【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも一種のアルカリ及びアルカリ土類金属塩基との組み合わせの第四級アンモニウム塩基；並びに（ｂ）酸化剤との組み合わせの強塩基よりなる群から選択される活性洗浄の組み合わせ（ＡＣＣ）を含む洗浄組成物であって、前記酸化剤が、アミン−Ｎ−オキシド、過ホウ酸塩、過硫酸塩及び前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される酸化剤種を含み、その上にフォトレジスト及び／又は犠牲反射防止膜（ＳＡＲＣ）材料を有する基板からかかる材料を除去するために有用な洗浄組成物。
【請求項２】
ヒドロキシルアミンを含まない、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項３】
成分（ａ）を含み、次の成分：
０．１重量％〜４０．０重量％の有機第四級アンモニウム塩基と；
０．０１重量％〜５重量％のアルカリ若しくはアルカリ土類金属塩基と；
０重量％〜８０重量％の溶媒及び／又はアミンと；
０重量％〜５重量％の界面活性剤と；
０重量％〜１０重量％のキレート剤／不動態化剤と；
０重量％〜９８重量％の水と
を含み、ここでは成分のパーセントは組成物の総重量を基準とする重量パーセントであり、組成物のかかる成分の重量パーセントの総計が１００重量％を超過しない、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項４】
成分（ａ）を含み、配合物Ａ〜Ｃ２：
配合物Ａ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
３．０％の４−メチルモルホリンＮ−オキシド
０．３０％のポリオキシエチレン（１５０）ジノニルフェニルエーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
９１．０％の水
配合物Ｂ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
３．０％の４−メチルモルホリンＮ−オキシド
０．３０％のポリオキシエチレン（１５０）ジノニルフェニルエーテル
０．２０％の５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール
９０．８６％の水
配合物Ｃ
３．６０％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２７％の水酸化カリウム
３．５％の４−メチルモルホリンＮ−オキシド
１５．０％の４−（３−アミノプロピル）モルホリン
０．３０％のポリオキシエチレン（１５０）ジノニルフェニルエーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
７７．２５％の水
配合物Ｄ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
２０．０％のジメチルスルホキシド
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
７４．２８％の水
配合物Ｅ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
１０．０％のテトラメチレンスルホン
０．３０％のオキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、２，２’−（オキシドイミノ）ビス（エタノール）（２：１）、Ｎ（−３（Ｃ９−１１−イソアルキルオキシ）プロピル）誘導体、Ｃ１０リッチによるエーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
８３．９８％の水
配合物Ｆ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
１０．０％のジ（エチレングリコール）ブチルエーテル
１０．０％の２−（２−ジメチルアミノ）エトキシ）エタノール
０．３０％のオキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、２，２’−（オキシドイミノ）ビス（エタノール）（２：１）、Ｎ（−３（Ｃ９−１１−イソアルキルオキシ）プロピル）誘導体、Ｃ１０リッチによるエーテル
７４．０６％の水
配合物Ｇ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
１０．０％のテトラメチレンスルホン
１０．０％のジ（エチレングリコール）ブチルエーテル
０．１０％のオキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、モノ（オクチルフェニル）エーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
７４．１８％の水
配合物Ｈ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ９．０％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ジノニルフェノールエトキシレート、７％水溶液    ４．３％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．１％
アミノプロピルモルホリン    ２０．０％
水    ５９．０２％
配合物Ｉ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ９．０％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ジノニルフェノールエトキシレート、７％水溶液    ４．３％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．１％
アミノプロピルモルホリン    １５．０％
水    ６４．０２％
配合物Ｊ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ９．０％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ジノニルフェノールエトキシレート、７％水溶液    ４．３％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．１％
アミノプロピルモルホリン    １０．０％
水    ６９．０２％
配合物Ｋ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    １３．４％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ７８．６２％
配合物Ｌ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    １３．４％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ７８．０２％
配合物Ｍ
水酸化テトラメチルアンモニウム、２５％水溶液    ５．８５％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８５．５７％
配合物Ｎ
