Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月3日(2007.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスであって、
絶縁層上に形成され、絶縁領域によって取り囲まれた活性領域であって、頂部エッジ、底部エッジ、第１の横方向エッジ、及び第２の横方向エッジを有する活性領域と、第１の脚部及び第２の脚部を有する第１のＬ字形状ゲートとを備え、
前記第１のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部は、前記第１の横方向エッジから内方へ離間され、前記第２の横方向エッジの内方へ離間され、前記頂部エッジを覆って前記活性領域に延びており、
前記第１のＬ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記頂部エッジの内部に間隔を空けられ、前記第１の横方向エッジを覆って前記活性領域に延びる前記第１のＬ字形状ゲートの前記第２の脚部であって、前記第１のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部を横切るが、前記第２横方向エッジへは延びておらず、
半導体デバイスは、更に、前記第１の横方向エッジ、前記第１のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部、前記第１のＬ字形状ゲートの前記頂部エッジ及び前記第２の脚部によって規定される第１のドレイン領域と、前記第２の横方向エッジ及び前記第１のＬ字形状ゲートによって規定されるソース領域とを備え、
前記ソース領域及び前記ドレイン領域は第１の導電タイプを有し、
前記第１の脚部の下方の前記活性領域及び前記第１のＬ字形状ゲートの前記第２の脚部が第２の導電タイプを有し、
半導体デバイスは、更に、前記第２の導電タイプを有し、前記第１のＬ字形状ゲートの一部から前記ソース領域の少なくとも一部に延びる第１の注入領域と、
前記第１の注入領域を前記ソース領域に電気的に接続するために、前記第１の注入領域の少なくとも一部及び前記ソース領域を覆って延びる第１の電気伝導層とを備える半導体デバイス。
【請求項２】
請求項１の半導体デバイスであって、更に
第１の脚部及び第２の脚部を有する第２のＬ字形状ゲートを備え、
前記第２のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部は、前記第２の横方向エッジの内部に間隔を空けられ、前記第１のＬ字形状ゲートから間隔を空けられ、前記第２のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部は、前記頂部エッジを覆って前記活性領域に延びており、
前記第２のＬ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記頂部エッジから内方へ離間され、前記第２の横方向エッジを覆って前記活性領域に延びており、前記第２のＬ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記第２のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部を横切るが、前記第１のＬ字形状ゲートに延びておらず、
半導体デバイスは更に、前記第２の横方向エッジ、前記第２のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部、前記頂部エッジ、及び、前記第２のＬ字形状ゲートの前記第２の脚部によって規定される第２のドレイン領域を備え、
前記ソース領域は、前記第２のＬ字形状ゲートと前記第１のＬ字形状ゲートとの間に延びており、
前記第２のＬ字形状ゲートの前記第１の脚部及び前記第２の脚部の下方の前記活性領域は、前記第２の導電タイプを有し、
半導体デバイスは更に、前記第２の導電タイプを有し、前記第２のＬ字形状ゲートの一部から前記ソース領域の少なくとも一部に延びる第２の注入領域と、
前記第２の注入領域を前記ソース領域に電気的に接続するために、前記第２の注入領域及び前記ソース領域の少なくとも一部を覆って延びる第２の電気導電層とを備える半導体デバイス。
【請求項３】
半導体デバイスであって、
絶縁層上に形成され、絶縁領域によって取り囲まれた活性領域であって、頂部エッジ、底部エッジ、第１の横方向エッジ、及び、第２の横方向エッジを有する活性領域と、第１の脚部、第２の脚部、及び、第３の脚部を有する第１のＵ字形状ゲートとを備え、
前記第１のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部は、前記第１の横方向エッジから内部に、及び、前記第２の横方向エッジの内部に間隔を空けられ、
前記第１のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記第１の横方向エッジを覆って前記活性領域に延びており、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部を横切るが、前記第２横方向エッジへは延びておらず、
前記第１のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部は、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部から間隔を空けられており、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部は、前記第１の横方向エッジを覆って前記活性領域に延び、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部を横切るが、前記第２の横方向エッジへは延びておらず、
半導体デバイスは更に、前記第１の横方向エッジ、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部、及び、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部によって規定される第１のドレイン領域と、前記第２の横方向エッジ及び前記第１のＵ字形状ゲートによって規定されるソース領域とを備え、
前記ソース領域及び前記ドレイン領域は第１の導電タイプを有し、
前記第１の脚部の下方の前記活性領域、前記第２の脚部、及び、前記第１のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部は第２の導電タイプを有し、
半導体デバイスは更に、前記第２の導電タイプを有し、前記第１のＵ字形状ゲートの一部から前記ソース領域の少なくとも一部に延びる第１の注入領域と、前記第１の注入領域を前記ソース領域に電気的に接続するために、前記第１の注入領域及び前記ソース領域を覆って延びる第１の電気伝導層を備える半導体デバイス。
【請求項４】請求項３の半導体デバイスであって、更に、
第１の脚部、第２の脚部、及び、第３の脚部を有する第２のＵ字形状ゲートを備え、
前記第２のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部は、前記第２の横方向エッジの内部に間隔を空けられ、前記第１のＵ字形状ゲートから間隔を空けられ、
