Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月13日(2007.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形入力光ビームによって照らされるとき、非円形出力光ビームを生成することができる積分器と、
前記非円形出力光ビームの経路に配置される画像表示ユニットと、
前記積分器と前記画像表示ユニットとの間で前記非円形出力光ビームの前記経路に配置される非円形のアパーチャと、
を備えることを特徴とする画像表示システム。
【請求項２】
前記円形入力光ビームを生成するための光源をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記画像表示ユニットは、傾斜可能なミラーのアレイを備えることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記画像表示ユニットによって生成される画像光ビームを投影するために投影レンズユニット、および前記画像表示ユニットと前記投影レンズユニットとの間に配置される内部全反射プリズムユニットをさらに備えることを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記傾斜可能なミラーはそれぞれの軸を中心にして傾斜可能であり、前記軸は枢軸に平行であり、前記非円形出力光ビームは長軸および短軸を有し、前記長軸も前記短軸も前記枢軸に平行ではないことを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
前記非円形のアパーチャは長寸を有するアパーチャを備え、前記非円形出力光ビームは長寸を有し、前記非円形出力光ビームの前記長寸は前記非円形のアパーチャの長寸に平行ではないことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
伝搬方向に垂直な非円形の断面を有する照明光のビームを生成することができる光源と、
照明光の前記ビームによって照らされる画像表示ユニットと、
前記非円形の断面を有する照明光の前記ビームの前記経路に配置される非円形のアパーチャと、
を備え、前記非円形のアパーチャが前記光源と前記画像表示ユニットとの間に配置されることを特徴とする光学システム。
【請求項８】
前記画像表示ユニットは傾斜可能なミラーのアレイを備え、前記ミラーはそれぞれのミラー軸を中心にして傾斜可能であり、前記ミラー軸は枢軸に平行であることを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記照明光の前記非円形の断面は長寸と、前記長寸に垂直である短寸とを画定し、前記長寸および前記短寸は前記枢軸に平行でないことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記照明光は、それぞれ前記長寸および前記短寸に対応する長軸および短軸を画定する楕円形断面を有することを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を投影するための配列であって、
レーザービームを生成するレーザー供給源と、
第１の走査角度にわたって該レーザービームを掃引することにより、第１の方向に沿って配置された複数のピクセルを有している走査線を形成するスキャナであって、該第１の方向と直交する第２の方向に沿って第２の走査角度にわたって該走査線を掃引することにより、走査線のラスタパターンを投影表面に投影するスキャナと、
該投影表面の形状および向きの変化を検出する検出器と、
該レーザー供給源に加圧して、該レーザービームを生成し、該走査線上の選択されたピクセルを照らすことにより、該投影表面上に二次元で該画像を形成するコントローラであって、該投影表面の変化した形状および向きを検出すると、該スキャナを制御して、該走査角度のうちの少なくとも１つを変更することにより、該投影表面上の該画像の寸法のうちの少なくとも１つを変化させるコントローラと
備える、配列。
【請求項２】
前記コントローラは、前記走査角度を両方とも変更することにより、前記画像のアスペクト比を変化させるように作用する、請求項１に記載の配列。
【請求項３】
前記コントローラは、前記走査角度を両方とも低減することにより、前記画像の大きさを低減し、画像の輝度を増加させるように作用する、請求項１に記載の配列。
【請求項４】
前記スキャナは、前記第１の走査角度にわたって振動可能な第１の走査鏡と、前記第2の走査角度にわたって振動可能な第２の走査鏡とを含んでいる、請求項１に記載の配列。
【請求項５】
前記複数の走査線は、前記スキャナから前記投影表面まで前記レーザービームが移動する距離が異なるために、前記第１の方向に沿って測定した、異なる長さを有しており、
前記コントローラは、前記少なくとも１つの走査角度を変更することにより、該複数の走査線の長さを変化させるように作用する、請求項１に記載の配列。
【請求項６】
前記コントローラは、前記走査角度を両方とも非線形的に変更することにより、前記複数の走査線間の均一な間隔と、該複数の走査線のそれぞれの走査線上のピクセル間の均一な間隔とを提供するように作用する、請求項１に記載の配列。
【請求項７】
前記投影表面は、非二次元の形状に変形可能である、請求項１に記載の配列。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月27日(2007.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミクロスフィアの層と、
ミクロスフィアの層と光学的に関連して配置された反射コーティングと、
を含んでなる色シフティング再帰反射物品であって、
反射コーティングが、半透明の第１の反射層と第２の反射層との間に配置された少なくとも部分的に透明のスペーサー層を含んでなり、そして第１の方向から物品上に入射する光が第１の色で再帰反射され、そして第２の方向から物品上に入射する光が、第１の色とは視覚的に異なる第２の色で再帰反射されるように、反射コーティングの少なくとも一層が複数のミクロスフィアの各々と関連する不均一な厚さを備える、色シフティング再帰反射物品。
【請求項２】
ミクロスフィアの層と、
ミクロスフィアの層と光学的に関連して配置された反射コーティングと、
を含んでなる色シフティング再帰反射物品であって、
反射コーティングが、
ミクロスフィアの層に隣接する半透明の第１の反射層と、
第１の反射層に隣接する少なくとも部分的に透明のスペーサー層と、
スペーサー層が第１の反射層と第２の反射層との間にあるようにスペーサー層に隣接する第２の反射層と、
を含んでなり、
