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【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板上に形成された第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成された第２の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成された第１のスペーサーと、
前記第２の絶縁膜上に形成された第２のスペーサーと、
前記第２のスペーサーに接して形成された配向膜と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１のスペーサーは、シール材を形成する領域に設けることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第２のスペーサーは、画素領域及び駆動回路領域に設けることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第１のスペーサー及び前記第２のスペーサーは、ポリイミド、ポリアミド、アクリル、ポリビニルシンナメートのうちいずれか一つを主成分とすることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第２の絶縁膜は、アクリル樹脂を用いて形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第１の絶縁膜は、無機絶縁膜を用いて形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記無機絶縁膜は、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
第１の基板と、
前記第１の基板に対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板間に設けられた一対の配向層と、
前記第１の基板に設けられた第１の絶縁膜と、
前記第２の基板に設けられた第２の絶縁膜と、を有し、
前記第１の基板に設けられた配向層のラビング処理方向の下流側あるいはラビング処理方向に対して平行な領域と、前記第２の基板に設けられた配向層のラビング処理方向の下流側あるいはラビング処理方向に対して平行な領域において、前記第１の絶縁膜と前記第２の絶縁膜が除去されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１０において、
前記第１の基板に設けられた配向層のラビング処理方向の上流側と、前記第２の基板に設けられた配向層のラビング処理方向の上流側は、異なる位置にあることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項９または請求項１０において、
前記第１の絶縁膜を除去する領域と、前記第２の絶縁膜を除去する領域は、互いに重なりあわないことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の偏光板、複屈折層Ａ、複屈折層Ｂおよび液晶セルＣを含む液晶パネルであって、
前記２枚の偏光板が、それらの吸収軸が略直交するように配置され、
前記２枚の偏光板の間に、前記複屈折層Ａ、前記複屈折層Ｂおよび前記液晶セルＣが配置され、
前記複屈折層Ａは、下記式（１）の屈折率異方性を有し、
前記複屈折層Ｂは、下記式（２）の屈折率異方性を有し、
前記液晶セルＣは、その液晶分子が、電圧非印加状態で略垂直に配向している液晶セルであり、
前記複屈折層Ａの波長分散特性（α４０（Ａ））、前記複屈折層Ｂ（α４０（Ｂ））および前記液晶セルＣの（α４０（Ｃ））が、下記式（３）および下記式（４）の条件を満たすことを特徴とする、液晶パネル。
式（１）      ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚ
式（２）      ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ
前記式（１）および前記式（２）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記複屈折層ＡおよびＢにおける、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸方向は、前記複屈折層ＡおよびＢのそれぞれの面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記それぞれの面内における前記Ｘ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
式（３）      α４０（Ｂ）＞α４０（Ｃ）＞α４０（Ａ）
式（４）      １＞α４０（Ａ）
前記式（３）および前記式（４）において、下記式（５）に示すように、波長分散特性α４０は、複屈折層表面若しくは液晶セル表面の法線方向を基準（０°）とし、これから４０°傾いた方向からの４３０ｎｍおよび５５０ｎｍの各波長の入射光で測定したリターデーション（Ｒｅ）の比である。
式（５）      α４０＝Ｒｅ（４３０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）
Ｒｅ（４３０ｎｍ）：波長４３０ｎｍの入射光で測定したリターデーション
Ｒｅ（５５０ｎｍ）：波長５５０ｎｍの入射光で測定したリターデーション
【請求項２】
前記複屈折層Ｂの面内における屈折率の差（Δｎ＝ｎｘ−ｎｙ、ｎｘおよびｎｙは、前記式（２）と同じ）が、０．００５〜０．２の範囲である請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記複屈折層Ｂが、非液晶性材料から形成されたものである請求項１または２記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記非液晶性材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種類の樹脂から形成されている請求項１から３のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記偏光板が、偏光子と、この両面に積層された透明保護層とを含み、前記液晶セルＣ側の透明保護層が、下記式（６）および下記式（７）の条件を満たす請求項１から４のいず
れかに記載の液晶パネル。
式（６）      Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄ＜１０ｎｍ
式（７）      Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）ｄ＜２０ｎｍ
