Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月2日(2007.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナポートに接続された第１および第２の回路分岐を備え、
前記第１の回路分岐は、第１の周波数帯域の信号を通過させるフィルタを備え、
前記第２の回路分岐は、第２の周波数帯域の信号を通過させるフィルタを備え、
更に、前記アンテナポートに接続されたインピーダンス整合回路を備えている信号分離装置であって、
前記第２の周波数帯域において、前記第１の回路分岐は、前記アンテナポートと電気的グランドとの間の第１の容量性インピーダンスを提供するようになっており、
前記第１の周波数帯域において、前記第２の回路分岐は、前記アンテナポートと電気的グランドとの間の第２の容量性インピーダンスを提供するようになっており、
前記インピーダンス整合回路は、前記第２の周波数帯域において、前記第１の容量性インピーダンスを実質的に相殺する、前記アンテナポートと電気的グランドとの間の第１の誘導性インピーダンスを提供するとともに、前記第１の周波数帯域において、前記第２の容量性インピーダンスを実質的に相殺する、前記アンテナポートと電気的グランドとの間の第２の誘導性インピーダンスを提供するようになっていることを特徴とする信号分離装置。
【請求項２】
前記インピーダンス整合回路は、更に、前記アンテナポートと電気的グランドとの間に接続されたインダクタを備えたことを特徴とする請求項１記載の信号分離装置。
【請求項３】
前記第１の周波数帯域において、信号が前記アンテナポートに入力されたとき、前記インダクタと前記第２の容量性インピーダンスは協働して共振するようになっており、
前記第２の周波数帯域において、信号が前記アンテナポートに入力されたとき、前記インダクタと前記第１の容量性インピーダンスは協働して共振するようになっていることを特徴とする請求項２記載の信号分離装置。
【請求項４】
前記第２の容量性インピーダンスの、前記第１の容量性インピーダンスに対する比が、前記第１の周波数帯域の前記第２の周波数帯域に対する比の二乗に、実質的に等しいことを特徴とする請求項３記載の信号分離装置。
【請求項５】
前記第１および第２の回路分岐は、それぞれ、前記アンテナポートと第２のポートおよび第３のポートとの間に設けられ、前記第２および第３のポートにはそれぞれ、直列キャパシタが接続されたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の信号分離装置。
【請求項６】
前記回路分岐の少なくとも一方は、前記アンテナポートに接続された直列キャパシタを含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の信号分離装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の信号分離装置を備えたことを特徴とするアンテナスイッチモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月14日(2007.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体内に導入され、該被検体内を移動する被検体内導入装置と、前記被検体外部に配置され、前記被検体内部における前記被検体内導入装置の位置情報を取得する位置検出装置とを備えた被検体内位置検出システムであって、
前記被検体内導入装置は、静磁場を形成する静磁場形成手段を備え、
前記位置検出装置は、
磁場強度を検出する磁場検出手段と、
前記被検体に対して所定の位置に固定され、前記磁場検出手段の位置導出に用いる交流磁場を出力する交流磁場発生手段と、
前記磁場検出手段によって検出された磁場の交流磁場成分に基づいて前記磁場検出手段の位置座標を導出する座標導出手段と、
前記磁場検出手段によって検出された磁場の直流磁場成分に基づいて前記磁場検出手段と前記被検体内導入装置との間の距離を導出する距離導出手段と、
前記座標導出手段の導出結果と、前記距離導出手段の導出結果とに基づいて前記被検体内における前記被検体内導入装置の位置を導出する位置情報導出手段と、
を備えたことを特徴とする被検体内位置検出システム。
【請求項２】
前記磁場検出手段によって検出された磁場から交流磁場成分を抽出し、抽出した交流磁場成分を前記座標導出手段に対して出力する交流磁場抽出手段と、
前記磁場検出手段によって検出された磁場から直流磁場成分を抽出し、抽出した直流磁場成分を前記距離導出手段に対して出力する直流磁場抽出手段と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の被検体内位置検出システム。
【請求項３】
前記座標導出手段は、前記磁場検出手段によって検出された磁場の交流磁場成分と、前記交流磁場発生手段から出力される交流磁場に対応した参照交流信号との差分値に基づいて前記磁場検出手段の位置座標を導出することを特徴とする請求項１または２に記載の被検体内位置検出システム。
【請求項４】
前記静磁場形成手段は、前記被検体内導入装置に対して磁力線の進行方向が固定された状態で配置され、
前記位置検出装置は、
前記磁場検出手段が前記静磁場形成手段によって形成される静磁場における前記磁力線の進行方向を検出する機能をさらに有し、
前記磁場検出手段によって検出された磁場方向に基づいて、前記被検体内における前記被検体内導入装置の指向方向を検出する指向方向検出手段と、
を備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の被検体内位置検出システム。
【請求項５】
前記位置検出装置は、前記静磁場形成手段からの距離、前記磁力線の進行方向および前記被検体内導入装置の指向方向の相互間の関係をあらかじめ記録した指向方向データベースをさらに備え、
前記指向方向検出手段は、前記指向方向データベースを用いて前記被検体内導入装置の指向方向を検出することを特徴とする請求項４に記載の被検体内位置検出システム。
【請求項６】
前記被検体内導入装置は、
前記被検体内情報を取得する所定の被検体内情報取得手段と、
前記被検体内情報取得手段によって取得された前記被検体内情報を無線送信する無線送信手段とをさらに備え、
前記位置検出装置は、
前記無線送信手段から送信された前記被検体内情報を含む無線信号を受信する受信手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の被検体内位置検出システム。
【請求項７】
前記受信手段は複数設けられ、
前記位置検出装置は、前記位置情報導出手段によって導出された前記被検体内導入装置の位置および指向方向に基づいて、無線信号の受信に使用する前記受信手段を選択する選択手段をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の被検体内位置検出システム。
【請求項８】
前記被検体内情報取得手段は、
前記被検体内を照射する照明手段と、
前記照明手段によって照射された前記被検体内の画像を取得する撮像手段と、
