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【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像形成手段を有し、前記画像形成手段で形成されるトナー像を用いてカラー画像を形成する画像形成装置であって、
前記複数の画像形成手段は、
潜像担持体と、
振動する偏向面を介して光ビームを照射して潜像を形成する潜像形成部と
を備え、
前記複数の画像形成手段のうちの少なくとも一の画像形成手段における前記潜像形成部は前記主走査方向の第１方向で潜像を形成し、前記複数の画像形成手段のうちの他の画像形成手段における前記潜像形成部は前記第１方向と逆方向となる第２方向で、潜像を形成し、前記複数の画像形成手段での潜像の主走査方向における形成位置を調整することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記複数の画像形成手段は、前記潜像形成用光ビームの走査方向を変更する方向制御部を備える請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記方向制御部は前記潜像形成部の光源の発光タイミングを制御して前記光ビームの走査方向を変更する請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記潜像が前記複数の画像形成手段に共通する基準線に対して一致または同方向に傾斜するように前記光ビームの走査方向が設定される請求項１ないし３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記主走査方向における前記潜像担持体の一方端部と接続されて前記潜像担持体を前記副走査方向に駆動する駆動手段を備え、
前記複数の潜像形成部は前記光ビームを画像領域に対応する第１走査領域よりも広い第２走査領域で前記主走査方向に走査可能に構成され、
前記複数の画像形成手段は、前記主走査方向における前記駆動手段の反対側の前記第２走査領域内で、前記第１走査領域を外れた位置の前記光ビームを検出する検出部を備え、前記検出部から出力される検出信号に基づき潜像形成動作を制御する請求項１ないし４のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記複数の画像形成手段は、前記主走査方向の両側の前記第２走査領域内で、前記第１走査領域を外れた位置の前記光ビームを検出する検出部を備え、前記検出部から出力される検出信号に基づき潜像形成動作を制御する請求項１ないし４のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項７】
複数の画像形成手段を用いてカラー画像を形成する画像形成方法であって、
前記複数の画像形成手段の少なくとも一つは、振動する偏向面によって光ビームを前記主走査方向の第１方向で潜像を形成する一方、他の画像形成手段は、振動する偏向面によって光ビームを前記第１方向と逆方向となる第２方向で潜像を形成することによって前記画像形成手段での潜像の形成位置を調整する像形成工程と、
前記複数の画像形成手段により形成されたトナー像を用いてカラー画像を形成する転写工程と
を備えたことを特徴とする画像形成方法。
【請求項８】
ライン画像データを構成する複数の画像情報を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されている画像情報を読出して前記画像情報に基づき光源を制御する順序を前記第１潜像形成部と前記第２潜像形成部とで切り換える方向切換手段と、を備えたことを特徴とするデータ制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明にかかる画像形成装置は、複数の画像形成手段を有し、画像形成手段で形成されるトナー像を用いてカラー画像を形成する画像形成装置であって、上記第１の目的を達成するため、複数の画像形成手段は、潜像担持体と、振動する偏向面を介して光ビームを照射して潜像を形成する潜像形成部とを備え、複数の画像形成手段のうちの少なくとも一の画像形成手段における潜像形成部は主走査方向の第１方向で潜像を形成し、複数の画像形成手段のうちの他の画像形成手段における潜像形成部は第１方向と逆方向となる第２方向で、潜像を形成し、複数の画像形成手段での潜像の主走査方向における形成位置を調整することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、この発明にかかる画像形成方法は、複数の画像形成手段を用いてカラー画像を形成する画像形成方法であって、上記第１の目的を達成するために、複数の画像形成手段の少なくとも一つは、振動する偏向面によって光ビームを主走査方向の第１方向で潜像を形成する一方、他の画像形成手段は、振動する偏向面によって光ビームを第１方向と逆方向となる第２方向で潜像を形成することによって画像形成手段での潜像の形成位置を調整する像形成工程と、複数の画像形成手段により形成されたトナー像を用いてカラー画像を形成する転写工程とを備えたことを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
さらに、この発明にかかるデータ制御装置は、上記第２の目的を達成するために、ライン画像データを構成する複数の画像情報を記憶する記憶手段と、記憶手段に記憶されている画像情報を読出して画像情報に基づき光源を制御する順序を第１潜像形成部と第２潜像形成部とで切り換える方向切換手段と、を備えたことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月11日(2007.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
密度０．２５±０．０３ｇ／ｃｍ3コルク板の表面に、接着性樹脂組成物を塗布し、この接着性樹脂組成物を介して、熱硬化性樹脂板、突板、または突板を表面に配した合板のいずれかを、貼り合わせてなる積層化粧板。
【請求項２】
上記接着性樹脂組成物として、樹脂分３５〜６５％のエマルジョンタイプ、ゴム系溶剤タイプ、合成ゴム系溶剤タイプ、合成ゴム系ラテックスタイプの中から選択されてなる請求項１に記載の積層化粧板。
【請求項３】
上記熱硬化性樹脂板として、メラミン樹脂板またはポリエステル板を採用してなる請求項１または２に記載の積層化粧板。
【請求項４】
上記接着性樹脂組成物をエマルジョンタイプとして、アクリル樹脂系または酢酸ビニル樹脂系を採用してなる請求項１乃至３のいずれかに記載の積層化粧板。
【請求項５】
上記熱硬化性樹脂板の厚さを０．８ｍｍ乃至１．２ｍｍとし、コルクの厚さを熱硬化性樹脂板の厚さの1乃至３倍としてなる請求項1乃至４のいずれかに記載の積層化粧板。
【請求項６】
