Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月4日(2008.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
置換心臓弁装置であって、以下：
管腔を規定する本体と、
該本体に取り付けられた複数の曲がったワイヤの対であって、該曲がったワイヤの対の各々は、内側の曲がったワイヤと外側の曲がったワイヤとを備え、該内側の曲がったワイヤと外側の曲がったワイヤとは、実質的に一定である空間によって互いから離れている、曲がったワイヤの対と、
各々が弁尖本体と１つ以上の弁尖突出部とを備える複数の弁尖であって、該弁尖本体は、外側の曲がったワイヤのそれぞれの上を延びており、そして該１つ以上の弁尖突出部は、内側の曲がったワイヤのそれぞれの上を曲がっている、弁尖、
を備える、置換心臓弁装置。
【請求項２】
前記内側の曲がったワイヤと前記外側の曲がったワイヤの曲率が、放物線状である、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項３】
前記本体の一方の端部が、蛇行する縁部を有し、前記内側の曲がったワイヤの各端部が、該蛇行する縁部の頂部に取り付けられており、そして、前記外側の曲がったワイヤの各端部が、該蛇行する縁部のくぼみに取り付けられている、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項４】
前記本体の各端部に、１つ以上の放射線不透過性マーカーをさらに備える、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項５】
前記管腔を規定する本体が、実質的に円筒形の本体である、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項６】
前記管腔を規定する本体が、樽様の形状を有する、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項７】
前記管腔を規定する本体が、複数の蛇行するワイヤを備える、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項８】
前記複数の曲がったワイヤの対が、前記管腔を規定する本体の端部に取り付けられている、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項９】
３つの曲がったワイヤの対、および該３つの曲がったワイヤの対の各々に取り付けられた弁尖を備える、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項１０】
各弁尖は、前記１つ以上の弁尖突出部に最も近い前記弁尖本体の部分が、前記本体の管腔から離れるようにそれぞれの外側の曲がったワイヤの上を引っ張られるように、そして該１つ以上の弁尖突出部が、該本体の管腔の方に延びてそれぞれの内側の曲がったワイヤの上を曲がるように、位置決めされ、そして該１つ以上の弁尖突出部の各々は、それ自体に取り付けられる、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項１１】
前記１つ以上の弁尖突出部の各々は、縫合糸によってそれ自体に取り付けられる、請求項１に記載の置換心臓弁装置。
【請求項１２】
心臓弁と置換心臓弁とを置き換えるためのシステムであって、以下：
カテーテルを通して心臓内に導入されるように構成されたドッキングステーション；および
カテーテルを通して該ドッキングステーション内に導入されるように構成された弁フレームであって、
管腔を規定する本体と、
該本体に取り付けられた複数の曲がったワイヤの対であって、該曲がったワイヤの対の各々は、内側の曲がったワイヤと外側の曲がったワイヤとを備え、該内側の曲がったワイヤと外側の曲がったワイヤとは、実質的に一定である空間によって互いから離れている、曲がったワイヤの対と、
各々が弁尖本体と１つ以上の弁尖突出部とを備える複数の弁尖であって、該弁尖本体は、外側の曲がったワイヤのそれぞれの上を延びており、そして該１つ以上の弁尖突出部は、内側の曲がったワイヤのそれぞれの上を曲がっている、弁尖
を備える、弁フレーム；
を備える、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2007521125.tif 000001
【図２】
2007521125.tif 000002
【図３】
2007521125.tif 000003
【図４】
2007521125.tif 000004
【図５Ａ】
2007521125.tif 000005
【図５Ｂ】
2007521125.tif 000006
【図５Ｃ】
2007521125.tif 000007
【図５Ｄ】
2007521125.tif 000008
【図５Ｅ】
2007521125.tif 000009
【図５Ｆ】
2007521125.tif 000010
【図６】
2007521125.tif 000011
【図７】
2007521125.tif 000012
【図８】
2007521125.tif 000013
【図９】
2007521125.tif 000014
【図１０】
2007521125.tif 000015
【図１１Ａ】
2007521125.tif 000016
【図１１Ｂ】
2007521125.tif 000017
【図１１Ｃ】
2007521125.tif 000018
【図１２】
2007521125.tif 000019
【図１３】
2007521125.tif 000020
【図１４】
2007521125.tif 000021
【図１５】
2007521125.tif 000022
【図１６】
2007521125.tif 000023
【図１７】
2007521125.tif 000024
【図１８Ａ】
2007521125.tif 000025
【図１８Ｂ】
2007521125.tif 000026
【図１８Ｃ】
2007521125.tif 000027
【図１８Ｄ】
2007521125.tif 000028
【図１８Ｅ】
2007521125.tif 000029
【図１９】
2007521125.tif 000030
【図２０】
2007521125.tif 000031
【図２１】
2007521125.tif 000032
【図２２】
2007521125.tif 000033
【図２３】
2007521125.tif 000034
【図２４】
2007521125.tif 000035
【図２５】
2007521125.tif 000036
【図２６】
2007521125.tif 000037
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者の皮膚を穿刺し、被験者の皮膚の穿刺部位から体液試料を収集するための装置であって、
開口端を有するボディと、
皮膚を穿刺し、体液試料を収集するように適合されたチップを有し、その内部が、流体試料をチップから反応区域まで移動させるための毛管路を形成している中空ランセットと、
ボディ内に配置され、ランセットの、チップとは反対側の端部でランセットに結合され、引き込み位置と、被験者の皮膚を穿刺するための穿刺位置と、体液試料を収集するための収集位置との間で移動するように適合された穿刺機構と、
ボディの開口端に結合された第一端及び被験者の皮膚と接触するための第二端を有し、ランセットのチップが穿刺位置にあるとき入る、中に第一の開口を形成する外エンドキャップと、
