Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスに用いる透明基板の製造方法であって、
式（１）で示されるエポキシ樹脂およびカチオン系硬化触媒を含む未硬化の樹脂材料を、シート状基材に担持する担持工程と、前記樹脂材料を硬化する硬化工程とを実行して連続的に透明コア基板を形成することを特徴とする透明基板の製造方法。
【化１】
2007045951.tif 000001
【請求項２】
前記樹脂材料を前記シート状基材に担持した後に、前記シート状基材の少なくとも片面に支持部材を積層する積層工程を有しているものである請求項１に記載の透明基板の製造方法。
【請求項３】
前記積層工程は、前記担持工程の後、かつ前記硬化工程の前に前記樹脂材料が未硬化の状態で行なわれるものである請求項２に記載の透明基板の製造方法。
【請求項４】
前記積層工程において、前記支持部材によって前記シート状基材の表面から突出する突出物を該シート状基材面側に押圧する請求項２または３に記載の透明基板の製造方法。
【請求項５】
前記積層工程の後に、前記支持部材を剥離する剥離工程を有しているものである請求項２ないし４のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項６】
前記樹脂材料は、さらに前記エポキシ樹脂の屈折率を調整することが可能な第２成分を含むものである請求項１ないし５のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項７】
前記第２成分の屈折率は、前記エポキシ樹脂の屈折率よりも低いものである請求項６に記載の透明基板の製造方法。
【請求項８】
前記第２成分は、前記エポキシ樹脂のエポキシ基と反応可能な官能基を有しているものである請求項６または７に記載の透明基板の製造方法。
【請求項９】
前記官能基は、オキセタニル基、エポキシ基、またはビニルエーテル基である請求項８に記載の透明基板の製造方法。
【請求項１０】
前記樹脂材料の第２成分は、分子構造中にシリケート構造を含むものである請求項６ないし９のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１１】
前記第２成分は、主としてオキセタニル基を持つシルセスキオキサンを含むものである請求項６ないし１０のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１２】
前記シート状基材は、ガラス繊維の集合体で構成されているものである請求項１ないし１１のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１３】
前記ガラス繊維の屈折率と、前記樹脂材料を硬化した後の屈折率との差が、０．０１以下である請求項１２に記載の透明基板の製造方法。
【請求項１４】
前記透明コア基板の少なくとも一方の面に樹脂層を設ける平滑化工程を有しているものである請求項１ないし１３のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１５】
前記透明基板の３０〜１５０℃の平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である請求項１ないし１４のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１６】
波長５５０ｎｍでの光線透過率が８０％以上である請求項１ないし１５のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１７】
前記透明基板が、表示素子用樹脂基板である請求項１ないし１６のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
【請求項１８】
請求項１ないし１７のいずれかに記載の透明基板の製造方法によって得られることを特徴とする透明基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】透明基板の製造方法および透明基板
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、透明基板の製造方法および透明基板に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような目的は、下記（１）〜（１８）に記載の本発明により達成される。
（１）電子デバイスに用いる透明基板の製造方法であって、式（１）で示されるエポキシ樹脂およびカチオン系硬化触媒を含む未硬化の樹脂材料を、シート状基材に担持する担持工程と、前記樹脂材料を硬化する硬化工程とを実行して連続的に透明コア基板を形成することを特徴とする透明基板の製造方法。
【化１】
2007045951.tif 000002
（２）前記樹脂材料を前記シート状基材に担持した後に、前記シート状基材の少なくとも片面に支持部材を積層する積層工程を有しているものである上記（１）に記載の透明基板の製造方法。
（３）前記積層工程は、前記担持工程の後、かつ前記硬化工程の前に前記樹脂材料が未硬化の状態で行なわれるものである上記（２）に記載の透明基板の製造方法。
（４）前記積層工程において、前記支持部材によって前記シート状基材の表面から突出する突出物を該シート状基材面側に押圧する上記（２）または（３）に記載の透明基板の製造方法。
（５）前記積層工程の後に、前記支持部材を剥離する剥離工程を有しているものである上記（２）ないし（４）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（６）前記樹脂材料は、さらに前記エポキシ樹脂の屈折率を調整することが可能な第２成分を含むものである上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（７）前記第２成分の屈折率は、前記エポキシ樹脂の屈折率よりも低いものである上記（６）に記載の透明基板の製造方法。
（８）前記第２成分は、前記エポキシ樹脂のエポキシ基と反応可能な官能基を有しているものである上記（６）または（７）に記載の透明基板の製造方法。
（９）前記官能基は、オキセタニル基、エポキシ基、またはビニルエーテル基である上記（８）に記載の透明基板の製造方法。
（１０）  前記樹脂材料の第２成分は、分子構造中にシリケート構造を含むものである上記（６）ないし（９）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１１）前記第２成分は、主としてオキセタニル基を持つシルセスキオキサンを含むものである上記（６）ないし（１０）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１２）前記シート状基材は、ガラス繊維の集合体で構成されているものである上記（１）ないし（１１）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１３）前記ガラス繊維の屈折率と、前記樹脂材料を硬化した後の屈折率との差が、０．０１以下である上記（１２）に記載の透明基板の製造方法。
