Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  その内部に縦糸フィラメントと横糸フィラメントとを含む単一層として構成され、縦糸フィラメントが少なくとも１本の細長い第１導電体を、横糸フィラメントが少なくとも１本の細長い第２導電体をそれぞれ含み、第１導電体と第２導電体とは交錯し、その交錯点において第１導電体と第２導電体は、絶縁性の繊維又はフィラメントの介在により常態では空隙によって互いに隔てられ、布地の水平面に実質的に垂直な圧力が加わると、第１及び第２導電体が電気的に接続する感圧性布地。
【請求項２】  布地内に間隔を置いて配された複数本の第１導電体と、同じく複数本の第２導電体を有し、前記の交錯点が複数個存在する請求項１記載の感圧性布地。
【請求項３】  導電体が導電性のフィラメントまたは繊維である請求項１又は請求項２記載の感圧性布地。
【請求項４】  布地が織物、編物、不織布又は長尺の編物である請求項１〜３記載の感圧性布地。
【請求項５】  第１導電体と第２導電体の非接触状態が、相対的に断面が大きな絶縁性のフィラメント又は繊維の間に、相対的に断面の小さい導電体を配置することによって保持される請求項１〜４の何れかに記載の感圧性布地。
【請求項６】  布地が横浮き糸又は縦浮き糸を備えることで、前記の交錯点での第１および第２導電体の非接触状態が保持されている請求項１〜４に記載の感圧性布地。
【請求項７】  導電体の少なくとも一つとして、交錯点において導電体の表面が露呈するように、その周囲を絶縁性のフィラメント又は繊維で巻いた導電体を採用して、第１および第２導電体の非接触状態を保持する請求項１〜４に記載の感圧性布地。
【請求項８】  第１および第２導電体の非接触状態が、少なくとも１つの導電体に絶縁性のフィラメント又は繊維を撚り合わせることで保持される請求項１〜４に記載の感圧性布地。
【請求項９】  少なくとも１つの導電体として、絶縁性のフィラメント又は繊維の変形可能な突起上又は突起間に支持された導電体を採用することで、第１および第２導電体の非接触状態を保持する請求項１〜４に記載の感圧性布地。
【請求項１０】  少なくとも１つの導電体として、絶縁糸と導電糸とを含むファイバを採用し、該絶縁糸に該導電糸より突出する突出部を有する絶縁糸を使用することで、第１および第２導電体の非接触状態を保持する請求項１〜４に記載の感圧性布地。
【請求項１１】  ２本以上の導電糸が螺旋状に絶縁糸の周囲に巻かれた請求項１０記載の感圧性布地。
【請求項１２】  導電体が導電体長さに比例する電気特性を有し、それにより、１つの導電体又は複数の接続させた導電体の長さが電気特性を測定することで決定できる前記請求項の何れかに記載の感圧性布地。
【請求項１３】  電気特性が抵抗である請求項１２に記載の感圧性布地。
【請求項１４】  少なくとも１セットの間隔を置いて配された複数個の導電体を含み、その１セット内の少なくとも幾つかが、電気的に接続して、少なくとも１本の母線を形成する前記請求項の何れかに記載の感圧性布地。
【請求項１５】  前記１セットの導電体は、縦糸または横糸における導電性のフィラメントまたは繊維で構成され、その１セット内の導電体間の電気接続が、横糸または縦糸における１本又は複数本の導電性のフィラメント又は繊維で行われる請求項１４記載の感圧性布地。
【請求項１６】  間隔を置いて配された導電体がセットが、布地を構成する縦糸又は横糸に廃止された導電性のフィラメント又は繊維からなり、前記の電気接続が布地作成後に行われる請求項１４に記載の感圧性布地。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コレクタ領域又はドレイン領域を形成する第１の領域が装備された第１のトランジスタと、コレクタ領域又はドレイン領域を形成する第２の領域が装備された第２のトランジスタとを有する半導体本体を含み、前記第１及び第２のトランジスタがカスコード配置であり、前記第１のトランジスタの前記コレクタ領域又はドレイン領域が前記第２のトランジスタのエミッタ領域又はソース領域に接続される半導体装置において、
前記第１の領域及び前記第２の領域が半導体領域内に互いに隣接配置され、前記第１の領域の位置における前記半導体領域の下部にはより高いドーピング濃度が与えられている、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記半導体本体が、エピタキシャル層が装備され、前記半導体領域を含む半導体基板を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記半導体本体が、接着層によって絶縁基板に取り付けられ、かつ前記第１及び第２のトランジスタが、半導体本体の第１のメサ状部分に形成されることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項４】
複数のトランジスタの前記カスコード配置の接続領域が、前記半導体本体の第２のメサ状部分に形成され、前記第１のメサ状部分及び前記第２のメサ状部分には接触バンプが装備されていることを特徴とする請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
コレクタ領域又はドレインを形成する第１の領域が装備された第１のトランジスタと、コレクタ領域又はドレイン領域を形成する第２の領域が装備された第２のトランジスタとを有する半導体本体を含み、前記第１及び第２のトランジスタがカスコード配置にあるように形成され、前記第１のトランジスタの前記コレクタ領域又はドレイン領域が前記第２のトランジスタのエミッタ領域又はソース領域に接続される半導体装置を製造する方法であって、前記第１の領域及び前記第２の領域が、その下にある部分には前記第１の領域の位置により高いドーピング濃度が与えられる半導体領域において互いに隣接して置かれていることを特徴とする半導体装置を製造する方法。
【請求項６】
前記半導体本体が、エピタキシャル半導体層を半導体基板上に設けることによって形成され、前記基板に隣接する前記エピタキシャル半導体層の一部には、部分的により高いドーピング濃度が与えられることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記エピタキシャル層を設けるより前に、高いドーピング濃度を有する他の半導体領域が、前記エピタキシャル層の下にある前記半導体本体の一部に部分的に形成されることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項８】
前記エピタキシャル層が、第１及び第２のサブレイヤから形成され、前記第２のサブレイヤの塗布より前に、前記第１のサブレイヤの一部にはより高いドーピング濃度が与えられることを特徴とする請求項６又は７記載の方法。
【請求項９】
前記半導体本体が、前記第１及び第２のトランジスタの形成後、絶縁基板上に膠で接着され、その後、メサ状部分が、前記半導体を部分的にエッチング除去することによって前記第１及び第２のトランジスタの位置の前記半導体本体に形成されることを特徴とする請求項５，６，７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
付加的メサ状部分が、前記第１及び第２のトランジスタのカスコード配置の接続領域を形成する前記半導体本体に形成され、かつ前記メサ状部分及び他の部分には接触バンプが装備されていることを特徴とする請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月4日(2008.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に配置された情報についての関連付けを、前記支持体上に設けられた絶対位置符号化パターンを検出するように構成された携帯装置を用いて生成する方法において、
