【手続補正書】
【提出日】平成19年8月1日(2007.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  転写用パターンが形成された原版を保持して移動する原版ステージと、
感光材の塗布された被露光基板を保持して移動する基板ステージと、を有し、
照明光学系を介して光源からの光束で前記転写パターンの一部を照明し、かつ前記原版と前記基板とを同期させて走査することにより、前記原版を介して前記基板上のショット領域を露光し、
前記基板ステージを移動することにより前記基板上の被露光ショット領域を切り替える走査型露光装置において、
前記基板ステージの最大走査速度をＶmax 、
最大露光照度と必要な露光量から決定される前記基板ステージの走査速度をＶｄ、
速度ゼロから加速し、１つのショット領域を走査露光し、かつ速度ゼロまで減速する時間が最小となる前記基板ステージの走査速度をＶｔ、としたとき、
前記Ｖmax、前記Ｖｄおよび前記Ｖｔのうち最小の走査速度を前記ショット領域に対する前記基板ステージの走査速度として決定する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記光源がパルス光を発生させる光源である場合、
さらに、露光量を均一にするために最低限必要な前記パルス光の数から決定される走査速度をＶｐ、としたとき、
前記Ｖmax、前記Ｖｄ、前記Ｖｔおよび前記Ｖｐのうち最小の走査速度を前記ショット領域に対する前記基板ステージの走査速度として決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記Ｖｐは、前記転写パターンの一部を照明する走査方向の照明領域幅に対応した前記基板上での幅をＷｓ、前記パルス光の最大周波数をｆmax 、露光量を均一とするために最低限必要な前記パルス数をＰmin、としたとき、
Ｖｐ＝Ｗｓ／（Ｐmin ×ｆmax）
なる式を満たす、
ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記Ｖｄは、前記最大露光照度をＩmax、前記必要な露光量をＤとしたとき、
Ｖｄ＝Ｉmax／（Ｄ×Ｗｓ）
なる式を満たす、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】  前記Ｖｔは、速度ゼロから前記Ｖｔに加速するまでの平均加速度をαaccel、前記Ｖｔから速度ゼロに減速するまでの平均加速度をαdecel、１回の走査において前記Ｖｔで走査する長さをＬとしたとき、
【数１】
2002050559.tif 000001
なる式を満たす、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】  前記Ｖｔは、前記基板ステージの加減速パターンに基づき、１枚の基板が処理される時間を算出することにより求める、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】  前記Ｖｔは、前記ショット領域のレイアウトに基づき、前記ショット領域に応じて可変である、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】  前記Ｖｔは、１回の走査において等速度で走査する長さに応じて可変である、
ことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】  請求項１乃至８のいずれかに記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップにおいて露光された基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
しかしながら、一つのパターン領域を露光した後に、マスク及びウエハステージともに一旦速度０で停止し、その後、逆方向に走査することで、次のパターン領域を露光している。従って、マスク及びウエハの走査速度を速くすることは、前記走査速度に達するまでに加速する時間と前記走査速度からマスク及びウエハが停止するまでに減速する時間が長くかかることになり、ある走査速度以上では、露光すべきパターン領域を走査する時間は走査速度が高くなるので短縮されるが、その短縮される時間よりも、露光すべきパターン領域における走査速度に達するまでの加速時間と前記走査速度から停止するまでの減速時間の方がより延長され、結果的にマスク及びウエハの駆動開始から露光すべきパターン領域における走査速度に達し、マスク及びウエハの駆動完了までの全時間が走査速度を速くすることにより逆に長くなり、スループットをかえって低下させることが有りうる。
上記の点に鑑み、本発明は、スループットを向上させることを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、転写用パターンが形成された原版を保持して移動する原版ステージと、感光材の塗布された被露光基板を保持して移動する基板ステージと、を有し、照明光学系を介して光源からの光束で前記転写パターンの一部を照明し、かつ前記原版と前記基板とを同期させて走査することにより、前記原版を介して前記基板上のショット領域を露光し、前記基板ステージを移動することにより前記基板上の被露光ショット領域を切り替える走査型露光装置において、前記基板ステージの最大走査速度をＶmax 、最大露光照度と必要な露光量から決定される前記基板ステージの走査速度をＶｄ、速度ゼロから加速し、１つのショット領域を走査露光し、かつ速度ゼロまで減速する時間が最小となる前記基板ステージの走査速度をＶｔ、としたとき、
前記Ｖmax、前記Ｖｄおよび前記Ｖｔのうち最小の走査速度を前記ショット領域に対する前記基板ステージの走査速度として決定する、ことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ウエハ１２上の所望のショット領域全部に対する露光が終了した後、ウエハ１２はウエハステージ１３からウエハ回収搬送系１８を介して、露光装置外へ搬送されると同時に、その次のウエハが同じくウエハ供給搬送系１９（図２中、紙面の都合上ウエハ回収搬送系１８と同一としている）を介して、ウエハステージ１３上に供給される。その後、不図示のアライメント系により既にウエハ１２に形成されたパターンとの位置決めが行われる。アライメントの一方法として、ウエハ１２上で選択された複数のショット領域の主として周辺に設けられたアライメントマークの位置を計測してウエハ１２の回転、伸縮、シフトのオフセットなどを求め、ウエハ１２の全てのショット領域の位置決めをする。またこの精密なアライメントに先立って、アライメントマークを検出するためのラフなアライメントを行うこともある。このようにして各ショット領域の位置決めが行われた後、上記露光動作が繰り返し行われる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
第二には、使用されるレジストの種類や露光プロセスにより、マスク１０上の回路パターンを適正に形成するための適正な露光量Ｄが定められている。そして、走査露光時には、ウエハ１２上の各点での露光量が、上記適正な露光量Ｄとなるように露光量制御が行われる。従って、走査露光時の最大露光照度をＩmax 、ウエハ１２上での走査方向のスリット幅をＷｓとした時に、走査速度Ｖは次式を満足する必要がある。
Ｖｄ＝Ｉmax ／（Ｄ×Ｗｓ）・・・（７）
Ｖ≦Ｖｄ・・・（８）
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
従って、露光光源の最大発振周波数をfmaxとした時に、走査速度Ｖは次式を満足する必要がある。
Ｖｐ＝Ｗｓ／（Ｐmin ×ｆmax）・・・（９）
Ｖ≦Ｖｐ・・・（１０）
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
また、別の方法として、露光順序やウエハ内での変動を含めた図６のような加減速パターン等が予め既知であれば、１枚のウエハ処理される時間Ｔを算出することが可能である。この場合は、先の説明では一定値とみなしたアライメントに要する時間Ｔalign やウエハを回収するのに要する時間Ｔunloadについても走査速度Ｖscanの関数として厳密に算出してもよい。このように１枚のウエハ処理される時間Ｔが算出されれば、数値計算によって最大処理枚数となる走査速度Ｖｔを求めることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
【発明の効果】
本発明によると、スループットを向上させることができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】削除
【補正の内容】