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【手続補正書】
【提出日】平成19年5月16日(2007.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ステアリングシャフト２の下端は、ユニバーサルジョイント４を介してロアシャフト５の上端に連結され、さらに、ロアシャフト５の下端は、ユニバーサルジョイント６を介してピニオンシャフト７の上端に連結されている。ピニオンシャフト７の下端には、不図示のピニオンが連結されており、かかるピニオンは、ボールスクリュー軸すなわちラック軸２２（図２）のラック歯に噛合している。ラック軸２２が挿通されたラックハウジング８には、ラック軸同軸型５相矩形波駆動式ブラシレスモータ２３が後述する態様で配置されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図２は、本実施の形態にかかるラック軸同軸型ブラシレスモータ周辺の軸線方向断面図である。小径部８ａと大径部８ｂとからなるラックハウジング８は、小径部８ａと一体形成されたブラケット２１により、図示しない車体に固定されている。ラックハウジング８の大径部８ｂ内にラック軸２２が挿通され、ラック軸２２はその両端において、タイロッド９（図１）、１０に連結されている。タイロッド９，１０は、図示しない操舵機構に連結されている。尚、ラック軸２２がボールスクリュー軸を構成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ラックハウジング８の小径部８ａの左方端には、内方フランジ３１ａを有する円筒部材３１が螺合的に取り付けられており、円筒部材３１の外周とタイロッド１０の外周とを蛇腹状の防塵ブーツ３２が連結している。円筒部材３１の内方には、外周に溝を設けて変形しやすくしたゴム又は樹脂製のラックストロークダンパ３３が、断面が略Ｌ字状の抑え板３４により、フランジ３１ａに対向するようにして取り付けられている。ラック軸２２が勢い良く変位して、ラック軸２２の瘤状の端部２２ｂが抑え板３４に衝接したような場合でも、抑え板３４の裏側に配置されたラックストロークダンパ３３により、端部２２ｂの衝接が緩衝されるため、ボールスクリューナット２９、ラック軸２２及び軸受２５，２８の破損を防止できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図５は、第２の実施の形態にかかる電動式パワーステアリング装置によるラック軸同軸型ブラシレスモータ周辺の軸線方向断面図である。本実施の形態においては、ボールスクリューナット周辺の構成が異なるのみであるので、かかる構成を中心に説明し、同様な構成については同一符号を付して説明を省略する。小径部１０８ａと大径部１０８ｂとからなるラックハウジング１０８は、不図示のブラケットにより、図示しない車体に固定されている。ラックハウジング１０８の大径部１０８ｂ内にラック軸２２が挿通され、ラック軸２２はその両端において、タイロッド９（図１）、１０に連結されている。タイロッド９，１０は、図示しない操舵機構に連結されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図６は、第３の実施の形態にかかる電動式パワーステアリング装置によるラック軸同軸型ブラシレスモータ周辺の軸線方向断面図である。本実施の形態においては、ボールスクリューナット周辺の構成が異なるのみであるので、かかる構成を中心に説明し、同様な構成については同一符号を付して説明を省略する。小径部２０８ａと大径部２０８ｂとからなるラックハウジング２０８は、不図示のブラケットにより、図示しない車体に固定されている。ラックハウジング２０８の大径部２０８ｂ内にラック軸２２が挿通され、ラック軸２２はその両端において、タイロッド９（図１）、１０に連結されている。タイロッド９，１０は、図示しない操舵機構に連結されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
ラックハウジング２０８の小径部２０８ａの内周には、薄い円筒状の滑りブッシュ２３１を介して、ボールスクリューナット２２９を回転自在に支持する軸受２５１が配置されている。軸受２５１は、外輪２５１ａと、一対の内輪２５１ｂ、２５１ｃと、両輪間に配置された２列のボール２５２ｄとから構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】テープリールアタッチメントおよびリール部品の供給方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電子部品がテーピングされたテープを巻くテープリールにおいて、
板状部材と、
前記板状部材を、前記テープの側面への移動を抑える前記テープリールの鍔部に固定する固定部とからなり、
前記板状部材を前記固定部により前記テープリールの鍔部に固定することにより、前記テープの側面側への移動を抑える部分を該テープリール半径方向外側に拡大したことを特徴とするテープリールアタッチメント。
【請求項２】  テープリールに取り付け該テープリールの外径を大きくするためのテープリールアタッチメントにおいて、
前記テープリールの直径よりも大きい円板の中心に立設し前記テープリールの孔に挿通する円筒軸と、該円筒軸の円孔の軸線方向に溝が形成されたリールアタッチメントＡと、
前記テープリールの直径よりも大きい円板の中心に立設し前記円孔に挿通する軸と、該軸の先端部に軸線に対して直角方向に前記溝に挿通する係止ピンとが形成されたリールアタッチメントＢとからなり、
前記軸の立設面と前記係止ピンとの間隔が、前記テープリールに挿入した前記リールアタッチメントＡの外側面から該テープリールの外面または前記円筒軸の端面のいずれかの大きい方の寸法以下の寸法に形成されており、該軸を所定の角度回転させて該係止ピンを該リールアタッチメントＡの外側面に係止させることを特徴とするテープリールアタッチメント。
【請求項３】  テープリールに取り付け該テープリールの直径を大きくするためのテープリールアタッチメントにおいて、
前記テープリールの直径よりも大きい円板の中心に立設し該テープリールの孔に挿通する軸と、該軸の先端部にねじが形成されたリールアタッチメントＣと、
前記テープリールの直径よりも大きい円板の中心に前記軸に挿通する円孔が形成されたリールアタッチメントＤと、
前記ねじに螺合するねじ孔が形成されたナットとからなり、
前記テープリールの孔に前記軸を挿通し、該軸にリールアタッチメントＣを挿通させ該リールアタッチメントＤの面より突出したねじに前記ナットを螺合させ前記テープリールに固定させてなることを特徴とするテープリールアタッチメント。
【請求項４】    前記板状部材は、複数に分割された分割部材から構成され、
前記各分割部材には、前記固定部として、前記鍔部が嵌合する溝部が設けられていることを特徴とする請求項１記載のテープリールアタッチメント。
【請求項５】    前記板状部材は、複数に分割された分割部材から構成され、
