【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を露光する露光装置であって、
Ｘ方向およびＹ方向に移動するステージと、
前記基板を保持するチャックと、
前記ステージに固定され、前記ステージの前記Ｘ方向の位置を計測する際に用いられるＸバーミラーおよび前記ステージの前記Ｙ方向の位置を計測する際に用いられるＹバーミラーが取付けられた板と、
前記板上に設けられ、前記チャックを支持して、前記板に対して前記チャックをＸＹ面内で少なくとも９０度回転させる回転機構と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記基板は長方形の被露光面を有するガラス基板であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記ステージは、前記ガラス基板上に第１パネルおよび第２パネルを露光する間はスキャン移動し、前記第１パネルの露光終了から前記第２パネル露光開始までの間はステップ移動し、
前記回転機構は、前記第１パネルの露光終了から前記第２パネル露光開始までの間に、前記チャックが前記基板を保持したままの状態で、前記チャックを回転させることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記回転機構は、前記ガラス基板上に露光されるパネルのレイアウトを定義するジョブの入力に応じて求められた方向に前記ガラス基板が合うように、前記チャックを回転させることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】  原版上のストライプパターンを前記ガラス基板上に縦および横のストライプパターンとして露光する際、前記縦および横のストライプパターンのうち一方を露光した後、前記回転機構が前記チャックを９０度回転させて、前記縦および横のストライプパターンのうちもう一方を露光することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項６】  請求項１から５のいずれか１つに記載の露光装置を用いて、基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかし、従来の露光装置では、ガラス基板の向きを９０度回転させる手段が無く、どうしても９０度回転させるためには、露光装置内部にあってガラス基板を保持する保持板（以下プレートチャックという）の取付け方向を変更し、９０度回転の要望に対応していた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
さらに露光装置の内部の保持板の変更以外にも、露光の前工程の機械から露光装置にガラス基板を搬送する際に、ガラス基板を９０度回転させることが必要であり、ガラス基板搬送機構にも改造が必要であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の目的は、１種類のチャックのみを用いて、露光方向に対し０から９０度回転できるステージを用意し、２通りのガラス基板の位置決めが可能な露光装置を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明に係る露光装置は、基板を露光する露光装置であって、Ｘ方向およびＹ方向に移動するステージと、前記基板を保持するチャックと、前記ステージに固定され、前記ステージの前記Ｘ方向の位置を計測する際に用いられるＸバーミラーおよび前記ステージの前記Ｙ方向の位置を計測する際に用いられるＹバーミラーが取付けられた板と、前記板上に設けられ、前記チャックを支持して、前記板に対して前記チャックをＸＹ面内で少なくとも９０度回転させる回転機構と、を備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【実施例】
（第１の実施例）
本発明の第１の実施例について図面を参照しながら詳細に説明する。
図１および図２は、本発明の第１の実施例に係わる露光装置に搭載するプレートステージの概念を示す斜視図である。
この露光装置に搭載される図１に示すプレートステージにおいて、１はＸ方向に面して配置されたＸバーミラー、２はＹ方向に面して配置されたＹバーミラー、３はＸバーミラー１とＹバーミラー２を固定しているバーミラー取付け板、４は露光用ステージを拘束しＸ方向に案内するＸ方向ガイド、５はガラス基板を固定する保持板としてのプレートチャック、６はプレートチャック５を回転させる回転機構、７はバーミラー取付け板３を搭載するＸ方向スライダである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（第２の実施例）
図３は本発明の第２の実施例の説明用斜視図である。
ガラス基板に縦横のストライプを描画するような製造工程においては、はじめに、図３（ａ）に示すように縦線８ａを有するマスク８を用いて縦線を描画した後、図３（ｂ）に示すようにガラス基板９を９０度回転させ、同一マスク８を用いて露光することにより、横線を描画することができる。
この本発明の第２の実施例によれば、縦横ストライプ工程の場合、縦のストライプ用マスク１枚のみで、ガラス基板９上に縦横のストライプを描画することができる。
（第３の実施例）
次に、本発明の第３の実施例を構成する回転機構６は、ガラス基板９上に露光されるパネルのレイアウトを定義するジョブの入力に応じて求められた方向にガラス基板９が合うように、プレートチャック５を回転させる。
この本発明の第３の実施例によれば、ガラス基板９のサイズと希望するパネルサイズを入力することにより、露光装置が最適なガラス基板９の方向を計算し、自動的に回転機構６が０あるいは９０度方向にガラス基板９の向きを変え、効率よくパネルを生産することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【デバイス生産方法の実施例】
次に上記説明した投影露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
図５は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハ（特に、ガラス基板）を製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施例に係わる露光装置に搭載するプレートステージの概念を示す斜視図である。
【図２】  図１におけるチャックを９０度回転させた状態を表した斜視図である。
【図３】  本発明の実施例に係わるガラス基板を９０度回転させ、縦横ストライプを描画する方法を表した斜視図である。
【図４】  従来のパネルレイアウトを表した図である。
【図５】  微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図６】  図５におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【符号の説明】  １：Ｘバーミラー、２：Ｙバーミラー、３：バーミラー取付け板（露光用ステージを構成する）、４：Ｘ方向ガイド、５：プレートチャック（保持板）、６：回転機構、７：Ｘ方向スライダ、８：マスク（原版）、９：ガラス基板（被露光体）。