(57)【要約】  質量％で、Ｃｒを８．０〜１６．０％含むとともに、元素記号を各成分元素の質量％での鋼中含有量として、「Ｃｒ＋４Ｓｉ−（２２Ｃ＋０．５Ｍｎ＋１．５Ｎｉ＋３０Ｎ）」の式で表される値が９．０％以下であるビレットを、均熱温度が１１００〜１３００℃で在炉時間（分）が「０．５×ビレットの直径（ｍｍ）」以上を満たすことができるように設定された加熱炉で加熱した後、ポンチ角度が６０〜１１０゜のポンチによりビレットの穿孔開始側端面に「０．３４×ビレットの直径（ｍｍ）」以上の直径のセンターホールを設けることができるセンタリング機によって該ビレットの穿孔開始側端面にセンターホールを設け、プラグ先端ドラフト率が８．０％以下である傾斜ロール式穿孔機で穿孔圧延する。このようにして製造した高Ｃｒ継目無管は、内面疵の発生が少ない内面性状に優れたものである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビレットを加熱炉で加熱する工程と、加熱されたビレットの穿孔開始側端面にセンタリング機によってセンターホールを設ける工程と、そのビレットを傾斜ロール式穿孔機で穿孔圧延する工程を含む高Ｃｒ継目無鋼管の製造方法であって、
前記ビレットは質量％で、Ｃｒを８．０〜１６．０％含むとともに、下記(1)式で表されるＣｒ*の値が９．０％以下であり、
前記加熱工程では均熱温度は１１００〜１３００℃で、ビレットが加熱炉に入ってから出るまでの在炉時間は下記(2)式を満たすように設定され、
前記センターホールを設ける工程では、ポンチ角度が６０〜１１０゜のポンチにより、ビレットの穿孔開始側端面に下記(3)式で表される直径のセンターホールを設け、かつ、
前記穿孔圧延工程では、下記(4)式で表されるプラグ先端ドラフト率が８．０％以下となるように設定されていることを特徴とする高Ｃｒ継目無管の製造方法。
Ｃｒ*＝Ｃｒ＋４Ｓｉ−（２２Ｃ＋０．５Ｍｎ＋１．５Ｎｉ＋３０Ｎ）・・・(1)、
在炉時間（分）≧０．５×丸ビレット直径（ｍｍ）・・・(2)、
センターホール直径（ｍｍ）≧０．３４×丸ビレット直径（ｍｍ）・・・(3)、
プラグ先端ドラフト率（％）＝｛（丸ビレット直径（ｍｍ）−プラグ最先端部でのロール間隔（ｍｍ））／丸ビレット直径（ｍｍ）｝×１００・・・(4)。
なお、(1)式中の元素記号は、質量％での含有量を示す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、油井若しくはガス井又は各種プラント若しくは建設構造材料等に用いられる高Ｃｒ継目無管の製造方法に関する。特に、質量％で、Ｃｒを８．０〜１６．０％含む高Ｃｒ継目無管の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
油井若しくはガス井用又は各種プラント用若しくは建設構造用として、質量％で、Ｃｒを８．０〜１６．０％含有する高Ｃｒ継目無鋼管が、多く採用される。【０００３】
この高Ｃｒ継目無管を効率的に生産するために、穿孔圧延工程において、傾斜ロール式穿孔機（以下、「ピアサー」ともいう。）を採用することが望ましい。具体的には、丸断面の中実素材（以下、「ビレット」という。）からピアサーによって中空素管を製造し、この穿孔された素管をマンドレルミル、プラグミル、アッセルミル、プッシュベンチなどの延伸圧延機で延伸圧延し、ストレッチレデューサーやサイザーなどで外径を絞る。【０００４】
しかしながら、高Ｃｒ鋼の熱間加工性は、いわゆる「普通鋼」のそれに比べて低いため、ピアサーで穿孔圧延した場合、穿孔された素管の内面に欠陥が発生しやすい。この欠陥の代表的なものとしては、中被れ疵と呼ばれるものがあり、「内面ヘゲ疵」や「ラップ疵」と称されることもある。【０００５】
