Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月14日(2008.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レイジングのために再生フィードバックのためのミラーを備えたファブリ・ペローレーザキャビティと前記ミラーの間のクラッディングに少なくとも１つの、それぞれに屈折率の局所的変化を引き起こす特徴構造とを有するエッジ発光半導体レーザ装置を設計する方法であって、各特徴構造とキャビティミラーとの間のサブキャビティにおけるフィードバックと、前記キャビティのファブリ・ペローモードの閾値利得の変化との間の関係に基づいて前記特徴構造の位置を決定する過程を含み、
装置のファブリ・ペロー基準モード、キャビティミラー反射率、特徴構造の数、必要な閾値利得変化の形を設定する過程と、
特徴構造の密度関数を作る過程と、
前記特徴構造密度関数を一様にサンプリングする過程と、
共振フィードバックの大きさを最適化するべく、前記サンプリングによって示された特徴構造の位置を調整する過程とを更に含み、
前記特徴構造密度関数が、所望の閾値利得変化関数のフーリエ変換により閾値変化振幅の式を乗ずることによって得られ、前記特徴構造密度関数が、
【数１】
2008507128.tif 000001
であり、
ここで、前記利得は前記キャビティの長さに沿って一様に分布するものとし、
【数２】
2008507128.tif 000002
は乱れのないキャビティのミラー損失、
Ｌｃａｖはキャビティ長、
ｒ１及びｒ２はキャビティミラーの反射率、
Ｆ（∈）は閾値変化関数のフーリエ変換、
ε＝η−１／２であって、ηが全キャビティ長の一部として表されるキャビティに沿って特徴構造の位置である
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記フーリエ変換が正と負の成分を有し、前記正と負の成分から、前記キャビティミラーの一方からの距離が、前記レーザスペクトルに複数のモードが存在して、選択されたモードｍ０において発光される光の１／４波長の値の１／２倍を偶数に加えた値、及び前記１／４波長の値の１／２倍を奇数に加えた値の大きさにある位置がスロット位置として求められることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記サンプリングが、導入される特徴構造の総数によって決定されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記サンプリングが、式
【数５０】
2008507128.tif 000003
に従って行われ、
規格化定数Ａは、前記特徴構造密度関数Γ(χ)＝exp[−πχ2／τ2] をサンプリングするために特定しなければならない、導入されるべき特徴構造の数によって決定され、かつ前記装置が単一モードのレーザであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記サンプリングが、式
【数５１】
2008507128.tif 000004
に従って行われ、
規格化定数Ａは、前記特徴構造密度関数をサンプリングするために特定しなければならない、導入されるべき特徴構造の数によって決定され、かつ前記装置がモード間隔ａのファブリ・ペローモードの２モードレーザであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記特徴構造は、前記クラッディングにおけるスロットであることを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の方法。
【請求項７】
前記スロットが、クラッディング突条部に設けられることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
レイジングのための再生フィードバックのためのミラーを備えたファブリ・ペローレーザキャビティを備えるエッジ発光半導体レーザ装置の製造方法であって、
請求項１乃至７の何れかに記載の方法で前記装置を設計する過程と、
キャビティ突条部にスロットを設けた装置を製造する過程であって、前記突条部を形成するリソグラフィー段階及びエッチング段階の間に行われる、該過程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
前記装置が、請求項２乃至７の何れかに記載の方法によって設計され、前記装置が、マルチモードレーザ装置であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
プリンターに問題があった場合（例えば、ＥＲＲＯＲ  ＲＥＤの表示があった場合）、オペレーターがプリンターの内部シャシー組立体の全部を交換プリンター内部シャシーに交換する場合がほとんどであった。交換プロセスは、外部引出し止めを通過させて内部シャシーを引き出す工程を含む。接続ケーブルは、オペレーターによってプラグを抜かれることが主であり、内部シャシーが完全に取り出される。新しいプリンターの内部シャシーのインストールの際には、オペレータが接続ケーブルを再接続する前にゲーム機の電源をオフにすることを必要とする。大半のオペレーターは、接続ケーブルを接続する前にゲーム機の電源をオフにしない。このため、ゲーム機の接続ケーブルをプリンターの内部シャシーに再接続すると、ゲーム機に全電力がかかり故障の原因となる。故障は、接続ケーブル、通信コンポーネント、通信プリント回路ボード及びメインコントローラーのプリント回路ボードで発生する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
コントロールボード３８は、コネクターボード３０に取り付けた電気コネクター４２と着脱可能なコントロールボード側の電気ボード４０を含む。コントロールボード側の電気コネクター４０及びコネクターボード側の電気コネクター４２は、ピンコネクターなどのような任意のコネクター手段を含む。コネクターボード側の電気コネクター４２とコントロールボード側の電気コネクター４０は、電気接続を維持させつつ、スライド引出し形のハウジング１４の第一の位置（例えば、図３に示すようなハウジング後端付近）と、スライド引出し形のハウジング１４から一部引き出した第二の位置（例えば、図２に示すハウジング前端付近）との間でプリンター１６を部分的に移動させることができるものである。プリンター１６は、ベース２２に沿った引出し１２の移動範囲にわたって作動可能となっている。コネクターボード側の電気コネクター４２とコントロールボード側の電気コネクター４０は、また、プリンター１６がスライド引出し形のハウジング１４に沿って移動し、スライド引出し形のハウジング１４から完全に取り外されるまで接続を維持し、スライド引出し形のハウジング１４から完全に取り外したときに、コネクターボード側の電気コネクター４２とコントロールボード側の電気コネクター４０との接続が図１に示すように解除される。プリンター１６は、スライド引出し形のハウジング１４に再挿入でき、コネクターボード側の電気コネクター４２とコントロールボード側の電気コネクター４０を介してエレクトロニクスボード２６を再接続できる。コネクターボード側の電気コネクター４２とコントロールボード側の電気コネクター４０は、プリンター１６をスライド引出し形のハウジング１４に挿入したときに電気接続されるように整列できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明の実施例及び応用例を図説したが、多数の変更例が、本発明の原理から逸脱せずに可能であることが当業者には明らかである。したがって、本発明は、特許請求の範囲の精神に限定されるべきものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】図１は、スライド引出し形のプリンターの例の斜視図であり、プリンターをハウジングから取り出したところを示す。
