Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】空気ポンプ式座布団に使用する逆止弁
【技術分野】
【０００１】  この発明は独立した２つの空気室を並置し、該空気室の各々に逆止弁を設置し、該逆止弁は流れの向きが互いに逆向きとなるように１本の連通管で連通した、軟質プラスチック製空気ポンプ式座布団に使用する該逆止弁に関するものである。
【背景技術】
【０００２】  従来の技術としては特願２００５−４６１８０があり、図２と図３によって説明する。【０００３】  図２は空気ポンプ式座布団を示し、中央で仕切られた２つの空気室よりなり、空気室１５には逆止弁１８、空気室１６には逆止弁１９を設け、この間を連通管１１で接続する。逆止弁１８及び１９は流れる方向が互いに逆向きとなるように配列する。図中の１７は空気ポンプ式座布団の空気室を構成する２枚の軟質プラスチックシートの融着部である。【０００４】以下図２の空気ポンプ式座布団の作用について述べる。給排気弁２０及び２１から空気室１５及び１６に満杯より少なく空気を封入する。該空気室１５及び１６に左右のお尻を合わせて座り、連通管１１の両端に設けられた逆止弁１８，１９のうち、例えば逆止弁１９を押圧して開放し、左右のお尻で交互に体重を掛けて、繰り返し空気室１５及び１６を押すと、ポンプ作用によって空気が連通管１１を通って空気室１６から空気室１５へ移動し、空気室１６は収縮し、空気室１５はさらに膨脹する。この結果、姿勢を保つため、空気室１５側に体重を掛けて座ることになり、空気室１６側のお尻は体重の圧迫から開放され血液が流れやすくなる。【０００５】図３は従来技術の逆止弁を示し円筒部２、押棒３、密閉端４、ノズル５、円筒外縁部６、融着部７、シール面１０からなるハウジングと、中央に弁１が形成され、弁１の外周に切欠部１２が形成され、該切欠部１２の外周は弁外縁部１３、該弁１と弁外縁部１３の一部は連結部１４で一体に連結され、更に弁外縁部１３は該ハウジングへの嵌め込み、融着或いは接着構造となっている弁体より成る。【０００６】該ハウジングは弁１と密接するシール面１０を有し、シール面１０の中央は通気口９、シール面１０の円筒外縁部６は弁体を嵌め込み、融着或いは接着する構造である。通気口９に繋がる円筒部２は押し棒側小部屋８で、ノズル５を有し、密閉端４には通気口９側に突出した押棒３を設ける。通気口９側が高圧の場合は、密閉端４を指で押すことによって波付部が伸びて押棒３が移動し、弁１を強制的に開き空気を逆流させることができる。指を放せば押棒３は元に戻り、空気の流れを遮断する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】  従来の逆止弁のシール面１０は、ハウジングと弁体の融着部に近いため、融着熱によって変形し易い上に、ポンプ式座布団の膨脹時は湾曲変形するため、弁１との間に隙間が発生してシール性が低下するという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】  本発明の逆止弁は、図１において、押棒３の先端に、截頭円錐構造の弁１を、截頭部を密閉端４側にして接着等で固定し、弁１の最大外径部がノズル５と通気口９の間の円筒内面に接することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】  逆止弁の弁とシール面のシール性能が融着時の熱変形、或いは空気室の膨脹変形に対して影響を受けないようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】  図１において、逆止弁は軟質プラスチック製で、円筒部２、押棒３、密閉端４、ノズル５、円筒外縁部６、融着部７、通気口９等より成るハウジングと、截頭部が密閉端４に向かう截頭円錐構造の弁１より構成され、該ハウジングは円筒の片端は密閉端４、他端は通気口９で、円筒外縁部６の外周は、空気室に融着された融着部７で、密閉端４は外部から内部方向に抑圧すると、容易に変形する構造で、内面中央には通気口９近くまで突き出した押棒３が設けられ、円筒面にはノズル５が設けられている。又弁１の最大外径部は、ノズル５と通気口９の間の円筒部２の内面に接し、且つ押棒３に接着等で固定される。【００１１】通気口９側が高圧のときは、弁１が開く方向に圧力を受けるため、円筒部２の内面に押し付けられ、押棒側小部屋８へ空気が流れるのを遮断する。この場合、外部から密閉端４を押し込むと、押棒３の先端に固定された弁１が押し下げられ、弁１の最大外径部が円筒内面から外れるため、通気口９から押棒側小部屋８、ノズル５、連通管１１をとおって、もう一方の空気室へ空気が流れる。【００１２】  逆に押棒側小部屋８が高圧のときは、弁１は圧力で窄まるため、円筒内面と弁１の間に隙間ができて、通気口９側に空気が流れる。【００１３】  このように弁１を円筒部２に収納し、円筒内面をシール面１０とすることによって、熱融着部から遠ざけ、更に空気室の膨脹変形の影響も受けにくい。
【実施例】
【００１３】  図１は本発明の空気ポンプ式座布団用逆止弁の１実施例である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の逆止弁である。
【図２】本発明の逆止弁を用いるエアー座布団である。
【図３】従来技術の逆止弁である。
【符号の説明】
１          弁２          円筒部３          押棒４          密閉端５          ノズル６          円筒外縁部７          融着部８          押棒側小部屋９          通気口１０        シール面１１        連通管１２        切欠部１３        弁外縁部１４        連結部１５，１６  空気室１７        空気室融着部１８，１９  逆止弁２０，２１  給排気弁
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
独立した左右の２つの空気室を並置し、該２つの空気室には逆止弁を設け、該逆止弁は１本の連通管にて連通したとき流れの向きが互いに逆向きとなるように配列した軟質プラスチック製空気ポンプ式座布団において、該逆止弁は軟質プラスチック製の円筒構造で円筒の片端は密閉端で、他端は通気口で円筒外縁部に繋がり、該円筒外縁部は空気室に融着され、円筒内部には、該密閉端に支持され通気口付近まで突出した押棒が設けられ、円筒面には該連通管に接続できるように１個のノズルが設けられた逆止弁において、該押し棒の先端には截頭円錐構造の弁が截頭部を密閉端側にして接着等で固定され、該弁の最大外径部は該ノズルと通気口の間の円筒内面に接することを特徴とする空気ポンプ式座布団に使用する逆止弁。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006346389.tif 000001
【図２】
2006346389.tif 000002
【図３】
2006346389.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月28日(2006.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明する。  
実施例１
Ｎ−（２−フルオロメトキシ−５−メトキシベンジル）−Ｎ−（５−フルオロ−２−フェノキシフェニル）アセタミド（以下FMDAA1106）の製造
