Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月23日(2007.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャック本体の外周に設けられたリムと、基板の裏面と該基板の裏面と対向する前記チャック本体の下内面と前記リムの内周側面とで囲むことによって空間を形成するように前記基板の外周を前記リムの上面に搭載した状態で前記基板の外周側面部を前記リムの上面に支持する支持手段と、前記形成された空間において前記チャック本体の下内面から前記基板の裏面に対してエアを吹きつけるエア供給手段と、前記形成された空間内の空気を排出するエア排出手段とを備える基板搭載装置を用いて前記基板を前記チャック本体に搭載し、前記基板に光を照射して該基板を検査することを特徴とする検査方法。
【請求項２】
チャック本体の外周に設けられたリムと、前記基板の外周を前記リムの上面に搭載した状態で前記基板の外周側面部を前記リムの上面に支持する支持手段と、該支持手段によって前記基板の外周側面部を前記リムの上面に支持した際、前記基板の裏面と該基板の裏面と対向する前記チャック本体の下内面と前記リムの内周側面とによって囲んで形成される空間と、該空間に対して所定量のエアを供給するエア供給手段と、前記空間内の空気を排出するエア排出手段とを備えた基板搭載装置を用いて前記基板を前記チャック本体に搭載し、前記基板に光を照射して該基板を検査することを特徴とする検査方法。
【請求項３】
前記基板搭載装置における前記エア排気手段は、前記リムの内周側面部及び前記チャック本体の下内面部の少なくとも一方に１つ又は複数設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の検査方法。
【請求項４】
前記基板搭載装置において、前記チャック本体の下内面の中央付近に設けられ、前記リムの上面よりも低い平坦部を有する島状の複数のエアギャップ形成部と前記基板の裏面との間にエアギャップを形成し、前記エア供給手段は前記エアギャップ形成部に設けて構成することを特徴とする請求項１又は２に記載の検査方法。
【請求項５】
前記基板搭載装置において、前記リムの上面が前記チャック本体の中央に向かって傾斜して前記基板の外周側面部のみと接触するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一つに記載の検査方法。
【請求項６】
前記基板搭載装置における前記支持手段が、前記リムの上面に回転自在に設けられ、前記基板の外周側面部に接触する接触部を備えた略長方形状の板材からなるレバー部材と、前記レバー部材を前記リムに吸着する吸着口と、前記レバー部材が前記チャック本体から離れる方向に常時回転力を与えるバネ部材とを有して構成されることを特徴とする請求項５に記載の検査方法。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一つに記載の検査方法おいて、
前記リムは、基板の形状に沿ってチャック本体の外周に設けられ、前記空間内は所定の気圧に保持され、該基板が搭載されたチャック本体を回転させて前記基板の表面にレーザ光を照射して該基板の表面を検査することを特徴とする検査方法。
【請求項８】
チャック本体の外周に設けられたリムと、基板の裏面と該基板の裏面と対向する前記チャック本体の下内面と前記リムの内周側面とで囲むことによって空間を形成するように前記基板の外周を前記リムの上面に搭載した状態で前記基板の外周側面部を前記リムの上面に支持する支持手段と、前記形成された空間において前記チャック本体の下内面から前記基板の裏面に対してエアを吹きつけるエア供給手段と、前記形成された空間内の空気を排出するエア排出手段とを備える基板搭載装置を設け、
前記基板に光を照射して該基板を検査するように構成したことを特徴とする検査装置。
【請求項９】
チャック本体の外周に設けられたリムと、前記基板の外周を前記リムの上面に搭載した状態で前記基板の外周側面部を前記リムの上面に支持する支持手段と、該支持手段によって前記基板の外周側面部を前記リムの上面に支持した際、前記基板の裏面と該基板の裏面と対向する前記チャック本体の下内面と前記リムの内周側面とによって囲んで形成される空間と、該空間に対して所定量のエアを供給するエア供給手段と、前記空間内の空気を排出するエア排出手段とを備えた基板搭載装置を設け、
前記基板に光を照射して該基板を検査するように構成したことを特徴とする検査装置。
【請求項１０】
前記基板搭載装置における前記エア排気手段は、前記リムの内周側面部及び前記チャック本体の下内面部の少なくとも一方に１つ又は複数設けられていることを特徴とする請求項８又は９に記載の検査装置。
【請求項１１】
前記基板搭載装置において、前記チャック本体の下内面の中央付近に設けられ、前記リムの上面よりも低い平坦部を有する島状の複数のエアギャップ形成部と前記基板の裏面との間にエアギャップを形成し、前記エア供給手段は前記エアギャップ形成部に設けて構成することを特徴とする請求項８又は９に記載の検査装置。
【請求項１２】
前記基板搭載装置において、前記リムの上面が前記チャック本体の中央に向かって傾斜して前記基板の外周側面部のみと接触するように構成されていることを特徴とする請求項８乃至１１の何れか一つに記載の検査装置。
【請求項１３】
前記基板搭載装置における前記支持手段が、前記リムの上面に回転自在に設けられ、前記基板の外周側面部に接触する接触部を備えた略長方形状の板材からなるレバー部材と、前記レバー部材を前記リムに吸着する吸着口と、前記レバー部材が前記チャック本体から離れる方向に常時回転力を与えるバネ部材とを有して構成されることを特徴とする請求項１２に記載の検査装置。
【請求項１４】
請求項８乃至１３の何れか一つに記載の検査装置おいて、
前記リムは、基板の形状に沿ってチャック本体の外周に設けられ、前記空間内は所定の気圧に保持され、該基板が搭載されたチャック本体を回転させて前記基板の表面にレーザ光を照射して該基板の表面を検査するように構成したことを特徴とする検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】検査方法および検査装置
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月20日(2007.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全反射角の制限が緩められた凹凸状の光の取出し面を有するＧａＮ系半導体発光素子の製造方法であって、
表面に凹凸が所定のパターンにて形成された基板上に、バッファ層を介してまたは直接的に該凹凸を覆うようにＧａＮ系結晶を成長させて、ＧａＮ系結晶層からなる積層構造を形成した後、該基板だけを選択的に除去し得るエッチングにて、上記バッファ層および／または積層構造を、上記パターンを反転させたパターンの凹凸を呈すように露出させることにより、上記の光の取出し面を得ることを特徴とする、製造方法。
【請求項２】
上記積層構造の形成に際して、上記凹凸の凹部内にもＧａＮ系結晶を成長させる、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
