【手続補正書】
【提出日】平成20年10月31日(2008.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体をＺ方向に支持する装置であって、
エアベアリング部材と、
縦支持部材と、
前記縦支持部材を前記エアベアリング部材に接続するフレクシャと、
加圧ガス用のハウジングと、を備え、
前記ハウジングが加圧ガスで満たされているときに、前記縦支持部材の領域に圧力差が作用して物体に所望の力を与える、装置。
【請求項２】
前記フレクシャは、Ｘ及びＹの一方の軸周りに曲げ可能な第１セクションと、Ｘ及びＹの他方の軸周りに曲げ可能な第２セクションと、を有する請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記フレクシャは、Ｘ軸及びＹ軸周りに曲げ可能なセクションを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記ハウジングは、剛体壁と、前記縦支持部材の少なくとも一部が前記ハウジングに入ることを許容する開口と、を有する請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ハウジングの前記開口は、剛体底壁にある、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記加圧ガスは、周囲に対して負の圧力で加圧されている、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記ハウジングは、前記縦支持部材に機械的に接続されたエアベローズを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記加圧ガスは、周囲に対して正の圧力で加圧されている、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記ハウジングは、実質的に一定量の加圧ガスを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記ハウジングは、実質的に一定圧力の流体を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記ハウジングは、ガス供給口を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記縦支持部材の動きを案内する縦ブッシングをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記物体は、当該装置の下方にある、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記物体は、当該装置の上方にある、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記エアベアリング部材を囲むエアベアリングハウジングをさらに備え、
前記エアベアリングハウジングは、周囲環境に逃げるガス量を減じる、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記縦支持部材の動きを案内する少なくとも１つのエアブッシングと、前記少なくとも１つのエアブッシングに隣接する少なくとも１つの真空ガードリングと、を備えるメインフレームをさらに備え、
前記少なくとも１つの真空ガードリングは、周囲環境に逃げるガス量を減じる、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
物体をＺ方向に支持する装置であって、
平面状ベアリング面と球面状ベアリング面とを有するエアベアリング部材と、
前記エアベアリング部材における前記平面状ベアリング面及び前記球面状ベアリング面の１つと合わせられるベアリング面を有する縦支持部材と、
基礎部分に接続されかつ前記縦支持部材をＺ方向に案内するメインフレームと、
前記縦支持部材に機械的に接続されるエアベローズであり、加圧ガスが充填されるとき、前記エアベローズが所望の力を前記縦支持部材に作用させ、その力の一部が前記エアベアリング部材を通って伝わって前記物体を支持する、前記エアベローズと、
を備える装置。
【請求項１８】
前記エアベローズは、実質的に一定量の加圧ガスを含む、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記エアベローズは、実質的に一定圧力の流体を含む、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記エアベローズは、ガス供給口を備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項２１】
