【手続補正書】
【提出日】平成18年12月14日(2006.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変えて、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックにおいて、
前記ワークチャックは該ワークチャックのワーク載置面に、複数の吸着領域と、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと、該ランドを除く部分には凹部とを設け、ワークが載置された前記複数の吸着領域を吸着及び非吸着状態に選択的に制御する正負圧制御装置を備えたことを特徴にしたワークチャック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記ワークチャックは該ワークチャックのワーク載置面内で、直交する中心軸の少なくとも１つの軸に対し、軸対称位置に離間して設けられ、前記ワークチャックのワーク載置面に対し垂直方向に同一の高さで進退するリフトピンを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のワークチャック。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
このような場合、ワークより小さいマスクを用い、該マスクをワークに近接して対向配置した状態で該ワークをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にワークに向けてパターン露光用の光を照射し、これにより、マスクＭに描かれた複数のマスクパターンをワーク上に露光転写して一枚のワークに複数のディスプレイ用材ＤＰを作成する、分割逐次近接露光方式が提案されている（例えば特開２００２−３６５８１０号公報参照）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３６５８１０号公報（図１〜図６、第６頁右欄１４〜２０行）
【特許文献２】実開平６−７４２４４号公報（図１〜図３、図４、図６）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明の請求項１に係るワークチャックの発明は、ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変えて、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックにおいて、
前記ワークチャックは該ワークチャックのワーク載置面に、複数の吸着領域と、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと、該ランドを除く部分には凹部とを設け、ワークが載置された前記複数の吸着領域を吸着及び非吸着状態に選択的に制御する正負圧制御装置を備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
中央の吸着領域８１ａは四角状に連続した領域壁８１１で囲まれ、この領域壁８１１で囲まれた領域の内側には、平面側から見ると図６（ａ）で例示されるように、規則的に配置された複数の四角状のランド８１２（ランド８１２についての詳細は後述する）が設けられ、吸着領域８１ａの領域壁８１１とランド８１２を除く部分はワーク載置面ＷＳ内で連通する凹部８１３となっている。そして領域壁８１１とランド８１２は同じ高さ（紙面に垂直なＺ方向で）に仕上げられ、これらの上端面はワークＷを吸着支持する際のワーク載置面ＷＳとなる。また図５（ａ）のＸ−Ｘ断面図である図５（ｂ）によって示されるように、凹部８１３は領域壁８１１とランド８１２よりＺ方向において低く、そしてワーク載置面ＷＳ内で互いに連通する様に形成されている。この吸着領域８１ａの凹部８１３は、ワークＷを吸着する時には負圧（真空）に、またワークＷをローディングする等の際、ワーク被吸着面ＷＶに清浄な圧縮空気を吹き付けてワークＷに帯電している静電気を除去しつつ除塵したり、同様にアンローディングする時には領域壁８１１及びランド８１２の上端面からワークＷを離しやすくするため、凹部８１３に正圧の圧縮空気を導入するためのものである。又同様に大気圧状態にしてワークＷに正圧力や負圧力を及ぼさないようにするものである。このため図５（ｂ）に示すように、外部から正負圧配管８１４ａをワークチャック８の内部を通って吸着領域８１ａの下まで導き、この正負圧配管８１４ａと凹部８１３を連通する正負圧孔８１５がランド８１２と干渉しない様に凹部８１３の底部に開口されている。このように凹部８１３を負圧や正圧又は大気圧状態にするため、この凹部８１３の底部から領域壁８１１又はランド８１２のワーク載置面ＷＳ（上端面）までの距離（凹部深さ）は、ワークＷがワークチャック８のワーク載置面ＷＳに吸着固定されたとき、その弾性変形によって凹部８１３の底部に接触しない程度以上有ればよく、また後述するワークチャック８のワーク載置面ＷＳをホトエッチング法等で製作する場合は、小さいほうが製作コストを低減するため望ましいので、これらを考慮すれば０．５〜１．０ｍｍ程度が好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また図５（ａ）において吸着領域８１ｂ及び８１ｄには、それぞれ正負圧配管８１４ｂと８１４ｄが各２本導かれている例を示しているが、これらの本数に限定されるものではなく、要はこれら複数の正負圧配管８１４ｂと８１４ｄが幾本あっても、各々独立した配管系として１本に統合されそれぞれの結合先が、電磁切換弁８６７ｂと８６７ｄの出力ポートＰ３に接続され、制御装置８９６によって吸着領域８１ｂ及び８１ｄの正負圧及び大気圧状態を独立に制御すれば良いのである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
