Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の流量を計測するための渦流量計であって、
流体を運ぶための導管、
導管の一部にある厚みを減らした領域、
導管中に配置され、厚みを減らした領域に結合され、流体の流量に応答して、厚みを減らした領域に対し、ピボットラインを中心とする揺動を加えるように構成された放出バー、及び
厚みを減らした領域にあり、流体の流れに対して平行に延びる少なくとも一つの補強リブ
を含む渦流量計。
【請求項２】
補強リブが、厚みを減らした領域の一方の側で、ピボットラインに対して平行に配置されている、請求項１記載の渦流量計。
【請求項３】
少なくとも一つの補強リブに対してピボットラインの反対側に配置され、流体の流れに対して平行に延びる第二の補強リブをさらに含む、請求項２記載の渦流量計。
【請求項４】
厚みを減らした領域に結合されてその動きを感知して流量を示す出力を提供するためのセンサをさらに含む、請求項１記載の渦流量計。
【請求項５】
少なくとも一つの補強リブが、ピボットラインと厚みを減らした領域の縁との間のほぼ中間点に配置されている、請求項１記載の渦流量計。
【請求項６】
ピボットライン上に配置され、流体の流れに対して平行に延びる中心リブをさらに含む、請求項１記載の渦流量計。
【請求項７】
導管の外側に配置され、中心リブに結合された支柱をさらに含む、請求項６記載の渦流量計。
【請求項８】
支柱に結合されてその動きを感知して流量を示す出力を提供するためのセンサをさらに含む、請求項７記載の渦流量計。
【請求項９】
少なくとも一つの補強リブが、厚みを減らした領域の厚さにほぼ等しい高さを有する、請求項１記載の渦流量計。
【請求項１０】
少なくとも一つの補強リブが厚みを減らした領域の縁から縁まで延びる、請求項１記載の渦流量計。
【請求項１１】
流体の流量を測定するための渦流量計であって、
流体を運ぶための導管、
導管の一部にある厚みを減らした領域、
導管中に配置され、厚みを減らした領域に結合され、流体の流量に応答して、厚みを減らした領域に対し、ピボットラインを中心とする揺動を加えるように構成された放出バー、及び
厚みを減らした領域の縁から縁までピボットラインに対して平行に延びる少なくとも一つの補強リブ
を含む渦流量計。
【請求項１２】
厚みを減らした領域に結合されてその動きを感知して流量を示す出力を提供するためのセンサをさらに含む、請求項１１記載の渦流量計。
【請求項１３】
少なくとも一つの補強リブが、ピボットラインと厚みを減らした領域の周縁との間のほぼ中間点に配置されている、請求項１１記載の渦流量計。
【請求項１４】
ピボットライン上に配置され、厚みを減らした区域に結合された中心リブをさらに含む、請求項１１記載の渦流量計。
【請求項１５】
導管の外側に配置され、中心リブに結合された支柱、及び
支柱に結合されてその動きを感知して流量を示す出力を提供するためのセンサ
をさらに含む、請求項１４記載の渦流量計。
【請求項１６】
センサに結合され、センサの出力を制御中枢に伝送するように適合された回路をさらに含む、請求項１１記載の渦流量計。
【請求項１７】
少なくとも一つの補強リブに対してピボットラインの反対側に配置され、ピボットラインに対して平行に延びる第二の補強リブをさらに含む、請求項１１記載の渦流量計。
【請求項１８】
流体の流量を計測するための渦流量計であって、
流体を運ぶための導管、
導管の一部に形成された厚みを減らした領域、
導管中に配置され、厚みを減らした領域に結合され、流体の流量に応答して、厚みを減らした領域に対し、ピボットラインを中心とする揺動を加えるように構成された放出バー、及び
厚みを減らした領域にある少なくとも一つの補強リブ
を含む渦流量計。
【請求項１９】
センサに結合され、センサの出力を制御中枢に伝送するように適合された回路をさらに含む、請求項１８記載の渦流量計。
【請求項２０】
少なくとも一つの補強リブが、厚みを減らした領域の全長未満しか延びない、請求項１８記載の渦流量計。
【請求項２１】
ピボットライン上に配置され、厚みを減らした区域に結合された中心リブをさらに含む、請求項１８記載の渦流量計。
【請求項２２】
厚みを減らした領域が直径Ｄを有し、少なくとも一つの補強リブが、厚みを減らした領域の縁から０．２５Ｄの距離に配置されている、請求項１８記載の渦流量計。
【請求項２３】
ピボットラインに対して平行に延び、少なくとも一つの補強リブ及びピボットラインからオフセットされている第二の補強リブをさらに含む、請求項１８記載の渦流量計。
【請求項２４】
少なくとも一つの補強リブ及び第二の補強リブがピボットラインの両側に配置されている、請求項２３記載の渦流量計。
【請求項２５】
少なくとも一つの補強リブ及び第二の補強リブが実質的に等しい量だけオフセットされている、請求項２４記載の渦流量計。
【請求項２６】
厚みを減らした領域が厚さを有し、少なくとも一つの細長い補強リブが、厚さにほぼ等しいような幅及び高さの寸法を有する、請求項１８記載の渦流量計。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2007532900.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月8日(2008.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動可能な部分の部分位置を決定するための装置であって、
送信機コイルが電気エネルギー源によって励起される時、電磁放射を生成する送信機コイル、
送信機コイルに近接して配置され、受信機コイルと送信機コイルとの間の誘導結合により送信機コイルが励起される時に、受信機信号を生成する受信機コイル、
参照コイルであって、送信機コイルが送信機コイルと参照コイルとの間の第２誘導結合により励起される場合に、参照信号を生成し、第２誘導結合が、カプラー要素位置に実質的に依存しない、前記参照コイル、
および
移動可能であり、前記部分位置と関連するカプラー要素位置を有するカプラー要素を含み、
前記カプラー要素が、前記部分位置と関連するように、送信機コイルと受信機コイルとの間の誘導結合を変更し、
前記受信機コイルが、第１ループ構成および第２ループ構成を含み、第１ループ構成および第２ループ構成は、反対の巻き方向を有している前記装置。
【請求項２】
移動可能な部分の部分位置を決定するための装置であって、
送信機コイルが電気エネルギー源によって励起される時、電磁放射を生成する送信機コイル、
送信機コイルに近接して配置され、受信機コイルと送信機コイルとの間の誘導結合により送信機コイルが励起される時に、受信機信号を生成する受信機コイル、
および
移動可能であり、前記部分位置と関連するカプラー要素位置を有するカプラー要素を含み、
前記受信機コイルが、前記部分位置と関連するように、前記カプラー要素が、送信機コイルと受信機コイルとの間の誘導結合を変更し、
前記送信機コイルが、第１ループ構成および第２ループ構成を含み、第１ループ構成および第２ループ構成は、反対の巻き方向を有している前記装置。
【請求項３】
前記受信機コイルと第送信機コイルとの間の誘導結合は、前記第１ループ構成に第１信号を、前記第２ループ構成に第２信号を生成し、受信機信号は、第１信号と第２信号との組合せである請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記受信機信号は第１信号の大きさと第２信号の大きさの間の差である受信機信号強度を有している請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記第１および第２信号が逆位相を有し、前記受信機信号が第１信号および第２信号の合計である請求項３記載の装置。
