【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量分析の方法であって、
イオンミラーを含む飛行時間型質量分析器を準備すること；
前記イオンミラーを第１設定で保つこと；
前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、第１の飛行時間または質量スペクトルデータを獲得すること；
前記イオンミラーを異なる第２設定で保つこと；
前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、第２の飛行時間または質量スペクトルデータを獲得すること；
前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、ある一定の質量または質量電荷比を有する第１のフラグメントイオンの第１の飛行時間を決定すること；
前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、同一の前記ある一定の質量または質量電荷比を有する第１のフラグメントイオンの異なる第２の飛行時間を決定すること；
断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた親イオンの前記質量または質量電荷比のいずれか、および／または前記第１のフラグメントイオンの前記質量または質量電荷比のいずれかを、前記第１および第２の飛行時間から決定すること；および
親イオン質量スペクトルを獲得することを含む方法。
【請求項２】
イオン源と、ドリフトまたは飛行空間とを、前記イオンミラーの上流に準備することを更に含む請求項１に記載の方法であって、前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、第１電位差が、前記イオン源と前記ドリフトまたは飛行空間との間に保たれ、前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、 第２電位差が、前記イオン源と前記ドリフトまたは飛行空間との間に保たれる方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法であって、前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、第１の電場強度または電場勾配が、前記イオンミラーの長さの少なくとも１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％または１００％に沿って保たれ、かつ、前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、第２の電場強度または電場勾配が、前記イオンミラーの長さの少なくとも１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％または１００％に沿って保たれている方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の方法であって、前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、前記イオンミラーが第１電圧で保たれ、かつ、前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、前記イオンミラーが第２電圧で保たれる方法。
【請求項５】
イオン源を準備することを更に含む請求項１〜４のいずれかに記載の方法であって、前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、前記イオンミラーが前記イオン源の電位に対する第１電位で保たれ、かつ、前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、前記イオンミラーが前記イオン源の電位に対する第２電位で保たれる方法。
【請求項６】
イオン源を準備することを更に含む請求項１〜５のいずれかに記載の方法であって、前記イオン源が、（ｉ）エレクトロスプレー（「ＥＳＩ」）イオン源；（ｉｉ）大気圧化学イオン化（「ＡＰＣＩ」）イオン源；（ｉｉｉ）大気圧光イオン化（「ＡＰＰＩ」）イオン源；（ｉｖ）レーザー脱離イオン化（「ＬＤＩ」）イオン源；（ｖ）誘導結合プラズマ（「ＩＣＰ」）イオン源；（ｖｉ）電子衝撃（「ＥＩ」）イオン源；（ｖｉｉ）化学イオン化（「ＣＩ」）イオン源；（ｖｉｉｉ）フィールドイオン化（「ＦＩ」）イオン源；（ｉｘ）高速原子衝撃（「ＦＡＢ」）イオン源；（ｘ）液体二次イオン質量分析（「ＬＳＩＭＳ」）イオン源；（ｘｉ）大気圧イオン化（「ＡＰＩ」）イオン源；（ｘｉｉ）フィールドデソープション（「ＦＤ」）イオン源；（ｘｉｉｉ）マトリックス支援レーザーイオン化（「ＭＡＬＤＩ」）イオン源；および（ｘｉｖ）シリコン上脱離／イオン化（「ＤＩＯＳ」）イオン源からなる群から選択される方法。
【請求項７】
ドリフトまたは飛行空間を前記イオンミラーの上流に準備することを更に含む請求項１〜６のいずれかに記載の方法であって、前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、前記イオンミラーが、前記ドリフトまたは飛行空間の電位に対する第１電位で保たれ、かつ前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、前記イオンミラーが、前記ドリフトまたは飛行空間の電位に対する第２電位で保たれる方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の方法であって、前記イオンミラーが前記第１設定であるとき、ある一定の質量電荷比および／またはある一定のエネルギーを有するイオンが、前記イオンミラーに少なくとも第１間隔貫入し、前記イオンミラーが前記第２設定であるとき、前記ある一定の質量電荷比および／または前記ある一定のエネルギーを有するイオンが、前記イオンミラーに少なくとも異なる第２間隔貫入する方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の方法であって、前記第１のフラグメントイオンの前記第１の飛行時間を決定する工程、および前記第１のフラグメントイオンの前記第２の飛行時間を決定する工程が、前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータ中の第１のフラグメントイオンを識別し、決定し、同定すること又は検索すること、