【手続補正書】
【提出日】平成20年5月8日(2008.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学体の作製方法であって、
第一のコレステリック液晶ポリマー、第二のコレステリック液晶モノマー、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部から形成される第二のコレステリック液晶ポリマー、および溶媒を含む混合物を基板上に塗布するステップであって、前記第一のコレステリック液晶ポリマーは前記第二のコレステリック液晶ポリマーとは異なるステップと、
第一層、第二層、および前記第一層と前記第二層との間に配置される第三層を備えた光学体を前記混合物から前記基板上に形成するステップであって、前記第一層が前記第一のコレステリック液晶ポリマーの大部分を含み、前記第二層が前記第二のコレステリック液晶モノマーの大部分を含み、かつ前記第三層が前記第二のコレステリック液晶ポリマーを含むステップと
を含む方法。
【請求項２】
光学体の作製方法であって、
第一のコレステリック液晶ポリマー、第二のコレステリック液晶モノマー、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部から形成される第二のコレステリック液晶ポリマー、および溶媒を含む混合物を基板上に塗布して被覆基板を形成するステップであって、前記第一の液晶ポリマーが前記第二のコレステリック液晶ポリマーとは異なるステップと、
前記被覆基板を加熱して前記溶媒の少なくとも一部を除去するステップと、
前記被覆基板を硬化して部分硬化被覆基板を形成するステップと、
前記部分硬化被覆基板を加熱して配向光学体を形成するステップと
を含む方法。
【請求項３】
光学体の作製方法であって、
第一のコレステリック液晶ポリマー、第二のコレステリック液晶モノマー、前記第二のコレステリック液晶モノマーから形成される第二のコレステリック液晶ポリマー、および溶媒を含む混合物を基板上に塗布して被覆基板を形成するステップであって、前記第一の液晶ポリマーが前記第二のコレステリック液晶ポリマーとは異なるステップと、
前記混合物から光学体を形成するステップであって、光が前記光学体を透過するとき前記光学体が円偏光を反射するステップと
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
本発明は、上記の特定の実施例に限定されると考えるべきではなく、さらに適切に言えば添付の特許請求の範囲の中できちんと述べるものが本発明の全態様を包含すると理解されるべきである。本明細書を検討すると様々な修正形態、等価の方法、および本発明を適用できる非常に多くの構造が、本発明が対象とする当業界の技術者には容易に明らかなはずである。
以下に、本発明の実施形態と本発明に関連する発明の実施形態について列挙する。
実施形態１
光学体の作製方法であって、
第一のコレステリック液晶ポリマー、第二のコレステリック液晶モノマー、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部から形成される第二のコレステリック液晶ポリマー、および溶媒を含む混合物を基板上に塗布するステップであって、前記第一のコレステリック液晶ポリマーは前記第二のコレステリック液晶ポリマーとは異なるステップと、
第一層、第二層、および前記第一層と前記第二層との間に配置される第三層を備えた光学体を前記混合物から前記基板上に形成するステップであって、前記第一層が前記第一のコレステリック液晶ポリマーの大部分を含み、前記第二層が前記第二のコレステリック液晶モノマーの大部分を含み、かつ前記第三層が前記第二のコレステリック液晶ポリマーを含むステップと
を含む方法。
実施形態２
前記基板上に前記混合物を塗布するステップの前に、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部を重合して前記第二のコレステリック液晶ポリマーを形成するステップをさらに含む、実施形態１の方法。
実施形態３
前記基板上に前記混合物を塗布するステップの後に、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部を重合して前記第二のコレステリック液晶ポリマーを形成するステップをさらに含む、実施形態１の方法。
実施形態４
