Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月27日(2008.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気絶縁性のキャリアと、
前記キャリアの平面に設けられる１つ又は複数のコンタクト構造体と、
を含み、前記１つ又は複数のコンタクト構造体の各々は、前記キャリアの前記平面を貫通して少なくとも１表面に沿い連続的に延びる導電層を有するエラストマ材を含む、電気的接続デバイス。
【請求項２】
ランド・グリッド・アレイのインタポーザ・コネクタを構成する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記エラストマ材は、前記キャリアの両面上にエラストマ・バンプを形作る、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記キャリアは複数の開口を備え、１つ又は複数の前記開口は、前記エラストマ材が前記キャリアの前記平面に設けられることを可能にするように適合させる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記キャリアは複数の開口を備え、１つ又は複数の前記開口は、前記導電層が前記キャリアの前記平面に設けられることを可能にするように適合させる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記キャリアは、前記エラストマ材及び前記導電層の少なくとも１つが、前記キャリアの前記平面に設けられることを可能にする１つ又は複数の細長い開口を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記エラストマ材はポリジメチルシロキサン・ゴムを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記エラストマ材は、ポリウレタン、エポキシ及びブタジエン含有ポリマーの内の少なくとも１つを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記導電層は、銅、金、チタン、アルミニウム、ニッケル、モリブデン、ニッケル−チタン合金及びベリリウム−銅合金の内の少なくとも１つを含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記導電層は、前記エラストマ材の一表面に沿って延びて、前記キャリアの前記平面に設けられる単一の電気コンタクトを形成する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記導電層は、前記エラストマ材の複数表面に沿って延びて、前記キャリアの前記平面に設けられる複数の電気コンタクトを形成する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記導電層は、放射状スポーク型パターン及びらせん型パターンの内の少なくとも１つのパターンに形成される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記１つ又は複数のコンタクト構造体の少なくとも１つは、
前記導電層の少なくとも一部分の上に形成される絶縁層と、
前記絶縁層の少なくとも一部分の上に形成される第２の導電層と、
を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１４】
エラストマ材を電気絶縁性キャリア上に付着するステップと、
前記キャリアの平面を貫通して前記エラストマ材の表面に沿い連続的に延びる導電層を形成するように、エラストマ材をメタライズするステップと、
を含む電気的接続デバイスを形成する方法。
【請求項１５】
前記導電層の少なくとも一部分の上に絶縁層を形成するステップと、
前記絶縁層の少なくとも一部分の上に第２の導電層を形成するステップと、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記エラストマ材は、金型を用いて前記キャリア上に付着させる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記メタライズするステップは、固体マスク内の１つ又は複数の開口を通して、前記エラストマ材上に、金属のスパッタリング、蒸着、電気メッキ、無電解メッキ及びスプレーの内の１つ又は複数を実施するステップをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記メタライズするステップは、前記エラストマ材の１つ又は複数の側面上に、金属の選択的なスパッタリング、蒸着、電気メッキ、無電解メッキ及びスプレーの内の１つ又は複数を実施するステップをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記メタライズするステップは、
前記エラストマ材上に金属を付着するステップと、
前記金属の上にフォトレジストを塗布するステップと、
前記導電層の所望の構造の周囲で前記フォトレジストを選択的にエッチングするステップと、
前記エッチング・ステップの後に前記金属上に残留するフォトレジストを除去して前記導電層を露出させるステップと、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記メタライズするステップは、
前記エラストマ材の上にフォトレジストを塗布するステップと、
前記フォトレジストを選択的にエッチングしてメタライゼーション・パターンを形成するステップと、
