(57)【要約】  隣り合う絵素電極間の短絡が、絵素電極周縁のどの部位で発生しても、短絡した絵素全体を黒点化することなく効率よく修正可能なアクティブマトリクス基板とこれを有する液晶パネル並びにこれらの修正方法を提供する。  アクティブマトリクス基板（ＡＭ基板）１２にマトリクス状に設けられた絵素電極１０が、複数の微小領域１０ｂに分割されると共に前記各微小領域１０ｂが電気接続部１０ｃを介して一体に接続されており、各絵素電極１０に信号を伝送するための複数本の配線３６，３８が前記各絵素電極１０の電気接続部１０ｃと重なり合う部位を避けて配設されている。
2007063649.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板に、複数の微小領域に分割されると共に前記各微小領域が電気接続部を介して一体に接続されてなる絵素電極と、これら各絵素電極に信号を伝送するための複数本の配線とが層状に形成されてなるアクティブマトリクス基板であって、前記配線が前記各絵素電極のそれぞれの微小領域を電気的に接続する電気接続部と重なり合う部位を避けて配設されるようにしたことを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項２】
前記各絵素電極を構成する微小領域の少なくとも一の微小領域には、これら各絵素電極に前記信号を伝送するためのコンタクト部が設けられており、前記配線が、前記一の絵素電極の前記コンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間領域を避けて配設されるようにしたことを特徴とする請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項３】
前記配線に開口部が設けられており、この開口部が、前記一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間と重なり合う位置に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項４】
対をなす透明基板間に液晶を挟持し、一方の透明基板表面には、複数の微小領域に分割されると共に前記各微小領域が電気接続部を介して一体に接続されてなる絵素電極と、これら各絵素電極に信号を伝送するための複数本の配線とが層状に形成されて、他方の透明基板には前記絵素電極と対向する対向電極が設けられてなる液晶パネルであって、前記配線が前記各絵素電極のそれぞれの微小領域を電気的に接続する電気接続部と重なり合う部位を避けて配設されるようにしたことを特徴とする液晶パネル。
【請求項５】
前記各絵素電極を構成する微小領域の少なくとも一の微小領域には、これら各絵素電極に信号を伝送するためのコンタクト部が設けられており、前記配線が、前記一の絵素電極の前記コンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間領域に重なり合わないように配設されていることを特徴とする請求項４に記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記配線に開口部が設けられており、この開口部が、一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間と重なり合う位置に設けられていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の液晶パネル。
【請求項７】
更に、前記他方の透明基板には、前記一方の基板に設けられる前記各絵素電極の周辺領域を覆うように遮光領域が設けられ、前記一方の基板の前記配線に設けられた前記開口部が、前記他方の基板の前記遮光領域と重なり合うように配置されていることを特徴とする請求項４乃至請求項６に記載の液晶パネル。
【請求項８】
前記各絵素電極と、前記液晶を介してこれら各絵素電極と対向して設けられた前記対向電極とにより形成される液晶容量と、この液晶容量に接続された補助容量とを有し、隣り合う複数の絵素を一つの準絵素と見なし、この準絵素の各液晶容量に対して共通の配線から同じ振幅の信号を供給し、且つ前記準絵素の各補助容量に対して異なる補助容量電圧を供給することにより、前記準絵素の液晶容量に保持される電圧の実効値を異ならせることを特徴とする請求項４乃至請求項７に記載の液晶パネル。
【請求項９】
前記各絵素電極が複数のスリットによって分割された微小領域からなり、この各微小領域が前記電気接続部によって一体に接続されて、これら複数のスリットが前記各絵素電極の端辺に対して異なる方向に斜めに設けられて、これら複数のスリットの傾き方向に応じて、前記各絵素電極と前記対向電極との間で配向される液晶分子の配向方向を異ならせることを特徴とする請求項４乃至請求項８に記載の液晶パネル。
【請求項１０】
前記請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板を有する表示装置。
【請求項１１】
前記請求項４乃至請求項９のいずれかに記載の液晶パネルを表示手段として備えてなる液晶表示装置。
【請求項１２】
放送電波を受信する受信手段と、該受信手段により受信された放送電波の放送内容を表示する表示手段とを備えてなるテレビ受像器であって、この表示手段には前記請求項４乃至請求項９のいずれかに記載の液晶パネルが用いられていることを特徴とするテレビ受像器。
【請求項１３】
透明基板に、複数の微小領域が電気接続部を介して電気的に接続された絵素電極をマトリクス状に設け、各絵素電極に信号を伝送する複数本の配線を前記電気接続部と重なり合う部位を避けて配置したアクティブマトリクス基板の隣接する絵素電極間に生じた短絡部における欠陥を修正するに際し、
一つの絵素電極を構成する複数の微小領域のうち前記短絡部を有する微小領域と他の微小領域とを接続する電気接続部にレーザ光を照射して、該電気接続部を切断し、前記短絡部を有する微小領域を他の微小領域から電気的に切り離すことを特徴とするアクティブマトリクス基板の修正方法。
【請求項１４】
透明基板表面に、複数の微小領域が電気接続部を介して電気的に接続された絵素電極をマトリクス状に設け、各絵素電極に信号を伝送する複数本の配線を前記電気接続部と重なり合う部位を避けて配置したアクティブマトリクス基板の隣接する絵素電極間に生じた短絡部における欠陥を修正するに際し、
一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との間に生じた短絡部に、前記配線の配置されていない部位において、レーザーを照射して、該短絡部を切断することを特徴とするアクティブマトリクス基板の修正方法。
【請求項１５】
対をなす透明基板間に液晶を挟持させ、一方の透明基板表面に、複数の微小領域が電気接続部を介して電気的に接続された絵素電極をマトリクス状に設け、各絵素電極に信号を伝送する複数本の配線を前記電気接続部と重なり合う部位を避けて配置した液晶パネルの隣接する絵素電極間に生じた短絡部における欠陥を修正するに際し、
