【手続補正書】
【提出日】平成18年12月27日(2006.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン注入装置（10）内を通過するイオンビーム電流の量を調整する可変開口アセンブリ（30）の閉ループ制御方法であって、
(a) イオン注入装置の所定位置で、電流検出器（35）を用いてイオンビームを測定し、
(b) この測定されたイオンビーム電流を所望のイオンビーム電流と比較し、
(c) この比較に基づいた制御信号（126、128）を出力し、
(d) 前記通過するイオンビーム電流の量を制御するための前記制御信号に応答して、対向する第１,第２の開口プレート (44A,44B) によって形成され、かつイオンビームがその間を通過するギャップ（50）を調整し、
(e) 前記開口プレート (44A,44B) の位置を決定する、各ステップを含み、前記制御信号（126、128）のさらに続く出力するステップが、開口プレート位置の前記決定に基づいて行われることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記開口プレート (44A,44B) の位置を決定するステップは、位置センサ（116、118）を設けるステップを含み、前記制御信号（126、128）は、開口駆動機構（36）の動きを制御するモータ（82）に出力されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記測定されたイオンビーム電流と所望のイオンビーム電流と比較に基づいて、誤差信号が発生し、前記制御信号（126、128）は、前記誤差信号の大きさに基づいて発生することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記測定されたイオンビーム電流が前記所望のイオンビーム電流の特定値の範囲内に漸近的に近づくまで、前記誤差信号が発生し、かつ前記ギャップ（50）が少なくとも１秒間に１回繰り返して調整されることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記誤差信号が発生し、かつ前記ギャップ（50）が規定の時間間隔で繰り返し調整され、さらに、前記測定されたイオンビーム電流が前記所望のイオンビーム電流の特定値の範囲内となるまで、前記測定されたイオンビーム電流が前記所望のイオンビーム電流を越えるように、前記制御信号（126、128）によって前記各時間間隔でのギャップを連続的に調整することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記ギャップ（50）は、約５ミクロン（μm）毎に増加させて調整されることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項７】
イオンビーム電流が通過する開口（44）の位置を調整することによって、イオン注入装置（10）における電流源（14）により出力されたイオンビーム電流を調整する方法であって、
(a)  前記イオンビームを閉じ込めるために第１検出器（31）を閉成してこの検出器によりイオンビーム電流を最初に測定する工程と、
(b) (i)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にある場合に、前記第１検出器（31）を開成するとともに、イオンビームが第２検出器（35）を通過できるようにして、工程(d)にスキップするか、または、(ii)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にない場合に、前記開口（44）の位置を粗く調整するかのいずれかを行い、前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にあるかを判定する工程と、
(c)  さらに続いて、(i)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にある場合に、前記第１検出器（31）を開成するとともに、イオンビームが第２検出器（35）を通過できるようにして、工程(d)にスキップするか、または、(ii)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にない場合に、このイオンビーム電流が前記特定の範囲内になるまで前記電流源（14）を調整するかを決定する工程と、
(d)  前記イオンビームを閉じ込めるために第２検出器（35）を閉成して、この検出器によりイオンビーム電流を測定する工程と、
(e)  さらに、(i)前記測定されたイオンビーム電流が第２の特定の範囲内にあるかどうかを決定し、そして、前記電流が第２の特定の範囲内にない場合に、前記第２検出器（35）を開成するか、または前記開口（44）の位置を微細に調整する工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
さらに、イオン注入装置の過去の操作履歴に基づいて、前記開口（44）の位置を予め設定する初期工程を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
開口（44）の位置を微調整する前記工程(d)のステップ(ii)は、
(a) 第２検出器（35）の位置でイオンビーム電流を測定し、
(b) この測定されたイオンビーム電流を所望のイオンビーム電流と比較し、
(c) この比較に基づいた制御信号（126、128）を出力し、
(d) 前記通過するイオンビーム電流の量を制御するための前記制御信号に応答して、対向する第１,第２の開口プレート (44A,44B) によって形成され、かつイオンビームがその間を通過するギャップ（50）を調整する、各ステップを含んでいることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１０】
さらに、前記開口プレート (44A,44B) の位置を決定するステップを含み、前記制御信号（126、128）を出力するステップは、開口プレート位置の前記決定に基づいて行われることを特徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記開口プレート (44A,44B) の位置を決定するステップは、位置センサ（116、118）を設けるステップを含み、前記制御信号（126、128）は、開口駆動機構（36）の動きを制御するモータ（82）に出力されることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記測定されたイオンビーム電流と所望のイオンビーム電流との比較に基づいて、誤差信号が発生し、前記制御信号（126、128）は、前記誤差信号の大きさに基づいて発生することを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記測定されたイオンビーム電流が前記所望のイオンビーム電流の特定値の範囲内に漸近的に近づくまで、前記誤差信号が発生し、かつ前記ギャップ（50）が少なくとも１秒間に１回繰り返して調整されることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記誤差信号が発生し、かつ前記ギャップ（50）が規定の時間間隔で繰り返し調整され、さらに、前記測定されたイオンビーム電流が前記所望のイオンビーム電流の特定値の範囲内となるまで、前記測定されたイオンビーム電流が前記所望のイオンビーム電流を越えるように、前記制御信号（126、128）によって前記各時間間隔でのギャップを連続的に調整することを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１５】
前記ギャップ（50）は、約５ミクロン（μm）毎に増加させて調整されることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１６】
イオンビーム電流が通過する開口（44）の位置を調整することによって、イオン注入装置（10）における電流源（14）によりイオンビーム電流出力を調整する装置であって、
(a)  閉鎖位置において前記イオンビームを閉じ込める時に、イオンビーム電流を測定するための第１検出器（31）と、
(b)  前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にあるかを決定し、かつ(i)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にある場合に、前記第１検出器（31）を開成するとともに、イオンビームが第２検出器（35）を通過できるようにして、工程(d)にスキップするか、または、(ii)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にない場合に、前記開口（44）の位置を粗く調整するかのいずれかを行うための手段と、
(c)  さらに続いて、(i)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にある場合に、前記第１検出器（31）を開成するとともに、イオンビームが第２検出器（35）を通過できるようにして、工程(d)にスキップするか、または、(ii)前記測定されたイオンビーム電流が特定の範囲内にない場合に、このイオンビーム電流が前記特定の範囲内になるまで前記電流源（14）を調整するかを決定するための手段と、
(d)  閉鎖位置において前記イオンビームを阻止する時に、イオンビーム電流を測定するための第２検出器（35）と、
(e)  前記測定されたイオンビーム電流が第２の特定範囲内にある場合に、前記第２検出器（35）を閉成するか、あるいは、前記電流が前記第２の特定範囲内にない場合に前記開口（44）の位置を微調整するための手段と、を含むことを特徴とする装置。
【請求項１７】
前記開口（44）は、開口プレート (44A,44B) によって規定されたギャップ（50）を有し、さらに、イオン注入装置の過去の操作履歴に基づいて開口の位置を設定するための手段を含むことを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
前記開口（44）は、この開口位置を検出するための位置センサ（116、118）を備え、第２検出器（35）は、イオンビーム電流をフィードバックさせることを特徴とする請求項１６記載の装置。
【請求項１９】
前記ギャップ（50）は、約５ミクロン（μm）毎に増加させて調整されることを特徴とする請求項１６記載の方法。