Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月3日(2019.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗料が吹き付けられると共にスプレーしぶきを排除するための空気流が供給される塗料吹き付けチャンバー（１１）を具えた塗料吹き付けブース（１０）であって、前記塗料のスプレーしぶきを前記空気流からろ過して分離するため、このブースの少なくとも１つのフィルターユニット（１６）へと前記空気流が運ばれ、前記フィルターユニットは、複数の交換可能なフィルターモジュール（１７）を具え、それぞれのフィルターモジュールは、前記フィルターユニットのハウジング（１８）の内側に取り出し可能に収容され、このブースは、前記複数のフィルターモジュール（１７）のそれぞれを、そのハウジング（１８）と、前記フィルターモジュールを当該ブースに入れるか、当該ブースから出すための出し入れ領域（３１）との間で取り出して移送するためのレールシステム（３０）を具えており、前記レールシステム（３０）は、前記ハウジングの内側に拘束される作業位置と取り出し位置との間を移動可能である取り出し可能なフレーム（５０）をそれぞれのハウジング（１８）のために具え、前記フレームにはまた、対応するフィルターモジュール（１７）が取り付けられると共に前記取り出し可能なフレームが前記作業位置にある場合に前記ハウジングの内側に収容されるように意図されるキャリッジ（５４）を支持する第１の組のレール部（５２）が設けられており、前記レールシステム（３０）は、前記第１の組のレール部（５２）から前記フレームの取り出し方向に間隔をあけた第２の組のレール部（５３）をさらに具え、これら第１および第２の組は、前記フレームの取り出し方向に対して交差する水平方向に延在し、前記第２の組は、前記取り出し可能なフレームが前記作業位置にある場合、前記ハウジングの外側に留まっているように意図され、前記取り出し可能なフレームの前記レール部の第１および第２の組は、対応する前記取り出し可能なフレームと前記出し入れ領域との間のフィルターモジュールの移動のための通路の一部を形成することを特徴とするブース。
【請求項２】
それぞれのハウジングは、塗料吹き付けチャンバーから来る空気のための第１の入口（２５）を有し、前記フィルターモジュールが前記ハウジングの内側の作業位置にある場合、前記フィルターモジュールの対応する入口（２２）が結合され、前記フィルターモジュールが前記ハウジングから取り出された場合、この第１の入口（２５）を閉じるための制御手段（３７）が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項３】
前記制御手段は、休止位置と作業位置との間を動くように滑動し、これが前記ハウジング（１８）の第１の入口（２５）をそれぞれ閉じる可動間仕切り（３７）を具えていることを特徴とする請求項２に記載のブース。
【請求項４】
それぞれのハウジングは、これが前記ハウジングの内側の前記フィルターモジュールへと通った後の空気のための出口（２４）を有し、この出口を制御可能に閉じるための制御ゲート（２８）が設けられていることを特徴とする請求項２に記載のブース。
【請求項５】
前記ハウジングの第１の入口（２５）は、前記塗料吹き付けチャンバーからの前記空気が到達する共用通路（２１）の内側に設けられていることを特徴とする請求項２に記載のブース。
【請求項６】
前記フィルターユニットの数が２つであり、前記塗料吹き付けチャンバーの床の下に鏡像構成にて配置されていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項７】
Ｔ字形断面を持つチャンバー（１９）が前記塗料吹き付けチャンバーの床の下に設けられ、Ｔ字の水平部分は、前記塗料吹き付けチャンバーの床を通過する前記空気流を運ぶための流路（２０）を形成し、Ｔ字の垂直部分は、前記フィルターモジュール（１７）の入口（２２）が現われる流路（２１）をその内側に形成していることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項８】
さらなるフィルター（２６）が前記フィルターモジュール（１７）の下流にあることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この目的に鑑み、本発明により見出されたアイデアは、塗料が内側に吹き付けられると共にスプレーしぶきを排除するための空気流が供給される塗料吹き付けチャンバーを具えた塗料吹き付けブースであって、前記塗料のスプレーしぶきを前記空気流からろ過して分離するため、このブースの少なくとも１つのフィルターユニットへと前記空気流が運ばれ、前記フィルターユニットは、複数の交換可能なフィルターモジュールを具え、それぞれのフィルターモジュールは、前記フィルターユニットのハウジングの内側に取り出し可能に収容され、このブースは、前記複数のフィルターモジュールのそれぞれを、そのハウジングと、前記フィルターモジュールを当該ブースに入れるか、該ブースから出すための出し入れ領域との間で取り出して移送するためのレールシステムを具えており、前記レールシステムは、前記ハウジングの内側に拘束される作業位置と取り出し位置との間を移動可能である取り出し可能なフレームをそれぞれのハウジングのために具え、前記フレームにはまた、対応するフィルターモジュールが取り付けられると共に前記取り出し可能なフレームが前記作業位置にある場合に前記ハウジングの内側に収容されるように意図されるキャリッジを支持する第１の組のレール部が設けられており、前記レールシステムは、前記第１の組のレール部から前記フレームの取り出し方向に間隔をあけた第２の組のレール部をさらに具え、これら第１および第２の組は、前記フレームの取り出し方向に対して交差する水平方向に延在し、前記第２の組は、前記取り出し可能なフレームが前記作業位置にある場合、前記ハウジングの外側に留まっているように意図され、前記取り出し可能なフレームの前記レール部の第１および第２の組は、対応する前記取り出し可能なフレームと前記出し入れ領域との間のフィルターモジュールの移動のための通路の一部を形成することを特徴とするブースを提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2018531777.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月6日(2019.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
摩擦撹拌接合工具であって、当該摩擦撹拌接合工具は、
回転対称シャフト（１）を有し、該回転対称シャフト（１）は、結合相手との接触を意図した近位端（１ａ）と、それに相対する遠位端（１ｂ）とを有し、かつ、
ピン（２）を有し、該ピン（２）は、回転軸の周りに同心円状に配置され、かつ、その近位端（１ａ）において前記シャフトより小さい直径を有し、したがって、前記シャフトのそれにより規定されるショルダー領域（３）と比べて突出しており、