一つの絵素電極を構成する複数の微小領域のうち前記短絡部を有する微小領域と他の微小領域とを接続する電気接続部にレーザを照射して、該電気接続部を切断し、前記短絡部を有する微小領域を他の微小領域から電気的に切り離すことを特徴とする液晶パネルの修正方法。
【請求項１６】
対をなす透明基板間に液晶を挟持させ、一方の透明基板表面に、複数の微小領域が電気接続部を介して電気的に接続された絵素電極をマトリクス状に設け、各絵素電極に信号を伝送する複数本の配線を前記電気接続部と重なり合う部位を避けて配置した液晶パネルの隣接する絵素電極間に生じた短絡部における欠陥を修正するに際し、
一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との間に生じた短絡部に、前記配線の配置されていない部位において、レーザーを照射して、該短絡部を切断することを特徴とする液晶パネルの修正方法。
【請求項１７】
前記請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板を製造するアクティブマトリクス基板製造工程と、
該アクティブマトリクス基板に形成された前記絵素電極及び／又は前記配線の欠陥を検出するアクティブマトリクス基板検査工程と、
該アクティブマトリクス基板検査工程において検出された欠陥を前記請求項１３及び／又は請求項１４に記載の修正方法で修正するアクティブマトリクス基板修正工程と、を含むことを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項１８】
対をなす透明基板間に液晶を挟持してなる液晶パネルを製造するに際し、
前記請求項４乃至請求項８のいずれかに記載の液晶パネルを製造する液晶パネル製造工程と、
該液晶パネルの前記絵素電極及び／又は前記配線の欠陥を検出する液晶パネル検査工程と、
該液晶パネル検査工程において検出された欠陥を前記請求項１５及び／又は請求項１６に記載の修正方法で修正する液晶パネル修正工程とを含むことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクティブマトリクス基板とそのアクティブマトリクス基板を備えた表示装置、及び液晶パネルとその液晶パネルを備えた表示装置並びにテレビ受像器及びアクティブマトリクス基板の修正方法と液晶パネルの修正方法及びアクティブマトリクス基板の製造方法と液晶パネルの製造方法に関し、更に詳しくは、絵素電極間の短絡等に伴う表示欠陥を効率よく修正可能なアクティブマトリクス基板とそのアクティブマトリクス基板を備えた表示装置及び液晶パネルとその液晶パネルを備えた表示装置並びにテレビ受像器及びアクティブマトリクス基板の修正方法と液晶パネルの修正方法及び液晶パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの電気製品の表示部として液晶表示装置が広く用いられている。液晶表示装置には、対をなす透明基板を対向させて重ね合わせ、シール材によって貼り合わせて、この透明基板間のシール材で密閉された領域に液晶が封入されてなる液晶パネルが用いられている。液晶パネルにおいては、これら対をなす透明基板の一方の基板には絵素電極が形成されて、他方の基板には前記絵素電極と対向して対向電極が形成され、これら各絵素電極と対向電極との間において発生する電界により液晶分子の傾きを変化させて、絵素電極が形成されている基板側から入射する光の透過率を変化させて表示状態が制御される。以下、液晶パネルにおいて、画像が表示される側であり対向電極が設けられている側を表側、絵素電極が設けられている側を裏側と称する。【０００３】
このような、液晶パネルとしては、透明基板表面に絵素電極がマトリクス状に配置され、これら各絵素電極にスイッチング素子が接続されて、各スイッチング素子に表示信号を供給する複数本のソース配線と走査信号を供給する複数本のゲート配線とが互いに交差するように設けられたアクティブマトリクス基板（以下、ＡＭ基板と称する）と、ブラックマトリックス（以下、ＢＭと称する）によって区切られた領域内にカラーフィルタが設けられ、前記絵素電極と対向する対向電極とこの対向電極表面に形成された帯状の突起からなる配向制御用突起とが備えられたカラーフィルタ基板（以下、ＣＦ基板と称する）とをシール材で貼り合わせて、このシール材で密閉された領域内に液晶が封入されてなるアクティブマトリクス型液晶パネルが広く知られている。【０００４】
近年では、このような液晶パネルに対して表示品位の向上が求められるが、液晶パネルの絵素の高集密化が進められるほど、電極間の短絡等の配線や電極の形成不良の全くない液晶パネルを製造することは困難になる。また、表示画面全体の絵素電極数が従来通りのままで、液晶パネルを大型化すると、１絵素当たりの面積が大きくなり欠陥が目立ちやすくなる。従って、高品位の表示を実現するためには発生した表示不良の修正が不可欠である。【０００５】
通常、このような液晶パネルにおいて、隣接する絵素電極間の短絡による表示不良が発見された場合、この短絡部が、液晶パネルの裏側からレーザーを照射して切断可能な位置にあれば、液晶パネルの表側又は裏側からレーザーを照射し直接短絡部を切断する。しかし、絵素電極が前記配線等とＢＭと重なり合って配置されている部分があり、隣接する絵素電極間の短絡部分がソース配線やゲート配線等の遮光物である配線又はその他の電極等と重なり合って配置されている部分では、隣接する絵素電極間の短絡部をレーザー照射で切断することはできない。【０００６】
従って、従来は隣接する絵素電極の短絡部と前記配線又はＢＭ等の遮光物が重なり合っている場合は、これらの絵素電極は短絡させたままで、２絵素とも黒点化（又は輝点化）して、欠陥修正が行われてきた。しかし、隣接する２以上の複数絵素からなる黒点（又は輝点）は視認されやすく、効果的に欠陥修正できない場合がある。そこで、次のような液晶パネルとその欠陥修正方法が提案されている。【０００７】
例えば特開平１０−１２３５６５号公報に記載の発明は、隣接する絵素電極間の短絡を修正可能な液晶パネルとその修正方法であり、通常ＣＦ基板側に設けられているＢＭを省くことで、液晶パネルの表面（ＣＦ基板側）からレーザー照射により絵素電極の短絡部分を切断することができるというものである。これにより、隣接する絵素電極間に生じた短絡部分とソース配線やゲート配線等が重畳するような、液晶パネルの裏側からのレーザー切断が不可能な部分の短絡も修正が可能になる。しかしながら、ＢＭは元々隣接する絵素間での光の漏れや、カラーフィルタ形成時に色が混じるのを防ぐものであるので、これを省いたことにより、発色の良い画像の精細な表示が難しくなるという問題がある。【０００８】
