【手続補正書】
【提出日】平成20年5月27日(2008.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の波長範囲帯で使用するための光通信波長デバイスにおいて、前記デバイスが：
入力光導波路コリメータであって、少なくとも１つの反射性波長範囲帯λＲ及び少なくとも１つの波長範囲帯λｎを含む無導波入力光ビームを提供するために光導波路からの入力光ビームをコリメートする入力光導波路コリメータ；
バルク内ブラッグ回折格子であって、前記少なくとも１つの波長範囲帯λＲを反射するための回折格子パターンを有する内部屈折率変調型回折格子を含む透明な感光性バルク光回折格子基材からなるバルク内ブラッグ回折格子；
少なくとも１つの出力結合器であって、少なくとも１つの出力波長範囲帯のための出力結合器である出力結合器；及び
前記バルク内ブラッグ回折格子を前記入力コリメータ及び前記出力結合器に対して確実に固定するための基板構造体であって、前記バルク内ブラッグ回折格子は前記無導波入力光ビームの光路に配置され、前記少なくとも１つの波長範囲帯λｎが前記バルク内ブラッグ回折格子を透過し、前記少なくとも１つの波長範囲帯λＲが前記バルク内ブラッグ回折格子により反射されるものである基板構造体；
を備えることを特徴とする光デバイス。
【請求項２】  前記少なくとも１つの出力結合器が前記少なくとも１つの反射性波長範囲帯λＲを出力するための反射出力波長範囲帯出力結合器を含み、前記反射出力波長範囲帯出力結合器は前記バルク内ブラッグ回折格子に対して配置され、前記少なくとも１つの波長範囲帯λＲが前記バルク内ブラッグ回折格子により前記反射波長範囲帯出力結合器に向けて反射されることを特徴とする請求項１に記載の光デバイス。
【請求項３】  前記少なくとも１つの出力結合器が前記少なくとも１つの透過波長範囲帯λｎを出力するための透過出力波長範囲帯出力結合器を含み、前記透過出力波長範囲帯出力結合器は前記バルク内ブラッグ回折格子に対して配置され、前記少なくとも１つの波長範囲帯λｎが前記バルク内ブラッグ回折格子を透過して前記透過波長範囲帯出力結合器に向かうことを特徴とする請求項１に記載の光デバイス。
【請求項４】  前記少なくとも１つの出力結合器が前記少なくとも１つの透過波長範囲帯λｎを出力するための透過出力波長範囲帯出力結合器をさらに含み、前記透過出力波長範囲帯出力結合器は前記バルク内ブラッグ回折格子に対して配置され、前記少なくとも１つの波長範囲帯λｎが前記バルク内ブラッグ回折格子を透過して前記透過波長範囲帯出力結合器に向かうことを特徴とする請求項２に記載の光デバイス。
【請求項５】  前記バルク内ブラッグ回折格子がΔｎ＞１０−４の屈折率感度変調レベルを有することを特徴とする請求項１に記載の光デバイス。
【請求項６】  前記透明な感光性バルク光回折格子基材が感光性バルクガラスを含み、該バルクガラスが水素添加可能なガラスであることを特徴とする請求項１に記載の光デバイス。
【請求項７】  前記バルクガラスが、４２〜６７モル％のＳｉＯ２，２〜１５モル％のＧｅＯ２，２５〜３６モル％のＢ２Ｏ３，２〜６モル％のＡｌ２Ｏ３及び、Ｒをアルカリ金属元素として、２〜６モル％のＲ２Ｏからなる組成を有することを特徴とする請求項６に記載の光デバイス。
【請求項８】  前記バルク内ブラッグ回折格子基材が第１の入射／出射側面及び第２の入射／出射側面を有し、前記内部屈折率変調型回折格子が前記第１の側面から前記第２の側面に向かう規則列をなす複数の光誘起回折格子要素からなり、前記無導波入力光ビームがビーム幅ＢＷを有し、前記回折格子基材が上表面及び下表面を有し、前記光誘起回折格子要素が前記上表面から前記下表面に向かう厚さ方向回折格子長ＧＤを有し、ＧＤ＞ＢＷであることを特徴とする請求項１に記載の光デバイス。
【請求項９】  光通信波長デバイスの作成方法において、前記方法が：
コリメートされた無導波入力光ビームの光路をつくるための入力光導波路コリメータを提供する工程；
透明な感光性バルク光回折格子基材にバルク内ブラッグ回折格子を設ける工程；
反射波長出力結合器及び透過波長出力結合器を提供する工程；及び
