【手続補正書】
【提出日】平成20年5月9日(2008.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスの清澄及び均質化のための、軸（６）の周りに回転可能な装置であって、処理する溶融ガラスの受容を意図した容器（１）、真空分室（２）及び少なくとも１つのガラス流出オリフィス（５、１９）を備えており、該溶融ガラスをその供給容器（１）から該真空分室（２）へと搬送するための搬送手段（７、８、１７、１８）をさらに備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
形状が前記回転軸（６）のまわりに円筒状である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記回転軸（６）が実質的に垂直である、請求項１又は２のいずれかに記載の装置。
【請求項４】
前記供給容器（１）の直径が前記真空分室（２）の直径より大きい、請求項１〜３のいずれか１つに記載の装置。
【請求項５】
前記溶融ガラスを前記供給容器（１）から前記真空分室（２）へと搬送するための前記搬送手段（７、８、１７、１８）が白金で作られたチューブである、請求項１〜４のいずれか１つに記載の装置。
【請求項６】
前記供給容器（１）が前記真空分室（２）の高さより低い高さに位置し、前記搬送手段が、前記回転軸（６）と接する少なくとも１つの径方向チューブ（１７）と、さらに前記真空分室（２）とその下端にて接合する軸チューブ（１８）とによって形成される、請求項１〜５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項７】
前記供給容器（１）が前記真空分室（２）の上方に位置し、前記搬送手段が、前記回転軸（６）から最も離れた前記真空分室の上端のうち少なくとも１つで前記真空分室（２）と接合している少なくとも１つの径方向チューブ（７）によって形成される、請求項１〜５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項８】
前記真空分室（２）の下方に位置する下部区域又は空洞（３、４）を含み、及びその区域又は空洞の下端に前記又は各ガラス流出オリフィス（５、９）が位置し、該下部空洞（３、４）は回転する溶融ガラスで充填されることを意図している、請求項１〜７のいずれか１つに記載の装置。
【請求項９】
前記回転軸（６）上又は近傍に位置するガラス流出オリフィス（１９）を含む、請求項１〜８のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１０】
前記回転軸（６）からゼロではない距離に位置する少なくとも１つのガラス流出オリフィス（５）を含む、請求項１〜８のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１１】
外部シェル（１３）及び前記ガラスと接触する内部表面（１４）を含み、その間に耐熱性の絶縁材料層（１２）が挿入されている、請求項１〜１０のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１２】
前記外部シェル（１３）が耐火スチールで作られている、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記内部表面（１４）が白金ライニング又は白金の薄い被膜で被覆された耐火セラミックによって形成されている、請求項１１又は１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
前記白金ライニング（１４）が前記耐火スチールシェル（１３）及び前記ライニング（１４）の間に作られた真空によって所定の位置に機械的に保持されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記白金ライニング（１４）及び前記外部シェル（１３）の間のシールが溶接によって作られている、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記装置を加熱可能とするために、前記絶縁物（１２）の中に電気抵抗体を配置した、請求項１１〜１５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１つに記載の装置を用いてガラスを清澄及び均質化する方法であって、軸（６）の周りに回転可能な装置の容器（１）の中に溶融ガラスを供給する工程と、次に該ガラスを該装置の分室（２）へ搬送する工程とを含み、その分室中で該ガラスを減圧にさらす方法。
【請求項１８】
前記溶融ガラスの供給を前記回転軸（６）から離れて行う、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記溶融ガラスを前記回転可能な装置の前記容器（１）内へほぼ大気圧で供給する、請求項１７又は１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
前記溶融ガラスの供給を前記装置の全高より上の高さにて行う、請求項１７〜１９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２１】
前記溶融ガラスの供給を、その中で前記ガラスが真空下にある前記分室（２）の高さより低い高さにて行う、請求項１７〜１９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２２】
前記装置中の前記ガラスの滞留時間が１０分未満である、請求項１７〜２１のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２３】
前記装置中の前記ガラスの滞留時間が５分未満、又はさらに１分未満である、請求項１７〜２２のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２４】
