Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月7日(2008.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料、
難燃剤
およびカップリング剤を含むハロゲンフリーバッキングと、
前記バッキングの表面上に配置された接着剤層と、
を含むテープであって、
アンダーライターズ・ラボラトリーズＵＬ５１０、第７版の第４節に準拠して試験した時に難燃性であるテープ。
【請求項２】
前記ハロゲンフリーバッキングが剥離剤を更に含む、請求項１に記載のテープ。
【請求項３】
前記高分子材料がエチレン−プロピレン−ジエンモノマーのターポリマーを含む、請求項１に記載のテープ。
【請求項４】
前記高分子材料がエチレン酢酸ビニルポリマーを含む、請求項１に記載のテープ。
【請求項５】
前記難燃剤が金属無機化合物を含む、請求項１に記載のテープ。
【請求項６】
前記金属無機化合物がアルミナ三水和物を含む、請求項５に記載のテープ。
【請求項７】
前記カップリング剤が非シランカップリング剤を含む、請求項１に記載のテープ。
【請求項８】
テープを製造する方法であって、
高分子材料、
難燃剤
およびカップリング剤を含むハロゲンフリーバッキングを形成する工程と、
前記バッキングの表面上に接着剤層を適用して、アンダーライターズ・ラボラトリーズＵＬ５１０、第７版の第４節に準拠して試験した時に難燃性であるテープを形成する工程と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月20日(2008.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線の悪影響に対して、ヒトの毛髪及び肌を保護するための、式
【化１】
2008504343.tif 000001
［式中、
Ｑは、水素原子；炭素原子数１ないし２２のアルキル基；−ＯＨ；−ＯＲ7；−ＮＲ7Ｒ8；又は−Ｎ＝Ｒ9を表わし；
Ｒ1は、水素原子；炭素原子数１ないし２２のアルキル基；−ＯＲ7、−ＳＲ7；−ＮＲ7Ｒ8；炭素原子数１ないし２２のアルキル基；炭素原子数２ないし１２のアルケニル基；炭素原子数２ないし１２のアルキニル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７ないし１２のアラルキル基；炭素原子数１ないし１２のヘテロアルキル基；炭素原子数２ないし１１のヘテロアラルキル基；炭素原子数６ないし１０のアリール基；又は炭素原子数１ないし９のヘテロアリール基を表わし；
Ｒ4は、シアノ基；ＣＯＲ7；ＣＯＯＲ7；ＣＯＮＲ7Ｒ8；ＳＯ2（炭素原子数６ないし１２の）アリール基；炭素原子数１ないし１２のアルケ−１−エニル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルケ−１−エニル基；炭素原子数２ないし１２のアルキ−１−イニル基；炭素原子数２ないし１２のヘテロアルキル基；炭素原子数３ないし５のヘテロシクロアルキル基；炭素原子数６ないし１０のアリール基；又は炭素原子数１ないし９のヘテロアリール基を表わし；
Ｒ5は、−ＣＯＲ7；−ＣＯＯＲ7；−ＯＲ7；−ＳＲ7、−ＮＨＲ7、−ＮＲ7Ｒ8；炭素原子数１ないし２２のアルキル基；炭素原子数２ないし１２のアルケニル基；炭素原子数２ないし１２のアルキニル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７ないし１２のアラルキル基；炭素原子数１ないし１２のアルキルフェニル基；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ−炭素原子数６ないし１０のアリール基；炭素原子数１ないし１２のヘテロアルキル基；炭素原子数２な
いし１１のヘテロアラルキル基；炭素原子数３ないし１２のシクロへテロアルキル基；炭素原子数６ないし１０のアリール基；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ−炭素原子数６ないし１０のアリール基；又は炭素原子数１ないし９のヘテロアリール基を表わし；
Ｒ6は、水素原子；炭素原子数１ないし２２のアルキル基；炭素原子数１ないし２２のアルコキシ基；又はＣＯＲ7を表わし；
Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２２のアルキル基；炭素原子数２ないし１２のアルケニル基；炭素原子数２ないし１２のアルキニル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルケニル基；−（ＣＨ2）tＣＯＯＨ；炭素原子数７ないし１２のアラルキル基；炭素原子数１ないし１２のヘテロアルキル基；炭素原子数２ないし１１のヘテロアラルキル基；炭素原子数６ないし１０のアリール基；炭素原子数１ないし９のヘテロアリール基；Ｓｉ−Ｒ10Ｒ11Ｒ12；Ｓｉ（ＯＲ10）（ＯＲ11）（ＯＲ12）；ＳｉＲ10（ＯＲ11）（ＯＲ12）；ＳｉＲ10Ｒ11（ＯＲ12）；−（ＣＨ2）u−Ｏ−（ＣＨ2）v−ＳｉＲ10Ｒ11Ｒ12；又は基Ｘ−Ｓｉｌを表わし；
ｔ、ｕ及びｖは、互いに独立して、１ないし５の数を表わし；
Ｒ9は、（炭素原子数１ないし６の）アルキリデン基を表わし；
Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は、互いに独立して、炭素原子数１ないし２２のアルキル基を表わし；
Ｘは、結合を表わし；
Ｓｉｌは、シラン−、オリゴシロキサン−又はポリシロキサン基を表わし；
Ｒ1及びＲ2、Ｒ1及びＱ、Ｒ1及びＲ6、Ｒ1及びＴ、Ｒ2及びＲ3、Ｒ2及びＲ4、Ｒ2及びＲ6、Ｒ2及びＱ、Ｒ4及びＲ6、Ｒ4及びＴ、Ｒ6及びＱ、Ｔ及びＱは、互いに独立して、一緒に結合して、１、２、３又は４つの、炭素環又はＮ、Ｏ及び／又はＳ−複素環を形成し、ここで、それらの各々は、互いに独立して、１つの芳香族環又は複素芳香族環、及び／又はそれ以上のＮ−、Ｏ−及び／又はＳ−複素環と縮合し得り、そしてＮ−複素環の各Ｎ原子は、炭素原子数１ないし２２のアルキル基で置換され得り；
ｎは、１ないし４の数を表わし；ここで、基Ｒ1、Ｒ6又はＱの少なくとも１つは、水素原子とは異なり；
ｎ＝１の場合、
Ｔは、−ＣＯＲ5；−ＣＮ；炭素原子数６ないし１０のアリール基；−ＮＨＲ5；又は−ＳＯ2−（炭素原子数６ないし１２の）アリール基を表わし；
Ｒ2及びＲ3は、互いに独立して、炭素原子数１ないし２２のアルキル基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし２２のアルキル基；炭素原子数２ないし１２のアルケニル基；炭素原子数２ないし１２のアルキニル基；炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし１２のシクロアルケニル基；炭素原子数７ないし１２のアラルキル基；炭素原子数１ないし１２のヘテロアルキル基；炭素原子数３ないし１２のシクロヘテロアルキル基；炭素原子数６ないし１０のアリール基；炭素原子数１ないし９のヘテロアリール基；又は式
【化２】
2008504343.tif 000002
で表わされる基を表わし；
ｐは、５ないし１００の数を表わし；
ｑは、１ないし５の数を表わし；
ｓは、０ないし４の数を表わし；
ｎ＝２の場合、
Ｒ2及びＲ3は、互いに、炭素原子数１ないし５のアルキレン基を表わし；かつ同時に、Ｔは、ｎ＝１の場合と同様に定義されるか；又は、
