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【手続補正書】
【提出日】平成18年12月8日(2006.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
次に、スパッタ法により、コンタクトホール１５を埋め込む状態で、第１絶縁膜１４上に、ＩＴＯ膜、Ａｇ合金膜、ＩＴＯ膜が基板１１側から順次積層された導電材料層（図示省略）を成膜する。続いて、通常のリソグラフィ技術によって形成したレジストパターン（図示省略）をマスクに用いたエッチングにより、この導電材料層をパターニングする。これにより、画素領域Ａ内の第１絶縁膜１４上に、コンタクトホール１５を介してＴＦＴに接続され、各画素に対応する下部電極１６を配列形成するとともに、画素領域Ａの外側の周辺領域Ｂに、導電膜３１を形成する。この導電膜３１は、画素領域Ａを囲う額縁状であり、駆動回路１２（前記図８参照）と接続させる。ここで、この導電膜３１は、後工程で形成する上部電極と接続し、補助配線として機能させることで、表示装置における面内輝度および輝度の均一性を向上させるため、５００μｍ程度以上の幅で設けられる。この導電膜３１の幅の上限に関しては、輝度および輝度の均一性のみを考慮する場合には幅は広ければ広いほど好ましい。その後、レジストパターンを除去する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
その後、化学的気相成長（Chemical Vapor Deposition(ＣＶＤ)）法により、透明導電層上に窒化シリコン（ＳｉＮx）からなる保護膜２１を成膜する。次に、保護膜２１上および基板１１の周縁部上に、熱硬化性の樹脂２２を塗布し、この樹脂２２上にガラスからなる基板２３を貼り合わせた状態で、加熱することで樹脂封止を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
（第１実施形態）
ここでは、上面発光型の有機ＥＬディスプレイを例にとり、各部材の詳細な構成を製造工程順に説明する。なお、背景技術で説明したものと同様の構成には同一の番号を付して説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
次に、再び図１（ａ）に示すように、下部電極１６および導電膜３１が設けられた第１絶縁膜１４上に、例えば再びスピンコート法によりポジ型感光性ポリベンゾオキサゾールからなる第２絶縁膜１７を塗布形成する。その後、露光を行い、現像、硬化することで、画素領域Ａ内に各画素、すなわち、有機ＥＬ素子を形成するための画素開口１８を形成して、下部電極１６の表面を露出するとともに、周辺領域Ｂの導電膜３１の表面も露出する。この際、導電膜３１の端部は、第２絶縁膜１７で覆われた状態とする。これにより、第２絶縁膜１７は画素間を分離するための素子分離膜として機能するとともに、導電膜３１の端部を覆う保護膜としても機能する。ここで、第２絶縁膜１７が、請求項４および請求項９の素子分離絶縁膜に相当する。なお、ここでは第２絶縁膜１７にポリベンゾオキサゾールを使用したが、他にもポジ型感光性ポリイミドなどの絶縁材料を使用しても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
その後、ＣＶＤ法により、マスクをアライメントした状態で、透明導電層上に窒化シリコン（ＳｉＮx）からなる保護膜２１を１μｍの膜厚で形成する。次に、保護膜２１上および基板１１の周縁部上に、熱硬化性の樹脂２２を塗布し、この樹脂２２上に例えばガラスからなる基板２３を貼り合わせた状態で、加熱することで樹脂封止を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
その後、ＣＶＤ法により、マスクをアライメントした状態で、上部電極２０上にＳｉＮxからなる保護膜２１を１μｍの膜厚で形成する。次に、保護膜２１上および基板１１の周縁部上に、熱硬化性の樹脂２２を塗布し、この樹脂２２上に例えばガラスからなる基板２３を貼り合わせた状態で、加熱することで樹脂封止を行う。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
（実施例１）
上記第１実施形態と同様の方法により、図３に示す上面発光型の表示装置を製造した。また、これに対する比較例１として、第１絶縁膜１４の周辺領域Ｂに、孔部３１ａが設けられていない状態の導電膜３１を、画素領域Ａを囲う形状で約３ｍｍの幅で形成した表示装置を製造した。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月30日(2006.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
楽音波形データを記憶する波形メモリと、
時分割チャンネル処理で動作し、楽音生成に関するパラメータに基づいて１又は複数チャンネル分の楽音波形データを上記波形メモリから読み出して、所望の楽音信号を生成すると共に、空きのあるチャンネルとその空きタイミングとを含む空きチャンネル情報を出力する楽音生成手段と、
該空きチャンネル情報に基づき、空きチャンネルの少なくとも１つを用いて、その空きタイミングの間、外部のプロセッサから、上記波形メモリへアクセスさせるアクセス制御手段と
を有する音源装置において、
空きチャンネルがない時に、上記楽音生成手段により、特定のチャンネルをトランケート処理して発音処理を終了させ、その空きチャンネル情報を受信した上記アクセス制御手段により、特定の空きチャンネルを使用して、外部のプロセッサから、上記波形メモリへアクセスさせることを特徴とする音源装置。
【請求項２】
上記楽音生成手段によるチャンネルのトランケート処理は、最も先に押されたキーが使用しているチャンネルに対して行われることを特徴とする請求項１記載の音源装置。
【請求項３】
上記楽音生成手段によるチャンネルのトランケート処理は、特定の音域にあるキーが使用しているチャンネルに対して行われることを特徴とする請求項１記載の音源装置。
【請求項４】
上記楽音生成手段によるチャンネルのトランケート処理は、最も発音レベルの小さなチャンネルに対して行われることを特徴とする請求項１記載の音源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そのため本発明は、
楽音波形データを記憶する波形メモリと、
時分割チャンネル処理で動作し、楽音生成に関するパラメータに基づいて１又は複数チャンネル分の楽音波形データを上記波形メモリから読み出して、所望の楽音信号を生成すると共に、空きのあるチャンネルとその空きタイミングとを含む空きチャンネル情報を出力する楽音生成手段と、