ここで、前記シャフト（少なくとも前記ショルダー領域（３）において）および前記ピン（２）はそれぞれ、複合材料からなるか、これで被覆されており、該複合材料は、モリブデン、タングステン、ニオブもしくはタンタルから、または、これらの金属のうちの少なくとも１つに基づく合金から実質的になる金属基材と、この金属基材に埋め込まれており、かつ、＞６のモース硬度を有する硬質材料粒子とを有し；
ここで、前記金属基材に埋め込まれた前記硬質材料粒子が、少なくとも１つの硬質材料を有し、該硬質材料は、前記金属基材中に補強相を形成し、かつ、単位酸素あたり−３５０ｋＪ／ｍｏｌより負である１３００Ｋにおける自由生成エンタルピーを有し、
前記硬質材料が、マイクロメートル範囲の粒子サイズ、すなわち、１μｍ以上の平均粒径を有することを特徴とする、
前記摩擦撹拌接合工具。
【請求項２】
前記補強相が、３から２００μｍの範囲の粒子サイズを有する、１つ以上の硬質材料を有することを特徴とする、請求項１に記載の工具。
【請求項３】
前記補強相が、５から２００μｍの範囲の粒子サイズを有する、１つ以上の硬質材料を有することを特徴とする、請求項２に記載の工具。
【請求項４】
前記補強相が、１０から２００μｍの範囲の粒子サイズを有する、１つ以上の硬質材料を有することを特徴とする、請求項３に記載の工具。
【請求項５】
前記の少なくとも１つの硬質材料が、前記材料中に、５から３０重量％の割合で含まれていることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の工具。
【請求項６】
前記の少なくとも１つの硬質材料が、前記材料中に、１０から２０重量％の割合で含まれていることを特徴とする、請求項５に記載の工具。
【請求項７】
前記補強相の前記の少なくとも１つの硬質材料が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化イットリウムおよびそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の工具。
【請求項８】
前記複合材料が、Ｍｏおよび／もしくはＷ、またはそれらに基づく合金から実質的になることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の工具。
【請求項９】
前記材料が、ナノメートル範囲の粒径を有する分散質を、５重量％までの量で有することを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の工具。
【請求項１０】
前記ピン（２）が前記複合材料からなり、かつ、前記シャフト（２）の前記ショルダー領域（３）が前記複合材料からなる層で被覆されていることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の工具。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の摩擦撹拌接合工具が工具として利用されることを特徴とする、摩擦撹拌接合方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月3日(2019.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内視鏡検査用の内視鏡を準備する装置であって、前記装置は、
前記内視鏡の遠位端をそこに受け入れるために必要な大きさにされる保護シュラウドであって、前記遠位端は、それを通してビューポートの周囲の画像を収集することを可能にするように構成される前記ビューポートを備える、保護シュラウドと、
電源に電気的に結合して、前記保護シュラウドで囲まれる前記内視鏡の遠位端をそこに受け入れるように構成されるスロットを有するプラズマ発生界アプリケーターであって、前記プラズマ発生界アプリケーターは、前記保護シュラウド内のプラズマ発生に適している電力を印加するように構成される、プラズマ発生界アプリケーターと、
を備え、
前記保護シュラウドは、前記内視鏡の遠位端から、そして前記プラズマ発生界アプリケーターから着脱可能である、装置。
【請求項２】
前記ビューポートは透明である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ビューポートは鏡である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
その第１の端部に前記プラズマ発生界アプリケーターを無菌性スリーブに挿入することを可能にするように構成される第１の開口部、およびその第２の端部に前記内視鏡を前記プラズマ発生界アプリケーターに挿入することを可能にするように構成される第２の開口部を有する、前記プラズマ発生界アプリケーターをカプセル化するように構成される、前記第１と前記第２の端部の間に伸びる前記無菌性スリーブを更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記無菌性スリーブは柔らかい、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記保護シュラウドは、少なくとも一つの電極と、前記電極に電気的に接続して、前記保護シュラウドが前記スロットに挿入されるときに前記プラズマ発生電界アプリケーターの対応する第１のアプリケーター電気接点と電気的に接触するように構成される第１のシュラウド電気接点とを備え、前記少なくとも一つの電極は、それによって前記電力を前記プラズマ発生界アプリケーターから受け取ると、前記保護シュラウド内でプラズマ発生界を印加するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記保護シュラウドは、前記内視鏡の遠位端が前記保護シュラウド内に受け入れられるときに前記内視鏡と接触するように構成される第２のシュラウド電気接点を更に備え、前記第２のシュラウド電気接点は、前記保護シュラウドが前記スロットに挿入されるときに第２のアプリケーター電気接点と電気的に接触するように構成される、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記保護シュラウドは、前記内視鏡の遠位端を受け入れるように構成される開口部と、前記保護シュラウドのシュラウド遠位端との間に伸びる中空管を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記中空管は中空円筒体である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記保護シュラウドは、前記内視鏡を囲むために必要な大きさにされて、それによって前記内視鏡が前記中空管内に受け入れられるときに前記内視鏡と密封して接触するように構成される、前記中空管の内周に沿って前記開口部と前記シュラウド遠位端の間に配置されるシールを更に備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記シールはＯリングを含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記プラズマ発生界アプリケーターは、前記スロットに制御可能に流動的に連結するホースを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