前記第２のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記第２の横方向エッジを覆って前記活性領域に延びており、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部は、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部を横切るが、前記第１のＵ字形状ゲートに延びておらず、
前記第２のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部は、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部から間隔を空けられ、前記第２の横方向エッジを覆って前記活性領域に延びており、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部は、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部を横切るが、前記第１のＵ字形状ゲートに延びておらず、
半導体デバイスは更に、前記第１の横方向エッジ、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第２の脚部、及び、前記第２のＵ字形状ゲートの前記第３の脚部によって規定される第２のドレイン領域を備え、
前記ソース領域は、前記第１のＵ字形状ゲートと前記第２のＵ字形状ゲートとの間の間隔により規定され、
前記第２のＵ字形状ゲートの前記第１の脚部、前記第２の脚部、及び、前記第３の脚部の下方の前記活性領域は前記第２の導電タイプを有し、
半導体デバイスは更に、前記第２のＵ字形状ゲートの一部から前記ソース領域の少なくとも一部に延びる第２の注入領域と、前記第２の注入領域を前記ソース領域に電気的に接続するために、前記第２の注入領域の少なくとも一部及び前記ソース領域を覆って延びる第２の電気伝導層とを備える半導体デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  シリコン基板にフィーチャをプラズマエッチングする方法であって、前記シリコン基板へのエッチングンの深さは少なくとも１００μｍであり、前記方法は、フッ素と酸素を有する供給ガスから生成されたエッチャントプラズマと協働して金属を含むマスキング材料を使用するステップを有し、前記プラズマ供給ガスにおける酸素とフッ素の原子比は、約０．２５から約０．５０までの範囲にあることを特徴とする方法。
【請求項２】  前記金属を含むマスキング材料は、アルミニウム、カドミウム、銅、クロム、ガリウム、インジウム、鉄、マグネシウム、マンガン、ニッケル、及びこれらの組合せからなるグループから選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記金属を含むマスキング材料は、アルミニウムであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記アルミニウムを含むマスキング材料は、アルミニウムと銅の組合わせであり、他の構成物は全体で、約２.０重量％より少ないことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  前記アルミニウムを含むマスキング材料は、約８.０重量％より少ないマグネシウムと組合されたアルミニウムであり、他の構成物は全体で、約２.０重量％より少ないことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  前記フッ素を含むプラズマエッチャントは、ＮＦ3、ＣＦ4、ＣＨＦ3、ＣＨ2Ｆ2、ＣＨ3Ｆ、Ｃ4Ｆ8、ＳＦ6、ＳｉＦ4およびこれらの組合せからなるグループから選択された化合物から生成されることを特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれか１つに記載された方法。
【請求項７】  前記プラズマ供給ガスは、更に、ＨＢｒを含み、エッチングプロフィールの制御を助けることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記プラズマエッチングが行われるプロセスチャンバの圧力は約５ミリトルから約５０ミリトルまでの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記シリコン基板に加えられるバイアス電力は、約１０ワットから約１００ワットまでの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  シリコン基板にフィーチャをプラズマエッチングする方法であって、前記シリコン基板へのエッチングの深さは、少なくとも１００μｍであり、前記方法は、アルミニウム、カドミウム、銅、クロム、ガリウム、インジウム、鉄、マグネシウム、マンガン、ニッケル、およびこれらの組合せからなるグループから選択された金属を含むマスキング材料を、フッ素を含む化合物および酸素を含むプラズマ供給ガスから生成されたフッ素を含むプラズマエッチャントと共に使用するステップを有し、前記プラズマ供給がスにおけるフッ素は、約０.２５から約０.５０までの範囲にあることを特徴とする方法。
【請求項１１】  前記プラズマ供給ガスは、ＨＢｒを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  前記方法は、約２０ミリトルから約５０ミリトルの範囲にある圧力で実行されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】  前記方法は、約５ミリトルから約５０ミリトルの範囲にある圧力で実行されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】  （ａ）シリコン基板にフィーチャをプラズマエッチングするための命令をストアするメモリ、前記シリコン基板へのエッチングの深さは少なくとも１００μｍであり、フッ素と酸素を含む供給ガスから生成されるエッチャントプラズマと協働して、金属を含むマスキング材料を使用するするステップを有する方法を含み、前記プラズマ供給ガスにおける酸素とフッ素の原子比が約０．２５から約０．５０までの範囲にあり、
（ｂ）前記メモリと通信し、且つ前記メモリによってストアされた命令を実行するようにされたプロセッサ、
（ｃ）前記プロセッサからの命令にしたがって、基板をエッチャントに曝すようにされたエッチングチャンバ、及び
（ｄ）前記プロセッサと前記エッチングチャンバ間で通信するようにされたポート、
を有することを特徴とする装置。
【請求項１５】  請求項１または請求項１２の方法によって行なうエッチングプロセスを制御する装置と協働して使用する複数のプログラム命令を記録する記録媒体を有する製品。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  単一化学組成を有する粒子を含むリチウムイオン電池用電極組成物であり、また、透過電子顕微鏡で分析したとき、電子ビームが当たる場所に関わらず、検出される原子の種類がナノメートル規模で同じであるような組成物であって、前記粒子は、（ａ）錫、アルミニウム、ケイ素、アンチモン、鉛、ゲルマニウム、マグネシウム、亜鉛、カドミウム、ビスマスおよびインジウムからなる群より選択される少なくとも１種類の金属元素と、（ｂ）マンガン、モリブデン、ニオブ、タングステン、鉄、銅、チタン、バナジウム、クロム、ニッケル、コバルト、ジルコニウム、タンタル、スカンジウム、イットリウム、ルテニウム、白金およびレニウムからなる群より選択される少なくとも１種類の金属元素とを含み、さらに（ｃ）炭素を含むかまたは含まずに、電気化学的に活性な非結晶領域により分離された複数の電気化学的に不活性なナノメートルサイズの結晶粒であることを特徴とする微細構造を有する電極組成物。
