Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ・システムのメモリの可用性を管理する方法で、前記方法が、
空きメモリ空間の下限閾値をメモリ負荷の関数として自動的に変更するステップと、
空きメモリ空間が前記下限閾値未満になったときに、利用できるメモリ空間を増やすステップとを有する、方法。
【請求項２】
コンピュータ・システムのメモリの可用性を管理する方法で、前記方法が、
スレッド待機率が目標スレッド待機率と差が出てきたときに、空きメモリ空間の下限閾値を自動的に変更するステップで、前記スレッド待機率が単位時間あたりの空きメモリの待機リストに待機しているスレッドの平均数である、前記ステップと、
空きメモリ空間が前記下限閾値未満になったときに、利用できるメモリ空間を増やすステップとを有する、方法。
【請求項３】
前記スレッド待機率が前記目標スレッド待機率よりも高くなったときに、前記下限閾値を上げる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記スレッド待機率が前記目標スレッド待機率よりも低くなったときに、前記下限閾値を下げる、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記スレッド待機率が前記目標スレッド待機率よりも高くなったときに、上限閾値を上げ、前記上限閾値を使って、ページ置換デーモンを実行するとき、利用できるようにするメモリ空間の量を判断する、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記スレッド待機率が前記目標スレッド待機率よりも低くなったときに、上限閾値を下げ、前記上限閾値を使って、ページ置換デーモンを実行するとき、利用できるようにするメモリ空間の量を判断する、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記スレッド待機率を、空きメモリの待機リストで待機している全スレッドが費やすクロック・ティックの累積数をカウントして、前記累積数を前記ページ置換デーモンの連続２回の実行の間のクロック・ティックの総数で割って計算できる、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記スレッドが現在前記空きメモリの待機リストにある第１スレッドと、前記ページ置換デーモンの前記連続２回の実行の最初の実行の後に前記空きメモリの待機リストにあったが、もはや前記空きメモリの待機リストにない第２スレッドとを有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記スレッド待機率を、空きメモリの待機リストに現在あるスレッドの数をある数で割って計算できる、請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記数が整数の２である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
空きメモリ空間が前記下限閾値未満になったときにページ置換デーモンを実行し、前記ページ置換デーモンが利用できるメモリ空間を増やす、請求項２に記載の方法。
【請求項１２】
空きメモリ・フレームの数が下限閾値未満になったときに前記ページ置換デーモンを実行し、前記ページ置換デーモンが、フリー・フレームの数が上限閾値に達するようにフレームの数を解放するステップを有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
コンピュータ・システムのメモリの可用性を管理するためのプログラムであって、該プログラムが、
空きメモリ空間の下限閾値をメモリ負荷の関数として自動的に変更するステップと、
空きメモリ空間が前記下限閾値未満になったときに、利用できるメモリ空間を増やすステップとをコンピュータに実行させるプログラム。
【請求項１４】
コンピュータ・システムのメモリの可用性を管理する装置で、前記装置が、
空きメモリ空間の下限閾値をメモリ負荷の関数として自動的に変更する手段と、
空きメモリ空間が下限閾値未満になったときに、利用できるメモリ空間を増やす手段とを有する、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物学的サンプルにおいてネコ免疫不全ウイルス（FIV）に対する抗体を検出する方法であって，生物学的サンプルをFIV envポリペプチドと接触させ、ポリペプチドがサンプル中の抗体と実質的に結合するか否かを検出し、ここで、該方法は、自然感染した動物からのサンプル中のFIV抗体を検出しうるが、ワクチン接種した動物からのサンプル中の抗体を検出しないように反応条件が最適化されていることを特徴とする方法。
【請求項２】
FIV envポリペプチドが固相に結合している、請求項１記載の方法。
【請求項３】
該方法が、サンプルを希釈することにより最適化されている、請求項１記載の方法。
【請求項４】
該方法が、ポリペプチドの濃度を調節することにより最適化されている、請求項１記載の方法。
【請求項５】
該方法が、反応の温度を調節することにより最適化されている、請求項１記載の方法。
【請求項６】
方該法が、反応の時間を調節することにより最適化されている、請求項１記載の方法。
【請求項７】
動物におけるFIV感染を検出する方法であって、
（ａ）  サンプルをFIV envポリペプチドが固定化されている固相と接触させ；
（ｂ）  サンプルおよび固相を、標識とコンジュゲート化されている種特異的ＩｇＧ抗体と接触させ；
（ｃ）  標識を検出し，このことにより動物におけるFIV感染を検出する；
ことを含み、ここで、該方法は、ワクチン接種に対する動物の免疫応答であるFIVに対する抗体を検出することができないように最適化されていることを特徴とする方法。
【請求項８】
該方法が、サンプルを希釈することにより最適化されている、請求項７記載の方法。
【請求項９】
該方法が、標識された抗体の濃度を調節することにより最適化されている、請求項７記載の方法。
【請求項１０】
該方法が、インキュベーションの温度を調節することにより最適化されている、請求項７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レセプタクルの形をした電気化学セル内部に電気活性物質を閉じ込める方法であって、
（ａ）レセプタクルの形をした電気化学セルであって、レセプタクルが、レセプタクル内部に試料が進入することができるようにするための第1の開口部と、進入した試料により押しのけられた空気を逃がすことができるようにするための第２の開口部とを有し、電気化学セルが作用電極と対向電極とを有する電気化学セルを備えることと、
（ｂ）レセプタクル内部に収容される電気活性物質を備えることと、
（ｃ）レセプタクルの第１の開口部を覆う、１つ以上の層を含む透過性または半透過性の膜を備えることと、
（ｄ）（１）電気活性物質と（２）試料とが互いに、および前記作用電極と接触するように、膜を通してレセプタクル内部に試料を挿入することと、
を含み、
ステップ（ｄ）の間に、電気活性物質がレセプタクル内に閉じ込められる方法。
【請求項２】
電気化学的に試料を試験する方法であって、
（ｉ）  電気化学セルの両端に電位を付与することと、