請求項５に記載の積層化粧板を、木質天板用芯材の上面から端縁に亘って貼り付けてなる天板素材。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れかに記載の積層化粧板の製造において、上記接着性樹脂組成物をエマルジョンタイプとして、その塗布量を２００ｇ／ｍ2乃至３００ｇ／ｍ2、プレス温度を４５℃乃至７０℃、プレス圧力を１０ｋｇｆ／ｃｍ2乃至３０ｋｇｆ／ｃｍ2、プレス時間を３乃至５分に設定することを特徴とする積層化粧板製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至６の何れかに記載の積層化粧板の製造において、上記接着性樹脂組成物をエマルジョンタイプとして、その塗布量を２００ｇ／ｍ2乃至３００ｇ／ｍ2、プレス温度を常温、プレス圧力を１０ｋｇｆ／ｃｍ2乃至３０ｋｇｆ／ｃｍ2、プレス時間を５乃至１５分に設定することを特徴とする積層化粧板製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至６の何れかに記載の積層化粧板の製造において、上記接着性樹脂組成物を、ゴム系溶剤タイプ、合成ゴム系溶剤タイプ、または合成ゴム系ラテックスタイプとして、その塗布量を５００ｇ／ｍ2乃至８００ｇ／ｍ2、プレス温度を常温、プレス圧力を１０ｋｇｆ／ｃｍ2乃至３０ｋｇｆ／ｃｍ2、プレス時間を３０ｓｅｃ乃至６０ｓｅｃに設定することを特徴とする積層化粧板製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月4日(2007.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、内歯車における歯部の一般的な成形方法としては、カッタを有する切削装置による機械加工がある。切削装置による歯部の成形方法を図９を基に説明する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１に示されるのは本発明の実施例による歯面における歯すじの修正方法で歯部５３の歯面が修正された内歯車５１の平面図である。この内歯車５１は、両端に小開口５５及び大開口５６を有する円筒形の本体５２と、本体５２の大開口５６側外周に間隔をおいて複数形成される突起５４と、本体５２の内周側に形成されるすぐば状の歯部５３とよりなる。この歯部５３は図２の（イ）に示される如く、歯部５３の歯すじ方向中央部が内周側に膨らみ、歯面は円弧状のクラウニングが施されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
更に、上記実施例では内歯車の歯部にクラウニングを施す歯すじの修正方法が説明されているが、内歯車に限定されるわけではない。円筒状の本体の外周側に歯部が形成される外歯車の場合も同様である。図８を基に外歯車の歯面における歯すじの修正方法について説明する。図８の（ア）に示されるのは、円筒状の予備本体７２ａの外側に歯すじ方向に均一の肉厚で平らな歯面が形成される予備歯部７３ａを有する予備成形歯車７１ａである。この予備成形歯車７１ａの予備歯部７３ａの歯すじ方向略中央部に、予備本体７１ａ内側から予備本体７１ａの内周面に対して、電子ビーム、レーザービーム、高周波焼入、及びショットピーニング等を使用した表面処理を行うと、予備歯部７３ａは歯すじ方向中央部の歯先部が内周側に突出するように変形する。よって図８の（イ）に示される如く、予備歯部７３ａの両端部から歯すじ方向略中央部にかけて、歯厚の厚い歯底部の位置が外周側に移動することになり、予備歯部７３ａの歯面が、歯すじ方向略中央部が両端部と比べて歯先部と歯底部との中心を通り歯すじ方向に延びる歯すじ中央線上では外側に最大に膨らんだ形状となり予備歯部７３ａにクラウニングが施される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月26日(2007.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料インクを吐出する顔料インク吐出口と染料インクを吐出する染料インク吐出口とを有する記録ヘッドにより記録を行うインクジェット記録装置において、
前記吐出口から吐出される記録に寄与しないインクを受ける予備吐出受け部と、
前記予備吐出受け部に配された斜面と、
を備え、前記染料インク吐出口からのインクを前記斜面の重力方向上流寄りの位置で受け、前記顔料インク吐出口からのインクを前記斜面の重力方向下流寄りの位置で受けることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記斜面は記録媒体の搬送方向に傾斜した面で形成され、前記記録ヘッドの前記染料インク吐出口は前記斜面の重力方向上流寄りと対応する位置に配置され、前記記録ヘッドの前記顔料インク吐出口は前記斜面の重力方向下流寄りと対応する位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記染料インクの予備吐出量は、前記顔料インクの予備吐出量より多いことを特徴とする請求項１又は２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項４】
前記染料インクの予備吐出を行った後に前記顔料インクの予備吐出を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項５】
前記記録ヘッドの走査方向における前記染料インクの予備吐出位置と前記顔料インクの予備吐出位置が同じであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項６】
前記染料インク吐出口が複数の吐出口列からなり、前記染料インクの各吐出口列の個別の予備吐出を前記顔料インクの予備吐出と同じ位置で行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載きインクジェット記録装置。
【請求項７】
前記予備吐出受け部に吐出されたインクは、前記斜面の重力方向下流部に形成された孔又は開口を通して廃インク吸収体へ導かれることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月20日(2006.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート材を供給する少なくとも１つの給紙手段と、前記供給されたシート材に対してプリントジョブを実行して画像を形成する画像形成手段と、前記画像形成されたシート材に対して製本を含む後処理を行う少なくとも１つの後処理手段と、前記プリントジョブを受信する受信手段とを備える画像形成装置において、
前記受信したプリントジョブを解析し、当該プリントジョブを実行する際に使用する前記給紙手段および前記後処理手段を決定する決定手段と、
前記決定された給紙手段および後処理手段の状態を調べ、前記プリントジョブの実行前に予め準備動作を開始させるべき給紙手段および後処理手段を判別する判別手段と、
前記判別された給紙手段および後処理手段に対して、前記プリントジョブの実行開始に間に合うように準備動作を開始させる制御手段とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記受信したプリントジョブおよび前記画像形成手段の処理能力に基づいて、当該プリントジョブの実行に必要な処理時間を算出する第１の算出手段と、
前記算出された処理時間と前記決定された給紙手段および後処理手段の準備動作に必要な時間に基づいて、前記プリントジョブの開始予定時刻を算出する第２の算出手段と、
前記算出された処理時間および開始予定時刻を、前記受信したプリントジョブと共に格納する格納手段と、