【請求項２】  前記粒子が約２ミクロン〜約３０ミクロンのサイズ範囲である請求項１記載の電極組成物。
【請求項３】  前記結晶粒が約２０ナノメートル以下である請求項１記載の電極組成物。
【請求項４】  前記非結晶領域が、球状粒と仮定して透過電子顕微鏡から計算したとき、前記粒子の少なくとも１０体積％である請求項１記載の電極組成物。
【請求項５】  （ａ）請求項１〜４のいずれかの一項に記載された電極組成物を含む第１の電極と、（ｂ）対向電極と、（ｃ）前記電極と前記対向電極とを分離する電解質とを有するリチウムイオン電池。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月25日(2007.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】燃料電池電極における触媒
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｐｔを含有する第１触媒材料の層と、Ｐｔではない第２金属の少なくとも１種の亜酸化物を含有する第２触媒材料の層との交互層を含み、
下記の群から選ばれるいずれか１つの状態：
ａ）ＰｔＣＯ酸化ピークよりも低い電位で生じるＣＯ酸化のプレピーク；
ｂ）ＰｔＣＯ酸化ピークよりも低い電位で生じるＣＯ酸化のプレショルダー；及び
ｃ）ＣＯ酸化の早期発生
を示す、燃料電池電極における触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月18日(2007.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  スピンオンガラスまたはスピンオンポリマー材料の層を修正する方法であって、前記層が基板に重なり、
層全体へ一斉に大面積電子ビームを照射し、その間、層は非酸化大気中に置かれ、それと同時に、層が、熱的に硬化される同じ材料の層の誘電率未満、またはそれにほぼ等しい誘電率を有するのに十分な電子ドーズが累積されるまで、層に熱を加えることを含む方法。
【請求項２】  層に熱を加えることが、約３０℃と約５００℃の間の温度で層を維持するように熱を加えることである請求項１に記載の方法。
【請求項３】  スピンオンガラスまたはスピンオンポリマー材料の層を修正する方法であって、前記層が基板に重なり、
層全体へ一斉に大面積電子ビームを照射し、その間、層は非酸化大気中に置かれ、それと同時に、層が、熱的に硬化される同じ材料の層のエッチング速度よりも遅い緩衝酸化物エッチングでのエッチング速度を有するのに十分な電子ドーズが累積されるまで、層に熱を加えることを含む方法。
【請求項４】  集積回路デバイスを製造する方法であって、
基板に重なる金属被膜をパターニングすること、
金属被膜上にスピンオンガラスまたはスピンオンポリマー材料の層を堆積すること、
層全体へ一斉に大面積電子ビームを照射し、その間、層は非酸化大気中に置かれ、それと同時に、層が、熱的に硬化される層の同じ材料の誘電率未満、またはそれにほぼ等しい誘電率を有するのに十分な電子ドーズが累積されるまで、層に熱を加えること、
照射された層にバイアをパターニングすること、
金属でバイアを充填すること
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月17日(2007.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像センサであって、
画素の行と列を含む光活性領域と、
前記光活性領域を取り囲む光遮蔽物と、
前記光遮蔽物に隣接した少なくとも１個の光活性試験列と、
前記光活性試験列に隣接して配置された少なくとも１個の不活性列と、
を具備し、前記光活性試験列は前記光遮蔽物と前記不活性列の間に配置されていることを特徴とする画像センサ。
【請求項２】  画像センサ領域配列であって、
一連の行と列に配列された画素の配列と、
前記列に動作可能に連結された複数の垂直シフトレジスタと、
前記垂直シフトレジスタに連結され、前端部と後端部とを有する少なくとも１個の水平シフトレジスタと、
前記水平シフトレジスタに前記の前端部で電気的に結合された出力装置と、
電荷を前記水平シフトレジスタに転送する少なくとも１個の画素光活性試験列と、を具備することを特徴とする画像センサ領域配列。
【請求項３】  請求項２に記載の画像センサ領域配列であって、さらに、前記光活性試験列に隣接し、前記前端部から、当該前端部から前記光活性列が離れているより遠くに離れて配置され、電荷を前記水平シフトレジスタ内に伝達しない様に構成されている少なくとも１個の画素不活性列と、を具備することを特徴とする画像センサ領域配列。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに連結された複数の試料容器を備え、それら試料容器の各々が、該試料容器の内部を包囲する１つ以上の側壁と、出口開口を備えた底壁と、開口して入口開口を画定する反対側の上端とを有してなる、マイクロタイターテストプレートを製造する方法であって、
（ａ）互いに連結される複数のウェルを備え、それらウェルの各々が、開口して前記試料容器の前記入口開口を画定する上端と反対側の底部開口とを有してなる第１部分と、互いに連結される複数のスパウトを備え、それらスパウトが該第１部分の該ウェルと同一の配置および個数を有し、各スパウトが前記試料容器の前記出口開口を画定する開口を第１端で包囲し、各スパウトがフィルタ手段を収容するための上部開口を該第１端に任意選択的に有してなる第２部分とを用意するステップと、
（ｂ）前記第１部分の一側に、該第１部分の前記ウェルの各々に沿って延在するフィルタシートを配置するか、または前記第２部分の前記第１端を有する側に該第２部分の前記スパウトの各々に沿って延在するフィルタシートを配置するステップと、
（ｃ）前記第１部分の前記ウェルの前記底部開口および存在する場合は前記スパウトの前記第１端に任意選択的に設けられる前記上部開口の、いずれかに対して形状、寸法、配置および数が一致するフィルタ手段を、前記フィルタシートから分離するステップと、
（ｄ）前記フィルタ手段を、前記ウェルの前記底部開口の各々か、または存在する場合は前記スパウトの前記第１端に設けられる前記上部開口の各々に配置するステップと、
（ｅ）前記フィルタ手段を分離した前記フィルタシートの残りを取除くステップと、
（ｆ）前記第１部分と前記第２部分とを、前記ウェルの前記底部開口が前記スパウトの前記第１端に面するように互いに接触させるステップと、
