【手続補正書】
【提出日】平成19年11月13日(2007.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
第２の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成する第２の工程と、
前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第２の基板の画素を有する層の表面とを第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第２の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上にプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第２の基板上に剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を貼り合わせ、
前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
第３の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成する第２の工程と、
前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第３の基板の画素を有する層の表面とを第２の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第３の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離し、
前記第１の酸化物膜上にプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせた後、前記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を除去して光学フィルムを形成する第１の工程と、
第３の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成する第２の工程と、
前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記光学フィルターと前記第３の基板の画素を有する層の表面とを第２の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第３の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
第２の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成する第２の工程と、
前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第２の基板の画素を有する層の表面とを第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第２の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第３の工程と、
前記第２の酸化物膜の表面に、第２の接着剤を用いてプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第３の基板を貼り合わせた後、前記剥離可能な粘着媒体及び前記支持体を除去する第４の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上にプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第２の基板上に剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を貼り合わせ、
前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
第３の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成する第２の工程と、
前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第３の基板の画素を有する層の表面とを第２の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第３の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第３の工程と、
前記第２の酸化物膜の表面に、第３の接着剤を用いてプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第４の基板を貼り合わせた後、前記剥離可能な粘着媒体及び前記支持体を除去する第４の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項６】
第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離し、
前記第１の酸化物膜上にプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせた後、前記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を除去して光学フィルムを形成する第１の工程と、
第３の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成する第２の工程と、
前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記光学フィルターと前記第３の基板の画素を有する層の表面とを第２の接着剤を用いて貼り合わせ、
前記第３の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第３の工程と、
前記第２の酸化物膜の表面に、第３の接着剤を用いてプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板である第４の基板を貼り合わせる第４の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項４において、前記第４の工程の後、前記光学フィルター上にプラスチック基板、偏光板、又は位相差板を有する偏光板を貼り合わせることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１又は４において、前記第１の基板及び前記第２の基板は、石英基板、セラミックス基板、シリコン基板、金属基板、又はステンレス基板であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項２、３、５又は６において、前記第１の基板及び前記第３の基板は、石英基板、セラミックス基板、シリコン基板、金属基板、又はステンレス基板であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一において、前記第１の金属膜と前記第１の酸化物膜の間に、第１の金属酸化物膜が形成されることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、前記第２の金属膜と前記第２の酸化物膜の間に、第２の金属酸化物膜が形成されることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、前記画素を有する層は、半導体素子及び当該半導体素子に接続する画素電極を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、前記半導体素子は、ＴＦＴ、有機半導体トランジスタ、ダイオード、又はＭＩＭ素子であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一において、前記光学フィルターは、カラーフィルター、又は色変換フィルターであることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一において、前記第１の金属膜及び前記第２の金属膜は、チタン、アルミニウム、タンタル、タングステン、モリブデン、銅、クロム、ネオジム、鉄、ニッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムから選ばれた元素、又は前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、又はこれらの積層であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか一において、前記第１の酸化物膜及び前記第２の酸化物膜は、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、又は金属酸化物であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか一において、前記支持体は、ガラス基板、石英基板、金属基板、又はセラミックス基板であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１乃至１７のいずれか一において、前記剥離可能な粘着媒体は、反応剥離型粘着剤、熱剥離型粘着剤、光剥離型粘着剤、嫌気剥離型粘着剤、又はこれらの一つ若しくは複数で形成される粘着層を両面に有する部材であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１９】
請求項１乃至１８のいずれか一において、前記表示装置は、液晶表示装置、発光表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス、プラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイ、又は電気泳動表示装置であることを特徴とする表示装置の作製方法。