前記物体は、当該装置の下方にある、請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
前記物体は、当該装置の上方にある、請求項１７に記載の装置。
【請求項２３】
物体をＺ方向に支持及び位置決めする装置であって、
エアベアリング部材と、
縦支持部材と、
前記縦支持部材を前記エアベアリング部材に接続するフレクシャと、
前記縦支持部材の動きを案内するメインフレームと、
加圧ガス用のハウジングであり、前記ハウジングが加圧ガスで満たされているときに、前記縦支持部材の領域に圧力差が作用して物体に所望の力を与える、前記ハウジングと、
前記メインフレーム及び位置決めされる前記物体のうちの１つに堅固につながった電機子コイルと、前記メインフレーム及び位置決めされる前記物体のうちの他の１つに堅固につながった少なくとも１つの永久磁石とを備えるボイスコイルモータと、
を備える装置。
【請求項２４】
前記フレクシャは、前記電機子コイルと同心に配置される、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記フレクシャは、前記Ｘ及びＹ軸周りに曲げ可能な１つのセクションと、１つの曲げ中心とを有する、請求項２３に記載の装置。
【請求項２６】
前記フレクシャの前記曲げ中心は、前記ボイスコイルモータの中心と一致する、請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記フレクシャは、Ｘ及びＹの一方の軸周りに曲げ可能な第１セクションと、Ｘ及びＹの他方の軸周りに曲げ可能な第２セクションと、を有する請求項２３に記載の装置。
【請求項２８】
前記加圧ガスは、周囲に対して負の圧力で加圧されている、請求項２３に記載の装置。
【請求項２９】
前記加圧ガスは、周囲に対して正の圧力で加圧されている、請求項２３に記載の装置。
【請求項３０】
前記ハウジングは、剛体壁と、前記縦支持部材の少なくとも一部が前記ハウジングに入ることを許容する開口と、を有する請求項２３に記載の装置。
【請求項３１】
前記ハウジングの前記開口は、剛体底壁にある、請求項３０に記載の装置。
【請求項３２】
前記ハウジングは、前記縦支持部材に機械的に接続されたエアベローズを備える、請求項２３に記載の装置。
【請求項３３】
前記ハウジングは、実質的に一定量の加圧ガスを含む、請求項２３に記載の装置。
【請求項３４】
前記ハウジングは、実質的に一定圧力の流体を含む、請求項２３に記載の装置。
【請求項３５】
前記ハウジングは、ガス供給口を備える、請求項２３に記載の装置。
【請求項３６】
前記縦支持部材の動きを案内する縦ブッシングをさらに備える、請求項２３に記載の装置。
【請求項３７】
前記エアベアリング部材を囲むエアベアリングハウジングをさらに備え、
前記エアベアリングハウジングは、周囲環境に逃げるガス量を減じる、請求項２３に記載の装置。
【請求項３８】
物体をＺ方向に支持及び位置決めする装置であって、
平面状ベアリング面と球面状ベアリング面とを有する環状エアベアリング部材と、
前記エアベアリング部材における前記平面状ベアリング面及び前記球面状ベアリング面の１つと合わせられるベアリング面を有する縦支持部材と、
前記縦支持部材の動きを案内するメインフレームと、
加圧ガス用のハウジングであり、前記ハウジングが加圧ガスで満たされているときに、前記縦支持部材の領域に圧力差が作用して物体に所望の力を与える、前記ハウジングと、
前記メインフレーム及び位置決めされる前記物体のうちの１つに堅固につながった電機子コイルと、前記メインフレーム及び位置決めされる前記物体のうちの他の１つに堅固につながった少なくとも１つの永久磁石とを備えるボイスコイルモータであり、前記ボイスコイルモータは前記環状エアベアリング部材の外径によって規定される円筒内に配置される、前記ボイスコイルモータと、
を備える装置。
【請求項３９】
前記加圧ガスは、周囲に対して負の圧力である、請求項３８に記載の装置。
【請求項４０】
前記加圧ガスは、周囲に対して正である、請求項３８に記載の装置。
【請求項４１】
前記物体は、当該装置の下方にある、請求項３８に記載の装置。
【請求項４２】
前記物体は、当該装置の上方にある、請求項３８に記載の装置。
【請求項４３】
物体を支持及び位置決めする装置であって、
少なくとも１つのエアベアリング部材と、
フレクシャと、
縦支持部材と、
前記縦支持部材の動きを案内するメインフレームと、
加圧ガス用のハウジングであり、前記ハウジングが加圧ガスで満たされているときに、前記縦支持部材の領域に圧力差が作用して物体に所望の力を与える、前記ハウジングと、
