Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体製造装置に使用するための集中制御装置において、
バスと、
少なくとも１つの中央処理ユニット（ＣＰＵ）カードであって、上記バスに差し込まれ、そして少なくとも１つの高レベル入力／出力制御アルゴリズムを実行するＣＰＵカードと、
上記バスに差し込まれた単一の回路板であって、上記半導体製造装置の複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアと通信する複数のインターフェイスを備える単一の回路板と、
を備えた集中制御装置。
【請求項２】  上記単一の回路板は、基本的入力／出力又は低レベル制御機能を遂行する請求項１に記載の集中制御装置。
【請求項３】  上記単一の回路板は、上記バスを経て上記ＣＰＵと通信して、上記半導体製造装置の複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを制御する請求項１に記載の集中制御装置。
【請求項４】  上記バスは、バーサ・モジュラー・ヨーロピアン（ＶＭＥ）バスである請求項１に記載の集中制御装置。
【請求項５】  半導体製造装置に使用するための回路板において、
バーサ・モジュラー・ヨーロピアンバス及び複数のマイクロコントローラと通信するステッパコントローラインターフェイスと、
バーサ・モジュラー・ヨーロピアンバスと通信しそしてデジタル入力及びデジタル出力をバーサ・モジュラー・ヨーロピアンメモリスペースにマッピングするデジタル入力及びデジタル出力インターフェイスと、
バーサ・モジュラー・ヨーロピアンバスと通信しそしてアナログ入力及びアナログ出力をバーサ・モジュラー・ヨーロピアンメモリスペースにマッピングする第１デュアルポートメモリと、
バーサ・モジュラー・ヨーロピアンバス及び光学的放射分光計又は干渉計と通信する第２デュアルポートメモリとを備えた回路板。
【請求項６】  半導体製造装置に使用するための複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを制御する方法において、
アプリケーションソフトウェアをＣＰＵボードにロードし、
上記ＣＰＵボードをバスに差し込み、
上記複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを複数のコントローラにリンクし、
上記複数のコントローラを単一の回路板に取り付け、この単一の回路板は、上記バスのメモリスペースにおけるアドレスブロックを占有し、
上記単一の回路板を上記バスに差し込み、そして
上記複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを上記アプリケーションソフトウェアにより制御する、
という段階を備えた方法。
【請求項７】  上記アドレスブロックは、６４キロバイトである請求項６に記載の方法。
【請求項８】  上記アプリケーションソフトウェアは、複数のドライバを経て上記複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアと通信し、上記複数のドライバは、上記アプリケーションソフトウェアに複数の対応するメモリマッピングアドレスをリファレンスさせる請求項６に記載の方法。
【請求項９】  上記複数のコントローラは、更に、複数の非タイムクリティカルなサブシステムのローカル制御を許しながら複数のタイムクリティカルなループの密接な結合を容易にする請求項６に記載の方法。
【請求項１０】  マシンにより読み取り可能なプログラム記憶装置であって、これは、半導体製造装置に使用するための複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを制御する方法を実行するために上記マシンにより読み取り可能な命令のプログラムを現実に実施し、上記方法は、
アプリケーションソフトウェアをＣＰＵボードにロードし、
上記ＣＰＵボードをバスに差し込み、
上記複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを複数のコントローラにリンクし、
上記複数のコントローラを単一の回路板に取り付け、この単一の回路板は、上記バスのメモリスペースにおけるアドレスブロックを占有し、
上記単一の回路板を上記バスに差し込み、そして
上記複数のセンサ及び複数の制御ハードウェアを上記アプリケーションソフトウェアにより制御する、
という段階を備えたものであるプログラム記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光ビームによって再書込み可能な光学情報媒体であって、当該媒体が、基板を有し、その基板の一方の側に、
−  ２層の誘電層の間にはさまれた相変化型記録層を有する第一記録スタック、
−  ２層の誘電層の間にはさまれた相変化型記録層を有する第二記録スタック、
−  前記レーザ光ビームの焦点深度より大きい層厚を有する、前記第一および前記第二記録スタックの間に介在する透明スペーサ層、そして
−  前記第二記録スタックの近傍にありかつ前記透明スペーサ層から離れた前記第二記録スタックの側にある金属ミラー層
を配置させた光学情報媒体に於て、
−  前記第一記録スタックが、実質上成長主体の結晶化を有する種類と、実質上核生成主体の結晶化を有する種類とから、選択された種類の相変化型記録層を有し、かつ
−  前記第二記録スタックが、前記第一記録スタックに対して選択された前記種類とは異なる種類の相変化型記録層を有することを特徴とする光学情報媒体。
【請求項２】
前記第一記録スタックが、Ｑ（Ｑは、ＡｇおよびＧｅの群から選択される）、Ｉｎ、ＳｂおよびＴｅの化合物を含む実質上成長主体の結晶化を有する種類と、Ｇｅ、ＳｂおよびＴｅの化合物を含む実質上核生成主体の結晶化を有する種類とから選択される種類の相変化型記録層を有することを特徴とする請求項１に記載の光学情報媒体。
【請求項３】
Ｑ、Ｉｎ、ＳｂおよびＴｅの前記化合物の原子組成が、組成式ＱａＩｎｂＳｂｃＴｅｄ、かつ０ ＜ ａ ≦ １５、０ ＜ ｂ ≦ ６、５５ ≦ ｃ ≦ ８０、１６ ≦ ｄ ≦ ３５、ａ ＋ ｂ ＋ ｃ ＋ ｄ ＝ １００により規定されることを特徴とする請求項２に記載の光学情報媒体。
【請求項４】
Ｇｅ、ＳｂおよびＴｅの前記化合物の原子組成が、三元組成ダイアグラムＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅにおける領域により規定され、その領域が、頂点：Ｓｂ３Ｔｅ７、Ｇｅ２Ｔｅ３、Ｇｅ３Ｔｅ２およびＳｂＴｅを有する四角形の形状であることを特徴とする請求項２に記載の光学情報媒体。
【請求項５】
Ｇｅ、ＳｂおよびＴｅの前記化合物の原子組成が、組成式Ｇｅ５０ｘＳｂ４０−４０ｘＴｅ６０−１０ｘ、および０．１６６ ≦ ｘ ≦ ０．４４４により規定されていることを特徴とする請求項４に記載の光学情報媒体。
【請求項６】
前記第一記録スタックの前記相変化型記録層が、５および１５ｎｍの間の層厚を有し、かつ前記第二記録スタックの前記相変化型記録層が、１０および３５ｎｍの間の層厚を有することを特徴とする請求項１、２、３、４または５に記載の光学情報媒体。
【請求項７】
前記透明スペーサ層が、少なくとも１０マイクロメートルの層厚を有することを特徴とする請求項１に記載の光学情報媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トラックに沿って情報マークを有する記録担体であって、
