【手続補正書】
【提出日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結像系の物体面に配置されたパターンを結像系の像面上に結像するために構成された、光学結像系を光学的に測定するための測定システムであって、測定システムが、
結像系の物体側に配置された物体側測定構造体を含む物体側構造体キャリアと、
結像系の像側に配置された像側測定構造体を含む像側構造体キャリアと、
物体側測定構造体が結像系によって像側測定構造体上に結像されたとき、重ね合わせパターンを生成するように互いにマッチされた、物体側測定構造体及び像側測定構造体と、
局部分解方式で重ね合わせパターンを検出する検出器とを有し、
結像系が、浸漬液で像面上にパターンを結像するために構成された浸漬系であり、
物体側構造体キャリアと像側構造体キャリアの少なくとも一方が、浸漬液の領域に配置されており、
保護システムが、浸漬液の領域に配置された構造体キャリアのために設けられていて、保護システムが、浸漬液の領域に配置された構造体キャリアの測定構造体の、浸漬液による劣化に対する耐性を高めている、測定システム。
【請求項２】
前述の構造体キャリアの少なくとも一方が、基材を有し、この基材上で測定構造体を形成する被覆が、少なくとも１つの基材表面に塗布されている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項３】
被覆が、金属又は合金からなる、請求項２に記載の測定システム。
【請求項４】
被覆が、クロム又はクロム含有金属からなる、請求項２に記載の測定システム。
【請求項５】
保護システムが、測定構造体を形成する被覆及び基材に対して塗布されていて、被覆が基材及び保護システムによって囲まれていて全ての側で少なくとも実質的に液密状になっている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項６】
保護システムが、測定放射光に対して透過性の少なくとも１つの保護層を有する、請求項１に記載の測定システム。
【請求項７】
保護システムが、測定構造体に塗布された保護層によってのみ形成されている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項８】
保護層が、測定放射光に対して透過性の単一材料層によって形成されている、請求項６に記載の測定システム。
【請求項９】
保護層が、浸漬液に対して少なくとも実質的に非浸透性の少なくとも１つのバリア層を有する、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１０】
バリア層が、浸漬液に対して少なくとも実質的に化学的耐性を有する少なくとも１つのバリア層材料からなり、かつ、バリア層の、測定構造体と反対側に面する外側から、バリア層の、測定構造体に面する側に延在する細孔を少なくとも実質的に有していない、請求項９に記載の測定システム。
【請求項１１】
保護層が、二酸化ケイ素の単一層である、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１２】
二酸化ケイ素の単一層が、３０ｎｍ及び１００ｎｍの間の幾何学的層厚さを有する、請求項１１に記載の測定システム。
【請求項１３】
保護層が、一方を他方の上に置く複数の材料層を有する、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１４】
保護層が、保護層と浸漬液との間に形成された固体−液体境界面用の反射減少層として構成されている、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１５】
保護層が、測定構造体を形成する金属被覆の電気メッキ被覆であり、かつ、浸漬液に対して金属被覆の材料より化学的に安定している金属で形成されている、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１６】
保護層が、測定構造体を形成する金属被覆の材料の反応生成物からのパッシベーション層として構成されており、これが浸漬液に対して金属被覆の材料より化学的に安定している、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１７】
保護層が、測定構造体を形成する下側にある被覆による形状ずれに関して補正されていて、放射光入射面として機能する保護層の外側が、平坦面であるようになっている、請求項６に記載の測定システム。
【請求項１８】
保護システムが、浸漬液の領域に配置された構造体キャリアから分離した構成部品であり、これが測定構造体と浸漬液との間に取り付けられている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項１９】
測定構造体と保護システムとの間の隙間を更に含む、請求項１に記載の測定システム。
【請求項２０】
隙間が、気体又は液体で満たされている、請求項１９に記載の測定システム。
【請求項２１】
保護システムが、測定放射光に対して透過性の平行平面プレートを有し、これが、少なくとも測定中に、測定構造体と浸漬液との間に配置されている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項２２】
保護システムが、プレート用の保持構造体を有し、これが、浸漬液の領域に配置された構造体キャリア上に載置されるとき、測定構造体を側方で囲んでおり、測定構造体が、プレート及び保持構造体によって形成された保護システムによって液密状に囲まれるようになっている、請求項２１に記載の測定システム。
【請求項２３】
重ね合わせパターンから結像系の結像品質を説明する少なくとも１つの結像パラメータを表す信号を出力する評価装置を更に有し、評価装置が、重ね合わせパターンを評価する評価プログラムと、重ね合わせパターンに対する保護システムの光学効果を計算によって補正する補正プログラムとを有する、請求項１に記載の測定システム。
【請求項２４】
保護システムの光学効果の計算による補正が、保護システム付きの測定構造体の少なくとも１つの測定変数の第１値と、保護システムなしの同一の測定構造体の測定変数の第２値との間の差から計算されている、請求項２３に記載の測定システム。
【請求項２５】
保護システム付きの測定構造体及び保護システムなしの測定構造体が、小領域にだけ保護システムを設けた測定構造体によって形成されている、請求項２４に記載の測定システム。
【請求項２６】
