Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録媒体に対し光を照射する光源と、
前記光源から出射された光を回折する第一の回折格子と、
前記情報記録媒体からの戻り光を回折する第二の回折格子と、
前記戻り光を受光して信号を検出する信号検出部とを有し、
前記第一の回折格子は前記光源と前記情報記録媒体との間に設けられており、
前記第二の回折格子は前記情報記録媒体と前記信号検出部との間に設けられており、
前記信号検出部は、
前記第二の回折格子を透過した０次光からＡＦ信号を検出するＡＦ信号検出部と、
前記第二の回折格子で回折された一次光から前記情報記録媒体の記録信号を専用に検出するＲＦ信号検出部と、
を有することを特徴とする情報再生装置。
【請求項２】
前記光源は、
第一の波長の光を出射する第一の光源と、
前記第一の波長と異なる第二の波長の光を出射する第二の光源と、
前記第一・第二の波長と異なる第三の波長の光を出射する第三の光源とを有することを特徴とする請求項１記載の情報再生装置。
【請求項３】
前記ＡＦ信号検出部は第二のＲＦ信号検出部を兼ね、
前記ＲＦ信号検出部で検出された信号を増幅するＡＣアンプと、
前記第二のＲＦ信号検出部で検出された信号を増幅するＤＣアンプと、
を有することを特徴とする請求項１記載の情報再生装置。
【請求項４】
前記信号検出部は、トラックずれ量を検出する第一および第二の受光部を有し、
前記ＡＦ信号検出部は、前記第一および第二の受光部を結ぶ第一の直線上に実質的に配置され、
前記ＡＦ信号検出部と前記ＲＦ信号検出部とを結ぶ第二の直線と前記第一の直線が略直交する位置に前記ＲＦ信号検出部は配置されることを特徴とする請求項１記載の情報再生装置。
【請求項５】
情報記録媒体に光を照射する光源と、
前記情報記録媒体の記録信号を検出する第一、第二の信号検出部と、
前記第一の信号検出部で検出された信号の所定の周波数成分をカットオフする第一の周波数フィルタと、
前記第二の信号検出部で検出された信号の所定の周波数成分をカットオフする第ニの周波数フィルタと、
前記第一、第二の周波数フィルタを通過した二つの信号の差信号を得る手段と、
前記差信号と、前記第一の信号検出部で検出された信号と、を加減算する加減算回路と、を有することを特徴とする情報再生装置。
【請求項６】
前記第一、第二の周波数フィルタのカットオフ特性は、略同一であることを特徴とする請求項５記載の情報再生装置。
【請求項７】
情報記録媒体に光を照射する光源と、
前記情報記録媒体の記録信号を検出する第一、第二の信号検出部と、
前記第一、第二の信号検出部で検出された信号の差信号を得る手段と、
前記差信号の所定の周波数成分をカットオフする周波数フィルタと、
前記周波数フィルタを通過した信号と前記第一の信号検出部で検出された信号とを加減算する加減算回路と、
を有することを特徴とする情報再生装置。
【請求項８】
前記第一、第二のいずれかの信号検出部で検出された信号の利得を可変に変化させる手段を有することを特徴とする請求項７記載の情報再生装置。
【請求項９】
情報記録媒体に光を照射する光源と、
前記情報記録媒体からの戻り光から、前記情報記録媒体の記録信号を検出する第一、第二の信号検出部と、
前記第一の信号検出部で検出された信号を増幅するＡＣアンプと、
前記第二の信号検出部で検出された信号を増幅するＤＣアンプと、
を有し、
前記ＤＣアンプで増幅された信号を用いて自動焦点制御とトラッキング制御を行い、前記ＡＣアンプで増幅された信号を用いて復号処理を行うことを特徴とする情報再生装置。
【請求項１０】
前記ＡＣアンプで増幅された信号を、長マークの変調信号の上限と下限とを検知して、前記上限または下限を超えた分について、ＤＣレベルの加算補正量を変化させる追従補正手段を有することを特徴とする請求項９記載の情報再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月1日(2006.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
なお、この技術におけるディスク状記録媒体保持具は、ディスク状記録媒体保持具自体が保持片及び側壁部を一体的に構成するタイプのものと、ディスク状記録媒体の中央孔に位置する磁石部材と該磁石部材を装着し、かつ、ディスク状記録媒体を収容する収容カバーとで構成されるタイプのものとが開示されている。（特許文献１参照）
そして、前者のタイプのディスク状記録媒体保持具は、ディスク状記録媒体の中央孔を利用し直接的にディスク状記録媒体を収納できるので収納の操作性が良く、複数個のディスク状記録媒体をディスク状記録媒体の連結により簡単に実施することができると共に、好みのディスク状記録媒体の抽出作業も楽に行える利点がある。
また、後者のタイプのディスク状記録媒体保持具は、ディスク状記録媒体を収容カバー内に収容するため、ディスク状記録媒体に埃や手の跡等の汚れがつきにくい利点がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、磁石Ｍａにヨーク部材Ｍｂを重ねて使用した場合は、磁石Ｍａ単品の磁気吸着力と比較して、磁石Ｍａの露出側の磁気吸着力が向上しヨーク部材Ｍｂ露出側の磁気吸着力は減少する特性が生じるので、本実施例においては、側壁部材４の外面８側にヨーク部材Ｍｂを配置して、保持部材５側のディスク状記録媒体保持具自体の磁気吸着力を向上させると共に、側壁部材４の外面８側への漏洩磁束を減少させるように使用する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
具体的に説明すると、保持部材３５には外周を立ち上げて外周壁３５ｂが設けられ、その外周面には３箇所の凹部で形成される舌片収納部３５ｅ，３５ｅ，３５ｅが設けられており、保持部材３５の内面には収納部を避けた３つの面に図１０（ｃ）に表わされる係合溝３５ｊが設けられている。また、舌片収納部３５ｅ，３５ｅ，３５ｅの内面側に磁石部材収納部３５ｈが形成される。
なお、本実施例においては、保持部材３５の外周壁３５ｂの外径はディスク状記録媒体Ａの中央孔Ｂより小さく、かつ、後述するカバー部材３３の孔部３３ａより若干小さく形成されており、前述した実施例２のようなカバー収納段部は設けない。
一方、側壁部材３４における側壁部３４’の内面３６の中央部には、突起部３７ｂを有する保持部材取り付け壁３７，３７，３７が立設されており、その内側に磁石部材収納部３７ａが形成される。
また、各保持部材取り付け壁３７の中間に上記保持部材３５の舌片収納部３５ｅ内に位置し、上部に突部３５ｄを設け下部にカバー嵌合溝３９を有する弾性舌片３５ｃ，３５ｃ，３５ｃが立設される。なお、この各弾性舌片３５ｃ，３５ｃ，３５ｃの外径は後述するディスク状記録媒体Ａの中央孔Ｂの径より若干小さく、かつ、後述するカバー部材３３の孔部３３ａ径より大きな寸法に形成され、突部３５ｄはディスク状記録媒体Ａの中央孔Ｂより大きく形成される。また、カバー嵌合溝３９の外径はカバー部材３３の孔部３３ａより若干小さく形成される。
なお、側壁部材３４の側壁部３４’の外周部には指掛け用切り欠き部３４ｅ，３４ｅが設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
【図１】本発明の実施例１を表わし、（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の斜視図を示す。