管の内面欠陥を除去するためには、管の製造工程と別の工程で、疵のある部分を切断、または削除しなければならない。この作業は、多大な工数が必要であり、生産効率を著しく低下させる。更に、内面欠陥が深い疵の場合は、管を廃棄しなければならない。これは、歩留りを悪くする。【０００６】
ところで、特許文献１〜６は、穿孔圧延段階での内面欠陥の発生を抑制するための技術が提案されている。【０００７】
特許文献１には、鋼中の不純物元素であるＰ及びＳの含有量を極めて低く抑えることによって素材の熱間加工性を高め、ピアサーによる穿孔圧延時の中被れ疵を抑制する技術が開示されている。【０００８】
特許文献２には、ビレットの加熱温度を低くして、さらにピアサーによる穿孔圧延時の平均歪速度を小さくして加工発熱を抑えることでδ−フェライトの生成を抑制する技術が開示されている。【０００９】
特許文献３には、特定の合金成分の含有量を規定するとともに、焼鈍工程の加熱時間やビレットの加熱温度を低温に管理することによって、熱間加工工程で生成される組織を改善するマルテンサイト系継目無鋼管の製造方法が開示されている。【００１０】
特許文献４には、ディスクロール型ガイドシューを有するピアサーで穿孔圧延する場合に、素材直径、ガイドシュー間隔、傾斜ロール間隔などの条件を管理して穿孔圧延する技術が開示されている。【００１１】
特許文献５には、Ｃｒ、不純物元素としてのＳ及びＰ、並びに、添加される元素の含有量を規定するとともに、ビレットの加熱や均熱時間などを調整することによって、熱間加工工程で生成される組織を改善し、内面欠陥の発生を防止する高Ｃｒ系継目無管の製造方法が開示されている。【００１２】
特許文献６には、特定の合金成分の含有量を規定するとともに、穿孔圧延時の交叉角及び傾斜角を調整することによって、熱間加工工程で生成される組織を改善し、内面欠陥の発生を防止するマルテンサイト系ステンレス継目無鋼管の製造方法が開示されている。【００１３】
特許文献７には、傾斜穿孔圧延機とマンドレルミルから構成される継目無鋼管の製造工程において、穿孔圧延前にビレット後端部が凹部となる加工を予め施したビレットを用いることによって、、延伸圧延工程でマンドレルバーの引抜く時に、疵の発生を回避する継目無管の製造方法が開示されている。【００１４】
【特許文献１】特開昭５９−２０８０５５号公報
【特許文献２】特開昭６３−２８１７０５号公報
【特許文献３】特開平４−２２４６５９号公報
【特許文献４】特開平５−６９０１１号公報
【特許文献５】特開２００３−３２１２号公報
【特許文献６】特開２００４−４３９３５号公報
【特許文献７】特開２００４−８２１７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
前述の特許文献１〜７で提案された技術を適用しても、Ｃｒを８．０〜１６．０％含む高Ｃｒ鋼の穿孔された素管に生じる内面欠陥は、十分に抑制されない。【００１６】
そこで、本発明者らは、高Ｃｒ継目無管に生じた中被れ疵を詳細に観察して、ビレットの加熱条件、穿孔圧延前のビレットへの予備加工条件及び穿孔圧延設定条件などの様々な条件との因果関係について詳細に調査した。【００１７】
その結果、穿孔圧延前に、穿孔圧延が開始される側のビレット端面にセンターホールを特定の条件で加工することにより中被れ疵が大幅に抑制されることを知見した。【００１８】