を備えたことを特徴とする請求項６または７に記載の被検体内位置検出システム。
【請求項９】
前記位置検出装置は、前記撮像手段によって取得された画像と、該画像の取得時における前記被検体内導入装置の位置とを対応づけて記憶する記憶手段をさらに備えることを特徴とする請求項８に記載の被検体内位置検出システム。
【請求項１０】
筐体内部に磁場発生部を固定配置した被検体内導入装置を被検体内部に導入し、該被検体内部における前記被検体内導入装置の位置を検出する被検体内位置検出方法において、
前記被検体に対して固定配置され、前記被検体内部に導入された前記被検体内導入装置の前記磁場発生部によって発生した磁場を検出する１以上の磁場検出装置の位置座標を導出する位置座標導出ステップと、
１以上の前記磁場検出装置によって検出された磁場の直流磁場成分の磁場強度を取得し、取得した前記直流磁場成分の磁場強度に基づいて、１以上の前記磁場検出装置と前記被検体内導入装置との距離を導出する距離導出ステップと、
前記位置座標導出ステップによって導出した前記位置座標と前記距離導出ステップによって導出した前記距離とに基づいて、前記被検体内部における前記被検体内導入装置の位置を導出する被検体内位置導出ステップと
を含むことを特徴とする被検体内位置検出方法。
【請求項１１】
前記被検体に対して固定配置された複数の前記磁場検出装置の中から、検出した前記磁場の直流磁場成分の磁場強度が高い３つの磁場検出装置を選択する選択ステップをさらに含み、
前記距離導出ステップは、前記選択ステップによって選択された３つの前記磁場検出装置によって検出された磁場の直流磁場成分の各磁場強度を取得し、取得した前記直流磁場成分の各磁場強度に基づいて、３つの前記磁場検出装置と前記被検体内導入装置との各距離を導出することを特徴とする請求項１０に記載の被検体内位置検出方法。
【請求項１２】
前記被検体内位置導出ステップによって導出された前記被検体内部における前記被検体内導入装置の位置を記憶する記憶ステップをさらに含み、
前記位置座標導出ステップ、前記距離導出ステップ、前記被検体内位置導出ステップ、および前記記憶ステップは、所定時間間隔ごとに繰り返し行われることを特徴とする請求項１０に記載の被検体内位置検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月9日(2007.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機の機能に関する機能情報を遊技者から視認可能に表示する機能情報部材を有する完成した或いは製造途中の遊技機を検査する遊技機検査装置であって、
前記遊技機に設けられた前記機能情報部材を識別する識別手段と、
その識別手段による前記機能情報部材の識別結果に基づいて、前記機能情報部材が当該遊技機に適合しているか否かを判定する判定手段と
を備えたことを特徴とする遊技機検査装置。
【請求項２】
検査対象の遊技機に関する情報を記憶する遊技機情報記憶手段を有し、
前記判定手段は、前記識別手段による前記機能情報部材の識別結果と前記遊技機情報記憶手段に記憶された当該遊技機に関する情報とを照合判定することを特徴とする手段１に記載の遊技機検査装置。
【請求項３】
遊技機に取り付けられたメイン基板を識別するメイン基板識別手段と、
メイン基板に関する情報を記憶するメイン基板情報記憶手段と
を備え、
前記判定手段は、前記識別手段による前記機能情報部材の識別結果と前記メイン基板情報記憶手段より得られた当該メイン基板に関する情報とを照合判定することを特徴とする請求項１に記載の遊技機検査装置。
【請求項４】
前記機能情報部材は、遊技機に関する情報を文字で表示した文字部分を含み、
前記識別手段は、前記機能情報部材に含まれる文字部分を文字認識可能な文字認識手段を有し、
前記判定手段は、前記文字認識手段による文字認識結果に基づいて、前記機能情報部材が当該遊技機に適合しているか否かを判定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機検査装置。
【請求項５】
前記機能情報部材は、遊技機に関する情報をバーコードで表示したバーコード部分を含み、
前記識別手段は、前記機能情報部材に含まれるバーコード部分を読み取り可能なバーコード読み取り手段を有し、
前記判別手段は、前記バーコード読み取り手段によるバーコード読み取り結果に基づいて、前記機能情報部材が当該遊技機に適合しているか否かを判定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機検査装置。
【請求項６】
前記機能情報部材は、機能情報部材の種類を識別可能な着色部分を含み、
前記識別手段は、前記機能情報部材に含まれる着色部分の色を識別可能な色識別手段を有し、
前記判定手段は、前記色識別手段による色識別結果に基づいて、前記機能情報部材が当該遊技機に適合しているか否かを判定することを特徴とする手段１乃至３のいずれかに記載の遊技機検査装置。
【請求項７】
前記機能情報部材は、非接触式のＩＣチップ部を含み、
前記識別手段は、前記機能情報部材に含まれるＩＣチップ部より非接触で情報を読取るＩＣ読取り手段を有し、
前記判定手段は、前記ＩＣ読取り手段による情報読取り結果に基づいて、前記機能情報部材が当該遊技機に適合しているか否かを判定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月12日(2007.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内視鏡先端部に向け順に対物系と照明系が配置された構成で、前記対物系は対物レンズを備えた直視型対物系であり、前記照明系が観察物体を照明する発光体と照明レンズを有し、前記発光体端部の中心部から照明レンズを透過して出射する光軸と前記対物系の光軸とが交わり、前記両光軸の交点から前記対物系の第１レンズ中心への距離Ｄが下記条件（１）を満足する側視型内視鏡。
（１）    ４ｍｍ＜Ｄ＜１０ｍｍ
【請求項２】
前記発光体が光源と前記光源からの光を伝導するためライトガイドもしくは発光ダイオードである請求項１の側視型内視鏡。
【請求項３】
前記対物系が先端面から撮像面までの光軸が真っ直ぐである光学系を視野方向に傾けて配置したことを特徴とする請求項１または２の側視型内視鏡。
【請求項４】
前記対物系の第１面と垂直な方向と前記照明系の第１面と垂直な方向とが角φにて交差し、その交点が第１面より像側にあり、前記角φが条件（２）を満足する請求項１、２又は３の側視型内視鏡。
（２）    ３°≦φ≦２０°
【請求項５】
前記対物系の端部に固体撮像素子が設けられ、前記固体撮像素子が内視鏡の長手方向とほぼ平行に配置されていることを特徴とする請求項１、２、３または４の側視型内視鏡。
【請求項６】
前記照明系の光軸と前記対物系の光軸との距離Ｌが下記条件（３）を満足することを特徴とする請求項１、２、３、４又は５の側視型内視鏡。
（３）    ３ｍｍ≦Ｌ≦５ｍｍ
【請求項７】
前記対物系の第１面から像面までの撮像系の全長が５ｍｍ以下である請求項１、２、３、４、５又は６の側視型内視鏡。
