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【手続補正書】
【提出日】令和1年8月13日(2019.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランザクション処理環境において複数サーバ、単一キュー（ＭＳＳＱ）通知を提供するためのシステムであって、前記システムは、
１つ以上のマイクロプロセッサを含むコンピュータと、
前記コンピュータで実行する、メインリクエストキューを共有する複数のサーバを有するドメインを含むトランザクション処理環境とを備え、各サーバはさらにセカンダリリクエストキューと関連付けられており、各サーバは、メインスレッドと、セカンダリスレッドと、内部メモリキューとを含み、前記システムはさらに、
各サーバによって前記サーバと関連する前記セカンダリリクエストキューで１つ以上のノン・ユナニマスサービスをアドバタイズするために使用されるアプリケーションプログラミングインターフェース（ＡＰＩ）を備え、
特定のサーバの前記セカンダリスレッドは、前記特定のサーバと関連する前記セカンダリリクエストキューから、ノン・ユナニマスサービスに関するリクエストメッセージをデキューし、かつ、前記デキューされたメッセージを前記内部メモリキューに格納するように構成されており、
前記特定のサーバの前記メインスレッドは、処理するメッセージに関して前記メインリクエストキューを確認する前に前記内部メモリキューを確認する、システム。
【請求項２】
前記１つ以上のノン・ユナニマスサービスの各々は、前記複数のサーバのうちの少なくとも１つによってサポートされない、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記メインスレッドは、前記内部メモリキューに存在するメッセージを検出し、前記ノン・ユナニマスサービスと関連するサービスルーチンを呼び出す、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記ＡＰＩはフラグをパラメータとみなし、前記フラグは、前記１つ以上のノン・ユナニマスサービスは前記特定のサーバの前記セカンダリリクエストキューでアドバタイズされるべきであることを示す、請求項１〜３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
コンフィギュレーションファイルのサーバパラメータは、各サーバについて作成されるべきセカンダリリクエストを有効にするために使用される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記メインリクエストキューおよび前記セカンダリリクエストキューの各々は、プロセス間連絡（ＩＰＣ）キューである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記ノン・ユナニマスサービスは、前記複数のサーバのうちのただ一つのサーバによってサポートされるシングルトンサービスである、請求項１〜６のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
トランザクション処理環境において、複数サーバ、単一キュー（ＭＳＳＱ）通知を提供するための方法であって、前記方法は、
１つ以上のマイクロプロセッサを含むコンピュータで実行する、メインリクエストキューを共有する複数のサーバを有するドメインを含むトランザクション処理環境を提供するステップを備え、各サーバはさらにセカンダリリクエストキューと関連付けられており、各サーバはメインスレッドと、セカンダリスレッドと、内部メモリキューとを含み、
各サーバと関連する前記セカンダリリクエストキューで１つ以上のノン・ユナニマスサービスをアドバタイズするために前記サーバによって使用されるアプリケーションプログラミングインターフェース（ＡＰＩ）を提供するステップと、
特定のサーバと関連する前記セカンダリリクエストキューからノン・ユナニマスサービスに関するリクエストメッセージをデキューし、かつ、前記デキューされたメッセージを前記内部メモリキューに格納するために前記特定のサーバの前記セカンダリスレッドを使用するステップと、
前記特定のサーバの前記メインスレッドを介して、処理するメッセージについて前記メインリクエストキューを確認する前に前記内部メモリキューを確認するステップと、
を備える方法。
【請求項９】
前記１つ以上のノン・ユナニマスサービスの各々は、前記複数のサーバのうちの少なくとも１つによってサポートされない、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記メインスレッドは、前記内部メモリキューに存在するメッセージを検出し、前記ノン・ユナニマスサービスと関連するサービスルーチンを呼び出す、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ＡＰＩはフラグをパラメータとみなし、前記フラグは、前記１つ以上のノン・ユナニマスサービスは前記特定のサーバの前記セカンダリリクエストキューでアドバタイズされるべきであることを示す、請求項８〜１０のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
コンフィギュレーションファイルのサーバパラメータは、各サーバについて作成されるべきセカンダリリクエストを有効にするために使用される、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記メインリクエストキューおよび前記セカンダリリクエストキューの各々は、プロセス間連絡（ＩＰＣ）キューである、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記ノン・ユナニマスサービスは、前記複数のサーバのうちのただ一つのサーバによってサポートされるシングルトンサービスである、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
コンピュータによって実行されると、前記コンピュータに請求項８〜１４のいずれか１項に記載の方法を実行させるマシン読取可能なフォーマットのプログラム命令を含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月9日(2019.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の高解像度走査顕微鏡法のための方法であって、
前記試料内の又は前記試料上の点で、回折限界照射スポットを形成するように照射ビームを集光し、前記照射ビームによって前記試料を励起して蛍光ビームを放出させ、
