【手続補正書】
【提出日】平成20年2月15日(2008.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＯＰＡ構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステムであって、
超高パルス繰返し数で発振器レーザ出力光パルスのビームを生成する主発振器ガス放電レーザシステムと、
前記主発振器ガス放電レーザシステムからレーザ出力光パルスを受け取る少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムと、
を含み、
前記少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムの各々は、１を該少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムの数で割ったものに等しい前記超高パルス繰返し数の分数であるパルスの繰返しで、前記受け取ったレーザ出力光パルスの一部を増幅し、該超高パルス繰返し数の増幅出力レーザ光パルスビームを形成する、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムは、２つの電力増幅ガス放電レーザシステムを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムは、前記発振器レーザ出力光パルスビームに関して直列に位置決めされている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項４】
前記主発振器ガス放電レーザシステムは、ｘ≧４０００Ｈｚのパルス繰返し数で点火され、
各電力増幅ガス放電レーザは、（１／２）ｘで点火される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項５】
前記主発振器ガス放電レーザシステムは、ｘ≧５０００Ｈｚのパルス繰返し数で点火され、
各電力増幅ガス放電レーザは、（１／２）ｘで点火される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の機器。
【請求項６】
前記電力増幅レーザシステムのレーザ光出力部に接続されて、該電力増幅レーザシステムの出力を光利用ツールの入力部に誘導し、かつ少なくともビーム指向及び方向制御を提供するビーム送出ユニット、
を更に含むことを特徴とする請求項４に記載の機器。
【請求項７】
ＭＯＰＡ構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステムであって、
≧２０００Ｈｚのパルス繰返し数で第１のレーザ出力光パルスビームを生成する第１の線狭化ガス放電レーザシステムと、
≧２０００Ｈｚのパルス繰返し数で第２のレーザ出力光パルスビームを生成する第２の線狭化ガス放電レーザシステムと、
前記第１及び第２の出力光パルスビームを≧４０００Ｈｚのパルス繰返し数を有する結合レーザ出力光パルスビームに結合するビーム結合器と、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項８】
前記第１のレーザ出力光パルスビームは、≧４０００Ｈｚのパルス繰返し数で生成され、前記第２のレーザ出力光パルスビームは、≧４０００の繰返し数で生成される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項９】
前記第１のレーザ出力光パルスビームは、≧５０００Ｈｚのパルス繰返し数で生成され、前記第２のレーザ出力光パルスビームは、≧５０００の繰返し数で生成される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項１０】
前記電力増幅レーザシステムのレーザ光出力部に接続されて、該電力増幅レーザシステムの出力を光利用ツールの入力部に誘導し、かつ少なくともビーム指向及び方向制御を提供するビーム送出ユニット、
を更に含むことを特徴とする請求項７に記載の機器。
【請求項１１】
毎秒ｘ回で充電される圧縮ヘッド電荷貯蔵装置を含む圧縮ヘッドと、
少なくとも２組のガス放電電極対を含むガス放電チャンバと、
第１のバイアス巻線のための第１のバイアス電流及び第２のバイアス巻線のための第２のバイアス電流を有する第１及び第２の対向バイアス巻線を含み、かつ、スイッチの１つだけが、ｘを前記少なくとも２組の電極対の数で割算したものに等しい繰返し数で該第１のバイアス電流を受け取る一方、スイッチの残りが該第２のバイアス電流を受け取るようにバイアス電流を該第１のバイアス電流から該第２のバイアス電流に切り換えるスイッチング回路を含む、前記圧縮ヘッド電荷貯蔵装置と該少なくとも２組の電極対の１つとの間にそれぞれ接続された少なくとも２つの磁気飽和可能スイッチと、
を含むことを特徴とする超高繰返し数ガス放電レーザシステム。
【請求項１２】
前記少なくとも２組のガス放電電極対は、２組のガス放電電極対であり、
前記少なくとも２つの磁気飽和可能スイッチは、２つの磁気飽和可能スイッチであり、
前記スイッチング回路は、前記第１のバイアス電流を前記２つの磁気飽和可能スイッチの一方に切り換え、同時に前記第２のバイアス電流を第２の磁気飽和可能スイッチに切り換える、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項１３】
各々が前記少なくとも２組のガス放電電極対のそれぞれに光学的に相互接続した少なくとも２つの線狭化パッケージ、
を更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項１４】
前記少なくとも２組のガス放電電極対は、２組のガス放電電極対であり、
回折帯域幅選択光学器械と、
第１の偏光のレーザ光パルスを実質的に完全に透過し、第２の偏光のレーザ光パルスを実質的に完全に反射する第１の偏光ビーム分割器を含む第１の組のガス放電電極対に整列した、線狭化パッケージへの第１の光路と、
