【手続補正書】
【提出日】平成20年8月13日(2008.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）エポキシ化触媒を保持している反応領域に、オレフィン、過酸化水素、並びに緩衝剤及び反応溶剤を供給すること；
（ｂ）前記反応領域の生成物を蒸留領域に供給し、オレフィンオキシド及び未反応オレフィンを含む塔頂留分、並びに未反応過酸化水素、反応副生成物、並びに水及び反応溶剤を含む塔底留分を得ること；
（ｃ）前記蒸留領域の前記塔底留分及び塩基性水溶液を、塔底留分中の過酸化水素を分解する分解触媒を保持している分解領域に供給すること：
（ｄ）酸素、水及び溶剤を含む前記分解領域を出た混合物を相分離領域に供給し、酸素、痕跡量の溶剤及び任意に不活性ガスを含む気相を頂部で、水、並びに反応副生成物及び溶剤を含む液相を底部で得ること；
（ｅ）前記相分離領域を出た前記気相を凝縮領域に供給して、残留溶剤を回収すること、及び非凝縮性の化合物を排出すること；
（ｆ）前記相分離領域を出た前記液相及び前記凝縮領域を出た前記溶剤をさらなる蒸留領域に供給し、工程（ａ）における前記反応領域に再循環される溶剤を頂部で得、また水、反応副生成物及び痕跡量の溶剤を含む塔底留分を得て、前記塔底留分を廃棄すること；
（ｇ）前記工程（ｂ）における前記蒸留領域から出た前記塔頂留分を、工程（ａ）における反応領域から出たベント生成物とともにさらなる蒸留領域に供給し、未反応オレフィンを含む塔頂留分及びオレフィンオキシドを含む塔底留分を得ること、ここで前記未反応オレフィンは工程（ａ）における反応領域に再循環させる；
（ｈ）工程（ｇ）における蒸留領域から出た塔底留分を精製領域に供給し、残留オレフィン、並びに溶剤及びオレフィンオキシドを含む液相を回収すること、ここで前記残留オレフィンは工程（ａ）における反応領域に再循環させ、前記溶剤は工程（ｂ）における蒸留領域に再循環させる；
を含む、過酸化水素によりオレフィンを直接に酸化してオレフィンオキシドを連続調製する方法。
【請求項２】  （ａ）液体反応媒体に懸濁しているチタン含有ゼオライトを含む触媒を保持している第一反応器Ｒ１に、オレフィン装入物の第一部分、過酸化水素、溶剤及び緩衝剤を供給すること；
（ｂ）前記第一反応器Ｒ１から出た液体生成物を濾過すること、及び濾過したこの生成物を第一塔Ｃ１に供給して、オレフィンオキシド及び未反応オレフィンを含む塔頂留分、並びに溶剤、水及び未反応過酸化水素を含む塔底留分を得ること；
（ｃ）前記第一塔Ｃ１から出た前記塔底留分を、オレフィン装入物の第二部分、過酸化水素及び緩衝剤とともに、第二反応器Ｒ２に供給すること；
（ｄ）前記第二反応器Ｒ２から出た液体生成物を濾過すること、及び濾過したこの生成物を第二ストリッピング塔Ｃ２に供給して、オレフィンオキシド及び未反応オレフィンを含む塔頂留分、並びに溶剤及び残留過酸化水素を含む塔底留分を得ること；
（ｅ）前記第二塔Ｃ２から出た塔底留分、オレフィン装入物の第三部分及び緩衝剤を第三反応ユニットＲ３に供給すること；
（ｆ）前記第三反応器Ｒ３から出た液体生成物を濾過すること、並びに濾過したこの生成物を第三ストリッピング塔Ｃ３に供給して、オレフィンオキシド及び未反応オレフィンを含む塔頂留分、並びに溶剤、水及び痕跡量の過酸化水素を含む塔底留分を得ること；
（ｇ）残留過酸化水素を酸素及び水に分解するための担持型触媒を保持する分解ユニットＲ−４Ａ／Ｂに、前記第三塔Ｃ３から出た塔底留分及び塩基性水溶液を供給すること；
（ｈ）溶剤、酸素及び水を含む、分解ユニットＲ−４Ａ／Ｂから出た混合物を、不活性ガスとともに、相分離器（フラッシュ）Ｖ４に供給し、溶剤、水及び反応副生成物を含む液相、並びに溶剤、酸素及び不活性ガスを含む気相を得ること；
（ｉ）Ｖ４から出た前記気相を凝縮系に供給して、同伴した溶剤を回収する一方で、非凝縮性の化合物を排出すること；
（ｌ）前記凝縮系から出た前記溶剤を、Ｖ４から出た前記液相とともに、蒸留塔Ｃ６に供給して、頂部で前記溶剤を得て前記反応ユニット（Ｒ１）に再循環させ、また反応水及び過酸化水素とともに導入された水、反応副生成物、並びに痕跡量の溶剤を含む塔底留分を得てこれを廃棄すること；
（ｍ）ストリッピング塔Ｃ１〜Ｃ３から出た塔頂留分を、反応器ベント生成物とともに蒸留塔Ｃ４に供給して、未反応オレフィンを含む塔頂留分を得て、これを反応ユニットＲ１からＲ３のうちの１又は複数に再循環させ、またオレフィンオキシド、並びに痕跡量の溶剤及び未反応オレフィンを含む塔底留分を得ること；
（ｎ）前記蒸留塔から出た塔底留分を精製セクションに供給して、未反応残留オレフィン及び商業的純度のオレフィンオキシドを回収して、前記未反応残留オレフィンを反応ユニットＲ１からＲ３のうちの１又は複数に再循環させ、また塔底から溶剤及びオレフィンオキシドを含む液相を回収し、蒸留塔Ｃ３に再循環させること；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記オレフィンが下記の一般式（Ｉ）のものから選択される、請求項１及び２のいずれかに記載の方法：
【化１】
2004525073.tif 000001
（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一でも異なってもよく、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、炭素数７〜２０のアルキルアリール基、炭素数６〜１０のシクロアルキル基及び炭素数７〜２０のアルキルシクロアルキル基から選択される）。
