【手続補正書】
【提出日】平成31年4月12日(2019.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像される解剖構造から放出される磁気共鳴信号に応答するよう構成された高周波コンポーネントであって、当該高周波コンポーネントは：
前記撮像される解剖構造を受け入れるよう構成された支持構造と；
前記撮像される解剖構造のまわりに第一の三次元幾何形状をなすよう前記支持構造のまわりに複数巻きで配置された少なくとも一つの第一の導体を含む第一のコイルであって、該第一のコイルは第一の主軸に沿った磁気共鳴信号成分に応答するような配向にされている、第一のコイルと；
前記撮像される解剖構造のまわりに第二の三次元幾何形状をなすよう前記支持構造のまわりに複数巻きで配置された少なくとも一つの第二の導体を含む第二のコイルであって、該第二のコイルは前記第一の主軸とは異なる配向の第二の主軸に沿った磁気共鳴信号成分に応答するような配向にされている、第二のコイルとを有する、
高周波コンポーネント。
【請求項２】
前記第一の主軸は前記第二の主軸と実質的に直交であり、前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは実質的に直交する磁気共鳴信号成分に応答する、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項３】
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは、第三の軸に沿って配向されたB0場の視野内から放出される磁気共鳴信号成分を検出するよう構成される、請求項２記載の高周波コンポーネント。
【請求項４】
前記第一の主軸および前記第二の主軸が前記第三の軸と実質的に直交である、請求項３記載の高周波コンポーネント。
【請求項５】
前記第一の主軸および前記第二の主軸が前記第三の軸に対して実質的に45度の配向である、請求項３記載の高周波コンポーネント。
【請求項６】
前記支持構造が：
前記第一のコイルが適用される第一の基体層と；
前記第二のコイルが適用される第二の基体層とを有する、
請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項７】
前記支持構造が三次元的な表面を定義し、前記第二の基体層が、実質的に前記三次元的な表面への表面法線方向に沿って前記第一の基体層からオフセットされている、請求項６記載の高周波コンポーネント。
【請求項８】
前記第一の基体層が、中に前記第一の導体が位置される少なくとも一つの溝を有し、前記第二の基体層が、中に前記第二の導体が位置される少なくとも一つの溝を有する、請求項６記載の高周波コンポーネント。
【請求項９】
前記支持構造が、患者の頭部を受け入れるよう構成され、前記第一の主軸は患者の身体の長手軸と実質的に整列される、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項１０】
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも1メートルの長さをもつ、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項１１】
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも5巻きをもって構成される、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項１２】
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも20巻きをもって構成される、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項１３】
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは目標周波数で共鳴するよう同調されており、前記第一の導体および前記第二の導体の巻き数は、前記第一の導体の自己共鳴および前記第二の導体の自己共鳴がそれぞれ前記目標周波数の少なくとも二倍の周波数であるよう制限される、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項１４】
前記第一の導体は、前記第一のコイルのモデルを使って最適化を実行することに少なくとも部分的には基づいて決定された第一のコイル構成に従って配置されている、および／または前記第二の導体は、前記第二のコイルのモデルを使って最適化を実行することに少なくとも部分的には基づいて決定された第二のコイル構成に従って配置されている、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【請求項１５】
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは0.1T以下かつ50mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、請求項１記載の高周波コンポーネント。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
請求項および上記の明細書において、「有する」「含む」「担持する」「もつ」「包含する」「関わる」「保持する」「構成される」などといったあらゆる移行句はオープンなものと理解される。すなわち、含むがそれに限定されないことを意味する。「…からなる」および「本質的には…からなる」という移行句のみが、それぞれクローズドまたは半クローズドの移行句である。
いくつかの態様を記載しておく。
〔態様１〕
磁気共鳴信号に応答するよう構成された高周波コンポーネントであって、当該高周波コンポーネントは：
第一の磁気共鳴信号成分に応答するような配向にされた、複数巻きで配置された第一の導体を含む第一のコイルと；
第二の磁気共鳴信号成分に応答するような配向にされた、複数巻きで配置された第二の導体を含む第二のコイルとを有する、