第１の組の電極対からのレーザ出力光パルスを第１の偏光方向に偏光させる、前記第１の光路に整列した第１及び第２の空洞窓と、
第２の組の電極対からのレーザ出力光パルスを第２の偏光方向に偏光させる、前記第２の組の電極対に整列した第１及び第２の空洞窓と、
前記第２の組の電極対からの前記レーザ出力光パルスを前記第１の偏光ビーム分割器内に反射するビーム反射器と、
前記回折帯域幅選択光学器械内に入力される時には前記第２の組の電極対からの前記出力レーザ光パルスを前記第１の偏光に偏光させ、該回折帯域幅選択光学器械から戻る時には該第２の組の電極対からの該出力レーザ光パルスを前記第２の偏光方向に再偏光させる、前記第１の偏光ビーム分割器と該回折帯域幅選択光学器械の間の第１の偏光機構と、
前記第１の偏光のレーザ出力光パルスを実質的に完全に透過し、前記第２の偏光のレーザ出力光パルスを実質的に完全に反射する、前記第１の組の電極対からの前記レーザ出力光パルスの前記出力部上の第２の偏光ビーム分割器と、
前記第２の組の電極対からの前記レーザ出力光パルスを前記第２の偏光ビーム分割器に反射するビーム反射器と、
を含む単一線狭化パッケージ、
を更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の機器。
【請求項１５】
前記第２の偏光ビーム分割器で反射された前記第２の組の電極対からの前記レーザ出力光パルスを前記第１の偏光方向に偏光させる第２の偏光機構、
を更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項１６】
前記第１及び／又は前記第２の偏光機構は、前記第２の組の電極対の間で発生した光の有無に応じて前記回折帯域幅選択光学器械への前記光路内へ及び光路からディザされるディザ式２分の１波長板である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項１７】
前記第１及び／又は第２の偏光機構は、前記出力レーザ光パルスのパルス繰返し数で調節された励起光学要素である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項１８】
ＭＯＰＡ構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステム出力を生成する方法であって、
超高パルス繰返し数で発振器レーザ出力光パルスのビームを生成する主発振器ガス放電レーザシステムを利用する段階と、
前記主発振器ガス放電レーザシステムからレーザ出力光パルスを受け取る少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムを利用し、該少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムの各々において、１を該少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムの数で割ったものに等しい前記超高パルス繰返し数の分数であるパルスの繰返しで、該受け取ったレーザ出力光パルスの一部を増幅して、該超高パルス繰返し数の増幅出力レーザ光パルスビームを形成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１９】
前記少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムは、２つの電力増幅ガス放電レーザシステムを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムは、前記発振器レーザ出力光パルスビームに関して直列に位置決めされている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記電力増幅レーザシステムのレーザ光出力部に接続されて、該電力増幅レーザシステムの出力を光利用ツールの入力部に誘導し、かつ少なくともビーム指向及び方向制御を提供するビーム送出ユニットを利用する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
超高繰返し数ガス放電レーザパルスを生成する方法であって、
≧２０００Ｈｚのパルス繰返し数で第１のレーザ出力光パルスビームを生成する第１の線狭化ガス放電レーザシステムと、
≧２０００Ｈｚのパルス繰返し数で第２のレーザ出力光パルスビームを生成する第２の線狭化ガス放電レーザシステムと、
前記第１及び第２の出力光パルスビームを≧４０００Ｈｚのパルス繰返し数を有する結合レーザ出力光パルスビームに結合するビーム結合器と、
を含む、ＭＯＰＡ構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステムを利用する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２３】
超高繰返し数ガス放電レーザパルスを生成する方法であって、
毎秒ｘ回で充電される圧縮ヘッド電荷貯蔵装置を含む圧縮ヘッドを利用する段階と、
少なくとも２組のガス放電電極対を含むガス放電チャンバを利用する段階と、
前記圧縮ヘッド電荷貯蔵装置と前記少なくとも２組の電極対の１つとの間にそれぞれ接続されて、第１のバイアス巻線のための第１のバイアス電流及び第２のバイアス巻線のための第２のバイアス電流を有する第１及び第２の対向バイアス巻線を含む少なくとも２つの磁気飽和可能スイッチを利用し、該少なくとも２つのスイッチの１つだけが、ｘを該少なくとも２組の電極対の数で割算したものに等しい繰返し数で該第１のバイアス電流を受け取る一方、該少なくとも２つの磁気飽和可能スイッチの残りが該第２のバイアス電流を受け取るように、バイアス電流を該第１のバイアス電流から該第２のバイアス電流に切り換える段階と、
を含むことを特徴とする方法。