また、特開２００２−１２２８８６号公報に記載の発明は、絵素電極と対向電極との間の短絡による欠陥を修正可能な液晶パネルとその修正方法であり、絵素電極を複数のサブ絵素電極を接続部を介して連結させて分割可能に形成し、絵素電極内で欠陥が発生した部分のみを切り離して黒点化するというものである。これにより、黒点化する面積を小さくすることができ、欠陥修正後も黒点が視認されにくいというものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特開２００２−１２２８８６号公報に記載の液晶パネルは、隣接する絵素電極間の短絡という欠陥に関しては考慮されておらず、ゲート配線やソース配線、補助容量配線やドレイン引出線等の配線と前記サブ絵素電極同士を接続する接続部との相対的な位置関係についても何ら規定されていない。従って、サブ絵素として形成されているにもかかわらず、実際には単独では切り離し不可能なサブ絵素が存在したり、絵素電極間の短絡欠陥を修正可能にするためには、スイッチング素子と絵素電極とを接続するコンタクトホールの位置に制限を受け、そのための配線を設ける必要等があり、液晶パネルの開口率の低下につながる等の問題がある。例えば、前記コンタクトホールを有するサブ絵素が隣接する絵素と短絡した場合は、欠陥修正することができない。【００１０】
そこで、本発明の解決しようとする課題は、絵素電極がマトリクス状に配置される液晶パネルの隣り合う絵素電極間の短絡が絵素電極周縁のどの部位で発生しても、短絡した両絵素全体を黒点化することなく効率よく修正可能なＡＭ基板及び液晶パネルを提供すること、そしてこのようなＡＭ基板及び液晶パネルの修正方法を提供すること、更に、このような液晶パネルを備えた液晶表示装置及びテレビ受像器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明に係るアクティブマトリクス基板（以下ＡＭ基板と称する。）は、透明基板に、複数の微小領域に分割されると共に前記各微小領域が電気接続部を介して一体に接続されてなる絵素電極と、これら各絵素電極に信号を伝送するための複数本の配線とが層状に形成されてなるＡＭ基板であって、前記配線が前記各絵素電極のそれぞれの微小領域を電気的に接続する電気接続部と重なり合う部位を避けて配設されていることを要旨とするものである。【００１２】
この場合、前記各絵素電極を構成する微小領域の少なくとも一の微小領域には、これら各絵素電極に前記信号を伝送するためのコンタクト部が設けられており、前記配線が、前記一の絵素電極の前記コンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間領域を避けて配設されているとより好ましい。【００１３】
更に、前記配線に開口部が設けられており、この開口部が、前記一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間と重なり合う位置に設けられているとより好ましい。【００１４】
本発明に係る液晶パネルは、対をなす透明基板間に液晶を挟持し、一方の透明基板表面には、複数の微小領域に分割されると共に前記各微小領域が電気接続部を介して一体に接続されてなる絵素電極と、これら各絵素電極に信号を伝送するための複数本の配線とが層状に形成されて、他方の透明基板には前記絵素電極と対向する対向電極が設けられてなる液晶パネルであって、前記配線が前記各絵素電極のそれぞれの微小領域を電気的に接続する電気接続部と重なり合う部位を避けて配設されることを要旨とするものである。【００１５】
ここで、前記各絵素電極を構成する微小領域の少なくとも一の微小領域には、これら各絵素電極に信号を伝送するためのコンタクト部が設けられており、前記配線が、前記一の絵素電極の前記コンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間領域に重なり合わないように配設されていれば好ましい。【００１６】
更に、前記配線に開口部が設けられており、この開口部が、一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間と重なり合う位置に設けられていればより好ましい。【００１７】
更に、前記他方の透明基板には、前記一方の基板に設けられる前記各絵素電極の周辺領域を覆うように遮光領域が設けられ、前記一方の基板の前記配線に設けられた前記開口部が、前記他方の基板の前記遮光領域と重なり合うように配置されていればより好ましい。【００１８】
更に、前記液晶を介してこれら各絵素電極と対向して設けられた前記対向電極とにより形成される液晶容量と、この液晶容量に接続された補助容量とを有し、隣り合う複数の絵素を一つの準絵素と見なし、この準絵素の各液晶容量に対して共通の配線から同じ振幅の信号を供給し、且つ前記準絵素の各補助容量に対して異なる補助容量電圧を供給することにより、前記準絵素の液晶容量に保持される電圧の実効値を異ならせるという構成であると良い。【００１９】
更に、前記各絵素電極が複数のスリットによって分割された微小領域からなり、この各微小領域が前記電気接続部によって一体に接続されて、これら複数のスリットが前記各絵素電極の端辺に対して異なる方向に斜めに設けられて、これら複数のスリットの傾き方向に応じて、前記各絵素電極と前記対向電極との間で配向される液晶分子の配向方向を異ならせるという、例えば、特開平１１−２４２２２５号公報記載のＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式のような構成であっても良い。【００２０】
前記ＡＭ基板は、表示装置の表示手段として好適に用いられる。【００２１】
このような液晶パネルは液晶表示装置の表示手段として、又はテレビ受像器の表示手段として好適に用いられる。【００２２】
このようなＡＭ基板又は液晶パネルにおいて、隣接する絵素電極同士が短絡した場合の修正は、次のような方法で行われる。先ず、隣接する絵素電極との間に生じた短絡部が配線等の遮光物と重なり合う部位に位置する場合は、一つの絵素電極を構成する複数の微小領域のうち前記短絡部を有する微小領域と他の微小領域とを接続する電気接続部にレーザ光を照射して、該電気接続部を切断し、前記短絡部を有する微小領域を他の微小領域から電気的に切り離して行われる。【００２３】
また、隣接する絵素電極との間に生じた短絡部が、一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極に隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との間に位置するときは、前記配線の配置されていない部位において、レーザーを照射して、該短絡部を切断して修正が行われる。【００２４】
対をなす透明基板間に液晶を挟持してなる液晶パネルを製造するに際し、一方の透明基板に絵素電極と、これら各絵素電極に信号を伝送する複数本の配線と、を形成して前記ＡＭ基板を製造するＡＭ基板製造工程と、該ＡＭ基板に形成された前記絵素電極及び／又は前記配線の欠陥を検出するＡＭ基板検査工程と、該ＡＭ基板検査工程において検出された欠陥を前記修正方法で修正するＡＭ基板修正工程と、該ＡＭ基板に対をなす他方の透明基板を、所定の間隔で離間させた状態で対向させて貼り合わせ、その間に液晶を封入して、前記液晶パネルを製造する液晶パネル製造工程と、該液晶パネルの前記絵素電極及び／又は前記配線の欠陥を検出する液晶パネル検査工程と、該液晶パネル検査工程において検出された欠陥を前記修正方法で修正する液晶パネル修正工程とを含むことを特徴とする、液晶パネルの製造方法。
