Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月2日(2008.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
虹彩絞り／スリットアプローチを使用している従来技術のブロードビームレーザシステムの略図である。
【図２】
角膜にレーザエッチングを行う従来の工程を示している略図である。
【図３】
従来技術の１２枚羽根機械的虹彩絞りの場合に、レーザ切除パターンを規定するために利用可能な様々な大きさの開口部の略図である。
【図４】
レーザ切除パターンを生成させるための理想的な虹彩開口部の略図である。
【図５ａ】
ブロードビームレーザ切除前の角膜トポグラフの誇張図である。
【図５ｂ】
ブロードビームレーザ切除後の角膜トポグラフの誇張図である。
【図６ａ】
角膜のトポグラフ上の粗さを示している角膜の拡大誇張断面図である。
【図６ｂ】
図６ａの角膜の拡大誇張断面図であり、後で屈折矯正エッチングを行うことができるように、理想的な湾曲よりも上方の領域が切除されているが、理想的な湾曲よりも下方の領域は切除されていない。
【図７】
走査スポットレーザシステムのラスタ走査動作及びスポットの重なりを示している。
【図８ａ】
切除を必要とする複数のトポグラフ区域を規定する３次元画像である。
【図８ｂ】
図８ａのトポグラフ区域のうちの１つの画像である。
【図８ｃ】
図８ｂのトポグラフ区域上で直径１ｍｍのスポットを走査する方法を示している。
【図８ｄ】
図８ｂのトポグラフ区域上で直径０．５ｍｍのスポットを走査する方法を示している。
【図９】
本発明の制御システムを利用しているＤＭＤレーザ屈折矯正手術システムの略図である。
【図１０】
円形のＤＭＤ鏡配列パターンの略図である。
【図１１】
長方形状又はスリット状のＤＭＤ鏡配列パターンの略図である。
【図１２】
ＤＭＤと関連付けられたブロードビームレーザシステムを使用して、角膜の形状を矯正するためのフローチャートである。
【図１３】
多区域多行程アルゴリズムにおいて使用される複数の区域を示している。
【図１４】
本発明のＤＭＤレーザ手術システムのソフトウエアを使用している近視治療用画面を印刷したものの例である。
【図１５】
リング形状の遠視屈折矯正用ＤＭＤ鏡配列パターンの略図である。
【図１６】
本発明のＤＭＤレーザ手術システムのソフトウエアを使用している乱視治療用画面を印刷したものの例である。
【図１７】
多区域多行程アルゴリズムにより得られる切除体積を示している印刷画面である。
【図１８】
本発明のレーザ手術システムで走査スポットレーザシステムと似た機能を実行するためのランダム走査方法を示している。
【図１９】
本発明のＤＭＤレーザ手術システムのための極方向走査方法を示している。
【図２０】
本発明のＤＭＤレーザ手術システムのための回転を伴う極方向走査方法を示している。
【図２１】
本発明のＤＭＤレーザ手術システムのための最密充填走査方法を示している。
【図２２】
レーザ手術システム及び角膜トポグラフ作製装置を用いて走査スポットアプローチをエミュレートするためのフローチャートである。
【図２３】
角膜トポグラフデータを利用し且つＤＭＤ用に最適化されたアプローチでレーザ眼科手術を行うためのフローチャートである。
【図２４】
図８ｂに示されているトポグラフ区域に関して図２３に記載されている手順によって与えられるエッチング解像度を示している。
【図２５】
波面センサデータを利用し且つＤＭＤ用に最適化されたアプローチでレーザ眼科手術を行うためのフローチャートである。
【図２６ａ】
好ましい多区域単一行程（ＭＺＳＰ）ブロードビームアプローチによる３Ｄ切除画像を示している。
【図２６ｂ】
好ましいＭＺＳＰブロードビームアプローチによる滑らかな切除プロファイルを示している。
【図２７】
各等級の矯正度のプロファイルを示しているグラフである。
【図２８】
図２７のプロファイルの輪郭形状に追従する６次の大きさ傾向線を示しているグラフである。
【図２９】
ジオプタ矯正に基づいた各等級に関する６次の大きさ方程式についての傾向線の略直線性を示しているグラフと、これに基づいた多項式である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の特性：
（ａ）ヒト樹状細胞に結合する；
（ｂ）ヒト樹状細胞によるデキストラン取込みを阻害する；
（ｃ）ヒト樹状細胞への結合後に内部移行する；及び
（ｄ）抗原に結合すると、ヒト樹状細胞による前記抗原の提示を亢進する、
を有する、単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分。
【請求項２】
CDR1、CDR2、及びCDR3配列を含む重鎖可変領域と、CDR1、CDR2、及びCDR3配列を含む軽鎖可変領域とを含む、樹状細胞に結合する単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分であって、但し
（ａ）前記重鎖可変領域CDR3配列がSEQ ID NO: 4のアミノ酸残基99-105及びその保存的改変を含み；そして
（ｂ）前記軽鎖可変領域CDR3配列がSEQ ID NO: 2のアミノ酸残基89-97及びその保存的改変を含む、
単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分。
【請求項３】
前記重鎖可変領域CDR2配列がSEQ ID NO: 4のアミノ酸残基50-66及びその保存的改変を含み、そして前記軽鎖可変領域CDR2配列がSEQ ID NO: 2のアミノ酸残基50-56及びその保存的改変を含む、請求項２に記載の抗体。
【請求項４】
前記重鎖可変領域CDR1配列が SEQ ID NO: 4のアミノ酸残基31-35及びその保存的改変を含み、そして前記軽鎖可変領域CDR1配列がSEQ ID NO: 2のアミノ酸残基24-34及びその保存的改変を含む、請求項３に記載の抗体。
【請求項５】
（ａ）それぞれSEQ ID NO: 4のアミノ酸31-35、アミノ酸50-66 及びアミノ酸 99-105 に記載された通りのCDR、CDR2 及びCDR3配列を有する重鎖可変領域と；
（ｂ）それぞれSEQ ID NO: 2のアミノ酸24-34、アミノ酸50-56 及び89-97に記載された通りのCDR1、CDR2 及びCDR3 配列を有する軽鎖可変領域と
を含み、樹状細胞に結合する単離されたモノクローナル抗体。
【請求項６】
SEQ ID NO:4に示したアミノ酸配列を含む重鎖可変領域と、SEQ ID NO:2に示したアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含む、樹状細胞に結合する単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分。
【請求項７】
SEQ ID NO:4に示したアミノ酸配列又はこれに少なくとも８０％同一なアミノ酸配列を含む重鎖可変領域と、SEQ ID NO:2に示したアミノ酸配列又はこれに少なくとも８０％同一なアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域とを含む、樹状細胞に結合する単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分。
【請求項８】
