【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームの散乱体／距離変調装置であって、
調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の高原子番号材料と、
前記液体の高原子番号材料と直列に配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の低原子番号材料と、
対象部位のビームへの暴露の最中に、高原子番号および低原子番号の経路長を個別に調節するプログラマブル・コントローラと、
を有している散乱体／距離変調装置。
【請求項２】
請求項１において、前記低原子番号材料の経路長および前記高原子番号材料の経路長が個別に、連続的に調節可能である散乱体／変調装置。
【請求項３】
請求項１において、前記荷電粒子が陽子である散乱体／変調装置。
【請求項４】
荷電粒子ビームをもたらす荷電粒子の供給源と、
調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の高原子番号材料と、
前記液体の高原子番号材料と直列に配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の低原子番号材料と、
対象部位のビームへの暴露の最中に高原子番号および低原子番号の経路長を個別に調節するプログラマブル・コントローラと、
を備えている荷電粒子ビームの散乱体／距離変調装置を有している放射線治療装置。
【請求項５】
請求項４において、前記低原子番号材料の経路長および前記高原子番号材料の経路長が個別に、連続的に調節可能である放射線治療装置。
【請求項６】
請求項４において、荷電粒子が陽子である放射線治療装置。
【請求項７】
請求項４において、前記供給源がサイクロトロンである放射線治療装置。
【請求項８】
請求項７において、前記サイクロトロンがシンクロサイクロトロンである放射線治療装置。
【請求項９】
請求項４において、粒子ビームの強度を測定してビーム強度を前記プログラマブル・コントローラへと通信するビーム監視器をさらに備えており、
前記プログラマブル・コントローラが、総ビーム強度に応じて前記低原子番号材料および高原子番号材料の経路長を個別に調節する放射線治療装置。
【請求項１０】
請求項９において、前記プログラマブル・コントローラが、前記低原子番号材料および高原子番号材料の経路長を個別に、連続的かつリアルタイムに調節する放射線治療装置。
【請求項１１】
荷電粒子ビームの散乱および／または距離の変調を行う方法であって、
前記荷電粒子ビームを、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の高原子番号材料を通って導くステップと、
前記荷電粒子ビームを、前記液体の高原子番号材料と直列に配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の低原子番号材料を通って導くステップと、
対象部位のビームへの暴露の最中に、前記高原子番号材料および低原子番号材料の経路長を個別に、プログラマブル・コントローラによる制御のもとで調節するステップと、
を含んでいる方法。
【請求項１２】
請求項１１において、前記低原子番号材料の経路長および前記高原子番号材料の経路長を個別に、連続的に調節する方法。
【請求項１３】
請求項１１において、前記荷電粒子が陽子である方法。
【請求項１４】
請求項１１において、粒子ビームの強度を測定するステップと、
ビーム強度に応じて、前記低原子番号材料および高原子番号材料の経路長を個別に、前記プログラマブル・コントローラによって調節するステップと、
をさらに含んでいる方法。
【請求項１５】
請求項１４において、前記プログラマブル・コントローラが、前記低原子番号材料および高原子番号材料の経路長を個別に、連続的かつリアルタイムに調節する方法。
【請求項１６】
荷電粒子ビームの散乱体／距離変調装置であって、
前記粒子ビームの経路内に対向する壁を有している流体容器と、
前記流体容器の前記壁間の距離を調節するための駆動部と、
対象部位のビームへの暴露の最中に、前記流体容器の前記壁間の距離を調節するための前記駆動部のためのプログラマブル・コントローラと、
を有している散乱体／距離変調装置。
【請求項１７】
請求項１６において、前記流体容器の前記対向する壁間の距離が連続的に調節可能である散乱体／距離変調装置。
【請求項１８】
請求項１７において、前記粒子ビームの経路内に直列に配置された第１および第２の流体容器を有している散乱体／距離変調装置。
【請求項１９】
請求項１８において、前記第１の流体容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の流体容器の前記対向する壁間の距離が個別に、連続的に調節可能である散乱体／距離変調装置。
【請求項２０】
請求項１９において、前記第１の流体容器内の高原子番号材料および前記第２の流体容器内の低原子番号材料をさらに含んでいる散乱体／距離変調装置。
【請求項２１】
請求項１６において、前記荷電粒子が陽子である散乱体／距離変調装置。
【請求項２２】
荷電粒子ビームを供給する荷電粒子の供給源と、
粒子ビームの経路内に対向する壁を有している流体容器と、前記流体容器の前記壁間の距離を調節するための駆動部と、
対象部位のビームへの暴露の最中に、前記流体容器の前記壁間の距離を調節するための前記駆動部のためのプログラマブル・コントローラと、
を備えている前記荷電粒子ビームの散乱体／距離変調装置を有している放射線治療装置。
【請求項２３】
請求項２２において、前記流体容器の前記対向する壁間の距離が連続的に調節可能である装置。
【請求項２４】
請求項２３において、粒子ビームの経路内に直列に配置された第１および第２の流体容器を有している放射線治療装置。
【請求項２５】
請求項２４において、前記第１の流体容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の流体容器の前記対向する壁間の距離が個別に、連続的に調節可能である放射線治療装置。
【請求項２６】
