【手続補正書】
【提出日】平成19年2月20日(2007.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して処理を施す処理装置に備えられるパーティクル計測装置であって、
前記処理チャンバーの排気口と前記真空ポンプとを連結する排気管に取り付けられ、排気ガスに含まれるパーティクル数を計測することを特徴とするパーティクル計測装置。
【請求項２】  前記パーティクル計測装置は、
前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、を備えることを特徴とする請求項１記載のパーティクル計測装置。
【請求項３】  前記レーザ光照射部は、前記排気管の横断面中心点と、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸とを結ぶ線分に沿うように前記排気管内にレーザ光を照射することを特徴とする請求項１記載のパーティクル計測装置。
【請求項４】  前記散乱光検出部の中心は、前記排気管の断面中心点よりも、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸が位置する方向に対して反対方向へ所定の距離だけオフセットした点に向けられるように設定されていることを特徴とする請求項２又は３記載のパーティクル計測装置。
【請求項５】  前記レーザ光照射部は、前記排気管内を排気される排気ガスに含まれる前記パーティクルの密度が濃い部分にレーザ光を照射することを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項６】  前記散乱光検出部は、前記パーティクルの密度が濃い部分に検出方向を指向することを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項７】  前記散乱光検出部は、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の照射方向に対して略直交方向に設けられることを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項８】  前記レーザ光照射部は、前記排気管の断面中心点よりも、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸が位置する方向に対して反対方向へ所定の距離だけオフセットした点を通過するようにレーザ光を照射することを特徴とする請求項２乃至７のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項９】  前記オフセットされる所定の距離の最大値は、前記排気管の内径の０．７５倍であることを特徴とする請求項４乃至８のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項１０】  前記パーティクル計測装置の前記排気管への取り付け位置は、
前記処理チャンバー内で発生した光が到達しない、前記処理チャンバーに最短距離で、前記排気管内で排気ガスに含まれるパーティクルの密度に濃淡がある位置とすることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項１１】  処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置を具備する処理装置に配置され、前記真空雰囲気中のパーティクルを計測するパーティクル計測装置であって、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内を通過する前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部の少なくとも１つを前記マニホールドの周方向へ移動させる機構を備えた駆動部と、
を具備することを特徴とするパーティクル計測装置。
【請求項１２】  前記レーザ光照射部、前記ビームのストッパ部、前記散乱光検出部及び前記駆動部を制御する制御部を備える請求項１１記載のパーティクル計測装置。
【請求項１３】  処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置を具備する処理装置に配置され、前記真空雰囲気中のパーティクルを計測するパーティクル計測装置であって、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内を通過する前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
さらに、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部が、前記マニホールドの周方向に沿って回動する回動手段とを備えることを特徴とするパーティクル計測装置。
【請求項１４】  前記回動手段は、磁性流体真空シールを含む構成である請求項１３記載のパーティクル計測装置。
【請求項１５】  前記回動手段を制御する制御部を備える請求項１３又は１４記載のパーティクル計測装置。
【請求項１６】  前記レーザ光照射部及び前記散乱光検出部と、前記マニホールドとの間に光を透過する窓を設ける請求項１１乃至１５のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項１７】  前記窓は、石英又は、サファイヤにより形成される請求項１６に記載のパーティクル計測装置。
【請求項１８】  前記駆動部は、モーター又はリニアモーターにより構成される請求項１１又は１２に記載のパーティクル計測装置。
