Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理すべき物質の溶解方法であって、前記溶解方法は、
有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである処理すべき物質を、地中に形成された領域を構成に含まない容器の中に配置し、
容器内の、有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである前記処理すべき物質を、当該処理すべき物質が溶けて溶解物質を作り出すまで加熱し、そして、
溶解された、有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである前記処理すべき物質を、容器内で冷却させることによりガラス化した物質として作り出す工程を含むことを特徴とする、処理物質の溶解方法。
【請求項２】
請求項１の方法において、容器を当該容器内のガラス化した有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである前記処理すべき物質と共に処分する工程を更に含む、処理物質の溶解方法。
【請求項３】
請求項２の方法において、前記容器内の、有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである前記処理すべき物質を、約1400°C〜2000°Cの温度で加熱する、処理物質の溶解方法。
【請求項４】
請求項１の方法において、有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである前記処理すべき物質を、温度低下剤を付加することなく加熱して溶解した状態にする、処理物質の溶解方法。
【請求項５】
請求項１の方法において、有害物質、汚染物質及び廃棄物の少なくとも１つである前記処理すべき物質を、当該処理すべき物質内に位置決めされた少なくとも２つの着脱可能な電極により、少なくとも２つの着脱可能な当該電極の相互間に電流を流して加熱する、処理物質の溶解方法。
【請求項６】
請求項１の方法において、添加物を処理すべき物質に添加する、処理物質の溶解方法。
【請求項７】
請求項６の方法において、添加物により、処理すべき物質に含まれる金属の酸化を促進させる、処理物質の溶解方法。
【請求項８】
請求項６の方法において、添加物により、有機塩素系物質のような特定種類の汚染物質の破壊を促進させる、処理物質の溶解方法。
【請求項９】
請求項６の方法において、添加物により、ガラス化した物質の耐久性を改良する、処理物質の溶解方法。
【請求項１０】
請求項１の方法において、容器は、当該容器が最大2000°Cの温度まで著しく劣化することなく耐えられるものである、処理物質の溶解方法。
【請求項１１】
請求項１の方法において、容器内の物質を加熱するときに、当該容器に、更なる材料が受動的に付加される、処理物質の溶解方法。
【請求項１２】
請求項１の方法において、容器容器内の物質を加熱するときに、当該容器に、更なる材料が積極的に付加される、処理物質の溶解方法。
【請求項１３】
請求項１の方法において、容器はキャビティを有し、このキャビティにスリップフォームを含む、処理物質の溶解方法。
【請求項１４】
請求項１３の方法において、スリップフォームの後の容器内に砂を配置する工程を更に含む、処理物質の溶解方法。
【請求項１５】
請求項１４の方法において、スリップフォームを容器から除去して、砂を残すことを更に含む、処理物質の溶解方法。
【請求項１６】
請求項２９の方法において、前記容器は複数の壁部と底部とを有し、第一の開口部を複数の壁部とスリップフォームとの相互間に制限し、開口部を底部とスリップフォームとの相互間に制限する、処理物質の溶解方法。
【請求項１７】
請求項１の方法において、液体不浸透性ライナーを容器内に配置し、処理すべき物質を当該ライナーに配置する工程を更に含む、処理物質の溶解方法。
【請求項１８】
請求項１の方法において、処理すべき物質を土と混合させる、処理物質の溶解方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管材の２つのセクションを一緒に連結するための装置であって：
対向する端部対端部の関係に該２つの管材セクションを配置して、該端部の該管材セクションの軸方向に向いた表面が、周囲環境への露出がないようにするように構成されたデバイス；および
該軸方向に向いた表面が対向した端部対端部の関係にある場所で管材の該２つのセクションを該場所に一緒に溶接するために、ほぼ該場所に向かって電磁線を方向付けるように位置決めおよび配置された、電磁線発生器、を備える、装置。
【請求項２】
前記デバイスが、前記管材セクションの軸方向表面の各々の温度を、該管材セクションの融点より下に維持するように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記管材セクションを一緒に融着する際の使用のために、連結が起こるべき該管材セクションの端部に配置された、前記電磁線からのエネルギーを吸収するための材料をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記エネルギーを吸収するための材料が、前記管材セクションの端部で前記軸方向表面の間に配置されるサイズにされた材料のシートを備える、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記管材セクションが、前記電磁線に対して実質的に透過性である材料から形成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記デバイスが、さらに、前記管材セクションを互いに向かって移動させ、溶接された該管材セクションのいくらかの材料を半径方向外側に流すように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記管材セクションの少なくとも１つの軸方向に向いた表面に適用された色素をを含み、該色素が、前記電磁線からのエネルギーの吸収を増やして、前記軸方向に向いた表面での該管材セクションの融着を促進するように選択される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記電磁線発生器が、前記該管材セクションに対して１５°〜８０°の角度で位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記管材セクションの端部部分を切断するように構成された少なくとも１つの切断部材を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記デバイスが、前記２つの管材セクションの切断端部をクランプ止めして閉じるようにさらに構成されている、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記電磁線発生器が、前記閉じた切断端部の各々を溶接して、前記管材セクションの内部通路をシールするように位置決めおよび配置されている、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記閉じた切断端部のうちの１つに接触している溶接ブロックを備え、該溶接ブロックが、前記電磁線からのエネルギーを吸収し、該溶接ブロックが接している前記管材セクションに熱を伝達する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記デバイスが、前記管材セクションを締め付けることにより、前記接合した管材セクションの前記閉じた端部を再び開くようにさらに構成されている、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記デバイスが、前記管材セクションを、切断中、締め付け中および溶接中に実質的に同一の位置に維持するように構成されている、請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