前記トラックに沿う前記情報マークの存在の有無によって引き起こされる第１変動であって、当該記録担体上に記録された情報信号を表す第１変動と、前記情報マークに関連付けられた変動によって引き起こされる第２変動であって、前記第２変動の位相が前記第１変動の位相に結合されている第２変動とを示す記録担体と、
再生装置であって、
前記記録担体を走査することを目的とし、かつ前記第１変動と前記第２変動を検出するように適合化されている変換器ユニットと、
前記第１変動からクロック信号を再現するための、前記変換器ユニットに結合されている第１再現ユニットと、
前記第１変動から前記情報信号を再現するための、前記変換器ユニットに結合されている第２再現ユニットと、
前記第２変動が、所定の変動パターンを示すか否かを少なくとも１つの信号に基づいて検出するための検出ユニットであって、前記少なくとも１つの信号は、前記第２変動を少なくとも示し、かつ前記変換器ユニットから得られるものであり、当該検出ユニットが、検出のために前記クロック信号を使用する、検出ユニットと、
前記検出ユニットが前記所定の変動パターンを検出したときに、前記第２再現ユニットが前記情報信号を再現することを可能にするイネーブルユニットと、
を含む再生装置と、
を有する情報システム。
【請求項２】
前記第２変動が、コードを表す変調パターンを示し、かつ、前記検出ユニットが、前記少なくとも１つの信号に基づいて前記コードを再現する復調ユニットと、前記コードが再現されたときに前記イネーブル手段を作動させる作動化ユニットとを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記記録担体上に記録された前記情報信号が、所定のタイプのデータ処理によって再現できるタイプであり、前記コードが、前記情報信号を再現するために使用される前記所定のタイプのデータ処理を示し、かつ、前記再生装置が、前記情報信号が再現されるときに前記所定のタイプのデータ処理が実行されるモードに、前記第２再現ユニットを設定するためのユニットをさらに含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
トラックに沿って情報マークを有する記録担体であって、
前記トラックに沿う前記情報マークの存在の有無によって引き起こされる第１変動であって、当該記録担体上に記録された情報信号を表す第１変動と、前記情報マークに関連付けられた変動によって引き起こされる第２変動であって、前記第２変動の位相が前記第１変動の位相に結合されている第２変動と、
を示す記録担体。
【請求項５】
前記第２変動が、前記第１変動に対して第１位相または第２位相のいずれかを有することを特徴とする、請求項４の記録担体。
【請求項６】
前記第１位相と前記第２位相が１８０度異なることを特徴とする、請求項５の記録担体。
【請求項７】
請求項４から６いずれか１項記載の記録担体を再生する再生装置であって、
前記記録担体を走査することを目的とし、かつ前記第１変動と前記第２変動を検出するように適合化されている変換器ユニットと、
前記第１変動からクロック信号を再現するための、前記変換器ユニットに結合されている第１再現ユニットと、
前記第１変動から前記情報信号を再現するための、前記変換器ユニットに結合されている第２再現ユニットと、
前記第２変動が、所定の変動パターンを示すか否かを少なくとも１つの信号に基づいて検出するための検出ユニットであって、前記少なくとも１つの信号は、前記第２変動を少なくとも示し、かつ前記変換器ユニットから得られるものであり、当該検出ユニットが、検出のために前記クロック信号を使用する、検出ユニットと、
前記検出ユニットが前記所定の変動パターンを検出したときに、前記第２再現ユニットが前記情報信号を再現することを可能にするイネーブルユニットと、
を有する再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月27日(2008.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  オブジェクトの複数のビュー記述子を導出することであって、各ビュー記述子が各ビューにおけるオブジェクトの形の表現でなること、
前記複数のビュー記述子を関連付けることにより、オブジェクト記述子を形成すること
を含む、画像に出現するオブジェクトを表現する方法において、
それぞれのビューが前記画像に出現する前記オブジェクトの前記ビューに対応するときに各ビュー記述子に対して前記オブジェクト記述子内に示すことを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  前記それぞれのビューが前記画像に出現する前記オブジェクトのビューに対応するか否かを示すためにフラグを前記各ビュー記述子に関連付けることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記それぞれのビューは、ビューのそれぞれの角度からの前記オブジェクトのビューである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】  前記複数のビュー記述子は、前記画像内の前記オブジェクトの前記ビューの少なくとも１つの記述子と、前記画像内の前記オブジェクトのビューの角度とは異なるビューの角度からの前記オブジェクトのビューの少なくとも１つの記述子を含む、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】  前記それぞれのビューが前記画像に出現する前記オブジェクトのビューに対応するか否かを各ビューに対して前記オブジェクト記述子内に示すことを含む、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】  オブジェクトの複数のビュー記述子を導出することであって、各ビュー記述子が、前記オブジェクトの異なるビューに対応し、それぞれのビュー内の前記オブジェクトの形の表現でなること、
前記複数のビュー記述子を関連付けることにより、オブジェクト記述子を形成すること
を含む、画像のグループに出現するオブジェクトを表現する方法において、
それぞれのビューが前記画像のグループに出現する前記オブジェクトの前記ビューに対応するときに各ビュー記述子に対して前記オブジェクト記述子内に示すことを含むことを特徴とする方法。
【請求項７】  前記それぞれのビューが前記画像のグループの少なくとも１つの画像に出現するか否かを示すためにフラグを前記各ビュー記述子に関連付けることを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記それぞれのビューは、ビューのそれぞれの角度からのオブジェクトのビューである、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】  前記複数のビュー記述子は、前記画像のグループ内の前記オブジェクトの前記ビューの少なくとも１つの記述子と、前記画像のグループ内の前記オブジェクトの１つのビューまたは複数のビューとは異なる前記オブジェクトのビューの少なくとも１つの記述子を含む、請求項６から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】  前記画像のグループ内の各画像に対して、各ビュー記述子に対して、前記それぞれのビューが前記画像内に出現する前記オブジェクトのビューに対応するか否かを示すことを含む、請求項６から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記画像のグループは、画像のシーケンスである、請求項６から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】  前記画像のシーケンスは、ビデオまたはフィルムからのものである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  形状ビュー記述子は、曲率スケール空間表現を使用して導出される、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】  探索の目的で、画像または画像の集合に指標付けするためのものである、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】  前記オブジェクト記述子は、検索可能なオブジェクト記述子である、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】  請求項１から１５までのいずれか１項に記載の方法を実施するように適合された装置。
