Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月8日(2007.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶装置を搬送するための機械的な把持装置であって、
フレームと、
１対の対向する把持指とを含み、各々は、
前記フレームに回転可能に装着される近位端と、
記憶装置を係合するよう適合される遠位端とを有し、前記機械的な把持装置はさらに、
前記把持指に関連付けられる少なくとも１つの光学的に検出可能な標識を含み、前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識の動きは、前記把持指の動きに関連付けられ、前記機械的な把持装置はさらに、
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識を検出するよう構成される第１の光センサを含む、機械的な把持装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は、前記把持指のうち少なくとも１つを駆動するギアに関連付けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は湾曲に沿って配置され、前記把持指のうち少なくとも１つを駆動するギアに関連付けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は、溝付きのプロファイルを有する楕円形のリングの少なくとも一部分を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識を検出し、かつ前記第１の光センサに関連した直角位相信号を与えるよう構成される第２の光センサをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記把持指に関連付けられ、完全に開いた位置または完全に閉じた位置のうち少なくとも１つを示す前記光学的に検出可能な標識のうち少なくとも１つを検出するよう位置決めされる第３の光センサをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記把持指は、前記把持指がともに回転するように対応して噛み合わされた面によって
相互接続される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記把持指の近位端は、直接連結される噛み合わされた面を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記把持指は単一のアクチュエータによって駆動される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記把持指の遠位端は、記憶装置の対向する副側面を係合するための対向する平面を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記把持指のうち少なくとも１つは、記憶装置と相互作用するための、前記平面から前記対向する把持指の方に延在する突起を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記把持指は付勢力をかけて閉じられる、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
自動格納ライブラリであって、
記憶装置を収容するための格納ビンと、
フレームを有するロボットのカートリッジピッカ機構と、
前記フレームに回転可能に装着される１対の対向する把持指とを含み、各々は、遠位端が記憶装置を係合するよう適合されており、前記自動格納ライブラリはさらに、
前記把持指に関連付けられる少なくとも１つの光学的に検出可能な標識を含み、前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識の動きは前記把持指の動きに関連付けられ、前記自動格納ライブラリはさらに、
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識を検出するよう構成される第１の光センサを含む、自動格納ライブラリ。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は、前記把持指のうち少なくとも１つを駆動するギアに関連付けられる、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は湾曲に沿って配置され、前記把持指のうち少なくとも１つを駆動するギアに関連付けられる、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は、溝付きのプロファイルを有するリングを含む、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項１７】
前記光学的に検出可能な標識のうち少なくとも１つを検出し、かつ前記第１の光センサに関連した直角位相信号を与えるよう構成される第２の光センサをさらに含む、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項１８】
前記把持指に関連付けられ、完全に開いた位置を示す前記光学的に検出可能な標識のうち少なくとも１つを検出するよう位置決めされる第３の光センサをさらに含む、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項１９】
前記把持指は、前記把持指がともに回転するように対応して噛み合わされた面によって相互接続される、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項２０】
前記把持指の近位端は、直接連結される噛み合わされた面を含む、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項２１】
前記把持指は単一のアクチュエータによって駆動される、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項２２】
前記把持指の遠位端は、記憶装置の対向する副側面を係合するための対向する平面を含む、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項２３】
前記把持指のうち少なくとも１つは、記憶装置と相互作用するための、前記平面から前記対向する把持指の方に延在する突起を含む、請求項２２に記載の格納ライブラリ。
【請求項２４】
前記把持指は付勢力をかけて閉じられる、請求項１３に記載の格納ライブラリ。
【請求項２５】
記憶装置を搬送するための機械的な把持装置を制御するための方法であって、
１対の対向する把持指を回転させて記憶装置の対向する面を係合するステップを含み、前記把持指の回転は少なくとも１つの光学的に検出可能な標識の動きに関連付けられ、前記方法はさらに、
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識を検出するステップと、
前記把持指の位置に関連付けられる信号を生成するステップとを含む、方法。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識は、直角位相信号を出力するよう構成される２つの光センサで検出される、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識の動きは前記把持指の動きに関連付けられる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記少なくとも１つの光学的に検出可能な標識の位置は前記把持指の位置に関連付けられる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
