Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月14日(2008.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルポリマーにおけるスリップ剤として使用するための組成物であって，
前記組成物は，ポリエステルポリマーにおけるスリップ剤が実質的に脂肪族エステルの混合物からなり，
前記組成物は，
０．５ｗｔ％〜３８ｗｔ％のミリスチルパルミテート；
４ｗｔ％〜３４ｗｔ％のパルミチルミリステート；
１０ｗｔ％〜４５ｗｔ％のパルミチルパラミテート；
２ｗｔ％〜１４ｗｔ％のステアリルミリステート；及び
４ｗｔ％〜５３ｗｔ％のステアリルパラミテート；
を含む組成物。
【請求項２】
前記組成物中のミリスチルパルミテートの含有量が３２〜３８ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルミリステートの含有量が８〜１２ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルパルミテートの含有量が２０〜２４ｗｔ％であり，
前記組成物中のステアリルミリステートの含有量が４〜６ｗｔ％であり，及び
前記組成物中のステアリルパルミテートの含有量が８〜１２ｗｔ％であり，
１４〜１７ｗｔ％のミリスチルミリステートをさらに含む，請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記組成物中のミリスチルパルミテートの含有量が８〜１０ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルミリステートの含有量が３０〜３４ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルパルミテートの含有量が１８〜２２ｗｔ％であり，
前記組成物中のステアリルミリステートの含有量が１２〜１４ｗｔ％であり，及び
前記組成物中のステアリルパルミテートの含有量が７〜１０ｗｔ％であり，
１３〜１６ｗｔ％のミリスチルミリステートをさらに含む，請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記組成物中のミリスチルパルミテートの含有量が０．５〜１．５ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルミリステートの含有量が１８〜２２ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルパルミテートの含有量が４１〜４５ｗｔ％であり，
前記組成物中のステアリルミリステートの含有量が９〜１１ｗｔ％であり，及び
前記組成物中のステアリルパルミテートの含有量が２０〜２４ｗｔ％である，
請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物中のミリスチルパルミテートの含有量が１６〜１９ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルミリステートの含有量が４〜６ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルパルミテートの含有量が１０〜１２ｗｔ％であり，
前記組成物中のステアリルミリステートの含有量が２〜４ｗｔ％であり，及び
前記組成物中のステアリルパルミテートの含有量が５〜７ｗｔ％であり，
７〜９ｗｔ％のミリスチルミリステート及び４０〜４５ｗｔ％のステアリルステアレートをさらに含む，請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物中のミリスチルパルミテートの含有量が１６〜１９ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルミリステートの含有量が４〜６ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルパルミテートの含有量が１０〜１２ｗｔ％であり，
前記組成物中のステアリルミリステートの含有量が２〜４ｗｔ％であり，及び
前記組成物中のステアリルパルミテートの含有量が４〜６ｗｔ％であり，
７〜９ｗｔ％のミリスチルミリステート，１〜３ｗｔ％のステアリルアラキダート，及び４０〜４５ｗｔ％のステアリルベヘネートをさらに含み，請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物中のミリスチルパルミテートの含有量が１６〜１９ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルミリステートの含有量が４〜６ｗｔ％であり，
前記組成物中のパルミチルパルミテートの含有量が１０〜１２ｗｔ％であり，
前記組成物中のステアリルミリステートの含有量が２〜４ｗｔ％であり，及び
前記組成物中のステアリルパルミテートの含有量が４８〜５３ｗｔ％であり，
７〜９ｗｔ％のミリスチルミリステートをさらに含む，請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記ポリエステルポリマーが，
ポリ（ブチレンテレフタレート）；
ポリ（シクロヘキサンジメチレンテレフタレート）；
ポリ（エチレンイソフタレート）；
ポリ（エチレン２，６−ナフタレンジカルボキシレート）；
ポリ（エチレンフタレート）；
ポリ（エチレンテレフタレート）；及び
それらのコポリマー；
を含む群から選択される請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
前記組成物は，前記ポリエステルポリマー中に０．１ｗｔ％以上１．０ｗｔ％以下の量が添加される，請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
前記組成物は，前記ポリエステルポリマー中に０．２ｗｔ％以上０．７５ｗｔ％以下の量が添加される，請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物を含むポリエステルポリマー。
【請求項１２】
ポリエステルポリマー中のスリップ剤として実質的に脂肪族エステルの混合物からなる組成物であって，
前記組成物は：
０．５ｗｔ％〜３８ｗｔ％のミリスチルパルミテート；
４ｗｔ％〜３４ｗｔ％のパルミチルミリステート；
１０ｗｔ％〜４５ｗｔ％のパルミチルパルミテート；
２ｗｔ％〜１４ｗｔ％のステアリルミリステート；及び
４ｗｔ％〜５３ｗｔ％のステアリルパルミテート；
を含む組成物。
【請求項１３】
スリップ剤として組成物を含むポリエステルポリマーであって，
前記組成物は，実質的に
１７ｗｔ％以下のミリスチルミリステート，
０．５ｗｔ％〜３８ｗｔ％のミリスチルパルミテート；
４ｗｔ％〜３４ｗｔ％のパルミチルミリステート；
１０ｗｔ％〜４５ｗｔ％のパルミチルパルミテート；
２ｗｔ％〜１４ｗｔ％のステアリルミリステート； 
４ｗｔ％〜５３ｗｔ％のステアリルパルミテート；
４ｗｔ％以下のパルミチルステアレート；
４５ｗｔ％以下のステアリルステアレート；
３ｗｔ％以下のステアリルアラキダート；及び
４５ｗｔ％以下のステアリルベヘネート；
からなる組成物である，
ポリエステルポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月8日(2008.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の水溶液の製造方法において、シアヌル酸ハライドと
ａ）式（Ａ）
【化２】
2007526383.tif 000001
のジアミン
ｂ）式（Ｂ）
【化３】
2007526383.tif 000002
のアミン
及び
ｃ）式（Ｃ）
【化４】
2007526383.tif 000003
のアミン