SEQ ID NO:4に示したアミノ酸配列又はこれに少なくとも８０％同一なアミノ酸配列を含む重鎖可変領域、及び、SEQ ID NO:2に示したアミノ酸配列又はこれに少なくとも８０％同一なアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域、から成る群より選択される可変領域を含む、樹状細胞に結合する単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分。
【請求項９】
SEQ ID NO:3に示したヌクレオチド配列又はこれに少なくとも８０％同一なヌクレオチド配列、にコードされた重鎖可変領域、及び、SEQ ID NO:1に示したヌクレオチド配列又はこれに少なくとも８０％同一なヌクレオチド配列、にコードされた軽鎖可変領域、から成る群より選択される可変領域を含む、樹状細胞に結合する単離されたモノクローナル抗体又はその抗原結合部分。
【請求項１０】
（ａ）ヒトVH 5-51遺伝子の重鎖可変領域；及び
（ｂ）ヒトVK L15 遺伝子の軽鎖可変領域；
を含む単離されたモノクローナル抗体であって、樹状細胞に結合する、単離されたモノクローナル抗体。
【請求項１１】
前記抗体が
（ａ）ヒト樹状細胞上のヒトマクロファージマンノース受容体に結合する；
（ｂ）ヒト樹状細胞によるデキストラン取込みを阻害する；
（ｃ）ヒト樹状細胞への結合後に内部移行する；及び
（ｄ）抗原に結合すると、ヒト樹状細胞による前記抗原の提示を亢進する、
請求項２乃至１１のいずれかに記載の抗体。
【請求項１２】
樹状細胞上のヒトマクロファージマンノース受容体に結合する、上記請求項のいずれかに記載の抗体。
【請求項１３】
上記請求項のいずれかに記載の抗体又はその抗原結合部分と、ヒトマクロファージマンノース受容体への結合をめぐって交差競合する抗体。
【請求項１４】
ヒト、ヒト化又はキメラである、上記請求項のいずれかに記載の抗体。
【請求項１５】
ヒト樹状細胞に少なくとも約１０７Ｍ-1の結合親和性で結合する、上記請求項のいずれかに記載の抗体。
【請求項１６】
皮膚、扁桃、肝臓、乳房、脾臓、腎臓、リンパ節、脳、精巣、膵臓、心臓、小腸、骨髄及び肺から成る群より選択されるヒト組織由来の非樹状細胞には結合しない、請求項１に記載の抗体。
【請求項１７】
SDS-PAGEで測定した場合にほぼ180kDの分子量を有すると共にSEQ ID NO:7に示したアミノ酸配列を含むヒトマクロファージB11抗原に結合する上記請求項のいずれかに記載の抗体。
【請求項１８】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の抗体又はその抗原結合部分と薬学的に許容可能な担体とを含む組成物。
【請求項１９】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の抗体又はその抗原結合部分を抗原に連結させて含む分子複合体。
【請求項２０】
前記抗原が病原体又は腫瘍抗原の成分を含む、請求項１９に記載の分子複合体。
【請求項２１】
請求項１９又は２０に記載の分子複合体と薬学的に許容可能な担体とを含む組成物。
【請求項２２】
樹状細胞上のヒトマンノース受容体への病原体の結合を防ぐ、腫瘍成長を阻害する、あるいは自己免疫疾患を治療する又は防ぐための、請求項１乃至１０のいずれかに記載の抗体又はその抗原結合部分のin vitroでの使用。
【請求項２３】
細胞上のヒトマンノース受容体への病原体の結合を阻害する又は防ぐため、腫瘍成長を阻害するため、あるいは自己免疫疾患を治療する又は防ぐための医薬の製造における、請求項１乃至１０のいずれかに記載の抗体又はその抗原結合部分の使用。
【請求項２４】
抗原に対する免疫応答を誘導又は亢進するための、請求項１９又は２０に記載の分子複合体のin vitroにおける使用。
【請求項２５】
抗体が動物のＢ細胞により産生されるように、ヒト重鎖導入遺伝子及びヒト軽鎖導入遺伝子を含むゲノムを有する非ヒトトランスジェニック動物を樹状細胞で免疫化するステップと；
前記動物のＢ細胞を単離するステップと；
前記Ｂ細胞を骨髄腫細胞と融合させて、樹状細胞に特異的なヒトモノクローナル抗体を分泌する不死のハイブリドーマ細胞を形成するステップと；
樹状細胞に結合する前記ヒトモノクローナル抗体を、前記ハイブリドーマの培養上清から単離するステップと
を含む、樹状細胞に結合するヒトモノクローナル抗体を作製する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月6日(2008.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 骨格部位内で固着する外科用アンカであって、前記アンカが、
近位端および遠位端を有する細長い本体と、 
前記近位端から前記本体を少なくとも部分的に通過して延びる通路と、 
前記本体を少なくとも部分的に通過して延び、前記通路と連絡する少なくとも１つの穴と、 前記遠位端に配置される切込み部材であって、前記遠位端の骨格部位への貫入を可能にするように構成される部材とを備え、
前記通路および前記少なくとも１つの穴が、材料を前記近位端で前記通路内に受入れることができ、前記通路を通り、前記少なくとも１つの穴を通過して骨格部位へと送達することができるように構成される、外科用アンカ。
【請求項２】 前記通路が縦方向の孔である、請求項１に記載の外科用アンカ。
【請求項３】 前記細長い本体が、少なくともその一部分に沿って形成される雄ネジを有する、請求項１に記載の外科用アンカ。
【請求項４】 前記細長い本体が、実質的に円筒形状である、請求項１に記載の外科用アンカ。
【請求項５】 腰椎安定化システムにおいて、腰椎が複数の椎弓根を有するシステムであって、
複数の第１アンカであって、各前記第１アンカそれぞれが、近位端、遠位端、切込み部材、通路、および少なくとも１つの穴を有し、前記切込み部材が、遠位端の骨格部位内への貫入を可能にするように構成されて、それによって骨格部位内にアンカ受入れ穴が形成され、前記通路が、前記近位端から前記第１アンカを少なくとも部分的に通過して形成され、前記少なくとも１つの穴が前記通路と連絡する、第１アンカと、
複数の第２アンカであって、各前記第２アンカそれぞれが、近位端、遠位端、通路、および少なくとも１つの穴を有し、前記通路が、前記近位端から前記第２アンカを少なくとも部分的に通過して形成され、前記少なくとも１つの穴が前記通路と連絡する第２アンカとを備える、システム。
【請求項６】 結合セメントの供給をさらに備え、各前記第２アンカそれぞれが、結合セメントを前記近位端で前記通路内に受入れることができ、前記通路を通し、前記少なくとも１つの穴を通して、前記第２アンカが中で結合される骨格部位内へと送達することができるように構成される、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】 色素の供給をさらに備え、各前記第１アンカそれぞれが、色素を前記近位端で前記通路内に受入れることができ、前記通路を通し、前記少なくとも１つの穴を通して、前記第１アンカが中で結合される骨格部位内へと送達することができるように構成される、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】 前記結合セメントの供給を受入れ、前記供給の少なくとも一部分を前記第２アンカの１つに送達するように構成されるセメント・ディスペンサをさらに備える、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】 前記色素供給を受け、前記供給の少なくとも一部分を前記第１アンカの１つに送達するように構成される色素ディスペンサをさらに備える、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】 前記色素が放射線不透過性色素である、請求項７に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月25日(2007.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  個人の特別な睡眠状態条件の発生について個人を監視する方法であって、
