【手続補正書】
【提出日】平成19年6月4日(2007.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルに形成されたレチクルパターンと投影光学系とを介して被処理体上のレジストを露光する露光装置の該投影光学系のディストーションを計測する計測方法であって、
レチクル上の複数の第１グレーティング形状マークと前記投影光学系とを介して前記レジストを露光する第１の露光ステップと、
前記第１の露光ステップで前記レジストに転写された複数の第１のグレーティング形状マークのそれぞれに対し、前記投影光学系の軸上に配された、前記第１のグレーティング形状マークとは遮光部の配置が逆の前記レチクル上の第２のグレーティング形状マークと前記投影光学系とを介して前記レジストを露光する第２の露光ステップと、
前記複数の第１のグレーティング形状マークのそれぞれに関し、前記第１の露光ステップ及び前記第２の露光ステップを経て現像された前記レジストの線幅を測定する測定ステップと、
前記測定ステップで測定された各線幅から前記投影光学系のディストーションを算出する算出ステップと、を有することを特徴とする計測方法。
【請求項２】
前記第２の露光ステップは、前記転写された複数の第１のグレーティング形状マークのそれぞれに対し、ずらして前記第２のグレーティング形状マークを転写する、ことを特徴とする請求項１記載の計測方法。
【請求項３】
前記複数の第１のグレーティング形状マークのそれぞれは、パターンが１つの方向に繰り返し配置された第１の２つの繰り返しパターンを含み、前記第２のグレーティング形状マークは、前記２つの繰り返しパターンに対して、前記方向において互いに逆向きに前記繰り返しパターンにおけるパターンの繰り返しピッチの１／４だけずれてパターンが前記繰り返しピッチで繰り返し配置された第２の２つの繰り返しパターンを含む、ことを特徴とする請求項１又は２記載の計測方法。
【請求項４】
前記第１および第２の２つの繰り返しパターンは、互いに直交する２つの方向のそれぞれに関して配されている、ことを特徴とする請求項３記載の計測方法。
【請求項５】
前記測定ステップは、前記第１および第２の２つの繰り返しパターンの組み合わせの各々に関して前記線幅を測定し、
前記算出ステップは、該測定された２つの線幅の差分の半分を前記投影光学系のディストーションとする、ことを特徴とする請求項３又は４記載の計測方法。
【請求項６】
前記測定ステップは、分光エプソメーターを用いて前記線幅を測定する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか記載の計測方法。
【請求項７】
前記測定ステップは、原子間力顕微鏡を用いて前記線幅を測定する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか記載の計測方法。
【請求項８】
レチクルに形成されたパターンを介して被処理体上のレジストを露光する露光装置であって、
前記パターンを前記レジストに投影する投影光学系を有し、
請求項１乃至７のいずれか記載の計測方法にしたがって前記投影光学系のディストーションを計測し、
前記計測の結果に基づいて、前記投影光学系のディストーションを調整する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項８記載の露光装置を用いて被処理体上のレジストを露光するステップと、
該露光されたレジストを現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】計測方法、露光装置およびデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
そこで、本発明は、露光装置の投影光学系のディストーションを高精度に計測できる計測方法、露光装置およびデバイス製造方法を提供することを例示的目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測方法は、レチクルに形成されたレチクルパターンと投影光学系とを介して被処理体上のレジストを露光する露光装置の該投影光学系のディストーションを計測する計測方法であって、
レチクル上の複数の第１グレーティング形状マークと前記投影光学系とを介して前記レジストを露光する第１の露光ステップと、前記第１の露光ステップで前記レジストに転写された複数の第１のグレーティング形状マークのそれぞれに対し、前記投影光学系の軸上に配された、前記第１のグレーティング形状マークとは遮光部の配置が逆の前記レチクル上の第２のグレーティング形状マークと前記投影光学系とを介して前記レジストを露光する第２の露光ステップと、前記複数の第１のグレーティング形状マークのそれぞれに関し、前記第１の露光ステップ及び前記第２の露光ステップを経て現像された前記レジストの線幅を測定する測定ステップと、前記測定ステップで測定された各線幅から前記投影光学系のディストーションを算出する算出ステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の更に別の側面としての露光装置は、レチクルに形成されたパターンを介して被処理体上のレジストを露光する露光装置であって、前記パターンを前記レジストに投影する投影光学系を有し、上述の測定方法にしたがって前記投影光学系のディストーションを計測し、前記計測の結果に基づいて、前記投影光学系のディストーションを調整する、とを有することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体上のレジストを露光するステップと、該露光されたレジストを現像するステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明によれば、露光装置の投影光学系のディストーションを高精度に計測できる計測方法、露光装置およびデバイス製造方法を提供することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
１回目の露光では各画角のディストーションの量に応じた位置にマークパターン１００が露光され、２回目の露光は投影光学系の軸上のマーク１１０のみの露光のため、２回目の露光のずれ量は、偏心誤差のディストーションのみの値となる。かかる偏心誤差のディストーションは、全画角にも影響するため、２回目の露光のずれ量は、画角によるずれと偏心誤差によるずれの両方を含んだディストーションとなる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
以下、図１７を参照して、本発明の計測方法１０００を適用した例示的な露光装置５００について説明する。ここで、図１７は、本発明の一側面としての露光装置５００を示す概略ブロック図である。露光装置５００は、図１７に示すように、回路パターンが形成されたレチクル５２０を照明する照明装置５１０、照明されたマスクパターンから生じる回折光をプレート５４０に投影する投影光学系５３０と、プレート５４０を支持するステージ５４５とを有する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
投影光学系５３０は、上述した本発明の計測方法１０００及び計測装置などによりディストーションが計測され、所望の光学性能を有するように調整されている。計測方法１０００及び計測装置は、上述した通りであり、ここでの詳細な説明は省略する。従って、投影光学系５３０は、ディストーションの計測及び調整を重ねることで極限までディストーションを抑えることが可能であり、所望の光学性能を達成することができる。勿論、露光装置５００が、上述した計測装置や、計測装置が計測するディストーションを基に投影光学系を調整する調整手段を有してもよく、計測方法１０００が行えるようにしてもよい。