前記エッチングされたフォトレジストの上に金属を付着するステップと、
前記フォトレジストを除去するステップと、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
前記メタライズするステップは、
メッキシード化合物を前記エラストマ材に混ぜ込んで前記エラストマ材上に選択的に金属をメッキすることによって、前記エラストマ材上に金属を付着させるステップと、
前記金属上にフォトレジストを塗布するステップと、
前記導電層の所望の構造の周囲で前記フォトレジストを選択的にエッチングするステップと、
前記エッチング・ステップの後に前記金属の上に残留する前記フォトレジストを除去して前記導電層を露出させるステップと、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２２】
前記金属を前記エラストマ材上に前記付着するステップは、前記メッキシード化合物を前記エラストマ材の主軸に対して１つ又は複数の角度において塗布するステップを含み、その結果、前記メッキシード化合物の塗布方向に面する前記エラストマ材の第１の面の上に形成されるメタライゼーションが、前記メッキシード化合物の塗布方向と反対側の前記エラストマ材の少なくとも第２の面の上に形成されるメタライゼーションよりも実質的に大きくなる、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記金属は、前記エラストマ材の主軸に対して１つ又は複数の角度において、前記エラストマ材上に付着させ、その結果、前記金属は前記エラストマ材の選択された領域にだけ付着させる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
前記電気的絶縁性キャリア上に１つ又は複数のエラストマ前駆体を付着させるステップと、
前記エラストマ前駆体を光重合させて前記エラストマ材を形成するステップと、
をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２５】
１つ又は複数のコンタクト構造体を有する電気絶縁性キャリアを含むランド・グリッド・アレイのインタポーザ・コネクタ・デバイスであって、各々のコンタクト構造体は、前記キャリアの平面に設けられ、少なくとも１表面に沿って連続的に延びる導電層を有するエラストマ材を含む、コネクタ・デバイス。
【請求項２６】
前記デバイスは、パッケージ集積回路デバイスの少なくとも一部分を形成する、請求項２５に記載のコネクタ・デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月1日(2008.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのペンダントのアミドキシム基、ペンダントのアミドラゾン基、又はこれらの組み合わせを有する第１の共重合した硬化部位単位を含むフルオロポリマー。
【請求項２】
第２の共重合した硬化部位単位を更に含み、任意に、前記第２の共重合した硬化部位単位が、ニトリル基、イミデート基、ペンタフルオロフェノキシ基、臭素、ヨウ素、およびこれらの組み合わせから選択される反応基を有する、請求項１に記載のフルオロポリマー。
【請求項３】
少なくとも１つのペンダントのアミドキシム基、ペンダントのアミドラゾン基、又はこれらの組み合わせを有する共重合した硬化部位単位を有するフルオロポリマーの製造方法であって、
（ｉ）反応基を有する１つ以上の共重合単位を有するフルオロポリマーを提供する工程、および
（ｉｉ）前記反応基の少なくとも１つをペンダントのアミドキシム基および／又はペンダントのアミドラゾン基に転換する工程、
を含む方法。
【請求項４】
少なくとも１つのペンダントのアミドキシム基、ペンダントのアミドラゾン基、又はこれらの組み合わせを有する少なくとも１つの共重合した硬化部位単位を有するフルオロポリマーの製造方法であって、
（ｉ）ペンダントのアミドキシム基、ペンダントのアミドラゾン基、これらの塩、又はこれらの組み合わせを有する硬化部位モノマーを提供する工程、および
（ｉｉ）前記硬化部位モノマーを、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｒf1、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−Ｒf2、ＣＦ2＝ＣＦ−ＣＦＸ−Ｏ−Ｒf2、およびＣＨ2＝ＣＲ2（式中、Ｒf1はパーハロアルキルであり、Ｒf2はパーハロアルキル又はパーハロアルコキシアルキルであり、ＸはＦ又はＲf2であり、各Ｒは水素、ハロゲン、又は脂肪族基からなる群から独立して選択され、ここで、前記脂肪族基は１つ以上のハロゲン置換基を有してもよい）から選択される少なくとも１種類のモノマーと共重合させる工程、
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