【図２】本発明の実施例１における本体ユニットを表わし、（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の斜視図を示す。
【図３】本発明の実施例１におけるカバー部の孔部拡大図を示し、（ａ）は凹部搭載形状、（ｂ）は凸部搭載形状を示す。
【図４】本発明の実施例１の拡大断面図を示す。
【図５】本発明の実施例１におけるディスク状記録媒体の取り付け用の説明図であり、（ａ）は取り付け方法を示す斜視図、（ｂ）は取り付け状態の斜視図を示す。
【図６】本発明の実施例１におけるディスク状記録媒体を取り付けた状態の断面図を表わし、（ａ）は部分拡大断面図、（ｂ）は連結状態の部分拡大断面図を示す。
【図７】本発明の実施例２を表わし、（ａ）は本体ユニットの分解斜視図、（ｂ）は本体ユニットの完成状態の斜視図、（ｃ）は本体ユニットの部分断面拡大底面図、図７（ｄ）は（ｃ）の断面図を示す。
【図８】本発明の実施例２を表わし（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の部分拡大斜視図、（ｃ）は完成状態の斜視図、（ｄ）は完成状態の部分拡大断面図を示す。
【図９】本発明の実施例２におけるディスク状記録媒体取り付け用の説明図を表わし、（ａ）は部分拡大断面図、（ｂ）は取り付け状態の縮小底面図を示す。
【図１０】本発明の実施例３を表わし、（ａ）は本体ユニットの分解斜視図、（ｂ）は本体ユニットの完成状態の斜視図、（ｃ）は本体ユニットの拡大断面図を示す。
【図１１】本発明の実施例３を表わし、（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の部分斜視図、（ｃ）は縮小斜視図、（ｄ）は拡大断面図を示す。
【図１２】本発明の実施例４を表わし、（ａ）は本体ユニット分解斜視図、（ｂ）は本体ユニット完成状態の斜視図、（ｃ）は拡大断面図を示す。
【図１３】本発明の実施例５を表わし、（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の部分斜視図、（ｃ）は縮小斜視図、（ｄ）は部分拡大断面図を示す。
【図１４】本発明の実施例５の変形例１を表わし（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の斜視図、（ｃ）は部分拡大断面図を示す。
【図１５】本発明の実施例５の変形例２を表わし（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の斜視図、（ｃ）は部分拡大断面図を示す。
【図１６】本発明の実施例６を表わし（ａ）は保持部側から見た斜視図、（ｂ）は外面側から見た斜視図、（ｃ）は部分拡大断面図を示す。
【図１７】本発明の実施例７を表わし（ａ）は平面図、（ｂ）は配置の参考平面図を示す。
【図１８】本発明の実施例８を表わし、（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は完成状態の斜視図、（ｃ）はディスク状記録媒体収納状態の斜視図、（ｄ）はディスク状記録媒体収納状態の部分拡大断面図を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2006114119.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月3日(2007.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光記録媒体のトラッキングトラックに対し予め調整した間隔をもって複数の記録及び／又は再生用のスポットを照射して、
上記複数のスポットのうち少なくとも１つのスポットから得られる記録位置情報及び／又は同期情報に基づき、少なくとも上記記録位置情報を検出できない記録トラックへの情報の記録及び／又は再生を行う
ことを特徴とする光記録再生方法。
【請求項２】
上記少なくとも１つのスポットから得られる上記記録位置情報及び／又は上記同期情報と、上記複数のスポット間の位相差とに基づいて、上記記録位置情報及び／又は上記同期情報を検出できない記録トラックの記録位置情報及び／又は同期情報を推定する
ことを特徴とする請求項１記載の光記録再生方法。
【請求項３】
上記記録位置情報及び／又は上記同期情報を検出できない記録トラックのうち少なくとも１以上の記録トラックに、上記推定した記録位置情報及び／又は同期情報を記録する
ことを特徴とする請求項２記載の光記録再生方法。
【請求項４】
上記複数のスポットが近接場光である
ことを特徴とする請求項１記載の光記録再生方法。
【請求項５】
上記トラッキングトラックに対して、上記複数のスポットを略対称な位置に照射する
ことを特徴とする請求項１記載の光記録再生方法。
【請求項６】
光記録媒体のトラッキングトラックに対し予め調整した間隔をもって複数の記録及び／又は再生用のスポットが照射され、
上記複数のスポットのうち少なくとも１つのスポットから得られる記録位置情報及び／又は同期情報に基づき、少なくとも上記記録位置情報を検出できない記録トラックへの情報の記録及び／又は再生が行われる
ことを特徴とする光記録再生装置。
【請求項７】
少なくとも、複数の近接場光によるスポットを光記録媒体に照射する集光レンズを備えて成る
ことを特徴とする請求項６記載の光記録再生装置。
【請求項８】
上記少なくとも１つのスポットから得られる上記記録位置情報及び／又は上記同期情報と、上記複数のスポット間の位相差とに基づいて、上記記録位置情報及び／又は上記同期情報を検出できない記録トラックの記録位置情報及び／又は同期情報を推定する同期情報処理部及び／又は記録位置情報処理部を具備する
ことを特徴とする請求項６記載の光記録再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ＣＤ（Compact Disc、登録商標）、ＭＤ（Mini Disc、登録商標）、ＤＶＤ(Digital Versatile Disc、登録商標）に代表される光記録媒体（光磁気記録媒体を含む）は、音楽情報、映像情報、データ、プログラム等の格納媒体として広く利用されている。しかしながら、更なる音楽情報、映像情報、データ、プログラム等の高音質化、高画質化、長時間化、大容量化のために、さらに大容量の光記録媒体及びこれを記録再生する光記録再生装置（光磁気記録再生装置を含む）が望まれている。
そこで、これらに対応するため、光記録再生装置では、その光源の例えば半導体レーザの短波長化や、集光レンズの開口数の増大化が図られ、集光レンズを介して収束する光スポットの小径化が図られている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、光記録媒体に対して近接場光を照射して記録、再生を行うことによって高記録密度化、大容量化を図る技術が種々提案されている。このような近接場光を利用する集光レンズとして、ソリッドイマージョンレンズ（Solid Immersion Lens：ＳＩＬ、固浸レンズ）と非球面レンズ等の光学レンズとを組み合わせた開口数1以上を実現する集光レンズが提案されている。
