【手続補正書】
【提出日】平成19年12月26日(2007.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サポートの平面上に三次元ミクロ構造を形成する方法であり、
上記方法は上記サポート表面上への平らで均一な第一シリコーン層の適用ステップ及び上記第一シリコーン層上への三次元的にミクロ構造化された第二シリコーン層の適用ステップを含み、
上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層は積層的に結合されて、サポート表面上に均一に分散され、抗粘着性を確保する三次元ミクロ構造を形成し、
その結果、上記シリコーン層上に配置された、基板のフレキシブル表面は、２個のシリコーン層により形成された三次元ミクロ構造の逆転写によりミクロ構造化され、
上記シリコーン層は、加熱、紫外線若しくは電子線照射、又はそれらの組み合わせによる硬化により固定される方法。
【請求項２】
基板のフレキシブル表面の三次元ミクロ構造化方法であり、
サポート表面上への平らで均一な第一シリコーン層の適用ステップ；
上記第一シリコーン層上への三次元的にミクロ構造化された第二シリコーン層の適用ステップ、ここで上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層は積層的に結合されて、サポート表面上に均一に分散され、抗粘着性を確保する三次元ミクロ構造を形成する；並びに、
上記シリコーン層上へ、上記基板のフレキシブル表面を配置するステップ、ここで上記基板のフレキシブル表面は第一シリコーン層及び第二シリコーン層により形成された三次元ミクロ構造の逆転写によりミクロ構造化される；を含み、
上記シリコーン層は、加熱、紫外線若しくは電子線照射、又はそれらの組み合わせによる硬化により固定される方法。
【請求項３】
第一シリコーン層及び第二シリコーン層により形成された上記三次元ミクロ構造はミクロハニカムモチーフを含有する請求項１及び２いずれかの方法。
【請求項４】
粘着材の表面の１の三次元的ミクロ構造を特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載の方法。
【請求項５】
上記第一シリコーン層は、架橋剤として下記基
【化１】
2007516868.tif 000001
を有する機能性化ポリオルガノシロキサン、及び上記架橋剤と反応できる少なくとも１の機能性化ポリオルガノシロキサンを含有する請求項１〜４いずれか１項記載の方法。
【請求項６】
上記第一シリコーン層は、架橋剤として下記基
【化２】
2007516868.tif 000002
を有する機能性化ポリオルガノシロキサン、及び上記架橋剤と反応できる、下記基
【化３】
2007516868.tif 000003
（但し、Ｒは少なくとも１のエチレン性不飽和を含有する）を有する少なくとも１の機能性化ポリオルガノシロキサンを含有する請求項１〜４いずれか１項記載の方法。
【請求項７】
上記第一シリコーン層は、架橋反応の活性化触媒を含有する請求項５又は６の方法。
【請求項８】
上記活性化触媒は白金、ロジウム又はスズベースの触媒から選ばれる請求項７の方法。
【請求項９】
上記第一シリコーン層は、更に粘着調節剤、反応促進剤及び反応阻害剤、顔料、界面活性剤並びにフィラーの群から選ばれる１以上の添加剤を含有する請求項５〜８いずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
上記第一シリコーン層は、熱又は紫外線照射への曝露により硬化される請求項７〜９いずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
上記シリコーン層は熱により硬化される場合７０〜２００℃に加熱される請求項１０の方法。
【請求項１２】
上記第一シリコーン層は電子線照射への曝露により硬化される請求項５又は６の方法。
【請求項１３】
上記第一シリコーン層の厚さは０．４〜１．６μｍである請求項５〜１２いずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
上記第二シリコーン層は少なくとも１のポリオルガノシロキサン及びケトン型触媒を含有し、紫外線照射への曝露により硬化される請求項１〜１３いずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
