【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）構造II、III及びIV：
【化１】
2007529037.tif 000001
［ここで、Ｒ1は夫々独立に、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基及びハロゲン原子からなる群から選ばれ、Ｌは単結合、−ＣＯＯ−基及び−ＣＯＮ（Ｒ2）−基からなる群から選ばれ、Ｒ2は水素原子及び炭素数１〜３のアルキル基からなる群から選ばれ、Ｍは炭素数５〜７のシクロアルキレン基及び炭素数６〜１８のアリーレン基からなる群から選ばれ、Ｗは単結合、−ＣＯＯ−基、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−及び−（ＳＯ2）−からなる群から選ばれ、Ｒ3は水素原子、炭素数５〜３０の置換されていない又は置換された直鎖アルキル基、炭素数５〜３０の置換されていない又は置換されたシクロアルキル基、炭素数５〜２５の置換されていない又は置換された架橋した脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の置換されていない又は置換されたアリール基及び炭素数７〜１８のアリールアルキル基からなる群から選ばれ、ｎは１〜３の整数を表し、ｑは０〜３の整数を表し、且つｎとｑの合計は５以下であり、Ｒ4は炭素数１〜１０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基及びハロゲン基からなる群から選ばれ、そしてＲ5は炭素数５〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基及び置換されていない又は置換された脂環基及び（Ｒ6Ｏ）tＲ7基（ここで、Ｒ6は炭素数１〜１０の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ7は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていない又は置換された脂環基、及び置換されていない又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基からなる群から選ばれ、そしてｔは１〜４の整数を表す）からなる群から選ばれる］
の繰返し単位を含む構造Ｉのポリマー；
ｂ）構造Ｖ：
【化２】
2007529037.tif 000002
［ここで、ｐは約２〜６の整数を表し、Ｒ8は−ＣＨ2ＯＲ12基を表し、Ｒ9は水素原子、−ＣＨ2ＯＲ12基、炭素数１〜５のアルキル基及びアリール基からなる群から選ばれ、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は夫々独立して、水素原子及び炭素数１〜５のアルキル基からなる群から選ばれ、そしてＸは２、３、４、５又は６価のアルキル又はアリールアルキル部分を表す］
を有するフェノール系架橋剤；
ｃ）構造VI：
【化３】
2007529037.tif 000003
［ここで、Ａはフェニル基及びナフチル基からなる群から選ばれ、Ｒ20は炭素数５〜３０のアルキル基又は環状アルキル基及び置換されていない又は置換された脂環基からなる群から選ばれ、Ａがフェニル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜５の整数を表し、且つｘとｙの合計が６以下であり、そしてｚは６−ｘ−ｙを表し、Ａがナフチル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜７の整数を表し、且つｘとｙの合計が８以下であり、そしてｚは８−ｘ−ｙを表し、そしてＢは炭素数４〜３０の第一級、第二級又は第三級の置換されていない又は置換されたアルキルアミン、炭素環アミン又は複素環アミンを表す］
を有する熱酸発生剤（ＴＡＧ）；及び
ｄ)溶剤
を含む熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項２】
構造Ｉのポリマーが構造VII：
【化４】
2007529037.tif 000004
［ここで、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基及びハロゲン原子からなる群から選ばれ、Ｒ21は炭素数６〜３０の置換されていない又は置換された芳香族基を表し、Ｒ22は水素及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれ、Ｒ23は炭素数５〜３０の環式アルキル基、置換されていない又は置換された脂環基及び（Ｒ30Ｏ）tＲ7基（ここで、Ｒ30は炭素数２〜４の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ7は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていない又は置換された脂環基、及び置換されていない又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基からなる群から選ばれ、ｔは約１〜４の整数を表す）からなる群から選ばれ、そしてｎは約１〜２の整数を表す］ 
のポリマーである、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項３】
構造Ｉのポリマーが構造VIII：
【化５】
2007529037.tif 000005
［ここで、Ｒ24は水素原子及びメチル基からなる群から選ばれ、Ｒ25は炭素数６〜３０の置換されていない又は置換された芳香族基を表し、Ｒ26は炭素数５〜３０の環状アルキル基又は置換されていない又は置換された脂環基及び（Ｒ30Ｏ）tＲ7基（ここで、Ｒ30は炭素数２〜４の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ7は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていない又は置換された脂環基、及び置換されていない又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基からなる群から選ばれ、ｔは約１〜４の整数を表す）からなる群から選ばれ、そしてｎは約１〜２の整数を表す］
