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【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製のマウント部と金属製の配電部と、を含む基板部と、
前記マウント部に配置され、かつ、前記配電部と電気的に接続された発光ダイオード素子と、
前記発光ダイオード素子を取り囲み、かつ、所定の高さを有し、かつ、前記基板上に形成されるケース部と、を有する発光ダイオードランプにおいて、
前記マウント部と前記配電部は、前記ケース部と同一のアイ量によって構成され、前記マウント部と前記配電部の間の板厚部分にある連結部によって接合していること、
を特徴とする発光ダイオードランプ。
【請求項２】
更に、前記ケース部上方にレンズを備えることを特徴とする発光ダイオードランプ。
【請求項３】
前記マウント部と前記配電部の間の板厚分は、梨地面とされていること、を特徴とする請求項１または請求項２に記載の発光ダイオードランプ。
【請求項４】
金属製のマウント部と金属製の配電部と、を含む基板部を準備する第一の工程と、樹脂成形により前記基板部上方にケース部を形成すると同時に前記マウント部と前記配電部を板厚部分で接続して一体化する第二の工程と、
発光ダイオード素子を前記マウント部にダイボンドする第三の工程と、前記発光ダイオード素子と前記配電部との間をワイヤーボンドする第四の工程と、
を含むことを特徴とする発光ダイオードランプの製造方法。
【請求項５】
更に、第四の工程の後に、前記ケース部上方にレンズを固定する第五の工程を含むこと、
を特徴とする施急行４に記載の発光ダイオードランプの製造方法。
【請求項６】
更に、前記第二の工程の前に、前記マウント部と前記配電部の板厚部分に梨地面を形成する第六の工程を含むこと、
を特徴とする請求項４または請求項５に記載の発光ダイオードランプの製造方法。
【請求項７】
前記第六の工程は、薬品による腐食処理によってされること、
を特徴とする請求項６に記載の発光ダイオードランプの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記した従来の課題を解決するための具体的手段として、金属製のマウント部と金属製の配電部と、を含む基板部と、前記マウント部に配置され、かつ、前記配電部と電気的に接続された発光ダイオード素子と、前記発光ダイオード素子を取り囲み、かつ、所定の高さを有し、かつ、前記基板上に形成されるケース部と、を有する発光ダイオードランプにおいて、前記マウント部と前記配電部は、前記ケース部と同一の材料によって構成され、前記マウント部と前記配電部の間の板厚部分にある連結部によって接合していることを特徴とする発光ダイオードランプを提供することで課題を解決するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月11日(2007.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の波長の光を出射する光源と、
上記光源から出射された出射光を光ディスク上に集光するとともに上記光ディスクからの戻り光を集光する対物レンズと、
上記光ディスクで反射された戻り光を光路分離する光路分離手段と、
上記光路分離手段で分離された戻り光を受光する受光素子とを備え、
上記光路分離手段と上記受光素子との間の戻り光の光路中に非対称曲面部が設けられる光ピックアップ。
【請求項２】
上記光源は、互いに異なる波長の出射光を出射し、上記互いに異なる波長の出射光の上記光ディスクからの戻り光が上記受光素子のほぼ同じ位置に入射することを特徴とする請求項１記載の光ピックアップ。
【請求項３】
光ディスクに対して情報を記録及び／又は再生する光ピックアップと、上記光ディスクを回転する駆動手段とを備える光ディスク装置において、
上記光ピックアップは、所定の波長の光を出射する光源と、
上記光源から出射された出射光を光ディスク上に集光するとともに上記光ディスクからの戻り光を集光する対物レンズと、
上記光ディスクで反射された戻り光を光路分離する光路分離手段と、
上記光路分離手段で分離された戻り光を受光する受光素子とを備え、
上記光路分離手段と上記受光素子との間の戻り光の光路中に非対称曲面部が設けられる光ディスク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光ピックアップ及び光ディスク装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、光磁気ディスク、相変化型の光ディスク等の光学的に情報の記録再生が行われる光ディスクに対して情報を記録及び／又は再生する光ピックアップ及びこれを用いた光ディスク装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の目的は、少ない面数でコマ収差補正及び非点隔差調整ができ、部品点数の削減、製造工程の低減及び光学系の小型化を可能とする光ピックアップ及びこれを用いた光ディスク装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この目的を達成するため、本発明に係る光ピックアップは、所定の波長の光を出射する光源と、光源から出射された出射光を光ディスク上に集光するとともに光ディスクからの戻り光を集光する対物レンズと、光ディスクで反射された戻り光を光路分離する光路分離手段と、光路分離手段で分離された戻り光を受光する受光素子とを備え、光路分離手段と受光素子との間の戻り光の光路中に非対称曲面部が設けられることを特徴とする。
また、本発明に係る光ディスク装置は、光ディスクに対して情報を記録及び／又は再生する光ピックアップと、上記光ディスクを回転する駆動手段とを備える光ディスク装置において、上記光ピックアップは、所定の波長の光を出射する光源と、上記光源から出射された出射光を光ディスク上に集光するとともに上記光ディスクからの戻り光を集光する対物レンズと、上記光ディスクで反射された戻り光を光路分離する光路分離手段と、上記光路分離手段で分離された戻り光を受光する受光素子とを備え、上記光路分離手段と上記受光素子との間の戻り光の光路中に非対称曲面部が設けられることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
以下、本発明に係る光ピックアップ及び光ディスク装置を適用した記録再生装置について、図面を参照して説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、マスクを介して、前記マスクで覆われた領域が第１の開口部となるように、第１の記録膜を成膜する第１のステップと、
前記マスクの大きさまたは前記マスクと基板との相対位置の少なくとも何れかを変化させる第２のステップと、
前記第２のステップの後、前記第１の記録膜が形成された前記基板上に、前記マスクを介して、前記マスクで覆われた領域が第２の開口部となるように、第２の記録膜を成膜する第３のステップとを有し、