（ｇ）前記第１部分と前記第２部分とを、該第１部分の前記ウェルの各々を該第２部分の前記スパウトの各々に永久的かつ不可逆的に結合することにより互いに結合し、それにより、互いに対してシールされる相互連結された複数の試料容器を形成するステップと、を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月6日(2007.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】  コンピュータに請求項８の方法を実行させるコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月14日(2007.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、ペイロールを維持する方法が提供され、その方法は、
名簿を準備し、
前記名簿を処理手段に記憶し、
前記処理手段で、１人以上の従業者に関する勤務情報を受信し、
前記名簿と前記勤務情報を前記処理手段により比較し、
前記名簿に基づいてそれぞれの従業者に関するペイロールを処理し、
それぞれの前記従業者に関する前記勤務情報が予め定められた許容度内でそれぞれの前記従業員に関する前記名簿に一致する場合には前記ペイロールを許可するステップを含んでいる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
したがって、名簿のメンテナンスおよび勤務情報の入力の一体化は別々のペイロールデータ入力またはタイムシートの必要性をなくす。実際のタイムシートが依然として所望されるならば（例えば従業員の記録用、または法的な要求にしたがうため）、各従業員のタイムシートは勤務情報から容易に生成される。しかしながらタイムシートはペイロールを処理するためには必要とされない。  
ペイロールを処理するステップは通常ペイロールを許可するかその支払いをすることを含んでおらず、ペイロールの許可は通常人が行う別個の動作として考慮される。しかしながら、任意の特定の従業者に対する勤務情報が予め定められた基準を満たすならば（例えばある許容度内でもとの名簿に一致する等）、この方法は特定の従業者に関するものであるのでペイロールを許可する。例えば従業者が名簿に載せられた開始および終了時間の５分以内で仕事を開始し終了したならば、従業者の総勤務時間はその従業者に関して名簿に載せられた総時間の１％内であり、方法は自動的に従業者の支払いを許可することを含んでいる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
その方法は好ましくは従業者の銀行口座への電子資金転送により支払いを転送し、必要な所得税を計算し、適切な法的当局へ転送し、給与明細スリップを生成することを含んでいる。  
本発明の方法は、好ましくは従業者と名簿のコンプライアンスを測定し、予め定められたレベルよりも大きいコンプライアンスの違反を示す出力を与えることを含んでいる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明は、またペイロールを維持する装置を提供し、この装置は、
名簿を処理する手段と、
前記名簿を記憶し、１人以上の従業者に関する勤務情報を受信し、前記名簿と前記勤務情報を比較し、前記名簿に基づいて前記ペイロールを処理する処理手段と、
前記ペイロールまたはその一部が予め定められた許容度内で前記名簿に一致するか否かを決定し、一致するならば、それぞれの前記ペイロールまたはその一部を許可する許可手段とを具備している装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
好ましくは、前記装置は前記許可にしたがって資金を転送する資金転送手段を含んでいる。好ましくは前記装置は給与明細スリップを処理する給与明細スリップ処理手段を含んでいる。  
好ましくは、前記装置は従業者の前記名簿に対するコンプライアンスを監視し、予め定められたレベルよりも大きいコンプライアンスの違反を出力または指示するコンプライアンス監視手段を含んでいる。
１特徴では、本発明はまた名簿の価格を計算する方法も提供し、この方法は、
１人以上の従業者が従事する１以上の労働時間を含んでいる名簿を処理し、
前記名簿中の前記各従業者のペイロールを計算するための報酬情報を与え、
前記名簿と前記報酬情報に基づいて、前記名簿の形成から生じる名簿の賃金価格を計算するステップを含み、
各従業者に対するそれぞれの支払い率は前記各従業者が従事する労働時間に基づいており、各従業者は１よりも多数の前記労働時間で名簿にのせられることが可能である。
本発明の別の特徴では、本発明は前述の方法にしたがって名簿の価格を計算する装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月19日(2007.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに対向する終端部を有するとともに、細長いハウジング（１１）内で、回転軸を中心にして相対的に回転するように支持されている第１及び第２の複数の光ファイバストランドと、当該第１及び第２の複数の光ファイバストランドの全ての相対的な回転位置において、当該第１及び第２の複数の光ファイバストランドの対応する終端部間で光学信号を伝達するように配列され、当該第１及び第２の複数の光ファイバストランドの終端部の間に配向されているドーブプリズム（６１）と、このドーブプリズム（６１）が、細長く、上記回転軸と概して同軸の長手方向軸を有し、上記ドーブプリズムに対して上記第１及び第２の複数の光ファイバストランドを逆回転するように連結する制御手段（１７、２４、６９、７１、７３、７４、８２）とからなる多チャンネル光ファイバロータリージョイントであって、
各複数の光ファイバストランドが、バンドルを形成するようにそれぞれの中空軸（１４、２２）内に取り付けられ、当該中空軸（１４、２２）が、上記細長いハウジング（１１）を介して軸方向に延伸する通路（１２）内で回転するように支持され、
各バンドルが、単一の中央の第１の光ファイバストランド（２８）を含み、各第１の光ファイバストランドの中央の長手方向軸が回転軸と同軸であり、
各バンドル内の第２の光ファイバストランド（２９）が、上記中央の第１の光ファイバストランドを中心として周方向に配置され、
調整手段が、上記２つのバンドルの上記第１の光ファイバストランド（２８）間で伝達される信号強度を最適化するように、２つの上記回転軸に対して上記ドーブプリズムを傾斜させ、上記ドーブプリズムの長手方向軸に対して垂直に上記ドーブプリズムを移動させるように、上記ドーブプリズムに対して設けられ、
上記制御手段（１７、２４、６９、７１、７３、７４、８２）が、上記バンドル内の上記第２の複数の光ファイバストランド（２９）内の信号強度を最適化する角度調節手段（７８）を含む多チャンネル光ファイバロータリージョイント。
【請求項２】  上記制御手段（１７、２４、６９、７１、７３、７４、８２）が、上記第１の中空軸（１４）に固定されている第１の歯車（１７）と、上記第２の中空軸（２２）に固定されている第２の歯車（２４）と、上記ハウジング（１１）に回転するように支持されている細長い軸（７１）を含み、この細長い軸が、この細長い軸に固定され、かつこの細長い軸と共に回転可能であるとともに上記第２の歯車（２４）と係合している回転可能に支持されている第４の歯車（８２）と係合している第３の歯車（７３）と、上記細長い軸（７１）に回転するように支持されているとともに上記第１の歯車（１７）と係合している第５の歯車（７４）と、上記細長い軸（７１）に対して上記第５の歯車（７４）を選択的に固定及び解放するための選択的固定手段（７７、７８）とを有する請求項１に記載の多チャンネル光ファイバロータリージョイント。
