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【手続補正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）と、
高伝熱性材料、特に金属、からなるベース（５）を有する多層基板（１７）と、
前記発光ダイオードチップ（１）の発光表面と前期基板との間に設けられる電気絶縁・伝熱接続層（２）とを備え、
前記発光ダイオードチップ（１）と前記基板（１７）との間に、それらと別体の中間担体（１０）が設けられ、前記発光ダイオードチップ（１）が該中間担体と電気的に接触し、
前記中間担体（１０）は窒化アルミニウム基体により形成されることを特徴とする、発光ダイオードの構成。
【請求項２】
前記電気絶縁接続層（２）は前記基板（１７）側にある発光ダイオードチップ（１）の少なくとも境界表面（１５）であることを特徴とする、請求項１に記載の構成。
【請求項３】
前記電気絶縁接続層は少なくとも接着層（２）であることを特徴とする、請求項１または２に記載の構成。
【請求項４】
前記発光ダイオードチップ（１）は前記基板（１７）の窪み（１６）に収容されることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の構成。
【請求項５】
前記発光ダイオードチップ（１）は前記基板（１７）のベース材料（５）における窪み（１２）の領域に配設されることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の構成。
【請求項６】
前記発光ダイオードチップ（１）は前記基板（１７）の輪郭から突出しないことを特徴とする、請求項４または５に記載の構成。
【請求項７】
前記発光ダイオードチップ（１）は前記基板（１７）の上面と面一であることを特徴とする、請求項４から６のいずれかに記載の構成。
【請求項８】
前記窪み（１２、１６）は反射体の機能を有することを特徴とする、請求項４から６のいずれかに記載の構成。
【請求項９】
前記窪み（１２、１６）の壁は少なくとも部分的に傾斜していることを特徴とする、請求項４から８のいずれかに記載の構成。
【請求項１０】
前記発光ダイオードチップ（１）は発光ダイオードの基体が板（１７）の側にあるように配設されることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の構成。
【請求項１１】
前記発光ダイオードの基体は電気絶縁性材料からなることを特徴とする、請求項１０に記載の構成。
【請求項１２】
前記発光ダイオードの基体はサファイアからなることを特徴とする、請求項１１に記載の構成。
【請求項１３】
前記発光ダイオードチップ（１）は発光ダイオードの基体が基板（５）から離れた側にあることを特徴とする、請求項１から１２のいずれかに記載の構成。
【請求項１４】
前記発光ダイオードチップ（１）は導電性接着剤（２０）を介して前記中間担体（１０）上に配置されることを特徴とする、前記請求項１〜１３のいずれか１項に記載の構成。
【請求項１５】
前記中間担体（１０）の基板（１７）側の側面は電気絶縁性であることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の構成。
【請求項１６】
前記中間担体（１０）の発光ダイオードチップ（１）側の領域は導電性領域を有することを特徴とする、請求項１５に記載の構成。
【請求項１７】
少なくとも前記発光ダイオードチップ（１）の領域はレンズ（６）、特にフレネルレンズ（９）で覆われることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の構成。
【請求項１８】
前記基板（１７）と前記レンズ（６、９）との間の領域は少なくとも部分的に色変換材料（１３）で充填されることを特徴とする、請求項１７に記載の構成。
【請求項１９】
前記色変換材料（１３）は前記発光ダイオードチップ（１）の上方および側方に配置さることを特徴とする、請求項１８に記載の構成。
【請求項２０】
前記発光ダイオードチップ（１）はワイヤ（１１）により回路基板（３）に接触しており、該回路基板は間に存する絶縁層（４）を介して前記基板（１７）に設けられることを特徴とする、前記請求項のいずれかに記載の構成。
【請求項２１】
少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）と、
高伝熱層（５）、特に金属、からなるベース（５）を有する多層基板（１７）と、
前記発光ダイオードチップ（１）の発光表面と前記基板（１７）との間に設けられる電気絶縁・伝熱接続層（２）とを備え、
前記発光ダイオードチップ（１）と前記基板（１７）との間に、それらと別体の中間担体（１０）が設けられ、前記発光ダイオードチップ（１）が該中間担体と電気的に接触し、
色変換材料（１３）が前記発光ダイオードチップ（１）の上方および側方に配置さることを特徴とする、発光ダイオードの構成。
【請求項２２】
少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）と、
高伝熱層（５）、特に金属、からなるベース（５）を有する多層基板（１７）と、
前記発光ダイオードチップ（１）の発光表面と前記基板（１７）との間に設けられる電気絶縁・伝熱接続層（２）とを備え、
前記発光ダイオードチップ（１）と前記基板（１７）との間に、それらと別体の中間担体（１０）が設けられ、前記発光ダイオードチップ（１）が該中間担体と電気的に接触し、
前記発光ダイオードチップ（１）は導電性接着剤（２０）を介して前記中間担体（１０）上に配置されることを特徴とする、発光ダイオードの構成。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
ＬＥＤダイスの基体が基板１７側にある上記構成により、ＬＥＤダイスは、ＬＥＤダイ
ス１の上面にあるワイヤ１１によって導電路３の側へ電気的に接触する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
メタルコア基板１７のベース材料５の下側には、公知の種類の冷却体１４を更に配設してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部にチャンバを有するとともに、周囲を取り囲む外表面部を形造っている本体と；
前記本体内に配置された膨張用バルブと；
前記チャンバ内のエア圧力が第１所定圧力レベルを超えるとエアを開放するために、前記本体内に配置された超過圧力バルブと；を備え、
前記超過圧力バルブは、
前記本体を通って前記チャンバから前記周囲を取り囲む外表面部へ延びる、少なくとも１つのエア導通路と；
前記エア導通路を通常時には閉止状態に保つように、前記周囲を取り囲む外表面部の廻りに収縮性をもって嵌合されたリング形状の弾性部材と；を備え、
前記弾性部材は、前記チャンバ内のエア圧力が前記第１所定圧力レベルを超えると、前記導通路から外部環境へのエア通路をもたらすように引き伸ばされる特性および寸法を有しており、
前記本体の底部は、タイヤバルブを中央で本体内に受容するための空洞部を形造り、該空洞部は、前記タイヤバルブのネジ部に装置をネジ止めするためのネジ部を形成している、