前記絶対位置符号化パターンに含まれる第１のエリアは、前記情報が配置されるものであり、前記第１のエリアは、前記情報が結びつけられる連続的な第１の座標を符号化するものであり、前記絶対位置符号化パターンに含まれる第２のエリアは、前記第１の座標と不連続な第２の座標を符号化するものであり、
前記方法は、
前記第１のエリアと前記第２のエリアの一方のエリアから他方のエリアまで前記携帯装置を一つの移動で通過させるときに、前記絶対位置符号化パターンの不連続部を検出し、
前記不連続部を、前記情報についての関連付けと解釈することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記関連付けが、前記情報に対する所定の作用が実行されることを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記作用が、前記情報を、電子メール、ＳＭＳ又はファックスを含むメッセージとして、受信者に送ることを含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記受信者が、前記情報において定められることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記受信者が、前記関連付けによって定められることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記受信者が、前記受信者についての情報に結びつけられた前記第２のエリアにおける座標によって定められることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記作用が、前記情報をコンピュータシステム内の所定の場所に蓄積することを含む請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記場所が、前記第２のエリアの座標により定められる、パーソナルコンピュータ内の所定のフォルダであることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記作用が、前記情報に対して行われる暗号化又は文字認識の処理を含む請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記関連付けが、前記情報の条件付けを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記条件付けが、下線、色、線幅、イエローマーク、秘密及び個人用、を含むグループから選択されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記携帯装置を前記第２のエリアから前記第１のエリアまで通過させ、条件付けるべき情報を囲むことにより、条件付けられる前記情報が選択されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記携帯装置を前記第２のエリアから前記第１のエリアに通過させ、条件付けるべき情報を囲み、前記第２のエリアに戻すことにより、条件付けられる前記情報が選択されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のエリアに配置された情報は、第１の情報であり、前記第２のエリアは、前記第２の座標に結びつけられる第２の情報を含み、前記関連付けが、前記第１及び第２の情報を連結して一つの情報にすることを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項１５】
前記絶対位置符号化パターンに含まれる更なるエリアは、前記第１および第２の座標と不連続な更なる座標を符合化するものであり、
前記第２のエリアから前記更なるエリアまで前記携帯装置を一つの移動で通過させるときに、更なる不連続部を検出することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項１６】
前記更なるエリアが、個人情報へのリンクを含む請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
プロセッサで実行されたときに、請求項１〜１６に記載の方法を行う指示命令を備えたことを特徴とするプログラム製品。
【請求項１８】
支持体上に配置された情報についての関連付けを、前記支持体上に設けられた絶対位置符号化パターンを検出するように構成された携帯装置を用いて生成するシステムにおいて、
前記絶対位置符号化パターンに含まれる第１のエリアは、前記情報が配置されるものであり、前記第１のエリアは、前記情報が結びつけられる連続的な第１の座標を符号化するものであり、前記絶対位置符号化パターンに含まれる第２のエリアは、前記第１の座標と不連続な第２の座標を符号化するものであり、
前記システムは、
前記第１のエリアと前記第２のエリアの一方のエリアから他方のエリアまで前記携帯装置を一つの移動で通過させるときに、前記絶対位置符号化パターンの不連続部を検出する手段と、
前記不連続部を、前記支持体上に表された情報についての関連付けとして解釈する手段と、
を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１９】
前記関連付けが、前記情報に対する所定の作用が実行されることを含むことを特徴とする請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記作用が、前記情報を、電子メール、ＳＭＳ又はファックスを含むメッセージとして、受信者に送ることを含む請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記受信者が、前記情報において定められることを特徴とする請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
前記受信者が、前記関連付けによって定められることを特徴とする請求項２０に記載のシステム。
【請求項２３】
前記受信者が、前記受信者についての情報に結びつけられた前記第２のエリアにおける座標によって定められることを特徴とする請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記作用が、前記情報をコンピュータシステム内の所定の場所に蓄積することを含む請求項１９に記載のシステム。
【請求項２５】
前記場所が、前記第２のエリアの座標により定められる、パーソナルコンピュータ内の所定のフォルダであることと特徴とする請求項２４に記載のシステム。
【請求項２６】
前記作用が、前記情報に対して行われる暗号化又は文字認識の処理を含む請求項２０に記載のシステム。
【請求項２７】
前記関連付けが、前記情報の条件付けを含むことを特徴とする請求項１８に記載のシステム。
【請求項２８】
前記条件付けが、下線、色、線幅、イエローマーク、秘密及び個人用を含むグループから選択されることを特徴とする請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記携帯装置を前記第２のエリアから前記第１のエリアまで通過させ、条件付けるべき情報を囲むことにより、条件付けられる前記情報が選択されることを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
前記携帯装置を前記第２のエリアから前記第１のエリアまで通過させ、条件付けるべき情報を囲み、前記第２のエリアに戻すことにより、条件付けられる前記情報が選択されることを特徴とする請求項２８に記載のシステム。