記プラズマ発生界アプリケーターは、前記ホースと前記スロットを制御可能に流動的に連結する制御弁を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記プラズマ発生界アプリケーターは、前記ホースに流動的に連結したアプリケーター・ガス・ポートを備え、そして前記保護シュラウドは、前記ホースを前記保護シュラウドの内部に流動的に連結するために前記アプリケーター・ガス・ポートに密封して連結するように、そして前記保護シュラウドが前記スロットに挿入されるときに前記ホースと前記スロットの間の流体連通を密封して防止するように構成されるシュラウド・ガス・ポートを備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記保護シュラウドは、前記内視鏡の遠位端が前記中空管に挿入されるときに前記内視鏡と密封して接触するように構成されるシールを前記中空管内に備え、そして前記中空管を横切って、それによって密封スクリーンと前記シュラウド遠位端の間に閉じた密封空間を画成するように構成される前記密封スクリーンを更に備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１６】
前記保護シュラウドは、前記シールと前記密封スクリーンの間において前記中空管内に配置されて、前記内視鏡を前記中空管へ挿入すると、前記気密シールを引き裂くように構成されるテリアを更に備える、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
内視鏡検査用の内視鏡を準備する方法であって、前記方法は、
前記内視鏡の遠位端をそこに受け入れるために必要な大きさにされる保護シュラウドを提供することであって、前記遠位端は、そこを通るビューポートの周囲の画像を収集することを可能にするように構成される前記ビューポートを備え、前記保護シュラウドは前記遠位端から着脱可能であることと、
電源に電気的に結合して、前記保護シュラウドで囲まれる前記内視鏡の遠位端をそこに受け入れるように構成されるスロットを有するプラズマ発生界アプリケーターを提供することであって、前記保護シュラウドは、前記プラズマ発生界アプリケーターから着脱可能であり、前記プラズマ発生界アプリケーターは、前記保護シュラウド内のプラズマ発生に適している電力を印加するように構成されることと、
前記保護シュラウドで囲まれる前記内視鏡の遠位端を前記プラズマ発生界アプリケーターのスロットに配置することと、
前記電源を起動させて、前記保護シュラウド内でプラズマを発生させ、それによって前記遠位端のビューポートをプラズマ処理することと、
を含む、方法。
【請求項１８】
前記保護シュラウドによって、前記遠位端に分散した流体による前記プラズマ発生界アプリケーターの汚染を防止することを更に含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記プラズマ生成界アプリケーターはホースを備え、そして前記方法は、前記保護シュラウドの内部にガスを制御可能に流入させることまたは前記ホースを通して前記保護シュラウドの内部からポンプで汲み出すことを更に含む、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月24日(2019.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボアを有し、スキャニングボリューム内に実質的に一様な磁場を生成する主磁石と、
前記主磁石の前記ボア内で無線周波数のロケーション信号を送信するための少なくとも１つの送信アンテナを含む可動無線周波数コイルであって、前記ロケーション信号は現在のスキャンの画像情報を含む無線周波数信号である、可動無線周波数コイルと、
実質的に、既知のロケーションに配置された少なくとも１つの受信アンテナであって、送信された前記ロケーション信号を受信する、少なくとも１つの受信アンテナと、
受信された前記ロケーション信号の受信信号強度を決定し、前記受信信号強度の前記決定に基づいて、前記現在のスキャンの間、前記可動無線周波数コイルの前記送信アンテナを前記受信アンテナの前記既知のロケーションに対して合わせるコントローラと、
を備える、磁気共鳴システム。
【請求項２】
前記コントローラが、前記少なくとも１つの受信アンテナのうちの対応するものに各々結合された少なくとも１つの基地トランシーバシステムを更に備える、請求項１に記載の磁気共鳴システム。
【請求項３】
前記コントローラが、更に、前記送信アンテナと前記受信アンテナとの間の距離を決定する、請求項１に記載の磁気共鳴システム。
【請求項４】
前記受信アンテナが、実質的に前記スキャニングボリュームのアイソセンター軸に配置されており、前記コントローラが、更に、前記アイソセンター軸に対して垂直又は実質的に垂直なｚ軸に沿った前記送信アンテナの複数の位置の各々についての前記受信信号強度を決定する、請求項１に記載の磁気共鳴システム。
【請求項５】
前記コントローラが、更に、前記送信アンテナの前記複数の位置について、前記受信信号強度の最大値を決定する、請求項４に記載の磁気共鳴システム。
【請求項６】
前記コントローラが、更に、前記最大値の受信信号強度に対応する前記ｚ軸に沿った位置を決定する、請求項５に記載の磁気共鳴システム。
【請求項７】
前記コントローラが、更に、前記送信アンテナを実質的に前記アイソセンター軸上に配置するように、支持部の少なくとも１つのアクチュエータを制御する、請求項６に記載の磁気共鳴システム。
【請求項８】
前記受信アンテナが実質的に前記スキャニングボリュームのアイソセンター軸に配置されており、前記コントローラが、更に、決定された前記距離に基づいて、前記送信アンテナを実質的に前記アイソセンター軸上に配置するように、支持部の少なくとも１つのアクチュエータを制御する、請求項３に記載の磁気共鳴システム。
【請求項９】
磁気共鳴システムを動作させる方法であって、前記方法は、
ボアのスキャニングボリューム内に実質的に一様な磁場を生成するステップと、
少なくとも１つの送信アンテナを含む可動無線周波数コイルによって、前記ボア内でロケーション信号を送信するステップであって、前記ロケーション信号は現在のスキャンの画像情報を含む無線周波数信号であるステップと、
実質的に、既知のロケーションに配置された少なくとも１つの受信アンテナによって、送信された前記ロケーション信号を受信するステップと、
コントローラによって、受信された前記ロケーション信号の受信信号強度を決定し、前記コントローラによって、前記受信信号強度を用いて、前記現在のスキャンの間、前記可動無線周波数コイルの前記送信アンテナを前記受信アンテナの前記既知のロケーションに対して合わせるステップと、
を有する、方法。
【請求項１０】