【請求項１９】  前記回動手段は、モーター、リニアモーター及びマグネットのいずれかからなる駆動源を備える請求項１３乃至１５のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項２０】  処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置を具備する処理装置に配置され、前記真空雰囲気中のパーティクルを計測するパーティクル計測装置であって、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内に光を照射する照射部と、
前記マニホールド内において前記照射部と対向して設けられ、前記照射された光を吸収するストッパ部と、
前記光の照射方向に対して略直交する方向に設けた散乱光検出部と、を備えることを特徴とするパーティクル計測装置。
【請求項２１】  前記光は、レーザ光からなる請求項２０記載のパーティクル計測装置。
【請求項２２】  前記光が、前記マニホールドの断面中心より該マニホールド内壁側に向かう照射方向に照射されるように、前記照射部とストッパ部が配置される請求項２０又は２１に記載のパーティクル計測装置。
【請求項２３】  処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置と、を具備する処理装置に配置され、前記真空雰囲気内に発生するパーティクルを計測するパーティクル計測装置であって、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内を通過する前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
前記マニホールド内で、前記レーザ光照射部から照射されるレーザ光の放射方向を可変させる放射方向可変手段を含む駆動部と、
を備えることを特徴とするパーティクル測定装置。
【請求項２４】  前記処理装置を制御する主制御部を備え、前記主制御部にシミュレーション又はシミュレーションと実評価により基づいて前記マニホールド内のパーティクルの密度の高い領域に、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部を移動させる位置調整データが組み込まれ、
前記主制御部により、前記マニホールド内のパーティクルの密度の高い領域に、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部を制御することを特徴とする請求項１１乃至２３のいずれか１つに記載のパーティクル計測装置。
【請求項２５】  前記駆動部を制御する制御部を備える請求項２３記載のパーティクル計測装置。
【請求項２６】  シミュレーション又はシミュレーションと実評価により基づいて、前記マニホールド内のパーティクルの密度の高い領域に、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部を移動させる位置調整データが組み込まれていることを特徴とする請求項１２、１５、２５のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項２７】  処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して、処理を施す処理装置に搭載されるパーティクル計測装置であって、
前記処理装置に接続するセンサマニホールド部と、
前記センサマニホールド部に取り付けられ、前記排気管の径方向に移動可能な駆動機構を有するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部と対向して前記センサマニホールド部に取り付けられ、前記レーザ光照射部と正対するように移動可能な駆動機構を有し、照射されたレーザ光を受光するビームのストッパ部と、
前記センサマニホールド部に取り付けられ、２次元的に移動可能な駆動機構を有し、前記レーザ光がパーティクルにより散乱した光を検出する散乱光検出部と、を有し、
さらにシミュレーションにより想定された又は、シミュレーションと評価により設定された前記センサマニホールド部におけるパーティクルの密度が高い領域をレーザ光が通り抜けるように前記レーザ光照射部と前記ビームのストッパ部の駆動機構を動作させ、該密度が高い領域からの散乱光を検出する位置に前記散乱光検出部を移動させる位置制御部と、
前記レーザ光照射部、前記散乱光検出部を制御し、得られた測定結果を処理する制御処理部と、を具備することを特徴とするパーティクル計測装置。
【請求項２８】  前記駆動機構は、駆動源としてモータ又はリニアモータを有することを特徴とする請求項２７記載のパーティクル計測装置。
【請求項２９】  前記パーティクル測定装置は、
磁性流体シールにより回動可能に前記排気管に気密に接続されることを特徴とする請求項２７又は２８記載のパーティクル計測装置。
【請求項３０】  処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して、処理を施す処理装置から排気されるパーティクルを計測する方法において、
パラメータのモデル化を行う工程と、
排気管内を流れるパーティクル粒子を含む排気ガスの軌跡を表す数値シミュレーション工程と、
排気ガス及び前記パーティクルの軌跡数値シミュレーション工程と、
最適パーティクル位置確認工程と、
センサ取り付け位置決定工程と、
を具備し、
