Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被加熱体を加熱するための加熱部と、この加熱部の温度を上昇させるための発熱体と、この発熱体に電力を供給するための電力供給手段とを有し、この電力供給手段は、商用電源からなる主電源と、キャパシタからなる補助電源とを有する加熱装置であって、
上記キャパシタを、充電回路へ接続する充電モードと上記発熱体に接続された放電回路に接続する放電モードとに切替えるための切替え手段を備えていることを特徴とする加熱装置。
【請求項２】  装置の状態を検知する検知手段を備え、この検知手段により検知された値に応じてキャパシタを充電モードまたは放電モードに切替えることを特徴とする請求項１記載の加熱装置。
【請求項３】  放電回路には定電圧回路を含む回路と、定電圧回路を含まない回路を備えることを特徴とする請求項２記載の加熱装置。
【請求項４】  加熱部温度を検知する手段を備え、加熱部温度が予め決められた所定の温度以下でキャパシタを放電させる場合は、定電圧回路を含まない回路で放電させることを特徴とする請求項３記載の加熱装置。
【請求項５】  加熱部温度を検知する手段を備え、加熱部温度が予め決められた所定の温度以上でキャパシタを放電させる場合は、定電圧回路を含む回路で放電させることを特徴とする請求項３記載の加熱装置。
【請求項６】  請求項１から５のいずれかに記載された加熱装置で、被加熱体である記録材上の未定着画像を加熱し、この未定着画像を記録材上に定着することを特徴とする定着装置。
【請求項７】  像担持体と、この像担持体表面に帯電させる帯電手段と、帯電された像担持体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、上記像担持体表面にトナーを供給して静電潜像をトナー像によって可視化する現像手段と、上記トナー像を記録材上に転写する転写手段と、記録材上のトナー像を過熱して記録材上に定着する定着手段とを備えた画像形成装置であって、上記定着手段として請求項６記載の定着装置を備えていることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、特開平１０−０１０９１３号公報においては、主電源の他に補助電源を用いて省エネルギーの定着器を提供することが提案されている。しかし、単一の電源から２つのレベルの電力供給を行うものであって、補助電源を用いることにより、最大の供給電力を主電源のみの場合より高めることを主眼にしたものではない。
特開平１０−２８２８２１号公報においては、主電源の他に補助電源を用いて色々な機能を提供することなどが提案されている。しかし、補助電源として二次電池、一次電池等を用いるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項７記載の発明は、加熱装置の補助電源として大容量キャパシタを用いた定着装置を有する画像形成装置であって、上記キャパシタの充放電を適切に制御することが可能な画像形成装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
実施例２
実施例１において、図２に示す回路ではなく、図３に示す回路にて電力供給およびキャパシタの充放電を行った。また、図示しない装置状態検知手段として、定着ローラ温度を検知する熱電対、キャパシタの充電量を検知する電圧計、加熱動作中であるか否かを判断するプログラムを備えた。
定着ローラ温度が予め設定された所定温度（この例では１００℃）以下で加熱動作が開始された場合は、キャパシタを、定電圧回路を含まない放電回路へ切替え、加熱動作中に定着ローラ温度が定着可能温度域（この例では１６０℃〜１９０℃）の下限温度より低下した場合、あるいは定着ローラ温度が上記所定値以上で加熱動作が開始された場合は、キャパシタを、定電圧回路を含む放電回路へ切替え、加熱動作から非加熱動作へ変化した場合は、キャパシタを、充電器を有してなる充電回路へ切替えた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月11日(2007.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  無電解ニッケル合金めっき皮膜、無電解パラジウムめっき皮膜、無電解金めっき皮膜が、その順に形成された導体の端子上に、熱処理によってせん断強度が１０％以上増加しない組成のはんだボールを有する配線板。  
【請求項２】  熱処理が、０℃以上で１７０℃以下の放置処理、または−１００℃以上で１７０℃以下の範囲内で交互に温度を変化させる冷熱サイクル処理のいずれかの処理である請求項１に記載のはんだボールを有する配線板。
【請求項３】  はんだボールを搭載するはんだボール接続用端子であって、無電解ニッケル合金めっき皮膜、無電解パラジウムめっき皮膜、無電解金めっき皮膜が、その順に形成された導体の端子を有する基板に、熱処理によってせん断強度が１０％以上増加しない組成のはんだペーストを塗布し、加熱・溶融してはんだボールを形成する配線板の製造法。
【請求項４】  はんだボールを搭載するはんだボール接続用端子であって、無電解ニッケル合金めっき皮膜、無電解パラジウムめっき皮膜、無電解金めっき皮膜が、その順に形成された導体の端子を有する基板に、熱処理によってせん断強度が１０％以上増加しない組成のはんだめっきを行い、加熱・溶融してはんだボールを形成する配線板の製造法。
【請求項５】  熱処理が、０℃以上で１７０℃以下の放置処理、または−１００℃以上で１７０℃以下の範囲内で交互に温度を変化させる冷熱サイクル処理のいずれかの処理である請求項３または４に記載の配線板の製造法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のことを特徴とする。
（１）無電解ニッケル合金めっき皮膜、無電解パラジウムめっき皮膜、無電解金めっき皮膜が、その順に形成された導体の端子上に、熱処理によってせん断強度が１０％以上増加しない組成のはんだボールを有する配線板。
（２）熱処理が、０℃以上で１７０℃以下の放置処理、または−１００℃以上で１７０℃以下の範囲内で交互に温度を変化させる冷熱サイクル処理のいずれかの処理である（１）に記載のはんだボールを有する配線板。
（３）はんだボールを搭載するはんだボール接続用端子であって、無電解ニッケル合金めっき皮膜、無電解パラジウムめっき皮膜、無電解金めっき皮膜が、その順に形成された導体の端子を有する基板に、熱処理によってせん断強度が１０％以上増加しない組成のはんだペーストを塗布し、加熱・溶融してはんだボールを形成する配線板の製造法。
（４）はんだボールを搭載するはんだボール接続用端子であって、無電解ニッケル合金めっき皮膜、無電解パラジウムめっき皮膜、無電解金めっき皮膜が、その順に形成された導体の端子を有する基板に、熱処理によってせん断強度が１０％以上増加しない組成のはんだめっきを行い、加熱・溶融してはんだボールを形成する配線板の製造法。