ことを特徴とする空圧タイヤ用の圧力リリーフ装置。
【請求項２】
前記弾性部材は前記外表面部の縮径部に配置されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記超過圧力バルブはハウジング内に配置されたバネ要素を更に備え、該バネ要素は、閉塞素子が第２所定圧力レベルで開くように該閉塞素子に閉止力を加える、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記本体は、前記第１及び第２所定圧力レベルの少なくとも何れか一方よりも高い圧力で破損する特性の脆弱部を備えていることを特徴とする請求項１から３の何れか一に記載の装置。
【請求項５】
前記装置はタイヤバルブのステムを解放するピンを更に備え、該ピンは、本体の第１通路内において、タイヤのステムを解放することができない第１位置と前記ステムを解放することができる第２位置との間で、軸方向にスライドすることができるように配置されており、前記本体は、タイヤを膨らませている間はエアが通過し得るバイパス通路を形造っている、ことを特徴とする請求項１から４の何れか一に記載の装置。
【請求項６】
前記装置はタイヤバルブのステムを解放するピンを更に備え、該ピンは、本体の第１通路内において、タイヤのステムを解放することができない第１位置と前記ステムを解放することができる第２位置との間で、軸方向にスライドすることができるように配置されており、前記ピンは、装置がタイヤに取り付けられているときに、タイヤから隔たっている装置の端部に、頭部を有しており、この頭部はピンが第１位置にあるときに本体の内部カラー部に当接するように配置されている、ことを特徴とする請求項１から４の何れか一に記載の装置。
【請求項７】
前記本体の底部は、タイヤのバルブを中央で本体内に受容するためのキャビティ部を形造り、前記本体の上部は、本体内の膨張用バルブを膨張用の装置に接続されるのに適合しており、前記エア導通路は、底部近くの前記キャビティ部に関して放射状に配置されている、ことを特徴とする請求項１から６の何れか一に記載の装置。
【請求項８】
少なくとも本体の頂部を覆う保護用のカバーを更に備え、該カバーは前記本体に対して取り外し可能に結合されている、ことを特徴とする請求項１から７の何れか一に記載の装置。
【請求項９】
前記第１及び第２所定圧力レベルの少なくとも何れか一方を変化させる圧力調整システムを更に備えていることを特徴とする請求項１から８の何れか一に記載の装置。
【請求項１０】
前記圧力調整システムは、エア導通路の断面積を変化させる手段を備えていることを特徴とする請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記圧力調整システムは、弾性部材の歪みを変化させる手段を備えていることを特徴とする請求項９又は１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記チャンバ内のエア圧力が前記第１及び第２所定圧力レベルの少なくとも何れか一方を超えると、可聴信号を発する手段を更に備えている、ことを特徴とする請求項１から１１の何れか一に記載の装置。
【請求項１３】
前記チャンバ内のエア圧力が前記第１及び第２所定圧力レベルの少なくとも何れか一方を超えると、光信号を発する手段を更に備えている、ことを特徴とする請求項１から１２の何れか一に記載の装置。
【請求項１４】
請求項１から１３の何れか一に記載の複数の圧力リリーフ装置を備え、該装置は異なる第１及び／又は第２の所定圧力レベルを規定している、ことを特徴とするキット。
【請求項１５】
各弾性部材が色付きの外表面部を形造り、それぞれの装置の弾性部材は異なった色付けをされており、前記キットは、色と対応する圧力レベルの表を更に備えている、ことを特徴とする請求項１４記載のキット。
【請求項１６】
請求項１から１３の何れか一に記載の圧力リリーフ装置と空圧タイヤとの組み合わせ。
【請求項１７】
タイヤ膨張用のバルブが請求項１から１３の何れか一に記載の圧力リリーフ装置と一体的に構成され、前記バルブと圧力リリーフ装置とが一体的なユニットを形成する、ことを特徴とするタイヤ膨張用のバルブ。
【請求項１８】
請求項１から１３の何れか一に記載の圧力リリーフ装置を備えていることを特徴とする空圧タイヤ用のリム。
【請求項１９】
タイヤ膨張用のバルブを更に備え、該バルブが前記圧力リリーフ装置と一体的に構成され、前記バルブと圧力リリーフ装置とが一体的なユニットを形成する、ことを特徴とする請求項１８記載のリム。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載のリムと空圧タイヤとを備えた車輪。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）平均細孔径が１０ｎｍを超える高表面積の担体物質に、少なくとも１種の第ＶＩＩＩ族金属を２〜２０重量％および少なくとも１種の第ＶＩＢ族金属を５〜５０重量％を担持した水素化処理触媒から選択される少なくとも１種の第１触媒；および ｂ）バルク金属水素化処理触媒であって、少なくとも１種の第ＶＩＩＩ族非貴金属および少なくとも１種の第ＶＩＢ族金属を、前記バルク触媒の粒子の総重量を基準として、金属酸化物として計算して、３０〜１００重量％含むバルク金属水素化処理触媒から選択され、かつ前記バルク触媒粒子の表面積が少なくとも１０ｍ２／ｇである少なくとも１種の第２触媒を含む積層床触媒系。
【請求項２】
前記第ＶＩＩＩ族金属は、Ｃｏ、Ｎｉおよびこれらの混合物から選択され、前記第１水素化処理触媒の前記第ＶＩＢ族金属は、Ｍｏ、Ｗおよびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１に記載の積層床触媒系。
【請求項３】
前記バルク金属水素化処理触媒は、１種の第ＶＩＩＩ族非貴金属および２種第ＶＩＢ族金属を含み、第ＶＩＢ族対第ＶＩＩＩ族非貴金属のモル比が１０：１〜１：１０の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の積層床触媒系。
【請求項４】
潤滑油沸点範囲の原料油を、請求項１〜３のいずれかに記載の積層床触媒系と接触させて、少なくとも気体生成物および水素化処理された潤滑油原料油を含む少なくとも１種の水素化処理されたエフルエントを生成させることを特徴とする水素化処理された潤滑油原料油を調製する方法。
【請求項５】