高周波コンポーネント。
〔態様２〕
前記第一の磁気共鳴信号成分は第一の主軸に沿って配向され、前記第二の磁気共鳴信号成分は前記第一の主軸と異なる配向の第二の主軸に沿って配向される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様３〕
前記第一の主軸は前記第二の主軸と実質的に直交であり、前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは実質的に直交する磁気共鳴信号成分に応答する、態様２記載の高周波コンポーネント。
〔態様４〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは、第三の軸に沿って配向されたB0場の視野内から放出される磁気共鳴信号成分を検出するよう構成される、態様３記載の高周波コンポーネント。
〔態様５〕
前記第一の軸および前記第二の軸が前記第三の軸と実質的に直交である、態様４記載の高周波コンポーネント。
〔態様６〕
前記第一の軸および前記第二の軸が前記第三の軸に対して約45度の配向である、態様４記載の高周波コンポーネント。
〔態様７〕
当該高周波コンポーネントが前記第一のコイルおよび前記第二のコイルのための支持構造を有し、前記支持構造は：
前記第一のコイルが適用される第一の基体層と；
前記第二のコイルが適用される第二の基体層とを有する、
態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様８〕
前記支持構造が三次元的な表面を定義し、前記第二の基体層が、実質的に前記三次元的な表面への表面法線方向に沿って前記第一の基体層からオフセットされている、態様７記載の高周波コンポーネント。
〔態様９〕
前記支持構造が関心領域のまわりの三次元的な表面を定義し、前記第二の基体層が、前記関心領域に対して前記第一の基体層からオフセットされている、態様７記載の高周波コンポーネント。
〔態様１０〕
前記第一の基体層が、中に前記第一の導体が位置される少なくとも一つの溝を有し、前記第二の基体層が、中に前記第二の導体が位置される少なくとも一つの溝を有する、態様７記載の高周波コンポーネント。
〔態様１１〕
患者の頭部を受け入れるよう構成された支持構造を有しており、前記第一の主軸は患者の身体の長手軸と実質的に整列される、態様２記載の高周波コンポーネント。
〔態様１２〕
患者の外肢を受け入れるよう構成された支持構造を有しており、前記第一の主軸は前記外肢の長手軸と実質的に整列される、態様２記載の高周波コンポーネント。
〔態様１３〕
前記外肢が脚である、態様１２記載の高周波コンポーネント。
〔態様１４〕
前記外肢が腕である、態様１２記載の高周波コンポーネント。
〔態様１５〕
患者の胴体を受け入れるよう構成された支持構造を有しており、前記第一の主軸は患者の身体の長手軸と実質的に整列される、態様２記載の高周波コンポーネント。
〔態様１６〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも1メートルの長さをもつ、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様１７〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも2メートルの長さをもつ、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様１８〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも3メートルの長さをもつ、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様１９〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも5巻きをもって構成される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２０〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも10巻きをもって構成される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２１〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも15巻きをもって構成される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２２〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも20巻きをもって構成される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２３〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは目標周波数で共鳴するよう同調されており、前記第一の導体および前記第二の導体の巻き数は、前記第一の導体の自己共鳴および前記第二の導体の自己共鳴がそれぞれ前記目標周波数の少なくとも二倍の周波数であるよう制限される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２４〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは目標周波数で共鳴するよう同調されており、前記第一の導体および前記第二の導体の巻き数は、前記第一の導体の自己共鳴および前記第二の導体の自己共鳴がそれぞれ前記目標周波数の少なくとも三倍の周波数であるよう制限される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２５〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは目標周波数で共鳴するよう同調されており、前記第一の導体および前記第二の導体の巻き数は、前記第一の導体の自己共鳴および前記第二の導体の自己共鳴がそれぞれ前記目標周波数の少なくとも五倍の周波数であるよう制限される、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２６〕
