【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系の瞳面に形成される形状に対応する有効光源の形状を決定し、照明光学系に配置される光学素子と、
前記光学素子を駆動する駆動部と、
前記有効光源の形状又はそれに対応する前記光の形状を測定する測定手段と、
前記測定手段の測定結果に基づいて、前記駆動部による前記光学素子の駆動を制御して前記有効光源の形状を調節する制御部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記有効光源は、光軸から第１の距離を有する第１の照明領域と、前記光軸から前記第１の距離とは異なる第２の距離を有する第２の照明領域とを有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記光学素子は、回折光学素子を有し、
前記制御部は、前記回折光学素子の駆動を制御することで、前記有効光源の形状を調節することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記光学素子は、プリズムを有し、
前記制御部は、前記プリズムの駆動を制御することで、前記有効光源の形状を調節することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記光学素子は、ズーム光学系を有し、
前記制御部は、前記ズーム光学系の駆動を制御することで、前記有効光源の形状を調節することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項６】
前記光学素子は、その形状が可変である扇形形状の開口を有する絞りを有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項７】
前記レチクルを保持するレチクルステージを更に有し、
前記測定手段は、
前記レチクルステージと前記投影光学系との間に配置され、前記光の形状を測定する検出部と、
前記レチクルと前記投影光学系との間に前記検出部を挿脱する機構とを有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光装置は、前記被処理体を保持するステージを更に有し、
前記測定手段は、前記ステージ上に設けられ、前記光の形状を測定する検出部を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項９】
前記パターンに適した、前記有効光源の形状を表す第１の情報と、
前記有効光源の形状を調節するために必要な前記駆動部による駆動を表す第２の情報とを格納したメモリを更に有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項１０】
光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記レチクルを保持するレチクルステージと、
前記レチクルステージと前記投影光学系との間に配置され、前記光の形状を測定する検出部と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系の瞳面に形成される形状に対応する有効光源の形状を決定し、照明光学系に配置される光学素子と、
前記光学素子は、前記光の形状を所定の形状に変換する回折光学素子と、当該回折光学素子からの前記光の形状を回転対称に変形する光偏向部材とを有し、
前記所定の形状は、光軸から第１の距離を有する第１の領域と、前記光軸から前記第１の距離とは異なる第２の距離を有する第２の領域とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記光偏向部材は、前記光の形状を光軸を中心にシフトするプリズムを含むことを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
前記光偏向部材は、前記光の形状を拡大又は縮小するズーム光学系を含むことを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１４】
光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系の瞳に形成される有効光源の形状の情報を取得するステップと、
前記情報に基づいて前記被処理体に転写される前記パターンの像性能を算出するステップと、
前記算出された像性能に基づいて、照明光学系に配置された前記有効光源の形状を決定する光学素子を駆動するステップとを有することを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
前記算出ステップでは、前記有効光源の形状の情報と前記投影光学系の特性とに基づいて前記被処理体に転写される前記パターンの像性能を算出することを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【請求項１６】
前記算出ステップでは、前記有効光源の形状の情報と光近接効果の情報とに基づいて前記被処理体に転写される前記パターンの像性能を算出することを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【請求項１７】
前記取得ステップでは、テスト露光により得られた前記有効光源の像を測定することにより、前記有効光源の形状の情報を取得することを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【請求項１８】
請求項１乃至１３のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光した前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影光学系の瞳面に形成される形状に対応する有効光源の形状を決定し、照明光学系に配置される光学素子と、前記光学素子を駆動する駆動部と、前記有効光源の形状又はそれに対応する前記光の形状を測定する測定手段と、前記測定手段の測定結果に基づいて、前記駆動部による前記光学素子の駆動を制御して前記有効光源の形状を調節する制御部とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の別の側面としての露光装置は、光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、前記レチクルを保持するレチクルステージと、前記レチクルステージと前記投影光学系との間に配置され、前記光の形状を測定する検出部と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の更に別の側面としての露光装置は、光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影光学系の瞳面に形成される形状に対応する有効光源の形状を決定し、照明光学系に配置される光学素子を備え、前記光学素子は、前記光の形状を所定の形状に変換する回折光学素子と、当該回折光学素子からの前記光の形状を回転対称に変形する光偏向部材とを有し、前記所定の形状は、光軸から第１の距離を有する第１の領域と、前記光軸から前記第１の距離とは異なる第２の距離を有する第２の領域とを有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の更に別の側面としての露光方法は、光源からの光を利用して、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影光学系の瞳面に形成される形状に対応する有効光源の形状の情報を取得するステップと、前記情報に基づいて前記被処理体に転写される前記パターンの像性能を算出するステップと、前記算出された像性能に基づいて、照明光学系に配置された前記有効光源の形状を決定する光学素子を駆動するステップとを有することを特徴とする。