このようなＳＩＬ等の集光レンズを用いて、近接場光による記録及び／又は再生を行う光ディスクでは、ＤＶＤ（登録商標）やＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（登録商標）等を用いる光学システムでは実現が不可能な開口数ＮＡが１を超える光学システムが実現可能であり、１００Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2以上の容量の光記録媒体を実現できる可能性がある。しかし、一方で、記録容量が増えるにつれて、トラックピッチが狭くなり、トラックを形成すること自体が困難になってくる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図１に示す例においては、トラッキングトラックがウォブルし、このウォブル信号とは独立して記録位置情報がピットとして記録されている例であるが、トラッキングトラック及び記録位置情報はこの例に限定されるものではない。
図２は、記録位置情報３をトラッキングトラック１のウォブルに重畳させた場合の光記録媒体上のスポットの配置態様の概略構成を示す図である。図２において、図１と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。この例は、いわゆるＡＤＩＰ（Address In Pre-groove）と呼ばれる方法で記録位置情報を書き込む例で、例えば、ＤＶＤ＋ＲＷ（登録商標、書き換え可能型ＤＶＤ（登録商標）の規格）の場合、ウォブル周波数が１４０．６ｋＨｚに対して、アドレス情報を８１７．４ｋＨｚの周波数で位相変調させることで記録している。この図２の場合についても、図１の例で示した例と同様の記録及び／又は再生方法が可能である。
すなわちこの場合、スポットＢ及びＣにより記録位置情報３が検出可能であり、検出された位置情報に基づいて記録位置情報３を読み取ることができないスポットＡ及びＤの照射する記録トラックｔａ及びｔｄに対して記録及び／又は再生を行うことができる。
これら記録トラックｔａ及びｔｄに対して検出された記録位置情報３に対応する記録位置情報や同期情報を書き込むことで、これらの記録トラックｔａ及びｔｄからの直接的な記録位置情報及び同期情報の検出も可能となることはいうまでもない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月11日(2007.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像データに基づき該入力画像データによって表される画像の高彩度領域を検出する高彩度領域検出手段と、
前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算手段と、
前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理手段と、
を備えること特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記処理手段は、前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データを処理するための画像処理パラメータを変更することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記処理手段は、前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データを補正することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記画像処理パラメータは、明度および／または彩度であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記高彩度領域検出手段は、前記入力画像データを複数のサブピクセルに分割する領域分割手段と、所定値以上の彩度を有する高彩度のサブピクセルを抽出するサブピクセル抽出手段とを有し、
前記集中度計算手段は、前記抽出手段によって抽出された高彩度のサブピクセルが互いに隣接する高彩度領域を抽出する高彩度領域抽出手段と、前記高彩度領域抽出手段によって抽出された高彩度領域が画像中に占める割合を前記高彩度領域の集中度として計算する計算手段とを有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の画像処理装置。
【請求項６】
入力画像データの中の高彩度領域を検出する高彩度領域検出工程と、
前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算工程と、
前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理工程と、
を備えること特徴とする画像処理方法。
【請求項７】
入力画像データに対して画像処理を行う画像処理手段と、前記画像処理手段によって処理された入力画像データに基づき画像を形成する画像形成手段と、を備えた画像形成システムであって、
前記画像処理手段は、
前記画像データの中の高彩度領域を検出する高彩度領域検出手段と、
前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算手段と、
前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理手段と、
を備えること特徴とする画像形成システム。
【請求項８】
入力画像データに基づき該入力画像データによって表される画像の高彩度領域を検出する高彩度領域検出工程と、
前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算工程と、
前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理工程と、
をコンピュータに実行させることを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項９】
請求項８に記載の画像処理プログラムが格納されたコンピュータにより読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するため本発明は、以下のような構成を有するものとなっている。
すなわち、本発明の第１の形態は、入力画像データに基づき該入力画像データによって表される画像の高彩度領域を検出する高彩度領域検出手段と、前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算手段と、前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理手段と、を備えること特徴とする画像処理装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の第２の形態は、入力画像データの中の高彩度領域を検出する高彩度領域検出工程と、前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算工程と、前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理工程と、を備えること特徴とする画像処理方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の第３の形態は、入力画像データに対して画像処理を行う画像処理手段と、前記画像処理手段によって処理された入力画像データに基づき画像を形成する画像形成手段と、を備えた画像形成システムであって、前記画像処理手段は、前記画像データの中の高彩度領域を検出する高彩度