【発明の効果】
【００２５】
このようなＡＭ基板又はこのような液晶パネルによれば、透明基板表面にマトリクス状に配置された各絵素電極が微小領域に分割されて、これら微小領域が電気接続部を介して一体に接続されて形成されており、前記電気接続部と、配線等の遮光物とが重なり合わないように配置されている。従って、隣接する絵素電極間の短絡が、配線等と重なり合う部位で発生した場合でも、レーザー照射により前記電気接続部を切断して、短絡が発生した微小領域のみを他の微小領域から切り離すことができる。【００２６】
更に、一の絵素電極の前記コンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極と隣接する他の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域との隙間領域と、前記配線とが重なり合わないように配置されていれば、前記一の絵素電極のコンタクト部を有する微小領域とその一の絵素電極と隣接する絵素電極の同じくコンタクト部を有する微小領域との間で短絡部が発生した場合であっても、該短絡部にレーザーを照射して、該短絡部を切断することができる。これにより、絵素電極の周縁のどの部位で隣接する絵素電極との短絡が生じた場合であっても、短絡した２絵素全体を黒点化することなく表示欠陥を修正することが可能となる。【００２７】
更に、隣り合う複数の絵素電極に同じ振幅の表示信号を供給し、これら各絵素電極に接続された補助容量に異なる補助容量電圧を供給する構成によれば、これらの隣り合う複数の絵素を一つの準絵素と見なし、準絵素内の各絵素に表示させる階調を異ならせることができ、広視野角の表示が可能になる。【００２８】
このように、隣り合う絵素電極間の短絡部が、この絵素電極のどの部分に生じても、従来のように短絡した２絵素全体を黒点化するよりも効果的な修正が可能となる。これにより、液晶パネルの表示品位の低下を抑え、不良品の発生を抑え、製造工程における歩留まりの向上に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係る第１の実施形態であるアクティブマトリクス基板の１絵素電極分を拡大して示した平面図である。
【図２】図１に示されるＡＭ基板のスイッチング素子近傍のＡ−Ａ断面矢視図である。
【図３】図１に示されるＡＭ基板のスイッチング素子近傍のＢ−Ｂ断面矢視図である。
【図４】図１に示されるＡＭ基板の欠陥修正方法を模式的に示した図である。
【図５】図１に示されるＡＭ基板を備えた液晶パネルの断面を模式的に表した図である。
【図６】図５に示した液晶パネルのＡＭ基板の１絵素電極分を拡大して示した平面図である。
【図７】本発明に係る第２の実施形態である液晶パネルに備えられるＡＭ基板１２ａの２絵素電極分を拡大して示した平面図である。。
【図８】本発明に係る第２の実施形態である液晶パネルの欠陥修正方法を模式的に示した図である。
【図９】本発明に係る第３の実施形態である液晶表示装置の構成を模式的に表したブロック図である。
【図１０】本発明の第４の実施形態に係るテレビ受像器の構成を模式的に表したブロック図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施の形態について、図１〜図７を参照しながら説明する。  【００３１】
図１は本発明に係る第１の実施形態であるアクティブマトリクス基板（ＡＭ基板）１２にマトリクス状に配置された絵素のうち１絵素分を平面図で示したものである。図２はこのＡＭ基板１２のスイッチング素子３４近傍のＡ−Ａ断面を矢視図で示したもの、図３は同じくＡＭ基板１２のスイッチング素子３４近傍のＢ−Ｂ断面を矢視図で示したものである。【００３２】
ＡＭ基板１２は、ＡＭ側透明基板３０上に、絵素電極１０がマトリクス状に配置され、これら各絵素電極１０にコンタクト部（例えば、コンタクトホール）３２を介して接続されたスイッチング素子（例えば、薄膜トランジスタ：ＴＦＴ）３４に表示信号を伝送するソース配線３６と走査信号を伝送するゲート配線３８とが互いに交差するように形成されたものである。【００３３】
このようなＡＭ基板１２製造工程について、図２及び図３を参照して、簡単に説明する。先ず、ガラス、プラスチック等の絶縁性の透明絶基板３０表面に、マトリクス状に設けられるスイッチング素子３４のゲート電極３８ａとしても機能するゲート配線３８が設けられる。このゲート配線３８、ゲート電極３８ａは、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅等の金属膜、それらの合金膜、又は、それらの積層膜を１００ｎｍ〜３００ｎｍの膜厚にスパッタリング法等により成膜し、これをフォトエッチング法等にて必要な形状にパターン形成することで形成される。【００３４】
続いてゲート絶縁膜４０となる窒化シリコン膜、スイッチング素子３４となるアモルファスシリコンやポリシリコン等からなる高抵抗半導体層３４ａ、ｎ＋アモルファスシリコン等の低抵抗半導体層３４ｂが、プラズマＣＶＤ（化学的気相成長）法等により連続して成膜され、フォトエッチング法等によりパターン形成される。これらの膜の膜厚は、例えば、ゲート絶縁膜４０としての窒化シリコン膜は３００ｎｍ〜５００ｎｍ程度、高抵抗半導体層３４ａとしてのアモルファスシリコン膜は１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度、低抵抗半導体層３４ｂとしてのｎ＋アモルファスシリコン膜は４０ｎｍ〜７０ｎｍ程度である。【００３５】
スイッチング素子であるＴＦＴ３４は、アモルファスシリコン膜等の高抵抗半導体層３４ａ、ｎ＋アモルファスシリコン膜等の低抵抗半導体層３４ｂに対して、ソース電極３６ａ及びドレイン引出線４２のパターンをマスクにし、ドライエッチングにてチャネルエッチングを行うことで形成する。【００３６】
更に、ソース配線３６、ドレイン引出線４２と、ソース電極３６ａとが、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅等の金属膜、それらの合金膜又はそれらの積層膜を、スパッタリング法等の方法により１００ｎｍ〜３００ｎｍの膜厚に成膜し、フォトエッチング法等により必要な形状にパターン形成して同時に形成される。【００３７】
さらに、層間絶縁膜５０として、感光性アクリル樹脂等の樹脂膜や、窒化シリコン、酸化シリコン等の無機絶縁膜、又は、それらの積層膜等が、ＴＦＴ３４、ゲート配線３８、ソース配線３６、ドレイン引出線４２を覆うように設けられる。積層膜としては、例えば、プラズマＣＶＤ法等により成膜した２００ｎｍ〜５００ｎｍ程度の膜厚を有する窒化シリコン膜と、この窒化シリコン膜の上にスピンコート法等により形成した２０００ｎｍ〜４０００ｎｍの膜厚の感光性アクリル樹脂膜との積層膜等を用いることができる。ここでは、感光性アクリル樹脂膜からなる層間絶縁膜を設けた。【００３８】
