【手続補正書】
【提出日】平成19年11月27日(2007.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種類の共溶媒と、少なくとも１種類のエッチング液種と、場合により少なくとも１種類の界面活性剤と、を含み、犠牲シリコン含有層をエッチングするのに役立つ、超臨界流体（ＳＣＦ）をベースとするエッチング組成物。
【請求項２】
ＳＣＦを含み、前記ＳＣＦが、二酸化炭素と、酸素と、アルゴンと、クリプトンと、キセノン及びアンモニアとからなる群から選択されるＳＣＦ種を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＳＣＦが、二酸化炭素を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記共溶媒が、少なくとも１種類のＣ１〜Ｃ６アルコールを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記共溶媒が、メタノールを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記共溶媒が、イソプロパノールを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記犠牲シリコン含有層が、酸化ケイ素及び窒化ケイ素からなる群から選択されるシリコン含有種を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記エッチング液種が、酸性フッ化アンモニウムと、二フッ化テトラアルキルアンモニウム（（Ｒ）４ＮＨＦ２）及び二フッ化アルキルホスホニウム（（Ｒ）４ＰＨＦ２）とからなる群から選択される少なくとも１種類の酸性フッ化化合物（式中、Ｒが、水素と、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基と、フェニル基と、フッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキルとからなる群から選択される）を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記エッチング液種が、酸性フッ化アンモニウムを含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記エッチング液種が、二フッ化テトラアルキルアンモニウム（（Ｒ）４ＮＨＦ２）（式中、Ｒが、水素と、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基と、フェニル基と、フッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキルとからなる群から選択される）を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項１１】
前記エッチング液種が、二フッ化アルキルホスホニウム（（Ｒ）４ＰＨＦ２）（式中、Ｒが、水素と、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基と、フェニル基と、フッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキルとからなる群から選択される）を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項１２】
界面活性剤を含み、前記界面活性剤が、少なくとも１種類の非イオン性もしくはアニオン性界面活性剤、またはこれらの組み合わせを含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項１３】
前記非イオン性界面活性剤が、フルオロアルキル界面活性剤と、ポリエチレングリコールと、ポリプロピレングリコールと、ポリエチレンエーテルと、ポリプロピレングリコールエーテルと、カルボン酸塩と、ドデシルベンゼンスルホン酸と、ドデシルベンゼンスルホン塩と、ポリアクリル酸塩ポリマーと、ジノニルフェニルポリオキシエチレンと、シリコーンポリマーと、変性シリコーンポリマーと、アセチレンジオールと、変性アセチレンジオールと、アルキルアンモニウム塩と、変性アルキルアンモニウム塩及び上記の少なくとも１種類を含む組み合わせとからなる群から選択される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記非イオン性界面活性剤が、変性アセチレンジオールを含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
界面活性剤を含み、前記エッチング組成物が、前記組成物の総重量を基準にして、約７５．０重量％〜約９９．５重量％のＳＣＦと、約０．３重量％〜約２２．５重量％の共溶媒と、約０．０１重量％〜約５．０重量％のエッチング液種と、約０．０１重量％〜約５．０重量％の界面活性剤と、を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項１６】
前記犠牲シリコン含有層が、本質的にシリコンからなる、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
前記エッチング液種が、ＸｅＦ２である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
界面活性剤を含み、前記エッチング組成物が、前記組成物の総重量を基準にして、約７５．０重量％〜約９９．５重量％のＳＣＦと、約０．３重量％〜約２２．５重量％の共溶媒と、約０．０１重量％〜約５．０重量％のエッチング液種と、を含む、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１９】
基板を、ＳＣＦと、少なくとも１種類の共溶媒と、少なくとも１種類のエッチング液種と、場合により少なくとも１種類の界面活性剤とを含むＳＣＦをベースとするエッチング組成物に十分な時間および十分な接触条件下で接触させることでシリコン含有物質を前記基板から除去することを含む、前記基板上に前記シリコン含有物質を有する前記基板から前記シリコン含有物質を除去する方法。
