Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月25日(2007.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関のアイドルストップを行うアイドルストップ制御装置において、
特定の気筒の燃料噴射弁から燃料カットを行い、アイドルストップさせることを特徴とする内燃機関のアイドルストップ制御装置。
【請求項２】
前記アイドルストップ制御装置は、アイドルストップアイドルストップを行うか否かを判定するアイドルストップ許可判定手段を有し、前記アイドルストップ許可判定手段は、前記内燃機関の運転状態が所定の範囲にあるときに前記内燃機関がアイドルストップをすることを許可することを特徴とする請求項1記載のアイドルストップ制御装置。
【請求項３】
前記運転状態は、エンジン回転数，点火時期，スロットル開度，負荷，内燃機関１回転当りの吸入空気量（ＴＰ）の少なくても何れか１つ以上であることを特徴とする請求項２記載のアイドルストップ制御装置。
【請求項４】
前記アイドルストップ制御装置は、エンジン回転数以外の運転条件が前記所定範囲にある場合に、目標アイドル回転数を設定すると共に、実際のエンジン回転数と前記目標アイドル回転数との差が所定値以内の状態が所定時間以上継続したことを判定するものであることを特徴とする請求項３記載のアイドルストップ制御装置。
【請求項５】
前記アイドルストップ制御装置は、点火時期以外の運転条件が前記所定範囲にある場合に、基本点火時期を設定すると共に、実際の点火時期と前記基本点火時期との差が所定値以内の状態が所定時間以上継続したことを判定するものであることを特徴とする請求項３記載のアイドルストップ制御装置。
【請求項６】
前記アイドルストップ制御装置は、スロットル開度以外の運転条件が前記所定範囲にある場合に、基本スロットル開度を設定に対して、実際のスロットル開度と上記基本スロットル開度との差が所定値以内の状態が所定時間以上継続したことを判定するものであることを特徴とする請求項３記載のアイドルストップ制御装置。
【請求項７】
前記アイドルストップ制御装置は、該負荷以外の運転条件が前記所定範囲にある場合に、基本負荷を設定に対して、実際に算出された負荷又はＴＰと前記基本負荷との差が所定値以内の状態が所定時間以上継続したことを判定するものであることを特徴とする請求項３記載のアイドルストップ制御装置。
【請求項８】
シリンダ内に直接燃料を噴射する手段と、車両の運転状態を検出する手段と、該車両の運転状態に応じて、アイドルストップ許可判定する手段を有する内燃機関の装置において、
前記アイドルストップ後の再始動を行う場合に、スロットル開度を所定期間、所望の開度に開弁制御することを特徴とする内燃機関の制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的は、内燃機関のアイドルストップを行うアイドルストップ制御装置において、特定の気筒の燃料噴射弁から燃料カットを行い、アイドルストップさせることを特徴とする内燃機関のアイドルストップ制御装置により達成される。また、より詳しくは、内燃機関のエンジン回転数が所定範囲内であること、または、点火時期が所定範囲内にあること、または、スロットル開度が所定範囲内にあること、または内燃機関の負荷又は内燃機関１回転当りの吸入空気量（ＴＰ）が所定範囲内にあることの少なくても何れか１つ以上の条件が成立したときに、アイドルストップを許可することにより達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
油脂類とアルコール類とのエステル交換反応による脂肪酸エステルの製造方法であって、触媒としてアニオン交換体を用い、且つ、油脂類とアルコール類のモル比が１／３０〜１／１であることを特徴とする脂肪酸エステルの製造方法。
【請求項２】
油脂類が天然油脂、合成油脂、合成トリグリセリド、モノグリセリド及び／又はジグリセリドを含む合成トリグリセリド、これらの変性物、又はこれらを含む廃品油脂類である請求項１に記載の脂肪酸エステルの製造方法。
【請求項３】
アルコール類が炭素数１〜５の低級アルコールである請求項１又は２に記載の脂肪酸エステルの製造方法。
【請求項４】
アニオン交換体が強塩基性多孔質アニオン交換樹脂である請求項１〜３のいずれか１項に記載の脂肪酸エステルの製造方法。
【請求項５】
エクスパンデットベッドカラム型反応器を使用してエステル交換反応を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の脂肪酸エステルの製造方法。
【請求項６】
アニオン交換体を充填したカラムの一方に油脂類とアルコール類の混合物の導入口を、他方に、生成した脂肪酸エステルの回収口をそれぞれ有することを特徴とする脂肪酸エステル製造装置。
【請求項７】
油脂類とアルコール類とのエステル交換反応による脂肪酸エステルを含有するバイオディーゼル燃料の製造に用いられる、アニオン交換体からなる触媒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
更に、本発明の他の要旨は、エクスパンデットベッドカラム型反応器を使用してエステル交換反応を行うことを特徴とする前記の脂肪酸エステルの製造方法に存する。
更に、本発明の他の要旨は、アニオン交換体を充填したカラムの一方に油脂類とアルコール類の混合物の導入口を、他方に、生成した脂肪酸エステルの回収口をそれぞれ有することを特徴とする脂肪酸エステルの製造装置に存する。
更に、本発明の他の要旨は、油脂類とアルコール類とのエステル交換反応による脂肪酸エステルを含有するバイオディーゼル燃料の製造に用いられる、アニオン交換体からなる触媒に存する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［１］アニオン交換体
本発明の油脂類とアルコール類とのエステル交換反応による脂肪酸エステルの製造に用いられる触媒としてのアニオン交換体としては、アニオン交換樹脂、アニオン交換膜等が挙げられるが、アニオン交換樹脂が好ましい。アニオン交換樹脂は、強塩基性アニオン交換樹脂、弱塩基性アニオン交換樹脂などが挙げられるが、強塩基性アニオン交換樹脂が好ましい。アニオン交換樹脂を架橋度又は多孔度から分類した場合、ゲル型、ポーラス型、ハイポーラス型等が挙げられるが、ポーラス型、ハイポーラス型が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月8日(2007.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドライヤーパートより後に紙の表面に塗液を塗布する１つ以上の工程と、前記塗液のうち最も温度の高い塗液の温度よりも５℃以上高い融点を有する嵩高剤を前記塗液の塗布工程以前に紙に含有させる工程と、を有する嵩高紙の製造方法。
【請求項２】