【請求項３１】
前記第１のエリアに配置された情報は、第１の情報であり、前記第２のエリアは、前記第２の座標に結びつけられる第２の情報を含み、前記関連付けが、前記第１及び第２の情報を連結して一つの情報にすることを含むことを特徴とする請求項１９に記載のシステム。
【請求項３２】
前記絶対位置符号化パターンに含まれる更なるエリアは、前記第１および第２の座標と不連続な更なる座標を符合化するものであり、
前記第２のエリアから前記更なるエリアまで前記携帯装置を一つの移動で通過させるときに、更なる不連続部を検出することを特徴とする請求項１９に記載のシステム。
【請求項３３】
前記更なるエリアが、個人情報へのリンクを含む請求項３２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月18日(2008.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイアフラムの半径にほぼ等しい曲率半径を持つ球状である曲面により中に定められた弁キャビティを有する弁体；
該弁キャビティを密閉する周囲を有するダイアフラム；
第１口で該弁キャビティに対して開く該弁体中の第１流体通路および第２口で該弁キャビティに対して開く該弁体中の第２流体通路；
を含んでなり、該ダイアフラムは弁を開け、そして閉じる弁心軸を有する、
ラジアルダイアフラム弁。
【請求項２】
上記弁心軸が、上記第１および第２口の間の上記面に対して密閉し、そして上記第１口の直径よりも大きい直径を有する、請求項１に記載の弁。
【請求項３】
上記曲面が実質的に半球形の弁キャビティを形成する、請求項１に記載の弁。
【請求項４】
上記弁心軸が上記表面に対して密閉する曲がったボタンを含んでなり、該ボタンは上記キャビティの曲率半径よりも大きな曲率半径を有し、そして上記閉鎖位置の上記弁心軸が上記第１口を囲み、そしてそれから実質的に半径方向に間隔をあけた上記曲面の部分に対して密閉する、請求項１に記載の弁。
【請求項５】
上記弁心軸の上記閉鎖位置から上記開放位置への直線上の置換が、実質的に非線状な流れ断面積の上昇を生じ、該流れ断面積が上記第１流体通路の流れ断面積の少なくとも２倍である、請求項４に記載の弁。
【請求項６】
上記第１口が、上記弁心軸の並進軸から角を形成して偏向する中央流れ軸に沿った該弁キャビティに対して開き、上記第１流体通路が該弁心軸の並進軸の横に並んだ第１部分および上記弁キャビティに対して開く第２部分を含んでなり；該第１および第２部分はそれらの間に９０゜未満の夾角を形成する請求項１に記載の弁。
【請求項７】
上記第１口が円錐形の内腔により形成される請求項１に記載の弁。
【請求項８】
上記の口の１つに隣接する面取りした弁座を含んでなる請求項１に記載の弁。
【請求項９】
上記第１口が長円形である請求項１に記載の弁。
【請求項１０】
上記弁心軸が弁開放と閉鎖位置の間を軸に沿って移動し、該弁心軸は密閉面および該軸から横に伸びるリップ部分を含んでなり、そして該密閉面と向かい合った面を形成し、該向かい合った面は上記第２流体通路からの流れ背圧に暴露された時、該弁心軸を該閉鎖位置へ強制し；上記第１流体通路が弁入口であり、そして該第２流体通路が弁出口であり、弁が逆止め弁のように作動する、請求項１に記載の弁。
【請求項１１】
上記第２流体通路が上記弁キャビティに対して接線で開く、請求項１に記載の弁。
【請求項１２】
上記第２の流体通路からの上記弁キャビティへの流体の流れが、上記弁心軸での直接的以外の流路に沿うように、該第２流体通路が上記弁から横に偏向している流路に沿って該弁キャビティに対して開く、請求項１に記載の弁。
【請求項１３】
上記弁キャビティが上記ダイアフラムの直径に実質的に等しい直径を有する、請求項１に記載の弁。
【請求項１４】
上記キャビティが上記ダイアフラムの直径の半分とほぼ等しい深さを有する、請求項１に記載の弁。
【請求項１５】
弁心軸が上記キャビティの直径の約５／８以下である密閉フェイスを有する請求項１に記載の弁。
【請求項１６】
弁心軸が予め定めた工程の軸に沿った弁心軸の運動により弁を開け、そして閉じ、該工程は上記ダイアフラムの半径の約半分以下である、請求項１に記載の弁。
【請求項１７】
上記弁心軸が弁開放と弁閉鎖との位置の間で可動性であり、該閉鎖位置での該弁心軸が、上記第１口を囲み、そしてそれからに半径方向に間隔をあけた該面の少なくとも２つの合致しない部分に対して密閉する、請求項１に記載の弁。
【請求項１８】
上記ダイアフラムが作動器ボス、ウェッブ部分、および外側周領域を有し、該ウェッブ部分が弁心軸に連結する、請求項１に記載の弁。
【請求項１９】
上記ダイアフラムが全体的に環状のダイアフラム弁体の密閉面を含み、該密閉面が平面からある角度で下方に傾けられている、請求項１に記載の弁。
【請求項２０】
上記弁キャビティが放物線状または長円状である、請求項１に記載の弁。
【請求項２１】
上記第１および第２口が、弁体の中心垂直軸に対して非対称である、請求項１に記載の弁。
【請求項２２】
上記第２口が第１口の位置とは無関係に曲面に沿って配置されている、請求項１に記載の弁。
【請求項２３】
上記ダイアフラムが長軸を有する中心ボスを含んでなり、該ボスは座の末端および作動器の末端を有し、該座の末端は該曲面に向かって軸方向に伸びる円錐チップを含む、請求項１に記載の弁。
【請求項２４】
球形面により中に形成される弁キャビティ；および全体として環状のダイアフラム弁体の密閉面を有し、該キャビティは該ダイアフラム弁体の密閉面の直径と実質的に等しい直径を有する弁体。
【請求項２５】
上記キャビティが上記ダイアフラム弁体の密閉面の直径の半分とほぼ等しい深さを有する請求項２４に記載の弁体。
【請求項２６】
さらに口の１つが長円状である上記弁キャビティに対して開く第１および第２口、および該口の少なくとも１つに隣接する面取りした環状の弁座を含んでなる請求項２４に記載の弁体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  制生物剤または殺生物剤を含有する組成物で処理されたエアーフィルターであって、前記薬剤が該フィルターでの使用時に蓄積する粒子を通って移動するのに適し、かつ通常の使用において３ヶ月後に、同一条件下での未処理のフィルターと比較して、きれいなフィルター材料１グラム当たりのｃｆｕが少なくともｌｏｇ１低下するエアーフィルター。
【請求項２】  制生物剤または殺生物剤が静菌特性および／または静真菌特性を有する請求項１記載のエアーフィルター。
【請求項３】  ―水溶性の殺生物剤または制生物剤、および
―好適な湿潤剤
を含有する、エアーフィルターに利用するための組成物であって、殺生物剤または制生物剤が、エアーフィルターの使用時にその表面上に蓄積する濾過物を通って移動するのに適し、かつ６ヶ月以上の使用期間において有用性を保持する組成物。
【請求項４】  界面活性剤を更に含有する請求項３記載の組成物。
【請求項５】  フルオロ界面活性剤を更に含有する請求項３記載の組成物。
【請求項６】  １種以上のレオロジー添加物を更に含有する請求項４または５記載の組成物。
【請求項７】  レオロジー添加物が、増粘剤、ゲル化剤または粘度調整剤である請求項６記載の組成物。
