Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録媒体であって、
前記媒体には、論理的オーバーライトによる代替を使って前記媒体に記録された元来データをアップデートするための第１領域と、前記媒体に発生した欠陥データを代替するための第２領域とが設けられ、
前記媒体の元来ブロックに記録された元来データを論理的オーバーライトによる代替を使ってアップデートするためにアップデートデータが前記第１領域中のアップデートブロックに記録されている途中に欠陥が検出された場合に、前記アップデートデータを代替するための代替データが欠陥による代替を使って前記第２領域中の代替ブロックに記録され、
代替状態を表す欠陥リストエントリが、前記元来ブロックの位置情報と前記代替ブロックの位置情報とを含むことを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
前記代替ブロックは、記録または再生単位ブロックであり、
前記記録または再生単位ブロックは、ユーザデータのためのユーザデータ部分と前記アップデートブロックの位置情報のための付加情報部分とを含むことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項３】
前記付加情報部分は、前記ユーザデータ部分よりエラー訂正能力に優れるように記録されることを特徴とする請求項２に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
前記元来ブロックの位置情報と前記代替ブロックの位置情報とは、前記媒体の物理的空間のアドレスによって表現されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項５】
前記第１領域は、ユーザデータ領域であり、前記第２領域は、スペア領域であることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項６】
記録／再生装置であって、
情報記録媒体にデータを書き込み、情報記録媒体からデータを読み取る書き込み／読み取り部と、
前記書き込み／読み取り部を制御する制御部とを備えており、前記制御部は：
論理的オーバーライトによる代替を使って前記媒体の元来ブロックに記録された元来データをアップデートするために前記媒体の第１領域中のアップデートブロックにアップデートデータを記録し、
前記媒体の前記元来ブロックに記録された前記元来データを論理的オーバーライトによる代替を使ってアップデートするために前記アップデートデータが前記第１領域中の前記アップデートブロックに記録されている途中に欠陥が検出された場合に、前記アップデートデータを代替するための代替データを前記媒体の第２領域中の代替ブロックに欠陥による代替を使って記録するように前記書き込み／読み取り部を制御し、
前記制御部はさらに、代替状態を表すために、前記元来ブロックの位置情報と前記代替ブロックの位置情報とを含む欠陥リストエントリを生成し、前記代替ブロック内に前記アップデートデータの位置情報を配置することを特徴とする記録／再生装置。
【請求項７】
前記代替ブロックは、記録または再生単位ブロックであり、
前記記録または再生単位ブロックは、ユーザデータのためのユーザデータ部分と前記アップデートブロックの位置情報のための付加情報部分を含むことを特徴とする請求項６に記載の記録／再生装置。
【請求項８】
前記制御部は、
前記付加情報部分が前記ユーザデータ部分よりエラー訂正能力に優れるように前記付加情報部分を記録するように前記書き込み／読み取り部を制御することを特徴とする請求項７に記載の記録／再生装置。
【請求項９】
前記元来ブロックの位置情報と前記代替ブロックの位置情報とは、前記媒体の物理的空間上のアドレスによって表現されることを特徴とする請求項６に記載の記録／再生装置。
【請求項１０】
前記第１領域は、ユーザデータ領域であり、前記第２領域は、スペア領域であることを特徴とする請求項６に記載の記録／再生装置。
【請求項１１】
記録／再生方法であって、
情報記録媒体の元来ブロックに記録された元来データをアップデートするために論理的オーバーライトによる代替を使って前記情報記録媒体の第１領域中のアップデートブロックにアップデートデータを記録するステップと、
前記第１領域中の前記アップデートブロックに前記アップデートデータが記録されている途中に欠陥が検出された場合に、欠陥による代替を使って第２領域中の代替ブロックに前記アップデートデータを代替する代替データを記録するステップと、
代替状態を表すために、前記元来ブロックの位置情報と前記代替ブロックの位置情報とを含む欠陥リストエントリを生成するステップとを含むことを特徴とする記録／再生方法。
【請求項１２】
前記代替ブロックは、記録または再生単位ブロックであり、
前記記録または再生単位ブロックは、ユーザデータのためのユーザデータ部分と前記アップデートブロックの位置情報のための付加情報部分とを含むことを特徴とする請求項１１に記載の記録／再生方法。
【請求項１３】
前記付加情報部分が前記ユーザデータ部分よりエラー訂正能力に優れることを特徴とする請求項１２に記載の記録／再生方法。
【請求項１４】
前記元来ブロックの位置情報と前記代替ブロックの位置情報とは、前記媒体の物理的空間のアドレスによって表現されることを特徴とする請求項１１に記載の記録／再生方法。
【請求項１５】
データ再生装置であって、
情報記録媒体からデータを読み取る読み取り部と、
再生しようとするデータに関する欠陥リストエントリに含まれた代替位置情報に基づいて、代替位置に記録された代替ブロックを読み取るように前記読み取り部を制御し、
前記読み取られた代替ブロックのエラー訂正が失敗した場合に、前記代替ブロックに含まれた付加情報部分から以前の代替ブロックの位置を取得し、前記以前の代替ブロックの位置に記録された代替ブロックを読み取るように前記読み取り部を制御して、前記読み取られた代替ブロックを再生する制御部とを備えることを特徴とするデータ再生装置。
【請求項１６】
データ再生方法であって、
再生しようとするデータに関する欠陥リストエントリに含まれる代替位置情報に基づいて、代替位置に記録された代替ブロックを読み取るステップと、
前記読み取られた代替ブロックのエラー訂正が失敗した場合に、前記代替ブロックに含まれる付加情報部分から以前の代替ブロックの位置を取得するステップと、
前記以前の代替ブロックの位置に記録された代替ブロックを読み取って前記読み取られた代替ブロックを再生するステップとを含むことを特徴とするデータ再生方法。
【請求項１７】
前記代替データが前記アップデートブロックの位置情報を含むことを特徴とする、請求項１記載の情報記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月9日(2008.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a)  ミクロ構造化表面を有する第1領域と、ミクロ構造化表面を有しない第2領域とを有する基板、ここで、該第1領域及び該第2領域は相対的に異なって濡れやすい；及び
b)  該基板の該相対的により濡れやすい領域を優先的に濡らす塗膜由来の、該基板上に形成されたパターン化層、
を含んで成る物品。
【請求項２】
該パターン化層が、該基板表面上に堆積された導電性ポリマー・パターンを含む請求項1に記載の物品。
【請求項３】
該基板が軟質である請求項1に記載の物品。
【請求項４】
a)  ミクロ構造化表面を有する第1領域と、ミクロ構造化表面を有しない第2領域とを有する基板であって、該第1領域及び該第2領域が相対的に異なって濡れやすい基板を用意する工程；