との段階反応により式（１）の化合物を製造し、しかもアミンとシアヌル酸ハライドの間の各反応の副生成物として発生されるアルカリ金属又はアミン塩の少なくとも５０重量％を反応溶液から除去する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月12日(2008.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
工程（ｄ）で得られた基油グレードが、９５重量％を超える飽和物を含有すると共に、粘度指数が９５〜１２０である請求項６又は７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
ガス油は、芳香族含有量が０．１ミリモル未満／１００ｇで、硫黄含有量が１０ｐｐｍ未満で、流動点が−３０℃未満である請求項９に記載の脱蝋ガス油。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリビニルブチラールシートを提供する工程と、前記ポリビニルブチラールシートの少なくとも１つの表面上にインキをインクジェット印刷する工程とを含む、ポリビニルブチラールシート上にインキをインクジェット印刷する方法であって、前記インキが白色顔料インキであり、前記白色顔料インキが前記白色顔料のための少なくとも１種の有機液体および少なくとも１種の分散剤を含むビヒクル中に白色顔料粒子を含む非水性分散液である方法。
【請求項２】
約０．６０サイクル／ｍｍより高い頻度で粗面パターンを有するポリビニルブチラールシートを提供する工程と、前記ポリビニルブチラールシートの粗面上にインキをインクジェット印刷する工程とを含む、ポリビニルブチラールシート上にインキをインクジェット印刷する方法であって、前記インキが（２５℃で測定した時）約１．７センチポイズを超えて約１５センチポイズ未満の粘度を有する白色顔料インキであり、前記白色顔料インキが前記白色顔料のための少なくとも１種の有機液体および少なくとも１種の分散剤を含むビヒクル中に約１００ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲内の白色顔料二酸化チタン粒子を約５ｐｐｈ（ｐｐｈは１００部当たりの部を表す）〜約３５ｐｐｈ含む非水性分散液である方法。
【請求項３】
前記ポリビニルブチラールシートの粗面はＲｚ３０〜６０μｍの粗面パターンを有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ビヒクルは前記ビヒクルの約５〜約５０重量％の濃度で有機液体としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＤＰＭＡ）を含む、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法によって作製された画像担持ポリビニルブチラールシートであって、前記画像がインクジェット印刷によって前記ポリビニルブチラールシートに被着させた白色顔料粒子および前記シート上にインキを含まない透明領域を含む画像担持ポリビニルブチラールシート。
【請求項６】
請求項５に記載の画像担持ポリビニルブチラールシートを含む積層物品であって、（ａ）前記画像担持ポリビニルブチラールシートが２枚のガラスシートに積層され、その積層体が圧縮剪断試験によって測定された場合約１４００〜約２６００ｐｓｉの接着力を有するか、または（ｂ）前記画像担持ポリビニルブチラールシート、画像を担持していない第２のポリビニルブチラールシートおよび２枚のガラスシートを積層して、ガラス／画像担持ポリビニルブチラールシート／第２のポリビニルブチラールシート／ガラスの順序を有する積層体を形成し、そして前記画像担持ポリビニルブチラールシートの画像担持表面が第２のポリビニルブチラールシートの表面に接触している積層物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
表６
2007526389.tif 000001
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  白色顔料インキを熱可塑性ポリマー基材材料上にインクジェット印刷する方法であって、前記白色顔料インキが前記白色顔料のための少なくとも１種の有機液体および少なくとも１種の分散剤を含むビヒクル中に白色顔料粒子を含む非水性分散液である方法。
2.  前記白色顔料は二酸化チタン（ＴｉＯ2）である、上記１に記載の方法。
3.  前記分散液は約５００ｎｍ未満のサイズを有するＴｉＯ2粒子を含む、上記２に記載の方法。
4.  前記分散液は約１００ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲内のＴｉＯ2粒子を含む、上記３に記載の方法。
5.  前記分散液は約２００ｎｍ〜約３００ｎｍの範囲内のＴｉＯ2粒子を含む、上記４に記載の方法。
6.  前記ビヒクルは全ビヒクル濃度の約５０％以下の濃度でジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＤＰＭＡ）を含む、上記５に記載の方法。
7.  前記ＤＰＭＡは前記ビヒクルの約５〜約５０％を構成する、上記６に記載の方法。
8.  前記ＤＰＭＡは前記ビヒクルの約１５〜約４５％を構成する、上記６に記載の方法。
9.  熱可塑性ポリマー基材材料上にインクジェット印刷するために適する非水性白色顔料インキ分散液であって、前記白色顔料インキが前記白色顔料のための少なくとも１種の有機液体および少なくとも１種の分散剤を含むビヒクル中に約１ｐｐｈ（ｐｐｈは１００部当たりの部を表す）〜約４０ｐｐｈの白色顔料粒子を含む非水性分散液である非水性白色顔料インキ分散液。
10.  約５ｐｐｈ（ｐｐｈは１００部当たりの部を表す）〜約３５ｐｐｈの前記白色顔料粒子を含む、上記９に記載の分散液。
11.  約１０ｐｐｈ（ｐｐｈは１００部当たりの部を表す）〜約３０ｐｐｈの前記白色顔料粒子を含む、上記１０に記載の分散液。
12.  前記ビヒクルは全ビヒクル濃度の約５０％までの量でＤＰＭＡを含む、上記１１に記載の分散液。
13.  前記ビヒクルは約５％〜約５０％のＤＰＭＡを含む、上記１２に記載の分散液。
14.  前記ビヒクルは約１５％〜約４５％のＤＰＭＡを含む、上記１３に記載の分散液。
15.  前記白色顔料粒子は約５００ｎｍ未満の範囲内のサイズを有するＴｉＯ2粒子を含む、上記１４に記載の分散液。
16.  前記分散液は約１００ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲内のＴｉＯ2粒子を含む、上記１５に記載の分散液。
17.  前記分散液は約２００ｎｍ〜約３００ｎｍの範囲内のＴｉＯ2粒子を含む、上記１５に記載の分散液。
18.  画像担持熱可塑性中間層基材を含む積層物品であって、前記画像がインクジェット印刷法を用いて前記基材の少なくとも１つの表面上に白色インキ分散液を印刷することにより被着させた白色顔料粒子を含む積層物品。
19.  前記白色顔料粒子は約５００ｎｍ未満の範囲内のサイズを有するＴｉＯ2粒子を含む、上記１８に記載の積層体。
20.  前記白色顔料粒子は約１００ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲内のサイズを有する、上記１９に記載の積層体。
21.  前記白色顔料粒子は約２００ｎｍ〜約３００ｎｍの範囲内のサイズを有する、上記２０に記載の積層体。
22.  前記熱可塑性中間層基材は、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリオレフィンおよびポリビニルブチラール（ＰＶＢ）からなる群から選択されたポリマーから得られる、上記２１に記載の積層体。
23.  前記熱可塑性中間層はＰＵＲポリマーまたはＰＶＢポリマーである、上記２２に記載の積層体。