前記式（６）および前記式（７）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、前記式（１）および前記式（２）と同じ。
【請求項６】
前記複屈折層Ｂと前記液晶セルＣが隣接して配置していることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項７】
一方の偏光板に、前記複屈折層Ａおよび前記複屈折層Ｂが、この順番で積層されている請求項１から６のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項８】
一方の偏光板の偏光子に前記複屈折層Ａが積層されており、前記複屈折層Ａが前記透明保護層を兼ねており、前記複屈折層Ａの遅相軸と前記偏光子の吸収軸が略直交しており、前記複屈折層Ａの上に前記複屈折層Ｂが積層されている請求項７記載の液晶パネル。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の液晶パネルを含む液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明の液晶パネルは、２枚の偏光板、複屈折層Ａ，複屈折層Ｂおよび液晶セルＣを含む液晶パネルであって、
前記２枚の偏光板が、それらの吸収軸が略直交するように配置され、
前記２枚の偏光板の間に、前記複屈折層Ａ、前記複屈折層Ｂおよび前記液晶セルＣが配置され、
前記複屈折層Ａは、下記式（１）の屈折率異方性を有し、
前記複屈折層Ｂは、下記式（２）の屈折率異方性を有し、
前記液晶セルＣは、その液晶分子が、電圧非印加状態で略垂直に配向している液晶セルであり、
前記複屈折層Ａの波長分散特性（α４０（Ａ））、前記複屈折層Ｂ（α４０（B））および前記液晶セルＣの（α４０（C））が、下記式（３）および下記式（４）の条件を満たすことを特徴とする、
液晶パネルである。
式（１）      ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚ
式（２）      ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ
前記式（１）および前記式（２）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記複屈折層ＡおよびＢにおける、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびZ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸方向は、前記複屈折層ＡおよびＢのそれぞれの面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記それぞれの面内における前記Ｘ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向は、前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
式（３）      α４０（Ｂ）＞α４０（Ｃ）＞α４０（Ａ）
式（４）      １＞α４０（Ａ）
前記式（３）および前記式（４）において、下記式（５）に示すように、波長分散特性α４０は、複屈折層表面若しくは液晶セル表面の法線方向を基準（０°）とし、これから４０°傾いた方向からの４３０ｎｍおよび５５０ｎｍの各波長の入射光で測定したリターデーション（Ｒｅ）の比である。
式（５）      α４０＝Ｒｅ（４３０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）
Ｒｅ（４３０ｎｍ）：波長４３０ｎｍの入射光で測定したリターデーション
Ｒｅ（５５０ｎｍ）：波長５５０ｎｍの入射光で測定したリターデーション
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な第一の基板と、この第一の基板上に設けられた透明電極と、第二の基板と、この第二の基板上に設けられたスイッチング素子と、このスイッチング素子上に設けられるとともに表面に不規則な凹凸構造が形成された絶縁膜と、この絶縁膜上に前記凹凸構造を反映させた形状で設けられるとともに前記スイッチング素子に接続された反射電極と、前記第一の基板の前記透明電極側と前記第二の基板の前記反射電極側とで挟み込まれた液晶層とを備えた反射型液晶表示装置において、
前記絶縁膜は、前記スイッチング素子と前記反射電極との接続部を除いて前記スイッチング素子全体を覆うと共に表面に形成された前記凹凸構造は線状の凸部により形成された滑らかな構造であり、かつ、前記反射電極を一部開口させることでバックライト光を透過させる、
透過型を兼ねることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項２】
前記絶縁膜の前記凹凸構造は、その表面一体が熱処理により溶融された滑らかな構造であることを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項３】
前記絶縁膜の前記凹凸構造は、その表面一体が薬品により溶解された滑らかな構造であることを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項４】
前記絶縁膜は光吸収性を有する、請求項１、２または３記載の反射型液晶表示装置。
【請求項５】
前記絶縁層は同一材料からなる単層膜であることを特徴とする請求項１、２、３または４記載の反射型液晶表示装置。
【請求項６】
前記絶縁層は無機系絶縁膜と有機系樹脂との積層膜であることを特徴とする請求項１、２または３記載の反射型液晶表示装置。
【請求項７】
前記凹凸構造において凸部が不規則に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項８】
前記凹凸構造は１画素単位又は２以上の画素単位の不規則な凹凸形状の繰り返しからなる、請求項１に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項９】
前記絶縁膜は感光性能を有する有機樹脂又は無機樹脂からなる、請求項１記載の反射型液晶表示装置。
【請求項１０】
