【手続補正書】
【提出日】平成20年3月4日(2008.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式：
【化１】
2003528090.tif 000001
［式中、Ｑは、
【化２】
2003528090.tif 000002
からなる群から選ばれ；
Ｍは、酸素、硫黄、ＮＲ８、およびＣＲ９Ｒ１０からなる群から選ばれ；
Ｚは、
【化３】
2003528090.tif 000003
からなる群から選ばれ；
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ７およびＲ１１〜Ｒ１５は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、およびヘテロシクロからなる群から選ばれ、ここで、Ｒ１とＲ２がアルキルである場合には、Ｒ１とＲ２は共に合わさってシクロアルキルを形成し得て；
Ｒ６は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロ、および置換ヘテロシクロからなる群から選ばれ；
Ｒ８は、水素、アルキル、置換アルキル、Ｒ１１Ｃ＝Ｏ、Ｒ１２ＯＣ＝Ｏ、およびＲ１３ＳＯ２からなる群から選ばれ；
Ｒ９およびＲ１０は、水素、ハロゲン、アルキル、置換アルキル、アリール、ヘテロシクロ、ヒドロキシ、Ｒ１４Ｃ＝Ｏ、およびＲ１５ＯＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；
Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ独立して、アルキル、アリール、およびアラルキルからなる群から選ばれる］
で示される化合物、またはその溶媒和物もしくは水和物。
【請求項２】  式：
【化４】
2003528090.tif 000004
で示される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】  式：
【化５】
2003528090.tif 000005
で示される、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】  式：
【化６】
2003528090.tif 000006
［式中、Ｑは、
【化７】
2003528090.tif 000007
からなる群から選ばれ；
Ｍは、酸素、硫黄、ＮＲ８、およびＣＲ９Ｒ１０からなる群から選ばれ；
Ｚは、
【化８】
2003528090.tif 000008
からなる群から選ばれ；
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ７およびＲ１１〜Ｒ１５は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、およびヘテロシクロからなる群から選ばれ、ここで、Ｒ１とＲ２がアルキルである場合には、Ｒ１とＲ２は共に合わさってシクロアルキルを形成し得て；
Ｒ６は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロ、および置換ヘテロシクロからなる群から選ばれ；
Ｒ８は、水素、アルキル、置換アルキル、Ｒ１１Ｃ＝Ｏ、Ｒ１２ＯＣ＝Ｏ、およびＲ１３ＳＯ２からなる群から選ばれ；
Ｒ９およびＲ１０は、水素、ハロゲン、アルキル、置換アルキル、アリール、ヘテロシクロ、ヒドロキシ、Ｒ１４Ｃ＝Ｏ、およびＲ１５ＯＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；
Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ独立して、アルキル、アリール、およびアラルキルからなる群から選ばれる］
で示される化合物の製造法であって、
式：
【化９】
2003528090.tif 000009
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義である）
のエポチロン出発物質を、相間移動触媒およびパラジウム触媒の存在下、アジド供与剤および還元剤と反応させることを含む、該製造法。
【請求項５】  式：
【化１０】
2003528090.tif 000010
で示される化合物を製造するための、請求項４に記載の製造法。
【請求項６】  エポチロン出発物質がエポチロンＢであり、そして式ＩＶの化合物が式：
【化１１】
2003528090.tif 000011
で示される、請求項５に記載の製造法。
【請求項７】  式：
【化１２】
2003528090.tif 000012
［式中、Ｑは、
【化１３】
2003528090.tif 000013
からなる群から選ばれ；
Ｍは、酸素、硫黄、ＮＲ８、およびＣＲ９Ｒ１０からなる群から選ばれ；
Ｚは、アジド供与剤のカチオンであり；
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ７およびＲ１１〜Ｒ１５は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、およびヘテロシクロからなる群から選ばれ、ここで、Ｒ１とＲ２がアルキルである場合には、Ｒ１とＲ２は共に合わさってシクロアルキルを形成し得て；
Ｒ６は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロ、および置換ヘテロシクロからなる群から選ばれ；
Ｒ８は、水素、アルキル、置換アルキル、Ｒ１１Ｃ＝Ｏ、Ｒ１２ＯＣ＝Ｏ、およびＲ１３ＳＯ２からなる群から選ばれ；
