【手続補正書】
【提出日】平成20年7月9日(2008.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ、IIまたはIII：
【化１】
2008506749.tif 000001
〔式中、
Ｒ1は、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルまたはフェニルスルホニルであり；その双方は、１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルで場合により置換されているか；またはＮＯ2、ＣＮ、Ａｒ2、（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7で置換されており；
あるいはＲ1は、カンホリルスルホニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり、ここで、そのカンホリルスルホニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルは、１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルで場合により置換されているか；またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、ＮＯ2、ＣＮ、Ａｒ2、（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7で置換されており；
あるいはＲ1は、基
【化２】
2008506749.tif 000002
であり；
Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、互いに独立に、ＯまたはＳであり；
Ｒ’1は、フェニレンジスルホニル、ナフチレンジスルホニル、
【化３】
2008506749.tif 000003
、ジフェニレンジスルホニルまたはオキシジフェニレンジスルホニルであり、ここでこれらの基は、非置換またはＣ1〜Ｃ12アルキルで置換されており；あるいはＲ’1は、Ｃ1〜Ｃ12アルキレンジスルホニルであり；
Ｒ2は、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ10ハロアルキルであり；
Ｘは、ハロゲンであり；
Ａｒ1は、フルオレニルであり；それは、１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）、もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルで場合により置換されているか；またはハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ａｒ2、（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7で置換されており；場合により、その置換基（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、−ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7は、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6および／またはＲ7を介して、フルオレニル環上のさらなる置換基と共にまたはフルオレニル環の炭素原子の一つと共に、５−、６−または７−員環を形成し；あるいは場合により、その置換基Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、フルオレニル環の一つの炭素原子から、その環のもう一つの炭素原子へのアルキレン架橋を形成し；そのアルキレン架橋は、場合によりさらなるフェニル環と縮合しており；
あるいはＡｒ1は、ビフェニリルまたはナフチルであり、双方は、１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルで置換されているか；またはハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ａｒ2、（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7で置換されており；場合により、その置換基（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7、および／またはＯＳＯ2Ｒ7は、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6および／またはＲ7を介して、ビフェニリルまたはナフチル環上のさらなる置換基と共にまたはビフェニリルまたはナフチル環の炭素原子の一つと共に、５−、６−または７−員環を形成し；あるいは場合により、その置換基Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、ビフェニリルまたはナフチル環の一つの炭素原子から、その環のもう一つの炭素原子へのアルキレン架橋を形成し；そのアルキレン架橋は、さらなるフェニル環と場合により縮合しており；
ここで、すべての基Ａｒ1は、場合によりさらに、酸の作用により切断される−Ｏ−Ｃ−結合または−Ｏ−Ｓｉ−結合を有する基で置換されており；
Ａｒ’1は、ヘテロアリーレンであり；それは、非置換あるいは１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ａｒ2、（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7で置換されており；
ここで、すべての基Ａｒ’1は、場合によりさらに、酸の作用により切断される−Ｏ−Ｃ−結合または−Ｏ−Ｓｉ−結合を有する基で置換されており；
Ｒ3は、フェニル、ナフチル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ12アルケニル、Ｃ4〜Ｃ30シクロアルケニルであるか；または１個以上のＯで中断されているＣ2〜Ｃ18アルキルであるか；または１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルであるか；あるいはＲ3は、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、ベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり；
