Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月12日(2008.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一の光硬化性材料で形成される第１硬化部分と第２硬化部分とを含む層を備える構造体であって、
前記第１硬化部分が第１量まで硬化され、前記第２硬化部分が第２量まで硬化されており、
前記第１量が第２量と十分に異なっている結果、前記構造体の表面上に視認できる不連続面が形成されている、構造体。
【請求項２】
請求項１において、前記層がベースに接合されている構造体。
【請求項３】
請求項２において、前記層およびベースが同一材料で形成されている構造体。
【請求項４】
請求項１において、前記第１量が第２量と十分に異なっている結果、第１部分の厚さと第２部分の厚さとに、約０．０５〜２．０マイクロメートルの範囲の差が生じている構造体。
【請求項５】
請求項１において、前記光硬化性材料が、ポリエステル、ウレタン、エポキシ・アクリレートおよびメタクリレートからなるグループから選択されている構造体。
【請求項６】
請求項１において、前記ベースが、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、アクリル樹脂およびポリ塩化ビニルからなるグループから選択される材料から形成されている構造体。
【請求項７】
請求項１において、前記層がリニア・プリズムを含む構造体。
【請求項８】
請求項１において、前記層がレンズ構造を含む構造体。
【請求項９】
請求項１において、前記層がキューブコーナー・プリズムを含む構造体。
【請求項１０】
請求項１において、前記層がサブ波長構造体を含む構造体。
【請求項１１】
請求項１において、前記第１硬化部分が、ロゴ、幾何学的形状または英数字を表わすように構成されている構造体。
【請求項１２】
請求項１において、前記第１硬化部分が第２硬化部分と異なる屈折率を有する構造体。
【請求項１３】
請求項１において、前記第１硬化部分が第２硬化部分と異なる密度を有する構造体。
【請求項１４】
請求項１において、前記ベースおよび前記層が同一光硬化性材料を含む構造体。
【請求項１５】
放射線硬化性材料にパターンを形成する方法であって、
ａ）放射線源と放射線硬化性材料との間に、前記放射線源からの放射線の一部を遮断できる遮断パターンを設け、
ｂ）前記遮断パターンを通過する、放射線源からの放射線により前記材料を硬化させて、材料にパターンを形成し、前記パターンが、第１量まで硬化される第１硬化部分と、第２量まで硬化される第２硬化部分とであり、前記第１量が前記第２量と十分に異なる結果、構造体の表面上に視認できる不連続面が形成される、各ステップを含む方法。
【請求項１６】
請求項１５において、前記放射線源は紫外線を放射する方法。
【請求項１７】
請求項１２において、前記放射線硬化性材料が、ポリエステル、ウレタン、エポキシ・アクリレートおよびメタクリレートから選択される方法。
【請求項１８】
請求項１５において、前記パターンが、ロゴ、幾何学的形状または英数字として構成されている方法。
【請求項１９】
請求項１５において、前記遮断パターンが別個のフィルム上に形成されている方法。
【請求項２０】
請求項１５において、前記放射線硬化性材料がベース・フィルムに接合されている方法。
【請求項２１】
請求項２０において、前記遮断パターンが前記ベース・フィルム上に除去可能に設けられている方法。
【請求項２２】
請求項１５の方法で形成される構造体。
【請求項２３】
ａ）放射線を放射する放射線源と、
ｂ）前記放射線により硬化させることができる放射線硬化性材料と、
ｃ）前記放射線の一部を遮断するパターンであって、前記放射線硬化性材料を硬化する間、前記放射線源と前記放射線硬化性材料との間に配置されて、第１硬化部分と第２硬化部分とから識別可能なパターンを、前記材料に形成するパターンと、を備えたパターン転写装置。
【請求項２４】
請求項２３において、前記放射線源が紫外線を放射するパターン転写装置。
【請求項２５】
請求項２３において、前記放射線硬化性材料が、ポリエステル、エポキシ・アクリレート、ウレタンおよびメタクリレートからなるグループから選択されるパターン転写装置。
【請求項２６】
請求項２３において、前記パターンが、ロゴ、幾何学的形状または英数字として構成されているパターン転写装置。
【請求項２７】
プリズム構造体を形成する方法であって、
ａ）プリズム成形型を設け、
ｂ）前記成形型内に放射線硬化性材料を設置し、
ｃ）放射線源と前記放射線硬化性材料との間に、前記放射線硬化性材料の一部を遮蔽できる遮断パターンを設け、
ｄ）前記放射線源からの放射線で前記放射線硬化性材料を硬化させて、前記遮断パターンにより、該放射線硬化性材料に第１硬化部分と第２硬化部分とを含むパターンを形成する、各ステップを含む方法。
【請求項２８】
請求項２７において、前記第１硬化部分が第２硬化部分と異なる屈折率を有する構造体。
【請求項２９】
請求項２７において、前記第１硬化部分が第２硬化部分と異なる密度を有する構造体。
【請求項３０】
ａ）ベースと、
ｂ）前記ベースに接合されるプリズム・アレイと、を備えたプリズム構造体であって、
前記プリズム・アレイが、同一の放射線硬化性材料から形成される第１硬化部分および第２硬化部分を含み、
前記第１硬化部分が第１屈折率を有し、第２硬化部分が前記第１屈折率と十分に異なる第２屈折率値を有している結果、前記構造体の表面に視認できる不連続面が形成されている、プリズム構造体。
【請求項３１】
放射線硬化性の液状材料から光学フィルムを連続的に形成する方法であって、
前記光学フィルムに形成される光学構造体のための形状を形成する成形型を設け、
前記成形型内に前記放射線硬化性の液状材料を設置し、
放射線透過性のベース・フィルムを、前記成形型内において前記放射線硬化性の液状材料と隣り合うように位置決めし、
放射線源を、前記成形型内にある間に前記放射線硬化性の液状材料を照射できるように位置決めし、
ベース・フィルムの上にマスク・フィルムを重ね合わせて、このマスク・フィルムを前記放射線源と前記ベース・フィルムとの間に配置し、その際、前記マスク・フィルムは、前記光学フィルムにおける、前記光学構造体の曲線部を設ける領域をさらに形成するパターンを備えており、前記曲線部は、前記マスク・フィルムが用いられない場合は前記成形型のみによって形成され、
前記液状材料を前記放射線源によって露光させることにより、硬化およびパターン化を同時に行い、その際、放射線は前記マスク・フィルムと前記透過性のベース・フィルムを同時に通過し、前記成形型内の前記液状材料に到達することにより、単一のステップとして、前記液状材料を硬化させると同時に、硬化した光学構造体をパターン化し、さらに、前記光学構造体の形状に前記曲線部を付加するパターン化を行い、これにより、曲線部を有する光学構造体を、前記マスク・フィルムによって、硬化工程時に放射線による異なる露光を受けることで形成する、各ステップを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月7日(2008.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  筐体に取り付けるためのフィルタ構造であって、