Ｎ−（２−ヒドロキシ−５−メトキシベンジル）−Ｎ−（５−フルオロ−２−フェノキシフェニル）アセタミド（以下DAA1123）(18mg)をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF 1.0mL）に溶解させた溶液に油性水素化ナトリウム（６０％）５.１mgを加えて０℃で攪拌した後、フルオロメチルヨーダイド（FCH2I）１０ｍgを加えて、さらに０℃で１時間攪拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ヘキサン：酢酸エチル＝１：３：１にて溶出）にて精製し、表記の化合物１６mgを得た。
融点  ７１〜７２℃
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
実施例２
Ｎ−（２−[18Ｆ]フルオロメトキシ−５−メトキシベンジル）−Ｎ−（５−フルオロ−２−フェノキシフェニル）アセタミド（以下[18F]FMDAA1106）の製造
[18F]フッ素（[18F]F）は２０atom％H218Oを用い、１８MeVプロトンの照射によって生産された。照射後、[18F]F-をターゲットから回収し、Dowex 1-X8アニオン交換樹脂により[18O]H2Oから分離した後、Kryptofix 2.2.2.(25mg)を含有したアセトニトリル(CH3CN 1.5mL)と混合した後、照射室から合成セルに移送した。合成セルで[18F]Fを乾燥したのち、130℃でジヨードメタン（CH2I2）を反応容器に注入した。注入と同時にヘリウムガスによって生成した[18F]F CH2IをDAA1123 １mgと水素化ナトリウム(6.8μL,0.5g/20mL)のDMF(300mL)溶液にバブリングした。バブリングが２分以内で終了し、混合物を室温で１０分間放置後、反応混合物を逆相セミ分離HPLC(YMCJ’sphere ODS-H80カラム，10mmID×250mm)に注入した。移動相がCH3CN／H2O（６／４）で、流速が6mL/minで[18F]FMDAA1106のフラクションを取得した。本フラクションに対し、減圧下で溶媒を除去し、生理食塩水(10mL)に溶解し、0.22μm ミリポアフィルターを通過し、[18F]FMDAA1106(110MBq,n=3)を最終製剤として得ることができた。（照射条件：15min,15μA）。なお、合成時間が照射終了時から約４５分間を要した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
実施例３
Ｎ−［２−（２−フルオロ）エトキシ−５−メトキシベンジル］−Ｎ−（５−フルオロ−２−フェノキシフェニル）アセタミド（以下FEDAA1106）の製造
実施例１と同様な操作により、フルオロメチルヨーダイド（FCH2I）に代わり１−フルオロ−２−トシロキシエタン（FCH2CH2OTs）を用い表記の化合物２０mgを得た。  
融点  ５４〜５６℃
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
実施例４
Ｎ−［２−（２−[18F]フルオロ）エトキシ−５−メトキシベンジル］−Ｎ−（５−フルオロ−２−フェノキシフェニル）アセタミド（以下[18F]FEDAA1106）の製造
実施例２と同様な操作により、ジヨードメタン（CH2I2）の代わりに２−ブロモエチルトリフレート（BrCH2CH2OTf）を用い表記の化合物を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月16日(2006.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物が染色に適する媒体中に以下を含むことを特徴とする、ケラチン繊維、特にヒトのケラチン繊維、例えば毛髪を酸化染色する組成物：
ａ）  少なくとも一つの酸化染料、
ｂ）  少なくとも一つの会合性ポリマー、
ｃ）  少なくとも一つの非イオン性のセルロースを主体とする化合物であってＣ8〜Ｃ30脂肪鎖を含まないもの、及び
ｄ）  電荷密度が１meq／gより大きい少なくとも一つのカチオン性ポリマーであってＣ8〜Ｃ30脂肪鎖を含まないもの。
【請求項２】
非イオン性のセルロースを主体とする化合物であってＣ8〜Ｃ30脂肪鎖を含まないものを以下から選択することを特徴とする、請求項１に記載の組成物：（Ｃ1〜Ｃ4）アルキルセルロース；ヒドロキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキルセルロース；ヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピルセルロース；及び混合したヒドロキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキルセルロース。
【請求項３】
電荷密度が１meq／gより大きい少なくとも一つのカチオン性ポリマーであってＣ8〜Ｃ30脂肪鎖を含まないものが以下の式（Ｗ）に対応する繰り返し単位を含むポリマーであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の組成物：
2004231645.tif 000001
【請求項４】
電荷密度が１meq／gより大きい少なくとも一つのカチオン性ポリマーであってＣ8〜Ｃ30脂肪鎖を含まないものが以下の式（Ｕ）に対応する繰り返し単位を含むポリマーであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の組成物：
2004231645.tif 000002
【請求項５】
会合性ポリマーをカチオン性ポリウレタンから選択することを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
非イオン性のセルロースを主体とする化合物であってＣ8〜Ｃ30脂肪鎖を含まないものの会合性ポリマーに対する質量比が０．５〜５であることを特徴とする、先の請求項１ないし５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
組成物がさらに酸化剤を含むことを特徴とする、先の請求項１ないし６のいずれか１項に記載の即時使用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月24日(2007.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素選択的な膜を有する触媒反応器により炭化水素供給原料中に含まれるｎ不飽和を有するポリ不飽和化合物の全水素添加方法であって：
ａ）前記反応器の少なくとも１つの反応領域中に、｛Ｈ２／ポリ不飽和化合物｝が０．８ｎ未満（ｎは、２以上）であるような比で、水素と混合された前記供給原料を導入すること、
ｂ）無機かつ多孔質である前記膜の上流の面に、水素添加反応に必要な水素の少なくとも一部を接触させること、及び
ｃ）工程ａ）において導入された供給原料を、前記膜を選択的に横断する水素の少なくとも一部に、前記反応領域中で接触反応させることを含む方法である。
【請求項２】
｛Ｈ２／ポリ不飽和化合物｝の前記比は、０．６ｎ未満（ｎは、２以上）である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
