Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月7日(2008.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局所的な相対ｚオーダリング情報を決定する方法であって、
（ａ）デジタル画像データを含む第１の画像フレームと第２の画像フレームとを取得し、
（ｂ）前記第１の画像フレームと前記第２の画像フレームとをセグメントに分割し、
（ｃ）前記第１の画像フレームのセグメントを前記第２の画像フレームに整合させて、前記第２の画像フレームのセグメントを前記第１の画像フレームに整合させ、
（ｄ）画像フレーム間の前記セグメントの相対変位を表す、前記セグメントの相対オフセットを決定し、及び、
（ｅ）前記セグメントが前記セグメントの相対オフセットに基づいて移動させられた場合に、前記画像フレーム内のどのセグメントが重なり合うことになるのかを前記画像フレームの各々について決定する
ことを含む、方法。
【請求項２】
前記ステップ（ｅ）により決定されるセグメントは、該セグメントの相対オフセット、すなわち相対ｚオーダリングに基づいて移動させられた場合に、重なり合うことになることを決定することを更に含むことからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
任意の周期的関係を破断することを更に含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記セグメントは、実質的に均一な色の各々であり、複数の幾何学形状及び範囲内において具現化されることからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
共通の境界を共有する複数の整合されたセグメントの群を考察することを前記ステップ（ｅ）が含み、該セグメントが、フォワードマッチングルーチンか又はバックワードマッチングルーチンを用いて整合させられることからなる、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記ステップ（ｄ）において決定された前記セグメントの相対オフセットに基づいて移動させられた場合に重なり合うこととなる前記第１の画像フレーム内における複数のセグメントを考察し、セグメントを互いの上に配置してその結果を前記第２の画像フレームと比較して異なるパラメータを計算し、及び、該異なるパラメータからｚオーダリング関係を決定する、といったことによってセグメント間のｚオーダリング関係が生成されることからなる、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
エラー最小化技法が用いられる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記周期的関係が、
（ａ）周期的なｚオーダリング関係を共有するセグメントのシーケンスを取得し、及び、
（ｂ）前記周期的関係が破断されるまで、セグメント間の最弱な関係を取り消す
ことによって、破断されることからなる、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
前記セグメント間の関係の強度が、平均エラーの差異に基づくことからなる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記セグメント間の関係の強度が、任意の適合可能な統計的パラメータに基づくことからなる、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の装置と、
前記第１の装置に結合されるバスと、
前記バスに結合されるバスコントローラとを含み、
前記バスは前記第１の装置に対応する第１の割込みラインを含み、前記第１の装置は前記第１の割込みラインを用いて前記バスコントローラへ第１の割込み優先度レベルに対応する第１の割込み信号を伝送するよう構成され、前記第１の装置は前記第１の割込みラインを用いて前記バスコントローラへ第２の割込み優先度レベルに対応する第２の割込み信号を伝送するよう構成され、前記第１の割込み信号は第１のデューティサイクルを有し、前記第２の割込み信号は第２のデューティサイクルを有し、前記第１のデューティサイクルは前記第２のデューティサイクルとは異なる、システム。
【請求項２】  前記第１の割込み信号は第１の周波数に対応し、前記第２の割込み信号は第２の周波数に対応し、前記第１の周波数は前記第２の周波数とは異なる、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  前記バスに結合される第２の装置をさらに含み、
前記バスは前記第２の装置に対応する第２の割込みラインを含み、前記第２の装置は前記第２の割込みラインを用いて前記バスコントローラに前記第１の割込み優先度レベルに対応する第３の割込み信号を伝送するよう構成され、前記第２の装置は前記第２の割込みラインを用いて前記バスコントローラに前記第２の割込み優先度レベルに対応する第４の割込み信号を伝送するよう構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】  前記第１の装置は第１の期間の間に前記第１の割込み信号を伝送するよう構成され、前記第２の装置は前記第１の期間の間に前記第４の割込み信号を伝送するよう構成され、前記バスコントローラは前記第１の期間の間の前記第１の割込み信号および前記第４の割込み信号の受信に応答して、前記第１の装置に対して第１の割込みを認可するよう構成される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】  前記第１の装置は第２の期間の間に前記第２の割込み信号を伝送するよう構成され、前記第２の装置は前記第２の期間の間に前記第３の割込み信号を伝送するよう構成され、前記バスコントローラは前記第２の期間の間の前記第２の割込み信号および前記第３の割込み信号の受信に応答して、前記第２の装置に対して第２の割込みを認可するよう構成される、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】  前記第１の割込み優先度レベルは、前記第２の割込み優先度レベルよ
りも高い割込み優先度に対応する、請求項３に記載のシステム。
【請求項７】  第１の装置からの第１の割込み優先度レベルに対応する第１の割込み信号を伝送するステップと、
第２の装置からの第２の割込み優先度レベルに対応する第２の割込み信号を伝送するステップと、
前記第１の割込み信号および前記第２の割込み信号を受信するステップと、
前記第１の割込み信号および前記第２の割込み信号を受信する前記ステップならびに前記第１の割込み優先度レベルが前記第２の割込み優先度レベルよりも高いことに応答して、前記第１の装置に対して第１の割込みを認可するステップとを含み、前記第１の割込み信号は第１のデューティサイクルを有し、前記第２の割込み信号は第２のデューティサイクルを有し、前記第１のデューティサイクルは前記第２のデューティサイクルとは異なる、方法。