水酸化テトラメチルアンモニウム、２５％水溶液    ２．９３％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８８．４９％
配合物Ｏ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８４．８２％
配合物Ｐ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ３．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８７．８２％
配合物Ｑ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ３．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８８．４２％
配合物Ｒ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．３％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８５．１２％
配合物Ｓ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｔ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｕ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
２−メルカプトチアゾリン    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｖ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
８−ヒドロキシキノリン    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｗ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
１−フェニル−２−テトラゾリン−５−チオン    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｘ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
没食子酸    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｙ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
サリチル酸    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｚ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
アスコルビン酸    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ａ２
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
アミノプロピルモルホリン    １０％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    １．０％
水    ８１．１２％
配合物Ｂ２
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
アミノプロピルモルホリン    １０％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    ０．５％
水    ８１．６２％
配合物Ｃ２
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
アミノプロピルモルホリン    １０％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    １．０％
水    ８１．０２％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．１％
よりなる群から選択され、ここでは全てのパーセントは配合物の総重量を基準とする重量パーセントである、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項５】
前記ＡＣＣが、水酸化カリウムを含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項６】
キレート剤、界面活性剤、共溶媒及びそれらの組み合わせよりなる群から選択される種をさらに含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項７】
前記キレート剤が、トリアゾール；Ｃ１〜Ｃ８アルキル、アミノ、チオール、メルカプト、イミノ、カルボキシ及びニトロよりなる群から選択される置換基によって置換されたトリアゾール；チアゾール；テトラゾール；イミダゾール；ホスフェート；チオール；アジン；グリセロール；アミノ酸；カルボン酸；アルコール；アミド；並びにキノリンよりなる群から選択されるキレート剤種を含み；
前記界面活性剤が、フルオロアルキル界面活性剤；ポリエチレングリコール；ポリプロピレングリコール；ポリエチレングリコールエーテル；ポリプロピレングリコールエーテル；カルボン酸塩；ドデシルベンゼンスルホン酸及びそれらの塩；ポリアクリレートポリマー；ジノニルフェニルポリオキシエチレン；シリコーンポリマー；変性シリコーンポリマー；アセチレンジオール；変性アセチレンジオール、アルキルアンモニウム塩；変性アルキルアンモニウム塩；並びに前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される界面活性剤種を含み；
前記共溶媒が、アミン；グリコール；グリコールエーテル；ポリグリコールエーテル；および前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される共溶媒種を含む、請求項６に記載の洗浄組成物。
【請求項８】
前記キレート剤が、１，２，４−トリアゾール；ベンゾトリアゾール；トリルトリアゾール；５−フェニル−ベンゾトリアゾール；５−ニトロ−ベンゾトリアゾール；４−メチル−２−フェニルイミダゾール；２−メルカプトチアゾリン；１−アミノ−１，２，４−トリアゾール；ヒドロキシベンゾトリアゾール；２−（５−アミノ−ペンチル）−ベンゾトリアゾール；１−アミノ−１，２，３−トリアゾール；１−アミノ−５−メチル−１，２，３−トリアゾール；３−アミノ−１，２，４−トリアゾール；３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール；３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−イソプロピル−１，２，４−トリアゾール；５−フェニルチオール−ベンゾトリアゾール；ハロがＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩよりなる群から選択されるハロ−ベンゾトリアゾール；ナフトトリアゾール；２−メルカプトベンゾイミジゾール；２−メルカプトベンゾチアゾール；５−アミノテトラゾール；５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール；２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン；チアゾール；トリアジン；メチルテトラゾール；１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン；１，５−ペンタメチレンテトラゾール；１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール；ジアミノメチルトリアジン；メルカプトベンゾチアゾール；イミダゾリンチオン；メルカプトベンズイミダゾール；４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−チオール；５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール；ベンゾチアゾール；トリトリルホスフェート；インジアゾール；グアニン；アデニン；グリセロール；チオグリセロール；ニトリロトリ酢酸；サリチルアミド；イミノ二酢酸；ベンゾグアナミン；メラミン；チオシアヌル酸；アントラニル酸；没食子酸；アスコルビン酸；サリチル酸；８−ヒドロキシキノリン；５−カルボン酸−ベンゾトリアゾール；３−メルカプトプロパノール；ホウ酸；並びにイミノ二酢酸よりなる群から選択されるキレート剤種を含み；
前記共溶媒が、ジメチルジグリコールアミン；１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン；アミノプロピルモルホリン；トリエタノールアミン；メチルエタノールアミン；ジエチレングリコール；プロピレングリコール；ネオペンチルグリコール；ヒドロキシエチルモルホリン；アミノプロピルモルホリン；ジ（エチレングリコール）モノエチルエーテル；ジ（プロピレングリコール）プロピルエーテル；エチレングリコールフェニルエーテル；ジ（プロピレングリコール）ブチルエーテル；ブチルカルビトール；ポリグリコールエーテル；及び前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される共溶媒種を含む、請求項７に記載の洗浄組成物。
【請求項９】
その上にフォトレジスト及び／又はＳＡＲＣ材料を有する基板から前記材料を除去する方法であって、（ａ）少なくとも一種のアルカリ及びアルカリ土類金属塩基との組み合わせの第四級アンモニウム塩基；並びに（ｂ）酸化剤との組み合わせの強塩基よりなる群から選択される活性クリーニングの組み合わせ（ＡＣＣ）を含む洗浄組成物と基板を十分な時間で接触させて、基板から前記材料を少なくとも部分的に除去する工程を含み、前記酸化剤が、アミン−Ｎ−オキシド、過ホウ酸塩、過硫酸塩及び前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される酸化剤種を含む、方法。
【請求項１０】
前記基板が、半導体デバイス構造を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記接触工程が、約１０分〜約４５分の時間；約５０℃〜約８０℃の範囲の温度；及びそれらの組み合わせよりなる群から選択される条件で実行される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記洗浄組成物が成分（ａ）を含み、組成物が次の成分：
０．１重量％〜４０．０重量％の有機第四級アンモニウム塩基と；
０．０１重量％〜５重量％のアルカリ若しくはアルカリ土類金属塩基と；
０重量％〜８０重量％の溶媒及び／又はアミンと；
０重量％〜５重量％の界面活性剤と；
０重量％〜１０重量％のキレート剤／不動態化剤と；
０重量％〜９８重量％の水と
を含み、ここでは成分のパーセントは組成物の総重量を基準とする重量パーセントであり、組成物のかかる成分の重量パーセントの総計が１００重量％を超過しない、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記洗浄組成物が成分（ａ）を含み、配合物Ａ〜Ｃ２：
配合物Ａ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
３．０％の４−メチルモルホリンＮ−オキシド
０．３０％のポリオキシエチレン（１５０）ジノニルフェニルエーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
９１．０％の水
配合物Ｂ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
３．０％の４−メチルモルホリンＮ−オキシド
０．３０％のポリオキシエチレン（１５０）ジノニルフェニルエーテル
０．２０％の５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール
９０．８６％の水
配合物Ｃ
３．６０％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２７％の水酸化カリウム
３．５％の４−メチルモルホリンＮ−オキシド
１５．０％の４−（３−アミノプロピル）モルホリン
０．３０％のポリオキシエチレン（１５０）ジノニルフェニルエーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
７７．２５％の水
配合物Ｄ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
２０．０％のジメチルスルホキシド
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
７４．２８％の水
配合物Ｅ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
１０．０％のテトラメチレンスルホン
０．３０％のオキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、２，２’−（オキシドイミノ）ビス（エタノール）（２：１）、Ｎ（−３（Ｃ９−１１−イソアルキルオキシ）プロピル）誘導体、Ｃ１０リッチによるエーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
８３．９８％の水
配合物Ｆ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
１０．０％のジ（エチレングリコール）ブチルエーテル
１０．０％の２−（２−ジメチルアミノ）エトキシ）エタノール
０．３０％のオキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、２，２’−（オキシドイミノ）ビス（エタノール）（２：１）、Ｎ（−３（Ｃ９−１１−イソアルキルオキシ）プロピル）誘導体、Ｃ１０リッチによるエーテル
７４．０６％の水
配合物Ｇ
５．３６％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム
０．２８％の水酸化カリウム
１０．０％のテトラメチレンスルホン
１０．０％のジ（エチレングリコール）ブチルエーテル