【図２】図２は、スライド引出し形のプリンターの例の斜視図であり、プリンターをハウジングから部分的に取り出したところを示す。
【図３】図３は、スライド引出し形のプリンターの例の斜視図であり、プリンターをハウジング内に挿入したところを示す。
【図４】図４は、スライド引出し形のプリンターの例の部分斜視図であり、プリンターをハウジングから取り出したところを示す。
【符号の説明】
【００３８】
１０・・・スライド引出し形のプリンター
１２・・・引出し
１４・・・スライド引出し形のハウジング
１６・・・プリンター
１８・・・ハウジング前端
２０・・・ハウジング後端
２２・・・ベース
２４・・・側壁
２６・・・エレクトロニクスボード
２８・・・信号ライン
３０・・・コネクターボード
３２・・・スライダーブラケット
３４・・・スライドレール
３５・・・レシーバー
３６・・・コネクターケーブル
３８・・・コントロールボード
４０・・・コントロールボード側の電気コネクター
４２・・・コネクターボード側の電気コネクター
４４・・・ブラケットラッチ
４６・・・ノッチ
４８・・・タブ
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月5日(2008.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を研磨するための研磨パッドであって、
ａ．回転軸及び複数の溝を有する研磨部を含み、各溝が、
ｉ．第一の部分、及び
ii．第一の部分の半径方向外側に配置され、研磨媒滞留時間を増大させるために移行位置で第一の部分と連絡している第二の部分
を含み、
ｂ．複数の溝の少なくとも第一の溝の移行位置が回転軸から第一の半径方向距離だけ離間しており、複数の溝の少なくとも第二の溝の移行位置が回転軸から第二の半径方向距離だけ離間しており、第一の半径方向距離が第二の半径方向距離とは異なり、研磨部上の複数の溝の第一の溝中に異なる研磨媒の滞留時間を有するものである研磨パッド。
【請求項２】
複数の溝が少なくとも二つの溝群の中に配設されており、少なくとも二つの溝群中の各溝が、少なくとも二つの溝群中の少なくとも一つの他の溝の移行位置とは異なる、回転軸から一定の半径方向距離だけ離間している移行位置を有する、請求項１記載のパッド。
【請求項３】
研磨部がウェーハトラックを有し、複数の溝の移行位置がウェーハトラック内で回転軸から三つ以上の異なる距離に配置されている、請求項１記載のパッド。
【請求項４】
複数の溝の移行位置が回転軸から複数の異なる半径方向距離だけ離間しており、移行位置が研磨部上の複数の溝内で異なる研磨媒滞留時間を有する、請求項１記載のパッド。
【請求項５】
第一の部分が第二の部分とは異なる構造を有し、第一及び第二の部分の少なくとも一方が、回転軸から外に延びる主軸を有する、請求項１記載のパッド。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の対の維持電極（Ｅ1）及び走査電極（Ｅ2）、該電極を保護する誘電材料層（ＤＦ）、並びに該誘電材料層を被覆する酸化マグネシウム層（Ｍ）を備えた、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスパネル（ＦＰ）を製造し、
完成したディスプレイにおけるチャンネル（Ｃ）又はセルを画定するために設計された隔壁（Ｒ）、アドレス電極（ＡＥ）及び蛍光体（ＰＲ；ＰＧ；ＰＢ）を備えた、プラズマディスプレイパネルの背面ガラスパネル（ＲＰ）を製造し、
該前面及び背面ガラスパネルの外周縁部に沿って封着して、該ディスプレイの内部に閉じた空間又は複数の閉じた空間を画定し、
該ディスプレイの動作に必要な希ガス混合物を該空間に充填する
工程を含み、
該封着工程の前に、該酸化マグネシウム層の自由表面上で、該前面ガラスパネルと該背面ガラスパネル上の該隔壁との間の接触領域に本質的に対応する位置にゲッター材料堆積物（６３、６３’、．．．；７２、７２’、．．．；８１、８１’、．．．；９１、９１’、．．．；９２、９２’、．．．）を形成することを特徴とする、
プラズマディスプレイパネル（８０；９０）の製造方法。
【請求項２】
前記堆積物が前記酸化マグネシウム層の奥部（７１、７１’、．．．）に形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記封着及び充填工程の間に、前記ガラスパネルのうち１つにある開口部に接続されたチューブ（tubulation）を通してポンプ引きすることにより前記内部空間の排気操作を行い、最後に該チューブを高温で圧縮することにより前記ディスプレイを封着する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記堆積物の形成がスクリーン印刷、スパッタリング、化学気相堆積及び電子線蒸着の中から選択される手法により行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ゲッター材料が水分吸着性材料である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ゲッター材料が非蒸発性ゲッター材料である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記酸化マグネシウム層の上に水分吸着性材料の堆積物（９１、９１’、．．．）が非蒸発性ゲッター材料の堆積物（９２、９２’、．．．）と交互に形成されている、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法で得られるプラズマディスプレイパネル（８０）。
【請求項９】
請求項７に記載の方法で得られるプラズマディスプレイパネル（９０）。
【請求項１０】