前記格納されたプリントジョブを前記開始予定時刻に応じて順次読み出し、前記画像形成手段に画像形成を実行させるプリント制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記開始予定時刻に間に合うように、前記判別された給紙手段および後処理手段に準備動作を開始させることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記格納されたプリントジョブを前記開始予定時刻に応じて順次読み出して前記画像形成手段に画像形成させる際、前記判別された給紙手段および後処理手段の準備動作が前記予定時刻に間に合わないと判断したときは、後続のプリントジョブを先に実行させることを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記制御手段は、後続のプリントジョブを先に実行することによって、当該プリントジョブの画像形成動作終了が後続のプリントジョブを先に実行しないときよりも遅くなる場合は、後続のプリントジョブを先に実行せず、前記判別された給紙手段および後処理手段の準備動作終了後に当該プリントジョブの画像形成を実行させることを特徴とする請求項３記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記給紙手段および前記後処理手段の電源を個別にオンまたはオフする指示を発生するものであり、前記判別された給紙手段および後処理手段の準備動作を開
始させるべく、電源のオン指示を発生することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記給紙手段および前記後処理手段は、当該電源の状態が切り換えられたときに切り換え許可を前記制御手段に要求する要求手段をそれぞれ有し、
前記制御手段は、前記要求手段により切り換え許可要求を受けた際に、当該切り換え許可を要求した給紙手段または後処理手段が前記格納手段に格納されたプリントジョブの実行に必要であるときは、当該要求を受け付けないことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記要求手段による切り換え許可要求を受け付けなかったときは、当該切り換え許可要求を前記格納手段に格納し、前記切り換え許可を要求した給紙手段または後処理手段を使用するプリントジョブの実行が終了したときに、前記格納された切り換え許可要求を読み出し、前記切り換え許可を要求した給紙手段または後処理手段の電源を前記スイッチ手段によりオフすることを特徴とする請求項６記載の画像形成装置。
【請求項８】
シート材を供給する少なくとも１つの給紙手段と、前記供給されたシート材に対してプリントジョブを実行して画像を形成する画像形成手段と、前記画像形成されたシート材に対して製本を含む後処理を行う少なくとも１つの後処理手段と、前記プリントジョブを受信する受信手段とを備える画像形成装置の制御方法において、
前記受信したプリントジョブを解析し、当該プリントジョブを実行する際に使用する前記給紙手段および前記後処理手段を決定する決定工程と、
前記決定された給紙手段および後処理手段の状態を調べ、前記プリントジョブの実行前に予め準備動作を開始させるべき給紙手段および後処理手段を判別する判別工程と、
前記判別された給紙手段および後処理手段に対して、前記プリントジョブの実行開始に間に合うように準備動作を開始させる制御工程とを有することを特徴とする画像形成装置
の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置およびその制御方法  
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、画像形成装置およびその制御方法に関し、特に、給紙デッキやインサータ等の給紙装置、フィニッシャやソータ等の後処理装置に接続され、これらの節電制御およびジョブスケジューリングを行うプリンタ、ファクシミリ、および複写機等の画像形成装置およびその制御方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、上記問題に鑑みて成されたものであり、プリントジョブの実行に最適なタイミングで給紙装置および後処理装置を動作可能状態にすることができ、画像形成装置の生
産性・稼働率を向上させると共に、省エネルギーを実現することができる画像形成装置およびその制御方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】 
【請求項１】  波長≦１９３ｎｍのための照明系、特にＥＵＶリソグラフィ用の、系の光学不変量を有する照明系であって、
複数の光源（２．１，２．２）と結合素子（４．１）とを備え、
前記複数の光源（２．１，２．２）は前記結合素子（４．１）を介して結合され、互いに結合された光源は全光学不変量を有し、該全光学不変量は前記の系の光学不変量を越えない照明系において、
前記結合素子（４．１）は互いに傾斜している複数の鏡面（２０．１，２０．２，２０．３，２０．４）を備えることを特徴とする照明系。 
【請求項２】  前記鏡面は、部分システムのフィールド照明がレチクル面（９）に一致するように互いに傾斜して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の照明系。
【請求項３】  前記鏡面（２０．１，２０．２，２０．３，２０．４）は角錐上に配置されていることを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の照明系。
【請求項４】  網目素子（５６．１，５６．２）とされた二次光源を生成する鏡装置を備えた請求項１から３のいずれか一項に記載の照明系。
【請求項５】  照明系の射出ひとみは所定の充填度まで照明することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の照明系。
【請求項６】  前記二次光源を生成する鏡装置の鏡はフィールド形成のための網目素子を備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項７】  前記網目素子を備えている複数の鏡がフィールドハネカムプレート（５４．１，５４．２）として構成されていることを特徴とする請求項６に記載の照明系。 
【請求項８】  前記結合素子はフィールドハネカムプレートの支持体の役目をする角錐であることを特徴とする請求項７に記載の照明系。
【請求項９】  フィールドハネカムプレート上の網目素子が、物体面ないしレチクル面（５８）で網目素子の像が互いに重なり合うように配置されてアライメントされていることを特徴とする請求項７又は８のいずれかに記載の照明系。 
【請求項１０】  それぞれのフィールドハネカムプレートの上の網目素子の数が等しいことを特徴とする請求項７から９のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項１１】  角錐の面の数が結合される光源の数に対応していることを特徴とする請求項８から１０のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項１２】  角錐の面が、フィールドハネカムプレートの網目素子の像がレチクル面で重なり合うようにアライメントされていることを特徴とする請求項８から１１のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項１３】  照明系が、網目素子を備えた少なくとも１つの鏡を有する別の鏡装置（５６．１，５６．２）を包含していることを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項１４】  別の鏡装置（５６．１，５６．２）が網目素子を備えた複数の鏡を包含していることを特徴とする請求項１３に記載の照明系。 