前記把持指の近位端は、直接連結される噛み合わされた面を含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
前記対向する把持指のうち１つに機械的に連結されるモータを作動させて、前記対向する把持指をともに移動させるステップをさらに含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】
前記把持指の遠位端は、記憶装置の対向する副側面を係合するための対向する平面を含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項３２】
前記把持指のうち少なくとも１つは、記憶装置と相互作用するための、前記平面から前記対向する把持指の方に延在する突起を含む、請求項３１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月4日(2007.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
そこで、欠陥の有無を検出する方法として、以下の方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。この方法では、光ディスクを回転駆動させながら光ディスクに対して基板側からレーザ光を照射させて、レーザ光により光ディスク全面を走査する。光ディスクからの反射光（ピンホールの場合は透過光）が、フォトディテクタにおいて受光され、電気信号に変換されて出力される。そして、出力された電気信号が、検出回路において、正常な信号レベルよりも若干低いスライスレベル、もしくは若干高いレベルに予め設定されたスライスレベルと比較される。正常な信号レベルよりも若干低いスライスレベルより低い場合には、もしくは若干高いスライスレベルより高い場合には、光ディスク中に欠陥があると判別される。
【特許文献１】特開平１１−３１６９４６号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
また、保護膜の成膜状態を検出する方法として、以下の方法が提案されている。この方法では、光ディスクを回転駆動させながら、光ディスクに対して保護膜側からレーザ光を照射させて、レーザ光により光ディスク全面を走査する。光ディスクからの反射光が、フォトディテクタにおいて受光され、電気信号に変換されて出力される。そして、出力された電気信号が、検出回路において、正常な信号レベルよりも若干高いレベルに予め設定されたスライスレベルと比較され、このスライスレベルよりも高い場合には、保護膜が正常に成膜されていないと判別される。
また、画像データの処理によって異なる材料の境界部を抽出して基板周縁に沿った下地の露出幅を求める基板周縁検査方法が提案されている（例えば特許文献２参照）。
【特許文献２】特開２００２−１３４５７５号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月14日(2006.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子放出素子を有する電子源が形成された第１の基板と、前記電子源より放出される電子が照射される被照射体が形成された第２の基板とをスペーサを介して対向させ、前記第１及び第２の基板間に加速電圧を印加して、前記電子源より放出される電子を前記被照射体に照射させる画像形成装置において、
前記スペーサは、絶縁性基体と該絶縁性基体の表面の少なくとも一部を被覆した高抵抗膜からなり、
前記加速電圧における前記高抵抗膜の電子進入深さをλ、前記高抵抗膜の膜厚をｄ、αを０．５以上且つ１以下の定数とし、
前記絶縁性基体表面から（ｄ−αλ）の厚さまでの前記高抵抗膜のシート抵抗Ｒｓ１（Ω/□）と、膜表面からαλの厚さまでの前記高抵抗膜のシート抵抗Ｒｓ２（Ω/□）とは以下の関係を満たすことを特徴とする画像形成装置。
２≦Ｒｓ２／Ｒｓ１≦１００
１０７≦Ｒｓ１≦１０１４  
【請求項２】
前記αが、１であることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記シート抵抗Ｒｓ１と前記シート抵抗Ｒｓ２が
１０≦Ｒｓ２／Ｒｓ１≦１００
であることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記絶縁性基板表面から（ｄ−αλ）の厚さまでの前記高抵抗膜の抵抗温度係数が、３％以下であることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記加速電圧の範囲が４ｋＶから３０ｋＶである請求項１記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記高抵抗膜は、少なくとも第１層と、該第１層と接し且つ表面層となる、該第１層よりも高抵抗の第２層と、を有する請求項１記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月6日(2007.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子放出素子を有する背面板と、該背面板と対向する前面板と、前記背面板と前記前面板との間にあって前記背面板および前記前面板の周縁を支持する枠と、前記前面板と前記背面板の間に配置される複数のスペーサとを有する画像表示装置の製造方法において、
前記複数のスペーサの高さを、各スペーサについて測定する測定工程と、
前記測定工程において得られた測定値に基づいて、前記スペーサの配置順を決定する決定工程と、
決定された配置順に前記スペーサを配置する配置工程と、
を有する画像表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記決定工程は、前記測定工程において得られた測定値の大きさの順になるように前記スペーサの配置順を決定する工程を含む請求項１に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記スペーサは板状スペーサであり、
前記測定工程は、前記複数の板状スペーサの高さを各スペーサについて複数箇所で測定する工程を含み、
前記決定工程は、前記各スペーサについて高さの平均値を算出する工程と、該平均値の大きさの順になるように前記スペーサの配置順を決定する工程を含む請求項１に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記決定工程は、前記配置順を決定する工程の後、前記平均値を大きさの順に並べた点列に基づいて基準曲線を設定する工程と、該基準曲線を中心として、その上下に所定の幅を隔てて第１の曲線と第２の曲線とを設定する工程と、前記第１の曲線と前記第２の曲線との間に、各スペーサの前記複数箇所で測定された高さの値が位置するように、前記スペーサの配置順を調整する工程を含む請求項３に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記決定工程は、前記配置順を決定する工程の後、前記複数のスペーサの両端に位置するスペーサの前記平均値を結ぶ直線を設定する工程と、前記各スペーサの位置における前記平均値と該各スペーサの位置における前記直線の値との差が所定のしきい値以下となる
