【手続補正書】
【提出日】平成20年4月11日(2008.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークピース上に像を投影するように構成された光学アセンブリと、
前記ワークピースを前記光学アセンブリに隣接して支持するように構成されたワークピーステーブルを有するステージアセンブリと、
前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリから離隔するときに、前記光学アセンブリに隣接するギャップに液浸液体を維持するように構成された液浸流体システムと、を備え、
前記液浸流体システムは、液浸部材と、前記光学アセンブリと前記液浸部材との間のギャップに前記液浸液体が維持されるように、前記光学アセンブリに隣接して前記液浸部材を保持するように構成されている第１クランプを有する装置。
【請求項２】
前記ワークピーステーブル上に前記第１クランプから開放された前記液浸部材を保持するように構成されている第２クランプをさらに備える請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ステージアセンブリ上に前記第１クランプから開放された前記液浸部材を保持するように構成されている第２クランプをさらに備える請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１クランプは、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリから離隔しているときには前記液浸部材をクランプし、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリに隣接するときには前記液浸部材を開放するように構成されている請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記第１クランプは、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリから離隔しているときには前記液浸部材をクランプし、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリに隣接するときには前記液浸部材を開放するように構成されている請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記ステージアセンブリを移動するように構成されたステージアセンブリ駆動装置をさらに備える請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第１クランプが、前記光学アセンブリに取り付けられたハウジングに機械的に連結されている請求項１に記載の装置。
【請求項８】
さらに、第２ワークピースを支持するように構成される第２ワークピーステーブルを含む第２ステージアセンブリと、
前記２つのステージアセンブリが前記光学アセンブリの下方に交互に位置するように、前記第１ステージアセンブリと前記第２ステージアセンブリの移動を制御するように構成された制御システムとを備える請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記ワークピーステーブル上の前記ワークピースを取り除き、前記ワークピースを第２ワークピースに交換するように構成されたワークピース交換システムをさらに備え、
前記ワークピース交換システムが前記ワークピースを交換しているとき、前記ギャップに前記液浸液体を維持するために、前記液浸部材が前記第１クランプによって、前記光学アセンブリに隣接してクランプされる請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記ワークピース交換システムが、前記ワークピースを取り出し、前記ワークピースを第２ワークピースに交換するためのロボットを備える請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
さらに前記ワークピースをアライメントするためのアライメントツールを備える請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
さらに前記ギャップに液浸液体を供給し、前記ギャップから液浸流体を除去するように構成される環境システムを備える請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記ステージアセンブリが前記ワークピーステーブルと第２ワークピーステーブルを備え、前記ワークピーステーブルと第２ワークピーステーブルは、前記ワークピースと第２ワークピースを交互に前記光学アセンブリにそれぞれ隣接して支持するように構成されている請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記ワークピーステーブル又は第２ワークピーステーブルが前記光学アセンブリから離隔するときに、前記ギャップに前記液浸液体を維持するために、前記第１クランプによって、前記光学アセンブリに隣接して前記液浸部材がクランプされる請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
さらに、パターンが定義されたレチクルを保持するように構成されたレチクルステージをさらに備え、
前記レチクルにより定義された前記パターンが、前記光学アセンブリを通じて前記ワークピース上に投影される請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記装置がリソグラフィマシンである請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
さらにＡｒＦエキシマレーザーを含む照明源を備え、前記液浸液体が水を含み、前記ワークピースが前記液浸液体を通して露光される請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記液浸部材がパッドを含む請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記液浸部材が前記ステージアセンブリに着脱可能である請求項１に記載の装置。
【請求項２０】
前記液浸液体が前記光学アセンブリと前記液浸部材との間の前記ギャップに保持されている間、前記ワークピーステーブルが前記液浸部材とは独立に移動可能である請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
前記液浸液体が前記光学アセンブリと前記液浸部材との間の前記ギャップに維持されている間、ワークピース交換動作が実行される請求項１９に記載の装置。
【請求項２２】
請求項１６に記載の装置を用いるマイクロデバイス製造方法。
【請求項２３】
前記第２クランプが、真空クランプ、静電クランプ、及びメカニカルクランプのいずれか一つのタイプのクランプを備える請求項２〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２４】
前記第１クランプが、真空クランプ、静電クランプ、及びメカニカルクランプのいずれか一つのタイプのクランプを備える請求項１〜７及び２３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２５】
前記ステージアセンブリ以外の可動部材をさらに備え、
前記第１クランプから開放された前記液浸部材が、前記可動部材上に保持される請求項１に記載の装置。
【請求項２６】
前記ワークピースを露光している間に、前記液浸部材が、前記ワークピーステーブル上にクランプされる請求項１６に記載の装置。
【請求項２７】
ワークピース上に像を投影するように構成された光学アセンブリと、