前記電磁線発生器がレーザービーム発生器である、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記電磁線を前記場所に向けて曲げるように位置決めされた鏡を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
管材のセクションを加熱するための装置であって、
該加熱されるべき管材セクションの一部をエネルギー吸収部材と接触させて配置するように構成されたデバイス；および
電磁エネルギーのビームを該エネルギー吸収部材の上に方向付けるように位置決めおよび配置された電磁線発生器、
を備え、
該エネルギー吸収部材が該ビームからエネルギーを吸収するために構築されており、
該管材セクション部分を該エネルギー吸収部材と接触を接触させることにより、該エネルギー吸収部材から該管材セクション部分に熱が伝達し得、該管材セクション部分を溶融させ得る、装置。
【請求項１８】
前記エネルギー吸収部材が低熱伝導率を有する、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記エネルギー吸収部材が溶接ブロックを備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記エネルギー吸収部材が、ポリテトラフルオロエチレンおよびガラスのうちの１つから作製されている、請求項１７に記載の装置。
【請求項２１】
前記エネルギー吸収部材がフィルムを備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
前記デバイスが前記管材セクションを保持するためのクランプを備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２３】
前記管材セクションを切断するために位置決めされた切断部材を備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２４】
前記電磁エネルギーのビームを前記発生器から前記エネルギー吸収部材へと方向付けるように位置決めされた鏡を備える、請求項１７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月24日(2008.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体用分離媒体であって、
少なくとも１つの抗菌成分と活性炭成分と無機成分を含む少なくとも１つのベース混合物との反応生成物を含み、前記分離媒体が前記少なくとも１つの抗菌成分と前記少なくとも１つのベース混合物との間の共有結合を含む、流体用分離媒体。
【請求項２】
前記抗菌成分が、アルコキシ、アゼチジニウム、エポキシ、反応性水素、およびそれらの混合物を含む群から選択される官能基を含む、請求項１に記載の分離媒体。
【請求項３】
前記ベース混合物の無機成分が、珪藻土、パーライト、多孔性セラミック材料および非多孔性セラミック材料、ガラス繊維、ガラス球、ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項２に記載の分離媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを前記エンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、前記密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法。
【請求項２】
コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、前記コーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、前記基材が、密結合エンクロージャの粒子数を実質的に減じるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置。
【請求項３】
密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における実質的な変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを前記エンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、前記密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して前記基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法。
【請求項４】
コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、前記コーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、前記基材が、密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における実質的な変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから前記乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、更に他の態様において、密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における実質的な変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスをエンクロージャまたは一連のエンクロージャに供給しながら、密結合エンクロージャまたは一連の相互接続密結合エンクロージャにおいて、コーティングアプリケータを通して基材を乾燥機または硬化ステーションに搬送することを含む、不定の長さの可動基材をコーティングする方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、更に、他の態様において、コーティングアプリケータと、乾燥機または硬化ステーションと、コーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションを通して基材を搬送する基材取扱い機器とを含み、基材が、密結合エンクロージャの雰囲気について当該の物理特性における実質的な変化を生じさせるのに十分な速度で流れる１つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャまたは一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている、不定の長さの可動基材をコーティングする装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は試験管と装置の間で接触無しで操作される革新的な試験管攪拌装置に関する。
