【手続補正書】
【提出日】平成19年9月3日(2007.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が照射される照射領域を有する光学素子を冷却する冷却装置であって、
輻射部材と、
前記輻射部材を冷却する冷却機構と、
前記照射領域に凹面を向けた凹面鏡とを有し、
前記輻射部材は、前記凹面の焦点位置またはその近傍に配置されている、ことを特徴とする冷却装置。
【請求項２】
光が照射される照射領域を有する光学素子を冷却する冷却装置であって、
輻射部材と、
前記輻射部材を冷却する冷却機構と、
前記照射領域に凹面を向けた凹面鏡とを有し、
前記凹面鏡は、前記照射領域から発する輻射熱の少なくとも一部を前記輻射部材に導く、
ことを特徴とする冷却装置。
【請求項３】
光が照射される照射領域を有する光学素子を冷却する冷却装置であって、
輻射部材と、
前記輻射部材を冷却する冷却機構と、
前記照射領域に凹面を向けた凹面鏡とを有し、
前記照射領域上の第１の点と前記凹面鏡上の第２の点とを結ぶ直線と、前記第２の点と前記輻射部材上の第３の点とを結ぶ直線とがなす角度の２等分線が、前記第２の点における前記凹面鏡の法線と実質的に一致する、
ことを特徴とする冷却装置。
【請求項４】
前記凹面鏡の温度を調整する温度調整機構、
をさらに有することを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の冷却装置。
【請求項５】
前記凹面鏡は、前記輻射部材からの見込み角が１６０度以上である、
ことを特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載の冷却装置。
【請求項６】
前記輻射部材は、前記光学素子とは反対側の領域の輻射率が０．２以下であり、かつ前記光学素子と対向する領域の輻射率が０．６以上である、
ことを特徴とする請求項１乃至５いずれかに記載の冷却装置。
【請求項７】
前記凹面鏡は、前記照射領域から発する輻射熱に対する反射率が０．７以上である、
ことを特徴とする請求項１乃至６いずれかに記載の冷却装置。
【請求項８】
前記輻射部材および前記凹面鏡は、前記光学素子に入射して反射する光の光路の外に配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至７いずれかに記載の冷却装置。
【請求項９】
前記照射領域と前記輻射部材との間に挿脱可能なシャッターを更に有する、
ことを特徴とする請求項１乃至８いずれかに記載の冷却装置。
【請求項１０】
前記照射領域とは反対側の前記光学素子の面からの輻射熱を受ける輻射板と、
前記輻射板を冷却する冷却機構と、
をさらに有することを特徴とする請求項１乃至９いずれかに記載の冷却装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０いずれか記載の冷却装置と、
前記冷却装置により冷却される光学素子と、
を有し、
レチクルと、前記冷却装置により冷却された光学素子とを介して被処理体を露光する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記冷却装置は、前記光学素子に対して複数配置されている、
ことを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１１又は１２記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
前記ステップにおいて露光された被処理体を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、冷却装置に関する。当該冷却装置は、特に、半導体ウェハ用の単結晶基板、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用のガラス基板などの被処理体を露光する露光装置の構成要素として好適である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、本発明は、光学素子の温度分布を改善することを例示的目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての冷却装置は、光が照射される照射領域を有する光学素子を冷却する冷却装置であって、輻射部材と、前記輻射部材を冷却する冷却機構と、前記照射領域に凹面を向けた凹面鏡とを有し、前記輻射部材は、前記凹面の焦点位置またはその近傍に配置されている、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の別の側面としての冷却装置は、光が照射される照射領域を有する光学素子を冷却する冷却装置であって、輻射部材と、前記輻射部材を