（５）熱処理が、０℃以上で１７０℃以下の放置処理、または−１００℃以上で１７０℃以下の範囲内で交互に温度を変化させる冷熱サイクル処理のいずれかの処理である（３）または（４）に記載の配線板の製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月18日(2007.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  縦型の内管及び外管を含む反応容器と、上下に対向して設けた底板及び天板の間に複数の支柱を設けた基板保持具と、を用い、多数の基板を棚状に基板保持具に保持させ、反応容器の下端開口部を塞ぐための蓋体の上に断熱ユニットを介して前記基板保持具を搭載して反応容器内に搬入し、内管内の下部側から処理ガスを供給し、内管の上端から内管と外管との隙間を介して排気しながら基板に対して成膜処理を行う縦型熱処理装置において、
前記天板よりも上方位置にて、内管の上端部に内側に屈曲した屈曲部を周方向に亘って設け、
前記天板のサイズを基板と同じかまたは小さく設定したことを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項２】  縦型の内管及び外管を含む反応容器と、上下に対向して設けた底板及び天板の間に複数の支柱を設けた基板保持具と、を用い、多数の基板を棚状に基板保持具に保持させ、反応容器の下端開口部を塞ぐための蓋体の上に断熱ユニットを介して前記基板保持具を搭載して反応容器内に搬入し、内管内の下部側から処理ガスを供給し、内管の上端から内管と外管との隙間を介して排気しながら基板に対して成膜処理を行う縦型熱処理装置において、
前記天板よりも上方位置にて、内管の上端部に上方かつ内方側に傾斜した屈曲部を周方向に亘って設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項３】
前記屈曲部は、内管の上端部を内側に直角に曲げてかぎ型に形成するかまたは湾曲させて形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の縦型熱処理装置。
【請求項４】  天板のサイズを基板と同じかまたは小さく設定したことを特徴とする請求項２記載の縦型熱処理装置。
【請求項５】  内管の上端部は着脱自在なリング体により構成されており、このリング体に前記屈曲部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の縦型熱処理装置。
【請求項６】  内管と外管との間の隙間の断面積は上端部から排気口に至るまでは小さくなるように変化しないことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに一つに記載の縦型熱処理装置。
【請求項７】  保持具の底板のサイズは基板と同じサイズに設定されていることを特徴とする請求項６記載の縦型熱処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
これらの発明によれば、内管の上端の開口部から処理ガスが広がろうとするが、屈曲部により処理ガスが内側に寄せられる作用が働くので、結果として天板の直ぐ下側においても処理ガスが真っ直ぐに上昇し、基板の表面に均一に処理ガスが供給される。そして天板のサイズを基板と同じか小さく設定することにより処理ガスの上昇流の乱れが少なくなり、また屈曲部を上方かつ内方側に傾斜した構成とすれば、上昇流がスムーズに内側に寄せられるので、上昇流の乱れがより一層小さくなる。
本発明では、前記屈曲部は、内管の上端部を内側に直角に曲げてかぎ型に形成するかまたは湾曲させて形成されたものであってもよい。また内管の上端部は着脱自在なリング体により構成し、このリング体に前記屈曲部を設けるようにしてもよい。また内管と外管との間の隙間の断面積は上端部から排気口に至るまでは小さくなるように変化しない構成とすることが好ましい。更に保持具の底板のサイズは基板と同じサイズに設定することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベッドに乗せた被検者にＸ線を照射するＸ線源と、このＸ線源に対向配置され前記被検者の透過Ｘ線を検出するＸ線検出器とを備えたＸ線撮像装置において、前記ベッド、Ｘ線源及びＸ線検出器の配置関係を検出して記憶する位置検出記憶手段と、この位置検出記憶手段から読み出した配置関係に基づいて前記Ｘ線検出器の暗電流の計測を制御する計測制御手段と、この計測制御手段によって計測された暗電流を用いて前記Ｘ線検出器の暗電流補正を行う補正手段とを備えたことを特徴とするＸ線撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】   
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明はベッドに乗せた被検者にＸ線を照射するＸ線源と、このＸ線源に対向配置され前記被検者の透過Ｘ線を検出するＸ線検出器とを備えたＸ線撮像装置において、前記ベッド、Ｘ線源及びＸ線検出器の配置関係を検出して記憶する位置検出記憶手段と、この位置検出記憶手段から読み出した配置関係に基づいて前記Ｘ線検出器の暗電流の計測を制御する計測制御手段と、この計測制御手段によって計測された暗電流を用いて前記Ｘ線検出器の暗電流補正を行う補正手段とを備えたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
ストッパ２３は、ガイド２０，２１間に進入してきたシートの先端（下端）を受け止めるようになっている。ストッパ２３の両端には、ころ２３ａが２つずつ回転自在に取り付けられている。ころ２３ａは、フレーム８に形成された溝部を走行するようになっている。従って、ストッパ２３は、ころ２３ａと溝との案内によって上下方向にスライドするようになっている。ストッパ２３の両端には不図示のラックが設けられている。ラックは左右のピニオン歯車２３ｂ，２３ｂと係合している。２つのピニオン歯車２３ｂ，２３ｂは、中心同士を軸２３ｃによって連結されている。左右のピニオン歯車に駆動を伝達している軸２３ｃの一端には、ストッパ歯車２３ｄが固着されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
ステープラ回転軸１８ａの下方には、シート束を案内する案内部材１０２の案内面１０２ａと、案内されたシート束を針綴じするアンビル部１９の綴じ面１０３とが、互いに角度Ｄをなして配設されている。その角度Ｄを有する案内部材１０２の上面ガイド１１１には、ステープル部１８のフオーミング部１０１が揺動するとき、干渉しない大きさの逃げ孔１１１ａが形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
送りローラ１０７により送り出された針１０５は、フオーミング部１０１が回転軸１８ａを中心に揺動することにより、１本ずつコ字状に形成される。フォーミング部１０１は、ステープルモータ１０８が起動すると、歯車列１０９を介して偏心カム歯車１１０が回転し、この偏心カム歯車１１０と一体に取り付けられている偏心カムの作用により、図１２の矢印ａ方向に、アンビル部１９側へ揺勤して、クリンチ動作（針打ち込み動作）を行うようになっている。打ち込まれた針１０５は、シート束下面のアンビル部１９で折り曲げられてシート束を針綴じるようになっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
