【手続補正書】
【提出日】平成30年11月27日(2018.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非水性溶媒系と；少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤と；金属リン酸塩から選択される少なくとも１種の無機塩と；を含む液体除草組成物であって、
少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤が、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン、クロリムロン、クロルスルフロン、シノスルフロン、シクロスルファムロン、エタメトスルフロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、ホラムスルフロン、ハロスルフロン、イマゾスルフロン、イオフェンスルフロン、メソスルフロン、メタゾスルフロン、メトスルフロン、ニコスルフロン、オルトスルファムロン、オキサスルフロン、プリミスルフロン、プロピリスルフロン、プロスルフロン、ピラゾスルフロン、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホスルフロン、チフェンスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリフロキシスルフロン、トリフルスルフロンおよびトリトスルフロン、またはそれらの塩もしくはエステルから選択され、
少なくとも１種の無機塩が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、ＭｇまたはＡｌから選択される金属を含んでなるが、三リン酸ナトリウムを含まない、上記組成物。
【請求項２】
無機塩が、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、ＭｇまたはＡｌから選択される金属を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
無機塩が、Ｎａ３ＰＯ４、Ｋ３ＰＯ４、Ｍｇ３（ＰＯ４）２およびＡｌＰＯ４から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
油性分散液（ＯＤ）、分散製剤（ＤＣ）、乳剤（ＥＣ）、または液剤（ＳＬ）として配合されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
組成物が、油性分散液（ＯＤ）として配合され、少なくとも１種のスルホニル尿素が、前記非水性溶媒系中に懸濁されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
少なくとも１種の無機塩が、前記非水性溶媒系中に懸濁されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記スルホニル尿素除草剤が、ベンスルフロン、クロリムロン、クロルスルフロン、ホラムスルフロン、メソスルフロン、メトスルフロン、ニコスルフロン、ピラゾスルフロン、リムスルフロン、チフェンスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロン、またはそれらの塩もしくはエステルから選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
少なくとも１種の無機塩がＮａ３ＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、トリベヌロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ベンスルフロンメチル、ホラムスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、クロルスルフロン、アミドスルフロン、およびトリアスルフロンから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＭｇ３（ＰＯ４）２であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、リムスルフロン、ベンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、クロリムロンエチル、およびトリアスルフロンから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＡｌＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、メトスルフロンメチル、ハロスルフロンメチルまたはリムスルフロンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