前記第２の開口部は、前記第１の開口部と大きさまたは形状が異なることを特徴とする多層記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記マスクは略円盤状であり、前記第１のステップでは第１の平均直径を有し、前記第３のステップでは前記第１の平均直径とは異なる第２の平均直径を有することを特徴とする請求項１記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項３】
基板を設置するための台と、
前記基板上に成膜する材料からなるターゲットと、
前記ターゲットをスパッタリングして、前記基板上に成膜させる手段と、
前記台と前記ターゲットとの間に設けられたマスクとを有し、
前記マスクは、その大きさが可変であることを特徴とする媒体製造装置。
【請求項４】
前記マスクは複数の羽を有し、前記複数の羽の重なり具合によって、その大きさが変化することを特徴とする請求項３記載の媒体製造装置。
【請求項５】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第１の開口部になるように形成された第１の記録膜と、
前記第１の記録膜上に、前記第１の開口部上が第２の開口部となるように形成された第２の記録膜とを有し、
前記第１の開口部の形状と、前記第２の開口部の形状とが異なることを特徴とする多層記録媒体。
【請求項６】
前記第１、第２の開口部は、前記基板の中心部に向かって凸部を有し、
前記第１の開口部における凸部の位置と、前記第２の開口部における凸部の位置とが、ずれていることを特徴とする請求項５記載の多層記録媒体。
【請求項７】
前記第１、第２の開口部の凸部は、それぞれ複数あることを特徴とする請求項６記載の多層記録媒体。
【請求項８】
前記第１の開口部と前記第２の開口部は、凸部を除く平均直径がほぼ等しいことを特徴とする請求項６記載の多層記録媒体。
【請求項９】
更に、第２の記録膜上に、前記第２の開口部上が第３の開口部となるように形成された第３の記録膜を有し、前記第３の開口部の平均直径は前記第２の開口部の凸部を除く平均直径と異なることを特徴とする請求項６記載の多層記録媒体。
【請求項１０】
前記第１、２の記録膜は、電圧を印加することにより透過率または反射率が変化する記録膜であり、更に、前記第１、第２の記録膜の間には、前記第１、第２の記録膜に電圧を印加する電極膜が設けられていることを特徴とする請求項５記載の多層記録媒体。
【請求項１１】
前記第１、第２の開口部内に、前記電極膜が露出していることを特徴とする請求項５記載の多層記録媒体。
【請求項１２】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第１の開口部になるように形成された第１の記録膜と、
前記第１の記録膜上に、前記第１の開口部上が第２の開口部となるように形成された第２の記録膜と、
前記第２の記録膜上に、前記第２の開口部上が第３の開口部となるように形成された第３の記録膜とを有し、
前記第１の開口部の平均直径と前記第２の開口部の平均直径との差は、前記第２の開口部の平均直径と前記第３の開口部の平均直径との差よりも大きいことを特徴とする多層記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月19日(2007.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
図６（b）に示すo-aの区間は、光ディスクに記録された第１トラックのオーディオデータの通常再生を開始してから再生される再生音を示す。o-aの区間において、従来の光ディスク再生装置により光ディスクから読み取った第１トラックのオーディオデータがメモリに記憶され、メモリから読み出されたオーディオデータが通常再生される。a-bの区間は、DJがジョグダイヤルを反時計回り方向に回転させるときに再生される再生音を示す。a-bの区間において、従来の光ディスク再生装置は、ジョグダイヤルが反時計回りに回転されると、o-a区間で再生されたオーディオデータをメモリから降順アドレスで読み出し、読み出したオーディオデータを再生する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月23日(2007.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有する光学素子の製造方法であって、基板の上面に光を吸収する材料を配合した樹脂からなる遮光レジストを塗布し、フォトマスクを介して遮光レジストを感光させ現像することにより前記開口部に塗布した遮光レジストを除去し、遮光部に相当する領域を遮光レジストにて覆ったことを特徴とする遮光部を有する光学素子の製造方法。
【請求項２】
遮光レジストを塗布する前に光学素子の上面に第１の反射防止膜を成膜し、遮光レジストを感光現像した後に光学素子の上面に第２の反射防止膜を成膜し、遮光レジストを２つの反射防止膜の間に挟み込んだことを特徴とする請求項１に記載の遮光部を有する光学素子の製造方法。
【請求項３】
開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記開口部には格子状の回折格子を備えたグレーティング素子の製造方法であって、
透明基板上面の前記開口部に相当する領域に格子状の回折格子を形成する回折格子形成工程と、回折格子を含む透明基板上面に第１の反射防止膜を形成する第１の反射防止膜形成工程と、第１の反射防止膜の上面に光を吸収する材料を配合した樹脂からなる遮光レジストを塗布する遮光レジスト塗布工程と、遮光レジストを露光現像して前記開口部に塗布された遮光レジストを除去する露光現像工程と、少なくとも遮光レジスト上面に第２の反射防止膜を形成する第２の反射防止膜形成工程とを備えたことを特徴とする遮光部を有するグレーティング素子の製造方法。
【請求項４】
開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記開口部には格子状の回折格子を備えたグレーティング素子であって、
透明基板上面の前記開口部に相当する位置に形成された格子状の回折格子と、回折格子を含む透明基板上面を覆う第１の反射防止膜と、第１の反射防止膜の上面であって前記遮光部に相当する位置に形成された光を吸収する材料を配合した樹脂からなる遮光レジスト層と、少なくとも遮光部を覆う第２の反射防止膜とを備えていることを特徴とするグレーティング素子。
【請求項５】
前記透明基板下面に第３の反射防止膜を備えていることを特徴とする請求項４に記載のグレーティング素子。
【請求項６】
基板の上面に開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記遮光部は光を吸収する材料を含む樹脂からなることを特徴とする光学素子。
【請求項７】
請求項６に記載の光学素子において、前記遮光部の上面に反射防止膜を形成していることを特徴とする光学素子。
【請求項８】
