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【手続補正書】
【提出日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  回転式コンベアにおける一連の鋳型を注入機構、すくい取り機構および鋳型運搬機構に割出す工程と、
前記注入機構において、前記鋳型で溶融金属を鋳造する工程と、
前記すくい取り機構において、前記溶融金属から浮きかすをすくい取る工程と、
前記鋳型運搬機構から、前記溶融金属を含む鋳型を冷却部へと運搬し、該鋳型運搬機構において空の鋳型と取り換える工程と、
前記冷却部から、固化した金属インゴットを含む冷却された鋳型を、前記回転式コンベアと離れて位置する鋳型取外し機構に運搬する工程と、
前記鋳型から固化したインゴットを取り外す工程と、
該インゴットからピン／フック部材を取り外す工程と、
該ピン／フック部材を前記空の鋳型に戻す工程と、
該空の鋳型を前記鋳型運搬機構に戻す工程と、
前記インゴットを更なる処理段階に運搬する工程とを含むことを特徴とする金属の鋳造方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法において、前記鋳型を、運搬車によって、および／または持上げ装置によって鋳型運搬機構から前記冷却部に運搬することを特徴とする方法。
【請求項３】  請求項１に記載の方法において、前記空の鋳型を、運搬車によって前記鋳型運搬機構に戻すことを特徴とする方法。
【請求項４】  請求項１に記載の方法において、前記溶融金属を含む鋳型を、前記運搬車から前記冷却部における冷却室へと持上げ装置によって運搬することを特徴とする方法。
【請求項５】  請求項１に記載の方法において、前記インゴットを、さらに、前記鋳型取外し機構からピン／フック部材取外し機構へと運搬することを特徴とする方法。
【請求項６】  請求項１に記載の方法において、前記ピン部材を、前記インゴットから押すことによって取り外すことを特徴とする方法。
【請求項７】  請求項１に記載の方法において、前記冷却部は、前記回転式コンベアと前記鋳型取外し機構との間に配置されることを特徴とする方法。
【請求項８】  請求項１に記載の方法において、前記運搬車は、前記回転式コンベアと前記鋳型取外し機構との間の通路を移動することを特徴とする方法。
【請求項９】  請求項１に記載の方法において、前記インゴットを含む冷却された鋳型を、前記持上げ装置、とりわけクレーン装置によって冷却室から前記鋳型取外し機構に運搬することを特徴とする方法。
【請求項１０】  鋳造すべき溶融金属を供給する供給システムと、
該供給システムにおける終端に鋳型を割出す割出し用回転式コンベアとを含み、該割出し用回転式コンベアは、
鋳型に溶融金属を注入する注入機構と、
前記溶融金属の表面から浮きかすをすくい取るすくい取り機構と、
割出し用回転式コンベアから前記溶融金属を含む鋳型を運搬し、空の鋳型と取り換える鋳型運搬機構と、
前記回転式コンベアを回転する駆動手段とを含み、さらに、
前記溶融金属を含む鋳型を前記回転式コンベアにおける鋳型運搬機構から冷却部へ運搬し、前記空の鋳型を前記回転式コンベアにおける鋳型運搬機構へと戻す運搬手段と、
複数の冷却室を含む冷却部と、
前記回転式コンベアと離れて位置し、固化したインゴットを前記鋳型から取り外す鋳型取外し機構と、
更なる処理段階へインゴットを運搬する手段とを含むことを特徴とする金属インゴットの鋳造装置。
【請求項１１】  請求項10に記載の装置において、前記運搬手段は、運搬車およびクレーン装置を含むことを特徴とする装置。
【請求項１２】  請求項10または11に記載の装置において、該装置は、さらに、前記鋳型取外し機構に、またはその後に配置されたピン／フック部材取外し機構を含むことを特徴とする装置。
【請求項１３】  請求項10に記載の装置において、前記注入機構は、垂直方向に前記鋳型を移動する手段を含むことを特徴とする装置。
【請求項１４】  請求項10に記載の装置において、前記すくい取り機構は、前記鋳型に含まれる溶融金属から浮きかすを自動的にすくい取る手段を備えていることを特徴とする装置。
【請求項１５】  請求項10に記載の装置において、前記割出し用回転式コンベアは、鋳型を支える台を備えていることを特徴とする装置。
【請求項１６】  請求項10に記載の装置において、前記供給システムは、前記注入機構で鋳型に溶融金属を供給する注入タンディッシュ、および該タンディッシュの注入口を開閉する停止桿手段を含むことを特徴とする装置。
【請求項１７】  請求項16に記載の装置において、前記停止桿手段は、前記鋳型における金属のレベルの制御手段および計測手段、ならびに／または前記タンディッシュレベルの計測手段を含むことを特徴とする装置。
【請求項１８】  請求項10に記載の装置において、鋳型取外し機構と前記ピン／フック取外し機構との間で前記空の鋳型を運搬する往復車が設けられていることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月4日(2008.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  産業用製造生産ラインのプラットフォームの表面上にパターンとして液体または粘性の射出可能な物質を分配するためのジェット分配印刷システムであって、
（Ａ）（ａ）それぞれに多数のジェットノズルが取り付けられる複数のジェットプリントヘッドを正確に収容するために静的で剛性の印刷ブリッジを備え、該ジェットプリントヘッドが該静的な剛性の印刷ブリッジ上の多様な配置にグループ化され、該ジェットプリントヘッドが活用され、使用可能なノズルの総量の一部がバックアップノズルとして活用される複数の冗長性を達成する印刷ブリッジシステム；および
（ｂ）（ｉ）前記パターンが前記プラットフォーム上に射出分配されるあいだ、前記プラットフォームを収容するために、前記静的な剛性の前記印刷ブリッジの実質的に下に位置づけられた印刷テーブル；および
（ii）該印刷テーブルを移動するための電動システム、
を備えるプラットフォームシステム、
を含む印刷システムと、
（Ｂ）前記液体または粘性物質を、前記複数のジェットプリントヘッドに供給するための供給システム；および
（Ｃ）該プラットフォームの表面上にパターンとして、該液体または粘性の射出可能な物質の分配を達成するために、該プラットフォームシステムを制御するためのパターンデータおよびプラットフォームデータに少なくとも応答する制御システム；および
（Ｄ）該印刷システムのステータスレポートを少なくとも提供するためのユーザインタフェース、
を備えるジェット分配印刷システム。
【請求項２】  産業用製造生産ラインのプラットフォームの表面上にパターンとして、液体または粘性の射出可能な物質を分配するためのジェット分配印刷方法であって、以下のシステム、
（Ａ）（ａ）複数のジェットプリントヘッドを正確に収容するために静的で剛性の印刷ブリッジからなり、該複数のジェットプリントヘッドのそれぞれにジェットノズルが取り付けられ、該複数のジェットプリントヘッドは、前記静的な剛性の印刷ブリッジ上で多様な配置にグループ化され、該複数のジェットプリントヘッドを使用して、複数の冗長性を達成し、使用可能なノズル総量の一部がバックアップノズルとして使用される印刷ブリッジシステムと、
