【手続補正書】
【提出日】平成19年5月16日(2007.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを供給する照明システムと、
前記放射ビームの断面内にパターンを有する前記放射ビームを与えるのに役立つパターニング手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン化されたビームを前記基板の標的部上に投影する投影システムと、
前記放射ビームにわたって、且つ／又は、光学部品の表面に沿って、実質的に層状のガス流をフラッシングするガス・フラッシング・デバイスとを備え、前記ガス・フラッシング・デバイスは、
・単一のガス出口であって、単一のガス出口は、ガス出口の下流端に内部リムを有し、前記内部リムは、前記ガス・フラッシング・デバイスの全ガス出口領域を画定する、単一のガス出口と、
・前記ガス出口の前記下流端にあるラミネータであって、ラミネータは、前記実質的に層状のガス流が、使用時に、そこから流れる有効領域を有し、前記ラミネータの有効領域はラミネータ開口を有する材料を含む、ラミネータとを備え、
前記有効領域は、前記全ガス出口領域と少なくとも同じ大きさであるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記ガス・フラッシング・デバイスは、前記投影システムの底部と前記基板テーブルの間で、前記実質的に層状のガス流を供給するように構成される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記ラミネータは、前記層状のガス流が加速し、それによって、前記層状のガス流が乱流になるのを防止するように、前記ガス出口を出る前記層状のガス流が、使用時、前記投影システムの前記底部に対してある角度で、前記投影システムの前記底部に近づくように、向きを調整される請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記ガス・フラッシング・デバイスは、前記ガス出口に向けてガスを流すための、前記ガス出口で終わる導管をさらに備え、前記導管は、前記投影システムの前記底部及び前記基板テーブルのうちの少なくとも一方と実質的に平行に向きを調整される請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記ラミネータは前記内部リムの外側に位置する前記リムの一部に接続される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記ラミネータは、前記ガス出口の外側面に接続される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記ラミネータは、溶接接続部によって前記ガス出口に接続される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記ガス出口は、前記ラミネータが前記ガス出口の外側面と同一平面になるように、前記ラミネータの周囲を収容する凹所を備える請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記凹所は、前記ガス出口の外側リム又は外側面に位置する請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記ガス出口は、流れストレイトナであって、流れストレイトナの下流で、前記ガス出口の内部断面にわたって前記ガス流の速度を均一化する流れストレイトナを備える請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記流れストレイトナは、一般に１００ミクロンより小さい直径を有する開口を有する材料のシートを備える請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記開口は、一般に５０ミクロンより小さい直径を有する請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記開口は、一般に２０ミクロンより小さい直径を有する請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記ラミネータの前記ラミネータ開口は、一般に２００ミクロンより小さい直径を有する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記ラミネータ開口は、一般に１００ミクロンより小さい直径を有する請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記ラミネータ開口は、一般に４０ミクロンより小さい直径を有する請求項１５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記ラミネータの材料は、ニッケルなどの実質的に金属を含む請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記ガス出口は、アルミニウム及び鋼からなるグループからの少なくとも１つの材料を実質的に含む請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記ガス・フラッシング・デバイスは、前記実質的に層状のガス流を吸収する（ｓｕｃｋ ｉｎ）ガス入口（ｉｎｌｅｔ）をさらに備える請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記ガス入口は、前記ガス出口に対向して実質的に位置する請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記ガス出口は、前記ガス入口と少なくとも同じ形状である請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記ガス入口は、前記ガス出口と同じ寸法を含む請求項２１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
前記ガス出口及び前記ガス入口は、前記ガス出口と前記ガス入口の間に、ある容積が画定されるように接続され、前記容積は、前記パターン化されたビームに実質的に平行な方向に、前記パターン化されたビームに実質的に平行な方向の前記有効グリッド表面領域の寸法と同じ寸法を有する請求項２１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２４】
前記ガス出口は、互いに実質的に平行に向きを調整された少なくとも２つのラミネータのセットを備える請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２５】
前記ガス・フラッシング・システムは、化学的にろ過された空気を含むガスを供給するように構成される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２６】
たとえば、リソグラフィ装置内の所定の空間にわたって実質的に層状のガス流をフラッシングするガス・フラッシング・デバイスであって、
単一のガス出口であって、単一のガス出口は、ガス出口の下流端に内部リムを有し、前記内部リムは、前記ガス・フラッシング・デバイスの全ガス出口領域を画定する、単一のガス出口と、
前記ガス出口の前記下流端にあるラミネータであって、ラミネータは、前記実質的に層状のガス流が、使用時に、そこから流れる有効領域を有し、前記ラミネータの有効領域は、ラミネータ開口を有する材料を含む、ラミネータとを備え、
前記有効領域は、前記全ガス出口領域と少なくとも同じ大きさであるガス・フラッシング・デバイス。
【請求項２７】
前記ガス・フラッシング・デバイスは、前記ガス出口に向けて第１の方向にガスを流すための、前記ガス出口で終わる導管をさらに備え、前記ラミネータは、前記第１の方向に対して傾斜しており、その結果、使用時、ガスは、前記第１の方向に対して傾斜する第２の方向に前記ガス出口から流れる請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項２８】