そのすべては、１個以上のＡｒ2、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、フェノキシ、フェノキシカルボニル、フェニルチオ、フェニルチオカルボニル、ＮＲ4Ｒ5、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ、Ｃ2〜Ｃ18アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルカノイル、ハロベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、（４−メチルフェニル）スルホニル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイルオキシ、ベンゾイルおよび／またはベンゾイルオキシで場合により置換されており；
あるいはＲ3は、水素であり；
Ｒ4およびＲ5は、互いに独立に、フェニル、ナフチル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ12アルケニル、Ｃ4〜Ｃ30シクロアルケニルであり；または１個以上のＯで中断されているＣ2〜Ｃ18アルキルであり；または１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルであり；またはＣ2〜Ｃ18アルカノイル、ベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり；
そのすべては、１個以上のＡｒ2、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、フェノキシ、フェノキシカルボニル、フェニルチオ、フェニルチオカルボニル、ＮＲ4Ｒ5、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ、Ｃ2〜Ｃ18アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルカノイル、ハロベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、（４−メチルフェニル）スルホニル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイルオキシ、ベンゾイルおよび／またはベンゾイルオキシで場合により置換されており；
あるいは、Ｒ4およびＲ5は、互いに独立に、水素であり；
あるいは、Ｒ4およびＲ5は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、場合により１個以上のＯ、ＮＲ6もしくはＣＯで中断されている５−、６−または７−員環を形成し；
Ｒ6は、フェニル、ナフチル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ12アルケニル、Ｃ4〜Ｃ30シクロアルケニルであり；または１個以上のＯで中断されているＣ2〜Ｃ18アルキルであり；または１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）、もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルであり；またはＣ2〜Ｃ18アルカノイル、ベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり；
そのすべては、１個以上のＡｒ2、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、フェノキシ、フェノキシカルボニル、フェニルチオ、フェニルチオカルボニル、ＮＲ4Ｒ5、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ、Ｃ2〜Ｃ18アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルカノイル、ハロベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、（４−メチルフェニル）スルホニル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイルオキシ、ベンゾイルおよび／またはベンゾイルオキシで場合により置換されており；
あるいは、Ｒ6は水素であり；
Ｒ7は、フェニル、ナフチル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ12アルケニル、Ｃ4〜Ｃ30シクロアルケニルであり；または１個以上のＯで中断されているＣ2〜Ｃ18アルキルであり；または１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルであり；
そのすべては、１個以上のＡｒ2、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、フェノキシ、フェノキシカルボニル、フェニルチオ、フェニルチオカルボニル、ＮＲ4Ｒ5、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ、Ｃ2〜Ｃ18アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルカノイル、ハロベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、（４−メチルフェニル）スルホニル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイルオキシ、ベンゾイルおよび／またはベンゾイルオキシで場合により置換されており；
あるいは、Ｒ7は水素であり；