個人の体の末梢体位置における外部表面に外部プローブを取り付け、予め決定されている圧力場（ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ｆｉｅｌｄ）を前記末梢体位置の遠位末端部（その遠位最極端部を含む）に加え、前記末梢体位置の内部およびその遠位における静脈鬱血の発生を防ぎ、これによって前記末梢体位置における末梢動脈床容積の変化に対応するプローブからの出力信号を生じさせることによって、前記末梢体位置において個人の末梢血管床容積（ｂｅｄ  ｖｏｌｕｍｅ）を監視すること；
個人が睡眠状態にある間に、前記プローブを用いて、前記末梢体位置の監視部位における個人の末梢血管床容積の変化を監視し、これに対応する出力を生じること；および
前記外部プローブの出力にしたがって個人の睡眠状態条件を決定すること、
を含む方法。
【請求項２】  前記特別な睡眠状態条件は、プローブ出力の予め決定されている減衰が検出された時に発生するものとして決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  個人が睡眠状態にある間、個人の脈拍数および／または脈拍振幅の変化も監視され、このような変化は、個人の睡眠状態条件を決定する時に、前記検出された減衰と共に用いられる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】  前記圧力場が、前記監視部位から前記末梢体位置の心臓側までの距離にわたって及ぼされ、そこにおける静脈鬱血の発生を防ぐ、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記外部プローブが、前記末梢体位置における末梢動脈の緊張の変化を測定する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】  個人の前記末梢体位置が、個人の指、つま先、または耳たぶである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】  前記外部プローブが、容積測定装置である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記外部プローブが、光学測定装置である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】  前記特別な条件が、睡眠状態中の覚醒であり、少なくともプローブ出力における予め決定されている減衰によって示される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  プローブ出力における減衰間の時間間隔も、個人の睡眠状態条件を決定するために用いられる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  前記特別な条件が、無呼吸事象であり、少なくともプローブ出力における予め決定されている減衰によって示される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  前記特別な条件が、呼吸低下事象であり、少なくともプローブ出力における予め決定されている減衰によって示される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  前記特別な条件が、ＵＡＲＳ（上気道抵抗症候群）事象であり、少なくともプローブ出力における予め決定されている減衰によって示される、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】  前記特別な条件が、シェーン・ストークス呼吸パターンであり、少なくともプローブ出力における予め決定されている減衰によって示される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】  前記特別な条件が、ＲＥＭ（急速眼球運動）であり、少なくともプローブ出力における予め決定されている減衰によって示される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】  プローブ出力における減衰間の時間間隔が、周期的脚運動症候群（ＰＬＭＳ）に関連した覚醒と、睡眠中の障害呼吸事象に関連した覚醒とを区別するために用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】  個人の血液酸素飽和レベルも監視され、個人の睡眠状態条件を決定するために前記外部プローブの出力と共に用いられる出力を生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】  個人の口−鼻空気流も監視され、個人の睡眠状態条件を決定するために前記外部プローブの出力と共に用いられる出力を生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】  個人のＥＣＧ脈拍も監視され、個人の睡眠状態条件および特に脈拍過渡時間（ＰＴＴ）を決定するために前記外部プローブの出力と共に用いられる出力を生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】  個人の脈拍数および／または脈拍振幅の変化も監視され、個人の睡眠状態条件を決定するために用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  個人の睡眠状態中の特別な条件の発生の検出のために個人を監視する装置であって、
末梢体位置において個人の末梢血管床容積を監視するための、個人の体の末梢体位置において外部表面に取り付けられる外部プローブと、
前記プローブの出力における予め決定されている変化が検出された時、前記予め決定されている睡眠状態条件を示す信号を生じるための信号装置と、
を備えている装置において、前記外部プローブが、静脈鬱血を低下させ、これによって前記末梢体位置における末梢動脈床容積の変化に対応するプローブからの出力信号を生じるために、予め決定されている圧力場を前記末梢体位置（その遠位最極端を含む）に加えるための加圧器も含む装置。
【請求項２２】  前記信号装置が、プローブ出力の予め決定されている減衰が検出された時、前記睡眠状態条件を示す信号を生じる、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】  前記信号装置が、減衰間の予め決定されている時間間隔も同様に検出される時に前記睡眠状態条件を示す信号を生じる、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】  前記信号装置が、脈拍数および／または脈拍振幅における予め決定されている変化も同様に検出された時、前記睡眠状態条件を示す信号を生じる、請求項２２に記載の装置。
【請求項２５】  前記プローブが信号装置から前記末梢体位置の心臓側までの距離にわたって前記圧力場を及ぼし、そこにおける静脈鬱血の発生を防ぐ、請求項２１に記載の装置。