前記点は、空間解像検出装置の検出面上の回折像内に回折限界結像され、その際に、
−  前記検出面は複数の空間チャネルを有し、前記複数の空間チャネルは、前記回折像の回折構造を解像する前記検出装置の空間解像度を特定し、
−  前記検出装置は、前記回折像のビームを検出するための複数の検出素子を有し、
−  前記複数の空間チャネルのそれぞれに対して、そこで導かれるビームを、それぞれ複数のスペクトルチャネルにスペクトル分離し、
得られた複数のチャネルを複数の混合チャネルとして集め、前記混合チャネルには、異なる空間チャネルに由来するビームと、異なるスペクトルチャネルに由来するビームとが集められており、
各混合チャネルを前記複数の検出素子のうちの１つへと導き、
−  前記点を、前記照射スポットの直径の半分より小さいステップ幅で、異なる走査位置へ前記試料に対して相対的に移動させ、
−  前記複数の検出素子から各走査位置に対して強度データを読み取り、前記強度データ及びそれに割り当てられた走査位置から前記試料の像が生成され、前記像は、前記点の結像の解像限界を超えて高められた解像度を有し、
各検出素子に対して、前記ビームの前記スペクトルチャネル及び前記空間チャネルを考慮し、前記試料のマルチスペクトル像を生成する、
方法。
【請求項２】
ｋが空間チャネルに、ｎがスペクトルチャネルに、ｊが検出素子に使用され、
ｊ＜ｋ＊ｎが成り立つ、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記複数の混合チャネルの数が、前記複数の空間チャネルの数と等しい、
請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
−  前記検出面は、入射ファセットを有する複数の光ファイバの束の入射面によって形成され、前記入射面内の前記複数の光ファイバの前記入射ファセットにおいて、前記空間チャネルが始まり、
−  スペクトル分離・混合装置は、複数の個別分離素子を備え、前記複数の個別分離素子の数は、分離される空間チャネルの数に相応し、
−  各光ファイバは、前記ビームを前記複数の個別分離素子の１つへと導き、前記個別分離素子は前記ビームを前記スペクトルチャネルに分離する、
請求項１乃至３のうちのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
スペクトル分離されることなく前記複数の検出素子のうちの１つへと導かれる少なくとも１つの別の空間チャネルが設けられている、
請求項１乃至４のうちのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記複数の検出素子によって前記蛍光ビームのスペクトルを高速記録するために、１つの走査位置に対して前記強度データを読み出し、前記強度データから及び各検出素子に割り当てられた複数のスペクトルチャネルを考慮して、前記走査位置における前記試料のスペクトルを生成する、
請求項１乃至５のうちのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記試料の前記マルチスペクトル像を生成する際に、
−  各走査位置に対して連立方程式を立て、前記連立方程式は各検出素子に対して１つの方程式を含み、
各検出素子に割り当てられたスペクトルチャネル及び空間チャネルは各方程式内に含まれ、
−  前記連立方程式を、前記試料に対する強度情報及びスペクトル情報に従って解く、
請求項１乃至６のうちのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
高解像度走査顕微鏡法のための顕微鏡であって、
‐  蛍光ビームを放出するために励起可能な試料を収容するための試料空間と、
‐  前記試料空間にある焦点面及び解像限界を有する光学系と、
‐  照射ビームを導入するための入射口を有し、前記光学系を介して前記試料空間を前記照射ビームで照射する照明装置であって、前記光学系は前記照射ビームを前記焦点面内の点に回折限界照射スポットを形成するように集光する、照射装置と、
‐  前記光学系によって、前記焦点面内の前記点を、回折像に回折限界結像させるための結像装置と、
‐  前記焦点面に共役な面内にある検出面を有する空間解像検出装置であって、
‐  前記検出面は複数の空間チャネルを有し、前記複数の空間チャネルは、前記回折像の回折構造を解像する前記検出装置の空間解像度を特定し、
‐  前記検出装置は、前記回折像のビームを検出するための複数の検出素子を有し、
‐  前記検出装置は、分離・混合装置を有し、前記分離・混合装置は、前記複数の空間チャネルに対して、そこで導かれる前記ビームを、それぞれ複数のスペクトルチャネルにスペクトル分離し、複数の混合チャネルを形成するために再び集め、前記分離・混合装置は、前記複数の混合チャネルに、異なる空間チャネルに由来するビームと、異なるスペクトルチャネルからのビームとを集め、各混合チャネルを前記複数の検出素子のうちの１つへと導く、空間解像検出装置と、
−  前記点を、前記照射スポットの直径の半分より小さいステップ幅で、異なる走査位置に移動するための走査装置と、
−  前記検出素子からの強度データ及びそれに割り当てられた走査位置を読み取り、前記強度データ及びそこに割り当てられた走査位置から前記試料の像を生成するための評価装置であって、前記像は、前記光学系の解像限界を超えて高められた解像度を有し、前記評価装置は、各検出素子に対して、各検出素子に導かれるビームのスペクトルチャネル及び空間チャネルを考慮して、前記試料のマルチスペクトル像を生成する、評価装置と、
を備える、顕微鏡。
【請求項９】
ｋが空間チャネル、ｎがスペクトルチャネル、ｊが検出素子を含み、
ｊ＜ｋ＊ｎが成り立つ、
請求項８記載の顕微鏡。
【請求項１０】
前記複数の混合チャネルの数が、前記複数の空間チャネルの数と等しい、
請求項８又は９記載の顕微鏡。
【請求項１１】
スペクトル分離されることなく前記複数の検出素子のうちの１つへと導かれる少なくとも１つの別の空間チャネルが設けられている、
請求項８乃至１０いずれか１項記載の顕微鏡。
【請求項１２】
−  前記検出面は、入射ファセットを有する複数の光ファイバの束の入射面によって形成され、前記光ファイバの前記入射ファセットは前記空間チャネルの始点を特定し、
−  スペクトル分離・混合装置は、複数の個別分離素子を有し、前記複数の個別分離素子の数は分離される空間チャネルの数に相応し、
−  各光ファイバは、前記ビームを前記複数の個別分離素子の１つへと導き、前記個別分離素子は前記ビームを前記スペクトルチャネルに分離する、
請求項８乃至１１いずれか１項記載の顕微鏡。
【請求項１３】
ｊ＝ｋである、
請求項２記載の方法。
【請求項１４】
ｊ＝ｋである、
