Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月11日(2007.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ネットワーク構成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長分割多重ネットワークの光パスを復旧するネットワーク構成装置において、
信号を受信し、該受信した信号を第１の信号群と多重化して現用系パスへ送信するための第１の合波信号を生成する第１の多重化部と、
信号を受信し、該受信した信号を第２の信号群と多重化して予備系パスへ送信するための第２の合波信号を生成する第２の多重化部と、
クライエントと接続して、該クライエントから信号を受信し、該信号を合波処理して前記現用系パスヘ送信させる前記第１の多重化部へ送り、前記現用系パスに障害が発生した場合には、前記第１の信号群とは独立して、前記信号を合波処理して前記予備系パスへ送信させる前記第２の多重化部へ切り替えるパスベーススイッチ（path-based switch）とを備えること
を特徴とするネットワーク構成装置。
【請求項２】
前記信号は第１の信号であり、
前記第１の多重化部は、パスベーススイッチを介さずにセルフヒーリングクライエントと接続され、該セルフヒーリングクライエントからの第２の信号を受信し、該第２の信号を第１の信号群の一部として前記第１の信号と多重化して前記現用系パスへ送信するものであり、
当該ネットワーク構成装置は、前記現用系パスでの障害発生に応じて、前記第２の信号を切り替えることなく前記第１の信号を前記第２の多重化部へ切り替えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項３】
前記パスベーススイッチは光クロスコネクトスイッチであることを特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項４】
前記パスベーススイッチと、該パスベーススイッチに接続された性能監視モニタ（performance monitor）とを備える切替モジュール（switching module）をさらに備え、
前記性能監視モニタは、前記クライエントからの信号を監視し、該信号が予め定めた条件を満たさない場合には警報通知情報を生成すること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項５】
前記第１の多重化部は、前記パスベーススイッチからの信号を監視し、該信号が予め定めた条件を満たさない場合には警報通知情報を生成する性能監視モニタを備えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項６】
前記第１の多重化部は、前記信号の状態を通信する光監視信号を前記信号と多重化することで前記第１の合波信号を生成すること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項７】
前記パスベーススイッチは、
前記第１の多重化部と接続して、信号合波および前記現用系パスへの送信のために前記クライエントからの信号を前記第１の多重化部へ通信する現用系スイッチと、
前記第２の多重化部と接続して、信号合波および前記予備系パスへの送信のために前記クライエントからの信号を前記第２の多重化部へ通信する予備系スイッチとを備えていること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項８】
前記パスベーススイッチと電気−光変換器とを備える切替モジュールをさらに備え、
前記切替モジュールは、光信号から電気信号へ変換し、該電気信号を前記第１の多重化部および前記第２の多重化部のいずれか一方へ切り替え、該切替後の前記電気信号を合波および送信処理のために光信号へ変換すること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項９】
前記第２の多重化部と前記パスベーススイッチとの接続されたライン信号再生器（line regenerator）をさらに備え、
前記ライン信号再生器は、前記パスベーススイッチから前記第２の多重化部へ通信される信号を再生すること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１０】
前記第１の多重化部と接続して、信号合波および前記現用系パスへの送信処理のために、前記パスベーススイッチから前記第１の多重化部へ通信される信号を監視する第１のトランスポンダと、
前記第２の多重化部と接続して、信号合波および前記予備系パスへの送信処理のために、前記パスベーススイッチから前記第２の多重化部へ通信される信号を監視する第２のトランスポンダとをさらに備えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１１】
前記パスベーススイッチおよび前記クライエントと接続して、前記クライエントから前記パスベーススイッチへ通信された信号を監視するトランスポンダをさらに備えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１２】
前記パスベーススイッチと前記クライエントとを接続するためのハードウエアインターフェースをさらに備えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１３】
前記パスベーススイッチと前記クライエントとを接続するためのネットワーク装置管理マネージャ（element manager）をさらに備えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１４】
前記信号は、制御通信チャンネル（control communication channel）を含むペイロードを備えること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１５】
前記現用系パスと前記予備系パスとはリング上に設けられていること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１６】
前記現用系パスは第１のリングに設けられ、前記予備系パスは第２のリングに設けられていること
を特徴とする請求項１に記載のネットワーク構成装置。
【請求項１７】
波長多重ネットワークにおける光パスの障害を復旧するネットワーク構成装置において、
信号を受信し、該受信した信号を第１の信号群と多重化して現用系光パスへ送信するための第１の合波信号を生成する第１の多重化部と、
前記信号を受信し、該信号を第２の信号群と多重化して、第１の予備系光パスへ送信するための第２の合波信号を生成する第２の多重化部と、