このドレイン引出線４２と絵素電極１０とを接続するコンタクト部であるコンタクトホール３２は、層間絶縁膜５０を貫くようにフォトリソグラフィ法（露光及び現像）によりパターニングして形成される。【００３９】
更に、絵素電極１０は、層間絶縁膜５０の上層に形成され、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物：ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物：ｉｎｄｉｕｍ−ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）、酸化亜鉛、酸化錫等の透明性を有する導電膜を、スパッタリング法等により１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚で成膜し、これをフォトエッチング法等にて必要な形状にパターン形成することで形成される。【００４０】
このようにして形成されたＡＭ基板１２は、図１に示されるように、絵素電極１０が複数の微小領域１０ｂに分割されており、且つ、その各微小領域１０ｂ，１０ｂの間には電気接続部１０ｃが設けられて、各微小領域１０ｂを１つの絵素電極１０として一体的に接続するように形成されている。且つ、この電気接続部１０ｃはソース配線３６又はゲート配線３８等の配線類と重なり合わない位置に設けられている。【００４１】
このように、絵素電極１０を構成する複数の微小領域１０ｂの少なくとも一の微小領域１０ｂには、絵素電極１０とＴＦＴ３４を接続するコンタクトホール３２が設けられている。このＴＦＴ３４はソース配線３６を介して伝送される表示信号電圧を、ゲート配線３８を介して伝送される走査信号電圧に基づいてオン／オフ制御して、ドレイン引き出し線４２及びコンタクトホール３２を介して絵素電極１０に伝達する。【００４２】
また、図１にも示されるように、ゲート配線３８には、絵素電極１０のコンタクトホール３２を有する前記微小領域１０ｂと、この絵素電極１０に隣接する絵素電極１０’のコンタクトホール３２’を有する前記微小領域１０ｂ’との間の領域に、開口部３８ｗが設けられている。【００４３】
このようなＡＭ基板１２によれば、ＡＭ側透明基板３０表面にマトリクス状に配置された各絵素電極１０を構成する微小領域１０ｂを電気的に接続する電気接続部１０ｃと、配線等の光を透過させない遮光物とが重なり合わないように配置されている。従って、隣り合う絵素電極１０，１０’間で短絡が発生しても、これらの絵素電極１０，１０’に該当する２絵素全体を黒点又は輝点化することなく、修正が可能である。【００４４】
次に、このようにして製造されたＡＭ基板１２の欠陥を検出するＡＭ基板検査工程について簡単に説明する。ここでは２つの検査方法を例示する。一つは電気工学効果を利用した検査、もう一つはパターン認識を利用した検査である。【００４５】
ＡＭ基板１２の絵素電極１０の欠陥の検出は、結晶を電界中に設置すると電界の強さに応じて結晶の光透過率が変化するという電気光学効果を応用した検査装置により行われる。【００４６】
所定の電圧範囲において電界強度に応じて透過率が変化するモデュレータの一面に透明の電極が形成されて、その反対面は光が反射するように反射面が形成されている。モデュレータは、この反射面側がＡＭ基板１２と対向するように設置されている。モデュレータの電極側から照射された光は、モデュレータ内を透過し、前記反射面で反射される。この反射光をＣＣＤ（電荷結合素子：Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ）カメラで受光する。この反射光の強度に基づいて、欠陥絵素を特定する。【００４７】
もう一つの方法は、パターン認識によるものである。すなわち、隣接する絵素同士で反射光のパターンを比較し、これらのパターンに差異のある場合に欠陥と判定する。このようにして検査されたＡＭ基板１２の各絵素電極の欠陥は、ＡＭ基板修正工程において修正される。【００４８】
図４を用いて、ＡＭ基板修正工程について説明する。ＡＭ基板１２上の隣接する絵素電極間１０、１０’の短絡を修正する液晶パネルの修正方法である。【００４９】
隣接する絵素電極間に発生した短絡部４６ａ，４６ｂ，４６ｂ’，４６ｃの修正は、短絡部の発生箇所に応じてＡＭ基板１２の所定の部位にレーザーを照射して行われる。このような修正方法においては、ＡＭ側透明基板３０であるガラスを透過しやすいイットリウムアルミニウムガーネット（ＹＡＧ）レーザーの基本波（１０６４ｎｍ）が好適に用いられる。【００５０】
図４は、ＡＭ基板１２の隣接する絵素電極１０，１０’間に短絡が発生した場合の修正方法を表す模式図である。例えば、短絡部４６ａのように、短絡部４６ａと、ゲート配線３８やソース配線３６等の配線が重なり合っていない場合は、この短絡部４６ａに、ＡＭ基板の表側又は裏側からレーザー光を照射して、短絡部４６ａを切断することができ、表示欠陥を修正することができる。【００５１】
しかし、短絡部４６ｂ，４６ｂ’の様に、短絡部にゲート配線３８やソース配線３６などの配線が重なっている場合は、この短絡部４６ｂに対してレーザー光を照射して短絡部を切断することができない。そこで、絵素電極１０の電気接続部１０ｃを切断して欠陥修正を行う。【００５２】
例えば、短絡部４６ｂによる絵素電極１０，１０’間の短絡を修正する場合、切断位置４８ｂの電気接続部１０ｃをレーザー照射により切断する。すると、この短絡部４６ｂを有する微小領域１０ｂは絵素電極１０の他の微小領域１０ｂから切り離されて、短絡部４６ｂによって隣の絵素電極１０’と接続された状態になる。また、例えば短絡部４６ｂ’による絵素電極１０，１０’間の短絡が発生した場合、切断位置４８ｂ’の電気接続部１０ｃをレーザー照射により切断することにより、絵素電極１０の右下端の微小領域１０ｂは絵素電極１０から切り離されて、短絡部４６ｂ’によって隣の絵素電極１０’と接続された状態になる。【００５３】
この時、絵素電極１０内の微小領域１０ｂ同士を接続する電気接続部１０ｃが、絵素電極１０の周縁部で、ＣＦ基板１８に備えられたＢＭ２６と重なり合う位置に設けられていれば、より好ましい。電気接続部１０ｃをレーザー照射により切断する際に、切断面がなめらかな端面とならず、液晶分子の配向に若干の乱れが生じたとしても、この切断面がＢＭ２６と重なり合う位置にあれば、表示の乱れが視認されないからである。【００５４】
このように、隣接する絵素電極１０，１０’間の短絡部分がソース配線３６、ゲート配線３８のような配線又は電極等に重なり合う位置にある場合に、その短絡部を有する微小領域１０ｂとこの絵素電極１０内の他の微小領域１０ｂを接続している電気接続部１０ｃを切断し、短絡の発生した微小領域１０ｂを切り離して、隣接する絵素電極１０’と接続させる。これにより、絵素電極１０のうち、短絡の発生した微小領域１０ｂ以外は正常に動作させることができ、切り離された短絡部分を有する微小領域１０ｂは隣接する絵素電極１０’と同期して動作する。この様にして隣接する絵素電極間の短絡を絵素全体を黒点化又は白点化することなく、視認されにくいように修正することができる。【００５５】