【請求項８】
前記対物系の第１面から最終面までのレンズ系全長が４ｍｍ以下である請求項１、２、３、４、５、６又は７の側視型内視鏡。
【請求項９】
前記対物系の第１面中心位置の高さが前記照明系の第１面中心位置の高さよりも小である請求項１、２、３、４、５、６、７又は８の側視型内視鏡。
【請求項１０】
前記照明系の第１レンズ面に垂直な方向から見たとき、照明レンズと固体撮像素子パッケージもしくは前記パッケージの外周部を覆う枠部材の一部が重なるように配置された請求項１、２、３、４、５、６、７、８、又は９の側視型内視鏡。
【請求項１１】
前記照明系の第１レンズ面の面積に対する前記対物系の第１レンズ面の面積比が０．５以下である請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０の側視型内視鏡。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月27日(2007.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
毛髪の赤外吸収スペクトルの統計処理結果を指標とする、毛髪の損傷の種類及び／又は度合の鑑別法。
【請求項２】
前記赤外吸収スペクトルの波数の範囲の幅が２００〜１０００ｃｍ-1であることを特徴とする、請求項１に記載の鑑別法。
【請求項３】
前記赤外吸収スペクトルの波数が１３７０〜９００ｃｍ-1及び／又は３６００〜２８００ｃｍ-1であることを特徴とする、請求項１及び／又は請求項２に記載の鑑別法。
【請求項４】
前記統計処理のアルゴリズムが主成分分析（ＰＣＡ）、ＳＩＭＣＡ（シムカ）、又はＫＮＮ法であることを特徴とする、請求項１〜３の何れか１項に記載の鑑別法。
【請求項５】
個人の将来の毛髪損傷の可能性を判別することを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載の鑑別法。
【請求項６】
前記損傷が、化学処置によるものであることを特徴とする、請求項１〜５の何れか１項に記載の鑑別法。
【請求項７】
前記化学処置が、漂白処置、パーマ処置又はヘアダイ処置によるものであることを特徴とする、請求項１〜５何れか１項に記載の鑑別法。
【請求項８】
前記化学処置が、漂白処置とパーマ処置及び／又はヘアダイ処置とを区別することを特徴とする、請求項７に記載の鑑別法。
【請求項９】
損傷の度合いが、漂白処置回数或いはパーマ処置回数によって代表されることを特徴とする、請求項７又は８に記載の鑑別法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）毛髪の赤外吸収スペクトルの統計処理結果を指標とする、毛髪の損傷の種類及び／又は度合の鑑別法。
（２）前記赤外吸収スペクトルの波数の範囲の幅が２００〜１０００ｃｍ-1であることを特徴とする、（１）に記載の鑑別法。
（３）前記赤外吸収スペクトルの波数が１３７０〜９００ｃｍ-1及び／又は３６００〜２８００ｃｍ-1であることを特徴とする、（１）及び／又は（２）に記載の鑑別法。
（４）前記統計処理のアルゴリズムが主成分分析（ＰＣＡ）、ＳＩＭＣＡ（シムカ）、又はＫＮＮ法であることを特徴とする、（１）〜（３）の何れか１項に記載の鑑別法。
（５）個人の将来の毛髪損傷の可能性を判別することを特徴とする、（１）〜（４）の何れか１項に記載の鑑別法。
（６）前記損傷が、化学処置によるものであることを特徴とする、（１）〜（５）の何れか１項に記載の鑑別法。
（７）前記化学処置が、漂白処置、パーマ処置又はヘアダイ処置によるものであることを特徴とする、（１）〜（５）何れか１項に記載の鑑別法。
（８）前記化学処置が、漂白処置とパーマ処置及び／又はヘアダイ処置とを区別することを特徴とする、（７）に記載の鑑別法。
（９）損傷の度合いが、漂白処置回数或いはパーマ処置回数によって代表されることを特徴とする、（７）又は（８）に記載の鑑別法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月30日(2007.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
座部両側に肘掛部を備えると共に座部後部に背凭れ部を備えた椅子本体において、該椅子本体の背凭れ部両側に、施療者両脇部を両側から挟持状に保持して施療し得る脇部保持手段、或いは施療者両脇部を保持して上方へ持上げ可能に保持し得る脇部持上手段の少なくとも一以上を配備した事を特徴とする施療機。
【請求項２】
座部両側に肘掛部を備えると共に座部後部に背凭れ部を備えた椅子本体において、該椅子本体の両肘掛部の内側に肘挿入用凹溝を備えると共に、各肘挿入用凹溝に、肘部を挟持状に保持して施療し得る肘部挟持手段を配備した事を特徴とする施療機。
【請求項３】
座部両側に肘掛部を備えると共に座部後部に背凭れ部を備えた椅子本体において、該椅子本体の座部前部に施療者両太腿部を両側及び中央から挟持状に保持して施療し得る太腿部挟持手段を配備した事を特徴とする施療機。
【請求項４】
前記椅子本体の両肘掛部の肘挿入用凹溝には、該肘掛部の内側後方から肘部等の施療部位を挿入するための開口部が設けてある事を特徴とする請求項２記載の椅子式マッサージ機。
【請求項５】
前記脇部保持手段や前記脇部持上手段、或いは前記肘部挟持手段や前記太腿部挟持手段は、空気供給装置から給排気される圧縮空気により反復膨縮や膨縮保持する膨縮袋とで構成する事を特徴とする請求項１乃至請求項４記載の施療機。
【請求項６】
前記椅子本体の背凭れ部内に施療者背部を施療し得る施療機構を内装した事を特徴とする請求項１乃至請求項５記載の施療機。
【請求項７】
前記前記脇部保持手段や前記脇部持上手段、或いは前記肘部挟持手段や前記太腿部挟持手段又は前記施療機構に、各動作を自動実行させる制御回路が設けてある事を特徴とする請求項１乃至請求項６記載の施療機。
【請求項８】
前記制御回路は、施療者情報と施療動作の情報を入力して記憶する施療者情報記憶回路を備えており、該施療者情報記憶回路（ＩＣチップ）の各情報は任意に変更可能或いは交換可能である事を特徴とする請求項７記載の施療機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
図１６乃至図２１は、他の実施形態を示したものであり、本発明の施療機１ａの前記椅子本体２ａの背凭れ部５ａに、前記脇部保持機構５３ａ及び前記脇部持上機構５４ａを設けると共に、椅子本体２ａの左右に夫々設けられた肘掛部６ａの内側に各々肘挿入用凹溝６１ａを設けると共に肘掛部６ａの内側後方から肘部等の施療部位を挿入するための開口部が設けられており、背凭れ部５ａ左右には、上腕肩部挿入用凹溝６３ａを夫々設けたものを例示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005287831.tif 000001
【図２】
2005287831.tif 000002
【図３】
2005287831.tif 000003
【図４】
2005287831.tif 000004
【図５】
2005287831.tif 000005
【図６】
