【手続補正書】
【提出日】平成19年5月18日(2007.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリシロキサンを含有する塗布液組成物を支持体上に塗設して形成された低屈折率層を有する反射防止フィルムにおいて、該ポリシロキサンが、ケイ素原子上の４つの結合のうちの２以下の結合がそのケイ素原子からみて−Ｏ−Ｓｉと続く結合であるケイ素原子が全ケイ素原子数の７０％以上を占め、かつ、化学構造中に炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を少なくとも一つ有する、分子量４００以上１００００００以下のポリシロキサンであることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】  前記ポリシロキサンが、下記一般式（１）で表される単独または複数の構成単位が連結して形成されたものであり、かつ、少なくとも１つの構成単位が炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を置換基として有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【化１】
2002243905.tif 000001
式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素数６以上２０以下のアリールオキシ基、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数６以上２０以下のアリール基、炭素数２以上２０以下のアルケニル基、炭素数２以上２０以下のアルキニル基、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアシルオキシ基、または水酸基を表し、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
【請求項３】  前記ポリシロキサンが少なくとも１つの炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を置換基として有することを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】  前記ポリシロキサンが下記一般式（２）で表される構成単位を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【化２】
2002243905.tif 000002
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
【請求項５】  前記ポリシロキサンを含有する塗布液組成物が光の作用によって酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】  前記ポリシロキサンを含む塗布液組成物を塗設して形成された低屈折率層（１）と、それに隣接して層（１）と支持体との間に屈折率が１．５７〜２．５の高屈折率層（２）を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】  前記高屈折率層（２）の屈折率が１．７〜２．５の範囲であり、かつ該高屈折率層に隣接して低屈折率層（１）の反対側に層（１）と層（２）の中間の屈折率を有する中屈折率層（３）を有し、更に層（３）と支持体の間に屈折率が層（３）の屈折率よりも低く、１．６０以下の層（４）を有することを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】  支持体上にポリシロキサンを含有する塗布液組成物を塗設して低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法において、該ポリシロキサンとして、ケイ素原子上の４つの結合のうちの２以下の結合がそのケイ素原子からみて−Ｏ−Ｓｉと続く結合であるケイ素原子が全ケイ素原子数の７０％以上を占め、かつ、化学構造中に炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を少なくとも一つ有する、分子量４００以上１００００００以下のポリシロキサンを用いることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】  下記一般式（２）で表わされる構成単位を有し、分子量が４００以上１００００００以下であることを特徴とするポリシロキサン。
【化３】
2002243905.tif 000003
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
【請求項１０】  下記一般式（２）で表わされる構成単位を有し、分子量が４００以上１００００００以下のポリシロキサンを含有する塗布液組成物を支持体上に塗設して形成された低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【化４】
2002243905.tif 000004
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
【請求項１１】  支持体上にポリシロキサンを含有する塗布液組成物を塗設して低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法において、該ポリシロキサンが、下記一般式（２）で表わされる構成単位を有し、分子量が４００以上１００００００以下のポリシロキサンであることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【化５】
2002243905.tif 000005
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
【請求項１２】  支持体上にポリシロキサンを含有する塗布液組成物を塗布後、該ポリシロキサンを硬化させることを特徴とする請求項８または１１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１３】  請求項１〜７および１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを配置したことを特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題は、以下に示す手段によって達成された。
（１）ポリシロキサンを含有する塗布液組成物を支持体上に塗設して形成された低屈折率層を有する反射防止フィルムにおいて、該ポリシロキサンが、ケイ素原子上の４つの結合のうちの２以下の結合がそのケイ素原子からみて−Ｏ−Ｓｉと続く結合であるケイ素原子が全ケイ素原子数の７０％以上を占め、かつ、化学構造中に炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を少なくとも一つ有する、分子量４００以上１００００００以下のポリシロキサンであることを特徴とする反射防止フィルム。
（２）前記ポリシロキサンが、下記一般式（１）で表される単独または複数の構成単位が連結して形成されたものであり、かつ、少なくとも１つの構成単位が炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を置換基として有することを特徴とする（１）項に記載の反射防止フィルム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素数６以上２０以下のアリールオキシ基、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数６以上２０以下のアリール基、炭素数２以上２０以下のアルケニル基、炭素数２以上２０以下のアルキニル基、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアシルオキシ基、または水酸基を表し、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
（３）前記ポリシロキサンが少なくとも１つの炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を置換基として有することを特徴とする（１）または（２）項に記載の反射防止フィルム。
（４）前記ポリシロキサンが下記一般式（２）で表される構成単位を有することを特徴とする（１）〜（３）項のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
（５）前記ポリシロキサンを含有する塗布液組成物が光の作用によって酸を発生する化合物を含有することを特徴とする（１）〜（４）項のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
（６）前記ポリシロキサンを含む塗布液組成物を塗設して形成された低屈折率層（１）と、それに隣接して層（１）と支持体との間に屈折率が１．５７〜２．５の高屈折率層（２）を有することを特徴とする（１）〜（５）項のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
（７）前記高屈折率層（２）の屈折率が１．７〜２．５の範囲であり、かつ該高屈折率層に隣接して低屈折率層（１）の反対側に層（１）と層（２）の中間の屈折率を有する中屈折率層（３）を有し、更に層（３）と支持体の間に屈折率が層（３）の屈折率よりも低く、１．６０以下の層（４）を有することを特徴とする（６）項に記載の反射防止フィルム。
（８）支持体上にポリシロキサンを含有する塗布液組成物を塗設して低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法において、該ポリシロキサンとして、ケイ素原子上の４つの結合のうちの２以下の結合がそのケイ素原子からみて−Ｏ−Ｓｉと続く結合であるケイ素原子が全ケイ素原子数の７０％以上を占め、かつ、化学構造中に炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を少なくとも一つ有する、分子量４００以上１００００００以下のポリシロキサンを用いることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
（９）下記一般式（２）で表わされる構成単位を有し、分子量が４００以上１００００００以下であることを特徴とするポリシロキサン。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
（１０）下記一般式（２）で表わされる構成単位を有し、分子量が４００以上１００００００以下のポリシロキサンを含有する塗布液組成物を支持体上に塗設して形成された低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
（１１）支持体上にポリシロキサンを含有する塗布液組成物を塗設して低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法において、該ポリシロキサンが、下記一般式（２）で表わされる構成単位を有し、分子量が４００以上１００００００以下のポリシロキサンであることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、Ｒ５は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基または炭素数１以上２０以下のアルキル基を表わし、Ｒｆは炭素数１以上２０以下の含フッ素アルキル基を表わし、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、５≦ｍ＋ｎ≦１００００を満たす。
（１２）支持体上にポリシロキサンを含有する塗布液組成物を塗布後、該ポリシロキサンを硬化させることを特徴とする（８）または（１１）項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（１３）（１）〜（７）および（１０）項のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを配置したことを特徴とする表示装置。