【手続補正書】
【提出日】平成19年7月13日(2007.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体中の炭素同位体の量を測定するための測定器であって、
少なくとも１つのレーザービームを発生するレーザー光源と、
第１の流体ボリュームと、
第１のアップストリーム光学検出器と、
第１のダウンストリーム光学検出器と、
未知の濃度の同位体を含む参照セルと、
第２のアップストリーム光学検出器と、
第２のダウンストリーム光学検出器と、
マイクロプロセッサと、
を有し、第１の流体ボリュームはレーザービームの少なくとも第１の部分がその流体を通過するように配置され、
第１のアップストリーム光学検出器は第１のビーム部分が第１のボリュームを通過する前にその第１のビーム部分を検出するように配置され、また、第１のアップストリーム光学検出器は第１のボリュームを通過する前における第１のビーム部分の強度に対応する第１のダウンストリーム信号を発生し、
第１のダウンストリーム光学検出器は第１のビーム部分が第１のボリュームを通過した後にその第１のビーム部分を検出するように配置され、また、第１のダウンストリーム光学検出器は第１のボリュームを通過した後の第１のビーム部分の強度に対応する第１のダウンストリーム信号を発生し、
参照セルはレーザービームの少なくとも第２の部分が未知の濃度の同位体を通過するように配置され、
第２のアップストリーム光学検出器は第２のビーム部分が参照セルを通過する前にその第２のビーム部分を検出するように配置され、また、第２のアップストリーム光学検出器は参照セルを通過する前の第２のビーム部分の強度に対応する第２のアップストリーム信号を発生し、
第２のダウンストリーム光学検出器は第２のビーム部分が参照セルを通過した後にその第２のビーム部分を検出するように配置され、また、第２のダウンストリーム光学検出器は参照セルを通過した後の第２のビーム部分の強度に対応する第２のダウンストリーム信号を発生し、
マイクロプロセッサは第１及び第２のアップストリーム及びダウンストリーム信号を受信し、それらの信号から流体中の同位体の存在を表すパラメーターを計算し、そのパラメーターが同位体の増分又は減分を有している測定器。
【請求項２】
第１及び第２のビーム部分が単一のビームを有する請求項１に記載の測定器。
【請求項３】
第１及び第２のビーム部分が別々のビームを有する請求項１に記載の測定器。
【請求項４】
第１の流体ボリュームを含むためのセルを有する請求項１から請求項３のいずれかに記載の測定器。
【請求項５】
第１の流体ボリュームを含むための導管を有する請求項１から請求項３のいずれかに記載の測定器。
【請求項６】
使用に際して、導管が流動する流体を含んでいる請求項５に記載の測定器。
【請求項７】
マイクロプロセッサが参照セル中の同位体濃度に対する流体中の同位体濃度を計算するために設置されている請求項１から請求項６のいずれかに記載の測定器。
【請求項８】
マイクロプロセッサが定量的に流体中の同位体濃度を計算するために設置されている請求項１から請求項７のいずれかに記載の測定器。
【請求項９】
レーザー光源が波長可変のレーザー光源である請求項１から請求項８のいずれかに記載の測定器。
【請求項１０】
炭素同位体が炭化水素の一部である請求項１から請求項９のいずれかに記載の測定器。
【請求項１１】
第１のボリューム及び参照セルが実質的に同じ温度である請求項１に記載の測定器。
【請求項１２】
使用に際して、第１及び第２のビーム部分が第１のボリューム及び参照セルを通過するとき、第１のボリューム及び参照セルが井戸中にある請求項１から請求項１１のいずれかに記載の測定器。
【請求項１３】
使用に際して、両ビーム部分が第１のボリューム及び参照セルを通過するとき、第１のボリューム及び参照セルが井戸中にない請求項１から請求項１１のいずれかに記載の測定器。
【請求項１４】
使用に際して、第１及び第２のダウンストリーム信号がそれぞれ流体及び参照セルを通過した第１及び第２のビーム部分の透過率を表す請求項１に記載の測定器。
【請求項１５】
炭化水素流体の同位体組成を表すデータを得るための方法であって、
（ａ）未知の同位体組成を有する参照流体を参照セル中に導入する段階と、
（ｂ）炭化水素流体の試料を限定する段階と、
（ｃ）少なくとも１つのレーザービームを準備する段階と、
（ｄ）レーザービームの少なくとも一部を参照測定ビームとして参照流体中に通し、参照流体の中を通過する前及び後の参照測定ビームを測定する段階と、
（ｅ）レーザービームの少なくとも一部を試料測定ビームとして試料中に通し、試料の中を通過する前及び後の試料測定ビームを測定する段階と、
（ｆ）段階（ｄ）及び（ｅ）で得られた測定値を用いて流体中の同位体の存在を表すパラメーターを計算する段階と、
を有し、（ｄ）において参照測定ビームは、参照流体を通過する前においては第１のアップストリーム光学検出器によって、また、参照流体を通過した後においては第１のダウンストリーム光学検出器によって測定され、（ｅ）において試料測定ビームは、試料を通過する前は第２のアップストリーム光学検出器によって、また、試料を通過した後は第２のダウンストリーム光学検出器によって測定され、（ｆ）においてパラメーターが豊富な又は微量の同位体を表す方法。