Ｔは、式−ＮＲ7−Ｖ−ＮＲ7−（式中、Ｖは、フェニレン基；又は炭素原子数１ないし５のアルキレン基を表わし；Ｒ7は、水素原子；又は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）で表わされる２価の基を表わし；かつ同時に、Ｒ2及びＲ3は、ｎ＝１の場合と同様に定義され；
ｎ＝３の場合、
Ｒ2、Ｒ3又はＴの１つは、３価の基を表わし；
ｎ＝４の場合、
Ｒ2、Ｒ3又はＴの１つは、４価の基を表わす。］で表わされる化合物の使用。
【請求項２】
式
【化３】
2008504343.tif 000003
（式中、アステリスク付きの基の少なくとも１つは、モノマー状又はポリマー状の基と結合され；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4及びＲ6は、請求項１で定義した通りである。）で表わされる構造成分を有するモノマー状及びポリマー状化合物。
【請求項３】
シワ取り知覚改善剤（ａｎｔｉ−ｗｒｉｎｋｌｅ  ｐｅｒｃｅｐｔｉｏｎ  ｍｏｄｉｆｉｅｒ）としての、請求項１に記載の式（１）で表わされる化合物の使用。
【請求項４】
化粧品的に許容可能なキャリヤー又は補助剤と共に、請求項１に記載の式（１）で表わされる化合物を少なくとも１種含む化粧品。
【請求項５】
（ａ）各々０．０２ないし２μｍの粒子サイズを有する、微粉末化された少なくとも１種の請求項１に記載の式（１）で表わされる紫外線吸収剤、及び
（ｂ）適当な分散剤
を含む、紫外線吸収剤分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月18日(2008.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2008504342.tif 000001
（式中、
ｎ１は、１〜３の整数であり、
ｍ１及びｍ２は、０、１又は２の整数であり、
Ｍ1は、４０を超える原子量の金属であり、
Ｌ1は、単座配位子又は二座配位子であり、
Ｌ2は、単座配位子であり、
Ｑ1及びＱ2は、互いに独立して、有機置換基であるか、又は
Ｑ1及びＱ2は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、下記基：
【化２】
2008504342.tif 000002
を形成し、
ここでＱ4は、場合により置換されていることができる縮合芳香族又は複素芳香族環を形成する基を表わし、そして
Ｑ3は、場合により置換されていることができる縮合芳香族又は複素芳香族環を形成する基を表わすが、但し、以下の化合物：
【化３】
2008504342.tif 000003
が除外され、単座配位子がハロゲン原子ではない）
で示される化合物。
【請求項２】
下記の構造（Ｖａ）、（Ｖｂ）、（Ｖｃ）、（Ｖｄ）、（ＶＩａ）又は（ＶＩｂ）：
【化１７】
2008504342.tif 000004
〔式中、
Ｍ2は、Ｒｈ又はＲｅ、特にＩｒであり、
Ｑ1及びＱ2は、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ24アルキル又はＣ6〜Ｃ18アリールであり、
Ｌ′は、下記：
【化１８】
2008504342.tif 000005
から選択される二座配位子であり、
ここで、
Ｒ11及びＲ15は、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ6〜Ｃ18アリール、Ｃ2〜Ｃ10ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ8ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ12及びＲ16は、互いに独立して、水素又はＣ1〜Ｃ8アルキルであり、
Ｒ13及びＲ17は、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ6〜Ｃ18アリール、Ｃ2〜Ｃ10ヘテロアリール、Ｃ1〜Ｃ8ペルフルオロアルキル又はＣ1〜Ｃ8アルコキシであり、
Ｒ14は、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール又はＣ7〜Ｃ11アラルキルであり、
Ｒ18は、Ｃ6〜Ｃ10アリールであり、
Ｒ19は、Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり、
Ｒ20は、Ｃ1〜Ｃ8アルキル又はＣ6〜Ｃ10アリールであり、
Ｒ21は、水素、部分的に若しくは完全にフッ素化されていてもよい、Ｃ1〜Ｃ8アルキル又はＣ1〜Ｃ8アルコキシであり、
Ｒ22及びＲ23は、互いに独立して、Ｃn（Ｈ＋Ｆ）2n+1又はＣ6（Ｈ＋Ｆ）5であり、Ｒ24は、同一又はそれぞれの場合に異なっていることができ、Ｈ又はＣn（Ｈ＋Ｆ）2n+1から選択され、
ｐは、２又は３であり、
Ａ11は、水素であり、
Ａ12は、水素であり、
Ａ13は、水素であり、
Ａ14は、水素又はＣ6〜Ｃ18アリールであり、
Ａ15は、水素又はＣ6〜Ｃ18アリールであり、
Ａ16は、水素であり、
Ａ21は、水素であり、
Ａ22は、水素又はＣ6〜Ｃ10アリールであり、
Ａ23は、水素又はＣ6〜Ｃ10アリールであり、
Ａ24は、水素であり、
Ｒ42は、Ｈ、Ｆ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ又はＣ1〜Ｃ4ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ43は、Ｈ、Ｆ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ペルフルオロアルキル又はＣ6〜Ｃ10アリールであり、
Ｒ44は、Ｈ、Ｆ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ又はＣ1〜Ｃ4ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ45は、Ｈ、Ｆ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ又はＣ1〜Ｃ4ペルフルオロアルキルであり、そして
Ｒ46は、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ6〜Ｃ18アリール、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ、又はＣ1〜Ｃ8アルキルで置換されているＣ6〜Ｃ18アリール；又はＬ″であり、ここでＬ″は、下記：
【化１９】
2008504342.tif 000006
2008504342.tif 000007
2008504342.tif 000008
から選択される二座配位子である〕
を有する請求項１記載の化合物、
あるいは
下記の構造（ＶＩＩａ）、（ＶＩＩｂ）、（ＶＩＩｃ）、（ＶＩＩｄ）、（ＶＩＩＩａ）又は（ＶＩＩＩｂ）：
【化２０】
2008504342.tif 000009
（式中、
Ｍ4は、Ｐｄ又はＰｔであり、そしてＱ1、Ｑ2、Ｌ′、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15、Ａ16、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44及びＲ45は、上記で定義されたとおりである）
を有する請求項１記載の化合物。
【請求項３】
以下のいずれかである、請求項２記載の化合物：
【表１】
2008504342.tif 000010
2008504342.tif 000011
2008504342.tif 000012
2008504342.tif 000013
2008504342.tif 000014
2008504342.tif 000015