上記積層構造の形成に際して、ＧａＮ系結晶を上記凹凸の凹部内に空洞が残らないように成長させる、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
上記基板がＳｉ基板である、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＧａＮ系半導体発光素子の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は以下の特徴を有するものである。
（１）全反射角の制限が緩められた凹凸状の光の取出し面を有するＧａＮ系半導体発光素子の製造方法であって、
表面に凹凸が所定のパターンにて形成された基板上に、バッファ層を介してまたは直接的に該凹凸を覆うようにＧａＮ系結晶を成長させて、ＧａＮ系結晶層からなる積層構造を形成した後、該基板だけを選択的に除去し得るエッチングにて、上記バッファ層および／または積層構造を、上記パターンを反転させたパターンの凹凸を呈すように露出させることにより、上記の光の取出し面を得ることを特徴とする、製造方法。
（２）上記積層構造の形成に際して、上記凹凸の凹部内にもＧａＮ系結晶を成長させる、上記（１）記載の製造方法。
（３）上記積層構造の形成に際して、ＧａＮ系結晶を上記凹凸の凹部内に空洞が残らないように成長させる、上記（１）または（２）記載の製造方法。
（４）上記基板がＳｉ基板である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月21日(2006.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報データを担う情報ピットが形成されるべきグルーブ情報トラックと、ランドプリピットトラックを含む光学式記録媒体であって、ランドプリピットトラックには複数のランドプリピットが予め形成されており、グルーブ情報トラックとランドプリピットトラックとが交互に形成されており、前記ランドプリピットは前記グルーブ情報トラックに結合しており、前記グルーブ情報トラックのトラック幅は、前記ランドプリピットの存在区間の各々の少なくとも一部の区間において、前記ランドプリピットの非存在区間でのトラック幅よりも狭いこと、並びに、前記ランドプリピットの存在区間における前記グルーブ情報トラックの接線方向に対して垂直となる方向の前記グルーブ情報トラックの切り欠き幅が前記グルーブ情報トラックに結合した前記ランドプリピットの幅よりも小さいこと、を特徴とする光学式記録媒体。
【請求項２】
前記ランドプリピットは、両側に隣接する２つの前記グルーブ情報トラックの双方に結合されていることを特徴とする請求項１記載の光学式記録媒体。
【請求項３】
前記ランドプリピットは、両側に隣接する２つの前記グルーブ情報トラックの内のいずれか一方に結合されており、他方の前記グルーブ情報トラックとは離間して形成されていることを特徴とする請求項１記載の光学式記録媒体。
【請求項４】
前記ランドプリピットは、前記ランドプリピットの非存在区間での曲率半径より小なる曲率半径の曲線形状にて画定されていることを特徴とする請求項３記載の光学式記録媒体。
【請求項５】
前記ランドプリピットの存在区間のトラック幅は、前記ランドプリピットの存在区間のトラック上に形成されるピット面積と前記ランドプリピットの非存在区間のトラック上に形成されるピット面積とが等しくなるように、前記ランドプリピットの非存在区間のトラック幅よりも狭いことを特徴とする請求項３記載の光学式記録媒体。
【請求項６】
情報データを担う情報ピットが形成されるべきグルーブ情報トラックと、前記グルーブ情報トラックに結合したランドプリピットトラックと、を含み、当該ランドプリピットトラックには複数のランドプリピットが予め形成された光学式記録媒体の製造方法であって、
前記ランドプリピットの存在区間の各々の少なくとも一部の区間において、前記ランドプリピットの非存在区間でのトラック幅よりも狭いトラック幅の前記グルーブ情報トラックを形成する工程と、
前記グルーブ情報トラックの接線方向に対して垂直となる方向において、前記グルーブ情報トラックに結合した前記ランドプリピットの幅が前記ランドプリピットの存在区間における前記グルーブ情報トラックの切り欠き幅よりも大きくなるように前記ランドプリピットを形成する工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記ランドプリピットを形成する工程は、マスクシート上にてカッティング光ビームの１または２のスポットを、前記グルーブ情報トラックが伸長すべき方向に垂直な方向に偏倚させる工程と、
偏倚された後に前記スポットを復帰させる工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
前記カッティング光ビームを偏倚させる工程及び復帰させる工程の少なくとも一方において前記カッティング光ビームのレーザーパワーを所定期間において上昇させることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ランドプリピットは、両側に隣接する２つの前記グルーブ情報トラックの双方に結合されていることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項１０】
前記ランドプリピットは、両側に隣接する２つの前記グルーブ情報トラックの内のいずれか一方に結合されており、他方の前記グルーブ情報トラックとは離間して形成されていることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項１１】
前記ランドプリピットは、前記ランドプリピットの非存在区間での曲率半径より小なる曲率半径の曲線形状にて画定されていることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項１２】
前記ランドプリピットの存在区間のトラック幅は、前記ランドプリピットの存在区間のトラック上に形成されるピット面積と前記ランドプリピットの非存在区間のトラック上に形成されるピット面積とが等しくなるように、前記ランドプリピットの非存在区間のトラック幅よりも狭いことを特徴とする請求項６記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理容器内をプラズマ生成空間と処理空間とに分けるように，処理容器内に配置されたガス供給板を有し，処理ガスをプラズマ化して処理容器内の基板に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において，
前記ガス供給板には，プラズマ生成空間と処理空間とを連通する複数の開口と，処理空間に向けて処理ガスを供給する処理ガス供給孔が形成され，