24.  熱可塑性中間層の少なくとも１つの表面上に非水性白色顔料入りインキをインクジェット印刷する工程と、適する積層基材のシート間に画像担持中間層を積層する工程とを含む、少なくとも約１０００ｐｓｉの積層体接着強度を有する画像担持積層体を得るための方法であって、前記白色顔料インキが前記白色顔料のための少なくとも１種の有機液体および少なくとも１種の分散剤を含むビヒクル中に白色顔料粒子を含む非水性分散液である方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月26日(2008.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造Ｉ：
【化１】
2007526331.tif 000001
を有する化合物であって、ここで、
Ｒ１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールアルキル、アリール、アリールアシル、またはＣ（ＯＨ）Ｒ４Ｒ５であり
ここで、Ｒ４およびＲ５は、独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、またはシクロアルケニルであり、水素を除くこれらのいずれかは、アルコキシ、ヒドロキシ、アシルオキシ、またはアリールで置換され得、
ＣＲ２Ｒ３は、ＣＨＯＨまたはＣ＝Ｏであり、そして
基Ｘのうちの多くても１つがヒドロキシルであり、残りの基Ｘは水素である、化合物。
【請求項２】
ＣＲ２Ｒ３がＣＨＯＨである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
ＣＲ２Ｒ３がＣＨＯＨ（β−ヒドロキシ）である、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
各々のＸが水素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
各々の前記アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、およびアシルオキシが、多くても４個の炭素原子を含み、各々の前記シクロアルキルおよびシクロアルケニルが、多くても６個の炭素原子を含み、そして各々の前記アリールが単環式かつ非複素環式である、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１がアルキル、アルケニルまたはＣ（ＯＨ）Ｒ４Ｒ５である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ４およびＲ５が、独立して、水素、アルキルまたはアルケニルである、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ１がアルキルまたはヒドロキシアルキルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１がＣ１〜Ｃ３アルキルまたはヒドロキシアルキルである、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ１がメチルである、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ１がアリールアシルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ１がベンゾイル（Ｃ（Ｏ）Ｃ６Ｈ５）である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｒ１がベンゾイルである、請求項４に記載の化合物。
【請求項１４】
構造ＩＩ：
【化２】
2007526331.tif 000002
を有する化合物であって、ここで、
各々のＲ６は、独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールから選択され、
ＣＲ２Ｒ３はＣＨＯＨまたはＣ＝Ｏであり、
基Ｘのうちの多くても１つがヒドロキシルであり、残りの基Ｘは水素である、化合物。
【請求項１５】
ＣＲ２Ｒ３がＣＨＯＨである、請求項１４に記載の化合物。
【請求項１６】
ＣＲ２Ｒ３がＣＨＯＨ（β−ヒドロキシ）である、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
各々のＸが水素である、請求項１４に記載の化合物。
【請求項１８】
各々の前記アルキル、アルケニル、およびアルキニルが、多くても４個の炭素原子を含み、各々の前記アリールが、単環式かつ非複素環式である、請求項１４に記載の化合物。
【請求項１９】
各々のＲ６がアリールである、請求項１４に記載の化合物。
【請求項２０】
各々のＲ６がフェニルである、請求項１９に記載の化合物。
【請求項２１】
被験体において免疫抑制をもたらすための医薬の調製における、請求項１または請求項１４に記載の化合物の使用。
【請求項２２】
細胞においてアポトーシスを誘導するための医薬の調製における、請求項１または請求項１４に記載の化合物の使用。
【請求項２３】
被験体において免疫抑制をもたらすための組成物であって、請求項１または請求項１４に記載の化合物を含有する組成物。
【請求項２４】
該細胞においてアポトーシスを誘導するための組成物であって、請求項１または請求項１４に記載の化合物を含有する組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月29日(2008.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボツリヌストキシンと、正に帯電した分枝基が結合しているポリマー主鎖を含む担体とを含む組成物であって、担体とボツリヌストキシンとの結合が非共有結合性である組成物。
【請求項２】
ボツリヌストキシンがボツリヌストキシン誘導体である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
ボツリヌストキシンが組換えボツリヌストキシンを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
ボツリヌストキシンが修飾されたボツリヌストキシンを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
ボツリヌストキシンが、血清型Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、及びＧ型のボツリヌストキシンから選択される、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
ボツリヌストキシンがＡ型ボツリヌストキシンである、請求項５記載の組成物。
【請求項７】
ボツリヌストキシンがＢ型ボツリヌストキシンである、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
ボツリヌストキシンがＣ型ボツリヌストキシンである、請求項５に記載の組成物。
【請求項９】
ボツリヌストキシンがＤ型ボツリヌストキシンである、請求項５に記載の組成物。
【請求項１０】
ボツリヌストキシンがＥ型ボツリヌストキシンである、請求項５に記載の組成物。
【請求項１１】
担体が、−（ｇｌｙ）ｎ１−（ａｒｇ）ｎ２、ＨＩＶ−ＴＡＴ、アンテナペディアＰＴＤ及びＨＩＶ−ＴＡＴ若しくはアンテナペディアＰＴＤの断片（式中、下付き文字ｎ１は、０〜約２０の整数であり、下付き文字ｎ２は、独立に、約５〜約２５の奇数である）から選択される、正に帯電した分枝基が結合しているポリペプチドを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
担体が、−（ｇｌｙ）ｎ１−（ａｒｇ）ｎ２から選択される正に帯電した分枝基を有するポリペプチドを含み、式中、下付き文字ｎ１は約０から約２０までの整数であり、下付き文字ｎ２は独立に約５から約２５までの奇数である、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
下付き文字ｎ１が、０〜約８の整数である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