幾つかの実施形態では、フルオロポリマー組成物は、式、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｒf1、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−Ｒf2、ＣＦ2＝ＣＦ−ＣＦＸ−Ｏ−Ｒf2、およびＣＨ2＝ＣＲ2（式中、Ｒf1はパーハロアルキルであり、Ｒf2はパーハロアルキル又はパーハロアルコキシアルキルであり、ＸはＦ又はＲf2であり、各Ｒは水素、ハロゲン（例えば、Ｃｌ又はＦ）、又は脂肪族基からなる群から独立して選択され、ここで、脂肪族基は１つ以上のハロゲン置換基を有してもよい）によって表される１種類以上のエチレン性不飽和モノマー（ethylenically-unsaturated monomer）から誘導される共重合単位を含むことができる。幾つかの実施形態では、Ｒf1および／又はＲf2は完全フッ素化（過フッ素化）（perfluorinated）されている。幾つかの実施形態では、Ｒf1は炭素数１〜８のパーハロアルキルである。幾つかの実施形態では、Ｒf2は炭素数１〜８のパーハロアルキル又はパーハロアルコキシアルキルである。幾つかの実施形態では、上記フルオロポリマー組成物は、パーフルオロアルキルビニルエーテル（ＰＡＶＥ）およびパーフルオロアルコキシビニルエーテル（ＰＡＯＶＥ）を含む過フッ素化ビニルエーテルから誘導される共重合単位を含むことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月10日(2008.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抄紙機に使用するスパイラルリンク布であって、
並んだスパイラルコイルの隣り合うものが、チャネルを形成するように互いに噛み合わされ、且つ前記チャネルを介して延在するピントルによって相互に連結されるような所定の様式で配置された複数のスパイラルコイルを有し、
少なくともいくつかの前記の複数のスパイラルコイルは、当該スパイラルリンク布の機械方向に測定された約１２ｍｍ以上のコイルの幅を有し、且つ
少なくとも１つ以上のスパイラルコイルの内部に配置されたスタッファー挿入物を有し、
前記スタッファー挿入物は、１つ以上のスパイラルコイルから引き抜かれ得ることを特徴とするスパイラルリンク布。
【請求項２】
各スパイラルコイルは、関連するコイルの厚みを有し、
コイルの幅に対するコイルの厚みの比率は、約０．５以下であることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項３】
前記スパイラルコイルは、モノフィラメント、又はコーティングされたマルチフィラメントで形成されることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項４】
前記モノフィラメントは、円形、方形、楕円、平坦化、又はその他の非円形の形状を有することを特徴とする請求項３に記載のスパイラルリンク布。
【請求項５】
前記ピントルは、円形のピントル、非円形のピントル、前もって皺を形成されたピントル、及び段階的な径のピントルからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項６】
前記スタッファー挿入物は、織成された、編まれた、若しくは成形された材料、又はポリマー材料若しくはフィルムの成形シートで形成された材料を有することを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項７】
前記スタッファー挿入物は、長さに沿って少なくとも１つの径が不均一であることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項８】
前記スタッファー挿入物は、長さに沿って種々の効果的な径を有することを特徴とする請求項７に記載のスパイラルリンク布。
【請求項９】
前記スタッファー挿入物は、長さ及び／又は径に亘って不均一な様式で分布された、皺、折り曲げ、及び／又は孔を有することを特徴とする請求項７に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１０】
１つ以上のスパイラルコイルの内部に配置されたスタッファー挿入物をさらに有し、
当該布は、幅に沿って、種々の透過性を有することを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１１】
前記は、円形、楕円又はその他の非円形の形状を有することを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１２】
前記の複数のスパイラルコイルは、約１２ｍｍ〜１５０ｍｍの範囲のコイルの幅を有することを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１３】
前記スタッファー挿入物は、溝又はリッジを有する端部を含むことを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１４】
前記スタッファー挿入物は、個々のスパイラルコイルに結合又は固定されていることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１５】
前記スタッファー挿入物は、連続又は不連続であることを特徴とする請求項１に記載のスパイラルリンク布。
【請求項１６】
抄紙機に使用するスパイラルリンク布の形成方法であって：
チャネルを形成するように、並んだスパイラルコイルの隣り合うものが互いに噛み合わされる所定の様式で、複数のスパイラルコイルを配置するステップと；
前記の互いに噛み合わされたスパイラルコイルで形成された前記チャネルのそれぞれを介して、ピントルを延在させるステップであって、少なくともいくつかの前記の複数のスパイラルコイルは、当該スパイラルリンク布の機械方向に測定された約１２ｍｍ以上のコイルの幅を有する、ステップと；
少なくとも１つのスパイラルコイルを介して、スタッファー挿入物を挿入するステップと；
を有することを特徴とする方法。
【請求項１７】
各スパイラルコイルは、関連するコイルの厚みを有し、
