Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、金属膜と、酸化物膜と、還元防止膜と、を順次形成し、
前記還元防止膜上に、半導体素子を形成し、
物理的手段によって、前記金属膜と前記酸化物膜とを分離することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
第１の基板上に、金属膜と、酸化物膜と、還元防止膜と、を順次形成し、
前記還元防止膜上に、半導体素子を形成し、
前記半導体素子上に、表面に光触媒膜が形成された第２の基板の前記表面側を接着剤を用いて貼り合わせ、
物理的手段によって、前記金属膜と前記酸化物膜とを分離し、
前記第２の基板の裏面側から光を照射することによって、前記光触媒膜と前記接着剤とを分離することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記還元防止膜は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、マンガン、ニッケル、又はアルミニウムから選ばれた物質の窒化物であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
第１の基板上に、金属膜と、酸化物膜と、導電性の還元防止膜と、を順次形成し、
前記還元防止膜上に、半導体素子を形成し、
前記半導体素子上に、表面に光触媒膜が形成された第２の基板の前記表面側を接着剤を用いて貼り合わせ、
物理的手段によって、前記金属膜と前記酸化物膜とを分離し、
前記第２の基板の裏面側から光を照射することによって、前記光触媒膜と前記接着剤とを分離し、
前記還元防止膜をエッチングすることによって、前記半導体素子に電気的に接続される端子を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記還元防止膜は、チタン窒化物膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記半導体素子は、加熱処理を含む工程を経て形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記酸化物膜は、前記金属膜の表面を酸化処理することによって形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記物理的手段は、人間の手、ノズルから吹き付けられるガスの風圧、超音波、又は楔上の部材を用いた負荷であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記第２の基板は、透光性を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記光触媒膜は、チタン酸化物膜であり、
前記光は、紫外光であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記光触媒膜は、硫化カドミウム膜であり、
前記光は、可視光であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を吸着保持するチャックと、
前記チャックが持つ流路に流した液体を、前記投影光学系と前記基板との間に供給する液体供給装置と、を有し、
前記基板は、前記投影光学系と前記基板の一部分との間のみに存在する前記液体を介して露光され、
前記液体の温度は、前記液体が前記流路を通過することにより前記チャックと等しくなり、前記チャックと等しい温度の前記液体が前記スペースに供給されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記チャックの温度を調整するための温度調整装置を更に有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記温度調整装置は、前記チャックが更に持つ前記流路とは異なる流路に流体を流すことにより前記チャックの温度を調整することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記チャックの温度を検出するセンサを更に備え、
前記液体供給装置は、前記センサの出力に基づいて前記チャックの流路に供給する液体の温度を調整する温度調整ユニットを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
前記液体供給装置は、前記チャックが持つ流路を流れた液体を、前記投影光学系の持つ流路にも流すことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項の露光装置。
【請求項６】
前記チャックは、その内部に前記液体を通過させる流路を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記チャックは、その近傍に前記液体を通過させる流路を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記液体供給装置は、前記基板と温度が等しい液体を前記投影光学系と前記基板との間に供給することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項記載記載の露光装置。
【請求項９】
前記液体を回収する液体回収装置と、該回収した液体を供給可能な状態とする液体再生装置とを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を吸着保持するチャックと、前記チャックが持つ流路に流した液体を、前記投影光学系と前記基板との間に供給する液体供給装置と、を有し、前記基板は、前記投影光学系と前記基板の一部分との間のみに存在する前記液体を介して露光され、前記液体の温度は、前記液体が前記流路を通過することにより前記チャックと等しくなり、前記チャックと等しい温度の前記液体が前記スペースに供給されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月9日(2007.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換素子を構成する第１導電型の第１の不純物領域と、
第１導電型の第２の不純物領域と、
前記第１の不純物領域の電荷を前記第２の不純物領域へ転送する転送用ＭＯＳトランジスタと、
が配されたアクティブ領域を半導体基板に有する光電変換装置において、
前記転送用ＭＯＳトランジスタのゲートが前記第１の不純物領域の一部上に延在し、