【請求項３】  上記選択的固定手段（７７、７８）が解放されている場合、上記第２の中空軸（２２）とその内部の上記第２のバンドル（２８、２９）が、上記第１の中空軸（１４）及びその内部の上記第１のバンドル（２８、２９）に関して、上記第２の回転軸を中心にして自由に回転し、上記第１のバンドル及び第２のバンドル内にある上記複数のファイバストランド内の信号強度の最適化を容易にする請求項２に記載の多チャンネル光ファイバロータリージョイント。
【請求項４】  上記選択的固定手段が固定されている場合に、上記第１の歯車（１７）及び第２の歯車（２４）の間の相対的な周方向の運動を制限するためのバックラッシュ防止手段（７６、８３）が設けられている請求項２又は３に記載の多チャンネル光ファイバロータリージョイント。
【請求項５】  上記制御手段が、回転するように支持されているとともに上記第１の歯車（１７）と係合している第６の歯車（６９）を含む請求項４に記載の多チャンネル光ファイバロータリージョイント。
【請求項６】  さらに上記バックラッシュ防止手段（７６、８９）が、浮動するように支持されている上記第４の歯車（８２）と上記第５の歯車（７４）を含み、上記第１の歯車（１７）、第２の歯車（２４）、第３の歯車（７３）、第６の歯車（６９）の製造公差のばらつきを許容する請求項５に記載の多チャンネル光ファイバロータリージョイント。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
特定の用語が、簡便さと参照のみを目的として後述の説明において使用されるが、限定的なものではない。「上」、「下」、「右」、「左」という語は、参照される図面中の方向を示すものである。「中」、「外」という語はそれぞれ、装置とその示された部分の幾何学的中心に向かう方向、及び離れる方向に関連している。このような用語は派生語、及び類似の重要な語を含んでいる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図２に示されているように、直立壁３４は、穴３９に隣接するその端部に、ピン４６をその内部に受容するように適合された直立溝４４を有する。穴４７は、溝４１に隣接する直立側壁３４内に設けられている。上述の穴３９及び４７は、螺合された一組のねじを受容するように適合され、それぞれの力を、まだ記述されていないプリズムに加える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
支柱４８は、基部壁３３の下面から下方に垂下している。さらに基部壁には、その長手方向の端部に隣接する直立した止め４９が設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月14日(2008.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
少なくとも２種の異なるエチレン性不飽和共重合性フッ素化コモノマーは、一般構造：
ＣＦ2＝ＣＸＲ1
〔式中、
Ｘは、水素原子またはハロゲン原子であり、
Ｒ1は、ハロゲン原子であるか、または１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基、環状アルキル基、もしくはアリール基であり、そして好ましくは、ハロゲン原子または１〜３個の炭素原子を有する基であり；Ｒ1基には、酸素もしくは窒素のようなヘテロ原子が１個以上含まれていてもよく、そして例えば、フッ素原子等によって、部分的にもしくは完全にハロゲン化されていてもよいし、またはまったくハロゲン化されていなくてもよく、ただし、Ｘがハロゲン原子である場合、Ｒ1には、α−不飽和に対するアリル炭素原子が含まれるものとし、しかもこのアリル炭素原子は完全フッ素化（過フッ素化）(perfluorinated)されていないものとする（すなわち、アリル炭素原子はフッ素原子で飽和されていない）。〕
によって特徴付けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月11日(2007.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  スイッチであって、
ｎチャネル幅を有するｎチャネルＦＥＴと、そして
ｐチャネル幅を有するｐチャネルＦＥＴとを含み、
ここで前記ｐチャネルＦＥＴのソースノードは前記ｎチャネルＦＥＴのドレインノードに結合されており、そして前記ｐチャネルＦＥＴのドレインノードは前記ｎチャネルＦＥＴのソースノードに結合されており、そして前記ｐチャネルＦＥＴのゲートノードと前記ｎチャネルＦＥＴのゲートノードとは相補的なクロック信号に結合されるように構成され、
ここで前記相補的なクロック信号は前記スイッチの第１の端子に適用される帯域制限信号の中心周波数より低い周波数において動作し、
そして
ここで前記スイッチの線形性を増加させるために前記ｐチャネル幅は前記ｎチャネル幅よりも大きいことを特徴とするスイッチ。
【請求項２】  前記ｐチャネル幅が前記ｎチャネル幅の少なくとも２倍と同じ幅を具備することを特徴とする請求項１のスイッチ。
【請求項３】  前記ｐチャネル幅が前記ｎチャネル幅の少なくとも３倍と同じ幅を具備することを特徴とする請求項１のスイッチ。
【請求項４】  前記スイッチの抵抗が使用可能な入力電圧範囲を通して５％より少なく変化することを特徴とする請求項１のスイッチ。
【請求項５】  前記ｎチャネルＦＥＴ及び前記ｐチャネルＦＥＴの前記幅は、
μn （Ｗ／Ｌ）n がμp （Ｗ／Ｌ）p とほぼ等しく選択され、
ここで
（Ｗ／Ｌ）n は該ｎチャネルＦＥＴの長さに対する幅の比であり、
（Ｗ／Ｌ）p は該ｐチャネルＦＥＴの長さに対する幅の比であり、
μn は該ｎチャネルＦＥＴの移動度であり、そして
μp は該ｐチャネルＦＥＴの移動度である
ことを特徴とする請求項１のスイッチ。
【請求項６】  前記スイッチの第２の端子に結合されたサンプリングキャパシタをさらに含み、ここで前記スイッチの前記第２の端子は前記帯域制限信号のサブサンプルされた型を生成することを特徴とする請求項１のスイッチ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年4月15日(2008.4.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】  電磁界による有害な影響から保護する一体的な遮蔽物を伴う断熱板において、一体的な合成材料が、鉱さい綿から形成された１枚の絶縁板（１）とこの絶縁板（１）上に設けられた少なくとも１枚の電気伝導層（２）とから構成されていて、この電気伝導層（２）上には、分散した複数の孔が開構造に形成され、この電気伝導層（２）は、電気伝導性を呈する編んで作られ、300 GHz 以下の波長に一致する隙間サイズを有する金属製のワイヤークロス，ミシン目を入れられた若しくは穿孔された金属フィルム，金属製の補強部材又はフリースから成ることを特徴とする断熱板。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