該空きチャンネル情報に基づき、空きチャンネルの少なくとも１つを用いて、その空きタイミングの間、外部のプロセッサから、上記波形メモリへアクセスさせるアクセス制御手段と
を有する音源装置において、
空きチャンネルがない時に、上記楽音生成手段により、特定のチャンネルをトランケート処理して発音処理を終了させ、その空きチャンネル情報を受信した上記アクセス制御手段により、特定の空きチャンネルを使用して、外部のプロセッサから、上記波形メモリへアクセスさせることを基本的特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記構成のうちその前提となる構成によれば、楽音生成手段が、楽音信号の生成以外にも空きチャンネル情報をアクセス制御手段に対して出力しており、その空きチャンネル情報を基に、該アクセス制御手段が、空きチャンネルの少なくとも１つを用いて、その空きタイミングの間、外部のプロセッサ（ＣＰＵなどのマイクロプロセッサ）から、上記波形メモリへアクセスさせることになる。そのため、外部のプロセッサから波形メモリへのアクセスが特定のチャンネルに固定してしまわない状態にして、波形メモリへのアクセスを可能にしている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以上のような前提構成に対し、さらに本発明構成では、空きチャンネルがなくなったタイミングでは、上記楽音生成手段により、特定のチャンネルをトランケート処理して発音処理を終了させ、その空きチャンネル情報を受信した上記アクセス制御手段により、特定の空きチャンネルを使用して、外部のプロセッサから、上記波形メモリへアクセスさせるようにしている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の音源装置の構成によれば、上記空きチャンネルを使用して外部のプロセッサから波形メモリへアクセスさせる上記前提構成の場合に、空きチャンネルがなくなったタイミングでも、上記楽音生成手段により、特定のチャンネル（請求項２〜４に記載）をトランケート処理して発音処理を終了させ、その空きチャンネル情報を受信した上記アクセス制御手段により、特定の空きチャンネルを使用して、外部のプロセッサから、上記波形メモリへアクセスさせるようにすることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
−光学濃度／吸収係数の測定−
ホログラム記録媒体の光学濃度や吸収係数、また、記録層に用いられるホログラム記録材料単体の吸収係数の測定は以下のようにして実施した。
まず、記録層の光学濃度αＬは、下式（１）を利用して求めた。
・式（１）  ｉ＝ｉ0ｅ-αL
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
一般式（１）中、Ａ1、Ａ2は以下の一般式（２−１）〜（２−４）のいずれかを表す。なお、一般式（２−１）〜（２−４）中の「＊」印で表される結合手は、一般式（１）中の側鎖構造であるＬ1またはＲ３との結合手を意味し、その他の結合手は、主鎖構造を構成するための結合手を意味する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
一般式（３）中、Ｒ2が置換しうるベンゼン環に結合する２個のアゾ基は互いにオルト、メタ、パラいずれの置換位置に置換していても良いが、互いにパラの位置に置換していることがより好ましい。
Ｒ4が置換しうるベンゼン環上に結合するアゾ基はＬ1２のオルト、メタ、パラいずれの置換位置に置換していても良いが、オルトまたはパラの位置に置換していることがより好ましく、パラの位置に置換していることがさらに好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
−光学濃度／吸収係数の測定−
ホログラム記録媒体の光学濃度や吸収係数、また、記録層に用いられるホログラム記録材料単体の吸収係数の測定は以下のようにして実施した。
まず、記録層の光学濃度αＬは、下式（１）を利用して求めた。
・式（１）  ｉ＝ｉ0ｅ-αL
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
なお、光透過層が１層のみからなる場合には、単純にこの層の屈折率を、光透過層の屈折率Ｎｔとして扱うことができるが、光透過層が相互に異なる屈折率からなる２つ以上の層から構成される場合には、各々の層の屈折率を用いて求めた等価屈折率を、光透過層の屈折率Ｎｔとして代用することができる。
例えば、光透過層が、入射光側から第１の層とこの第１層と記録層に接して設けられる第２の層とから構成される場合には、下式（１）で表される等価屈折率を光透過層の屈折率Ｎｔとして代用することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ここで、式（１）中、Ｎｔ’は等価屈折率、ｎpは第１の層の屈折率、ｎqは第２の層の屈折率を表し、ｇp、ｇqはそれぞれ下式（２）、下式（３）で表されるパラメーターを意味する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
但し、式（２）および（３）中、λは、情報の記録に際して、光透過層を介して記録層に照射される光の波長、ｄpは第１の層の膜厚、ｄqは第２の層の膜厚を表し、その他のパラメーターは、式（１）中に示したものと同じである。
なお、光透過層が２つ以上の層から構成される具体例としては、情報の記録に際して記録層の光が入射する側の面に、屈折率の異なる保護層を２つ以上積層した構成や、記録層側から中間層と保護膜（あるいは基板）とをこの順に積層した場合等が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月28日(2007.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＥＬ表示装置及び電子器具
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スイッチング用の第１のＴＦＴ、電流制御用の第２のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴに直列に接続された電源制御用の第３のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴに接続されたＥＬ素子を一画素内に有するＥＬ表示装置であって、