前記信号を受信し、該信号を第３の信号群と多重化して、第２の予備系光パスへ送信するための第３の合波信号を生成する第３の多重化部と、
パスベーススイッチ（path-based switch）と、を有し、
前記パスベーススイッチは、
クライエントから信号を受信し、該信号を前記第１の多重化部へ送り、そこで合波処理して現用系光パスへ送信させると共に、
前記現用系光パスに障害が発生した場合には、該信号を前記第１の信号群とは独立して前記第２の多重化部に切り替え、そこで合波処理して前記第１の予備系パスに送信させ、
前記現用系光パスおよび前記第１の予備系光パスに障害が発生した場合には、該信号を前記第１の信号群とは独立して前記第３の多重化部に切り替え、そこで合波処理して前記第２の予備系光パスに送信させること
を特徴とするネットワーク構成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月26日(2007.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
集積回路が、待機状態から動作状態へ移行するのにともなって、入力信号ＶBODYINは、低電位側電源電位ＶSSから高電位側電源電位ＶDDへ遷移する。ボディバイアス生成回路１３は、入力信号ＶBODYINの変化を検出することにより、ボディ電位Vbody_nを、ＶDD＋α（ＶDD−ＶSS）からＶDDへと変化させる。同様に、ボディバイアス生成回路１４は、入力信号Ｖ*BODYINの変化を検出することにより、ボディ電位Vbody_pを、ＶSS−β（ＶDD−ＶSS）からＶSSへと変化させる。集積回路が動作状態にある期間に、入力信号ＶINが変化し、それにともなって、出力信号ＶOUTが変化する。すなわち、インバータ１２が、所定の動作を実行する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
集積回路が、動作状態から待機状態へ移行するのにともなって、入力信号ＶBODYINは、高電位側電源電位ＶDDから低電位側電源電位ＶSSへ復帰する。ボディバイアス生成回路１３は、入力信号ＶBODYINの変化を検出することにより、ボディ電位Vbody_nを、ＶDDからＶDD＋α（ＶDD−ＶSS）へと復帰させる。同様に、ボディバイアス生成回路１４は、入力信号Ｖ*BODYINの変化を検出することにより、ボディ電位Vbody_pを、ＶSSからＶSS−β（ＶDD−ＶSS）へと復帰させる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
［1.4.周知技術との対比］
上記した文献１では、その図１に、(1)ＳＯＩ基板の主面に形成され、ＰＴＩで分離されたＭＯＳトランジスタと、(2)ＰＴＩの直下に存在するＳＯＩ層を介してボディ電位を固定するためのボディコンタクト領域と、(3) ＮＭＯＳトランジスタのウエルコンタクトに印加するボディ電圧を、アクティブ時（動作時）とスタンバイ時（待機時）との間で変化させる技術と、(4)ＰＭＯＳ領域とＮＭＯＳ領域との間がＦＴＩで素子分離された構造と、が開示されている。しかしながら、文献１には、ボディバイアス生成回路についての開示もなければ、示唆もない。さらに、文献１には、(5)ＳＯＩ層にウエルを形成する技術については、開示されているが、ＰＴＩの直下にチャネルストッパを形成する技術についての開示はない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
チャージポンプ回路３２も、クロックφ２に同期して、チャージポンプ回路３１と同様に、ボディ領域１２２ｎへ電荷の供給を行う。二つのチャージポンプ回路３１，３２は、ボディ領域１２２ｎへ電荷を供給する能力、すなわち、供給電流ＩCPの大きさにおいて、互いに相違する。そのために、クロックφ２の周波数ｆ２は、クロックφ１の周波数ｆ１よりも大きく設定されており、ＭＯＳ容量素子Ｃ３，Ｃ４の容量は、ＭＯＳ容量素子Ｃ１，Ｃ２の容量よりも大きく設定されている。周波数ｆ１，ｆ２は、発振回路３３，３４に備わるリングオシレータによって設定される。供給電流ＩCPは、動作するＭＯＳ容量素子の容量をＣとし、動作するクロックの周波数をｆとすると、ＶDD・Ｃ・ｆに比例するので、容量Ｃおよび周波数ｆが大きいほど、大きな供給電流ＩCPが得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
第１６の発明の装置では、ボトム電位生成回路が、ボディバイアス生成回路に同期して、電位を印加するので、リーク電流をさらに抑制することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2001274265.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２２】
2001274265.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月27日(2007.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上の複数のショットのうちから予め選択された複数のサンプルショットのそれぞれについてアライメントマークの位置計測を行い、その結果に基づいて前記基板の位置合せを行う位置合せ方法において、前記複数のサンプルショットのそれぞれについて、位置計測を行う前に、そのサンプルショットについて以前に行われた位置計測の結果に基づき、位置計測の対象としての適否を判定することを特徴とする位置合せ方法。
【請求項２】  前記判定の基礎となる位置計測の結果は、現在位置合せの対象としている基板と同じ基板についてのものであることを特徴とする請求項１に記載の位置合せ方法。
【請求項３】  前記判定の基礎となる位置計測の結果は、現在位置合せの対象としている基板と同一種類の基板についてのものであることを特徴とする請求項１に記載の位置合せ方法。
【請求項４】  前記判定の基礎となる位置計測の結果は、現在位置合せの対象としている基板と同一ロットの最初の基板についてのものであることを特徴とする請求項１または３に記載の位置合せ方法。
【請求項５】  前記判定の基礎となる位置計測の結果は、現在位置合せの対象としている基板と同一工程にある基板についてのものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の位置合せ方法。
【請求項６】  前記判定において、あるサンプルショットについて位置計測の対象として不適と判定した場合には、そのサンプルショットに代えて、代替のサンプルショットについて位置計測を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の位置合せ方法。 