（１４）前記透明コア基板の少なくとも一方の面に樹脂層を設ける平滑化工程を有しているものである上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１５）前記透明基板の３０〜１５０℃の平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である上記（１）ないし（１４）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１６）波長５５０ｎｍでの光線透過率が８０％以上である上記（１）ないし（１５）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１７）前記透明基板が、表示素子用樹脂基板である上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の透明基板の製造方法。
（１８）上記（１）ないし（１７）のいずれかに記載の透明基板の製造方法によって得られることを特徴とする透明基板。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天然配列ヒトＩＧＦ-Ｉの位置３、５、７、１０、１４、２５、４３又は４９のアミノ酸がアラニン残基で置換されたＩＧＦ-Ｉ変異体を含む、ＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項２】
前記位置３のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項３】
前記位置５のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項４】
前記位置７のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項５】
前記位置１０のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項６】
前記位置１４のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項７】
前記位置２５のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項８】
前記位置４３のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【請求項９】
前記位置４９のアミノ酸が置換された請求項１に記載のＩＧＦＢＰ−３特異的結合剤。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月11日(2007.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
以上の構成からなる竪型成形機の作用を次に説明する。
図１において、想像線で示す可動盤２４を実線で示す位置まで、型締シリンダ２７で上昇させることで、固定型２５と可動型２６との型閉じ及び型締めを行う。この際、第１の支持部材３１及び射出機構１３を支える固定盤２２が、揺れることがある。この揺れは、タイバー２３、２３を通じて可動盤２４に作用するが、可動盤２４は第２のスライダ３８を介して第２の支持部材３６に繋がっているため、固定盤２２等の横揺れを抑えることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月22日(2006.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の微小間隙を形成するように繊維を交絡させてなる繊維集合体の繊維の表面に光触媒層が形成されてなる空気清浄フィルタ。
【請求項２】
上記光触媒層は、結晶形が無定形の第１の酸化チタン層上に、結晶形がアナタースの第２の酸化チタン層が形成されてなることを特徴とする請求項１記載の空気清浄フィルタ。
【請求項３】
多数の微小間隙を形成するように繊維を交絡させてなる繊維集合体を、結晶形が無定形の酸化チタンの溶液に浸漬し、乾燥させた後、結晶形がアナタースの酸化チタンの溶液に浸漬し、乾燥させる空気清浄フィルタの製造方法。
【請求項４】
一方の側に吸気口が設けられ、この吸気口と略反対の他方の側に排気口が設けられたケース本体と、
上記ケース本体に上記吸気口から上記排気口への空気流路を形成する送風手段と、
多数の微小間隙を形成するように繊維を交絡させてなる繊維集合体の繊維の表面に光触媒層が形成されてなり、上記ケース本体内の上記空気流路中に配設される空気清浄フィルタと、
上記ケース本体内に設けられ、上記光触媒層を光触媒反応させる光源とを備える空気清浄機。
【請求項５】
上記ケース本体は、略扁平で矩形をなし、
上記空気清浄フィルタは、上記ケース本体内に、互いに平行に離間して複数設けられ、
上記光源は、上記空気清浄フィルタの間に設けられていることを特徴とする請求項４記載の空気清浄機。
【請求項６】
上記空気清浄フィルタの光触媒層は、結晶形が無定形の第１の酸化チタン層上に、結晶形がアナタースの第２の酸化チタン層が形成されてなることを特徴とする請求項４又は請求項５記載の空気清浄機。
【請求項７】
収納部に空気清浄機が収納されており、
上記空気清浄機は、上記収納部に対応した大きさで、一方の側に吸気口が設けられ、この吸気口と略反対の他方の側に排気口が設けられたケース本体と、
上記ケース本体に上記吸気口から上記排気口への空気流路を形成する送風手段と、
多数の微小間隙を形成するように繊維を交絡させてなる繊維集合体の繊維の表面に光触媒層が形成されてなり、上記ケース本体内の上記空気流路中に配設される空気清浄フィルタと、
上記ケース本体内に設けられ、上記光触媒層を光触媒反応させる光源とを備える収納装置。
【請求項８】
該収納装置は、床頭台であることを特徴とする請求項７記載の収納装置。
【請求項９】
上記空気清浄フィルタは、上記ケース本体内に、互いに平行に離間して複数設けられ、
上記光源は、上記空気清浄フィルタの間に設けられていることを特徴とする請求項７又は請求項８記載の収納装置。
【請求項１０】
上記ケース本体は、上記収納部に、上記吸気口が前面側に位置し、上記排気口が背面側に位置するように収納されることを特徴とする請求項７乃至請求項９の内何れか１項記載の収納装置。
【請求項１１】
上記吸気口及び／又は上記排気口には、遮光板が設けられていることを特徴とする請求項７乃至請求項１０の内何れか１項記載の収納装置。
【請求項１２】
上記ケース本体の内面には、反射板が設けられていることを特徴とする請求項７乃至請求項１１の内何れか１項記載の収納装置。
【請求項１３】
上記空気清浄フィルタの光触媒層は、結晶形が無定形の第１の酸化チタン層上に、結晶形がアナタースの第２の酸化チタン層が形成されてなることを特徴とする請求項７乃至請求項１２の内何れか１項記載の収納装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】空気清浄フィルタ、空気清浄フィルタの製造方法、空気清浄フィルタを用いた空気清浄機及び空気清浄機を収納した収納装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、光触媒を用いた空気清浄フィルタ、この空気清浄フィルタの製造方法、及びこの空気清浄フィルタを用いた空気清浄機及び空気清浄機を収納した収納装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