2005287831.tif 000006
【図７】
2005287831.tif 000007
【図８】
2005287831.tif 000008
【図９】
2005287831.tif 000009
【図１０】
2005287831.tif 000010
【図１１】
2005287831.tif 000011
【図１２】
2005287831.tif 000012
【図１３】
2005287831.tif 000013
【図１４】
2005287831.tif 000014
【図１５】
2005287831.tif 000015
【図１６】
2005287831.tif 000016
【図１７】
2005287831.tif 000017
【図１８】
2005287831.tif 000018
【図１９】
2005287831.tif 000019
【図２０】
2005287831.tif 000020
【図２１】
2005287831.tif 000021
【図２２】
2005287831.tif 000022
【図２３】
2005287831.tif 000023
【図２４】
2005287831.tif 000024
【図２５】
2005287831.tif 000025
【図２６】
2005287831.tif 000026
【図２７】
2005287831.tif 000027
【図２８】
2005287831.tif 000028
【図２９】
2005287831.tif 000029
【図３０】
2005287831.tif 000030
【図３１】
2005287831.tif 000031
【図３２】
2005287831.tif 000032
【図３３】
2005287831.tif 000033
【図３４】
2005287831.tif 000034
【図３５】
2005287831.tif 000035
【図３６】
2005287831.tif 000036
【図３７】
2005287831.tif 000037
【図３８】
2005287831.tif 000038
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チオメタククリレート基を有する有機硫黄化合物を架橋することにより得られる有機硫黄化合物を有する電気化学デバイス用電極材料。
【請求項２】
次の（化学式１）で示される分子構造部分を有する電気化学デバイス用電極材料。
【化１】
2005327645.tif 000001
【請求項３】
請求項１又は２記載の電気化学デバイス用電極材料を備えた電気化学デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気化学デバイス用電極材料及びこれを備えた電気化学デバイス
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月14日(2007.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化物半導体と組成が異なる異種基板上に窒化物半導体を成長させる方法であって、
前記異種基板表面の周期配列された複数の特定領域から選択的に、発生した転位の略半数以上が前記特定領域内で前記異種基板表面に平行な横方向に進行するように、第１窒化物半導体を成長させ、
前記第１窒化物半導体から、前記第１窒化物半導体と同一又は異なる組成の第２窒化物半導体を成長させて前記異種基板の略全面を覆い、
表面における転位密度が略全面に渡って１０7ｃｍ−２以下である窒化物半導体を得ることを特徴とする窒化物半導体の成長方法。
【請求項２】
前記第１の窒化物半導体を、該第１窒化物半導体よりも低温で成長させた低温成長バッファを介して前記異種基板表面から成長させることを特徴とする請求項１に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項３】
前記第１窒化物半導体を、前記異種基板表面に対して傾斜した成長面を有するように成長させることを特徴とする請求項１又は２に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項４】
前記異種基板表面に直交する断面から見て、前記転位のうち前記特定領域内で横方向に進行しなかったものが、一部は前記特定領域を底辺中央に含む三角形の斜辺に向かって進行し、他の一部は前記三角形の頂点に向かって進行するように、前記第１窒化物半導体を成長させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項５】
前記異種基板表面を部分的にドライエッチングすることにより、前記複数の特定領域を形成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項６】
前記特定領域における前記異種基板表面の表面粗さを、それ以外の領域の表面粗さよりも大きくすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項７】
前記特定領域における前記異種基板表面の平均高さを、それ以外の領域の平均高さよりも低くすることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項８】
前記特定領域以外の領域における前記異種基板表面に、前記異種基板及び前記窒化物半導体と異なる元素を有する反応層を形成することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項９】
前記異種基板表面に保護膜を形成した後、前記保護膜を化学的除去手段で除去することにより前記反応層を形成することを特徴とする請求項８に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項１０】
前記保護膜が、酸化物、窒化物、又は金属膜のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項１１】
前記窒化物半導体の成長後、前記異種基板を剥離することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の窒化物半導体の成長方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の成長方法によって成長された窒化物半導体を有する窒化物半導体基板。
【請求項１３】
窒化物半導体と組成が異なる異種基板上に窒化物半導体を成長させた窒化物半導体基板であって、
前記窒化物半導体は、前記異種基板との界面近傍に散在する複数の転位群を有し、前記転位群に含まれる転位の略半数以上が前記異種基板表面に略平行な横方向に進行していることを特徴とする窒化物半導体基板。
【請求項１４】
窒化物半導体と組成が異なる異種基板のほぼ全面に窒化物半導体を成長させた窒化物半導体基板であって、
前記窒化物半導体は、前記異種基板との界面近傍に周期的に散在する複数の転位群を有し、前記転位群に含まれる転位の略半数以上が前記異種基板表面に略平行な横方向に進行しており、