2008504342.tif 000016
2008504342.tif 000017
2008504342.tif 000018
2008504342.tif 000019
2008504342.tif 000020
2008504342.tif 000021
2008504342.tif 000022
2008504342.tif 000023
2008504342.tif 000024
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項記載の化合物を含む発光層を含む、有機電子デバイス
【請求項５】
ポリビニル−カルバゾール、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）、１，１−ビス〔（ジ−４−トリルアミノ）フェニル〕シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）、Ｎ，Ｎ′−ビス（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（４−エチルフェニル）−〔１，１′−（３，３′−ジメチル）ビフェニル〕４，４′−ジアミン（ＥＴＰＤ）、テトラキス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−２，５−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）、ａ−フェニル−４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチレン（ＴＰＳ）、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン（ＤＥＨ）、トリフェニルアミン（ＴＰＡ）、ビス〔４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−２−メチルフェニル〕（４−メチルフェニル）メタン（ＭＰＭＰ）、１−フェニル−３−〔ｐ−（ジエチルアミノ）スチリル〕−５−〔ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル〕ピラゾリン（ＰＰＲ又はＤＥＡＳＰ）、１，２−トランス−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）シクロブタン（ＤＣＺＢ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス（４−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジアミン（ＴＴＢ）、ポルフィリン化合物、及びこれらの組み合わせから選択される正孔輸送層を更に含む、請求項４記載のデバイス。
【請求項６】
電子デバイス中、特に有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）中での、酸素感応指示薬としての、バイオアッセイにおけるリン光性指示薬としての又は触媒としての、請求項１〜２のいずれか１項記載の化合物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月13日(2008.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
２−｛５’−［６−（ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ）−ヘキシル］−［２，２’］ビチオフェニル−５−イル｝−４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］ジオキサボロラン：
（６−［２，２’］ビチオフェニル−５−イル−ヘキシルオキシ）−ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシラン（１０ｇ、１９．７６ｍｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（１５０ｍｌ）に溶解した、氷冷した溶液に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．５Ｍ、７．９１ｍｌ、１９．７６ｍｍｏｌ）の溶液を、攪拌しながら窒素の下で滴加した。２時間後、ボロン酸ピナコール（４．０４ｇ、２１．７２ｍｍｏｌ）を加えた。氷浴を取り外し、得られた混合物を、室温で一晩攪拌した。反応を、飽和水性ＮＨ４Ｃｌを加えて停止し、混合物を、酢酸エチル（３×７０ｍｌ）で抽出した。混ぜ合わせた有機抽出物を、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させた。残留物を、シリカ上のカラムクロマトグラフィーにより精製し、石油エーテル／酢酸エチル（９：１）で溶離させて、生成物を、青色油状物（９．５２ｇ、７２％）として得た。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
２−｛５−［６−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラニルオキシ）−ヘキシル］−チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル｝−４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］ジオキサボロラン：
ｔｅｒｔ−ブチルジメチル（６−チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル−ヘキシルオキシ−シラン（５．０ｇ、１４．１０ｍｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（７０ｍｌ）に溶解した、氷冷した溶液に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．５Ｍ、５．６４ｍｌ、１４．１０ｍｍｏｌ）の溶液を、攪拌しながら窒素の下で滴加した。２時間後、ボロン酸ピナコール（２．６２ｇ、１４．１０ｍｍｏｌ）を加えた。氷浴を取り外し、得られた混合物を、室温で一晩攪拌した。反応を、飽和水性ＮＨ４Ｃｌを加えて停止し、混合物を、酢酸エチル（３×７０ｍｌ）で抽出した。混ぜ合わせた有機抽出物を、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させた。残留物を、シリカ上のカラムクロマトグラフィーにより精製し、石油エーテル／酢酸エチル（９：１）で溶離させて、茶色油状物（５．５３ｇ、８２％）を得た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４７】
２−｛５−［６（３−エチルオキセタン−３−イルメトキシ）ヘキシル］−チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル｝４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］ジオキサボロラン：
