Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月13日(2007.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  並列に接続された燃料電池と２次電池と、
負荷に対して前記両電池から前記負荷への電力の供給を行なう電力供給手段とを有する燃料電池システムであって、
前記電力供給手段は、
接続される負荷の大きさを検出する検出手段と、
検出負荷が所定の低負荷領域である場合には、前記燃料電池の発電運転を停止して前記燃料電池からの電力供給を停止する停止手段と
を備えた燃料電池システム。
【請求項２】  請求項１記載の燃料電池システムであって、
前記停止手段は、前記発電運転に関与する燃料電池補機の運転を停止する手段を有する、燃料電池システム。
【請求項３】  請求項１又は請求項２記載の燃料電池システムであって、
前記電力供給手段は、
前記２次電池の残存容量を検出する手段と、
前記検出残存容量で前記低負荷領域の場合の前記検出負荷を賄えるときには、前記停止手段の動作を禁止する手段とを有する、燃料電池システム。
【請求項４】  請求項１ないし請求項３いずれか記載の燃料電池システムであって、
前記低負荷領域は、前記燃料電池の電力供給能力の約１０％以下の領域とされている、燃料電池システム。
【請求項５】  請求項１記載の燃料電池システムであって、
前記接続される負荷は、燃料電池システム外への電力供給先である第１の負荷と、燃料電池システム内への電力供給先である第２の負荷とからなる、燃料電池システム。
【請求項６】  並列に接続された燃料電池と２次電池と、
負荷に対して前記両電池から前記負荷への電力の供給を行なう電力供給手段とを有する燃料電池システムであって、
前記電力供給手段は、
燃料電池システムのシステム効率が所定値以下である場合には、前記燃料電池の発電運転を停止して前記燃料電池からの電力供給を停止する停止手段を備えた燃料電池システム。
【請求項７】  電気エネルギによってモータを回転させ、該モータの回転力を車軸に伝えることによって駆動力を得る電気自動車であって、
並列に接続された燃料電池と２次電池と、負荷に対して前記両電池から前記負荷への電力の供給を行なう電力供給手段とを有する燃料電池システムを搭載し、
前記燃料電池システムの前記電力供給手段は、
接続される負荷の大きさを検出する検出手段と、
検出負荷が所定の低負荷領域である場合には、前記燃料電池の発電運転を停止して前記燃料電池からの電力供給を停止する停止手段とを備え、
前記モータは、前記燃料電池システムから電力の供給を受ける、電気自動車。
【請求項８】  請求項７記載の電気自動車であって、
前記接続される負荷は、燃料電池システム外への電力供給先である第１の負荷と、燃料電池システム内への電力供給先である第２の負荷とからなる、電気自動車。
【請求項９】  電気エネルギによってモータを回転させ、該モータの回転力を車軸に伝えることによって駆動力を得る電気自動車であって、
並列に接続された燃料電池と２次電池と、負荷に対して前記両電池から前記負荷への電力の供給を行なう電力供給手段とを有する燃料電池システムを搭載し、
前記燃料電池システムの前記電力供給手段は、
燃料電池システムのシステム効率が所定値以下である場合には、前記燃料電池の発電運転を停止して前記燃料電池からの電力供給を停止する停止手段を備え、
前記モータは、前記燃料電池システムから電力の供給を受ける、電気自動車。
【請求項１０】 負荷に対して並列に接続された燃料電池と２次電池と、
前記両電池から前記負荷への電力の供給を行なう電力供給手段とを有する燃料電池システムであって、
前記電力供給手段は、
接続される前記負荷の大きさを検出する検出手段と、
検出負荷が所定の低負荷領域である場合には、前記燃料電池へのガス供給を停止して前記燃料電池からの電力供給を停止する停止手段と
を備えた燃料電池システム。
【請求項１１】 請求項１０記載の燃料電池システムであって、
前記停止手段は、前記燃料電池のカソードへのガス供給を停止する、燃料電池システム。
【請求項１２】 電力の供給を受けて回転しその回転力を車軸に伝えるモータに対して並列に接続された燃料電池と２次電池と、
前記両電池から前記モータへの電力供給を行なう電力供給手段とを有する燃料電池システムであって、
前記電力供給手段は、
前記モータに求められる負荷の大きさを検出する検出手段と、
検出負荷が所定の低負荷領域である場合には、前記２次電池のみから前記モータに電力を供給する手段と
を備えた燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
補機類３４は、燃料電池システム１０における燃料電池２０の稼働中に所定範囲内の電力を消費する負荷である。例えば、周辺装置として既述したエアコンプレッサ６６や、メタノール・水の各ポンプ６１ａ、６２ａのほか、マスフロコントローラや図示しないウオータポンプなどがこの補機類に相当する。エアコンプレッサ６６は、既述したように、燃料電池２０に供給する酸化ガス圧を調節するものである。また、ウオータポンプは、冷却水を加圧して燃料電池２０内を循環させるものであり、このように冷却水を循環させて燃料電池２０内で熱交換を行なわせることによって、燃料電池２０の内部温度を所定の温度以下に制御する。マスフロコントローラは、既述したように燃料電池２０に供給する燃料ガスの圧力と流量を調節する。従って、図１のブロック図では燃料電池２０と補機類３４とは独立して表わされているが、これら燃料電池２０の運転状態の制御に関わる機器については燃料電池２０の周辺機器ということもできる。このような補機類３４の電力消費量は、モータ３２の消費電力に比べて少ないものの、燃料電池２０の発電量が多くなるほど多くなる。また、この補機類は、燃料電池２０が発電運転している状況下では、発電量の大小に拘わらず運転される。この点について説明する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
一方、ステップＳ１４０で、残存容量Ｑだけでは駆動要求パワーを充足できないと判定した場合は、２次電池３０と燃料電池２０を併用すべく、上記の燃料電池機器群を発電運転させると共に、燃料電池２０の連続運転モードに移行する旨を示すよう、間欠フラグｆｋに値０「ゼロ」を入れてこれをリセットする（ステップＳ１７０）。これにより、２次電池３０の残存容量Ｑの電力と燃料電池２０が発電した電力とで、モータ３２の回転並びに駆動要求パワーでの車両駆動が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 正極、負極、その両極間に介装されたセパレーター、非水溶媒と溶質とからなる非水電解液、及びこれらが収納されている容器で構成される非水系二次電池において、該非水電解液は０．１〜６．０重量％のビニレンカーボネートを電池作製後の最初の充電前の状態で含み、且つ、電池容器内に二酸化炭素を封入していることを特徴とする非水系二次電池。