前記第一の導体は、前記第一のコイルのモデルを使って最適化を実行することに少なくとも部分的には基づいて決定された第一のコイル構成に従って配置されている、および／または前記第二の導体は、前記第二のコイルのモデルを使って最適化を実行することに少なくとも部分的には基づいて決定された第二のコイル構成に従って配置されている、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２７〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約0.2T以下かつ約0.1T以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２８〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約0.1T以下かつ約50mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様２９〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約50mT以下かつ約20mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様３０〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約20mT以下かつ約10mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様３１〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約10mT以下のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様３２〕
前記第一の導体が、関心領域のまわりの三次元幾何において前記複数巻きで配置された第一の連続的なワイヤを有し、前記第二の導体が、関心領域のまわりの三次元幾何において前記複数巻きで配置された第二の連続的なワイヤを有する、態様１記載の高周波コンポーネント。
〔態様３３〕
前記第一の連続的なワイヤおよび前記第二の連続的なワイヤが単一素線ワイヤである、態様３２記載の高周波コンポーネント。
〔態様３４〕
前記第一の連続的なワイヤおよび前記第二の連続的なワイヤが複数撚りワイヤである、態様３２記載の高周波コンポーネント。
〔態様３５〕
磁気共鳴信号に応答するよう構成された高周波コンポーネントであって、当該高周波コンポーネントは：
関心領域のまわりに配置された、複数巻きをもつ第一の導体を含む第一のコイルと；
前記関心領域のまわりに配置され、前記関心領域に対して前記第一のコイルからオフセットされた、複数巻きをもつ第二の導体を含む第二のコイルとを有する、
高周波コンポーネント。
〔態様３６〕
前記第一のコイルが適用される第一の基体層および前記第二のコイルが適用される第二の基体層を含む支持構造をさらに有する、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様３７〕
前記第二の基体層が前記第一の基体層にかぶさるように位置される、態様３６記載の高周波コンポーネント。
〔態様３８〕
前記第一の基体層が、前記第一の導体を受け入れるよう第一のコイル構成に従って配置された数なくとも一つの第一の溝を有し、前記第二の基体層が、前記第二の導体を受け入れるよう第二のコイル構成に従って配置された数なくとも一つの第二の溝を有する、態様３６記載の高周波コンポーネント。
〔態様３９〕
前記第一のコイル構成が第一の主軸をもち、前記第二のコイル構成が前記第一の主軸と実質的に直交する第二の主軸をもつ、態様３８記載の高周波コンポーネント。
〔態様４０〕
前記第一の基体層および／または前記第二の基体層が三次元印刷により製造される、態様３８記載の高周波コンポーネント。
〔態様４１〕
前記第一の基体層が凸側および凹側を含み、前記第二の基体層が凸側および凹側を含む、態様３８記載の高周波コンポーネント。
〔態様４２〕
前記少なくとも一つの第一の溝が前記第一の基体層の前記凸側に設けられる、態様４１記載の高周波コンポーネント。
〔態様４３〕
前記少なくとも一つの第二の溝が前記第二の基体層の前記凸側に設けられる、態様４２記載の高周波コンポーネント。
〔態様４４〕
前記少なくとも一つの第二の溝が前記第二の基体層の前記凹側に設けられる、態様４２記載の高周波コンポーネント。
〔態様４５〕
前記少なくとも一つの第一の溝が前記第一の基体層の前記凹側に設けられる、態様４１記載の高周波コンポーネント。
〔態様４６〕
前記少なくとも一つの第二の溝が前記第二の基体層の前記凸側に設けられる、態様４５記載の高周波コンポーネント。
〔態様４７〕
前記少なくとも一つの第二の溝が前記第二の基体層の前記凹側に設けられる、態様４５記載の高周波コンポーネント。
