【手続補正書】
【提出日】平成19年5月23日(2007.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  レチクルを保護するカバーを備え、該カバーは、
前記カバーを前記レチクルに結合させ、かつ前記レチクルの少なくとも一部を支持するフレームと、
露光プロセスの間前記レチクルに光が直接的にアクセスすることを可能にするように前記レチクルから離される、再配置可能なパネルと、
を有し、
前記フレームは、前記露光プロセスの間前記レチクルに結合されているシステム。
【請求項２】  前記カバーと結合されたロボットグリッパーであって、ロボットが前記カバーおよび前記レチクルをロボットグリッパーを介して移動させることを可能にするように構成されたロボットクリッパーをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】  前記ロボットグリッパーおよび前記カバーと結合されるベースプレートをさらに備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】  前記フレームに設けられた第１の位置合わせデバイスと、前記再配置可能なパネルに設けられた前記第１の位置合わせデバイスに対応する第２の位置合わせデバイスとをさらに備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】  前記ロボットグリッパーに設けられた第１の位置合わせデバイスと、前記再配置可能なパネルに設けられた前記第１の位置合わせデバイスに対応する第２の位置合わせデバイスとをさらに備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】  前記ベースプレートに設けられた第１の位置合わせデバイスと、前記再配置可能なパネルに設けられた前記第１の位置合わせデバイスに対応する第２の位置合わせデバイスとをさらに備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項７】  前記フレームに設けられた第１の位置合わせデバイスと、前記再配置可能なパネルに設けられた前記第１の位置合わせデバイスに対応する第２の位置合わせデバイスとをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】  前記第１および第２の位置合わせデバイスは、動力学的マウント、磁石および磁石ターゲット、重力依存デバイスならびに機械的ファスナのいずれかを備える、請求項４から請求項７のいずれかに記載のシステム。
【請求項９】  前記カバーに結合されるように構成されたステージをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】  前記ステージは第１の取り付けデバイスを有し、前記フレームは前記第１の取り付けデバイスに対応する第２の取り付けデバイスを有し、前記第１および第２の取り付けデバイスによって、前記カバーが前記レチクルを保持しているときに前記カバーが前記ステージに取り付けられる、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】  前記第１および第２の取り付けデバイスは、延出部および受動デバイスである、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】  前記受動デバイスは、バネが装着されたラッチである、請求項１０記載のシステム。
【請求項１３】  前記延出部は電磁石を含み、前記受動デバイスは永久磁石を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】  前記受動デバイスは電磁石を含み、前記延出部は永久磁石を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】  前記フレームを前記ステージに取外し可能に取り付ける手段をさらに備える、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１６】  前記フレームと前記再配置可能なパネルとを位置合わせする手段をさらに備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項１７】  前記ロボットグリッパーと前記再配置可能なパネルとを位置合わせする手段をさらに備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項１８】  前記ベースプレートと前記再配置可能なパネルとを位置合わせする手段をさらに備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項１９】  前記フレームと前記再配置可能なパネルとを位置合わせする手段をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】  