Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月2日(2006.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に非透光性薄膜材料からなるパターンを形成し、
前記パターン上に感光性薄膜を形成し、
前記感光性薄膜を透過した光源からの光を前記基板の表面側に設けられた反射手段によって反射または散乱させ、前記基板の表面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、
前記露光された感光性薄膜を現像することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
透光性基板上に非透光性薄膜材料からなるパターンを形成し、
前記パターン上に感光性薄膜を形成し、
前記パターンをマスクとして光源からの光を前記基板の裏面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、且つ、前記感光性薄膜を透過した前記光源からの光を前記基板の表面側に設けられた反射手段によって反射または散乱させ、前記基板の表面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、
前記露光された感光性薄膜を現像することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または２において、前記現像された後の感光性薄膜の寸法は、前記非透光性薄膜材料からなるパターンの寸法より小さいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
透光性基板上にゲート配線を形成し、
前記ゲート配線上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に感光性薄膜を形成し、
前記ゲート配線をマスクとして光源からの光を前記基板の裏面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、且つ、前記感光性薄膜を透過した前記光源からの光を前記基板の表面側に設けられた反射手段によって反射または散乱させ、前記基板の表面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、
前記露光された部分を除去して感光性薄膜からなるパターンを形成し、
前記感光性薄膜からなるパターンをマスクとして前記半導体膜に導電型を付与する不純物を添加することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
透光性基板上にゲート配線を形成し、
前記ゲート配線上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に絶縁性薄膜を形成し、
前記絶縁性薄膜上に感光性薄膜を形成し、
前記ゲート配線をマスクとして光源からの光を前記基板の裏面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、且つ、前記感光性薄膜を透過した前記光源からの光を前記基板の表面側に設けられた反射手段によって反射または散乱させ、前記基板の表面側から照射して前記感光性薄膜を露光し、
前記露光された部分を除去して感光性薄膜からなるパターンを形成し、
前記パターンをマスクとして前記絶縁性薄膜を選択的に除去し、前記絶縁性薄膜からなるパターンを形成し、
前記感光性薄膜からなるパターンを除去し、
前記絶縁性薄膜からなるパターンをマスクとして前記半導体膜に導電型を付与する不純物を添加することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項４または５において、前記絶縁性薄膜は、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、酸化珪素膜、有機樹脂膜から選ばれた単層膜、またはそれらの積層膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか一において、前記感光性薄膜からなるパターンの寸法は、前記ゲート配線の寸法より小さいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、前記反射手段は、光反射性を有する材料膜が設けられた反射板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月22日(2007.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  サブシステムとコンピュータ・サブシステムとの間で直流エネルギーを提供し、電源サブシステムとコンピュータ・サブシステムとの間の交流を電気的にフィルタリングする装置であって、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとは、前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間に電磁妨害（ＥＭＩ）の電気的分離をもたらす導電性のある隔壁を含む導電体ハウジング内に収容され、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムの間に接続され、前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間に直流電力を提供する母線と、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムの間の該母線のほぼ全長にわたり前記母線を取り囲む誘電体材料と、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムの間の該母線のほぼ全長にわたり前記誘電体材料を取り囲み、前記導電体ハウジングと前記隔壁とに接続された導電体材料と
を備えて成り、
前記誘電体材料を取り囲む前記導電体材料が、隔壁の穴を貫通し、前記導電体材料を囲む前記隔壁の穴を完全に埋める導電性ガスケットを介して前記隔壁に電気的に接続される、装置。
【請求項２】  前記母線と前記導電体材料との間に配置された前記誘電体材料からなるキャパシタが、１５００ピコファラッドを超えるキャパシタンスを有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記キャパシタが、２００メガヘルツを超える周波数で動作することを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】  コンピュータ・サブシステムと電源サブシステムとの間の望ましくない雑音をフィルタリングするシステムであって、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間に接続され、前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間で直流信号を提供する母線と、