〔態様４８〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも1メートルの長さをもつ、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様４９〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも2メートルの長さをもつ、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５０〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも3メートルの長さをもつ、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５１〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも5巻きをもって構成される、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５２〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも10巻きをもって構成される、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５３〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも15巻きをもって構成される、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５４〕
前記第一の導体および／または前記第二の導体が少なくとも20巻きをもって構成される、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５５〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約0.2T以下かつ約0.1T以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５６〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約0.1T以下かつ約50mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５７〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約50mT以下かつ約20mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５８〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約20mT以下かつ約10mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様５９〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルは約10mT以下のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様３５記載の高周波コンポーネント。
〔態様６０〕
磁気共鳴信号に応答するよう構成された高周波コイルであって、当該高周波コイルは：
関心領域の中で放出される磁気共鳴信号への感度を増すよう最適化された構成で、前記関心領域のまわりに三次元幾何において配置された、少なくとも一つの導体を有する、
高周波コイル。
〔態様６１〕
前記構成が、少なくとも部分的には磁気合成を使って最適化される、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様６２〕
前記三次元幾何における前記少なくとも一つの導体の前記構成は、少なくとも部分的には、当該高周波コイルのモデルを使って少なくとも一つの最適化を実行することに基づいて決定される、態様６１記載の高周波コイル。
〔態様６３〕
前記少なくとも一つの導体は、前記関心対象のまわりで複数の巻きにおいて配置される、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様６４〕
少なくとも部分的には、当該高周波コイルの前記モデルを使って前記少なくとも一つの最適化を実行することに基づいて、巻きの数および／または少なくとも一対の隣り合う巻きの間の間隔が決定される、態様６３記載の高周波コイル。
〔態様６５〕
前記最適化が、少なくとも一つの制約条件を満たす当該高周波コイルの前記モデルの構成を決定する、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様６６〕
前記少なくとも一つの制約条件が、当該高周波コイルの抵抗を含む、態様６５記載の高周波コイル。
〔態様６７〕
前記少なくとも一つの制約条件が、前記少なくとも一つの導体の長さを含む、態様６５記載の高周波コイル。
〔態様６８〕
前記少なくとも一つの制約条件が、当該高周波コイルのインダクタンスを含む、態様６５記載の高周波コイル。
〔態様６９〕
前記最適化が、少なくとも一つの基準を満たす磁場を生成する当該高周波コイルの前記モデルの構成を決定する、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７０〕
前記少なくとも一つの基準が前記関心領域内の磁場均一性を含む、態様６９記載の高周波コイル。
〔態様７１〕
前記少なくとも一つの基準が前記関心領域内の磁場の強さを含む、態様６９記載の高周波コイル。
〔態様７２〕
前記少なくとも一つの導体が少なくとも1メートルの長さをもつ、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７３〕
前記少なくとも一つの導体が少なくとも2メートルの長さをもつ、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７４〕
前記少なくとも一つの導体が少なくとも3メートルの長さをもつ、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７５〕
前記少なくとも一つの導体が複数の巻きをもつ渦巻き幾何形状をもつ、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７６〕
前記複数の巻きの間の間隔が非一様である、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様７７〕
前記複数の巻きが少なくとも5回の巻きを含む、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７８〕