【請求項２６】  前記外部プローブが、前記末梢体位置において末梢動脈の緊張の変化を測定する、請求項２１に記載の装置。
【請求項２７】  個人の前記末梢体位置が、個人の指、つま先、および耳たぶである、請求項２１に記載の装置。
【請求項２８】  前記外部プローブが、容積測定装置または容積に関連した指標を生じうる装置である、請求項２１に記載の装置。
【請求項２９】  前記外部プローブが、光学測定装置である、請求項２１に記載の装置。
【請求項３０】  この装置がさらに、個人の睡眠状態条件を決定するために前記外部プローブ出力と共に前記信号装置によって用いられる出力を生じるために、個人の血液酸素飽和レベルを監視するための脈拍酸素濃度計も含んでいる、請求項２１に記載の装置。
【請求項３１】  この装置がさらに、個人の睡眠状態条件を決定するために前記外部プローブ出力と共に前記信号装置によって用いられる出力を生じるために、個人の口−鼻空気流を監視するための口−鼻空気流センサーも含んでいる、請求項２１に記載の装置。
【請求項３２】  前記装置がさらに、個人の睡眠／覚醒状態を検出するための睡眠／覚醒検出器も含んでいる、請求項２１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月1日(2008.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  成形三次元研磨物品であって、
（ａ）複数の研磨複合体を含み、前記研磨複合体が、
（ｉ）約１０μｍ以下の平均粒径を有する複数の一次研磨粒子と、
（ｉｉ）前記複数の研磨粒子を接合させて前記研磨複合体を形成するセラミックの第１のバインダーマトリックスとを含み、少なくとも２０体積％の複合体間間隙率、および少なくとも５体積％の複合体内間隙率を有する物品。
【請求項２】  前記複合体内間隙率が約６〜５０体積％である、請求項１に記載の成形三次元研磨物品。
【請求項３】  （ａ）前記複数の研磨複合体を互いに接合させる第２のバインダー材料と、
（ｂ）前記第２のバインダー材料と前記研磨複合体とによって画定される前記複合体間間隙と、
をさらに含む、請求項１に記載の成形三次元研磨物品。
【請求項４】  前記研磨物品が約２５〜７５体積％の複合体間間隙率を有する、請求項１に記載の成形三次元研磨物品。
【請求項５】  前記研磨物品が複数の研磨セグメントを含み、各研磨セグメントが、
（ａ）複数の研磨複合体を含み、前記研磨複合体が、
（ｉ）約１０μｍ以下の平均粒径を有する複数の一次研磨粒子と、
（ｉｉ）前記複数の研磨粒子を接合させて前記研磨複合体を形成するセラミックの第１のバインダーマトリックスと、
を含み、前記研磨物品が少なくとも２０体積％の複合体間間隙率、および少なくとも５体積％の複合体内間隙率を有する、請求項１に記載の成形三次元研磨物品。
【請求項６】  成形三次元研磨物品を製造する方法であって、
（ａ）複数の研磨複合体を提供する工程と、
（ｂ）前記複数の研磨複合体を成形して、少なくとも２０体積％の研磨複合体間間隙率、および硬化研磨複合体の０体積％より大きい複合体内空隙率を有する研磨物品を形成する工程と、
を含み、前記研磨複合体が、
（ｉ）約１０μｍ以下の平均粒径を有する複数の一次研磨粒子と、
（ｉｉ）前記複数の研磨粒子を接合させて前記研磨複合体を形成するセラミックの第１のバインダーマトリックスと、
を含む方法。
【請求項７】  複数の複合体を提供する工程が、
（ａ）複数の少なくとも部分的に硬化した複合体を提供する工程
を含み、前記少なくとも部分的に硬化した複合体が、複数の複合体前駆体に熱を加えることによって少なくとも部分的に硬化させたものである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】  前記複数の少なくとも部分的に硬化した複合体が初期複合体内間隙率を有し、前記複数の研磨複合体を成形して研磨物品を形成する前記工程が、
（ａ）前記複数の少なくとも部分的に硬化した複合体を成形して研磨物品を形成するおよび硬化研磨複合体を形成する工程を含み、前記硬化研磨複合体が前記硬化研磨複合体の０体積％より大きい最終複合体内間隙率を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記複数の研磨複合体を成形して少なくとも２０体積％の前記研磨複合体間間隙率を有する研磨物品を形成する前記工程が、
（ａ）前記複数の研磨複合体を成形して、２５〜７５体積％の研磨複合体間間隙率を有する研磨物品を形成することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】  工作物表面を研磨する方法であっって、
（ａ）（ｉ）（Ａ）約１０μｍ以下の平均粒径を有する複数の一次研磨粒子と、
（Ｂ）前記複数の研磨粒子を接合させて前記研磨複合体を形成するセラミックの第１のバインダーマトリックスと、
を含む複数の研磨複合体と、
（ｉｉ）少なくとも２０体積％の複合体間間隙率と、
（ｉｉｉ）少なくとも５体積％の複合体内空隙率と、
を含む研磨物品を提供する工程と、
（ｂ）工作物表面を前記複数の研磨複合体と接触させる工程と、
（ｃ）前記研磨物品および工作物表面を互いに関して移動させる工程と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月30日(2008.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  木材を色付けする方法であって、
ａ）染料少なくとも１種と、
ｂ）式（Ｉ）又は（II）：
【化１】
2003532569.tif 000001
〔式中、
Ｇ1及びＧ2は、互いに独立してＣ1−Ｃ4アルキルであるか、又は一緒になってペンタメチレンであり、
Ｚ1及びＺ2はメチルであるか、又はＺ1及びＺ2は架橋員（これは、非置換又はエステル、エーテル、ヒドロキシル、オキソ、シアノヒドリン、アミド、アミノ、カルボキシル若しくはウレタン基により置換されている）を形成し、
Ｅはオキシル又はヒドロキシルであり、そして
Ｘは無機又は有機陰イオンであり、
陽イオンｈの総数が陰イオンｊの総数と一致する〕
で示される染料安定剤少なくとも一種と、
を含有する水性配合物で、色付けされていない木材を処理することを含む方法。
【請求項２】  使用される染料安定剤が、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン；１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン；１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウムクロリド；１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウムアセタート；１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウムビスルファート；１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウムシトラート；ビス（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウム）シトラート；トリス（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウム）シトラート；テトラ（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウム）エチレンジアミンテトラアセタート；テトラ（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−アセトアミドピペリジニウム）エチレンジアミンテトラアセタート；テトラ（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−オキソピペリジニウム）エチレンジアミンテトラアセタート；ペンタ（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジニウム）ジエチレントリアミンペンタアセタート；ペンタ（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−アセトアミドピペリジニウム）ジエチレントリアミンペンタアセタート及びペンタ（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−オキソピペリジニウム）ジエチレントリアミンペンタアセタートからなる群より選択される、請求項１記載の方法。
