(57)【要約】バリアガラス上に、金属層又は樹脂層をフォトリソグラフィ工程によってパターニングすることによって遮光層を形成することにより、視差バリアが製造される。上記フォトリソグラフィ工程で用いられるマスクでは、上記遮光層の形成部分に対応するスリットのピッチの一部が異なっており、描画精度上、実際に形成可能な第１のピッチ（例えば１００）と第２のピッチ（例えば９９．５）とがそれぞれの周期で形成され、その平均ピッチが、理論上のピッチ（例えば９９．９９）と一致させられる。これにより、多重表示装置に用いられる視差バリアにおいて、画面全体の視認性を向上させることのでき、精度に限界のあるマスク描画技術を用いて製造可能である視差バリア及びその製造方法を実現する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと組み合わせて用いられ、上記表示パネルにおける複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリアであって、
透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層が形成されていると共に、
上記遮光層の繰り返しパターンは、一部のピッチが他のピッチとは異なっていることを特徴とする視差バリア。
【請求項２】
前記遮光層の繰り返しパターンは、
第１のピッチと第２のピッチとを含み、
上記第１のピッチと第２のピッチとがそれぞれ所定の周期で発生するようにパターン形成されていることを特徴とする請求項１記載の視差バリア。
【請求項３】
前記遮光層の繰り返しパターンは、複数種類のピッチがランダムに発生するように形成されていることを特徴とする請求項１記載の視差バリア。
【請求項４】
表示画像が生成されるマトリクス型の画像生成装置と、上記画像生成装置における複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリアとを貼り合わせてなる多重表示装置であって、
上記視差バリアは、透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層が形成されていると共に、
上記遮光層の繰り返しパターンは、一部のピッチが他のピッチとは異なっており、かつ、その平均ピッチが、上記画像生成装置における画素ピッチとは異なる大きさに設定されていることを特徴とする多重表示装置。
【請求項５】
上記遮光層の繰り返しパターンは、
第１のピッチと第２のピッチとを含み、
上記第１のピッチと第２のピッチとがそれぞれ所定の周期で発生するようにパターン形成されていることを特徴とする請求項４記載の多重表示装置。
【請求項６】
上記遮光層の繰り返しパターンは、複数種類のピッチがランダムに発生するように形成されていることを特徴とする請求項４記載の多重表示装置。
【請求項７】
表示パネルと組み合わせて用いられ、上記表示パネルにおける複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリアの製造方法であって、
透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層を形成する工程を含み、
上記遮光層は、上記透明基板上に成膜される金属層又は樹脂層をフォトリソグラフィ工程によってパターニングすることによって形成されるものであり、
上記フォトリソグラフィ工程で用いられるマスクは、上記遮光層の形成部分に対応するスリットの繰り返しパターンは、一部のピッチが他のピッチとは異なっていることを特徴とする視差バリアの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、表示パネルと組み合わせて用いられ、上記表示パネルにおける複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリア、及び上記表示パネルと視差バリアとを組み合わせてなり、複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能な多重表示装置、並びに上記視差バリアの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】  従来、共通の表示画面を用いて、複数の方向に対してそれぞれ異なる画像を表示（多重表示）することが可能な表示装置が提案されている。このような多重表示装置は、表示パネルに視差バリアを組み合わせた構成として提案されている。このような技術は、例えば、日本国公開特許公報「特開２００４−２０６０８９号公報（２００４年）７月２２日公開」」、「特開２００５−７８０７６号公報（２００５年３月２４日公開）」、「特開２００５−７８０８０号公報（２００５年３月２４日公開）」、及び「特開２００５−７８０９４号公報（２００５年３月２４日公開）」に開示されている。【０００３】  このような多重表示装置（ここでは、二重表示装置を例示）においては、図７に示すように、表示パネル１１０にて生成される第１画像及び第２画像に対して、表示パネル１１０外に設けられる視差バリア１２０によって特定の視野角が与えられる。