前記レチクルを、移送前にステージに位置合わせする事前位置合わせデバイスをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】  前記事前位置合わせデバイスおよび前記フレームは、互いに対応する位置合わせデバイスを含み、前記フレームおよび前記ステージは、互いに対応する位置合わせデバイスを含む、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】  前記位置合わせデバイスは、ピンおよび溝である、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】  前記位置合わせデバイスは、動力学的ドッキングである、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】  前記事前位置合わせデバイスと前記フレームとを位置合わせする手段と、前記フレームと前記ステージとを位置合わせする手段と、をさらに備える、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２５】  前記レチクルおよび前記カバーを前記システムを介して移送するために用いられるポッドをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２６】  前記レチクルをポッド内に配置される前に位置合わせする事前位置合わせデバイスをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２７】  前記レチクルの所定の領域は、該レチクルが接触している間、粒子の生成を低減するように硬化される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２８】  前記レチクルの所定の領域は、該レチクルが接触している間、粒子の生成を低減するように曲面部、球面部またはトロイド部に形成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２９】  前記レチクルの所定の領域は、該レチクルが接触している間、粒子の生成を低減するように熱処理により硬化される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３０】  前記レチクルの所定の領域は、該レチクルが接触している間、粒子の生成を低減するように局所的に処理される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３１】  前記フレームは、前記レチクルを前記フレームに固定するレチクル固定デバイスを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３２】  レチクルを保護するカバーを備え、該カバーは、
第１の取り付けデバイスを含みかつ前記カバーを前記レチクルに結合するフレームと、
露光プロセスの間前記レチクルに光が直接的にアクセスすることを可能にするように前記レチクルから離される、再配置可能なパネルと、
前記フレームの前記第１の取り付けデバイスに結合するように構成される第２の取り付けデバイスを含みかつ前記カバーが取外し可能に取り付けられるステージと、
を備える、システム。
【請求項３３】  前記第１および第２の取り付けデバイスの一方はバネが装着されたラッチであり、前記第１および第２の取り付けデバイスの他方は延出部である、請求項３２に記載のシステム。
【請求項３４】  前記第１および第２の取り付けデバイスの一方は電磁石を含み、前記第１および第２の取り付けデバイスの他方は永久磁石を含む、請求項３２に記載のシステム。
【請求項３５】  正面および背面を有するマスクと、
前記マスクの前記正面を実質的に被覆する第１のポジションに位置するように構成され、リソグラフィー露光が前記マスクを使用可能にするため前記マスクが露光ポジションに位置するときには前記マスクから離されて第２のポジションに位置するように構成された取外し可能な粒子カバーと、
を備え、該取外し可能な粒子カバーは、
前記マスク側を向く第１の面および前記マスク側を向かない第２の面を有するプレートと、
前記マスクの前記正面の端部で前記マスクを支持する突起部を含むフレームと、
前記プレートに結合され、前記プレートの前記第１の面から突起するとともに前記フレームに接触する動力学的マウントと、
を備える、システム。
【請求項３６】  前記プレートは、前記マスクの前記正面の検出を可能にするために少なくとも１つの光の波長に対して透過性を有する、請求項３５に記載のシステム。
【請求項３７】  前記カバーをマニピュレータに保持するために前記プレートの前記第２の面に設けられた位置ロケータをさらに備える、請求項３５に記載のシステム。