コイルの幅に対するコイルの厚みの比率は、約０．５以下であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記スタッファー挿入物は、前記の少なくとも１つのスパイラルコイルから引き抜かれることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記スパイラルコイルは、モノフィラメント、又はコーティングされたマルチフィラメントで形成されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記モノフィラメントは、円形、方形、楕円、平坦化、又はその他の非円形の形状を有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月11日(2008.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持コンソール（１０）が、支持コンソール（１０）に作用するクランプ手段（１２）を有する固定システム（９）によって、容器の周囲を不完全に取り囲む支持体（４）に固定可能であり、クランプ手段（１２）が作用位置にない場合にだけ、容器（１）が支持体（４）から取外し可能で、再びこの支持体と結合可能である、支持コンソール（１０）が容器壁（３）に配設された冶金容器（１）、特に転炉（２）において、
容器が支持体（４）から取り外される際にプロセスガス及び／又は不活性ガス用の媒体供給部を容器（１）から自動的に分離し、容器が支持体（４）と結合される際に媒体供給部を容器（１）と自動的に接続するために、第１の連結成分（３８）が支持体（４）に配設され、第２の連結成分（３７）が容器壁（３）に配設された連結装置が設けられていることを特徴とする冶金容器。
【請求項２】
クランプ手段（１２）が、油圧により作用位置の内外に旋回可能なレバークランプシステムとして形成されていること、クランプ手段（１２）が、作用位置で支持コンソール（１０）を片側から包囲することを特徴とする請求項１に記載の冶金容器。
【請求項３】
支持コンソール（１０）と、それぞれの支持コンソールを収容する支持体（４）の収容領域（１１）が、機械的及び／又は熱的運動時にそれぞれの支持コンソール（１０）を確実に案内及び固定するように、互いに相応に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の冶金容器。
【請求項４】
支持コンソール（１０）の形状と支持体（４）の収容領域（１１）の形状が、半径方向及び／又は接線方向に支持コンソール（１０）を確実に固定するように形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項５】
支持コンソール（１０）が、支持コンソール下側領域（２４）に向かって先細るように形成された一体的な容器案内及び／又は容器固定形状を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項６】
支持コンソール（１０）が、その外面に向かって先細るように形成された一体的な容器案内及び／又は容器固定形状を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項７】
支持コンソール（１０）が、円錐形に形成された一体的な容器案内及び／又は容器固定形状を備えることを特徴とする請求項５又は６に記載の冶金容器。
【請求項８】
支持コンソール（１０）を接線方向に固定するために、支持体（４）の収容領域（１１）が溝状であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項９】
クランプ手段（１２）がセルフロック部を備えていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項１０】
連結装置が、シール要素（４１）を備え、第２の連結成分（３７）に対する第１の連結成分（３８）の押圧機能を備えることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項１１】
プロセスガスの連結及び／又は不活性ガスの連結をするための両連結成分（３８，３７）が、自己調心するように形成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項１２】
第１の連結成分がオス部分として形成され、第２の連結成分がメス部分として形成されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項１３】
シール要素（４１）が、生じたガス漏れを検出及び表示する圧力測定システム（４３）と接続されていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１つに記載の冶金容器。
【請求項１４】
貫流領域（３９）が、連結解除状態で異物が侵入しないようにディスク（４２）によって保護されることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１つに記載の冶金容器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月22日(2008.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二価炭化水素基を介して各イミド窒素原子に結合された置換型又は無置換型の炭素環式芳香環系を有する、N,N'-ジ(アリールアルキル)-置換型ペリレン系テトラカルボン酸ジイミド化合物を含む有機半導体材料から成る薄膜を、薄膜トランジスタ内に含んで成る物品であって、各炭素環式芳香環系上に置換基がある場合は、該置換基は、少なくとも１つの電子供与性有機置換基を含む。