【背景技術】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
第二の事例では、スタートさせるには試験管に一定の圧力を手で加える必要があり、薄いガラスの試験管を破壊する潜在的危険性がある。どんな場合でも、小さな物理的努力を必要とし、時間が経つと、手に無視できない疲労を生じる。特に、同じ分析作業者が毎日多数の攪拌を行っている大規模分析施設で問題になる。特許文献１は比色分析を行うハウジング(housing)内で試験管の正しい位置を検出する光学的センサー(sensor)により操作される回転混合装置を含む比色分析装置を開示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この目的から見て、動力機構により試験管が攪拌され、又、攪拌状態を始めるために受け部を有する小型プレート（ｐｌａｔｅ）を含み、その動力機構が小型プレート上方で事前決定された領域に物体が入ったことを光学的に検出することにより起動することを特徴とする動力付き試験管攪拌装置を本発明に基づいて提供することが求められている。
【特許文献１】 日本特許第JP-A-191955号
【実施例１】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の革新的原理の説明と従来技術と比較したその利点を明確にするために、添付の図面の助けを受けて、前記原理を用いる事例によりその可能な実施例について以下で説明する。図面の中で、図１は本発明に基づく攪拌機の側面図を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
当然、種々の部分の形状及び比率を個々の要件と好みにより変更しうる。さらに装置は他の機器及び分析データ・ネットワークへの接続部のような追加する公知のシステム及び付属品を含めることができる。有利なことに、装置に必要でないときに、不適当な起動を避けるために、主停止スイッチ（図示せず）を含めることもできる。
【図面の簡単な説明】
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
式（Ｉ）のブロックコポリマーにおいて、スチレン含有量は約１０〜約４０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは約１５〜約３０重量％である。式（Ｉ）のブロックコポリマーは、例えば、米国特許第３，２３１，６３５号、米国特許第３，２５１，９０５号、米国特許第３，３９０，２０７号、米国特許第３，５９８，８８７号、米国特許第４，２１９，６２７号、欧州特許第ＥＰ−Ａ−０，４１３，２９４号、欧州特許第ＥＰ−Ａ−０，３８７，６７１号、欧州特許第ＥＰ−Ａ−０，６３６，６５４号、および国際公開第ＷＯ９４／２２９３１号に示されるように（この全ては参照により本明細書に組み込まれている）、周知の完全逐次重合法を含む任意の既知の方法によって、場合によって再開始と組み合わせ、またはカップリング法によって調製することができる。カップリング法を用いて本実施形態のブロックコポリマーを作製するときに使用することのできるカップリング剤は、例えば、ジブロモエタン、四塩化ケイ素、アジピン酸ジエチル、ジビニルベンゼン、ジメチルジクロロシラン、メチルジクロロシランであるが、他のカップリング剤を使用することもできる。これらの調製経路において特に好ましいのは、ガンマ−グリシドキシプロピル−トリメトキシシランまたはビスフェノールＡのジグリシジルエーテルなどのハロゲンを含まないカップリング剤の使用である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本実施形態の式（ＩＩ）〜（ＶＩＩ）のブロックポリマーを作製する好ましい方法は、参照により本明細書に開示される欧州特許出願第０，３１４，２５６号に基本的に記載されているが、全て参照により本明細書に組み込まれている、米国特許第３，２３１，６３５号、米国特許第３，２５１，９０５号、米国特許第３，３９０，２０７号、米国特許第３，５９８，８８７号、米国特許第４，２１９，６２７号、欧州特許出願公開第ＥＰ−Ａ−０，４１３，２９４号、欧州特許出願公開第ＥＰ−Ａ−０，３８７，６７１号、欧州特許出願公開第ＥＰ−Ａ−０，６３６，６５４号、および国際公開第ＷＯ９４／２２９３１号など、当分野に知られている任意の方法を用いることができる。欧州特許出願第０，３１４，２５６号は、望ましくないホモポリジエンポリマーの形成問題を回避する、非対称性放射状ポリマー製造の２ステップ工程を開示する。工程は、モノマーを別々に重合して２種の異なる種類の腕を別々に作製することを含む。次いで、ポリマーの腕の１つがカップリング剤にカップリングされ、このカップリング反応が完了すると、第２組のポリマー腕がカップリング剤にカップリングされる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：ＭｇＣｌn（ＯＲ）2-nＬＢp
（式中、ｎは０．１〜１．９であり、ｐは０．４より大きく、そしてＲはＣ1―Ｃ15の炭化水素基である）により定義される互いのモル比で、式ＭｇＣｌn（ＯＲ）2-nの化合物および非プロトン性ルイス塩基（ＬＢ）を含むルイス塩基付加物。
【請求項２】
ＬＢがエステルまたはエーテルから選択される、請求項１に記載の付加物。
【請求項３】
エーテルがテトラヒドロフランである、請求項２に記載の付加物。
【請求項４】
ｎが０．４〜１．６の範囲である、請求項１に記載の付加物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一つに記載の付加物を、元素周期律表（新表記）の４〜６族の一つに属する遷移金属の化合物と接触させることにより得られる触媒成分。
【請求項６】
請求項５に記載の触媒成分を、一つ以上の有機アルミニウム化合物と接触させて得られる、α-オレフィンＣＨ2＝ＣＨＲ（ここで、Ｒは水素または１−１２の炭素原子を有する炭化水素基である）の重合用触媒系。
【請求項７】
請求項６に記載の触媒の存在下に行われる、オレフィンの重合方
法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月3日(2008.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｍｇ、Ｔｉ、ハロゲンおよび式（Ｉ）：
【化１】
2007530748.tif 000001
（式中、基ＲおよびＲ3は、同一または異なって、任意にヘテロ原子を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基であり、Ｒ1およびＲ2はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基であり、基Ｒ〜Ｒ3の二つ以上は結合して環を形成することができる）のβ−ケト−エステル誘導体から選択される電子供与体を含む、オレフィン類の重合用固体触媒成分。
【請求項２】
基Ｒ1が、一級、二級または三級である、直鎖または分岐状アルキル基から選択される、請求項１に記載の触媒成分。
【請求項３】
基Ｒ２が、一級、二級または三級であり得る、直鎖または分岐状アルキル基から選択される、請求項１に記載の触媒成分。
【請求項４】
基Ｒ3が、アリール、または一級、二級もしくは三級であり得る、直鎖または分岐状アルキル基から選択される、請求項１に記載の触媒成分。
【請求項５】
− 請求項１〜４のいずれか一つに記載の固体触媒成分；
− アルキルアルミニウム化合物および、任意に、
