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【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内層チューブと、
前記内層チューブの外面を覆う外層チューブとで構成されており、
前記内層チューブと外層チューブの層間に螺旋状の中空部が設けられているシースチューブを有することを特徴とするイントロデューサーシース。
【請求項２】
前記内層チューブが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、フッ素系樹脂のいずれかで形成されていることを特徴とする請求項１に記載のイントロデューサーシース。
【請求項３】
前記外層チューブが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、フッ素系樹脂のいずれかで形成されていることを特徴とする請求項１に記載のイントロデューサーシース。
【請求項４】
前記内層チューブと外層チューブが、同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【請求項５】
前記内層チューブと外層チューブの層間に接着層を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【請求項６】
前記シースチューブの先端側に先端チップが接合されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【請求項７】
前記螺旋状の中空部の先端側にＸ線不透過性マーカーが設けられていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【請求項８】
内層チューブの外面にフィラメントを螺旋状に巻き付ける工程、前記内層チューブの外側に外層チューブを被せる工程、およびフィラメントを除去して螺旋状の中空部を形成する工程、を含むことを特徴とする螺旋状の中空部を有するチューブの製造方法。
【請求項９】
前記フィラメントを除去して螺旋状の中空部を形成する工程が、前記フィラメントを引っ張ることにより前記フィラメントを除去して螺旋状の中空部を形成する工程である請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記内層チューブの外側に前記外層チューブを被せる工程が、前記フィラメントの一端が前記外層チューブからはみ出すように外層チューブを被せる工程である請求項８または９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記外層チューブの外側に熱収縮チューブを被せ、これを熱収縮させた後に前記外層チューブから別収縮チューブを除去する工程を、さらに含む請求項８ないし１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】
熱収縮チューブを除去した後に、前記フィラメントの一端が前記外層チューブからはみ出していることを特徴とする請求項１１に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（４）前記内層チューブと外層チューブが、同一の材料で形成されていることを特徴とする（１）ないし（３）のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（５）前記内層チューブと外層チューブの層間に接着層を有することを特徴とする（１）ないし（４）のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（６）前記シースチューブの先端側に先端チップが接合されることを特徴とする（１）ないし（５）のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（７）前記螺旋状の中空部の先端側にＸ線不透過性マーカーが設けられていることを特徴とする（１）ないし（６）のいずれかに記載のイントロデューサーシース。
（８）内層チューブの外面にフィラメントを螺旋状に巻き付ける工程、前記内層チューブの外側に外層チューブを被せる工程、およびフィラメントを除去して螺旋状の中空部を形成する工程、を含むことを特徴とする螺旋状の中空部を有するチューブの製造方法。
（９）前記フィラメントを除去して螺旋状の中空部を形成する工程が、前記フィラメントを引っ張ることにより前記フィラメントを除去して螺旋状の中空部を形成する工程である（８）に記載の製造方法。
（１０）前記内層チューブの外側に前記外層チューブを被せる工程が、前記フィラメントの一端が前記外層チューブからはみ出すように外層チューブを被せる工程である（８）または（９）に記載の製造方法。
（１１）前記外層チューブの外側に熱収縮チューブを被せ、これを熱収縮させた後に前記外層チューブから別収縮チューブを除去する工程を、さらに含む（８）ないし（１０）のいずれかに記載の製造方法。
（１２）熱収縮チューブを除去した後に、前記フィラメントの一端が前記外層チューブからはみ出していることを特徴とする（１１）に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月18日(2007.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
同様に磁気記録層の上に可逆性感熱記録層を設けた可逆性感熱記録材料も提案されている。磁気記録層、隠蔽層、可逆性感熱記録層、保護層を順次積層した可逆性感熱記録媒体で、隠蔽層に活性水素を有する樹脂を主成分として含有し、該隠蔽層と該可逆性感熱記録層との間に、少なくとも紫外線硬化樹脂及び架橋剤を主成分として含有する耐熱層を形成したことを特徴とし、隠蔽層と可逆性感熱記録層の密着性を改良している。しかし、消去性においては、反射濃度計マクベスＲＤ―９１８を使って濃度測定した場合の地肌濃度と消去濃度のコントラストが良くても０．０４以上ある。人間の目で見て、消えたと思えるコントラストは０．０１５以下であるため、薄くなったとは言えるが可逆性感熱記録材料としては使用できず、未だ実用化されていない。（例えば特許文献３）
【特許文献１】特開平６−２１０９５４号公報
【特許文献２】特開平８−３１８６９０号公報
【特許文献３】特開平１１−５３６７号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
隠蔽層中のバインダー樹脂の使用量は、顔料成分に対して１０〜４０質量％が好ましい。また、磁気記録層上に一度、隠蔽層を設けた後に、更にバインダー樹脂を含浸しても良い。また必要に応じて、分散剤、界面活性剤、ワックス、カップリング剤等を添加することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月29日(2006.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異物を除去するフィルタを、前記フィルタを支持する支持体に溶着する溶着工程を含むインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