Ａｒ2は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはヘテロアリールであり；そのすべては、１個以上の、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルで場合により置換されており；またはハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、フェニル、（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7で場合により置換されており、その置換基（ＣＯ）Ｒ7、（ＣＯ）ＯＲ3、（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、Ｏ（ＣＯ）Ｒ7、Ｏ（ＣＯ）ＯＲ3、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ4Ｒ5、ＮＲ6（ＣＯ）Ｒ7、ＮＲ6（ＣＯ）ＯＲ3、ＯＲ3、ＮＲ4Ｒ5、ＳＲ6、ＳＯＲ7、ＳＯ2Ｒ7および／またはＯＳＯ2Ｒ7は、場合により、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6および／またはＲ7を介して、フェニル、ビフェニリル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ヘテロアリールもしくはフルオレニル環上のさらなる置換基と共に、またはフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ヘテロアリールもしくはフルオレニル環の炭素原子の１つと共に、５−、６−または７−員環を形成し；あるいは場合により、置換基Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、フェニル、ビフェニリル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ヘテロアリールもしくはフルオレニル環の１個の炭素原子から、その環のもう一つの炭素原子へのアルキレン架橋を形成し；そのアルキレン架橋は、さらなるフェニル環と場合により縮合しており；
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立に、非置換またはハロゲンで置換されているＣ1〜Ｃ6アルキルであるか；あるいはＲ8、Ｒ9およびＲ10は、非置換またはＣ1〜Ｃ4アルキルもしくはハロゲンで置換されているフェニルであるか；あるいはＲ10およびＲ11は一緒に、非置換またはＣ1〜Ｃ4アルキルもしくはハロゲンで置換されている１，２−フェニレンまたはＣ2〜Ｃ6アルキレンである〕
の化合物。
【請求項２】
Ａｒ1が、フルオレニルであり；それは、１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、ＯＲ3、ハロゲンおよび／またはＡｒ2で場合により置換されており；あるいは場合により置換基Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、フルオレニル環の１個の炭素原子からその環のもう一つの炭素原子へのアルキレン架橋を形成し；そのアルキレン架橋は、さらなるフェニル環と場合により縮合しており；
あるいはＡｒ1が、ビフェニリルまたはナフチルであり、双方は、１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、ＯＲ3、ハロゲンおよび／またはＡｒ2で置換されており；あるいは場合により置換基Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、ビフェニリルまたはナフチル環の１個の炭素原子からその環のもう一つの炭素原子へのアルキレン架橋を形成し；そのアルキレン架橋は、場合によりさらなるフェニル環と縮合しており；
Ａｒ’1が、ヘテロアリーレンであり、それは、非置換あるいは１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキル、ＯＲ3、ハロゲンおよび／またはＡｒ2で置換されており；
Ｒ3が、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり；そして
Ａｒ2が、フェニルである、
請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物。
【請求項３】
Ｒ1が、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルまたはフェニルスルホニルであり、場合により１個以上のＣ1〜Ｃ18アルキルまたはＯＲ3で置換されており、あるいはＲ1が、ナフチルスルホニル、カンホリルスルホニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、または基
【化４】
2008506749.tif 000004
であり；
Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が、Ｏであり；
Ｒ’1が、フェニレンジスルホニルであり；
Ｒ2が、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ10ハロアルキルであり；
Ｘが、ハロゲンであり；
Ａｒ1が、フルオレニルであり；あるいはＡｒ1が、Ａｒ2で置換されているビフェニリルであるかまたはＣ1〜Ｃ18アルキルで置換されているナフチルであり、ここで、置換基Ｃ1〜Ｃ18アルキルがナフチル環の１個の炭素原子からその環のもう一つの炭素原子へのアルキレン架橋を形成しており；
Ａｒ’1が、ヘテロアリーレンであり；それは、非置換またはＡｒ2で置換されており；
Ｒ3が、Ｃ1〜Ｃ18アルキルであり；
Ａｒ2が、フェニルであり；そして
Ｒ10およびＲ11がフェニルである、
請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物。
【請求項４】
（ａ）酸の作用により硬化する化合物または酸の作用によりその溶解度が増加する化合物；および
（ｂ）感光性酸供与剤として、請求項１に記載の少なくとも１種の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物、
を含む化学増幅されたフォトレジスト組成物。
【請求項５】
（ａ１）酸の存在下に分解して水性アルカリ現像剤溶液への溶解度を増加させる、酸に不安定な基を有する少なくとも１種のポリマー；および／または
（ａ２）酸の存在下に分解して水性アルカリ現像剤溶液への溶解度を増加させる、酸に不安定な基を有する少なくとも１種のモノマ−またはオリゴマー溶解抑制剤；および／または
（ａ３）少なくとも１種のアルカリ可溶性のモノマー、オリゴマーまたはポリマー化合物；および、
（ｂ）感光性酸供与剤として、少なくとも１種の請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物、