反射コーティングが可視光を不均一に反射し、そして少なくとも複数のミクロスフィアの各ミクロスフィアと関連する反射コーティングの予め定められた第１の領域が第１の厚さを備え、そして少なくとも複数のミクロスフィアの各ミクロスフィアと関連する反射コーティングの予め定められた第２の領域が、第１の厚さとは異なる第２の厚さを備える、色シフティング再帰反射物品。
【請求項３】
ミクロスフィアの層を提供する工程と、
ミクロスフィアの層と光学的に関連する反射コーティングを形成する工程と、
を含んでなる色シフティング再帰反射物品の製造方法であって、
反射コーティングを形成する工程が
ミクロスフィアの層に隣接する半透明の第１の反射層を堆積させる工程と、
第１の反射層上で少なくとも部分的に透明のスペーサー層を堆積させる工程と、
スペーサー層上で第２の反射層を堆積させる工程と、
を含んでなり、
第１の方向から物品上に入射する光が第１の色で再帰反射され、そして第２の方向から物品に入射する光が、第１の色とは視覚的に異なる第２の色で再帰反射されるように、複数のミクロスフィアの各々に反射コーティングの各層の少なくとも一層における不均一な厚さを提供するように反射コーティングが形成される、色シフティング再帰反射物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月19日(2007.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コントローラ（ＬＣＵ）（２４）を有するエレクトログラフィックプリンタのための文書作成方法であって、
前記コントローラはその文書（３００）に特有の情報を含むパントグラフ（３０２）のレシーバ上への印刷を制御する命令を有する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
連続して文書を印刷する時、その文書に特有の前記情報（３０６）を変えるステップを有する方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
マーキング用に特定されたピクセル（１０２、２０２、３０２）と、マーキング用に特定されていない前記ピクセルに隣接する他のピクセルとを有する配列（１００、２００、３００）を画成するステップと、
前記ピクセルに対応する前記レシーバ上の領域と前記他のピクセルに対応する前記レシーバ上の他の領域とを少なくとも部分的にマーキングすることにより、前記レシーバ上に読み取り可能な２ポイント以下の文字を印刷するステップと、を有する方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、
前記パントグラフをデジタル的に変更するステップを有する方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記印刷はトナーを用いた印刷を含む方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記印刷はアクセントカラートナーによる印刷を含む方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記印刷は黒以外のカラートナーによる印刷を含む方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、
前記印刷は紫外放射にさらされた時に蛍光を発するトナーによる印刷を含む方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、
前記印刷は赤外放射にさらされた時に蛍光を発するトナーによる印刷を含む方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法で作成された文書。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、
ＭＩＣＲトナーを用いて前記レシーバに前記パントグラフ（３０２）を印刷するステップを有することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、
前記パントグラフ（３０２）をデジタル的に変更するステップを有する方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法であって、
トナーを用いて前記レシーバに前記パントグラフ（３０２）を印刷するステップを有する方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法であって、
文字（５００）をデジタル的に変更するステップを有する方法。
【請求項１５】
文書作成装置であって、
エレクトログラフィックプリンタ（１０）と、
その文書（３００）に特有の情報を含むパントグラフ（３００）のレシーバ上への印刷を制御する命令を有するコントローラ（ＬＣＵ）（２４）とを有する装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の装置であって、
前記エレクトログラフィックプリンタはトナーを用いて印刷する装置。
【請求項１７】
請求項１５に記載の装置であって、
前記エレクトログラフィックプリンタはアクセントカラートナーを用いて印刷する装置。
【請求項１８】
請求項１５に記載の装置であって、
前記エレクトログラフィックプリンタは、黒以外のカラートナーを用いて印刷する装置。
【請求項１９】
請求項１５に記載の装置であって、
前記エレクトログラフィックプリンタは紫外放射にさらされた時に蛍光を発するトナーを用いて印刷する装置。
【請求項２０】
請求項１５に記載の装置であって、
前記エレクトログラフィックプリンタは赤外放射にさらされた時に蛍光を発するトナーを用いて印刷することを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験サンプルを提供するステップと、
黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ａｕｒｅｕｓ）反応物質を提供するステップと、
試験サンプルを黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ａｕｒｅｕｓ）反応物質と混合するステップであって、黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ａｕｒｅｕｓ）を含む試験サンプルが少なくとも１つの物理的性質の変化をもたらすステップと、
横波型弾性表面波バイオセンサーで変化を検出するステップと、
を含む、黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ａｕｒｅｕｓ）を検出する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月14日(2007.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面弾性波センサと、