前記潤滑油原料油は、ラフィネートであることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記潤滑油原料油は、脱ロウ油であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記水素化処理された潤滑油原料油を脱ロウして、飽和分が少なくとも９０％であり、硫黄分が０．０３重量％以下であり、かつ粘度指数（ＶＩ）が８０〜１２０である潤滑油基油を生成させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記水素化処理された潤滑油原料油の脱ロウは、２５０〜４００℃の温度、７９１〜２０７８６ｋＰａの圧力、０．１〜１０ｈｒ−１の液時空間速度、および４５〜１７８０ｍ３／ｍ３の水素処理ガス速度において、前記水素化処理された潤滑油原料油を接触脱ロウすることによって達成されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記水素化処理されたエフルエントをストリッピングすることにより、前記水素化処理されたエフルエントから前記気体生成物の少なくとも一部を除去することによって、ストリッピングされたラフィネートを生成させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項４〜８のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年7月22日(2008.7.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
珪素鋼圧延板から製造する方向性電磁鋼板は、変圧器用として圧延方向が磁化容易方向である集合組織（ゴス組織）とするために、結晶粒成長抑制剤（インヒビター）、例えば、ＡｌとＮ、ＭｎとＳ、ＣｕとＳ、ＭｎとＳｅによって合金化される。これらは、例えば、ＡｌＮ、ＭｎＳ、ＣｕＳ、ＭｎＳｅの化合物を形成し、その微細な分散により再結晶焼鈍時の結晶粒の早期成長を防止する。その結果、２次再結晶により望ましいゴス方位の結晶粒成長が起きる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年3月24日(2008.3.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項９】  請求項８に記載の内燃機関において、該ローターと該駆動シャフトを相互連結している駆動手段が、駆動シャフト及びローターをステータに対して同じ回転速度だが反対方向に該駆するように取り付けられた歯付きギヤ列を含むことを特徴とする内燃機関。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年11月21日(2007.11.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
もし基材が、少なくとも一つの可能な限り大きな表面を有する保持板の形体に設計されるならば、その際には、本発明に係る基材の特にこのましい改善性に関連して、基材における凹所または貫通孔の深さが、最大限、基材の厚さと同じである。それとは独立して、凹所または貫通孔の利点となる直径は、０．２ｍｍ以上最大限１ｍｍの範囲であり、隣接する貫通孔または凹所の中心間の距離は、０．２ｍｍ以上最大限６０ｍｍの範囲にある。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月13日(2008.8.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の詳細な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の詳細な説明】
本願の出願当初明細書２頁２行、７行、１０行および１２行の「つ々の」の記載を「相違する」と訂正する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月15日(2008.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１組のレンズを支持する第１のフレームを備え、前記第１のフレームは、補助の組のレンズを支持する補助フレーム或いは主たる組のレンズを支持する主フレームのいずれかであり、前記第１のフレームの少なくとも一部は、第２のフレームを、磁気吸引力で前記第２のフレーム上の対応する磁石に解放可能に係合することにより前記第１のフレームを、前記第２のフレームによって支持された第２組のレンズの１つの側に配置するための1つまたは複数の磁石を具え、前記第２のフレームは前記補助フレームまたは前記主フレームのうちの他方である眼鏡装置であって、前記第１のフレームの少なくとも1つの他の部が形状記憶合金から構成されることを特徴とする眼鏡装置。
【請求項２】
前記第１のフレームの前記少なくとも1つの他の部が第１ブリッジである請求項１に記載の眼鏡装置。
【請求項３】
前記1つまたは複数の磁石を搬送する少なくとも1つの第１の一時的な拡張部であって、前記対応する磁石を前記第２のフレーム上で搬送する少なくとも1つの第２の一時的な拡張部を、上になる関係で係合するように適合された少なくとも1つの第１の一時的な拡張部を前記第１のフレームが備える請求項１または請求項２に記載の眼鏡装置。
【請求項４】
前記第１のフレームが前記補助フレームであり、前記少なくとも1つの一時的な拡張部は、前記上になる関係の前記少なくとも1つの第２の一時的な拡張部の下になる請求項３に記載の眼鏡装置。
【請求項５】
前記第１のフレームが前記補助フレームである請求項１に記載の眼鏡装置。
【請求項６】
前記第１のフレームが前記主フレームであり、一対の一時的な部材を備える請求項１に記載の眼鏡装置。
【請求項７】
前記少なくとも1つの他の部は、1つまたは複数の前記一時的な部材である請求項６に記載の眼鏡装置。
【請求項８】
前記一対の一時的な部材それぞれは前記主フレーム上の蝶番からつるまで延在する請求項６または請求項７に記載の眼鏡装置。
【請求項９】
前記第１のフレームが前記補助フレームであり、さらに、前記第２のフレームが前記主フレームであって一対の一時的な部材を備える請求項１に記載の眼鏡装置。
【請求項１０】
前記主フレームの少なくとも1つの部分は形状記憶合金を備える請求項９に記載の眼鏡装置。
【請求項１１】
前記第１のフレームの前記少なくとも1つの部分は第１のブリッジであり、前記主フレームの前記少なくとも1つの部分は第２のブリッジである請求項１０に記載の眼鏡装置。
【請求項１２】
前記第１のフレームが前記主フレームであり、さらに、前記第２のフレームが前記補助フレームであり一対の一時的な部材を備える請求項１に記載の眼鏡装置。
【請求項１３】
前記少なくとも1つの他の部分は１つまたは複数の前記一時的な部材の少なくとも一部である請求項１２に記載の眼鏡装置。
【請求項１４】
前記対の一時的な部材それぞれは前記主フレーム上の蝶番からつるまで延在する請求項１２または請求項１３に記載の眼鏡装置。
【請求項１５】
前記第１のフレームと前記第２のフレームは対応する一時的な領域内で相互係合する請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３又は１４のいずれか１項に記載の眼鏡装置。
【請求項１６】
前記形状記憶合金はＮｉＴｉ又はＣｕＡＩＢｅである請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４又は１５のいずれか１項に記載の眼鏡装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年9月30日(2008.9.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の多値のメモリーセル（１１）を備える磁気抵抗読取り／書込みメモリーにおいて、