【請求項２】 該非水溶媒はγ−ブチロラクトンを６０体積％以上含み、且つ、該溶質は少なくともテトラフルオロホウ酸リチウムを含む１種以上のリチウム塩であることを特徴とする請求項１記載の非水系二次電池。
【請求項３】 電池作成後の最初の充電から６０日以内に、３．９〜４．２Ｖのある電圧値で１日〜３週間の期間放置しておくことを特徴とする請求項１または２記載の非水系二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、正極、負極、その両極間に介装されたセパレーター、非水溶媒と溶質とからなる非水電解液、及びこれらが収納されている容器で構成される非水系二次電池において、該非水電解液は０．１〜６．０重量％のビニレンカーボネートを電池作製後の最初の充電前の状態で含み、且つ、電池容器内に二酸化炭素を封入していることを特徴とする非水系二次電池、を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月18日(2007.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源、該光源から出射する光を導入し光量分布を均一化させる光量分布均一化手段、該光量分布均一化手段から出射する光の一部を光入射端面から導入して光出射端面から出射させる導光体、及び、前記光量分布均一化手段から出射する光の一部を受光して得られる光量信号に基づき前記光源の発光を制御する光源制御手段、を備えていることを特徴とする照明装置。
【請求項２】  前記光量分布均一化手段は、透光性ロッドからなり、前記光源から出射する光を導入する入射面と、光を出射させる出射面と、前記入射面から導入された光の少なくとも一部を少なくとも１回反射させ前記出射面へと導くようにする側面とを有しており、該側面は前記入射面から前記出射面へと向かう方向と直交する断面の形状が円形または多角形であることを特徴とする、請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】  前記光源と前記光量分布均一化手段との間、及び／又は、前記光量分布均一化手段と前記導光体及び前記光源制御手段との間に、光拡散手段が配置されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の照明装置。
【請求項４】  前記光源制御手段は、前記光量分布均一化手段から出射する光の一部を導入し光量モニター用受光手段へと導光する少なくとも１つの光ファイバーを有しており、前記光量モニター用受光手段から発せられる光量信号に基づき前記光源への供給電力を制御する光源駆動回路を含んでいることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の照明装置。
【請求項５】  前記光源と前記光量分布均一化手段との間に熱線吸収手段または熱線反射手段が介在していることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
この基板上に設けられ、それぞれ上記基板表面を基準とした高さが所定量異なりそれぞれが電子を放出する少なくとも一組のエミッタ群と、を具備することを特徴とする陰極装置。
【請求項２】
請求項１記載の陰極装置を具備することを特徴とする電界放出型ディスプレイ装置。
【請求項３】
高さが異なる複数のエミッタ群を有する陰極装置を被加工物に形成する陰極装置の製造方法において、
前記被加工物を切削加工することで、前記エミッタ形状を削り出す切削工程を備えていることを特徴とする陰極装置の製造方法。
【請求項４】
高さが異なる複数のエミッタ群を有する陰極装置を形成する陰極装置の製造方法であって、
原盤材料を切削加工することで、エミッタ形状を削り出し原盤を形成する切削工程と、
前記原盤によりメッキ工具を成形するメッキ工具形成工程と、
前記メッキ工具を金型材料に押し付けることで、金型を形成する金型形成工程とを備えていることを特徴とする陰極装置の製造方法。
【請求項５】
前記金型形成工程は、前記メッキ工具を位置をずらしながら前記金型材料に複数回押し付ける工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の陰極装置製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）基板と、この基板上に設けられ、それぞれ上記基板表面を基準とした高さが所定量異なりそれぞれが電子を放出する少なくとも一組のエミッタ群と、を具備するものであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月20日(2007.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】被照射面を照明する照明装置において、
予備用照明光源を含む複数の照明光源と、
前記複数の照明光源の光束が導かれる光束合成光学系と、
前記光束合成光学系に入射する前の前記複数の照明光源の光束の光路を切替える光路切替手段と、
前記複数の照明光源における個々の光源の寿命を所定の照度を得るのに必要な入力電力の変化から測定する光源寿命測定手段と、
前記光源寿命測定手段の測定値に基づいて、前記複数の照明光源のうち寿命に達し交換を必要とする照明光源の光路を、予備用照明光源の光路に切替えるように前記光路切替手段を作動させる手段と、
を有することを特徴とする照明装置。
【請求項２】前記複数の照明光源のそれぞれの光量を測定する合成前光量測定手段、または前記複数の照明光源の合成された光量を測定するための合成後光量測定手段を備え、
前記合成前光量測定手段または前記合成後光量測定手段によって測定された光量の測定値に基づいて前記複数の照明光源の光量を調整するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】照明装置によって被照射面を照明する照明方法において、