【請求項８】  前記第１の割込み信号は第１の周波数に対応し、前記第２の割込み信号は第２の周波数に対応し、前記第１の周波数は前記第２の周波数とは異なる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記第１の割込み信号および前記第２の割込み信号を受信する前記ステップならびに前記第２の割込み優先度レベルが前記第１の割込み優先度レベルよりも高いことに応答して、前記第２の装置に対して第１の割込みを認可するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】  前記第１の割込み信号および前記第２の割込み信号を受信する前記ステップならびに前記第１の割込み優先度レベルが前記第２の割込み優先度レベルに等しいことに応答して、アービトレーション方式に従って前記第１の装置または前記第２の装置に対して第１の割込みを認可するステップをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  第１の装置からの第２の割込み優先度レベルに対応する第３の割込み信号を伝送するステップと、
第２の装置からの第１の割込み優先度レベルに対応する第４の割込み信号を伝送するステップと、
前記第３の割込み信号および前記第４の割込み信号を受信するステップと、
前記第３の割込み信号および前記第４の割込み信号を受信する前記ステップならびに前記第１の割込み優先度レベルが前記第２の割込み優先度レベルよりも高いことに応答して、前記第２の装置に対して第２の割込みを認可するステップとをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】  プロセッサと、
前記プロセッサに結合されるチップセットと、
前記チップセットに結合される第１のバス装置と、
前記チップセットに結合される第２のバス装置とを含み、
前記第１のバス装置は、前記チップセットへ第１の割込み優先度レベルに対応する第１の割込み信号を伝送するよう構成され、
前記第２のバス装置は、前記チップセットへ第２の割込み優先度レベルに対応する第２の割込み信号を伝送するよう構成され、
前記チップセットは、前記第１の割込み優先度レベルが前記第２の割込み優先度レベルよりも高いことに応答して、前記第１のバス装置に対して割込みを認可するよう構成され、
前記第１の割込み信号は第１のデューティサイクルを有し、前記第２の割込み信号は第２のデューティサイクルを有し、前記第１のデューティサイクルは前記第２のデューティサイクルとは異なる、システム。
【請求項１３】  前記チップセットは、前記第２の割込み優先度レベルが前記第１の割込み優先度レベルよりも高いことに応答して、前記第２のバス装置に対して前記割込みを認可するよう構成される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】  前記チップセットは、前記第１の割込み優先度レベルが前記第２の
割込み優先度レベルに等しいことに応答して、割込みアービトレーション方式に従って前記割込みを認可するよう構成される、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】  前記第１の割込み信号は第１の周波数に対応し、前記第２の割込み信号は第２の周波数に対応し、前記第１の周波数は前記第２の周波数とは異なる、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】  前記チップセットは、ノースブリッジとサウスブリッジとを含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】  前記第１のバス装置はソフトウェアモデムを含む、請求項１２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月16日(2008.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  脊髄損傷を治療するための医薬を製造するための、抗酸化性であり、かつ３８８位でメチオニンがロイシンに置換されている可溶性組換えトロンボモジュリン類似体の治療的有効量の使用、その際、類似体は天然トロンボモジュリン（配列番号２）に従って番号付けされている。
【請求項２】  トロンボモジュリン類似体が、天然トロンボモジュリン（配列番号２）のＯ−結合グリコシル化領域の糖残基で修飾されている、請求項１に記載の使用。
【請求項３】  トロンボモジュリン類似体が、Ｏ−結合グリコシル化領域がコンドロイチン硫酸を有しない程度に修飾されている、請求項１または２に記載の使用。
【請求項４】  類似体がプロテアーゼ分解に対する耐性を有している、請求項１から３までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】  トロンボモジュリン類似体（Solulin ＴＭ）が、以下の位置：
アミノ酸１〜３の除去、
Ｍ３８８Ｌ、
Ｒ４５６Ｇ、
Ｈ４５７Ｑ、
Ｓ４７４Ａおよび
Ｐ４９０での終結
で修飾された天然トロンボモジュリン（配列番号２）のアミノ酸配列を有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】  哺乳類がヒトである、請求項１から５までのいずれか１項に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月4日(2008.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数抜型を備えた打抜装置の動作領域（５１）から多数の打抜製品を取出す方法において、
動作領域（５１）内のピックアップ位置で多数の打抜製品を同時にピックアップする工程と；
ピックアップ位置から動作領域（５１）の外側の移送位置（４１）へ打抜製品を同時に動かす工程と；
移送位置（４１）で打抜製品を同時に解放し、ピックアップ位置で打抜製品に適用される相互位置に相応した位置で打抜製品を相互に固定する工程と；
打抜製品を移送位置（４１）から打抜装置の外側に位置した放出位置へ動かす工程と
を有し、別々の打抜製品を異なる位置に保持し、そして別々の打抜製品を異なる放出軌道に追従させ、別々の打抜製品が異なる放出シュート（４０）に放出されることを特徴とする方法。
【請求項２】
ピックアップ位置と移送位置（４１）との間で移送部材（１１）を動かす工程と；
移送部材（１１）がピックアップ位置にある時、移送部材（１１）を作動状態にする工程と；
移送部材（１１）が移送位置（４１）にある時、移送部材（１１）を非作動状態にする工程と；
を有し、
移送部材（１１）が、ピックアップ位置で多数の打抜製品をピックアップしそして移送位置（４１）では打抜製品を解放するように構成され、また上記移送部材（１１）が、ピックアップ位置で打抜製品に適用される相互位置に相応した位置で打抜製品を相互に固定するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
移送部材（１１）が打抜装置の抜型の動きに基いて動かされることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