前記各分割部材には、前記固定部として、前記鍔部を挟持する弾性部材で形成された板ばね部品が設けられていることを特徴とする請求項１記載のテープリールアタッチメント。
【請求項６】  テーピングされた電子部品がリールに捲回されたリール部品の供給方法において、
板状部材を、テープの側面への移動を抑えるテープリールの鍔部に固定し、前記テープの側面側への移動を抑える部分を該テープリール半径方向外側に拡大したことを特徴とするリール部品の供給方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記板状部材は、複数に分割された分割部材から構成され、前記各分割部材には、前記固定部として、前記鍔部を挟持する弾性部材で形成された板ばね部品が設けられていることを特徴とするものである。
さらに、テーピングされた電子部品がリールに捲回されたリール部品の供給方法において、板状部材を、テープの側面への移動を抑えるテープリールの鍔部に固定し、前記テープの側面側への移動を抑える部分を該テープリール半径方向外側に拡大したことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月1日(2007.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】 排出口から排出される転写材を順次に集積する排紙装置本体内に設けた積載台と、この積載台を所定の位置（第１の位置）に載置し且つ前記積載台上の転写材の積載量に応じて上下方向に移動させる移動手段とを有する排紙装置における転写材処理装置において、前記第１の位置にある前記移動手段から前記積載台を離して第２の位置に載置し且つ前記排紙装置本体に対して着脱可能に設けた台車を有することを特徴とする転写材処理装置。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】      【課題を解決するための手段】    上記課題を解決するため、 排出口から排出される転写材を順次に集積する排紙装置本体内に設けた積載台と、この積載台を所定の位置（第１の位置）に載置し且つ前記積載台上の転写材の積載量に応じて上下方向に移動させる移動手段とを有する排紙装置における転写材処理装置において、前記第１の位置にある前記移動手段から前記積載台を離して第２の位置に載置し且つ前記排紙装置本体に対して着脱可能に設けた台車を有することを特徴とする転写材処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月26日(2007.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも疎水性ポリオール、瀝青物質、ポリイソシアネート及び発泡剤を、イソシアネートインデックスが９０以下の条件で混合攪拌して発泡原液とし、得られた発泡原液を基材上に塗布し発泡させて得られる、組成物の物理特性が密度１００〜８００ｋｇ／ｍ３、粘着応力（１８０度ピール）４．０Ｎ／２５ｍｍ以上、引張応力１００ｋＰａ以上、伸び１００％以上、２５％圧縮硬さ２．０〜８０ｋＰａであることを特徴とする自己粘着性発泡体。
【請求項２】  前記組成物に粘着付与剤が添加されていることを特徴とする請求項１記載の自己粘着性発泡体。
【請求項３】  前記疎水性ポリオールは、ジエン系ポリオール、ヒマシ油ポリオール、ダイマー酸ポリオールのいずれかであることを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載の自己粘着性発泡体。
【請求項４】  前記発泡剤は水であり、この水は疎水性ポリオール１００重量部に対して５重量部以下であることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の自己粘着性発泡体。
【請求項５】  独立気泡率が０〜６０％であることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の自己粘着性発泡体。
【請求項６】  防水性を有することを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の自己粘着性発泡体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の自己粘着性発泡体は、少なくとも疎水性ポリオール、瀝青物質、ポリイソシアネート及び発泡剤を、イソシアネートインデックスが９０以下の条件で混合攪拌して発泡原液とし、得られた発泡原液を基材上に塗布し発泡させて得られる、組成物の物理特性が密度１００〜８００ｋｇ／ｍ３、粘着応力（１８０度ピール）４．０Ｎ／２５ｍｍ以上、引張応力１００ｋＰａ以上、伸び１００％以上、２５％圧縮硬さ２．０〜８０ｋＰａであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月21日(2007.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  水に対する溶解度が２０℃で１０００ｐｐｍ以下であり、かつ、常温で液状又は所定の手段で液状化が容易な固形状の農薬活性成分、有機溶剤、非イオン界面活性剤、増粘剤、及び水を含有する水性懸濁農薬組成物において、
上記の農薬活性成分、有機溶剤、非イオン界面活性剤の混合物の比重ｄＡと、上記の増粘剤及び水の混合物の比重ｄＢの比ｄＡ／ｄＢが、０．９５≦ｄＡ／ｄＢ≦１．０５の範囲であることを特徴とする水性懸濁農薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月28日(2006.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクジェット記録材料
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  耐水性支持体上に少なくとも２層の塗布層を積層したインクジェット記録材料において、該耐水性支持体に近い塗布層（Ａ）が含イオウ有機化合物、糖類、カルバミド系化合物、及びジシアンジアミド系樹脂の少なくとも１種とバインダーを含有し、耐水性支持体から遠い塗布層（Ｂ）が無機微粒子、及び親水性バインダーを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【請求項２】  前記塗布層Ａが無機微粒子を含有し、該無機微粒子のＢＥＴ法による比表面積をＸm2／ｇ、塗布層Ａの全固形分に対する無機微粒子の含有率をＹ重量％とすると、ＸＹ／１００の値が１６０以下であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録材料。
