【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年10月6日(2008.10.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抵抗層と誘電層と列電極とがこの順に積層された行電極と、該誘電層に設けられた空隙内に位置する前記抵抗層上に配置されたフィールドエミッタ構造とを備える、電界放射型ディスプレイ装置の製造方法であって、
ａ）行電極の一部であって該行電極のパッド領域を除いた部分の上に抵抗層を積層する工程と、
ｂ）前記抵抗層の上と前記行電極のパッド領域の上とに、誘電層を積層する工程と、
ｃ）前記抵抗層と前記誘電層が積層された前記行電極に対して、前記行電極の露呈部分が陽極酸化されるように陽極酸化処理する工程と、
を備えることを特徴とする電界放射型ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２】
前記行電極はアルミニウムからなる電極またはタンタルを被覆したアルミニウムからなる電極であり、前記誘電層は酸化ケイ素からなることを特徴とする請求項１に記載の電界放射型ディスプレイ装置の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
実施の一形態では、電界放射型ディスプレイ装置用の陽極酸化行電極を形成する構造と方法が開示されている。本実施形態では、本発明は、行電極の複数部分上に抵抗層を積層することを含む。次に、金属間誘電性層が行電極上に積層される。本実施形態では、金属間誘電層が抵抗層の複数部分上および行電極の複数のパッド領域上に積層されている。金属間誘電層を積層したあとで、行電極は陽極酸化工程に入り、行電極の露呈領域またはうっかり被覆されなかった領域が陽極酸化される。このようにすることで、本発明は、行から列への電極の短絡の発生に耐性がありその後の処理工程から保護される行電極構造を提供することとなる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
他の実施形態では、本発明は、陽極酸化行電極およびその形成方法を提供するものである。この実施形態では、行電極の第１領域がマスクされ第２領域がマスクされないように行電極がマスクされる。次に、本発明は、行電極を陽極酸化処理過程に入れて、行電極の第１領域が陽極酸化されず、第２領域が陽極酸化されるようになる。本実施形態では、行電極の第１領域には、行電極のパッド領域および／またはサブピクセル領域が含まれている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
図２をさらに参照すると、本実施形態では、行電極２００の第１領域２０２、２０４ａおよび２０４ｂがマスクされ、行電極２００の第２領域２０６がマスクされないように行電極２００が選択的にマスクされる。具体的には、本発明では、第１マスク領域は、導電性をもってなければならない行電極２００の表面領域である。たとえば、本実施形態では、マスクされた領域２０２は行電極２００のサブピクセル領域である。すなわち、マスクされた領域２０２は、電界放射型ディスプレイ構造のフェースプレイト上のサブピクセル領域に整合する行電極上の位置にあたる。さらに、本実施形態では、マスクされた領域２０４ａと２０４ｂは行電極２００のパッド領域である。パッド領域は、行電極２００を電源に接続するのに使用される。第２の非マスク領域２０６は、電界放射型ディスプレイ装置を適切に機能させるのに導電性をもつ必要がない行電極２００の面領域である。本実施形態では、非マスク領域２０６は、サブピクセル領域でもパッド領域でもない行電極の露呈面から成る。図２をさらに参照すると、本実施形態では、陽極酸化光マスクを用いて行電極２００に選択的にマスクがかけられている。しかし、当然のことながら、様々な他のマスクやマスク方法を用いて、行電極２００に選択的にマスクをかけることもできる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
