【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年4月9日(2008.4.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
毒性β−アサロン（シス異性体）またはα−異性体およびγ−異性体を含むβ−アサロンリッチなＡｃｏｒｕｓ  ｃａｌｍｕｓ油からの、薬理学的に活性な式ＩＩのα−アサロン（トランス異性体）の調製のためのプロセスであって、該プロセスが、以下の工程：
（ａ）室温で、０〜２７６ｋＰａ（０〜４０ｐｓｉ）の圧力下で、ギ酸アンモニウムを伴うかまたは伴わないで、１０％Ｐｄ／Ｃ触媒を使用して、β−アサロンまたはα−アサロンおよびγ−アサロンを含むβ−アサロンリッチなショウブ油を水素化する工程、
（ｂ）カラムクロマトグラフィーを実行することによってシリカゲル上で工程（ａ）の生成物を精製して、式（Ｉ）
【化１】
2005521716.tif 000001
の化合物を得る工程、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた式（Ｉ）の化合物を不活性雰囲気下で、０．５〜７２時間、室温で、無水有機溶媒中で、必要に応じてシリカまたはアルミナを含むＤＤＱで処理することによって、脱水素化する工程、
（ｄ）工程（ｃ）の反応混合物を濾過して、沈殿した（ＤＤＱＨ２）を除き、残留物を有機溶媒で洗浄し、そして合わせた透明な濾液を得る工程、
（ｅ）工程（ｄ）の合わせた濾液を濃縮し、そして該濃縮物を水に注ぎ、水不混和性有機溶媒で抽出する工程、
（ｆ）工程（ｅ）の有機溶媒抽出物を合わせ、ブライン、１０％水性ビカルボネートで洗浄し、続いて、再びブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過およびエバポレートして、乾固し、残留物を得る工程、
（ｇ）工程（ｆ）の残留物をシリカゲルカラムで精製して、ヘキサン：酢酸エチルの混合物で溶出して、粘稠な液体としてのα−アサロンおよび式（ＩＩａ）
【化２】
2005521716.tif 000002
のトランス−２，４，５−トリメトキシシンナムアルデヒドとして特徴付けられる黄色固体を得る工程、
（ｈ）ヘキサン：メタノール混合物を使用して、α−アサロンを含む粘稠液体を結晶化して、α−アサロン（ＩＩ）
【化３】
2005521716.tif 000003
の白色固体を得る工程、
を包含する、プロセス。
【請求項２】
毒性β−アサロン（シス異性体）またはα−異性体およびγ−異性体を含むβ−アサロンリッチなＡｃｏｒｕｓ  ｃａｌｍｕｓ油からの、薬理学的に活性な式ＩＩのα−アサロン（トランス異性体）の調製のためのプロセスであって、該プロセスが、以下の工程：
（ｉ）１６〜２０時間、室温で、水性有機溶媒中でＤＤＱで式（Ｉ）の化合物を処理する、工程、
（ｊ）工程（ｉ）の反応混合物を濾過して、沈殿した固体（ＤＤＱＨ２）を除去して、有機溶媒で残留物を洗浄し、そして透明な溶液を得る工程、
（ｋ）工程（ｊ）の該透明な溶液をエバポレートし、該残留物を水に注ぎ、有機溶媒で抽出して該有機溶媒抽出物をブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過しそしてエバポレートして、残留物を得る工程、
（ｌ）シリカゲルカラムで工程（ｋ）の残留物を精製し、ヘキサン：酢酸エチルの混合物で溶出して、イソアコラモンを含む粘稠な液体画分を得、このイソアコラモンを、酢酸エチル：ヘキサンから結晶化して、式（ＩＩＩ）
【化４】
2005521716.tif 000004
のイソアコラモンの白色結晶を得る工程、
（ｍ）工程（ｌ）の式（ＩＩＩ）の化合物を、１６〜２０時間、−５℃〜室温の温度範囲で、水性水酸化アルカリ溶液の存在下で、有機溶媒中で水素化ホウ素ナトリウムで処理する工程、
（ｎ）工程（ｍ）の反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液で希釈して、２０〜３０分間攪拌する工程、
