【手続補正書】
【提出日】平成20年4月30日(2008.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式IIIａ：
【化４】
2004501097.tif 000001
式中、
各ＡおよびＢは独立して、
C(=O)、CH(OR3)、CH(SR3)、
CHR3CHR4、CR3R4、
C(=O)NR3、N=CR3
SOまたはSO2であり；
ＥおよびＦはそれらが結合している炭素原子と一緒に：  
置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換Ｃ3〜Ｃ6ヘテロシクロアルキル基（ここで該置換ヘテロシクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
少なくとも１つの基Ｇを環構造内に環内に含んで成る置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル基（ここでＧを含んで成る該置換ヘテロシクロアルキル基は少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換アリール基（ここで該置換アリール基は少なくとも１つの基Ｊを有する）；または
置換もしくは非置換ヘテロアリール基（ここで該置換ヘテロアリール基は少なくとも１つの基Ｊを有する）；
を形成し；
Ｇは、O、S、SO、SO2、NR2、NR3、NR2CO、NR2CONR3、NR2SO2またはNR3SO2であり；
Ｒ1は、水素、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルカノイル、低級アルキルスルホニル、低級アリールスルホニル、アミノ酸または保護アミノ酸であり；
Ｒ2は、水素、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルカノイル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノ酸または保護アミノ酸であり；
各Ｒ3およびＲ4は独立して、水素、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、または少なくとも１つの置換基Ｊを有するアリールであり；
Ｊは、J3-(J2)n-(J1)mであり、ここで各ｎおよびｍは独立して０または１であり；
各Ｊ1およびＪ2は独立して、カルボニル、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、カルボニルオキシ、スルホニル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノ、アミド、低級アルキルアミド、低級ジアルキルアミド、低級アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アミジノ、グアニジノ、酸素、硫黄、低級アルコキシ、低級アリールオキシ、アラルコキシ、低級アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、スルホニルアミド、アルキルスルホニルアミド、アリールスルホニルアミド、アミノ酸または保護アミノ酸であり；そして
Ｊ3は、水素、ハロ、ヒドロキシ、チオ、シアノ、スルホン酸、カルボキシル、低級アルキル、アリールオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニル、ホスホン酸、低級アルキル、ホスホン酸の低級アルキルエステル、ホスホン酸のアリールエステル、アミノカルボニルオキシ、ヘテロアリールまたはヘテロシクロアルキルであり；そして
任意の２つの隣接するＪ基は、結合して-X-(CH2)p-X-を形成することができ、
ここでＸは独立してＯまたはNHであり、そしてpは１または２であり；そして
各Ｘ1およびＸ2は独立して、基Ｊ、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、置換もしくは非置換Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換Ｃ2〜Ｃ6ヘテロシクロアルキル（ここで該置換ヘテロシクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換アリール（ここで該置換アリール基は少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換ヘテロアリール（ここで該置換ヘテロアリール基は少なくとも１つの置換基Ｊを有する）であるか；あるいは
Ｘ1およびＸ2は、それらが結合している原子と一緒に：
置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換アリール基（ここで該置換アリール基は少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；または
置換もしくは非置換ヘテロアリール基（ここで該置換ヘテロアリール基は少なくとも１つの置換基Ｊを有する）
を形成するが；
ただしＡおよびＢの１つがC(=O)であり、そしてＥおよびＦはそれらが結合している原子と一緒にフェニルを形成する時、もう１つのＡおよびＢはC(=O)以外であり、そしてＡおよびＢがC(=O)であり、Ｘ1およびＸ2はそれらが結合している原子と一緒に非置換フェニルを形成し、そしてＲ2が水素である時、ＥおよびＦはそれらが結合している原子と一緒に、非置換イミダゾールまたはN-メチルイミダゾール以外の基を形成する、
の化合物。
【請求項２】  Ｊ3が、水素、ハロ、ヒドロキシ、チオ、シアノ、スルホン酸、カルボキシル、低級アルキル、アリールオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニル、ホスホン酸、低級アルキル、ホスホン酸の低級アルキルエステルまたはホスホン酸のアリールエステルである請求項１に記載の化合物。
【請求項３】  ＥおよびＦはそれらが結合している炭素原子と一緒に、置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）、または、置換もしくは非置換Ｃ3〜Ｃ6ヘテロシクロアルキル基（ここで該置換ヘテロシクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）を形成する、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】  ＥおよびＦはそれらが結合している炭素原子と一緒に、置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）を形成する、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】  ＥおよびＦが、それらが結合している炭素原子と一緒にＣ5シクロアルキル基を形成する、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】  Ｘ1およびＸ2が置換もしくは非置換ヘテロアリール基であり、ここで該置換ヘテロアリール基が少なくとも１つの置換基Ｊを有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】  ＡおよびＢが独立してC(=O)またはCH2である、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】  ＥおよびＦが、それらが結合している炭素原子と一緒にＣ5シクロアルキル基を形成し；Ｘ1およびＸ2が置換もしくは非置換ヘテロアリール基であり（ここで該置換ヘテロアリール基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；そしてＡおよびＢが独立してC(=O)またはCH2である、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】  置換もしくは非置換ヘテロアリール基が、ピリジルまたはピリミジルであり；そしてＡおよびＢがC(=O)である、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】  式IVａ：