前記塗液の塗布工程を２ロール式の塗工手段を用いて行う請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
更に、サイズ剤を前記塗液の塗布工程以前に紙に含有させる工程を有する請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
嵩高剤が、オルガノシロキサン、グリセリルエーテル、４級アンモニウム塩、イミダゾール誘導体、アミン、アミド、エステル、高級アルコール、及び高級アルコールもしくはエステルのアルキレンオキサイド付加物から選ばれる１種以上である請求項１〜３の何れか１項記載の製造方法。
【請求項５】
嵩高剤が、アミン、アミド、及びエステルから選ばれる１種以上である請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
嵩高剤が、ポリアミドポリアミン、多価アルコール脂肪酸エステル及び多価カルボン酸エステルから選ばれる１種以上である請求項５記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エントリをディレクトリツリー形式で階層的に対応付けるデータベースシステムであって、前記ディレクトリツリーは、１つ以上のサブツリーを含み、前記サブツリーそれぞれは、さらに１つ以上のサブツリーを含むことができ、前記ディレクトリツリーおよび前記サブツリーそれぞれは、階層的に対応付けられた１つ以上の前記エントリを含み、前記ディレクトリツリーおよび前記サブツリーそれぞれに含まれる１つ以上のエントリには、最上位のエントリが定義され、前記サブツリーそれぞれの最上位のエントリは、前記ディレクトリツリーおよび他の前記サブツリーのエントリのいずれかを参照し、
前記１つ以上のエントリそれぞれに対して、アクセスが集中しているか否かを監視する監視手段と、
前記ディレクトリツリーおよび前記サブツリーそれぞれに含まれる複数のエントリに、アクセスが集中しているときに、これらアクセスが集中した複数のエントリの上位の階層に新たな第１の最上位エントリを作成し、これらアクセスが集中した複数のエントリと前記第１の最上位エントリとを対応付けた新たなサブツリーを作成して、前記ディレクトリツリーまたは前記サブツリーの構成を変更する構成変更手段と、
前記第１の最上位エントリ以下の新たなサブツリーに含まれるエントリを検索するための第１の検索条件と、前記第１の最上位エントリとを対応付けて、検索条件管理テーブルに記録するテーブル記録手段と
を有するデータベースシステム。
【請求項２】
前記エントリを検索するための第２の検索条件を含む検索要求を受け、前記検索条件管理テーブルを用いて、前記第２の検索条件に合うエントリを検索する１つ以上の検索手段  をさらに有し、
前記検索手段それぞれは、
前記第２の検索条件が、前記検索条件管理テーブルに記録された、前記第１の検索条件に含まれるときには、前記第１の検索条件に対応付けられた第１の最上位エントリを検索の起点として、下位のディレクトリツリーまたはサブツリーに含まれるエントリを検索する第１の検索を行い、
前記第２の検索条件が、前記検索条件管理テーブルに記録された、前記第１の検索条件に含まれないときには、前記第２の検索条件で指定される検索の起点を最上位エントリとする、ディレクトリツリーまたはサブツリーに含まれるエントリを検索する第２の検索を行う
請求項１に記載のデータベースシステム。
【請求項３】
前記ディレクトリツリーおよび１つ以上の前記サブツリーまたはこれらのいずれかを、それぞれ記憶する複数のデータベースと、
前記複数のデータベースの内、第１のデータベースの前記記憶手段に記憶された前記ディレクトリツリーまたはサブツリーの構成の変更が生じたときに、前記第１の最上位エントリと前記対応付けられた新たなサブツリーを、前記複数のデータベースの内、前記第１のデータベースよりも負荷が軽い第２のデータベースに転送して記憶させる転送手段と
をさらに有する請求項１または２に記載のデータベースシステム。
【請求項４】
エントリをディレクトリツリー形式で階層的に対応付けるデータ管理方法であって、前記ディレクトリツリーは、１つ以上のサブツリーを含み、前記サブツリーそれぞれは、さらに１つ以上のサブツリーを含むことができ、前記ディレクトリツリーおよび前記サブツリーそれぞれは、階層的に対応付けられた１つ以上の前記エントリを含み、前記ディレクトリツリーおよび前記サブツリーそれぞれに含まれる１つ以上のエントリには、最上位のエントリが定義され、前記サブツリーそれぞれの最上位のエントリは、前記ディレクトリツリーおよび他の前記サブツリーのエントリのいずれかを参照し、
前記１つ以上のエントリそれぞれに対して、アクセスが集中しているか否かを監視する監視ステップと、
前記ディレクトリツリーおよび前記サブツリーそれぞれに含まれる複数のエントリに、アクセスが集中しているときに、これらアクセスが集中した複数のエントリの上位の階層に新たな第１の最上位エントリを作成し、これらアクセスが集中した複数のエントリと前記第１の最上位エントリとを対応付けた新たなサブツリーを作成して、前記ディレクトリツリーまたは前記サブツリーの構成を変更する構成変更ステップと、
前記第１の最上位エントリ以下の新たなサブツリーに含まれるエントリを検索するための第１の検索条件と、前記第１の最上位エントリとを対応付けて、検索条件管理テーブルに記録するテーブル記録ステップと
をコンピュータに実行させるデータ管理方法。
【請求項５】
前記エントリを検索するための第２の検索条件を含む検索要求を受け、前記検索条件管理テーブルを用いて、前記第２の検索条件に合うエントリを検索する１つ以上の検索ステップ
をさらに前記コンピュータに実行させ、
前記検索ステップそれぞれは、
前記第２の検索条件が、前記検索条件管理テーブルに記録された、前記第１の検索条件に含まれるときには、前記第１の検索条件に対応付けられた第１の最上位エントリを検索の起点として、下位のディレクトリツリーまたはサブツリーに含まれるエントリを検索する第１の検索ステップと、
前記第２の検索条件が、前記検索条件管理テーブルに記録された、前記第１の検索条件に含まれないときには、前記第２の検索条件で指定される検索の起点を最上位エントリとする、ディレクトリツリーまたはサブツリーに含まれるエントリを検索する第２の検索ステップとを
含む請求項４に記載のデータ管理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷出力すべき健診データの複数種類の帳票のグループを設定する手段と、
該設定されたグループに属する任意の帳票を選択する手段と、
該選択された任意の帳票に対し印刷出力条件を設定する手段と、
該設定された前記グループの帳票を前記設定された印刷条件に基づいて印刷出力手段を制御する印刷制御手段と、
を備えたことを特徴とする健診データ処理システム。  
【請求項２】
該設定された帳票のグループを印刷出力する指令を設定する手段をさらに備え、