− 一つ以上の電子供与性化合物（外部供与体）
の間の反応の生成物を含む、オレフィン類の重合用触媒。
【請求項６】
請求５に記載の触媒の存在下に行われる、オレフィン類の（共）重合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハフニウム及び炭素を含有するクロム鋼合金であって、実質的にすべての炭素が炭化ハフニウムとして存在することを特徴とするクロム鋼合金。
【請求項２】
Ｍ23Ｃ6相が実質的に存在しない請求項１記載の合金。
【請求項３】
ハフニウムの量が少なくとも炭素との化学量論に等しい請求項１又は２記載の合金。
【請求項４】
ハフニウムの量が少なくとも０．５原子％である請求項１〜３の何れか一項記載の合金。
【請求項５】
ハフニウムの量が０．５〜１．０原子％である請求項１〜４の何れか一項記載の合金。
【請求項６】
相当円直径で測定した平均粒径がハフニウムを添加しない場合に比べて減少している請求項１〜５の何れか一項記載の合金。
【請求項７】
相当円直径で測定した平均粒径が５０％を超えて減少している請求項６記載の合金。
【請求項８】
相当円直径で測定した平均粒径が約４０ｎｍである請求項６又は７記載の合金。
【請求項９】
ハフニウムが表面にのみ与えられる請求項１〜８の何れか一項記載の合金。
【請求項１０】
ハフニウムが合金の外側２μｍのところに存在する請求項９記載の合金。
【請求項１１】
クロム鋼合金へのハフニウムの添加後に、熱処理されてできた請求項１〜１０の何れか一項記載の合金。
【請求項１２】
熱処理が７００〜７６０℃の温度で行われる請求項１１記載の合金。
【請求項１３】
熱処理が１〜２時間行われる請求項１１又は１２記載の合金。
【請求項１４】
請求項１〜１３の何れか一項記載の合金を備えた超臨界発電設備。
【請求項１５】
請求項１〜１３の何れか一項記載の合金を成形した物品。
【請求項１６】
ハフニウムが合金の表面にのみ与えられている請求項１５記載の物品。
【請求項１７】
表面の層の厚みが２μｍ以下である請求項１６記載の物品。
【請求項１８】
ハフニウム及び炭素を含有し、実質的にすべての炭素が炭化ハフニウムとして存在するクロム鋼合金の製造方法であって、クロム鋼合金にハフニウムを添加し、次いで得られた合金を熱処理する工程を含む方法。
【請求項１９】
請求項１〜１３の何れか一項記載の合金の製造方法である請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
熱処理が７００〜７６０℃の温度で行われる請求項１８又は１９記載の方法。
【請求項２１】
熱処理が１〜２時間行われる請求項１８〜２０の何れか一項記載の方法。
【請求項２２】
ハフニウムが合金の表面にのみ与えられるように添加される請求項１８〜２１の何れか一項記載の方法。
【請求項２３】
クリープを低減するための請求項１〜１３の何れか一項記載のクロム合金鋼の成分としてのハフニウムの使用。
【請求項２４】
超臨界運転温度においてクリープを低減する請求項２３記載の使用。
【請求項２５】
耐食性を向上させるための請求項１〜１３の何れか一項記載のクロム合金鋼の成分としてのハフニウムの使用。
【請求項２６】
超臨界運転温度において耐食性を向上させる請求項２５記載の使用。
【請求項２７】
向上させる耐食性が耐粒界腐食特性である請求項２５又は２６記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月27日(2008.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノ粒子を有するウレタンを基礎としたコーティングを有する、抄紙機用プロセスベルト又は布地ベルトであって、
当該ベルトの、亀裂の伝播に対する耐性、溝の閉口に対する耐性又は摩耗特性の少なくとも１つの特性が向上されていることを特徴とするベルト。
【請求項２】
前記ナノ粒子は、約１ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲の寸法を有することを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項３】
前記ナノ粒子は、約０．０１重量％〜約１０重量％の量が含まれていることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項４】
前記ナノ粒子は、約０．１重量％〜約５重量％の量が含まれていることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項５】
前記ナノ粒子は、約１重量％〜約５重量％の量が含まれていることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項６】
前記ウレタンは、押出可能なものであることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項７】
前記ウレタンは、鋳造可能なものであることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項８】
前記ウレタンは、発泡体であることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項９】
前記ウレタンは、水をベースとしたものであることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項１０】
前記ウレタンは、研磨可能なガムであることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項１１】
前記ウレタンは、鋳造可能なものであって、ウレタンプレポリマーと硬化剤を混合して製造されることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項１２】
前記硬化剤と前記のプレポリマーとを混合する前に、前記ナノ粒子は、前記硬化剤又は前記のプレポリマーの少なくとも一方と前もって分散されることを特徴とする請求項１１に記載のベルト。
【請求項１３】
前記ウレタンは、鋳造可能なものであって、ウレタンプレポリマー、硬化剤、可塑剤及び任意で顔料を混合して製造されることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項１４】
前記硬化剤と前記のプレポリマーと前記可塑剤とを混合する前に、前記ナノ粒子は、前記硬化剤、前記のプレポリマー又は前記可塑剤の少なくともいずれかと前もって分散されることを特徴とする請求項１３に記載のベルト。
【請求項１５】
前記コーティングにおけるナノ粒子は、クレイ、カーボンブラック、シリコンカーバイド、シリカ若しくは金属酸化物又はこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項１６】
前記コーティングにおける改変された前記クレイのナノ粒子は、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、マイカ、バーミキュライト、ベントナイト、ノントロナイト、ベイデライト、ボルコンスコイト、マナディイト若しくはケニヤイト又はこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１５に記載のベルト。
【請求項１７】
