【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造システムのプロセスを制御する方法であって、
前記半導体製造システムの前記プロセスに対してプロセス制御入力データをセットすることと；
前記半導体製造システムの前記プロセスからプロセス制御出力データを測定することと；
前記プロセス制御出力データと、前記プロセス制御入力データとの間の関係を決定することと；
プロセスの目標結果に目標プロセス制御出力データをセットすることと；
前記目標プロセス制御出力データと、予測されたプロセス制御出力データとの間の違いを最小にすることにより新しいプロセス制御入力データを算出することとを具備し、
前記予測されたプロセス制御出力データは、前記新しいプロセス制御入力データに適用される前記関係を使用して決定される方法。
【請求項２】
前記プロセス制御入力データと、前記プロセス制御出力データとの間の前記関係を更新することを更に具備する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記関係を前記更新することは、指数的に重み付けをされた移動平均（ＥＭＷＡ）フィルタを使用することを備えている請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記算出することは、前記新しいプロセス制御入力データを算出する前に、前記プロセス制御入力データを重み付けすることを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記算出することは、前記新しいプロセス制御入力データを算出する前に、前記プロセス制御出力データを重み付けすることを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記プロセス制御入力データと、前記新しいプロセス制御入力データとの間の違いを最小にすることを更に具備する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記決定することは、部分最小二乗（ＰＬＳ）解析を使用して展開されたプロセスモデルとの前記関係を展開することを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記決定することは、多重入力多重出力（ＭＩＭＯ）プロセスモデルとの前記関係を展開することを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記展開することは、Ｙ＝ｆ（Ｘ）＋Ｃによって特徴づけられるＭＩＭＯプロセスモデルを展開することを更に具備し、
Ｙは、プロセス制御出力データを含み、
Ｘは、プロセス制御入力データを含み、
Ｃは、定数の配列を含み、
ｆ（）は、Ｘのファンクションを表す請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ファンクションｆ（）は、線形関数を表す請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ファンクションｆ（）は、非線形関数を表す請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記セットすることは、エッチングプロセスに対して前記プロセス入力データをセットすることを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記セットすることは、ＲＦ電力、圧力、流体流量、温度、回転速度、および組成のうちの少なくとも１つに対して前記プロセス制御入力データをセットすることを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記プロセス制御入力データを前記セットすることは、ＲＦ電力、圧力、Ｃ４Ｆ８流量、一酸化炭素流量、およびＯ２流量のうちの少なくとも１つを含む前記プロセス制御入力データをセットすることを備えている請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
プロセス制御出力データを前記測定することは、限界寸法、傾斜、形状、エッチング速度、エッチング深さ、堆積速度、および膜厚のうちの少なくとも１つを含む前記プロセス制御出力データを測定することを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
プロセス制御出力データを前記測定することは、トレンチ上部の限界寸法、トレンチ底部の限界寸法、トレンチの側壁の傾斜、コンタクト上部の限界寸法、コンタクト底部の限界寸法、およびコンタクトの側壁の傾斜のうちの少なくとも１つを測定することを備えている請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記算出することは、Ｎｅｗｔｏｎ―Ｒｈａｐｓｏｎテクニックを使用して前記違いを最小にすることを備えている請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
半導体製造システムのプロセスを制御するためのコントロールシステムであって、
前記プロセスを実行するためのプロセスツールに組み合わせられるように構成されたプロセスツールコントローラを具備し、
前記プロセスツールコントローラは、
前記プロセスに対してプロセス制御入力データをセットし、かつ調整するように、およびプロセスの目標結果に目標プロセス制御出力データをセットするように構成されたプロセスレシピコントローラと、
前記プロセスレシピコントローラに組み合わせられ、前記プロセス制御入力データと、前記プロセス制御出力データとの間の関係を提供するように構成されたプロセスモデルとを更に有し、
前記プロセスレシピコントローラは、前記目標プロセス制御出力データと、新しいプロセス制御入力データに適用される前記関係によって予測されるプロセス制御出力データとの間の違いを最小にすることによって前記新しいプロセス制御入力データを生成するように構成されているシステム。
【請求項１９】
プロセスを実行するための半導体製造システムであって、
前記プロセスを実行するためのプロセスツールと、
前記プロセスツールに組み合わせられたプロセスツールコントローラとを具備し、
前記プロセスツールコントローラは、
前記プロセスに対してプロセス制御入力データをセットし、かつ調整するように、およびプロセスの目標結果に目標プロセス制御出力データをセットするように構成されたプロセスレシピコントローラと、
前記プロセスレシピコントローラに組み合わせられ、前記プロセス制御入力データと、前記プロセス制御出力データとの間の関係を提供するように構成されたプロセスモデルとを有し、
前記プロセスレシピコントローラは、前記目標プロセス制御出力データと、新しいプロセス制御入力データに適用される前記関係によって予測されるプロセス制御出力データとの間の違いを最小にすることによって前記新しいプロセス制御入力データを生成するように構成されているシステム。
【請求項２０】
プロセス制御入力データからプロセス制御出力データを予測するようにプロセスモデルを利用するためのグラフィックユーザーインターフェース（ＧＵＩ）であって、
前記ＧＵＩに少なくとも１つのデルタフィールドを使用して前記プロセス制御入力データの少なくとも１つのパラメータに入力変化を入力するための手段と、
前記入力変化を使用して前記プロセス制御出力データの少なくとも１つのパラメータの出力変化を決定するように前記プロセスモデルを実行するための手段と、
前記ＧＵＩの出力フィールドの前記出力変化を示すための手段とを具備するＧＵＩ。
【請求項２１】
前記プロセスモデルは、部分最小二乗（ＰＬＳ）モデルである請求項２０に記載のＧＵＩ。
【請求項２２】
プロセスモデルを使用して目標プロセス制御出力データを達成するようにプロセス制御入力データを最適化するためのグラフィックユーザーインターフェース（ＧＵＩ）であって、
前記プロセス制御出力データの少なくとも１つのパラメータに目標変化を入力するための手段と、
前記目標変化を用いて前記プロセス制御入力データの少なくとも１つのパラメータに、入力変化を最適化するように前記プロセスモデルを実行するための手段と、
前記ＧＵＩのデルタフィールドの前記入力変化を示すための手段とを具備するＧＵＩ。
【請求項２３】
コンピュータシステムによって実行されるときに、次のステップをコンピュータシステムに実行させる、半導体製造システムを制御するコンピュータシステム上で実行するためのプログラム命令を含んでいるコンピュータ読み取り可能なメディアであって、
前記半導体製造システムでプロセスに対してプロセス制御入力データをセットするステップと、
前記半導体製造システムの前記プロセスからプロセス制御出力データを測定するステップと、
前記プロセス制御出力データと、前記プロセス制御入力データとの間の関係を決定するステップと、
プロセスの目標結果に目標プロセス制御出力データをセットするステップと、
前記目標プロセス制御出力データと、予測されるプロセス制御出力データとの間の違いを最小にすることによって新しいプロセス制御入力データを算出するステップとを具備し、
前記予測されたプロセス制御出力データは、前記新しいプロセス制御入力データに適用される前記関係を使用して決定されるメディア。