前記コントローラによって、前記送信アンテナと前記受信アンテナとの間の距離を決定するステップを有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記受信アンテナが実質的に前記スキャニングボリュームのアイソセンター軸に配置されており、前記方法が、前記コントローラによって、前記既知のロケーションに対して垂直又は実質的に垂直なｚ軸に沿った前記送信アンテナの複数の位置についての前記受信信号強度を決定するステップを有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記コントローラによって、前記送信アンテナの前記複数の位置についての前記受信信号強度の最大値を決定するステップを有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記コントローラによって、前記最大値の受信信号強度に対応する前記ｚ軸に沿った位置を決定するステップを有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記送信アンテナを実質的に決定された前記位置に配置するように、支持部の少なくとも１つのアクチュエータを前記コントローラが制御するステップを有する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記受信アンテナが実質的に前記スキャニングボリュームのアイソセンター軸に配置されており、前記方法が、決定された前記距離に基づいて、前記送信アンテナを実質的に前記アイソセンター軸上に配置するように、支持部の少なくとも１つのアクチュエータを制御するステップを有する、請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月11日(2019.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）疾患の危険性があり、又は疾患に罹患していると認定された対象者の脳実質（５０）に埋め込まれように構成され、又は、（ｂ）前記脳実質（５０）の外表面上の又は前記脳実質（５０）に接触する部位に埋め込まれるように構成された脳実質電極（３０）と、
脳室系（５４）とクモ膜下腔（１４４）とからなる群から選択される前記対象者の脳のＣＳＦ充填腔に埋め込まれるように構成された脳脊髄液（ＣＳＦ）電極（３２）と、
前記脳実質電極及び前記ＣＳＦ電極（３０，３２）を駆動して、前記脳実質（５０）から前記脳の前記ＣＳＦ充填腔内に物質を排出するように構成された制御回路（３４）と、を備える装置。
【請求項２】
前記脳の前記ＣＳＦ充填腔が脳室系（５４）であり、前記ＣＳＦ電極（３２）が前記脳室系（５４）に埋め込まれるように構成された脳室電極である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記脳の前記ＣＳＦ充填腔がクモ膜下腔（１４４）であり、前記ＣＳＦ電極（３２）が、前記クモ膜下腔（１４４）内に埋め込まれるように構成されたクモ膜下電極である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記物質はアミロイドβ又はタウタンパク質を含み、前記制御回路（３４）は、前記脳実質電極及び前記ＣＳＦ電極（３０，３２）を駆動して、前記アミロイドβ又はタウタンパク質を前記脳実質（５０）から前記脳の前記ＣＳＦ充填洞に排出するようにするように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記制御回路は、前記脳実質電極を陰極として構成し、前記ＣＳＦ電極を陽極として構成するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記制御回路（３４）は、前記脳実質電極と前記ＣＳＦ電極（３０，３２）の間に非励起電流を印加することによって、前記脳実質電極及び前記ＣＳＦ電極（３０，３２）を駆動して前記物質を排出するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記制御回路（３４）は、前記脳実質電極と前記ＣＳＦ電極（３０，３２）の間に直流を印加することによって、前記脳実質電極及び前記ＣＳＦ電極（３０，３２）を駆動して前記物質を排出するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記制御回路（３４）は、１〜５ｍＡの平均振幅を有する直流を印加するように構成される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記制御回路（３４）は、１．２Ｖ未満の平均振幅を有する直流を印加するように構成される、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記制御回路（３４）は、前記直流を一連のパルスとして印加するように構成される、請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記制御回路（３４）は、１００ミリ秒〜３００秒の平均パルス持続時間を有する一連のパルスとして前記直流を印加するように構成される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記制御ユニットは、
前記各パルス中に前記脳実質電極と前記ＣＳＦ電極（３０，３２）の間に電圧を印加することによって、前記物質を排出するように前記脳実質電極及び前記ＣＳＦ電極（３０，３２）を駆動し、
前記電圧を印加しつつ、前記パルス中に前記電圧を印加することによって生じる電流を測定し、
前記測定された電流が閾値を下回ると前記パルスを終了させるように構成される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
上矢状静脈洞（１４２）内、又はその上方に配置されるように適合された中間面処置電極（１５０）を更に備え、前記制御回路（３４）は、前記中間面処置電極（１５０）と前記ＣＳＦ電極（３２）の間に処置電流を印加することによって、前記物質を前記ＣＳＦ充填腔から前記上矢状静脈洞に排出するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記中間面処置電極（１５０）は、前記対象者の頭（１７４）の頭蓋骨（１６８）の外側で、かつ前記頭蓋骨（１６８）と電気的に接触して前記上矢状静脈洞（１４２）の上方に配置されるように適合されることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記中間面処置電極（１５０）は、前記対象者の頭（１７４）の頭蓋骨（１６８）の下で上矢状静脈洞（１４２）の上方に配置されるように適合される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記脳脊髄液（ＣＳＦ）電極（３２）が第１の脳脊髄液（ＣＳＦ）電極であり、
前記装置は更に、
上矢状静脈洞（１４２）内又はその上方に配置されるように適合された中間面処置電極（１５０）と、
前記脳室系（５４）及び前記クモ膜下腔（１４４）からなる群から選択される前記対象者の脳のＣＳＦ充填腔に埋め込まれるように構成される第２の脳脊髄液（ＣＳＦ）電極と、を備え、
前記制御回路（３４）は、（ａ）前記中間面処置電極（１５０）と（ｂ）前記第２のＣＳＦ電極の間に処置電流を印加することによって、前記物質を前記脳の前記ＣＳＦ充填腔から前記上矢状静脈洞へと排出するように構成される、請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月24日(2019.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大動脈弁介入治療を支援するための装置であって、当該装置は、
