【手続補正書】
【提出日】平成19年1月30日(2007.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に液体を塗布する装置であって、
液体を搬送する供給チャネルと、第一の再循環通路と、分配通路と、該供給チャネルから該分配通路に液体を圧送するために動作するポンプとを有するマニホルドと、
該分配通路と流体的に連通するように結合される入り口と、該第一の再循環通路と流体的に連通するように結合される再循環出口とを備える吐出モジュールであって、該再循環出口および該第一の再循環通路は該供給チャネルまで延在する再循環路の少なくとも一部を画定する吐出モジュールと、
該再循環路内に配置され、該再循環路内で該液体の逆流を防ぐようになっている逆止め弁と、
を備えていることを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載した装置であって、
該逆止め弁は該吐出モジュールの該再循環出口内に配置されていることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１に記載した装置であって、
該逆止め弁は該マニホルドの該第一の再循環通路内に配置されていることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１に記載した装置であって、
該マニホルドは、さらに、該供給チャネルを共用するために並置された複数のマニホルドセグメントを備え、
該装置は、
複数の吐出モジュールであって、前記複数の吐出モジュールの各々が前記複数のマニホルドセグメントのうちの対応する一のマニホルドセグメントと連携する複数の吐出モジュールと、
複数の逆止め弁であって、前記複数の逆止め弁のうちの一の逆止め弁は前記複数の吐出モジュールのうちの対応する一の吐出モジュールの該再循環出口内に配置されている複数の逆止め弁とを備えることを特徴とする装置。  
【請求項５】
請求項１に記載した装置であって、
該マニホルドは、さらに、該供給チャネルを共用するために並置された複数のマニホルドセグメントを備え、
該装置は、
複数の吐出モジュールであって、前記複数の吐出モジュールの各々が前記複数のマニホルドセグメントのうちの対応する一のマニホルドセグメントと連携する複数の吐出モジュールと、
複数の逆止め弁であって、前記複数の逆止め弁のうちの一の逆止め弁は前記複数のマニホルドセグメントのうちの対応する一のマニホルドセグメントの該第一の再循環通路内に配置されている複数の逆止め弁とを備えることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１に記載した装置であって、
該マニホルドは、さらに、複数の第一の再循環通路および複数の分配通路を備え、該ポンプは前記複数の分配通路の各々に液体を圧送するために動作するものであって、該装置はさらに、
複数の吐出モジュールであって、前記複数の吐出モジュールの各々が前記複数の分配通路のうちの対応する一の分配通路および前記複数の第一の再循環通路のうちの対応する一の第一の再循環通路と連携する複数の吐出モジュールと、
マニホルドセグメント連携する複数の吐出モジュールと、
複数の逆止め弁であって、前記複数の逆止め弁のうちの一の逆止め弁は前記マニホルドの前記複数の第一の再循環通路のうちの対応する一の第一の再循環通路内に配置されている複数の逆止め弁とを備えることを特徴とする装置。  
【請求項７】
請求項１に記載した装置であって、
該マニホルドは、さらに、複数の第一の再循環通路および複数の分配通路を備え、該ポンプは前記複数の分配通路の各々に液体を圧送するために動作するものであって、該装置はさらに、
複数の吐出モジュールであって、前記複数の吐出モジュールの各々が前記複数の分配通路のうちの対応する一の分配通路および前記複数の第一の再循環通路のうちの対応する一の第一の再循環通路と連携する複数の吐出モジュールと、
マニホルドセグメント連携する複数の吐出モジュールと、
複数の逆止め弁であって、前記複数の逆止め弁のうちの一の逆止め弁は前記
複数の吐出モジュールのうちの対応する一の複数の吐出モジュールの該再循環出口内に配置されている複数の逆止め弁とを備えることを特徴とする装置。  
【請求項８】
請求項１に記載した装置であって、さらに、
該再循環路の一部を画定し、該マニホルドの該第一の再循環通路を該吐出モジュールの該再循環出口に結合する第二の再循環通路を有するアダプタプレートと、
該逆止め弁は前記アダプタプレートの該第二の再循環通路内に配置されることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項８に記載した装置であって、
該マニホルドは、さらに、該供給チャネルを共用するために並置された複数のマニホルドセグメントを備え、
該吐出モジュールは複数の吐出モジュールであって、前記複数の吐出モジュールの各々が前記複数のマニホルドセグメントのうちの対応する一のマニホルドセグメントと連携し、
