【手続補正書】
【提出日】平成20年10月31日(2008.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板が製造又は用意され、酸化ケイ素を含有する層が該基板上に付着され、装飾インクが該酸化ケイ素を含有する層上に施され、該装飾インクが焼き付けられ、該ガラス基板がセラミック化される、装飾ガラスセラミック基板の製造方法であって、基板の表面の少なくとも１つの領域を火炎により掃引すると共に、火炎に添加されたケイ素化合物を加水分解することによって、該酸化ケイ素を含有する層が火炎熱分解的に付着される、装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス基板が製造又は用意され、装飾インクが酸化ケイ素を含有する層上に施され、酸化ケイ素を含有する層が該基板上に付着され、該装飾インクが焼き付けられ、ガラス基板がセラミック化される、装飾ガラスセラミック基板の製造方法であって、基板の表面の少なくとも１つの領域を火炎により掃引すると共に、火炎に添加されたケイ素化合物を加水分解することによって、該酸化ケイ素を含有する層が火炎熱分解的に付着される、装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項３】
該装飾が、該基板をセラミック化することによって焼き付けられる、請求項１又は２に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項４】
該装飾インクが、印刷、静電、電子写真塗布、転写可能な画像の適用、スプレーイング又はアトマイゼーションによって施される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項５】
ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、
ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳＮ）、
テトラエトキシシラン、
の物質のうちの少なくとも１つがケイ素化合物として使用される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項６】
水素、メタン、プロパン、ブタンの成分のうちの少なくとも１つを有する可燃性ガスが、火炎を発生させるために使用される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項７】
酸化部分及び還元部分を有する火炎が発生され、酸化ケイ素を含有する層を付着させるために該基板が酸化部分のみで掃引される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項８】
平坦な基板が、その両面で、酸化ケイ素を含有する層により火炎熱分的に塗工される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項９】
該基板が、さらに赤外反射層により塗工される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１０】
該基板が、赤外反射層としての酸化スズ層、また赤外反射層としてのフッ素ドープされた酸化スズ層により塗工される、請求項９に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１１】
該酸化ケイ素を含有する層が、２〜１００ナノメートル、好ましくは４〜４０ナノメートル、特に好ましくは最大でも２０ナノメートルの層厚で付着される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１２】
該酸化ケイ素を含有する層のサブ領域が、疎水性コーティングにより塗工される、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１３】
該酸化ケイ素を含有する層のサブ領域が、フルオロアルキルシランを含有するゾル−ゲル層により塗工される、請求項１２に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１４】
該ガラス基板の製造が、フローティング(floating)による連続ガラスストリップの製造を含む、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１５】
該ガラス基板の製造が、ローリング(rolling)による連続ガラスストリップの製造を含む、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１６】
該酸化ケイ素を含有する層の付着が、ローリング又はフローティングの後にガラスストリップ上に付着することを含む、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１７】
該ガラス基板の製造が、連続的に製造されたガラスストリップからの断片を分離することを含む、請求項１４又は１５に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１８】
該酸化ケイ素を含有する層の付着が、分離によって製造された個別化された基板上に酸化ケイ素を含有する層を付着することを含む、請求項１７に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項１９】
ガラスセラミック製品、特にガラスセラミックホブプレート、ガラスセラミック表示窓枠又はガラスセラミック反射体を製造するための、そして特に請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法であって、火炎を掃引して火炎に添加されたケイ素化合物を火炎熱分解的に加水分解することによって、酸化ケイ素を含有するバリア層が、製品の基板又はグリーンガラス基板の少なくとも一方の側面に付着される方法。
【請求項２０】
８０ナノメートルまで、好ましくは６０ナノメートルまでの直径の、高密度層の表面に配列された酸化ケイ素粒状物を有する酸化ケイ素を含有する層の粒状表面構造が、火炎熱分解的な付着によって生じる、前記請求項のいずれか一項に記載の装飾ガラスセラミック基板の製造方法。
【請求項２１】
特に前記請求項のいずれか一項に記載されるように製造可能であり、焼き付けられた装飾インクによる装飾が備えられたガラスセラミック基板であって、該装飾が、基板上の酸化ケイ素を含有する火炎熱分解層上に施される、ガラスセラミック基板。
【請求項２２】
特に前記請求項のいずれか一項に記載の方法によって製造可能であり、焼き付けられた装飾インクによる装飾が備えられたガラスセラミック基板であって、該装飾が、酸化ケイ素を含有する火炎熱分解層を有する基板表面の領域によって囲まれる、ガラスセラミック基板。
【請求項２３】
該酸化ケイ素を含有する層が、２〜１００ナノメートル、好ましくは４〜４０ナノメートル、特に好ましくは最大でも２０ナノメートルの層厚を有する、前記請求項のいずれか一項に記載のガラスセラミック基板。
【請求項２４】
該酸化ケイ素を含有する層の少なくとも１つのサブ領域上に疎水性コーティングを含む、前記請求項のいずれか一項に記載のガラスセラミック基板。
【請求項２５】
該疎水性コーティングが、フルオロアルキルシランを含有するシリケート層からなる、請求項２４に記載のガラスセラミック基板。
【請求項２６】
酸化スズ層を含む、前記請求項のいずれか一項に記載のガラスセラミック基板。
【請求項２７】
該酸化ケイ素を含有する層が、該層に配列された、８０ナノメートルまで、好ましくは６０ナノメートルまでの直径の酸化ケイ素粒状物を有する粒状又は波形表面を含む、前記請求項のいずれか一項に記載のガラスセラミック基板。
【請求項２８】
請求項２１〜２７のいずれか一項に記載のガラスセラミック基板、又は請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法により製造可能なガラスセラミック基板を含む製品であって、ホブプレート、又はオーブン窓、若しくはベーキング、クッキング又は炒め容器、特に中華鍋、又は瀬戸物、又は冷蔵庫のプレート、又はガラスセラミック反射体、又はガラスセラミック窓である、製品。
【請求項２９】
グリーンガラス基板と、その上に火炎熱分解的に付着された酸化ケイ素を含有する層とを含み、特に前記請求項のいずれか一項に記載のガラスセラミック製品を製造するための、ガラスセラミック製品製造用の中間製品。