前記照明装置が、予備用照明光源を含む複数の照明光源と、該複数の照明光源の光束が導かれる光束合成光学系を備え、
前記複数の照明光源における個々の光源の寿命を所定の照度を得るのに必要な入力電力の変化から予測し、
該予測値に基づいて予備用照明光源を点灯し、
該予備用照明光源が安定状態になった後、前記複数の照明光源のうち前記寿命に達し交換を必要とする照明光源の前記光束合成光学系に入射する前の光束の光路を、前記予備用照明光源の光路に切替えて前記被照射面を照明することを特徴とする照明方法。
【請求項４】請求項１または２に記載の照明装置を用い、前記被照射面位置に配されたパターンの形成されたレチクルまたはマスクを照明し、該レチクルまたはマスクのパターンを投影光学系によって露光基板に投影露光することを特徴とする露光装置。
【請求項５】請求項３に記載の照明方法を用い、前記被照射面位置に配されたパターンの形成されたレチクルまたはマスクのパターンを照明し、該レチクルまたはマスクのパターンを投影光学系によって露光基板に投影露光した後、該露光基板を現像処理してデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明は、上記課題を解決し、ランプの寿命を判断して、複数の照明光源のうち寿命に達し交換を必要とする照明光源の光路を、予備用照明光源の光路に切替え、稼働率を向上させることが可能な照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイス製造方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために、つぎの（１）〜（５）のように構成した照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイス製造方法を提供するものである。
（１）被照射面を照明する照明装置において、
予備用照明光源を含む複数の照明光源と、
前記複数の照明光源の光束が導かれる光束合成光学系と、
前記光束合成光学系に入射する前の前記複数の照明光源の光束の光路を切替える光路切替手段と、
前記複数の照明光源における個々の光源の寿命を所定の照度を得るのに必要な入力電力の変化から測定する光源寿命測定手段と、
前記光源寿命測定手段の測定値に基づいて、前記複数の照明光源のうち寿命に達し交換を必要とする照明光源の光路を、予備用照明光源の光路に切替えるように前記光路切替手段を作動させる手段と、
を有することを特徴とする照明装置。
（２）前記複数の照明光源のそれぞれの光量を測定する合成前光量測定手段、または前記複数の照明光源の合成された光量を測定するための合成後光量測定手段を備え、
前記合成前光量測定手段または前記合成後光量測定手段によって測定された光量の測定値に基づいて前記複数の照明光源の光量を調整するように構成されていることを特徴とする上記（１）に記載の照明装置。
（３）照明装置によって被照射面を照明する照明方法において、
前記照明装置が、予備用照明光源を含む複数の照明光源と、該複数の照明光源の光束が導かれる光束合成光学系を備え、
前記複数の照明光源における個々の光源の寿命を所定の照度を得るのに必要な入力電力の変化から予測し、
該予測値に基づいて予備用照明光源を点灯し、
該予備用照明光源が安定状態になった後、前記複数の照明光源のうち前記寿命に達し交換を必要とする照明光源の前記光束合成光学系に入射する前の光束の光路を、前記予備用照明光源の光路に切替えて前記被照射面を照明することを特徴とする照明方法。
（４）上記（１）または（２）に記載の照明装置を用い、前記被照射面位置に配されたパターンの形成されたレチクルまたはマスクを照明し、該レチクルまたはマスクのパターンを投影光学系によって露光基板に投影露光することを特徴とする露光装置。
（５）上記（３）に記載の照明方法を用い、前記被照射面位置に配されたパターンの形成されたレチクルまたはマスクのパターンを照明し、該レチクルまたはマスクのパターンを投影光学系によって露光基板に投影露光した後、該露光基板を現像処理してデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、複数の照明光源を使用したときでも、ランプの寿命を判断して、複数の照明光源のうち寿命に達し交換を必要とする照明光源を、予備用照明光源に切替える照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイス製造方法を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月25日(2007.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザ発振装置、露光装置および半導体デバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  波長選択素子を駆動し、レーザ光の発振波長を目標値に変更する波長変更手段と、前記レーザ光の発振状態を発振履歴として記憶する発振履歴記憶手段と、を有し、
前記波長変更手段は、前記発振履歴に基づいて前記波長選択素子の駆動量を算出し、算出された前記波長選択素子の駆動量に基づいて前記波長選択素子を駆動し、前記レーザ光の発振波長を目標値に変更することを特徴とするレーザ発振装置。
【請求項２】  前記発振履歴は、前記レーザ光の発振波長の変更量、前記レーザ光の発振休止時間、および、発振デューティのうち少なくとも１つであることを特徴とする請求項１に記載のレーザ発振装置。
【請求項３】  前記レーザ光の発振波長の変更量および前記レーザ光の発振休止時間のそれぞれにしきい値を設け、前記レーザ光の発振波長の変更量または前記レーザ光の発振休止時間が前記しきい値を超えているか否かを判断し、その判断結果に基づいて波長ロック信号を出力することを特徴とする請求項１に記載のレーザ発振装置。
【請求項４】  前記レーザ光の発振波長の変更量または前記レーザ光の発振休止時間が前記しきい値を越えている場合には前記レーザ光の出力を停止することを特徴とする請求項３に記載のレーザ発振装置。
【請求項５】  前記レーザ光の発振波長を変更する際には前記レーザ光の出力を停止しないことを特徴とする請求項１に記載のレーザ発振装置。
【請求項６】  前記レーザ光の発振波長を変更する際には空打ちを行なわないことを特徴とする請求項１に記載のレーザ発振装置。
【請求項７】  前記レーザ光はエキシマレーザ光であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のレーザ発振装置。