【請求項３】  前記塗布層Ａのバインダーが塗布層Ｂの親水性バインダーよりも親水性が低いことを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット記録材料。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月6日(2007.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の片面に、混合した２液反応型の熱硬化性ポリウレタン原料を連続的に塗工し、前記熱硬化性ポリウレタン原料を加熱硬化することによって、基材の片面にポリウレタン層を有するポリウレタンシートを製造するポリウレタンシートの製造方法において、前記原料を、一定速度で走行する前記基材と、前記基材と間隔をあけて対面しかつ等しい速度で走行する搬送体との間に吐出し、前記基材と前記搬送体とを介して前記原料を少なくとも一対のローラで押圧することによって厚みが均一な塗工層を形成する工程と、前記基材と前記搬送体とに挟持されている前記塗工層を加熱して硬化させる工程と、前記塗工層が硬化することによって得られた積層物に処理を行う工程とを有する、ポリウレタンシートの製造方法。
【請求項２】
基材の両面に、混合した２液反応型の熱硬化性ポリウレタン原料を連続的に塗工し、前記熱硬化性ポリウレタン原料を加熱硬化することによって、基材の両面にポリウレタン層を有するポリウレタンシートを製造するポリウレタンシートの製造方法において、一定速度で走行する第１の搬送体の上面に前記原料を吐出する工程と、前記基材を、前記原料が吐出された前記第１の搬送体の上方から、前記第１の搬送体と対面し前記第１の搬送体と等しい速度で走行するように供給し、前記第１の搬送体と前記基材とを介して前記原料を少なくとも一対のローラで押圧することによって厚みが均一な第１の塗工層を形成する工程と、前記第１の搬送体との間で前記第１の塗工層を形成している前記基材の上面に更に前記原料を吐出する工程と、第２の搬送体を、上面に前記原料が吐出された前記基材の上方から、前記基材と対面し前記基材と等しい速度で走行するように供給し、前記基材と第２の搬送体とを介して、前記基材の上面に供給された原料を少なくとも一対のローラで押圧することによって厚みが均一な第２の塗工層を形成する工程と、前記第１の搬送体と前記基材とに挟持されている前記第１の塗工層、および前記基材と前記第２の搬送体とに挟持されている前記第２の塗工層を加熱して硬化させる工程と、前記第１の塗工層および前記第２の塗工層の少なくとも一方が硬化することによって得られた積層物に処理を行う工程とを有する、ポリウレタンシートの製造方法。
【請求項３】
一定速度で走行する基材と、該基材と間隔をあけて対面し前記基材と等しい速度で走行する搬送体との間に、混合した２液反応型の熱硬化性ポリウレタン原料を吐出するウレタン原料注入手段と、前記ウレタン原料注入手段から吐出された原料を、前記基材および前記搬送体を介して少なくとも一対のローラで押圧することによって、均一な厚みの塗工層を形成する塗工手段と、前記塗工層を、前記基材と前記搬送体とに挟持されている状態で加熱し硬化させる加熱手段と、前記塗工層が硬化することによって得られた積層物に処理を行う処理手段とを有するポリウレタンシート製造装置。
【請求項４】
一定速度で走行する第１の搬送体の上面に、混合した２液反応型の熱硬化性ポリウレタン原料を吐出する第１のウレタン原料注入手段と、前記第１の搬送体の上方から、前記第１の搬送体と対面しかつ等しい速度で走行するように前記基材を供給し、前記第１の搬送体および前記基材を介して、前記第１のウレタン原料注入手段から吐出された原料を少なくとも一対のローラで押圧することで均一な厚みの第１の塗工層を形成する第１の塗工手段と、前記第１の搬送体との間で前記第１の塗工層を保持している前記基材の上面に、混合した２液反応型熱硬化性ポリウレタン原料を吐出する第２のウレタン原料注入手段と、前記第１の搬送体との間で前記第１の塗工層を保持している前記基材の上方から、前記基材と対面しかつ等しい速度で走行するように第２の搬送体を供給し、少なくとも前記基材および前記第２の搬送体を介して、前記第２のウレタン原料注入手段から吐出された原料を少なくとも一対のローラで押圧することで均一な厚みの第２の塗工層を形成する第２の塗工手段と、前記第１の塗工層を前記第１の搬送体と前記基材とに挟持されている状態で加熱し硬化させるとともに、前記第２の塗工層を前記基材と前記第２の搬送体とに挟持されている状態で加熱し硬化させる加熱手段と、前記第１の塗工層および前記第２の塗工層の少なくとも一方が硬化することによって得られた積層物に処理を行う処理手段とを有するポリウレタンシート製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月26日(2007.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
弾性体を介して中間プレートに結合する除振対象を、前記中間プレートおよび変位発生形アクチュエータを介して設置位置に設置し、前記変移発生形アクチュエータで前記中間プレートを駆動する振動絶縁装置において、
前記中間プレートの絶対速度と、前記除振対象の絶対速度とを検出し、
前記各絶対速度の検出信号をそれぞれのＰＩＤ補償器に入力し、
前記各ＰＩＤ補償器の出力の加算信号に基づいて変位発生形アクチュエータを駆動することを特徴とする変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【請求項２】  
弾性体を介して中間プレートに結合する除振対象を、前記中間プレートおよび変位発生形アクチュエータを介して設置位置に設置し、前記変移発生形アクチュエータで前記中間プレートを駆動する振動絶縁装置において、
前記中間プレートの絶対加速度と、前記除振対象の絶対加速度とを検出し、
前記各絶対加速度の検出信号をそれぞれのＰＩＩ2 補償器に入力し、前記各ＰＩＩ2 補償器の出力の加算信号に基づいて前記変位発生形アクチュエータを駆動することを特徴とする変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【請求項３】  
弾性体を介して中間プレートに結合する除振対象を、前記中間プレートおよび変位発生形アクチュエータを介して設置位置に設置し、前記変移発生形アクチュエータで前記中間プレートを駆動する振動絶縁装置において、
前記除振対象と前記弾性体の間と、前記中間プレートと前記変位発生形アクチュエータの間とに荷重センサを設け、前記各荷重センサの出力に基づいて前記変位発生形アクチュエータを駆動することを特徴とする変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【請求項４】  
弾性体を介して中間プレートに結合する除振対象を、前記中間プレートおよび変位発生形アクチュエータを介して設置位置に設置し、前記変移発生形アクチュエータで前記中間プレートを駆動する振動絶縁装置において、
前記設置位置における床振動の絶対加速度を検出し、この絶対加速度の検出信号を二重積分器、もしくは二重疑似積分器に入力し、その出力に基づいて前記変位発生形アクチュエータを駆動することを特徴とする変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【請求項５】  