前記凹凸構造は、凸部が網目状につながっていることを特徴とする請求項１記載の反射型液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記課題を解決する本発明の反射型液晶表示装置は、透明な第一の基板と、この第一の基板上に設けられた透明電極と、第二の基板と、この第二の基板上に設けられたスイッチング素子と、このスイッチング素子上に設けられるとともに表面に不規則な凹凸構造が形成された絶縁膜と、この絶縁膜上に前記凹凸構造を反映させた形状で設けられるとともに前記スイッチング素子に接続された反射電極と、前記第一の基板の前記透明電極側と前記第二の基板の前記反射電極側とで挟み込まれた液晶層とを備えたものである。そして、前記絶縁膜は、前記スイッチング素子と前記反射電極との接続部を除いて前記スイッチング素子全体を覆うと共に表面に形成された前記凹凸構造は線状の凸部により形成された滑らかな構造であり、かつ、前記反射電極を一部開口させることでバックライト光を透過させるものである。これにより、本発明の反射型液晶表示装置は透過型を兼ねている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向の両端に形成される第１の領域と、軸方向の中央に形成される第２の領域とを含む円筒状の金属部材と、
第１の外径を有する端部と上記第１の外径より小さい第２の外径を有する中央部を含み、上記金属部材の内側に配置される支持部材とを有し、
上記端部は、上記金属部材の上記第１の領域と固定され、
上記中央部と上記金属部材との間に空隙が形成されることを特徴としたローラを少なくとも１つ有する定着装置。
【請求項２】
上記端部は、耐熱性の接着剤を用いて上記金属部材の上記第１の領域と固定されていることを特徴とした請求項１に記載の定着装置。
【請求項３】
上記支持部材の上記端部は、第１の硬度を有し、
上記支持部材の上記中央部は、上記第１の硬度より小さい第２の硬度を有することを特徴とした請求項１に記載の定着装置。
【請求項４】
上記支持部材の上記端部および上記中央部はそれぞれ独立して構成されていることを特徴とする請求項１に記載の定着装置。
【請求項５】
軸方向の両端に形成される第１の領域と、軸方向の中央に形成される第２の領域とを含み、軸方向に一定の内径を有する円筒状の金属部材と、
上記内径より小さい外径を有し、上記金属部材の内側に配置される支持部材と、
上記金属部材の上記第１の領域と上記支持部材との間に配置される固定部材とを有し、
上記金属部材の上記第２の領域と上記支持部材との間に空隙が形成されることを特徴としたローラを少なくとも１つ有する定着装置。
【請求項６】
上記固定部材は、上記空隙の空気を空隙の外に導く通気孔を有することを特徴とした請求項５に記載の定着装置。
【請求項７】
第１の外径を有する端部と上記第１の外径より小さい第２の外径を有する中央部とを含む芯部と、
上記芯部の周りに形成される支持部材と、
上記支持部材の周りに形成され、軸方向に一定の外径を有する円筒形の金属部材を有することを特徴としたローラを少なくとも１つ有する定着装置。
【請求項８】
第１の材質を含む円筒形の第１の金属層と、この第１の金属層の周りに形成され、上記第１の材質と異なる第２の材質を含む円筒形の第２の金属層とを含む金属部材と、
上記金属部材の内側に配置され、外力が提供されない環境で、上記金属部材の外径を一定に維持する支持部材を有することを特徴としたローラを少なくとも１つ有する定着装置。
【請求項９】
上記支持部材は、側面に複数の通気孔が形成される円筒形の芯部の周りに備えられる円筒形の発泡材であって、上記発泡材に含まれる空気が芯部を通って上記ローラの外に案内されることを特徴とした請求項８に記載の定着装置。
【請求項１０】
円筒状の金属部材と、
前記金属部材の内側に配置され、両端において最も大きく、中央に向かって次第に小さくなる外径を有する支持部材とを有する第１のローラと、
前記第１のローラに所定の圧力を提供する第２のローラとを有することを特徴とした定着装置。
【請求項１１】
前記金属部材は、端部において、内側に位置する前記支持部材と固定されていることを特徴とした請求項１０に記載の定着装置。
【請求項１２】
前記支持部材の中央部分は、前記金属部材との間に空隙が形成されることを特徴とした請求項１０に記載の定着装置。
【請求項１３】
前記支持部材の両端は、前記金属部材の内径より大きい外径を有し、前記金属部材の内側に前記支持部材が収容された状態で、軸方向の中央は、両端より高い硬度を有することを特徴とした請求項１０に記載の定着装置。
【請求項１４】
中心に軸芯を有し、断熱性を有する発泡ゴム層と、
この発泡ゴム層の外側に設けられた導電層とを少なくとも有し、
常温時、外側から測定した長手方向中央部の硬度より端部の硬度が高いことを特徴とする加熱ローラ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のインクジェットヘッドをガラス基板に対して相対的に走査させながら着色剤を吐出させ、前記ガラス基板上に前記着色剤により着色されたフィルタエレメントを複数個並べて形成してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、
前記複数のへッドをユニット化し、該ヘッドユニットを保持機構により製造装置本体に取り付けるとともに、前記保持機構の基準面から前記ヘッドユニットの取り付け面の位置を検出し、前記ヘッドユニットの姿勢を検出し、補正することを特徴とするカラーフィルタ製造装置。
【請求項２】
複数のインクジェットヘッドをガラス基板に対して走査させながら着色剤を吐出させ、前記ガラス基板上に前記着色剤により着色されたフィルタエレメントを形成してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、
前記複数のへッドをユニット化したヘッドユニットと、
該ヘッドユニットを製造装置本体に取付けるための保持機構と、
前記保持機構の基準面から前記ヘッドユニットの取り付け面の位置及び／または姿勢を検出する検出手段と、
検出された前記ヘッドユニットの位置／及び姿勢を補正する補正手段とを有することを特徴とするカラーフィルタ製造装置。
【請求項３】
前記保持機構は、前記ヘッドユニットの頂部に設けられた保持用フランジと、前記製造装置本体に設けられ該フランジを上方から保持するチャックを含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ製造装置。
【請求項４】
前記保持機構と前記へッドユニットが接触する部分の少なくとも一部に防振ゴムを用いていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
【請求項５】