【請求項１５】  別の鏡装置（５６．１，５６．２）が二次光源の地点に配置されていることを特徴とする請求項１３又は１４のいずれかに記載の照明系。 
【請求項１６】  網目素子がひとみハネカムであることを特徴とする請求項１３又は１４のいずれかに記載の照明系。 
【請求項１７】  ひとみハネカムがひとみハネカムプレートの上に配置されていることを特徴とする請求項１６に記載の照明系。 
【請求項１８】  別の鏡装置（５６．１，５６．２）が二次光源の地点に配置され、前記別の鏡装置はひとみハネカムプレー上に配置された網目素子としてひとみハネカムを備え、前記結合素子が、ひとみハネカムプレートの支持体の役目をする角錐であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の照明系。
【請求項１９】  角錐の面の数が結合される光源の数に対応していることを特徴とする請求項１８に記載の照明系。 
【請求項２０】  角錐の面が、フィールドハネカムプレートの網目素子の像がレチクル面で重なり合うようにアライメントされていることを特徴とする請求項１９に記載の照明系。
【請求項２１】  別の鏡装置（５６．１，５６．２）が二次光源の地点に配置され、前記別の鏡装置は網目素子としてひとみハネカムを備え、各二次光源の地点ごとにひとみハネカムが配置され、各ひとみハネカムは結合素子として角錐上に配置され、一個の二次光源だけが各角錐側面上に横たわっていることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の照明系。
【請求項２２】  角錐の面の数が結合される光源の数に対応していることを特徴とする請求項２１に記載の照明系。 
【請求項２３】  ひとみハネカムは角錐側面上に集光する鏡面を包含していることを特徴とする請求項２１から２３のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項２４】  角錐側面が平坦であることを特徴とする請求項２１から２３のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項２５】  角錐の面が、フィールドハネカムプレートの網目素子の像がレチクル面で重なり合うようにアライメントされていることを特徴とする請求項２２に記載の照明系。 
【請求項２６】  フィールドハネカムプレート（５４．１，５４．２）上のフィールドハネカムが、照明系の絞り面でセグメントが均等に二次光源で充填されるように配分され、傾けられて配置されていることを特徴とする請求項７に記載の照明系。 
【請求項２７】  網目素子を備えた鏡を包含している別の鏡装置が二次光源の地点に配置されていることを特徴とする請求項２６に記載の照明系。 
【請求項２８】  別の鏡装置の網目素子がひとみハネカムであることを特徴とする請求項２７に記載の照明系。 
【請求項２９】  ひとみハネカムが平坦に構成されていることを特徴とする請求項２８に記載の照明系。 
【請求項３０】  ひとみハネカム（５６．１，５６．２）が集光作用を備えた表面を包含していることを特徴とする請求項２８に記載の照明系。
【請求項３１】  ひとみハネカムが、フィールドハネカムプレートの像がレチクル面で重なり合うように配分され、傾けられて配置されていることを特徴とする請求項２６から３０のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項３２】  網目素子を備えた鏡またはレンズをもつ１つの鏡装置または複数の鏡装置に光学素子が後置されていることを特徴とする請求項１から３１のいずれか一項に記載の照明系。 
【請求項３３】  光学素子がフィールド形成のための視野レンズまたは視野鏡を包含していることを特徴とする請求項３２に記載の照明系。 
【請求項３４】  請求項１から３３のいずれか一項に記載の照明系を備えたＥＵＶ投影露光装置であって、マスクと、投影対物レンズと、支持システム上の感光物体、とを備えていることを特徴とする装置。 
【請求項３５】  スキャニングシステムとして施工されていることを特徴とする請求項３４に記載のＥＵＶ投影露光装置。 
【請求項３６】  請求項３４又は３５のいずれかに記載の投影露光装置でマイクロエレクトロニクス部品を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電型を有する第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域と接合を有し且つ前記第１の導電型と反対導電型を有する第２の半導体領域および第３の半導体領域とを有し、前記第１の半導体領域のバンドギャップが前記第２および第３の両半導体領域のバンドギャップより小さく、且つ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、実質的に一定の領域を有し且つ前記第１の半導体領域内の前記第２の半導体領域側より前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部に向かって減少する領域を有する半導体装置において、前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部の反対側に、前記第２の半導体領域が前記第２の半導体領域に接続された前記第２の半導体領域よりバンドギャップの大きい第２導電型の第４の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１の導電型を有する第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域と接合を有し且つ前記第１の導電型と反対導電型を有する第２の半導体領域および第３の半導体領域とを有し、前記第１の半導体領域のバンドギャップが前記第２および第３の両半導体領域のバンドギャップより小さく、且つ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域内の前記第２の半導体領域側より前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部に向かって、増加する領域及び減少する領域の両領域を有する半導体装置において、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部近傍で実質的に一定の領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
第１の導電型を有する第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域と接合を有し且つ前記第１の導電型と反対導電型を有する第２の半導体領域および第３の半導体領域とを有し、前記第１の半導体領域のバンドギャップが前記第２および第３の両半導体領域のバンドギャップより小さく、且つ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域内の前記第２の半導体領域側より前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部に向かって、増加する領域及び減少する領域の両領域を有する半導体装置において、前記第３の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域との接続部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップと実質的に同じであることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