基板の上面に開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記遮光部は第１の反射防止膜と光を吸収する材料を含む樹脂とを順次積層して形成していることを特徴とする光学素子。
【請求項９】
請求項８に記載の光学素子において、前記遮光部の上面に第２の反射防止膜を形成していることを特徴とする光学素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項４のグレーティング素子においては、開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記開口部には格子状の回折格子を備えたグレーティング素子であって、透明基板上面の前記開口部に相当する位置に形成された格子状の回折格子と、回折格子を含む透明基板上面を覆う第１の反射防止膜と、第１の反射防止膜の上面であって前記遮光部に相当する位置に形成された光を吸収する材料を配合した樹脂からなる遮光レジスト層と、少なくとも遮光部を覆う第２の反射防止膜とを備えていることを特徴とする。
また、請求項５においては、請求項４のグレーティング素子であって、前記透明基板下面に第３の反射防止膜を備えていることを特徴とする。
請求項６の光学素子は、基板の上面に開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記遮光部は光を吸収する材料を含む樹脂からなることを特徴とする。
請求項７の光学素子は、請求項６に記載の光学素子において、前記遮光部の上面に反射防止膜を形成していることを特徴とする。
請求項８の光学素子は、基板の上面に開口部と該開口部を除く領域に形成した遮光部とを有し、前記遮光部は第１の反射防止膜と光を吸収する材料を含む樹脂とを順次積層して形成していることを特徴とする。
請求項９の光学素子は、請求項８に記載の光学素子において、前記遮光部の上面に第２の反射防止膜を形成していることを特徴とする光学素子。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極円筒と、当該陽極円筒の中央に配置されたカソードと、当該陽極円筒から当該カソード方向に放射状に設けられ、当該陽極円筒とともに複数の陽極空洞を構成する偶数個の陽極ベインと、から構成されるマグネトロンのスプリアス抑制方法において、
前記複数の陽極空洞のうちπモード及びπ−１モードのいずれかの位相が同じ及び逆の関係となる二つの陽極空洞から二つの出力を取り出し、
前記二つの出力がπモードでは同位相となり、且つ、π−１モードでは逆位相となるようにして、前記二つの出力を合成することを特徴とするマグネトロンのスプリアス抑制方法。
【請求項２】
前記二つの陽極空洞からの前記二つの出力は、前記複数の陽極空洞のうちの一つである第一出力用陽極空洞からの第一出力と、前記第一出力用陽極空洞と対称位置にある第二出力用陽極空洞からの第二出力であり、
前記二つの出力の合成は、前記第一出力と、位相を反転させた前記第二出力と、を合成することを特徴とする請求項１に記載のマグネトロンのスプリアス抑制方法。
【請求項３】
前記二つの陽極空洞からの前記二つの出力は、前記複数の陽極空洞のうちの一つである第一出力用陽極空洞からの第一出力と、前記第一出力用陽極空洞と対称位置にある陽極空洞に隣接する陽極空洞のいずれか一方の第二出力用陽極空洞からの第二出力であり、
前記二つの出力の合成は、前記第一出力と、前記第二出力と、を合成することを特徴とする請求項１に記載のマグネトロンのスプリアス抑制方法。
【請求項４】
陽極円筒と、当該陽極円筒の中央に配置されたカソードと、当該陽極円筒から当該カソード方向に放射状に設けられ、当該陽極円筒とともに複数の陽極空洞を構成する偶数個の陽極ベインと、から構成されるマグネトロンのスプリアス抑制装置において、
前記複数の陽極空洞のうちπモード及びπ−１モードのいずれかの位相が同じ及び逆の関係となる二つの陽極空洞から二つの出力を取り出す手段と、
前記二つの出力がπモードでは同位相となり、且つ、π−１モードでは逆位相となるようにして、前記二つの出力を合成する手段と、
を有することを特徴とするマグネトロンのスプリアス抑制装置。
【請求項５】
前記二つの陽極空洞からの前記二つの出力は、前記複数の陽極空洞のうちの一つである第一出力用陽極空洞からの第一出力と、前記第一出力用陽極空洞と対称位置にある第二出力用陽極空洞からの第二出力であり、
前記二つの出力の合成は、前記第一出力と、位相を反転させた前記第二出力と、を合成することを特徴とする請求項４に記載のマグネトロンのスプリアス抑制装置。
【請求項６】
前記二つの陽極空洞からの前記二つの出力は、前記複数の陽極空洞のうちの一つである第一出力用陽極空洞からの第一出力と、前記第一出力用陽極空洞と対称位置にある陽極空洞に隣接する陽極空洞のいずれか一方の第二出力用陽極空洞からの第二出力であり、
前記二つの出力の合成は、前記第一出力と、前記第二出力と、を合成することを特徴とする請求項４に記載のマグネトロンのスプリアス抑制装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係るマグネトロンのスプリアス抑制方法は、陽極円筒と、当該陽極円筒の中央に配置されたカソードと、当該陽極円筒から当該カソード方向に放射状に設けられ、当該陽極円筒とともに複数の陽極空洞を構成する偶数個の陽極ベインと、から構成されるマグネトロンのスプリアス抑制方法において、前記複数の陽極空洞のうちπモード及びπ−１モードのいずれかの位相が同じ及び逆の関係となる二つの陽極空洞から二つの出力を取り出し、前記二つの出力がπモードでは同位相となり、且つ、π−１モードでは逆位相となるようにして、前記二つの出力を合成することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明に係るマグネトロンのスプリアス抑制装置は、陽極円筒と、当該陽極円筒の中央に配置されたカソードと、当該陽極円筒から当該カソード方向に放射状に設けられ、当該陽極円筒とともに複数の陽極空洞を構成する偶数個の陽極ベインと、から構成されるマグネトロンのスプリアス抑制装置において、前記複数の陽極空洞のうちπモード及びπ−１モードのいずれかの位相が同じ及び逆の関係となる二つの陽極空洞から二つの出力を取り出す手段と、前記二つの出力が πモードでは同位相となり、且つ、π−１モードでは逆位相となるようにして、前記二つの出力を合成する手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記二つの陽極空洞からの前記二つの出力は、前記複数の陽極空洞のうちの一つである第一出力用陽極空洞からの第一出力と、前記第一出力用陽極空洞と対称位置にある第二出力用陽極空洞からの第二出力であり、前記二つの出力の合成は、前記第一出力と、位相を反転させた前記第二出力と、を合成してよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記二つの陽極空洞からの前記二つの出力は、前記複数の陽極空洞のうちの一つである第一出力用陽極空洞からの第一出力と、前記第一出力用陽極空洞と対称位置にある陽極空洞に隣接する陽極空洞のいずれか一方の第二出力用陽極空洞からの第二出力であり、前記二つの出力の合成は、前記第一出力と、前記第二出力と、を合成してよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ここで、第一の実施の形態に係るスプリアス抑制方法及びスプリアス抑制装置を適用するマグネトロンにおける共振モードについて、図３及び図４に基づいて説明する。図３は、πモードでのマグネトロン内部の高周波電界を示す図である。図４は、π−１モードでのマグネトロン内部の高周波電界を示す図である。尚、図３及び図４では、図１に示すマグネトロン１の構造を一部省略し簡略化して記載している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