Ｒ９およびＲ１０は、水素、ハロゲン、アルキル、置換アルキル、アリール、ヘテロシクロ、ヒドロキシ、Ｒ１４Ｃ＝Ｏ、およびＲ１５ＯＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；
Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ独立して、アルキル、アリール、およびアラルキルからなる群から選ばれる］
で示される化合物の製造法であって、
式：
【化１４】
2003528090.tif 000014
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義である）
のエポチロン出発物質を、パラジウム触媒および還元剤の存在下、アジド供与剤および緩衝剤と反応させることを含む、該製造法。
【請求項８】  式：
【化１５】
2003528090.tif 000015
で示される化合物を製造する、請求項７に記載の製造法。
【請求項９】  エポチロン出発物質がエポチロンＢであり、そして式ＩＶの化合物が式：
【化１６】
2003528090.tif 000016
で示される、請求項８に記載の製造法。
【請求項１０】  アジド供与剤がテトラブチルアンモニウムアジドである、請求項９に記載の製造法。
【請求項１１】  式：
【化１７】
2003528090.tif 000017
［式中、Ｑは、
【化１８】
2003528090.tif 000018
からなる群から選ばれ；
Ｍは、酸素、硫黄、ＮＲ８、およびＣＲ９Ｒ１０からなる群から選ばれ；
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ７およびＲ１１〜Ｒ１５は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、およびヘテロシクロからなる群から選ばれ、ここで、Ｒ１とＲ２がアルキルである場合には、Ｒ１とＲ２は共に合わさってシクロアルキルを形成し得て；
Ｒ６は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロ、および置換ヘテロシクロからなる群から選ばれ；
Ｒ８は、水素、アルキル、置換アルキル、Ｒ１１Ｃ＝Ｏ、Ｒ１２ＯＣ＝Ｏ、およびＲ１３ＳＯ２からなる群から選ばれ；
Ｒ９およびＲ１０は、水素、ハロゲン、アルキル、置換アルキル、アリール、ヘテロシクロ、ヒドロキシ、Ｒ１４Ｃ＝Ｏ、およびＲ１５ＯＣ＝Ｏからなる群から選ばれる］
で示されるエポチロンアナログの製造法であって、
式Ｉ：
【化１９】
2003528090.tif 000019
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義であり；
Ｚは、
【化２０】
2003528090.tif 000020
からなる群から選ばれ；
Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ独立して、アルキル、アリール、およびアラルキルからなる群から選ばれる）
の中間体化合物のマクロラクタム化反応を、該反応に適当なカップリング剤の存在下で行なうことを含む、該製造法。
【請求項１２】  中間体が式ＩＶ：
【化２１】
2003528090.tif 000021
で示される、請求項１１に記載の製造法。
【請求項１３】  式ＩＩのエポチロンアナログが式：
【化２２】
2003528090.tif 000022
を有する、請求項１２に記載の製造法。
【請求項１４】  カップリング剤が、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩および１−ヒドロキシ−７−ベンゾトリアゾール水和物を含む、請求項１３に記載の製造法。
【請求項１５】  式：
【化２３】
2003528090.tif 000023
［式中、Ｑは、
【化２４】
2003528090.tif 000024
からなる群から選ばれ；
Ｍは、酸素、硫黄、ＮＲ８、およびＣＲ９Ｒ１０からなる群から選ばれ；
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ７およびＲ１１〜Ｒ１５は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、およびヘテロシクロからなる群から選ばれ、ここで、Ｒ１とＲ２がアルキルである場合には、Ｒ１とＲ２は共に合わさってシクロアルキルを形成し得て；
Ｒ６は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロ、および置換ヘテロシクロからなる群から選ばれ；
Ｒ８は、水素、アルキル、置換アルキル、Ｒ１１Ｃ＝Ｏ、Ｒ１２ＯＣ＝Ｏ、およびＲ１３ＳＯ２からなる群から選ばれ；
Ｒ９およびＲ１０は、水素、ハロゲン、アルキル、置換アルキル、アリール、ヘテロシクロ、ヒドロキシ、Ｒ１４Ｃ＝Ｏ、およびＲ１５ＯＣ＝Ｏからなる群から選ばれる］
で示されるエポチロンアナログの製造法であって、
式：
【化２５】
2003528090.tif 000025
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義である）
のエポチロン出発物質を、相間移動触媒およびパラジウム触媒の存在下、アジド供与剤および還元剤と反応させて、式：
【化２６】
2003528090.tif 000026
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義であり；
Ｚは、
【化２７】
2003528090.tif 000027
