【手続補正書】
【提出日】平成20年3月13日(2008.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする前記光学系。
【請求項２】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする前記光学系。
【請求項３】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする前記光学系。
【請求項４】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されており、且つ、前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項５】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、且つ、前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項６】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されており、且つ、前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項７】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする前記光学系。
【請求項８】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項７の光学系。
【請求項９】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項７の光学系。
【請求項１０】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする前記光学系。
【請求項１１】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする前記光学系。
【請求項１２】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項１３】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項１４】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項１５】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする前記光学系。
【請求項１６】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影するための光学系であって、
像源と、
前記対象の像を形成するための像形成素子と、
前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と、
前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と、
を有し、
前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする前記光学系。
【請求項１７】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項１６の光学系。
【請求項１８】  光学パネルと、対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する少なくとも１つの光学系と、を有する表示系であって、
各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成される光学導波路と；前記入口面に対して非垂直な軸から進行する光を、前記入口面に対して垂直な軸へと再指向させる、前記入口面に設けられた少なくとも１つのカプラーと；を有する光学パネルと、
各々が、像源と；前記対象の像を形成するための像形成素子と；前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と；前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と；を有する少なくとも１つの光学系と、
を有することを特徴とする前記表示系。
【請求項１９】  前記像形成素子、アナモルフィック素子、及びテレセントリック素子の湾曲の中心は、各々同一平面内に整列されることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２０】  前記像形成素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２１】  前記像形成素子は、レンズであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２２】  前記像形成素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２３】  前記像形成素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２４】  前記像形成素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項２３の表示系。
【請求項２５】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２６】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子から成る群から選択される１つ又は２つの素子は、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２７】  前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２８】  前記アナモルフィック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項２９】  前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項３０】  前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項３１】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項３０の表示系。
【請求項３２】  前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有することを特徴とする請求項３０の表示系。
【請求項３３】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項３０の表示系。
【請求項３４】  前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項３５】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項３４の表示系。
【請求項３６】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項３４の表示系。
【請求項３７】  前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項３８】  前記テレセントリック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項３９】  前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４０】  前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４１】  前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４２】  前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４３】  前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４４】  前記テレセントリック素子は、フレネル表面を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４５】  前記表示像平面は、前記複数の導波路の前記複数の第２の端部によって画成されることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４６】  前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４７】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項４６の表示系。
【請求項４８】  前記表示系は、２つ以上の光学系を有することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項４９】  前記表示系は、３つの光学系を有し、これらの光学系は、それぞれ赤、緑、青の光を投影することを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項５０】  前記複数の導波路の各々は、前記出口面に沿う水平方向に連続して延在する平坦なリボンとして形成されることを特徴とする請求項１８の表示系。
【請求項５１】  対象の像を光学パネルの表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて表示する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する
段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記光学パネルは、各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成される光学導波路を有し、前記光学パネルは更に、前記入口面に対して非垂直な軸から進行する光を、前記入口面に対して垂直な軸へと再指向させる少なくとも１つのカプラーを、前記入口面において有することを特徴とする前記方法。
【請求項５２】  光学パネルと、対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する少なくとも１つの光学系と、を有する表示系であって、
各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成され、前記入口面は前記出口面に対して実質的に平行とされる光学導波路と；前記入口面に対して非垂直な軸から進行する光を、前記入口面に対して垂直な軸へと再指向させる、前記入口面に設けられた少なくとも１つのカプラーと；を有する光学パネルと、
各々が、像源と；前記対象の像を形成するための像形成素子と；前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と；前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と；を有する少なくとも１つの光学系と、
を有することを特徴とする前記表示系。
【請求項５３】  前記像形成素子、アナモルフィック素子、及びテレセントリック素子の湾曲の中心は、各々同一平面内に整列されることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項５４】  前記像形成素子は、ミラーであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項５５】  前記像形成素子は、レンズであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項５６】  前記像形成素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項５７】  前記像形成素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項５８】  前記像形成素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項５７の表示系。
【請求項５９】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６０】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子から成る群から選択される１つ又は２つの素子は、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６１】  前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６２】  前記アナモルフィック素子は、レンズであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６３】  前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６４】  前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６５】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項６４の表示系。
