【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の荷電粒子を半導体材料に注入して該半導体材料の特性を修正するために使用される、荷電粒子の可変集束装置であって、  上方磁気コア部材と、  前記上方コア部材から離間した下方磁気コア部材であって、その軸を前記上方コア部材の軸に概ね平行として配向された下方磁気コア部材と、  前記上方コア部材に沿って分散された複数の集束コイルユニット及び前記下方コア部材に沿って分散された複数の対応する集束コイルユニットであって、それぞれが個別のコア部材を囲む単一の連続的電気回路を含む、複数の集束コイルユニットと、  前記上方コア部材に沿って分散された前記複数の集束コイルユニットと、前記下方コア部材に沿って分散された前記対応する集束コイルユニットとを励磁する電流コントローラであって、励磁する際に、前記上方コア部材に沿って分散された前記複数の励磁した集束コイルユニットそれぞれの電流方向が、前記上方及び下方コア部材の一端から見て前記下方コア部材に沿って分散された前記対応する集束コイルユニットの電流方向の反対となるよう構成された、電流コントローラとを含む、装置。
【請求項２】
前記複数の独立集束コイルユニットが均等に離間されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記複数の集束コイルユニットが同一のコイル巻数を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記電流コントローラが、前記集束コイルユニットを流れる電流を独立して変化させて、前記上方磁気コア部材と前記下方磁気コア部材との間に制御可能な磁場形状を発生させるよう構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記上方及び下方磁気コア部材のそれぞれに直線配列で取り付けられた磁気コア延長ユニットを更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
それぞれが各コア部材の一端と連通して長方形フレームを形成する２つの横材を更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記横材が非磁性体を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記横材が磁性体を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記横材それぞれに沿って分散された少なくとも１つのコイルユニットを更に含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記上方コア部材おいて前記複数の集束コイルユニットと前記上方コア部材の各端部との間に配置された終端コイルユニットと、前記下方コア部材おいて前記複数の対応する集束コイルユニットと前記下方コア部材の各端部との間に配置された終端コイルユニットとを更に含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記上方コア部材に配置された前記終端コイルユニットの電流が、前記上方及び下方コア部材の一端から見て前記下方コア部材に配置された前記終端コイルユニットの電流の反対方向となる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記上方コア部材に沿って分散された前記複数の集束コイルユニットそれぞれの電流が同一方向である、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
複数の荷電粒子を半導体材料に注入して該半導体材料の特性を修正するために使用される、荷電粒子の可変集束装置であって、  上方磁気コア部材と、  前記上方コア部材から離間した下方磁気コア部材であって、その軸を前記上方コア部材の軸に概ね平行として配向された下方磁気コア部材と、  前記上方コア部材に沿って分散された複数の集束コイルユニット及び前記下方コア部材に沿って分散された複数の対応する集束コイルユニットであって、それぞれが個別のコア部材を囲む単一の連続的電気回路を含む、複数の集束コイルユニットと、  前記上方コア部材に沿って分散された前記集束コイルユニットの１つと、前記下方コア部材に沿って分散された対応する集束コイルユニット１つとを励磁する電流コントローラであって、励磁する際に、前記上方コア部材に沿って分散された前記励磁した集束コイルユニットの電流方向が、前記上方及び下方コア部材の一端から見て前記下方コア部材に沿って分散された前記対応する集束コイルユニットの電流方向の反対なるよう構成されている、電流コントローラとを含む、装置。
【請求項１４】
前記複数の集束コイルユニットが均等に離間されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記複数の集束コイルユニットが同一のコイル巻数を含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記電流コントローラが、前記集束コイルユニットを流れる電流を独立して変化させて、前記上方磁気コア部材と前記下方磁気コア部材との間に制御可能な磁場形状を発生させるよう構成されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項１７】
前記上方及び下方磁気コア部材のそれぞれに直線配列で取り付けられた磁気コア延長ユニットを更に含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
それぞれが各コア部材の一端と連通して長方形フレームを形成する２つの横材を更に含む、請求項１３に記載の装置。
【請求項１９】
