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【手続補正書】
【提出日】平成19年10月4日(2007.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から射出された光を回転多面鏡で偏向走査し、該光を反射部材により反射させて照射する光学装置において、
前記反射部材の反射面を湾曲可能な湾曲調整手段を有し、
前記反射部材を支持する支持部は該反射部材を略線状又は略点状に支持することを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記反射部材を支持する支持部は、曲率を有する形状であることを特徴とする請求項１記載の光学装置。
【請求項３】
前記反射部材を支持する支持部は、前記湾曲調整手段に近い側で支持する第１支持部と、前記湾曲調整手段に遠い側で支持する第２支持部とを有し、
前記第１支持部は前記回転多面鏡による走査方向と直交する方向に延びた半円柱形状の支持部であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記第２支持部は半球形状であることを特徴とする請求項３記載の光学装置。
【請求項５】
前記反射部材を支持する支持部は、前記湾曲調整手段に近い側で支持する２個の支持部と、前記湾曲調整手段に遠い側で支持する１個の支持部を有し、前記湾曲調整手段に近い側で支持する２個の支持部は前記回転多面鏡による走査方向に延びた半円柱形状であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学装置。
【請求項６】
前記湾曲調整手段に遠い側で支持する１個の支持部は、前記回転多面鏡による走査方向に延びた半円柱形状又は半球形状であることを特徴とする請求項５記載の光学装置。
【請求項７】
前記半円柱形状の支持部は半円柱状の長手方向端部が曲率を有していることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の光学装置。
【請求項８】
前記反射部材を支持する支持部の曲率は、前記湾曲調整手段によって湾曲した前記反射部材における前記支持部によって支持される位置における曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至請求項４又は請求項７のいずれかに記載の光学装置。
【請求項９】
レーザ光を光学装置によって偏向走査して像担持体に選択的に照射して潜像を形成し、該潜像を現像剤により現像して画像を形成する画像形成装置において、
前記光学装置として、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記課題を解決するための本発明における代表的な手段は、光源から射出された光を回転多面鏡で偏向走査し、該光を反射部材により反射させて照射する光学装置において、前記反射部材の反射面を湾曲可能な湾曲調整手段を有し、前記反射部材を支持する支持部は該反射部材を略線状又は略点状に支持することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図１において、(a)は反射ミラー31の長手方向一方端側（本実施形態では左端側）を支持する座面を示し、(b)は他方端側（本実施形態では右端側）を支持する座面を示している。図１において、40，42は反射ミラー31が接地する座面であり、41，43は反射ミラーの突き当て部、44は反射ミラー31の長手方向端部を当接させて、該端部の位置を定義するための突き当て部である。座面40，42及び突き当て部41，43の形状は、反射ミラー31を略線状又は略点状に支持し得るように、曲率を有する形状に構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
座面形状についてより具体的に説明すると、反射ミラー31の長手方向左端側を支持する座面40及び突き当て部41はともに半円柱状の座面で形成されており、反射ミラー31の下面を支持する座面40はポリゴンミラー29によるレーザ光の走査方向（以下、単に「走査方向」という）と直交する方向に延びた半円柱形状に構成され、反射ミラー31の長手方向に対して曲率を有している。また、反射ミラー31の上端辺が当接する突き当て部41は走査方向に延びた半円柱形状に構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
一方、反射ミラー31の長手方向右端側の下面を支持する座面42は半球形状の座面で形成されている。また、反射ミラー31の上端辺が当接する突き当て部43は前記突き当て部41と同様に走査方向に延びた半円柱形状に構成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
図５(c)は前記２点で支持する側の座面の断面であり、反射ミラー31は反射面側２点（座面50，51）と反射面と直交する側に１点（突き当て部41）で支持されている。図からも分かるように、反射ミラー31の戴置角度は光学箱に形成された２点の半円柱状座面50，51の接線（図中矢印方向）に沿うことで決められる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
20 …感光体ドラム
21 …光学装置
22 …現像器
23 …中間転写ベルト
24 …給送カセット
25 …定着器
26 …排出トレイ
27 …帯電器
29 …ポリゴンミラー
30ａ，30ｂ …ｆθレンズ
31 …反射ミラー
33 …光学箱
34 …上蓋
40，42 …座面
41，43，44 …突き当て部
45 …バネ
50，51，52 …座面
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月27日(2007.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項８の発明は、請求項７において、前記キャップには、前記刃体の間に挿入可能な掃き出し部材が設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月28日(2007.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に屈折率の異なる２種類以上の交互膜から成る誘電体多層膜において、
同種の材料から成る第１及び第２の結晶質膜と、前記第１及び第２の結晶質膜の間に物理的膜厚１ｎｍ以上４ｎｍ以下の非結晶質膜を設けた構成を１つ以上含むことを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記第１及び第２の結晶質膜は５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
前記第１及び第２の結晶質膜はＧｄＦ３、ＬａＦ３、ＮｄＦ３、ＤｙＦ３、ＰｄＦ３、ＭｇＦ２、ＮａＦ、ＬｉＦ、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＳｒＦ２、ＥｒＦ３、ＳｍＦ３、ＣｅＦ３、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＳｍＦ３、ＹｂＦ３、ＥｒＦ３、ＴｂＦ３、ＬｕＦ３及びこれらの混合物又は化合物から選択されることを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子。