【請求項６６】  前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有することを特徴とする請求項６４の表示系。
【請求項６７】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項６４の表示系。
【請求項６８】  前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項６９】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項６８の表示系。
【請求項７０】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項６８の表示系。
【請求項７１】  前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７２】  前記テレセントリック素子は、レンズであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７３】  前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７４】  前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７５】  前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７６】  前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７７】  前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７８】  前記テレセントリック素子は、フレネル表面を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項７９】  前記表示像平面は、前記複数の導波路の前記複数の第２の端部によって画成されることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項８０】  前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項８１】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項８０の表示系。
【請求項８２】  前記表示系は、２つ以上の光学系を有することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項８３】  前記表示系は、３つの光学系を有し、これらの光学系は、それぞれ赤、緑、青の光を投影することを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項８４】  前記複数の導波路の各々は、前記出口面に沿う水平方向に連続して延在する平坦なリボンとして形成されることを特徴とする請求項５２の表示系。
【請求項８５】  対象の像を光学パネルの表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて表示する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する
段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記光学パネルは、各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成され、前記入口面は前記出口面に対して実質的に平行とされる光学導波路を有し、前記光学パネルは更に、前記入口面に対して非垂直な軸から進行する光を、前記入口面に対して垂直な軸へと再指向させる少なくとも１つのカプラーを、前記入口面において有することを特徴とする前記方法。
【請求項８６】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項１８の表示系。
【請求項８７】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項５１の方法。
【請求項８８】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項５２の表示系。
【請求項８９】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項８５の方法。
【請求項９０】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする前記方法。
【請求項９１】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする前記方法。
【請求項９２】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする前記方法。
【請求項９３】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されており、且つ、前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項９４】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、且つ、前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項９５】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されており、且つ、前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項９６】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする前記方法。
【請求項９７】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項９６の方法。
【請求項９８】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項９６の方法。
【請求項９９】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする前記方法。
【請求項１００】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする前記方法。
【請求項１０１】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項１０２】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項１０３】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項１０４】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする前記方法。
【請求項１０５】  対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする前記方法。
【請求項１０６】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項１０５の前記方法。
【請求項１０７】  光学パネルと、対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する少なくとも１つの光学系と、を有する表示系であって、
各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成される光学導波路を有する光学パネルと、
各々が、像源と；前記対象の像を形成するための像形成素子と；前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と；前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と；を有する少なくとも１つの光学系と、
を有することを特徴とする前記表示系。
【請求項１０８】  前記像形成素子、アナモルフィック素子、及びテレセントリック素子の湾曲の中心は、各々同一平面内に整列されることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１０９】  前記像形成素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１０】  前記像形成素子は、レンズであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１１】  前記像形成素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１２】  前記像形成素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１３】  前記像形成素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１１２の表示系。
【請求項１１４】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１５】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子から成る群から選択される１つ又は２つの素子は、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１６】  前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１７】  前記アナモルフィック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１８】  前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１１９】  前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１２０】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項１１９の表示系。
【請求項１２１】  前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有することを特徴とする請求項１１９の表示系。
【請求項１２２】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項１１９の表示系。
【請求項１２３】  前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１２４】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１２３の表示系。
【請求項１２５】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項１２３の表示系。
【請求項１２６】  前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１２７】  前記テレセントリック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１２８】  前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１２９】  前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３０】  前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３１】  前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３２】  前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３３】  前記テレセントリック素子は、フレネル表面を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３４】  前記表示像平面は、前記複数の導波路の前記複数の第２の端部によって画成されることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３５】  前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３６】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項１３５の表示系。
【請求項１３７】  前記表示系は、２つ以上の光学系を有することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３８】  前記表示系は、３つの光学系を有し、これらの光学系は、それぞれ赤、緑、青の光を投影することを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１３９】  前記複数の導波路の各々は、前記出口面に沿う水平方向に連続して延在する平坦なリボンとして形成されることを特徴とする請求項１０７の表示系。