【請求項３】  最初に木材を色付けし、次にそれを式（Ｉ）又は（II）：
【化３】
2003532569.tif 000002
〔式中、
Ｇ1及びＧ2は、互いに独立してＣ1−Ｃ4アルキルであるか、又は一緒になってペンタメチレンであり、
Ｚ1及びＺ2はメチルであるか、又はＺ1及びＺ2は架橋員（これは、非置換又はエステル、エーテル、ヒドロキシル、オキソ、シアノヒドリン、アミド、アミノ、カルボキシル若しくはウレタン基により置換されている）を形成し、
Ｅはオキシル又はヒドロキシルであり、そして
Ｘは無機又は有機陰イオンであり、
陽イオンｈの総数が陰イオンｊの総数と一致する〕
で示される染料安定剤で処理することを含む、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  染料少なくとも１種と、式（Ｉ）又は（II）：
【化４】
2003532569.tif 000003
〔式中、
Ｇ1及びＧ2は、互いに独立してＣ1−Ｃ4アルキルであるか、又は一緒になってペンタメチレンであり、
Ｚ1及びＺ2はメチルであるか、又はＺ1及びＺ2は架橋員（これは、非置換又はエステル、エーテル、ヒドロキシル、オキソ、シアノヒドリン、アミド、アミノ、カルボキシル若しくはウレタン基により置換されている）を形成し、
Ｅはオキシル又はヒドロキシルであり、そして
Ｘは無機又は有機陰イオンであり、
陽イオンｈの総数が陰イオンｊの総数と一致する〕
で示される染料安定剤少なくとも一種と、
を含有する水性ウッドステイン。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月28日(2008.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アプリケーターパッドを使用して、モース硬度が０．４〜３の間であり最大寸法が１００μｍ未満である粒子を含む乾燥組成物で、表面を有するポリマー基材をコーティングする方法であって、前記表面に対して垂直方向の圧力が０ｇ／ｃｍ２を超え３０ｇ／ｃｍ２未満の圧力で、前記基材上で有効量の前記粒子をバフィングすることを含み、その際、前記粒子の均一コーティングが得られるように前記表面上の一箇所に関して複数の方向に、前記表面と平行な面に前記アプリケーターパッドを移動させる、コーティング方法。
【請求項２】  前記アプリケーターパッドを前記基材の表面と平行な軌道パターンで移動する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記粒子が、カーボンブラック、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ（二フッ化ビニリデン）、硫黄、二硫化タングステン、ポリエーテルイミド樹脂、ゼオライト、Ｌ−アスコルビン酸、塩化銀、スルファジアジン銀、およびアミノ酸からなる群より選択される粒子と、黒鉛、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、クレー、および六方晶系窒化ホウ素からなる群より選択される粒子との混合物から選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】  前記粒子がバフィング補助粒子と表層剥離性粒子とを含み、前記バフィング補助粒子が、コーティングされる前記基材に対して低親和性であり、かつ前記表層剥離性粒子に対して低親和性である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】  コーティングされたポリマー基材であって、前記コーティングは、バインダーを含有せず、モース硬度が１〜２．５の間であり最大寸法が１００μｍ未満である乾燥粒子からなり、前記コーティングの厚さは３μｍ未満であり、均一であり、一方の寸法が他方の寸法よりも長い粒子の場合、前記基材の面内で前記コーティングが不規則に配向している、コーティングされたポリマー基材。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成19年12月3日(2007.12.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１，３−プロパンジオールを用いてテレフタル酸またはジメチルテレフタレートをエステル化し、このエステル化生成物を予備縮合させて予備縮合生成物を生成し、この予備縮合生成物を重縮合させてポリトリメチレンテレフタレートを生成することによる、ポリトリメチレンテレフタレートを重合する方法であって、エステル化および／または重縮合段階から過剰な１，３−プロパンジオールを除去し、１，３−プロパンジオールの蒸気を分離容器内で高沸点留分（固体状副生成物）から分離する、該方法における、
（ａ）周期表（ＩＵＰＡＣ  １９８９年）の３〜１２族および１４〜１５族の第３、第４、または第５周期の１種または複数の金属の化合物からなる群から選択される、金属を基準として５ｐｐｍから５０００ｐｐｍの金属触媒の存在下で、場合によっては希釈剤の存在下で、１００℃から２４０℃の温度で５分から２４時間、固体状副生成物を加熱すること、および
（ｂ）場合によってはこの反応生成物を重合プロセスに再循環させること
を含む改良。
【請求項２】
固体状副生成物が、ステップ（ａ）を実施する別の反応容器に移される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップ（ａ）を、分離容器内で実施する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
予備縮合および／または重縮合段階の真空凝縮器内で、固体状副生成物から１，３−プロパンジオールの蒸気を分離し、固体状副生成物をそこから別の反応容器に移し、そこでこの固体状副生成物を周期表（ＩＵＰＡＣ  １９８９年）の３〜１２族および１４〜１５族の第３、第４、または第５周期の１種または複数の金属の化合物からなる群から選択される、金属を基準として５ｐｐｍから５０００ｐｐｍの触媒の存在下で、場合によっては希釈剤の存在下で、１００℃から２２０℃の温度で５分から２４時間加熱し、その反応生成物を場合によっては重合プロセスに再循環させる請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