（ｉｉ）その結果の電気化学的応答を測定することと、
をさらに含み、
ステップ（ｉ）および（ｉｉ）の間に、電気活性物質がレセプタクル内に閉じ込められる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
電気活性物質が遷移金属塩を含む、請求項１または２のいずれか一項記載の方法。
【請求項４】
遷移金属塩がコバルト（ＩＩ）塩である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
ステップ（ｉｉ）が、遷移金属の電気化学的反応により生成された電流を測定することを含む、請求項３または４記載の方法。
【請求項６】
電気活性物質が、
−  電極領域に依存する電流を有する電極領域正常化剤と、
−  塩化物塩または硫酸塩と、
−  湿潤剤と、
から選択された１つ以上の成分をさらに含む、請求項３〜５のいずれか一項記載の方法。
【請求項７】
膜が赤血球細胞に対して不透過性であり、試料が血漿または血清である、請求項１〜６のいずれか一項記載の方法。
【請求項８】
電気活性物質が乾燥した形態であり、ステップ（ｄ）が、試料中の電気活性物質の少なくとも一部を懸濁することを含む、請求項１〜７のいずれか一項記載の方法。
【請求項９】
レセプタクル内部への液体試料の挿入に続いて、レセプタクル内に電気活性物質を閉じ込めるための１つ以上の層を含む膜の使用であって、
レセプタクルが、第１の開口部を含み、および電気化学セルの形状であり、
膜が、試料に対して透過性であり、およびレセプタクルの第１の開口部を覆うように位置付けされ、
試料の挿入前に、電気活性物質がレセプタクル内に収容される膜の使用。
【請求項１０】
電気活性物質が、請求項３、４、６、または７のいずれか一項に定められたものである、請求項９記載の使用。
【請求項１１】
膜が赤血球細胞に対して不透過性であり、試料が血漿または血清である、請求項９または１０記載の使用。
【請求項１２】
−  レセプタクルの形をした電気化学セルであって、レセプタクルが、レセプタクル内部に試料が進入することができるようにするための第1の開口部と、進入した試料により押しのけられた空気を逃がすことができるようにするための第２の開口部とを有し、電気化学セルが作用電極と対向電極とを有する電気化学セルと、
−  請求項３、４、６または７のいずれか一項に定められたような電気活性物質であって、レセプタクル内に収容される電気活性物質と、
−  レセプタクルの第１の開口部を覆うように位置付けられた、１つ以上の層を含む透過性または半透過性の膜と、
−  セルの両端に電圧を印加するための手段と、
−  その結果の、セルの両端での電気化学的な応答を測定するための手段と、
を含むデバイス。
【請求項１３】
作用電極が５０μｍ未満の１つの寸法を少なくとも有する、請求項１２記載のデバイス。
【請求項１４】
電気活性物質が乾燥した形態である、請求項１２または１３記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学的検出方法であって、
（ａ）作用電極および擬似参照電極を有する電気化学的セルを準備するステップと、
（ｂ）金属を含む試料を準備するステップであって、試料が作用電極に接触し、金属が作用電極上で吸着されると、金属が作用電極において酸化または還元可能であるステップと、
（ｃ）（ｉ）作用電極と擬似参照電極との間で時変プリコンディショニング電位を印加すること、および／または（ｉｉ）作用電極を焼成すること、および／または（ｉｉｉ）作用電極を空気エージングすること、によって作用電極をプリコンディショニングするステップと、
（ｄ）作用電極と擬似参照電極との間で測定電位を印加し、この測定電位の印加中に、作用電極における金属の酸化／還元によって発生する電流を測定するステップと、
を含み、
ステップ（ａ）、（ｂ）、（ｃｉ）、（ｃｉｉ）、および（ｃｉｉｉ）を任意の順序で実施するか、ステップ（ｄ）をステップ（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）の後で実施する、方法。
【請求項２】
ステップ（ｃｉ）が、−０．５Ｖ以下の第１の印加電位と、少なくとも１．１Ｖの第２の印加電位との間で印加電位を変化させることを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ステップ（ｃｉ）が、印加電位をほぼゼロから前記第１の印加電位まで低下させ、次いで印加電位を前記第２の印加電位まで上昇させることによって、印加電位を走査することを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
ステップ（ｃｉ）が、印加電位を２回走査することを含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
ステップ（ｃｉ）における電位変化速度が１０ｍＶｓ−１〜２Ｖｓ−１である、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
試料が、コバルト（ＩＩ）を含み、方法が、試料におけるコバルト（ＩＩ）の存在を電気化学的に検出することを含む、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
ステップ（ｃｉｉ）が、７０〜１３０℃の温度で作用電極を焼成することを含む、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
ステップ（ｃｉｉｉ）が、１８〜２５℃の温度で１０〜２０日間、作用電極を空気にさらすことを含む、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
作用電極および擬似参照電極を有する電気化学的セルと、
作用電極と擬似参照電極との間で電位を印加するためのポテンショスタットと、
まず時変プリコンディショニング電位を印加し、続いて測定電位を印加するように、ポテンショスタットを制御するためのコントローラと、
セルを流れる電流を測定するための手段と、
を含む装置。
【請求項１０】
金属が作用電極上で吸着されると、作用電極において酸化または還元され得る金属を含む組成物をさらに含む、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
ポテンショスタットが−０．５Ｖ以下の第１の印加電位と少なくとも１．１Ｖの第２の印加電位との間で変化する時変プリコンディショニング電位を印加するように、コントローラが適合されている、請求項９または１０記載の装置。
【請求項１２】
印加電位をほぼゼロから前記第１の印加電位まで低下させることと、次に印加電位を前記第２の印加電位まで上昇させることとを含む、印加電位のプリコンディショニング走査を実施することによって、ポテンショスタットが時変プリコンディショニング電位を印加するようにコントローラが適合されている、請求項９〜１１のいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
ポテンショスタットが印加電位の前記プリコンディショニング走査を２回実施するように、コントローラが、適合されている、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
作用電極および擬似参照電極を有する電気化学的セルと、