前記横材が非磁性体を含む、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
半導体デバイスを製造するためのプロセスであって、  ａ）  前記デバイスに注入されるイオンを含むイオンビームを生成する段階と、  ｂ）  上方磁気コア部材と、前記上方コア部材から離間した下方磁気コア部材であって、その長手軸を前記上方コア部材の長手軸に概ね平行として配向された下方磁気コア部材との間に前記イオンビームを通過させることにより前記イオンビームを集束させる段階であって、複数の集束コイルユニットが前記上方コア部材に沿って分散されると共に、複数の対応する集束コイルユニットが前記下方コア部材に沿って分散されており、前記集束コイルユニットそれぞれが個別のコア部材を囲む単一の連続的電気回路を含む、集束させる段階と、  ｃ）  前記上方コア部材に沿って分散された前記集束コイルユニットと、前記下方コア部材に沿って分散された前記対応する集束コイルユニットとを励磁する段階であって、前記上方コア部材に沿って分散された前記励磁した集束コイルユニットそれぞれの電流方向が、前記上方及び下方コア部材の一端から見て前記下方コア部材に沿って分散された前記対応する集束コイルユニットの電流方向の反対となるように励磁する段階と、  ｄ）  前記集束ビームを前記デバイスに向ける段階とを含む、プロセス。
【請求項２１】
前記上方コア部材において前記複数の集束コイルユニットと前記上方コア部材の各端部との間に配置された終端コイルユニットと、前記下方コア部材おいて前記複数の対応する集束コイルユニットと前記下方コア部材の各端部との間に配置された終端コイルユニットとを更に含む、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記上方コア部材に配置された前記終端コイルユニットを、前記下方コア部材に配置された前記終端コイルユニットの電流の反対方向に励磁する段階とを更に含む、請求項２１に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記上方コア部材に沿って分散された前記集束コイルユニットそれぞれの電流が同一方向である、請求項２０に記載の装置。
【請求項２４】
半導体デバイスを製造するためのプロセスであって、  ａ）  前記デバイスに注入されるイオンを含むイオンビームを生成する段階と、  ｂ）  その端部の間に第１次元を備えた上方磁気コア部材と、前記上方コア部材から離間すると共にその端部の間に前記第１次元を備えた下方磁気コア部材であって、その軸を前記上方コア部材の軸に概ね平行で且つその端部が前記上方コア部材の前記端部と概ね位置合わせされて配向された下方磁気コア部材と、前記磁気コア部材の前記端部を連結して長方形フレームを形成する付加部材との間に前記イオンビームを通過させることにより前記イオンビームを集束させる段階であって、複数の独立した電流励磁コイルユニットが前記コア部材の両方に沿って分散されており、前記コイルユニットそれぞれが個別のコア部材を囲む単一の連続的電気回路を含む、集束させる段階と、  ｃ）  前記上方磁気コアの前記コイルユニットを一方向に励磁し、前記上方及び下方コア部材の一端から見て前記下方磁気コアの前記コイルユニットを反対方向に励磁する段階と、  ｄ）  前記集束ビームを前記デバイスに向ける段階とを含む、プロセス。
【請求項２５】
前記付加部材それぞれに分散された少なくとも１つのコイルユニットを更に含む、請求項２４に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記付加部材のいずれかの前記少なくとも１つのコイルユニットを一方向に励磁し、前記対向する付加部材の前記少なくとも１つのコイルユニットを反対方向に励磁する段階を更に含む、請求項２５に記載のプロセス。
【請求項２７】
半導体デバイスを製造するためのプロセスであって、  ａ）  前記デバイスに注入されるイオンを含むイオンビームを生成する段階と、  ｂ）  上方磁気コア部材と、前記上方コア部材から離間すると下方磁気コア部材であって、その長手軸を前記上方コア部材の長手軸に概ね平行として配向された下方磁気コア部材との間に前記イオンビームを通過させることにより前記イオンビームを集束させる段階であって、複数の集束コイルユニットが前記上方コア部材に沿って分散されると共に、複数の対応する集束コイルユニットが前記下方コア部材に沿って分散されており、前記集束コイルユニットそれぞれが個別のコア部材を囲む単一の連続的電気回路を含む、集束させる段階と、  ｃ）  前記上方コア部材に沿って分散された前記集束コイルユニットの１つと、前記下方コア部材に沿って分散された対応する集束コイルユニットの１つとを励磁する段階であって、前記上方コア部材に沿って分散された前記１つの励磁した集束コイルユニットの電流方向が、前記上方及び下方コア部材の一端から見て前記下方コア部材に沿って分散された前記対応する集束コイルユニットの電流方向の反対となる、励磁する段階と、  ｄ）  前記集束ビームを前記デバイスに向ける段階とを含む、プロセス。
【請求項２８】
前記上方コア部材おいて前記複数の集束コイルユニットと前記上方コア部材の各端部との間に配置された終端コイルユニットと、前記下方コア部材おいて前記複数の対応する集束コイルユニットと前記下方コア部材の各端部との間に配置された終端コイルユニットとを更に含む、請求項２７に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記上方コア部材に配置された前記終端コイルユニットを、前記下方コア部材に配置された前記終端コイルユニットの電流の反対方向に励磁する段階とを更に含む、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記上方コア部材に沿って分散された前記集束コイルユニットそれぞれの電流が同一方向である、請求項２７に記載のプロセス。