【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ投影装置（１）で基板（Ｗ；１１）の表面の傾斜および高さのうち少なくとも１つを決定するセンサを備えるアセンブリで、基板（Ｗ；１１）が、センサに対して基板の表面にほぼ平行な少なくとも１つの路に沿って移動可能であり、リソグラフィ投影装置が露光走査方向（ｙ）を有し、アセンブリが、上記少なくとも１つの路に沿って上記センサに対して基板を連続的に移動させ、上記少なくとも１つの路に沿って傾斜および高さのうち上記少なくとも１つに関する測定データを提供するよう構成され、アセンブリが、上記基板をその後に露光する間に上記リソグラフィ投影装置が使用するため、上記測定データを記憶するメモリ（１０）を備えるアセンブリであって、
基板の上記少なくとも１つの路が、少なくとも部分的に露光走査方向に対して角度を有し、
基板が縁の輪郭（１７）を有し、
センサが基板（Ｗ；１１）の縁の輪郭（１７）の少なくとも一部にほぼ沿って測定することを特徴とするアセンブリ。
【請求項２】
センサが基板（Ｗ；１１）の縁の輪郭（１７）に沿って１回で測定することを特徴とする、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
センサが測定中に、以下の方法のうち少なくとも１つで測定する、つまり
− ともに縁の輪郭（１７）を辿る複数の直線に沿って、
− 縁の輪郭（１７）に沿って段階的な路に沿って、および
− 形状が縁の輪郭とほぼ等しい輪郭（１７）に沿って
測定することにより、縁輪郭（１７）の幾何学的形状を近似するよう構成されることを特徴とする、請求項１または２に記載のアセンブリ。
【請求項４】
測定が実行されないギャップを介して続く複数の路に沿って上記センサで測定するようアセンブリが構成されることを特徴とする、請求項１から３いずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項５】
上記センサが、高さを測定できる少なくとも１つの感知スポットを有し、オン状態とオフ状態で切り換え可能なセンサを備え、切り換えが、上記センサの位置の関数として実行されることを特徴とする、請求項１から４いずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項６】
センサが複数の感知スポットを有し、センサが、上記少なくとも１つの路の少なくとも一部に沿って感知スポットのサブセットのみで測定するよう構成されることを特徴とする、請求項１から５いずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項７】
サブセットが縁の輪郭（１７）付近に目標部分を備え、上記目標部分のその後の露光中に、複数の路から得た上記記憶済み測定データを使用することを特徴とする、請求項１から６いずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項８】
リソグラフィ投影装置（１）で、
−  放射線源（ＬＡ）から放射された放射線から、放射線の投影ビーム（ＰＢ）を形成する放射線システム（Ｅｘ、ＩＬ）と、
−  上記投影ビームにパターンを形成するため、投影ビームによって照射されるパターニング手段を保持するよう構築された支持構造（ＭＴ）と、
−  基板（Ｗ）を保持するよう構築された基板テーブル（ＷＴ）と、
−  パターニング手段の照射部分を基板の目標部分に描像するよう構築され、構成された投影システム（ＰＬ）とを備え、
上記リソグラフィ投影装置が請求項１から７いずれか１項に記載のアセンブリを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
リソグラフィ投影装置（１）が、上記放射線ビーム（ＰＢ）を焦点面に投影し、メモリ（１０）から測定データを読み取って、測定データを使用し、基板の位置を調節して、放射線ビームで照射されたら、基板上に配置された目標部分を上記放射線ビーム（ＰＢ）の焦点面に最適に入れるよう構成されることを特徴とする、請求項８に記載のリソグラフィ投影装置（１）。
【請求項１０】
リソグラフィ投影装置（１）で基板（Ｗ；１１）の表面の傾斜および高さのうち少なくとも一方を決定する方法で、
−  基板（Ｗ；１１）を保持するよう構築された基板テーブル（ＷＴ）を設けることと、
−  センサを設けることと、
−  メモリ（１０）を設けることとを含み、
基板テーブル（ＷＴ）およびセンサが、相互に対して基板（Ｗ；１１）の表面にほぼ平行な少なくとも１つの路に沿って移動可能であり、リソグラフィ投影装置（１）が露光走査方向（ｙ）を有し、方法がさらに、
−  上記少なくとも１つの路に沿った傾斜および高さのうち上記少なくとも一方に関する測定データを提供しながら、上記少なくとも一方の路に沿って上記センサに対して基板を連続的に移動させることと、