（ａ）第１端部と前記第１端部に対向する第２端部を有し、前記第１端部が前記筐体に取り付けられ、かつ前記第２端部が受け部を有したヨークと、
（ｂ）前記ヨークによって支持されるフィルタであって、第１端部と前記第１端部に対向する第２端部を含み、前記第２端部が開口部を画定したフィルタと、
（ｃ）カバーであって、
（ｉ）前記フィルタの前記第２端部に画定された前記開口部の蓋をするためのプレートと、
（ｉｉ）前記プレートに連結された締付け部材と、
（ｉｉｉ）前記締付け部材に動作可能に連結されるとともに、前記受け部と協働して係合する係合部材を有した留め部と、を備え、
前記締付け部材は、前記プレートに対して前記留め部を移動できるように調整でき、
前記締付け部材の操作で、前記プレートを前記受け部側に移動させることで前記開口部を封止することを特徴とするフィルタ構造。
【請求項２】  前記ヨークの前記第２端部は、前記留め部が前記受け部に係合するように案内して、前記係合部材を前記受け部と係合させる少なくとも一つの案内面をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のフィルタ構造。
【請求項３】  前記ヨークの前記第２端部は、一対の前記案内面を備えることを特徴とする請求項２に記載のフィルタ構造。
【請求項４】  前記ヨークは、複数のロッドを備えることを特徴とする請求項２に記載のフィルタ構造。
【請求項５】  空気フィルタ組立体であって、
（ａ）筐体であって、空気吸入口と、空気排出口と、前記筐体を濾過チャンバと清浄空気チャンバとに分離する間隔壁とを具備し、前記間隔壁がその中に第１空気流開口を有する前記筐体と、
（ｂ）前記濾過チャンバ内に配置され、かつ前記間隔壁中の第１空気流開口と空気流連通する第１フィルタ構造であって、
（ｉ）第１端部と前記第１端部に対向する第２端部を有し、前記第１端部が前記間隔壁に結合し、かつ前記第２端部が受け部を有したヨークと、
（ｉｉ）前記ヨークによって支持されるフィルタであって、第１端部から前記第１端部に対向する第２端部まで開通する開口部を画定し、前記フィルタの前記第１端部中の開口部と前記間隔壁中の空気流開口の間で空気流連通があるように、前記フィルタの前記第１端部が前記間隔壁中の第１空気流開口に隣接して配置される前記フィルタと、
（ｉｉｉ）カバーであって、
（Ａ）前記フィルタの前記第２端部中の開口部に蓋をするプレートと、
（Ｂ）前記プレートに連結する締付け部材と、
（Ｃ）前記締付け部材に動作可能に連結されるとともに、前記受け部と協働して係合する係合部材を有した留め部と、を備え、
前記締付け部材は、前記プレートに対して前記留め部を移動できるように調整でき、
前記締付け部材の操作で、前記プレートを前記受け部側に移動させることで前記開口部を封止することを特徴とする空気フィルタ組立体。
【請求項６】  前記フィルタが、２つ以上のフィルタ要素を含むことを特徴とする請求項５に記載の空気フィルタ組立体。
【請求項７】  第２フィルタ構造をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の空気フィルタ組立体。
【請求項８】  空気フィルタ組立体にアクセスする方法であって、
（ａ）空気フィルタ組立体からカバーを取り外す工程であって、
空気フィルタ組立体は、
（ｉ）筐体であって、空気吸入口と、空気排出口と、前記筐体を濾過チャンバと清浄空気チャンバに分離する間隔壁とを具備し、前記間隔壁がその中に第１空気流開口を有する前記筐体と、
（ｉｉ）前記濾過チャンバ内に配置されかつ前記間隔壁中の第１空気流開口と空気流連通する第１フィルタ構造であって、
（Ａ）第１端部と該第１端部に対向する第２端部を有し、前記第１端部が前記間隔壁に結合しかつ前記第２端部が受け部を備えるヨークと、
（Ｂ）前記ヨークによって支持されるフィルタであって、前記フィルタを通じて第１端部から該第１端部に対向する第２端部まで開通する開口部を画定し、前記フィルタの前記第１端部中の前記開口部と前記間隔壁中の前記空気流開口の間に空気流連通があるように、前記フィルタの前記第１端部が前記間隔壁中の前記第１空気流開口に隣接して配置される前記フィルタと、
（Ｃ）カバーであって、
（Ｉ）前記フィルタの前記第２端部中の前記開口部に蓋をするプレートと、
（ＩＩ）前記プレートに連結する締付け部材と、
（ＩＩＩ）前記締付け部材に動作可能に連結されるとともに、前記受け部と協働して係合する係合部材を有した留め部と、を備え、
前記締付け部材は、前記プレートに対して前記留め部を移動できるように調整でき、
前記締付け部材の操作で、前記プレートを前記受け部側に移動させることで前記フィルタの前記第２端部中の前記開口部を封止させ、
（ｂ）前記フィルタにアクセスする工程と、
（ｃ）前記フィルタの前記第２端部中の前記開口部を前記カバーで封止する工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】  前記フィルタにアクセスする前記工程が、
（ａ）空気フィルタ組立体からフィルタを取り外す工程と、
（ｂ）前記フィルタの交換が必要であるかどうかを判断する工程と、
（ｃ）前記空気フィルタ組立体に前記フィルタを戻す工程とを含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記フィルタにアクセスする工程が、前記フィルタを第２のフィルタと交換する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月1日(2008.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１の熱可塑性ポリマー及び少なくとも１の加硫性ポリマーを含有する熱可塑性加硫ゴムのフィルムを製造する方法であって、
（ａ）熱可塑性加硫ゴムを加熱する工程、
（ｂ）熱可塑性ポリマーの異方性配置を生じさせる少なくとも１の延伸方向において、熱可塑性加硫ゴムを延伸する工程、
（ｃ）熱可塑性ポリマーをヒートセットし、当該熱可塑性ポリマーの異方性配置に固定する工程、及び、
（ｄ）熱可塑性加硫ゴムを冷却する工程、
を含む、当該方法。
【請求項２】
熱可塑性ポリマーがポリアミドである、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
加硫性ポリマーが臭素化ポリ（イソブチレン−コ−パラメチルスチレン）である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
加熱する工程が、熱可塑性加硫ゴムの温度をポリアミドのガラス転移温度より大きく、ポリアミドのガラス転移温度に約５０℃加えた温度未満まで上昇させる工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
延伸する工程が、熱可塑性加硫ゴムの長さを延伸方向に沿って約１１０％及び８００％の間で増加させる工程を含む、請求項１から3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項６】
ヒートセットする工程が、ポリアミドを当該ポリアミドの融点より約１００℃低い温度乃至当該ポリアミドの融点未満の温度に加熱する工程を含む、請求項１から３のいずれか1項に記載の方法。