【請求項６】
前記カプラー要素位置は前記カプラー要素の角度位置であり、前記カプラー要素の回転は、送信機コイルと受信機コイルとの間の誘導結合を変更する請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記受信機コイルは第１ループ構成と第２ループ構成を含み、前記誘導結合は第１ループ構成に第１電圧そして第２ループ構成に第２電圧を発生し、
前記カプラー要素の回転は、第２電圧に対する第１電圧の比率を変更する請求項５記載の装置。
【請求項８】
前記第１ループ構成および第２ループ構成の両方が放射状に伸びる突出部を有する請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記部分位置がペダルの位置であり、ペダルの移動がカプラー要素の角度位置に機械的につながれている請求項６記載の装置。
【請求項１０】
前記送信機コイル、前記受信機コイル、および前記参照コイルがプリント回路板によって支持されている請求項１記載の装置。
【請求項１１】
参照信号と受信機信号の比率である比率信号を形成するように動作可能な電子回路さらに含み、比率信号が部分位置を決定するために使用される請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
移動可能な部分の部分位置を決定するための装置において、
送信機コイルが電気エネルギー源によって励起される場合に、電磁放射を生成する送信機コイル、
送信機コイルが、受信機コイルと送信機コイルとの間の誘導結合により励起される場合に、受信機信号を発生する受信機コイル、
送信機コイルが、受信機コイルと参照コイルとの間の別の誘導結合により励起される場合に、参照信号を発生する参照コイル、および
移動可能であり、前記部分位置と関連するカップラー要素位置を有するカップラー要素、を含み、
前記カップラー要素が、受信機信号が部分位置と関連するように、送信機コイルと受信機コイルとの間の誘導結合を変更し、
前記参照信号が、カップラー要素位置に実質的に依存しなく、
前記部分位置が受信機信号および参照信号を使用して決定され、参照信号がカップラー位置と関連しない受信機信号における変動を補償するために使用される、前記装置。
【請求項１３】
前記移動可能な部分は電子スロットル・コントロールのペダルアームを含み、エンジンに速度制御を供給する電子回路をさらに含む請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記受信機信号の表す受信機電圧を前記参照信号を表す基準電圧により除算することにより、得られる比率信号を提供する請求項１２記載の装置。
【請求項１５】
前記除算が、アナログ除算である請求項１４記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月22日(2008.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有核赤血球成分を含む参照対照であって、以下の：
（ａ）核を含む血液細胞を処理溶液で処理して、核の性質を自然の値から血液分析装置上で血液サンプルの有核赤血球をシミュレートするために好適な標的値に変更することによって得られる有核赤血球成分；及び
（ｂ）前記有核赤血球の分析のために前記血液分析装置に前記有核赤血球成分を送達するための好適な懸濁媒、
を含む、前記参照対照。
【請求項２】
前記核の性質が前記核のサイズである、請求項１に記載の参照対照。
【請求項３】
前記核の性質が前記核の光学的性質である、請求項１に記載の参照対照。
【請求項４】
前記光学的性質が、光散乱特性、軸方向光損失特性、又は蛍光色素で染色した上での前記核の蛍光特性である、請求項１に記載の参照対照。
【請求項５】
さらに白血球成分を含む、請求項１に記載の参照対照。
【請求項６】
前記白血球細胞が、複数の白血球亜集団をシミュレートするための複数の亜集団成分を含む、請求項５に記載の参照対照。
【請求項７】
赤血球成分、血小板成分及び網状赤血球成分から成る群から選ばれる、１つ以上の成分をさらに含む、請求項５に記載の参照対照。
【請求項８】
有核赤血球成分を含む参照対照の作製方法であって、以下のステップ：
ａ）核を含む血液細胞を提供し；
ｂ）前記血液細胞を処理溶液で処理して、核の性質を、自然の値から血液分析装置上で有核赤血球をシミュレートするために好適な標的値に変更し、そして該標的値を維持し；及び
ｃ）ステップｂ）から得られた処理された血液細胞を懸濁媒中に懸濁して前記参照対照を形成すること、
を含む、前記方法。
【請求項９】
前記処理溶液が調整成分、溶解成分及び固定成分を含み；そして前記処理溶液が前記血液細胞の細胞膜を透過し、前記核と接触し、そして前記核の性質を前記自然の値から前記標的値に変更し、そして前記標的値を固定によって維持する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記血液細胞の前記処理が、前記血液細胞を前記処理溶液と混合して、細胞処理懸濁液を形成し、そして前記細胞処理懸濁液を、１５分〜２４時間、インキュベートすることである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
核の性質を変更するための細胞処理用組成物であって、以下の：
（ａ）調整成分；
（ｂ）細胞膜を透過し、そして前記細胞処理用組成物が前記細胞核と接触していることを可能とする、溶解成分；及び
（ｃ）前記細胞核を保存するための固定成分、
を含み、ここで、前記調整成分、前記溶解成分、及び前記固定成分が、核の性質を自然の値から標的値に変更するためのそれぞれの所定の濃度で存在する、前記組成物。
【請求項１２】
前記調整成分が、緩衝剤、及び重量モル浸透圧調節剤を含む、請求項１１に記載の細胞処理用組成物。
【請求項１３】
前記溶解成分が、以下の分子構造：
【化１】
2007532875.tif 000001
｛式中、
Ｒ1は、１２〜１６個の炭素原子を有する、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基であり； 
Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり；そして、
X-は、塩素又は臭素アニオンである。｝
により表される４級アンモニウム界面活性剤を含む、請求項１１に記載の細胞処理用組成物。
【請求項１４】
さらに、６〜１２個の炭素原子を含むアルキル基を有するエトキシル化アルキルフェノール、及び１０〜５０個のエチレンオキシド基を含む、請求項１３に記載の細胞処理用組成物。
【請求項１５】
さらに、以下の分子構造
【化２】
2007532875.tif 000002
｛式中、
R1は、１０〜２２個の炭素原子を有する、アルキル、アルケニル、又はアルキニル基であり、
R2は、−Ｏ−であり；そして
ｎは、２０〜３５である。｝
により表されるエトキシル化アルキルアルコールを含む、請求項１４に記載の細胞処理用組成物。
【請求項１６】
前記固定成分が、アルデヒド、オキサゾリジン、アルコール、環状尿素、及びそれらの組み合わせから成る群から選ばれる固定剤である、請求項１１に記載の細胞処理用組成物。
【請求項１７】
有核赤血球成分を含む参照対照の使用方法であって、以下のステップ：