【請求項８】  殺生物剤または制生物剤が、2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール、イソチアゾリン、メチル、プロピルまたはブチル-パラ-ヒドロキシベンゾエート、ソルビン酸、安息香酸およびこれら酸の塩、フェノキシエタノール、トリクロサン(triclosan)、ジクロサン(diclosan)、ジクロロフェン、グルコン酸クロロヘキシジン、オルト-フェニルフェノール、４級殺生物剤、オルト-ベンジルパラクロロフェノール、および置換ジフェニルエーテルから選択される請求項３〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】  前記薬剤が、2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオールである請求項３〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】  湿潤剤が、塩化カルシウム、グリセロール、ソルビトール、エチレングリコール、ＰＥＧ、プロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、硫酸ナトリウム、塩化ナトリウムおよびナトリウムジオクチルスルホスクシネートから選択される請求項３〜９のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】  湿潤剤が塩化カルシウムである請求項３〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】  レオロジー添加物が、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、およびこれらのコポリマー、ヒドロキシプロピルグアー、キサンタンガム、キトサン、アクリル化コポリマー、ポリアクリルポリマー（カルボポル(carbopols)）および水溶性ポリマーから選択される１種以上の化合物である請求項６記載の組成物。
【請求項１３】  レオロジー添加物がビニルエーテル／無水マレイン酸コポリマーである請求項３〜１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】  前述に実質上記載されている請求項３〜１３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】  請求項３〜１４のいずれかに記載の組成物で処理されるフィルター。
【請求項１６】  好適な湿潤剤によって濾過物を移動するように適合された殺生物剤または制生物剤をフィルターまたは濾過物に添加する工程を含む、フィルター上の濾過物を処理する方法。
【請求項１７】  フィルターを請求項３〜１４のいずれかに記載の組成物で処理する工程、
フィルターを通して空気を通過させることにより、フィルター上に濾過物として汚染物質を蓄積する工程、および
殺生物剤を濾過物中へ移動させる工程
を含む、空気中の風媒性汚染物質を減らす方法。
【請求項１８】  フィルターを殺生物剤または制生物剤および好適な湿潤剤で処理する工程、
フィルターを通して空気を通過させることにより、フィルター上に濾過物として汚染物質を蓄積する工程、および
殺生物剤を濾過物を通じて移動させる工程
を含む、空気中の風媒性汚染物質を減らす方法。
【請求項１９】  実施例のうちいずれか一つを参照して前述に実質上記載されている、請求項１６〜１８のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
発明の詳細な説明
第１の態様によれば、本発明は、制生物剤または殺生物剤を含有する組成物で処理されたエアーフィルターであって、前記薬剤がエアーフィルターでの使用時に蓄積する粒子を通って移動するのに適し、かつ通常の使用において３ヶ月後に、同一条件下での未処理のフィルターと比較して、きれいなフィルター材料１グラム当たりのｃｆｕが少なくともｌｏｇ１低下するエアーフィルターを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月26日(2008.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  生体試料においてCD163の存在を検出するための方法であって、
ａ）試料とCD163捕捉抗体とを、CD163−抗体複合体を形成するように接触させること；および
ｂ）前記CD163−抗体複合体とCD163検出抗体とを、試料中のCD163のレベルが検出されるように接触させること
を含む、前記方法。
【請求項２】  CD163捕捉抗体がMAC2-158またはMAC2-48であり、CD163検出抗体がRM3/1である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  生体試料がヒト血漿である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれかに記載の方法を介して、生体試料にCD163の存在を検出することを含む、炎症状態または炎症進行の経過をモニタリングするための方法。
【請求項５】  CD163を含む、炎症の予防用または治療用組成物。
【請求項６】  さらにグルココルチコイドを含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】  炎症の徴候および症状を低減させるための、請求項５または６に記載の組成物。
【請求項８】  動物の炎症の予防または治療のための、請求項５または６に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月12日(2008.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図示していない固定手段によってブレーキキャリパに取付けられた本発明による操作ユニットは、モジュール構造であり、実質的に３個の独立したサブアセンブリまたはモジュールからなり、しかも駆動ユニット１と、第１の摩擦パッド４を操作する第１の減速装置２と、作用的に駆動ユニット１と第１の減速装置２の間に接続配置された第２の減速装置３とからなっている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月19日(2008.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 放射線撮影で使用するための散乱線除去格子（１０）であって、 複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）と、
複数の空隙（１７）を含み、前記複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）の間に間隔をとって１次放射線を該散乱線除去格子（１０）を通過させるための複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）と、
前記複数の空隙（１７）を画定している複数の中空の微小球（１５）と、を備える、散乱線除去格子（１０）。