前記保持機構は、圧力を利用して前記ヘッドユニットの保持力を補助するロック強化機構を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の第１の目的を達成するために、本発明の第１のカラーフィルタ製造装置は、複数のインクジェットヘッドをガラス基板に対して相対的に走査させながら着色剤を吐出させ、前記ガラス基板上に前記着色剤により着色されたフィルタエレメントを複数個並べて形成してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、前記複数のへッドをユニット化し、該ヘッドユニットを保持機構により製造装置本体に取り付けるとともに、前記保持機構の基準面から前記ヘッドユニットの取り付け面の位置を検出し、前記ヘッドユニットの姿勢を検出し、補正することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、本発明の第２のカラーフィルタ製造装置は、複数のインクジェットヘッドをガラス基板に対して走査させながら着色剤を吐出させ、前記ガラス基板上に前記着色剤により着色されたフィルタエレメントを形成してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、前記複数のへッドをユニット化したヘッドユニットと、該ヘッドユニットを製造装置本体に取付けるための保持機構と、前記保持機構の基準面から前記ヘッドユニットの取り付け面の位置及び／または姿勢を検出する検出手段と、検出された前記ヘッドユニットの位置／及び姿勢を補正する補正手段とを有することを特徴とする。
さらに、本発明の第３のカラーフィルタ製造装置は、前記保持機構は、前記ヘッドユニットの頂部に設けられた保持用フランジと、前記製造装置本体に設けられ該フランジを上方から保持するチャックを含むことを特徴とする。
さらに、本発明の第４のカラーフィルタ製造装置は、前記保持機構と前記へッドユニットが接触する部分の少なくとも一部に防振ゴムを用いていることを特徴とする。
さらに、本発明の第５のカラーフィルタ製造装置は、前記保持機構は、圧力を利用して前記ヘッドユニットの保持力を補助するロック強化機構を有することを特徴とする。
さらに、本発明のカラーフィルタは、前記記載のカラーフィルタ製造装置により製造されたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月1日(2007.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及びその駆動方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の信号線と、第１のスイッチと、第２のスイッチと、電流源回路と、複数の画素を有し、
前記第１の信号線は、前記第１のスイッチを介して前記複数の画素に電気的に接続されており、
前記電流源回路は、前記第２のスイッチを介して前記複数の画素に電気的に接続されており、
前記電流源回路から供給されるビデオ信号電流に対応するビデオ信号電圧を、前記第１の信号線から前記複数の画素に入力した後、前記電流源回路から前記複数の画素に前記ビデオ信号電流を入力することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１のスイッチを順次選択していく駆動回路が備えられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記電流源回路に、前記ビデオ信号電流に対応する電流を供給する第２の信号線が電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記ビデオ信号電流に対応する電流を前記電流源回路に順次供給するタイミングを制御する駆動回路が備えられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項３又は４において、
前記第１の信号線に前記ビデオ信号電圧を供給し、前記第２の信号線に前記ビデオ信号電流に対応する電流を供給する電圧電流供給回路が備えられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記ビデオ信号電圧が、前記第１の信号線に電気的に接続された前記複数の画素へのプリチャージ電圧であることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記第１のスイッチと前記複数の画素の間に、前記ビデオ信号電圧を出力する機能を有する電圧記憶回路が備えられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
電流源回路から供給されるビデオ信号電流に対応するビデオ信号電圧を、第１の信号線から第１のスイッチを介して複数の画素に入力した後、
前記電流源回路から第２のスイッチを介して前記複数の画素に前記ビデオ信号電流を入力することを特徴とする半導体装置の駆動方法。
【請求項９】
第１の電流源回路から供給されるビデオ信号電流に対応するビデオ信号電圧を、第１の信号線から第１のスイッチを介して第１の複数の画素に入力し、
第２の電流源回路から供給されるビデオ信号電流に対応するビデオ信号電圧を、第２の信号線から第２のスイッチを介して第２の複数の画素に入力した後、
前記第１の電流源回路から第３のスイッチを介して前記第１の複数の画素に前記ビデオ信号電流を入力するとともに、前記第２の電流源回路から第４のスイッチを介して前記第２の複数の画素に前記ビデオ信号電流を入力することを特徴とする半導体装置の駆動方法。
【請求項１０】
第１の電流源回路から供給されるビデオ信号電流に対応するビデオ信号電圧を、第１の信号線から第１のスイッチを介して第１の複数の画素に入力した後、
第２の電流源回路から供給されるビデオ信号電流に対応するビデオ信号電圧を、第２の信号線から第２のスイッチを介して第２の複数の画素に入力するとともに、前記第１電流源回路から第３のスイッチを介して前記第１の複数の画素に前記ビデオ信号電流を入力することを特徴とする半導体装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月29日(2007.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示するために複数の表示素子を駆動する駆動データを補正する補正値の決定方法であって、
測定用の画像データに従って表示素子を駆動して輝度と相関を有するデータを取得する工程と、
前記取得された輝度と相関を有するデータを、空間周波数データに変換する工程と、
前記空間周波数データの周波数成分と、輝度むら識別閾の空間周波数成分とを比較して、より小さい値を輝度目標値の空間周波数成分とする工程と、
前記輝度目標値の空間周波数成分に対して前記変換の逆変換を施して輝度目標値を得る工程と、
前記輝度目標値に基づいて、前記表示素子を駆動する駆動データに対する補正値を算出する工程と、を有する補正値の決定方法。
【請求項２】
画像を表示するために複数の表示素子を駆動する駆動データを補正する補正値の決定方法であって、
測定用の画像データに従って表示素子を駆動して輝度と相関を有するデータを取得する工程と、
前記取得された輝度と相関を有するデータを、空間周波数データに変換する工程と、