３−エチル−３−（６−チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル−ヘキシルオキシメチル）−オキセタン（５．０ｇ、１４．８ｍｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（７０ｍｌ）に溶解した攪拌した溶液に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．５Ｍ、７．２ｍｌ、１８．０ｍｍｏｌ）を、−７８℃で窒素の下で滴加した。完全に加えた後に、混合物を、攪拌しながら２時間にわたり放置して室温に加温し、続いて２−イソプロポキシ−４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］−ジオキサボロラン（３．３５ｇ、１８ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を、室温で一晩攪拌した。反応を、飽和水性ＮＨ４Ｃｌで停止し、反応混合物を、酢酸エチル（３×７０ｍｌ）で抽出した。混ぜ合わせた有機抽出物を、水、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥した。溶媒を、減圧下で除去し、残留物を、シリカ上のカラムクロマトグラフィーにより精製し、石油エーテル／酢酸エチル（９：１〜５：１）で溶離させて、生成物を黄色油状物（３．７２ｇ、５４％）として得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
２，５−ビス−｛５’−［６−（３−エチル−オキセタン−３−イルメトキシ）ヘキシル］チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル｝−３，４−ジメチルチエノ［２，３−ｂ］チオフェン（８）：
テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．０１ｇ）を、２，５−ジブロモ−３，４−ジメチルチエノ（２，３−ｂ）チオフェン（０．１４ｇ、０．４３ｍｍｏｌ）を無水トルエン（３０ｍｌ）に溶解した溶液に、攪拌しながら窒素の下で加えた。１０分後、２−｛５−［６−（３−エチルオキセタン−３−イルメトキシ）ヘキシル］−チオエン［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル｝−４，４，５，５−テトラメチル［１，３，２］ジオキサ−ボロラン（０．８０ｇ、１．７２ｍｍｏｌ）およびリン酸カリウム（０．７４ｇ、３．４９ｍｍｏｌ）を水（１０ｍｌ）に溶解した溶液を、加えた。得られた混合物を、還流において２時間加熱した。冷却後、水（５０ｍｌ）を加え、反応混合物を、酢酸エチル（３×５０ｍｌ）で抽出し、混ぜ合わせた抽出物を、硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を、減圧下で除去し、残留物を、ジエチルエーテルで洗浄して、黄色固体を得、これを酢酸エチルで再結晶して、黄色結晶（０．１７ｇ、４７％）が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月2日(2008.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボツリヌス毒素及び薬学的に許容される担体を含む、伏在神経捕捉により引き起こされた膝関節の痛みを治療するための薬剤の製造のための、膝内側上の皮下注射用薬学組成物の使用。
【請求項２】
上記薬学組成物が約20〜200LD50ユニットのボツリヌス毒素を含むことを特徴とする請求項１に記載の薬学組成物の使用。
【請求項３】
上記薬学組成物が膝内側上の伏在神経支配部位に位置する、過敏化した受容体が密集している皮下筋膜に注射されることを特徴とする請求項１または２に記載の薬学組成物の使用。
【請求項４】
上記ボツリヌス毒素がボツリヌス毒素タイプＡであることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の薬学組成物の使用。
【請求項５】
膝関節痛の治療効果が少なくとも４週以上持続的に維持されることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の薬学組成物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】伏在神経捕捉による膝関節痛の治療のための、ボツリヌス毒素を含む薬学組成物の使用
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、ボツリヌス毒素及び薬学的に許容される担体を含む、伏在神経捕捉により引き起こされた膝関節の痛みを治療するための薬剤の製造のための、膝内側上の皮下注射用薬学組成物の使用に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同時に、個別にまたは連続して使用するための、ＢＣＲＰ阻害剤および式Ｉ
【化１】
2008504333.tif 000001
の化合物Ｉ（ここで、両活性成分は、いずれの場合も遊離形または薬学的に許容される塩形として存在する）、ならびに所望により少なくとも１種の薬学的に許容される担体を含む、組み合わせ剤（ただし、ＢＣＲＰ阻害剤が化合物Ｉでない）。
【請求項２】
固定された医薬組成物である、請求項１記載の組み合わせ剤。
【請求項３】
ＢＣＲＰ阻害剤が、パントロプラゾール、トリプロスタチンＡ、フミトレモルギンＣ、Ｋｏ１３２、Ｋｏ１３４、Ｋｏ１４３、ＧＦ１２０９１８、キナゾリン−ベースＨＥＲファミリーチロシンキナーゼ阻害剤ＣＩ１０３３、エストロゲンからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１または２記載の組み合わせ剤。
【請求項４】
ＢＣＲＰ阻害剤がＧＦ１２０９１８であることを特徴とする、請求項３記載の組み合わせ剤。
【請求項５】
ＢＣＲＰ阻害剤がパントロプラゾールであることを特徴とする、請求項３記載の組み合わせ剤。
【請求項６】
癌の進行の遅延または処置における、同時に、個別にまたは連続して使用するための、請求項１から４のいずれかに記載の組み合わせ剤。
【請求項７】
さらにＰ−糖タンパク質（Ｐ−ｇｐ）阻害剤を含む、請求項１から６のいずれかに記載の組み合わせ剤。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月25日(2008.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）、
【化１】
2008504331.tif 000001
のアンサ−メタロセン錯体の、ラセモ選択的な製造方法であって、
式（ＩＩ）
【化２】
2008504331.tif 000002
のリガンド出発化合物を、
式（ＩＩＩ）
【化３】
2008504331.tif 000003
の遷移金属化合物と
（但し、
Ｒ1、Ｒ1'が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが水素又は１〜４０個の炭素原子を有する有機基であり、
Ｒ2、Ｒ2'が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが水素又は１〜４０個の炭素原子を有する有機基であり、
Ｒ3、Ｒ3'が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが１〜４０個の炭素原子を有する有機基であり、
Ｔ、Ｔ’が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが、１〜４０個の炭素原子を有する二価の有機基であり、及びシクロペンタジエニル環と一緒に、少なくとも１種の別の飽和又は不飽和の、置換又は無置換の、５〜１２原子の環サイズを有する環状基を形成し、Ｔ、Ｔ’は、シクロペンタジエニル環に縮合した環状基内にヘテロ原子Ｓｉ、Ｇｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ又はＴｅを含んで良く、