【請求項１７】  請求項１から１５までのいずれか１項に記載の方法のそれぞれを実施するための手段を備えた請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】  制御手段と、画像および／または複数の画像の表現を格納するための記憶手段（８，１０）、例えば画像データベースおよび／または記述子データベースを備えた請求項１６または１７に記載の装置。
【請求項１９】  請求項１から１５までのいずれか１項に記載された方法を実施するためのコンピュータ実行可能プロセス・ステップを記憶するコンピュータで読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月2日(2008.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  酢酸、無水酢酸およびMTBE（メチルターシャリーブチルエーテル）の混合物を、ゼオライト、ヘテロポリ酸、強酸性イオン交換樹脂およびマクロレティキュラー強酸性イオン交換樹脂からなる群から選択される酸触媒と接触させることによる直接MTBEからのt−ブチルアセテートの製造およびメチルアセテートの共製造方法。
【請求項２】  酢酸、無水酢酸およびETBE（エチルターシャリーブチルエーテル）の混合物を、ゼオライト、ヘテロポリ酸、強酸性イオン交換樹脂およびマクロレティキュラー強酸性イオン交換樹脂からなる群から選択される酸触媒と接触させることによる直接ETBEからのt−ブチルアセテートの製造およびエチルアセテートの共製造方法。
【請求項３】  MTBEの転換率が約６９％よりも大きい、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  MTBEの転換率が約７５％よりも大きい、請求項３に記載の方法。
【請求項５】  ETBEの転換率が約６９％よりも大きい、請求項２に記載の方法。
【請求項６】  ETBEの転換率が約７５％よりも大きい、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  t-BuAcへの選択性が約２５％よりも大きい、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  t-BuAcへの選択性が約２５％よりも大きい、請求項２に記載の方法。
【請求項９】  反応圧力が約１〜５気圧に維持され、かつ反応温度が約１０〜１００℃の範囲内にある、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  反応温度が約４０〜７０℃の範囲内にある、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  反応圧力が約１〜５気圧に維持され、かつ反応温度が約１０〜１００℃の範囲内にある、請求項２に記載の方法。
【請求項１２】  反応温度が約４０〜７０℃の範囲内にある、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ａ）第１工程Ａで、プロパンを、気相で、不均一系触媒作用下で部分的に脱水素して、水素分子、プロピレン及び反応しなかったプロパンを含有する生成ガス混合物Ａを形成させ、
Ｂ）水素分子、プロピレン及び反応しなかったプロパンを含有する工程Ａの生成ガス混合物Ａから、その中に含有しているプロパン及びプロピレンとは異なる成分の少なくとも水素分子の一部分を分離し、次いで、これを第２工程Ｂで、生成ガス混合物Ａ’として、少なくとも１個の酸化反応器へ供給するために使用し、かつ、少なくとも１個の酸化反応器中で、このプロピレンを、酸素分子を用いて不均一系触媒作用下で選択的に気相-部分酸化して、目的生成物としてのアクロレイン又はアクリル酸又はそれらの混合物を含有する生成ガス混合物Ｂを生じさせ、かつ
Ｃ）工程Ｂでのプロピレンの部分酸化の領域で生じた生成ガス混合物Ｂから、第３工程Ｃで、目的生成物を分離し、かつ少なくとも工程Ｂの生成ガス混合物中に含有する反応しなかったプロパンを脱水素工程Ａに戻す
ことにより、プロパンからアクロレイン又はアクリル酸又はこれらの混合物を製造する方法において、工程Ｂでのプロピレンの部分酸化の領域で、窒素分子を希釈ガスとして共用することを特徴とする、プロパンからアクロレイン又はアクリル酸又はこれらの混合物を製造する方法。
【請求項２】  第２工程Ｂでの少なくとも１個の酸化反応器の供給ガス混合物は、その中に含有するプロピレンに対して少なくとも５モル％の窒素分子を含有している、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  第２工程Ｂでの少なくとも１個の酸化反応器の供給ガス混合物は、その中に含有するプロピレンに対して少なくとも５０モル％の窒素分子を含有している、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  第２工程Ｂでの少なくとも１個の酸化反応器の供給ガス混合物中に含有する窒素分子の量と同じ供給ガス混合物中に含有するプロパンの量とのモル比は０.０５である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  第２工程Ｂでの少なくとも１個の酸化反応器の供給ガス混合物中に含有する窒素分子の量と同じ供給ガス混合物中に含有するプロパンの量とのモル比は０.０５〜５である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  第２工程Ｂでの少なくとも１個の酸化反応器の供給ガス混合物の組成は、次のモル比  プロパン：プロペン：Ｎ２：Ｏ２：Ｈ２Ｏ：その他
＝０.５〜２０：１：０.１〜４０：０.１〜１０：０〜２０：０〜１を実現する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  第２工程Ｂでの少なくとも１個の酸化反応器の供給ガス混合物の組成は、次のモル比  プロパン：プロペン：Ｎ２：Ｏ２：Ｈ２Ｏ：その他