請求項９記載の顕微鏡。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月13日(2019.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
動作の一例では、基板は基板支持体１２２に位置づけられ、システム１００は真空処理環境を用意するために排気される。処理ガスは、ガス入口から導入され、ガス供給トレンチ１３７を介してチャンバ１１１に入る。反応を活性化するために、処理ガスのプラズマが、誘導結合および／または容量結合によって処理領域に生成される。初期プラズマは、給電点ＦＰ１を介して共振器コイル１２５に電力を印加することによって、誘導結合および／または容量結合により生成することができる。減少反応期間の間、共振器コイル１２５は、処理領域のプラズマを誘導的に維持するために約１００ＫＨｚと約６０ＭＨｚとの間で約０．００３２Ｗ／ｃｍ2と約３．２Ｗ／ｃｍ2との間でバイアスをかけることができ、一方、基板支持体１２２は、プラズマを容量的に維持するために約０Ｗ／ｃｍ2と約０．３２Ｗ／ｃｍ2との間でバイアスをかけられる。代替として、減少反応期間の間、処理領域のプラズマは、ただ共振器コイル１２５だけで維持することができる。処理領域内のプラズマは、処理の間、誘導結合のみ、容量結合のみ、または誘導結合と容量結合の両方の組合せによって励起され維持され得る。代替として、２００ｍｍ基板に対して約１Ｗと約１００Ｗとの間のＲＦ電力レベルに対応する約０．００３２Ｗ／ｃｍ2と約０．３２Ｗ／ｃｍ2との間で、および約１００ＫＨｚと約１００ＭＨｚとの間で、約３秒間基板支持体１２２にバイアスをかけることによって、初期プラズマを点火することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
いくつかの実施形態によれば、上述の初期処理の後に異なる混合ガスおよび／または異なる圧力領域が続く。コントローラ１５０は、スイッチ１４２−１の常閉接点を開きスイッチ１４２−１の常開接点を閉じるようにリレー１４４に命じる。こうして、ＲＦ給電点はＦＰ１からＦＰ２に変わる。説明のための例として、第１の基板プロセスの間チャンバ１１１内に形成される初期プラズマは、第１の圧力Ｐ１に維持されたアルゴンガス、ヘリウムガス、および水素ガスの混合ガスであり、ＲＦ電力がＲＦ給電点ＦＰ１で供給されている間実行される。第２の基板プロセスの間、アルゴンガス、ヘリウムガス、および水素ガスの混合ガスから形成されるプラズマは、ＲＦ電力が給電点ＦＰ２に供給されチャンバ１１１の圧力が第２の圧力Ｐ２に維持されている間、チャンバ１１１内に形成される。その後、基板は、処理チャンバから移送することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本開示のいくつかの実施形態による基板処理システムを動作させる方法は、処理チャンバの内部容積部内に配設された基板支持体に基板を移送するステップであって、内部容積部がプラズマ形成ゾーンを有する、移送するステップと、プラズマ形成ゾーンに隣接して配設された共振器コイルに沿った複数のＲＦ給電点のうちの第１のＲＦ給電点にＲＦ電源を結合させるために共振インダクタ同調回路を動作させるステップとを含む。いくつかの実施形態では、プラズマは、共振インダクタ同調回路がＲＦ電力を第１のＲＦ給電点に結合させるように動作している間、処理チャンバ内で第１のガスまたは第１のガスの混合物から形成される。いくつかの実施形態では、共振インダクタ同調回路は、さらに、共振器コイルに沿った第２のＲＦ給電点にＲＦ電源を結合させるように動作し、第２のガスまたは第２のガスの混合物のプラズマが、処理チャンバ内で第１のガスまたは第１のガスの混合物のプラズマに取って代わる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
このように、基板を処理するための改善された装置が本明細書において提供された。本発明の装置の実施形態は、基板の表面またはその上に配設された材料への自然またはプロセス生成酸化物および他の欠陥の低減を用いて装置に配設された基板を洗浄するために使用されるプラズマにおける２つのガス処理に有利に提供することができる。前述は本開示の実施形態に関するが、本開示の他のおよびさらなる実施形態が本開示の範囲から逸脱することなく考案され得る。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月27日(2019.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調整可能な流体充填レンズ組立体の組立方法であって、
熱可塑性ポリウレタン膜（１２、１１２）に少なくとも４５０Ｎ／ｍの初期表面張力となるように２軸方向に張力がかけられる工程と、
張力がかけられた上記膜を熱調整して上記初期表面張力よりも低い１８０〜５５０Ｎ／ｍの範囲の残留表面張力となるように上記膜の弛緩を促進させる工程と、
上記膜の残留表面張力を維持しながら、調整された上記膜を周辺支持構造（１８、２０）に取り付ける工程と、
１つの壁が調整膜（１２）からなる包囲体（５４）を形成するために、上記膜を１つ以上の他の構成要素（２４）に組み付ける工程とを経て、
上記包囲体に流体を充填することを特徴とする調整可能な流体充填レンズ組立体の組立方法。
【請求項２】
上記膜は、少なくとも１０００Ｎ／ｍの初期表面張力になるまで２軸方向に張力がかけられる、請求項１に記載の組立方法。
【請求項３】
上記膜は、少なくとも７０℃、好ましくは８０℃の温度で少なくとも３０分間、好ましくは少なくとも６０分間調整される、請求項１又は２に記載の組立方法。
【請求項４】
上記膜は、少なくとも１つの表面がバリア材料でコーティングされ、流体の通過を防止又は遅延させるように働くバリア層が形成される、請求項１に記載の組立方法。
【請求項５】
上記膜は、上記包囲体内の上記流体と直接接触するのではなく、完成した上記組立体内の上記包囲体の外側に配置された外面にコーティングされる、請求項４に記載の組立方法。
【請求項６】
流体が充填された上記包囲体は、上記膜による上記流体の吸収を促進させるために、少なくとも４０℃の温度で少なくとも１２時間インキュベートされる、請求項１に記載の組立方法。
【請求項７】
上記膜は、完成した組立体内の流体と接触する内面にコーティングされる、請求項４に記載の組立方法。
【請求項８】
上記バリア材料が疎水性ポリマーを含む、請求項４から７のいずれか１つに記載の組立方法。
【請求項９】
上記バリア層が約２０ｎｍ以下の厚さを有する、請求項４から８のいずれか１つに記載の組立方法。
【請求項１０】
上記膜が芳香族ポリウレタンを含む、請求項１に記載の組立方法。
