Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成20年2月21日(2008.2.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主クリーニング液体成分の出力流れを有する主クリーニング液体成分のディスペンサ（６８）を含む、固い床面用クリーナにて使用される化学剤ディスペンサにおいて、
複数のクリーニング剤供給部分（７０Ａ、７０Ｂ）と、
複数の流量制御装置（７２Ａ、７２Ｂ）であって、該装置の各々が、クリーニング剤の供給部分の１つに流体的に結合され且つ、相応するクリーニング剤の出力流れ（７４Ａ、７４Ｂ）を有する前記複数の流量制御装置（７２Ａ、７２Ｂ）と、
クリーニング剤の出力流れの少なくとも１つを主クリーニング液体成分の出力流れと選択的に組み合わせてクリーニング液体の出力流れ（７８）を形成する流体混合部材（７６）とを備える、固い床面用クリーナにて使用される化学剤ディスペンサ。
【請求項２】
流量制御装置（７２Ａ、７２Ｂ）の少なくとも１つが、クリーニング剤の相応する出力流れを駆動するポンプ（１１４）を有する、請求項１の化学剤ディスペンサ。
【請求項３】
流量制御装置（７２Ａ、７２Ｂ）の少なくとも１つが、入口に隣接する上流の高圧側部（１２６）と、下流の低圧出口（１２８）とを有する流量制限部材を（１２４）備える、請求項１の化学剤ディスペンサ。
【請求項４】
流量制限部材（１２４）が、クリーニング剤の流れが通るラビリンス流体流路（１３４）を有する、請求項３の化学剤ディスペンサ。
【請求項５】
クリーニング剤の供給部分（１５０）の１つがその内部に保持される内部キャビティ（１５４）を有する容器（１５２）と、
内部キャビティに流体的に結合された第一の端部（１５８）と、流量制御装置（７２Ａ、７２Ｂ）の１つのものの入口に接続された第二の端部（１６０）とを有する導管（１５６）とを備える、少なくとも１つのクリーナカートリッジ（１５０）を含む、請求項１の化学剤ディスペンサ。
【請求項６】
固い床面用クリーナにおいて、
モータ駆動の洗浄ヘッド（ｓｃｒｕｂ  ｈｅａｄ）（２０）と、
真空ぬぐい取り体（３４）を備える流体回収装置（３２）と、
クリーニング剤の容器（７０、１５２）と、
主クリーニング液体成分の容器（８０）と、
前記クリーニング剤容器（７０）からのクリーニング剤の流れを１０ｃｍ３／分以下の流量にて、主クリーニング液体成分容器（８０）からの主クリーニング液体成分の流れに対して供給する流量制御装置（７２Ａ、７２Ｂ）と、
前記クリーニング剤容器（７０）からのクリーニング剤の流れを駆動する第１のポンプ（１１４）と、
前記主クリーニング液体成分容器からの主クリーニング液体成分の流れを駆動する第２のポンプ（８４）と、
クリーニング剤の流れ及び主クリーニング液体成分の流れを受け取る流体混合部材（７６）であって、クリーニング剤と、主クリーニング液体成分との組み合わせであるクリーニング液体の出力流れを有する前記流体混合部材（７６）と、
を備える、固い床面用クリーナ
【請求項７】
流量制御装置（７２）が、入口に隣接する上流の高圧側部（１２６）と、下流の低圧出口（１２８）とを有する流量制限部材（１２４）を有する、請求項６の固い床面用クリーナ。
【請求項８】
流量制限部材（１２４）が、クリーニング剤の流れが通るラビリンス流体流路（１３４）を有する、請求項７の固い床面用クリーナ。
【請求項９】
クリーニング液体の流れと流体的に連通した曝氣（通気）装置（ａｅｒａｔｏｒ）（２２０）であって、クリーニング液体を泡状の曝氣したクリーニング液体に変換する前記曝氣装置（２２０）と、
泡状の曝氣したクリーニング液体を固い床面に導く流体分配装置（６６）と、を含む、請求項６の固い床面用クリーナ。
【請求項１０】
クリーニング剤の容器（７０、１５２）が取り外し可能である請求項６の固い床面用クリーナ。
【請求項１１】
クリーニング剤の容器（１５２）が折り畳み可能なバッグ（１５２）を有する請求項１０の固い床面用クリーナ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
機械フレーム２７は、回収タンク１２を車輪２８及びキャスタ２９にて支持する。フレームの詳細は、その開示内容を参考として引用し本明細書に含めた、米国特許第５，６１１，１０５号に示され且つ記載されている。車輪２８は、参照番号３０で概略図的に示したモータ及びトランスアクスル組立体によって駆動されることが好ましい。フレームの後部は、流体回収装置３２が取り付けられる連結機構３１を保持している。図１の実施の形態において、流体回収装置３２は、真空ぬぐい取り体３４を有しており且つ、ホース３６を通じて回収タンク１２内の入口チャンバと真空的に連通している。入口チャンバの底部には、ドレーン口４０が設けられており、該ドレーン口にはドレンホース４２が接続されている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
図２には、１つの代替的な汚れた溶液の回収装置３２を利用する固い床面用クリーナ１０が図示されている。この実施の形態によれば、汚れた溶液の回収装置３２は、汚れた溶液を床面から持ち上げ且つ、その汚れた溶液を収集タンク又は受け部４４に運ぶ非真空型機械装置を有している。該非真空型機械装置は、床面と接触するように回転して汚れた溶液に係合し且つ、該溶液を床面から上昇させる可撓性の材料要素４６のような複数の拭き取り媒体を有している。可撓性材料要素４６は、吸収性材料で出来たものとすることができる。可撓性材料要素４６は、溶液を収集受け部４４まで運ぶ。可撓性要素４６に捕集された溶液は、せん断装置又はぬぐい取り装置を使用するといった機械的動作によって除去することができる。図２の実施の形態において、汚れた溶液を可撓性の材料要素４６から除去するために使用される機械的動作は、汚れた溶液を解放し得るよう可撓性材料要素４６に係合するスクレーパバー４８による。汚れた溶液を床面から収集受け部に向けて運ぶために代替的な機械装置、構造体又はシステムを使用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月29日(2008.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  抗原を、一重項酸素および一重項酸素の発生源からスーパーオキシドまたは過酸化水素を生成し得る抗体と接触させることを含む、抗原をスーパーオキシドまたは過酸化水素に曝露する方法。
【請求項２】  一重項酸素の発生源が感作剤である、請求項１記載の方法。
【請求項３】  感作剤が抗体に接合される、請求項２記載の方法。
【請求項４】  感作剤が、プテリン、フラビン、ヘマトポルフィリン、テトラキス(４-スルホナトフェニル)ポルフィリン、ビピリジルルテミウム(ＩＩ)複合体、ローズベンガル染料、キノン、ローダミン染料、フタロシアニンおよびハイポクレリンからなる群から選択される、請求項３記載の方法。
【請求項５】  抗原が脂肪酸または低密度リポタンパク質である、請求項１記載の方法。
【請求項６】  抗原が細胞上に存在する、請求項１記載の方法。