前記表面弾性波センサの出力を受信するセンサ・アナライザと、
前記センサ・アナライザからの入力を受信し、表面弾性波センサの位相周波数応答のセグメントを識別して、前記位相周波数応答の識別されたセグメントに基づいて、前記表面弾性波センサを通過する波動伝播に付随する時間遅延を推定するプロセッサと、を備えるシステム。
【請求項２】
前記プロセッサが、前記表面弾性波センサに付随するランニング周波数に近接する第一および第二の位相屈折周波数を決定することにより、位相周波数応答のセグメントを識別する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記プロセッサが、
前記ランニング周波数に近接する周波数において複数の位相応答をサンプリングして、前記ランニング周波数に近接する周波数における前記複数の位相応答の関数として、前記位相屈折周波数を最初に推定し、
前記最初に推定した位相屈折周波数に近接する周波数において複数の位相応答をサンプリングして、
前記最初に推定した位相屈折周波数に近接する周波数における前記複数の位相応答の関数として、前記位相屈折周波数をより正確に推定することにより、位相屈折周波数を決定する、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第一および第二の位相屈折周波数が、前記表面弾性波センサの位相対周波数のグラフの単調変化する部分集合の稜線を規定する、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記プロセッサが、前記時間遅延を概ね次式、
【数１】
2007517228.tif 000001
ｆ0はランニング周波数、ｆ1は第一の位相屈折周波数、ｆ2は第二の位相屈折周波数、φ（ｆ0）は前記表面弾性波センサの前記ランニング周波数ｆ0において測定された位相応答である、請求項２に記載のシステム。
【請求項６】
前記プロセッサが、前記時間遅延を概ね次式、
【数２】
2007517228.tif 000002
ｆ0はランニング周波数、φ（ｆ0）は前記表面弾性波センサの測定された位相応答、ｆ*は第一の位相屈折周波数と第二の位相屈折周波数との間の任意の周波数、φ（ｆ*）は前記ランニング周波数ｆ*において測定された位相周波数応答、
【数３】
2007517228.tif 000003
は前記ランニング周波数ｆ*において測定された位相周波数応答の一次導関数である、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記プロセッサが、前記時間遅延を概ね次式、
【数４】
2007517228.tif 000004
は周波数ｆ0において測定された位相応答の一次導関数である、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記プロセッサが、前記時間遅延を概ね次式、
【数５】
2007517228.tif 000005
ｆ0は動作周波数、ｆ1は第一の位相屈折周波数、ｆ2は第二の位相屈折周波数、φ（ｆ0）は前記表面弾性波センサの測定された位相応答、積分
【数６】
2007517228.tif 000006
に等しく、ここで、φ（ｆ）は周波数ｆにおいて測定された位相応答であってｆはｆ1からｆ2まで変化する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記プロセッサが、前記推定された時間遅延に基づいて、前記表面弾性波の伝播速度を次式、
【数７】
2007517228.tif 000007
Ｌは入力櫛形トランスデューサ（ＩＤＴ）および出力ＩＤＴの中心同士の距離である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記プロセッサが、前記推定された時間遅延に基づいて伝播速度を推定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記プロセッサが、液体中の物質の濃度を、前記推定された伝播速度の関数として識別する、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記表面弾性波センサがＬｏｖｅモードＳＨ表面弾性波センサを備える、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の形状を測定する装置であって、
（ａ）ビームと、
（ｂ）前記ビームに装着される少なくとも１つのビームサポートと、
（ｃ）前記ビームに摺動可能に接続され、かつ前記表面までの距離を測定するように構成されるセンサアセンブリと、
（ｄ）前記ビームに沿って前記センサアセンブリの位置を測定するように構成される変換器アセンブリとを備え、
前記変換器アセンブリは、前記変換器アセンブリから延びるバネ荷重ケーブルの長さについての情報を生成するように構成され、
前記センサアセンブリの前記位置が前記情報により求められるようにすべく、前記バネ荷重ケーブルが前記変換器アセンブリによって張力をかけられる、装置。
【請求項２】
前記センサアセンブリは、レーザ三角測量センサを備える、請求１に記載の装置。
【請求項３】
レベリング装置をさらに備える、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記センサアセンブリおよび前記変換器アセンブリに接続されるデータ収集装置をさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記ビームサポートの長さは調整可能である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
表面の形状を測定する方法であって、
（ａ）ビームに沿った第１位置にセンサアセンブリを位置決めするステップと、
（ｂ）前記センサアセンブリから前記表面までの距離を前記第１位置で測定するステップと、
（ｃ）前記ビーム上の前記センサアセンブリの横方向位置を前記第１位置で測定するステップと、
（ｄ）ビームに沿った第２位置に前記センサアセンブリを位置決めするステップと、
（ｅ）前記センサアセンブリから前記表面までの距離を前記第２位置で測定するステップと、
（ｆ）前記ビーム上の前記センサアセンブリの横方向位置を前記第２位置で測定するステップとを含み、
前記ステップ（ｃ）および（ｆ）は変換器アセンブリを用いて実行され、
前記変換器アセンブリは、前記変換器アセンブリから延びるバネ荷重ケーブルの長さについての情報を生成するように構成され、
前記センサアセンブリの前記位置が前記情報により求められるようにすべく、前記バネ荷重ケーブルが前記変換器アセンブリによって張力をかけられる、方法。