前記コーティングにおける前記金属酸化物のナノ粒子は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化銅、酸化ニッケル若しくは酸化タンタル又はこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１５に記載のベルト。
【請求項１８】
前記ナノ粒子は、前記コーティングを介した水又は油の透過性に対する耐性を向上することを特徴とする請求項１に記載のベルト。
【請求項１９】
当該ベルトは、製紙に用いるプロセスベルトであることを特徴とする請求項１８に記載のベルト。
【請求項２０】
抄紙機用プロセスベルト又は布地ベルトの、曲げ亀裂に対する耐性、溝の閉口に対する耐性又は摩耗特性を増加させる方法であって、
ベルトの表面にウレタンを基礎としたコーティングを施すステップを有し、
前記コーティングは、ナノ粒子を有し、
前記曲げ亀裂に対する耐性は、製品の係数を擬制にすることなく、達成されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理チャンバと；
前記処理チャンバの中で提供され、基板を支持するように構成された基板ホルダと；
前記処理チャンバに第１のプリカーサおよび第２のプリカーサを供給するように構成されたガス注入システムと；
前記処理チャンバに前記第１のプリカーサを連続的に流すように、および第１の時間で前記処理チャンバに前記第２のプリカーサをパルスで流すようにガス注入システムを制御するように構成され、シーケンシャルに基板上に少なくとも１つの単分子層を堆積させるために第２の時間に基板ホルダにＲＦ電力をパルス化するように構成されているコントローラとを具備する原子層堆積システム。
【請求項２】
前記ガス注入システムのガス注入プレートは、前記基板ホルダの基板受け表面と実質的に平行であり、
前記ガス注入プレートは、前記基板ホルダの前記基板受け表面に実質的に垂直の方向の前記処理チャンバに前記第１のガス流れ、および、前記第２のガス流れのうちの少なくとも１つを導入するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項３】
前記コントローラは、前記ＲＦ電力パルスのパルス幅に実質的に同等である前記第２のガス流れのパルス幅を提供するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項４】
前記コントローラは、前記ＲＦ電力パルスのパルス時間に実質的に同等である前記第２のガス流れのパルス時間を提供するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項５】
前記コントローラは、前記ＲＦ電力パルスのパルスデューティーサイクルに実質的に同等である前記第２のガス流れのパルスデューティーサイクルを提供するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項６】
前記コントローラは、前記第２のガス流れのパルスの前記第１の時間が実質的に前記ＲＦ電力のパルスの前記第２の時間に対応するように提供するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項７】
前記コントローラは、前記第２のガス流れのパルスの前記第１の時間が前記ＲＦ電力のパルスの前記第２の時間からオフセットされて提供するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項８】
前記コントローラは、前記処理チャンバのバックグラウンド圧力を調整するように構成されている請求項１のシステム。
【請求項９】
前記ＲＦ電力を提供するための前記基板ホルダに結合されている、ＲＦ信号を生じるオシレータを更に備えている請求項１のシステム。
【請求項１０】
前記オシレータに結合される増幅器を更に備えている請求項９のシステム。
【請求項１１】
前記増幅器は、線形増幅器である請求項１０のシステム。
【請求項１２】
前記増幅器を前記基板ホルダに接続しているインピーダンスマッチングネットワークを更に備えている請求項１０のシステム。
【請求項１３】
前記コントローラは、前記増幅器および前記インピーダンスマッチングネットワークに接続され、前記増幅器および前記インピーダンスマッチングネットワークを制御するように構成されている請求項１２のシステム。
【請求項１４】
入力信号を生じるように構成され、前記増幅器に結合される波形発生装置を更に具備し、
前記ＲＦ信号は、前記増幅器によって受けられ、
前記ＲＦ信号は、前記波形発生装置から前記増幅器によって受けられた前記入力信号を介して振幅変調の対象とされる請求項１０のシステム。
【請求項１５】
前記入力信号は、パルス波形である請求項１４のシステム。
【請求項１６】
前記コントローラは、前記波形発生装置に接続され、前記波形発生装置を制御するように構成されている請求項１４のシステム。
【請求項１７】
前記ガス注入システムは、マスフローコントローラに接続された第１のガス供給と、パルス化されたガス注入マニホールドに接続された第２のガス供給とを含んでいる請求項１のシステム。
【請求項１８】
前記パルス化されたガス注入マニホールドは、圧力調整器、パルス化されたガス注入バルブ、およびガス分配マニホールドを備えている請求項１７のシステム。
【請求項１９】
前記コントローラは、前記第１のガス供給、前記マスフローコントローラ、前記第２のガス供給、および、前記パルス化されたガス注入マニホールドに接続され、前記第１のガス供給、前記マスフローコントローラ、前記第２のガス供給、および、前記パルス化されたガス注入マニホールドを制御するように構成されている請求項１７のシステム。
【請求項２０】
原子層堆積（ＡＬＤ）を使用して基板上に膜を堆積させるためのプラズマ処理システムを作動する方法であって、
ガス注入システムを使用して第１のプリカーサの第１のガス流れを流すことによって設定される処理チャンバのバックグラウンド圧力を調整することと；
処理チャンバのプロセスプラズマに点火することと；
第１の時間にガス注入システムを使用して第２のプリカーサの第２のガス流れをパルス化することと；
第２の時間に基板ホルダにＲＦ電力をパルス化することと；
シーケンシャルに前記第１のプリカーサ、および、前記第２のプリカーサを使用して前記膜の少なくとも１つの単分子層を堆積させることとを具備する方法。
【請求項２１】
前記第２のガス流れをパルス化することは、所定のパルス幅に対して実行される請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記第２のガス流れをパルス化することは、所定のパルス時間に対して実行される請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記第２のガス流れをパルス化することは、所定のパルスデューティーサイクルを達成するように実行される請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記ＲＦ電力をパルス化することは、所定のパルス幅に対して実行される請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記ＲＦ電力をパルス化することは、所定のパルス時間のために実行される請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】
前記ＲＦ電力をパルス化することは、所定のパルスデューティーサイクルを達成するように実行される請求項２０に記載の方法。
【請求項２７】