更に、本発明の目的は、以上のような空気清浄フィルタを用いることで全体の小型化を図りつつ、脱臭、殺菌等の光触媒効果の向上を図ることができる空気清浄機及びこれを収納した収納装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
以上のような空気清浄フィルタを用いた空気清浄機は、一方の側に吸気口が設けられ、この吸気口と略反対の他方の側に排気口が設けられたケース本体と、上記ケース本体に上記吸気口から上記排気口への空気流路を形成する送風手段と、多数の微小間隙を形成するように繊維を交絡させてなる繊維集合体の繊維の表面に光触媒層が形成されてなり、上記ケース本体内の上記空気流路中に配設される空気清浄フィルタと、上記ケース本体内に設けられ、上記光触媒層を光触媒反応させる光源とを備える。
また、本発明に係る収納装置は、以上のような空気清浄機を収納部に収納したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
収容ケース内で保持手段に保持され、磁界が加わると、オフ状態から電源供給状態に切り替わる電源供給用スイッチを備えたカプセル型内視鏡において、
前記カプセル型内視鏡の電源供給用スイッチに対し、前記保持手段を介して外部から磁界を加え得る磁性体を、
備えることを特徴とするカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項２】
前記保持手段は、互いの間に保持空間領域を形成し、前記保持空間領域内に前記カプセル型内視鏡を収容して保持する第１および第２の保持手段を有し、
前記カプセル型内視鏡用電源スターターは、前記第１および第２の保持手段のいずれか一方に着脱自在に係合可能なことを特徴とする請求項１に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項３】
前記カプセル型内視鏡用電源スターターは、前記第１および第２の保持手段のいずれか一方に係合して、前記第１および第２の保持手段のいずれか一方が他方の保持手段から取り外し可能な係合手段を、
さらに備えることを特徴とする請求項２に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項４】
前記取り外したいずれか一方の保持手段に前記カプセル型内視鏡が保持されていることを特徴とする請求項３に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項５】
前記磁性体の移動が可能な移動手段と、
前記磁性体の移動を抑止する抑止手段と、
をさらに備え、前記収容ケースに接触した時に、前記抑止手段による抑止が解除され、前記磁性体が移動手段によって前記電源供給用スイッチを電源供給状態に切り替え可能に移動することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項６】
前記磁性体は、前記カプセル型内視鏡を挟んで対向する少なくとも２つの磁性体からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項７】
前記少なくとも２つの磁性体は、前記電源供給用スイッチに加わる磁界の方向が同一方向となるように配置されることを特徴とする請求項６に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項８】
前記カプセル型内視鏡の電源供給状態を確認可能な確認手段を、
さらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項９】
前記確認手段は、少なくとも一部が透明又は半透明な前記保持手段と、前記カプセル型内視鏡用電源スターターに設けられる穴部とからなることを特徴とする請求項８に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項１０】
前記カプセル型内視鏡用電源スターターを前記保持手段に係合させた後に、前記カプセル型内視鏡用電源スターターを前記カプセル型内視鏡の円周方向に回転させることで前記電源供給用スイッチを電源供給状態に切り替えることを特徴とする請求項２に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項１１】
前記カプセル型内視鏡用電源スターターは、前記カプセル型内視鏡の円周方向に最大９０度回転させることを特徴とする請求項１０に記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【請求項１２】
前記磁性体は、磁石であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一つに記載のカプセル型内視鏡用電源スターター。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月2日(2007.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
ところで、桁方向に長手状に構築されたビニールハウス等の構築物にあって、横風を受けたとき、或いはシートやフィルム上に雪が積もったとき、シートやフィルムを固定している支柱には、引張応力，圧縮応力及び曲げモーメントが負荷としてかかる。
支柱の変形抑制は、負荷がかかる方向に関係なく必要であり、地中埋め込みパイプハウス安全構造基準では各部の変形限度を、柱の倒れはｈ／３５以下、棟のたわみはＬ／６０以下と定めている。ただし、上記変形限度におけるｈ及びＤは、図４に示すように、それぞれパイプハウスの柱の高さ及び間口の広さである。
そして、図４に見られるような妻側からの風圧等、桁方向水平力による変形は、壁面及び屋根面に設けた側筋かい及び屋根筋かい（図１中の１６及び１７）により抑制することができるが、桁側からの妻方向水平力による変形に対しては、妻方向に筋かいを設けることができないために抑制し難く、構築物としては妻方向へ変形しやすくなる。
すなわち、妻方向への変形抑制策を検討する必要がある。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月12日(2006.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体からの核磁気共鳴信号を受信する受信コイルと、前記核磁気共鳴信号を増幅する増幅器を有する受信手段を備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記受信手段は、前記増幅器を備えた第１の経路と、前記増幅器を備えてない第２の経路と、前記２つの経路のいずれかを選択する選択手段を備え、