（ｂ）（ｉ）前記パターンが射出分配される前記プラットフォームを収容するために、前記印刷ブリッジの実質的に下に位置づけられた印刷テーブル、
（ii）領域アドレス指定可能な吸引力真空テーブル、および
（iii）前記印刷テーブルを移動するための電動システムを備えるプラットフォームシステムと
からなる印刷システム、
（Ｂ）該複数のジェットプリントヘッドに該液体または粘性の物質を供給するための供給システム、
（Ｃ）少なくともパターンおよびプラットフォームデータに応答する制御システムであって、該プラットフォームの表面上へ該パターンとして、該液体または粘性の射出可能な物質の分配を達成するための該プラットフォームシステムを制御する、制御システム、および
（Ｄ）少なくとも該印刷システムのステータスレポートを提供するためのユーザインタフェース、
を使用する工程を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月24日(2008.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記界面活性剤が、約１〜約１０重量パーセントの量が前記対象とする組成物中に存在する請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４３】
（１）少なくとも１つのホスフェート基を含む少なくとも１つの陰イオン界面活性剤と、
（２）二酸化炭素を含む溶媒であって、界面活性剤の少なくとも一部が溶媒に可溶性である溶媒と
を含み、
陰イオン界面活性剤が、式、
【化２５】
2004509756.tif 000001
（式中、ＲＨは、ＣｎＨ２ｎ＋１（式中、ｎは１〜２４である）であり、ＲＦは、ＣｎＦ２ｎ＋１（ＣＨ２）ｍ（式中、ｎは１〜２４であり、ｍは１〜２４であり、ＭはＫ＋またはＮａ＋である）によって表される対象とする組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５２】
（１）少なくとも１つのホスフェート基および少なくとも１つのピペラジニウム基を含む少なくとも１つの陽イオン界面活性剤と、
（２）二酸化炭素を含む溶媒であって、界面活性剤の少なくとも一部が溶媒に可溶性である溶媒と
を含む対象とする組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  媒体が貫流することができる装置において、該装置が元素Ａｌ、Ｍｇ、Ｔｉの酸化物および／または（オキシ）水酸化物により凝固される酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄からなる塊状の吸着媒体／反応媒体を含有することを特徴とする、媒体が貫流することができる装置。
【請求項２】  請求項１記載の装置を有する水処理装置。
【請求項３】  吸着媒体／反応媒体を製造する方法において
（ａ）アルミニウム、マグネシウムおよび／またはチタンの酸化物もしくは（オキシ）水酸化物またはこれらをエージングおよび脱水したその後の生成物を、Ｆｅ（ＯＨ）２を含む酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の水性懸濁液に混入し、かつ次いで
（ｂ１）該懸濁液を乾燥させて固体の状態が得られ、かつ固体の材料を引き続き機械的に所望の形状および／または大きさへと粉砕するか、または
（ｂ２）該懸濁液を場合により前乾燥した後、半固体の状態で機械的に形状付与し、かつ引き続き（さらに）乾燥させて固体の状態が得られる
ことを特徴とする、吸着媒体／反応媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  媒体が貫流する装置において、該装置は微粒子状酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の凝集物を塊状の形で含有し、その際、微粒子状酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄は５０〜５００ｍ２／ｇ、有利には８０〜２００ｍ２のＢＥＴ表面積を有し、凝集物は場合により、前記の範囲を上回る粒径と、前記の範囲を下回るＢＥＴ表面積を有する酸化鉄顔料を含有していてもよく、その際、該顔料の含有率は多くても、装入物に作用する流動媒体の力に対する装入物の強度が、流動媒体による装入物の負荷が装入材料の不所望の摩耗を生じない程度であるような高さであることを特徴とする、媒体が貫流する装置。
【請求項２】  請求項１記載の装置を有する浄水装置。
【請求項３】  塊状の形の微粒子状酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の凝集物を製造する方法において、まず５０〜５００ｍ２／ｇ、有利には８０〜２００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積の微粒子状酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の水性懸濁液を自体公知の方法で製造し、かつ次いで水およびその中に溶解している成分を、
まず懸濁液から水だけを、有利には蒸発により除去し、かつこうして得られた残留物を水に再分散させ、得られた懸濁液を濾過し、残留物を有利には塩不含に洗浄し、残留物として得られるフィルターケーキを完全にまたは部分的に脱水し、かつこうして得られた材料を所望の形状および／または大きさに粉砕するか、または十分に固体の状態を得るために部分的に脱水し、かつこうして得られたペーストを形状付与し、かつ引き続き塊状の状態を得るためにさらに乾燥させるか、または
懸濁液を濾過し、かつ塩が少なくなるように残留物を洗浄し、残留物として得られる固体から半固体のペーストの形のフィルターケーキを完全に脱水し、かつこうして得られた材料を引き続き所望の形状および／または大きさに粉砕するか、または十分に固体の状態を得るために部分的に脱水し、かつこうして得られたペーストを形状付与し、かつ引き続き塊状の状態を得ながらさらに乾燥させ、かつこうして得られた材料を場合により微粉砕もしくは粗粉砕によりさらに粉砕する
ことにより除去することを特徴とする、塊状の形の微粒子状酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の凝集物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月6日(2008.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  中心に配置された流入管（６）を有する容器、端部で互いに向かい合う平坦なフィルター層（３）、（１０）からなるカートリッジハウジング（４）、浄化すべき流体の流入（１）および流出（１２）を保証するふたおよび底部（９）からなる、液体から汚染物質を除去するために媒体が流動する濾過ユニットにおいて、フィルターカートリッジハウジング（４）が微粒子の形の微細な酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の凝結物の層を含有し、微細な酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄が５０〜５００ｍ２／ｇ、有利には８０〜２００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、凝結物は場合により前記範囲より低いＢＥＴ表面積を有する酸化鉄顔料を含有することができ、その際顔料の含有量は、最高でも装入物に作用する流動媒体の力に対する装入物の強度が流動媒体による装入物の負荷が装入媒体の好ましくない摩耗を生じないほど十分に高く、浄化すべき液体が目的に合わせて、流入口（１）、流入管（６）、シーブバスケット（７）、場合により底部空間（９）内のフィルター材料（８）、下側フリット板（１０）を通過し、その後接触室（４）内の吸着剤材料（５）、上側フリット板（３）および濾過材料（２）を有するふた空間を通過し、更に流出口を介して流出管（１２）を離れることを特徴とする濾過ユニット。