前記装置中の前記ガラスの滞留時間が５秒より長い、請求項１７〜２３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２５】
前記真空分室（２）内部の圧力が４００ミリバール未満である、請求項１７〜２４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２６】
前記真空分室（２）内部の圧力が２００ミリバール未満である、請求項１７〜２５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２７】
前記真空分室（２）内部の圧力が５０〜１５０ミリバールである、請求項１７〜２６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２８】
前記真空分室（２）を通過後の前記ガラスがその自重の効果によってほぼ大気圧に戻り、その後成形工程に向かって前記回転可能な装置から流出する、請求項１７〜２７のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２９】
成形手段の供給装置を通過せずに直接成形する前に、前記ガラスを成形温度に相当する均一な温度に徐々に加熱する、請求項１７〜２８のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３０】
回転速度が１５０〜５００回転毎分である、請求項１７〜２９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３１】
回転速度が１６０〜１８０回転毎分である、請求項１７〜３０のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３２】
前記ガラスのさらされる平均温度が１２５０〜１６５０℃である、請求項１７〜３１のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３３】
ガラス溶融工程、請求項１７〜３２のいずれか１つに記載の清澄及び均質化工程、次いで成形工程を含む、ガラス製造方法。
【請求項３４】
清澄温度から５０℃を上回らない温度にて前記ガラスを溶融する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
少なくとも１つの投げ込みバーナーを含む炉を使用する方法によって前記ガラスを溶融する、請求項３３又は３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
前記ガラスを溶融スズ浴上にフロートする成形工程を経る、請求項３３〜３５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３７】
溶融したフロートガラスの静止している点がないフロート設置部を使用する成形工程をその後前記ガラスが経る方法であって、中で前記溶融ガラスが移動する受容区域を構成するように前記溶融スズが該設置部に注入されている、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
ガラス供給装置を含まない、請求項３３〜３７のいずれか１つに記載の製造方法。
【請求項３９】
撹拌装置又はスターラーを使用しない、請求項３３〜３８のいずれか１つに記載の製造方法。
【請求項４０】
前記ガラスが硫酸塩、ヒ素、アンチモン、塩素又はスズのような清澄剤を含まない、請求項１７〜３９のいずれか１つに記載の方法。
【請求項４１】
前記ガラスの組成物が以下質量パーセントで表される含量で次の酸化物を含む、請求項１７〜４０のいずれか１つに記載の方法。
ＳｉＯ2     ５８〜７６％
Ｂ2Ｏ3      ３〜１８％
Ａｌ2Ｏ3    ４〜２２％
ＭｇＯ      ０〜８％
ＣａＯ      １〜１２％
ＳｒＯ      ０〜５％
ＢａＯ      ０〜３％
【請求項４２】
ディスプレイシステム用、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）もしくは有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）用、又はフィルターもしくは拡散板用のガラス基板の製造方法であって、請求項１７〜４１のいずれか１つに記載の清澄及び均質化工程を含む方法。
【請求項４３】
屈折率の標準偏差が５×１０-5未満であることを特徴とする、ガラス基板。
【請求項４４】
マイクロラフネスが２０ｎｍ未満であることを特徴とする、フロート法によって得られるガラス基板。
【請求項４５】
マイクロラフネスが４ｎｍ未満である、請求項４４に記載のガラス基板。
【請求項４６】
研磨工程を経ない、請求項４４又は４５のいずれかに記載のガラス基板。
【請求項４７】
組成物が以下質量パーセントで表される含量で次の酸化物を含む、請求項４３〜４６のいずれか１つに記載のガラス基板。
ＳｉＯ2     ５８〜７６％
Ｂ2Ｏ3      ３〜１８％
Ａｌ2Ｏ3    ４〜２２％
ＭｇＯ      ０〜８％
ＣａＯ      １〜１２％
ＳｒＯ      ０〜５％
ＢａＯ      ０〜３％
【請求項４８】
清澄剤を含まないことを特徴とする、請求項４３〜４７のいずれか１つに記載のガラス基板。
【請求項４９】
ディスプレイシステム用、プラズマディスプレイもしくは液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）用の、あるいはフィルターもしくは拡散板用の基板としての請求項４３〜４８のいずれか１つに記載の基板の使用。
【請求項５０】
請求項４３〜４８のいずれか１つに記載の基板を含む、プラズマ、液晶（ＬＣＤ）又は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）型のディスプレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の装置を構成する要素の形状は、好ましくは装置の回転軸の周りに円筒状であって、その軸は実質的に垂直であることが有利である。