動作領域内のピックアップ位置と動作領域（５１）の外側の移送位置（４１）との間で動かされ、ピックアップ位置で作動状態にされ移送位置で非作動状態にされ、ピックアップ位置で多数の打抜製品をピックアップし、移送位置（４１）で打抜製品を解放するように構成され、またピックアップ位置で打抜製品に適用される相互位置に相応した位置で打抜製品を相互に固定するように構成された移送部材（１１）と；
移送位置（４１）と打抜装置の外側に位置した放出位置との間にのび、別々の打抜製品を異なる位置に保持するように構成された放出部材（４０）と
を有し、放出部材（４０）が多数の別個の放出シュート（４０）を備え、放出シュート（４０）の数が少なくとも抜型の数に相応していることを特徴とする多数抜型をもつ打抜装置。
【請求項５】
放出部材（４０）が可動ベルトを備えていることを特徴とする請求項４に記載の打抜装置。
【請求項６】
移送部材（１１）が電気的に作動できる磁石であることを特徴とする請求項４又は５に記載の打抜装置。
【請求項７】
抜型の動きに基いて移送部材（１１）を動かす作動装置を有することを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載の打抜装置。
【請求項８】
作動部材が、互いに回動自在に接続される多数のロッド（１２、１８；２１；２６；３３）を備えるロッド系から成り、第１ロッド（１２、１８）が第１端部（１３）をもち、第２端部（１９）で第２ロッド（２１）の第１端部（２０）に回動自在に接続され、第２ロッド（２１）が第２端部（２４）で第３ロッド（２６）の第１端部（２５）に回動自在に接続され、第１端部（２５）と第２端部（３１）との間に配置される部分（２９）で一定回転位置（３６）に回動自在に接続され、また第２端部（３１）で第４ロッド（３３）の第１端部（３２）に回動自在に接続され、第４ロッド（３３）が第２端部（３４）で直線形態で変位できる回転位置に回動自在に接続されていることを特徴とする請求項７に記載の打抜装置。
【請求項９】
直線形態で変位できる回転位置が抜型に接続されることを特徴とする請求項８に記載の打抜装置。
【請求項１０】
ロッド系の少なくとも一つのロッド（２１）の長さが調整可能であることを特徴とする請求項８又は９に記載の打抜装置。
【請求項１１】
移送部材（１１）がロッド系の第１ロッド（１２、１８）の第１自由端部（１３）に接続され、第１ロッド（１２、１８）がその長さの一部にわたってガイド（１４）で覆われ、ガイド（１４）が単に第１ロッド（１２、１８）を直線運動させることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか一項に記載の打抜装置。
【請求項１２】
移送部材（１１）が、抜型の変位できる方向に対してほぼ直角の方向に変位できることを特徴とする請求項４〜１１のいずれか一項に記載の打抜装置。
【請求項１３】
多数抜型を備えた打抜装置の動作領域（５１）から多数の打抜製品を取出す取出し装置（１）において、
動作領域内のピックアップ位置と動作領域の外側の移送位置（４１）との間で動かされ、ピックアップ位置で作動状態にされ移送位置で非作動状態にされ、ピックアップ位置で多数の打抜製品をピックアップし、移送位置（４１）で打抜製品を解放するように構成され、またピックアップ位置で打抜製品に適用される相互位置に相応した位置で打抜製品を相互に固定するように構成された移送部材（１１）と；
移送位置（４１）と打抜装置の外側に位置した放出位置との間にのび、別々の打抜製品を異なる位置に保持するように構成された放出部材（４０）と
を有し、放出部材（４０）が多数の別個の放出シュート（４０）を備えていることを特徴とする取出し装置（１）。
【請求項１４】
放出部材（４０）が可動ベルトを備えていることを特徴とする請求項１３に記載の取出し装置。
【請求項１５】
移送部材（１１）が電気的に作動可能な磁石を備えていることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の取出し装置。
【請求項１６】
移送部材（１１）の動きを打抜装置の抜型の動きと接続しかつ同期化する接続手段をさらに有することを特徴とする請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の取出し装置。
【請求項１７】
抜型と共に垂直に動く打抜装置の構成要素に取付けられるようにされた入力支持体（３５）をさらに備え、第１ロッド（１２、１８）が第１端部（１３）をもち、第２端部（１９）で第２ロッド（２１）の第１端部（２０）に回動自在に接続され、第２ロッド（２１）が第２端部（２４）で第３ロッド（２６）の第１端部（２５）に回動自在に接続され、第１端部（２５）と第２端部（３１）との間に配置される部分（２９）で一定回転位置（３６）に回動自在に接続され、また第２端部（３１）で第４ロッド（３３）の第１端部（３２）に回動自在に接続され、第４ロッド（３３）が第２端部（３４）で上記入力支持体（３５）に回動自在に接続されていることを特徴とする請求項１６に記載の取出し装置（１）。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１２】
容器（１）の最終形成の直後、したがって容器（１）の中での酸水素ガス等の点火後、官能基を有する気体状又は液体状前駆物質が容器内部の、燃焼工程が残したラジカルサイトと反応する位置に導入されることを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
本発明による別の方式の予備層に対するブロー成形工程は、容器の最終形成の直後、従って容器内の酸水素ガス等への点火後、官能基を有する気体状又は液体状先行物質が、容器内部の燃焼工程で残されたラジカルサイトと反応する位置に導入される、ことを特徴とする。ここで言う官能基とは、ビニール基などである。ラジカルサイトの形成は酸素の欠乏（還元作用モード）及び／又は可燃性気体混合物に対する窒素の追加により促進される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
これらラジカルサイトは、可燃性気体混合物に窒素を添加することにより特に好ましく形成される。燃焼（爆発）直後に添加される先行物質は、これらラジカルサイトと直接反応する。これにより、極めて付着性の強い薄い層が成型品内面に形成される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
この関係で、本発明に従って、酸素含有引火性気体混合物に窒素又はキセノンを添加し、次いで二次燃焼のためこれに点火して紫外線を放射させると、効果的である。このようにして、燃焼（爆発）自体に紫外線を作らせることができる。紫外線は、励起化合物（「エキシマー」）の形成などを通して発生させることができる。これらのエキシマーは、次いで紫外線放射の下で崩壊する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