作用電極と擬似参照電極との間で電位を印加するためのポテンショスタットと、
ポテンショスタットを制御するためのコントローラと、
セルを流れる電流を測定するための手段と、
を含む装置であって、
作用電極が、電極を焼成または空気エージングに付することによって得られるプリコンディショニングされた電極である、装置。
【請求項１５】
コントローラが、請求項９または請求項１１〜１３のいずれか１項で定義されている、請求項１４記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学検出方法での使用に適する組成物であって、
（ａ）  遷移金属塩と、
（ｂ）  電極面積に依存する電流を有する電極面積規格化剤と、
（ｃ）  湿潤剤と、
を含む組成物。
【請求項２】
遷移金属塩が、マンガン塩、鉄塩、コバルト塩、銅塩、またはニッケル塩である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
遷移金属塩が、コバルト塩である、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
電極面積規格化剤が、ルテニウム錯体またはオスミウム錯体である、請求項１〜３のいずれか一項記載の組成物。
【請求項５】
湿潤剤が、ポリビニルピロリドンである、請求項１〜４のいずれか一項記載の組成物。
【請求項６】
ポリビニルピロリドンが、７，５００〜１２，５００の平均分子量を有する、請求項５記載の組成物。
【請求項７】
塩化物または硫酸塩をさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項記載の組成物。
【請求項８】
水中に懸濁または溶解されたときに組成物のｐＨが、ｐＨ６〜８になるような緩衝剤をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項記載の組成物。
【請求項９】
緩衝剤が、（Ｎ−モルホリノ）プロパンスルホン酸（ＭＯＰＳ）である、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
電気化学検出方法における試薬としての、請求項１〜９のいずれか一項で規定された組成物の使用。
【請求項１１】
（ｉ）  作用電極および擬似参照電極を有する電気化学セルを提供するステップと、
（ii）  （１）請求項１〜９のいずれか一項で規定された組成物および（２）試料を互いに接触させ、作用電極に接触させるステップと、
（iii）  電気化学セルにわたって電位を印加するステップと、
（iv）  それによりセルにわたる電流を測定することにより、遊離遷移金属塩の存在を電気化学的に検出するステップと、
を含む電気化学検出方法。
【請求項１２】
電極面積規格化剤の電気化学反応による電流を検出し、電極面積の変化を考慮に入れるためにステップ（iv）で得られた測定値を規格化するステップをさらに含む、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
試料は、全血、血漿、または血清である、請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
作用電極が、５０μm未満の少なくとも１つの寸法を有する、請求項１１〜１３のいずれか一項記載の方法。
【請求項１５】
組成物が、試料の添加に先立って電気化学セルに供給される、請求項１１〜１４のいずれか一項記載の方法。
【請求項１６】
−  作用電極および擬似参照電極を有する電気化学セルと、
−  請求項１〜９のいずれか一項で規定された組成物と、
−  電気化学セルにわたって電圧を印加するための手段と、
−  それによりセルにわたる電流を測定するための手段と、
を含む装置。
【請求項１７】
作用電極が、５０μm未満の少なくとも１つの寸法を有している、請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
組成物が、乾燥した形態である、請求項１６または１７記載の装置。
【請求項１９】
電気化学セルが、レセプタクルの形態であり、作用電極が、レセプタクルの壁内にあり、組成物が、レセプタクル内に少なくとも部分的に収容される、請求項１６〜１８のいずれか一項記載の装置。
【請求項２０】
（ｉ）  （１）請求項１〜９のいずれか一項で規定された組成物および（２）試料を互いに接触させ、作用電極に接触させるステップと、
（ii）  電気化学セルにわたって電位を印加するステップと、
（iii）  それによりセルにわたる電流を測定することにより遊離遷移金属塩の存在を電気化学的に検出するステップと、
を含む、請求項１６〜１９のいずれか一項で規定された装置を操作する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学セルを含むデバイスであって、その内部に形成された少なくとも１個のレセプタクルまたは部分的なレセプタクルを有する試験片を含み、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルが、試験片の第１の面に第１の開口部を有して、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルに試料を進入させることを可能にし、
電気化学セルの作用電極が、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの壁内にあり、
電気化学セルの擬似参照電極が、試験片の第１の面の少なくとも一部分に形成された擬似参照電極層を含むデバイス。
【請求項２】
擬似参照電極層が、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部を実質的に取り囲む、請求項１記載のデバイス。
【請求項３】
擬似参照電極層が、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部の外周部と接触しない、請求項１または２記載のデバイス。
【請求項４】
擬似参照電極層が、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部の外周部から、少なくとも０．２ｍｍの距離にあり、および／または擬似参照電極層の少なくとも一部分が、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部の外周部から１ｍｍ以下にある、請求項３記載のデバイス。
【請求項５】
試験片が少なくとも１個のレセプタクルを含む、請求項１〜４のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項６】
作用電極が５０μｍ未満の１つの寸法を少なくとも有する、請求項１〜５のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項７】
作用電極の表面積に対する擬似参照電極の表面積の比率が、少なくとも３：１である、請求項１〜６のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項８】
レセプタクルまたは部分的なレセプタクルが、任意的には乾燥した形態で電気活性物質を収容する、請求項１〜７のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項９】