【請求項７】
（ｇ）測定情報をデータ収集装置に送信するステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
（ｈ）前記表面の二次元プロファイルを作製するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月17日(2007.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的生物学的分析物の検出装置であって、
検出表面を含んでなる表面弾性波センサーと、
前記検出表面上に位置し、前記標的生物学的分析物を前記検出表面に選択的に付着可能である捕捉剤と、
ハウジングの内部容積内に位置し、前記検出表面と、前記検出表面から一定の間隔で離され、かつ前記検出表面に面している反対側表面とによって画定された容積を含んでなり、この反対側表面がフローフロント制御機構を含んでなる検出チャンバーと、
前記ハウジングの内部容積内に位置し、前記検出チャンバーと流体連通にある廃棄物チャンバーと、
剪断水平表面弾性波センサーを駆動する手段と、
前記表面弾性波センサーからのデータを分析して、標的生物学的分析物が前記捕捉剤に結合したかどうかを決定する手段と、
を含んでなることを特徴とする装置。
【請求項２】
標的生物学的分析物の検出装置であって、
検出表面を含んでなる剪断水平表面弾性波センサーと；
前記検出表面上に位置し、前記標的生物学的分析物を前記検出表面に選択的に付着可能である捕捉剤と；
ハウジングの内部容積内に位置し、前記検出表面と、前記検出表面から一定の間隔であけられ、かつ前記検出表面に面している反対側表面とによって画定された容積を含んでなり、この反対側表面が流動制御機構を含んでなる検出チャンバーと；
前記検出チャンバーと流体連通にあり、吸収性材料が内部に位置する廃棄物チャンバーと；
前記検出チャンバーと前記廃棄物チャンバーとの間に位置する毛細管構造と；
前記ハウジングの内部容積中へ開口するモジュールポートを通して前記ハウジングに付着された出口ポートを含んでなり、チャンバー内に選択された試薬を含有し、そしてさらに少なくとも１個のモジュールの前記出口ポートを閉鎖する出口シール、前記少なくとも１個のモジュール内に位置するプランジャーを含んでなり、前記プランジャーが前記出口ポートから遠位にある装填位置から、前記プランジャーが前記出口ポートの近位にある排出位置へと前記プランジャーは移動可能であり、前記出口ポート方向への前記プランジャーの移動によって前記出口シールが開放され、そして前記少なくとも１個のモジュールの前記チャンバーから材料が前記出口ポートを通って前記ハウジングの内部容積中に送られる、少なくとも１個のモジュールと；
前記少なくとも１個のモジュールの前記プランジャーに動作可能に連結され、前記装填位置から前記排出位置へとプランジャーを移動可能であるアクチュエーターと；
前記剪断水平表面弾性波センサーを駆動する手段と；
前記剪断水平表面弾性波センサーからのデータを分析して、前記標的生物学的分析物が前記捕捉剤に結合したかどうかを決定する手段と；
を含んでなることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置を提供する工程と；
試料材料を質量調整剤と接触させ、前記試料材料内の標的生物学的分析物が前記質量調整剤と相互作用して、質量が調整された標的生物学的分析物が試験試料内に得られる工程と；
前記試験試料を前記検出チャンバーに送ることによって、表面弾性波デバイスの検出表面を前記質量が調整された試験試料と接触させる工程と；
前記質量が調整された標的生物学的分析物を前記検出表面に選択的に付着する工程と；
前記検出表面を液体中に浸漬させながら、前記表面弾性波デバイスを操作して、前記付着された質量が調整された生物学的分析物を検出する工程と；
を含んでなることを特徴とする請求項１に記載の装置を使用する標的生物学的分析物の検出方法。
【請求項４】
生物学的分析物の検出方法であって、
試料材料内に位置する標的生物学的分析物を分画する工程と；
剪断水平表面弾性波センサーの検出表面を、前記分画された標的生物学的分析物を含有する前記試料材料と接触させる工程と；
前記分画された標的生物学的分析物を前記検出表面に選択的に付着させる工程と；
前記検出表面を液体中に浸漬させながら、前記剪断水平表面弾性波センサーを操作して、前記付着された分画された標的生物学的分析物を検出する工程と；
を含んでなることを特徴とする方法。
【請求項５】
主要表面を含んでなる圧電基板と；
前記圧電基板の前記主要表面上の少なくとも１個のトランスデューサーと；
を含んでなる剪断水平表面弾性波センサーであって、
少なくとも１個のトランスデューサーが前記圧電基板の前記主要表面上の音響経路を画定し、前記音響経路が第１の端部および第２の端部を含んでなり；
少なくとも１個のトランスデューサーが前記圧電基板の前記主要表面上に接触パッドを含んでなり、前記接触パッドは、前記音響経路の第１の側面から離れて、そして前記音響経路の前記第１の端部と前記第２の端部との間に位置し、前記接触パッドがリードによって前記少なくとも１個のトランスデューサーに連結されていることを特徴とするセンサー。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部容積を有するハウジングと、
前記ハウジングに動作可能に取り付けられ、検出面を有するセンサと、
前記ハウジングの前記内部容積内に位置し、前記検出面により画定される容積と、前記検出面から離間されて該検出面に対面し流れ前方制御部を備える対向面とを有する検出室と、
前記ハウジングの前記内部容積内に位置し、前記検出室と流体連通する廃棄室とを備える、検出カートリッジ。
【請求項２】
内部容積を有するカートリッジハウジングと、
該カートリッジハウジングに動作可能に取り付けられ、検出面を有するセンサと、
前記カートリッジハウジングの前記内部容積内に位置し、前記検出面により画定される容積と、前記検出面から離間されて該検出面に対面し流れ前方制御部を備える対向面とを有する検出室と、
前記カートリッジハウジングの前記内部容積内に位置し、前記検出室と流体連通する廃棄室と、
各々が前記カートリッジハウジングの前記内部容積内に開放する１つ以上のモジュール口を通して前記カートリッジハウジングに取り付けられた出口を備える１つ以上の封止されたモジュールとを備え、各モジュールは、
出口と封止された内部容積とを有するモジュールハウジングと、
前記モジュールの前記出口上に位置する出口封止材と、
前記モジュールハウジングの前記内部容積内に位置するプランジャとをさらに備え、前記プランジャは、該プランジャが前記出口から離れている充填位置から、前記プランジャが前記出口に近接している放出位置まで移動可能であり、