膜の上流面に直接接触させられる前記水素の一部は、２５モル％を超える純度の水素を含む外部源に由来する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記外部源は、炭化水素及び不純物を含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】
水素選択的である前記膜は、沸石膜、アルミノケイ酸膜、シリカ膜、アルミナ膜、炭素膜及び複合膜から選択される請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
水素選択的である前記膜は、均等な多孔度を有する請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
水素選択的である前記膜は、漸増的多孔度を有する請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記ポリ不飽和化合物は、ジエン、ポリオレフィン、アセチレン、ポリアセチレン、芳香族、ポリ芳香族、不飽和炭化水素鎖を有する芳香族化合物、同じ性質の不飽和の、又は異なる不飽和性質の幾つかの基からなるポリケトン及びポリアルデヒドから選択される請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
炭化水素供給原料の送り圧力は、０．１〜１０ＭＰａであり、（膜上流の）水素圧力は、０．１〜５ＭＰａであり、温度は、５〜３００℃であり、かつ水素添加する化合物を含む供給原料の毎時体積速度（ＶＶＨ）は、０．０５〜５０ｈ−１である請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このようにして、全水素添加反応に必要であり、かつ前記無機多孔質膜の上流面と直接接触させられる水素の一部は、高純度の、すなわち７５モル％を超える、好ましくは９０％を超え、かつ非常に好ましくは９５％を超える水素を含む外部源に由来し得る。全水素添加反応に必要であり、かつ前記無機多孔質膜の上流面と直接接触させられる前記水素の一部は、好適には低い純度の、すなわち一般的に２５モル％を超える、好ましくは５０％を超え、かつ非常に好ましくは６５％を超える不純水素を含む流出ガスである外部源に由来したものでもよい。このようにして膜は、混合ガスからの水素の分離を、次に触媒床へ向けて、膜を通る通過によって精製された、この水素の部分的又は全体的移動による選択的分配を可能にする。不純水素を含む外部源を用いることからなるこの実施は、このようにして、例えば触媒改質、接触分解、炭化水素の部分的酸化、又はメタン及び天然ガス改質装置、又はより一般的には、精製所又は石油化学コンビナートにおいて過剰の水素又は水素を含む再使用ガスを生成するあらゆる装置に由来する、又は水素を含む混合液体又は蒸気に由来するような、パージガスから精製又は石油化学装置に由来する水素を回収することを可能にする。例えば、膜は炭化水素及びＣＯ、ＣＯＳ及びＨ２Ｓのような不純物を含む流出物から水素を選択的に抽出することを可能にする。これらの分子、特にＣＯ及びＨ２Ｓは、水素選択的で、無機かつ多孔質の膜がなければ、水素添加に使用される触媒の活性を劣化させる危険がある。膜による統合された分離操作は、触媒床中のかかる化合物の存在を回避することを可能にし、かつ外部水素源は、このようにして炭化水素及び不純物を含み得る。本発明による方法に従えば、水素選択的な膜を横断しないこれらの不純物は、従って転化すべき炭化水素供給原料と、選択的拡散によって膜を横断した水素とが循環する反応領域中で触媒に対して有害な不活性化効果を有さない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月24日(2007.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素選択的な膜を有する触媒反応器により炭化水素供給原料中に含まれるポリ不飽和化合物の選択的水素添加方法であって：
ａ）前記反応器の少なくとも１つの反応領域中に、水素に混合された前記供給原料を導入すること、
ｂ）無機かつ多孔質である、前記膜の上流面に、水素添加反応に必要な水素の少なくとも一部を接触させること、及び
ｃ）工程ａ）において導入された供給原料を、前記膜を選択的に横断する水素の少なくとも一部に、前記反応領域中で触媒反応させることを含む方法。
【請求項２】
選択的水素添加反応に必要な水素の少なくとも３０％が、前記膜の上流面に直接接触させられる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
選択的水素添加反応に必要な水素の少なくとも７０％が、前記膜の上流面に直接接触させられる請求項２に記載の方法。
【請求項４】
膜の上流面と接触させられる前記水素の一部は、２５モル％を超える純度の水素を含む外部源に由来する請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記外部源は、炭化水素及び不純物を含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
水素選択的である前記膜は、沸石膜、アルミノケイ酸膜、シリカ膜、アルミナ膜、炭素膜及び複合膜から選択される請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
水素選択的である前記膜は、細孔質膜である請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
水素選択的である前記膜は、ナノ細孔質膜（membrane nanoporeuse）である請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
水素選択的である前記膜は、均等な多孔度を有する請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
水素選択的である前記膜は、漸増的多孔度を有する請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記反応領域は、ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属を含む担持された触媒を含む請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
反応領域に存在する触媒の分布が、均一である、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
反応領域に存在する触媒の分布が、漸増的である、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記触媒の量は、反応領域の出口よりも入口で大きい、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ポリ不飽和化合物は、ジエン、ポリオレフィン、アセチレン、ポリアセチレン、芳香族、多価芳香族、及び不飽和炭化水素鎖を有する芳香族化合物からなる群から選択される、請求項１から１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