前記空間周波数データの周波数成分のうち輝度むら識別閾が所定の値以上である通過領域の空間周波数成分を減少させ、かつ、該通過領域の空間周波数成分を除く周波数成分を０に設定し、輝度目標値の空間周波数成分とする工程と、
前記輝度目標値の空間周波数成分に対して前記変換の逆変換を施して輝度目標値を得る工程と、
前記輝度目標値に基づいて、前記表示素子を駆動する駆動データに対する補正値を算出する工程と、を有する補正値の決定方法。
【請求項３】
前記通過領域の空間周波数成分のそれぞれに、該通過領域の輝度むら識別閾の最小値を該通過領域の空間周波数成分の和で除算した値より小さい係数を乗算して前記輝度目標値の空間周波数成分を求めること
を特徴とする請求項２に記載の補正値の決定方法。
【請求項４】
前記補正値を算出する工程は、輝度目標値を前記取得された輝度と相関を有するデータで除算する工程を含む請求項１乃至３のいずれかに記載の補正値の決定方法。
【請求項５】
複数の表示素子と、前記各表示素子への入力信号に対して補正を行う補正値を格納する格納手段とを備えた表示装置を用意する工程と、
請求項１乃至４のいずれかに記載の補正値の決定方法により決定された補正値を前記格納手段に格納する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】補正値の決定方法、表示装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
かかる目的を達成するために、本発明は、画像を表示するために複数の表示素子を駆動する駆動データを補正する補正値の決定方法であって、測定用の画像データに従って表示素子を駆動して輝度と相関を有するデータを取得する工程と、前記取得された輝度と相関を有するデータを、空間周波数データに変換する工程と、前記空間周波数データの周波数成分と、輝度むら識別閾の空間周波数成分とを比較して、より小さい値を輝度目標値の空間周波数成分とする工程と、前記輝度目標値の空間周波数成分に対して前記変換の逆変換を施して輝度目標値を得る工程と、前記輝度目標値に基づいて、前記表示素子を駆動する
駆動データに対する補正値を算出する工程と、を有する補正値の決定方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は、画像を表示するために複数の表示素子を駆動する駆動データを補正する補正値の決定方法であって、測定用の画像データに従って表示素子を駆動して輝度と相関を有するデータを取得する工程と、前記取得された輝度と相関を有するデータを、空間周波数データに変換する工程と、前記空間周波数データの周波数成分のうち輝度むら識別閾が所定の値以上である通過領域の空間周波数成分を減少させ、かつ、該通過領域の空間周波数成分を除く周波数成分を０に設定し、輝度目標値の空間周波数成分とする工程と、前記輝度目標値の空間周波数成分に対して前記変換の逆変換を施して輝度目標値を得る工程と、前記輝度目標値に基づいて、前記表示素子を駆動する駆動データに対する補正値を算出する工程と、を有する補正値の決定方法である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊細な図記号が装備された操作ボタン、装飾パネルおよびインストルメントパネルの製造方法において、
彫刻およびエッチングが可能な一つの台板の裏側に、いずれかの彫刻手段（レーザ、腐食、機械彫刻）により、繊細な図記号を刻む第１工程であって、該彫刻が、前記台板の材料内部に達するだけで、これを貫通するものではないものと、
前記台板の裏側を、場合により皮膜で被覆する第２工程と、
前記ラミネート皮膜の上に、または前記台板上に直接、一つのフィルムを被せ、前記ラミネート皮膜又は前記台板に固定する第３工程と、
前記台板の表側を、いずれかの材料摘出手段を用いた材料摘出プロセスにおいて処理する第４工程と、
前記台板内部に達している前記彫刻が、少なくとも部分的に、又は完全に前記表側に露出するまで、前記材料摘出手段による材料摘出を続行する第５工程と、
前記材料摘出後の台板の表側に、保護皮膜を塗布する第６工程とから成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
第７工程として、前記台板の裏側にプラスチック製支持部材を成形する工程を具備することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２工程に記載の皮膜が、ラミネート皮膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２工程に記載の皮膜が、ラミネートインクであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記第２工程に記載の皮膜が、積層皮膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
前記第２工程に記載の皮膜が、印刷により塗布される皮膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】
前記第２工程に記載の皮膜が、単色であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第２工程に記載の皮膜が、多色であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記第４工程に記載の材料摘出プロセスが、エッチングによることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第４工程に記載の材料摘出が、電解若しくは電食又は研削によることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
片面に記号が彫刻線として配置され、繊細な図記号が装備された、金属製の彫刻可能な一つの台板から成る操作ボタンにおいて、前記彫刻線が前記台板の外から見える側とは反対側の面に配置されることを特徴とする操作ボタン。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれか一項又は複数項に記載の方法にしたがって製造された繊細な図記号が装備された操作ボタンであることを特徴とする請求項１１に記載の操作ボタン。
【請求項１３】
前記繊細な図記号の彫刻線が、線幅および彫刻線幅が０．１ｍｍよりも大きいか、又はこれと等しい範囲にあり、前記台板の表側から前記図記号が見えることを特徴とする請求項１２に記載の操作ボタン。
【請求項１４】
前記彫刻により露出される模様のない領域が、前記台板上で正確に位置決めされて、前記台板に固定して接続されることを特徴とする請求項１３に記載の操作ボタン。
【請求項１５】
前記台板が、板厚が０．２から０．５ｍｍの範囲の、軽金属合金製であることを特徴とする請求項１４に記載の操作ボタン。
【請求項１６】