【請求項１１】
上記芳香族ポリウレタン膜は、2,2'-，2,4'-及び／又は、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、分子量が５００〜１２，０００ｇ／ｍｏｌのポリエーテルジオール、及び、アルキレン基に２〜１０個の炭素原子を有するアルカンジオールからなり、ポリエーテルジオール対アルカンジオールの比が１０：１〜１：１０の範囲である芳香族ポリウレタンを含む、請求項１０に記載の組立方法。
【請求項１２】
上記ポリエーテルジオールが、約１５０℃未満の融点及び５０１〜８０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有し、上記アルカンジオールが６２〜５００ｇ／ｍｏｌの分子量を有し、ポリエーテルジオールに対するアルカンジオールのモル比が０．２未満である、請求項１１に記載の組立方法。
【請求項１３】
芳香族ポリウレタンが、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ポリテトラメチレングリコール及び1,4-ブタンジオールから形成され、約８５のショアＡ硬度を有する、請求項１２に記載の組立方法。
【請求項１４】
上記流体が少なくとも１．４５、好ましくは少なくとも１．５の屈折率を有する、請求項１に記載の組立方法。
【請求項１５】
上記流体が、シリコーン油、シロキサン及びフェニル化シロキサンから選択される、請求項１に記載の組立方法。
【請求項１６】
上記流体がペンタフェニルトリメチルトリシロキサンである、請求項１に記載の組立方法。
【請求項１７】
上記調整可能な流体充填レンズ組立体を眼鏡に組み込むことをさらに含む、上記いずれかの請求項に記載の組立方法。
【請求項１８】
張力が加えられるとともに周辺支持構造に組み付けられた厚みが１００〜３００μｍの範囲で、且つ、弾性率が１０〜２００ＭＰａの範囲であるポリウレタン膜によって１つの壁が形成され、且つ、流体が充填された包囲体を有する眼鏡で使用するための調整可能な流体充填レンズ組立体であって、
上記膜は、上記流体に浸され、その外面に上記流体に対するバリア層が形成され、上記膜は、少なくとも１８０Ｎ／ｍの実質的に一定の表面張力を有することを特徴とする調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項１９】
上記膜が当該膜の約２０重量％までの液体を吸収する、請求項１８に記載の調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２０】
張力が加えられるとともに周辺支持構造に組み付けられた厚みが１００〜３００μｍの範囲で、且つ、弾性率が１０〜２００ＭＰａの範囲である熱可塑性ポリウレタン膜によって１つの壁が形成され、且つ、流体が充填された包囲体を有する眼鏡で使用するための調整可能な流体充填レンズ組立体であって、
上記膜は、その内面に上記流体に対するバリア層が形成され、上記膜は、少なくとも１８０Ｎ／ｍの実質的に一定の表面張力を有することを特徴とする調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２１】
上記膜が上記流体を含まない、請求項２０に記載の調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２２】
上記膜が、少なくとも１２ヶ月の期間、少なくとも１８０Ｎ／ｍの実質的に一定の表面張力を有する、請求項１８から２１のいずれか１つに記載の調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２３】
上記膜が非円形である、請求項１８から２２のいずれか１つに記載の調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２４】
上記包囲体が圧縮可能である、請求項１８から２３のいずれか１つに記載の調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２５】
上記膜のための上記周辺支持構造が、上記膜の周縁部分を保持するように配置された１つ以上の曲げ可能なリングを必要に応じて含む、請求項２４に記載の調整可能な流体充填レンズ組立体。
【請求項２６】
請求項１８から２５のいずれか１つに記載の少なくとも１つの調整可能な流体充填レンズ組立体を含むか、請求項１から１７のいずれか１つに記載の方法に従って組み立てられた眼鏡。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月1日(2019.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記履歴データベース内の各イベントが時間に関連し、前記ホームオートメーションシステムの現在の状態が現在の時間を含み、前記選択が、該現在の時間と各イベントの時間との比較に基づいて行われる、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月24日(2019.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチチップモジュール（ＭＣＭ）であって、
第１表面を有する第１基板を備え、前記第１基板は、前記第１表面に対して第１高さで前記第１基板上に配置された第１光導波路を含み、
第２表面を有する第２基板を備え、
前記第２基板は、
前記第２表面に対して第２高さで前記第２基板上に配置された第２光導波路と、
厚さを有し、前記第２表面上に配置されたスペーサとを含み、
第３表面を有し、前記第１表面および前記スペーサに機械的に連結された第３基板を備え、前記スペーサの前記厚さは、前記第１光導波路および前記第２光導波路を整列させる、ＭＣＭ。
【請求項２】
前記第１基板は、シリコン以外の半導体内に規定された半導体光増幅器を含む、請求項１に記載のＭＣＭ。
【請求項３】
前記第２基板は、フォトニックチップを含む、請求項１または２に記載のＭＣＭ。
【請求項４】
前記フォトニックチップは、前記第２基板と、前記第２基板上に配置された埋込酸化物層と、前記埋込酸化物層上に配置された半導体層とを含み、
前記第２光導波路は、前記半導体層内に規定される、請求項３に記載のＭＣＭ。
【請求項５】
前記第２基板、前記埋込酸化物層および前記半導体層は、シリコンオンインシュレータ技術を構成する、請求項４に記載のＭＣＭ。
【請求項６】
前記第１基板の前記第１表面と反対側に位置する第１基板の裏面と、前記第２基板の前記第２表面と反対側に位置する第２基板の裏面とは、親水性材料を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のＭＣＭ。
