【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年9月6日(2019.9.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子顕微鏡に使用するためのターゲットサンプルの質量厚みを測定する方法であって、
第１の組のビーム条件を有する粒子ビームを基準サンプルの領域の上に衝突させた時に該基準サンプル内に発生するＸ線を表す基準データを取得する段階（ａ）であって、該領域において、該基準サンプルが、その外部面間の予め決められた３００ｎｍ未満の厚みと、少なくとも１つの元素に対する予め決められた質量厚みと、を有し、前記基準サンプルの前記領域は、該基準サンプルのより大きい部分の一部を形成し、該より大きい部分は均一な厚みを有し、且つ、連続的な非支持の薄膜の一部を形成する、前記段階（ａ）と、
第２の組のビーム条件を有する粒子ビームを前記ターゲットサンプルの領域の上に衝突させる段階（ｂ）であって、前記第１の組のビーム条件のビーム流が前記第２の組のビーム条件のビーム流と同一である粒子ビーム下において、前記基準サンプル及び前記ターゲットサンプルの一方を他方に置き換えることを含む、前記段階（ｂ）と、
前記ターゲットサンプル内に結果として発生したＸ線をモニタして、モニタデータを生成する段階（ｃ）と、
前記モニタデータ及び前記基準データに基づいて、前記ターゲットサンプルの前記領域の質量厚みを含む出力データを計算する段階（ｄ）と、を含む方法。
【請求項２】
段階（ａ）では、前記基準データは、
ｉ．粒子ビームを前記ターゲットサンプルの前記領域の上に衝突させる段階と、
ｉｉ．前記基準サンプル内に結果として発生したＸ線をモニタして、基準データを生成する段階、によって得られる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記部分内の前記基準サンプルの厚みの変動が５％未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記基準サンプルの前記領域における少なくとも１つの元素に対する前記予め決められた質量厚みは、走査電子顕微鏡又は電子プローブマイクロ分析によって得られたＸ線データを使用して予め決められる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記領域内で発生した固有Ｘ線の強度が、同一入力ビーム条件を用いたバルク元素標準物から得られる強度と比較される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記基準サンプルの厚みは、前記ターゲットサンプルの厚みと同じ桁のものである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
同じＸ線検出器が、前記基準データ及び前記モニタデータの各々を取得するのに使用され、
前記基準サンプルの厚みは、前記ターゲット及び基準サンプルの各々内に発生したＸ線の強度が前記Ｘ線検出器のダイナミックレンジ内であるように、該ターゲットサンプルの厚みと十分に類似している、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記基準データ及びモニタデータの各々の取得が、予め決められた効率を有するＸ線検出器を使用して実施され、段階（ｄ）は、該検出器の予め決められた効率に従って実施される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記ターゲットサンプルの前記領域の厚みは３００ｎｍ未満である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
計算された質量厚みは、前記粒子ビームの方向の前記ターゲットサンプルの前記領域の密度と厚みの積に等しい、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
段階（ｄ）での計算は、前記ターゲットサンプル中に存在する元素のうちの１又は２以上に対する吸収係数を計算する段階を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
段階（ｄ）での計算は、
前記基準サンプルとの既知の関係を有する模擬サンプル内で発生したＸ線を表す模擬データを発生する段階と、
前記基準データ及び模擬データに基づいてシステム条件を計算する段階と、
前記モニタデータ及び計算されたシステム条件に基づいて、前記ターゲットサンプルの質量厚みを含む出力データを計算する段階と、を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記出力データは、前記ターゲットサンプル中に存在する元素のうちの１又は２以上の質量分率を更に含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記Ｘ線がモニタされる各時間の長さが既知であり、
段階（ｄ）は、既知の各時間の長さに従って実施される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記粒子ビームは、４０ｋｅＶよりも大きいエネルギを有する電子ビームである、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記ターゲットサンプルの前記領域は、薄い基質材料に埋め込まれた又はその上に支持された析出物を含み、
段階（ｄ）での出力データは、該析出物の質量厚み及び組成を含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記出力データは、前記ターゲットサンプルの前記領域の元素組成を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記基準サンプル及び前記ターゲットサンプルの一方を他方に置き換えることは、
前記粒子ビームを調節することを伴わない試料片交換機構を用いること、
前記粒子ビームをオフにすることなく同一条件下で前記ターゲットサンプルと前記基準サンプルを比較することができる、前記ターゲットサンプルと前記基準サンプルを有する試験片グリッドを備えた多試験片型ホルダを用いること、
前記ビーム流を変更することなく、前記ターゲットサンプルと前記基準サンプルを交換するロードロックを用いること、又は、
前記ビーム流の表示を提供するモニタを用いて、前記基準サンプルと前記ターゲットサンプルの測定の間で前記ビーム流を変える必要がある場合に、前記モニタにより提供される表示にしたがって、前記基準サンプルと前記ターゲットサンプルに対して前記ビーム流が同一となるように前記ビーム流を調節すること、により実行される、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７６】
すなわち、上述の例示的方法により、透過電子顕微鏡内でビーム電流を変えることなく、バルク基準サンプルを使用せずに、薄膜ターゲットサンプルの質量厚み及び組成を測定することが可能になる。しかし、基準サンプル及びターゲットサンプルからのスペクトル測定がそれぞれ異なるビーム電流を使用して行われる上述の方法の変形を提供することができる。ビーム電流モニタを利用することができる場合に、サンプルの各々に衝突させるビーム電流をモニタすることができ、電流が２つの測定間で変わる場合にビーム電流間の比率を表す適切な比例補正を適用することができる。ビーム電流の正確な表示器ではないが再現性の高いモニタを利用することができる場合に（例えば、ＴＥＭスクリーンからの信号はこのような表示器として役立つ）、基準サンプル及びターゲットサンプルの測定間でビームを変える必要があるならば、そのモニタを使用して両測定に対して同じ（未知の）値を取るようにビーム電流を調節することができる。測定を迅速に完了することができ、ターゲットサンプル及び基準サンプルの同じ電子ビームへの露出が、ビームを調節することを伴わない簡単な試験片交換機構で達成可能ならば、理想的には、ビーム電流モニタは必要ではないであろう。ターゲットサンプル及び基準サンプルの測定が行われる順序は重要でないことも認識しなければならない。