【手続補正書】
【提出日】平成31年3月11日(2019.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのフォトニック集積回路であって、
光信号を導くための集積導波路と、
前記集積導波路に光学的に結合された光分散構造とを含み、
前記光分散構造は前記フォトニック集積回路中の光伝搬領域であり、
前記光分散構造は、前記フォトニック集積回路の面外に前記光信号を光ビームとして照射するように構成された、
フォトニック集積回路、
流体媒体に浸漬された対象物を収容するためのマイクロ流体チャネルであって、前記イメージング装置の動作中に、前記光ビームによって前記対象物を照射することができるように構成されたマイクロ流体チャネル、および
前記光分散構造から前記マイクロ流路チャネルの反対側に、前記光ビームによって照射された前記対象物を撮像するように位置決めされた少なくとも１つのイメージング検出器、
を含むイメージング装置。
【請求項２】
前記光分散構造は、焦点面に収束する集束光ビームとして、前記フォトニック集積回路の面外で前記光信号を集束するように適合された集束分散構造である、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項３】
前記集束光分散構造は、前記集積導波路内に作製された微細構造のパターンを含み、
前記微細構造のパターンは、前記集光分散構造内を伝搬する光信号の減衰を補償するように適合される、請求項２に記載のイメージング装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つのフォトニック集積回路は、前記集積導波路に光学的に結合された少なくとも１つの別の光分散構造をさらに含み
前記少なくとも１つの別の光分散構造は、前記フォトニック集積回路中の光伝搬領域であり、
前記少なくとも１つの別の光分散構造は、光ビームとして前記フォトニック集積回路の面外に前記光信号を照射するように構成され、
前記光分散構造および前記少なくとも１つの別の光分散構造は、それぞれによって形成された光ビームが異なる角度から前記対象物を同時に照射するように位置決めされる、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項５】
前記イメージング装置は、反射面をさらに備え、前記反射面および前記少なくとも１つのイメージング検出器は、前記被照射対象物からの光および前記光ビームが、前記反射面によって反射され、反射後に前記少なくとも１つのイメージング検出器によって検出されるように位置決めされる、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項６】
前記光ビームを空間的にフィルタリングするために、前記少なくとも１つのフォトニック集積回路と前記少なくとも１つのイメージング検出器との間に位置決めされた少なくとも１つのピンホールをさらに備える、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項７】
前記イメージング装置は、励起導波路をさらに含み、前記少なくとも１つのフォトニック集積回路の前記集積導波路は、導波路スプリッタを介して前記励起導波路に光学的に結合される、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つのイメージング検出器は、複数の対象物を同時に撮像するように適合され、
各々の対象物は、異なる光分散構造によって照射されるように位置決めされる、請求項４に記載のイメージング装置。
【請求項９】
前記集積導波路は、前記光分散構造の異なる部分に光学的に結合され、そのことにより前記光ビームの均一性を高めることができる、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項１０】
前記光信号を前記少なくとも１つのフォトニック集積回路に供給するための少なくとも部分的にコヒーレントな光源をさらに備える、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項１１】
対象物を撮像するための方法であって、
光信号を集積導波路に結合するステップと、
光分散構造を使用して前記光信号から光ビームを形成するステップであって、前記光ビームは前記集積導波路の面外に導かれ、前記光分散構造はフォトニック集積回路中の光伝搬領域であるステップと、
マイクロ流体チャネルを流れる流体中に対象物を浸漬することによって対象物を移送するステップと、
前記対象物を前記光ビームで照射するステップと、
前記光散乱構造から前記マイクロ流体チャネルの反対側の上の照射された前記対象物を撮像するステップと、
を含む方法。
【請求項１２】
前記光散乱構造は集束光分散構造であり、前記光散乱構造を使用して前記光ビームを集束するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記光ビームをその焦点内で空間的にフィルタリングして、そのことにより、前記焦点から前記対象物に向かって伝搬する実質的に均一な球面波を取得するステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記請求項１１のステップは、複数の異なる集積導波路と複数の異なる光分散構造を使用して複数の対象物に対して並行して実行され、
前記光信号は、前記複数の集積導波路にそれぞれ結合され、
照射された物体を撮像するステップは、各々が異なる光分散構造によって形成された光ビームによって照射された複数の対象物を同時に撮像するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記光信号は、少なくとも部分的にコヒーレントな光ビームである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
光信号を導くための集積導波路と、
前記集積導波路に光学的に結合された光分散構造と、を含むフォトニック集積回路であって、
前記光分散構造は、前記フォトニック集積回路中の光伝搬領域であり、
前記光分散構造は、前記フォトニック集積回路の面外に前記光信号を光ビームとして照射するように構成され、
マイクロ流体チャネルを流れる流体中に浸漬された対象物を含むためのマイクロ流体チャネルは、前記光ビームにより前記対象物が照射されるように、前記フォトニック集積回路のそれぞれに対して配置され、
前記少なくとも１つのイメージング検出器は、前記光ビームにより照射された前記対象物を撮像するために、前記マイクロ流体チャネルのそれぞれに対して配置され、
前記少なくとも１つのイメージング検出器は、前記光散乱構造から前記マイクロ流体チャネルの反対側の上に配置される、フォトニック集積回路。
【請求項１７】
前記光分散構造は、焦点面に収束する集束光ビームとして、前記集積導波路の面外で前記光信号を集束するように適合された集束分散構造である、請求項１６に記載のフォトニック集積回路。
【請求項１８】
前記集束光分散構造は、前記集積導波路内に作製された微細構造のパターンを含み、
前記微細構造のパターンは、前記集光分散構造内を伝搬する光信号の減衰を補償するように適合される、請求項１７に記載のフォトニック集積回路。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのフォトニック集積回路は、前記集積導波路に光学的に結合された少なくとも１つの別の光分散構造をさらに含み
前記少なくとも１つの別の光分散構造は、前記フォトニック集積回路中の光伝搬領域であり、
前記少なくとも１つの別の光分散構造は、光ビームとして前記フォトニック集積回路の外に前記光信号を照射するように構成され、
前記光分散構造および前記少なくとも１つの別の光分散構造は、それぞれによって形成された光ビームが異なる角度から前記対象物を同時に照射するように位置決めされる、請求項１６に記載のフォトニック集積回路。
【請求項２０】
前記集積導波路は、前記光分散構造の異なる部分に光学的に結合され、前記光ビームの均一性を増加させる請求項１６に記載のフォトニック集積回路。