Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月30日(2019.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動装置のパッシブ・マトリックス・アレイと、
駆動信号を作動装置に提供する第１の信号線及び第２の信号線と、
少なくとも２つの可能な信号レベルを前記第１の信号線に提供し、少なくとも２つの可能な信号レベルを前記第２の信号線に提供するドライバ装置であって、前記作動装置によって受け取られる前記駆動信号が、前記第１の信号線の１つの信号レベルと前記第２の信号線の１つの信号レベルとの組合せであるように信号が提供される、前記ドライバ装置と、
を備える、システムであって、それぞれの作動装置は、
キャリヤと前記キャリヤに取り付けられた電気活性材料とを含む作動構造体であって、前記電気活性材料の駆動に応答して少なくとも前記キャリヤの曲がり及び／又は曲がりの変化を引き起こす前記作動構造体と、
少なくとも前記作動構造体の第１の安定機械的状態と前記第１の安定機械的状態とは異なる第２の安定機械的状態とを、前記第１の安定機械的状態と前記第２の安定機械的状態とのうちの少なくとも一方における曲げられた形状に前記作動構造体を機械的に拘束することによって、規定する機械構造体と、
を備え、
前記電気活性材料を駆動すると、前記作動構造体が、前記第１の安定機械的状態から前記第２の安定機械的状態に切り換わることができ、
組み合わされた４つの可能な信号レベルのうちの１つの信号レベルだけが、前記作動装置の前記第１の安定機械的状態から前記第２の安定機械的状態への切換えを提供する、
システム。
【請求項２】
前記キャリヤが、第１の面及び前記第１の面の反対側の第２の面を有し、前記電気活性材料が前記第１の面に取り付けられていること、並びに
前記作動構造体が、前記第２の面に取り付けられた追加の電気活性材料を含み、前記追加の電気活性材料は、前記追加の電気活性材料の追加の駆動に応答して前記作動構造体の曲がり及び／又は曲がりの変化を引き起こすためのものであり、その結果、前記追加の駆動時に、前記作動構造体は、前記第２の安定機械的状態から前記第１の安定機械的状態に切り換わることができる、
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記キャリヤ及び任意の電気活性材料が、層スタックとして配置されている、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第１の安定機械的状態及び前記第２の安定機械的状態の両方において、前記作動構造体を、前記曲げられた形状に拘束する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記第１の安定機械的状態の前記曲げられた形状は、前記第２の安定機械的状態の前記曲げられた形状とは反対の形状である、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記作動構造体は、前記作動装置が駆動されていないときの前記第１の安定機械的状態及び前記第２の安定機械的状態のうちの一方において実質的に平らである、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記キャリヤはエリアを有し、前記電気活性材料及び／又は追加の電気活性材料は、前記エリアの一部分だけにわたって広がる、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記機械構造体は、前記作動構造体を安定機械的状態で所定の位置に保持することができる複数の保持位置を有する保持装置を備え、それぞれの保持位置は異なるアクチュエータ位置に対応し、前記保持位置のうちの少なくとも１つの保持位置が、前記第１の安定機械的状態と前記第２の安定機械的状態とのうちの前記少なくとも一方における前記曲げられた形状に前記作動構造体を機械的に拘束する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記作動構造体が拘束装置に固定された、固定エッジと、移動可能なエッジとを含み、前記保持装置は、前記作動構造体の前記固定エッジから異なる距離のところに前記作動構造体の前記移動可能なエッジを保持するための装置であり、複数の保持切欠きを備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記作動装置はそれぞれ、前記駆動及び／又は追加の駆動のために前記電気活性材料に電気信号を加えるための電極装置を含む、請求項１乃至９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１１】
それぞれの作動装置について、
第１のしきい値Ｖｂｉよりも低い組み合わされた信号レベルを有する前記駆動信号は、前記第１の安定機械的状態から前記第２の安定機械的状態に向かう作動を提供するが、前記駆動信号が除去されると前記第１の安定機械的状態に戻り、且つ
第２のしきい値よりも高い組み合わされた信号レベルを有する前記駆動信号は、前記第１の安定機械的状態から前記第２の安定機械的状態への作動を提供することができ、前記駆動信号が除去されても前記第１の安定機械的状態へは戻らず、前記第２のしきい値は、前記第１のしきい値Ｖｂｉの大きさよりも大きな第１のマージンＶｄｒである大きさを有する、
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１の信号線及び前記第２の信号線のうちの一方に対して、前記２つの可能な信号レベルはゼロ及び前記第１のしきい値Ｖｂｉの大きさであり、前記第１の信号線及び前記第２の信号線の他方に対して、前記２つの可能な信号レベルはゼロ及び前記第１のマージンＶｄｒの大きさであり、非ゼロ信号レベルの極性は互いに反対の極性を持つ、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１のしきい値Ｖｂｉの大きさは、前記第１のマージンＶｄｒの大きさよりも大きいか、又は、
前記第１のしきい値Ｖｂｉの大きさは、前記第１のマージンＶｄｒの大きさの少なくとも５倍である、
請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１４】
ドライバが、複数の作動装置のそれぞれについて、第３のしきい値Ｖｒｅｓよりも高い組み合わされた前記信号レベルを有するリセット駆動信号が、前記駆動信号が除去されたときに前記第１の安定機械的状態へのリセットを提供し、
前記システムは、前記複数の作動装置に対する機械的リセットの形態の外部入力を受け取る、
請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載のシステムを動作させる方法であって、
前記方法は、少なくとも２つの可能な信号レベルを前記第１の信号線に提供し、少なくとも２つの可能な信号レベルを前記第２の信号線に提供するステップを有し、作動装置によって受け取られる前記駆動信号が、前記第１の信号線の１つの前記信号レベルと前記第２の信号線の１つの前記信号レベルとの組合せであるように信号が提供され、組み合わされた４つの可能な信号レベルのうちの１つの前記信号レベルだけが、前記作動装置の前記第１の安定機械的状態から前記第２の安定機械的状態への切換えを提供する、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月21日(2019.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞又は組織を培養する装置であって、該装置は、
底部と少なくとも１つの側壁とを備える容器と、前記容器と係合してチャンバを画成するように構成された取り外し可能な上部と、
細胞に関して上に載置される基材を受け入れるように構成されたスキャホールドとを備え、