固体状副生成物からの１，３−プロパンジオールの蒸気の分離を該プロセスのエステル化段階の一部である分離容器内で実施し、その中でこの固体状副生成物を周期表（ＩＵＰＡＣ  １９８９年）の３〜１２族および１４〜１５族の第３、第４、または第５周期の１種または複数の金属の化合物からなる群から選択される、金属を基準として５ｐｐｍから５０００ｐｐｍの触媒の存在下で、場合によっては希釈剤の存在下で、１４０℃から２４０℃の温度で５分から２４時間加熱し、その反応生成物を場合によっては重合プロセスに再循環させる請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項６】
１，３−プロパンジオールを用いてテレフタル酸またはジメチルテレフタレートをエステル化し、このエステル化生成物を予備縮合させて予備縮合生成物を生成し、この予備縮合生成物を重縮合させてポリトリメチレンテレフタレートを生成することによって、ポリトリメチレンテレフタレートを重合する方法であって、１，３−プロパンジオールの蒸気を予備縮合および／または重縮合段階の真空凝縮器内で、高沸点留分（固体状副生成物）から分離し、過剰な１，３−プロパンジオールおよび固体状副生成物を除去する、該方法における、
（ａ）予備縮合および／または重縮合段階の真空凝縮器からの固体状副生成物を、別の反応容器に移すこと、
（ｂ）この反応容器内で、周期表（ＩＵＰＡＣ  １９８９年）の３〜１２族および１４〜１５族の第３、第４、または第５周期の１種または複数の金属の化合物からなる群から選択される、金属を基準として５ｐｐｍから５０００ｐｐｍの金属触媒の存在下で、場合によっては希釈剤の存在下で、１００℃から２２０℃の温度で５分から２４時間、固体状副生成物を加熱すること、および
（ｃ）場合によってはこの反応生成物を重合プロセスに再循環させること
を含む改良。
【請求項７】
（ａ）１，３−プロパンジオールを用いてテレフタル酸またはジメチルテレフタレートをエステル化することと、
（ｂ）このエステル化生成物を予備縮合させて予備縮合生成物を生成することと、
（ｃ）この予備縮合生成物を重縮合させてポリトリメチレンテレフタレートを生成することと、
（ｄ）該プロセスのエステル化段階の一部である分離容器内で、固体状副生成物から１，３−プロパンジオールの蒸気を分離することと、
（ｅ）このエステル化段階の分離容器内で、固体状副生成物を、周期表（ＩＵＰＡＣ  １９８９年）の３〜１２族および１４〜１５族の第３、第４、または第５周期の１種または複数の金属の化合物からなる群から選択される、金属を基準として５ｐｐｍから５０００ｐｐｍの金属触媒の存在下で、場合によっては希釈剤の存在下で、１４０℃から２４０℃の温度で５分から２４時間加熱することと、
（ｆ）場合によっては、この反応生成物を重合プロセスに再循環させることと、
（ｇ）場合によっては、予備縮合および／または重縮合段階で得られた過剰な１，３−プロパンジオールを、エステル化段階の分離容器に再循環させることと、
（ｈ）場合によっては、エステル化段階の分離容器のボトムからの固体状副生成物を取り除き、それを別の反応容器に移し、そこで、固体状副生成物を、周期表（ＩＵＰＡＣ  １９８９）の３〜１２族および１４〜１５族の第３、第４、または第５周期の１種または複数の金属の化合物からなる群から選択される、金属を基準として５ｐｐｍから５０００ｐｐｍの金属触媒の存在下で、場合によっては希釈剤の存在下で、１００℃から２２０℃の温度で、５分から２４時間加熱させることと
を含む、ポリトリメチレンテレフタレートを重合するための方法。
【請求項８】
金属触媒が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、およびＳｂの塩からなる群から選択される請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
金属触媒が、Ｔｉ、Ｓｎ、およびＺｎの塩からなる群から選択される請求項８に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
（実施例５［比較例］）
蒸留ボトム（２９．７グラム）を、Ｋ２ＣＯ３  ０．３グラムと共に、１６０℃で２時間加熱し、室温に冷却した。この半固体を、追加の塩基０．３グラム、次いで追加の塩基０．７５グラムと共に、１７０℃に再加熱したが、生成物は、依然として室温で半固体であった。ＮＭＲは、この生成物が、環状二量体を含まず、約１２重量％のオリゴマー（Ｍｎ＝２９８）を含むことを示した。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの第１材料から形成されるコアと、
第２材料を用いる前記コアの少なくとも部分的被膜であって、該第２材料は、前記第１材料よりも低い軟化点を有する被膜と
を備える、選択レーザ焼結に用いられる粒子において、
前記第２材料の前記軟化点は、７０℃よりも低いことを特徴とする粒子。
【請求項２】
前記被膜は、ポリマー又はポリビニルアセタールであることを特徴とする請求項１に記載の粒子。
【請求項３】
前記被膜は、熱可塑性ポリマー又はポリビニルブチラールであることを特徴とする請求項２に記載の粒子。
【請求項４】
前記被膜は、疎水性であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項５】
前記コアは、金属、セラミック、ポリマーからなる材料の群から選択される少なくとも１つの要素を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項６】
前記コアは、緩く又は堅く接合された、金属、セラミック、ポリマーからなる材料の群からの少なくとも２つの部分を備えることを特徴とする請求項５に記載の粒子。
【請求項７】
選択レーザ焼結によって三次元物体を製造する方法であって、
粒子の層を目標表面に塗布する工程と、
前記物体の断面に対応する前記層の選択された部分を、エネルギービームを用いて照射し、前記粒子が、前記選択された部分において接合される工程と、
前記塗布及び照射工程を複数の層に対して繰り返し、隣接層の前記接合された部分が結合し、前記物体を形成する工程とを含む方法において、
軟化点が、７０℃未満である少なくとも１つの材料を含む粒子が、用いられることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の粒子が用いられることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
照射されるべき少なくとも前記粒子層が、前記粒子材料の最も低い軟化点よりも２〜３℃低い温度レベルまで、さらに加熱されることを特徴とする請求項７あるいは８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の粒子を用い、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法によって製造されることを特徴とする、接合粒子から形成される物体。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
本発明による粒子の有利な実施形態において、コアは、金属、セラミック、ポリマーからなる材料の群からの少なくとも１つの要素を含む。これに関連して、これらの用語は、ここでも、広い意味に理解されるべきである。金属は、准金属も包含し、セラミックは、砂なども包含し、ポリマーは、前述の定義に準じる。この種のコアと前述の被膜を有する粒子によって、実質的にいかなる所望の物理学的、特に機械的性質を有する構成部品でも、ＳＬＳによる製造が可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタ構造と、