請求項２５において、前記第１の流体容器内の高原子番号材料および前記第２の流体容器内の低原子番号材料をさらに含んでいる放射線治療装置。
【請求項２７】
請求項２５において、前記荷電粒子が陽子である放射線治療装置。
【請求項２８】
請求項２７において、前記供給源がサイクロトロンである放射線治療装置。
【請求項２９】
請求項２８において、前記サイクロトロンがシンクロサイクロトロンである放射線治療装置。
【請求項３０】
請求項２５において、粒子ビームの強度を測定するためのビーム監視器をさらに備えており、
前記プログラマブル・コントローラが、ビーム強度に応じて、前記第１の流体容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の流体容器の前記対向する壁間の距離を個別に調節する放射線治療装置。
【請求項３１】
請求項３０において、前記プログラマブル・コントローラが、前記第１の流体容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の流体容器の前記対向する壁間の距離を個別に、連続的かつリアルタイムに調節する放射線治療装置。
【請求項３２】
荷電粒子ビームを供給するシンクロサイクロトロンと、
前記シンクロサイクロトロンの抽出チャネル内に配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の高原子番号材料と、
前記シンクロサイクロトロンの抽出チャネル内であって、前記液体の高原子番号材料と直列に配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の低原子番号材料と、
対象部位のビームへの暴露の最中に高原子番号および低原子番号の経路長を個別に調節するプログラマブル・コントローラと、
を備えた荷電粒子ビームの散乱体／距離変調装置を有している放射線治療装置。
【請求項３３】
請求項３２において、前記低原子番号材料の経路長および前記高原子番号材料の経路長を個別に、連続的に調節可能である放射線治療装置。
【請求項３４】
請求項３２において、前記荷電粒子が陽子である放射線治療装置。
【請求項３５】
請求項３２において、粒子ビームの強度を測定してビーム強度を前記プログラマブル・コントローラへと通信するビーム監視器をさらに備えており、
前記プログラマブル・コントローラが、総ビーム強度に応じて前記低原子番号材料および前記高原子番号材料の経路長を個別に調節する放射線治療装置。
【請求項３６】
請求項３５において、前記プログラマブル・コントローラが、前記低原子番号および高原子番号の経路長を個別に、連続的かつリアルタイムに調節する放射線治療装置。
【請求項３７】
荷電粒子ビームの散乱および／または距離の変調を行う方法であって、
シンクロサイクロトロンにて粒子ビームを生成するステップと、
シンクロサイクロトロンの抽出チャネルに配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の高原子番号材料を通って、前記荷電粒子ビームを導くステップと、
前記シンクロサイクロトロンの抽出チャネル内であって、前記液体の高原子番号材料と直列に配置され、調節可能な経路長を粒子ビームの経路内に有している液体の低原子番号材料を通って、前記荷電粒子ビームを導くステップと、
対象部位のビームへの暴露の最中に、前記高原子番号材料および低原子番号材料の経路長を個別に、プログラマブル・コントローラによる制御のもとで調節するステップと、
を含んでいる方法。
【請求項３８】
請求項３７において、前記低原子番号材料の経路長および前記高原子番号材料の経路長を個別に、連続的に調節可能である方法。
【請求項３９】
請求項３７において、前記荷電粒子が陽子である方法。
【請求項４０】
請求項３７において、粒子ビームの強度を測定するステップと、
ビーム強度に応じて、前記低原子番号材料および高原子番号材料の経路長を個別に、前記プログラマブル・コントローラによって調節するステップと、
をさらに含んでいる方法。
【請求項４１】
請求項４０において、前記プログラマブル・コントローラが、前記低原子番号材料および高原子番号材料の経路長を個別に、連続的かつリアルタイムに調節する方法。
【請求項４２】
荷電粒子ビームを供給するシンクロサイクロトロンと、
前記シンクロサイクロトロンの抽出チャンネル内に配置され、粒子ビームの経路内に対向する壁を有している流体容器と、
前記流体容器の前記壁間の距離を調節するための駆動部と、
対象部位のビームへの暴露の最中に、前記容器の前記壁間の距離を調節するための前記駆動部のためのプログラマブル・コントローラと、
を備えた荷電粒子ビームの散乱体／距離変調装置を有している放射線治療装置。
【請求項４３】
請求項４２において、前記流体容器の前記対向する壁間の距離を連続的に調節可能である放射線治療装置。
【請求項４４】
請求項４３において、粒子ビームの経路内に直列に配置された第１および第２の流体容器を有している放射線治療装置。
【請求項４５】
請求項４４において、前記第１の流体容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の流体容器の前記対向する壁間の距離が個別に、連続的に調節可能である放射線治療装置。
【請求項４６】
請求項４５において、前記第１の流体容器内の高原子番号材料および前記第２の流体容器内の低原子番号材料をさらに含んでいる放射線治療装置。
【請求項４７】
請求項４５において、前記荷電粒子が陽子である放射線治療装置、
【請求項４８】
請求項４５において、粒子ビームの強度を測定するためのビーム監視器をさらに備えており、
前記プログラマブル・コントローラが、ビーム強度に応じて、前記第１の容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の容器の前記対向する壁間の距離を個別に調節する放射線治療装置。
【請求項４９】
請求項４８において、前記プログラマブル・コントローラが、前記第１の容器の前記対向する壁間の距離および前記第２の容器の前記対向する壁間の距離を個別に、連続的かつリアルタイムに調節する放射線治療装置。