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【手続補正書】
【提出日】平成19年6月7日(2007.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単結晶シリコン基板上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜を介して前記単結晶シリコン基板に水素を添加し、
前記酸化シリコン膜を間に挟んで、前記単結晶シリコン基板と、支持基板とを接合し、
前記酸化シリコン膜を間に挟んで単結晶シリコン層が前記支持基板上に残るように、熱処理によって前記単結晶シリコン基板を分断し、
前記単結晶シリコン層を用いて、薄膜トランジスタの活性層となる島状シリコン層を形成し、
前記島状シリコン層上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート配線を形成し、
エッチングストッパーと、前記エッチングストッパーを挟んで前記ゲート配線の側面にサイドウォールとを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記ゲート配線は、導電性を有するポリシリコン膜又は金属膜を用いて形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記ゲート配線はタンタル、タンタル合金またはタンタルと窒化タンタルの積層膜を用いて形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１において、
前記ゲート配線は銅または銅合金を用いて形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
単結晶シリコン基板上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜を介して前記単結晶シリコン基板に水素を添加し、
前記酸化シリコン膜を間に挟んで、前記単結晶シリコン基板と、支持基板とを接合し、
前記酸化シリコン膜を間に挟んで単結晶シリコン層が前記支持基板上に残るように、熱処理によって前記単結晶シリコン基板を分断し、
前記単結晶シリコン層を用いて、薄膜トランジスタの活性層となる島状シリコン層を形成し、
前記島状シリコン層上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にシリコンを含むゲート配線を形成し、
エッチングストッパーと、前記エッチングストッパーを挟んで前記ゲート配線の側面にサイドウォールとを形成し、
前記島状シリコン層の前記サイドウォール及び前記ゲート配線と重ならない領域、並びに前記ゲート配線の上面に接して金属膜を形成し、
前記金属膜が接した領域にシリサイドが形成されるように熱処理することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記金属膜はコバルト膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項５又は請求項６において、
前記シリサイドは、前記島状シリコン層の厚さ方向の全体にわたって形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記島状シリコン層は、主表面が｛１１０｝面であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記エッチングストッパーは酸化シリコンによって形成され、
前記サイドウォールは窒化シリコンによって形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記島状シリコン層の厚さは１０〜２００ｎｍであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一において、
前記島状シリコン層、前記ゲート配線、前記エッチングストッパー、及び前記サイドウォールを覆って、第１の層間絶縁膜を形成し、
前記第１の層間絶縁膜は、無機絶縁膜、有機樹脂絶縁膜、または無機絶縁膜と有機樹脂絶縁膜の積層であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記無機絶縁膜は、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、または窒化酸化シリコン膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２において、
前記有機樹脂絶縁膜は、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミドまたはベンゾシクロブテンであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一において、
前記島状シリコン層、前記ゲート配線、前記エッチングストッパー、及び前記サイドウォールを覆って、第１の層間絶縁膜を形成し、
前記第１の層間絶縁膜上に第１の配線を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１４において、
前記第１の配線は、アルミニウムを主成分とする材料を用いて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１４又は請求項１５において、
前記第１の配線上に窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、樹脂膜を順に積層した第２の層間絶縁膜を形成し、
前記第２の層間絶縁膜の前記樹脂膜の一部を除去して、前記第２の層間絶縁膜の前記酸化シリコン膜が露呈した凹部を形成し、
前記凹部において、前記第２の層間絶縁膜のうちの前記窒化シリコン膜及び前記酸化シリコン膜を介して前記第１の配線と重なるように、前記第２の層間絶縁膜上に第２の配線を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１６において、
前記第２の配線はチタンを用いて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１乃至請求項１７のいずれか一において、
前記支持基板の表面に酸化シリコン膜を有し、
前記単結晶シリコン基板と前記支持基板の接合は、前記単結晶シリコン基板上に形成された酸化シリコン膜と、前記支持基板の表面の酸化シリコン膜の接合によって行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１９】
請求項１乃至請求項１８のいずれか一において、
前記水素の添加は、１×１０16〜１×１０17ａｔｏｍｓ／ｃｍ2のドーズ量で行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２０】