外エンドキャップ内に配置され、ボディの開口端に結合された第一端及びランセットのチップが穿刺位置にあるとき入る、中に第一の開口を形成する第二端を有し、第二端が、ランセットが収集位置にあるとき被験者の皮膚と接触するように適合されている内エンドキャップと
を含む装置。
【請求項２】
ランセットが石英ガラスを含む、請求項１記載の装置。
【請求項３】
ランセットが多角形断面を有する、請求項１記載の装置。
【請求項４】
内外両方のエンドキャップから空気を排除するための、被験者の皮膚を内エンドキャップの第二端に当てて配置するように適合された真空部材をさらに含む、請求項１記載の装置。
【請求項５】
装置がさらに、
試薬と収集された体液試料中の分析対象物との間の反応を照明するための光源と、
反応を通して透過された光を検出するための光検出器と
を含む、請求項１記載の装置。
【請求項６】
引き込み位置、穿刺位置及び収集位置にある間、内エンドキャップが完全に外エンドキャップの内に配置される、請求項５記載の装置。
【請求項７】
引き込み位置と収集位置とが実質的に同じである、請求項１記載の装置。
【請求項８】
反応区域が中空ランセットの内部に沿って配置された試薬を含む、請求項１記載の装置。
【請求項９】
体液試料中の分析対象物の濃度を測定するために、皮膚を穿刺するためのチップを有する中空ランセットを含む穿刺・収集装置を用いて被験者の皮膚を穿刺し、被験者の皮膚の穿刺部位から出た体液試料を収集する方法であって、
装置の外エンドキャップを被験者の皮膚に当てて配置すること、
皮膚をランセットで穿刺すること、
穿刺した皮膚を、装置の、外エンドキャップ内に配置された内エンドキャップの縁に当てて配置すること、
ランセットのチップを、内エンドキャップの縁に引き当てられた皮膚から所定の距離に配置すること、及び
ランセットのチップによって穿刺皮膚から体液試料を収集すること
を含む方法。
【請求項１０】
引き込み位置、穿刺位置及び収集位置にある間、内エンドキャップが完全に外エンドキャップの内に配置される、請求項９記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図１〜３を参照すると、被験者の皮膚Ｓの穿刺の際、外エンドキャップ３０の開口端３６を被験者の皮膚のある区域（たとえば前腕又は指）に配置する。プランジャ１４を押下して、ランセット１８を、ランセット１８がエンドキャップ３０、３２の中に完全に収容される引き込み位置（図２）から、ランセット１８がエンドキャップ３０、３２の開口端３６、３８を通過して試験者の皮膚Ｓの中まで延びる穿刺位置（図３）まで進める。使用者によるプランジャ１４の移動が穿刺機構１６内の駆動ばねを起動し、この駆動ばねがランセット１８を被験者の皮膚Ｓの中に進める。そして、穿刺機構１６内の戻しばねがランセット１８のチップ４０を被験者の皮膚Ｓから引き抜く。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の一つの実施態様によると、穿刺装置１０は、被験者の皮膚の穿刺部位における血液試料の取り出しを促進するために真空アシスト式である。そのような実施態様では、外エンドキャップ３０が装置１０の前端３４とで実質的に気密なシールを形成する。被験者の皮膚Ｓに対する外エンドキャップ３０の開口端３６の配置が、皮膚への押し当てによって支援されて、実質的に気密なシールを形成する。穿刺装置１０は、穿刺装置１０及びエンドキャップ３０内の空気を排出する真空部材４４、たとえばダイアフラム又は蛇腹を含む。使用者によるプランジャ１４の解放が真空部材４４を起動し、それが内外両方のエンドキャップ３０、３２から空気を排除する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
真空部材４４が起動されると、被験者の皮膚Ｓは、図３に示すように、外エンドキャップ３０の内側で、内に位置するエンドキャップ３２に引き込まれる。発生した真空が被験者の皮膚Ｓを装置１０の中に引き込むため、被験者の皮膚Ｓは、内に位置するエンドキャップ３２の周囲で膨らむ。被験者の皮膚Ｓは、内エンドキャップ３２の開口端３８の範囲でフラットに引き伸ばされる。この引き伸ばされたフラットな皮膚が試料の取り出し及び収集を容易にする。試料採取が行われる間、真空が皮膚及び穿刺部位を一定の場所に保持する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月20日(2008.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
次いでテスト６０において下りピークが依然として進行中であるかどうかが判定される。初期にはその通りであろうから、テスト６０の肯定的な結果によってプロセスはステップ６１に進み、セクタポインターＳ、すなわちビルディング内のセクタの数が減少される。次いで現在かごポインターＣで示されているかごＣが、このセクタに関して検討される。この実施例において、かごＣはコールが割り当てられたばかりであるからテスト４４が肯定的になり、プロセスはステップ４８に進んでかごポインターＣが増加される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
もし並列処理が不可能であれば、図２のルーチンをときどき通過させてもよく、他のプログラムは増加ステップ４８および減少ステップ６１のいずれか、または両方に進む以前に戻されてもよい。あるいは当該分野の技術範囲にある従来の方法で他の適当な処理がなされてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2007521198.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月15日(2008.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その少なくとも一部分に沿って実質的に一様な断面積を有する縦方向管状包囲体であって、縦方向管状包囲体は、第１の長さを有し長手方向に沿って複数の第１のガス流出開口を有する有孔管状区間であって複数の第１のガス流出開口のそれぞれは実質的に同じ断面積を有している区間と、該第１の有孔管状区間と直線関係に形成された、第２の長さを有し長手方向に沿って複数の第２のガス流出開口を有する有孔管状区間であって複数の第２のガス流出開口のそれぞれは実質的に同じ断面積を有している第２の有孔管状区間とを有し、前記第１の有孔管状区間はガス流出開口が単位長さ当たり第１の面積を有し、第２の有孔縦方向区間は第２のガス流出開口が単位長さ当たり第２の面積を含み、前記ガス流出開口の第２の面積は前記ガス流出開口の第１の面積よりも大きい、前記縦方向包囲体；
前記包囲体の前記少なくとも一部分内に配置されて、前記包囲体の前記少なくとも一部分に沿って実質的に一様に分配されているガス発生剤組成物；および
インフレータ起動時に前記ガス発生剤組成物に点火するための、前記第１の有孔区間に動作可能に固定された点火装置、
を含む、膨張式車両乗員保護システムに使用するためのインフレータ。
【請求項２】
ガス流出開口の第１の面積が、包囲体と該包囲体の外部との流体連通を可能にするために、前記包囲体の第１の有孔管状区間に沿って形成された第１の複数のガス流出開口によって形成されており、前記第１の複数のガス流出開口の隣り合った開口同士は、包囲体内の前記隣り合った開口間に位置する分量のガス発生剤によるあらかじめ定めた燃焼伝播速度に比例する距離だけ間隔を空けられている、請求項１に記載のインフレータ。
【請求項３】
包囲体はひとつの外径を有しており、複数の第１のガス流出開口のそれぞれが、隣接するガス流出開口から中心間隔で約６ｍｍ〜２６ｍｍまたはこれを超えて隔てられており、複数の第１のガス流出開口のそれぞれの大きさが、１ｍｍから包囲体の外径の半分までである、請求項２に記載のインフレータ。