【請求項７】
熱可塑性加硫ゴムが充填剤をさらに含む、請求項１から３のいずれか1項に記載の方法。
【請求項８】
タイヤインナーライナーを得る工程をさらに含む、請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項９】
配向性熱可塑性加硫ゴムのフィルムであって、
（ａ）少なくとも１の加硫性ポリマー及び少なくとも１の熱可塑性ポリマーを含む熱可塑性加硫ゴムを、熱可塑性ポリマーのガラス転移温度より高い温度に熱する工程、
（ｂ）熱可塑性ポリマーの異方性配置を生じさせる少なくとも１の延伸方向において、熱可塑性加硫ゴムを延伸する工程、
（ｃ）熱可塑性ポリマーをヒートセットし、当該熱可塑性ポリマーの異方性配置に固定する工程、及び、
（ｄ）熱可塑性加硫ゴムを冷却する工程、
により製造される、当該フィルム。
【請求項１０】
熱可塑性ポリマーがポリアミドである請求項９に記載のフィルム。
【請求項１１】
加硫性ポリマーが臭素化ポリ（イソブチレン−コ−パラメチルスチレン）である、請求項９に記載のフィルム。
【請求項１２】
熱可塑性加硫ゴムが充填剤をさらに含む、請求項９から１１のいずれか１項に記載のフィルム。
【請求項１３】
フィルムがタイヤインナーライナーである、請求項９から１１のいずれか１項に記載のフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリカーボネート樹脂および以下の構造のメチルメタクリレートコポリマーを含有する透明な熱可塑性成形用組成物。
【化１】
2004506771.tif 000001
（式中、ｘとｙは、前記コポリマー中で約８０〜９０モル％の範囲のＰＭＭＡ含量が得られるように算出された整数であり、Ｒ１は−ＣＨ３を表し、Ｒ２は−Ｃ６Ｈ５を表し、およびＲ３は、水素またはＣ１〜Ｃ２−アルキル基を表す。）
【請求項２】  ポリカーボネートが、ポリカーボネートおよび前記コポリマーの合計重量に対して、５〜２０％の量で含まれている請求項１記載の組成物。
【請求項３】  ポリカーボネートが、ポリカーボネートおよび前記コポリマーの合計重量に対して、７〜１５％の量で含まれている請求項１記載の組成物。
【請求項４】  Ｒ３が水素である請求項１記載の組成物。
【請求項５】  Ｒ３が水素である請求項２記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月28日(2008.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  炭化水素材料の低エネルギー熱分解方法であって、
炭化水素材料を準備し、
反応チャンバーの中に炭化水素材料を装入し、
チャンバーに粘土及び金属ダストの触媒を添加し、
熱分解が実質的に完了するまでの間、反応チャンバーを十分な時間加熱することを含んでおり、
該方法は真空を維持しながら行なうものであって、未分解の物質が極めて少なく、殆んどチャーがなく酸化されていない固体残留物と、殆んど酸化されておらず、多環芳香族炭化水素を含まない液体炭化水素生成物と、可燃性のガスとを含む反応生成物を生成する方法。
【請求項２】  粘土は、モンモリロナイト、ベントナイト、バイデライト及びこれらの組合せからなるグループから選択される請求項１に記載の方法。
【請求項３】  粘土は、架橋粘土、天然鉱石及び市販粘土含有材料からなるグループから選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】  市販粘土材料は、キャットリッター及びオイルスピル吸収剤及びこれらの組合せからなるグループから選択される請求項３に記載の方法。
【請求項５】  粘土及び金属ダストの触媒は、炭化水素材料の合計重量の約０.０１wt％〜３.０wt％添加される請求項１に記載の方法。
【請求項６】  金属ダストは、[Ａｌ]：[Ｍｇ]：[粘土]が約[０.１〜２]：[０.１〜２]：[８]の比にて粘土に添加される請求項１に記載の方法。
【請求項７】  金属ダストは、[Ａｌ]：[Ｍｇ]：[粘土]が約[０.５〜１]：[０.５〜１]：[８]の比にて粘土に添加される請求項１に記載の方法。
【請求項８】  金属ダストは、アルミニウム、マグネシウム及びこれらの組合せからなるグループから選択される請求項１に記載の方法。
【請求項９】  金属ダストは、約２００メッシュサイズよりも小さいＡｌ粒子と、約３２５メッシュサイズより小さいＭｇ粒子を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  反応チャンバーは、炭化水素材料の反応温度である約１５０o〜８５０oＦに加熱される請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  熱分解が完了するまでの十分な時間、炭化水素材料の反応温度が維持される請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  加熱は、少なくとも第１、第２及び第３の段階で行なわれ、燃料投入は、反応の発熱特性を利用して調節される請求項１に記載の方法。
【請求項１３】  第１段階は、熱分解が開始するのに十分な時間、反応温度である約４５０o〜８５０oＦに維持される請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  第２段階は、熱分解が継続するのに十分な時間、反応温度である約４５０o〜８５０oＦに維持される請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】  第３段階は、熱分解が完了するのに十分な時間、反応温度である約４５０o〜８５０oＦに維持される請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】  第１、第２及び第３段階は、時間的に連続しており、時間の経過に基づいて設定される請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】  第１、第２及び第３段階は、空間的に連続しており、炭化水素材料が反応チャンバーを通過するとき、空間位置の変化に基づいて設定される請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】  真空は、約２インチ〜１６インチ水銀の圧力に維持される請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】  真空は、約５インチ〜１０インチ水銀の圧力に維持される請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】  炭化水素材料は、使用済みゴム、タールサンド及びコールからなるグループから選択される請求項１に記載の方法。
【請求項２１】  廃棄された自動車タイヤ、及び有機又は無機物質を含むその他のゴム系材料の成分を、再使用又は環境的に安全に廃棄するために、再生及び回収するための装置であって、
低温反応器の入口に触媒とゴム材料を運搬するための供給システムと、
活性ゾーン、分解ゾーン及び完了ゾーンを有する１又は複数の細長い反応チャンバーであって、１又は複数の反応チャンバーは夫々、材料を入口から反応器を通って運搬し、反応器から出口に固体生成物を運搬するヘリコイドオーガを有している反応チャンバーと、