前記窒化物半導体は、表面における転位密度が略全面に渡って１０7ｃｍ−２以下であることを特徴とする窒化物半導体基板。
【請求項１５】
前記窒化物半導体基板表面に直交する断面から見て、前記転位群に含まれる転位のうち前記異種基板表面に略平行な横方向に進行しなかったものが、一部は前記転位群が底辺中央に位置する三角形の斜辺に向かって進行し、他の一部は前記三角形の頂点に向かって進行していることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の窒化物半導体基板。
【請求項１６】
前記転位群の直下にある前記異種基板表面の表面粗さが、それ以外の領域の表面粗さよりも大きなことを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれか１項に記載の窒化物半導体基板。
【請求項１７】
前記転位群の直下における前記異種基板表面の平均高さが、それ以外の領域の平均高さよりも低いことを特徴とする請求項１３乃至１６のいずれか１項に記載の窒化物半導体基板。
【請求項１８】
前記異種基板−窒化物半導体界面近傍に、前記異種基板及び前記窒化物半導体の組成とは異なる元素が含まれ、前記元素が前記転位群同士の間に分布していることを特徴とする請求項１３乃至１７のいずれか１項に記載の窒化物半導体基板。
【請求項１９】
前記元素が、Ｓｉ、Ｔｉ及びＺｒから成る群から選択された１種であることを特徴とする請求項１８に記載の窒化物半導体基板。
【請求項２０】
窒化物半導体のみから成る窒化物半導体基板であって、
前記窒化物半導体基板は、その下面近傍に散在する複数の転位群を有し、前記転位群に含まれる転位の略半数以上が、前記窒化物半導体基板の下面に略平行な横方向に進行していることを特徴とする窒化物半導体基板。
【請求項２１】
窒化物半導体のみから成る窒化物半導体基板であって、
前記窒化物半導体基板は、その下面近傍に周期的に散在する複数の転位群を有し、前記転位群に含まれる転位の略半数以上が、前記窒化物半導体基板の下面に略平行な横方向に進行しており、
前記窒化物半導体基板の上面における転位密度が略全面に渡って１０7ｃｍ−２以下であることを特徴とする窒化物半導体基板。
【請求項２２】
前記窒化物半導体基板下面に直交する断面から見て、前記転位群に含まれる転位のうち前記窒化物半導体下面に略平行な横方向に進行しなかったものが、一部は前記転位群を底辺中央に位置する三角形の斜辺に向かって進行し、他の一部は前記三角形の頂点に向かって進行していることを特徴とする請求項２０又は２１に記載の窒化物半導体基板。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月13日(2007.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段によって撮影された現実世界の撮像画像に対して仮想画像を重畳する際に、前記現実世界にあって世界座標が既知である既知指標情報を用いて位置合わせを行う画像合成方法であって、
前記撮像画像内において追加指標を指定する指定ステップと、
前記追加指標の世界座標を、前記撮像画像内にある前記既知指標情報を用いて算出する算出ステップと、
前記追加指標の世界座標を、前記既知指標情報として登録する登録ステップとを有することを特徴とする画像合成方法。
【請求項２】
前記算出ステップは、前記追加指標の世界座標を、前記既知指標情報、前記撮像画像における既知指標の座標値、および前記撮像画像における前記追加指標の座標値、を用いて算出することを特徴とする請求項１記載の画像合成方法。
【請求項３】
前記撮像手段は、ビデオシースルーＨＭＤであることを特徴とする請求項１記載の画像合成方法。
【請求項４】
前記撮像手段の位置および姿勢情報を、前記撮像画像内にある前記既知指標情報を用いて算出する算出ステップと、
前記撮像手段の位置および姿勢情報に基づいて、前記仮想画像を生成する生成ステップを更に有することを特徴とする請求項１記載の画像合成方法。
【請求項５】
前記追加指標の世界座標が算出できない場合に、該追加指標を仮登録する仮登録ステップを更に有することを特徴とする請求項１記載の画像合成方法。
【請求項６】
前記仮登録された追加指標は、前記撮像画像内にある前記既知指標情報が所定条件を満たした場合に、その世界座標が算出されて前記既知指標情報として登録されることを特徴とする請求項５記載の画像合成方法。
【請求項７】
前記指定ステップでは、スタイラスを用いて前記撮像画像内における前記追加指標を指定することを特徴とする請求項１記載の画像合成方法。
【請求項８】
前記指定ステップでは、該追加指標上に所定枠をかざすことによって前記撮像画像内における前記追加指標を指定することを特徴とする請求項１記載の画像合成方法。
【請求項９】
前記所定枠は、操作者の手指によって形成されることを特徴とする請求項８記載の画像合成方法。
【請求項１０】
情報処理装置を制御して、請求項１から請求項９の何れか一項に記載された画像合成方法を実現することを特徴とするプログラム。
【請求項１１】
請求項１０に記載されたプログラムが記録されたことを特徴とするコンピュータにより読み取り可能な記録媒体。
【請求項１２】
撮像手段によって撮影された現実世界の撮像画像に対して仮想画像を重畳する際に、前記現実世界にあって世界座標が既知である既知指標情報を用いて位置合わせを行う画像合成システムであって、
前記撮像画像内において追加指標を指定し、
前記追加指標の世界座標を、前記撮像画像内にある前記既知指標情報を用いて算出し、
前記追加指標の世界座標を、前記既知指標情報として登録することを特徴とする画像合成システム。
【請求項１３】
現実世界を撮影して撮像画像を得る撮像手段と、
前記現実世界にあって世界座標が既知である既知指標情報を管理する指標管理手段と、
前記撮像手段の位置および姿勢情報を、前記撮像画像内にある前記既知指標情報を用いて算出する撮像位置算出手段と、
前記撮像手段の位置および姿勢情報に基づいて、前記仮想画像を生成する仮想画像生成手段と、
前記撮像画像に対して前記仮想画像を重畳する合成手段と、
前記合成画像を表示する表示手段とを有する画像合成装置であって、
前記撮像画像内において追加指標を指定する指標指定手段と、
前記追加指標の世界座標を、前記撮像画像内にある前記既知指標情報を用いて算出する座標算出手段と、を有し、
前記指標管理手段は、前記追加指標の世界座標を、前記既知指標情報として登録、管理することを特徴とする画像合成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の一側面としての画像合成方法は、撮像手段によって撮影された現実世界の撮像画像に対して仮想画像を重畳する際に、前記現実世界にあって世界座標が既知である既知指標情報を用いて位置合わせを行う画像合成方法であって、前記撮像画像内において追加指標を指定する指定ステップと、前記追加指標の世界座標を、前記撮像画像内にある前記既知指標情報を用いて算出する算出ステップと、前記追加指標の世界座標を、前記既知指標情報として登録する登録ステップとを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月23日(2007.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のコンピュータ基板を有するコンピュータ装置を管理する管理コンピュータであって、