前記転送用ＭＯＳトランジスタのゲートに覆われたアクティブ領域の前記転送用ＭＯＳトランジスタのチャネル幅方向の幅が、前記第１の不純物領域側の第１の長さと前記第２の不純物領域側の第２の長さとを有し、前記第１の長さから前記第２の長さへ段階的または連続的に小さくなることを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記第１の不純物領域は、前記アクティブ領域を分離する素子分離領域に接さないことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、光電変換素子を構成する第１導電型の第１の不純物領域と、第１導電型の第２の不純物領域と、前記第１の不純物領域の電荷を前記第２の不純物領域へ転送する転送用ＭＯＳトランジスタと、が配されたアクティブ領域を半導体基板に有する光電変換装置において、前記転送用ＭＯＳトランジスタのゲートが前記第１の不純物領域の一部上に延在し、前記転送用ＭＯＳトランジスタのゲートに覆われたアクティブ領域の前記転送用ＭＯＳトランジスタのチャネル幅方向の幅が、前記第１の不純物領域側の第１の長さと前記第２の不純物領域側の第２の長さとを有し、前記第１の長さから前記第２の長さへ段階的または連続的に小さくなることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
１  フォトダイオード（Ｎ型不純物領域）
２  転送スイッチ
２ａ〜２ｄ  転送スイッチの各辺
３  浮遊拡散領域（ＦＤ）
４  ＭＯＳトランジスタ
５  出力端子
６  電源端子
７  定電流源
８  リセットスイッチ
９  アクティブ領域（ＡＣＴ）
１０  素子分離領域
Ｌ１  転送スイッチが光電変換素子側のアクティブ領域に対して突き出している長さ
Ｗ２  ＦＤ側の転送路幅
Ｗ３  ＦＤ側の転送路幅を転送スイッチのフォトダイオード側に射影した幅
Ｗ４  ＦＤ側の転送路幅を転送スイッチのフォトダイオード側に射影した幅以外でＮ型不純物領域が転送スイッチと接する長さ
Ｌ２  突き出している転送スイッチとＮ型不純物領域の重なり幅
Ｗ１  Ｎ型不純物領域の転送路幅
Ｌ３  転送スイッチ下のＮ型不純物領域の長さ
Ｌ４  転送スイッチ下のバーズビークの長さ
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最も前記基板側に配置された光学素子と前記基板との間に充填された液体を介して前記基板を露光する露光装置において、
前記光学素子の温度の調整を行うことによって、前記液体の温度を調整する温度調整装置を有し、
前記パターンは、前記基板が前記最終レンズに対して相対的に駆動されることにより、前記基板に露光されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記光学素子を支持する支持部材を有し、
前記温度調整装置は、前記支持部材が持つ流路に、温度を調整した流体を供給することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記支持部材が持つ流路は、該支持部材の周囲及び／又は該支持部材の内部に設けられていることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記温度調整装置は、前記光学素子に、温度を調整した流体を吹き付けることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記温度調整装置は、露光位置情報に基づいて、前記流体の温度を調整することを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
前記温度調整装置は、露光光照射情報に基づいて、前記流体の温度を調整することを特徴とする請求項２〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記基板を保持する保持部材が持つ流路に、温度を調整した流体を供給する温度調整装置を更に有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項８】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と前記基板を保持する保持部材とを備え、前記投影光学系と前記基板との間に充填された液体を介して前記基板を露光する露光装置において、
前記保持部材が持つ流路に、温度を調整した流体を供給する温度調整装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記流路は、複数の分割した流路を有することを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記温度調整装置は、前記複数の分割した流路の夫々を流れる前記流体の温度を独立に調整することを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記温度調整装置は、露光位置情報に基づいて、前記複数の分割した流路毎にその流路を流れる前記流体の温度を調整することを特徴とする請求項９又は１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記流体は、水、ヘリウム、窒素のいずれかであることを特徴とする請求項２〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一側面としての露光装置は、レチクル（マスク）のパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最も前記基板側に配置された光学素子と前記基板との間に充填された液体を介して前記基板を露光する露光装置において、前記光学素子の温度の調整を行うことによって、前記液体の温度を調整する温度調整装置を有し、前記パターンは、前記基板が前記最終レンズに対して相対的に駆動されることにより、前記基板に露光されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
半導体プロセスの微細化に伴って光リソグラフィも微細化が急速に進展しており、次世代においては、１００〜７０ｎｍの微細加工、更には５０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。例えば、５０ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度のＥＵＶ光源と縮小投影反射光学系（catadioptric system）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2005197456.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月28日(2006.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体に搭載され前記移動体の駆動用電力を発電する燃料電池システムであって、