【請求項４】  前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４基が、飽和又は不飽和環の対を構成している、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４基が、ハロゲン原子、ニトロ又はニトリル基、スルホン基及びそのエステル、カルボニル、ヒドロキシル、カルボキシル、チオール、アミン、並びにエーテル基のうちの１つ又は複数を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  式（Ｉ）の前記オレフィンが、エチレン、プロピレン、アリルクロライド、アリルアルコール、ブテン、ペンテン、ヘキセン、１−ヘプテン、オクテン、１−トリデセン、メシチルオキシド、イソプレン、シクロオクテン、シクロヘキセン及び二環式化合物から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項７】  前記オレフィンがプロピレンである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記プロピレンが７０％を超える純度である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記プロピレンが、最低純度９６％で水蒸気分解流からもたらされる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  反応ユニットに供給される前記オレフィンが、新鮮なオレフィン、再循環されたオレフィン又はその混合物を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１１】  前記新鮮なオレフィンが反応ユニットに導入される前に、この新鮮なオレフィンを蒸留塔Ｃ４で精製する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記過酸化水素を、少なくとも１重量％の濃度の水溶液として使用する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１３】  前記過酸化水素を、３５重量％又はそれよりも高い濃度の水溶液として使用する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  オレフィン／Ｈ２Ｏ２のモル比が１０：１〜１：１０である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１５】  オレフィン／Ｈ２Ｏ２のモル比が６：１〜１：１である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  前記過酸化水素が前記反応器Ｒ１及びＲ２に、９０：１０〜１０：９０の供給比で供給される、請求項２に記載の方法。
【請求項１７】  前記供給比が６０：４０〜４０：６０である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】  前記供給比が５０：５０である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】  前記溶剤が、エポキシ化温度で液体であり、過酸化水素と相溶性であり、且つオレフィン及び生成するオレフィンオキシドを溶解できる１又は複数の溶剤を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項２０】  前記溶剤が、アルコール、水とアルコールの混合物、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素又はこれらの混合物から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  前記アルコールが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール及びシクロヘキサノールから選択される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】  前記ケトンがアセトン、メチルエチルケトン及びアセトフェノンである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】  前記エーテルがテトラヒドロフラン及びブチルエーテルである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】  前記溶剤がメタノール又はアセトンである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】  前記溶剤が、重量比１０／９０〜９９／１のメタノール／水混合物である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】  前記緩衝剤が、アンモニア水、酢酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、又は含窒素塩基及び有機酸若しくは無機酸とのその塩を含む系、から選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項２７】  前記緩衝剤が、運転条件下で測定される反応混合物のｐＨを５より大きい値に保つような量で、前記エポキシ化反応器に供給される反応体の流れのうちの１つとともに連続供給される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項２８】  前記反応混合物のｐＨが５．５〜８の値に保たれる、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】  前記エポキシ化触媒が、ＭＦＩ構造のチタンシリカライト、ＭＥＬ構造若しくは中間ＭＦＩ／ＭＥＬ構造のチタンシリカライト、又はＢＥＡ構造のチタン含有βゼオライトから選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３０】  前記触媒が、以下の一般式（ＩＩ）のチタンシリカライトから選択される、請求項２９に記載の方法：
