Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞毒性を有する化合物、又は細胞毒性を有する化合物の前駆体の残基に共有的に結合された、ＲＮＡ依存性ＤＮＡポリメラーゼにより加水分解可能な部分と、医薬的に許容可能な塩とを有するプロドラッグ化合物であって、
当該プロドラッグ化合物の加水分解産物は、細胞毒性を有し、
当該化合物は、下記一般式（Ｉ）
ＴＳ−Ｏｍ−（ＰＸＸ’）−（Ｏ−ＰＹＹ’）ｎ−Ｏ−（ＰＺＺ’）−Ｏｐ−ＣＴ・・・（Ｉ）
であって、
ＴＳは、ヌクレオシド又はヌクレオシドのアナログの残基であり、
ＣＴは、細胞毒性を有する化合物、又は細胞毒性を有する化合物の前駆体の残基であって、デオキシグアノシン、デオキシアデノシン、デオキシチミジン、７−デアザ−２’−デオキシグアノシン、７−デアザ−２’−アデノシン、６−チオ−２’−デオキシグアノシン、２’，３’−ジデオキシグアノシン、２’，３’−ジデオキシイノシン、Ｄ−カルボサイクル−２’−デオキシグアノシン、アジドチミジン、カルボビル、アデフォビル（ａｄｅｆｏｖｉｒ）及びテノフォビル（ｔｅｎｏｆｏｖｉｒ）
Ｘ、Ｙ及びＺは、Ｏ及びＳから選択され、
Ｘ’、Ｙ’及びＺ’は、Ｏ、ＣＴ’、Ｏ−ＣＴ’、Ｒ及びＯＲから選択され、
ＣＴ’は、ＣＴと同一又は異なる、細胞毒性を有する化合物、又は細胞毒性を有する化合物の前駆体の残基であり、
Ｒは、アルキル基、好ましくは低級アルキル基、アリール基及びアリールアルキル基からなる群から選択され、
ｍは、０又は１であり、
ｎは、１又は２であり、
ｐは、０又は１であることを特徴とするプロドラッグ化合物。
【請求項２】
Ｘ、Ｘ’、Ｚ及びＺ’は、Ｏであり、
ｍは、１であることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
当該化合物は、ジヌクレオチドポリリン酸のアナログであることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
前記ＲＮＡ依存性ＤＮＡポリメラーゼは、テロメラーゼ及びレトロウィルス性逆転写酵素から選択されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
前記のヌクレオシド又はヌクレオシドのアナログの残基であるＴＳは、ヌクレオサイド、又はそのアナログであって、デオキシグアノシン、デオキシアデノシン、デオキシチミジン、７−デアザ−２’−デオキシグアノシン、７−デアザ−２’−アデノシン、６−チオ−２’−デオキシグアノシン、２’，３’−ジデオキシグアノシン、２’，３’−ジデオキシイノシン、Ｄ−カルボサイクル−２’−デオキシグアノシン、アジドチミジン、カルボビル、アデフォビル（ａｄｅｆｏｖｉｒ）及びテノフォビル（ｔｅｎｏｆｏｖｉｒ）からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
前記Ｒは、メチル基及びフェニル基から選択されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
前記Ｒは、フェニル基であることを特徴とする請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
当該化合物は、アシクログアノシル  ３’−デオキシ−５’−グアノシル三リン酸（ＡＣＶＴＰｄＧ）、アシクログアノシル  ２’−デオキシ−５’−アデノシル三リン酸（ＡＣＶＴＰｄＡ）、アシクログアノシル−５’−チミジル三リン酸（ＡＣＶＴＰＴ）、アシクログアノシル−３’−アジドチミジン−５’−三リン酸（ＡＣＶＴＰＡＺＴ）及び２’，３’−ジデオキシシチジン−２’−デオキシ−５’−グアノシル三リン酸（ｄｄＣＴＰｄＧ）からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の化合物の調製方法であって、
細胞毒性を有する化合物は、リン酸、ホスホン酸、三リン酸又は三ホスホン酸の少なくとも３つの群からなる適当な鎖に、適当な条件及び公知の方法により、共有的に結合される工程、並びに
前記鎖を介して、テロメラーゼ又は逆転写酵素により基質として認識され得る部分に結合される工程、並びに
これらの工程の逆の工程で行われることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の少なくとも１つの化合物と、任意で１種類以上のアジュバント及び／又はその他の活性本体とを組み合わせて有することを特徴とする医薬組成物。
【請求項１１】
医薬的に許容可能な賦形剤及び／又は希釈剤をさらに有することを特徴とする請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記のその他の活性本体は、抗代謝薬であることを特徴とする請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記抗代謝薬は、メトトレキサート、５−フルオロウラシル、シタラビン、５−アザシチジン、ゲンシタビン、メルカプトプリン、チオグアニン、リン酸フルダラビン、ペントスタチン（ｐｅｎｔｏｓｔａｔｉｎｅ）及びクラドリビン（ｃｌａｄｒｉｂｉｎｅ）からなる群から選択されることを特徴とする請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の化合物の使用であって、
固形腫瘍、前癌状態、及びレトロウィルスの感染で生じた疾病の処置に有用な医薬組成物の調製への、使用。
【請求項１５】
血液系癌のｅｘ  ｖｉｖｏ又はｉｎ  ｖｉｖｏでの処置のため、及びレトロウィルス性感染で影響を受けた患者から採取した血液及び血液製剤の処理のための薬剤であって、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の化合物を有することを特徴とする薬剤。
【請求項１６】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の化合物の使用であって、血液系癌のｅｘ  ｖｉｖｏ又はｉｎ  ｖｉｖｏでの処置のため、及びレトロウィルス性感染で影響を受けた患者から採取した血液及び血液製剤の処理のための、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月4日(2008.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象の遺伝子を一過性にトランスフェクトし、生体適合性ポリマー膜内に包含させた細胞を含有するカプセル。
【請求項２】
細胞が動物細胞、好ましくは哺乳動物細胞である、請求項１に記載のカプセル。
【請求項３】
対象の遺伝子が、タンパク質を分泌するためのシグナル配列に融合している、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項４】
