【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィ投射露光走査ステップ式装置用照射システムであって、
ａ）光源（１４）と、
ｂ）第１光学ラスタ要素（６２；６２’；６２”；６２'''）と、
ｃ）第２光学ラスタ要素（６４；９０；９０”；１００）と、
から構成され、
前記第１光学ラスタ要素（６２；６２’；６２”；６２'''）は、照射システム（１０）の第１瞳面（２８）内で、または前記第１瞳面に非常に接近して広がり、システムの幾何学的光学フラックスが第１方向（Ｙ）において増加するように設計された複数の第１部分構造（６５；９２ａ、９２ｂ、９２ｃ、９２ｄ）を有し、前記第１方向（Ｙ）は前記投射露光装置のスキャン方向に少なくとも実質的に垂直であり、
前記第２光学ラスタ要素（６４；９０；９０”；１００）は、前記第１瞳面（２８）と必ずしも異なるわけではない照射システムの第２瞳面（２８）内で、または前記第２瞳面に非常に接近して広がり、システムの幾何学的光学フラックスが、前記第１方向（Ｙ）と前記スキャン方向に少なくとも実質的に平行な第２方向（Ｘ）に増加するように設計される複数の第２部分構造を有し、
前記第１光学ラスタ要素（６２；６２’；６２”；６２'''）と前記第２光学ラスタ要素（６４；９０；９０”；１００）、または前記第２の光学ラスタ要素（６４；９０；９０”；１００）だけが、ゼロ強度レベルと最高強度レベルの間でスムーズな遷移を有する傾斜（８６；７７）を備えた前記第２方向（Ｘ）に沿うレチクル面（４６）の強度分布を引き起こし、
前記傾斜（８６；７７）は少なくとも実質的にガウス形状を有することを特徴とする照射システム。
【請求項２】
前記第１光学ラスタ要素（６２）だけが、前記第２方向（Ｘ）に平行な少なくとも実質的にライン形状を有するレチクル面の強度分布を生じることを特徴とする請求項１に記載の照射システム。
【請求項３】
前記第１光学ラスタ要素（６２）は、前記第２方向（Ｘ）に沿って延びる平行な円柱マイクロレンズ（６５）のアレイを備えることを特徴とする請求項２に記載の照射システム。
【請求項４】
前記第２光学ラスタ要素は散乱要素（６４）であることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の照射システム。
【請求項５】
前記散乱要素は、ランダムな形状を有する複数のマイクロレンズを備える屈折散乱板であることを特徴とする請求項４に記載の照射システム。
【請求項６】
前記散乱要素（６４）はコンピュータ生成ホログラムであることを特徴とする請求項４に記載の照射システム。
【請求項７】
前記第１光学ラスタ要素（６２；６２’；６２”；６２'''）は屈折光学要素であり、前記第２光学ラスタ要素（９０；９０”；１００）は回折光学要素であることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の照射システム。
【請求項８】
前記第２光学ラスタ要素（９０”）は、光伝播の方向で、前記第１光学ラスタ要素（６２”）の前に配置されることを特徴とする請求項７に記載の照射システム。
【請求項９】
前記第２光学ラスタ要素（９０）は、光伝播の方向で、前記第１光学ラスタ要素（６２’）の後ろに配置されることを特徴とする請求項７に記載の照射システム。
【請求項１０】
前記第１光学ラスタ要素（６２”）は、前記第２光学ラスタ要素（９０”）を形成する回折構造を備える湾曲面（８１）を有するマイクロレンズのアレイを備えることを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載の照射システム。
【請求項１１】
前記第１光学ラスタ要素（６２'''）は、少なくとも実質的に直角三角形の形状を有する断面を有する複数の平行プリズム（９２ａ、９２ｂ、９２ｃ、９２ｄ）を備えることを特徴とする請求項７から９いずれかに記載の照射システム。
【請求項１２】
少なくとも２つのプリズム（９２ａ、９２ｂ、９２ｃ、９２ｄ）の断面は、前記三角形の斜辺（９６ａ、９６ｂ、９６ｃ、９６ｄ）が基準面（９４）となす角度（α）に関して異なることを特徴とする請求項１１に記載の照射システム。
【請求項１３】
