【手続補正書】
【提出日】平成19年2月15日(2007.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電解メッキ装置及び電解メッキ方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持体に被処理面を下方に向けて水平保持された被処理体を電解メッキ浴槽内のメッキ液に浸漬した状態で回転させながら、上記電解メッキ浴槽内に配置されたアノードと上記被処理体との間での電気的導通により上記被処理面にメッキ処理を施す電解メッキ装置において、
上記保持体は、下端が内方へ水平に延び且つ上記被処理体を載置するフランジ状の載置部を有し、上記載置部に上記カソードが装着されており、且つ、
上記保持体は、上記被処理体の被処理面と反対面の中央を吸着保持し昇降可能に構成された真空チャックと、上記被処理体の外周縁部を押圧固定するリング状に形成されたクランプ機構と、を有し、上記クランプ機構により上記被処理体を上記カソードに接触させて固定することを特徴とする電解メッキ装置。
【請求項２】
上記載置部には上記カソードの内側に位置する弾性シール部材が装着され、上記被処理体と上記カソードとの接触、固定時に、上記保持体内部を上記メッキ浴槽から遮断することを特徴とする請求項１に記載の電解メッキ装置。
【請求項３】
上記アノードと上記カソードとの間の電流値または抵抗値を検出する手段を設けたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電解メッキ装置。
【請求項４】
保持体に被処理面を下方に向けて水平保持された被処理体を電解メッキ浴槽内のメッキ液に浸漬した状態で回転させながら、上記電解メッキ浴槽内に配置されたアノードと上記被処理体との間での電気的導通により上記被処理面にメッキ処理を施す電解メッキ方法において、
上記電解メッキ浴槽に上記メッキ液を上記電解メッキ浴槽からオーバーフローさせて循環させる循環駆動機構を設け、
上記保持体を上記メッキ液内に浸漬した時に上記循環駆動機構を介して上記メッキ液を循環させると共に上記被処理体を回転させて上記被処理体の接液面に滞留する気泡を追い出す工程と、
上記メッキ液の流量及び上記被処理体の回転速度の少なくともいずれか一方を変更して上記被処理体にメッキ処理を施す工程と、を有する
ことを特徴とする電解メッキ方法。
【請求項５】
上記保持体の回転速度を２０〜６０ｒｐｍの範囲内に設定することを特徴とする請求項４に記載の電解メッキ方法。
【請求項６】
上記メッキ液の流量を０〜８Ｌ／分の範囲内に設定することを特徴とする請求項５に記載の電解メッキ方法。
【請求項７】
保持体に被処理面を下方に向けて水平保持された被処理体を電解メッキ浴槽内のメッキ液に浸漬した状態で回転させながら、上記電解メッキ浴槽内に配置されたアノードと上記被処理体との間での電気的導通により上記被処理面にメッキ処理を施す電解メッキ方法において、
上記電解メッキ浴槽に上記メッキ液を上記電解メッキ浴槽からオーバーフローさせて循環させる循環駆動機構を設け、
上記被処理体に電流を印加する工程と、
上記被処理体に電流を印加した状態で上記保持体を介して上記被処理体を上記メッキ液に浸漬する工程と、
上記カソードと上記アノード間の電流変化を検出する工程と、を有する
ことを特徴とする電解メッキ方法。
【請求項８】
上記被処理体の回転及び上記メッキ液のオーバーフローにより上記電気メッキ浴槽内の泡を追い出す工程と、
上記電流の検出値が一定になった時点で上記電解メッキ浴槽から上記泡が追い出されたことを確認する工程と、
有することを特徴とする請求項７に記載の電解メッキ方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電解メッキ装置及び電解メッキ方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、均一な膜厚のメッキ層を確実に得ることができる電解メッキ装置及び電解メッキ方法を提供することを目的としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は上記知見に基づいてなされたもので、請求項１に記載の電解メッキ装置は、保持体に被処理面を下方に向けて水平保持された被処理体を電解メッキ浴槽内のメッキ液に浸漬した状態で回転させながら、上記電解メッキ浴槽内に配置されたアノードと上記被処理体との間での電気的導通により上記被処理面