【請求項２】 前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）が熱硬化可能な材料を含む、請求項１に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項３】 前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）がエポキシ及び高分子材料（１３）のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項４】 前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）の密度が前記エポキシ及び前記高分子材料（１３）のうちの前記少なくとも１つの密度の約４分の１である、請求項３に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項５】 前記複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）が前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）と異なる材料を含む、請求項１に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項６】 前記複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）が鉛を含み、かつ前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）がエポキシ及び高分子材料（１３）のうちの少なくとも１つを含む、請求項５に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項７】 前記複数の概して放射線吸収性のエレメント（１１）と前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１２）とにより交互配置された層を構成している、請求項１に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項８】 さらに第１の保護用カバー（２２）と第２の保護用カバー（２４）とを備えていると共に、前記複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）及び前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）は前記第１の保護用カバー（２２）と前記第２の保護用カバー（２４）の間に配置されている、請求項１に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項９】 前記複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）は、その一部分が放射線源と整列するように角度設定されている間隔をとった複数のストリップを含む、請求項１に記載の散乱線除去格子（１０）。
【請求項１０】 請求項９に従った第１及び第２の散乱線除去格子（１０）を備えると共に、前記第１の散乱線除去格子（１０）の前記間隔をとったストリップは前記第２の散乱線除去格子（１０）の前記間隔をとったストリップに対してほぼ直角の角度で配置可能である、散乱線除去格子（１０）。
【請求項１１】 放射線撮影用の堅牢構造の散乱線除去格子（１０）を形成するための方法であって、
軸（Ａ）と整列可能でありかつ軸（Ａ）の周りで円弧（Ｃ）に沿って移動できる表面（５６）を提供するステップと、
複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）を提供するステップと、
複数の空隙（１７）を含む複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）を提供するステップと、
複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）が複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）の間の概して全体に延びるようにして該複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２、１１２）を間隔をとった関係で配置させると共に該複数の放射線吸収性のエレメント（１２、１１２）を軸（Ａ）と整列させて角度設定するように前記表面（５６）を使用するステップと、を含み、
前記複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）が前記複数の空隙（１７）を画定している複数の中空の微小球（１５）を含んでいる、方法。
【請求項１２】 複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）を提供する前記ステップが成形可能な材料（１３）を提供するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】 表面（５６）を使用する前記ステップが、複数の概して放射線吸収性のエレメント（１２）と複数の概して放射線非吸収性のエレメント（１１）を交互に積み重ねるように表面（５６）を使用するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月18日(2008.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いにボンドによって連結していない球形の、分離したシリカ粒子を含む研磨剤であって、
ａ）寸法５−５０ｎｍのシリカ粒子５−９５重量％、及び
ｂ）寸法５０−２００ｎｍのシリカ粒子９５−５重量％
を含む、但し粒子の全体がバイモ−ダルの粒径分布を有する、
研磨剤。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月9日(2008.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ｉ）実験式ＭＬxＸ4-x（式中、Ｍはチタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選択され、各Ｌは、独立に、酸素、硫黄、セレン、テルル、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマス又はこれらの混合物からなる群から選択された２個の原子によってＭに結合されたモノアニオン性二座配位子であり、Ｘはフッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されたハロゲンであり、そして０＜ｘ≦４である）の少なくとも１種の遷移金属化合物と、式ＬxＥＲnＹmＨp（式中、各Ｌは、独立に、酸素、硫黄、セレン、テルル、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマス又はこれらの混合物からなる群から選択された２個の原子によってＥに結合されたモノアニオン性二座配位子であり、Ｅはホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムからなる群から選択され、各Ｒは、独立に、ヒドロカルビル基であり、各Ｙは、独立に、モノアニオン性一座配位子であり、０＜ｘ≦２、ｎ＞０、ｍ≧０、ｐ≧０及びｘ＋ｎ＋ｍ＋ｐ＝３である）の少なくとも１種のアルキル化剤とを、少なくとも１種の非プロトン性溶媒中で反応させることによって得られた可溶性化学種を、ｉｉ）担体と接触させることによって製造される固体前触媒。
【請求項２】  アルキル化剤がアルキル化剤の遷移金属化合物に対するモル比０．１〜１００で存在する請求項１に記載の固体前触媒。
【請求項３】  Ｍがチタンである請求項１に記載の固体前触媒。
【請求項４】  少なくとも１種のアルキル化剤が実験式ＬxＥＲnＹmＨp（式中、各Ｌは、独立に、酸素、硫黄、セレン、テルル、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマス又はこれらの混合物からなる群から選択された２個の原子によってＥに結合されたモノアニオン性二座配位子であり、Ｅはホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムからなる群から選択され、各Ｒは、独立に、ヒドロカルビル基であり、各Ｙは、独立に、モノアニオン性一座配位子であり、０＜ｘ≦２、ｎ＞０、ｍ≧０、ｐ≧０及びｘ＋ｎ＋ｍ＋ｐ＝３である）のＭＬxＸ4-xをアルキル化する有機金属化合物である請求項１に記載の固体前触媒。