エキシマー放射は、著しく高い量子エネルギーを持つことができる。従って、上述の方式に従うキセノンの使用は望ましい。キセノンは、第二の気体成分を導入する必要がなくエキシマーを均質相で形成することができる利点もある。励起キセノン（Ｘｅ２＊）エキシマーは、放射波長１７２ｎｍ（量子エネルギ：７．２ｅＶ）で放射崩壊する。キセノンにより表面を殺菌することもできる。キセノンは希ガスなので、加工済みバリア層には結合せず、可燃性物質に添加すると、被覆工程後に標準の方法で再度処理される利点もある。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月18日(2008.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラットホーム（１４）から延び、高圧側面（３０）及び低圧側面（３２）を有する翼形部（１２）と、
ホイール取付け部分（２８）と、
前記プラットホーム（１４）と前記ホイール取付け部分（２８）との間の半径方向位置に配置された中空シャンク部分（２４）と
を含むタービンバケット（１０）であって、
前記プラットホーム（１４）が底面（４４）を有していて、
前記底面（４４）から間隔を置いて前記中空シャンク部分（２４）の内部に、インピンジメント冷却孔（４８、５０、５２）の複数の分離した配列が形成されたインピンジメント冷却プレート（３８）配置されており
前記プラットホーム（１４）が前縁側での厚さよりも後縁側での厚さが厚くなるように形成されている、タービンバケット（１０）。
【請求項２】
前記インピンジメントプレート（３８）を複数のインピンジメント区域に分割する、前記底面（４４）と該インピンジメントプレートとの間の細長いリブ（４６）を更に含む、請求項１に記載のタービンバケット。
【請求項３】
前記インピンジメント孔（４８、５０、５２）が、前記インピンジメントプレート（３８）の上面及び下面に対してほぼ垂直である、請求項１又は請求項２に記載のタービンバケット。
【請求項４】
前記インピンジメントプレート（３８）が、前記インピンジメント孔を備えていない空白域（５４）を含み、前記プラットホームには、前記中空のシャンク部分（２４）から空気を吐出するフィルム冷却孔（５６）の配列が形成されており、該フィルム冷却孔（５６）の配列が、前記インピンジメントプレート（３８）の前記空白域（５４）と実質的に整列している、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のタービンバケット。
【請求項５】
前記インピンジメントプレート（３８）が、前記プラットホームの底面（４４）から０．１０インチ〜０．３０インチだけ間隔を置いて配置されている、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のタービンバケット。
【請求項６】
前記インピンジメント冷却孔が約０．０２０インチの直径を有する、請求項１乃至請求項５のいずれか１項にに記載のタービンバケット。
【請求項７】
前記インピンジメントプレートが、前記翼形部（１２）の前記高圧側面（３０）の半径方向内側に配置されている、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のタービンバケット。
【請求項８】
プラットホーム（１４）から延び、高圧側面（３０）及び低圧側面（３２）を有する翼形部（１２）と、
ホイール取付け部分（２８）と、
前記プラットホーム（１４）と前記ホイール取付け部分（２８）との間の半径方向位置に配置された中空シャンク部分（２４）と
を含むタービンバケット（１０）であって、
前記プラットホーム（１４）が底面（４４）を有していて、
前記底面（４４）から間隔を置いて前記中空シャンク部分（２４）の内部に、インピンジメント冷却孔（４８、５０、５２）の複数の分離した配列が形成されたインピンジメント冷却プレート（３８）が翼形部（１２）の高圧側面（３０）に沿って配置されており、該インピンジメントプレート（３８）が、前記インピンジメント冷却孔を備えていない空白域（５４）を含んでおり、前記プラットホームには、前記中空シャンク部分（２４）から空気を吐出するフィルム冷却孔（５６）の配列が形成されており、該フィルム冷却孔（５６）の配列が、前記インピンジメントプレート（３８）の前記空白域（５４）と実質的に整列している、タービンバケット（１０）。
【請求項９】
翼形部（１２）と取付け部分（２８）との間の半径方向位置に配置され、かつ中空シャンク部分（２４）の半径方向外側壁面を形成するタービンバケット・プラットホーム（１４）を冷却する方法であって、
前記プラットホーム（１４）を前縁側での厚さよりも後縁側での厚さが厚くなるように形成する段階と、
複数のインピンジメント冷却孔（４８、５０、５２）を有するインピンジメント冷却プレート（３８）を、前記プラットホームの底面（４４）から間隔を置いて前記中空シャンク部分（２４）の内部に固定する段階と、
前記プラットホームに吐出孔（５６）を設ける段階と、
前記インピンジメント冷却孔（４８、５０、５２）と前記プラットホーム（１４）の前記吐出孔（５６）とを通してタービンホイールスペースの空気流を導く段階と、
を含む方法。
【請求項１０】
前記インピンジメントプレート（３８）には、前記インピンジメント冷却孔の複数の分離した配列が形成されている、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記インピンジメント孔（４８、５０、５２）が、前記インピンジメントプレート（３８）の上面及び下面に対してほぼ垂直である、請求項９又は請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記インピンジメントプレート（３８）が、前記インピンジメント孔を備えていない空白域（５４）を含み、前記プラットホームには、前記中空シャンク部分（２４）から空気を吐出するフィルム冷却孔（５６）の配列が形成されており、該フィルム冷却孔（５６）の配列が、前記インピンジメントプレート（３８）の前記空白域（５４）と実質的に整列している、請求項１０又は請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記インピンジメントプレート（３８）には、前記インピンジメント冷却孔の複数の分離した配列が形成され、また前記インピンジメントプレート（３８）が、インピンジメント孔を備えていない空白域（５４）を含み、前記プラットホームには、前記中空シャンク部分（２４）から空気を吐出するフィルム冷却孔（５６）の配列が形成されており、該フィルム冷却孔（５６）の配列が、前記インピンジメントプレート（３８）の前記空白域（５４）と実質的に整列し、更に前記インピンジメントプレートが、前記翼形部（１２）の前記高圧側面（３０）の半径方向内側に配置されている、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  カーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方を装填された半開口微細空洞を含むファイバを備えたシガレットフィルタ。