第１の端壁（底部）、前記少なくとも１つの側壁、又は第２の端壁（上部）のうちの少なくとも１つの少なくとも一部が、気体透過性膜を含み、
前記装置は、（ａ）前記基材が気体透過性材料と気体連通で配設されていないものである第１のモードと、（ｂ）前記基材を、気体透過性材料と気体連通で配設されるように、特に前記気体透過性材料と接触するように移動させたものである第２のモードとの間で構成変更可能である、細胞又は組織を培養する装置。
【請求項２】
前記装置は、前記チャンバの前記底部と前記チャンバの前記上部との間で、前記スキャホールドの実質的に直線の移動を許容して、前記上部における気体透過性膜に、前記基材を配設する、請求項１記載の細胞又は組織を培養する装置。
【請求項３】
前記装置の回転が、前記少なくとも１つの側壁に対して垂直の軸を中心とした前記スキャホールドの実質的に回転的な移動を許容する、請求項１記載の細胞又は組織を培養する装置。
【請求項４】
使用中、気体透過性材料が前記底部と前記上部との両方に存在する場合、前記チャンバは、環境から液体封止可能であるが、前記環境と気体連通である、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
気体透過性材料は、ポリジメチルシロキサンである、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記スキャホールドは、前記基材を受け入れて、前記基材の平面である両側に培養面をもたらす、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記基材は、生体適合膜などの生体適合性材料である、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記基材は、気体透過性である、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記基材は、乳酸グリコール酸共重合体（ＰＬＧＡ（poly(lactic co-glycolic acid））であるか、又は乳酸グリコール酸共重合体（ＰＬＧＡ）を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記基材は、静電紡糸によるＰＬＧＡであるか、又は静電紡糸によるＰＬＧＡを含む、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記基材は、細胞の接着、細胞の遊走又は組織の層化を向上させるように処理した面を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記スキャホールドは、内周と外周とを画成する第１の枠体であって、実質的に平面の上方面を備える前記第１の枠体と、
内周と外周とを画成する第２の枠体であって、実質的に平面の上方面を備える前記第２の枠体とを備え、
前記第１の枠体及び前記第２の枠体は、それらの周囲の少なくとも一部の周辺で取り外し可能に係り合い、界面を画成して前記基材を受け入れて保持し、
前記基材は、保持されるとき、前記第１の枠体の前記内周を横断する実質的に平面である配置で保持され、
前記第１の枠体の前記上方面及び前記第２の枠体の前記上方面は、係り合うとき、実質的に同一平面上にある、請求項１から１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２の枠体のその上方面における前記内周の寸法が、前記第１の枠体のその上方面における前記外周の寸法よりも大きく、前記第１の枠体の少なくとも前記上方面において、前記第２の枠体が、前記第１の枠体の前記外周の周辺で係合する、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
重層表皮組織を産生する方法であって、該方法は、
（ａ）基材であって、接着した角化細胞が前記基材の面の少なくとも一部にわたって配設されている前記基材を提供することと、
（ｂ）少なくとも１つの気体透過性界面を備える細胞培養装置を提供することと、
（ｃ）前記角化細胞が前記気体透過性界面と接触するように、前記基材を置くことと、
（ｄ）表皮の層化が起こることを許容するのに十分な時間の間、前記細胞培養装置をインキュベートすることとを含む、方法。
【請求項１５】
細胞の成長を支持するのに十分な量の組織培地中に培養しようとする細胞を含む懸濁液を提供することと、
請求項１から１３のいずれか一項に記載の細胞培養装置に前記懸濁液を導入して、前記細胞の少なくとも一部が前記基材に接着するのに十分な時間の間、前記懸濁液を含有した前記細胞培養装置をインキュベートすることと、
前記細胞培養装置を、前記基材が気体透過性材料と接触するものである第２のモードに合わせることと、
細胞コンフルエンス、細胞層化又は組織成長のうちの１つ又は複数を許容するのに十分な時間の間、前記細胞培養装置をインキュベートすることとを含む、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
重層表皮組織又は全層皮膚組織を培養する方法であって、該方法は、
（ａ）細胞の成長を支持するのに十分な量の組織培地中に角化細胞及び線維芽細胞を含む懸濁液を提供するステップと、
（ｂ）請求項１から１３のいずれか一項に記載の細胞培養装置に前記懸濁液を導入するステップと、
（ｃ）前記角化細胞及び／又は線維芽細胞の少なくとも一部が前記基材に接着するのに十分な時間の間、前記懸濁液を含有した前記細胞培養装置をインキュベートするステップと、
（ｄ）前記細胞培養装置を、前記基材が及び／又は細胞が気体透過性膜と気体連通で配設されるものである第２のモードに合わせるステップと、
（ｅ）表皮の層化が起こることを許容するのに十分な時間の間、前記細胞培養装置をインキュベートするステップとを含む、重層表皮組織又は全層皮膚組織を培養する方法。
【請求項１７】
前記細胞培養装置を、基材が及び／又は細胞が気体透過性材料と接触するものである第２のモードに合わせるステップと、細胞コンフルエンス、細胞層化又は組織成長のうちの１つ又は複数を許容するのに十分な時間の間、前記細胞培養装置をインキュベートするステップとの間に、
例えばアクセスポートを介して、培養しようとする細胞を含む第２の懸濁液を導入するステップと、
前記第２の懸濁液内の前記細胞の少なくとも一部が前記基材に接着するのに十分な時間の間、前記第２の懸濁液を含有した前記細胞培養装置をインキュベートするステップとである追加のステップを含む、請求項１５又は１６に記載の方法。
【請求項１８】
請求項１４から１７のいずれか一項に記載の方法によって調製した、組織。
【請求項１９】
線維芽細胞を含む皮層、角化細胞を含む重層表皮層、及び生体適合性の基材を含む、請求項１８記載の組織。
【請求項２０】
それを必要としている対象の組織の損傷の治療で使用する、請求項１８から１９のいずれか一項に記載の方法で調製した、組織。
【請求項２１】
前記治療は、創傷、熱傷、傷又は手術瘢痕の治療である、請求項２０記載の組織。
【請求項２２】
前記組織は、患者の自己由来の細胞を用いて調製する、請求項１８から２１のいずれか一項に記載の組織。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月5日(2019.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微生物コロニーを計数するための培養デバイスであって、
反対面となる内側表面及び外側表面を有するベース材と、
反対面となる内側表面及び外側表面を有するカバーシートと、
前記ベース材と前記カバーシートとの間に配置されたスペーサー部材であって、前記ベース材又は前記カバーシートに結合されており、生育区画の形状及び深さを画定する開口部を含み、前記スペーサー部材及び前記生育区画が、前記ベース材の前記内側表面と前記カバーシートの前記内側表面との間に配置されている、スペーサー部材と、