電気活性物質が酵素を含む、請求項８記載のデバイス。
【請求項１０】
レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部が、透過性または半透過性の膜で少なくとも一部分覆われている、請求項１〜９のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項１１】
膜が、取り付け手段を介して試験片の第１の面または擬似参照電極層に取り付けられ、取り付け手段が、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部を実質的に取り囲み、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部の外周部から、少なくとも０．２ｍｍの距離にある、請求項１０記載のデバイス。
【請求項１２】
擬似参照電極が、電気化学セルの対向電極の働きをする、請求項１〜１１のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項１３】
デバイスが、複数のレセプタクルおよび／または部分的なレセプタクルを含み、１個以上のレセプタクルおよび／または部分的なレセプタクルが請求項１〜１２のいずれか一項に定められているとおりのものである、請求項１〜１２のいずれか一項記載のデバイス。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項記載のデバイスを作るためのプロセスであって、
（ａ）絶縁材料の２つの層の間に作用電極層を含む積層を形成するステップと、
（ｂ）積層の第１の面の少なくとも一部分に、擬似参照電極層を付けるステップと、
（ｃ）積層に孔を作成するステップと、
（ｄ）任意的には、前記積層の第２の面に底面を付着させてレセプタクルを形成するステップと、
を含み、
ステップ（ｂ）が、ステップ（ｃ）および／または（ｄ）の前または後に実行されるプロセス。
【請求項１５】
積層中の孔が擬似参照電極層を通過しない、請求項１４記載のプロセス。
【請求項１６】
擬似参照電極層が、あるパターンで積層に付けられ、結果として層になったパターンが、擬似参照電極により取り囲まれた空白領域を含み、ステップ（ｃ）で形成された孔が前記空白領域を通過する、請求項１４または１５記載のプロセス。
【請求項１７】
請求項８または９で定められたとおりの電気活性物質を、レセプタクルまたは部分的なレセプタクル内部に配置し、任意的には電気活性物質を乾燥させることをさらに含む、請求項１４〜１６のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項１８】
膜を、レセプタクルまたは部分的なレセプタクルの第１の開口部の少なくとも一部分の上に配置することをさらに含む、請求項１４〜１７のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項１９】
請求項１３に定められたとおりのデバイスを作るためのプロセスであって、前記積層に２個以上の孔を作成することを含む、請求項１４〜１８のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項２０】
電気化学的検知方法であって、
−  請求項１〜１３のいずれか一項記載のデバイスのレセプタクルまたは部分的なレセプタクル内部に、試料を挿入することと、
−  電気化学セルの両端に電位を与えることと、
−  その結果の電気化学的応答を測定することと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月28日(2008.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学デバイスのための一体型整列機構を有する導波路を形成するための方法であって、以下の順序で
基板上に整列機構パターンを設ける工程と、
導波路を前記整列機構パターンの上に作製する工程と、
前記導波路の一部を除去して、前記整列機構パターンと前記基板を露わにする工程と、
前記光学デバイス整列機構を、前記露わになった基板に形成する工程と
を含む方法。
【請求項２】
導波路を作製する工程が、
下部クラッディング層を前記整列機構パターンの上に堆積させる工程と、
導波路コア層を前記下部クラッディング層の上に堆積させる工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記導波路の一部を除去して、前記整列機構パターンを露わにする工程が、整列機構パターンを前記導波路に形成する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高感度記録面に書き込まれるパターンの角を調整する方法において：
前記パターンによりカバーされるピクセルのサブピクセルの場所をサンプリングすることにより、ピクセルのグレースケール値を作成する際に使用されるサブピクセル・データを生成するステップと；
前記パターンの角が存在するアレイ内で、前記サブピクセル・データを検査することにより角形ピクセルを検出するステップと；
検出された１以上の角形ピクセルと、検出された１以上の角形ピクセルに隣接する１以上のピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップと；
を備える、前記方法。
【請求項２】
角形ピクセルを検出するステップは、異なる向きの凸状角と凹状角を検出する為にサブピクセル・データを検査する工程を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
異なる向きの凸状角と凹状角を検出する為にサブピクセル・データを検査する工程は：
ピクセル・アレイと、対応するサブピクセル・データを構築する段階と；
一組の角検出用オーバーレイを前記アレイのサブピクセル・データと比較する段階と；
を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
角検出用オーバーレイの各々は、少なくとも一つの寸法が前記ピクセル・アレイより小さく、
一組の角検出用オーバーレイを前記アレイのサブピクセル・データと比較する段階は、前記アレイ内部の異なるピクセルの場所で角を検出する為に、一組の角検出用オーバーレイをサブピクセル・データのサブアレイと比較することを備える、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記パターンの角が存在するアレイ内で、前記サブピクセル・データを検査することにより角形ピクセルを検出するステップは：
隣りのピクセル内で同一の角を検出する工程と；
角形ピクセルとして、前記隣りのピクセルの１つだけを選択する工程と；
を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
角形ピクセルとして、前記隣りのピクセルの１つだけを選択する工程は：
検出された角形ピクセルが凹状角形ピクセルである場合、内側で最も隣りのピクセルを選択する段階と；
検出された角形ピクセルが凸状角形ピクセルである場合、外側の最も隣りのピクセルを選択する段階と；
を備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
