【手続補正書】
【提出日】平成20年8月27日(2008.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粗製テレフタル酸（ＣＴＡ）粒子を少なくとも一部分生成する酸化反応器から回収された複数の固体ＣＴＡ粒子を含み、前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが以下の特性：
（ａ）１２ｐｐｍｗ未満の４，４−ジカルボキシスチルベン（４，４−ＤＣＳ）を含み、
（ｂ）４００ｐｐｍｗ未満のイソフタル酸（ＩＰＡ）を含み、
（ｃ）１００ｐｐｍｗ未満の２，６−ジカルボキシフルオレノン（２，６−ＤＣＦ）を含み、
（ｄ）３４０ｎｍにおけるパーセント透過率（％Ｔ340）が２５より高い、
の１つ又はそれ以上を有する粗製テレフタル酸（ＣＴＡ）組成物。
【請求項２】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが１２ｐｐｍｗ未満の４，４−ＤＣＳを含む請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項３】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが４００ｐｐｍｗ未満のＩＰＡを含む請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項４】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが１００ｐｐｍｗ未満の２，６−ＤＣＦを含む請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項５】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが２５超の％Ｔ340を有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項６】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが１２ｐｐｍｗ未満の４，４−ＤＣＳ、４００ｐｐｍｗ未満のＩＰＡ、１００ｐｐｍｗ未満の２，６−ＤＣＦを含み且つ２５超のＴ340を有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項７】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが６ｐｐｍｗ未満の４，４−ＤＣＳを含む請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項８】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが２００ｐｐｍｗ未満のＩＰＡを含む請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項９】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが３０ｐｐｍｗ未満の２，７−ジカルボキシフルオレノン（２，７−ＤＣＦ）を含む請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１０】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、１分でＴＨＦ中に少なくとも５００ｐｐｍの濃度まで溶解する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１１】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解モデルによって算出した場合に、０．５レシプロカル分超の時定数Ｃを有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１２】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、２分でＴＨＦ中に少なくとも７００ｐｐｍの濃度まで溶解し、前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解モデルによって算出した場合に、０．６レシプロカル分超の時定数Ｃを有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１３】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが０．６ｍ2／ｇ超の平均ＢＥＴ表面積を有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１４】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが２０〜１５０ミクロンの範囲の平均粒度を有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１５】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが３０〜１５０ミクロンの範囲のＤ（ｖ，０．９）粒度を有する請求項１に記載のＣＴＡ組成物。
【請求項１６】
粗製テレフタル酸（ＣＴＡ）粒子を少なくとも一部分生成する酸化反応器から回収された複数の固体ＣＴＡ粒子を含み、前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが以下の特性：
（ａ）２０〜１５０ミクロンの範囲の平均粒度を有し、
（ｂ）本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、１分でＴＨＦ中に少なくとも５００ｐｐｍｗの濃度まで溶解し、
（ｃ）０．６ｍ2／ｇ超の平均ＢＥＴ表面積を有する、
の１つ又はそれ以上を有する粗製テレフタル酸（ＣＴＡ）組成物。
【請求項１７】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが２０〜１５０ミクロンの範囲の平均粒度を有する請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、１分でＴＨＦ中に少なくとも５００ｐｐｍの濃度まで溶解する請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが０．６ｍ2／ｇ超の平均ＢＥＴ表面積を有する請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、２０〜１５０ミクロンの範囲の平均粒度を有し、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、１分でＴＨＦ中に少なくとも５００ｐｐｍの濃度まで溶解し、且つ０．６ｍ2／ｇ超の平均ＢＥＴ表面積を有する請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解モデルによって算出した場合に、０．５レシプロカル分超の時定数Ｃを有する請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、２分でＴＨＦ中に少なくとも７００ｐｐｍの濃度まで溶解し、前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解モデルによって算出した場合に、０．６レシプロカル分超の時定数Ｃを有する請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが以下の特性：
