【手続補正書】
【提出日】平成19年9月14日(2007.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成した有機ＥＬディスプレイであって、
前記有機ＥＬ素子の発光領域は、絶縁膜の形状によって規制されて隣り合う発光領域が異なる色になるように形成され、
前記有機ＥＬ媒体層は、前記有機ＥＬ素子の少なくとも1種が前記発光領域を越えた部分まで選択成膜され、隣り合う発光領域に成膜された前記有機ＥＬ媒体層の周辺部が互いに重なり合うことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】  前記有機ＥＬ媒体層の互いに重なり合う周辺部は、高い駆動電圧で発光する有機ＥＬ素子の有機ＥＬ媒体層の上に低い駆動電圧で発光する有機ＥＬ素子が重なっていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】  前記有機ＥＬ媒体層の互いに重なり合う周辺部は、高電流密度で発光する有機ＥＬ素子の有機ＥＬ媒体層の上に低電流密度で発光する有機ＥＬ素子の有機ＥＬ媒体層が重なっていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項４】  前記有機ＥＬ媒体層は発光層であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】  Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
前記透明基板上に形成される同色の有機ＥＬ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを前記透明基板に重ね合わせ、前記開口部から前記透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ媒体層を形成する際、前記有機ＥＬ素子の少なくとも１種について発光領域を越える縁で開口部が区画されるメタルマスクを使用することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項６】  Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
前記透明基板上に形成される同色の有機ＥＬ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを前記透明基板に重ね合わせ、前記開口部から前記透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ媒体層を形成する際、前記透明基板上の透明電極表面と前記メタルマスクとの間に間隙を設け、前記有機ＥＬ素子の少なくとも1種を、発光領域を越える部分まで選択成膜することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項７】  Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、
前記透明基板上に形成される同色の有機ＥＬ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを前記透明基板に重ね合わせ、前記開口部から前記透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ媒体層を形成するに先だって、
絶縁膜の形状によって規制されて隣り合う発光領域が異なる色になるように  前記有機ＥＬ素子の発光領域が形成され、
前記有機ＥＬ素子の少なくとも1種が前記発光領域を越えた部分まで選択成膜され、隣り合う発光領域に成膜された前記有機ＥＬ媒体層の周辺部が互いに重なり合うことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項８】  駆動電圧の高い素子用の有機ＥＬ媒体を蒸着した後、駆動電圧の低い素子用の有機ＥＬ媒体を蒸着する請求項５〜７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項９】  高電流密度で発光する素子用の有機ＥＬ媒体を蒸着した後、高電流密度で発光する素子用の有機ＥＬ媒体を蒸着する請求項５〜７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような問題を解消すべく案出されたものであり、必要な発光領域を越えてＲ，Ｇ，Ｂ有機ＥＬ媒体層の少なくとも１種を成膜することにより、未成膜に起因する透明電極と背面電極との短絡を防止し、高い発光効率で画像表示できる高表示品位の有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。
そして、この目的を達成するために、一つには、Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成した有機ＥＬディスプレイであって、前記有機ＥＬ素子の発光領域は、絶縁膜の形状によって規制されて隣り合う発光領域が異なる色になるように形成され、前記有機ＥＬ媒体層は、前記有機ＥＬ素子の少なくとも1種が前記発光領域を越えた部分まで選択成膜され、隣り合う発光領域に成膜された前記有機ＥＬ媒体層の周辺部が互いに重なり合うことを特徴とする。