炭化水素供給原料の供給圧力は、０．１〜６ＭＰａであり、（膜上流の）水素圧力は、０．１〜３ＭＰａであり、温度は、５〜３００℃であり、かつ水素添加する化合物を含む供給原料の毎時体積速度（ＶＶＨ）は、０．０５〜５０ｈ−１である、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月24日(2007.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分離性能を有する少なくとも１相の無機相を含む多孔質無機膜であって、前記多孔質無機膜が、前記無機相の質量を基準にして０．０５〜２５重量％で表される炭素含量を有すること、および前記炭素が漸増的に細孔内に分布されていることを特徴とする、多孔質無機膜。
【請求項２】
前記多孔質無機膜が、前記無機相の質量を基準にして０．１〜１０重量％で表される炭素含量を有していることを特徴とする、請求項１に記載の多孔質無機膜。
【請求項３】
前記多孔質無機膜が、前記無機相の質量を基準にして１〜８重量％で表される炭素含量を有していることを特徴とする、請求項２に記載の多孔質無機膜。
【請求項４】
前記多孔質無機膜が、ゼオライト膜、変性ゼオライト膜、アルミノシリケート膜、シリカ膜、アルミナ膜および複合材料膜から選択されることを特徴とする、請求項１から３の１項に記載の多孔質無機膜。
【請求項５】
前記多孔質無機膜が担持されていることを特徴とする、請求項１から４の１項に記載の多孔質無機膜。
【請求項６】
前記多孔質無機膜が、厳密に２ｎｍ未満の細孔径を有することを特徴とする、請求項１から５の１項に記載の多孔質無機膜。
【請求項７】
前記多孔質無機膜が、２〜５０ｎｍの範囲の細孔径を有することを特徴とする、請求項１から５の１項に記載の多孔質無機膜。
【請求項８】
請求項１から７の１項に記載の多孔質無機膜を調製するための方法であって、
工程ａ）：分離性能を有する少なくとも１相の無機相を含む、多孔質な炭素非含有無機膜を温度範囲２０℃〜５５０℃で炭化水素の供給原料と接触させることからなる工程と、それに続く
工程ｂ）：工程ａ）からの膜を温度範囲２０℃〜５５０℃で炭化水素の供給原料と接触させることからなる工程と、
を含む方法。
【請求項９】
前記炭化水素の供給原料が、オレフィン、ポリオレフィン、アセチレン、ポリアセチレン、芳香族化合物、ポリ芳香族化合物、１種または複数の炭化水素鎖を有する１種または複数の芳香核を含む分子、ヘテロ原子を含む炭化水素分子、および官能基を含む炭化水素分子から選択される、請求項８に記載の調製方法。
【請求項１０】
前記工程ａ）およびｂ）が一定の温度で実施される、請求項８または請求項９に記載の調製方法。
【請求項１１】
前記工程ａ）およびｂ）が非等温加熱プログラムを用いて実施される、請求項８または請求項９に記載の調製方法。
【請求項１２】
炭化水素の供給原料中に含まれる０．８ｎｍ未満の大きさの非凝縮性分子を分離するための、請求項１から７の１項に記載の膜または請求項８から１１の１項により調製された膜の使用。
【請求項１３】
前記非凝縮性分子が、水素、酸素、ヘリウム、窒素、硫化水素Ｈ２Ｓ、一酸化炭素ＣＯ、二酸化炭素ＣＯ２およびメタンから選択される、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
少なくとも１種の触媒と組み合わせた、請求項１から７の１項に記載の膜または請求項８から１１の１項により調製された膜の使用。
【請求項１５】
炭化水素の水素化転化反応における、請求項１４に記載の使用。
【請求項１６】
酸化反応における、請求項１４に記載の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、分離性能を有する少なくとも１相の無機相を含む多孔質無機膜を提供する。この膜は、前記無機相の質量を基準にして０．０５〜２５重量％で表される炭素含量を有すること、および前記炭素が漸増的に、すなわち勾配を有する形で細孔内に分布されていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の多孔質無機膜は、分離性能を有する無機相の質量を基準にして、好ましくは０．１〜１０重量％、より好ましくは１〜８重量％で表される炭素含量を有し、その炭素が漸増的に膜の細孔内に分布されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に従えば、前記炭素は本発明の膜の多数の細孔の少なくとも一部におよび／またはその近傍に存在する。炭素は漸増的に膜の細孔内に分布されていて、膜の多孔質ネットワーク全体にわたって均一に分布されているのではない。炭素の勾配（gradient）は例えば次のようなものである。すなわち炭素含量は、好ましくは、分離性能を有する無機相の第１の１／３（the first third）の質量を基準にして１〜３重量％、分離性能を有する無機相の第２の１／３（the second third）の質量を基準にして６〜８重量％、そして分離性能を有する無機相の第３の１／３（the third third）の質量を基準にして１５〜２０重量％で表される。第１〜第３の１／３は、例えばチューブ状の膜ではその長さの１／２ずつである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらなる態様においては、本発明は、本発明の膜を調製するための方法に関し、その方法は、多孔質な炭素非含有無機膜に対して選択性を付与する処理をすることを含み、その目的は、前記多孔質な炭素非含有無機膜の細孔およびその近傍に、本発明の膜が、分離性能を有する無機相の質量を基準にして、炭素含量が０．０５〜２５重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、より好ましくは１〜８重量％となるような量の炭素を担持させ、その炭素が漸増的に膜の細孔の中に分布されているようにすることである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の方法によれば、分離性能を有する少なくとも１相の無機相を含む、多孔質な炭素非含有無機膜に選択性を付与するための処理をするために使用する炭化水素の供給原料は、オレフィン、ポリオレフィン、アセチレン、ポリアセチレン、芳香族化合物、ポリ芳香族化合物、たとえばオレフィンまたはアセチレンタイプの１種または複数の炭化水素鎖を有する１つまたは複数の芳香環を含む分子、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、Ｐのようなヘテロ原子を含む炭化水素分子、およびＳＯ３Ｈ、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、リン、塩素または臭素基のような官能基を含む炭化水素分子などから、好適に選択される。官能性を付与するために必要な分子は、単独で使用しても、前記の分子の混合物として使用してもよく、あるいはガス、液体または蒸気相の希釈剤の存在下で使用してもよい。希釈をする場合には、希釈剤に加えた炭化水素の供給原料の全体の量の、好ましくは１〜６５体積％、より好ましくは５〜５０体積％の量で炭化水素を存在させる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月27日(2006.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
ネットワークリソースへのアクセス権を現在持たないユーザと前記ネットワークリソースを共有するコンピュータシステムであって、
前記ネットワークリソースについてのアクセスリストを含むストレージと、