（シート束折り駆動機構）
図４、図５に基づいて、シート束を折る機構の駆動機構を説明する。折りモータ６４の出力軸には、プーリ６５が固着されている。大径のアイドラ歯車プーリ６７ａと小径のアイドラ歯車プーリ６７ｂは一体に形成されている。プーリ６５と大径のアイドラ歯車プーリ６７ａとには、タイミングベルト６６が巻き回されている。折り歯車６８，６９は折りローラ２６，２７に固着され、互いに噛合し、一方の折り歯車６８は小径のアイドラ歯車プーリ６７ｂの歯車部に噛合している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
歯車７３は軸７３ａに設けられ、軸７２が突設されている。歯車７３はアイドラ歯車７５に噛合している。アイドラ歯車７５は軸７６に設けられている。軸７６上には電磁クラッチ（折りクラッチ）７４ａが配設されている。突き出しクラッチ７４ａは、突き出しクラッチ７４ａ上のプーリ７４の回転を電源のＯＮ／ＯＦＦによって軸７６に伝達或るいは遮断するようになっている。プーリ７４と小径のアイドラ歯車プーリ６７ｂとの外周にはタイミングベルト７０が巻き回されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
次に、シート束を折る動作を行う。制御部１７０は、ストッパ部材２３がステープルポイント１９ａより下流側にｌ＝（Ｌ／２）＋ａとなるようなステップ分だけ、ストッパモータ６１を回転させる。ここで、ａはステープルポイント１９ａと折り位置との間の距離Ｃに相当する距離である（Ｓ２２７）。制御部１７０は、搬送モータ５１、入口ソレノイド３ｄ、上切替ソレノイド１５ｄ、下切替ソレノイド１６ｄをＯＦＦにして（Ｓ２２８、Ｓ２２９、Ｓ２３０）、折り動作に入る準備をする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
シートサイズが半分、すなわち（Ｌ／２）がガイド１１，１２に沿って上切替フラッパ１５までの長さｋｌと定数βの和（ｋｌ＋β）よりも大きければ（Ｓ２５２）、切替ソレノイド１５，１６はＯＦＦのままとし、本ルーチンは終了とする。ここで定数βは、ストッパ２３が適正な位置にあって積載されたシート束の後端の位置を示す。この定数βは積載されたシート束上に進入してきた次のシートが、積載されたシート束中に潜り込むことなく、最上位に積載されるのに必要な量である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
（Ｌ／２）が（ｋｌ＋β）よりも小さいときは、さらに、（Ｌ／２）と（ｋ２＋β）とを比較する（Ｓ２５４）。ここでｋ２は、ｋｌと同様にガイド１１，１２間に沿った下切替フラッパ１６までの距離である。βは前記と同様の長さである。（Ｌ／２）が（ｋ２＋β）よりも大きければ（Ｓ２５４）、制御部１７０は、上切替ソレノイド１５をＯＮにして（Ｓ２５５）、シート束を下切替ソレノイド１６で案内する。（Ｌ／２）が（ｋ２＋β）よりも小さければ、上切替ソレノイド１５、下切替ソレノイド１６をともにＯＮにして（Ｓ２５７）ガイド１１に沿って積載する。以上で切換ソレノイド制御ルーチンを終える。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月25日(2007.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品の後端部の位置を規制可能な後端規制手段を備えた搬送手段によって前記物品を搬送し、前記物品の前端部に係合可能な前端規制手段を搬送中の前記物品の搬送方向前方より相対的に接近させ、前記前端規制手段と前記後端規制手段との間で搬送中の前記物品の搬送方向前後端の位置決めを行い、前記物品の前記位置決め後に前記前端規制手段を搬送中の前記物品の搬送方向前方に遠ざけることから成る物品の位置決め方法。
【請求項２】
物品の後端部の位置を規制可能な後端規制手段を備えた搬送手段に対して適用され搬送中の前記物品の位置決めを行う位置決め装置において、前記搬送手段の搬送方向に沿った走行経路を走行する走行手段、前記走行手段に取り付けられており搬送中の前記物品の前端部に係合可能な前端規制手段、及び前記走行手段の前記走行経路に沿った走行に伴って、前記前端規制手段に対して、搬送中の前記物品の搬送方向前方より相対的に接近させて前記後端規制手段との間で搬送中の前記物品の搬送方向前後端の位置決めをさせ前記物品の位置決め後に搬送中の前記物品の搬送方向前方に遠ざけさせる位置決め動作を行わせるカム手段から成る物品の位置決め装置。
【請求項３】
前記走行手段は、前記搬送手段の搬送方向に沿って配設された回転輪と前記回転輪に巻き掛けられて走行する無端体とを備えた無端走行手段であり、前記走行経路は、前記無端体の前記搬送手段に近い側を走行する下側走行経路であることから成る請求項２に記載の物品の位置決め装置。
【請求項４】
前記前端規制手段は、前記走行手段に対して回動可能に設けられた前端規制板、前記前端規制板に一体的に設けられており且つ前記カム手段との間に生じるカム作用により前記前端規制板を回動させるカムフォロワ、及び前記カムフォロワを前記カム手段に向けて付勢するばね手段から構成されていることから成る請求項２又は３に記載の物品の位置決め装置。
【請求項５】
前記カム手段は、前記走行手段に沿って配設され且つ前記前端規制手段と係合するカム面から成り、前記カム面は、前記前端規制手段を前記搬送手段の上方において前記物品と非干渉の姿勢で走行させる第１カム面、前記第１カム面に繋がり前記前端規制手段を前記物品の前記前端部に当接可能な姿勢に変更させる第２カム面、前記第２カム面に繋がり前記前端規制手段の前記姿勢を維持して前記前端規制手段を搬送中の前記物品の搬送方向前方より相対的に接近させて前記物品の位置決めをさせる第３カム面、及び前記第３カム面に繋がり前記前端規制手段の前記姿勢を位置決めされた状態で搬送中の前記物品の前記前端部から遠ざける姿勢に変更させる第４カム面を有していることから成る請求項２〜４のいずれか１項に記載の物品の位置決め装置。
【請求項６】
前記走行手段、前記前端規制手段、及び前記カム手段はユニット化して構成されており、前記搬送手段のフレームに対して、一括して昇降可能に配設されていることから成る請求項２〜５のいずれか１項に記載の物品の位置決め装置。
【請求項７】
前記物品は、包装物供給装置によって包装機に搬送され且つ前記包装機によって包装される包装物であり、前記物品の位置決め装置は、前記包装物を搬送する前記搬送手段としての前記包装物供給装置に適用されていることから成る請求項２〜６のいずれか１項に記載の物品の位置決め装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月13日(2007.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の遊戯者が目視可能な状態で筐体内に複数の景品を収容する景品収容部と、遊戯者の操作に基づいて動作し、前記景品収容部に収容された景品の少なくとも一つに接触して作用することにより、当該景品を景品払出部へ移動させる景品取得手段を複数有する景品取得ゲーム装置であって、