前記彫刻線の深さが、前記台板の残りの板厚が約０．０１ｍｍとなるところまでに達したことを特徴とする請求項１５に記載の操作ボタン。
【請求項１７】
操作ボタン本体部が、プラスチック製支持部材として、前記台板の完成品の裏側に成形されることを特徴とする請求項１６に記載の操作ボタン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
以上から本発明が解決しようとする課題は、繊細な図記号が装備される操作ボタン等の製造方法、および、この方法にしたがって製造される操作ボタン、装飾パネルおよびインストルメントパネルを、場合によりバックライト照明も可能であり、また切り取られた図記号により囲まれている板の残りの材料部分が板から不意に脱落する恐れが最早皆無であるような繊細な図記号を、操作ボタン表面に備えることができるように、さらに改良発展させることにある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月28日(2007.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】  前記ヒンジ軸の上部が係合孔内に挿入された状態でヒンジ軸を固定ブラケットに結合する結合手段を設けた請求項１に記載のドア用ヒンジ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１    オルタネータ
２    ハウジング
３    回転軸
４    転がり軸受
５    ロータ
６    整流子
７、７ａ  従動プーリ
８、８ａ、８ｂ  スリーブ
９、９ａ  サポート軸受
１０、１０ａ  ローラクラッチ
１１    内輪
１２    凹部
１３    カム面
１４    内輪軌道
１５    外輪
１６    ローラ
１７、１７ａ  クラッチ用保持器
１８    鍔部
１９    保持器
２０、２０ａ、２０ｂ、２０ｃ  一方向クラッチ内蔵型プーリ装置
２１    エンジン
２２    クランク軸
２３、２３ａ  駆動プーリ
２４、２４ａ  無端ベルト
２５    回転軸
２６    従動プーリ
２７    アイドルプーリ
２８    コンプレッサ
２９    ポンプ
３０    オートテンショナ
３１    テンションプーリ
３２    一方向クラッチ
３３    雌スプライン部
３４    凹溝
３５    外輪軌道
３６    外輪
３７    内輪軌道
３８    内輪
３９    転動体
４０    クラッチ用内輪
４１    クラッチ用外輪
４２    スプラグクラッチ
４３    スプラグ
４４    弾性リング
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月12日(2007.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
半溝の形状、大きさは深さが板体の１／２〜１／３、幅は板体の１／２〜１／３が適当する。深さが板体の１／２より大きいと、板体の端部の強度が弱くなり取り扱い時に破損して使用できなくなる。硬質パテの充填作業性が低下する等の問題が残り好ましくない。１／３より小さいと、板体の拘束力が低下して板体の動きを封ずることが難しくなり塗膜割れの原因となる。また幅が板体の１／２より大きいと、硬質パテの充填表面が広くなるため硬化収縮の塗膜割れを助長する作用をなし好ましくない。１／３より小さいと、やはり硬質パテの充填作業性が低下するため好ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エンジンの駆動軸に直結または連結された回転軸を有し且つ永久磁石を有するロータと、ステータコア及びこのステータコアに巻回されたステータコイルからなるステータとを備え、前記エンジンを始動させるときは電動機として動作すると共に、前記エンジンが始動した後は発電機として動作する永久磁石型電動機から構成されたスタータを兼用したオルタネータにおいて、
前記発電機として所定の回転速度領域にて動作させるときに、前記ロータと前記ステータとの間の界磁磁束を減少させる磁束減少手段を備えたことを特徴とするスタータを兼用したオルタネータ。
【請求項２】  前記磁束減少手段は、前記発電機として所定の回転速度領域にて動作させるときに、弱め界磁制御を実行するように構成されていることを特徴とする請求項１記載のスタータを兼用したオルタネータ。
【請求項３】  前記ロータは、磁性体及びこの磁性体の内部に埋め込んだ永久磁石から構成されていることを特徴とする請求項１または２記載のスタータを兼用したオルタネータ。
【請求項４】  前記磁性体の内部に、前記永久磁石の界磁方向の磁気抵抗を大きくする空隙部を設けたことを特徴とする請求項３記載のスタータを兼用したオルタネータ。
【請求項５】  前記磁束減少手段として、前記ロータと前記ステータとの軸方向の位置関係が変化する機構を備え、
前記電動機として動作するときは、前記ロータと前記ステータの対向する面積がほぼ最大となり、前記発電機として動作されるときは、前記ロータと前記ステータの対向する面積が減少するように構成されていることを特徴とする請求項１記載のスタータを兼用したオルタネータ。
【請求項６】  前記機構は、無通電時及び前記発電機として動作されるときは、前記ロータと前記ステータの対向する面積が減少する位置に前記ロータ及び前記ステータが位置するように付勢する手段を有し、前記電動機として動作させるために通電したときは、前記ロータと前記ステータの間の磁気吸引力により前記ロータと前記ステータの対向する面積がほぼ最大となる位置に前記ロータ及び前記ステータが位置するように構成されていることを特徴とする請求項５記載のスタータを兼用したオルタネータ。
【請求項７】  前記ロータを、磁性体及びこの磁性体の内部に埋め込んだ永久磁石から構成したことを特徴とする請求項６記載のスタータを兼用したオルタネータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上記構成の場合、前記磁束減少手段によって、前記発電機として所定の回転速度領域にて動作させるときに、弱め界磁制御を実行するように構成することが好ましい。更に、前記ロータを、磁性体及びこの磁性体の内部に埋め込んだ永久磁石から構成することが良い構成である。この構成の場合、前記磁性体の内部に、前記永久磁石の界磁方向の磁気抵抗を大きくする空隙部を設けることがより一層好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月14日(2007.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一方、本出願人のうちの１社である株式会社環境技建は、商品名を「バイテクソイル」（登録商標）とする有機質系植物生育基盤材を開発した。