前記プランジャが前記出口に向かって移動すると、前記モジュールハウジングの前記内部容積からの材料が前記カートリッジハウジングの前記内部容積内に前記出口を通って出ていくように、前記出口封止材を開放する、検出カートリッジ。
【請求項３】
請求項１に記載の前記検出カートリッジを通して試料材料を移動する方法であって、
請求項１に記載の検出カートリッジを提供する工程と、
前記検出カートリッジの前記ハウジングの前記内部容積内に試料材料を送出する工程とを含み、前記試料材料が前記検出室に流入し、該検出室を通して前記廃棄室に向かう前記試料材料の流れ前方の進行が、前記検出室内の前記対向面上の前記流れ前方制御部により少なくとも部分的に制御される、試料材料を移動する方法。
【請求項４】
出口と封止された内部容積とを有するハウジングと、
前記出口上に位置する出口封止材と、
前記ハウジングの前記内部容積内に位置し、内部に液体を含む第１の室と、
前記ハウジングの前記内部容積内に位置し、内部に試薬を含む第２の室と、
前記ハウジング内で前記第１の室から前記第２の室を隔離する室間封止材と、
プランジャとを備え、前記第１の室、前記室間封止材、前記第２の室、及び前記出口封止材は、前記プランジャと前記出口との間に位置し、前記プランジャは、該プランジャが前記出口から離れている充填位置から、該プランジャが前記出口に近接している放出位置まで移動可能であり、
前記プランジャが前記出口に向かって移動すると、前記第１の室内の前記液体が前記第２の室内の前記試薬と接触するように、前記室間封止材を開放し、前記プランジャが前記放出位置内にさらに移動すると、前記ハウジングの前記内部容積からの前記液体及び前記試薬が前記出口を通って出ていくように、前記出口封止材を開放する、封止されたモジュール。
【請求項５】
出口と封止された内部容積とを有するハウジングと、
前記出口上に位置する出口封止材と、
前記ハウジングの前記内部容積内に位置し、内部に１つ以上の試薬を含む室と、
前記出口から離れた充填位置から前記出口に近接する放出位置まで移動可能なプランジャと、
前記室と流体連通する投入口とを備え、該投入口は、前記プランジャが前記充填位置にある際に前記プランジャと前記出口との間で前記室に進入し、
前記プランジャが前記出口に向かって動くと、前記ハウジングの前記内部容積からの材料が前記出口を通って出ていくように、前記出口封止材を開放する、モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
延性材料を含んで形成される本体と、
前記本体の両端に配置され、それぞれが第１および第２の光ファイバを受けるようになっている第１および第２の端部ポート部と、
前記第１および第２の端部ポート部の間で前記本体に配置され、ファイバスプライスを収容するようになっているファイバ接合部であって、前記本体に一体のセルフロッキング機構を有するファイバスプライス作動部を有するファイバ接合部と、
前記本体の９０度を超える曲げを支持するようになっているヒンジを形成する第１のヒンジ部と、
前記本体の９０度を超える曲げを支持するようになっているヒンジを形成する第２のヒンジ部と、
前記本体の約９０度の曲げを支持するようになっている曲げ領域と、
を具備することを特徴とするファイバスプライス装置。
【請求項２】
前記本体が単一の金属片からなる、請求項１に記載のファイバスプライス装置。
【請求項３】
前記ファイバ接合部が中心集中カムバーを有する、請求項１に記載のファイバスプライス装置。
【請求項４】
前記セルフロッキング機構は、前記本体の一部に配置される逆テーパ部分を有し、該本体が前記第１および第２のヒンジ部ならびに前記曲げ領域の周りで曲げられるときに、該逆テーパ部分が前記中心集中カムバーを受けるようになっている、請求項３に記載のファイバスプライス装置。
【請求項５】
前記セルフロッキング機構は、前記本体の表面上の隆起バンプを有し、該隆起バンプが、前記中心集中カムバーを受けるとともに、該中心集中カムバーのロック位置を維持するようになっている、請求項３に記載のファイバスプライス装置。
【請求項６】
前記中心集中カムバーの向かい側で前記本体に配置されるアクセス穴をさらに有し、該アクセス穴が、前記中心集中カムバーをロック位置から移動させるための移動機構を受けるようになっている、請求項３に記載のファイバスプライス装置。
【請求項７】
前記本体の表面に配置されて、作動時にファイバ締付けプレートに接触するようになっている締付け緩和パッドをさらに有し、該締付け緩和パッドは、前記中心集中カムバーが締付け力を該ファイバ締付けプレートに加えるときに、徐々の締付け力をもたらすようになっている、請求項３に記載のファイバスプライス装置。
【請求項８】
ファイバスプライスを形成する方法であって、
延性材料を含んで形成される本体と、第１および第２の端部ポート部の間で該本体に配置され、ファイバスプライスを収容するようになっているファイバ接合部であって、該本体に一体のセルフロッキング機構を有するファイバスプライス作動部を有するファイバ接合部と、該本体の９０度を超える曲げを支持するようになっているヒンジを形成する第１のヒンジ部と、該本体の約９０度の曲げを支持するようになっている曲げ領域とを具備するファイバ接合装置の、該第１および第２の端部ポート部に、第１および第２の光ファイバを、それらファイバの端部を互いに突き合わせるようにして配置することと、
前記ファイバスプライス作動部を前記セルフロッキング機構に係合させることと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月7日(2007.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の６層の光繰返し単位を含む多層反射フィルムであって、前記光繰返し単位の少なくとも一部が６層シーケンスＣＡＣＤＢＤまたはその巡回置換に配置される個別の層Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄを含み、前記Ａ層および前記Ｂ層は、前記Ｃ層および前記Ｄ層より光学的に厚く、前記個別の層は、関係ｎA≧ｎD＞ｎC＞ｎBまたは関係ｎA＞ｎD＞ｎC≧ｎBを満たす屈折率を有する、多層反射フィルム。
【請求項２】
前記個別の層の少なくとも１つは複屈折性であり、前記屈折率ｎA、ｎB、ｎC、ｎDは、設計波長で前記フィルムの面における軸に沿って測定される請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記個別の層は、実質的に整合される前記フィルムの面に垂直な軸に沿って測定される屈折率を有する請求項２に記載のフィルム。
【請求項４】
前記個別の層は、ポリマー材料から構成される請求項１に記載のフィルム。
【請求項５】
前記光繰返し単位は、前記フィルムの厚さ軸に沿って変化する厚さ分布を有するように配置される請求項１に記載のフィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
したがって、ｎDがｎAに近づくと（およびｎCがｎBに近づくと）、δは１に近づく。他方、ｎDおよびｎCが互いに近づく（これらは平均屈折率１２０ａに近づく）と、δは０に近づく。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月14日(2007.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータシステムまたはプログラムへのアクセスを、この目的のためだけのソフトウエアを端末（２）にインストールする必要なしに前記端末（２）を介してユーザに開放するための方法において、
−  前記ユーザの携帯型データ記憶媒体（１）と前記端末（２）の間のデータ接続が確立され、
−  前記ユーザの認証が前記携帯型データ記憶媒体（１）によって行われ、
−  前記認証が合格であれば、前記データ接続を介する送信のために、前記コンピュータシステムまたは前記プログラムへのアクセスを開放するためのアクセスコードの前記携帯型データ記憶媒体（１）による利用が可能になり、
−  前記端末（２）の入力装置が前記携帯型データ記憶媒体（１）によってシミュレートされる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記データ接続が前記端末（２）のＵＳＢインターフェース（７）を介して確立されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記認証が前記ユーザによって入力される個人秘密情報に基づいて行われることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記認証が生物測定方法に基づいて行われることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記アクセスコードが前記携帯型データ記憶媒体（１）によって生成されることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記アクセスコードの前記生成時に、前記コンピュータから入手可能にされた乱数が考慮されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
違法アクセスから保護される少なくとも１つのアクセスコードが前記携帯型データ記憶媒体（１）に格納されることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記データ接続を介する前記送信のための前記アクセスコードが前記携帯型データ記憶媒体（１）のメモリ（４）の共用領域において利用可能にされることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記アクセスコードが前記端末（２）のコマンドを用いることによって前記データ接続を介して送信されることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記アクセスコードが前記シミュレートされた入力装置の入力として前記データ接続を介して送信されることを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記アクセスコードがインターネットページに送信されることを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記コンピュータシステムへの接続を確立するためのソフトウエアが前記携帯型データ記憶媒体（１）の前記メモリ（４）に格納されていることを特徴とする請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記携帯型データ記憶媒体（１）の前記メモリ（４）にディスクドライブが用いられることを特徴とする請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
コンピュータシステムまたはプログラムへのアクセスを、この目的のためだけのソフトウエアを端末（２）にインストールする必要なしに前記端末（２）を介してユーザに開放するための携帯型データ記憶媒体であって、前記コンピュータシステムまたはプログラムへの前記アクセスを開放するためのアクセスコードを利用可能にするためのセキュリティチップ（６）を備えた携帯型データ記憶媒体において、前記端末（２）へのデータ接続を確立するための装置（３）が備えられ、前記セキュリティチップ（６）によって前記ユーザの認証を行い得ることを特徴とする携帯型データ記憶媒体。
【請求項１５】
前記端末（２）のＵＳＢインターフェース（７）に接続できることを特徴とする請求項１４に記載の携帯型データ記憶媒体。
【請求項１６】
ＵＳＢハブ（８）を備え、前記ＵＳＢハブ（８）によって前記端末（２）への前記データ接続が前記携帯型データ記憶媒体（１）において複数の個別信号経路に分けられることを特徴とする請求項１４または１５に記載の携帯型データ記憶媒体。
【請求項１７】
フラッシュＥＥＰＲＯＭとして構成されたメモリ（４）を備えることを特徴とする請求項１４から１６のいずれかに記載の携帯型データ記憶媒体。
【請求項１８】
生物測定データを検出するためのセンサ（５）を備えることを特徴とする請求項１４から１７に記載の携帯型データ記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面への標的分子の非特異的結合を低減する方法であって、
標的分子を含むサンプルを提供するステップと；
（ｉ）疎水性部分と捕捉部位、
（ii）ポリテトラフルオロエチレンフィブリルマトリックスと該マトリックスに絡ませた収着性粒子、及び、
（iii）疎水性部分と１つ以上の疎水結合した捕捉タンパク質、
の少なくとも１つを含む固相材料を提供するステップと；
２個以上のフッ素化疎水性セグメントと１個以上の親水性セグメントとを含むフッ素化非イオン性界面活性剤を提供するステップと；
任意に、二次ブロッキング剤を提供するステップと；
該固相材料を該フッ素化非イオン性界面活性剤に接触させて、かつ任意に、該固相材料を該二次ブロッキング剤に接触させて、該固相材料の疎水性部分の少なくとも一部をブロッキングするステップと；
ブロッキングされた該固相材料を該サンプルに接触させて、該サンプルの標的分子の少なくとも一部を該捕捉部位に固着させるステップと；
任意に、ブロッキングされた該固相材料から該サンプルの固着された標的分子の少なくとも一部を取り出すステップと；
を含む方法。