【請求項５】  Ｅがアルミニウムである請求項４に記載の固体前触媒。
【請求項６】  可溶性化学種が担体の上に析出されている請求項１に記載の固体前触媒。
【請求項７】  担体が無機酸化物及び無機ハロゲン化物からなる群から選択される請求項１に記載の固体前触媒。
【請求項８】  ｉ）実験式ＭＬxＸ4-x（式中、Ｍはチタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選択され、各Ｌは、独立に、酸素、硫黄、セレン、テルル、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマス又はこれらの混合物からなる群から選択された２個の原子によってＭに結合されたモノアニオン性二座配位子であり、Ｘは、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されたハロゲンであり、そして０＜ｘ≦４である）の少なくとも１種の遷移金属化合物と、式ＬxＥＲnＹmＨp（式中、各Ｌは、独立に、酸素、硫黄、セレン、テルル、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマス又はこれらの混合物からなる群から選択された２個の原子によってＥに結合されたモノアニオン性二座配位子であり、Ｅはホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムからなる群から選択され、各Ｒは、独立に、ヒドロカルビル基であり、各Ｙは、独立に、モノアニオン性一座配位子であり、０＜ｘ≦２、ｎ＞０、ｍ≧０、ｐ≧０及びｘ＋ｎ＋ｍ＋ｐ＝３である）の少なくとも１種のアルキル化剤及び少なくとも１種の内部電子供与体とを、少なくとも１種の非プロトン性溶媒中で反応させることによって得られた可溶性化学種を、ｉｉ）担体と接触させることによって製造される固体前触媒。
【請求項９】  ｉ）請求項１に記載の固体前触媒及びｉｉ）少なくとも１種の助触媒を含んでなる触媒系。
【請求項１０】  固体前触媒の遷移金属化合物のＭがチタンである請求項９に記載の触媒系。
【請求項１１】  固体前触媒の少なくとも１種のアルキル化剤が実験式ＬxＥＲnＹmＨp（式中、各Ｌは、独立に、酸素、硫黄、セレン、テルル、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマス又はこれらの混合物からなる群から選択された２個の原子によってＥに結合されたモノアニオン性二座配位子であり、Ｅは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムからなる群から選択され、各Ｒは、独立に、ヒドロカルビル基であり、各Ｙは、独立に、モノアニオン性一座配位子であり、０＜ｘ≦２、ｎ＞０、ｍ≧０、ｐ≧０及びｘ＋ｎ＋ｍ＋ｐ＝３である）の、ＭＬxＸ4-xをアルキル化する有機金属化合物である請求項９に記載の触媒系。
【請求項１２】  Ｅがアルミニウムである請求項１１に記載の触媒系。
【請求項１３】  少なくとも１種の助触媒がオレフィンの重合又は共重合に於いて固体前触媒を活性化する有機金属化合物である請求項９に記載の触媒系。
【請求項１４】  少なくとも１種の助触媒が実験式ＲnＥＹmＨp及び（ＱＥＲ）q（式中、各Ｒは、独立に、ヒドロカルビル基であり、Ｅはホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムからなる群から選択され、各Ｙは、独立に、モノアニオン性一座配位子であり、Ｑは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、−Ｎ（ＯＲ）−、−Ｎ（ＳＲ）−、−Ｎ（ＮＲ2）−、−Ｎ（ＰＲ2）−、−Ｐ（Ｒ）−、−Ｐ（ＯＲ）−、−Ｐ（ＳＲ）−及び−Ｐ（ＮＲ2）−からなる群から選択され、ｎ＞０、ｍ≧０、ｐ≧０且つｎ＋ｍ＋ｐ＝３であり、そしてｑ≧１である）の有機金属化合物からなる群から選択される請求項１３に記載の触媒系。
【請求項１５】  Ｅがアルミニウムである請求項１４に記載の触媒系。
【請求項１６】  助触媒がトリアルキルアルミニウム化合物である請求項１５に記載の触媒系。
【請求項１７】  助触媒が助触媒の固体前触媒の遷移金属に対するモル比０．１〜１０００で存在する請求項９に記載の触媒系。
【請求項１８】  ｉ）請求項８に記載の固体前触媒及びｉｉ）少なくとも１種の助触媒を含んでなる触媒系。
【請求項１９】  重合条件下で、少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンと、請求項９に記載の触媒系とを接触させることを含んでなる少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンの重合方法。
【請求項２０】  重合条件下で、少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンと、請求項１８に記載の触媒系とを接触させることを含んでなる少なくとも１種又はそれ以上のオレフィンの重合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月24日(2008.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被験体において血栓症を処置または抑制するための組成物であって、
有効量のＰ−セレクチンアンタゴニスト
を含む、組成物。
【請求項２】  前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質またはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメントである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、ヒトＰＳＧＬ−１である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、組換えタンパク質である、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、免疫グロブリンのＦｃタンパク質を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】  前記免疫グロブリンが、ヒトＩｇＧ１である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、組換えヒトＰＳＧＬ−Ｉｇ融合タンパク質である、請求項２に記載の組成物。
【請求項８】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、Ｐ−セレクチンリガンド活性を有する、ヒトＰＳＧＬ−１タンパク質の細胞外ドメインまたはそのフラグメントを有する、請求項２に記載の組成物。