前記複数のコンピュータ基板のそれぞれにおける管理情報を有し、
端末装置から前記複数のコンピュータ基板のうち1つを使用する要求を受けたとき、該要求における使用の対象であるコンピュータ基板が使用できない状態の場合、
前記管理情報を用いて、前記端末装置に対し、前記複数のコンピュータ基板のうち使用可能な状態のコンピュータ基板を割り当て、該割り当てた旨を前記端末装置へ通知することを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項２】
請求項1記載の管理コンピュータにおいて、
前記コンピュータ基板が使用できない状態は、該コンピュータ基板に障害が発生している状態であることを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項３】
請求項2記載の管理コンピュータにおいて、
前記使用可能な状態のコンピュータ基板を割り当てる際、該割り当てたコンピュータ基板及び前記使用できない状態のコンピュータ基板における、前記管理情報を変更することを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項４】
請求項3記載の管理コンピュータにおいて、
前記管理情報は、前記コンピュータ基板における番号、電源状態、使用するユーザ名、及び稼動状態を含むことを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項５】
請求項4記載の管理コンピュータにおいて、
前記使用する要求は、前記コンピュータ基板に対し、休止状態から再開する要求であることを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項６】
請求項4又は5記載の管理コンピュータにおいて、
前記使用可能な状態のコンピュータ基板を割り当てる際、該コンピュータ基板に対して、起動指示を行うことを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項７】
請求項4乃至6のいずれか1つに記載の管理コンピュータにおいて、
前記管理情報は、さらに、前記複数のコンピュータ基板のそれぞれにおける属性情報を含み、
前記使用可能な状態のコンピュータ基板割り当てにおいて、前記属性情報を用いて、前記端末装置の使用対象であるコンピュータ基板と同じ属性情報を持つコンピュータ基板を割り当てることを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項８】
請求項7記載の管理コンピュータにおいて、
前記使用可能な状態のコンピュータ基板割り当てにおける属性情報として用いる情報は、前記コンピュータ基板におけるCPU、メモリ及び表示機能回路の性能であることを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項９】
請求項4乃至6、及び8のうちいずれか1つに記載の管理コンピュータにおいて、
前記使用可能な状態のコンピュータ基板割り当てにおいて、前記端末装置の要求における利用の対象であるコンピュータ基板と同じ属性情報を持つコンピュータ基板を割り当てられない場合、所定の基準に従って、コンピュータ基板を割り当てることを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項１０】
請求項9記載の管理コンピュータにおいて、
前記所定の基準は、前記属性情報におけるCPU及びメモリの比較によって行われることを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項１１】
請求項4乃至6、8、及び10のうちいずれか1つに記載の管理コンピュータにおいて
前記端末装置に使用可能な状態のコンピュータ基板を割り当てられない場合、割り当てを中断することを特徴とする管理コンピュータ。
【請求項１２】
請求項11記載の管理コンピュータにおいて、
前記割り当てを中断した場合、前記端末装置へ前記中断を通知することを特徴とする管理コンピュータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】管理コンピュータ
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月21日(2007.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クライアントとサーバ間の認証方法であって、
前記サーバは、
前記クライアントから証明書を受信し、前記証明書の認証処理を行い、
前記認証処理により認証された場合にセッション鍵を生成し、
前記クライアントのアドレス情報と前記セッション鍵とコネクション存続時間とを有するユーザ情報を生成し、
前記クライアントと前記サーバ間の通信が切断された後、前記クライアントからの接続要求を受信した場合に、
前記接続要求に含まれる前記クライアントのアドレス情報が前記ユーザ情報に含まれており、かつ前記接続要求を受信した時間が前記コネクション存続時間内であるかの確認処理を行い、
前記確認処理により確認された場合に、認証成功を示す情報を前記クライアントへ送信することを特徴とする認証方法。
【請求項２】
請求項１に記載の認証方法であって、
前記サーバは、
クライアントのセッション鍵で暗号化した一時情報と暗号化していない一時情報とを受信し、
前記確認処理により確認された場合に、前記暗号化した一時情報を前記ユーザ情報の前記セッション鍵で復号化し、前記暗号化していない一時情報と複合化した一時情報とが対応するか判定し、
前記判定により対応した場合に、前記一時情報に基づいて新たなセッション鍵を生成することを特徴とする認証方法。
【請求項３】
請求項２に記載の認証方法であって、
前記一時情報は乱数であることを特徴とする認証方法。
【請求項４】
クライアントとの認証を行うサーバであって、
前記クライアントから証明書を受信し、前記証明書の認証処理を行い、
前記認証処理により認証された場合にセッション鍵を生成し、
前記クライアントのアドレス情報と前記セッション鍵とコネクション存続時間とを有するユーザ情報を生成し、
前記クライアントと前記サーバ間の通信が切断された後、前記クライアントからの接続要求を受信した場合に、
前記接続要求に含まれる前記クライアントのアドレス情報が前記ユーザ情報に含まれており、かつ前記接続要求を受信した時間が前記コネクション存続時間内であるかの確認処理を行い、
前記確認処理により確認された場合に、認証成功を示す情報を前記クライアントへ送信することを特徴とするサーバ。
【請求項５】
請求項４に記載のサーバであって、
クライアントのセッション鍵で暗号化した一時情報と暗号化していない一時情報とを受信し、
前記確認処理により確認された場合に、前記暗号化した一時情報を前記ユーザ情報の前記セッション鍵で復号化し、前記暗号化していない一時情報と複合化した一時情報とが対応するか判定し、