前記生育区画において前記ベース材に接着された第１の接着剤層、又は前記生育区画において前記カバーシートに接着された第２の接着剤層と、
前記第１の接着剤層又は前記第２の接着剤層に付着した有効量の乾燥状態の脱酸素剤と、
前記第１の接着剤層又は前記第２の接着剤層に付着した乾燥状態の冷水溶解性ゲル化剤と、を備え、
前記カバーシートは、前記ベース材又は前記スペーサー部材に結合されている、培養デバイス。
【請求項２】
前記生育区画において、前記第１の接着剤層又は前記第２の接着剤層に付着した有効量の乾燥状態の二酸化炭素発生剤を更に含む、請求項１に記載の培養デバイス。
【請求項３】
対象とする微生物の生育を促進させるための乾燥状態の栄養成分を更に含み、前記栄養成分が、前記生育区画において前記ベース材又は前記カバーシートに付着しており、
対象とする嫌気性微生物の生育を検出するための第１の指示薬を更に含み、前記第１の指示薬が、前記生育区画において前記ベース材又は前記カバーシートに付着しており、
対象としない微生物の生育を阻害するための有効量の選択剤を更に含み、前記選択剤が、前記生育区画において前記ベース材又は前記カバーシートに付着しており、
有効量の還元剤を更に含み、前記還元剤が、前記生育区画において前記ベース材又は前記カバーシートに付着している、請求項１又は２に記載の培養デバイス。
【請求項４】
前記ベース材の前記内側表面が、該内側表面に接着されている第１の接着剤を有しており、
前記生育区画に配置された１つ以上の第１の成分が、前記第１の接着剤に付着しており、  前記第１の成分が、前記ゲル化剤、前記脱酸素剤、前記緩衝剤、前記栄養成分、前記指示薬、前記選択剤、前記還元剤、及び前述の第１の成分のうちのいずれか２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の培養デバイス。
【請求項５】
前記カバーシートの前記内側表面が、該内側表面に接着されている第２の接着剤を有しており、
前記生育区画に配置された１つ以上の第３の成分が、前記第２の接着剤に付着しており、
前記第３の成分が、前記ゲル化剤、前記脱酸素剤、前記緩衝剤、前記栄養成分、前記指示薬、前記選択剤、前記還元剤、及び前述の第３の成分のうちのいずれか２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の培養デバイス。
【請求項６】
前記生育区画と流体連通させて配置された第２の指示薬を更に含み、前記第２の指示薬が、対象としない微生物及び対象とする微生物の存在を示す、請求項１〜５のいずれか一項に記載の培養デバイス。
【請求項７】
試料中の微生物を検出する方法であって、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の培養デバイスを、その内部の前記生育区画へのアクセスを提供する開いた構成で配置することと、
所定量の水性液体を前記生育区画に配置することと、
試料を前記生育区画に配置することと、
前記培養デバイスを閉じることと、
培養培地において微生物コロニーを形成させるのに十分な一定時間にわたり前記培養デバイスをインキュベートすることと、
前記微生物コロニーを検出することと、を含み、
前記水性液体及び前記試料を前記生育区画に配置すること、並びに、前記培養デバイスを閉じることが、前記培養デバイスの前記ベース材、前記カバーシート、及び前記スペーサーにより取り囲まれた半固体の微生物培養培地を形成することを含む、方法。
【請求項８】
前記添加剤が選択剤を含み、前記有効量の選択剤が、前記培養デバイスにおける乳酸菌の生育を実質的に可能にし、前記有効量の選択剤が、大腸菌、黄色ブドウ球菌、クロストリジウム・スポロゲネス、ウェルシュ菌、バクテロイデス・フラジリス、プレボテラ・メラニノゲニカ、及び／又はフソバクテリウムの種の生育を実質的に阻害する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
１つ以上の微生物コロニーを計数することが、二酸化炭素産生コロニーを非二酸化炭素産生コロニーから鑑別することを更に含む、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月10日(2019.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、スクロースおよびグルコシルトランスフェラーゼ酵素を含む反応溶液であって、前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、下記の３つのモチーフ：
（ｉ）配列番号７８と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフ、
（ｉｉ）配列番号７９と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフ、および
（ｉｉｉ）配列番号８０と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフを含む触媒ドメインを含み、
ここで前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、配列番号６５の残基５４〜９５７、配列番号３０の残基５５〜９６０、配列番号４の残基５５〜９６０、配列番号２８の残基５５〜９６０または配列番号２０の残基５５〜９６０を含んでおらず；
ここで前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、少なくとも９５％のα−１，３−グリコシド結合および少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有する不溶性ポリα−１，３−グルカンを生成する反応溶液。
【請求項２】
不溶性ポリα−１，３−グルカンを生成する方法であって：
（ａ）少なくとも水、スクロースおよびグルコシルトランスフェラーゼ酵素を接触させる工程であって、前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、下記の３つのモチーフ：
（ｉ）配列番号７８と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフ、
（ｉｉ）配列番号７９と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフ、および
（ｉｉｉ）配列番号８０と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフを含む触媒ドメインを含み、
ここで前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、配列番号６５の残基５４〜９５７、配列番号３０の残基５５〜９６０、配列番号４の残基５５〜９６０、配列番号２８の残基５５〜９６０または配列番号２０の残基５５〜９６０を含んでおらず；
これにより少なくとも９５％のα−１，３−グリコシド結合および少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有する不溶性ポリα−１，３−グルカンが生成される工程；
および
ｂ）任意選択的に、工程（ａ）で生成された前記ポリα−１，３−グルカンを単離する工程を含む方法。
【請求項３】
グルコシルトランスフェラーゼ酵素を同定するための方法であって：：
グルコシルトランスフェラーゼ触媒ドメイン内の少なくとも１つのモチーフの存在を検出する工程であって、前記少なくとも１つのモチーフは：
（ｉ）配列番号７８と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフ、
（ｉｉ）配列番号７９と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフ、および