これにより、図８に示すように、観察位置が異なる複数の観察者に対して異なる画像を表示することができる。【０００４】  上記視差バリアは、通常、ガラス基板等の上に、金属あるいは樹脂層をパターニングすることによって遮光層を形成する。そして、上記遮光層をパターニングするにあたっては、フォトリソグラフィ工程が用いられる。【０００５】  ここで、表示パネルと視差バリアとを組み合わせた多重表示装置において、表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとは、図９に示すように、ほぼ等しく設定される。尚、本願明細書においては、表示パネルにおける画素ピッチとは、表示パネル上で単に隣接する画素のピッチではなく、同一方向に視野角が制御される画素についてのピッチ、言い換えれば、左側への表示画像もしくは右側への表示画像上での画素ピッチを指すものとする。【０００６】  但し、上記画素ピッチと上記バリアピッチとを完全に同じピッチに設定するよりも、これらの僅かに異ならせる方が実際にはより良い視認性が得られる。このことについて図１０（ａ）及び図１０（ｂ）を参照して説明する。【０００７】  図１０（ａ）は、表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとを完全に同じピッチに設定した場合を示す。この場合、視差バリアによって制御される視野角は画面全体で同一であり、最も良い視認性を与える表示光（図中、実線矢印にて示す）は画面全体において平行となる。【０００８】  しかしながら、実際の観察者にとって視認される表示光（図中、破線矢印にて示す）は画面全体で平行ではない。例えば、画面中央からの表示光が観察者にとって最も良い視認性を与える場合、画面周辺部からの表示光は観察者にとって最も良い視認性を与えるものとはならない。したがって、観察者にとっての視認性は画面全体で不均一となる。【０００９】  すなわち、観察者にとっても視認性を画面全体で均一にするためには、図１０（ｂ）に示すように、視差バリアによって制御される視野角を表示位置毎に異ならせ、最も良い視認性を与える表示光（図中、実線矢印にて示す）が、想定される観察位置方向に収束する構成とすることが好ましい。【００１０】  図１０（ｂ）に示すような視野角特性を得ることは、表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとを僅かに異ならせることによって実現できる。具体的には、視差バリアが表示パネルの前面側に配置される場合には、上記バリアピッチが上記画素ピッチよりも小さくなるように設定すればよい。また、視差バリアが表示パネルの背面側に配置される場合（表示パネルが透過型液晶表示パネルである場合には、このような構成をとり得る）には、上記バリアピッチが上記画素ピッチよりも大きくなるように設定すればよい。【００１１】  しかしながら、上記従来の構成では、視差バリアを製造するにあたっての以下の困難を生じる。【００１２】  すなわち、表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとを異ならせるにあたって、そのピッチの差は極めて微小な量である。このため、上記視差バリアにおいて所望のバリアピッチを達成するには、バリアパターン形成のためのマスク作成時に極めて高い精度が要求され、現在の液晶用マスク描画技術では実現が困難であるといった問題を生じる。
【発明の開示】
【００１３】  本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、多重表示装置に用いられる視差バリアにおいて、画面全体の視認性を向上させることのできる視差バリアを、精度に限界のあるマスク描画技術を用いて製造可能とすることにある。
【００１４】  本発明の視差バリアは、上記課題を解決するために、表示パネルと組み合わせて用いられ、上記表示パネルにおける複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリアであって、透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層が形成されていると共に、上記遮光層の繰り返しパターンは、一部のピッチが他のピッチとは異なっている。
【００１５】  また、本発明の多重表示装置は、表示画像が生成されるマトリクス型の画像生成装置と、上記画像生成装置における複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリアとを貼り合わせてなる多重表示装置であって、上記視差バリアは、透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層が形成されていると共に、上記遮光層の繰り返しパターンは、一部のピッチが他のピッチとは異なっており、かつ、その平均ピッチが、上記画像生成装置における画素ピッチとは異なる大きさに設定されている。
