【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記工程により製造する下記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類の製造方法。
【化１】
2006519783.tif 000001
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示し、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、＊は不斉炭素を示す。また、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。）
１）一般式（２）
【化２】
2006519783.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ２は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）で表されるβ−ケトエステル類と一般式（３）
【化３】
2006519783.tif 000003
（式中、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。但し、Ｒ３又はＲ７の何れか一方は水素原子である。）で表されるアミン類とを反応させて一般式（４）
【化４】
2006519783.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ７は前記と同じ。）で表されるエナミノエステル類を製造する工程、
２）前記１）で得られた一般式（４）で表されるエナミノエステル類を不斉水素化反応に付して一般式（５）
【化５】
2006519783.tif 000005
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ１〜Ｒ７は前記と同じ。）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体を製造する工程、
３）前記２）で得られた一般式（５）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体をアミド化して一般式（６）
【化６】
2006519783.tif 000006
（式中、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ７及び＊は前記と同じ。）で表されるアミド類を製造する工程、
４）前記３）で得られた一般式（６）で表されるアミド類をアルコキシカルボニル化して一般式（７）
【化７】
2006519783.tif 000007
（式中、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ７及び＊は前記と同じ。）で表される化合物を製造する工程、及び
５）前記４）で得られた一般式（７）で表される化合物を環化反応させる前記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類を製造する工程。
【請求項２】
下記工程により製造する下記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類の製造方法。
【化８】
2006519783.tif 000008
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示し、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、＊は不斉炭素を示す。また、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。）
１）一般式（２）
【化９】
2006519783.tif 000009
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ２は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）で表されるβ−ケトエステル類と一般式（３）
【化１０】
2006519783.tif 000010
（式中、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基、を示す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。但し、Ｒ３又はＲ７の何れか一方は水素原子である。）で表されるアミン類とを反応させて一般式（４）
【化１１】
2006519783.tif 000011
（式中、Ｒ１〜Ｒ７は前記と同じ。）で表されるエナミノエステル類を製造する工程、
２）前記１）で得られた一般式（４）で表されるエナミノエステル類を不斉水素化反応に付して一般式（５）
【化１２】
2006519783.tif 000012
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ１〜Ｒ７は前記と同じ。）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体を製造する工程、
３）前記２）で得られた一般式（５）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体と一般式（８）
Ｈ２Ｎ−ＣＯＯＲ８      （８）
（式中、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）で表されるカルバミン酸エステル類とを反応させて一般式（７）
【化１３】
2006519783.tif 000013
（式中、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ７及び＊は前記と同じ。）で表される化合物を製造する工程、及び
４）前記３）で得られた一般式（７）で表される光学活性化合物を環化反応させて前記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類を製造する工程。
【請求項３】
下記工程により製造する下記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類の製造方法。
【化１４】
2006519783.tif 000014
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示し、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、＊は不斉炭素を示す。また、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。）
１）一般式（４）
【化１５】
2006519783.tif 000015
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ２は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。但し、Ｒ３又はＲ７の何れか一方は水素原子である。）で表されるエナミノエステル類を不斉水素化反応に付して一般式（５）
【化１６】
2006519783.tif 000016
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ１〜Ｒ７は前記と同じ。）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体を製造する工程、
２）前記１）で得られた一般式（５）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体をアミド化して一般式（６）
