【手続補正書】
【提出日】令和1年8月9日(2019.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットベッドエンボス加工機（１）であって、
−少なくとも１つのエンボス加工ツール（２３）を受けるためのツール側（３６）と、前記ツール側（３６）と反対側にあるツールプレート後側（３５）とを有するツールプレート（２０）と、
−前記ツールプレート後側（３５）に対向するツールプレート側（１２）と、前記ツールプレート側（１２）と反対側にあり、前記ツールプレート（２０）上に加えられるエンボス加工力を前記ツールプレート側（１２）とベースプレート後側（１１）との間に伝達するための前記ベースプレート後側（１１）とを有するベースプレート（１０）と、
−前記少なくとも１つのエンボス加工ツール（２３）を加熱するための加熱器具とを備え、
前記ツールプレート（２０）は誘導加熱可能であり、前記加熱器具は、前記ベースプレート（１０）に嵌め込まれるインダクタ（１６）を有する誘導加熱器具（３）であり、前記インダクタ（１６）の設計、および前記ツールプレート側（１２）と前記プレート後側（１１）との間の前記インダクタの配置は、前記ツールプレート側（１２）で前記ベースプレート（１０）を越える、前記ツールプレート（２０）を誘導加熱するための交番磁界（１９）が、前記ツールプレート側（１２）を越えて前記ベースプレート（１０）の外部で発生可能であるようなものであることを特徴とする、フラットベッドエンボス加工機。
【請求項２】
前記インダクタ（１６）は、前記ベースプレート（１０）と共に、加熱モジュールの一部を形成することを特徴とする、請求項１に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項３】
前記インダクタ（１６）は、その巻線が前記ツールプレート側（１２）と平行な平面内に配置される、巻かれた導電体として設計されることを特徴とする、請求項１または２に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項４】
フェリ磁性特性を有する磁界伝導要素（１８）が前記インダクタ（１６）と前記ベースプレート後側（１１）との間に配置されることを特徴とする、請求項１から３のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項５】
前記磁界伝導要素（１８）は前記ベースプレート（１０）に嵌め込まれ、好ましくは前記モジュールユニットの一部を形成することを特徴とする、請求項４に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項６】
導電性材料からなるかまたは導電性材料を含む延在する（平坦な）遮蔽要素（１７）が前記ベースプレート後側（１１）に配置され、前記遮蔽要素（１７）は、前記ベースプレート後側（１１）の領域内の前記機械（１）を前記交番磁界から少なくとも部分的に遮蔽することを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項７】
前記ベースプレート（１０）は、非導電性のキャリア材料からなることを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項８】
前記ベースプレート（１０）の前記キャリア材料は繊維強化プラスチックであり、特にガラス繊維強化プラスチックであることを特徴とする、請求項１から７のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項９】
前記ツールプレート（２０）は誘導加熱可能な材料の加熱区域を形成し、特に強磁性材料を含むことを特徴とする、請求項１から８のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１０】
前記ツールプレート（２０）は前記ツールプレート後側（３５）の領域内に連続的なベース領域（２１）を形成し、前記連続的なベース領域（２１）は前記加熱区域の一部であることを特徴とする、請求項９に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１１】
前記ツールプレート（２０）は多数の深部（３１）を含み、前記深部は前記ツール側（３６）に開口しており、前記ツールプレート後側（３５）に向かって前記連続的なベース領域（２１）の前で終了することを特徴とする、請求項１０に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１２】
前記ツールプレート（２０）の一部区域を個別に加熱するために、各々がベースプレート（１０．１〜１０．４）を有する複数の個別に操作可能な加熱モジュールが前記ツールプレート後側（３５）にわたって互いに隣り合って配置されることを特徴とする、請求項１から１１のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１３】
前記誘導加熱器具（３）は、前記ツールプレート（２０）の温度を判定するための装置（２４，５４）を含むことを特徴とする、請求項１から１２のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１４】
前記装置（２４，５４）は、前記ツールプレート（２０）の温度を測定するための温度センサ（２５，５５）を有する温度測定装置を含むことを特徴とする、請求項１３に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１５】
前記温度測定装置（２４，５４）は移動機構（２７，３０，３２；５７，６０，６１）を含み、これによって前記温度センサ（２５，５５）が前記ベースプレート（１０）に対し可動に前記ベースプレート（１０）に固定されることを特徴とする、請求項１４に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１６】
前記温度センサ（２５，５５）は、前記移動機構（２７，３０，３２；５７，６０，６１）によって、前記温度センサ（２５）が操作位置にある前記ツールプレート（２０）と測定接触を形成する測定位置（Ｓ１）と、前記測定位置（Ｓ１）とは異なり、前記温度センサ（２５，５５）が前記ツールプレート（２０）の構成を行なう構成位置（Ｓ２）との間を動くことができることを特徴とする、請求項１５に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１７】
前記ツールプレート（２０）の温度を判定するための前記装置（２４，５４）によって検出される温度値に基づいて前記誘導加熱器具（３）を介して前記ツールプレート（２０）の温度を閉ループ制御するための装置（４４）を特徴とする、請求項１３から１６のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機。
【請求項１８】
少なくとも１つのエンボス加工ツール（２３）を受けるためのツール側（３６）と、前記ツール側（３６）と反対側にあるプレート後側（３５）とを有する、請求項１から１７のいずれか１項に記載のフラットベッドエンボス加工機（１）のツールプレート（２０）であって、前記ツールプレート（２０）は、前記ツール側（３６）に向かって開口し、かつ前記少なくとも１つのエンボス加工ツール（２３）を固定するための複数の深部（３１）を含み、
前記ツールプレート（２０）は前記プレート後側（３５）に向かって連続的なベース領域（２１）を形成し、前記深部（３１）は前記プレート後側（３５）に向かって前記連続的なベース領域（２１）の前で終了することを特徴とする、ツールプレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
図７は、合計６つの加熱モジュール１０．１から１０．６を有するシート供給機の実施形態を示す。４つの加熱モジュール１０．３から１０．６は、入口側で処理方向Ｘを横切って互いに隣り合って配置される。２つのさらなる加熱モジュール１０．１および１０．２は、出口側で処理方向Ｘを横切って互いに隣り合って配置される。