【請求項９】  前記フラグメントが、配列番号２におけるアミノ酸４２からアミノ酸６０までに示されるアミノ酸配列を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】  前記フラグメントが、配列番号２におけるアミノ酸４２からアミノ酸８８までに示されるアミノ酸配列を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】  前記フラグメントが、配列番号２におけるアミノ酸４２からアミノ酸１１８までに示されるアミノ酸配列を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１２】  前記フラグメントが、配列番号２におけるアミノ酸４２からアミノ酸１８９までに示されるアミノ酸配列を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】  前記フラグメントが、配列番号２におけるアミノ酸４２からアミノ酸３１０までに示されるアミノ酸配列を含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１４】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、配列番号２におけるアミノ酸４２からアミノ酸８８までに示されるアミノ酸配列を含み、該アミノ酸配列は、そのＣ末端で、免疫グロブリンのＦｃ部分に融合している、請求項２に記載の組成物。
【請求項１５】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質が、免疫グロブリンのＦｃ部分をさらに含む、請求項８に記載の組成物。
【請求項１６】  前記被験体がヒトである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】  前記Ｐ−セレクチンアンタゴニストが、血栓形成の前に前記被験体に投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項１８】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質またはそのフラグメントの有効量が、約０．１ｍｇ／ｋｇ〜約１０ｍｇ／ｋｇである、請求項２に記載の組成物。
【請求項１９】  前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質の有効量が、およそ１ｍｇ／ｋｇである、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】    前記可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質の有効量が、０．１ｍｇ／ｋｇ、０．２５ｍｇ／ｋｇ、０．５ｍｇ／ｋｇ、０．７５ｍｇ／ｋｇ、１．０ｍｇ／ｋｇ、１．２５ｍｇ／ｋｇ、１．５ｍｇ／ｋｇ、１．７５ｍｇ／ｋｇ、２．０ｍｇ／ｋｇ、２．２５ｍｇ／ｋｇ、２．５ｍｇ／ｋｇ、３．０ｍｇ／ｋｇ、および３．５ｍｇ／ｋｇからなる群から選択される、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】  被験体において血管に対する細胞接着を抑制するための組成物であって、
有効量の可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質またはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメント
を含む、組成物。
【請求項２２】  前記細胞が、白血球および血小板からなる群から選択される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】  被験体において血管に対する細胞の移動を増加するための組成物であって、
有効量の可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質またはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメント
を含む、組成物。
【請求項２４】  前記細胞が、白血球および血小板からなる群から選択される、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】  被験体において血栓誘導因子の効果を抑制するための組成物であって、
有効量の可溶性ＰＳＧＬ−１タンパク質またはＰ−セレクチンリガンド活性を有するそのフラグメント
を含む、組成物。
【請求項２６】  前記細胞が、白血球および血小板からなる群から選択される、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】  前記血栓誘導因子が、ＬＴＣ４である、請求項２５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月27日(2008.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリペプチドもしくはタンパク質の抗原配列成分とＨＥＲ−２タンパク質の細胞内ドメイン由来の配列成分とを含む、免疫刺激融合タンパク質であって、
ここで、該免疫刺激融合タンパク質は、該融合タンパク質の該ポリペプチドもしくはタンパク質の抗原配列成分に対する細胞性免疫応答を誘発するのに有効である、
免疫刺激融合タンパク質。
【請求項２】  前記ＨＥＲ−２細胞内ドメインの配列成分が、配列番号２５として示される配列を有する、請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質。
【請求項３】  前記ポリペプチドまたはタンパク質の成分が、腫瘍細胞と関連する、請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質。
【請求項４】  前記融合タンパク質が、連続的な核酸コード配列の翻訳によって産生される、請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質。
【請求項５】  前記融合タンパク質が、化学カップリングによって産生される、請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質。
【請求項６】  請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質であって、
ここで、前記ポリペプチドまたはタンパク質の成分が、配列番号２３として示される成熟ＨＥＲ−２膜遠位細胞外ドメイン配列である、
免疫刺激融合タンパク質。
【請求項７】  請求項６に記載の免疫刺激ＨＥＲ２融合タンパク質であって、
ここで、該ＨＥＲ−２融合タンパク質が、ＨＥＲ５００（配列番号１）、ＨＥＲ５００・ｈＧＭ−ＣＳＦ（配列番号２）、ＨＥＲ５００＊（配列番号３）およびＨＥＲ＊・ｒＧＭ−ＣＳＦ（配列番号４）からなる群から選択される、
免疫刺激ＨＥＲ２融合タンパク質。
【請求項８】  前記融合タンパク質がＨＥＲ５００・ｈＧＭ−ＣＳＦ（配列番号２）である、請求項７に記載の免疫刺激ＨＥＲ２融合タンパク質。
【請求項９】  前記細胞性免疫応答が、樹状細胞誘導性Ｔ細胞媒介免疫応答である、請求項１に記載の免疫刺激ＨＥＲ２融合タンパク質。
【請求項１０】  免疫刺激融合タンパク質組成物であって、
請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質へのインビトロでの曝露により超活性化された、樹状細胞
を含む、免疫刺激融合タンパク質。
【請求項１１】  請求項１に記載の免疫刺激融合タンパク質
をさらに含む、請求項１０に記載の免疫刺激融合タンパク質組成物。
【請求項１２】  樹状細胞（ＤＣ）または樹状細胞前駆体（ＤＣＰ）から超活性化ＤＣを産生するための組成物であって、
ポリペプチドもしくはタンパク質の抗原配列成分とＨＥＲ−２タンパク質の細胞内ドメイン由来の配列成分とを含む、免疫刺激融合タンパク質
を含む、組成物。