【請求項７】
前記第１表面および前記第３表面は、親水性材料からなる対向領域を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のＭＣＭ。
【請求項８】
前記第３表面は、前記第１表面と前記第３表面との間の重なり領域の外側に配置され、疎水性材料からなる領域を含む、請求項７に記載のＭＣＭ。
【請求項９】
前記疎水性材料は、フルオロポリマーおよびパリレンのうちの１つを含む、請求項８に記載のＭＣＭ。
【請求項１０】
前記疎水性材料は、酸素によるプラズマ処理を用いて製造される、請求項８または９に記載のＭＣＭ。
【請求項１１】
前記第２表面および前記第３表面は、親水性材料からなる対向領域を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のＭＣＭ。
【請求項１２】
前記第３表面は、前記スペーサの上面と前記第３表面との間の重なり領域の外側に配置され、疎水性材料からなる領域を含む、請求項１１に記載のＭＣＭ。
【請求項１３】
前記疎水性材料は、フルオロポリマーおよびパリレンのうちの１つを含む、請求項１２に記載のＭＣＭ。
【請求項１４】
前記疎水性材料は、酸素によるプラズマ処理を用いて製造される、請求項１２または１３に記載のＭＣＭ。
【請求項１５】
前記ＭＣＭは、前記第１表面と前記第３表面との間の重なり領域と、前記第２表面と前記第３表面との間の重なり領域とに配置されたエポキシ層をさらに含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のＭＣＭ。
【請求項１６】
前記スペーサは、金属、ポリマーおよび樹脂のうちの１つを含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載のＭＣＭ。
【請求項１７】
前記第１高さは、前記第２高さと前記スペーサの前記厚さとの和に等しい、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のＭＣＭ。
【請求項１８】
システムであって、
プロセッサと、
前記プロセッサによって実行されるように構成されたプログラムモジュールを記憶するメモリと、
請求項１〜１７のいずれか１項に記載のＭＣＭとを含む、システム。
【請求項１９】
ＭＣＭを製造する方法であって、
第１親水性材料を用いて、第１基板の第１表面上に第１領域を規定するステップを含み、前記第１基板は、前記第１表面に対して第１高さで前記第１基板上に配置された第１光導波路を含み、
第２基板の第２表面上に、厚さを有するスペーサを配置するステップを含み、前記第２基板は、前記第２表面に対して第２高さで前記第２基板上に配置された第２光導波路を含み、
第２親水性材料を用いて、前記第２表面上に第２領域を規定するステップと、
第３親水性材料を用いて、第３基板の第３表面上に第３領域を規定するステップと、
疎水性材料を用いて、前記第３基板の前記第３表面上に１つ以上の領域を規定するステップと、
前記第３表面上に液体を分配するステップと、
前記第１表面が前記第３表面と対向し、前記第２表面が前記第３表面と対向するように、前記第１基板および前記第２基板を前記液体上に載置するステップと、
前記第１基板と前記第２基板とが前記第３基板に対して自己整列した後、前記第１表面を前記第３表面に機械的に連結し、前記スペーサの上面を前記第３表面に機械的に連結するステップとを含み、前記スペーサの前記厚さは、前記第１光導波路および前記第２光導波路を整列させる、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月22日(2019.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェアラブルデバイスであって、
前記ウェアラブルデバイスの動作中に熱を放出する、筐体内の少なくとも１つの電子構成要素と、
前記筐体に取り付けられる付属品と、
前記少なくとも１つの電子構成要素によって放出される熱の少なくとも一部を取り込み、前記取り込まれた熱の少なくとも一部を前記付属品の内部に伝達するように構成される熱伝達構成要素とを備え、
前記熱伝達構成要素は、前記付属品の少なくとも一部を貫通して延在し、
前記デバイスが、
前記付属品の少なくとも一部が、透明材料を含むこと、
前記付属品は、前記熱伝達構成要素によって伝達された熱の少なくとも一部を、前記付属品の前記少なくとも一部を通して放射するように構成されることを特徴とするウェアラブルデバイス。
【請求項２】
前記付属品は、対流による放熱を与える、請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項３】
前記付属品は、第１の側が第１の熱伝導性材料を備え、第２の側が前記第１の熱伝導性材料未満の熱伝導率を有する第２の熱伝導性材料を備えるように構成される、請求項１に記載のウェアラブルデバイス。
【請求項４】
スマートウォッチの熱管理の方法であって、
筐体内に位置する１つまたは複数の電子構成要素によって放出される熱の少なくとも一部を取り込むステップと、
前記取り込まれた熱の少なくとも一部を前記スマートウォッチの前記筐体の外部にあるリストバンドに伝達するステップであって、前記リストバンドは前記筐体に取り付けられ、前記リストバンドの少なくとも一部が透明材料を含むことを特徴とする、伝達するステップと、
前記伝達された熱の少なくとも一部を、前記リストバンドの少なくとも１つの表面を通して放熱するステップであって、前記伝達された熱の前記少なくとも一部を前記放熱するステップは、前記伝達された熱の前記少なくとも一部を、前記リストバンドの少なくとも一部を通して放射するステップを含む、ステップとを含む、方法。
【請求項５】
放出された熱の前記少なくとも一部を前記取り込むステップは、熱伝導経路の一部を有する前記筐体内の１つまたは複数の表面に結合されるステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記取り込まれた熱の前記少なくとも一部を前記伝達するステップは、前記筐体の内部と前記リストバンドの内部との間に前記熱伝導経路を設けるステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記伝達された熱の前記少なくとも一部を前記放熱するステップは、前記伝達された熱の前記少なくとも一部を、前記リストバンドの周囲の空気の運動を通して、前記リストバンドから空気に移動させるステップをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
熱管理のための装置であって、前記装置はスマートウォッチであり、
