Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月27日(2007.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体を支持しつつ搬送する無端の搬送ベルトと、
前記搬送ベルトを周回させる複数の搬送ローラと、
前記複数の搬送ローラの少なくとも１つを軸支する第１支持部材と、
前記搬送ベルトの一部を下方に押し下げることによって、この搬送ベルトにテンションを付与する重りローラと、
前記搬送ベルトに外接してこの搬送ベルトの外周面をクリーニングする１つ以上のクリーニングローラと、
前記重りローラ及び前記クリーニングローラを軸支する第２支持部材とを備える記録媒体搬送装置であって、
前記第２支持部材は、弾性部材を介して前記第１支持部材から吊下げられていることを特徴とする記録媒体搬送装置。
【請求項２】
請求項１記載の記録媒体搬送装置において、
前記重りローラの側周面と当接することにより、前記重りローラの移動方向を規制するガイド部材を備え、
このガイド部材は、前記重りローラを上下方向に移動可能とすることを特徴とする記録媒体搬送装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の記録媒体搬送装置において、
前記クリーニングローラの下方には、洗浄液が溜められる洗浄槽が配設され、
前記第２支持部材は、前記洗浄槽を支持していることを特徴とする記録媒体搬送装置。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の記録媒体搬送装置と、
前記記録媒体搬送装置によって搬送される前記記録媒体に画像を記録する画像記録部とを備えることを特徴とする画像記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の記録媒体搬送装置において、
前記クリーニングローラの下方には、洗浄液が溜められる洗浄槽が配設され、
前記第２支持部材は、前記洗浄槽を支持していることを特徴とする。
請求項４記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の記録媒体搬送装置と、
前記記録媒体搬送装置によって搬送される前記記録媒体に画像を記録する画像記録部とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４記載の発明によれば、起伏していない状態の記録媒体に画像を記録することができるため、高品質な画像記録が可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項４記載の発明によれば、請求項１〜３の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、高品質な画像記録が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月26日(2007.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂（ａ）、平均粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ以下でありアスペクト比が２〜２０の無機充填剤（ｂ）、アスペクト比が２０以上の繊維状の無機充填剤（ｃ）を必須成分としたプラスチック複合透明シートであって、樹脂（ａ）と無機充填剤（ｂ）を含む複合体の屈折率と、無機充填剤（ｃ）の屈折率の差が、０．０３以下であるプラスチック複合透明シート。
【請求項２】
樹脂（ａ）が硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１のプラスチック複合透明シート。
【請求項３】
波長５５０ｎｍにおける光線透過率が６０％以上である請求項１又は２記載の透明プラスチック複合透明シート。
【請求項４】
３０〜１５０℃の平均線膨張係数が２５ｐｐｍ以下である請求項１〜３いずれか記載のプラスチック複合透明シート。
【請求項５】
基板表面の最大表面粗さが２００ｎｍ以下である請求項１〜４いずれか記載のプラスチック複合透明シート。
【請求項６】
無機充填剤（ｂ）が、金属酸化物である請求項１〜５いずれか記載のプラスチック複合透明シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
すなわち本発明は
（１）  樹脂（ａ）、平均粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ以下でありアスペクト比が２〜２０の無機充填剤（ｂ）、アスペクト比が２０以上の繊維状の無機充填剤（ｃ）を必須成分としたプラスチック複合透明シートであって、樹脂（ａ）と無機充填剤（ｂ）の混合物を含む複合体の屈折率と、無機充填剤（ｃ）の屈折率の差が、０．０３以下であるプラスチック複合透明シート。
（２）  樹脂（ａ）が硬化性樹脂であることを特徴とする（１）のプラスチック複合透明シート。
（３）  波長５５０ｎｍにおける光線透過率が６０％以上である（１）、（２）記載の透明プラスチック複合透明シート。
（４）  ３０〜１５０℃の平均線膨張係数が２５ｐｐｍ以下である（１）〜（３）いずれか記載のプラスチック複合透明シート。
（５）  基板表面の最大表面粗さが２００ｎｍ以下である（１）〜（４）記載のプラスチック複合透明シート。
（６）  無機充填剤（ｂ）が、金属酸化物である（１）〜（５）記載のプラスチック複合透明シート。
である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月8日(2006.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の関係を有する２種以上の粒状肥料を選択する工程、第１工程で選択された２種以上の粒状肥料を均一に混合する工程を有する配合肥料の製造方法。
２種以上の粒状肥料の関係：各々の粒状肥料１００ｇを内径５．２ｃｍの円筒容器内に入れ、該円筒を２．３ｃｍの高さから自然落下させる操作を１秒に１回の割合で１８０回行った後の体積をＶｍｌとするとき、１００／Ｖで求められる圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．７０の範囲内である。
【請求項２】
圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．４０の範囲内である請求項１記載の配合肥料の製造方法。
【請求項３】
２種以上の粒状肥料が、互いの平均粒径比が１．０１〜１．８０の範囲内にある２種以上の粒状肥料である、請求項１又は請求項２記載の配合肥料の製造方法。
【請求項４】
２種以上の粒状肥料が、いずれも平均粒径１〜５ｍｍの範囲内にある２種以上の粒状肥料である、請求項１〜３いずれか１項記載の配合肥料の製造方法。
【請求項５】
下記の関係を有する２種以上の粒状肥料を選択する工程、第１工程で選択された２種以上の粒状肥料を均一に混合する工程を有する製造方法により製造され得る配合肥料。
２種以上の粒状肥料の関係：各々の粒状肥料１００ｇを内径５．２ｃｍの円筒容器内に入れ、該円筒を２．３ｃｍの高さから自然落下させる操作を１秒に１回の割合で１８０回行った後の体積をＶｍｌとするとき、１００／Ｖで求められる圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．７０の範囲内である。