前記景品取得手段の操作開始前の時点において所定の条件を満たしたか否かを判定し、判定結果に基づいて複数の景品取得手段のいずれを動作させるかを変更する景品取得手段選択部を有することを特徴とする景品取得ゲーム装置。
【請求項２】
複数の遊戯者が目視可能な状態で筐体内に複数の景品を収容する景品収容部と、
前記複数の遊戯者のそれぞれに対して設けられ、前記遊戯者の操作により前記複数の景品から少なくとも一つを選択する景品選択部と、
前記複数の遊戯者のそれぞれに対して設けられ、前記景品選択部により選択された景品を一旦保留するキープエリアと、
前記キープエリアに保留されたとき、前記遊戯者の操作に基づいて所定のミニゲームを行うミニゲーム制御部と、
前記ミニゲームの結果、景品取得に成功したと判定された場合、前記キープエリアの景品を遊戯者に対して払い出す景品払出部と、
を有することを特徴とする景品取得ゲーム装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月9日(2007.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
水に微量の電解質を添加、又は無添加で電気分解する電解槽を有し、その電解槽で生成した酸性及びアルカリイオン水のうち、被洗浄物及び汚れに適した任意のイオン水で洗浄することを特徴とする超音波洗浄槽。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は洗浄液として洗浄剤を含まない水を使用し、その水に微量の電解質を添加、又は無添加で電気分解する電解槽を有し、電解槽で生成した酸性及びアルカリイオン水のうち、被洗浄物の材質や汚れに適した任意のイオン水で洗浄する機能を備えた、洗浄効果の高い超音波洗浄槽を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
いずれの実施例も、電解槽７で微量の電解質６を添加、又は無添加で水を電気分解し、イオン水を生成して、酸性又はアルカリいずれかの被洗浄物に効果的なイオン水９をイオン水吐出口８から洗浄槽１に給水して、超音波洗浄を行う超音波洗浄機である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
電解槽の水に微量の電解質を添加すれば、無添加時より短時間に電気分解できる。電解槽ではイオン水吐出口から出る、洗浄に使用するイオン水が、他のイオン水より多くなるように配慮しているため、不要なイオン水が少なくなり、水の使用量も少なくて済む。また、電気分解用電極の自動洗浄機能を有するため、長期間、良好な電解機能を維持する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インキツボ装置内に設けられ、回転自在に支持されたツボローラと、
前記ツボローラに近接し、回転自在に支持された呼出しローラと、
前記ツボローラ及び前記呼出しローラが上下方向に二組設けられ、これら上下のローラからのインキが転移される最上流側のインキローラであるインキ合流ローラと、
を備えた輪転印刷機のインキ装置において、
前記上側呼出しローラと下側呼出しローラの少なくともいずれか一方の呼出しローラと前記インキ合流ローラとの間に中間ローラを設けたことを特徴とする輪転印刷機のインキ装置。
【請求項２】
前記上側呼出しローラ及び下側呼出しローラは、上方へ取り外し可能に支持されていることを特徴とする請求項１記載の輪転印刷機のインキ装置。
【請求項３】
前記上側呼出しローラと前記下側呼出しローラの一方は前記インキ合流ローラと隣接し、前記上側呼出しローラと前記下側呼出しローラの他方と前記インキ合流ローラとの間に少なくともひとつの前記中間ローラが設けられていることを特徴とする請求項１記載の輪転印刷機のインキ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、前記上側呼出しローラ及び下側呼出しローラは、上方へ取り外し可能に支持されていることを特徴とする。
また、前記上側呼出しローラと前記下側呼出しローラの一方は前記インキ合流ローラと隣接し、前記上側呼出しローラと前記下側呼出しローラの他方と前記インキ合流ローラとの間に少なくともひとつの前記中間ローラが設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月27日(2007.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ノズル開口からインク滴を吐出するインクジェット式記録ヘッドと、
前記記録ヘッドの側面部を覆うヘッドカバーと、
前記記録ヘッドのノズル形成面を払拭するクリーニング部材と、を備えたインクジェット式記録装置であって、
前記ヘッドカバーの前記記録ヘッドの側面部に対向する領域に、撥水処理が施されてなることを特徴とするインクジェット式記録装置。
【請求項２】  前記クリーニング部材によるノズル形成面の払拭動作による払拭終端部側の側面部に、撥水処理が施されてなることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット式記録装置。
【請求項３】  前記ヘッドカバーの撥水処理は、共析メッキによる撥水処理であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット式記録装置。
【請求項４】  前記ヘッドカバーの撥水処理は、前記ヘッドカバーの表面に焼き付け塗装により撥水処理が施されてなることを特徴とする請求項３に記載のインクジェット式記録装置。
【請求項５】  前記記録ヘッドのノズル形成面が傾斜状態となるように配置され、前記クリーニング部材が記録ヘッドのノズル形成面の斜め上端部から斜め下端部に沿ってノズル形成面の払拭動作を行なうように構成された請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインクジェット式記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月26日(2007.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基材上に、インク受容層を有するインクジェット記録用媒体であって、上記基材の表面が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に基づいて測定された断面曲線からの低域カットオフ値０．８ｍｍおよび高域カットオフ値８ｍｍで導いた濾波うねり曲線から求められる濾波中心線うねり値として５μｍ以上を有し、かつ該基材の表面と上記インク受容層の表面の光沢度（７５度）の差が３以下であることを特徴とするインクジェット記録用媒体。