にメッキ処理を施す電解メッキ装置において、上記保持体は、下端が内方へ水平に延び且つ上記被処理体を載置するフランジ状の載置部を有し、上記載置部に上記カソードが装着されており、且つ、上記保持体は、上記被処理体の被処理面と反対面の中央を吸着保持し昇降可能に構成された真空チャックと、上記被処理体の外周縁部を押圧固定するリング状に形成されたクランプ機構と、を有し、上記クランプ機構により上記被処理体を上記カソードに接触させて固定することを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の請求項２に記載の電解メッキ装置は、請求項１の発明において、上記載置部には上記カソードの内側に位置する弾性シール部材が装着され、上記被処理体と上記カソードとの接触、固定時に、上記保持体内部を上記メッキ浴槽から遮断することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項３に記載の電解メッキ装置は、請求項１または請求項２に記載の発明において、上記アノードと上記カソードとの間の電流値または抵抗値を検出する手段を設けたことを特徴とするものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の請求項４に記載の電解メッキ方法は、保持体に被処理面を下方に向けて水平保持された被処理体を電解メッキ浴槽内のメッキ液に浸漬した状態で回転させながら、上記電解メッキ浴槽内に配置されたアノードと上記被処理体との間での電気的導通により上記被処理面にメッキ処理を施す電解メッキ方法において、上記電解メッキ浴槽に上記メッキ液を上記電解メッキ浴槽からオーバーフローさせて循環させる循環駆動機構を設け、上記保持体を上記メッキ液内に浸漬した時に上記循環駆動機構を介して上記メッキ液を循環させると共に上記被処理体を回転させて上記被処理体の接液面に滞留する気泡を追い出す工程と、上記メッキ液の流量及び上記被処理体の回転速度の少なくともいずれか一方を変更して上記被処理体にメッキ処理を施す工程と、を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項５に記載の電解メッキ方法は、請求項４に記載の発明において、上記保持体の回転速度を２０〜６０ｒｐｍの範囲内に設定することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項６に記載の電解メッキ方法は、請求項５に記載の発明において、上記メッキ液の流量を０〜８Ｌ／分の範囲内に設定することを特徴とするものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の請求項７に記載の電解メッキ方法は、保持体に被処理面を下方に向けて水平保持された被処理体を電解メッキ浴槽内のメッキ液に浸漬した状態で回転させながら、上記電解メッキ浴槽内に配置されたアノードと上記被処理体との間での電気的導通により上記被処理面にメッキ処理を施す電解メッキ方法において、上記電解メッキ浴槽に上記メッキ液を上記電解メッキ浴槽からオーバーフローさせて循環させる循環駆動機構を設け、上記被処理体に電流を印加する工程と、
上記被処理体に電流を印加した状態で上記保持体を介して上記被処理体を上記メッキ液に浸漬する工程と、上記カソードと上記アノード間の電流変化を検出する工程と、を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項８に記載の電解メッキ方法は、請求項７に記載の発明において、上記被処理体の回転及び上記メッキ液のオーバーフローにより上記電気メッキ浴槽内の泡を追い出す工程と、上記電流の検出値が一定になった時点で上記電解メッキ浴槽から上記泡が追い出されたことを確認する工程と、有することを特徴とするものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【発明の効果】
本発明の請求項１〜請求項６に記載の発明によれば、均一な膜厚のメッキ層を確実に得ることができる電解メッキ装置及び電解メッキ方法を提供することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、本発明の請求項３、請求項７及び請求項８に記載の発明によれば、メッキ処理を行う際に被処理体の被処理面内の気泡が確実に抜けたか否かを確認することができる電解メッキ装置及び電解メッキ方法を併せて提供することができる。