本発明は、上記の内容に鑑みてなされたもので、その目的は、ピアサーによる穿孔圧延工程で生じる内面欠陥のうち、特に中被れ疵の発生を抑制することができる高Ｃｒ継目無鋼管の製造方法、とりわけ、質量％で、Ｃｒを８．０〜１６．０％含有する高Ｃｒ継目無管の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の要旨は、下記に示す高Ｃｒ継目無管の製造方法、すなわち、
「ビレットを加熱炉で加熱する工程と、加熱されたビレットの穿孔開始側端面にセンタリング機によってセンターホールを設ける工程と、そのビレットを傾斜ロール式穿孔機で穿孔圧延する工程を含む高Ｃｒ継目無鋼管の製造方法であって、
前記ビレットは質量％で、Ｃｒを８．０〜１６．０％含むとともに、下記(1)式で表されるＣｒ*の値が９．０％以下であり、
前記加熱工程では均熱温度は１１００〜１３００℃で、ビレットが加熱炉に入ってから出るまでの在炉時間は下記(2)式を満たすように設定され、
前記センターホールを設ける工程では、ポンチ角度が６０〜１１０゜のポンチにより、ビレットの穿孔開始側端面に下記(3)式で表される直径のセンターホールを設け、かつ、
前記穿孔圧延工程では、下記(4)式で表されるプラグ先端ドラフト率が８．０％以下となるように設定されていることを特徴とする高Ｃｒ継目無管の製造方法。
Ｃｒ*＝Ｃｒ＋４Ｓｉ−（２２Ｃ＋０．５Ｍｎ＋１．５Ｎｉ＋３０Ｎ）・・・(1)、
在炉時間（分）≧０．５×丸ビレット直径（ｍｍ）・・・(2)、
センターホール直径（ｍｍ）≧０．３４×丸ビレット直径（ｍｍ）・・・(3)、
プラグ先端ドラフト率（％）＝｛（丸ビレット直径（ｍｍ）−プラグ最先端部でのロール間隔（ｍｍ））／丸ビレット直径（ｍｍ）｝×１００・・・(4)。
なお、(1)式中の元素記号は、質量％での含有量を示す。」
にある。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の方法によれば、Ｃｒを８．０〜１６．０％含む高Ｃｒ継目無管の製造に際し、ピアサーによる穿孔圧延工程で生じる内面欠陥のうち中被れ疵の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
前記した本発明者らが行ったピアサーによる穿孔圧延工程で生じる中被れ疵の発生についての調査結果の知見を示す。【００２２】
中被れ疵の発生は、下記（ａ）〜（ｃ）に示すように、ビレットの均熱条件を管理してビレットにδ−フェライトが生成することを抑制することと、ピアサーによる穿孔圧延工程における回転鍛造回数を低減することによって、格段に抑制されることが明らかになった。【００２３】
（ａ）ピアサーでの穿孔圧延工程の前に、Ｃｒを８．０〜１６．０％含むとともに、前記(1)式で表されるＣｒ*の値が９．０％以下であるビレットを、均熱温度が１１００〜１３００℃で、在炉時間が前記(2)式を満たすように加熱炉で加熱すれば、ソーキング効果によってδ−フェライトの生成を抑制でき、ピアサーによる穿孔圧延工程で生じる中被れ疵の主要因が抑制される。【００２４】
（ｂ）下記(5)式で表される回転鍛造数Ｎの低減によって、ピアサーによる穿孔圧延時に生じる中被れ疵の発生を抑制することができる。
Ｎ＝（２Ｌ×Ｂｒｐｓ）／｛（ロールゴージ部の周速×ｓｉｎβ×穿孔効率）／穿孔比｝・・・(5)。
なお、上記の(5)式において、
Ｌ：ロールがビレットを噛み込む位置からプラグ先端までの距離、
Ｂｒｐｓ：ビレット回転数、つまり、「ビレットを噛み込む位置でのロール周速の回転速度成分／ビレットの周長」、
穿孔比：「穿孔された素管の長さ／ビレット長さ」、
β：ロール傾斜角（゜）、
穿孔効率：穿孔圧延の前進効率（％）、