前記処理チャンバー内で生成されて排気される前記パーティクルが排気管内を流れる軌跡をシミュレーションし、前記排気管径方向で最もパーティクルが密になる領域を選出し、その領域を測定用レーザ光が通過するように、前記パーティクルに向かってレーザ光を照射し、前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出してパーティクルを計測するパーティクル計測手段を配置させるようにしたことを特徴とするパーティクル計測方法。
【請求項３１】  前記パラメータのモデル化は、
チャンバー構成、排気ポンプ構成、排気管構成に基づく排気構成のモデル化と、
ガス種、圧力、流量、温度を含むプロセス条件のモデル化と、
生成されるパーティクルの組成、密度、粒径を含むパーティクル条件のモデル化と、
パーティクルを発生させる構成部位及び発生箇所のモデル化と、からなることを特徴とする請求項２６記載のパーティクル計測方法。
【請求項３２】  前記軌跡の数値シミュレーションは、
前記処理チャンバーに設けられた排気管口の数と、その形状と、その配置位置と、排気ガスの流速分布により求められることを特徴とする請求項３０又は３１記載のパーティクル計測方法。
【請求項３３】  処理チャンバー内の大気若しくはプロセスガスを真空排気系により排気して処理を行う処理装置において、前記処理装置で生成されたパーティクルにレーザ光の照射によりパーティクル数を計測するためにレーザ光照射部、散乱光検出部、ビームのストッパ部を有する装置によるパーティクル計測方法において、
前記処理チャンバーを含みその内部に配置された構成部位に関する情報、前記真空排気系に関する情報及び、前記プロセスガスに関する情報に基づくシミュレーションにより、パーティクルの密度の高い領域を選出する工程と、
前記レーザ光照射部が前記シミュレーションに基づくそのパーティクルの密度の高い領域にレーザ光を照射するように位置調整する工程と、
前記密度の高い領域を通過したレーザ光を受光するように前記ビームのストッパ部が前記レーザ光照射部と対向するように位置調整する工程と、
前記密度の高い領域を通過したレーザ光による散乱光を検出するように前記散乱光検出部の位置調整する工程と、
前記レーザ光照射部が前記パーティクルの密度の高い領域にレーザ光を照射する工程と、
前記散乱光検出部が前記密度の高い領域を通過したレーザ光の散乱光を検出する工程と、
検出された散乱光からパーティクル数量を算出する工程と、
からなることを特徴とするパーティクル計測方法。
【請求項３４】  処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空排気される状態の処理装置で、前記処理装置内で生成されたパーティクルをレーザ位置調整装置付きパーティクル計測装置でパーティクルを計測する方法において、
シミュレーションにより最適なセンサの取り付け位置を決定し、その取り付け位置情報を前記レーザ位置調整装置の位置制御部にインプットする工程と、
プロセス条件を前記レーザ位置調整装置の位置制御部にインプットする工程と、
レーザ光照射部、散乱光検出部、ビームのストッパ部、センサマニホールド部を位置制御部により、最適位置に調整する工程と、
前記処理チャンバー内で生成されたパーティクルを前記センサで計測する工程と、
からなることを特徴とするパーティクル計測方法。
【請求項３５】  前記処理チャンバーに設けられる排気口は、処理チャンバー壁の任意の箇所に設けられ、この排気口に繋がる排気管は、上下方向や横方向又は斜め方向のいずれかに配管され、それぞれの排気方向に対するパーティクル軌跡のシミュレーションを行うことを特徴とする請求項３３又は３４記載のパーティクル計測方法。
【請求項３６】  パーティクルを計測するパーティクル計測装置に備えられるマニホールドであって、
前記マニホールド内を通過する前記パーティクルにレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光を照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
が備えられることを特徴とするマニホールド。
【請求項３７】  さらに前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び、前記散乱光検出部の少なくとも１つを前記マニホールドの周方向へ移動させる機構を備えることを特徴とする請求項３６記載のマニホールド。
【請求項３８】  前記マニホールドは、金属部材で形成される請求項３６又は３７記載のマニホールド。
【請求項３９】  前記金属は、ステンレス、アルミニウム、アルミ合金、表面がアルマイト処理されたアルミニウム及び表面がアルマイト処理されたアルミニウム合金のいずれかから選択される請求項３８記載のマニホールド。
【請求項４０】  処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して処理を施す処理装置において、前記雰囲気中のパーティクルを計測するパーティクル計測装置を備える処理装置であって、
前記パーティクル計測装置は、
前記処理チャンバーの排気口と前記真空ポンプとを連結する排気管に取り付けられ、排気ガスに含まれるパーティクル数を計測することを特徴とする処理装置。
【請求項４１】  前記パーティクル計測装置は、
前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、を備えることを特徴とする請求項４０記載の処理装置。
【請求項４２】  前記レーザ光照射部は、前記排気管の横断面中心点と、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸とを結ぶ線分に沿うように前記排気管内にレーザ光を照射することを特徴とする請求項４１記載の処理装置。