対象の遺伝子が発現カセット中に挿入されている、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項５】
対象の遺伝子がプラスミド中に挿入されている、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項６】
生体適合性ポリマーがアルギナート−ポリ−Ｌ−リシン−アルギナート（ＡＰＡ）である、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項７】
生体適合性ポリマー膜が、分離サイズが９０〜３０ｋＤａ、好ましくは８０〜６０ｋＤａである孔を有する、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項８】
平均直径が１００〜１５００μｍ、好ましくは２５０〜６００μｍ、特に４４０〜５３０μｍである、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項９】
低剪断、微小重力条件下で維持された、前記請求項のいずれかに記載のカプセル。
【請求項１０】
カプセルを調製する方法であって、細胞に対象の遺伝子を一過性にトランスフェクトするステップと、一過性にトランスフェクトされた細胞をカプセル化するステップとを含む方法。
【請求項１１】
低剪断、微小重力条件下でカプセルを維持するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
対象の遺伝子によって発現及び分泌されたタンパク質のｉｎ  ｖｉｖｏ活性を評価する方法であって、請求項１から９までのいずれかに記載のカプセルを多細胞生物に投与するステップと、前記タンパク質の活性を検出するステップとを含む方法。
【請求項１３】
多細胞生物が哺乳動物である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
哺乳動物が、マウス、ラット、イヌ、ヤギ、ヒツジ、ウシ、及びサルからなる群から選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
カプセルの投与が腹控内注射によって実施される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
検出すべきｉｎ  ｖｉｖｏ活性が前記タンパク質の投与後３〜１４日、好ましくは３〜５日以内に完全に誘導される、動物における請求項１２から１５までのいずれかに記載の方法の使用。
【請求項１７】
動物が、コンカナバリンＡ（ＣｏｎＡ）誘発肝毒性を有するマウスである、請求項１６に記載の使用。
【請求項１８】
請求項１から９までのいずれかに記載のカプセルを含む医薬組成物。
【請求項１９】
対象の遺伝子が、抗原／免疫原及び／又はアジュバントをコードしている、請求項１８に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
抗原／免疫原が、細菌抗原、ウイルス抗原、真菌抗原、寄生虫抗原、又は腫瘍抗原である、請求項１９に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
カプセルが、（１種又は複数の）抗原及び／又はアジュバントをコードしている遺伝子をそれぞれトランスフェクトした少なくとも２種類の細胞を含み、この２種の遺伝子が同一でない、請求項１８から２０までのいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項２２】
対象のタンパク質を被検体に投与するための、請求項１から９までのいずれかに記載のカプセル又は請求項１８から２１までのいずれかに記載の医薬組成物の使用。
【請求項２３】
対象のタンパク質が免疫又はワクチン接種用の抗原である、請求項２２に記載の使用。
【請求項２４】
被検体が、ヒト；げっ歯類、イヌ、ブタ及びサルを含めた研究目的で飼育された動物並びにイヌ及びネコを含めた、家畜及び飼育動物からなる群から選択される、請求項２２又は２３のいずれかに記載の使用。
【請求項２５】
請求項１８から２１までのいずれかに記載のカプセル又は医薬組成物、及び前記組成物を適用するための又は前記組成物を被検体に適用するための手段を含むキット。
【請求項２６】
免疫又はワクチン接種用の医薬組成物を調製するための、請求項１から９までに記載のカプセルの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月22日(2008.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（エチレンナフタレート）を含む表面層を有する基材と、
前記表面層上に配置された接着剤と、
を含み、前記接着剤は、
少なくとも１種の窒素含有ポリマーと、
少なくとも１種の重合性エチレン系不飽和希釈剤と
の反応生成物を含む、物品。
【請求項２】
前記基材は、コポリマーを含み、およびポリ（エチレンナフタレート）の量は少なくとも約５０重量％である請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記偏光子は、反射型偏光子および吸収型偏光子を含む群から選択される請求項１に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トリアジン化合物、トリアジン化合物とアゾカップリング反応を実行できるカップリング化合物、及び光潜在性酸を含む、印刷インク又は印刷インク濃縮物であって、
トリアジン化合物が、一般式：
【化２】
2008509415.tif 000001
（式中、Ａｒは、場合により置換されたアリール又はヘテロアリール残基、好ましくは場合により置換されたフェニル、ナフチル、ピロリル、フリル、チオフェニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、及びピリジニルを表し、そして
式中、Ｒ’及びＲ”は、互いに独立して、ＣＯＯＨ、ＯＨ、ハロゲン、ＳＯ３Ｈ、ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル）、及びＮ（Ｃ１〜Ｃ２アルキル）２からなる群より選択される１つ又は２つの同一又は異なる置換基で場合により置換された、直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルキルを表し、好ましくはＲ’及びＲ”は、互いに独立して
メチル、
【化３】
2008509415.tif 000002
を表す）
を有し、
カップリング化合物が、次の式：
【化１１】
2008509415.tif 000003
2008509415.tif 000004
（式中、Ｘ、Ｘ’、及びＸ”は、相互から独立して、ＯＨ及びＮＨ２を表す）
【化１２】
2008509415.tif 000005
からなる群より選択される、印刷インク又は印刷インク濃縮物。
【請求項２】