【請求項２】  前記インク受容層が、平均粒子直径が５０〜１０００ｎｍのアルミナ水和物粒子と、平均粒子直径が１〜２０μｍの粗粒子を含む請求項１に記載のインクジェット記録用媒体。
【請求項３】  前記粗粒子が、平均細孔半径が５〜３０ｎｍで、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ3／ｇの多孔質である請求項２に記載のインクジェット記録用媒体。
【請求項４】  ＪＩＳ  Ｂ０６０１に基づいて測定された断面曲線からの低域カットオフ値０．８ｍｍおよび高域カットオフ値８ｍｍで導いた濾波うねり曲線から求められる濾波中心線うねり値が５μｍ以上の表面を有する基材上に、平均粒子直径が５０〜１０００ｎｍのアルミナ水和物と、平均粒子直径が１〜２０μｍの粗粒子と結着剤とを含む塗工液を塗布してインク受容層を形成することを特徴とするインクジェット記録用媒体の製造方法。
【請求項５】  前記基材の表面と、該基材上にインク受容層を形成した表面との光沢度（７５度）の差が３以下である請求項４に記載のインクジェット記録用媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月11日(2007.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス幅変調器（３４）が、該パルス幅変調器（３４）の動作周波数とは無関係の周波数でレーザー（２０）に対してビデオデータを形成することができるようにするためのシステム（１０）であって、
前記レーザー（２０）についての走査線上の位相オフセットを検出するように動作する、位相測定回路（３２）と、
どのシステムクロックサイクルがシステムクロック（５４）上にエッジを出力してそれがビデオクロック上にあるかのように振る舞うようにするかを決定するように動作する、エッジ出力決定回路（３２）と、
所与の画素についてエッジの配置位置を決めるように動作する、エッジ位置決め回路（３２）と、
前記位相測定回路（３２）、前記エッジ出力決定回路（３２）、および前記エッジ位置決め回路（３２）と通信を行い、前記位相測定回路（３２）、前記エッジ出力決定回路（３２）、および前記エッジ位置決め回路（３２）からの各値を組み合わせて、所望のビデオ信号を生成するように動作する、加算器（１３２）
を備える、システム。
【請求項２】
前記位相測定回路（３２）は、ビーム検出信号の位相を測定するように構成された位相調整式パルス幅変調器（３４）を備える、請求項１のシステム。
【請求項３】
前記位相測定回路（３２）、前記エッジ出力決定回路（３２）、および前記エッジ位置決め回路（３２）が、ＡＳＩＣ（３８）上に設けられる、請求項１のシステム。
【請求項４】
前記エッジ出力決定回路（３２）は、現在のビデオクロック値を次のビデオクロック値と比較し、前記現在のビデオクロック値と前記次のビデオクロック値はシステムクロック（５４）から導出され、前記エッジ出力決定回路（３２）は、前記現在のビデオクロック値の整数部分と前記次のビデオクロック値の整数部分とを比較し、前記整数部分が変化するとビデオ回路に停止するように命令する、請求項１のシステム。
【請求項５】
前記位相測定回路（３２）、前記エッジ出力決定回路（３２）、および前記エッジ位置決め回路（３２）が協働して、クロック変換回路（３２）を提供する、請求項１のシステム。
【請求項６】
前記現在のビデオクロック値とシステムクロック値との比を保持するように構成されたレジスタ（１００）を更に含む、請求項１のシステム。
【請求項７】
画像転写面（４４）上に画像を形成する方法において、
レーザー（２０）と、パルス幅変調器（３４）と、システムクロック（５４）とを設けるステップであって、前記レーザー（２０）は、前記パルス幅変調器（３４）から受け取ったビデオデータに応答して前記画像転写面（４４）上に走査光路（４６）を生成するように構成される、ステップと、
前記レーザー（２０）の走査線上の位相オフセットを検出するステップと、
どのシステムクロックサイクルにエッジを出力して前記システムクロック（５４）がビデオクロックのように構成されるようにするかを決定するステップと、
所与の画素についてエッジの配置位置を決めるステップと、
検出した前記位相オフセット、エッジ出力、およびエッジ位置からの各値を組み合わせて、所望のビデオ信号を生成するステップ
を含む、方法。
【請求項８】
前記システムクロック（５４）は基準発振器から生成され、前記システムクロック（５４）からプログラム可能なビデオ周波数が生成される、請求項７の方法。
【請求項９】
前記システムクロック（５４）のエッジにビデオ出力が生成され、次のビデオクロックが現在のビデオクロックと比較され、前記システムクロック（５４）が所望のビデオクロックよりも速く動作している場合にはビデオ回路が断続的に停止される、請求項７の方法。
【請求項１０】
前記システムクロック（５４）が、ビデオ回路のビデオ能力を超えるビデオデータを生成する速度で動作している場合には、前記ビデオ回路に停止状態が送出される、請求項７の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月24日(2007.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式（１）で表され、リン含有量が１重量％から６重量％であり、それ自体で難燃性のある、分子量が１０，０００から２００，０００の熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂。
【化１】
2001310939.tif 000001
式中、Ｘは、一般式（２）、（３）、（６）、（７）から選ばれるものであり、かつ、一般式（２）及び／または一般式（３）は必須成分である化合物の単独、または、それら複数を組み合わせたものであり、Ｚは、水素原子または式（９）のいずれかであり、ｎは２１以上の値である。
【化２】
2001310939.tif 000002
式中、Ｙは、一般式（４）、（５）から選ばれるものであり、Ｒ1〜Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ3のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化３】
2001310939.tif 000003
式中、Ｙは、一般式（４）、（５）から選ばれるものであり、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ4のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化４】
2001310939.tif 000004
式中、Ｒ1〜Ｒ8は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ8のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化５】
2001310939.tif 000005