下付き文字ｎ１が、約２〜約５の整数である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
下付き文字ｎ２が、約７〜約１７の奇数である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】
下付き文字ｎ２が、約７〜約１３の奇数である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１７】
担体が、ＨＩＶ−ＴＡＴ及びその断片から選択される、正に帯電した分枝基が結合しているポリペプチドを含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１８】
分枝基が、式（ｇｌｙ）ｐ−ＲＧＲＤＤＲＲＱＲＲＲ−（ｇｌｙ）ｑ、（ｇｌｙ）ｐ−ＹＧＲＫＫＲＲＱＲＲＲ−（ｇｌｙ）ｑ、又は（ｇｌｙ）ｐ−ＲＫＫＲＲＱＲＲＲ−（ｇｌｙ）ｑ（下付き文字ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０〜２０の整数である）を有する正に帯電したＨＩＶ−ＴＡＴ断片である、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
正に帯電した分枝基が、担体全体の重量の少なくとも約０．０５重量％を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２０】
正に帯電した分枝基が、担体全体の重量の約０．５重量％〜約４５重量％を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２１】
正に帯電した分枝基が、担体全体の重量の約０．１重量％〜３０重量％を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２２】
主鎖が、正に帯電したポリペプチドを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２３】
主鎖が、正に帯電したポリリジンを含む、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
ポリリジンが、約１０，０００〜１，５００，０００の分子量を有する、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
ポリリジンが、約２５，０００〜約１，２００，０００の分子量を有する、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２６】
ポリリジンが、約１００，０００〜約１，０００，０００の分子量を有する、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２７】
主鎖が、正に帯電した非ペプチジル担体を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項２８】
主鎖が、正に帯電したポリアルキレンイミンを含む、請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
ポリアルキレンイミンが、ポリエチレンイミンである、請求項２８に記載の組成物。
【請求項３０】
ポリエチレンイミンが、約１０，０００〜約２，５００，０００の分子量を有する、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３１】
ポリエチレンイミンが、約１００，０００〜約１，８００，０００の分子量を有する、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３２】
ポリエチレンイミンが、約５００，０００〜約１，４００，０００の分子量を有する、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３３】
ｐＨが約４．５〜約６．３である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３４】
室温で、又は冷蔵条件下で貯蔵した場合に安定である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３５】
請求項１に記載の制御放出組成物。
【請求項３６】
請求項１に記載の液体組成物。
【請求項３７】
請求項１に記載のゲル組成物。
【請求項３８】
クリーム剤、ローション剤、又は軟膏剤である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３９】
食塩水をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４０】
食塩水及びｐＨ緩衝系をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４１】
ボツリヌストキシン、及びその経皮送達に有効な量の正に帯電した分枝基が結合している、ポリマーの主鎖を含む担体を含み、担体とボツリヌストキシンの間の結合が非共有結合である、ボツリヌストキシンを対象に投与するためのキット。
【請求項４２】
特別仕様でつくられたアプリケーターをさらに含む、請求項４１に記載のキット。
【請求項４３】
特別仕様でつくられたアプリケーターが、医療専門家が使用するために設計されている、請求項４２に記載のキット。
【請求項４４】
特別仕様でつくられたアプリケーターが、対象が自己投与するために設計されている、請求項４２に記載のキット。
【請求項４５】
ボツリヌストキシン及び担体を含む予め配合された組成物を含む、請求項４１に記載のキット。
【請求項４６】
ボツリヌストキシン及び担体が、投与の前に混合するために別々に配合されている、請求項４１に記載のキット
【請求項４７】
ボツリヌストキシンが、ボツリヌストキシンを対象に皮膚から投与するための装置に含まれている、請求項４１に記載のキット。
【請求項４８】
装置が皮膚パッチである、請求項４７に記載のキット。
【請求項４９】
ボツリヌストキシンを皮膚に送達するための器具と、−（ｇｌｙ）ｎ１−（ａｒｇ）ｎ２、ＨＩＶ−ＴＡＴ及びその断片、並びにアンテナペディアＰＴＤ（式中、下付き文字ｎ１は、０〜約２０の整数であり、下付き文字ｎ２は、独立に、約５〜約２５の奇数である）から選択される、正に帯電した分枝基が結合しているポリマー主鎖を含む担体を含む組成物とを含む、ボツリヌストキシンを対象に投与するためのキット。
【請求項５０】
器具が皮膚パッチである、請求項４９に記載のキット。
【請求項５１】
ボツリヌストキシンがＦ型ボツリヌストキシンである、請求項５に記載の組成物。
【請求項５２】
ボツリヌストキシンがＧ型ボツリヌストキシンである、請求項５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセトアルデヒドを蒸留によりヨウ化メチルから分離するための方法であって:
ヨウ化メチル及びアセトアルデヒドを含む混合物を蒸留装置中で蒸留して、オーバーヘッド及び残留物をもたらす工程；
前記オーバーヘッドの密度を測定する工程；及び、
前記蒸留装置に関係する少なくとも１つのプロセス変数を、前記測定した密度又はそれから計算される相対濃度に応じて調節する工程を含み、前記プロセス変数は、加熱速度、塔圧力、供給物組成、還流物組成及び還流比からなる群から選択される、前記方法。
【請求項２】
アセトアルデヒドをヨウ化メチルから分離するための方法であって：
ヨウ化メチル及びアセトアルデヒドを含む混合物を蒸留装置中で蒸留して、オーバーヘッド及び残留物をもたらす工程；
該オーバーヘッドを水により抽出して、水性抽出物及びラフィネートを提供する工程；
前記オーバーヘッド、前記抽出物及び前記ラフィネートのうち少なくとも１つの密度を測定する工程；及び、
前記蒸留装置又は前記抽出工程に関係する少なくとも１つのプロセス変数を、前記測定した密度又はそれから計算される相対濃度に応じて調節する工程を含み、前記プロセス変数は、前記蒸留装置を加熱する速度、前記蒸留装置中の塔圧力、前記蒸留装置に対する供給物又は還流物の組成、前記蒸留装置中の還流比、前記抽出工程に対する水供給速度、及びこれらの組合わせからなる群から選択される、前記方法。