前記溶着工程にて、保持面に保持された前記フィルタを加熱し前記フィルタを前記支持体に対して圧接することで前記フィルタを前記支持体に溶着させる熱溶着治具を、前記フィルタを前記保持面に保持する前に予め加熱しておくことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項２】
メッシュ構造の前記フィルタを用意する工程を含む、請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項３】
金属不織布からなる前記フィルタを用意する工程を含む、請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記支持体と、前記熱溶着治具に保持された前記フィルタとを、重力方向で圧接させる、請求項１ないし３のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記フィルタを前記熱溶着治具の重力方向下側で保持する、請求項４に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記熱溶着治具が前記フィルタを前記保持面に吸着して保持する吸着手段を有し、前記吸着手段により前記フィルタを前記保持面に吸着して保持する、請求項５に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記フィルタを前記熱溶着治具の重力方向上側で保持する、請求項４に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記熱溶着治具の加熱温度は、前記支持体の溶融温度以上であり、ボイドが発生する温度以下であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記熱溶着治具を介して前記フィルタを加熱しており、前記フィルタの加熱温度は、前記支持体の溶融温度以上であり、ボイドが発生する温度以下であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記インクジェット記録ヘッドを、内部にインクを収納するインクタンクと一体に形成する工程を含む、請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
被記録媒体を搬送する搬送手段と、
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法により製造されたインクジェット記録ヘッドを保持し、かつ、前記被記録媒体の搬送方向に対して交差する方向に往復移動する保持手段と、を有するインクジェット記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月2日(2007.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属珪化窒化物を主成分とする発熱抵抗体膜の製造方法において、
前記発熱抵抗体膜を形成した後、該発熱抵抗体膜の表面の酸化膜の少なくとも一部を除去することを特徴とする、発熱抵抗体膜の製造方法。
【請求項２】
前記酸化膜を除去する工程は、フッ素を含むガスを用いたエッチング処理である、請求項１に記載の発熱抵抗体膜の製造方法。
【請求項３】
前記発熱抵抗体膜を、非晶質窒化珪素タンタルを主成分として形成する、請求項１に記載の、発熱抵抗体膜の製造方法。
【請求項４】
基板上に発熱抵抗体膜と、該発熱抵抗体膜に電流を流すための配線が形成された、記録ヘッド用基体の製造方法であって、
前記基板上に前記配線を形成するための導電膜を形成する工程と、該導電膜をパターニングして発熱部を形成する工程と、該導電膜上に前記発熱抵抗体膜を形成する工程と、前記発熱抵抗体膜を画素ごとに分離するためのレジストマスクを形成する工程と、前記導電膜と発熱抵抗体膜をエッチングして画素ごとに分離する工程と、前記レジストマスクを除去する工程と、前記発熱抵抗体膜上に形成された酸化膜の一部を除去する工程と、を含むことを特徴とする記録ヘッド用基体の製造方法。
【請求項５】
前記酸化膜を除去する工程がフッ素を含むガスによるエッチングである、請求項４に記載の記録ヘッド用基体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発熱抵抗体膜の製造方法、記録ヘッド用基体の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、紙、プラスティック、布などのシート状物に代表される物品を被記録部材として、それに文字などの画像を形成する記録装置、特にプリンタなどに用いられ、シリコン（Ｓｉ）半導体基板などに形成された発熱抵抗体を有し、この発熱抵抗体を利用して記録を行うサーマル記録ヘッドやインクジェット記録ヘッドなどにおける発熱抵抗体として好適に用いられる発熱抵抗体膜の製造方法と、そのような発熱抵抗体膜を有する記録ヘッド用基体の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
したがって本発明の目的は、新たに見出した技術課題を元に、繰り返しパルス通電に対する抵抗変化率が十分に低く、すなわち耐久性が十分に高い発熱抵抗体膜の製造方法、発熱抵抗体膜を用いた記録ヘッド用基体の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の発熱抵抗体膜の製造方法は、金属珪化窒化物を主成分とする発熱抵抗体膜の製造方法において、発熱抵抗体膜を形成した後、発熱抵抗体膜の表面の酸化膜の少なくとも一部を除去することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月9日(2007.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１保護層の膜質は、前記第２保護層の膜質に対して密であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月31日(2007.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘弾性を有するシート状の第１の部材と、
前記第１の部材の両主面に設けられ、前記第１の部材より剛性の低い第２の部材と、
を具備することを特徴とする緩衝シート。
【請求項２】
粘弾性を有する第１の部材と、
前記第１の部材を保持し、前記第１の部材より剛性が低い第２の部材と、
を具備し、