【請求項４】
前記非結晶質膜はＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＡｌＦ３及びこれらの混合物又は化合物から選択されることを特徴とする請求項１乃至３記載の光学素子。
【請求項５】
対象波長が１２０乃至２５０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至４に記載の構成を用いたミラー。
【請求項６】
対象波長が１２０乃至２５０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至４に記載の構成を用いた反射防止膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明の光学素子は基板上に屈折率の異なる２種類以上の交互膜から成る誘電体多層膜において、同種の材料から成る第１及び第２の結晶質膜と、前記第１及び第２の結晶質膜の間に物理的膜厚１ｎｍ以上４ｎｍ以下の非結晶質膜を設けた構成を１つ以上含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の光学素子は、前記第１及び第２の結晶質膜が５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
さらに、本発明の光学素子は、前記第１及び第２の結晶質膜がＧｄＦ３、ＬａＦ３、ＮｄＦ３、ＤｙＦ３、ＰｄＦ３、ＭｇＦ２、ＮａＦ、ＬｉＦ、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＳｒＦ２、ＥｒＦ３、ＳｍＦ３、ＣｅＦ３、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＳｍＦ３、ＹｂＦ３、ＥｒＦ３、ＴｂＦ３、ＬｕＦ３及びこれらの混合物又は化合物から選択されることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明は、光学設計に大きく影響しない膜厚の非晶質膜を結晶質膜に挿入することで結晶質膜の膜厚を小さくし、光学損失の増加や屈折率膜の低下を防ぎ、高品質な光学素子の実現が可能とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、結晶質膜はＧｄＦ３、ＬａＦ３、ＮｄＦ３、ＤｙＦ３、ＰｄＦ３、ＭｇＦ２、ＮａＦ、ＬｉＦ、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＳｒＦ２、ＥｒＦ３、ＳｍＦ３、ＣｅＦ３、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、ＳｍＦ３、ＹｂＦ３、ＥｒＦ３、ＴｂＦ３、ＬｕＦ３およびこれらの混合物または化合物から選ばれた１つ以上の成分からなり、非晶質膜はＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＡｌＦ３およびこれらの混合物または化合物から選ばれた１つ以上の成分からなる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、実施例１の比較例１として図３ようなミラーを示す。比較例１は真空蒸着法により基板３０に光学的膜厚０．２５λの非晶質ＡｌＦ３膜３１と光学的膜厚０．２５λの結晶質ＳｍＦ３膜３２を交互にそれぞれ１０層ずつ積層したものである。対象中心波長は１９３ｎｍである。結晶質ＧｄＦ３の物理的膜厚は２９ｎｍである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月21日(2007.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
読み書き可能な記憶手段を有する情報処理装置において、誘電体を有する装置の電位分布を時間△ｔごとに解析する解析方法であって、
メッシュ分割された前記装置のシュミュレーションモデルに対する定常状態の分極を要素ごとに算出し、
前記算出された定常状態の分極、および電圧を印加したときの時刻からの時刻ｔにおける分極に基づいて、時刻ｔ＋△ｔにおける分極を算出し、
前記算出された時刻ｔ＋△ｔにおける分極から電位分布を算出し、前記記憶手段に格納する解析方法。
【請求項２】
請求項１の解析方法を実行するためのプログラム。
【請求項３】
誘電体を有する装置の電位分布を時間△ｔごとに解析する情報処理装置において、
メッシュ分割された前記装置のシュミュレーションモデルに対する定常状態の分極を要素ごとに算出し、前記算出された定常状態の分極、および電圧を印加したときの時刻からの時刻ｔにおける分極に基づいて、時刻ｔ＋△ｔにおける分極を算出し、
前記算出された時刻ｔ＋△ｔにおける分極から時刻ｔ＋△ｔにおける電位分布を算出する制御手段と、
前記算出された時刻ｔ＋△ｔにおける電位分布を格納する記憶手段とを有することを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は上述した課題を解決するため、読み書き可能な記憶手段を有する情報処理装置において、誘電体を有する装置の電位分布を時間△ｔごとに解析する解析方法であって、メッシュ分割された前記装置のシュミュレーションモデルに対する定常状態の分極を要素ごとに算出し、前記算出された定常状態の分極、および電圧を印加したときの時刻からの時刻ｔにおける分極に基づいて、時刻ｔ＋△ｔにおける分極を算出し、記算出された時刻ｔ＋△ｔにおける分極から電位分布を算出し、前記記憶手段に格納する解析方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月30日(2007.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の移送の為の流路と試料の操作を行うための操作領域の組み合わせよりなる円盤状のロータ型分析手段を有するものであって、
前記操作領域内の留置部位が、外周方向でかつ、外周端部と中心の距離が、その他の外周よりも長い生体情報検出ユニット。
【請求項２】
前記操作領域内の留置部位に濡れ性を向上させる表面処理が施されていることを特徴とする請求項１に記載の生体情報検出ユニット。
【請求項３】
前記操作領域内の留置部位と接続する出力流路が外周方向でかつ、外周端部と中心の距離が、その他の外周よりも長い側に接続していることを特徴とした請求項１または２に記載の生体情報検出ユニット。
【請求項４】
前記操作領域内の留置部位と接続する流路が外周端部より0.1〜1.5mm内側で接続されていることを特徴とする請求項１乃至３に記載の生体情報検出ユニット。
【請求項５】
液体を操作する操作領域と、前記操作領域へ、試料液を供給する供給流路、前記操作領域から操作後の試料を取り出すための出力流路よりなり、前記供給流路と前記操作領域の接続面の断面積を、前記出力流路と、前記操作領域との接続断面積よりも狭くする生体情報検出ユニット。
【請求項６】
前記操作領域、前記各種流路は、遠心ロータ上に配置されている請求項５に記載の生体情報検出ユニット。
【請求項７】
