(57)【要約】本発明の除塵ユニット（１００）では、クリーナ本体（１１０）に取付けられるスリット本体（１２０）と、このスリット本体（１２０）の外側部を覆うようにクリーナ本体（１１０）に取付けられるカバー（１３０）と、を備え、カバー（１３０）により振動が外部に漏れにくくなるようにした。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも各１個のエア吸引室およびエア噴出室を有するクリーナ本体と、
クリーナ本体に取付けられ、エア噴出室と連通する線状の噴出スリットおよびエア吸引室と連通する線状の吸引スリットを備えるスリット本体と、
スリット本体の外側部を覆うようにクリーナ本体に取付けられるカバーと、
を備え、エア噴出室と連通する線状の噴出スリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室と連通する線状の吸引スリットを介して吸引することを特徴とするスポットクリーナ。
【請求項２】
請求項１記載のスポットクリーナにおいて、
前記カバーと前記スリット本体の間には緩衝空間が形成されることを特徴とするスポットクリーナ。
【請求項３】
請求項２記載のスポットクリーナにおいて、
前記エア吸引室の洗浄エアの吸引量は、前記エア噴出室からの洗浄エアの噴出量より多くして、外部空間に対して緩衝空間内を低圧に維持することを特徴とするスポットクリーナ。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか一項に記載のスポットクリーナにおいて、
前記除塵ユニットは、エア噴出室とこれを挟む二個のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを特徴とするスポットクリーナ。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか一項に記載のスポットクリーナにおいて、
前記除塵ユニットは、基板の表裏面両側に二個一組で対向して配置されることを特徴とするスポットクリーナ。
【請求項６】
請求項１〜請求項５の何れか一項に記載のスポットクリーナにおいて、
前記噴出スリットは、噴出方向が基板搬送方向と逆方向に傾斜することを特徴とするスポットクリーナ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  被除塵対象に対し、単なる清浄エア、超音波周波数で振動する超音波を含むエア、または、プラス・マイナスイオンを含むエア（以下、これらを総称して洗浄エアという）を噴出するスポットクリーナに関する。
【背景技術】  ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）、もしくは、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等に用いられるガラス基板、または、長尺の紙やフィルム等のシートなどの被除塵対象（以下、単に被除塵対象という）に対して、除塵装置により除塵が行われている。
このような除塵装置に含まれるスポットクリーナは、洗浄エアを被除塵対象に噴出し、塵埃を被除塵対象から飛散させ、飛散した塵埃を洗浄エアとともに吸引する機能を有している。
以下、図に沿って従来技術のスポットクリーナを説明する。Ｆｉｇ．１０は、従来技術のスポットクリーナの斜視外観図である。Ｆｉｇ．１１は、従来技術のスポットクリーナの断面図である。
スポットクリーナ１０は、Ｆｉｇ．１０で示すように、クリーナ本体１１０、スリット本体１２０を備え、このクリーナ本体１１０の下側にスリット本体１２０が設けられる。
クリーナ本体１１０は、Ｆｉｇ．１１で示すように、エア吸引室１１１（Ｖ１）、エア噴出室１１２（Ｐ）、エア吸引室１１３（Ｖ２）が並べられて構成されている。エア吸引室１１１，１１３は、図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室１１２は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。
エア吸引室１１１、エア噴出室１１２、エア吸引室１１３はそれぞれ吸引通気孔１１４、噴出通気孔１１５、吸引通気孔１１６を備える。
スリット本体１２０は、被除塵対象Ｇに面するように凹面１２１、平面１２２、凹面１２３が形成され、この凹面１２１に吸引スリット１２４が、平面１２２に噴出スリット１２５が、凹面１２３に吸引スリット１２６が形成される。スポットクリーナ１０の吸引通気孔１１４、噴出通気孔１１５、吸引通気孔１１６はそれぞれスリット本体１２０の吸引スリット１２４、噴出スリット１２５、吸引スリット１２６と連通する。
このようなスポットクリーナ１０では、噴出スリット１２５から洗浄エアが噴出され、被除塵対象Ｇ表面の塵埃をスポットクリーナ１０と被除塵対象Ｇとの間の空間に浮遊させる。同時に、噴出スリット１２５の前後の吸引スリット１２４，１２６で洗浄エアとともに浮遊している塵埃が吸引されて除去されるものである。
