【手続補正書】
【提出日】平成19年12月7日(2007.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に光軸を有し、かつ放射源を含む照射システムと、
内部に光軸を有し、かつ二次元放射線センサを含む撮像システムと、
を備え、
前記撮像システムは、前記照射システムにより照射された物体の画像を形成するように構成され、
前記放射源および前記二次元放射線センサは、共通基板上に取り付けられ、
前記照射システム内の光軸と前記撮像システム内の光軸とが、前記システム内で一致していないことを特徴とする光学システム。
【請求項２】
前記照射システムは、前記放射源からの放射線の方向を変更するように構成され、
前記撮像システムは、前記照射された物体から前記放射線センサの方向に放射線の方向を変更するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学システム。
【請求項３】
前記照射システム内の光軸と前記撮像システム内の光軸が、相互に基本的に平行に走ることを特徴とする請求項１または２に記載の光学システム。
【請求項４】
前記照射システム内の光軸と前記撮像システム内の光軸が、前記共通基板に基本的に平行に走ることを特徴とする請求項３に記載の光学システム。
【請求項５】
前記照射システム内の光軸と前記撮像システム内の光軸が、前記共通基板に基本的に平行でありかつ前記共通基板から離れた平面を画定することを特徴とする請求項４に記載の光学システム。
【請求項６】
前記照射システムがさらに、前記放射源から前記物体の方向に放射線を導く放射線ガイドを備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学システム。
【請求項７】
前記放射線ガイドが、金属化された非出口面を備えていることを特徴とする請求項６に記載の光学システム。
【請求項８】
前記放射線ガイドが、傾斜した放射線方向変更出口面を有することを特徴とする請求項６または７に記載の光学システム。
【請求項９】
前記放射線ガイドが、前記共通基板上に取り付けられていることを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の光学システム。
【請求項１０】
前記撮像システムがさらに、前記放射線センサの方向に伝播される放射線の空間起点を制御するセンサ照準ユニットを備えていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光学システム。
【請求項１１】
前記センサ照準ユニットが、前記共通基板上に取り付けられていることを特徴とする請求項１０に記載の光学システム。
【請求項１２】
前記センサ照準ユニットが、前記物体から前記放射線センサの方向に放射線の方向を変更するミラーを備えていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の光学システム。
【請求項１３】
前記センサ照準ユニットが、前記放射線センサ上に画像を生成するレンズを備えていることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の光学システム。
【請求項１４】
前記センサ照準ユニットが、前記放射線センサの方向に放射線を伝播する光学要素を備え、
前記光学要素が、前記物体から前記放射線センサの方向に放射線の方向を変更するミラーと、前記放射線センサ上に画像を生成するレンズとを備えていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の光学システム。
【請求項１５】
前記センサ照準ユニットがさらに、前記光学要素の前に配置された開口絞りを備えていることを特徴とする請求項１４に記載の光学システム。
【請求項１６】
前記光学要素が外側面を備え、前記外側面の少なくとも一部が内部反射を低減するための材料により覆われていることを特徴とする請求項１４または１５に記載の光学システム。
【請求項１７】
前記センサ照準ユニットは、前記放射線センサの方向に放射線を伝播するように配置される内部チャネルを有するハウジングを備え、
前記ハウジング内には、前記物体から前記放射線センサに向かって放射線の方向を変えるミラーと、前記放射線センサ上に画像を生成するレンズとが取り付けられていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の光学システム。
【請求項１８】
前記センサ照準ユニットがさらに、前記ハウジング内に配置された開口絞りを備えていることを特徴とする請求項１７に記載の光学システム。
【請求項１９】
前記ハウジングが内側面を有し、前記内側面の少なくとも一部が放射線の鏡面反射を低減するように構成されていることを特徴とする請求項１７または１８に記載の光学システム。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれかに記載の光学システムと、
前記共通基板を実装しているプリント回路基板と、
前記放射線センサから受け取る画像情報を分析する画像プロセッサと、
を備え、
前記光学システムが前記プリント回路基板で支持され、前記画像プロセッサが前記プリント回路基板に取り付けられていることを特徴とする分析システム。
【請求項２１】
筆記具を有する電子ペン用のモジュラユニットであって、
前記モジュラユニットが、保持体と、前記保持体に取り付けられた請求項２０に記載の分析システムとを備え、
前記筆記具を前記電子ペン内の前記分析システムに対して位置決定するために、前記保持体が前記筆記具を収容する手段を有することを特徴とするモジュラユニット。
【請求項２２】
前記モジュラユニットの寸法が、前記モジュラユニットを前記電子ペンの内部に取り付け可能な寸法であることを特徴とする請求項２１に記載のモジュラユニット。
【請求項２３】
前記保持体に前記分析システムを取り付けるために、前記分析システムの前記プリント回路基板が前記保持体に取り付けられていることを特徴とする請求項２１または２２に記載のモジュラユニット。
【請求項２４】
前記モジュラユニットが、前記電子ペン内に含まれており、前記電子ペンの縦方向に延びる細長い形状を有することを特徴とする請求項２１〜２３のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項２５】