請求項１乃至請求項１９のいずれか一において、
支持基板は、シリコン基板、多結晶シリコン基板、セラミックス基板、石英基板、またはガラス基板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２１】
請求項１乃至請求項２０のいずれか一において、
Ｎチャネル型ＴＦＴとＰチャネル型ＴＦＴとを有し、
前記Ｎチャネル型ＴＦＴと前記Ｐチャネル型ＴＦＴとは、同じ前記島状シリコン層に形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月12日(2007.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セパレータを介して対向する陽極部材および陰極部材をセル容器に収納させてなる電力貯蔵セルを複数個積層した電力貯蔵デバイスであって、
各前記電力貯蔵セル間あるいは少なくとも２個の前記電力貯蔵セル間に介在する面圧緩衝機構を備え、
前記面圧緩衝機構は、前記電力貯蔵セルの積層方向に積層された平板およびクッション板を有し、面圧に応答して前記クッション板が変形することで前記面圧を吸収する
電力貯蔵デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記クッション板は、前記平板に部分的に接する
電力貯蔵デバイス。
【請求項３】
請求項１に記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記クッション板は、樹脂、プラスチックもしくはゴムからなる
電力貯蔵デバイス。
【請求項４】
請求項１に記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記クッション板は、金属からなる
電力貯蔵デバイス。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記平板は、前記電力貯蔵セルを囲むようにＬ字型に曲げられている
電力貯蔵デバイス。
【請求項６】
請求項１に記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記平板および前記クッション板は、金属製であり、
前記平板は、前記セル容器の一部として機能し、
各前記電力貯蔵セルは、前記平板および前記クッション板を介して電気的に直列に接続されている
電力貯蔵デバイス。
【請求項７】
請求項１に記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記平板および前記クッション板は、金属製であり、
前記平板は、前記電力貯蔵セル内の前記陽極部材および前記陰極部材を前記電力貯蔵セル外へ導出し前記クッション板に電気的に接続するために折り曲げられており、
各前記電力貯蔵セルは、前記平板および前記クッション板を介して電気的に直列に接続されている
電力貯蔵デバイス。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記面圧緩衝機構は、前記クッション板の隙間に配置された畜熱材をさらに有する
電力貯蔵デバイス。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の電力貯蔵デバイスであって、
環状のバンドにより挟持されている
電力貯蔵デバイス。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の電力貯蔵デバイスであって、
前記電力貯蔵セルは、電気二重層キャパシタ、リチウム二次電池、コンデンサもしくはリチウムイオンキャパシタである
電力貯蔵デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月23日(2007.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
一方、ステップＳ５２において否定判定がなされた場合にＥＣＵ１３は、ステップＳ５４〜Ｓ５６において、以下の条件（Ｇ１）〜（Ｇ３）のうちいずれか一つが成立しているか否かを判定する。ここでステップＳ５４〜Ｓ５６の判定は、ＥＣＵ１２，１４，１５を介して複数のセンサ２４，４５及びブレーキ装置５０，５１から受信する検出信号に基づき実施される。そして、ステップＳ５４〜Ｓ５６のいずれかにおいて肯定判定がなされた場合にＥＣＵ１３は、ステップＳ５８において、車両が停止状態にあると判断する。
（Ｇ１）車速が停車速度以下である。
（Ｇ２）主ブレーキが作動しており、且つエンジン回転数がアイドル回転数以下である。
（Ｇ３）パーキングブレーキが作動している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
以上、ステップＳ５８，Ｓ５３の実行終了後、ステップＳ５９においてＥＣＵ１３は、復帰制御の実施を許可する判定を下した後、本可否判定処理を終了する。一方、ステップＳ５１，Ｓ５６において否定判定がなされた場合にＥＣＵ１３は、ステップＳ６０において、復帰制御の実施を禁止する判定を下した後、本可否判定処理を終了する。尚、ステップＳ５６において否定判定がなされる場合とは、上記条件（Ｇ１）〜（Ｇ３）が全て成立しない場合である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
さらに、第一実施形態において自動変速機２０の実レンジと車両搭乗者の指令レンジとが不一致となるシフトバイワイヤ関連異常の発生時には、ＥＣＵ１３がフェイルセーフ制御の開始後にそれらレンジを一致させる復帰制御を実施する。
したがって、車両安全をフェイルセーフ制御により確保した状態で実レンジを切り替えることができるので、例えば実レンジをＮレンジからＤレンジへ切り替えるような場合に車輪の駆動トルクが車両搭乗者の意思に反して急激に増大し、それにより車両が急発進する事態を防止することができる。しかも第一実施形態では、上記条件（Ｇ１）が成立、即ち車両停止が直接的に確認された場合や、上記条件（Ｇ２）〜（Ｇ３）が成立、即ち車両停止が間接的に確認された場合に復帰制御が実施されるので、車両搭乗者の意思に反する車両の加減速を招くことなく安全に復帰制御を進めることができる。また、第一実施形態では、レンジセレクタ３５のレバー操作が設定時間内に設定回数以上検出された場合、即ち車両搭乗者によるレンジの復帰意思が確認された場合に復帰制御が実施されるので、車両搭乗者の意思に従って安全に復帰制御を進めることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