前記複数の巻きが少なくとも10回の巻きを含む、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様７９〕
前記複数の巻きが少なくとも15回の巻きを含む、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様８０〕
前記複数の巻きが少なくとも20回の巻きを含む、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様８１〕
前記少なくとも一つの導体が配置される支持部をさらに有し、前記支持部は人間の解剖構造の一部を受け入れるよう形成される、態様６２記載の高周波コイル。
〔態様８２〕
前記高周波コイルは頭部コイルであり、前記支持部は人間の頭部を受け入れるよう形成されたヘルメットをなす、態様８１記載の高周波コイル。
〔態様８３〕
ノイズ抑制を容易にするための少なくとも一つの補助コイルとの組み合わせにおける態様８２記載の高周波コイルであって、前記少なくとも一つの補助コイルは前記ヘルメットに位置されているまたは前記ヘルメットの近くに位置されている、高周波コイル。
〔態様８４〕
当該高周波コイルが前記ヘルメット内に位置された視野から放出される磁気共鳴信号を検出するよう構成されており、前記少なくとも一つの補助コイルは、環境ノイズには応答するが、前記視野から放出された磁気共鳴信号には応答しないよう位置されている、態様８３記載の組み合わせ。
〔態様８５〕
前記少なくとも一つの補助コイルの構成が最適化を使って決定される、態様８４記載の組み合わせ。
〔態様８６〕
前記少なくとも一つの補助コイルの構成が、前記高周波コイルとの誘導結合を減らすまたはなくすよう最適化される、態様８５記載の組み合わせ。
〔態様８７〕
ノイズ抑制を容易にするための少なくとも一つの補助コイルとの組み合わせにおける、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様８８〕
当該高周波コイルが約0.2T以下かつ約0.1T以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様８９〕
当該高周波コイルが約0.1T以下かつ約50mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様９０〕
当該高周波コイルが約50mT以下かつ約20mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様９１〕
当該高周波コイルが約20mT以下かつ約10mT以上のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様９２〕
当該高周波コイルが約10mT以下のB0場に対応する周波数で共鳴するよう同調されている、態様６０記載の高周波コイル。
〔態様９３〕
高周波コイルのための構成を決定する方法であって：
前記高周波コイルのモデルを生成する段階と；
少なくとも一つの制約条件を満たすモデル構成であって、前記モデルの動作がシミュレートされるときに、所定の基準を満たす磁場を生成するモデル構成を決定するために最適化を実行する段階とを含む、
方法。
〔態様９４〕
前記モデル構成からコイル構成を決定する段階をさらに含み、前記コイル構成は、前記高周波コイルの少なくとも一つの導体のための配置を示す、態様９３記載の方法。
〔態様９５〕
前記少なくとも一つの導体が複数の巻きを形成し、前記コイル構成が、巻きの数および／または少なくとも一対の隣接する巻きの間の間隔を示す、態様９４記載の方法。
〔態様９６〕
前記少なくとも一つの制約条件が前記高周波コイルの抵抗を含む、態様９４記載の方法。
〔態様９７〕
前記少なくとも一つの制約条件が前記少なくとも一つの導体の長さを含む、態様９６記載の方法。
〔態様９８〕
前記少なくとも一つの制約条件が前記高周波コイルのインダクタンスを含む、態様９４記載の方法。
〔態様９９〕
前記少なくとも一つの基準が、関心領域内での磁場均一性を含む、態様９４記載の方法。
〔態様１００〕
前記少なくとも一つの基準が、関心領域内での磁場の強さを含む、態様９４記載の方法。
〔態様１０１〕
前記少なくとも一つの導体が少なくとも1メートルの長さをもつ、態様９４記載の方法。
〔態様１０２〕
前記少なくとも一つの導体が少なくとも2メートルの長さをもつ、態様９４記載の方法。
〔態様１０３〕
前記コイル構成が前記少なくとも一つの導体についての渦巻き状幾何形状を記述する、態様９４記載の方法。
〔態様１０４〕
前記複数の巻きの間の間隔が非一様である、態様１０３記載の方法。
〔態様１０５〕
患者の身体の一部のために構成された高周波コイルであって、当該高周波コイルは：
関心領域のまわりに複数巻きで配置され、患者の身体の一部の長手軸に実質的に直交する配向の磁気共鳴信号成分に応答するような配向にされた少なくとも一つの導体を有する、
高周波コイル。
〔態様１０６〕
当該高周波コイルが、身体の長手軸に実質的に平行な配向のB0場から放出された磁気共鳴信号に応答するよう構成されている、態様１０５記載の高周波コイル。
〔態様１０７〕
当該高周波コイルが、二平面幾何のB0磁石によって生成されるB0場から放出された磁気共鳴信号に応答するよう構成されている、態様１０６記載の高周波コイル。
〔態様１０８〕
当該高周波コイルが、身体の長手軸に実質的に平行な配向のB0場から放出された磁気共鳴信号に応答するよう構成されている、態様１０６記載の高周波コイル。
〔態様１０９〕
前記高周波コイルが、ソレノイド幾何のB0磁石によって生成されるB0場から放出された磁気共鳴信号に応答するよう構成されている、態様１０８記載の高周波コイル。
〔態様１１０〕
視野において0.2テスラ（T）以下のB0磁場を生成するよう構成されたB0磁石と；
前記視野から放出される第一の磁気共鳴信号成分に応答するよう構成された第一のコイルと；
前記視野から放出される第二の磁気共鳴信号成分に応答するよう構成された第二のコイルとを有する、