【請求項７】  各サンプルショットについて位置計測を行った後、その結果を、その後の前記判定のために記憶することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の位置合せ方法。
【請求項８】  マスクに対し、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法により基板の位置合せを行い、該位置合せがなされた前記基板を前記マスクのパターンを介して露光することを特徴とする露光装置。
【請求項９】  請求項８に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光がなされた前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位置合せ方法、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、計測結果が使えないサンプルショットにより生じる無駄な時間を排除することを課題とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するため、本発明の位置合せ方法は、基板上の複数のショットのうちから予め選択された複数のサンプルショットのそれぞれについてアライメントマークの位置計測を行い、その結果に基づいて前記基板の位置合せを行う位置合せ方法において、前記複数のサンプルショットのそれぞれについて、位置計測を行う前に、そのサンプルショットについて以前に行われた位置計測の結果に基づき、位置計測の対象としての適否を判定することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
【発明の効果】
計測結果が使えないサンプルショットにより生じる無駄な時間を排除することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月23日(2007.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
閾値設定回路において、
第一入力端子が前記閾値設定回路の入力端子に接続された第一差動増幅回路と、
一端が前記第一差動増幅回路の第二入力端子に接続され、他端がグランドに接続された容量と、
第一入力端子が前記第一差動増幅回路の第二入力端子及び第一カレントミラー回路を介した前記第一差動増幅回路の出力端子に接続され、第二入力端子が分圧回路を介して前記閾値設定回路の出力端子に接続され、出力端子が第二カレントミラー回路及び前記分圧回路を介して前記閾値設定回路の出力端子に接続された第二差動増幅回路と、
を備えていることを特徴とする閾値設定回路。
【請求項２】
閾値設定回路に接続された検出回路において、
第一入力端子が前記閾値設定回路の入力端子に接続された第一差動増幅回路と、
一端が前記第一差動増幅回路の第二入力端子に接続され、他端がグランドに接続された容量と、
第一入力端子が前記第一差動増幅回路の第二入力端子及び第一カレントミラー回路を介した前記第一差動増幅回路の出力端子に接続され、第二入力端子が分圧回路を介して前記閾値設定回路の出力端子に接続され、出力端子が第二カレントミラー回路及び前記分圧回路を介して前記閾値設定回路の出力端子に接続された第二差動増幅回路と、を有する前記閾値設定回路と、
前記検出回路の入力端子の電圧と前記閾値設定回路の出力端子の電圧とを比較するコンパレータと、
を備えていることを特徴とする検出回路。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月12日(2006.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示機器と通信可能な画像処理装置であって、
撮影画像を取得する撮影画像取得手段と、
前記表示機器から表示データを受信する受信手段と、
前記撮影画像取得手段によって取得された撮影画像に前記表示機器によって表示された表示画像が含まれるか否かを検知する検知手段と、
前記検知手段によって前記表示画像が前記撮影画像に含まれると検知された場合に、前記受信手段によって受信された表示データに対応する表示画像を前記撮影画像における表示画像に置き換える置換手段と、
を有する画像処理装置。
【請求項２】
前記置換手段は、前記検知手段によって前記表示画像が前記撮影画像の一部に含まれると検知された場合に、前記受信手段によって受信された表示データに対応する表示画像を前記撮影画像における前記表示画像の部分に置き換えて合成することを特徴とする請求項１に記載の画像撮影装置。
【請求項３】
前記置換手段によって合成された合成画像を記録または出力する出力手段を更に備えたことを特徴とする請求項２に記載の画像撮影装置。
【請求項４】
請求項１に記載の画像処理装置において、
前記画像処理装置は、複数の通信機能付機器と通信が可能であって、この通信を行った通信機能付機器が、表示機器であるか否かを判別する判別手段を有し、
前記受信手段は、前記判別手段で表示機器であると判別された前記通信機能付機器から表示データを受信することを特徴とする請求項１に記載の画像撮影装置。
【請求項５】
請求項１に記載の画像処理装置において、
前記検知手段は、
前記受信手段によって受信された表示データに対応する表示画像と前記撮影画像を比較する比較手段と、
この比較手段による比較結果に従って、撮影された撮影画像に前記表示機器で表示された表示画像が含まれるか否かを判断する判断手段によって構成されることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
表示機器と通信可能な画像処理装置を制御するプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記画像処理装置を、
撮影画像を取得する撮影画像取得手段と、
前記表示機器から表示データを受信する受信手段と、
前記撮影画像取得手段によって取得された撮影画像に前記表示機器によって表示された表示画像が含まれるか否かを検知する検知手段と、
前記検知手段によって前記表示画像が前記撮影画像に含まれると検知された場合に、前記受信手段によって受信された表示データに対応する表示画像を前記撮影画像における前記表示画像に置き換える置換手段と、して機能させるプログラムを格納したことを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の画像処理装置は、表示機器と通信可能な画像処理装置であって、撮影画像を取得する撮影画像取得手段と、前記表示機器から表示データを受信する受信手段と、前記撮影画像取得手段によって取得された撮影画像に前記表示機器によって表示された表示画像が含まれるか否かを検知する検知手段と、前記検知手段によって前記表示画像が前記撮影画像に含まれると検知された場合に、前記受信手段によって受信された表示データに対応する表示画像を前記撮影画像における表示画像に置き換える置換手段と、を備えたことを特徴としている。