ａ）核を含む血液細胞を処理溶液で処理して、核の性質を自然の値から血液サンプルの有核赤血球をシミュレートするために好適な標的値に変更することによって得られた有核赤血球成分を含む参照対照を提供し；
ｂ）前記血液細胞サンプルを分析しそして他の細胞タイプから有核赤血球を識別するために適合された血液分析装置を提供し；
ｃ）前記有核赤血球成分の検出のために前記血液分析装置に上記対照を通し；そして
ｄ）前記参照対照中の有核赤血球を報告する
を含む、前記方法。
【請求項１８】
前記有核赤血球の識別が、インピーダンス測定を用いて得られる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記有核赤血球の識別が、光学的測定を用いて得られる、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記光学的測定が、蛍光、光散乱及び軸方向光損失の測定からなる群から選ばれる、1つ以上の測定である、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記有核赤血球の識別が、インピーダンス測定及び光学的測定の組み合わせを用いて得られる、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月9日(2008.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運転者によるエンジンのエンジン速度の電子制御を可能にするための装置であって、
ペダル取り付けポイントにおいてペダル支持体に枢動可能に取り付けられ、ペダル位置を有するペダルアームと、
送信コイルと、
前記送信コイルが交流で励磁された時に、該送信コイルとの間の誘導結合により受信信号を形成する受信コイルと、
カプラ位置を有し、該カプラ位置がペダル位置と相関するように前記ペダルアームに機械的に組み合わされたカプラ要素と、を含み、
前記カプラ要素が、前記送信コイルと受信コイルとの間の誘導結合を、前記受信信号が前記ペダルアーム位置と相関するように修正し、
前記受信コイルが、第１のループ構成と第２のループ構成とを含み、前記送信コイルからの誘導結合が、前記第１のループ構成内における第１の電圧と前記第２のループ構成内における第２の電圧とを誘導し、該第１の電圧と第２の電圧とは逆であり、
前記第１のループ構成と第２のループ構成とが、交差接続によって電気的に相互接続され、
前記交差接続が、ペダル取り付けポイントに対してほぼ半径方向に沿って配置されている
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記ペダル支持体が、ペダルハウジングであることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記送信コイル及び受信コイルが、プリント回路基板上に支持されることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記ペダルハウジングが、前記送信コイルが前記カプラ要素に近接するように前記プリント回路基板を受けることを特徴とする、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記送信コイル及び受信コイルが、実質的に同一平面上にあることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記カプラ要素が、前記ペダルアームに取り付けられた金属プレートであり、前記金属プレートが、前記ペダルが押し下げられた時にペダル回転軸線の周りでほぼ円形パスを描くことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
更に参照コイルを有し、該参照コイルが、前記カプラ位置とは実質的に独立した信号を提供することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記ペダルアームが、運転者によって押し下げ可能なフットペダルを支持する第１の部分と前記カプラ要素を支持する第２の部分とを有し、前記ペダル取り付けポイントが前記第１の部分と第２の部分との間に位置付けられることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記カプラ要素が、前記フットペダルが押し下げられた時に前記ペダル取り付けポイント上に中心がある円弧に沿って移動する導電性プレートであり、
前記受信コイルが、前記円弧に沿って配置された実質的に弓形の形状を有する
ことを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
運転者によるエンジンの電子スロットル制御を支援するための装置であって、
移動可能なペダルアームと、
ペダル取り付けポイントにおいて前記移動可能なペダルアームを支持するペダルハウジングと、
前記移動可能なペダルアーム上に支持され、前記移動可能なペダルアームの移動に対応したカプラ位置を有するカプラ要素と、
送信コイル及び受信コイルを支持するコイル支持構造体と、を含み、
前記受信コイルが、前記送信コイルが交流電源で励磁された時に該送信コイルとの間の誘導結合により受信信号を形成し、
前記送信コイルと受信コイルとの間の誘導結合が、前記カプラ位置によって決定される空間分布を有し、
前記誘導結合が、前記受信コイルの異なる部分内に逆電圧を誘導し、
前記受信コイルが、少なくとも第１のループ構成と第２のループ構成とを含み、前記送信コイルからの誘導結合が、前記第１のループ構成内における第１の電圧と前記第２のループ構成内における第２の電圧とを誘導し、該第１の電圧と第２の電圧とは逆であり、
前記第１のループ構成と第２のループ構成とが、交差接続によって電気的に相互接続され、
前記交差接続が、ペダル取り付けポイントに対してほぼ半径方向に沿って配置されている
ことを特徴とする装置。
【請求項１１】
前記受信信号が、前記受信コイルの第１のループ構造内に誘導された第１の電圧と該受信コイルの第２のループ構造内に誘導された第２の電圧との組合せであり、前記カプラ位置が、前記第１の電圧と第２の電圧との間の比率を決定することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記コイル支持構造体がプリント回路基板であり、該プリント回路基がその上にプリントされた前記送信コイル及び受信コイルを有することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記送信コイル及び受信コイルが、実質的に同一平面上にあることを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
更に参照コイルを有し、該参照コイルが、前記カプラ位置とは実質的に独立した信号を提供することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータ（４）を備え、閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの可動要素（３）を動かすためのアクチュエータ（２）と、前記モータ（４）の電力供給を制御する電子機器ユニット（５）と、該電子機器ユニット（５）に接続されると共に少なくとも１つの制御キー（８ａ、８ｂ）を備えた制御モジュールとを具備する、閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）の操作方法において、配置モードと呼ばれる第一のモードを少なくとも含み、その間に特定の位置と関連する１つ又は複数の値が前記装置を構成するために入力され、前記装置が少なくとも部分的に配置されていない場合に、第一の持続期間ｔ１よりも長い持続期間、キー（８ａ、８ｂ）を押下した後にのみ前記可動要素（３）を動かすコマンドが発出される一方、前記装置が少なくとも部分的に配置されている場合に、制御キー（８ａ、８ｂ）を押下することが、前記可動要素の動作を制御するコマンドとして即座に解釈されることを特徴とする操作方法。