【請求項１６】
参照測定ビーム及び試料測定ビームが単一ビームを有する請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
レーザービームをスプリットさせて参照測定ビーム及び試料測定ビームを形成する段階をさらに有し、その場合、参照測定ビーム及び試料測定ビームは別々のビームを有するように形成される請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
段階（ｂ）は炭化水素流体の試料をセル中に配置する段階を有する請求項１５から請求項１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
段階（ｂ）は炭化水素流体を流すための導管を設ける段階を有する請求項１５から請求項１７のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
炭化水素流体が導管中を流れている間に段階（ｅ）が実施される請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
段階（ｆ）において、マイクロプロセッサが参照セル中の同位体濃度と比較して流体中の同位体濃度を計算するために設置されている請求項１５から請求項２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
更に別の段階（ｇ）において、マイクロプロセッサが流体中の同位体濃度を定量的に計算するために設置されている請求項１５から請求項２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
測定によって、炭化水素ガス混合物中の個々の化合物の炭素同位体組成に関する情報が得られる請求項１５から請求項２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
個々の化合物がメタン、エタン、プロパン、イソブタン及びノルマルブタン、及びイソペンタン及びノルマルペンタンから選択される請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
レーザービームが波長可変のレーザー光源から得られる請求項１５から請求項２４のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
段階（ｄ）及び（ｅ）が実質的に同じ温度で実施される請求項１５から請求項２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
段階（ｄ）及び（ｅ）が同じ井戸中で実施される請求項１５から請求項２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
段階（ｂ）は井戸中で実施され、段階（ｄ）及び（ｅ）は井戸の中では実施されない請求項１５から請求項２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
段階（ｆ）は参照セル及び試料セルを通過する参照測定ビーム及び試料測定ビームの透過率を使用して実施される請求項１５から請求項２８のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図面を参照すると、本発明のシステムの好ましい実施形態には、光学測定システム及び試料加工システムが含まれる。光学測定システムには、好ましくは、波長可変のレーザー光源１０、参照セル１４、試料セル１２及び前希釈セル(pre-dilution cell)セル１６が含まれる。参照セル１４には、それぞれその入口及び出口に設けた１対の光学検出器４２及び４４がある。同様にして、試料セル１２には光学検出器５２及び５４、前希釈セル１６には光学検出器６２及び６４がある。光学検出器４２、４４、５２、５４、６２、６４には、必要に応じて、ビームスプリッターと入射光量を測定するためのセンサーとが含まれているのが好ましく、これらは当業者には周知のものである。試料セル１２は静止状態又は定常状態システムのいずれであってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図に戻ると、試料加工システムには、好ましくは、試料入口９２、前希釈ライン、試料ライン９６、希釈ライン９８及び希釈源１００が含まれる。入口９２はこの装置で分析するための流体を受け入れる。前希釈ラインでは、入口９２と前希釈セル１６との間で流体を接続している。試料ライン９６では、入口９２と試料セル１２との間で流体を接続している。希釈ライン９８では、希釈源１００と試料ライン９６との間で流体を接続している。試料加工システムには、前希釈セル１６及び試料セル１２をそれぞれ空にするために、真空ラインを設けるのも好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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