ならびに前記第２の飛行時間データ中の対応する第１のフラグメントイオンを識別し、決定し、同定すること又は検索することを含む方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、前記第１および／または前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータ中の第１のフラグメントイオンを識別し、決定し、同定し、または検索する工程が、前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータ中のアイソトープピークのパターンを、前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータ中のアイソトープピークのパターンと比較することを含む方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、アイソトープピークの前記パターンを比較する工程が、アイソトープピークの相対強度および／またはアイソトープピークの分布を比較することを含む方法。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれかに記載の方法であって、前記第１および／または前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータ中の第１のフラグメントイオンを識別し、決定し、同定し、または検索する工程が、前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータ中のイオンの強度を、前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータ中のイオンの強度と比較することを含む方法。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれかに記載の方法であって、前記第１および／または前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータ中の第１のフラグメントイオンを識別し、決定し、同定し、または検索する工程が、前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータから生じた第１質量スペクトル中の１またはそれ以上の質量スペクトルピークの幅を、前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータから生じた第２質量スペクトル中の１またはそれ以上の質量スペクトルピークの幅と比較することを含む方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の方法であって、前記親イオン質量スペクトルから、１またはそれ以上の親イオンの前記質量または質量電荷比を決定する工程を更に含む方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、
前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータから、１またはそれ以上のフラグメントイオンの飛行時間を決定すること、および
前記親イオン質量スペクトルから決定された１またはそれ以上の親イオンの前記質量または質量電荷比と、前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータから決定された前記１またはそれ以上のフラグメントイオンの飛行時間とを基に、１またはそれ以上の可能性のある第１のフラグメントイオンが有するであろう質量または質量電荷比を、予想することを更に含む方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、
前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータから、１またはそれ以上のフラグメントイオンの飛行時間を決定すること、および
前記親イオン質量スペクトルから決定された１またはそれ以上の親イオンの前記質量電荷比と、前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータから決定された１またはそれ以上の前記フラグメントイオンの飛行時間とを基に、１またはそれ以上の可能性のある第２のフラグメントイオンが有するであろう前記質量または質量電荷比を、予想することを更に含む方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、１またはそれ以上の可能性のある第１のフラグメントイオンの前記予想された質量または質量電荷比を、１またはそれ以上の可能性のある第２のフラグメントイオンの前記予想された質量または質量電荷比と比較するか、または対比することを更に含む方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法であって、１またはそれ以上の前記可能性のある第１のフラグメントイオンの前記予想された質量または質量電荷比が、１またはそれ以上の前記可能性のある第２のフラグメントイオンの前記予想された質量または質量電荷比のｘ％以内に相当し、ｘが、(i) <0.001; (ii) 0.001-0.01; (iii) 0.01-0.1; (iv) 0.1-0.5; (v) 0.5-1.0; (vi) 1.0-1.5; (vii) 1.5-2.0; (viii) 2-3; (ix) 3-4; (x) 4-5; および (xi) >5からなる群から選択される範囲以内にある場合、
前記第２の飛行時間または質量スペクトルデータ中のフラグメントイオンの同じ種に関連するものとして、前記第１の飛行時間または質量スペクトルデータ中のフラグメントイオンを識別し、決定し、または同定することを更に含む方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれかに記載の方法であって、前記第１および第２の飛行時間から、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた親イオンの前記質量または質量電荷比を決定する前記工程が、