毛管現象により液体を移送するための流路と、液体を一時的に又は継続的に貯留して操作する操作領域を具えた液体操作具であって、少なくとも目的とする部位で液体を保持する為により細い流路を周囲に配置する構成を具えた液体操作具。
【請求項８】
前記細い流路は、複数の細い流路を併設してなる請求項７に記載の液体操作具。
【請求項９】
前記細い流路が他のすべての流路断面と比較してもっとも小さい事を特徴とする請求項７に記載の液体操作具。
【請求項１０】
前記細い流路が、前記貯留保持領域と接続してなる前記細い流路と接続する領域と接続してなる供給流路の断面積と比較して小さいことを特徴とする請求項7に記載の液体操作具。
【請求項１１】
前記貯留保持領域と接続してなる前記細い流路と接続する領域深さと、細い流路から反対側の壁面との距離が1mm以上あることを特徴とする請求項７に記載の液体操作具。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月27日(2007.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
開口部を有し、傾斜した底部を一体に形成した容器本体の底部内側面より着脱可能状態として装着する指示板に、所要の合わせ調味料を作る各種の調味料名と調合する各種の量目盛りとを記載したことを特徴とする合わせ調味料の調合指示板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の合わせ調味料の調合指示板は、開口部１を有し、傾斜した底部２を一体に形成した容器本体３に使用する指示板４で、容器本体３の傾斜した底部２の外側や内側から着脱可能とした貼着や嵌着手段によって装着させて使用するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
因に、ラインセンサーカメラとして、カラーラインセンサーカメラを用いる構成を採れば、必要に応じて、正常部分に比べて質が劣る欠点、例えば単板３に内在する節３ｅや汚れ（図示省略）などの欠点の検査を併せて実施でき、単板３の総合的な品質検査が行い得るので有益である。但し、この場合には、正常部分と正常部分に比べて質が劣る欠点との差異を一段と明確化させる必要性などからして、自然光的な照射光を照射する上部照明、例えば図５に例示する如く、多数個の白色発光ダイオード９ａ、該多数個の白色発光ダイオード９ａを直列状に並べて保持する基板９ｂ、反射板９ｃ等から成る上部照明９を、単板３の上方側へ別途に備えて、単板３の上面を照明するのが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月25日(2006.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【図１】透明板状体の表面の平坦度を検査するための検査装置の概要を示す模式図である。
【図２】ストライプパターンの一例を示す説明図である。
【図３】本発明による表面形状の検査方法の全体的な流れを示すフローチャートである。
【図４】ＣＣＤカメラの出力信号例を示す波形図である。
【図５】ストライプパターンを決定する処理の一例を示すフローチャートである。
【図６】第１ステップにおいて決定されたストライプパターンを用いた場合のＣＣＤカメラの出力信号を示す波形図である。
【図７】第１ステップにおいて決定されたストライプパターンを用いた場合のＣＣＤカメラの出力信号を示す波形図である。
【図８】表面形状検査を実施する様子を示す説明図である。
【図９】第２ステップの概略工程を示すフローチャートである。
【図１０】反射像の画像信号の一例を示す波形図である。
【図１１】観測された反射像の軌跡が理想的平面による反射像に対して先行している状況を示す説明図である。
【図１２】観測された反射像の軌跡が理想的平面による反射像に対して遅延している状況を示す説明図である。
【図１３】観測された反射像の軌跡が理想的平面による反射像に対して先行する場合の先行の程度とうねり形状の傾きとの関係を示す説明図である。
【図１４】観測された反射像の軌跡が理想的平面による反射像に対して遅延する場合の遅延の程度とうねり形状の傾きとの関係を示す説明図である。
【図１５】ｘ軸およびｚ軸の定義を示す説明図である。
【図１６】表面反射像と裏面反射像とが同時に形成される様子を示す説明図である。
【図１７】カメラが出力する画像信号例を示す波形図である。
【図１８】カメラが出力する画像信号例を示す波形図である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月31日(2007.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
この実施例における全リン測定装置における全リン測定の動作を図３のフローチャート図を参照して説明する。
試料水の採水前に、ポートバルブ２８ａ，２８ｂを介して塩酸溶液２６をチューブ５０に流し、その後、純水２７をチューブ５０に流してチューブ５０内を洗浄する。
試料調整槽２１の試料水をポートバルブ２８ａ、２８ｂを介してシリンジポンプ３７に計量して採取し、必要に応じてポートバルブ２８ａを介して純水２７をシリンジポンプ３７に吸入して希釈する。次に前処理として、試料水が約１Ｎになるようポートバルブ２８ａを介して硫酸２４を添加する。硫酸の添加により試料水に含まれている縮合リン酸の加水分解が促進される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月31日(2007.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
表１は、この実施例の装置を用いて、２種類の試料液Ａ，Ｂについて、全リン濃度を測定した結果を示したものである。試料の酸化条件は、試料量：３ｍｌ、酸化反応温度：９５℃、硫酸濃度：１Ｎ、酸化反応時間：２０分、空気注入量：約８ｍｌ／分とした。分析計である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【表１】
2005345316.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月28日(2007.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記第２偏光板は前記タッチパネルの外側に配置されることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記タッチパネルおよび前記視野角制御パネルは共通の光透過性基板を用いて一体的に構成されることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用の三次元パターンを形成するための基層の上に、該基層をエッチングする際にマスク機能を発揮する極薄膜を形成し、その上に該極薄膜をエッチングする際にマスク機能を発揮するレジスト膜を形成してなり、
前記レジスト膜にレジストパターンを形成する工程、前記レジストパターンをマスクに前記極薄膜をエッチングして極薄膜パターンを形成する工程、前記極薄膜パターンをマスクに前記基層をエッチングして前記三次元パターンを形成する工程を、この順に経ることで位相シフトマスクまたはテンプレートを製造する場合に素材として用いられるマスクブランクであって、