前記第２のガス流れをパルス化することは、第１のパルス幅に対して実行され、前記ＲＦ電力をパルス化することは、第２のパルス幅に対して実行され、
前記第１のパルス幅が前記第２のパルス幅に実質的に同等である請求項２０に記載の方法。
【請求項２８】
前記第２のガス流れをパルス化することは、第１のパルス時間に対して実行され、
前記ＲＦ電力をパルス化することは、第２のパルス時間に対して実行され、
前記第１のパルス時間が前記第２のパルス時間に実質的に同等である請求項２０に記載の方法。
【請求項２９】
前記第２のガス流れをパルス化することは、第１のパルスデューティーサイクルを達成するように実行され、
前記ＲＦ電力をパルス化することは、第２のパルスデューティーサイクルを達成するように実行され、
前記第１のパルスデューティーサイクルが前記第２のパルスデューティーサイクルに実質的に同等である請求項２０に記載の方法。
【請求項３０】
前記第２のガス流れのパルスの前記第１の時間は、実質的に前記ＲＦ電力のパルスの前記第２の時間に対応する請求項２０に記載の方法。
【請求項３１】
前記第２のガス流れのパルスの前記第１の時間は、前記ＲＦ電力のパルスの前記第２の時間からオフセットされる請求項２０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマー、
難燃剤および
抗菌剤
を含む組成物。
【請求項２】
前記エチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマーが前記組成物の約３０．０重量％〜約８０．０重量％を構成し、
前記難燃剤が前記組成物の約１０．０重量％〜約３０．０重量％を構成し、
前記抗菌剤が前記組成物の約０．１重量％〜約０．４重量％を構成する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
難燃相乗剤、
酸化防止剤および
炭化水素油
を更に含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記組成物の全重量を基準にして、
前記エチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマーが前記組成物の約３０．０重量％〜約８０．０重量％を構成し、
前記難燃剤が前記組成物の約１０．０重量％〜約３０．０重量％を構成し、
前記難燃相乗剤が前記組成物の約１．０重量％〜約４．０重量％を構成し、
前記抗菌剤が前記組成物の約０．１重量％〜約０．４重量％を構成し、
前記酸化防止剤が前記組成物の約０．５重量％〜約２．０重量％を構成し、
前記炭化水素油が前記組成物の約１０．０重量％〜約２５．０重量％を構成する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
シランカップリング剤、充填剤材料、過酸化物、アクリル助剤または酸化亜鉛の一以上を更に含む、請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
表面を有する物品であって、
エチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマー、難燃剤、抗菌剤、顔料およびエネルギービーム吸収剤の混合物と、
前記表面上に配置された収束エネルギービーム誘導表示と、
を含む物品。
【請求項７】
外面を有する膨張状態にある管状物品であって、
エチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマー、難燃剤、抗菌剤、顔料およびエネルギービーム吸収剤を含む混合物と、
前記外面上に配置された収束エネルギービーム誘導表示と、を含み、緩和状態にあることが可能であり、膨張状態にある時および緩和状態にある時に前記表示から少なくとも約３２センチメートル離れて位置する２０／２０の視力を有する個人の肉眼に前記表示が判読性である管状物品。
【請求項８】
難燃相乗剤を更に含む、請求項１、６または７に記載の組成物または物品。
【請求項９】
外面を有する管状物品をマーキングする方法であって、
エチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマー、難燃剤、抗菌剤、顔料およびエネルギービーム吸収剤を含む前記管状物品を提供する工程と、
緩和状態から膨張状態に前記管状物品を膨張させる工程と、
集束エネルギービームにより前記外面上に表示を形成する工程と、
前記管状物品を前記膨張状態からコールドシュリンクさせる工程と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月11日(2008.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
適する高圧反応器内において、１００℃ないし４００℃の重合温度にて、５００ないし３５００バール（ｂａｒ）の操作圧力において、ラジカル重合開始剤の使用により、連続式に又はバッチ式に操作するエチレンの重合又は共重合の方法であって、
前記ラジカル重合開始剤は、式（Ｉ）又は（Ｉ’）
【化１】
2007530723.tif 000001
［式中、
Ｘは、水素原子、炭素原子数１ないし３６のアルキル基、ハロゲン原子により置換された炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし１２のビシクロ−又はトリシクロアルキル基、炭素原子数２ないし３６のアルケニル基、炭素原子数２ないし１８のアルキニル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基、−Ｏ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−Ｏ−炭素原子数６ないし１０のアリール基、−ＮＨ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＮＨ−炭素原子数６ないし１０のアリール基、−Ｎ（炭素原子数１ないし６のアルキル）2基を表し；
Ｘ’は、直接結合又は炭素原子数１ないし３６のアルキレン基、炭素原子数２ないし３６のアルケニレン基、炭素原子数２ないし３６のアルキニレン基、−（炭素原子数１ないし６のアルキレン）−フェニル−（炭素原子数１ないし６のアルキレン）基又は基
【化２】
2007530723.tif 000002
を表し、及び式中の★は、カルボニル基に結合された結合を示す。］
で表される構造要素を含むヒドロキシルアミンエステルであることを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記ヒドロキシルアミンエステルとして、式（Ｉａ）又は（Ｉａ’）
【化３】
2007530723.tif 000003
［式中、
Ｘは、水素原子、炭素原子数１ないし３６のアルキル基、ハロゲン原子により置換された炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし１２のビシクロ−又はトリシクロアルキル基、炭素原子数２ないし３６のアルケニル基、炭素原子数２ないし１８のアルキニル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基、−Ｏ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−Ｏ−炭素原子数６ないし１０のアリール基、−ＮＨ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＮＨ−炭素原子数６ないし１０のアリール基、−Ｎ（炭素原子数１ないし６のアルキル）2基を表し；