前記第１のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴは、それぞれＬＤＤ領域を有し、
前記第１のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に重ならないように形成され、
前記第２のＴＦＴ及び前記第３のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に重なる領域と、重ならない領域とをそれぞれ有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項２】
スイッチング用の第１のＴＦＴ、電流制御用の第２のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴに直列に接続された電源制御用の第３のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴに接続されたＥＬ素子を一画素内に有するＥＬ表示装置であって、
前記第１のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴは、それぞれＬＤＤ領域を有し、
前記第１のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に一部が重なるように形成され、
前記第２のＴＦＴ及び前記第３のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に重なる領域と、重ならない領域とをそれぞれ有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項３】
スイッチング用の第１のＴＦＴ、電流制御用の第２のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴのゲートに接続された消去用の第３のＴＦＴ、及び前記第２のＴＦＴに接続されたＥＬ素子を一画素内に有するＥＬ表示装置であって、
前記第１のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴは、それぞれＬＤＤ領域を有し、
前記第１のＴＦＴ及び第３のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に重ならないように形成され、
前記第２のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に一部が重なるように形成されていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項４】
スイッチング用の第１のＴＦＴ、電流制御用の第２のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴのゲートに接続された消去用の第３のＴＦＴ、及び前記第２のＴＦＴに接続されたＥＬ素子を一画素内に有するＥＬ表示装置であって、
前記第１のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴは、それぞれＬＤＤ領域を有し、
前記第１のＴＦＴ及び第３のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に一部が重なるように形成され、
前記第２のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を挟んでゲート電極に一部が重なるように形成されていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項１または２において、前記第２のＴＦＴ及び前記第３のＴＦＴのＬＤＤ領域のうち、前記ゲート電極に重なる領域の長さはそれぞれ０．１〜３μｍであり、前記ゲート電極に重ならない領域の長さはそれぞれ１．０〜３．５μｍであることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項３または４において、前記第２のＴＦＴのＬＤＤ領域のうち、前記ゲート電極に重なる領域の長さは０．１〜３μｍであり、前記ゲート電極に重ならない領域の長さは１．０〜３．５μｍであることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、前記第２のＴＦＴのＬＤＤ領域は、ドレイン領域とチャネル形成領域との間に設けられていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、前記第１のＴＦＴ、前記第２のＴＦＴ、及び前記第３のＴＦＴは、それぞれｎチャネル型であることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、前記ＥＬ素子は、有機ＥＬ材料を用いて形成されたＥＬ層を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一において、前記ＥＬ素子は、無機ＥＬ材料を用いて形成されたＥＬ層を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１１】
情報表示用ディスプレイ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音楽再生装置、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末又は画像再生装置の表示部に用いられたことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一に記載のＥＬ表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一に記載のＥＬ表示装置を表示部に用いたことを特徴とする電子器具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記感光体の前記保護層は厚さが２μｍ以上１０μｍ以下であり、テーパ摩耗量が０．１〜１．０ｍｇ／１０００回転であることを特徴とする請求項１２または１３に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
