【手続補正書】
【提出日】平成20年8月14日(2008.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン注入システムのためのガス送出システムであって、
第１電圧の電位にあるガス源と、
前記第１電圧の電位よりも大きな第２電圧の電位にあるイオン源と、
前記ガス源とイオン源との間に接続され、第１、第２の電気絶縁チューブを含み、前記
第２の電気絶縁チューブが、前記第１の電気絶縁チューブの外側にはめ込まれて配置されている電気絶縁コネクタと、を含み、
前記はめ込み式配置は、チューブ間に間隙を形成し、これにより前記間隙内における加圧ガスの送出を容易にすることを特徴とするガス送出システム。
【請求項２】
前記第１電圧の電位は、回路の接地電位として構成されることを特徴とする請求項１記
載のシステム。
【請求項３】
前記ガス源は、加圧されたガスを供給することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項４】
前記第１の電気絶縁チューブは、硼珪酸ガラス、珪酸アルミニウム、ガラス、石英、ま
たはセラミック材料を含んでいることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項５】
前記間隙内のガス圧力は、前記第１の電気絶縁チューブ内のガス圧力よりも大きく、こ
れにより、前記第１の電気絶縁チューブから前記間隙へのガスの漏洩を防止することを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項６】
前記第２の電気絶縁チューブに関連したポートに連結された圧力モニター装置を更に
含み、この圧力モニター装置が、前記間隙内の圧力変化を検出するように操作可能であることを特徴とする請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記圧力モニター装置に関連した安全コントローラを更に含み、前記安全コントローラ
が、前記圧力モニター装置により与えられた圧力情報に基づいて、前記電気絶縁コネクタからガス源を切り離すことができることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記間隙内のガス圧力は、前記第１の電気絶縁チューブ内のガス圧力とは異なり、前記
電気絶縁コネクタに接続したモニター装置を更に含んでおり、このモニター装置が、前記電気絶縁コネクタに関連した漏洩を検出するように作動可能であることを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項９】
イオン注入システムのためのガス送出システムであって、
第１電圧の電位にあるガス源と、
前記第１電圧の電位よりも大きな第２電圧の電位にあるイオン源と、
前記ガス源とイオン源との間に接続され、ガス送出用の複数の高電圧用アイソレータを有する電気絶縁コネクタと、を含み、
前記アイソレータの各々は、さらに、
前記ガス源から前記イオン源へガスの移動を可能にする内側延長チューブと、
この内側延長チューブに、はめ込み式で配置される外側延長チューブとを含み、
前記はめ込み式配置は、それぞれ前記内側延長チューブと前記外側延長チューブの間隙
を形成し、前記間隙内に不活性保護ガスを含んでいることを特徴とするガス送出システム。
【請求項１０】
前記アイソレータの各々は、他のアイソレータ内のガスとは異なるガスを移動するよう
に構成されており、これにより、前記イオン源からの供給ガスを迅速に切り替えることを容易にすることを特徴とする請求項９記載のシステム。
【請求項１１】
前記アイソレータの各第１端部を取り囲み、イオン源に接続される第１の排気用エンク
ロージャと、前記アイソレータの各第２端部にあって前記イオン源に接続されている第２の排気用エンクロージャを更に含み、それぞれの前記第１の排気用エンクロージャは前記第１電圧の電位に維持され、かつ第２の排気用エンクロージャは、前記第２電圧の電位に維持されていることを特徴とする請求項９記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１、第２の排気用エンクロージャに連結された弁装置をさらに含み、
前記第１、第２の排気用エンクロージャは、それぞれ第１の形態において、前記ガス源に向かって第１方向に供給源ガスを放出し、また、第２の形態において、前記イオン源に向かって第２方向に前記供給源ガスを放出するように構成されていることを特徴とする請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
イオン注入システムにガスを送出する方法であって、
ある貯蔵位置における電位を、前記イオン注入システムのイオン源での第２電圧の電位よりも低い第１電圧の電位に維持する工程と、
前記貯蔵位置からイオン源に供給源ガスを送出する工程とを含み、
前記貯蔵された供給源ガスを送出する工程は、さらに、
第１電圧の電位にあるガス移送システムを介して、前記供給源ガスが前記イオン源の方向に流れるように弁装置を係合させる工程と、
高電圧用アイソレータを介して前記ガス移送システムを前記イオン源に連結する工程とを含み、
前記高電圧用アイソレータは、第１、第２の電気絶縁チューブを含み、前記第１の電気絶縁チューブは、前記第１電圧の電位と前記第２電圧の電位との電位差である所定の電圧に十分耐えられる長さを有し、前記第２の電気絶縁チューブは、前記第１の電気絶縁チューブの外側にはめ込み式に配置され、このはめ込み式配置が、チューブ間の間隙を形成していることを特徴とする方法。
【請求項１４】
前記貯蔵された供給源ガスは加圧されていることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記第１電圧の電位は、ほぼ接地回路の電位であることを特徴とする請求項１３記載の
方法。
【請求項１６】
前記第２電圧の電位は、約８０ＫＶであることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記高電圧用アイソレータを介して前記ガス移送システムを前記イオン源に連結する
工程は、
前記高電圧用アイソレータの第１端部を前記ガス移送システムに連結して、前記第１端
部が第１電圧の電圧となり、
前記高電圧用アイソレータの第２端部を前記イオン源に連結して、前記第２端部が第２
電圧の電位となることを含んでいることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
前記貯蔵位置から前記イオン源に前記供給源ガスを送出する工程は、
供給源ガスを第１圧力で前記第１電気絶縁チューブ内に移送し、
前記第１圧力よりも大きな第２圧力で前記第１、第２の電気絶縁チューブ間の前記間隙
内に不活性ガスを移送する各工程を含み、
これにより、前記供給源ガスが間隙内に漏洩するのを防止することを特徴とする請求項
１３記載の方法。
【請求項１９】
前記間隙内における前記不活性ガスの前記第２圧力をモニターする工程をさらに有し、これにより、前記第２圧力が所定の閾値圧力より低下する場合に漏洩が検出されることを特徴とする請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
イオン注入システムにガスを送出する方法であって、
ある貯蔵位置における電位を、前記イオン注入システムのイオン源での第２電圧の電位よりも低い第１電圧の電位に維持する工程と、
前記貯蔵位置からイオン源に供給源ガスを送出する工程とを含み、
前記貯蔵された供給源ガスを送出する工程は、さらに、
第１電圧の電位にあるガス移送システムを介して、前記供給源ガスが前記イオン源の方向に流れるように弁装置を係合させる工程と、
高電圧用アイソレータを介して前記ガス移送システムを前記イオン源に連結する工程とを含み、
この方法は、さらに、前記高電圧用アイソレータを第１方向にパージする工程を含み、前記供給源ガスが前記ガス移送システムから排気されることを特徴とする方法。
【請求項２１】
イオン注入システムにガスを送出する方法であって、
ある貯蔵位置における電位を、前記イオン注入システムのイオン源での第２電圧の電位よりも低い第１電圧の電位に維持する工程と、
前記貯蔵位置からイオン源に供給源ガスを送出する工程とを含み、
前記貯蔵された供給源ガスを送出する工程は、さらに、
第１電圧の電位にあるガス移送システムを介して、前記供給源ガスが前記イオン源の方向に流れるように弁装置を係合させる工程と、
高電圧用アイソレータを介して前記ガス移送システムを前記イオン源に連結する工程とを含み、
この方法は、さらに、前記高電圧用アイソレータを第２方向にパージする工程を含み、前記供給源ガスが前記イオン源に近くの領域から排気されることを特徴とする方法。