入力インターフェースと、
処理ユニットと、
を有し、
前記入力インターフェースは、ｉ）心臓の大動脈弁のＸ線画像を表す画像データ信号及びii）前記心臓の拍動を示す時間的に変化する体表面信号を受信し、
前記処理ユニットは、前記大動脈弁の状態を前記体表面信号の予め定められた信号経過に基づいて決定し、
前記処理ユニットは、更に、ｉ）前記大動脈弁の決定された開状態の間において該大動脈弁を開いているとして、又はｉｉ）前記大動脈弁の決定された閉状態の間において該大動脈弁を閉じているとして通知するための表示信号成分を生成し、
前記処理ユニットは、更に、前記Ｘ線画像及び前記表示信号成分を有した表示画像を表す表示信号を生成する、
装置。
【請求項２】
前記体表面信号が血圧信号である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記体表面信号が前記心臓の電気的活動を示すＥＣＧ信号である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記処理ユニットが、ｉ）前記大動脈弁の前記決定された閉状態に基づいて、該大動脈弁の前記決定された閉状態の間において該大動脈弁を閉じているとして通知するための他の表示信号成分、又はｉｉ）前記大動脈弁の前記決定された開状態に基づいて、該大動脈弁の前記決定された開状態の間において該大動脈弁を開いているとして通知するための他の表示信号成分を計算する、
請求項１ないし３の何れか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記処理ユニットが、前記大動脈弁の前記開状態及び／又は前記閉状態の開始及び終了を、前記体表面信号の対応する予め定められた閉開始信号経過及び／又は予め定められた閉終了信号経過に基づいて認識する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記処理ユニットが、前記ＥＣＧ信号に基づいてＥＣＧ信号画像を表示するための第４表示信号成分を計算する、請求項３ないし５の何れか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記処理ユニットが前記表示信号成分を、前記大動脈弁の前記開状態が前記ＥＣＧ信号画像において前記大動脈弁の開状態の開始と前記大動脈弁の開状態の終了との間にマーキングされるように計算する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記処理ユニットが前記表示信号成分を、大動脈弁画像の少なくとも一部が前記大動脈弁の開状態の開始と前記大動脈弁の開状態の終了との間において第１カラーで強調されるように計算する、請求項１ないし７の何れか一項に記載の装置。
【請求項９】
強調された前記一部の形状が、前記大動脈弁の前記開状態と前記閉状態との間の動きによりカバーされる領域を示す、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記処理ユニットは大動脈弁画像において前記大動脈弁の弁位置及びカテーテルの先端の先端位置を認識し、前記処理ユニットは前記先端位置と前記弁位置との間のカテーテル距離を計算し、前記処理ユニットは、前記カテーテル距離が予め定められた最小距離より小さい場合に前記表示信号成分及び／又は前記他の表示信号成分が前記表示信号の一部となることを可能にする一方、それ以外の場合に前記表示信号成分及び／又は前記他の表示信号成分が前記表示信号の一部となることを不能にする、請求項１ないし９の何れか一項に記載の装置。
【請求項１１】
音響出力ユニットを更に有し、前記処理ユニットは前記大動脈弁の前記決定された開状態に基づいて前記大動脈弁を該大動脈弁の開状態の間に開いているとして通知するための音響信号を計算し、前記音響出力ユニットは前記大動脈弁の前記開状態を前記音響信号に基づいて音響的に示す、請求項１ないし１０の何れか一項に記載の装置。
【請求項１２】
大動脈弁の状態を通知するためのシステムであって、
−  請求項１ないし１１の何れか一項に記載の装置と、
−  大動脈弁画像を取得するためのＸ線撮像ユニットと、
−  前記体表面信号を供給するための体表面信号検出ユニットと、
−  前記表示画像を表示するための表示ユニットと、
を有する、システム。
【請求項１３】
大動脈弁の状態を通知する方法であって、
ａ）  心臓の大動脈弁のＸ線画像を表す画像データ信号を受信するステップと、
ｂ）  前記心臓の拍動を示す時間的に変化する体表面信号を受信するステップと、
ｃ）  前記大動脈弁の状態を前記体表面信号の予め定められた信号経過に基づいて決定するステップと、
ｄ）  ｉ）前記大動脈弁の決定された開状態の間において該大動脈弁を開いているとして、及び／又はｉｉ）前記大動脈弁の決定された閉状態の間において該大動脈弁を閉じているとして通知するための表示信号成分を生成するステップと、
ｅ）  前記Ｘ線画像及び前記表示信号成分を有した表示画像を表す表示信号を生成するステップと、
を有する、方法。
【請求項１４】
請求項１ないし１１の何れか一項に記載の装置又は請求項１２に記載のシステムを制御するためのコンピュータプログラムであって、前記処理ユニットにより実行された場合に請求項１３に記載の方法のステップを実行する、コンピュータプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のコンピュータプログラムを記憶したコンピュータ読取可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月8日(2019.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
関心領域を含むボリューム領域の超音波画像を提供するための超音波システムであって、前記超音波システムは、
ＣＭＵＴトランスデューサのアレイを有するプローブであって、前記アレイは、方位角次元及び仰角次元のうちの少なくとも一方におけるピッチ値を有し、前記アレイは、前記ボリューム領域にわたって可変周波数範囲内で超音波ビームをステアリングする、プローブと、
前記アレイに結合され、超音波ビームの前記ステアリングを制御し、前記ボリューム領域の超音波画像データを提供するビームフォーマであって、前記ビームは、方位角及び仰角のうちの少なくとも一方のステアリング角においてステアリングされる、ビームフォーマと、
前記ビームフォーマに結合され、前記ＣＭＵＴトランスデューサの動作周波数を前記可変周波数範囲内で変動させるトランスデューサ周波数コントローラであって、前記トランスデューサ周波数コントローラは、前記ボリューム領域内でステアリングされる超音波ビームに対して、動作周波数を第１の周波数に設定し、前記関心領域内でステアリングされる超音波ビームに対して、前記動作周波数を第２の周波数に変更し、前記第２の周波数は前記第１の周波数よりも高い、トランスデューサ周波数コントローラと、