一方、ステップＳ１０２において否定判定がなされた場合にＥＣＵ１３は、第一実施形態のステップＳ５４〜Ｓ５６に準じた内容のステップＳ１０４〜Ｓ１０６を実行する。さらに、ステップＳ１０４〜Ｓ１０６のいずれかにおいて肯定判定がなされた場合にＥＣＵ１３は、ステップＳ１０８において、車両が停止状態にあると判断する。
以上よりＥＣＵ１３は、ステップＳ１０３，Ｓ１０８の実行終了後のステップＳ１０９では、復帰制御の実施許可判定を下す一方、ステップＳ１０１，Ｓ１０６における否定判定後のステップＳ１１０では、復帰制御の実施禁止判定を下す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図１４に示すように、ステップＳ３２１において肯定判定がなされた場合にＥＣＵ１３は、第一実施形態のステップＳ５２〜Ｓ５８に準じた内容のステップＳ３２２〜Ｓ３２８を実行する。
以上よりＥＣＵ１３は、ステップＳ３２３，Ｓ３２８の実行終了後のステップＳ３２９では、復帰制御の実施許可判定を下す一方、ステップＳ３２１，Ｓ３２６における否定判定後のステップＳ３３０では、復帰制御の実施禁止判定を下す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2006336717.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2006336717.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2006336717.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月13日(2007.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気筒群毎にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行可能な内燃機関の空燃比制御装置であって、
第１気筒群に接続された第１排気通路と、
第２気筒群に接続された第２排気通路と、
前記第１排気通路と第２排気通路との合流部よりも下流に配置されたＮＯｘ触媒と、
前記第１及び第２気筒群の各気筒に対して燃料を噴射する燃料噴射弁と、
前記各気筒の吸入空気量を可変とする吸入空気量可変機構と、
前記第１気筒群にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行させると共に、前記第２気筒群にリーン燃焼又はリッチ燃焼を実行させることにより、前記ＮＯｘ触媒の硫黄被毒再生を実行する被毒再生実行手段と、
前記硫黄被毒再生を実行する際に、前記第１及び第２気筒群の各気筒の燃料噴射量とを略同一とし、前記吸入空気量可変機構を作動させることにより各気筒の吸入空気量を変更せしめる排気空燃比制御手段とを備えたことを特徴とする内燃機関の空燃比制御装置。
【請求項２】
気筒群毎にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行可能な内燃機関の空燃比制御装置であって、
第１気筒群に接続された第１排気通路と、
第２気筒群に接続された第２排気通路と、
前記第１排気通路と第２排気通路との合流部よりも下流に配置されたＮＯｘ触媒と、
前記第１及び第２気筒群の各気筒に対して燃料を噴射する燃料噴射弁と、
前記各気筒が有する吸気弁の開弁特性を可変とすることで、前記各気筒の吸入空気量を可変とする可変動弁機構と、
前記第１気筒群にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行させると共に、前記第２気筒群にリーン燃焼又はリッチ燃焼を実行させることにより、前記ＮＯｘ触媒の硫黄被毒再生を実行する被毒再生実行手段と、
前記硫黄被毒再生を実行する際に、前記第１及び第２気筒群の各気筒の燃料噴射量とを略同一とし、前記可変動弁機構を作動させることにより各気筒の吸入空気量を変更せしめる排気空燃比制御手段とを備えたことを特徴とする内燃機関の空燃比制御装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の内燃機関の空燃比制御装置において、
前記硫黄被毒再生を実行する際に、リッチ燃焼を実行する気筒群の点火時期をトルク及び燃料消費が最良となる点火時期とすると共に、リーン燃焼を実行する気筒群の点火時期をトルク及び燃料消費が最良となる点火時期よりも遅角させる点火時期制御手段を更に備えたことを特徴とする内燃機関の空燃比制御装置。
【請求項４】
請求項１から３の何れかに記載の内燃機関の空燃比制御装置において、
前記第１排気通路と前記第２排気通路との合流部よりも下流側の排気空燃比を取得する排気空燃比取得手段を更に備え、
前記排気空燃比制御手段は、前記硫黄被毒再生を実行する際に、前記排気空燃比取得手段により取得された排気空燃比が理論空燃比と一致しない場合には、各気筒の吸入空気量を更に変更せしめるものであることを特徴とする内燃機関の空燃比制御装置。
【請求項５】
請求項１から４の何れかに記載の内燃機関の空燃比制御装置において、
前記ＮＯｘ触媒の下流に設けられ、排気空燃比を検出する排気センサを更に備え、
前記排気空燃比制御手段は、前記硫黄被毒再生を実行する際に、前記排気センサにより検出された排気空燃比が理論空燃比と一致しない場合には、各気筒の吸入空気量を更に変更せしめるものであることを特徴とする内燃機関の空燃比制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の発明は、上記の目的を達成するため、気筒群毎にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行可能な内燃機関の空燃比制御装置であって、
第１気筒群に接続された第１排気通路と、
第２気筒群に接続された第２排気通路と、
前記第１排気通路と第２排気通路との合流部よりも下流に配置されたＮＯｘ触媒と、
前記第１及び第２気筒群の各気筒に対して燃料を噴射する燃料噴射弁と、
前記各気筒の吸入空気量を可変とする吸入空気量可変機構と、
前記第１気筒群にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行させると共に、前記第２気筒群にリーン燃焼又はリッチ燃焼を実行させることにより、前記ＮＯｘ触媒の硫黄被毒再生を実行する被毒再生実行手段と、
前記硫黄被毒再生を実行する際に、前記第１及び第２気筒群の各気筒の燃料噴射量とを略同一とし、前記吸入空気量可変機構を作動させることにより各気筒の吸入空気量を変更せしめる排気空燃比制御手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、第２の発明は、気筒群毎にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行可能な内燃機関の空燃比制御装置であって、
第１気筒群に接続された第１排気通路と、
第２気筒群に接続された第２排気通路と、