前記母線を取り囲む誘電体材料と、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムの間の該母線のほぼ全長にわたり前記誘電体材料を取り囲む導電体材料と、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムの間の該母線のほぼ全長にわたり前記コンピュータ・サブシステムと前記電源サブシステムとを取り囲み、前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間に電磁妨害（ＥＭＩ）の電気的分離をもたらす導電体隔壁を有し、前記母線と前記誘電体と前記導電体材料とが前記隔壁の穴を介して前記隔壁を貫通する、導電体ハウジングと、
前記導電体材料と前記導電体隔壁との間に配置され、それにより前記隔壁の穴を電気的かつ機械的に封止し、前記導電体材料を前記導電体隔壁に電気的に接続する導電体ガスケットと
を備えて成る装置。
【請求項５】  前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間に接続された前記母線が、四角形構造を有する銅合金母線をさらに備えて成ることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項６】  前記母線を取り囲む前記誘電体材料が、前記母線を取り囲むポリエステルフィルムテープの誘電体をさらに備えて成ることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項７】  前記誘電体材料を取り囲む前記導電体材料が、前記誘電体材料を取り囲む銅箔材料をさらに備えて成ることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項８】  前記母線と前記導電体材料との間に配置された前記誘電体材料からなるキャパシタが、１５００ピコファラッドを超えるキャパシタンスを有することを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項９】  前記キャパシタが、２００メガヘルツを超える周波数で動作することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】  コンピュータ・サブシステムと電源サブシステムとの間の望ましくない雑音をフィルタリングするシステムであって、
導電体ハウジングと電気接続し、前記コンピュータ・サブシステムと前記電源サブシステムを囲う導電体ハウジングと、
前記導電体ハウジングと電気接続し、前記コンピュータ・サブシステムと前記電源サブシステムとの間に電磁妨害（ＥＭＩ）の電気的分離をもたらす導電体隔壁材料と、
前記コンピュータ・サブシステムと前記電源サブシステムとの間に接続され、前記導電体ハウジングと前記導電体隔壁とに電気的に接続している導電体材料と、
前記コンピュータ・サブシステムと前記電源サブシステムの間のほぼ全長にわたり前記導電体材料により取り囲まれている外側誘電体材料と、
前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間の前記母線のほぼ全長にわたって前記外側誘電体材料によって取り囲まれ、前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムと接続して、前記電源サブシステムと前記コンピュータ・サブシステムとの間に直流電力を提供する複数の母線と、
前記コンピュータ・サブシステムと前記電源サブシステムとの間の該母線のほぼ全長にわたって各対の母線間に配置された少なくとも１つの内側誘電体材料と
を備えて成るシステム。
【請求項１１】  前記内側誘電体材料ならびに前記外側誘電体材料が、ポリエステルフィルムから成ることを特徴とする、請求項１０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月23日(2007.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱膨張係数と所与の温度での所定の形状および大きさを有する外周とを備えた集積回路（ＩＣ）（502）と、プリント回路基板（504）とを含むアセンブリ中の界面応力を低減するための装置であって、
前記ＩＣよりも高い熱膨張係数を備え、所与の温度において、前記ＩＣが前記所与の温度である際の前記ＩＣの外周とほぼ同じ形状および大きさである開口部を有する環状部（402）からなる、装置。
【請求項２】
熱膨張係数と所与の温度での所定の形状および大きさを有する外周とを備えた集積回路（ＩＣ）基板（508）と、プリント回路基板（504）とを含むアセンブリ中の界面応力を低減するための装置であって、
前記ＩＣ基板よりも高い熱膨張係数を備え、所与の温度において、前記ＩＣ基板が前記所与の温度である際の前記ＩＣ基板の外周とほぼ同じ形状および大きさである開口部を形成する環状部（402）からなる、装置。
【請求項３】
集積回路（ＩＣ）アセンブリ中の熱膨張差によって発生する界面応力を低減するための装置であって、
熱膨張係数を有し、所与の温度での所定の形状および大きさを有する外周を有する集積回路（ＩＣ）（502）と、
前記ＩＣよりも高い熱膨張係数を有し、前記所与の温度において、前記ＩＣの外周とほぼ同じ形状である開口部を形成する環状部（402）であって、前記環状部は、前記所与の温度において、前記ＩＣが前記環状部によって囲まれ、前記ＩＣの外周と前記環状部中の前記開口部との間に間隙を形成するように配置される、環状部（402）と、
充填材料とを含み
前記充填材料は、前記間隙が前記所与の温度で前記充填材料によってほぼ占有されるように配置される、装置。
【請求項４】
集積回路（ＩＣ）アセンブリ中の熱膨張差によって発生する界面応力を低減するための装置であって、
熱膨張係数と所与の温度での所定の形状および大きさを有する外周とを有するＩＣ基板（508）と、
前記ＩＣ基板よりも高い熱膨張係数を有し、前記所与の温度において、前記ＩＣ基板の外周とほぼ同じ形状である開口部を形成する環状部（402）であって、前記環状部は、前記所与の温度において、前記ＩＣ基板が前記環状部によって囲まれ、前記ＩＣ基板の外周と前記環状部中の前記開口部との間に間隙を形成するように配置される、環状部（402）と、
充填材料とを含み、
前記充填材料は、前記間隙が前記所与の温度で前記充填材料によってほぼ占有されるように配置される、装置。
【請求項５】
集積回路（ＩＣ）／ＰＣ基板アセンブリ中の熱膨張差によって発生する界面応力を低減する方法であって、