【請求項４】
ガス発生剤組成物が、包囲体の少なくとも一部分に沿って配置された、複数の隣接するガス発生剤タブレットの形態であり、該ガス発生剤タブレットの少なくとも一部分は一対のドーム形状の表面を含むものであり、それによって隣接するタブレットの間に空隙が設けられている、請求項１に記載のインフレータ。
【請求項５】
包囲体の少なくとも一部分に沿って形成されたガス流出開口が実質的に同一直線上にある、請求項２に記載のインフレータ。
【請求項６】
縦方向包囲体の少なくとも一部分に沿ったガス発生剤組成物の燃焼反応の伝播速度を制御する方法であって、
その少なくとも一部分に沿って実質的に一様な横断面領域を有する縦方向包囲体を設ける工程、
前記包囲体の前記少なくとも一部分に沿って実質的に一様に配置されたガス発生剤組成物を設ける工程、および
前記包囲体の前記少なくとも一部分に沿って形成された第１の有孔管状区間を設け、前記有孔管状区間には、前記包囲体と前記包囲体の外部との間の流体連通を可能にするために前記有穴管状区間に沿って長手方向に距離をおいて形成された複数の第１のガス流出開口が含まれ、隣り合う第１のガス流出開口間の距離は、包囲体内部に配置された、該隣り合うガス流出口間に在る分量のガス発生剤組成物が燃焼反応する、あらかじめ定めた伝播速度に比例したものとなるように調整されたものであり、それにより第１の有孔管状区間に沿った燃焼反応の伝播速度を第１のガス流出開口間の距離に対応して調節するように構成する工程を含む、前記方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法に従うように製造されたインフレータ。
【請求項８】
複数の第１のガス流出開口を含む第１の有孔管状区間を設ける工程が、複数の第１のガス流出開口同士を第１の有孔管状区間に沿って実質的に均等な間隔で配置する工程を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
複数の第１のガス流出開口を含む第１の有孔管状区間を設ける工程が、複数の第１のガス流出開口の開口同士を同一直線上に配置する工程を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１つのエアバッグと、インフレータとを有し、インフレータが、インフレータの起動時に前記エアバッグの内部との流体連通が可能となるように該エアバッグに結合されている、エアバッグシステムを含み、前記インフレータは、
その少なくとも一部分に沿って実質的に一様な断面積を有する縦方向管状包囲体であって、第１長さを有しそれに沿って複数の第１の開口を有する第１の有孔管状区間を有し、複数の第１のガス流出開口のそれぞれは実質的に同じ開口断面積を有し、該縦方向管状包囲体はまた、第１の有孔管状区間と直線関係にある第２の有孔管状区間を有し、該第２の有孔管状区間は第２の長さを有しそれに沿って複数の第２の開口を有し、複数の第２の開口のそれぞれの第２のガス開口は、実質的に同じ開口断面積を有しており、
前記第１の有孔管状区間はガス流出開口が単位長さ当たり第１の面積を有し、第２の有孔縦方向区間は第２のガス流出開口が単位長さ当たり第２の面積を含み、前記ガス流出開口の第２の面積は前記ガス流出開口の第１の面積よりも大きいものである、前記縦方向包囲体；
前記包囲体の前記少なくとも一部分内に配置されて、前記包囲体の前記少なくとも一部分に沿って実質的に一様に分配されているガス発生剤組成物；および
インフレータ起動時に前記ガス発生剤組成物に点火するための、前記第１の有孔縦方向区間に動作可能に固定された点火装置、
を含む、車両乗員拘束システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
ＲＦ発熱療法に使用する別の戦略は、マイクロ波或いはＲＦベースアンテナ、若しくは自己調節熱種（シード）の外科的移植を必要とする。その侵襲性に加えて、このアプローチは、原発腫瘍の正確な位置を知ることを必要とするので、転移の治療に対して（たとえあるとしても）少ない選択肢しか提供しない。従って、シード移植片戦略は、検出されていない個々の癌細胞、若しくは原発腫瘍部位には直接隣接していない細胞クラスターを標的とすることはできない。この戦略の臨床的成功は、目的の腫瘍組織における標的の熱の発生に伴う問題によって阻まれる。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
【特許文献１】国際公開第２００３／０４３５８３号パンフレット
【非特許文献１】ＢＯＹＤ，Ｒａｄｉｓｏｔｏｐｅｓ  ｉｎ  Ｍｅｄｉｃｉｎｅ，  Ｎｕｃｌｅａｒ  Ｉｓｓｕｅｓ  Ｂｒｉｅｆｉｎｇ  Ｐａｐｅｒ  ２６，ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｗｉｃ．ｃｏｍ．ｓｕ／ｎｉｐｚ６
【非特許文献２】ＭＡＲＸ，Ａ  Ｂｏｏｓｔ  ｏｆ  Ｒｕｍｏｒ  Ｓｔａｒｖａｔｉｏｎ，Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｊｕｌｙ  ２５，２００３，Ｖｏｌ．３０１：４５２−４５４
【非特許文献３】ＫＬＩＮＧ，Ｃｅｒａｍｉｃ−Ｂａｓｅｄ  Ｎａｎｏｐａｒｔｉｃｌｅｓ：  Ｄｒｕｇ  Ｃａｒｒｉｅｒｓ  ｆｏｒ  Ｐｈｏｔｏｄｙｎａｍｉｃ  Ｔｈｅｒａｐｙ，ｗｗｗ．ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．ｏｒｇ，Ｏｃｔｏｒｂｅｒ  ２４，２００３
【非特許文献４】ＫＥＡＴＩＮＧ，Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ  Ｓｔｒａｔｅｇｉｅｓ  ｆｏｒ  Ｃｈｒｏｎｉｃ  ｌｙｍｐｈｏｃｙｔｉｃ  Ｌｅｕｋｅｍｉａ，ｗｗｗ．ｍｅｄｓｃａｐｅ．ｃｏｍ，  Ｊｕｎｅ  １０，２００３
【非特許文献５】ＨＡＷＫＩＮＳ，Ｖａｓｏｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ａｇｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｈｉｇｈｌｉｇｈｔｅｄ，  ｗｗｗ．ｐｅｒｅｇｒｉｎｅｉｎｃ．ｃｏｍ，  Ｏｃｔｏｂｅｒ  ２２，２００３
【非特許文献６】ＭＯＳＫＯＷＩＴＺ，Ｍａｇｎｅｔｏｔａｃｔｉｃ  Ｂａｃｔｅｒｉ，  Ｒｅｖ．Ｇｅｏｐｈｙｓ．，  Ｖｏｌ．３３，Ｓｕｐｐｌ．Ｏｃｔｏｂｅｒ  ２２，２００３
【非特許文献７】Ｍａｇｎｅｔｏｃｏｃｃｕｓ  ＭＳ−１  Ｇｅｎｏｍｅ  Ｐｒｏｊｅｃｔ，  Ｏｃｔｏｂｅｒ  ２２，２００３
【非特許文献８】Ｍａｇｎｅｔｏｓｐｉｒｉｌｌｕｍ  Ｍａｇｎｅｔｏｔａｃｔｉｃｕ，  Ｏｃｔｏｂｅｒ  ２２，２００３，ｗｗｗ．ｇｅｎｏｍｅ．ｊｇｉ−ｐｓｆ．ｏｒｇ／ｄｒａｆｔ＿ｍｉｃｒｏｂｅｓ／ｍａｇｍａ．ｈｏｍｅ．ｈｔｍｌ
【非特許文献９】ＭＥＮＥＺ，Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ｏｆ  ａ  ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ  ｉｍｍｕｎｏｄｏｍｉｎａｎｔ  ａｎｔｉｇｅｎｉｃ  ｓｉｔｅ  ｏｎ  ｈｅｐａｔｉｔｉｓ  Ｃ  ｖｉｒｕｓ  ｃｏｒｅ  ｐｒｏｔｅｉｎ  ｃｏｍｐｌｅｘｅｄ  ｍｏｎｏｃｌｏｎａｌ  ａｎｔｉｂｏｄｙ，Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ，  Ｆｅｂ．  １５，２００３，Ｖｏｌ．１７０：１９１７−１９２４