前記極薄膜の膜厚が、前記極薄膜パターンをマスクにして前記基層に三次元パターンを形成するために必要な最小限の厚さに設定されていることを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記極薄膜の膜厚は、露光光に対する前記極薄膜の光学濃度が３未満となる厚さであることを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク。
【請求項３】
請求項１または２に記載のマスクブランクであって、
前記極薄膜の膜厚が５ｎｍ〜４０ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とするマスクブランク。
【請求項４】
基層上に転写用の三次元パターンとして位相シフトパターンを形成した上で、その位相シフトパターンが露出した基層の上に遮光膜を形成してなることを特徴とするマスクブランク。
【請求項５】
前記マスクブランクは、波長１９３ｎｍの露光光に対して光位相差が１８０°となる三次元パターンを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載のマスクブランクを素材として用いることにより位相シフトマスクを製造する方法であって、
前記マスクブランクの前記レジスト膜にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクに前記極薄膜をエッチングして極薄膜パターンを形成す
る工程と、
前記極薄膜パターンをマスクに前記基層をエッチングして前記三次元パターンとしての位相シフトパターンを形成する工程と、
前記位相シフトパターンの形成および少なくともレジスト層の除去が完了した前記基層の上に遮光膜を形成する工程と、
該遮光膜をレジストを用いて選択エッチングすることにより、必要箇所に遮光部を残しながら前記位相シフトパターンを露出させる工程と、
を備えることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記位相シフトパターンを形成する工程の後、前記極薄膜パターンを、位相シフトパターンの露出した前記基層の上に前記遮光膜を形成し、該遮光膜をレジストを用いて選択エッチングすることにより、必要箇所に遮光部を残しながら前記位相シフトパターンを露出させることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記位相シフトパターンを形成する工程の後、前記極薄膜パターンを除去せずに残したまま、位相シフトパターンの形成された前記基層の上に前記遮光膜を形成し、該遮光膜及び極薄膜をレジストを用いて選択エッチングすることにより、必要箇所に遮光部を残しながら前記位相シフトパターンを露出させることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記基層が、透光性基板からなるものであることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１０】
請求項６〜８のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法であって、前記基層が、透光性基板上に透光性あるいは半透光性の膜よりなるシフト層を積層してなるものであることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記極薄膜を構成する材料と、前記位相シフトパターンを形成するための基層を構成する材料の基層のエッチングにおけるドライエッチング選択比が、
（基層のエッチングレート）／（極薄膜のエッチングレート）≧５
なる関係式を満たすことを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１２】
請求項６〜１１のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記極薄膜が、少なくともＣｒおよび／またはＴａを含有する材料よりなることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１３】
請求項６〜１２のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記遮光膜の選択エッチングを湿式で行うことを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１４】
請求項６〜１２のいずれかに記載の位相シフトマスクの製造方法であって、
前記遮光膜の選択エッチングを乾式で行うことを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜３のいずれかに記載のマスクブランクを素材として用いることにより、ナノインプリント等のパターン転写法の母型となるテンプレートを製造する方法において、
前記マスクブランクの前記レジスト膜にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクに前記極薄膜をエッチングして極薄膜パターンを形成する工程と、
前記極薄膜パターンをマスクに前記基層をエッチングして前記三次元パターンを形成する工程と、
前記三次元パターンの形成および少なくともレジスト層の除去が完了した前記基層の上にアライメントマーク形成用膜を形成する工程と、
該アライメントマーク形成用膜をレジストを用いて選択エッチングすることにより、三次元パターンが形成された部分以外の外周部のいずれかに所望のアライメントマークを残しながら前記三次元パターンを露出させる工程と、
を備えることを特徴とするテンプレートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月9日(2007.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気泳動性微粒子と溶媒とが殻体に内包されてなるマイクロカプセルと、バインダー樹脂と、を含んでなる電気泳動表示装置用シートにおいて、
前記マイクロカプセルの殻体が、下記一般式：
Ｒ１−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−Ｘ−Ｒ２
（ただし、Ｒ１は炭素数５〜２５の脂肪族または芳香族の疎水性基を表し、Ｒ２は重量平均分子量が３００〜１００，０００のポリアミン構造またはポリカルボン酸構造を有するポリマー基を表し、ｎは３〜８５の整数を表す。Ｘは、アミノ基、イミノ基およびカルボキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基と反応し得る基に由来し、該反応後に形成される基を表すが、有ってもよいし無くてもよい。）
で表される化合物（Ａ）に由来する構成成分と、
尿素、チオ尿素、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミンおよびシクロヘキシルグアナミンからなる群より選ばれる少なくとも１種と、ホルムアルデヒドとを反応させて得られる初期縮合化合物（Ｂ）に由来する構成成分と、を必須の構成成分としてなる、
ことを特徴とする、電気泳動表示装置用シート。