b)  該基板の該相対的により濡れやすい領域を優先的に濡らす塗膜材料を用いて該基板を塗布して、該基板上にパターン化層を形成する工程
を含んで成るパターン化塗膜の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月7日(2008.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１０）と、
前記基板内のコレクタ（１２）と、
前記コレクタの上にある内部ベース（１４）と、
前記内部ベースに隣接した外部ベースと、
前記内部ベースの上にあるエミッタ（１３０）と
を備え、
前記外部ベースは、断面で見たときに、前記内部ベースと隣接した外部ベース注入領域（８２、１７２、１９２）を含む、バイポーラ・トランジスタ。
【請求項２】
前記内部ベース（１４）の上部は、該内部ベースの真上にある前記エミッタ（１３０）の下部と同じ幅を有する、請求項１に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項３】
前記外部ベース注入領域（８２、１７２、１９２）は、前記内部ベースの真上にある前記エミッタの下部の下方には延びない、請求項１に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項４】
前記外部ベース注入領域は、前記エミッタの側部と整合される、請求項１に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項５】
前記外部ベース注入領域は、前記基板内に異なる深さで延びる前記外部ベースの長さを含み、
前記内部ベースから離れる程、連続的な前記外部ベースの長さの各々が前記基板内により深く延びる、請求項１に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項６】
前記内部ベースの真上にある前記エミッタの下部に隣接した分離領域（９０）をさらに備え、前記外部ベース注入領域の長さは、前記分離領域のサイズとは無関係である、請求項４に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項７】
前記エミッタ（１３０）は、下部と、前記下部より幅広い上部とを含み、
前記エミッタの側部は、該エミッタの前記下部の側部を含む、
請求項１に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項８】
前記外部ベース及び前記エミッタの上にあるシリサイド領域（２２０）をさらに備え、
前記シリサイド領域、前記外部ベース及び前記エミッタが、全て互いに自己整合される、請求項１に記載のバイポーラ・トランジスタ。
【請求項９】
バイポーラ・トランジスタ構造体を形成する方法であって、
基板（１０）内にコレクタ（１２）を形成するステップと、
前記コレクタの上に内部ベース（１４）を形成するステップと、
前記内部ベースの上の前記基板上に、エミッタ・ペデスタル（５０）をパターン形成するステップと、
前記エミッタ・ペデスタルによって保護されていない前記基板の領域内に、外部ベース注入領域（８０、１７０、１９０）を形成するステップと、
前記エミッタ・ペデスタルを除去するステップと、
前記エミッタ・ペデスタルが配置されたエミッタ（１３０）を形成するステップと
を含む方法。
【請求項１０】
前記エミッタ・ペデスタルを除去するステップの前に、該エミッタ・ペデスタルに隣接した分離層（９０）を形成するステップをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記エミッタ・ペデスタルを除去する前記ステップは、アライメント層内にエミッタ開口部を残すことを含み、前記エミッタを形成する前記ステップは、前記アライメント層の前記エミッタ開口部内に前記エミッタを形成することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記外部ベース注入領域を形成する前記ステップは、
前記エミッタ・ペデスタルによって保護されていない前記基板の領域（８２）内に、第１の不純物注入（８０）を行うステップと、
前記エミッタ・ペデスタル上に第１の側壁スペーサ（４５０）を形成するステップと、
前記エミッタ・ペデスタル及び前記第１の側壁スペーサによって保護されていない前記基板の領域（１７２）内に、第２の不純物注入（１７０）を行うステップと、
前記第１の側壁スペーサを除去するステップと、
前記エミッタ・ペデスタル上に第２の側壁スペーサ（４６０）を形成するステップであって、前記第２の側壁スペーサは、前記第１の側壁スペーサより、該エミッタ・ペデスタルからより遠くに延びる、ステップと、
前記エミッタ・ペデスタル及び前記第２の側壁スペーサによって保護されていない前記基板の領域（１９２）内に、第３の不純物注入（１９０）を行うステップと
を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２の側壁スペーサを除去するステップと、
前記エミッタを形成した後、該エミッタにすぐ隣接した分離領域（４８０）を形成するステップと
をさらに含み、
前記第１の側壁スペーサ及び前記第２の側壁スペーサの厚さ、並びに関連した前記外部ベース注入領域の厚さは、前記分離領域の厚さとは無関係である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記基板上に前記エミッタ・ペデスタルをパターン形成するステップの前に、前記基板の上にエッチング停止層（２０）を形成するステップをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記エッチング停止層の厚さは、前記外部ベース注入領域を形成する前記工程に必要とされるエネルギーを低減させるように制御される、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月20日(2008.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検索クエリに応答して検索結果を提供するための方法であり、コンピュータで実現されるステップであって、
検索クエリの形成に先立って関心のある用語のリストを維持するステップと、
検索クエリに基づいて、検索クエリに関連するリソースを識別するステップと、
識別されたリソースから抜粋を抽出するステップと、
抜粋の事項を関心のある用語のリストの事項と比較することにより、抜粋で関心のある用語を識別するステップと、
選択されると、ブラウザに推薦文書を取出させる、関心のある用語に対するリンクを抜粋に加えることによって改訂された抜粋を作成するステップと、
改訂された抜粋を前記検索クエリの検索結果の一部分として提供するステップとを含む、方法。
【請求項２】
検索クエリは少なくとも１つのクエリ用語を含み、抜粋で関心のある用語を識別するステップは、抜粋で検索クエリからクエリ用語を識別するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
推薦文書は識別されたリソースではない文書である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
推薦文書はキャッシュされたバージョンの識別されたリソースである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
キャッシュされたバージョンの識別されたリソースにアンカーを挿入するステップをさらに含み、