アノードへの水素の供給とカソードへの酸素の供給を受けて起電力を得る燃料電池と、
エアを取り込み前記カソードにエアを供給するエア供給手段と、
水素の漏れを検知するガス漏れ検知手段と、
前記移動体の運転停止中に前記ガス漏れ検知手段によって水素の漏れが検知された際には前記移動体の運転とかかわりなく前記エア供給手段を作動させる制御手段と、
を備えることを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
前記燃料電池とは別の電力供給手段を備え、
前記ガス漏れ検知手段は前記電力供給手段からの電力の供給を受けて作動することを特徴とする請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項３】
前記ガス漏れ検知手段は間欠的に作動することを特徴とする請求項２記載の燃料電池システム。
【請求項４】
前記燃料電池を冷却するための冷却剤を前記燃料電池に供給する冷却剤供給手段を備え、
前記制御手段は、前記エア供給手段を作動させる際に前記冷却剤供給手段も作動させることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の燃料電池システム。
【請求項５】
前記エア供給手段により取り込まれたエアが流れる流路内の圧力を調整する調圧弁を備え、
前記制御手段は、前記エア供給手段を作動させる際には前記調圧弁の開度を通常運転時の開度よりも大きくすることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第１の発明は、上記の目的を達成するため、移動体に搭載され前記移動体の駆動用電力を発電する燃料電池システムであって、
アノードへの水素の供給とカソードへの酸素の供給を受けて起電力を得る燃料電池と、
エアを取り込み前記カソードにエアを供給するエア供給手段と、
水素の漏れを検知するガス漏れ検知手段と、
前記移動体の運転停止中に前記ガス漏れ検知手段によって水素の漏れが検知された際には前記移動体の運転とかかわりなく前記エア供給手段を作動させる制御手段と、
を備えることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第２の発明は、第１の発明において、前記燃料電池とは別の電力供給手段を備え、
前記ガス漏れ検知手段は前記電力供給手段からの電力の供給を受けて作動することを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第３の発明は、第２の発明において、前記ガス漏れ検知手段は間欠的に作動することを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第４の発明は、第１乃至第３の何れか１つの発明において、前記燃料電池を冷却するための冷却剤を前記燃料電池に供給する冷却剤供給手段を備え、
前記制御手段は、前記エア供給手段を作動させる際に前記冷却剤供給手段も作動させることを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第５の発明は、第１乃至第４の何れか１つの発明において、前記エア供給手段により取り込まれたエアが流れる流路内の圧力を調整する調圧弁を備え、
前記制御手段は、前記エア供給手段を作動させる際には前記調圧弁の開度を通常運転時の開度よりも大きくすることを特徴としている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第２の発明によれば、電力を得るために燃料電池システム全体を作動させる必要がなく、燃料電池システムの作動に伴う余分なエネルギ消費を抑えることができ、省エネルギ化が可能になる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第３の発明によれば、ガス漏れ検知手段を常時作動させる場合に比較して電力供給手段の電力消費を抑えることができ、省エネルギ化が可能になる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第４の発明によれば、燃料電池に冷却剤が供給されることで、カソードでの発熱反応による触媒の温度上昇が抑えられ、温度上昇に伴う触媒の劣化が防止される。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第５の発明によれば、エア流路内の圧力は通常運転時よりも低くなるので、エア流路にエアを送り込むエア供給手段の仕事量を低減することができ、省エネルギ化が可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月22日(2006.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートスルーＡＤＦを用いて、または、原稿台に原稿を乗せて原稿を読み取る画像読み取り装置において、
基準白板と回転可能な白色ローラを有し、シートスルーＡＤＦを用いて画像を読取る場合は、前記白色ローラをゴミ検知に必要なライン数読取ることで、前記読み取り部のコンタクトガラスに付着したゴミを検知することを特徴とする画像読み取り装置。 
【請求項２】
シートスルーＡＤＦを用いて連続画像読み取りを行う場合に、紙間に前記白色ローラをゴミ検知に必要なライン数読み取ることを特徴とする請求項１に記載の画像読み取り装置。
【請求項３】
前記白色ローラは、一定速度で回転することを特徴とする請求項１又は２記載の画像読み取り装置。 
【請求項４】
白色基準の白板と前記白色棒の白レベルを読み取り、前記白色棒の汚れを検知することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の画像読み取り装置。 
【請求項５】
前記白色棒の汚れを検知した場合、ユーザに前記白色棒のガラス部が汚れていることを通知することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の画像読み取り装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、シートスルーＡＤＦを用いて、または、原稿台に原稿を乗せて原稿を読み取る画像読み取り装置において、基準白板と回転可能な白色ローラを有し、シートスルーＡＤＦを用いて画像を読取る場合は、前記白色ローラをゴミ検知に必要なライン数読取ることで、前記読み取り部のコンタクトガラスに付着したゴミを検知する画像読み取り装置を特徴とする。 