（ｏ）減圧下で工程（ｎ）の溶液から有機溶媒を除去し、そして酢酸エチルで水層を抽出する工程、
（ｐ）工程（ｏ）の酢酸エチル層を水で洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして有機溶媒をエバポレートして乾固して、残留物を得る工程、
（ｑ）ヘキサン：酢酸エチルの溶出液を使用して、中性アルミナカラムで工程（ｐ）の残留物を精製して、式（ＩＩＩａ）
【化５】
2005521716.tif 000005
の１−（２，４，５−トリメトキシ）−フェニル−１−プロパノールを得る工程、
（ｒ）水を連続的に除去するためのＤｅａｎ−ｓｔａｃｋ装置を使用して、還流温度で芳香族炭化水素溶媒において、脱水剤で処理することによって、式（ＩＩＩａ）の化合物を脱水する工程、
（ｓ）工程（ｒ）の反応混合物を冷水に注ぎ、芳香族炭化水素溶媒で抽出し、そして有機層を分離する工程、
（ｔ）工程（ｓ）の有機層をブライン、飽和ビカルボネート溶液で再び洗浄し、続いて、ブラインで洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして有機溶媒でエバポレートして残留物を得る工程、
（ｕ）工程（ｔ）の残留物をシリカゲルカラムで精製し、ヘキサン：酢酸エチル混合物で溶出して、式（ＩＩ）の白色固体α−アサロンを得る工程、
を包含し、
ここで、該式（Ｉ）の化合物が、以下の工程：
（ａ）室温で、０〜２７６ｋＰａ（０〜４０ｐｓｉ）の圧力下で、ギ酸アンモニウムを伴うかまたは伴わないで、１０％Ｐｄ／Ｃ触媒を使用して、β−アサロンまたはα−アサロンおよびγ−アサロンを含むβ−アサロンリッチなショウブ油を水素化する工程、
（ｂ）カラムクロマトグラフィーを実行することによってシリカゲル上で工程（ａ）の生成物を精製して、式（Ｉ）
【化１】
2005521716.tif 000006
の化合物を得る工程、
によって得られる、
プロセス。
【請求項３】
請求項１に記載のプロセスであって、工程（ｃ）および（ｄ）において、使用される前記無水有機溶媒が、メタノール、エタノール、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選択される、プロセス。
【請求項４】
請求項１に記載のプロセスであって、工程（ｃ）において、使用されるＤＤＱ対２，４，５−トリメトキシフェニルプロパンのモル比が、１：１〜１．３：１の範囲である、プロセス。
【請求項５】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｉ）において、使用されるＤＤＱ対式（Ｉ）の２，４，５−トリメトキシプロパンのモル比が、１．６：１〜２．１：１の範囲である、プロセス。
【請求項６】
請求項１に記載のプロセスであって、式（Ｉ）の２，４，５−トリメトキシプロパンの脱水素化が、５１％の収率の式（ＩＩ）のα−アサロンおよび１１％の収率の式（ＩＩａ）の黄色固体２，４，５−トリメトキシシンナムアルデヒドを提供する、プロセス。
【請求項７】
請求項１に記載のプロセスであって、工程（ｃ）において、触媒量のシリカゲルまたはアルミナの添加が、α−アサロンの収率を７２％まで、そしてトランス−２，４，５−トリメトキシンナムアルデヒドを１８％まで増加させる、プロセス。
【請求項８】
請求項１に記載のプロセスであって、工程（ｅ）において、使用される水不混和性有機溶媒が、四塩化炭素、ジクロロメタンおよびクロロホルムから選択される、プロセス。
【請求項９】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｉ）および（ｊ）において、使用される前記有機溶媒が、メタノール、エタノール、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選択される、プロセス。
【請求項１０】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｉ）において、使用される水：有機溶媒の比が、０．１：９．９〜１：９の範囲である、プロセス。