Ａが、二価の原子又は二価の基からなるブリッジであり、
Ｚが、二価の原子又は二価の基からなるブリッジであり、
Ｅが、Ｐ、Ａｓ又はＳｂであり、
Ｍ1が、元素周期表の第４族の元素であり、
Ｍ2が、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はマグネシウムモノハロゲン化物部分であり、
正の２価に荷電した金属イオンの場合にはｐが１であり、又は正の１価に荷電した金属イオン又は金属イオン部分の場合にはｐが２であり、
基Ｘが、同一又は異なるものであり、及びそれぞれが、シクロペンタジエニルアニオンによって置換可能な有機基又は無機基であり、
及び、
ＬＢが、無荷電のルイス塩基リガンドである）
反応させることを特徴とするアンサ−メタロセン錯体の製造方法。
【請求項２】
式（Ｉ）のメタロセン錯体を、後の反応工程で、適切な除去試薬と反応させて、式（ＩＶ）
【化４】
2008504331.tif 000004
（但し、基Ｘ1が、同一又は異なるものであり、及びそれぞれがメチル又はハロゲンである）
のアンサ−メタロセン錯体を形成することを特徴とする請求項１に記載のアンサ−メタロセン錯体の製造方法。
【請求項３】
Ｒ3、Ｒ3'が、同一のものであり、及びそれぞれが、Ｃ6−Ｃ10−アリール基又はＣ7−Ｃ14−アルキルアリール基であり、
Ｚが、１，３−トリメチレン単位であり、
Ｅが、Ｐであり、
Ｍ1が、Ｚｒ又はＨｆであり、
基Ｘが、同一であり、及びそれぞれが塩素であり、
及び、
ＬＢが、テトラヒドロフランであり、又は２個のリガンドＬＢがジメトキシエタンを表す）
ことを特徴とする請求項１又は２の何れか１項に記載のアンサ−メタロセン錯体の製造方法。
【請求項４】
式（ＩＩＩ）
【化５】
2008504331.tif 000005
で表され、変数記号と指数が、請求項１で定義されたものと同義であることを特徴とする遷移金属化合物。
【請求項５】
式（ＩＩＩ）の遷移金属化合物を、請求項１に記載の式（Ｉ）又は請求項２に記載の式（ＩＶ）のアンサメタロセン錯体のラセモ選択的な製造に使用する方法。
【請求項６】
式（Ｉ）
【化６】
2008504331.tif 000006
で表され、変数記号と指数が、請求項１で定義されたものと同義であることを特徴とするアンサメタロセン錯体。
【請求項７】
式（Ｉ）のアンサメタロセン錯体を、式（ＩＶ）のアンサメタロセン錯体の製造のための中間体として使用する方法。
【請求項８】
式（Ｉ）のアンサメタロセン錯体を、オレフィン性不飽和化合物の重合用の触媒組成物の成分として使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
HMGB1関連病変またはHMGB1相同タンパク質に関連する病変の予防または治療のための医薬の製造のための、HMGB1タンパク質またはHMGB1相同タンパク質に結合することができる、ベント型構造を有する合成二本鎖核酸または核酸アナログ分子の使用。
【請求項２】
前記二本鎖核酸または核酸アナログ分子が塩基対部分と不対部分とを有する、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記二本鎖核酸または核酸アナログ分子がベントDNA構造または十字型DNA構造を有する、請求項１または２に記載の使用。
【請求項４】
前記ベント型構造が、少なくとも１つの曲がった構造、好ましくは１つの曲がった構造を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項５】
前記医薬が、少なくとも１つの天然に存在しないヌクレオチド構成ブロックを有する核酸アナログを含み、該ブロックが好ましくは骨格、糖、及び核酸塩基が修飾されている構成ブロック、並びにその組み合わせから選択される、請求項１から４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項６】
前記核酸アナログ分子が、二本鎖DNA/PNAハイブリッド分子、二本鎖DNA/LNAハイブリッド分子、二本鎖LNA/PNAハイブリッド分子、二本鎖DNA/PNAキメラ分子、二本鎖DNA/LNAキメラ分子、及び/または二本鎖LNA/PNAキメラ分子である、請求項１から５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項７】
前記核酸または核酸アナログ分子が、一般式(I)：
【化１】
2008504335.tif 000001
[式中、W、W'、X、X'、Y、Y'、V、V'、及びZは、ヌクレオチド構成ブロックまたはヌクレオチドアナログ構成ブロックから独立に選択される；
XとY、X'とY'、WとW' 、及びVとV'の各々が相補的な構成ブロックであり、好ましくはワトソン-クリック塩基形成に従ってマッチングする；
Z1からZrは、不対ヌクレオチド構成ブロックまたは不対ヌクレオチドアナログ構成ブロックの押し出されているループを表す；
n、m、n'、m'は2から20の整数である；
rは1から10の整数である；並びに
sとs'は各々独立に0から10の整数である]
によって表される分子である、請求項１から６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項８】
W、W'、X、X'、Y、Y'、V、V'、及びZが、DNAヌクレオチド構成ブロック、LNAヌクレオチド構成ブロック、またはPNAヌクレオチドアナログ構成ブロック、あるいは糖、骨格、及び/または核酸塩基が修飾されているヌクレオチド構成ブロックより独立に選択される、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
W、X、X'、Y、Y'、及びVが、DNAヌクレオチド構成ブロック及び/またはLNAヌクレオチド構成ブロックであり、
W及びV'がPNAヌクレオチド構成ブロックであり、
Zがアデニンヌクレオチド又はアデニンヌクレオチドアナログであり、
n及びm'が2；
n'及びmが5；
rが2または6；
sが0、並びにs'が3
である、請求項７または８に記載の使用。
【請求項１０】
前記HMGB1関連病変及びHMGB1相同タンパク質に関連する病変が、炎症性サイトカインカスケードの活性化によって介在される病変状態であり、好ましくは、炎症性疾患、自己免疫疾患、全身性炎症反応症候群、器官移植後の再灌流障害、心臓血管疾患、産科及び婦人科の疾患、感染症、アレルギー及びアトピー疾患、固形及び流体腫瘍病変、移植拒絶疾患、先天性の疾患、皮膚疾患、神経疾患、悪液質、腎疾患、医原性中毒状態、代謝疾患及び特発性の疾患、並びに眼科の疾患からなる群より選択される、請求項１から９のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１１】
炎症性サイトカインカスケードの初期の調節因子を阻害することができる少なくとも1つの更なる剤を組み合わせる、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１２】
HMGB1とToll様レセプター(TLR)との相互作用のインヒビターであるか又はトロンボモジュリンのN末端レクチン様ドメイン(D1)である、更なる剤を組み合わせる、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１３】
活性剤として、請求項１から９のいずれか一項に規定される二本鎖核酸または核酸アナログ分子の少なくとも1つの有効量と、任意に製薬学的に許容される担体とを含む、製薬組成物。
【請求項１４】