【請求項８】  請求項１〜７のいずれか１つに記載のレーザ発振装置を光源として用いることを特徴とする露光装置。
【請求項９】  被露光基板上の所定の露光領域における露光が終了してから次の露光領域における露光が開始されるまでの間に、前記レーザ光の発振波長を変更することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】  請求項８または９に記載の露光装置を用いて半導体デバイスを製造することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばレーザ光の発振波長の変更が可能なレーザ発振装置、それを用いた露光装置、およびその露光装置を用いる半導体デバイス製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが従来例では発振波長を変更する毎に、変更後の発振波長が目標値になったか否かを確認するために、シャッタを閉じて空打ちを行なう必要があり、シャッタの開閉および空打ちに費やす時間だけ露光装置の生産性を低下させてしまっていた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、このレーザ発振装置を露光装置用光源として使用する際には、露光装置の生産性の低下を招くことなく、常に良好な回路パターンを露光する露光装置、および半導体デバイス製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明のレーザ発振装置は、波長選択素子を駆動し、レーザ光の発振波長を目標値に変更する波長変更手段と、前記レーザ光の発振状態を発振履歴として記憶する発振履歴記憶手段と、を有し、前記波長変更手段は、前記発振履歴に基づいて前記波長選択素子の駆動量を算出し、算出された前記波長選択素子の駆動量に基づいて前記波長選択素子を駆動し、前記レーザ光の発振波長を目標値に変更することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月20日(2007.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パターン検査方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査する検査工程と、
前記検査工程で検出された前記良品パターンと前記検査対象パターンとが少なくとも一部不一致の領域について、設計パターンを用いて前記予め登録された良品パターンを修正する修正工程と、
前記修正工程で修正された良品パターンと前記検査対象パターンとを比較して検査する第２の検査工程と、を有することを特徴とするパターン検査方法。
【請求項２】
前記修正工程は、それぞれ領域分割された前記予め登録された良品パターンと前記設計パターンとについて、領域毎に位置ズレを測定した後、前記位置ズレを修正した位置関係において前記設計パターンを用いて前記良品パターンを修正する工程であることを特徴とする請求項１記載のパターン検査方法。
【請求項３】
前記予め登録された良品パターンと前記検査対象パターンとが少なくとも一部不一致の領域について、
前記検査対象パターンには存在して前記良品パターンには存在しない領域は、前記良品パターンの画素を一定画素だけ膨張させた後、膨張させた画素数と同じ画素数だけ収縮させる処理を行い、
前記検査対象パターンには存在せず前記良品パターンには存在する領域は、前記良品パターンの画素を一定画素だけ収縮させた後、収縮させた画素数と同じ画素数だけ膨張させる処理を行うことを特徴とする請求項１または２記載のパターン検査方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体、プリント基板、液晶、プラズマディスプレイパネル等の配線パターンや、印刷、捺印パターン等の文字・記号パターンなどを、画像処理により検査する際に、予め登録した良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査するパターン検査方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正して登録し、修正された最適な良品パターンを用いてパターン検査を実施することができるパターン検査方法を提供することを目的としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターン検査方法は、予め登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査する検査工程と、検査工程で検出された良品パターンと検査対象パターンとが少なくとも一部不一致の領域について、設計パターンを用いて予め登録された良品パターンを修正する修正工程と、修正工程で修正された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査する第２の検査工程と、を有するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正し、修正された最適な良品パターンを用いてパターン検査を実施することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
修正工程は、それぞれ領域分割された予め登録された良品パターンと設計パターンとについて、領域毎に位置ズレを測定した後、位置ズレを修正した位置関係において設計パターンを用いて良品パターンを修正するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、予め登録された良品パターンと検査対象パターンとが少なくとも一部不一致の領域について、検査対象パターンには存在して良品パターンには存在しない領域は、良品パターンの画素を一定画素だけ膨張させた後、膨張させた画素数と同じ画素数だけ収縮させる処理を行い、また、検査対象パターンには存在せず良品パターンには存在する領域は、良品パターンの画素を一定画素だけ収縮させた後、収縮させた画素数と同じ画素数だけ膨張させる処理を行うと、良品パターンの修正に当たって、パターン全面に対して処理を行う必要がないので、少ない手間で短時間の処理にて最適な良品パターンに修正することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【発明の効果】