光潜在性酸が、オキシムスルホナート化合物、アルファ−スルホニルオキシカルボニル化合物、Ｎ−スルホニルオキシイミド化合物、ｏ−ニトロベンジルスルホナート化合物、及びピロガロールスルホナート化合物からなる群より選択される、請求項１記載の印刷インク又は印刷インク濃縮物。
【請求項３】
時間温度インジケータを含む、印刷インク又は印刷インク濃縮物を基材に印刷するステップを含む、基材を印刷する方法であって、
前記インジケータが、トリアジン化合物、トリアジン化合物とアゾカップリング反応を実行できるカップリング化合物、及び光潜在性酸を含み、ここで
トリアジン化合物が、請求項１に定義されたとおりである一般式：
【化２】
2008509415.tif 000006
を有し、
カップリング化合物が請求項１に定義されたとおりである、方法。
【請求項４】
経年劣化感受性及び温度感受性製品の質を決定する方法であって、
ａ）時間温度インジケータを含む印刷インク又は印刷インク濃縮物であって、
前記インジケータが、トリアジン化合物、トリアジン化合物とアゾカップリング反応を実行できるカップリング化合物、及び光潜在性酸を含み、ここで
トリアジン化合物が、請求項１に定義されたとおりである、一般式：
【化２】
2008509415.tif 000007
を有し、
カップリング化合物が請求項１に定義されたとおりである、
印刷インク又は印刷インク濃縮物を基材に印刷するステップと、
ｂ）２５０ｎｍと４５０ｎｍの間の波長の短波光の照射による光潜在性酸の活性酸触媒への変換によって、ｐＨを、６．５から１．５の、好ましくは４から３の値に低下させることによって、時間温度インジケータを活性化するステップと、
ｃ）インジケータの光誘起酸性化が継続することを阻止するプロテクタを場合により塗布するステップと、
ｄ）時間又は温度誘起着色の度合を決定して、着色の度合から製品の質を推定するステップと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月18日(2008.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図示した実施例において、ＦＴＩＲ分光計２から出る測定光線３は転炉３の上側部分における、すなわち廃ガス管路６の下側部分における、前方の測定開口部４内にまず到着し、次いで廃ガス６を水平方向に貫通し、最終的には廃ガス管路６を出た後、後方の測定開口部５を通って転炉１と間隔をおいて設けられた低温のバックグラウンド１０上に当る。ＦＴＩＲ分光計２からバックグラウンド１０までの測定光線の経路において、測定光線３は両測定開口部４，５の間隔に互いに相応した長さ内にある廃ガスのみならず、同時に高温でかつ汚染した転炉１の周囲空気８をも通過する。この場合この周囲空気８はその組成及び温度が不明な状態で変わり易く、従って転炉１の前方及び後方においては異なっていることがある。従って設置されるべき機械的なモデルにおいて、廃ガス組成に大幅に依存していないこれらの値は、数学的モデルにおいて処理される参照スペクトルを準備した場合の対応する予備実験及び較正を通じて考慮しなければならない。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビジネス・プロセスによって使用されるリソースを自動的に発見し分類するための装置であって、ソフトウェア・アプリケーションの動作挙動を表すトレース・データを収集するように構成可能な監視モジュールと、前記トレース・データを分析して少なくとも１つの前記ソフトウェア・アプリケーションを含むビジネス・プロセスに関連するリソースを発見するように構成可能な分析モジュールと、前記発見されたリソースを含む論理アプリケーションを定義するように構成可能な決定モジュールとを含む装置。
【請求項２】
前記論理アプリケーションを修正して前記論理アプリケーション内にすでに含まれているリソースに関連するリソースを含めるように構成可能な修正モジュールをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記論理アプリケーションが、発見されたリソースをユーザが追加または削除することができるように構成可能である、請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記論理アプリケーションにビジネス・レベル・ポリシーを適用するように構成可能な管理モジュールをさらに含む、請求項１ないし３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
前記ビジネス・プロセスのための識別子を受け取るように構成可能なインタフェースをさらに含み、前記識別子が前記ビジネス・プロセスを実行するリソースに直接関係付けられ、前記監視モジュールが、前記ビジネス・プロセスが実行されるときに前記リソースに関係する前記トレース・データを収集するように構成可能であり、前記分析モジュールが、前記トレース・データを分析して前記識別子に関連する１つまたは複数のリソースを発見するように構成可能である、請求項１ないし４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記分析モジュールが、前記トレース・データをフィルタリングして結果セットを生成するように構成可能なクエリ・モジュールと、１つまたは複数のヒューリスティック・ルーチンを前記結果セットに適用して前記識別子に関連する１つまたは複数のリソースを発見するように構成可能な評価モジュールと、前記１つまたは複数のヒューリスティック・ルーチンに応答して１つまたは複数のリソースを発見するように構成可能な発見モジュールとをさらに含む、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記決定モジュールが、ヒューリスティック・ルーチンに応答して１つまたは複数の発見されたリソースを追加する、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記決定モジュールが、ヒューリスティック・ルーチンに応答して、ほぼ全ての使用可能なリソースを含む事前に定義されたスーパーセットから１つまたは複数のリソースを削除する、請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記監視モジュールが、１つまたは複数の活動モニタを開始するように構成可能な起動モジュールであって、各活動モニタがリソースに関係する特定の種類の活動を追跡するように構成可能な起動モジュールと、前記活動モニタを制御するように構成可能なコントローラと、特定の種類の活動を実施する前記リソースの使用に応答して、前記特定の種類の活動を記述する前記活動モニタからトレース・データを格納するように構成可能な記憶モジュールとをさらに含む、請求項５に記載の装置。
【請求項１０】
前記ビジネス・プロセスによって実行される特定の種類の活動を記述するトレース・データを求めてシステム情報をスキャンするスキャナをさらに含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