前記印刷制御手段は、前記指令があったときに前記設定された印刷条件に基づいて前記グループの帳票を前記印刷出力手段に印刷出力するように制御することを特徴とする請求項１に記載の健診データ処理システム。  
【請求項３】
前記印刷条件設定手段は、前記複数種類の帳票のうちの同一種類の帳票に同一の印刷条件を設定することを特徴とする請求項1又は２に記載の健診データ処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月12日(2007.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発振回路を有し、電源電圧入力端子からの電源電圧を降圧して降圧電圧出力端子を介して降圧電圧を出力するチャージポンプ回路を有する降圧電圧出力回路において、
前記発振回路の周波数に応じてタイマー時間が設定され、第１のレベルを有する制御信号が入力されている期間、前記第１のレベルを有する制御信号が入力されてから前記タイマー時間が経過するまではロウレベルを有する信号を出力し、前記タイマー時間経過後はハイレベルを有する信号を出力し、前記第１のレベルとは異なる第２のレベルを有する制御信号が入力されている期間、ロウレベルを有する信号を出力するタイマー回路と、
前記降圧電圧出力端子に接続されたソースと、接地電位に接続されたドレインと、抵抗を介して前記電源電圧入力端子に接続されたゲートとを有する第１のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタと、
前記降圧電圧出力端子に接続されたソースと、前記第１のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタのゲートに接続されたドレインと、前記タイマー回路の出力端に接続されたゲートとを有する第２のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタと、
を備えたことを特徴とする降圧電圧出力回路。
【請求項２】
前記タイマー回路の出力信号がロウレベルである期間、前記タイマー回路の出力を前記第２のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧より低くかつ前記閾値電圧に近接した所定の電圧を出力する制御電圧調整部をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の降圧電圧出力回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記問題を解決するために、本発明は以下の構成を有する。
本発明に係る降圧電圧出力回路は、発振回路を有し、電源電圧入力端子からの電源電圧を降圧して降圧電圧出力端子を介して降圧電圧を出力するチャージポンプ回路を有する降圧電圧出力回路において、前記発振回路の周波数に応じてタイマー時間が設定され、第１のレベルを有する制御信号が入力されている期間、前記第１のレベルを有する制御信号が入力されてから前記タイマー時間が経過するまではロウレベルを有する信号を出力し、前記タイマー時間経過後はハイレベルを有する信号を出力し、前記第１のレベルとは異なる第２のレベルを有する制御信号が入力されている期間、ロウレベルを有する信号を出力するタイマー回路と、前記降圧電圧出力端子に接続されたソースと、接地電位に接続されたドレインと、抵抗を介して前記電源電圧入力端子に接続されたゲートとを有する第１のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタと、前記降圧電圧出力端子に接続されたソースと、前記第１のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタのゲートに接続されたドレインと、前記タイマー回路の出力端に接続されたゲートとを有する第２のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタと、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
制御信号は、例えば、Ｈｉｇｈ及びＬｏｗの２値の制御信号である。
発振回路の周波数は、発振回路の構成要素によって任意に設定することが可能である。また、タイマー時間は、電源が立ち上がってからチャージポンプ回路が完全に動作を始めるまでの時間に応じて、発振回路の周波数やタイマー回路の構成要素等によって任意に設定することが可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記降圧電圧出力回路において、前記タイマー回路の出力信号がロウレベルである期間、前記タイマー回路の出力を前記第２のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧より低くかつ前記閾値電圧に近接した所定の電圧を出力する制御電圧調整部をさらに備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録密度が異なる光ディスク媒体に記録された情報の再生が可能で、ビタビ復号器を備えた光ディスク装置であって、
前記ビタビ復号器に備えられたデジタル方式のＰＬＬと、前記ＰＬＬに内蔵された位相比較器とを備え、
前記位相比較器が、入力信号列の各値を指定された閾値と比較することによりエッジ判別を行う手段を有することを特徴とする光ディスク装置。
【請求項２】
前記エッジ判別は、複数の時刻における入力信号の大きさを用いて行われることを特徴とする請求項１記載の光ディスク装置。
【請求項３】
記録密度が異なる光ディスク媒体に情報の記録または／及び再生が可能で、ビタビ復号器を備えた光ディスク装置であって、
前記ビタビ復号器が、実効的に、拘束長を可変にする機能を有することを特徴とする光ディスク装置。
【請求項４】
前記ビタビ復号器は、予め設定されたビット列毎の目標レベル値を設定する目標レベルテーブルを有し、前記拘束長の可変は、前記目標レベルテーブルに設定する目標レベル値を変更することによって行われることを特徴とする請求項３記載の光ディスク装置。
【請求項５】
更に、ＰＬＬ回路を有し、
前記拘束長が奇数のクラスと偶数のクラスとで、前記ＰＬＬ回路からのＰＬＬクロックの極性は反転することを特徴とする請求項３記載の光ディスク装置。
【請求項６】
前記ビタビ復号器は、ＦＩＲフィルタを有し、
前記拘束長が奇数のクラスと偶数のクラスとで、前記ＦＩＲフィルタで、クロック周期の略１／２だけ位相シフトした等化を行うことを特徴とする請求項３記載の光ディスク装置。
【請求項７】
記録密度が異なる光ディスク媒体に情報の記録または／及び再生が可能で、ビタビ復号器を備えた光ディスク装置であって、
デジタル方式のＰＬＬと、前記ＰＬＬに内蔵する位相比較器とを備え、
前記位相比較器が、入力信号列の各値を指定された閾値と比較することによりエッジ判別を行う機能を有し、
かつ、前記ビタビ復号器が、実効的に、拘束長を可変にする機能を有し、
