Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
弁室と弁座を有する弁本体と、弁本体内に装備される弁体と、弁体を操作する弁棒と、回転運動を直線運動に変換するねじ部材と、電動モータと、電動モータの出力を減速してねじ部材に伝達する歯車減速装置を備えた電動弁にあって、
電動モータと歯車減速装置を収容する金属製の円筒形状のキャンと、キャンの開口部を封止する封止部材を備え、
キャンの円盤状の上面に中心から放射方向に延びる共振防止用の凸状リブを備える電動弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記目的を達成するために、本発明の電動弁は、電動モータと歯車減速装置を収容する金属製の円筒形状のキャンと、キャンの開口部を封止する封止部材を備え、キャンの円盤状の上面に中心から放射方向に延びる共振防止用の凸状リブを備えるものである。
そして、リブは、５本以上の奇数本で構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の電動弁は、上述した構成を備えることにより、共振発生を防止することができるとともに、これに加えてキャンの剛性を向上させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
図３は、本発明のキャンの他の実施例を示す。
本実施例においては、キャン３００の上面に、内周部は幅寸法が小さく、外周部にいくにつれ幅寸法が大きくなる図示のような三角形状のリブ３１０を形成してある。
リブ３１０の面積を大きくとることにより、共振防止と剛性の向上を図ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図４は、本発明のキャンの更に他の実施例を示す。
本実施例においては、キャン４００の上面に放射方向の主リブ４１０と、各主リブ４１０から枝分かれする副リブ４２０を形成してある。
リブの本数を多くすることにより、共振防止と剛性の向上を図ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の電動弁にあっては以上のように、パルスモータと減速歯車機構が内装される形式の電動弁において、回転部分との共振による共鳴音の発生を防止することができるとともに、これに加えてキャンの剛性を向上させることができる。
共振防止用のリブは、キャンの加工時に一体に成形することができるので、工数等を増加させることなく設けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月27日(2007.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換器と該熱交換器で熱交換された空気を室内に吹き出すファンとを本体に収容した室
内ユニットを有する空気調和機であって、
前記熱交換器の上流側の前記本体に取り付けられたエアフィルタと、該エアフィルタに
対向する吸入口を有しエアフィルタに付着した塵埃を吸入するための摺動自在の吸引ノズ
ルと、該吸引ノズルを駆動機構を介して駆動する駆動源と、前記吸引ノズルに連通し空気
と共に塵埃を吸引排気する排気装置と、該排気装置と前記吸引ノズルとを連通する連通手
段とを備え、前記駆動機構を、前記駆動源に連結された駆動軸と、前記駆動軸に摺動自在
に取り付けられ前記吸引ノズルと一体的に摺動するウォームギヤと、該ウォームギヤと噛
み合うラックとにより構成したことを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記本体が前記エアフィルタを取り付けるためのフィルタ枠を有し、前記ラックを前記フ
ィルタ枠に一体的に形成したことを特徴とする請求項１に記載の空気調和機。
【請求項３】
前記駆動軸の撓み防止手段を前記フィルタ枠に設けたことを特徴とする請求項１に記載の
空気調和機。
【請求項４】
前記吸引ノズルがガイド溝を有するローラを備え、該ローラを前記フィルタ枠に設けられ
たレールに摺動自在に取り付け、前記撓み防止手段を前記レールに一体的に形成された凸
部により構成し、該凸部を前記ガイド溝に遊挿したことを特徴とする請求項３に記載の空
気調和機。
【請求項５】
熱交換器と該熱交換器で熱交換された空気を室内に吹き出すファンとを本体に収容した室
内ユニットを有する空気調和機であって、
前記熱交換器の上流側の前記本体に取り付けられたエアフィルタと、該エアフィルタに
対向する吸入口を有しエアフィルタに付着した塵埃を吸入するための摺動自在の吸引ノズ
ルと、該吸引ノズルを駆動機構を介して駆動する駆動源と、前記吸引ノズルに連通し空気
と共に塵埃を吸引排気する排気装置と、該排気装置と前記吸引ノズルとを連通する連通手
段とを備え、前記駆動機構を、前記駆動源に連結され雄ねじが形成された駆動軸と、前記
吸引ノズルに取り付けられ前記雄ねじと螺合する雌ねじとにより構成したことを特徴とす
る空気調和機。
【請求項６】
前記駆動源がステッピングモータを備えたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１
項に記載の空気調和機。
【請求項７】
前記吸引ノズルが所定の方向に摺動するベルトを備え、該ベルトに所定長さの吸引孔を形
成したことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の空気調和機。
【請求項８】
空気調和機の停止中に、前記吸引ノズルを１方向に摺動させて前記エアフィルタの一部を
清掃し、さらに前記吸引孔を前記１方向と直交する方向に前記吸引孔の長さだけ移動させ
た後、前記吸引ノズルを前記１方向の逆方向に摺動させて前記エアフィルタの別の一部を
清掃するように制御することを特徴とする請求項７に記載の空気調和機。
【請求項９】
前記吸引ノズルの作動不良を検出するノズル作動不良検出手段を前記フィルタ枠に取り付
けたことを特徴とする請求項８に記載の空気調和機。
【請求項１０】
前記ノズル作動不良検出手段が前記フィルタ枠に取り付けられたリミットスイッチであり
、所定時間内に該リミットスイッチに入力がなかった場合に前記吸引ノズルが所定の位置
に到達していないと判断するようにしたことを特徴とする請求項９に記載の空気調和機。
【請求項１１】
熱交換器と該熱交換器で熱交換された空気を室内に吹き出すファンとを本体に収容した室内ユニットを有する空気調和機であって、