ビジネス・プロセスを実行する複数のインターネットワーク化されたコンピュータ・システムとともに使用される装置であって、前記監視モジュールが各コンピュータ・システム上に存在し、前記監視モジュールが、少なくとも１つのソフトウェア・アプリケーションによって実行される動作を表すトレース・データを収集するように構成可能であり、前記記憶モジュールが、前記監視モジュールからのトレース・データを収集し前記収集されたトレース・データをレポジトリに格納するように構成可能であり、前記分析モジュールが、前記収集されたトレース・データを分析して前記ソフトウェア・アプリケーションを含むビジネス・プロセスに関連するリソースを発見しかつ前記発見されたリソースを含む論理アプリケーションを定義するように構成可能であり、さらに前記インタフェースが前記分析モジュールと通信し、前記インタフェースが、グラフィカル・ユーザ・インタフェース（ＧＵＩ）を介してユーザと対話し、アプリケーション・プログラミング・インタフェース（ＡＰＩ）を介して他のソフトウェア・アプリケーションと対話するように構成可能である、請求項９または１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
前記インタフェースが、前記論理アプリケーションにビジネス・レベル・ポリシーを適用する他のソフトウェア・アプリケーションに前記論理アプリケーションを提供する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
ビジネス・プロセスによって使用されるリソースを自動的に発見し分類するシステムであって、プロセスの実行を管理するように構成可能なオペレーティング・システムと、動作中のプロセスに関する情報を提供するように構成可能なプロセス・マネージャと、ファイル活動情報を提供するように構成可能な入／出力（Ｉ／Ｏ）モジュールと、記憶装置に格納されたファイルを管理し前記ファイルについてのメタデータを提供するように構成可能なファイル・システムと、前記オペレーティング・システムの内部で、少なくとも１つのソフトウェア・アプリケーション実行中のトレース・データを収集するように構成可能な監視モジュールであって、前記プロセス・マネージャ、前記Ｉ／Ｏモジュール、および前記ファイル・システムの少なくとも１つと対話して前記ソフトウェア・アプリケーションの動作に直接関係付けられた前記トレース・データを収集する監視モジュールと、前記トレース・データを分析して前記ソフトウェア・アプリケーションを含むビジネス・プロセスに関連するリソースを発見し、前記発見されたリソースを含む論理アプリケーションを定義するように構成可能な分析モジュールとを含むシステム。
【請求項１４】
ビジネス・プロセスによって使用されるリソースを自動的に発見し分類する方法であって、ソフトウェア・アプリケーションの動作挙動を表すトレース・データを収集するステップと、前記トレース・データを分析して、少なくとも１つの前記ソフトウェア・アプリケーションを含むビジネス・プロセスに関連するリソースを発見するステップと、前記発見されたリソースを含む論理アプリケーションを定義するステップとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月28日(2008.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
１個の集積回路（１０）と該集積回路（１０）に電気的に接続された１個の接点区画（７）とを備えた携帯型データ担体（１）の製造方法において、
前記携帯型データ担体（１）は、ＵＳＢ規格に従って形成された１個の接点素子によって前記接点区画（７）の直接接触が可能なように、前記接点区画（７）の領域が成形されかつ該接点区画（７）が構成され、
前記集積回路（１０）および前記接点区画（７）を備えた前記携帯型データ担体（１）の素子がチップカード技術によって作成され、前記携帯型データ担体（１）のオペレーションに必要なデータおよび／またはプログラムコードが前記集積回路（１０）にロードされ、次いで前記集積回路（１０）および接点区画（７）を備えた素子が１個の担体（３）に永久的に結合されることを特徴とする携帯型データ担体（１）の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月17日(2008.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの電気的位置決め駆動部（４、１０）を備え、
位置決め駆動部（４、１０）が、固定子（１１）と、該固定子（１１）に対し少なくとも１つの走行方向（ｘ、ｚ、γ）に移動可能な可動子（１２）とを有し、可動子（１２）が、固定子（１１）に対し、前記少なくとも１つの走行方向（ｘ、ｚ、γ）とは異なる少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）において磁場により非接触支持されており、
位置決め駆動部（４、１０）にセンサ装置（１４）が付設され、該センサ装置（１４）により前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）における可動子（１２）の固定子（１１）に対する変位量が非接触で検出され、
位置決め駆動部（４、１０）に制御装置（１７）が付設され、該制御装置（１７）に、センサ装置（１４）によって検出した、前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）における可動子（１２）の固定子（１１）に対する変位量が供給され、
制御装置（１７）により、前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）における可動子（１２）の固定子（１１）に対する変位量と、前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）における可動子（１２）の固定子（１１）に対する目標支持位置とに基づいて、位置決め磁石システム（１８）に対する調整信号を求めて、該位置決め磁石システム（１８）に出力され、
前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）における可動子（１２）の固定子（１１）に対する支持位置が、位置決め磁石システム（１８）により非接触に追跡される
生産機械。
【請求項２】
可動子（１２）が直線可動子（１２）であり、前記少なくとも１つの走行方向が直線方向（ｘ）であることを特徴とする請求項１記載の生産機械。
【請求項３】
可動子（１２）が回転子（１２）であり、前記少なくとも１つの走行方向が回転方向（γ）であることを特徴とする請求項１記載の生産機械。
【請求項４】