【００１６】  また、本発明の視差バリアの製造方法は、表示パネルと組み合わせて用いられ、上記表示パネルにおける複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリアの製造方法であって、透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層を形成する工程を含み、上記遮光層は、上記透明基板上に成膜される金属層又は樹脂層をフォトリソグラフィ工程によってパターニングすることによって形成されるものであり、上記フォトリソグラフィ工程で用いられるマスクは、上記遮光層の形成部分に対応するスリットの繰り返しパターンは、一部のピッチが他のピッチとは異なっている。
【００１７】  上記の構成によれば、上記視差バリアの遮光層をパターニングする際に用いられるマスクにおいて、マスク描画精度の限界により各箇所のバリアピッチにおいては所望のバリアピッチが得られないとしても、平均のバリアピッチとしては所望のバリアピッチを得ることが可能となる。
【００１８】  そして、所望のバリアピッチが得られた上記視差バリアを画像生成装置に貼り合わせてなる多重表示装置では、上記視差バリアの平均ピッチが、上記画像生成装置における画素ピッチと異なる大きさに設定されることにより、観察者にとっての視認性を画面全体で均一となる画像表示を得ることができる。
【００１９】  また、上記視差バリアにおいては、前記遮光層の繰り返しパターンは、第１のピッチと第２のピッチとを含み、上記第１のピッチと第２のピッチとがそれぞれ所定の周期で発生するようにパターン形成されている構成とすることができる。
【００２０】  上記の構成によれば、上記第１のピッチを、マスク描画精度内で実際に作成可能であり、かつ、所望のピッチ（設計理論上のピッチ）に最も近い値のピッチで形成することによって、最も理想に近い視野角特性を画面全体で得ることができる。さらに、上記第１のピッチと所望のピッチとのピッチ差が累積されることによって生じる誤差を第２のピッチの形成箇所にて吸収することができるため、トータルとしての誤差が殆どない視差バリアの作成が可能となる。
【００２１】  また、上記視差バリアにおいては、上記遮光層の繰り返しパターンは、複数種類のピッチがランダムに発生するように形成されている構成とすることができる。
【００２２】  上記の構成によれば、誤差がトータルで累積されることが無く、トータルとしての誤差が殆どない視差バリアの作成が可能となる。また、上記遮光層のピッチが周期性を有さないため、モアレ等、バリアピッチの周期性に起因する画像ムラを防止することができる。
【００２３】  本発明のさらに他の目的、特徴、及び優れた点は、以下に示す記載によって十分わかるであろう。また、本発明の利益は、添付図面を参照した次の説明で明白になるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施形態を示すものであり、理論上のマスクにおけるバリアピッチと、実際に製造可能なマスクにおけるバリアピッチとの比較を示す平面図である。
【図２】本実施の形態の多重表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図３】上記多重表示装置において、運転席側と助手席側とにそれぞれ異なる画像を表示する場合の表示状態を示す説明図である。
【図４】参考例として示されるものであり、理論上のマスクにおけるバリアピッチと、実際に製造可能なマスクにおけるバリアピッチとの比較を示す平面図である。
【図５】本発明の変形例を示すものであり、理論上のマスクにおけるバリアピッチと、実際に製造可能なマスクにおけるバリアピッチとの比較を示す平面図である。
【図６】理論上のマスクにおけるスリット位置と、実際に製造可能なマスクにおけるスリット位置との比較を示す平面図である。
【図７】多重表示装置において、視野バリアによる視野角の付与効果を示す図である。
【図８】多重映像表示を行う場合の表示画面と観察者との関係を示す図である。
【図９】表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとの、概略的な関係を示すである。
【図１０（ａ）】表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとを完全に同じピッチに設定した場合の視野角特性を示す図である。
【図１０（ｂ）】表示パネルの画素ピッチと視差バリアのバリアピッチとを異ならせた場合の視野角特性を示す図である。
【符号の説明】
【００２５】１０  表示パネル（画像生成装置）
２０  視差バリア
２１  バリアガラス（透明基板）
２２  バリア遮光層（遮光層）
