【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン伝導性領域と非イオン伝導性領域とを含む基質からなる膜であって、
前記イオン伝導性領域ではイオンが前記基質を通過し、かつ前記非イオン伝導性領域ではイオンが前記基質を通過せず、
前記イオン伝導性領域において、前記基質は同基質を貫通して延びる一つ以上のイオン伝導性通路を備え、前記通路は、前記基質の非イオン伝導性領域よりもイオン伝導性が大きいイオン伝導性材料を含む、膜。
【請求項２】
前記イオン伝導性領域は複数のイオン伝導性通路を含む、請求項１に記載の膜。
【請求項３】
各通路は前記基質をほぼ垂直に貫通する、請求項１又は２に記載の膜。
【請求項４】
前記複数の通路の各々は、前記基質を直接貫通するように明確に切り欠かかれた孔を含む、請求項１、２又は３に記載の膜。
【請求項５】
前記基質は、前記膜の非イオン伝導性領域に対応する実質的に無孔の領域を含む、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の膜。
【請求項６】
前記基質のイオン伝導性領域は、前記基質の無孔領域に包囲されている、請求項５に記載の膜。
【請求項７】
各通路は、約２５００μｍ以下である最大横断寸法（Ｄ）を有する、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項８】
最も隣接する通路間において両通路の中心から中心までの横方向の間隙（Ｌ）は約５０００μｍ以下である、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項９】
各通路の最大横断寸法（Ｄ）及び最も隣接する通路間において両通路の中心から中心までの横方向の間隙（Ｌ）は、パラメータ比（Ｌ／Ｄ）が約２．５以下となるように選択される、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項１０】
各通路は約１×１０−５ｍ２以下の横断面積を有する、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項１１】
前記イオン伝導性領域の横断面積全体の前記複数の通路の横断面積全体に対する比率（γ）は、２．５以下である、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項１２】
各通路の最小横断寸法は、２５μｍより大きい、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項１３】
前記通路は、ほぼ円形、ほぼ六角形、ほぼ長方形及びほぼスリット状の形状のうちの少なくとも一つを含む横断面を有する通路を含む、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項１４】
請求項２、３又は４に記載の膜は前記基質の第一の側に配置されたイオン伝導性材料の第一の表面膜層を含み、前記第一の表面膜層のイオン伝導性材料は前記通路の少なくとも一つのイオン伝導性材料と接触している、膜。
【請求項１５】
請求項１４に記載の膜は前記基質の第二の側に配置されたイオン伝導性材料の第二の表面膜層を含み、前記第二の表面膜層のイオン伝導性材料は前記通路の少なくとも一つのイオン伝導性材料と接触している、膜。
【請求項１６】
請求項４に記載の膜はイオン伝導性材料の第一の表面膜層を含み、前記第一の表面膜層は前記基質の第一の側に配置されるとともに前記基質の多孔領域の少なくとも第一の部分にわたって横方向に延びており、それにより前記第一の表面膜層のイオン伝導性材料は前記通路の少なくとも一つのイオン伝導性材料と接触している、膜。
【請求項１７】
請求項１６に記載の膜はイオン伝導性材料の第二の表面膜層を含み、前記第二の表面膜層は前記基質の第二の側に配置されるとともに前記基質の多孔領域の少なくとも第二の部分にわたって横方向に延びており、それにより前記第二の表面膜層のイオン伝導性材料は前記通路の少なくとも一つのイオン伝導性材料と接触している、膜。
【請求項１８】
前記第一の表面膜層における前記イオン伝導性材料は前記通路におけるイオン伝導性材料と同じである、請求項１４に記載の膜。