ように、前記スペーサの配置順を調整する工程を含む請求項３に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
所定のしきい値は、前記背面板及び前面板の少なくともいずれかの特性に依存して定まる値である請求項５に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記スペーサは、二次元的に配置される柱状スペーサであり、
前記決定工程は、前記測定工程において得られた測定値の大きさが二次元的に単調に変化するように前記柱状スペーサの配置順を決定する工程を含む請求項１に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記決定工程は、前記測定値が最大の柱状スペーサと最小の柱状スペーサとが対角の角部にそれぞれ配置されるように、前記柱状スペーサの配置順を決定する工程を含む請求項７に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項９】
複数の電子放出素子を有する背面板と、
前記背面板と対向して配置される前面板と、
前記背面板と前記前面板との間にあって、前記背面板及び前記前面板の周縁を支持する枠と、
前記前面板と前記背面板との間に配置される複数のスペーサと、
を有する画像表示装置であって、
前記複数のスペーサは、該スペーサの高さの順に配置されていること
を特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
前記スペーサの高さは、該スペーサの所定の一点における高さであること
を特徴とする請求項９に記載の画像表示装置。
【請求項１１】
前記スペーサの高さは、該スペーサの中心における高さであること
を特徴とする請求項９に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記スペーサは板状スペーサであり、
前記スペーサの高さは、該スペーサの複数の点における高さの平均値であること
を特徴とする請求項９に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
前記スペーサは二次元的に配置される柱状スペーサであり、
前記複数の柱状スペーサは、該スペーサの高さが二次元的に単調に変化するように配置されていること
を特徴とする請求項９に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
高さが最大の柱状スペーサと最小の柱状スペーサとが対角の角部にそれぞれ配置されていること
を特徴とする請求項１３に記載の画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月5日(2007.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹面鏡と、複数のＬＥＤを面状に並べて形成した発光面を有する面光源とを備え、この面光源を前記凹面鏡に対向させて該凹面鏡の光軸の外に配置し、前記凹面鏡に向かって前記面光源から射出された光が該凹面鏡で反射されることにより所定方向を照射することを特徴とするヘッドランプ。
【請求項２】
開口面を有し、凹面鏡の反射面が開口面に対向するように該凹面鏡を収容するヘッドランプケースを備え、
面光源は、放熱フィンを有するヒートシンクに固着され、前記放熱フィンが前記ヘッドランプケースの外部に突出するように配置されていることを特徴とする請求項１記載のヘッドランプ。
【請求項３】
ヘッドランプケースを覆うカバーを備え、
前記カバーと前記ヘッドランプケースとの間に、放熱フィンに向けて送風するための通風口を有することを特徴とする請求項２記載のヘッドランプ。
【請求項４】
複数のＬＥＤを面状に並べて形成した発光面を有する面光源を備え、前記面光源を所定の角度を有するように保持する光源モジュールを設けたことを特徴とする請求項１記載のヘッドランプ。
【請求項５】
面光源を構成する複数のＬＥＤに電流を供給する電源と、
速度を検出する速度センサと、
前記速度センサにより速度がゼロであることが検出された場合に前記電源から前記複数のＬＥＤへ供給する電流を減少させる制御回路
とを備えたことを特徴とする請求項１記載のヘッドランプ。
【請求項６】
電源から複数のＬＥＤに供給する電流はゼロより大きいことを特徴とする請求項５記載のヘッドランプ。
【請求項７】
電源から複数のＬＥＤに供給する電流は時限的要素を持って減少させることを特徴とする請求項５記載のヘッドランプ。
【請求項８】
エンジン回転数あるいはパーキングブレーキに基づいて走行中を判断すると共に走行中と判断した時は電源から複数のＬＥＤに供給する電流を低減する制御を禁止することを特徴とする請求項５記載ヘッドランプ。
【請求項９】
面光源の温度を検出する温度センサを備え、
前記温度センサにより所定以上の温度が検出された場合に電源から複数のＬＥＤへ供給する電流を減少させる制御回路
とを備えたことを特徴とする請求項１記載のヘッドランプ。
【請求項１０】
温度センサは、
複数のＬＥＤの近傍に設けられたサーミスタから成ることを特徴とする請求項５記載のヘッドランプ。
【請求項１１】
温度センサは、
複数のＬＥＤの少なくとも１つの順方向電圧降下を検出する電圧センサから成ることを特徴とする請求項９記載のヘッドランプ。
【請求項１２】
ヘッドランプケースの周囲に遮熱部材を備えたことを特徴とする請求項１に記載ヘッドランプ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月10日(2007.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極活物質及び繊維径１〜１０００ｎｍの炭素繊維を含み、空隙率が２５％以下であることを特徴とする高密度電極。
【請求項２】
炭素繊維が、２０００℃以上で熱処理された黒鉛系炭素繊維である請求項１に記載の高密度電極。
【請求項３】
炭素繊維が、酸化処理により表面に含酸素官能基が導入された黒鉛系炭素繊維である請求項１または２に記載の高密度電極。
【請求項４】
炭素繊維が、ホウ素を０．１〜１０００００ｐｐｍ含有する黒鉛系炭素繊維である請求項１〜３のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項５】
電極中の炭素繊維の量が、０．０５〜２０質量％である請求項１〜４のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項６】
炭素繊維の平均アスペクト比が、５〜５００００である請求項１〜５のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項７】
黒鉛系炭素繊維のＸ線回折法による（００２）面の平均面間隔ｄ002が、０．３４４ｎｍ以下である請求項２〜６のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項８】
炭素繊維が、内部に中空構造を有する請求項１〜７のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項９】
炭素繊維が分岐状炭素繊維を含む請求項１〜８のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項１０】
電極活物質が炭素系材料である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項１１】