前記基板上に第一層および第二層を形成するステップが、前記混合物から前記溶媒の少なくとも一部を除去することを含む、実施形態１の方法。
実施形態５
前記基板上に前記第一層および前記第二層を形成した後に前記第二のコレステリック液晶モノマーを硬化するステップをさらに含む、実施形態１の方法。
実施形態６
光学体を形成するステップの前に、前記第二のコレステリック液晶モノマーの少なくとも一部を重合して前記第二のコレステリック液晶ポリマーを形成するステップをさらに含む、実施形態１の方法。
実施形態７
光学体の作製方法であって、
第一のコレステリック液晶ポリマー、第二のコレステリック液晶モノマー、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部から形成される第二のコレステリック液晶ポリマー、および溶媒を含む混合物を基板上に塗布して被覆基板を形成するステップであって、前記第一の液晶ポリマーが前記第二のコレステリック液晶ポリマーとは異なるステップと、
前記被覆基板を加熱して前記溶媒の少なくとも一部を除去するステップと、
前記被覆基板を硬化して部分硬化被覆基板を形成するステップと、
前記部分硬化被覆基板を加熱して配向光学体を形成するステップと
を含む方法。
実施形態８
前記配向光学体を硬化して硬化光学体を形成するステップをさらに含む、実施形態７の方法。
実施形態９
可視光線が前記配向光学体を透過するとき前記配向光学体が少なくとも２００ｎｍの円偏光の帯域幅を反射する、実施形態７の方法。
実施形態１０
前記基板上に前記混合物を塗布するステップの前に、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部を重合して前記第二のコレステリック液晶ポリマーを形成するステップをさらに含む、実施形態７の方法。
実施形態１１
前記基板上に前記混合物を塗布するステップの後に、前記第二のコレステリック液晶モノマーの一部を重合して前記第二のコレステリック液晶ポリマーを形成するステップをさらに含む、実施形態７の方法。
実施形態１２
前記被覆基板を加熱するステップによって、前記第一のコレステリック液晶ポリマーが、前記第二のコレステリック液晶モノマーから少なくとも部分的に分離される、実施形態７の方法。
実施形態１３
前記被覆基板を硬化して部分硬化被覆基板を形成するステップが、前記第二の液晶モノマーを部分架橋する、実施形態７の方法。
実施形態１４
前記部分硬化被覆基板を加熱して配向光学体を形成するステップが、前記第一のコレステリック液晶ポリマーを前記第二のコレステリック液晶モノマーからさらに分離する、実施形態７の方法。
実施形態１５
前記部分硬化被覆基板を加熱して配向光学体を形成するステップが、前記第二のコレステリック液晶ポリマーに、前記第一のコレステリック液晶ポリマーの大部分を含む層と前記第二のコレステリック液晶モノマーの大部分を含む層との間に層を形成させる、実施形態１２の方法。
実施形態１６
光学体の作製方法であって、
第一のコレステリック液晶ポリマー、第二のコレステリック液晶モノマー、前記第二のコレステリック液晶モノマーから形成される第二のコレステリック液晶ポリマー、および溶媒を含む混合物を基板上に塗布して被覆基板を形成するステップであって、前記第一の液晶ポリマーが前記第二のコレステリック液晶ポリマーとは異なるステップと、
前記混合物から光学体を形成するステップであって、光が前記光学体を透過するとき前記光学体が円偏光を反射するステップと
を含む方法。
実施形態１７
光学体を形成するステップが、光がその光学体を透過するとき少なくとも２００ｎｍの光の帯域幅を反射する光学体を形成することを含む、実施形態１６の方法。
実施形態１８
光学体を形成するステップが、光がその光学体を透過するとき少なくとも３００ｎｍの光の帯域幅を反射する光学体を形成することを含む、実施形態１６の方法。
実施形態１９
光学体を形成するステップが、光がその光学体を透過するとき少なくとも４００ｎｍの光の帯域幅を反射する光学体を形成することを含む、実施形態１６の方法。
実施形態２０
光学体を形成するステップが、光がその光学体を透過するとき少なくとも３つの極大値を有する反射スペクトルを有する光学体を形成することを含む、実施形態１６の方法。
実施形態２１
光学体を形成するステップが、右回りまたは左回りのいずれかの円偏光の少なくとも７５％を反射する光学体を形成することを含む、実施形態１６の方法。