記録密度、再生またはベリファイ動作に応じて、前記位相比較器のエッジ判別を行う機能と、
前記ビタビ復号器の実効的な拘束長を切り替える手段と、
を有することを特徴とする光ディスク装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
次に、光記録媒体１５で反射した主ビーム２７及び±１次の副ビーム２９ａ、２９ｂを受光素子２３、２５ａ、２５ｂの受光面にそれぞれ集光させる。受光素子２３、２５ａ、２５ｂで主ビーム２７及び±１次の副ビーム２９ａ、２９ｂを受光することにより、主ビーム電気信号が受光素子２３から誤差信号検出部３１に出力され、第１及び第２の副ビーム電気信号が受光素子２５ａ、２５ｂから誤差信号検出部３１に出力される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月3日(2007.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
〈磁性層厚さ〉
試料の磁気記録媒体を樹脂埋めし、それを集束イオンビーム加工装置で厚さ方向の断面をテープの長手方向に切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡(ＳＥＭ)で１０万倍にて１０視野の写真撮影を行い、磁性層表面、磁性層−下塗層界面を縁取りする。つぎに、写真１視野当り、界面に非磁性粉末のかかっていない任意の５個所を選び、それぞれ縁取りした線間の距離を磁性層の厚さとして計測する。写真１０視野について同様の計測を行い、それらを平均して磁性層厚さとした。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月15日(2007.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主磁極と、
補助磁極と、
浮上面側において、前記主磁極のトラック幅方向両側とトレーリング方向に前記主磁極の側面を覆うように形成された磁性体とを有し、
前記磁性体の素子高さ方向の高さは、前記主磁極のトレーリングエッジ側の端部における高さが、トレーリングエッジより遠い側の端部における高さよりも小さいことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記磁性体は、主磁極の厚み方向に積層された第１の磁性体と第２の磁性体からなり、前記第１の磁性体の主磁極高さ方向の高さは、前記第２の磁性体の主磁極高さ方向の高さよりも小さいことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記第１の磁性体の素子高さ方向の高さは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項４】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記第２の磁性体の素子高さ方向の高さは３００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項５】
請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記補助磁極と前記磁性体は同じ磁性材料によって形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項６】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記補助磁極、前記第１の磁性体及び第２の磁性体がそれぞれ異なる磁性材料によって形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項７】
請求項２記載の磁気ヘッドにおいて、前記補助磁極は前記主磁極のトレーリング側に配置された第１の補助磁極と前記主磁極のリーディング側に配置された第２の補助磁極からなり、前記第２の磁性体は前記第１の補助磁極に接続していることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項８】
請求項７記載の磁気ヘッドにおいて、前記主磁極と前記第１の補助磁極の間に形成されたコイルと、前記主磁極と前記第２の補助磁極の間に形成されたコイルを有することを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項９】
磁気記録層と軟磁性裏打ち層とを備える磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体を駆動する媒体駆動部と、
前記磁気記録媒体に対して記録再生を行う磁気ヘッドであって、主磁極と、補助磁極と、浮上面側において、前記主磁極のトラック幅方向両側とトレーリング方向に前記主磁極の側面を覆うように形成された磁性体とを有し、前記磁性体の素子高さ方向の高さは、前記主磁極のトレーリングエッジ側の端部における高さが、トレーリングエッジより遠い側の端部における高さよりも小さい磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して駆動する磁気ヘッド駆動部とを含むことを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１０】
主磁極と、補助磁極と、浮上面側において前記主磁極のトラック幅方向両側とトレーリング方向に前記主磁極の側面を覆うように形成された磁性体とを有する磁気ヘッドの製造方法において
主磁極を形成する工程と、
主磁極の周りに磁気ギャップを形成する工程と、
フレームめっき法にて第１の磁性体を形成する工程と、
アルミナ膜を形成し、ケミカルメカニカルポリッシンングにて平坦化する工程と、
平坦化された前記第１の磁性体上に、前記第１の磁性体より素子高さ方向の高さが高い第２の磁性体を形成する工程と、
コイル及びコイル絶縁層を形成し、ケミカルメカニカルポリッシンングにて平坦化する工程と、
平坦化された前記第２の磁性体に接続して補助磁極を形成する工程と
を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月4日(2007.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
磁束発生手段と、前記磁束発生手段を保持固定するホルダーと、前記磁束発生手段の発生磁束の作用により電磁誘導発熱する誘導発熱体と、前記誘導発熱体の被加熱材搬送方向に直交する長手方向に関する前記誘導発熱体への磁束作用領域を調整する磁束調整手段と、を有し、前記誘導発熱体の発熱により被加熱材を加熱する加熱装置であって、前記磁束調整手段は、前記誘導発熱体の長手方向で前記ホルダーに面接触する磁束調整部材と、前記磁束調整部材を移動させる移動手段を有し、前記移動手段により前記磁束調整部材を前記ホルダーと摺動させて移動することで前記誘導発熱体の被加熱材搬送方向に直交する温度分布を調整する加熱装置において、