ここで、第二の実施の形態に係るスプリアス抑制方法及びスプリアス抑制装置を適用するマグネトロンにおける共振モードについて、図７及び図８に基づいて説明する。図７は、πモードでのマグネトロン内部の高周波電界を示す図である。図８は、π−１モードでのマグネトロン内部の高周波電界を示す図である。尚、図７及び図８では、図５に示すマグネトロン１の構造を一部省略し簡略化して記載している。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料をイオン化してイオンを生成するイオン源と、前記イオンを輸送するイオン輸送部と、軸方向に形成されたポテンシャルによって、輸送された前記イオンを蓄積するリニアトラップ部と、前記リニアトラップ部に第１の質量数範囲の前記イオンを蓄積するタイミングと略同じタイミングで、前記第１の質量数範囲と異なる第２の質量数範囲の前記イオンを前記リニアトラップ部から排出する制御部とを有し、かつ、前記制御部は、（１）前記リニアトラップ部を構成する少なくとも１対のリニアトラップ電極間に補助的交流電圧を印加すること、（２）前記リニアトラップ部を構成する出口端電極に補助的交流電圧を印加すること、（３）前記リニアトラップ部を構成する羽電極を有し、前記羽電極の間に補助的交流電圧を印加すること、の何れかの電圧印加によって、前記リニアトラップ部から前記イオンを質量選択的に排出する制御を行なうことを特徴とする質量分析装置。
【請求項２】
請求項１に記載の質量分析装置において、前記イオン輸送部は、前記第１の質量数範囲の前記イオンを選択する質量選択手段を有することを特徴とする質量分析装置。
【請求項３】
請求項２に記載の質量分析装置において、前記リニアトラップ部は、前記第１の質量数範囲の前記イオンを前記第２の質量数範囲で質量選択的に排出することを特徴とする質量分析装置。
【請求項４】
請求項２に記載の質量分析装置において、前記リニアトラップ部は、前記第１のイオン質量数範囲の変化に応じて、前記第２の質量数範囲を変化させることを特徴とする質量分析装置。
【請求項５】
請求項２に記載の質量分析装置において、前記質量選択手段により前記イオン輸送部を透過する前記第１の質量数範囲の透過質量幅が、前記リニアトラップ部に導入される前記イオンの予め計測されたマススペクトルにより設定されることを特徴とする質量分析装置。
【請求項６】
請求項２に記載の質量分析装置において、前記質量選択手段が、四重極マスフィルターであることを特徴とする質量分析装置。
【請求項７】
請求項２記載の質量分析装置において、前記質量選択手段が、リニアトラップから構成され、前記イオン輸送部から質量選択的に前記イオンを排出することを特徴とする質量分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中蓋と上蓋とを備えたモノブロック電槽に、複数の、個別に制御弁を有するセルが左列および右列の２列に配列されてＵ字形に電気的に直列に接続されて収納され、前記左列の各セルからの排気が左室に集められ、前記右列の各セルからの排気が右室に集められるように、前記中蓋と上蓋との間に左室と右室を形成し、前記左室および右室を各室からのガス導入路によって左室と右室の境界付近に形成されたガス排出路に連通するようにし、各ガス導入路からフィルターを通して各セルからの排気が一括排気される構造としたことを特徴とする、制御弁式鉛蓄電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記制御弁式鉛蓄電池は、左室、右室およびガス排出路は、中蓋と上蓋との熱接着によって形成されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記制御弁式鉛蓄電池は、左列のセルおよび右列のセルの、それぞれの一端側に正、負極端子が設けられるとともに、前記各列の、それぞれの他端側にガス導入路が設けられ、各ガス導入路からフィルターを通して各セルからの排気が一括排気される構造としたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記制御弁式鉛蓄電池は、左列及び右列のセルは、少なくとも１２個以上のセルが直列に接続されてなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、左室、右室およびガス排出路を中蓋と上蓋との熱接着によって形成することにより、前記効果に加えて、機械的強度のすぐれた高電圧のモノブロック形の制御弁式鉛蓄電池を得ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、左列のセルおよび右列のセルの、それぞれの一端側に正、負極端子が設けられるとともに、前記各列の、それぞれの他端側にガス導入路が設けられ、各ガス導入路からフィルターを通して各セルからの排気が一括排気される構造としたことにより、前記効果に加えて、電池の端子部を清浄に保つことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記制御弁式鉛蓄電池は、左列及び右列のセルを、少なくとも１２個以上のセルが直列に接続することにより、前記各効果を有効に発揮できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月31日(2007.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極バンプが形成された基板を用意する工程と、
前記電極バンプを平板で押圧し、前記電極バンプの表面を半球面化する工程とを備えたことを特徴とする電極バンプが形成された基板の製造方法。
【請求項２】
前記電極バンプは塑性変形能を有する材料であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記塑性変形能を有する材料が、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｓｎ又はこれらの合金の何れかであることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