さらにこのガス供給板には，ガス供給板を構成する材質よりも熱伝導性が高い熱伝達部材が，ガス供給板の中心領域と周辺領域とにまたがるように設けられていることを特徴とする，プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記熱伝達部材は，ガス供給板の内部に設けられていることを特徴とする，請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記ガス供給板における少なくとも基板と対向する領域は，縦桟部材と横桟部材とが格子状に配置された形状を有し，前記熱伝達部材は，少なくとも縦桟部材又は横桟部材の内部に設けられていることを特徴とする，請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記ガス供給板は，格子状に配置された形状の周囲に円環部を有し，当該ガス供給板の円環部は，前記処理容器の側壁に支持されていることを特徴とする，請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記処理容器の側壁には，熱媒流路が設けられ，当該熱媒流路を流れる熱媒が前記熱伝達部材と熱交換するようになっていることを特徴とする，請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記ガス供給板における基板と対向する領域は，４つの扇形の領域に区画されており，
２つの扇形の領域内では，前記熱伝達部材が少なくとも前記縦桟部材の内部に設けられ，
他の2つの扇形の領域では，前記熱伝達部材が少なくとも前記横桟部材の内部に設けられていることを特徴とする，請求項３〜５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記ガス供給板における処理ガスの流路は，少なくとも前記縦桟部材又は横桟部材の内部に設けられていることを特徴とする，請求項３〜６のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記ガス供給板は，プラズマ生成空間に向けてプラズマ生成用ガスを供給するガス供給孔をさらに有することを特徴とする，請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記ガス供給板は，プラズマ生成空間に向けてプラズマ生成用ガスを供給するガス供給孔をさらに有し，前記ガス供給板におけるプラズマ生成用ガスの流路は，少なくとも前記縦桟部材又は横桟部材の内部に設けられていることを特徴とする，請求項３〜７のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記処理ガスの流路とプラズマ生成用ガスの流路は，ガス供給板の上下方向からみて，重なるように配置されていることを特徴とする，請求項８又は９に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記熱伝達部材は，少なくともその一部が，前記処理ガスの流路とプラズマ生成用ガスの流路との間に位置するように配置されていることを特徴とする，請求項８〜１０のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記周辺領域における熱伝達部材との間で，熱交換を行う熱媒流路をさらに有することを特徴とする，請求項１〜１１のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】
前記熱伝達部材はヒートパイプであることを特徴とする，請求項１〜１２のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記熱伝達部材は，ガス供給板の内部に設けられているのがよい。またガス供給板における少なくとも基板と対向する領域が，縦桟部材と横桟部材とが格子状に配置された形状を有している，前記熱伝達部材は，これら縦桟部材や横桟部材の内部に設けられていることが好ましい。また前記ガス供給板は，格子状に配置された形状の周囲に円環部を有し，当該ガス供給板の円環部は，前記処理容器の側壁に支持されていてもよい。前記処理容器の側壁には，熱媒流路が設けられ，当該熱媒流路を流れる熱媒が前記熱伝達部材と熱交換するようになっていてもよい。また前記ガス供給板における基板と対向する領域は，４つの扇形の領域に区画されており，２つの扇形の領域内では，前記熱伝達部材が少なくとも前記縦桟部材の内部に設けられ，他の2つの扇形の領域では，前記熱伝達部材が少なくとも前記横桟部材の内部に設けられていてもよい。かかる場合，ガス供給板における処理ガスの流路も，これら縦桟部材又は横桟部材の内部に設けられているのがよい。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月30日(2007.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ダイボンディングにせよ、ワイヤボンディングにせよ、ボンディングヘッドは、３次元空間における任意の２つの位置の間を高速に移動する。すなわち、いずれの場合もボンディングヘッドは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向のそれぞれに移動可能とされる。このボンディングヘッドのＸＹＺ移動機構については、Ｘ軸方向に移動可能なＸテーブル、Ｘテーブルの上に搭載されＹ軸方向に移動可能なＹテーブル、Ｙテーブルの上に搭載されＺ軸方向に移動可能なＺテーブルの積層構造を用いることができる。しかしながら、この積層構造においては、下部のテーブルほどその上部に搭載される質量及び慣性を支持するために、より多くの駆動力を要し、また、積層構造のために駆動力が移動対象の重心に必ずしも印加されない等の課題を生じる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
Ｚモータ磁石部６０のＹＺ平面内の大きさは、Ｚモータ駆動コイル部５０の移動範囲全体をカバーする対向面積を有するように設定される。具体的に、Ｙテーブル３０のＹ方向の移動量であるＹストロークをＳY、Ｚテーブル３０のＺ方向の移動量であるＺストロークをＳZ、３つのコイル５２のＹ軸方向に沿って測った端部から端部までの長さをＬY、コイル５２のＺ軸方向に沿って測った端部から端部までの長さをＬZ、コイル５２のＺ軸方向に沿った巻線成分の巻線幅であってＹ軸方向に沿って測った巻線幅をＷY、コイル５２のＹ軸方向に沿った巻線成分の巻線幅であってＺ軸方向に沿って測った巻線幅をＷZとする。このとき、Ｚモータ磁石部６０のＹ軸方向の長さは、（ＳY＋ＬY＋ＷY）、Ｚ軸方向の長さは、（ＳZ＋ＬZ＋ＷZ）以上あることが必要である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
この初期位置からピックアップ位置への移動は、初期位置のＸＹ座標と、ピックアップ位置のＸＹ座標の差に基づき、ボンディング処理部７８が、Ｘテーブル２０のＸ軸方向移動量ΔＸ1と、Ｙテーブル２０のＹ軸方向移動量ΔＹ1とを算出し、これをＸ駆動部７２とＹ駆動部７４のそれぞれに、Ｘ軸方向移動指令とＹ軸方向移動指令として与える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
このピックアップ位置からボンディング位置への移動は、ピックアップ位置のＸＹ座標と、ボンディング位置のＸＹ座標の差に基づき、ボンディング処理部７８が、Ｘテーブル２０のＸ軸方向移動量ΔＸ2、Ｙテーブル２０のＹ軸方向移動量ΔＹ2を算出し、初期位置からピックアップ位置への移動と同様に、これをＸ駆動部７２とＹ駆動部７４のそれぞれに、Ｘ軸方向移動指令とＹ軸方向移動指令として与える。以下、上記に述べたピックアップ位置への移動と同様の内容で、ボンディングヘッド４２はボンディング位置の真上に移動し、そこでボンディングヘッド４２のＺ方向の移動量ΔＺ2を算出し、Ｚ駆動部７６に、Ｚ軸方向移動指令として与える。そして上記のように３相リニアモータの駆動法により、ボンディングヘッド４２は回路基板の上に下降する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