前記超音波画像データに応答する画像プロセッサであって、前記画像プロセッサは、前記ボリューム領域内の高輝度領域のロケーションを特定し、前記高輝度領域は、前記超音波画像の平均輝度よりも少なくとも２倍高い信号強度を有する、画像プロセッサと、
前記画像プロセッサ及び前記トランスデューサ周波数コントローラに結合される干渉分析器であって、前記干渉分析器は、前記第２の周波数が、前記ステアリング角に対し前記高輝度領域の前記ロケーションから導出される第１の閾値周波数値を超えているとき、前記関心領域内でステアリングされるビームのビームステアリングパラメータのうちの少なくとも１つを調整する、干渉分析器と、
を備える、超音波システム。
【請求項２】
前記ビームステアリングパラメータは、超音波周波数、受信信号スペクトルフィルタリング、方位角及び仰角のステアリング角を含む、請求項１に記載の超音波システム。
【請求項３】
前記干渉分析器は、前記第２の周波数を前記第１の閾値周波数値より低く低減させる、請求項２に記載の超音波システム。
【請求項４】
前記干渉分析器は、更に、前記第２の周波数を、前記第１の閾値周波数値よりも低い第２の閾値周波数値より低く低減させ、前記第２の閾値周波数値は、超音波波長が前記アレイのピッチ値に等しいトランスデューサ周波数に対応する、請求項３に記載の超音波システム。
【請求項５】
前記干渉分析器は、更に、前記第２の周波数を、前記第１の閾値周波数値よりも低い第２の閾値周波数値より低く低減させ、前記第２の閾値周波数値は、超音波波長が前記アレイのピッチ値に２を乗算した値に等しいトランスデューサ周波数に対応する、請求項３に記載の超音波システム。
【請求項６】
前記画像プロセッサに結合され、前記ボリューム領域内の前記高輝度領域及び前記関心領域のユーザによる手動選択に応答するユーザインターフェースを更に備え、前記ユーザインターフェースは、前記ユーザによる手動選択時に、前記ビームステアリングパラメータのうちの少なくとも１つを調整することを更に可能にされる、請求項２に記載の超音波システム。
【請求項７】
前記ユーザによる手動選択は、前記可変周波数範囲からの前記第２の周波数及び前記第１の周波数の周波数選択、並びに方位角及び仰角のステアリング角のような更なるビームパラメータ選択を更に含む、請求項６に記載の超音波システム。
【請求項８】
前記プローブは体腔内プローブであり、前記超音波システムは、
前記プローブ及び前記画像プロセッサに結合され、撮像中に前記関心領域に対する前記プローブの動きを可能にする駆動機構を更に備える、請求項１に記載の超音波システム。
【請求項９】
前記画像プロセッサに結合され、前記ボリューム領域内の前記関心領域の手動の選択に応答するユーザインターフェースを更に備え、前記ユーザインターフェースは、ユーザの手動選択時に前記ビームステアリングパラメータのうちの少なくとも１つを調整することを更に可能にされる、請求項８に記載の超音波システム。
【請求項１０】
前記ユーザインターフェースは、前記ボリューム領域内の前記高輝度領域の手動選択に更に応答する、請求項９に記載の超音波システム。
【請求項１１】
前記ユーザによる手動選択は、前記可変周波数範囲からの前記第２の周波数及び前記第１の周波数の周波数選択、並びに前記方位角及び前記仰角のステアリング角のような更なるビームパラメータ選択を含む、請求項１０に記載の超音波システム。
【請求項１２】
前記干渉分析器は、前記関心領域内でステアリングされるビームの前記方位角及び前記仰角のうちの少なくとも一方のステアリング角を低減する、請求項９に記載の超音波システム。
【請求項１３】
関心領域を含むボリューム領域の可変周波数における超音波画像を提供する方法であって、前記方法は、
前記ボリューム領域にわたって可変周波数範囲内で、方位角及び仰角のうちの少なくとも一方のステアリング角において超音波ビームをステアリングするステップであって、前記ステアリングするステップは、ＣＭＵＴトランスデューサのアレイを用いることによって行われ、前記アレイは、方位角次元及び仰角次元のうちの少なくとも一方におけるピッチ値を有する、ステアリングするステップと、
超音波ビームの前記ステアリングを制御し、前記ボリューム領域の超音波画像データを提供するステップであって、前記制御は、前記ボリューム領域内でステアリングされる超音波ビームの第１の周波数を設定し、前記関心領域内でステアリングされる超音波ビームの第２の周波数に変更することを含み、前記第２の周波数は前記第１の周波数より高い、ステップと、
超音波画像を生成するために前記超音波画像データを処理するステップと、
前記ボリューム領域内の高輝度領域のロケーションを特定するステップであって、前記高輝度領域は、前記超音波画像の平均輝度よりも少なくとも２倍高い信号強度を有する、特定するステップと、
前記ステアリング角に対し、前記高輝度領域の前記ロケーションから第１の閾値周波数値を導出するステップと、
前記第２の周波数が、前記第１の閾値周波数値を超えているとき、前記関心領域内でステアリングされるビームのビーム周波数、方位角及び仰角のステアリング角のようなビームステアリングパラメータのうちの少なくとも１つを調整するステップと、
を有する、方法。
【請求項１４】
前記アレイのピッチ値に等しい超音波波長から第２の閾値周波数値を導出するステップと、
前記第２の周波数が前記第２の閾値周波数値を超えているとき、前記ビームステアリングパラメータを更に調整するステップと、
を更に有する、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月26日(2019.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨治療手段（７）の製造方法（１）であって、
治療される特定の患者の骨（８）又は骨部分の元の３Ｄデータが提供され、治療される部位が前記骨（８）又は前記骨部分の内部に存在する、第１のステップ（２）と、
所定の基準に従って選択された基準患者の３Ｄデータが関与し、前記基準患者の前記関与する３Ｄデータが前記治療される部位を含む前記骨（８）又は前記骨部分に対応し、且つ平均値をフォーマットする手段及び／又は統計的モデルの利用によって、異なる個々の患者の３Ｄデータから構成される、第２のステップ（３）と、
前記治療される部位の再構成のために前記第１のステップ（２）及び前記第２のステップ（３）を合成した３Ｄデータを補完又は完成させるための第３の再構成ステップ（４）と、を有する、方法（１）。
【請求項２】
前記合成３Ｄデータを得るために、前記治療される特定の患者の３Ｄデータがその患者の鏡像対称の他方側についての元データを有しており、当該患者の３Ｄデータを特に前記骨（８）又は骨部分に対応する部位において重ね合わせるミラーリングステップ（５）が用いられることを特徴とする、請求項１に記載の方法（１）。
【請求項３】
前記３つ又は４つのステップ（２、３、４及び／又は５）は、連続して又は並行して行われることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法（１）。
【請求項４】