前記熱交換器の上流側の前記本体に取り付けられたエアフィルタと、該エアフィルタに付着した塵埃を除去するための摺動自在の清掃用部材と、該清掃部材を駆動機構を介して駆動する駆動源とを備え、前記駆動機構は、前記駆動源に連結された駆動軸と、前記駆動軸に摺動自在に取り付けられ前記清掃用部材と一体的に摺動するウォームギヤと、該ウォームギヤと噛み合うラックとにより構成されたことを特徴とする空気調和機。
【請求項１２】
熱交換器と該熱交換器で熱交換された空気を室内に吹き出すファンとを本体に収容した室内ユニットを有する空気調和機であって、
前記熱交換器の上流側の前記本体に取り付けられたエアフィルタと、該エアフィルタに付着した塵埃を除去するための清掃用部材と、該吸引ノズルを駆動機構を介して駆動する駆動源とを備え、前記駆動機構は、前記駆動源に連結され雄ねじが形成された駆動軸と、前記清掃用部材に取り付けられ前記雄ねじと螺合する雌ねじとにより構成されたことを特徴とする空気調和機。
【請求項１３】
前記清掃用部材に設けられ該エアフィルタに付着した塵埃を除去するブラシと、前記エアフィルタを取り付けるためのフィルタ枠の左右のうちのいずれかの片側に形成され前記エアフィルタの清掃時以外に前記清掃用部材を保持する保持部とをさらに備えたことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の空気調和機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、請求項１０に記載の発明は、前記ノズル作動不良検出手段が前記フィルタ枠に取
り付けられたリミットスイッチであり、所定時間内に該リミットスイッチに入力がなかっ
た場合に前記吸引ノズルが所定の位置に到達していないと判断するようにしたことを特徴
とする。
さらに、請求項１１に記載の発明は、熱交換器と該熱交換器で熱交換された空気を室内に吹き出すファンとを本体に収容した室内ユニットを有する空気調和機であって、前記熱交換器の上流側の前記本体に取り付けられたエアフィルタと、該エアフィルタに付着した塵埃を除去するための摺動自在の清掃用部材と、該清掃部材を駆動機構を介して駆動する駆動源とを備え、前記駆動機構は、前記駆動源に連結された駆動軸と、前記駆動軸に摺動自在に取り付けられ前記清掃用部材と一体的に摺動するウォームギヤと、該ウォームギヤと噛み合うラックとにより構成されたことを特徴とする。
また、請求項１２に記載の発明は、熱交換器と該熱交換器で熱交換された空気を室内に吹き出すファンとを本体に収容した室内ユニットを有する空気調和機であって、前記熱交換器の上流側の前記本体に取り付けられたエアフィルタと、該エアフィルタに付着した塵埃を除去するための清掃用部材と、該吸引ノズルを駆動機構を介して駆動する駆動源とを備え、前記駆動機構は、前記駆動源に連結され雄ねじが形成された駆動軸と、前記清掃用部材に取り付けられ前記雄ねじと螺合する雌ねじとにより構成されたことを特徴とする。
また、請求項１３に記載の発明は、前記清掃用部材に設けられ該エアフィルタに付着した塵埃を除去するブラシと、前記エアフィルタを取り付けるためのフィルタ枠の左右のうちのいずれかの片側に形成され前記エアフィルタの清掃時以外に前記清掃用部材を保持する保持部とをさらに備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体内部に対して超音波を送受する超音波プローブと、
前記超音波の駆動パルスを出力するパルス駆動手段と、
前記超音波プローブからの前記超音波のエコー信号を信号処理して前記物体内部情報を示す探傷データを生成する信号処理手段と、
前記探傷データの注目領域を指定する所定注目パラメータを記憶する所定注目パラメータ記憶手段と、
前記所定注目パラメータに基づき前記探傷データの前記注目領域を抽出し、抽出データとして前記探傷データ付加する抽出データ付加手段と、
前記抽出データが付加された前記探傷データを記憶するデータ記憶手段と、
前記データ記憶手段に記憶されている前記抽出データに基づき、前記データ記憶手段に記憶されている前記探傷データの前記注目領域を抽出し、抽出した前記注目領域を所定の色により彩色する注目領域彩色手段と
を備えたことを特徴とする超音波探傷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月14日(2007.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定試料に一次Ｘ線を照射するＸ線源と、
測定試料からの蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、
前記Ｘ線検出器からの信号からエネルギー毎に強度を測定してスペクトルを求める波形整形器と、
からなる蛍光Ｘ線分析装置において、
濃度が既知の試料から求めた基準となる感度と、
前記感度と共に測定試料から求めた所定の検出下限となるような測定時間を用いて、
前記測定試料の分析をする蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項２】
試料にＸ線を照射して前記試料からの蛍光Ｘ線から測定試料の成分を分析する蛍光Ｘ線分析方法において、
濃度が既知の試料を分析して、バックグランド強度とグロス強度とから基準となる感度を求める工程と、
次に、測定試料を分析して、所定の検出下限となるように測定時間を求める工程と、
前記測定時間を用いて測定試料を分析する工程と、
からなる蛍光Ｘ線分析方法。
【請求項３】
請求項２に記載の蛍光Ｘ線分析方法において、
前記基準となる感度は、下記の式（１）から求める蛍光Ｘ線分析方法。
【数１】
2006132945.tif 000001
【請求項４】
請求項２に記載の蛍光Ｘ線分析方法において、
前記測定時間は、前記測定試料のバックグランド強度と前記基準感度とを用いて、下記の式（２）から求める蛍光Ｘ線分析方法。
【数２】
2006132945.tif 000002
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】蛍光Ｘ線分析装置と蛍光Ｘ線分析方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
感度＝（グロス強度−バックグラウンド強度）／濃度  （１）
図２の式より、測定時間を指定すれば、基本スペクトルでの検出下限を求めることが可
能となる。つまり、必要な検出下限を達成するための測定時間を算出することが可能とな
る。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月28日(2007.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【数５】