例えば、周波数範囲が 3kHz 〜 40GHzの有害な電磁波から保護する絶縁板を作るためには、この周波数範囲に応じて個々の金属線，金属繊維又は金属ストリップの間隔を 1 mm にすればよいことが分かった。何故なら、この間隔は、300 GHz 以下の電磁波の波長に一致するからである。しかしながら、遮蔽効果の効率に関しては、個々の金属線，金属繊維又はこれらの双方の直径もそれぞれ考慮する必要がある。この直径は、好ましくは 0.1〜 1mmであることが分かった。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年12月19日(2007.12.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
４５ｍｍＨｇ圧力計２０は排出用吸引ポンプ３０に接続されているので、供給圧力が約４５ｍｍＨｇより大きいとき、排出用吸引ポンプ３０が動作されるか、電力供給される。当然ながら、圧力は、種々の臨床実験によって決定されるように、異なっていることができる。供給ポンプ１２は７５ｍｍＨｇ圧力計１８に接続されているので、供給圧力が７５ｍｍＨｇを越えるとき、供給ポンプ１２は無力化される。当然、この数値は臨床実験に応じて変えられることができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年7月11日(2008.7.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  送信装置および受信装置で、反射面を備えた仮想音響環境を処理する方法において、
仮想音響環境に含まれている反射面は、音響信号に対する影響が各フィルタに関するパラメータに依存するフィルタによって記述されるとともに、
各フィルタに関連するパラメータは送信装置から受信装置へと伝送されることを特徴とする方法。
【請求項２】  各フィルタに関する前記パラメータは反射面の音響反射、および／または吸収、および／または伝達特性を表す係数であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  各フィルタに関する前記パラメータは、下記の比率、
【数１】
2001521191.tif 000001
として表されるフィルタの伝達関数のＺ変換の係数〔ｂ０ ｂ１ ａ１ ｂ２ ａ２…〕であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記方法が、
送信装置が、各フィルタに関するパラメータに依存する音響信号に対する効果を有するフィルタによって表される、反射面を有するある仮想音響環境を創出するステップと、
各フィルタに関する前記パラメータについての情報を前記送信装置から前記受信装置に伝送するステップと、
仮想音響環境を再構成するために、受信装置が各フィルタに関するパラメータに依存する音響信号に対する効果を有するフィルタからなるフィルタ・バンクを生成し、かつ送信装置によって伝送された情報に基づいて各フィルタに関するパラメータを生成するステップと、
からなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】  送信装置は、ＭＰＥＧ−４規格に基づくデータストリームの一部として、各フィルタに関するパラメータの情報を受信装置に伝送することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  送信装置はＭＰＥＧ−４規格に従ったデータストリームに含まれるＢＩＦＳ部分の一部として各フィルタに関連するパラメータに関する情報を受信装置に伝送し、前記ＢＩＦＳ部分は音響パラメータを伝送するために使用する所定の欄を備えていることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】  送信装置が、各フィルタに関するパラメータに左右される音響信号に対する影響を及ぼすフィルタによって表わされる第１集合の反射面で或る仮想音響を創出するステップと、
送信装置が、前記第１集合の反射面内の或る反射面を表わす各フィルタに関連する前記パラメータに関する情報を受信装置に伝送するステップと、
仮想音響環境を再構成するために、受信装置が、前記第１集合の反射面の真部分集合である第２集合の反射面を記述するフィルタからなるフィルタ・バンクを形成するステップとからなり、前記第２集合の反射面内の反射面の数は受信装置の容量によって左右されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項８】  各フィルタに関連する前記パラメータは一定数の標準的な反射面を含むデータベース内の標準的な反射面の識別子であり、前記データベースは受信装置のメモリ内に記憶され、かつ前記データベースに含まれる反射面を記述するように構成されたパラメータを含み、前記データベースの或る標準的な反射面の識別子が受信装置に伝送されると、受信装置はデータベースから対応するフィルタのパラメータを読み出すように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記フィルタの少なくとも１つは連続する３つの段（５３０、５３１，５３２）からなっており、そのうちの第１のフィルタ段（５３０）は送信媒体中での減衰を表わし、第２のフィルタ段（５３１）は反射材料への吸収を表わし、第３のフィルタ段（５３２）は音源の指向性を考慮に入れるように構成されており、前記第１の段（５３０）は音源から反射面を経て聴取ポイントへと進行する距離と、湿度、気圧、および温度のような伝達媒体の特性の双方を考慮に入れるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  反射面を備えた仮想音響環境を処理するシステムにおいて、
送信装置と、受信装置と、双方の装置の間で電気的にデータ伝送するための手段と、
仮想音響環境に含まれる反射面をモデル化するために、パラメータ化されたフィルタを備えたフィルタ・バンクを形成する手段と、
前記送信装置から前記受信装置に前記パラメータ化されたフィルタを記述する或るパラメータを伝送する手段と、
を備えていることを特徴とするシステム。
【請求項１１】  パラメータ化されたフィルタの特性を表わすパラメータをＭＰＥＧ−４規格に基づくデータストリームに添付するための送信装置内のマルチプレクサと、パラメータ化されたフィルタの特性を表わすパラメータをＭＰＥＧ−４規格に基づくデータストリームから検出するための受信装置内のデマルチプレクサとを備えたことを特徴とする請求項１０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クライアントデバイスの動的な完全性チェックを提供するためにサーバで使用される方法であって、
一以上の完全アプリケーションから、選択された完全アプリケーションを選択し、前記選択された完全アプリケーションは、予め定義された完全応答を有し、
前記選択された完全アプリケーションを前記クライアントデバイスでの実行のためにダウンロードし、
前記クライアントデバイス上での前記予め定義され、選択された完全アプリケーションの完全チェックに基づく応答を受信し、
少なくとも前記応答が予め選択された完全応答を有するか否かの突き合せを決定する
ことを備える、方法。
【請求項２】