前記第３のステップ（４）の後にさらなるステップ（６）において、前記骨治療手段（７）は、インプラント又は骨切りテンプレートの形で製造されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法（１）。
【請求項５】
準備ステップ（１１）において、前記患者の前記元の３Ｄデータ及び／又は１人以上の基準患者の３Ｄデータが、データベースに入力されており、及び／又はそこから集められることを特徴とする、請求項４に記載の方法（１）。
【請求項６】
前記ミラーリングステップ（５）の前及び／又は前記第１のステップ（２）の後に、コンピュータ支援による２Ｄ又は３Ｄ視覚化が実行されることを特徴とする、請求項２〜５のいずれか一項に記載の方法（１）。
【請求項７】
前記ミラーリングステップ（５）の前又は後に、規定される骨マーカ点（１２）が選択されることを特徴とする、請求項２〜６のいずれか一項に記載の方法（１）。
【請求項８】
穴の種類別に前記治療される患者の骨材料欠損は、閉鎖されるか、架橋されるか、又は充填されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法（１）。
【請求項９】
前記さらなるステップ（６）の前に、３Ｄデータ及び／又は製造機械を制御するための製造データが、生成ステップで生成されることを特徴とする、請求項４〜８のいずれか一項に記載の方法（１）。
【請求項１０】
少なくとも前記３つのステップ（２、３、４）の結果は、手術を計画するのに使用されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法（１）。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法（１）を実施するための手段が含まれ、準備される、計画及び／又は製造方法を実施するための装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月1日(2019.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体（２）を収容する取替可能な容器（３）を受け入れるための連続して複数の容器（３）と共に使用することができるネブライザ（１）と、
任意的に前記容器（３）と、を有する流体（２）を噴霧するためのシステム（１００）において、
前記ネブライザ（１）と共に既に使用した容器（３）の数、又は該ネブライザ（１）と共にまだ使用することができる容器（３）の数をマーキングするためのチェックスキーム（７５）を備えている、
ことを特徴とするシステム（１００）。
【請求項２】
システム（１００）が、前記容器（３）を含み、
前記容器（３）は、該容器（３）を用いて実行された、又はまだ実施可能な使用の回数（８８）を計数する及び／又は示すための表示デバイス（２５）を含み、該表示デバイス（２５）は、該容器（３）を用いた使用の予め決められた回数又は使用の終了が近づいている時に取替記号（８７）を段階的に出現させるようになっている、
請求項１に記載のシステム（１００）。
【請求項３】
システム（１００）又は前記容器（３）は、マーキング（３７）、取替記号（８７）、数字（８８）、及び／又はスケール（８９）を有する移動可能又は回転可能な表示要素（３５）を有する表示デバイス（２５）を含み、該マーキング（３７）、取替記号（８７）、数字（８８）、及び／又はスケール（８９）は、触覚形態、点字、又はエンボス印刷である、
請求項１又は２に記載のシステム（１００）。
【請求項４】
前記チェックスキーム（７５）は、前記ネブライザ（１）に取り付けられ、及び／又は該ネブライザ（１）から分離不能である、
請求項１から３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記チェックスキーム（７５）は、前記ネブライザ（１）のハウジング部分（１７）に取り付けられる又はその上に形成される、
請求項１から４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記チェックスキーム（７５）は、ラベル（７８）上に又はそれによって形成される、
請求項１から５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記ラベル（７８）は、前記流体（２）に関する及び／又は前記ネブライザ（１）の使用又は取り扱いに関する好ましくは可読又は印刷された情報（７９）及び／又は少なくとも１つの記号（８０）を追加的に含む、
請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記チェックスキーム（７５）は、書込及び／又はスクラッチングによって又は好ましくは部分除去又は穿孔によってマーキングされるように作られる、
請求項１から７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】
前記チェックスキーム（７５）は、好ましくは順々に及び／又は容器（３）が接続される又は取り替えられる度にマーキングするための複数のチェックボックス（７６）を含む、
請求項１から８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ネブライザ（１）は、前記チェックスキーム（７５）を覆うための好ましくは透明なカバーを含み、好ましくは、該カバーは、該チェックスキーム（７５）をマーキングのために持ち上げられる又は除去することができる、
請求項１から９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記カバーは、前記ネブライザ（１）のハウジング部分（１８）によって形成され、このハウジング部分（１８）は、前記容器（３）を取り替えるために該ネブライザ（１）から取り外す又は開くことができ、前記チェックスキーム（７５）は、該ネブライザ（１）又はハウジング部分（１８）が閉じられた時に該ハウジング部分（１８）によって覆われている、
請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
流体（２）を収容する取替可能な容器（３）を受け入れるための複数の容器（３）と共に連続して使用することができるネブライザ（１）と、
前記容器（３）と、を含む好ましくは請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の流体（２）を噴霧するためのシステム（１００）において、
前記容器（３）は、該容器（３）を用いて実行された又はまだ実施可能な使用の回数（８８）を計数する及び／又は示すための表示デバイス（２５）を含み、該表示デバイス（２５）は、該容器（３）を用いた使用の予め決められた回数又は使用の終了が近づいている時に取替記号（８７）を段階的に出現させるようになっている、
ことを特徴とするシステム（１００）。
【請求項１３】
前記表示デバイス（２５）は、前記取替記号（８７）の前記出現の前に色シーケンス（８６）を段階的に出現させるようになっている、
請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
システム（１００）が、パッケージング又はレセプタクル（８３）を含み、これが、次に、前記ネブライザ（１）と共に既に使用した又はまだ使用することができる容器（３）の個数をマーキングするためのチェックスキーム（７５）を含み、及び／又は
