【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理システムにおいて、基板を加工するための組み合わせガスを供給するためにガス供給システムをマルチゾーン噴射器に接続する一体型ガス流量制御組み立て品であって、
前記組み合わせガスの第１部分のための第一流速を備えた第一バルブ組み立て品と、前記組み合わせガスの第２部分のための第二流速を備えた第二バルブ組み立て品と、第三流速を備えた第三流量組み立て品と、第四流速を備えた第四流量組み立て品とに前記ガス供給システムを接続する第一組のチャネルと、
前記第三流量組み立て品と前記第一バルブ組み立て品を第一マルチゾーン噴射器ゾーンに接続するための第二組のチャネルであって、前記第一マルチゾーン噴射器ゾーンは第一組のノズルを特徴としており、該第一組のノズルは前記基板の第一ゾーンを加工するために前記組み合わせガスの前記第１部分を噴射するように設計されており、前記第一組のノズルは前記プラズマ加工システムの上方チャンバ内に位置しており、該プラズマ加工システムの該上方チャンバはトップピースを含んでおり、該トップピースは１以上のチャンバインターフェースで前記プラズマ加工チャンバの下方チャンバのボトムピースへ着脱式にカップリングされている第二組のチャネルと、
前記第四流量組み立て品と前記第二バルブ組み立て品を第二マルチゾーン噴射器ゾーンに接続するための第三組のチャネルであって、前記第二マルチゾーン噴射器ゾーンは第二組のノズルを特徴としており、該第二組のノズルは前記基板の第ニゾーンを加工するために前記組み合わせガスの前記第２部分を噴射するように設計されており、前記第二組のノズルは前記プラズマ加工システムの前記上方チャンバ内に位置している第三組のチャネルと、
を含んでおり、
前記プラズマ加工システムの前記上方チャンバは前記第一組のチャネルと、前記第二組のチャネルと、前記第三組のチャネルの損傷なく、前記１以上のチャネルインターフェースにて前記プラズマ加工チャンバの前記下方チャンバの前記ボトムピースから脱却できるように設計されており、
前記一体型ガス流量制御組み立て品は、前記プラズマ加工システムのプラズマ加工チャンバ内で電磁界歪がシナリオに対して減少するように前記プラズマ加工システムの前記下方チャンバ内に位置し、前記一体型ガス流量制御組み立て品は前記プラズマ加工システムの前記上方チャンバ内に位置することを特徴とする一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項２】
１以上のチャンバインターフェースは少なくとも第一インターフェースと第二インターフェースとを含んでおり、第一組のチャネルは前記第一インターフェースと第一バルブ組み立て品との間に位置しており、第二組のチャネルは前記第二インターフェースと第一組のノズルとの間に位置しており、プラズマ加工システムの上方チャンバは前記第一組のチャネルと、前記第二組のチャネルと第三組のチャネルの損傷なしで前記第一インターフェースと前記第二インターフェースにて前記プラズマ加工チャンバの下方チャンバのボトムピースから脱却できるように設計されていることを特徴とする請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項３】
第一バルブ組み立て品と第二バルブ組み立て品が各々、非可変流量バルブ組み立て品を有する請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項４】
第一半組み立て品内に第一バルブ組み立て品と第二バルブ組み立て品を配置し、第二半組み立て品内に第三流量組み立て品と第四流量組み立て品を配置した請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項５】
セラミックを有する請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項６】
さらにバルブ副組み立て品と流量規制副組み立て品とを含んでおり、前記バルブ副組み立て品と前記流量規制副組み立て品は複数の副組み立て品インターフェースを介してカップリングされており、前記バルブ副組み立て品は第一バルブ組み立て品と第二バルブ組み立て品とを含んでおり、前記流量規制副組み立て品は組み合わせガスの第１部分の少なくとも一部を搬送するように設計された第一規制流量チャネルと、前記組み合わせガスの第２部分の少なくとも一部を搬送するように設計された第二規制流量チャネルとを含んでいることを特徴とする請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項７】
第一バルブと第二バルブは一体型ガス流量制御組み立て品に対して対称となるように設計されており、第一規制流量チャネルと第二規制流量チャネルは前記ガス流量制御組み立て品に対して対称となるように設計されていることを特徴とする請求項６載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項８】
第一組のノズルは、基板の第一ゾーン内で実質的に規制されている第一規制流として組み合わせガスの第１部分を噴射するように設計されていることを特徴とする請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項９】
少なくとも規制流量チャネルを含んだ規制副組み立て品と、
少なくとも第一バルブ組み立て品と第二バルブ組み立て品とを含んだバルブ副組み立て品と、
１以上の副組み立て品インターフェースと、
を含んでおり、前記規制副組み立て品は前記１以上の副組み立て品インターフェースにて前記バルブ副組み立て品にカップリングされていることを特徴とする請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項１０】