第１４の態様は、第１２または１３の態様の画像形成装置において、感光体の保護層は厚さが２μｍ以上１０μｍ以下であり、テーパ摩耗量が０．１〜１．０ｍｇ／１０００回転であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月19日(2007.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アレイ基板と、前記アレイ基板に所定の隙間をおいて対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板間に狭持された液晶層と、を含む液晶表示パネルと、
第１電極、および前記第１電極に重なった第１配向膜を有した第１基板と、前記第１基板に所定の隙間をおいて対向配置され、かつ、第２電極、および前記第２電極に重なっているとともに前記第１配向膜と対向した第２配向膜を有した第２基板と、前記第１基板および第２基板間に狭持され、前記第１基板および第２基板間を透過する光の散乱角を制御する他の液晶層と、を含み、前記液晶表示パネルの対向基板と対向して設けられた散乱角制御液晶素子と、を備えていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記他の液晶層は、前記第１電極および第２電極間に電圧を印加した状態で、液晶分子を前記第１基板平面および第２基板平面に対して略垂直に配向するとともに、前記電圧を印加しない状態で、液晶分子を捩れ角３６０°以上に配向し、
若しくは、前記第１電極および第２電極間に電圧を印加しない状態で液晶分子を前記第１基板平面および第２基板平面に対して略垂直に配向するとともに、前記電圧を印加した状態で、液晶分子を捩れ角３６０°以上に配向するよう制御されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
矩形状の第１電極、および前記第１電極に重なった第１配向膜を有した第１基板と、前記第１基板に所定の隙間をおいて対向配置され、かつ、矩形状の第２電極、および前記第２電極に重なっているとともに前記第１配向膜と対向した第２配向膜を有した第２基板と、前記第１基板および第２基板間に狭持され、前記第１基板および第２基板間を透過する光の散乱角を制御する液晶層と、前記第１電極および第２電極の重なった入力領域と、を備え、
前記第１電極に接続されているとともにこの第１電極の対向する一対の辺にそれぞれ設けられた第１抵抗検出電極と、前記第１電極に直交して位置し、かつ、前記第２電極に接続されているとともにこの第２電極の対向する一対の辺にそれぞれ設けられた第２抵抗検出電極と、を含み、前記入力領域の押圧された個所の位置情報を検出する位置情報検出手段を有していることを特徴とする抵抗検出式タッチパネル。
【請求項４】
前記液晶層は、前記第１電極および第２電極間に電圧を印加した状態で、液晶分子を前記第１基板平面および第２基板平面に対して略垂直に配向するとともに、前記電圧を印加しない状態で、液晶分子を捩れ角３６０°以上に配向し、
若しくは、前記第１電極および第２電極間に電圧を印加しない状態で液晶分子を前記第１基板平面および第２基板平面に対して略垂直に配向するとともに、前記電圧を印加した状態で、液晶分子を捩れ角３６０°以上に配向するよう制御されていることを特徴とする請求項３に記載の抵抗検出式タッチパネル。
【請求項５】
請求項３に記載の抵抗検出式タッチパネルと、
アレイ基板、前記アレイ基板に所定の隙間をおいて対向配置された対向基板、および前記アレイ基板および対向基板間に狭持された他の液晶層を含む液晶表示パネルと、を有し、
前記液晶表示パネルの対向基板は、前記抵抗検出式タッチパネルの第１基板外側に配設されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
平行度の高い光を出射するバックライトと、前記バックライトおよびアレイ基板間に配設された光拡散制御液晶素子を有し、
前記光拡散制御液晶素子は、前記バックライトから照射されるバックライト光の輝度視角を制御することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記光拡散制御液晶素子は、第３基板と、前記第３基板に所定の隙間をおいて対向配置された第４基板と、前記第３基板および第４基板間に狭持されているとともに、前記液晶層および他の液晶層と異なる第３の液晶層と、を有していることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月7日(2007.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物レンズを用いて基板の表面を拡大して観察を行う観察装置であって、
倍率の異なる複数の対物レンズを装着したレボルバと、
前記レボルバを動作させて観察光路内に挿入する前記対物レンズを切り換える対物レンズ切換手段と、
前記観察光路内に挿入された前記対物レンズに対向して設けられ、前記基板の表面が前記観察光路の光軸に略直交するように前記基板を載置する載置ステージと、
前記観察光路内に挿入された前記対物レンズを検出する対物レンズ検出手段と、
前記観察光路の光軸方向及び該光軸の直交方向に前記対物レンズと前記載置ステージとを相対的に移動させる移動手段と、
前記レンズ検出手段が所定動作距離よりも短い対物レンズを検出した際に、前記直交方向に関して前記移動手段による前記対物レンズと前記載置ステージとの相対移動を規制する移動制御手段とを備えることを特徴とする観察装置。
【請求項２】
前記移動制御手段が、前記対物レンズと前記載置ステージとの相対的な移動範囲を限定することを特徴とする請求項１に記載の観察装置。
【請求項３】
前記移動制御手段が限定する相対的な移動範囲は、観察領域を基に限定されることを特徴する請求項2に記載の観察装置。
【請求項４】
前記移動制御手段が、前記対物レンズと前記載置ステージとの相対的な移動速度を所定の速度よりも遅い速度に限定することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の観察装置。
【請求項５】
前記移動手段の移動は、高速モードと低速モードの2種類の移動速度で行なうことを特徴とする請求項１に記載の観察装置。
【請求項６】
前記高速モードは基板上の1つの回路パターンから別の回路パターンに移動して観察する際に用いられ、前記低速モードは1つの回路パターン内において移動して観察する際に用いられることを特徴とする請求項５に記載の観察装置。
【請求項７】
前記移動制御手段が、前記対物レンズと前記載置ステージとの相対的な移動速度を低速モードのみに限定することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の観察装置。
【請求項８】
前記移動制御手段が、前記対物レンズと前記載置ステージとの相対的な移動を禁止することを特徴とする請求項１に記載の観察装置。