【請求項６】
圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．４０の範囲内である請求項５記載の配合肥料。
【請求項７】
２種以上の粒状肥料が、互いの平均粒径比が１．０１〜１．８０の範囲内にある２種以上の粒状肥料である、請求項５又は請求項６記載の配合肥料。
【請求項８】
２種以上の粒状肥料が、いずれも平均粒径１〜５ｍｍの範囲内にある２種以上の粒状肥料である、請求項５〜７いずれか１項記載の配合肥料。
【請求項９】
２種以上の粒状肥料からなる配合肥料であって、各々の粒状肥料１００ｇを内径５．２ｃｍの円筒容器内に入れ、該円筒を２．３ｃｍの高さから自然落下させる操作を１秒に１回の割合で１８０回行った後の体積をＶｍｌとするとき、１００／Ｖで求められる圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．７０の範囲内であることを特徴とする配合肥料。
【請求項１０】
輸送安定性を有する配合肥料を製造するための、各々の粒状肥料１００ｇを内径５．２ｃｍの円筒容器内に入れ、該円筒を２．３ｃｍの高さから自然落下させる操作を１秒に１回の割合で１８０回行った後の体積をＶｍｌとするとき、１００／Ｖで求められる圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．７０の範囲内である２種以上の粒状肥料の使用。
【請求項１１】
圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．４０の範囲内である請求項１０記載の使用。
【請求項１２】
下記工程を有する包装された配合肥料の振動による偏析抑制方法。
（１）各々の粒状肥料１００ｇを内径５．２ｃｍの円筒容器内に入れ、該円筒を２．３ｃｍの高さから自然落下させる操作を１秒に１回の割合で１８０回行った後の体積をＶｍｌとするとき、１００／Ｖで求められる圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．７０の範囲内である２種以上の粒状肥料を選択する工程。
（２）上記選択された２種以上の粒状肥料を均一に混合する工程。
（３）均一に混合された配合肥料を包装する工程。
【請求項１３】
圧縮比重の比が、互いに１．００〜１．４０の範囲内である請求項１２記載の偏析抑制方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月29日(2007.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送されるシート状記録媒体に対して上方側から摺動可能に接触することによって当該シート状記録媒体を下方側に押え込むものであって、
前記シート状記録媒体のサイズに対応して当該シート状記録媒体の端縁部分に接触する位置が異なるように構成されていることを特徴とするシート押さえ部材。
【請求項２】
前記シート状記録媒体に接触する部位が、直線状または曲線状の端縁部からなることを特徴とする請求項１記載のシート押さえ部材。
【請求項３】
前記シート状記録媒体の搬送方向に対して略直交する紙幅方向に沿って位置調整可能に取り付けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに記載のシート押さえ部材。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のシート押さえ部材が、適宜の画像を形成されたシート状記録媒体を排出搬送する排紙部に配置されていることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記目的を達成するために本発明の請求項１にかかるシート押さえ部材では、搬送されるシート状記録媒体の端縁部分に対して上方側から摺動可能に接触することによって当該シート状記録媒体を下方側に押え込んで円滑な搬送動作を確保するものであって、前記シート状記録媒体のサイズに対応して当該シート状記録媒体の端縁部分に接触する位置が異なるように構成されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
このような構成を有する請求項１にかかるシート押さえ部材によれば、シート状記録媒体自体が備えているサイズの大小、つまり各々用紙剛性に対応してシート押さえ部材の接触位置を適宜に変更することによって、各シート状記録媒体に対して適正な押さえ量が常時得られることとなり、シート状記録媒体のサイズの大小にかからわず良好な排出作用が得られるようになっている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明の請求項２にかかるシート押さえ部材では、上記請求項１におけるシート状記録媒体に接触する部位が直線状または曲線状の端縁部からなり、それらの端縁部形状によって良好な押え作用が得られるようになっている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらに、本発明の請求項３にかかるシート押さえ部材では、上記請求項１又は請求項２のいずれかにおけるシート状記録媒体の搬送方向に対して略直交する紙幅方向に沿って位置調整可能に取り付けられている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
このような構成を有する請求項３にかかるシート押さえ部材によれば、シート状記録媒体のサイズの大小に対応した適正な押さえ量が得られることとなり、シート状記録媒体のサイズの大小にかからわず良好な排出作用が得られるようになっている。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本発明の請求項４にかかる画像形成装置では、上記請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のシート押さえ部材が、適宜の画像を形成されたシート状記録媒体を排出搬送する排紙部に配置されている。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
このような構成を有する請求項４にかかる画像形成装置によれば、上述した請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のシート押さえ部材が有する作用が画像形成装置において得られる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