【請求項２】  微粒子の形の微細な酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の凝結物を製造する方法において、５０〜５００ｍ２／ｇ、有利には８０〜２００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積の微細な酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の水性懸濁液を公知方法でまず製造し、その後、
まず懸濁液から、有利には蒸発により水だけを除去し、得られた残留物を水に再分配し、得られた懸濁液を濾過し、残留物を、有利には塩不含に洗浄し、残留物として得られるフィルターケーキを完全にまたは部分的に脱水し、得られた材料を所望の形状および／または大きさに微粉砕し、部分的に脱水して十分な固体状態を達成し、得られたペーストを成形し、引き続き更に乾燥し、微粒子の状態を達成するか、または
懸濁液を濾過し、塩が少なくなるように残留物を洗浄し、固体の形のフィルターケーキを半固体のペーストに脱水し、残留物として完全にペーストが得られ、その後得られた材料を所望の形状および／または大きさに微粉砕するか、またはフィルターケーキを部分的に脱水し、十分に固体の状態を達成し、得られたペーストを成形し、引き続き更に乾燥し、微粒子の状態を達成する
ことにより、水および水に溶解する成分を除去し、得られた材料を場合により粉砕または粗粉砕により更に微粉砕することを特徴とする、微粒子の形の微細な酸化鉄および／またはオキシ水酸化鉄の凝結物を製造する方法。
【請求項３】  吸着媒体または反応媒体を製造する方法において、
（ａ）アルミニウム、マグネシウムおよび／またはチタンの酸化物または（オキシ）水酸化物またはこれらの熟成生成物および脱水二次生成物を酸化鉄および／またはＦｅ（ＯＨ）２を含むオキシ水酸化鉄の水性懸濁液に添加し、その後
（ｂ１）懸濁液を乾燥し、固体の状態を達成し、固体の材料を引き続き所望の形状および／または大きさに微粉砕するか、または
（ｂ２）懸濁液を、場合により予め乾燥した後に半固体の状態で機械的に成形し、引き続き乾燥し、固体の状態を達成することを特徴とする吸着媒体または反応媒体を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月20日(2008.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  呼吸ガスをユーザに送出するための装置であって、
交流（ＡＣ）モータ、および前記ＡＣモータによって回転されて呼吸ガスをユーザに送出するための回転翼を有するブロワーと、
可変の周波数および振幅のモータ制御信号を前記ＡＣモータに与えるブロワー制御システムとを含み、前記モータ制御信号の周波数および振幅は、前記ブロワー制御システムによって周期的に調整されて、前記ＡＣモータの作動に、吸入気道陽圧を生成する第１の速度で前記回転翼を回転させる吸入モードと、呼息気道陽圧を生成する第２の速度で前記回転翼を回転させる呼息モードとを交互に繰り返させる、装置。
【請求項２】  前記ブロワー制御システムは、マイクロコントローラを含み、前記モータ制御信号は、前記マイクロコントローラによって生成されるパルス幅変調信号である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記パルス幅変調信号は、正弦波状に重み付けされたデューティーサイクルを有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】  前記マイクロコントローラは、タイマおよび複数の比較レジスタを有する比較ユニットを含み、前記正弦波状に重み付けされたパルス幅変調信号は、タイマ値と比較レジスタ値との比較に基づいて生成される、請求項３に記載の装置。
【請求項５】  前記タイマは、前記パルス幅変調信号の周波数を規定する可変割込み率を有する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】  ユーザによる吸入および呼息に応答して変化する流量信号を生成する流量センサと、前記流量信号に応答してトリガ信号を前記マイクロコントローラに与えるトリガ回路とをさらに含み、前記マイクロコントローラは、前記モータ制御信号の周波数および振幅を調整して、前記トリガ信号に応答して前記吸入モードと前記呼息モードとの間で切換わる、請求項２に記載の装置。
【請求項７】  前記マイクロコントローラは、特定のガス圧に対応する１組の周波数に対して最小の振幅値を保持するためにプログラムされたメモリを含み、前記マイクロコントローラは、或る周波数から別の周波数に切換わる際に、メモリから記憶された振幅値を取出す、請求項２に記載の装置。
【請求項８】  前記ブロワー制御システムは、周波数に対する振幅の傾きに基づいてまとまった増分で周波数および振幅を調整することにより、前記モータ制御信号の周波数および振幅を変更する、請求項２に記載の装置。
【請求項９】  前記モータ制御信号の第１の周波数および振幅により、前記回転翼は前記第１の速度で作動し、前記モータ制御信号の第２の周波数および振幅により、前記回転翼は第２の速度で作動し、前記第１の速度は前記第２の速度よりも大きく、前記ブロワー制御システムは、過剰の振幅を前記モータ制御信号に加え、前記第１の周波数および振幅と前記第２の周波数および振幅との間の差に基づいて信号の周波数および振幅を増大させ、前記過剰の振幅を除去することにより、前記回転翼の速度を前記第１の速度から前記第２の速度に増大させる、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】  前記過剰の振幅は、前記第２の周波数と加速定数との比に等しい、請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  システムプロセッサを具備する情報通信用システムにおいて、
チケット販売エンティティと、
１以上の遠隔ユーザ電子アクセス装置と、
チケット情報データベースとを具備し、
前記チケット販売エンティティは、
電子通信のために前記システムプロセッサに結合され、
少なくとも参加ナンバーを有する物理的チケットを含み、
物理的小売ロケーションに位置し、チケットをユーザに販売し、
前記１以上の遠隔ユーザ電子アクセス装置は、
リンクにより前記システムプロセッサに結合するように構成され、物理的小売ロケーションから遠隔に位置し、
前記ユーザ電子アクセス装置は、
リンクにより前記システムに遠隔に結合し、