前記判定により対応した場合に、前記一時情報に基づいて新たなセッション鍵を生成することを特徴とするサーバ。
【請求項６】
請求項５に記載のサーバであって、
前記一時情報は乱数であることを特徴とするサーバ。
【請求項７】
請求項１から３のいずれかに記載の認証方法を実行するプログラムを格納した記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】認証方法、サーバ、およびそのためのプログラムを格納した記録媒体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ネットワークシステムにおけるユーザ認証処理の、特にモバイル環境におけるオーバーヘッドを解決するためのユーザの認証方法、サーバ、およびそのためのプログラムを格納した記録媒体に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明の目的は、このような従来の課題を解決し、ユーザの送信元アドレスとポート番号が一致し、かつユーザのコネクション接続要求がユーザの申請に符合した場合には、セキュリティレベルを落すことなく、簡易な認証を行うことができ、短時間でのデータ通信を可能にするユーザの認証方法、サーバ、およびそのためのプログラムを格納した記録媒体を提供することにある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月26日(2007.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光記録媒体に光ビームを集光する対物レンズを搭載し、前記光記録媒体のフォーカシング方向及びトラッキング方向に移動可能に支持された可動体と、前記可動体に搭載された対物レンズのフォーカシング制御及びトラッキング制御を行う駆動手段とを有する対物レンズアクチュエータにおいて、前記可動体に前記対物レンズの光軸方向の位置決めをする対物レンズ載置面と、前記対物レンズの外径を位置決めする対物レンズ嵌合部と、前記対物レンズの光束径を決める開口部と、前記対物レンズを固定する接着剤溜り部とが形成され、前記対物レンズ嵌合部は対物レンズ中心から等距離で且つ対物レンズ外径を等分する位置に少なくとも３箇所に設けられており、前記接着剤溜り部に接着剤を注入することによって前記対物レンズを前記可動体に固定することを特徴とする対物レンズアクチュエータ。
【請求項２】
前記対物レンズ載置面の外周に設けられた接着剤溜り部は半円筒形状に形成され、その光軸方向の底面は前記対物レンズ載置面より高い位置に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の対物レンズアクチュエータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するため、光記録媒体に光ビームを集光する対物レンズを搭載し、前記光記録媒体のフォーカシング方向及びトラッキング方向に移動可能に支持された可動体と、前記可動体に搭載された対物レンズのフォーカシング制御及びトラッキング制御を行う駆動手段とを有する対物レンズアクチュエータにおいて、前記可動体に前記対物レンズの光軸方向の位置決めをする対物レンズ載置面と、前記対物レンズの外径を位置決めする対物レンズ嵌合部と、前記対物レンズの光束径を決める開口部と、前記対物レンズを固定する接着剤溜り部とが形成され、前記対物レンズ嵌合部は対物レンズ中心から等距離で且つ対物レンズ外径を等分する位置に少なくとも３箇所に設けられており、前記接着剤溜り部に接着剤を注入することによって前記対物レンズを前記可動体に固定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月5日(2007.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスク媒体にレーザパルスを照射して情報の記録と再生を行い，前記レーザパルスの照射条件を適正化する試し書きを行う光ディスク装置であって、
前記光ディスク媒体の所定の領域に、前記レーザパルスの照射条件を変更しながら所定の試し書きパターンの記録を行う手段と、
前記情報を再生して、第１の再生信号を得る手段と、
前記第１の再生信号を等化処理して第２の再生信号を得るアナログフィルターと、
前記第２の再生信号をデジタル化して第３の再生信号を得るＡ／Ｄコンバータと、
前記第３の再生信号を等化処理して第４の再生信号を得るＦＩＲフィルターと、
前記第４の再生信号を２値化し、２値化データ列を得るＰＲＭＬ回路と、
前記第３の再生信号を入力とし、エッジの信号レベルを検出するエッジレベル検出器と、
前記エッジの信号レベルが所定の値の範囲外にあることを判定して、論理パルスを発生する論理パルス発生器と、
前記２値化データ列から先行するスペース長さ、当該マークの長さ、後続するスペースの長さに応じたデータパターンを判定して、前記論理パルスを前記データパターンごとにカウントし、論理パルステーブルを生成する手段、
とを備え、
前記論理パルステーブルのカウント値を用いて、前記レーザパルスの照射条件を定めることを特徴とする光ディスク装置。
【請求項２】
前記論理パルステーブルのカウント値を最小にするように、前記レーザパルスの照射条件を定めることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク装置。
【請求項３】
光ディスク媒体にレーザパルスを照射して情報の記録と再生を行い、前記レーザパルスの照射条件を適正化する試し書きを行う光ディスク装置であって、
前記光ディスク媒体の所定の領域に、前記レーザパルスの照射条件を変更しながら所定の試し書きパターンの記録を行う手段と、
前記情報を再生して、第１の再生信号を得る手段と、
前記第１の再生信号を等化処理して第２の再生信号を得るアナログフィルターと、
前記第２の再生信号をデジタル化して第３の再生信号を得るＡ／Ｄコンバータと、
前記第３の再生信号を等化処理して第４の再生信号を得るＦＩＲフィルターと、
前記第４の再生信号を２値化し、２値化データ列を得るＰＲＭＬ回路と、
前記２値化データ列からエッジ位置を検出するエッジ検出器と、
前記第４の再生信号と前記エッジ検出器とから、エッジの信号レベルを検出するエッジレベル検出器と、
前記エッジの信号レベルが所定の値の範囲外にあることを判定して、論理パルスを発生する論理パルス発生器と、
を有することを特徴とする光ディスク装置。
【請求項４】
前記ＦＩＲフィルターと前記エッジ検出器との間には、前記２値化データ列を生成する分の遅延を補償する遅延調整器が設けられていることを特徴とする請求項３記載の光ディスク装置。
【請求項５】
更に、前記２値化データ列から先行するスペース長さ、当該マークの長さ、後続するスペースの長さに応じたデータパターンを判定して、前記論理パルスを前記データパターンごとにカウントし、論理パルステーブルを生成する手段と、
前記論理パルステーブルのカウント値を用いて、前記レーザパルスの照射条件を定める手段とを有することを特徴とする請求項３記載の光ディスク装置。
