【手続補正書】
【提出日】平成19年8月21日(2007.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】光源から出射される光の波長よりも小さい周期を有する第１および第２の２つの周期構造と、該２つの周期構造を相対的に移動させる移動手段を有し、  該２つの周期構造を前記波長以下の間隔まで近接させて互いに向かい合わせた状態で配置し、前記移動手段によって該２つの周期構造を相対的に移動させ、該２つの周期構造の間を透過した前記光源からの透過光の強度を変調する構成を備えたことを特徴とする光変調装置。    【請求項２】前記第１および第２の周期構造は、前記光源から出射される光の波長の１／２以下の開口幅とピッチを有することを特徴とする請求項１に記載の光変調装置。    【請求項３】前記第１および第２の周期構造は、前記開口幅とピッチの周期を前記光源から出射される光の波長よりも小さい領域内に、複数有することを特徴とする請求項２に記載の光変調装置。    【請求項４】前記第１および第２の周期構造は、その近接間隔が１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光変調装置。    【請求項５】前記第１の周期構造は、前記光源からの光が入射する裏面側に対する表面側に前記周期を有し、前記第２の周期構造は前記第１の周期構造の表面側と向かい合う面側に前記周期を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光変調装置。    【請求項６】前記２つの周期構造を相対的に移動させる方向が、該２つの周期構造の周期の方向であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光変調装置。    【請求項７】前記２つの周期構造のいずれか一方を支持し、該２つの周期構造の互いに向かい合った間隔の方向に弾性変形可能な弾性体を有することを特徴とする請求項６記載の光変調装置。    【請求項８】前記２つの周期構造を相対的に移動させる方向が、該２つの周期構造の互いに向かい合った間隔の方向であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光変調装置。    【請求項９】請求項１〜８のいずれか１項に記載の光変調装置を用いて入射光に対する出射光の強度を切り替えるように構成したことを特徴とする光スイッチ。    【請求項１０】第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する光強度変調手段と、該透過光の強度を検出する手段と、該第１と第２の２つの周期構造の相対的移動量を検出する手段とを備え、これらによって光の強度変化を検出し、該検出した光の強度から前記相対的移動量を検出することによる移動量検出装置であって、  前記光強度変調手段が、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光変調装置によって構成されていることを特徴とする移動量検出装置。    【請求項１１】前記第１または第２の周期構造が、２次元の周期構造であることを特徴とする請求項１０に記載の移動量検出装置。    【請求項１２】前記第１の周期構造と第２の周期構造が、ランダムな周期構造を有することを特徴とする請求項１０に記載の移動量検出装置。    【請求項１３】前記第１の周期構造と第２の周期構造が、異なる周期であることを特徴とする請求項１０に記載の移動量検出装置。    【請求項１４】前記透過光の強度を検出する手段が、前記第２の周期構造における前記第１の周期構造の表面側と向かい合う面に対し、その裏面側から散乱される光の強度分布を検出する手段によって構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の移動量検出装置。    【請求項１５】請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の移動量検出装置を用いて微小な変位量が測定可能に構成されていることを特徴とする距離測定装置。    【請求項１６】第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する光強度変調手段と、該透過光の強度を検出する手段と、該第１と第２の２つの周期構造を相対的に移動させる移動手段と、該第１と第２の２つの周期構造の相対位置を検出する手段とを備え、これらによって光の強度変化を検出し、該検出した結果に基づいて前記移動手段を駆動して前記相対位置を合わせることによる位置合わせ装置であって、  前記光強度変調手段が、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光変調装置によって構成されていることを特徴とする位置合わせ装置。    【請求項１７】請求項１６に記載の位置合わせ装置を用いてマスク・ウェハ間のギャップ制御、またはアライメント等を行うように構成したことを特徴とする半導体露光装置。    【請求項１８】光源から出射される光の波長よりも小さい周期を有する第１および第２の２つの周期構造を、前記波長以下の間隔まで近接させて互いに向かい合わせた状態で配置し、該２つの周期構造を相対的に移動させ、該２つの周期構造の間を透過した前記光源からの透過光の強度を変調することを特徴とする光変調方法。    【請求項１９】第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する一方、該透過光の強度を検出し、該検出した光の強度から該２つの周期構造の相対的移動量を検出することによる移動量検出方法であって、  前記透過光の強度の変調に、請求項１８に記載の光変調方法を用いることを特徴とする移動量検出方法。    【請求項２０】第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する一方、該透過光の強度を検出し、該検出した結果に基づいて行われる該２つの周期構造の相対位置合わせによる位置合わせ方法であって、  前記透過光の強度の変調に、請求項１８または請求項１９に記載の光変調方法を用いることを特徴とする位置合わせ方法。