参加ナンバーについてシステムからプロンプトを受信し、
リンクによって遠隔位置から前記システムプロセッサへ参加ナンバーを通信し、
前記チケット情報データベースは、
前記システムプロセッサに結合され、
チケットについての情報を有し、参加ナンバーはチケットについての可変的な情報に関連されており、
前記システムプロセッサは参加ナンバーについて正当性のチェックを行うためにチケットデータベースをアクセスし、
そのナンバーに対する表示情報に関する可変的な情報を検索し、
リンクによって表示情報を通信し、
少なくとも前記可変的な情報を前記ユーザ電子アクセス装置上で表示するシステム。
【請求項２】  可変的な情報はチケットが当りまたははずれを含み、当りであるならばその額を含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項３】  チケットは事前に印刷された情報を含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項４】  チケットはオンラインチケットシステムにより印刷された情報を含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項５】  チケットは隠蔽された情報を含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項６】  参加ナンバーは数字である請求項１記載のシステム。
【請求項７】  参加ナンバーは文字数字である請求項１記載のシステム。
【請求項８】  前記電子アクセス装置はセル電話機である請求項１記載のシステム。
【請求項９】  前記電子アクセス装置はページャである請求項１記載のシステム。
【請求項１０】  前記電子アクセス装置はコンピュータである請求項１記載のシステム。
【請求項１１】  前記電子アクセス装置はＰＤＡである請求項１記載のシステム。
【請求項１２】  前記電子アクセス装置はポータブル無線装置である請求項１記載のシステム。
【請求項１３】  通信装置はテキストメッセージング装置を含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項１４】  前記テキストメッセージング装置はＳＭＳ装置である請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】  さらに参加ナンバー正当性チェックシステムを含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項１６】  さらにライブイベントに対するインターフェースを含んでいる請求項１記載のシステム。
【請求項１７】  前記ライブイベントはくじ引きである請求項１６記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  オレフィン性又はアセチレン性不飽和の化合物を一酸化炭素及び求核性化合物でカルボニル化するための、
（ａ）パラジウム；
（ｂ）ホスフィン；及び
（ｃ）反応混合物中に溶解して、又は少なくともコロイド状に分布している、アシル化されたポリエチレンイミンであって、一般式（Ｉ）
【化１】
2004509741.tif 000001
［式中、ｍ＋ｎからの合計は少なくとも１０であり、かつＲはそれぞれ互いに無関係に、水素、３０個以下の炭素原子を有するアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基又は５００個以下のアルキレンオキシ単位を有するヒドロキシアルキル（ポリ）オキシアルキレン基を意味する］の単位又はこれらからなる分枝鎖状の異性体を有するポリエチレンイミン
を含有し、その際、ポリエチレンイミン（Ｉ）は以下の構造要素（ＩＩ）又はその分枝鎖状の異性体
【化２】
2004509741.tif 000002
［式中、Ｒ′は互いに無関係に１〜２９個の炭素原子を有するアルキルを意味する］を有し、かつそのアミド化度はアミド化可能なアミノ基に対して１乃至約１００％である触媒系。
【請求項２】  ポリエチレンイミンが反応バッチの全質量に対して０．５〜１５質量％の量で存在する、請求項１記載の触媒系。
【請求項３】  ホスフィンとして少なくとも二座のホスフィンを含有する、請求項１から２までのいずれか１項記載の触媒系。
【請求項４】  オレフィン性又はアセチレン性不飽和の化合物を一酸化炭素及び求核性化合物でカルボニル化するための方法において、請求項１から３までのいずれか１項記載の触媒系を使用することを特徴とする方法。
【請求項５】  カルボニル化を５０〜１５０℃の温度及び０．１〜５ＭＰａ（絶対）の圧力で実施する、請求項４記載の方法。
【請求項６】  オレフィン性不飽和化合物としてエテンを使用する、請求項４から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  求核性化合物として、水、Ｃ２〜Ｃ１０−カルボン酸及び／又はＣ１〜Ｃ１０−アルカノールを使用する、請求項４から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  ポリエチレンイミンとして、基Ｒが製造されるべきカルボン酸誘導体に相当するアシル基を意味するポリエチレンイミン（Ｉ）を使用する、請求項４から７までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電素子を有し、前記圧電素子は前記圧電素子の表面と接触する半導体物質を有し、前記半導体物質が前記圧電素子から焦電電荷を流出させることを特徴とするインクジェットモジュール。
【請求項２】
前記半導体物質が単位面積（ｐｅｒ ｓｑｕａｒｅ）あたり５０００メガオームかそれより低い抵抗率を有することを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項３】
前記半導体物質が単位面積あたり０．１メガオームかそれより大きい抵抗率を有することを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項４】
前記半導体物質が、０．００６ｃｍ２／ｓｅｃと１００ｃｍ２／ｓｅｃとの間の拡散率を有することを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項５】
前記半導体物質がドープ処理された絶縁体を含むことを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項６】
前記半導体物質が酸化アルミニウム、窒化珪素、または酸化ネオジウムから抽出されることを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項７】
前記半導体物質が窒化珪素から抽出されることを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項８】
前記半導体物質が１０００オングストロームと１００００オングストロームとの間の厚さの被膜であることを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項９】
前記圧電素子がチタン酸ジルコン酸鉛であることを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項１０】