以上のように本発明の請求項１にかかる発明は、搬送されるシート状記録媒体の端縁部分に対して上方側から摺動可能に接触する押さえ部材を、各々のシート状記録媒体のサイズに対応して当該シート状記録媒体の端縁部分に接触する位置が異なるように構成したことによって、シート状記録媒体自体のサイズの大小に対応した適正な押さえ量を常時得られるようにしたものであるから、簡易な構成によって、シート状記録媒体のサイズの大小にかからわず良好な排出作用を実現することができ、信頼性の高いシート搬送機構を備えた画像形成装置等を低コストで得ることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、本発明の請求項２にかかるシート押さえ部材は、上記請求項１におけるシート状記録媒体に接触する部位を直線状または曲線状の端縁部から形成して種々の端縁部形状によって良好な押え作用が得られるように構成したものであるから、上述した効果を確実に得ることができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、本発明の請求項３にかかるシート押さえ部材は、上記請求項１又は請求項２のいずれかにおけるシート状記録媒体の搬送方向に対して略直交する紙幅方向に沿って位置調整することによりシート状記録媒体のサイズの大小に対応した適正な押さえ量を得るように構成したものであるから、シート状記録媒体のサイズの大小にかからわず良好な排出作用が得られるようになっている。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、本発明の請求項４にかかる画像形成装置は、上記請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のシート押さえ部材が、適宜の画像を形成されたシート状記録媒体を排出搬送する排紙部に取り付けられていることから、画像形成装置の排紙部において上述した効果を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月20日(2006.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脂肪酸石鹸を洗浄成分とする洗顔料であって、次に示す粉体から選択される１種乃至は２種以上を含有することを特徴とする、洗顔料。
（粉体）メチルシロキサン網状重合体、ジメチルポリシロキサン樹脂、表面処理されていても良いタルク、中実でも中空でも良いアクリル酸アルキル系樹脂粉体
【請求項２】
前記粉体の含有量が、１〜２０質量％であることを特徴とする、請求項１に記載の洗顔料。
【請求項３】
前記脂肪酸石鹸が、脂肪酸のカリウム石鹸であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の洗顔料。
【請求項４】
クリーム状であることを特徴とする、請求項１〜３何れか１項に記載の洗顔料。
【請求項５】
更に、ポリオキシエチレン脂肪酸グリセリルを含有することを特徴とする、請求項１〜４何れか１項に記載の洗顔料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この様な状況に鑑みて、本発明者らは、脂肪酸カリウム石鹸を主洗浄剤とするクリーム状の洗顔料の泡立ちと泡の維持性を向上させる手段を求めて、鋭意研究努力を重ねた結果、脂肪酸石鹸、取り分け、脂肪酸カリウム石鹸を洗浄成分とする洗顔料であって、メチルシロキサン網状重合体、ジメチルポリシロキサン樹脂、表面処理されていても良いタルク及び中実でも中空でも良いアクリル酸アルキル系樹脂粉体から選択される１種乃至は２種以上を含有する洗顔料がその様な特性を有していることを見出し、発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、以下に示す技術に関するものである。
（１）脂肪酸石鹸を洗浄成分とする洗顔料であって、次に示す粉体から選択される１種乃至は２種以上を含有することを特徴とする、洗顔料。
（粉体）メチルシロキサン網状重合体、ジメチルポリシロキサン樹脂、表面処理されていても良いタルク、中実でも中空でも良いアクリル酸アルキル系樹脂粉体
（２）前記粉体の含有量が、１〜２０質量％であることを特徴とする、（１）に記載の洗顔料。
（３）前記脂肪酸石鹸が、脂肪酸のカリウム石鹸であることを特徴とする、（１）又は（２）に記載の洗顔料。
（４）クリーム状であることを特徴とする、（１）〜（３）何れか１項に記載の洗顔料。（５）更に、ポリオキシエチレン脂肪酸グリセリルを含有することを特徴とする、（１）〜（４）何れか１項に記載の洗顔料。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月7日(2006.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリフェニレンエーテルとスチレン系樹脂との組み合わせより成る樹脂成分（Ａ）、ビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックと共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックを有し、ビニル芳香族炭化水素結合量３３重量％以上で且つ数平均分子量が1５万以上であるブロック共重合体の水素添加ブロック共重合体（Ｂ）および可塑剤（Ｃ）を含有する樹脂組成物、からなることを特徴とする配管用樹脂組成物。
【請求項２】
（Ａ）成分のスチレン系樹脂が、ゴム変性ポリスチレンであり、該ポリスチレン中のゴム質重合体が、全二重結合結合の中の５〜７０％が水素添加された部分水添ポリブタジエンであることを特徴とする請求項１記載の配管用樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）成分が、スチレン結合量３５重量％以上の水素添加ブロック共重合体であることを特徴とする請求項１または２に記載の配管用樹脂組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分７０〜９９重量部、（Ｂ）成分１〜３０重量部および（Ｃ）成分０．５〜１０重量部からなり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、リン系難燃剤（Ｄ）が０〜４０重量部であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の配管用樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｄ）成分がリン酸エステルであり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、３〜３５重量部を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の配管用樹脂組成物。
【請求項６】
（Ｄ）成分がホスファゼン化合物であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、３〜３５重量部を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の配管用樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の配管用樹脂組成物からなることを特徴とする樹脂製管。
【請求項８】
請求項７に記載の樹脂製管からなることを特徴とする地中埋設管。
【請求項９】
請求項７に記載の樹脂製管からなることを特徴とする地中埋設電線用保護管。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、特定分子量を有するビニル芳香族炭化水素と共役ジエン化合物との水素添加ブロック共重合体、および軟化剤を含有したポリフェニレンエーテルとスチレン系樹脂との混合樹脂をベースとした配管用樹脂組成物およびそれから得られる樹脂製管が上記課題を解決することを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