移動子と固定子とを備えるボイスコイルモータであり、前記移動子は、前記フレクシャ及び前記縦支持部材に接続される又は前記フレクシャ及び前記エアベアリング部材に接続される、前記ボイスコイルモータと、
を備える装置。
【請求項４４】
前記フレクシャは、Ｘ及びＹの一方の軸周りに曲げ可能な第１セクションと、Ｘ及びＹの他方の軸周りに曲げ可能な第２セクションと、を有する請求項４３に記載の装置。
【請求項４５】
前記フレクシャは、Ｘ軸及びＹ軸周りに曲げ可能なセクションを有する、請求項４３に記載の装置。
【請求項４６】
前記ハウジングは、剛体壁と、前記縦支持部材の少なくとも一部が前記ハウジングに入ることを許容する開口と、を有する請求項４３に記載の装置。
【請求項４７】
前記ハウジングの前記開口は、剛体底壁にある、請求項４６に記載の装置。
【請求項４８】
前記加圧ガスは、周囲に対して負の圧力で加圧されている、請求項４３に記載の装置。
【請求項４９】
前記ハウジングは、前記縦支持部材に機械的に接続されたエアベローズを備える、請求項４３に記載の装置。
【請求項５０】
前記加圧ガスは、周囲に対して正の圧力で加圧されている、請求項４３に記載の装置。
【請求項５１】
前記ハウジングは、実質的に一定量の加圧ガスを含む、請求項４３に記載の装置。
【請求項５２】
前記ハウジングは、実質的に一定圧力の流体を含む、請求項４３に記載の装置。
【請求項５３】
前記移動子は、前記フレクシャ及び前記縦支持部材に接続される、請求項４３に記載の装置。
【請求項５４】
前記移動子は、前記エアベアリング部材及び前記フレクシャに接続される、請求項４３に記載の装置。
【請求項５５】
前記物体は、当該装置の上方にある、請求項４３に記載の装置。
【請求項５６】
前記物体は、当該装置の下方にある、請求項４３に記載の装置。
【請求項５７】
前記メインフレームは、前記縦支持部材の動きを案内する縦ブッシングを備える、請求項４３に記載の装置。
【請求項５８】
前記エアベアリング部材を囲むエアベアリングハウジングをさらに備え、
前記エアベアリングハウジングは、周囲環境に逃げるガス量を減じる、請求項４３に記載の装置。
【請求項５９】
真空環境下で精密ステージをＺ方向に支持及び位置決めする装置であって、
前記精密ステージに堅固に接続されたエアベアリングハウジングと、
前記エアベアリングハウジング内に配置され、加圧された流体が供給されることで少なくとも１つのエアベアリングを形成するエアベアリング部材であり、前記エアベアリングハウジングは前記真空環境に逃げる前記加圧された流体を制限する、前記エアベアリング部材と、
前記エアベアリング部材に接続されるフレクシャと、
前記フレクシャに接続されかつエアブッシングに支えられる縦支持部材と、
前記エアブッシングを備え、真空ポンプに接続された経路によって前記エアブッシングから加圧された流体を除去するように構成されたメインフレームと、
加圧ガス用のハウジングであり、前記ハウジングが加圧ガスで満たされているときに、前記縦支持部材の領域に圧力差が作用して前記精密ステージに所望の力を与える、前記ハウジングと、
移動子と固定子とを備えるボイスコイルモータであり、前記移動子は前記エアベアリングハウジングに接続される、前記ボイスコイルモータと、
を備える装置。
【請求項６０】
３つの直交自由度に精密ステージを支持及び位置決めするシステムであって、
精密ステージを第１位置で支持する第１のＺ支持及び位置決め装置と、
前記精密ステージを第２位置で支持する第２のＺ支持及び位置決め装置と、
前記精密ステージを第３位置で支持する第３のＺ支持及び位置決め装置と、
前記第１、第２、第３の支持及び位置決め装置の少なくとも１つに対する目標のＺ位置を受け取るとともに、特にＺの位置及び向きについて正確な位置となるよう、前記少なくとも１つの位置決め装置に信号を伝える制御器と、を備え、
前記第１、第２、及び第３位置は、非直線上にあり、前記第１、第２、第３の支持及び位置決め装置の少なくとも１つは、請求項１、１７、２３、３８、４３、及び５９のいずれかの装置を備える、システム。
【請求項６１】
振動から物体を隔離するシステムであって、
前記物体を第１位置で支持する第１のＺ支持装置と、
前記物体を第２位置で支持する第２のＺ支持装置と、
前記物体を第３位置で支持する第３のＺ支持装置と、を備え、
少なくとも１つのＺ支持装置が請求項１又は１７の装置を備え、前記物体の重量が約１０ｋｇから約１００００ｋｇの間である、システム。
【請求項６２】
請求項１、１７、２３、３８、４３、及び５９のいずれかに記載の装置、又は請求項６０に記載のシステムを備える露光装置。
【請求項６３】
基板を用意することと、請求項６２に記載の露光装置を用いて前記基板上に像を形成すること、とを備えるデバイスの製造方法。
【請求項６４】
ウエハ上に像を形成する方法であって、
ウエハを用意することと、