また、このようなスポットクリーナの他の先行技術として、例えば、日本国特許公開公報である特開平１１−１０４５８６号公報なども知られている。
さて、近年では、除塵能力の増大が求められている。そこで、洗浄エアの噴出量および吸引量の増大や、超音波を含む洗浄エアの場合にはさらに超音波の音圧の増加などが有効であるが、この場合、いずれも騒音が大きくなるという問題があり、騒音を抑制しつつ除塵能力を向上させたいという要請があった。また、飛散した塵埃を確実に除去したいという要請もあった。
そこで、本発明は上記問題点を解決するためのものであり、その目的は、簡易な構成で騒音の抑制および除塵能力の向上をともにを実現するようなスポットクリーナを提供することにある。
【発明の開示】
上記の課題を解決するため、請求項１に係るスポットクリーナは、
少なくとも各１個のエア吸引室およびエア噴出室を有するクリーナ本体と、
クリーナ本体に取付けられ、エア噴出室と連通する線状の噴出スリットおよびエア吸引室と連通する線状の吸引スリットを備えるスリット本体と、
スリット本体の外側部を覆うようにクリーナ本体に取付けられるカバーと、
を備え、エア噴出室と連通する線状の噴出スリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室と連通する線状の吸引スリットを介して吸引することを特徴とする。
また、請求項２の発明に係るスポットクリーナは、請求項１記載のスポットクリーナにおいて、
前記カバーと前記スリット本体の間には緩衝空間が形成されることを特徴とする。
また、請求項３の発明に係るスポットクリーナは、請求項２記載のスポットクリーナにおいて、
前記エア吸引室の洗浄エアの吸引量は、前記エア噴出室からの洗浄エアの噴出量より多くして、外部空間に対して緩衝空間内を低圧に維持することを特徴とする。
また、請求項４の発明に係るスポットクリーナは、請求項１〜請求項３の何れか一項に記載のスポットクリーナにおいて、
前記除塵ユニットは、エア噴出室とこれを挟む二個のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを特徴とする。
また、請求項５の発明に係るスポットクリーナは、請求項１〜請求項４の何れか一項に記載のスポットクリーナにおいて、
前記除塵ユニットは、基板の表裏面両側に二個一組で対向して配置されることを特徴とする。
また、請求項６の発明に係るスポットクリーナは、請求項１〜請求項５の何れか一項に記載のスポットクリーナにおいて、
前記噴出スリットは、噴出方向が基板搬送方向と逆方向に傾斜することを特徴とする。
以上のような本発明によれば、簡易な構成で騒音の抑制および除塵能力の向上をともに実現するようなスポットクリーナを提供することができる。
【図面の簡単な説明】  Ｆｉｇ．１は、スポットクリーナの斜視外観図である。
Ｆｉｇ．２は、スポットクリーナの底面図である。
Ｆｉｇ．３は、スポットクリーナの断面図である。
Ｆｉｇ．４は、スポットクリーナの洗浄エアの流れを説明する説明図である。
Ｆｉｇ．５は、スポットクリーナの洗浄エアの流れを説明する説明図である。
Ｆｉｇ．６は、スポットクリーナの洗浄エアの流れを説明する説明図である。
Ｆｉｇ．７は、他の形態のスポットクリーナの断面図である。
Ｆｉｇ．８は、他の形態のスポットクリーナの断面図である。
Ｆｉｇ．９は、他の形態のスポットクリーナの断面図である。
Ｆｉｇ．１０は、従来技術のスポットクリーナの斜視外観図である。
Ｆｉｇ．１１は、従来技術のスポットクリーナの断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】  本発明を実施するための最良の形態について、図を参照しつつ説明する。Ｆｉｇ．１はスポットクリーナの斜視外観図、Ｆｉｇ．２はスポットクリーナの底面図、Ｆｉｇ．３はスポットクリーナの断面図である。このＦｉｇ．３のスポットクリーナの断面図は、Ｆｉｇ．２のＡ−Ａ線断面図である。なお、従来技術と一部重複する構成があるが、比較のため同じ符号を付すとともに説明する。
スポットクリーナ１００は、Ｆｉｇ．１やＦｉｇ．２で示すように、クリーナ本体１１０、スリット本体１２０、カバー１３０を備える。このクリーナ本体１１０の下側にスリット本体１２０が設けられ、また、クリーナ本体１１０の下側外側部には、カバー１３０が取付けられる。また、後述するがＦｉｇ．３で示すように、クリーナ本体１１０、スリット本体１２０、カバー１３０、および、被除塵対象Ｇ表面により覆われる緩衝空間１４０が形成される。