前記ゲッター材料の粒子と混合された粒子の状態又は前記ゲッター材料堆積物と接触する堆積物の状態の二酸化チタンも含む、請求項８又は９のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明の方法を用いれば、ゲッター材料の堆積物の寸法及び局在化に関する要求を緩和することが可能であるため、ＰＤＰ中にそのような材料を導入することが容易となる。特に、正確な位置決め及び寸法でリブ上にゲッターを堆積するのに際して、米国特許第６６０３２６０号が直面する問題は回避される。これらの利点は、図４に図示する場合のような複雑な形状のリブを用いてＰＤＰを製造しなければならない場合に特に評価されるだろう。本発明の実施態様の一部を以下に列記する。
（１）
（複数の）対の維持電極（Ｅ1）及び走査電極（Ｅ2）、該電極を保護する誘電材料層（ＤＦ）、並びに該誘電材料層を被覆する酸化マグネシウム層（Ｍ）を備えた、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスパネル（ＦＰ）を製造し、完成したディスプレイにおけるチャンネル（Ｃ）又はセルを画定するために設計された隔壁（Ｒ）、アドレス電極（ＡＥ）及び蛍光体（ＰＲ；ＰＧ；ＰＢ）を備えた、プラズマディスプレイパネルの背面ガラスパネル（ＲＰ）を製造し、該前面及び背面ガラスパネルの外周縁部に沿って封着して、該ディスプレイの内部に閉じた空間又は複数の閉じた空間を画定し、該ディスプレイの動作に必要な希ガス混合物を該空間に充填する工程を含み、該封着工程の前に、該酸化マグネシウム層の自由表面上で、該前面ガラスパネルと該背面ガラスパネル上の該隔壁との間の接触領域に本質的に対応する位置にゲッター材料堆積物（６３、６３’、．．．；７２、７２’、．．．；８１、８１’、．．．；９１、９１’、．．．；９２、９２’、．．．）を形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル（８０；９０）の製造方法。
（２）
前記堆積物が前記酸化マグネシウム層の奥部（７１、７１’、．．．）に形成される、項目１に記載の方法。
（３）
前記封着及び充填工程の間に、前記ガラスパネルのうち１つにある開口部に接続されたチューブ（tubulation）を通してポンプ引きすることにより前記内部空間の排気操作を行い、最後に該チューブを高温で圧縮することにより前記ディスプレイを封着する、項目１に記載の方法。
（４）
前記ディスプレイの動作に必要な前記希ガス混合物に相当する雰囲気が中に存在するチャンバ内で前記封着工程を行い、かつ前記封着及び充填工程が同時である、項目１に記載の方法。
（５）
前記堆積物の形成がスクリーン印刷、スパッタリング、化学気相堆積及び電子線蒸着の中から選択される手法により行われる、項目１に記載の方法。
（６）
前記使用する手法がスクリーン印刷の場合に、前記形成される堆積物がその結合のために熱処理を受ける、項目５に記載の方法。
（７）
前記ゲッター材料が水分吸着性材料である、項目１に記載の方法。
（８）
前記水分吸着性材料がカルシウム、ストロンチウム及びバリウムの酸化物、これらの混合物、又はそれらを酸化マグネシウムと混合したものの中から選択される、項目７に記載の方法。
（９）
前記ゲッター材料が非蒸発性ゲッター材料である、項目１に記載の方法。
（１０）
前記非蒸発性ゲッター材料が金属チタン及びジルコニウム、又は遷移金属及びアルミニウムの中から選択される１種以上の元素を含んでなるそれらの合金の中から選択される、項目９に記載の方法。
（１１）
前記酸化マグネシウム層の上に水分吸着性材料の堆積物（９１、９１’、．．．）が非蒸発性ゲッター材料の堆積物（９２、９２’、．．．）と交互に形成されている、項目１に記載の方法。
（１２）
前記ゲッター材料堆積物の寸法及び位置合せが、形状及び位置について前記堆積物の寸法及び位置合わせに適合した開口部（６１、６１’、．．．）を有するマスク（６０）により得られ、前記マスクは前記堆積工程中に前記酸化マグネシウム層の自由表面に接触するか、その近傍にあるように配置される、項目１に記載の方法。
（１３）
前記交互した堆積物がマスク（６０）を用いた２つの連続する堆積段階で得られ、該マスクは該２つの堆積段階の間に前記隔壁と直交する方向に２つの隣接する隔壁間の距離に相当する間隔で動かされる、項目１１に記載の方法。
（１４）
項目１に記載の方法で得られるプラズマディスプレイパネル（８０）。
（１５）
項目１１に記載の方法で得られるプラズマディスプレイパネル（９０）。
（１６）
前記ゲッター材料の粒子と混合された粒子の状態又は前記ゲッター材料堆積物と接触する堆積物の状態の二酸化チタンも含む、項目１４又は１５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月27日(2007.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳動物における成体神経幹細胞の刺激用の医薬組成物の調製のための、ＧＭＣＳＦ、ＧＭＣＳＦ誘導体、ＧＣＳＦ、ＧＣＳＦ誘導体およびこれらの組み合わせからなる群より選択される造血因子の使用。
【請求項２】
前記医薬組成物が、神経状態を患う哺乳動物を処置するよう設計される、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記神経状態が脳梗塞である、請求項２に記載の使用。
【請求項４】
前記神経状態がパーキンソン病である、請求項２に記載の使用。
【請求項５】
前記神経状態が脊髄外傷のような神経外傷である、請求項２に記載の使用。
【請求項６】
前記神経状態が筋萎縮性側索硬化症である、請求項２に記載の使用。
【請求項７】
前記神経状態が、脳外傷のような神経外傷、痴呆、多発性硬化症、うつ、心臓停止による脳虚血、または手術の間の脳虚血からなる群より選択される、請求項２に記載の使用。
【請求項８】
前記医薬組成物が、マクロファージ刺激因子、インターロイキンおよびエリスロポエチンからなる群より選択される、さらなる造血因子を含む、請求項１〜７のいずれかに記載の使用。
【請求項９】
前記医薬組成物が、さらに、組織プラスミノーゲン活性剤、血液脳関門の通過を促進する薬剤、および抗アポトーシス剤からなる群から選択される物質を含む、請求項１〜８のいずれかに記載の使用。
【請求項１０】
前記造血因子が、ヒト因子であるか、またはヒト因子由来である、請求項１〜９のいずれかに記載の使用。
【請求項１１】
哺乳動物がヒトである、請求項１〜１０のいずれかに記載の使用。
【請求項１２】
哺乳動物における成体神経幹細胞の刺激用の医薬組成物の調製のための、ＧＭＣＳＦ、ＧＭＣＳＦ誘導体、ＧＣＳＦ、ＧＣＳＦ誘導体およびこれらの組み合わせからなる群より選択される造血因子をコードしているポリヌクレオチドの使用。
【請求項１３】
前記ポリヌクレオチドを、ウイルスベクターまたはリポソームによって運搬する、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
哺乳動物における神経状態の処置のための医薬組成物の調製のための成体神経幹細胞の刺激用の、ＧＭＣＳＦ、ＧＭＣＳＦ誘導体、ＧＣＳＦ、ＧＣＳＦ誘導体およびこれらの組み合わせからなる群より選択される造血因子とインビトロで接触される成体神経幹細胞の使用。