を指す。【００２５】
（ｃ）前記(5)式から明らかなように、「Ｌ」の値を小さくするか、穿孔効率の値を大きくすれば、ビレットの回転鍛造数「Ｎ」を低減できる。そして、「Ｌ」の値は、「プラグ先端ドラフト率」を小さくすることで容易に低減できる。なお、ロール傾斜角「β」を大きくする方法も考えられるが、この方法は、ピアサーロールがビレットの噛み込み不良を起こす原因となる場合がある。【００２６】
そこで、次に、ピアサーによる穿孔圧延の「穿孔効率」を向上させる条件について更に詳細に調査した。その結果、下記（ｄ）及び（ｅ）の知見を得た。【００２７】
（ｄ）でセンターホールを設ける工程において、センタリング機のポンチ角度を特定の範囲にすることによって、ビレットがピアサーロールに噛み込まれてから穿孔圧延が安定するまでの時間が短くなるので、「穿孔効率」が向上する。【００２８】
（ｅ）センターホールの直径を、ビレット直径との関係で決定される特定の値以上とすることによって、「プラグ先端ドラフト率」が小さい条件でビレットを穿孔圧延する場合にも、ピアサーロールが、ビレットの噛み込み不良を起こさず、安定してビレットを穿孔圧延できる。【００２９】
本発明は、上記の知見に基づいて完成されたものである。【００３０】
以下、本発明の各要件について詳しく説明する。なお、以下の説明における各元素の含有量の「％」表示は「質量％」を意味する。【００３１】
（Ａ）ビレットの化学組成
本発明に係る高Ｃｒ継目無管の素材となるビレットは、Ｃｒを８．０〜１６．０％含むとともに、前記(1)式で表されるＣｒ*の値が９．０％以下である化学組成の高Ｃｒ鋼である必要がある。【００３２】
Ｃｒ：８．０〜１６．０％
Ｃｒは、耐食性を確保するために８．０％以上含有させる必要がある。一方、Ｃｒはフェライト形成元素であるため、その含有量が多くなると、素材を高温加工する際にδ−フェライトが生成しやすくなって熱間加工性が低下する。特に、Ｃｒ含有量が１６．０％を超えると、熱間加工性が著しく低下する。また、過度にＣｒを添加すると、継目無管の製造コストが上昇する。したがって、Ｃｒの含有量は８．０〜１６．０％とした。【００３３】
Ｃｒ*の値：９．０％以下
Ｃｒの含有量が上記の８．０〜１６．０％の場合であっても、前記(1)式で表されるＣｒ*の値が９．０％を超える場合にはδ−フェライトが生成しやすくなって、耐硫化物応力割れ性及び熱間加工性が低下する。したがって、前記(1)式で表されるＣｒ*の値は９．０％以下とした。【００３４】
上記のことから、本発明においては、ビレットとして、Ｃｒを８．０〜１６．０％含むとともに、前記(1)式で表されるＣｒ*の値が９．０％以下である化学組成の高Ｃｒ鋼を採用することとした。【００３５】
本発明に係る高Ｃｒ継目無管の素材となるビレットは、その化学組成として、Ｃｒ含有量及び前記(1)式で表されるＣｒ*の値を規定するだけでよい。【００３６】
なお、素材となるビレットの好ましい化学組成の一例として、例えば、Ｃ：０．１５〜０．２２％、Ｓｉ：０．１〜１．０％、Ｍｎ：０．１０〜１．００％、Ｃｒ：１２．０〜１４．０％、Ｐ：０．０２０％以下、Ｓ：０．０１０％以下、Ｎ：０．０５％以下、Ｏ（酸素）：０．００６０％以下、更に、それぞれ０．００５〜０．２００％のＶ、Ｎｂ及びＴｉ、並びに、０．０００５〜０．０１００％のＢから選んだ１種以上（但し、２種以上の場合は合計で０．００５〜０．２００％）を含有し、Ａｌ：０〜０．１％、Ｎｉ：０〜０．５％、Ｃｕ：０〜０．２５％及びＣａ：０〜０．００５０％で、残部がＦｅ及び不純物からなり、前記(1)式で表されるＣｒ*の値が９％以下となる高Ｃｒ鋼が挙げられる。【００３７】