【請求項６】
光ディスク媒体にレーザパルスを照射して情報の記録と再生を行い、前記レーザパルスの照射条件を適正化する試し書きを行う光ディスク装置であって、
前記光ディスク媒体の所定の領域に、前記レーザパルスの照射条件を変更しながら所定の試し書きパターンの記録を行う手段と、
前記情報を再生して、第１の再生信号を得る手段と、
前記第１の再生信号を等化処理して第２の再生信号を得るアナログフィルターと、
前記第２の再生信号をデジタル化して第３の再生信号を得るＡ／Ｄコンバータと、
前記第３の再生信号を等化処理して第４の再生信号を得るＦＩＲフィルターと、
前記第４の再生信号を２値化し、２値化データ列を得るＰＲＭＬ回路と、
前記第４の再生信号のエッジ位置を検出して、エッジの信号レベルを検出するエッジレベル検出器と、
前記エッジの信号レベルが所定の値の範囲外にあることを判定して、論理パルスを発生する論理パルス発生器と、
前記エッジレベル検出器からの出力信号を、入力信号とするPLL回路とを有し、
前記PLL回路の出力信号を、クロック毎にサンプルされる前記Ａ／Ｄコンバータの入力信号とすることを特徴とする光ディスク装置。
【請求項７】
更に、前記ＦＩＲフィルターと前記ＰＲＭＬ回路との間に、前記第４の再生信号を前記PRML回路に適した特性になるように等化する適応型のFIRフィルターが設けられていることを特徴とする請求項６記載の光ディスク装置。
【請求項８】
更に、前記２値化データ列から先行するスペース長さ、当該マークの長さ、後続するスペースの長さに応じたデータパターンを判定して、前記論理パルスを前記データパターンごとにカウントし、論理パルステーブルを生成する手段と、
前記論理パルステーブルのカウント値を用いて、前記レーザパルスの照射条件を定める手段とを有することを特徴とする請求項６記載の光ディスク装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月10日(2007.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を出射する光源と、
上記光源より出射されたレーザ光を平行にする１枚以上のコリメートレンズ群と、
アパーチャを介して入射された上記コリメートレンズ群によって平行光とされたレーザ光を光ディスクの信号記録面に集光する１枚以上の対物レンズ群と、
上記光源と上記コリメートレンズ群との間に設けられ、屈折力を可変することにより球面収差を補正する屈折力可変素子とを備える光ピックアップにおいて、
ｄ１’：屈折力可変素子とコリメートレンズ群の主平面との間隔
ｄ２’：コリメートレンズ群の主平面と対物レンズ群の直前に設けられたアパーチャとの間隔
φ２：コリメートレンズ群の屈折力
としたとき
【数１】
2005327397.tif 000001
を満たすことを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２】
レーザ光を出射する光源と、
上記光源より出射されたレーザ光を平行にする１枚以上のコリメートレンズ群と、
アパーチャを介して入射された上記コリメートレンズ群によって平行光とされたレーザ光を光ディスクの信号記録面に集光する１枚以上の対物レンズ群と、
上記光源と上記コリメートレンズ群との間に設けられ、屈折力を可変することにより球面収差を補正する屈折力可変素子とを有する光ピックアップを備えた光ディスク装置において、
ｄ１’：屈折力可変素子とコリメートレンズ群の主平面との間隔
ｄ２’：コリメートレンズ群の主平面と対物レンズ群の直前に設けられたアパーチャとの間隔
φ２：コリメートレンズ群の屈折力
としたとき
【数１】
2005327397.tif 000002
を満たすことを特徴とする光ディスク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光ピックアップ、光ディスク装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は、カバー層の厚み誤差等に起因して発生する球面収差を補正させた場合でも、対物レンズ面上でのレーザ光の光軸及び光軸周辺の光量変化を最小とする光ピックアップ及びこの光ピックアップを備えた光ディスク装置を提供することを目的する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述した課題を解決するために、本発明にかかる光ピックアップは、レーザ光を出射する光源と、上記光源より出射されたレーザ光を平行にする１枚以上のコリメートレンズ群と、アパーチャを介して入射された上記コリメートレンズ群によって平行光とされたレーザ光を光ディスクの信号記録面に集光する１枚以上の対物レンズ群と、上記光源と上記コリメートレンズ群との間に設けられ、屈折力を可変することにより球面収差を補正する屈折力可変素子とを備える光ピックアップにおいて、
ｄ１’：屈折力可変素子とコリメートレンズ群の主平面との間隔
ｄ２’：コリメートレンズ群の主平面と対物レンズ群の直前に設けられたアパーチャとの間隔
φ２：コリメートレンズ群の屈折力
としたとき
【数１】
2005327397.tif 000003
を満たすことを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明にかかる光ディスク装置は、レーザ光を出射する光源と、上記光源より出射されたレーザ光を平行にする１枚以上のコリメートレンズ群と、アパーチャを介して入射された上記コリメートレンズ群によって平行光とされたレーザ光を光ディスクの信号記録面に集光する１枚以上の対物レンズ群と、上記光源と上記コリメートレンズ群との間に設けられ、屈折力を可変することにより球面収差を補正する屈折力可変素子とを有する光ピックアップを備えた光ディスク装置において、
ｄ１’：屈折力可変素子とコリメートレンズ群の主平面との間隔
ｄ２’：コリメートレンズ群の主平面と対物レンズ群の直前に設けられたアパーチャとの間隔
φ２：コリメートレンズ群の屈折力
としたとき
【数１】
2005327397.tif 000004
を満たすことを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明にかかる光ピックアップ及び光ディスク装置によれば、発生する球面収差を補正すべく屈折力可変素子の屈折率を変化させた場合にも、特別な補正機構を用いることなく対物レンズ群に入射するレーザ光の光軸付近及び光軸周辺の光量変化を最小に抑えることができ、光ディスクに対する良好な記録再生特性を維持することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下、本発明が適用された光ピックアップ及び光ディスク装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。この光ピックアップ１は、光ディスクに対して光ビームを照射することによりデータを記録すると共に光ディスクで反射された戻りの光ビームを検出することにより光ディスクに記録されたデータの読み出しを行う光ディスク記録再生装置１０に適用される。