【手続補正書】
【提出日】平成20年4月25日(2008.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
石膏ベースの硬練りモルタルに使用するための混合組成物であって、
ａ）２０〜９９．９重量％の量の、未加工コットンリンターから製造されたアルキルヒドロキシアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、および、それらの混合物からなる群より選択されるセルロースエーテル、および、
ｂ）０．１〜８０重量％の量の、有機性または無機性の増粘剤、垂れ防止剤、空気連行剤、湿潤剤、消泡剤、流動化剤、分散剤、カルシウム錯化剤、遅延剤、促進剤、撥水剤、再分散性粉末、バイオポリマーおよび繊維からなる群より選択される少なくとも１種の添加剤、
を含み、ここで、該混合物を石膏ベースの硬練りモルタル配合物に用いて、十分な量の水と混合すると、該配合物は、基材に塗布することができるプラスターモルタルになり、ここで、該プラスターモルタル中の混合物の量は有意に低減されており、同時に、該プラスターモルタルの保水性、垂れ下り抵抗および作業性は、従来の類似のセルロースエーテルを用いた場合と同等であるか、または、それに比べて改善されている、上記混合組成物。
【請求項２】
少なくとも石膏および未加工コットンリンターから製造されたセルロースエーテルである水分保持剤を少なくとも１種含む石膏ベースの硬練りモルタル組成物であって、該石膏ベースの硬練りモルタルを十分な量の水と混合すると、基材に塗布することができるプラスターになり、ここで、該プラスター中の水分保持剤の量は有意に低減されており、同時に、保水性、垂れ下り抵抗および作業性は、従来の類似のセルロースエーテルを用いた場合と同等であるか、または、それに比べて改善されている、上記組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
好ましい実施形態を参照して本発明を説明したが、当然ながら、特許請求された発明の本質と範囲を逸脱することなく、それらの形態および詳細における変化形および改変を作製することができる。このような変化形および改変は、本明細書に添付された請求項の権利および範囲内であるとみなされる。
［本発明の態様］
［１］
石膏ベースの硬練りモルタルに使用するための混合組成物であって、
ａ）２０〜９９．９重量％の量の、未加工コットンリンターから製造されたアルキルヒドロキシアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、および、それらの混合物からなる群より選択されるセルロースエーテル、および、
ｂ）０．１〜８０重量％の量の、有機性または無機性の増粘剤、垂れ防止剤、空気連行剤、湿潤剤、消泡剤、流動化剤、分散剤、カルシウム錯化剤、遅延剤、促進剤、撥水剤、再分散性粉末、バイオポリマーおよび繊維からなる群より選択される少なくとも１種の添加剤、
を含み、ここで、該混合物を石膏ベースの硬練りモルタル配合物に用いて、十分な量の水と混合すると、該配合物は、基材に塗布することができるプラスターモルタルになり、ここで、該プラスターモルタル中の混合物の量は有意に低減されており、同時に、該プラスターモルタルの保水性、垂れ下り抵抗および作業性は、従来の類似のセルロースエーテルを用いた場合と同等であるか、または、それに比べて改善されている、上記混合組成物。
［２］
前記アルキルヒドロキシアルキルセルロースのアルキル基は、１〜２４個の炭素原子を有し、ヒドロキシアルキル基は、２〜４個の炭素原子を有する、１に記載の混合組成物。
［３］
前記セルロースエーテルは、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）、メチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、エチルヒドロキシエチルセルロース（ＥＨＥＣ）、メチルエチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＥＨＥＣ）、疎水化修飾したエチルヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＥＨＥＣ）、疎水化修飾したヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＨＥＣ）、および、それらの混合物からなる群より選択される、１に記載の混合組成物。
［４］
前記混合物は、メチルセルロース（ＭＣ）、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）、メチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、エチルヒドロキシエチルセルロース（ＥＨＥＣ）、疎水化修飾したヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＨＥＣ）、疎水化修飾したエチルヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＥＨＥＣ）、メチルエチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＥＨＥＣ）、スルホエチルメチルヒドロキシエチルセルロース（ＳＥＭＨＥＣ）、スルホエチルメチルヒドロキシプロピルセルロース（ＳＥＭＨＰＣ）、および、スルホエチルヒドロキシエチルセルロース（ＳＥＨＥＣ）からなる群より選択される１種またはそれ以上の従来のセルロースエーテルをさらに含む、１に記載の混合組成物。
［５］
前記セルロースエーテルの量は、７０〜９９重量％である、１に記載の混合組成物。
［６］
前記添加剤の量は、０．５〜３０重量％である、１に記載の混合組成物。
［７］
前記少なくとも１種の添加剤は、多糖類からなる群より選択される、１に記載の混合組成物。
［８］
前記多糖類は、スターチエーテル、スターチ、グアール／グアール誘導体、デキストラン、キチン、キトサン、キシラン、キサンタンガム、ウェランガム、ジェランガム、マンナン、ガラクタン、グルカン、アラビノキシラン、アルギナート、および、セルロース繊維からなる群より選択される、７に記載の混合組成物。
［９］