（ｉｉｉ）配列番号８０と少なくとも９０％同一であるアミノ酸配列を含む１つのモチーフからなる群から選択され、
これにより少なくとも９５％のα−１，３−グリコシド結合および少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有する不溶性ポリα−１，３−グルカンを生成するグルコシルトランスフェラーゼ酵素を同定する工程を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月13日(2019.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的細菌種または株の選択的な死滅における使用のための、Ｉ型ＣＲＩＳＰＲアレイを含む溶菌性バクテリオファージであって、
前記Ｉ型ＣＲＩＳＰＲアレイは、前記の標的細菌種または株内の標的ＤＮＡと実質的な相補性を有するスペーサーを含み、
前記の標的細菌種または株は、前記Ｉ型ＣＲＩＳＰＲアレイと適合するＩ型ＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓシステムを含む、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項２】
請求項１に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記Ｉ型ＣＲＩＳＰＲアレイは、リピート−スペーサー−リピート配列、または少なくとも２以上のリピート−スペーサー配列を含み、ここで、前記の少なくとも２以上のリピートスペーサー配列は、少なくとも第一のリピートスペーサー配列および最終のリピートスペーサー配列を含み、前記の第一のリピートスペーサー配列のスペーサーの３’末端は、次のリピートスペーサー配列のリピートの５’末端に連結されて、前記の最終のリピートスペーサー配列は、リピートに３’末端において連結される、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記Ｉ型ＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓシステムは、前記の細菌種または株に内在する、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記Ｉ型ＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓシステムは、Ｃａｓ３を含む、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記スペーサーは、前記標的ＤＮＡと少なくとも７０％相補的である、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記の標的細菌種または株は、Ｅ.ｃｏｌｉ種または株を含む、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記の標的細菌種または株は、Ｋｌｅｂｓｉｅｌｌａ  ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ種または株を含む、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記の標的細菌種または株は、抗生物質耐性である、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記溶菌性バクテリオファージは、広範宿主バクテリオファージ（ｂｒｏａｄ  ｈｏｓｔ  ｂａｃｔｅｒｉｏｐｈａｇｅ）である、
溶菌性バクテリオファージ。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の溶菌性バクテリオファージであって、
前記スペーサーは、約１５ヌクレオチド〜約１５０ヌクレオチドの長さを含む、
溶菌性バクテリオファージ。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月29日(2019.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局におけるワイヤレス通信の方法であって、
第1のトラフィックタイプと、マルチユーザ(MU)フレームが送信されるべきであるという決定とに少なくとも部分的に基づく第1のアクセスカテゴリのための拡張分散チャネルアクセス(EDCA)パラメータの第1のセットを識別するステップと、
MUモードで複数の局と通信するために、共有無線周波数スペクトル帯域を介した送信機会に対するアクセスを得るために競合するステップであって、前記競合することが、前記EDCAパラメータの第1のセットに少なくとも部分的に基づく、ステップと
を備える方法。
【請求項２】
前記送信機会に対するアクセスを得るための競合に勝つと、トリガフレームを前記複数の局に送信するステップ
をさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記トリガフレームが、前記第1のトラフィックタイプの指示を備える、請求項2に記載の方法。
【請求項４】
前記EDCAパラメータの第1のセットが、
前記第1のトラフィックタイプと、前記フレームがシングルユーザ(SU)フレームであるという決定とに少なくとも部分的に基づく第2のアクセスカテゴリのためのEDCAパラメータの第2のセットと同じアクセス優先順位、前記EDCAパラメータの第2のセットよりも高いアクセス優先順位、および前記EDCAパラメータの第2のセットよりも低いアクセス優先順位
からなるグループから選択されるアクセス優先順位を前記共有無線周波数スペクトル帯域に提供する、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記MUフレームの識別子をMUキューに入力するステップと、
前記EDCAパラメータの第1のセットを前記MUキューに関連付けられたEDCAパラメータのセットとして識別するステップと
をさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記MUキューが、複数のトラフィックタイプに関連付けられたMUフレームにマッピングされる、請求項5に記載の方法。
【請求項７】
前記EDCAパラメータの第1のセットが、
前記第1のアクセスカテゴリおよびいくつかの前記複数の局
からなるグループから選択されるパラメータの線形関数である、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
前記EDCAパラメータの第1のセットをネゴシエートするために、隣接APと通信するステップ
をさらに備える、請求項1に記載の方法。
【請求項９】
前記MUフレームが、
ダウンリンク直交周波数分割多元接続(OFDMA)フレーム、アップリンクOFDMAフレーム、ダウンリンクMU多入力多出力(MU-MIMO)フレーム、およびアップリンクMU-MIMOフレーム
からなるグループから選択される、請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
ワイヤレス通信のための装置であって、
第1のトラフィックタイプと、フレームが送信されるべきであるという決定とに少なくとも部分的に基づく第1のアクセスカテゴリのためのEDCAパラメータの第1のセットを識別するための手段と、
MUモードで複数の局と通信するために、共有無線周波数スペクトル帯域を介した送信機会に対するアクセスを得るために競合するための手段であって、前記競合することが、前記EDCAパラメータの第1のセットに少なくとも部分的に基づく、手段と
を備える装置。
【請求項１１】
前記送信機会に対するアクセスを得るための競合に勝つと、トリガフレームを前記複数の局に送信するための手段
をさらに備える、請求項10に記載の装置。
【請求項１２】
前記トリガフレームが、前記第1のトラフィックタイプの指示を備える、請求項11に記載の装置。
