【手続補正書】
【提出日】平成19年2月5日(2007.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
処理液を貯留する処理液槽と一対の電極とを有する、基板に液処理を施す液処理装置と、
前記処理液を貯留する処理液貯留タンクと、
前記処理液貯留タンクから前記液処理装置に前記処理液を供給する処理液供給系と、
前記処理液供給系に介在した、前記処理液供給系内を流れる前記処理液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２】
処理液を貯留する処理液槽と一対の電極とを有する、前記基板に液処理を施す液処理装置と、
前記処理液を貯留する処理液貯留タンクと、
前記処理液貯留タンクから前記液処理装置に前記処理液を供給する処理液供給系と、
前記処理液貯留タンク内の前記処理液を攪拌する処理液攪拌系と、
前記処理液攪拌系に介在した、前記処理液攪拌系内を流れる前記処理液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項３】
請求項１記載の液処理システムであって、前記処理液貯留タンク内の前記処理液を攪拌する処理液攪拌系と、
前記処理液攪拌系に介在した、前記処理液攪拌系内を流れる前記処理液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
をさらに具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記処理液貯留タンクを内部に収容するハウジングと、
前記ハウジングの内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給系と、
をさらに具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記処理液貯留タンクを内部に収納するハウジングと、
前記ハウジング内部を排気するために、前記ハウジングに接続されてなる真空ポンプと
を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記溶存酸素除去装置は溶存酸素を吸着除去するための吸着除去系を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項７】
請求項６に記載の液処理システムであって、前記吸着除去系は中空糸膜を含むことを特徴とする液処理システム。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記処理液に含まれる溶存酸素の濃度を測定する溶存酸素測定装置をさらに具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項９】
請求項８に記載の液処理システムであって、前記溶存酸素測定装置はアノード電極及びカソード電極を含み、これら電極間に流れる電流値により溶存酸素量を測定するように構成したことを特徴とする液処理システム。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記処理液は、添加剤を含んでいることを特徴とする液処理システム。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記処理液は、メッキ液であることを特徴とする液処理システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液処理システムであって、前記処理液は、第１の処理液を供給するための第１の供給系と、第２の処理液を供給するための第２の供給系とを含むことを特徴とする液処理システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液処理システムであって、前記第１の供給系はアノードに接続されるとともに、前記第２の供給系はカソードに接続され、前記第１の処理液はアノード側処理液を構成するとともに、前記第２の処理液はカソード側処理液を構成し、これら第１の処理液及び第２の処理液はイオン透過性の隔膜によって互いに隔てられていることを特徴とする液処理システム。
【請求項１４】
処理液貯留タンクに貯留された処理液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去工程と、
前記溶存酸素を除去した処理液を液処理装置に供給する処理液供給工程と、
前記溶存酸素を除去した処理液に基板を接触させ、かつ前記液処理装置の一対の電極間に電圧を印加して、前記基板に液処理を施す液処理工程と、
を具備することを特徴とする液処理方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の液処理方法であって、前記溶存酸素除去工程は、前記処理液を前記液処理装置に供給する際に行われることを特徴とする液処理方法。
【請求項１６】
請求項１４又は１５記載の液処理方法であって、前記溶存酸素除去工程は、前記処理液貯留タンク内の前記処理液を攪拌する際に行われることを特徴とする液処理方法。
【請求項１７】
請求項１４ないし１６のいずれか１項に記載の液処理方法であって、前記処理液貯留タンクを収容したハウジングの内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程をさらに具備することを特徴とする液処理方法。
【請求項１８】
一対の電極を有し、基板にメッキ処理を施すメッキ処理装置と、
メッキ液を貯留するメッキ液貯留タンクと、
前記メッキ液貯留タンクから前記メッキ処理装置に前記メッキ液を供給するメッキ液供給系と、
前記メッキ液供給系に介在した、前記メッキ液供給系内を流れる前記メッキ液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項１９】  
一対の電極を有し、基板にメッキ処理を施すメッキ処理装置と、
メッキ液を貯留するメッキ液貯留タンクと、
前記メッキ液貯留タンクから前記メッキ処理装置に前記メッキ液を供給するメッキ液供給系と、
前記メッキ液貯留タンク内の、前記メッキ液を攪拌するメッキ液攪拌系と、
前記メッキ液攪拌系に介在した、前記メッキ液攪拌系内を流れる前記メッキ液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２０】
請求項１９記載の液処理システムであって、前記メッキ液貯留タンク内の前記メッキ液を攪拌するメッキ液攪拌系と、
前記メッキ液攪拌系に介在した、前記メッキ液攪拌系内を流れる前記メッキ液から溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
をさらに具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２１】
請求項１８ないし２０のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記メッキ液貯留タンクを内部に収容するハウジングと、
前記ハウジングの内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給系と、
をさらに具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２２】
請求項１８ないし２１のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記メッキ液に含まれる溶存酸素の濃度を測定する溶存酸素測定装置をさらに具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２３】
請求項１８ないし請求項２２のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記メッキ液貯留タンクは、イオン透過性の隔膜によって互いに隔てられたアノード側貯留タンクとカソード側貯留タンクとを含み、前記アノード側貯留タンク内に存在するアノード側メッキ液と、カソード側貯留タンク内に存在するカソード側メッキ液とを互いに独立して供給することを特徴とする液処理システム。
【請求項２４】
請求項２３に記載の液処理システムであって、前記アノード側メッキ液を供給するための供給管にアノード電極を配設し、処理部材側にカソード電極を配設し、これらの電極間に電圧を印加することによって、前記処理部材に対してメッキ処理を施すことを特徴とする液処理システム。
【請求項２５】
請求項１８ないし請求項２４のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記メッキ液より蒸発又は飛散した成分を吸い込むための吸気口を具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２６】
請求項１８ないし請求項２５のいずれか１項に記載の液処理システムであって、基板に付着したメッキを洗浄するための洗浄ノズルを具備することを特徴とする液処理システム。
【請求項２７】
請求項１８ないし請求項２６のいずれか１項に記載の液処理システムであって、前記メッキ液貯留タンクは、前記メッキ液を貯留するための内側メッキ液貯留タンクと、前記メッキ液からオーバーフローした部分を保持するための外側メッキ液貯留タンクとを含むことを特徴とする液処理システム。