【手続補正書】
【提出日】平成19年11月21日(2007.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】プラズマドーピング装置であって，
プラズマドーピングチェンバーと，
該プラズマドーピングチェンバー内に取り付けられ，ワークピースを支持するためのプラテンと，
前記チェンバーに連結され，前記ワークピースへの注入のための所望のドーパントを含むイオン化可能なガスソースと，
前記プラテンから間隔があけられるアノードと，
前記ワークピースの近傍に，プラズマシースを有するプラズマを生成するために，前記プラテンと前記アノードとの間に，電圧パルスを適用するパルスソースであって，前記プラズマが，前記イオン化可能なガスの正のイオンを含み，前記電圧パルスが，ワークピースへの注入のために，前記正のイオンを，プラズマシースを横切って前記プラテンに向けて加速するところのパルスソースと，
前記プラズマシースを横切って加速される前記正のイオンのサンプルを収集するための，前記プラテンに隣接して配置されるファラデーカップと，
を含み，
前記プラテンおよびワークピースはカソードを構成し，
前記サンプルはワークピースに注入される正のイオンの数を示し，
前記ファラデーカップは多数の開口をもつカバーを有し，
前記ファラデーカップにより収集されたイオンは，前記開口を通り，ファラデーカップの内部チェンバーに至り，検出される，
ところのプラズマドーピング装置。
【請求項２】プラズマシースは前記プラテンに対して垂直な方向に厚さをもち，前記開口のそれぞれは，プラズマシースの厚さより狭い幅を有する，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項３】前記ファラデーカップのカバーは，多数の開口をもつプレートからなる，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項４】前記ファラデーカップのカバーはメッシュからなる，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項５】前記ファラデーカップのカバーは，前記プラズマに面する正面導体，前記ファラデーカップの内部チェンバーに面する背面導体，および前記正面導体と前記背面導体との間を分離する絶縁体からなり，
当該装置が，電子を跳ね返すために前記背面導体をバイアスする手段を含む，
ところの請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項６】前記ファラデーカップのカバーはワークピースの材料から作られる，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項７】前記ファラデーカップのカバーはシリコンから作られる，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項８】前記ファラデーカップのカバーの開口は円形開口からなる，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項９】前記ファラデーカップのカバーの開口は伸長した開口からなる，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１０】前記ファラデーカップはさらに，前記ファラデーカップに入るイオンの移動方向に対して横方向の電場を，内部チェンバー内に生成するための，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に配置される電極を含む，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１１】前記ファラデーカップの内部チェンバーは，円筒状の内部チェンバーからなり，前記電極は内部チェンバー内に配置される軸線方向の導体からなる，請求項１０に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１２】前記ファラデーカップは前記プラテンの周りに位置する環状のファラデーカップからなり，前記環状のファラデーカップは間隔があけられた内側壁および外側壁を有し，前記電極は，前記内側壁および前記外側壁との間に位置する環状の電極からなる，請求項１０に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１３】前記ファラデーカップは前記プラテンの周りに位置する環状のファラデーカップからなり，前記環状のファラデーカップは電気的に分離された内側壁および外側壁を有し，当該装置は，前記ファラデーカップに入るイオンの移動の方向に対して横方向の電場を，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に生成するために，前記内側壁と前記外側壁との間に電圧を適用する手段を含む，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１４】前記ファラデーカップはさらに，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に，ファラデーカップに入るイオンの移動の方向に対して横方向の電場を生成するための手段を含む，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