反応チャンバーの各端部に配置され、投入、反応開始、材料分解、反応完了、及び、内部蒸気と固体材料の取出しを行なう入口ビン及び出口ビンと、
固体材料回収システムと、を有する装置。
【請求項２２】  １又は複数の反応チャンバーの分解ゾーンから蒸気を回収する蒸気回収システムをさらに含んでおり、該蒸気回収システムは、
１又は複数の反応チャンバーから蒸気を凝縮する熱交換器と、
該熱交換器にて凝縮された液体を分離するための液体／ガスセパレータと、
１又は複数の低温反応チャンバー内で真空を維持しながら、熱交換器及び液体／ガスセパレータを通して１又は複数の低温反応チャンバーの分解チャンバーから蒸気を除去する真空ポンプと、
を具える請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】  供給システムは、ヘリコイドオーガである請求項２１に記載の装置。
【請求項２４】  出口コンベアは、ヘリコイドオーガである請求項２１に記載の装置。
【請求項２５】  廃棄された自動車タイヤ及び細かく切り刻まれたゴム材料の成分を、再使用又は環境的に安全に廃棄するために、再生利用及び回収するための方法であって、
タイヤの切れ片を原料場所からコンベアによって供給ビンに運搬し、
タイヤの切れ片を供給ビンから、ヘリコイドオーガによって、低温反応チャンバーに運搬する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月18日(2007.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  構造群を配置した表面を含む剥離ライナであって、前記構造群が前記表面の平面から上方に延びており、前記構造群が、テープへの接着力を高めるために選択された０°を超え９０°未満の角度を前記表面の前記平面に対して成す少なくとも１つの側壁を有すること、を特徴とする剥離ライナ。
【請求項２】  前記少なくとも１つの側壁が、前記表面の前記平面に対して約５０°未満の角度を成す、請求項１に記載の剥離ライナ。
【請求項３】  前記少なくとも１つの側壁が、前記表面の前記平面に対して約３０°〜約５０°の角度を成す、請求項１に記載の剥離ライナ。
【請求項４】  前記構造群が複数の突条である、請求項１に記載の剥離ライナ。
【請求項５】  前記複数の突条が、実質的に連続する実質的に規則的なパターンを前記表面上に形成している、請求項４に記載の剥離ライナ。
【請求項６】  前記複数の突条が、実質的平旦な上面を備えた実質的台形の断面形状を有している、請求項５に記載の剥離ライナ。
【請求項７】  前記複数の突条が、約１２５μｍ〜約２５００μｍのピッチを有する、請求項６に記載の剥離ライナ。
【請求項８】  グラフィック物品を転写する方法であって、
（ａ）第１表面および第２表面を備え、画像が該第１表面の少なくとも一部を占有しているフィルムと、該フィルムの該第２表面上の接着層と、該接着層上の剥離ライナとを含み、該剥離ライナが、構造群を配置した表面を含み、該構造群が、該表面の平面から上方に延びるとともに、テープへの接着力を高めるために選択された０°を超え９０°未満の角度を該表面の該平面に対して成す少なくとも１つの側壁を有している、グラフィック物品を用意することと、
（ｂ）前記第１表面の、前記画像に占有されていない部分の下にある前記フィルムおよび前記接着層を除去して、前記剥離ライナの前記表面の少なくとも一部分を露出させることと、
（ｃ）前記剥離ライナの前記画像および前記露出した部分に、取扱い用フィルムを取り付けることと、
（ｄ）前記物品を基材に対しレジストレーション状態で転写することと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】  前記少なくとも１つの側壁が、前記表面の前記平面に対して約５０°未満の角度を成す、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  前記構造群が、実質的に連続する実質的に規則的なパターンを前記表面上に形成する複数の突条であり、それら突条が、実質的平旦な上面を備えた実質的台形の断面形状を有している、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】  前記少なくとも１つの側壁が、前記表面の前記平面に対して約３０°〜約５０°の角度を成す、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】  前記基材および前記グラフィック物品から前記取扱い用フィルムを除去することをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月3日(2008.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】アイソタクチックポリプロピレンホモポリマーの総重量に対して25ppm未満のアルミニウム及び塩素の回収可能分値並びに1重量％未満のキシレン可溶分を有するアイソタクチックポリプロピレンホモポリマー。
【請求項2】アイソタクチックポリプロピレンホモポリマーの総重量に対して25ppm未満のアルミニウム及び塩素の回収可能分値並びに1重量％未満のキシレン可溶分を有するアイソタクチックポリプロピレンホモポリマーを含有するポリプロピレンフィルム。
【請求項3】(a) 最初に、メタロセン、活性剤化合物、及び第一のプロピレンホモポリマーを生成するのに十分な第一の濃度の連鎖移動剤の存在下でプロピレンを重合する工程、
(b) 二番目に、第一のプロピレンホモポリマーの存在下、及び25ppm未満のアルミニウムと塩素の回収可能分値を有するアイソタクチックポリプロピレンを生成するのに十分な第二の濃度の連鎖移動剤の存在下でプロピレンを重合する工程、並びに
(c) アイソタクチックポリプロピレンを回収する工程
を含む、アイソタクチックポリプロピレンホモポリマーを製造する二工程方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月15日(2008.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ａ）ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンをアニオン重合させて、リビング鎖末端を有するブロックコポリマーを得るステップ、
ｂ）アルコール、水素、およびこれらの混合物からなる群からのメンバーによって前記リビング鎖末端を終結させて、終端したブロック共重合体を調製するステップ、および
ｃ）コバルトカルボキシレートとアルキルアルミニウムを組み合わせることによって調製した触媒の存在下、温度を２０から１７５℃で、前記終端したブロック共重合体と水素を接触させるステップを含み、
（ｉ）前記ポリマーがアルコールで終結され、および前記アルコールが直鎖アルコールである場合、前記直鎖アルコールは、前記アルコール：前記リビング鎖末端モル比が０．０５から１．２となる量で、前記リビング鎖末端を終結させるために使用し、