前記モジュールが加熱及び冷却周期下にあることを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項１１】
インクチャネル、前記チャネル内のインクが噴射圧を受けるように配置される前記圧電素子、及び前記圧電素子の活性化のために配置される電気接点をさらに含む請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項１２】
一連のチャネルをさらに含む請求項１０記載のインクジェットモジュール。
【請求項１３】
前記チャネルの各々が単一の圧電素子に対応していることを特徴とする請求項１１記載のインクジェットモジュール。
【請求項１４】
請求項１記載のインクジェットモジュールを含む複数のインクジェットモジュールから成るインクジェットプリントヘッド。
【請求項１５】
前記半導体物質が前記圧電素子の表面の被膜であることを特徴とする請求項１記載のインクジェットモジュール。
【請求項１６】
圧電素子の表面と物理的に接触する半導体物質を配置するステップとそれによって前記圧電素子の前記表面の焦電電荷を減じるステップとを含む熱周期の間インクジェットモジュールにおけるインク速度低下を減じる方法。
【請求項１７】
配置するステップには前記圧電素子上に前記半導体物質を被膜するステップを含むことを特徴とする請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記半導体物質が単位面積あたり０．１メガオームかそれより大きい抵抗率を有することを特徴とする請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
前記半導体物質が単位面積あたり５０００メガオームかそれより小さい抵抗率を有することを特徴とする請求項１６記載の方法。
【請求項２０】
各々のモジュールの前記半導体物質が０．００６ｃｍ２／ｓｅｃと１００ｃｍ２／ｓｅｃとの間の拡散率を有することを特徴とする請求項１６記載の方法。
【請求項２１】
各々のモジュールの前記半導体物質が窒化珪素、酸化アルミニウム、又は酸化ネオジウムから抽出されることを特徴とする請求項１６記載の方法。
【請求項２２】
各々のモジュールの前記圧電素子がチタン酸ジルコン酸鉛であることを特徴とする請求項１６記載の方法。
【請求項２３】
圧電式インクジェットモジュールを分極する方法であって、
圧電素子がその表面上に半導体物質と接触する電気接点を有していて、前記電気接点が前記圧電素子を活性化するように配置されるように、前記圧電素子の表面と物理的に接触する前記半導体物質を含んでいる圧電式インクジェットモジュールが組み立てられるステップと、
前記圧電素子を分極するために十分な時間の間前記半導体物質と前記圧電素子とに亘って分極電圧を印加するステップと、
を含む方法。
【請求項２４】
半導体物質が単位面積あたり５０００メガオームかそれより小さい抵抗率を有することを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
前記半導体物質が単位面積あたり０．１メガオームかそれより大きい抵抗率を有することを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２６】
前記半導体物質が１０００オングストロームと１００００オングストロームとの間の厚さの被膜であることを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２７】
前記圧電素子がチタン酸ジルコン酸鉛であることを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２８】
前記半導体物質が窒化珪素、酸化アルミニウム、又は酸化ネオジウムから抽出されることを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項２９】
前記半導体物質が前記圧電素子の被膜であることを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項３０】
各々のモジュールの前記半導体物質が０．００６ｃｍ２／ｓｅｃと１００ｃｍ２／ｓｅｃの間の拡散率を有することを特徴とする請求項２３記載の方法。
【請求項３１】
インクジェットプリンティング・モジュールにおけるジェットの性能を変更する方法であって、
前記インクジェットプリンティング・モジュールの圧電素子の噴射領域に変更電圧を印加して、前記噴射領域における前記圧電素子の分極を増大させるかまたは減少させるステップを含む方法。
【請求項３２】
前記噴射領域が、前記噴射領域において前記圧電素子の表面上で半導体物質に接触する電気接点を含み、前記変更電圧が前記電気接点に印加されることを特徴とする請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記モジュールが複数のジェットを含み、各々のジェットが前記圧電素子の表面上の半導体物質に接触する電気接点を含む噴射領域を有することを特徴とする請求項３１記載の方法。
【請求項３４】
インク液滴の大きさまたはインク液滴速度に関して前記モジュールの前記ジェットを監視するステップと、前記インク液滴の大きさまたは前記インク液滴速度を調整するための変更電圧を選択するステップをさらに含む請求項３１記載の方法。
【請求項３５】
前記半導体物質が前記圧電素子の被膜であることを特徴とする請求項３１記載の方法。
【請求項３６】
各々のモジュールの前記半導体物質が窒化珪素、酸化アルミニウム、又は酸化ネオジウムから抽出されることを特徴とする請求項３１記載の方法。
【請求項３７】
各々のモジュールの前記圧電素子がチタン酸ジルコン酸鉛であることを特徴とする請求項３１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  皮膚の創傷を閉塞するための創傷クロージャであって、
前記創傷クロージャを皮膚に接着させるための接着剤と、
対向するエラストマー端部部分と、
前記端部部分間にある創傷をブリッジする部分と、を含む創傷クロージャであって、
前記創傷クロージャは、３０％伸張された後、少なくとも８５％復元し、前記創傷をブリッジする部分は同じ力を受けた時、前記端部部分より伸張が少なく、そのため前記創傷をブリッジする部分は、皮膚の伸張により発生する力に逆らって、創傷を塞いだ状態に維持する傾向がある、創傷クロージャ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004509702.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部バルーンおよび前記外部バルーンの内側に配置される内部バルーンと、前記外部バルーンと内部バルーンとの間に配置される支持チューブと、前記支持チューブから延出する排液ホースと、前記外部及び内部バルーンに連結し、該外部及び内部バルーンに空気を供給する空気供給チューブと、装置が使用されるときに外部および内部バルーンが直腸の上部に押し込まれるのを防止するために前記排液ホースの外側部に配置される固定補助器具を備える、人工肛門装置。
【請求項２】