高感度記録面に書き込まれるパターンの角を調整する方法において：
前記パターンによりカバーされるピクセルのサブピクセルの場所をサンプリングすることにより、サブピクセル・データを生成するステップと；
対応するサブピクセル・データで前記ピクセル・アレイを構築するステップと；
１以上の角検出用オーバーレイで前記アレイ内の一組のサブピクセル・データを比較することにより、前記アレイ内で角形ピクセルを検出するステップと；
検出された１以上の角形ピクセル、検出された１以上の角形ピクセルに隣接する１以上のピクセルのうち、少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップと；
を備える、前記方法。
【請求項８】
全てのサブピクセル・データが第１の値でなければならない第１領域と、全てのサブピクセル・データが第２の値でなければならない第２領域と、少なくとも前記サブピクセル・データの一部が第２の値であってはならない第３領域と、を角検出用オーバーレイの各々が画成する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
１以上の角検査用オーバーレイは、全てのサブピクセル・データが１でなければならない第１領域と、全てのサブピクセル・データが０でなければならない第２領域とを画成する１以上の凸形角検出用オーバーレイを備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
対応するサブピクセル・データで前記ピクセル・アレイを構築するステップは、角検出用オーバーレイより寸法が大きいピクセル・アレイを構築する工程を備え；
１以上の角検出用オーバーレイで前記アレイ内の一組のサブピクセル・データを比較するステップは、並列に、１以上の角検出オーバーレイで前記複数組のサブピクセル・データを比較する工程を備える；
請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
検出された角形ピクセルの各々に対して、対応する角を含む検出された角形ピクセル内部の位置を識別するステップを更に備える、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
検出された１以上の角形ピクセル、検出された１以上の角形ピクセルに隣接する１以上のピクセルのうち、少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップは：
対応する角を含む検出された角形ピクセル内部の識別された位置に基づき、１以上の補正係数を読み出す工程と；
読み出された補正係数に基づき、１以上のグレースケール値を調整する工程と；
を備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
高感度記録面に書き込まれるパターンの角を調整するシステムにおいて：
前記パターンによりカバーされるピクセルのサブピクセルの場所をサンプリングすることにより、サブピクセル・データを生成する為のラスタライザーと；
前記アレイ内の一組のサブピクセル・データを１以上の角検出用オーバーレイと比較することにより、前記アレイ内で角形ピクセルを検出する為の角検出ユニットと；
検出された１以上の角形ピクセル、前記角形ピクセルと隣接する１以上のピクセルのうち、少なくとも一つのグレースケール値を調整する為の角補正ユニットと；
を備える、前記システム。
【請求項１４】
前記角検出ユニットは：
サブピクセル・データに基づいて、一組の第１データ構造を生成する為の第１論理層と；
前記一組の第１データ構造に基づいて、第２の、一組の第２データ構造を生成する為の第２論理層と；
前記一組の第２データ構造に基づいて、検出された角を識別する出力信号を生成する為の第３論理層であって、前記第１論理層、第２論理層、第３論理層を組み込む式は、前記角検出用オーバーレイを画成する、前記第３論理層と；
を備える、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記角検出ユニットは、角を含む角形ピクセル内部の位置を識別する角用タグを生成するように適合されている、請求項１３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月15日(2008.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
穿通または切断により充填材を開くことによって試験エレメント（１）の周囲に向かって試料採取位置（４）、チャンネル（９）の侵入開口部（７）およびチャンネル（９）の排出開口部（８）を同時に開くことを特徴とする充填材を開くことによって試験エレメントの周囲に向かって試料採取位置（４）およびチャンネル（９）の侵入開口部（７）を同時に開くように作られている充填材により密閉された試料採取位置（４）を試験エレメント（１）が含んでおり、試験エレメント（１）が試料採取位置（４）および侵入開口部（７）を経由して液体試料（２０）を分析用のチャンネル（９）にある試験フィールド（１７）に吸収することができ、チャンネル（９）には侵入開口部（７）から間隔を開けて少なくとも１つの試験フィールド（１７）が配置され、液体試料（２０）用の侵入開口部（７）および排出開口部（８）を有する液体試料（２０）の毛細管搬送に適したチャンネル（９）を含む液体試料（２０）を分析するための分析試験エレメント。
【請求項２】
侵入開口部（７）がチャンネル（９）の一方の終端に配置され、排出開口部（８）がチャンネルのもう一方の終端に配置されることを特徴とする請求項１記載の分析試験エレメント。
【請求項３】
チャンネル（９）の侵入開口部（７）および排出開口部（８）が試験エレメント（１）にある空間（６）に達しており、この空間が充填材を開く際に試験エレメント（１）の周囲に向かって開くように配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の分析試験エレメント。
【請求項４】
空間（６）が試験エレメント（１）を使用しない状態で第１番目の側で試料採取位置（４）を密閉する充填材に少なくとも部分的に隣接しており、第１番目の側と反対側にある第２番目の側で第２番目の充填材と少なくとも部分的に隣接していることを特徴とする請求項３記載の分析試験エレメント。
【請求項５】
チャンネル（９）の侵入開口部（７）に対する試料採取位置（４）の間隔がチャンネル（９）の排出開口部（８）に対する試料採取位置（４）の間隔に比べて短いことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の分析試験エレメント。
【請求項６】
少なくとも１つの試験フィールド（１７）と排出開口部（８）とのあいだに比べると侵入開口部（７）と少なくとも１つの試験フィールド（１７）とのあいだにあるチャンネルの内側においてチャンネル（９）が液体試料（２０）によって湿りやすいことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の分析試験エレメント。
【請求項７】
試験エレメント（１）に乾燥剤（１９）が含まれていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の分析試験エレメント。