（ｉｉ）前記ポリマーがアルコールで終結され、および前記アルコールが分岐アルコールである場合、前記分岐アルコールは、前記アルコール：前記リビング鎖末端モル比が０．０５から３．０となる量で、前記リビング鎖末端を終結させるために使用し、
（ｉｉｉ）前記ポリマーがアルコールで終結され、および前記アルコールが直鎖アルコールと分岐アルコールの混合物である場合、前記直鎖アルコールは、前記直鎖アルコール：前記リビング鎖末端モル比が０．０５から１．２となる量で、前記リビング鎖末端を終結させるために使用する、
選択的に水素化された、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体を作製する方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法を使用して調製されたブロック共重合体を含む、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月19日(2008.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】   (a)非芳香族不飽和炭素-炭素結合を含みかつＳｉ原子と直接結合している炭化水素基を少なくとも１個有するアルコキシシラン又はアシルオキシシラン、及び
(b)芳香族環を含みかつＳｉ原子と直接結合している炭化水素基を少なくとも１個有するアルコキシシラン又はアシルオキシシラン、及び所望により
(c)Ｓｉ原子と直接結合しているＣ1-Ｃ6アルキル基を少なくとも１個有するアルコキシシラン又はアシルオキシシラン
を含むシラン混合物の加水分解又は部分加水分解生成物を含有する組成物。
【請求項２】  前記混合物が、成分(a)、(b)及び(c)の総モル数を基準として、50〜95モル％の成分(a)、５〜40モル％の成分(b)及び０〜45モル％の成分(c)を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項３】  成分(a)が下式
【化１】
2004506797.tif 000001
（式中ＲａはＣ1-Ｃ6アルキリデン、Ｃ1-Ｃ6アルキレン、アリーレン、又は直接結合であり; ＹａはＣ1-Ｃ6アルキル、Ｃ2-Ｃ6アルケニル、Ｃ2-Ｃ6アルキニル、Ｃ6-Ｃ20アリール、3-メタクリルオキシ、3-アクリルオキシ、3-アミノエチル-アミノ、3-アミノ、-ＳｉＺａ2ＯＲａ’又は-ＯＲａ’であり; Ｒａ’は各々独立にＣ1-Ｃ6アルキル又はＣ2-Ｃ6アシルであり; またＺａはＣ1-Ｃ6アルキル、Ｃ2-Ｃ6アルケニル、Ｃ2-Ｃ6アルキニル、Ｃ6-Ｃ20アリール又は-ＯＲａ’であるが、ただし１以上のＺａ又はＲａ-Ｙａの組み合わせは非芳香族炭素-炭素結合不飽和を含むものとする)
のシランであり、
成分(b)が下式
【化２】
2004506797.tif 000002
（式中ＲｂはＣ1-Ｃ6アルキリデン、Ｃ1-Ｃ6アルキレン、アリーレン、又は直接結合であり; ＹｂはＣ1-Ｃ6アルキル、Ｃ2-Ｃ6アルケニル、Ｃ2-Ｃ6アルキニル、Ｃ6-Ｃ20アリール、3-メタクリルオキシ、3-アクリルオキシ、3-アミノエチル-アミノ、3-アミノ、-ＳｉＺｂ2ＯＲｂ’又は-ＯＲｂ’であり; Ｒｂ’は各々独立にＣ1-Ｃ6アルキル又はＣ2-Ｃ6アシルであり; またＺｂはＣ1-Ｃ6アルキル、Ｃ2-Ｃ6アルケニル、Ｃ2-Ｃ6アルキニル、Ｃ6-Ｃ20アリール又は-ＯＲｂ’であるが、ただし１以上のＺｂ又はＲｂ-Ｙｂの組み合わせは芳香環を含むものとする)
のシランである、請求項１又は２記載の組成物。
【請求項４】  成分(c)が下式
【化３】
2004506797.tif 000003
（式中ＲｃはＣ1-Ｃ6アルキリデン、Ｃ1-Ｃ6アルキレン、アリーレン、又は直接結合であり; ＹｃはＣ1-Ｃ6アルキル、Ｃ2-Ｃ6アルケニル、Ｃ2-Ｃ6アルキニル、Ｃ6-Ｃ20アリール、3-メタクリルオキシ、3-アクリルオキシ、3-アミノエチル-アミノ、3-アミノ、-ＳｉＺｃ2ＯＲｃ’又は-ＯＲｃ’であり; Ｒｃ’は各々独立にＣ1-Ｃ6アルキル又はＣ2-Ｃ6アシルであり; またＺｃはＣ1-Ｃ6アルキル、Ｃ2-Ｃ6アルケニル、Ｃ2-Ｃ6アルキニル、Ｃ6-Ｃ20アリール又は-ＯＲｃ’であるが、ただし１以上のＺｃ又はＲｃ-Ｙｃの組み合わせはアルケニルを含むものとする)
のシランである、請求項１、２又は３記載の組成物。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物の、接着促進剤としての使用。
【請求項６】  請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物の硬化した生成物を含む第１の皮膜と、それと直接接触した、芳香族基と非芳香族炭素-炭素結合を有する有機ポリマーを含む第２の皮膜とを含む物品。
【請求項７】  基板を準備するステップ; 該基板上に、有機ポリマーを含み誘電率が3.0未満である第１層を形成するステップ; 第１層上に有機シリケート樹脂を塗布するステップ; 該有機シリケート樹脂の一部を除去して第１層の一部を露出させるステップ; 及び第１層の露出部分を除去するステップを含む方法。
【請求項８】  有機シリケート樹脂が請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物の硬化した生成物である請求項７記載の方法。
【請求項９】  有機シリケート樹脂の一部を除去するステップが該有機シリケート上にホトレジストを塗布するステップ、該ホトレジストの一部に活性化放射線を照射するステップ、ホトレジストを現像して該有機シリケートの一部を露出するステップ、及び該有機シリケートをエッチングするステップを含む請求項７記載の方法。
【請求項１０】  第１層を除去した領域の少なくとも一部に導電性金属を被着させるステップをさらに含む請求項７記載の方法。
【請求項１１】  有機シリケート樹脂上に誘電率3.0未満の第２層を塗布するステップ、該第２層上にハードマスクパターンを形成するステップ、及び該第２層をエッチングするステップをさらに含む請求項７記載の方法。
【請求項１２】  エッチングが第２層を貫通して有機シリケート材料に至るまでのエッチング及び該有機シリケートが予め除去されている場合には第１層内までのエッチングを含む請求項１１記載の方法。
【請求項１３】  第２層を塗布しエッチングした後で有機シリケート層の一部を除去する請求項１１記載の方法。
【請求項１４】  有機シリケート樹脂がジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテンモノマーの硬化した反応生成物又は加水分解アルコキシシラン、加水分解アシルオキシシラン又はそれらの混合物の硬化した生成物である請求項７記載の方法。
【請求項１５】  有機シリケート樹脂が光描画性であり、有機シリケート樹脂の一部を除去するステップが該有機シリケートに活性化波長の放射線を照射して照射部分に重合反応を起こさせるステップ及び該シリケートの非照射部分を好適な現像液で除去するステップを含む請求項７記載の方法。
【請求項１６】  請求項７〜１５のいずれか１項に記載の方法で製造される集積回路製品。
【請求項１７】  請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物を調製する方法であって、加水分解反応性がより高い成分を１つ選び該成分を加水分解反応過程にわたり連続的に他成分に添加するステップを含む方法。