前記選択手段は、前記受信コイルが前記増幅器を有するときには前記第２の経路を、有しない時には前記第１の経路を選択することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記選択手段は、前記受信コイルの種類を認識する手段を備えて、前記受信コイルの種類に対応して前記２つの経路のいずれかを選択することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記増幅器の電源をＯＮ／ＯＦＦする制御手段を備え、前記増幅器の使用状態に対応して該増幅器の電源をＯＮ／ＯＦＦ制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
これにより、前段増幅器が内蔵されていない受信コイルと前段増幅器が内蔵されている受信コイルとを混在して使用することができるようになり、第1の目的を達成することができる。
また、好ましい実施形態では、前記選択手段は、前記受信コイルの種類を認識する手段を備えて、前記受信コイルの種類に対応して前記2つの経路のいずれかを選択する。
これにより、受信コイルの種類に対応して自動的に経路を選択できるようになる。
また、好ましい実施形態では、さらに、前記増幅器の電源をOFFにする制御手段を備え、前記増幅器の使用状態に対応して該増幅器の電源をON／OFF制御する。
これにより、前段増幅器が原因となって発生するノイズが、使用中の前段増幅器や受信系の他の部分に伝搬しないようにすることができるようになり、上記第2の目的を達成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月28日(2006.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
採血部及び生体を加圧する加圧部よりなり、前記加圧部に対し少なくとも生体端部方向に前記採血部を備えた採血装置。
【請求項２】
採血部が、皮膚を穿刺又は切開手段よりなる穿刺手段を備え、前記穿刺手段により皮膚外へ血液を採取可能に取りだす請求項１に記載の採血装置。
【請求項３】
前記加圧部材は、加圧部位を全部又は１部を囲繞して、締め付ける方向に加圧する請求項１に記載の採血装置。
【請求項４】
前記採血部と前記加圧部を一体的に構成した請求項１に記載の採血装置。
【請求項５】
前記加圧部における加圧量が、２５mmHg〜７５mmHgであり、前記採血部における採血のタイミングが、加圧してから１５秒〜４５秒経過後である請求項１に記載の採血装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月17日(2007.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体が配置される均一静磁場空間を発生する静磁場発生手段と、
前記被検体からの核磁気共鳴信号を受信するＲＦ受信コイルと、
前記被検体を載置して移動させるテーブルと、
少なくとも位相エンコードを間引いて前記核磁気共鳴信号を計測して間引きｋ空間データを取得する計測手段と、
前記間引きｋ空間データと、前記ＲＦ受信コイルの受信感度分布データと、を用いて折り返しの無い画像を取得する画像再構成手段と、
前記テーブル移動と前記間引き計測と前記画像再構成の実行を制御する制御手段と、
を備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記ＲＦ受信コイルは、一つであって前記均一静磁場空間内に位置不動に配置され、
前記計測手段は、前記被検体の所望の部位が前記一つのＲＦ受信コイルに対して、第１の相対位置にあるときに間引き計測して第１の間引きｋ空間データを取得し、第２の相対位置にあるときに間引き計測して第２の間引きｋ空間データを取得し、
前記画像再構成手段は、前記第１の間引きｋ空間データと、前記第２の間引きｋ空間データと、前記一つのＲＦ受信コイルの感度分布データと、から前記所望の部位に関する折り返しの無い画像を取得することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記計測手段は、スライスエンコードを付与して３次元の核磁気共鳴信号を計測して、前記第１及び第２の相対位置において、それぞれ第１及び第２の間引き３次元ｋ空間データを取得し、
前記画像再構成手段は、前記第１の間引き３次元ｋ空間データと、前記第２の間引き３次元ｋ空間データと、前記一つのＲＦ受信コイルの感度分布データと、から前記所望の部位に関する折り返しの無い３次元画像を取得することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
請求項２に記載の磁気共鳴イメージング装置において、
前記計測手段は、前記スライスエンコードの少なくとも１ステップ毎に前記テーブルを移動させて前記間引き計測を行い、
前記画像再構成手段は、前記被検体の移動方向の座標を揃えて前記スライスエンコード方向にフーリエ変換して、前記折り返しの無い３次元画像を取得することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明は以下のように構成される。即ち、
被検体が配置される均一静磁場空間を発生する静磁場発生手段と、
前記被検体からの核磁気共鳴信号を受信するＲＦ受信コイルと、
前記被検体を載置して移動させるテーブルと、
少なくとも位相エンコードを間引いて前記核磁気共鳴信号を計測して間引きｋ空間データを取得する計測手段と、
前記間引きｋ空間データと、前記ＲＦ受信コイルの受信感度分布データと、を用いて折り返しの無い画像を取得する画像再構成手段と、
前記テーブル移動と前記間引き計測と前記画像再構成の実行を制御する制御手段と、
を備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記ＲＦ受信コイルは、一つであって前記均一静磁場空間内に位置不動に配置され、
前記計測手段は、前記被検体の所望の部位が前記一つのＲＦ受信コイルに対して、第１の相対位置にあるときに間引き計測して第１の間引きｋ空間データを取得し、第２の相対位置にあるときに間引き計測して第２の間引きｋ空間データを取得し、
前記画像再構成手段は、前記第１の間引きｋ空間データと、前記第２の間引きｋ空間データと、前記一つのＲＦ受信コイルの感度分布データと、から前記所望の部位に関する折り返しの無い画像を取得する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の好ましい第2の実施態様は、前記第1の実施態様のＭＲＩ装置において、前記計測手段は、スライスエンコードを付与して３次元の核磁気共鳴信号を計測して、前記第１及び第２の相対位置において、それぞれ第１及び第２の間引き３次元ｋ空間データを取得し、
前記画像再構成手段は、前記第１の間引き３次元ｋ空間データと、前記第２の間引き３次元ｋ空間データと、前記一つのＲＦ受信コイルの感度分布データと、から前記所望の部位に関する折り返しの無い３次元画像を取得する。
また、本発明の好ましい第3の実施態様は、前記第2の実施態様のＭＲＩ装置において、前記計測手段は、前記スライスエンコードの少なくとも１ステップ毎に前記テーブルを移動させて前記間引き計測を行い、