また、請求項２に記載の発明は、シートスルーＡＤＦを用いて連続画像読み取りを行う場合に、紙間に前記白色ローラをゴミ検知に必要なライン数読み取る請求項１に記載の画像読み取り装置を特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、前記白色ローラが一定速度で回転する請求項１又は２記載の画像読み取り装置を特徴とする。 
また、請求項４に記載の発明は、白色基準の白板と前記白色棒の白レベルを読み取り、前記白色棒の汚れを検知する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の画像読み取り装置を特徴とする。 
また、請求項５に記載の発明は、前記白色棒の汚れを検知した場合、ユーザに前記白色棒のガラス部が汚れていることを通知する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の画像読み取り装置を特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明によれば、基準白板と回転可能な白色ローラを有し、シートスルーＡＤＦを用いて画像を読取る場合は、前記白色ローラをゴミ検知に必要なライン数読取ることで、前記読み取り部のコンタクトガラスに付着したゴミを検知するため、生産性を下げることなくごみ検知を行うことができる。
シートスルーＡＤＦの原稿読み取りの場合、読み取りの生産性が重要となるが、紙片などにより発生する黒すじを検出するために、生産性を低下させることはない。また、一定に回転する白色棒を読み取ることにより、キャリッジを移動することなく白色棒をゴミ検知に必要なライン数読み取ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月15日(2006.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートスルーＡＤＦを用いて、または、原稿台に原稿を乗せて原稿を読み取る画像読み取り装置において、
基準白板と回転可能な白色ローラを有し、シートスルーＡＤＦを用いて画像を読取る場合は、原稿が前記画像読み取り部にないときに前記白色ローラにてシェーディングを行うことを特徴とする画像読み取り装置。 
【請求項２】
シートスルーＡＤＦを用いて連続画像読み取りを行う場合に、光学式原稿検知センサで原稿の先端、後端を検出してシェーディングの開始、終了のタイミングを決めることを特徴とする請求項１記載の画像読み取り装置。 
【請求項３】
レジストセンサで原稿の先端、後端を検出し、シェーディング開始時間と終了時間を原稿搬送速度から計算してタイマにセットしてシェーディングの開始、終了のタイミングを生成することを特徴とする請求項１記載の画像読み取り装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、シートスルーＡＤＦを用いて、または、原稿台に原稿を乗せて原稿を読み取る画像読み取り装置において、基準白板と回転可能な白色ローラを有し、シートスルーＡＤＦを用いて画像を読取る場合は、原稿が前記画像読み取り部にないときに前記白色ローラにてシェーディングを行う画像読み取り装置を特徴とする。 
また、請求項２に記載の発明は、シートスルーＡＤＦを用いて連続画像読み取りを行う場合に、光学式原稿検知センサで原稿の先端、後端を検出してシェーディングの開始、終了のタイミングを決める請求項１記載の画像読み取り装置を特徴とする。 
また、請求項３に記載の発明は、レジストセンサで原稿の先端、後端を検出し、シェーディング開始時間と終了時間を原稿搬送速度から計算してタイマにセットしてシェーディングの開始、終了のタイミングを生成する請求項１記載の画像読み取り装置を特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月20日(2006.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置およびデバイス設定情報管理プログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サブネット単位で構成されるネットワークを介して接続されているデバイスを使用する情報処理装置であって、
前記デバイスに関するデバイス情報と、前記デバイスのネットワークアドレスと、を記憶する記憶手段と、
前記情報処理装置に設定されているネットワークアドレスに基づいてサブネットを検出する検出手段と、
前記情報処理装置が接続されているサブネットと同じサブネットに接続されているデバイスを、前記デバイスのネットワークアドレスに基づいて記憶手段から抽出する抽出手段と、
前記抽出されたデバイスのデバイス情報を表示させる手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
サブネット単位で構成されるネットワークを介して接続されているデバイスを使用する情報処理装置であって、
前記ネットワークを介して接続されているデバイスを検索する検索手段と、
前記デバイスに関するデバイス情報と、前記検索されたデバイスのネットワークアドレスと、を記憶する記憶手段と、
前記情報処理装置に設定されているネットワークアドレスに基づいてサブネットを検出する検出手段と、
前記情報処理装置が接続されているサブネットと同じサブネットに接続されているデバイスを、前記デバイスのネットワークアドレスに基づいて前記記憶手段から抽出する抽出手段と、
前記抽出されたデバイスのデバイス情報を表示させる手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の情報処理装置であって、
さらに、前記情報処理装置が接続されているサブネット以外に接続されているデバイスを、前記情報処理装置が接続されているサブネットに対応付けて前記記憶手段に記憶させる手段、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１に記載の情報処理装置であって、
前記表示させる手段は、前記抽出されたデバイスのデバイス情報をツリー形式で表示することを特徴とする情報処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１に記載の情報処理装置であって、
さらに、前記抽出されたデバイスのみにアクセスしてデバイスの状態情報を取得する手段、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項６】
サブネット単位で構成されるネットワークを介して情報処理装置と接続されているデバイスの設定に関するデバイス設定情報を管理するプログラムであって、
コンピュータに、
前記デバイスに関するデバイス情報と、前記デバイスのネットワークアドレスと、を記憶するステップと、
前記情報処理装置に設定されているネットワークアドレスに基づいてサブネットを検出するステップと、
