【手続補正書】
【提出日】平成19年3月16日(2007.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームを発生させる電子源と、電子源からの電子ビームの衝突によりＸ線を発生させ電子ビームと直交する方向に延在するターゲットと、電子ビームが衝突するターゲットの衝突部を覆うとともに電子ビームを通過させる孔を有する筒状電極とを備え、前記ターゲットの延在方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設したＸ線発生装置であって、ターゲットの切り込みに相当する凹部をターゲット上の電子ビームの衝突面側であってターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側にあるターゲット先端とは逆側の位置に設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線発生装置において、前記凹部は、その切り込み開始位置を、前記衝突位置から前記切り込み開始位置までの距離と、前記ターゲット先端から前記衝突位置までの距離とが略等しくなるように位置させることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項３】
電子ビームを発生させる電子源と、電子源からの電子ビームの衝突によりＸ線を発生させるターゲットとを備え、電子ビームの光軸に対して直交方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設したＸ線発生装置であって、前記ターゲットは、電子ビームの光軸に平行に延在して、かつ電子ビームが衝突する衝突部と、電子ビームの光軸および前記衝突部の延在方向に対して直交して延在するとともに、かつターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側とは逆側に延在した本体部とを備えることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項４】
請求項３に記載のＸ線発生装置において、前記ターゲットの衝突部を覆う筒状電極を備え、その筒状電極の中心軸は、前記電子ビームの光軸と同一であることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載のＸ線発生装置において、前記電子ビームと電子源とを収容する容器を備え、前記容器は、前記電子ビームの光軸に平行に延在して、かつその光軸と同一の中心軸を有して、その中心軸に対して回転対称である光軸部と、電子ビームの光軸および前記光軸部の延在方向に対して直交して延在するとともに、かつターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側とは逆側に延在した本体部とを備えることを特徴とするＸ線発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このような知見に基づくこの発明は、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、電子ビームを発生させる電子源と、電子源からの電子ビームの衝突によりＸ線を発生させ電子ビームと直交する方向に延在するターゲットと、電子ビームが衝突するターゲットの衝突部を覆うとともに電子ビームを通過させる孔を有する筒状電極とを備え、前記ターゲットの延在方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設したＸ線発生装置であって、ターゲットの切り込みに相当する凹部をターゲット上の電子ビームの衝突面側であってターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側にあるターゲット先端とは逆側の位置に設けたことを特徴とするものである。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のＸ線発生装置において、前記凹部は、その切り込み開始位置を、前記衝突位置から前記切り込み開始位置までの距離と、前記ターゲット先端から前記衝突位置までの距離とが略等しくなるように位置させることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［作用・効果］請求項１、２に記載の発明によれば、ターゲットの延在方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設する関係で、ターゲット近傍での電界が電子ビームの光軸に対して非対称となる。そして、Ｘ線の出射側にあるターゲット先端にしたがって、ターゲット上の電子ビームの衝突位置に対して衝突面側とは逆側に電界がターゲットに沿って曲げられる。そこで、電子ビームが衝突するターゲットの衝突部を覆うとともに電子ビームを通過させる孔を有する筒状電極を備えるようにする。この筒状電極を備えることで、ターゲット近傍での電界の非対称性を緩和させる。さらに、ターゲットの切り込みに相当する凹部を上述した衝突面側であってターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側にあるターゲット先端とは逆側の位置に設ける。かかる凹部を配設すれば、出射側とは逆側にも電界が凹部に沿って衝突位置に対して衝突面側とは逆側に曲げられる（請求項１に記載の発明）。さらに、上述した切り込み開始位置を、衝突位置から切り込み開始位置までの距離と、ターゲット先端から衝突位置までの距離とが略等しくなるように位置させることで、ターゲット近傍での電界の対称性に近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性を低減させることができる（請求項２に記載の発明）。なお、本明細書中での『電子ビームの光軸』は、曲がりを考慮した実際の電子ビームの進行でなく、本来であれば直線に進む電子ビームの仮想的な進行を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、請求項３に記載の発明は、電子ビームを発生させる電子源と、電子源からの電子ビームの衝突によりＸ線を発生させるターゲットとを備え、電子ビームの光軸に対して直交方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設したＸ線発生装置であって、前記ターゲットは、電子ビームの光軸に平行に延在して、かつ電子ビームが衝突する衝突部と、電子ビームの光軸および前記衝突部の延在方向に対して直交して延在するとともに、かつターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側とは逆側に延在した本体部とを備えることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［作用・効果］請求項３に記載の発明によれば、電子ビームの光軸に対して直交方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設する関係で、ターゲット近傍での電界が電子ビームの光軸に対して非対称となる。