前記画像再構成手段は、前記被検体の移動方向の座標を揃えて前記スライスエンコード方向にフーリエ変換して、前記折り返しの無い３次元画像を取得する。
これらの実施態様によれば、テーブル移動に伴う撮影のデットタイムを少なくすることができる。このため、３ＤマルチステーションＭＲＩにおいて、全体の撮影時間を短縮することができ、被検体の負担を低減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する保持テーブルと、前記基板の前記保持テーブルに保持された保持面とは反対側の塗布面に相対向して液体が流出されるスリット状のノズル開口が設けられた塗布ヘッドとを具備するスリットコート式塗布装置であって、
前記保持テーブルが、当該基板の前記塗布面に直交する軸を中心として回転自在に設けられていると共に、前記塗布ヘッドの前記ノズル開口が前記基板の回転半径よりも短く形成され、且つ当該塗布ヘッドが前記基板の前記塗布面の面方向に沿って前記基板の回転中心を通る直線上に移動自在に設けられており、前記保持テーブルを回転させながら前記塗布ヘッドを前記塗布面の面方向に移動させることで、前記基板の前記塗布面に液体を塗布することを特徴とするスリットコート式塗布装置。
【請求項２】
前記塗布ヘッドが、前記ノズル開口の長手方向が前記回転中心を通る直線上に沿って配置されていることを特徴とする請求項１記載のスリットコート式塗布装置。
【請求項３】
前記塗布ヘッドが複数個設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載のスリットコート式塗布装置。
【請求項４】
基板を保持する保持テーブルと、前記基板の前記保持テーブルに保持された保持面とは反対側の塗布面に相対向して液体が流出されるスリット状のノズル開口が形成された塗布ヘッドとを具備するスリットコート式塗布方法であって、
前記保持テーブルを前記基板の前記塗布面に直交する軸を中心として回転させながら、前記ノズル開口が前記基板の回転半径よりも短く形成された前記塗布ヘッドを前記基板の前記塗布面の面方向に沿って前記基板の回転中心を通る直線上に移動させることにより、前記基板の前記塗布面に液体を塗布することを特徴とするスリットコート式塗布方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、基板を保持する保持テーブルと、前記基板の前記保持テーブルに保持された保持面とは反対側の塗布面に相対向して液体が流出されるスリット状のノズル開口が設けられた塗布ヘッドとを具備するスリットコート式塗布装置であって、前記保持テーブルが、当該基板の前記塗布面に直交する軸を中心として回転自在に設けられていると共に、前記塗布ヘッドの前記ノズル開口が前記基板の回転半径よりも短く形成され、且つ当該塗布ヘッドが前記基板の前記塗布面の面方向に沿って前記基板の回転中心を通る直線上に移動自在に設けられており、前記保持テーブルを回転させながら前記塗布ヘッドを前記塗布面の面方向に移動させることで、前記基板の前記塗布面に液体を塗布することを特徴とするスリットコート式塗布装置にある。
かかる第１の態様では、基板を回転させながら液体の塗布を行うことにより、遠心力によって液体の膜厚の均一性を向上することができると共に塗布された液体に含まれる溶剤を揮発させながら液体の塗布を行うことができ、液体の乾燥ムラを防止することができる。また、基板サイズに制約を受けることなく、小型の塗布ヘッドを用いて基板に液体を塗布することができる。さらに、基板の回転速度及び回転方向や塗布ヘッドの移動速度などを制御することにより、基板の塗布面上に所望のパターンで液体を塗布することができると共に、基板の塗布面の面内で膜厚の異なる液体を容易に塗布することができる。
また、塗布ヘッドを基板の回転中心を通る直線上に移動させても、小型の塗布ヘッドによって基板の塗布面の全面に亘って液体を均一な膜厚で塗布することができると共に、基板の全面に亘って所望のパターンで液体を塗布することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第２の態様は、前記塗布ヘッドが、前記ノズル開口の長手方向が前記回転中心を通る直線上に沿って配置されていることを特徴とする第１の態様のスリットコート式塗布装置にある。
かかる第２の態様では、基板の塗布面の全面に亘って液体を効率よく均一な膜厚で塗布することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第３の態様は、前記塗布ヘッドが複数個設けられていることを特徴とする第１又は２の態様のスリットコート式塗布装置にある。
かかる第３の態様では、複数の塗布ヘッドにより所望のパターンや塗布面の面内で厚さの異なる液体を容易に塗布することができると共に、多点から液体の塗布を開始することで、塗布された液体の均一性を向上することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第４の態様は、基板を保持する保持テーブルと、前記基板の前記保持テーブルに保持された保持面とは反対側の塗布面に相対向して液体が流出されるスリット状のノズル開口が形成された塗布ヘッドとを具備するスリットコート式塗布方法であって、前記保持テーブルを前記基板の前記塗布面に直交する軸を中心として回転させながら、前記ノズル開口が前記基板の回転半径よりも短く形成された前記塗布ヘッドを前記基板の前記塗布面の面方向に沿って前記基板の回転中心を通る直線上に移動させることにより、前記基板の前記塗布面に液体を塗布することを特徴とするスリットコート式塗布方法にある。
かかる第４の態様では、基板を回転させながら液体の塗布を行うことにより、遠心力によって液体の膜厚の均一性を向上することができると共に塗布された液体に含まれる溶剤を揮発させながら液体の塗布を行うことができ、液体の乾燥ムラを防止することができる。また、基板サイズに制約を受けることなく、小型の塗布ヘッドを用いて基板に液体を塗布することができる。さらに、基板の回転速度及び回転方向や塗布ヘッドの移動速度などを制御することにより、基板の塗布面上に所望のパターンで液体を塗布することができると共に、基板の塗布面の面内で膜厚の異なる液体を容易に塗布することができる。
また、塗布ヘッドを基板の回転中心を通る直線上に移動させても、小型の塗布ヘッドによって基板の塗布面の全面に亘って液体を均一な膜厚で塗布することができると共に、基板の全面に亘って所望のパターンで液体を塗布することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月26日(2007.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
気液が接触する単位操作で使用される多孔板型トレイに取り付けられ、その開口部を塞いで多孔板型トレイの開口面積を調節するプレートであって、