前記磁束調整部材と前記ホルダーの摺動部の長手方向の長さをＬ［ｍｍ］、前記磁束調整部材の線膨張係数をα、前記ホルダーの線膨張係数をβとし、加熱装置連続使用時の前記ホルダーの室温からの上昇温度をＴ［ｄｅｇ］とするとき、
−０．７≦（α−β）＊Ｔ＊Ｌ≦０．７
であることを特徴とする加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するための構成は、磁束発生手段と、前記磁束発生手段を保持固定するホルダーと、前記磁束発生手段の発生磁束の作用により電磁誘導発熱する誘導発熱体と、前記誘導発熱体の被加熱材搬送方向に直交する長手方向に関する前記誘導発熱体への磁束作用領域を調整する磁束調整手段と、を有し、前記誘導発熱体の発熱により被加熱材を加熱する加熱装置であって、前記磁束調整手段は、前記誘導発熱体の長手方向で前記ホルダーに面接触する磁束調整部材と、前記磁束調整部材を移動させる移動手段を有し、前記移動手段により前記磁束調整部材を前記ホルダーと摺動させて移動することで前記誘導発熱体の被加熱材搬送方向に直交する温度分布を調整する加熱装置において、前記磁束調整部材と前記ホルダーの摺動部の長手方向の長さをＬ［ｍｍ］、前記磁束調整部材の線膨張係数をα、前記ホルダーの線膨張係数をβとし、加熱装置連続使用時の前記ホルダーの室温からの上昇温度をＴ［ｄｅｇ］とするとき、
−０．７≦（α−β）＊Ｔ＊Ｌ≦０．７
であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ａは記録材Ｐの搬送方向（被加熱材搬送方向）である。本実施例の画像形成装置において、記録材Ｐの給紙・搬送は記録材中心の中央通紙基準でなされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
１は誘導発熱体としての定着ローラである。鉄・ニッケル・ＳＵＳ４３０などの誘導発熱材（導電性磁性材）から形成された、肉厚が例えば０．１ｍｍ〜１．５ｍｍ程度の円筒状のローラである。一般に、その外周表面に、フッ素樹脂等の離型層、あるいは弾性層と離型層等を形成して用いられる。鉄など強磁性の金属（透磁率の高い金属）を使うことで、磁束発生手段から発生する磁束（発生磁束）を金属内部により多く拘束させることができる。すなわち、磁束密度を高くすることができることにより効率的に金属表面に渦電流を発生させられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本実施例の構成においては、ホルダー６の、コイル４とコア５ａ・５ｂを組み込んだ第１半体６ａの外面側が主たる磁束発生領域であり、この磁束発生領域において定着ローラ１に磁束が作用して定着ローラ１の加熱がなされる。そして、定着ローラ１の円周方向において、その主たる磁束発生領域に対応する定着ローラ部分（磁束作用領域）にて発熱する発熱量分布は模式図に示すように、２ヶ所に発熱量の多い部分Ｈ・Ｈが存在する。本実施例においては、その１箇所部Ｈが定着ニップ部Ｎに対応位置するように、他の１箇所部Ｈが定着ニップ部Ｎよりも定着ローラ回転方向上流側に位置するように、ホルダー６を、その円周方向の角度姿勢状態を位置決めして非回転に固定支持させて配置している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
小サイズ記録材の通紙が連続的になされると、定着ローラ１の非通紙領域幅Ｃ´の部分が非通紙部昇温して行く。その昇温状態が端部サーミスタＴＨ２から制御回路部５０に入力する。制御回路部５０は端部サーミスタＴＨ２から入力する非通紙部昇温温度が所定の許容温度よりも高くなったら、ドライバ５３を介して第２モータＭ２を起動させて、磁束調整部材７を図３・図９の第１切換え位置から図１０の第２切換え位置に回動移動させる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
これにより、非通紙領域幅Ｃ´・Ｃ´に対応する定着ローラ部分に対する磁束発生手段からの作用磁束量が低減されて、非通紙領域幅Ｃ´・Ｃ´に対応する定着ローラ部分の発熱が抑えられる（定着ローラ部分の温度分布の調整）。すなわち、非通紙部昇温が抑えられる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
また、中サイズ記録材の通紙が連続的になされると、定着ローラ１の非通紙領域幅Ｂ´の部分が非通紙部昇温して行く。その昇温状態が端部サーミスタＴＨ２から制御回路部５０に入力する。制御回路部５０は端部サーミスタＴＨ２から入力する非通紙部昇温温度が所定の許容温度よりも高くなったら、ドライバ５３を介して第２モータＭ２を起動させて、磁束調整部材７を図３・図９の第１切換え位置から図１１の第３切換え位置に回動移動させる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
これにより、非通紙領域幅Ｂ´・Ｂ´に対応する定着ローラ部分に対する磁束発生手段からの作用磁束量が低減されて、非通紙領域幅Ｂ´・Ｂ´に対応する定着ローラ部分の発熱が抑えられる（定着ローラ部分の温度分布の調整）。すなわち、非通紙部昇温が抑えられる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
磁束調整部材７とホルダー６の摺動部の長手方向の長さをＬ［ｍｍ］、前記磁気調整部材７の線膨張係数をα、前記ホルダー６の線膨張係数をβ、定着装置連続使用時（加熱装置連続使用時）のホルダー６の室温からの上昇温度をＴ［ｄｅｇ］とすると、上記長手方向位置ズレ量の最大長さｄ［ｍｍ］は
ｄ＝（α−β）＊Ｔ＊Ｌ
となる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2006120540.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月8日(2007.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
磁束発生手段と、前記磁束発生手段からの磁束により発熱する発熱部材と、前記発熱部材の被加熱材搬送方向に直交する幅方向の領域の一部の温度を低下させる温度低下手段と、前記温度低下手段により温度低下させる領域でない非温度低下領域の温度を検知する温度検知手段と、前記温度検知手段の検知結果に基いて前記発熱部材の温度を目標温度にするように温度制御する温度制御手段と、を有し、前記発熱部材の発熱により被加熱材を加熱する加熱装置において、
前記温度検知手段が検知する領域を少なくとも含む前記非温度低下領域の磁束を調整する磁束調整部材と、前記磁束調整部材を所定の磁束調整作用位置へ移動させる移動手段と、を有し、前記温度低下手段により前記発熱部材の温度が低下した場合、前記磁束調整部材を前記磁束調整作用位置へ移動させることを特徴とする加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
