【手続補正書】
【提出日】平成19年2月7日(2007.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層と、該液晶層を保持する基板と、該基板上に設けられた複数の電極と、該複数の電極を電気的に接続する抵抗体を有し、該抵抗体を通電することにより前記複数の電極の各々に所望の電位を与え、前記液晶層の液晶分子方向を制御する光学素子において、
前記抵抗体は、少なくとも所望の抵抗値を発現するための材料を前記基板に塗布することにより形成された塗布型抵抗体であることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１記載の光学素子において、
前記塗布型抵抗体は、前記基板上の前記液晶層を通過する光の光路外に配置されていることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
請求項１または２記載の光学素子において、
前記塗布型抵抗体は、前記基板上の前記液晶層より外側に配置されていることを特徴とする光学素子。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一つに記載の光学素子において、
前記塗布型抵抗体の材料は、導電性有機材料を含むことを特徴とする光学素子。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一つに記載の光学素子において、
前記塗布型抵抗体の周囲の湿度変動に伴う前記塗布型抵抗体の抵抗値の変動を抑制するための防湿手段を設けることを特徴とする光学素子。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一つに記載の光学素子において、
前記塗布型抵抗体に対して少なくとも所望の波長域の光が照射されるのを防止する遮光手段を備えることを特徴とする光学素子。
【請求項７】
請求項６記載の光学素子において、
前記遮光手段が、オーバーコート層であることを特徴とする光学素子。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一つに記載の光学素子からなる光偏向素子であって、
少なくとも液晶層と、該液晶層を挟持する透明な一対の基板と、該基板上に平行に配置された複数の電極と、該複数の電極を電気的に接続する塗布型抵抗体を備え、前記塗布型抵抗体に通電することにより、前記複数の電極に電位勾配を発生させることで電界を発生させ、その電界方向により、前記液晶層の液晶分子の配向方向を切換え、入射光に対する出射光の光路を切換えることを特徴とする光偏向素子。
【請求項９】
請求項１〜７の何れか一つに記載の光学素子からなる光偏向素子であって、
少なくともホメオトロピック配向をなすキラルスメクチックＣ相を形成可能な液晶層と、該液晶層を挟持する透明な一対の基板と、該基板上に平行に配置された複数の電極と、該複数の電極を電気的に接続する塗布型抵抗体とを備え、前記塗布型抵抗体に通電することにより、前記複数の電極に電位勾配を発生させることで電界を発生させ、その電界方向によって、前記液晶層の液晶分子の配向方向を切換え、入射光に対する出射光の光路を切換えることを特徴とする光偏向素子。
【請求項１０】
少なくとも、請求項８または９記載の光偏向素子と、該光偏向素子の前記抵抗体に対して電極の配列方向に電圧を印加する電圧印加手段を備えたことを特徴とする光偏向装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の光偏向装置において、
前記電圧印加手段として、基板上の複数の電極と電気的に接続されてなる抵抗体に同一の電源を接続することを特徴とする光偏向装置。
【請求項１２】
少なくとも、画像情報に従って光を二次元的に制御可能な画像表示手段と、該画像表示手段の画像情報を観察または投射するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示手段と光学部材の間の光路を偏向する光偏向装置とを備えた画像表示装置において、
前記光偏向装置として請求項１０または１１記載の光偏向装置を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１３】
請求項１〜７の何れか一つに記載の光学素子の前記抵抗体の形成方法において、
前記抵抗体を、所望の抵抗値を発現する材料を基板に塗布することにより形成することを特徴とする抵抗体形成方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の抵抗体形成方法において、
前記抵抗体は、インクジェツト方式による液状抵抗材の噴射により形状を制御し、塗布することを特徴とする抵抗体形成方法。
【請求項１５】
請求項１３記載の抵抗体形成方法において、
前記抵抗体の含有水分量の調節により所望の抵抗値にした後、防湿手段を施すことを特徴とする抵抗体形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［４］：［１］〜［３］の何れか一つに記載の光学素子において、前記塗布型抵抗体の材料は、導電性有機材料を含むことを特徴とする（請求項４）。
［５］：［４］に記載の光学素子において、前記導電性有機材料は、導電性高分子であることを特徴とする。
これらの構成は抵抗体の抵抗値を所望の値にする手段を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
［６］：［１］〜［３］の何れか一つに記載の光学素子において、前記塗布型抵抗体の材料は、複数の異なる導電性微粒子を含有することを特徴とする。
ここで［１］の光学素子の構成では、複数の電極の各々に所望の電位を与えるための抵抗体を塗布による塗布型抵抗体にて形成するという、光学素子の構成要素の耐えることができない高温を用いることなく、製造が容易で安価な方法で実現したが、多くの条件で所望の抵抗を得るためには、より広い範囲で抵抗を制御して抵抗体を形成する必要がある。そこで［６］の光学素子の構成では、抵抗体は、広い範囲で所望の抵抗値を発現するため複数の異なる導電性微粒子を含有する塗布型抵抗体とすることで、その配合を制御することにより、１種類の導電性微粒子を用いて抵抗体を形成する場合に比べ、制御できる抵抗範囲を拡大することができる。抵抗体の塗布形成方法としては、後述するスピンコート、凸版印刷、凹版印刷、孔版印刷、ディッピング、ノズルによる噴射等による方法がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