【請求項２】
該有機半導体材料薄膜が、下記構造：
【化１】
2008524869.tif 000001
（上記式中、Xは-CH2-二価基であり、n＝1〜3であり、そして該構造内の第1及び第2のフェニル環上のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、及びR10は、それぞれ独立して、H又は電子供与性有機基である）
によって表されるN,N'-ジ(アリールアルキル)-置換型3,4,9,10ペリレン系テトラカルボン酸ジイミド化合物である化合物を含む請求項1に記載の物品。
【請求項３】
前記構造内で、n＝1又は2であり、R1、R2、R3、R4、及びR5のうちの少なくとも2つがHであり、そしてR6、R7、R8、R9、及びR10のうちの少なくとも2つがHである請求項1に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月26日(2008.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基板の明確に分離している領域を、同時にコーティングされる2層以上の異なる層を有するコーティング組成物で連続ロール・トゥー・ロール方式によってコーティングする方法であって、
当該方法は：
前記基板上に疎液性又は親液性表面パターンを形成し、疎液性又は親液性領域の所望パターンをそのまま残す、パターン形成工程；
形成された前記表面パターンを前記コーティング組成物の層でさらにコーティングするコーティング工程；及び
前記コーティング組成物の層を、前記疎液性領域から除去し、かつ前記親液性領域に集める収集工程；
を有し、
前記コーティング組成物の最底部層の表面張力は、該最底部層の上にある層の表面張力よりも大きい、
方法。
【請求項２】
前記組成物の前記最底部層の厚さが、該最底部層の上にある前記層の厚さよりも厚い、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記組成物の前記最底部層が、該最底部層の上にある前記層よりも低い粘性を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
フレキソ印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、リソグラフィ法、インクジェット（連続方式又はドロップ・オン・デマンド方式）法、マイクロコンタクトプリンティング法、プラズマ成長法、プラズマ処理法、静電スプレー法、又は、前記パターンを描くのに、若しくは、レーザー若しくは他のエッチング法によって均一な層の材料を選択的に除去するのに、光若しくはレーザーを用いる光学的手段のうちの1つによって、前記表面パターンを前記基板上に形成する、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記コーティング組成物が、乾燥及び硬化されるときに、伝導特性及び/又は光学特性を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
多層からなるコーティング組成物がコ―ティング及び乾燥され、それに続いて多層からなる別のコーティング組成物でさらにコーティングされる、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
請求項1に記載の方法によって形成される、ディスプレイ素子又はその部品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月20日(2008.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各イミド窒素原子に直接に結合されている、1つ又は2つ以上のフッ素含有基が結合された炭素環式又は複素環式芳香環系を有する、フッ素含有N,N'-ジアリールペリレン系テトラカルボン酸ジイミド化合物を含む有機半導体材料から成る薄膜を、薄膜トランジスタ内に含んで成る物品。
【請求項２】
該有機半導体材料が、下記構造：
【化１】
2008524846.tif 000001
（上記式中、nは整数0〜8であり、A1及びA2はそれぞれ独立して、少なくとも1つのフッ素含有基で置換された炭素環式又は複素環式芳香環系であり；そして該化合物中、ペリレン核は、任意選択的に、該材料のn型半導体特性に不都合な影響を与えることのない、最大8つの独立して選択された有機又は無機置換基Xで置換されている）
によって表されるフッ素含有N,N'-ジアリール3,4,9,10ペリレン系テトラカルボン酸ジイミド化合物である化合物を含む請求項1に記載の物品。
【請求項３】
必ずしも下記順序通りではないが、以下の各工程：
(a)  各イミド窒素原子に直接に結合されている、1つ又は2つ以上のフッ素含有基が結合された炭素環式又は複素環式芳香環系を有する、フッ素含有N,N'-ジアリールペリレン系テトラカルボン酸ジイミド化合物を含む有機半導体材料から成る薄膜を、有機半導体材料薄膜が0.01 cm2/Vsを上回る電界効果電子移動度を示すように、基板上に堆積する工程、
(b)  離隔されたソース電極とドレイン電極とを形成する工程、該ソース電極と該ドレイン電極はnチャネル半導体膜によって分離され、且つ該nチャネル半導体膜と電気的に接続されている；及び
(c)  該半導体材料から離隔されたゲート電極を形成する工程