［１］ポリフェニレンエーテルとスチレン系樹脂との組み合わせより成る樹脂成分（Ａ）、ビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックと共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックを有し、ビニル芳香族炭化水素結合量３３重量％以上で且つ数平均分子量が1５万以上であるブロック共重合体の水素添加ブロック共重合体（Ｂ）および可塑剤（Ｃ）を含有する樹脂組成物、からなることを特徴とする配管用樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［２］（Ａ）成分のスチレン系樹脂が、ゴム変性ポリスチレンであり、該ポリスチレン中のゴム質重合体が、全二重結合結合の中の５〜７０％が水素添加された部分水添ポリブタジエンであることを特徴とする上記１記載の配管用樹脂組成物。
［３］（Ｂ）成分が、スチレン結合量３５重量％以上の水素添加ブロック共重合体であることを特徴とする上記１または２に記載の配管用樹脂組成物。
［４］（Ａ）成分７０〜９９重量部、（Ｂ）成分１〜３０重量部および（Ｃ）成分０．５〜１０重量部からなり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、リン系難燃剤（Ｄ）が０〜４０重量部であることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の配管用樹脂組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［５］（Ｄ）成分がリン酸エステルであり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、３〜３５重量部を含有することを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の配管用樹脂組成物。
［６］（Ｄ）成分がホスファゼン化合物であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、３〜３５重量部を含有することを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の配管用樹脂組成物。
［７］上記１〜６のいずれか１項に記載の配管用樹脂組成物からなることを特徴とする樹脂製管。
［８］上記７に記載の樹脂製管からなることを特徴とする地中埋設管。
［９］上記７に記載の樹脂製管からなることを特徴とする地中埋設電線用保護管。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月7日(2007.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３×１０5Pa（３バール）の圧力で蒸気を、固形状又はペースト状の形態にある少なくとも一つの酸化剤及び／又は少なくとも一つの還元剤に浸透させる工程を含む方法によって得られた組成物の、ケラチン繊維の脱色のための使用。
【請求項２】
少なくとも３×１０5Pa（３バール）の圧力で蒸気を、固形状又はペースト状の形態にある少なくとも一つの酸化剤及び／又は少なくとも一つの還元剤に浸透させる工程を含む方法によって得られた組成物の、ケラチン繊維のパーマネントウェーブ処置のための使用。
【請求項３】
酸化剤及び／又は還元剤を少なくとも一つの補助剤との混合物中で使用することを特徴とする、請求項１又は２に記載の使用。
【請求項４】
補助剤を以下から選択することを特徴とする、請求項３に記載の使用：クレイ、塩、アニオン性、ノニオン性、カチオン性又は双性イオン性界面活性剤、天然若しくは合成増粘剤、変性してもよいデンプン、ガラスビーズ、シリカ、ナイロン（登録商標）、アルミナ、二酸化チタン、ゼオライト、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、キトサン、マルトデキストリン、シクロデキストリン、単糖類若しくは多糖類、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、樹脂粒子、例えばシリコーン若しくはシリカベイド（silicabade）、タルク粉、ポリアスパラギン酸、ボロシリケート、特にカルシウムボロシリケート、ポリエチレン、綿、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、セルロース及びその誘導体、超吸収体化合物、炭酸マグネシウム若しくは炭酸カルシウム、トウモロコシ種子、ポリジメチルシロキサンガム、ポリアクリルアミド、多孔性ヒドロキシアパタイト、絹、コラーゲン、おがくず、ヒバマタ粉末、コムギ、コメ、豆類、ルピナス、ダイズ若しくはオオムギの粉末若しくは抽出物、架橋したポリビニルピロリドン、アルギン酸カルシウム、活性炭、ポリ（ビニリデンクロリド／アクリロニトリル）粒子。
【請求項５】
浸透工程を、３×１０5Pa（３バール）〜３０×１０5Pa（３０バール）、好ましくは１０×１０5〜３０×１０5Pa（１０〜３０バール）の圧力下の流体で行うことを特徴とする、先の請求項１ないし４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】
流体が液状の水を伴ってもよい蒸気であることを特徴とする、先の請求項１ないし５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項７】
流体が一又は複数の化粧品として受容可能な液状及び／又は気体状の有機溶媒から成ることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月15日(2007.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラノプロフェン及びクロロブタノールを含有する眼科用剤。
【請求項２】
前記プラノプロフェン１質量部に対し、クロロブタノールを０．０５質量部から１００質量部及びメントールを０．０２５質量部から１０質量部含有する請求項１に記載の眼科用剤。
【請求項３】
更にメントールを含有する請求項１記載の眼科用剤。
【請求項４】
前記メントールは、前記プラノプロフェン１質量部に対し、０．０２５質量部から１０質量部含有する請求項１又は３に記載の眼科用剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（３）  更にメントールを含有する（１）に記載の眼科用剤。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（４）  前記メントールは、前記プラノプロフェン１質量部に対し、０．０２５質量部から１０質量部含有する（１）又は（３）に記載の眼科用剤。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【表１】