【請求項８】
試験エレメント（１）には試験フィールド（１７）において液体試料（２０）を光度測定により分析するために試験フィールド（１７）に向いた検出ウインドウ（１８）が含まれていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の分析試験エレメント。
【請求項９】
チャンネル（９）に隣接している少なくとも１つの壁において液体試料（２０）を電気化学的に分析するための基板を試験フィールド（１７）に取り付けることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の分析試験エレメント。
【請求項１０】
以下に示した順番で層が配置されており：
Ａ）試料採取位置（４）を含む第１番目の封印層（２）
Ｂ）透明な第１番目の担体層（１３）
Ｃ）チャンネル（９）の第１番目の部分（３０）を含む第１番目の中間層（１０）
Ｄ）開口部（３２）を含む第２番目の担体層（１２）
Ｅ）チャンネル（９）の第２番目の部分（３１）を含む第２番目の中間層（１１）
Ｆ）第３番目の担体層（１４）および
Ｇ）第２番目の封印層（３）
このとき第２番目の担体層（１２）にある開口部（３２）がチャンネル（９）の第１番目の部分（３０）をチャンネル（９）の第２番目の部分（３１）と結合し、試験フィールド（１７）がチャンネル（９）の第１番目の部分に配置され、使用しない試験エレメント（１）では層Ｂ）から層Ｆ）を通って空間（６）が広がっており、チャンネル（９）の第１番目の部分および第２番目の部分（３０、３１）に通じていることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の分析試験エレメント。
【請求項１１】
少なくとも１つの試験エレメント（１）および液体試料（２０）を採取する直前に試料採取位置（４）にある試験エレメント（１）の充填材を開くための１つの穿通装置および試験エレメント（１）の試験フィールド（１７）にある液体試料（２０）を分析するための検出装置（２５）を有する液体試料（２０）を分析するための請求項１〜１０のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１２】
穿通装置の他に体液を液体試料（２０）として排出するために体液を液体試料として排出するために患者の皮膚に穿孔を生じさせるランセット、カニューレ、針、ナイフまたはピンといった形状による穿孔装置が含まれ、穿通装置自体を穿孔装置としても使用することを特徴とする請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
血液または間質液におけるグルコース含有量を分析するための請求項１〜１０のいずれか１項に記載の分析試験エレメントの利用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  シフト操作部または変速機に操作ケーブルを位置固定するための固定装置であって、操作ケーブルを被覆した外被端部材と、該外被端部材を収容する、シフト操作部または変速機に設けられた収容エレメントとが設けられている形式のものにおいて、外被端部材（５）が環状の溝（１３）を有しており、収容エレメント（６）が、操作ケーブル（１）の位置固定された状態で前記環状の溝（１３）内に係合している少なくとも１つの突出部（１６，１７）を有しており、収容エレメント（６）が、溝平面に対して平行に位置する１つの平面に延在する、外被端部材（５）に作用して収容エレメント（６）からの外被端部材（５）の滑り抜けを阻止するための少なくとも１つのばねエレメント（１５）を備えていることを特徴とする、操作ケーブルを位置固定するための固定装置。
【請求項２】  ばねエレメント（１５）が、直径方向で互いに向かい合って位置する２つのばね舌片（７，８）を有しており、該ばね舌片（７，８）が、外被端部材（５）の組込み位置で、両ばね舌片（７，８）の間の間隙からの外被端部材（５）の滑脱を阻止するように外被端部材（５）に被さって係合している、請求項１記載の固定装置。
【請求項３】  ばねエレメント（１５）が、ほぼＵ字形の切欠き（１８）を有しており、該切欠き（１８）が、１つの底範囲と、互いに向かい合って位置する２つの弾性的な脚範囲とを備えており、該脚範囲が前記ばね舌片（７，８）を形成しており、前記底範囲が、外被端部材（５）の外径に適合された環状のサイズを有している、請求項２記載の固定装置。
【請求項４】  収容エレメント（６）がばねエレメント（１５）と一緒にシフト操作部と一体に形成されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の固定装置。
【請求項５】  ばねエレメント（１５）が、弾性変形可能なプラスチックから成っている、請求項１から３までのいずれか１項記載の固定装置。
【請求項６】  ばねエレメント（１５）が、ばね弾性を有する金属から成っている、請求項１から３までのいずれか１項記載の固定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ニッケル基超合金の鋳造熱処理製品の製造方法であって、当該方法が、
（ａ）以下の組成を有する超合金を準備する段階、
７．０〜１２．０重量％のクロム、
０．０６〜０．１０重量％の炭素、
５．０〜１５．０重量％のコバルト、
３．０〜５．０重量％のチタン、
３．０〜５．０重量％のアルミニウム、
３．０〜１２．０重量％のタングステン、
１．０〜５．０重量％のモリブデン、
０．００８０〜０．０１３０重量％のホウ素、
０〜１０．０重量％のレニウム、
２．０〜６．０重量％のタンタル、
０〜２．０重量％のニオブ、
０〜３．０重量％のバナジウム、
０〜２．０重量％のハフニウム、及び
残部のニッケルと不可避不純物
（ｂ）上記超合金を加熱してγ′相析出物の少なくとも６０％を溶体化する段階、及び
（ｃ）室温まで冷却する段階
を含んでおり、上記段階（ｃ）に際してまず炉内冷却によって約３５°Ｆ／分（１９．４℃／分）の速度で２０５０°Ｆ（１１２１℃）まで冷却する、方法。
【請求項２】  前記製品を、２２６０〜２３００°Ｆ（１２３８〜１２６０℃）の範囲内にあるが超合金の融解開始温度よりも少なくとも２５°Ｆ（１３．９℃）低い温度に加熱する、請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記製品を２０５０°Ｆ（１１２１℃）未満の温度からガスファン冷却によって１００〜１５０°Ｆ／分（５５．６〜８３．３℃／分）の速度で冷却する、請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記加熱をアルゴン雰囲気中で実施する、請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記製品が大形タービンバケットである、請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記製品が大形航空機エンジン用タービンブレードである、請求項１記載の方法。
【請求項７】  ニッケル基超合金の鋳造熱処理製品の製造方法であって、当該方法が、
（ａ）以下の組成を有する超合金を準備する段階、
７．０〜１２．０重量％のクロム、
０．０６〜０．１０重量％の炭素、
５．０〜１５．０重量％のコバルト、