該プレート１枚当たりの大きさが、多孔板型トレイ全開口面積の０．１〜５％に相当する面積の多孔板型トレイの開口部を塞ぐ大きさであることを特徴とする多孔板型トレイ用開口面積調節プレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の多孔板型トレイ用開口面積調節プレートは、気液が接触する単位操作で使用される多孔板型トレイに取り付けられ、その開口部を塞いで多孔板型トレイの開口面積を調節するプレートであって、
該プレート１枚当たりの大きさが、多孔板型トレイ全開口面積の０．１〜５％に相当する面積の多孔板型トレイの開口部を塞ぐ大きさであることを特徴とする。
本発明の多孔板型トレイ用開口面積調節プレートには、多孔板型トレイに取り付けるための取付部材を挿入する挿入孔が形成されていてもよい。
その場合、挿入孔が２つ以上形成されていることが好ましい。
本発明の多孔板型トレイ用開口面積調節プレートは、多孔板型トレイ厚みｔに対して、厚みが０．１ｔ〜１．５ｔの範囲であることが好ましい。
また、本発明の多孔板型トレイ用開口面積調節プレートは、多孔板型トレイに取り付けられた際に該トレイ表面に平行な平行面と該平行面に交わる少なくとも１つの側面とで形成される角が滑らかにされていることが好ましい。
本発明の気液接触装置は、多孔板型トレイと、該多孔板型トレイに取り付けられた上記多孔板型トレイ用開口面積調節プレートとを具備することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月1日(2007.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種の絵柄が周方向に付された複数の周回体と、
前記各周回体について各絵柄のうち一部の絵柄を視認可能とする表示窓と、
前記各周回体の回転を開始させるべく操作される始動操作手段と、
前記各周回体毎に設けられ、該各周回体を回転させる駆動手段と、
前記各周回体の回転を停止させるべく操作される停止操作手段と、
前記始動操作手段の操作に基づいて前記各周回体の回転を開始させ、前記停止操作手段の操作に基づいて前記各周回体の回転を停止させるように、前記各駆動手段を駆動制御する駆動制御手段と、
前記各周回体が停止した際、前記表示窓から視認できる有効位置に前記絵柄によって形成される絵柄又は絵柄の組合せに基づいて成立した役に基づき、予め設定した数の遊技媒体を払い出す払出装置と
を備え、
前記各周回体が停止した際、前記表示窓から視認できる有効位置に前記絵柄によって形成される特定絵柄の組合せが成立している場合に特別遊技状態を付与するように構成された遊技機において、
特別遊技状態中に前記払出装置によって払い出される遊技媒体数が予め定めた規定数に達すると特別遊技状態を終了させる特別遊技終了手段と、
遊技者に対して遊技に関する情報を報知する報知手段と、
前記特別遊技状態が発生すると前記報知手段を制御して前記規定数を報知させる報知制御手段と
を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記特別遊技状態は所定ゲーム数が終了するまで継続するものであり、前記特別遊技終了手段は、特別遊技状態中に前記払出装置によって払い出される遊技媒体数が予め定めた規定数に達すると前記所定ゲーム数が終了する前に特別遊技状態を終了させるものである請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記報知制御手段は、前記特別遊技状態が発生すると前記報知手段によって前記規定数を報知させるとともに、特別遊技状態中に前記払出装置によって払い出される払出数を前記規定数から減算した上、その減算後の値を前記報知手段によって報知させるよう、前記報知手段を制御することを特徴とする請求項１又は２記載の遊技機。
【請求項４】
前記規定数は、特別遊技状態中において最大でどれだけの遊技媒体数を払出装置から払い出すかの予定した上限値から、特別遊技状態中において１ゲームで獲得できる最大数を減算して求めた値であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月8日(2007.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
遊技盤（６）に、遊技球を検出する始動手段（１５）と、該始動手段（１５）が遊技球を検出することを条件に複数個の図柄が所定時間変動する図柄表示手段（２１）と、該図柄表示手段（２１）とは異なった演出表示（４０）を行う演出表示手段（２２）とを備え、主制御基板（５３）に、前記始動手段（１５）が遊技球を検出することを条件に制御コマンドを送信する制御コマンド送信手段（５９）と、変動後の前記図柄が特定態様となった場合に遊技者に有利な遊技状態を発生させる遊技状態発生手段（５８）とを備え、表示制御基板（３１）に、前記制御コマンドに基づいて前記演出表示（４０）を制御する演出制御手段（６１）を備えた弾球遊技機において、前記演出表示（４０）の全て又は一部の認識が困難な隠蔽状態と認識が容易な非隠蔽状態とに変化可能な隠蔽手段（２３）を備え、前記表示制御基板（３１）に、前記制御コマンドに基づいて、変動後の前記図柄が前記特定態様となる可能性が高い場合に、前記隠蔽手段（２３）を前記隠蔽状態と前記非隠蔽状態とに変化させる隠蔽制御手段（６２）を備えたことを特徴とする弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、遊技盤６に、遊技球を検出する始動手段１５と、該始動手段１５が遊技球を検出することを条件に複数個の図柄が所定時間変動する図柄表示手段２１と、該図柄表示手段２１とは異なった演出表示４０を行う演出表示手段２２とを備え、主制御基板５３に、前記始動手段１５が遊技球を検出することを条件に制御コマンドを送信する制御コマンド送信手段５９と、変動後の前記図柄が特定態様となった場合に遊技者に有利な遊技状態を発生させる遊技状態発生手段５８とを備え、表示制御基板３１に、前記制御コマンドに基づいて前記演出表示４０を制御する演出制御手段６１を備えた弾球遊技機において、前記演出表示４０の全て又は一部の認識が困難な隠蔽状態と認識が容易な非隠蔽状態とに変化可能な隠蔽手段２３を備え、前記表示制御基板３１に、前記制御コマンドに基づいて、変動後の前記図柄が前記特定態様となる可能性が高い場合に、前記隠蔽手段２３を前記隠蔽状態と前記非隠蔽状態とに変化させる隠蔽制御手段６２を備えたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明では、遊技盤６に、遊技球を検出する始動手段１５と、該始動手段１５が遊技球を検出することを条件に複数個の図柄が所定時間変動する図柄表示手段２１と、該図柄表示手段２１とは異なった演出表示４０を行う演出表示手段２２とを備え、主制御基板５３に、始動手段１５が遊技球を検出することを条件に制御コマンドを送信する制御コマンド送信手段５９と、変動後の図柄が特定態様となった場合に遊技者に有利な遊技状態を発生させる遊技状態発生手段５８とを備え、表示制御基板３１に、制御コマンドに基づいて演出表示４０を制御する演出制御手段６１を備えた弾球遊技機において、演出表示４０の全て又は一部の認識が困難な隠蔽状態と認識が容易な非隠蔽状態とに変化可能な隠蔽手段２３を備え、表示制御基板３１に、制御コマンドに基づいて、変動後の図柄が特定態様となる可能性が高い場合に、隠蔽手段２３を隠蔽状態と非隠蔽状態とに変化させる隠蔽制御手段６２を備えているので、従来に比較して演出性に変化を持たせて、遊技者の趣味を喚起できる利点がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
