【手続補正書】
【提出日】平成19年10月9日(2007.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システム内の対象物をモデル化する方法であって、
幾何学単位間の隙間領域を用いてモデル化システム内に対象物を形成する段階を含み、前記幾何学単位が、前記隙間領域を定める複数の湾曲表面を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
他の形成対象物中に形成対象物を埋め込む段階を更に含む請求項４に記載の方法。
【請求項３】
モデル化領域内に形成対象物を仮想的に充填する段階を更に含む請求項４に記載の方法。
【請求項４】
システム内の幾何学構成体をモデル化する方法であって、
三次元構成体間に隙間領域を定める段階と、
三次元幾何学構成体（５６、７６、８６）の隙間領域の１つ又はそれ以上の組を別の領域に埋め込み、各三次元幾何学構成体が同じ組の以前の構成体を含むように配列する段階と、を含む方法。
【請求項５】
領域の組が、前記埋め込みの一部として回転するように構成されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項６】
中性子モデル化法に従って放射線システムをモデリングする方法であって、
少なくとも１つの第１幾何学構成体を第２幾何学構成体へと配置する工程と、
前記第１幾何学構成体を前記第２幾何学構成体の全体を通じて明示的に配置することもなしにその第２幾何学構成体があたかも複数の前記第１の幾何学構成体によって十分に充填されているかのように、前記第２幾何学構成体の少なくとも１つの中性子特性を定義する工程とを具備することを特徴とする請求項の核分裂システムのモデル化方法。
【請求項７】
前記第１幾何学構成体は、少なくとも１つの隙間領域を形成し、前記少なくとも１つの隙間領域の境界により前記第１幾何学構成体を形成することにより、形成されることを特徴とする請求項６のモデル化方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの隙間領域の前記境界の形状は、前記形成された第１幾何学構成体が円筒形若しくは球形となるように形作られることを特徴とする請求項７のモデル化方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの隙間領域の前記境界の形状は、前記形成された第１幾何学構成体が二次曲面方程式に従って形作られるように形作られることを特徴とする請求項８のモデル化方法。
【請求項１０】
各々の幾何学構成体を含むモデルシステムの実効中性子増倍率を獲得する工程をさらに有し、そのの実効中性子増倍率の各々が核分裂システム内の対象を表現し且つ前記表現された対象の中性子特性と関連づけることを特徴とする請求項７のモデル化方法。
【請求項１１】
中性子モデル化法に従って放射線システムをモデリングする方法であって、
少なくとも１つの第１幾何学構成体を第２幾何学構成体へと配置する工程と、
前記第１幾何学構成体を前記第２幾何学構成体の全体を通じて明示的に配置することもなしに、前記第２幾何学構成体があたかも前記第１の幾何学構成体を包含するかのように、前記第２幾何学構成体の少なくとも１つの中性子特性を、前記第１幾何学構成体の前記配置と中性子特性とに基づいて定義する工程とを具備することを特徴とする請求項の核分裂システムのモデル化方法。
【請求項１２】
少なくとも１つの前記第２幾何学構成体を第３幾何学構成体へと配置する第２配置工程と、
前記第３幾何学構成体の少なくとも１つの中性子特性を、前記第３幾何学構成体があたかも少なくとも１つの第２幾何学構成体を含むように、前記第２幾何学構成体の前記配置と中性子特性とに基づいて、定義する第２定義工程とをさらに具備することを特徴とする請求項１１の核分裂システムのモデル化方法。
【請求項１３】
複数レベルの埋込み幾何学構成体を形成するように、前記第２配置工程と第２定義工程とは、第Ｎ幾何学構成体についてＮ回繰り返されて、前記第Ｎ幾何学構成体の少なくとも１つの中性子特性は、各レベルの幾何学構成体の配置と中性子特性とに基づいて定義されることを特徴とする請求項１２に記載のモデル化方法。