筐体内に位置する１つまたは複数の電子構成要素によって放出される熱の少なくとも一部を取り込むための手段と、
前記取り込まれた熱の少なくとも一部を前記スマートウォッチの前記筐体の外部にあるリストバンドに伝達するための手段であって、前記リストバンドは前記筐体に取り付けられ、前記装置が、前記リストバンドの少なくとも一部が透明材料を含むことを特徴とする、伝達するための手段と、
前記伝達された熱の少なくとも一部を、前記リストバンドの少なくとも１つの表面を通して放熱するための手段であって、前記伝達された熱の前記少なくとも一部を前記放熱するための手段は、前記伝達された熱の前記少なくとも一部を、前記リストバンドの少なくとも一部を通して放射するように構成される、手段とを備える、装置。
【請求項９】
少なくとも１つの電子構成要素をさらに含み、前記少なくとも１つの電子構成要素が、システムオンチップ（ＳＯＣ）、中央処理ユニット（ＣＰＵ）、グラフィックス処理ユニット（ＧＰＵ）、ワイヤレス通信チップ、プリント回路基板（ＰＣＢ）または電磁干渉（ＥＭＩ）シールドのうちの１つを含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
放出される熱の少なくとも一部を取り込むための前記手段は、熱伝導経路の一部を有する前記筐体内の１つまたは複数の表面に結合されるように構成される、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記１つまたは複数の表面は前記１つまたは複数の電子構成要素の表面を含む、請求項５に記載の方法または請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記熱伝導経路は熱伝導性材料を含む、請求項５に記載の方法または請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記熱伝導経路は、銅箔、アルミニウム箔、ヒートパイプまたは炭素繊維の少なくとも１つを含む、請求項５に記載の方法または請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
前記取り込まれた熱の前記少なくとも一部を伝達するための前記手段は、前記筐体の内部と前記リストバンドの内部との間に前記熱伝導経路を設けることを含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
前記伝達された熱の前記少なくとも一部を放熱するための前記手段は、前記伝達された熱の前記少なくとも一部を、前記リストバンドの周囲の空気の運動を通して、前記リストバンドから空気に移動させるようにさらに構成される、請求項８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月20日(2019.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザインターフェース上でユーザ入力を処理するための方法であって、
前記ユーザ入力がタッチまたはタップを含むときに応答するアフォーダンス層を提供するステップと、
前記ユーザ入力が第1の閾値を含む第1の圧力を含むときに応答する第1のインタラクション層を提供するステップと、
前記ユーザ入力が第2の閾値を含む第2の圧力を含むときに応答する第2のインタラクション層を提供するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記第1または第2のいずれかの閾値は、圧力の大きさ、圧力の持続時間、または圧力の頻度のうちの1つに基づく閾値を含む請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記アフォーダンス層におけるタッチまたはタップの種類の識別情報は、複数の可能な機能のうちの1つを決定する請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記アフォーダンス層は、応答するアフォーダンス層触覚効果を生成する請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記第1のインタラクション層は、前記アフォーダンス層触覚効果と異なる応答する第1のインタラクション層触覚効果を生成する請求項4に記載の方法。
【請求項６】
前記第2のインタラクション層は、前記第1のインタラクション層触覚効果と異なる応答する第2のインタラクション層触覚効果を生成し、前記第2のインタラクション層触覚効果は、前記アフォーダンス層上の選択されたアイコンに基づきコンテキストに関係する請求項5に記載の方法。
【請求項７】
前記第1のインタラクション層触覚効果は、第1の圧力レベルについて一時的であるか、または複数の圧力レベルを通して連続的である請求項5に記載の方法。
【請求項８】
プロセッサによって実行されたときに、ユーザインターフェース上でユーザ入力への応答を生成する命令が記憶されているコンピュータ可読媒体であって、前記命令は、請求項1乃至7のいずれか1項に従って構成されるコンピュータ可読媒体。
【請求項９】
ユーザ入力を受け取るように適合されているユーザインターフェースと、
前記ユーザ入力がタッチまたはタップを含むときに応答するアフォーダンス層と、
前記ユーザ入力が第1の閾値を含む第1の圧力を含むときに応答する第1のインタラクション層と、
前記ユーザ入力が第2の閾値を含む第2の圧力を含むときに応答する第2のインタラクション層とを備えるシステム。
【請求項１０】
前記第1または第2のいずれかの閾値は、圧力の大きさ、圧力の持続時間、または圧力の頻度のうちの1つに基づく閾値を含む請求項9に記載のシステム。
【請求項１１】
前記アフォーダンス層におけるタッチまたはタップの種類の識別情報は、複数の可能な機能のうちの1つを決定する請求項9に記載のシステム。
【請求項１２】
触覚出力デバイスをさらに備え、前記アフォーダンス層は、前記触覚出力デバイス上に応答するアフォーダンス層触覚効果を生成する請求項9に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第1のインタラクション層は、前記アフォーダンス層触覚効果と異なる応答する第1のインタラクション層触覚効果を前記触覚出力デバイス上に生成する請求項12に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第2のインタラクション層は、前記第1のインタラクション層触覚効果と異なる応答する第2のインタラクション層触覚効果を前記触覚出力デバイス上に生成する請求項13に記載のシステム。
【請求項１５】
