【手続補正書】
【提出日】平成20年6月16日(2008.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式１：
【化１】
2008504261.tif 000001
［式中、Ｒ及びＲ3は、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｒ1及びＲ2は、独立して、アキラル若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであるか、又はＲ1とＲ2とが合わさって、置換若しくは非置換の、アキラル、キラル及びラセミ、若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な二価アルキレン、シクロアルキレン若しくはアリーレン基を表し（式１中のアミダイト酸素原子を結合する主鎖中の炭素原子鎖は２〜８個の炭素原子を含む）；
Ｌは、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキレン、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン、又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する化合物。
【請求項２】
式２又は３：
【化２】
2008504261.tif 000002
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は独立して、水素、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有する請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式２又は３：
【化３】
2008504261.tif 000003
［式中、Ｒはアリールであり；Ｒ1とＲ2は個別にアリールであるか又は合わさって、１，２−エタンジイル、１，３−プロパンジイル、１，２−ベンゼンジイル、２，２’−ビフェニルジイル、ラセミ１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、（Ｒ，Ｒ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル若しくは（Ｓ，Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルであり；Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル若しくはアリールであり；Ｒ4は水素若しくはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；
ｎは０であり；
ｍは０であり；そして
Ｍは鉄である］
を有する請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
（１）式４：
Ｒ2Ｐ−Ｌ−ＮＨＲ3
４
を有するアミンを不活性溶媒中で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、式５：
Ｒ2Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ3）Ｐ−Ｘ2
５
を有する中間体二ハロゲン化物を生成し；そして
（２）中間体二ハロゲン化物５を式６、７又は８：
Ｒ1−ＯＨ，Ｒ2−ＯＨ  ｏｒ  ＨＯ−Ｒ1−Ｒ2−ＯＨ
６           ７                    ８
を有する１種又はそれ以上のヒドロキシル含有反応体と接触させる［式中、Ｘはハロゲンである］
ことを含んでなる請求項１に記載の式１の化合物の製造方法。
【請求項５】
前記方法を不活性有機溶媒の存在下で実施し；工程（１）を−１００℃〜前記溶媒の沸点の温度で酸受容体の存在下で実施し；且つ工程（２）を−１００℃〜前記溶媒の沸点の温度で実施する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
請求項１に記載の式１の化合物及び第ＶＩＩＩ族金属から選ばれた触媒活性金属を含んでなる金属錯体化合物。
【請求項７】
請求項２に記載の式２又は３の化合物及びロジウム、イリジウム又はルテニウムを含んでなる金属錯体化合物。
【請求項８】
請求項３に記載の式２又は３の化合物及びロジウムを含んでなる金属錯体化合物。
【請求項９】
不活性溶媒及び請求項６に記載の触媒錯体化合物の存在下で水素化可能な化合物を水素と接触させることを含んでなる水素化可能な化合物の水素化方法。
【請求項１０】
（ａ）０．５〜２００バール（ゲージ）の圧力及び周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度において不活性有機溶媒中で触媒量の、請求項７に記載の錯体化合物の存在下で式１０：
【化４】
2008504261.tif 000004
を有するエナミドを水素と接触させて、反応混合物を形成することを含んでなる、式９：
【化５】
2008504261.tif 000005
を有する化合物又は
（ｂ）０．５〜２００バール（ゲージ）の圧力及び周囲温度〜反応混合物の沸点の最も低い成分の沸点の温度において不活性溶媒中で触媒量の、請求項７に記載の錯体化合物の存在下で式１２：
【化６】
2008504261.tif 000006
のイタコネート化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、式１１：
【化７】
2008504261.tif 000007
の化合物
［式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、独立して、水素、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；且つ