2006132970.tif 000001
ここで、ｌは光が通過する方向の電気光学結晶３の長さ［m］である。また、ＳＡＲを式（３）で定義すると、係数Ｋは次式のように表すことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【表１】
2006132970.tif 000002
同様の理由により、電気光学結晶３と光路切替器９を接続するベアファイバ１１においても約２８％の反射が発生し、被測定電磁界に対して擾乱となる可能性がある。通常のベアファイバの直径は被覆層を含めて２５０μmであり、１mm２の測定断面あたりの反射率は１／１６（約１．８％）である。被覆層は低温における耐マイクロベンド特性を考慮して形成されているが、本実施形態のシステムにおけるベアファイバ１０はファントム１に覆われているため、被覆層の無い８０μm径のクラッドファイバを使用することが可能である。そのようなクラッドファイバを用いることにより、１mm２あたりの反射率を０．２％以下とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月3日(2007.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の可変動弁機構は、２つのロッカアーム１１、１６が、両ロッカアームにそれぞれ設けられた第一挿通穴１３及び第二挿通穴１８にロッカシャフト１０が挿通されることにより、それぞれ揺動可能に互いに並んで軸着されている。一方の第一ロッカアーム１１には連通穴２１が貫設され、他方の第二ロッカアーム１６には連通穴２６が凹設されている。連通穴２１には切替ピン２０が摺動可能に収納されており、切替ピン２０が両連通穴２１、２６に跨ったときに両ロッカアーム１１、１６が連結されるようになっている。第一ロッカアーム１１の第一挿通穴１３の開口周囲部には筒状のスリーブ１２が突出形成されており、該スリーブ１２の内周面は第一挿通穴１３の延長部分となっている。第二ロッカアーム１６の第二挿通穴１８は第一ロッカアーム１１の第一挿通穴１３に比べて拡径されており、第二挿通穴１８とロッカシャフト１０との間にはスリーブ１２が挿通されている。これにより、第二ロッカアーム１６はスリーブ１２の外周面に揺動可能に軸着されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第一ロッカアーム１１の第一挿通穴１３の開口周囲部には筒状のスリーブ１２が突出形成されており、該スリーブ１２の内周面は第一挿通穴１３の延長部分となっている。第二ロッカアーム１６の第二挿通穴１８は第一ロッカアーム１１の第一挿通穴１３に比べて拡径されており、第二挿通穴１８とロッカシャフト１０との間にはスリーブ１２が挿通されている。これにより、第二ロッカアーム１６はスリーブ１２の外周面に軸着されている。これら軸着個所における第一ロッカアーム１１とロッカシャフト１０との間、及び第二ロッカアーム１６とスリーブ１２との間には、両ロッカアーム１１、１６が揺動可能となるようクリアランス１３ａ及び１８ａが設けられている。スリーブ１２の突出長は、第二挿通穴１８内に過不足なく収まるように、第二ロッカアーム１６の幅と略等しくなっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
高速回転時には、図３ｂに示すように、油圧により付勢されたピストンピン２９が切替ピン２０を連通穴２６に押し込むことにより、切替ピン２０が第一ロッカアーム１１と第二ロッカアーム１６とに跨り、両ロッカアームが連結される。従って、第二ロッカアーム１６が第二カム３６に揺動され、第二ロッカアーム１６と一体に第一ロッカアーム１１も揺動し、バルブ８が第二カム３６のカム形状に従って高速用のタイミング及びリフト量で開閉される。このとき、第一カム３１は第一ロッカアーム１１の揺動に影響を与えることなく空回転する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月20日(2007.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受内輪を外嵌する段部とこの段部よりも軸方向内方に突出する中空突出部とを備えたハブ本体形成用のワークを支持台上にセットし、
セットされたワークの前記中空突出部に対向して配置された押型を揺動回転しつつ該押型と該中空突出部とを衝突させかつ押付けて該中空突出部を径方向外方に向けて塑性変形して前記軸受内輪を加締め加工により固定する車輪支持用ハブユニットの製造方法に於いて、
前記加締め加工に際し、前記押型でワークの前記中空突出部を静的もしくは準静的に加締め加工する設定荷重（Ｐ０）に対する、該設定荷重（Ｐ０）に前記ワークの慣性力による荷重を加えた衝突荷重（Ｐ１）の比（Ｐ１／Ｐ０）は１〜１．３に設定してあることを特徴とする車輪支持用ハブユニットの製造方法。
【請求項２】
前記押型はＲ形状部分を備え、前記加締め加工に際し該Ｒ形状部分がワークの前記中空突出部に衝突することを特徴とする請求項１に記載の車輪支持用ハブユニットの製造方法。
【請求項３】
ワークの前記中空突出部の、前記軸受内輪端面よりも軸方向に突き出る部分の長さ（ｈ）と厚さ（ｔ）の比（ｈ／ｔ）は、１．６以上であることを特徴とする請求項１に記載の車輪支持用ハブユニットの製造方法。
【請求項４】
ワークは前記支持台上に弾性支持されることを特徴とする請求項１に記載の車輪支持用ハブユニットの製造方法。
【請求項５】
前記押型とワークとを衝突する直前に前記押型とワークとの間の衝突速度を減速することを特徴とする請求項１に記載の車輪支持用ハブユニットの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
従来、ローリング加締め加工においては、「設定荷重」については管理していたが、「衝突荷重」については管理していなかった。すなわち、慣性力による荷重については、考慮されていなかった。
【特許文献１】特開２００３−７４５７１号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するため、本発明は、
軸受内輪を外嵌する段部とこの段部よりも軸方向内方に突出する中空突出部とを備えたハブ本体形成用のワークを支持台上にセットし、
セットされたワークの前記中空突出部に対向して配置された押型を揺動回転しつつ該押型と該中空突出部とを衝突させかつ押付けて該中空突出部を径方向外方に向けて塑性変形して前記軸受内輪を加締め加工により固定する車輪支持用ハブユニットの製造方法に於いて、