【請求項９】
倍率の異なる複数の対物レンズを適宜選択して基板の表面の拡大観察を行う基板の観察方法であって、
前記基板の表面を前記対物レンズの焦点位置に配するように、前記基板の表面に略直交する前記対物レンズの光軸方向に前記対物レンズと前記基板とを相対的に移動させるピント合わせ工程と、
前記光軸の直交方向に前記対物レンズと前記基板とを相対的に移動させて、前記基板表面の拡大観察位置を変更する観察位置移動工程とを備え、
所定動作距離よりも短い前記対物レンズを用いて前記基板の拡大観察を行う際に、前記観察位置移動工程における前記対物レンズと前記基板との相対的な移動を規制することを特徴とする基板の観察方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記目的を達成するために、この発明は、以下の手段を提供する。
本発明は、対物レンズを用いて基板の表面を拡大して観察を行う観察装置であって、倍率の異なる複数の対物レンズを装着したレボルバと、前記レボルバを動作させて観察光路内に挿入する前記対物レンズを切り換える対物レンズ切換手段と、前記観察光路内に挿入された前記対物レンズに対向して設けられ、前記基板の表面が前記観察光路の光軸に略直交するように前記基板を載置する載置ステージと、前記観察光路内に挿入された前記対物レンズを検出する対物レンズ検出手段と、前記観察光路の光軸方向及び該光軸の直交方向に前記対物レンズと前記載置ステージとを相対的に移動させる移動手段と、前記レンズ検出手段が所定動作距離よりも短い対物レンズを検出した際に、前記直交方向に関して前記移動手段による前記対物レンズと前記載置ステージとの相対移動を規制する移動制御手段とを備えることを特徴とする観察装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、倍率の異なる複数の対物レンズを適宜選択して基板の表面の拡大観察を行う基板の観察方法であって、前記基板の表面を前記対物レンズの焦点位置に配するように、前記基板の表面に略直交する前記対物レンズの光軸方向に前記対物レンズと前記基板とを相対的に移動させるピント合わせ工程と、前記光軸の直交方向に前記対物レンズと前記基板とを相対的に移動させて、前記基板表面の拡大観察位置を変更する観察位置移動工程とを備え、所定動作距離よりも短い前記対物レンズを用いて前記基板の拡大観察を行う際に、前記観察位置移動工程における前記対物レンズと前記基板との相対的な移動を規制することを特徴とする基板の観察方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月28日(2006.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載の定着部材用クリーニングシートと、その一端から前記クリーニングシートを巻回して含む巻出シャフトと、前記クリーニングシートのもう一方の端部を巻き取り可能な状態で含む巻取シャフトとを含むことを特徴とする、定着部材用クリーニングシート供給体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の請求項８にかかる発明は、「請求項１〜５のいずれかに記載の定着部材用クリーニングシートと、その一端から前記クリーニングシートを巻回して含む巻出シャフトと、前記クリーニングシートのもう一方の端部を巻き取り可能な状態で含む巻取シャフトとを含むことを特徴とする、定着部材用クリーニングシート供給体」である。そのため払拭性に優れる定着部材用クリーニングシート供給体である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月22日(2007.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録材に担持されたトナー像を定着する定着装置であって、
回動可能な回動部材と、
前記回動部材に接触しながら移動可能なエンドレスベルトと、
前記エンドレスベルトの内側に配置され、当該エンドレスベルトを前記回動部材に圧接させて当該回動部材と当該エンドレスベルトとの間に前記記録材が通過するニップ部を形成する圧力部材とを備え、
前記エンドレスベルトと前記圧力部材とは、当該エンドレスベルトと当該圧力部材との間の摩擦力が方向により異なるように構成されたことを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記エンドレスベルトは、前記圧力部材との摩擦力によって当該エンドレスベルトのスラスト方向への移動が規制されることを特徴とする請求項１記載の定着装置。
【請求項３】
前記圧力部材は、前記エンドレスベルトとの摺擦面に低摩擦部材が配設されたことを特徴とする請求項１記載の定着装置。
【請求項４】
記録材に担持されたトナー像を定着する定着装置であって、
前記記録材を搬送する回動可能な回動部材と、
前記回動部材に接触しながら移動可能なエンドレスベルトと、
前記エンドレスベルトの内側に配置され、当該エンドレスベルトを前記回動部材に圧接させて当該回動部材と当該エンドレスベルトとの間に前記記録材が通過するニップ部を形成する圧力部材と、
前記エンドレスベルトと前記圧力部材との間の摺動方向に対する摺擦抵抗を低減する低摩擦部材とを備え、
前記エンドレスベルトと前記低摩擦部材とは、当該エンドレスベルトの移動方向の摩擦力よりも当該移動方向と直交する方向の摩擦力が大きく構成されたことを特徴とする定着装置。
【請求項５】
前記エンドレスベルトは、内周面に当該エンドレスベルトの移動方向に向けて溝または凸部が形成され、前記低摩擦部材は、当該エンドレスベルトとの摺擦面に、当該エンドレスベルトの移動方向に向けて、前記エンドレスベルトの溝または凸部と嵌合する凸部または溝が形成されたことを特徴とする請求項４記載の定着装置。
【請求項６】
前記エンドレスベルトに形成された溝または凸部は、前記低摩擦部材に形成された凸部または溝とは異なる断面形状を有することを特徴とする請求項５記載の定着装置。
【請求項７】
前記エンドレスベルトに形成された溝または凸部と、前記低摩擦部材に形成された凸部または溝とは、高さまたは深さが４〜２０μｍで形成されたことを特徴とする請求項５記載の定着装置。
【請求項８】
前記エンドレスベルトに形成された溝または凸部と、前記低摩擦部材に形成された凸部または溝とは、幅が１２０μｍ以下で形成されたことを特徴とする請求項５記載の定着装置。
【請求項９】
前記回動部材を加熱する加熱部材、または前記エンドレスベルトを加熱する加熱部材をさらに備えたことを特徴とする請求項４記載の定着装置。