リンクはキャッシュされたバージョンの識別されたリソースでアンカーに関連付けられる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
キャッシュされたバージョンの識別されたリソースにアンカーを挿入するステップは、キャッシュされたバージョンの識別されたリソースの関心のある用語に近い場所でアンカーを挿入するステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
検索結果は、関心のある用語を目立つ態様でブラウザ上で表示するように構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
目立つ態様は、関心のある用語に下線を付けること、関心のある用語に二重下線を付けること、関心のある用語をハイライト表示すること、関心のある用語のフォントを変更すること、および関心のある用語の色を変更すること、のうちの少なくとも１つである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
文書集合を検索するための方法であり、コンピュータで実現されるステップであって、
第１の検索クエリをクライアントから受取るステップを含み、第１の検索クエリは第１の検索基準を特定し、
第１の検索クエリに対するマッチングリソースを識別するために文書集合の第１の検索を行なうステップと、
マッチングリソースから抜粋を抽出するステップと、
抜粋で関心のある用語を識別するステップと、
抜粋を含む検索結果をクライアントに提供するステップと、
抜粋で関心のある用語に関連付けられた標識の選択を受取ると、第２の検索集合のいずれの事項が第２の検索基準を満たすかを決定するために第２の検索集合から自動的に第２の検索を行なうステップと、
第２の検索の検索結果をクライアントに提供するステップとを含み、第１の検索基準は第２の検索基準とは異なる、方法。
【請求項１０】
自動的に第２の検索を行なうステップは、関心のある用語をクエリ用語として使用して文書集合の検索を自動的に行なうステップを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
関心のある用語は第１の検索クエリのクエリ用語ではない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
第２の検索は、地図検索、辞書検索、および企業ウェブサイトの検索のうちの少なくとも１つをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
第２の検索の検索結果は、ある場所への道案内、地図、言葉の定義、および関心のある用語に関連する文書のうちの少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
関心のある用語は、キーワード、カテゴリ、名前、商標、サービスマーク、タイトル、住所、および電話番号のうちの少なくとも１つを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
文書集合はインターネットである、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
ネットワーク通話を自動的に行なうための方法であり、コンピュータで実現されるステップであって、
検索クエリの形成に先立って関心のある用語のリストを維持するステップと
検索クエリに基づいて検索クエリに関連するリソースを識別するステップと、
識別されたリソースから抜粋を抽出するステップと、
抜粋の事項を関心のある用語のリストの事項と比較することにより、抜粋で関心のある用語を識別するステップと、
クライアントからの検索クエリに関連するリソースを識別するために第１の検索を行なうステップと、
識別されたリソースから抜粋を抽出するステップと、
抜粋で電話番号を識別するステップと、
電話番号をリンクに関連付けるステップと、
抜粋を前記検索クエリに対する検索結果の一部分としてクライアントに提供するステップと、
クライアントから電話番号のリンクの選択を受取ると、その電話番号へのネットワーク通話を自動的に行なうステップとを含む、方法。
【請求項１７】
ネットワーク通話はボイスオーバーＩＰ通話である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
１つまたは複数のプロセッサによって実行されると、１つまたは複数のプロセッサに請求項１から１７のいずれかに記載の方法を実行させる、１つまたは複数の命令のシーケンスを記憶する機械読取可能な記憶媒体。
【請求項１９】
関心のある用語のリストはさらに名前のリストを含み、
関心のある用語を識別するステップは、抜粋が前記名前のリストのいずれかの名前を含むか否か決定するために名前のリストを抜粋と比較するステップを含み、
含む場合、含まれる名前に基づいて２次検索を行なうためにユーザにリンクを提供するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
関心のある用語のリストはさらにカテゴリのリストを含み、
関心のある用語を識別するステップは、抜粋が前記カテゴリのリストのいずれかのカテゴリを含むか否か決定するためにカテゴリのリストを抜粋と比較するステップを含み、
含む場合、含まれるカテゴリに基づいて２次検索を行なうためにユーザにリンクを提供するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
関心のある用語のリストはさらにタイトルのリストを含み、
関心のある用語を識別するステップは、抜粋が前記タイトルのリストのいずれかのタイトルを含むか否か決定するためにタイトルのリストを抜粋と比較するステップを含み、
含む場合、含まれるタイトルに基づいて２次検索を行なうためにユーザにリンクを提供するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
関心のある用語のリストはさらに番地のリストを含み、
関心のある用語を識別するステップは、抜粋が前記番地のリストのいずれかの番地を含むか否か決定するために番地のリストを抜粋と比較するステップを含み、
含む場合、含まれる番地に基づいて２次検索を行なうためにユーザにリンクを提供するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
第２の検索は地図検索である、請求項９に記載の方法。
【請求項２４】
第２の検索は定義検索である、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月1日(2008.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両減速度をその所定の閾値と比較するステップ（２）と、
前記車両減速度の大きさが前記閾値より大きくなった場合に危険減速度を認識するステップと、
前記危険減速度を認識した場合に、前輪ブレーキ圧の特殊制御モードに移行するステップ（３）と
から成ることを特徴とする、アンチロックブレーキシステム（ＡＢＳ）を備えた自動二輪車の転倒防止方法。
【請求項２】
前記特殊制御モード中（３）に後輪における路面からの負荷の減少を検出すると、特殊制御として、前輪における、ブレーキ圧の増圧勾配の低減、ブレーキ圧保持、又はブレーキ圧の減圧段階への移行を行うことを特徴とする請求項１記載の転倒防止方法。
【請求項３】
前記特殊制御を、前輪のＡＢＳ制御による減圧時ではなく安定して回転している時に実行することを特徴とする請求項２記載の転倒防止方法。