第１の導電型を有する第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域と接合を有し且つ前記第１の導電型と反対導電型を有する第２の半導体領域および第３の半導体領域とを有し、前記第１の半導体領域のバンドギャップが前記第２および第３の両半導体領域のバンドギャップより小さく、且つ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域内の前記第２の半導体領域側より前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部に向かって、増加する領域及び減少する領域の両領域を有する半導体装置において、前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部の反対側に、前記第２の半導体領域が前記第２の半導体領域に接続された前記第２の半導体領域よりバンドギャップの大きい第２導電型の第４の半導体領域を有することを特徴とする請求項２に記載の半導体装置。
【請求項５】
一つの半導体基板に、第１の導電型を有する第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域と接合を有し且つ前記第１の導電型と反対導電型を有する第２の半導体領域および第３の半導体領域とを有し、前記第１の半導体領域のバンドギャップが前記第２および第３の両半導体領域のバンドギャップより小さく、且つ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域内の前記第２の半導体領域側より前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部に向かって、増加する領域及び減少する領域の両領域を有する半導体装置において、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部近傍で実質的に一定の領域を有する半導体装置の複数個を有して半導体集積回路が構成され、前記複数個の半導体装置の内の少なくとも２つが半導体装置の周波数特性とコレクタ耐圧の各特性が異なる半導体装置なることを特徴とする半導体集積回路。
【請求項６】
少なくとも１対以上の互いにエミッタが接続された少なくとも１対以上のバイポーラトランジスタにより構成された増幅回路を有し、前記バイポーラトランジスタの対が第１の導電型を有する第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域と接合を有し且つ前記第１の導電型と反対導電型を有する第２の半導体領域および第３の半導体領域とを有し、前記第１の半導体領域のバンドギャップが前記第２および第３の両半導体領域のバンドギャップより小さく、且つ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域との接合部近傍で、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域内の前記第２の半導体領域側より前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部に向かって、増加する領域及び減少する領域の両領域を有する半導体装置において、前記第１の半導体領域のバンドギャップが、前記第１の半導体領域と前記第３の半導体領域との接合部近傍で実質的に一定の領域を有する半導体装置により構成されたことを特徴とする半導体集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月6日(2007.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ヘッド（４）に吸着された複数個のボール（２）をワークピース（１２）に搭載するボール搭載装置において、前記ワークピース（１２）の位置決め手段と、前記ボール（２）を供給するボール供給手段と、前記ボール（２）を吸着する前記ヘッド（４）と、前記ヘッド（４）を上方に付勢する付勢力発生手段（１６）と、この付勢力発生手段が付勢力を蓄えた状態で前記ヘッド（４）をクランプするクランプ手段と、前記ヘッド（４）を移動する移動手段と、を有することを特徴とするボール搭載装置。
【請求項２】 前記付勢力発生手段（１６）をバネとし、そのバネは、前記ヘッド（４）を前記クランプ手段の一部を構成する下方位置決め（１８）より上方向に持ち上げる付勢力を有することを特徴とする請求項１記載のボール搭載装置。
【請求項３】 前記クランプ手段は、シリンダ（１５）と下方位置決め（１８）からなることを特徴とする請求項１記載のボール搭載装置。
【請求項４】 前記ワークピース（１２）を載置台（２３）に固定する吸着パッドがベローズ型の吸着パッドであることを特徴とする請求項１記載のボール搭載装置。
【請求項５】 ヘッド（４）に吸着された複数個のボール（２）をワークピース（１２）に搭載させるボール搭載方法において、クランプされた前記ヘッド（４）をボール供給部（１）上に移動させる工程と、前記ヘッド（４）に前記ボール（２）を吸着させる工程と、前記ヘッド（４）を前記ワークピース（１２）上へ移動させる工程と、前記ヘッド（４）をクランプしている力を緩める工程と、前記ヘッド（４）に吸着された前記ボール（２）を前記ワークピース（１２）に搭載させる工程と、前記ヘッド（４）をクランプする工程と、前記ヘッド（４）を前記ボール供給部（１）の上方へ移動させる工程とを有し、各工程を順次行うことを特徴とするボール搭載方法。
【請求項６】 前記ヘッド（４）をクランプする工程において、前記ヘッド（４）をクランプしている力が２〜３０Ｋｇｆであることを特徴とする請求項５記載のボール搭載方法。
【請求項７】 前記ヘッド（４）に前記ボール（２）を吸着させる工程において、前記ボール（２）の吸着中に、前記ボール（２）の吸着を一時中断し、凝集した前記ボール（２）を分散させた後、前記ボール（２）を再度吸着することを特徴とする請求項５記載のボール搭載方法。
【請求項８】 前記ボール（２）を吸着した前記ヘッド（４）の重量を実質的にゼロにカウンタバランスさせ、フラックス（２７）の層の下面まで前記ボール（２）の先端を降下させて、前記ボール（２）に前記フラックス（２７）を塗布する工程を有することを特徴とする請求項５記載のボール搭載方法。
【請求項９】 前記ヘッド（４）に吸着された導電性ボールである前記ボール（２）に導電性接着剤を塗布する工程を有することを特徴とする請求項５記載のボール搭載方法。
【請求項１０】 前記ヘッド（４）に吸着された前記ボール（２）を前記ワークピース（１２）に搭載する工程において、前記ヘッド（４）をクランプのための部材の一部となる下方位置決め（１８）にシリングの押圧力によってクランプしている力が１Ｋｇｆ以下であることを特徴とする請求項５記載のボール搭載方法。