−  その後に上記リソグラフィ投影装置（１）で上記基板を露光する間に使用するため、上記メモリ（１０）に上記測定データを保存することとを含み、
基板の上記少なくとも１つの路が少なくとも部分的に、露光走査方向に対して角度を有し、
基板（Ｗ；１１）の縁の輪郭（１７）の少なくとも一部にほぼ沿って測定することを特徴とする方法。
【請求項１１】
さらに、
−  放射線源から放射された放射線から、放射線の投影ビームを形成する放射線システムを設けることと、
−  上記投影ビームにパターンを形成するため、投影ビームによって照射されるパターニング手段を保持するよう構築された支持構造（ＭＴ）を設けることと
−  基板（Ｗ）を露光走査方向で走査することと、
−  上記基板の露光中に上記測定データを使用することとを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
以下の方法のうち少なくとも１つで測定する、つまり
−  ともに上記縁の輪郭（１７）を辿る複数の直線（３１）に沿って、
−  上記縁の輪郭（１７）に沿って段階的な路（３７）に沿って、および
−  形状が上記縁の輪郭（１７）とほぼ等しい輪郭に沿って
測定することを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
−  上記源によって上記放射線ビーム（ＰＢ）を生成し、上記放射線ビーム（ＰＢ）を上記基板（Ｗ）上の焦点面に投影することと、
−  メモリ（１０）から傾斜および高さのデータのうち上記少なくとも１つを読み取ることと、
−  傾斜および高さのデータのうち上記少なくとも１つを使用して、基板の位置を調節し、放射線ビームによって照射されたら、基板上に配置された目標部分を上記放射線ビーム（ＰＢ）の焦点面に最適に入れることとを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
基板のバッチにある少なくとも１つの基板（Ｗ）の傾斜および高さのうち上記少なくとも一方を決定し、上記少なくとも１つの基板の傾斜および高さのうち上記少なくとも一方を、上記バッチの全基板に使用することを特徴とする、請求項１０から１３いずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
図２には、リソグラフィ投影装置１のマスクＭＡと基板テーブルＷＴ間の区間が図示されている。区間１４には、図１のいわゆる投影システムＰ Ｌ が存在する。投影システムＰＬ は幾つかの要素を含み、当業者に知られるように放射線の投影ビームＰＢを案内し、調整する。放射線の投影ビームＰＢは、投影システムＰＬを通過した後、基板テーブルＷＴ上の基板Ｗの表面に衝突する。基板テーブルＷＴはアクチュエータ１２に接続される。これらのアクチュエータ１２は、中央処理ユニット（ＣＰＵ）８およびメモリ１０を有する制御装置６に接続される。中央処理ユニット８はさらに、センサ２５から情報を受信し、電子的手段（容量性、誘導性）または光学的手段、例えば干渉計（図１に図示）によって基板テーブルＷＴまたは基板テーブルホルダの実際の位置を測定する。ＣＰＵ８は、基板上の投影ビームＰＢが基板表面に衝突する目標区域から高さおよび／あるいは傾斜の情報を測定するセンサからの入力も受信する。このセンサ１５はレベルセンサの一部であり、これは以下で説明するように、センサ１５および光源２を備える。このアセンブリを、これ以降レベルセンサ２、１５と呼ぶ。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
例えばレベルセンサの読み取り値および／あるいはセンサ２５で測定した基板テーブルの位置（ｘ、ｙおよびｚ方向、さらにｘおよびｙ軸線の周囲の傾斜）など、焦点面からの局所的逸脱に関する測定データは、場合によってはその後に別の目標区域の露光または測定中に構成が使用するため、目標区域の露光または測定中にメモリ１０に記憶される。基板の縁の輪郭付近に位置する目標区域は、レベルセンサ２、１５のスポット（感知区域）が縁輪郭の外側にある、つまりレベルセンサの測定値を適用できない基板の区域にある場合は、もはや正確に測定することができない。これらのスポットは、ＦＥＣ内にあるか、基板の表面の完全に外側にあることもある。このような場合、レベルセンサ２、１５はもはや、高さおよび／あるいは傾斜を正確に決定できる測定データを提供することができず、基板１１上にレチクルを描像する間、高さおよび／あるいは傾斜に関して基板１１を位置決めするために、レベルセンサ２、１５による測定データに関する閉ループ制御を維持することが不可能になる。これで、焦点外れを最小にするために焦点面に基板１１を位置決めするには、基板１１上のいずれかの位置で測定したデータが必要になる。したがって、以前に基板の区域を測定中に記憶したメモリ１０内の記憶データを検索し、例えば外挿などによって、基板高さの制御に使用する高さおよび傾斜の値の計算に使用する。