炭素系材料がＳｉを含む請求項１０に記載の高密度電極。
【請求項１２】
炭素系材料が非黒鉛系炭素材料であり、電極嵩密度が１．５ｇ／ｃｍ3以上である請求項１０または１１に記載の高密度電極。
【請求項１３】
電極活物質の電極成形前の炭素系材料が、以下の要件を満足する炭素質粒子である請求項１０〜１２のいずれかに記載の高密度電極：
（１）フロー式粒子像解析装置によって測定される平均円形度が０．７０〜０．９９，
（２）レーザー回折法による平均粒子径が１〜５０μｍ。
【請求項１４】
炭素系材料が５０質量％以上の黒鉛系材料を含み、電極嵩密度が１．７ｇ／ｃｍ3以上である請求項１０、１１または１３に記載の高密度電極。
【請求項１５】
黒鉛系材料がホウ素を含む請求項１４に記載の高密度電極。
【請求項１６】
電極活物質の電極成形前の炭素系材料が、以下の要件を満足する黒鉛粒子を５０質量％以上含む炭素粒子である請求項１４または１５に記載の高密度電極：
（１）フロー式粒子像解析装置によって測定される平均円形度が０．７０〜０．９９，
（２）レーザー回折法による平均粒子径が１〜５０μｍ。
【請求項１７】
黒鉛系材料が、以下の要件を満足する黒鉛粒子を５０質量％以上含む炭素粒子である請求項１４〜１６のいずれかに記載の高密度電極：
（１）Ｘ線回折測定での（００２）面のＣ0が０．６９００ｎｍ、Ｌａ（ａ軸方向の結晶子サイズ）＞１００ｎｍ、Ｌｃ（ｃ軸方向の結晶子サイズ）＞１００ｎｍ、
（２）ＢＥＴ比表面積が０．２〜５ｍ2／ｇ，
（３）真密度が２．２０ｇ／ｃｍ3以上，
（４）レーザーラマンＲ値（レーザーラマンスペクトルによる１５８０ｃｍ-1のピーク強度に対する１３６０ｃｍ-1のピーク強度比）が０．０１〜０．９。
【請求項１８】
電極活物質が、Ｌｉ合金である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項１９】
電極活物質が窒化リチウム系材料である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項２０】
電極活物質が酸化ケイ素系材料である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項２１】
電極活物質が金属酸化物系材料である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項２２】
金属酸化物系材料中に酸化スズ系材料が６０質量％以上含まれる請求項２１に記載の高密度電極。
【請求項２３】
金属酸化物系材料中にコバルト系酸化物が６０質量％以上含まれ、電極嵩密度が３．６ｇ／ｃｍ3以上である請求項２１に記載の高密度電極。
【請求項２４】
金属酸化物系材料中にマンガン系酸化物が６０質量％以上含まれ、電極嵩密度が３．０ｇ／ｃｍ3以上である請求項２１に記載の高密度電極。
【請求項２５】
金属酸化物系材料中にコバルト系酸化物とマンガン系酸化物の混合物が８０質量％以上含まれ、電極嵩密度が３．４ｇ／ｃｍ3以上である請求項２１に記載の高密度電極。
【請求項２６】
金属酸化物系材料中にニッケル系酸化物が６０質量％以上含まれ、電極嵩密度が３．４ｇ／ｃｍ3以上である請求項２１に記載の高密度電極。
【請求項２７】
金属酸化物系材料中にバナジウム系酸化物が６０質量％以上含まれ、電極嵩密度が２．３ｇ／ｃｍ3以上である請求項２１に記載の高密度電極。
【請求項２８】
電極活物質が金属硫化物系材料である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項２９】
電極活物質が鉄オリビン系化合物である請求項１〜９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項３０】
繊維径１〜１０００ｎｍの炭素繊維を０．２〜２０質量％含有し、１００ｍＡｈ／ｇ以上の容量密度を有し、電解液高浸透性を有する請求項１〜２９のいずれかに記載の高密度電極。
【請求項３１】
２５℃、１気圧で３μｌのプロピレンカーボネートを５００秒以内で吸液できる請求項３０に記載の高密度電極。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれかに記載の高密度電極を構成要素として含む電池。
【請求項３３】
請求項１〜３１のいずれかに記載の高密度電極を構成要素として含む二次電池。
【請求項３４】
非水系電解液及び／または非水系ポリマー電解質を用い、前記非水系電解液及び／または非水系ポリマー電解質に用いられる非水系溶媒にエチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、及びビニレンカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも１種が含まれる請求項３３に記載の二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、アモルファス半導体膜、セミアモルファス半導体膜又は有機半導体膜を活性層とする薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続された第１の電極を形成し、
前記基板に対向して配置された蒸着源を、前記第１の電極がマトリクス状に配置された画素部の長辺又は短辺に対して平行に移動させて、該蒸着源から有機化合物を含む材料を蒸着して、前記第１の電極上に有機化合物を含む膜を形成し、
前記有機化合物を含む膜上に第２の電極を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記画素部は、並行又は直列に複数配置されていることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記蒸着の際、前記蒸着源と前記基板との間隔が、３０ｃｍ以下であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記蒸着源は、基板のＸ方向、Ｙ方向又はＺ方向に移動可能であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記蒸着源には、複数の容器が設置してあり、同時に加熱して複数の方向から蒸着材料をぶつけあうことで微粒子化させることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記第１の電極は、前記薄膜トランジスタに電気的に接続している発光素子の陰極又は陽極であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、前記アモルファス半導体膜又はセミアモルファス半導体膜は、珪化物気体を用いたＣＶＤ法により形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項８】
基板上に第１の導電体を形成する工程と、
前記第１の導電体上に第１の絶縁体と第１の半導体を積層形成する工程と、
前記第１の半導体に接する第２の絶縁体を形成する工程と、
前記第１の半導体上に第２の半導体を形成する工程と、
前記第２の半導体に接するように、第２の導電体を形成した後、前記第２の導電体をマスクとして、前記第２の半導体をパターニングして薄膜トランジスタを作製する工程と、
前記第２の導電体に接する第１の電極を形成する工程と、
前記基板に対向して配置された蒸着源を移動させて、該蒸着源から有機化合物を含む材料を蒸着して、前記第１の電極上に有機化合物を含む膜を形成する工程と、
前記有機化合物を含む膜上に第２の電極を形成する工程と、を有し、
前記第１及び第２の半導体として、セミアモルファス半導体を形成し、