弾性体を介して中間プレートに結合する除振対象を、前記中間プレートおよび変位発生形アクチュエータを介して設置位置に設置し、前記変移発生形アクチュエータで前記中間プレートを駆動する振動絶縁装置において、
前記設置位置における床振動の絶対速度を検出し、この絶対速度の検出信号を積分器、もしくは疑似積分器に入力し、その出力に基づいて前記変位発生形アクチュエータを駆動することを特徴とする変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【請求項６】  
前記除振対象が設置される床の床下の機構部材であるポストとブレースに前記変位発生形アクチュエータを用いたスマートユニットを装着したことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の能動振動絶縁装置。
【請求項７】  
前記除振対象が半導体製造装置であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【請求項８】  
前記変位発生形アクチュエータが圧電素子または電歪素子であることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の変位発生形アクチュエータ能動振動絶縁装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月15日(2007.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＳＩ（番組特定情報）／ＳＩ（番組配列情報）を生成するための情報を元に、セクション単位に送出開始時間を付加したセクション情報を生成するＰＳＩ／ＳＩ生成装置と、
前記ＰＳＩ／ＳＩ生成装置が生成した前記セクション情報を前記送出開始時間に合わせてエンコードされたＴＳに多重化して出力する多重化装置を備えたことを特徴とする番組配信システム。
【請求項２】
前記ＰＳＩ／ＳＩ生成装置は、前記ＰＳＩ／ＳＩを管理し第１の内部時計を監視しながら送出タイミングを管理する第１のスケジュール管理部と、前記第１のスケジュール管理部の指示によりセクション単位でセクション情報を生成して前記多重化装置に送信するセクション情報生成・送信部を備え、予め次に放送される番組に必要な前記ＰＳＩ／ＳＩを前記多重化装置に送信することを特徴とする請求項１記載の番組配信システム。
【請求項３】
前記多重化装置は、前記ＰＳＩ／ＳＩ生成装置から入力されたセクション情報をＴＳパケット化するＴＳＰ生成部と、前記ＴＳパケット化されたセクション情報を記憶するＴＳＰ記憶部と、第２の内部時計を監視しながら送出タイミングを管理する第２のスケジュール管理部と、前記第２のスケジュール管理部の指示によりＴＳＰ記憶部に記憶されたセクション情報とエンコードされたＴＳとを多重化して出力するする多重化部とを備え、
前記ＴＳＰ記憶部は現在送出するセクション情報と次に送出するセクション情報を記憶すし、第２のスケジュール管理部は前記セクション情報の送出開始時間と前記第２の内部時計とが一致するときに前記セクション情報を切替えて送出することを特徴とする請求項２に記載の番組配信システム。
【請求項４】
前記ＰＳＩ／ＳＩ生成装置から前記多重化装置に送信する送出開始時間を付加した前記ＰＳＩ／ＳＩのデータ形式がセクションに特定しないことを特徴とする請求項３に記載の番組配信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】番組配信システム
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月18日(2007.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のデバイスのデバイス色信号から第２のデバイスのデバイス色信号へ変換するために使用する入力側１次元テーブルと多次元テーブルとに設定される色変換係数を作成する色変換係数作成装置であって、
前記第１のデバイスの１または複数の色成分のデバイス色信号と、当該色成分に関する前記第２のデバイスにおけるデバイス色信号との間の対応関係を示す色変換特性曲線を算出する色変換特性算出部と、
前記色変換特性算出部で算出された前記色変換特性曲線が前記多次元テーブルに設定された各グリッド間で単調性を有するように、前記色成分に関する前記第１のデバイスのデバイス色信号を変換する入力側１次元テーブルを算出する入力側１次元テーブル算出部と、
前記入力側１次元テーブル算出部により算出された前記入力側１次元テーブルに対応した多次元テーブルを算出する多次元テーブル算出部と
を備えたことを特徴とする色変換係数作成装置。
【請求項２】
前記色変換特性算出部は、前記多次元テーブルのグリッド間隔よりも細かいステップで前記色変換特性曲線を算出することを特徴とする請求項１記載の色変換係数作成装置。
【請求項３】
前記色変換特性算出部は、前記第１のデバイスのデバイス色信号を前記第２のデバイスのデバイス色信号に変換するデバイス色信号変換部を有することを特徴とする請求項１記載の色変換係数作成装置。
【請求項４】
前記色変換特性算出部によって算出された前記色成分に関する前記色変換特性曲線を前記第１のデバイスのデバイス色信号の関数として算出し、当該関数に基づいて当該色成分の当該色変換特性曲線に関する非線形度を算出する非線形度算出部をさらに備え、
前記入力側１次元テーブル算出部は、前記多次元テーブルの各グリッド間に含まれる当該第１のデバイスのデバイス色信号に関する前記非線形度の総和が当該各グリッド間に略均等となるように前記入力側１次元テーブルを算出することを特徴とする請求項１記載の色変換係数作成装置。
【請求項５】
コンピュータを制御して、第１のデバイスのデバイス色信号から第２のデバイスのデバイス色信号へ変換するために使用する入力側１次元テーブルと多次元テーブルとに設定される色変換係数を作成するプログラムであって、
前記第１のデバイスのデバイス色信号を取得する処理と、
前記第１のデバイスのデバイス色信号を変換して前記第２のデバイスにおけるデバイス色信号を取得する処理と、
前記第１のデバイスの１または複数の色成分のデバイス色信号と、当該色成分に関する前記第２のデバイスにおける前記デバイス色信号との間の対応関係を示す色変換特性曲線を算出する処理と、
算出された前記色変換特性曲線が前記多次元テーブルに設定された各グリッド間で単調性を有するように、前記色成分に関する前記第１のデバイスのデバイス色信号を変換する入力側１次元テーブルを算出する処理と、
算出された前記入力側１次元テーブルに対応した多次元テーブルを算出する処理と