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】    【課題を解決するための手段】  本発明は、上記課題を達成するために、つぎの（１）〜（２０）のように構成した光変調装置、該装置による光スイッチ、移動量検出装置及び該装置による距離測定装置、位置合わせ装置及び該装置による半導体露光装置、並びにこれらの方法を提供するものである。（１）光源から出射される光の波長よりも小さい周期を有する第１および第２の２つの周期構造と、該２つの周期構造を相対的に移動させる移動手段を有し、  該２つの周期構造を前記波長以下の間隔まで近接させて互いに向かい合わせた状態で配置し、前記移動手段によって該２つの周期構造を相対的に移動させ、該２つの周期構造の間を透過した前記光源からの透過光の強度を変調する構成を備えたことを特徴とする光変調装置。（２）前記第１および第２の周期構造は、前記光源から出射される光の波長の１／２以下の開口幅とピッチを有することを特徴とする上記（１）に記載の光変調装置。（３）前記第１および第２の周期構造は、前記開口幅とピッチの周期を前記光源から出射される光の波長よりも小さい領域内に、複数有することを特徴とする上記（２）に記載の光変調装置。（４）前記第１および第２の周期構造は、その近接間隔が１００ｎｍ以下であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の光変調装置。（５）前記第１の周期構造は、前記光源からの光が入射する裏面側に対する表面側に前記周期を有し、前記第２の周期構造は前記第１の周期構造の表面側と向かい合う面側に前記周期を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の光変調装置。（６）前記２つの周期構造を相対的に移動させる方向が、該２つの周期構造の周期の方向であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の光変調装置。（７）前記２つの周期構造のいずれか一方を支持し、該２つの周期構造の互いに向かい合った間隔の方向に弾性変形可能な弾性体を有することを特徴とする上記（６）に記載の光変調装置。（８）前記２つの周期構造を相対的に移動させる方向が、該２つの周期構造の互いに向かい合った間隔の方向であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の光変調装置。（９）上記（１）〜（８）のいずれかに記載の光変調装置を用いて入射光に対する出射光の強度を切り替えるように構成したことを特徴とする光スイッチ。（１０）第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する光強度変調手段と、該透過光の強度を検出する手段と、該第１と第２の２つの周期構造の相対的移動量を検出する手段とを備え、これらによって光の強度変化を検出し、該検出した光の強度から前記相対的移動量を検出することによる移動量検出装置であって、  前記光強度変調手段が、上記（１）〜（８）のいずれかに記載の光変調装置によって構成されていることを特徴とする移動量検出装置。（１１）前記第１または第２の周期構造が、２次元の周期構造であることを特徴とする上記（１０）に記載の移動量検出装置。（１２）前記第１の周期構造と第２の周期構造が、ランダムな周期構造を有することを特徴とする上記（１０）に記載の移動量検出装置。（１３）前記第１の周期構造と第２の周期構造が、異なる周期で��ることを特徴とする上記（１０）に記載の移動量検出装置。（１４）前記透過光の強度を検出する手段が、前記第２の周期構造における前記第１の周期構造の表面側と向かい合う面に対し、その裏面側から散乱される光の強度分布を検出する手段によって構成されていることを特徴とする上記（１３）に記載の移動量検出装置。（１５）上記（１０）〜（１４）のいずれかに記載の移動量検出装置を用いて微小な変位量が測定可能に構成されていることを特徴とする距離測定装置。（１６）第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する光強度変調手段と、該透過光の強度を検出する手段と、該第１と第２の２つの周期構造を相対的に移動させる移動手段と、該第１と第２の２つの周期構造の相対位置を検出する手段とを備え、これらによって光の強度変化を検出し、該検出した結果に基づいて前記移動手段を駆動して前記相対位置を合わせることによる位置合わせ装置であって、  前記光強度変調手段が、上記（１）〜（８）のいずれかに記載の光変調装置によって構成されていることを特徴とする位置合わせ装置。（１７）上記（１６）に記載の位置合わせ装置を用いてマスク・ウェハ間のギャップ制御、またはアライメント等を行うように構成したことを特徴とする半導体露光装置。（１８）光源から出射される光の波長よりも小さい周期を有する第１および第２の２つの周期構造を、前記波長以下の間隔まで近接させて互いに向かい合わせた状態で配置し、該２つの周期構造を相対的に移動させ、該２つの周期構造の間を透過した前記光源からの透過光の強度を変調することを特徴とする光変調方法。（１９）第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する一方、該透過光の強度を検出し、該検出した光の強度から該２つの周期構造の相対的移動量を検出することによる移動量検出方法であって、  前記透過光の強度の変調に、上記（１８）に記載の光変調方法を用いることを特徴とする移動量検出方法。（２０）第１と第２の２つの周期構造の間を透過した光源からの透過光の強度を変調する一方、該透過光の強度を検出し、該検出した結果に基づいて行われる該２つの周期構造の相対位置合わせによる位置合わせ方法であって、  前記透過光の強度の変調に、上記（１８）または（１９）に記載の光変調方法を用いることを特徴とする位置合わせ方法。