前記ＩＣ（502）と前記ＰＣ基板（504）とを、高温に加熱し、
前記高温で前記ＩＣとＰＣ基板とを接合し、
前記ＩＣ／ＰＣ基板アセンブリを第２の温度まで冷却し、
前記高温と前記第２の温度との間の冷却量に比例するように前記ＩＣを圧縮することを含む、方法。
【請求項６】
集積回路（ＩＣ）／基板／ＰＣ基板アセンブリ中の熱膨張差によって発生する界面応力を低減する方法であって、
前記ＩＣ（502）と、前記基板（508）と、前記ＰＣ基板（504）とを、高温に加熱し、
前記高温で前記基板とＰＣ基板とを接合し、
前記ＩＣ／基板／ＰＣ基板アセンブリを、第２の温度まで冷却し、
前記高温と前記第２の温度との間の冷却量に比例するように前記基板を圧縮することを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱源から熱を放散させるための冷却システムであって、その冷却システムは、
ヒートシンク装置であって、
ａ）前記熱源に接触するように適合した面を有する熱伝導性の基部と、
ｂ）前記熱伝導性の基部から伸びる壁部材と、
ｃ）前記壁部材がその内部にチャンバと、前記チャンバから前記壁部材の反対側に配置されるヒートシンク装置の外面とを画定することと、
ｄ）前記周壁部材を貫通する複数の開口と、
ｅ）前記複数の開口が前記ヒートシンク装置の外面と前記チャンバとの間に伸びることと、を含むヒートシンク装置と、
前記ヒートシンク装置の外面から前記複数の開口の第１の部分を通って前記チャンバへと伸びる吸気経路と、
前記チャンバから前記複数の開口の第２の部分を通って前記ヒートシンク装置の外面へと伸びる排気経路と、及び
仕切り部材とを含み、
前記仕切り部材が、
ａ）前記吸気経路に面する第１の面と、
ｂ）前記第１の面に対して反対側に配置され、前記排気経路に面する第２の面とを含み、
前記仕切り部材が前記吸気経路と前記排気経路とを分離し、
前記仕切り部材が前記ヒートシンク装置の外面から伸びている、冷却システム。
【請求項２】
前記吸気経路が前記排気経路に対して実質的に平行である、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項３】
前記仕切り部材が前記ヒートシンク装置と一体に形成される、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項４】
前記ヒートシンク装置の外面が、その外面に形成された肩部を更に含み、前記仕切り部材が前記肩部に当接する、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項５】
前記ヒートシンク装置と前記仕切り部材との間に配置されるばねを更に含む、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項６】
複数の熱伝導性部材が前記熱伝導性の基部から伸びており、
前記壁部材が前記複数の熱伝導性部材の少なくとも一部により形成されており、
前記複数の開口の各々が、前記複数の熱伝導性部材の２つの間に配置される、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項７】
前記仕切り部材の第１の面が、前記仕切り部材の第２の面に対して実質的に平行である、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項８】
前記仕切り部材が可撓性を有する、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項９】
前記仕切り部材と前記熱源との間で関連して動作するように結合したばね機構を更に含む、請求項１に記載の冷却システム。
【請求項１０】
前記ばね機構が、ばねと関連付けられたねじを含み、前記ねじが軸と頭部を有し、前記軸が前記仕切り部材を貫通して、前記熱源と関連して動作するように結合され、前記頭部が前記仕切り部材の第１の面に近接して配置され、前記ばねが、前記仕切り部材を前記熱源の方へと付勢するように、前記ねじの頭部と前記仕切り部材の第１の面との間に配置される、請求項９に記載の冷却システム。
【請求項１１】
熱源から熱を放散させるための方法であって、
ａ）前記熱源に接触するように適合した面を有する熱伝導性の基部と、
ｂ）前記熱伝導性の基部から伸びる壁部材と、
ｃ）前記壁部材がその内部にチャンバと、前記チャンバから前記壁部材の反対側に配置されるヒートシンク装置の外面とを画定することと、
ｄ）前記壁部材を貫通して伸びる複数の開口と、
ｅ）前記複数の開口が前記ヒートシンク装置の外面と前記チャンバとの間に伸びることとを含む、ヒートシンク装置を設け、
前記熱源から前記熱伝導性の基部を介して前記壁部材へと熱を伝導し、
空気を吸気経路に沿って前記ヒートシンク装置の外面から前記複数の開口の第１の部分を通って、前記ヒートシンク装置のチャンバへと移動させることにより、前記壁部材から熱を除去し、
空気を排気経路に沿って前記ヒートシンク装置のチャンバから前記複数の開口の第２の部分を通って、前記ヒートシンク装置の外面へと移動させることにより、前記壁部材から更に熱を除去し、
ａ）前記吸気経路に面する第１の面と、
ｂ）前記第１の面に対して反対側に配置され、前記排気経路に面する第２の面とを含む仕切り部材を設け、前記仕切り部材が前記ヒートシンク装置の外面から伸びており、
前記仕切り部材を用いて前記吸気経路と前記排気経路とを分離することを含む、方法。
【請求項１２】
前記吸気経路が前記排気経路に対して実質的に平行である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記仕切り部材が前記ヒートシンク装置と一体に形成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ヒートシンク装置の外面が、その外面に形成された肩部を更に含み、前記仕切り部材が前記肩部に当接する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記ヒートシンク装置と前記仕切り部材との間に配置されるばねを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
複数の熱伝導性部材が前記熱伝導性の基部から伸びており、
前記壁部材が前記複数の熱伝導性部材の少なくとも一部により形成されており、
前記複数の開口の各々が、前記複数の熱伝導性部材の２つの間に配置される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記仕切り部材を用いて、前記熱源と接蝕した状態で前記ヒートシンク装置を保持することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記熱源が基板に取り付けられ、前記熱源と接蝕した状態で前記ヒートシンク装置を保持することが、前記仕切り部材を前記基板に取り付けることを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記仕切り部材の第１の面が、前記仕切り部材の第２の面に対して実質的に平行である、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
