【手続補正書】
【提出日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式で表されるヒドロキシアミドアセタール組成物。
【化１】
2008514728.tif 000001
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）n−ＯＨであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
【請求項２】
ヒドロキシアミドアセタールの形成方法であって、ビス−（ベータ・ヒドロキシル）アミンをヒドロキシ含有部分と反応させて式
【化２】
2008514728.tif 000002
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）n−ＯＨであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを形成する工程を含む方法。
【請求項３】
式
【化３】
2008514728.tif 000003
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）n−ＯＨであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタール、ならびに
架橋部分を含む組成物。
【請求項４】
請求項３に記載のヒドロキシアミドアセタールを含むコーティング組成物の形成方法であって、ヒドロキシアミドアセタールを架橋部分と反応させる工程を含む方法。
【請求項５】
透明度および硬度の特性を有する、請求項４に記載の方法によって製造されたコーティング。
【請求項６】
ベースコート−クリアコート系の一部として使用される請求項５に記載のコーティング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
実施例４
ジメチル−テトラヒドロ−オキサゾロ［２，３−ｂ］オキサゾール−７ａ−イル−メタノール（１．７３ｇ、実施例１におけるように、ジ−イソプロパノールアミンおよびエータ−カプロラクトンから製造した）、およびデスモデュール（登録商標）３３００（３．３２ｇ）をバイアルに入れた。生じた混合物を均一溶液が得られるまで振盪した。この均一な溶液にジブチルスズジラウレート溶液（０．１０ｇ）（５ｍＬのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに希釈した１．５８ｇ）を加えた。生じた無色透明な均一溶液をガラス板上に注ぎ、約３０分のうちに粘着性のないコーティングをもたらした。一晩乾燥させると無色透明な硬いコーティングが生じた。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  下記式で表されるヒドロキシアミドアセタール組成物。
2008514728.tif 000004
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）n−ＯＨであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
2.  Ｒ42〜Ｒ49がそれぞれ独立して水素およびＣ1〜Ｃ10アルキル基を表す、上記１に記載のヒドロキシアミドアセタール。
3.  ヒドロキシアミドアセタールの形成方法であって、ビス−（ベータ・ヒドロキシル）アミンをヒドロキシ含有部分と反応させて式
2008514728.tif 000005
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）n−ＯＨであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタールを形成する工程を含む方法。
4.  Ｒ42〜Ｒ49がそれぞれ独立して水素およびＣ1〜Ｃ10アルキル基を表す、上記３に記載の方法。
5.  ヒドロキシ含有部分がヒドロキシ酸、ヒドロキシエステルおよびラクトンよりなる群から選択される、上記３に記載の方法。
6.  上記４に記載の方法の生成物。
7.  式
2008514728.tif 000006
（式中、Ｒ42〜Ｒ49は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、またはアラルキルはそれぞれ、ハロ、アルコキシ、イミノ、およびジアルキルアミノよりなる群から選択された１つもしくはそれ以上の置換基を有してもよく、
Ｒ41は（ＣＲ50Ｒ51）n−ＯＨであり、ここで、Ｒ50およびＲ51は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ1〜Ｃ20アルケニル、Ｃ1〜Ｃ20アルキニル、Ｃ1〜Ｃ20アリール、Ｃ1〜Ｃ20アルキルエステル、またはＣ1〜Ｃ20アラルキル基を表し、そして
ｎは１〜１０である）
のヒドロキシアミドアセタール、ならびに
架橋部分を含む組成物。
8.  前記架橋部分がイソシアネート、エポキシド、カルボン酸無水物、メラミンおよびシランよりなる群から選択される、上記７に記載の組成物。
9.  上記７に記載のヒドロキシアミドアセタールを含むコーティング組成物の形成方法であって、ヒドロキシアミドアセタールを架橋部分と反応させる工程を含む方法。
10.  前記架橋部分がイソシアネート、エポキシド、カルボン酸無水物、メラミンおよびシランよりなる群から選択される、上記９に記載の方法。
11.  透明度および硬度の特性を有する、上記９に記載の方法によって製造されたコーティング。
12.  ベースコート−クリアコート系の一部として使用される上記１１に記載のコーティング。