該アダプタプレートは、さらに、複数の第二の再循環通路であって複数の第二の再循環通路の各々が該複数のマニホルドセグメントうちの対応する一のマニホルドセグメントおよび該複数の吐出モジュールうちの対応する一の吐出モジュールを含み、
該逆止め弁は複数の逆止め弁を含み、該アダプタプレートの該第二の再循環通路のうちの対応する一の第二の再循環通路内に配置されることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項８に記載した装置であって、
該マニホルドは、さらに、複数の第一の再循環通路および複数の分配通路を備え、該ポンプは前記複数の分配通路の各々に液体を圧送するために動作するものであって、該装置はさらに、
複数の吐出モジュールであって、前記複数の吐出モジュールの各々が前記複数の分配通路のうちの対応する一の分配通路および前記複数の第一の再循環通路のうちの対応する一の第一の再循環通路と連携する複数の吐出モジュールと、
マニホルドセグメント連携する複数の吐出モジュールと、
該アダプタプレートは、さらに、複数の第二の再循環通路であって複数の第二の再循環通路の各々が該複数のマニホルドセグメントうちの対応する一のマニホルドセグメントおよび該複数の吐出モジュールうちの対応する一の吐出モジュールを含み、
複数の逆止め弁であって、前記複数の逆止め弁のうちの一の逆止め弁は前記マニホルドの前記複数の第一の再循環通路のうちの対応する一の第一の再循環通路内に配置されている複数の逆止め弁とを備えることを特徴とする装置。  
【請求項１１】
基材に液体を塗布する方法であって、
該液体を、マニホルド内の吐出路を通して吐出モジュールに圧送する工程と、
前記吐出モジュールの吐出弁の状態を、液体を前記吐出モジュールから基材に塗布するための開放状態と液体を前記吐出モジュールからマニホルドの再循環路に戻すための閉鎖状態との間で間欠的に繰り返す工程と、
前記吐出弁が前記開放状態から前記閉鎖状態に戻された際に、該再循環路から該吐出モジュールへの液体の逆流を防止する工程とを備えることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、
該マニホルドは、さらに、複数のマニホルドセグメントを備え、該吐出路は該複数のマニホルドセグメントの各々を複数の吐出モジュールのうちの対応する一の吐出モジュールと結合するものであって、
該方法は、
前記複数のマニホルドセグメントが該液体を搬送する供給チャネルを共有するように前記複数のマニホルドセグメントを並置して結合する工程と、
該吐出路を通して該複数の吐出モジュールに該液体を圧送する工程とを備える方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の方法であって、
前記吐出弁が閉鎖状態にあることを示す吐出モジュールと結合される制御器に信号を送る工程をさらに備えることを特徴とする方法。
【請求項１４】
基板に液体を塗布する方法であって、
マニホルドを通して吐出モジュールまで延在する吐出路を通して該液体を圧送する工程と、
該吐出モジュールの状態が開放状態になるまで繰り返し、それにより該吐出モジュールから該基板まで該液体を吐出する工程と、
該吐出モジュールの状態が再循環状態になるまで繰り返し、該基板上への該液体の吐出を防ぐ工程と、
該吐出モジュールの状態が該再循環状態にある間に該吐出モジュールから該マニホルド内の再循環路まで該液体を戻す工程と、
前記吐出モジュールの状態が閉鎖状態にあることを示す吐出モジュールと結合される制御器に信号を送る工程をさらに備えることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、
前記吐出モジュールが前記開放状態から前記閉鎖状態に戻された際に、該再循環路から該吐出モジュールへの液体の逆流を防止する工程とを備えることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、
前記吐出モジュールの状態が再循環状態になるまで繰り返す工程は、さらに、該吐出モジュール内の吐出バルブが開放状態になるまで繰り返す工程を備え、
前記吐出モジュールの状態が再循環状態になるまで繰り返す工程は、さらに、該吐出弁を閉鎖状態になるまで繰り返すことを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１４に記載の方法であって、該マニホルドはさらに複数のマニホルドセグメントを備え、該吐出路は前記複数のマニホルドセグメントの各々を複数の吐出モジュールのうち対応する一の吐出モジュールと結合しており、
該方法は、さらに、
該マニホルドセグメントが該液体を搬送する供給チャネルと共用するように該複数のマニホルドセグメントを並置するように結合する工程と、
該吐出路を通して該複数の吐出モジュールまで該液体を圧送する工程とを備える方法。