このように、ダイボンディング装置１０は、１つのチップを、チップ供給部からボンディング対象の位置に移動させるものであるが、Ｘテーブル２０の移動指令量は小さく、したがってその移動速度はＹテーブル３０、Ｚテーブル４０に比べ非常に低速でよく、移動指令によってはほとんど動かない場合もある。したがって、重いＺモータ磁石部６０をＸテーブル２０に取り付けても、Ｘ駆動モータにとってあまり負担にならない。その反面、Ｙテーブル３０の上には、Ｚテーブル４０と、Ｚモータ駆動コイル部５０が搭載され、重いＺモータ磁石部６０が外されるので、Ｙ駆動モータの負荷が軽くなる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】   
【従来の技術】
従来、開口を有する弁ガイドに、開口を有する弁体を内装して、弁体に連結された操作部を回転させることで弁体を回転させて、弁体の開口と弁ガイドの開口とを重ね合わせたり、ずらしたりすることで通水・止水を行なうシリンダバルブが提案されている。
従来のシリンダバルブにおいて、図１８に示すように、側面に対向するように通水路となる開口が形成されており、それらの開口のいずれか１方側の周辺にのみ、シール部材が取付けられているものがある。
また、シール部材に補強環を設けて、シール部材の撓みを規制するものも知られている。（特許文献１参照）
【特許文献１】  特開平１−２０６１６８号公報
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月9日(2007.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】単結晶または多結晶材料、特に多結晶シリコンの製造装置及び製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月28日(2007.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マンセル記号で表した場合に明度４以上及び彩度４以上の防汚塗料であって、亜酸化銅は全防汚塗料に対して５重量％以下で含まれるものであることを特徴とする防汚塗料。
【請求項２】  水中で塗膜更新性を有するものである請求項１記載の防汚塗料。
【請求項３】  防汚塗料ベース及び着色用塗料を製造する工程、並びに、前記防汚塗料ベース及び前記着色用塗料を混合することによって塗料を調色する工程からなる調製方法であって、前記製造する工程と前記調色する工程とは異なる場所で行われる調製方法によって得られるものである請求項１又は２記載の防汚塗料。
【請求項４】  防汚塗料ベースは、加水分解型樹脂及び有機系防汚剤からなるものである請求項３記載の防汚塗料。
【請求項５】  有機系防汚剤は、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、２−ピリジンチオール−１−オキシド及びトリフェニルボロン並びにそれらの塩からなる群より選択される少なくとも１つである請求項４記載の防汚塗料。
【請求項６】  亜酸化銅は含まない請求項１、２、３又は４記載の防汚塗料。
【請求項７】  防汚剤の配合量は、防汚塗料ベース固形分に対して、５〜５０重量％である請求項３、４又は５記載の防汚塗料。
【請求項８】  着色用塗料は、着色顔料の配合量が、着色用塗料固形分に対して、１０〜５０重量％である請求項３、４又は５記載の防汚塗料。
【請求項９】  防汚塗料ベース及び着色用塗料の混合割合は、防汚塗料ベース固形分に対して、着色用塗料固形分０．１〜２０重量％である請求項３、４又は５記載の防汚塗料。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月20日(2007.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色剤と水と共溶媒と易融材料とから成るインクジェットプリンタのためのインク組成物において、
前記インク組成物は、サブストレート上に永続性のあるイメージを作り出し、前記永続性は、サブストレート上にプリントされた前記イメージが化学的及び／又は機械的摩損を受ける時に前記サブストレートからの色の転移量として測定され且つ５０未満のミリ光学濃度の単位で測定されることを特徴とするインク組成物。
【請求項２】
前記易融材料のガラス転移温度が、約４０〜１４０℃、好ましくは約５０〜約９０℃である、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記易融材料が、
ａ）１〜約１２個の炭素を有するアルキル基から成るアルキルアクリル酸塩又はメタクリル酸塩類、
ｂ）ビニル芳香族モノマー類、
ｃ）疎水性及び親水性の両部分を有する重合可能な界面活性剤類、及び
ｄ）それらの混合物から成る群から選択される成分から合成されたエマルションポリマーである、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記成分が用いられる場合、
ａ）前記アルキルメタクリル酸塩が、メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、及びそれらの混合物から成る群から選択され、
ｂ）前記ビニル芳香族モノマーが、スチレン、置換スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ポリビニルベンゼン類、及びそれらの異性体類から成る群から選択され、
ｃ）前記重合可能な界面活性剤が、親水基としてのポリエチレングリコールと、疎水基としてのオクチル若しくはノニルフェノール及びそれらの混合物とから成る、請求項３に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記共溶媒が、脂肪族アルコール類、芳香族アルコール類、ジオール類、グリコールエーテル類、ポリグリコールエーテル類、カプロラクタム類、ホルムアミド類、アセトアミド類、第一級脂肪族アルコール類、第二級脂肪族アルコール類、１，２−アルコール類、１，３−アルコール類、１，５−アルコール類、エチレングリコールアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類のより高級の同族体類、Ｎ−アルキルカプロラクタム類、未置換カプロラクタム類、置換及び未置換ホルムアミド類、置換及び未置換アセトアミド類、ポリエチレングリコール、及びそれらの混合物から成る群から選択され、
前記易融材料が、ポリオキサゾリン類、ウレタン／アクリルのブロック又は混合ポリマー、ポリカーカーボネート類、ポリビニルピロリジン、スチレン−ブタジエンラテックス類、ＰＥＧ−アミン改質型及び／又はジアミン架橋型のポリエン−無水マレイン酸、エチレン無水マレイン酸、オクタデセン−無水マレイン酸、ロジン−無水マレイン酸ポリマー、及びそれらの混合物から成る群から選択される成分から合成されたエマルションポリマーである、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項６】