前記第２の部材は、シート状で、かつ、前記第２の部材の厚み方向の寸法が前記第１の部材の前記厚み方向の寸法と一致する寸法に形成され、
前記第１の部材は、前記第２の部材の内部に含まれるとともに、前記第２の部材の表面から一部露出していることを特徴とする緩衝シート。
【請求項３】
粘弾性を有する第１の部材と、
前記第１の部材を保持し、前記第１の部材より剛性が低い第２の部材と、
を具備し、
前記第２の部材は複数のシート状の部材で構成されており、前記第１の部材は前記第２の部材のシート状の部材の間に挟まれていることを特徴とする緩衝シート。
【請求項４】
本体と、
前記本体内に設けられる磁気記録装置と、
を具備し、
前記本体と前記磁気記録装置との間に介装される請求項１または請求項２または請求項３に記載された緩衝シートを有する電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（２）粘弾性を有する第１の部材と、前記第１の部材を保持し、前記第１の部材より剛性が低い第２の部材とを具備し、前記第２の部材は、シート状で、かつ、前記第２の部材の厚み方向の寸法が前記第１の部材の前記厚み方向の寸法と一致する寸法に形成され、前記第１の部材は、前記第２の部材の内部に含まれるとともに、前記第２の部材の表面から一部露出している。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月5日(2007.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかしながら、上記の従来技術でも、粘度１０cpsを大きく上回る５０〜１００cpsのような高粘度インクを、常温において安定吐出することは極めて困難である。本発明の目的は、これらの課題を解決し、特に常温で５０〜１００cpsオーダの高粘度インクが吐出可能なインクジェット記録ヘッドを提供することにある。具体的には、梁に圧縮と回転運動を与え、座屈曲げ方向が反転する際の急峻な上下運動を利用し、ノズルからインク滴を慣性離脱させるインクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置を提供する。
【特許文献１】特開２００３−２２０７０２号公報  （図１、第４頁〜第６頁）
【特許文献２】特開平９−３２７９１８号公報      （図１、第８頁〜第９頁）
【特許文献３】特開２００３−１１８１１４号公報  （図３、第４頁〜第５頁）
【特許文献４】特開２００４−３４７１０号公報  （図１３、第６頁〜第８頁）
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月11日(2007.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パリソンを挟み込む食い切り先端部を高硬度材料で形成した金型の製造方法であって、金型母材をパーティング形状に切削する工程後、食い切り周辺部に加熱した前記高硬度材料を被膜する工程と、キャビティー及びキャビティー周辺を切削加工する工程を経て前記高硬度材料と前記金型母材が一体形成されるブロー成型用金型の製造方法。
【請求項２】
高速フレーム溶射法または肉盛り溶接法により、高硬度材料を被膜することを特徴とする請求項１記載のブロー成型用金型の製造方法。
【請求項３】
金型母材がアルミニウム合金または亜鉛合金であり、高硬度材料がステライト合金、サーメット材料およびセラミックスのいずれか１つである、請求項１記載のブロー成型用金型の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
すなわち、本発明は、パリソンを挟み込む食い切り先端部を高硬度材料で形成した金型の製造方法であって、金型母材をパーティング形状に切削する工程後、食い切り周辺部に加熱した前記高硬度材料を被膜する工程と、キャビティー及びキャビティー周辺を切削加工する工程を経て前記高硬度材料と前記金型母材が一体形成されるブロー成型用金型の製造方法を要旨とするものである。高硬度材料の被膜工程には高速フレーム溶射法または肉盛り溶接法を用いることができる。また、金型母材にはアルミニウム合金または亜鉛合金が使用でき、高硬度材料にはステライト合金、サーメット材料およびセラミックスにいずれか１つが使用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等があげられる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月6日(2007.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを吐出する吐出口と、前記吐出口に連通する液流路と、
前記液流路に連通するインク供給口と、前記液流路内のインクを前記吐出口から吐出させるためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子と、前記インク供給口から前記液流路に至るインク供給経路に形成された第１のフィルターと、を備えた基板を有するインクジェット記録ヘッドであって、
前記第１のフィルターは、前記基板の厚み方向にインクを通過させることが可能であり、かつ、前記吐出口の断面積よりも小さな断面積の複数の貫通孔によって構成され、該第１のフィルターが形成された部分の前記基板の厚みよりも、前記吐出エネルギー発生素子が形成された部分の前記基板の厚みの方が厚いことを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【請求項２】
前記供給経路における前記基板に、インクを通過させることが可能な複数の開口部によって構成された第２のフィルターが形成され、前記開口部の断面積は前記吐出口の断面積より小さいことを特徴とする請求項１記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項３】
前記第１のフィルターを構成する複数の貫通孔の長さが同一であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項４】
前記第１のフィルターを構成する複数の貫通孔を連結させる合流部が前記基板の表面に形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項５】
前記第１のフィルターを構成する貫通孔の表面に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項６】
前記保護膜が無機膜であることを特徴とする請求項５記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項７】
前記保護膜が有機膜であることを特徴とする請求項５記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項８】