本発明のパターン検査方法は、以上の説明から明らかなように、予め登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査する検査工程と、検査工程で検出された良品パターンと検査対象パターンとが少なくとも一部不一致の領域について、設計パターンを用いて予め登録された良品パターンを修正する修正工程と、修正工程で修正された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査する第２の検査工程と、を有するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正し、修正された最適な良品パターンを用いてパターン検査を実施することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
修正工程は、それぞれ領域分割された予め登録された良品パターンと設計パターンとについて、領域毎に位置ズレを測定した後、位置ズレを修正した位置関係において設計パターンを用いて良品パターンを修正するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、予め登録された良品パターンと検査対象パターンとが少なくとも一部不一致の領域について、膨張・収縮処理、または収縮・膨張処理を行うと、良品パターンの修正に当たって、パターン全面に対して処理を行う必要がないので、少ない手間で短時間の処理にて最適な良品パターンに修正することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月18日(2007.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基準の時刻または視点で撮像された基準画像における関心領域の輪郭を示す情報が与えられると、前記関心領域の輪郭線の上または近傍から複数の特徴点を選出する選出手段と、
前記選出された複数の特徴点間の連結関係を記憶する記憶手段と、
異なる時刻または視点で撮像された被探索画像において、前記複数の特徴点それぞれに対応する複数の対応点を探索する探索手段と、
前記記憶手段に記憶された連結関係に基づき、前記被探索画像の関心領域として前記複数の対応点間の輪郭を抽出する抽出手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項2】
前記抽出手段は、前記被探索画像の関心領域を抽出するための特徴点として、前記複数の対応点の少なくとも一部を用いることを特徴とする請求項1に記載された画像処理装置。
【請求項3】
前記選出手段による特徴点の選出は、前記関心領域の輪郭の形状情報に基づき行われることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された画像処理装置。
【請求項4】
前記選出手段による特徴点の選出は、前記関心領域の輪郭線の上または近傍の画像情報に基づき行われることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された画像処理装置。
【請求項5】
前記抽出手段は、前記連結関係を有する二つの特徴点の一方を始点、もう一方を終点として、エッジ強度の大きい画素を順次トレースすることを特徴とする請求項1から請求項4の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項6】
前記抽出手段は、前記始点および終点の特徴点を入れ替えて、前記トレースを双方向に行い、それらトレース結果の何れかを選択することを特徴とする請求項5に記載された画像処理装置。
【請求項7】
前記選出手段は、前記双方向のトレース結果が一致する区間に基づき、新たな特徴点を選出することを特徴とする請求項6に記載された画像処理装置。
【請求項8】
前記抽出手段は、前記トレースの注目点において、その近傍画素のエッジ強度を比較する際に、前記注目点と前記終点との位置関係に応じたマスキングを前記近傍画素に施すことを特徴とする請求項5から請求項7の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項9】
前記マスキングには、前記注目点と前記終点とがなす角度に応じたマスクが利用されることを特徴とする請求項8に記載された画像処理装置。
【請求項10】
前記マスキングは、前記注目点が前記終点から遠ざからないように、前記トレースを視野制限することを特徴とする請求項8または請求項9に記載された画像処理装置。
【請求項11】
前記マスキングは、前記注目点が前記終点に常に近付くように、前記トレースを視野制限することを特徴とする請求項8または請求項9に記載された画像処理装置。
【請求項12】
前記マスキングは、前記注目点がその軌跡に戻らないように、前記トレースを視野制限することを特徴とする請求項8または請求項9に記載された画像処理装置。
【請求項13】
前記抽出手段は、異なる視野制限特性を有する複数組のマスクを備え、トレース区間の画像情報に応じて前記複数組のマスクを選択的に使用することを特徴とする請求項8から請求項12の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項14】
前記抽出手段は、異なる重み付けが施された複数組のマスクを備え、トレース区間の画像情報に応じて前記複数組のマスクを選択的に使用することを特徴とする請求項8から請求項12の何れか一項に記載された画像処理装置。
【請求項15】
基準の時刻または視点で撮像された基準画像における関心領域の輪郭を示す情報が与えられると、前記関心領域の輪郭線の上または近傍から複数の特徴点を選出し、
前記選出された複数の特徴点間の連結関係をメモリに記憶し、
異なる時刻または視点で撮像された被探索画像において、前記複数の特徴点それぞれに対応する複数の対応点を探索し、
前記メモリに記憶した連結関係に基づき、前記被探索画像の関心領域として前記複数の対応点間の輪郭を抽出することを特徴とする画像処理方法。
【請求項16】