前記第１及び第２の導電体は、導電性材料を含む組成物を選択的に吐出して形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項９】
基板上に第１の導電体を形成する工程と、
前記第１の導電体上に第１の絶縁体と第１の半導体を積層形成した後、第１のマスクパターンを用いて前記第１の半導体をパターニングする工程と、
パターニングされた前記第１の半導体に接する第２の絶縁体を形成した後、第２のマスクパターンを用いて前記第２の絶縁体をパターニングする工程と、
前記第１の半導体上に第２の半導体を形成する工程と、
前記第２の半導体に接するように、第２の導電体を形成した後、前記第２の導電体をマスクとして、前記第２の半導体をパターニングして薄膜トランジスタを作製する工程と、
前記第２の導電体に接する第１の電極を形成する工程と、
前記基板に対向して配置された蒸着源を移動させて、該蒸着源から有機化合物を含む材料を蒸着して、前記第１の電極上に有機化合物を含む膜を形成する工程と、
前記有機化合物を含む膜上に第２の電極を形成する工程と、を有し、
前記第１及び第２の半導体として、セミアモルファス半導体を形成し、
前記第１及び第２のマスクパターンは、有機樹脂を含む組成物を選択的に吐出して形成し、
前記第１及び前記第２の導電体は、導電性材料を含む組成物を選択的に吐出して形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１０】
基板上に第１の導電体を形成する工程と、
前記第１の導電体上に第１の絶縁体と第１の半導体を積層形成した後、第１のマスクパターンを用いて前記第１の半導体をパターニングする工程と、
パターニングされた前記第１の半導体に接する第２の絶縁体を形成した後、第２のマスクパターンを用いて前記第２の絶縁体をパターニングする工程と、
前記第１の半導体上に第２及び第３の半導体を積層形成する工程と、
前記第３の半導体に接するように、第２の導電体を形成した後、前記第２の導電体をマスクとして、前記第２及び前記第３の半導体をパターニングして薄膜トランジスタを作製する工程と、
前記第２の導電体に接する第１の電極を形成する工程と、
前記基板に対向して配置された蒸着源を移動させて、該蒸着源から有機化合物を含む材料を蒸着して、前記第１の電極上に有機化合物を含む膜を形成する工程と、
前記有機化合物を含む膜上に第２の電極を形成する工程と、を有し、
前記第１乃至第３の半導体として、セミアモルファス半導体を形成し、
前記第１及び第２のマスクパターンは、有機樹脂を含む組成物を選択的に吐出して形成し、
前記第１及び第２の導電体は、導電性材料を含む組成物を選択的に吐出して形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項８又は９において、前記第２の半導体にＮ型を付与する不純物元素を添加することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１０において、前記第３の半導体にＮ型を付与する不純物元素を添加することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項９、１０及び１２のいずれか一において、前記第１及び前記第２のマスクパターンは、感光剤を溶媒に分解又は分散させたものであることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項８乃至１３のいずれか一において、前記導電性材料を含む組成物は、銀、金、銅又はインジウム錫酸化物を含むことを特徴とする発光装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来技術では、医用画像取得用のＸ線を発生するためには、Ｘ線管のアノードとカソードとの間に４０ｋＶ（キロボルト）−１６０ｋＶ超にわたる電源電圧を必要とする。この電圧は一般的には、接地に対して対称な２種類の高電圧を印加する二極式装置によって得られる。換言すると、アノードとカソードとの間に１６０ｋＶを発生するために、アノードで＋８０ｋＶを発生しカソードで−８０ｋＶを発生する装置が用いられる。一般的には、アノード及びカソードに印加されるこれら２種類の高電圧すなわち正負の高電圧の和を制御することによりこの高電圧を調節する。約１０，０００の比すなわち一般的には１０ｋＶに対して１Ｖの比で、測定される電圧を分圧する２個の同等の装置が２種類の高電圧を測定する。約１００ｋＶの電圧において油内で良好に動作するために、この種の測定装置は２枚の導電プレートの間の最大間隔を約４０ｍｍ（ミリメートル）としなければならない。
【特許文献１】米国特許第４８７０７４６号
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月31日(2007.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項８に記載の集積回路の配線解析方法であって、
前記工程（ｍ）の前記配線解析は、請求項１乃至請求項７のいずれか１つに記載した集積回路の配線解析方法を用いることを特徴とする集積回路の配線解析方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
集積回路が複数の階層モジュールで構成され、ネットリストが階層的に記載される集積回路の配線解析を行う方法であって、
（ｎ）前記ネットリストの一部に不完全部分又は欠落部分が存在する場合、当該部分を所定のセルモデルで置換する工程と、
（ｏ）前記工程（ｎ）後の前記ネットリストに対して、請求項１乃至請求項９のいずれか１つに記載した集積回路の配線解析方法を用いる工程とを備える集積回路の配線解析方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
集積回路のネットリストを生成する論理合成方法であって、
（ｐ）論理合成されたネットリストに対して請求項５乃至請求項７のいずれか１つに記載した集積回路の配線解析方法を用いて、各階層における前記階層モジュールの全体回路の前記配線困難指数と各階層における前記階層モジュールの上層回路の前記配線困難指数を算出する工程と、
（ｑ）所定の値より大きい前記配線困難指数を有する前記階層モジュールの回路に対して、回路構成を再構成し、再度論理合成を行い前記ネットリストを生成する工程とを備える論理合成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月4日(2007.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
（計画情報入力モード）
テンキー領域１０で、「Ｐ」キーが操作されると計画情報入力モードとなる。この計画情報入力モードでは、投薬、診療計画、治療、指導（患者への教育等）等の今後の治療計画に関する各項目が入力可能となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
図１９Ａの状態で、キーボード入力画面中の「ＯＫ」ボタンにより入力を確定すれば、追加又は修正後の計画情報が表示される。この際、図１９Ｂに示すように、ラベル２０ｄを含む計画情報の先頭側の一部が第２副領域９ｂではなく第１副領域９ａ中に評価情報に続いて表示され、残りの計画情報が第２副領域９ｂに表示される。この際、計画情報の最後尾の行が第２副領域９ｂに位置するように、計画情報の先頭側の一部が第１副領域９ａに表示される。換言すれば、計画情報の最後尾の行をフレームアウトさせずに第２副領域９ｂに表示するのに必要な分だけ、計画情報の先頭側を第１副領域９ａに表示する。これによって、医師はスクロール等の操作を行うことなく、新たに入力が確定した計画情報を迅速かつ簡単に確認することができる。なお、計画情報の一部を第１副領域９ａに表示したことにより、主観情報全体及び客観情報の最後尾付近を除く殆どの部分が第１副領域９ａの上側にフレームアウトしている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