前記第１排気通路と第２排気通路との合流部よりも下流に配置されたＮＯｘ触媒と、
前記第１及び第２気筒群の各気筒に対して燃料を噴射する燃料噴射弁と、
前記各気筒が有する吸気弁の開弁特性を可変とすることで、前記各気筒の吸入空気量を可変とする可変動弁機構と、
前記第１気筒群にリッチ燃焼又はリーン燃焼を実行させると共に、前記第２気筒群にリーン燃焼又はリッチ燃焼を実行させることにより、前記ＮＯｘ触媒の硫黄被毒再生を実行する被毒再生実行手段と、
前記硫黄被毒再生を実行する際に、前記第１及び第２気筒群の各気筒の燃料噴射量とを略同一とし、前記可変動弁機構を作動させることにより各気筒の吸入空気量を変更せしめる排気空燃比制御手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月23日(2007.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
その整流は、一般的には、換気路内に羽根状の整流板（ガイドベーン、案内板）を設けて、その整流板によって、送風機による気流を整流して屈曲部Ｂをスムースに流れるようにしている（特許文献２  図１、図３参照）。
このような実情から、例えば、図８に示す換気路Ａの屈曲部において、複数の羽根１を設けて整流を行ない、その屈曲部Ｂの気流の円滑な流れを確保するようにしている。
【特許文献１】特開２００１−１３２３９７号公報
【特許文献２】実開平０５−０５４９４７号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一方、今日の住環境に対する意識の向上から、その換気には、穏やかで、かつ静かなものが要求される。その静かなものとする消音は、通常、換気路内面に消音材（吸音材）を貼設したり（特許文献３  第４図参照）、消音装置を設置することによって行なわれている。
その従来の消音材の貼設は、例えば、この図８の換気路等においては、直線部に消音材２を貼設して行うことが一般的であり、上記整流用の羽根１の表面に消音材を設けた技術もある（特許文献２  段落０００７  図１参照）。また、屈曲部Ｂ内面に消音材を設けるとともに、整流板を設けた技術もある（特許文献３  第１図参照）。また、消音装置も直線部に設けている。
【特許文献３】特開昭６１−２５９０００号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して形成された水和物の粒子を含む水和物スラリーにより冷熱を輸送する方法であって、前記水和物スラリーの固相率を４％より大きく４７％以下の範囲に維持することを特徴とする冷熱輸送方法。
【請求項２】
臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して形成された水和物の粒子を含む水和物スラリーにより冷熱を輸送する方法であって、前記水和物スラリーの固相率を４％より大きく３８％以下の範囲に維持することを特徴とする冷熱輸送方法。
【請求項３】
臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して水和物の粒子を含む水和物スラリーを生成する熱交換器と、この生成された水和物スラリーを貯蔵する蓄熱槽と、上記の熱交換器、蓄熱槽及び冷熱の負荷側機器とを連通する配管とを備え、少なくとも上記の負荷側機器に連通する配管内に固相率が４％より大きく４７％以下の範囲にある水和物スラリーを流通させることを特徴とする水和物スラリーの輸送装置。
【請求項４】
水和物スラリーを輸送する配管を備える地域冷暖房システムであって、前記水和物スラリーは臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して形成された水和物の粒子を含むものであり、その固相率は４％より大きく４７％以下の範囲に維持されることを特徴とする地域冷暖房システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】冷熱輸送方法、水和物スラリーの輸送装置及び地域冷暖房システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、水和物スラリーにより冷熱を効率的に輸送する冷熱輸送方法、水和物スラリーの輸送装置及び地域冷暖房システムに関する。さらに特定すれば、本発明は水を媒体として冷熱を輸送する場合より小さい動力または小径の配管により、水を媒体とする場合と同等の熱量の冷熱を輸送することができる冷熱輸送方法、水和物スラリーの輸送装置及び地域冷暖房システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、以上の事情に基づいてなされたもので、水和物スラリーにより冷熱を輸送する場合に、従来の冷水による冷熱の輸送の場合と同等またはより少ない動力、およびより小径の配管等により同等の冷熱を輸送することを可能とし、既存の配管や既存の資材、機器を転用でき、また輸送に必要な動力の増加を招くことがなく、エネルギ節減の効果を減殺することがない冷熱輸送方法、水和物スラリーの輸送装置及び地域冷暖房システムを提供するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１）本発明の冷熱輸送方法は、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して形成された水和物の粒子を含む水和物スラリーにより冷熱を輸送する方法であって、前記水和物スラリーの固相率を４％より大きく４７％以下の範囲に維持することを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（２）本発明の冷熱輸送方法は、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して形成された水和物の粒子を含む水和物スラリーにより冷熱を輸送する方法であって、前記水和物スラリーの固相率を４％より大きく３８％以下の範囲に維持することを特徴とするものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（３）本発明の水和物スラリーの輸送装置は、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して水和物の粒子を含む水和物スラリーを生成する熱交換器と、この生成された水和物スラリーを貯蔵する蓄熱槽と、上記の熱交換器、蓄熱槽及び冷熱の負荷側機器とを連通する配管とを備え、少なくとも上記の負荷側機器に連通する配管内に固相率が４％より大きく４７％以下の範囲にある水和物スラリーを流通させることを特徴とするものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（４）本発明の地域冷暖房システムは、水和物スラリーを輸送する配管を備える地域冷暖房システムであって、前記水和物スラリーは臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムの水溶液を冷却して形成された水和物の粒子を含むものであり、その固相率は４％より大きく４７％以下の範囲に維持されることを特徴とするものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