【請求項３８】  前記プレートは、少なくとも１つのホールをさらに含む、請求項３５に記載のシステム。
【請求項３９】  前記プレートの前記少なくとも１つのホールは、ガスフィルタを含む、請求項３８に記載のシステム。
【請求項４０】  前記フレームには、ラッチの捕捉に適したタブが設けられている、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４１】  前記フレームは、矩形状に形成され、実質的に前記マスクの前記正面および前記背面を開放した状態で前記マスクのエッジ周囲を囲む、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４２】  前記フレームには、前記マスクに接触する係合機構であって前記フレームに対して前記マスクを位置付ける係合機構が設けられている、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４３】  前記係合機構は、前記フレームの少なくとも１つのコーナーに設けられている、請求項４２に記載のシステム。
【請求項４４】  前記動力学的マウントは、ラッチを含む、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４５】  前記動力学的マウントは、前記フレームの穴および前記プレートに設けられたピンを含む、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４６】  前記マスクを搬送する実質的に気密である気密ボックスをさらに含む、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４７】  前記マスクは、前記正面で反射する反射型マスクである、請求項３５に記載のシステム。
【請求項４８】  蓋と、
前記蓋に結合されるとレチクルボックスを形成するように構成され、かつ前記レチクルボックスの内部でレチクルおよび取外し可能な粒子カバーを支持するように構成されたベースと、
を備え、
前記蓋および前記ベースは、リソグラフィー露光の前に前記レチクルから離されるように構成され、
前記取外し可能な粒子カバーは、前記リソグラフィー露光の前に前記レチクルから離されるように構成されている、レチクルボックス。
【請求項４９】  前記取外し可能な粒子カバーには、前記取外し可能なカバーに結合されるとともに前記取外し可能なカバーに対して前記レチクルを位置付ける動力学的マウントが設けられている、請求項４８に記載のレチクルボックス。
【請求項５０】  前記動力学的マウントはピンを含む、請求項４９に記載のレチクルボックス。
【請求項５１】  前記取外し可能な粒子カバーは、少なくとも１つの光の波長に対して透過性を有する、請求項４８に記載のレチクルボックス。
【請求項５２】  前記取外し可能な粒子カバーは、ホールをさらに含む、請求項４８に記載のレチクルボックス。
【請求項５３】  前記取外し可能な粒子カバーの前記ホールは、ガスフィルタをさらに含む、請求項５２に記載のレチクルボックス。
【請求項５４】
前記ベースと前記蓋との間のガスフローを防ぐガスシーリングデバイスと、
前記蓋を前記ベースに取外し可能に固定するラッチと、
をさらに備える、請求項４８に記載のレチクルボックス。
【請求項５５】  前記レチクルボックス内の粒子が前記レチクルに到達するのを実質的に防ぐドームと、
前記ドームと前記取外し可能な粒子カバーとの間の粒子の流れを実質的に防ぐ粒子シーリングデバイスと、
をさらに備える、請求項５４に記載のレチクルボックス。
【請求項５６】  前記ガスシーリングデバイスおよび前記粒子シーリングデバイスは順次的に動作するように構成されている、請求項５５に記載のレチクルボックス。
【請求項５７】  前記ドームは、前記ドームと前記取外し可能な粒子カバーとの間に形成される気密キャビティからガスを流すことを可能にする通路をさらに含む、請求項５５に記載のレチクルボックス。
【請求項５８】  前記レチクルは、前記取外し可能な粒子カバーに結合された前記フレームによって保持されている、請求項４８に記載のレチクルボックス。
【請求項５９】  前記フレームは、リソグラフィー投影装置のステージに固定される第１の固定デバイスをさらに含む、請求項５８に記載のレチクルボックス。
【請求項６０】  反射型マスクを保持するためのフレームであって、矩形状に形成され、実質的に前記マスクの反射面を開放した状態で前記マスクのエッジ周囲を囲むとともに、前記マスクの前記反射面のエッジで前記マスクを支持するリム部を含む、フレーム。
【請求項６１】  前記フレームには、ラッチの捕捉に適したタブが設けられている、請求項６０に記載のフレーム。
【請求項６２】  前記フレームには、前記マスクに接触する係合機構であって前記フレームに対して前記マスクを位置付ける係合機構が設けられている、請求項６０に記載のフレーム。