【請求項７】  一重項酸素が細胞の照射から生じる、請求項１記載の方法。
【請求項８】  抗体介在性スーパーオキシドまたは過酸化水素生成によって生成した過酸化水素の生成を調節する剤を同定するための方法であって、下記ステップ:
a)  一重項酸素からスーパーオキシドまたは過酸化水素を生成し得る抗体を含む組成物を、剤と接触させ、分子酸素存在下にアッセイ溶液中の混合物を形成すること、
b)  混合物を照射し、分子酸素から一重項酸素を生成すること、ここで該一重項酸素が抗体により過酸化水素またはスーパーオキシドに還元され、スーパーオキシドジスムターゼが酸化水素を形成する、
c)  形成された過酸化水素を検出すること、そして
d)  検出された過酸化水素を適当なコントロールと比較し、それによってどのように剤が過酸化水素の生成を調節するかを決定すること、を含む方法。
【請求項９】  調節が過酸化水素生成の阻害である、請求項８記載の方法。
【請求項１０】  調節が過酸化水素生成の生成である、請求項８の方法。
【請求項１１】  照射が紫外線による、請求項８記載の方法。
【請求項１２】  照射が可視光による、請求項８記載の方法。
【請求項１３】  可視光照射が感作剤と抗体組成物とを混合することをさらに含む、請求項８記載の方法。
【請求項１４】  形成された過酸化水素の検出が、過酸化水素について蛍光基質を持つ蛍光手段による、請求項８の方法。
【請求項１５】  抗原を用いて抗体免疫活性を検出するために免疫アッセイを実施するための方法であって、下記ステップ:
a)  一重項酸素生成媒質中で、抗原または抗体を含む第一試薬を含む組成物が固定化されている基質を、第一試薬と反応性である抗原または抗体を含む第二組成物と接触させ、固定化された抗原-抗体複合体を形成すること、ここで該抗体が、酸素存在下に一重項酸素からスーパーオキシドまたは過酸化水素を生成する、そして、
b)  抗体生成スーパーオキシドまたは過酸化水素を検出すること、それによって、抗原との抗体免疫活性を検出すること、を含む方法。
【請求項１６】  形成された複合体を照射することをさらに含む、請求項１５記載の方法。  
【請求項１７】  照射が紫外線による、請求項１５記載の方法。
【請求項１８】  照射が可視光による、請求項１５記載の方法。
【請求項１９】  可視光照射が、感作剤と抗体とを混合することをさらに含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】  第一組成物が抗原であり、第二組成物が抗体である、請求項１５記載の方法。
【請求項２１】  第一組成物が抗体であり、第二組成物が抗原である、請求項１５記載の方法。
【請求項２２】  ステップ(ｂ)がスーパーオキシドを検出する、請求項１５記載の方法。
【請求項２３】  ステップ(ｂ)が過酸化水素を検出する、請求項１５記載の方法。
【請求項２４】  体液中の抗原の存在を検出するための方法であって、下記ステップ：
ａ）抗原とスーパーオキシドまたは過酸化水素を生成し得る抗体との複合体を固定化すること、そして、
ｂ）抗体によって生成されたスーパーオキシドまたは過酸化水素を検出すること、を含む方法。 
【請求項２５】  抗原が薬剤である、請求項２記載の方法。
【請求項２６】  抗原がホルモンである、請求項２記載の方法。
【請求項２７】  体液が血液または尿である、請求項２記載の方法。
【請求項２８】  過酸化水素を生成し得るＴ細胞受容体を含む組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６３】
amplex red アッセイがＨ２Ｏ２に加えてタンパク質-過酸化水素誘導体を検出するかもしれないとの懸念は、この方法で測定された見かけのＨ２Ｏ２濃度が、照射されたタンパク質がサンプルから除外されるかどうかに独立的であるため、無視されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
抗体は、起源または抗原特異性にかかわらず、一重項分子酸素（１Ｏ２）から過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）をつくり、それによって同分子中で認識および殺作用（Wentworth et al., Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A., 97, 10930 (2000)）を潜在的に調整する。この発見に関する潜在的な化学的および生物学的重要性からして、この過程の抗体内での基本メカニズムおよび構造的位置を検討した。これらの組合せ試験から、他のタンパク質とは異なり、抗体が、水と一重項酸素との前例のない一連の化学反応を触媒できる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
異なるシステムおよび情報ソースの企業全体にわたる統一が、多くの会社により長い間求められてきた。包括的な統一プロセスは、一般に、アプリケーション（例えば、企業資源計画（ＥＲＰ）アプリケーション、インボイスおよび供給管理アプリケーション、データウェアハウス）、サービス（Ｗｅｂベース、クライアントアンドサーバ、およびその他のネットワークサービスを含む）、ならびに情報（例えば、保管文書、インターネットおよびイントラネット情報、データベース、知識ベース）を含む、複数のリソースへのコンピュータ化されたアクセスの統一を含む。そのようなリソースを統一することの利点としては、統合された操作を通して個々のリソースの価値が増加すること、従業員がプロジェクトの共同作業を行うことが可能になること、および組織全体の生産性と効率が高まること、などがある。このような管理方法もしくはアプリケーションとしては、例えば、特許文献１に開示のものがある。
【特許文献１】米国公開公報ＵＳ２００３／０２２９５２２Ａ１
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月25日(2008.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記不均一な磁場は、少なくとも１０２Ｔ／ｍの勾配、好ましくは少なくとも１０６Ｔ／ｍの勾配を有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月14日(2008.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの誘導領域と、前記誘導領域に結合される１つまたは複数の境界領域を有する第１の導波チャネルであって、前記境界領域の一部に第１の側面方向誘導ポートを含み、前記側面方向誘導ポートは前記チャネル内で伝播する放射線の偏光方向に反応し、そこを通る前記放射線の一部を選択的に通過させる第１の導波チャネルと、
前記第１の導波チャネルに結合された第１のインフルエンサと、
を含み、前記インフルエンサは、前記偏光方向を制御するための磁場発生システムを含んでいることを特徴とする装置。
【請求項２】