【請求項２０】
前記ＳＣＦが、二酸化炭素と、酸素と、アルゴンと、クリプトンと、キセノン及びアンモニアとからなる群から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記ＳＣＦが、二酸化炭素である、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記接触条件が、約１４００〜約４４００ｐｓｉの範囲内の圧力を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
前記接触時間が、約３０秒〜約３０分の範囲内にある、請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
前記共溶媒が、少なくとも１種類のＣ１〜Ｃ６アルコールを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】
前記共溶媒が、メタノールを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】
前記共溶媒が、イソプロパノール（ＩＰＡ）を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２７】
前記シリコン含有物質が、酸化ケイ素及び窒化ケイ素とからなる群から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２８】
前記エッチング液種が、酸性フッ化アンモニウムと、二フッ化テトラアルキルアンモニウム（（Ｒ）４ＮＨＦ２）及び二フッ化アルキルホスホニウム（（Ｒ４ＰＨＦ２）とからなる群から選択される少なくとも１種類の酸性フッ化化合物（式中、Ｒが、水素と、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基と、フェニル基と、フッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキルとからなる群から選択される）を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記エッチング液種が、酸性フッ化アンモニウムを含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記ＳＣＦをベースとする組成物が界面活性剤を含み、前記界面活性剤が、少なくとも１種類の非イオン性もしくはアニオン性界面活性剤、またはこれらの組み合わせを含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
前記非イオン性界面活性剤が、フルオロアルキル界面活性剤と、ポリエチレングリコールと、ポリプロピレングリコールと、ポリエチレンエーテルと、ポリプロピレングリコールエーテルと、カルボン酸塩と、ドデシルベンゼンスルホン酸と、ドデシルベンゼンスルホン塩と、ポリアクリル酸塩ポリマーと、ジノニルフェニルポリオキシエチレンと、シリコーンポリマーと、変性シリコーンポリマーと、アセチレンジオールと、変性アセチレンジオールと、アルキルアンモニウム塩と、変性アルキルアンモニウム塩及び上記の少なくとも１種類を含む組み合わせとからなる群から選択される、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記ＳＣＦをベースとする組成物が、前記組成物の総重量を基準にして、約７５．０重量％〜約９９．５重量％のＳＣＦと、約０．３重量％〜約２２．５重量％の共溶媒と、約０．０１重量％〜約５．０重量％のエッチング液種と、約０．０１重量％〜約５．０重量％の界面活性剤と、を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３３】
前記シリコン含有物質が、シリコンと、灰化後の残留物及びエッチング後の残留物とからなる群から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項３４】
前記エッチング液種が、ＸｅＦ２である、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記基板と前記ＳＣＦをベースとする組成物との接触に先立って前記基板を脱水することをさらに含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記ＳＣＦをベースとする組成物が、前記組成物の総重量を基準にして、約７５．０重量％〜約９９．５重量％のＳＣＦと、約０．３重量％〜約２２．５重量％の共溶媒と、約０．０１重量％〜約５．０重量％のエッチング液種と、を含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３７】
前記接触ステップが、（ｉ）前記ＳＣＦをベースとする組成物と前記シリコン含有物質との動的フロー接触、および／または（ｉｉ）前記ＳＣＦをベースとする組成物と前記シリコン含有物質との静的ソーク接触を含むエッチングサイクルを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項３８】
前記エッチングサイクルが、交互にかつ反復して、前記シリコン含有物質の動的フロー接触と静的ソーク接触とを行うことを含む、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
１回目の洗浄ステップでＳＣＦ／メタノール／脱イオン水の洗浄溶液および２回目の洗浄ステップでＳＣＦを用いて、前記シリコン含有物質が除去されている領域で前記基板を洗浄することで、前記１回目の洗浄ステップで残留する沈殿した化学添加剤を除去し、そして前記２回目の洗浄ステップで残留する沈殿した化学添加剤および／または残留するアルコールを除去するステップをさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項４０】
前記ＳＣＦが、ＳＣＣＯ２である、請求項３９に記載の方法。