【請求項４】
後輪における路面からの負荷の減少を、
−後輪におけるブレーキ圧変化、
−後輪の車輪スリップモデル、
−前輪におけるブレーキ圧変化、
−前輪の車輪スリップモデル、
の少なくとも何れかにより検出することを特徴とする請求項２又は３記載の転倒防止方法。
【請求項５】
後輪における路面からの負荷の減少を、少なくとも後輪におけるブレーキ圧減圧段階を検出することにより検出することを特徴とする請求項２〜４の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項６】
前輪ブレーキ圧の減圧を、後輪ブレーキ圧の減圧に応じて行うことを特徴とする請求項２〜５の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項７】
後輪ブレーキにおけるブレーキ圧の減圧量の一部を前輪ブレーキにおけるブレーキ圧の減圧量に設定するか、又は前輪ブレーキにおけるブレーキ圧の減圧量を、後輪ブレーキにおけるブレーキ圧の減圧量に対して所定の差となるよう設定することを特徴とする請求項６記載の転倒防止方法。
【請求項８】
前輪ブレーキにおけるブレーキ圧を所定値減圧することを特徴とする請求項２〜５の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項９】
前輪ブレーキ圧の減圧を、車両減速度の前記危険減速度に対する超過量に応じて行うことを特徴とする請求項２〜８の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項１０】
後輪における路面からの負荷の減少が３Ｈｚより大きく連続して検出される際には、前輪における前記特殊制御を行わないことを特徴とする請求項２〜５の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項１１】
前記特殊制御モードにおける車両基準速度勾配、車両減速度に応じた車輪回転加速度閾値及び／又は前輪ブレーキ圧の減圧量を制限することを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項１２】
前記特殊制御モードにおける前輪ブレーキ圧の増圧量を制限することを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の転倒防止方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れかに記載の転倒防止方法で構成されたアルゴリズムを実行することを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体噴射装置であって、
基板を含み、当該基板は、それぞれ複数のノズルを有する第１のノズルアレイと第２のノズルアレイとを備え、前記第１のノズルアレイおよび前記第２のノズルアレイは第１の方向に沿って配置され、前記第１のノズルアレイは前記第２のノズルアレイから第２の方向に間隔を空けて配置され、前記流体噴射装置はさらに、
前記第１のノズルアレイと流体が流れるように接続された第１の流体配送路と、
前記第２のノズルアレイと流体が流れるように接続された連通した第２の流体配送路と、
を含み、
前記第１のノズルアレイのノズルは第１の開口面積を有し、前記第１のノズルアレイ沿いにピッチＰで配置され、前記第２のノズルアレイのノズルは、前記第１の開口面積より狭い第２の開口面積を有し、前記第２のアレイの少なくとも１つのノズルは前記第１のアレイの少なくとも１つのノズルから前記第１の方向にピッチＰより短い距離だけずれている流体噴射装置。
【請求項２】
請求項１に記載の流体噴射装置において、前記第２のノズルアレイのノズルは、前記第１のノズルアレイのピッチＰと同じピッチで前記第２のノズルアレイ沿いに配置される、装置。
【請求項３】
プリントヘッドであって、
支持部材上に配置される複数の流体噴射装置を含み、前記各流体噴射装置は、
基板を含み、当該基板は、それぞれ複数のノズルを有する第１のノズルアレイと第２のノズルアレイとを備え、前記第１のノズルアレイおよび前記第２のノズルアレイは第１の方向に沿って配置され、前記第１のノズルアレイは前記第２のノズルアレイから第２の方向に間隔を空けて配置され、前記流体噴射装置はさらに、
前記第１のノズルアレイと流体が流れるように接続された第１の流体配送路と、
前記第２のノズルアレイと流体が流れるように接続された第２の流体配送路と、
を含み、
前記第１のノズルアレイのノズルは第１の開口面積を有し、前記第１のノズルアレイ沿いにピッチＰで配置され、前記第２のノズルアレイのノズルは、前記第１の開口面積より狭い第２の開口面積を有し、前記第２のアレイの少なくとも１つのノズルは前記第１のアレイの少なくとも１つのノズルから前記第１の方向にピッチＰより短い距離だけずれており、前記流体噴射装置はさらに、
前記各流体噴射装置の前記第１の流体配送路および前記第２の流体配送路と流体が連通するように接続された流体源と、
前記第１のノズルアレイの複数のノズルの各々と前記第２のノズルアレイの複数のノズルの各々とに、動作時に関連付けられる液滴形成メカニズムとを含む、プリントヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月24日(2008.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１）と該基板（１）上に配置されたセキュリティドキュメントの真正性検証のための偽造防止マーク（５）とを備えたセキュリティドキュメントであって、前記偽造防止マーク（５）が、光を放射する光源（１４，４２，１１４）と、該光源（１４，４２，１１４）からの光を屈折、反射、偏光、及び／又は部分的に吸収する光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）とを有している形式のセキュリティドキュメントにおいて
前記光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）が透光性体積ホログラム（１８）と反射性体積ホログラムとを有していることを特徴とするセキュリティドキュメント。
【請求項２】
前記光源（１４，４２，１１４）は電流により発光を励起することができる、請求項１記載のセキュリティドキュメント。
【請求項３】
前記光源（１４，４２，１１４）は電界発光材料、特に、電界発光インクを有している、請求項２記載のセキュリティドキュメント。
【請求項４】
前記光源（１４，４２，１１４）は少なくとも１つの有機又は無機発光ダイオードを有している、請求項１から３のいずれか１項記載の装置。
【請求項５】
前記光源（１４，４２，１１４）は赤外光、可視光、又は紫外光の照射により発光を励起することができる、請求項１から４のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項６】
前記光源（１４，４２，１１４）は蛍光性材料、燐光性材料、又は非線形光学材料を有している、請求項１から５のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項７】
前記光源（１４，４２，１１４）は単色である、請求項１から６のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項８】
前記光源（１４，４２，11）は多色である、請求項１から６のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項９】