2005239681.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月19日(2006.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の別の実施の形態では、取引カードユーザーは、取引カード発行者へ自らを認証し、取引カード発行者は、匿名カード番号を認証とともに直接販売店へ送り、次に販売店は匿名カード番号と認証の両方を、確認と処理のために販売店の銀行へ送る。取引カード発行者は、実際の取引カード番号と代替カード番号を、取引カードユーザーへの要求と通信のために使用し、代替のカード番号と認証番号を、販売店の銀行とカード処理ネットワークとの決済のために使用する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の実施の形態で、もう一度、図２を参照すると、カード所有者２は、Ｓ２で、カード所有者のカード番号と、秘密のＰＩＮまたはパスワード、あるいは、ＰＩＮのハッシュまたはパスワードを、ユーザーのコンピュータ装置１０でタイプ入力し、それを発行銀行８へ暗号化リンク上で送ることにより、カード所有者の発行銀行８に対して自己を認証する。暗号化リンクは、第三者が盗聴もできず、カード番号とＰＩＮを盗むこともできないことを保証する。発行銀行８はこの情報を既に知っていて保安を行なうので、カード所有者２は、カード番号、ＰＩＮまたはパスワード、あるいはハッシュされたＰＩＮまたはパスワードが発行銀行８では安全である、と安心することができる。カード所有者２は、ＰＩＮまたはパスワードで自己を認証するので、発行銀行８は、カード所有者２を、販売店４に対して認証することができる。取引または顧客の履歴が正当であれば、発行銀行８は、追加の秘密項目、照合する生体的標本、および／またはデジタル署名のような更に安全な認証を要求することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本発明の実施の形態の一局面では、匿名のまたは代替のカード番号は、発行銀行のサーバー１４で生成され、直接販売店４へ、または販売店４への中継のためにカード所有者のＰＣまたはトークン１０へ送られる。しかし、本発明の実施の形態の代替局面では、スマートカード、携帯情報端末（ＰＤＡ）型装置、またはセキュリティダイナミック (Security Dynamics)型カードのような、カード所有者のハードウエア装置１０またはＰＣでローカルに生成される。ローカル／クライアントのソフトウエア３０は、発行銀行のサーバー１４からダウンロードされるか、インストールされる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月2日(2006.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像制御手段によって実行される画像制御ステップを、記憶手段に記憶されたゲームプログラムに基づいて実行するように構成された画像制御方法において、
この画像制御ステップは、
仮想三次元空間内に仮想視点と複数のオブジェクトを設定するステップと、
前記仮想視点を仮想空間内で移動させるステップと、
前記仮想視点の視野領域内に存在する前記複数のオブジェクトの中から、予め前記ゲームプログラムによって設定されたターゲットを求めるステップと、
移動する仮想視点から、当該仮想空間内に配置された複数のオブジェクトを捉え、これを表示手段の画面に、前記仮想視点から捉えた視界の様子として表示するステップと、
前記ターゲットと仮想視点との間の距離を演算するステップと、
前記距離に基づいて、前記ゲームプログラムで定められた、前記仮想視点の移動速度を決定するステップと、
を備えて構成されてなる画像処理方法。
【請求項２】
前記画像制御ステップが、
前記ターゲットの数が、予め定められた指定数以上であるか否かを判定するステップと、
当該ターゲット数が予め定められた数以上の場合に、当該ターゲットと前記仮想視点間の最大距離と平均距離とが、どれだけ離れているかを演算するステップと、
この演算結果を基に、前記仮想視点の移動速度の変化率を求めるステップと、
をさらに備えてなる、請求項１記載の画像処理方法。
【請求項３】
前記画像制御ステップは、
前記ターゲットの各々に対して、予め重み係数が割り当てるステップと、
前記ターゲットに予め割り当てられた重み係数を基に、前記仮想視点の移動速度を演算すること、をさらに備える請求項１又は２記載の画像処理方法。
【請求項４】
前記画像処理方法が、前記仮想視点を予め定められた経路上を移動させる場合の処理方法であって、
前記経路上の所定区間毎に前記仮想視点の速度の変化点を複数設定するステップと、
当該変化点の区間毎に前記仮想視点の移動速度の最大値を設定するステップと、
前記仮想視点の速度を前記最大値から求めるステップと、
をさらに備えてなる請求項１ないし３のいずれか１項記載の画像処理方法。
【請求項５】
請求項１に記載の画像処理方法をコンピュータに実行させる画像処理プログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体。
【請求項６】
記憶手段に記憶されたゲームプログラムに基づいて、画像制御手段が画像処理を実行するように構成された画像処理装置において、
仮想三次元空間内に仮想視点と複数のオブジェクトを設定する手段と、
前記仮想視点を仮想空間内で移動させる手段と、
前記仮想視点の視野領域内に存在する前記複数のオブジェクトの中から、予め前記ゲームプログラムによって設定されたターゲットを求める手段と、
移動する仮想視点から、当該仮想空間内に配置された複数のオブジェクトを捉え、これを表示手段の画面に、前記仮想視点から捉えた視界の様子として表示する手段と、
前記ターゲットと仮想視点との間の距離を演算する手段と、
前記距離に基づいて、前記ゲームプログラムで定められた、前記仮想視点の移動速度を決定する手段と、
を備えて構成されてなる画像処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月1日(2007.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】外部アクセス要求によるアクセスに備えて完全コンテンツ形式またはサービスのため完全形式ほど資源を必要としない適応型コンテンツ形式で各々記憶される複数のコンテンツ・ファイルを記憶するコンテンツ・サーバと、
前記コンテンツ・サーバにアクセス要求を渡すため前記コンテンツ・サーバに接続された適応型負荷制御システムと、
を備え、
前記適応型負荷制御システムが、前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にある時、コンテンツ・サーバが安全負荷状態に維持されるように、前記適応型コンテンツ形式の対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするようにアクセス要求を修正する、
データ・サービス・ネットワーク・システムにおけるデータ・サービス・システム。
【請求項２】前記適応型負荷制御システムが、前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にない時、完全コンテンツ形式の対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするようにアクセス要求を修正する、請求項１に記載のデータ・サービス・システム。
【請求項３】前記適応型負荷制御システムが、コンテンツ・サーバの負荷状態を監視する負荷モニタと、前記負荷モニタおよび前記コンテンツ・サーバに接続され、前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にあることを前記負荷モニタが標示する時、適応型コンテンツ形式の対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするようにアクセス要求を修正するコンテンツ・アダプタと、を含む、請求項１に記載のデータ・サービス・システム。