上記の磁束調整部材８において、過昇温用磁束調整部８ａ・８ａが、発熱部材である定着ローラの幅方向において温度を低下させるための温度低下手段（発熱部材の被加熱材搬送方向に直交する幅方向の領域の一部の温度を低下させる温度低下手段）である。また、回復用磁束調整部８ｅが発熱部材である定着ローラの温度回復を行なう磁束調整部である。そして、前記の第１の温度検知手段１６ａが、発熱部材である定着ローラについて、上記の温度低下手段により温度低下させる領域でない非温度低下領域の温度を検知する温度検知手段である。また、前記の制御部１０４が、この第１の温度検知手段１６ａの検知結果に基いて発熱部材である定着ローラ１の温度を目標温度にするように温度制御する温度制御手段である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
図３・図４において、１２は制御部１０４からの信号により磁束調整部材８を移動（変位制御）する磁束調整部材移動手段としての磁束調整部材駆動機構（磁束調整部材を所定の磁束調整作用位置へ移動させる移動手段）である。この磁束調整部材駆動機構１２は、モーターなどを含む駆動系からなり、磁束調整部材８の奥側端部に設けたギアＧ２を回転駆動することによって、磁束調整部材８を定着ローラ１内においての周方向に回転駆動させる。モーターには、例えばステッピングモーターなどが使用される。磁束調整部材８の動作は、第２と第３の温度検知手段１６ｂ・１６ｃが検知する定着ローラ温度に基づいて制御部１０４が磁束調整部材駆動機構１２を制御することによって行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月21日(2006.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記磁束調整部材は長手方向全域で略円形状とすることを特徴とする請求項１または２に記載の加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
そして、その定着ローラ１の昇温温度が定着ローラ１の長手方向の略中央部の位置に定着ローラ１に接触あるいは非接触に配設した温度検知手段である中央部サーミスタＴＨ１で検知されて制御回路部５０に入力する。制御回路部５０はその中央部サーミスタＴＨ１から入力する定着ローラ検知温度が所定の目標温度（定着温度）に維持されるように励磁回路５１からコイル４への供給電力を制御して定着ローラ１の温度制御を行う。磁束調整部材７が図３・図６の第１切換え位置に保持されている状態においては定着ローラ１はその長手方向の有効加熱全長域が所定の目標温度に温調維持される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
発熱部材である定着ローラ１と磁束調整部材７の相対距離（ギャップ）を確保する方法として、磁束調整部材７と定着ローラ１との距離を広げる方法がある。しかしながら、これに伴い、必要以上にコア５と定着ローラ１との距離を広げると、熱交換効率が悪化するため今日ではあまり用いられていない。磁束調整部材７およびホルダー６はコイル４が配置されている反対側にもホルダーを延長させホルダー６の断面形状を長手方向全域で略円形状にする。この形状にすることによりホルダー６、定着ローラ１、磁束調整部材７の断面中心を合わせる事により、相対位置精度を向上することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
前記のように、磁束調整部材７を駆動する駆動伝達手段として、ホルダー６の前側端部と後側端部とにそれぞれ回転自由に第１のシャッタギアＧ２と第２のシャッタギアＧ３を配置する。磁束調整部材７の両端は曲げ越し７ｃを形成し、それぞれ上記第１のシャッタギアＧ２と第２のシャッタギアＧ３とに係合させて磁束調整部材７を第１と第２のシャッタギアＧ２・Ｇ３間に両持ちで支持させている。上記第１のシャッタギアＧ２と第２のシャッタギアＧ３は磁束調整部材７の曲げ越し７ｃと係合していない領域ではホルダー６に嵌合している。このため磁束調整部材７はホルダー６の面全体とギアＧ２・Ｇ３の内径部とで支持され回動する。ギアＧ２・Ｇ３とホルダー６とが嵌合する領域においてホルダー６の最大外径部はストレート形状を形成している。ここで最大外径部と表記しているのは上記嵌合領域においてホルダー６に肉抜きなどを施しても良いことを意味している。これにより、ホルダー６、磁束調整部材７を嵌合させることにより精度良く断面中心を合わせる事により、相対位置精度を向上することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
定着ローラ１及びホルダー６の前側端部及び後側端部を支持するための前側支持部材２
６と後側支持部材２７について図１１〜１３により今少し説明する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
目的：定期交換部品としての定着ローラ１および故障による交換部品としてのホルダー６、ベアリング２４ａ・２４ｂ、断熱ブッシュ２３ａ・２３ｂ、シャッター７、ギアＧ２・Ｇ３等の交換。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
手順２：前側支持部材２６および後側支持部材２７を取り外す→定着ローラ１（ギアＧ１、断熱ブッシュ２３ａ・２３ｂ、ベアリング２４ａ・２４ｂ付き）、ホルダー６、シャッター７、シャッターギアＧ２・Ｇ３を取り外す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
３）本発明の電磁誘導加熱方式の加熱装置は、実施例の画像加熱定着装置に限られず、未定着画像を記録材に仮定着する仮定着装置、定着画像を担持した記録材を再加熱してつや等の画像表面性を改質する表面改質装置等の像加熱装置としても有効である。またその他、例えばシート状被加熱部材のしわ除去用の熱プレス装置や、熱ラミネート装置、紙等の被加熱部材の含水分を蒸発させる加熱乾燥装置など、シート状被加熱材を加熱処理する加熱装置として用いても有効であることは勿論である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁束発生手段と、前記磁束発生手段からの磁束により発熱する発熱部材と、を有し、前記発熱部材の発熱により被加熱材を加熱する加熱装置において、
前記発熱部材および前記磁束発生手段を支持する支持部材を、前記発熱部材は回動可能に、前記磁束発生手段は固定して、かつ、前記発熱部材と前記磁束発生手段の中心軸を同軸上にして支持するように構成したことを特徴とする加熱装置。
【請求項２】
前記支持部材を、前記発熱部材および前記磁束発生手段の長手方向の一端側を支持する支持部材と、これとは独立して、他端側を支持する支持部材とで構成したことを特徴とする請求項１に記載の加熱装置。
【請求項３】