前記光源（１４，４２，１１４）内に電流を発生させるための手段（１２，１１，２４）を有している、請求項１から８のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１０】
誘導的に電流を発生させる少なくとも１つのコイル（１２）を有している、請求項９記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１１】
容量的に電流を発生させる少なくとも１つの電極（１２，１１，２４）を有している、請求項９又は１０記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１２】
前記光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）はウェーブガイド（３６）を有しており、特に、該ウェーブガイドに、光を側方に入力及び／又は出力結合するための散光性構造、特に格子構造（３８，４０）が配置されている、請求項１から１１のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１３】
前記光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）は前記光源（１４，４２，１１４）の光の波長よりも実質的に大きな特有のサイズを有する表面構造（４６）を有しており、特に、該表面構造（４６）は１つ又は複数のレンズ、及び／又は、１つ又は複数のフレネルレンズを形成している、請求項１から１２のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１４】
前記光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）は、前記光源（１４，４２，１１４）からの光を場所に応じて異なって減光するマスク（１，４８）を有している、請求項１から１３のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１５】
前記マスクは前記光源（１４，４２，１１４）からの光が通過することのできる複数の透光孔（４８）を有しており、前記マスクは他の箇所では光を部分的に又は完全に減光する、請求項１４記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１６】
前記マスクは前記光源（１４，４２，１１４）からの光が通過することのできる少なくとも１つの透光性の開口部を有しており、該開口部はすべての側を非透光性材料で囲まれている、請求項１４又は１５記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１７】
前記開口部がテキストを表している、請求項１４から１６のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１８】
前記光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）は少なくとも部分的に前記基板（１）から形成されている、請求項１から１７のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項１９】
前記マスクは前記基板（１）から形成されており、特に、前記基板（１）内で前記光源（１４，４２，１１４）の領域には穿孔（４８）が設けられている、請求項１４、１５、及び１８のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項２０】
前記光処理装置（１８，３０，４０，４６，４８）は光を偏光させる偏光器を有している、請求項１から１９のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項２１】
前記基板（１）は軟性であり、特に、前記基板（１）は紙製である、請求項１から２０のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項２２】
銀行券としての形態をとった、請求項１から２１のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項２３】
前記セキュリティドキュメントは印刷技術により前記基板（１）上に取り付けられている、請求項１から２２のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【請求項２４】
前記セキュリティドキュメントは印刷技術により支持体上に取り付けられており、該支持体は前記基板（１）上に固定されている、請求項１から２３のいずれか１項記載のセキュリティドキュメント。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも三つの横方向に向いた面（１６，１８，２０）を有する回転可能なタレット（１２）と、前記タレットの前記各面でモールドコアホルダー（２２，２４，２６）によって取り付けられた複数のモールドコア（４２）と、を含み、
前記タレットは、前記タレットの回転軸線周りに互いから角度的に間隔を隔てられた、少なくとも射出位置（４４）、ブロー位置（４６）及び取出位置（４８）の間で回転できる射出ブロー成形装置において、
前記モールドコアホルダーは、前記タレットの横方向に向いた面のトラック（５０）と、前記射出位置で前記トラックに重なる位置と、前記ブロー位置及び前記取出位置で前記トラックの前記端から延びる位置との間での移動のために、前記各トラックの端に枢動可能に取り付けられた少なくとも一つのウィング（５２，５４）と、を含み、前記モールドコア（４２）は、前記トラック上に移動可能に取り付けられ、前記モールドコア間の間隔を、前記モールド位置での第一間隔から、前記ブロー位置及び前記取出位置での、前記第一間隔より大きい第二間隔に増大させるように、前記ウィング上で移動できる、
請求項１に記載の装置。
【請求項２】
前記トラック（５０）及び前記ウィング（５２，５４）は、前記トラック及びウィング上の前記モールドコアの前記第二間隔で関連したモールドコアと整合する流体通路（１５４）を有し、前記装置は、前記ブロー位置で前記流体通路と整合するノズル（１５０）を有する流体マニホールド（１４８）を更に含む、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記モールドコア（４２）は、前記第一間隔及び前記第二間隔で隣接したモールドコア間の距離を決定するリンク機構（１００）と、前記モールドコアを前記第一間隔と前記第二間隔の間で移動させるための駆動装置（１０６，１０８）によって相互連結されている、
請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記駆動装置（１０６，１０８）は、流体シリンダからなる、
請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記モールドコア（４２）は、線状列に配置され、前記駆動装置は、前記線状列の一端で第一のモールドコアに連結された第一流体シリンダ（１０６）と、前記線状列の反対側の端で第二のモールドコアに連結された第二流体シリンダ（１０８）と、を含む、
請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記ウィングを、前記射出位置で関連したトラックに重なる前記位置と、前記ブロー位置及び前記取出位置で、前記トラックの端から延びる前記位置との間で移動させるための動力源（７０または７２）がある、