ネットワークインタフェースと、
前記アクセスリスト中に既知の識別子を含むプレースホルダを作成し、認証識別子を取得するように前記ユーザに指示するメッセージを前記ネットワークインタフェースを通じて前記ユーザに対して生成し、前記ユーザが前記ネットワークリソースへのアクセスを試みると、前記ユーザのコンピュータから前記ネットワークインタフェースを通じて前記認証識別子を取得し、前記認証識別子を、前記既知の識別子を含む前記ストレージ内の前記プレースホルダに格納するように構成された処理装置と
を備えたことを特徴とするコンピュータシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月24日(2006.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動作パラメータリストプロセスを自動化するシステムにおいて、
パラメータ値データを格納するデータベース（１２０）と、
格納されたパラメータ値データをアクセスして、このパラメータ値データに対する修正の通知を自動的に実行するように構成されたウェブベースインタフェース（１２６）とを具備し、
動作パラメータの解析が前記動作パラメータリストを用い行われ、このシステムの適当な動作状態が決定されることを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記データベース（１２０）は修正済みパラメータ値データを格納するように構成されている請求項１記載のシステム。
【請求項３】
最終決定パラメータ値データを格納する第２のデータベース（１２８）を更に具備する請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記データベース（１２０）に格納するためのフォーマットと、前記ウェブベースインタフェース（１２６）を使用してアクセスするためのフォーマットとの間でパラメータ値データを変換するための変換要素（１２２）を更に具備する請求項１記載のシステム。
【請求項５】
パラメータ値データは沸騰水型原子炉発電装置サイクルに関するパラメータ値を含む請求項１記載のシステム。
【請求項６】
自動的な通知はＥメールによる通知である請求項１記載のシステム。
【請求項７】
前記データベース（１２０）はパラメータ値データに対する修正を自動的に格納するように構成されている請求項１記載のシステム。
【請求項８】
前記ウェブベースインタフェース（１２６）はパラメータ値データに対する複数の異なるユーザアクセスレベルを提供するように構成されている請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記ウェブベースインタフェース（１２６）は前記データベース（１２０）に格納されているパラメータ値によってパラメータリストを生成するように構成されている請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
動作パラメータリストプロセスを自動化する方法において、
ユーザがパラメータ値データを見て、修正できるように構成されたウェブベースインタフェース（１２６）をアクセスする工程と、
前記ウェブベースインタフェース（１２６）を使用してパラメータ値を入力する工程と、
パラメータ値に対する修正の自動通知を受信する工程と、
前記動作パラメータリストを用いて動作パラメータの解析を行ってこのシステムの適当な動作状態を決定する工程と、
を含む方法。
【請求項１１】
入力されたパラメータ値を修正する工程を更に含み、自動通知は修正に応答して実行される請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
自動通知はＥメールによる通知である請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
パラメータ値は沸騰水型原子炉発電装置サイクルに関するパラメータ値である請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
パラメータ値はユーザによりアクセスされるべきスプレッドシート（１２４）の一部として表示されるパラメータリストとして構成されている請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
前記ウェブベースインタフェース（１２６）は、ユーザのアクセス権に基づいてパラメータ値データに対する複数の異なるアクセスレベルを提供するように構成されている請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
入力されたパラメータ値を確認することを更に含む請求項１０記載の方法。
【請求項１７】
動作パラメータリストプロセスを自動化する方法において、
動作パラメータリストを生成する工程と、
動作パラメータリスト及び関連するパラメータ値をデータベース（１２０）に格納する工程と、
格納された動作パラメータリストの修正を許可する工程と、
前記格納された動作パラメータリストに対する修正に基づいて前記データベース（１２０）中の関連するパラメータ値を更新する工程と、
前記動作パラメータリストを用いて動作パラメータの解析を行ってこのシステムの適当な動作状態を決定する工程と、
動作パラメータリストに対する修正の通知を実行する工程を含む方法。
【請求項１８】
動作パラメータリストは沸騰水型原子炉発電装置サイクルの動作パラメータ値を含む請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
格納する工程は、修正済み動作パラメータリストを第１のデータベース（１２０）に格納し且つ最終決定動作パラメータリストを第２のデータベース（１２８）に格納する工程を含む請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
通知はＥメールによる通知である請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
ユーザアクセス権に基づいて動作パラメータリストに対するアクセスを制限する工程を更に含む請求項１７記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ＯＰＬプロセスは、通常、数回の繰り返しを必要とし、繰り返しごとにパラメータに対する変更が行われるのが普通である。それらの変更は、例えば、ベンダと顧客との間で提案され、その後に承諾される。通常、同意が得られるＯＰＬを判定するために、Ｅメール、ファックス及び普通郵便を介する書簡／提案を含む数多くの通信が要求される。その後、ＯＰＬは最終決定される（例えば、ベンダと顧客との間で合意に達する）。
【特許文献１】米国特許第６１９５７９５号明細書
【特許文献２】米国特許第６３３４１７８号明細書
【特許文献３】米国特許第６９５７２０９号明細書
【特許文献４】米国特許第６４７３８９８号明細書
【特許文献５】米国特許第６８２００８８号明細書
【特許文献６】米国公開特許第２００２−７４６８号明細書
【特許文献７】米国公開特許第２００３−９５１５０号明細書
【特許文献８】米国公開特許第２００３−６１２１９号明細書
【特許文献９】米国公開特許第２００３−７８９１５号明細書
【特許文献１０】米国公開特許第２００３−２２９６２６号明細書
【特許文献１１】米国公開特許第２００５−２２３０００号明細書
【特許文献１２】米国公開特許第２００５−５０１１６号明細書
【特許文献１３】米国公開特許第２００５−７１３５８号明細書
【特許文献１４】米国公開特許第２００５−１２５４５９号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月22日(2006.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報項目の集合から情報項目のマップを表し、前記マップが情報項目の相互類似性に従って配列中の位置に対して識別された情報項目を提供し、類似の情報項目が配列中の類似の位置にマッピングされるデータを生成するように動作可能なマッピングプロセッサと、
前記情報項目の少なくとも幾つかの表現を表示するように動作可能なグラフィカルユーザインタフェースと、
ユーザが選択した情報項目に対応する配列位置の近隣位置である配列中の位置に対応する情報項目を識別することによって、ユーザが選択した情報項目に対する関連検索を行うように動作可能である検索プロセッサとを有した情報項目を選択するためのユーザ制御装置とを備える情報検索装置。
【請求項２】
前記検索プロセッサは、検索クエリに従って情報項目の集合を検索し、その検索クエリに対応する情報項目を判別するように動作可能であり、
前記マッピングプロセッサは、検索クエリに基づく検索の結果として前記検索プロセッサにより判別された情報項目のマップデータを発生するように動作可能であることを特徴とする請求項１に記載の情報検索装置。
【請求項３】
前記グラフィカルユーザインタフェースは、判別された情報項目に対応する配列の位置の少なくとも幾つかの表現を、表示領域内の表示点のｎ次元表示配列として表示するように動作可能なことを特徴とする請求項１又は２記載の情報検索装置。
【請求項４】
前記次元の数ｎは２であり、配列における位置はｘｙ座標で定義されることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の情報検索装置。
【請求項５】
ユーザの選択による情報項目に対応する配列位置から半径内の位置である配列における位置に対応する情報項目を判別することによって前記検索プロセッサはユーザの選択による情報項目に関連して関連検索を実行するように動作可能なことを特徴とする請求項４記載の情報検索装置。
【請求項６】
前記ユーザ制御装置が、興味ある配列位置について、関連検索で前記の検索プロセッサに検索される情報項目の相対類似性に従って位置の半径を特定する機能をユーザに与えるように動作することを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項記載の情報検索装置。
【請求項７】
情報項目の集合を検索する情報項目検索方法において、
前記情報項目の集合から情報項目のマップを表し、情報項目の相互類似性に従って配列中の位置に対して識別された情報項目を提供し、類似の情報項目が配列中の類似の位置にマッピングされるデータを生成し、
前記情報項目の少なくとも幾つかの表現を表示し、
前記情報項目を選択し、ユーザの選択による情報項目に対応する配列位置に対応し、近傍位置である配列における位置に対応する情報項目を判別することによってユーザの選択による情報項目に関連して関連検索を実行するステップを有する情報項目検索方法。
【請求項８】
検索クエリに従って情報項目を検索し、
前記検索クエリに対応する情報項目を判別し、
前記検索クエリに基づく検索の結果として前記検索プロセッサによって判別された情報項目のマップデータを生成するステップを有する請求項７記載の情報項目検索方法。
【請求項９】
前記判別された情報項目に対応する配列の位置の少なくとも幾つかの表現を、表示領域内の表示点のｎ次元表示配列として表示するステップを有する請求項８記載の情報項目検索方法。
【請求項１０】
前記次元の数ｎは２であり、配列における位置はｘｙ座標で定義されることを特徴とする請求項９記載の情報項目検索方法。
【請求項１１】
前記関連検索を実行するステップは、情報項目を選択し、ユーザの選択による情報項目に対応する配列位置に対応し、近傍位置である配列における位置に対応する情報項目を判別することによってユーザの選択による情報項目に関連して関連検索を実行するステップを有することを特徴とする請求項１０記載の情報項目検索方法。
【請求項１２】
ユーザ制御装置が、興味ある配列位置について、関連検索で検索プロセッサに検索される情報項目の相対類似性に従って位置の半径を特定する機能をユーザに与えるように動作することを特徴とする請求項７乃至１２いずれか１項記載の情報項目検索方法。
【請求項１３】
請求項７乃至１２いずれか１項記載の情報項目検索方法を実行するコンピュータで実行可能なプログラムコードを有するコンピュータソフトウェア。
【請求項１４】
請求項１３記載のコンピュータソフトウェアのプログラムコードを格納し、コンピュータで該プログラムコードを読出可能なプログラム提供媒体。
【請求項１５】
当該プログラム提供媒体は、記憶媒体であることを特徴とする請求項１４記載のプログラム提供媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月11日(2007.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記Ｎの値が２のべき乗であって、前記３次元ルックアップテーブルのアドレスの計算にビットシフトを用いることを特徴とする請求項６に記載の色差判定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月19日(2007.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】サーバ、情報処理方法、及びジョブアカウントシステム並びにプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
論理ページ数を含むジョブ情報を、クライアントから取得する第１取得手段と、
物理枚数を含む印刷情報を、画像形成装置から取得する第２取得手段と、
取得された前記ジョブ情報又は前記印刷情報を、ジョブに関する利用情報として保持する保持手段と、
前記利用情報に基づき得られる論理ページ数及び物理枚数を用いて、前記画像形成装置の利用効率情報を出力する出力手段と、
を有することを特徴とするサーバ。
【請求項２】
前記利用効率情報は、前記論理ページ数から前記物理枚数を減算し、更に前記論理ページ数で割算することにより求められる節約率を含むことを特徴とする請求項１に記載のサーバ。
【請求項３】
前記利用情報として保持された前記ジョブ情報に、前記論理ページ数及びレイアウト情報が含まれている場合、前記論理ページ数及び前記レイアウト情報から前記物理枚数を求め、
前記利用情報として保持された前記印刷情報に、前記物理枚数及びレイアウト情報が含まれている場合、前記物理枚数及び前記レイアウト情報から前記論理ページ数を求めることを特徴とする請求項１に記載のサーバ。
【請求項４】
前記レイアウト情報とは、１つの物理ページに対してレイアウトされる論理ページ数であることを特徴とする請求項３に記載のサーバ。
【請求項５】
前記利用情報として保持された前記ジョブ情報に、前記論理ページ数及び両面印刷情報が含まれている場合、前記論理ページ数及び前記両面印刷情報から前記物理枚数を求め、
前記利用情報として保持された前記印刷情報に、前記物理枚数及び両面印刷情報が含まれている場合、前記物理枚数及び前記両面印刷情報から前記論理ページ数を求めることを特徴とする請求項１に記載のサーバ。