【請求項１８】  加水分解反応過程にわたり、更に水を連続的に添加する請求項１７記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月19日(2007.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  フルオレニル側基を含むジアミンを含むと共にアルキル置換基がベンジルの水素を含有する少なくとも１つのＣ１−Ｃ１０分岐または非分岐アルキル置換基を有する芳香族環をも含む硬化ポリイミドであるポリイミド。
【請求項２】  フルオレニル側基を含むジアミンを含むと共にアルキル置換基がベンジルの水素を含有する少なくとも１つのＣ１−Ｃ１０分岐または非分岐アルキル置換基を有する芳香族環をも含む架橋ポリイミドであるポリイミド。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月31日(2008.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビス(ヒドロキシアリール)化合物とジアリールカーボネート（ＤＡＣ）を予備反応において該反応に付随するヒドロキシアリールをＤＡＣから排除しながら反応させ、その後、得られた予備反応混合物に純粋なＤＡＣ蒸気を向流させて(countercurrently)導入する、ポリカーボネートの製造方法。
【請求項２】  投入口(2)から、予備反応装置(5)内で形成した予備反応混合物を導入し、および投入口(3)から、蒸発器(4)で生成される任意に過熱されたＤＡＣ蒸気を導入する少なくとも１個の反応装置(1)であって、濃縮装置(6)を任意に有しかつ前記反応に相応じてＤＡＣから排除されるヒドロキシアリールを放出するための出口ユニット(13)を併せ持つもの、および
前記出口(3)で前記反応装置(1)よりも下流に連結され、かつ副生物蒸気流を分離するための濃縮装置(10)を任意に有する少なくとも１個の流下薄膜型蒸発缶装置(9)
を含む、請求項１記載の方法を行うための装置。
【請求項３】  請求項１記載の方法で得られるポリカーボネート。
【請求項４】  請求項４または５記載のポリカーボネートから製造される成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  メタロセンにより触媒作用をされた重合により得られ、６乃至15 dg / 分の溶融流量及び2重量％未満のキシレン可溶分値を有する押し出されたポリプロピレンポリマーからキャストされたポリプロピレンフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月21日(2008.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族含有供給物を、シリカ結合ＺＳＭ−５ゼオライト触媒の存在下、アルキル化剤と接触させることを含む芳香族アルキル化法であって、前記ＺＳＭ−５は０．０５ミクロン以下の結晶径を有し、前記触媒は１２０℃の温度、６０トル（８ＫＰａ）の２，２−ジメチルブタン圧で測定する場合、２，２−ジメチルブタンに対し少なくとも５００の拡散パラメータ、Ｄ／（ｒ２×１０６）を有し、前記接触はアルキル化条件下で行われてモノアルキル化芳香族留分及びポリアルキル化芳香族留分を含む生成物を与え、前記ポリアルキル化芳香族留分は少なくとも４０重量％のパラ−ジアルキル芳香族種を含有する、該方法。
【請求項２】
前記触媒が少なくとも７０重量％ゼオライトを含み、前記ゼオライトが４０より大きいＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比及び０．０２乃至０．０５ミクロンの結晶径を有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記芳香族含有供給物がベンゼンを含み、前記アルキル化剤がエチレンを含み、前記パラ−ジアルキル芳香族がパラ−ジエチルベンゼンである、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記アルキル化条件が、約６５０乃至９００°Ｆ（３４３℃乃至４８２℃）の温度、およその大気圧乃至約３０００ｐｓｉｇの圧力、約０．５乃至約１０ｈｒ−１のエチレンを基準としたＷＨＳＶ及び１：１乃至３０：１のベンゼン対エチレンのモル比を含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
４のエチレンＷＨＳＶ、５０の芳香族／エチレン比及び７５０°Ｆの入口温度の流れで４日間後、少なくとも９６重量％のエチレン転化率のエチレン転化を与え、２のエチレンＷＨＳＶ、５０の芳香族／エチレン比及び７５０°Ｆの入口温度で４５重量％より多いパラ−ジエチルベンゼン／全ジエチルベンゼンを生成する、請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記触媒が、１２０℃の温度、６０トル（８ＫＰａ）の２，２−ジメチルブタン圧で測定する場合、２，２−ジメチルブタンに対し少なくとも７００乃至２０００の拡散パラメータ、Ｄ／（ｒ２×１０６）を有する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
ｉ）芳香族含有供給物を、シリカ結合ＺＳＭ−５ゼオライトアルキル化触媒の存在下でアルキル化剤とアルキル化反応器中で接触させ、前記ＺＳＭ−５は０．０５ミクロン以下の結晶径を有し、前記触媒は１２０℃の温度、６０トル（８ＫＰａ）の２，２−ジメチルブタン圧で測定する場合、２，２−ジメチルブタンに対し少なくとも５００の拡散パラメータ、Ｄ／（ｒ２×１０６）を有し、前記接触はアルキル化条件下で行われてモノアルキル化芳香族留分及びポリアルキル化芳香族留分を含む生成物を与え、前記ポリアルキル化芳香族留分は少なくとも４０重量％のパラ−ジアルキル芳香族種を含み、
ｉｉ）生成物からポリアルキル化芳香族留分を分離し、
ｉｉｉ）トランスアルキル化条件下で未置換芳香族及びトランスアルキル化触媒存在下、ポリアルキル芳香族留分と接触させ、モノアルキル化芳香族に富んだ流れを供給する
ことを含むモノアルキル化芳香族化合物を調製する方法。
【請求項８】
前記アルキル化触媒が少なくとも７０重量％のゼオライトを含み、該ゼオライトが６０乃至８０の範囲のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比及び０．０２乃至０．０５ミクロンの結晶径を有する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
工程ｉｉｉ）が、前記アルキル化反応器とは別のトランスアルキル化反応器中で行われる、請求項７記載の方法。
【請求項１０】
工程ｉｉｉ）が、前記パラ−ジアルキル芳香族に富んだ流れを前記アルキル化反応器に循環することにより行われる、請求項７記載の方法。
【請求項１１】
前記トランス化触媒が、０．０５ミクロン以下の結晶径を有するシリカ結合ＺＳＭ−５ゼオライト触媒複合材料である、請求項７記載の方法。
【請求項１２】
前記モノ−アルキル化芳香族がエチルベンゼンを含み、前記芳香族含有供給物がベンゼンを含み、前記アルキル化剤がエチレンを含み、前記パラ−ジアルキル芳香族がパラ−ジエチルベンゼンである、請求項７記載の方法。