位置決め駆動部（４）が回転・昇降複合駆動部として構成され、可動子（１２）が軸線（５）の周りに回転可能であり且つ該軸線（５）に沿って移動可能であること、位置決め駆動部（４）が２つの走行方向（ｚ、γ）を有し、その１つが直線方向（ｚ）であり、他が回転方向（γ）であることを特徴とする請求項１記載の生産機械。
【請求項５】
前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）が直線方向（ｘ、ｙ、ｚ）であることを特徴とする請求項１から４の１つに記載の生産機械。
【請求項６】
前記少なくとも１つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）が回転方向（α、β、γ）であることを特徴とする請求項１から４の１つに記載の生産機械。
【請求項７】
位置決め駆動部（４、１０）が少なくとも２つの支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）を有していること、支持方向（ｙ、ｚ、α、β、γ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β）のそれぞれ少なくとも１つが直線方向（ｘ、ｙ、ｚ）であり、他が回転方向（α、β、γ）であることを特徴とする請求項１から４の１つに記載の生産機械。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月5日(2008.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）導電性、電気抵抗性および誘電性の粒子から選択される電気機能性粉体と、
（ｂ）３２５〜６００℃の範囲のガラス転移温度を有する無機結合剤と
を含む無機材料の微細粒子を含み、
（ｃ）コポリマー、インターポリマーまたはそれらの混合物である水性現像可能な非感光性ポリマーであって、各コポリマーまたはインターポリマーが、（１）Ｃ１−１０のアルキルアクリレート、Ｃ１−１０のアルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまたはそれらの組合せを含む非酸性コモノマーと（２）エチレン性不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含む水性現像可能な非感光性ポリマーと、
（ｄ）第１および第２の官能性単位を有する二官能性ＵＶ硬化性モノマーであって、前記第１の官能性単位がビニル基であり、前記第２の官能性単位が、前記カルボン酸含有部分との反応によって化学結合を形成することができる、二官能性ＵＶ硬化性モノマーと
を含む有機媒体中に分散されること
を特徴とする光画像形成性前駆組成物。
【請求項２】
請求項１の前駆組成物と光開始系とを含むことを特徴とする光画像形成性組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の光画像形成性組成物を含むことを特徴とするテープ。
【請求項４】
（ａ）請求項２の組成物を基板上に付着させる工程と、
（ｂ）現像可能な非光画像形成性ポリマーと二官能性モノマーとの反応を開始して感光性ポリマーおよび光パターン化可能な組成物を形成する工程と、
（ｃ）（ｂ）の前記光パターン化可能な組成物および（ａ）の基板を化学線に露光して露光された部分を形成する工程と、
（ｄ）（ｂ）の前記露光された部分を現像して現像された部分を形成する工程と、
（ｅ）（ｃ）の前記現像された部分を焼成して有機媒体を実質的に除去し、無機材料を実質的に焼結する工程と
を含むことを特徴とする光パターン化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
実施例ＶＩＩＩは、光硬化性アクリレートモノマーを用いずに銀導体パターンを得ることができることを示す。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
１．（ａ）導電性、電気抵抗性および誘電性の粒子から選択される電気機能性粉体と、
（ｂ）３２５〜６００℃の範囲のガラス転移温度を有する無機結合剤と
を含む無機材料の微細粒子を含み、
（ｃ）コポリマー、インターポリマーまたはそれらの混合物である水性現像可能な非感光性ポリマーであって、各コポリマーまたはインターポリマーが、（１）Ｃ１−１０のアルキルアクリレート、Ｃ１−１０のアルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまたはそれらの組合せを含む非酸性コモノマーと（２）エチレン性不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含む水性現像可能な非感光性ポリマーと、
（ｄ）第１および第２の官能性単位を有する二官能性ＵＶ硬化性モノマーであって、前記第１の官能性単位がビニル基であり、前記第２の官能性単位が、前記カルボン酸含有部分との反応によって化学結合を形成することができる、二官能性ＵＶ硬化性モノマーと
を含む有機媒体中に分散されること
を特徴とする光画像形成性前駆組成物。
２．  アクリル酸系またはメタクリル酸系光硬化性モノマーをさらに含むことを特徴とする１．に記載の前駆組成物。
３．  触媒をさらに含むことを特徴とする１．に記載の前駆組成物。
４．  前記二官能性ＵＶ硬化性モノマーの前記ビニル基が、メタクリレート、アクリレート基およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする１．に記載の前駆組成物。
５．  前記二官能性ＵＶ硬化性モノマーの前記第２の官能性単位が、エポキシド、アルコール、アミンおよびそれらの混合物から選択されることを特徴とする１．に記載の前駆組成物。
６．  前記電気機能性粉体が、（ｉ）Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、またはＣｕ、（ｉｉ）ＲｕＯ２、（ｉｉｉ）ルテニウム系多元酸化物、および（ｖ）それらの混合物から選択されることを特徴とする１．に記載の前駆組成物。
７．  エポキシドモノマーをさらに含むことを特徴とする１．に記載の前駆組成物。
８．  １．の前駆組成物と光開始系とを含むことを特徴とする光画像形成性組成物。
９．  有機溶剤をさらに含み、スクリーン印刷のために適したペーストの形態にあることを特徴とする８．に記載の光画像形成性組成物。
１０．  ８．に記載の光画像形成性組成物を含むことを特徴とするテープ。
１１．  （ａ）８．の組成物を基板上に付着させる工程と、
（ｂ）現像可能な非光画像形成性ポリマーと二官能性モノマーとの反応を開始して感光性ポリマーおよび光パターン化可能な組成物を形成する工程と、
（ｃ）（ｂ）の前記光パターン化可能な組成物および（ａ）の基板を化学線に露光して露光された部分を形成する工程と、
（ｄ）（ｂ）の前記露光された部分を現像して現像された部分を形成する工程と、
（ｅ）（ｃ）の前記現像された部分を焼成して有機媒体を実質的に除去し、無機材料を実質的に焼結する工程と
を含むことを特徴とする光パターン化方法。