各メモリーセル（１１）は、
交差する２つの導電体（１２、１３）と、
交差する２つの導電体（１２、１３）の間に挟まれた２つまたはそれ以上の磁性層（３１、３２；４１−４５）を有する多層システム（３０；４０）とを有し、
少なくとも２つの磁性層（３１、３２；４１−４５）は、上記導電体（１２、１３）を流れる電流によって互いに独立して設定可能である磁化方向（３３、３４；４６−５０）を有し、
上記各メモリーセル（１１）は、さらに、互いに隣り合う磁性層（３１、３２；４１−４６）の間に設けられるトンネル誘電体（３５；５１）を有し、
初めに、磁化方向を設定するために最も低い磁場強度を要する磁性層に一定のデータが印加され、続いて、次に高い磁界強度を要する磁性層に、さらに一定のデータが印加されるように、多層システムの個々の磁性層に一定のデータが順々に印加され、
上記データを印加することにより、１つもしくは複数の磁性層にて起こり得る情報の変化が検出される、ように構成されている磁気抵抗読取り／書込みメモリー。
【請求項２】
上記個々の磁性層（３１、３２；４１−４５）にて、互いに独立して設定可能である上記磁化方向（３３、３４；４６−５０）は、異なる電流強度によって設定される、またはその電流強度に応じて設定可能である請求項１記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリー。
【請求項３】
上記導電体（１２、１３）は、２つまたはそれ以上の磁性層のうち最も高い電流密度を要する磁性層において上記磁化方向の変化に必要な電流密度を得るために設けられている請求項１または２記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリー。
【請求項４】
上記磁性層（３１、３２；４１−４５）は、強磁性体にて形成されている請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリー。
【請求項５】
上記交差する導電体（１２、１３）は、互いに直交となるように配置されている請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリー。
【請求項６】
上記トンネル誘電体は厚さが２から３ｎｍである請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリー。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリーへの書込み方法であって、
ａ）上記２つの導電体に可変の電流が印加され、その結果として磁場が発生し、
ｂ）発生した磁場の強度に応じて設定される多層システムの個々の磁性層の磁化方向は、初めに、最も強い磁場強度を要する磁性層にて磁化方向が設定され、続いて、次に低い磁場強度を要する磁性層にて磁化方向が設定されるというように、それぞれに異なった大きさが必要となる磁場強度によって、互いに独立して設定される、
という各ステップを有している磁気抵抗読取り／書込みメモリーへの書込み方法。
【請求項８】
上記磁性層に影響を与える異なった磁場強度は、上記導電体に印加される異なった大きさの電流によって生じる請求項７記載の方法。
【請求項９】
上記磁性層に影響を与える異なった磁場強度は、上記磁性層と上記導電体との間の距離の違いによって生じる請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
異なった大きさの磁場強度に基づいて設定される上記磁性層の磁化方向は、層の材料または層の厚さもしくは層の形態のうちから選択されたもの、あるいはこれらを組合せたものにより影響を受ける請求項７から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１から６のいずれか１項に記載の磁気抵抗読取り／書込みメモリーからの読取り方法であって、
ａ）初めに、磁化方向を設定するために最も低い磁場強度を要する磁性層に一定のデータが印加され、続いて、次に高い磁界強度を要する磁性層に、さらに一定のデータが印加され、個々の磁性層の磁化方向が、それぞれに異なった大きさが必要となる磁場強度によって、互いに独立して設定されるように、多層システムの個々の磁性層に一定のデータが順々に印加され、
ｂ）上記データを印加することにより、１つもしくは複数の磁性層にて起こり得る情報の変化が検出される、
という各ステップを有している磁気抵抗読取り／書込みメモリーからの読取り方法。
【請求項１２】
上記１つもしくは複数の磁性層にて起こり得る情報変化の検出は、電気抵抗の測定によって行われる請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
上記１つもしくは複数の磁性層にて起こり得る情報変化の検出は、電流パルスまたは電圧パルスのいずれか一方の検出、あるいは、電流パルスおよび電圧パルスの両方の検出によって行われる請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
上記１つもしくは複数の磁性層にて起こり得る情報変化の検出は、１つもしくは複数の磁性層への上記データの印加の前後、および上記データの印加の間に行われる請求項１１から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
上記同じ値を有するそれぞれのデータは、全ての磁性層に順々に印加される請求項１１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
初めに、磁化方向を設定するために最も低い磁場強度を要する磁性層に一定のデータが印加され、続いて、次に高い磁界強度を要する磁性層に、さらに一定のデータが印加されるという手順において、
上記データは、上記磁性層に順々に印加される請求項１１から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
各磁性層にて起こり得る情報変化の検出結果は、少なくとも一時的には、記憶装置に格納される請求項１１から１６のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
異なる大きさの電流が導電体に印加されることによって、上記磁性層に影響を及ぼすような異なった磁場強度が生み出されることが望ましい。さらに、上記磁性層に影響を及ぼすような異なった磁場強度は、さらに、磁性層と導電体との間の距離の違いによって決まる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
上記メモリーセル１１に適切に書込むために、種々の磁性層３１・３２もしくは４１−４５は、磁性層の磁化反転のために、磁場を発生する導電体１２・１３の異なる電流強度が必要という要求を満たさなければならない。これは、個々の磁性層がそれぞれ異なる磁場強度を有することによって、達成されうる。この場合、異なる大きさの電流が導電体１２・１３に印加されると、個々の磁性層を磁化反転させるための異なる磁場強度が発生する。同時に、個々の磁性層の磁化方向を設定するための異なる大きさの磁場強度を生み出すために、磁化反転され得るそれぞれの磁性層と導電体１２・１３との間の距離の違いも利用される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