【請求項１３】
前記アルキル化条件が、約６５０乃至９００°Ｆ（３４３℃乃至４８２℃）の温度、およその大気圧乃至約３０００ｐｓｉｇの圧力、約０．５乃至約２．０ｈｒ−１のエチレンを基準としたＷＨＳＶ及び１：１乃至３０：１のベンゼン対エチレンのモル比を含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
４のエチレンＷＨＳＶ、５０の芳香族／エチレン比及び７５０°Ｆの入口温度の流れで４日間後、少なくとも９６重量％のエチレン転化率及び８００ｐｐｍ未満のキシレン／ＥＢを与え、２のエチレンＷＨＳＶ、５０の芳香族／エチレン比及び７５０°Ｆの入口温度で４５重量％より多いパラ−ジエチルベンゼン／全ジエチルベンゼンを与える、請求項１２記載の方法。
【請求項１５】
前記エチルベンゼンに富んだ流れが、０．６重量％未満のＣ１１＋残留物を含む、請求項１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  式IIのアリールハライドが式IIaで表される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【化４】
2004506709.tif 000001
[式中、
R1aおよびR4aは、互いに独立して、水素、ハロゲン、特にフッ素もしくは塩素、シアノ、C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C6-アルコキシ、C1-C6-ハロアルコキシ、C1-C6-アルキルチオ、C1-C6-ハロアルキルチオ、ヒドロキシ-C1-C6-アルキル、C1-C6-アルキルスルホニル、C1-C6-ハロアルキルスルホニル、C1-C6-アルコキシ-C1-C6-アルキル、C1-C6-アルキルチオ-C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキルチオ-C1-C6-アルキル、C1-C6-アルキルスルホニル-C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキルスルホニル-C1-C6-アルキル、C1-C6-アルキルアミノ-C1-C6-アルキル、またはジ(C1-C6-アルキル)アミノ-C1-C6-アルキルであり、そしてR2aおよびR3aは、5-もしくは6-員の飽和または不飽和複素環を形成し、該複素環はN、SおよびOからなる群より選択された1、2もしくは3個のヘテロ原子を持つことができ、ここで、
複素環中の硫黄原子はスルホキシドまたはスルホンとして存在していてもよく、
複素環中の窒素原子および炭素原子は、水素原子、またはハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、アミノ、C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C6-アミノアルキル、C1-C6-アルキルカルボニル、C1-C6-アルキルカルボニルオキシ、C1-C6-アルキルオキシカルボニル、C1-C6-アルコキシ-C1-C6-アルキル、C1-C6-アルキルカルボニル-C1-C6-アルキル、C1-C6-アルコキシ、C1-C6-ハロアルコキシ、C2-C6-アルケニル、C2-C6-アルキニル、C1-C6-ヒドロキシアルコキシ、C1-C6-アルコキシ-C1-C6-アルコキシ、C3-C6-シクロアルキル、C3-C8-シクロアルコキシ、C1-C6-アルキルチオ、C1-C6-ハロアルキルチオ、C1-C6-ヒドロキシアルキルチオ、C1-C6-アルコキシ-C1-C6-アルキルチオ、フェニル、フェニル-C1-C6-アルキル、フェニルカルボニル、フェニルカルボニルオキシ、フェノキシカルボニル、5-、6-もしくは7-員のヘテロシクリル、フェノキシ、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ヘテロシクリル-C1-C6-アルキル、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリルカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニルオキシからなる群から選択された置換基を持ち、ここで、最後に挙げた14個の基のフェニルおよびヘテロシクリル基は、それらの部分が部分的もしくは完全にハロゲン化されていてもよく、かつ／または、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、C1-C4-アルキル、C1-C4-ハロアルキル、C1-C4-アルコキシおよびC1-C4-ハロアルコキシ、C1-C6-アルキルアミノ、ジ-C1-C6-アルキルアミノ、C3-C6-シクロアルキルアミノからなる群より選択された1、2もしくは3個の置換基を持っていてもよく、ここで、最後に挙げた3個の基のアルキル基およびシクロアルキル基は部分的もしくは完全にハロゲン化されていてもよく、かつ／またはC1-C4-アルコキシもしくはヒドロキシルからなる群より選択された1〜3個の置換基を持っていてもよく、
ここで、炭素環メンバーはカルボニル官能基、チオカルボニル官能基、オキシムもしくはオキシムエーテル官能基として存在することができ；または
R1aとR2aもしくはR3aとR4aは、N、SおよびOからなる群より選択された1、2または3個のヘテロ原子を持つことのできる5-もしくは6-員の飽和または不飽和複
素環を形成し、ここで該複素環の環原子は上記のように置換されていてもよく、残りの基R1a、R2a、R3aおよびR4aは、互いに独立して、R1aについて挙げた意味を有し、もしくは
R2aは、水素、またはN、SおよびOからなる群より選択された1、2または3個のヘテロ原子を持つ5-、6-もしくは7-員のヘテロシクリルであり、ここで該複素環の環原子は上記のように置換されていてもよく、そして
R1a、R3aおよびR4aは、互いに独立して、R1aについて挙げた意味を有する。]
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式
Ｍ（ＯＯＣＨ）ｎ          （Ｉ）
［式中、Ｍはアルカリ金属であるリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムおよび／またはアルカリ土類金属であるベリリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムを表し、かつｎは、Ｍがアルカリ金属である場合には１であり、Ｍがアルカリ土類金属である場合には２を表す］のギ酸塩を同時に形成しながらトリメチロールプロパンを製造する方法において、ｎ−ブチルアルデヒド、ホルムアルデヒドおよび塩基を無機カニッツァーロ法により反応させ、かつ生じる反応混合物を蒸気圧濾過することを特徴とする、トリメチロールプロパンの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月29日(2008.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  塩基性金属塩とフェノール系塩を基礎とするフェノール系化合物とを反応させることによって得ることができる、少なくとも２個のフェノール系ＯＨ基を有する立体障害フェノール系化合物の塩を基礎とする有機ポリマーのための老化防止剤。