【請求項２】
前記装置が完全に配置された場合に、制御キー（８ａ、８ｂ）を押下することが前記可動要素の動作を制御するコマンドとして即座に解釈されることを特徴とする請求項１に記載の操作方法。
【請求項３】
前記装置（１）が制御モードと呼ばれる第二のモードにある場合であって、前記可動要素（３）が特定の位置にない場合に、前記第一の持続期間ｔ１よりも短い持続期間、キー（８ａ、８ｂ）を押下することが前記可動要素（３）の動作を制御するコマンドとして即座に解釈され、前記第一の持続期間ｔ１よりも短い持続期間、このキー（８ａ、８ｂ）を押下することが、前記装置（１）が配置モードにある場合か又は前記可動要素（３）が特定の位置にある間に前記装置（１）が制御モードにある場合の少なくとも１つの場合において、前記可動要素（３）の動作を制御するコマンドとは異なって解釈されることを特徴とする請求項１又は２に記載の操作方法。
【請求項４】
前記装置（１）が制御モードと呼ばれる第二のモードにある場合であって、前記可動要素（３）が特定の移動の限界位置にあるときに、作動させられた制御キー（８ａ、８ｂ）が別の移動の限界位置に前記可動要素（３）を移動することを制御するキーである場合に、前記第一の持続期間ｔ１よりも短い持続期間、キー（８ａ、８ｂ）を押下することが前記可動要素の動作を制御するコマンドとして即座に解釈され、前記第一の持続期間ｔ１よりも短い持続期間、このキー（８ａ、８ｂ）を押下することが、前記装置（１）が配置モードにある場合か、又は前記装置（１）が制御モードにあって、前記可動要素（３）がこの移動の限界位置にある間に、作動させられた制御キー（８ａ、８ｂ）が移動の限界位置に前記可動要素（３）を移動することを制御するキーである場合の少なくとも１つの場合において、前記可動要素（３）の動作を制御するコマンドとは異なって解釈されることを特徴とする請求項１又は２に記載の操作方法。
【請求項５】
前記可動要素（３）の特定の位置に対応する１つ又は複数の値が前記アクチュエータ（２）のメモリ（６）に入力された場合に、前記閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）が前記配置モードから前記制御モードに自動的に切り替わることを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の操作方法。
【請求項６】
前記可動要素（３）の特定の位置に対応する少なくとも１つの値が前記アクチュエータ（２）のメモリ（６）から消去されると、前記閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）が前記制御モードから前記配置モードに自動的に切り替わることを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の操作方法。
【請求項７】
前記可動要素（３）の特定の位置が移動の限界位置又は手動で若しくは自動で決定された中間位置であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の操作方法。
【請求項８】
前記閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）が制御モードにあって動作を制御するコマンドとは異なって解釈される間に、前記第一の持続期間ｔ１よりも短い持続期間、前記制御キー（８ａ、８ｂ）の１つを１回又は複数回押下することによって、前記閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）が前記配置モードに切り替わることを特徴とする請求項１から７のいずれか１つに記載の操作方法。
【請求項９】
前記閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）が制御モードにあって動作を制御するコマンドとは異なって解釈される間に、前記第一の持続期間ｔ１よりも短い持続期間、前記制御キー（８ａ、８ｂ）を押下することによって、前記電子機器ユニット（５）が機能停止状態に切り替わり、その状態において、前記制御キー（８ａ、８ｂ）を少なくとも１回さらに押下することが分析されるが、前記可動要素（３）の動作の制御を生じさせず、機能停止状態における特定の連続押下が前記アクチュエータ（２）の配置を可能にすることを特徴とする請求項１から８のいずれか１つに記載の操作方法。
【請求項１０】
モータ（４）を備え、閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの可動要素（３）を動かすためのアクチュエータ（２）と、前記モータ（４）の電力供給を制御する電子機器ユニット（５）と、該電子機器ユニット（５）に接続されると共に少なくとも１つの制御キー（８ａ、８ｂ）を備えた制御モジュールとを具備する、閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置（１）において、請求項１から９のいずれか１つに記載の操作方法を実施することを可能にする前記制御モジュールの前記制御キーを押下することを電気的及び／又は機械的に管理する手段を具備することを特徴とする閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置。
【請求項１１】
前記可動要素（３）の特定の位置に関連する１つ又は複数の値が入力されたかどうかを示す配置インジケータ（構成）を具備することを特徴とする請求項１０に記載の閉鎖、プライバシー保護、又は日差しよけの装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を分配するポンプの体積流量計を校正するための装置であって、
ａ）フレームと、
ｂ）前記フレームに装着される少なくとも一つの目盛り付きタンク（２）であって、前記ポンプに接続可能な入口を包含する上部と出口を包含する下部とを有するタンク（２）と、
ｃ）前記入口に装着される少なくとも一つの密閉装置（９）と、
ｄ）少なくとも一つの読取照準器（４）であって、前記タンク（２）の前記上部に装着されている読取照準器（４）と、
ｅ）前記出口の下流に流体的に接続される少なくとも一つの滴下バルブ（１５）と、
ｆ）前記滴下バルブ（１５）の下流に流体的に接続される少なくとも一つの滴下目視ガラス器具（５）と、
ｇ）前記滴下表示ガラス器具（５）の下流に流体的に接続される少なくとも一つの棄液バルブ（１４）と、
ｈ）前記棄液バルブ（１４）に流体的に接続される換気管（１６）と、
ｉ）前記棄液バルブ（１４）の下流に流体的に接続される出口バルブ（１３）と、
を具備する装置。
【請求項２】
前記装置を電気的に接地するための手段（７）をさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
