【手続補正書】
【提出日】平成19年3月12日(2007.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示素子及びその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に、液晶及び高分子樹脂を含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加することにより、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子であって、上記一対の基板上に於ける液晶は濡れた状態にあり、上記液晶高分子複合体層は、印加電圧−光透過率特性の相互に異なる複数の領域が基板に対して垂直方向に配列して構成されていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
一対の基板間に、液晶及び高分子樹脂を含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子であって、上記一対の基板上に於ける液晶は濡れた状態にあり、両基板のうち一方の基板に於ける臨界表面張力と、他方の基板に於ける臨界表面張力とが相互に異なることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項３】
一対の基板間に、液晶及び高分子樹脂を含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子であって、上記一対の基板上に於ける液晶は濡れた状態にあり、両基板のうち一方の基板に対する液晶の接触角と、他方の基板に対する液晶の接触角とが異なることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項４】
一対の基板間に、液晶及び高分子樹脂を含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子であって、上記一対の基板上に於ける液晶は濡れた状態にあり、両基板のうち一方の基板に対する液晶分子のプレチルト角と、他方の基板に於ける液晶分子のプレチルト角とが相互に異なることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項５】
上記一方の基板に於ける液晶分子が該基板の法線方向に配向しており、かつ、上記他方の基板に於ける液晶分子が該基板に対して平行となるように配向していることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示素子。
【請求項６】
上記一対の基板のうち、一方の基板の内側面には絶縁膜が設けられていることを特徴とする請求項２ないし請求項５の何れか１つに記載の液晶表示素子。
【請求項７】
それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法であって、上記電極のうち一方の電極上に第１絶縁膜材料を塗布した後、該第１絶縁膜材料を焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極上に第２絶縁膜材料を塗布した後、該第２絶縁膜材料を焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板を、上記第１絶縁膜と第２絶縁膜とが対向するように貼り合わせて空セルを形成する貼り合わせ工程と、上記空セル内部に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する第１及び第２絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】
それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法であって、上記電極のうち一方の電極に絶縁膜材料を塗布した後、所定の焼成温度で焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極に上記絶縁膜材料を塗布した後、上記焼成温度とは異なる焼成温度で焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板を、上記第１絶縁膜と第２絶縁膜とが対向するように貼り合わせて空セルを形成する貼り合わせ工程と、上記空セル内部に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法であって、上記電極のうち一方の電極に、フッ素系界面活性剤を所定の添加量だけ加えた絶縁膜材料を塗布した後、該絶縁膜材料を焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極に、上記添加量とは異なる量のフッ素系界面活性剤を添加した絶縁膜形成用溶液を塗布した後、上記焼成温度で焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板間に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法に於いて、上記電極のうち一方の電極に、臨界表面張力が相互に異なる少なくとも２種の材料が所定の混合比にて混合された第１絶縁膜材料を塗布した後、所定の焼成温度で焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極に、上記第１絶縁膜材料とは異なる混合比で混合された第２絶縁膜材料を塗布した後、所定の焼成温度で焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板間に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する第１及び第２絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記の課題を解決する為に、請求項７に記載の発明は、それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法であって、上記電極のうち一方の電極上に第１絶縁膜材料を塗布した後、該第１絶縁膜材料を焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極上に第２絶縁膜材料を塗布した後、該第２絶縁膜材料を焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板を、上記第１絶縁膜と第２絶縁膜とが対向するように貼り合わせて空セルを形成する貼り合わせ工程と、上記空セル内部に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する第１及び第２絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
上記の課題を解決する為に、請求項８に記載の発明は、それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法であって、上記電極のうち一方の電極に絶縁膜材料を塗布した後、所定の焼成温度で焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極に上記絶縁膜材料を塗布した後、上記焼成温度とは異なる焼成温度で焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板を、上記第１絶縁膜と第２絶縁膜とが対向するように貼り合わせて空セルを形成する貼り合わせ工程と、上記空セル内部に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
上記の課題を解決する為に、請求項９に記載の発明は、それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法であって、上記電極のうち一方の電極に、フッ素系界面活性剤を所定の添加量だけ加えた絶縁膜材料を塗布した後、該絶縁膜材料を焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極に、上記添加量とは異なる量のフッ素系界面活性剤を添加した絶縁膜形成用溶液を塗布した後、上記焼成温度で焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板間に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
上記の課題を解決する為に、請求項１０に記載の発明は、それぞれ電極を有する一対の基板間に、液晶と高分子樹脂とを含む液晶高分子複合体層が設けられ、該液晶高分子複合体層に電界を印加して、液晶高分子複合体層の光散乱状態を変化させる液晶表示素子の製造方法に於いて、上記電極のうち一方の電極に、臨界表面張力が相互に異なる少なくとも２種の材料が所定の混合比にて混合された第１絶縁膜材料を塗布した後、所定の焼成温度で焼成して第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、上記電極のうち他方の電極に、上記第１絶縁膜材料とは異なる混合比で混合された第２絶縁膜材料を塗布した後、所定の焼成温度で焼成して第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、上記一対の基板間に、液晶及び高分子材料を含む混合組成物を設ける工程と、上記高分子材料を重合させることにより、上記液晶高分子複合体層を形成する液晶高分子複合体層形成工程とを備え、上記第１及び第２絶縁膜形成工程に於いて使用する第１及び第２絶縁膜材料は、上記液晶が濡れ性を示す材料であることを特徴とする。