前記加締め加工に際し、前記押型でワークの前記中空突出部を静的もしくは準静的に加締め加工する設定荷重（Ｐ０）に対する、該設定荷重（Ｐ０）に前記ワークの慣性力による荷重を加えた衝突荷重（Ｐ１）の比（Ｐ１／Ｐ０）は１〜１．３に設定してあることを特徴とする車輪支持用ハブユニットの製造方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
支持枠３２の下面外周寄り部分に、上下１対の連結環３５ａ、３５ｂを介して、欠円筒状の保持筒３６を、吊り下げ固定している。この保持筒３６は、昇降台２３が上昇し、支持枠３２が下降した状態で、ホルダ２６に外嵌される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月26日(2007.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
風を発生させる機器（２）の吹出口（８）に設けられ、尖った固定爪（１５）を有する支持部（１１）と、
前記支持部（１１）に対して移動可能である風向き調整部材（１２）と、
前記風向き調整部材（１２）を手動で操作するためのツマミ（１３）と、
を備え、
前記風向き調整部材（１２）は、前記ツマミ（１３）と前記固定爪（１５）との間に位置する壁（１４）を有している、
風向き調整機構（１０）。
【請求項２】
前記支持部（１１）および前記風向き調整部材（１２）のうちのいずれか一方に設けられた凸部（２１）と、
前記支持部（１１）および前記風向き調整部材（１２）のうちの他方に設けられた、前記凸部と係止可能な複数の凹部（２２）と、
をさらに備えている、
請求項１に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項３】
前記ツマミ（１３）は、前記風向き調整部材（１２）に設けられた前記凸部（２１）または凹部（２２）から離間して前記風向き調整部材（１２）の端部近傍に設けられている、
請求項２に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項４】
前記固定爪（１５）は、前記風向き調整部材（１２）を移動自在に支持する爪である、
請求項１から３のいずれか１項に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項５】
前記風向き調整部材（１２）は、風向き調整板（１６）を有する、
請求項１から４のいずれか１項に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項６】
前記ツマミは、前記風向き調整部材の操作側の表面である操作側表面から突出している、
請求項１から５のいずれか１項に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項７】
前記操作側表面から前記壁（１４）の先端までの高さは、前記操作側表面から前記固定爪（１５）の先端までの高さよりも高い、
請求項６に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項８】
前記操作側表面から前記壁（１４）の先端までの高さは、前記操作側表面から前記ツマミ（１３）の先端までの高さよりも低い、
請求項６または７に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項９】
前記操作側表面から前記ツマミ（１３）の先端までの高さは、１０ｍｍ以上である、
請求項６から８のいずれか１項に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項１０】
前記操作側表面から前記壁（１４）の先端までの高さは、４ｍｍ以下である、
請求項６から９のいずれか１項に記載の風向き調整機構（１０）。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の風向き調整機構（１０）を備えている空気調和機（１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
第１発明に係る風向き調整機構は、支持部と、風向き調整部材と、ツマミとを備えている。支持部は、風を発生させる機器の吹出口に設けられている。また、支持部は、尖った固定爪（尖がり部）を有する。風向き調整部材は、支持部に対して移動可能である。ツマミは、風向き調整部材を手動で操作するためのものである。風向き調整部材は、壁を有している。壁は、ツマミと尖がり部との間に位置する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月17日(2007.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
以上本実施の形態によると次のような効果を奏することができる。
まず、この実施の形態の場合には、主燃料室１１の上方に副燃料室２９を設けている。例えば、従来のように、主燃料室１１のみの場合には、外部温度の変化（例えば、操作する使用者の手の温度）によって、主燃料室１１内の燃料気圧が高くなり、その結果、着火時に多くの燃料が一度に吹き出てしまい、一時的に火炎が大きくなってしまうという問題があった。これに対して、本実施の形態の場合のように、副燃料室２９を設けた場合には、それによって減圧効果が発揮され、着火初期時における多量燃料の噴出それによる大火炎化を防止することができるものである。
次に、この実施の形態の場合には、吸上芯２５と吸上芯カバ２３が、非使用時に、下方に押し込められる構成になっていると共に、その上から火口キャップ４５が覆うような構成になっている。よって、確実に消火されることになり、従来のように、開閉蓋体７を閉めたにもかかわらず確実に消火されないといった事態の発生を確実に防止することができる。
又、吸上芯カバ２３は周方向等間隔に３個のスリット４１を備えた構成になっているので、燃料の噴出のバランスが良く、バランスのとれた火炎を提供することができる。
又、吸上芯カバ２３にはスリット４３が形成されていて、主燃料室１１と副燃料室２９が連通されているので、燃料消費時、すなわち使用時における副燃料室２９内の気圧の低下を抑制することができ、それによって、火炎の安定保持が可能になるものである。
又、ヤスリカバ９１を設けていて、非使用時には該ヤスリカバ９１を上昇させてヤスリ５５をカバーすると共に、開閉蓋体７の開放を規制するように構成されているので、例えば、幼児等が遊んでいて不用意に着火させてしまうといった事態の発生を防止することができる。