前記保護膜がＳｉＮ膜であることを特徴とする請求項５記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項９】
前記保護膜がＳｉＯ膜であることを特徴とする請求項５記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項１０】
前記保護膜がＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項５記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドを製造する方法であって、
基板の表面に吐出エネルギー発生素子を形成する工程と、
前記基板に第１のフィルターを構成する貫通孔となる孔を形成する工程と、
前記孔の表面に保護膜を形成する工程と、
前記基板をエッチングしてインク供給口を形成する工程と、
前記インク供給口の内側に露出している前記保護膜を除去する工程と、を少なくとも含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出する吐出口と、吐出口に連通する液流路と、液流路に連通するインク供給口と、液流路内のインクを吐出口から吐出させるためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子と、インク供給口から液流路に至るインク供給経路に形成された第１のフィルターと、を備えた基板を有するインクジェット記録ヘッドであって、第１のフィルターは、基板の厚み方向にインクを通過させることが可能であり、かつ、吐出口の断面積よりも小さな断面積の複数の貫通孔によって構成され、該第１のフィルターが形成された部分の基板の厚みよりも、吐出エネルギー発生素子が形成された部分の基板の厚みの方が厚いことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月20日(2006.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記記録位置の下流側で前記記録シートを挟持搬送する第２ローラ対を更に有し、前記記録シートは前記第１ローラ対及び／或は第２ローラ対により挟持されて搬送されることを特徴とする請求項７に記載の記録装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記第１ローラ対の前記上流側で前記記録シートの後端を検知する検知工程と、
前記検知工程で前記記録シートの後端が検知された後、前記記録シートの後端が前記第１ローラ対のニップ部を離れる時点まで前記第１ローラ対を回転駆動した駆動用モータの駆動状態を検出するエンコーダセンサの出力値をメモリに記憶する記憶工程とを更に有し、
前記搬送駆動制御工程では、前記検知工程での前記記録シートの後端の検知から前記メモリに記憶されている前記出力値に基づいて、前記記録シートの後端が前記第１ローラ対のニップ部を離れた時点を検出することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の記録装置の制御方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記検知工程で前記記録シートの後端が検知された後、前記記録シートの後端が前記第１ローラ対のニップ部を離れる時点は、前記駆動用モータの定速駆動時におけるモータ駆動信号の変動に基づいて検知されることを特徴とする請求項１１に記載の記録装置の制御方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記検知工程での検知後、前記記録ヘッドによる記録方式を変更する記録制御工程を更に有することを特徴とする請求項７乃至１２のいずれか１項に記載の記録装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長方形な板体である基板Ａと、その片側端部に該基板と同一平面上に突設した支持脚Ｂと、基板Ａの他端に支持脚Ｂと平行状に突出させた支持脚Ｃが一体化したスライド体Ｄとから構成され、しかも該スライド体Ｄが往復移動可能に基板Ａに嵌め合わされ、且つ支持脚Ｂ、Ｃのいずれか片面又は両面の上方側面に角度測定面を有する角度測定冶具Ｅが一体に及び／又は交換可能に設けられ、しかも支持脚Ｂ、Ｃとは協同して同一水平を保ち、且つ支持脚Ｂ、Ｃの高さがパチンコ釘の高さより長いことを特徴とする、遊技機釘角度測定ゲージ。
【請求項２】
支持脚Ｂ、Ｃが基板Ａに対して上向きに又は下向きに突出して設けられ、それに取り付けられた角度測定冶具Ｅと相まって夫々下げ釘用又は上り釘用角度測定部材Ｆとして用いられることを特徴とする請求項１記載の遊技機釘角度測定ゲージ。
【請求項３】
角度測定冶具Ｅ付き支持脚Ｂをスライド体Ｄに着脱自在に構成させることを特徴とする請求項１又は２記載の遊技機釘角度測定ゲージ。
【請求項４】
支持脚Ｂが傾斜状であってそれ自体で角度測定部材Ｆを構成し、且つ該支持脚Ｂに釘頭を係止するための段差が設けられ、しかも角度測定冶具Ｅを設けないことを特徴とする請求項１記載の遊技機釘角度測定ゲージ。
【請求項５】
スライド体Ｄは、挟支持板と連結部を（止め）ネジで止めた組立構造であることを特徴とする請求項１記載の遊技機釘角度測定ゲージ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するために本発明者は種々検討した結果、遊技機釘角度測定ゲージとして、
（１）長方形な板体である基板２と、その片側端部に該基板と同一平面上に突設した支持脚３と、基板２の他端に支持脚３と平行状に突出させた支持脚３’が一体化したスライド体６とから構成され、スライド体６が往復移動可能に基板２に嵌め合わされ、且つ
支持脚３、３’のいずれか片面又は両面の上方側面に角度測定面５を有する角度測定冶具４が一体に及び／又は交換可能に設けられ、しかも支持脚３、３’とは協同して同一水平を保ち、且つ支持脚３、３’の高さがパチンコ釘７の高さより長い、遊技機釘角度測定ゲージを提供する（図１、９参照）。また、
（２）支持脚３、３’が基板２に対して上向きに又は下向きに突出して設けられ、それに取り付けられた角度測定冶具４と相まって夫々下げ釘用又は上り釘用角度測定部材として用いられる点にも特徴を有する（図１２参照）。また、
（３）角度測定冶具４付き支持脚３をスライド体６に着脱可能とした点にも特徴を有する（図２３参照）。また、
（４）支持脚３が傾斜状であってそれ自体で角度測定部材４’を構成し、且つ該支持脚３に釘頭を係止するための段差１５が設けられ、しかも角度測定冶具４を設けない点にも特徴を有する（図１９参照）。また、
（５）スライド体６は、挟支持板１８と連結部２０を（止め）ネジ１９で止めた組立構造である点にも特徴を有する（図２３参照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は下記の実施の態様をも包含する。