上記のゲスト化合物は、この実施形態の場合、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム（以下ＴＢＡＢと称する）が使用される。なお、このゲスト化合物としては、この他にテトラｎ−ブチルアンモニウム塩、テトラｉｓｏ−アミルアンモニウム塩、テトラｉｓｏ−ブチルフォスフォニウム塩、トリｉｓｏ−アミルサルフォニウム塩のうちの少なくとも一つの化合物を含むものが使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多官能モノマーを含む重合用モノマー成分１００重量部を重合用モノマーとは反応しない有機溶剤１〜４００重量部と混合した重合用モノマー溶液を、分散安定剤を含む極性溶媒に懸濁せしめた後、重合用モノマー成分を重合させて、有機溶剤を内包するポリマー粒子を得て、得られたポリマー粒子中の有機溶剤を除去する多孔質中空ポリマー粒子の製造方法であって、混合される重合用モノマー成分と有機溶剤の溶解度パラメータ（ＳＰ値）の差が１．０ＭＰａ０．５未満の時は、重合用モノマー成分に占める多官能モノマーの割合が少なくとも５重量％以上であり、１．０以上１．５ＭＰａ０．５未満の時は、重合用モノマー成分に占める多官能モノマーの割合が少なくとも２０重量％以上であることを特徴とする多孔質中空ポリマー粒子の製造方法。
【請求項２】
分散安定剤が部分ケン化ポリ酢酸ビニル、セルロース誘導体、ポリビニルピロリドンの少なくとも一つである請求項１に記載の多孔質中空ポリマー粒子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子メールの最適なメッセージボディが望まれている旨の指示を含む、メッセージに対する要求を、電子メールサーバの構成要素で受信すること、
前記電子メールサーバの構成要素と関連付けられたデータストアにアクセスすることおよび入手できるメッセージボディのフォーマットを変換することと無関係に入手できる前記メッセージの前記最適なメッセージボディを決定すること、および
前記最適なメッセージボディのフォーマットを変換すること無く前記最適なメッセージボディを読み出して返すこと
を含むコンピュータ実行可能命令を記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項２】
前記要求は、前記メッセージが配置されるフォルダの同期の要求を含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項３】
前記要求は、電子メールメッセージの複写の要求を含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項４】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項５】
前記決定することは、入手できるメッセージのボディを優先順位にしたがって評価することを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項６】
コンピュータ読み取り可能な記録媒体上で具現化されるデータ構造であって、
電子メールメッセージに対する要求を含む第１のデータフィールドと、
前記電子メールメッセージの最適なメッセージボディが望まれる指示を含む第２のデータフィールドと
を含むことを特徴とするデータ構造。
【請求項７】
前記要求は、前記メッセージが配置されるフォルダの同期の要求を含むことを特徴とする請求項６に記載のデータ構造。
【請求項８】
前記要求は、電子メールメッセージの複写の要求を含むことを特徴とする請求項６に記載のデータ構造。
【請求項９】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項６に記載のデータ構造。
【請求項１０】
前記第１のデータフィールドは、複数の電子メールデータオブジェクトに対する要求を含み、
前記第２のデータフィールドは、前記電子メールデータオブジェクトの少なくとも一つのプロパティが望まれ、および前記少なくとも一つのプロパティが適切に定義されていない場合に電子メールデータオブジェクトが返される指示を含む、
ことを特徴とする請求項６に記載のデータ構造。
【請求項１１】
前記要求は、前記電子メールデータオブジェクトが配置されるフォルダの同期の要求を含むことを特徴とする請求項１０に記載のデータ構造。
【請求項１２】
前記要求は、データオブジェクトの複写の要求を含むことを特徴とする請求項１０に記載のデータ構造。
【請求項１３】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項１０に記載のデータ構造。
【請求項１４】
前記少なくとも一つのプロパティは、メッセージのヘッダを含むことを特徴とする請求項１０に記載のデータ構造。
【請求項１５】
前記電子メールデータオブジェクトは、電子メールメッセージを含むことを特徴とする請求項１０に記載のデータ構造。
【請求項１６】
データオブジェクトの少なくとも一つのプロパティが望まれている旨の指示を含む、フォルダ内のデータオブジェクトに対する要求を受信すること、
前記要求および前記指示に応じて、前記フォルダおよび前記フォルダ内のデータオブジェクトにアクセスすること、および前記フォルダ内の各データオブジェクトについて、
前記少なくとも一つのプロパティが前記データオブジェクト内に適切に定義されている場合に、当該データオブジェクトについて前記少なくとも一つのプロパティを読み出し電子メールクライアントの構成要素に返信すること、および
前記少なくとも一つのプロパティが前記データオブジェクトについて適切に定義されていない場合に、前記データオブジェクトを読み出し前記電子メールクライアントの構成要素に返信すること
を含むコンピュータ実行可能命令を記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１７】
前記要求は、前記データオブジェクトが配置されるフォルダの同期の要求を含むことを特徴とする請求項１６に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１８】