前記予め定義された完全応答を、基準値を含むように動的に調整することを更に備える、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記基準値は、時間ベースの基準値、日ベースの基準値及びデジタル署名のうちの少なくとも１つを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記応答は、選択可能な期間内に如何なる応答も無いことを含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記選択するステップは、前記選択された完全アプリケーションを前記一以上の完全アプリケーションから無作為に選択することを備える、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記選択するステップは、デバイスのロケーション、ハードウェアのタイプ、キャリア識別、クライアントデバイスに関連付けられたふるまい、時間、ランダムインジゲータ、周期的なインジゲータのうちの少なくとも１つに基づいて、前記一以上の完全アプリケーションから前記選択された完全アプリケーションを選択することを備える、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記クライアントデバイスは無線デバイスである、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記選択された完全アプリケーションの選択及び前記クライアントデバイス上で実行するための前記選択された完全アプリケーションのダウンロードに先立つ予め定義された完全応答の選択のうちの少なくとも１つを動的に変化することをさらに具備する請求項１記載の方法。
【請求項９】
デバイスの動的な完全性チェックを提供する装置であって、
一以上の完全アプリケーションから、選択された完全アプリケーションを選択するように動作する選択ロジックと、前記選択された完全アプリケーションは、予め定義された完全応答を有し、
前記選択された完全アプリケーションを前記デバイスでの実行のためにダウンロードするように動作する送信ロジックと、
クライアントデバイス上での前記予め定義され、選択された完全アプリケーションの完全チェックに基づく応答を受信するように動作する受信ロジックと、
前記応答が予め選択された完全応答を有するか否かを決定するように動作する少なくとも部分ロジックの突合せを決定する装置。
【請求項１０】
前記予め定義された完全応答を、基準値を含むように動的に調整するロジックを更に備える、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記基準値は、時間ベースの値、日ベースの基準値及びデジタル署名のうちの少なくとも１つを含む、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記デバイスは無線デバイスである、請求項９記載の装置。
【請求項１３】
前記選択された完全アプリケーションの選択及び前記クライアントデバイス上で実行するための前記選択された完全アプリケーションのダウンロードに先立つ予め定義された完全応答の選択のうちの少なくとも１つを動的に変化するロジックをさらに具備する請求項９記載の装置。
【請求項１４】
デバイスの動的な完全性チェックを提供するように動作する装置であって、
一以上の完全アプリケーションから、選択された完全アプリケーションを選択する手段と、前記選択された完全アプリケーションは、予め定義された完全応答を有し、
前記選択された完全アプリケーションを前記デバイスでの実行のためにダウンロードする手段と、
前記クライアントデバイス上での前記予め定義され、選択された完全アプリケーションの完全チェックに基づく応答を受信する手段と、
少なくとも前記応答が前記予め選択された完全応答を有するか否かの突き合せを決定する手段と
を備える装置。
【請求項１５】
前記予め定義された完全応答を、基準値を含むように動的に調整する手段を更に備える、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
前記基準値は、時間ベースの基準値、日ベースの基準値及び時間ベース値であるデジタル署名のうちの少なくとも１つを含む、請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
前記デバイスは無線デバイスである、請求項１４記載の装置。
【請求項１８】
前記選択された完全アプリケーションの選択及び前記クライアントデバイス上で実行するための前記選択された完全アプリケーションのダウンロードに先立つ予め定義された完全応答の選択のうちの少なくとも１つを動的に変化する手段をさらに具備する、請求項１４記載の装置。
【請求項１９】
完全システムのプロセッサによって実行されるときに、デバイスの完全性を動的にチェックするように動作する命令を備えるコンピュータ読み取り可能な媒体であって、
一以上の完全アプリケーションから、選択された完全アプリケーションを選択する命令と、前記選択された完全アプリケーションは、予め定義された完全応答を有し、
前記選択された完全アプリケーションを前記デバイスでの実行のためにダウンロードする命令と、
前記クライアントデバイス上での前記予め定義され、選択された完全アプリケーションの完全チェックに基づく応答を受信する命令と、
少なくとも前記応答が予め選択された完全応答を有するか否かの部分の突き合せを決定する命令と
を備える、コンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２０】
前記予め定義された完全応答を、基準値を含むように動的に調整する命令を更に備える、請求項１９記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２１】
前記基準値は、時間ベースの基準値、日ベースの基準値及び時間ベース値であるデジタル署名のうちの少なくとも１つを含む、請求項２０記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２２】
前記デバイスは無線デバイスである、請求項１９記載の装置。
【請求項２３】
前記選択された完全アプリケーションの選択及び前記クライアントデバイス上で実行するための前記選択された完全アプリケーションのダウンロードに先立つ予め定義された完全応答の選択のうちの少なくとも１つを動的に変化する命令を更に備える、請求項１９記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月14日(2008.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラム・ストレージ・デバイスであって、
仮想ストレージ・システムにおけるストレージ割り当てを管理するための操作を実行する処理デバイスにより実行可能なプログラム命令を含み、前記操作は、
作業負荷プロファイルを評価するステップと、
管理ディスクのパフォーマンス特性を決定するステップと、
前記管理ディスクとリソース・グループとの間の関係を決定するステップと、
前記管理ディスクが割り当てられるリソース・グループに基づいて、前記管理ディスクのセットを含む少なくとも１つの仮想ディスクの割り当てを推奨するステップとを含む、