【請求項１４】
複数の前記第１幾何学構成体が前記第２幾何学構成体に配置され、その各々の第１幾何学構成体は同じ中性子特性を持たないことを特徴とする請求項１１に記載のモデル化方法。
【請求項１５】
複数の前記第１幾何学構成体が前記第２幾何学構成体に配置され、その複数の第１幾何学構成体の少なくとも２つの第１幾何学構成体は、空間的にオーバラップして前記第２幾何学構成体内にオーバラップ領域を形成することを特徴とする請求項１１に記載のモデル化方法。
【請求項１６】
前記第１幾何学構成体を前記第２機構の内部で回転し、
前記第２期河野少なくとも１つの中性子特性を、前記第１幾何学構成体の配置と回転とに基づいて定義する、ことを特徴とする請求項１１に記載のモデル化方法。
【請求項１７】
各々が幾何学構成体を含むモデルシステムの実効中性子増倍率を獲得する工程をさらに有し、そのの実効中性子増倍率の各々が核分裂システム内の対象を表現し且つ前記表現された対象の中性子特性と関連づけることを特徴とする請求項１２のモデル化方法。
【請求項１８】
中性子モデル化法に従って放射線システムをモデリングする方法であって、
少なくとも１つの第１幾何学構成体を第２幾何学構成体へと配置する工程と、
前記第１幾何学構成体を前記第２幾何学構成体の全体を通じて明示的に配置することもなしにその第２幾何学構成体があたかも複数の前記第１の幾何学構成体によって十分に充填されているかのように、前記第２幾何学構成体の少なくとも１つの中性子特性を定義する工程とを具備することを特徴とする請求項の核分裂システムのモデル化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
更に、複合幾何学的形状を有するシステムをモデル化する場合には、単純な幾何学的形状を用いてこれらの複合幾何学的形状を生成するが、これにより、モデル化の正確さが減少する可能性がある。また、現行の解析法ではモデル化に対する能力が限定されているため、例えば、他の幾何学的単位内部の（例えば中に含まれている）格子のような埋め込まれた幾何学的形状では、大量のランタイムメモリが必要である。更に、領域を充填するために極めて多数（例えば数百万）の個々の幾何学的単位が必要な場合に効率的に計算を行うためにも、大量のランタイムメモリが必要となる可能性がある。その結果として、例えば、格子内の各幾何学的単位を調べ、どこで相互作用又は境界横断が起こっているかを求めるために、複雑な計算を行う余分なプロセッサ能力が必要である。更に、公知のモデル化システムを用いて、例えば、輸送コンテナと設備との相互作用での不均質な格子を臨界解析することに関して、このような解析に対する費用は、計算を行うのに必要なコンピュータ時間の長さ及び／又は処理能力の大きさにより、適正な範囲を超えることが多い。
【特許文献１】米国特許第６，７１８，２９１号
【特許文献２】米国特許第５，９３６，６２８号
【特許文献３】日本公開特許Ｈ０６−１１１０２７
【特許文献４】日本公開特許Ｈ０６−０４４３６３
【特許文献５】日本公開特許Ｈ０６−０４４３４６
【特許文献６】日本公開特許Ｈ０６−０３５９９６
【特許文献７】日本公開特許Ｈ０５−０４０８０９
【特許文献８】米国特許第３，６６３，３４６号
【特許文献９】米国特許第５，７９３，３７３号
【特許文献１０】日本公開特許Ｈ０８−１５３１３３
【特許文献１１】日本公開特許Ｈ０８−１５３１２５
【特許文献１２】日本公開特許Ｈ０８−１５３１２４
【特許文献１３】日本公開特許Ｈ０８−１５３１２３
【特許文献１４】日本公開特許Ｈ０８−１５３１２２
【特許文献１５】米国特許第２００１−００５６３０８号
【特許文献１６】米国特許第７，１１０，８８８号
【特許文献１７】米国特許第２００５−００１  ８８８５号
【非特許文献１】Solid Edge, 2000, Unigraphics Solutions Inc, Pages: iii-vi, 29-163, 421-439