また、請求項２記載の画像処理装置は、請求項１記載の画像処理装置において、前記置換手段は、前記検知手段によって前記表示画像が前記撮影画像の一部に含まれると検知された場合に、前記受信手段によって受信された表示データに対応する表示画像を前記撮影画像における前記表示画像の部分に置き換えて合成することを特徴としている。
また、請求項３記載の画像処理装置は、請求項２記載の画像処理装置において、前記置換手段によって合成された合成画像を記録または出力する出力手段を更に備えたことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月20日(2007.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、
前記支持基板上に設けられた第１電極層と、前記第１電極層上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層の上面に設けられた第２電極層とからなる容量発生領域と、
前記第１電極層に接続された第１端子電極層と、
前記第２電極層に接続された第２端子電極層と、
前記第１端子電極層及び第２端子電極層の一部を露出させた露出部を有し、前記支持基板の略全面に被覆形成された絶縁保護層と、
前記露出部に配置されたバンプ端子と、
前記絶縁保護層上に被着され、前記バンプ端子の周囲領域が酸化処理により酸化物となった金属薄膜と、を具備する、薄膜コンデンサ。
【請求項２】
前記容量発生領域が、前記支持基板上において所定間隔をおいて複数並設され、
前記第１端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記第１電極層どうしを接続し、
前記第２端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記第２電極層どうしを接続する、請求項１に記載の薄膜コンデンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、本発明は薄膜コンデンサに関し、例えば、高速動作する電気回路に配設され、高周波ノイズのバイパス用、もしくは電源電圧の変動防止用に供される低インダクタンスの薄膜コンデンサに関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜コンデンサは、
支持基板と、
前記支持基板上に設けられ、誘電体層と前記誘電体層の下面に形成された第１電極層と前記誘電体層の上面に形成された第２電極層とからなる容量発生領域と、
前記第１電極層に接続された第１端子電極層と、
前記第２電極層に接続された第２端子電極層と、
前記第１端子電極層及び第２端子電極層の一部を露出させた露出部を有し、前記支持基板の略全面に被覆形成された絶縁保護層と、
前記露出部に配置されたバンプ端子と、
前記絶縁保護層上に被着され、前記バンプ端子の周囲領域が酸化処理により酸化物となった金属薄膜と、を具備する。
また、本発明の薄膜コンデンサは、上記構成において、
前記容量発生領域が、前記支持基板上において所定間隔をおいて複数並設され、
前記第１端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記第１電極層どうしを接続し、
前記第２端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記第２電極層どうしを接続する。
【作用】
上述のように、絶縁保護層を金属薄膜で被覆して形成されているため、従来のように樹脂などを単体として絶縁保護層としたものに比較して、耐湿性が飛躍的に向上する。特に、絶縁保護層を完全に被覆して形成され、金属薄膜が絶縁保護層の外周囲にまで延出させると、絶縁保護層の端部付近から発生する絶縁保護層の剥離、さらには、その部分から発生しやすい誘電体層の剥離、クラックを未然に防止できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【発明の効果】
本発明によれば、容量発生領域の保護層として、無機物または樹脂からなる絶縁保護層と金属薄膜との積層構造としている。しかも、緻密に形成できる金属薄膜が外側に配置され、外部からの水分の浸入をより完全に遮断することができる。従って、絶縁保護層の剥離及び誘電体層の接着力低下を防止し、容量発生領域内部への水分の浸入を防止し、信頼性の高い薄膜コンデンサとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の薄膜コンデンサを示す斜視図である。
【図２】
本発明の薄膜コンデンサを示す断面図である。
【図３】
本発明の薄膜コンデンサの分解斜視図である。
【図４】
本発明にかかる薄膜コンデンサの端部部分の断面図である。
【図５】
本発明にかかる薄膜コンデンサのバンプ端子部分の断面図である。
【図６】
従来の薄膜コンデンサの断面図である。
【符号の説明】
１，１０・・・支持基板
２，１１・・・誘電体層
３，１２・・・第１電極層（下部電極層）
４，１３・・・第２電極層（上部電極層）
５，１４・・・絶縁保護層
６・・  金属薄膜
６a・・酸化処理領域
７ａ，１５ａ，７ａ，１５ｂ・・・外部端子（バンプ端子）
９ａ、９ｂ              ・・・貫通孔
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月20日(2007.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、
前記支持基板上に設けられた下部電極層と、前記下部電極層上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層の上面に設けられた上部電極層とからなる容量発生領域であって、前記上部電極層が、この容量発生領域から前記支持基板の端部側に延出して前記支持基板に被着されている容量発生領域と、
前記下部電極層に接続された下部端子電極層と、
前記上部電極層に接続された上部端子電極層と、
前記容量発生領域上に被覆形成され、前記上部端子電極層及び下部端子電極層の一部を露出させた露出部を有する絶縁保護膜と、
前記露出部に配置されたバンプ端子と、を具備する薄膜コンデンサ。
【請求項２】
前記容量発生領域が、前記支持基板上において所定間隔をおいて３つ以上並設され、