前記設けられたバルク内ブラッグ回折格子を、前記コリメートされた無導波入力光ビームの光路に、前記入力光導波路コリメータ、前記反射波長出力結合器及び前記透過波長出力結合器に対して確実に固定配置する工程；
を含み：
反射波長が前記バルク内ブラッグ回折格子により前記反射波長出力結合器に向けて反射され、透過波長が前記バルク内ブラッグ回折格子を透過して前記透過波長出力結合器に向かう；
ことを特徴とする方法。
【請求項１０】  透明な感光性バルク光回折格子基材にバルク内ブラッグ回折格子を設ける前記工程が、回折格子放射光パターンにより前記透明な感光性バルク光回折格子基材の内部に屈折率変調型回折格子を形成する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  透明な感光性バルク光回折格子基材にバルク内ブラッグ回折格子を設ける前記工程が、２５０ｎｍ吸収が３０ｄＢ/ｃｍより小さい感光性バルクガラスを提供する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】  バルクガラスを提供する前記工程が、水素添加ガラスを提供する工程を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  透明な感光性バルク光回折格子基材にバルク内ブラッグ回折格子を設ける前記工程が、第１の入射／出射側面及び対向する第２の入射／出射側面を有し、前記第１の入射／出射側面が前記入力コリメータに近接し、前記第２の入射／出射側面が前記前記透過波長出力結合器に近接している、バルク光回折格子基材を提供する工程を含み、前記コリメートされた無導波入力光ビームの光路がビーム光路幅ＢＷを有し、前記第１の側面が第１の厚さ方向側面高さＦＳＨを有し、前記第２の側面が第２の厚さ方向側面高さＳＳＨを有して、ＦＳＨ＞ＢＷ及びＳＳＨ＞ＢＷであり、前記バルク内ブラッグ回折格子が厚さ方向回折格子深さＧＤを有し、屈折率変調型回折格子を形成する前記工程が、ＣＬ＞ＧＤとなるコヒーレンス長ＣＬを有するコヒーレント光ビームを発生する工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】  前記バルク光回折格子基材が前記第１の入射／出射側面に垂直な回折格子形成コヒーレント光入射面を備え、前記方法が、回折格子マスクを提供する工程、前記マスクを前記回折格子形成コヒーレント光入射面に近接して配置する工程、及び前記コヒーレント光ビームに前記マスクを透過させて前記バルク光回折格子基材に入射させる工程を含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】  前記方法が：
前記バルクガラスに水素分子を添加する工程；
添加された水素分子の前記バルクガラスからの外方拡散を抑制する工程；及び
回折格子放射光パターンにより前記水素分子添加バルクガラス内部に屈折率変調型回折格子を形成する工程；
を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】  少なくとも１つの反射可能な波長を含む通信波長で動作させるための光通信用プレーナ型集積導波路回路デバイスにおいて、前記デバイスが、導波集積回路コア及び前記コアを被覆する導波集積回路クラッド層を支持するプレーナ導波路基板を備え、前記プレーナ導波路基板は透明な感光性バルク光回折格子基材からなり、前記透明な感光性バルク光回折格子基材は少なくとも１つの反射可能な波長を反射するための回折格子パターンをもつバルク内部屈折率変調型回折格子を内部に収容し、前記屈折率変調型回折格子は前記コアに近接しており、前記コアにより導波される反射可能な波長が前記屈折率変調型回折格子により反射されることを特徴とするデバイス。
【請求項１７】  前記透明な感光性バルク光回折格子基材プレーナ基板が感光性バルクガラスを含むことを特徴とする請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】  プレーナ型集積光導波路回路の作成方法において、前記方法が：