【請求項１３】
前記EDCAパラメータの第1のセットが、
前記第1のトラフィックタイプと、前記フレームがSUフレームであるという決定とに少なくとも部分的に基づく第2のアクセスカテゴリのためのEDCAパラメータの第2のセットと同じアクセス優先順位、前記EDCAパラメータの第2のセットよりも高いアクセス優先順位、および前記EDCAパラメータの第2のセットよりも低いアクセス優先順位
からなるグループから選択されるアクセス優先順位を前記共有無線周波数スペクトル帯域に提供する、請求項10に記載の装置。
【請求項１４】
前記MUモードが、
ダウンリンクOFDMAモード、アップリンクOFDMAモード、ダウンリンクMU多入力多出力(MU-MIMO)モード、およびアップリンクMU-MIMOモード
からなるグループから選択される、請求項10に記載の装置。
【請求項１５】
コンピュータによって実行されると、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の方法を前記コンピュータに実行させるためのコードを含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月18日(2019.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非生物的ストレス下でテトラセルミス  チュイイ種の微小藻類を培養することを含んでなる、スーパーオキシドジスムターゼ（ＳＯＤ）に富む前記微小藻類のバイオマスを得るための方法であって、前記非生物的ストレスが、培養培地における少なくとも１００ｍＶの酸化還元電位、前記培養培地における２８℃超の温度、前記培養培地における５μＭ未満の硝酸塩濃度での窒素飢餓、および前記培養培地における３５超の塩分濃度からなる群から選択される、方法。
【請求項２】
非生物的ストレス下でテトラセルミス  チュイイ種の微小藻類を培養することを含んでなる、前記微小藻類のバイオマスのスーパーオキシドジスムターゼ（ＳＯＤ）を濃縮する方法。
【請求項３】
前記非生物的ストレスが、前記培養培地における少なくとも１００ｍＶの酸化還元電位、前記培養培地における２８℃超の温度、窒素飢餓、および前記培養培地における３５超の塩分濃度からなる群から選択される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記非生物的ストレスが、前記培養培地における５μＭ未満の硝酸塩濃度での窒素飢餓または前記培養培地における４１超の塩分濃度である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法によって得られたＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項２〜４のいずれか一項の方法によって得られたＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス。
【請求項６】
脱水またはブライン処理された、請求項５に記載のバイオマス。
【請求項７】
請求項５または６に記載のＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマスからＳＯＤを精製する方法であって、
（ｉ）Ｔ．チュイイ種の微小藻類の前記バイオマスをホモジナイズしてホモジネートを得る工程と、
（ｉｉ）前記工程（ｉ）で得られた前記ホモジネートをポリエチレングリコール／リン酸塩（ＰＥＧ／Ｐｉ）水性二相分配系により分画することによって、リン酸塩水性画分中のＳＯＤに富むタンパク質抽出物を得る工程と
を含んでなる、方法。
【請求項８】
前記ＰＥＧ相が、約３，０００Ｄａの平均分子量のＰＥＧを含有するものであり、および／または、前記リン酸塩相が、１０％ＮａＣｌ（ｗ／ｗ）を含有するＫＨ２ＰＯ４緩衝液（ｐＨ７）である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
Ｔ．チュイイ種の微小藻類の前記バイオマスが、請求項５に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項６に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類の脱水またはブライン処理されたバイオマスである、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法によって得られた、ＳＯＤに富むタンパク質抽出物。
【請求項１１】
請求項５に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項６に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類の脱水またはブライン処理されたバイオマス、または請求項１０に記載のＳＯＤに富むタンパク質抽出物を含んでなる、食品。
【請求項１２】
請求項５に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項６に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類の脱水またはブライン処理されたバイオマス、または請求項１０に記載のＳＯＤに富むタンパク質抽出物を含んでなる、医薬組成物。
【請求項１３】
化粧品として使用される、請求項５に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項６に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類の脱水またはブライン処理されたバイオマス、または請求項１０に記載のＳＯＤに富むタンパク質抽出物。
【請求項１４】
抗酸化剤として使用される、請求項５に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項６に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類の脱水またはブライン処理されたバイオマス、または請求項１０に記載のＳＯＤに富むタンパク質抽出物。
【請求項１５】
酸化ストレスおよび／または炎症活性を特徴とする疾患または状態の予防および／または治療に用いられる、または放射線療法に対する耐性を改善する際に用いられる、請求項５に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス、または請求項６に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類の脱水またはブライン処理されたバイオマス、または請求項１０に記載のＳＯＤに富むタンパク質抽出物、または請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
１０〜１８ｇ／Ｌの全硫黄（Ｓ）、４０〜５５ｇ／Ｌの硫酸塩（ＳＯ４２−）、６０〜１，５００ｍｇ／Ｌのカルシウム（Ｃａ２＋）、５２〜７０ｇ／Ｌのマグネシウム（Ｍｇ２＋）、１５〜２０ｇ／Ｌのカリウム（Ｋ＋）、９〜２０ｇ／Ｌのカリウム（Ｎａ＋）、１１５〜１８０ｇ／Ｌの塩化イオン（Ｃｌ−）を含み、２０℃で１．２５〜１．３０ｇ／ｍｌの密度を有し、ＳＯＤを含有する微小藻類のバイオマスに含まれるＳＯＤの安定剤として使用されるブライン。
【請求項１７】
ＳＯＤを含有する微小藻類のバイオマスが、請求項２に記載のＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマスである、請求項１６に記載のブライン。
【請求項１８】