＝２〜１０：１：０.５〜２０：０.５〜５：０.０１〜１０：０〜１を実現する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  生成ガス混合物Ａ中に含有するプロピレンと生成ガス混合物Ａ中に含有する水素分子とのモル比は、≦１００である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  生成ガス混合物Ａ中に含有するプロピレンと生成ガス混合物Ａ中に含有する水素分子とのモル比は、≦５０である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  生成ガス混合物Ａ中に含有するプロピレンと生成ガス混合物Ａ中に含有する水素分子とのモル比は、≦１０である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  工程Ａで得られる１回通過に対するプロパン変換率は、５〜２５モル％である、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  脱水素すべきプロパンを工程Ａで水蒸気で希釈する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  水蒸気と脱水素すべきプロパンとのモル比は、０.１〜２である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  脱水素すべきプロパンに水素分子を添加する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】  水素分子と脱水素すべきプロパンとのモル比は、＞０及び≦５である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】  工程Ａにおける不均一系触媒作用下でのプロパンの部分的脱水素を断熱的に実施する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】  生成ガス混合物Ａから、それが生成ガス混合物Ａ’として更に使用される前に、含有量の水素分子を分離除去する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  生成ガス混合物Ａから、それが生成ガス混合物Ａ’として更に使用される前に、プロパン及びプロピレンとは異なる成分を分離除去する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  生成ガス混合物Ａから、プロパン及びプロピレンとは異なる成分を、生成ガス混合物Ａを有機溶剤と接触させ、その中にプロパン及びプロピレンを選択的に吸収させ、引き続く脱離によりそれらを再び放出させることにより分離し、かつそれらを生成ガス混合物Ａ’として工程Ｂの少なくとも１個の酸化反応器に供給するために使用する、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】  工程Ｂの少なくとも１個の酸化反応器に供給するために空気を共用する、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  生成ガス混合物Ｂからその中に含有するアクロレイン及び／又はアクリル酸を分離し、この際に残っている残留ガスの少なくとも一部分を脱水素工程Ａに戻す、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】  生成ガス混合物Ｂから、先ず、その中に含有しているアクロレイン及び／又はアクリル酸を分離し、この際に残る残留ガスからプロパン及びプロピレンとは異なる成分を分離し、残っているプロパン及びプロペンを脱水素工程Ａに戻す、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式（I）
【化１】
2004503519.tif 000001
（式中、Wはキラル補助基または水素であり、P1およびP2はそれぞれ独立して水素または保護基から選ばれる）の化合物で表されるサルメテロールの実質的に純粋な単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物の調製方法であって、上記鏡像異性体は他の鏡像異性体もしくはその方法における中間体を適当に含まず、
a）式（II）
【化２】
2004503519.tif 000002
（式中、Wは所望の絶対立体化学を有するキラル補助基であり、P1およびP2はそれぞれ独立して保護基から選ばれる）で表される化合物またはその塩もしくは溶媒和物を、式（III）
【化３】
2004503519.tif 000003
で表される化合物で処理する段階、
b）得られた生成物を還元剤で処理する段階、
c）必要に応じて、脱保護して式（I）で表される化合物またはその塩もしくは溶媒和物を得る段階、
を有する上記方法。
【請求項２】  式（I）で表される化合物においてWがキラル補助基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  式（Ia）
【化４】
2004503519.tif 000004
で表される化合物（R-サルメテロール）またはその塩もしくは溶媒和物の調製のための、請求項１に記載の方法であって、
a）式（IIa）
【化５】
2004503519.tif 000005
（式中、Wはキラル補助基であり、P3およびP4はそれぞれ独立して保護基から選ばれる）で表される化合物またはその塩もしくは溶媒和物を、請求項１で定義された式（III）で表される化合物で処理する段階、
b）得られた生成物を還元剤で処理する段階、
c）必要に応じて、脱保護して式（Ia）で表される化合物またはその塩もしくは溶媒和物を得る段階、
d）場合により、対応するその塩または溶媒和物に変換する段階、
を有する上記方法。
【請求項４】  式（II）で表される化合物の適切な鏡像異性体を用いる、S-サルメテロールの調製のための、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記塩がキシナホ酸塩である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  Wが式（Y）
【化６】
2004503519.tif 000006
（式中、R1はフェニル、iso-プロピルまたはsec-ブチルである）で表される部分構造の単一鏡像異性体である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】  Wが式（Ya）
【化７】
2004503519.tif 000007
で表される部分構造の単一鏡像異性体である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】  P3およびP4が、それらが結合している酸素と一緒になってアセトニドを表す、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】  保護基P1、P2および／またはキラル補助基Wを除去してサルメテロールまたはその単一鏡像異性体を得る１以上の段階をさらに有する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項１０】  Pearlman触媒を使用して前記キラル補助基Wを除去する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  請求項１で定義された式（II）で表される化合物の単一鏡像異性体の調製方法であって、式（IV）
【化８】
2004503519.tif 000008
（式中、Wは所望の絶対立体化学を有するキラル補助基であり、P3およびP4はそれぞれ独立して選ばれる保護基である）で表される化合物を還元剤で処理する段階を有する上記方法。
【請求項１２】  前記還元剤が水素化物源である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  前記還元を不活性金属塩の存在下に行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  式（VI）
【化９】