【請求項６３】  前記係合機構は、前記フレームの少なくとも１つのコーナーに設けられている、請求項６０に記載のフレーム。
【請求項６４】  位置合わせ用の穴が設けられている、請求項６０に記載のフレーム。
【請求項６５】  請求項６０に記載のフレームと、
前記マスクの前記反射面と実質的に同一サイズのプレートと、
を備え、
前記プレートは、前記マスク側を向く第１の面および前記マスク側を向かない第２の面を有する、２部分カバー。
【請求項６６】  前記プレートには、前記プレートの前記第１の面から突起するとともに前記フレームと接触する動力学的マウントが設けられている、請求項６５に記載の２部分カバー。
【請求項６７】  前記プレートは、前記マスクの前記反射面の検出を可能にするために少なくとも１つの光の波長に対して透過性を有する、請求項６５に記載の２部分カバー。
【請求項６８】  反射面を有するレチクルを覆うカバーであって、
前記反射面と実質的に同一サイズであって、使用時に前記反射面と平行に維持され、かつ前記レチクルの前記反射面の検出を可能にするプレートを含み、
前記プレートには、前記レチクルに接触する係合機構であって前記プレートに対して前記レチクルを位置付ける係合機構を含む、フレーム部が設けられている、カバー。
【請求項６９】  動力学的マウントの一部が設けられている、請求項６８に記載のカバー。
【請求項７０】  マスク運搬部分と、
蓋と、
前記マスク運搬部分と前記蓋との間のガスフローを防ぐガスシーリングデバイスと、
前記蓋を前記マスク運搬部分に取外し可能に固定するラッチと、
を備える、実質的に気密であるボックス。
【請求項７１】  前記ボックス内の粒子が前記マスクに到達するのを実質的に防ぐ、前記蓋の内部側に位置するドームと、
前記ドームと前記マスク運搬部分との間の粒子の流れを実質的に防ぐ粒子シーリングデバイスと、
をさらに備える、請求項７０に記載のボックス。
【請求項７２】  前記ドームを前記蓋に結合するために使用され、前記ボックスが閉じる間、前記蓋が前記マスク運搬部分に接近するように前記粒子シーリングデバイスに圧縮力を加えるバネを少なくとも含むデバイスを含み、
前記粒子シーリングデバイスは圧縮性を有する、請求項７１に記載のボックス。
【請求項７３】  前記ドームは、前記ドームと前記マスク運搬部分との間に形成されるキャビティからガスを流すことを可能にする通路をさらに含む、請求項７１に記載のボックス。
【請求項７４】  前記ドームの内部側に結合され、かつ前記マスク運搬部分に対して前記マスクを押圧するバネをさらに含む、請求項７１に記載のボックス。
【請求項７５】  前記ガスシーリングデバイスおよび前記粒子シーリングデバイスは順次的に動作するように構成されている、請求項７１に記載のボックス。
【請求項７６】  前記ボックスが閉じる場合、前記粒子シーリングデバイスは、前記ガスシーリングデバイスの圧縮開始前に少なくとも部分的に係合され、
前記ボックスが開く場合、前記ガスシーリングデバイスは、前記粒子シーリングデバイスの係合解除前に前記蓋と前記マスク運搬部分の少なくとも１つから分離されるとともに実質的に減圧される、請求項７１に記載のボックス。
【請求項７７】  （ａ）レチクルの第１の部分を取外し可能な粒子カバーで被覆し、該第１の部分を汚染から保護するシステムを形成する工程であって、前記取外し可能な粒子カバーの一部が、前記レチクルが露光前に露光ポジションに位置したときに前記レチクルから離れる方向に移動可能である工程と、
（ｂ）前記システムを前記運搬部分および前記運搬部分から分離可能な蓋を有するボックスの内側に封入し、該ボックスは前記レチクルを汚染から保護する工程と、
（ｃ）前記システムを前記ボックスの内側に移送する工程と、
を有する、方法。
【請求項７８】  前記運搬部分と前記蓋との間のガスフローを防ぐガスシーリングデバイスを使用する工程と、
前記蓋を前記運搬部分に取外し可能に固定するラッチを使用する工程と、
をさらに有する、請求項７７に記載の方法。
【請求項７９】  前記ボックス内の粒子が前記レチクルに到達するのを実質的に防ぐドームであって、前記蓋の内部側に位置するドームを使用する工程と、
前記ドームと前記運搬部分との間の粒子の流れを実質的に防ぐ粒子シーリングデバイスを使用する工程と、
をさらに有する、請求項７８に記載の方法。
【請求項８０】  前記ガスシーリングデバイスおよび前記粒子シーリングデバイスは順次的に動作する、請求項７９に記載の方法。
【請求項８１】  前記ボックスが閉じる場合、前記粒子シーリングデバイスは、前記ガスシーリングデバイスの圧縮開始前に少なくとも部分的に係合され、
前記ボックスが開く場合、前記ガスシーリングデバイスは、前記粒子シーリングデバイスの係合解除前に前記蓋と前記マスク運搬部分の少なくとも１つから分離されるとともに実質的に減圧される、請求項７９に記載の方法。