しかし、例えば図４に示す短絡部４６ｃのように、スイッチング素子３４と絵素電極１０とを接続するコンタクトホール３２を有する微小領域と、隣接する絵素電極１０’の同じくコンタクトホールを有する微小領域１０ｂ’との間に短絡が発生した場合（短絡部４６ｃ）は、前記修正方法の様に、短絡部４６ｃを有する微小領域１０ｂと他の微小領域１０ｂとを切り離して表示欠陥を修正することができない。スイッチング素子３４と絵素電極１０とを接続するコンタクトホール３２を有する微小領域１０ｂを絵素電極１０から切り離せば、その絵素電極１０内の他の微小領域１０ｂに表示信号を供給することができなくなるからである。【００５６】
そこで、ＡＭ基板１２に設けられたゲート配線３８には、一の絵素電極のコンタクトホール３２を有する微小領域１０ｂとこの絵素電極１０と隣接する絵素電極１０’のコンタクトホールを有する微小領域１０ｂ’とが隣り合う部分に開口部３８ｗが形成されている。そのため、ここに短絡部４６ｃが位置する場合は、短絡部４６ｃレーザー光を照射して、短絡部４６ｃを切断して、表示欠陥を修正することができる。【００５７】
この時、開口部３８ｗを覆うように、ＣＦ基板１８のＢＭ２６が配置されていればより好ましい。短絡部４６ｃをレーザー照射により切断した部位において、液晶分子の配向に若干の乱れが生じたとしても、この切断面がＢＭ２６と重なり合う位置にあれば、表示の乱れが視認されないからである。【００５８】
これにより、隣接する絵素電極１０，１０’間の短絡が、どの部分で発生しても、レーザー照射により、短絡部を切断、又は、短絡部を有する絵素電極の微小領域を他の微小領域から切り離して、表示欠陥を修正することができる。【００５９】
このようにして製造・修正されたＡＭ基板１２をカラーフィルタ基板と所定の間隔で離間させた状態で対向させて貼り合わせ、その間に液晶を封入することで液晶パネル１００が製造される。この液晶パネル製造工程について、図を参照しながら説明する。図５は液晶パネル１００の断面を模式的に表した図である。図６は図５に示したマトリクス状に配置された絵素のうち１絵素分を平面図で示したものである。【００６０】
先ず、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）１８が、以下のような手順で製造される。ＣＦ側透明基板２２上にスピンコートによりカーボンの微粒子を分散したネガ型のアクリル系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、黒色感光性樹脂層を形成する。続いて、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層を露光した後、現像を行う。このようにして、このＣＦ基板１８と対向するＡＭ基板１２上の各絵素電極１０の周辺部分に対応した領域を覆って遮光する格子状の遮光領域であるＢＭ２６を形成する。このとき、各絵素電極１０に対応する第１着色層（例えば赤色カラーフィルタ）１６Ｒ、第２着色層（例えば緑色カラーフィルタ）１６Ｇ、及び、第３着色層（例えば青色カラーフィルタ）１６Ｂが形成されるべき領域に、それぞれ第１、第２、第３着色層用の開口部２６ａが形成されるようなっている。【００６１】
次に、第１着色層用の開口部２６ａにスピンコートにより顔料を分散したネガ型のアクリル系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、フォトマスクを用いて露光及び現像を行い、第１着色層１６Ｒを形成する。その後、第２着色層１６Ｇ、及び、第３着色層１６Ｂについても同様に形成することで、カラーフィルタ層が完成する。【００６２】
更に、ＩＴＯ等からなる透明電極（対向電極）１４をスパッタリングにより形成する。その後、スピンコートによりポジ型のフェノールノボラック系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、フォトマスクを用いて露光及び現像を行い、垂直配向制御用突起２４を形成する。このようにして、カラーフィルタ基板１８が得られる。【００６３】
次いで、ＡＭ基板１２とＣＦ基板１８に対して配向膜２８を形成する。配向膜２８塗布前に脱ガス処理として焼成を行いその後、基板洗浄、配向膜塗布行う。配向膜２８塗布後洗浄を行った後、脱ガス処理としてさらに焼成を行う。配向膜２８は液晶の配向方向を規定する。【００６４】
そして、ＡＭ基板１２とＣＦ基板１８との間に液晶２０を封入する。ここでは液晶滴下貼り合せ法の例を簡単に説明する。ＡＭ基板１２側の周縁部にＵＶ硬化型シール樹脂を塗布し、ＣＦ基板１８に滴下法により液晶の滴下を行う。液晶滴下法により、液晶の種類に応じて最適なセルギャップ（ＡＭ基板とＣＦ基板との間隔）となるよう最適な液晶量を滴下する。例えば２０型ＶＧＡ（Ｖｉｄｅｏ  Ｇｒａｐｈｉｃｓ  Ａｒｒａｙ）では、セルギャップを３．７μｍとしたとき、１滴量の条件は１．３ｍｇとし、総滴下点数は３００点、総液晶滴下量は３９５ｍｇとしシールの内側部分に規則的に滴下を行う。【００６５】
このようにシール描画および液晶滴下を行ったＣＦ基板１８とＡＭ基板１２を貼合せるため、貼り合わせ装置内の雰囲気を１Ｐａまで減圧を行い、この減圧下において基板の貼合せを行った後、雰囲気を大気圧にしてシール部分が押しつぶされ、所望のシール部のギャップが得られる。次にシール部分の所望のセルギャップを得た構造体について、ＵＶ硬化装置にてＵＶ照射を行いシール樹脂の仮硬化を行う。さらにシール樹脂の最終硬化を行う為にベークを行う。この時点でシール樹脂の内側に液晶２０が行き渡り液晶２０がＡＭ基板１２とＣＦ基板１８の間に充填された状態に至る。ベーク完了後に液晶パネル毎に分断を行うことで液晶パネル１００が完成する。【００６６】
ここで、例えば、熱硬化型シール樹脂を、液晶注入のため注入口を設けた状態で、ＣＦ基板ＡＭ基板周辺に塗布し、真空で注入口を液晶に浸して、大気開放することによって液晶を注入し、その後ＵＶ硬化樹脂などで注入口を封止する、真空注入法などの方法で行ってもよい。【００６７】
このようにして製造された液晶パネル１００は、ＡＭ基板１２の絵素電極１０とＣＦ基板１８の対向電極１４と間の電界により液晶２０の液晶分子を配向させて光の透過率を絵素毎に調整して、第１〜第３の着色層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを透過させてカラー表示を行うものである。【００６８】
このように、異なる色の着色層間で光の漏れ等を防ぐために、第１〜第３の各着色層はその周縁部に遮光性のＢＭ２６が設けられている。また、図６に示すように、このＢＭ２６と重なり合うようにＡＭ基板１２のゲート配線３８に設けられた開口部３８ｗが配置されている。更に、この電気接続部１０ｃも、絵素電極１０の周縁部分で、ＣＦ基板１８のＢＭ２６と重なり合う位置に設けられるのが好ましい。【００６９】