のポリマーである、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項４】
構造Ｉのポリマーが構造IX：
【化６】
2007529037.tif 000006
［ここで、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基及びハロゲン原子からなる群から選ばれ、Ｒ22は水素原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれ、Ｒ27は水素原子及び炭素数５〜７の置換された又は置換されていないシクロアルキル基からなる群から選ばれ、Ｒ28は炭素数５〜３０の環状アルキル基、置換されていない又は置換された脂環基及び（Ｒ30Ｏ）tＲ7基（ここで、Ｒ30は炭素数２〜４の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ7は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていない又は置換された脂環基、及び置換されていない又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基からなる群から選ばれ、ｔは約１〜４の整数を表す）からなる群から選ばれ、そしてｎは約１〜３の整数を表す］
のポリマーである、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項５】
構造Ｉのポリマーが構造Ｘ：
【化７】
2007529037.tif 000007
［ここで、Ｒ24は水素原子及びメチル基からなる群から選ばれ、Ｒ28は炭素数５〜３０の環状アルキル基、置換されていない又は置換された脂環基及び（Ｒ30Ｏ）tＲ7基（ここで、Ｒ30は炭素数２〜４の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ7は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていない又は置換された脂環基、及び置換されていない又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基からなる群から選ばれ、ｔは約１〜４の整数を表す）からなる群から選ばれ、Ｒ29は炭素数５〜７の置換されていない又は置換されたシクロアルキル基を表し、そしてｎは約１〜２の整数を表す］
のポリマーである、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項６】
構造IIの繰返し単位において、Ｒ1が水素及びメチルからなる群から選ばれ、Ｌが単結合及び−ＣＯＯ−基からなる群から選ばれ、Ｍが炭素数５〜７のシクロアルキレン基及び炭素数６〜１０のアリーレン基からなる群から選ばれ、そしてＷが単結合を表す、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項７】
構造IIの繰返し単位において、Ｒ3が水素原子、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デシル、フェニル及びナフチルからなる群から選ばれる、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項８】
構造IIIの繰返し単位において、Ｒ1が水素及びメチルからなる群から選ばれ、Ｒ4が水素原子、ハロゲン基及び炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基からなる群から選ばれる、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項９】
構造IIの繰返し単位において、Ｒ1が水素及びメチルからなる群から選ばれ、Ｌが単結合及び−ＣＯＯ−基からなる群から選ばれ、Ｍが炭素数５〜７のシクロアルキレン基及び炭素数６〜１０のアリーレン基からなる群から選ばれ、Ｗが単結合を表し、そしてＲ3が水素原子、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デシル、フェニル及びナフチルからなる群から選ばれ、構造ＩＩＩの繰返し単位において、Ｒ1が水素及びメチルからなる群から選ばれ、Ｒ4が水素原子、ハロゲン基及び炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基からなる群から選ばれ、そして構造ＩＶの繰返し単位において、Ｒ1が水素及びメチルからなる群から選ばれ、Ｒ5がシクロヘキシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、アダマンチル、アダマンチルメチル、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンメチル及びエトキシジシクロペンテニルからなる群から選ばれる、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物。
【請求項１０】
構造Ｘ：
【化８】
2007529037.tif 000008
［ここで、Ｒ24は水素原子及びメチル基からなる群から選ばれ、Ｒ28は炭素数５〜３０の環状アルキル基、置換されていない又は置換された脂環基及び（Ｒ30Ｏ）tＲ7基（ここで、Ｒ30は炭素数２〜４の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ7は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていない又は置換された脂環基、及び置換されていない又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基からなる群から選ばれ、ｔは約１〜４の整数を表す）からなる群から選ばれ、Ｒ29は炭素数５〜７の置換された又は置換されていないシクロアルキル基を表し、そしてｎは約１〜２の整数を表す］
のポリマー。