３．０〜５．０重量％のチタン、
３．０〜５．０重量％のアルミニウム、
３．０〜１２．０重量％のタングステン、
１．０〜５．０重量％のモリブデン、
０．００８０〜０．０１３０重量％のホウ素、
０〜１０．０重量％のレニウム、
２．０〜６．０重量％のタンタル、
０〜２．０重量％のニオブ、
０〜３．０重量％のバナジウム、
０〜２．０重量％のハフニウム、及び
残部のニッケルと不可避不純物
（ｂ）上記超合金を加熱してγ′相析出物の少なくとも６０％を溶体化する段階、及び
（ｃ）室温まで冷却する段階
を含んでおり、上記加熱が、
（ａ）上記製品を約２５°Ｆ／分（１３．９℃／分）の速度で１４００°Ｆの温度に加熱してから約１０分間保持する段階、
（ｂ）段階（ａ）の製品を約２５°Ｆ／分（１３．９℃／分）の速度で２２２５°Ｆの温度に加熱してから約８時間保持する段階、
（ｃ）段階（ｂ）の製品を約２５°Ｆ／分（１３．９℃／分）の速度で２２５０°Ｆの温度に加熱してから約４時間保持する段階、
（ｄ）段階（ｃ）の製品を約３０°Ｆ／分（１６．７℃／分）の速度で２２８０°Ｆの温度に加熱してから約２時間保持する段階、及び
（ｅ）室温まで冷却する段階
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】  前記製品を炉内冷却によって約３５°Ｆ／分（１９．４℃／分）の速度で２０５０°Ｆ（１１２１℃）まで冷却する、請求項７記載の方法。
【請求項９】  前記製品を２０５０°Ｆ（１１２１℃）未満の温度からガスファン冷却によって１００〜１５０°Ｆ／分（５５．６〜８３．３℃／分）の速度で冷却する、請求項７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月5日(2007.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  薬物の薬理効果に関する選択性を増大する方法であって、
標的細胞に対し所望の薬理効果を有する薬物を特定すること；
前記薬物をブロック基により修飾すること、ここで前記ブロック基は前記ブロック基中の窒素原子を介して前記薬物の炭素原子に共有結合している；
を包含し、ここで前記ブロック基は非標的細胞中の前記薬物の蓄積を低減し、前記ブロック基は前記標的細胞において前記薬物から酵素的に除去される、前記方法。
【請求項２】  前記薬物がヌクレオチド、ヌクレオシド、ヌクレオチドアナログ及びヌクレオシドアナログからなる群から選択される請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項３】  前記薬物が１−β−Ｄ−リボフラノシル−１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミドまたは２−β−Ｄ−リボフラノシル−４−チアゾールカルボキサミドである請求の範囲第２項に記載の方法。
【請求項４】  前記ブロック基が第１級アミン及び第２級アミンの少なくとも１つからなる請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項５】  前記ブロック基が＝ＮＨである請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項６】  前記標的細胞が肝細胞である請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項７】  前記標的細胞がウイルス感染している請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項８】  前記標的細胞が過剰増殖性細胞である請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項９】  前記非標的細胞中の前記薬物の蓄積が前記非標的細胞における前記薬物のリン酸化からなる請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項１０】  前記非標的細胞が赤血球である請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項１１】  前記ブロック基の前記薬物からの前記酵素的除去がアミノヒドロラーゼにより触媒される請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項１２】  非標的細胞に対する薬物の細胞毒性を低下させる方法であって、
非標的細胞における薬物の代謝変換が前記非標的細胞に損傷を与えることを認識すること；
前記薬物をブロック基により修飾すること、ここで前記ブロック基は前記ブロック基中の窒素原子を介して前記薬物の炭素原子に共有結合しており、前記ブロック基は前記薬物の非標的細胞における代謝変換を低減し、および前記標的細胞において前記薬物から酵素的に開裂される；および
前記薬物を標的細胞と非標的細胞を含む系に投与すること；
を包含し、ここで前記ブロック基は前記薬物に共有結合している、前記方法。
【請求項１３】  前記薬物が１−β−Ｄ−リボフラノシル−１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミドであり、前記代謝変換が前記薬物のリン酸化を含む請求の範囲第１２項に記載の方法。
【請求項１４】  前記非標的細胞が赤血球である請求の範囲第１２項に記載の方法。
【請求項１５】  前記ブロック基が＝ＮＨである請求の範囲第１２項に記載の方法。
【請求項１６】  前記損傷がイノシン−５’−モノホスフェートデヒドロゲナーゼの阻害を含む請求の範囲第１２項に記載の方法。
【請求項１７】  標的細胞と非標的細胞を含む系における薬物の用量を低下させる方法であって、
薬物が非標的細胞において代謝変換されると非標的細胞と標的細胞を含む系における前記薬物の濃度が減少する薬物を用意すること；
前記薬物をブロック基により修飾すること、ここで前記ブロック基は前記ブロック基中の窒素原子を介して前記薬物の炭素原子に共有結合しており、前記ブロック基は前記薬物の前記非標的細胞における代謝変換を低減する；および
前記薬物を前記系に投与すること、ここで前記ブロック基は前記薬物に共有結合しており、前記ブロック基は前記標的細胞において前記薬物から酵素的に除去される；
を包含する、前記方法。
【請求項１８】  前記系が哺乳動物を含む請求の範囲第１７項に記載の方法。
【請求項１９】  前記薬物が１−β−Ｄ−リボフラノシル−１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミドであり、ブロック基が＝ＮＨである請求の範囲第１７項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年3月13日(2008.3.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