2004503519.tif 000009
で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項１５】  式（VIIa）
【化１０】
2004503519.tif 000010
で表される化合物またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項１６】  式（VIIb）
【化１１】
2004503519.tif 000011
で表される化合物またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項１７】  請求項１で定義された式（II）で表される化合物の単一鏡像異性体もしくはベンジルヒドロキシド部分が保護されていないその無保護誘導体、またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項１８】  式（IIa）
【化１２】
2004503519.tif 000012
（式中、R1はフェニル、iso-プロピルまたはsec-ブチルであり、P3およびP4はそれぞれ独立して保護基から選ばれる）で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物、またはベンジルヒドロキシド部分が保護されていないその無保護誘導体。
【請求項１９】  式（IIb）
【化１３】
2004503519.tif 000013
（式中、P3およびP4はそれぞれ独立して保護基から選ばれる）で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物、またはベンジルヒドロキシド部分が保護されていないその無保護誘導体。
【請求項２０】  式（IIc）
【化１４】
2004503519.tif 000014
で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項２１】  請求項１１で定義された式（IV）で表される化合物の単一鏡像異性体もしくはベンジルヒドロキシル部分が保護されていないその無保護誘導体、またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項２２】  式（IVa）
【化１５】
2004503519.tif 000015
（式中、P1およびP2はそれぞれ独立して水素または保護基から選ばれる）で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項２３】  式（IVb）
【化１６】
2004503519.tif 000016
で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物。
【請求項２４】  式（V）
【化１７】
2004503519.tif 000017
（式中、Xは離脱基であり、P1およびP2はそれぞれ独立して保護基である）で表される化合物。
【請求項２５】  式（Va）
【化１８】
2004503519.tif 000018
（式中、Xは離脱基である）で表される化合物。
【請求項２６】  式（I）で表される化合物を調製するための、請求項１で定義された式（II）で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物の使用。
【請求項２７】  式（I）で表される化合物を調製するための、式（IIb）
【化１９】
2004503519.tif 000019
（式中、P1およびP2はそれぞれ独立して水素または保護基から選ばれる）で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物の、請求項２６に記載の使用。
【請求項２８】  請求項１で定義された式（II）で表される化合物を調製するための、請求項２４で定義された式（IV）で表される化合物の単一鏡像異性体、またはその塩もしくは溶媒和物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月15日(2008.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  頭蓋内投与によって運動障害を処置するための、ボツリヌス毒素を含有する医薬組成物。
【請求項２】  ボツリヌス毒素が、A、B、C1、D、E、FおよびG型ボツリヌス毒素から成る群から選択される請求項1に記載の組成物。
【請求項３】  ボツリヌス毒素がA型ボツリヌス毒素である請求項1に記載の組成物。
【請求項４】 下脳領域に投与する請求項1に記載の組成物。
【請求項５】 橋領域に投与する請求項1に記載の組成物。
【請求項６】 中橋領域に投与する請求項1に記載の組成物。
【請求項７】 淡蒼球に投与する請求項1に記載の組成物。
【請求項８】 視床に投与する請求項1に記載の組成物。
【請求項９】  頭蓋内投与が、調節放出ボツリヌス毒素システムを埋め込むことを含んで成る請求項1に記載の組成物。
【請求項１０】  運動障害が、パーキンソン病、ハンチントン舞踏病、進行性核上性麻痺、ウィルソン病、ツレット症候群、テンカン、慢性振せん、チック、ジストニーおよび痙性から成る群から選択される請求項1または3に記載の組成物。
【請求項１１】  運動障害がパーキンソン病である請求項10に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月11日(2008.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式Ｉを有する、ジ−又はトリペプチド、
【化１】
2004503564.tif 000001
［ここで、Ｒ1は、アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、アリールオキシ、アリールアルキルオキシ、ＮＨ2、アルキルアミノ、シクロアルキルアミノ又はアリールアミノであり、Ｒ2は、
【化２】
2004503564.tif 000002
（ここで、Ｒ3は、独立的に、ＮＨ2、ＯＨ、Ｏ−アルキル、Ｎ−アルキル、Ｏ−アシル、ＮＨ−アシル、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ）2、ＮＯ2、Ｆ、ＣＦ3又はＨであり、ｎは１又は２である）であり、Ｘは、
【化３】
2004503564.tif 000003
（ここで、Ｒ5はＨである）であり、Ｒ4は、天然又は変性された環状又は芳香族アミノ酸、又はＨである）である］又は薬理学的に受容可能なその塩。
【請求項２】  式Ｖを有する、ジ−又はトリペプチド、
【化４】
2004503564.tif 000004
（ここで、Ｒ1は、アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、アリールオキシ、アリールアルキルオキシ、ＮＨ2、アルキルアミノ、シクロアルキルアミノ又はアリールアミノであり、Ｒ3は、ＮＨ2、ＯＨ、Ｏ−アルキル、Ｎ−アルキル、Ｏ−アシル、ＮＨ−アシル、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ）2、ＮＯ2、Ｆ、ＣＦ3又はＨであり、Ｒ4は、天然又は変性された環状又は芳香族アミノ酸、又はＨである）又は薬理学的に受容可能なその塩。
【請求項３】  医薬として使用する為の、請求項１又は２に記載のペプチド。
【請求項４】  悪性腫瘍の治療用医薬の製造の為の、請求項１又は２に記載のペプチドの使用。
【請求項５】  Ｒ3がＦである、請求項１又は２に記載のペプチド。