【請求項１１】 前記ボール（２）が前記ワークピース（１２）に搭載された後、ハンマーで前記ヘッド（４）を叩き、ヘッド（４）に残留する前記ボール（２）を落下させる工程を有することを特徴とする請求項５記載のボール搭載方法。
【請求項１２】 ヘッド（４）に吸着された複数個のボール（２）をワークピース（１２）に搭載させるボール搭載方法において、前記ヘッド（４）をクランプしているシリンダ（１５）の圧力を必要に応じて緩めて、前記ヘッド（４）の重量を付勢力発生手段（１６）の付勢力とカウンタバランスさせて実質的にゼロとすることを特徴とするボール搭載方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月23日(2007.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、
前記複数の薄膜光電変換セルは、前記基板上で縦横格子状の配列構造を呈するように形成されており、
前記複数の直列アレイのそれぞれは前記複数の薄膜光電変換セルを縦方向に直列接続してなり、
前記一対の共通電極は前記配列構造の縦方向両端部にそれぞれ配置され、
前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュール、
光源    ：キセノンランプ
放射照度：１００ｍＷ／ｃｍ２
ＡＭ    ：１．５
温度    ：２５℃。
【請求項２】
基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、
前記複数の直列アレイの各々は、その開放電圧が１０Ｖ以上であり、
前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュール、
光源    ：キセノンランプ
放射照度：１００ｍＷ／ｃｍ２
ＡＭ    ：１．５
温度    ：２５℃。
【請求項３】
さらに、前記複数の直列アレイにおける薄膜光電変換セルの集積数が１２個以上である、請求項２に記載の薄膜光電変換モジュール。
【請求項４】
基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、
前記薄膜光電変換セルの各々は、前記基板上に積層された透明前面電極層を有し、
前記透明前面電極層の表面は、微細な凹凸を含む表面テクスチャ構造であり、
前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュール、
光源    ：キセノンランプ
放射照度：１００ｍＷ／ｃｍ２
ＡＭ    ：１．５
温度    ：２５℃。
【請求項５】
基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、
薄膜光電変換モジュールの、薄膜光電変換セルが形成された表面に対する裏面側に封止樹脂層を介して有機保護フィルムが配置され、
前記有機保護フィルムは、金属箔と、前記金属箔を挟持した絶縁性フィルムとを有しており、
前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュール、
光源    ：キセノンランプ
放射照度：１００ｍＷ／ｃｍ２
ＡＭ    ：１．５
温度    ：２５℃。
【請求項６】
基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、
前記共通電極と平行な方向の、前記薄膜光電変換セルの長さは、１５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下であり、
前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュール、
光源    ：キセノンランプ
放射照度：１００ｍＷ／ｃｍ２
ＡＭ    ：１．５
温度    ：２５℃。
【請求項７】
基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、
前記直列アレイの各々は、前記複数の薄膜光電変換セルを自己の短軸方向に集積した構造を有し、
前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュール、
光源    ：キセノンランプ
放射照度：１００ｍＷ／ｃｍ２
ＡＭ    ：１．５
温度    ：２５℃。
【請求項８】
前記薄膜光電変換ユニットはタンデム型である、請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の薄膜光電変換モジュール。
【請求項９】
前記複数の直列アレイのそれぞれの前記条件下での短絡電流は３００ｍＡ以下である、請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の薄膜光電変換モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明によると、基板と、該基板上に形成されたそれぞれ複数の薄膜光電変換セルを直列接続してなる複数の直列アレイと、該複数の直列アレイを並列接続する一対の共通電極とを具備し、下記条件下での短絡電流が１Ａ以上の薄膜光電変換モジュールであって、前記複数の薄膜光電変換セルは、前記基板上で縦横格子状の配列構造を呈するように形成されており、前記複数の直列アレイのそれぞれは前記複数の薄膜光電変換セルを縦方向に直列接続してなり、前記一対の共通電極は前記配列構造の縦方向両端部にそれぞれ配置され、前記複数の直列アレイのそれぞれの下記条件下での短絡電流は６００ｍＡ以下である薄膜光電変換モジュールが提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月4日(2007.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域に設けられた画素ＴＦＴと、前記表示領域の周辺に設けられた駆動回路のｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴを同一の基板に有する半導体装置において、
前記画素ＴＦＴと前記ｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴのそれぞれは、チャネル形成領域及び不純物領域が設けられた活性層と、前記活性層と前記基板との間に設けられたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜と前記基板との間に設けられたゲート電極とを有し、
前記ｐチャネル型ＴＦＴの不純物領域は、ｐ型を付与する不純物元素とｎ型を付与する不純物元素との両方を含む不純物領域（Ａ）と、ｐ型を付与する不純物元素を含む不純物領域（Ｂ）とを有し、
前記不純物領域（Ｂ）は、前記不純物領域（Ａ）と前記チャネル形成領域との間に配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記画素ＴＦＴと前記ｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴのそれぞれの活性層は、ＬＤＤ領域を有し、
前記画素ＴＦＴのＬＤＤ領域及びｎチャネル型ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記ゲート電極と少なくとも一部が重なるように配置され、