システム（１００）が、パッケージインサート又はアウトサート（８４）を含み、これが、次に、前記ネブライザ（１）と共に既に使用した又はまだ使用することができる容器（３）の前記個数をマーキングするためのチェックスキーム（７５）を含む、
請求項１、２、又は３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記容器（３）は、請求項１６から１８のいずれか１項に従って構成されることを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１６】
容器（３）が、流体（２）を収容し、
容器（３）が、容器（３）を用いて実行された又はまだ実施可能な使用の回数を計数する及び／又は示すための表示デバイス（２５）を含む、ネブライザ（１）のための容器（３）であって、
前記表示デバイス（２５）は、容器（３）の使用の予め決められた回数又は使用の終了が近づいている時に取替記号（８７）を段階的に出現させるようになっている、
ことを特徴とする容器（３）。
【請求項１７】
前記表示デバイス（２５）は、前記取替記号（８７）の前記出現の前に色シーケンス（８６）を段階的に出現させるようになっている、
請求項１６に記載の容器。
【請求項１８】
前記表示デバイス（２５）は、前記色シーケンス（８６）及び／又は前記取替記号（８７）を有する表示要素（３５）を含む、
請求項１６又は１７に記載の容器。
【請求項１９】
前記表示要素（３５）は、特に、それぞれ該表示要素（３５）又はディスプレイ（８５）の一部のみが可視又は触知性であるように、各使用と共に及び／又は前記表示デバイス（２５）の窓（３１Ａ）の下で段階的に回転可能又は移動可能である、
請求項１６から１８のいずれか１項に記載の容器。
【請求項２０】
容器（３）が、流体（２）を収容し、
容器（３）が、容器（３）を用いて実行された又はまだ実施可能な使用の回数を計数する及び／又は示すための表示デバイス（２５）を含む、ネブライザ（１）のための容器（３）において、
前記表示デバイス（２５）は、触覚形態、点字、又はエンボス印刷でのマーキング（３７）、取替記号（８７）、数字（８８）、及び／又はスケール（８９）を有する移動可能又は回転可能な表示要素（３５）を含む、
ことを特徴とする容器（３）。
【請求項２１】
前記表示デバイス（２５）又はそのディスプレイ（８５）が、機械的に作動する、
請求項１６から２０のいずれか１項に記載の容器。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月22日(2019.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体ディスペンサへの分配を含む分配のために供給される流体を処理するためのフィルタマニホルドであって、
ポーティング接続部を持つように構成された、取り付けブラケットと、
前記取り付けブラケット上の前記ポーティング接続部の１つの中へ配管するように構成されかつ前記流体ディスペンサへの分配を含む分配のために供給される前記流体をろ過するように構成されたフィルタカートリッジポーティング接続部を有する、フィルタカートリッジと、
前記取り付けブラケット上の前記ポーティング接続部の別の１つの中へ配管するように構成されかつ前記流体ディスペンサへ供給される前にろ過するために前記フィルタカートリッジへの分配を含む分配のために前記流体を受け取り、蓄積しかつ供給するように構成されたアキュムレータカートリッジポーティング接続部を有する、アキュムレータカートリッジと、
を備える、フィルタマニホルド。
【請求項２】
前記アキュムレータカートリッジポーティング接続部が、前記フィルタカートリッジ及び前記アキュムレータカートリッジを前記フィルタマニホルドの前記取り付けブラケットに取り付けできるように、前記フィルタカートリッジポーティング接続部に適合する、請求項１に記載のフィルタマニホルド。
【請求項３】
前記フィルタカートリッジが、ねじ切り上部フィルタカートリッジ接続部を持つように構成された上部フィルタカートリッジキャップと、前記ねじ切り上部フィルタカートリッジ接続部に結合するために対応するねじ切り下部フィルタカートリッジ接続部を持つように構成された下部フィルタカートリッジとを有する、２部型フィルタカートリッジ構成を備える、請求項１に記載のフィルタマニホルド。
【請求項４】
前記上部フィルタカートリッジキャップが、前記フィルタカートリッジを迂回するために前記取り付けブラケットの前記ポーティング接続部に対してバイパスモード設定へ回転するように構成され、かつ流体が前記フィルタカートリッジを通過できるようにするために前記取り付けブラケットの前記ポーティング接続部に対してノーマルモード設定へ回転するように構成された、バイパスハンドルを備える、請求項３に記載のフィルタマニホルド。
【請求項５】
前記アキュムレータカートリッジが、ねじ切り上部アキュムレータカートリッジ接続部を持つように構成された上部アキュムレータカートリッジキャップと、前記ねじ切り上部アキュムレータカートリッジ接続部に結合するために対応するねじ切り下部アキュムレータカートリッジ接続部を持つように構成された下部アキュムレータカートリッジとを有する、２部型アキュムレータカートリッジ構成を備える、請求項１に記載のフィルタマニホルド。
【請求項６】
前記上部アキュムレータカートリッジキャップが、前記アキュムレータカートリッジを迂回するために前記取り付けブラケットの前記ポーティング接続部に対してバイパスモード設定へ回転するように構成され、かつ流体が前記アキュムレータカートリッジへ及びカートリッジから通過できるようにするために前記取り付けブラケットの前記ポーティング接続部に対してノーマルモード設定へ回転するように構成された、バイパスハンドルを備える、請求項５に記載のフィルタマニホルド。
【請求項７】
前記下部アキュムレータカートリッジが、前記流体を蓄積するための流体室及びプレチャージガスを収容するためのプレチャージガス室を形成するように中に構成された隔膜を有するカートリッジハウジングを備える、請求項５に記載のフィルタマニホルド。
【請求項８】
前記下部アキュムレータカートリッジが、プレチャージ室をプレチャージするためにプレチャージガスを受け取るように構成された空気弁を備える、請求項７に記載のフィルタマニホルド。
【請求項９】
前記フィルタマニホルドが、前記取り付けブラケットの前記ポーティング接続部の別の１つの中へ配管するように構成されかつ前記フィルタカートリッジへ供給される前に前記アキュムレータカートリッジへ前記流体を供給するように構成されたモーターポンプカートリッジポーティング接続部を有するモーターポンプカートリッジを備える、請求項１に記載のフィルタマニホルド。
【請求項１０】
前記フィルタマニホルドが、飲料用途の一部を形成する、請求項１に記載のフィルタマニホルド。
【請求項１１】
前記飲料用途が、飲料ディスペンサ、アイスメーカー又はコーヒーブリューワーを含む、請求項１に記載のフィルタマニホルド。
【請求項１２】
前記フィルタマニホルドが、逆浸透システムの一部を形成する、請求項１に記載のフィルタマニホルド。