少なくとも１種の無機塩がＮａ３ＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、トリベヌロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ベンスルフロンメチル、ホラムスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、クロルスルフロンおよびトリアスルフロンから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＭｇ３（ＰＯ４）２であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、リムスルフロン、ベンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチルおよびクロリムロンエチルから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＡｌＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、メトスルフロンメチルまたはリムスルフロンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤が、ニコスルフロンではなく、および／または、ピリジルスルホニル尿素ではない、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
少なくとも１種の非スルホニル尿素除草化合物を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
少なくとも１種の非スルホニル尿素除草化合物が、前記非水性溶媒系中に溶解されている、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記非スルホニル尿素除草化合物が、２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、２，３，６−ＴＢＡ、アセトクロル、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム、アクロニフェン、アラクロール、アロキシジム、アロキシジムナトリウム、アメトリン、アミカルバゾン、アミノピラリド、アミトロール、アニロホス、アシュラム、アトラジン、アザフェニジン、ベフルブタミド、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、ベンフレセート、ベンタゾン、ベンズフェンジゾン、ベンゾビシクロン、ベンゾフェナップ、ビフェノックス、ビラナフォス、ビスピリバックナトリウム、ブロマシル、ブロモブチド、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、ブタクロール、ブタフェナシル、ブテナクロル、ブトラリン、ブトロキシジム、ブチレート、カフェンストロール、カルベタミド、カルフェントラゾンエチル、クロメトキシフェン、クロリダゾン、クロルニトロフェン、クロロトルロン、シニドンエチル、シンメチリン、クレホキシジム、クレトジム、クロジナホッププロパルギル、クロマゾン、クロメプロップ、クロピラリド、クロランスラムエチル、クミルロン、シアナジン、シクロキシジム、シハロホップブチル、ダイムロン、ダゾメット、デスメディファム、ジカンバ、ジクロベニル、ジクロルプロップ、ジクロルプロップ−Ｐ、ジクロホップ−メチル、ジクロスラム、ジフェンゾクワット、ジフルフェニカン、ジフルフェンゾピル、ジケグラックナトリウム、ジメフロン、ジメピペレート、ジメタクロール、ジメタメトリン、ジメテナミド、二臭化ジクワット、ジチオピル、ジウロン、ジムロン、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、エタルフルラリン、エトフメセート、エトキシフェン、エトベンザニド、フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、フェントラザミド、フラムプロップ−Ｍ−イソプロピル、フラムプロップ−Ｍ−メチル、フロラスラム、フルアジホップ、フルアジホップブチル、フルアゾレート、フルカルバゾンナトリウム、フルクロラリン、フルフェナセト、フルフェンピル、フルメツラム、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、フルオメツロン、フルオロクロリドン、フルオログリコフェンエチル、フルポキサム、フルリドン、フルロキシピル、フルロキシピルブトキシプロピル、フルロキシピルメプチル、フルルプリミドール、フルルタモン、フルチアセットメチル、ホメサフェン、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、グリホサート、ハロキシホップ、ハロキシホップエトキシエチル、ハロキシホップメチル、ハロキシホップ−Ｐ−メチル、ヘキサジノン、イマザメタベンズメチル、イマザモックス、イマザピック、イマザピル、イマザキン、イマゼタピル、インダノファン、イオキシニル、イソプロチュロン、イソウロン、イソキサベン、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、ケトスピラドックス、ラクトフェン、レナシル、リニュロン、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、メコプロップ、メコプロップ−Ｐ、メフェナセット、メソトリオン、メタミホップ、メタミトロン、メタザクロル、メタベンズチアズロン、メチルジムロン、メトブロムロン、メトラクロル、メトスラム、メトクスロン、メトリブジン、モリネート、モノリニュロン、ナプロアニリド、ナプロパミド、ネブロン、ノルフルラゾン、オルベンカルブ、オリザリン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、オキサジクロメホン、オキシフルオルフェン、パラコート、ペラルゴン酸、ペンジメタリン、ペンドラリン、ペノキススラム、ペントキサゾン、ペトキサミド、フェンメジファム、ピクロラム、ピコリナフェン、ピノキサデン、ピペロホス、プレチラクロール、プロフルアゾール、プロホキシジム、プロメトリン、プロパクロル、プロパニル、プロパキザホップ、プロピソクロール、プロポキシカルバゾンナトリウム、プロピザミド、プロスルホカルブ、ピラクロニル、ピラフルフェンエチル、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ピリベンゾキシム、ピリブチカルブ、ピリダフォル、ピリデート、ピリフタリド、ピリミノバックメチル、ピリチオバックナトリウム、キンクロラック、キンメラック、キノクラミン、キザロホップエチル、キザロホップ−Ｐ−エチル、キザロホップ−Ｐ−テフリル、セトキシジム、シマジン、シメトリン、Ｓ−メトラクロル、スルコトリオン、スルフェントラゾン、スルホセート、テブチウロン、テプラロキシジム、テルブチラジン、テルブトリン、テニルクロール、チアゾピル、チオベンカルブ、チオカルバジル、トラルコキシジム、トリアレート、トリアジフラム、トリクロピル、トリジファン、およびトリフルラリンから選択される、請求項１１または１２に記載の組成物。
【請求項１４】
少なくとも２種のスルホニル尿素化合物を含み、該スルホニル尿素化合物は、
ニコスルフロンおよびチフェンスルフロンメチル；
ニコスルフロンおよびプロスルフロン；
メトスルフロンメチルおよびヨードスルフロンメチル；
メトスルフロンメチルおよびスルホスルフロン；
メトスルフロンメチルおよびチフェンスルフロンメチル；
メトスルフロンメチルおよびベンスルフロンメチル；
メトスルフロンメチルおよびクロルスルフロン；
メトスルフロンメチルおよびクロリムロンエチル；
メトスルフロンメチルおよびトリベヌロンメチル；
トリベヌロンメチルおよびチフェンスルフロンメチル；
トリベヌロンメチルおよびクロリムロンエチル；
トリベヌロンメチルおよびベンスルフロンメチル；
トリベヌロンメチルおよびメソスルフロン；
トリベヌロンメチルおよびヨードスルフロンメチル；
ヨードスルフロンメチルおよびメソスルフロンメチル；
ヨードスルフロンメチルおよびアミドスルフロン；
ヨードスルフロンメチルおよびホラムスルフロン；
メソスルフロンおよびヨードスルフロンメチル；
ホラムスルフロンおよびヨードスルフロンメチル；
リムスルフロンおよびチフェンスルフロン
リムスルフロンおよびニコスルフロン；
ベンスルフロンメチルおよびチフェンスルフロンメチル；または
チフェンスルフロンメチルおよびクロリムロンエチル
から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤および少なくとも１種の非スルホニル尿素除草剤を含み、該少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤および該少なくとも１種の非スルホニル尿素除草剤は、
トリベヌロンメチルおよび２，４−Ｄ；
トリベヌロンメチルおよびＭＣＰＢ；
トリベヌロンメチルおよびブロモキシニル；
トリベヌロンメチルおよびグリホサート（glyphosphate）；
トリベヌロンメチルおよびフルロキシピル；
トリベヌロンメチルおよびジカンバ；
トリベヌロンメチルおよびメコプロップ−Ｐ；
トリベヌロンメチルおよびＭＣＰＡ；
トリベヌロンメチルおよびクロピラリド；
トリベヌロンメチルおよびカルフェントラゾンエチル；
トリベヌロンメチルおよびクロジナホップ；
トリベヌロンメチルおよびキンクロラック；
トリベヌロンメチルおよびフロラスラム；
ニコスルフロンおよびジカンバ；
ニコスルフロンおよびアトラジン；
ニコスルフロンおよびフルメツラム；
ニコスルフロンおよびクロピラリド；
ニコスルフロンおよびジフルフェンゾピル（diflupenzopyr）；
ニコスルフロンおよびメトラクロル；
ニコスルフロンおよびテルブチラジン；