水平レベル表示器（１０）と垂直レベル表示器（１０’）とをさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記フレームの水平レベルを調節するための水平レベル調節手段（１１）と前記フレームの垂直レベルを調節するための垂直レベル調節手段（１１’）とをさらに包含する、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記読取照準器（４）が、一つ又はそれ以上の可動式の計数器（１２）をさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記フレームが車輪をさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記車輪が選択的に格納可能である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記換気管（１６）に装着される逆止弁（１７）をさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記タンク（２）を前記換気管（１６）に流体的に接続する導管（３）をさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記出口バルブ（１３）に流体的に接続される接合部（８）をさらに包含する、請求項１に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この装置は、水平にすることが出来る移動台の上に備え付けられた、三つの錆びないステンレス鋼製の目盛り付きタンク（２）から構成されている。タンクに液体を満たすときに、気化ガスは、試験タンクのそれぞれの三つの読取照準器（４）の高さから始まり、（取外し可能なバルブが付いている）換気管で終わる配管の導管（３）を通って循環使用される。各々のタンクは、底部が約40度傾斜しており、その後に、透明な滴下表示装置と、最終バルブによって完結する（傾斜している）共通管の中に貫入する第二バルブとが続いている。管はステンレス鋼製である。タンクを空にする時にも、気化ガスは循環使用される。タンクを空にする全ての工程は、騒音を出さず気化ガスが洩れない閉回路に、全面的に出来ている。360度透明な滴下目視ガラス器具（５）が、閉回路を可能にする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明による較正の方法。
技術者は、
１．ポンプの近くに多機能較正器を停車する。
２．車輪（６）の後退レバーを作動させる。
３．コードと共にピンセット（７）で接地して、装置を置く。
４．液体の帰路配管を、帰路の接合部（８）とサービスステーションの地下のタンクの間に設置する。
５．出口のバルブを開ける。
６．蓋を取る。
７．ガソリンポンプのピストルを試験タンクの細長い口に差込んで、試験タンクを満杯にする。（細長い口は気化ガスを留める。口（９）は（適度の大きさの）孔が開いた、ピストルと接触する内壁を備えている。）
８．二軸にある二つの水準器（１０、１０’）をレバー（１１、１１’）によって調整する。
９．立ったまま目盛りを読む。
１０．計数器（１２）に記す。
１１．バルブ（１３）、（１４）及び（１５）を開ける。
１２．必要な場合には液体のメータを調整する。
１３．タンクが空になったら、すぐにバルブ（１４）を閉める。
１４．バルブ（１５）を閉める前に、滴下目視ガラス器具によって棄液時間を確認する。
１５．必要ならば、もう一度テストを実施する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2007532890.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月12日(2008.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体における慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードの診断またはモニタリングを補助する方法であって、該方法は、
（ａ）該個体由来の網状赤血球における補体経路成分のレベルを決定する工程、および
（ｂ）該補体経路成分レベルを補体経路成分のコントロールレベルと比較する工程であって、該補体経路成分のコントロールレベルからの差は、該個体が該慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードを有することを示す、工程
を包含する、方法。
【請求項２】
１より多くの前記補体経路成分のレベルが、決定され、そしてコントロールに対して比較される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記補体経路成分のレベルが、該補体経路成分に対して特異的な抗体を使用して決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記補体経路成分Ｃ４ｄのレベルが決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記慢性の炎症性疾患または炎症性状態が、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）、Ｃ型肝炎感染、鎌状赤血球貧血、移植の合併症、および妊娠の合併症からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記慢性の炎症性疾患または炎症性状態が、ＳＬＥである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記補体経路成分Ｃ４ｄのレベルが決定される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記補体経路成分Ｃ４ｄのレベルが、該補体成分Ｃ４ｄに対して特異的な抗体を使用して決定される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記Ｃ４ｄ抗体が、標識されている、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記Ｃ４ｄ抗体が、フローサイトメトリー分析を使用して検出される、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
個体における慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードの予測を補助する方法であって、該方法は、
（ａ）該個体由来の網状赤血球における補体経路成分のレベルを決定する工程、および
（ｂ）該補体経路成分のレベルを補体経路成分のコントロールレベルと比較する工程であって、該補体経路成分のコントロールレベルからの差は、該個体が該慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードを有することを示す、工程
を包含する、方法。
【請求項１２】