前記支持部材を、前記発熱部材の支持部を具備させた第１支持部材と、これとは別体で、前記磁束発生手段の支持部を具備させた第２支持部材との二部材で構成し、前記第１支持部材の前記支持部と前記第２支持部材の前記支持部を位置決め補助手段を用いて略同軸に位置決め状態にして前記第１支持部材と前記第２支持部材とを一体に結合にして構成したことを特徴とする請求項１又は２に記載の加熱装置。
【請求項４】
前記発熱部材は、円筒状の金属ローラであることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の加熱装置。
【請求項５】
前記磁束発生手段は、少なくとも、励磁コイルと、前記励磁コイルを保持するホルダ−を有することを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の加熱装置。
【請求項６】
前記磁束発生手段は、その外側において磁束発生手段の中心軸と同軸に回動移動可能で、前記発熱部材への作用磁束を調整する磁束調整部材を有することを特徴とする請求項１から５の何れかに記載の加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
この定着装置は、磁束により発熱する発熱部材（誘導発熱部材）としての定着ローラと、磁束発生手段（加熱手段）としての励磁コイルアセンブリの相対位置精度の向上を目的に、定着ローラを回転可能に支持する支持部材の位置決め手段と励磁コイルアセンブリの位置決め手段を含む位置決め部材により、定着ローラと励磁コイルアセンブリを同軸上に支持可能に構成された定着装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
１は誘導発熱部材としての定着ローラである。鉄・ニッケル・ＳＵＳ４３０などの誘導発熱体（導電性磁性材）から形成された、肉厚が例えば０．１ｍｍ〜１．５ｍｍ程度の円筒状の金属ローラである。一般に、その外周表面に、フッ素樹脂等の離型層、あるいは弾性層と離型層等を形成して用いられる。鉄など強磁性の金属（透磁率の高い金属）を使うことで、磁束発生手段から発生する磁束を金属内部により多く拘束させることができる。すなわち、磁束密度を高くすることができることにより効率的に金属表面に渦電流を発生させられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
３は磁束発生手段としての励磁コイルアセンブリである。この励磁コイルアセンブリ３は上記の円筒状の定着ローラ１の内空部に挿入して配設してある。励磁コイルアセンブリ３は、励磁コイル（以下、コイルと略記する）４、横断面Ｔ字型に配設された磁性体コア（以下、コアと略記する）５ａ・５ｂ、上記のコイル４とコア５ａ・５ｂを内蔵させて保持させたホルダー６、このホルダー６の外側にホルダー６と略同軸に回転移動可能に配設した磁束調整部材（磁束遮蔽部材、シャッター）７、等の組み立て体である。図８はこの励磁コイルアセンブリ３と磁束調整部材移動手段Ｍ２・２８・Ｇ４・Ｇ５の外観斜視図である。図９はホルダー６と磁束調整部材７の分解斜視図である。図１０はホルダー６の内部の分解斜視図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月30日(2006.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
磁束調整手段は、少なくとも、非磁性金属材料もしくは非磁性金属材料を含む合金より成ることを特徴とする、請求項１又は２に記載の加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図１３に特許文献１の加熱装置の構成例の一例を示す。磁束調整手段５０１は、磁束発生手段の一部を構成する励磁コイル５０２の主として上半分を覆う円弧曲面を呈している。この磁束調整手段５０１は、小サイズの記録材Ｐａが誘導発熱体たる定着ローラ５０３と加圧回転体たる加圧ローラ５０４との間のニップ部Ｎに通紙される場合には、記録材Ｐａが通紙されない定着ローラ５０３の非通紙領域に相当する軸方向範囲の励磁コイル５０２を覆う位置まで不図示の変位手段（モーター）により移動される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（１）画像形成装置例
図１は本発明に従う電磁誘導加熱方式の加熱装置を画像加熱定着装置１１４として備えた画像形成装置の一例の概略構成模型図である。本例の画像形成装置は転写式電子写真プロセス利用、レーザ走査露光方式のデジタル画像形成装置（複写機、プリンタ、ファクシミリ、それらの複合機能機等）である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
定着ローラ１の上方にはさらに温度異常上昇時の安全機構として、サーモスタット１２が設けられている。このサーモスタット１２は、定着ローラ１の表面に接触または近接して配置されており、予め設定された温度になると接点を開放して励磁コイル６への通電を切断し、定着ローラ１が所定温度以上の高温となることを防止している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
１４は記録材Ｐのサイズを検知する記録材サイズ検知手段であり、例えば画像形成装置本体１００に設けたユーザー操作パネルの複数のプッシュスイッチの入力された信号の組み合わせにより、ＣＰＵ１０４が記録材サイズを判断するようになっている。また、記録材サイズ検知手段１４は下記のような構成としても良い。記録材サイズ検知手段１４は、記録材搬送時サイズ検知手段１４ａ、操作パネル１４ｂ、カセットサイズ検知手段１４ｃからなり、カセットサイズ検知手段１４ｃ、記録材搬送時サイズ検知手段１４ａはそれぞれ超音波センサ等によって構成される。ＣＰＵ１０４において記録材サイズの判断は基本的には予め設定されたユーザー操作パネルで選択された記録材サイズによる信号とするが、ユーザーの誤操作、給紙カセット１１０・１１１ヘの記録材サイズ誤挿入による記録材サイズの誤った判断を避けるため、給紙カセット１１０・１１１、記録材搬送時の搬送経路１１２に置かれた上記センサによって検出される信号と上記信号との組み合わせを併用して記録材サイズの判断を行うようにしても良い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