１つの誘導領域と、第２の導波チャネルの前記誘導領域に結合される１つまたは複数の境界領域とを有する第２の導波チャネルであって、第１の側面方向誘導ポートに近接する前記第２の導波チャネルの前記境界領域の一部の中に第２の側面方向誘導ポートを含み、前記第２の側面方向誘導ポートは第１の導波チャネル内で伝播する放射線の偏光方向に反応し、第１の導波チャネルから第２の導波チャネルにそこを通る前記放射線の一部を選択的に通過させる第２の導波チャネルをさらに含んでいることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
第１の側面方向誘導ポート及び/又は第２の側面方向誘導ポートは、それぞれの導波チャネルの１つまたは複数の境界領域内に偏光アナライザを含んでいることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
第１の側面方向誘導ポート及び/又は第２の側面方向誘導ポートは、グレーデッドインデックス（ＧＲＩＮ）レンズを含んでいることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項５】
第１の側面方向誘導ポートと第２の側面方向誘導ポートの場所に近接して第１の導波チャネル及び第２の導波チャネルの回りに配置される損失削減材料をさらに含んでいることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項６】
第１の側面方向誘導ポートを過ぎた第１の導波チャネルの誘導領域内に配置された偏光器領域と偏光器アナライザ領域と、
前記第１の偏光器領域と前記偏光器アナライザ領域の間の前記誘導領域内で放射線の偏光方向を制御するための第２のインフルエンサと、
をさらに含んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項７】
装置の製造方法であって、
ａ）１つの誘導領域と、前記誘導領域に結合される１つまたは複数の境界領域とを有する第１の導波チャネルを形成し、前記第１の導波チャネルは前記境界領域の一部に第１の側面方向誘導ポートを含み、前記側面方向誘導ポートは前記チャネル内で伝播する放射線の偏光方向に反応し、そこを通る前記放射線の一部を選択的に通過させるステップと、
ｂ）制御信号に応えて前記放射線の前記偏光方向を制御するための磁場発生システムを含む第１のインフルエンサを前記第１の導波チャネルに近接して配置するステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項８】
ｃ）１つの誘導領域と、第２の導波チャネルの前記誘導領域に結合される１つまたは複数の境界領域とを有する第２の導波チャネルを形成するステップであって、前記第２の導波チャネルは前記第２の導波チャネルの前記境界領域の一部に第２の側面方向誘導ポートを含み、第２の側面方向誘導ポートは第１の導波チャネル内で伝播する放射線の偏光方向に反応し、第１の導波チャネルから前記第２の導波チャネルにそこを通る前記放射線の一部を選択的に通過させるステップと、
ｄ）前記側面方向誘導ポートが互いに連絡し、前記第１の導波チャネル内で伝播する前記放射線が偏光方向に反応し前記第２の導波チャネルに入ることができるように、前記第１の導波チャネルに近接して前記第２の導波チャネルを配置するステップと、
をさらに含んでいることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
第１の側面方向誘導ポート及び/又は第２横方向誘導ポートは、それぞれの導波チャンネルの境界領域に偏光器アナライザを含んでいることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第１の側面方向誘導ポート及び/又は第２横方向誘導ポートはそれぞれグレイテッドインデックス（ＧＲＩＮ）レンズを含んでいることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
ｅ）第１の側面方向誘導ポートと第２の側面方向誘導ポートの場所に近接して、第１の導波チャネルと第２の導波チャネルの回りに損失削減材料を配置するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１２】
ｆ）第１の側面方向誘導ポートを過ぎた第１の導波チャネルの誘導領域内に偏光器領域と偏光器アナライザ領域を配置するステップと、
ｇ）前記偏光器領域と前記偏光器アナライザ領域との間の前記第１の導波チャンネルの前記誘導領域に、放射線の偏光方向を制御するための第２のインフルエンサを配置するステップと、
をさらに含んでいることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各導波管構造が１つの誘導領域と、入力から出力へ放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む複数の統合された導波管構造と、
制御に反応し、前記出力で前期放射線信号を自立して制御するために前記導波管構造に結合されるインフルエンサシステムと、
を支える半導体基板と、
を備える装置。
【請求項２】
前記複数の導波管構造の前記出力をプレゼンテーションマトリックスに配列するためのディスプレイシステムをさらに備える請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記基板が複数の積層された基板ストリップを含み、前記ストリップのそれぞれが前記導波管構造の列を含む請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記導波管構造がそれぞれの前記ストリップの第１の端縁から前記ストリップの第２の端縁に側面方向に伸張し、前記出力が前記第２の端縁で配列される請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記導波管構造がフォトニック結晶素子を含む請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記基板が基板表面に垂直に伸張する前記導波管構造を含む請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記基板が半導体ウェハを含み、前記基板表面が前記半導体ウェハの上部である請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記導波管構造がフォトニック結晶素子を含む請求項６に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの誘導チャネルと、入力から出力へ放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む統合された導波管構造と、
制御に反応し、影響を及ぼすゾーン内で前記放射線信号の振幅に影響を及ぼす属性を自立して制御するために結合されるインフルエンサシステムと、
前記放射線信号の前記振幅に影響を及ぼす属性に周期的に影響を及ぼすために、前記影響を及ぼすゾーンの中に前記放射線信号を周期的に戻すための再帰システムと、
を支える半導体基板を備えるトランスポート。
【請求項２】