このように、各絵素電極１０内の微小領域１０ｂ同士を接続する電気接続部１０ｃが絵素電極１０の周縁部に配置されていれば、電気接続部１０ｃが、ＣＦ基板側のブラックマトリックス（ＢＭ）と重畳する位置に配置されることになる。従って、隣接する絵素電極間の短絡を修正するために、電気接続部１０ｃを、レーザー照射により切断したとき、もし、この切断面がなめらかな端面にならず、液晶分子の配向に微細な乱れが発生するような場合でも、この切断面がＢＭと重畳する位置にあれば、表示の乱れが視認されにくくなり、より効果的である。【００７０】
また、この液晶パネル１００においては、絵素電極１０を微小領域に分割するスリット１０ａが、一の絵素電極１０内で異なる方向に傾いて形成されている。このため、スリット１０ａとＣＦ基板１８の配向制御用突起２４との間で配向される液晶分子の配向方向を異ならせて、広視野角の表示を可能にするＭＶＡ方式の表示を行うことができる。【００７１】
このように、前記各絵素電極１０が複数のスリット１０ａを介して複数の微小領域１０ｂに分割されており、これらスリット１０ａが該絵素電極１０の端辺に対して互いに異なる方向に傾いて形成されていれば、各絵素内で液晶分子の配向方向を異ならせるＭＶＡ方式の表示が可能になり、液晶パネルの視野角特性を向上させることができる。【００７２】
次に本発明に係る第２の実施形態を図７を参照して説明する。図７は本発明に係る第２の実施形態である液晶パネルに備えられるＡＭ基板１２ａの２絵素電極分を拡大して示した平面図である。【００７３】
このような液晶パネルは、例えば特開２００４−２５８１３９号公報、特開２００４−６２１４６号公報に記載の、複数の絵素を１つの準絵素とみなし、この準絵素内での各絵素の階調を異ならせて、準絵素全体で所定の階調を表示するという方式の液晶パネルである。【００７４】
図７に示すように、ＡＭ基板１２ａは、ＡＭ側透明基板上にマトリクス状に配置された絵素電極１０に、ソース配線３６から供給される表示信号電圧を、ゲート配線３８から供給される走査信号電圧に基づいてオン／オフ制御して供給するためのスイッチング素子（例えばＴＦＴ）３４が接続されて形成されている。【００７５】
ＡＭ側透明基板表面に、複数本のゲート配線３８と補助容量配線４４が平行に、かつ交互に設けられている。この上層にゲート絶縁膜を介してソース配線３６が前記ゲート配線３８及び前記補助容量配線４４と直交するように交差して配置されている。【００７６】
ソース配線３６とゲート配線３８との交差部近傍には、ソース配線３６からは２つのソース電極３６ａ，３６ａが延設され、ゲート配線３８からは２つのゲート電極３８ａ，３８ａが延設されて、これら各ソース電極３６ａとゲート電極３８ａにスイッチング素子３４が１個づつ接続されており、これら各スイッチング素子３４に絵素電極１０がコンタクトホール３２とドレイン引出線４２を介して接続されている。【００７７】
絵素電極１０には、斜めにスリット１０ａが設けられて、複数の微小領域１０ｂに分割されており、且つ、そのスリット１０ａの一部に電気接続部１０ｃが設けられて、各微小領域１０ｂを１つの絵素電極１０として一体的に接続している。【００７８】
更に、この電気接続部１０ｃはソース配線３６、ゲート配線３８及び補助容量配線４４と重なり合わない位置に設けられている。【００７９】
また、前記ゲート配線３８及び補助容量配線４４には、開口部３８ｗ，４４ｗが設けられている。そのため、一の絵素電極１０のコンタクトホール３２を有する前記微小領域１０ｂの端部と、この１の絵素電極と隣接する他の絵素電極のコンタクトホール３４を有する微小領域１０ｂの端部とに挟まれた領域が前記配線及び前記電極等と重なり合わないように配置されている。【００８０】
このＡＭ基板１２ａと前記ＣＦ基板１８とを、絵素電極１０と対向電極１４とが対向するように貼り合わせて、その間に液晶２０を充填することで、本発明の第２の実施形態に係る液晶パネルが完成する。【００８１】
液晶層２０を挟んで、この絵素電極１０と対向して設けられた対向電極１４との間で液晶容量が構成される。また、絵素電極１０には、コンタクトホール４４ｂを介して補助容量電極４４ａが接続されており、この補助容量電極４４ａとゲート絶縁膜４０を介して対向して配置された補助容量配線４４との間で補助容量が構成される。【００８２】
このような構成によれば、図７に示したように、隣接する２つの絵素電極に、ソース配線３６とゲート配線３８を共用させることができ、振幅の等しい表示信号電圧を同じタイミングで供給することができる。そして、補助容量配線４４に互いに異なる補助容量電圧を供給することで、上下の隣接する２つの絵素からなる１つの準絵素内の各絵素電極１０に異なる電圧を印加して、階調（輝度）を異ならせることができる。これにより、良好な広視野角表示が可能になる。【００８３】
このようにして製造された液晶パネルの隣接する絵素電極間の欠陥は液晶パネル検査工程により検査される。液晶パネルの背面に光源が配置され、この光源が点灯される。液晶パネルに電気信号が供給されて、光源から照射される光の透過率が調節されて、所定の画像が表示される。この画像を目視等により確認して、表示の乱れにより、隣接する絵素電極間の短絡等の欠陥を検査する。【００８４】
このようにして検出された液晶パネルの欠陥は液晶パネルの修正工程において修正される。図８は、本発明第３の実施形態であって、第２の実施形態に係る液晶パネルの隣接する絵素電極１０，１０’間に短絡が発生した場合の修正方法を表す模式図である。【００８５】
例えば、図８に示す短絡部４６ａのように、短絡部４６ａと重なり合ってゲート配線３８やソース配線３６等の配線がない場合は、これらの短絡部にレーザー光を照射して、短絡部４６ａを切断することができ、表示欠陥を修正することができる。【００８６】
しかし、短絡部４６ｂの様に、短絡部と重なり合うようにゲート配線３８やソース配線３６などの配線がある場合は、この短絡部４６ｂに対してレーザー光を照射して切断することができない。そこで、絵素電極１０の電気接続部１０ｃを切断して欠陥修正を行う。【００８７】
例えば、短絡部４６ｂによる絵素電極１０，１０’間の短絡を修正する場合、切断位置４８ｂの電気接続部１０ｃをレーザー照射により切断する。すると、この短絡部４６ｂを有する微小領域１０ｂは絵素電極１０から切り離されて、短絡部４６ｂによって隣の絵素電極１０’と接続された状態になる。【００８８】
このように、短絡部を有する微小領域を他の微小領域から切り離すことにより、絵素電極１０のうち、短絡の発生した微小領域１０ｂ以外は正常に動作させることができ、切り離された短絡部分を有する微小領域１０ｂは隣接する絵素電極１０’と同期して動作する。この様にして隣接する絵素電極１０’との短絡を視認されにくく修正することができる。【００８９】