【請求項２】  カーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方を装填された開口微細空洞を含むファイバを備えたシガレットフィルタ。
【請求項３】  前記ファイバが三葉ファイバである、請求項１又は２に記載のシガレットフィルタ。
【請求項４】  前記ファイバが四葉ファイバである、請求項１又は２に記載のシガレットフィルタ。
【請求項５】  前記ファイバがフィラメント微細空洞当たり約３デニールを持ち、前記カーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方が約１ないし１５マイクロメートルの粒子サイズを持つ、請求項１又は２に記載のシガレットフィルタ。
【請求項６】  前記ファイバに非晶質シリカゲルおよびココナツカーボンファイバを装填した、請求項１又は２に記載のシガレットフィルタ。
【請求項７】  下流プラグ、空間、上流プラグ、および煙草を有するプラグ／空間／プラグ構成を備えたシガレットであって、請求項１又は２に記載のフィルタを前記空間および前記下流プラグに装填し、前記空間内の前記フィルタ、前記上流プラグ、および前記煙草を包装紙に包んで成るシガレット。
【請求項８】  空間、上流プラグ、および煙草を有するプラグ／空間構成を備えたシガレットであって、請求項１又は２に記載のフィルタを前記空間に装填し、前記空間内にある前記フィルタ、前記上流プラグ、および前記煙草を包装紙に包んで成るシガレット。
【請求項９】  請求項１又は２に記載のフィルタを作成する方法であって、カーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方をファイバと機械的に混合して、前記カーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方を微細空洞に捕捉させることを含む方法。
【請求項１０】  請求項１又は２に記載のフィルタを作成する方法であって、ファイバを静電気によりカーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方と相互作用させて、前記カーボンと非晶質シリカゲルの両方またはいずれか一方を微細空洞に捕捉させることを含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年4月18日(2008.4.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
（発明の概要）
一態様では、本発明は脊椎インプラントロッドと椎骨アンカの間の連結組立体である。本組立体は、一端に脊椎インプラントロッドの一部を受け取るための開口部を備えるボルトを有する。本組立体はまたＵリンクを有する。このＵリンクは椎骨アンカの一部を保持するための軸穴を画定され、かつＵリンクの耳はボルトが貫通して位置する穴を有し、そのボルトは回転可能にこれらの耳に連結されている。本組立体はまた、ボルトの開口部とＵリンクの内側の耳の間で、ボルトの一部にわたって位置決めしたロッドインターフェース座金を有する。このロッドインターフェース座金は、ボルトの開口部とＵリンクの間で、ある程度は移動可能であるが、座金はボルトに対して回転しないように固定されている。最後に、本組立体はまた、ボルトの側面中に強制的に嵌入または挿通しかつボルトの開口部中に延びる、ねじなどの圧迫部材を含む。このねじを使用して、Ｕリンクの内側および外側の耳が互いに押しつけられかつＵリンクが椎骨アンカ回りに締め付けられるように、ロッドを椎骨アンカに向かって押す。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
随意選択的に、Ｕリンクの内側の耳およびロッドインターフェース座金がそれらの表面上に、対合するオス側の突起とメス側の穴を有し、互いに押しつけられるとき、これらの突起と穴が嵌り合って、Ｕリンクがロッドインターフェース座金に対して回転するのをさらに防止する。この代替設計では、これらの突起および穴が、ロッドインターフェース座金およびＵリンクが相互に対して複数の固定角度で噛み合うことができるように多くの噛合い配向を有する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明の回転可能な連結組立体を再び図１５〜１７に示すが、明瞭にするために、止めねじ５はロッドＡおよび椎骨アンカＢと共に割愛してある。本装置は、椎骨ロッドをボルト２中の開口部６に通して配置することによって使用する。次いで、椎骨アンカの柱身をＵリンク３の軸穴７中で位置決めし、かつ外科医の望み通りに、ロッドインターフェース座金上の可変角リッジ２０をＵリンク３上の可変角リッジ２８と噛み合わせる。このように位置決めして、次にボルト２のねじ穴１５のいずれかに止めねじ５をねじ込むことによって組立体を締め付ける。止めねじ５が、開口部６に進入すると、椎骨ロッドに接触しかつ脊椎ロッドをインターフェース座金４に向かって押しやる。次いで脊椎ロッドが、ロッドインターフェース座金４に接触しかつ好ましくは溝２４に係合する。止めねじ５を回転し続けると、ロッドインターフェース座金がＵリンク３の耳８および９をストップ１０に押しつける。このような動作によって耳８および９が押し合わされて、次にＵリンク３を椎骨アンカの柱身回りに締め付ける。可変角表面、すなわち、Ｕリンク３上の要素２０とロッドインターフェース座金４上の要素２７とが相互に噛み合って、ロッドインターフェース座金４がＵリンク３に対して回転するのを防止し、それによって、ロッドインターフェース座金４はボルト２に対して回転できないので、Ｕリンク３がボルト２に対してさらに固締される。好ましい位置を特定したときに、止めねじ５を緩めて調節を行い、次いで止めねじを締め直すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月4日(2008.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血管創傷中を少なくとも部分的に延びるように形成された外科手術器具と、
止血薬を含んだ止血材メンバーと、
血管創傷へのアクセス用通路を提供するように形成されたレトラクタであって、前記外科手術器具の周りにおいて選択的に開閉するように適合された少なくとも２つの細長いレトラクタアームを有するレトラクタと、
前記外科手術器具に対して長手方向に滑動可能に形成されたプッシュメンバーであって、前記外科手術器具上において前記止血材と係合し該止血材を長手方向に押すように適合されたプッシュメンバーと、を備える、血管創傷をふさぐアセンブリー。
【請求項２】
前記止血材メンバーは、血液凝固を促進するように適合された止血薬を含んだスポンジ状材を含む請求項１に記載のアセンブリー。
【請求項３】
前記止血材メンバーは、血液を吸収するように適合されている請求項２に記載のアセンブリー。
【請求項４】
前記外科手術器具は、ガイドワイヤを含む請求項１に記載のアセンブリー。
【請求項５】
前記外科手術器具は、カテーテルを含み、該カテーテルは、前記ガイドワイヤ上を滑動可能である請求項４に記載のアセンブリー。
【請求項６】