前記電極バンプを平板で押圧する工程において、前記バンプ表面を平滑化することを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項５】
前記電極バンプを平板で押圧する工程の後に、前記電極バンプが形成された基板を熱処理することを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項６】
前記電極バンプは変形過程において、前記電極バンプの側面から転移線が抜け出る形状であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項７】
電極バンプが形成された基板とパッドが形成された基板を用意する工程と、
前記電極バンプが形成された基板と前記パッドが形成された基板を相対向し、前記両基板を押圧することにより、前記電極バンプと前記パッドとを接合する工程とを備え、
前記電極バンプと前記パッドとの接合の前に、前記電極バンプを平板で押圧し、前記電極バンプの表面を半球面化する工程を備えることを特徴とする接合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月31日(2007.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に形成された溝にバンプとなる塑性変形する材料が充填された第１の基板と、表面に密着層を介して塑性変形する材料を含むパッドが設けられた第２の基板と、を用意する工程と、
前記第１の基板の前記表面と前記第２の基板の前記表面とを対向させ重なり合わせ、前記第１及び第２の基板に荷重を印加することによって、前記バンプとなる塑性変形する材料と前記パットとを接合する工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板を引き剥がすことによって、前記第２の基板に前記バンプとなる塑性変形する材料を転写する工程と、を備えるバンプを有する基板の製造方法。
【請求項２】
前記塑性変形する材料が、少なくともＡｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｓｎの何れかである請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記第１の基板及び前記第２の基板がＳｉから構成され、前記密着層が、Ｃｒ又はＴｉから構成されていることを特徴とする請求項１記載のバンプを有する基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月20日(2007.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの点光源と、
面照明導光部材と、
光学的コアとして機能する複数の光学的チャンネル導光素子を有し、前記光学的チャンネル導光素子を配列して光チャンネル整列体を構成するチャンネル導光部材と、
少なくとも一つの受光部分を有し、前記受光部分で受光した前記点光源からの点状光線を非点状光線に変換する光線変換用導光部材（又は延長導光部材）を備え、
前記チャンネル導光部材を、前記面照明導光部材と前記光線変換用導光部材（又は延長導光部材）との間に配置したことを特徴とする点光源を用いた面光源。
【請求項２】
少なくとも一つの点光源と、
面状の光出射表面と線状又は非線状の光入射部とを有する面照明導光部材と、
光学的コアとして機能する複数の光学的チャンネル導光素子を有し、前記光学的チャンネル導光素子を線状又は非線状に配列して光チャンネル整列体を構成するチャンネル導光部材と、
少なくとも一つの受光部分を有し、前記受光部分で受光した前記点光源からの点状光線を線状光線又は非線状光線に変換し、線状または非線状に延長された光線変換用導光部材（又は延長導光部材）を備え、
前記チャンネル導光部材を、前記面照明導光部材と前記光線変換用導光部材（又は前記延長導光部材）との間に配置したことを特徴とする点光源を用いた面光源。
【請求項３】
少なくとも一つの点光源と、
面照明導光部材と、
光学的コアとして機能する複数の光学的チャンネル素子と前記光学的チャンネル素子の屈折率よりも低い屈折率を有し光学的クラッドとして機能する複数のクラッド手段  とを有し、前記光学的チャンネル素子と前記クラッド手段とを交互に配列して一群の線状または非線状の光チャンネル整列体を構成するチャンネル導光部材と、
少なくとも一つの受光部分を有し、前記受光部分で受光した前記点光源からの点状光線を非点状光線に変換する光線変換用導光部材（又は前記延長導光部材）を備え、
前記チャンネル導光部材を、前記面照明導光部材と前記光線変換用導光部材（又は前記延長導光部材）との間に配置したことを特徴とする点光源を用いた面光源。
【請求項４】
隣り合う前記光学的チャンネル素子間のピッチまたは前記光学的チャンネル素子の幅は延長された前記光チャンネル整列体に沿って変化し、
前記ピッチは前記受光部分からの距離に従って減少し、または
前記幅は前記受光部分からの距離に従って増加している、請求項１または請求項２に記載の、点光源を用いた面光源。
【請求項５】
前記光線変換用導光部材（又は前記延長導光部材）と前記チャンネル導光部材が、ほぼ「Ｉ」字型、ほぼ「Ｌ」字型、ほぼ「Ｕ」字型、ほぼ「Ｏ」字型、額縁状、枠状およびリング状の形状からなる群から選択された形状構造を有する、請求項１または請求項２に記載の、点光源を用いた面光源。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
このように、実施の形態４によれば、横列選択信号によって選択されたとき、ワードラインＷＬを接地電位のレベルから電圧ＶＢＢのレベルに遷移させる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月8日(2007.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データの取出し要求の集合が与えられた際に，いずれかの取出し要求の解となるデータ全てを，それがどの取出し要求に対する解集合には含まれどの取出し要求に対する解集合には含まれないかに基づいて分類したものを生成するように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項２】
与えられた取出し要求を用いて該要求に対する各解集合を取り出した後に，前記各分類を生成するように計算機を動作させることを特徴とする，請求項１に記載のデータ管理プログラム．
【請求項３】
与えられた取出し要求をもとに合成した取出し要求を用いて，前記各分類を取り出すように計算機を動作させることを特徴とする，請求項１に記載のデータ管理プログラム．
【請求項４】
請求項１に記載のデータ管理プログラムが生成した前記各分類から，前記与えられた取出し要求の解集合を合成するように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項５】