【非特許文献１０】ＪＡＹＳＯＮ，Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｉｍａｇｉｎ  ａｎｄ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ  ｏｆ  ＨｕＭＶ８３３  ａｎｔｉ−ＶＥＧＦ  ａｎｔｉｂｏｄｙ：  Ｉｍｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ  ｆｏｒ  Ｔｒｉａｌ  Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ａｎｔｉａｎｇｉｏｇｅｎｉｃ  Ａｎｔｉｂｏｄｉｅｓ，  Ｏｃｔｏｂｅｒ  ２，  ２００２，Ｊ．Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｃａｎｃｅｒ  Ｉｎｓｔ．  ９４（１９）：１４８４−１４９３
【非特許文献１１】ＤＯＲＭＡＮＮ，Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｒｅｌａｘａｔｉｏｎ  ｉｎ  Ｆｉｎｅ−Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，  １９９７，Ａｄｖ．Ｉ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．ＸＣＶＩＩＩ，ＩＳＢＮ  ０−４７１−２６２８５−Ｘ，ｐｐ．２８３−４９４
【非特許文献１２】"Ｔｈｅ  Ｉｎｔｅｒｎｅｔ  Ｄｒｕｇ  Ｄａｔａｂａｓｅ"
【非特許文献１３】Ｓｔｅｔｍａｎ’ｓ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｍｅｄｉｃａｌ  Ｄｉｃｔｉｏｎａｒｙ，  Ｖｅｒｓｉｏｎ  ５，ｗｗｗ．ｓｔｅｔｍａｎｓ．ｃｏｍ
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパッタリングターゲットを作る方法であって：
少なくとも一つの金属を含むスラブを用意する工程；
前記スラブに第一の圧延を行って中間プレートを形成する工程、前記第一の圧延工程は複数の圧延パスを含む；
前記中間プレートを複数のサブロット・プレートに分割する工程；
少なくとも一つの前記サブロット・プレートに第二の圧延を行って金属プレートを形成する工程、前記第二の圧延工程は複数の圧延パスを含み、前記第二の圧延工程の各圧延パスは約0.2以上の真歪圧下率を付与する；
を含む方法。
【請求項２】
前記第二の圧延工程によって付与される真歪圧下率が前記第一の圧延工程によって付与される真歪圧下率の約0.25倍〜約2.0倍であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一の圧延工程が圧延機ギャップ設定の変化によって定められる圧延スケジュールを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記第二の圧延工程の最終圧延パスが、他の圧延パスによって付与される真歪圧下率と同等以上の真歪圧下率を付与することを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも一つの金属がニオブ、タンタル、又はそれらの合金であることを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
さらに、前記スラブを焼鈍する工程を含み、該焼鈍する工程が真空又は不活性条件の下で約70℃〜約1500℃の温度で約30分間〜約24時間行われることを特徴とする請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
さらに、前記スラブに約0.02インチ以内で平坦である二つの対向する圧延表面を付与する工程を含む請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記中間プレートが約0.75〜約1.5インチの厚さを有することを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記中間プレートが前記スラブの長さよりも約10%以下大きな長さを有することを特徴とする請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
さらに、前記中間プレートを焼鈍する工程を含み、該焼鈍する工程が真空又は不活性条件の下で約70℃〜約1500℃の温度で約30分間〜約24時間行われることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第二の圧延工程の前記圧延パスの少なくとも一つは前記第一の圧延工程の前記圧延パスの少なくとも一つに対して横断方向であることを特徴とする請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記第二の圧延工程の前記圧延パスが多方向的であることを特徴とする請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法によって形成された金属プレート。
【請求項１４】
前記バルブ金属プレートの平均粒径が20ミクロン以下であることを特徴とする請求項１３に記載の金属プレート。
【請求項１５】
結晶粒の95%が100ミクロン未満の直径を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の金属プレート。
【請求項１６】
結晶粒の99%が100ミクロン未満の直径を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の金属プレート。
【請求項１７】
結晶粒の95%が50ミクロン未満の直径を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の金属プレート。
【請求項１８】
結晶粒の99%が50ミクロン未満の直径を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の金属プレート。
【請求項１９】
結晶粒の95%が25ミクロン未満の直径を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の金属プレート。
【請求項２０】
結晶粒の99%が25ミクロン未満の直径を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の金属プレート。
【請求項２１】
前記バルブ金属プレートが実質的に集合組織バンドを含まない集合組織を有することを特徴とする請求項１３から２０までのいずれか１項に記載の金属プレート。
【請求項２２】
前記バルブ金属プレートがその厚さ全体にわたって一様な集合組織を有することを特徴とする請求項１３から２１までのいずれか１項に記載の金属プレート。
【請求項２３】
前記バルブ金属プレートが、表面に一次(111)、一次(100)、又は混合(111) (100)集合組織を、及び／又はその厚さ全体にわたって転置一次(111)、転置一次(100)、又は混合転置(111) (100)を有することを特徴とする請求項１３から２２までのいずれか１項に記載の金属プレート。
【請求項２４】
請求項１３から２３までのいずれか１項に記載の金属プレートから成形されるスパッタリング・コンポーネント。
【請求項２５】
成形する工程が、スピン成形、剪断成形、フロー成形、深絞り、又はハイドロフォーミングを含むことを特徴とする請求項２４に記載のスパッタリング・コンポーネント。
【請求項２６】