前記止血材メンバーおよびプッシュメンバーは、前記カテーテル上を長手方向に滑動するように該カテーテルに装着され、前記止血材メンバーは、前記プッシュメンバーの遠位に装着される、請求項５に記載のアセンブリー。
【請求項７】
前記プッシュメンバーは、細長いボディと近位ハンドル部分とを含み、長手方向内腔が、前記プッシュメンバー中に形成された、請求項１に記載のアセンブリー。
【請求項８】
細長い解放ロッドをさらに含み、該ロッドは、前記プッシュメンバー内腔中に滑動可能に差し込まれるように形成された、請求項７に記載のアセンブリー。
【請求項９】
第２の止血材メンバーをさらに含み、該第２の止血材メンバーは、前記ロッドにより前記プッシュメンバー内腔中を押し動かし可能に前進させられるような大きさでありかつそのように形成された請求項８に記載のアセンブリー。
【請求項１０】
前記プッシュメンバーボディは、該ボディの遠位端の近くにおいて側壁中に形成された複数の孔を有する請求項７に記載のアセンブリー。
【請求項１１】
前記止血材メンバーは、比較的高い弾性を有した第１の層と、止血薬を含んだ第２の層とを含み、該第１および第２の層は接着される請求項１に記載のアセンブリー。
【請求項１２】
前記第１および第２の層は、セメントにより相互に接着される請求項１１に記載のアセンブリー。
【請求項１３】
前記第１および第２の層は、一体に形成される請求項１１に記載のアセンブリー。
【請求項１４】
前記止血材メンバーは、前記第１および第２の層中の穿刺孔が実質的に前記弾性のある第１の層によって密封状にふさがれるように形成される請求項１１に記載のアセンブリー。
【請求項１５】
前記外科手術器具は、前記第１および第２の層を通り穿刺孔中を延びる請求項１４に記載のアセンブリー。
【請求項１６】
前記止血材メンバーは、血液凝固を促進するように適合された止血薬を含むスポンジ状材を含む請求項１１に記載のアセンブリー。
【請求項１７】
前記止血材メンバーは、少なくとも部分的に接着剤でコーティングされる請求項１に記載のアセンブリー。
【請求項１８】
血管穿刺の位置を特定し、ふさぐアセンブリーであって、
当該アセンブリーは、内部に差し込まれるガイドワイヤを収容するような大きさで適合された内腔を有する細長いカテーテルを備えており、
前記カテーテルは、第１の外径を有する遠位先端と、前記遠位先端の近位で前記第１の外径より大きい第２の外径を有する非膨張穿刺縁係合部とを備え、
前記カテーテルは、前記カテーテルの一部が血管穿刺を通って延びると共に、前記係合部が前記穿刺の縁に係合するために、前記ガイドワイヤ上を滑動するように形成され、
前記係合部は、穿刺縁を撓ませるために、穿刺を実質的にふさぐに足る大きさであり、
かつ、前記アセンブリーは、
前記係合部の遠位の前記カテーテル上に位置し、前記カテーテルの外面の周りを実質的に円周方向に延びるように配置された止血スポンジと、
閉位置と開位置との間を選択的に移動可能なレトラクタであって、前記閉位置にあるときに前記カテーテルの外面と係合するように形成され、かつ、前記開位置にあるときに前記スポンジが前記カテーテル上をかつ前記開レトラクタを通って長手方向に移動可能に形成されたレトラクタと
前記止血スポンジと係合し、前記スポンジを前記カテーテル上を遠位に押すように形成されたプッシュメンバーと、を備えるアセンブリー。
【請求項１９】
前記カテーテルの少なくとも一部が前記遠位端と前記係合部との間でテーパー付きであり、かつ、前記レトラクタが複数の細長いレトラクタアームを有しており、前記レトラクタアームは閉位置と開位置との間で移動可能であり、そのため、前記レトラクタアームが開位置にあるとき、前記アクセス用通路が前記複数のアームの間に画定され、前記アクセス用通路が、前記止血スポンジと前記プッシュメンバーが内部を滑動可能な大きさにされている請求項１８に記載のアセンブリー。
【請求項２０】
前記止血スポンジ及び前記プッシュメンバーが、前記カテーテル上を長手方向にスライドするように前記カテーテルに装着され、前記止血スポンジが、前記プッシュメンバーの遠位に装着されている請求項１８に記載のアセンブリー。
【請求項２１】
前記スポンジが前記レトラクタアームの近位に装着されている請求項２０に記載のアセンブリー。
【請求項２２】
前記プッシュメンバーが細長いボディと近位ハンドル部とを備え、かつ、長手方向内腔がプッシュメンバーを通って形成されている請求項１８に記載のアセンブリー。
【請求項２３】
細長い解放ロッドを更に備え、当該ロッドは、プッシュメンバー内腔に滑動可能に入るように形成されている請求項２２に記載のアセンブリー。
【請求項２４】
前記プッシュメンバーボディは、当該ボディの遠位端近くの側壁に形成された複数の孔を有している請求項２２に記載のアセンブリー。
【請求項２５】
前記プッシュメンバー内腔は、流出可能な接着剤源に取り付けられるように適合されている請求項２４に記載のアセンブリー。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年8月8日(2008.8.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
（式中、
Ｒ1は、ベンゼン、ナフタレン、ジフェニル、アゾベンゼン、チオフェン、ベンゾチアゾール、ベンゾイソチアゾール、チアジアゾール、インダゾール、ベンゾトリアゾール、ピラゾール、アントラキノン、ナフトール酸イミド、クロモン、フタルイミド、またはジフェニレンオキシド系列のジアゾ成分の基であり、
Ｒ2は、非置換または置換アリール基あるいは非置換または置換アラルキル基であり、そして
Ｒ3は、非置換または置換アリール基あるいは非置換または置換アラルキル基であるが、
ただし、置換基Ｒ2およびＲ3の一方が非置換または置換アリール基であり、そして他方が非置換または置換アラルキル基であり、置換アラルキル基として、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルは除く）で示されるアゾ染料に関する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
（式中、Ｒ1は、ベンゼン、ナフタレン、ジフェニル、アゾベンゼン、チオフェン、ベンゾチアゾール、ベンゾイソチアゾール、チアジアゾール、インダゾール、ベンゾトリアゾール、ピラゾール、アントラキノン、ナフトール酸イミド、クロモン、フタルイミド、またはジフェニレンオキシド系列のジアゾ成分の基であり、Ｒ2は、非置換または置換アリール基あるいは非置換または置換アラルキル基であり、そしてＲ3は、非置換または置換アリール基あるいは非置換または置換アラルキル基であるが、ただし、置換基Ｒ2およびＲ3の一方が非置換または置換アリール基であり、そして他方が非置換または置換アラルキル基であり、置換アラルキル基として、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルは除く）で示される赤色染色アゾ染料、場合により、さらなる赤色染料、例えばC.I.Disperse Red 086、C.I.Disperse Red 279, Dianix Rot HF-LS(Dystar)またはPalanil Rot FFB(BASF)との組み合わせ、