式中、Ｒ1〜Ｒ10は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ10のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化６】
2001310939.tif 000006
式中、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ4のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化７】
2001310939.tif 000007
式中、Ａは、不存在、又は、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨＣＨ３−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、一般式（８）のいずれの２価の基から選ばれるものであり、Ｒ1〜Ｒ8は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ8のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化８】
2001310939.tif 000008
式中、Ｒ1〜Ｒ8は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ1〜Ｒ8のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化９】
2001310939.tif 000009
【請求項２】  請求項１に記載の熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂から成形された絶縁性フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【化１０】
2001310939.tif 000010
式中、Ｘは、一般式（２）、（３）、（６）、（７）から選ばれるものであり、かつ、一般式（２）及び／または一般式（３）は必須成分である化合物の単独、または、それら複数を組み合わせたものであり、Ｚは、水素原子または式（９）のいずれかであり、ｎは２１以上の値である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月1日(2007.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  樹脂に液状添加剤を混練する二軸同方向回転押出機を用い、樹脂１００重量部を溶融混練後、液状添加剤を５〜１００重量部添加する混練方法において、樹脂と液状添加剤とを均一混練する混練ゾーン中に次の（ａ），（ｂ），（ｃ）および（ｄ）のすべての性能を同時に持つスクリュエレメントを少なくとも１つ有し、かつ該混練ゾーン長さ（ＬZL）が０．２Ｄ〜２．５Ｄ（Ｄはスクリュ直径）であることを特徴とする液状添加剤の混練方法。
（ａ）ネジ廻り方向は、メインホッパー側から押出機先端を見て左廻りである
（ｂ）一条ネジ
（ｃ）スクリュ切り欠き数が１ピッチ当たり８〜１６個
（ｄ）スクリュピッチの長さＬSが０．１Ｄ〜０．５Ｄ
【請求項２】  下記の（ｆ）を満たす条件で押し出すことを特徴とする請求項１記載の液状添加剤の混練方法。
（ｆ）スクリュ回転数回転数が１５０ｒｐｍ〜１５００ｒｐｍ
【請求項３】  樹脂がポリフェニレンエーテル及び／又はポリフェニレンエーテルとポリスチレン系樹脂の組成物であり、液状添加剤がリン酸エステルであることを特徴とする請求項１または２に記載の混練方法。
【請求項４】  樹脂がオレフィン系組成物であり液状添加剤がパラフィン系オイルであることを特徴とする請求項１または２に記載の混練方法。
【請求項５】  樹脂がＡＢＳ系組成物であり液状添加剤が燐酸エステルであることを特徴とする請求項１または２に記載の混練方法。
【請求項６】  第一混練ゾーンと第二混練ゾーンの間又は／及び、第二混練ゾーン下流側に熱可塑性樹脂やフィラー、ファイバー、導電性フィラー（ケッチェンブラック、アセチレンブラック）、滴下防止剤（テフロン，シリコン樹脂）を添加することを特徴とする請求項１〜６いずれかの混練方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【表２】
2001310369.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月25日(2006.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に含有窒素濃度が含有酸素濃度よりも大きく、且つ当該含有窒素濃度が２５ａｔｏｍｉｃ％以上５０ａｔｏｍｉｃ％未満の第１の酸化窒化シリコン膜を形成し、
前記第１の酸化窒化シリコン膜上に含有窒素濃度が含有酸素濃度よりも小さく、且つ当該含有窒素濃度が５ａｔｏｍｉｃ％以上２５ａｔｏｍｉｃ％未満の第２の酸化窒化シリコン膜を形成し、
前記第２の酸化窒化シリコン膜上に形成した非晶質半導体膜を結晶化させることにより結晶質半導体膜を形成し、
前記結晶質半導体膜上に含有窒素濃度が含有酸素濃度よりも小さく、且つ当該含有窒素濃度が５ａｔｏｍｉｃ％以上２５ａｔｏｍｉｃ％未満の第３の酸化窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
基板上に含有窒素濃度が含有酸素濃度よりも大きく、且つ当該含有窒素濃度が２５ａｔｏｍｉｃ％以上５０ａｔｏｍｉｃ％未満の第１の酸化窒化シリコン膜を２０〜１００ｎｍ形成し、
前記第１の酸化窒化シリコン膜上に含有窒素濃度が含有酸素濃度よりも小さく、且つ当該含有窒素濃度が５ａｔｏｍｉｃ％以上２５ａｔｏｍｉｃ％未満の第２の酸化窒化シリコン膜を５０〜５００ｎｍ形成し、
前記第２の酸化窒化シリコン膜上に２０〜１００ｎｍの厚さに形成した非晶質半導体膜を結晶化させることにより結晶質半導体膜を形成し、
前記結晶質半導体膜上に含有窒素濃度が含有酸素濃度よりも小さく、且つ当該含有窒素濃度が５ａｔｏｍｉｃ％以上２５ａｔｏｍｉｃ％未満の第３の酸化窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第３の酸化窒化シリコン膜上に窒化シリコン膜を形成し、
前記窒化シリコン膜上に酸化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記窒化シリコン膜は、圧縮応力を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１または請求項２において、
前記第３の酸化窒化シリコン膜上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上に窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記窒化シリコン膜は、圧縮応力を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１または請求項２において、