又、本実施の形態によるオイルライタは、シール部材１０１、１０３、１０４、１０５、１０７、１０９、１１１によって完全防水の構造になっているので、水の侵入によってその機能が損なわれるようなことはない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
尚、本発明は前記一実施の形態に限定されるものではない。図示した構成はあくまで一例である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明は、消火時における完全なる消化を可能にし、又、燃料室内における燃料気圧の上昇それによる着荷時の一時的な大火災の発生を防止して安定性及び安全性を向上させることができるように工夫したものに関し、オイルライタに好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月1日(2007.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
湿潤液体塗布手段はウェブの両側部に設け、ウェブのドライエッジをそれぞれ検出し、各位置検出信号に基づき、湿潤液体塗布手段を幅方向にそれぞれ追従移動させる請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗工紙の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
アプリケータの両側にドライエッジを形成するマスキング部材を幅方向に移動可能に設け、ウェブのドライエッジをそれぞれ検出し、各位置検出信号に基づき、マスキング部材を幅方向にそれぞれ追従移動させる請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗工紙の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
＜請求項４項記載の発明＞
湿潤液体塗布手段はウェブの両側部に設け、ウェブのドライエッジをそれぞれ検出し、各位置検出信号に基づき、湿潤液体塗布手段を幅方向にそれぞれ追従移動させる請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗工紙の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
＜請求項５項記載の発明＞
アプリケータの両側にドライエッジを形成するマスキング部材を幅方向に移動可能に設け、ウェブのドライエッジをそれぞれ検出し、各位置検出信号に基づき、マスキング部材を幅方向にそれぞれ追従移動させる請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗工紙の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月15日(2007.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（３）ポリエステル繊維薄葉紙の製造
得られた延伸されたポリエステル短繊維Ａ及び未延伸ポリエステル短繊維Ｂを使って、ドライヤー粘着性の評価方法に従って、表１に示すようにＡ／Ｂの配合比率を変え、秤量が８．０〜８．２ｇ／ｍ２のポリエステル繊維薄葉紙を得た。結果を表１に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月8日(2007.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の隔壁スロットを規定する隔壁を有するコンピュータ・システム・ハウジング内に電磁妨害（ＥＭＩ）雑音の減衰障壁を提供する電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケットであって、
前記コンピュータ・システム・ハウジングの前記隔壁の内側面に取り付け可能な導電性ガスケットであって、前記ガスケットは、前記隔壁の前記隔壁スロットと位置合わせされた複数のガスケット・スロットを規定し、各前記ガスケット・スロットは、第１の側縁と、前記第１の側縁と反対側に配置された第２の側縁とによって規定され、各前記ガスケット・スロットの各前記第１の側縁と各前記第２の側縁とは、前記隔壁と接触する側縁スプリング・タブを有し、各前記ガスケット・スロットの前記第１の側縁と前記第２の側縁との前記側縁スプリング・タブは、互いに位置合わせされている、導電性ガスケット
を備えて成る電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケット。
【請求項２】
各前記ガスケット・スロットは、前記第１の側縁を前記第２の側縁に接続するバイト縁によりさらに規定され、各前記バイト縁は、前記隔壁と接触する複数のバイト縁スプリング・タブを有する、請求項１に記載の電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケット。
【請求項３】
あるガスケット・スロットの第１の側縁と第２の側縁との側縁スプリング・タブは、前記ガスケット・スロットに隣接するガスケット・スロットの第１の側縁と第２の側縁との側縁スプリング・タブと位置合わせされている、請求項１に記載の電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケット。
【請求項４】
複数の隔壁スロットを規定する隔壁を有するコンピュータ・システム・ハウジング内に電磁妨害（ＥＭＩ）雑音の減衰障壁を提供する電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケットであって、
前記コンピュータ・システム・ハウジングの前記隔壁の内側面に取り付け可能な導電性ガスケットであって、前記ガスケットは、前記隔壁の前記隔壁スロットと位置合わせされた複数のガスケット・スロットを規定し、各前記ガスケット・スロットは、第１の側縁と、前記第１の側縁と反対側に配置された第２の側縁とによって規定され、各前記ガスケット・スロットの各前記第１の側縁と各前記第２の側縁とは、前記隔壁と接触する側縁スプリング・タブを有し、各前記ガスケット・スロットの前記第２の側縁の前記側縁スプリング・タブは、前記ガスケット・スロットに隣接するガスケット・スロットの第１の側縁の側縁スプリング・タブと互いに位置合わせされている、導電性ガスケット
を備えて成る電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケット。
【請求項５】