【請求項６】
前記出力手段で出力された利用効率情報をユーザ毎に一覧表示するための表示制御手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のサーバ。
【請求項７】
論理ページ数を含むジョブ情報を、クライアントから取得する第１取得工程と、
物理枚数を含む印刷情報を、画像形成装置から取得する第２取得工程と、
取得された前記ジョブ情報又は前記印刷情報を、ジョブに関する利用情報として保持する保持工程と、
前記利用情報に基づき得られる論理ページ数及び物理枚数を用いて、前記画像形成装置の利用効率情報を出力する出力工程と、
を含むことを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
前記利用効率情報は、前記論理ページ数から前記物理枚数を減算し、更に前記論理ページ数で割算することにより求められる節約率を含むことを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項９】
前記利用情報として保持された前記ジョブ情報に、前記論理ページ数及びレイアウト情報が含まれている場合、前記論理ページ数及び前記レイアウト情報から前記物理枚数を求め、
前記利用情報として保持された前記印刷情報に、前記物理枚数及びレイアウト情報が含まれている場合、前記物理枚数及び前記レイアウト情報から前記論理ページ数を求めることを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項１０】
前記レイアウト情報とは、１つの物理ページに対してレイアウトされる論理ページ数であることを特徴とする請求項９に記載の情報処理方法。
【請求項１１】
前記利用情報として保持された前記ジョブ情報に、前記論理ページ数及び両面印刷情報が含まれている場合、前記論理ページ数及び前記両面印刷情報から前記物理枚数を求め、
前記利用情報として保持された前記印刷情報に、前記物理枚数及び両面印刷情報が含まれている場合、前記物理枚数及び前記両面印刷情報から前記論理ページ数を求めることを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項１２】
前記出力工程で出力された利用効率情報をユーザ毎に一覧表示するための表示制御工程をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項１３】
請求項７に記載の情報処理方法の各工程をサーバに実行させるためのプログラム。
【請求項１４】
画像形成装置において実行されるジョブに関する情報を管理するジョブアカウントシステムであって、
前記画像形成装置からジョブに関する印刷情報を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得された前記印刷情報を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された前記印刷情報に含まれる前記ジョブに関する物理枚数及びレイアウト情報に基づき前記ジョブに関する論理ページ数を算出する論理ページ数算出手段と、
前記論理ページ数算出手段により算出した論理ページ数及び前記物理枚数を用いて利用効率情報を出力する利用効率情報出力手段と有するジョブアカウントシステム。
【請求項１５】
画像形成装置において実行されるジョブに関する情報を管理する情報処理方法であって、
前記画像形成装置からジョブに関する印刷情報を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された前記印刷情報を保持する保持工程と、
前記保持工程で保持された前記印刷情報に含まれる前記ジョブに関する物理枚数及びレイアウト情報に基づき前記ジョブに関する論理ページ数を算出する論理ページ数算出工程と、
前記論理ページ数算出工程により算出した論理ページ数及び前記物理枚数を用いて利用効率情報を出力する利用効率情報出力工程と、
を含むことを特徴とする情報処理方法。
【請求項１６】
画像形成装置において実行されるジョブに関する情報を管理するジョブアカウントシステムであって、
前記画像形成装置からジョブに関する印刷情報を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得された前記印刷情報を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された前記印刷情報に含まれる物理枚数及び両面印刷情報に基づき論理ページ数を算出する論理ページ数算出手段と、
前記論理ページ数算出手段により算出した論理ページ数及び前記物理枚数を用いて利用効率情報を出力する利用効率情報出力手段と、
を有するジョブアカウントシステム。
【請求項１７】
画像形成方法において実行されるジョブに関する情報を管理する情報処理方法であって、
前記画像形成装置からジョブに関する印刷情報を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された前記印刷情報を保持する保持工程と、
前記保持工程で保持された前記印刷情報に含まれる物理枚数及び両面印刷情報に基づき論理ページ数を算出する論理ページ数算出工程と、
前記論理ページ数算出工程で算出した論理ページ数及び前記物理枚数を用いて利用効率情報を出力する利用効率情報出力工程と、
を有する情報処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月21日(2007.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射型液晶表示装置及びその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に設けられた半導体層と、
前記半導体層に電気的に接続された画素電極と、
前記画素電極の表面に設けられた、前記画素電極の酸化膜と、
第２の基板上に設けられた対向電極と、
前記対向電極上に設けられ、前記画素電極の酸化膜と同じ材質で形成された絶縁膜と、
対向する前記第１の基板と前記第２の基板の間に挟まれた液晶と、を有することを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記酸化膜に対する前記絶縁膜の膜厚の比が０．７〜１．３の範囲にあることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項３】
第１の基板上に設けられた半導体層と、
前記半導体層に電気的に接続された画素電極と、
前記画素電極の表面に設けられた、前記画素電極の酸化膜と、
第２の基板上に設けられた対向電極と、
前記対向電極上に設けられ、誘電率と膜厚の比が前記画素電極の酸化膜と等しい絶縁膜と、
対向する前記第１の基板と前記第２の基板の間に挟まれた液晶と、を有することを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記画素電極が反射電極であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記画素電極としてバルブメタルを用いることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記画素電極としてタンタル、アルミニウムのいずれかを主成分として用いることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記液晶はスメクチック液晶であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項８】