（１）支持脚３、３’は、基板２の端部の片側又は両側のいずれかに突設される点にも特徴を有する（図９、１２参照）。
（２）基板２に直角状に突出された支持脚３、３’が直角測定面１０を構成する点にも特徴を有する（図７参照）。
（３）該該角度測定部材４’は基板２の上端部に嵌挿可能とした点にも特徴を有する（図２２参照）。
（４）スライド体６は、基板２にネジ等１９で仮固定可能とした点にも特徴を有する（図２３参照）。
（５）スライド体６に滑り止め孔１７を設けた点にも特徴を有する（図２３参照）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月7日(2006.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
また、上記第６実施例では固定基盤(５)の角部４箇所に係合体(１０)を突設しているが、本実施例では、図９に示す如く、固定基盤(５)の端辺中央部に２箇所のみ係合体(１０)を形成配置している。そして、マット本体(４)のマット基盤(１)の対応部に、上記係合体(１０)を挿入可能な係合穴(１２)を貫通形成し、係合体(１０)を係合穴(１２)に挿入することにより固定基盤(５)にマット本体(４)を組み付けている。このように係合体(１０)を２箇所のみ形成した場合でも、固定基盤(５)上でのマット本体(４)の平面方向への移動は制限されるため、マット本体（４）を強固に位置固定する事ができる。また、上記第５実施例に比べて係合体（１０）及び係合穴（１２）の数が少ないため、廉価で製造容易な製品を得ることが可能となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
また、上記第８実施例では、固定基盤(５)の外縁に、マット本体（４）の側面を当接可能とする係合体(１０)を突設しているが、本発明の第９実施例では、固定基盤(５)の四隅に、マット本体(４)の角部を挿入可能とする係合体(１０)を突設している。本発明の第７実施例を図１１において示すと、固定基盤(５)の表面角部には、この角部に沿って直角な直角三角形状の係合体(１０)をそれぞれ突設している。また、この係合体(１０)は、固定基盤(５)の中央部方向に差込口(１４)を開口しており、マット本体(４)の４箇所の角部を、対応部に設けられた係合体(１０)の差込口(１４)にそれぞれ差し込むことによって、固定基盤(５)にマット本体(４)を強固に位置固定することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月5日(2007.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
更に本発明においては、所望の効果を阻害しない範囲内で感熱記録層中に熱可融性物質（いわゆる増感剤）を併用することもできる。このような増感剤としては、ステアリン酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、ｐ−ベンジルオキシ安息香酸ベンジル、１，２−ジ（３−メチルフェノキシ）エタン、１，２−ジ（４−メチルフェノキシ）エタン、１，２−ジ（４−メトキシフェノキシ）エタン、１，２−ジ（４−クロロフェノキシ）エタン、１，２−ジフェノキシエタン、１−（４−メトキシフェノキシ）−２−（３−メチルフェノキシ）エタン、ｐ−メチルチオフェニルベンジルエーテル、１，４−ジ（フェニルチオ）ブタン、ｐ−ベンジルビフェニル、ｐ−トリルビフェニルエーテル、ジ（ｐ−メトキシフェノキシエチル）エーテル、２−ナフチルベンジルエーテル、ｍ−ターフェニル、ベンジル−４−メチルチオフェニルエーテル、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニルエステル、シュウ酸ジベンジルエステル、シュウ酸−ジ−ｐ−メチルベンジルエステル、シュウ酸−ジ−ｐ−クロロベンジルエステル、テレフタル酸ジブチルエステル、テレフタル酸ジベンジルエステル、イソフタル酸ジブチルエステル、ｐ−アセトトルイジド、ｐ−アセトフェネチジド、Ｎ−アセトアセチル−ｐ−トルイジン、ジ（β−ビフェニルエトキシ）ベンゼンなどが挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
以下に実施例を示し、本発明をより具体的に説明するが、勿論これらに限定されるものではない。また、特に断らない限り、「部」及び「％」は、それぞれ「質量部」及び「質量％」を表す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
実施例５
・Ａ液（複合粒子分散液）の調製
ロイコ染料として３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−（３−トルイジノ）フルオラン１１部、３−ジエチルアミノ−６，８−ジメチルフルオラン６部、及び３，３−ビス（４−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−４−アザフタリド５部と、紫外線吸収剤として２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン１０部とを、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート（住友バイエルウレタン社製、デスモジュールＷ）２部、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート（三井武田ケミカル社製、ＴＭＸＤＩ）１２部からなる混合溶媒に加熱溶解（１５０℃）し、この溶液をポリビニルアルコール（クラレ社製、ポバールＰＶＡ−２１７ＥＥ）８．５部と、界面活性剤としてアセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（日信化学社製、オルフィンＥ１０１０）１．５部を含む水溶液１００部中に徐々に添加し、ホモジナイザーを用い、回転数１００００ｒｐｍの攪拌によって乳化分散した。この乳化分散液に、水３０部、多価アミン化合物（シェル・インターナショナル・ペトロリウム社製、エピキュアＴ）２．５部を水２２．５部に溶解した水溶液を加えて均一化した。この乳化分散液を７５℃に昇温し、７時間の重合反応を行い、平均粒子径０．８μｍ（レーザー光回折法による）のロイコ染料含有複合粒子分散液を調製した。なお、ロイコ染料含有複合粒子分散液が２５％となるように水で希釈した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
比較例３
実施例５の感熱記録層用塗液の調製において、Ｂ−１液８０部の代わりに比較例２で得た呈色剤分散液８０部を用いた以外は、実施例５と同様にして感熱記録体を得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
比較例４