水と、共溶媒と、易融材料とから成るインクジェットインク組成と併用される第５のペンの組成物であって、該第５のペンの組成物が、カラー含有インクの前若しくは後にサブストレート上に堆積され且つ該サブストレート上に永続性のあるイメージを作り出し、前記永続性が、前記サブストレート上の前記カラー含有インクが化学的及び／又は機械的摩損を受ける時の前記サブストレートからの色の転移量として測定され且つ５０未満のミリ光学濃度の単位で測定される、第５のペンの組成物。
【請求項７】
前記カラー含有インクの約０．１〜約４倍の量がサブストレート上に堆積される、請求項６に記載の第５のペンの組成物。
【請求項８】
前記易融材料が、約４０〜約１４０℃、好ましくは約５０〜約９０℃のガラス転移温度を有する、請求項６に記載の第５のペンの組成物。
【請求項９】
前記易融材料が、
ｅ）１〜約１２個の炭素を有するアルキル基から成るアルキルアクリル酸塩又はメタクリル酸塩類、
ｆ）ビニル芳香族モノマー類、
ｇ）疎水性及び親水性の両部分を有する重合可能な界面活性剤類、及び
ｈ）それらの混合物から成る群から選択される成分から合成されたエマルションポリマーである、請求項６に記載の第５のペンの組成物。
【請求項１０】
前記共溶媒が、脂肪族アルコール類、芳香族アルコール類、ジオール類、グリコールエーテル類、ポリグリコールエーテル類、カプロラクタム類、ホルムアミド類、アセトアミド類、第一級脂肪族アルコール類、第二級脂肪族アルコール類、１，２−アルコール類、１，３−アルコール類、１，５−アルコール類、エチレングリコールアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類のより高級な同族体類、Ｎ−アルキルカプロラクタム類、未置換カプロラクタム類、置換及び未置換のホルムアミド類、置換及び未置換のアセトアミド類、ポリエチレングリコール、及びそれらの混合物から成る群から選択され、
前記易融材料が、ポリオキサゾリン類、ウレタン／アクリルのブロック又は混合ポリマー、ポリカーカーボネート類、ポリビニルピロリジン、スチレン−ブタジエンラテックス類、ＰＥＧ−アミン改質型及び／又はジアミン架橋型のポリエン−無水マレイン酸、エチレン無水マレイン酸、オクタデセン−無水マレイン酸、ロジン−無水マレイン酸ポリマー、及びそれらの混合物から成る群から選択される成分から合成されたエマルションポリマーである、請求項６に記載の第５のペンの組成物。
【請求項１１】
インクジェットプリンタを用いて種々のサブストレート上に永続性のあるイメージを作り出す方法であって、前記インクジェットプリンタが、カラー含有インク組成物と易融材料組成物とを包含し、前記イメージが、化学的又は機械的摩損を受ける時に０〜５０のｍＯＤ値で測定されるような最小限のカラー転移を受ける、方法。
【請求項１２】
カラー含有インク組成物と易融材料とを塗布することによって前記永続性のあるイメージを前記サブストレート上に作り出し、前記易融材料を、前記カラー含有インクの前若しくは後に塗布するか又は前記カラー含有インク組成物に含有させ、前記イメージを前記サブストレート上に溶融する熱源を前記サブストレートに適用する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記易融材料が少なくとも１つのカラー含有インクに含まれる、請求項１１に記載のサブストレート上に永続性のあるイメージを作り出す方法。
【請求項１４】
前記易融材料を、前記カラー含有インク組成物以外に第５のペンの組成物に含有させる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
熱式又は圧電式プリンタ用のプリントシステムにおいて、
ａ）シアン、マゼンタ、イエロー、及びブラックから成る水ベースのインクセットと、
ｂ）前記ａ）のインクの少なくとも１つに添加するか又は無色の水ベースの第５のペンの組成物に混合させてよい易融材料と、
ｃ）プリントサブストレート上へのイメージの溶融手段を備えていて、化学的又は機械的摩損を受ける時に０〜５０のｍＯＤ値で測定されるような最小限のカラー転移を示す永続性のあるイメージを作り出すプリント装置と
を備えている、プリントシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月23日(2007.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サブストレート上に永続性のあるイメージを作り出すのに適しているインクジェット用インク組成物であって、
ａ）アルケン／無水マレイン酸と水酸化アンモニウムのポリマーのアミド−酸誘導体、
ｂ）アルケン／無水マレイン酸とポリエチレングリコール（ＰＥＧ）アミンのポリマーのアミド−酸誘導体、
ｃ）アルケン／無水マレイン酸とＰＥＧモノメチルエーテル類を含む付加物とのポリマー、
ｄ）ポリオキサゾリン、及び
ｅ）これらの前駆体類の混合物から成る群から選択される１または２以上の易融材料を含有しているインク組成物。
【請求項２】
前記易融材料のガラス転移温度が、４０〜１４０℃、好ましくは５０〜９０℃である、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記インク組成物が、水と、着色剤と、共溶媒と、殺生物剤、粘性修正剤、ｐＨ調整用物質、金属イオン封鎖剤、防腐剤、界面活性剤およびそれらの混合物からなる群から選択される添加物とをさらに含有する、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記易融材料が、以下の反復構造
【化１】
2000351927.tif 000001
［式中、Ｒ１は、アルキル鎖、Ｃ２〜Ｃ５０炭素の芳香族基又は脂肪族基を有する分枝アルキル鎖、及びこれらの混合物からなる群から選択される］を有する可溶性ポリマーである、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記易融材料が、以下の構造
【化２】
2000351927.tif 000002
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｈ、アルキル鎖、分枝アルキル鎖、Ｃ２〜Ｃ５０の環、及びそれらの混合物である］を有する可溶性ポリマーである、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項６】
前記易融材料が、以下の構造
【化３】
2000351927.tif 000003
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｈ、アルキル鎖、分枝アルキル鎖、Ｃ２〜Ｃ５０の環、及びそれらの混合物である］を有する可溶性ポリマーである、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項７】