【請求項２】  フェノール系化合物として式（Ｉ）および（ＩＩ）：
【化１】
2004506769.tif 000001
〔式中、
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、同一でも異なっていてもよく、
Ｒ1、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル基によって置換されていてもよいＣ1〜Ｃ12−アルキル基またはＣ5〜Ｃ8−シクロアルキル基を表わし、
Ｒ3は、水素を表わすかまたはＣ1〜Ｃ8−アルキル基またはＣ5〜Ｃ6−シクロアルキル基を表わす〕ならびに
【化２】
2004506769.tif 000002
〔式中、
Ｒ4およびＲ5は、式（Ｉ）の基Ｒ1の意味を有し、
Ｌ1は、
【化３】
2004506769.tif 000003
で中断されていてもよいかまたは末端で置換されていてもよいＣ2〜Ｃ12−アルキレン基を表わし、
Ｘ1は、−Ｃ（Ｈ）4-n−を表わすかまたはｎ＝２の場合には、−Ｏ−または−Ｓ−を表わし、
ｎは、２、３または４を表わす〕で示される化合物が使用されている、請求項１記載の老化防止剤。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月7日(2008.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  (a)  密度0.91〜0.93 g/cc、メルトインデックス１〜５g/10min、TREFで測定した高温フラクションの重量％（％HT）25〜50重量％及びTREF工程の間に収集された前記HTフラクションの数平均分子量（Mn）35,000〜52,000 g/molを有し、
(i)  エチレンの単独重合体及びエチレンと少なくとも１種又はそれ以上のその他のオレフィンとの共重合体（共重合体中の合計単量体量当り、少なくとも50重量％のエチレンを有する共重合体）よりなる群から選ばれる、密度0.88〜0.93 g/cc、メルトインデックス１〜５g/10 min、TREFにより測定した高温フラクションの重量％（％HT）０〜50重量％及びTREF工程の間に収集された前記HTフラクションの数平均分子量（Mn）15,000〜100,000 g/molを有し、ポリエチレン組成物の総重量当り１〜99重量％の量で存在する第一のポリエチレン、並びに、
(ii)  エチレンの単独重合体及びエチレンと少なくとも１種又はそれ以上のその他のオレフィンとの共重合体（共重合体中の合計単量体量当り、少なくとも50重量％のエチレンを有する共重合体）よりなる群から選ばれる、密度0.93〜0.97 g/cc、メルトインデックス１〜50g/10min、TREFで測定した高温フラクションの重量％（％HT）25〜100重量％及びTREF工程の間に収集された前記HTフラクションの数平均分子量（Mn）15,000〜100,000 g/molを有し、ポリエチレン組成物の総重量当り、１〜99重量％の量で存在する第二のポリエチレン、
を含んでなるポリエチレン組成物並びに
(b)  有効量で存在する充填剤、
を含んでなり、水の蒸気透過速度の改良されたフィルムを形成する組成物。
【請求項２】  ポリエチレン組成物が、密度0.915 g/cc、メルトインデックス2.1g/10min、％HT30.4％及びMn44,000 g/molを有し、第一のポリエチレンが密度0.910 g/cc、メルトインデックス２g/10min、％HT21.6％及びMn63,000 g/molを有するエチレン−ヘキセン共重合体であり、且つ第二のポリエチレンが密度0.958 g/cc、メルトインデックス16g/10min、％HT89.2％及びMn29,000 g/molを有するエチレン−ヘキセン共重合体である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  第一のポリエチレンがエチレンとヘキセンとの共重合体である請求項１に記載の組成物。
【請求項４】  第二のポリエチレンがエチレンとヘキセンとの共重合体である請求項１に記載の組成物。
【請求項５】  充填剤が、全組成物の重量に基づいて、20〜80重量％の量で存在する請求項１に記載の組成物。
【請求項６】  充填剤が炭酸カルシウムである請求項１に記載の組成物。
【請求項７】  請求項１に記載の組成物から形成されるフィルム。
【請求項８】  請求項１に記載の組成物を含む製造物品。
【請求項９】  密度0.91〜0.93 g/cc、メルトインデックス１〜５g/10 min、TREFで測定した高温フラクションの重量％（％HT）25〜50重量％及びTREF工程の間に収集された前記HTフラクションの数平均分子量（Mn）35,000〜52,000 g/molを有し、ポリエチレン組成物が、
(i)  エチレンの単独重合体及びエチレンと少なくとも１種又はそれ以上のその他のオレフィンとの共重合体（共重合体中の合計単量体量当り、少なくとも50重量％のエチレンを有する共重合体）よりなる群から選ばれ、密度0.88〜0.93 g/cc、メルトインデックス１〜５g/10min、TREFで測定した高温フラクションの重量％（％HT）０〜50重量％及びTREF工程の間に収集された前記HTフラクションの数平均分子量（Mn）15,000〜100,000 g/molを有し、ポリエチレン組成物の総重量当り、１〜99重量％の量で存在する第一のポリエチレン並びに、
(ii)  エチレンの単独重合体及びエチレンと少なくとも１種又はそれ以上のその他のオレフィンとの共重合体（共重合体中の合計単量体量当り、少なくとも50重量％のエチレンを有する共重合体）よりなる群から選ばれる、密度0.93〜0.97 g/cc、メルトインデックス１〜50g/10min、TREFで測定した高温フラクションの重量％（％HT）25〜100重量％、及びTREF工程の間に収集された前記HTフラクションの数平均分子量（Mn）15,000〜100,000 g/molを有し、ポリエチレン組成物の総重量当り、１〜99重量％の量で存在する第二のポリエチレン、
を含んでなるポリエチレン組成物。
【請求項１０】  ポリエチレン組成物が密度0.915 g/cc、メルトインデックス2.1g/10min、％HT30.4％及びMn44,000 g/molを有し、第一のポリエチレンが密度0.910 g/cc、メルトインデックス２g/10min、％HT21.6％及びMn63,000 g/molを有するエチレン−ヘキセン共重合体であり、且つ第二のポリエチレンが密度0.958 g/cc、メルトインデックス16g/10min、％HT89.2％及びMn29,000 g/molを有するエチレン−ヘキセン共重合体である請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】  第一のポリエチレンがエチレンとヘキセンとの共重合体である請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】  第二のポリエチレンがエチレンとヘキセンとの共重合体である請求項９に記載の組成物。