【請求項４】前記適応型負荷制御システムが、前記負荷モニタおよびコンテンツ・アダプタに接続され、前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にあることを前記負荷モニタが標示する時、適応型コンテンツ形式の対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするようにアクセス要求を修正するようにコンテンツ・アダプタに指示する適応コントローラを更に含み、前記適応コントローラが、前記負荷モニタによって受け取られた負荷情報をコンテンツ・サーバのあらかじめ定められた所望の負荷値と比較することによって、コンテンツ・サーバが過負荷状態にあるか否かを判断する、請求項３に記載のデータ・サービス・システム。
【請求項５】前記コンテンツ・アダプタがアクセス要求のＵＲＬを修正することによってアクセス要求を修正し、コンテンツ・ファイルの各々ごとに、完全コンテンツ形式または適応型コンテンツ形式いずれかの対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするように前記修正された要求を仕向けるサービス・ディレクトリをコンテンツ・サーバが含む、請求項１に記載のデータ・サービス・システム。
【請求項６】外部アクセス要求によるアクセスに備えて複数のコンテンツ・ファイルを記憶するコンテンツ・サーバを有するデータ・アクセス・ネットワーク・システムのデータ・サービス・システムにおいて、安全負荷状態でコンテンツ・サーバを維持する方法であって、
コンテンツ・サーバに記憶されているコンテンツ・ファイルのうちの１つにアクセスするアクセス要求をデータ・サービス・システムが受け取る時コンテンツ・サーバの負荷状態を判断するステップと、
前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にあると判断されると、前記コンテンツ・サーバが安全負荷状態に維持されるように、適応型コンテンツ形式の対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするようにアクセス要求を修正するステップと、を含む方法。
【請求項７】前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にないと判断されると、完全コンテンツ形式の対応するコンテンツ・ファイルにアクセスするようにアクセス要求を修正するステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】負荷状態を判断する前記ステップが、負荷モニタを使用して前記コンテンツ・サーバの実際の負荷状態を取得するステップと、前記実際の負荷状態をあらかじめ定められた所望の負荷状態と比較して、前記コンテンツ・サーバが過負荷状態にあるか否かを判断するステップと、を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】アクセス要求を修正する前記ステップが、アクセス要求のＵＲＬを修正することによって実行される、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月18日(2006.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  第１の装置と、該第１の装置との間でデータ通信可能に接続できる第２の装置を備える記録再生システムであって、
上記第１の装置は、
当該第１の装置としての個体に固有の識別子を記憶する識別子記憶手段と、
第１の記録媒体から読み出され当該第１の装置に取り込まれたメインデータを、上記識別子記憶手段に記憶された識別子を用いて暗号化する暗号化手段と、
上記暗号化手段で暗号化されたメインデータを上記第２の装置に送信できる送信手段と、
を備え、
上記第２の装置は、
上記第１の装置の上記送信手段から送信されてきた暗号化されたメインデータを受信する受信手段と、
上記受信手段で受信された暗号化されたメインデータを第２の記録媒体に書き込むことのできる書込手段と、
を備えたことを特徴とする記録再生システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このため本発明の記録再生システムは、第１の装置（データ処理装置）と、この第１の装置との間でデータ通信可能に接続できる第２の装置を備える。
そして第１の装置は、その第１の装置としての個体に固有の識別子を記憶する識別子記憶手段と、或る第１の記録媒体から読み出され当該第１の装置に取り込まれたメインデータを識別子記憶手段に記憶された識別子を用いて暗号化する暗号化手段と、この暗号化手段で暗号化されたメインデータを第２の装置に送信できる送信手段とを備えるようにする。
また第２の装置は、第１の装置の送信手段から送信されてきた暗号化されたメインデータを受信する受信手段と、この受信手段で受信された暗号化されたメインデータを第２の記録媒体に書き込むことのできる書込手段とを備えるようにする。
即ち、第１の記録媒体に記録されたメインデータ（例えば音楽データ）を第２の装置に送信して第２の記録媒体にコピー又はムーブさせる際には、第１の装置においてその装置固有の識別子をキーとして用いて暗号化を行う。そして暗号化されたメインデータを第２の装置に送信してコピー又はムーブを実行させるようにする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の上方に第１のシリコン膜を形成し、
前記第１のシリコン膜上にストッパー膜を形成し、
前記半導体基板上の前記第１のシリコン膜及び前記ストッパー膜を部分的に除去して複数のトレンチを形成し、
前記ストッパー膜上に前記複数のトレンチの内部を含んで絶縁膜を形成し、
前記ストッパー膜が露出するように前記絶縁膜を部分的に除去した後、前記ストッパー膜を除去し、前記第１のシリコン膜を露出し、
露出された前記第１のシリコン膜上に第２のシリコン膜を選択的に形成し、
前記第２のシリコン膜上に第３のシリコン膜を非選択的に形成し、
少なくとも前記第３のシリコン膜の表面をＣＭＰにより研磨する、
ことを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第３のシリコン膜を研磨することは、前記第３のシリコン膜の下方の前記絶縁膜を露出するように行われることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１、第２及び第３のシリコン膜はポリシリコン膜であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１のシリコン膜はアモルファスシリコンであり、前記第２及び第３のシリコン膜はポリシリコン膜であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２のシリコン膜は、前記絶縁膜の表面以上１００ｎｍ以下で成膜されることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第３のシリコン膜は、前記絶縁膜の表面から５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で成膜されることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記複数のトレンチの側面は、それぞれ、前記半導体基板の表面に対して０.３°〜５°の順方向のテーパーを有していることを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