前記要求は、前記電子メールメッセージの複写の要求を含むことを特徴とする請求項１６に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１９】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項１６に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項２０】
前記少なくとも一つのプロパティは、メッセージについてのヘッダを含むことを特徴とする請求項１６に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ読み取り可能な記録媒体上で具現化されるデータ構造であって、
電子メールクライアントの構成要素を識別する第１のデータフィールドと、
複数の電子メールデータオブジェクトに対する要求を含む第２のデータフィールドと、
前記電子メールクライアントの構成要素が進捗モードデータを取り扱う能力があることの指示を含む第３のデータフィールドと
を備えることを特徴とするデータ構造。
【請求項２】
前記進捗モードデータは、前記電子メールデータオブジェクトの各々のサイズを含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項３】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項４】
前記要求は、前記電子メールデータオブジェクトが配置されるフォルダの同期の要求を含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項５】
前記要求は、電子メールメッセージの複写の要求を含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項６】
前記進捗モードデータは、複数の電子メールデータオブジェクトのサイズを含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項７】
前記進捗モードデータは、前記複数の電子メールデータオブジェクト内のフォルダ関連情報オブジェクトの数および前記複数の電子メールデータオブジェクト内の前記フォルダ関連情報オブジェクトの合計のサイズの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項８】
前記進捗モードデータは、前記複数の電子メールデータオブジェクト内の電子メールメッセージ数、前記複数の電子メールデータオブジェクト内の電子メールメッセージの合計のサイズおよび各オブジェクトがフォルダ関連情報オブジェクトであるか否かの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載のデータ構造。
【請求項９】
電子メールクライアントの構成要素から、複数の電子メールデータオブジェクトに対する要求および前記電子メールクライアントの構成要素が進捗モードデータを取り扱う能力があることの指示を受信すること、
前記要求および前記指示に応答して、前記複数の電子メールデータオブジェクトを読み出すこと、および
前記電子メールデータオブジェクトの各々のサイズを含む進捗モードデータを、前記複数の電子メールデータオブジェクトとともに、前記電子メールクライアントの構成要素に提供すること、
を含むコンピュータ実行可能命令を記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１０】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１１】
前記要求は、前記電子メールデータオブジェクトが配置されるフォルダの同期の要求および電子メールメッセージの複写の要求の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１２】
前記進捗モードデータは、前記複数のデータオブジェクトのサイズをさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１３】
前記進捗モードデータは、前記複数のデータオブジェクト内のフォルダ関連情報オブジェクトの数および前記複数のデータオブジェクト内の前記フォルダ関連情報オブジェクトの合計のサイズの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１４】
前記進捗モードデータは、前記複数の電子メールデータオブジェクト内の電子メールメッセージの数、前記複数の電子メールデータオブジェクト中の電子メールメッセージの合計のサイズおよび各オブジェクトがフォルダ関連情報オブジェクトであるか否かの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１５】
電子メールクライアントの構成要素から、複数の電子メールデータオブジェクトに対する要求および前記電子メールクライアントの構成要素が進捗モードデータを取り扱う能力があることの指示を受信すること、
前記要求および前記表示に応答して、前記複数の電子メールデータオブジェクトを読み出すこと、および
前記複数の電子メールデータオブジェクトのサイズを含む進捗モードデータを、前記複数の電子メールデータオブジェクトとともに、前記電子メールクライアントの構成要素に提供すること、
を含むコンピュータ実行可能命令を記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１６】
前記指示は、前記要求とともに含まれるフラグを含むことを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１７】
前記要求は、前記電子メールデータオブジェクトが配置されるフォルダの同期の要求および電子メールメッセージの複写の要求の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１８】
前記進捗モードデータは、前記複数の電子メールデータオブジェクトの各々のサイズをさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１９】
前記進捗モードデータは、前記複数の電子メールデータオブジェクト内のフォルダ関連情報オブジェクトの数、前記複数の電子メールデータオブジェクト内の前記フォルダ関連情報オブジェクトの合計のサイズの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項２０】
前記進捗モードデータは、前記複数の電子メールデータオブジェクト内の電子メールメッセージ数、前記複数の電子メールデータオブジェクト内の電子メールメッセージの合計のサイズおよび各オブジェクトがフォルダ関連情報オブジェクトであるか否かの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の無線送信機から無線信号を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された複数の無線信号に対し、複数の位置計算方法を適用して複数の暫定予測位置を各々算出する暫定位置算出手段と、