１２．  工程（ａ）の後に前記組成物中に存在する有機溶剤を除去するための乾燥工程があることを特徴とする１１．に記載の方法。
１３．  前記開始工程（ｂ）が工程（ｃ）と同時に行われることを特徴とする１１．に記載の方法。
１４．  前記開始工程（ｂ）が乾燥工程と同時に行われることを特徴とする１２．に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月4日(2008.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ・ビームを横切るエネルギー分布を変更するための装置であって、
１つのパターンに配置された光学的度の小型レンズ・アレイと、
前記パターンが前記レーザ・ビームの２つの軸と結合することを防ぐために等しくない発散角を有する前記レーザ・ビームの前記２つの軸に対し回転した前記小型アレイによって前記小型アレイをサポートする構造と、
から構成されることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記小型レンズ・アレイは、
凹型の円筒形面の第１の直線状のアレイを備える第１の側と、
前記第１の側に対向し、かつ第１の直線状のアレイの面に垂直に延びる凹型の円筒形面の第２の直線状のアレイを備える第２の側と、
から構成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記小型レンズ・アレイを前記レーザ・ビームに沿って延びる長手方向軸の周りに回転させるための駆動部をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
小ビームが重なりかつ前記エネルギー分布が均一化されるように、小ビームを目標上に方向付けるための再集束レンズをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記小型レンズ・アレイは、複数の負の度数の小型レンズを有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
開口を通過するビームサイズを調整するため、前記結合された小ビームが重なる平面に配置された開口をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記小型レンズ・アレイが９０°と０゜から離れるように回転されるとき、前記レーザを発射するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
レーザ・ビームを横切るエネルギー分布を均一化するための方法であって、
２つの軸に等しくない発散角を有するレーザ・ビームを、複数の小ビームとして伝送するため、パターンを有する小型レンズ・アレイを通って前記レーザ・ビームを通過させるステップと、
前記２つの軸にある等しくない発散角が前記パターンと結合するのを防ぐため、前記小型レンズ・アレイを前記レーザ・ビームに沿って延びる長手方向軸の周りで回転させるステップと、
前記小ビームが重なりかつ前記エネルギー分布が均一化されるように、少なくとも１つのレンズを使用して小ビームを目標に方向付けるステップと、
から構成されることを特徴とする方法。
【請求項９】
前記小型レンズ・アレイが負の度の小型レンズ・アレイを備え、かつ前記ビームに前記小型レンズ・アレイを通過させるステップは小ビームを発散させるステップを形成することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記小型レンズ・アレイは、パルス化されたレーザ・ビームの各パルスが４５°の対角線軸の受容角度の枠内で前記アレイを通過するように回転し、このようにして前記レーザ・ビームに対する前記アレイの０°と９０°の方向を回避することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記受容角度の枠は前記４５°対角線軸の両側に１０°の範囲を有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも１つの前記レンズを前記長手方向軸の周りに回転させるステップをさらに有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
小ビームを切除平面に平行に到着させるように、開口を通って少なくともいくつかの前記小ビームを方向付けるステップをさらに有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月4日(2008.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビニレンポリマーブロックを含有するＰＶＡタイプマトリックスのシートであって、前記シートが、通過偏光軸、および前記通過偏光軸に垂直な遮断偏光軸を画定し、前記通過偏光軸に平行な電気ベクトルを有する光が、前記シートを実質的に透過し、前記遮断偏光軸に平行な電気ベクトルを有する光が、前記ビニレンポリマーブロックによって実質的に吸収され、前記シートが、同一のシートと交差されかつ冷陰極蛍光管（ＣＣＦＴ）光源で照明されると、前記シートが、２未満の大きさを有するａ*座標と、２未満の大きさを有するｂ*座標とを有する光を透過するような固有吸収スペクトルを有する、シートを含む固有偏光子。
【請求項２】
前記透過光が、１未満の大きさを有するａ*値を有する、請求項１に記載の偏光子。
【請求項３】
前記透過光が、１未満の大きさを有するｂ*値を有する、請求項１に記載の偏光子。
【請求項４】
前記透過光が、１未満の大きさを有するａ*値と、１未満の大きさを有するｂ*値とを有する、請求項１に記載の偏光子。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月23日(2008.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
さらに、以下のステップ：
ａ）金型の雄型部分を除去し（生地を含有する雌型部分が残る）、金型の雌型部分を含む生地を、生地が形をとるまで約２５℃未満の温度を有する環境に戻すステップ；
ｂ）金型の雄型部分を生地の上に戻し金型の雌型部分を除去するステップ（生地は金型の雄型部分の上に配置される）；
ｃ）生地が上に配置された金型の雄型部分を、生地が形をとるまで約２５℃未満の温度を有する環境に戻すステップ；
ｄ）金型の雌型部分を生地の上に戻して金型の雄型部分を除去するステップ（生地は金型の雌型部分に含有される）；
ｅ）生地を含有する金型の雌型部分を、生地が形をとるまで約２５℃未満の温度を有する環境に戻すステップ；
ｆ）生地が乾燥して手で触れるようになるまでステップｂ〜ｅを繰り返すステップ；
ｇ）金型の雄型部分と金型の雌型部分を生地から除去し成形物を得るステップ；及び
ｈ）成形物が手で触っても変形しなくなるまで、成形物を約２５℃未満の温度を有する環境に置くステップ；