プログラム・ストレージ・デバイス。
【請求項２】
前記操作は、
前記管理ディスクが割り当てられるリソース・グループに基づいて、管理ディスクのセットを含む仮想ディスクを作成するステップをさらに含む、
請求項１に記載のプログラム・ストレージ・デバイス。
【請求項３】
仮想ディスクを作成する前記ステップは、前記管理ディスクが割り当てられる前記リソース・グループに基づいて、管理ディスクの前記セット内に複数の仮想ディスクを作成するステップをさらに含む、請求項３に記載のプログラム・ストレージ・デバイス。
【請求項４】
管理ディスクのセットおよび特定の作業負荷についてのスループット・ケイパビリティを含むリソース・グループと関連付けられたパフォーマンス特性のセットを識別することにより仮想ディスクのための位置を選択するステップと、
管理ディスクのセットおよびリソース・グループと関連付けられたパフォーマンス特性のセットに基づいて最適なリソース利用度を推定するステップとをさらに含む、
先行請求項のいずれか１項に記載のプログラム・ストレージ・デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月14日(2008.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ化されたシステムでの処理に利用されるための方法であって、
前記コンピュータ化されたシステムにおいて所与のタイプの障害を検出するステップと、
自動化された保守プログラムを使用して、前記障害に応答して修正アクションのリストを生成するステップと、
前記コンピュータ化されたシステムにおいて前記所与のタイプの１つまたは複数の以前の障害の記録を検索し、および、前記１つまたは複数の以前の障害に応答して実行された少なくとも１つの以前の修正アクションを提示する、ステップと、
前記修正アクションのリスト内の前記少なくとも１つの以前の修正アクションの優先順位を調整するために、前記自動化された保守プログラムを使用して、前記記録に応答して前記修正アクションのリストを優先順位付けするステップと、
前記コンピュータ化されたシステムでの処理に利用される際に使用するために、前記自動化された保守プログラムから修理機能部へと、前記優先順位付けされたリストを提供するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記コンピュータ化されたシステムがデータ・ストレージ・システムを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記障害を検出するステップが自動障害警報を受け取るステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記記録を検索するステップが、前記少なくとも１つの修正アクションの時刻を決定するステップを含み、前記リストを優先順位付けするステップが、前記時刻に応答して前記リストを配列するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記リストを配列するステップが、一番最近実行されたアクションを決定するステップと、前記一番最近実行されたアクションを前記リストの最後に移動するステップとを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記リストを配列するステップが、前記リストを前記時刻の昇順で再配列するステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記リストを配列するステップが、前記少なくとも１つの以前の修正アクションの時刻に応答して、および前記以前の障害の確率の尺度に応答して、前記優先順位を決定するステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記優先順位を決定するステップが、前記コンピュータ化されたシステムのコンポーネント上で実行された前記少なくとも１つの以前の修正アクションの前記時刻と、前記コンポーネントの平均障害間隔（ＭＴＢＦ）とを比較するステップを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記リストを配列するステップが、前記コンピュータ化されたシステムのコンポーネント上で実行された前記少なくとも１つの以前の修正アクションの前記時刻と、前記コンポーネントの特性障害時刻とを比較することによって、前記優先順位を変更するかどうかを決定するステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記修正アクションのリストを生成するステップが、前記修理機能部によって交換されることになる１つまたは複数の疑わしいコンポーネントをリストするステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記記録を生成するために、前記修理機能部によって交換された前記コンポーネントを自動的に検出するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記優先順位付けされたリストを提供するステップが、前記優先順位付けされたリストを修理担当者に提示するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
コンピュータ化されたシステムでの処理に利用される際に使用する装置であって、
前記コンピュータ化されたシステムにおいて所与のタイプの障害の指示を受け取るように、
前記障害に応答して修正アクションのリストを生成するように、
前記コンピュータ化されたシステムにおいて前記所与のタイプの１つまたは複数の以前の障害の記録を検索し、および、前記１つまたは複数の以前の障害に応答して実行された少なくとも１つの以前の修正アクションを提示するように、
前記修正アクションのリスト内の前記少なくとも１つの以前の修正アクションの優先順位を調整するために、前記記録に応答して前記修正アクションのリストを優先順位付けするように、および、
前記コンピュータ化されたシステムでの処理に利用される際に使用するために、前記優先順位付けされたリストを修理機能部に提供するように
配置構成された保守プロセッサ、を備える装置。
【請求項１４】
コンピュータ化されたシステムでの処理に利用される際に使用するためのコンピュータ・プログラムであって、コンピュータ可読媒体に備えられており、コンピュータによって読み取られた場合に、
前記コンピュータ化されたシステムにおいて所与のタイプの障害の指示を受け取るステップと、
前記障害に応答して修正アクションのリストを生成するステップと、
前記コンピュータ化されたシステムにおいて前記所与のタイプの１つまたは複数の以前の障害の記録を検索し、および、前記１つまたは複数の以前の障害に応答して実行された少なくとも１つの以前の修正アクションを提示するステップと、
前記修正アクションのリスト内の少なくとも１つの以前の修正アクションの優先順位を調整するために、前記記録に応答して前記修正アクションのリストを優先順位付けするステップと、
前記コンピュータ化されたシステムでの処理に利用される際に使用するために、前記優先順位付けされたリストを修理機能に提供するステップと
を、前記コンピュータに実行させるためのコンピュータ・プログラム。