そして、Ｘ線の出射側にあるターゲット先端にしたがって、ターゲット上の電子ビームの衝突位置に対して衝突面側とは逆側に電界がターゲットに沿って曲げられる。そこで、ターゲットの衝突部は、電子ビームの光軸に平行に延在して、かつ電子ビームが衝突するように構成されている。したがって、衝突部は、電子ビームの光軸に対して対称に近づく構造となる。このように、ターゲットの衝突部を対称に近づけることで、ターゲットの衝突部が電界に作用して、ターゲット近傍での電界の対称性に近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性を低減させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、上述した請求項３に記載の発明において、ターゲットの衝突部を覆う筒状電極を備え、その筒状電極の中心軸は、電子ビームの光軸と同一であるのが好ましい（請求項４に記載の発明）。電子ビームの光軸と同一の中心軸を有する筒状電極を備えることで、すなわち筒状電極が電子ビームの光軸に対して対称であるので、筒状電極が電界にさらに作用して、ターゲット近傍での電界の対称性により一層近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性をより一層低減させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、上述したこれらの発明（請求項３，４に記載の発明）において、電子ビームと電子源とを収容する容器を備え、この容器は、電子ビームの光軸に平行に延在して、かつその光軸と同一の中心軸を有して、その中心軸に対して回転対称である光軸部と、電子ビームの光軸および上述した光軸部の延在方向に対して直交して延在するとともに、かつターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側とは逆側に延在した本体部とを備えるのが好ましい（請求項５に記載の発明）。つまり、ターゲットの構造と同様に、容器についてもターゲットの衝突部と同様の光軸部を備えることで、光軸部が電子ビームの光軸に対して対称となり、容器の光軸部が電界にさらに作用して、ターゲット近傍での電界の対称性により一層近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性をより一層低減させることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１）Ｘ線を発生させて照射するＸ線発生手段と、照射されたＸ線を検出するＸ線検出手段とを備え、検出されたＸ線に基づいてＸ線画像を撮像するＸ線撮像装置であって、前記Ｘ線発生手段は、電子ビームを発生させる電子源と、電子源からの電子ビームの衝突によりＸ線を発生させるターゲットと、電子ビームが衝突するターゲットの衝突部を覆うとともに電子ビームを通過させる孔を有する筒状電極とを備え、前記ターゲットの延在方向にＸ線を出射するように電子源およびターゲットを配設するとともに、ターゲットの切り込みに相当する凹部をターゲット上の電子ビームの衝突面側であってターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側にあるターゲット先端とは逆側の位置に設けたことを特徴とするＸ線撮像装置。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
前記（１）に記載の発明によれば、筒状電極を備え、ターゲットの切り込みに相当する凹部をターゲット上の電子ビームの衝突面側であってターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側にあるターゲット先端とは逆側の位置に設けることで、ターゲット近傍での電界の対称性に近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性を低減させることができる。この電界の非対称性の低減により、Ｘ線画像の拡大倍率が低下するという問題や、分解能低下という問題を回避することができる。さらに、好ましくは、切り込み開始位置を、衝突位置から切り込み開始位置までの距離と、ターゲット先端から衝突位置までの距離とが略等しくなるように位置させることで、ターゲット近傍での電界の対称性により一層近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性をより一層低減させることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
この発明に係るＸ線発生装置によれば、筒状電極を備え、ターゲットの切り込みに相当する凹部をターゲット上の電子ビームの衝突面側であってターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側にあるターゲット先端とは逆側の位置に設ける（請求項１に記載の発明）、あるいはターゲットは、電子ビームの光軸に平行に延在して、かつ電子ビームが衝突する衝突部と、電子ビームの光軸および上述した衝突部の延在方向に対して直交して延在するとともに、かつターゲット上の電子ビームの衝突位置に対してＸ線の出射側とは逆側に延在した本体部とを備える（請求項３に記載の発明）ことで、ターゲット近傍での電界の対称性に近づけ、タ―ゲット近傍での電界の非対称性を低減させることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
１  …  Ｘ線管
２  …  Ｘ線検出器
１１  …  陰極
１５  …  ターゲット
１５ａ  …  凹部
１５Ａ  …  衝突部
１５Ｂ  …  本体部
１６  …  真空容器
１６Ａ  …  光軸部
１６Ｂ  …  本体部
１８  …  フード電極
Ｌ１  …  ターゲット先端
Ｌ２  …  衝突位置
Ｌ３  …  切り込み開始位置
Ｂ  …  電子ビーム