少なくとも１種の式（１０）、（１１）、（１２）および／または（１３）：
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
（式中、Ｒ1は、ベンゼン、ナフタレン、ジフェニル、アゾベンゼン、チオフェン、ベンゾチアゾール、ベンゾイソチアゾール、チアジアゾール、インダゾール、ベンゾトリアゾール、ピラゾール、アントラキノン、ナフトール酸イミド、クロモン、フタルイミド、またはジフェニレンオキシド系列のジアゾ成分の基であり、Ｒ2は、非置換または置換アリール基あるいは非置換または置換アラルキル基であり、そしてＲ3は、非置換または置換アリール基あるいは非置換または置換アラルキル基であるが、ただし、置換基Ｒ2およびＲ3の一方が非置換または置換アリール基であり、そして他方が非置換または置換アラルキル基であり、置換アラルキル基として、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルは除く）で示される赤色染色アゾ染料、
少なくとも１種の式（１０）〜（１３）の青色染色染料、
そして少なくとも１種の式（１４）〜（１８）の黄色染色染料を含む、３色混合物に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月22日(2008.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化粧品の使用方法であって、
(a)下式
【化１】
2004521957.tif 000001
およびこれらの混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の加水分解したシリル基または加水分解性シリル基で官能化された少なくとも１種のポリウレタン-ユリアポリマーの水性分散体を含む化粧品組成物を含む化粧品を提供すること、
(b)前記化粧品を人の皮膚もしくは爪に塗布すること、および
(c)フィルムを形成すること
を含む方法。
【請求項２】  前記組成物が、
（ａ）（ｉ）少なくとも１種のポリイソシアネートと（ｉｉ）少なくとも１種のポリオールとの反応生成物を含む少なくとも１種のイソシアネート末端ポリウレタン−ユリアプレポリマーと、
（ｂ）少なくとも１種の多官能性連鎖延長剤と、
（ｃ）少なくとも１種のシリル含有成分と、
（ｄ）下式
【化２】
2004521957.tif 000002
［式中Ｒ3は、それぞれ独立して、
−ＣＨ2ＣＨ2−（ＯＣＨ2ＣＨ2−）n−、
−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−）n−、
−（ＣＨ2）4−（Ｏ（ＣＨ2）4）n−、
−（ＣＨ2）mＣＯ−［Ｏ（ＣＨ2）mＣＯ］n−基、および
それらの混合物、
からなる群より選択されるエーテルまたはエステル官能基を含む平均分子量２００〜６００の２価の脂肪族基であり、
ただし、ｍは、約２〜５の整数であり、かつ
ｎは約２〜１５の整数であり、そして
Ｍは、Ｎａ、Ｈ、Ｋ、Ｌｉ、または１級、２級、３級、４級アンモニウムカチオン、およびそれらの混合物からなる群より選択されるカチオンである］
を有する少なくとも１種の成分と
の反応生成物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】  化粧品の使用方法であって、
(a)少なくとも１種の加水分解したシリル基または加水分解性シリル基で官能化された少なくとも１種のポリウレタン-ユリアポリマーの水性分散体を含む化粧品組成物を含む化粧品を提供すること、
(b)前記化粧品を人の皮膚もしくは爪に塗布すること、および
(c)フィルムを形成すること
を含み、前記フィルムが塗布および乾燥して膜厚が約０．０２５ｍｍの膜になるとき自己接着特性を示す方法。
【請求項４】  前記組成物が、
（ａ）（ｉ）少なくとも１種のポリイソシアネートと（ｉｉ）少なくとも１種のポリオールとの反応生成物を含む少なくとも１種のイソシアネート末端ポリウレタン−ユリアプレポリマーと、
（ｂ）少なくとも１種の多官能性連鎖延長剤と、
（ｃ）少なくとも１種のシリル含有成分と、
（ｄ）下式
【化３】
2004521957.tif 000003
［式中Ｒ3は、それぞれ独立して、
−ＣＨ2ＣＨ2−（ＯＣＨ2ＣＨ2−）n−、
−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−）n−、
−（ＣＨ2）4−（Ｏ（ＣＨ2）4）n−、
−（ＣＨ2）mＣＯ−［Ｏ（ＣＨ2）mＣＯ］n−基、および
それらの混合物、
からなる群より選択されるエーテルまたはエステル官能基を含む平均分子量２００〜６００の２価の脂肪族基であり、
ただし、ｍは、約２〜５の整数であり、かつ
ｎは約２〜１５の整数であり、そして
Ｍは、Ｎａ、Ｈ、Ｋ、Ｌｉ、または１級、２級、３級、４級アンモニウムカチオン、およびそれらの混合物からなる群より選択されるカチオンである］
を有する少なくとも１種の成分と
の反応生成物を含む請求項３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
代表的なイソシアネート反応性シランは、次の化合物：
【化４】
2004521957.tif 000004
およびそれらの混合物
に限らないが、これらを含む。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年11月27日(2007.11.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ｉ）コレステロールと、
（ｉｉ）カルボキシル基より多い塩基性基を有する塩基性アミノ酸とオレイン酸との混合物から成る頭髪有効物質と、
を含み、多層小胞の分散液から成り、小胞がコレステロールと塩基性アミノ酸とオレイン酸とから形成されていることを特徴とする、頭髪損傷の修復及び予防の目的で頭髪に局所使用するのに適した頭髪トリートメント組成物。
【請求項２】  塩基性アミノ酸がＬ−アルギニンであることを特徴とする請求項１に記載の頭髪トリートメント組成物。
【請求項３】  多層小胞が、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル及びその混合物から選択された非イオン性界面活性剤によって安定化されることを特徴とする請求項１に記載の頭髪トリートメント組成物。
【請求項４】  シャンプー組成物の形態であり、１種または複数の洗浄用界面活性剤とカチオン性ポリマーと乳化シリコーン粒子とを更に含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の頭髪トリートメント組成物。
【請求項５】  コンディショナーの形態であり、１種または複数のカチオン性界面活性剤と脂肪アルコールと乳化シリコーン粒子とを更に含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の頭髪トリートメント組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
（発明の概要）