前記下部端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記下部電極層どうしを接続し、
前記上部端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記上部電極層どうしを接続する、請求項１に記載の薄膜コンデンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、本発明は薄膜コンデンサに関し、例えば、高速動作する電気回路に配設され、高周波ノイズのバイパス用、もしくは電源電圧の変動防止用に供される低インダクタンスの薄膜コンデンサに関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、湿気の浸入により、密着層１６が存在しているにもかかわらず、誘電体層１１が支持基板１０から剥がれやすくなり、誘電体層１１のクラックによる絶縁性の劣化が発生するという問題があった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、上述の問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、容量発生領域において、誘電体層の接着力の低下を防止し、容量発生領域内部への水分の浸入を防止し、信頼性の高い薄膜コンデンサを提供するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜コンデンサは、
支持基板と、
前記支持基板上に設けられた下部電極層と、前記下部電極層上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層の上面に設けられた上部電極層とからなる容量発生領域であって、前記上部電極層が、この容量発生領域から前記支持基板の端部側に延出して前記支持基板に被着されている容量発生領域と、
前記下部電極層に接続された下部端子電極層と、
前記上部電極層に接続された上部端子電極層と、
前記容量発生領域上に被覆形成され、前記上部端子電極層及び下部端子電極層の一部を露出させた露出部を有する絶縁保護膜と、
前記露出部に配置されたバンプ端子と、を具備する。
また、本発明の薄膜コンデンサは、上記構成において、
前記容量発生領域が、前記支持基板上において所定間隔をおいて３つ以上並設され、
前記下部端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記下部電極層どうしを接続し、
前記上部端子電極層が、前記容量発生領域のそれぞれの間に設けられて、前記上部電極層どうしを接続する。
【作用】
上述のように、容量発生領域を構成する上部電極層が、支持基板の外周側で、容量発生領域から延出して、支持基板に直接被着されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【発明の効果】
本発明によれば、容量発生領域の保護層として、無機物または樹脂からなる絶縁保護層と金属薄膜との２層で構成した。これにより、緻密な金属層が容量発生領域の端部に形成され、外部からの水分の浸入をより完全に遮断することができ、安定した特性を長期にわたり導出できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の薄膜コンデンサを示す斜視図である。
【図２】
図１のＡ−Ａ線の断面図である。
【図３】
本発明にかかる薄膜コンデンサの金属薄膜端部の部分断面図である。
【図４】
従来の薄膜コンデンサの断面図である。
【図５】
本発明にかかる薄膜コンデンサの金属薄膜端部の部分断面図である。
【符号の説明】
１，１０・・・支持基板
２，１１・・・誘電体層
３，１２・・・下部電極層
４，１３・・・上部電極層
５，１４・・・絶縁保護層
６・・  金属薄膜層（上部電極層延出部分）
７ａ，１５ａ，７ｂ，１５ｂ・・・外部端子（バンプ端子）
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体インピーダンスを計測してペットの体脂肪を測定するペット用体脂肪測定具であって、電流用電極及び電圧用電極を少なくとも２個づつ備え、ペットの体の一部に押しつけて用いる電極体と、前記電極体と接続して測定時に流す電流を制御すると共に、測定電圧から計測された生体インピーダンスに基づいて体脂肪を算定するインピーダンス計測回路を備える制御算定部とを具備し、且つ前記電極体の電圧用電極と電流用電極間の距離、及び前記電極体の電圧用電極と電圧用電極間の距離が固定されており、前記各電極の周囲に、０．５〜１０mmの間隔をおき、１又は２以上の突起を配したものであるペット用体脂肪測定具。
【請求項２】
電圧用電極と電流用電極の中心間距離が５〜３０ｍｍである請求項１に記載のペット用体脂肪測定具。
【請求項３】
電圧用電極と電圧用電極の中心間距離が１０〜３００ｍｍである請求項１又は２に記載のペット用体脂肪測定具。
【請求項４】
前記各電極の周囲に配する突起の高さが、各電極の高さ以下であり、かつその差が５mm以内である請求項１〜３のいずれか１項に記載のペット用体脂肪測定具。
【請求項５】
前記各電極の周囲に配する突起の断面が、長辺が１〜５mm、短辺が１〜３mmである楕円、矩形、又はこれらを組み合わせた形状である請求項１〜４のいずれか１項に記載のペット用体脂肪測定具。
【請求項６】
前記電極体と前記制御算定部が一体化されたものである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のペット用体脂肪測定具。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のペット用体脂肪測定具を用い、生体インピーダンスを計測してペットの体脂肪を測定するペットの体脂肪測定方法。
【請求項８】
ペット用体脂肪測定具の電極体をペットに押し付ける部位が、ペットの胴体部の肩甲骨から腸骨までの間で体側側から見た胴体の背部側半分の範囲である請求項７記載のペットの体脂肪測定方法。
【請求項９】
体毛を有するペットの体表面とペット用体脂肪測定具の各電極の電極面との間に介在する体毛に電解液、又は有機溶剤を担持させて使用する請求項７又は８に記載のペットの体脂肪測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月28日(2007.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第一収納箱部分（１１０）と第二収納箱部分（１２０）とを具備している、並列した留め金具の帯板を収納するための留め金具駆動工具用収納箱（１００）であって、
該第一収納箱部分（１１０）が、第一前面端部部分（１１４）及び第一背面端部部分（１１６）とを備えた細長い第一側壁（１１２）と、突起（１３６）が突き出す下部部分（１２３）及び上部部分（１１１）とを有しており；