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】  本発明の一実施形態について図１ないし図６に基づいて説明すると以下の通りである。尚、以下の説明においては、本発明の多重表示装置として液晶表示装置を例示している。【００２７】  先ずは、本実施の形態の液晶表示装置１の概略構成を図２に示す。図２に示すように、液晶表示装置１は、大略的に、表示パネル１０、視差バリア２０、及びバックライト３０を備えている。【００２８】  バックライト３０は、光源３１と反射部３２とを備えており、光源３１から照射された光を反射部３２によって反射することによって、表示パネル１０に対して光を照射するようになっている。光源３１としては、例えば、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ；発光ダイオード）、冷陰極管（ＣＣＦＴ；Ｃｏｌｄ  Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｔｕｂｅ）、又は冷陰極型蛍光ランプ（ＣＣＦＬ；Ｃｏｌｄ  Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｌｕｍｐ）などが用いられる。【００２９】  表示パネル１０は、対向して配置されたＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板１１とＣＦ（カラーフィルタ）基板１２との間に、ネマティック液晶からなる液晶層１３が挟持されてなるアクティブマトリクス型の液晶表示パネルである。【００３０】  ＴＦＴ基板１１には、複数のデータ信号線と、各データ信号線にそれぞれ交差する複数の走査信号線とが設けられ、これらのデータ信号線及び走査信号線の組み合わせ毎に、画素が設けられている。上記各画素は、図２に示したように、データ信号線（図示せず）の延在方向に沿って、左側への画像表示（表示装置の左側に対する画像表示）用の画素列Ｌと、右側への画像表示（表示装置の右側に対する画像表示）用の画素列Ｒとが交互に配置されている。なお、液晶表示装置１では、ＴＦＴ基板１１の厚さは７００μｍとなっている。【００３１】  また、ＣＦ基板１２上には、カラーフィルタ層（図示せず）が設けられている。カラーフィルタ層には赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）の各絵素が各画素について設けられている。なお、ＣＦ基板１２は、ケミカルエッチング処理あるいは研磨などのメカニカル処理によって薄型化され、厚さ５０μｍに設定されている。【００３２】  ＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板１２における対向面には、互いに略直交する方向の配向処理が施された配向膜（図示せず）がそれぞれ設けられており、ＴＦＴ基板１１におけるバックライト３０側の面には、偏光板１４が備えられている。【００３３】  視差バリア２０は、バリアガラス２１と、バリア遮光層２２とからなる。バリアガラス２１としては、厚さ０．７ｍｍの透明なガラスが用いられている。また、バリア遮光層２２は、バリアガラス２１上に金属層又は樹脂層をパターニングすることによって形成されている。バリアガラス２１の表示面側（バックライト３０とは反対側）には、偏光板２３が設けられている。【００３４】  バリア遮光層２２は、画素列Ｒ・Ｌの延在方向に対して平行な方向に、例えばストライプ状の列をなすように配置されている。但し、バリア遮光層２２のパターン形状は特に限定されるものではなく、ストライプ形状以外に千鳥形状あるいはデルタ形状のものであっても良い。バリア遮光層２２の材質は特に限定されるものではないが、例えば、黒色顔料を分散させた感光性樹脂を用いて形成したり、金属薄膜をパターニングして形成しても良い。【００３５】  また、バリア遮光層２２の各列は、表示パネル１０の各画素列に対応するように設けられている。つまり、バリア遮光層２２の各列は、表示パネル１０の各画素列から出射される光の一部を、各画素列の表示方向以外の方向から観察されないように遮光するように設けられている。【００３６】  したがって、液晶表示装置１を、例えば図３に示すように、車載用表示装置として用いた場合、運転席側用の画素列Ｒについて運転席側からは観察できるものの助手席側からは観察できず、かつ、助手席側用の画素列Ｌについて助手席側からは観察できるものの運転席側からは観察されないようになっている。これにより、液晶表示装置１では、運転席側と助手席側とに異なる画像を表示することが可能になっている。【００３７】  視差バリア２０と表示パネル１０とは、一定の間隔を保って接着層４１によって接着される。接着層４１は、視差バリア２０と表示パネル１０との対向面の全面に形成されている。つまり、視差バリア２０と表示パネル１０とは全面接着されている。接着層４１としては、光硬化型の接着剤（例えば紫外線硬化樹脂）が用いられる。また、液晶表示装置１では、接着層４１の厚さ（バリアガラス２１とＣＦ基板１２との間隔）を４０μｍとしている。また、接着層４１は、硬化後もある程度の弾力性を有するような材料を用いることが好ましい。