請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記動力源は、前記ウィングの一方を移動させる第一のアクチュエータ（７０）と、前記ウィングの他方を移動させる第二のアクチュエータ（７２）と、からなる、
請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記射出位置で前記トラックに重なる位置と、前記ブロー位置及び前記取出位置で前記トラックの直線連続をなして関連したトラックの前記端から延びる位置との間で移動するように、前記各トラックの各端に枢動可能に取り付けられたウィング（５２，５４）があり、前記モールドコア（４２）は、線状列の前記トラック上に移動可能に取り付けられ、前記ウィングが前記モールドコア間の間隔を増大するように、前記トラックの前記端から延びる位置にあるとき、前記ウィング上で移動でき、前記各コアホルダーのモールドコアを相互連結し、且つ前記第一間隔及び前記第二間隔で隣接したモールドコア間の距離を決定するリンク機構（１００）がある、
請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記各コアホルダーの前記ウィング（５２，５４）を、関連したトラック（５０）に重なる位置と、関連したトラックの直線連続をなして延びる位置との間で移動させるためのアクチュエータ（７０，７２）が設けられる、
請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記モールドコアを、前記第一間隔と前記第二間隔の間で移動させるための駆動装置があり、前記駆動装置は、線状列の一端で第一のモールドコアに連結された第一シリンダ（１０６）と、前記線状列の反対端で第二のモールドコアに連結された第二シリンダ（１０８）と、を含む、
請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記各コアホルダーを、前記射出位置で関連したタレット面に隣接した位置に、又前記ブロー位置及び前記取出位置で関連するタレット面からより間隔を隔てた位置に移動させるための動力源がある、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記各トラック（５０）及び関連したウィング（５２，５４）は、前記トラック及びウィング上で前記モールドコアの前記第二間隔で関連したモールドコアと整合するための流体通路（１５４）を有し、前記装置は、前記ブロー位置で前記流体通路と整合するためのノズル（１５０）を有する流体マニホールド（１４８）を更に含む、
請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
モールドコアを、モールドコアの間の第一間隔に維持しながら、複数のモールドコア（４２）にプリフォームを成形するステップと、プリフォームを有するモールドコアを、第二の増大した間隔に押し広げるステップと、モールドコアを前記第二の増大した間隔に維持しながら、前記モールドコア上のプリフォームからプラスチック物品をブロー成形するステップと、を含む、ブロー成形によってプラスチック物品を成形する方法において、
前記モールドコア（４２）は、トラック（６０）及び前記トラックの各端に枢着されたウィング（５２，５４）を有するモールドコアホルダー（２２，２４，または２６）で移動可能に支持され、ウィングをトラックに重なる位置に枢動させ、モールドコア上のプリフォームの成形中、前記トラック上のモールドコアを前記第一間隔で支持し、その後ウィングをトラックの端から延びる位置に枢動させ、プラスチック物品のブロー成形中、前記トラック及び前記ウィング上のモールドコアを前記第二間隔で支持する、
ことを特徴とするプラスチック物品を成形する方法。
【請求項１４】
前記コアホルダー（２２，２４，または２６）を、回転可能なタレット（１２）に取り付け、モールドコア上のプリフォームを成形するために、前記コアホルダーを射出位置（４４）に向けるように前記タレットを回転させ、その後プラスチック物品をブロー成形するために、前記コアホルダーをブロー位置（４６）に向けるように前記タレットを回転させる、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記コアホルダー（２２，２４，または２６）を、射出位置でのモールドコア上のプリフォームの成形中、前記タレット（１２）に近い第一の位置に保持するステップと、前記コアホルダーを、前記ブロー位置で物品をブロー成形中、前記第一の位置の半径方向外方の第二の位置に移動させるステップと、を更に含む、
請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月1日(2008.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線誘起熱転写画像形成プロセスにおけるドナー支持体として適した複合フィルムであって、前記フィルムが、高分子基板と、１種または複数の水溶性もしくは水分散性の放射線吸収化合物を含む水性組成物から得られた転写補助コーティング層とを含むことを特徴とする複合フィルム。
【請求項２】
前記転写補助コーティング層は１種または複数の水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の複合フィルム。
【請求項３】
前記転写補助コーティング層はインラインでコーティングされた層であることを特徴とする、請求項１または２に記載の複合フィルム。
【請求項４】
前記転写補助コーティング層は一軸または二軸延伸されていることを特徴とする、請求項１、２または３に記載の複合フィルム。
【請求項５】
１種または複数の湿潤剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項６】
湿潤剤は前記転写補助コーティング層に存在することを特徴とする、請求項５に記載の複合フィルム。
【請求項７】
前記水性組成物は、前記湿潤剤の固形分を約０．０５から約７０重量％含むことを特徴とする、請求項６に記載の複合フィルム。
【請求項８】
前記水性組成物は、前記水溶性もしくは水分散性の放射線吸収化合物の固形分を約５から約８５重量％含むことを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項９】
前記水溶性もしくは水分散性の放射線吸収化合物はシアニン類から選択されることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１０】
前記水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーはポリエステルおよびアクリル樹脂から選択されることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１１】
前記水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーはニトロセルロースであることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１２】
前記水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーはポリメチルメタクリレートであることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１３】
前記水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーはポリアルキレンカーボネートであることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１４】