各位置算出方法の信頼度を表す参照情報を記憶する記憶手段と、
各位置算出方法に対し前記参照情報に対応する重み付け因子を決定し、該重み付け因子を用いて前記複数の暫定予測位置の加重平均を計算することにより一の予測位置を決定する位置決定手段と
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
無線受信機の位置を決定する方法であって、
複数の基地局から複数の信号を各々受信するステップと、
前記複数の信号に対し複数の計算方法を提供して複数の予測位置を各々算出するステップと、
前記複数の位置算出方法の信頼度を取得するステップと、
前記信頼度に対応する重み因子を用いて前記複数の予測位置の加重平均を計算するステップと、
を有することを特徴とする位置決定方法。
【請求項３】
無線受信機の位置を決定する方法であって、
複数の基地局から各々受信した信号に基づいて、暫定予測位置を決定するステップと、
前記複数の基地局の所在に関する所在情報を取得するステップと、
前記所在情報に基づき、前記暫定予測位置の近傍にある１または複数の基地局を選択するステップと、
該選択された複数の基地局から各々信号を受信するステップと、
該選択された複数の基地局から受信した信号に基づいて、複数の計算方法を用いて各々複数の予測位置を決定するステップと、
当該複数の予測位置の加重平均を計算するステップと、
を有することを特徴とする位置決定方法。
【請求項４】
無線受信機が生成した複数の暫定予測位置から１の予測位置を決定するために用いる重み因子を算出する方法であって、
複数の物理的地点の各々において、第１の計算方法を用いて第１の予測位置を決定するステップと、
前記複数の物理的地点の各々において、第２の計算方法を用いて第２の予測位置を決定するステップと、
前記第１の物理的地点および第２の物理的地点の真の位置と、前記第１の予測位置および前記第２の予測位置とを比較することにより、前記第１の計算方法に適用する第１の重み因子および前記第２の計算方法に適用する第２の重み因子を決定するステップと
を有することを特徴とする重み因子算出方法。
【請求項５】
Ｎおよびｉは正の整数で且つｉはＮ以下であるとした場合に、座標（ｄX（ｉ），（ｉ），ｄZ（ｉ））で表されるＮ個の物理的地点の各々において、
第１の計算方法を用いて当該物理的地点の予測位置のｘ座標ＸBを測定するステップと、
第２の計算方法を用いて当該物理的地点の予測位置のｙ座標ＹBを測定するステップと、
重み因子ｗAおよびｗBを以下の数式（１）に従って計算するステップと
を有し、
前記重み因子ｗAおよびｗBは、前記第１の計算方法および前記第２の計算方法に係る強調量を各々決定するために用いられる
ことを特徴する重み因子計算方法。
【数１】
2004215258.tif 000001
【請求項６】
コンピュータを、
複数の無線送信機から無線信号を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された複数の無線信号に対し、複数の位置計算方法を適用して複数の暫定予測位置を各々算出する暫定位置算出手段と、
各位置算出方法の信頼度を表す参照情報を記憶する記憶手段と、
各位置算出方法に対し前記参照情報に対応する重み付け因子を決定し、該重み付け因子を用いて前記複数の暫定予測位置の加重平均を計算することにより一の予測位置を決定する位置決定手段と
して機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
【数１】
2004215254.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
前記［数式１０］において、Ｅ｛｝は、期待値（Expectation Value）関数であり、‖Ｗｋ‖-２ は、等価チャネル利得（Equivalent Channel Gain）である。したがって、‖Ｗｋ‖-２ が小さいほどチャネルの状態が良いといえる。固定変復調方法を使用するＭＩＭＯシステムのためのＶ−ＢＬＡＳＴ方法は、チャネル状態の良い階層を先に検波し、チャネル状態の悪い階層は既に検波が終了した信号の影響を除去した後に検波することによって、全ての階層が全体的に良い性能を表すようにする方法である。しかし、適応変復調方法では、前記固定変復調方法とは異なって良い階層を後に検波して性能をより良くし、悪い階層に対しては情報を伝送しないか、少ない量の情報のみを伝送して性能を向上させる方法である。したがって、適応変復調方法においては、本発明で提示するように既存のＶ−ＢＬＡＳＴのような検波順序の逆順に検波しないと性能を向上させることができない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷装置とネットワークを介して接続され、画像データと画像データの画像処理に用いられる画像処理制御データとを含む画像ファイルの前記画像データに画像処理を施す画像処理システムであって、
前記画像ファイルは、さらに、前記印刷装置の出力先を規定する出力規定情報を含んでおり、
前記画像処理システムは、
前記画像ファイルを前記ネットワークを介して受信する受信部と、
該画像ファイルに含まれている画像データに対し、該画像ファイルに含まれている画像処理制御データに基づく画像処理、および前記印刷装置に供給可能なデータ形式への変換処理を実行して、印刷データを生成する画像処理部と、
該印刷データを、前記出力規定情報に従って前記ネットワークを介して前記印刷装置に送信する送信部とを備える画像処理システム。
【請求項２】
出力装置とネットワークを介して接続され、画像データと画像データの画像処理に用いられる画像処理制御データとを含む画像ファイルの前記画像データに画像処理を施す画像処理システムであって、
前記画像ファイルは、さらに、前記出力装置の出力先を規定する出力規定情報を含んでおり、
前記画像処理システムは、
前記画像ファイルを入力する画像ファイル入力部と、
該画像ファイルに含まれている画像データに対し、該画像ファイルに含まれている画像処理制御データに基づく画像処理を施して、出力データを生成する画像処理部と、
該出力データを、前記出力規定情報に従って前記ネットワークに接続された出力装置に送信する送信部とを備える画像処理システム。
【請求項３】
請求項２記載の画像処理システムであって、
前記画像処理部は、前記画像データに対し、さらに、前記出力装置に供給可能なデータ形式への変換処理を行う画像処理システム。
【請求項４】
請求項３記載の画像処理システムであって、
前記画像処理部は、前記出力装置の機種に応じて前記変換処理の内容を切り替える画像処理システム。
【請求項５】
請求項２記載の画像処理システムであって、