浸漬液が、結像系の最後の像側光学素子と像面との間に配置されていて、像側構造体キャリアが、浸漬液の領域に配置されていて、像側測定構造体が、結像系の像面に又はその近くに配置されている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項２７】
測定システムが、浸漬動作のために構成された回折干渉計として構成されていて、像側測定構造体が、基準波を生成する寸法の第１開口と、第１開口より大きく、かつ、結像系から出た試料波が自由に通過可能な寸法の第２開口とを有し、重ね合わせパターンが、基準波と試料波とのコヒーレントな重ね合わせによって形成された干渉パターンである、請求項１に記載の測定システム。
【請求項２８】
浸漬液が、結像系の最後の像側光学素子と像面との間に配置されていて、像側構造体キャリアが、浸漬液の領域に配置されていて、像側測定構造体が結像系の表面に又はその近くに配置されている、請求項２７に記載の測定システム。
【請求項２９】
測定システムが、深紫外領域の動作波長で作動するように構成されている、請求項１に記載の測定システム。
【請求項３０】
動作波長が、少なくともほぼ１９３ｎｍである、請求項２９に記載の測定システム。
【請求項３１】
浸漬液で光学結像系を光学的に測定するための測定システム用の構造体キャリアであって、
基材上に形成された少なくとも１つの測定構造体と、
浸漬液による劣化に対する測定構造体の耐性を高める保護システムと、
を有する構造体キャリア。
【請求項３２】
測定構造体が、回折格子である、請求項３１に記載の構造体キャリア。
【請求項３３】
測定構造体が、モアレ測定法のための線構造体である、請求項３１に記載の構造体キャリア。
【請求項３４】
測定構造体が、少なくとも１つのピンホールを有する、請求項３１に記載の構造体キャリア。
【請求項３５】
測定構造体が、浸漬動作において回折干渉計に適合されていて、測定構造体が、基準波を生成する寸法の第１開口と、第１開口より大きく、かつ、結像系から出た試料波が自由に通過可能な寸法の第２開口とを有する、請求項３１に記載の構造体キャリア。
【請求項３６】
保護システムが、保護層によって形成されていて、これが浸漬液に関して少なくとも実質的に非浸透性であり、これが測定構造体上に配置されていて測定構造体を浸漬液との接触から分離している、請求項３１に記載の構造体キャリア。
【請求項３７】
保護層が、測定放射光に対して透過性である、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項３８】
保護層が、測定構造体及び基材に対して塗布されていて、測定構造体が、基材及び保護層によって囲まれていて全ての側で少なくとも実質的に液密状になっている、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項３９】
保護層が、二酸化ケイ素の単一層である、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項４０】
二酸化ケイ素の単一層が、３０ｎｍ及び１００ｎｍの間の幾何学的層厚さを有する、請求項３９に記載の構造体キャリア。
【請求項４１】
保護層が、一方を他方の上に置く複数の材料層を有する、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項４２】
保護層が、保護層と浸漬液との間に形成された固体−液体境界面用の反射減少層として構成されている、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項４３】
保護層が、測定構造体を形成する金属被覆の電気メッキ被覆であり、かつ、浸漬液に対して金属被覆の材料より化学的に安定している金属で形成されている、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項４４】
保護層が、測定構造体を形成する金属被覆の材料の反応生成物からのパッシベーション層として構成されており、反応生成物が浸漬液に関して金属被覆の材料より化学的に安定している、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項４５】
保護層が、測定構造体を形成する下側にある被覆による形状ずれに関して補正されていて、放射光入射面として機能する保護層の外側が、平坦面であるようになっている、請求項３６に記載の構造体キャリア。
【請求項４６】
測定システムの測定フィールドを制限するダイアフラム構造体を更に有する、請求項３１に記載の構造体キャリア。
【請求項４７】
浸漬液によって引き起こされる劣化に対して、構造体キャリアの基材に形成された測定構造体を保護する方法であって、
浸漬液によって引き起こされる劣化に対する、構造体キャリアの測定構造体の耐性を高めるための保護システムを提供する工程と、
浸漬液の領域に構造体キャリアを配置する工程と、を有する方法。
【請求項４８】
保護システムを提供する工程が、保護被覆で測定構造体を被覆する工程を含む、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
光学測定装置であって、
予め定められた波長範囲の測定放射光に対して少なくとも実質的に透過性の第１構造体キャリアと、
放射光に対して少なくとも実質的に透過性であって、測定されるべき投影対物レンズを収容するのに十分な空間により第１構造体キャリアから分離された第２構造体キャリアと、
投影対物レンズと第２構造体キャリアの間に置かれた浸漬液とを有し、
第２構造体キャリアが、回折格子と、回折格子を空間から全体的に遮蔽する保護装置とを有し、
保護装置が、浸漬液に対して少なくとも実質的に化学的耐性を有し、かつ、非浸透性である、光学測定装置。
【請求項５０】
回折格子が、少なくとも本質的にクロムから形成され、保護装置が、少なくとも本質的に石英からなる被覆を有する、請求項４９に記載の光学測定装置。
【請求項５１】
回折格子が、少なくとも本質的にクロムからなり、保護装置が、少なくとも本質的に金からなる被覆を有する、請求項４９に記載の光学測定装置。
【請求項５２】
回折格子が、少なくとも本質的にアルミニウムからなり、保護装置が、少なくとも本質的に酸化アルミニウムのパッシベーション層を含む、請求項４９に記載の光学測定装置。
【請求項５３】
保護装置が、プレートを有し、このプレートが、回折格子から空間的に取り除かれていて、少なくとも本質的に合成石英ガラス又はフッ化カルシウムから形成されている、請求項４９に記載の光学測定装置。