前記内部および外部バルーンへ空気を供給するための前記空気供給チューブは、前記排液ホースの内部を通して前記内部および外部バルーンに結合されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記外部バルーンと前記内部バルーンの間の前記支持チューブの縁を覆う柔軟で且つ弾性に富む材料から構成される保護膜をさらに具備する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記装置が挿入されるときに、前記内部および外部バルーンが、体積の縮減のために折り畳まれるのを可能とするために、前記内部および外部バルーンを取り囲む保護カバーをさらに具備する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
固定補助器具として使用するために前記外部排液ホース上に粘着性ホルダーをさらに具備する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
固定補助器具として、前記外部排液ホース上に空気リングをさらに具備する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
固定補助器具として、前記外部排液ホース上に固定バンドをさらに具備する、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記外部バルーンと前記固定補助器具との間に形成される前記排液ホース内に、前記排液ホースの外側から該排出ホースの内側だけの一方向に通る逆止弁をさらに具備する、請求項２に記載の装置。
【請求項９】
前記排液ホースは、前記後部固定補助器具から延設される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記ホルダーの一側部に結合される両面粘着プレートをさらに具備する、請求項５に記載の装置。
【請求項１１】
前記粘着性ホルダーは、前記排出ホースの外側に配置された幅狭リングを備え、該幅狭リングから一対の長い固定バンドが延出する請求項５に記載の装置。
【請求項１２】
支持チューブと、前記支持チューブから延出する排液ホースと、供給チューブと、使用により前記支持チューブ及び供給チューブが直腸の上部に押し込まれるのを防止しかつ前記排出ホースの外側に配置される固定補助器具と、を備え、
前記固定補助器具は、前記排出ホースの外側に配置された幅狭リングと、該幅狭リングから延出した一対の長い固定バンドとを備える医療用人工肛門装置。
【請求項１３】
前記固定バンドの各々が接着されて前記固定補助器具が患者の肛門の周りに固定される請求項１２に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項１４】
前記支持チューブの周りに配置される外部バルーンをさらに備え、前記支持チューブは、前記外部バルーンに空気を供給する請求項１２に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項１５】
前記外部バルーンの内側に配置された内部バルーンをさらに備え、前記支持チューブは、前記外部バルーンと前記内部バルーンとの間に配置されかつ前記内部バルーンに空気を供給する請求項１４に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項１６】
支持チューブと、前記支持チューブから延出する排液ホースと、前記排液ホースの内側を通って延出する供給チューブと、使用により前記支持チューブ及び供給チューブが直腸の上部に押し込まれるのを防止しかつ前記排出ホースの外側に配置される固定補助器具と、を備え、
前記固定補助器具は、前記排出ホースの外側に空気リングを備える医療用人工肛門装置。
【請求項１７】
肛門の内壁に損傷を与えることなく挿入可能な医療用人工肛門装置であって，
支持チューブと、
前記支持チューブから延出する排液ホースと、
前記支持チューブの周りに配置される外部バルーンと，
前記外部バルーンに接続され肛門への挿入後に該外部バルーンを拡張，収縮させる供給チューブと，を備え，
前記支持チューブは，前記外部バルーンが肛門への挿入を容易にするために収縮しているときに折り畳み可能である，医療用人工肛門装置。
【請求項１８】
前記支持チューブは，縦に折り畳み可能である請求項１７に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項１９】
肛門への挿入時に用いられる柔軟な材料からなる保護カバーを更に備え，該保護カバーは，前記支持チューブが折り畳まれた後，該支持チューブの先端に配置される請求項１８に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項２０】
前記保護カバーは，肛門挿入後に前記外部バルーンが拡張することにより前記支持チューブの先端から取り去ることが可能である請求項１９に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項２１】
前記保護カバーは，前記支持チューブの先端から取り去られた後に前記排液ホースを通って排出されうる請求項２０に記載の医療用人工肛門装置。
【請求項２２】
前記外部バルーンの内側に配置された内部バルーンをさらに備えた請求項１７から２１のいずれかに記載の医療用人工肛門装置。
【請求項２３】
前記外部バルーンと前記内部バルーンの間の前記支持チューブの縁に配置された柔軟で且つ弾性に富む材料から構成される保護膜をさらに具備する請求項２２に記載の医療用人工肛門装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月29日(2008.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変速度で動作可能なファンを含む暖房、通気、および／または空調システムを装備し、自動車電話の起動信号および停止信号が送られ、自動車電話の起動時にはファン速度を、ある最大値に制限して、ノイズを低減させる制御装置を備える自動車であって、
該最大値は暖房、通気、および／または空調システムの現在の動作モードに応じて可変である
ことを特徴とする自動車。
【請求項２】
暖房、通気、および／または空調システムが除霜モードに設定された場合は、前記最大値は自動車電話が停止中の可能な最高ファン速度に対応すると共に、除霜モードに設定されていない場合は、最大値は前記の可能な最高ファン速度よりも大幅に低いことを特徴とする請求項１に記載の自動車。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月16日(2008.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】  前記比較に応答して前記機械操作を可能にするかを決定するステップ（３１６）は、前記受信識別コードを含むアクセスキーリストにある該受信識別コードに応答して機械のセキュリティシステム（１０２）を解除するステップ（３１２）をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  前記比較に応答して前記機械操作を可能にするかを決定するステップ（３１６）は、
前記機械の第１の動作特性を決定するステップ（３０６）と、
前記第１の動作特性を前記キー作動期間と比較するステップ（３０８）と、