【請求項２】
表面を改質する方法であって、
疎水性部分を含む固相材料を提供するステップと；
タンパク質を提供しかつ該タンパク質を該固相材料に接触させて、該タンパク質を疎水結合させるステップと；
２個以上のフッ素化疎水性セグメントと１個以上の親水性セグメントとを含むフッ素化非イオン性界面活性剤を提供するステップと；
該固相材料を該フッ素化非イオン性界面活性剤に接触させて、該固相材料への他の分子の非特異的結合を低減するステップと；
を含む方法。
【請求項３】
フッ素化非イオン性界面活性剤が上に配置された固相材料を含む材料であって、
該固相材料が、
（ｉ）ポリテトラフルオロエチレンフィブリルマトリックスと該マトリックスに絡ませた収着性粒子、
（ii）熱誘起相分離メンブレン、及び、
（iii）高内相エマルジョン、
の少なくとも１つを含み、
該フッ素化非イオン性界面活性剤が、２個以上のフッ素化疎水性セグメントと１個以上の親水性セグメントとを含む；
材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
例示的なフッ素化界面活性剤（すなわちフルオロ界面活性剤）としては、ノベック（ＮＯＶＥＣ）ＦＣ４４３２およびＦＣ４４３０という商品名でスリーエム・カンパニー（３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ）（ミネソタ州セントポール（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ））から入手可能なものが挙げられる。フルオロ界面活性剤は、固相材料の表面を被覆することにより、他の物質の結合を防止するものと思われる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
【表３】
2007517217.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
ウエハを処理するためのシステムであって、
化学機械平坦化（ＣＭＰ）ツールと、
前記ＣＭＰツールの外側に設けられたセンサアレイと、
を備え、
前記ＣＭＰツールは、
ハウジング内に形成され、窓を形成された底面を有するウエハキャリアと、
前記ウエハキャリアの底面に取り付けられ、ＣＭＰ工程のあいだウエハを支えるように構成されたキャリアフィルムと、
前記ウエハキャリアに埋め込まれたセンサであって、前記窓の頂面の上方に配され、前記ウエハの近接度および厚さを決定するために前記ウエハ内に渦電流を誘導するように構成されたセンサと、
を含み、
前記センサアレイは、前記ウエハキャリアに埋め込まれた前記センサと接続されてており、第１のセンサと、対応する第２のセンサとを含み、前記第１のセンサおよび前記対応する第２のセンサは、活動状態と非活動状態との間で交互に切り替わるように構成され、前記第１のセンサは、更に、前記第２のセンサが非活動状態にあるときに活動状態にあるように構成され、前記センサアレイは、前記第１のセンサおよび前記対応する第２のセンサから前記ウエハまでの距離に依存しないウエハ厚さ信号を検出するように構成されている、
システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月19日(2007.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯磨き剤組成物に用いる研磨剤系であって、30〜300の範囲の放射性歯科用研磨（RDA）と40〜150cm3/100gの範囲の吸油量と、3〜15μmの範囲の重量平均粒度とを有する少なくとも１種の研磨剤の非晶質シリカと、0.2μm以下の平均微結晶寸法を有する結晶質のアルミノケイ酸塩とを含有してなる研磨剤系。
【請求項２】
30〜150の範囲の放射性歯科用研磨（RDA）と、60〜140cm3/100gの範囲の吸油量と5〜15μmの範囲の重量平均粒度とを有する摩耗性の非晶質シリカ（ここではシリカＡと示す）及び／又は100〜300の範囲の放射性歯科用研磨（RDA）と40〜150 cm3/100gの範囲の吸油量と3〜15μmの範囲の重量平均粒度とを有する摩耗性の非晶質シリカ（ここではシリカＢと示す）を含有してなる請求項１記載の研磨剤系。
【請求項３】
シリカＢは少なくとも100のRDAを有する請求項２記載の研磨剤系。
【請求項４】
アルミノケイ酸塩は次式：M2/nＯ・Al2O3・xSiO2・yH2Oを有する請求項１〜３の何れかに記載の研磨剤系。
【請求項５】
アルミノケイ酸塩はゼオライトＰである請求項１〜４の何れかに記載の研磨剤系。
【請求項６】
ｘは1.8〜2.4の範囲の値を有する請求項４記載の研磨剤系。
【請求項７】
アルミノケイ酸塩は0.1μm以下の微結晶寸法を有する請求項１〜６の何れかに記載の研磨剤系。
【請求項８】
結晶質アルミノケイ酸塩のRDAは120以下である請求項１〜７の何れかに記載の研磨剤系。
【請求項９】
結晶質のアルミノケイ酸塩は次式；M2/nＯ・Al2O3・xSiO2・yH2O（但しＭはアルカリ金属塩であり、該アルカリ金属Ｍの少なくとも一部分は１種又はそれ以上の別の金属部分で交換されている）を有するゼオライトＰから誘導される請求項１〜８の何れかに記載の研磨剤系。
【請求項１０】
シリカＡとシリカＢとの両方が存在し、シリカＡは研磨剤系の合したシリカ研磨剤／アルミノケイ酸塩含量の少なくとも25重量％よりなり、シリカＢは合したシリカＡ／シリカＢ／アルミノケイ酸塩全体の少なくとも２重量％よりなる請求項２〜９の何れかに記載の研磨剤系。
【請求項１１】
100〜300の範囲のRDAを有する清浄用促進剤として作用する相異なる結晶質アルミノケイ酸塩を更に含有してなる請求項１〜１０の何れかに記載の研磨剤系。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月19日(2007.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
0.2μｍ未満の平均微結晶寸法を有する結晶質アルミノシリケートを含有してなる歯磨剤組成物であって、上記アルミノシリケートは、式：
M２/ｎO・Al２O３・xSiO２・ｙH２O
(式中、Mはｎ価の原子価を有する金属部分を表し、ｘはシリカとアルミナのモル比を表し、ｙは水の分子とアルミナの分子の比を表す)を有するゼオライトであり、上記ゼオライトは、多くとも10.0μｍの重量平均粒度を有するＰ ゼオライトである、歯磨剤組成物。
【請求項２】
結晶質アルミノシリケートの平均微結晶寸法は0.01〜0.2μｍである、請求項１に記載の歯磨剤組成物。
【請求項３】
結晶質アルミノシリケートのRDA(放射性歯質磨耗度試験)は120以下である、請求項１又は２に記載の歯磨剤組成物。
【請求項４】