第２図柄３８ａ〜３８ｃの変動中は、図９（Ａ）に示すように、隠蔽手段２３の隠蔽部材４１が下降して隠蔽状態にある。第２図柄３８ａ〜３８ｃは、図９（Ｂ）〜（Ｄ）に示すように、左、右、中の順序で停止する。この場合、左の第２図柄３８ａが例えば「７」等のある図柄で停止し、右の第２図柄３８ｃがそれと同種の図柄で停止すると、図８及び図９（Ｄ）に示すように、隠蔽部材４１が非隠蔽状態まで上昇して、演出表示手段２２の「リーチ！」の演出表示４０が出現する。このように演出表示４０は、文字、その他のものでも良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図１０は本発明の第３の実施形態を例示し、この実施形態では、隠蔽手段２３は通常、演出表示手段２２の演出表示４０を認識可能な非隠蔽状態にあり、その後に隠蔽状態と非隠蔽状態とに変化するようにしている。例えば、図１０（Ａ）に示すように、通常、隠蔽部材４１は非隠蔽状態の上昇位置にある。そして、第２図柄３８ａ〜３８ｃの変動中に、図１０（Ａ）（Ｂ）に示すように、左の第２図柄３８ａが「７」等で停止した時点、その他の適宜時点で「アタレ！」等の予告的な演出表示４０が演出表示手段２２に出現した後、左右の第２図柄３８ａ，３８ｃが同種のリーチになれば、一旦、隠蔽部材４１が図１０（Ｃ）に示すように隠蔽状態に下降して、演出表示手段２２の演出表示４０を隠蔽する。そして、第２図柄３８ａ〜３８ｃが特定態様となれば、図１０（Ｄ）に示すように隠蔽部材４１が非隠蔽状態に上昇して、演出表示手段２２の「大当たり」等の演出表示４０が出現する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月25日(2007.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台を有し、該支持台は、前記カセッテが正常に装着された場合に、前記支持台の移動を規制する規制手段とを有することを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項２】
前記支持台は、前記カセッテを回転する回転テーブルと、前記カセッテが有するケーブルを保持するケーブル保持部と、前記カセッテが装着された場合であってかつ前記ケーブル保持部に前記ケーブルが保持されていない場合に、前記回転テーブルの回転を規制する回転規制手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３】
放射線発生手段と、該放射線発生手段から照射され被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台と、前記カセッテが前記支持台に装着されていない場合に、前記放射線発生手段の放射線の照射を規制する規制手段とを有することを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項４】
被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台を有し、該支持台は、前記カセッテを着脱する開口部と、前記カセッテを回転する回転テーブルと、着脱信号に応じて前記開口部から前記カセッテを着脱可能とする位置に前記回転テーブルを規制する規制手段とを有することを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項５】
ステージに回転可能に設けられ、被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台と、前記カセッテを前記支持台に装着するためのガイド部材と、該ガイド部材が前記カセッテを排出可能な状態のときに前記支持台の回転を規制する規制部材とを有することを特徴とする放射線画像撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記目的を達成するための本発明に係る放射線画像撮影装置は、被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台を有し、該支持台は、前記カセッテが正常に装着された場合に、前記支持台の移動を規制する規制手段とを有することを特徴とする。
また、本発明に係る放射線画像撮影装置は、放射線発生手段と、該放射線発生手段から照射され被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台と、前記カセッテが前記支持台に装着されていない場合に、前記放射線発生手段の放射線の照射を規制する規制手段とを有することを特徴とする。
更に、本発明に係る放射線画像撮影装置は、被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台を有し、該支持台は、前記カセッテを着脱する開口部と、前記カセッテを回転する回転テーブルと、着脱信号に応じて前記開口部から前記カセッテを着脱可能とする位置に前記回転テーブルを規制する規制手段とを有することを特徴とする。
本発明に係る放射線画像撮影装置は、ステージに回転可能に設けられ、被写体を透過した放射線を検出して前記被写体の放射線画像を得るカセッテを支持する支持台と、前記カセッテを前記支持台に装着するためのガイド部材と、該ガイド部材が前記カセッテを排出可能な状態のときに前記支持台の回転を規制する規制部材とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部に対して水密的に構成された内視鏡本体を有する内視鏡において、
前記内視鏡本体は、前記内視鏡本体の内部の空間容積を変化させて、前記内視鏡本体の内部の圧力を変化させる内部圧力可変手段を備えていることを特徴とする内視鏡。
【請求項２】
前記内視鏡本体は、体腔内に挿入可能な細長い挿入部と、前記挿入部の基端部に設けられた操作部と、前記操作部から延出されたユニバーサルケーブルと、前記ユニバーサルケーブルの端部に設けられ、光源装置に着脱自在なライトガイドコネクタ部とを備え、
これら全てが前記内視鏡本体の内部で互いに連通されているとともに、前記内部圧力可変手段を前記ライトガイドコネクタ部に備えていることを特徴とする請求項１に記載の内視鏡。
【請求項３】
前記ライトガイドコネクタ部の前記内部圧力可変手段は、前記ライトガイドコネクタ部に対し接離可能で、前記内視鏡本体の内部の空間容積を変化させる筒状部材を備えていることを特徴とする請求項２に記載の内視鏡。
【請求項４】
前記ライトガイドコネクタ部は、前記筒状部材を前記ライトガイドコネクタ部に対して接離させて前記ライトガイドコネクタ部の空間容積を最大に変化させると前記内視鏡本体の外部と連通され、前記ライトガイドコネクタ部の空間容積を最大の状態から小さく変化させると前記内視鏡本体の内部を外部に対して水密状態に変化させる水密状態可変機構を備えていることを特徴とする請求項３に記載の内視鏡。