前記水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーはスチレン−無水マレイン酸コポリマーであることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１５】
前記水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーはポリビニルブチラール樹脂であることを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１６】
前記転写補助コーティング層は、ＰＶＯＨ；ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）；ポリサッカライド樹脂；ポリ（エチレンオキシド）；ゼラチン；およびヒドロキシエチルセルロースを含むことを特徴とする、請求項２から９のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１７】
前記高分子基板はポリエステル基板であることを特徴とする、請求項１から１６のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１８】
前記高分子基板は一軸または二軸延伸されていることを特徴とする、請求項１から１７のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項１９】
１種または複数の光減衰剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１から１８のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項２０】
前記光減衰剤は前記基板に存在することを特徴とする、請求項１９に記載の複合フィルム。
【請求項２１】
前記光減衰剤は青色フタロシアニン顔料または緑色アントラキノン顔料であることを特徴とする、請求項１９または２０に記載の複合フィルム。
【請求項２２】
前記基板は約１２から約３００μｍの厚みを有することを特徴とする、請求項１から２１のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項２３】
前記転写補助コーティング層は約０．０１から約１μｍの厚みを有することを特徴とする、請求項１から２２のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項２４】
帯電防止層をさらに含み、前記転写補助コーティング層は前記高分子基板の第１面上に配置され、帯電防止層は前記高分子基板の第２面上に配置されていることを特徴とする、請求項１から２３のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項２５】
１種または複数の水溶性もしくは水分散性の放射線吸収化合物と、任意選択で１種または複数の水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーと、任意選択で１種または複数の湿潤剤とを含むことを特徴とする水性転写補助コーティング組成物。
【請求項２６】
放射線誘起熱転写画像形成プロセスにおけるドナー支持体としての使用に適した複合フィルムの製造方法であって、前記複合フィルムは、高分子基板と転写補助コーティング層とを含み、前記転写補助コーティング層は１種または複数の水溶性もしくは水分散性の放射線吸収化合物を含み、前記方法は、
（ａ）高分子材料の基板層を溶融押出するステップと、
（ｂ）前記基板層を第１の方向に延伸するステップと、
（ｃ）任意選択で、前記基板層を第２の直交する方向に延伸するステップと、
（ｄ）前記基板の表面に、前記水溶性もしくは水分散性の放射線吸収化合物を含む水性組成物を塗布することによって転写補助コーティング層を形成するステップと、
（ｅ）任意選択で、前記延伸フィルムをヒートセットするステップと、
（ｆ）任意選択で、前記フィルムを巻取ってリールを形成するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２７】
前記水性組成物は１種または複数の水溶性もしくは水分散性の高分子バインダーを含むことを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記転写補助コーティング層はインラインコーティング技術でコーティングされていることを特徴とする、請求項２６または２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記複合フィルムは、任意選択で前記転写補助コーティング層に配分された１種または複数の湿潤剤をさらに含むことを特徴とする、請求項２６、２７または２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記転写補助コーティング層が、前記高分子基板の第１面上に配置され、ポリ（メチルメタクリレート）を粒子の形態で含むコーティングが高分子基板の第２面上に配置されることを特徴とする請求項１から２４のいずれかに記載の複合フィルム。
【請求項３１】
前記ポリ（メチルメタクリレート）が約０．１から約０．３μｍ範囲の直径を有する粒子の形態であることを特徴とする請求項３０に記載の複合フィルム。
【請求項３２】
前記転写補助コーティング層が、前記高分子基板の第１面上に配置され、前記方法がポリ（メチルメタクリレート）を粒子の形態で含むコーティングを高分子基板の第２面上に配置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項２６から２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
前記ポリ（メチルメタクリレート）が約０．１から約０．３μｍ範囲の直径を有する粒子の形態であることを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月28日(2008.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内燃機関（１２）と、選択的にモータモード又は発電機モードにおいて作動させることができ、モータモードでは電気機械（１４）は自動車を駆動し、発電機モードでは、電気機械（１４）は、エネルギー貯蔵装置（２４）をチャージする及び／又は車両電気系統（２６）に電力供給する少なくとも一つの電気機械（１４）とを含む、ハイブリッド駆動ユニット（１０）を備えた自動車の動作を制御する方法であって、所定の限界条件が満足されるかどうかに依存して、発電モードでは、電気機械（１４）は、交互モード又は連続モードで作動し、交互モードでは電気機械（１４）は第一及び第二のインターバルが交互に起こるような仕方で作動し、
（ａ）第一のインターバルでは、車両電気系統（２６）の実電力消費よりも大きい第一の高い電力出力で作動し、
（ｂ）第二のインターバルでは、スイッチオフされる、
ことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
以下の限界条件
−内燃機関（１２）の実トルクと内燃機関の最大トルクとの間の最小限の隔離範囲が維持されている、
−内燃機関（１２）が、部品を保護するために濃縮混合気で実際には作動していない、
−車両が実最小速度で走行している、
−車両ギアトランスミッション（１６）の最小ギアが係合している