領域検出手段と、前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算手段と、前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理手段と、を備えること特徴とする画像形成システムである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の第４の形態は、入力画像データに基づき該入力画像データによって表される画像の高彩度領域を検出する高彩度領域検出工程と、前記高彩度領域の集中度を計算する集中度計算工程と、前記高彩度領域の集中度に応じて前記入力画像データに対して画像処理を行う処理工程と、をコンピュータに実行させることを特徴とする画像処理プログラムである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の第５の形態は、上記第４の形態に記載の画像処理プログラムが格納されたコンピュータにより読み取り可能な記憶媒体である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月11日(2007.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性を有するシャッタ幕と、
レンズユニットから見て前記シャッタ幕の後方に配置される光学素子とを有し、
前記光学素子の少なくとも被写体側表面と前記シャッタ幕とを接地レベルの電位にすることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
導電性を有するシャッタ幕と、
レンズユニットから見て前記シャッタ幕の後方に配置される撮像素子とを有し、
前記撮像素子の少なくとも被写体側表面と前記シャッタ幕とを接地レベルの電位にすることを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
前記光学素子は、当該光学素子を保持する導電性の保持部材と一体的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記シャッタ幕は導電性を有し、前記シャッタ幕を保持する導電性の押さえ板を介して同電位とされることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の一態様に係る撮像装置は以下のような構成を備える。即ち、
導電性を有するシャッタ幕と、
レンズユニットから見て前記シャッタ幕の後方に配置される光学素子とを有し、
前記光学素子の少なくとも被写体側表面と前記シャッタ幕とを接地レベルの電位にすることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の一態様に係る撮像装置は以下のような構成を備える。即ち、
導電性を有するシャッタ幕と、
レンズユニットから見て前記シャッタ幕の後方に配置される撮像素子とを有し、
前記撮像素子の少なくとも被写体側表面と前記シャッタ幕とを接地レベルの電位にすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月6日(2007.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の加工対象物の内部に集光点を合わせて加工用レーザ光を照射することにより、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って、切断の起点となる改質領域を前記加工対象物の内部に形成するレーザ加工方法であって、
前記加工対象物における前記加工用レーザ光の入射面が凹凸面であり、前記切断予定ラインが前記入射面の凹領域面及び凸領域面に渡っている場合において、
前記凹領域面から所定距離内側に、前記切断予定ラインに沿って第１の改質領域を形成する第１の工程と、
前記凸領域面から所定距離内側に、前記切断予定ラインに沿って第２の改質領域を形成する第２の工程と、
を含み、
前記第１の工程では、前記切断予定ラインにおける前記凸領域面上の部分に沿って前記加工用レーザ光を照射する際に、前記加工対象物の外部に前記集光点を合わせ、
前記第２の工程では、前記切断予定ラインにおける前記凹領域面上の部分に沿って前記加工用レーザ光を照射する際に、前記加工対象物の外部に前記集光点を合わせることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】
前記第１の工程では、前記切断予定ラインにおける前記凹領域面上の部分に沿って前記加工用レーザ光を照射する際に、前記凹領域面から所定距離内側に前記加工用レーザ光の集光点が位置するように前記加工用レーザ光の照射条件を変化させ、前記切断予定ラインにおける前記凸領域面上の部分に沿って前記加工用レーザ光を照射する際に、前記加工用レーザ光の照射条件を固定し、
前記第２の工程では、前記切断予定ラインにおける前記凸領域面上の部分に沿って前記加工用レーザ光を照射する際に、前記凸領域面から所定距離内側に前記加工用レーザ光の集光点が位置するように前記加工用レーザ光の照射条件を変化させ、前記切断予定ラインにおける前記凹領域面上の部分に沿って前記加工用レーザ光を照射する際に、前記加工用レーザ光の照射条件を固定することを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項３】
前記第１及び前記第２の工程における前記加工用レーザ光の照射条件の変化とは、前記入射面の変位に合わせて、前記加工用レーザ光を集光するレンズの位置を調整することであり、
前記第１及び前記第２の工程における前記加工用レーザ光の照射条件の固定とは、前記レンズの位置を固定することであることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工方法。
【請求項４】
前記第１及び前記第２の工程において前記加工対象物の内部に前記集光点を合わせるときには、前記加工用レーザ光をパルス発振させ、
前記第１及び前記第２の工程において前記加工対象物の外部に前記集光点を合わせるときには、前記加工用レーザ光を連続発振させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のレーザ加工方法。
【請求項５】
前記第１及び前記第２の改質領域を形成した後、前記加工対象物を前記切断予定ラインに沿って切断することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のレーザ加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月29日(2006.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
