【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１誘電層と、
第１誘電層上の第１炭素層と、
第１炭素層上の第２誘電層とからなる色シフト多層干渉膜であり、
前記第１炭素層は、屈折率が２．１１より大きく且つ吸収率が０．９より大きいことを特徴とする色シフト多層干渉膜。
【請求項２】  前記第１炭素層が、２５Å〜１０００Åの物理的厚さを有する請求項１記載の干渉膜。
【請求項３】  前記第１及び第２誘電層が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの設計波長で２ＱＷＯＴ〜９ＱＷＯＴの光学的厚さを有する請求項１記載の干渉膜。
【請求項４】  前記第１及び第２誘電層が、それぞれ１．６５又はそれ未満の屈折率を有する請求項１記載の干渉膜。
【請求項５】  前記第１及び第２誘電層が、二酸化珪素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ化アルミニウムナトリウム、フッ化ネオジミウム、フッ化サマリウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、及びその組み合わせからなる群から選択される材料を含有する請求項４記載の干渉膜。
【請求項６】  前記第１及び第２誘電層が、アクリレート、パーフルオロアルケン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレン、及びその組み合わせからなる群から選択される材料を含有する請求項４記載の干渉膜。
【請求項７】  前記第１及び第２誘電層が１．６５より大きい屈折率を有する請求項１記載の干渉膜。
【請求項８】  前記第１及び第２誘電層が、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、ニ酸化チタン、酸化インジウム、インジウム−スズ−酸化物、五酸化タンタル、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ユーロピウム、酸化鉄、窒化ハフニウム、炭化ハフニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、酸化マグネシウム、酸化ネオジミウム、酸化プラセオジム、酸化サマリウム、三酸化アンチモン、炭化珪素、窒化珪素、一酸化珪素、三酸化セレニウム、酸化スズ、三酸化タングステン、及びその組み合わせからなる群から選択される材料を含有する請求項７記載の干渉膜。
【請求項９】  前記第１及び第２誘電層が、それぞれ１．３８〜２．３の屈折率を有する請求項１記載の干渉膜。
【請求項１０】  前記第１及び第２誘電層が、一酸化珪素、二酸化珪素、及びその組み合わせからなる群から選択される材料を含有する請求項９記載の干渉膜。
【請求項１１】  膜を複数の多層干渉薄片、又はホットスタンプ箔に形成する請求項１記載の干渉膜。
【請求項１２】  さらに、第１誘電層上の第２炭素層、及び第２誘電層上の第３炭素層を含む請求項１記載の干渉膜。
【請求項１３】  前記第２及び第３炭素層が、２５Å〜１０００Åの物理的厚さを有する請求項１２記載の干渉膜。
【請求項１４】  前記第１、第２、及び第３炭素層が同様の物理的厚さを有する請求項１２記載の干渉膜。
【請求項１５】  膜を複数の多層干渉薄片、又はホットスタンプ箔に形成する請求項１２記載の干渉膜。
【請求項１６】  少なくとも第２又は第３炭素層の１つが１．５より大きい屈折率を有する請求項１２記載の干渉膜。
【請求項１７】  炭素層の少なくとも１つは、屈折率の吸収率に対する割合が０．１〜１０である請求項１２記載の干渉膜。
【請求項１８】  第１及び第２誘電層が、第１炭素層を囲む連続被膜を形成する請求項１記載の干渉膜。
【請求項１９】  第２及び第３誘電層が、第１及び第２誘電層を囲む連続被膜を形成する請求項１２記載の干渉膜。
【請求項２０】  さらに、第１及び第２誘電層の両方を囲む第３誘電層を含み、第３誘電層が第１及び第２誘電層と異なる屈折率を有する請求項１記載の干渉膜。
