【手続補正書】
【提出日】平成20年8月6日(2008.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  過酸化水素によるオレフィンの直接酸化によるエポキシド類の一体化連続製造方法であって、以下の工程、
(a) 活性成分としてパラジウム及び白金をベースとする2金属系触媒の存在下に、水素、酸素及び不活性ガスを含有するガス流を使用して、3容量％よりも高い濃度の過酸化水素のアルコール又はヒドロ‐アルコール溶液を調製する工程、
(b) 工程(a)で得られた過酸化水素のアルコール又はヒドロ‐アルコール溶液を、反応溶媒中に懸濁させたエポキシ化触媒の存在下に、オレフィン及び緩衝剤と接触させて、そのオレフィンに相応するエポキシド、水及び前記アルコール溶媒を含有する反応混合物を得る工程、
(c) 工程(b)を出る前記アルコール流を、前記エポキシドを分離した後、処理して、存在する窒化化合物を除去する工程、
(d) 工程(c)で得られたアルコール溶媒を工程(a)に供給する工程、
含有することを特徴とする方法。
【請求項２】  工程(c)において、前記アルコール流の処理を、総アルコール流に対して約10〜50 mg/kgの硫酸濃度で硫酸を含有する水溶液又は希釈ヒドロ‐アルコール溶液と一緒にアルコール溶媒を蒸留することによって、或いは蒸留したアルコール溶媒を活性炭、スルホン樹脂又はスルホン化炭素で処理することによって実施する請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項３】  フラッシュカラム底部の原料ヒドロ‐アルコール混合物を、工程(a)から出る過酸化水素のアルコール又はヒドロ‐アルコール溶液を希釈するのに使用してエポキシ化プラントにおいて必要とする値とする工程(e)を更に含む請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項４】  過酸化水素のアルコール又はヒドロ‐アルコール溶液の連続製造のための工程(a)が、下記の工程を含む請求の範囲第１項記載の方法：
(a') 不均質で液体反応媒体中に分散して保持されたパラジウム及び白金をベースとする触媒を含有する反応器に、
(i) 酸促進剤及びハロゲン化促進剤を含有する、アルコール又は優勢量のアルコール分を含むアルコール‐水混合物からなる液体流と、
(ii) 水素濃度が4.5容量％未満であり、酸素濃度が21容量％未満であり、100への補充物が不活性ガスであることを特徴とする水素、酸素及び不活性ガスと、
を含有するガス流を供給する工程、
(b') 上記反応器から、
(iii) 流れ(i)から本質的になり、前記反応から生成した過酸化水素及び水をも含有し、過酸化水素濃度が3質量％よりも高いことを特徴とする液体流と、
(iv) 未反応水素と酸素、及び不活性ガスから本質的になるガス流と、
を取出す工程。
【請求項５】  工程(a')における前記触媒が、0.1〜3質量％範囲の量のパラジウム及び0.01〜1質量％範囲の量の白金を含有し、白金及びパラジウムの原子比が1/500〜100/100の範囲である請求の範囲第1項記載の方法。
【請求項６】  前記担体が、木材、亜炭、泥炭又はココナツ由来の化石又は天然起源の活性炭から選ばれ、300 m2/gよりも大きい表面積を有する活性炭である請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項７】  前記触媒を、0.1〜10質量％範囲の濃度で反応媒体中に分散させる請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項８】  液体流(i)が、アルコール、C1〜C4アルコールの混合物、又はアルコール含有量が50％よりも多い上記アルコール類と水との混合物からなる請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項９】  前記ハロゲン化促進剤が、前記液体反応媒体中でハロゲンイオンを発生させ得る物質である請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１０】  前記促進剤が、臭化水素酸である請求の範囲第９項記載の方法。
【請求項１１】  前記ハロゲン化促進剤の濃度が、溶液1 kg当り0.1〜50 mgの範囲である請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１２】  前記酸促進剤が、前記反応媒体中にH+水素イオンを発生させ得る物質から選ばれる請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１３】  前記酸促進剤が、硫酸又はリン酸である請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１４】  酸促進剤の濃度が、溶液1 kg当り0〜1000 mgの範囲である請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１５】  酸促進剤の濃度が、溶液１ kg当り10〜500 mgの範囲である請求の範囲第１４項記載の方法。