一対の電極間に、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を挟持した有機エレクトロルミネッセンス素子であり、該有機化合物層において、発光層が少なくとも２種類以上の化合物からなり、最も高濃度の化合物が発光材料であり、単体の固体状態における発光波長が溶液中での発光波長よりも短波長である有機化合物であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第一は、一対の電極間に、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を挟持した有機エレクトロルミネッセンス素子であり、該有機化合物層において、発光層が少なくとも２種類以上の化合物からなり、最も高濃度の化合物が発光材料であり、単体の固体状態における発光波長が溶液中での発光波長よりも短波長である有機化合物であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月21日(2007.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハの外周を径方向に押圧してウェハを保持する複数の保持部材と、該保持部材を一斉に閉じ方向に駆動する駆動機構とを備えてなるウェハ用のチャック。
【請求項２】
前記保持部材は、それぞれクッション材を介してウェハを保持することを特徴とする請求項１記載のウェハ用のチャック。
【請求項３】
前記クッション材は、ウェハの外周部を弾発的に挟持するＶ溝を形成することを特徴とする請求項２記載のウェハ用のチャック。
【請求項４】
前記クッション材は、前記Ｖ溝より大きな頂角のガイド溝を前記Ｖ溝の開口方向に形成することを特徴とする請求項３記載のウェハ用のチャック。
【請求項５】
ウェハのＶ字状のオリエンテーション用のノッチの研磨加工用であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか記載のウェハ用のチャック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、クッション材は、ウェハの外周部を弾発的に挟持するＶ溝を形成してもよく、Ｖ溝より大きな頂角のガイド溝をＶ溝の開口方向に形成してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
各保持部材は、クッション材を介してウェハを保持することにより、押圧力を適切に分散してウェハの外周に加え、ウェハに生じる局部的な歪みを最少にすることができる。また、クッション材に形成するＶ溝は、ウェハの外周部を弾発的に挟持し、ウェハを一層安定に保持することができ、Ｖ溝の開口方向に形成するガイド溝は、保持部材をウェハの中心に向けて駆動する際に、ウェハの外周部をＶ溝に正しくガイドして進入させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
各クッション材１４のＶ溝１４ａは、上下対称の断面形状に形成されており（図３）、Ｖ溝１４ａの開口方向には、上下対称のガイド溝１４ｂが付加して形成されている。なお、クッション材２２の各Ｖ溝２２ａも同形であるから、以下、Ｖ溝１４ａについて説明する。Ｖ溝１４ａ、ガイド溝１４ｂの頂角θ1 、θ2 とし、ウェハＷの外周部のベベル角θとすると、θ1 ≦θ、θ2 ＞θ1 となっており、したがって、Ｖ溝１４ａは、ウェハＷの外周部を進入させると、ウェハＷの上下の面取部Ｗ1 、Ｗ1 を弾発的に挟持することができる。なお、このとき、ウェハＷの外周面Ｗ2 も、Ｖ溝１４ａの底面１４ａ1 に当接することが好ましく、ウェハＷの両面は、完全に空中に浮いており、何も接触するものがない。クッション材１４、１４、２２は、それぞれたとえばふっ素樹脂またはふっ素ゴムなどのように、適当な弾性を有し、耐薬品性があり、金属イオンを含まない材料を使用して作るものとする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月10日(2007.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を保持し走査方向に移動する原版ステージと、露光用光源からの極端紫外域光である露光光により前記原版ステージに保持された原版を照明する照明光学系と、基板を保持し走査方向に移動する基板ステージと、前記原版上のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、を有する走査露光装置において、
前記露光光とは波長が異なるクリーニング用の光を前記原版ステージに保持された原版に照射する照射手段を有し、
前記照射手段は、走査方向に移動している前記原版ステージに保持された原版に前記クリーニング用の光を照射することを特徴とする走査露光装置。
【請求項２】
前記照射手段は、クリーニング用光源と、前記クリーニング用光源からの前記クリーニング用の光を前記原版ステージに保持された原版に照射する照射光学系とを有することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項３】
前記照射手段は、前記露光光により走査露光している期間に、前記照明光学系による照明領域とは異なる領域に前記クリーニング用の光を照射することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項４】
前記照射手段は、前記基板ステージに保持された基板の被露光領域の位置を計測している期間に、前記クリーニング用の光を照射することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項５】
前記照射手段は、パルスレーザー光をシート状ビームに整形するビーム整形手段を有し、前記シート状ビームの幅の方向は前記原版ステージの走査方向と直交し、前記シート状ビームの幅は該幅の方向における前記原版上のパターンのサイズ以上であり、前記シート状ビームの厚さは前記原版のクリーニングに必要なエネルギー密度に応じた厚さであることを特徴とする請求項３または４に記載の走査露光装置。
【請求項６】
前記原版ステージの移動速度Ｖｓ、前記シート状ビームの厚さＷ、前記パルスレーザー光の発振周波数Ｆ、および前記クリーニングに必要な照射パルス数Ｎは、
（Ｖｓ＊Ｎ）／Ｗ＜Ｆ
なる関係式を満たすように設定されていることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項７】
前記照射手段は、パルスレーザー光を前記原版ステージに保持された原版上においてスポットになるように整形するビーム整形手段と、前記スポットを前記原版ステージの走査方向と直交する方向に走査する走査手段とを有し、前記スポットのサイズは前記原版のクリーニングに必要なエネルギー密度に応じたサイズであることを特徴とする請求項３または４に記載の走査露光装置。
【請求項８】
前記原版ステージの移動速度Ｖｓ、前記スポットサイズＷ×Ｗ、前記パルスレーザー光の発振周波数Ｆ、前記クリーニングに必要な照射パルス数Ｎ、前記スポットの走査長Ｄ、前記スポットの走査周波数ｆは、
（Ｄ＊ｆ＊Ｎ）／Ｗ＜Ｆ
Ｗ＞Ｖｓ＊ｆ
なる２つの関係式を満たすことを特徴とする請求項７に記載の走査露光装置。
【請求項９】
前記照射手段が前記原版に光を照射する位置は、前記原版ステージの加速期間および減速期間の少なくとも一方に対応した位置であることを特徴とする請求項３ないし８のいずれかに記載の走査露光装置。
【請求項１０】
前記照射手段が前記原版に光を照射する位置は、前記照明光学系による照明領域を挟む２つの位置であることを特徴とする請求項３ないし８のいずれかに記載の走査露光装置。
【請求項１１】
前記原版ステージに保持された原版に前記照射手段により照射される光を挟むように配置された２つの電極を含み、前記２つの電極の間に電場を生成する電場生成手段を有することを特徴とする請求項３ないし１０のいずれかに記載の走査露光装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１に記載の走査露光装置のいずれかを用いて原版上のパターンを基板に投影する投影工程と、