前記画像ファイルは、前記出力装置における出力態様を規定する出力規定情報が含まれており、
前記送信部は、該出力規定情報に基づいて前記出力装置の出力を制御する画像処理システム。
【請求項６】
請求項２記載の画像処理システムであって、
前記画像ファイルに含まれる画像データは、ＹＣｂＣｒ色空間で規定されており、
前記画像処理は、ＹＣｂＣｒ色空間からＲＧＢ色空間への色空間変換を含む画像処理システム。
【請求項７】
請求項６記載の画像処理システムであって、
前記色空間変換は、ｓＲＧＢ色空間よりも色再現範囲の広い所定のＲＧＢ空間への変換が含まれる画像処理システム。
【請求項８】
請求項２記載の画像処理システムであって、
前記出力規定情報は、前記出力装置の機種情報を含む、画像処理システム。
【請求項９】
出力装置にネットワークを介して接続された画像処理システムを用いて、画像データと画像データの画像処理に用いられる画像処理制御データとを含む画像ファイルに基づく画像出力を行う画像出力方法であって、
前記画像ファイルは、さらに、前記出力装置の出力先を規定する出力規定情報を含んでおり、
前記画像ファイルを入力する工程と、
該画像ファイルに含まれている画像データに対し、該画像ファイルに含まれている画像処理制御データに基づく画像処理を施して、出力データを生成する工程と、
該出力データを、前記出力規定情報に従って前記出力装置に送信する工程を備える画像出力方法。
【請求項１０】
画像処理システムを用いて、該画像処理システムにネットワークを介して接続された出力装置に画像出力を行わせるためのコンピュータプログラムであって、
画像データと画像データの画像処理に用いられる画像処理制御データと前記出力装置の出力先を規定する出力規定情報とを含む画像ファイルを入力する機能と、
該画像ファイルに含まれている画像データに対し、該画像ファイルに含まれている画像処理制御データに基づく画像処理を施して、出力データを生成する機能と、
該出力データを、前記出力規定情報に従って前記出力装置に送信する機能を実現するコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月23日(2007.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨面上に一本または複数本の溝を有し、該溝は研磨面の中心部から周辺部へ向かう１本の仮想直線と溝とが複数回交差するように研磨面上に設けられており、溝巾が０．１〜１．５ｍｍの範囲にあり、溝深さが０．９〜９．８ｍｍの範囲にあり、上記仮想直線と交差する隣接交差点間の最小距離が０．３〜２．０ｍｍの範囲にありそしてこの研磨パッドの厚みに対する上記溝深さの比が１／７〜１／１．１の範囲にある、ことを特徴とする研磨パッド。
【請求項２】
上記溝の研磨面上における形状が、研磨面の中心部から周辺部へ向かって次第に拡大する１本以上のうず巻または互いに交差することがなく且つ円心状に配置された複数個の環もしくは多角形である請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
架橋重合体を含有する非水溶性マトリックスおよび該非水溶性マトリックス中に分散された水溶性粒子からなる素材で形成されている請求項１または２に記載の研磨パッド。
【請求項４】
溝巾が０．２〜１．２ｍｍの範囲にある請求項１〜３のいずれかに記載の研磨パッド。
【請求項５】
溝深さが３．０〜９．８ｍｍの範囲にある請求項１〜４のいずれかに記載のパッド。
【請求項６】
溝深さが３．０〜４．５ｍｍの範囲にある請求項５に記載のパッド。
【請求項７】
仮想直線と交差する隣接交差点間の最小距離が０．５〜２．０ｍｍの範囲にある請求項１〜６のいずれかに記載の研磨パッド。
【請求項８】
研磨パッドの厚みに対する溝深さの比が１／４〜１／１．３の範にある請求項１〜７のいずれかに記載の研磨パッド。
【請求項９】
溝の内面の表面粗さが２０μｍ以下である請求項１〜８のいずれかに記載の研磨パッド。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）主面およびその反対面の裏面を持つ半導体ウエハを用意する工程、
（ｂ）前記半導体ウエハの主面に半導体素子を有する半導体チップを形成し、前記半導体チップの周囲に設けられた切断領域に金属パターンを形成する工程、
（ｃ）テープと、前記テープの外周に貼り付けられた枠体とを有する治具を準備する工程、
（ｄ）前記治具のテープに前記半導体ウエハの主面を貼り付ける工程、
（ｅ）前記半導体ウエハの主面の切断領域の金属パターンを認識する工程、
（ｆ）前記治具のテープに前記半導体ウエハの主面を貼り付けた状態で、前記金属パターンの脇を前記半導体ウエハの切断領域に沿って前記半導体ウエハの裏面から前記半導体ウエハの内部に集光点を合わせてレーザを照射し、前記半導体ウエハの内部に改質層を形成する工程、
（ｇ）前記テープを引き伸ばすことにより、前記改質層を起点として前記半導体ウエハを切断し、前記半導体チップに分割する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、前記（ｄ）工程の後、前記治具のテープに前記半導体ウエハの主面を貼り付けた状態で、前記半導体ウエハの裏面を研削する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置の製造方法において、前記(ｅ)工程の後に、前記半導体ウエハを研磨することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、前記半導体ウエハの厚さが１００μｍまたは１００μｍより薄いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、前記研磨する工程は、研磨パッドを用いて行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項３記載の半導体装置の製造方法において、前記研磨する工程は、エッチング法により行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、前記金属パターンは、前記切断領域の幅方向において、中心からずれて配置されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１記載の半導体装置の製造方法において、前記治具の枠体は、前記テープの主面に形成された接着層を介して貼り付けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８記載の半導体装置の製造方法において、前記半導体ウエハの主面は、前記テープの主面に形成された接着層を介して貼り付けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。