【手続補正書】
【提出日】平成18年12月8日(2006.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）少なくとも光触媒とバインダとからなり、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を、透明基板上に設ける光触媒含有層形成工程と、
（２）前記光触媒含有層上に所定の間隔をおいて所定のパターンで形成される画素部が設けられる画素部形成部にエネルギーをパターン照射する露光工程と、
（３）前記エネルギーが照射された画素部形成部に、光触媒含有層を溶解することができる現像液を塗布し、前記画素部形成部の光触媒含有層を除去する現像液塗布工程と、
（４）前記光触媒含有層が除去された画素部形成部にインクジェット方式で着色し、画素部を形成する画素部形成工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記画素部形成工程の後、前記画素部間の間隙に露出する光触媒含有層上に前記現像液を塗布し、前記画素部間に露出する光触媒含有層を除去する第２現像液塗布工程を含むことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記第２現像液塗布工程において、前記画素部により構成される表示領域外側に存在する光触媒含有層上に前記現像液を塗布し、前記表示領域外側に存在する光触媒含有層をも除去することを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記第２現像液塗布工程の前に、前記現像液が塗布される光触媒含有層に対し、光触媒含有層の臨界表面張力が画素部の臨界表面張力よりも大きくなるようにエネルギーを照射する第２露光工程を含むことを特徴とする請求項２または請求項３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記光触媒含有層を透明基板上に形成する工程の前に、透明基板上に遮光部を形成する遮光部形成工程を含むことを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記画素部の幅が、前記遮光部により形成される開口部の幅より広く形成されることを特徴とする請求項５記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
（１）少なくとも光触媒とバインダとからなり、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を、透明基板上に設ける光触媒含有層形成工程と、
（２）前記光触媒含有層上に所定のパターンで形成される画素部が設けられる部位である画素部形成部の一部にエネルギーをパターン照射する一部露光工程と、
（３）前記一部露光工程で露光された画素部形成部の一部に光触媒含有層を溶解する現像液を塗布し、前記画素部形成部の一部の光触媒含有層を除去する一部現像液塗布工程と、
（４）前記一部現像液塗布工程で光触媒含有層が除去された画素部形成部に、インクジェット方式で着色し、一部の画素部を形成する一部画素部形成工程と、
（５）前記一部画素部形成工程で画素部が形成されなかった画素部形成部の残部に前記現像液を塗布し、前記画素部形成部の残部の光触媒含有層を除去する残部現像液塗布工程と、
（６）前記残部現像液塗布工程で光触媒含有層が除去された画素部形成部に、インクジェット方式で着色して画素部を形成する残部画素部形成工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記残部現像液塗布工程の前に、前記光触媒含有層上の残りの画素部形成部にエネルギーを照射する残部露光工程を行うことを特徴とする請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記透明基板上の濡れ性が、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角として１０度未満であることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記光触媒含有層は、エネルギーが照射されていない部分における水との接触角が、エネルギーが照射された部分における水との接触角より１度以上大きい接触角となる光触媒含有層であることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記光触媒が、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、および酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）から選択される１種または２種以上の物質であることを特徴とする請求項１から請求項１０までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
前記光触媒が酸化チタン（ＴｉＯ２）であることを特徴とする請求項１１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】
前記光触媒含有層がフッ素を含み、前記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触媒含有層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項１２までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１４】
前記バインダが、ＹｎＳｉＸ（４−ｎ）（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項１から請求項１３までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
前記現像液が、シロキサン結合を分解することができるアルカリ性溶液であることを特徴とする請求項１から請求項１４までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
前記現像液が、水酸化ナトリウム水溶液または水酸化カリウム水溶液であることを特徴とする請求項１５記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１７】
前記現像液が、前記光触媒含有層上におけるエネルギー未照射部分の臨界表面張力よりも大きい表面張力を有する現像液であることを特徴とする請求項１から請求項１６までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１８】
前記現像液が、前記画素部の臨界表面張力よりも大きい表面張力を有する現像液であることを特徴とする請求項１から請求項１７までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１９】
前記現像液の塗布が、ノズル吐出方式を用いて行われることを特徴とする請求項１から請求項１８までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２０】
前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、紫外光を含む光であることを特徴とする請求項１から請求項１９までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２１】
前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、光触媒反応開始エネルギーおよび反応速度増加エネルギーであり、前記光触媒反応開始エネルギーを照射した部分に前記反応速度増加エネルギーを照射することにより、露光部分を形成することを特徴とする請求項１から請求項１９までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２２】
請求項１から請求項２１までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方法によりカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造工程と、前記カラーフィルタ製造工程により得られたカラーフィルタを用いてカラー液晶表示装置を製造するカラー液晶表示装置製造工程とを少なくとも有することを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。