【請求項３】
オーバーヘッドの密度を測定し、そして、加熱速度又は還流比を、前記密度又はそれから計算される濃度に応じて調節する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
オーバーヘッドの密度を測定し、そして、加熱速度を、前記密度又はそれから計算される濃度に応じて調節する、請求項２記載の方法。
【請求項５】
抽出物の密度を測定し、そして、抽出工程に対する水の供給速度を、前記密度又はそれから計算される濃度に応じて調節する、請求項２記載の方法。
【請求項６】
ラフィネートの密度を測定し、そして、抽出工程に対する水の供給速度を、前記密度又はそれから計算される濃度に応じて調節する、請求項２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目的タンパク質を供給流から分離する方法であって、
（ａ）精密濾過装置により前記供給流を濾過して、精密濾過保持液および精密濾過透過液を作成し；
（ｂ）前記目的タンパク質の分子量より小さい分子量カットオフ値をもつ第一タンジェンシャルフローフィルトレーション装置により前記精密濾過透過液を濾過して、前記目的タンパク質ならびに他のタンパク質を含有する第一タンジェンシャルフローフィルトレーション保持液、および前記供給流中に最初に含まれている塩および糖を含む第一タンジェンシャルフローフィルトレーション透過液を作成し；
（ｃ）前記精密濾過透過液のイオン強度より実質的に小さいイオン強度を有するダイアフィルトレーション緩衝液を用いて、前記第一タンジェンシャルフローフィルトレーション保持液をダイアフィルトレーションにかけ、それによって前記目的タンパク質の分子サイズを選択的に増大させ；さらに
（ｄ）前記目的タンパク質の分子量よりも大きい分子量カットオフ値により特徴付けられる膜を有する少なくとも１つの濾過膜を含む第二タンジェンシャルフローフィルトレーション装置により、前記工程（ｃ）において作成されたダイアフィルトレーションを受けた第一タンジェンシャルフローフィルトレーション保持液を濾過して、前記工程（ｃ）において作成されたダイアフィルトレーションを受けた第一タンジェンシャルフローフィルトレーション保持液中の前記目的タンパク質の純度よりも高い純度で前記目的タンパク質を含む第二タンジェンシャルフローフィルトレーション保持生成物を作成する；工程を含み、前記関心タンパク質が１〜１０００ｋＤａの分子量を有することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月7日(2008.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つのそれぞれが合着したチューインガムモジュール（１１、１２；２１、２２、２３；３１、３２；４１、４２；５１、５２）を有するチューインガムタブレット（１０、２０、３０、４０、５０）であって、該各チューインガムモジュールの少なくとも１つがガムベースを含有する圧縮チューインガム顆粒を含んでおり、かつ該チューインガムタブレットが該タブレットの少なくとも５重量％のガムベース含有量を有しており、さらに該チューインガムタブレットが高度甘味料を含有していることを特徴とするチューインガムタブレット。
【請求項２】
ガムベースを含有する圧縮チューインガム顆粒を含む前記各チューインガムモジュール（１２、２３、３２、４２、５２）の少なくとも１つのガムベース含有量が、前記タブレットの少なくとも１５重量％である請求項１に記載のチューインガムタブレット。
【請求項３】
前記各チューインガムモジュール（１１、２１、３１、４１）の少なくとも１つが５重量％未満のガムベース含有量を有している請求項１または２に記載のチューインガムタブレット。
【請求項４】
前記各チューインガムモジュール（１１、２１、３１、４１）の少なくとも１つが実質的にガムベースを含んでいない請求項１〜３のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項５】
前記各チューインガムモジュールの少なくとも２つが異なる弾性を有している請求項１〜４のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項６】
前記の実質的にガムベースを含まない各チューインガムモジュールの少なくとも１つが、前記のガムベースを含むチューインガムモジュールの可塑性または弾性とは実質的に異なる可塑性または弾性を有している請求項１〜５のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項７】
前記の実質的にガムベースを含まないチューインガムが主成分として甘味料を含んでいる請求項１〜６のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項８】
前記の主成分として甘味料を含むチューインガムモジュールが、前記タブレットを完全または部分的に封止するチューインガムタブレットの被膜を形成している請求項１〜７のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項９】
前記の全てのチューインガムモジュールが圧縮により製造されたものである請求項１〜８のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１０】
前記各チューインガムモジュールが圧縮により合体されている請求項１〜９のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１１】
前記各チューインガムモジュールが異なる濃度または組成のガムベースを含んでいる請求項１〜１０のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１２】
前記各チューインガムモジュールがタブレットの切片状の層である請求項１〜１１のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１３】
異なる各チューインガムモジュールが、タブレット中で分離されることを意図した各成分を含んでいる請求項１〜１２のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１４】
前記各チューインガムモジュールの少なくとも２つが、少なくとも１つの分離層により分離されている請求項１〜１３のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１５】
前記の実質的にガムベースを含まない各層の少なくとも１つの厚さが、少なくともタブレットの最小幅を２０で割ったものより大きい請求項１〜１４のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１６】
前記の実質的にガムベースを含まない各層の少なくとも１つの厚さが、０．５ｍｍより大きく、好ましくは０．７ｍｍより大きい請求項１〜１５のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１７】
前記各チューインガムモジュールが圧縮性チューインガム成分を基に製造されている請求項１〜１６のいずれか一項に記載のチューインガムタブレット。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載のチューインガムタブレットの製造方法であって、各チューインガムモジュールを、各モジュールを相互に圧縮することによって一体化することを特徴とする製造方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載のチューインガムタブレットの製造方法であって、各チューインガムモジュールを一体化する際に、各チューインガムモジュールの少なくとも１つを圧縮することを特徴とする製造方法。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載のチューインガムタブレットの製造方法であって、各チューインガムモジュールの少なくとも１つが活性成分を含むことでタブレットの各チューインガムモジュール間の物理的または化学的相互作用を回避することを特徴とする