【請求項１１】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項１に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１２】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項２に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１３】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項３に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１４】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項４に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１５】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項５に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし、そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１６】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項６に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１７】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項７に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１８】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項８に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項１９】
以下の工程：
ａ．基板を準備し；
ｂ．第一コーティング工程において、請求項９に記載の熱硬化性アンダーコート組成物を上記基板にコーティングし；
ｃ．上記アンダーコート組成物を硬化させ；
ｄ．第二コーティング工程において、アンダーコートの上にフォトレジストをコーティングし、二重層のフォトレジスト積層を形成し；
ｅ．二重層のフォトレジスト積層を露光し、二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を形成し；
ｆ．二重層のフォトレジスト積層の感光性組成物部を現像し、下層のアンダーコートを部分的に露出させ；
ｇ．二重層のフォトレジスト積層をリンスし；そして
ｈ．露出させたアンダーコートを酸化性プラズマ中でエッチングし、二重層のレリーフ画像を形成すること；
を含む基板上にパターンを形成する方法。
【請求項２０】
請求項１１記載の方法によって製造される、二重層のレリーフ画像。
【請求項２１】
請求項１に記載の組成物でコーティングされており、この請求項１に記載の組成物は更にフォトレジストでコーティングされている半導体基板を含むコーティングされた基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
ｃ）構造VI：
【化３】
2007529037.tif 000009
［ここで、Ａはフェニル基又はナフチル基を表し、Ｒ20は炭素数５〜３０のアルキル基、環状アルキル基、又は置換されていないか又は置換された脂環基を表し、Ａがフェニル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜５の整数を夫々表し、且つｘとｙの合計が６以下であり、ｚは６−ｘ−ｙを表し、Ａがナフチル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜７の整数を夫々表し、且つｘとｙの合計が８以下であり、ｚは８−ｘ−ｙを表し、そしてＢは炭素数４〜３０の第一級、第二級又は第三級の置換されていないか又は置換されたアルキルアミン、炭素環アミン又は複素環アミンを表す］
の熱酸発生剤（ＴＡＧ）；及び
ｄ)溶剤
を含む、新規な熱硬化性アンダーコート組成物を目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ｃ）構造ＶＩ：
【化６】
2007529037.tif 000010
［ここで、Ａはフェニル基又はナフチル基を表し、Ｒ20は炭素数５〜３０のアルキル基、環状アルキル基、又は置換されていないか又は置換された脂環基を表し、Ａがフェニル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜５の整数を夫々表し、且つｘとｙの合計が６以下であり、ｚは６−ｘ−ｙを表し、Ａがナフチル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜７の整数を夫々表し、且つｘとｙの合計が８以下であり、ｚは８−ｘ−ｙを表し、そしてＢは炭素数４〜３０の第一級、第二級又は第三級の置換されていないか又は置換されたアルキルアミン、炭素環アミン又は複素環アミンを表す］
の熱による酸発生剤；及び
ｄ)溶剤
を含む、新規な熱硬化性アンダーコート組成物を目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
熱硬化性下塗り層組成物は構造ＶＩ：
【化１６】
2007529037.tif 000011
［ここで、Ａはフェニル基及びナフチル基を表し、Ｒ20は炭素数５〜３０のアルキル基、環状アルキル基、又は置換されていないか又は置換された脂環基を表し、Ａがフェニル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜５の整数を夫々表し、且つｘとｙの合計が６以下であり、ｚは６−ｘ−ｙを表し、Ａがナフチル基の場合は、ｘは１〜３の整数、ｙは０〜７の整数を夫々表し、且つｘとｙの合計が８以下であり、ｚは８−ｘ−ｙを表し、そしてＢは炭素数４〜３０の第一級、第二級又は第三級の置換されていないか又は置換されたアルキルアミン、炭素環アミン又は複素環アミンを表す］
を有する熱酸発生剤（ＴＡＧ）を含む。