前記スパッタリング・コンポーネントが20ミクロン以下の平均粒径を有し、前記スパッタリング・コンポーネントの成形後に焼鈍されないことを特徴とする請求項２４または２５に記載のスパッタリング・コンポーネント。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月10日(2007.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）４個の配位子を有する１種又はそれ以上の有機チタネート（但し、これらの配位子は、任意的に、酸素、窒素、リン及び硫黄からなる群から選択された１種又はそれ以上のヘテロ原子を有する１個又はそれ以上の官能基を含むヒドロカルビルであり、これらの配位子の２個又はそれ以上は環状構造を形成していてもよい）、ｂ）１種又はそれ以上のメルカプトシラン、ｃ）１種又はそれ以上のポリアミノシラン、ｄ）１種又はそれ以上の第二級アミノシラン並びにｅ）１種又はそれ以上の、この組成物の前記成分を溶解する溶媒を含んでなる組成物。
【請求項２】
前記チタネートの配位子がヒドロカルビル、ヒドロカルビルカルボキシル、ヒドロカルビルスルホニル、ヒドロカルビルアミノ、ホスファトヒドロカルビル、ピロホスファトヒドロカルビルであり、２個又はそれ以上の配位子がヒドロカルビレン部分を形成し、２個又はそれ以上の配位子がカルボキシル含有ヒドロカルビレン部分若しくはこれらの混合物を形成する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
有機チタネートが、式Ｔｉ（−ＯＲ1）4（式中、Ｒ1は、それぞれ存在する場合に独立に、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルカルボキシル、ヒドロカルビルスルホニル、ヒドロカルビルアミノ、ホスファトヒドロカルビル、ピロホスファトヒドロカルビルであるが、Ｒ1の２個又はそれ以上が、組合さって、環状環構造を形成していてもよい）に対応する請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
ａ）０．０８〜４５重量％の１種又はそれ以上の有機チタネート、ｂ）０．０３〜５９重量％の１種又はそれ以上のメルカプトシラン、ｃ）０．００５〜１６重量％の１種又はそれ以上のポリアミノシラン、ｄ）０．０１〜１６重量％の１種又はそれ以上の第二級アミノシラン並びにｅ）３０〜９９．５重量％の１種又はそれ以上の溶媒（但し、記載した重量％は、全組成物の重量基準である）を含む、請求項１〜３の何れか１項に記載の組成物。
【請求項５】
ｉ）請求項１〜４の何れか１項に記載の組成物並びにｉｉ）イソシアネート官能性プレポリマー及びイソシアネート官能性プレポリマーの硬化用触媒を含む添加物からなるガラスを基体に接着するシステム。
【請求項６】
組成物（ｉ）、接着組成物（ｉｉ）又は両方が、更に、紫外線安定剤を含む請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
組成物（ｉ）、接着組成物（ｉｉ）又は両方が、更に、ヒンダードアミン光安定剤からなる、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
Ａ）請求項１〜４の何れか１項に記載の組成物を、ガラス又は耐摩耗性で被覆したプラスチック基体の表面に、構造物の中に接着すべきガラス又は被覆プラスチック基体の部分に沿って適用する工程、
Ｂ）ポリイソシアネート官能性接着組成物を、ガラス又は被覆プラスチック基体の表面に、請求項１〜４の何れか１項に記載の組成物が予め適用された、構造物の中に接着すべき部分に沿って適用する工程並びに
Ｃ）被覆プラスチック基体を構造物と、ガラス又は被覆プラスチック基体と構造物との間に配置された接着剤と共に接触させる工程
を含んでなる方法。
【請求項９】
窓の一つを自動車の中に保持する接着システムが、請求項５〜７の何れか１項に記載のシステムである自動車。
【請求項１０】
Ａ）請求項１に記載の組成物を、自動車の中への窓の部分と接触させる工程、
Ｂ）５〜９０日後に、ポリイソシアネート官能性接着組成物を、請求項１に記載の組成物を予め適用した、構造物に接着すべきガラス又はプラスチック窓の部分に沿ってガラス又はプラスチック窓の表面に適用する工程及び
Ｃ）この窓を構造物と、窓と構造物との間に配置された接着剤と共に接触させる工程を含んでなる、窓を自動車の中に接着する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
Ｘによって表される加水分解性基は、特に限定されず、一般的な加水分解性基から選択される。具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート(ketoximate)基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノ−オキシ基、メルカプト基及びアルケニルオキシ基である。これらの中で、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノ−オキシ基、メルカプト基及びアルケニルオキシ基が好ましい。その穏和な加水分解性に起因する取り扱いを容易にするために、アルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が最も好ましい。反応性シリコン基当たり２個又はそれ以上のヒドロキシ基又は加水分解性基が存在する場合、これらは同じであるか又は異なっていてよい。Ｒ7は、好ましくは、アルキル基、例えばメチル若しくはエチル、シクロアルキル基、例えばシクロヘキシル、アリール基、例えばフェニル、アラルキル基、例えばベンジル又は式（Ｒ’）3Ｓｉ−（式中、Ｒ’はメチル又はフェニルである）のトリオルガノシリル基である。Ｒ7及びＲ’は、最も好ましくはメチルである。Ｒ6は、好ましくは、アルキレン、アリーレン又はアルカリーレン基、そして更に好ましくはＣ2〜Ｃ8アルキレン基、尚更に好ましくはＣ2〜Ｃ4アルキレン基であり、そして、最も好ましくはＣ2〜Ｃ3アルキレン基である。好ましいメルカプトシランの中には、メルカプトプロピルトリメトキシシラン及びメルカプトプロピルメチルジメトキシシランがある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月19日(2007.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体層を形成するための印刷可能な組成物であって、式：
【化１】
2007521387.tif 000001
［上式中、ＸがＯ、Ｓ、またはＮＲ10を表し、Ｒ10がＨまたはＣ1−Ｃ2アルキル基を表し、Ｒ6が、少なくとも１個のヒドロキシル基で置換されていてもよいＣ1-Ｃ5アルキレン基を表し、Ｒ7がＨまたはＣＨ3を表し、Ｒ8がＣ1−Ｃ6アルキル基、または少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基を表し、Ｒ9が、少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基を表す］にそれぞれ相応する少なくとも２個のモノマー単位を有するポリマーと、
ポリマーと無機粒子との全体積を基準として５〜６０体積パーセントの無機粒子と、
液体供給媒体と、を含み、
６０℃以下の少なくとも１つの温度において１秒-1〜１０００秒-1の剪断速度で、連続した応力曲線を用いて測定したとき、粘度が１〜４０ミリパスカル秒である、印刷可能な組成物。
【請求項２】
誘電体層を形成するための組成物であって、式：
【化２】