【請求項１０】
トナー像を形成するトナー像形成手段と、
前記トナー像形成手段を帯電する帯電手段と、
記録材を搬送する搬送手段と、
前記トナー像形成手段によって形成されたトナー像を前記記録材上に転写する転写手段と、
前記記録材上に転写されたトナー像を当該記録材に定着する定着手段とを含み、
前記帯電手段、前記搬送手段、前記転写手段、前記定着手段の少なくとも１つは、
前記記録材を搬送する回動可能な回動部材と、
前記回動部材に接触しながら移動可能なエンドレスベルトと、
前記エンドレスベルトの内側に配置され、当該エンドレスベルトを前記回動部材に圧接させて当該回動部材と当該エンドレスベルトとの間に前記記録材が通過するニップ部を形成する圧力部材と、
前記エンドレスベルトと前記圧力部材との間の摺動方向に対する摺擦抵抗を低減する低摩擦部材とを備え、
前記エンドレスベルトは、内周面に当該エンドレスベルトの移動方向に向けて溝または凸部が形成され、前記低摩擦部材は、当該エンドレスベルトとの摺擦面に、当該エンドレスベルトの移動方向に向けて、前記エンドレスベルトの溝または凸部と嵌合する凸部または溝が形成されたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
前記帯電手段、前記搬送手段、前記転写手段、前記定着手段の少なくとも１つは、前記エンドレスベルトが前記低摩擦部材との摩擦力によって当該エンドレスベルトのスラスト方向への移動が規制されることを特徴とする請求項１０記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月7日(2007.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれか１項記載のズームレンズ系において、ｎ＝４であり、物体側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群、負の屈折力を有する第２レンズ群、正の屈折力を有する第３レンズ群及び負の屈折力を有する第４レンズ群からなっているズームレンズ系。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月27日(2007.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材、感光性樹脂層、支持体層が積層された積層体を、露光し、加熱処理し、現像する工程を順に行うことを特徴とするレジストパターンの形成方法。
【請求項２】
露光前に該積層体の支持体層を剥離することを特徴とする請求項１記載のレジストパターンの形成方法。
【請求項３】
該積層体が、基材にドライフィルムレジストをラミネートしたものであることを特徴とする、請求項１または２記載のレジストパターンの形成方法。
【請求項４】
フォトマスクの像を投影レンズでワーク上に結像させる露光装置または、フォトマスクとワークの間にわずかな隙間を設けた状態で使用する露光装置を用いる事を特徴とする請求項１、２または３記載のレジストパターンの形成方法。
【請求項５】
基材がフレキシブルプリント配線板である事を特徴とする請求項１、２、３または４記載のレジストパターンの形成方法。
【請求項６】
基材がテープオートメイテッドボンディングテープキャリアである事を特徴とする請求項１、２、３または４記載のレジストパターンの形成方法。
【請求項７】
請求項１、２、３、４、５または６記載のレジストパターン形成方法により得られた積層体をエッチングまたはめっきする工程を含むことを特徴とする回路の形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明者は、前記課題を解決するため、鋭意検討し、露光後加熱処理を導入することにより、レジストパターンの側面が均一、一様になることを見出し、本発明に至った。
すなわち上記目的は、本発明の次の構成によって達成することができる。
（１）  基材、感光性樹脂層、支持体層が積層された積層体を、露光し、加熱処理し、現像する工程を順に行うことを特徴とするレジストパターンの形成方法。
（２）  露光前に該積層体の支持体層を剥離することを特徴とする（１）記載のレジストパターン形成方法。
（３）  該積層体が、基材にドライフィルムレジストをラミネートしたものであることを特徴とする、（１）または（２）記載のレジストパターン形成方法。
（４）  フォトマスクの像を投影レンズでワーク上に結像させる露光装置または、フォトマスクとワークの間にわずかな隙間を設けた状態で使用する露光装置を用いる事を特徴とする（１）、（２）または（３）記載のレジストパターンの形成方法。
（５）  基材がフレキシブルプリント配線板である事を特徴とする（１）、（２）、（３）または（４）記載のレジストパターンの形成方法。
（６）  基材がテープオートメイテッドボンディングテープキャリアである事を特徴とする（１）、（２）、（３）または（４）記載のレジストパターンの形成方法。
（７）  （１）、（２）、（３）、（４）、（５）または（６）記載のレジストパターン形成方法により得られた積層体をエッチングまたはめっきする工程を含むことを特徴とする回路の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月13日(2007.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
少なくとも前記ドライバ手段を導通させた際に前記第２端子に対して一定電位を供給する電位供給線と、
前記電位差供給手段による電位差供給の際に、前記第２端子と前記電位供給線とを電気的に接続する第１スイッチング手段と、
を備えたことを特徴とする請求項２または３に記載の画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、請求項４にかかる画像表示装置は、上記の発明において、少なくとも前記ドライバ手段を導通させた際に前記第２端子に対して一定電位を供給する電位供給線と、前記電位差供給手段による電位差供給の際に、前記第２端子と前記電位供給線とを電気的に接続する第１スイッチング手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月11日(2007.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より順に、非球面を有する１つの負レンズ成分からなる第１レンズ群と、正レンズと負レンズの２つのレンズ成分からなり全体として正の屈折力を持つ第２レンズ群を有するズームレンズにおいて、次の条件式を満足することを特徴とするズームレンズ。