木構造データ中の様々な深さの階層にある部分木の集合の取出し要求が与えられて，該要求が取り出す部分木の一つが，該要求が取り出す別の部分木の中にその一部をなす部分木としても重複して出現する場合には，これらの重複する部分木のいずれか一方を該要求に対する解集合から取り除くように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項６】
木構造データ中の様々な深さの階層にある部分木の集合の取出し要求が，複数個与えられて，該複数要求中のある要求が取り出す部分木の一つが，該複数要求中の別の要求が取り出すある部分木の中にその一部をなす部分木としても重複して出現する場合には，これらの重複する部分木のいずれか一方を対応する要求に対する解集合から取り除くように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項７】
与えられた取出し要求を用いて該要求に対する解集合となる各部分木集合を取り出した後に，前記重複して出現する部分木のいずれか一方を取り除くように計算機を動作させることを特徴とする，請求項５または６に記載のデータ管理プログラム．
【請求項８】
与えられた取出し要求をもとに合成した取出し要求を用いて，前記重複して出現する部分木のいずれか一方が取り除かれた部分木集合を取り出すように計算機を動作させることを特徴とする，請求項５または６に記載のデータ管理プログラム．
【請求項９】
請求項５または６に記載のデータ管理プログラムによって前記重複を取り除かれた前記部分木集合から，前記与えられた取出し要求の解となる部分木集合を合成するように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項１０】
木構造データ中の様々な深さの階層にある部分木の集合の取出し要求がパス式の形で一つ与えられた際に，該パス式の解となる部分木のうち，該パス式の他の解の一部をなす部分木とならない物の全てを，それが該パス式のどの接頭辞にはマッチし該パス式のどの接頭辞にはマッチしないかに基づいて分類したものを生成するように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項１１】
木構造データ中の様々な深さの階層にある部分木の集合の取出し要求がパス式の形で複数個与えられた際に，いずれかのパス式の解となる部分木のうち，いずれかのパス式の他の解の一部をなす部分木とならない物の全てを，それがどのパス式の解集合には含まれどのパス式の解集合には含まれないか，および，それがどのパス式のどの接頭辞にはマッチしどのパス式のどの接頭辞にはマッチしないかの，以上の二点に基づいて分類したものを生成するように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【請求項１２】
与えられたパス式を用いて該パス式の解集合を取り出した後に，前記各分類を生成するように計算機を動作させることを特徴とする，請求項１０または１１に記載のデータ管理プログラム．
【請求項１３】
与えられたパス式をもとに合成したパス式を用いて，前記各分類を取り出すように計算機を動作させることを特徴とする，請求項１０または１１に記載のデータ管理プログラム．
【請求項１４】
請求項１０または１１に記載のデータ管理プログラムによって生成された，前記各分類から，前記与えられた取出し要求の解集合を合成するように計算機を動作させることを特徴とするデータ管理プログラム．
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月13日(2007.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像出力装置の色信号を変換する色変換方法であって、
前記画像出力装置の色信号を均等色空間の色信号へ変換する第１の変換工程と、
前記均等色空間の色信号をカラーマッピング色空間の色信号へ変換する第２の変換工程とを有し、
前記第２の変換工程は、前記均等色空間で予め定められた低彩度領域内の色信号と、前記低彩度領域外の色信号とにおいて、異なる方法で前記カラーマッピング色空間の色信号への変換を行うことを特徴とする色変換方法。
【請求項２】
前記低彩度領域は、前記画像出力装置のグレイライン上において前記第１の変換工程による変換後の色信号と同じ明度を有する色信号と、前記均等色空間で無彩色を示す色信号を含む領域として規定されることを特徴とする請求項１記載の色変換方法。
【請求項３】
前記第２の変換工程は、前記第１の変換工程による変換後の色信号が前記低彩度領域外に存在する場合には、前記第２の変換工程による変換後の色信号として前記第１の変換工程による変換後の色信号を出力し、前記第１の変換工程による変換後の色信号が前記低彩度領域内に存在する場合には、前記第１の変換工程による変換後の色信号ならびに前記同じ明度を有する色信号を通る直線と前記低彩度領域との交点を定義し、前記第１の変換工程による変換後の色信号を前記均等色空間で無彩色を示す色信号と、前記交点との間の色信号に変換することを特徴とする請求項２記載の色変換方法。
【請求項４】
画像出力装置の色信号を変換するためのプロファイルデータを作成するプロファイル作成装置であって、
前記画像出力装置の離散的な色信号を均等色空間の色信号へ変換する第１の変換手段と、
前記均等色空間の色信号をカラーマッピング色空間の色信号へ変換する第２の変換手段と、
前記離散的な色信号と前記カラーマッピング色空間の色信号との対応情報からプロファイルを作成するプロファイル作成手段と、を有し、
前記第２の変換手段は、前記第１の変換手段による変換後の色信号が前記均等色空間で予め定められた低彩度領域内に存在する場合と、前記低彩度領域外に存在する場合とで、異なる方法で前記カラーマッピング色空間の色信号への変換を行うことを特徴とするプロファイル作成装置。
【請求項５】
前記低彩度領域は、前記画像出力装置のグレイライン上において前記第１の変換手段による変換後の色信号と同じ明度を有する色信号と、前記均等色空間で無彩色を示す色信号を含む領域として規定されることを特徴とする請求項４記載のプロファイル作成装置。
【請求項６】
前記第２の変換手段は、前記第１の変換手段による変換後の色信号が前記低彩度領域外に存在する場合には、前記第２の変換手段による変換後の色信号として前記第１の変換手段による変換後の色信号を出力し、前記第１の変換手段による変換後の色信号が前記低彩度領域内に存在する場合には、前記第１の変換手段による変換後の色信号ならびに前記同じ明度を有する色信号を通る直線と前記低彩度領域との交点を定義し、前記第１の変換手段による変換後の色信号を前記均等色空間で無彩色を示す色信号と、前記交点との間の色信号に変換することを特徴とする請求項５記載のプロファイル作成装置。
【請求項７】
前記低彩度領域の大きさを制御するパラメータをユーザに設定させるためのユーザインタフェースを提示するＵＩ提示手段と、