層になったポリマーのフィルタ媒体とを含み、
前記フィルタ媒体は、過フッ化ポリマー材料を実質的に含まず、前記層になったポリマーのフィルタ媒体は、１つの連続する媒体マット中で少なくとも３つの隣接する層の繊維からなり、前記フィルタ媒体は、５から３５μｇ/ｃｍ2の坪量と１から１００μｍの厚さとを有し、各層は、水の２０ｍＬ/ｍｉｎ/ｃｍ2の流速において０．２μｍの粒子について少なくとも９８％の試験ろ過効率を有し、前記マットが５％から５０％の固体性をもち、
前記繊維は、０．０３から０．５μｍの直径をもつ有機ポリマーを含むことを特徴とするフィルタ。
【請求項２】
前記１つの連続する媒体マットの固体性は、５％から３０％であり、前記各層は、少なくとも９８％の試験ろ過効率を有することを特徴とする請求項１に記載のフィルタ媒体。
【請求項３】
前記１つの連続する媒体マットは、５から１００μｍの厚さと１０ｐｓｉにおいて水の１０ｍＬ/ｍｉｎ/ｃｍ2より大きい流束を有することを特徴とする請求項１に記載のフィルタ媒体。
【請求項４】
前記フィルタ媒体は、多孔性の支持体と結合されており、前記フィルタ構造は、円筒状のカートリッジまたは平坦パネルフィルタを含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ媒体。
【請求項５】
前記１つの連続するマットの厚さは、５から８０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のフィルタ媒体。
【請求項６】
前記フィルタ媒体は、平坦パネルフィルタ構造を含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ媒体。
【請求項７】
前記フィルタ媒体は、円筒フィルタ構造を含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
電子ファイルは様々な技法を使用して作成することが可能である。そのため、様々なユーザに対してアクセス可能にすることができるように、電子ファイルの作成に使用されるプロセスから独立したフォーマットで電子ファイルからのデータを格納することが望ましいことがある。このようなアクセスが可能な一フォーマットがポータブルドキュメントフォーマットである。ポータブルドキュメントフォーマット（「ｐｄｆ」）は、ドキュメントの作成に使用されたアプリケーションソフトウェア、ハードウェア、およびオペレーティングシステムから独立して、またそのファイルが表示またはプリントされる出力装置から独立してドキュメントを表すファイルフォーマットである。ドキュメント・レイアウト構造の抽出については、たとえば非特許文献１に記載されている。
【非特許文献１】LIANG J., et.al., “Document layout structure extraction using bounding boxes of different entitles”, Applications of Computer Vision, 1996, WACV ’96, Proceedings 3rd IEEE Workshop on Sarasota, FL, U.S.A., 2-4 December, 1996, Los Alamitos, CA, U.S.A., IEEE Comput. Soc. US, 2 December 1996, pp. 278-283, XP010206444, ISBN 0-8186-7620-5
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素を、触媒の存在下、３００〜１０００℃の温度及び１〜２０バールの圧力で、空気及び／又は水と反応させることにより水素ガスを製造する方法において、
触媒として、一般式ＭxＡｌ2Ｏ4［但し、ＭがＣｕ、ＣｕとＺｎとの混合物、又はＣｕとＭｇとの混合物を表し、そしてｘが０．８〜１．５の範囲である。］で表され、且つ結晶形中に５質量％以下の遊離酸化物を含み、さらにロジウムを含むスピネルを用いることを特徴とする方法。
【請求項２】
炭化水素として、脂肪族又は芳香族炭化水素、或いは炭化水素混合物を用いる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
炭化水素ガスとしてメタンを用いる請求項１又は２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
炭化水素ガスとして天然ガスを用いる請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
炭化水素を、３００〜１０００℃の温度及び１〜２０バールの圧力で、空気及び／又は水と反応させることにより水素ガスを製造するための触媒であって、一般式ＭxＡｌ2Ｏ4［但し、ＭがＣｕ、ＣｕとＺｎとの混合物、又はＣｕとＭｇとの混合物を表し、そしてｘが０．８〜１．５の範囲にある。］で表され、且つ結晶形中に５質量％以下の遊離酸化物を含み、さらにロジウムを含むスピネルであることを特徴とする触媒。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の方法を、工程の一部として用いることを特徴とする、燃料電池用の水素を得る方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載の方法を工程の一部として用いた後、水素含有改質流から一酸化炭素を除去する少なくとも一つの工程が行われることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
上記目的は、炭化水素を、触媒の存在下、３００〜１０００℃の温度及び１〜２０バールの圧力で、空気及び／又は水と反応させることにより水素ガスを製造する方法において、
触媒として、一般式ＭxＡｌ2Ｏ4［但し、ＭがＣｕ、ＣｕとＺｎとの混合物、又はＣｕとＭｇとの混合物を表し、そしてｘが０．８〜１．５の範囲である。］で表され、且つ結晶形中に５質量％以下の遊離酸化物を含み、さらにロジウムを含むスピネルを用いることを特徴とする新規で改良された方法、により達成されることを見いだした。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明の触媒は、さらに、別の金属活性成分を含むことができる。このような金属活性成分としては、第VIII族の遷移金属のロジウムである。ロジウムの含有量は、一般に０．０１〜７．５質量％、好ましくは０．１〜２質量％である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
さらに、周期表第VIII族の遷移金属であるロジウムが、触媒に施される。これらの元素は、公知の製造方法、例えば含浸（飽和）、沈殿（析出）、無電界メッキ(electroless deposition)、ＣＶＤ法又は蒸着により施される。これらの貴金属を、硝酸塩の形で施すことが好ましい。含浸後、２００〜１０００℃の温度における分解及び任意の還元により、元素の貴金属が得られる。他の公知の方法を貴金属を施すために利用することもできる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