【請求項８２】  前記ドームを前記蓋に結合するデバイスであって、前記ボックスが閉じる間、前記蓋が前記マスク運搬部分に接近するように前記粒子シーリングデバイスに圧縮力を加えるバネを少なくとも含むデバイスを使用する工程をさらに含み、
前記粒子シーリングデバイスは圧縮性を有する、請求項７９に記載の方法。
【請求項８３】  前記ドームの内部側に結合され、かつ前記運搬部分に対して前記レチクルを押圧する他のバネを使用する工程をさらに含む、請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】  前記ドームと前記運搬部分との間に形成されるキャビティからガスを流すことを可能にする通路を使用する工程をさらに含む、請求項８３に記載の方法。
【請求項８５】  前記取外し可能なカバーを露光ポジションに位置するステージに固定する工程をさらに含む、請求項７７に記載の方法。
【請求項８６】  前記レチクルは、反射型レチクルを含む、請求項７７に記載の方法。
【請求項８７】  （ａ）マスクの第１の部分を取外し可能な粒子カバーで被覆し、該第１の部分を汚染から保護し、かつ、該マスクの第２の部分を被覆されない状態にしておくシステムを形成する工程と、
（ｂ）前記システムをマスク運搬部分および該マスク運搬部分から分離可能な蓋を有する気密ボックスの内側に封入し、該ボックスは前記マスクを汚染から保護する工程と、
（ｃ）前記システムを前記ボックスの内側に移送する工程と、
を有する、方法。
【請求項８８】  開口部を有する筐体と、
該筐体の該開口部の第１の開口部と結合される大気側ゲートバルブと、
該筐体の該開口部の第２の開口部と結合される真空側ゲートバルブと、
マスクを支持し、かつ該筐体の内側に配置されるマスクホルダと、
該マスクを被覆し、かつ該筐体の内側に配置される移動可能なドームと、
該マスクを被覆するように配置されるように該ドームを移動させるドームアクチュエータと、をさらに備える、ロードロック。
【請求項８９】  前記筐体の内部と結合されるシールシートであって、該シールは実質的に前記ドームの開口端と合わせられる、シールシートと、
該ドームと該シートとの間の粒子の流れを防ぐ粒子シーリングデバイスと、
をさらに備える、請求項８８に記載のロードロック。
【請求項９０】  前記ドームと前記シートとの間に形成される空隙から、前記ロードロックの内部容量の残り部分にガスが流れるか、または戻ることを可能にし、一方で粒子が通路を通って流れることを防ぐ、フィルタリングされた通路をさらに備える、請求項８９に記載のロードロック。
【請求項９１】  （ａ）マスクをロードロックの内側に配置する工程と、
（ｂ）該マスクをドームで被覆し、該ロードロック内の粒子が該マスクに到達することを防ぐ、工程と、
（ｃ）該ロードロックを閉じる工程と、
（ｄ）該ロードロック内の気圧を低減する工程と、
（ｅ）真空にするために該ロードロックを開く工程と、
（ｆ）該ドームを取り外して、該マスクの覆いを取る工程と、
（ｇ）該マスクを該ロードロックから除去する工程と、
を有する、方法。
【請求項９２】  （ａ）蓋から分離可能であるマスク移送部分を有する気密ボックスの内部にマスクを封入する工程であって、該蓋は該マスクを汚染から保護するために用いられる、工程と、
（ｂ）該マスクを含む該ボックスを、該ボックスを処理するために用いられるプロセスツールに移送する工程と、
（ｃ）該ボックスを処理する工程の間、該プロセスツール内で該マスクを該ボックスから除去する工程と、
（ｄ）該マスクを処理する工程と、
を有する、方法。
【請求項９３】  分離可能な蓋を有するデバイスに取外し可能に固定されるマスクを支持するボックスと、
実質的に大気圧で、フィルタリングされた空気を含む第１の部分と、
該第１の部分内で該ボックスを移動させる大気マニピュレータと、
該マスクを該第１の部分とガスミニエンバイロメント部分との間を移動させるために用いられるポッド解除器であって、該ガスミニエンバイロメント部分は、実質的に大気圧で、清浄なガスを用いて排出され、該ガスミニエンバイロメント部分は、該ミニエンバイロメント部分内で該ボックスを移動させるミニエンバイロメントマニピュレータを有する、ポッド解除器と、
該ミニエンバイロメント部分と真空部分との間で該マスクを移動させるロードロックと、
該マスクを該真空部分内で移動させる真空マニピュレータと、
を備える、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
図７は、本発明の実施形態によるシステム１００を示す。フレーム２は、レチクル１を保持し得、動力学的機構対２０１ａおよび２０１ｂの第１のセットを介してパネル３に動力学的に係合され得る。同様にパネル３は、動力学的機構対２０２ａおよび２０２ｂの第２のセットを介してロボットグリッパー４に動力学的に係合され得る。さらに、動力学的機構対２０３ａおよび２０３ｂの第３のセットを使用して、一般的にアイテム１３によって示された真空ライブラリシェルフおよびＳＭＩＦポッドベースプレートに対するパネル３を動力学的に係合し得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