１５は制御部１０４からの信号により磁束遮蔽板８の変位制御を行う磁束遮蔽駆動手段としての磁束遮蔽駆動機構である。磁束遮蔽駆動機構１５は、モーターなどを含む駆動系からなり、磁束遮蔽板８の一端部側に設けられたギアＧ２を回転駆動することによって、磁束遮蔽板８を定着ローラ１の周方向に回転駆動させる。モーターには、例えばステッピングモーターなどが使用される。なお、磁束遮蔽駆動機構１５は上記のような構成に限定されるものではなく、例えば、モーターの代わりにベルトを使用する、あるいはスクリューねじを使用するなどして磁束遮蔽板８の変位制御を行うように構成としてもかまわない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006120523.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2006120523.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるＡＣ型のプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率との差が０．２０以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記保護膜が、ＭｇＯを用い、かつ平均膜厚１μｍ前後の薄膜形成プロセスで形成されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記誘電体層が、その誘電体層の屈折率とその上に形成される保護膜の屈折率との差が０．２０以下となるような材料を用いて形成されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記誘電体層は、その屈折率が、波長５００ｎｍの光に対し１．４５〜１．７４の値を有してなる請求項２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に面放電用の複数の電極対と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるＡＣ面放電型プラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層を低融点ガラスで構成し、前記保護膜を前記低融点ガラスとの屈折率差が０．０５以下の範囲となるように制御された屈折率を持つＭｇＯで構成し、それによって前記保護膜の７０ｎｍ以上の膜厚分布の差に基づく干渉ムラを低減したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に面放電用の複数の電極対と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるＡＣ面放電型プラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層をＳｉＯ2で構成し、前記保護膜を前記ＳｉＯ2との屈折率差が０．０５以下の範囲となるように制御された屈折率を持つＭｇＯで構成し、それによって前記保護膜の７０ｎｍ以上の膜厚分布の差に基づく干渉ムラを低減したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記誘電体層と保護膜との間に、誘電体層との間の屈折率の差と、保護膜との間の屈折率の差が、それぞれ０．０５以下となるような干渉防止層が設けられてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるＡＣ型のプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護膜の膜厚が１２００ｎｍ以上であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるＡＣ型のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記保護膜を、薄膜形成プロセスによって形成し、その薄膜形成プロセスの際、誘電体層との屈折率差が０．０５以下となるように、保護膜を成膜するときの圧力を制御することからなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるＡＣ型のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記保護膜を、薄膜形成プロセスによって形成し、その薄膜形成プロセスの際、誘電体層との屈折率差が０．０５以下となるように、保護膜を成膜するときの温度を制御することからなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月18日(2007.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板の間の少なくとも一部に液体を供給する供給部とを備える液浸露光装置において、
前記液体に還元剤を導入する装置を有することを特徴とする液浸露光装置。
【請求項２】
前記液体の酸化・還元力を測定する測定器と、該測定器の測定結果に基づいて前記液体に導入する還元剤の量を決定する制御部とを有することを特徴とする請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項３】
前記測定器は、酸化・還元力として酸化還元電位を測定することを特徴とする請求項２記載の液浸露光装置。
【請求項４】
前記基板の露光に応じて前記液体に前記還元剤を導入するための制御部を有することを特徴とする請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項５】
前記還元剤は、水素化合物、普通の原子価よりも低い原子価をもつ元素の酸化物、炭化水素化合物若しくは有機物又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項６】
前記普通の原子価よりも低い原子価をもつ元素の酸化物は、一酸化炭素、亜硫酸、又は亜硝酸を含むことを特徴とする請求項５記載の液浸露光装置。
【請求項７】
前記液体は、少なくとも前記投影光学系と基板との間に供給されるまで、水素を含有する水であることを特徴とする請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項８】
前記液体の酸化還元電位は、少なくとも前記投影光学系と基板との間に供給されるまで、通常の水の酸化還元電位より低いことを特徴とする請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項記載の液浸露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１０】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板の間の少なくとも一部に液体を供給する供給部とを有する液浸露光装置と、
前記液体に前記還元剤を導入する装置とを備えることを特徴とする露光システム。
【請求項１１】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と該基板の間の少なくとも一部に満たされた液体を介して該基板を露光する露光方法において、
前記液体に還元剤を導入するステップを有することを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付の図面を参照して説明される好ましい実施例等によって明らかにされるであろう。