前記再帰システムが前記導波管の影響を及ぼす部分の拡張された長さの間で一連の一般的に９０度の導波管保全出力先変更を含む請求項１に記載のトランスポート。
【請求項３】
前記影響を及ぼすゾーンが、前記導波管の伝播軸に平行に配置される制御可能な磁場を含む請求項１に記載のトランスポート。
【請求項４】
前記導波管の前記影響を及ぼす部分のそれぞれが平行した伝播軸を含み、前記影響を及ぼすゾーンが前記導波管の前記部分の前記伝播軸に平行に配置される制御可能な磁場を含む請求項２に記載のトランスポート。
【請求項５】
前記導波管がフォトニック結晶エレメントを含む請求項１に記載のトランスポート。
【請求項６】
前記出力がディスプレイピクセルに結合され、前記影響を及ぼすゾーンが前記ディスプレイピクセルの領域にほぼ等しい長さと幅とを含む請求項１に記載のトランスポート。
【請求項７】
前記インフルエンサシステムが、前記導波管構造の一部の中に統合される素子を含む請求項１に記載のトランスポート。
【請求項８】
前記基板が前記導波管構造を基準にして配列される複数の追加の導波管構造を支え、前記導波管構造のすべてが、ある導波管構造から次の導波管構造に前記放射線信号を切り替え自在にリダイレクトするための導波管対導波管切り替えシステムを含み、前記再帰システムが、前記影響を及ぼすゾーン内の前記導波管構造のセグメントが前記放射線信号を周期的に伝播する再帰ループを含む請求項１に記載のトランスポート。
【請求項９】
製造方法であって、
ａ）１つの誘導チャネルと、入力から出力へ放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む導波管構造を基板の中に配置することと、
ｂ）影響を及ぼすゾーン内で前記放射線信号の振幅に影響を及ぼす属性を自立して制御するための前記導波管構造に、制御に反応して、インフルエンサシステムを近接させることと、
ｃ）前記放射線信号の前記振幅に影響を及ぼす属性に周期的に影響を及ぼすために前記影響を及ぼすゾーンを通して前記放射線信号を再帰するために前記導波管構造の経路を配列することと、
を備える方法。
【請求項１０】
前記再帰システムが前記導波管の影響を及ぼす部分の拡張された長さの間で一連の一般的に九十度の導波管保全出力先変更を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記影響を及ぼすゾーンが、前記導波管の伝播軸に平行に配置される制御可能な磁場を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記導波管の前記影響を及ぼす部分が平行な伝播軸を含み、前記影響を及ぼすゾーンが前記導波管の前記部分の前記伝播軸に平行に配置される制御可能な磁場を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記導波管がフォトニック結晶エレメントを含む請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記出力がディスプレイピクセルに結合され、前記影響を及ぼすゾーンが前記ディスプレイピクセルの領域にほぼ等しい長さと幅とを含む請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記インフルエンサシステムが前記導波管構造の一部の中に統合される素子を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記基板が前記導波管構造を基準にして配列される複数の追加の導波管構造を支え、前記導波管構造のすべてが、ある導波管構造から次の導波管構造に前記放射線信号を切り替え自在にリダイレクトするための導波管対導波管切り替えシステムを含み、前記再帰システムが、前記影響を及ぼすゾーン内の前記導波管構造のセグメントが前記放射線信号を周期的に伝播する再帰ループを含む請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
コンピューティングシステムにより実行されるときに方法を実行するコンピュータ実行可能命令が搬送される伝播信号であって、該方法が、
ａ）１つの誘導チャネルと、入力から出力に放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む導波管構造を基板の中に配置することと、
ｂ）影響を及ぼすゾーン内で前記放射線信号の振幅に影響を及ぼす属性を自立して制御するための前記導波管構造に、制御に反応してインフルエンサシステムを近接させることと、
ｃ）前記放射線信号の前記振幅に影響を及ぼす属性に周期的に影響を及ぼすために前記影響を及ぼすゾーンを通して前記放射線信号を再帰するために前記導波管構造の経路を配列することと、
を備える方法。
【請求項１８】
前記再帰システムが、前記導波管の影響を及ぼす部分の拡張された長さの間で一連の一般的に九十度の導波管保全出力先変更を含む請求項１７に記載の信号。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月14日(2008.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイのためのマルチカラーピクチャエレメントであって、
Ｎ個の入力波動成分（Ｎはカラーモデル内の原色数）を発生させるためのＮ個の放射線源と
互いに近接し、Ｎ以上であるＭ個の変調器と、
を含み、それぞれの前記変調器は、
前記入力波動成分の内の１つを受け取るためのトランスポートであって、１つの誘導領域と１つまたは複数の境界領域とを有する導波管と、前記導波管内でのインフルエンサ反応を強化するために前記導波管内に配置される複数の成分とを含むトランスポートと、
前記入力波動成分が前記トランスポートを通して移動するにつれて前記導波管内で前記インフルエンサ反応を誘発することによって前記入力波動成分の放射線−振幅を制御する特性に影響を及ぼすための、前記トランスポートに動作可能に結合され、制御信号に応えるインフルエンサとを含んでおり、前記マルチカラーピクチャエレメントは、
それぞれの前記変調器の前記放射線振幅を制御する特性を独立して制御するためにそれぞれの前記制御信号を選択的にアサートするために、前記変調器に結合されるコントローラと、
それぞれの前記入力波動成分から、前記放射線振幅−制御特性と前記振幅変調システムの相互作用に応えて変化する振幅を有する出力波動成分を生じさせるための、前記変調器に結合される振幅−変調システムと、
をさらに含んでいることを特徴とするマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項２】
インフルエンサは導波管軸に平行な導波管に影響を及ぼす磁場を適用することを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項３】
振幅変動システムは、特定の偏光に入力波動成分を与えるための第１の偏光エレメントと、前記第２の出力波動成分を渡すための第２の偏光エレメントとを含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項４】