クリーナ本体１１０は、Ｆｉｇ．３で示すように、エア吸引室１１１（Ｖ１）、エア噴出室１１２（Ｐ）、エア吸引室１１３（Ｖ２）が並べられて構成されている。エア吸引室１１１，１１３は、図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室１１２は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。
エア吸引室１１１、エア噴出室１１２、エア吸引室１１３はそれぞれ吸引通気孔１１４、噴出通気孔１１５、吸引通気孔１１６を備える。
スリット本体１２０は、被除塵対象Ｇに面するように凹面１２１、平面１２２、凹面１２３が形成され、さらに、この凹面１２１に吸引スリット１２４が、平面１２２に噴出スリット１２５が、凹面１２３に吸引スリット１２６が形成されている。平面１２２は、噴出する洗浄エアの流量を一定にするために形成される。凹面１２１，１２３は、吸引する洗浄エアを流れやすくするために形成される。スポットクリーナ１００の吸引通気孔１１４、噴出通気孔１１５、吸引通気孔１１６はそれぞれスリット本体１２０の吸引スリット１２４、噴出スリット１２５、吸引スリット１２６と連通する。
カバー１３０は、本形態では、□状の開口部を有する角筒体である。なお、カバー１３０については各種の形態が可能であるが、少なくとも、スリット本体１２０とカバー１３０との間に緩衝空間１４０が形成できるものであればよい。
緩衝空間１４０は、クリーナ本体１１０、スリット本体１２０、カバー１３０との間に形成される□状の空間である。この緩衝空間１４０は、Ｆｉｇ．３で示すように、スポットクリーナ１００の使用時ではさらに被除塵対象Ｇと挟まれた空間となる。緩衝空間１４０は、被除塵対象Ｇとカバー１３０との間に形成される間隙部１４１を介して外界と連通する。なお緩衝空間１４０は、少なくともスリット本体１２０の周囲を覆う空間であればよく、□状の空間に限定するものではない。
続いて、このようなスポットクリーナ１００の使用方法について説明する。スポットクリーナ１００では、噴出スリット１２５から洗浄エアが噴出され、被除塵対象Ｇ表面の塵埃をスポットクリーナ１００と被除塵対象Ｇとの間の空間に浮遊させ、被除塵対象Ｇ表面の塵埃をスポットクリーナ１００と被除塵対象Ｇとの間の空間に浮遊させる。同時に、噴出スリット１２２の前後の吸引スリット１２４，１２６で洗浄エアを吸引すると、浮遊している塵埃とともに除去されるものである。なお、エア吸引室１１１，１１３の洗浄エアの総吸引量は、エア噴出室１１２からの洗浄エアの噴出量より多くする。
このようなスポットクリーナ１００では、洗浄エア（単なる清浄エア、超音波周波数で振動する超音波を含むエア、または、プラス・マイナスイオンを含むエア）を出力する。このような洗浄エアでは噴出時に振動が発生して騒音が問題になる。特に、超音波を含む洗浄エアの場合、超音波振動による騒音が顕著になる。しかしながら、遮蔽空間１４０を伝わってカバー１３０にこれら振動が到達しても、カバー１３０が超音波による振動を減衰させるため、作業員へ到達する騒音が少なくなる。また、間隙１４１は狭いすきまであるため、その殆どがカバー１３０を通過するようになるため、この点でも作業員へ到達する騒音が少なくなった。
さらに、間隙部１４１を介して外部空間と連通しているが、カバー１３０内では洗浄エアの噴出量よりも吸引量を多くするように配慮しているため、緩衝空間１４０内は外部空間に対して低圧に維持されており、間隙部１４１では外部空間から内部の緩衝空間へ吸気される。この点を図を参照しつつ説明する。Ｆｉｇ．４，Ｆｉｇ．５，Ｆｉｇ．６は、それぞれスポットクリーナの洗浄エアの流れを説明する説明図である。
基板搬送方向では、Ｆｉｇ．４で示すように噴出スリット１２５から出た洗浄エアは前後の吸引スリット１２４，１２６により吸引される。また、緩衝空間１４０や間隙部１４１からもエアが導入されて吸引スリット１２４，１２６により吸引される。したがって、緩衝空間１４０から外界へエアが流れることはない。また、吸引量が多いため緩衝空間１４０内は、十分低圧に維持される。
次に噴出スリット１２５の横方向では、Ｆｉｇ．５で示すように噴出スリット１２５から出た洗浄エアの一部が横方向に流れる吹き漏れが生じても、低圧な緩衝空間１４０へ間隙部１４１を介して外部空間からエアが流れ込み、緩衝空間１４０内でエアが衝突して低圧な緩衝空間１４０へ流れ込むため間隙部１４１から洗浄エアが流れ出ることはない。
次に、吸引噴出スリット１２４，１２６の横方向では、Ｆｉｇ．６で示すように吸引スリット１２４，１２６により吸引される。また、緩衝空間１４０や間隙部１４１からもエアが導入されて吸引スリット１２４，１２６により吸引される。このため間隙部１４１から洗浄エアが流れ出ることはない。
このように間隙部１４１は何れの箇所でもエアが外部空間からカバー１３０内へ流れ込むようになっており、このため、洗浄エアにより飛散した塵埃は緩衝空間１４０内から出ることはなく、塵埃は吸引スリット１２４，１２６により吸引することができる。