冷却装置を基板へと固定するための取付け機構であって、
前記冷却装置が、熱源に接触するように適合した基部を含むタイプのものであり、前記基部がその基部から伸びる複数の熱伝導性部材を有し、前記複数の熱伝導性部材が前記冷却装置の壁を形成するように構成され、前記壁が外面を有し、
前記取付け機構は、
第１の面と、その第１の面の反対にある第２の面とを有する仕切り部材を含み、
前記仕切り部材が、前記第１の面と前記第２の面との間に切り抜き部分を有し、その切り抜き部分の周辺部が前記壁の外面と実質的に同じ形状、及び前記壁の外面よりも大きいサイズを有し、
前記仕切り部材が前記壁の外面に隣接しており、
前記仕切り部材が前記壁の外面から伸びている、取付け機構。
【請求項２１】
前記仕切り部材が可撓性材料から作られる、請求項２０に記載の機構。
【請求項２２】
前記仕切り部材が、たわむことができる材料から作られる、請求項２０に記載の機構。
【請求項２３】
前記基部に垂直な軸方向に前記基部を付勢するように、前記仕切り部材、及び前記基部と関連して作動するように結合されたばね機構を更に含む、請求項２０に記載の機構。
【請求項２４】
前記壁の外面と前記仕切り部材との間に配置されたばね機構を更に含む、請求項２０に記載の機構。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被試験装置のアンテナを試験装置に結合するためのアンテナ・カプラであって、
導電性材料の内部表面および外部表面を有し、軸および第１の端部を有し、前記軸に沿って、選択された深さにわたって、第１の端部から前記アンテナを挿入することが可能であり、少なくとも、前記第１の端部から始まる前記選択された深さに等しい長さに沿って、一定の内径及び外径を備え、引き続く第２の長さにわたって前記外径が第１の選択された直径まで漸減し、前記内部表面が、挿入されるアンテナとともに、特性インピーダンスＺ０ｉｎの第１の非終端同軸伝送ラインを形成する内部シリンダと、
導電性材料の内部表面および外部表面を有し、第２の端部を有し、前記第２の端部が前記第１の端部にほぼ向かい合って配置され、前記内部シリンダを収容して軸を共有しており、前記内部シリンダが一定の外径を有する領域に向かい合った位置で同じ長さにわたって一定の内径を備え、その後、第３の長さにわたって、該内径が、一定の特性インピーダンスＺ０ｏｕｔを維持すべく前記内部シリンダの前記外径が漸減するのに従って漸減し、前記内部シリンダの前記一定の外部表面とともに、特性インピーダンスＺ０ｏｕｔの第２の同軸伝送ラインを形成する、導電性材料の外部シリンダと、
前記第２の端部に向かい合った前記第２の同軸伝送ラインの遠位端に配置された、前記アンテナと前記試験装置との間に結合されるＲＦパワーを伝送するためのＲＦ接続部が含まれている、アンテナ・カプラ。
【請求項２】
さらに、前記被試験装置を収容するための、ＲＦ吸収材料で裏打ちされた導電性のＲＦ遮蔽箱が含まれていることと、前記ＲＦ遮蔽箱が開口の設けられた側面を備えており、それによって、前記ＲＦ遮蔽箱の外側から前記外部シリンダの前記第２の端部が導電結合していることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項３】
さらに、前記アンテナが前記内部シリンダの軸に沿って延びるように位置決めするため、前記ＲＦ遮蔽箱内で前記被試験装置を保持するための位置決め固定具が含まれていることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項４】
前記内部シリンダに、前記アンテナの貫通を前記選択された深さに制限するための深さストップが含まれていることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項５】
Ｚ０ｏｕｔが５０オームから７５オームの範囲内であり、Ｚ０ｉｎが３０オームから２００オームの範囲内であることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項６】
前記第２の同軸伝送ラインの遠位端における前記ＲＦ接続部が、同軸ＲＦコネクタであることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項７】
前記被試験装置が無線電話であることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項８】
前記被試験装置が無線ページャであることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【請求項９】
前記被試験装置がハンド・ヘルド無線トランシーバであることを特徴とする、請求項１に記載のアンテナ・カプラ。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月21日(2007.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 関心のある領域に対して位置合わせしたコリメータのブレードを表すディジタル画像を取得する工程（２０８）と、該ディジタル画像から、コリメータの少なくとも１つのブレードの位置を自動的に決定する工程（２１８）と、関心のある領域に対するコリメータの少なくとも１つの位置を自動的に調節する（２２６）工程と、を含むコリメータの較正方法。
【請求項２】 前記ディジタル画像を取得する前記工程（２０８）が、固体Ｘ線検出器を用いてディジタル画像を取得する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】 位置を自動的に決定する前記工程（２１８）が、前記ディジタル画像の少なくとも一部分を軸線に沿った少なくとも１つの帯にセグメント分割する工程（２１２）と、縁応答関数に基づいて、コリメータのブレードの縁を特定する工程（２１６）とを含む請求項１記載の方法。
【請求項４】 少なくとも１つのコリメータ・ブレード位置センサ信号、少なくとも１つのコリメータ・ブレード・アクチュエータ信号及び画像検出器信号を伝える通信インターフェース（３０４）と、該通信インターフェースに結合されていて、画像検出器信号に基づいてコリメータのブレードの位置を自動的に決定すると共に、関心のある領域に対する所望の位置に向かって、コリメータのブレードの位置を調節する為のブレード作動信号を自動的に発生する中央プロセッサ（３０６）と、を有するコリメータ較正装置。