図７に示される実施形態では、動力学的機構２０２ａおよび２０３ｂは、同じ溝を共有する。２０２ａは溝の最も内側の部分内において２０２ｂにインターフェイスを取り、２０３ａは溝の最も外側の部分内において２０３ｂにインターフェイスを取る。この相対的な配置が逆転され得ることが当業者に明らかである。別の溝がこれらの動力学的機構のそれぞれを実現するために使用され得ることも明らかである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
別の実施形態では、一体型のカバーが使用され得る。この実施形態では、フレーム２が一体型のカバーを生成するためにパネル３に固定され得る（例えば、パネル３と同じ材料のブロックから接着または作製される）。この一体型カバーは、レチクル１のリソグラフィー露光に対して完全に除去される。従って、機構対２０１ａおよび２０１ｂは、この一体型カバーの実施形態において必要とされ得ない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
（実質的に平坦なレチクルカバー）図９〜１１は、本発明の実施形態によるレチクルカバー９０２を示す。所定のイベント間で除去可能なレチクルカバー９０２は、レチクル（例えばマスク）９０１を保護する。光の所定の波長に対して透過性であり得るレチクル９０１は、支持パッドまたはスペーサー９０３、ネスティングピン９０４、動力学的ロケータ（例えばマスクロケータ）９０５、およびホール９０６を含む。ホール９０６は、カバー９０２とレチクル９０１との間の加圧されたガス掃引の注入を可能にするために使用され得、そしてガスフィルタを含み得る。種々の材料がパッド９０３およびピン９０４を作製するために使用され得、その結果これらの材料はレチクル９０１に損傷を与えないかまたはレチクルとの接触を形成または破壊する場合に粒子を削減する。いくつかのクリアランスが、カバー９０２を除去するために、レチクル９０１とネスティングピン９０４との間で必要とされるため、レチクルはカバー９０２に関して少量スライドし得る。上述の実施形態にわたる改良は、カバー９０２が実質的に平坦であることである。実質的に平坦な設計を利用することによって、ほとんどの液体は洗浄中にトラップされない。なぜなら、この液体をトラップし得るポケットまたはキャビティが存在しないためである。従って、カバー９０２は、洗浄または「超洗浄」することが簡単である。いくつかの実施形態では、浴内での超音波洗浄、すすぎ、およびスピン乾燥は、カバー９０２を洗浄する。従って、洗浄することが困難な従来の複雑なカバーとは対照的に、カバーの構成のために、カバー９０２は洗浄することが非常に容易である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
外部ボックス１２５２は、ガス透過性内部カプセル１２６３を内部に固定し、このカプセルは微粒子汚染物に対して保護し、簡単な洗浄のために取り外し可能な部分を有する。内部カプセル１２６３はドーム１２６４（例えばＰｙｒｅｘ（Ｒ）ガラスドーム）を含む。これは、プレート１２６６（例えば、ポリイミド、ＥＳＤグレードポリエーテルイミド等から形成またはコーティングされる）に結合された薄壁（例えば２ｍｍ）を有し得る。レチクル１およびレチクルカバー１０２（例えばＰｙｒｅｘ（Ｒ）ガラス等から形成される）は、ロボットグリッパー（図示しない）と相互作用し得る内部カプセル１２６３の内側に位置決定される。デバイス１２６８（例えばバネ等）を使用して、ドーム１２６４を蓋１２５６に結合し得、移動中のレチクル１を固定するために内部カプセル１２６３に押し付ける圧力を付与する。これはまた、粒子シーリングデバイス１２６０を圧縮する。レチクル１の表面１３０２は、ガラス、クロムメッキ（例えばＣｒメッキ）、または耐久性材料を用いるメッキであり得る。使用中に、ポッド１２５０のカバーまたは蓋１２５６は、レチクル１に近づけるために除去される。フィルタリングされた通路１３０４は、ドーム１２６４とプレート１２６６との間に含まれた量をポッド１２５０内に含まれた残りの量に接続させ、ガスが２つの量間に流れることを可能にするが粒子の流れを妨げ得る。例示的なフィルタリングされた通路１３０４は、膜ガスフィルタ等で被覆されたドーム１２６４の壁を通るホールであり得る。別の例は、焼成されたパウダー金属ガスフィルタ等で充填されたプレート１２５８を通るホールであり得る。当該分野で公知のように、他の位置およびフィルタリングデバイスが使用され得ることが理解されるべきであり得る。アラインメントデバイス１３０６は、ポリイミドがコーティングされた表面を有し得る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2003257852.tif 000001