１０〜１８ｇ／Ｌの全硫黄（Ｓ）、４０〜５５ｇ／Ｌの硫酸塩（ＳＯ４２−）、６０〜１，５００ｍｇ／Ｌのカルシウム（Ｃａ２＋）、５２〜７０ｇ／Ｌのマグネシウム（Ｍｇ２＋）、１５〜２０ｇ／Ｌのカリウム（Ｋ＋）、９〜２０ｇ／Ｌのカリウム（Ｎａ＋）、１１５〜１８０ｇ／Ｌの塩化イオン（Ｃｌ−）を含み、２０℃で１．２５〜１．３０ｇ／ｍｌの密度を有するブラインによってＳＯＤが安定化されてなることを特徴とする、ＳＯＤに富むＴ．チュイイ種の微小藻類のバイオマス。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月4日(2019.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維含有エンドウ豆抽出物を調製する方法であって、以下の工程：
（ａ）エンドウ豆含有水性組成物を形成するために、莢剥きエンドウ豆を水溶液と接触させる工程、
（ｂ）前記エンドウ豆を前記水性組成物中で少なくとも３０分間多くとも１５時間水和させておく工程、
（ｃ）結果として粉砕エンドウ豆を得るために前記エンドウ豆を粉砕する工程、及び
（ｄ）少なくとも１種の繊維含有エンドウ豆抽出物を得るために、前記粉砕エンドウ豆を分画する工程
を含み、
工程（ａ）の次に工程（ｂ）、その次に工程（ｃ）、その次に工程（ｄ）が行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記繊維含有エンドウ豆抽出物を乾燥させる少なくとも１つの工程（ｅ）を実施する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｄ）における前記粉砕エンドウ豆の分画が、前記粉砕エンドウ豆を遠心分離及び／又は濾過による少なくとも１つの分離工程に供することを含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記分画工程（ｄ）が少なくとも２つの分画工程（ｄ１）及び（ｄ２）に分けることができる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記分画工程（ｄ）が少なくとも１つの工程（ｄ１）を含み、工程（ｄ１）における前記粉砕エンドウ豆の分画が、前記粉砕エンドウ豆を、繊維富化画分を得るために沈降、濾過及び／又は遠心分離による分離の少なくとも１つの工程に供することを含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記分画工程（ｄ）が少なくとも２つの分画工程（ｄ１）及び（ｄ２）に分けることができ、前記分画工程（ｄ２）が、工程（ｄ１）で得られた繊維富化画分の少なくとも１つの濾過工程、より詳細には、繊維含有エンドウ豆抽出物を得るための篩い分け工程を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
工程（ｂ）の間に、前記水性組成物中のエンドウ豆を、少なくとも１時間水和させる、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
工程（ｂ）の間に、前記水性組成物中のエンドウ豆が少なくとも０℃の温度において水和される、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
工程（ｂ）の間に、前記エンドウ豆含有水性組成物が少なくとも１回の発酵に供される、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記分画工程（ｄ）が少なくとも１つの工程（ｄ１）を含み、工程（ｄ１）における前記粉砕エンドウ豆の分画が、前記粉砕エンドウ豆のｐＨを少なくともｐＨ６に調整することを含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法によって得ることができる繊維含有エンドウ豆抽出物。
【請求項１２】
請求項２から１０のいずれか一項に記載の方法によって得ることができる繊維含有エンドウ豆抽出物。
【請求項１３】
繊維含有エンドウ豆抽出物であって、
−少なくとも３０／７０及び多くとも８５／１５の繊維／デンプン重量比、
−ＡＯＡＣ−９８５．２９法によるアッセイで固形物を基準として少なくとも３５重量％及び多くとも８０重量％の繊維量、
−抽出物の総重量を基準として少なくとも８０％及び多くとも９５％の固形分、及び
−固形分を基準として５％未満のタンパク質含量
を含み、
−固形物の単位量（ｇ）当たりの水の量が少なくとも９ｇ及び多くとも１９ｇの保水量
を有することを特徴とする、繊維含有エンドウ豆抽出物。
【請求項１４】
−乾式粒径分析で測定された粒径Ｄ５０＜４００μｍ；及び
−乾式粒径分析で測定された粒径Ｄ９０＜７００μｍ；
を含み、
−固形物の単位量（ｇ）当たりの油の量が少なくとも２．５ｇ及び多くとも５．０ｇの保油量；及び
−少なくとも４００ｇ及び多くとも９００ｇの熱処理後ゲル強度
を有することを特徴とする、請求項１３に記載の繊維含有エンドウ豆抽出物。
【請求項１５】
繊維含有粉砕エンドウ豆抽出物であって、
−乾式粒径分析で測定された粒径Ｄ５０＜２００μｍ；
−乾式粒径分析で測定された粒径Ｄ９０＜４００μｍ；
−少なくとも３０／７０及び多くとも８５／１５の繊維／デンプン重量比；
−ＡＯＡＣ−９８５．２９法によるアッセイで固形物を基準として少なくとも３５重量％及び多くとも８０重量％の繊維量；及び
−抽出物の総重量を基準として少なくとも８０％及び多くとも９５％の固形分；
を含み、
−固形物の単位量（ｇ）当たりの水の量が少なくとも７ｇ及び多くとも１７ｇの保水量
を有することを特徴とする、繊維含有粉砕エンドウ豆抽出物。
【請求項１６】
−固形分を基準として５％未満のタンパク質含量；
を含み、及び、
−固形物の単位量（ｇ）当たりの油の量が少なくとも１．５ｇ及び多くとも５．０ｇの保油量；及び
−少なくとも２５０ｇ及び多くとも９００ｇの熱処理後ゲル強度
を有することを特徴とする、請求項１５に記載の繊維含有粉砕エンドウ豆抽出物。
【請求項１７】
請求項１１から１６のいずれか一項に記載の繊維含有エンドウ豆抽出物を含む食用組成物を意図される製品。
【請求項１８】
ヒト摂取用食品又は動物用飼料への、請求項１１から１６のいずれか一項に記載の繊維含有エンドウ豆抽出物の使用。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月3日(2019.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
示される例では、３つの異なる機械が存在しており、すなわち
汲み上げ動作中の圧力の上昇の開始時、およびタービンの回転動作中の圧力降下の終了時のためであり、比較的低い圧力範囲でかつ高い流量範囲で作動する機械ＰＴ１と、
汲み上げ動作中の圧力の上昇の終了時と、タービンの回転動作中の圧力降下の開始時のためであり、高い圧力範囲でかつ中程度の流量範囲で作動する機械ＰＴ２と、
貯蔵サイクルの終了時に圧縮空気をタンク２０内に押し出し、放出サイクルの開始時に圧縮空気が変換チャンバに入ることを可能にするためであり、タンク２０の圧力に近い狭い圧力範囲内およびこれに対応する狭い流量範囲内で作動する機械ＰＴ３である。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月17日(2019.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面を有する活物質と、
前記活物質の表面に結合した金属‐配位子錯体であって、金属イオンに配位結合した少なくとも１つの配位子を含む金属‐配位子錯体とを備え、
前記金属イオンが配位結合によって前記活物質の表面に結合している、電極。
【請求項２】
前記表面は金属‐配位子錯体の層によって包囲されている、請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記金属‐配位子錯体の層は厚さ約１０００ｎｍ未満である、請求項１又は２に記載の電極。
【請求項４】