該第二収納箱部分（１２０）が、第二前面端部部分及び第二背面端部部分とを備えた細長い第二側壁（１２２）と、溝（１５０）を伴なった第二下部部分（１２３）及び上部部分（１２１）とを有していて；
該第一収納箱部分と該第二収納箱部分とが組立てられる時、該第一収納箱部分（１１０）の突起（１３６）が該第二収納箱部分（１２０）の溝（１５０）に嵌合可能で摩擦により保持可能になっている留め金具駆動工具用収納箱において、
該第一収納箱（１１０）と該第二収納箱とが組立られる場合、該第一収納箱部分（１１０）の該上部部分（１１１）と該第二収納箱部分（１２０）の該上部部分（１２１）とは、間にスロット（１６４）が形成されるように離間していることを特徴とする、
留め金具駆動工具用収納箱。
【請求項２】  該第一側壁（１１２）が第一内側面（１１５）を有していて、第一フランジ（１３０）が該第一側壁から横方向に伸びており、該第一フランジ（１３０）は該第一側壁（１１２）の第一下部部分（１１３）にそって配列されていて、該突起（１３６）が該第一フランジ（１３０）から下方向に突き出している、請求項１に記載の留め金具駆動工具用収納箱。
【請求項３】  該第二側壁（１２２）が第二内側面（１２５）を有していて、第二フランジ（１４０）が該第二側壁から横方向に伸びており、該第二フランジ（１４０）は該第二側壁（１２２）の第二下部部分（１２３）にそって配列されていて、リップ（１４６）が該第二フランジ（１４０）から上方向に伸びていて、該リップ（１４６）は該第二側壁（１２２）から離間されており、該第二収納箱部分（１２０）の該溝（１５０）が該リップ（１４６）と該第二側壁（１２２）の部分との間に形成されていて、該第二フランジ（１４０）がそのリップ（１４６）とその第二側壁（１２２）の部分との間に延在している、請求項２に記載の留め金具駆動工具用収納箱。
【請求項４】  該第一収納箱部分（１１０）と該第二収納箱部分（１２０）とが組立てられている場合、該突起（１３６）が第一側面部分（１３７）と第二側面部分（１３８）とを有しており、該突起（１３６）の該第一側面部分（１３７）は該リップ（１４６）に摩擦係合していて、該突起（１３６）の該第二側面部分（１３８）が該第二側壁（１２２）の該第二内側面（１２５）に摩擦係合している、請求項３に記載の留め金具駆動工具用収納箱。
【請求項５】  該第一収納箱部分（１１０）の該上部部分（１１１）と該第二収納箱部分（１２０）の該上部部分（１２１）とが、それぞれ第一当て板装着部（１６０）と第二当て板装着部（１６２）とを有していて、該スロット（１６４）が該第一当て板装着部（１６０）と該第二当て板装着部（１６２）との間に形成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の留め金具駆動工具用収納箱。
【請求項６】  並列した留め金具の帯板から個々の留め金具を順番に受け入れる筒先を有する留め金具駆動工具が、請求項１〜５のいずれか一項に記載の、該並列した留め金具の帯板を受け入れるための収納箱（１００）を具備していて、
該第一収納箱部分（１１０）の該第一前面端部（１１４）と該第二収納箱部分（１２０）の該第二前面端部（１１４）とが留め金具工具の該筒先（３４）に連結されている、
留め金具駆動工具。
【請求項７】  並列した留め金具の帯板を収納する留め金具駆動工具用収納箱（１００）製作方法であって、
突起（１３６）が突き出している第一下部部分（１１３）と第一上部部分とを備えた細長い第一側壁（１１２）を有する第一収納箱用部材（１１０）を押出し成形する段階と、
溝（１５０）を有する第二下部部分（１２１）と第二上部部分（１２１）とを備えた細長い第二側壁（１２２）を有する第二収納箱用部材（１２０）を押出し成形する段階と、
該第一収納箱用部材（１１０）と該第二収納箱用部材（１２０）とを組立てるために、該第一収納箱用部材の該突起（１３６）を該第二収納箱用部材の該溝（１５０）に嵌合し摩擦により保持する段階と、
を含んでいる留め金具駆動工具用収納箱製作方法において、
該第一収納箱用部材（１１０）の該第一上部部分（１１１）と該第二収納箱用部材（２０）の該第二上部部分（１２１）とが離間していることを特徴とする、
留め金具駆動工具用収納箱製作方法。
【請求項８】  該第一収納箱用部材（１１０）の第一上部側壁部分（１１１）に第一当て板装着部分（１６０）を有する、該第一収納箱用部材（１１０）を押出し成形する段階と、該第二収納用部材（１２０）の第二上部側壁部分（１２１）に第二当て板装着部分（１６２）を有する、該第二収納用部材（１２０）を押出し成形する段階とを含んでいる、請求項７に記載の留め金具駆動工具用収納箱製作方法。
【請求項９】  該第一側壁の下部部分（１１３）にそって、該第一側壁（１１２）から横方向に伸びる第一フランジ（１３０）から、下方向に突き出す該突起（１３６）を有する該第一収納箱用部材（１１０）を押出し成形する段階と、
該第二側壁の部分（１２２）と、該第二側壁の下部部分（１２３）から横方向に伸びる第二フランジ（１４０）と、該第二側壁（１２２）から離間していて該第二フランジ（１４０）から上方向に伸びているリップ（１４６）とにより形成された溝（１５０）を有する該第二収納箱用部材（１２０）を押出し成形する段階と、
該第一収納箱用部材（１１０）と該第二収納箱用部材（１２０）とを組立てるために、該突起（１３６）の第一側面部分を該リップ（１４６）に摩擦係合させる段階と、該突起（１３６）の第二側面部分（１２２）を該第二側壁（１２２）に摩擦係合させる段階とを具備している、請求項７に記載の留め金具駆動工具用収納箱製作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月13日(2007.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリンタ装置のプリントヘッドのキャリッジに対する、前記プリンタ装置の構成要素の相対位置決定方法であって、前記構成要素が、前記キャリッジ上の対応する数のプリントヘッドと協働する少なくとも１つのサブユニットを有し、センサに関する前記構成要素上での基準位置の場所を決定するのに前記センサを用いる相対位置決定方法において、
前記センサは、前記センサに対して少なくとも１つのプリントヘッドの位置を決定することを特徴とする相対位置決定方法。
【請求項２】
プリンタのキャリッジ上に搭載されたプリントヘッドに対する、プリンタ装置の少なくとも１つの構成要素の相対位置決定方法であって、
前記キャリッジ上に搭載されたセンサを用いて、前記構成要素上での基準位置を走査する相対位置決定方法において、
前記プリンタのキャリッジ上のプリントヘッドに対する前記光学式センサの相対位置もまた決定されることを特徴とする相対位置決定方法。