【請求項１１】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｋ）において、使用される有機溶媒が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群より選択される、プロセス。
【請求項１２】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｍ）において、使用される有機溶媒が、テトラヒドロフランである、プロセス。
【請求項１３】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｒ）において、使用される脱水剤が、ｐ−トルエンスルホン酸および塩化チオニルピリジンからなる群より選択される、プロセス。
【請求項１４】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｒ）において、使用される前記芳香族炭化水素溶媒が、ベンゼン、トルエン、およびキシレンからなる群より選択される、プロセス。
【請求項１５】
請求項２に記載のプロセスであって、工程（ｕ）が、８７％までのα−アサロンを生じる、プロセス。
【請求項１６】
請求項１または２に記載のプロセスであって、４〜１２時間、２０℃〜７０℃の範囲の温度で実施される、プロセス。
【請求項１７】
請求項１または２に記載のプロセスであって、前記α−アサロンが、β−アサロンおよびγ−アサロンを含まない、プロセス。
【請求項１８】
請求項３に記載のプロセスであって、工程（ｃ）および（ｄ）において、前記無水有機溶媒が、無水ジオキサンである、プロセス。
【請求項１９】
請求項８に記載のプロセスであって、工程（ｅ）において、前記水不混和性有機溶媒が、ジクロロメタンである、プロセス。
【請求項２０】
請求項９に記載のプロセスであって、工程（ｉ）および（ｊ）において、前記使用される有機溶媒が、エタノールである、プロセス。
【請求項２１】
請求項９に記載のプロセスであって、工程（ｉ）および（ｊ）において、前記使用される有機溶媒が、テトラヒドロフランである、プロセス。
【請求項２２】
請求項１１に記載のプロセスであって、工程（ｋ）において、前記使用される有機溶媒が、ジオキサンである、プロセス。
【請求項２３】
請求項１３に記載のプロセスであって、工程（ｒ）において、前記使用される脱水剤が、ｐ−トルエンスルホン酸である、プロセス。
【請求項２４】
請求項１４に記載のプロセスであって、工程（ｒ）において、使用される前記芳香族炭化水素溶媒が、トルエンである、プロセス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
（実施例Ｖ）
（１−（２，４，５−トリメトキシフェニル）−１−プロパノールの調製）：４０ｍＬのＴＨＦ中のイソアコラモン（１．１２ｇ、０．００５モル）の溶液を、−５℃で攪拌した。水（１．２〜１．８ｍＬ）中のＮａＢＨ４（０．２４〜０．３９ｇ）の予め冷却した溶液を滴下し、一方、反応混合物の温度を０℃未満に維持した。ＮａＢＨ４の添加の完了後、数滴の１０％ＮａＯＨを添加し、そして反応混合物を、一晩、室温で攪拌した。最後に、この反応混合物を、飽和塩化アンモニウム溶液（２０ｍＬ）で希釈し、そして室温で２０分間攪拌し続けた。ＴＨＦを減圧下で除去し、そしてこの混合物をＥｔＯＡｃで２回抽出した。このＥｔＯＡｃ溶液をＨ２Ｏで２回（２回）洗浄し、ブラインで２回洗浄し、そして濾過した。濾液を硫酸ナトリウムで乾燥させ、そしてエバポレートして乾固させた。エバポレーションで得られた残留物は、次の工程で十分に純粋であると分かったが、酢酸エチルを２５％まで割合を増加しながら、ヘキサン−酢酸エチル混合物を使用して中性アルミナカラムでクロマトグラフィーにかけて、１−（２，４，５−トリメトキシ）フェニル−１−プロパノール（１．０１ｇ、８９％）を液体として得、これを、結晶化後、白色固体を得た；Ｒｆ０．７８（ヘキサン中２８％酢酸エチル）；ｍｐ９８〜９９℃；