図１９Ｂの状態からさらに客観情報の追加又は修正を行うためにテンキー１０の「Ｏ」キーを操作すると、図１９Ｃに示すようにメニュー領域１１にキーボード入力画面が表示される。テキスト入力後に、「ＯＫ」ボタンにより入力を確定すれば、追加又は修正後の客観情報が表示される。詳細には、図１９Ｄに示すように、第１副領域９ａの先頭にラベル２０ａを含む主観情報の全体が表示される。また、第１副領域９ａには、客観情報に続いて評価情報が表示され、それに続いて計画情報の先頭側が表示される。計画情報の残りは第２副領域９ｂに表示されるが、最後尾付近は第２副領域９ｂの下側にフレームアウトしている。図１９Ｂに示す状態から主観情報や計画情報を追加又は修正した場合も同様に、追加又は修正が確定した情報が第１副領域９ａの先頭に表示される。これにより医師はスクロール等の操作を行うことなく、新たに入力が確定した主観情報、客観情報、又は計画情報を迅速かつ簡単に確認することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
図２４Ａに示すキーボード入力画面で学習呼出ボタンを操作すると、図２４Ｂに示す入力候補画面が別ウィンドウとして表示される。この入力候補画面には「学習１」から「学習９」と表記された９個の文書が入力候補として表示される。これらの入力候補は後述する登録操作によって、記憶装置４の文書に関する学習登録テーブル（図１参照）に予め登録されている。この例では「学習１」から「学習３」に文書が登録されている。また、投薬や注射に関する学習機能の場合(図１１参照)と同様に、テンキー領域１０の数字キーには「学習１」から「学習９」が割り当てられる。テンキー領域１０の数字キーの選択、又は入力候補画面の入力候補に対するダブルクリック等の操作により、いずれかの入力候補が図２２Ａに示すキーボード入力画面に表示される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１枚のレンズと、レーザ光吸収プラスチックで形成されたレンズ枠とを有するレンズユニットにおけるレンズ固定方法において、
前記レンズは複数の当接部と複数のレーザ光照射部とを有し、当該レンズを前記レンズ枠に嵌め込む際に、当該レンズと当該レンズ枠の複数の位置決め部とを接触させつつ当該レンズと複数の当該レーザ光照射部とに接触させずに嵌め込み、
前記レンズを嵌め込んだ後、複数の前記レーザ光照射部にレーザ光を略同時に前記レンズを通過するように照射しつつ複数の前記位置決め部には照射しないようにし、前記レンズ枠の一部を溶融することによって、前記レンズの外周部と溶着して固定することを特徴とするレンズ固定方法。
【請求項２】
前記レンズ枠のレーザ光照射部の、レーザ光照射方向に対する肉厚が、周囲部より薄肉になっていることを特徴とする請求項１に記載のレンズ固定方法。
【請求項３】
前記レンズ枠に設けられたレーザ光照射部は、光軸と垂直な面であることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載のレンズ固定方法。
【請求項４】
前記レンズ枠に設けられたレーザ光照射部は、光軸に対して傾いており、対向するレンズ外周部も前記照射部と略平行に光軸から傾いていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のレンズ固定方法。
【請求項５】
前記レーザ光照射方向が、前記複数のレーザ光照射部に対してそれぞれ略垂直な方向であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のレンズ固定方法。
【請求項６】
レンズ枠に嵌め込まれたレンズは、光軸と直行方向に移動可能な隙間を有し、レンズの光軸調整がされた後、前記の固定方法で固定されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のレンズ固定方法。
【請求項７】
固定されるレンズはガラスレンズであり、前記ガラスレンズの前記レンズ枠に溶着される表面部分が、それ以外の表面より粗い表面状態であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のレンズ固定方法。
【請求項８】
固定されるレンズがガラスレンズであり、前記ガラスレンズの前記レンズ枠に溶着される表面部分に、プライマー処理を施してあることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のレンズ固定方法。
【請求項９】
レーザ光が照射されることで固定保持されたレンズを保持するレンズ枠を有するレンズユニットであって、
前記レンズ枠は、前記レーザ光が照射される前の状態でレンズに接触し前記レンズの位置を決める位置決め部と、前記レーザ光が照射されるレーザ光照射部とを有し、
前記レーザ光照射部は前記位置決め部よりも前記レンズに対して離れて設けられていることを特徴とするレンズユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を鑑み本願では、少なくとも１枚のレンズと、レーザ光吸収プラスチックで形成されたレンズ枠とを有するレンズユニットにおけるレンズ固定方法において、前記レンズは複数の当接部と複数のレーザ光照射部とを有し、当該レンズを前記レンズ枠に嵌め込む際に、当該レンズと当該レンズ枠の複数の位置決め部とを接触させつつ当該レンズと複数の当該レーザ光照射部とに接触させずに嵌め込み、前記レンズを嵌め込んだ後、複数の前記レーザ光照射部にレーザ光を略同時に前記レンズを通過するように照射しつつ複数の前記位置決め部には照射しないようにし、前記レンズ枠の一部を溶融することによって、前記レンズの外周部と溶着して固定する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材と、前記光学部材を保持する保持部材とを有し、
前記保持部材には前記光学部材の位置を決める位置決め部が形成され、当該位置決め部以外で前記光学部材と前記保持部材との間に位置してレーザー光に対して吸収性のある熱可塑性樹脂によって成る中間部材を更に有し、
レーザー光が照射されることによって前記中間部材の少なくとも一部が溶解して前記光学部材を前記保持部材に固定されていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２】
請求項１において、前記光学部材と前記保持部材との間に組み込まれる前記中間部材は、前記光学部材と前記保持部材との間に組み込まれた際に、隙間を有するようすることを特徴とする光学ユニット。
【請求項３】
請求項１において前記保持部材は前記光学部材と当接する少なくとも３箇所の凸部を有し、前記中間部材はその対応部に逃げ部が形成されていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項４】
請求項１乃至３において、前記中間部材は可視光を遮断する光学絞り機能を有する事を特徴とする光学ユニット。
【請求項５】