【請求項３】
第一に、走査軸方向のセンサと前記プリントヘッドとの間の距離または媒体移動軸方向のセンサと前記プリントヘッドとの間の距離が決定され、次にこれらの距離のうちの他方が決定されることを特徴とする請求項１または２に記載の相対位置決定方法。
【請求項４】
前記センサは光学式センサであり、
前記プリントヘッドに対する前記光学式センサの相対位置を決定するために、前記プリントヘッドは、前記キャリッジが移動する間に、略前記媒体移動軸方向に延びる基準マークを印刷し、次に前記光学式センサが前記走査軸に沿って前記基準マークを走査し、そこから、前記走査軸方向のセンサと前記プリントヘッドとの間の距離が決定されることを特徴とする請求項３に記載の相対位置決定方法。
【請求項５】
前記基準位置は貫通孔によって構成されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の相対位置決定方法。
【請求項６】
前記センサは、前記構成要素の互いに関連する前記サブユニット上にそれぞれある複数の基準位置を走査し、その結果が平均化処理を受けることを特徴とする請求項１から５のいずれかひとつに記載の相対位置決定方法。
【請求項７】
整備機構内に搭載された少なくとも１つの整備機構挿入部材に対する、プリンタのキャリッジ上に搭載された少なくとも１つのプリントヘッドの相対位置を決定し、前記プリンタのキャリッジ上に搭載された光学式センサを用いる相対位置決定方法であって、
前記整備機構挿入部材のうちの少なくとも１つの上に設けられた基準位置を前記センサが検出することを特徴とする相対位置決定方法。
【請求項８】
前記センサは、前記整備機構挿入部材のそれぞれの上に配置された基準位置を検出し、その結果が平均化されることを特徴とする請求項７に記載の相対位置決定方法。
【請求項９】
プリンタのキャリッジ上に搭載された少なくとも１つのプリントヘッドと、
それぞれのプリントヘッドに関する印刷装置の少なくとも１つの他の構成要素の位置を決定する手段と、を有するインクジェット印刷装置であって、
前記決定する手段は、前記プリンタのキャリッジ上に搭載されたセンサを有するインクジェット印刷装置において、
前記センサとそれぞれのプリントヘッドとの相対位置を決定する校正手段を備えることを特徴とするインクジェット印刷装置。
【請求項１０】
前記センサは光学式センサであり、
前記他の構成要素は、プリンタ整備機構のプリントヘッドのクリーナ挿入部材であって、その一部に前記光学式センサに検出される貫通孔を有することを特徴とする請求項９に記載のインクジェット印刷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月10日(2007.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】触媒の製造法、触媒、および（メタ）アクリル酸の製造法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸製造用触媒の製造法であって、モリブデン元素、バナジウム元素、テルル元素及び鉄元素、或いはモリブデン元素、バナジウム元素、テルル元素及び鉄元素、並びにクロム、マンガン、コバルト、ニッケル、アルミニウム、チタン、スズ、ビスマス、セリウム及びタングステンからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を含む水溶液またはスラリーを１１０℃以上、かつ３００℃未満の温度で水熱合成させ、反応後のスラリーを濾別し得られた固体を乾燥後、不活性ガス雰囲気中で焼成する下記一般式で表される組成を有する触媒の製造法。
ＭｏａＶｂＴｅｃＦｅｄＭｅＯｘ
（式中、Ｍｏはモリブデン、Ｖはバナジウム、Ｔｅはテルル、Ｆｅは鉄、Ｍはクロム、マンガン、コバルト、ニッケル、アルミニウム、チタン、スズ、ビスマス、セリウム及びタングステンからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素、Ｏは酸素を表し、そしてａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｘは原子比を示しａを１とした時、ｂ＝０．１〜１、ｃ＝０．００１〜１、ｄ＝０．００１〜１、ｅ＝０〜１、ｘは上記各成分が結合して生成する金属酸化物の酸素の数である。）
【請求項２】  プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸製造用触媒であって、請求項１記載の触媒の製造法により製造されたことを特徴とする触媒。
【請求項３】  プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸の製造法であって、当該気相接触酸化反応を請求項２記載の触媒を用いて行なうことを特徴とする製造法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸製造用触媒の製造法、この製造法で製造された（メタ）アクリル酸製造用触媒、およびこの触媒を用いるプロパンまたはイソブタンからの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸の製造法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明は、プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸製造用触媒の製造法であって、モリブデン元素、バナジウム元素、テルル元素及び鉄元素、或いはモリブデン元素、バナジウム元素、テルル元素及び鉄元素、並びにクロム、マンガン、コバルト、ニッケル、アルミニウム、チタン、スズ、ビスマス、セリウム及びタングステンからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を含む水溶液またはスラリーを１１０℃以上、かつ３００℃未満の温度で水熱合成させ、反応後のスラリーを濾別し得られた固体を乾燥後、不活性ガス雰囲気中で焼成する下記一般式で表される組成を有する触媒の製造法に関するものである。
ＭｏａＶｂＴｅｃＦｅｄＭｅＯｘ
（式中、Ｍｏはモリブデン、Ｖはバナジウム、Ｔｅはテルル、Ｆｅは鉄、Ｍはクロム、マンガン、コバルト、ニッケル、アルミニウム、チタン、スズ、ビスマス、セリウム及びタングステンからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素、Ｏは酸素を表し、そしてａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｘは原子比を示しａを１とした時、ｂ＝０．１〜１、ｃ＝０．００１〜１、ｄ＝０．００１〜１、ｅ＝０〜１、ｘは上記各成分が結合して生成する金属酸化物の酸素の数である。）