を含む、請求項４に記載の、ポジティブレジストである化学増幅されたフォトレジスト組成物。
【請求項６】
（ａ４）結合剤としてアルカリ可溶性樹脂；
（ａ５）酸により触媒されるとき、それ自体および／または結合剤との架橋反応を行う成分；および
（ｂ）感光性酸供与剤として、少なくとも１種の請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物、
を含む、請求項４に記載の、ネガティブレジストである化学増幅されたフォトレジスト組成物。
【請求項７】
成分（ａ）および（ｂ）、または成分（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）および（ｂ）、または成分（ａ４）、（ａ５）および（ｂ）に加えて、さらなる添加剤（ｃ）、さらなる感光性酸供与剤化合物（ｂ１）、他の光開始剤（ｄ）、および／または増感剤（ｅ）を含む、請求項４〜６のいずれか一項に記載の化学増幅されたフォトレジスト組成物。
【請求項８】
（１）請求項４に記載の組成物を基材に塗布し；
（２）その組成物を６０℃〜１６０℃の間の温度で塗布後ベークを行い；
（３）１０nm〜１５００nmの間の波長の光で像様に照射し；
（４）場合により、６０℃〜１６０℃の間の温度でその組成物を露光後ベークし；そして
（５）溶媒または水性アルカリ現像剤で現像する；
ことによりフォトレジストを製造する方法。
【請求項９】
（１）慣用の方法により得られた式Ｉ”またはII”：
【化５】
2008506749.tif 000005
（式中、Ｒ2、Ａｒ1、Ａｒ’1およびＸは請求項１に記載したとおりである）
の対応する遊離オキシム化合物の異性体混合物を酸で処理し；そして
（２）このようにして製造された単一異性体遊離オキシム化合物を、式ＶまたはVI
【化６】
2008506749.tif 000006
の対応する酸ハロゲン化物または酸無水物と反応させる、
ことによる、請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIのオキシムエステル化合物の熱的に安定な異性体の特定の製造方法。
【請求項１０】
（ａ）酸の作用により硬化する化合物または酸の作用によりその溶解度が増加する化合物；および
（ｂ）感光性酸供与剤として、請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの少なくとも１種の化合物、
を含む組成物。
【請求項１１】
酸の作用下に架橋されうる化合物を架橋する方法であって、上記した化合物に請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物を加え、次いで１０〜１５００nmの波長を有する光で像様に照射するかまたは全区域にわたって照射することを含む方法。
【請求項１２】
着色および非着色表面コーティング、接着剤、積層用接着剤、構造用接着剤、感圧接着剤、印刷インキ、印刷版、凸版、平板印刷版、凹版、無処理印刷版、スクリーン印刷用ステンシル、歯科用組成物、色フィルター、スペーサー、エレクトロルミネセンスディスプレイおよび液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、導波路、光学スィッチ、色補強系、レジスト、エレクトロニクス用フォトレジスト、電気メッキレジスト、液体フィルムおよびドライフィルムの双方用のエッチングレジスト、ソルダーレジスト、ＵＶおよび可視レーザー直接結像系用のフォトレジスト材料、プリント基板の逐次的積層における誘電体層形成用のフォトレジスト材料、像記録材料、ホログラフィー像を記録するための像記録材料、光学的情報記憶装置又はホログラフィーデータ記憶装置、脱色材料、像記録材料用の脱色材料、マイクロカプセルを使用する像記録材料、磁気記録材料、マイクロメカニカル部品、メッキマスク、エッチングマスク、ガラスファイバーケーブルコーティング、マイクロエレクトロニクス回路の製造のための請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
色フィルターまたは化学増幅されたレジストの製造のための請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
すべてに感光性樹脂ならびに顔料および／または染料を含む、赤色、緑色および青色画素および黒色マトリックスを透明な基材上に設け、次いで基材の表面または色フィルター層の表面に透明な電極を設けることにより製造される色フィルターであって、その感光性樹脂が、感光性酸供与剤として請求項１に記載の式Ｉ、IIまたはIIIの化合物を含む、色フィルター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
Ｒ3は、フェニル、ナフチル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ12アルケニル、Ｃ4〜Ｃ30シクロアルケニルであるか；または１個以上のＯで中断されているＣ2〜Ｃ18アルキルであるか；または１個以上のＯ、Ｓ、ＮＲ6、Ｏ（ＣＯ）もしくはＮＲ6（ＣＯ）で中断されているＣ3〜Ｃ30シクロアルキルであるか；あるいはＲ3は、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、ベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり；
そのすべては、１個以上のＡｒ2、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ3〜Ｃ30シクロアルキル、ハロゲン、ＮＯ2、ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、フェノキシ、フェノキシカルボニル、フェニルチオ、フェニルチオカルボニル、ＮＲ4Ｒ5、Ｃ1〜Ｃ12アルキルチオ、Ｃ2〜Ｃ18アルコキシカルボニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルカノイル、ハロベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、（４−メチルフェニル）スルホニル、Ｃ1〜Ｃ18アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイル、Ｃ2〜Ｃ18アルカノイルオキシ、ベンゾイルおよび／またはベンゾイルオキシで場合により置換されており；
あるいはＲ3は、水素であり；