【請求項１４０】  対象の像を光学パネルの表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて表示する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する
段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記光学パネルは、各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成される光学導波路を有することを特徴とする前記方法。
【請求項１４１】  前記像形成素子、アナモルフィック素子、及びテレセントリック素子の湾曲の中心は、各々同一平面内に整列されることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４２】  前記像形成素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４３】  前記像形成素子は、レンズであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４４】  前記像形成素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４５】  前記像形成素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４６】  前記像形成素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１４５の方法。
【請求項１４７】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４８】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子から成る群から選択される１つ又は２つの素子は、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１４９】  前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１５０】  前記アナモルフィック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１５１】  前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１５２】  前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１５３】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項１５２の方法。
【請求項１５４】  前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有することを特徴とする請求項１５２の方法。
【請求項１５５】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項１５２の方法。
【請求項１５６】  前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１５７】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１５６の方法。
【請求項１５８】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項１５６の方法。
【請求項１５９】  前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６０】  前記テレセントリック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６１】  前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６２】  前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６３】  前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６４】  前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６５】  前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１４０の光学系。
【請求項１６６】  前記テレセントリック素子は、フレネル表面を有することを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６７】  前記表示像平面は、前記複数の導波路の前記複数の第２の端部によって画成されることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６８】  前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１６９】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項１６８の方法。
【請求項１７０】  前記複数の導波路の各々は、前記出口面に沿う水平方向に連続して延在する平坦なリボンとして形成されることを特徴とする請求項１４０の方法。
【請求項１７１】  光学パネルと、対象の像を表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて投影する少なくとも１つの光学系と、を有する表示系であって、
各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成され、前記入口面は前記出口面に対して実質的に平行とされる光学導波路を有する光学パネルと、
各々が、像源と；前記対象の像を形成するための像形成素子と；前記像のアナモルフィックなひずみを低減するためのアナモルフィック素子と；前記像の台形ひずみを低減するためのテレセントリック素子と；を有する少なくとも１つの光学系と、
を有することを特徴とする前記表示系。
【請求項１７２】  前記像形成素子、アナモルフィック素子、及びテレセントリック素子の湾曲の中心は、各々同一平面内に整列されることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１７３】  前記像形成素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１７４】  前記像形成素子は、レンズであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１７５】  前記像形成素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１７６】  前記像形成素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１７７】  前記像形成素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１７６の表示系。
【請求項１７８】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子は、各々前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１７９】  前記像形成素子、前記アナモルフィック素子、及び前記テレセントリック素子から成る群から選択される１つ又は２つの素子は、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１８０】  前記アナモルフィック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１８１】  前記アナモルフィック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１８２】  前記アナモルフィック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１８３】  前記アナモルフィック素子は、回転対称表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１８４】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項１８３の表示系。
【請求項１８５】  前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有することを特徴とする請求項１８３の表示系。
【請求項１８６】  前記像形成素子及びテレセントリック素子は、各々中心長手光軸に沿って整列され、前記アナモルフィック素子は、球面及び非球面表面を有し、前記中心長手光軸に対して傾斜され、又中心から外されることを特徴とする請求項１８３の表示系。
【請求項１８７】  前記アナモルフィック素子は、正のフォーカシンググループ、負のフォーカシンググループ、及び負の像拡大グループを有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１８８】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、前記対象の前記像に傾斜をもたらすことを特徴とする請求項１８７の表示系。
【請求項１８９】  前記アナモルフィック素子内の各グループは、少なくとも１つの円筒状素子又は両側対象な非球面素子を有することを特徴とする請求項１８７の表示系。
【請求項１９０】  前記テレセントリック素子は、ミラーであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９１】  前記テレセントリック素子は、レンズであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９２】  前記テレセントリック素子は、レンズ及びミラーの組み合わせであることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９３】  前記テレセントリック素子は、非球面表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９４】  前記テレセントリック素子は、トロイダル表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９５】  前記テレセントリック素子は、非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９６】  前記テレセントリック素子は、非球面である非回転対称表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９７】  前記テレセントリック素子は、フレネル表面を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９８】  前記表示像平面は、前記複数の導波路の前記複数の第２の端部によって画成されることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項１９９】  前記入射角θは、約５０°〜８５°の範囲内にあることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項２００】  前記入射角θは、約７８°であることを特徴とする請求項１９９の表示系。
【請求項２０１】  前記表示系は、２つ以上の光学系を有することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項２０２】  前記表示系は、３つの光学系を有し、これらの光学系は、それぞれ赤、緑、青の光を投影することを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項２０３】  前記複数の導波路の各々は、前記出口面に沿う水平方向に連続して延在する平坦なリボンとして形成されることを特徴とする請求項１７１の表示系。
【請求項２０４】  対象の像を光学パネルの表示像平面上にゼロより大きい入射角θにて表示する方法であって、
像源から像を投影する段階、
前記対象の前記像を像形成素子を用いて指向させる段階、
アナモルフィック素子を用いて前記像のアナモルフィックなひずみを低減する
段階、及び
テレセントリック素子を用いて前記像の台形ひずみを低減する段階、
の各段階を有し、
前記光学パネルは、各々が第１の端部と第２の端部とを有する複数の積層された光学導波路であって、前記複数の第１の端部によって出口面が画成され、前記複数の第２の端部によって入口面が画成され、前記入口面は前記出口面に対して実質的に平行とされる光学導波路を有することを特徴とする前記方法。
【請求項２０５】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項１０７の表示系。
【請求項２０６】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項１４０の方法。
【請求項２０７】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項１７１の表示系。
【請求項２０８】  前記アナモルフィック素子は、複数のアナモルフィックレンズを有し、前記アナモルフィックレンズは、前記像を第一の方向に拡大し、第二の方向への拡大は行わず、前記第二の方向は前記第一の方向に対して垂直とされる請求項２０４の方法。