上記の装置は、石英るつぼを融合させるための制御された方法を実施することのできるシステムを提供する。具体的には、望ましくないガスを最少限に抑えることのできる融合雰囲気が提供される。この点に関しては、シュラウド及びハウジングの内部領域に所望のガス組成物を供給することにより、所望の融合雰囲気で周囲大気が置換される。流入する所望のガス組成物によって生み出される正圧が残留する周囲ガスを追出すことができるようにするために出口が設けられる。また、融合雰囲気は真空系統により鋳型を通して抜取られるが、これは周囲ガスレベルをさらに低下させると共に、けい砂粒子間に閉込められた周囲ガスをより望ましいガスで置換するために役立つ。十分なガス流入量を維持することにより、システム内には周囲ガスの流入を妨げる正圧が存在する。システム内の流量は、流入量が全ての流出量より大きくなるように制御されることが望ましい。このようにすれば、上記の領域は正圧となり、従って所望のガス組成を有する制御容積を生み出すことが一層確実に可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月28日(2008.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  処置有効量のボツリヌス毒素を含む、損傷筋肉を処置するための医薬組成物。
【請求項２】 筋肉注射によって投与される請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項３】  ボツリヌス毒素が損傷筋肉を不動化する請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項４】  ボツリヌス毒素が、損傷筋肉の修復過程の段階1および段階2の間に損傷筋肉を不動化するのに有効である請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項５】  ボツリヌス毒素が、損傷筋肉の修復過程の段階1の間に損傷筋肉を不動化するのに有効である請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項６】  ボツリヌス毒素が、ボツリヌス毒素A、B、C1、D、E、FまたはG型である請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項７】  ボツリヌス毒素が、組換え的に産生されたボツリヌス毒素である請求項1の記載の医薬組成物。
【請求項８】  理学療法および／または手術と組み合わされて使用される請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項９】  処置有効量のA型ボツリヌス毒素を含む、損傷筋肉の回復を促進するための医薬組成物。
【請求項１０】  処置有効量のボツリヌス毒素を含む、損傷筋肉に関連した痛みを処置するための医薬組成物。
【請求項１１】  ボツリヌス毒素がA型ボツリヌス毒素である請求項10に記載の医薬組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９９】
すべてのAdZyvegf4処理された動物においては、腎臓の糸球体が拡大され、そして糸球体間質細胞の過細胞性により特徴づけられた。さらに、すべての６匹の雄マウス、及び７匹の雌マウスのうち４匹が、細尿管再生の徴候を示した。それらの変化は、関連しないタンパク質を発現する対照アデノウィルスに暴露された動物においては観察されなかった。細尿管再生は、高められた好塩基性を有する細尿管上皮細胞の存在により特徴づけられる。より詳細な組織学的試験は、細尿管間質増殖又は炎症性細胞浸潤の証拠をほとんど示さなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月16日(2008.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＡＴＣＣ受付け番号ＨＢ−１２６１０を有するハイブリドーマＰＡ１４によって産生されたモノクローナル抗体ＰＡ１４、該抗体から誘導されたヒト化抗体、またはモノクローナル抗体ＰＡ１４もしくは該抗体から誘導されたヒト化抗体の一部分であり且つヒトＣＣＲ５受容体に結合してＨＩＶ−１とＣＤ４＋細胞との融合を阻害する部分の、ＨＩＶ−１に感染した対象を治療するための医薬を製造するための使用であって、前記医薬は、配列番号１に記載のアミノ酸配列を有するペプチドに加えて、該ペプチドとは異なる時点において前記対象に投与される使用。
【請求項２】  請求項１に記載の使用であって、ＰＡ１４から誘導された前記ヒト化抗体が、前記医薬の製造のために使用される使用。
【請求項３】  請求項１に記載の使用であって、ＰＡ１４から誘導された前記ヒト化抗体の一部分が、前記医薬の製造のために使用される使用。
【請求項４】  請求項１〜３の何れか１項に記載の使用であって、前記モノクローナル抗体およびペプチドは、異なる投与経路によって前記対象に投与される使用。
【請求項５】  請求項１〜４の何れか１項に記載の使用であって、前記モノクローナル抗体およびペプチドは、１：３０のモル濃度比で存在する使用。
【請求項６】  ヒトＣＣＲ５受容体に結合するモノクローナル抗体、またはその一部分であり且つヒトＣＣＲ５受容体に結合してＨＩＶ−１とＣＤ４＋細胞との融合を阻害する部分の、ＨＩＶ−１に感染した対象を治療するための医薬を製造するための使用であって、前記医薬は、配列番号１に記載のアミノ酸配列を有するペプチドに加えて、該ペプチドとは異なるときに前記対象に投与される使用。
【請求項７】  ＡＴＣＣ受付け番号ＨＢ−１２６１０を有するハイブリドーマＰＡ１４によって産生されたモノクローナル抗体ＰＡ１４、またはヒトＣＣＲ５受容体に結合するその一部分の、対象におけるＣＤ４＋細胞のＨＩＶ−１感染を阻害するための医薬を製造するための使用であって、
前記医薬は、二つの重鎖および二つの軽鎖を含んでなるＣＤ４−ＩｇＧ２キメラヘテロ四量体である第一の化合物、および配列番号１に記載されたアミノ酸配列を有するＴ−２０である第二の化合物に加えて前記対象に投与され、前記重鎖はＡＴＣＣ受付番号７５１９３を有する発現ベクターＣＤ４−ＩｇＧ２ＨＣ−ｐＲｃＣＭＶによってコードされ、また前記軽鎖はＡＴＣＣ受付番号７５１９４を有する発現ベクターＣＤ４−ｋＬＣ−ｐＲｃＣＭＶによってコードされる使用。
【請求項８】  請求項７に記載の使用であって、前記医薬および第一の化合物が、別々に前記対象に投与される使用。
【請求項９】  請求項７に記載の使用であって、前記医薬および前記化合物が同時に前記対象に投与される使用。
【請求項１０】  請求項７に記載の使用であって、前記医薬、第一の化合物および第二の化合物が、異なる時点で前記患者に投与される使用。
【請求項１１】  請求項７に記載の組成物であって、前記医薬は、前記第二の化合物の投与の後に前記対象に投与される使用。
【請求項１２】  請求項７に記載の組成物であって、前記医薬および前記第一の化合物は、前記第二の化合物の投与の後に前記対象に投与される使用。
【請求項１３】  請求項７に記載の使用であって、前記化合物および医薬は、異なる投与経路によって前記対象に投与される使用。
【請求項１４】  請求項７に記載の使用であって、前記ＰＡ１４抗体またはその一部分は、ヒト化抗体またはその一部分である使用。
【請求項１５】  請求項７に記載の使用であって、前記ＰＡ１４抗体またはその一部分は、キメラ抗体またはその一部分である使用。
【請求項１６】  請求項７に記載の使用であって、前記化合物の何れか二つまたは前記医薬と化合物との相対的質量比が、約１００：１〜約１：１００の範囲であるＰＡ１４抗体またはその一部はヒト化抗体またはその一部である使用。