Ｌ個の螺旋形の経路を有するサポートをさらに含み、トランスポートは前記経路の１つまたは複数に配置されることを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項５】
Ｎは原色モデルの２つ以上のセットを含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項６】
それぞれの変調器は減衰プロファイルを特徴とし、それぞれの前記変調器の前記減衰プロファイルは互いに異なることを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項７】
トランスポートのそれぞれは、前記それぞれのトランスポートの誘導チャネルに結合される放射線源の内の１つを含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項８】
放射線源は、トランスポート内に入り込んだ刺激ガスに反応して波動成分を発生させることを特徴とする請求項７に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項９】
放射線源は、トランスポート内に配置されるアクティブ放射線発射構造の作動に応えて、波動成分を発生させることを特徴とする請求項７に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項１０】
トランスポートは入力波動成分の１つの原色の１つを発生させることを特徴とする請求項１に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項１１】
それぞれのトランスポート手順は、誘導チャネル内に配置される適切な染料を使用することによりその原色を発生させることを特徴とする請求項１０に記載のマルチカラーピクチャエレメント。
【請求項１２】
ａ）Ｎ個の入力波動成分（Ｎはカラーモデル内の原色数）発生させるステップと、
ｂ）互いに隣接するＭ個の変調器（ＭはＮ以上の数）に前記Ｎ個の入力波動成分を受領するステップと、
ｃ）前記Ｎ個の入力波動成分のそれぞれの放射線振幅−制御特性に影響を及ぼすように前記Ｍ個の変調器のそれぞれのトランスポートに操作可能に結合されたインフルエンサを制御するステップと、
ｄ）前記Ｎ個の入力波動成分のそれぞれから複数の出力波動成分を発生させるステップと、
を含んでいることを特徴とするマルチカラーピクチャエレメントの操作方法。
【請求項１３】
マルチカラーピクチャエレメントのアレイを製造する方法であって、
ａ）それぞれ入力波動成分を出力波動成分に変換する複数の変調器を製造するステップを含んでおり、各変調器は、
前記入力波動成分の内の１つを受け取るためのトランスポートであって、１つの誘導領域と、１つまたは複数の境界領域とを有する導波管と、前記導波管内でのインフルエンサ反応を強化するために前記導波管内に配置される複数の成分とを含むトランスポートと、
前記入力導波管成分が前記トランスポートを通って移動するにつれて前記導波管内での前記インフルエンサの反応を誘発することによって、前記入力波動成分の放射線振幅制御特性に影響を及ぼすための、前記トランスポートに動作可能に結合され、制御信号に応えるトランスポートインフルエンサと、
を含み、前記方法は、
ｂ）前記複数の変調器を１つの組み立て品に組み立て、前記変調器が前記出力波動成分からピクチャエレメントを集合的に生成し、前記変調器の個々がカラーモデルから個々の原色を発生させるステップをさらに含んでいることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月14日(2008.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの誘導領域と、前記誘導領域内で伝達された放射線の封じ込めを強化するための１つまたは複数の境界領域を含み、入力領域と出力領域を含む導波管と、
前記導波管のインフルエンサ反応属性を強化するために前記導波管内に配置される複数の成分と、
前記導波管の前記インフルエンサ反応属性を増強する、前記誘導領域に結合される励磁システムと、
を含んでいることを特徴とするトランスポート。
【請求項２】
励磁システムは境界領域の内の１つに統合されていることを特徴とする請求項１に記載のトランスポート。
【請求項３】
励磁システムは誘導領域の軸に沿って配置される部分に結合されている陽極と陰極とを含んでいることを特徴とする請求項１に記載のトランスポート。
【請求項４】
励磁システムは導波管の１つまたは複数の領域上に配置されている薄膜を含んでいることを特徴とする請求項１に記載のトランスポート。
【請求項５】
薄膜はコイルフォームを含んでいることを特徴とする請求項４に記載のトランスポート。
【請求項６】
励磁システムはナノシック（ｎａｎｏｌｉｔｈｉｃ）構造を含んでいることを特徴とする請求項１に記載のトランスポート。
【請求項７】
励磁システムは誘導領域に適用されるポンピングビームを生じさせるためのコヒーレント放射線源を含んでいることを特徴とする請求項１に記載のトランスポート。
【請求項８】
コヒーレント放射線源は、ポンピングビームを伝播軸に対して横断方向に適用するための外部構造を含んでいることを特徴とする請求項７に記載のトランスポート。
【請求項９】
コヒーレント放射線源は、伝播軸に平行な前記ポンピングビームを適用するための外部構造を含んでいることを特徴とする請求項７に記載のトランスポート。
【請求項１０】
コヒーレント放射線源は導波管に統合されていることを特徴とする請求項７に記載のトランスポート。
【請求項１１】
コヒーレント放射線源は、刺激されたエミッションを生じさせるため、及び導波管内の原子状態のラビフロッピングを誘発するために光ポンプを含んでいることを特徴とする請求項７に記載のトランスポート。
【請求項１２】
トランスポートの製造方法であって、
ａ）１つの誘導領域と、前記誘導領域内で伝達された放射線の封じ込めを強化するための１つまたは複数の境界領域を有し、入力領域と出力領域を含む導波管を形成するステップと、
ｂ）前記導波管のインフルエンサ反応属性を強化するために前記導波管内に複数の成分を配置するステップと、
ｃ）前記誘導領域に、前記導波管の前記インフルエンサ反応属性を増強する前記励磁システムを結合するステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項１３】
励磁システムは境界領域の内の１つの中に統合されていることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
励磁システムは誘導領域の軸に沿って配置される部分に結合される陽極と陰極を含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
励磁システムは導波管の１つまたは複数の領域に配置される薄膜を含んでいることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
薄膜はコイルフォームを含んでいることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