上記第二シリコーン層は少なくとも１のポリオルガノシロキサン及びヨードニウム塩型の触媒を含有し、それは紫外線照射への曝露により硬化される請求項１〜１３いずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
上記第二シリコーン層は少なくとも１のポリオルガノシロキサンを含有し、アクリレート及び／又はエポキシ基の場合紫外線照射、又はアクリレート基の場合電子線照射への曝露により硬化される請求項１〜１３いずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
上記第一シリコーン層及び上記第二シリコーン層により形成された上記三次元ミクロ構造は、頂上高さ３〜５０μｍであるミクロエンボス加工されたモチーフから構成される、請求項３〜１６いずれか１項記載の方法。
【請求項１８】
上記第二シリコーン層は、３〜２５ｇ／ｍ2の範囲の量で第一層へ適用される請求項１〜１７いずれか１項記載の方法。
【請求項１９】
上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層は、互いに接近している表面張力１５〜２５ｍＮ／ｍを有する請求項１〜１８いずれか１項記載の方法。
【請求項２０】
上記基板及びサポートは、紙、又は、プラスチックフィルムから構成される請求項１〜１９いずれか１項記載の方法。
【請求項２１】
上記粘着材は、上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層上に、直接コーティングされ又はラミネートされて配置される請求項４〜２０いずれか１項記載の方法。
【請求項２２】
直接コーティングの場合、粘着材は液体、又はホットキャスト固体の形状のいずれかである請求項２０の方法。
【請求項２３】
上記粘着材は、フレキシブルプラスチックフィルムへ適用される請求項４〜２２いずれか１項記載の方法。
【請求項２４】
上記粘着材表面を上記いずれかの表面へ適用する間、適用される表面へ接触する粘着材表面は、全被覆表面の１５〜３２％である請求項２〜２３いずれか１項記載の方法。
【請求項２５】
粘着材の表面を有する、三次元的ミクロ構造化フィルム、及び／又は、請求項１〜２３いずれか１項記載の方法により三次元的ミクロ構造化された自己粘着性フィルムであり、上記シリコーン層により形成されるミクロ構造と接触する表面に対面する表面上に、装飾、広告又は他の目的のためのモチーフを有するフィルム。
【請求項２６】
下記を含む多層シート：
（ａ）下記を含むフレキシブルサポート：
（ｉ）第一広い(broad)表面及び対面する第二広い表面を有するシート状構造；
（ｉｉ）上記シート状構造の上記第一広い表面へ少なくとも固定化される、シート状コーティング中のシリコーン含有材料の第一層；
（ｉｉｉ）複数の尾根部として上記第一層（ｉｉ）へ固定され、その結果少なくとも１のその広い表面上に複数の尾根部の三次元微細構造を有するフレキシブルサポートを提供するシリコーン含有材料の第二層；並びに
（ｂ）近位の第一表面及び対面する遠位の第二表面を有するフレキシブル基板であり、上記近位の第一表面は、上記フレキシブルサポートの上記三次元表面と剥離可能に接触しており、上記近位の第一表面は、対になっている逆転写された上記三次元微細構造を有するフレキシブル基板。
【請求項２７】
上記フレキシブルサポートの上記シート状構造は、エンボス加工により、上記第二層尾根部へ対応する複数の尾根部へ変形しない請求項２６の多層シート。
【請求項２８】
上記フレキシブル基板の上記遠位の第二表面は、上記フレキシブルサポートの上記複数の尾根部へ相当する尾根部パターンから視覚的に影響されない請求項２６の多層シート。
【請求項２９】
上記基板は、上記基板に近位の第一表面を形成する第一粘着材層を含有する請求項２６の多層シート。
【請求項３０】
上記基板は、更に上記第一粘着材層と接触する第一外観保存層を含有し、上記外観保存層は上記基板の対面する遠位の第二表面を構成する請求項２９の多層シート。
【請求項３１】
上記基板の上記遠位の第二表面は、その上に適用される追加的外層を有する請求項２６の多層シート。
【請求項３２】
上記基板の上記遠位の第二表面には、少なくとも１のイメージが印刷される請求項２６の多層シート。