ワイヤレスデータ通信システムは、一般的に、フォワードリンクとリバースリンクの両者において一定の範囲の伝送データレートを供給することができる。これらの伝送データレートは、ソースが選択されたデータアプリケーションに本質的に依存する異なる到来情報データレートを供給しなければならない媒体アクセス制御として識別される方式にしたがって、種々の活動状態のトラックソースへ割り当てられる。さらに加えて、伝送データレートを特定の加入者へ割り当てるときに、チャンネルの状態および全体的なシステムロードを検討すべきである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
制御ブロック114では、加入者局は伝送バッファ内の情報のバイト数が最大伝送レートにおけるパケットの大きさよりも大きいか否かを判断する。例示的な番号論（numerology）の場合に、最大レートは３０７．２キロビット／秒であり、対応する最大パケットの大きさは２０４８バイトである。伝送バッファ内の情報バイト数は、最大伝送レートにおけるパケットの大きさよりも大きいとき、ブロック116において、変数ＲｂｕｆｆｅｒはＲｍａｘに等しく設定される。伝送バッファ内の情報のバイト数が最大伝送レートにおけるパケットの大きさほど大きくないときは、ブロック118において、変数Ｒｂｕｆｆｅｒは伝送バッファ（Ｑｌｅｎｇｔｈ）の全内容を単一のパケットで送ることができる最低の使用可能レートに設定される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月9日(2008.10.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９０】
表１において、エンド−エフェクター８８におけるクランプ器具内の正規化された偏位率（％ｚ）はクランプ・アームがその完全に閉鎖している状態の時にこのクランプ・アームに対して垂直な方向における偏位の大きさを測定して、この大きさを最大の末端部分の振動偏位（一次の末端部分の振動偏位とも呼ばれる）により割った後に、その被除数に１００を掛けることにより計算される。上記の一次の末端部分の振動偏位は超音波ブレード８８の活性化時における当該超音波ブレード８８の最先端部における一点により形成される楕円または楕円体の主軸の大きさである。また、上記の偏位の測定は本明細書に参考文献として含まれる超音波外科システムの基本的な出力特性の測定および表明（Measurement and Declaration of the Basic Output Characteristics）と題するＩＥＣ国際規格６１８４７においてさらに詳細に説明されている。また、超音波ブレード８８または超音波導波管１７９における正規化された偏位率（％ｘ，％ｙ，％ｚ）は二次の振動偏位の大きさを測定して、その大きさを一次の末端部分の振動偏位の大きさにより割った後に、その被除数に１００を掛けることにより計算される。上記の二次の振動偏位は超音波ブレード８８の活性化時における当該超音波ブレード８８の最先端部における一点により形成される楕円または楕円体の短軸またはの他の任意軸の大きさである。
【表１】  機能的な非対称部分を含むブレードによるＴｉ６Ａ１４Ｖにより製造したＲ１の半径を有する０．９４６インチ（２．４０３ｃｍ）の長さのブレードにおいて一定範囲の平衡作用を示すための３種類の可能な長さ
2003510158.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  パレット（２）上の紙シート、特に有価証券あるいは銀行券の存在を検出するための装置（１）であって：その紙シート検出装置が少なくとも一つの光学的センサ（７，８）と手段（９，１０，１１，１２）とを有しており；その光学センサ（７，８）は、該パレット（２）の表面に対して傾斜角度のある光ビーム（１３，１４）を放射し、かつ反射点において該パレット（２）の該表面を照らしていて；さらにその手段（９，１０，１１，１２）は、該パレット（２）の表面上方を所定距離だけ該反射点を移動するためのものである；ところの紙シート検出装置。
【請求項２】  該傾斜角度が約４０°であるところの、請求項１に記載の紙シート検出装置。
【請求項３】  二つの対称な光学センサ（７，８）を含んでいるところの、請求項２に記載の紙シート検出装置。
【請求項４】  該反射点が移動することを可能にしている該手段が、サポート（９，１０）に作用する少なくとも圧縮空気式シリンダ（１１，１２）により形成されていて、そのサポート（９，１０）に各光学センサ（７，８）が取りつけられており、該光学センサ（７，８）は該パレットの該表面に平行に移動するところの、請求項１〜３のいずれか一項に記載の紙シート検出装置。
【請求項５】  該移動が所定距離にわたって行なわれるところの、請求項１〜４のいずれか一項に記載の紙シート検出装置。
【請求項６】  反射点上に光ビームを放射する少なくとも一つの光学的センサによりパレット上の紙の連、特に有価証券あるいは銀行券の連を検出するための装置であって、紙の連検出方法が：
−該光学的センサのスィッチを入れる段階と、
−該反射点を移動する段階と、
−シートの存在を検出するための反射された光信号を分析する段階と、
−該反射点の該移動を停止する段階と、
−検出信号にもとづく適切な信号を発信する段階と、
−該光学的センサのスィッチを切る段階と、
を含んでいる紙の連検出方法。
【請求項７】  該反射点の該移動が、該パレットの該表面に平行に走行している所定距離だけ、該光学的センサの直線移動により行なわれているところの、請求項６に記載の紙の連検出方法。
【請求項８】  該所定距離が該紙に備えられたホログラムの寸法より大きいところの、請求項６又は７に記載の紙の連検出方法。
【請求項９】  二つの対称な光学センサを使用しているところの、請求項６〜８のいずれか一項に記載の紙の連検出方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年11月7日(2007.11.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正の内容】
明細書第１９頁の最後に下記の文を追加する
『  図６
およそ１７年前に乾癬性関節症を診断された乾癬の履歴のある５６歳の女性の患者にｉｏｒ  ｔｌ  ｍＡｂによる静脈内治療を施した。現在の症例は、全身化した乾癬の重篤な形態であり、「ｅｒｉｔｈｅｍａｔｏｓｑｕａｍｏｕｓ」紅斑性全身性創傷、関節と筋肉の疼痛、発熱、浮腫と悪寒が特徴である。この全身化症例はメトトレキセートによる治療では臨床的応答は認められなかった。１回の静脈内投与量が体重１ｋｇあたり０．６ｍｇのｉｏｒ  ｔｌ  ｍＡｂを０．９％生理食塩水２００ｍＬ内に希釈して、徐々に投与した。同時に、ゼリー１ｇ当たりｍＡｂが３ｍｇの濃度でｉｏｒ  ｔｌ  ｍＡｂを含む治療用のゼリー（合計で２２４ｇのゼリー）を二日間にわたって全ての創傷に一日２回塗布した。患者の全身的状態および皮膚科所見を週で評価した。写真は皮膚損傷の治療度合いを示す（治療前と治療後２１日経過後）。    』
