【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年12月3日(2018.12.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
理論に制限されず、本発明の清浄化組成物において、清浄化組成物の塩基性を調節するために使用される有機塩基は、ＣＭＰプロセスで使用される研磨剤粒子とウェハ表面とが効果的な負の静電的反発を保ち、したがって、研磨剤粒子が十分に除去されることを確実にすると一般的に考えられる。有機塩基は、穏やかな金属エッチング効果を提供することもできる。それに加えて、銅プロセスに対して、有機塩基は、アンモニアを使用したときに出合うような粗な銅表面に曝されない。一般的に、有用な有機塩基は第四級アンモニウムである。第四級アンモニウムの例は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド（ＴＰＡＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＢＡＨ）、トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＨＥＭＡＨ）、セチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＣＴＡＨ）、コリン、及びそれらの組合せからなる群から選択することができるが、これらに限定されない。以下の実施例において、例示される有機塩基は、ＴＭＡＨ、ＴＥＡＨ、ＴＨＥＭＡＨ、ＣＴＡＨ及びコリンである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明の水性清浄化組成物は、銅エッチング剤も使用し、それは通常ヘテロシクロアミン、アルコールアミンなどのＮ含有化合物であってよい。理論によっては限定されず、ヘテロシクロアミンが使用されるとき、ヘテロシクロアミンのヘテロシクロ環中における窒素原子の非共有電子対は、金属原子（銅などの）と配位結合を形成し、それ故、研磨剤粒子を除去する所望の効果を提供するだけでなく、金属導線から逃れた有機汚染物質が再び化学吸着することを防止すると考えられる。その上、アルコールアミンが使用される場合、それも金属表面を一様にエッチングして、エッチングされた金属導線の粗度を悪化させない。本発明で使用される銅エッチング剤の例は、ピペラジン、１−（２−アミノエチル）ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、２−（１−ピペラジニル）エタノール、２−（１−ピペラジニル）エチルアミン、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−１−プロパノール、２−アミノエタノール、２−ジメチルアミノエタノール、２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、３−アミノ−１−プロパノール、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、ジイソプロパノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、ジグリコールアミン（ＤＧＡ）、ビシン、トリシン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）、及びそれらの組合せからなる群から選択することができるが、これらに限定されない。以下の実施例において、例示される銅エッチング剤は、ピペラジン、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、ビシン、及びＴｒｉｓから選択することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
【表１】
2016519423.tif 000001
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅の化学的機械的平坦化後（Ｃｕ−ＣＭＰ後）のための水性清浄化組成物であって、
有機塩基、
銅エッチング剤、
有機リガンド、
ヒドラジド化合物である腐食防止剤、及び
水
を含み、
前記有機塩基は２００〜１２，０００ｐｐｍの濃度であり、前記銅エッチング剤は２００〜１０，０００ｐｐｍの濃度であり、前記有機リガンドは５０〜１０，０００ｐｐｍの濃度であり、及び前記腐食防止剤は１０〜５，０００ｐｐｍの濃度であり、
前記水性清浄化組成物のｐＨは９を超え、
前記有機塩基は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド（ＴＰＡＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＢＡＨ）、トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＨＥＭＡＨ）、セチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＣＴＡＨ）、コリン、及びそれらの組合せからなる群から選択される第四級アンモニウムであり、
前記銅エッチング剤は、ピペラジン、１−（２−アミノエチル）ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、２−（１−ピペラジニル）エタノール、２−（１−ピペラジニル）エチルアミン、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−１−プロパノール、２−アミノエタノール、２−ジメチルアミノエタノール、２−（Ｎ−メチルアミノ）エタノール、３−アミノ−１−プロパノール、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、ジイソプロパノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、ジグリコールアミン（ＤＧＡ）、ビシン、トリシン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）、及びそれらの組合せからなる群から選択されるＮ含有化合物であり、
前記有機リガンドは、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、２−ヒドロキシホスホノ酢酸、２−カルボキシエチルホスホン酸、ホスフィノカルボン酸ポリマー、ポリアミノポリエーテルメチレンホスホン酸、２−アミノエチルホスホン酸、Ｎ−（ホスホノメチル）イミノ二酢酸、アミノトリス（メチレンホスホン酸）、グリシン、スルファミン酸、ジエチレントリアミン五酢酸、クエン酸、Ｌ−システイン、グリコール酸、及びグリオキシル酸からなる群から選択される少なくとも１種であり、
前記ヒドラジド化合物が、以下の式：
【化１】
2016519423.tif 000002
（式中、
Ｒ2及びＲ3は独立にＨであり、
Ｒ1及びＲ4は、独立に、Ｈ、−ＮＨＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＮＨ2、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ、−（ＣＨ2）nＣＮ、−（ＣＨ2）nＣ（Ｏ）ＮＨＮＨ2、−（ＣＨ2）nＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）n、−ＮＨＮＨＣ6Ｈ5、−（ＣＨ2）nＣ6Ｈ5、−Ｃ6Ｈ5、又は−Ｃ10Ｈ7であり、−Ｃ6Ｈ5及び−Ｃ10Ｈ7は、非置換であるか又はハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、−ＮＯ2、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、及びＣ1〜Ｃ4アルコキシからなる群から選択される１つ若しくは２つ以上の置換基により独立に置換され、ｎは１〜３である。）
を有し、
前記水性清浄化組成物は、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、テトラメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ酢酸、１，３−プロピレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ジコハク酸、乳酸、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート、又はＰ．Ｅ．Ｏ．ラウリルエーテルリン酸塩を含まない、組成物。
【請求項２】
前記有機塩基が、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）、トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＨＥＭＡＨ）、セチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＣＴＡＨ）、コリン、及びそれらの組合せからなる群から選択される第四級アンモニウムであり、４００〜１２，０００ｐｐｍの濃度である、請求項１に記載の水性清浄化組成物。
【請求項３】
前記銅エッチング剤が、ピペラジン、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、ビシン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）、及びそれらの組合せからなる群から選択されるＮ含有化合物であり、３００〜１０，０００ｐｐｍの濃度である、請求項１に記載の水性清浄化組成物。
【請求項４】
前記有機リガンドが１００〜１０，０００ｐｐｍの濃度である、請求項１に記載の水性清浄化組成物。
【請求項５】
前記ヒドラジド化合物は５０〜５，０００ｐｐｍの濃度である、請求項１に記載の水性清浄化組成物。
【請求項６】
Ｒ1がＨ又は−ＮＨＮＨ2であり、Ｒ4はＨである、請求項５に記載の水性清浄化組成物。
【請求項７】
前記ヒドラジド化合物がカルボヒドラジドである、請求項６に記載の水性清浄化組成物。
【請求項８】
式Ｈ（ＯＣＨ2ＣＨ2）nＳＲ5により表されるエトキシル化されたメルカプタンである界面活性剤をさらに含み、Ｒ5はヒドロカルビル基であり、ｎは１〜１００であり、前記界面活性剤は、少なくとも５０ｐｐｍの濃度である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の水性清浄化組成物。
【請求項９】
前記エトキシル化されたメルカプタンは、エトキシル化された第三級ドデシルメルカプタン、エトキシル化されたｎ−ドデシルメルカプタン、エトキシル化された２−フェニルエチルメルカプタン、及びそれらの組合せからなる群から選択される、少なくとも１００ｐｐｍの濃度である、請求項８に記載の水性清浄化組成物。