前記投影工程において前記パターンが投影された基板を現像する現像工程と
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１３】
原版を保持し走査方向に移動する原版ステージと、露光用光源からの極端紫外域光である露光光により前記原版ステージに保持された原版を照明する照明光学系と、基板を保持し走査方向に移動する基板ステージと、前記原版上のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、を有する走査露光装置における原版のクリーニング方法であって、
前記露光光とは波長が異なるクリーニング用の光を前記原版ステージに保持された原版に照射する照射工程を有し、
前記照射工程では、走査方向に移動している前記原版ステージに保持された原版に前記クリーニング用の光を照射することを特徴とする原版のクリーニング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の一側面としての走査露光装置は、原版を保持し走査方向に移動する原版ステージと、露光用光源からの極端紫外域光である露光光により前記原版ステージに保持された原版を照明する照明光学系と、基板を保持し走査方向に移動する基板ステージと、前記原版上のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、を有する走査露光装置において、前記露光光とは波長が異なるクリーニング用の光を前記原版ステージに保持された原版に照射する照射手段を有し、前記照射手段は走査方向に移動している前記原版ステージに保持された原版に前記クリーニング用の光を照射することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の他の側面の特徴ならびにそれに対応した目的および優位性は、添付図面を参照してなされた後述の説明で明らかにされている。尚、当該図面において、同一又は類似の符号は複数の図面を通して同一又は類似の構成要素を表す。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月4日(2007.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図２に示すように、電極棒１の半径をａとし、円筒電極２の内面の半径をｂとし、パルス電源１１の電圧をＶｄとし、抵抗１０の抵抗値をＲ、放電電流をＩｄとしたとき、電極棒１と円筒電極２との間に生じる電界Ｅは数１で表される。ｒは中心からの距離である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【数１】
2006114450.tif 000001
したがって、電界はｒ＝ａで最大となり、グローコロナが存在する条件は数２となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006114450.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセント素子と、
前記有機エレクトロルミネッセント素子の光取り出し面に設けられた導波路とを備え、  前記有機エレクトロルミネッセント素子から放射されて前記導波路に入射し、前記光取り出し面から出射される光を露光光として用いる露光装置であって、
前記有機エレクトロルミネッセント素子が、
少なくとも一組の電極と、前記電極間に形成された複数の機能層とを具備し、
前記機能層は、少なくとも１種類の高分子物質からなる発光機能を有した有機溶媒を含む層と、少なくとも１種類の無機物からなる電荷注入層とを含む露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記機能層は少なくとも１種類のバッファ層を含む露光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の露光装置であって、
前記バッファ層が高分子層で構成される露光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置であって、
前記バッファ層が有機溶媒を含む露光装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれかに記載の露光装置であって、
前記バッファ層の電子親和力をあらわすエネルギー値の絶対値が前記発光機能を有した層の電子親和力をあらわすエネルギー値の絶対値よりも小さい露光装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層がフルオレン環を含む高分子化合物を含む露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層が下記一般式（Ｉ）で表されるポリフルオレンおよびその誘導体（Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ置換基を表す）を含むことを特徴とする露光装置。
【化１】
2006114830.tif 000001
【請求項８】
請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層がフェニレンビニレン基を含む露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層が下記一般式（ＩＩ）で表されるポリフェニレンビニレンおよびその誘導体（Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ置換基を表す）を含むことを特徴とする露光装置。    
【化２】
2006114830.tif 000002
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の露光装置であって、
前記電荷注入層が酸化物を含む露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月25日(2007.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子線源と、
当該荷電粒子線源より放射された荷電粒子線を加速させるための手段と、
ドリフト領域を構成するドリフト管と、
前記荷電粒子線が照射される試料を載置する試料ステージと、
前記試料に荷電粒子線を照射して発生する二次電子または反射電子を検出する検出器と、
荷電粒子線の通過する開口部を備えた対向電極を有する静電型対物レンズと、
前記ドリフト管と前記検出器とを同電位に保つための手段とを備え、
該静電型対物レンズは前記試料側に配置された第一の電極と荷電粒子線源側に配置された第二の電極を備え、
更に、前記対物レンズの主面は前記第一の電極と前記試料台との間に形成され、
前記荷電粒子線源は前記ドリフト管の外部に配置され、
前記第二の電極は前記ドリフト管の下面に配置されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
少なくとも第一のカラムと第二のカラムを備えた荷電粒子線装置において、
前記第一のカラムと第二のカラムに共通した試料を載置するための試料ステージと、