前記二本鎖核酸または核酸アナログ分子が、請求項１１に規定される炎症性サイトカインカスケードの初期の調節因子を阻害することができる少なくとも1つの更なる剤、及び/または請求項１２に規定される更なる剤と組み合わされる、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
診断的応用ためのおよび／または治療的応用ための、請求項１３または１４に記載の組成物。
【請求項１６】
請求項１から９のいずれか一項に規定される合成二本鎖核酸または核酸アナログ分子で可逆的にコーティングされている医療器具。
【請求項１７】
請求項１から９のいずれか一項に規定される二本鎖核酸または核酸アナログ分子の少なくとも1つを含む、HMGB1関連病変によって、好ましくは炎症性、心臓血管、神経変性、腫瘍性、及び/または自己免疫性の病変によって影響を受けている疑いがある患者より得られる体液、好ましくは血清及び/または血漿中のHMGB1を測定するためのキット。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月6日(2008.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2008504314.tif 000001
〔式中、
Ｒ１およびＲ２が同じかまたは異なり、そして各々独立して、−（Ｃ1−Ｃ4）−アルキルであり、
Ｒ３が、１）−Ｃ（Ｏ）−（Ｃ1−Ｃ4）−アルキル（ここで、該アルキルはＣｌもしくはＢｒで一置換される）または
２）−Ｃ（Ｏ）−（Ｃ3−Ｃ6）−シクロアルキルであり、そして
Ｚが、水素原子または−（Ｃ1−Ｃ10）−アルキルである〕
の化合物および／または式Ｉの化合物の塩を得る方法であって、
式ＩＩ：
【化２】
2008504314.tif 000002
（式中、
Ｒ１およびＲ３が各々式Ｉで定義される通りであり、
Ｘが、Ｃｌ、Ｂｒまたは−ＯＨであり、そして
Ｒ４が、式ＩのＲ２基について定義される通りであるか、またはＸと一緒になってＣ＝Ｃ二重結合である）
の化合物を、濃硫酸、フッ化水素もしくは超酸またはそれらの混合物の存在下、一酸化炭素または一酸化炭素を放出する化合物と反応させ、次いで
ａ）水を添加して、式Ｉ（ここで、Ｚは水素原子である）の化合物を得るか、または
ｂ）ＸがＣｌもしくはＢｒであるか、またはＲ４がＸと一緒になってＣ＝Ｃ二重結合である場合、（Ｃ1−Ｃ10）−アルキル−ＯＨを添加して、式Ｉ（ここで、Ｚは−（Ｃ1−Ｃ10）−アルキルである）の化合物を得る
ことを包含する、上記方法。
【請求項２】
式Ｉ中、
Ｒ１およびＲ２が同時にメチルであり、
Ｒ３が、１．−Ｃ（Ｏ）−プロピル（ここでプロピルはＣｌで一置換されている）または
２．−Ｃ（Ｏ）−シクロプロピルであり、そして
Ｚが水素原子または−（Ｃ1−Ｃ4）−アルキルである、
化合物を得る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用される一酸化炭素を放出する化合物が、ギ酸、無機カチオンもしくは有機カチオンとのギ酸塩または金属カルボニルの群からの少なくとも１種の化合物である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
使用される超酸が、過塩素酸、クロロスルホン酸、フルオロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペルフルオロブタン−１−スルホン酸またはルイス酸（例えば、ＳＯ3、三塩化アルミニウムもしくは五フッ化アンチモン）、または共役プロトン酸−ルイス酸複合体（例えば、硫酸とＳＯ3、硫酸とホウ酸、フルオロスルホン酸と五フッ化アンチモン、トリフルオロメタンスルホン酸と五フッ化アンチモン、フッ化水素と五フッ化アンチモン、ＨＦとＴａＦ5、ＢＦ3とＨＦ（ＨＢＦ4、テトラフルオロホウ酸）、ＢＦ3・Ｈ3ＰＯ4複合体もしくはフルオロスルホン酸とＳＯ3）、またはＨＳＯ3ＦとＨＦおよびＳｂＦ5、またはＨＳＯ3ＦとＳＯ3およびＳｂＦ5の共役複合体の群からの酸である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
固定化された超酸、特に固定化されたトリフルオロメタンスルホン酸またはフルオロスルホン酸を使用する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
反応を、液体二酸化硫黄、超臨界二酸化炭素、スルホラン、４〜１２個の炭素原子を有するｎ−アルカン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、トルエン、クメン、ハロゲン化炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、またはｎ−酢酸ブチルの群からの、超酸に対して十分に不活性な溶媒の存在下で行う、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
反応を、一酸化炭素と接触する条件下で、酸化銅（Ｉ）、酸化銀（Ｉ）、硝酸銀、ペンタカルボニル鉄Ｆｅ（ＣＯ）5、テトラカルボニル鉄酸二ナトリウム（−２）Ｎａ2Ｆｅ（ＣＯ）4、オクタカルボニル二コバルト（０）Ｃｏ2（ＣＯ）8またはニッケルテトラカルボニルＮｉ（ＣＯ）4のような金属カルボニルに迅速に変換される添加物の存在下で行う、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
式Ｉ（ここで、Ｚは−（Ｃ1−Ｃ10）−アルキルである）の化合物が対応するアルコールおよび式Ｉ（Ｚ＝Ｈ）のカルボン酸に開裂される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
反応を、１ｂａｒ〜５００ｂａｒ、好ましくは１〜４０ｂａｒ、より好ましくは５〜２５ｂａｒのＣＯ圧で行い、そして−７０℃〜＋１００℃、好ましくは−１０℃〜＋５０℃、より好ましくは０℃〜＋４０℃の反応温度で行う、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
超酸１リットルあたり０.１ｍｏｌ〜５.０ｍｏｌ、特に０.３ｍｏｌ〜３.０ｍｏｌ、好ましくは０.４ｍｏｌ〜２.０ｍｏｌの式ＩＩの化合物を使用する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
式ＩＩの化合物に基づいて、５ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％、好ましくは１０〜３０ｍｏｌ％、特に約２０ｍｏｌ％の量で添加物を使用する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
式ＩＩの化合物を、水および濃硫酸もしくはフッ化水素、もしくは超酸、またはそれらの混合物の存在下、一酸化炭素または一酸化炭素を放出する化合物と反応させ、この水が、式ＩＩの化合物に基づいて、２ｍｏｌ％〜８００ｍｏｌ％の量で存在する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
式ＩＩ（Ｘが臭素であり、Ｒ１がメチルであり、Ｒ２がメチルであり、かつＲ３が４−クロロブチリルである）の化合物をトリフルオロメタンスルホン酸および水の存在下、一酸化炭素と反応させ、この水が式ＩＩの化合物に基づいて、５０ｍｏｌ％〜５００ｍｏｌ％の量で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
式ＩＩの化合物に基づいて、水を９０ｍｏｌ％〜３００ｍｏｌ％、特に約２００ｍｏｌ％の量で使用する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
