に記載のエレメント。
〔態様１５〕  第１のポリマー物質が、約３５乃至約６０モル％のＮ−フェニルマレイミド；約１５乃至約４０モル％のメタクリルアミド；及び約１０乃至約３０モル％のメタクリル酸を含む上記態様１３に記載のエレメント。
〔態様１６〕  第２のポリマー物質が、下式：
［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］
（式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である）
で表される１以上のモノマーを約２０乃至８０重量％含む上記態様１乃至１５のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様１７〕  ＲがＣＨ3；Ｘが−（ＣＨ2ＣＨ2）−；Ｙが非置換の１，４−フェニレン：及びＺが−ＯＨである、上記態様１６に記載のエレメント。
〔態様１８〕  第２のポリマー物質が約１０乃至９０モル％のスルホンアミドモノマー単位；アクリロニトリル又はメタクリロニトリル；及びメチルメタクリレート又はメチルアクリレートを含む、上記態様１乃至１５のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様１９〕  下地層の耐薬品性パラメーターが少なくとも約０．６５である上記態様１乃至１８のいずれか１つに記載のエレメント。
〔態様２０〕  （１）上記態様１乃至１８のいずれか１つに記載の画像形成可能なエレメントを画像形成して、画像形成されたエレメントを形成する工程であって、該画像形成可能なエレメントは、
ａ）親水性表面を含む基材；
ｂ）親水性表面上の下地層；及び
ｃ）下地層上のトップ層
を含む画像形成可能なエレメントであって、
前記トップ層はインキ受容性であり、
前記下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、
前記下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わせを含み、
前記トップ層は第３のポリマー物質を含み、かつ
前記下地層の耐薬品性パラメーターが約０．４を超えるものである工程；及び
（２）  画像形成されたエレメントを、水性アルカリ現像液で現像して、画像形成及び現像済みエレメントを形成し、画像形成及び現像済みエレメントは画像を含むものである工程；
を含む、画像形成方法。
〔態様２１〕  工程（２）の後に、さらに
（３）画像形成及び現像済みエレメントを焼き付ける工程
を含む上記態様２０に記載の方法。
〔態様２２〕  紫外線又は可視光放射でエレメントを露光して画像形成を行なう、上記態様２０又は２１に記載の方法。
〔態様２３〕  サーマルヘッドで画像形成を行なう、上記態様２０又は２１に記載の方法。
〔態様２４〕  上記態様２０乃至２３のいずれか１つに記載の方法で調製された、リソグラフ印刷部材として有用な画像形成及び現像済みエレメント。
〔態様２５〕  第１のポリマー物質と第２のポリマー物質の組み合わせを少なくとも５０重量％含む組成物であって、前記組み合わせは、組成物中の第１のポリマー物質と第２のポリマー物質の合計重量に対して、約１０重量％乃至約９０重量％の第１のポリマー物質と、約１０重量％乃至約９０重量％の第２のポリマー物質の組み合わせを含むものであり、
第１のポリマー物質が、約２５乃至約７５モル％のＮ−フェニルマレイミド；約１０乃至約５０モル％のメタクリルアミド；及び約５乃至約３０モル％のメタクリル酸を含み；及び
第２のポリマー物質が（１）下式：
［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］
（式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である）
で表される１以上のモノマーを約２０乃至８０重量％、
又は（２）約１０乃至９０モル％のスルホンアミドモノマー単位；アクリロニトリル又はメタクリロニトリル；及びメチルメタクリレート又はメチルアクリレートのいずれかを含むものである、
組成物。
〔態様２６〕  第１のポリマー物質が、約３５乃至約６０モル％のＮ−フェニルマレイミド；約１５乃至約４０モル％のメタクリルアミド；及び約１０乃至約３０モル％のメタクリル酸を含む上記態様２５に記載の組成物。
〔態様２７〕  前記組成物が、（１）一般式：
［ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ2−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4−ＯＨ］
で表される１以上のモノマーを約２０乃至８０重量％含むもの、
又は
（２）Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド；アクリロニトリル；及び（３）メチルメタクリレートを含むもの
のいずれかである上記態様２６に記載の組成物。
〔態様２８〕  組成物がさらに約１ないし約２０重量％のノボラック樹脂を含む上記態様２５乃至２７のいずれか１つに記載の組成物。
〔態様２９〕  組み合わせが少なくも約６０重量％の組み合わせを含む上記態様２５乃至２８のいずれか１つに記載の組成物。
〔態様３０〕  組み合わせが少なくも約６５重量％の組み合わせを含む上記態様２５乃至２８のいずれか１つに記載の組成物。
〔態様３１〕  組成物がさらに、約８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射を吸収する吸収剤を、約１重量％乃至約３０重量％含む、上記態様２５乃至３０のいずれか１つに記載の組成物。