【請求項１５】
前記成体神経幹細胞が、ヒト成人神経幹細胞である、請求項１４に記載の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年6月24日(2008.6.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
本発明は交流電気モーターに関する。特に、単相電気モーターまたは少なくとも３つの位相を有する多相電気モーターまたは２極以上を有する同期発電器であって、主１次巻線及び非飽和付加巻線を有する交流電気モーターに関する。非飽和付加巻線の各々の付加巻線は、各々の主巻線とは逆向きの位相角及び逆向きの磁界方向に、少なくとも１つまたは複数のコンデンサを介して給電されている。主巻線及び付加巻線の各々で用いられるワイヤの総断面は所定の値である。この割合は、主巻線に対して約２／３であって付加巻線に対して約１／３であることが望ましい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明による単相電気モーターは、主共通ポイント並びに線間電圧の第１及び第２主電位線に結線された第１及び第２主巻線、並びに、巻線コンデンサ及び第１及び第２主巻線と並列に結線している第１及び第２電位線に結線された第１及び第２付加巻線を含み、第１及び第２付加巻線の各々は、第１及び第２主巻線のうちの対応する巻線とは逆向きの方向に磁界を生成するということが有利である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
図８は本発明に基づく単相電気モーターを表す。主巻線が、中間点（Ｏ）で分割された２つの半分の切片（１ａ）及び（１ｂ）で示される。付加巻線も、コンデンサ（６）で分けられた２つの半分の切片（５ａ）及び（５ｂ）を示す。始動巻線（２）、始動コンデンサ（３）及び遠心力スイッチまたは断路リレー（４）も示されている。本発明による単相電気モーターは、主巻線と並列に結線された付加巻線を表している。半分の切片の各々は、互いに逆向きの磁界方向にあって、中心点でコンデンサに接続される。主巻線の中心点はデュアルボルテージの用途に用いられる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
図９は、デルタ構成の本発明による三相電気モーターを示す。主巻線は（１）、（２）及び（３）であり、付加巻線は（４）、（５）及び（６）であり、さらに付加巻線コンデンサは（７）、（８）及び（９）である。３つの主巻線のデルタ結線ポイントは（Ｒ）、（Ｓ）及び（Ｔ）である。本発明によれば、入力線電圧結線ポイントが（Ｒａ）、（Ｓａ）及び（Ｔａ）であることに注意すべきである。各々の付加巻線はそのそれぞれの主巻線と異なる位相から給電され、該巻線が給電され得る所定のコンデンサ値を用いて、それぞれの主巻線が付加巻線を逆向きの磁界状態にする。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
主巻線（３）の非飽和付加巻線（６）はコンデンサ（９）を介して主巻線（１）のインライン（Ｒ）に結線される。このことによって異なる巻線の逆向き側の磁界位置がはっきりと示される。本発明によれば、単一のスター結線ポイントがあるということが注目されるべきである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
本発明に基づく２つの巻線は、単一のステップにおいて単一行程だけで一度に巻かれて挿入され得る。位相毎にマイクロファラドでの付加巻線コンデンサ値を計算することが可能である。この値は位相毎のアンペアでの実全負荷電流に正比例する。ボルトでの線間電圧の２乗に反比例する。そのとき値の調時は、ほぼ０．２５×１０6と０．３×１０6との間の乗率によって決まる。その２つの巻線についての新規な相互結線は互いにそれぞれの逆向きの磁界方向にかつ逆向きの異なる位相になされる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
各々の付加巻線が、それぞれの主巻線とは逆向きの位相角及び逆向きの磁界方向に１つ以上のコンデンサを介して給電されることが都合がよい。各々の主巻線及び付加巻線で用いられるワイヤサイズの総断面は所定の寸法である。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
第１及び第２主巻線が主共通ポイント並びに線間電圧の第１及び第２電位線に結線され、第１及び第２付加巻線が巻線コンデンサ及び第１及び第２主巻線に並列に結線された第１及び第２電位線に結線されることが特徴付けられる単相電気モーターにおいて、第１及び第２付加巻線の各々が第１及び第２主巻線のうちの対応する巻線とは逆向きの方向に磁界を生成するということが評価される。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
多相電気モーターが線間電圧を有する３つのライン結線ポイントにおいてデルタ構成で結線された複数の主巻線を含む形式が都合がよい。主巻線の各々は主ワイヤサイズを有し、複数の切片が複数の主巻線と並列に結線される。各々の切片が付加巻線及び巻線コンデンサを含んでおり、付加巻線は付加ワイヤサイズ及び異なる位相を有して主巻線のうちの対応する巻線とは逆向きの方向に磁界を生成する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年11月15日(2007.11.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導波管デバイスであって、
平行に位置し、金、アルミニウム、ニッケル、銅、およびこれらの複数の合金の１つを含む導電体材料で形成された第１の層を含む、複数の伝送路と、
前記第１の層の上に電気的導電性を与えるシード層を堆積させ、前記複数の伝送路のそれぞれの隣接する複数のエッジを露出させるレジストを前記シード層の上に堆積させ、前記複数のエッジの上に電気メッキ処理により導電体材料を堆積させることにより形成された第２の層と
を備え、
導電体材料の前記第２の層の幅が前記伝送路の幅より狭い、導波管デバイス。
【請求項２】
前記複数の伝送路が、
１本の中央信号線路と、
前記信号線路の第１の側面に位置する第１の１本の接地線路と、
前記信号線路の第２の側面に位置する第２の１本の接地線路と
を備え、
導電材料の前記第２の層が前記信号線路の両エッジの上に位置し、かつ前記第１および前記第２の接地線路の上の、前記信号線路に隣接する複数のエッジの上に位置する、
請求項１に記載の導波管デバイス。
【請求項３】
導電体材料の前記第２の層が金、アルミニウム、ニッケル、銅、およびこれらの複数の合金の１つを含む、請求項１に記載の導波管デバイス。
【請求項４】
導電体材料の前記第１の層が付着した導電体材料を含む、請求項１に記載の導波管デバイス。