前記ワークピースを支持するように構成されたワークピーステーブルを有するステージアセンブリと、
液浸部材を、前記光学アセンブリに隣接して着脱可能にクランプするように構成された第１クランプ、及び前記液浸部材を着脱可能にクランプするように構成された第２クランプを有する液浸流体システムと、を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２８】
前記第１クランプが、前記第２クランプから開放された前記液浸部材をクランプするように構成されており、前記第２クランプが前記第１クランプから開放された前記液浸部材をクランプするように構成される請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記第１クランプが、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリから離隔するときに液浸液体を維持するために、前記光学アセンブリに隣接して前記液浸部材をクランプする請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
前記第１クランプが、ワークピース交換動作が実行されるときに液浸液体を維持するために、前記光学アセンブリに隣接して前記液浸部材をクランプするように構成された請求項２８に記載の装置。
【請求項３１】
前記第２クランプが、前記ステージアセンブリ上に前記液浸部材をクランプするように構成された請求項２８に記載の装置。
【請求項３２】
前記液浸部材が、前記第２クランプによって前記ワークピーステーブル上にクランプされる請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記第１クランプ及び前記第２クランプのそれぞれが、真空クランプを有する請求項２８に記載の装置。
【請求項３４】
前記第１クランプから開放された前記液浸部材が、前記第２クランプによって、前記ステージアセンブリ以外の可動部材上にクランプされる請求項２８に記載の装置。
【請求項３５】
前記第１クランプが、前記ワークピーステーブルが前記光学アセンブリから離隔するときに液浸液体を維持するために、前記光学アセンブリに隣接して前記液浸部材をクランプする請求項２７に記載の装置。
【請求項３６】
前記第１クランプが、ワークピース交換動作が実行されるときに液浸液体を維持するために、前記光学アセンブリに隣接して前記液浸部材をクランプするように構成された請求項２７に記載の装置。
【請求項３７】
前記第２クランプが、前記ステージアセンブリ上に前記液浸部材をクランプするように構成された請求項２７に記載の装置。
【請求項３８】
前記液浸部材が、前記第２クランプによって前記ワークピーステーブル上にクランプされる請求項３７に記載の装置。
【請求項３９】
前記第１クランプ及び前記第２クランプのそれぞれが、真空クランプを有する請求項２７に記載の装置。
【請求項４０】
前記液浸部材が前記液浸液体を弾く表面を有する請求項１又は２７に記載の装置。
【請求項４１】
前記液浸部材の表面がテフロンでコーティングされている請求項１、２７及び４０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項４２】
前記液浸部材が、プラスチック、金属及びセラミックスの一つの材料で製造されている請求項１、２７及び４０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項４３】
前記ワークピースが、半導体ウェハまたはＬＣＤディスプレイパネルである請求項１又は２７に記載の装置。
【請求項４４】
請求項２７に記載の前記リソグラフィ装置の前記光学アセンブリを通してワークピースを露光することと、
前記露光されたワークピースを現像することを含むマイクロデバイス製造方法。
【請求項４５】
リソグラフィ装置において、光学アセンブリに隣接するギャップに液浸液体を維持する方法であって、
液浸部材が前記光学アセンブリの下に位置するように、ステージアセンブリを移動することと、
前記ステージアセンブリから前記液浸部材を開放することと、
前記光学アセンブリと前記液浸部材との間のギャップに前記液浸液体を維持するために、前記ステージアセンブリから開放した前記液浸部材を、第１クランプによって前記光学アセンブリに隣接して保持することとを含む液浸液体維持方法。
【請求項４６】
前記液浸液体が、前記光学アセンブリと前記第１クランプによって保持される前記液浸部材との間のギャップに維持されている間に、前記ステージアセンブリを前記光学アセンブリから離隔することをさらに含む請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項４７】
前記第１クランプが真空クランプを有する請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項４８】
前記第１クランプが、静電クランプ、及びメカニカルクランプのいずれか一つのタイプのクランプを備える請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項４９】
前記液浸液体が、前記光学アセンブリと前記第１クランプによって保持される前記液浸部材との間のギャップに維持されている間に、前記ステージアセンブリ上のワークピースを交換することをさらに含む請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５０】
前記液浸部材の表面がテフロンでコーティングされている請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５１】
前記液浸部材は、プラスチック、金属及びセラミックの一つの材料によって製造されている請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５２】
前記液浸部材が、第２クランプによって前記ステージアセンブリ上に保持されている間に、前記ステージアセンブリ上に保持されるワークピースを、前記光学アセンブリ及び前記液浸液体を通して露光することをさらに含む請求項４５に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５３】
前記ステージアセンブリがワークピーステーブルを有し、前記液浸部材が前記第２クランプによって、前記ワークピーステーブル上に保持される請求項５２に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５４】
前記第２クランプが真空クランプを有する請求項５２に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５５】
前記第２クランプが、静電クランプ、及びメカニカルクランプのいずれか一つのタイプのクランプを備える請求項５２に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５６】
前記第１クランプが、真空クランプ、静電クランプ及びメカニカルクランプのいずれか一つのタイプのクランプを備える請求項５４に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５７】
前記ワークピースが、半導体ウェハまたはＬＣＤディスプレイパネルである請求項５２に記載の液浸液体維持方法。
【請求項５８】
請求項５２に記載の方法を用いてワークピースを露光することと、前記露光されたワークピースを現像することを含むデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液浸液体を光学アセンブリ下に維持するリソグラフィ装置及び液浸液体維持方法並びにそれらを用いるデバイス製造方法