【請求項６】  Ｒ1がアルキルオキシであり、Ｒ3が、Ｆ、ＣＦ3、Ｈ、ＯＨ、Ｏ−アルキル、ＮＯ2、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ）2、ＮＨ−アシル又はＮＨ2であり、Ｒ4がＨである、請求項２に記載のペプチド。
【請求項７】  Ｌ−メルファラニル−ｐ−Ｌ−フルオロ−フェニルアラニンエチルエステル又は薬理学的に受容可能なその塩である、請求項６に記載のペプチド。
【請求項８】  Ｌ−メルファラニル−ｐ−Ｌ−フルオロ−フェニルアラニンイソプロピルエステル又は薬理学的に受容可能なその塩である、請求項６に記載のペプチド。
【請求項９】  Ｒ1がアルキルオキシであり、Ｒ3が、Ｆ、ＣＦ3、Ｈ、ＯＨ、Ｏ−アルキル、ＮＨ−アシル、ＮＯ2、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ）2又はＮＨ2であり、Ｒ4が天然又は変性された環状又は芳香族アミノ酸である、請求項２に記載のペプチド。
【請求項１０】  Ｌ−プロリン−Ｌ−メルファラニル−ｐ−フルオロフェニルアラニンエチルエステル又は薬理学的に受容可能なその塩である、請求項９に記載のペプチド。
【請求項１１】  悪性腫瘍の治療用薬理学的組成物であって、請求項１、２又は５〜１０の何れか一項に記載の少なくとも一種のペプチド化合物と、少なくとも一種の薬理学的に受容可能な担体及び／又は賦形剤を含む事を特徴とする組成物。
【請求項１２】  乳癌、肺癌、卵巣癌、白血病、リンパ腫及び多発性骨髄腫の治療の為の、請求項１１に記載の薬理学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月26日(2008.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも７個の原子の環を含む環式尿素化合物であって、前記環が、少なくとも１個のカルボン酸アミド官能基及び少なくとも１個の尿素官能基を含み、各アミド及び尿素官能基が、もっとも近くの隣接するアミド又は尿素官能基から少なくとも１個のメチレン性炭素原子によって分けられている環式尿素化合物。
【請求項２】  式（Ｉａ）
【化１】
2004503546.tif 000001
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5基は、互いに独立して、
ａ）−水素、
ｂ）−ハロゲン、
ｃ）−天然又は非天然アミノ酸から選択されるアミノ酸の保護された又は保護されていない側鎖、
ｄ）−非置換であるか、−ＣＯＯＲa、−ＣＯＮＨＲa、−ＯＲa、−ＮＨＲa、−ＮＨ（ＣＯ）Ｒa、−ＮＨＣＯＯＲa、環構造が炭素原子５〜２０個、ハロゲン原子１個及びＲ″′ＣＯ−基（Ｒ″′は炭素原子１〜１０個を含む）１個を含むアリールもしくはヘテロアリール基、ニトリル、グアニジノ又はニトロ基を含む一以上の置換基によって置換されている、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（Ｃ１〜Ｃ２０）基、
ｅ）−環構造が炭素原子５〜２０個を含み、非置換であるか、上記置換基及びシアノ又はアミジン基によって置換されている１個のアリール基、
ｆ）−アルケニル又はアルキニル基（Ｃ１〜Ｃ６）
ｇ）−スルホニル基（ＲcＳＯ2）
ｈ）−アシル基（ＲcＣＯ）
ｉ）−ＯＲb基
ｊ）−ＮＨ2基
ｋ）−ＣＯＯＲb
ｌ）−ＣＯＮＨＲb
ｍ）−ＣＨ2ＣＯＮＨ2
を表すことができ、
Ｒa及びＲbは、互いに独立して、水素、アリル、ベンジル、tert−ブチル、フルオレニルメチル、ベンジルオキシメチル、tert−ブチルジメチルシリル、２−エトキシエチル、メトキシメチル、２−メトキシエトキシメチル、テトラヒドロピラン−２−イル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、２−（トリメチルシリル）エチル、トリチル、２，２，２−トリクロロエチル、トシル、オルト（又はパラ）−ニトロフェニルスルホニル、炭素原子１〜２０個のアルキル基又は環構造が炭素原子５〜２０個を含むアリール基を表し、
Ｒcは、炭素原子１〜２０個のアルキル基又は環構造が炭素原子５〜２０個を含むアリール基又はヘテロアリール、アリールアルキルもしくはヘテロアリールアルキル基を表し、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4基はまた、以下の分子内環化：
１／Ｒ1とＲ2との間の環化、及び／又は
２／Ｒ3とＲ4との間の環化
を形成することができる）
で示され、
式（Ｉａ）中に一以上の不斉炭素原子が存在する場合、独立して、Ｒ配置（右回り）又はＳ配置（左回り）のいずれかであり得る、請求項１記載の環式尿素化合物。
【請求項３】  式（Ｉｂ）、（Ｉｃ）、（Ｉｄ）、（Ｉｅ）、（Ｉｆ）、（Ｉｇ）、（Ｉｈ）
【化２】
2004503546.tif 000002
（式中、
Ｒ1及びＲ2基はまた、分子内環化を形成することができる）
に対応し、式（Ｉｂ）〜（Ｉｈ）中に一以上の不斉炭素原子が存在する場合、独立して、Ｒ配置（右回り）又はＳ配置（左回り）のいずれかであり得る、請求項２記載の環式尿素化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月2日(2008.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  癌の化学療法治療用薬剤の調製におけるハロゲン化キサンテンの使用において、前記ハロゲン化キサンテンは、４'，５'−ジクロロフルオレセイン；２'，７'−ジクロロフルオレセイン；４，５，６，７−テトラクロロフルオレセイン；２'，４'，５'，７'−テトラクロロフルオレセイン；ジブロモフルオレセイン；ソルベントレッド７２；ジヨードフルオレセイン；エチルエオシン；エリトロシンＢ；フロキシンＢ；ローズベンガル；４，５，６，７−テトラブロモエリトロシン；モノ−、ジ−、またはトリブロモエリトロシン；モノ−、ジ−、またはトリクロロエリトロシン；モノ−、ジ−、またはトリフルオロエリトロシン；２'，７'−ジクロロ−４，５，６，７−テトラフルオロフルオレセイン；２'，４，５，６，７，７'−ヘキサフルオロフルオレセイン；および４，５，６，７−テトラフルオロフルオレセインからなる群から選択され、約０．００１％超乃至約２０％未満の濃度であることを特徴とする使用。
【請求項２】  前記薬剤は、化学療法治療のためにヒトまたは動物の組織の中へ、またはその近くに投与された時有効な薬剤であることを特徴とする請求項１記載の使用。
【請求項３】  前記ハロゲン化キサンテンがローズベンガルを含むことを特徴とする請求項１または2記載の使用。
【請求項４】  前記薬剤は、静脈内注射、腹腔内注射、筋内注射、頭蓋内注射、腫瘍内注射、上皮内注射、経皮的送達、経食道投与、腹内投与、虫垂内投与、動脈内投与、関節内投与、気管支内投与、頬内投与、嚢内投与、心内投与、軟骨内投与、腔内投与、頭内投与、結腸内投与、皮内投与、嚢胞内投与、真皮内投与、管内投与、十二指腸内投与、線維束内投与、脂肪内投与、網状体内投与、脳溝内投与、胃内投与、腺内投与、肝内投与、腸内投与、層内投与、病変内投与、靭帯内投与、舌内投与、乳房内投与、髄内投与、髄膜内投与、心筋内投与、鼻内投与、眼内投与、術中投与、口内投与、骨内投与、卵巣内投与、膵内投与、頭頂内投与、骨盤内投与、心膜内投与、会陰内投与、腹腔内投与、胎盤内投与、胸腔内投与、脳橋内投与、前立腺内投与、肺内投与、脊椎内投与、直腸内投与、腎内投与、強膜内投与、陰嚢内投与、分節内投与、トルコ鞍内投与、脊髄内投与、脾内投与、胸骨内投与、間質内投与、滑膜内投与、足根内投与、精巣内投与、胸腔内投与、扁桃内投与、気管内投与、卵管内投与、鼓室内投与、尿管内投与、尿道内投与、子宮内投与、膣内投与、血管内投与、心室内投与、椎骨内投与、膀胱内投与、硝子体内投与からなる群から選択される投与経路用に調合されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか記載の使用。