ニコスルフロンおよびメソトリオン；
ニコスルフロンおよびベンタゾン；
メトスルフロンメチルおよびアセトクロル；
メトスルフロンメチルおよびカルフェントラゾンエチル；
メトスルフロンメチルおよびイマザピル；
メトスルフロンメチルおよびアミノピラリド；
メトスルフロンメチルおよびフルロキシピル；
メトスルフロンメチルおよびメコプロップ−ｐ；
メトスルフロンメチルおよびピクロラム；
メトスルフロンメチルおよびピラフルフェンエチル；
メトスルフロンメチルおよびプロパニル；
メトスルフロンメチルおよびグリホサートアンモニウム；
メトスルフロンメチルおよびジカンバ；
メトスルフロンメチルおよび２，４−Ｄ；
ベンスルフロンメチルおよびアセトクロル；
ベンスルフロンメチルおよびブタクロール；
ベンスルフロンメチルおよびダイムロン；
ベンスルフロンメチルおよびメフェナセット；
ベンスルフロンメチルおよびインダノファン；
ベンスルフロンメチルおよびクロメプロップ；
ベンスルフロンメチルおよびプレチラクロール；
ベンスルフロンメチルおよびフェントラザミド；
ベンスルフロンメチルおよびテニルクロール；
ベンスルフロンメチルおよびペントキサゾン；
ベンスルフロンメチルおよびピリミノバックメチル；
ベンスルフロンメチルおよびブロモブチド；
トリフルスルフロンメチルおよびスルフェントラゾン；
メソスルフロンおよびジフルフェニカン；
メソスルフロンおよびプロポキシカルバゾン；
ホラムスルフロンおよびイソキサジフェンエチル；
ホラムスルフロンおよびチエンカルバゾンメチル；
ホラムスルフロンおよびシプロスルファミド；
ホラムスルフロンおよびチエンカルバゾンメチル；
チフェンスルフロンメチルおよびフルミオキサジン；
クロリムロンエチルおよびアセトクロル；
クロリムロンエチルおよびフルミオキサジン；
クロリムロンエチルおよびイマゼタピル；
クロリムロンエチルおよびメトリブジン；
クロリムロンエチルおよびスルフェントラゾン；
ピラスルフロンエチルおよびプレチラクロール；
ピラスルフロンエチルおよびベンゾビシクロン；
ピラスルフロンエチルおよびジメタメトリン；
リムスルフロンおよびメソトリオン；
リムスルフロンおよびメトラクロル；および
リムスルフロンおよびジカンバ；
から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
メトスルフロンメチル（任意選択でナトリウム塩として）、フルロキシピルメプチル、Ｎａ３ＰＯ４および酢酸イソボルニルを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
非水性溶媒系を含む液体組成物中のスルホニル尿素除草剤の化学的安定化を改善するための、金属リン酸塩から選択される無機塩の使用であって、
少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤が、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン、クロリムロン、クロルスルフロン、シノスルフロン、シクロスルファムロン、エタメトスルフロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、ホラムスルフロン、ハロスルフロン、イマゾスルフロン、イオフェンスルフロン、メソスルフロン、メタゾスルフロン、メトスルフロン、ニコスルフロン、オルトスルファムロン、オキサスルフロン、プリミスルフロン、プロピリスルフロン、プロスルフロン、ピラゾスルフロン、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホスルフロン、チフェンスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリフロキシスルフロン、トリフルスルフロンおよびトリトスルフロン、またはそれらの塩もしくはエステルから選択され、
少なくとも１種の無機塩が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、ＭｇまたはＡｌから選択される金属を含んでなるが、三リン酸ナトリウムを含まない、上記使用。
【請求項１８】
請求項１７に記載のスルホニル尿素除草剤の化学的安定化を改善するための無機塩の使用であって、
無機塩が、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、ＭｇまたはＡｌから選択される金属を含んでなり、スルホニル尿素除草剤が、ベンスルフロン、クロリムロン、クロルスルフロン、ホラムスルフロン、メソスルフロン、メトスルフロン、ニコスルフロン、ピラゾスルフロン、リムスルフロン、チフェンスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロン、またはそれらの塩もしくはエステルから選択される、上記使用。
【請求項１９】
請求項１７に記載のスルホニル尿素除草剤の化学的安定化を改善するための無機塩の使用であって、