【化５】
2004501097.tif 000002
式中、
各ＡおよびＢは独立して、
C(=O)、CH(OR3)、CH(SR3)、
CHR3CHR4、CR3R4、
C(=O)NR3、N=CR3
SOまたはSO2であり；
ＥおよびＦはそれらが結合している炭素原子と一緒に：  
置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換Ｃ3〜Ｃ6ヘテロシクロアルキル基（ここで該置換ヘテロシクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
中に少なくとも１つの基Ｇを環内に含んで成る置換もしくは非置換ヘテロシクロアルキル基（ここでＧを含んで成る該置換ヘテロシクロアルキル基は少なくとも１つの置換基Ｊを有する）；
置換もしくは非置換アリール基（ここで該置換アリール基は少なくとも１つの基Ｊを有する）；または
置換もしくは非置換ヘテロアリール基（ここで該置換ヘテロアリール基は少なくとも１つの基Ｊを有する）；
を形成し；
Ｇは、O、S、SO、SO2、NR2、NR3、NR2CO、NR2CONR3、NR2SO2またはNR3SO2であり；
Ｖは、N(R1)、OまたはSであり；
Ｒ1は、水素、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、低級アルカノイル、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルカノイル、低級アルキルスルホニル、低級アリールスルホニル、アミノ酸または保護アミノ酸であり；
Ｒ2は、水素、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、低級アルカノイル、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルカノイル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノ酸または保護アミノ酸であり；
各Ｒ3およびＲ4は独立して、水素、少なくとも１つの置換基Ｊを有する低級アルキル、または少なくとも１つの置換基Ｊを有するアリールであり；
Ｊは、J3-(J2)n-(J1)mであり、ここで各ｎおよびｍは独立して０または１であり；
各Ｊ1およびＪ2は独立して、カルボニル、低級アルキルカルボニル、アリールカルボニル、カルボニルオキシ、スルホニル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級ジアルキルアミノ、アミド、低級アルキルアミド、低級ジアルキルアミド、低級アルキルオキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アミジノ、グアニジノ、酸素、硫黄、低級アルコキシ、低級アリールオキシ、アラルコキシ、低級アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、スルホニルアミド、アルキルスルホニルアミド、アリールスルホニルアミド、アミノ酸または保護アミノ酸であり；そして
Ｊ3は、水素、ハロ、ヒドロキシ、チオ、シアノ、スルホン酸、カルボキシル、低級アルキル、アリールオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニル、ホスホン酸、低級アルキル、ホスホン酸の低級アルキルエステル、ホスホン酸のアリールエステル、アミノカルボニルオキシ、ヘテロアリールまたはヘテロシクロアルキルであり；そして
任意の２つの隣接するＪ基は、結合して-X-(CH2)p-X-を形成することができ、ここでＸは独立してＯまたはNHであり、そしてpは１または２であるが；
ただしＡおよびＢの１つがC(=O)であり、そしてＥおよびＦはそれらが結合している原子と一緒にフェニルを形成する時、もう１つのＡおよびＢはC(=O)以外であり、そしてＡおよびＢがC(=O)であり、ＶがNHであり、ＪおよびＲ2が水素である時、ＥおよびＦはそれらが結合している原子と一緒に、非置換イミダゾールまたはN-メチルイミダゾール以外の基を形成する、
の化合物。
【請求項１１】  Ｊ3が、水素、ハロ、ヒドロキシ、チオ、シアノ、スルホン酸、カルボキシル、低級アルキル、アリールオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニル、ホスホン酸、低級アルキル、ホスホン酸の低級アルキルエステルまたはホスホン酸のアリールエステルである、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１２】  ＥおよびＦはそれらが結合している炭素原子と一緒に、置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）、または、置換もしくは非置換Ｃ3〜Ｃ6ヘテロシクロアルキル基（ここで該置換ヘテロシクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）を形成する、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１３】  ＥおよびＦはそれらが結合している炭素原子と一緒に、置換もしくは非置換Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキル基（ここで該置換シクロアルキル基は、少なくとも１つの置換基Ｊを有する）を形成する、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１４】  ＶがN(R1)であり；基ＥおよびＦが、それらが結合している炭素原子と一緒になる時、Ｃ5シクロアルキル基を形成し；そしてＡおよびＢは独立してC(=O)またはCH2である、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１５】  請求項１−１４に記載の化合物および医薬的に許容されるキャリアーを含んで成る製薬学的組成物。
【請求項１６】  医薬として使用するための、請求項１−１４のいずれかに記載の化合物。
【請求項１７】  請求項１−１４のいずれかに記載の化合物の、
ａ）  PARP、VEGFR2またはMLK3を上記化合物と接触させることにより、PARP、VEGFR2またはMLK3活性を阻害すること、
ｂ）  パーキンソン病、ハンチントン病またはアルツハイマー病のような、神経変性疾患を処置または防止すること、
ｃ）  外傷性の中枢神経系の損傷を処置するか、または外傷性の中枢神経系の損傷に付随するニューロン分解を防止すること、
ｄ）  大脳虚血、心臓虚血、炎症、内毒素ショックまたは糖尿病を処置すること、
ｅ）  哺乳動物の血管の形成を抑制すること、
ｆ）  充実性腫瘍、糖尿病網膜症、眼内新生血管形成症候群、黄斑変性、慢性関節リウマチ、乾癬または子宮内膜症に関連する細胞増殖性障害のような、細胞増殖性障害を処置すること、または
ｇ）  哺乳動物の癌を処置すること、
のための薬剤の製造における使用。