研磨された前記第３のシリコン膜上にもう一つの絶縁膜を形成することを更に具備する特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記もう一つの絶縁膜は、酸化珪素膜／窒化珪素膜／酸化珪素膜、又は窒化珪素膜／酸化珪素膜／窒化珪素膜／酸化珪素膜／窒化珪素膜を含むことを特徴とする請求項８記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記半導体装置は、不揮発性半導体記憶装置であることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
半導体基板上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に第１のシリコン膜を形成し、
前記第１のシリコン膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜、前記第１のシリコン膜、前記第１の絶縁膜及び前記半導体基板を部分的に除去し、素子分離用の複数のトレンチを形成し、
前記素子分離用の複数のトレンチを第３の絶縁膜で充填した後、前記第２の絶縁膜を除去し、前記第１のシリコン膜を露出し、
露出された前記第１のシリコン膜上に第２のシリコン膜を選択成長させ、
前記第２のシリコン膜及び前記第３の絶縁膜上に第３のシリコン膜を非選択に成長させ、
隣接する前記第３の絶縁膜の間に第１の導電層を形成するために、前記第３のシリコン膜及び前記第３のシリコン膜の下方の前記第２のシリコン膜を平坦化し、
前記第１の導電層及び前記第３の絶縁膜上に第４の絶縁膜を形成し、
前記第４の絶縁膜上に第２の導電層を形成する、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第２のシリコン膜及び前記第３のシリコン膜の平坦化は、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）によって行われることを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１、第２及び第３のシリコン膜はポリシリコン膜であることを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１のシリコン膜はアモルファスシリコンであり、前記第２及び第３のシリコン膜はポリシリコン膜であることを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第２のシリコン膜及び前記第３のシリコン膜を平坦化した後に前記第３の絶縁膜を部分的に除去することを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第２のシリコン膜は、第３の絶縁膜の表面以上１００ｎｍ以下で成膜されることを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第３のシリコン膜は、前記第３の絶縁膜の表面から５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で成膜されることを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１８】
前記複数のトレンチの側面は、それぞれ、前記半導体基板の表面に対して０.３°〜５°の順方向のテーパーを有していることを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第４の絶縁膜は、酸化珪素膜／窒化珪素膜／酸化珪素膜、又は窒化珪素膜／酸化珪素膜／窒化珪素膜／酸化珪素膜／窒化珪素膜を含むことを特徴とする請求項１１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項２０】
前記半導体装置は、不揮発性半導体記憶装置であることを特徴とする請求項１１に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施態様によると、半導体基板の上方に第１のシリコン膜を形成し、前記第１のシリコン膜上にストッパー膜を形成し、前記半導体基板上の前記第１のシリコン膜及び前記ストッパー膜を部分的に除去して複数のトレンチを形成し、前記ストッパー膜上に前記複数のトレンチの内部を含んで絶縁膜を形成し、前記ストッパー膜が露出するように前記絶縁膜を部分的に除去した後、前記ストッパー膜を除去し、前記第１のシリコン膜を露出し、露出された前記第１のシリコン膜上に第２のシリコン膜を選択的に形成し、前記第２のシリコン膜上に第３のシリコン膜を非選択的に形成し、少なくとも前記第３のシリコン膜の表面をＣＭＰにより研磨する、ことを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
また、本発明の一実施態様によると、半導体基板上に第１の絶縁膜を形成し、前記第１の絶縁膜上に第１のシリコン膜を形成し、前記第１のシリコン膜上に第２の絶縁膜を形成し、前記第２の絶縁膜、前記第１のシリコン膜、前記第１の絶縁膜及び前記半導体基板を部分的に除去し、素子分離用の複数のトレンチを形成し、前記素子分離用の複数のトレンチを第３の絶縁膜で充填した後、前記第２の絶縁膜を除去し、前記第１のシリコン膜を露出し、露出された前記第１のシリコン膜上に第２のシリコン膜を選択成長させ、前記第２のシリコン膜及び前記第３の絶縁膜上に第３のシリコン膜を非選択に成長させ、隣接する前記第３の絶縁膜の間に第１の導電層を形成するために、前記第３のシリコン膜及び前記第３のシリコン膜の下方の前記第２のシリコン膜を平坦化し、前記第１の導電層及び前記第３の絶縁膜上に第４の絶縁膜を形成し、前記第４の絶縁膜上に第２の導電層を形成する、ことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に電子部品が実装されて成る電子部品実装構造において、
表面にランド部を有する配線パターンが形成された前記基板上に開口部を有するレジスト層が形成され、前記開口部から前記ランド部が露出しており、
前記電子部品は前記開口部内に設置され、前記電子部品の電極部は前記ランド部上に半田接合され、前記電子部品の周囲の少なくとも一部から、前記開口部内に露出する前記基板上にかけて接着層が形成され、前記接着層は前記基板上に接合されており、
前記接着層と、前記レジスト層とは異なる材料で形成される、半田と前記接着層を構成する材料とは、前記半田接合の前、混合された半田接着層として少なくとも前記ランド部上に設けられ、前記半田接合の際、前記半田は前記ランド部上に凝集したものであり、前記接着層を構成する材料は、前記電子部品の周囲の少なくとも一部に流れ出したものであることを特徴とする電子部品実装構造。
【請求項２】
前記接着層は、前記電子部品の一方向の両側側面から前記開口部内に露出する前記基板上に接合される請求項１記載の電子部品実装構造。
【請求項３】
前記接着層は前記電子部品の全周に広がっている請求項２記載の電子部品実装構造。
【請求項４】
前記レジスト層は前記接着層が設けられる領域から離れた位置に設けられ、前記レジスト層と前記接着層は非接触状態である請求項１ないし３のいずれかに記載の電子部品実装構造。