【請求項５】  少なくとも１つのターゲティング成分が前記ハロゲン化キサンテンに結合されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか記載の使用。
【請求項６】  前記ターゲティング成分が、デオキシリボ核酸（ＤＮＡ）、リボ核酸（ＲＮＡ）、アミノ酸、タンパク質、抗体、リガンド、ハプテン、炭水化物受容体、炭水化物錯化剤、脂質受容体、脂質錯化剤、タンパク質受容体、タンパク質錯化剤、キレート剤、カプセル化賦形剤、短鎖脂肪族炭化水素系溶剤、長鎖脂肪族炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アルデヒド類、ケトン類、アルコール類、エステル類、アミド類、アミン類、ニトリル類、アジ化物、親水性成分、および疎水性成分からなる群から選択されることを特徴とする請求項５記載の使用。
【請求項７】  前記薬剤は、液体、半固体、固体、およびエアロゾルからなる群から選択される送達賦形剤中に配合されることを特徴とする請求項１乃至６の何れか記載の使用。
【請求項８】  前記賦形剤が、水性懸濁剤、非水性懸濁剤、溶液剤、クリーム剤、軟膏剤、ゲル剤、シロップ剤、坐剤、錠剤、カプセル剤、および微小飛沫噴霧剤からなる群から選択されることを特徴とする請求項７記載の使用。
【請求項９】  前記ハロゲン化キサンテンが、ビルダー剤、安定剤、乳化剤、分散剤、保存剤、緩衝剤、電解質、組織浸透剤、および組織軟化剤からなる群から選択される補助剤を含む送達賦形剤中にあることを特徴とする請求項７または８記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月17日(2008.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ボツリヌス菌のＡ型、Ｂ型、Ｃ1型、Ｃ2型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型またはＧ型の少なくとも一つから得られる一以上の複合体形成タンパク質と、選択されたポリペプチドまたは低分子量の医薬品とを含み、該選択されたポリペプチドがボツリヌス毒素ではないタンパク質複合体。
【請求項２】  前記複合体形成タンパク質が、ボツリヌス菌のＡ型、Ｂ型、Ｃ1型、Ｃ2型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型またはＧ型の少なくとも一つから得られる複合体形成タンパク質の混合物である、請求項１に記載のタンパク質複合体。
【請求項３】  前記選択されたポリペプチドが、薬理学的に活性なポリペプチド、免疫学的に活性なポリペプチド、または診断目的のために使用されるポリペプチドである、請求項１または２に記載のタンパク質複合体。
【請求項４】  前記薬理学的に活性なポリペプチドまたは免疫学的に活性なポリペプチドが、ホルモン、サイトカイン、酵素、増殖因子、抗原、抗体、阻害剤、受容体のアゴニストもしくはアンタゴニスト、または血液凝固因子である、請求項３に記載のタンパク質複合体。
【請求項５】  診断目的のために使用される前記ポリペプチドが、標識された抗体または標識されたリガンドである、請求項３に記載のタンパク質複合体。
【請求項６】  前記低分子量の医薬品が、ネオマイシン、サルブタモール、ピリメタミン、メチシリン、ペチジン、ケタミンまたはメフェネシンである、請求項１または２に記載のタンパク質複合体。
【請求項７】  前記複合体形成タンパク質が、化学結合を介して選択されたポリペプチドに結合しているか、または化学結合を介して低分子量の医薬品と結合している、請求項１〜６のいずれかに記載のタンパク質複合体。
【請求項８】  ヒト医療および／または動物医療における、治療剤、ワクチンまたは診断剤としての請求項１〜７のいずれかに記載のタンパク質複合体。
【請求項９】  請求項１〜７のいずれかに記載のタンパク質複合体を調製する方法であって、
ａ）ボツリヌス菌から得られるＡ型、Ｂ型、Ｃ1型、Ｃ2型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型またはＧ型の少なくとも一つのボツリヌス毒素複合体を２．０〜６．５のｐＨで単離するステップと、
ｂ）ｐＨを７．０〜１０．０に上げるステップと、
ｃ）前記ボツリヌス毒素を複合体形成タンパク質からクロマトグラフィー法によって分離するステップと、
ｄ）ステップｃ）で得られる前記複合体形成タンパク質を、選択されたポリペプチドまたは低分子量の医薬品と混合するステップ、または
ｄ'）ステップｃ）で得られる前記複合体形成タンパク質を分離し、少なくとも一つの複合体形成タンパク質を、選択されたポリペプチドまたは低分子量の医薬品と混合するステップと、
ｅ）ステップｄ）またはステップｄ'）から得られる混合物を、ｐＨが２．０〜６．５の緩衝液に対して透析するステップと、
ｆ）任意選択的に、前記複合体形成タンパク質を、選択されたポリペプチドまたは低分子量の医薬品と化学結合を介してカップリングさせるステップと
を含む方法。
【請求項１０】  ステップｄ）またはステップｄ'）において混合される前記少なくとも二つの複合体形成タンパク質が、ボツリヌス毒素複合体の単一の種類またはいくつかの異なる種類から得られる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記複合体形成タンパク質が、組換えＤＮＡ技術によって産生される、請求項１〜７のいずれかに記載のタンパク質複合体を調製する方法。
【請求項１２】  薬理学的に活性なポリペプチドもしくは低分子量の物質、免疫学的に活性なポリペプチドもしくは、低分子量の物質、または診断目的のポリペプチドもしくは低分子量の物質に対する輸送ビヒクルとしての、ボツリヌス菌のＡ型、Ｂ型、Ｃ1型、Ｃ2型、Ｄ型、Ｅ型、Ｆ型またはＧ型の少なくとも一つから得られる、一以上の複合体形成タンパク質を含むタンパク質複合体の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月6日(2008.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ジプロピレングリコール第三ブチルエーテル（ＤＰＴＢ）と水を含み、ＤＰＴＢと水の重量比が少なくとも約９：１であるドライクリーニング用組成物を用いて、ドライクリーニングするのに有効な十分な時間、衣料を処理することからなる、衣料のドライクリーニング方法。
【請求項２】  前記時間が溶媒に可溶な汚れと水溶性の汚れの両方を取り除くのに十分な長さである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記ドライクリーニング組成物が約９０重量％のＤＰＴＢと約１０重量％の水から本質的に成る、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記ドライクリーニング組成物が、処理される衣料の織物を柔軟にするのに有効な量の織物柔軟剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記ドライクリーニング組成物が、第２の界面活性剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月23日(2008.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．０５ないし５．０重量パーセントを構成する第２アルコールエトキシレート界面活性剤、０．０７５ないし５．０重量パーセントを構成するアルキルポリグリコシド界面活性剤、０．０１ないし１．０重量パーセントを構成するキレート剤、および水からなる水性多目的洗浄溶液であって、該溶液のｐＨ がアルカリ性である溶液。