励磁システムはナノシック（ｎａｎｏｌｉｔｈｉｃ）構造を含んでいることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
励磁システムは、誘導領域に適用されるポンピングビームを生じさせるためのコヒーレント放射線源を含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】
コヒーレント放射線源は、伝播軸に横断方向にポンピングビームを適用するための外部構造を含んでいることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
コヒーレント放射線源は、伝播軸に平行なポンピングビームを適用するための外部構造を含んでいることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
コヒーレント放射線源は導波管に統合されていることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
コヒーレント放射線源は、刺激されたエミッションを生じさせるため、及び導波管内の原子状態のラビフロッピングを誘発するために光ポンプを含んでいることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月14日(2008.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伝達軸を提供する１つのチャネル領域と、
１つまたは複数の境界領域と、
前記伝達軸に実質的に平行に保有磁場を生じさせるために前記領域の内の少なくとも１つの中に配置される複数の磁気成分と、
を含んでいることを特徴とする導波管。
【請求項２】
インフルエンサは、伝達軸に沿って伝播される放射線の偏光を所定の量、変更するために前記伝達軸に平行に導波管に影響を及ぼす磁場を適用し、前記影響を及ぼす磁場は前記第１複数の磁気成分上に前記保有磁場を誘発することを特徴とする請求項１に記載の導波管。
【請求項３】
第１複数の磁気成分は単分子磁石を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の導波管。
【請求項４】
第１複数の磁気成分は、影響を及ぼす磁場が取り除かれた後に保有期間の間、所定量の変更された偏光を維持することを特徴とする請求項２に記載の導波管。
【請求項５】
第１複数の磁気成分を有する１つまたは複数の領域は、影響を及ぼす磁場に対する誘発された保有磁場の短く、幅広く平坦な磁気ヒステリシス反応を生じさせるために残留磁気及び保磁力のある磁区構造を生じさせることを特徴とする請求項４に記載の導波管。
【請求項６】
第１複数の磁気成分は境界領域の１つまたは複数に配置されることを特徴とする請求項１に記載の導波管。
【請求項７】
伝達軸に実質的に垂直に、飽和する磁場を生じさせるために領域の内の少なくとも１つに配置される第２複数の磁気成分をさらに含んでいることを特徴とする請求項２に記載の導波管。
【請求項８】
第２複数の磁気成分は導波管の第１複数の磁気成分とは異なる１領域内に配置され、前記第２複数の磁気成分は飽和する磁場方向を変更するためにインフルエンサ磁場に反応しないことを特徴とする請求項７に記載の導波管。
【請求項９】
第２複数の磁気成分は第１の境界領域内に配置され、第１複数の磁気成分は前記境界領域よりも、誘導領域から遠くに配置される第２の境界領域に配置されることを特徴とする請求項８に記載の導波管。
【請求項１０】
領域の内の少なくとも１つは結晶構造を有し、前記結晶構造の中の第１複数の磁気成分は所望される保有磁場を生じさせることを特徴とする請求項１に記載の導波管。
【請求項１１】
導波管を動作させるための方法であって、
ａ）伝達軸に沿って、前記伝達軸を提供する１つのチャネル領域と１つまたは複数の境界領域とを含む該導波管を通って放射線信号を伝播するステップと、
ｂ）前記領域の内の少なくとも１つに配置される複数の磁気成分を使用して、前記伝達軸に実質的に平行に保有磁場を誘発し、前記保有磁場が前記伝播する放射線信号の偏光回転変化に影響を及ぼすステップと、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項１２】
誘発するステップ（ｂ）は保有磁場を誘発するために伝達軸に平行に導波管に磁気インパルスを適用するステップを含んでいることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
第１複数の磁気成分は単分子磁石を含んでいることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第１複数の磁気成分は、十分に強い地場が磁気インパルスの形態で前記磁気成分に呈されると、保有期間中、一時的に特定の磁化を保持することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
保有磁場を無事に調整するために磁気インパルスを周期的に更新するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
導波管は、前記導波管の領域の内の１つに配置される第２複数の磁気成分を含み、伝達軸に垂直な飽和する磁場を生じさせることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
第１複数の磁気成分を有する１つまたは複数の領域は、影響を及ぼす磁場に対する誘発された保有磁場の短く、幅広く平坦な磁気ヒステリシス反応を生じさせるために残留磁気及び保磁力のある磁区構造を生じさせることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
ａ）導波管のチャネル領域と関連付けられた少なくとも１つのドーピングされた領域を生じさせるために第１複数の磁気成分で該導波管の１つまたは複数の領域をドーピングし、前記チャネル領域に該導波管のための伝達軸を提供させるステップと、
ｂ）前記ドーピングされた領域に近接してインフルエンサを配置するステップと、
を含んでおり、前記インフルエンサは、制御信号に応えて、前記伝達軸に概して平行に可変強度一時保有磁場を生じさせるために前記第１複数の磁気成分を誘発するほど十分な前記第１複数の磁気成分に磁気インパルスを生じさせることを特徴とする導波管を作る方法。
【請求項１９】
ドーピングするステップ（ａ）は導波管の１つまたは複数の領域内に第２複数の磁気成分を配置し、前記第２複数の磁気成分は伝達軸に垂直に飽和する磁場を生じさせることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月1日(2008.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項１に記載の再生装置において、更に、前記第１の及び前記第２のデータユニットの論理アドレスを読み出し、前記記録担体から、前記第１のデータユニット及び前記第２のデータユニットを評価するために使用されるべき評価関数を読み出すための評価情報読出手段を有する再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