【化１７】
2006519783.tif 000017
（式中、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ７及び＊は前記と同じ。）で表される光学活性アミド類を製造する工程、
３）前記２）で得られた一般式（６）で表される光学活性アミド類をアルコキシカルボニル化して一般式（７）
【化１８】
2006519783.tif 000018
（式中、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ７及び＊は前記と同じ。）で表される化合物を製造する工程、及び
４）前記３）で得られた一般式（７）で表される光学活性化合物を環化反応させる前記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類を製造する工程。
【請求項４】
下記工程により製造する下記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類の製造方法。
【化１９】
2006519783.tif 000019
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示し、Ｒ８は炭化水素基を示し、＊は不斉炭素を示す。また、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。）
１）一般式（４）
【化２０】
2006519783.tif 000020
（式中、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ２は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。但し、Ｒ３又はＲ７の何れか一方は水素原子である。）で表されるエナミノエステル類を不斉水素化反応に付して一般式（５）
【化２１】
2006519783.tif 000021
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ１〜Ｒ７は前記と同じ。）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体を製造する工程、
２）上記一般式（５）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体と一般式（８）
Ｈ２Ｎ−ＣＯＯＲ８      （８）
（式中、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）で表されるカルバミン酸エステル類とを反応させて一般式（７）
【化２２】
2006519783.tif 000022
（式中、Ｒ８は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ１、Ｒ３〜Ｒ７及び＊は前記と同じ。）で表される化合物を製造する工程、及び
３）前記２）で得られた一般式（７）で表される光学活性化合物を環化反応させる前記一般式（１）で表される光学活性テトラヒドロキノリン類を製造する工程。
【請求項５】
下記一般式（１５ｃ）で表されるβ−アミノ酸誘導体。
【化２３】
2006519783.tif 000023
（式中、Ｒ２５は炭化水素基又はＣＯＯＲ３２（Ｒ３２は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ２６は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ２７〜Ｒ３１は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基又はアルコキシ基を示す。但し、（ｉ）Ｒ２７又はＲ３１の何れか一方は水素原子であり、（ｉｉ）Ｒ２７〜Ｒ３１の少なくとも１つは炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基又はアルコキシ基であり、（ｉｉｉ）Ｒ２７〜Ｒ３１の少なくとも１つがアルコキシ基であるとき、Ｒ２５はメチル基又はエチル基であり、及び（ｉｖ）Ｒ２７〜Ｒ３１の少なくとも１つがハロゲン原子又はメチル基であるとき、Ｒ２５は炭化水素基である。）
【請求項６】
一般式（４ａ）
【化２４】
2006519783.tif 000024
（式中、ＲはＯＲ２（Ｒ２は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）又はアミノ基を示し、Ｒ１は炭化水素基、置換炭化水素基又はＣＯＯＲ９（Ｒ９は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立して水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキレンジオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基又は置換アミノ基を示す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、Ｒ５とＲ６或いはＲ６とＲ７とが結合して縮合環を形成してもよい。但し、Ｒ３又はＲ７の何れか一方は水素原子である。）で表されるエナミノエステル類を不斉水素化反応に付する一般式（５ａ）
【化２５】
2006519783.tif 000025
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ、Ｒ１及びＲ３〜Ｒ７は前記と同じ。）で表される光学活性β−アミノ酸誘導体の製造方法。
【請求項７】
下記一般式（９）で表されるエナミノエステル類。
【化２６】
2006519783.tif 000026
（式中、Ｒ１０は炭化水素基又はＣＯＯＲ１６（Ｒ１６は炭化水素基又は置換炭化水素基を示す。）を示し、Ｒ１１は炭化水素基又は置換炭化水素基を示し、Ｒ１２〜Ｒ１５は夫々独立して水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はハロゲン化炭化水素基を示す。但し、Ｒ１２〜Ｒ１５の少なくとも１つはアルコキシ基、ハロゲン原子又はハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ１２〜Ｒ１５の少なくも１つがＣＦ３又は臭素原子である場合は、Ｒ１０はメチル基以外の炭化水素基であり、また、Ｒ１２〜Ｒ１５の少なくとも１つがハロゲン原子である場合は、Ｒ１０はメチル基以外の炭化水素基である。）
【請求項８】
一般式（２１）
【化２７】
2006519783.tif 000027
（式中、Ｒ２１は炭化水素基を示し、Ｒ２２は水素原子、炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル基を示し、Ｒ２３は水素原子、炭化水素基、置換炭化水素基、脂肪族複素環基、置換脂肪族複素環基、芳香族複素環基、置換芳香族複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル基を示し、Ｒ２４は炭化水素基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アラルキルオキシ基、置換アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アミノ基又は置換アミノ基を示す。また、Ｒ２２とＲ２３あるいはＲ２３とＲ２４とが結合して環を形成していてもよい。）で表されるエナミノ化合物を不斉水素化反応に付することを特徴とする、一般式（２２）
【化２８】
2006519783.tif 000028
（式中、＊は不斉炭素を示し、Ｒ２１〜Ｒ２４は前記と同じ。）で表されるβ−アミノ酸誘導体の製造方法。