前記ユーザインタフェースを介して設定された前記パラメータに基づいて前記低彩度領域を決定する領域決定手段を更に有することを特徴とする請求項４乃至請求項６の何れか１項に記載のプロファイル作成装置。
【請求項８】
画像出力装置の色信号を変換するためのプロファイルデータを作成するプロファイル作成方法であって、
前記画像出力装置の離散的な色信号を均等色空間の色信号へ変換する第１の変換工程と、
前記均等色空間の色信号をカラーマッピング色空間の色信号へ変換する第２の変換工程と、
前記離散的な色信号と前記カラーマッピング色空間の色信号との対応情報からプロファイルを作成するプロファイル作成工程と、を有し、
前記第２の変換工程は、前記第１の変換工程による変換後の色信号が前記均等色空間で予め定められた低彩度領域内に存在する場合と、前記低彩度領域外に存在する場合とで、異なる方法で前記カラーマッピング色空間の色信号への変換を行うことを特徴とするプロファイル作成方法。
【請求項９】
コンピュータに請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の色変換方法の各工程又は請求項８に記載のプロファイル作成方法の各工程を実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述の目的を達成するため、本発明の色変換方法は、画像出力装置の色信号を変換する色変換方法であって、前記画像出力装置の色信号を均等色空間の色信号へ変換する第１の変換工程と、均等色空間の色信号をカラーマッピング色空間の色信号へ変換する第２の変換工程とを有し、第２の変換工程は、均等色空間で予め定められた低彩度領域内の色信号と、低彩度領域外の色信号とにおいて、異なる方法でカラーマッピング色空間の色信号への変換を行うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上述の目的は、画像出力装置の色信号を変換するためのプロファイルデータを作成するプロファイル作成装置であって、前記画像出力装置の離散的な色信号を均等色空間の色信号へ変換する第１の変換手段と、均等色空間の色信号をカラーマッピング色空間の色信号へ変換する第２の変換手段と、離散的な色信号とカラーマッピング色空間の色信号との対応情報からプロファイルを作成するプロファイル作成手段と、を有し、第２の変換手段は、第１の変換手段による変換後の色信号が均等色空間で予め定められた低彩度領域内に存在する場合と、低彩度領域外に存在する場合とで、異なる方法でカラーマッピング色空間の色信号への変換を行うことを特徴とする本発明のプロファイル作成装置によっても達成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、上述の目的は、画像出力装置の色信号を変換するためのプロファイルデータを作成するプロファイル作成方法であって、前記画像出力装置の離散的な色信号を均等色空間の色信号へ変換する第１の変換工程と、均等色空間の色信号をカラーマッピング色空間の色信号へ変換する第２の変換工程と、離散的な色信号とカラーマッピング色空間の色信号との対応情報からプロファイルを作成するプロファイル作成工程と、を有し、第２の変換工程は、第１の変換工程による変換後の色信号が均等色空間で予め定められた低彩度領域内に存在する場合と、低彩度領域外に存在する場合とで、異なる方法でカラーマッピング色空間の色信号への変換を行うことを特徴とする本発明のプロファイル作成方法によっても達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月2日(2007.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バス・トランザクション・バッファであって、
それぞれの書込みバス及び読取りバスに結合され、１つまたは２つ以上の要求送信元から書込み要求及び読取り要求を受信するようそれぞれ動作可能の１つまたは２つ以上の書込みバス入力及び１つまたは２つ以上の読取りバス入力と、
それぞれの書込みバス及び読取りバスに結合され、１つまたは２つ以上の要求送信先に書込み要求及び読取り要求を出力するようそれぞれ動作可能の１つまたは２つ以上の書込みバス出力及び１つまたは２つ以上の読取りバス出力と、
前記要求送信元から受信された書込み要求をバッファリングするよう、かつ前記１つまたは２つ以上の要求送信先に対する書込み要求及び読取り要求の処理を制御するよう動作可能の要求バッファリング回路と、
を備え、少なくとも幾つかの読取り要求は、
与えられたメモリ・アドレスに対する書込み要求が、与えられた要求送信元識別子を有する要求送信元から受信された後に、該与えられた要求送信元識別子を有する要求送信元から受信される、与えられたメモリ・アドレスに対する読取り要求であって、前記書込み要求が書込みバス出力において完了されたとして承認されるまで、読取りバス出力上に出力されない前記読取り要求を含み、
前記要求バッファリング回路は、書込み要求に対する対応の要求完了信号が、前記書込み要求に対する前記書込みバス出力において受信されてしまう前に、要求送信元から受信された書込み要求ついて要求送信元に要求完了信号を出力するよう動作可能であるバス・トランザクション・バッファ。
【請求項２】
前記要求バッファリング回路は、前記要求完了信号が前記書込みバス出力において受信されてしまうまで、与えられたメモリ・アドレスに対する先に受信された書込み要求と相対的に該与えられたメモリ・アドレスに対する読取り要求の処理を制御する請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項３】
要求送信元からの書込み要求または読取り要求の受信時に、前記要求バッファリング回路は、前記要求送信元に要求承認信号を発行するよう動作可能である請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項４】
前記１つまたは２つ以上の要求送信元は、
プロセッサ・コア
ダイレクト・メモリ・アクセス回路、及び
さらなるバス・トランザクション・バッファ
の１つまたは２つ以上を含む請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項５】
前記１つまたは２つ以上の要求送信先は、
メモリ、
メモリ・マッピングされた周辺機器回路、及び
さらなるバス・トランザクション・バッファ
の１つまたは２つ以上を含む請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項６】
前記要求バッファリング回路は、前記１つまたは２つ以上の要求送信元が前記与えられたメモリ・アドレスとは無関係に発行した前記書込み要求及び前記読取り要求を、前記与えられたメモリ・アドレスに対して順序付けするのを制御するよう動作可能である請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項７】