０．１０％のオキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、モノ（オクチルフェニル）エーテル
０．０８％の２−メルカプトベンズイミダゾール
７４．１８％の水
配合物Ｈ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ９．０％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ジノニルフェノールエトキシレート、７％水溶液    ４．３％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．１％
アミノプロピルモルホリン    ２０．０％
水    ５９．０２％
配合物Ｉ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ９．０％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ジノニルフェノールエトキシレート、７％水溶液    ４．３％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．１％
アミノプロピルモルホリン    １５．０％
水    ６４．０２％
配合物Ｊ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ９．０％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ジノニルフェノールエトキシレート、７％水溶液    ４．３％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．１％
アミノプロピルモルホリン    １０．０％
水    ６９．０２％
配合物Ｋ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    １３．４％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ７８．６２％
配合物Ｌ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    １３．４％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ７８．０２％
配合物Ｍ
水酸化テトラメチルアンモニウム、２５％水溶液    ５．８５％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８５．５７％
配合物Ｎ
水酸化テトラメチルアンモニウム、２５％水溶液    ２．９３％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８８．４９％
配合物Ｏ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８４．８２％
配合物Ｐ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ３．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    １．２％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８７．８２％
配合物Ｑ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ３．６％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８８．４２％
配合物Ｒ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
Ｎ−メチルモルホリンオキシド、５０％水溶液    ７．０％
ＫＯＨ、４５％水溶液    ０．３％
２−メルカプトベンズイミジゾール    ０．０８％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．３％
水    ８５．１２％
配合物Ｓ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｔ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｕ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
２−メルカプトチアゾリン    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｖ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
８−ヒドロキシキノリン    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｗ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
１−フェニル−２−テトラゾリン−５−チオン    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｘ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
没食子酸    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｙ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
サリチル酸    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ｚ
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ２２．２６％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
メチルジエタノールアミン    ２．３３％
リン酸（８６％）    １．６９％
アスコルビン酸    １．０％
水    ７２．０４％
配合物Ａ２
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
アミノプロピルモルホリン    １０％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    １．０％
水    ８１．１２％
配合物Ｂ２
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
アミノプロピルモルホリン    １０％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    ０．５％
水    ８１．６２％
配合物Ｃ２
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、４０％水溶液    ７．２％
水酸化カリウム、４５％水溶液    ０．６％
２−メルカプトベンズイミダゾール    ０．０８％
アミノプロピルモルホリン    １０％
４−メチル−２−フェニル−イミダゾール    １．０％
水    ８１．０２％
ジノニルフェノールポリオキシエチレン    ０．１％