「バイテクソイル」は、山間部や森林の開発工事などに伴って発生する伐開・伐根材、樹木の間伐作業によって生ずる間伐材、緑地、街路樹、公園、植栽樹木などの剪定枝葉、枯損樹木、建築現場から発生する解体木材、草類などに由来する有機質廃材を粉砕し、その粉砕物を微生物により高温で有機分解してそこに含まれる雑草の種子や根、雑菌類を死滅させて無菌状態にした後、植物の生育に有用な微生物、特に植物の生育に有用な細菌、放線菌、糸状菌、酵母菌などの菌類を添加した腐植土である。
「バイテクソイル」は、化学肥料を含んでいないが、それ自体で自己施肥機能を有し、植物に半永久的に栄養分を供給しながら植物を健全に生育させることができるため、環境汚染の問題もなく、自然に優しい（エコロジーな）環境保全に役立つ有用な資材として注目されている。そして、「バイテクソイル」を用いて、森林や山間部の開発によって生じた、土が直接露出した法面や垂直壁などの緑化を行う吹付工法が新しい工法として着目されている［なお、「バイテクソイル」を用いる緑化のための吹付工法は、「バイテクソイル工法」として平成１５年４月１８日に商標登録された（商標登録第４６６３４３６号）。かかる点から、以下、「バイテクソイル」を用いる緑化のための吹付工法を「バイテクソイル工法」ということがある］。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記したバイテクソイル工法では、「バイテクソイル」などの有機質系植物生育基盤材を主材料とし、これに水、粘着剤、保水剤などを混合撹拌して得られるスラリーを圧搾空気を利用して吹付機で被緑化面に吹き付ける方法が一般に採用されている。その際に、吹き付け時の作業性などの点から、植物生育基盤材の容量に対して一般に水を３０〜４０容量％という多量で混合してスラリーが調製されている。
そのため、スラリーは、粘度が低く、被緑化面に吹き付けた際に、タレを生じ易く、また保形性の点でも十分ではない。
また、吹き付けたスラリーは、乾燥時に収縮して、ひび割れを生じ易く、そのため植物生育基盤材が脆弱化して、そのひび割れ部分から降雨などによって基材の下の土砂が流出、崩壊し、場合によっては植物生育基盤材自体が脱落、崩壊、消失する場合もあり、植物の発芽や生育に適した環境が損なわれ易いという問題がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、バイテクソイル工法では、吹き付け厚さは一般に５ｃｍを標準としているが、一度に吹き付けを行うとスラリーが吹付面から脱落し易いので、２回に分けて吹き付ける方法が一般に採用されている。すなわち、前記スラリーを５ｃｍの厚さに吹き付けるに当たっては、まず約１／２の厚さまで吹き付け、その吹き付け面が少し硬化して安定した状態になった時点で残りの厚さを吹き付けるという二度の吹き付けが標準的な工法として採用されている。そのため、作業効率が悪く、経済性などの点で改善が求められている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  コンクリート表面に目地意匠を含む凹凸意匠を形成する合成
樹脂発泡体製の型枠本体と、該型枠本体の凹凸意匠面を非接着状態で被覆する合
成樹脂製カバーシートとを備えたコンクリート打設用化粧型枠において、合成樹
脂発泡体製の型枠本体および／または合成樹脂製カバーシートが、生分解性であ
ることを特徴とする、前記コンクリート打設用の化粧型枠。
【請求項２】  生分解性を有する合成樹脂が、脂肪族ポリエステル系樹脂で
ある請求項１に記載のコンクリート打設用の化粧型枠。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また請求項２に記載の発明は、生分解性を有する合成樹脂が、脂肪族ポリエス
テル系樹脂であるコンクリート打設用の化粧型枠を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月17日(2007.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部構造に固定される下鋼板、ゴム沓、上部構造に固定される上鋼板を順に配置した構造物用固定支承装置において、下鋼板または上鋼板に一端部が固定されたせん断キー部材がゴム沓を貫通し、該せん断キー部材の他端部に大径部を形成し、前記大径部を上鋼板または下鋼板に形成した係合段部に係合させ、前記大径部と前記係合段部との係合面間に５ｍｍ以内の隙間を形成し、該せん断キー部材が水平方向のせん断キーとしての機能と、上揚力止めの機能とを備えることを特徴とする構造物用固定支承装置。
【請求項２】
前記せん断キー部材の断面形状を円形断面または多角形断面とすることを特徴とする請求項１に記載の構造物用固定支承装置。
【請求項３】
前記せん断キー部材の配置を中央部に１本または複数本とすることを特徴とする請求項１または２に記載の構造物用固定支承装置。
【請求項４】
前記せん断キー部材とゴム沓とを一体加硫成形により一体に形成するかゴム沓の加硫成形後に前記せん断キー部材をはめ込むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかの橋梁用固定弾性支承構造。
【請求項５】
下鋼板または上鋼板へのせん断キー部材の一端部の固定手段及びせん断キー部材の他端部への大径部の固定手段として、ネジ、焼きばめ、冷やしばめ、削り出しの中から選択することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の構造物用固定支承装置。
【請求項６】
前記隙間に軟鋼またはゴム等の柔軟な材料を挿入することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の構造物用固定支承装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するために、下部構造に固定される下鋼板、ゴム沓、上部構造に固定される上鋼板を順に配置した構造物用固定支承装置において、下鋼板または上鋼板に一端部が固定されたせん断キー部材がゴム沓を貫通し、該せん断キー部材の他端部に大径部を形成し、前記大径部を上鋼板または下鋼板に形成した係合段部に係合させ、前記大径部と前記係合段部との係合面間に５ｍｍ以内の隙間を形成し、該せん断キー部材が水平方向のせん断キーとしての機能と、上揚力止めの機能とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本第４発明は、本第１〜第３発明のいずれかの構造物用固定支承装置において、前記せん断キー部材とゴム沓とを一体加硫成形により一体に形成するかゴム沓の加硫成形後に前記せん断キー部材をはめ込むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本第６発明は、本第１〜第５発明のいずれかの構造物用固定支承装置において、前記隙間に軟鋼またはゴム等の柔軟な材料を挿入することを特徴とする。本第７発明は、本第６発明の構造物用固定支承装置において、前記隙間に軟鋼またはゴム等の柔軟な材料を挿入することを特徴とする。