製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物：
【化１】
2006513254.tif 000001
であって、ここで、
Ｒ１は、（Ｃ２〜Ｃ６）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルキニル、（Ｃ３〜Ｃ６）シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、（Ｃ３〜Ｃ６）シクロアルキル、フェニル、およびベンジルからなる群から選択され；
Ｒ２およびＲ３は、（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルケニル、および（Ｃ２〜Ｃ６）アルキニルからなる群から各々独立して選択されるか、またはＲ２およびＲ３は、これらが結合される窒素原子と一緒になって、５〜７個の原子を有する複素環式環を形成し、そして
Ｒ４は、（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルケニル、および（Ｃ２〜Ｃ６）アルキニルからなる群から選択され；
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４の炭素原子の数の合計は、７をこえる、化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ１は、（Ｃ２〜Ｃ６）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルケニル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルキニル、（Ｃ３〜Ｃ６）シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、フェニル、およびベンジルからなる群から選択される、化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ１は、（Ｃ２〜Ｃ６）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ６）アルケニル、および（Ｃ２〜Ｃ６）アルキニルからなる群から選択される、化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ１は、（Ｃ２〜Ｃ４）アルキルである、化合物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ２およびＲ３は、各々独立して、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、（Ｃ２〜Ｃ４）アルケニル、および（Ｃ２〜Ｃ４）アルキニルからなる群から選択される、化合物。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ２およびＲ３は、各々独立して、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルである、化合物。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ２は、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルである、化合物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物であって、ここで、Ｒ４は、（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルである、化合物。
【請求項９】
請求項１に記載の化合物であって、ここで、Ｒ１は、（Ｃ２〜Ｃ４）アルキルであり；Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、各々独立して（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルであり；そしてＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４の炭素原子の数の合計は、８〜１２の範囲である、化合物。
【請求項１０】
請求項９に記載の化合物であって、ここで、Ｒ１は、エチルまたはプロピルであり；Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、メチル、エチル、およびプロピルからなる群から各々独立して選択され；そしてＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４の炭素原子の数の合計は、９、１０または１１である、化合物。
【請求項１１】
請求項１０に記載の化合物であって、ここで、Ｒ２およびＲ３は、各々エチルであり、そしてＲ４は、プロピルである、化合物。
【請求項１２】
請求項１に記載の化合物であって、ここで、該化合物は、［４−［（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）メトキシ］−３−エトキシフェニル］酢酸プロピルエステルである、化合物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の化合物および薬学的に受容可能なキャリアを含む、薬学的組成物。
【請求項１４】
請求項１３に記載の組成物であって、別の鎮静催眠薬、鎮痛薬、および麻痺薬からなる群から選択される治療剤をさらに含む、組成物。
【請求項１５】
請求項１３に記載の組成物であって、鎮痛薬をさらに含む、組成物。
【請求項１６】
請求項１５に記載の組成物であって、ここで、鎮痛薬は、オピオイドである、組成物。
【請求項１７】
薬学治療に使用するための請求項１〜１２のいずれか１項に記載される化合物。
【請求項１８】
哺乳動物において麻酔または鎮静を誘導または維持するための医薬品を調製するための、請求項１〜１２のいずれか１項に記載される化合物の使用。
【請求項１９】
式（ＩＩ）の化合物：
【化２】
2006513254.tif 000002
であって、ここで、
Ｒ１は、エチルであり；
Ｒ４は、プロピルであり、そして
Ｒ５は、水素である、化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月18日(2007.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ａｎｔｈｒａｃｉｓに結合し得る組成物であって、該組成物は、以下：
ａ．配列番号１の１５７位〜２３３位のアミノ酸配列；または
ｂ．ＲでのＫの置換；Ｖ、ＩまたはＬの、互いによる置換およびＷ、ＦおよびＹによる置換からなる群から選択される、配列に対する１以上の保存的アミノ酸置換を有する、配列番号１の１５７位〜２３３位のアミノ酸配列を含み；ここで、該保存的アミノ酸置換は、少なくとも１０７の結合定数でのＢ．ａｎｔｈｒａｃｉｓに対するアミノ酸配列の結合を保存しながら行われる、組成物。
【請求項２】
前記組成物が、Ｂ．ａｎｔｈｒａｃｉｓに結合する単離されたポリペプチドを含み、かつ、配列番号１の１５７位〜２３３位のアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記単離されたポリペプチドが、配列番号１の１５７位〜２３３位のアミノ酸配列および検出可能タグを含む融合ポリペプチドである、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記単離されたポリペプチド中の配列番号１の１５７位〜２３３位のアミノ酸配列が、緑色蛍光タンパク質（ＧＦＰ）、酵素または免疫グロブリン分子に結合している、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記単離されたポリペプチドが、配列番号１のアミノ酸配列を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