2007521387.tif 000002
［上式中、ＲがＣＨ3またはＣＨ2ＣＨ2ＣＮであり、各Ｒ5が独立して、アルキル基、ハロゲン、または少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基であり、ｎ＝０〜３である］にそれぞれ相応する少なくとも２個のモノマー単位を含むポリマーを、ポリマーと無機粒子との全重量を基準として５〜９５重量パーセントと、
前記ポリマーと無機粒子との全体積を基準として５〜６０体積パーセントの無機粒子と、
液体供給媒体と、を含み、
６０℃以下の少なくとも１つの温度において１秒-1〜１０００秒-1の剪断速度で、連続した応力曲線を用いて測定したとき、粘度が１〜４０ミリパスカル秒である、組成物。
【請求項３】
誘電体膜の形成方法であって、式：
【化３】
2007521387.tif 000003
［上式中、ＸがＯ、Ｓ、またはＮＲ10を表し、Ｒ10がＨまたはＣ1−Ｃ2アルキル基を表し、Ｒ6が、少なくとも１個のヒドロキシル基で置換されていてもよいＣ1-Ｃ5アルキレン基を表し、Ｒ7がＨまたはＣＨ3を表し、Ｒ8がＣ1−Ｃ6アルキル基を表し、または少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基を表し、Ｒ9が、少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基を表す］にそれぞれ相応する少なくとも２個のモノマー単位を有するポリマーと、
ポリマーと無機粒子との全体積を基準として５〜６０体積パーセントの無機粒子と、
液体供給媒体と、を含み、
６０℃以下の少なくとも１つの温度において１秒-1〜１０００秒-1の剪断速度で、連続した応力曲線を用いて測定したとき、粘度が１〜４０ミリパスカル秒である、誘電体層を形成するための印刷可能な組成物を提供する工程を含む、方法。
【請求項４】
誘電体膜の形成方法であって、式：
【化４】
2007521387.tif 000004
［上式中、ＲがＣＨ3またはＣＨ2ＣＨ2ＣＮであり、各Ｒ5が独立して、アルキル基、ハロゲン、または少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基であり、ｎ＝０〜３である］にそれぞれ相応する少なくとも２個のモノマー単位を含むポリマーを５０〜９５重量パーセントと、前記ポリマーと無機粒子との全体積を基準として、５〜６０体積パーセントの無機粒子と、液体供給媒体とを含有し、６０℃以下の少なくとも１つの温度において１秒-1〜１０００秒-1の剪断速度で、連続した応力曲線を用いて測定したとき、粘度が１〜４０ミリパスカル秒である印刷可能な組成物を提供する工程と、
前記組成物を支持体上にデジタル方式で堆積する工程と、を含む、方法。
【請求項５】
誘電体膜の形成方法であって、
式：
【化５】
2007521387.tif 000005
［上式中、ＲがＣＨ3またはＣＨ2ＣＨ2ＣＮであり、各Ｒ5が独立して、アルキル基、ハロゲン、または少なくとも１個のＣＮ基を含みＣＮ基１個当たり３０〜２００の分子量を有する有機基であり、ｎ＝０〜３である］にそれぞれ相応する少なくとも２個のモノマー単位を含むポリマーを５０〜９５重量パーセントと、液体供給媒体とを含有し、６０℃以下の少なくとも１つの温度において１秒-1〜１０００秒-1の剪断速度で、連続した応力曲線を用いて測定したとき、粘度が１〜４０ミリパスカル秒である印刷可能な組成物を提供する工程と、
前記組成物を支持体上にデジタル方式で堆積する工程と、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月17日(2008.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＩＶ）：
【化２７】
2007521340.tif 000001
で示される化合物の結晶性モノ水和物。
【請求項２】
図１に示されるものに実質的に一致するＸ線粉末回折図を特性とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
図２に示されるものに実質的に一致する示差走査熱量サーモグラムおよび熱重量分析を特性とする請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
１８．０±０．２、１８．４±０．２、１９．２±０．２、１９．６±０．２、２１．２±０．２、２４．５±０．２、２５．９±０．２および２８．０±０．２からなる群から選ばれる４つ以上の２θ値を包含するＸ線粉末回折図（ＣｕＫａ  λ＝１．５４１８Å、温度約２３℃）を特性とする請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
治療上有効量の請求項１〜４に記載の化合物および医薬的に許容しうる担体から成る医薬組成物。
【請求項６】
請求項１〜４、７および８のいずれか１項に記載の化合物を有効成分とする癌治療剤。
【請求項７】
格子寸法：
ａ（Å）＝１３．８６３７（７）
ｂ（Å）＝９．３３０７（３）
ｃ（Å）＝３８．３９０（２）
体積＝４９６５．９（４）Å３
空間群    Ｐbca
分子数／単位胞：８
密度（ｇ／cm３）：１．３５４（計算値）
にほぼ匹敵する単位胞パラメーターを特性とする請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
式（ＩＶ）の１分子当り１つの水分子が存在する請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１〜４、７および８のいずれか１項に記載の化合物を有効成分とする、慢性骨髄性白血病（ＣＭＬ）、胃腸支質腫瘍（ＧＩＳＴ）、小細胞肺癌（ＳＣＬＣ）、非小細胞肺癌（ＮＳＣＬＣ）、卵巣癌、黒色腫、肥満細胞症、生殖細胞種、急性骨髄性白血病（ＡＭＬ）、小児肉腫、乳癌、結腸直腸癌、膵臓癌および前立腺癌から選ばれる腫瘍学的障害の治療剤。
【請求項１０】
式（ＩＶ）：
【化２８】
2007521340.tif 000002
で示される化合物の結晶性ブタノール溶媒化合物。
【請求項１１】
格子寸法：
ａ（Å）＝２２．８１０２（６）
ｂ（Å）＝８．４６９１（３）
ｃ（Å）＝１５．１４３６（５）
体積＝２９１０．５（２）Å３
空間群    Ｐ２ 1/a
分子数／単位胞：４
密度（ｇ／cm３）：１．２８３（計算値）
にほぼ匹敵する単位胞パラメーターを特性とする請求項１０に記載の化合物。
【請求項１２】
式（ＩＶ）：
【化２９】
2007521340.tif 000003
で示される化合物の結晶性モノ水和物を製造する方法であって、
式（ＩＶ）の化合物をエタノール／水混合物中、加熱および溶解し、次いで冷却してエタノール／水混合物から上記モノ水和物を晶出させることを特徴とする製造法。
【請求項１３】
式（ＩＶ）の化合物のブタノール溶媒化合物を、エタノール／水混合物に溶解する請求項１２に記載の製造法。
【請求項１４】
実質的に純粋な請求項１〜４、７および８のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１５】
５．８±０．２、１１．３±０．２、１５．８±０．２、１７．２±０．２、１９．５±０．２、２４．１±０．２、２５．３±０．２および２６．２±０．２からなる群から選ばれる４以上の２θ値を包むＸ線粉末回折図（ＣｕＫα  λ＝１．５４１８Å、温度約２３℃）の特徴を有する、
式（ＩＶ）：
【化３０】
2007521340.tif 000004