【請求項４３】  前記散乱光検出部の中心は、前記排気管の断面中心点よりも、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸が位置する方向に対して反対方向へ所定の距離だけオフセットした点に向けられるように設定されていることを特徴とする請求項４１又は４２記載の処理装置。
【請求項４４】  前記レーザ光照射部は、前記排気管内を排気される排気ガスに含まれる前記パーティクルの密度が濃い部分にレーザ光を照射することを特徴とする請求項４１乃至４３のいずれかに記載の処理装置。
【請求項４５】  前記散乱光検出部は、前記パーティクルの密度が濃い部分に検出方向を指向することを特徴とする請求項４１乃至４４のいずれかに記載の処理装置。
【請求項４６】  前記散乱光検出部は、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の照射方向に対して略直交方向に設けられることを特徴とする請求項４１乃至４５のいずれかに記載の処理装置。
【請求項４７】  前記レーザ光照射部は、前記排気管の断面中心点よりも、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸が位置する方向に対して反対方向へ所定の距離だけオフセットした点を通過するようにレーザ光を照射することを特徴とする請求項４１乃至４６のいずれかに記載の処理装置。
【請求項４８】  前記オフセットされる所定の距離の最大値は、前記排気管の内径の０．７５倍であることを特徴とする請求項４３乃至４７のいずれかに記載の処理装置。
【請求項４９】  前記パーティクル計測装置の前記排気管への取り付け位置は、
前記処理チャンバー内で発生した光が到達しない、前記処理チャンバーに最短距離で、前記排気管内で排気ガスに含まれるパーティクルの密度に濃淡がある位置とすることを特徴とする請求項４０乃至４８のいずれかに記載の処理装置。
【請求項５０】  被処理体を処理する処理容器と、前記処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置と、前記処理容器と前記真空装置を接続する排気管と、前記排気管に配置し、前記真空雰囲気内のパーティクルを計測するパーティクル計測装置と、を備える処理装置であって、
前記パーティクル計測装置は、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内を通過する前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
を備え、
さらに、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び、前記散乱光検出部の少なくとも１つを前記マニホールドの周方向へ移動させる機構を含むことを特徴とする処理装置。
【請求項５１】  前記パーティクル計測装置は、さらに、
前記レーザ光照射部、前記ビームのストッパ部、前記散乱光検出部及び前記駆動部を制御する制御部を備える請求項５０記載の処理装置。
【請求項５２】  被処理体を処理する処理容器と、前記処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置と、前記処理容器と前記真空装置を接続する排気管と、前記排気管に配置され、前記真空雰囲気中のパーティクルを計測するパーティクル計測装置と、を備える処理装置であって、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内を通過する前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
を備え、
さらに、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部が、前記マニホールド内の周方向に沿って回動する回動手段を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項５３】  前記回動手段は、磁性流体真空シールを含む構成である請求項５２記載の処理装置。
【請求項５４】  前記回動手段を制御する制御部を備える請求項５２又は５３記載の処理装置。
【請求項５５】  処理容器内を排気して真空雰囲気を形成する真空装置と、前記真空雰囲気内に発生するパーティクルを計測するパーティクル計測装置とを備える処理装置であって、
前記パーティクル計測装置は、
マニホールドと、
前記マニホールドに設けられ、前記マニホールド内を通過する前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
前記マニホールド内で前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、
前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、
前記マニホールド内で、前記レーザ光照射部から照射されるレーザ光の放射方向を可変させる放射方向可変手段を含む駆動部と、
を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項５６】  前記処理装置を制御する主制御部を備え、前記主制御部にシミュレーション又はシミュレーションと実評価により基づいて前記マニホールド内のパーティクルの密度の高い領域に、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部を移動させる位置調整データが組み込まれ、