請求項１乃至４において、光学部材は外周底部に斜面が形成されており、中間部材は、前記斜面と、光学部材と保持部材との当接面の間に生ずる隙間に配置されていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項６】
請求項１乃至５において、前記光学部材は、前記中間部材と溶着される溶着面を他面よりも粗い粗面であることを特徴とする光学ユニット。
【請求項７】
請求項１乃至６において、前記光学部材はプラスチック樹脂で構成することを特徴とする光学ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学ユニット
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を考慮して、本願記載の光学ユニットは、光学部材と、前記光学部材を保持する保持部材とを有し、前記保持部材には前記光学部材の位置を決める位置決め部が形成され、当該位置決め部以外で前記光学部材と前記保持部材との間に位置するレーザー光に対して吸収性のある熱可塑性樹脂によって成る中間部材を更に有し、レーザー光が照射されることによって前記中間部材の少なくとも一部が溶解して前記光学部材を前記保持部材に固定する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月27日(2007.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録材上のトナー画像を加熱する第１の画像加熱手段と、この第１の画像加熱手段よりも記録材搬送方向下流側に設けられ記録材上のトナー画像を加熱する第２の画像加熱手段と、を有する画像加熱装置において、
第１の画像加熱手段にて熱せられた記録材を第２の画像加熱手段に向けて搬送するための搬送手段と、この搬送手段を冷却する冷却手段と、を有することを特徴とする画像加熱装置。
【請求項２】
連続画像加熱処理枚数が設定枚数となったとき上記冷却手段を作動させることを特徴とする請求項１の画像加熱装置。
【請求項３】
薄い記録材用の設定枚数は厚い記録材用の設定枚数よりも多いことを特徴とする請求項２の画像加熱装置。
【請求項４】
上記搬送手段は記録材をガイドするガイド部材を有し、上記冷却手段はこのガイド部材を冷却することを特徴とする請求項１乃至３のいずいれかの画像加熱装置。
【請求項５】
上記冷却手段は上記ガイド部材の記録材をガイドする面とは反対側よりエアーを吹き付けるファンを有することを特徴とする請求項４の画像加熱装置。
【請求項６】
上記ガイド部材には上記エアーの通過を許容する複数のスリットが形成されていることを特徴とする請求項５の画像加熱装置。
【請求項７】
上記搬送手段は記録材を挟持搬送する一対の回転体を有し、上記冷却手段はこの回転体を冷却することを特徴とする請求項１の画像加熱装置。
【請求項８】
記録材上の画像を加熱する第１の画像加熱手段と、この第１の画像加熱手段よりも記録材搬送方向下流側に設けられ記録材上の画像を加熱する第２の画像加熱手段と、を有する画像加熱装置において、
第１の画像加熱手段にて熱せられた記録材を第２の画像加熱手段に向けて搬送するための搬送手段と、この搬送手段を加熱する加熱手段と、を有することを特徴とする画像加熱装置。
【請求項９】
上記搬送手段は記録材をガイドするガイド部材を有し、上記加熱手段はこのガイド部材を加熱することを特徴とする請求項８の画像加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
これは、第１定着器にて熱せられた画像形成ジョブの初期の記録材は、第１定着器から第２定着器へ記録材を搬送するための搬送ローラや搬送ガイド板などによりある程度冷やされた状態で第２定着器に進入することになるが、第１定着器にて熱せられた画像形成ジョブの後期の記録材は、搬送ローラや搬送ガイド板などが記録材により既に熱せられた状態にあるので搬送ローラや搬送ガイド板などにより冷やされないまま第２定着器に進入することになるため、第２定着器に進入する直前における初期と後期の記録材では温度差が５０℃以上変化してしまうことがあった。この場合、１つの連続画像形成ジョブであるにも関わらず、画像形成ジョブ中において初期と後期では記録材上の画像のグロスが５〜１０程度変化してしまい、画像のグロスが大きく異なってしまった。このような画像のグロスの大きな変化は画像品質の劣化と直結することになり、このような問題の解決が望まれている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第１の発明は、記録材上の画像を加熱する第１の画像加熱手段と、この第１の画像加熱手段よりも記録材搬送方向下流側に設けられ記録材上の画像を加熱する第２の画像加熱手段と、を有する画像加熱装置において、
第１の画像加熱手段にて熱せられた記録材を第２の画像加熱手段に向けて搬送するための搬送手段と、この搬送手段を冷却する冷却手段と、を有することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第２の発明は、記録材上の画像を加熱する第１の画像加熱手段と、この第１の画像加熱手段よりも記録材搬送方向下流側に設けられ記録材上の画像を加熱する第２の画像加熱手段と、を有する画像加熱装置において、
第１の画像加熱手段にて熱せられた記録材を第２の画像加熱手段に向けて搬送するための搬送手段と、この搬送手段を加熱する加熱手段と、を有することを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第１の発明によれば、第１の画像加熱手段にて熱せられた記録材を第２の画像加熱手段に向けて搬送するための搬送手段を冷却することで、画像の光沢度が変動してしまうのを抑制することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第２の発明によれば、第１の画像加熱手段にて熱せられた記録材を第２の画像加熱手段に向けて搬送するための搬送手段を加熱することで、画像の光沢度が変動してしまうのを抑制することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
定着装置は、図１に示すように、第１の画像加熱手段としての第一定着器１０と第２の画像加熱手段としての第二定着器２０を有している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
画像形成部にてトナー画像が形成されたシート材は第一定着器１０へと搬送され、第一定着器１０で加熱処理が施された（定着された）シート材は、第一定着器１０内に備えられた、搬送手段としての内排紙ローラ４３、５３とガイド部材としての内排紙前ガイド３４、３８、ガイド部材としての内排紙外ガイド３３，３７から構成される内排紙部へと搬送される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第一定着器から排出されたシート材は内排紙部を通り、シート材搬送方向下流側の搬送手段としての搬送ローラ対４２、５２、４１、５１を二つ備えるシート材搬送経路２５へ搬送される。この搬送ローラ対４２、５２の手前側にはガイド部材としての搬送ガイド３２、３６が、そして、搬送ローラ対４１、５１の手前側にはガイド部材としての搬送ガイド３１、３５が設置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月25日(2007.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群からなり、ズーミングに際し、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群の少なくとも一方が移動するズームレンズにおいて、少なくとも一つのレンズ群は、以下の条件を満足する材料より成るレンズ又は層ＧＩＴを有し、該レンズ又は層ＧＩＴは、それが含まれるレンズ群と逆符号の屈折力であることを特徴とするズームレンズ。