前記情報処理装置が接続されているサブネットと同じサブネットに接続されているデバイスを、前記デバイスのネットワークアドレスに基づいて記憶手段から抽出するステップと、
前記抽出されたデバイスのデバイス情報を表示させるステップと、
を含む方法を実行させることを特徴とするデバイス設定情報管理プログラム。
【請求項７】
サブネット単位で構成されるネットワークを介して情報処理装置と接続されているデバイスの設定に関するデバイス設定情報を管理するプログラムであって、
コンピュータに、
前記ネットワークを介して接続されているデバイスを検索するステップと、
前記デバイスに関するデバイス情報と、前記検索されたデバイスのネットワークアドレスと、を記憶するステップと、
前記情報処理装置に設定されているネットワークアドレスに基づいてサブネットを検出するステップと、
前記情報処理装置が接続されているサブネットと同じサブネットに接続されているデバイスを、前記デバイスのネットワークアドレスに基づいて前記記憶手段から抽出するステップと、
前記抽出されたデバイスのデバイス情報を表示させるステップと、
を含む方法を実行させることを特徴とするデバイス設定情報管理プログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理を指示する指示記述と、通知情報として、該処理の各々異なる複数の実行状態の内の選択された少なくとも１つの実行状態と、を入力する入力手段と、
前記入力手段により入力された前記指示記述により指示された処理を実行する処理実行手段と、
前記処理実行手段による前記処理の実行状態と、前記入力手段により前記通知情報として入力された実行状態と、が等しいか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段により、前記処理実行手段による前記処理の実行状態と前記通知情報としての実行状態とが等しいと判断された場合には、所定の通知先に通知する通知手段と、
を備えた処理実行装置。
【請求項２】
前記入力手段は、前記通知情報として前記通知先を更に入力し、
前記通知手段は、前記入力手段により入力された通知先に通知する、
ことを特徴とする請求項１記載の処理実行装置。
【請求項３】
前記入力手段は、前記指示記述及び前記通知情報を、Webサービスを用いて入力すると共に、前記通知手段は、前記通知先に、Webサービスを用いて通知することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の処理実行装置。
【請求項４】
前記処理実行手段は、前記入力された前記指示記述により指示された処理をジョブとして登録し、登録されたジョブを実行することにより、前記指示記述により指示された処理を実行することを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の処理実行装置。
【請求項５】
前記処理実行手段は、前記入力された通知情報を前記ジョブの属性として登録することを特徴とする請求項４記載の処理実行装置。
【請求項６】
前記入力手段は、前記通知情報の内容を変更する変更情報を更に入力し、
前記入力手段により入力された変更情報に従って、前記入力された通知情報を変更する変更手段を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載の処理実行装置。
【請求項７】
前記選択された実行状態は、前記処理実行手段による前記処理の待機、実行中、正常終了、異常終了、一次停止、及びキャンセルの何れかであることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の処理実行装置。
【請求項８】
前記入力手段は、前記処理実行手段により前記処理の態様の変更の指示を入力し、
前記処理実行手段は、前記入力手段により前記処理の態様の変更の指示が入力された場合、前記処理の態様を変更し、
前記通知手段は、前記選択された実行状態が前記処理の態様の変更でありかつ前記処理実行手段により前記処理の態様が変更された場合、前記所定の通知先に通知する、
ことを特徴とする請求項７記載の処理実行装置。
【請求項９】
処理を指示する指示記述をWebサービスを用いて入力する入力手段と、
前記入力手段により入力された前記指示記述により指示された処理を実行する処理実行手段と、
を備えた処理実行装置。
【請求項１０】
コンピュータを
処理を指示する指示記述と、通知情報として、該処理の各々異なる複数の実行状態の内の選択された少なくとも１つの実行状態と、を入力する入力手段より入力された前記指示記述により指示された処理を実行する処理実行手段と、
前記処理実行手段による前記処理の実行状態と、前記入力手段により前記通知情報として入力された実行状態と、が等しいか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段により、前記処理実行手段による前記処理の実行状態と前記通知情報としての実行状態とが等しいと判断された場合には、所定の通知先に通知する通知手段と、
して機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月27日(2006.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
携帯電話機等の移動体通信機器の普及に伴う低価格化、及び小型化の急速な進展により、これらの通信機器に使用される水晶発振器等の圧電発振器に対しても、低価格化、小型化、及び薄型化の要請が高まっている。
このような要請に対応するために、図４に示した如き表面実装型圧電発振器が提案されている。この圧電発振器１００は、底部に表面実装用の外部電極１０４を備えると共に、上面に凹所１０２を備えた矩形の実装基板１０１と、実装基板１０１の外枠上面に形成した接合電極１０５と半田１１５によって接合される接合電極１１１を下面に備えた圧電振動子１１０とを２階建て構造で接合一体化するとともに、実装基板１０１の凹所１０２内底面の内部電極上にＩＣ部品１０３を搭載した構成を備えている。ＩＣ部品１０３は、発振回路及び温度補償回路をチップ部品化したものである。
圧電振動子１１０は、上面に凹所を備えたセラミック容器１１２の凹所１１３内に図示しない圧電振動素子１１４を収容すると共に、該凹所１１３を金属蓋１１５にて気密封止した構成を備えている。
ところで、最近では、環境問題への対応等の社会的要請から有害物質である鉛を含んだ従来の共晶半田（錫−鉛半田）に代えて、鉛を含まない鉛フリー半田（錫−銀−銅系、錫−銅系、錫−亜鉛系等）が多用されるに到っている。このため、上記の如き圧電発振器を構成する実装基板１０１と圧電振動子１１０の各接合電極１０５、１１１間の接合にも鉛フリー半田１１５が使用されている。