【請求項２】
前記マイクロカプセルと前記バインダー樹脂とを含む層が導電性フィルム上に形成されてなる、請求項１に記載の電気泳動表示装置用シート。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気泳動表示装置用シートを構成部分として含む、電気泳動表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気泳動表示装置用シートおよびその用途
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電気泳動性微粒子と溶媒とが殻体に内包されてなるマイクロカプセルと、バインダー樹脂とを含んでなる、電気泳動表示装置用シートおよびその用途に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
電気泳動表示装置において、上述したようなブリードアウト現象の問題が生じると、コントラスト等の表示性能が極端に低下するほか、電極間をショートさせ部分的に表示不可能な状態となる等の不具合が発生するため、特に、より一層高い表示性能・表示品質の実現が要請される近年においては、ブリードアウト現象の防止性能が高い水準で求められる。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、電気泳動表示装置用マイクロカプセルとバインダー樹脂とを含んでなり、上記マイクロカプセルが、内包される分散液の浸透および滲み出しを防止し且つ高い機械的強度を有するものである、電気泳動表示装置用シートおよびその用途を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
したがって、本発明にかかる電気泳動表示装置用シートは、電気泳動性微粒子と溶媒とが殻体に内包されてなるマイクロカプセルと、バインダー樹脂とを含んでなる電気泳動表示装置用シートにおいて、前記マイクロカプセルの殻体が、下記一般式：
Ｒ１−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−Ｘ−Ｒ２
（ただし、Ｒ１は炭素数５〜２５の脂肪族または芳香族の疎水性基を表し、Ｒ２は重量平均分子量が３００〜１００，０００のポリアミン構造またはポリカルボン酸構造を有するポリマー基を表し、ｎは３〜８５の整数を表す。Ｘは、アミノ基、イミノ基およびカルボキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基と反応し得る基に由来し、該反応後に形成される基を表すが、有ってもよいし無くてもよい。）
で表される化合物（Ａ）に由来する構成成分と、尿素、チオ尿素、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミンおよびシクロヘキシルグアナミンからなる群より選ばれる少なくとも１種と、ホルムアルデヒドとを反応させて得られる初期縮合化合物（Ｂ）に由来する構成成分と、を必須の構成成分としてなることを特徴とする。
本発明にかかる電気泳動表示装置は、前記シートを構成成分として含む、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、電気泳動表示装置用マイクロカプセルとバインダー樹脂とを含んでなり、上記マイクロカプセルが、内包される分散液の浸透および滲み出しを防止し且つ高い機械的強度を有するものである、電気泳動表示装置用シートを、容易に提供することができる。また、本発明によれば、前記シートの用途として好適な、電気泳動表示装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月28日(2007.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
像担持体を用いて画像を形成する画像形成装置であって、
前記像担持体の下地の所定範囲における反射光量を検出する第１の検出手段と、
検出された前記下地からの反射光量を記憶する下地反射光量記憶手段と、
所定のトナー面積比によるトナーパッチを前記像担持体に形成するパッチ形成手段と、
形成された前記トナーパッチからの反射光量を検出する第２の検出手段と、
検出された前記トナーパッチからの反射光量を記憶するトナーパッチ反射光量記憶手段と、
前記所定のトナー面積比に対応する反射光量の補正量を記憶するトナー面積比記憶手段と、
前記所定のトナー面積比に対応する前記反射光量の補正量と、前記トナーパッチが形成された地点において該トナーパッチが形成される前の前記下地からの反射光量とを用いて、前記トナーパッチからの反射光量を補正する検出光量補正手段と、
補正された前記反射光量に応じて、前記像担持体に形成されるトナー像のトナー濃度の値を補正するトナー濃度補正手段と
を有する画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記パッチ形成手段は、前記像担持体の主走査方向における複数地点と、前記像担持体の副走査方向における複数地点とに前記トナーパッチを形成する手段であり、
前記第１の検出手段は、前記トナーパッチが形成された各地点において、該トナーパッチが形成される前の前記下地からの反射光量を予め検出する手段であり、
前記第２の検出手段は、前記トナーパッチが形成された各地点におけるそれぞれの反射光量を検出する手段である
ことを特徴とする請求項２乃至４の何れか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
像担持体にトナー像を形成して画像を形成する画像形成装置におけるトナー濃度調整方法であって、
前記像担持体の下地の所定範囲における反射光量を検出するステップと、
検出された前記下地からの反射光量を記憶するステップと、
所定のトナー面積比によるトナーパッチを前記像担持体に形成するテップと、
形成された前記トナーパッチからの反射光量を検出するステップと、
検出された前記トナーパッチからの反射光量を記憶するステップと、
前記所定のトナー面積比に対応する反射光量の補正量を記憶するステップと、
前記所定のトナー面積比に対応する前記反射光量の補正量と、前記トナーパッチが形成された地点において該トナーパッチが形成される前の前記下地からの反射光量とを用いて、前記トナーパッチからの反射光量を補正するステップと、
補正された前記反射光量に応じて、前記像担持体に形成されるトナー像のトナー濃度の値を補正するステップと
を有するトナー濃度調整方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板が取り付けられた回転機構を有し、該回転機構を回転させ、蒸着源から到達した成膜材をこれらの基板に付着させ、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜するためのＮＤフィルタの製造装置であって、
前記基板と蒸着源との間に、スリットを備えたマスク機構を有し、該マスク機構は、前記回転機構に取り付けられた基板との相対位置が初期状態から変わることなく、前記回転機構と共に同じ軸周りに回転可能に構成されていることを特徴とするＮＤフィルタの製造装置。
【請求項２】