前記単離されたポリペプチドが、配列番号１のアミノ酸配列からなるＰｌｙＧ溶菌酵素である、請求項２に記載の組成物。
【請求項７】
前記単離されたポリペプチドが、Ｂ．ｃｅｒｅｕｓ  ＲＳＶＦ１を殺す、請求項２、５および６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記単離されたポリペプチドが、配列番号１のアミノ酸配列からなる、請求項２、５および７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
Ｂ．ａｎｔｈｒａｃｉｓ発芽胞子をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
ホリンタンパク質、キャリア、４．０〜８．０のｐＨの安定化緩衝液、キメラ溶菌酵素、改造溶菌酵素および薬剤からなる群より選択される少なくとも１つの化合物をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月28日(2008.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】駆動電動機（２）を制御することにより、周期運動を達成する少なくとも１つの構成要素を含む機械を駆動する方法であって、該駆動電動機の複数の予め定められた、異なる可能な出力回転モーメントに対応する駆動電動機（２）の複数の回転速度のそれぞれに関し、駆動電動機（２）の制御データが検出され、記憶され、駆動電動機（２）の実際の回転速度が測定され、そして、測定された実際の回転速度に適用される予め設定された回転モーメントに対応する記憶された制御データが取り出されることを特徴とする方法。
【請求項２】 適用される回転モーメントが、一定値として予め設定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】 駆動電動機（２）により適用される回転モーメントが、駆動電動機の角位置と関連する曲線の形式で記憶されること、駆動電動機の実際の角位置が検出されること、そして、実際の角位置で、記憶装置から読み出された回転モーメントの値が、適用される回転モーメントとして予め設定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】 駆動電動機（２）の角位置と関連する適用される回転モーメントを表す多数の曲線及び／又は適用される回転モーメントの多数の一定値が記憶装置に記憶されていることを特徴とする、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】 回転モーメントが制御される駆動電動機（２）の回転速度を表す曲線が、駆動電動機（２）の角位置に依存して測定され、記憶されることを特徴とする、請求項１ないし４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】 駆動電動機の測定された回転速度から実際の平均回転速度が形成され、選択可能な値と比較されること、そして、偏差が検出された場合、駆動電動機により適用される回転モーメントを増大又は減少することによって実際の平均回転速度が選択された値に適合されることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】 該機械が始動回路で始動され、その際、回転速度制御装置が、駆動電動機（２）の回転速度を、駆動電動機（２）のそれぞれの測定された角位置と関連して記憶されている回転速度にすることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】 駆動電動機（２）の回転速度に基づく制御装置から、駆動電動機（２）により適用される回転モーメントに基づく制御装置への切り換えが、その際、平均回転速度が少なくとも近似的に一定を保つように行われることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】 該機械が切断回路を用いて切断され、その際、駆動電動機（２）が、予め設定された角位置と関連する回転速度に制動されること、駆動電動機が予め設定された角位置で停止することを特徴とする、請求項１ないし８の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】周期運動を達成する少なくとも１つの構成要素を含み、駆動電動機（２）と制御装置を有する機械の駆動装置であって、該制御装置（１）が、該駆動電動機の複数の予め定められた、異なる可能な出力回転モーメントに対応する駆動電動機（２）の複数の回転速度のそれぞれに関し、制御データを記憶する手段（１５）と、駆動電動機（２）の実際の回転速度を検出する手段（１６、３２）と、前記記憶手段（１５）から制御データを取り出す手段（１６）と、を備えることを特徴とする駆動装置。
【請求項１１】制御装置（１）が、駆動電動機（２）の実際の角位置を検出し、駆動電動機の角位置に関連して記憶された、駆動電動機（２）の実際の角位置での制御データを記憶装置（１５）から取り出す手段（１６、３２）を含むことを特徴とする、請求項１０に記載の駆動装置。
【請求項１２】 制御装置（１）が、回転モーメント制御装置によって得られる回転速度を検出し、記憶する手段（３２、１５）を有することを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の駆動装置。
【請求項１３】 制御装置（１）が、始動回路に切り換え可能であることを特徴とする、請求項１０ないし１２の何れか１項に記載の駆動装置。
【請求項１４】 制御装置（１）が、切断回路に切り換え可能であることを特徴とする、請求項１０ないし１３の何れか１項に記載の駆動装置。
【請求項１５】 駆動される機械が、製織機械であることを特徴とする、請求項１０ないし１４の何れか１項に記載の駆動装置。
【請求項１６】 駆動電動機（２）が、切り換え可能なリラクタンス形電動機であることを特徴とする、請求項１０ないし１５の何れか１項に記載の駆動装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月15日(2008.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】
堆積層のイオンが衝突することによって浸食および汚染されないように、刻設された層が適用される表面が保護される、イオン堆積スパッタリング法を用いて刻設された材料層を半導体の特徴表面に適用する方法であって、
ａ）従来のスパッタリング法またはイオン堆積スパッタリング法を用いて第１の保護材料層を、前記層が適用される表面が浸食または汚染されない程度に基板バイアスを十分低くして堆積するステップと、
ｂ）ステップa)の後の順で、刻設された第２の前記材料層を、イオン堆積スパッタリングを用いて前記第１の保護材料層の部分と前記第２の堆積材料層からの形状を刻設することができる程度に増加された基板バイアスにて堆積するステップと、を含み、
イオン堆積スパッタされた前記材料は、前記特徴表面に到達するイオン含有量が約１０％〜約１００％の範囲のイオンを含む、
半導体の特徴表面に刻設された材料層を適用する方法。 
【請求項２】
前記刻設された第２の層の厚みは、実質的に均一である請求項１に記載の方法。 
【請求項３】
前記刻設された第２の層は、バリヤ層かまたはウェッティング層である請求項１または２に記載の方法。 
【請求項４】
前記半導体の特徴表面のあらゆる場所での前記バリヤ層かまたはウェッティング層の最小厚みは、約５Åである請求項３に記載の方法。 
【請求項５】