一方、鉛フリー半田を用いて接続される各接合電極１０５と１１１は、夫々実装基板１０１とセラミック容器１１２上に、例えば、タングステン、銅等のメタライズ下地層、ニッケルメッキ層等の中間層、表面の金メッキ層を順次積層した構成を備えている。
金メッキ層の厚みは、０．５〜０．８μｍ程度である。なお、各接合電極１０５、１１１を実装基板１０１やセラミック容器１１２に形成する際には、実装基板１０１底部の外部電極１０４や、セラミック容器内の内部電極等を同時に同一の手順にて製造するため、各電極は同一の積層構造となる。
半田接合に際しては、例えば実装基板１０１の接合電極１０５面に塗布した適量のクリーム半田上に、圧電振動子１１０の接合電極１１１が載置されるように圧電振動子と実装基板を位置決めした状態で、リフロー炉内において加熱してから冷却硬化させる手順が実施される。
ところで、表層に金メッキ層を備えた電極間を錫−鉛半田により接合した場合に、金メッキ層が半田中に固溶して消失することによって、半田接合部分にクラックや接合不良が生じる所謂「半田食われ現象」が発生することが知られている（特許第３３７７８５０号）。この現象は、金が固溶することによって半田層の一部が金を多く含んだ脆性の低い合金に変質することによって発生すると考えられる。
特許第３３７７８５０号においては、このような不具合を解消するために、電極表面の金メッキ層を溶融除去してから半田メッキ層を形成することにより、リフロー時に金が半田中の錫と固溶して食われを起こすことがなく、半田メッキ層と半田とが拡散し合って強固且つ確実に接合されるようにしている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
圧電振動子のセラミック容器底部にＩＣ部品を搭載した実装基板を鉛フリー半田によって接合一体化した二階建て構造の表面実装型の圧電発振器において、使用する鉛フリー半田量を増量することにより、セラミック容器及び実装基板側の各接合電極表層の金メッキ層から半田内に拡散する金量を一定の比率以下に抑えるようにしたので、接合不良を有効に防止することが可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図２は、実装基板側の接合電極４の表層の金メッキ層の厚さを０．８μｍとし、圧電振動子（この例では、水晶振動子）側の接合電極１１の表層の金メッキ層の厚さを０．５μｍとした場合（金メッキ層の総量は一定の場合）において、所定のマスク厚及び開口面積を有したメタルマスクを用いて接合電極４（或いは、接合電極１１）上にクリームハンダを印刷する量を種々変化させて半田２０内に拡散した金の相対的な重量割合（ｗｔ％）を変化させた場合に、外観から判断される接合状態の良否の変化を示す図である。
この図によれば、接合電極４上に塗布されるクリーム半田の量が、サンプル１、２の様に、７０．８ｍｇ、８１．９ｍｇ、というように比較的少ない為に半田２０の総量中に占める金の濃度（ｗｔ％）が夫々１１．３％、９．９％と大きくなる場合には、外観から判断される接続状態が明らかに悪く、ボイドが形成され、且つボソボソ化することにより、接続状態が悪化していることが観察される。
これに対して、サンプル３のように半田量を更に増量させて金濃度を９．１ｗｔ％程度に低下させた場合には、接続状態が少しく改善していることが確認できた。しかし、この状態では、ボイドが残り、且つボソボソ感もあり、依然として実用に供することはできない接続状態である。
サンプル４は、半田量を１０８．１ｍｇとすることにより、金濃度を７．４ｗｔ％とした場合であり、この場合には外観上、接続状態が良好となっている。サンプル４については、信頼性の試験においても、十分満足できる結果を得られた。
なお、更なる詳細な実験の結果、鉛フリー半田によって、金メッキ層を備えた２つの接合電極間を接合した場合に、半田中に含まれる金の濃度が７．５ｗｔ％以下である場合に、接合状態が良好になることが判明した。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月26日(2006.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の主面を有する基板と、
前記基板の一方の主面上に積層される第１の伝導型窒化物半導体層と、
前記第１の伝導型窒化物半導体層上に積層される第２の伝導型窒化物半導体層と、
前記第１の伝導型窒化物半導体層と第２の伝導型窒化物半導体層との間に形成される活性層と、
前記第２の伝導型窒化物半導体層と電気的に接続される金属電極層と、
前記第２の伝導型窒化物半導体層と金属電極層との間に形成される透光性導電層と、
を備える窒化物半導体発光素子であって、
前記第２の伝導型窒化物半導体層表面上において、
前記透光性導電層と金属電極層との間で、少なくとも一部に反射層が形成されてなる反射層形成領域と、
前記前記金属電極層と前記透光性導電層とが電気的に接続される導通経路領域と、を有し、
前記反射層は、前記第２の伝導型窒化物半導体層側の透光性絶縁膜と、金属電極膜側の反射膜と、を有することを特徴とする窒化物半導体発光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記導通経路領域は、前記金属電極層が、前記反射層から表出された透光性導電層に電気的に接続されている窒化物半導体発光素子。
【請求項３】
請求項１または２に記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記反射層の反射膜が、金属膜である窒化物半導体発光素子。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記反射層の反射膜が、誘電体多層膜である窒化物半導体発光素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記導通経路領域が、前記反射層に設けられた開口部である窒化物半導体発光素子。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記反射層のパターンが所定のパターンでかつブロック状であることを特徴とする窒化物半導体発光素子。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記反射層が、少なくともＡｌ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｓｉ、Ｉｎ、Ｓｎよりなる群から選択された少なくとも一種の元素を含む金属または合金またはそれらの酸化物またはそれらの窒化物を含む層を有する多層構造であることを特徴とする窒化物半導体発光素子。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記第２の伝導型窒化物半導体層の屈折率は前記透光性導電層の屈折率よりも大きく、かつ前記透光性導電層の屈折率は、前記反射層の屈折率よりも大きいことを特徴とする窒化物半導体発光素子。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子であって、