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １つまたはそれ以上の固相支持体上にポリヌクレオチドの集団からのポリヌクレオチドを分類する方法であって、該方法は、
（ａ）オリゴヌクレオチドタグを、ポリヌクレオチド集団中の各ポリヌクレオチドに結合させる工程であって、
該ポリヌクレオチド集団中のすべての異なるポリヌクレオチドが、結合された異なるオリゴヌクレオチドタグを有してタグ化ポリヌクレオチドの集団を形成し、
前記オリゴヌクレオチドタグは、少なくとも２つのヌクレオチドで互いに異なり、１２〜６０ヌクレオチドの範囲の長さを有する工程、
（ｂ）空間的に離れた固相支持体の集団に結合している、前記オリゴヌクレオチドタグ各々の相補物、を提供する工程であって、
前記固相支持体の集団は、異なる配列を有する相補物のレパートリーを含み、前記空間的に離れた固相支持体の各々は、一種類の配列の相補物のみを含む工程、および、
（ｃ）前記タグ化ポリヌクレオチドの集団を前記１つまたはそれ以上の固相支持体と混合して、該タグ化ポリヌクレオチドのオリゴヌクレオチドタグを各々その相補物と特異的にハイブリダイズさせ、それにより、前記空間的に離れた固相支持体上で、該タグ化ポリヌクレオチドを、その集団から同一ポリヌクレオチドの亜集団に分類する工程、
を包含する、方法。
【請求項２】  前記１つまたはそれ以上の固相支持体が微粒子である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記微粒子各々の直径が１から１００μｍの間である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記１つまたはそれ以上の固相支持体が、平面基板上に複数の空間的に離れた表面領域を有し、該領域には、前記相補物の均一な集団が結合している、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記オリゴヌクレオチドタグが、等しい安定性の、完全にマッチした二重鎖をその相補物と形成する、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  請求項１から５のいずれかに記載の方法であって、
前記結合させる工程（ａ）が、前記タグ化ポリヌクレオチドの集団をサンプリングしてタグ化ポリヌクレオチドの亜集団を形成する工程を含み、
該タグ化ポリヌクレオチドの亜集団が、前記分類する工程（ｃ）の前に増幅され、
該分類する工程（ｃ）が、前記１つまたはそれ以上の固相支持体上での、前記オリゴヌクレオチドタグとその相補物との間の完全にマッチした二重鎖の形成を包含する、方法。
【請求項７】  請求項１から６のいずれかに記載の方法であって、
該方法は、前記分類する工程（ｃ）の後に、
各ポリヌクレオチドの一部分のヌクレオチド配列を決定する工程、および、
該ポリヌクレオチドの該配列部分の頻度分布によって前記ポリヌクレオチド集団を分類する工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項８】  請求項１から７のいずれかに記載の方法であって、
前記ポリヌクレオチド集団が、標的ポリヌクレオチドから生成される複数のフラグメントを含み、該複数のフラグメントは該標的ポリヌクレオチドをカバーし、
該方法は、前記分類する工程（ｃ）の後に、
該複数のフラグメント各々の部分ヌクレオチド配列を決定する工程、および、
該複数のフラグメントの該配列を照合することによって、前記標的ポリヌクレオチドのヌクレオチド配列を決定する工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項９】  前記複数のフラグメントが、前記標的ポリヌクレオチドのランダムに重複するフラグメントを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記固相支持体が、各々が前記相補物の均一な集団と結合している複数の微粒子であり、前記複数のフラグメント各々の前記部分ヌクレオチド配列が１２〜２５ヌクレオチドを含む、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】  前記分類する工程（ｃ）の後、前記複数の微粒子が平面基板に固定される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１２】  前記複数の微粒子が、１平方センチメートル当たり１０００微粒子から１０００００微粒子の間の密度で、前記平面基板の表面にランダムに配置される、請求項１１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の詳細な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の詳細な説明】
（１）明細書第３９頁第５行〜第１０行の、
「選択された二重の数は、サンプル中に表されたタグレパートリーの画分に依存する（トリプル−−同じタグを有する３つの異なるポリヌクレオチド−−または上記を得る可能性は、安全に無視し得る）。上記のように、サンプル中のダブルの可能性は、Ｐｏｉｓｓｏｎ分布  ｐ（ダブル）＝  ｍ２ｅ−ｍ／２（ここで、ｍは、サンプル中のタグレパートリー画分である）から評価され得る。」
との記載を、
「選択されたダブルの数は、サンプル中に表されたタグレパートリーの割合に依存する（トリプル−−同じタグを有する３つの異なるポリヌクレオチド−−または上記を得る可能性は、安全に無視し得る）。上記のように、サンプル中のダブルの可能性は、Ｐｏｉｓｓｏｎ分布  ｐ（ダブル）＝  ｍ２ｅ−ｍ／２（ここで、ｍは、サンプル中のタグレパートリーの割合である）から評価され得る。」
に変更する。
（２）明細書第３９頁の表Ｖを下記の通り訂正する。
1998507357.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
植毛のクラスターが植毛方向に伸びている植毛面を有し、入射輻射線を歯の表面に向け、歯の表面からの放射輻射線を集めるのに適している、歯ブラシヘッドであって、
入射輻射線を歯の表面に向ける手段、および／または放射輻射線を歯の表面から集める手段が、その歯ブラシヘッド内にて、入射および／または放射輻射線に対して透過性である材料でできている１またはそれ以上のコアを含んでおり、コア内部を通過する輻射線がコア内での内部反射により誘導され、コア材料がＮ１の屈折率を有し、そのコアが、ヘッドの植毛を埋め込み、かつ入射および／または放射輻射線に対して透過性である材料でもできている、一体型基体を構成するシースにより取り囲まれており、そのシースの屈折率がＮ２であり、Ｎ１はＮ２よりも大きく、Ｎ２とＮ１の屈折率が異なる結果として内部反射が起こり、および／またはコアが入射および／または放射輻射線を反射する反射性材料でできているシースにより取り囲まれていることを特徴とする、歯ブラシヘッド。