前記第一のカラムと第二のカラムを移動させるカラム移動機構または前記試料を移動させるための試料移動機構と、
前記第一のカラムと第二のカラムは
荷電粒子線源と、荷電粒子線を加速するための手段と、ドリフト領域を構成するドリフト管と、前記荷電粒子線を前記試料に照射するための静電型対物レンズと、前記荷電粒子線を照射することで前記試料より発生した二次電子または反射電子を検出する検出器とを各々有し、
前記ドリフト管内に前記検出器を備え、
前記荷電粒子線源は各々前記ドリフト管の外部に配置され、
前記第一のカラムと第二のカラムは前記試料ステージ表面に垂直な軸に対して対称に配置され、
前記第一のカラムから前記荷電粒子線を試料に対し照射して発生する反射電子を、第二のカラムにおける検出器によって検出することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線源と、荷電粒子線を加速させる手段と、ドリフト管と、対物レンズと、検出器とを含むカラムを備え、
該カラムを移動させるカラム移動機構を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の荷電粒子線装置において、
前記ドリフト管内における前記第二の電極から前記検出器までの距離Ldetは
前記第一の電極と第二の電極との距離Lobjと、前記対物レンズの開口部の大きさDobjと、前記検出器の検出領域の外径D2から、
2006114225.tif 000001
により定めることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記ドリフト管への印加電圧は４kV〜２０kVの正電圧であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器は複数の独立した検出領域を有し、該複数の検出領域から各々独立して信号を取り出す手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料に荷電粒子線を照射して発生した二次電子と反射電子を独立に検出する手段を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記二次電子と反射電子を独立に検出する手段とは、前記ドリフト管の内部配置された電界コントロール電極またはＷｉｅｎフィルタであることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線源と引き出し電極を含む電子銃部を備え、
該電子銃部を真空排気するための非蒸発ゲッタポンプと該非蒸発ゲッタポンプ加熱手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の荷電粒子線装置において、
前記電子銃部の真空隔壁の一部にガスのバイパス手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガスのバイパス手段として、バイパス穴とこれを開閉する加熱変形素子とを設けることを特徴とする荷電粒子線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月13日(2007.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第１電極ユニット３０および第１被膜２４付き第２電極ユニット３２の上述した準備工程と平行して、図４に示すようにガラス管４６の内側に蛍光体膜１８が形成されたものを準備する[工程Ｅ]。
蛍光体膜１８付きガラス管４６に、第１被膜２４付き第２電極ユニット３２を挿入した後、仮止めを行う[工程Ｆ]。仮止めとは、ガラスビーズ２８が位置するガラス管４６の外周部分をバーナー４８で加熱して、ガラスビーズ２８の外周の一部をガラス管４６内周面に固着することをいう。ガラスビーズ２８の外周の一部しか固着しないので、ガラス管４６の管軸方向の通気性は維持される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
次に、第２電極ユニット３２とは反対側から、ガラス管４６に第１電極ユニット３０を挿入した後、ガラスビーズ２６が位置するガラス管４６の外周部分をバーナー５０で加熱し、ガラス管４６を封着して気密封止（第１封止）する[工程Ｇ]。
続いて、ガラス管４６の、第２電極ユニット３２よりも端部寄りの一部をバーナー５２で加熱して、くびれ部分４６Ａを形成した後、水銀ペレット５４をガラス管４６に投入する[工程Ｈ]。水銀ペレット５４は、チタン−タンタル−鉄の焼結体に水銀を含浸させたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
次に、第２電極ユニット２２のガラスビーズ２８が位置するガラス管４６外周部分をバーナー５８で加熱して、ガラス管４６を封着して気密封止（第２封止）する[工程Ｎ]。
続いて、ガラス管４６の、上記第２封止部分よりも水銀ペレット５４側の端部部分を切離す[工程Ｐ]。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセント素子と、
前記有機エレクトロルミネッセント素子の光取り出し面に設けられた導波路とを備え、  前記有機エレクトロルミネッセント素子から放射されて前記導波路に入射し、前記光取り出し面から出射される光を露光光として用いる露光装置であって、
前記有機エレクトロルミネッセント素子が、
少なくとも一組の電極と、前記電極間に形成された複数の機能層とを具備し、
前記機能層は、樹木状多分岐構造をもつ少なくとも１種類の高分子物質からなる発光機能を有した層と、少なくとも１種類の無機物からなる電荷注入層とを含む露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層は、発光性の構造単位を中心に有する樹木状多分岐高分子構造からなる露光装置。
【請求項３】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層は、発光性の構造単位を中心に有する樹木状多分岐低分子構造からなる露光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置であって、
前記機能層は少なくとも１種類のバッファ層を含む露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置であって、
前記バッファ層が高分子層で構成される露光装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置であって、
前記バッファ層が有機溶媒を含む露光装置。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれかに記載の露光装置であって、
前記バッファ層の電子親和力をあらわすエネルギー値の絶対値が前記発光機能を有した層の電子親和力をあらわすエネルギー値の絶対値よりも小さい露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層がフルオレン環を含む高分子化合物を含む露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層が下記一般式（Ｉ）で表されるポリフルオレンおよびその誘導体（Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ置換基を表す）を含むことを特徴とする露光装置。