【請求項５】
導電体材料の前記第２の層がメッキした導電体材料を含む、請求項４に記載の導波管デバイス。
【請求項６】
導電体材料の前記第１の層が付着した金を含み、かつ導電体材料の前記第２の層がメッキした金を含む、請求項１に記載の導波管デバイス。
【請求項７】
前記信号線路に組み込むスイッチを更に備える、請求項２に記載の導波管デバイス。
【請求項８】
前記スイッチが、前記信号線路におけるギャップにかかる片持ち梁を含む、請求項７に記載の導波管デバイス。
【請求項９】
導電体材料の前記第２の層の前記幅が大凡５μｍ〜６０μｍの幅である、請求項１に記載の導波管デバイス。
【請求項１０】
導電性の基板層および導電性で垂直な複数のエッジ部を含むＵ型の断面を持つ信号線路と、
前記信号線路に隣接するエッジ上に、導電性の基板層および垂直な導電性のエッジ部を含むＬ型の断面を持つ前記信号線路の第１の側面上の第１の接地線路と、
前記信号線路に隣接するエッジ上に、導電性の基板層および垂直な導電性のエッジ部を含むＬ型の断面を持つ前記信号線路の第２の側面上の第２の接地線路と
を備え、
前記導電性の基板層は、金、アルミニウム、ニッケル、銅、およびこれらの複数の合金の１つを含み、
前記垂直な導電性のエッジ部は、前記導電性の基板層の上に電気的導電性を与えるシード層を堆積させ、前記導電性の基板層の隣接するエッジを露出させるレジストを前記シード層の上に堆積させ、前記エッジの上方に、電気メッキ処理により導電体材料が堆積されて形成される、共面導波管。
【請求項１１】
前記メッキした導電体材料が金、アルミニウム、ニッケル、銅、およびこれらの複数の合金の１つを含む、請求項１０に記載の共面導波管。
【請求項１２】
前記信号線路に組み込むスイッチを更に備える、請求項１０に記載の共面導波管。
【請求項１３】
前記垂直な導電性のエッジ部の幅が大凡５μｍ〜６０μｍの幅である、請求項１０に記載の共面導波管。
【請求項１４】
共面導波管の作成方法であって、
誘電体の層上に、金、アルミニウム、ニッケル、銅、およびこれらの複数の合金の１つを含む導電性材料を堆積させて３本の平行線路である中央信号線路、並びに前記中央信号線路の両側の第１の接地線路および第２の接地線路を形成する段階と、
電気的導電性を与えるシード層により前記３本の平行線路を覆う段階と、
前記３本の平行線路の隣接する複数のエッジを露出させるレジストを前記シード層上に堆積する段階と、
前記３本の平行線路の隣接する複数のエッジ上に電気メッキ処理により導電性の材料を堆積する段階と
を備える、共面導波管の作成方法。
【請求項１５】
前記導電性の材料が金、アルミニウム、ニッケル、銅、およびこれらの複数の合金の１つを含む、請求項１４に記載の共面導波管の作成方法。
【請求項１６】
前記３本の平行線路の隣接する複数のエッジ上の前記導電性の材料が大凡５μｍ〜６０μｍの幅である、請求項１４に記載の共面導波管の作成方法。
【請求項１７】
前記中央信号線路におけるスイッチを形成する段階を更に備える、請求項１４に記載の共面導波管の作成方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
次に、図４Ｃを参照して、模様を付けられた１つのレジスト４０４をエッジをメッキするための型板として堆積させる。図４Ｄにおいて、導電体材料３０８のより厚い１つの層（例えば、Ａｕ、Ｎｉ、あるいはＣｕ）をメッキ処理などにより堆積させることが出来、かつ導電体材料３０８のより厚い１つの層は底面導電体層３０６の隣接するエッジの上の露出領域を塞ぐ。より厚くメッキした層３０８を幾つかの上層部の深さの厚み（例えば２Ｇｈｚのとき５μｍ）にすることが出来る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
次いで、レジスト４０４をシード層４０２と共に除去する。図４Ｄに示すように、結果は、１本の信号線路３００，および信号線路３００の両側に実質的に等距離をおいて離れた複数の接地線路３０２と３０４の１つの組を含む３本の共面導電性線路であり得る。勿論、エッジのメッキ幅をレジスト４０４の配置により容易に制御する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オレフィン生成炉、焼却炉又は廃棄物処理炉を含む炉であって、この炉は反応管を更に含み、この反応管は、実質的に螺旋経路に追従する中心線（４０）を有し、その螺旋の振幅（Ａ）は前記反応管の内径（Ｄ１）の半分以下であり、前記反応管の管腔に沿う視線を与えることを特徴とする炉。
【請求項２】
請求項１の炉において、前記反応管は実質的に円形断面と外径（ＤＥ）とを有すると共に、前記反応管は仮想包絡線（２０）内に包含され、この仮想包絡線は長さ方向に延伸して前記反応管の掃引幅に等しい幅（Ｗ）を有し、この包絡線の幅は、前記反応管により占められる側方空間を規定し、且つ前記反応管の外径（ＤＥ）よりも大きい炉。
【請求項３】
請求項２の炉において、前記包絡線は中央縦軸（３０）を有し、この中央縦軸の周りで前記反応管の前記螺旋中心線（４０）が螺旋経路に追従すると共に、前記中央縦軸が直線である炉。
【請求項４】
請求項２の炉において、前記包絡線は中央縦軸（３０）を有し、この中央縦軸の周りで前記反応管の前記螺旋中心線（４０）が螺旋経路に追従すると共に、前記中央縦軸が曲線である炉。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の炉において、前記螺旋の前記振幅（Ａ）は前記反応管の前記内径（Ｄ１）の０．４以下である炉。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の炉において、前記螺旋の角度は５５°以下である炉。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の炉において、前記炉がオレフィン生成炉であり、且つ前記反応管が炉管である炉。
【請求項８】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の炉において、前記炉が焼却炉又は廃棄物処理炉であり、且つ前記反応管は、使用時にはそれを通じて高温燃焼ガスが通過する管である炉。
【請求項９】
オレフィン生成炉であり、且つ請求項１乃至６の何れか一項に記載の炉のようにされた炉を熱分解によるオレフィン生成のために用いる方法。
【請求項１０】
焼却炉又は廃棄物処理炉であり、且つ請求項１乃至６の何れか一項に記載の炉のようにされた炉を燃焼反応のために用いる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置（７、８２、８６）を速度可変エンジン（２）、たとえば車両のエンジンによって駆動するための少なくとも二つの比を備え、低ギヤ比と、同じエンジン回転速度の場合で低ギヤ比におけるよりも高い速度で装置が駆動される高ギヤ比とに対応する二つの状態が可能である選択結合手段（２６、５６）を含むトランスミッション装置であって、装置における回転速度及びトルクから選択される少なくとも一つのパラメータに依存して変化する作動力を発生させるための少なくとも一つの力発生手段（３２、６２、２１、５１）ならびに選択結合手段（２６、５６）に作動力を加えるための少なくとも一つの付勢手段（３４、３６、２３、３８）を含むことを特徴とするトランスミッション装置。