低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１１〕
前記第二のコイルが、前記B0磁場内に位置されるときに前記視野に対して前記第一のコイルからオフセットされている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１２〕
前記第一のコイルが、前記B0磁場内に位置されるときに前記視野のまわりの三次元幾何において配置される複数の巻きをもつ第一の導体を有する、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１３〕
前記第二のコイルが、前記B0磁場内に位置されるときに前記視野のまわりの三次元幾何において配置される複数の巻きをもつ第二の導体を有する、態様１１２記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１４〕
前記B0磁石が、約0.1T以下かつ約50mT以上のB0磁場を生成するよう構成されている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１５〕
前記B0磁石が、約50mT以下かつ約20mT以上のB0磁場を生成するよう構成されている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１６〕
前記B0磁石が、約20mT以下かつ約10mT以上のB0磁場を生成するよう構成されている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１７〕
前記B0磁石が、約10mT以下のB0磁場を生成するよう構成されている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１８〕
前記B0磁石が二平面幾何で構成されている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１１９〕
前記B0磁石がソレノイド幾何で構成されている、態様１１０記載の低磁場磁気共鳴システム。
〔態様１２０〕
磁気共鳴撮像システムにおいて使うための装置であって：
第一のコイルと；
高周波磁場および傾斜場を生成するよう前記コイルを動作させるよう構成された少なくとも一つのコントローラとを有する、
装置。
〔態様１２１〕
前記少なくとも一つのコントローラが、磁気共鳴パルス・シーケンスに従って前記第一のコイルを動作させるよう構成されている、態様１２０記載の装置。
〔態様１２２〕
前記少なくとも一つのコントローラが、磁気共鳴信号を検出するために前記第一のコイルを使うよう構成されている、態様１２０記載の装置。
〔態様１２３〕
前記第一のコイルが低磁場磁気共鳴撮像システムにおいて動作するよう構成されている、態様１２０記載の装置。
〔態様１２４〕
第二のコイルをさらに有する態様１２０記載の装置であって、前記少なくとも一つのコントローラは、高周波磁場および傾斜場を生成するよう前記第二のコイルを動作させるよう構成されている、装置。
〔態様１２５〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルが、前記システムのB0磁場に実質的に直交する方向に傾斜磁場の少なくとも一部を生成する、態様１２４記載の装置。
〔態様１２６〕
前記第一のコイルが、前記システムのB0磁場に実質的に直交する第一の方向に傾斜磁場の少なくとも一部を生成し、前記第二のコイルが、前記B0磁場に実質的に直交する第二の方向に傾斜磁場の少なくとも一部を生成する、態様１２４記載の装置。
〔態様１２７〕
前記少なくとも一つのコントローラが、磁気共鳴信号を検出するために前記第一のコイルおよび前記第二のコイルを使うよう構成されている、態様１２６記載の装置。
〔態様１２８〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルによって検出された磁気共鳴信号が、信号対雑音比を増大させるために組み合わされる、態様１２７記載の装置。
〔態様１２９〕
前記第一のコイルおよび前記第二のコイルが、取得時間を短縮するよう動作させられる、態様１２７記載の装置。
〔態様１３０〕
前記少なくとも一つのコントローラが：
前記高周波磁場を生成するよう前記第一のコイルを動作させるための電力を提供する第一の増幅器と；
前記第一の増幅器と前記第一のコイルの間に接続された高域通過フィルタと；
前記傾斜磁場を生成するよう前記第一のコイルを動作させるための電力を提供する第二の増幅器と；
前記第二の増幅器と前記第一のコイルの間に接続された低域通過フィルタとを有する、
態様１２４記載の装置。
〔態様１３１〕
前記第一のコイルの構成が最適化を使って決定される、態様１２４記載の装置。
〔態様１３２〕
前記最適化が、少なくとも一つの制約条件を満たす前記第一のコイルの少なくとも一つの導体の構成であって、前記第一のコイルのモデルがシミュレートされるときに、所定の基準を満たす磁場を生成する構成を決定する、態様１３１記載の装置。
〔態様１３３〕
人間の頭部を受け入れるよう形成されたヘルメットをさらに有し、前記第一のコイルは、RF頭部コイルとして動作するよう構成され、前記ヘルメットに配置される、態様１２４記載の装置。
〔態様１３４〕
ノイズ抑制を容易にするための少なくとも一つの補助コイルをさらに有しており、前記少なくとも一つの補助コイルは前記ヘルメットに位置されているまたは前記ヘルメットの近くに位置されている、態様１３３記載の装置。
〔態様１３５〕
前記第一のコイルが前記ヘルメット内に位置された視野から放出される磁気共鳴信号を検出するよう構成されており、前記少なくとも一つの補助コイルは、環境ノイズには応答するが、前記視野から放出された磁気共鳴信号には応答しないよう位置されている、態様１３４記載の装置。
〔態様１３６〕
前記少なくとも一つの補助コイルの構成が最適化を使って決定される、態様１３４記載の装置。
〔態様１３７〕
前記少なくとも一つの補助コイルの構成が、前記第一のコイルとの誘導結合を減らすまたはなくすよう最適化される、態様１３４記載の装置。