また、本発明に係る高Ｃｒ継目無管の素材となるビレットの好ましい化学組成の他の例として、例えば、Ｃ：０．００３〜０．０５０％、Ｓｉ：０．０５〜１．０％、Ｍｎ：０．１０〜１．５０％、Ｃｒ：１０．５〜１４．０％、Ｐ：０．０３５％以下、Ｓ：０．０１０％以下、Ｎ：０．０７０％以下、Ｏ（酸素）：０．００６０％以下、Ｖ：０〜０．２００％、Ｔｉ：０〜０．３００％、Ｍｏ：０．２〜３．０％、Ｎｉ：０〜７．０％及びＺｒ：０〜０．５８０％で、残部がＦｅ及び不純物からなり、前記(1)式で表されるＣｒ*の値が９％以下となる高Ｃｒ鋼も挙げられる。【００３８】
（Ｂ）ビレットの加熱条件
本発明においては、前記（Ａ）項に記載の化学組成を有する高Ｃｒ継目無管の素材となるビレットを、均熱温度が１１００〜１３００℃で、ビレットが加熱炉に入ってから出るまでの在炉時間が前記(2)式を満たすことができるように加熱炉で加熱する必要がある。【００３９】
均熱温度が１１００℃を下回る場合には、ピアサーでの穿孔圧延工程での温度、また、マンドレルミルやプラグミルなど延伸圧延工程での温度が低くなり圧延材料の変形抵抗が大きくなるため、穿孔圧延および延伸圧延が不安定となり、焼付き疵が発生しやすくなる。【００４０】
均熱温度が１３００℃を超えると、ビレットにおいてδ−フェライトが発生して成長するため、中被れ疵が発生しやすくなる。【００４１】
均熱温度が１１００〜１３００℃であっても、加熱炉でのビレットの在炉時間が前記(2)式を満たさない場合には、ビレット中心部が十分に均熱されず、ピアサーにより安定に穿孔圧延することが困難となる。その結果、偏肉率が悪化する。【００４２】
したがって、本発明においては、ピアサーによる穿孔圧延の素材となるビレットを、均熱温度が１１００〜１３００℃で、ビレットが加熱炉に入ってから出るまでの在炉時間が前記(2)式を満たすように加熱することとした。【００４３】
なお、上記加熱炉における在炉時間は、スケールロスによる歩留りの低下を防止するために、「1．５×ビレットの直径（ｍｍ）」分未満とすることが望ましい。【００４４】
（Ｃ）ビレットのセンタリング
本発明においては、前記（Ｂ）項に記載の条件で加熱したビレットのピアサーによる穿孔開始側端面に、ポンチ角度が６０〜１１０゜のポンチを備えるセンタリング機によって、前記(3)式で表される直径のセンターホールを設けることができるようにする必要がある。【００４５】
センターホールを設ける工程で、ポンチの角度が１１０゜以下のセンタリング機を用いてビレットにセンターホールを設ければ、穿孔圧延工程において、プラグがビレット端面中心で押し返されることがない。また、プラグ先端ドラフト率が低い条件で穿孔圧延する場合、換言すれば、前記(5)式で表される回転鍛造数Ｎが小さい条件であっても、直ちにビレットを安定して穿孔圧延でき、結果的に穿孔圧延時間が短くなる。すなわち、ビレットが回転鍛造される回数を減少させることができて、中被れ疵の発生を十分に抑止できる。しかしながら、ポンチ角度が６０゜を下回る場合には、ビレットに所定の孔径を確保するためにポンチを深く打ち込まなければならなくなって、その部分に内面欠陥が発生して歩留りが低下する場合がある。一方、ポンチ角度が１１０゜を超える場合には、プラグ先端ドラフト率が小さい条件でビレットを穿孔圧延することが難く、また、ロールがビレットを噛み込む時の穿孔効率が十分に確保し難い。このため、十分に中被れ疵の発生を十分抑止できず、しかも、場合によっては、ロールがビレットの噛み込み不良を起こす場合がある。したがって、センタリング機のポンチの角度は６０〜１１０゜とする必要がある。【００４６】