また一つには、Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、前記透明基板上に形成される同色の有機ＥＬ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを前記透明基板に重ね合わせ、前記開口部から前記透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ媒体層を形成する際、前記有機ＥＬ素子の少なくとも１種について発光領域を越える縁で開口部が区画されるメタルマスクを使用することを特徴とする。
また一つには、Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、前記透明基板上に形成される同色の有機ＥＬ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを前記透明基板に重ね合わせ、前記開口部から前記透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ媒体層を形成する際、前記透明基板上の透明電極表面と前記メタルマスクとの間に間隙を設け、前記有機ＥＬ素子の少なくとも1種を、発光領域を越える部分まで選択成膜することを特徴とする。
また一つには、Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体からなる有機ＥＬ媒体層を備え、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を発する有機ＥＬ素子を透明基板上に形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、前記透明基板上に形成される同色の有機ＥＬ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを前記透明基板に重ね合わせ、前記開口部から前記透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ媒体層を形成するに先だって、絶縁膜の形状によって規制されて隣り合う発光領域が異なる色になるように  前記有機ＥＬ素子の発光領域が形成され、前記有機ＥＬ素子の少なくとも1種が前記発光領域を越えた部分まで選択成膜され、隣り合う発光領域に成膜された前記有機ＥＬ媒体層の周辺部が互いに重なり合うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
開口サイズの大きなメタルマスクを使用する場合、透明基板上に形成されるＲ，Ｇ，Ｂ素子の配列パターンに対応するピッチで開口部が形成されたメタルマスクを透明基板に重ね合わせ、開口部から透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂ用有機ＥＬ媒体を蒸着して有機ＥＬ層を形成する際、Ｒ，Ｇ，Ｂ素子の少なくとも１種について発光領域を超える縁で開口部が区画されたメタルマスクを使用する。開口部の縁は、隣り合う各Ｒ，Ｇ，Ｂ素子間の中心線を越えた位置に設定してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
透明基板からメタルマスクを離す場合、メタルマスクの開口部を介して必要な発光領域を取り囲む面積をもつＲ，Ｇ，Ｂ用素子の少なくとも１種を選択成膜する。隣り合う各Ｒ，Ｇ，Ｂ素子間の中心線を越えたところまで各色用の有機ＥＬ媒体層を選択成膜してもよい。透明基板とメタルマスクとの間に所定間隙を維持するためには、隣り合う各Ｒ，Ｇ，Ｂ素子間に設けられている隔壁を高くし、或いは隔壁及び／又はメタルマスクの透明基板側表面に間隙調整用突起を形成する手法等が採用可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
メタルマスクの大きなサイズの開口部、或いは透明基板から離間配置したメタルマスクの開口部を介して有機ＥＬ媒体を蒸着することにより、Ｒ，Ｇ，Ｂ素子の１種又は２種以上が必要な発光領域を越えた部分まで選択成膜された有機ＥＬディスプレイが得られる。また、各有機ＥＬ層の間に重なり合いが生じることもある。有機ＥＬ層の重なり合いを考慮すると、駆動電圧又は電流密度の高い素子用の有機ＥＬ媒体を蒸着した後、駆動電圧又は電流密度の低い素子用の有機ＥＬ媒体を蒸着することが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【実施の形態】
本発明に従ったメタルマスク１０は、図２に示すように各ＲＧＢ素子の配列パターンに対応して開口部１１が形成されている。開口部１１は、必要な発光領域より大きな縁で区画されている。隣り合うＲＧＢ素子の中心線ＣＬを越えた位置に開口部１１の縁１２を設定してもよい。なお、図２では開口部１１がＲ素子に対応するように透明基板（図示せず）にメタルマスク１０を位置合せした状態を示しているが、他のＧ，Ｂ素子に対しても、開口部１１を同様に一致させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以上の例では、１個のＲＧＢ素子に対応して一つの開口部１１を設けたメタルマスク１０を使用したが、本発明はこれに拘束されるものではなく、Ｒ，Ｇ，Ｂの色ごとに配列させたＲＧＢ素子に対してはスリット状開口部をもつメタルマスク１０を使用できる。具体的には、図４に示すようにＲ，Ｇ，Ｂ素子それぞれが上下方向に配列されたマトリックスを塗り分けする場合、隣り合うＲ，Ｇ，Ｂ素子の中心線ＣＬを越える縁１２でスリット１３が区画されたメタルマスク１０を使用する。