式Ｘ：
【化３】
2008504314.tif 000003
（ここでＹが塩素原子または臭素原子であり、かつ
Ｒ１およびＲ５が同じかまたは異なり、そして各々独立して、−（Ｃ1−Ｃ4）−アルキルである）の化合物。
【請求項１６】
Ｙが塩素原子であり、かつＲ１およびＲ５が各々メチルである、請求項１５に記載の式Ｘの化合物。
【請求項１７】
請求項１５に記載の式Ｘの化合物を得る方法であって、以下：
ａ）式ＩＩＩ：
【化４】
2008504314.tif 000004
（ここで、Ｙが塩素原子または臭素原子であり、かつＲ１およびＲ４が同じかまたは異なり、そして各々独立して、−（Ｃ1−Ｃ4）−アルキルである）の化合物を酢酸コバルト（ＩＩ）四水和物およびＮ−ヒドロキシフタルイミドの存在下、酸素と反応させる、または
ｂ）式ＸＩ：
【化５】
2008504314.tif 000005
（ここで、Ｙが塩素原子または臭素原子であり、Ｘが塩素原子または臭素原子であり、Ｒ１およびＲ４が同じかまたは異なり、そして各々独立して、−（Ｃ1−Ｃ4）−アルキルであるか、またはＲ４とＸが一緒になってＣ＝Ｃ二重結合である）の化合物を水と反応させることを包含する、上記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビスフェノールＡの調製において生成される部分ストリームであって、４０〜９０質量％のフェノールと、５〜４０質量％のビスフェノールＡと、フェノールとアセトンとを反応させてビスフェノールＡを得る反応により生成される５〜４０質量％の第二成分と、を含む部分ストリームからフェノールを連続的に分離するためのプロセスであって、
ａ）上記部分ストリームを、少なくとも５つの分離理論段を含む蒸留塔に供給する工程と、
ｂ）上記蒸留塔において、フェノールをその上部で蒸留する工程と、
ｃ）当該プロセスから、残留生成物の第１の部分を放出する工程と、
ｄ）滞留時間コンテナに連続的に上記残留生成物の第２の部分を移送し、上記滞留時間コンテナにおいて、上記残留生成物に含まれる第二成分を、１９０℃より高い温度、少なくとも１２０分の水力学的滞留時間、酸触媒存在下で、少なくとも部分的に異性化し、その後上記蒸留塔に再び戻す工程と、を含み、
上記滞留時間コンテナに供給される残留生成物部分の質量流量が、工程ａ）において蒸留塔に導入される部分ストリームの質量流量の３０％より大きいことを特徴とするプロセス。
【請求項２】
上記工程ｄ）において酸触媒として硫酸が使用されることを特徴とする請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
上記工程ｄ）における異性化が２００℃より高い温度で実行されることを特徴とする請求項１又は２記載のプロセス。
【請求項４】
上記工程ｄ）における異性化が少なくとも４時間の水力学的滞留時間で実行されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項５】
上記工程ｄ）において、９９．８質量％より高い純度を有するフェノールが得られることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月12日(2008.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
スクリューキャップ（７）を首部（３）の雄ねじ（４）にねじ込む前に、片面が付着手段で被覆された補剛プレート片（２２）をスクリューキャップ（７）内に挿入し、それに続いてねじ込むときに、首部（３）のリム（１１）に封着された封止フィルム（１４）に付着手段と共に押し付けて、ねじ込みが完了した後で補剛プレート片（２２）と封止フィルム（１４）との面状結合が行われることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
封止フィルム（１４’）が首部（３）の内のり幅（Ｗ）の内部で周方向に少なくとも部分的に設定破壊箇所として形成されたエンボス又はミシン目（２８）を有しており、蓋部（８’）の内面（２１）と封止フィルム（１４’）の表面との中間層（３３）を介した接着又は溶着が、エンボス又はミシン目（２８）に囲まれた面（３２）の領域でのみ行われることを特徴とする、請求項１２記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
本発明に従えば、容器若しくは瓶１の首部３にスクリューキャップ７’をねじ込む前に、蓋部８’若しくはその内面２１と封止フィルム１４’との間に、熱可塑性プラスチック、接着剤及び／又は封止塗料からなる中間層３３を挿入する。このようにするとスクリューキャップ７’を容器１の首部３にねじ込むと中間層３３が蓋部８’の内面２１によって封止フィルム１４’に押し付けられ、次いで内面２１が封止フィルム１４’の表面と溶着又は接着されて、封止フィルム１４’が内面２１に固く付着し、そしてスクリューキャップ７’をねじって容器１若しくは瓶１の首部３から外すときに封止フィルムス１４’が付着しているために、スクリューキャップ７’と共に少なくとも部分的に移動する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
この場合に使用される封止フィルム１４’は、首部３の内のり幅Ｗの内部で周方向に少なくとも部分的に設定破壊箇所として形成されたエンボス又はミシン目２８を有しており、蓋部８’の内面２１と封止フィルム１４’の表面との中間層３３を介した接着又は溶着は、エンボス又はミシン目２８に囲まれた面３２の領域でのみ行われるようにすると合理的である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月29日(2008.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分配器と該分配器をパッケージ内で懸架する少なくとも1つの支持部を収容するパッケージ。
【請求項２】
前記パッケージは、前記分配器が前記支持部によってその中で懸架される外部パッケージを有する、請求項1に記載のパッケージ。
【請求項３】
前記分配器がその部品の相対運動によって分配するように操作される、請求項1または2に記載のパッケージ。
【請求項４】
前記分配器が吸入器である、請求項1から3のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項５】
前記分配器がpMDIである、請求項3に記載のパッケージ。
【請求項６】
前記支持部が弾性材料で製作されている、請求項1から5のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項７】
弾性材料がボール紙である、請求項6に記載のパッケージ。
【請求項８】
前記少なくとも1つの支持部が少なくとも1つの挿入物を備える、請求項1から7のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項９】
前記少なくとも1つの支持部が変形形態である、請求項1から8のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１０】
前記少なくとも1つの支持部が、その非変形形態に戻るように付勢される、請求項9に記載のパッケージ。
【請求項１１】
その変形形態にある前記支持部が略半円筒状の形を有する、請求項9または10に記載のパッケージ。
【請求項１２】
その変形形態にある前記支持部が略V字形状の断面を有する、請求項9または10に記載のパッケージ。
【請求項１３】