１つ以上の易融材料から成るインクジェットインク組成物と併用される第５のペンの組成物であって、該第５のペンの組成物が、カラー含有インクの前若しくは後にサブストレート上に堆積され且つ該サブストレート上に永続性のあるイメージを作り出すものであって、前記易融材料が、
ａ）アルケン／無水マレイン酸と水酸化アンモニウムのポリマーのアミド−酸誘導体、
ｂ）アルケン／無水マレイン酸とポリエチレングリコール（ＰＥＧ）アミンのポリマーのアミド−酸誘導体、
ｃ）アルケン／無水マレイン酸とＰＥＧモノメチルエーテル類を含む付加物とのポリマー、
ｄ）ポリオキサゾリン、及び
ｅ）これらの前駆体類の混合物から成る群から選択される、第５のペンの組成物。
【請求項８】
カラー含有インクの０．１〜４倍の量がサブストレート上に堆積され且つ前記易融材料のガラス転移温度が、４０〜１４０℃、好ましくは５０〜９０℃である、請求項７に記載の第５のペンの組成物。
【請求項９】
前記易融材料が、以下の反復構造
【化４】
2000351927.tif 000004
［式中、Ｒ１は、アルキル鎖、Ｃ２〜Ｃ５０炭素の芳香族基又は脂肪族基を有する分枝アルキル鎖、及びそれらの混合物からなる群から選択される］を有する可溶性ポリマーである、請求項７に記載の第５のペンの組成物。
【請求項１０】
前記易融材料が、以下の構造
【化５】
2000351927.tif 000005
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｈ、アルキル鎖、分枝アルキル鎖、Ｃ２〜Ｃ５０の環、及びそれらの混合物である］を有する可溶性ポリマーである、請求項７に記載の第５のペンの組成物。
【請求項１１】
前記易融材料が、以下の構造
【化６】
2000351927.tif 000006
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して、Ｈ、アルキル鎖、分枝アルキル鎖、Ｃ２〜Ｃ５０の環、及びそれらの混合物である］を有する可溶性ポリマーである、請求項７に記載の第５のペンの組成物。
【請求項１２】
インクジェットプリンタを使って種々の媒体上に永続性のあるイメージを作り出す方法であって、前記インクジェットプリンタがカラー含有インク組成と易融材料組成物とを包含し且つ前記イメージが、化学的又は機械的摩損を受ける時、０〜５０のｍＯＤ値で測定されるような最小のカラー転移を示し、且つ前記易融材料が、
ａ）アルケン／無水マレイン酸と水酸化アンモニウムのポリマーのアミド−酸誘導体、
ｂ）アルケン／無水マレイン酸とポリエチレングリコール（ＰＥＧ）アミンのポリマーのアミド−酸誘導体、
ｃ）アルケン／無水マレイン酸とＰＥＧモノメチルエーテル類を含む付加物とのポリマー、
ｄ）ポリオキサゾリン、及び
ｅ）これらの前駆体類の混合物から成る群から選択される、方法。
【請求項１３】
カラー含有組成物と易融材料組成物とを塗布することによって前記サブストレート上に前記永続性イメージを作り出す方法であって、前記易融材料をカラー含有インクの前若しくは後に塗布するか又は前記カラー含有インク組成物中に含有させ、前記サブストレートに熱源を適用して前記サブストレート上に前記イメージを溶融する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
サブストレート上に永続性イメージを作り出す請求項１２に記載の方法であって、前記易融材料が少なくとも１つのカラー含有インクに含まれる、方法。
【請求項１５】
前記易融材料が、前記カラー含有インク組成物に加えて、第５のペンの組成物にも含有される、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月8日(2007.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）水素化処理された油または水素化脱ワックスされた油；
（ｂ）（ｉ）次式（Ｉ）
【化１】
2000351984.tif 000001
〔式中、Ｒ1は水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表し、そしてＲ2およびＲ3は、互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子
数３ないし２０のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし１３のアルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基、ヒドロキシ基を表すか、またはＲ2およびＲ3は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、５−、６−または７−員複素環式残基を表すか、またはＲ2およびＲ3は、それぞれ次式（ＩＩ）
Ｒ4Ｘ［（アルキレン）Ｏ］n（アルキレン）− (II)（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子ま
たは窒素原子を表し；Ｒ4は水素原子または炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表し
；アルキレンは炭素原子数１ないし１２のアルキレン残基を表し；そしてｎは０、または１ないし６の整数である。）で表される残基を表すか、またはＲ2は上述で定義された通
りであり、そしてＲ3が次式（ＩＩＩ）
【化２】
2000351984.tif 000002
で表される残基を表すか、または上述で定義された式（ＩＩ）で表される残基を表し、そしてＲ2は次式（ＩＶ）
−［アルキレン］n−Ｎ（Ｒ5）−Ａ−［Ｎ（Ｒ5）2］m (IV)（式中、ｍは０または１であり、そしてｍが０である場合、Ａは式（ＩＩＩ）で表される残基を表し、そしてｍが１である場合、Ａはアルキレン基または炭素原子数６ないし１０のアリーレン基を表し；そしてアルキレンおよびｎは上述の意味を有し；そしてＲ5は上述で定義された式（ＩＩＩ）
で表される残基を表す。）で表される残基を表す。〕で表される金属奪活剤の有効安定化量；あるいは（ｉｉ）次式（Ｖ）
【化３】
2000351984.tif 000003
（式中、Ｒ2およびＲ3は上述で定義された通りである。）で表される金属奪活剤の有効安定化量；
（ｃ）立体障害性フェノール系酸化防止剤の有効安定化量；
（ｄ）芳香族アミン酸化防止剤の有効安定化量；
（ｅ）次式（ＶＩ）
【化４】
2000351984.tif 000004
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10は、互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表し、そしてＹは
【化５】
2000351984.tif 000005
および−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−；からなる群から選択された、飽和または不飽和の炭素
原子数１ないし２０の二価の炭化水素基を表す。）で表されるアルキルフェノキシアルカン酸の有効安定化量；および（ｆ）次式（ＶＩＩ）
【化６】
2000351984.tif 000006
（式中、アシル基Ｒ11−Ｃ（＝Ｏ）−は１０ないし２０個の炭素原子を有する脂肪酸の残基を表し、そしてＸ+は水素イオン、アルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンを表