１１＜νＩＴ＜２７
０．２＜θＩＴ＜０．４
ここで、νＩＴ：前記レンズ又は層ＧＩＴのアッベ数
θＩＴ：前記レンズ又は層ＧＩＴのｇ線とｆ線に関する部分分散比
【請求項２】
前記第１レンズ群が、前記レンズ又は層ＧＩＴを有することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記レンズ又は層ＧＩＴの焦点距離をｆ１ａ、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とするとき、
５＜｜ｆ１ａ／ｆ１｜＜６０
なる条件を満足することを特徴とする請求項２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
全系の望遠端における焦点距離をｆｔとするとき、
０．５＜ｆ１／ｆｔ＜０．９
なる条件を満足することを特徴とする請求項２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に、像側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＧ１１、正レンズＧ１２、正レンズＧ１３を有することを特徴とする請求項２〜４いずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記正レンズＧ１２又は正レンズＧ１３のレンズ面に前記層ＧＩＴを設けることを特徴とする請求項５に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記第２レンズ群が、前記レンズ又は層ＧＩＴを有することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記レンズ又は層の焦点距離をｆ２ａ、前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２とするとき、
１２＜｜ｆ２ａ／ｆ２｜＜２０
なる条件を満足することを特徴とする請求項７に記載のズームレンズ。
【請求項９】
全系の望遠端における焦点距離をｆｔとするとき、
０．１０＜｜ｆ２／ｆｔ｜＜０．２０
なる条件を満足することを特徴とする請求項７又は８に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第２レンズ群は、物体側から像側へ順に、像側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＧ２１、負レンズＧ２２、正レンズＧ２３を有することを特徴とする請求項７〜９いずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１１】
前記第３レンズ群が前記レンズ又は層を有することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項１２】
前記レンズ又は層の焦点距離をｆ３ａ、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３とするとき、
６＜｜ｆ３ａ／ｆ３｜＜３０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１１に記載のズームレンズ。
【請求項１３】
全系の望遠端における焦点距離をｆｔとするとき、
０．３＜ｆ３／ｆｔ＜０．４５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１１又は１２に記載のズームレンズ。
【請求項１４】
前記レンズ又は層は、樹脂中にＩＴＯ微粒子を分散させた材料であることを特徴とする請求項１〜１３いずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１５】
光電変換素子上に像を形成することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成された像を受光する光電変換素子とを有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するため、物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群からなり、ズーミングに際し、第１レンズ群と第２レンズ群の少なくとも一方が移動するズームレンズにおいて、少なくとも一つのレンズ群は、以下の条件を満足する材料より成るレンズ又は層ＧＩＴを有し、該レンズ又は層ＧＩＴは、それが含まれるレンズ群と逆符号の屈折力であることを特徴とするズームレンズ。
１１＜νＩＴ＜２７
０．２＜θＩＴ＜０．４
ここで、νＩＴ：レンズまたは層ＧＩＴのアッベ数
θＩＴ：レンズまたは層ＧＩＴのｇ線とｆ線に関する部分分散比
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月20日(2007.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体と、該軸芯体の外周に形成された導電性の弾性体層と、を有する電子写真装置用の導電ローラであって、
該弾性体層が、ポリエーテル成分を有するポリウレタンを含み、
該ポリエーテル成分は、ネオペンチレンオキサイド構造単位を有することを特徴とする導電ローラ。
【請求項２】
前記ポリエーテル成分が、更にアルキレンオキサイド構造単位（ネオペンチレンオキサイド構造単位を除く）を有する請求項１に記載の導電ローラ。
【請求項３】
前記アルキレンオキサイド構造単位（ネオペンチレンオキサイド構造単位を除く）が、下記式（２）で示されるものである請求項２に記載の導電ローラ：
【化１】
2005316081.tif 000001
（上記式中、Ｒは炭素数２から４のアルキレン基である）。
【請求項４】
前記アルキレンオキサイド構造単位（ネオペンチレンオキサイド構造単位を除く）として、テトラメチレンオキサイド構造単位を含む請求項３に記載の導電ローラ。
【請求項５】
前記ポリウレタンが、前記ポリエーテル成分を有するポリオールを、イソシアネート化合物を硬化剤として用いて重合させたものである請求項１〜４のいずれかに記載の導電ローラ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の導電ローラを用いたことを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の導電ローラを用いたことを特徴とする電子写真装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子写真装置用の導電ローラ、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、軸芯体と、該軸芯体の外周に形成された導電性の弾性体層と、を有する電子写真装置用の導電ローラであって、該弾性体層が、ポリエーテル成分を有するポリウレタンを含み、該ポリエーテル成分は、ネオペンチレンオキサイド構造単位を有することを特徴とする導電ローラである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、その導電ローラを用いたことを特徴とするプロセスカートリッジ及び電子写真装置である。