結晶質アルミノシリケートは、式：M２/ｎO・Al２O３・xSiO２・ｙH２O(式中、Mはアルカリ金属であり、アルカリ金属Mの少なくとも一部は1個又はそれ以上の他の金属部分で置換されている)で表されるゼオライト Pから誘導される、前記請求項のいずれか一つに記載の歯磨剤組成物。
【請求項５】
少なくとも１種の追加の研磨剤/洗浄剤を含有している、前記請求項のいずれか一つに記載の歯磨剤組成物。
【請求項６】
最初に述べたアルミノシリケートのRDA(放射性歯質磨耗度試験)は100未満である、請求項５に記載の歯磨剤組成物。
【請求項７】
存在する結晶質アルミノシリケート(存在する洗浄増進剤は含まない)の量は、歯磨剤組成物の10〜50重量％である、前記請求項のいずれか一つに記載の歯磨剤組成物。
【請求項８】
少なくとも50％のFT１００洗浄値を有する、前記請求項のいずれか一つに記載の歯磨剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月4日(2008.1.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キラルリガンドを製造するための方法であって、式(A)：
【化１】
2007517850.tif 000001
[式中、X★は、キラルまたはアキラル誘導基であり；
【化２】
2007517850.tif 000002
は、場合によっては、置換された単-または多環式アリールまたはシクロアルキル基である。]
で表される出発物質を用意し；その基質をオルトリチオ化し；そのオルトリチオ化された基質を、式：-PR1R1”
[式中、R1およびR1”は、互いに異なり、置換および未置換分岐および直鎖アルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、置換および未置換シクロアルキル、置換および未置換シクロアルコキシ、置換および未置換シクロアルキルアミノ、置換および未置換炭素環式アリール、置換および未置換炭素環式アリールオキシ、置換および未置換ヘテロアリール、置換および未置換ヘテロアリールオキシ、置換および未置換炭素環式アリールアミノ；および、置換および未置換ヘテロアリールアミノから独立に選択され、そのまたは各ヘテロ原子は、硫黄、窒素および酸素から独立に選択される。]
を有するホスフィン基に変換し；場合によっては、または、必要とされる場合には、X★を異なる基に変換して、キラルリガンドを生成させる各工程を含む方法。
【請求項２】
X★がキラル誘導基であり、オルトリチオ化がエナンチオ選択的である、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
X★が、
【化３】
2007517850.tif 000003
から選択され、R、R2およびR3が、置換および未置換分岐および直鎖アルキル、置換および未置換シクロアルキル、置換および未置換炭素環式アリール；および、置換および未置換ヘテロアリールから独立に選択され、そのまたは各ヘテロ原子が、硫黄、窒素および酸素から独立に選択される、請求項3に記載の方法。
【請求項４】
X★が、アキラル誘導基であり、オルトリチオ化が、キラル助剤の存在で進行し、エナンチオ選択的である、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
X★が、
【化４】
2007517850.tif 000004
から選択され；
R2およびR3が、置換および未置換分岐および直鎖アルキル、置換および未置換シクロアルキル、置換および未置換炭素環式アリール；および、置換および未置換ヘテロアリールから独立に選択され、そのまたは各ヘテロ原子が、硫黄、窒素および酸素から独立に選択される、請求項4に記載の方法。
【請求項６】
【化５】
2007517850.tif 000005
が、メタロセン化合物の1つの、場合によっては、さらに置換された芳香族環である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項７】
X★が、オルト誘導基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
【請求項８】
オルトリチオ化された基質をR1置換されたホスフィンまたはアルシンと反応させて、中間体化合物を形成する工程を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
【請求項９】
中間体化合物をR1”を有するグリニヤール試薬または有機リチウム化合物と反応させる工程を含む、請求項8に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月21日(2008.10.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
「ヘリックス-コイル変換を自発的に受ける」なる表現は、皮膚との接触の際の、変性剤の補助を伴わない、直線状態から三次状態への又はその逆の自動的または自発的な変換を意味する。特に、ほとんどのタンパク質は一次的な直線状態から三次状態への変換を受けるが、多数のタンパク質はアンフォールディングされることができない（ほどかれることができない）か、またはアンフォールディングのためには変性剤を要する。Simple Models for Protein Structure and Folding, Nicholas Donald Socci, 1992を参照されたい。あるクラスのタンパク質はそれらの新生状態のタンパク質に類似していて、該タンパク質は環境変化により（例えば、該タンパク質を含有する化粧品ビヒクルが変化した場合に、例えば乾燥または蒸発により）自発的にヘリックス-コイル変換を受けてフォールディングおよびアンフォールディングし、それにより、皮膚に対して引っ張り効果（pulling effect）をもたらしることが見出されている。そのようなクラスのタンパク質は、好ましくは、植物、野菜、藻類または細菌由来のタンパク質、およびバイオテクノロジーにより合成されたタンパク質を含むと意図されるが、被膜形成剤を与える動物由来のものも使用されうる。そのようなタンパク質には、絹由来のタンパク質（Charles B. Chrystal Co. Inc.からのSilk Crystal）、アーモンドタンパク質（SilabからのPolylift）、乳由来のタンパク質（Barnet ProductsからのLactofirm）、乳漿由来のタンパク質（DaviscoからのVersapro E）、ダイズタンパク質、タバコ葉タンパク質、細菌由来のタンパク質、マメ由来の繊維性タンパク質および卵白由来のタンパク質、例えばアルブミンが含まれるが、これらに限定されるものではない。特に好ましいのは絹由来のタンパク質、例えばSilk Crystalである。