Ｒ11は、水素、置換若しくは非置換のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ1〜Ｃ20アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルコキシ、置換若しくは非置換の炭素環式Ｃ6〜Ｃ20アリール、置換若しくは非置換の炭素環式Ｃ6〜Ｃ20アリールオキシ、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素又は酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールオキシである］
を有する化合物の製造方法。
【請求項１１】
前記錯体化合物が、ロジウム及び式２又は３［式中、Ｒはアリールであり；Ｒ1とＲ2は個別にアリールであるか又は合わさって、１，２−エタンジイル、１，３−プロパンジイル、１，２−ベンゼンジイル、２，２’−ビフェニルジイル、ラセミ１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、（Ｒ，Ｒ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル若しくは（Ｓ，Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルであり；Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル若しくはアリールであり；Ｒ4は水素若しくはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；ｎは０であり；ｍは０であり；且つＭは鉄である］の化合物を含んでなる請求項１０に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
実施例１９
配位子２ｅのロジウム錯体を用いたＲ−２−メチルコハク酸（Ｓ−１１ａ）の製造
イタコン酸（１２ａ，Ｒ13＝Ｒ14＝Ｒ15＝Ｈ）（６５ｍｇ；０．５ミリモル）を反応器中で無水メタノール（５．０ｍＬ）中に溶解させ、アルゴンで１５分間ガス抜きした。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（２．３ｍｇ；５μモル；０．０１当量）及び実施例５からの配位子２ｅ（４．４ｍｇ；６μモル；０．０１２当量）を合し、アルゴンでガス抜きされた無水メタノール（０．５０ｍＬ）を添加した。この溶液を２５℃においてアルゴン下で１５分間撹拌し、次いで１２ａの溶液に添加した。次に、得られた溶液を水素でフラッシュし、水素０．６９〜１．３８バール（ゲージ）（１０〜２０ｐｓｉｇ）まで加圧した。反応混合物を６時間撹拌した。この時点で、サンプル（０．０２４ミリモル）を、メタノール（１ｍＬ）中で３０分間撹拌することによってトリメチルシリルジアゾメタン（ヘキサン中２．０Ｍ；１２０μＬ；０．１２ミリモル；５当量）の作用によってジメチルエステル１１ｂに転化した。酢酸クエンチ後、サンプルを直接分析すると、キラルＧＣ分析によって測定した場合に９２．６％ｅｅのＲ−２−メチルコハク酸（Ｒ−１１ａ，Ｒ13＝Ｒ14＝Ｒ15＝Ｈ）への１００％の転化を示した。
以下に本発明の態様を記載する。
１．前記式１［式中、Ｒ及びＲ3は、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
Ｒ1及びＲ2は、独立して、アキラル若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであるか、又はＲ1とＲ2とが合わさって、置換若しくは非置換の、アキラル、キラル及びラセミ、若しくは実質的にエナンチオマーとして純粋な二価アルキレン、シクロアルキレン若しくはアリーレン基を表し（式１中のアミダイト酸素原子を結合する主鎖中の炭素原子鎖は２〜８個の炭素原子を含む）；
Ｌは、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキレン、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリーレン、又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する化合物。
２．前記式２又は３［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は独立して、水素、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有する態様１に記載の化合物。
３．前記式２又は３［式中、Ｒはアリールであり；Ｒ1とＲ2は個別にアリールであるか又は合わさって、１，２−エタンジイル、１，３−プロパンジイル、１，２−ベンゼンジイル、２，２’−ビフェニルジイル、ラセミ１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、（Ｒ，Ｒ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル若しくは（Ｓ，Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルであり；Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル若しくはアリールであり；Ｒ4は水素若しくはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；
ｎは０であり；
ｍは０であり；そして
Ｍは鉄である］
を有する態様１に記載の化合物。
４．（１）前記式４を有するアミンを不活性溶媒中で三ハロゲン化燐ＰＸ3と接触させて、前記式５を有する中間体二ハロゲン化物を生成し；そして
（２）中間体二ハロゲン化物５を前記式６、７又は８を有する１種又はそれ以上のヒドロキシル含有反応体と接触させる［式中、Ｘはハロゲンである］
ことを含んでなる態様１に記載の式１の化合物の製造方法。
５．前記方法を不活性有機溶媒の存在下で実施し；工程（１）を−１００℃〜前記溶媒の沸点の温度で酸受容体の存在下で実施し；且つ工程（２）を−１００℃〜前記溶媒の沸点の温度で実施する態様４に記載の方法。