第２の活物質をさらに含んでおり、前記第２の活物質の表面はオプションで前記金属‐配位子錯体に結合していない、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電極。
【請求項５】
前記金属‐配位子錯体の金属は、クロム、ルテニウム、鉄、コバルト、アルミニウム、ジルコニウム、及びロジウムからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電極。
【請求項６】
前記配位子は、前記金属イオンに配位結合した窒素、酸素、又は硫黄から選択される配位結合形成原子を含んでいる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電極。
【請求項７】
前記配位子は、単原子配位子、二原子配位子、又は三原子配位子である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の電極。
【請求項８】
前記配位子は、酸化物、水酸化物、又は水のような酸素含有化学種であり、前記配位結合は酸素原子と金属イオンとの間で形成される、請求項７に記載の電極。
【請求項９】
前記配位子は、少なくとも２つの金属イオンに配位結合した架橋化合物である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の電極。
【請求項１０】
前記金属‐配位子錯体はオキソ架橋型のクロム（ＩＩＩ）錯体である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の電極。
【請求項１１】
前記活物質の表面は酸化物表面である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電極。
【請求項１２】
前記活物質は、金属、金属間化合物、メタロイド、及び炭素からなる群から選択される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の電極。
【請求項１３】
前記活物質は、シリコンと、シリコン酸化物、複合材及び合金を含むシリコン含有材料と、スズと、スズ酸化物、複合材及び合金を含むスズ含有材料と、ゲルマニウムと、ゲルマニウム酸化物、複合材及び合金を含むゲルマニウム含有材料と、炭素と、黒鉛と、硫黄と、ＬｉＦｅＰＯ４（ＬＦＰ）と、コバルト、リチウム、ニッケル、鉄及びマンガンのうちの１以上を含有する混合金属酸化物とからなる群から選択される、請求項１２に記載の電極。
【請求項１４】
電極が陽極である場合、前記活物質はシリコン及び炭素からなる群から選択される、請求項１３に記載の電極。
【請求項１５】
電極が陰極である場合、前記活物質は、ＬｉＦｅＰＯ４（ＬＦＰ）と、コバルト、リチウム、ニッケル、鉄及びマンガンのうちの１以上を含有する混合金属酸化物とからなる群から選択される、請求項１３に記載の電極。
【請求項１６】
前記金属‐配位子錯体はオリゴマー状の金属‐配位子錯体である、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の電極。
【請求項１７】
陽極と、
陰極と、
前記陽極と前記陰極の間に設けられた電解質と
を備え、前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方が請求項１〜請求項１６のいずれか１項に記載の電極である、電気化学電池。
【請求項１８】
電極を製作するための前駆体組成物であって、
表面を有する活物質と、
前記活物質の表面に結合した金属‐配位子錯体であって、金属イオンに配位結合した少なくとも１つの配位子を含む金属‐配位子錯体とを含有し、
前記金属イオンが配位結合によって前記活物質の表面に結合している、前駆体組成物。
【請求項１９】
活物質を含有する前駆体組成物を形成するステップと、
前駆体組成物から電極を製作するステップと
を含む電極を製作するための方法であって、該方法は、金属‐配位子錯体を前記活物質の表面に接触させるステップを含み、前記金属‐配位子錯体は、金属イオンに配位結合した少なくとも１つの配位子を含み、
該方法は、配位結合によって前記金属イオンを前記活物質の表面に結合するステップをさらに含み、前記電極を製作するステップは、前記前駆体組成物から電極を鋳造することを含む、方法。
【請求項２０】
電極の性能を改善する方法であって、
電極の活物質の表面を金属‐配位子錯体に接触させるステップを含み、前記金属‐配位子錯体は、金属イオンに配位結合した少なくとも１つの配位子を備え、
前記金属イオンが配位結合によって前記活物質の表面に結合し、前記電極は、未処理の電極と比較して改善された性能を示し、その改善された性能は、初回サイクルの放電容量が高いことと、初回サイクルの効率が高いことと、０．５Ｃでの１００％の深充電で５００回の充電／放電ディープサイクルの後の容量が、未被覆の電極よりも少なくとも５％大きいこととからなる群から選択される少なくとも１つである、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月20日(2018.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流体導管が埋め込まれた半導体製造装置及び導管の形成方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
又、本発明による代表的な方法は、アディティブ製造処理を用いてイオン注入装置の構成要素内に埋め込まれる導管であって、この導管の内面上に形成された一組の隆起表面特徴部を有する当該導管を形成するステップを具えることができる。この一組の隆起表面特徴部は前記導管の内部領域内に延在させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
次に、図９を参照するに、本発明による半導体製造装置の構成要素内に埋め込む導管を形成する代表的な方法６００を示す流れ図を示している。この方法６００を図１Ａ〜８Ｂに示す開示と関連して説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２Ｂ】
2018518013.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ａ】
2018518013.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ｂ】
2018518013.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ｃ】
2018518013.tif 000004
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ｄ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ｄ】
2018518013.tif 000005
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８Ｂ】
2018518013.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月20日(2019.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのランプ及び該少なくとも１つのランプの寿命末期を推定するための処理ユニットを有する照明システムであって、前記処理ユニットは、
前記少なくとも１つのランプがオンされているランプ点灯時間、及び
未来のある選択された期間の前記少なくとも１つのランプのロケーションにおける天気に関する予想温度、
を受けるよう構成され、
前記処理ユニットは、前記ランプ点灯時間及び前記予想温度に基づいて前記少なくとも１つのランプの寿命末期を推定するよう構成される、照明システム。
【請求項２】
前記処理ユニットは、
現在までの過去のある期間にわたるランプ点灯時間を決定し、