【請求項１６】  前記ガス流(ii)において、水素濃度が、２容量％〜4容量％の範囲であり、酸素濃度が、６質量％〜１８質量％の範囲であり、100への補充物が、窒素、ヘリウム及びアルゴンから選ばれた不活性ガスである請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１７】  前記反応器から出るガス流(iv)を、該反応器への供給流に、供給流と一緒に過剰に供給した不活性ガス量を除去するのに必要な画分を系からフラッシングし上記生成工程において消費した分のH2とO2を加えた後、リサイクルさせる請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１８】  前記反応器から出るガス流(iv)を、請求の範囲第４項記載の反応器と同様に稼動する１基以上のその後の反応器に、各単一反応器において生じた反応によって消費された量と本質的に等しい量の水素と酸素をその都度加えた後、供給する請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項１９】  エポキシド類の製造のための前記工程(b)が、下記工程を含む請求の範囲第１項記載の方法：
(1) 工程(a)から出る液体流(iii)を、オレフィン、過酸化水素及び緩衝剤と一緒に反応溶媒中に懸濁させたエポキシ化触媒を含有する1基以上の反応器からなる反応装置に供給する工程、
(2) 前記反応装置から出る濾過した液体生成物を、１基以上のストリッピング(フラッシュ)カラム (前記反応装置の各反応器に対して１基である)からなる蒸留装置に供給して、その頭部で、酸化オレフィンと未反応オレフィンとから本質的になる生成物を、その底部で、溶媒、未反応過酸化水素、水及び反応副生成物から本質的になる生成物を得る工程、
(3) 前記蒸留装置底部での生成物を、残留過酸化水素をO2とH2O2に分解する機能を有する支持された分解触媒を含有する直列に設置された1基以上の反応器からなる分解装置R4に供給する工程、
(4) 前記分解装置R4から出る本質的に溶媒、酸素及び水からなる混合物を、不活性ガスと一緒に、相分離器V4に供給して、その頭部で、酸素、不活性ガス及び痕跡量の溶媒を含有するガス相を、その底部で、溶媒、水及び反応副生成物からなる液相を得る工程、
(5) V4から出るガス相を、残留溶媒回収用の直列の１基以上のコンデンサーからなる凝縮装置に供給すること、一方で、非凝縮性化合物(痕跡量の溶媒を含む酸素と不活性ガス)は排出させる工程、
(6) 前記凝縮装置から出る溶媒とV4から出る液相を、蒸留カラムC6-Aに供給して、その頭部で、反応装置(a)にリサイクルさせる溶媒を、その底部で、反応水と過酸化水素と一緒に導入した水、反応副生成物及び痕跡量の溶媒から本質的になる生成物を得ること、後者の生成物は排出させる工程、
(7) 前記１基以上のストリッピングカラム頭部の生成物を、前記各反応の換気生成物と一緒に、蒸留カラムC4に供給して、その頭部で、前記反応装置へリサイクルさせる未反応オレフィンからなる生成物を、底部で、酸化オレフィンから本質的になる生成物を得る工程、
(8) 前記蒸留カラムC4底部の生成物を精製装置C5に供給して、前記反応装置にリサイクルさせる残留オレフィン、前記１基以上のフラッシュカラムにリサイクルさせる溶媒から本質的になる液相、及び商業的純度を有する酸化オレフィンを回収する工程。
【請求項２０】  液体流(iii)を、10：1〜1：10範囲のオレフィン/H2O2モル比を有するように工程(1)に供給する請求の範囲第１９項記載の方法。
【請求項２１】  前記緩衝剤が、アンモニア、酢酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、又は窒化塩基及びその有機酸又は無機酸との塩からなる系から選ばれる請求の範囲第48項記載の方法。
【請求項２２】  前記緩衝剤を、エポキシ化反応器に供給する反応物流の1つと一緒に、反応混合物のpHを、操作条件で測定したとき、５よりも高く維持するような量で連続して供給する請求の範囲第１９項記載の方法。
【請求項２３】  工程(b)のエポキシ化触媒が、MFI構造を有するチタニウム-シリカライト類、MEL又は中間MFI/MEL構造を有するチタニウム-シリカライト類、又はチタニウムを含有しBEA構造を有するベータゼオライト類から選ばれる請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項２４】  前記エポキシ化反応において使用する触媒量が、前記反応混合物に対して1〜15質量％の範囲である請求の範囲第１項記載の方法。