で示される化合物の結晶性エタノール溶媒化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月16日(2007.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機相と会合した無機化合物を含むナノ粒子であって、前記有機相が気体を可逆的に可溶化可能であり、前記無機化合物が遷移金属酸化物であることを特徴とするナノ粒子。
【請求項２】
前記無機化合物が第８〜第１０族の遷移金属酸化物であることを特徴とする請求項１記載のナノ粒子。
【請求項３】
前記無機化合物が第８族の遷移金属酸化物であることを特徴とする請求項２記載のナノ粒子。
【請求項４】
前記無機化合物が酸化鉄であることを特徴とする請求項３記載のナノ粒子。
【請求項５】
前記無機化合物がＦｅ２Ｏ３またはＦｅ３Ｏ４であることを特徴とする請求項４記載のナノ粒子。
【請求項６】
前記無機化合物がＦｅ３Ｏ４であることを特徴とする請求項５記載のナノ粒子。
【請求項７】
磁性を有することを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項８】
前記気体が酸素またはＣＯ２であることを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項９】
前記無機化合物がフッ素含有ポリマーの隙間に取り込まれていることを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項１０】
前記フッ素含有ポリマーがコポリマーであることを特徴とする請求項９記載のナノ粒子。
【請求項１１】
前記フッ素含有ポリマーが、フッ素化部分と非フッ素化部分とを有するコポリマーであることを特徴とする請求項１０記載のナノ粒子。
【請求項１２】
前記気体が酸素であり、前記フッ素含有ポリマーが水性媒体中で酸素を可逆的に結合させることが可能であることを特徴とする請求項９から１１いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項１３】
前記気体がＣＯ２であり、前記フッ素含有ポリマーが水性媒体中でＣＯ２を可逆的に結合させることが可能であることを特徴とする請求項９から１１いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項１４】
前記有機相が互いに化学的に結合された第１及び第２の炭化水素層を有することを特徴とする請求項１から１３いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項１５】
第１の炭化水素層がカルボニル官能基を有することを特徴とする請求項１４記載のナノ粒子。
【請求項１６】
第１の炭化水素層が脂肪酸を有することを特徴とする請求項１５記載のナノ粒子。
【請求項１７】
第１の炭化水素層がオレイン酸を有することを特徴とする請求項１６記載のナノ粒子。
【請求項１８】
第２の炭化水素層が親水性基を有することを特徴とする請求項１４から１７いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項１９】
第２の炭化水素層が非イオン性及び陰イオン性の親水性基を有することを特徴とする請求項１８記載のナノ粒子。
【請求項２０】
第２の炭化水素層が、ポリオキシアルキレンスルホネート部分を有することを特徴とする請求項１９記載のナノ粒子。
【請求項２１】
第２の炭化水素層が、ポリオキシエチレンスルホネート部分を有することを特徴とする請求項２０記載のナノ粒子。
【請求項２２】
第１及び第２の炭化水素層が、炭素−炭素一重結合を介して互いに結合していることを特徴とする請求項１４から２１いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項２３】
前記気体が酸素であり、前記有機相が水性媒体中で酸素を可逆的に結合させることが可能であることを特徴とする請求項１４から２２いずれか１項記載のナノ粒子。
【請求項２４】
直径が約１０〜約１００ｎｍであることを特徴とする請求項１から２３いずれか１高記載のナノ粒子。
【請求項２５】
請求項１から２４いずれか１項記載のナノ粒子を含む組成物。
【請求項２６】
水性コロイドであることを特徴とする請求項２５記載の組成物。
【請求項２７】
フッ素含有ポリマーの隙間に取り込まれた無機化合物を含むナノ粒子を調製する方法であって、
（ａ）フッ素含有ポリマーの存在下、水溶液中で無機塩を共沈殿させ、ここで、該無機塩が遷移金属塩であり；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を超音波処理し、さらにナノ粒子を単離する；工程を含むことを特徴とする方法。  
【請求項２８】
第１の炭化水素層と該第１の炭化水素層に化学的に結合した第２の炭化水素層とを含む炭化水素二重層と会合した無機化合物を含むナノ粒子を調製する方法であって、
（ａ）前記無機化合物と結合可能な第１の炭化水素部分の存在下、水溶液中で無機塩を共沈殿させ、ここで、該無機塩が遷移金属塩であり；さらに
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた生成物を、親水性基を有する第２の炭化水素部分と反応させる；工程を含み、
前記第１の炭化水素部分が前記第２の炭化水素部分と化学的に結合して炭化水素二重層を形成することを特徴とする方法。
【請求項２９】
前記無機塩が第８〜１０族の遷移金属塩であることを特徴とする請求項２７または２８記載の方法。
【請求項３０】
前記無機塩が第８族の遷移金属塩であることを特徴とする請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
前記無機塩が鉄塩であることを特徴とする請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記無機塩が鉄−塩化物塩であることを特徴とする請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記無機塩が塩化Ｆｅ（II）及び塩化Ｆｅ（III）の混合物を含むことを特徴とする請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
媒体中への気体の移動量を増加させる方法であって、請求項１から２３いずれか１項記載のナノ粒子を媒体に導入することを含み、前記有機相は気体を可逆的に可溶化可能なものであることを特徴とする方法。
【請求項３５】
発酵処理における細胞の増殖を促進する方法であって、培養細胞を含む発酵培地に請求項１から２３いずれか１項記載のナノ粒子を導入することを含み、前記有機相が可逆的に酸素を可溶化可能であり、それによって発酵培地への酸素の移動量を増加させることを特徴とする方法。
【請求項３６】
酸素移動量が約４００％よりも増加することを特徴とする請求項３４または３５記載の方法。
【請求項３７】
前記ナノ粒子が磁性を有し、前記培地を磁場に暴露して移動させることによってナノ粒子を培地から分離することを特徴とする請求項３４から３６いずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月16日(2008.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テラゾ材、大理石、石材、コンクリート又はその他の材質の床からなる被加工面（２０）に対して仕上げを施すための仕上げ装置（１）であって、仕上げ装置は、少なくとも２つの仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）を備え、この仕上げユニットは、仕上げ装置のフレーム（１４，１００）によって支持されており、この仕上げユニットは被加工面を研削、研磨、及び／又は、マシニングすべく設けられ、各仕上げユニットは、モータ（４ａ，４ｂ，４ｃ，２００）と、このモータによって駆動されるべく回転可能に設けられた加工円板（４１）とを備えてなる仕上げ装置において、
