【手続補正書】
【提出日】令和1年5月14日(2019.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持ガスでタイヤ内部を加圧するためのＰＣＩ（１３）を備えた少なくとも１つの後処理ステーション（８０）を有する、硫化プロセス後のタイヤの後処理のための装置（１）において、前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）は、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理を支持するように構成されていることを特徴とする、タイヤの後処理のための装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）は、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理を支持するように、幾何学形態的に、及び／又は構造に関して、及び／又はその寸法に関して構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項３】
少なくとも２つの後処理ステーション（８０）が、異なる寸法又は類似寸法の残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理を支持するように、幾何学形態的に、及び／又は構造に関して、及び／又はそれらの寸法に関して構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項４】
前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の構成がタイヤ内部を封止するための少なくとも１つのホイールリムプレート（１２’）を有することを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項５】
前記少なくとも１つのホイールリムプレート（１２’）は、７〜２６インチのホイールリムに対応するタイヤビード寸法に対して構成されていることを特徴とする、請求項４に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項６】
前記少なくとも１つのホイールリムプレート（１２’）は、移動手段（１１）の端部側に配置され、１００ｍｍまでの予負荷道程内で連続的に可変であるように移動可能であることを特徴とする、請求項４に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項７】
前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の構成が、後処理のためのタイヤ（２００）がホイールリムプレート（１２’）への付着を防ぐために剥ぎ取り機を有することで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項４に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項８】
前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の幾何学的構成が、少なくとも１０００ｍｍの正幅を有することで、１０００ｍｍまでの外径を備えた残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項９】
前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の幾何学的構成が、少なくとも６００ｍｍのクリアハイトを有することで、対応する幅の残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の構成が、ＰＣＩ（１３）内で、連続して可変なように０．０３〜０．６ＭＰａの支持ガス圧で後処理のために完成タイヤ（２００）を内部的に充填するのに適した支持ガス供給を提供することで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１１】
本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つの統合アセンブリ（５０）と少なくとも１つの関連した統合ハンドリング装置（３０）とが備えられることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１２】
本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つの統合搬送装置（６０）が備えられることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１３】
孤立型の構造ユニットの形態をした本装置が、少なくとも１つの統合エネルギー供給を有することで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１４】
本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つの統合コントローラ及び／又はレギュレータ（４０）が備えられることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのアセンブリ（５０）が電気的、又は流体的、又は気圧的に作動する供給アセンブリであることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１６】
前記ハンドリング手段（３０）が少なくとも１つの積み込み機及び／又は積み降ろし機（３１）と関連した把持ツール（３２）とを有することで、残留熱を有する完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的なハンドリング作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１７】
前記ハンドリング装置（３０）が、等しいタイヤ寸法又は異なるタイヤ寸法の少なくとも２本の残留熱のある完成タイヤ（２００）と周囲温度レベル（２００’）のタイヤをハンドリングするように構成されていることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１８】
本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つのスタンドベース（２１）を備えた機械スタンド（２０）に一体的に配置されることで、残留熱を有する完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項１９】
本装置が、タイヤ硫化機（１００）に隣接する所望位置に再配置され得る孤立型の構造ユニットの形態をしていることで、残留熱を有する完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項２０】
再配置の可能性が、昇降設備への取り付けのための複数の懸架置き場によって支持されることを特徴とする、請求項１９に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項２１】
再配置の可能性が、可動式の機械ベッドによって支持されることを特徴とする、請求項１９に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
【請求項２２】
タイヤ（１ａ）の後処理のための収容手段（３ａ）を有し、これらが、エラストマー材料の硫化に続いて、支持ガスによって内部圧に充填され、冷却されるものであり、前記収容手段（３ａ）がタイヤを保持し、タイヤ内部を封止するように構成され、加圧ガス供給に接続された、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の装置において、前記収容手段（３ａ）が少なくとも２本のタイヤ（１ａ）のために少なくとも２つの位置固定に配置された収容領域（４ａ）を有すること、及び少なくともタイヤ（１ａ）の入力が位置決め可能なハンドリング手段（１９ａ）を用いて行われることを特徴とする、装置。
【請求項２３】
前記少なくとも２つの収容領域（４ａ）が鉛直方向に上下重なって配置されていることを特徴とする、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記少なくとも２つの収容領域（４ａ）が水平方向に互いに隣り合って配置されていることを特徴とする、請求項２２又は２３に記載の装置。
【請求項２５】
タイヤ（１ａ）のための複数の保持要素が液圧的に互いに支え合い得ることを特徴とする、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２６】
前記収容手段が一方の側からのみ積み込まれ、また積み降ろされ得ることを特徴とする、請求項２２に記載の装置。
【請求項２７】
積み込みと積み降ろしの両方が改良されたプレス積み降ろし機によって行われることを特徴とする、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記保持要素がホイールリムプレート（５ａ、６ａ）の形態をしていることを特徴とする、請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２９】
前記複数の保持要素の一方が位置固定であるように配置され、他方が位置決め可能であるように配置されることを特徴とする、請求項２５〜２８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３０】
タイヤ（１ａ）の内部への加圧ガスの供給が位置固定に配置された保持要素を介して行われることを特徴とする、請求項１〜２９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３１】
タイヤ（１ａ）が、第１のプロセスステップで、バルブ装置（１３ａ）によって予負荷圧に充填され得ることを特徴とする、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３２】
タイヤ（１ａ）が、第２のプロセスステップで、バルブ装置（１４ａ）によってメイン圧に充填され得ることを特徴とする、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の装置。