【請求項５】 更に、少なくとも１つのセンサ（３３８）と、コリメータの少なくとも１つのブレードに対する少なくとも１つのアクチュエータ（３３０）とを有する請求項１１記載のコリメータ較正装置。
【請求項６】 前記通信インターフェース（３０４）がディジタルＸ線画像検出器（３１０）に接続される請求項４記載のコリメータ較正装置。
【請求項７】 前記プロセッサ（３０６）が、前記ディジタル画像（１００）の少なくとも一部分を軸線に沿った少なくとも１つの帯にセグメント分割し、該軸線に対して垂直な方向に於ける各々の帯内の画像を平均し、縁応答関数を使ってコリメータのブレードの縁を決定する請求項４記載のコリメータ較正装置。
【請求項８】 Ｘ線検出器と、関心のある領域に対して配置されたコリメータの少なくとも１つのブレードと、コリメータのブレードの位置を検出する検出器と、回転及び並進の内の少なくとも一方によりコリメータのブレードを移動させるブレード位置制御装置と、コリメータのブレードの位置を決定すると共に、コリメータのブレードを移動させる為にブレード位置制御装置に自動的に命令を出す較正器と、を有するコリメータ較正装置。
【請求項９】 前記較正器が、コリメータのブレードの現在及び目標較正位置を計算して、コリメータのブレードを現在位置から目標較正位置まで移動させるようにブレード位置制御装置に命令する請求項８記載のコリメータ較正装置。
【請求項１０】 更に、少なくとも１つのセンサ（３３８）と、コリメータの少なくとも１つのブレードに対する少なくとも１つのアクチュエータ（３３０）とを有する請求項８記載のコリメータ較正装置。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放送番組録画装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取得した放送番組の番組情報を出力する番組情報供給手段と、
操作者により所定期間内に操作が行われた放送番組の番組情報から構成される履歴情報と、上記番組情報供給手段から出力される上記放送番組の番組情報とに基づいて、操作番組情報を出力する番組情報抽出手段と、
上記操作番組情報と、上記番組情報供給手段から出力される放送番組の番組情報とに基づいて、録画を推奨する録画推奨番組を出力する録画推奨番組抽出手段と、
上記録画推奨番組をリスト化した録画推奨番組リストを表示手段に表示するよう制御する表示制御手段と、
所定の場合に、上記録画推奨番組を録画予約する録画予約手段と、
上記録画予約された録画推奨番組を録画する録画手段と
を備え、
上記番組情報抽出手段は、
上記履歴情報の放送番組の番組情報を構成する項目毎に、上記各項目内の項目要素について統計処理し、上記統計処理に基づいて上記項目要素の順位付けを行う統計処理手段と、
上記順位付けに応じて付与されるポイントを記憶するポイントテーブルと、
上記項目毎に、上記統計処理により順位付けされた項目要素に対し、上記ポイントテーブルに記憶されているポイントに重み付けした録画推奨値を付与する録画推奨値付与手段とを有し、
上記各項目要素と、上記各項目要素に対応する録画推奨値とを上記録画番組情報として出力し、
上記録画推奨番組抽出手段は、
放送番組毎に、上記録画番組情報と、上記番組情報供給手段から出力される放送番組の番組情報とに基づいて、上記放送番組の番組情報の項目毎に録画推奨値を付与する付与手段と、
上記放送番組毎に、上記放送番組の番組情報の項目毎に録画推奨値を加算した総合録画推奨値を算出する算出手段と
を有し、
所定の基準値以上の総合録画推奨値の放送番組を上記録画推奨番組として出力すること
を特徴とする放送番組録画装置。
【請求項２】
上記重み付けは、出演者を示す項目に対して、他の項目よりも同等以上に重み付けされること
を特徴とする請求項１に記載の放送番組録画装置。
【請求項３】
上記操作者による操作は視聴操作であり、上記履歴情報は視聴履歴情報であること
を特徴とする請求項１または２に記載の放送番組録画装置。
【請求項４】
上記統計処理手段は、上記履歴情報の放送番組の番組情報を構成する項目毎に、上記各項目内の項目要素について偏差値による統計処理を行い、上記偏差値に基づいて上記項目要素の順位付けを行うこと
を特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の放送番組録画装置。
【請求項５】
上記録画予約手段は、上記総合録画推奨値が予め定めた値以上となる放送番組を上記録画推奨番組として録画予約すること
を特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の放送番組録画装置。
【請求項６】
上記番組情報供給手段は、放送局から送信される放送波、電話回線、情報が記録された記録媒体のいずれかから上記番組情報を取得すること
を特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の放送番組録画装置。
【請求項７】
上記録画予約手段は、上記録画推奨番組抽出手段が出力した上記録画推奨番組を自動的に録画予約すること
を特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の放送番組録画装置。
【請求項８】
上記録画予約手段は、上記録画推奨番組抽出手段が出力した上記録画推奨番組を録画予約するか否かを選択可能な予約状況評価手段を備え、
上記録画手段は、上記予約状況評価手段により上記録画予約された録画推奨番組を録画すること
を特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の放送番組録画装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る放送番組録画装置は、
取得した放送番組の番組情報を出力する番組情報供給手段と、
操作者により所定期間内に操作が行われた放送番組の番組情報から構成される履歴情報と、上記番組情報供給手段から出力される上記放送番組の番組情報とに基づいて、操作番組情報を出力する番組情報抽出手段と、
上記操作番組情報と、上記番組情報供給手段から出力される放送番組の番組情報とに基づいて、録画を推奨する録画推奨番組を抽出する録画推奨番組抽出手段と、
上記録画推奨番組をリスト化した録画推奨番組リストを表示手段に表示するよう制御する表示制御手段と、
所定の場合に、上記録画推奨番組を録画予約する録画予約手段と、
上記録画予約された録画推奨番組を録画する録画手段と
を備え、
上記番組情報抽出手段は、
上記履歴情報の放送番組の番組情報を構成する項目毎に、上記各項目内の項目要素について統計処理し、上記統計処理に基づいて上記項目要素の順位付けを行う統計処理手段と、
上記順位付けに応じて付与されるポイントを記憶するポイントテーブルと、
上記項目毎に、上記統計処理により順位付けされた項目要素に対し、上記ポイントテーブルに記憶されているポイントに重み付けした録画推奨値を付与する録画推奨値付与手段とを有し、