前記第１のフラグメントイオンの前記質量または質量電荷比の情報から独立して、または前記情報を必要とせずに、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた前記親イオンの前記質量電荷比を決定することを含む方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、前記第１のフラグメントイオンの前記質量または質量電荷比の情報から独立して、または前記情報を必要とせずに、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた前記親イオンの前記質量電荷比を決定する前記工程が、
１またはそれ以上の親イオン質量ピークが、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じたと決定された前記親イオンの前記予想された質量または質量電荷比のｙ％以内に観察されるかどうかを、親イオン質量スペクトルから、決定することを含み、ｙが、(i) <0.001; (ii) 0.001-0.01; (iii) 0.01-0.1; (iv) 0.1-0.5; (v) 0.5-1.0; (vi) 1.0-1.5; (vii) 1.5-2.0; (viii) 2-3; (ix) 3-4; (x) 4-5; および (xi) >5からなる群から選択される範囲以内にある方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法であって、１つの親イオン質量ピークが、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じたと決定された前記親イオンの前記予想された質量または質量電荷比のｙ％以内に観察される場合、そのときには、前記親イオン質量ピークの前記質量または質量電荷比を、前記断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた前記親イオンの前記質量または質量電荷比のより精密な決定とし、ｙが、(i) <0.001; (ii) 0.001-0.01; (iii) 0.01-0.1; (iv) 0.1-0.5; (v) 0.5-1.0; (vi) 1.0-1.5; (vii) 1.5-2.0; (viii) 2-3; (ix) 3-4; (x) 4-5; および (xi) >5からなる群から選択される範囲以内にある方法。
【請求項２２】
請求項２０に記載の方法であって、１より多い親イオン質量ピークが、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じたと決定された前記親イオンの前記予想された質量または質量電荷比のｙ％以内に観察される場合、そのときには、どの観察された親イオン質量ピークが、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた可能性が最もある前記親イオンに相当し、または関連するかに関する決定がなされ、ｙが、(i) <0.001; (ii) 0.001-0.01; (iii) 0.01-0.1; (iv) 0.1-0.5; (v) 0.5-1.0; (vi) 1.0-1.5; (vii) 1.5-2.0; (viii) 2-3; (ix) 3-4; (x) 4-5; および (xi) >5からなる群から選択される範囲以内にある方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法であって、どの観察された親イオン質量ピークが、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた可能性が最もある前記親イオンに相当し、または関連するかに関する決定が、前記イオンミラーが異なる第３設定で保たれたときに獲得された第３の飛行時間または質量スペクトルデータを参照することにより、なされる方法。
【請求項２４】
請求項２２または２３に記載の方法であって、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた可能性が最もある前記親イオンに相当し、または関連する、前記観察された親イオン質量ピークの前記質量または質量電荷比を、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた前記親イオンの前記質量または質量電荷比のより精密な決定とする方法。
【請求項２５】
請求項２１または２４に記載の方法であって、前記第１のフラグメントイオンの前記質量または質量電荷比のより精密な決定が、前記親イオンの前記質量または質量電荷比の前記より精密な決定を用いてなされる方法。
【請求項２６】
飛行時間型質量分析器を含む質量分析計であって、
前記飛行時間型質量分析器が、イオンミラーを含み、
使用時に、初回において、前記イオンミラーが第１設定で保たれ、第１の飛行時間または質量スペクトルデータを獲得し、かつ、２回めにおいて、前記イオンミラーが異なる第２設定で保たれ、第２の飛行時間または質量スペクトルデータを獲得し、
前記質量分析計が、使用時に、
（ａ）前記イオンミラーが前記第１設定で保たれるとき、ある一定の質量または質量電荷比を有する第１のフラグメントイオンの第１の飛行時間と；
（ｂ）前記イオンミラーが前記第２設定で保たれるとき、前記ある一定の同一の質量または質量電荷比を有する第１のフラグメントイオンの異なる第２の飛行時間と；
（ｃ）前記第１および第２の飛行時間から、断片化して前記第１のフラグメントイオンを生じた親イオンの前記質量もしくは質量電荷比および／または前記第１のフラグメントイオンの前記質量もしくは質量電荷比と；
（ｄ）親イオン質量スペクトルとを決定する質量分析計。
【請求項２７】
請求項２６に記載の質量分析計であって、前記イオンミラーが、リフレクトロンを含む質量分析計。
【請求項２８】
請求項２６または２７に記載の質量分析計であって、（ｉ）エレクトロスプレー（「ＥＳＩ」）イオン源；（ｉｉ）大気圧化学イオン化（「ＡＰＣＩ」）イオン源；（ｉｉｉ）大気圧光イオン化（「ＡＰＰＩ」）イオン源；（ｉｖ）レーザー脱離イオン化（「ＬＤＩ」）イオン源；（ｖ）誘導結合プラズマ（「ＩＣＰ」）イオン源；（ｖｉ）電子衝撃（「ＥＩ」）イオン源；（ｖｉｉ）化学イオン化（「ＣＩ」）イオン源；（ｖｉｉｉ）フィールドイオン化（「ＦＩ」）イオン源；（ｉｘ）高速原子衝撃（「ＦＡＢ」）イオン源；（ｘ）液体二次イオン質量分析（「ＬＳＩＭＳ」）イオン源；（ｘｉ）大気圧イオン化（「ＡＰＩ」）イオン源；（ｘｉｉ）フィールドデソープション（「ＦＤ」）イオン源；（ｘｉｉｉ）マトリックス支援レーザーイオン化（「ＭＡＬＤＩ」）イオン源；および（ｘｉｖ）シリコン上脱離／イオン化（「ＤＩＯＳ」）イオン源からなる群から選択されるイオン源を更に含む質量分析計。