前記基板の他方の主面を主光取出し面として配線基板に実装可能な窒化物半導体発光素子である窒化物半導体発光素子。
【請求項１０】
対向する一対の主面を有する基板と、
前記基板の一方の主面上に積層される第１の伝導型窒化物半導体層と、
前記第１の伝導型窒化物半導体層上に積層される第２の伝導型窒化物半導体層と、
前記第１の伝導型窒化物半導体層と第２の伝導型窒化物半導体層との間に形成される活性層と、
前記第２の伝導型窒化物半導体層と電気的に接続される金属電極層と、
を備え、上記基板の他方の主面を主光取出し面として配線基板に実装可能な窒化物半導体発光素子の製造方法であって、
基板上に、第１の伝導型窒化物半導体層と、活性層と、第２の伝導型窒化物半導体層を積層するステップと、
前記第２の伝導型窒化物半導体層上に透光性導電層を形成するステップと、
前記透光性導電層上の少なくとも一部を被覆し、透光性絶縁膜と、該透光性絶縁膜上で光を反射させるための反射膜と、を少なくとも有する反射層を形成するステップと、
前記反射層上および反射層から露出する透光性導電層の領域上に金属電極層を形成するステップと、
を備えることを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
さらに、光の取り出し効率も低下してしまう。それは、ＧａＮの屈折率は約２．６７と大きいために、臨界角が２１．９度と極めて小さいからである。つまり、主光取出し面の法線からみて、この臨界角よりも大きい角度で入射した光は、ＬＥＤチップの外に取り出せず閉じ込められてしまう。このために、外部量子効率を改善してより大きな発光パワーを得ることが困難であった。
【特許文献１】実開平６−３８２６５号公報
【特許文献２】特開２００３−２２４２９７号公報
【特許文献３】特開２００３−１２４５１７号公報
【特許文献４】特開平８−２５０７６９号公報
【特許文献５】ＷＯ９８−４２０３０（国際公開公報）
【特許文献６】特開平１０−２５６６０２号公報
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月25日(2007.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ペースト塗布装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ノズルヘッドのノズル孔が穿設される吐出板と対向するように基板をテーブル上に載置し、前記ノズルヘッドのペースト貯留部に貯留されたペーストを前記ノズル孔から吐出し、ノズルヘッドと基板との相対位置関係を変化させて、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画形成するペースト塗布装置において、前記吐出板の少なくともノズル孔周辺部を、基板にペーストを塗布する前に拭き取る拭き取り手段を設け、該拭き取り手段が、ロール状の拭き取り材を供給する巻き出しローラと、該巻き出しローラから供給された拭き取り材で吐出板の表面を拭き取る拭き取りローラと、吐出板の表面を拭き取った拭き取り材を巻き取る巻き取りローラと、前記各ローラを支持しテーブルの移動方向に移動可能な支持台とからなることを特徴とするペースト塗布装置。
【請求項２】  前記拭き取り手段の拭き取りローラの周面がテーブルの基板の載置される面と略面一になるように配設されている、請求項１に記載のペースト塗布装置。
【請求項３】  前記拭き取り材に沸点が８０℃以下の溶剤を塗布した後に、前記吐出板の表面を拭き取る、請求項１または２に記載のペースト塗布装置。
【請求項４】  前記拭き取り材が布帛からなる請求項１ないし３のいずれかに記載のペースト塗布装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ペーストを塗布する位置が予め溝などにより規定されたガラス等の基板にペーストを塗布するペースト塗布装置に関し、特にプラズマディスプレイ用発光基板の高精度化、低コスト化を可能とするペースト塗布装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の課題は、ノズルヘッドの汚れを防止するとともに、ノズル孔におけるペーストのメニスカスを適切に保持し、さらに複数のノズル孔から同時にペーストを塗布する際には複数のノズル孔のメニスカスをばらつきなく（実際は一定のばらつきの中）保持することにより、ペーストのたれ等に起因する不良の発生を防止しつつ、しかも基板上にペーストを均一に塗布できるペースト塗布装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のペースト塗布装置は、ノズルヘッドのノズル孔が穿設される吐出板と対向するように基板をテーブル上に載置し、前記ノズルヘッドのペースト貯留部に貯留されたペーストを前記ノズル孔から吐出し、ノズルヘッドと基板との相対位置関係を変化させて、該基板上に所望形状のペーストパターンを描画形成するペースト塗布装置において、前記吐出板の少なくともノズル孔周辺部を、基板にペーストを塗布する前に拭き取る拭き取り手段を設け、該拭き取り手段が、ロール状の拭き取り材を供給する巻き出しローラと、該巻き出しローラから供給された拭き取り材で吐出板の表面を拭き取る拭き取りローラと、吐出板の表面を拭き取った拭き取り材を巻き取る巻き取りローラと、前記各ローラを支持しテーブルの移動方向に移動可能な支持台とからなることを特徴とするものからなる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明に係るペースト塗布装置によるペーストの塗布においては、たとえば布帛で吐出板の表面を拭き取った後の、ノズル孔におけるペーストの界面は、複数のノズル孔において、同一の形状、たとえば吐出板の表面よりも吐出方向に向かって凹または凸となるように形成されるので、吐出板の表面に付着したペーストを確実に除去できるとともに、拭き取り後にノズル孔からペーストが下方にたれ下がるおそれを解消することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明のペースト塗布装置の望ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施態様に係るペースト塗布装置を示している。図において１は、基板（本実施態様においてはプラズマディスプレイ用発光基板）を示している。塗布装置は、機台２上にＸ軸方向に延びるＸスライドレール３ａ、３ｂを有している。