前記半導体の特徴のサイズは、アスペクト比が少なくとも１で約５μｍよりも小さい、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記半導体の特徴のサイズは、アスペクト比が少なくとも３で約０．５μｍよりも小さい、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記刻設された第２の層は、導電材料のシード層である請求項１または２に記載の方法。
【請求項８】
前記導電材料は、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｎｉ、Ａｕ、Ｗ、Ｐｔからなる群から選択される請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記導電材料は、銅である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記銅のシード層を適用する間の前記基板の温度は、約５００℃よりも低い請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板の温度は約２００℃よりも低い請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記半導体の特徴表面のあらゆる場所での前記シード層の最小厚みは、約５Åである請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記半導体の特徴のサイズは、アスペクト比が少なくとも１で約５μｍよりも小さい、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記半導体の特徴のサイズは、アスペクト比が少なくとも３で約０．５μｍよりも小さい、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の保護層の前記堆積の間にかけられる前記基板バイアスは、約−２０Ｖよりも小さい請求項１または２に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の保護層の前記堆積の間、基板バイアスをかけない請求項１または２に記載の方法。
【請求項１７】
前記刻設された第２の層の前記堆積の間にかけられる前記基板バイアスは、約−２０Ｖよりも大きい請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の保護層は、少なくとも約１ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の保護層は、少なくとも約１０ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記刻設された第２の層は、少なくとも約１ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記刻設された第２の層の前記堆積の間にかけられた前記基板バイアスは、約−２０Ｖよりも大きい請求項１または２に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１の保護層は、少なくとも約１ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記第１の保護層は、少なくとも約１０ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記刻設された第２の層は、少なくとも約１０ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記第１の保護層は、１０ｍＴｏｒｒ以下のプロセスチャンバ圧で標準的なスパッタリング技術を用いて堆積される請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
前記刻設された第２の層は、少なくとも約１ｍＴｏｒｒのプロセスチャンバ圧でイオン堆積スパッタリング技術を用いて堆積される請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】
前記バリヤ層は、Ｔａ、ＴａＮ、ＴａＳｉＮ、Ｍｏ、ＭｏＮ、ＭｏＳｉＮ、ＴｉＮ、ＴｉＳｉＮ、Ｗ、ＷＮ、ＷＳｉＮおよびそれらの組み合わせからなる群から選択された材料からなる請求項３に記載の方法。
【請求項２８】
前記ウェッティング層は、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉおよびそれらの組み合わせからなる群から選択された材料からなる請求項３に記載の方法。
【請求項２９】
前記バリヤ層は、Ｔｉ、ＴｉＮおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月21日(2007.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リグノセルロース材料、特に少なくとも１つの木材片の化学処理方法であって、炭化水素質鎖を含む化学薬剤による含浸に該材料を付し、しかも該薬剤は酢酸／安息香酸の混合無水物を除く混合無水物から選ばれ、該薬剤は該材料への複数個の炭化水素質鎖の共有結合グラフトを与えるのに適していることを特徴とする方法。
【請求項２】
グラフトが、有機無水物から選ばれた化学薬剤を用いてのリグノセルロース材料のエステル化方法により行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
処理が、周囲温度と１５０℃の間、好ましくは１００と１４０℃の間の温度にて行われることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
混合無水物が、第１炭化水素質鎖Ｒ及び第２炭化水素質鎖Ｒ1を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ＲＣＯＯＨがＣ2〜Ｃ4カルボン酸を表しそしてＲ1ＣＯＯＨがＣ6〜Ｃ24脂肪酸であり、しかもこれらの酸は飽和又は不飽和であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
Ｒ1ＣＯＯＨがＣ2〜Ｃ4カルボン酸を表しそしてＲＣＯＯＨがＣ6〜Ｃ24脂肪酸であり、しかもこれらの酸は飽和又は不飽和であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
混合無水物が、酢酸／オクタン酸の混合無水物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
含浸が、塩基触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
含浸が、中性触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
含浸が、弱酸触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
含浸が、触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
リグノセルロース材料の含浸が、浸漬法により行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
リグノセルロース材料の含浸が、吹付け法により行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
リグノセルロース材料の含浸が、オートクレーブ中で行われることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
方法が木材片に対して行われ、しかも木材種は特にオーク、マツ、モミ、キュルピクサ（curupixa）又はユーカリから選ばれることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか
一項に記載の方法。