前記第３の酸化窒化シリコン膜上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上に第４の酸化窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記第４の酸化窒化シリコン膜は、圧縮応力を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１または請求項２において、
前記第３の酸化窒化シリコン膜上に第４の酸化窒化シリコン膜を形成し、
前記第４の酸化窒化シリコン膜上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上に第５の酸化窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１または請求項２において、
前記第３の酸化窒化シリコン膜上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上に第４の酸化窒化シリコン膜を形成し、
前記第４の酸化窒化シリコン膜上に第５の酸化窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記第４の酸化窒化シリコン膜は、圧縮応力を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１または請求項２において、
前記第３の酸化窒化シリコン膜上に第１の窒化シリコン膜を形成し、
前記第１の窒化シリコン膜上に酸化シリコン膜を形成し、
前記酸化シリコン膜上に第２の窒化シリコン膜を形成し、
前記第２の窒化シリコン膜上に第４の酸化窒化シリコン膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記第１の窒化シリコン膜、前記第２の窒化シリコン膜、及び前記第４の酸化窒化シリコン膜は、圧縮応力を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一項において、
前記第１の酸化窒化シリコン膜は、ＳｉＨ４、Ｎ２Ｏ、及びＮＨ３の混合ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれか一項において、
前記第３酸化窒化のシリコン膜は、ＳｉＨ４及びＮ２Ｏの混合ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１乃至請求項１５のいずれか一項において、
前記第１の酸化窒化シリコン膜は、引っ張り応力を有し、
前記第２の酸化窒化シリコン膜は、圧縮応力を有し、
前記第３の酸化窒化シリコン膜は、圧縮応力を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月31日(2007.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
ガスタービン（116）と、蒸気タービン（118,218,318）と、熱回収蒸気発生器（132,232,332）とを含み、ガスタービンの排気ガスを熱回収蒸気発生器において蒸気タービン用の蒸気を発生させるために使用し、ガスタービンの排気ガスは熱回収蒸気発生器の入口端部から出口端部へ流通するコンバインドサイクルシステムにおいて、
高温飽和器用水の給水口と、燃料ガス用供給口と、飽和燃料ガス用排出口と、飽和器用排水口とを有する燃料ガス飽和器（160,260,360）と、
飽和器用水加熱器（162,262,362）と、
前記飽和器加熱器が熱回収蒸気発生器の熱源に動作結合して、前記熱源を使用して導入されて来る飽和器用水を加熱し、高温飽和器用水を生成するために、飽和器用水を前記飽和器用排水口から前記飽和器用水加熱器まで流通させる流路と、飽和器用水加熱器により生成された高温飽和器用水を燃料ガス飽和器の高温飽和器用給水口まで流通させる流路と、
飽和燃料ガスを加熱する燃料過熱器（164,264,364）と、
過熱飽和燃料ガスを生成するために、飽和燃料ガスを前記飽和燃料ガス用排出口から前記飽和燃料ガスを加熱する前記燃料過熱器まで流通させる流路と、
前記過熱飽和燃料ガスを前記ガスタービンまで流通させる流路と
を有し、前記飽和器用水加熱器が前記熱回収蒸気発生器内に設けられているコンバインドサイクルシステム。
【請求項２】 
前記燃料過熱器は熱回収蒸気発生器の熱源に動作結合して、前記熱源を使用して前記飽和燃料ガスを加熱する請求項１記載のコンバインドサイクルシステム。
【請求項３】 
前記飽和器加熱器は熱回収蒸気発生器の第１の部分に動作結合し、前記燃料過熱器は熱回収蒸気発生器の第２の部分に動作結合し、且つ前記第２の部分は、熱回収蒸気発生器を通る前記ガスタービンの排気の流れ方向に関して前記第１の部分の上流側にある請求項１又は２記載のコンバインドサイクルシステム。
【請求項４】 
前記熱回収蒸気発生器は低圧蒸発器を含み、且つ前記熱源は、熱回収蒸気発生器を通る前記ガスタービンの排気の流れ方向に関して前記低圧蒸発器の下流側にある請求項１乃至３のいずれか１項に記載のコンバインドサイクルシステム。
【請求項５】 
更に、蒸気タービンからの排出蒸気を受け入れ、前記排出蒸気を凝縮して水に戻す復水器（126,226,326）を有し、
前記熱回収蒸気発生器は、前記復水器からの水を受け入れ、前記水を前記蒸気タービンに戻すべき蒸気に変換し、
前記燃料ガス飽和器組体（160,260,360）は、燃料ガスを水で飽和させ且つ前記燃料ガスを加熱し、
前記熱回収蒸気発生器が、第１の前記水加熱器（162,262,362）を含んで前記排気ガスからの熱で水を加熱し、前記燃料ガス飽和器組体の熱源を規定し、
前記燃料ガス過熱器（164,264,364）が、前記燃料ガス飽和器組体により飽和状態にされ且つ加熱された燃料ガスを過熱し、前記ガスタービンに供給するとを具備する、請求項１記載のコンバインドサイクルシステム。
【請求項６】
前記燃料ガス飽和器組体の給水口は前記ガスタービンに供給すべき燃料ガスに水を加え、前記コンバインドサイクルシステムは飽和燃料ガスを前記給水口から流入した水で加熱する熱交換器とを具備し、前記熱交換器は前記第１の水加熱器からの加熱水を受け入れる請求項５記載の再熱サイクル構成。
【請求項７】
前記燃料ガス飽和器組体は、前記第１の水加熱器からの温水用給水口と、燃料ガス用給入口と、飽和燃料ガス用排出口と、排水口とを有する燃料ガス飽和器充填塔を具備する、請求項５又は６記載のコンバインドサイクルシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月25日(2007.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  前縁（２８）と後縁（３０）で一つにつながり根元（３２）から先端（３４）まで延在する翼形部正圧側壁（２４）及び負圧側壁（２６）、
前縁の背後の上記２つの側壁（２４，２６）間に配設された前縁フローチャンバ（３６）、
正圧側流路（４０）及び負圧側流路（４２）であって、それらの間に隔離流路（３８）との境界を画成し、かつ前縁フローチャンバ（３６）から前方ブリッジ（４４）で分離されているとともに、隔離流路（３８）及び上記２つの側流路（４０，４２）の各々に関与している後方ブリッジ（４６）がそれらの間に延在する正圧側面流路（４０）及び負圧側面流路（４２）、及び