次に、図３を参照すると、行電極を本願請求発明による陽極酸化処理した後の図２の行電極２００の平面図が示される。本発明では、たとえば、陽極酸化を実施する臨界酸性溶液を用いて選択的にマスクした行電極２００を陽極酸化処理する。こうすることで、行電極２００は非マスク領域２０６で陽極酸化され、領域２０２，２０４ａおよび２０４ｂでは陽極酸化されない。したがって、導電性をもつ必要がある行電極２００の表面領域（たとえば、サブピクセルおよびパッド領域）は陽極酸化されず、導電性をもつ必要のない行電極２００の表面領域（たとえば、サブピクセルやパッド領域以外の領域）は陽極酸化される。行電極２００を選択的に陽極酸化することにより、本発明は、電界放射型ディスプレイ装置の組立中に利用されるその後の処理工程中に損傷を被り難い行電極構造２００を提供する。したがって、広い部分（たとえば、行電極２００の陽極酸化領域２０６）に渡って保護被覆されるので、電界放射型ディスプレイ装置のその後の組立中に行電極２００を食刻／腐食させることになる有害な薬物から保護されることになる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
さらに他の利点としては、陽極酸化部分２０６では行電極２００の表面はそれほど導電性はないので、これらの領域からの電子の放射はかなり低下される。結果として、行から列への短絡は本願の陽極酸化発明により最小に抑えられる。こうした行から列への短絡を減少させることで、本発明は、行電極および行電極形成方法を提供して、信頼性と歩留りを改良する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
次に、図４を参照すると、本発明により陽極酸化された行電極の側断面図が示されている。図４の実施形態では、基板４００には行電極４０２が形成されている。本実施形態では、行電極４０２は、アルミニウムなどの導電性材料から構成されている。本実施形態では、たとえば、陽極酸化処理を実施する臨界酸性溶液を用いて、アルミニウムの行電極４０２に陽極酸化処理を実行する。こうすることで、アルミニウムの行電極４０２はＡｌ２Ｏ３の層４０４により被覆される。Ａｌ２Ｏ３が本実施形態で特に述べられているが、本発明は、他の様々な化学量論物質の使用にも適合している。すなわち、本発明は、ＡｌｘＯｙから成る陽極酸化被覆の形成にも適合している。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
次に、図５を参照すると、本発明により陽極酸化された行電極の他の実施形態の側断面図が示されている。図５の実施形態では、基板５００には行電極５０２が形成されている。本実施形態では、行電極５０２は、アルミニウムなどの他の導電性材料から構成され、その頂面５０６にタンタルなどの他の導電性材料が被覆されている。本実施形態では、タンタル被覆アルミニウム行電極５０２を、たとえば、陽極酸化処理を実施する臨界酸性溶液を用いて、陽極酸化させる。そうすることで、行電極５０２の露呈したアルミニウム部分（たとえば、行電極５０２の下方側部）にはＡｌ２Ｏ３の層５０８が被覆される。本発明の陽極酸化処理の後で、行電極５０２のタンタル被覆部分（たとえば、行電極５０２の頂面５０６）がＴａ２Ｏ５の層５１０により被覆される。前述のように、行電極５０２では、導電性をもつ必要のない行電極５０２の複数の表面領域（たとえば、サブピクセルおよびパッド領域以外の領域）で上記の陽極酸化処理が実行される。さらに、本発明の本実施形態では、行電極にはアルミニウムとタンタルの露呈した領域があるので、アルミニウムとタンタルの陽極酸化は同時に達成される。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
次に、第６図を参照すると、本発明に応じて陽極酸化された行電極の他の実施形態の側断面図が示されている。図６の実施形態では、基板６００には行電極６０２が形成されている。本実施形態では、行電極６０２は、たとえばアルミニウム６０４の導電性材料から構成され、この材料はタンタル６０６などの他の導電性材料で完全に覆われている。本実施形態では、タンタル被覆アルミニウム行電極６０２を、たとえば、陽極酸化処理を実施する臨界酸性溶液を用いて、陽極酸化処理する。そうすることで、タンタル被覆行電極６０２はＴａ２Ｏ５の層６０８で被覆される。