請求項６２に記載の露光装置を用いて前記ウエハ上に像を形成すること、とを備える像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】精密ステージのための装置及びシステム、露光装置及び露光方法、並びにデバイスの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明のいくつかの実施形態に係る、Ｚ方向に物体を支持する装置は、平面状ベアリング面と球面状ベアリング面とを有するエアベアリング部材と、エアベアリングにおける平面状ベアリング面及び球面状ベアリング面の１つと合わせられるベアリング面を有する縦支持部材と、基礎部分に接続されかつ縦支持部材をＺ方向に案内するメインフレームと、縦支持部材に機械的に接続されるエアベローズと、を備える。加圧ガスが充填されるとき、エアベローズは所望の力を縦支持部材に作用させ、その力の一部がエアベアリング部材を通って伝わって物体を支持する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
図２０、図２１、及び図２２に示すものを含むいくつかの実施形態において、フレクシャ５４−５はその腰部７０の下に、環状の突起１５２をさらに有する。環状突起１５２は、環状突起１５２のいずれかの部分がＶＣＭハウジング１３２の円筒内面に接することによって、物体の横方向（ＸＹ）の動きに対する機械的な停止部（hard stop）の一部として機能する。いくつかの実施形態において、環状突起１５２とＶＣＭハウジング１３２の円筒内面との間隙は、組み立てられた状態で、約１ｍｍである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
リソグラフィ露光システム４００は、一般に８〜１４ｎｍ（名目上１３ｎｍ）の範囲の波長を有する極紫外線（軟Ｘ線）域の光を用いて、ステップ・アンド・スキャン・リソグラフィ露光を実行する投影露光システムである。リソグラフィ露光は、パターンが形成されたレチクル４０４にＥＵＶ照明ビーム４０２を照射する工程を有する。レチクル４０４の照明領域内に規定されたパターン領域の空間像を得ながら、レチクル４０４から照明ビーム４０２が反射される。パターンビーム４０６が感光性露光基板１００８に照射されると、パターンの潜像がそこに形成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
折り曲げミラー４３４は、ミラー４３２に対して角度をもって、図におけるミラー４３２の右に配置される。反射レチクル４０４は、基板１００８にリソグラフィ転写されるパターンを規定するものであり、折り曲げミラー４３４の上方に配置される。レチクル４０４は、レチクル４０４のパターンが形成された反射面に残物が乗るのを避けるために、反射面を下に向けて水平に配置される。照明光学系４３０から発せられたＥＵＶの照明ビーム４０２は、ミラー４３２によって反射及び集光され、折り曲げミラー４３４を介して、レチクル４０４の反射面に到達する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
レチクル４０４は、多層膜として構成されたＥＵＶ反射面を有する。基板（すなわちウエハ）１００８に転写されるべきパターン要素に対応するパターン要素は、ＥＵＶ反射面上または内部に形成される。レチクル４０４は、レチクルステージ４３６上に搭載される。レチクルステージ４３６は、レチクル４０４を保持しかつ、正確な露光のために基板１００８に対してレチクルを適切に位置合わせするのに必要なＸ、Ｙ及びθＺ自由度にレチクル４０４を位置決め可能である。レチクルステージ４３６は、３つの直交自由度において、レチクル４０４を支持しかつ位置決めするために、１又はそれ以上のＺ支持・位置決め装置１３８を有することができる。レチクルステージ４３６の位置は、本技術分野で知られた方法によって干渉的に検出可能である。そして、折り曲げミラー４３４によって反射した照明ビーム４０２は、レチクル４０４の反射面における所望位置に入射する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
投影光学系４３８及び基板１００８は、レチクル４０４の下流に配置される。投影光学系４３８は、いくつかのＥＵＶ反射ミラーを備える。レチクル４０４の照明部の空間像を運ぶレチクル４０４からのパターンビーム４０６は、投影光学系４３８によって所望の倍率（例えば１／４）で縮小され、基板１００８の表面に集光される。これにより、照明領域のパターンの潜像が基板１００８上に形成される。パターンビーム４０６によって運ばれたイメージを形成するために、上流を向いた基板１００８の表面に、適切なレジストが塗布されている。