前記ラミネータは、前記内部リムの外に位置する前記リムの一部に接続される請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項２９】
前記ラミネータは、前記ガス出口の外側面に接続される請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３０】
前記ラミネータは、溶接接続部によって前記ガス出口に接続される請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３１】
前記ガス出口は、前記ラミネータが前記出口の外側面と同一平面になるように、前記ラミネータの周囲を収容する凹所を備える請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３２】
前記凹所は、前記ガス出口の外側リム又は前記外側面に位置する請求項３１に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３３】
前記ガス出口は、流れストレイトナであって、流れストレイトナの下流で、前記ガス出口の内部断面にわたって前記ガス流の速度を、使用時に、均一化する流れストレイトナを備える請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３４】
前記流れストレイトナは、一般に１００ミクロンより小さい直径を有するような開口を有する材料のシートを備える請求項３３に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３５】
前記開口は、一般に５０ミクロンより小さい直径を有する請求項３４に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３６】
前記開口は、一般に２０ミクロンより小さい直径を有する請求項３５に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３７】
前記ラミネータの前記ラミネータ開口は、一般に２００ミクロンより小さい直径を有する請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３８】
前記ラミネータの前記ラミネータ開口は、一般に１００ミクロンより小さい直径を有する請求項３７に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項３９】
前記ラミネータ開口は、一般に４０ミクロンより小さい直径を有する請求項３８に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４０】
前記ラミネータは、ニッケルなどの実質的に金属を含む請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４１】
前記ガス出口は、アルミニウム及び鋼からなるグループからの少なくとも１つの材料を実質的に含む請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４２】
前記ガス・フラッシング・デバイスは、前記実質的に層状のガス流を吸収するガス入口をさらに備える請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４３】
前記ガス入口は、前記ガス出口に対向して実質的に位置する請求項４２に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４４】
前記ガス出口は、前記ガス入口と少なくとも形状が同じである請求項４３に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４５】
前記ガス出口は、前記ガス入口と寸法が同じである請求項４４に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４６】
前記ガス出口と前記ガス入口は接続される請求項４２に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４７】
実質的に平坦な形状を有する請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４８】
互いに実質的に平行に向きを調整された少なくとも２つのラミネータのセットを備える請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項４９】
ガス・フラッシング・デバイスは、前記基板表面に沿って付加的なガス流を供給するための、付加的なガス出口をさらに備える請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５０】
ガス・フラッシング・デバイスは、付加的なガス出口及び前記付加的なガス出口の下流端の付加的なラミネータをさらに備え、前記付加的なラミネータは、付加的な層状のガス流が、使用時、前記基板表面に沿って流れるように向きを調整される請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５１】
前記付加的なラミネータは、前記付加的なガス出口を出る前記付加的な層状のガス流が、使用時に、前記基板表面に対して実質的に直角の角度で前記基板表面に近づくように向きを調整される請求項５０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５２】
前記付加的なラミネータは、前記付加的なガス出口を出る前記付加的な層状のガス流が、使用時に、前記基板表面に対してある角度で前記基板表面に近づくように向きを調整され、その結果、前記付加的な層状のガス流が加速し、それによって、前記付加的な層状のガス流が乱流（ｔｕｒｂｕｌｅｎｔ）になるのが防止される請求項５０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５３】
前記付加的なガス出口は、流れストレイトナであって、付加的な流れストレイトナの下流で、前記付加的なガス出口の内部断面にわたって前記付加的なガス流の速度を均一化する流れストレイトナを備える請求項５０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５４】
前記付加的なガス出口は、互いに実質的に平行に向きを調整された少なくとも２つのラミネータのセットを備える請求項５０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５５】
前記付加的なガス出口の下流端に付加的なガス出口及び付加的なラミネータをさらに備える請求項２６に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項５６】
前記付加的なガス出口の下流端に付加的なガス出口及び付加的なラミネータをさらに備え、前記付加的なラミネータは、付加的な層状のガス流が、使用時に、前記第１の方向に対して傾斜し、前記第２の方向から離れた方を向く第３の方向に流れるように向きを調整される請求項２７に記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項５７】
前記付加的なガス出口は、流れストレイトナであって、付加的な流れストレイトナの下流で、前記付加的なガス出口の内部断面にわたって前記付加的なガス流の速度を均一化する流れストレイトナを備える請求項５５又は５６までのいずれかに記載のガス・フラッシング・デバイス。
【請求項５８】
前記付加的なガス出口が、互いに実質的に平行に向きを調整された少なくとも２つのラミネータのセットを備える請求項５５又は５６までのいずれかに記載のガス・フラッシング・デバイス。