を含んで成る薄膜半導体デバイスの製作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月26日(2008.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線検出器と、
前記検出器の放射線受け面に隣接するコリメータであって、前記コリメータが、
共通の焦点を持つ複数の離間したスラット、及び
細長いスリットを規定する、前記スラットに隣接する本体であって、前記スリットは、放射線が前記スリットを通って前記スラットの間を前記検出器まで通過するように構成され、前記本体が前記放射線に対して不透明である前記本体、
を有する前記コリメータと、
を有する放射線イメージング装置。
【請求項２】
線放射線源、
を更に含む、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項３】
前記スラットの前記共通の焦点が、前記線線源と同一線上にある、請求項２に記載のイメージング装置。
【請求項４】
前記スラットが、前記検出器に隣接する前記スラットの末端において互いに平行に構成される、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項５】
前記スラットが前記放射線受け面から延在する、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項６】
前記スリットが前記放射線受け面の反対側で前記スラットの縁に隣接する、請求項４に記載のイメージング装置。
【請求項７】
前記スリットが板において規定される、請求項６に記載のイメージング装置。
【請求項８】
前記板が前記スラットの末端と接続される、請求項７に記載のイメージング装置。
【請求項９】
前記検出器上の対象面の投影が、少なくとも１つの次元において前記対象面より小さい、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項１０】
前記検出器が画素化されている、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項１１】
前記スリットが幅及び長さを持ち、前記スリットの前記幅が前記スリットの前記長さより小さく、前記検出器が、前記スリットの前記幅の半分より大きいか又は等しい、前記スリットの前記幅と平行な幅を持つ画素を含む、請求項１０に記載のイメージング装置。
【請求項１２】
前記スラットが、前記画素の長さに等しいピッチを持つ、請求項１０に記載のイメージング装置。
【請求項１３】
前記ピッチが約１ｍｍから約３ｍｍであり、前記スラットが約０．０５ｍｍから約０．５ｍｍの厚さを持つ、請求項１２に記載のイメージング装置。
【請求項１４】
前記本体が複数のスリットを含む、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項１５】
前記検出器が複数の画素を含み、前記スリットの間の間隔が検出器幅より大きい、請求項１４に記載のイメージング装置。
【請求項１６】
前記スラットが、収束する面において平行である、請求項１に記載のイメージング装置。
【請求項１７】
請求項１に記載の放射線イメージング装置を少なくとも１つ含む核医学イメージング装置。
【請求項１８】
前記放射線イメージング装置が、単光子放出コンピュータ断層撮影（ＳＰＥＣＴ）イメージング装置である、請求項１７に記載の核医学イメージング装置。
【請求項１９】
線源からの放射線を検出器に向けるステップと、
１つ以上のスリット及び複数の離間したスラットを前記放射線源と前記検出器との間に配置するステップであって、前記スラットが共通の焦点を持ち、これにより放射線が前記スリットを通って前記スラット間を前記検出器まで通過する、当該配置するステップと、
を有するイメージング方法。
【請求項２０】
検出された放射線から３次元画像を再構成するステップ、
を更に含む、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月30日(2008.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取入ポートと、長手方向に延びる内部空間と、排出ポートとを有するバルブ本体と、
前記内部空間内に配置された第１および第２のセラミック製のガイドであって、前記第２のセラミック製のガイドが、それらの間に中間空洞を画定するために前記第１のセラミック製のガイドから長手方向に離隔されている、セラミック製のガイドと、
前記内部空間を通る流体の流れを制御するための連続した実質的に円筒形のセラミック製のプラグであって、長手方向に延び、かつ前記第１および第２のセラミック製のガイドと滑動自在に係合されている、セラミック製のプラグと、
前記取入ポートと前記中間空洞の間の第１の段階部分内の流体と接触するように前記第１のセラミック製のガイドの近傍に配置され、前記セラミック製のプラグの外側環状表面内に形成された第１の組の制御表面と、
前記中間空洞と前記排出ポートの間の第２の段階部分内の流体と接触するように前記第２のセラミック製のガイドの近傍に配置され、前記セラミック製のプラグの外側環状表面内に形成された第２の組の制御表面と、
を備えた多段階流れ制御バルブ。
【請求項２】
流体が前記第１および第２の段階部分を流れるとき、前記流体が、前記制御表面に対してほぼ平行な方向に流れる請求項１に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項３】