上記各項目要素と、上記各項目要素に対応する録画推奨値とを上記録画番組情報として出力し、
上記録画推奨番組抽出手段は、
放送番組毎に、上記録画番組情報と、上記番組情報供給手段から出力される放送番組の番組情報とに基づいて、上記放送番組の番組情報の項目毎に録画推奨値を付与する付与手段と、
上記放送番組毎に、上記放送番組の番組情報の項目毎に録画推奨値を加算した総合録画推奨値を算出する算出手段と
を有し、
所定の基準値以上の総合録画推奨値の放送番組を上記録画推奨番組として抽出すること
としたものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月21日(2007.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 医用イメージング・システム用の、臨床領域を含む医用ディジタル画像のダイナミック・レンジを決定するための方法であって、医用ディジタル画像が非臨床領域を含むか否かを決定するステップ、臨床領域に対するダイナミック・レンジを算出するステップ、を含む方法。
【請求項２】 さらに、医用ディジタル画像を所定の幅をもつバンドに分割するステップを含み、前記決定するステップが各バンド内の非臨床領域を特定する請求項１に記載の方法。
【請求項３】 前記決定するステップの間に、医用ディジタル画像を水平および垂直方向バンドに分割する請求項１に記載の方法。
【請求項４】 さらに、前記医用ディジタル画像を微分するステップを含み、前記決定するステップが前記微分の結果に基づいて非臨床領域の位置を算出する請求項１に記載の方法。
【請求項５】 臨床領域および非臨床領域を含む表示しようとする医用ディジタル画像のダイナミック・レンジを制御するための医用診断イメージング・システムであって、医用ディジタル画像の非臨床領域を特定するための細分割モジュールと、非臨床領域を細分割したのちに医用ディジタル画像の臨床領域のダイナミック・レンジを決定するダイナミック・レンジ・モジュールと、を備える医用診断イメージング・システム。
【請求項６】 さらに、臨床領域および非臨床領域を有する医用ディジタル画像を獲得するためのディジタル検出器、を備える請求項５に記載のシステム。
【請求項７】 前記細分割モジュールが、非臨床領域内の生放射線領域を特定する請求項５に記載のシステム。
【請求項８】 前記細分割モジュールが、非臨床領域内のコリメートされた領域を特定する請求項５に記載のシステム。
【請求項９】 前記細分割モジュールが、医用ディジタル画像のグレイスケール・レベルの変動に基づいて非臨床領域を特定する請求項５に記載のシステム。
【請求項１０】 前記細分割モジュールが、医用ディジタル画像の少なくとも一部分を微分して非臨床領域を特定する請求項５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月14日(2007.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一つまたはそれ以上の位置測定装置の第一および第二の走査ユニット（ＡＥ１，ＡＥ２）の中に配置された記憶ユニット（ＭＥＭ１，ＭＥＭ２）の間でデータを伝送する方法において、記憶ユニット（ＭＥＭ１，ＭＥＭ２）内にそれぞれ位置測定装置の特有なデータを保管することが可能であり、データ伝送導線（ＤＬ）を介してデータを第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）から第二記憶ユニット（ＭＥＭ２）に伝送し、伝送した後に第二記憶ユニット（ＭＥＭ２）の中に第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）の特有なデータが少なくとも一部含まれていることを特徴とする方法。
【請求項２】  データを中に記憶した第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）へのアクセスが可能であるか否かの検査に成功したら、データの伝送が自動的に行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  データの伝送が正しく行われたか否かは表示手段（ＡＭ１，ＡＭ２）により表示されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】  表示手段（ＡＭ１，ＡＭ２）は少なくとも一個のＬＥＤの形の目視可能な表示手段として形成され、データ伝送導線（ＤＬ）内に組み込まれていることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  正しいデータ伝送はＬＥＤを持続点灯させて目視できるが、正しくないデータ伝送はＬＥＤの点滅により目視できることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】  正しくないデータ伝送の場合には、それぞれ異なった誤動作のタイプに対応する複数の点滅モードを利用できることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】  表示手段（ＡＭ１，ＡＭ２）によりデータ伝送時に生じ得る誤動作のタイプも表示されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項８】  データ伝送が可能な場合、第一走査ユニット（ＡＥ１）の側で第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）と一つまたはそれ以上のスイッチング素子（ＳＥ１1 〜ＳＥ１5 ）にのみ電流が供給されていることが確認されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ａ）データ伝送導線（ＤＬ）により第一および第二の走査ユニット（ＡＥ１，ＡＥ２）を接続し、
ｂ）第二走査ユニット（ＡＥ２）を電源導線（Ｌ）に接続し、
ｃ）第二走査ユニット（ＡＥ２）から、データを中に記憶した第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）へのアクセスが可能であるか否を検査し、
ｄ）工程ｃ）で第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）へのアクセスが可能であることが確認されている限り、データを第一記憶ユニット（ＭＥＭ１）から第二記憶ユニット（ＭＥＭ２）へ少なくとも一部伝送し、
ｅ）データ伝送が正しく進行したかあるいは正しく進行しなかったかを表示する表示手段（ＡＭ１，ＡＭ２）を動作させる、