実施例５の感熱記録層用塗液の調製において、Ｂ−１液８０部の代わりに下記のＢ−５液８０部を用いた以外は、実施例５と同様にして感熱記録体を得た。
呈色剤分散液Ｂ−５の調製
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン１００部、１０％の部分ケン化ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２０３、クラレ社製）水溶液２００部からなる組成物を混合攪拌した後、加温を行わず、ウルトラビスコミル［アイメックス社］を用いて湿式粉砕を行い、平均粒子径が０．３０μｍの分散液を得た。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
かくして得られた感熱記録体について以下の評価を行い、その結果を表１に示す。
（記録感度）
感熱記録体を温度２３℃湿度２０％の環境下と温度２３℃湿度５０％の環境下で２４時間放置後、各環境下で感熱印字プリンターＵＰ−ＤＦ５００（ソニー社製）を用いて階調モードにて記録し、温度２３℃湿度５０％の環境下では全１６階調の９及び１６階調目の記録部の濃度を測定した。また、温度２３℃湿度２０％の環境下では９階調目の記録部の濃度を測定した。記録部の濃度はマクベス濃度計（商品名：ＴＲ−９２７Ｊ型マクベス社製）のビジュアルモードで測定した。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月19日(2007.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機物含有水を生物処理した後、生物処理水をろ過することで得られるろ過水のｐＨをアルカリに調整した後、逆浸透膜装置を通水して得られた透過水を処理水として回収することを特徴とする有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項２】
前記ろ過が砂ろ過及び／または活性炭ろ過のいずれかである、請求項１の有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項３】
前記ろ過水に連続的にアルカリを添加し、ろ過水のｐＨを９以上に調整する、請求項１または２の有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項４】
前記ろ過水に間欠的にアルカリを添加し、ろ過水のｐＨを９以上に調整する、請求項１または２の有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項５】
前記有機物含有水に排水を用いる、請求項１ないし４のいずれかに記載の有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項６】
前記排水が電子部品部材類製造工程の排水である、請求項５の有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項７】
前記有機物含有水に含まれる全有機炭素が１０ｍｇ／Ｌ以上である、請求項1ないし６のいずれかに記載の有機物含有水からの水の回収方法。
【請求項８】
有機物含有水を生物処理する生物処理手段と、生物処理水をろ過するろ過手段と、ろ過水のｐＨをアルカリに調整するｐＨ調整手段と、アルカリに調整されたろ過水を透過させ透過水を得る逆浸透膜手段とを有することを特徴とする有機物含有水からの水の回収装置。
【請求項９】
前記ろ過手段が、砂ろ過手段及び／または活性炭ろ過手段のいずれかからなる、請求項８の有機物含有水からの水の回収装置。
【請求項１０】
前記ｐＨ調整手段が、ろ過水に連続的にアルカリを添加しｐＨを９以上に調整する手段からなる、請求項８または９の有機物含有水からの水の回収装置。
【請求項１１】
前記ｐＨ調整手段が、ろ過水に間欠的にアルカリを添加しｐＨを９以上に調整する手段からなる、請求項８または９の有機物含有水からの水の回収装置。
【請求項１２】
前記有機物含有水が排水からなる、請求項８ないし１１のいずれかに記載の有機物含有水からの水の回収装置。
【請求項１３】
前記排水が電子部品部材類製造工程の排水からなる、請求項１２の有機物含有水からの水の回収装置。
【請求項１４】
前記有機物含有水に含まれる全有機炭素が１０ｍｇ／Ｌ以上である、請求項８ないし１３のいずれかに記載の有機物含有水からの水の回収装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明に係る、有機物含有水からの水の回収装置は、有機物含有水を生物処理する生物処理手段と、生物処理水をろ過するろ過手段と、ろ過水のｐＨをアルカリに調整するｐＨ調整手段と、アルカリに調整されたろ過水を透過させ透過水を得る逆浸透膜手段とを有することを特徴とするものからなる。このような回収装置においては、従来の回収装置に比べ工程数、とくに煩雑なｐＨ調整工程の回数低減できる。また、極度に汚染された有機物含有水から水を回収しようとする場合であっても適用できる。また、ＲＯ膜分離手段へ供給される水が適切に処理されるので、ＲＯ膜の閉塞や透過流束の低下を抑制でき、ＲＯ膜、ひいては回収装置全体の耐久性を向上できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
有機物含有水からの水の回収装置６は、図２に示すように構成されている。排水配管５からの排水（有機物含有水）は、排水原水槽７に貯留される。排水原水槽７に貯留され他排水は、生物処理手段８において生物処理された後、第１中間槽９を介してろ過手段１０（砂ろ過塔）に供給される。ろ過手段１０によりろ過されたろ過水は、第２中間槽１１、活性炭塔１２を通過し、さらにｐＨ調整手段１３によりｐＨ調整された後、安全フィルタ１４を介してＲＯ膜手段１５に供給される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明に係る有機物含有水からの水の回収装置および回収方法は、有機物含有水から水を回収する回収装置として広範に適用可能であるが、とくに電子部品部材類製造工程排水からの純水の回収に好適なものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月22日(2007.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を分注するための液体分注装置に用いられる分注チップを着脱可能に収容するためのチップラックであって、
前記分注チップが挿入される複数のチップ挿入孔を有するとともに、前記分注チップを着脱可能に支持するチップ支持部と、前記チップ支持部の下方側に配置されるとともに、前記チップ支持部のチップ挿入孔に挿入された分注チップの先端部を収容するチップ収容部とを含むラック本体と、
前記ラック本体に着脱可能に装着されるとともに、前記チップ支持部のチップ挿入孔に挿入された分注チップの根元部を覆う蓋部材とを備え、