前記予想温度に基づいて前記未来の選択されたある期間にわたる未来のランプ点灯時間を決定し、
前記未来の選択されたある期間の末日に対応する日における補正されたランプ点灯時間を得るため決定された前記ランプ点灯時間を前記未来の点灯時間に加える、
よう構成される、請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
前記処理ユニットは、決定された前記ランプ点灯時間又は予想天気データに基づいて前記未来のランプ点灯時間を決定するよう構成される、請求項２に記載の照明システム。
【請求項４】
前記処理ユニットは、
前記補正されたランプ点灯時間を、一日以上の日の寿命テスト中に得られたラボ点灯時間と比較し、
前記少なくとも１つのランプの寿命末期を推定するため前記補正されたランプ点灯時間が前記ラボ点灯時間に対応する１つの日を選択する、
よう構成される、請求項２又は３に記載の照明システム。
【請求項５】
前記処理ユニットは、
前記予想温度に依存して第１の補正率を決定し、
前記未来のランプ点灯時間を決定するため決定された前記ランプ点灯時間を前記第１の補正率及び前記未来の選択されたある期間により乗算する、
よう構成される、請求項２、３又は４に記載の照明システム。
【請求項６】
前記処理ユニットは、前記少なくとも１つのランプについて測定された温度を受け、該測定温度にも基づいて前記少なくとも１つのランプの寿命末期を推定するよう構成される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の照明システム。
【請求項７】
前記処理ユニットは、
前記測定温度に依存して第２の補正率を決定し、
決定された前記ランプ点灯時間を前記第２の補正率により乗算する、
よう構成される、請求項６に記載の照明システム。
【請求項８】
当該照明システムは、前記少なくとも１つのランプに結合される少なくとも１つの温度センサを有し、該少なくとも１つの温度センサは、前記少なくとも１つのランプの温度を測定するよう構成される、請求項６又は７に記載の照明システム。
【請求項９】
前記予想温度は、一年間にわたる予想平均温度である、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の照明システム。
【請求項１０】
前記予想温度は、当該年のある期間に依存する、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の照明システム。
【請求項１１】
当該照明システムは、前記少なくとも１つのランプに結合される少なくとも１つの点灯時間センサを有し、該少なくとも１つの点灯時間センサは、前記少なくとも１つのランプの点灯時間を測定するよう構成される、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の照明システム。
【請求項１２】
当該照明システムは、前記少なくとも１つのランプに結合される少なくとも１つのロケーションセンサを有し、該少なくとも１つのロケーションセンサは、前記少なくとも１つのランプのロケーションを前記処理ユニットに供するよう構成される、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の照明システム。
【請求項１３】
前記処理ユニットは、前記少なくとも１つのランプ近辺に配されたウェザーステーションに接続され、該ウェザーステーションは、
前記少なくとも１つのランプのロケーションにおける温度を予想し、
前記予想温度を前記処理ユニットに送る、
よう構成される、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の照明システム。
【請求項１４】
前記ウェザーステーションは、
前記少なくとも１つのランプ付近の温度を測定し、
前記測定温度を前記処理ユニットに送る、
よう構成される、請求項１３に記載の照明システム。
【請求項１５】
照明システムの少なくとも１つのランプの寿命末期を推定する方法であって、
前記少なくとも１つのランプがオンされているランプ点灯時間を受けるステップ、
前記少なくとも１つのランプのロケーションにおける未来のある選択された期間にわたる予想温度を受けるステップ、及び
前記ランプ点灯時間及び前記予想温度に基づいて前記少なくとも１つのランプの寿命末期を推定するステップ、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月22日(2019.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体処理チャンバ内の過酷な条件で損傷した半導体処理部品の外側面を修理する方法であって、
前記半導体処理部品の損傷した外側面の一部分を機械研削し機械加工面を形成する段階と、
前記部分を置換するために前記機械加工面の上に新しい部品を位置決めする段階と、
前記新しい部品と前記機械加工面の間にろう付け層を配置する段階と、
少なくとも前記ろう付け層を加熱し、半導体処理チャンバ内で使用可能な置換外側面を前記半導体処理部品に提供するように前記新しい部品と前記半導体処理部品の間に密封接合部を形成する段階と、を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
半導体処理部品は、基板支持台座であり、
前記外側面が前記基板支持台座の頂面である、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記外側面は、平坦面であり、
前記置換外側面は、置換平坦外側面である、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記機械研削する段階は、ＲＦアンテナを通して機械加工してそれを除去する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記機械研削する段階は、クランプ電極を通して機械加工してそれを除去する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ろう付け層は、アルミニウムである、
請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ろう付け層は、少なくとも８９％の純度を有するアルミニウム、少なくとも９８％の純度を有するアルミニウム、及び少なくとも９９％の純度を有するアルミニウムから構成された群から選択される、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記加熱する段階は、少なくとも７７０℃及び少なくとも８００℃から構成される群から選択された接合温度まで少なくとも前記ろう付け層を加熱する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記加熱する段階は、７７０℃と１２００℃の間及び８００℃と１２００℃の間から構成される群から選択された接合温度まで少なくとも前記ろう付け層を加熱する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記加熱する段階は、１×１０Ｅ−４トルよりも低い圧力を有する真空オーブン内で少なくとも前記ろう付け層を加熱する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記加熱する段階は、真空オーブン内で少なくとも前記ろう付け層を加熱する段階と、該加熱する段階中に該真空オーブンから酸素を除去する段階とを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記新しい部品と前記半導体処理部品の間の拡散結合がない、
請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記新しい部品は、セラミックの新しい部品である、
請求項１に記載の方法。