０．１５＜ｔ1／ｆｗ＜０．６
但し、ｔ1は第１レンズ群の光軸上の厚さ、ｆｗはズームレンズの広角端における全系の焦点距離である。また、１レンズ成分とは、単体もしくは接合レンズ、又はレンズ表面に樹脂などを密着硬化させた様な複合レンズを指す。従って、媒質境界面の数は、レンズ数よりも１つ多くなる。  
【請求項２】
前記第１レンズ群が、２面以上の非球面を有することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
次の条件式を満足することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のズームレンズ。
−０．５＜（Ｒ1F＋Ｒ1R）／（Ｒ1F−Ｒ1R）＜２
但し、Ｒ1Fは第１レンズ群における最も物体側の面の光軸上の曲率半径、Ｒ1Rは第１レンズ群における最も像側の面の光軸上の曲率半径である。
【請求項４】
前記第２レンズ群を構成するいずれかのレンズ要素が、両面ともに非球面であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のズームレンズ。
【請求項５】
次の条件式を満足することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載のズームレンズ。
０．７＜ｔ2／ｆｗ＜１．６
但し、ｔ2は第２レンズ群における最も物体側の面と最も像側の面との間の光軸上の距離、ｆｗはズームレンズの広角端における全系の焦点距離である。
【請求項６】
次の条件式を満足することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載のズームレンズ。
０．６＜−ｆ22／ｆ2＜２．０
但し、ｆ22は第２レンズ群中の負レンズの焦点距離、ｆ2は第２レンズ群の合成焦点距離である。
【請求項７】
前記第２レンズ群より像側に１つの正レンズ成分からなる第３レンズ群を有することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載のズームレンズ。
但し、１レンズ成分とは、単体もしくは接合レンズ、又はレンズ表面に樹脂などを密着硬化させた様な複合レンズを指す。従って、媒質境界面の数は、レンズ数よりも１つ多くなる。
【請求項８】
前記第２レンズ群より像側に非球面を有する１つの正レンズ成分からなる第３レンズ群を有することを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載のズームレンズ。
但し、１レンズ成分とは、単体もしくは接合レンズ、又はレンズ表面に樹脂などを密着硬化させた様な複合レンズを指す。従って、媒質境界面の数は、レンズ数よりも１つ多くなる。
【請求項９】
前記第３レンズ群が、変倍時に不動であることを特徴とする請求項７、８のいずれかに記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第３レンズ群から撮像素子の像面までの距離ｆｂが、次の条件式を満足することを特徴とする請求項７〜請求項９のいずれかに記載のズームレンズ。
０．１＜ｆｂ／ｆｗ＜１．０
但し、ｆｗはズームレンズの広角端における全系の焦点距離である。
【請求項１１】
前記第３レンズ群が、次の条件式を満足することを特徴とする請求項７〜請求項１０のいずれかに記載のズームレンズ。
−１＜（Ｒ3F＋Ｒ3R）／（Ｒ3F−Ｒ3R）＜５
但し、Ｒ3Fは第３レンズ群における最も物体側の面の光軸上の曲率半径、Ｒ3Rは第３レンズ群における最も像側の面の光軸上の曲率半径である。
【請求項１２】
前記第１レンズ群が、複数のレンズ要素からなり、アッベ数の最も高いレンズ要素以外のレンズ要素が、中心部よりも周辺部にいくほど収斂性がより強くなる非球面レンズであることを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれかに記載のズームレンズ。
【請求項１３】
前記第３レンズ群が、複数のレンズ要素からなり、アッベ数の最も高いレンズ要素以外のレンズ要素が、中心部よりも周辺部にいくほど収斂性がより強くなる非球面レンズであることを特徴とする請求項７〜請求項１１のいずれかに記載のズームレンズ。
【請求項１４】
より近距離物点への合焦を、前記第１レンズ群を物体側に繰り出すことで達成するようにしたことを特徴とする請求項１〜請求項１３のいずれかに記載のズームレンズ。
【請求項１５】
請求項７〜１１または１３のいずれかに記載のズームレンズと、前記第３レンズ群の像側に電子撮像素子を有し、前記ズームレンズを通じて結像した像を電子撮像素子で撮像することによって得られた画像データを加工して形状を変化させた画像データとして出力することが可能な電子撮像装置であって、前記ズームレンズが、ほぼ無限遠物点合焦時に次の条件式を満足することを特徴とする電子撮像装置。
０．７＜ｙ07／（ｆｗ・ｔａｎω07w）＜０．９６
但し、前記電子撮像素子の有効撮像面内（撮像可能な面内）で中心から最も遠い点までの距離（最大像高）をｙ10としたとき、ｙ07＝０．７ｙ10、ω07wは広角端における前記撮像面上の中心からｙ07の位置に結ぶ像点に対応する物点方向の光軸に対する角度である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、第１レンズ群は、次の条件式（２）を満足するとよい。
−０．５＜（Ｒ1F＋Ｒ1R）／（Ｒ1F−Ｒ1R）＜２  ・・・（２）
但し、Ｒ1Fは第１レンズ群における最も物体側の面の光軸上の曲率半径、Ｒ1Rは第１レンズ群における最も像側の面の光軸上の曲率半径である。
条件式（２）の上限値を上回ると、使用状態における光学系の全長が長くなりやすくなってしまう。一方、条件式（２）の下限値を下回ると、歪曲収差、コマ収差が許容できなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月29日(2007.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から像側へ向かって順に、全体として正の屈折力を有する第１レンズ群、全体として正の屈折力を有する第２レンズ群、全体として負の屈折力を有する第３レンズ群を備え、前記第１レンズ群は、物体側から像側へ向かって順に、ともに物体側に凹面を向けた第１メニスカスレンズと第２メニスカスレンズとを貼り合わせてなる第１レンズ成分、正の屈折力を有する単レンズからなる第２レンズ、負レンズと正レンズとを貼り合わせてなる第３レンズ成分を有し、前記第２レンズ群は、負レンズと正レンズとを貼り合わせてなる第４レンズ成分を有し、前記第１メニスカスレンズにおける浸液と接する面の曲率半径をｒ1、前記第１メニスカスレンズと前記第２メニスカスレンズとの接合面の曲率半径をｒ2、全系の焦点距離をＦとしたときに、