前記支持部は、前記分配器を前記支持部に固定するための固定手段を備える、請求項1から12のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１４】
前記固定手段は、前記分配器がその上に配置される少なくとも1つの棚部を備える、請求項13に記載のパッケージ。
【請求項１５】
前記固定手段は、前記分配器に係合する少なくとも1つのタブを備える、請求項13または14に記載のパッケージ。
【請求項１６】
前記支持部は、少なくとも1つの端部の1つの側部に端部フラップを備え、該端部フラップは前記支持部の反対側の側部に固定されて、前記支持部がその非変形形態になることが妨げられる、請求項10または請求項10に従属する請求項11から15のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１７】
前記支持部が端部フラップを両端部に備える、請求項16に記載のパッケージ。
【請求項１８】
前記少なくとも1つの端部フラップは、前記支持部の2つの側部の間の距離よりも長く、前記支持部から離れて突出する、請求項16または17に記載のパッケージ。
【請求項１９】
前記支持部が略Z形状を有する、請求項1から18のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項２０】
前記支持部が窓を備え、前記分配器が該窓を通って延びる、請求項1から19のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項２１】
前記分配器が前記窓内に締まり嵌めされる、請求項20に記載のパッケージ。
【請求項２２】
前記支持部が前記分配器を支持する少なくとも1つの棚部をさらに備える、請求項19から21のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項２３】
前記支持部が前記分配器の両端部を支持する第1および第2の棚部を備える、請求項22に記載のパッケージ。
【請求項２４】
前記支持部が前記分配器の対向する側部上に位置決めされた少なくとも2つの可撓性ウェブを備える、請求項1から7のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項２５】
各可撓性ウェブの対向端部が前記外部パッケージの内面の対向する点に位置決めされ、前記ウェブが、それらの点の間で湾曲するようにそれら2つの点の間の距離より大きな長さを有する、請求項2に従属する請求項24に記載のパッケージ。
【請求項２６】
前記ウェブが前記分配器に向かって湾曲する、請求項25に記載のパッケージ。
【請求項２７】
前記ウェブが前記分配器から離れて湾曲する、請求項25に記載のパッケージ。
【請求項２８】
前記分配器が前記ウェブの間で把持される、請求項24から27のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項２９】
前記ウェブが挿入物である、請求項24から28のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項３０】
前記パッケージが2つ以上の延長フラップを有する箱を備える、請求項24から28のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項３１】
各ウェブが延長フラップによって形成される、請求項30に記載のパッケージ。
【請求項３２】
シースを備え、前記分配器が任意に懸架されて該シース内に取り囲まれる、請求項1から31のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項３３】
前記シースがヒートシールされる、請求項32に記載のパッケージ。
【請求項３４】
前記支持部が前記シースの内側にある、請求項32または33に記載のパッケージ。
【請求項３５】
前記支持部が前記分配器をその内部に備えた前記シースを懸架する、請求項32または33に記載のパッケージ。
【請求項３６】
分配器を梱包する方法であって、
請求項1から35のいずれか一項に記載のパッケージおよび少なくとも1つの支持部を準備し、
前記分配器を前記支持部によって前記パッケージ内に懸架し、
前記パッケージを閉じること、からなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月19日(2008.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レードル内、または別の同様の冶金容器内での金属浴のバブリングの振動制御の方法にして、それによって、攪拌ガスがレードルの底部を通って導入され、測定される予定の振動レベルを表す振動が、レードル上またはその枠上に配置された少なくとも１つのセンサによって集められ、送信された信号がサンプリングおよびデジタル化される方法であって、そのサンプリングデジタル化の前に、前記振動信号が、「ハイパス」アナログフィルタを用いて処理されること、およびそのサンプリングデジタル化の後に、このときはデジタルの、前記レードルに特有の振動応答に対して較正された第２のフィルタリングを受け、連続するデジタル化信号のシークエンスの後、各シークエンスが次に、スライド時間二次平均計算を受け、次にそこからこのようにして測定された振動信号の全体ＲＭＳ実効値を抽出され、この実効値が、容器に移送される攪拌ガスの流速を調節するために使用されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
集められた振動信号がまた、「ローパス」アナログフィルタリングによって処理されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
無限インパルス応答ＩＩＲフィルタが、前記第２のデジタルフィルタリングを実行するために使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
振動信号の前記時間二次平均が、攪拌ガスの流速の自動制御のシステムへ送信されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記冶金容器が製鋼レードルであることを特徴とする、請求項１から４の一項に記載の方法。
【請求項６】
流速を調節するための装置を備えるパイプを用いて、噴射される予定の加圧された攪拌ガスの供給源と連結された底部噴射器を備える、レードル内、または別の同様の冶金容器内での金属浴のバブリングの制御のための装置にして、容器自体の上または支持枠の上に装着された少なくとも１つの振動センサ（１０または１１）と、前記センサによって集められた振動信号を処理するためのユニットとを備える装置であって、前記信号処理ユニット（１２）が、振動信号を処理するものである、ハイパスアナログフィルタ（１３ａ）、デジタイザ（１５）、前記レードルの振動応答で較正されたデジタルフィルタ（１６）、およびＲＭＳタイプのスライド時間二次平均を数値計算するためのコンピュータ（１７）を、この連続する順序で少なくとも備えることを特徴とする、装置。
【請求項７】
前記ユニット（１２）がまた、ローパスアナログフィルタ（１３ｂ）を備えることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記デジタルフィルタが、無限インパルス応答ＩＩＲタイプのデジタルフィルタ（１６）であることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
噴射される予定の攪拌ガスの流速の自動制御のシステム（１７、１９）をさらに備えることを特徴とする、請求項７に記載の装置。