前記仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）が、被加工面（２０）に対して実質的に平行であるそれぞれの軸線を中心として、フレーム（１４，１００）に対して、個別的に傾動可能であり、
第１の仕上げユニット（３ａ，４ａ）は、仕上げ装置の中心軸線（Ｓ）に対して実質的に垂直である軸線を中心として傾動可能になっていて、第２の仕上げユニット（３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ）は、仕上げ装置の中心軸線（Ｓ）に対して平行である軸線を中心として傾動可能であり、
第１の仕上げユニット（３ａ，４ａ）は、仕上げ装置の中心軸線（Ｓ）に対して実質的に垂直である軸線を中心として傾動可能になっていて、第２及び第３の仕上げユニット（３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ）は、それぞれ第２の軸線と第３の軸線とを中心として傾動可能になっており、前記第２の軸線及び第３の軸線またはこれらの延長線が、互いに鋭角を形成していることを特徴とする仕上げ装置。
【請求項２】
仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）は、ホルダ（５，５ａ，５ｂ，５ｃ）を介してフレーム（１４，１００）に結合され、このホルダはフレーム（１４，１００）にヒンジ式に結合されていて、仕上げユニットはフレーム（１４，１００）に対してピボット可能になっている請求項１記載の仕上げ装置。
【請求項３】
フレーム（１４，１００）に対するホルダの角度を調整すべく、手段（３１）が設けられている請求項２記載の仕上げ装置。
【請求項４】
仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）は、ホルダ（５，５ａ，５ｂ，５ｃ）を介してフレームに結合され、このホルダは仕上げユニットに旋回可能に結合されていて、仕上げユニットがフレーム（１４，１００）に対して傾動可能になっている請求項１〜３のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項５】
仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）に対するホルダ（５，５ａ，５ｂ，５ｃ）の角度を調整すべく、手段（３２）が設けられていることを特徴とする請求項４に記載の仕上げ装置。
【請求項６】
仕上げ装置の主たる走行方向から見て、フレーム（１４，１００）における前方部分は、仕上げ装置の前輪（２００）の前方へ突出して、仕上げユニットが搭載される支持フレーム（１０１）を形成している請求項１〜５のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項７】
支持フレーム（１０１）は、フレーム（１４，１００）における残余部分に対して、垂直にピボット可能になっている請求項６に記載の仕上げ装置。
【請求項８】
支持フレーム（１０１）は、フレーム（１４，１００）における残余部分に比べて、幅狭になっている請求項６に記載の仕上げ装置。
【請求項９】
仕上げ装置の長手方向に配置される中心軸線（Ｓ）に対して、最も遠ざけて配置される第１のマシニングユニット（３ａ，４ａ）の部分は、中心軸線（Ｓ）に隣合う部分である第２の仕上げユニット（３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ）の部分に比べて、中心軸線（Ｓ）から、より遠くに配置されている請求項１〜８のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１０】
仕上げ装置は、３つの仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ）を備え、仕上げ装置が移動して、仕上げユニットが床面に仕上げ係合しているとき、
第１の仕上げユニット（３ａ，４ａ）は中央の仕上げ掃引線を創り出し、
第２及び第３の仕上げユニット（３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ）は、第１の仕上げ掃引線の両側に配置される仕上げ掃引線を創り出す請求項１〜９のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１１】
第１の仕上げユニット（３ａ，４ａ）は、仕上げ装置の中心軸線（Ｓ）に対して実質的に垂直である軸線を中心として傾動可能になっていて、
第２の仕上げユニット（３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ）は、仕上げ装置の中心軸線（Ｓ）に対して平行である軸線を中心として傾動可能であり、第３の仕上げユニットが、仕上げ装置の中心軸線（Ｓ）に対して平行である軸線を中心として傾動可能になっている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１２】
前記仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）のそれぞれは、この仕上げユニットの重量と実質的に等しい力によって、被加工面（２０）に対して当接すべく設けられている請求項１〜１１のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１３】
前記仕上げユニット（３ａ，４ａ；３ｂ，４ｂ；３ｃ，４ｃ，３００）のそれぞれは、被加工面（２０）に係合しているとき、被加工面（２０）に対して実質的に垂直である方向へ向けて、フレーム（１４）に対して変位可能になっている請求項１〜１２のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１４】
仕上げ装置は、内燃機関（４００）を備え、発電機（５００）及びこれに関連する周波数変換器（８００ａ，８００ｂ）を介して、前記仕上げユニット（３００）と少なくともひとつの推進ユニット（２００）とに電力を供給する請求項１〜１３のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１５】
前記周波数変換器（８００ａ，８００ｂ）のそれぞれは、制御ユニット（７００）によって制御可能になっていて、この制御ユニットは、手動制御手段（７０１）、遠隔制御ユニット（７０２）、または、自力航行ユニット（７０３）から、制御データを収集することができる請求項１４に記載の仕上げ装置。
【請求項１６】
前記推進ユニット（２００）は、それぞれ駆動車輪（２０１）を駆動すべく設けられた２つの電気モータを備え、前記電気モータは関連する周波数変換器（８００ａ）によってそれぞれ独立して制御可能になっている請求項１４又は１５に記載の仕上げ装置。
【請求項１７】
少なくともひとつのピボット車輪（２０２）をさらに備え、このピボット車輪と前記駆動車輪（２０１）とが一緒になって、仕上げ装置のための支持面を形成している請求項１６に記載の仕上げ装置。
【請求項１８】
仕上げ装置によって仕上げている被加工面に関連させて、仕上げられた被加工面（２０）をリアルタイムにて検査できる画像発生装置（７０４）を備えている請求項１〜１７のいずれか１項に記載の仕上げ装置。
【請求項１９】
オペレータの座席（１０）とアクチュータ（１１）とを有する運転席をさらに備えている請求項１〜１８のいずれか１項に記載の仕上げ装置。