（ｉ）１２ｐｐｍｗ未満の４，４−ジカルボキシスチルベン（４，４−ＤＣＳ）を含み、
（ｉｉ）４００ｐｐｍｗ未満のイソフタル酸（ＩＰＡ）を含み、
（ｉｉｉ）１００ｐｐｍｗ未満の２，６−ジカルボキシフルオレノン（２，６−ＤＣＦ）を含み、
（ｉｖ）３４０ｎｍにおけるパーセント透過率（％Ｔ340）が２５より高い、
の１つ又はそれ以上を有する請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが３０ｐｐｍｗ未満の２，７−ジカルボキシフルオレノン（２，７−ＤＣＦ）を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項２５】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが３０〜１５０ミクロンの範囲のＤ（ｖ，０．９）粒度を有する請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】
（ａ）少なくとも１つの一次酸化反応器の反応ゾーンに含まれる多相反応媒体の液相中でｐ−キシレンを酸化させ；そして
（ｂ）前記反応ゾーンから液体の母液及び固体の粗製テレフタル酸（ＣＴＡ）粒子を含むスラリーを回収することを含み、
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが以下の特性：
（ｉ）１２ｐｐｍｗ未満の４，４−ジカルボキシスチルベン（４，４−ＤＣＳ）を含み、
（ｉｉ）４００ｐｐｍｗ未満のイソフタル酸（ＩＰＡ）を含み、
（ｉｉｉ）１００ｐｐｍｗ未満の２，６−ジカルボキシフルオレノン（２，６−ＤＣＦ）を含み、
（ｉｖ）３４０ｎｍにおけるパーセント透過率（％Ｔ340）が２５より高い、
の１つ又はそれ以上を有する方法。
【請求項２７】
前記スラリーの代表サンプルが以下の特性：
（ｖ）９，０００ｐｐｍｗ未満のイソフタル酸（ＩＰＡ）を含み、
（ｖｉ）３，０００ｐｐｍｗ未満のフタル酸（ＰＡ）を含み、
（ｖｉｉ）３，０００ｐｐｍｗ未満のトリメリット酸（ＴＭＡ）を含み、
（ｖ）１５，０００ｐｐｍｗ未満の安息香酸（ＢＡ）を含む、
の１つ又はそれ以上を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、１分でＴＨＦ中に少なくとも５００ｐｐｍの濃度まで溶解する請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解モデルによって算出した場合に、０．５レシプロカル分超の時定数Ｃを有する請求項２６に記載の方法。
【請求項３０】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解試験に供した場合に、２分でＴＨＦ中に少なくとも７００ｐｐｍの濃度まで溶解し、前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが、本明細書中に定義した時限溶解モデルによって算出した場合に、０．６レシプロカル分超の時定数Ｃを有する請求項２６に記載の方法。
【請求項３１】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが３０ｐｐｍｗ未満の２，７−ジカルボキシフルオレノン（２，７−ＤＣＦ）を含む請求項２６に記載の方法。
【請求項３２】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが６ｐｐｍｗ未満の４．４−ＤＣＳを含む請求項２６に記載の方法。
【請求項３３】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが２００ｐｐｍｗ未満のＩＰＡを含む請求項２６に記載の方法。
【請求項３４】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが５０ｐｐｍｗ未満の２，６−ＤＣＦを含む請求項２６に記載の方法。
【請求項３５】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが５０超の％Ｔ340を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項３６】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが０．６ｍ2／ｇ超の平均ＢＥＴ表面積を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項３７】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが２０〜１５０ミクロンの範囲の平均粒度を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項３８】
前記ＣＴＡ粒子の代表サンプルが３０〜１５０ミクロンの範囲のＤ（ｖ，０．９）を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項３９】
前記一次酸化反応器が気泡塔型反応器である請求項２６に記載の方法。
【請求項４０】
前記ｐ−キシレンを、前記反応ゾーンを、１対の交差垂直面（intersecting vertical plane）によって等容積の４つの垂直クアドラント（ｑｕａｄｒａｎｔ）に理論的に分割した場合に、前記ｐ−キシレンの８０重量％以下が前記垂直クアドラントの単一のクアドラントにおいて前記反応ゾーンに入るように、前記反応ゾーン中に導入する請求項２６に記載の方法。
【請求項４１】
前記反応ゾーンの少なくとも一部分を前記反応器の１つ又はそれ以上の直立側壁によって規定し、前記ｐ−キシレンの少なくとも２５重量％が、前記直立側壁から内側に少なくとも０．０５Ｄの間隔をあけて配置された１つ又はそれ以上の位置において前記反応ゾーンに入り、前記反応ゾーンが最大直径（Ｄ）を有する請求項２６に記載の方法。
【請求項４２】
前記酸化を、コバルトを含む触媒系の存在下で、実施する請求項２６に記載の方法。
【請求項４３】
前記触媒系が臭素及びマンガンを更に含む請求項２６に記載の方法。
【請求項４４】
前記方法が前記ＣＴＡ粒子の少なくとも一部を二次酸化反応器中における酸化に供することを更に含む請求項２６に記載の方法。
【請求項４５】
前記二次酸化反応器中における酸化を、前記一次酸化反応器における酸化よりも少なくとも１０℃高い平均温度において実施する請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記二次酸化反応器中における酸化を、前記一次酸化反応器の平均温度よりも２０〜８０℃高い範囲の平均温度において実施し、前記一次酸化反応器中における酸化を１４０〜１８０℃の範囲の平均温度において実施し、前記二次酸化反応器中における酸化を１８０〜２２０℃の範囲の平均温度において実施する請求項４４に記載の方法。