インターフェースを介してライセンシーのコンピュータに接続された、アクセス保護されたデータ処理装置（１，１'）に記憶されている、ライセンサーによって前記ライセンシーに割り当てられた認証コードを復旧する方法において、
前記ライセンシーのコンピュータには、ライセンスパラメータを含む、前記認証コードに属するバックアップファイル（２，２'）が保存されており、
前記ライセンサー（６，７，８）に属するライセンスパラメータを前記バックアップファイル（２，２'）から読み出すステップと、
読み出された前記ライセンスパラメータを前記ライセンサー（６，７，８）へ送信するステップと、
受信された前記ライセンスパラメータに対応する認証コードを前記ライセンサー（６，７，８）のところで復旧するステップと、
前記復旧された認証コードを前記ライセンシーのコンピュータへ送り返すステップと、
前記復旧された認証コードを、前記ライセンシーのコンピュータに接続されているデータ処理装置（５）に保存するステップと
を実行することを特徴とする、認証コードを復旧する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月5日(2008.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの個々に構成可能および／または再構成可能なスイッチング装置を有し
このスイッチング装置が、入力を備えかつ複数の並列に接続された記憶素子からなる第１ステージを有し、これらの記憶素子が入力線路を介してアドレス指定可能であり、付属する求められた項内で結合された入力変数の部分量が各記憶素子に供給することができ、
第１ステージの後方に配置される第２ステージが、個々の項の識別子によってアドレス指定可能な記憶素子を有し、
第２ステージの後方に配置される第３ステージが、出力と、第２ステージの記憶素子から個々の項の出力値を論理和演算するための手段を備えており、
出力のうち少なくとも幾つかの出力の出力変数が、時点ｔn-1に、時点ｔnにおけるスイッチング装置の付属する入力に入力変数を形成し、時点ｔn-1とｔnとの間におけるスイッチング装置の出力変数をクロック制御されて記憶するための手段が設けられている
ことを特徴とする計算機構の再構成可能なアーキテクチャ。
【請求項２】
記憶手段がレジスタ記憶素子であることを特徴とする請求項１記載のアーキテクチャ。
【請求項３】
最小化法によって項が求められることを特徴とする請求項１または２記載のアーキテクチャ。
【請求項４】
少なくとも１つのクロスバースイッチを介して第１ステージが第２ステージと結合されていることを特徴とする請求項１ないし３の１つに記載のアーキテクチャ。
【請求項５】
記憶素子としてのＣＡＭおよび／またはＲＡＭを特徴とする請求項１ないし４の１つに記載のアーキテクチャ。
【請求項６】
少なくとも１つのＣＧＡを統合したことを特徴とする請求項１ないし５の１つに記載のアーキテクチャ。
【請求項７】
特にＴＭＲ型の磁気抵抗記憶素子を特徴とする請求項１ないし６の１つに記載のアーキテクチャ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月12日(2008.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出荷及び販売の諸条件に基づき、文書の作成と商品の国際出荷の追跡と与信枠又は要求払預金口座からの支払の承認とを協働するコンピュータ支援方法であって、前記協働関係は、輸出業者、輸入業者、及び輸入業者の銀行を含み、
前記方法が、
前記輸入業者から前記輸出業者への支払の条件及び指図を記録し、前記支払条件を満足させるために前記国際出荷の当事者の進捗を追跡し、前記与信枠又は要求払預金口座から前記輸入業者の銀行による前記輸出業者への支払を前記輸入業者が電子的に承認することを可能にする、
データ態様の入力、閲覧、及び承認の許可を国際出荷当事者に対して設定する段階と、  合意された支払条件及び指図を受け取る段階と、
前記合意された支払条件の履行に対応する前記輸出業者又は輸出業者の代理人からの文書を該文書の銀行の評価を必要とせずに受け取る段階と、
前記支払条件が履行され、修正され、或いは免除されたことを前記輸入業者又は輸入業者の代理人が評価した後で、前記支払指図に対応する支払承認を電子的に開始する段階と、
前記輸出業者への支払を確認する状態更新を受け取る段階と、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月25日(2008.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向および横方向の寸法を有する走査プレートと、
前記走査プレートに結合され、近位位置から遠位位置まで長手方向に延びる、前記走査プレートの回転軸を画定する第１のねじりアームと、
前記第１のねじりアームの前記遠位位置に結合され、そこから横方向に、前記第１のねじりアームと一致する軸位置から１以上の取付構造と接合部を形成する２つの側面位置まで反対方向に延びる第１のてこ部材とを備える、ＭＥＭＳスキャナ。
【請求項２】
前記第１のてこ部材が実質的に直線である、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項３】
前記第１のてこ部材が前記第１のねじりアームに対して軸方向に非対称である、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項４】
前記１以上の取付構造が２つの取付パッドを含み、各パッドが前記第１のてこ部材それぞれの側面位置に結合されている、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項５】
前記１以上の取付構造が、前記第１のてこ部材の側面位置に結合されている取付フレームを含む、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項６】
前記第１のねじりアームが唯一のねじりアームである、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項７】
前記支持構造の少なくとも１つが圧電スタックアクチュエータを含む、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項８】
前記走査プレートの表面上に形成されたミラーをさらに備える、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項９】
サスペンションをさらに備え、前記走査プレートが前記サスペンションを介して第１のねじりアームそれぞれに結合され、前記サスペンションが前記走査プレート全体にわたって動的トルク負荷を広げるように作用する、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【請求項１０】
前記第１のねじりアームと同軸であり、前記走査プレートに結合された、近位位置から遠位位置まで長手方向に延びる第２のねじりアームであって、前記第１のねじりアームと協働して前記走査プレートの回転軸を形成する、第２のねじりアームと、