本発明の方法は、いわゆる改質装置で水素を得るために好適である。本発明の方法は、燃料電池用の水素を得るための全工程の一部のみである。全工程は、炭化水素の改質のみならず、例えば１種以上の水性ガスシフト（移動）工程及び任意に選択的酸化によって、水素を含む改質流から一酸化炭素を除去する処理工程も含んでいる。一酸化炭素を除去する処理工程は、例えばＷＯ−Ａ−００／６６４８６、ＷＯ−Ａ−００／７８６６９及びＷＯ−Ａ−９７／２５７５２に記載されている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月14日(2007.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
頭部拘束組立体（１０）を製造する方法であって、
枕（４０）を設ける工程、
前記枕（４０）を真空機械（６）に乗せる工程、
前記枕（４０）をバッグ（８）で覆う工程、
前記バッグ（８）内の枕（４０）から真空機械（６）によって空気を引き抜く工程、
前方端（５７）および後方端（５９）をもつ面パネル（５４）を有するカバー組立体（５０）を設ける工程、
前記枕（４０）上に前記カバー組立体（５０）を置く工程、
前記バッグ（８）およびカバー組立体（５０）内にある前記枕（４０）に空気を入れて該枕（４０）が前記カバー組立体（５０）内で膨張するようにする工程、
前記バッグ（８）を調整する工程、
フレーム組立体（２０）を設ける工程、
前記フレーム組立体（２０）を前記枕（４０）に挿入する工程、
前記カバー組立体（５０）の面パネル（５４）の後方端（５９）を前記フレーム組立体（２０）に挿入する工程、ならびに
前記カバー組立体（５０）の面パネル（５４）の前方端（５７）を前記フレーム組立体（２０）に挿入し、前記カバー組立体（５０）の面パネル（５４）の前方端（５７）および後方端（５９）を前記フレーム組立体（２０）内で連結する工程、
を含む頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項２】
平坦ストリップ部材（６２）を前記カバー組立体（５０）の面パネル（５４）の後方端（５９）に縫い付ける工程、および
鈎状ストリップ部材（６４）を前記カバー組立体（５０）の面パネル（５４）の前方端（５７）に縫い付ける工程、
を含む請求項１に記載の頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項３】
前記鈎状ストリップ部材（６４）から離間された距離で前記面パネル（５４）の前方端（５７）上にフラップ（６１）を形成する工程を含む、請求項１に記載の頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項４】
前記離間された距離は１１ｍｍと１６ｍｍとの間にある、請求項３に記載の頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項５】
前記フレーム組立体（２０）を前記枕（４０）に挿入した後、前記頭部拘束組立体（１０）をバイス・ジグ（８０）に置く工程、
前記頭部拘束組立体（１０）を前記バイス・ジグ（８０）によって圧縮する工程、および
前記面パネル（５４）の前方端（５７）を前記フレーム組立体（２０）に挿入する工程後、前記頭部拘束組立体（１０）を前記バイス・ジグ（８０）から解放する工程、
を含む、請求項１に記載の頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項６】
前記フレーム組立体（２０）および枕（４０）に接着剤（３１）を塗布して移動を防止する工程を含む、請求項５に記載の頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項７】
前記カバー組立体（５０）は、織物、ポリ塩化ビニル、および革を含む群から選択された材料（５１）からなる、請求項１に記載の頭部拘束組立体（１０）製造方法。
【請求項８】
フレーム組立体（２０）、該フレーム組立体（２０）に連結された枕（４０）、ならびに前方端（５７）および後方端（５９）を有するカバー組立体（５０）を含む頭部拘束組立体（１０）のカバー組立体（５０）の一部分を保持する保持装置（３２）であって、
前記カバー組立体（５０）の後方端（５９）に連結された平坦ストリップ部材（６２）と、
前記カバー組立体（５０）の前方端（５７）に連結された鈎状ストリップ部材（６４）と、ならびに
前記フレーム組立体（２０）に連結されていて、前記平坦ストリップ部材（６２）および前記鈎状ストリップ部材（６４）を受けかつ保持するように形成された保持部材（３０）とを備え、前記カバー組立体（５０）の端が前記保持部材（３０）に食い込まされている、
保持装置（３２）。
【請求項９】
前記保持部材（３０）に配置されかつ前記カバー組立体（５０）の前方端（５７）および後方端（５９）に接触するように形成された接着剤（３１）ビードを含む、請求項８に記載の保持装置（３２）。
【請求項１０】
前記カバー組立体（５０）の前方端（５７）に縫い付けフラップ（６１）を含み、該縫い付けフラップ（６１）が前記平坦ストリップ部材（６２）および鈎状ストリップ部材（６４）を前記保持部材（３０）内に隠すように形成されている、請求項８に記載の保持装置（３２）。
【請求項１１】
前記縫い付けフラップ（６１）は、１１ｍｍと１６ｍｍとの間の離間距離で前記鈎状ストリップ部材（６４）から配置されている、請求項１０に記載の保持装置（３２）。
【請求項１２】
前記保持部材（３０）は工業用プラスチックからなる、請求項８に記載の保持装置（３２）。
【請求項１３】
前記保持部材（３０）は鋼からなる、請求項８に記載の保持装置（３２）。
【請求項１４】
前記カバー組立体（５０）は、織物、ポリ塩化ビニル、および革を含む群から選択された材料（５１）からなる、請求項８に記載の保持装置（３２）。
【請求項１５】
頭部拘束組立体（１０）であって、
保持部材（３０）を含むフレーム組立体（２０）と、
前記フレーム組立体（２０）に連結されかつ前記保持部材（３０）への接近を許すように形成された枕（４０）と、ならびに
後方端（５９）および前方端（５７）を有するカバー組立体（５０）とからなり、
前記カバー組立体（５０）は前記枕（４０）を包囲しかつ枕（４０）の形状に順応し、前記カバー組立体（５０）は前記後方端（５９）に連結された平坦ストリップ部材（６２）と、前記前方端（５７）に連結された鈎状ストリップ部材（６４）とを含み、前記両ストリップ部材が前記保持部材（３０）内で互いに連結して前記カバー組立体（５０）を閉じる、
頭部拘束組立体（１０）。
【請求項１６】
前記フレーム組立体（２０）上での前記枕（４０）の移動を防止するように、前記フレーム組立体（２０）に配置されかつ前記枕（４０）に接触するように形成された接着剤（３１）のビードを含む、請求項１５に記載の頭部拘束組立体（１０）。
【請求項１７】
前記カバー組立体（５０）の前方端（５７）にフラップ（６１）を含み、該フラップ（６１）が前記平坦ストリップ部材（６２）および鈎状ストリップ部材（６４）を前記保持部材（３０）内に隠すように形成されている、請求項１５に記載の頭部拘束組立体（１０）。
【請求項１８】
前記フラップ（６１）は、１１ｍｍと１６ｍｍとの間の離間距離で前記鈎状ストリップ部材（６４）から配置されている、請求項１７に記載の頭部拘束組立体（１０）。
【請求項１９】
前記保持部材（３０）は工業用プラスチックからなる、請求項１５に記載の頭部拘束組立体（１０）。
【請求項２０】
前記保持部材（３０）は鋼からなる、請求項１５に記載の頭部拘束組立体（１０）。
【請求項２１】
前記カバー組立体（５０）は、織物、ポリ塩化ビニル、および革を含む群から選択された材料（５１）からなる、請求項１５に記載の頭部拘束組立体（１０）。