また、本発明は、プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸製造用触媒であって、前記の触媒の製造法により製造されたことを特徴とする触媒に関するものである。
さらに、本発明は、プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応による（メタ）アクリル酸の製造法であって、当該気相接触酸化反応を前記の触媒を用いて行なうことを特徴とする製造法に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月2日(2007.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  グリシンアルカリ金属塩とアクリロニトリルを反応させ付加体を得る工程、付加体を加水分解してカルボキシエチルグリシンを得る工程、カルボキシエチルグリシンにホルマリンとアルカリ金属シアン化物を反応させβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸アルカリ金属塩水溶液を得る工程、前記アルカリ金属塩水溶液を鉱酸を用いて中和しβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸水溶液を得る工程、次いでβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の溶解度に対して過飽和度を５％以上かけたβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸水溶液からβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の結晶を析出させる工程からなるβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】  ３−アミノプロピオニトリルに、シアン化水素とホルムアミドをアルカリ金属水酸化物の存在下反応させβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸アルカリ金属塩水溶液を得る工程、前記アルカリ金属塩溶液を鉱酸を用いて中和しβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸水溶液を得る工程、次いでβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の溶解度に対して過飽和度を５％以上かけてβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の結晶を析出させる工程からなるβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】 β−アラニンをアルカリ金属シアン化物及びホルムアルデヒドとアルカリ性水溶液中で反応させてβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸アルカリ金属塩溶液を得る工程、得られた前記アルカリ金属塩溶液を鉱酸を用いて中和しβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸水溶液を得る工程、次いでβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の溶解度に対して過飽和度を５％以上かけたβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸水溶液からβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の結晶を析出させる工程からなるβ−アラニン−Ｎ,Ｎ−二酢酸の製造方法。
【プルーフの要否】要
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月14日(2007.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【化１１】
2002088070.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
（式中、Iのカルボニル酸素以外に、II〜VIは未置換、または置換基が付加してもよい。）で表される２−ピペラジノン誘導体、その製法について記載する特許公報や文献は、これまでも、いくつか有る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
２−ピペラジノン誘導体の製造方法は数多く報告されているが、一般式（６）において、Iの位置にカルボニル酸素があり、IIの窒素原子上は無置換で、VIで表す３位に、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基等を有する置換基が置換している２−ピペラジノン誘導体はこれまでに得られていない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
しかし、この合成方法では、一般式（６）において、VIの位置（３位）にカルボン酸エステル基（（エトキシカルボニル）メチル基）を有するピペラジノン誘導体は得られるが、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基等の親水性基を有する置換基が３位に置換している２−ピペラジノン誘導体は得られていない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、特開平２−１２４８７３号公報には、Ｌ−アラニンエチルエステル・塩酸塩にシアン化ナトリウムとホルムアルデヒド溶液を作用させて、Ｎ−シアノメチル−Ｌ−アラニンエチルエステルを一旦調製し、これをアンモニア、エタノール、ラネーニッケルと共に水素圧下で環化反応させて、ピペラジン誘導体を製造する方法が開示されている。しかし、この方法では、一般式（６）のIの位置（２位）がカルボニル酸素である最終生成物は得られない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
以上のように、一般式（６）においてＩの位置がカルボニル酸素を持ち、IIで表される位置（１位）の窒素上が無置換で、VIで表される位置（３位）にヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基等を有する置換基は置換している２−ピペラジノン誘導体はこれまでに得られていない。