【請求項５】
前記接着層は熱硬化性樹脂で形成される請求項１ないし４のいずれかに記載の電子部品実装構造。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に電子部品が実装されて成る電子部品実装構造において、
前記基板上にはランド部を有する配線パターンと、開口部を有するレジスト層とが形成され、前記開口部から前記ランド部が露出しており、
前記電子部品の電極部は前記ランド部上に半田接合され、前記電子部品の周囲の少なくとも一部から前記レジスト層上に重ねて接着層が形成され、前記接着層は前記レジスト層に接合されており、
前記接着層と、前記レジスト層とは同種の材料で形成され、半田と前記接着層を構成する材料とは、前記半田接合の前、混合された半田接着層として少なくとも前記ランド部上に設けられ、前記半田接合の際、前記半田は前記ランド部上に凝集したものであり、前記接着層を構成する材料は、前記電子部品の周囲の少なくとも一部に流れ出したものであることを特徴とする電子部品実装構造。
【請求項２】
前記接着層は、前記電子部品の一方向の両側側面から前記レジスト層上に重ねて形成されている請求項１記載の電子部品実装構造。
【請求項３】
前記接着層は前記電子部品の全周に広がっている請求項２記載の電子部品実装構造。
【請求項４】
前記接着層の外縁全周が前記レジスト層上に重ねられている請求項３記載の電子部品実装構造。
【請求項５】
前記接着層と前記レジスト層は、熱硬化性樹脂で形成される請求項１ないし４のいずれかに記載の電子部品実装構造。
【請求項６】
前記接着層と前記レジスト層は、エポキシ系の樹脂で形成される請求項５記載の電子部品実装構造。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月7日(2007.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a) 製品の形状に対応した空洞を持つ充填焼成容器に合金粉末を高密度に充填する工程と、
b) 前記合金粉末に高磁界を印加して、合金粉末を配向させる工程と、
c) 前記合金粉末を充填焼成容器に入れたまま、該合金粉末から放出される気体成分を充填焼成容器外に排出可能な状態で1030℃以下の焼結温度に加熱して焼結する工程と、
d) 前記合金粉末の焼結体を前記充填焼成容器から取り出す工程と、
を有し、上記各工程を無酸素又は不活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項２】
配向磁界が2T以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項３】
配向磁界が3T以上であることを特徴とする請求項２に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項４】
配向磁界が5T以上であることを特徴とする請求項３に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項５】
配向磁界が交番磁界であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項６】
配向磁界を複数回印加することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項７】
配向磁界が直流磁界と交番磁界の組合せであることを特徴とする請求項６に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項８】
合金粉末に固体または固体と液体の両方から成る潤滑剤が添加されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項９】
液体潤滑剤が脂肪酸エステル又は解重合ポリマーを主成分とすることを特徴とする請求項８に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１０】
合金粉末の粒径が3μm以下であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１１】
合金粉末の粒径が2μm以下であって焼結温度が1010℃以下であることを特徴とする請求項１０に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１２】
充填焼成容器の一部又は全部を複数回使用することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１３】
合金粉末を空洞に高密度に充填し、磁界を印加して配向した後、充填焼成容器の中子を抜いて、又は、充填焼成容器の中子を細いものに置き換えて、焼結することを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１４】
空洞の主軸方向に磁界を印加して合金粉末を配向することを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１５】
前記主軸方向の空洞両端の蓋および底にあたる部分の材質を強磁性体とすることを特徴とする請求項１４に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１６】
平板状又は弓形板状の空洞を有する充填焼成容器を用い、該空洞の平板面又は弓形板面に垂直な方向に磁界を印加して合金粉末を配向することを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１７】
空洞の平板面又は弓形板面を形成する部分の材質が非磁性体又は1.5T以下の飽和磁化を有するものであることを特徴とする請求項１６に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１８】
前記飽和磁化が1.3T以下であることを特徴とする請求項１７に記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項１９】
充填焼成容器に複数の空洞が２列以上並んで配置されていることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項２０】
充填焼成容器の部位のうち、合金粉末の磁界配向方向と平行な壁を構成する部位の一部または全部が強磁性体であることを特徴とする請求項１〜１９のいずれかに記載の磁気異方性希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項２１】
筒状の空洞と、該筒状空洞の中心に配置される柱状の中子と、を有することを特徴とする磁気異方性希土類焼結磁石製造用充填焼成容器。
【請求項２２】
筒状又は柱状の空洞を有し、深さ方向の空洞両端の蓋および底にあたる部分の材質が強磁性体であることを特徴とする磁気異方性希土類焼結磁石製造用充填焼成容器。
【請求項２３】
平板状又は弓形板状の空洞を有し、該空洞の平板面又は弓形板面を形成する部分の材質が非磁性体又は飽和磁化が1.5T以下のものであることを特徴とする磁気異方性希土類焼結磁石製造用充填焼成容器。
【請求項２４】
前記飽和磁化が1.3T以下であることを特徴とする請求項２３に記載の磁気異方性希土類焼結磁石製造用充填焼成容器。
【請求項２５】
合金粉末の磁界配向方向と平行な壁を構成する部位の一部または全部が強磁性体であることを特徴とする磁気異方性希土類焼結磁石製造用充填焼成容器。