以上
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月10日(2007.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
向上した結合強度を有するポリマー組成物であって、
ａ．  ｉ．  ０．１から１００グラム／１０分のメルトインデックス、および
ｉｉ．  ０．８５５から０．８９０グラム／センチメートル3の密度、
を有する均一エチレン／α−オレフィンインターポリマーである１番目のポリマーを（ポリマー組成物の重量の）０．５重量パーセントから１０重量パーセント未満含み、かつ
ｂ．  ｉ．  ０．５から５００グラム／１０分のメルトインデックス、および
ｉｉ．  該１番目のポリマーの密度より少なくとも０．０１グラム／センチメートル3大きい密度、
を有するエチレンホモポリマーまたはエチレン／α−オレフィンインターポリマーである２番目のポリマーを（ポリマー組成物の重量の）９９．５重量パーセント以下含む、
６．２９グラム／１０分以上のメルトインデックスを有するポリマー組成物。
【請求項２】
該１番目のポリマーが０．８５５から０．８７０グラム／センチメートル3の密度を有する請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項３】
該１番目のポリマーが０．０５から１０グラム／１０分のメルトインデックスを示す請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項４】
該２番目のポリマーが１０から５００グラム／１０分のメルトインデックスを示す請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項５】
該１番目のポリマーが実質的に線状であるエチレン／α−オレフィンインターポリマーであり、これが、
ａ．  ≧５．６３のメルトフロー比（Ｉ10／Ｉ2）を示し、
ｂ．  不等式：
Ｍｗ／Ｍｎ≦（Ｉ10／Ｉ2）−４．６３
で定義される分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを示し、かつ
ｃ．  表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せん断速度が、同じＩ2およびＭｗ／Ｍｎを示す線状エチレン／α−オレフィンインターポリマーの表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せん断速度より、少なくとも５０パーセント大きい、
として更に特徴づけられる、請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項６】
該２番目のポリマーが均一エチレンポリマーであり、これが、
ａ．  １．５から３．０の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを示し、かつ
ｂ．  この２番目のポリマーがエチレン／α−オレフィンインターポリマーの場合には少なくとも５０パーセントのＣＤＢＩを示す、
として特徴づけられる、請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項７】
該２番目のポリマーが実質的に線状であるエチレンポリマーであり、これが、
ａ．  ≧５．６３のメルトフロー比（Ｉ10／Ｉ2）を示し、
ｂ．  不等式：
Ｍｗ／Ｍｎ≦（Ｉ10／Ｉ2）−４．６３
で定義される分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを示し、かつ
ｃ．  表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せん断速度が、同じＩ2およびＭｗ／Ｍｎを示す線状エチレンポリマーの表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せん断速度より、少なくとも５０パーセント大きい、
として特徴づけられる、請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項８】
該２番目のポリマーが該１番目のポリマーの密度より少なくとも０．０３グラム／センチメートル3大きい密度を有する請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項９】
該２番目のポリマーが該１番目のポリマーの密度より少なくとも０．０５グラム／センチメートル3大きい密度を有する請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【請求項１０】
繊維、ロト成形品、フィルム層、射出成形品、ブロー成形品、射出ブロー成形品または押出し加工被覆組成物の形態である請求の範囲第１項記載のポリマー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月17日(2007.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
ｉａ(ｔ)＝（ＶＯＮ／Ｒ）(１−ｅ−ｔ/Ｔ)  ・・・(３)
∴ｔ＝０のとき、ｉａ＝０、ｔ→∞で、ｉａ＝ＶＯＮ／Ｒ＝Ｉ／２
従って、ＯＦＦ相，ＯＮ相の各電流ｉｄ，ｉａの変化率は、それぞれ次のようになる。
ｄｉｄ(ｔ)/ｄｔ＝−(１/Ｔ)(Ｉ/２)ｅ−ｔ/Ｔ＋(１/Ｔ)(ＶＯＦＦ/Ｒ)ｅ−ｔ/Ｔ
＝−(Ｉ/２−ＶＯＦＦ/Ｒ)(１/Ｔ)ｅ−ｔ/Ｔ
＝−(Ｉ/２＋Ｖｎ/Ｒ＋Ｅｄ/Ｒ)(１/Ｔ)ｅ−ｔ/Ｔ  ・・・(４)
ｄｉａ(ｔ)/ｄｔ＝(１/Ｔ)(ＶＯＮ／Ｒ)ｅ−ｔ/Ｔ
＝(Ｉ/２)(１/Ｔ)ｅ−ｔ/Ｔ  ・・・(５)
上記(４)式及び(５)式において、(Ｉ/２＋Ｖｎ/Ｒ＋Ｅｄ/Ｒ)＞Ｉ/２であるから、ＯＦＦ相の電流変化率の方がＯＮ相の電流変化率より大きい。特に等価回路の抵抗Ｒが小さい場合、電源電圧Ｖｂ(≒２Ｖｎ)が大きい場合、或いは高速回転時で逆起電圧Ｅｄが大きい場合には、ＯＦＦ相の電流変化率はＯＮ相の電流変化率よりかなり大きくなる。従って、ＯＦＦ相の電流ｉｄがＩ／２から０まで下がる時間（Δｔ１）よりも、ＯＮ相の電流ｉａが０からＩ／２まで上がる時間（Δｔ）の方が長い。その後、区間（ｂ）において、ＯＮ相の電流ｉaが最終的に定常値（Ｉ／２）に到達するが、それまでに時間Δｔ（モータ回路の時定数の２〜３倍）を要する。従って、切替えられる２つの相の電流の立ち上がりと立ち下がりでは、電流変化率が異なっている。