を含むことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】色変換係数作成装置、およびプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ここで、色変換特性算出部は、多次元テーブルのグリッド間隔よりも細かいステップで色変換特性曲線を算出することを特徴とすることができる。また、色変換特性算出部は、第１のデバイスのデバイス色信号を第２のデバイスのデバイス色信号に変換するデバイス色信号変換部を有することを特徴とすることもできる。さらには、色変換特性算出部によって算出された色成分に関する色変換特性曲線を第１のデバイスのデバイス色信号の関数として算出し、この関数に基づいてかかる色成分の色変換特性曲線に関する非線形度を算出する非線形度算出部をさらに備え、入力側１次元テーブル算出部は、多次元テーブルの各グリッド間に含まれる第１のデバイスのデバイス色信号に関する非線形度の総和が各グリッド間に略均等となるように入力側１次元テーブルを算出することを特徴とすることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月11日(2007.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のデューティ比を有するパルスと第２のデューティ比を有するパルスを有し、かつパルス周波数が一定である第１の受信信号を入力する第１の端子と、
前記第１の受信信号と位相が逆相関係にある第２の受信信号を入力する第２の端子と、
前記第１の受信信号又は前記第２の受信信号のパルス周波数と同期し、かつ、前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比の間のデューティ比を有するクロック信号を生成するクロック生成回路と、
前記クロック生成回路により生成された前記クロック信号を入力し、前記クロック信号のデューティ比を基準として前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比を識別してデータ信号を生成するデータ信号生成回路と、
前記データ信号を入力し送信信号を出力する内部回路と、
前記第１及び第２の受信信号を基に前記クロック生成回路、前記データ信号生成回路及び前記内部回路の電源電圧を生成する整流回路と
を有することを特徴とするデータ通信装置。
【請求項２】
前記データ信号生成回路に入力される前記クロック信号と同一のクロック信号を前記内部回路に入力することを特徴とする請求項１記載のデータ通信装置。
【請求項３】
前記整流回路は、
前記第１の端子にハイレベルのパルス信号が入力され前記第２の端子にローレベルのパルス信号が入力されたときには前記第１の端子を電源端子に接続して前記第２の端子を電源基準端子に接続し、
前記第１の端子にローレベルのパルス信号が入力され前記第２の端子にハイレベルのパルス信号が入力されたときには前記第１の端子を電源基準端子に接続して前記第２の端子を電源端子に接続し、
前記第１及び第２の端子にハイレベルのパルス信号が入力されときには前記第１及び第２の端子を電源基準端子に接続せず、
前記第１及び第２の端子にローレベルのパルス信号が入力されときには前記第１及び第２の端子を電源端子に接続しないことを特徴とする請求項１又は２記載のデータ通信装置。
【請求項４】
前記整流回路は、
前記第１及び第２の端子にハイレベルのパルス信号が入力されときには前記第１及び第２の端子を電源端子に接続し、
前記第１及び第２の端子にローレベルのパルス信号が入力されときには前記第１及び第２の端子を電源基準端子に接続することを特徴とする請求項３記載のデータ通信装置。
【請求項５】
前記整流回路は、
前記第１及び第２の端子にハイレベルのパルス信号が入力されときには前記第１及び第２の端子を電源端子に接続せず、
前記第１及び第２の端子にローレベルのパルス信号が入力されときには前記第１及び第２の端子を電源基準端子に接続しないことを特徴とする請求項３記載のデータ通信装置。
【請求項６】
第１のデューティ比を有するパルスと第２のデューティ比を有するパルスを有し、かつパルス周波数が一定である第１の受信信号を第１の端子に入力する第１の入力ステップと、
前記第１の受信信号と位相が逆相関係にある第２の受信信号を第２の端子に入力する第２の入力ステップと、
クロック生成回路において、前記第１の受信信号又は前記第２の受信信号のパルス周波数と同期し、かつ、前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比の間のデューティ比を有するクロック信号を生成するクロック生成ステップと、
データ信号生成回路において、前記クロック生成ステップにより生成された前記クロック信号を入力し、前記クロック信号のデューティ比を基準として前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比を識別してデータ信号を生成するデータ信号生成ステップと、
内部回路において前記データ信号を入力し送信信号を出力する送信信号出力ステップと、
前記第１及び第２の受信信号を基に前記クロック生成回路、前記データ信号生成回路及び前記内部回路の電源電圧を生成する整流ステップと
を有することを特徴とするデータ通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】データ通信装置及びデータ通信方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、データ通信装置及びデータ通信方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、2個の接点で、双方向のデータ通信を可能にすることでシステムを小型化でき、しかも、厳密な精度が不要な簡単な回路構成にて、誤動作しにくい安定したデータ通信を可能にするデータ通信装置及びデータ通信方法を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明のデータ通信装置は、第１のデューティ比を有するパルスと第２のデューティ比を有するパルスを有し、かつパルス周波数が一定である第１の受信信号を入力する第１の端子と、前記第１の受信信号と位相が逆相関係にある第２の受信信号を入力する第２の端子と、前記第１の受信信号又は前記第２の受信信号のパルス周波数と同期し、かつ、前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比の間のデューティ比を有するクロック信号を生成するクロック生成回路と、前記クロック生成回路により生成された前記クロック信号を入力し、前記クロック信号のデューティ比を基準として前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比を識別してデータ信号を生成するデータ信号生成回路と、前記データ信号を入力し送信信号を出力する内部回路と、前記第１及び第２の受信信号を基に前記クロック生成回路、前記データ信号生成回路及び前記内部回路の電源電圧を生成する整流回路とを有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明のデータ通信方法は、第１のデューティ比を有するパルスと第２のデューティ比を有するパルスを有し、かつパルス周波数が一定である第１の受信信号を第１の端子に入力する第１の入力ステップと、前記第１の受信信号と位相が逆相関係にある第２の受信信号を第２の端子に入力する第２の入力ステップと、クロック生成回路において、前記第１の受信信号又は前記第２の受信信号のパルス周波数と同期し、かつ、前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比の間のデューティ比を有するクロック信号を生成するクロック生成ステップと、データ信号生成回路において、前記クロック生成ステップにより生成された前記クロック信号を入力し、前記クロック信号のデューティ比を基準として前記第１のデューティ比と前記第２のデューティ比を識別してデータ信号を生成するデータ信号生成ステップと、内部回路において前記データ信号を入力し送信信号を出力する送信信号出力ステップと、前記第１及び第２の受信信号を基に前記クロック生成回路、前記データ信号生成回路及び前記内部回路の電源電圧を生成する整流ステップとを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月15日(2007.