［７］：［１］〜［３］の何れか一つに記載の光学素子において、前記塗布型抵抗体の材料は、少なくとも絶縁性を示す材料と導電性を示す材料から構成されることを特徴とする。この構成は材料の抵抗率を調整可能な機能を提供するものである。
［８］：［７］に記載の光学素子において、前記絶縁性を示す材料に熱可塑性樹脂を使用したことを特徴とする。この構成は簡便な方法で硬化し、リペアできる抵抗体を得るものである。
［９］：［７］に記載の光学素子において、前記絶縁性を示す材料に熱硬化性樹脂を使用したことを特徴とする。この構成は製造効率を高めることができ、強固な抵抗体を得るものである。
［１０］：［７］に記載の光学素子において、前記絶縁性を示す材料に光硬化性樹脂を使用したことを特徴とする。この構成はより高い製造効率と、強固な抵抗体を得るものである。
［１１］：［７］に記載の光学素子において、絶縁性を示す材料に湿気硬化型樹脂を使用したことを特徴とする。この構成は光学素子の複数の電極に所望の電位を与えるための抵抗体を安価に製造するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
［１２］：［７］〜［１１］の何れか一つに記載の光学素子において、前記導電性を示す材料として導電性酸化物を用いたことを特徴とする。この構成は抵抗体の抵抗値を安定に実現する材料を提供するものである。
［１３］：［７］〜［１１］の何れか一つに記載の光学素子において、前記導電性を示す材料として導電性酸化物微粒子を用いたことを特徴とする。この構成は抵抗値を安定に実現する材料を提供するものである。
［１４］：［１２］または［１３］に記載の光学素子において、前記導電性酸化物または前記導電性酸化物微粒子としてＡＴＯ（アンチモン含有酸化スズ）を使用したことを特徴とする。この構成は高抵抗の抵抗体を得るものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
［１５］：［７］〜［１１］の何れか一つに記載の光学素子において、前記導電性を示す材料としてカーボン微粒子を用いたことを特徴とする。この構成は抵抗体の抵抗値を安定に実現する材料を提供するものである。
［１６］：［７］〜［１１］の何れか一つに記載の光学素子において、前記導電性を示す材料として金属微粒子を用いたことを特徴とする。この構成は抵抗体の抵抗値を安定に実現する材料を提供するものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
［１７］：［１］〜［１６］の何れか一つに記載の光学素子において、前記塗布型抵抗体の周囲の湿度変動に伴う前記塗布型抵抗体の抵抗値の変動を抑制するための防湿手段を設けることを特徴とする（請求項５）。
［１８］：［１７］に記載の光学素子において、前記防湿手段はオーバーコート層であることを特徴とする。
これらの構成は抵抗体の特性が湿度（水分）により変動するのを防止するものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
［１９］：［１］〜［１８］の何れか一つに記載の光学素子において、前記塗布型抵抗体に対して少なくとも所望の波長域の光が照射されるのを防止する遮光手段を備えることを特徴とする（請求項６）。
［２０］：［１９］に記載の光学素子において、前記遮光手段が、オーバーコート層であることを特徴とする（請求項７）。
これらの構成は抵抗体への光による影響（抵抗値の変動）を防ぎ、安定した特性を得るものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
［２１］：［１］〜［２０］の何れか一つに記載の光学素子からなる光偏向素子であって、少なくとも液晶層と、該液晶層を挟持する透明な一対の基板と、該基板上に平行に配置された複数の電極と、該複数の電極を電気的に接続する塗布型抵抗体を備え、前記塗布型抵抗体に通電することにより、前記複数の電極に電位勾配を発生させることで電界を発生させ、その電界方向により、前記液晶層の液晶分子の配向方向を切換え、入射光に対する出射光の光路を切換えることを特徴とする（請求項８）。この構成は複数の電極に所望の電位を与えるための抵抗体を安価に大量に製造することができる光偏向素子を提供するものである
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
［２２］：［１］〜［２０］の何れか一つに記載の光学素子からなる光偏向素子であって、少なくともホメオトロピック配向をなすキラルスメクチックＣ相を形成可能な液晶層と、該液晶層を挟持する透明な一対の基板と、該基板上に平行に配置された複数の電極と、該複数の電極を電気的に接続する塗布型抵抗体とを備え、前記塗布型抵抗体に通電することにより、前記複数の電極に電位勾配を発生させることで電界を発生させ、その電界方向によって、前記液晶層の液晶分子の配向方向を切換え、入射光に対する出射光の光路を切換えることを特徴とする（請求項９）。この構成は光偏向素子を構成する光学素子の基板により保持される液晶の具体的な材料を提供するものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［２３］：光偏向装置において、少なくとも、［２１］または［２２］に記載の光偏向素子と、該光偏向素子の前記抵抗体に対して電極の配列方向に電圧を印加する電圧印加手段を備えたことを特徴とする（請求項１０）。この構成は製造コストの低減、装置の簡素化、小型化を図ることができる光偏向装置を提供するものである。