を含む、請求項４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
さらに、金型の雄型部分を除去して、生地を含有する雌型部分を残し、金型の雌型部分を、約６０℃未満、好ましくは約２５℃未満、又は最も好適な約５℃〜約２０℃の範囲内の温度を有する環境に戻す。（あるいは、金型の雌型部分を除去して、生地を上に配置した金型の雄型部分を残してもよい。）生地が形をとったら低温環境から取り出し、金型の雄型部分を生地の上に戻す。次に雌型部分を除去して生地を金型の雄型部分の上に配置する。次に、金型の雄型部分を生地が形をとるまで低温環境に戻す。雄型部分を低温環境から取り出した後、金型の雌型部分を金型の雄型部分の上に配置して、今度は生地が中に含有されるようにし、金型の雄型部分を除去し、生地を含有する金型の雌型部分を低温環境に戻す。生地が乾燥して手で触れるようになるまでこれらのステップを繰り返す。その時点で、金型の雄型部分と雌型部分を除去し、成形物（グリーンウェアに類似する）を、成形物が手で触っても変形しなくなるまで低温環境に置く。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月5日(2008.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記合成ケイ酸塩薄片が、厚さが１〜５ミクロンであり、粒径が３０〜１５０ミクロンである合成ケイ酸カルシウムナトリウム薄片であることを特徴とする請求項１に記載の角度によって色が異なる変色顔料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記合成ケイ酸塩薄片が、厚さが１〜５ミクロンであり、粒径が３０〜１５０ミクロンである合成ケイ酸カルシウムナトリウム薄片であることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窪みを、多層基板のノズル層の第一の表面の中へと、エッチングすることであって、該多層基板は、ハンドル層を有する、ことと、
該ノズル層の該第一の表面を、チャンバを有する基板に固定することによって、該窪みが該チャンバに流体的に結合されるようにすることと、
該多層基板の一部分を、少なくとも該多層基板の該ハンドル層を含めて、除去することによって、該チャンバが、該窪みを介して、大気と流体的に結合されるようにすることと
を包含する、デバイスを形成する方法。
【請求項２】
窪みをエッチングすることは、該窪みを、６０マイクロメートル以下の厚さであるノズル層の中へとエッチングすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
窪みをノズル層の第一の表面の中へとエッチングすることは、シリコンの中へとエッチングすることを含み、
該ノズル層の該第一の表面を基板に固定することは、該ノズル層の該第一の表面をシリコンに固定することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ノズル層の前記第一の表面を固定することは、前記半導体基板を前記多層基板に直接シリコンボンディングすることをさらに包含する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
窪みをノズル層の第一の表面の中へとエッチングすることは、シリコンの中へとエッチングすることを含み、
該ノズル層の該第一の表面を基板に固定することは、酸化物材料をシリコン材料に固定することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記エッチングすることの前に、前記ノズル層の厚さを減らすことをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ノズル層の厚さを減らすことは、該ノズル層を約５〜２００マイクロメートルの厚さに研削することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ノズル層の厚さを減らすことは、該ノズル層を約４０〜６０マイクロメートルの厚さに研削することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記多層基板の絶縁体層を除去することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記窪みをエッチングすることは、実質的に垂直平行な壁を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記窪みをエッチングすることは、テーパ付き壁を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記多層基板は、前記ノズル層と前記ハンドル層との間に、絶縁体層を有し、
前記窪みをエッチングすることは、少なくとも前記絶縁体層が露出されるまで、該窪みをエッチングすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記窪みをエッチングすることは、該窪みが前記ノズル層全体を介して拡がる前に、エッチングを中止することを含み、
前記多層基板の一部分を除去することは、該ノズル層の第二の表面から、該ノズル層の一部分を除去し、該窪みを露出することであって、該第二の表面が、前記第一の表面と反対側である、ことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
ハンドルシリコン層および酸化物層を有する絶縁体上シリコン基板のシリコンノズル層を研磨することと、
該シリコンノズル層の第一の表面をエッチングして、１つ以上の窪みを形成することと、
該エッチングされた絶縁体上シリコン基板を流路基板と位置合わせすることによって、該１つ以上の窪みのうちの少なくとも１つが、該流路基板内のエッチングされた形態に流体的に結合され、該流路基板がシリコンを含むようにすることと、
該絶縁体上シリコン基板の該シリコンノズル層の該第一の表面を、該流路基板に直接シリコンボンディングすることと、
該ハンドルシリコン層と、該絶縁体層の少なくとも一部分とを除去し、該１つ以上の窪みを露出することと
を包含する、デバイスを形成する方法。
【請求項１５】
層の第一の表面を異方性エッチングして、テーパ付き壁と、該層の該第一の表面に実質的に平行である窪み表面とを有する窪みを形成することと、
該第一の表面と反対側にある層の第二の表面をエッチングして、実質的に垂直な壁を有する出口を形成することであって、該出口は、該窪みに流体的に接続され、貫通孔を形成し、該出口の該壁は、該窪みの該テーパ付き壁と交差する、ことと
を包含する、デバイスを形成する方法。
【請求項１６】
ポンプチャンバを有する主部分と、
該主部分に接続されたシリコンから形成されたノズル部分であって、該ノズル部分は、ノズル入口およびノズル出口を有し、該ノズル入口は、中心軸を中心とするテーパ付き壁を有し、該テーパ付き壁は、該ノズル出口に導き、該ノズル出口は、中心軸の周りに約±１°の範囲内で実質的に垂直な壁を有し、該ノズル入口および該ノズル出口は、実質的にどの表面も該中心軸と直交しない、ノズル部分と