１＜｜ｒ1／Ｆ｜＜５０
０．１＜｜ｒ2／Ｆ｜＜０．６
の条件式を満足することを特徴とする液浸系顕微鏡対物レンズ。
【請求項２】
前記第１メニスカスレンズの屈折率をｎ11、前記第２メニスカスレンズの屈折率をｎ12としたときに、
｜ｎ12−ｎ11｜＞０．３
の条件式を満足することを特徴とする請求項１記載の液浸系顕微鏡対物レンズ。
【請求項３】
前記第２レンズ群が、物体側から像側へ向かって順に、前記第４レンズ、負レンズと
正レンズとを貼り合わせてなる第５レンズ成分、物体側に凸面を向けた負メニスカスレ
ンズと両凸レンズと両凹レンズとをこの順で貼り合わせてなる第６レンズ成分を有し
たことを特徴とする請求項１又は２記載の液浸系顕微鏡対物レンズ。
【請求項４】
前記第３レンズ群が、物体側から像側へ向かって順に、正レンズと負レンズとを貼
り合わせて構成され、物体側に凸面を向けたメニスカスレンズ形状の第７レンズ成分
、負レンズと正レンズとを貼り合わせてなり、物体側に凹面を向けたメニスカスレン
ズ形状の第８レンズ成分を有し、第７レンズを構成する前記正レンズの屈折率をｎ7１、
第８レンズを構成する前記正レンズの屈折率をｎ82としたときに、
ｎ71＞１．４９
ｎ82＞１．６
の条件式を満足することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液浸系顕微鏡
対物レンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的を達成するため、請求項１に係る発明の液浸系顕微鏡対物レンズは、物体側から像側へ向かって順に、全体として正の屈折力を有する第１レンズ群、全体として
正の屈折力を有する第２レンズ群、全体として負の屈折力を有する第３レンズ群を備え、前記第１レンズ群は、物体側から像側へ向かって順に、ともに物体側に凹面を向けた第１メニスカスレンズと第２メニスカスレンズとを貼り合わせてなる第１レンズ成分、正の屈折力を有する単レンズからなる第２レンズ、負レンズと正レンズとを貼り合わせてなる第３レンズ成分を有し、前記第２レンズ群は、負レンズと正レンズとを貼り合わせてなる第４レンズ成分を有し、前記第１メニスカスレンズにおける浸液と接する面の曲率半径をｒ1、前記第１メニスカスレンズと前記第２メニスカスレンズとの接合面の曲率半径をｒ2、全系の焦点距離をＦとしたときに、
１＜｜ｒ1／Ｆ｜＜５０
０．１＜｜ｒ2／Ｆ｜＜０．６
の条件式を満足することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また上記条件式（２）は、第１レンズ成分Ｌ１を構成する第１メニスカスレンズＬ１
１と第２メニスカスレンズＬ１２との接合面の曲率半径を規定するものであり、｜ｒ２
／Ｆ｜の値が条件式（２）の上限値を上回ると、上記両レンズ間Ｌ１１，Ｌ１２の接合
面での十分な負の屈折力が得られなくなり、ペッツバール和が大きくなって、像面の平
坦性が悪くなる。また、｜ｒ2／Ｆ｜の値が条件式（２）の下限値を下回ると、第１レ
ンズ成分Ｌ１を構成する第１メニスカスレンズＬ１１と第２メニスカスレンズＬ１２
との接合面の曲率半径が小さくなり過ぎて加工が困難となる。また、視野数２５まで
像面湾曲を補正しつつ、更に良好な結像性能を発揮するためには、上記条件式（２）の
下限値を０．２とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月19日(2007.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォントと課金情報を対応させた情報を格納する情報格納手段と、
受信した印刷データで使用するフォントの情報を検出するフォント検出手段と、
前記フォント検出手段で検出されたフォントの情報と前記情報格納手段に格納された情報に基づいて課金を行う課金処理手段とを有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記フォントは、標準フォントと特殊フォントからなり、
前記課金処理手段は、前記標準フォントは課金対象にしないことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記フォント検出手段は、各フォントの使用量を検出し、
前記課金処理手段は、前記使用量に応じて課金を行うことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記使用量は、前記フォントの使用文字数であることを特徴とする請求項３に記載の印刷装置。
【請求項５】
印刷パタンとトナー付着量との関係を格納する格納部と、
前記格納部の印刷パタンと印刷データを比較してトナーの消費量を算出するパタン比較制御部と、
前記課金処理手段は、前記パタン比較制御部にて算出したトナー消費量に基づき課金情報を抽出することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項６】
印刷パタンとトナー付着量との関係を複数方向のパタンとして設けたことを特徴とする請求項５記載の印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかしながら、前記従来の印刷装置では、印刷データに応じて公平な課金を行うことができなかった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するため以下の構成を採用する。すなわち、フォントと課金情報を対応させた情報を格納する情報格納手段と、受信した印刷データで使用するフォントの情報を検出するフォント検出手段と、前記フォント検出手段で検出されたフォントの情報と前記情報格納手段に格納された情報に基づいて課金を行う課金処理手段とを設けた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
以上の本発明によれば、フォントと課金情報を対応させた情報を格納する情報格納手段と、受信した印刷データで使用するフォントの情報を検出するフォント検出手段と、前記フォント検出手段で検出されたフォントの情報と前記情報格納手段に格納された情報に基づいて課金を行う課金処理手段とを設けたので、使用料の支払いが必要なフォントなどを使用した場合は、その使用料を課金値に付加するようにすることができるので、より公平な課金を行うことができる。