各前記ガスケット・スロットは、前記第１の側縁を前記第２の側縁に接続するバイト縁によりさらに規定され、各前記バイト縁は、前記隔壁と接触する複数のバイト縁スプリング・タブを有する、請求項４に記載の電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケット。
【請求項６】
あるガスケット・スロットの第１の側縁と第２の側縁との側縁スプリング・タブは、互いに位置合わせされている、請求項４に記載の電磁妨害（ＥＭＩ）隔壁ガスケット。
【請求項７】
電磁妨害（ＥＭＩ）雑音の減衰障壁を提供するコンピュータ・システム・ハウジングであって、
複数の隔壁スロットを規定する隔壁と、
前記隔壁上にあり、前記隔壁の前記隔壁スロットと位置合わせされた複数のガスケット・スロットを規定するＥＭＩガスケット・アセンブリであって、各前記ガスケット・スロットは、第１の側縁と、前記第１の側縁の反対側に配置された第２の側縁と、前記第１の側縁を前記第２の側縁に接続するバイト縁とによって規定される、ＥＭＩガスケット・アセンブリと、
それぞれ周縁を有する複数の隔壁板であって、前記隔壁板の１つは各前記隔壁スロットと関連付けられ、各前記隔壁板の周縁は、少なくとも前記ＥＭＩガスケット・アセンブリの各前記ガスケット・スロットのバイト縁に接触し、その結果、ＥＭＩ雑音が、前記ガスケット・スロットにある前記ＥＭＩガスケット・アセンブリを通して、前記コンピュータ・システム・ハウジングの前記隔壁に導かれ、それによりＥＭＩ雑音が抑制される、複数の隔壁板と
を備えて成るコンピュータ・システム・ハウジング。
【請求項８】
各前記ガスケット・スロットの前記バイト縁は、前記隔壁と接触する複数のバイト縁スプリング・タブを有する、請求項７に記載のコンピュータ・システム・ハウジング。
【請求項９】
各前記隔壁板の周縁は、前記ＥＭＩガスケット・アセンブリの各前記ガスケット・スロットのバイト縁と、少なくとも前記第１の側縁とに接触し、その結果、ＥＭＩ雑音が、前記ガスケット・スロットにある前記ＥＭＩガスケット・アセンブリを通して、前記コンピュータ・システム・ハウジングの前記隔壁に導かれ、それによりＥＭＩ雑音が抑制される、請求項７に記載のコンピュータ・システム・ハウジング。
【請求項１０】
前記各隔壁板の周縁は、前記ＥＭＩガスケット・アセンブリの各前記ガスケット・スロットの前記バイト縁と、前記第１の側縁と、前記第２の側縁とに接触し、その結果、ＥＭＩ雑音が、前記ガスケット・スロットにある前記ＥＭＩガスケット・アセンブリを通して、前記コンピュータ・システム・ハウジングの前記隔壁に導かれ、それによりＥＭＩ雑音が抑制される、請求項７に記載のコンピュータ・システム・ハウジング。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）下記一般式（１）で表される化合物の加水分解物およびその縮合物もしくはいずれか一方
Ｓｉ（ＯＲ２）４    （１）
（Ｒ２は１価の有機基を示す。）
（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも１種
Ｒ２３ＳｉＱ              （２）
［Ｒ２は１価の有機基を示し、Ｑは塩素原子、−ＯＲ３、−ＯＳｉＲ３３、−ＮＨＳｉＲ３３、−ＮＨＣＯＮＨＳｉＲ３３、および−ＯＣ（ＣＨ３）＝ＮＳｉＲ３３（ただしＲ３は１価の有機基を示す）からなる群から選ばれた１種を示す。］
を含有することを特徴とするレジスト下層膜用組成物。
【請求項２】  （Ａ）下記一般式（１）で表される化合物の加水分解物およびその縮合物もしくはいずれか一方
Ｓｉ（ＯＲ２）４    （１）
（Ｒ２は１価の有機基を示す。）
（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも１種
Ｒ２３ＳｉＱ                （２）
［Ｒ２は１価の有機基を示し、Ｑは塩素原子、−ＯＲ３、−ＯＳｉＲ３３、−ＮＨＳｉＲ３３、−ＮＨＣＯＮＨＳｉＲ３３、および−ＯＣ（ＣＨ３）＝ＮＳｉＲ３３（ただしＲ３は１価の有機基を示す）からなる群から選ばれた１種を示す。］
との反応生成物を含有することを特徴とするレジスト下層膜用組成物。
【請求項３】  （Ａ）成分１００重量部（完全加水分解縮合物換算）に対して（Ｂ）成分を０．５〜３０重量部含有することを特徴とする請求項１記載のレジスト下層膜用組成物。
【請求項４】  （Ａ）成分１００重量部（完全加水分解縮合物換算）に対して（Ｂ）成分を０．５〜３０重量部を反応させることを特徴とする請求項２記載のレジスト下層膜用組成物。
【請求項５】  組成物中に含有される沸点１００℃以下のアルコールの含有量が５重量％以下であることを特徴とする請求項１記載のレジスト下層膜用組成物。
【請求項６】  さらに紫外光照射および／または加熱処理により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項１または２記載のレジスト下層膜用組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、
（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物（以下、「化合物Ａ」という）の加水分解物およびその縮合物もしくはいずれか一方（以下、「（Ａ）成分」ともいう）
Ｓｉ（ＯＲ２）４                （１）
（Ｒ２は１価の有機基を示す。）
および（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物（以下、「（Ｂ）成分」ともいう）の少なくとも１種
Ｒ２３ＳｉＱ            （２）
［Ｒ２は１価の有機基を示し、Ｑは塩素原子、−ＯＲ３、−ＯＳｉＲ３３、−ＮＨＳｉＲ３３、−ＮＨＣＯＮＨＳｉＲ３３、および−ＯＣ（ＣＨ３）＝ＮＳｉＲ３３（ただしＲ３は１価の有機基を示す）からなる群から選ばれた１種を示す。］とを含有することを特徴とするレジスト下層膜用組成物に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
（Ａ）成分
上記一般式（１）において、１価の有機基としては、アルキル基、アリール基、アリル基、グリシジル基などを挙げることができる。
ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、好ましくは炭素数１〜５であり、これらのアルキル基は鎖状でも、分岐していてもよく、さらに水素原子がフッ素原子などに置換されていてもよい。