本発明の第一の目的は、（ｉ）コレステロールと、
（ｉｉ）カルボキシル基より多い塩基性基を有する塩基性アミノ酸とオレイン酸との混合物から成る頭髪有効物質と、
を含み、多層小胞の分散液から成り、小胞がコレステロールと塩基性アミノ酸とオレイン酸とから形成されていることを特徴とする、頭髪損傷の修復及び予防の目的で頭髪に局所使用するのに適した頭髪トリートメント組成物を提供することである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
塩基性アミノ酸
“塩基性アミノ酸”なる用語は、カルボキシル基よりも多い塩基性の基を有するアミノ酸を意味する。適当な塩基性アミノ酸は、Ｌ−アルギニン、ＤＬ−アルギニン塩酸塩、Ｌ−ヒスチジン、ＤＬ−ヒスチジン、Ｌ−リシン及びＤＬ−リシンである。Ｌ−アルギニンが特に好ましい。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月14日(2008.10.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
上に指摘したように本発明による処方物は水中への懸濁が意図され、ついで適宜、その吸着期の間、この状態で何日か、事実上５〜１０日間保存される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年9月25日(2008.9.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１枚の基板を処理する装置であって、前記装置は、
処理環境内に基板を搬送すると共に、複数のフィンガを有する少なくとも1つの基板キャリヤと、
該少なくとも１つの基板キャリヤと選択的に連通している少なくとも１つの温度制御プレートと、
該処理環境内で該少なくとも１つの基板キャリヤの処理通路に近接して位置する少なくとも１つの堆積デバイスであって、該少なくとも１つの堆積デバイスは選択された膜を該基板上に堆積させるよう構成されている、前記少なくとも１つの堆積デバイスと、
を備える装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの基板キャリヤが、
平坦な基板を受け取る部材であって、該受け取り部材はその中に形成された複数の穴とその上に形成された基板受け取り面とを有する、平坦な基板を受け取る部材と、
該受け取り部材の下面上に位置する駆動係合部材と、
を更に備える、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの基板キャリヤが、前記処理環境内の第一点と前記処理環境内の第二点の間で基板を搬送するよう構成されている、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの温度制御プレートが、
第一加熱デバイスと冷却デバイスのうちの少なくとも１つが形成されたプレートと、
該プレートの表面から伸長している複数の伸長ピン部材であって、該伸長ピン部材は前記少なくとも１つの基板キャリヤ内に形成された複数の穴を協同的に係合するよう構成されている、複数の伸長ピン部材と、
を更に備える、請求項１記載の装置。
【請求項５】
該第一加熱デバイスが熱電対と連通している少なくとも1つのヒータを更に備える、請求項４記載の装置。
【請求項６】
該冷却デバイスが、該プレート内に形成された、流体入力と流体出力を有する流体チャネルを更に備える、請求項４記載の装置。
【請求項７】
該プレートの該表面が、ビードブラスト表面と陽極処理表面のうちの少なくとも１つを更に備える、請求項４記載の装置。
【請求項８】
該基板がアニーリングされるよう該処理環境内に位置する第二加熱デバイスを更に備える、請求項１記載の装置。
【請求項９】
該第二加熱デバイスがレーザ光源を更に備える、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
該レーザ光源がエキシマレーザを更に備える、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
該少なくとも１つの温度制御プレートが該少なくとも１つの基板キャリヤと熱的に連通している、請求項１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月10日(2008.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射形ディスプレイであって、ディスプレイの目視面に被着された反射防止膜を有し、反射防止膜は、ディスプレイのコントラスト比を増大させるよう構成されていることを特徴とする反射形ディスプレイ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月15日(2008.10.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
回折オブジェクトの寸法が、光の波長に接近するならば、入射角度の適切な選択及び回折オブジェクトの適切なサイズによって、不適切なモード又は誘導は、最小にされ又は除去される。装置は、一般にホログラフィーの光学要素（HOE）（DOEの部分集合である）として知られている。これらの装置は、反射表面の深さをパターン化することによって構築されるならば、回折表面の異なる深さは回折光でシフトする変化相を引き起こすので、表面の浮き彫り又は相ホログラムとして知られているものになる。これら相シフトは、パターンの深さの調整により、適切な光信号の適切な方向又はモードで光の発展的干渉を引き起こすために調整される。屈折オブジェクトのパターンが、反射する金属フィルムで覆われるならば、光エネルギーはそのような装置にほとんど吸収されないので、損失は数パーセントになる。しかしながら、実際上、高い効率を示し、かつ、効率的に製造できる方法で、基板の表面上でそのような装置を構築することは困難である。電子ビームは、直接、基板上にこれらの寸法のパターンを書くことができるが、これは非常に遅く、高価なプロセスであり、かつ、相型ホログラムのために必要になる表面の浮き彫りを生産することに向いていない。エンボス加工にすることは、透明なプラスチック（例えば、クレジットカードセキュリティホログラム）上の表面型ホログラムを再生産するために使用されるが、これらの材料の耐性及び安定性は、ほとんどの適用に適していない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２７】
例１
この例の課題は、スター構造ブロック重合体からのゲルの形成にある。
１／スターブロック重合体の合成
ａ）前駆物質アーム：ＰＡＡ5k−ＰＡＭ60kの合成
これは、二重ジャケット付反応器においてバッチ法に従って７０℃で実施される。
・第一段階：ＰＡＡ5k−Ｘの合成
出発材料として、アクリル酸、水、Ｓ−エチルプロピオニルＯ−エチルキサンテート及びイソプロパノールを４，４−アゾ−ビス−４−シアノペンタン酸（以下、ＡＣＰと略記する）（キサンテート官能基Ｘに対して５０％）と一緒に導入する。かくして、この混合物を７０℃で６時間加熱する。