少なくとも１種の無機塩がＮａ３ＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、トリベヌロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ベンスルフロンメチル、ホラムスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、クロルスルフロン、アミドスルフロン、およびトリアスルフロンから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＭｇ３（ＰＯ４）２であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、リムスルフロン、ベンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、クロリムロンエチル、およびトリアスルフロンから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＡｌＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、メトスルフロンメチル、ハロスルフロンメチルまたはリムスルフロンである、上記使用。
【請求項２０】
請求項１７に記載のスルホニル尿素除草剤の化学的安定化を改善するための無機塩の使用であって、
少なくとも１種の無機塩がＮａ３ＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、トリベヌロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ベンスルフロンメチル、ホラムスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、クロルスルフロンおよびトリアスルフロンから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＭｇ３（ＰＯ４）２であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、リムスルフロン、ベンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチルおよびクロリムロンエチルから選択されるか；または
少なくとも１種の無機塩がＡｌＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、メトスルフロンメチルまたはリムスルフロンである、上記使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
上記の発明の説明および包含される実施例は、例示的であり、限定するものではないことが意図される。本明細書で言及された全ての文献は、参照により組み入れられる。当業者であれば、本明細書に記載された実施態様における様々な変更または改変を考え付くことができる。これらの変更は、本発明の範囲または本質から逸脱することなくなすことができる。
（１）  非水性溶媒系；少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤；および、金属炭酸塩および金属リン酸塩から選択される少なくとも１種の無機塩；を含む液体除草組成物。
（２）  無機塩が、アルカリ金属リン酸塩およびアルカリ金属炭酸塩から選択される、（１）に記載の組成物。
（３）  無機塩が、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、ＭｇまたはＡｌから選択される金属を含む、（１）に記載の組成物。
（４）  無機塩が、Ｎａ３ＰＯ４、Ｋ３ＰＯ４、Ｍｇ３（ＰＯ４）２、ＡｌＰＯ４、およびＮａ２ＣＯ３から選択される、（１）〜（３）のいずれか一項に記載の組成物。
（５）  油性分散液（ＯＤ）、分散製剤（ＤＣ）、乳剤（ＥＣ）、または液剤（ＳＬ）として配合されている、（１）〜（４）のいずれか一項に記載の組成物。
（６）  組成物が、油性分散液（ＯＤ）として配合され、少なくとも１種のスルホニル尿素が、前記非水性溶媒系中に懸濁されている、（１）〜（５）のいずれか一項に記載の組成物。
（７）  少なくとも１種の無機塩が、前記非水性溶媒系中に懸濁されている、（１）〜（６）のいずれか一項に記載の組成物。