す。）で表されるｎ−アシルサルコシン誘導体の有効安定化量；からなる潤滑剤組成物。
【請求項２】 （ｂ）が１−［ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル−４−メチル］
ベンゾトリアゾールであり；（ｃ）が３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸，炭素原子数７ないし９のアルキルエステルであり；（ｄ）が次式（ＶＩＩＩ）
【化７】
2000351984.tif 000007
（式中、Ｒ12は水素原子または炭素原子数８ないし１３のアルキル基を表す。）で表されるフェニルナフチルアミンか、次式（ＩＸ）
【化８】
2000351984.tif 000008
（式中、Ｒ12は水素原子を表し、Ｒ13は水素原子または炭素原子数８ないし１３のアルキル基を表す。）で表されるジフェニルアミンであるか；または（ｅ）がノニルフェノキシ
酢酸であり；そして（ｆ）が次式Ｃ17Ｈ33−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2ＣＯＯＨで表されるｎ−アシルサルコシンである請求項１記載の潤滑剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月31日(2007.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも１つのメルカプタン硬化剤と、少なくとも１つのC8〜C24カルボン酸金属塩とを含むことを特徴とするエポキシ樹脂用硬化剤組成物。
【請求項２】  さらに、少なくとも１つのアミド樹脂硬化剤を含む請求項1記載の組成物。
【請求項３】  さらに、少なくとも１つのアミノ樹脂硬化剤を含む請求項1記載の組成物。
【請求項４】  前記カルボン酸金属塩として、リシノール酸亜鉛を含む請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】  高光沢のエポキシ樹脂塗膜を形成する方法において、
少なくとも１つのエポキシ樹脂を含む成分Aと、少なくとも１つのメルカプタン硬化剤および少なくとも１つのC8〜C24カルボン酸金属塩とを接触させ、所望により、他の添加剤の混和後に、混合物を均一にして、触媒添加樹脂を形成し、次いでこの触媒添加樹脂を架橋硬化させる
ことを特徴とする方法。
【請求項６】  前記硬化は、温度5〜50℃で実施する請求項5記載の方法。
【請求項７】  前記硬化は、少なくとも１つのアミノ樹脂硬化剤および／またはアミド樹脂硬化剤の存在下に実施する請求項5または6記載の方法。
【請求項８】  前記カルボン酸金属塩として、リシノール酸亜鉛を用いる請求項5〜7のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月5日(2007.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】連続気泡型メラミン樹脂フォーム（ＭＦフォーム）であって、該ＭＦフォームの気泡構造の樹脂表面の全部または一部がフルオロアルキルエステルでコーティングされていることを特徴とするＭＦフォーム。
【請求項２】フルオロアルキルエステルの含有量が０．００１〜５質量％であることを特徴とする請求項１に記載のＭＦフォーム。
【請求項３】フルオロアルキルエステルが完全フッ素化フルオロアルキルエステルであることを特徴とする請求項１または２に記載のＭＦフォーム。
【請求項４】フルオロアルキルエステルが、アクリル酸、メタクリル酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、燐酸またはＣ1−Ｃ6脂肪酸の完全フッ素化Ｃ1−Ｃ10−アルキルエステルであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＭＦフォーム。
【請求項５】フルオロアルキルエステルの乳状水溶液を使用して、前記液にＭＦフォームを浸漬するかあるいは前記液をＭＦフォーム内に噴霧し、余分な溶液を圧搾除去した後、４０〜２００℃の温度で乾燥させることを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のＭＦフォームの製造方法。
【請求項６】乳状水溶液の濃度が０．１〜２０質量％であることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】発明者らは、上記目的は、ＭＦフォームの気泡構造の樹脂表面の全部または一部を、好ましくは０．００１〜５質量％、特に好ましくは０．０１〜１質量％のフルオロアルキルエステルでコーティングしたＭＦフォームにより達成されることを発見した。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月13日(2007.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
ステアリングコラム構体が折り畳み時、ステアリングコラム（３）によって伝達されるエネルギを吸収するための手段を有しており、前記手段が前記ステアリングコラムの取付け手段と連結され、少なくとも１本のピン（７）を取り囲むように配置される少なくとも１本の変形可能なワイヤ（４）と、前記ステアリングコラム（３）に結合され、前記ワイヤ（４）に隣接するスキッド部材（６）とを有し、前記取付け手段が、前記スキッド部材（６）を摺動可能に収納する取付けブラケット（５）を有しており、
前記ステアリングコラムの折り畳み時、前記スキッド部材（６）が前記ワイヤ（４）を変形させる方向に押圧され、それにより折り畳みエネルギを吸収する、折り畳み可能なステアリングコラム構体において、
前記少なくとも１本のピン（７）が伸張可能または収縮可能であることを特徴とする折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項２】
前記少なくとも１本のピン（７）が、ソレノイド作動され、前記少なくとも１本のピンが通常収縮されている請求項１に記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項３】 
前記少なくとも１本のピン（７）が、油圧作動される請求項１に記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項４】 
前記ステアリングコラム構体が、取り付けられる車両の運転者用センサから受信されたデータに依存するエネルギ吸収のための予め定めた設定に応じて、前記少なくとも１本のピン（７）を選択的に始動するための手段を有する請求項１〜３のいずれかに記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項５】 
前記ワイヤ（４）が、輪郭が異なる複数のワイヤを有する請求項１〜４のいずれかに記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項６】 
前記少なくとも１本のピン（７）が、エネルギ吸収能力をそれぞれ増加または減少するために前記ワイヤ（４）を選択または選択解除するように配置される請求項５に記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項７】 