６．前記方法を、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン又はこれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物から選ばれた不活性有機溶媒中で実施し；前記方法の工程（１）を−８０℃〜４０℃の温度においてＣ3〜Ｃ15第三級アミン又はピリジン類から選ばれた酸受容体の存在下で実施し；且つ工程（２）を−８０℃〜４０℃の温度において場合によっては、Ｃ3〜Ｃ15第三級アミン又はピリジン類から選ばれた酸受容体の存在下で実施する態様４に記載の方法。
７．前記方法をトルエン中でトリメチルアミンの存在下で実施し、且つヒドロキシル含有反応体がフェノール、４−メトキシフェノール、トリフルオロメチルフェノール、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、ｏ−ヒドロキノン、２，２’−ビフェノール、ラセミ１，１’−ビ−２−ナフトール、（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトール、（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール又はそれらの混合物である態様６に記載の方法。
８．態様１に記載の式１の化合物及び第ＶＩＩＩ族金属から選ばれた触媒活性金属を含んでなる金属錯体化合物。
９．態様２に記載の式２又は３の化合物及びロジウム、イリジウム又はルテニウムを含んでなる金属錯体化合物。
１０．態様３に記載の式２又は３の化合物及びロジウムを含んでなる金属錯体化合物。
１１．不活性溶媒及び態様８に記載の触媒錯体化合物の存在下で水素化可能な化合物を水素と接触させることを含んでなる水素化可能な化合物の水素化方法。
１２．０．５〜２００バール（ゲージ）の圧力及び周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度において不活性有機溶媒中で触媒量の、態様９に記載の錯体化合物の存在下で前記式１０を有するエナミドを水素と接触させて、反応混合物を形成することを含んでなる、前記式９［式中、Ｒ9、Ｒ10及びＲ12は、独立して、水素、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールであり；且つ
Ｒ11は、水素、置換若しくは非置換のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ1〜Ｃ20アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルコキシ、置換若しくは非置換の炭素環式Ｃ6〜Ｃ20アリール、置換若しくは非置換の炭素環式Ｃ6〜Ｃ20アリールオキシ、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素又は酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールオキシである］
を有する化合物の製造方法。
１３．前記錯体化合物がロジウム及び式２又は３［式中、Ｒはアリールであり；Ｒ1とＲ2は個別にアリールであるか又は合わさって、１，２−エタンジイル、１，３−プロパンジイル、１，２−ベンゼンジイル、２，２’−ビフェニルジイル、ラセミ１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、（Ｒ，Ｒ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル若しくは（Ｓ，Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルであり；Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル若しくはアリールであり；Ｒ4は水素若しくはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；ｎは０であり；ｍは０であり；且つＭは鉄である］の化合物を含んでなる態様１２に記載の方法。
１４．０．５〜２００バール（ゲージ）の圧力及び周囲温度〜反応混合物の沸点の最も低い成分の沸点の温度において不活性溶媒中で触媒量の、態様９に記載の錯体化合物の存在下で前記式１２のイタコネート化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、前記式１１［式中、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、独立して、水素、置換若しくは非置換、分岐鎖若しくは直鎖のＣ1〜Ｃ20アルキル、置換若しくは非置換のＣ3〜Ｃ8シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ6〜Ｃ20炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ4〜Ｃ20ヘテロアリールである］
を有する化合物の製造方法。
１５．前記錯体化合物が、ロジウム及び式２又は３［式中、Ｒはアリールであり；Ｒ1とＲ2は個別にアリールであるか又は合わさって、１，２−エタンジイル、１，３−プロパンジイル、１，２−ベンゼンジイル、２，２’−ビフェニルジイル、ラセミ１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、（Ｒ，Ｒ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル若しくは（Ｓ，Ｓ）−１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルであり；Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル若しくはアリールであり；Ｒ4は水素若しくはＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ5及びＲ6は水素であり；ｎは０であり；ｍは０であり；且つＭは鉄である］の化合物を含んでなる態様１４に記載の方法。