バッファリング可能でないメモリ・アドレスに対するバッファリング可能でない書込み要求もまた、前記複数の要求送信元から受信され、そしてバッファリング可能でないメモリ・アドレスに対するバッファリング可能でない書込み要求に応答して、前記要求バッファリング回路は、書込みバス出力において書込み完了信号を受信してしまうまで、書込み完了信号を発行しない請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項８】
前記要求バッファリング回路は、互いの所定の範囲で、メモリ・アドレスに対する書込み要求及び読取り要求の相対的な順序付けを制御するよう動作可能である請求項１に記載のバス・トランザクション・バッファ。
【請求項９】
バス・トランザクションを制御する方法であって、
それぞれの書込みバス及び読取りバスに結合された１つまたは２つ以上の書込みバス入力及び１つまたは２つ以上の読取りバス入力において、１つまたは２つ以上の要求送信元からの書込み要求及び読取り要求を受信する段階と、
それぞれの書込みバス及び読取りバスに結合された１つまたは２つ以上の書込みバス出力及び１つまたは２つ以上の読取りバス出力において、１つまたは２つ以上の要求送信先に書込み要求及び読取り要求を出力する段階と、
前記要求送信元から受信された書込み要求をバッファリングし、かつ前記１つまたは２つ以上の要求送信先に対する書込み要求及び読取り要求の処理を制御する段階と、
を含み、それにより、少なくとも幾つかの読取り要求に対しては、
与えられたメモリ・アドレスに対する書込み要求が、与えられた要求送信元識別子を有する要求送信元から受信された後に、該与えられた要求送信元識別子を有する要求送信元から受信される、与えられたメモリ・アドレスに対する読取り要求は、前記書込み要求が書込みバス出力において完了されたとして承認されるまで、読取りバス出力上に出力されず、
書込み要求に対する対応の要求完了信号が、前記書込み要求に対する前記書込みバス出力において受信されてしまう前に、要求送信元から受信された書込み要求ついて要求送信元に要求完了信号が出力される方法。
【請求項１０】
前記要求完了信号が前記書込みバス出力において受信されてしまうまで、与えられたメモリ・アドレスに対する先に受信された書込み要求と相対的に該与えられたメモリ・アドレスに対する読取り要求の処理が制御される請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
要求送信元からの書込み要求または読取り要求の受信時に、前記要求送信元に要求承認信号が発行される請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記１つまたは２つ以上の要求送信元は、
プロセッサ・コア
ダイレクト・メモリ・アクセス回路、及び
さらなるバス・トランザクション・バッファ
の１つまたは２つ以上を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記１つまたは２つ以上の要求送信先は、
メモリ、
メモリ・マッピングされた周辺機器回路、及び
さらなるバス・トランザクション・バッファ
の１つまたは２つ以上を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記１つまたは２つ以上の要求送信元が前記与えられたメモリ・アドレスとは無関係に発行した前記書込み要求及び前記読取り要求を、前記与えられたメモリ・アドレスに対して順序付けするのを制御する請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
バッファリング可能でないメモリ・アドレスに対するバッファリング可能でない書込み要求もまた、前記複数の要求送信元から受信され、そしてバッファリング可能でないメモリ・アドレスに対するバッファリング可能でない書込み要求に応答して、書込みバス出力において書込み完了信号を受信してしまうまで、書込み完了信号を発行しない請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
互いの所定の範囲で、メモリ・アドレスに対する書込み要求及び読取り要求の相対的な順序付けを制御する請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月23日(2007.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる複数の視点からの二次元画像をもとに、仮想三次元空間内のオブジェクトを立体表示せしめる立体画像処理装置であって、
前記複数の視点のそれぞれから定まるビューボリュームを包含する共通ビューボリュームを生成するビューボリューム生成部を備えることを特徴とする立体画像処理装置。
【請求項２】
仮想三次元空間内にオブジェクトを配置するオブジェクト定義部と、
前記仮想三次元空間内に仮の視点を配置する仮視点配置部と、
をさらに備え、
前記ビューボリューム生成部は、前記仮視点配置部により配置された仮の視点をもとに前記共通ビューボリュームを生成することを特徴とする請求項１に記載の立体画像処理装置。
【請求項３】
前記共通ビューボリュームを座標変換し、前記複数の視点ごとのビューボリュームを取得する座標変換部と、
前記複数の視点ごとのビューボリュームを投影面に投影し、前記複数の視点ごとに前記二次元画像を生成する二次元画像生成部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の立体画像処理装置。
【請求項４】
前記ビューボリューム生成部は、前記共通ビューボリュームを一つ生成することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の立体画像処理装置。
【請求項５】
前記共通ビューボリュームを正規化座標系に変換する正規化変換部をさらに備え、当該正規化変換部は、前記配置された仮の視点からの奥行き方向の距離に応じて、前記配置されたオブジェクトに奥行き方向の圧縮処理を施すことを特徴とする請求項２から４のいずれかに記載の立体画像処理装置。
【請求項６】
前記正規化変換部は、前記奥行き方向の距離が大きいほど、奥行き方向の圧縮率が高い圧縮処理を施すことを特徴とする請求項５に記載の立体画像処理装置。
【請求項７】
前記正規化変換部は、前記配置された仮の視点から奥行き方向のある地点にかけて徐々に奥行き方向の圧縮率を小さくする圧縮処理を施すことを特徴とする請求項５に記載の立体画像処理装置。
【請求項８】
仮想三次元空間内にオブジェクトを配置するステップと、
前記仮想三次元空間内に仮の視点を配置するステップと、
前記仮想三次元空間内に配置された前記仮の視点をもとに、視差をもたせた二次元画像を生成する複数の視点のそれぞれから定まるビューボリュームを包含する共通ビューボリュームを生成するステップと、
前記共通ビューボリュームを座標変換し、前記複数の視点ごとのビューボリュームを取得するステップと、
前記複数の視点ごとのビューボリュームを投影面に投影し、前記複数の視点ごとに前記二次元画像を生成するステップと、
を有することを特徴とする立体画像処理方法。