【手続補正書】
【提出日】平成20年8月11日(2008.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子の集団を分析する装置であって、
電磁放射ビームを発生させるようになっている放射源と、
前記電磁放射ビームの経路内に配置されている粒子チャンバと、
電磁放射を検出するようになっているセンサと、
検出軸線に沿って前記センサを支持するセンサ位置合わせユニットであって、前記検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置している少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置の調整を可能にするようになっているセンサ位置合わせユニットと、
を備える装置。
【請求項２】
前記センサ位置合わせユニットは、
第１の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第１の軸線に沿って前記第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構と、
前記第１の支持プラットホームに連結されており、かつ、前記センサを支持する第２の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第２の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームに対する前記第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために配置されている第２の調整機構と、
を備える請求項１に記載の装置。
【請求項３】
検出軸線に対して垂直な平面内のセンサの位置を調整する装置であって、
前記センサを支持するようになっている第１の支持プラットホームと、
第１の軸線に沿って前記第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構と、
前記第１の支持プラットホームにスライド自在に連結されておりかつ前記センサを支持する第２の支持プラットホームと、
第２の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームに対する前記第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために配置されている第２の調整機構であって、前記第１および第２の軸線は概ね互いに直交しており、かつ、前記検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置している第２の調整機構と、
を備える装置。
【請求項４】
前記第１の支持プラットホームは、
支持基部と、
前記支持基部から延びる連結肩部であって、この連結肩部の中を通して配置されている少なくとも１つの案内溝を有する連結肩部と、
を備える請求項２又は３に記載の装置。
【請求項５】
前記第１の調整機構は、
フレームと、
前記フレームと固定的に整合しているブラケットと、
前記少なくとも１つの案内溝の中を通して前記ブラケットを前記連結肩部と連結するセキュアメントであって、前記案内溝に沿った前記連結肩部の移動を可能にするような大きさにされているセキュアメントと、
前記ブラケットの第１の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第１の末端に係合するねじ駆動装置と、
前記ブラケットの第２の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第２の末端に係合する戻しばねであって、前記ねじ駆動装置とこの戻しばねは、前記直交軸線の前記第１の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームの調整を容易にするために協働する戻しばねと、
を備える請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記第１の支持プラットホームは第１の支持基部を備える請求項２又は３に記載の装置。
【請求項７】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、第２の末端と、前記第２の支持プラットホームとの概ね固定的な整合とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記Ｔ形溝連結部はダブテール形である請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記ダブテール形のＴ形溝連結部の隅に配置されている１つまたは複数の圧縮性軸受をさらに備える請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記１つまたは複数の圧縮性軸受は中空の管を備える請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記中空の管は、前記ダブテール形のＴ形溝連結部の中で概ね正方形の横断面に変形する請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項５に記載の装置。
【請求項１４】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、第２の末端と、前記第２の支持プラットホームとの概ね固定的な整合とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記Ｔ形溝連結部はダブテール形である請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記ダブテール形のＴ形溝連結部の隅に配置されている１つまたは複数の圧縮性軸受をさらに備える請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記１つまたは複数の圧縮性軸受は中空の管を備える請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記中空の管は、前記ダブテール形のＴ形溝連結部の中で概ね正方形の横断面に変形する請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記粒子チャンバはフローサイトメータのフローセルである請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記センサは光センサである請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
フローサイトメータであって、
電磁放射ビームを放射するようになっている放射源と、
検出軸線に沿って移動する、電磁放射を検出するようになっているセンサと、
前記放射源と前記センサとの間に配置されているフローセルと、
前記検出軸線に沿って移動する電磁放射を検出する前記センサを支持するセンサ位置合わせユニットであって、前記検出軸線に対して概ね垂直である平面内に位置する直交軸線に沿って前記センサの位置を調整することを可能にするようになっているセンサ位置合わせユニットと、
を備えるフローサイトメータ。
【請求項２２】
前記センサ位置合わせユニットは、
第１の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第１の軸線に沿って前記第１の支持プラットホームの位置を調整するために配置されている第１の調整機構と、
前記第１の支持プラットホームに連結されており、かつ、前記センサを支持する第２の支持プラットホームと、
前記直交軸線の第２の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームに対する前記第２の支持プラットホームの相対的な位置を調整するために配置されている第２の調整機構と、
を備える請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記第１の支持プラットホームは、
支持基部と、
前記支持基部から延びる連結肩部であって、この連結肩部の中を通して配置されている少なくとも１つの案内溝を有する連結肩部と、
を備える請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記第１の調整機構は、
フレームと、
前記フレームと固定的に整合しているブラケットと、
前記少なくとも１つの案内溝の中を通して前記ブラケットを前記連結肩部と連結するセキュアメントであって、前記案内溝に沿った前記連結肩部の移動を可能にするような大きさにされているセキュアメントと、
前記ブラケットの第１の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第１の末端に係合するねじ駆動装置と、
前記ブラケットの第２の末端に配置されており、かつ、前記連結肩部の第２の末端に係合する戻しばねであって、前記ねじ駆動装置とこの戻しばねは、前記直交軸線の前記第１の軸線に沿った前記第１の支持プラットホームの調整を容易にするために協働する戻しばねと、
を備える請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記第１の支持プラットホームは第１の支持基部を備える請求項２２に記載の装置。
【請求項２６】
前記第２の支持プラットホームは第２の支持基部を備え、前記第１および第２の支持基部は、前記直交軸線の前記第２の軸線に沿って前記第１および第２の支持基部が互いに対して相対的に移動することを可能にするＴ形溝連結部内で互いに係合する請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記第２の調整機構は、
前記第１の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第１の末端と、前記第２の支持プラットホームと概ね固定的に整合している第２の末端とを有するねじ駆動装置と、
前記ねじ駆動装置による前記第１および第２の支持プラットホームの間の相対的移動に抵抗する偏倚部材と、
を備える請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
電磁放射ビームの経路内に配置されている粒子チャンバに向けて前記電磁放射ビームを発生するようになっている放射源と、検出軸線に沿って電磁放射を検出するようになっているセンサとを有するフローサイトメータにおいて、前記検出軸線に対する前記センサの相対的な位置を最適化する方法であって、
前記センサの出力に対応する電子信号を監視する段階と、
前記電子信号が１つまたは複数の予め決められた基準に合致するまで、前記検出軸線に対して垂直な平面内に位置する少なくとも２つの直交軸線に沿って前記センサの位置を調整する段階と、
を含む方法。
【請求項２９】
前記監視段階は、オシロスコープを使用して前記電子信号を視覚的に監視することを含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記調整段階は、
第１の調整機構を使用して、前記少なくとも２つの直交軸線の第１の直交軸線に沿った前記センサの位置を調整する段階と、
第２の調整機構を使用して、前記少なくとも２つの直交軸線の第２の直交軸線に沿った前記センサの位置を調整する段階と、
を含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３１】
前記調整段階は、前記電子信号の大きさが最大化されるまで、位置している前記少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置を調整することを含む請求項２９に記載の方法。
【請求項３２】
前記調整段階は、前記電子信号のピークパルスの大きさが最大化されるまで、前記少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置を調整することを含む請求項２９に記載の方法。
【請求項３３】
前記調整段階は、前記電子信号のピークヌル（ｐｅａｋ  ｎｕｌｌ）の大きさが最大化されるまで、前記少なくとも２つの直交軸線に沿った前記センサの位置を調整することを含む請求項２９に記載の方法。