工程を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月13日(2007.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  イオンが反磁性である金属の化合物を含む粉末であることを特徴とする、熱可塑性樹脂および蛍光染料を含む有色トナー粉末。
【請求項２】  金属の化合物が塩の形態である、請求項1に記載の有色トナー粉末。
【請求項３】  金属の化合物が亜鉛またはマグネシウムを含むことを特徴とする、請求項1に記載の有色トナー粉末。
【請求項４】  塩が分枝脂肪族カルボン酸由来の塩であることを特徴とする、請求項２に記載の有色トナー粉末。
【請求項５】  カルボン酸が少なくとも６炭素原子を有する炭化水素基を含むことを特徴とする、請求項４に記載の有色トナー粉末。
【請求項６】  塩が２エチルヘキサンカルボン酸由来の塩であることを特徴とする、請求項５に記載の有色トナー粉末。
【請求項７】  塩が無機塩の形態であることを特徴とする、請求項２に記載の有色トナー粉末。
【請求項８】  １５重量％までの金属化合物を含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の有色トナー粉末。
【請求項９】  誘磁性材料を含むことを特徴とする、請求項1〜８のいずれかに記載の有色トナー粉末。
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月30日(2007.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  支持体と、少なくとも１種のポリマー結合剤、少なくとも１種のエチレン不飽和共重合性有機化合物、および少なくとも１種の光重合開始剤または光重合開始剤系を含有する少なくとも１層の光重合層と、赤外線放射に感応し化学線を通さない層とを含み、接着ワックス層が光重合層と赤外線感応層との間に存在することを特徴とする光重合性記録要素。
【請求項２】  ａ）赤外線感応層を、赤外線レーザによりイメージ通りに露光し、要素上にマスクを作り出す段階と、
ｂ）記録要素の光重合層を、ａ）で作り出されたマスクを通して化学線放射により全面露光する段階と、
ｃ）光重合層の光重合していない領域と、赤外線感応層の残された領域と、接着ワックス層とを、１種または複数の現像剤溶媒によって除去する段階と
を含む、請求項１に記載の光重合性記録要素からのフレキソ印刷版作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
印刷試験
機械試験では、上述のように調製したカーボンブラック層（７５ミクロンのポリエステル上に）を、上述のように試験５のワックスで被覆し、上述のように感光性ポリマー版面（Ｄｕ  Ｐｏｎｔ社製ＣＹＲＥＬ（登録商標）ＤＵＶ４５）上に約１６０℃で積層した。次いでポリエステル保護層をカーボンブラック層から除去した。選択的なイメージ通りの構造を、ＤｕＰｏｎｔ社製Ｃｙｒｅｌ（登録商標）ＣＤＩレーザイメージ形成装置（１４ワット）によって、カーボンブラック層から融除した。カーボンブラック層に残されたイメージ通りの領域は、ＤｕＰｏｎｔ社製Ｃｙｒｅｌ（登録商標）１００１Ｅ露光装置で後で行われる化学線による版面露光での、フォトマスクとしての役割をした。露光後、カーボンブラック層によって保護されている光重合層の（未露光）領域（カーボンブラック層およびワックス層の残されている領域と一緒に）を、ＤｕＰｏｎｔ社製現像装置Ｃｙｒｅｌ（登録商標）２００１Ｐにより、ＤｕＰｏｎｔ社製Ｏｐｔｉｓｏｌ（登録商標）を現像剤溶媒として用いて洗い落とした。得られたフレキソ印刷版を用い、紙とポリプロピレンのシート上で印刷試験を行った。この印刷結果は、標準の印刷版に比べ、欠点または欠陥を示さない。さらにこの試験は、レーザ露光の際に必要とされるエネルギーが、ワックスの無いカーボンブラック層を使用する場合よりも約１５％少ないことを示している。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  支持体と、少なくとも１種のポリマー結合剤、少なくとも１種のエチレン不飽和共重合性有機化合物、および少なくとも１種の光重合開始剤または光重合開始剤系を含有する少なくとも１層の光重合層と、赤外線放射に感応し化学線を通さない層とを含み、接着ワックス層が光重合層と赤外線感応層との間に存在することを特徴とする光重合性記録要素。
［２］  ワックス層が０．０２〜１．０ミクロンの厚さであることを特徴とする［１］に記載の光重合性記録要素。
［３］  ワックス層が０．０５〜０．５ミクロンの厚さであることを特徴とする［２］に記載の光重合性記録要素。
［４］  ワックス層が、ポリオレフィンワックス、パラフィンワックス、カルナバ蝋、モンタンワックス、およびステアリンワックスおよび／またはステラミドワックスを含むことを特徴とする［１］に記載の光重合性記録要素。
［５］  赤外線感応層を赤外線レーザ放射によって除去できることを特徴とする［１］に記載の光重合性記録要素。
［６］  赤外線感応層がカーボンブラックを含有することを特徴とする［５］に記載の光重合性記録要素。
［７］  結合層が、支持体と光重合層の間に存在することを特徴とする［１］に記載の光重合性記録要素。
［８］  バリア層が、光重合層とワックス層の間に存在することを特徴とする［１］に記載の光重合性記録要素。
［９］  可剥性カバー層が、ワックス層から離れて赤外線感応層の表面に存在することを特徴とする［１］に記載の光重合性記録要素。
［１０］  ａ）［１］に記載の光重合性記録要素の赤外線感応層を、赤外線レーザによりイメージ通りに構造化してマスクを作り出し、
ｂ）光重合性記録要素の光重合層を、ａ）で作り出したマスクを通した化学線放射による全面露光によって、イメージ通りに光重合させ、
ｃ）光重合層の光重合していない領域、赤外線感応層の残された領域、および接着ワックス層を、１種または複数の現像剤溶媒によって除去する
ことを特徴とするフレキソ印刷版作製方法。
［１１］  ［９］に記載の光重合性記録要素を使用し、可剥性カバー層を全面露光の前に除去することを特徴とする［１０］に記載の方法。
［１２］  ａ）赤外線感応層を、赤外線レーザによりイメージ通りに露光し、要素上にマスクを作り出す段階と、
ｂ）記録要素の光重合層を、ａ）で作り出されたマスクを通して化学線放射により全面露光する段階と、
ｃ）光重合層の光重合していない領域と、赤外線感応層の残された領域と、接着ワックス層とを、１種または複数の現像剤溶媒によって除去する段階と
を含む、［１］に記載の光重合性記録要素からのフレキソ印刷版作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月6日(2007.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像生成を行う画像生成システムであって、
オブジェクト空間に配置された視点を基準としてオブジェクトに対してジオメトリ処理を施すジオメトリ処理部と、