（８）  前記スルホニル尿素除草剤が、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン、クロリムロン、クロルスルフロン、シノスルフロン、シクロスルファムロン、エタメトスルフロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、ホラムスルフロン、ハロスルフロン、イマゾスルフロン、ヨードスルフロン、イオフェンスルフロン、メソスルフロン、メタゾスルフロン、メトスルフロン、ニコスルフロン、オルトスルファムロン、オキサスルフロン、プリミスルフロン、プロピリスルフロン、プロスルフロン、ピラゾスルフロン、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホスルフロン、チフェンスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリフロキシスルフロン、トリフルスルフロンおよびトリトスルフロン、またはそれらの塩もしくはエステルから選択される、（１）〜（７）のいずれか一項に記載の組成物。
（９）  少なくとも１種の無機塩がＮａ３ＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、トリベヌロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ベンスルフロンメチル、ホラムスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、クロルスルフロン、アミドスルフロン、およびトリアスルフロンから選択されるか；または、少なくとも１種の無機塩がＮａ２ＣＯ３であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、トリベヌロンメチルおよびニコスルフロンから選択されるか；または、少なくとも１種の無機塩がＭｇ３（ＰＯ４）２であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、リムスルフロン、ベンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、クロリムロンエチル、およびトリアスルフロンから選択されるか；または、少なくとも１種の無機塩がＡｌＰＯ４であり、少なくとも１種のスルホニル尿素が、メトスルフロンメチル、ハロスルフロンメチルまたはリムスルフロンである、（１）〜（８）のいずれか一項に記載の組成物。
（１０）  少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤が、ニコスルフロンではなく、および／またはピリジルスルホニル尿素ではない、（１）〜（９）のいずれか一項に記載の組成物。
（１１）  少なくとも１種の非スルホニル尿素除草化合物を含む、（１）〜（１０）のいずれか一項に記載の組成物。
（１２）  少なくとも１種の非スルホニル尿素除草化合物が、前記非水性溶媒系中に溶解されている、（１１）に記載の組成物。
（１３）  前記非スルホニル尿素除草化合物が、２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、２，３，６−ＴＢＡ、アセトクロル、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム、アクロニフェン、アラクロール、アロキシジム、アロキシジムナトリウム、アメトリン、アミカルバゾン、アミノピラリド、アミトロール、アニロホス、アシュラム、アトラジン、アザフェニジン、ベフルブタミド、ベナゾリン、ベナゾリンエチル、ベンフレセート、ベンタゾン、ベンズフェンジゾン、ベンゾビシクロン、ベンゾフェナップ、ビフェノックス、ビラナフォス、ビスピリバックナトリウム、ブロマシル、ブロモブチド、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、ブタクロール、ブタフェナシル、ブテナクロル、ブトラリン、ブトロキシジム、ブチレート、カフェンストロール、カルベタミド、カルフェントラゾンエチル、クロメトキシフェン、クロリダゾン、クロルニトロフェン、クロロトルロン、シニドンエチル、シンメチリン、クレホキシジム、クレトジム、クロジナホッププロパルギル、クロマゾン、クロメプロップ、クロピラリド、クロランスラムエチル、クミルロン、シアナジン、シクロキシジム、シハロホップブチル、ダイムロン、ダゾメット、デスメディファム、ジカンバ、ジクロベニル、ジクロルプロップ、ジクロルプロップ−Ｐ、ジクロホップ−メチル、ジクロスラム、ジフェンゾクワット、ジフルフェニカン、ジフルフェンゾピル、ジケグラックナトリウム、ジメフロン、ジメピペレート、ジメタクロール、ジメタメトリン、ジメテナミド、二臭化ジクワット、ジチオピル、ジウロン、ジムロン、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、エタルフルラリン、エトフメセート、エトキシフェン、エトベンザニド、フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、フェントラザミド、フラムプロップ−Ｍ−イソプロピル、フラムプロップ−Ｍ−メチル、フロラスラム、フルアジホップ、フルアジホップブチル、フルアゾレート、フルカルバゾンナトリウム、フルクロラリン、フルフェナセト、フルフェンピル、フルメツラム、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