コンピュータ装置を制御して、請求項1から請求項14の何れか一項に記載された画像処理装置の各手段として機能させるコンピュータプログラムが記録されたことを特徴とするコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明にかかる画像処理装置は、基準の時刻または視点で撮像された基準画像における関心領域の輪郭を示す情報が与えられると、前記関心領域の輪郭線の上または近傍から複数の特徴点を選出する選出手段と、前記選出された複数の特徴点間の連結関係を記憶する記憶手段と、異なる時刻または視点で撮像された被探索画像において、前記複数の特徴点それぞれに対応する複数の対応点を探索する探索手段と、前記記憶手段に記憶された連結関係に基づき、前記被探索画像の関心領域として前記複数の対応点間の輪郭を抽出する抽出手段とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明にかかる画像処理方法は、基準の時刻または視点で撮像された基準画像における関心領域の輪郭を示す情報が与えられると、前記関心領域の輪郭線の上または近傍から複数の特徴点を選出し、前記選出された複数の特徴点間の連結関係をメモリに記憶し、異なる時刻または視点で撮像された被探索画像において、前記複数の特徴点それぞれに対応する複数の対応点を探索し、前記メモリに記憶した連結関係に基づき、前記被探索画像の関心領域として前記複数の対応点間の輪郭を抽出することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
この還元反応は、空気を絶った雰囲気下で摂氏１０００度近い高温で行われ、所定の比表面積を持つ金属タンタルを粉末状で収得する。昨今は、電子産業界より各種の比表面積を持った金属タンタル粉末が要求されている。この比表面積の大小を調整する方法として主原料のフッ化タンタル酸カリウムに対し、フッ化カリウム、塩化カリウムまたは塩化ナトリウム等の無機塩が希釈剤として使用することが提案されている。（特開昭６２−２７８２１０）  一般的には、希釈剤の量を増せば増す程、収得するタンタル粉末の比表面積は大きくなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明では、反応時に希釈剤として投入するフッ化カリウムと塩化カリウムの調整比ｒ（重量比）を下記の計算式で求めた数値に調整する。
ｒ＝（ａ×Ｃ−Ｋ）／｛（１．０＋Ｃ）×ａ｝
ここで  ｒ  ：  希釈剤の調整比  ＝ＫＦ／（ＫＦ＋ＫＣＬ）            重量／重量
ａ  ：  主原料への希釈比＝（ＫＦ＋ＫＣＬ）／Ｋ２ＴａＦ７    重量／重量
Ｃ  ：  副生塩の生成比  ＝ＫＦ／ＫＣＬ                      重量／重量
Ｋ  ：  ０．２５０〜０．３４０  の間から選ばれる定数
本式は、希釈剤としてフッ化カリウムおよび塩化カリウムを用いて［００３］に示すフッ化タンタル酸カリウムをナトリウムで還元する反応において、次に示す物質収支式から、ｒを求めることにより導かれる。
Ｃ＝（０．２９５×Ｗ＋ａ×ｒ×Ｗ）／ａ（１−ｒ）×Ｗ
ここで  Ｗ  ：  フッ化タンタル酸カリウムの重量
Ｋ  ：  ［００３］に示す反応で、フッ化タンタル酸カリウムに対し生成するフッ化カリウムの化学量論比で、その理論値（＝０．２９５）±１５％の範囲で指定している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、発明について詳述する。従来の希釈剤の量の計算にあたっては、まず主原料への希釈比ａを決める。この値ａは、収得するタンタル粉末の比表面積に応じて経験的に決定する。例えば、比表表面積で３０００ｃｍ２／ｇクラスの粉末を得たい場合は希釈比ａは約２．０とし比表面積で４０００ｃｍ２／ｇクラスの場合は希釈比ａは約３．０とする。比表面積が大きくなればなる程、希釈比ａの値は大きくとる。次に希釈剤の調整比ｒについては、従来は０．５０を標準とし、一定値を選択していた。また反応後の副生塩の生成比Ｃについては成り行きまかせで特に配慮はしていなかった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
反応で副生した混合塩を溶解して再結晶する技術は既存の技術を利用する。混合塩の溶解に際し注意することは、回収の対象となる混合塩中のカリウム塩類の飽和溶解度を大幅に越えるような多量の水を加えないこと、及び混合塩を粉状に粉砕して、溶解に用いる水の温度を４０°Ｃ以上とすることが望ましい。十分に粉砕されたカリウム塩類は、水への溶解度が非常に大きい。混合塩の溶解にあたっては、水に対する溶解度曲線からカリウム塩類が飽和になる近傍の温度を選び、その温度におけるカリウム塩類の飽和溶解度を読み取り、溶解に必要な水の最小必要量を求めて、この値を大幅に越えない水量を選択すればよい。これは混合塩の溶解操作の迅速性や晶析操作の経済性から見ても妥当な方法である。一方、ナトリウム塩は、カリウム塩類に比べて水への溶解度が極めて小さいため、上記の水量で溶解しても回収塩の純度へ与える影響は殆どない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【実施例】
［表１］に実施例を示して具体的に説明する。実施例１では、Ｋ２ＴａＦ７をナトリウムで還元しタンタル粉末を製造する際に副生したＫＦ，ＫＣＬおよびＮａＦを主成分とする混合塩を十分に粉砕し、混合塩１０００重量部に５０°Ｃの水１５００重量部を加えて、水温を５０°Ｃに保持しながら１０時間撹拌し溶解した。濾液のＰＨは１３であった。溶解前の混合塩の組成を［表１］、第１項の上段に副生塩の組成として示す。混合塩中のＫＦ／ＫＣＬ比は１．２０であった。この溶液を吸引濾過し、更に濾液を孔径１μｍの濾紙にて濾過した後、加熱濃縮して水分を５０％蒸発させ、２５°Ｃまで冷却して１時間保持し、白色の結晶を得た。白色結晶の乾燥後の分析値を［表１］第１項の下段に回収塩の組成として示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】表１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【表１】
2002060862.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
反応器の温度が、ほぼ常温に達したら反応器を炉から取り出し、蓋を解放して反応器内の生成物を取出す。生成物は、比重差により比重の大きいタンタルは下層に、比重の小さい無機塩類は上層に、固相として２層に分離している。上層部の白色の無機塩類は、微量の不純物の影響で一部が青紫色等を呈した岩石状態になっている。この無機塩類を除去した後、下層部のタンタルを取り出し機械的に一辺を約１０ｍｍ以下の大きさに解砕し、まず所定量の純水で強く撹拌しながら１０回、回分式で充分、洗浄する。次いで１００重量部の純水に塩酸１０重量部、硝酸３重量部およびフッ酸２重量部を加えた酸性液で洗浄する。酸洗浄の後は、液が中性になるまで純水で洗浄し、タンタルを濡れた粉末状態で得る。得られたタンタル粉末を濾過した後、真空乾燥機でタンタル粉末がサラサラの状態になるまで乾燥し、評価サンプルとした。同サンプルの評価結果を［表２］第１項、下段に実施例３として示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