前記内部空間内に配置され、かつ前記第１のセラミック製のガイドと接続された第１のキャリアをさらに備え、前記第１のセラミック製のガイドが管状であり、かつ前記第１のキャリアが、前記第１のセラミック製のガイドを圧縮嵌め接続で保持している請求項１に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項４】
前記制御表面が、外周表面内に形成された複数の平行な溝を備え、前記溝が、等距離に離隔され、かつほぼ長手方向に延びている請求項１に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項５】
前記セラミック製のプラグと接続された駆動部材をさらに備え、前記駆動部材は、ステム部分が前記バルブ本体に対して移動されたとき、前記セラミック製のプラグが前記セラミック製のガイドに対して移動されるように、前記バルブ本体から延びるステム部分を含む請求項１に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項６】
前記内部空間を通る流体の流れを閉鎖するための対向する弁座表面をさらに備え、前記弁座表面が金属材料を含む請求項１に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項７】
流体が前記第１および第２の段階部分を流れるとき、前記プラグおよびガイドのセラミック表面が前記流体をガイドし、かつ
前記内部空間を通る流体流れが閉鎖されたとき、前記金属製の弁座表面が互いに接触する請求項６に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項８】
前記流体が、少なくとも１種の液体および少なくとも１種の腐食性の粒子を含む腐食性の溶媒を含む請求項１に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項９】
前記流体内の圧力降下が、前記制御表面に実質的に平行に生じる請求項２に記載の多段階制御バルブ。
【請求項１０】
第１および第２の段階部分を通る流体の流れを制御するための連続した実質的に円筒形のプラグであって、極限引張強さより実質的に大きい極限圧縮強さを特徴とする壊れやすい材料から成るプラグと、
第１の段階部分内の流体と接触するために前記壊れやすい材料内に形成した第１の組の制御表面と、
第２の段階部分内の流体と接触するために前記プラグの外周表面に形成した第２の組の制御表面とを備え、
前記流体が前記第１および第２の段階部分を流れるように、前記プラグ内に前記制御表面が形成されるようにし、
バルブ本体であって内壁空間を備え、前記プラグがこの内部空間内に配置されるようにしたバルブ本体と、
前記空間内に配置された第１および第２の管状のガイドと、
を備え、
前記ガイドが、極限引張強さより実質的に大きい極限圧縮強さを持つことを特徴とする壊れやすい材料を備え、
前記プラグが、前記第１および第２のガイドと滑動自在に係合されて成る、
多段階流れ制御バルブ。
【請求項１１】
前記流体内の圧力降下が、前記制御表面に実質的に平行に生じる請求項１０に記載の多段階流れ制御バルブ。
【請求項１２】
第１および第２の段階部分を通る流体の流れを制御するための連続した実質的に円筒形のプラグであって、極限引張強さより実質的に大きい極限圧縮強さを特徴とする壊れやすい材料から成るプラグと、
第１の段階部分内の流体と接触するために、前記プラグの外周表面に形成した第１の組の制御表面と、
第２の段階部分内の流体と接触するために、前記壊れやすい材料で形成され、前記プラグのまわりに半径方向に配置された第２の組の制御表面とを備え、
前記制御表面は、前記流体が前記第１および第２の段階部分を流れるとき、前記プラグ内に前記制御表面が形成されるようにし、
バルブ本体であって内部空間を備え、前記プラグがこの内部空間内に配置されるようにしたバルブ本体と、
前記内部空間内に配置された第１および第２の管状のガイドと、
を備え、
前記第１の段階部分内の流体に接触するために、前記第１の組の制御表面を前記第１のガイドに近接して配置し、
前記第２の段階部分内の流体に接触するために、前記第２の組の制御表面を前記第２のガイドに近接して配置して成る、
多段階流れ制御バルブ。
【請求項１３】
前記流体内の圧力降下が、前記制御表面に実質的に平行に生じる請求項１２に記載の多段階流れ制御バルブ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月24日(2008.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサチップと、
前記センサチップの第１の面の中央に位置し、前記センサチップの前記第１の面上の共通領域を占める少なくとも２つの表面弾性波（ＳＡＷ）検知素子と、
エッチングされたダイアフラム内に機械的ひずみを集中させ、それによって強度、感度を高め、製造し易くするため、前記少なくとも２つのＳＡＷ検知素子と関連する前記第１の面とは反対の、前記センサチップの第２の面の中央に位置するエッチングされたダイアフラムと、
を備えるセンサシステム。
【請求項２】
前記センサチップは掃引水晶を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
掃引水晶を備えるセンサチップと、
前記センサチップの第１の面の中央に位置し、インターディジタル変換器を備え、前記センサチップの前記第１の面上の共通の領域を占める少なくとも２つの表面弾性波（ＳＡＷ）検知素子と、
エッチングされたダイアフラム内に機械的ひずみを集中させ、それによって強度、感度を高め、製造し易くするため、前記少なくとも２つのＳＡＷ検知素子と関連する前記第１の面とは反対の、前記センサチップの第２の面の中央に位置するエッチングされたダイアフラムと、を備え、