Ｘ’は、直接結合又は炭素原子数１ないし３６のアルキレン基、炭素原子数２ないし３６のアルケニレン基、炭素原子数２ないし３６のアルキニレン基、フェニレン基、−（炭素原子数１ないし６のアルキレン）−フェニル−（炭素原子数１ないし６のアルキレン）基又は基
【化４】
2007530723.tif 000004
を表し；
Ｒ20、Ｒ’20、Ｒ30及びＲ’30は各々独立して、未置換の又は、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ2又は−ＣＯＯＲ40により置換されたか、又は−Ｏ−又は−ＮＲ40−により中断
された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数２ないし１８のアルキニル基を表し；Ｒ40は水素原子、フェニル基又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し；又はＲ20とＲ30及び／又はＲ’20とＲ’30は、それらが結合される窒素原子と一緒になって、窒素原子又は酸素原子により中断され得及び炭素原子数１ないし６のアルキル基及びカルボキシル基により１箇所以上置換され得る５員環又は６員環を形成する。］
で表される化合物が使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ヒドロキシルアミンエステルとして、式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）又は（Ｏ）
【化５】
2007530723.tif 000005
【化６】
2007530723.tif 000006
【化７】
2007530723.tif 000007
【化８】
2007530723.tif 000008
［式中、
Ｇ1、Ｇ2、Ｇ3及びＧ4は各々独立して、１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基を表し；
Ｇ5及びＧ6は各々独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；
ｍは１又は２の数であり；
ｍが１のとき、Ｒは、水素原子、中断されていない炭素原子数１ないし１８のアルキル基又は１個以上の酸素原子により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基を表すか、又はシアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、２ないし１８個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の、７ないし１５個の炭素原子を有する脂環式カルボン酸の、又は３ないし５個の炭素原子を有するα，β−不飽和カルボン酸の、又は７ないし１５個の炭素原子を含む芳香族カルボン酸の一価基を表し、各々のカルボン酸は、脂肪族、脂環式又は芳香族単位において１ないし３個の基−ＣＯＯＺ12（式中、Ｚ12は、水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表す。）により置換され得；又はＲは、カルバミン酸又はリン含有酸の一価基又は一価シリル基を表し；
ｍが２のとき、Ｒは、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、キシリレン基、２ないし３６個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸の、又は８ないし１４個の炭素原子を有する脂環式又は芳香族ジカルボン酸の、又は８ないし１４個の炭素原子を有する脂肪族、脂環式又は芳香族ジカルバミン酸の二価基を表し、各々のジカルバミン酸は、脂肪族、脂環式又は芳香族単位において１又は２個の基−ＣＯＯＺ12により置換され得；又は
Ｒは、リン含有酸の二価基又は二価シリル基を表し；
ｐは１であり、
Ｒ1は、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキ
ル基、炭素原子数７又は８のアラルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基又はベンゾイル基を表し；
Ｒ2は、各々、未置換であるか又はシアノ基、カルボニル基又はカルバミド基により置
換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表すか、又はグリシジル基、式−ＣＨ2ＣＨ
（ＯＨ）−Ｚ（式中、Ｚは水素原子、メチル基又はフェニル基を表す。）で表される基、或いは式−ＣＯ−Ｚ又は−ＣＯＮＨ−Ｚ（式中、Ｚは水素原子、メチル基又はフェニル基を表す。）で表される基を表し；
ｎは１又は２の数であり；
ｎが１の場合、
Ｒ3は、炭素原子数２ないし８のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基又は炭素原
子数４ないし３６のアシルオキシアルキレン基を表し；又は
ｎが２の場合、
Ｒ3は、（−ＣＨ2）2Ｃ（ＣＨ2−）2を表し、及び
Ｘは、請求項２で定義されたとおりである。］
で表される化合物が使用される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法により得られ得るエチレンポリマー又はコポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月13日(2008.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  プルラン（ｐｕｌｌｕｌａｎ）、ゾリゲル（ｓｏｌｉｇｅｌ（登録商標））、及びデキストラン（ｄｅｘｔｒａｎ）からなる群から選ばれる少なくとも１のエキソ多糖バイオポリマーを当該剤の合計重量の３０〜８０％の量で、
−  少なくとも１の可塑剤を当該剤の合計重量の１０〜４０％の量で、及び
−  水を当該剤の合計重量の５〜４０％の量で、
含むフィルム形成性剤。
【請求項２】
前記剤が、医薬又は食品として許容される組成物であり、そして好ましくは、ストリップ−フィルム形態にある、請求項１に記載の剤。
【請求項３】
前記バイオポリマーは、当該剤の合計重量の４０〜７０％の量で、又はより好ましくは、当該剤の合計重量の５０〜６０％の量で使用される、請求項１に記載の剤。
【請求項４】
前記可塑剤又は可塑剤混合物は、ポリアルコール有機酸、ヒドロキシ酸、アミン、酸アミド、スルホキシド、及びピロリドンから成る群から選ばれる、請求項１に記載の剤。
【請求項５】
前記ポリアルコール有機酸は、ソルビトール、マンニトール、グリセロール、キシリトール、マルチトール、マルチソーブ、プロピレングリコール、ラクチトール、トレハロース、ソルビタンエステル、及びソルビトール無水物又はそれらの混合物から成る群から選ばれる、請求項４に記載の剤。
【請求項６】
前記可塑剤は、前記剤の合計重量の１０〜３０％の量で、又はより好ましくは、前記剤の合計重量の１５〜２５％の量で存在する、請求項１に記載の剤。
【請求項７】
前記水は、前記剤の合計重量の好ましくは１０〜４０％の量で、そしてより好ましくは、１０〜２５％の量で存在する、請求項１に記載の剤。
【請求項８】
出発材料及び／又は形成体の製造のための先の請求項のいずれかに記載の剤の使用。
【請求項９】
前記出発材料は、ストリップ−フィルムの形態にある、請求項８に記載の使用。
【請求項１０】