この時、絵素電極１０内の微小領域１０ｂ同士を接続する電気接続部１０ｃが、絵素電極１０の周縁部で、ＣＦ基板１８に備えられたＢＭ２６と重なり合う位置に設けられていれば、より好ましい。【００９０】
しかし、例えば短絡部４６ｃのように、１の絵素電極１０のうちコンタクトホール３２を有する微小領域と、この絵素電極１０隣接する絵素電極のコンタクトホール３２を有する微小領域１０ｂとの間に短絡が発生した場合（短絡部４６ｃ）は、短絡部４６ｃを有する微小領域１０ｂと他の微小領域とを切り離して表示欠陥を修正することができない。スイッチング素子と絵素電極１０とを接続するコンタクトホール３２を有する微小領域１０ｂを絵素電極１０から切り離せば、その絵素電極１０内の他の微小領域に表示信号を供給することができなくなるからである。【００９１】
そこで、第３の実施形態に係る液晶パネルに設けられたゲート配線３８は、スイッチング素子３４と絵素電極１０とを接続するコンタクトホール３２を有する微小領域１０ｂと、隣接する絵素電極１０の同じくスイッチング素子と絵素電極を接続するコンタクトホールを有する微小領域１０ｂとが隣り合う部分に開口部３８ｗが形成されている。そのため、ここに短絡部４６ｃが位置する場合は、ＡＭ基板１２の裏側から、この短絡部４６ｃにレーザー光を照射して、短絡部４６ｃを切断して、表示欠陥を修正することができる。【００９２】
これにより、第３の実施形態に係る液晶パネルにおいて、隣接する絵素電極１０，１０’間の短絡が、どの部分で発生しても、ＡＭ基板１２の裏側からのレーザー照射により、短絡部を切断、又は、短絡部を有する絵素電極の微小領域を他の微小領域から切り離して、表示欠陥を修正することができる。従って、２絵素電極全体を黒点化（又は輝点化）して表示欠陥の修正をする必要がない。【００９３】
この第３の実施形態に係る液晶パネルは、複数の絵素を１つの準絵素とみなし、この準絵素内での各絵素の階調を異ならせて、準絵素全体で所定の階調を表示することにより、広視野角の表示を可能にするというものである。従って、本発明の第５の実施形態に係る修正方法を適用して、隣接する絵素電極間の短絡を修正することにより、例え部分的であっても、異なる階調を表示する部分を１準絵素内に存在させた状態を保つことが可能なので、このような効果が失われることがない。【００９４】
前記のＡＭ基板の検査・修正工程と液晶パネルの検査・修正工程は、液晶パネルの製造に際し、どちらか一方を実施すれば足りるが、両方を実施しても良い。ＡＭ基板の検査・修正工程と液晶パネルの検査・修正工程の両方を行うことで、より高い精度で欠陥の修正を行うことができる。これにより、欠陥を含んだ製品の市場への流出を高い確率で防ぐことができる。【００９５】
また、図９に本発明の第６の実施形態である液晶表示装置の構成を模式的に表したブロック図を示す。この液晶表示装置は、Ｙ/Ｃ分離回路５００、ビデオクロマ回路５０１、Ａ/Ｄコンバータ５０２、液晶コントローラ５０３、液晶パネル５０４、バックライト駆動回路５０５、バックライト５０６、マイコン５０７、階調回路５０８を備えている。液晶パネルは本発明に係る第２又は第３の実施形態の液晶パネルを用いて構成される。【００９６】
テレビ信号の入力映像信号は、Ｙ／Ｃ分離回路５００に入力され、輝度信号と色信号に分離される。輝度信号と色信号はビデオクロマ回路５０１にて光の３原色である、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に変換され、さらに、このアナログＲＧＢ信号はＡ／Ｄコンバータ５０２により、デジタルＲＧＢ信号に変換され、液晶コントローラ５０３に入力される。【００９７】
液晶パネル５０４では液晶コントローラ５０３からのＲＧＢ信号が所定のタイミングで入力されると共に、階調回路５０８からのＲＧＢそれぞれの階調電圧が供給され、画像が表示されることになる。これらの処理を含め、システム全体の制御はマイコン５０７が行うことになる。【００９８】
このような液晶表示装置により、映像信号として、テレビジョン放送に基づく映像信号、カメラにより撮像された映像信号、インターネット回線を介して供給される映像信号など、様々な映像信号に基づいて表示可能である。【００９９】
更に、このような液晶表示装置に放送電波を受信する受信手段であるチューナ部を備えたものが、本発明第７の実施形態に係るテレビ受像器である。図１０に示すチューナ部６００ではテレビジョン放送を受信して映像信号を出力し、液晶表示装置６０１ではチューナ部６００から出力された映像信号に基づいて画像（映像）表示を行う。なお、表示装置としては、図９に示した前記第６の実施形態に係る液晶表示装置を適用できる。【０１００】
また、本発明のアクティブマトリクス基板は逆スタガー型のＴＦＴを適用したがこれに限られず、スタガー型のＴＦＴでも構わない。また、本実施の形態において、スイッチング素子（ＴＦＴ）には、アモルファスシリコン薄膜トランジスタを用いた。しかし、スイッチング素子としては、例えば、マイクロクリスタルシリコン薄膜トランジスタ、ポリシリコン薄膜トランジスタ、ＣＧシリコン（連続粒界結晶シリコン）薄膜トランジスタ、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｍｅｔａｌ）なども、同様に用いることができる。【０１０１】
また、本実施形態においては、ＡＭ基板のソース配線が隣り合う各絵素電極と重畳する部分を交互に有する矩形状のジグザグ構造で、絵素電極の端部に配置された例を示したが、直線状のソース配線が絵素電極の中央位置に配置されたセンターソース構造や、複数本のソース配線が並列に設けられ、これら両配線が複数部位で接続された構造を有するソース配線であっても好適に用いることができる。【０１０２】
また、本実施形態では、ＭＶＡ型の液晶表示装置について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ＭＶＡ方式以外の液晶表示装置でも構わない。
なお、本発明は液晶表示装置に限定されるものではなく、例えば、カラーフィルタ基板と対向するように本発明のアクティブマトリクス基板を配置し、それら基板と基板との間に有機ＥＬ層を配置することで有機ＥＬパネルとし、パネルの外部引き出し端子にドライバ等を接続することにより有機ＥＬ表示装置を構成することも可能である。また、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置以外であっても、アクティブマトリクス基板で構成される表示装置であれば、本発明は適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明に係る液晶パネル、及びその欠陥修正方法によれば、絵素電極間の短絡による液晶パネルの表示欠陥を効率よく修正できるので、高品位の表示性能が要求される表示装置に好適である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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