【請求項２】
前記少なくとも一つの力発生手段が遠心手段（３２、６２）を含み、前記少なくとも一つの付勢手段が、選択結合手段（２６、５６）を低トランスミッション比に対応するその状態に配する性質を有する方向に遠心発生力を加える、請求項１記載の装置。
【請求項３】
遠心手段（３２、６２）が、ギヤ列（１６、４６）の入力における回転速度を受けて、選択結合手段（２６、５６）の状態に依存して二つの比の一方又は他方を発生させる、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記少なくとも一つの力発生手段が、選択結合手段（２６、５６）の状態によって変化する伝達トルクから、選択結合手段に加えられる状態安定化力（Ｆp）を、遠心発生力に重畳される作動力として発生させる安定化手段を含む、請求項２又は３記載の装置。
【請求項５】
少なくとも一つの力発生手段が、伝達トルクから作動力（Ｆp）を発生させる手段（２１、５１）を含む、請求項１〜３の１項記載の装置。
【請求項６】
前記伝達トルクが、選択結合手段（２６、５６）がその二つの状態のどちらにあるのかに依存して異なるふうに負荷を受ける要素（２１、５１）の伝達トルクである、請求項５記載の装置。
【請求項７】
選択結合手段（２６、５６）の二つの状態の一方において直結駆動で作動する差動機構（１６、４６）を含み、前記伝達トルクが、直結駆動作動の間にはトルク伝達のために短絡されるトランスミッション要素（２１、５１）の伝達トルクである、請求項４〜６の１項記載の装置。
【請求項８】
伝達トルクから作動力を発生させる手段が、ヘリカル歯の圧力の軸方向成分によって発生する軸方向推力（Ｆp）の手段である、請求項４〜７の１項記載の装置。
【請求項９】
低ギヤ比が直結駆動比であり、高ギヤ比がオーバードライブ比である、請求項１〜８の１項記載の装置。
【請求項１０】
選択結合手段（２６、５６）が、差動機構（１６、４６）の反力要素（２１、５１）の選択的固定化のためのクラッチである、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記装置が、選択結合手段（２６、５６）が切断状態にあるとき、出力要素（２９、５９）が入力要素（１３、４３）よりも低速で回転することを防ぐ１方向クラッチ（３１、６１）を含む、請求項９又は１０記載の装置。
【請求項１２】
選択結合手段（２６、５６）が、高い比における作動のための係合状態にあり、その係合状態から、伝達されるトルクがしきい値を超えると、１方向クラッチが低い比を再び設定するまで滑りを許すことができる、請求項１〜１０の１項記載の装置。
【請求項１３】
選択結合手段のクランピング要素（２７）が、
―選択結合手段（２８、５８）を結合状態に配する性質を有する少なくとも一つのばね（２６）と、
―選択結合手段（２８、５８）を非結合状態に配する性質を有する遠心発生力を受ける要素（３４）と、
―結合状態を促進するヘリカル歯の軸方向推力（Ｆp）を受ける要素（２３）と
から発生する力の合力による作用を受ける、請求項１〜１２の１項記載の装置。
【請求項１４】
遠心発生力を受ける要素（３４）が、歯の軸方向推力を受ける要素（２３）によりクランピング要素（２７）を支える、請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
それぞれが二つの比を有する、直列に取り付けられた二つのサブアセンブリ（１６、４６）を含む、請求項１〜１４の１項記載の装置。
【請求項１６】
出力における超過速度の場合に装置の前記出力（７１）をクラッチ解除するための、遠心制御（７３）を備えた安全クラッチを出力に含む、請求項１〜１５の１項記載の装置。
【請求項１７】
装置を少なくとも部分的に取り囲むカップを形成するプーリ（８３）の形態の入力要素を含む、請求項１〜１６の１項記載の装置。
【請求項１８】
過給コンプレッサ（７）を備えた熱エンジンであって、過給コンプレッサ（７）が、エンジン（２）のシャフト（４）により、請求項１〜１７の１項記載のトランスミッション装置（１２）を介して駆動されることを特徴とする熱エンジン。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月19日(2008.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
代謝安定化化合物を同定する方法であって、
ａ）候補化合物をＧＰＲ４３と接触させること、および
ｂ）ＧＰＲ４３機能が減少するかどうかを決定することを含み、ＧＰＲ４３機能の減少が、該候補化合物が代謝安定化化合物であることを示す方法。
【請求項２】
前記ＧＰＲ４３がヒト由来である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記決定が二次メッセンジャーアッセイを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
組成物を調製する方法であって、代謝安定化化合物を同定し、次に前記化合物を担体と混合することを含み、該化合物が請求項１に記載の方法によって同定される方法。
【請求項５】
処置または予防を必要とする個体の代謝関連障害を処置または予防するための組成物であって、請求項１に記載の方法によって同定される化合物の有効量を含む組成物。
【請求項６】
前記代謝関連障害がインスリン抵抗性、耐糖能異常、糖尿病、高血糖、高インスリン血症、高脂質血症、高トリグリセリド血症、高コレステロール血症、異常脂質血症、肥満、Ｘ症候群、アテローム性動脈硬化、心臓疾患、脳卒中、高血圧、または末梢血管疾患である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記代謝関連障害がインスリン抵抗性、耐糖能異常、または糖尿病である、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物は、糖尿病、血中脂質障害、または肥満の処置に用いられる薬剤の有効量と組み合わせて投与されるものである、請求項５に記載の組成物。
【請求項９】
前記個体が哺乳動物である、請求項５に記載の組成物。
【請求項１０】
前記個体がヒトである、請求項５に記載の組成物。
【請求項１１】
代謝安定化化合物として使用するための請求項１に記載の組成物によって同定される化合物を含む医薬を製造する組成物。
【請求項１２】
代謝関連障害の処置に使用するための請求項１に記載の組成物によって同定される化合物を含む医薬を製造する組成物。
【請求項１３】
代謝関連障害を処置または予防するための組成物であって、ＧＰＲ４３調節因子の有効量を含む組成物。
【請求項１４】