前記第２のねじりアームの前記遠位位置に結合され、そこから横方向に、前記第２のねじりアームと一致する軸位置から１以上の取付構造と接合部を形成する２つの側面位置まで反対方向に延びる第２のてこ部材とをさらに備える、請求項１に記載のＭＥＭＳスキャナ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年2月8日(2008.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
第１の特性を有する電磁波を受け取るための光学トランスポートを備え、上記トランスポートは、導波領域と、上記導波領域へ結合される１つまたは複数の誘導領域とを有し、
上記光学トランスポートへ機能的に結合されかつ上記１つまたは複数の誘導領域のうちの１つまたは複数の誘導領域と統合される少なくとも１つの部分を有する、上記トランスポートの第２の特性に影響を与えるためのトランスポート・インフルエンサを備え、上記第２の特性は、上記電磁波の上記第１の特性に影響を与える装置。
【請求項２】
方法であって、
光学トランスポートで第１の特性を有する電磁波を受け取ることを含み、上記トランスポートは、導波領域と、上記導波領域へ結合される１つまたは複数の誘導領域とを有し、
上記光学トランスポートへ結合されかつ上記１つまたは複数の誘導領域のうちの１つまたは複数の誘導領域と統合される少なくとも１つの部分を有するトランスポート・インフルエンサを使用して、上記トランスポートの第２の特性に影響を与えることを含み、上記第２の特性は上記電磁波の上記第１の特性に影響を与える方法。
【請求項３】
放射波輝度変調器であって、
放射波から波動成分を生成するための第１のエレメントを備え、上記波動成分は偏光特性を有し、上記偏光特性は直交する偏光セットのうちの一方の偏光であり、
上記波動成分を受け取るための光学トランスポートを備え、上記トランスポートは、導波領域と、上記導波領域へ結合される１つまたは複数の誘導領域とを有し、
上記光学トランスポートへ機能的に結合されかつ上記１つまたは複数の誘導領域のうちの１つまたは複数の誘導領域と統合される少なくとも１つの部分を有する、制御信号に応答して上記波動成分の上記偏光特性に影響を与えるためのトランスポート・インフルエンサと、
上記影響される波動成分と相互作用するための第２のエレメントと、を備え、上記波動成分の輝度は上記制御信号に応答して変わる放射波輝度変調器。
【請求項４】
放射波輝度変調方法であって、
放射波から波動成分を生成することを含み、上記波動成分は偏光特性を有し、上記偏光特性は直交する偏光セットのうちの一方の偏光であり、
導波領域と、上記導波領域へ結合される１つまたは複数の誘導領域とを有するトランスポートにより上記波動成分を受け取ることと、
上記１つまたは複数の誘導領域のうちの１つまたは複数の誘導領域と統合される少なくとも１つの部分を有するインフルエンサを使用して、制御信号に応答して上記波動成分の上記偏光特性に影響を与えることと、
上記影響される波動成分と相互作用すること、を含み、上記波動成分の輝度は上記制御信号に応答して変わる方法。
【請求項５】
ディスプレイ・アッセンブリであって、
複数の放射波変調器を備え、各変調器は、
放射波から波動成分を生成するための第１のエレメントを備え、上記波動成分は偏光特性を有し、上記偏光特性は直交する偏光セットのうちの一方であり、
上記波動成分を受け取るための光学トランスポートと、
上記光学トランスポートへ機能的に結合される、制御信号に応答して上記波動成分の上記偏光特性に影響を与えるためのトランスポート・インフルエンサと、
上記影響される波動成分と相互作用するための第２のエレメントと、を備え、上記波動成分の輝度は上記制御信号に応答して変わり、
上記各変調器について上記放射波を生成するための放射線源と、
上記変調器へ結合される、上記各変調器の上記輝度を独立して制御するために上記各制御信号を選択的にアサートするためのコントローラと、を備えるディスプレイ・アッセンブリ。
【請求項６】
ディスプレイ方法であって、
複数の変調器の各々について放射波を生成することを含み、各変調器は、
上記放射波から波動成分を生成するための第１のエレメントを備え、上記波動成分は偏光特性を有し、上記偏光特性は直交する偏光セットのうちの一方であり、
上記波動成分を受け取るための光学トランスポートと、
上記光学トランスポートへ機能的に結合される、制御信号に応答して上記波動成分の上記偏光特性に影響を与えるためのトランスポート・インフルエンサと、
上記影響される波動成分と相互作用するための第２のエレメントと、を備え、上記波動成分の輝度は上記制御信号に応答して変わり、
上記各変調器の上記輝度を独立して制御するために上記各制御信号を選択的にアサートすること、を含むディスプレイ方法。
【請求項７】
トランスポートであって、
誘導領域と、１つまたは複数の境界領域とを含む、送出される放射線の上記誘導領域内への閉じ込めを強化するための導波管と、
上記導波管内に配置される、上記導波管のインフルエンサ応答属性を強化するための複数の構成要素と、を備えるトランスポート。
【請求項８】
トランスポートの製造方法であって、
（ａ）誘導領域と、１つまたは複数の境界領域とを含む、送出される放射線の上記誘導領域内への閉じ込めを強化するための導波管を形成することと、
（ｂ）上記導波管のインフルエンサ応答属性を強化するための複数の構成要素を上記導波管内に配置すること、を含む方法。
【請求項９】
放射線スイッチング・アレイであって、
第１の放射波変調器と上記第１の変調器に近接する第２の放射波変調器とを備え、上記各変調器は、
波動成分を受け取るためのトランスポートを含み、上記トランスポートは、誘導領域及び１つまたは複数の境界領域と、上記導波管内に配置される、上記導波管におけるインフルエンサ応答を強化するための複数の構成要素とを有する導波管を含み、
上記トランスポートへ機能的に結合されかつ制御信号に応答する、上記波動成分が上記トランスポートを介して進むにつれて上記インフルエンサ応答を上記導波管内に誘導することにより、上記波動成分の放射振幅制御特性に影響を与えるためのインフルエンサと、
上記変調器へ結合される、上記各変調器の上記振幅制御特性を独立して制御するために上記各制御信号を選択的にアサートするためのコントローラと、を備える放射線スイッチング・アレイ。
【請求項１０】
スイッチング方法であって、
（ａ）互いに隣接する複数のトランスポートの各々において波動成分を受け取ることを含み、各トランスポートは、誘導領域及び１つまたは複数の境界領域、及び上記導波管内に配置される、上記導波管におけるインフルエンサ応答を強化するための複数の構成要素を有する導波管を含み、
（ｂ）上記波動成分が上記各導波管を介して進むにつれて上記各波動成分の放射振幅制御特性に独立して影響を与えること、を含むスイッチング方法。
【請求項１１】
導波管であって、
導波管の軸を画定するチャネル領域と１つまたは複数の境界領域とを含む導波管と、
上記領域のうちの少なくとも１つに配置される、上記導波管の軸に実質的に垂直な磁場を生成するための複数の磁気構成要素と、を備える導波管。