を備える、プリントヘッド本体。
【請求項１７】
テーパ付き壁を有する窪みを有するシリコンを含む本体であって、該窪みは、第一の厚さを有する、本体と、
出口であって、該出口は該窪みに流体的に接続され、貫通孔を形成し、該出口の壁は該窪みの該テーパ付き壁と交差し、該出口は第二の厚さを有し、該第一の厚さと該第二の厚さとは一緒になって６０マイクロメートル以下にほぼ等しい、出口と
を備える、流体排出ノズル層。
【請求項１８】
前記出口は、実質的に垂直な壁を有する、請求項１７に記載の層。
【請求項１９】
半導体ノズル層内に通路と、
チャンバを有する半導体基板であって、該基板は、該ノズル層の該第一の表面に固定され、該チャンバは、該通路を介して、大気に、流体的に結合される、半導体基板と
を備え、
該半導体ノズル層は、６０マイクロメートル以下の厚さにほぼ等しい、流体排出デバイス。
【請求項２０】
デバイス層の第一の表面を異方性エッチングして、テーパ付き壁と、該第一の表面に実質的に平行である窪み表面とを有する窪みを形成することと、
該デバイス層の該第一の表面を、チャンバを有する基板にボンディングすることによって、該窪みが、該チャンバに流体的に接続されることと、
該デバイス層をエッチングして、通路を形成することであって、該通路は、該デバイス層内の該窪みと流体的に接続される、ことと
を包含する、デバイスを形成する方法。
【請求項２１】
ポンプチャンバを有する主部分と、
該主部分に接続された約６０マイクロメートル以下の厚さを有し、シリコンから形成されたノズル部分であって、該ノズル部分は、ノズル入口およびノズル出口を有し、該ノズル入口は、中心軸を中心とするテーパ付き壁を有し、該テーパ付き壁は、該ノズル出口に導き、該ノズル出口は、実質的に垂直な壁を有し、該ノズル入口および該ノズル出口は、実質的にどの表面も該中心軸と直交しない、ノズル部分と
を備える、プリントヘッド本体。
【請求項２２】
前記ノズル出口は、中心軸の周りに±１°の範囲内で実質的に垂直な壁を有する、請求項２１に記載のプリントヘッド本体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月4日(2008.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層、ここで前記インクジェット受容性ビードボンド層が架橋剤を含む、と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、を含むタンパー表示印刷可能シート。
【請求項２】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層、ここで前記インクジェット受容性ビードボンド層がオルガノシランを含む、と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、を含むタンパー表示印刷可能シート。
【請求項３】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、
前記インクジェット受容性ビードボンド層と接触したビードボンド支持層と、を含むタンパー表示印刷可能シート。
【請求項４】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層、ここで前記インクジェット受容性ビードボンド層が架橋剤を含む、と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、
前記インクジェット受容性ビードボンド層上の印刷された画像と、を含むタンパー表示印刷可能シートであって、
画像除去液体に曝した際に、前記インクジェット受容性ビードボンド層の特性が変わり、複数の再帰反射マイクロビードが前記インクジェット受容性ビードボンド層から分離してタンパリングを表示する、タンパー表示印刷可能シート。
【請求項５】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層、ここで、前記インクジェット受容性ビードボンド層がオルガノシランを含む、と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、
前記インクジェット受容性ビードボンド層上の印刷された画像と、を含むタンパー表示印刷可能シートであって、
画像除去液体に曝した際に、前記インクジェット受容性ビードボンド層の特性が変わり、複数の再帰反射マイクロビードが前記インクジェット受容性ビードボンド層から分離してタンパリングを表示する、タンパー表示印刷可能シート。
【請求項６】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、
前記インクジェット受容性ビードボンド層上の印刷された画像と、
前記インクジェット受容性ビードボンド層と接触したビードボンド支持層と、
を含むタンパー表示印刷可能シートであって、
画像除去液体に曝した際に、前記インクジェット受容性ビードボンド層の特性が変わり、複数の再帰反射マイクロビードが前記インクジェット受容性ビードボンド層から分離してタンパリングを表示する、タンパー表示印刷可能シート。
【請求項７】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層であって、前記インクジェット受容性ビードボンド層が、架橋剤を含み、しかも、タンパリングを表示するように形成される、再帰反射層と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、を含むタンパー表示印刷可能シート。
【請求項８】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層であって、前記インクジェット受容性ビードボンド層が、オルガノシランを含み、しかも、タンパリングを表示するように形成される、再帰反射層と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、を含むタンパー表示印刷可能シート。
【請求項９】
インクジェット受容性ビードボンド層に部分的に埋め込まれた複数のマイクロビードを含む再帰反射層であって、前記インクジェット受容性ビードボンド層が、タンパリングを表示するように形成される、再帰反射層と、
前記マイクロビードの少なくとも１つと前記インクジェット受容性ビードボンド層との間の反射体層と、
前記インクジェット受容性ビードボンド層と接触したビードボンド支持層と、を含むタンパー表示印刷可能シート。
【請求項１０】
請求項１、２、３、４、５、６、７、８、又は９に記載のタンパー表示印刷可能シートと、重要文書と、を組み合わせて含むセキュリティ文書であって、前記印刷可能シートが前記重要文書に挿入されるかまたは付着される、セキュリティ文書。