【化１】
2006114730.tif 000001
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の露光装置であって、
前記発光機能を有した層がフェニレンビニレン基を含む露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が電気的に分割され、相対向する領域を持つように配列された電極対と、
前記電極対を構成する電極間に形成された複数の機能層とを具備し、
前記機能層は、樹木状多分岐構造をもつ少なくとも１種類の高分子物質からなる発光機能を有した層と、少なくとも１種類の無機物からなる電荷注入層とを含み、
前記相対向する領域を単位画素とする有機エレクトロルミネッセント素子が
画像表示配列を形成するようにした表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記発光機能を有した層は、発光性の構造単位を中心に有する樹木状多分岐高分子構造からなる表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記発光機能を有した層は、発光性の構造単位を中心に有する樹木状多分岐低分子構造からなる表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置であって、
前記電極は所定の間隔を隔てて形成されたストライプ状の電極で構成され、少なくともひとつのスイッチング素子を介して走査されることで画像表示配列を形成するようにした表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の表示装置であって、
前記電極対を構成する各電極はそれぞれ、所定の間隔を隔てて配列されたストライプ状の陽極と、前記陽極のストライプと直交する方向に配列されたストライプ状の陰極とで構成される表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置であって、
前記電極対を構成する各電極のいずれかが、画素毎に電気的に分離されて構成され、前記分離された電極は少なくともひとつのスイッチング素子を介して走査されることで画像表示配列を形成するようにした表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の表示装置であって、
前記機能層は少なくとも一つのバッファ層を含む表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の表示装置であって、
前記バッファ層が高分子層で構成される表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置であって、
前記バッファ層が有機溶媒を含む表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の表示装置であって、
前記発光機能を有した層がフルオレン環を含む高分子化合物を含む表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月13日(2006.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも半導体素子を搭載した半導体基板を準備する工程、
前記半導体素子以外の前記半導体基板を選択的に露出する工程、
前記半導体基板に絶縁膜を被覆する工程、
前記絶縁膜の所望個所を選択的に除去する工程、
こうして準備した半導体基板に、第１の金属層を被覆する工程、
少なくとも前記絶縁膜を選択的に除去した領域を覆って前記第１の金属層を存在させるように、前記第１の金属層を選択的に除去する工程、
前記半導体基板の、前記第１の金属層が存在する面と反対側の面より、前記第１の金属層が存在する領域に対応する領域に開口された開口部を形成する工程、
前記開口部に導体層を充填する工程、を少なくとも有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記半導体素子はコレクタトップ型ヘテロ接合バイポーラトランジスタを有し、
前記半導体基板の前記金属層が存在する面と反対側の面より、前記金属層が存在する領域に対応する領域に開口された開口部が、少なくとも２つ存在し、その各々が前記ヘテロ接合バイポーラトランジスタのベース及びコレクタの各領域に接続される領域に対応する開口部であり、
前記各開口部が導体層で充填され、当該開口部の各々が、前記ベース及びコレクタの各領域に接続されるものであり、且つ
前記半導体基板の前記半導体素子が搭載された面とは反対側の面より、前記半導体素子が存在する領域に対応する領域に開口された開口部が導体層で充填され、当該開口部が前記エミッタ各領域に接続されるものであることを、特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
半導体素子を有する半導体基板と、モジュール基板とを有し、且つ前記半導体素子の所望領域へ接続される各導体層の当該半導体素子の外部への導出は、前記半導体基板に設けられた開口を介して、前記半導体基板の半導体素子が搭載される面とは反対側の面側からの導出されており、前記半導体基板の半導体素子が搭載される面とは反対側の面側からの導出端が、モジュール基板上の導体層と、電気的に接続されたことを特徴とする半導体モジュール。
【請求項４】
前記半導体素子の所望領域へ接続される各導体層の当該半導体素子の外部への導出端が湾曲し、前記半導体基板の前記半導体素子部が搭載される面とは反対側の面側からの、前記導体層の高さが等しくなるようになされていることを特徴とする請求項３に記載の半導体モジュール。
【請求項５】
前記半導体素子の所望領域へ接続される各導電体層の当該半導体素子の外部への導出は、前記半導体基板に設けられた開口と半導体基板上に存在する電極からボンディングワイヤを併用してモジュール基板上の導体層と電気的に接続されたことを特徴とする半導体モジュール。
【請求項６】
前記半導体基板上に存在するワイヤボンディング用電極直下には、バンプ電極が設けられていることを特徴とする請求項５に記載の半導体モジュール。
【請求項７】
前記半導体素子がヘテロ接合バイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項５記載の半導体モジュール。
【請求項８】
半導体基板と、
前記半導体基板の第１の面に有する半導体素子と、
前記半導体基板の前記半導体素子を有する面と反対側の第２の面であって、前記半導体素子と相対する位置に開口部と
前記開口部を充填する第１の導体層と、及び
前記半導体基板の第２の面であって、且つ前記開口部及び前記第１の導体層が存在しない位置に第２の導体層と、を有し、
少なくとも前記第１の導体層が前記第１の面に有する半導体素子と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
前記第１及び第２の導体層は、２種類以上の金属層からなることを特徴とする請求項８に記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記半導体基板の前記第１の導体層は、前記半導体基板の第１の面に平行な面での断面積が、前記第２の面側が前記第１の面側より大きいことを特徴とする請求項８に記載の半導体装置。