前方ブリッジを貫通して隔離流路（３８）と前縁フローチャンバ（３６）とを連通しそれらの間に冷却媒体を通す１列の供給孔（４８）
を含んでなるタービン動翼（１０）であって、隔離流路（３８）及び上記２つの側流路（４０，４２）が冷却媒体を平行に受入れるためそれぞれ独立した第１、第２及び第３入口（５２，５４，５６）を有しており、後方ブリッジ（４６）と後縁（３０）の間に配設された中間流路（６４）であって、その終端が第２及び第３入口（５４，５６）に冷却媒体を排出すべくそれらと連通している中間流路（６４）をさらに含んでいるタービン動翼（１０）。
【請求項２】  前方ブリッジ（４４）が隔離流路（３８）及び上記２つの側流路（４０，４２）の各々に部分的に関与している、請求項１記載の動翼。
【請求項３】  供給孔（４８）が、前縁（２８）の背面に冷却媒体を衝突させる向きに面している、請求項１又は請求項２記載の動翼。
【請求項４】  前縁（２８）近くで上記２つの側壁（２４），（２６）の一方を貫通していて、前縁フローチャンバ（３６）から冷却媒体を排出するため前縁フローチャンバ（３６）と連通している１列のフィルム冷却孔（５８）をさらに含んでなる、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の動翼。
【請求項５】  中間流路（６４）が蛇行流路であって、上記２つの側流路（４０，４２）がその平行最終パスをなす、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の動翼。
【請求項６】  負圧側壁（２６）を貫通して負圧側面流路（４２）と連通した１列のフィルム冷却ギルホール（６２）をさらに含んでなり、
負圧側面流路（４０）への冷却媒体の供給を低い圧力に調量してギルホール（６２）での逆流マージンを低減するため第３入口（５６）が第２入口（５４）よりも小さい、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の動翼。
【請求項７】  翼形部先端（３４）の下に配設されていて後方ブリッジ（４６）から後縁（３０）まで延在する先端チャンバ（６６）をさらに含んでなり、かつ後方ブリッジが、冷却媒体を先端チャンバ（６６）に導くため隔離流路（３８）と先端チャンバ（６６）とを連通する出口孔（６８）を有している、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の動翼。
【請求項８】  前縁（２８）が冷却媒体を前縁フローチャンバ（３６）から排出するための１列のフィルム冷却孔（５８）を有する、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の動翼。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極の間に誘電体を介して形成された放電空隙でオゾンを発生させる放電セルユニットにおいて、前記放電空隙を冷却するために放電空隙に沿って設けられる面状の冷却器であって、金属板を板厚方向に積層しその金属板間に冷媒流路を形成した薄板タイプであり、且つその薄板の両面間を貫通し、且つ内部に形成された冷媒流路の両端部にそれぞれ連通する一対の冷媒出入口により、前記冷媒流路に直角な方向から冷媒の供給・排出を行うと共に、前記冷媒流路が両端部で幅を狭めて前記冷媒出入口に繋がる構成であることを特徴とする放電セル用冷却器。
【請求項２】
厚みが５ｍｍ以下である請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項３】
前記冷媒出入口は円形であり、その周方向の一部に前記冷媒流路が連通することを特徴とする請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項４】
前記冷媒流路は前記金属板のほぼ全幅にわたって形成されていることを特徴とする請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項５】
前記冷媒流路は複数のリブにより幅方向で複数に分割されていることを特徴とする請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項６】
前記冷媒流路は、積層された２枚の金属板の対向面の少なくとも一方に設けられた溝部により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項７】
前記冷媒流路は、スペーサを介して積層された２枚の金属板の対向面間に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項８】
前記放電セルユニットを厚み方向に複数段に積層して構成された積層体の各セルユニットに使用されることを特徴とする請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【請求項９】
前記積層体は、隣接するセルユニット間で当該冷却器を共用する構成であることを特徴とする請求項８に記載の放電セル用冷却器。
【請求項１０】
前記積層体は、薄板タイプの冷却器に設けられた一対の冷媒出入口を用いて積層方向に形成された一対の冷媒主流路を有し、一方の冷媒主流路から供給された冷媒を各セルユニットの冷却器内の冷媒流路に並列的に通過させて他方の冷媒主流路に排出する構成であることを特徴とする請求項８に記載の放電セル用冷却器。
【請求項１１】
前記誘電体は、一対の電極の両方の側、又は片方の側に配置される請求項１に記載の放電セル用冷却器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の放電セル用冷却器は、一対の電極の間に誘電体を介して形成された放電空隙でオゾンを発生させる放電セルユニットにおいて、前記放電空隙を冷却するために放電空隙に沿って設けられる面状の冷却器であって、金属板を板厚方向に積層しその金属板間に冷媒流路を形成した薄板タイプであり、且つその薄板の両面間を貫通し、且つ内部に形成された冷媒流路の両端部にそれぞれ連通する一対の冷媒出入口により、前記冷媒流路に直角な方向から冷媒の供給・排出を行うと共に、前記冷媒流路が両端部で幅を狭めて前記冷媒出入口に繋がる構成である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
セルユニットの薄型化のためには、更に冷却器が接地電極を兼ねる構成や、高圧電極を非冷却とするのが有効である。高圧電極を非冷却とした場合は、放電空隙のギャップ量を０．８ｍｍ以下、特に好ましくは０．２ｍｍ以下に制限して、放電空隙の冷却を促進することが推奨される。また、セルユニットにおける誘電体は、図６に示したように一対の電極の両方の側に設けるのを基本とするが、後述する実施形態に示すとおり、一方を省略して片方の電極の側にのみ設けることもできる。片方の電極の側に設けることにより、セルユニットの薄型化を更に推進することができる。