【手続補正書】
【提出日】平成19年7月17日(2007.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
これらのフェノール樹脂に添加される有機金属化合物としては、例えばトリイソプロポキシアルミニウム、モノ-sec-ブトキシジプロポキシアルミニウム、トリ-sec-ブトキシアルミニウム、トリ(2-エチルヘキシル)アルミニウム、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(ヘキシルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(メチルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(エチルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(プロピルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(ブチルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(ヘキシルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(プロピルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ブチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキシルアセトアセテート)、アルミニウム-モノアセチルアセトネート-ビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(アセチルアセトネート)、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレートなどの有機アルミニウム化合物、テトラi-プロポキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、ジイソプロポキシチタンビス(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(メチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(ヘキシルアセトアセテート)、1,3-プロパンジオキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(アセチルアセトネート)、ジn-プロポキシチタンビス(アセチルアセトネート)、ジn-ブトキシチタンビス(アセチルアセトネート)、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンテトラエチルアセトアセテート、チタンテトラプロピルアセトアセテート、チタンテトラブチルアセトアセテートなどの有機チタン化合物、テトラi-プロポキシジルコニウム、テトラn-プロポキシジルコニウム、テトラn-ブトキシジルコニウム、ジイソプロポキシジルコニウムビス(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(メチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)、1,3-プロパンジオキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラエチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラプロピルアセトアセテート、ジルコニウムテトラブチルアセトアセテートなどの有機ジルコニウム化合物、テトラi-プロポキシ錫、テトラn-プロポキシ錫、テトラn-ブトキシ錫、ジイソプロポキシ錫ビス(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(メチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(ヘキシルアセトアセテート)、1,3-プロパンジオキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(アセチルアセトネート)、ジn-プロポキシ錫ビス(アセチルアセトネート)、ジn-ブトキシ錫ビス(アセチルアセトネート)、錫テトラアセチルアセトネート、錫テトラエチルアセトアセテート、錫テトラプロピルアセトアセテート、錫テトラブチルアセトアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジラウレートなどの有機錫化合物などがあげられ、好ましくは、下記２つの一般式
2006206616.tif 000001
2006206616.tif 000002
R：CH3、C2H5、n-C3H7 、i-C3H7、n-C4H9、i-C4H9、i-C8H17などのア
ルキル基
R´：CH3基またはOR
M1：Ti、Zr、Sn
M2：Al
n：0〜3の整数
m：0〜2の整数
で表される少くとも１個のアルコキシル基または少くとも１個のキレート環およびアルコキシル基を有する有機金属化合物、あるいは少くとも１個のキレート環を有する化合物と金属アルコキシドとの混合物が用いられる。有機金属化合物の中では、好ましくは有機アルミニウム化合物が用いられ、有機金属化合物は１種または２種以上の混合物としても用いられる。ただし、有機金属化合物は、適用溶剤の範囲が限定されてしまうため、比較的溶剤選定に自由度のある少くとも1個のキレート環を有する化合物を用いることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
以上の実施例7〜9および比較例7〜9で得られた結果は、次の表3に示される。
表３                                  
実施例                 比較例        
測定条件           ７     ８     ９     ７     ８     ９  
〔初期〕
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００  １００  １００    ２０
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ  
〔耐水試験１〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    ４０  １００    −  
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      −  
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    ２０  １００    −
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      −  
〔耐水試験２；50％圧縮〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    ２０  １００    −  
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      −  
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ９５  １００  １００      ０    ９０    −
剥れ界面                Ｍ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｍ      −  
〔耐酸試験１；0.5％硫酸〕
80℃硫酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００      ０    ２０    −
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｍ      −  
80℃硫酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ７０  １００    ８０    −        ０    −
剥れ界面                Ｍ      Ｒ     ＣＰ     −      Ｍ      −  
〔耐酸試験２；0.3％ふっ酸〕
80℃ふっ酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ９０  １００    ９５      ０      ０      ０
剥れ界面                Ｍ      Ｒ     ＣＰ     Ｍ      Ｍ      Ｍ  
80℃ふっ酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ６０  １００    ６０    −      −      −
剥れ界面                Ｍ      Ｒ     ＣＰ     −      −      −
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
以上の実施例10〜12および比較例10〜12で得られた結果は、次の表4に示される。
表４                                  
実施例                 比較例        
測定条件          １０   １１   １２   １０   １１   １２ 
〔初期〕
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００  １００  １００  １００
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｒ
〔耐水試験１〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    ８０  １００      ０
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      Ｍ  
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    ４０  １００    −
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      −  
〔耐水試験２；50％圧縮〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    ５０  １００      ０
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      Ｍ  
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００    １０  １００    −
剥れ界面                Ｍ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｒ      −  
〔耐酸試験１；0.5％硫酸〕
80℃硫酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)  １００  １００  １００      ０    ４０      ０
剥れ界面                Ｒ      Ｒ      Ｒ      Ｍ      Ｍ      Ｍ  
80℃硫酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ７０  １００    ９０    −        ０    −
剥れ界面                Ｍ      Ｒ     ＲＣ     −      Ｍ      −  
〔耐酸試験２；0.3％ふっ酸〕
80℃ふっ酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ９０  １００    ９５      ０      ０      ０
剥れ界面                Ｍ      Ｒ      Ｍ      Ｍ      Ｍ      Ｍ  
80℃ふっ酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率  (％)    ６０  １００    ７０    −      −      −
剥れ界面               M、RC    Ｒ     M、RC    −      −      −