１５】前記ファラデーカップは側壁と，内部チェンバーを画成する底壁を含み，内部チェンバーは前記プラズマに面する開口部を有し，前記カバーは前記開口部全体にわたって配置される，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１６】前記ファラデーカップは実質的に円筒状の形状をもつ，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１７】前記ファラデーカップは前記プラテンの周りに位置する環状の形状をもつ，請求項１に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１８】前記ファラデーカップのカバーの開口は円弧状のスロットからなる，請求項１７に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項１９】プラズマドーピング装置であって，
プラズマドーピングチェンバーと，
該プラズマドーピングチェンバー内に取り付けられ，ワークピースを支持するためのプラテンと，
前記チェンバーに連結され，前記ワークピースへの注入のための所望のドーパントを含むイオン化可能なガスソースと，
前記プラテンから間隔があけられるアノードと，
前記ワークピースの近傍に，プラズマシースを有するプラズマを生成するために，前記プラテンと前記アノードとの間に，電圧パルスを適用するパルスソースであって，前記プラズマが，前記イオン化可能なガスの正のイオンを含み，前記電圧パルスが，ワークピースへの注入のために，前記正のイオンを，プラズマシースを横切って前記プラテンに向けて加速するところのパルスソースと，
前記プラズマシースを横切って加速される前記正のイオンのサンプルを収集するための，前記プラテンに隣接して配置されるファラデーカップと，
を含み，
前記プラテンおよびワークピースはカソードを構成し，
前記サンプルはワークピースに注入される正のイオンの数を示し，
前記ファラデーカップは，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に，前記ファラデーカップに入るイオンの移動の方向に対して横方向の電場を生成するための手段を含む，
ところのプラズマドーピング装置。
【請求項２０】前記電場を生成する手段は，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に位置する電極，および前記ファラデーカップの壁に対して前記電極をバイアスするための，前記電極に接続される電圧源を含む，請求項１９に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項２１】前記ファラデーカップの内部チェンバーは円筒状のチェンバーからなり，前記電場を生成する手段は，内部チェンバー内に位置する軸線方向の電極からなる，請求項１９に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項２２】前記ファラデーカップは前記プラテンの周りに位置する環状のファラデーカップからなり，前記環状のファラデーカップは間隔があけられた内側壁および外側壁を有し，前記電場を生成する手段は，前記内側壁と前記外側壁との間に位置する環状の電極を含む，請求項１９に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項２３】前記ファラデーカップは前記プラテンの周りに位置する環状のファラデーカップからなり，前記環状のファラデーカップは電気的に分離された内側壁および外側壁を有し，当該電場を生成する手段は，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に前記電場を生成するために，前記内側壁と前記外側壁との間に電圧を適用する手段を含む，請求項１９に記載のプラズマドーピング装置。
【請求項２４】イオンビームを検知するファラデーカップであって，
開口部を有する内部チェンバーを画成する，側壁および底壁と，
当該ファラデーカップの内部チェンバー内に，前記ファラデーカップ内に入るイオン方向に対して横方向の電場を生成する手段と，
を含むファラデーカップ。
【請求項２５】前記電場を生成する手段は，前記ファラデーカップの内部チェンバー内に位置する電極，および前記ファラデーカップの前記側壁に対して前記電極をバイアスするための，前記電極に電圧源を接続する手段を含む，請求項２４に記載のファラデーカップ。
【請求項２６】内部チェンバーは円筒状の内部チェンバーからなり，前記電場を生成する手段は，内部チェンバー内に位置する軸線方向の導体からなる，請求項２４に記載のファラデーカップ。
【請求項２７】前記側壁は，環状外側壁および環状内側壁を含み，前記電場を生成する手段は，前記内側壁と前記外側壁との間に位置する電極を含む，請求項３１に記載のファラデーカップ。
【請求項２８】前記側壁は環状外側壁および環状内側壁を含み，前記電場を生成する手段は，前記ファラデーカップの内側チェンバー内に前記電場を生成するために，前記内側壁と前記外側壁との間に電圧を適用する手段を含む，請求項２４に記載のファラデーカップ。
【請求項２９】さらに，前記開口を覆うように配置されるカバーを含み，該カバーはイオンが内部チェンバーに入ることができるように複数の開口を有する，請求項２４に記載のファラデーカップ。