【請求項２】
入射および／放射輻射線に対して透過性である材料が４００〜６３０ｎｍの範囲の波長にわたって透過性であることを特徴とする請求項１記載の歯ブラシヘッド。
【請求項３】
透過性材料が透明なプラスチック材料であることを特徴とする請求項１または２記載の歯ブラシ。
【請求項４】
反射性材料が金属であることを特徴とする請求項１記載の歯ブラシヘッド。
【請求項５】
歯ブラシのヘッドが入射および／または放射輻射線に対して透過性である材料の一体型基体でできており、その内部を通過する輻射線を誘導することができ、全体的または部分的に反射性コーティングでコートされていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項６】
ヘッドに１またはそれ以上の光ファイバーが組み込まれており、入射および／または放射輻射線を、各々、歯の表面に、および歯の表面からの方向に向けることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項７】
コア材料がポリメチルメタクリレートであり、シース材料がポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項８】
コアがヘッドの略縦方向に向いているリムと、略植毛方向に向き、実質的に植毛方向に垂直な表面が終端であるリムを有する略「Ｌ」字型構造であることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項９】
リム間の「Ｌ」の屈曲が、表面がリムに対して４５°になるように曲げられ、または斜角が付されていることを特徴とする請求項８記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１０】
コアの断面の寸法がヘッドの断面の幅および／または厚みの５−９５％であることを特徴とする請求項１−９のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１１】
コアが植毛方向に対して実質的に垂直な面を有し、それで該コアに沿って流れる入射輻射線がこの面を介してコアより現れ、そこから歯表面に向けられ、および／または放射輻射線が歯表面からこの面を介してコアに入り、該コアを介して方向付けられ、透明なヘッド材料の層をこの面に設け、入射および放射輻射線がこの透明なヘッド材料を通過するようにすることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１２】
フィラメント（複数でも可）がシース内に封入された入射および／または放射輻射線に対して透過性のある材料の内部コアを含み、コアとシースがコア内で輻射線をシースに沿って誘導するように内部反射を起こすような性質を有することを特徴とする請求項１１記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１３】
フィラメント（複数でも可）がコアに光学的に接続していることを特徴とする請求項１１または１２記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１４】
植毛表面に、輻射線が歯表面へ、および歯表面から歯ブラシヘッドへ通過するための窓として機能する１またはそれ以上の植毛のない領域が設けられていること特徴とする請求項１ないし１３のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１５】
輻射線が歯の表面へ、および歯表面から歯ブラシヘッドを通り、歯ブラシヘッドからの放射輻射線を歯表面上に収束させる、および／または歯表面からの放射輻射線を収束または集める１またはそれ以上のレンズを有することを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッド。
【請求項１６】
請求項１ないし１５のいずれか一項に記載のヘッドを有する歯ブラシ。
【請求項１７】
請求項１ないし１５のいずれか一項に記載の歯ブラシヘッドを製造する射出成型法であって、まずコアを製造し、反射性金属層をこのコアに適用してもよく、ついで該コアを歯ブラシヘッドの一体型基体の形状を定める射出成型キャビティに置き、ついで該基体を射出成型法によりコアの回りに形成させることを特徴とする方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
結果として生じる固定された骨に組み込まれる他に、全体が骨で形成されるか、最小限の金属部品を有する椎骨間スペーサは他の利点を有する。例えば、骨は、手術後の優れた影像形成を可能にする。なぜならば、それは金属スペーサのような拡散を生じないからである。応力シールディングは回避される。なぜならば、骨移植片は周囲の骨と同じ弾性係数を有するからである。しかしながら、多数のこれらの骨スペーサは、脊柱の周期的な荷重に耐えるために十分な圧縮強度を有さず、スペーサの製造時に適当な骨スタート材料の供給がいくつかの側面において制限される。したがって、脊柱の圧縮負荷に耐えるために十分な圧縮強度を有し、現存する骨のストックを使用する際に柔軟性を提供するスペーサを製造するニーズが生じる。本発明はこれらのニーズに答えるものである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
また、本発明は、表面が露出された不規則性を有する骨からなる本体と、スペーサのほぼ均一な外面を提供するために不規則性に適合された補完的な空隙充填部材とを含む複合型椎骨間スペーサを提供する。図１４−図１５Ａを参照すると、開放された通路７１のような表面が露出された不規則性を有する細長い骨の本体７０が示されている。通路７１は、少なくとも一部が骨髄管の内側のような自然の通路から形成されていることが好ましい。壁７６は、通路７１を形成している。少なくとも２つの対向するアーム７３及び７４は、本体７０に接続されている。対向アーム７３及び７４は、通路７１に対する口部７５を形成する。しかしながら、多数の場合において、本体７０の外面７２は、ほぼ均一な周縁を有することが望ましい。さらに、好ましいスペーサは、挿入プロセス及びその後において、骨形成材料、例えば、BMP含浸コラーゲンスポンジを保持する際に補助となるようにすべての側面に形成された貫通穴を有する。本発明によるこれらの理由において、図１５及び図１５Ａに示すような補完的部材８０は、本体７０の通路７１に配置される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