なお、センタリング機のポンチの角度は６０〜１１０゜であっても、センターホールの直径が、「０．３４×ビレットの直径（ｍｍ）」を下回る場合には、細いポンチを使用しなければならない。したがい、ポンチが破損すること、または必要なセンターホールの深さを確保できないために「穿孔効率」を高めることができないことがある。このため、センターホールの直径は前記(3)式を満たすこと、つまり、「０．３４×ビレットの直径（ｍｍ）」以上とすることが必要である。【００４７】
（Ｄ）ピアサーでの穿孔圧延
本発明においては、前記（Ｃ）項に記載した条件でセンタリングしたビレットを、プラグ先端ドラフト率が８．０％以下の条件で穿孔圧延する必要がある。【００４８】
プラグ先端ドラフト率が８．０％を超える場合は、前記(5)式中の「Ｌ」の値、つまり、ロールがビレットを噛み込む位置からプラグ先端までの距離が幾何学的に大きいことを意味する。そして、この場合には前記(5)式で表される回転鍛造数Ｎが大きくなるので、いわゆる「マンネスマン破壊」が過剰に発生し、中被れ疵が発生しやすくなる。したがって、プラグ先端ドラフト率を８．０％以下とした。なお、プラグ先端ドラフト率は６．０％以下にすることが好ましい。一方、プラグ先端ドラフト率の下限は前記（Ｃ）項で述べたセンターホールの条件にもよるが、幾何学的にビレットがピアサーロールに噛み込みできる３．０％程度である。【００４９】
以上のことから、本発明においては、前記（Ａ）に記載の化学組成を有する高Ｃｒ継目無管の素材となる丸ビレットを、前記（Ｂ）に記載の条件で加熱して、前記（Ｃ）項に記載の条件でセンタリングした後、ピアサーのプラグ先端ドラフト率を８．０％以下として穿孔圧延することと規定した。【００５０】
なお、本発明においては、ピアサーでの穿孔効率の値は特に規定する必要はないが、穿孔効率が５０％を下回る場合には、前記(5)式で表される回転鍛造数Ｎが大きくなり、いわゆる「マンネスマン破壊」を過剰に発生させ、中被れ疵が発生しやすくなることがあるので、ピアサーでの穿孔効率は５０％以上とするのがよい。【００５１】
ピアサーの穿孔効率の上限は、経験的には、バレル型ロール（交叉角０゜）のときは６０〜７０％程度であり、また、コーン型ロール（交叉角５〜３０゜）の場合は７５〜９５％程度である。【００５２】
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
【実施例】
【００５３】
表１に示す化学組成を有する鋼塊を通常の方法で分塊圧延して、直径が１９１ｍｍ又は２２５ｍｍの丸ビレットとした。なお、表１における鋼Ａ及び鋼Ｂは双方とも、化学組成が本発明で規定する範囲内にある本発明例に係る鋼である【００５４】
【表１】
2007100042.tif 000002
【００５５】
次いで、前記サイズの丸ビレットを加熱炉に装入し、均熱温度が１２００℃で、在炉時間が２４０分となるように加熱した後、表２に示す条件でセンタリングとピアサーで穿孔圧延し、外径が２２８.０ｍｍの素管（丸ビレットの直径が２２５ｍｍの場合）及び外径が１９６.０ｍｍの素管（丸ビレットの直径が１９１ｍｍの場合）を製造した。【００５６】
前記(2)式で表される在炉時間は、丸ビレットの直径が１９１ｍｍの場合には「０．５×１９１（ｍｍ）」分以上、つまり、９５．５分以上必要となり、また、丸ビレットの直径が２２５ｍｍの場合には「０．５×２２５（ｍｍ）」分以上、つまり、１１２．５分以上必要となる。したがって、上記の２４０分という在炉時間は、本発明で規定する条件を満たすものである。【００５７】