前記ラック本体は、前記蓋部材を前記ラック本体に装着した状態で前記チップラックを前記液体分注装置にセットする際に、使用者によって把持される把持部を含む、チップラック。
【請求項２】
前記蓋部材は、
上面部と、
前記上面部の外周近傍から下方に向かって延びるように形成された側面部とを含む、請求項１に記載のチップラック。
【請求項３】
前記蓋部材の上面部は、平面的に見て実質的に四角形状を有しており、
前記ラック本体の把持部は、前記蓋部材の４つの側面部に対応する位置に、前記蓋部材の４つの側面部よりも外側に突出する少なくとも４つの把持部を含み、
前記チップ支持部の複数のチップ挿入孔は、前記チップ支持部に、縦方向の配列と横方向の配列とが実質的に等しくなるようにマトリクス状に配置されている、請求項２に記載のチップラック。
【請求項４】
前記蓋部材の側面部は、前記ラック本体の把持部に係合する切欠部を有する、請求項３記載のチップラック。
【請求項５】
前記ラック本体のチップ収容部は、前記チップ支持部のチップ挿入孔に挿入された分注チップの先端部が前記チップ収容部の内面に接触しない状態で前記分注チップを収容するように、前記チップ支持部の下方に配置されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のチップラック。
【請求項６】
前記ラック本体のチップ支持部およびチップ収容部は、別体で形成されており、
前記チップ支持部は、前記チップ収容部に係合する第１係合部を有し、
前記チップ収容部は、前記チップ支持部の第１係合部に係合する第２係合部を有し、
前記チップ収容部の第２係合部が前記チップ支持部の第１係合部に係合されることによって、前記チップ収容部が前記チップ支持部の下方に取り付けられる、請求項１〜５のいずれか１項に記載のチップラック。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のチップラックと、
前記チップラックのチップ挿入孔に挿入された前記分注チップとを備えた、チップ組立品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品（２０）の内部表面幾何形状（１０）を再構成する方法であって、
前記部品についての複数の厚さデータ（３２）を含む厚さマップ（３０）を該部品の複数の外表面データ（４０）に位置合わせする段階と、
前記厚さマップ（３０）と前記外表面データ（４０）とを用いて複数の内表面データ（１２）を生成する段階と、
を含む方法。
【請求項２】
前記部品（２０）の画像シーケンスを収集する段階と、
前記画像シーケンスから前記部品の厚さマップ（３０）を生成する段階と、
を更に含み、
前記収集段階と生成段階が前記位置合わせ段階の前に実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記部品（２０）に対して少なくとも１つのアーチファクト（６０）を方向付ける段階と、
撮像装置（５０）の座標系（８０）に対する前記アーチファクト（６０）の方向付けを求める段階と、
を更に含み、
前記画像が前記部品（２０）と前記アーチファクト（６０）のものであり、前記画像シーケンスが前記撮像装置を用いて収集され、前記部品に対する前記アーチファクトの方向付けが、前記収集段階中に実質的に同じままであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記アーチファクトが既知の幾何形状を有することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記撮像装置（５０）の座標系（８０）に対する前記アーチファクト（６０）の方向付けが、前記撮像装置（５０）の座標系（８０）に対する前記部品（２０）の方向付けを与え、前記位置合わせ段階が、前記撮像装置の座標系に対する前記部品の方向付けを用いてそれぞれの外表面データ（４０）に前記厚さデータ（３２）を位置合わせする段階を含む請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記画像シーケンスから、前記アーチファクト（６０）のアーチファクト厚さマップ（３５）を生成する段階を更に含み、前記撮像装置（５０）の座標系（８０）に対する前記アーチファクトの方向付けを求める段階が、前記アーチファクト厚さマップ及び該アーチファクトの複数の外表面データ（４２）を用いる段階を含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つのアーチファクト（６０）の各々の方向付けが、
前記部品の少なくとも１つの基準面（６４）を選択する段階と、
前記少なくとも１つの基準面で前記アーチファクトを前記部品（２０）へ取り付ける段階と、
を含む請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの基準面（６４）の各々に対する前記アーチファクト（６０）の位置（２４）を決定する段階を更に含み、前記決定段階が前記少なくとも１つのアーチファクト（６０）の各々について実行されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記撮像装置（５０）が、赤外線（「ＩＲ」）カメラ（５０）を含み、前記方法が、前記画像シーケンスを収集する段階の前に前記部品（２０）と前記アーチファクト（６０）を照射する段階を更に含み、前記厚さマップ（３０）がＩＲ厚さマップであることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
前記収集段階が、前記部品（２０）の複数の視野についてのイメージを収集する段階を含む請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月27日(2007.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光沢面を有する物体（１０６）を走査する光学計測システム（１００）において、
物体の光沢面に向かって構造化光パターン（Ｌ）を放射するように構成され且つ適合された少なくとも１つの光源（１０２）と、
光パターンが通過するように前記光源（１０２）と物体（１０６）との間に配置され、光パターンの偏光面及び偏光角のうちの少なくとも一方を変化させるように構成され且つ適合された少なくとも１つの第１の偏光子（１０８）と、
物体（１０６）の画像を撮影するように構成され且つ適合された少なくとも１つのカメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）と、
前記カメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）と物体（１０６）との間に配置され、固定された向きを有する少なくとも１つの第２の偏光子（１２２ａ〜１２２ｃ）と