冷却する冷却機構と、前記照射領域に凹面を向けた凹面鏡とを有し、前記凹面鏡は、前記照射領域から発する輻射熱の少なくとも一部を前記輻射部材に導く、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の更に別の側面としての冷却装置は、光が照射される照射領域を有する光学素子を冷却する冷却装置であって、輻射部材と、前記輻射部材を冷却する冷却機構と、前記照射領域に凹面を向けた凹面鏡とを有し、前記照射領域上の第１の点と前記凹面鏡上の第２の点とを結ぶ直線と、前記第２の点と前記輻射部材上の第３の点とを結ぶ直線とがなす角度の２等分線が、前記第２の点における前記凹面鏡の法線と実質的に一致する、ことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の更に別の側面としての露光装置は、上述の冷却装置と、前記冷却装置により冷却される光学素子と、を有し、レチクルと、前記冷却装置により冷却された光学素子とを介して被処理体を露光する、ことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、前記ステップにおいて露光された被処理体を現像するステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明によれば、光学素子の温度分布を改善することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
輻射冷却源２０は、輻射率が０．６以上の材料（例えば、セラミクス（アルミナ、ＳｉＣなど）やガラスなど。より好ましくは輻射率が０.７以上の材料。）により表面を構成する。また、輻射冷却源２０の光学素子ＯＥと向かい合う面２０ａは、輻射率の低い材料（輻射率が０．２以下、より好ましくは０.１５以下。）から構成され、表面に金属（金、銀、アルミニウムなど）の板又は膜を有する。更に、輻射冷却源２０の面２０ａには、図２に示すように、輻射率の低い材料から構成される遮蔽板２２を設置してもよい。遮蔽板２２は、金、銀、アルミニウムなどを使用する。ここで、図２は、冷却装置１の一部（凹面鏡１０及び輻射冷却源２０）の拡大断面図である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
輻射冷却源２０から射出して凹面鏡１０に到達する光線（電磁波）は、凹面鏡１０で大部分が鏡面反射する。鏡面反射は、反射位置における法線が入射光線と反射光線の角２等分線となる。従って、本実施形態の凹面鏡１０を用いた場合、凹面鏡１０で反射された光線は、光学素子ＯＥの照射領域ＩＡ上に照射され、その結果、輻射冷却源２０が、凹面鏡１０を介して熱交換を行うのは、照射領域ＩＡのみとなる。換言すれば、光学素子ＯＥの照射領域ＩＡを効率良く冷却するためには、図１０に示すように、光学素子ＯＥ上の照射領域ＩＡ上の任意の点とこの任意の点に対応する凹面鏡１０上の所定点とを結ぶ直線と、この所定点と前記輻射冷却源とを結ぶ直線とがなす角度の２等分線が、実質的に前記凹面鏡上の所定点における前記凹面鏡の法線と一致するように構成すれば良い。言い換えれば、光学素子ＯＥ上の照射領域ＩＡ上の任意の点と、この任意の点に対応する凹面鏡１０上の所定点と、輻射冷却源（輻射冷却源内の所定の点）とで形成される平面内において、光学素子ＯＥの照射領域ＩＡの任意の点と凹面鏡１０の反射面上の所定点とを結ぶ直線と、前記所定点における前記凹面鏡１０の反射面に対する法線とのなす角度と、前記所定点における前記凹面鏡１０の反射面に対する法線と、前記所定点と前記輻射冷却源２０とを結ぶ直線とのなす角度とが、実質的に同じになるように、凹面鏡１０を構成すれば良い。ここで、図１０は、光学素子ＯＥを効率良く冷却するための冷却装置１の配置を説明する図である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ここまでは、凹面鏡１０で反射される輻射エネルギーについて考えてきたが、ここからは、光学素子ＯＥの照射領域ＩＡを含む面から放射される輻射エネルギーのうち、輻射冷却源２０に直接到達する輻射エネルギーについて考える。輻射冷却源２０の凹面鏡１０に覆われていない領域ＮＣＡ、即ち、光学素子ＯＥの照射領域ＩＡと対向している面２０ａは、光学素子ＯＥの照射領域ＩＡを含む面のほとんどの位置から見ることができる。従って、上述したように、輻射冷却源２０の凹面鏡１０に覆われていない領域ＮＣＡを輻射率の低い材料で構成する、或いは、輻射率の低いカバーで覆うことによって、光学素子ＯＥの輻射領域ＩＡを含む面から放射される輻射エネルギーのうち、輻射冷却源２０に直接到達する輻射エネルギー（即ち、輻射冷却源２０と熱の授受を行う量）が減少し、照射領域ＩＡ以外の冷却量を低減させることができる。