前記受信識別コードを含むアクセスキーリストと、前記キー作動期間の範囲内にある前記第１の動作特性とに応答して前記機械のセキュリティシステム（１０２）を解除するステップ（３１２）とをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３１】  スタータシステム（１１２）をさらに備え、前記一次制御装置（１０４）は、前記セキュリティシステム（２０２）が作動停止状態および解除状態のうちの一方であるとそれに応答してイネーブル信号を前記スタータシステム（１１２）に送信するようにさらに構成される、請求項２９に記載の機械のセキュリティ装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年1月4日(2008.1.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に延在すると共に該長手方向に対して横方向に延在するナノチューブと、第１レベルに第１のテラスと第２レベルに第２のテラスを有するテラス構造と備えたナノチューブ装置（１００，５００）であって、
前記ナノチューブは前記長手方向に沿って延在する第１の部分と該第１の部分に接続して前記長手方向に沿って延在する第２の部分とを有し、該第２の部分は前記第１の部分から離隔した位置に自由端を有するものであり、前記第１の部分は前記第１のテラス上に支持されている前記ナノチューブ装置において、
前記第１の部分はソース電極に接続され、前記第２のテラス上には第１の電極が備えられ、
前記第２の部分は前記長手方向に前記第１のテラスを越えて延びており、前記ソース電極と前記第１の電極との間に電圧が印加されると前記ナノチューブに対して前記第１の電極の方向に容量性の力が作用し、該容量性の力が所定のレベルを超えると、前記ナノチューブが前記第１の電極の方向に曲がり前記第２の部分が前記第１の電極に接触して、前記ソース電極と前記ナノチューブと前記第１の電極を備えた第１の電気回路が閉じられることを特徴とするナノチューブ装置（１００，５００）。
【請求項２】
前記第１の電極は前記長手方向に沿って、第１のゲート電極と、該第１のゲート電極及び前記第１の部分から離隔する第１のドレイン電極とを備え、前記容量性の力が所定のレベルを超えると、前記ナノチューブが前記第１のドレイン電極の方向に曲がり前記第２の部分が前記第１のドレイン電極に接触して、前記ソース電極と前記ナノチューブと前記第１のドレイン電極を備えた第１の電気回路が閉じられることを特徴とする請求項１に記載のナノチューブ装置（１００，５００）。
【請求項３】
前記テラス構造はさらに、第３のレベルに第３のテラスを備え、前記第３のテラスは前記ナノチューブを挟んで前記第２のテラスと反対方向に配置すると共に前記第２のテラスと平行に延在しており、
前記第３のテラス上には第２の電極が備えられ、
前記ソース電極と前記第２の電極との間に電圧が印加されると前記ナノチューブに対して前記第２の電極の方向に容量性の力が作用し、該容量性の力が所定のレベルを超えると、前記ナノチューブが前記第２の電極の方向に曲がり前記第２の部分が前記第２の電極に接触して、前記ソース電極と前記ナノチューブと前記第２の電極を備えた第２の電気回路が閉じられることを特徴とする請求項１又は２のいずれかにナノチューブ装置（１００，５００）。
【請求項４】
前記第２の電極は前記長手方向に沿って、第２のゲート電極と、該第２のゲート電極及び前記第１の部分から離隔する第２のドレイン電極とを備え、前記容量性の力が所定のレベルを超えると、前記ナノチューブが前記第２のドレイン電極の方向に曲がり前記第２の部分が前記第２のドレイン電極に接触して、前記ソース電極と前記ナノチューブと前記第２のドレイン電極を備えた第２の電気回路が閉じられることを特徴とする請求項３に記載のナノチューブ装置（１００，５００）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
この必要性は、長手方向に延在すると共に該長手方向に対して横方向に延在するナノチューブと、第１レベルに第１のテラスと第２レベルに第２のテラスを有するテラス構造と備えたナノチューブ装置であって、前記ナノチューブは前記長手方向に沿って延在する第１の部分と該第１の部分に接続して前記長手方向に沿って延在する第２の部分とを有し、該第２の部分は前記第１の部分から離隔した位置に自由端を有するものであり、前記第１の部分は前記第１のテラス上に支持されている前記ナノチューブ装置において、前記第１の部分はソース電極に接続され、前記第２のテラス上には第１の電極が備えられ、前記第２の部分は前記長手方向に前記第１のテラスを越えて延びており、前記ソース電極と前記第１の電極との間に電圧が印加されると前記ナノチューブに対して前記第１の電極の方向に容量性の力が作用し、該容量性の力が所定のレベルを超えると、前記ナノチューブが前記第１の電極の方向に曲がり前記第２の部分が前記第１の電極に接触して前記ソース電極と前記ナノチューブと前記第１の電極を備えた第１の電気回路が閉じられることを特徴とするナノチューブ装置によって充足される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
ナノチューブの突出部分の全延在長は、好適には50〜150nmの間であり、適切には約100nmのオーダーであり、高さｈは約3nmのオーダーのサイズである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
ゲート電極１４０に電圧を印加すると、それによる容量性の力が、ゲート電極へ向かう方向でナノチューブ１２０に印加する。ここで、前記方向は図において“下方”方向として知覚されるナノチューブの横方向によって規定される方向である。Ｆｃで示されている力は、以下の数式によって表される：
【数１】
2005521196.tif 000001
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
実施形態５００は本質的に、図１に示した装置の特徴を全てを備え、さらに、横方向によって規定される方向においてナノチューブ５２０に力を付与する第２の手段５４０’を備え、これによって、前記力があるレベルを超えるときに、ナノチューブの第２の部分は横方向に伸縮し、これによって第２の電気回路を閉じる。前記第２の方向は、図５から実現されるように、手段５４０’に向かう方向である。力を、好適には第２のゲート電極である手段５４０’を介してナノチューブ５２０に付与するときに、ナノチューブ５２０の第２の突出している部分は横方向に伸縮し、これによって第２の電気回路を閉じる。この第２の電気回路は適切には、図１に関連して記載したソース電極５１０と、支持構造５３０の第３のレベル５３０’上に配置する第２のドレイン電極５５０’とによって規定される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月20日(2008.8.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
近年、重量節減及び必要な材料の削減を与える、コンパクトな磁電管装置に向けての動向がある。我々の係属中の英国特許出願第9930110.3号は、縦型配列構成で矩形導波管に連結される同軸出力部を持つ磁電管を開示する。本発明は、この磁電管装置の発展として生まれた。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