の少なくとも一つが満たされたとき、電気機械（１４）の交互動作が使用される、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
内燃機関（１２）と、選択的にモータモード又は発電機モードにおいて作動させることができ、モータモードでは電気機械（１４）は自動車を駆動し、発電機モードでは、電気機械（１４）は、エネルギー貯蔵装置（２４）をチャージする及び／又は車両電気系統（２６）に電力供給する少なくとも一つの電気機械（１４）とを含む、ハイブリッド駆動ユニット（１０）を備えた自動車であって、所定の限界条件が満足されるかどうかに依存して、発電モードでは、電気機械（１４）は、交互モード又は連続モードで作動し、交互モードでは電気機械（１４）は第一及び第二のインターバルが交互に起こるような仕方で作動し、制御手段が、
（ａ）第一のインターバルでは、車両電気系統（２６）の実電力消費よりも大きい第一の高い電力出力で作動させ、
（ｂ）第二のインターバルでは、スイッチオフする
ように設定されていることを特徴とする自動車。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月6日(2008.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体供給体とフィルターとの組立体であって、
蓋部材と、
前記蓋部材の内面に取り外し可能に取り付けられた第１のフィルター部材と、を有し、
前記蓋部材は、
１種類以上の液体を収容可能なタンクに接続されるように構成された第１の端、
前記第１の端の反対側にある第２の端、
前記第１の端から前記第２の端まで延在する内面および外面、並びに
前記蓋部材の一部を貫通し、前記第１の端から前記第２の端まで延在する開口部を含み、
前記第１のフィルター部材は、
第１のフィルターメッシュ、および
前記第１のフィルターメッシュから延在する第１のフィルタータブを含む、
組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月21日(2008.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二相の固体状態のセラミック複合体を含み、
第一の相が酸素イオン伝導体、第二の相がドナーをドープされたｎ型電子伝導性酸化物から形成され、該電子伝導性酸化物は酸素分圧が約１０-7気圧未満で安定で、電子伝導率が少なくとも１Ｓ／ｃｍである、イオンおよび電子伝導性の複合膜。
【請求項２】
電子伝導性酸化物がｎ型半導体である、請求項１記載の膜。
【請求項３】
膜が、酸素分圧１０-7〜１０-20気圧において安定である、請求項１記載の膜。
【請求項４】
膜が、酸素分圧１０-16〜１０-20気圧において安定である、請求項１記載の膜。
【請求項５】
酸素イオン伝導体が、希土類ドープセリア、希土類ドープジルコニア、希土類ドープトリア、希土類ドープハフニアおよびアルカリ土類ドープランタンガリウムオキシドから成る群より選択される、請求項１記載の膜。
【請求項６】
酸素イオン伝導体が蛍石型構造を有する金属酸化物複合体を含む、請求項１記載の膜。
【請求項７】
電子伝導性酸化物がドナードープペロブスカイトを含む、請求項１記載の膜。
【請求項８】
電子伝導性酸化物がドナードープペロブスカイトを含む、請求項５記載の膜。
【請求項９】
電子伝導性酸化物が、ドナードープインジウム酸化物およびドナードープ錫酸化物からなる群より選択される、請求項１記載の膜。
【請求項１０】
電子伝導性酸化物が、ドナードープストロンチウムチタネートを含む、請求項１記載の膜。
【請求項１１】
ドナードープストロンチウムチタネートが、ＲxＳｒ1-xＴｉ1-yＲ'yＯ3-δで表され、
Ｒは希土類あるいはアルカリ土類であり、Ｒ'はＡｌ、xは０．０１〜０．５、ｙは０〜０．２である、請求項１０記載の膜。
【請求項１２】
膜が厚み１μｍ〜３ｍｍである、請求項１記載の膜。
【請求項１３】
第１相と第２相の体積比が２０：８０〜８０：２０である、請求項１記載の膜。
【請求項１４】
第１相と第２相の体積比が４０：６０〜６０：４０である、請求項１記載の膜。
【請求項１５】
第１相が複合体内に浸出通路を形成する、請求項１記載の膜。
【請求項１６】
第２相が複合体内に浸出通路を形成する、請求項１記載の膜。
【請求項１７】
膜が約５００℃より高温で安定である、請求項１記載の膜。
【請求項１８】
膜が７００℃〜１０００℃の範囲の温度で安定である、請求項１記載の膜。
【請求項１９】
膜が蒸気の存在下に安定である、請求項１記載の膜。
【請求項２０】
改質ガス源と；
水蒸気源と；
第一の相は酸素イオン伝導体を含み、第二の相はドナーをドープされたｎ型電子伝導性酸化物（該電子伝導性酸化物は酸素分圧約１０-7気圧未満で安定で、電子伝導率が少なくとも１Ｓ／ｃｍである）を含む、二相の固体状態のセラミック膜によって第一の酸化区画と第二の還元区画とに分離されたフローセルと；
第一の区画に膜を通して改質ガスを誘導するための導管と；
第二の区画に膜を通して蒸気を誘導するための導管と；
水素から蒸気を分離するための第二区画の下流に設けられた凝縮器；
とを有する、水素精製システム。
【請求項２１】
電子伝導性酸化物がｎ型半導体を含む、請求項２０記載のシステム。
【請求項２２】
膜が酸素分圧１０-7〜１０-20気圧の範囲で安定である、請求項２０記載のシステム。
【請求項２３】
膜が酸素分圧１０-16〜１０-20気圧の範囲で安定である、請求項２０記載のシステム。
【請求項２４】
酸素イオン伝導体が、希土類ドープセリア、希土類ドープジルコニア、希土類ドープトリア、希土類ドープハフニアおよびアルカリ土類ドープランタンガリウムオキシドから成る群より選択される、請求項２０記載のシステム。
【請求項２５】
酸素イオン伝導体が蛍石型構造を有する金属酸化物複合体を含む、請求項２０記載のシステム。
【請求項２６】
電子伝導性酸化物がドナードープペロブスカイトを含む、請求項２０記載のシステム。
【請求項２７】
電子伝導性酸化物がドナードープペロブスカイトを含む、請求項２５記載のシステム。
【請求項２８】
電子伝導性酸化物が、ドナードープインジウム酸化物およびドナードープ錫酸化物からなる群より選択される、請求項２０記載のシステム。
【請求項２９】
電子伝導性酸化物が、ドナードープストロンチウムチタネートを含む、請求項２０記載のシステム。
【請求項３０】
ドナードープストロンチウムチタネートが、ＲxＳｒ1-xＴｉ1-yＲ'yＯ3-δで表され、
Ｒは希土類あるいはアルカリ土類であり、Ｒ'はＡｌ、xは０．０１〜０．５、ｙは０〜０．２である、請求項２９記載のシステム。
【請求項３１】
膜が厚み１μｍ〜３ｍｍである、請求項２０記載のシステム。
【請求項３２】
第１相と第２相の体積比が２０：８０〜８０：２０である、請求項２０記載のシステム。
【請求項３３】
第１相と第２相の体積比が４０：６０〜６０：４０である、請求項２０記載のシステム。
【請求項３４】
第１相が膜内に浸出通路を形成する、請求項２０記載のシステム。
【請求項３５】
第２相が膜内に浸出通路を形成する、請求項２０記載のシステム。
【請求項３６】
膜が７００〜１０００℃の温度範囲で安定である、請求項２０記載のシステム。
【請求項３７】
第一の相は酸素イオン伝導体を含み、第二の相はドナーをドープされたｎ型電子伝導性酸化物を含む、二相固体状態のセラミック膜によって第一の酸化区画と第二の還元区画とに分離されたフローセルを提供する工程；
膜を通して第一の区画に改質ガスを導入する工程；
膜を通して第二の区画に蒸気を導入する工程；
水素から蒸気を分離することによって第二の区画の下流で純水素を収集する工程；
を含む、純水素精製方法。