一般式（１）においてアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基などを挙げることができる。
化合物Ａの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどを挙げることができる。
化合物Ａのうち、好ましくはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどを挙げることができる。
これらは１種あるいは２種以上を同時に使用しても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記化合物（Ａ）を加水分解、部分縮合させる際に、Ｒ２Ｏ−で表される基１モル当たり、０．２５〜３モルの水を用いることが好ましく、０．３〜２．５モルの水を加えることが特に好ましい。添加する水の量が０．３〜２．５モルの範囲内の値であれば、塗膜の均一性が低下する恐れが無く、また、レジスト下層膜用組成物の保存安定性が低下する恐れが少ないためである。
具体的には化合物（Ａ）を溶解させた後記する有機溶剤中に水を断続的あるいは連続的に添加する。この際触媒は有機溶剤中に予め添加しておいても良いし、水添加時に水中に溶解あるいは分散させておいても良い。この際の反応温度としては、通常０〜１００℃、好ましくは１５〜８０℃である。しかる後に（Ｂ）成分を添加して反応を行う。この際の反応温度としては、通常０〜１００℃、好ましくは１５〜８０℃である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記触媒の使用量は（Ａ）成分（完全加水分解縮合物換算）および（Ｂ）成分のそれぞれ１００重量部に対して、通常、０．００１〜１０重量部、好ましくは０．０１〜１０重量部の範囲である。
なお、本発明において完全加水分解縮合物とは、化合物（Ａ）中の−ＯＲ２で表される基が１００％加水分解してＯＨ基となり、完全に縮合したものを示す。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月16日(2007.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２進数の近似自乗を生成する方法であって、
前記２進数から少なくとも第１のビットを除去して、前記２進数の第２のビット集合をシフトさせることによって、被乗数を生成し、
前記２進数から前記少なくとも第１のビットを除去することによって、及び、前記２進数から前記第２のビット集合を除去することによって、乗数を生成し、
ブースのアルゴリズムを用いて、前記被乗数と前記乗数とを乗算して、第１の結果を生成する
ことを含み、
前記ブースのアルゴリズムは、仮想ビットを有し、前記第１のビットが該仮想ビットとして用いられることからなる、方法。
【請求項２】
第２の結果を生成するために、前記第１の結果をシフトさせることによって前記第１の結果を調整することを更に含み、
前記第１の結果を前記シフトさせることは、前記第２のビット集合を少なくとも前記除去することを補償し、且つ、前記少なくとも第１のビットを前記除去することを補償することからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２進数の近似自乗を生成する方法であって、
前記２進数における第１のビット位置を選択し、
仮想ビットを有するブースのアルゴリズムを用いて、被乗数と乗数とを乗算して、第１の結果を生成する
ことを含み、
前記第１のビット位置が、該第１のビット位置よりも高位ビットである第１のビット集合と、該第１のビット位置よりも低位ビットである第２のビット集合とを画定し、
前記被乗数は、前記第１のビット位置をゼロにした前記２進数と、前記第２のビット集合との合計に等しく、
前記乗数は、前記第１のビット集合からなり、
前記仮想ビットは、前記２進数の前記第１のビット位置から選択されることからなる、方法。
【請求項４】
第２の結果を生成するために、前記第１の結果をシフトさせることによって前記第１の結果を調整することを更に含み、
前記第１の結果を前記シフトさせることは、前記乗数中にはない前記第２のビット集合を補償し、
前記第１の結果を前記シフトさせることはまた、前記乗数の一部ではない、選択された前記第１のビット位置を補償することからなる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
２進数の近似自乗を生成するための装置であって、
被乗数と乗数とを乗算する部分ブース符号化乗算器
を備え、
前記被乗数が、前記２進数の第１のビット部分集合から構成され、前記乗数が、前記２進数の第２のビット部分集合から構成されており、
前記部分ブース符号化乗算器が、仮想ビットを有しており、前記仮想ビットが、前記乗数中になく、前記被乗数中にもない前記２進数の第３のビット部分集合から選択されることからなる、装置。
【請求項６】
前記２進数が、Ｎ個のビットから構成され、前記第３のビット部分集合が、前記２進数のＭ番目の番号付けられたビットから構成されており、
前記番号付けは、前記２進数の最下位ビットがゼロにおいて開始され、順番にＮ−１番目に番号付けられたビットにまで継続され、該Ｎ−１番目のビットが、前記２進数の最上位ビットとなることからなる、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
２進数の近似自乗を生成するための装置であって、
Ｎ列からなる部分ブース符号化乗算器
を備え、
前記Ｎは、前記２進数のビット数であり、Ｍは、Ｎよりも小さい選択されたビット番号であり、
前記部分ブース符号化乗算器が、Ｎ個の被乗数ビット入力の集合を有し、
前記部分ブース符号化乗算器が、Ｎ−Ｍ個の乗数ビット入力の集合を有し、
前記２進数のＭ番目のビットを除く全てのビットが、前記Ｎ個の被乗数ビット入力の集合に提供されることからなる、装置。
【請求項８】
前記２進数の前記Ｎ−Ｍ個の上位ビットが、前記Ｎ−Ｍ個の上位乗数ビット入力に提供され、
前記乗数ビット入力の下位ビットが、−１ビット入力を有するブース・エンコーダに接続され、該ブース・エンコーダの該−１番目のビット入力が、前記２進数のＭ番目のビットから受け取られることからなる、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記部分ブース符号化乗算器が、基数２の部分ブース符号化乗算器である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記部分ブース符号化乗算器が、基数３の部分ブース符号化乗算器である、請求項８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