１より多くの前記補体経路成分のレベルが、決定され、そしてコントロールに対して比較される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記補体経路成分のレベルが、該補体経路成分に対して特異的な抗体を使用して決定される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記補体経路成分Ｃ４ｄのレベルが、決定される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記慢性の炎症性疾患または炎症性状態が、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）、Ｃ型肝炎感染、鎌状赤血球貧血、移植の合併症、および妊娠の合併症からなる群より選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記慢性の炎症性疾患または炎症性状態が、ＳＬＥである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記補体経路成分Ｃ４ｄのレベルが決定される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記補体経路成分Ｃ４ｄのレベルが、該補体経路成分Ｃ４ｄに対して特異的な抗体を使用して決定される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記Ｃ４ｄ抗体が、標識されている、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記Ｃ４ｄ抗体が、フローサイトメトリー分析を使用して検出される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
個体における慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードを診断、モニタリング、または予測するためのキットであって、該キットは、補体経路成分に対して特異的な抗体と、補体経路成分のコントロールレベルに対して該補体経路成分のレベルを比較するための手段とを備え、ここで、該補体経路成分のコントロールレベルからの差は、該個体が該慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードを有することを示す、キット。
【請求項２２】
前記慢性の炎症性疾患または炎症性状態が、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）である、請求項２１に記載のキット。
【請求項２３】
前記抗体が、蛍光標識されている、請求項２１に記載のキット。
【請求項２４】
前記抗体が、モノクローナル抗体である、請求項２１に記載のキット。
【請求項２５】
個体における慢性の炎症性疾患または炎症性状態の急性炎症性エピソードを診断、モニタリング、または予測するためのコンピューター読み取り媒体であって、該コンピューター読み取り媒体は、
（ａ）網状赤血球の表面に沈着する補体経路成分の決定に対応するデータを受容するためのコード；
（ｂ）個体の網状赤血球の表面上に沈着する補体経路成分についての参照値を検索するためのコード；
（ｃ）該（ａ）におけるデータを該（ｂ）における参照値と比較するためのコード
を含む、コンピューター読み取り媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月12日(2008.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）原油を２相に、すなわち、ガスと脱気したエマルジョンとに分離する工程と、
（ｂ）脱気したエマルジョンを洗浄槽の底部に流し、該脱気したエマルジョンを水と油とに分離する工程とを含み、
前記工程（ｂ）は、前記油／水界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する下位工程（ｂ１）を含む産出原油を処理する方法。
【請求項２】
前記工程（ｂ）はガス、好ましくは、酸性ガスでストリッピングする下位工程（ｂ２）を含む請求項１に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項３】
前記工程（ｂ）は前記ガス／油界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する下位工程（ｂ３）を含む請求項１又は２に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項４】
前記工程（ｂ）から得られた前記油を沈降させる工程（ｃ）も含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項５】
３〜１５メートル、好ましくは、４〜１２メートルから成る水区間を使用することを含む請求項１乃至４のいずれか1項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項６】
前記脱気したエマルジョンは、１５〜３５容量パーセントの水含有量を有する請求項１乃至５のいずれか1項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項７】
弁又は静的混合器などの、流体を混合するのに有用な装置によって、水補給が行われる請求項６に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項８】
前記工程（ａ）は高圧又は中間圧分離の下位工程（ａ１）及び低圧分離の工程（ａ２）を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項９】
前記工程（ａ）は３５〜７５℃、好ましくは４５〜６５℃、特に４５〜５０℃の温度で実施される請求項１〜８のいずれか１項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項１０】
前記工程（ａ）は１０分未満、好ましくは３〜８分の滞留時間中に実施される請求項１〜９のいずれか１項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項１１】
前記工程（ｂ）は、４〜２４時間の滞留時間中に実施される請求項１〜１０のいずれか１項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項１２】
前記産出原油は、合成原油、好ましくはナフテン系原油である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の産出原油を処理する方法。
【請求項１３】
産出原油を処理する装置であって、
（ａ）前記原油を２相に、すなわち、ガスと脱気したエマルジョンとに分離するユニット（１０２；１０８）と、
（ｂ）該脱気したエマルジョンを水と油とに分離する槽（１１２）とを備え、
更に、前記槽（１１２）は底部に脱気したエマルジョン用の供給部（１１１）及び油／水界面において、エマルジョンを水で洗浄する噴霧又は水散布システム（１１５）を備える産出原油を処理する装置。
【請求項１４】
前記噴霧又は洗浄水散布システム（１１５）は、マニホルドの形態で一緒に接続される複数のパイプ（１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃ）を備える請求項１３に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項１５】
前記槽（１１２）の底部でガスをストリッピングする散布器（１１６）も備える請求項１３又は１４に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項１６】
前記ガス／油界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する噴霧又は水散布システム（１１７）も備える請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項１７】