前記マスク機構は、前記回転機構と同じ外形を有することを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタの製造装置。
【請求項３】
回転機構を回転させ、該回転機構に取り付けられた複数の基板に、蒸着源から到達した成膜材を付着させ、少なくとも２種類以上の層からなる膜を積層してグラデーション濃度分布を有する膜を形成するＮＤフィルタの製造方法であって、
前記基板と蒸着源との間に配置された、スリットを備えたマスク機構を前記回転機構に取り付けられた基板との相対位置を初期状態から変えることなく、前記回転機構と共に同じ軸周りに回転させて、前記基板上に成膜する工程を有することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記成膜に際して、前記回転機構と前記マスク機構との距離、または前記マスク機構におけるスリットの幅を設定することを特徴とする請求項３に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記基板上に成膜した後、１００℃から１３０℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする請求項３または請求項４に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記マスク機構を用いて成膜する工程によって最表層以外のグラデーション濃度分布を有する膜を成膜し、前記マスク機構を用いずに成膜する工程によって最表層の膜を成膜することを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項７】
複数の絞り羽根と、該複数の絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタは、請求項３〜６のいずれか１項に記載のＮＤフィルタの製造方法によって製造されたＮＤフィルタであることを特徴とする光量絞り装置。
【請求項８】
光学系と、該光学系を通過する光量を制限する請求項７に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、以下のように構成したＮＤフィルタの製造装置、ＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供するものである。
すなわち、本発明のＮＤフィルタの製造装置は、複数の基板が取り付けられた回転機構を有し、該回転機構を回転させ、蒸着源から到達した成膜材をこれらの基板に付着させ、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜するためのＮＤフィルタの製造装置であって、
前記基板と蒸着源との間に、スリットを備えたマスク機構を有し、該マスク機構は、前記回転機構に取り付けられた基板との相対位置が初期状態から変わることなく、前記回転機構と共に同じ軸周りに回転可能に構成されている。
また、本発明のＮＤフィルタの製造方法は、回転機構を回転させ、該回転機構に取り付けられた複数の基板に、蒸着源から到達した成膜材を付着させ、少なくとも２種類以上の層からなる膜を積層してグラデーション濃度分布を有する膜を形成するＮＤフィルタの製造方法であって、
前記基板と蒸着源との間に配置された、スリットを備えたマスク機構を前記回転機構に取り付けられた基板との相対位置を初期状態から変えることなく、前記回転機構と共に同じ軸周りに回転させて、前記基板上に成膜する工程を有している。
また、本発明の光量絞り装置は、複数の絞り羽根と、該複数の絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタは、上記したＮＤフィルタの製造方法によって製造されたＮＤフィルタによって構成されている。
また、本発明のカメラは、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
これに対して、本実施の形態では、図１に示すように、蒸着源側に、蒸着傘１０１を回転させる回転機構と同じ回転中心軸を有する、スリットを備えたマスク機構１０６が設けられている。このマスク機構を、前記蒸着傘の回転機構との相対位置を初期状態から変えることなく、蒸着傘の回転機構と共に回転させて成膜するように構成されている。その状態は模式的には図４及び図５のような構成として見ることができる。なお、図５はスリット形状を変えただけで、基本的には図４と同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が取り付けられた回転機構を有し、該回転機構を回転させ、蒸着源から到達した成膜材を、前記基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して前記基板に付着させ、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜するＮＤフィルタの製造装置であって、
前記スリット型マスクとは別に構成された、成膜材を通過させるための成膜材通過領域を有するマスク機構を備え、該マスク機構を前記基板に設けられたマスクと蒸着源との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定可能としたことを特徴とするＮＤフィルタの製造装置。
【請求項２】
前記マスク機構は、前記回転機構と同じ外形を有することを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタの製造装置。
【請求項３】
回転機構を回転させ、該回転機構に取り付けられた基板に、該基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して蒸着源から到達した成膜材を付着させ、少なくとも２種類以上の層からなる膜を積層してグラデーション濃度分布を有する膜を形成するＮＤフィルタの製造方法であって、
前記スリット型マスクとは別に備えられた、成膜材を通過させるための成膜材通過領域を有するマスク機構を、前記基板に設けられたマスクと蒸着源との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定して、前記基板上に成膜する工程を有することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記成膜に際して、前記スリット型マスクのスリット幅、または前記スリット型マスクと基板上からの距離、または前記マスク機構の成膜材通過領域の形状、を設定することを特徴とする請求項３に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記基板上に成膜した後、１００℃から１３０℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする請求項３または請求項４に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記マスク機構を用いて成膜する工程によって最表層以外のグラデーション濃度分布を有する膜を成膜し、前記マスク機構を用いずに成膜する工程によって最表層の膜を成膜することを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項７】