【請求項１９】
前記第一の表面膜層のイオン伝導性材料は前記通路のイオン伝導性材料とは異なる、請求項１４に記載の膜。
【請求項２０】
前記第一の表面膜層のイオン伝導性材料は前記第二の表面膜層のイオン伝導性材料とは異なる、請求項１５に記載の膜。
【請求項２１】
前記第一及び第二の表面膜層はほぼ同じ厚み（Ｌｓｋｉｎ）を有する、請求項１５に記載の膜。
【請求項２２】
前記第一及び第二の表面膜層は５乃至５０μｍの範囲にある厚み（Ｌｓｋｉｎ１及びＬｓｋｉｎ２）を有する、請求項１５に記載の膜。
【請求項２３】
前記第一及び第二の表面膜層の各々は同一のイオン伝導性材料からなる、請求項１５に記載の膜。
【請求項２４】
前記基質は厚み（Ｌｃｏｒｅ）を有し、前記第一及び第二の表面膜層は厚み（Ｌｓｋｉｎ１及びＬｓｋｉｎ２）を有し、かつ前記第一及び第二の表面膜層の厚み（Ｌｓｋｉｎ１及びＬｓｋｉｎ２）の前記基質の厚み（Ｌｃｏｒｅ）に対する比は、０．２５乃至５の範囲にある、請求項１５に記載の膜。
【請求項２５】
前記基質は複数の層を含む、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項２６】
前記基質の複数の層の少なくとも一つはメッシュ材料を含む、請求項２５に記載の膜。
【請求項２７】
前記基質は一つ以上のビアによって貫通されており、前記ビアは前記基質のイオン伝導性領域から横方向に離間している、請求項６に記載の膜。
【請求項２８】
前記ビアはイオン伝導性材料で充填されている、請求項２７に記載の膜。
【請求項２９】
前記ビアを充填するイオン伝導性材料は前記通路を充填するイオン伝導性材料と接触している、請求項２８に記載の膜。
【請求項３０】
複数のイオン伝導性領域を含む請求項１の膜において、前記イオン伝導性領域の各々は前記基質を貫通して延びる一つ以上の対応するイオン伝導性通路を含み、前記イオン伝導性通路の各々はイオン伝導性材料を含む、膜。
【請求項３１】
前記イオン伝導性領域は互いに横方向に離間している、請求項３０に記載の膜。
【請求項３２】
各イオン伝導性領域に対応する前記一つ以上のイオン伝導性通路は、通路の大きさ、通路の形状、通路の密度及び通路の配置のうちの少なくとも一つが異なっている、請求項３０に記載の膜。
【請求項３３】
前記基質は、テトラフルオロエチレン及びパーフルオロ−３，６−ジオキサ−４−メチル−７−オクテンスルホニルフルオライドのコポリマーを含む、請求項１に記載の膜。
【請求項３４】
前記基質は実質的に非イオン伝導性材料であるシートからなり、前記通路は実質的に非イオン伝導性材料が加水分解された形態であり、かつイオン伝導性である、請求項２に記載の膜。
【請求項３５】
前記通路及び前記基質はイオン伝導性の形態及び非イオン伝導性の形態を有する材料から形成され、前記通路はイオン伝導性の材料からなり、かつ前記通路を包囲する前記基質は非イオン伝導性の材料からなる、請求項２に記載の膜。
【請求項３６】
前記イオン伝導性材料がイオノマーである、請求項１乃至３３のいずれか一項に記載の膜。
【請求項３７】
前記イオン伝導性材料は前記基質の第一の側に第一の表面膜層を提供し、かつ前記表面膜層は前記一つ以上の通路の開口部の周縁部を越えて横方向に延びる、請求項２乃至４のいずれか一項に記載の膜。
【請求項３８】
前記基質は一つ以上のビアによって貫通されており、前記ビアは前記少なくとも一つの開口部から横方向に離間しており、かつ前記ビアは、前記第一の表面膜層におけるイオン伝導性材料と接触しているイオン伝導性材料で充填されている、請求項３７に記載の膜。
【請求項３９】
請求項３８に記載の膜は前記基質の第二の側にイオン伝導性材料の第二の表面膜層を含み、前記第二の表面膜層におけるイオン伝導性材料は前記ビアにおけるイオン伝導性材料と接触している、膜。
【請求項４０】
前記複数のイオン伝導性通路は規則配列を形成するべく配置されている、請求項２、３又は４に記載の膜。
【請求項４１】
請求項１乃至４０のいずれか一項に記載の膜を含む電気化学セル。
【請求項４２】
前記電気化学的セルは電解セルを含む、請求項４１に記載の電気化学セル。
【請求項４３】
前記電気化学的セルは燃料電池である、請求項４１に記載の電気化学セル。