前記ｐチャネル型ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記不純物領域（Ｂ）と前記チャネル形成領域との間に配置され、且つ、前記ゲート電極と全てが重なるように配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記画素ＴＦＴと前記ｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴのそれぞれの活性層上に保護絶縁膜を有し、
前記画素ＴＦＴのＬＤＤ領域と前記ｎチャネル型ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記保護絶縁膜と重ならず、
前記ｐチャネル型ＴＦＴのＬＤＤ領域は、前記保護絶縁膜と全てが重なるように配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記画素ＴＦＴに接続された容量を有し、
前記容量は、前記基板上に形成された容量配線と、前記容量配線上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された半導体層とから構成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
少なくとも、前記画素ＴＦＴ上に容量を有し、
前記容量は、前記画素ＴＦＴ上に設けられた遮光膜と、前記遮光膜に密接した誘電体膜と、前記遮光膜に少なくとも一部が重なるように設けられ、前記画素ＴＦＴに接続される画素電極とから構成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記遮光膜は、アルミニウム、タンタル、チタンから選ばれた一種または複数種を含む材料から成り、
前記誘電体膜は、前記遮光膜を形成する材料の酸化物から成ることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記半導体装置は、携帯電話、ビデオカメラ、モバイルコンピュータ、ゴーグル型ディスプレイ、プロジェクター、携帯書籍、デジタルカメラ、カーナビゲーション、及びパーソナルコンピュータから選ばれた一つであることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
表示領域に設けられた画素ＴＦＴと、前記表示領域の周辺に設けられた駆動回路のｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴとを同一の基板上に有する半導体装置の作製方法において、
基板上に第１のゲート電極及び第２のゲート電極を形成し、
前記第１のゲート電極上及び前記第２のゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜を介して前記第１のゲート電極上に第１の活性層を形成し、前記第２のゲート電極上に第２の活性層を形成し、
前記第１の活性層及び前記第２の活性層にｎ型を付与する不純物元素を添加し、
前記第１の活性層の一部の上及び前記第２の活性層の全部の上にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして前記第１の活性層にｐ型を付与する不純物元素を添加し、
前記第１の活性層には、チャネル形成領域と、ｐ型を付与する不純物元素とｎ型を付与する不純物元素との両方を含む不純物領域（Ａ）と、前記不純物領域（Ａ）と前記チャネル形成領域との間にｐ型を付与する不純物元素を含む不純物領域（Ｂ）と、が形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
表示領域に設けられた画素ＴＦＴと、前記表示領域の周辺に設けられた駆動回路のｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴとを同一の基板上に有する半導体装置の作製方法において、
基板上に第１のゲート電極及び第２のゲート電極を形成し、
前記第１のゲート電極上及び前記第２のゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜を介して前記第１のゲート電極上に第１の活性層を形成し、前記第２のゲート電極上に第２の活性層を形成し、
前記第１の活性層及び前記第２の活性層にｎ型を付与する不純物元素を添加し、
前記第１の活性層上に第１の保護絶縁膜を形成し、前記第２の活性層上に第２の保護絶縁膜を形成し、
前記第１の活性層の一部の上及び前記第２の活性層の全部の上にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして、前記第１の活性層にｐ型を付与する不純物元素を添加し、
前記第１の活性層には、チャネル形成領域と、ｐ型を付与する不純物元素とｎ型を付与する不純物元素との両方を含む不純物領域（Ａ）と、前記不純物領域（Ａ）と前記チャネル形成領域との間にｐ型を付与する不純物元素を含む不純物領域（Ｂ）と、前記不純物領域（Ｂ）と前記チャネル形成領域との間にｐ型を付与する不純物元素を含むＬＤＤ領域と、が形成され、
前記第２の活性層には、チャネル形成領域と、ｎ型を付与する不純物元素を含むＬＤＤ領域と、が形成され、
前記ｐ型を付与する不純物元素を含むＬＤＤ領域は、前記保護絶縁膜と全てが重なり、且つ前記ゲート電極と全てが重なるように形成され、
前記ｎ型を付与する不純物元素を含むＬＤＤ領域は、前記保護絶縁膜と重ならず、且つ、
前記ゲート電極と少なくとも一部が重なるように形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項８または請求項９において、
前記基板上に容量配線を形成し、
前記容量配線上に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に半導体層を形成することにより前記画素ＴＦＴに接続する容量を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項８または請求項９において、
前記画素ＴＦＴ上に遮光膜を形成し、
前記遮光膜に密接させて誘電体膜を形成し、
前記遮光膜と少なくとも一部が重なるように前記画素ＴＦＴに接続する画素電極を形成することにより容量を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記遮光膜は、アルミニウム、タンタル、チタンから選ばれた一種または複数種を含む材料で形成し、
前記誘電体膜は、前記遮光膜を形成する材料の酸化物で形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年12月22日(2006.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明による相互接続装置の絵画図である。
【図１Ａ】
その上に接点パッドを備えた端部接点の拡大上面図である。
【図２】
図１の実施形態の分解組立図である。
【図３】
本発明の拡大側面図である。
【図４】
本発明による相互接続装置の拡大端面図である。
【図５】
本発明による相互接続装置および相手接点アセンブリの拡大断面図である。
【図６】
本発明と共に使用可能な接点アセンブリの絵画図である。
【図７】
図６の接点アセンブリに用いられる弾力導電コラムの拡大側面図である。
【図８】
代替実施形態の拡大側面図である。
【図９】