Ｘスライドレール３ａ、３ｂ上にはＸ軸方向にスライド走行可能にＸスライドテーブル４が設けられている。Ｘスライドテーブル４には、該テーブル４をＸ軸方向にスライドさせるための駆動軸５が係合されている。Ｘスライドテーブル４はＸ軸モータ６によりＸ軸方向にスライドされるようになっている。基板１は、Ｘスライドテーブル４上に位置決めされ着脱自在に吸着支持されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のペースト塗布装置によるときは、ノズルヘッドの吐出板の表面に付着したペーストを確実に、しかも迅速に拭き取ることができるので、基板の溝の延設方向に対してペーストを均一に塗布することができる。また、拭き取り後のノズル孔におけるペーストの界面は、吐出板の表面よりも吐出方向に対して凹になるように形成されるので、拭き取り後にノズル孔からペーストがたれ下がる不都合を解消でき拭き取りによる清掃効果を向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月15日(2007.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】先端部と基端部を有し、前記先端部近傍における所定の外周上にガイドワイヤ挿通孔を有する生体植込み用の電極リードにおいて、前記ガイドワイヤ挿通孔は、生体内分解性材料より構成されていることを特徴とする電極リード。
【請求項２】前記ガイドワイヤ挿通孔が、生体内分解性材料よりなるアーチによって形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の電極リード。
【請求項３】前記先端部近傍に心内膜固定体を更に有し、前記ガイドワイヤ挿通孔は、前記心内膜固定体に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電極リード。
【請求項４】前記電極リードにおける前記ガイドワイヤ挿通孔よりも近位側の外周上に第２のガイドワイヤ挿通孔を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電極リード。
【請求項５】前記第２のガイドワイヤ挿通孔が、前記電極リードの外周上に着脱自在に取り付け可能な嵌合部とガイドワイヤ挿通孔を有するガイド体により形成されてなることを特徴とする請求項４に記載の電極リード。
【請求項６】前記心内膜固定体および／またはガイド体が、生体内分解性材料より構成されることを特徴とする請求項５に記載の電極リード。
【請求項７】前記ガイドワイヤ挿通孔および前記第２のガイドワイヤ挿通孔が、ガイドワイヤが前記電極リードに略平行に走行するように設けられることを特徴とする請求項４乃至６のいずれかに記載の電極リード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）先端部と基端部を有し、前記先端部近傍における所定の外周上にガイドワイヤ挿通孔を有する生体植込み用の電極リードにおいて、前記ガイドワイヤ挿通孔は、生体内分解性材料より構成されていることを特徴とする電極リード。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（２）前記ガイドワイヤ挿通孔が、生体内分解性材料よりなるアーチによって形成されてなることを特徴とする上記（１）に記載の電極リード。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（３）前記先端部近傍に心内膜固定体を更に有し、前記ガイドワイヤ挿通孔は、前記心内膜固定体に設けられていることを特徴とする上記（１）に記載の電極リード。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
心内膜固定体６およびタイン７やガイドワイヤ挿通孔６を構成するアーチ５の材料としては、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシ酪酸等のヒドロキシカルボン酸から誘導されるポリヒドロキシカルボン酸およびグリコリド、ラクチド、ε−カプロラクトン、トリメチレンカーボネート等の環状ラクトンを開環重合、共重合させて得られるポリヒドロキシカルボン酸、ヒアルロン酸、グルコール酸、キチン、キトサン、コラーゲンなどに代表される生体内分解性材料を用いることが好ましい。心内膜固定体６が生体内で分解されても、心内膜固定体６と先端電極４の軸部分との間に設けられたシリコーンやポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等の生体適合性の高い絶縁層１０が、先端電極４の軸部分を保護する。このように、心内膜固定体を生体内分解性材料で構成することによって、電極留置後の遠隔期において、心内膜固定体が生体内で分解されて消失するため先端部の突起物が無くなり、電極部に感染症を生じた時などの電極リード抜去を容易にする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月16日(2007.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
近年、養護施設や病院の看護あるいは介護の現場において、寝たきりの生活を余儀なくされる人々が人口の高齢化にともになって増加の一途をたどっている。こういう介護の現場においては、患者は持続的な圧迫を長時間にわたって受けることが多く、褥瘡の危険にさらされている。このような褥瘡の発生予防あるいは発生した褥瘡の治癒を目的として、種々の医療用のエアマットが開発されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月18日(2007.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  下記（１）〜（３）の要件を満足するものであることを特徴とする針管状チップを有する点滴芯と一体成形されたプラスチック製微量用点滴芯のキャップ。
（１）  キャップ点滴芯と針管状プラスチックチップの合計長さが５〜２０ｍｍで、かつ針管状プラスチックチップの滴下部分の開口部の内径が０．６±０．２ｍｍ、外径が０．９±０．２ｍｍであること。
（２）  点滴芯部分の外壁部に軸方向に対称に外方向に突出した複数のリブが形成されたものであること。
（３）  前記（２）のリブが点滴芯の上部から下部に向かって順次、縮径する形状のものであること。
【請求項２】針管状プラスチックチップの肉厚が上部から下部に向かって順次、薄くなる構造のものであることを特徴とする請求項１に記載のラスチック製微量用点滴芯のキャップ。
【請求項３】ポリプロピレン樹脂で構成されたものであることを特徴とする請求項１または２に記載のラスチック製微量用点滴芯のキャップ。