このようにすれば、ワークＷの変形を、ワーク載置面の中心から、周縁辺８８に向け追い出すように矯正しながら、最後にワークＷをワークＷ載置面に習わせた均一な吸着ができるので、マスクＭのマスクパターンＰをワーク被露光面ＷＥに色むら等が生じることがなく、また精度の良いパターンを露光することが出来る。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
以上説明した様に本発明のワークチャック８では、そのワーク載置面ＷＳに独立して正負圧及び大気圧状態に制御出来る複数の吸着領域を有しているので、小型のワークＷに比べ取り扱いの困難な大型化したワークＷにおいても、ワーク載置面ＷＳでワークＷの位置がずれないように仮止めることや、またワークＷのワーク被吸着面ＷＶの全面をクリーニングする様に使用することも、さらにワークＷの変形を矯正しながら、最後にワークＷ載置面に習わせた均一な吸着できる等の操作が単独または組み合わせて行うことが出来、ワークＷのワーク被吸着面ＷＶをワーク載置面ＷＳに吸着する際発生する変形や歪を防止して、ワークＷの被露光面に露光されるパターンの色むら等が生じることがなく、また精度の良いパターンを露光することが出来る様にしたものである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
以上説明した様に図５（ａ）では、ワークチャック８の載置面ＷＳに設けた４つの吸着領域を用い説明した。これらの複数の吸着領域を設け、ワークＷをワーク載置面ＷＳに均一に吸着する点から見れば、ワーク載置面ＷＳ上のＸ軸又はＹ軸の軸対称位置に設けることが望ましいが、これに限るものではなく、またワークＷのサイズによりその数も適宜選択することが出来る。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図６（ａ）では領域壁８１１に囲まれた吸着領域の内側に四角形状のランド８１２が規則的に配列されその余の部分が凹部８１３とされている。そして図５（ａ）に示すように、凹部８１３は正負圧孔８１５が設けられている。このランド８１２の形状は、ワーク載置面の面積を均一に分配配置でき、且つ載置面積も大きく出来るので、ワークＷの吸着時の変形や歪を小さく出来、またミーリング加工等を用い凹部８１３を加工するだけで、領域壁８１１及びランド８１２を形成できるので、加工の汎用性の点でも有利である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図６（ｂ）の円形状のランド８１２は同程度の大きさ、配置分布とした場合、図６（ａ）の四角形状のランド８１２に比べワークＷの支持面積は少なくなるが、ワークＷを吸着した際ランド８１２に丸味があるため、ワークＷへの応力集中を避けることが出来、内部歪緩和の効果がある。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
次に図７の図７（ａ）、図７（ｂ）の吸着領域パターンＶＰについて説明する。
一般にワークＷの被露光面ＷＥに露光されるマスクパターンＰは規則的で直線状ものが多い。そしてこのマスクパターンＰと先に説明したような吸着領域パターンＶＰが重畳した関係になると、ワークＷがワーク載置面ＷＳに吸着固定されたときに発生する吸着歪によって、ワーク被露光面ＷＥに露光されるマスクパターンＰの精度低下をまねいたり、色むら等を起こしてしまう。この点に着目しこの図７（ａ）、図７（ｂ）では、マスクＭによるマスクパターンＰとこの吸着歪を一致させないようなワーク載置面ＷＳの吸着領域パターンＶＰとすることにより、吸着歪による色むら等の原因を除去するものである。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
次に図７（ｄ）では、この図７（ｃ）に示した正負圧型ランド８１２Ｖと図６（ａ）〜図６（ｃ）等に示すランド凹部８１２ａを有さないランド８１２とを組み合わせ、例えば図５（ａ）に示す吸着領域８１ａ〜８１ｄに適用した例を模式的平面図で示したものである。この様にすることにより正負圧型ランド８１２ＶのみによりワークＷの吸着を行うことも出来るため、隣り合う吸着領域同士の境界部にある領域壁８１１及び波型状領域壁８１１Ｗを設ける必要がなくなる。又同様にワークＷの支持を目的としている最外周縁に沿った領域壁８１１も省略することも出来る。従ってマスクパターンＰと吸着領域パターンＶＰとが重畳することを防止できる。ワークＷのワーク載置面ＷＳでの吸着固定がより均一にでき、かつ上述の様にワーク載置面ＷＳのクリーニングも可能となり、色むら等の少ない露光パターンを形成することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
図１０（ｂ）では、ほぼ正方形のワークＷを、このワークＷの寸法に見合う吸着領域８１ｅで、また同様に図１０（ｃ）では吸着領域８１ｅと２つの吸着領域８１ｆで、そして図１０（ｄ）では吸着領域８１ｅと吸着領域８１ｇとでそれぞれワークＷを吸着していることを示している。
このようにワークＷの寸法やそのＸＹ方向の寸法比が異なっても、この第３の実施の形態のワークチャック８は、ワークＷに応じて、ワーク載置面ＷＳに独立した複数の吸着領域を設けることにより、本発明の第１の実施の形態のワークチャック８が有する特徴の他に、ワークＷの載置に汎用性を持たせることが出来る。