実施例４
希釈剤ＫＦおよびＫＣＬの調整比ｒを求める計算式で、定数Ｋの値を０．２５０として計算して反応し、その副生塩から回収した回収塩を再度、希釈剤として還元反応に使用した場合のタンタル粉末の評価例を［表２］、第２項に示す。反応操作およびタンタルの回収条件は、実施例３と同様とした。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
実施例５
希釈剤ＫＦおよびＫＣＬの調整比ｒを求める計算式で、定数Ｋの値を０．３４０として計算して反応し、その副生塩から回収した回収塩を再度、希釈剤として還元反応に使用した場合のタンタル粉末の評価例を［表２］、第３項に示す。反応操作およびタンタルの回収条件は、実施例３と同様とした。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月21日(2007.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
鋼種Ｄは本発明の化学成分範囲内であり、鋼番Ｄ２，Ｄ３は、９５０℃以下で４０％以上の累積圧下を行うもので、強度、降伏比ともに本発明の目的とする効果が得られている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
鋼番Ｇ１，Ｈ１，Ｉ１，Ｊ１，Ｋ１は、化学成分、製造条件ともに本発明範囲内であり、低降伏比７８０Ｎ／ｍｍ2鋼として優れた機械的特性、溶接性が得られている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
【表２】
2002060839.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｃ：０．３〜０．８質量％、Ｓｉ：３．０質量％以下、Ｍｎ：１．５質量％以下、Cr：２．０質量％以下、Ｃｕ：０．５質量％以下、Ｎ：０．０００５〜０．０２質量％以下、Ｏ：０．０００５〜０．０１質量％以下、Ｐ：０．０２質量％以下、Ｓ：０．０１質量％以下、酸可溶Ａｌ：０．０１〜０．１０質量％を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなり、炭化物の球状化率９０％以上で平均粒径０．６μｍ以下の球状化炭化物が分散したフェライト＋炭化物の組織をもつことを特徴とする打抜き加工用鋼板。
【請求項２】
更にＭｏ：０．１〜２．０質量％、Ｎｉ：０．１〜３．０質量％、Ｖ：０．０１〜０．５質量％、Ｔｉ：０．０１〜０．１質量％、Ｎｂ：０．０１〜０．２質量％、Ｂ：０．０００５〜０．０１質量％の１種または２種以上を含む請求項１記載の打抜き加工用鋼板。
【請求項３】
ビッカース硬さが２００〜４００ＨＶの範囲にある請求項１または２記載の打抜き加工用鋼板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような問題を解消すべく案出されたものであり、鋼板の成分調整、炭化物の球状化率と金属組織を特定条件下で組み合わせることにより、優れた疲労特性を呈する打抜き加工用鋼板を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の打抜き加工用鋼板は、その目的を達するため、Ｃ：０．３〜０．８質量％、Ｓｉ：３．０質量％以下、Ｍｎ：１．５質量％以下、Cr：２．０質量％以下、Ｃｕ：０．５質量％以下、Ｎ：０．０００５〜０．０２質量％以下、Ｏ：０．０００５〜０．０１質量％以下、Ｐ：０．０２質量％以下、Ｓ：０．０１質量％以下、酸可溶Ａｌ：０．０１〜０．１０質量％を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなり、炭化物の球状化率９０％以上で平均粒径０．６μｍ以下の球状化炭化物が分散したフェライト＋炭化物の組織をもつことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
使用する鋼板は、更にＭｏ：０．１〜２．０質量％、Ｎｉ：０．１〜３．０質量％、Ｖ：０．０１〜０．５質量％、Ｔｉ：０．０１〜０．１質量％、Ｎｂ：０．０１〜０．２質量％、Ｂ：０．０００５〜０．０１質量％の１種または２種以上を含むことができ、ビッカース硬さを２００〜４００ＨＶの範囲に調整することが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
通常の打抜き加工では、破断面の他に二次せん断面が打抜き面に生じやすい。二次せん断面が生じると、破断面と二次せん断面との間に段差がつき、境界部が切欠き形状になる。打抜き面に亀裂が発生する場合、切欠きの底に相当する二次せん断面／破断面の境界が起点になる。したがって、二次せん断面が生じない条件下で打抜き加工することにより、亀裂の発生が抑えられ、疲労特性の向上が予測される。打抜き面に生じる破断面の粗さや二次せん断面の発生は、打抜きクリアランスや打抜き素材の硬さや組織の影響を受ける。したがって、打抜きクリアランス、素材硬さ及び組織を適正に調整する必要がある。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明鋼板は、所定形状に打ち抜かれた後、所定の強度を付与するため、必要に応じて４５ＨＲＣ以上に調質される。調質のための熱処理は、焼入れ又は焼き入れ・焼戻しが一般的であるが、材料によってはオーステンパ−、マルテンパー等の恒温処理を施してもよい。また、熱処理後の打抜き加工部品をショットピーニングすると、疲労特性が更に向上する。一般に疲労強度は材料強度の上昇に伴って高くなる傾向があるが、強度レベルが４５ＨＲＣ以上になると材料表面の欠陥に対する感受性が高くなり、必ずしも強度上昇が疲労強度の上昇につながらなくなる。すなわち、疲労特性が要求される用途に打抜き加工部品を使用する場合、強度レベルが４５ＨＲＣ以上になると打抜き面性状の影響が大きくなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