１以上の副組み立て品インターフェースは少なくとも第一副組み立て品インターフェースと第二副組み立て品インターフェースとを含んでおり、第一組のノズルは前記第一副インターフェースを介して第一バルブに接続され、前記第二組のノズルは前記第二副組み立て品インターフェースを介して前記第二バルブに接続されていることを特徴とする請求項９記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項１１】
１以上のチャンバインターフェースは少なくとも第一インターフェースと第二インターフェースとを含んでおり、前記第一インターフェースは該第一インターフェースと第一副組み立て品インターフェースとの間で第一チャネルの長さを最短とすべく前記第一副組み立て品インターフェースと整合するように設計されており、前記第二インターフェースは該第二インターフェースと第二副組み立て品インターフェースとの間で第二チャネルの長さを最短とすべく前記第二副組み立て品インターフェースと整合するように設計されていることを特徴とする請求項１記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項１２】
規制副組み立て品はバルブ副組み立て品と上方チャンバとの間に位置していることを特徴とする請求項９記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項１３】
さらに主シャットオフバルブを含んでおり、規制副組み立て品は少なくとも第一規制流量チャネルと第二規制流量チャネルとを含んでおり、前記第一規制流量チャネルは第一バルブ組み立て品と前記主シャットオフバルブとに接続されており、前記第二規制流量チャネルは第二バルブ組み立て品と前記主シャットオフバルブとに接続されていることを特徴とする請求項１２記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項１４】
１以上の副組み立て品インターフェースはさらに少なくとも第三副組み立て品インターフェースを含んでおり、第一規制流量チャネルと第二規制流量チャネルは主シャットオフバルブに前記第三副組み立て品インターフェースを介して接続されていることを特徴とする請求項１３記載の一体型ガス流量制御組み立て品。
【請求項１５】
プラズマ処理システムにおいて、基板を加工するための組み合わせガスを供給するためにガス供給システムをマルチゾーン噴射器に接続するＲＦ電界に対して実質的に透明なプラスチック一体型ガス流量制御組み立て品であって、
前記組み合わせガスの第１部分のための第一流速を備えた第一バルブ組み立て品と、前記組み合わせガスの第２部分のための第二流速を備えた第二バルブ組み立て品と、第三流速を備えた第三流量組み立て品と、第四流速を備えた第四流量組み立て品とに前記ガス供給システムを接続する第一組のチャネルと、
前記第三流量組み立て品と前記第一バルブ組み立て品を第一マルチゾーン噴射器ゾーンに接続するための第二組のチャネルであって、前記第一マルチゾーン噴射器ゾーンは第一組のノズルを特徴としており、該第一組のノズルは前記基板の第一ゾーンを加工するために前記組み合わせガスの前記第１部分を噴射するように設計されており、前記第一組のノズルは前記プラズマ加工システムの上方チャンバ内に位置しており、該プラズマ加工システムの該上方チャンバはトップピースを含んでおり、該トップピースは１以上のチャンバインターフェースで前記プラズマ加工チャンバの下方チャンバのボトムピースへ着脱式にカップリングされている第二組のチャネルと、
前記第四流量組み立て品と前記第二バルブ組み立て品を第二マルチゾーン噴射器ゾーンに接続するための第三組のチャネルであって、前記第二マルチゾーン噴射器ゾーンは第二組のノズルを特徴としており、該第二組のノズルは前記基板の第ニゾーンを加工するために前記組み合わせガスの前記第２部分を噴射するように設計されており、前記第二組のノズルは前記プラズマ加工システムの前記上方チャンバ内に位置している第三組のチャネルと、
を含んでおり、
前記プラズマ加工システムの前記上方チャンバは前記第一組のチャネルと、前記第二組のチャネルと、前記第三組のチャネルの損傷なく、前記１以上のチャネルインターフェースにて前記プラズマ加工チャンバの前記下方チャンバの前記ボトムピースから脱却できるように設計されており、
前記プラスチック一体型ガス流量制御組み立て品は、前記プラズマ加工システムのプラズマ加工チャンバ内で電磁界歪がシナリオに対して減少するように前記プラズマ加工システムの前記下方チャンバ内に位置し、前記プラスチック一体型ガス流量制御組み立て品は前記プラズマ加工システムの前記上方チャンバ内に位置することを特徴とするプラスチック一体型ガス流量制御組み立て品。

【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
一実施例では、バルブの取り付けとチャネルの位置決めを実行するためにポリイミド系ポリマー（例えば、デュポン社が販売するＶＥＳＰＥＬ）または耐腐食性金属合金（例えば、ヘインズインターナショナル社が販売するＨＡＳＴＥＬＬＯＹ）のごとき単一ブロック材料が機械加工（または別の適切な方法で製造）される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
一実施例では、各ゾーンは、実質的に制限されていない流量、または他のゾーンと独立に実質的に制限された流量のいずれかを有することができる。別の実施例では、各ゾーンは、実質的に制限されていない流量から実質的に制限された流量までの連続的な範囲の流量を有することができる。別の実施例では、独立に制御した任意の数のゾーンを用いることができる。これらのプラズマ処理ガスは次にイオン化してプラズマ（図示せず）を形成し、基板（図示せず）の露出領域を処理できる。別の実施例では、一体型ガス流量制御組み立て品３２５はポリイミド系ポリマー、例えば、デュポン社が販売するＶＥＳＰＥＬのごとき耐腐食性の工業用合成材料からなる。別の実施例では、一体型ガス流量制御組み立て品３２５はヘインズインターナショナル社が販売するＨＡＳＴＥＬＬＯＹのごとき耐腐食性金属合金からなる。