前記少なくとも１種の添加剤は、アクリルアミドのホモまたはコポリマー、ゼラチン、ポリエチレングリコール、カゼイン、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、スルホン化メラミン−ホルムアルデヒド縮合体、スルホン化ナフタレン−ホルムアルデヒド縮合体、ポリアクリル酸塩、ポリカルボキシレートエーテル、ポリスチレンスルホン酸塩、リン酸塩、ホスホン酸塩、１〜４個の炭素原子を有する有機酸のカルシウム塩、アルカノアートの塩、硫酸アルミニウム、金属アルミニウム、ベントナイト、モンモリロナイト、海泡石、ポリアミド繊維、ポリプロピレン繊維、ポリビニルアルコール、および、酢酸ビニル系のホモ、コまたはターポリマー、マレイン酸エステル、エチレン、スチレン、ブタジエン、ビニルバーサテート、および、アクリル単量体からなる群より選択される、１に記載の混合組成物。
［１０］
前記少なくとも１種の添加剤は、カルシウムキレート剤、フルーツ酸、および、表面活性物質からなる群より選択される、１に記載の混合組成物。
［１１］
前記石膏ベースの系で用いられる混合物の有意に低減された量は、少なくとも５％の低減である、１に記載の混合組成物。
［１２］
前記石膏ベースの系で用いられる混合物の有意に低減された量は、少なくとも１０％の低減である、１に記載の混合組成物。
［１３］
前記混合物は、ＭＨＥＣ、ならびに、アクリルアミドのホモまたはコポリマー、スターチエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される添加剤である、４に記載の混合組成物。
［１４］
前記ポリアクリルアミドは、ポリアクリルアミド、ポリ（アクリルアミド−コ−ナトリウム−アクリラート）、ポリ（アクリルアミド−コ−アクリル酸）、ポリ（アクリルアミド−コ−ナトリウム−アクリルアミドメチルプロパンスルホナート）、ポリ（アクリルアミド−コ−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸）、ポリ（アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロライド）、ポリ（アクリルアミド−コ−｛アクリロイルアミノ）プロピルトリメチルアンモニウムクロライド）、ポリ（アクリルアミド−コ−（アクリロイル）エチルトリメチルアンモニウムクロライド）、および、それらの混合物からなる群より選択されるアクリルアミドのホモ／コポリマーである、１３に記載の混合組成物。
［１５］
前記スターチエーテルは、ヒドロキシアルキルスターチ（ここで、アルキルは、１〜４個の炭素原子を有する）、カルボキシメチル化したスターチエーテル、および、それらの混合物からなる群より選択される、１３に記載の混合組成物。
［１６］
前記混合物は、ＭＨＰＣ、ならびに、アクリルアミドのホモまたはコポリマー、スターチエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される添加剤である、４に記載の混合組成物。
［１７］
前記混合物は、ＨＥＣ、ならびに、アクリルアミドのホモまたはコポリマー、スターチエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される添加剤である、４に記載の混合組成物。
［１８］
前記混合物は、ＨＭＨＥＣ、ならびに、アクリルアミドのホモまたはコポリマー、スターチエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される添加剤である、４に記載の混合組成物。
［１９］
少なくとも石膏および未加工コットンリンターから製造されたセルロースエーテルである水分保持剤を少なくとも１種含む石膏ベースの硬練りモルタル組成物であって、該石膏ベースの硬練りモルタルを十分な量の水と混合すると、基材に塗布することができるプラスターになり、ここで、該プラスター中の水分保持剤の量は有意に低減されており、同時に、保水性、垂れ下り抵抗および作業性は、従来の類似のセルロースエーテルを用いた場合と同等であるか、または、それに比べて改善されている、上記組成物。
［２０］
前記少なくとも１種のセルロースエーテルは、未加工コットンリンターから製造された、アルキルヒドロキシアルキルセルロースおよびヒドロキシアルキルセルロース、ならびにそれらの混合物からなる群より選択される、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２１］
前記アルキルヒドロキシアルキルセルロースのアルキル基は、１〜２４個の炭素原子を有し、ヒドロキシアルキル基は、２〜４個の炭素原子を有する、２０に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２２］
前記少なくとも１種のセルロースエーテルは、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）、メチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、メチルエチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＥＨＥＣ）、エチルヒドロキシエチルセルロース（ＥＨＥＣ）、疎水化修飾したエチルヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＥＨＥＣ）、疎水化修飾したヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＨＥＣ）、および、それらの混合物からなる群より選択される、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２３］
前記セルロースエーテルは、適用可能であれば、無水グルコース単位あたり、０．５〜２．５のメチルまたはエチル置換度、０．０１〜６のヒドロキシエチルまたはヒドロキシプロピルのモル置換度（ＭＳ）、および、０．０１〜０．５の疎水性置換基のモル置換度（ＭＳ）を有する、２２に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２４］