【請求項５】
前記内視鏡本体は、前記内視鏡本体の内部の圧力状態を測定するとともにその測定値を表示する圧力表示手段を備えていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１に記載の内視鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、好ましくは、前記ライトガイドコネクタ部の前記内部圧力可変手段は、前記ライトガイドコネクタ部に対し接離可能で、前記内視鏡本体の内部の空間容積を変化させる筒状部材を備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月19日(2007.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理装置における画像処理方法であって、
取得手段が、撮像素子を含む撮像装置により得られた撮影画像から派生した間引き画像を取得する取得工程と、
生成手段が、前記撮像素子の画素毎のゲイン補正値を含むゲイン補正データを前記間引き画像と同じ画素構成となるように間引くことにより、前記間引き画像に対応した画素構成を有する間引き補正データを生成する生成工程と、
補正手段が、前記取得工程で取得された間引き画像を前記間引き補正データを用いて補正し、補正された間引き画像から縮小画像を得る補正工程とを備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
前記画像処理装置の表示手段が、前記縮小画像を表示する表示工程を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
前記画像処理装置のパラメータ生成手段が、前記縮小画像から前記撮影画像用の画像処理パラメータを生成するパラメータ生成工程を更に備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理方法。
【請求項４】
前記取得工程は、前記撮像装置より前記間引き画像を受信した後に、更に前記撮影画像を受信し、
前記画像処理装置の保存手段が、前記ゲイン補正データを用いて前記撮影画像に補正処理を施し、補正された前記撮影画像を前記パラメータ生成工程で生成された画像処理パラメータと対応付けて保存する保存工程を更に備えることを特徴とする請求項３に記載の画像処理方法。
【請求項５】
前記生成工程は、更に、前記撮像素子の欠陥画素位置を示す欠陥画素データに基づいて前記間引き画像の画素構成に対応した間引き画像用の欠陥画素補正データを生成し、
前記補正工程は、前記間引き画像中の隣接する予め定められた数の画素を統合して前記縮小画像の１画素を生成するものであり、該統合の際には、前記間引き画像用の欠陥画素補正データを参照することにより欠陥画素データを統合対象から除外することを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項６】
前記間引き画像は、前記撮影画像の所定数の画素で構成される各画素ブロックから予め定められたパターンで画素を抽出して構成されていることを特徴とする請求項５に記載の画像処理方法。
【請求項７】
撮像素子を含む撮像装置により得られた撮影画像から派生した間引き画像を取得する取得手段と、
前記撮像素子の画素毎のゲイン補正値を含むゲイン補正データを前記間引き画像と同じ画素構成となるように間引くことにより、前記間引き画像に対応した画素構成を有する間引き補正データを生成する生成手段と、
前記取得手段で取得された間引き画像を前記間引き補正データを用いて補正し、補正された間引き画像から縮小画像を得る補正手段とを備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項８】
撮像装置と画像処理装置が接続された撮影システムであって、
撮影によって得られた撮影画像から間引き画像を派生し、該撮影画像の送信に先立って該間引き画像を前記画像処理装置へ転送する転送手段と、
画像処理装置において、前記撮影に用いられた撮像素子の画素毎のゲイン補正値を含むゲイン補正データを前記間引き画像と同じ画素構成となるように間引くことにより、前記間引き画像に対応した画素構成を有する間引き補正データを生成する生成手段と、
前記転送手段で転送された前記間引き画像を、前記生成手段で生成された前記間引き補正データを用いて補正し、補正された間引き画像から縮小画像を得る補正手段とを備えることを特徴とする撮影システム。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理方法コンピュータによって実行させるための制御プログラム。
【請求項１０】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理方法コンピュータによって実行させるための制御プログラムを格納するコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の目的を達成するための本発明による画像処理方法は、
画像処理装置における画像処理方法であって、
取得手段が、撮像素子を含む撮像装置により得られた撮影画像から派生した間引き画像を取得する取得工程と、
生成手段が、前記撮像素子の画素毎のゲイン補正値を含むゲイン補正データを前記間引き画像と同じ画素構成となるように間引くことにより、前記間引き画像に対応した画素構成を有する間引き補正データを生成する生成工程と、
補正手段が、前記取得工程で取得された間引き画像を前記間引き補正データを用いて補正し、補正された間引き画像から縮小画像を得る補正工程とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、上記の目的を達成するための本発明による撮影システムは以下の構成を備える。すなわち、
撮像装置と画像処理装置が接続された撮影システムであって、
撮影によって得られた撮影画像から間引き画像を派生し、該撮影画像の送信に先立って該間引き画像を前記画像処理装置へ転送する転送手段と、
画像処理装置において、前記撮影に用いられた撮像素子の画素毎のゲイン補正値を含むゲイン補正データを前記間引き画像と同じ画素構成となるように間引くことにより、前記間引き画像に対応した画素構成を有する間引き補正データを生成する生成手段と、
前記転送手段で転送された前記間引き画像を、前記生成手段で生成された前記間引き補正データを用いて補正し、補正された間引き画像から縮小画像を得る補正手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月16日(2007.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記位置指示情報を非提示にする時に前記第１表示部が配置される位置を第１位置とし、
前記第１支持手段は、前記第１表示部を前記第１位置に移動可能である、
ことを特徴とする請求項１〜請求項３何れかに記載の遊技機用表示装置。