第1のインタラクション層触覚効果は、第1の圧力レベルについて一時的であるか、または複数の圧力レベルを通して連続的であり、第2のインタラクション層触覚効果は、前記アフォーダンス層上の選択されたアイコンに基づきコンテキストに関係する請求項12に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月22日(2019.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイブリッド光学アセンブリであって、
第１の透過基板と、
前記第１の透過基板の第１の面上の第１の非球面レンズと、
前記第１の透過基板の第２の面上の第２のハイブリッド回折／屈折レンズと、
前記第１の透過基板から離隔した第２の透過基板と、
前記第２の透過基板の第１の面上の第３の非球面レンズと、
前記第２の透過基板の第２の面上の第４の非球面レンズとを備え、
前記第３の非球面レンズは、前記第２のハイブリッド回折／屈折レンズに面しており、前記ハイブリッド光学アセンブリの出力は、２０℃〜１００℃の温度範囲に対して実質的な安定性を示す、ハイブリッド光学アセンブリ。
【請求項２】
前記第１の透過基板と前記第２の透過基板とは、４ｍｍ〜１０ｍｍの範囲の距離だけ互いに離隔している、請求項１に記載のハイブリッド光学アセンブリ。
【請求項３】
前記第１の透過基板および前記第２の透過基板は透明なホウケイ酸ガラスからなり、前記第１、第２、第３、および第４のレンズはエポキシからなる、請求項１または２に記載のハイブリッド光学アセンブリ。
【請求項４】
光学パターン生成器であって、
発光素子のアレイと、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のハイブリッド光学アセンブリとを備え、
前記発光素子のアレイは、前記発光素子によって生成された光が、前記ハイブリッド光学アセンブリの前記第４のレンズ、前記第３のレンズ、前記第２のレンズ、および前記第１のレンズをこの順で通過することにより、前記発光素子の配置に対応する光学ドットのパターンを投影するように、配置される、光学パターン生成器。
【請求項５】
前記発光素子はＶＣＳＥＬである、請求項４に記載の光学アレイ生成器。
【請求項６】
光学ドットのパターンを生成する方法であって、前記方法は、
アレイまたはその他のパターンで配置された複数の光学素子から光を発するステップと、
前記発した光が、３つの非球面レンズと１つのハイブリッド回折／屈折レンズとを含むハイブリッド光学アセンブリを通過するようにするステップと、
前記ハイブリッド光学アセンブリを通過した光を物体または平面上に投影するステップとを含み、前記投影した光はドットのパターンを形成する、方法。
【請求項７】
前記発した光が、請求項１〜３のいずれか１項に記載のハイブリッド光学アセンブリを通過するようにするステップを含む、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月15日(2019.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インペラと、前記インペラの回転を駆動するモータと、前記インペラを収容するインペラ空間を提供するブロワハウジングと、ブロワ入口と、ブロワ出口とを含むブロワと、
使用者の顔面と接触するクッションと、
使用者の顔面上で前記クッションを支持するマスク本体および／またはフレームであって、前記クッションおよび／または前記マスク本体もしくはフレームは、前記ブロワからガス流を受け取る内部空間を画定する、マスク本体および／またはフレームと
を含み、
前記ブロワは、前記ブロワが少なくとも部分的に前記マスク本体またはフレーム内にあるように前記マスク本体またはフレームに取り付けられ、
前記ブロワは、前記マスク本体またはフレームの低圧側から前記マスク本体またはフレームの高圧側を実質的に分離し、かつ／または前記マスク本体またはフレームは、前記ブロワと前記内部空間との間に実質的に壁を有さない、患者インタフェース。
【請求項２】
前記ブロワは、前記インペラおよびインペラ空間の半径方向外側でありかつ／またはそれらを包囲する前記ブロワハウジングの部分によって前記マスク本体またはフレームに取り付けられている、請求項１に記載の患者インタフェース。
【請求項３】
前記ブロワは、前記ブロワハウジングの外周部または周方向部分によって前記マスク本体またはフレームに取り付けられている、請求項１または２に記載の患者インタフェース。
【請求項４】
前記ブロワは、前記マスク本体の開放前部または後部の周囲で前記マスク本体の周縁部によって囲まれる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の患者インタフェース。
【請求項５】
前記マスク本体またはフレームは、前記内部空間への入口を含み、前記ブロワは、前記入口内に受け入れられる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の患者インタフェース。
【請求項６】
前記マスク本体および前記フレームを含み、前記フレームは、前記クッションを有するクッションモジュール内に組み込まれたクッションフレームであり、前記クッションフレームおよび／またはクッションは、前記内部空間を画定し、および
前記マスク本体は、使用者の顔面上でヘッドギアを前記クッションモジュールに取り付け、かつ前記クッションモジュールを支持するように構成されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の患者インタフェース。
【請求項７】
前記マスク本体またはフレームは、前記内部空間への入口を含み、前記ブロワは、前記入口内に受け入れられ、前記入口は、前記ブロワの前記インペラおよびインペラ空間を包囲し、かつ／または前記インペラおよびインペラ空間は、前記入口内で半径方向にある、請求項６に記載の患者インタフェース。
【請求項８】
前記入口は、前記モータを包囲し、および／または前記モータは、前記入口内で半径方向に位置する、請求項７に記載の患者インタフェース。
【請求項９】
前記マスク本体は、前記入口を含み、前記入口は、前記ブロワが少なくとも部分的に前記クッションモジュール内にあるように前記クッションモジュール内に延在する、請求項７または８に記載の患者インタフェース。
【請求項１０】
前記入口は、前記ブロワを受け入れるリングを含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の患者インタフェース。
【請求項１１】
前記ブロワハウジングと前記マスク本体または前記クッションフレームとの間にシールを含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の患者インタフェース。