前記槽（１１２）の下流に沈降槽（１１４）も備える請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項１８】
３〜１５メートル、好ましくは、４〜１２メートルの水区間を含む請求項１３乃至１７のいずれか１項に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項１９】
前記供給部（１１１）の上流に水補給装置を備える請求項１３乃至１７のいずれか１項に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項２０】
高圧又は中間圧分離器（１０２）及び低圧分離器（１０８）を備える請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項２１】
請求項１〜１２のいずれか１項による方法を実施するための請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の産出原油を処理する装置。
【請求項２２】
請求項１３〜２１のいずれか１項による装置を備える船又はバージであって、前記分離ユニット（１０２；１０８）は、上甲板上にあり、一方、前記槽（１１２）又は沈降槽は、船体内にある、船又はバージ。
【請求項２３】
油中水型炭化水素エマルジョンを分離する方法であって、
（ｉ）脱気したエマルジョンを洗浄槽の底部に流し、す油／水界面を作成する工程と、
（ｉｉ）該油／水界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する工程と、
（ｉｉｉ）油の流れ及び水の流れを回収する工程とを含む油中水型炭化水素エマルジョ
ンを分離する方法。
【請求項２４】
ガス、好ましくは、酸性ガスでストリッピングする工程（ｉｖ）も含む請求項２３に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する方法。
【請求項２５】
前記ガス／油界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する工程（ｖ）も含む請求項２３又は２４に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する方法。
【請求項２６】
前記工程（ｉｉｉ）からの前記流体を沈降させる工程（ｖｉ）も含む請求項２３〜２５のいずれか１項に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する方法。
【請求項２７】
３〜１５メートル、好ましくは、４〜１２メートルから成る水区間を使用することを含む請求項３３に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する方法。
【請求項２８】
前記脱気したエマルジョンは、１５〜３５容量％の水含有量を有する請求項２３乃至２７のいずれか1項に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する方法。
【請求項２９】
油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置であって、底部におけるエマルジョン用の供給部（１１１）に嵌合され、かつ油／水界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する噴霧又は水散布システム（１１５）に嵌合する槽（１１２）を備える油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置。
【請求項３０】
前記噴霧又は洗浄水散布システム（１１５）は、マニホルド構成で一緒に接続される複数のパイプ（１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃ）を備える請求項２９に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置。
【請求項３１】
前記槽（１１２）の底部でガスをストリッピングする散布器（１１６）も備える請求項２９に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置。
【請求項３２】
前記ガス／油界面において、前記エマルジョンを水で洗浄する噴霧又は水散布システム（１１７）も備える請求項２９〜３１のいずれか１項に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置。
【請求項３３】
前記槽（１１２）の下流に沈降槽（１１４）を備える請求項２９〜３２いずれか１項に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置。
【請求項３４】
請求項２３〜２８のいずれか１項による方法を実施するための請求項２９〜３３のいずれか１項に記載の油中水型炭化水素エマルジョンを分離する装置。
【請求項３５】
請求項２９〜３４のいずれか１項による装置を船体内に備える船又はバージ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年4月9日(2008.4.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
式（Ｉ） 
［式中、Ｒ1 は直鎖状のまたは分岐したＣ5 −Ｃ22−アルキル、Ｃ5 −Ｃ22−アルケニル、Ｃ5 −Ｃ22−アルキルアミドプロピル、Ｃ5 −Ｃ22−アルケニル−アミドプロピル、Ｃ8 −Ｃ22−アルコキシプロピルまたはＣ5 −Ｃ22−アルケニルオキシプロピルであり、Ｒ2 はＣ1 −Ｃ22−アルキルまたはＣ2 −Ｃ22−アルケニル基であり、Ｒ3 はＣ1 −Ｃ22−アルキル、Ｃ2 −Ｃ22−アルケニルまたはＲ4 と同様に式
−Ａ−（ＯＡ）n −ＯＨ 
（式中、Ａは−Ｃ2 Ｈ4 − および／または−Ｃ3 Ｈ6 −でありそしてｎは０〜２０の数である。）
で表される基でありそしてＸはアニオン、例えば塩化物、臭化物、沃化物、フッ化物、硫酸塩、硫酸水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、モノ−およびジリン酸水素塩、ピロリン酸塩、メタリン酸塩、硝酸塩、メチルスルファート、ホスホナート、メチルホスホナート、メタンジスルホナート、メチルスルホナート、エタンスルホナートまたは式Ｒ6 ＳＯ3 −、Ｒ7 ＳＯ4 −またはＲ6 ＣＯＯ−で表される化合物であり、その際にＲ6 およびＲ7 はＣ8 −Ｃ20 −、好ましくはＣ10−Ｃ18−アルキルでありそしてＲ7 は追加的にＣ7 −Ｃ18−アルキルフェニルも意味する］で表される化合物を使用する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