このようにカバー１３０により緩衝空間１４０を形成できるようになったため、簡易な構成で騒音の抑制および除塵能力の向上をともに実現することができる。
続いて他の形態について図を参照しつつ説明する。Ｆｉｇ．７は、他の形態のスポットクリーナの断面図である。なお、先に説明した形態と重複する構成については同じ符号を付すとともに繰り返しとなる説明を省略する。
本形態では、Ｆｉｇ．２で示したスポットクリーナ１００を被除塵対象Ｇの表裏両面側に二個一組で対向して配置されるようにした。このような構成では被除塵対象Ｇの表裏両面で除塵が可能になるとともに、上記した理由により、騒音の低減と除塵能力の向上とを共に実現できる。
続いて他の形態について図を参照しつつ説明する。Ｆｉｇ．８は、他の形態のスポットクリーナの断面図である。なお、先に説明した形態と重複する構成については同じ符号を付すとともに繰り返しとなる説明を省略する。本形態では、Ｆｉｇ．３で示した形態と殆ど相違点はないが、Ｆｉｇ．３で示した形態ではスリット本体１２０の噴出スリット１２５は被除塵対象Ｇに対して略垂直方向に形成されるが、Ｆｉｇ．８で示した形態では、スリット本体１２０の噴出スリット１２５’は、噴出方向が基板搬送方向ａと逆方向に傾斜する。このような構成では被除塵対象Ｇがスポットクリーナ１００へ進入するときに、洗浄エアの流れを安定させるという利点がある。このスポットクリーナ１００により除塵を行う場合、エア噴出室１１２（Ｐ）からエア吸引室１１１（Ｖ１）への流量が増加して一部エアが、エア吸引室１１１（Ｖ１）側のカバー１３０の間隙１４１まで到達しようとするが、外界から流れ込むエアと衝突して緩衝空間１４０へ流れるため、洗浄エアがカバー１３０から漏れ出ることはない。このため、被除塵対象Ｇの表面で除塵が可能になるとともに、上記した理由により、騒音の低減と除塵能力の向上とを共に実現できる。
続いて他の形態について図を参照しつつ説明する。Ｆｉｇ．９は、他の形態のスポットクリーナの断面図である。
本形態では、Ｆｉｇ．８で示したような、スリット本体１２０の噴出スリット１２５’が噴出方向が基板搬送方向ａと逆方向に傾斜するスポットクリーナ１００を、被除塵対象Ｇの表裏両面側に二個一組で対向して配置されるようにした。このような構成では被除塵対象Ｇの表裏両面で除塵が可能になるとともに、上記した理由により、騒音の低減と除塵能力の向上とを共に実現できる。
なお、本発明は、各種の変形形態も可能である。例えば、Ｆｉｇ．７およびＦｉｇ．９では、図示しない搬送ローラなどの上を被除塵対象Ｇが搬送されてくるが、この場合、被除塵対象Ｇの上面（上側の除塵ユニット１００）を流れるエアによりベンチュリ効果による上側への吸引力が発生し、さらに被除塵対象Ｇの下面（下側の除塵ユニット１００側）を流れるエアによりベンチュリ効果による下側への吸引力が発生するが、下側への吸引力を大きくするようなベンチュリ効果のバランスとなるように調整することで被除塵対象Ｇが安定して搬送されるものとしてもよい。
この場合、下側の除塵ユニット１００への吸引圧力（吸引量）と上側の除塵ユニット１００への吸引圧力（吸引量）とを同じにするとともに下側の除塵ユニット１００からの噴出圧力（噴出量）を上側の除塵ユニット１００からの噴出圧力（噴出量）よりも大きくすることで、下側の除塵ユニット１００のベンチュリ効果による吸引力を、上側の除塵ユニット１００のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を図示しない搬送ローラへ押圧する力を付与するようにしても良い。
また、下側の除塵ユニット１００からの噴出圧力（噴出量）と上側の除塵ユニット１００からの噴出圧力（噴出量）とを同じにするとともに下側除塵ユニット１００への吸引圧力（吸引量）を上側除塵ユニット１００への吸引圧力（吸引量）よりも大きくすることで、下側の除塵ユニット１００のベンチュリ効果による吸引力を、上側の除塵ユニット１００のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送ローラへ押圧する力を付与するようにしても良い。
また、下側の除塵ユニット１００から被除塵対象Ｇの裏面までの間隔を、上側の除塵ユニット１００から被除塵対象Ｇの表面までの間隔よりも下回る長さとするように調整することで、下側の除塵ユニット１００のベンチュリ効果による吸引力を、上側の除塵ユニット１００のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、被除塵対象Ｇを搬送ローラへ押圧する力を付与するようにしても良い。
このような除塵ユニットとして更に使い勝手を向上させるようにしても良い。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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