複数の絞り羽根と、該複数の絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタは、請求項３〜６のいずれか１項に記載のＮＤフィルタの製造方法によって製造されたＮＤフィルタであることを特徴とする光量絞り装置。
【請求項８】
光学系と、該光学系を通過する光量を制限する請求項７に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、以下のように構成したＮＤフィルタの製造装置、ＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供するものである。
すなわち、本発明のＮＤフィルタの製造装置は、基板が取り付けられた回転機構を有し、該回転機構を回転させ、蒸着源から到達した成膜材を、前記基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して前記基板に付着させ、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜するＮＤフィルタの製造装置であって、
前記スリット型マスクとは別に構成された、成膜材を通過させるための成膜材通過領域を有するマスク機構を備え、該マスク機構を前記基板に設けられたマスクと蒸着源との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定可能に構成されている。
また、本発明のＮＤフィルタの製造方法は、回転機構を回転させ、該回転機構に取り付けられた基板に、該基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して蒸着源から到達した成膜材を付着させ、少なくとも２種類以上の層からなる膜を積層してグラデーション濃度分布を有する膜を形成するＮＤフィルタの製造方法であって、
前記スリット型マスクとは別に備えられた、成膜材を通過させるための成膜材通過領域を有するマスク機構を、前記基板に設けられたマスクと蒸着源との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定して、前記基板上に成膜する工程を有している。
また、本発明の光量絞り装置は、複数の絞り羽根と、該複数の絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタが、上記したＮＤフィルタの製造方法によって製造されたＮＤフィルタによって構成されている。
また、本発明のカメラは、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
これに対して、本実施の形態では、図１に示すように、チャンバー内の蒸着傘１０１に基板を取り付け、この基板１０２の成膜側において、基板と蒸着源との間の任意の位置に、さらに蒸着粒子通過領域（成膜材通過領域）１１０、１１０’、１１０”等が形成されたマスク機構１０７が設けられている。このような構成のもとで、上記従来例と同様に上記蒸着傘１０１と共に基板１０２を回転させると、蒸着源１０３と基板１０２に設けたマスク１０６及びマスク機構１０７の位置関係から、蒸着する蒸着粒子はマスク機構１０７の蒸着粒子通過領域１１０、１１０’、１１０”及びマスク１０６を通過することにより、基板１０２に到達できたり、マスク機構１０７、若しくはマスク１０６に遮られ基板１０２まで到達できなかったりすることになり、より高精度に制御されたグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造が可能となる。
図６に、本実施の形態によるマスク機構１０７を用いてシミュレーションした結果の膜厚分布の一例を示す。なお、図７は図６のパラメータとなっている基板上の位置Δｘにおける、成膜側の位置関係を示す図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、成膜される膜の膜厚は基板の位置と蒸着源、及びマスク機構の幾何学的位置関係により決定されるため、蒸着源１０３とマスク機構１０７を固定し蒸着傘１０１とマスク１０６を回転させ成膜を実施することと、蒸着傘１０１とマスク１０６を固定し蒸着源１０３とマスク機構１０７を回転させ成膜を実施することとは同様のことである。従って、蒸着傘１０１とマスク１０６を固定し蒸着源１０３とマスク機構１０７を回転させる事によって同様の結果を得ることも可能である。
なお、マスク機構１０７を固定して実施するに際しては、課題を解決するための手段でも記載したように、マスク機構１０７を前記基板に設けられたマスクと蒸着源との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定可能とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月24日(2007.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このような照明装置のうち、光源から様々な方向に射出した光束を、小型で効率よく必要照射画角内に集光させるようにした照明装置が、従来より種々の提案がされている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このため、小型で、かつ良好な配光特性が得られる照明装置を実現することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
反射鏡１０のうち閃光放電管９の後側を覆う部分は、閃光放電管９とほぼ同心形状の半円筒形状（以下、半円筒部１０ａという）となっている。これは、反射鏡１０での反射光を再度、光源の中心部付近に戻すのに有効な形状であり、閃光放電管９のガラス部の屈折による影響を受けにくくさせる効果がある。このように構成することによって、反射部材１０の後方からの反射光を光源からの直接光とほぼ等価な射出光として扱えるため考えやすく、この後に続く光学系の全体形状を小型化することも可能となり都合がよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
一方、反射部材１０の半円筒部１０ａの上下において設けられた反射面（第３の反射面）１０ｂ、１０ｂ’は、光源中心から後述する光学部材１１の第１の反射面１１ｃ、１１ｃ’よりも周辺側に進んだ光束を反射して該光学部材の周辺に導くように曲面形状に形成されている。そして、後述するように、光学部材１１の周辺部から入射した光束は、最も集光した状態の配光特性が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