得られた各素材から圧延方向に沿った長さが２００ｍｍで幅３０ｍｍの短冊状試験片を切り出し、試験片の中央部に直径１０ｍｍの打抜き穴を穿設した。打抜き加工された試験片を８７０℃×１５分加熱した後、焼入れし、次いで３００℃に１００分焼き戻すことにより調質した。調質後に、試験片の硬さ、炭化物の球状化率、球状化炭化物の平均粒径を測定した。また、打抜き面について、破断面の最大高低差Ryを測定するとともに、二次せん断面の有無を観察した。  さらに、油圧式疲労試験機で引張荷重２０Hzで繰り返し加え、破断サイクルが１０5回の時間強度で疲労特性を評価した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
成分的には本発明で規定した条件を満足するＥ鋼であっても、素材硬さや球状化炭化物の平均粒径が本発明で規定した範囲を外れる試験番号９，１１（比較例）では、破断面が粗くなっており、疲労寿命が短かった。試験番号１０、１２（比較例）では、二次せん断面のある打抜き面が生じたことから、短い疲労寿命をしめした。これに対し、試験番号４〜８（本発明例）では、何れも破断面の最大高低差Ｒｙが１００μｍ以下で且つ二次せん断面のない打抜き面が生じており、成分的にも本発明で規定した条件を満足することと相まって、優れた疲労特性を示していた。この対比から明らかなように、特定された成分設計、炭化物の球状化率と金属組織を特定条件下で組み合わせることにより、優れた疲労特性を呈する打抜き加工用鋼板を提供することが可能となった。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の打抜き加工用鋼板を用いることにより、優れた疲労特性を呈する打抜き加工部品が得られる。
（以下余白）
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】カラーフィルターのＩＴＯ膜をスパッタリング法により成膜する際に用いる薄膜パターン成膜用マスクにおいて、本来のパターン開口部に加え、さらにその周囲にダミー開口部を設けたことを特徴とする薄膜パターン成膜用マスク。
【請求項２】前記薄膜パターン成膜用マスクにおけるダミー開口部の占有率が２〜２０％の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の薄膜パターン成膜用マスク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明にかかるカラーフィルターのＩＴＯ膜をスパッタリング法により成膜する際に用いる薄膜パターン成膜用マスクは、本来のパターン開口部に加えさらにその周囲にダミー開口部を設けたことを特徴とする。また、該マスクにおけるダミー開口部の占有率が２〜２０％の範囲内にあることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
実施例２
実施例と同サイズのステンレス鋼板にパターン開口部１を形成した後、マスク面積占有率２１％のダミー開口部を設けたマスクを製作し、実施例と同じカラーフィルターに同条件でＩＴＯ膜を成膜した。２４枚に成膜した結果、パターンボケの発生は見られなかったものの約半数の１１枚にマスクとの接触によるキズが見られた。ダミー開口部のマスク面積占有率が大きすぎたため、マスクの強度が低下し変形したために平面度が損なわれ、パターンエッジと基板が接触しキズが発生したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブを弛ませた状態で当該ウェブの走行位置を修正するバッファ手段と、前記バッファ手段から送り出されたウェブを挟持搬送するインフィードローラと、前記ウェブの幅方向走行位置を検出する検出手段と、前記検出手段の出力に基づき前記ウェブの幅方向走行位置を補正する蛇行補正手段と、前記インフィードローラと前記蛇行補正手段との間に設けられ自らの位置によってウェブに与える張力が変化するダンサーローラと、前記ダンサーローラを所定の位置に安定にするインフィードローラ制御手段と、前記蛇行補正手段の後段に設けられ前記ウェブに画像を形成する画像形成手段と、前記画像形成手段の後段に設けられ前記ウェブ上の画像をウェブに固着させる定着手段と、前記定着手段の後段にウェブを挟持搬送して装置外部へ排出するアウトフィードローラとを有する印刷装置において、前記画像形成部前段にウェブ搬送速度検出手段を設け、該ウェブ搬送速度検出手段の出力に応じて前記アウトフィードローラの回転速度を制御する制御手段を備えることを特徴とするウェブ印刷装置。
【請求項２】
請求項１記載のウェブ印刷装置において、前記画像形成手段は、ウェブ搬送方向に沿って配置される複数の画像形成部からなることを特徴とするウェブ印刷装置。
【請求項３】
請求項１記載のウェブ印刷装置において、前記画像形成手段は、ウェブ面の両側においてウェブ搬送方向に沿って配置される複数の画像形成部からなることを特徴とするウェブ印刷装置。
【請求項４】
請求項３記載のウェブ印刷装置において、前記ウェブの一方の面側に設けられる複数の画像形成手段と、前記ウェブの他方の面側に設けられる複数の画像形成手段とを交互に段違いに配置したことを特徴とするウェブ印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、ウェブを弛ませた状態で当該ウェブの走行位置を修正するバッファ手段と、前記バッファ手段から送り出されたウェブを挟持搬送するインフィードローラと、前記ウェブの幅方向走行位置を検出する検出手段と、前記検出手段の出力に基づき前記ウェブの幅方向走行位置を補正する蛇行補正手段と、前記インフィードローラと前記蛇行補正手段との間に設けられ自らの位置によってウェブに与える張力が変化するダンサーローラと、前記ダンサーローラを所定の位置に安定にするインフィードローラ制御手段と、前記蛇行補正手段の後段に設けられ前記ウェブに画像を形成する画像形成手段と、前記画像形成手段の後段に設けられ前記ウェブ上の画像をウェブに固着させる定着手段と、前記定着手段の後段にウェブを挟持搬送して装置外部へ排出するアウトフィードローラとを有する印刷装置において、前記画像形成部前段にウェブ搬送速度検出手段を設け、該ウェブ搬送速度検出手段の出力に応じて前記アウトフィードローラの回転速度を制御する制御手段を備えることにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【発明の効果】
本発明によれば、ウェブの種類にかかわらず、画像形成手段を通過するウェブの高速・高精度搬送を安定して行なうことができる。