、フルオメツロン、フルオロクロリドン、フルオログリコフェンエチル、フルポキサム、フルリドン、フルロキシピル、フルロキシピルブトキシプロピル、フルロキシピルメプチル、フルルプリミドール、フルルタモン、フルチアセットメチル、ホメサフェン、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム、グリホサート、ハロキシホップ、ハロキシホップエトキシエチル、ハロキシホップメチル、ハロキシホップ−Ｐ−メチル、ヘキサジノン、イマザメタベンズメチル、イマザモックス、イマザピック、イマザピル、イマザキン、イマゼタピル、インダノファン、イオキシニル、イソプロチュロン、イソウロン、イソキサベン、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、ケトスピラドックス、ラクトフェン、レナシル、リニュロン、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、メコプロップ、メコプロップ−Ｐ、メフェナセット、メソトリオン、メタミホップ、メタミトロン、メタザクロル、メタベンズチアズロン、メチルジムロン、メトブロムロン、メトラクロル、メトスラム、メトクスロン、メトリブジン、モリネート、モノリニュロン、ナプロアニリド、ナプロパ���ド、ネブロン、ノルフルラゾン、オルベンカルブ、オリザリン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、オキサジクロメホン、オキシフルオルフェン、パラコート、ペラルゴン酸、ペンジメタリン、ペンドラリン、ペノキススラム、ペントキサゾン、ペトキサミド、フェンメジファム、ピクロラム、ピコリナフェン、ピノキサデン、ピペロホス、プレチラクロール、プロフルアゾール、プロホキシジム、プロメトリン、プロパクロル、プロパニル、プロパキザホップ、プロピソクロール、プロポキシカルバゾンナトリウム、プロピザミド、プロスルホカルブ、ピラクロニル、ピラフルフェンエチル、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ピリベンゾキシム、ピリブチカルブ、ピリダフォル、ピリデート、ピリフタリド、ピリミノバックメチル、ピリチオバックナトリウム、キンクロラック、キンメラック、キノクラミン、キザロホップエチル、キザロホップ−Ｐ−エチル、キザロホップ−Ｐ−テフリル、セトキシジム、シマジン、シメトリン、Ｓ−メトラクロル、スルコトリオン、スルフェントラゾン、スルホセート、テブチウロン、テプラロキシジム、テルブチラジン、テルブトリン、テニルクロール、チアゾピル、チオベンカルブ、チオカルバジル、トラルコキシジム、トリアレート、トリアジフラム、トリクロピル、トリジファン、およびトリフルラリンから選択される、（１１）または（１２）に記載の組成物。
（１４）  少なくとも２種のスルホニル尿素化合物を含み、該スルホニル尿素化合物は、
ニコスルフロンおよびチフェンスルフロンメチル；
ニコスルフロンおよびプロスルフロン；
メトスルフロンメチルおよびヨードスルフロンメチル；
メトスルフロンメチルおよびスルホスルフロン；
メトスルフロンメチルおよびチフェンスルフロンメチル；
メトスルフロンメチルおよびベンスルフロンメチル；
メトスルフロンメチルおよびクロルスルフロン；
メトスルフロンメチルおよびクロリムロンエチル；
メトスルフロンメチルおよびトリベヌロンメチル；
トリベヌロンメチルおよびチフェンスルフロンメチル；
トリベヌロンメチルおよびクロリムロンエチル；
トリベヌロンメチルおよびベンスルフロンメチル；
トリベヌロンメチルおよびメソスルフロン；
トリベヌロンメチルおよびヨードスルフロンメチル；
ヨードスルフロンメチルおよびメソスルフロンメチル；
ヨードスルフロンメチルおよびアミドスルフロン；
ヨードスルフロンメチルおよびホラムスルフロン；
メソスルフロンおよびヨードスルフロンメチル；
ホラムスルフロンおよびヨードスルフロンメチル；
リムスルフロンおよびチフェンスルフロン
リムスルフロンおよびニコスルフロン；
ベンスルフロンメチルおよびチフェンスルフロンメチル；または
チフェンスルフロンメチルおよびクロリムロンエチル
から選択される、（１）〜（１３）のいずれか一項に記載の組成物。
（１５）  少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤および少なくとも１種の非スルホニル尿素除草剤を含み、該少なくとも１種のスルホニル尿素除草剤および該少なくとも１種の非スルホニル尿素除草剤は、
トリベヌロンメチルおよび２，４−Ｄ；
トリベヌロンメチルおよびＭＣＰＢ；
トリベヌロンメチルおよびブロモキシニル；
トリベヌロンメチルおよびグリホサート（glyphosphate）；
トリベヌロンメチルおよびフルロキシピル；
トリベヌロンメチルおよびジカンバ；
トリベヌロンメチルおよびメコプロップ−Ｐ；
トリベヌロンメチルおよびＭＣＰＡ；