なお、表２の試験番号４〜６の場合は、ポンチの折損が生じたので穿孔圧延を中止した。【００５８】
【表２】
2007100042.tif 000003
【００５９】
このようにして得た表２の試験番号１〜３及び試験番号７〜２２の各素管について、中被れ疵発生の有無を調査した。すなわち、先ず超音波探傷によって内面欠陥の発生箇所を特定してマーキングし、その部位を切断して目視検査によって評価した。更に、偏肉等の圧延不良の発生について、目視と超音波探傷で調査した。【００６０】
表２に、素管の性状調査結果を併せて示す。表２の「圧延素管の性状」欄において、「○」は素管内面に中被れ疵が認められなかったことを、「×１」は素管内面にポンチ疵（内面欠陥）が認められたことを、また、「×２」は中被れ疵が認められたことを示す。なお、「−」はポンチの折損が生じて穿孔圧延を中止したため、調査していないことを示す（試験番号４〜６）。【００６１】
表２から、表１に示す成分を含有する高Ｃｒ鋼の丸ビレットを、本発明で規定する加熱条件で加熱した後、丸ビレットの穿孔開始側端面に、ポンチ角度が６０〜１１０゜であるセンタリング機によって前記(3)式で表される直径のセンターホールを設け、次いで、噛み込み限界の範囲で、本発明で規定する条件のプラグ先端ドラフト率によって穿孔圧延して得た試験番号７〜１１及び試験番号１３〜１７の素管の場合、内面性状が良好なことが明らかである。なお、上記の各素管には、偏肉等圧延不良の発生は認められなかった。【００６２】
これに対して、化学組成が本発明で規定する範囲内にある鋼のビレットを、本発明で規定する加熱条件で加熱した場合であっても、丸ビレットのセンタリング条件或いは穿孔圧延条件が本発明の規定から外れる試験番号１〜３、試験番号１２及び試験番号１８〜２２の場合には、素管にポンチ疵（内面欠陥）或いは中被れ疵が認められた。【００６３】
すなわち、試験番号１〜３の場合、ポンチ角度が５０゜と規定の６０゜を下回り、所定の孔径を確保するために、試験番号１の場合には１０５．５ｍｍ、また、試験番号２〜３の場合には９１．１ｍｍと、ポンチを深く打ち込む必要があったので、ポンチ疵（内面欠陥）が発生した。【００６４】
また、試験番号１２の場合、センターホール直径と丸ビレット直径との比が０．３４を下回り、しかも、プラグ先端ドラフト率が規定の８．０％を超えるものであるため、中被れ疵が発生した。【００６５】
更に、試験番号１８〜２２の場合、ポンチ角度が１１５゜と規定の１１０゜を上回り、プラグ先端ドラフト率を小さくする設定することが困難で、８．２〜８．８と規定の８．０％を超えた。しかも、ロールがビレットの噛み込み不良を起こし、中被れ疵が発生した。【００６６】
なお、既に述べたとおり、ポンチ角度が５０゜と規定の６０゜を下回る試験番号４〜６の場合には、ポンチの折損が生じたので穿孔圧延を中止しなければならなかった。【００６７】
以上、実施例によって本発明を具体的に説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例として開示のないものも本発明の要件を満たしさえすれば当然に本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明の製造方法によれば、内面疵の発生が少ない高Ｃｒ継目無管の製造が可能である。しかも、鋼の化学組成として不純物を過剰に低減する必要もなく、また、製管時には所定の生産性を確保できるので、内面品質に優れた高Ｃｒ継目無管を効率的に製造することができる。
【国際調査報告】
2007100042.tif 000004
2007100042.tif 000005