命令を実行する方法であって、
（Ａ）命令が、２つの独立して選択されたレジスタにメモリからまたは前記命令から第１の値及び第２の値を単一のプロセッササイクルでロードするための命令であることを指定するオペコードフィールドと、前記第１の値及び前記第２の値を指定するソースフィールドと、前記第１の値をロードするための第１のターゲットレジスタを指定する第１のターゲットレジスタフィールドと、前記第２の値をロードするための第２のターゲットレジスタを指定する第２のターゲットレジスタフィールドとを有する前記命令を受け取るステップと、
（Ｂ）前記第１のターゲットレジスタを指定する第１のターゲットレジスタ信号を、レジスタファイルの第１のレジスタポートアドレス入力に供給するステップと、
（Ｃ）前記第２のターゲットレジスタを指定する第２のターゲットレジスタ信号を、前記レジスタファイルの第２のレジスタポートアドレス入力に供給するステップ
を含む方法。
【請求項２】
（Ｄ）前記レジスタファイルの第１のレジスタポートに前記第１の値を供給するステップと、
（Ｅ）前記レジスタファイルの第２のレジスタポートに前記第２の値を供給するステップ
を更に含む、請求項１の方法。
【請求項３】
（Ｆ）前記第１のターゲットレジスタに前記第１の値を格納するステップと、
（Ｇ）前記第２のターゲットレジスタに前記第２の値を格納するステップ
を更に含む、請求項２の方法。
【請求項４】
前記ソースフィールドは、プロセッサがアクセス可能なメモリにおける、前記第１の値を含む第１のロケーションのアドレスを指定する、請求項１の方法。
【請求項５】
前記メモリにおいて、前記第１のロケーションのアドレスは、第２のロケーションのアドレスと予め決められた関係を有しており、
（Ｄ）前記予め決められた関係に基づいて、前記第１のロケーションのアドレスから前記第２のロケーションのアドレスを導出するステップ
を更に含む、請求項４の方法。
【請求項６】
前記ステップ（Ｄ）が、
前記第１のロケーションのアドレスに１ワードを付加して、前記第２のロケーションのアドレスを導出するステップ
を含む、請求項５の方法。
【請求項７】
前記オペコードフィールド、前記ソースフィールド、前記第１のターゲットレジスタフィールド、及び前記第２のターゲットレジスタフィールドが、プロセッサがアクセス可能な単一ワードのビットフィールドから構成される、請求項１の方法。
【請求項８】
前記オペコードフィールド、前記ソースフィールド、前記第１のターゲットレジスタフィールド、及び前記第２のターゲットレジスタフィールドが、各々、前記プロセッサがアクセス可能な１ワードから構成される、請求項１の方法。
【請求項９】
命令を実行するための装置であって、
命令が、２つの独立して選択されたレジスタにメモリからまたは前記命令から第１の値及び第２の値を単一のプロセッササイクルでロードするための命令であることを指定するオペコードフィールドと、前記第１の値及び前記第２の値を指定するソースフィールドと、前記第１の値をロードするための第１のターゲットレジスタを指定する第１のターゲットレジスタフィールドと、前記第２の値をロードするための第２のターゲットレジスタを指定する第２のターゲットレジスタフィールドとを有する前記命令を受け取る手段と、
前記第１のターゲットレジスタを指定する第１のターゲットレジスタ信号を、レジスタファイルの第１のレジスタポートアドレス入力に供給する手段と、
前記第２のターゲットレジスタを指定する第２のターゲットレジスタ信号を、前記レジスタファイルの第２のレジスタポートアドレス入力に供給する手段
を備え、
前記オペコードフィールド、前記ソースフィールド、前記第１のターゲットレジスタフィールド、及び前記第２のターゲットレジスタフィールドが、各々、前記プロセッサがアクセス可能な１ワードから構成されることからなる、装置。
【請求項１０】
命令を実行するためのシステムであって、
命令が、２つの独立して選択されたレジスタにメモリからまたは前記命令から第１の値及び第２の値を単一のプロセッササイクルでロードするための命令であることを指定するオペコードフィールド、前記第１の値及び前記第２の値を指定するソースフィールド、前記第１の値をロードするための第１のターゲットレジスタを指定する第１のターゲットレジスタフィールド、および前記第２の値をロードするための第２のターゲットレジスタを指定する第２のターゲットレジスタフィールドを有する前記命令を受け取る入力と、前記第１のターゲットレジスタを指定する第１のターゲットレジスタ信号を供給する第１の出力と、前記第２のターゲットレジスタを指定する第２のターゲットレジスタ信号を供給する第２の出力とを備えるプロセッサと、
前記第１の値を表す第１のメモリデータ信号を供給する第１の出力を備えると共に、前記第２の値を表す第２のメモリデータ信号を供給する第２の出力を有するメモリと、
前記第１のメモリデータ信号を受け取る第１のレジスタポート、前記第２のメモリデータ信号を受け取る第２のレジスタポート、前記第１のターゲットレジスタ信号を受け取る第１のレジスタポートアドレス入力、及び前記第２のターゲットレジスタ信号を受け取る第２のレジスタポートアドレス入力を備え、前記第１のターゲットレジスタに前記第１の値を格納し、前記第２のターゲットレジスタに前記第２の値を格納するよう構成されたレジスタファイル
を具備するシステム。
【請求項１１】
前記ソースフィールドは、前記メモリにおける、前記第１の値を有する第１のロケーションのアドレスを指定する、請求項１０のシステム。
【請求項１２】
前記メモリにおいて、前記第１のロケーションのアドレスは、第２のロケーションのアドレスと予め決められた関係を有しており、
前記プロセッサは、その予め決められた関係に基づいて、前記第１のロケーションのアドレスから前記第２のロケーションのアドレスを導出するよう構成される、請求項１１のシステム。
【請求項１３】
前記第１のロケーションのアドレスと前記第２のロケーションのアドレスとが１ワードだけ異なる、請求項１２のシステム。
【請求項１４】
前記オペコードフィールド、前記ソースフィールド、前記第１のターゲットレジスタフィールド、及び前記第２のターゲットレジスタフィールドが、前記プロセッサがアクセス可能な単一ワードのビットフィールドから構成される、請求項１０のシステム。
【請求項１５】
前記オペコードフィールド、前記ソースフィールド、前記第１のターゲットレジスタフィールド、及び前記第２のターゲットレジスタフィールドが、各々、前記プロセッサがアクセス可能な１ワードから構成される、請求項１０のシステム。