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元表面を画定する半導体基板と、
前記半導体基板上に、２次元状に配列され、入射光量に応じた信号電荷を発生する多数個の光電変換素子と、
前記光電変換素子の列間に垂直方向に配列され、前記光電変換素子で発生した信号電荷を垂直方向に転送する垂直電荷転送手段と、
前記垂直電荷転送手段の端部に設置され、前記垂直電荷転送手段で転送された信号電荷を一時的に蓄積するラインメモリと、
前記ラインメモリに蓄積された信号電荷を選択的に読み出し、行方向の複数個ごとの信号電荷を加算して、行方向に順次転送する４相電極で構成される水平電荷転送装置と
を有する固体撮像装置。
【請求項２】
前記ラインメモリは、二層電極構造を有する請求項１記載の固体撮像装置。
【請求項３】
２次元表面を画定する半導体基板と、前記半導体基板上に、２次元状に配列され、入射光量に応じた信号電荷を発生する多数個の光電変換素子と、前記光電変換素子の列間に垂直方向に配列され、前記光電変換素子で発生した信号電荷を垂直方向に転送する垂直電荷転送手段と、前記垂直電荷転送手段の端部に設置され、前記垂直電荷転送手段で転送された信号電荷を一時的に蓄積するラインメモリと、前記ラインメモリに蓄積された信号電荷を選択的に読み出し、行方向の複数個ごとの信号電荷を加算して、行方向に順次転送する水平電荷転送装置とを有する固体撮像装置の駆動方法であって、
前記水平電荷転送装置は４相駆動であることを特徴とする固体撮像装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、電気器具、及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一基板上に画素部及び駆動回路部を含む半導体装置であって、
前記駆動回路部を形成する駆動ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記駆動ＴＦＴのゲート絶縁膜を挟んで前記駆動ＴＦＴのゲート配線と重なるように配置されており、
前記画素部を形成する画素ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記画素ＴＦＴのゲート絶縁膜を挟んで前記画素ＴＦＴのゲート配線と重ならないように配置されており、
前記画素部の保持容量は、前記画素ＴＦＴの上方に設けられた遮光膜、前記遮光膜の酸化物、及び画素電極によって形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
同一基板上に画素部及び駆動回路部を含む半導体装置であって、
前記駆動回路部を形成する駆動ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記駆動ＴＦＴのゲート絶縁膜を挟んで前記駆動ＴＦＴのゲート配線と重なるように配置されており、
前記画素部を形成する画素ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記画素ＴＦＴのゲート絶縁膜を挟んで前記画素ＴＦＴのゲート配線と重ならないように配置されており、
前記画素部の保持容量は、樹脂膜の上に設けられた遮光膜、前記遮光膜の酸化物、及び画素電極によって形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記駆動ＴＦＴのゲート絶縁膜は、前記画素ＴＦＴのゲート絶縁膜よりも薄いことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記遮光膜は、アルミニウム膜又はアルミニウムを主成分とする膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記酸化物は、アルミナ膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記画素電極は、ＥＬ素子の陽極又は陰極であることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の半導体装置を表示部に用いたことを特徴とする電気器具。
【請求項８】
同一基板上に画素部及び駆動回路部を含む半導体装置の作製方法であって、
前記駆動回路部を形成するＮＴＦＴのＬＤＤ領域を、前記駆動回路部を形成するＮＴＦＴのゲート配線にゲート絶縁膜を挟んで重なるように形成し、
前記画素部を形成する画素ＴＦＴのＬＤＤ領域を、前記画素ＴＦＴのゲート配線にゲート絶縁膜を挟んで重ならないように形成し、
前記画素ＴＦＴの上方に設けられた遮光膜、前記遮光膜の酸化物、及び画素電極によって前記画素部の保持容量を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
同一基板上に画素部及び駆動回路部を含む半導体装置の作製方法であって、
前記基板上に、画素ＴＦＴを形成する第１の半導体層と、駆動ＴＦＴを形成する第２の半導体層と、を形成し、
前記第１及び第２の半導体層の上にゲート絶縁膜を形成し、
前記第２の半導体層の上に第１のゲート配線を形成し、
前記第１のゲート配線をマスクとして、前記第２の半導体層に周期表の１５族に属する元素を添加して、不純物領域を形成し、
前記不純物領域に含まれる前記１５族に属する元素を熱処理により拡散させて、前記第１のゲート配線の下に第１の低濃度不純物領域を形成し、
前記第１の半導体層の上に第２のゲート配線を形成し、
前記第２のゲート配線をマスクとして、前記第１の半導体層に周期表の１５族に属する元素を添加して、前記第２の低濃度不純物領域を形成し、
前記第２の低濃度不純物領域の一部を覆ってレジストマスクを形成し、
前記レジストマスク及び前記第１のゲート配線をマスクとして、前記第１の半導体層の端部及び第２の半導体層に周期表の１５族に属する元素を添加して、高濃度不純物領域を形成し、
前記駆動ＴＦＴと、前記画素ＴＦＴと、を覆って、層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜の上に遮光膜を形成し、