【請求項２】
０．２５ないし２．５０重量パーセントを構成する第２アルコールエトキシレート界面活性剤、０．１０ないし１．５０重量パーセントを構成するアルキルポリグリコシド、０．０１ないし０．４重量パーセントを構成するキレート剤、８．０ないし１２．５のｐＨを与えるのに充分な量を構成するｐＨ改変剤、香料、および水からなる水性多目的洗浄溶液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
これらの組成物が共通に保持する鍵となる特性は１１．５を上回るが１５．０
未満であるＨＬＢ値である。ＨＬＢ値という用語は親水性親油性平衡値、水溶解
度および洗浄剤組成物にとって重要な特性である良好な乳化をもたらす能力の尺
度を指す。一般的には、約１０未満のＨＬＢ値を有する組成物は水への溶解性が
不充分な傾向がある。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式Ｉ
【化１】
2004503660.tif 000001
［式中、
ａは数１１、１２または１３を表し、その際、ｉ−ＣａＨ２ａ＋１−基が、デセン、ド
デセンまたはこれらのオレフィンの混合物のヒドロホルミル化により得られるオキソアルコールから誘導されており、該オレフィン自体はｎ−ペント−２−エン、ヘキス−３−エンまたはこれらの化合物の混合物の二量化により製造されたものであり、
Ｒ１およびＲ２は異なっており、かつそれぞれ水素または式ＣｎＨ２ｎ＋１−のアルキル基を表し、
Ｒ３は水素、またはスルファト基もしくはホスファト基を表し、
ｎは１〜１６の数、ｘは０〜２００の数およびｙは０〜２００の数を表す］の界面活性剤１種以上の有効割合ならびに洗剤および洗浄剤中で通例公知の助剤および添加剤および場合により付加的に別の界面活性剤を含有する、洗剤および洗浄剤。
【請求項２】  請求項１記載の洗剤および洗浄剤の全質量における式Ｉの界面活性剤の最小割合は、この添加剤の著しい効果が示されるように量定されている、請求項１記載の洗剤および洗浄剤。
【請求項３】  請求項２記載の洗剤中の式Ｉの界面活性剤の割合が、組成物の全質量に対して０．０１〜５０質量％、有利には０．１〜４０質量％である、請求項２記載の洗剤。
【請求項４】  請求項２記載の洗浄剤中の式Ｉの界面活性剤の割合が、組成物の全質量に対して０．０１〜４０質量％、有利には０．１〜３０質量％である、請求項２記載の洗浄剤。
【請求項５】  式Ｉの界面活性剤中でａが値１３を表す、請求項１から４までのいずれか１項記載の洗剤および洗浄剤。
【請求項６】  式Ｉの界面活性剤中でＲ１およびＲ２が異なっており、かつそれぞれ水素、メチル、エチルまたはプロピルを表す、請求項１から５までのいずれか１項記載の洗剤および洗浄剤。
【請求項７】  洗剤および洗浄剤の製造方法において、式Ｉの界面活性剤を使用することを特徴とする、洗剤および洗浄剤の製造方法。
【請求項８】  請求項１の洗剤を使用する洗浄法。
【請求項９】  請求項１記載の洗浄剤を使用する、閉じた、特に硬質の表面を洗浄する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月6日(2008.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロエラストマーを含むフルオロエラストマー組成物への鉱油の使用であって、前記組成物から物品を形成するために加工中の前記組成物の流動性を向上させるため、および／または前記フルオロエラストマー組成物から製造される加硫物品の金型からの離型を改良するための使用。
【請求項２】
フルオロエラストマーと鉱油とを含むフルオロエラストマー組成物を提供する工程と、押出成形、射出成形、トランスファー成形、圧縮成形、およびそれらの組合せからなる群より選択される加工技術によって前記組成物を加工してフルオロエラストマー物品を製造する工程とを含む、フルオロエラストマー物品の製造方法。
【請求項３】
フルオロエラストマーと鉱油とを含むフルオロエラストマー組成物であって、前記組成物が植物性ワックスを含まないか、あるいは１００重量部のフルオロエラストマー当たり２重量部未満の量の植物性ワックスを含むフルオロエラストマー組成物。
【請求項４】
加工時に改良された流動性を示すフルオロエラストマー組成物の製造方法であって、前記方法は、鉱油とフルオロエラストマーとを互いに混合して植物性ワックスを含有しないフルオロエラストマー組成物を得る工程を含むか、あるいは、鉱油、フルオロエラストマー、および植物性ワックスを互いに混合して１００重量部のフルオロエラストマー当たり２重量部未満の量で植物性ワックスを含有するフルオロエラストマー組成物を得る工程を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によるフルオロエラストマー組成物に含まれるフルオロエラストマーは、一般に、ゴム弾性を有し、エチレン性不飽和でフッ素化されたモノマー（例えば、フッ素化二重結合（すなわち二重結合の１つ以上の炭素原子が１つ以上のフッ素原子と結合する）を有するエチレン性不飽和モノマー）から誘導される繰り返し単位を主要部分として含むポリマーである。本発明と関連するフルオロエラストマーは、ペルフルオロエラストマー、および完全にはフッ素化されていないエラストマーを含む。好ましいフルオロエラストマーは、フッ化ビニリデン（ＶＦ２）、ヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）、クロロトリフルオロエチレン、２−クロロペンタフルオロプロペン、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）（ＰＭＶＥ）などのフッ素化ビニルエーテル、フッ素化アリルエーテル、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、１−ヒドロペンタフルオロプロペン、ジクロロジフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、およびそれらの混合物のフルオロモノマーの１種類以上から誘導される繰り返し単位を有するポリマーである。さらに上記フルオロモノマーは、硬化部位モノマー（ＣＳＭ）（例えば、臭素含有モノマーまたはペルフルオロベンジルビニルエーテルなどの過フッ素化モノマー（パーフルオロモノマー））またはエチレン（Ｅ）やプロピレン（Ｐ）などの非フッ素化αオレフィンコモノマーなどの他の化合物と共重合させることができる。好ましいエラストマーは、フッ化ビニリデンと、各二重結合炭素原子上に少なくとも１つのフッ素原子置換基を有する少なくとも１種類の末端エチレン性不飽和フルオロモノマーとのコポリマーであり、前記フルオロモノマーの各炭素原子はフッ素のみで置換され、任意に塩素、水素、低級フルオロアルキル基、または低級フルオロアルコキシ基で置換される。コポリマーの具体例としては、ＶＦ２−ＨＦＰ、ＶＦ２−ＴＦＥ−ＨＦＰ、ＶＦ２−ＴＦＥ−ＨＦＰ−ＣＳＭ、ＶＦ２−ＴＦＥ−ＰＭＶＥ−ＣＳＭ、ＴＦＥ−Ｐ、Ｅ−ＴＦＥ−ＰＭＶＥ−ＣＳＭ、およびＴＦＥ−ＰＭＶＥ−ＣＳＭのモノマーの組合せを有するコポリマーが挙げられる。