を具備する光学計測システム。
【請求項２】
光沢のある物体の表面を走査する光学計測システムにおいて、
物体の表面に向かって構造化光パターン（Ｌ）を放射するように構成され且つ適合された少なくとも１つの光源（１０２）と、
前記光源と物体との間に配置され、光ビーム（Ｌ）により規定される軸に関して回転自在である少なくとも１つの第１の偏光レンズ（１０８）と、
物体の画像を撮影するような向きに配置された少なくとも１つのカメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）と、
各々のカメラと物体との間に配置され、各々が互いに対して固定された向きを有し且つ互いに対して異なる向きを有する少なくとも１つの第２の偏光レンズ（１２２ａ〜１２２ｃ）と
を具備する光学計測システム。
【請求項３】
前記光源（１０２）はレーザー源である請求項１又は２記載の光学計測システム。
【請求項４】
前記第１の偏光子（１０８）は光パターン（Ｌ）により規定される軸に関して回転自在である請求項１から３のいずれか１項に記載の光学計測システム。
【請求項５】
各光源（１０２）は物体に向かって少なくとも１本のレーザービーム（Ｌ）を放射するように構成され且つ適合されている請求項１から４のいずれか１項に記載の光学計測システム。
【請求項６】
物体（１０６）の画像を撮影するように構成され且つ適合された複数のカメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）を更に含む請求項１から５のいずれか１項に記載の光学計測システム。
【請求項７】
光沢面を有する物体（１０６）に対して光学的計測を実行する方法において、
物体（１０６）に向かって光パターン（Ｌ）を放射する少なくとも１つの光源（１０２）と、
前記光源（１０２）と物体（１０６）との間に動作自在に配置され、光パターン（Ｌ）の偏光面及び偏光角のうちの少なくとも一方を変化させることが可能である少なくとも１つの第１の偏光子（１０８）と、
物体（１０６）の画像を捕捉する少なくとも１つのカメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）と、
前記カメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）と物体（１０６）との間に固定配置された少なくとも１つの第２の偏光子（１２２ａ〜１２２ｃ）とを含む光学計測システム（１００）を設ける過程と、
前記第１の偏光子（１０８）を通して物体（１０６）の表面に向かって光パターン（Ｌ）を放射する過程と、
前記第１の偏光子（１０８）を回転させる過程と、
前記カメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）を使用して物体（１０６）の少なくとも１つの画像を、画像が前記第２の偏光子（１２２ａ〜１２２ｃ）を通して捕捉されるように捕捉する過程と
から成る方法。
【請求項８】
前記光学計測システムは複数のカメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）を含み、方法は、各々のカメラを使用して物体の複数の画像を捕捉する過程を含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記カメラ（１２４ａ〜１２４ｃ）から捕捉された画像を物体の表面により発生される雑音から分離された、物体に関する所望の情報として組み合わせる過程を更に含む請求項７又は８記載の方法。
【請求項１０】
位相情報に到達するために画像空間においてレーザービーム（Ｌ）を補間する過程を更に含む請求項７から９のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
相互反射がないように散乱性の高い材料で走査されるべき面を被覆すること、又は相互反射がないように個別の領域を別個に被覆するためにマスクを使用することにより、走査／検査プロセスに過程が追加されることになり、その結果、検査プロセスと関連する費用が増大し、検査プロセス全体の速度も低下する。
【特許文献１】米国特許第 5625446号明細書
【特許文献２】米国特許第 6028671号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第2002/0089747  号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第 2003/0112447  号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第 2003/0137662  号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかしながら、歯の質量が、翼形部の質量中心と同じ半径方向線に位置していないので、この非対称的な設計は、特に高温時にバケット上のシュラウド下方のフィレット（すなわち、翼形部と先端シュラウドとの間の領域）内の応力を増大させることになることが明らかになってきた。高温時におけるこの応力の増大は、高いクリープ率を招き、例えば割れ又は裂けの発生により、ついにはシュラウドの破損を生じるおそれがある。ただ一つのバケットが破損するだけで必然的にタービンをオフラインにする原因になることが分かるであろう。その結果、先端シュラウドと翼形部との間のフィレット領域における応力の増大によるシュラウド破損により、時間と費用の掛かる修理が必要となり、その修理にはタービンをオフラインにすることに加えて修理を行うための労力と交換部品を必要とする。
【特許文献１】米国特許第 4053111  号明細書
【特許文献２】米国特許第 4227703  号明細書
【特許文献３】米国特許第 4961310  号明細書
【特許文献４】米国特許第 5064343  号明細書
【特許文献５】米国特許第 5197281  号明細書
【特許文献６】米国特許第 5407320  号明細書
【特許文献７】米国特許第 5452529  号明細書
【特許文献８】米国特許第 5833244  号明細書
【特許文献９】米国特許第 5899660  号明細書
【特許文献１０】米国特許第 6086328  号明細書
【特許文献１１】米国特許第 6171351  号明細書
【特許文献１２】米国特許第 6241471  号明細書
【特許文献１３】米国特許第 6254345  号明細書
【特許文献１４】米国特許第 6302651  号明細書
【特許文献１５】米国特許第 6409471  号明細書
【特許文献１６】米国特許第 6457939  号明細書
【特許文献１７】米国特許第 6478304  号明細書
【特許文献１８】米国特許第 6494678  号明細書
【特許文献１９】米国特許第 6506022  号明細書
【特許文献２０】米国特許第 6533285  号明細書