前記代謝関連障害が低血糖または加齢である、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記調節因子がアゴニストである、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記代謝関連障害がインスリン抵抗性、耐糖能異常、糖尿病、高血糖、高インスリン血症、高脂質血症、高トリグリセリド血症、高コレステロール血症、異常脂質血症、肥満、Ｘ症候群、アテローム性動脈硬化、心臓疾患、脳卒中、高血圧、または末梢血管疾患である、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１７】
前記調節因子がインバースアゴニストまたはアンタゴニストである、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記組成物は、糖尿病、血中脂質障害、または肥満の処置に用いられる薬剤の有効量あるいはＧＰＲ４３インバースアゴニストまたはアンタゴニストの有効量と組み合わせて投与されるものである、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１９】
前記代謝関連障害がインスリン抵抗性、耐糖能異常、または糖尿病である、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２０】
ＧＰＲ４３機能を減少させることによって処置できるまたは予防できる障害を処置または予防するための組成物であって、ＧＰＲ４３インバースアゴニストまたはアンタゴニストの有効量を含む組成物。
【請求項２１】
前記障害が代謝関連障害である、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
前記代謝関連障害がインスリン抵抗性、耐糖能異常、糖尿病、高血糖、高インスリン血症、高脂質血症、高トリグリセリド血症、高コレステロール血症、異常脂質血症、肥満、Ｘ症候群、アテローム性動脈硬化、心臓疾患、脳卒中、高血圧、または末梢血管疾患である、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２３】
前記代謝関連障害がインスリン抵抗性、耐糖能異常、または糖尿病である、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２４】
前記代謝関連障害がＩＩ型糖尿病である、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２５】
前記組成物は、糖尿病、血中脂質障害、または肥満の処置に用いられる薬剤の有効量あるいはＧＰＲ４３インバースアゴニストまたはアンタゴニストの有効量と組み合わせて投与されるものである、請求項２０に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月25日(2008.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
動作中、矢印２２により示されるように、光はＬＥＤアレイ１４から保護ガラス窓１８およびＧＲＩＮレンズ・アレイ１９を通り走査されるべき物体２０に送出される。矢印２４により示されるように、光は走査されるべき物体２０から保護ガラス窓１８およびＧＲＩＮレンズ・アレイ１９に戻るように散乱する。散乱された光は筐体１２の中に戻り、ＧＲＩＮレンズ・アレイ１９を透過した後にＣＭＯＳフォトダイオード・アレイ１６上に像を生成し、次いでＣＭＯＳフォトダイオード・アレイ１６はこの像を、デジタル形式で像を記録し、必要ならばソフトウェアで処理するのに適した電気的表現に変換する。ＣＩＳは、光が走査されるべき物体２０の各部分から散乱されるように、概して矢印２８の方向に均一に移動して、走査された像全体がＣＭＯＳアレイ１６によって線単位に取得されるようにする。その不変の光学的設定でＣＩＳ１０は不透明な拡散型の平面の媒質の検査向けに使用されてもよい。しかし、ほとんどの市販のＣＩＳ１０は５〜１０ｍｍ／ｓの速度で走査するだけなので、走査速度を増大することが望ましい。ＣＩＳ走査の速度は、ＣＭＯＳフォトダイオード・アレイの多数の小さいセグメントを並列に読み取ることによって実質的に改善することができる。当業者はこれらのセグメントをフォトダイオード・アレイ・タップと呼ぶ。１２００ｄｐｉの解像度および３ＭＨｚの画素クロックを有する典型的なＣＩＳセンサの場合、そのセンサを１００ｍｍ／ｓで走査可能にするためには１５個のタップが必要である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図３ａに示す他の実施形態では、１枚のガラス８１のような平面の媒質を検査するための装置８０は、ＧＲＩＮレンズ・アレイ８４と、フォトダイオード・アレイ、好ましくはＣＭＯＳ、８６とを収納する筐体８２を備える。装置８０は、筐体８２から離れて配置されている光源８８をさらに備える。明視野動作モードでは、ガラス８１は光源８８から視準板状光（矢印９０として参照）により底部から照射される。光源８８からの光はコリメータ組立体９４によって視準される。明視野モードでは、ガラス片８１は透明なものとして作用し、ガラス８１内の任意の欠陥は光が透過することを妨げる。ガラス８１を透過する光は像を生成し、その像は次いでガラス８１と筐体８２の間に配置される軟らかいフィルム拡散体上に形成される。次いで、この像はレンズ８４によって受光され、その結果、検出のためにフォトダイオード・アレイ８６上に投影される。フォトダイオード・アレイ上に投影された像を吟味することによって、ユーザはガラス片８１に何らかの欠陥があるかどうかを判定することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
明らかなように、上記に開示した３つの実施形態は、検査目的によりガラス検査システムに個々に具現化されてもよい。例えば、ガラスの上面のみを検査する必要がある場合、図３ａおよび図３ｂの実施形態が採用されてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
さらに、複数の実施形態／動作モードが１つの装置の中で、互いに組み合わされて、それにより、異なる検査モードで動作する検査モジュールにより記録される欠陥像の強度を相互参照することによる、欠陥分類のより強力な手段を提供してもよい。実施形態の特性は、図３ａの実施形態を表すモードＡ、図３ｂの実施形態を表すモードＢ、および図４の
実施形態を表すモードＣで下記に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月16日(2008.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
4 x 104 閉じ込め/mm2超の基板密度を有する光閉じ込めのアレイ、ここで、当該光閉じ込めは、生物試薬を保持するために好適であり、当該光閉じ込めは、当該生物試薬に存在する個々の分子の観察を許容する有効な観察体積を提供する；及び