請求項７において、
前記スメクチック液晶が強誘電性液晶あるいは反強誘電性液晶であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記対向電極は透明導電膜を用いて形成されることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、
前記酸化膜は、前記画素電極の陽極酸化膜を用いて形成されることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の反射型液晶表示装置は、パーソナルコンピュータ、ビデオカメラ、携帯型情報端末、デジタルカメラ、デジタルビデオディスクプレーヤー、または電子遊技機器であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項１２】
第１の基板上に半導体層を形成し、
前記半導体層上に画素電極を形成し、
前記画素電極の表面を酸化して酸化膜を形成し、
第２の基板上に対向電極を形成し、
前記対向電極上に、前記酸化膜と材質が同じ絶縁膜を形成し、
前記第１の基板と前記第２の基板を貼り合わせることを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記酸化膜に対する前記絶縁膜の膜厚の比が０．７〜１．３の範囲にあることを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３において、
前記酸化膜と前記絶縁膜の誘電率と膜厚の比が等しいことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれか一項において、
前記画素電極としてバルブメタルを用いることを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１２乃至１４のうちいずれか一項において、
前記画素電極としてタンタル、アルミニウムのいずれかを主成分として用いることを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１２乃至１６のいずれか一項において、
前記酸化膜の表面にＣＭＰを施すことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１２乃至１７のいずれか一項において、
前記酸化膜は、前記画素電極を陽極酸化することによって形成されることを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
反射型液晶表示装置の例であるので、画素開口部に入射した光は、単層の着色層９３をそれぞれ通過した後、液晶１４を通過して反射機能を有する画素電極１６０で反射し、再度、液晶１４、単層の着色層９３をそれぞれ通過して、それぞれの色の光が抽出され、観察者に認識される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
本実施例では有機溶媒に無機材料の粒子を分散させたコロイド溶液をスピナーで塗布し、ベークにより有機溶媒を揮発させて絶縁膜９５を形成する。アクティブマトリクス基板の画素電極に形成された陽極酸化膜が比誘電率が８．５の酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）膜を２０ｎｍ形成しているため、図７の透明導電膜９４は比誘電率が１４の日産化学社製のＡＴ−９０２を３３ｎｍの厚さで形成する。これにより陽極酸化膜と絶縁膜９５による電圧損失が等しくなり、液晶にかかる電位が対称になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
無機材料の粒子として酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）を分散させたコロイド溶液をスピナーで塗布し、ベークにより有機溶媒を揮発させると、図５で示すアクティブマトリクス基板の画素電極上の陽極酸化膜１６６と同じ主成分で絶縁膜９５を形成することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
本実施例では対向基板にスピナーにより絶縁膜９５を塗布したが、対向基板の透明導電膜９４にも金属膜を形成し、金属膜を陽極酸化して絶縁膜９５を形成しても良い。このとき、透明導電膜と透明導電膜上の金属膜が電触しないような組み合わせを選択する必要がある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月27日(2007.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁性基板、これに対向して設けられた第２の絶縁基板、該第１の絶縁性基板と該第２の絶縁基板との間に挟まれた液晶層を有する液晶表示装置において、
前記第１の絶縁基板には、複数のゲート配線と、該複数のゲート配線上に形成された絶縁膜と、該絶縁膜の上に形成された複数のドレイン配線とを有し、
前記複数のゲート配線と前記複数のドレイン配線とで囲われる領域に対応して画素が構成されており、
該画素には、
下部電極と、該下部電極の上方に配置した前記絶縁膜と、該絶縁膜の上方に配置した半導体層と、前記絶縁膜及び前記半導体層の上方に配置した第１の保護膜と、該第１の保護膜の上方に配置した有機系膜で構成された第２の保護膜と、該第２の保護膜の上方に配置された上部電極を有しており、
前記上部電極は、前記半導体層、前記第１の保護膜、及び前記第２の保護膜に形成されたコンタクトホールを介して前記絶縁膜と接触していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１の液晶表示装置において、
前記画素には、薄膜トランジスタが配置されており、
該薄膜トランジスタに、前記上部電極が接続されている液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２の液晶表示装置において、
前記上部電極は、透明導電膜で構成されている液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３の液晶表示装置において、
前記透明導電膜は、ＩＴＯ若しくはＩＺＯである液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の液晶表示装置において、
前記絶縁膜はＳｉＮで構成されている液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の液晶表示装置において、
前記第１の保護膜はＳｉＮで構成されている液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の液晶表示装置において、
前記第２の保護膜は、アクリル樹脂で構成されている液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項に記載の液晶表示装置において、
前記第２の保護膜は、前記第１の保護膜よりも厚く構成されている液晶表示装置。