【００３８】  なお、液晶表示装置１の右側及び左側に分離されるそれぞれの画像を適切に表示するためには、視差バリア２０と表示パネル１０との位置合わせ（アライメント）を正確に行う必要がある。このため、両者にアライメントマークを設け、このアライメントマークを用いて位置合わせを行うなどして、正確な位置合わせを行うことが好ましい。【００３９】  ここで、視差バリア２０の製造に用いるマスク設計について詳細に説明する。【００４０】  本実施の形態の多重表示装置を製造するにあたっては、表示パネルにおける画素形成や、視差バリアにおける遮光層形成にはフォトリソグラフィ工程が使用される。そして、このフォトリソグラフィ工程を行うためには、パターン露光用のマスクが必要となる。【００４１】  そして、本実施の形態の多重表示装置では、観察者にとっての視認性を画面全体で均一にするために、言い換えれば、図１０（ｂ）に示すような視野角特性を得るために、視差バリアのバリアピッチが表示パネルの画素ピッチよりも僅かに小さくなるように設定される。また、この場合、フォトリソグラフィ工程で使用されるマスク上においても、上記バリアピッチが上記画素ピッチよりも小さくなるようにマスク設計が行なわれる。尚、マスク上におけるバリアピッチとは、マスクに形成されるスリットのピッチを指す。【００４２】  しかしながら、従来技術の課題としても述べたように、上記画素ピッチと上記バリアピッチとの間でのピッチ差は極めて微小な量であるため、現在の液晶用マスク描画技術では理論上のバリアピッチを実現するマスク作成は困難である。【００４３】  例えば、表示パネル作成用のマスクにおける画素ピッチが１００であり、視差バリア���成用のマスクにおけるバリアピッチが９９．９９であるとすれば、視差バリア作成用の上記マスクでは、０．０１の精度が要求されることになる。これに対し、現在の液晶用マスク描画技術で達成可能な描画精度が０．５であるとすれば、マスク設計段階においてバリアピッチを９９．９９に設定しても、実際に製造されるマスクでのバリアピッチは１００もしくは９９．５にされてしまう。【００４４】  例えば、図４に示すように、理論上のマスクにおけるバリアピッチ９９．９９に対し、実際のマスクが１００のバリアピッチで製作された場合、１ピッチごとに０．０１の誤差が生じ、マスク全体ではその誤差が累積されてトータルの誤差が大きく出てしまう。この場合、上記マスクを用いて視差バリアの遮光層のパターニングを行っても、当然ながら、所望の視野角特性は得られない。無論、９９．５のバリアピッチでマスク製作を行った場合も、所望の視野角特性は得られない。【００４５】  このため、本実施の形態においては、視差バリア作成用のマスクにおいて、そのバリアピッチを一定間隔とせずに、適切な箇所での補正ポイントを入れることによって、トータルでの誤差が無くなる（もしくは小さくなる）ようにしている。具体例を、図１を参照して以下に説明する。【００４６】  図１の例では、理論上のバリアピッチが９９．９９であるのに対して、実際のバリアピッチを１００（実際に作成可能であり、かつ、上記理論値に最も近いピッチ）として作成している。但し、全ての箇所でのバリアピッチを１００として形成すると、１ピッチごとに０．０１の誤差が生じ、マスク全体でその誤差が累積されることは上述した通りである。このため、図１の例では、５０ピッチに一箇所の割合で補正ポイントを入れ、該補正ポイントにおけるスリットでは、そのバリアピッチを９９．５とする。これにより、該補正ポイントにおいては、補正ポイント以外の箇所で累積される誤差が解消され、トータルとしての誤差が殆どないマスク作成、ひいてはトータルとしての誤差が殆どない視差バリアの作成が可能となる。【００４７】  上記図１のマスクを用いて遮光層のパターニングがなされる視差バリアでは、遮光層のバリアピッチは一定ではない。すなわち、上記視差バリアの遮光層では、使用されるマスクのバリアピッチが１００の箇所に対応するバリアピッチを第１のピッチとし、使用されるマスクのバリアピッチが９９．５の箇所に対応するバリアピッチを第２のピッチとした場合、第１のピッチと第２のピッチとが所定の周期で発生するようにパターン形成される。これにより、マスク描画精度の限界により、各箇所のバリアピッチにおいては所望のバリアピッチが得られないとしても、平均のバリアピッチとしては所望のバリアピッチを得ることが可能となる。すなわち、上記第１のピッチを、マスク描画精度内で実際に作成可能であり、かつ、所望のピッチ（設計理論上のピッチ）に最も近い値のピッチで形成することによって、最も理想に近い視野角特性を画面全体で得ることができる。さらに、上記第１のピッチと所望のピッチとのピッチ差が累積されることによって生じる誤差を第２のピッチの形成箇所にて吸収することができる。【００４８】  これにより、本実施の形態の方法により作成された視差バリアと、表示パネルとを組み合わせた多重表示装置では、視差バリアの平均バリアピッチが、表示バリアの画素ピッチに対して所望の比率（図１の例に当てはめれば、９９．９９：１００）で異なるように製造することが可能となる。