本実施形態ではＴａ２Ｏ５が特に述べられているが、本発明は、他の様々な化学理論量材料の使用にも適合している。すなわち、本発明はＴａｘＯｙから成る陽極酸化被覆を形成するのにも適合している。上記のように、タンタル被覆行電極６０２には、導電性をもつ必要のないタンタル被覆行電極６０２の表面領域（たとえば、サブピクセルおよびパッド領域以外の領域）で上記の陽極酸化処理が行われる。本実施形態はさらに実質的な利益を備えている。特に、こうした実施形態では、導電性をもつ必要のないタンタル被覆行電極６０２の上記の表面領域（たとえば、サブピクセルおよびパッド領域）をマスクすることなく、タンタル被覆行電極６０２を陽極酸化処理することができる。すなわち、行電極は完全にタンタルに覆われているので、Ｔａ２Ｏ５だけが陽極酸化処理により形成される。Ａｌ２Ｏ３とは異なり、Ｔａ２Ｏ５は行電極の表面から容易に取り除ける。したがって、こうした実施形態では、タンタル被覆行電極の表面全体が陽極酸化されており、Ｔａ２Ｏ５を、たとえばサブピクセルおよびパッド領域から取り除けばよい。すなわち、こうした実施形態では、タンタル被覆行電極を陽極酸化処理する前に広い範囲に渡って陽極酸化マスク工程を実施する必要がない。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
さらに図７Ｃを参照すると、上記のように、電界放射型構造を劣化させたり動作不能にしたりする欠陥が発生し得る。たとえば、行電極上の様々な層の積層にむらがあったり不完全な場合や各層がその後の処理工程により劣化（たとえば、食刻または腐食）させられる場合には、行電極の複数の部分が露呈する可能性がある。すなわち、抵抗層７０６の積層や金属間誘電層７０８の積層の後でさえ、行電極７０２の複数の部分が露呈してしまう可能性がある。行電極と列電極の間の各層のむらのある積層や劣化のため、行電極から列電極に延在する非絶縁経路が形成されてしまう場合がある。こうした短絡のため電界放射ディスプレイ装置に欠陥が生じ、動作不能になっることさえある。上記の欠陥すべてのため、電界放射型ディスプレイ装置の信頼性と歩留りが低下することになる。本実施形態は以下に示す方式でこうした欠陥を防ぐものである。本発明では、抵抗層と金属間誘電層を被覆した行電極７０２を陽極酸化処理する。抵抗層と金属間誘電層を被覆した行電極７０２を陽極酸化処理することで、行電極７０２の露呈部分ならどこでも陽極酸化される利点が発生する。本実施形態では、陽極酸化処理は金属間誘電層７０８と抵抗層７０６を介して実行される。結果として、アルミニウムの行電極７０２の露呈部分にはどこにもＡｌ２Ｏ３が形成されることになる。当然のことながら、陽極酸化処理の結果、行電極がタンタルで被覆される場合には、たとえばＴａ２Ｏ５などの他の被覆が形成されることになる。しかし、当然、本実施形態では、行電極の露呈部分を陽極酸化するのに使用する電解液を抵抗層または金属間誘電層を壊すことがないように選択しなければならない。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図面の簡単な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１Ａ】
従来の電界放射型ディスプレイの純粋な構造を示す側断面図である。
【図１Ｂ】
従来の欠陥をもつ電界放射型ディスプレイ構造を示す側断面図である。
【図１Ｃ】
従来の他の欠陥をもつ電界放射型ディスプレイ構造を示す側断面図である。
【図２】
本願請求発明による選択的にマスクされた行電極の平面図である。
【図３】
本願請求発明により選択的に陽極酸化された行電極の平面図である。
【図４】
本願請求発明により陽極酸化された行電極の側断面図である。
【図５】
本願請求発明によるタンタル被覆陽極酸化行電極の側断面図である。
【図６】
本願請求発明によるタンタル被覆陽極酸化行電極の側断面図である。
【図７Ａ】
本願請求発明による陽極酸化マスク処理を行う前の行電極の側断面図である。
【図７Ｂ】
本願請求発明による陽極酸化マスク処理の第１工程での行電極の側断面図である。
【図７Ｃ】
本願請求発明による陽極酸化マスク処理の第２工程での行電極の側断面図である。
【符号の説明】
２００，４０２，５０２  行電極
４００，５００  基板
５０６  頂面