ｘＴｉＯ２・（１−ｘ）ＳｉＯ２              （ＩＩ）
（ｘは０．０００１〜０．０４）。
【請求項３１】  前記チタンシリカライトにおいて、チタンの一部が、ホウ素、アルミニウム、鉄及びガリウムから選択される金属で置換されている、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】  前記触媒が、粉末、ペレット、微小球、押出物の形態である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３３】  前記触媒が、バインダー（共ゲル）、又はシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、ゼオライト及び活性炭から選択される担体と組み合わせて使用される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３４】  エポキシ化反応に使用される前記触媒の量が、反応混合物に対して１重量％〜１５重量％である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３５】  前記触媒の量が、反応混合物に対して４重量％〜１０重量％である、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】  前記エポキシ化反応が、２０℃〜１５０℃の温度で行われる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項３７】  前記温度が４０℃〜１００℃である、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】  前記温度が５５℃〜９０℃である、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】  前記反応器Ｒ１とＲ２を、５５〜７５℃の温度及び１３バールの圧力において運転し、前記反応器Ｒ３を、７０〜９０℃の温度及び８バールの圧力において運転する、請求項２に記載の方法。
【請求項４０】  残留過酸化水素の分解反応が、１分〜１０分の滞留時間で、１０より大きいｐＨ及び８０℃〜９０℃の温度において実施される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４１】  残留過酸化水素の分解反応のｐＨが、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩を含む塩基性水溶液を供給することにより制御される、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】  残留過酸化水素の分解反応に使用される触媒が、ＶＩＩＩ属金属又はその酸化物を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４３】  前記エポキシ化反応器が、攪拌反応器、気泡反応器、ガスリフト型反応器、並びに連続撹拌槽反応器及びプラグフロー型反応器から選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４４】  前記反応器Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が、等温連続攪拌槽反応器タイプである、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】  前記分解領域が、連続して設置された固定床管状反応器を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４６】  工程（ｂ）における蒸留領域が同じ運転条件で運転されるストリッピング塔を含み、且つ頂部流での蒸気相の排出物が、未反応オレフィン、オレフィンオキシド、不活性ガス及び溶剤蒸気を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４７】  工程（ｇ）における蒸留領域の底部における温度が、その領領域での滞留時間１分で８０℃を超えない、請求項１に記載の方法。
【請求項４８】  工程（ｈ）における精製領域が、連続する多段式の２つの塔からなり、
（ｉ）未だ存在する残留蒸気を頂部で、
（ｉｉ）溶剤及びオレフィンオキシドを含む液体流を底部で、且つ
（ｉｉｉ）純度が少なくとも９９．８％のオレフィンオキシドを含む液体流を側方で分離する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４９】  工程（ｆ）の蒸留領域の頂部において回収される凝縮熱が、プロセス内の沸騰需要の少なくとも一部の役に立つように利用される、請求項１に記載の方法。