【００４９】  したがって、本実施の形態の多重表示装置では、図１０（ｂ）に示すように、視差バリアによって制御される視野角を表示位置毎に異ならせ、最も良い視認性を与える表示光が、想定される観察位置方向に収束する構成とすることができる。すなわち、観察者にとっての視認性を画面全体で均一にすることができる。【００５０】  尚、図１のマスク構成では、周期的に補正ポイントが発生するため、このマスクを用いた視差バリアは、モアレ等の画像ムラが発生させる可能性がある。そして、本発明の変形例として、このようなバリアピッチの周期性に起因する画像ムラを防止するために、視差バリア作成用のマスクを図５に示すような構成とすることもできる。図５の例では、全てのスリット形成箇所を補正ポイントとし、各補正量をランダムに設定している。これを図６を参照して具体的に説明すると以下の通りである。尚、図５の例においても、マスクにおける理論上のバリアピッチを９９．９９とし、達成可能な描画精度を０．５とする。【００５１】  理論上のマスクにおけるあるスリット位置に対して、実際に設計可能なマスクでは、スリットは左側もしくは右側のどちらかにずらして形成されることになる。図５の例では、各スリットを理論上のマスクのスリット位置に対してどちら側にずらして形成するのかを、スリットごとにランダムに設定するものとする。この場合、各バリアピッチは、９９．５となる場合、１００となる場合、あるいは１００．５となる場合がランダムに発生する。しかし、基本的にはスリット毎に位置補正がなされているため、誤差がトータルで累積されることは無く、トータルとしての誤差が殆どないマスク作成、ひいては視差バリアの作成が可能となる。また、図５の構成におけるバリアピッチはランダムな発生となり、上記視差バリアの遮光層では、複数種類のバリアピッチがランダムに発生するように形成され、図１の例のような周期性を有さないため、モアレ等、バリアピッチの周期性に起因する画像ムラを防止することができる。【００５２】  尚、本発明の多重表示装置は、上記説明における液晶表示装置に限定されるものではなく、視差バリアと組み合わされる表示パネルとしては、液晶表示パネル以外に、ＰＤＰパネルや有機ＥＬパネルを用いても良い。【００５３】  以上のように、本発明の視差バリアは、透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層が形成される視差バリアにおいて、上記遮光層のピッチが一定の間隔ではない。【００５４】  また、本発明の多重表示装置は、表示画像が生成されるマトリクス型の画像生成装置と、上記視差バリアとを貼り合わせてなる多重表示装置であって、上記視差バリアの平均ピッチが、上記画像生成装置における画素ピッチと異なる大きさに設定されている。【００５５】  また、上記視差バリアにおいては、上記遮光層は、第１のピッチと第２のピッチとが所定の周期で発生するようにパターン形成されている構成とすることができる。【００５６】  また��上記視差バリアにおいては、上記遮光層は、複数種類のピッチがランダムに発生するように形成されている構成とすることができる。【００５７】  また、本発明の視差バリアの製造方法は、透明基板上に、繰り返しパターンを有する遮光層が形成される視差バリアの製造方法において、上記遮光層は、上記透明基板上に成膜される金属層または樹脂層をフォトリソグラフィ工程によってパターニングすることによって形成されるものであり、上記フォトリソグラフィ工程で用いられるマスクは、上記遮光層の形成部分に対応するスリットのピッチが一定の間隔ではない。【００５８】  これにより、多重表示装置に用いられる視差バリアにおいて、画面全体の視認性を向上させることのできる視差バリアを、精度に限界のあるマスク描画技術を用いて製造可能とすることができる。【００５９】  また、本発明は、上記した主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈されるべきではない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更、プロセスは、全て本発明の範囲内のものである。
【産業上の利用可能性】
【００６０】  本発明は、表示パネルと組み合わせて用いられ、上記表示パネルにおける複数の表示方向に対してそれぞれ異なる画像を表示可能とさせる視差バリア及び多重表示装置に関するものであり、例えば、液晶表示パネル、ＰＤＰパネル又は有機ＥＬパネル等の多重表示装置に適用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０（ａ）】
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【図１０（ｂ）】
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【国際調査報告】
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2007013249.tif 000014
2007013249.tif 000015