近コア側面を有する透明な感光性バルク光回折格子基材プレーナ導波路基板を提供する工程；
導波集積回路コアを形成する工程及び前記コアを被覆する工程；
前記透明な感光性バルク光回折格子基材プレーナ導波路基板に、前記近コア側面に近接してバルク内部屈折率変調型回折格子を形成する工程；
を含み：
前記コアにより導波される導波波長が前記屈折率変調型回折格子により操作される；
ことを特徴とする方法。
【請求項１９】  透明な感光性バルク光回折格子基材プレーナ導波路基板を提供する前記工程が、感光性バルクガラスを提供する工程及びアルカリ金属−ホウ素−アルミニウム−ケイ酸ガラスを提供する工程を含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】  光導波路通信システムのための光半導体レーザデバイスにおいて、前記デバイスが：
光導波路システムにおいて利用される反射可能な波長λＲを発生するための光導波路システム半導体レーザ：
バルク内ブラッグレーザ回折格子であって、前記波長λＲを反射するための回折格子周期をもつ内部屈折率変調型回折格子を含む透明な感光性バルク光回折格子基材からなるバルク内ブラッグレーザ回折格子；及び
前記バルク内ブラッグレーザ回折格子を前記半導体レーザに対して確実に固定するための基板構造体；
を備え：
前記半導体レーザで発生する前記波長λＲが前記バルク内ブラッグレーザ回折格子により反射されて前記半導体レーザに戻される；
ことを特徴とするデバイス。
【請求項２１】  前記透明な感光性バルク光回折格子基材が感光性バルクガラスを含むことを特徴とする請求項２０に記載のデバイス。
【請求項２２】  光導波路半導体レーザデバイスの作成方法において、前記方法が：
バルク内ブラッグレーザ回折格子を透明な感光性バルク光回折格子基材に設ける工程；
光導波路システム半導体レーザを提供する工程；及び
前記バルク光回折格子基材を前記半導体レーザに対して確実に固定配置する工程；
を含み：
前記半導体レーザにより発生される波長が前記バルク内ブラッグレーザ回折格子により反射されて前記半導体レーザに戻される；
ことを特徴とする方法。
【請求項２３】  透明な感光性バルク光回折格子基材にバルク内ブラッグレーザ回折格子を設ける前記工程が、感光性バルクガラスを提供する工程を含むことを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】  複数の光波長範囲帯で動作させるための光通信波長光素子において、前記光素子が感光性バルクガラスの透明な感光性バルク光回折格子基材からなり、前記光素子は光を操作するための少なくとも１つの光素子光学面を有し、前記バルクガラスは少なくとも１つの波長範囲帯を反射するための内部屈折率変調型ブラッグ回折格子パターンを含むことを特徴とする光素子。
【請求項２５】  複マスク回折格子形成型において、前記回折格子形成型が第１の回折格子位相マスク及び対向する第２の回折格子位相マスク並びに位相マスク間隔固定構造体からなり、前記位相マスク間隔固定構造体が、前記第１の位相マスクを前記第２の位相マスクに位置合せして、前記第１の位相マスクと前記第２の位相マスクとの間に感光性光回折格子基材を受け入れるための感光性光回折格子基材受入空間を提供するために、前記第１の位相マスクを前記第２の位相マスクから離して確実に固定することを特徴とする複マスク回折格子形成型。
【請求項２６】  光導波路通信波長デバイスの作成方法において、前記方法が：
光導波路からのコリメートされた無導波入力光ビームの光路をつくるための入力光導波路コリメータを提供する工程；
透明な感光性バルク光回折格子基材にバルク内ブラッグ回折格子を設ける工程；
波長出力導波路結合器を提供する工程；及び
前記設けられたバルク内ブラッグ回折格子を、前記コリメートされた無導波入力光ビームの光路に、前記入力光導波路コリメータ及び前記出力結合器に対して確実に固定配置する工程；
を含み：
反射波長が前記バルク内ブラッグ回折格子により反射され、透過波長が前記バルク内ブラッグ回折格子を透過する；
ことを特徴とする方法。