からなる群から選ばれ；
Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ独立して、アルキル、アリール、およびアラルキルからなる群から選ばれる）
の中間体化合物を形成し；次いで、
該中間体化合物に対するマクロラクタム化反応を、該反応に適当なカップリング剤の存在下で行なうことを含む、該製造法。
【請求項１６】  中間体が、式：
【化２８】
2003528090.tif 000028
で示される、請求項１５に記載の製造法。
【請求項１７】  エポチロン出発物質がエポチロンＢであり、式Ｉの中間体化合物が式：
【化２９】
2003528090.tif 000029
で示され、そして式ＩＩのエポチロンアナログが式：
【化３０】
2003528090.tif 000030
で示される、請求項１６に記載の製造法。
【請求項１８】  式：
【化３１】
2003528090.tif 000031
［式中、Ｑは、
【化３２】
2003528090.tif 000032
からなる群から選ばれ；
Ｍは、酸素、硫黄、ＮＲ８、およびＣＲ９Ｒ１０からなる群から選ばれ；
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ７およびＲ１１〜Ｒ１５は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、およびヘテロシクロからなる群から選ばれ、ここで、Ｒ１とＲ２がアルキルである場合には、Ｒ１とＲ２は共に合わさってシクロアルキルを形成し得て；
Ｒ６は、水素、アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロ、および置換ヘテロシクロからなる群から選ばれ；
Ｒ８は、水素、アルキル、置換アルキル、Ｒ１１Ｃ＝Ｏ、Ｒ１２ＯＣ＝Ｏ、およびＲ１３ＳＯ２からなる群から選ばれ；
Ｒ９およびＲ１０は、水素、ハロゲン、アルキル、置換アルキル、アリール、ヘテロシクロ、ヒドロキシ、Ｒ１４Ｃ＝Ｏ、およびＲ１５ＯＣ＝Ｏからなる群から選ばれる］
で示されるエポチロンアナログの製造法であって、
式：
【化３３】
2003528090.tif 000033
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義である）
のエポチロン出発物質を、パラジウム触媒および還元剤の存在下、アジド供与剤および緩衝剤と反応させて、式：
【化３４】
2003528090.tif 000034
（式中、ＱおよびＲ１〜Ｒ６は前記と同意義であり；
Ｚは、アジド供与剤のカチオンであり；
Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ独立して、アルキル、アリール、およびアラルキルからなる群から選ばれる）
の中間体化合物を形成し；そして、
該中間体化合物に対するマクロラクタム化反応を、該反応に適当なカップリング剤の存在下で行なうことを含む、該製造法。
【請求項１９】  中間体が、式：
【化３５】
2003528090.tif 000035
で示される、請求項１８に記載の製造法。
【請求項２０】  エポチロン出発物質がエポチロンＢであり、そして式ＩＩのエポチロンアナログが式：
【化３６】
2003528090.tif 000036
で示される、請求項１９に記載の製造法。
【請求項２１】  アジド供与剤が、リチウムアジド、ナトリウムアジド、テトラアルキルアンモニウムアジド、トリアルキルシリルアジド、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ；還元剤が、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルアルシン、トリアリールアルシン、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ；相間移動触媒が、テトラアルキルオニウム塩、テトリアリールオニウム塩、テトラアラルキルオニウム塩、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ；パラジウム触媒が、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム テトラキス−（トリフェニルホスフィン）、パラジウム テトラキス−（トリフェニルアルシン）、トリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム（０）クロロホルムアダクト、トリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１７に記載の製造法。
【請求項２２】  アジド供与剤がナトリウムアジドまたはテトラブチルアンモニウムアジドであり；還元剤がトリメチルホスフィンであり；相間移動触媒が塩化テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、および／またはテトラブチルオニウムであり；そして、パラジウム触媒がトリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム（０）クロロホルムアダクトまたはトリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウムである、請求項２１に記載の製造法。