中心導体に対して固定位置にプレートを設置することは、磁電管と導波管の間の使用中の結合度を改善する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
上述の特許出願では、中心導体を導波管の壁の縁部とほぼ一直線上に並べることにより、結合度が改善されることを特定した。しかしながら、発明者達は、この利点がプローブの端と導波管の間の間隔にひどく依存していて、結合度が導波管の端に含まれるフランジの形式に依って変えられるようになることを発見した。本発明は、プローブから所定の距離にある導波管壁をシミュレートして、用いられる導波管フランジの形式に関わらず、出力結合度が実質的に同じであるようにする。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
図1でわかるように、同軸出力部4は、縦型配列構成で矩形導波管7の端に連結される。「縦型配列構成」により、エネルギーが導波管7を伝って伝わる方向と同じ方向に、同軸出力部4が伸張することを意味しており、この方向は、図1で矢印で示される。図2でより明らかにわかるように、同軸出力部線4は、導波管7に対して、導波管の幅広の壁8の一方の縁部と、その壁の中心点でほぼ一直線になるように並べられる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
この形式の磁電管装置で遭遇し得る問題は、磁電管と導波管の間の結合度は常に同じではなく、導波管の端に置かれた接合フランジ9の形式によって変化するように思われることである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
プローブ16の端と長方形導波管17の幅広の壁の間の距離が、導波管への結合の度合いに影響を及ぼし、従って、結合効率が用いられるフランジの形式に依存することを、発明者達は気付いた。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明に従って、磁電管出力装置は、同軸出力部線13の中心導体14の端に対して所定の位置に置かれたプレート要素19を含む。望ましくは、プレート要素の縁部20が、間隔のあいた位置関係でプローブのほぼ半分と重なるように配置されて、プレート要素が、長方形導波管の幅広の壁の効果をシミュレートするようにする。図4でわかるように、プレート要素19は、導波管から見えるように、プローブの端を効果的に二分する。従って、従来技術の「縦型配列」の配置の利点は保持されるが、しかし、プローブの端とプレート要素の間の距離が固定されるので、結合は最適化される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年6月10日(2008.6.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトの手やその他の皮膚を洗浄するための透明で清澄な均質組成物であって、下記の組成を有する該組成物：
（a）ミドリハッカのビリジス変種植物から得られる精油であって、リモネン１．５０〜６．５３％、カルボン０．１０７〜４．４２％およびピペリテノン２８．５０〜８０．４５％を含有する該精油：０．０１〜０．０５％、
（b）メントールと酢酸メンチルとの混合物：０．０５〜０．５％、
（c）エタノール：１〜２５％、
（d）イソプロパノール：５〜５０％、
（e）塩化ベンザルコニウム：０．１〜０．５％および
（f）蒸留水：全容積の残部。
【請求項２】
下記の組成を有する請求項１記載の組成物：
（a）ミドリハッカのビリジス変種植物の精油：０．０２％、
（b）メントールと酢酸メンチルとの混合物：０．１０％、
（c）エタノール：５．００％、
（d）イソプロパノール：３０．００％、
（e）塩化ベンザルコニウム：０．３０％および
（f）蒸留水：全容積の残部。
【請求項３】
病原性バクテリアと真菌に対して有効な請求項１記載の組成物の製法であって、下記の工程を含む該製法：
（a）ミドリハッカのビリジス変種の精油であって、リモネン１．５０〜６．５３％、カルボン０．１０７〜４．４２％およびピペリテノン２８．５０〜８０．４５％を含有する該精油を０．０１〜０．０５％の濃度で供給し、
（b）メントールと酢酸メンチルの混合物を０．０５〜０．５％の濃度で工程（a）の精油に添加して十分に混合し、
（c）エタノールを５〜２５％の濃度で工程（b）の混合物に添加して十分に混合し、
（d）イソプロピルアルコールを５〜５０％の濃度で工程（c）の混合物に添加し、全混合物を十分に混合し、
（e）蒸留水を工程（d）の混合物に添加し、全混合物を十分に混合し、次いで
（f）塩化ベンザルコニウムを０．１〜０．５％の濃度で工程（e）の混合物に添加し、全混合物を十分に混合することによって該組成物を得る。
【請求項４】
ミドリハッカのビリジス変種植物の精油を、クレヴェンジャー装置を用いる直接蒸留によって該植物の葉から入手する請求項３記載の製法。
【請求項５】
メントールと酢酸メンチルの混合物を、メントールと酢酸メンチルとを４０：６０（ｗ／ｖ）の割合で混合して調製する請求項３記載の製法。
【請求項６】
メントールをハッカ属アルヴェンシス植物から単離された精油の−６０℃での結晶化によって入手する請求項４記載の製法。
【請求項７】
メントールをメントールと酢酸の直接的エステル化または共沸エステル化によって入手する請求項４記載の製法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
一つの実施態様においては、ミドリハッカのビリジス変種の精油は、クレヴェンジャー（Clevenger）装置を用いる直接蒸留（hydro-distillation）によって該植物の葉から
入手する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
一つの実施態様においては、ミドリハッカのビリジス変種の精油は、クレヴェンジャー装置を用いる直接蒸留によって該植物の葉から入手する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
さらに別の実施態様においては、シトロネラソウからの精油は直接蒸留によって入手する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
実施例２：ミドリハッカのビリジス変種の精油とシトロネラ油の調製
ミドリハッカのビリジス変種の葉の精油（ピペリテロンオキシドに富む）を、クレヴェンジャー装置を用いる直接蒸留によって単離した。直接蒸留は既知であり、当業者によって実施することができる。シトロネラ油は、一般に「シトロネラ」（シトロネラソウ）と呼ばれている植物の葉の直接蒸留によっても得ることができる。ミドリハッカのビリジス変種の精油とシトロネラ油は使用に供するまでは冷蔵庫内に保存した。これらの精油の主要な成分は標準的な気−液クロマトフラフィー（ＧＬＣ）を用いることによって分析して同定した。これらの植物原料はＣＩＭＡＰ（医薬・芳香植物の中央研究所：ラクナウ、インド）において栽培用の苗／種子として入手することができる。さらに、シトロネラ油は市販品としても入手することができる。ミドリハッカのビリジス変種の精油およびシトロネラソウ（シトロネラ）の精油の組成を以下に示す。