前記主制御部により、前記マニホールド内のパーティクルの密度の高い領域に、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部を制御することを特徴とする請求項５５記載の処理装置。
【請求項５７】  前記駆動部を制御する制御部を備える請求項５５又は５６記載の処理装置。
【請求項５８】  シミュレーション又はシミュレーションと実評価により基づいて、前記マニホールド内のパーティクルの密度の高い領域に、前記レーザ光照射部、前記ストッパ部及び前記散乱光検出部を移動させる位置調整データが組み込まれていることを特徴とする請求項５７記載の処理装置。
【請求項５９】  前記処理装置は、成膜装置、エッチング装置、スパッタリング装置、アニール装置、真空ロードロック室又は真空処理装置のいずれか１つであることを特徴とする請求項１乃至２６のいずれかに記載のパーティクル計測装置。
【請求項６０】  前記処理装置は、成膜装置、エッチング装置、スパッタリング装置、アニール装置、真空ロードロック室又は真空処理装置のいずれか１つであることを特徴とする請求項２７乃至３５のいずれかに記載のパーティクル計測方法。
【請求項６１】  前記処理装置は、成膜装置、エッチング装置、スパッタリング装置、アニール装置、真空ロードロック室又は真空処理装置のいずれか１つであることを特徴とする請求項４０乃至５８のいずれかに記載の処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に規定する発明は、処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して処理を施す処理装置に備えられるパーティクル計測装置であって、前記処理チャンバーの排気口と前記真空ポンプとを連結する排気管に取り付けられ、排気ガスに含まれるパーティクル数を計測することを特徴とするパーティクル計測装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項２に規定するように、例えば前記パーティクル計測装置は、前記パーティクルに向かってレーザ光を照射するレーザ光照射部と、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光を受光するように配置されるストッパ部と、前記レーザ光に照射されたパーティクルの散乱光を検出する散乱光検出部と、を備えるように構成される。これによれば、パーティクルの密度が高い部分にレーザ光を照射できるため、上記相関関係を一層高くすることが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項４に規定するように、例えば前記散乱光検出部の中心は、前記排気管の断面中心点よりも、前記処理チャンバーの中心を上下方向に通る中心軸が位置する方向に対して反対方向へ所定の距離だけオフセットした点に向けられるように設定されている。これによれば、パーティクルの密度の高い部分に散乱光検出部の中心を向けることができるので、上記相関関係を一層高くすることが可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項５に規定するように、前記レーザ光照射部は、前記排気管内を排気される排気ガスに含まれる前記パーティクルの密度が濃い部分にレーザ光を照射するように設定されている。これによれば、パーティクルの密度の高い部分にレーザ光を照射できるので、上記相関関係を一層高くすることが可能となる。
請求項９に規定するように、例えば前記オフセットされる所定の距離の最大値は、前記排気管の内径の０．７５倍とするのがよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項２７に規定する発明は、処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して、処理を施す処理装置に搭載されるパーティクル計測装置であって、前記処理装置に接続するセンサマニホールド部と、前記センサマニホールド部に取り付けられ、前記排気管の径方向に移動可能な駆動機構を有するレーザ光照射部と、前記レーザ光照射部と対向して前記センサマニホールド部に取り付けられ、前記レーザ光照射部と正対するように移動可能な駆動機構を有し、照射されたレーザ光を受光するビームのストッパ部と、前記センサマニホールド部に取り付けられ、２次元的に移動可能な駆動機構を有し、前記レーザ光がパーティクルにより散乱した光を検出する散乱光検出部と、を有し、さらにシミュレーションにより想定された又は、シミュレーションと評価により設定された前記センサマニホールド部におけるパーティクルの密度が高い領域をレーザ光が通り抜けるように前記レーザ光照射部と前記ビームのストッパ部の駆動機構を動作させ、該密度が高い領域からの散乱光を検出する位置に前記散乱光検出部を移動させる位置制御部と、前記レーザ光照射部、前記散乱光検出部を制御し、得られた測定結果を処理する制御処理部と、を具備することを特徴とするパーティクル計測装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項４０に規定する発明は、処理チャンバー内の大気若しくはガスを真空ポンプにより排気した雰囲気を生成し、その雰囲気内で被処理体に対して処理を施す処理装置において、前記雰囲気中のパーティクルを計測するパーティクル計測装置を備える処理装置であって、前記パーティクル計測装置は、前記処理チャンバーの排気口と前記真空ポンプとを連結する排気管に取り付けられ、排気ガスに含まれるパーティクル数を計測することを特徴とする処理装置である。