前記遮光膜の表面に前記遮光膜の酸化物を形成し、
前記遮光膜の酸化物の上に画素電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
同一基板上に画素部及び駆動回路部を含む半導体装置の作製方法であって、
前記基板上に、画素ＴＦＴを形成する第１の半導体層と、ＮＴＦＴとＰＴＦＴとを含む駆動ＴＦＴを形成する第２の半導体層と、を形成し、
前記第１の半導体層の上に第１のゲート絶縁膜を形成し、
前記第２の半導体層の上に前記第１のゲート絶縁膜より膜厚が薄い第２のゲート絶縁膜を形成し、
前記第１及び第２の半導体層と、前記第１及び第２のゲート絶縁膜と、を覆って導電膜を形成し、
前記導電膜をパターニングして前記第２の半導体層の上に前記ＮＴＦＴのゲート配線を形成し、
前記ＮＴＦＴのゲート配線をマスクとして、前記第２の半導体層の前記ＮＴＦＴを形成する領域に周期表の１５族に属する元素を添加して、不純物領域を形成し、
前記不純物領域に含まれる前記１５族に属する元素を熱処理により拡散させて、前記ＮＴＦＴのゲート配線の下に第１の低濃度不純物領域を形成し、
前記導電膜をパターニングして前記第１の半導体層の上に前記画素ＴＦＴのゲート配線を形成し、
前記画素ＴＦＴのゲート配線をマスクとして、前記第１の半導体層に周期表の１５族に属する元素を添加して、前記第２の低濃度不純物領域を形成し、
前記第２の低濃度不純物領域の一部を覆ってレジストマスクを形成し、
前記レジストマスク及び前記ＮＴＦＴのゲート配線をマスクとして、前記第１の半導体層の端部及び前記第２の半導体層のＮＴＦＴを形成する領域に周期表の１５族に属する元素を添加して、第１の高濃度不純物領域を形成し、
前記導電膜をパターニングして前記第２の半導体層に上に前記ＰＴＦＴのゲート配線を形成し、
前記ＰＴＦＴのゲート配線をマスクとして、前記第２の半導体層の前記ＰＴＦＴを形成する領域に周期表の１３族に属する元素を添加して、第２の高濃度不純物領域を形成し、
前記駆動ＴＦＴと、前記画素ＴＦＴと、を覆って、層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜の上に遮光膜を形成し、
前記遮光膜の表面に前記遮光膜の酸化物を形成し、
前記遮光膜の酸化物の上に画素電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０において、
前記層間絶縁膜は、樹脂膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項８乃至請求項１１のいずれか一において、
前記遮光膜は、アルミニウム膜又はアルミニウムを主成分とする膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項８乃至請求項１１のいずれか一において、
前記酸化物は、アルミナ膜であり、前記アルミナ膜は陽極酸化法、プラズマ酸化法、又は熱酸化法により形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月5日(2007.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＩＣラベル
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラベルと、
前記ラベル上に設けられた接着剤と、
前記接着剤上に設けられた金属酸化物と、
前記金属酸化物上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜上に設けられた半導体膜と、を有することを特徴とするＩＣラベル。
【請求項２】
ラベルと、
前記ラベル上に設けられた接着剤と、
前記接着剤上に設けられた金属酸化物と、
前記金属酸化物上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜上に設けられた半導体膜と、
前記半導体膜が有する不純物領域と電気的に接続する配線と、
前記配線と同一のレイヤに同一材料で形成されたアンテナと、を有することを特徴とするＩＣラベル。
【請求項３】
請求項２において、
前記材料は導電ペーストであることを特徴とするＩＣラベル。
【請求項４】
ラベルと、
前記ラベル上に設けられた接着剤と、
前記接着剤上に設けられた金属酸化物と、
前記金属酸化物上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜上に設けられた半導体膜と、
ゲート絶縁膜を介して前記半導体膜上に設けられたゲート電極と、
前記ゲート電極と同一のレイヤに同一材料で形成されたアンテナと、を有することを特徴とするＩＣラベル。
【請求項５】
請求項４において、
前記材料は導電ペーストであることを特徴とするＩＣラベル。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記ＩＣラベルは非接触型であることを特徴とするＩＣラベル。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記金属酸化物はＷＯ２又はＷＯ３を有することを特徴とするＩＣラベル。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記金属酸化物は、Ｗ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒから選ばれた元素または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料を有する酸化物であることを特徴とするＩＣラベル。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記半導体膜を能動素子として用いることを特徴とするＩＣラベル。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一において、
前記半導体膜を、薄膜トランジスタのチャネル形成領域として用いることを特徴とするＩＣラベル。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記ＩＣラベルの表面は、文字、記号又は図形が印刷可能であることを特徴とするＩＣラベル。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図４（Ａ）は、第１のラベル４０上に接着剤４１を介して、金属酸化物４２、珪素を有する酸化膜４３、窒素を有する絶縁膜を含む下地膜４４、不純物領域を有する半導体膜、ゲート絶縁膜を介してゲート電極、ゲート電極を覆って第１の層間絶縁膜４６、第２の層間絶縁膜４７、不純物領域に接続された配線、配線と同一層（同一レイヤ）にアンテナ３１、配線及びアンテナを覆って保護膜４９、保護膜を介して第２のラベル５０が設けられる構成を示す。なお接触型薄膜集積回路の場合は、アンテナを設けない構成とすればよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図４（Ｂ）は（Ａ）と異なり、アンテナ３１をゲート電極と同一のレイヤに形成する例を示す。すなわち、ゲート材料を用いてゲート電極と同時に所定な形状にエッチングしたり、インクジェット法や印刷法により導電ペースト（具体的には銀ペースト）を用いて形成したり、第１の層間絶縁膜やゲート絶縁膜に凹部を形成しアンテナ材料を流し込んで形成する。なお接触型ＩＣの場合はアンテナを設けない構成とすればよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