当該光閉じ込めの有効観察体積からシグナルを検出する、光閉じ込めに作動的に連結された光学システム
を含む、装置。
【請求項２】
前記光閉じ込めが酵素を含む生物試薬を保持する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記生物試薬が、基質用の酵素のほぼミカエリス定数(Km)の濃度で存在する当該酵素の基質を更に含む、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記濃度が、1マイクロモーラー超である、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記個々の分子が、DNA/ポリメラーゼ複合体である、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記個々の分子が、核酸、ポリペプチド及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる生物分子である、請求項１記載の装置。
【請求項７】
少なくとも1つの個々の閉じ込めが、前記アレイ内の少なくとも1つの他の光閉じ込めから1000 nm未満の距離で離れている、請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記アレイ内の前記光閉じ込めが、200 nm〜1000 nmの距離で互いに離れている、請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記アレイが、少なくとも2 x 105の光閉じ込めを含む、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記アレイが、少なくとも107の光閉じ込めを含む、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
前記アレイ内の各閉じ込めが、入射光線を送信する光学送信要素に作動的に結合される、請求項１記載の装置。
【請求項１２】
前記光閉じ込めが、コアを取り囲む外装材を含む導波路であり、当該外装材が、当該コアを通過するカットオフ波長よりも長い波長を有する入射光の大部分の伝達を防ぐ、請求項１記載の装置。
【請求項１３】
各閉じ込めが、80ゼプトリットル未満の有効観察体積を提供する、請求項１記載の装置。
【請求項１４】
生物検体の検出方法であって、以下のステップ：
(a) 4 x 104 光閉じ込め/mm2超の基板上密度を有する光閉じ込めのアレイを提供し、ここで、当該光閉じ込めは、個々の分子の観察を許容する有効観察体積；及び当該光閉じ込めの有効観察体積からシグナルを検出する光閉じ込めに作動的に結合された光学システムを提供し；並びに
(b) 検体を含むと予測されるアレイ内の少なくとも1つの光閉じ込めを入射光ビームで照射し、それによって当該検体を検出すること
により、形成される光閉じ込め内で当該検体を光学的に捕獲するステップを含む、前記方法。
【請求項１５】
固体支持体上の導波路のアレイ、当該アレイは、0.0001超の充填率を有し、当該導波路は、生物試薬を保持するために好適であり、そして、当該導波路は、当該生物試薬中に存在する個々の分子の観察を可能にする有効観察体積を提供する；及び
当該導波路の有効観察体積からのシグナルを検出する、導波路に作動的に連結された光学システム
を含む、装置。
【請求項１６】
前記アレイが、0.001超の充填率を有する、請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
前記アレイが、0.01超の充填率を有する、請求項１５記載の装置。
【請求項１８】
前記アレイが、0.1超の充填率を有する、請求項１５記載の装置。
【請求項１９】
前記アレイが、0.001〜0.1の範囲の充填率を有する、請求項１５記載の装置。
【請求項２０】
生物検体を検出する方法であって、以下のステップ：
(a) 0.0001超の充填率を有する導波路のアレイを提供し；及び
(b) 当該検体を含むと予側されるアレイ内で少なくとも1つの導波路を入射光ビームで照射し、それによって当該検体を検出すること
によって生成する光閉じ込め内で当該検体を光学的に捕獲することを含む、前記方法。
【請求項２１】
複数の反応試料を含む多数の化学反応を行う方法であって、以下のステップ：
(a) 0.0001超の充填率を有する導波路のアレイを提供し；
(b) 標識反応物を含む多数の反応試料を、当該アレイ内の導波路内に置き、別個の反応試料は当該アレイ内の異なった導波路内に置かれる；
(c) 化学反応の生成物の形成に好適な条件に当該アレイを供し；及び
(d) 光学システムで当該生成物の形成を検出すること
を含む、前記方法。
【請求項２２】
多数の標的核酸分子をシーケンスする方法であって、以下のステップ：
(a) 0.0001超の充填率を有する導波路のアレイを提供し；
(b) 標的核酸分子、当該標的核酸分子に相補的なプライマー、重合酵素、及び多数の新生ヌクレオチド鎖に取り込まれるべき1種超のヌクレオチド又はヌクレオドアナログを当該導波路内で混合し、ここで各鎖は各々の標的核酸分子に相補的である；
(c) ステップ(b)の混合物を、ヌクレオチド又はヌクレオチドアナログの鋳型-指示重合による新生ヌクレオチド鎖の形成に好適な条件下で重合反応に供し；
(d) 入射光ビームで当該導波路を照射し；並びに
(e) 各新生ヌクレオチド鎖に取り込まれるヌクレオチド又はヌクレオチドアナログを同定すること
を含む、前記方法。
【請求項２３】
標的核酸分子を、当該標的核酸分子中の同一のヌクレオチド配列を複数回処理することを含む鋳型-指示重合反応に供して、多数の種類のヌクレオチド又はヌクレオチドアナログ及び鎖-置換活性を示す重合酵素の存在下で当該標的核酸分子に相補的である新生核酸鎖を得；及び
ヌクレオチド又はヌクレオチドアナログの新生ヌクレオチド鎖への取り込みの時間系列を登録すること
を含む、核酸シーケンス法。
【請求項２４】
前記標的核酸分子が、環状核酸である、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
前記標的核酸分子が、環状DNAである、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
前記標的核酸分子が、前記標的核酸分子内に複数回存在するヌクレオチド配列を含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２７】
前記標的核酸分子が、環状核酸の鋳型依存的複製の生成物を含む、請求項２３記載の方法。
【請求項２８】
前記標的核酸分子が、重合酵素によって1回超シーケンスされる、請求項２３記載の方法。
【請求項２９】
前記標的核酸分子が、重合酵素によって2回超シーケンスされる、請求項２３記載の方法。