ジオメトリ処理後のオブジェクトの画像を含むフレーム画像をフレームバッファの描画領域に描画することによって、周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行う描画部とを含み、
表示画面が複数の分割画面に分割される画面分割モード時に、オブジェクト空間に各分割画面に対応する複数の視点が配置され、
前記描画部が、
前記画面分割モード時に、前記複数の視点のそれぞれから見えるべき画像のそれぞれを複数のフレーム画像として、前記フレームバッファを前記複数の分割画面に対応させて分割した複数の分割描画領域のそれぞれに対して、周期Ｎ×Ｔ毎（Ｎは２以上の整数）に各分割描画領域に対応する各フレーム画像を描画することによって全ての分割描画領域の書き換えを行うことを特徴とする画像生成システム。
【請求項２】
請求項１において、
前記複数の分割描画領域の境界が前記複数の分割画面の境界の一部又は全部と一致するように、前記フレームバッファの描画領域が前記複数の分割描画領域に分割されていることを特徴とする画像生成システム。
【請求項３】
請求項１又は２において、
フレームバッファが描画領域と表示領域を有し、
前記描画部が、
フレームバッファの描画領域の奇数走査ラインのフレーム画像と偶数走査ラインのフレーム画像のいずれか一方を、周期Ｔ毎に交互に、フレームバッファの表示領域にコピーすることを特徴とする画像生成システム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記描画部が、
フレームバッファの描画領域を複数の分割描画領域に分割して周期Ｎ×Ｔ毎に全ての描画領域の書き換えを行う場合には、フレームバッファの描画領域を分割せずに周期Ｔ毎に全ての描画領域の書き換えを行う場合に比べて精細度を高めた画像を前記複数のフレーム画像として前記複数の分割描画領域に描画することを特徴とする画像生成システム。
【請求項５】
画像生成を行う画像生成システムであって、
オブジェクトに対してジオメトリ処理を施すジオメトリ処理部と、
ジオメトリ処理後のオブジェクトの画像を含むフレーム画像をフレームバッファの描画領域に描画し、周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行う描画部とを含み、
前記描画部が、
第１のモードでは周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行い、
第２のモードでは周期Ｎ×Ｔ毎（Ｎは２以上の整数）に描画領域の書き換えを行うと共に、周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行う場合に比べて精細度を高めた画像をフレーム画像として描画領域に描画することを特徴とする画像生成システム。
【請求項６】
請求項５において、
移動オブジェクトの移動情報を求め、移動オブジェクトをオブジェクト空間内で移動させるシミュレーション処理を行う移動処理部を含み、
前記移動処理部が、
第２のモード時に周期Ｎ×Ｔ毎に描画領域の書き換えが行われている場合にも、前記シミュレーション処理を周期Ｔ毎に行うことを特徴とする画像生成システム。
【請求項７】
画像を生成するためのプログラムであって、
オブジェクト空間に配置された視点を基準としてオブジェクトに対してジオメトリ処理を施すジオメトリ処理部と、
ジオメトリ処理後のオブジェクトの画像を含むフレーム画像をフレームバッファの描画領域に描画することによって、周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行う描画部として、
コンピュータを機能させると共に、
前記ジオメトリ処理部が、
表示画面が複数の分割画面に分割される画面分割モード時にオブジェクト空間に配置された複数の視点を基準として、各視点から見えるオブジェクトに対してジオメトリ処理を施し、
前記描画部が、
前記画面分割モード時に、前記複数の視点のそれぞれから見えるべき画像のそれぞれを複数のフレーム画像として、前記フレームバッファを前記複数の分割画面に対応させて分割した複数の分割描画領域のそれぞれに対して、周期Ｎ×Ｔ毎（Ｎは２以上の整数）に各分割描画領域に対応する各フレーム画像を描画することによって全ての分割描画領域の書き換えを行うことを特徴とするプログラム。
【請求項８】
請求項７において、
前記複数の分割描画領域の境界が前記複数の分割画面の境界の一部又は全部と一致するように、前記フレームバッファの描画領域が前記複数の分割描画領域に分割されていることを特徴とするプログラム。
【請求項９】
請求項７又は８において、
フレームバッファが描画領域と表示領域を有し、
前記描画部が、
フレームバッファの描画領域の奇数走査ラインのフレーム画像と偶数走査ラインのフレーム画像のいずれか一方を、周期Ｔ毎に交互に、フレームバッファの表示領域にコピーすることを特徴とするプログラム。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれかにおいて、
前記描画部が、
フレームバッファの描画領域を複数の分割描画領域に分割して周期Ｎ×Ｔ毎に全ての描画領域の書き換えを行う場合には、フレームバッファの描画領域を分割せずに周期Ｔ毎に全ての描画領域の書き換えを行う場合に比べて精細度を高めた画像を前記複数のフレーム画像として前記複数の分割描画領域に描画することを特徴とするプログラム。
【請求項１１】
画像を生成するためのプログラムであって、
オブジェクトに対してジオメトリ処理を施すジオメトリ処理部と、
ジオメトリ処理後のオブジェクトの画像を含むフレーム画像をフレームバッファの描画領域に描画し、周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行う描画部として、
コンピュータを機能させると共に、
前記描画部が、
第１のモードでは周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行い、
第２のモードでは周期Ｎ×Ｔ毎（Ｎは２以上の整数）に描画領域の書き換えを行うと共に、周期Ｔ毎に描画領域の書き換えを行う場合に比べて精細度を高めた画像をフレーム画像として描画領域に描画することを特徴とするプログラム。
【請求項１２】
請求項１１において、
移動オブジェクトの移動情報を求め、移動オブジェクトをオブジェクト空間内で移動させるシミュレーション処理を行う移動処理部としてコンピュータを機能させると共に、
前記移動処理部が、
第２のモード時に周期Ｎ×Ｔ毎に描画領域の書き換えが行われている場合にも、前記シミュレーション処理を周期Ｔ毎に行うことを特徴とするプログラム。
【請求項１３】
コンピュータ読み取り可能な情報記憶媒体であって、請求項７乃至１２のいずれかのプログラムを記憶したことを特徴とする情報記憶媒体。