漂白活性剤としてはN,N,N',N'-テトラアセチルエチレンジアミン(TAED)、ノナノイルカプロラクタム−フェニルスルホナートエステル (APES)、グルコース−ペンタアセテート(GPA)、キシローズテトラアセテート (TAX)、アシルオキシベンゼンスルホナート［例えばノナノイルオキシベンゼンスルホナート (NOBS)、４−ベンゾイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム (SBOBS)、トリメチルヘキサノイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム (STHOBBS)]、ジアセチルジオキソヘキサヒドロトリアジン (DADHT)、テトラアセチルグリコルウリル (TAGU)、 テトラアセチルシアン酸 (TACA)、ジ−N−アセチルジメチルグリオキシム(ADMG)および１−フェニル−３−アセチルヒダントイン (PAH)、ニトリロトリアセテート (NTA) またはアンモニウム−ニトリル類（“ニトリル四級化物”）、特にＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−（Ｎ−ニトリロメチル）−アンモニウム化合物がある。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月14日(2008.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＡｌxＳｉyＭｅzＮで表される組成の窒化アルミニウムを基礎とする硬い耐摩耗性被膜であって、ｘ、ｙおよびｚが原子分率を表し、その和が０．９５から１．０５であり、Ｍｅが、ＩＩＩからＶＩＩＩ族およびＩｂ族の遷移金属の構成員、及びこれらの構成員のうちの２つ以上の組合せからなる群の金属ドーパントであり、前記構成員が、前記金属ドーピングのない被膜よりも高い固有導電率を提供し、ケイ素含量が０．０１≦ｙ≦０．４であり、前記１つまたは複数の金属ドーパントＭｅの含量が、０．００１≦ｚ≦０．０８、好ましくは０．０１≦ｚ≦０．０５、最も好ましくは０．０１５≦ｚ≦０．０４５である被膜。
【請求項２】
前記金属ドーパントまたは金属ドーパントの組合せＭｅが、ＩＩＩからＶＩ族の遷移金属およびＣｅの構成員である、請求項１に記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項３】
前記金属ドーパントまたは金属ドーパントの組合せＭｅが、ＶＩＩ、ＶＩＩＩまたはＩｂ族の遷移金属の構成員であり、好ましくはこれらの族の第１列（Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ）およびＡｇの構成要素である、請求項１に記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項４】
前記金属ドーパントまたは金属ドーパントの組合せＭｅが前記被膜中に原子として分布した、請求項１から３のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項５】
前記金属ドーパントまたは金属ドーパントの組合せＭｅが窒化物の形態で前記被膜中に含まれる、請求項１から４のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とした硬い被膜。
【請求項６】
前記金属ドーパントまたは金属ドーパントの組合せＭｅが金属の形態で前記被膜中に含まれる、請求項１から４のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項７】
ケイ素含量が０．０５≦ｙ≦０．２０であることを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項８】
ホウ素元素、炭素元素または酸素元素のうちの１つまたは複数の元素の２０原子％までの添加を含むことを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載の被膜。
【請求項９】
前記層の組成が、含まれる元素の少なくとも１つに関して、その厚方向にわたって化学的に徐々に変化することを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項１０】
全体として多層構造またはナノ積層構造を形成する化学的に異なる一連の層からなることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の窒化アルミニウムベースの硬い被膜。
【請求項１１】
前記層の少なくとも一部が、少なくとも２つの相を含むナノコンポジット構造を有することを特徴とする、請求項１から１０のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載の窒化アルミニウムを基礎とする硬い被膜を有する物品であって、前記被膜が、冷間加工鋼あるいはＨＳＳ工具鋼、超硬合金（ＷＣ／Ｃｏ）、サーメット、立方晶窒化ホウ素、ＰＣＤ、エンジニアリングセラミックなどの基板上に形成されており、ドリルでの穴あけ（drilling)、フライス削り（milling)、旋削（削り加工：turning)、リーマ加工（reaming)、ねじ切り（thread forming)、ホブ加工（hobbing)などの工具細工（tooling application）に適した物品。
【請求項１３】
前記被膜を付着させる前に前記層に接着境界層が形成され、前記基板がイオン衝撃洗浄によって前処理されることを特徴とする、請求項１２に記載の物品。
【請求項１４】
本発明の窒化アルミニウムベースの硬い被膜の付着の前に、遷移金属の窒化物、炭窒化物または酸窒化物を含む従来の硬い材料の基礎層が形成されることを特徴とする、請求項１２および１３のいずれかに記載の物品。
【請求項１５】
前記ベース層の厚さが少なくとも０．３μｍであり、前記ベース層の組成が、前記成分の少なくとも１つに関して化学的に徐々に変化することを特徴とする、請求項１４に記載の物品。
【請求項１６】
基体上に、ＡｌxＳｉyＭｅzＮの組成の被膜を堆積させる請求項１から１１のいずれかに記載の方法であって、
前記被膜が、ネガティブのバイアスを前記基体にかけた窒素または窒素を基礎とする気体混合物中で、ＡｌＳｉＭｅ合金ターゲット、あるいは、一方がＡｌＳｉＭｅ合金ターゲットであり、他方が金属ドーパントＭｅターゲットである２つの異なる型のターゲットの組合せを用いる反応性カソードアーク蒸着技術を使用して堆積されることを特徴とする方法。
【請求項１７】
基体上に、ＡｌxＳｉyＭｅzＮの組成の被膜を堆積させる請求項１から１１のいずれかに記載の方法であって、
前記被膜が、ネガティブのバイアスを前記基体にかけた窒素または窒素を基礎とする気体混合物中で、ＡｌＳｉＭｅ合金ターゲット、あるいは、一方がＡｌＳｉＭｅ合金ターゲットであり、他方が金属ドーパントＭｅターゲットである２つの異なる型のターゲットの組合せを用いる反応性マグネトロンスパッタリング技術を使用して堆積されることを特徴とする方法。
【請求項１８】
基体上に、ＡｌxＳｉyＭｅzＮの組成の被膜を堆積させる請求項１から１１のいずれかに記載の方法であって、
前記被膜が、ネガティブのバイアスを前記基体にかけた窒素または窒素を基礎とする気体混合物中で、ＡｌＳｉＭｅ合金ターゲット、あるいは、一方がＡｌＳｉＭｅ合金ターゲットであり、他方が金属ドーパントＭｅターゲットである２つの異なる型のターゲットの組合せを用いる反応性カソードアーク蒸着技術と反応性マグネトロンスパッタリング技術の組合せを使用して堆積されることを特徴とする方法。
【請求項１９】
前記付着が、少なくとも１つの円筒形カソードが内部に配置された真空付着室内で行われる、請求項１６から１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
前記被膜プロセス中に、被膜が形成される前記基板に、ＤＣまたは単極パルスＤＣの負バイアス電圧が印加され、前記基板、アノードおよび付着室の内壁の表面が、被膜プロセス期間の全体を通じて本質的に導電性を維持する、請求項１６から１９のいずれかに記載の方法。