図４（Ｃ）は、（Ａ）及び（Ｂ）と異なり、アンテナとＩＣ部分とを別に形成する例を示す。ＣＰＵやメモリを有するＩＣを所定の位置に転写し、アンテナ３１をインクジェット法や印刷法により導電ペースト（具体的には銀ペースト）を用いて形成する。そして導電ペースト上を保護膜４９で覆う。もちろん保護膜４９とは異なる保護膜を用いても構わない。このとき、アンテナと集積回路部との配置は適宜設定すればよい。なお接触型ＩＣの場合はアンテナを設けない構成とすればよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2006157038.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月5日(2007.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＲＦ処理部と、ＲＦ処理後の信号に基づいてキャリア・トラッキングを行なうベースバンド部を備えた無線通信装置であって、
キャリアの位相誤差値及びその方向からなる位相誤差判定値を測定する位相誤差測定手段と、
位相誤差判定値を第１の閾値並びに前記第１の閾値よりも大きな第２の閾値と比較し、位相誤差判定値が第１又は第２の閾値を超えたことに応答して第１又は第２の位相誤差補正処理をそれぞれ実行する位相誤差補正手段と、
を具備することを特徴とする無線通信装置。
【請求項２】
ＲＦ処理後の信号に基づいて伝搬路を推定する伝搬路推定部をさらに備え、
前記位相誤差補正手段は、位相誤差判定値が前記第１の閾値を超えたことに応答して、伝搬路推定値を位相誤差とは逆方向に所定値だけ回転させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項３】
前記伝搬路推定部による測定結果に基づいてＲＡＫＥ受信するＲＡＫＥ合成部をさらに備え、
前記位相誤差補正手段は、ＲＡＫＥ合成のデータ出力が確定するまでＩ軸及びＱ軸の各成分を積算して得られるＲＡＫＥ受信結果をＩＱ平面上にマッピングすることで位相誤差判定値（Ｐerr_I，Ｐerr_q）を得る、
ことを特徴とする請求項２に記載の無線通信装置。
【請求項４】
前記位相誤差補正手段は、位相誤差判定値が前記第１の閾値を超えたことに応答して、位相誤差判定値（Ｐerr_I，Ｐerr_q）をＩＱ平面上で位相誤差とは逆方向に所定値だけ回転させる、
ことを特徴とする請求項３に記載の無線通信装置。
【請求項５】
前記位相誤差補正手段は、位相誤差判定値が前記第１の閾値を超えたことにより補正した補正量の合計値が前記第２の閾値を超えたことに応答して、前記第２の位相誤差補正処理を実行する、
ことを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項６】
前記位相誤差補正手段は、位相誤差判定値が前記第２の閾値を超えたことに応答して、前記ＲＦ部に移相指令を出力し、
前記ＲＦ部は移相指令に応答して、キャリア信号のチップ位置を位相ずれと反対方向に所定量だけ補正する、
ことを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項７】
ＲＦ受信信号に基づいてキャリア・トラッキングを行なう無線通信方法であって、
キャリアの位相誤差値及びその方向からなる位相誤差判定値を測定する位相誤差測定ステップと、
位相誤差判定値を第１の閾値と比較し、位相誤差判定値が前記第１の閾値を超えたことに応答して第１の位相誤差補正処理を実行する第１の位相誤差補正ステップと、
位相誤差判定値を前記第１の閾値よりも大きな第２の閾値と比較し、位相誤差判定値が前記第２の閾値を超えたことに応答して第２の位相誤差補正処理を実行する第２の位相誤差補正ステップと、
を具備することを特徴とする無線通信方法。
【請求項８】
ＲＦ処理後のデジタル信号のベースバンド処理をコンピュータ上で実行するようにコンピュータ可読形式で記述されたコンピュータ・プログラムであって、前記コンピュータを、
キャリアの位相誤差値及びその方向からなる位相誤差判定値を測定する位相誤差測定手段と、
位相誤差判定値を第１の閾値と比較し、位相誤差判定値が前記第１の閾値を超えたことに応答して第１の位相誤差補正処理を実行する第１の位相誤差補正手段と、
位相誤差判定値を前記第１の閾値よりも大きな第２の閾値と比較し、位相誤差判定値が前記第２の閾値を超えたことに応答して第２の位相誤差補正処理を実行する第２の位相誤差補正手段と、
として機能させるためのコンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月14日(2007.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記中継器は、前段の中継器からの光パケットの前記送信元アドレスのアドレス判定を行い、自機器に接続されるネットワークに割り振られたアドレスに該当する場合は、前記前段からの光パケットを取り込んで自機器に接続されるネットワークに返送または破棄し、該当しない場合は後段の中継器に転送することを特徴とする請求項７記載の光通信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項６記載の発明は、
あて先アドレスと送信元アドレスとがビット単位で割り当てられた光パケットを、リング型ネットワークで伝送する光通信システムにおいて、
前記リング型ネットワーク上に設けられ、請求項１〜５のいずれかに記載のアドレス判定回路を具備し、このアドレス判定回路のアドレス判定結果により光パケットの転送先を決定する中継器を設けることを特徴とするものである。
請求項７記載の発明は、請求項６記載の発明において、
前記中継器に接続され、前記アドレスが割り当てられるネットワークを有し、
前記中継器は、前段の中継器からの光パケットのあて先アドレスのアドレス判定を行い、自機器に接続されるネットワークに割り振られたアドレスに該当する場合は、前記前段からの光パケットを自機器に接続されるネットワークに転送し、該当しない場合は後段の中継器に転送することを特徴とするものである。
請求項８記載の発明は、請求項７記載の発明において、
前記中継器は、前段の中継器からの光パケットの前記送信元アドレスのアドレス判定を行い、自機器に接続されるネットワークに割り振られたアドレスに該当する場合は、前記前段からの光パケットを取り込んで自機器に接続されるネットワークに返送または破棄し、該当しない場合は後段の中継器に転送することを特徴とするものである。