【請求項２３】  マクロラクタム化カップリング剤が、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、および１−ヒドロキシ−７−ベンゾトリアゾール水和物、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、および１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール水和物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−ビス（テトラメチレン）ウロニウム・ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール）−１−イル−Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−ビス（テトラメチレン）ウロニウム・ヘキサフルオロホスフェート、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ−トリス（ビメチルアミノ）ホスホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、Ｎ,Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、Ｋ２ＣＯ３、ジイソプロピルアミン、およびトリエチルアミンからなる群から選ばれる１種以上の要素を含む、請求項１７に記載の製造法。
【請求項２４】  カップリング剤が、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩および１−ヒドロキシ−７−ベンゾトリアゾール水和物である、請求項２３に記載の製造法。
【請求項２５】  アジド供与剤が、リチウムアジド、ナトリウムアジド、テトラアルキルアンモニウムアジド、トリアルキルシリルアジド、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ；緩衝剤が、弱酸、酸性塩、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ；パラジウム触媒が、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム・テトラキス−（トリフェニルホスフィン）、パラジウム・テトラキス−（トリフェニルアルシン）、トリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム（０）クロロホルムアダクト、トリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ；そして、還元剤が、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルアルシン、トリアリールアルシン、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項２０に記載の製造法。
【請求項２６】  アジド供与剤がテトラブチルアンモニウムアジドであり；緩衝剤が塩化アンモニウムであり；パラジウム触媒がトリス−（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム（０）クロロホルムアダクトであり；そして、還元剤がトリメチルホスフィンである、請求項２５に記載の製造法。
【請求項２７】  マクロラクタム化カップリング剤が、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、１−ヒドロキシ−７−ベンゾトリアゾール水和物、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール水和物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−ビス（テトラメチレン）ウロニウム・ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール）−１−イル−Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−ビス（テトラメチレン）ウロニウム・ヘキサフルオロホスフェート、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ−トリス（ビメチルアミノ）ホスホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、Ｎ,Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、Ｋ２ＣＯ３、ジイソプロピルアミン、およびトリエチルアミンからなる群から選ばれる１種以上の要素を含む、請求項２０に記載の製造法。
【請求項２８】  カップリング剤が、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩および１−ヒドロキシ−７−ベンゾトリアゾール水和物である、請求項２７に記載の製造法。
【請求項２９】  式ＩＩ：
【化３７】
2003528090.tif 000037
を有する化合物の製法法であって、
ここで、該製造法は、エポチロンＢ出発物質を、パラジウム触媒および還元剤、並びに適宜、相間移動触媒および／または緩衝剤の存在下、アジド供与剤と反応させて、適宜、単離および／または精製された中間体を得て、そして、該中間体のマクロラクタム化反応を適当なカップリング剤の存在下で行なって、式ＩＩの化合物を得ることを含む、該製造法。
【請求項３０】  中間体の単離および／または精製がない本質的に２工程で行なう、請求項２９に記載の製造法。