予め定めた深さに対して作用される前記少なくとも１本のピン（７）に、ワイヤ（４）の積み重ねが設けられている請求項６に記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【請求項８】 
請求項１〜７のいずれかに記載の折り畳み可能なステアリングコラム構体を組み込んでいる車両。
【請求項９】 
ステアリングコラム構体が折り畳み時、ステアリングコラム（３）によって伝達されるエネルギを吸収するための手段を有しており、前記手段が前記ステアリングコラムの取付け手段と連係する変形可能な要素（４）を有し、前記取付け手段が、前記ステアリングコラム（３）に結合されるスキッド部材（６）を摺動可能に収納し、変形可能な要素（４）に隣接する取付けブラケット（５）を有しており、その結果、前記ステアリングコラムの折り畳み時、前記スキッド部材（６）が前記変形可能な要素を変形させるような方向に押圧され、それにより折り畳みエネルギを吸収し、前記変形可能な要素が１本のワイヤ（４）の形であり、アームが、ステアリングコラムの折り畳みの間中、少なくとも１本のピン（７）を取り囲むように配置される、折り畳み可能なステアリングコラム構体において、
前記少なくとも１本のピン（７）が伸張可能または収縮可能であり、前記スキッド部材（６）が前記ワイヤを変形させるように前記少なくとも１本のピン（７）上で前記ワイヤ（４）を引っ張るように作用していることを特徴とする折り畳み可能なステアリングコラム構体。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月19日(2007.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ９〜１５ｍ2／ｇの比表面積、
【数１】
2000351630.tif 000001
の保磁力、および１.１〜１.３ｇ／ｃｍ3の沈降見掛密度を有するマグネタイトの製造方法であって、
（ａ）水溶液の形のアルカリ成分を、保護ガス雰囲気下、容器に入れ、
（ｂ）マグネタイトのＦｅに対して１.０〜３.０モル％のシリケート成分を添加して反応混合物を作り、
（ｃ）反応混合物を、６０〜８０℃の沈殿温度に加熱し、
（ｄ）鉄(II)成分を、アルカリ成分１当量当たりＦｅ０.５〜１.５モル／時の速度で、懸濁液のｐＨが７.０〜８.５になるまで添加し、
（ｅ）２０〜５モル％Ｆｅ(II)／時の速度で、Ｆｅ(III)含量がＦｅ(III)６５〜７５モル％になるまで、酸化剤により懸濁液を酸化する
ことを含んでなる製造方法。
【請求項２】  工程（ｂ）においてマグネタイトのＦｅに対して１.７〜２.５モル％のシリケート成分を添加する請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】  鉄(II)成分のＦｅ含量は、Ｆｅ６０〜１８０ｇ／Ｌである請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】  鉄(II)成分のＦｅ含量は、Ｆｅ６５〜１２０ｇ／Ｌである請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】  鉄(II)成分のＦｅ含量は、Ｆｅ８０〜９５ｇ／Ｌである請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】  鉄(II)成分のＦｅ(III)含量は、Ｆｅ(III)０.２〜１.２モル％である請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】  鉄(II)成分のＦｅ(III)含量は、Ｆｅ(III)０.３〜０.６モル％である請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】  鉄(II)成分は、硫酸鉄(II)または塩化鉄(II)である請求項１に記載の製造方法。
【請求項９】  アルカリ成分は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属炭酸塩、ＭｇＣＯ3またはアンモニアである請求項１に記載の製造方法。
【請求項１０】  酸化剤は、空気酸素、純酸素、過酸化水素、塩素またはアルカリ金属塩素酸塩若しくは硝酸塩である請求項１に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
その結果、この目的に使用されるマグネタイトは、非常に狭い粒子寸法分布を有していなければならない。さらに、仕上がったトナー中でのマグネタイト粒子の均一な分布を確実にするために、限定された粒子寸法が必要である。マグネタイト自体は、静電的転写中に潜像を安定化するために、非常に高い電気抵抗を持たなければならない。
加えて、保磁力、飽和磁化、およびとりわけ残留磁化は、機器中の一般的な電界強度に対して正しい比率でなければならない。そこで、各種類の複写機について、特別な性質を有するトナー、従ってマグネタイトを開発する必要がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
すなわち、本発明は、９〜１５ｍ2／ｇの比表面積、
【数２】
2000351630.tif 000002
の保磁力、および１.１〜１.３ｇ／ｃｍ3の沈降見掛密度を有するマグネタイトの製造方法であって、
（ａ）水溶液の形のアルカリ成分を、保護ガス雰囲気下、容器に入れ、
（ｂ）マグネタイトのＦｅに対して１.０〜３.０モル％（好ましくは１.７〜２.５モル％）のシリケート成分を添加して反応混合物を作り、
（ｃ）反応混合物を、６０〜８０℃（好ましくは６５〜７５℃）の沈殿温度に加熱し、
（ｄ）鉄(II)成分を、アルカリ成分１当量当たりＦｅ０.５〜１.５モル／時の速度で、懸濁液のｐＨが７.０〜８.５（好ましくは７.２〜７.６）になるまで添加し、
（ｅ）２０〜５モル％Ｆｅ(II)／時（好ましくは１４〜１０モル％Ｆｅ(II)／時）の速度で、Ｆｅ(III)含量がＦｅ(III)６５〜７５モル％になるまで、酸化剤により懸濁液を酸化する
ことを含んでなる製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
Ｆｅ(II)成分は、水酸化ナトリウムまたは他のアルカリ成分１当量当たり、０.５〜１.５モルＦｅ／時の速度で添加する。所定量のＦｅ(II)の添加が完了した後、得られた反応バッチを反応温度に加熱する。多くの場合、別の加熱工程が必要でないように、沈殿温度および反応温度は同じである。
反応温度に達した時に、保護ガスのスパージを停止し、酸化剤の供給を開始する。スパージに空気を使用する場合、空気は、多孔分散装置により攪拌機の下に導入する。選択される酸化速度は、２０〜５モル％Ｆｅ(II)／時、好ましくは１４〜１０モル％Ｆｅ(II)／時である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
得られたマグネタイトは、下記の性質を有していた。
Ｓｉ含量：０.８重量％
【数６】
2000351630.tif 000003
粒子寸法：０．１μm
ＢＥＴ比表面積：９.０ｍ2／ｇ
沈降見掛密度：１.２２ｇ／ｃｍ3