【請求項２１】  前記干渉膜が、顔料媒体中に分散する他の同様の複数の薄片と共に用いるための薄片であって、入射光の角度又は視覚変化として薄片への色シフトが起こる請求項１〜２０のいずれかに記載の干渉膜。
【請求項２２】  顔料媒体が、アクリルメラミン、ウレタン、ポリエステル、ビニル樹脂、アクリレート、メチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂、エポキシ、スチレン、アルキド樹脂系インク及び塗料配合物、及びその混合物からなる群から選択される材料を含有する請求項２１記載の干渉膜。
【請求項２３】  前記第１炭素層が、２００Å〜５００Åの物理的厚さを有することを特徴とする請求項２１記載の干渉膜。
【請求項２４】  前記第１誘電層が、４００ｎｍ〜６００ｎｍの設計波長で２ＱＷＯＴ〜６ＱＷＯＴの光学的厚さを有する請求項２１記載の干渉膜。
【請求項２５】  前記第１誘電層が、アクリレート、重合性パーフルオロアルケン、ポリテトラフルオロエチレン、重合性フッ素化エチレンプロピレン、パリレン、及びその組み合わせからなる群から選択される材料を含有する請求項２１記載の干渉膜。
【請求項２６】  前記第１誘電層が１．３８〜２．３の屈折率を有する請求項２１記載の干渉膜。
【請求項２７】  さらに、干渉薄片が、前記誘電層の１つ上の第２炭素層、及び第２炭素層上の第３誘電層を含む請求項２１記載の干渉膜。
【請求項２８】  前記第１、第２、及び第３誘電層が同様の光学的厚さを有する請求項２７記載の干渉膜。
【請求項２９】  前記第１、第２、及び第３誘電層が同様の材料からなる請求項２７記載の干渉膜。
【請求項３０】  さらに、層状顔料、非層状顔料、高彩度小板、高反射小板、及びその混合物からなる群から選択される添加材料を含む請求項２１記載の干渉膜。
【請求項３１】  層状顔料が、アルミニウム薄片、グラファイト薄片、マイカ薄片、ガラス薄片、鉄酸化物薄片、ホウ素窒化物薄片、ＴｉＯ2系干渉被膜マイカ薄片、複数被膜小板状シリカ系干渉顔料、金属誘電又は全誘電干渉顔料、及びその混合物からなる群から選択される請求項３０記載の干渉膜。
【請求項３２】  非層状顔料が、無機顔料、アルミニウムパウダー、カーボンブラック、ウルトラマリンブルー、コバルト系顔料、ルチル又はスピネル系無機顔料、自然に生じる顔料、有機染料又は顔料、及びその混合物からなる群から選択される請求項３０記載の干渉膜。
【請求項３３】  高反射小板が、ＭｇＦ2／Ａｌ／ＭｇＦ2小板、又はＳｉＯ2／Ａｌ／ＳｉＯ2／小板である請求項３０記載の干渉膜。
【請求項３４】  少なくとも１つの炭素層が、１．５より大きい屈折率を有する請求項２１記載の干渉膜。
【請求項３５】  少なくとも１つの炭素層は、屈折率の吸収率に対する割合が０．１〜１である請求項２１記載の干渉膜。
【請求項３６】少なくとも１つの誘電層が、第１炭素層を囲む連続被膜を形成する請求項２１記載の干渉膜。
【請求項３７】  第２及び第３誘電層が、炭素層を囲む連続被膜を形成する請求項２７記載の干渉膜。
【請求項３８】  ウェブ材料の上面に第１誘電層を形成し、
第１誘電層上に第１炭素層を形成し、
第１炭素層上に第２誘電層を形成して干渉膜を形成し、
複数の多層干渉薄片又は箔を形成するためにウェブ材料から干渉膜を除去する工程からなる色シフト干渉顔料の製造方法。
【請求項３９】  さらに、第２誘電層上に第２炭素層を形成し、干渉膜をウェブ材料から除去する前に第２炭素層上に第３誘電層を形成する工程を含む請求項３８記載の方法。
【請求項４０】  さらに、干渉薄片と顔料媒体とを混合する工程を含む請求項３８記載の方法。
【請求項４１】  さらに、干渉薄片を第１及び第２誘電層の両方を囲む第２炭素層で被膜する工程を含む請求項３８記載の方法。
【請求項４２】  さらに、干渉薄片を第１及び第２誘電層の両方を囲む第３誘電層で被膜する工程を含み、第３誘電層が第１及び第２誘電層の屈折率と異なる屈折率を有する請求項３８記載の方法。