前記石膏ベースの硬練りモルタル組成物は、メチルセルロース（ＭＣ）、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）、メチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、エチルヒドロキシエチルセルロース（ＥＨＥＣ）、疎水化修飾したヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＨＥＣ）、疎水化修飾したエチルヒドロキシエチルセルロース（ＨＭＥＨＥＣ）、メチルエチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＥＨＥＣ）、スルホエチルメチルヒドロキシエチルセルロース（ＳＥＭＨＥＣ）、スルホエチルメチルヒドロキシプロピルセルロース（ＳＥＭＨＰＣ）、および、スルホエチルヒドロキシエチルセルロース（ＳＥＨＥＣ）からなる群より選択される１種またはそれ以上の従来のセルロースエーテルをさらに含む、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２５］
前記セルロースエーテルの量は、０．０５〜２．０重量％である、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２６］
有機性または無機性の増粘剤、垂れ防止剤、空気連行剤、湿潤剤、消泡剤、流動化剤、分散剤、カルシウム錯化剤、遅延剤、促進剤、撥水剤、再分散性粉末、バイオポリマーおよび繊維からなる群より選択される１種またはそれ以上の添加剤と組み合わせた、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２７］
前記１種またはそれ以上の添加剤は、多糖類からなる群より選択される有機性の増粘剤である、２６に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２８］
前記多糖類は、スターチエーテル、スターチ、グアール、グアール誘導体、デキストラン、キチン、キトサン、キシラン、キサンタンガム、ウェランガム、ジェランガム、マンナン、ガラクタン、グルカン、アラビノキシラン、アルギナート、および、セルロース繊維からなる群より選択される、２７に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［２９］
前記１種またはそれ以上の添加剤は、アクリルアミド、ゼラチン、ポリエチレングリコール、カゼイン、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、スルホン化メラミン−ホルムアルデヒド縮合体、スルホン化ナフタレン−ホルムアルデヒド縮合体、ポリアクリル酸塩、ポリカルボキシレートエーテル、ポリスチレンスルホン酸塩、フルーツ酸、リン酸塩、ホスホン酸塩、１〜４個の炭素原子を有する有機酸のカルシウム塩、アルカノアートの塩、硫酸アルミニウム、金属アルミニウム、ベントナイト、モンモリロナイト、海泡石、ポリアミド繊維、ポリプロピレン繊維、ポリビニルアルコール、および、酢酸ビニル系のホモ、コまたはターポリマー、マレイン酸エステル、エチレン、スチレン、ブタジエン、ビニルバーサテート、および、アクリル単量体のホモおよびコポリマーからなる群より選択される、２６に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３０］
前記添加剤の量は、０．０００１〜２５重量％である、２６に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３１］
細骨材原料が含まれる、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３２］
前記細骨材原料は、ケイ砂、ドロマイト、石灰石、軽量骨材、ゴム粉末、および、フライアッシュからなる群より選択される、３１に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３３］
軽量骨材は、パーライト、発泡ポリスチレン、中空ガラス球状体、膨張バーミキュライト、および、コルクからなる群より選択される、３２に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３４］
前記細骨材原料は、０．００１〜８０重量％の量で存在する、３１に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３５］
前記細骨材原料は、１０〜５０重量％の量で存在する、３１に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３６］
前記石膏は、２０〜９９．９５重量％の量で存在する、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３７］
前記石膏は、３０〜８０重量％の量で存在する、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３８］
消石灰と組み合わせた、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［３９］
前記消石灰は、０．００１〜２０重量％の量で存在する、３８に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［４０］
前記ＭＨＥＣまたはＭＨＰＣは、ブルックフィールドＲＶＴ粘度計で、２重量％、２０℃および２０ｒｐｍで、スピンドル番号７を用いて測定した場合、８０，０００ｍＰａより大きい水溶液のブルックフィールド粘度を有する、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［４１］
前記ＭＨＥＣまたはＭＨＰＣは、ブルックフィールドＲＶＴ粘度計で、２重量％、２０℃および２０ｒｐｍで、スピンドル番号７を用いて測定した場合、９０，０００ｍＰａより大きい水溶液のブルックフィールド粘度を有する、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［４２］
前記石膏ベースの組成物で用いられるセルロースエーテルの有意に低減された量は、少なくとも５％の低減である、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。
［４３］
前記石膏ベースの組成物で用いられる混合物の有意に低減された量は、少なくとも１０％の低減である、１９に記載の石膏ベースの硬練りモルタル組成物。