【請求項１２】
前記シールは、前記ブロワハウジングまたは前記マスク本体もしくは前記クッションフレームに設けられた弾性かつ／または高コンプライアンスの封止材料を含む、請求項１１に記載の患者インタフェース。
【請求項１３】
前記封止材料は、前記ブロワハウジングに、または前記マスク本体にもしくは前記クッションフレームにオーバーモールドされている、請求項１２に記載の患者インタフェース。
【請求項１４】
前記弾性材料は、前記クッションフレームにオーバーモールドされており、かつ前記クッションと同じ材料のものである、請求項１３に記載の患者インタフェース。
【請求項１５】
前記シール材料および前記クッションは、前記マスク本体または前記クッションフレームにオーバーモールドされた一体部材として一体形成されている、請求項１２または１３に記載の患者インタフェース。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月3日(2019.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗料が吹き付けられると共にスプレーしぶきを除去するための空気流が供給される塗料吹き付けチャンバー（１１）を具えた塗料吹き付けブース（１０）であって、前記塗料のスプレーしぶきを前記空気流からろ過して分離するため、このブースの少なくとも１つのフィルターユニット（１６）へと前記空気流が運ばれ、前記フィルターユニットは、複数の交換可能なフィルターモジュール（１７）を具え、それぞれのフィルターモジュールは、前記フィルターユニットのハウジング（１８）の内側に取り出し可能に収容され、このブースは、前記複数のフィルターモジュール（１７）のそれぞれを、そのハウジング（１８）と、前記フィルターモジュールを当該ブースに入れるか、該ブースから出すための出し入れ領域（３１）との間で取り出して移送するための自動化システム（３０）を具えており、前記自動化システム（３０）は、前記フィルターモジュールを制御可能に前記ハウジング（１８）に装着するか、前記ハウジングから取り外すため、前記フィルターユニット（１６）のフィルターモジュール（１７）に沿って移動可能な電動シャトル（３２）を具えていることを特徴とするブース。
【請求項２】
前記自動化システム（３０）は、前記シャトル（３２）が前記ハウジングの近傍に移送された場合、前記フィルターモジュール（１７）を、そのハウジング（１８）と前記シャトルとの間を制御可能に移動させるための移送手段（３４）を具えていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項３】
前記移送手段（３４）は、前記フィルターモジュール（１７）が取り付けられ、かつアクチュエーターまたは移送器具（３５）によって前記ハウジングの内側のレール（４４）に移動されられるキャリッジ（４３）を具えていることを特徴とする請求項２に記載のブース。
【請求項４】
前記電動シャトル（３２）は、このキャリッジ（４３）を収容するためのレールをそこに有し、前記キャリッジを前記ハウジングと前記シャトルとの間で移送するために前記ハウジングの内側の前記レール（４４）と位置調整されることを特徴とする請求項３に記載のブース。
【請求項５】
前記塗料吹き付けチャンバーから前記フィルターモジュール（１７）へと空気を導入するための第１の通路（２１）と、前記フィルターモジュール（１７）から空気を排出させるための第２の通路（２４）とを具え、前記ハウジング（１８）は、前記フィルターユニットのフィルターモジュール（１７）を相互に平行に結合するように、前記第１および第２の通路間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項６】
前記電動シャトル（３２）は、前記第２の通路（２４）の内側を移動することを特徴とする請求項２および請求項５に記載のブース。
【請求項７】
ハウジング（１８）の空気入口を制御可能に閉鎖するように、前記フィルターモジュール（１７）の空気入口（２２）に沿って順々に移動する可動間仕切り（３７）を具えていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項８】
前記フィルターモジュール（１７）を前記ハウジング（１８）と前記出し入れ領域（３１）との間で移送するための移送チャンバー（３８）を具え、この移送チャンバー（３８）には、前記ハウジング（１８）につながる第１のドア（３９）と、前記出し入れ領域（３１）に向けて前記ブースの外側につながる第２のドア（４０）とが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項９】
前記フィルターユニットの数が２つであって、前記塗料吹き付けチャンバーの床の下に鏡像構成にて配置されていることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項１０】
Ｔ字形の断面を持つチャンバー（１９）が前記塗料吹き付けチャンバーの床の下に設けられ、Ｔ字の水平部分は、前記塗料吹き付けチャンバーの床を通過する前記空気流を運ぶための流路（２０）を形成し、Ｔ字の垂直部分は、前記フィルターモジュール（１７）の入口（２２）が現われる流路（２１）をその内側に形成することを特徴とする請求項１に記載のブース。
【請求項１１】
さらなるフィルター（２６）および／または流出する前記空気流を閉止または絞るための制御ゲートが前記フィルターモジュール（１７）の下流にあることを特徴とする請求項１に記載のブース。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この目的に鑑み、本発明により見出されたアイデアは、塗料が吹き付けられると共にスプレーしぶきを除去するための空気流が供給される塗料吹き付けチャンバーを具えた塗料吹き付けブースであって、前記塗料のスプレーしぶきを前記空気流からろ過して分離するため、このブースの少なくとも１つのフィルターユニットへと前記空気流が運ばれ、前記フィルターユニットは、複数の交換可能なフィルターモジュールを具え、それぞれのフィルターモジュールは、前記フィルターユニットのハウジングの内側に取り出し可能に収容され、このブースは、前記複数のフィルターモジュールのそれぞれを、そのハウジングと、前記フィルターモジュールを当該ブースに入れるか、該ブースから出すための出し入れ領域との間で取り出して移送するための自動化システムを具えており、前記自動化システムは、前記フィルターモジュールを制御可能に前記ハウジングに装着するか、前記ハウジングから取り外すため、前記フィルターユニットのフィルターモジュールに沿って移動可能な電動シャトルを具えていることを特徴とするブースを提供することである。