【手続補正書】
【提出日】平成19年11月7日(2007.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘキサニトロメタラート無含有の複金属シアン化物化合物、
１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコール、および
触媒の量を基準に約０〜約８０質量％の、約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマー
を含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒。
【請求項２】
金属塩水溶液と、
ヘキサニトロメタラート無含有の金属シアン化物塩水溶液とを
１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコール、および
約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマー
の存在下で反応させることを含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の製造方法であり、
該ＤＭＣ触媒は、約０〜約８０質量％の該ポリマーを含有する方法。
【請求項３】
金属塩とヘキサニトロメタラート無含有の金属シアン化物塩との水溶液を、該金属塩が金属シアン化物塩の量と比べて過剰量で、１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコールの存在下で効率よく混合しながら反応させて、触媒スラリーを製造すること、
触媒スラリーと、約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマーとを組み合わせること、
ポリマー含有固体触媒をスラリーから分離すること、
ポリマー含有固体触媒を、追加の不飽和第３級アルコールを含有する水溶液で洗浄すること、および
ＤＭＣ触媒の量を基準に約０〜約８０質量％のポリマーを含有する複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒を回収すること
を含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の製造方法。
【請求項４】
アルキレンオキシドを、活性水素原子を有する出発化合物に重付加することによるポリオールの製造方法であって、ヘキサニトロメタラート無含有の複金属シアン化物化合物、１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコール、および触媒の量を基準に約０〜約８０質量％の、約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマーを含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の存在下で重付加を行うことを含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明の上記実施例は、限定ではなく、説明の目的のために提供される。本発明の意図および範囲から外れることなく、本明細書中で記載した実施態様を様々な様式で変更または改定し得ることは、当業者にとって明らかであろう。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲により評価されるべきである。
本発明の好適な実施態様には、以下のものが含まれる。
〔１〕  ヘキサニトロメタラート無含有の複金属シアン化物化合物、
１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコール、および
触媒の量を基準に約０〜約８０質量％の、約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマー
を含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒。
〔２〕  複金属シアン化物化合物が、ヘキサシアノコバルト酸亜鉛である上記〔１〕に記載の触媒。
〔３〕  １種またはそれ以上の不飽和第３級アルコールが、式（I）：
【化１】
2005139456.tif 000001
〔式中、
Ｒ1は、不飽和炭素原子が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ2は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ3は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができる。〕
で示される上記〔１〕に記載の触媒。
〔４〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブテン-２-オール（ＭＢＥ）である上記〔１〕に記載の触媒。
〔５〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブチン-２-オール（ＭＢＹ）である上記〔１〕に記載の触媒。
〔６〕  官能化ポリマーが、約１０００〜約１０,０００の数平均分子量を有するポリエーテルポリオールである上記〔１〕に記載の触媒。
〔７〕  官能化ポリマーが、約２０００〜約４０００の数平均分子量を有するポリ(オキシプロピレン)ジオールである上記〔１〕に記載の触媒。
〔８〕  約５〜約８０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔１〕に記載の触媒。
〔９〕  約１０〜約７０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔１〕に記載の触媒。
〔１０〕  約１５〜約６０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔１〕に記載の触媒。
〔１１〕  金属塩水溶液と、
ヘキサニトロメタラート無含有の金属シアン化物塩水溶液とを
１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコール、および
約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマー
の存在下で反応させることを含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の製造方法であり、
該ＤＭＣ触媒は、約０〜約８０質量％の該ポリマーを含有する方法。
〔１２〕  ＤＭＣ触媒が、ヘキサシアノコバルト酸亜鉛である上記〔１１〕に記載の方法。
〔１３〕  １種またはそれ以上の不飽和第３級アルコールが、式（I）：
【化２】
2005139456.tif 000002
〔式中、