【請求項１３】  前記樹状細胞（ＤＣ）または樹状細胞前駆体（ＤＣＰ）にインビトロで曝露するための、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】  前記樹状細胞（ＤＣ）または樹状細胞前駆体（ＤＣＰ）にインビボで曝露するための、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】  特定の抗原と関連する癌を処置するための組成物であって、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の免疫刺激ＨＥＲ２融合タンパク質
を含む、組成物。
【請求項１６】  特定の抗原と関連する癌を処置するための組成物であって、
請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の超活性化ＤＣ
を含む、組成物。
【請求項１７】  特定の抗原と関連する癌を処置するための医薬の製造における、請求項１〜９のいずれか１項に記載の免疫刺激ＨＥＲ２融合タンパク質の使用。
【請求項１８】  特定の抗原と関連する癌を処置するための医薬の製造における、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の超活性化ＤＣの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】 
【請求項１】 （ａ）熱可塑性樹脂と、（ｂ）射出成形後のバルク樹脂と比較して、前記熱可塑性樹脂の表面特性を変化させるのに有効な量のデンドリマー添加剤とを含む射出成形可能な組成物であって、前記熱可塑性樹脂とデンドリマーとは、前記デンドリマー添加剤が射出成形の間で前記熱可塑性樹脂中に移動可能なままであるように存在する、射出成形可能な組成物。
【請求項２】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項１記載の組成物。
【請求項３】 前記熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂である、請求項２記載の組成物。
【請求項４】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項３記載の組成物。
【請求項５】 前記デンドリマーが、ヒドロキシル基、アルキル基、アクリル酸エステル基、エポキシ基、ハロゲン化炭化水素基、シロキサン基、リン酸エステル基、ベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基、アミン基、サリチル酸フェニル基及びフッ素化炭化水素基から成る群より選ばれた末端基を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項６】 （ａ）熱可塑性樹脂と、（ｂ）前記熱可塑性樹脂の表面特性を変化させるのに有効な量のデンドリマー添加剤とを含む組成物から製造された成形品であって、前記成形品が中心領域と、異なる組成の周囲の表面領域とから成り、かつ前記デンドリマー添加剤の大部分が前記周囲の表面領域内に位置している成形品。
【請求項７】 前記デンドリマー添加剤の５０％以上が前記周囲の表面領域内に位置している、請求項６記載の成形品。
【請求項８】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項７記載の成形品。
【請求項９】 前記熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂である、請求項７記載の成形品。
【請求項１０】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項９記載の成形品。
【請求項１１】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項６記載の成形品。
【請求項１２】 前記熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂である、請求項６記載の成形品。
【請求項１３】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項１２記載の成形品。
【請求項１４】 前記成形品が光ディスクであり、前記熱可塑性樹脂が光学用ポリカーボネートであり、かつ前記デンドリマー添加剤がアルキル末端基を有するデンドリマーである、請求項６記載の成形品。
【請求項１５】 前記デンドリマーが、ヒドロキシル基、アルキル基、アクリル酸エステル基、エポキシ基、ハロゲン化炭化水素基、シロキサン基、リン酸エステル基、ベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基、アミン基、サリチル酸フェニル基及びフッ素化炭化水素基から成る群より選ばれた末端基を有する、請求項６記載の成形品。
【請求項１６】 熱可塑性樹脂組成物を射出成形することによって製造される製品の表面特性を変化させるための方法であって、バルク樹脂と比較して、前記熱可塑性樹脂の表面特性を変化させるのに有効な量のデンドリマー添加剤を射出成形に先立って前記熱可塑性樹脂組成物に添加する工程を含み、前記熱可塑性樹脂とデンドリマーとは、前記デンドリマー添加剤が射出成形の間で前記熱可塑性樹脂中に移動可能なままであるように存在する、方法。
【請求項１７】 前記デンドリマーが、ヒドロキシル基、アルキル基、アクリル酸エステル基、エポキシ基、ハロゲン化炭化水素基、シロキサン基、リン酸エステル基、ベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基、アミン基、サリチル酸フェニル基及びフッ素化炭化水素基から成る群より選ばれた末端基を有する、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】 前記デンドリマー添加剤が前記熱可塑性樹脂組成物を基準として０．１〜５重量％の量で添加される、請求項１６記載の方法。
【請求項１９】 前記デンドリマー添加剤がヒドロキシル末端基を有することにより、前記製品の表面上の静電荷が増加する、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】 前記デンドリマー添加剤がアルキル末端基を有することにより、前記製品の表面上の静電荷が減少する、請求項１６記載の方法。
【請求項２１】 （ａ）熱可塑性樹脂と、前記熱可塑性樹脂の表面特性を変化させるのに有効な量のデンドリマー添加剤とを含む組成物を調製する工程と、（ｂ）成形品を製造するための形状を有する型の内部に前記組成物を導入する工程とを含んでいて、前記型の内部に前記組成物を導入する過程が中心領域と周囲の表面領域とを有する成形品を生み出すのに十分な大きい変形速度で材料を変形させると共に、前記デンドリマー添加剤の大部分が前記周囲の表面領域内に位置する、成形品の製造方法。
【請求項２２】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】 前記熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂である、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】 前記デンドリマー添加剤が全組成物を基準として０．１〜５重量％の量で存在している、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】 前記デンドリマーが、ヒドロキシル基、アルキル基、アクリル酸エステル基、エポキシ基、ハロゲン化炭化水素基、シロキサン基、リン酸エステル基、ベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基、アミン基、サリチル酸フェニル基及びフッ素化炭化水素基から成る群より選ばれた末端基を有する、請求項２１記載の方法。