前記保持体に取り付けられた接触センサをさらに備えていることを特徴とする請求項２１〜２４のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項２６】
前記電子ペンの外側シェル部分への連結部を形成する手段をさらに備えていることを特徴とする請求項２１〜２５のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項２７】
前記保持体に取り付けられた振動器をさらに備えていることを特徴とする請求項２１〜２６のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項２８】
前記保持体に取り付けられた波長フィルタをさらに備えていることを特徴とする請求項２１〜２７のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項２９】
物体から放射線センサに放射線を伝播するセンサ照準ユニットであって、
内部の曲がり部分で方向を変更する内部チャネルと、前記チャネルの放射線入口端および放射線出口端と、を有するハウジングと、
前記内部チャネル内の前記ハウジングの前記放射線入口端に取り付けられたレンズと、
前記ハウジング内の前記内部チャネルの前記曲がり部分に取り付けられ、前記内部チャネルの方向の変化に沿って放射線の方向を変更するミラーと、
を備えていることを特徴とするセンサ照準ユニット。
【請求項３０】
前記物体を照射する放射源のホルダーをさらに備えていることを特徴とする請求項２９に記載のセンサ照準ユニット。
【請求項３１】
前記レンズが、前記放射線出口端に画像面を画定し、
前記ハウジングが、前記チャネル内に、前記放射線入口端から画像面を遮蔽する遮蔽体を画定していることを特徴とする請求項２９または３０に記載のセンサ照準ユニット。
【請求項３２】
前記ハウジングが、前記遮蔽体と前記放射線入口端との間のチャネル画定壁内に、少なくとも一つの放射線トラップを画定していることを特徴とする請求項３１に記載のセンサ照準ユニット。
【請求項３３】
前記ハウジングが、前記チャネル内に開口絞りを画定していることを特徴とする請求項２９〜３２のいずれかに記載のセンサ照準ユニット。
【請求項３４】
物体から放射線センサに放射線を伝播する光学要素であって、
前記光学要素が、内部に放射線経路を画定している固体本体を含み、
前記固体本体が、
前記放射線経路内に放射線を受け入れるための、レンズ素子を含む放射線入口面と、
放射線出口面と、
前記放射線経路内を管状部分の縦軸に沿って放射線を伝播する管状部分と、
前記入口面の反対側の前記管状部分の端部にミラー面と、
を備え、
前記ミラー面の法線が、前記管状部分の縦軸に対して傾斜しており、前記放射線経路が、前記固体本体の前記放射線出口の方向に前記ミラー面で方向変更されることを特徴とする光学要素。
【請求項３５】
前記物体を照射する放射源のホルダーをさらに備えていることを特徴とする請求項３４に記載の光学要素。
【請求項３６】
前記レンズが、前記放射線出口端に画像面を画定し、
前記固体本体が、前記管状部分内に、前記放射線入口面から前記画像面を遮蔽する遮蔽体を画定していることを特徴とする請求項３４または３５に記載の光学要素。
【請求項３７】
前記放射線入口面上に開口絞りを画定する部材をさらに備えていることを特徴とする請求項３４〜３６のいずれかに記載の光学要素。
【請求項３８】
筆記具を有する電子ペン用のモジュラユニットであって、
前記筆記具の収容部を有する保持体と、
プリント回路基板と、
前記プリント回路基板に取り付けられた二次元放射線センサと、
画像面を画定する撮像ユニットと、
を備え、
前記保持体、前記プリント回路基板、および前記撮像ユニットが、前記放射線センサに対向する前記撮像ユニットに結合されて、前記放射線センサの位置に画像面が配置されることを特徴とするモジュラユニット。
【請求項３９】
前記撮像ユニットが、前記放射線センサに達する放射線の空間起点を制御するように設計されていることを特徴とする請求項３８に記載のモジュラユニット。
【請求項４０】
前記撮像ユニットによって画定される対物面を照射する放射源をさらに備えていることを特徴とする請求項３８または３９に記載のモジュラユニット。
【請求項４１】
前記撮像ユニットが、前記放射源を保持するホルダーを備えていることを特徴とする請求項４０に記載のモジュラユニット。
【請求項４２】
前記放射源と前記プリント回路基板との間の電気接続をさらに備えていることを特徴とする請求項４０または４１に記載のモジュラユニット。
【請求項４３】
前記電気接続が、前記撮像ユニットと前記プリント回路基板との間の締付け力により機能することを特徴とする請求項４１および４２に記載のモジュラユニット。
【請求項４４】
前記プリント回路基板が、前記保持体により支持されていることを特徴とする請求項３８〜４３のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項４５】
前記プリント回路基板が、前記保持体に取り付けられていることを特徴とする請求項３８〜４４のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項４６】
前記撮像ユニットが、前記プリント回路基板により支持されていることを特徴とする請求項３８〜４５のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項４７】
前記撮像ユニットが、前記プリント回路基板に取り付けられていることを特徴とする請求項３８〜４６のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項４８】
前記電子ペンの外側ケーシングの少なくとも一部に取り付けるための少なくとも１つのコネクタをさらに備えていることを特徴とする請求項３８〜４７のいずれかに記載のモジュラユニット。
【請求項４９】
筆記具と、
その面上でペンが操作される筆記面の画像であって、前記筆記具の部分を含む画像を生成するように設計された光学システムと、
前記画像内の位置符号化パターンと前記画像内の前記筆記具の部分の位置とに基づいて、位置を示すデータを導き出すように設計された処理ユニットと、
を備えていることを特徴とする電子ペン装置。
【請求項５０】
前記部分が、前記筆記具と前記筆記面との間の接触点を表わしていることを特徴とする請求項４９に記載の電子ペン装置。