ここで、光学部材１１の射出面１１ｆは、負の屈折力を持った凹面となっており、これらシリンドリカルレンズ面１１ａ、第２の入射面１１ｂ、１１ｂ’および第１の反射面１１ｃ、１１ｃ’、第３の入射面１１ｄ、１１ｄ’ および第２の反射面１１ｅ、１１ｅ’は、閃光放電管９と光学部材１１とが所定量離れた状態で、光源中心から射出した光束が光学部材１１の各部に入射し、所定の角度成分に変換させるための屈折又は全反射した後、同一の射出面１１ｆから射出され、射出光軸ＡＸＬに対して略平行になるように形状が設定されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2005345575.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月31日(2007.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図４に示した第１可動子１１の角速度を示す曲線６３ａは、２つの極大値と極小値を持っている。極大・極小の時間ｔは変位角の２階微分である角加速度θ”が0となる時間であり、この時間をｔ1、ｔ2として、本実施例の場合、特に以下のようになる。
θ”(t)＝−φ1ｗ02
sin[ｗ0ｔ]−4φ2ｗ02sin[2ｗ0ｔ]＝0        （式４）
(ｔ1,ｔ2)＝(ｗ0(φ1＋2φ2),−ｗ0(φ12/(16φ2)＋2φ2))    （式５）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
時間ｔ1、ｔ2の角速度が図４での区間Ｎ−Ｎ’における最大角速度Ｖ1、最小角速度Ｖ2であるので、以下の連立方程式をφ1、φ2について解くことによって、所望のφ1、φ2についての関係式を得る。
θ’(t1,ｗ0,φ1,φ2)＝Ｖ1                             （式６-1）
θ’(t2,ｗ0,φ1,φ2)＝Ｖ2                             （式６-2）
本実施例の場合、特に以下のようになる。
(φ1,φ2)＝(2/(9ｗ0)｛4Ｖ1＋2Ｖ2＋[2(Ｖ2−Ｖ1)(Ｖ1＋2Ｖ1)]1/2｝,
1/(18ｗ0)｛Ｖ1−4Ｖ2−2[2(Ｖ2−Ｖ1)(Ｖ1＋2Ｖ1)]1/2｝）  （式７）
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月31日(2007.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー粒子内に顔料が分散している電気泳動粒子であって、ポリマーをグラフト化した顔料を重合性モノマーに分散した組成物の重合体からなるコアを持ち、該コアの表面に該コア間の凝集を防止ないし抑制するように形成されたシェル層を有することを特徴とする電気泳動粒子。
【請求項２】
前記顔料にグラフト化したポリマーは、前記重合性モノマーに対して親和性を有するポリマーであることを特徴とする請求項１に記載の電気泳動粒子。
【請求項３】
前記シェル層が、当該電気泳動粒子が含有されるべき電気泳動分散媒に対して親和性を有するポリマーであることを特徴とする請求項１に記載の電気泳動粒子。
【請求項４】
ポリマー粒子内に顔料が分散している電気泳動粒子の製造方法であって、ポリマーをグラフト化した顔料、重合開始剤、重合性モノマーを含む組成物を懸濁媒体中で懸濁重合してコアを形成する工程、該コアの表面に、該コア間の凝集を防止ないし抑制するようにシェル層を形成する工程を含むことを特徴とする電気泳動粒子の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれかに記載の電気泳動粒子と電気泳動分散媒を含有することを特徴とする電気泳動分散液。
【請求項６】
請求項５に記載の電気泳動分散液を用いたことを特徴とする電気泳動表示素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題に鑑み、本発明の電気泳動粒子は、ポリマー粒子内に顔料が分散している電気泳動粒子であって、ポリマーをグラフト化した顔料を重合性モノマーに分散した組成物の重合体からなるコアを持ち、該コアの表面に該コア間の凝集を防止ないし抑制するように形成されたシェル層を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、上記課題に鑑み、本発明の電気泳動粒子の製造方法は、ポリマー粒子内に顔料が分散している電気泳動粒子の製造方法であって、ポリマーをグラフト化した顔料、重合開始剤、重合性モノマーを含む組成物を懸濁媒体中で懸濁重合してコアを形成する工程、該コアの表面に、該コア間の凝集を防止ないし抑制するようにシェル層を形成する工程を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月14日(2007.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、ズーミングに際し各レンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、
前記第２レンズ群より像側に開口絞りを有すると共に、前記第２レンズ群は少なくとも１つの負レンズと少なくとも１つ正レンズを有し、前記第２レンズ群が有する正レンズのうち、屈折力が最も強い正レンズと前記第３レンズ群の最も物体側の面との間隔をＬ、その正レンズと前記開口絞りとの望遠端での間隔をＳ、その正レンズのアッベ数をν２ｐとするとき、
Ｌ／Ｓ＜０．８５
ν２ｐ＜２１．９
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、ズーミングに際し各レンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、
前記第２レンズ群は少なくとも３つの負レンズと少なくとも１つの正レンズを有し、前記第２レンズ群が有する負レンズのうち、屈折力が最も強い負レンズの焦点距離をｆ２ｎ、前記第２レンズ群が有する正レンズのうち、屈折力が最も強い正レンズの焦点距離とアッベ数をそれぞれｆ２ｐ，ν２ｐとするとき、
−１．７＜ｆ２ｐ／ｆ２ｎ＜−０．４５
ν２ｐ＜２１．９
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項３】
物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、ズーミングに際し各レンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、
前記第３レンズ群は少なくとも１つの正レンズと少なくとも１つの負レンズを有し、前記第３レンズ群が有する正レンズのうち、屈折力が最も強い正レンズの焦点距離をｆ３ｐ、前記第３レンズ群が有する負レンズのうち、屈折力が最も強い負レンズの焦点距離とアッベ数をそれぞれｆ３ｎ，ν３ｎとするとき、
−１．５＜ｆ３ｐ／ｆ３ｎ＜−０．３５
ν３ｎ＜２１．９
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項４】
前記第３レンズ群は２つの正レンズと１つの負レンズから成ることを特徴とする請求項１乃至３いずれかのズームレンズ。
【請求項５】
前記第３レンズ群は、物体側より像側へ順に、正レンズ、負レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項４のズームレンズ。
【請求項６】
光電変換素子上に像を形成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載のズームレンズ。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成された像を受光する光電変換素子とを有することを特徴とする撮像装置。