前記第２光学ラスタ要素（１００）は、異なる回折構造を有する複数のゾーン（９９ａ、９９ｂ）を備え、前記ゾーン（９９ａ、９９ｂ）のそれぞれは、前記第１光学ラスタ要素（６２'''）の１つのプリズム（９２ａ、９２ｂ、９２ｃ、９２ｄ）に相当することを特徴とする請求項１１または１２に記載の照射システム。
【請求項１４】
マイクロリソグラフィ投射露光走査ステップ式装置用照射システムであって、光伝播方向に沿って配列された以下の部品、すなわち、
ａ）光源（１４）と、
ｂ）第１光学ラスタ要素と、
ｃ）第２光学ラスタ要素（１６６）と、
ｄ）第３光学ラスタ要素（１７０）と、
ｅ）第４光学ラスタ要素（１７４）とから構成され、
前記第１光学ラスタ要素（１６２）は、照射システム（１０）の第１瞳面（２８）内で、または、前記第１瞳面に非常に接近して広がり、前記投射露光装置のスキャン方向に少なくとも実質的に垂直である第１方向（Ｙ）に沿って延びる平行で細長い第１マイクロレンズ（１６４）のアレイを有し、
前記第２光学ラスタ要素（１６６）は、前記第１瞳面（２８）と必ずしも異なるわけではない照射システムの第２瞳面（２８）内で、または前記第２瞳面に非常に接近して広がり、前記スキャン方向に実質的に平行な第２方向（Ｘ）に沿って延びる平行で細長い第２マイクロレンズ（１６８）のアレイを有し、
前記第３光学ラスタ要素（１７０）は、少なくとも実質的に前記第２マイクロレンズ（１６８）の焦点面内に配置され、平行で細長い第３マイクロレンズ（１７２）のアレイを有し、前記第２マイクロレンズ（１６８）と第３マイクロレンズ（１７２）は互いに面する湾曲面を有する第３光学ラスタ要素と、
第４光学ラスタ要素（１７４）は、少なくとも実質的に前記第１マイクロレンズ（１６４）の焦点面内に配置され、前記第１方向（Ｙ）に沿って延びる平行で細長い第４マイクロレンズ（１７６）のアレイを有し、
前記第３のマイクロレンズ（１７２）は前記第２方向（Ｘ）に延び、前記第４のマイクロレンズ（１７６）は前記第１方向（Ｙ）に延びることを特徴とする照射システム。
【請求項１５】
前記光学ラスタ要素（１６２、１６６、１７０、１７４）の前記マイクロレンズ（１６４、１６８、１７２、１７６）は、１ｍｍ未満の幅を有することを特徴とする請求項１４に記載の照射システム。
【請求項１６】
前記第２光学ラスタ要素（１６６）と前記第３光学ラスタ要素（１７０）の間の距離は１ｍｍ未満であることを特徴とする請求項１４または１５に記載の照射システム。
【請求項１７】
前記第２光学ラスタ要素（１６６）と前記第３光学ラスタ要素（１７０）の間の距離は０．５ｍｍ未満であることを特徴とする請求項１６に記載の照射システム。
【請求項１８】
前記マイクロレンズ（１６４、１６８、１７２、１７６）は円柱レンズであることを特徴とする請求項１４から１７のいずれかに記載の照射システム。
【請求項１９】
前記第１光学ラスタ要素（１６２）は前記第２光学ラスタ要素（１６６）に取り付けられ、前記第３光学ラスタ要素（１７０）は前記第４光学ラスタ要素（１７４）に取り付けられることを特徴とする請求項１４から１８のいずれかに記載の照射システム。
【請求項２０】
前記第１または第２瞳面（２８）内、または前記第１または第２瞳面に非常に近く配列される散乱要素（１８０）を備えることを特徴とする請求項１４から１９のいずれかに記載の照射システム。
【請求項２１】
隣接ブレードの２つの対向する列を有する絞りデバイス（３８）を備え、前記隣接ブレードの２つの対向する列は、前記第２方向に平行に配列され、前記光源によって生成される投射光束内に選択的に挿入することができることを特徴とする前記請求項のいずれかに記載の照射システム。
【請求項２２】
前記請求項のいずれかに記載の照射システムを備えることを特徴とする投射露光装置。
【請求項２３】
微細構造デバイスを作製するマイクロリソグラフィ法であって、
ａ）感光性層を支持する基板（５２）を設けるステップと、
ｂ）前記感光性層上に結像される構造を含むレチクル（４０）を設けるステップと、
ｃ）請求項１から２５の一項に記載の照射システム（１０）を設けるステップと、
ｄ）投射レンズ（５０）によって、前記感光性層上に前記レチクル（４０）の少なくとも一部を投射するステップとから構成されることを特徴とするマイクロリソグラフィ法。