Ｃ形状の通路を画成する壁を有する上述したスペーサの本体は、長い骨の骨幹から、中心からはずれた横プラグをとることによって得ることができる。好ましくは、本体は、水できれいにされ  冷却されたダイヤモンドまたは堅い金属切断先端部分を使用して得ることができる。約１０ｍｍと約２０ｍｍとの間の内径を有する商業的に利用可能なほぼ円形の先端部は、スペーサの本体を得るためには好ましい。このような先端部及びそれらが使用するコアドリルは、例えば、Starlite社から市販されている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月17日(2008.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ウリカーゼの結合体であって、前記ウリカーゼの各サブユニットが平均２〜１０鎖のＰＥＧに共有結合しているサブユニットを含む精製ウリカーゼを含み、ＰＥＧの各分子は約５ｋＤａと１００ｋＤａとの間の分子量であり、非結合体ウリカーゼの尿酸分解活性の少なくとも７５％を保持し、実質的に非免疫原性である、結合体。
【請求項２】  前記ウリカーゼは哺乳動物ウリカーゼである、請求項１記載の結合体。
【請求項３】  前記ウリカーゼはブタ肝臓ウリカーゼ、ウシ肝臓ウリカーゼ、またはヒツジ肝臓ウリカーゼである、請求項２記載の結合体。
【請求項４】  前記ウリカーゼは組換え体である、請求項１記載の結合体。
【請求項５】  前記ウリカーゼはブタ肝臓ウリカーゼ、ウシ肝臓ウリカーゼ、ヒツジ肝臓ウリカーゼ、またはヒヒ肝臓ウリカーゼの配列を実質的に有する、請求項４記載の結合体。
【請求項６】  前記ウリカーゼはキメラである、請求項４記載の結合体。
【請求項７】  前記キメラウリカーゼは、ブタ肝臓ウリカーゼおよびヒヒ肝臓ウリカーゼの一部を含む、請求項６記載の結合体。
【請求項８】  前記キメラウリカーゼはＰＢＣウリカーゼである、請求項７記載の結合体。
【請求項９】  前記キメラウリカーゼはＰＫＳウリカーゼである、請求項７記載の結合体。
【請求項１０】  前記ウリカーゼは、チロシン９７がヒスチジンで置換されているヒヒ肝臓ウリカーゼの配列を有する、請求項４記載の結合体。
【請求項１１】  前記ウリカーゼはアミノ末端およびカルボキシル末端を含み、前記ウリカーゼは一方の末端または両方の末端が短縮されている、請求項４記載の結合体。
【請求項１２】  前記ウリカーゼは真菌ウリカーゼまたは細菌ウリカーゼである、請求項１記載の結合体。
【請求項１３】  前記真菌ウリカーゼまたは細菌ウリカーゼは、アスペルギルス  フラバス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｆｌａｖｕｓ）、アースロバクター  グロビフォルミ
ス（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ  ｇｌｏｂｉｆｏｒｍｉｓ）、またはキャンディダ  ユティリス（Ｃａｎｄｉｄａ  ｕｔｉｌｉｓ）から単離されるか、前記ウリカーゼの１つの配列を実質的に有する組換え酵素である、請求項１２記載の結合体。
【請求項１４】  前記ウリカーゼは無脊椎動物ウリカーゼである、請求項１記載の結合体。
【請求項１５】  前記無脊椎動物ウリカーゼは、ドロソフィラ  メラノガスター（Ｄｒｏｓｏｐｈｉｌａ  ｍｅｌａｎｏｇａｓｔｅｒ）またはドロソフィラ  シュードオブスキュラ（Ｄｒｏｓｏｐｈｉｌａ  ｐｓｅｕｄｏｏｂｓｃｕｒａ）から単離されるか、前記ウリカーゼの１つの配列を実質的に有する組換え酵素である、請求項１４記載の結合体。
【請求項１６】  前記ウリカーゼは植物ウリカーゼである、請求項１記載の結合体。
【請求項１７】  前記植物ウリカーゼはグリシン  マックス（Ｇｌｙｃｉｎｅ  ｍａｘ）の根粒から単離されるか、前記ウリカーゼの配列を実質的に有する組換え酵素である、請求項１６記載の結合体。
【請求項１８】  前記ＰＥＧは約１０ｋＤａと６０ｋＤａとの間の平均分子量を有する、請求項１記載の結合体。
【請求項１９】  前記ＰＥＧは約２０ｋＤａと４０ｋＤａとの間の平均分子量を有する、請求項１８記載の結合体。
【請求項２０】  前記ＰＥＧの平均共有結合鎖数は、ウリカーゼサブユニットあたり３〜８鎖である、請求項１記載の結合体。
【請求項２１】  前記ＰＥＧの平均共有結合鎖数は、ウリカーゼサブユニットあたり４〜６鎖である、請求項２０記載の結合体。
【請求項２２】  前記ウリカーゼは四量体である、請求項１記載の結合体。
【請求項２３】  前記ＰＥＧの鎖は、ウレタン結合、第二級アミン結合、およびアミド結合からなる群から選択される結合を介してウリカーゼと共有結合している、請求項１記載の結合体。
【請求項２４】  前記ＰＥＧは直鎖である、請求項１記載の結合体。
【請求項２５】  前記ＰＥＧは分岐している、請求項１記載の結合体。
【請求項２６】  請求項１−２５のいずれか一項記載の結合体および薬学的に受容可能なキャリアを含む、体液または組織中の尿酸レベル低下用の薬学的組成物。
【請求項２７】  前記組成物は凍結乾燥によって安定化され、再構成の際、迅速に溶解して非経口投与に適切な溶液が得られる、請求項２６記載の薬学的組成物。
【請求項２８】  ヒトの体液または組織中の尿酸レベル低下用の薬学的組成物である、請求項２６記載の薬学的組成物。
【請求項２９】  静脈内、皮内、皮下、筋肉内、および腹腔内への注射用またはエアゾール処方用である、請求項２６記載の薬学的組成物。
【請求項３０】  尿酸レベルを低下させ、痛風、痛風結節、腎不全、臓器移植、および悪性疾患からなる群から選択される症状を軽減するために使用する、請求項２６記載の薬学的組成物。
【請求項３１】  ウリカーゼ溶液からのウリカーゼの四量体の単離法であって、前記溶液は四量体ウリカーゼおよびウリカーゼ凝集体を含み、
約９と１０．５との間のｐＨで少なくとも１つの分離カラムに前記溶液を添加する工程と、
前記カラムから単離された四量体ウリカーゼを含む１つまたは複数の画分を回収し、前記１つまたは複数の画分はウリカーゼ凝集体を実質的に含まない工程を含む、方法。
【請求項３２】  前記ウリカーゼの前記溶液をｐＨ１０．２の前記カラムに添加する、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】  前記分離は、イオン交換およびサイズ排除からなる群から選択される性質に基づく、請求項３１記載の方法。
【請求項３４】  前記四量体の存在およびウリカーゼ凝集体の非存在からなる群から選択される少なくとも１つの性質を同定するために前記画分を分析する工程をさらに含む
、請求項３１記載の方法。
【請求項３５】  前記分析工程は、クロマトグラフィー、遠心分離、光散乱、および電気泳動からなる群から選択される少なくとも１つの分析を含む、請求項３４記載の方法。
【請求項３６】  前記クロマトグラフィーは、高速液体クロマトグラフィーである、請求項３５記載の方法。
【請求項３７】  前記単離四量体ウリカーゼは、約１０％未満のウリカーゼ凝集体を含む、請求項３１記載の方法。
【請求項３８】  請求項３１記載の方法によって作製された、単離四量体ウリカーゼ。
【請求項３９】 哺乳動物の体液または組織中で上昇した尿酸レベルの低下法であって、前記哺乳動物に有効な尿酸低下量のＰＥＧ−ウリカーゼを投与する工程を含み、薬学的に受容可能なキャリア中に前記ＰＥＧ−ウリカーゼが各サブユニットがＰＥＧの平均２〜１０鎖に共有結合している少なくとも２つのサブユニットを含む精製ウリカーゼを含み、各ＰＥＧ分子は約５ｋＤａと１００ｋＤａとの間の分子量を有する、方法。