よりなる群から選択され、ここでは全てのパーセントは配合物の総重量を基準とする重量パーセントである、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＡＣＣが、水酸化カリウムを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記洗浄組成物が、キレート剤、界面活性剤、共溶媒及びそれらの組み合わせよりなる群から選択される種をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記キレート剤が、トリアゾール；Ｃ１〜Ｃ８アルキル、アミノ、チオール、メルカプト、イミノ、カルボキシ及びニトロよりなる群から選択される置換基によって置換されたトリアゾール；チアゾール；テトラゾール；イミダゾール；ホスフェート；チオール；アジン；グリセロール；アミノ酸；カルボン酸；アルコール；アミド；並びにキノリンよりなる群から選択されるキレート剤種を含み；
前記界面活性剤が、フルオロアルキル界面活性剤；ポリエチレングリコール；ポリプロピレングリコール；ポリエチレングリコールエーテル；ポリプロピレングリコールエーテル；カルボン酸塩；ドデシルベンゼンスルホン酸及びそれらの塩；ポリアクリレートポリマー；ジノニルフェニルポリオキシエチレン；シリコーンポリマー；変性シリコーンポリマー；アセチレンジオール；変性アセチレンジオール、アルキルアンモニウム塩；変性アルキルアンモニウム塩；並びに前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される界面活性剤種を含み；
前記共溶媒が、アミン；グリコール；グリコールエーテル；ポリグリコールエーテル；及び前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される共溶媒種を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記キレート剤が、１，２，４−トリアゾール；ベンゾトリアゾール；トリルトリアゾール；５−フェニル−ベンゾトリアゾール；５−ニトロ−ベンゾトリアゾール；１−アミノ−１，２，４−トリアゾール；ヒドロキシベンゾトリアゾール；２−（５−アミノ−ペンチル）−ベンゾトリアゾール；１−アミノ−１，２，３−トリアゾール；４−メチル−２フェニルイミダゾール；２−メルカプトチアゾリン；１−アミノ−５−メチル−１，２，３−トリアゾール；３−アミノ−１，２，４−トリアゾール；３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール；３−イソプロピル−１，２，４−トリアゾール；５−フェニルチオール−ベンゾトリアゾール；ハロがＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩよりなる群から選択されるハロ−ベンゾトリアゾール；ナフトトリアゾール；２−メルカプトベンゾイミジゾール；２−メルカプトベンゾチアゾール；５−アミノテトラゾール；５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール；２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン；チアゾール；トリアジン；メチルテトラゾール；１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン；１，５−ペンタメチレンテトラゾール；１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール；ジアミノメチルトリアジン；メルカプトベンゾチアゾール；イミダゾリンチオン；メルカプトベンズイミダゾール；４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−チオール；５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール；ベンゾチアゾール；トリトリルホスフェート；インジアゾール；グアニン；アデニン；グリセロール；チオグリセロール；ニトリロトリ酢酸；サリチルアミド；イミノ二酢酸；ベンゾグアナミン；メラミン；チオシアヌル酸；アントラニル酸；没食子酸；アスコルビン酸；サリチル酸；８−ヒドロキシキノリン；５−カルボン酸−ベンゾトリアゾール；３−メルカプトプロパノール；ホウ酸；並びにイミノ二酢酸よりなる群から選択されるキレート剤種を含み；
前記共溶媒が、ジメチルジグリコールアミン；１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン；メチルジエタノールアミン；アミノプロピルモルホリン；トリエタノールアミン；メチルエタノールアミン；ジエチレングリコール；プロピレングリコール；ネオペンチルグリコール；ヒドロキシエチルモルホリン；アミノプロピルモルホリン；ジ（エチレングリコール）モノエチルエーテル；ジ（プロピレングリコール）プロピルエーテル；エチレングリコールフェニルエーテル；ジ（プロピレングリコール）ブチルエーテル；ブチルカルビトール；ポリグリコールエーテル；及び前記の二種以上の組み合わせよりなる群から選択される共溶媒種を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
成分（ａ）を含み、前記第四級塩基が、有機第四級アンモニウム塩基を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項１９】
成分（ａ）を含み、前記ＡＣＣが、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム及び水酸化カリウムを含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項２０】
前記共溶媒が、グリコールエーテルを含む、請求項９に記載の洗浄組成物。
【請求項２１】
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム；水酸化カリウム；テトラメチレンスルホン；ジ（エチレングリコール）ブチルエーテル；オキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、モノ（オクチルフェニル）エーテル；２−メルカプトベンズイミダゾール；及び水を含む洗浄組成物であって、
上にフォトレジスト及び／又は犠牲反射防止膜（ＳＡＲＣ）材料を有する基板からかかる材料を除去するために有用な洗浄組成物。
【請求項２２】
請求項１に記載のクリーニング組成物と基板を十分な時間で接触させて、基板から前記材料を少なくとも部分的に除去する工程を含む、半導体デバイスの製造方法。
【請求項２３】
成分（ａ）を含み、さらに酸化剤を含む、請求項１に記載の洗浄組成物。
【請求項２４】
オキシラン種を含み、前記オキシラン種が、オキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、２,２‘−（オキシドイミノ）ビス（エタノール）を有するエーテル（２：１）、Ｎ（−３（Ｃ９−１１−イソアルキロキシ）プロピル）誘導体、Ｃ１０−リッチ、オキシラン、メチル−、オキシランによるポリマー、モノ（オクチルフェニル）エーテルからなる群から選択される種を含む、請求項１に記載の組成物。