前記形成体は、フィルム、カプセル、シート、ケーシング又はコーティングフィルム又はスプレーである、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
前記形成体は、単位投与形態又はデリバリーシステムのための容器である、請求項９に記載の使用。
【請求項１２】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の剤の形成体。
【請求項１３】
前記形成体が、フィルム、シート、カプセル、ケーシング又はコーティング−フィルム又はスプレーから選ばれる、請求項１２に記載の形成体。
【請求項１４】
単位投与形態又はデリバリーシステム又は腸溶のための容器として、又は結腸デリバリーシステムのための容器としての、請求項１２〜１３のいずれか１項にて定義される形成体の使用。
【請求項１５】
以下のステップ：
ａ）プルラン（ｐｕｌｌｕｌａｎ）、ゾリゲル（ｓｏｌｉｇｅｌ（登録商標））、及びデキストラン（ｄｅｘｔｒａｎ）からなる群から選ばれる少なくとも１のエキソ多糖バイオポリマーを前記剤の合計重量の３０〜８０％の量で、水を当該剤の合計重量の５〜４０％の量で、少なくとも１の可塑剤を当該剤の合計重量の１０〜４０％の量で、含む混合物を、加熱及びニーディングしながら、処理装置内で、熱可塑性処理可能なマスに、加工し；
ｂ）少なくとも１の出発材料、好ましくはエクストルードされたフィルムを製造し；そして
ｃ）上記出発材料を、連続又は断続形状化法において、形成体に再形状化する；
を特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項にて定義される剤の形成体の製造方法。
【請求項１６】
前記ステップａ）において適用される混合物は、シリコーン油；ラウリル硫酸ナトリウム又はマグネシウム；脂肪酸ステアレート；ホウ酸；植物油；鉱油；リン脂質；ポリエチレングリコール；安息香酸ナトリウム；及びそれらの混合物、ナトリウムステアリルフマレートから選ばれる潤滑剤又は離型剤を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記潤滑剤又は離型剤は、前記処理混合物の０．２５〜１％の量で使用される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記出発材料は、エクストルードされた材料である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
出発材料及び／又は形成体の製造のための請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記ステップｂ）におけるエクストルードされたフィルムの残存水分は、１０〜３０％の間、好ましくは、１０〜２５％の間にある、請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
室温における、前記ステップｂ）におけるエクストルードされたフィルムの破裂時延伸率は、１００〜１０００％、好ましくは２００〜５００％、より好ましくは、２００〜３００％の間である、請求項１５に記載の方法。
【請求項２２】
室温における、前記ステップｂ）におけるエクストルードされたフィルムのＹｏｕｎｇ率（Ｙｏｕｎｇ  ｍｏｄｕｌｕｓ）は、０．５〜４０MPa、好ましくは、１〜１０MPa、より好ましくは、２〜４MPaの間である、請求項１５に記載の方法。
【請求項２３】
前記詰め込み（ｗｅｄｇｅ）温度は、５０〜１００℃、好ましくは、６０〜９０℃、より好ましくは、７０〜８５℃の間である、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）および式（２）：
【化１】
2007530703.tif 000001
で示される化合物からなる群より選択される化合物を、多発性硬化症、シャルコー−マリー−ツース病、ペリツェウス−メルツバッハー病、脳脊髄炎、視神経脊髄炎、副腎白質ジストロトフィー、ギラン・バレー症候群、ならびに脊髄損傷、神経障害および神経損傷を含むミエリンを形成するグリア細胞が損傷を受ける障害を治療するのに有効な量で、少なくとも１種の製薬上許容できるキャリアーと組み合わせて含む医薬組成物。
【請求項２】
多発性硬化症を治療するのに有効な量を含む、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
脱髄疾患を治療するための医薬組成物を製造するための、式（１）および式（２）：
【化２】
2007530703.tif 000002
で示される化合物からなる群より選択される化合物の使用。
【請求項４】
脱髄疾患は、多発性硬化症、シャルコー−マリー−ツース病、ペリツェウス−メルツバッハー病、脳脊髄炎、視神経脊髄炎、副腎白質ジストロトフィー、ギラン・バレー症候群、ならびに脊髄損傷、神経障害および神経損傷を含むミエリンを形成するグリア細胞が損傷を受ける障害から選択される、請求項３に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チェンバーの中でOLEDデバイスの基板に有機層をコーティングするのに用いる蒸着源であって、
（a）有機材料を収容するチェンバーを画定する側壁及び底部壁並びに該側壁間に配置された開口プレートを含み、該開口プレートが、気化した有機材料を放出させるための互いに離れた複数の開口部を有するマニホールドを含み；
（b）上記開口プレートは、電流に応答して熱を発生させる導電性材料を含み；
（c）上記有機材料をその気化温度に加熱するとともに、上記マニホールドの側壁を加熱する手段を含み；
（d）上記開口プレートを上記側壁にカップリングさせて、上記開口プレートの該開口部に隣接する支持されていない領域に熱を集める電気的絶縁体を含むことにより、上記開口プレートと上記基板との間の距離を小さくして基板上のコーティングの厚さの均一性を高くすることができる蒸着源。
【請求項２】
真空チェンバーの中でOLEDデバイスの基板に有機層をコーティングするのに用いる蒸着源であって、
（a）有機材料を収容するチェンバーを画定する側壁及び底部壁並びに該側壁間に配置された開口プレートを含み、該開口プレートが、気化した有機材料を放出させるための互いに離れた複数の開口部を有するマニホールドを含み；
（b）上記開口プレートは、電流に応答して熱を発生させる導電性材料を含み；
（c）上記マニホールドの側壁を加熱することにより、上記有機材料をその気化温度に加熱する手段と；
（d）上記開口プレートを上記側壁にカップリングさせて、上記開口プレートの該開口部に隣接する支持されていない領域に熱を集める電気的絶縁体を含むことにより、上記開口プレートと上記基板との間の距離を小さくして基板上のコーティングの厚さの均一性を高くすることができる蒸着源。
【請求項３】
真空チェンバーの中で基板に有機層をコーティングする方法であって、
（a）有機材料を収容するチェンバーを画定する側壁及び底部壁並びに該側壁間に配置された開口プレートを含み、該開口プレートが、気化した有機材料を放出させるための互いに離れた複数の開口部を持ち、かつ、電流に応答して熱を発生させる導電性材料を含んでいるマニホールドを用意するステップと；
（b）上記有機材料をその気化温度に加熱するとともに、上記マニホールドの側壁を加熱するステップと；
（c）上記開口プレートの該開口部に隣接する支持されていない領域に熱を集めるステップを含んでおり、よって上記開口プレートと上記基板との間の距離を小さくして基板上のコーティングの厚さの均一性を高くすることができることを特徴とする方法。