Ｒ1は、不飽和炭素原子が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ2は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ3は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができる。〕
で示される上記〔１１〕に記載の方法。
〔１４〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブテン-２-オール（ＭＢＥ）である上記〔１１〕に記載の方法。
〔１５〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブチン-２-オール（ＭＢＹ）である上記〔１１〕に記載の方法。
〔１６〕  官能化ポリマーが、約２００〜約１０,０００の数平均分子量を有するポリエーテルポリオールである上記〔１１〕に記載の方法。
〔１７〕  官能化ポリマーが、約２０００〜約４０００の数平均分子量を有するポリ(オキシプロピレン)ジオールである上記〔１１〕に記載の方法。
〔１８〕  ＤＭＣ触媒が、約５〜約８０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔１１〕に記載の方法。
〔１９〕  ＤＭＣ触媒が、約１０〜約７０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔１１〕に記載の方法。
〔２０〕  ＤＭＣ触媒が、約１５〜約６０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔１１〕に記載の方法。
〔２１〕  金属塩とヘキサニトロメタラート無含有の金属シアン化物塩との水溶液を、該金属塩が金属シアン化物塩の量と比べて過剰量で、１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコールの存在下で効率よく混合しながら反応させて、触媒スラリーを製造すること、
触媒スラリーと、約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマーとを組み合わせること、
ポリマー含有固体触媒をスラリーから分離すること、
ポリマー含有固体触媒を、追加の不飽和第３級アルコールを含有する水溶液で洗浄すること、および
ＤＭＣ触媒の量を基準に約０〜約８０質量％のポリマーを含有する複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒を回収すること
を含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の製造方法。
〔２２〕  複金属シアン化物触媒が、ヘキサシアノコバルト酸亜鉛である上記〔２１〕に記載の方法。
〔２３〕  １種またはそれ以上の不飽和第３級アルコールが、式（I）：
【化３】
2005139456.tif 000003
〔式中、
Ｒ1は、不飽和炭素原子が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ2は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ3は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができる。〕
で示される上記〔２１〕に記載の方法。
〔２４〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブテン-２-オール（ＭＢＥ）である上記〔２１〕に記載の方法。
〔２５〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブチン-２-オール（ＭＢＹ）である上記〔２１〕に記載の方法。
〔２６〕  官能化ポリマーが、約２００〜約１０,０００の数平均分子量を有するポリエーテルポリオールである上記〔２１〕に記載の方法。
〔２７〕  ポリエーテルが、約２０００〜約４０００の数平均分子量を有するポリ(オキシプロピレン)ジオールである上記〔２１〕に記載の方法。
〔２８〕  触媒スラリーを、低剪断混合によりポリエーテルと組み合わせる上記〔２１〕に記載の方法。
〔２９〕  洗浄工程における不飽和第３級アルコールの水溶液が、追加のポリマーも含む上記〔２１〕に記載の方法。
〔３０〕  洗浄工程後に触媒を、追加の不飽和第３級アルコールで再洗浄する上記〔２９〕に記載の方法。
〔３１〕  不飽和第３級アルコールが、さらにポリマーを含む上記〔３０〕に記載の方法。
〔３２〕  アルキレンオキシドを、活性水素原子を有する出発化合物に重付加することによるポリオールの製造方法における、ヘキサニトロメタラート無含有の複金属シアン化物化合物、１種またはそれ以上の不飽和第３級アルコール、および触媒の量を基準に約０〜約８０質量％の、約２００より大きい数平均分子量を有する官能化ポリマーを含む複金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の存在下で重付加を行うことを含む改良。
〔３３〕  ＤＭＣ触媒が、ヘキサシアノコバルト酸亜鉛である上記〔３２〕に記載の方法。
〔３４〕  １種またはそれ以上の不飽和第３級アルコールが、式（I）：
【化４】
2005139456.tif 000004
〔式中、
Ｒ1は、不飽和炭素原子が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ2は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができ、
Ｒ3は、不飽和炭素が（I）のヒドロキシル含有炭素に結合している、少なくとも１つの不飽和部位を持つ２〜２０個の炭素原子を有する基、またはヒドロキシル含有炭素（I）に結合している不飽和部位を持たない１〜２０個の炭素原子を有する基を表し、その中で炭素および水素以外の原子が存在することができる。〕
で示される上記〔３２〕に記載の方法。
〔３５〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブテン-２-オール（ＭＢＥ）である上記〔３２〕に記載の方法。
〔３６〕  不飽和第３級アルコールが、２-メチル-３-ブチン-２-オール（ＭＢＹ）である上記〔３２〕に記載の方法。
〔３７〕  官能化ポリマーが、約２００〜約１０,０００の数平均分子量を有するポリエーテルポリオールである上記〔３２〕に記載の方法。
〔３８〕  官能化ポリマーが、約２０００〜約４０００の数平均分子量を有するポリ(オキシプロピレン)ジオールである上記〔３２〕に記載の方法。
〔３９〕  ＤＭＣ触媒が、約５〜約８０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔３２〕に記載の方法。
〔４０〕  ＤＭＣ触媒が、約１０〜約７０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔３２〕に記載の方法。
〔４１〕  ＤＭＣ触媒が、約１５〜約６０質量％の官能化ポリマーを含有する上記〔３２〕に記載の方法。