［２４］：［２３］に記載の光偏向装置において、前記電圧印加手段として、基板上の複数の電極と電気的に接続されてなる抵抗体に同一の電源を接続することを特徴とする（請求項１１）。この構成は装置の低コスト化、コンパクト化をより図ることができる光偏向装置を提供するものである。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
［２５］：少なくとも、画像情報に従って光を二次元的に制御可能な画像表示手段と、該画像表示手段の画像情報を観察または投射するための光学部材と、画像フィールドを時間的に分割した複数のサブフィールド毎に画像表示手段と光学部材の間の光路を偏向する光偏向装置とを備えた画像表示装置において、前記光偏向装置として［２３］または［２４］に記載の光偏向装置を備えたことを特徴とする（請求項１２）。この構成は表示画像の高精細化と製造コストの低減を図ることができる画像表示装置を提供するものである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
次に本発明に係る光学素子の複数の電極に所望の電位を与えるための抵抗体を安価に製造することができる抵抗体形成方法を以下に示す。
［２６］：［１］〜［２０］の何れか一つに記載の光学素子の前記抵抗体の形成方法において、前記抵抗体を、所望の抵抗値を発現する材料を基板に塗布することにより形成することを特徴とする（請求項１３）。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
［２７］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、抵抗体材料を、溶媒に希釈した状態で基板に塗布することによって抵抗体を形成することを特徴とする。
［２８］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、マスキングの後、ディッピング法またはスピンコート法によって形状を制御し、塗布することを特徴とする。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
［２９］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、印刷法によって形状を制御し、塗布することを特徴とする。
ここで印刷法としては、平版を用いるオフセット印刷、凹版を用いるグラビア印刷、凹版を用いるグラビアオフセット印刷、凹版を用いるパッド印刷、孔版を用いるスクリーン印刷、凸版を用いる凸版印刷、凸版を用いるフレキソ印刷、凸版を用いるドライオフセット印刷などを用いることができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
［３０］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、ローラーによって形状を制御し、塗布することを特徴とする。
［３１］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、マスキングの後、ローラーによって形状を制御し、塗布することを特徴とする。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
［３２］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、ノズルによる液状抵抗材の噴射により形状を制御し、塗布することを特徴とする。
［３３］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、マスキングの後にノズルによる液状抵抗材の噴射により塗布することを特徴とする。
［３４］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体は、インクジェツト方式による液状抵抗材の噴射により形状を制御し、塗布することを特徴とする（請求項１４）。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
［３５］：［２６］〜［３４］の何れか一つに記載の抵抗体形成方法において、基板上に塗布した抵抗体に熱を加えることにより、硬化させることを特徴とする。
［３６］：［２６］〜［３４］の何れか一つに記載の抵抗体形成方法において、基板上に塗布した抵抗体に光を照射することにより、硬化させることを特徴とする。
［３７］：［２６］〜［３４］の何れか一つに記載の抵抗体形成方法において、基板上に塗布した抵抗体に熱を加える工程と光を照射する工程の複数の工程を用いることにより、硬化させることを特徴とする。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
［３８］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体の形成は、不活性ガスを充填した環境で行うことを特徴とする。
［３９］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体の形成は、該抵抗体の構造劣化を誘起する光を遮光した環境で行うことを特徴とする。
［４０］：［３８］または［３９］に記載の抵抗体形成方法において、前記環境を抵抗体に防湿手段または遮光手段が施されるまで維持することを特徴とする。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
［４１］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、光学素子の製造工程内に抵抗体の構造劣化を生じせしめる光を照射する工程を有する場合は、前記抵抗体の形成は、該光を照射する工程以降に行われることを特徴とする。
［４２］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、光学素子の製造工程内に抵抗体の構造劣化を生じせしめる加熱工程を有する場合は、前記抵抗体の形成は、該加熱工程以降に行われることを特徴とする。
［４３］：［２６］に記載の抵抗体形成方法において、前記抵抗体の含有水分量の調節により所望の抵抗値にした後、防湿手段を施すことを特徴とする（請求項１５）。