本発明による回路板および結合バックプレーンの絵画図である。
【図１０】
ボード間相互接続に用いられた本発明の分解組立図である。
【符号の説明】
１０  回路トレース
１２  貫通孔
１４  接地平面
２２  接点端部
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2001068185.tif 000001
【図１Ａ】
2001068185.tif 000002
【図２】
2001068185.tif 000003
【図３】
2001068185.tif 000004
【図４】
2001068185.tif 000005
【図５】
2001068185.tif 000006
【図６】
2001068185.tif 000007
【図７】
2001068185.tif 000008
【図８】
2001068185.tif 000009
【図９】
2001068185.tif 000010
【図１０】
2001068185.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月3日(2007.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的構成部品を基板に接続するためのソケットであって：
基板に据え付け可能であって電気的構成部品の端子を係合するのに適した接触子と案内構造部とを有するハウジングと；
基板に据え付け可能で前記ハウジングを支持するフレームと；
第１の位置と第２の位置との間で移動可能に前記フレームに取着され、開口部を有するカバーと；
前記カバーの前記開口部に据え付け可能で、構造部を前記ハウジングに据え付けそれによって前記ハウジングと整列される挿入部と；
を備えたことを特徴とするソケット。
【請求項２】
前記カバーは開口部を有し、前記フレームは前記カバーを前記フレームに保持するために前記開口部内に延びていることを特徴とする請求項１記載のソケット。
【請求項３】
前記突出部は本体部と拡大された頭部とを有し、前記開口部はＴ−形状を有していることを特徴とする請求項２記載のソケット。
【請求項４】
前記挿入部の案内構造部は、少なくとも１つのスロットを有していて、前記ハウジングの案内構造部は、前記少なくとも１つのスロット内に設けられた少なくとも１つのブロックを有していることを特徴とする請求項１記載のソケット。
【請求項５】
前記少なくとも１つのスロットは、向き合った第１と第２の停止面を有していて、前記少なくとも１つのブロックは、向き合った第１と第２の停止面を有していて、前記第１の位置において前記少なくとも１つのスロットの前記第１の停止面が、前記少なくとも１つのブロックの前記第１の停止面に当接していて、前記第２の位置において前記少なくとも１つのスロットの前記第２の停止面が、前記少なくとも１つのブロックの前記第２の停止面に当接していることを特徴とする請求項４記載のソケット。
【請求項６】
前記接触子に取着されたはんだの塊をさらに有することを特徴とする請求項１記載のソケット。
【請求項７】
前記はんだの塊は、溶融可能であることを特徴とする請求項６記載のソケット。
【請求項８】
前記はんだの塊は、はんだ球であることを特徴とする請求項６記載のソケット。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月17日(2007.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電気コネクタであって、この電気コネクタは、複数の第１の導電性部材と、この第１の導電性部材に電気的に結合された構成部品容器における少なくとも１つの電気装置とを有し、この電気コネクタは：
内部部分を有する絶縁性ハウジングを備え；
前方部と後方部とを有する絶縁性挿入物を備え、後方部はその中に構成部品容器を収容するための凹部を規定し、挿入物がハウジングの内部部分に設けられていて；
電気コネクタに挿入された係合コネクタの導電体を電気的に接触するために挿入物の前方部に設けられた複数の第１の接触子を備え、各第１の接触子は、挿入物の前方部から凹部へ延びて凹部と連絡する終端部で終わっていて、第１の接触子の終端部は、凹部に収容される構成部品容器の対応する第１の導電性部材を電気的に接触し、前記構成部品容器における複数の第１の導電性部材は、スプリングと複数の第１の接触子との間のスプリング接触を増進するためのスプリングであることを特徴とする電気コネクタ。
【請求項２】  複数の第１の接触子の終端部は、組み合わされて凹部に収容される構成部品容器を開放可能に取着することを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ。
【請求項３】  第１の接触子は、挿入物の前方部からほぼ第１の面で凹部へ延びていて、第１の接触子は凹部の第１の側部を形成していて、凹部が第１の面にほぼ垂直な第２の面にほぼ存在する出入口を規定していて、後方部がほぼ第１の側部に向き合った凹部の第２の側部を規定していて、凹部に収容される構成部品容器は、凹部の出入口を通って凹部内に挿入された後、凹部の第１の側部と第２の側部との間に開放可能に取着されることを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ。
【請求項４】  第１の接触子は、挿入物の前方部からほぼ第１の面で凹部へ延びていて、凹部は、ほぼ第１の面に存在するそれ自身の第１の開口側部を規定していて、凹部は、第１の面にほぼ垂直な第２の面にほぼ存在するそれ自身の出入口をさらに規定していて、後方部は、第１の開口側部にほぼ向き合った凹部の第２の側部を規定していて、凹部に収容される構成部品容器は、第１の開口側部と第２の側部との間に開放可能に取着されることを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ。
【請求項５】  構成部品容器は複数の第２の導電性部材をさらに有し、構成部品容器の少なくとも１つの電気装置が第２の導電性部材に電気的に結合されていて、電気コネクタは、下方の基板と電気的に接触するために挿入物の後方部に設けられた複数の第２の接触子をさらに有し、各第２の接触子は、挿入物の後方部から凹部へ延びて凹部と連絡する終端部で終わっていて、第２の接触子の終端部は、凹部に収容される構成部品容器の対応する第２の導電性部材を安全に電気的に接触することを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ。
【請求項６】  複数の第２の接触子は、スプリング終端部であることを特徴とする請求項６記載の電気コネクタ。
【請求項７】  複数の第１の接触子の終端部と複数の第２の接触子とは、組み合わされて凹部に収容される構成部品容器を開放可能に取着することを特徴とする請求項６記載の電気コネクタ。
【請求項８】  挿入物の後方部は、凹部に収容される構成部品容器を開放可能に取着するための取着装置を有することを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ。
【請求項９】  取着装置は、凹部に収容される構成部品容器の対応する対になって向き合った捕捉部と協同するための対になって向き合ったラッチを有することを特徴とする請求項９記載の電気コネクタ。
【請求項１０】  電気コネクタは、モジュラージャックであることを特徴とする請求項１記載の電気コネクタ。