トリベヌロンメチルおよびクロピラリド；
トリベヌロンメチルおよびカルフェントラゾンエチル；
トリベヌロンメチルおよびクロジナホップ；
トリベヌロンメチルおよびキンクロラック；
トリベヌロンメチルおよびフロラスラム；
ニコスルフロンおよびジカンバ；
ニコスルフロンおよびアトラジン；
ニコスルフロンおよびフルメツラム；
ニコスルフロンおよびクロピラリド；
ニコスルフロンおよびジフルフェンゾピル（diflupenzopyr）；
ニコスルフロンおよびメトラクロル；
ニコスルフロンおよびテルブチラジン；
ニコスルフロンおよびメソトリオン；
ニコスルフロンおよびベンタゾン；
メトスルフロンメチルおよびアセトクロル；
メトスルフロンメチルおよびカルフェントラゾンエチル；
メトスルフロンメチルおよびイマザピル；
メトスルフロンメチルおよびアミノピラリド；
メトスルフロンメチルおよびフルロキシピル；
メトスルフロンメチルおよびメコプロップ−ｐ；
メトスルフロンメチルおよびピクロラム；
メトスルフロンメチルおよびピラフルフェンエチル；
メトスルフロンメチルおよびプロパニル；
メトスルフロンメチルおよびグリホサートアンモニウム；
メトスルフロンメチルおよびジカンバ；
メトスルフロンメチルおよび２，４−Ｄ；
ベンスルフロンメチルおよびアセトクロル；
ベンスルフロンメチルおよびブタクロール；
ベンスルフロンメチルおよびダイムロン；
ベンスルフロンメチルおよびメフェナセット；
ベンスルフロンメチルおよびインダノファン；
ベンスルフロンメチルおよびクロメプロップ；
ベンスルフロンメチルおよびプレチラクロール；
ベンスルフロンメチルおよびフェントラザミド；
ベンスルフロンメチルおよびテニルクロール；
ベンスルフロンメチルおよびペントキサゾン；
ベンスルフロンメチルおよびピリミノバックメチル；
ベンスルフロンメチルおよびブロモブチド；
トリフルスルフロンメチルおよびスルフェントラゾン；
ヨードスルフロンメチルおよびイソキサジフェンエチル；
ヨードスルフロンメチルおよびプロポキシカルバゾン；
ヨードスルフロンメチルおよびジフルフェニカン；
ヨードスルフロンメチルおよびフェノキサプロップ−Ｐ−エチル；
ヨードスルフロンメチルおよびチエンカルバゾンメチル
メソスルフロンおよびジフルフェニカン；
メソスルフロンおよびプロポキシカルバゾン；
ホラムスルフロンおよびイソキサジフェンエチル；
ホラムスルフロンおよびチエンカルバゾンメチル；
ホラムスルフロンおよびシプロスルファミド；
ホラムスルフロンおよびチエンカルバゾンメチル；
チフェンスルフロンメチルおよびフルミオキサジン；
クロリムロンエチルおよびアセトクロル；
クロリムロンエチルおよびフルミオキサジン；
クロリムロンエチルおよびイマゼタピル；
クロリムロンエチルおよびメトリブジン；
クロリムロンエチルおよびスルフェントラゾン；
ピラスルフロンエチルおよびプレチラクロール；
ピラスルフロンエチルおよびベンゾビシクロン；
ピラスルフロンエチルおよびジメタメトリン；
リムスルフロンおよびメソトリオン；
リムスルフロンおよびメトラクロル；および
リムスルフロンおよびジカンバ
から選択される、（１）〜（１３）のいずれか一項に記載の組成物。
（１６）  前記スルホニル尿素が、５４℃で２週間で貯蔵した場合、−１０℃で２週間貯蔵した対照組成物と比べて少なくとも８５％の化学的安定性を呈する、（１）〜（１５）のいずれか一項に記載の組成物。
（１７）  前記スルホニル尿素の化学的安定性が、前記金属炭酸塩および金属リン酸塩から選択される少なくとも１種の無機塩を含有しない対応する液体組成物と比較して少なくとも１０％改善されている、（１６）に記載の組成物。
（１８）  メトスルフロンメチル（任意選択でナトリウム塩として）、フルロキシピルメプチル、Ｎａ３ＰＯ４および酢酸イソボルニルを含む、（１）〜（１７）のいずれか一項に記載の組成物。
（１９）  非水性溶媒系を含む液体組成物中のスルホニル尿素除草剤の化学的安定化を改善するための、金属炭酸塩および金属リン酸塩から選択される無機塩の使用。
（２０）  無機塩がＮａ３ＰＯ４であり、スルホニル尿素が、トリベヌロンメチル、メトスルフロンメチル、ニコスルフロン、ベンスルフロンメチル、ホラムスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、クロルスルフロン、アミドスルフロン、またはトリアスルフロンであるか；または、無機塩がＮａ２ＣＯ３であり、スルホニル尿素が、トリベヌロンメチルまたはニコスルフロンであるか；または、無機塩がＭｇ３（ＰＯ４）２であり、スルホニル尿素が、リムスルフロン、ベンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、クロリムロンエチル、またはトリアスルフロンであるか；または、無機塩がＡｌＰＯ４であり、スルホニル尿素が、メトスルフロンメチル、ハロスルフロンメチルまたはリムスルフロンである、（１９）に記載のスルホニル尿素除草剤の化学的安定化を改善するための無機塩の使用。