前記第１組のリフレクタは前記第２組のリフレクタと反対に延びる、
センサシステム。
【請求項４】
掃引水晶を備えるセンサチップを準備するステップと、
前記センサチップの第１の面上の共通の領域を占め、インターディジタル変換器を備える、前記センサチップの前記第１の面の中心に位置する少なくとも２つの表面弾性波（ＳＡＷ）検知素子を配置するステップと、
エッチングされたダイアフラム内に機械的ひずみを集中させ、それによって強度、感度を高め、製造し易くするため、前記少なくとも２つのＳＡＷ検知素子と関連する前記第１の面とは反対の、前記センサチップの第２の面の中央でダイアフラムをエッチングするステップと、を含む検知方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月7日(2008.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクラレオールまたはその誘導体を含む組成物であって、前記スクラレオールまたはその誘導体が糖タンパク質マトリクスによって結合されている、組成物。
【請求項２】
誘導体がスクラレオリドである、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
更に微生物を含む、請求項１または２記載の組成物。
【請求項４】
糖タンパク質マトリクスを、スクラレオールまたはその誘導体の存在下で微生物を発酵させることによって得る、請求項１から３のいずれか１項記載の組成物。
【請求項５】
微生物が酵母を含む、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
微生物が細菌を含む、請求項４記載の組成物。
【請求項７】
微生物が酵母および細菌を含む、請求項４記載の組成物。
【請求項８】
組成物が栄養補給物である、請求項１から７のいずれか１項記載の組成物。
【請求項９】
宿主における環状アデノシン一リン酸(cAMP)活性を高めるための医薬品を製造するための、請求項１から８のいずれか１項記載の組成物の使用。
【請求項１０】
宿主における体重減少を誘導するための医薬品を製造するための、請求項１から８のいずれか１項記載の組成物の使用。
【請求項１１】
宿主におけるリビドーを高めるための医薬品を製造するための、請求項１から８のいずれか１項記載の組成物の使用。
【請求項１２】
宿主における脂質分解能を高めるための医薬品を製造するための、請求項１から８のいずれか１項記載の組成物の使用。
【請求項１３】
宿主における脂質生成を阻害するための医薬品を製造するための、請求項１から８のいずれか１項記載の組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月30日(2008.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式の化合物。
【化１】
2008524218.tif 000001
【請求項２】
１−（２，２−ジフルオロ−２−デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシル）−４−（２−プロピル−１−オキソペンチル）アミノピリミジン−２−オン  ｐ−トルエンスルホン酸共結晶である化合物。
【請求項３】
１−（２，２−ジフルオロ−２−デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシル）−４−（２−プロピル−１−オキソペンチル）アミノピリミジン−２−オン  ｐ−トルエンスルホン酸水和物共結晶（２：１：１）である請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の化合物と、医薬的に許容できる賦形剤と、を含む医薬組成物。
【請求項５】
前記組成物が腸溶性コートされている、請求項４に記載の医薬組成物。
【請求項６】
有効成分として請求項１〜３のいずれかに記載の化合物を含む、感受性新生物を治療するための医薬組成物。
【請求項７】
前記感受性新生物が、Ｔ細胞リンパ腫、軟部組織肉腫、膵臓癌、乳癌、ホジキンリンパ腫、非ホジキンリンパ腫、非小細胞肺癌、卵巣癌、及び膀胱癌からなる群より選択される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
感受性新生物の治療用医薬を製造するための請求項１〜３のいずれかに記載の化合物の使用。
【請求項９】
医薬品としての使用するための請求項１、２、又は３から選択される化合物。
【請求項１０】
Ｔ細胞リンパ腫、軟部組織肉腫、膵臓癌、乳癌、ホジキンリンパ腫、非ホジキンリンパ腫、非小細胞肺癌、卵巣癌、又は膀胱癌の治療用医薬の製造における、請求項１、２、又は３から選択される化合物の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、経口投与が可能で、親薬物より胃腸毒性特性が少なく、バイオアべイラビリティが良好な状態で、無傷な状態で腸管から肝門部の血脈を通過でき、低用量で親薬物の有効性を維持できるゲムシタビンの新規的なプロドラッグに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
実施例２
１−（２，２−ジフルオロ−２−デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシル）−４−（２−プロピル−１−オキソペンチル）アミノピリミジン−２−オン  ｐ−トルエンスルホン酸水和物共結晶（２：１：１）
０．７０９ｇ（１．８２ｍｍｏｌ）の実施例１の化合物を９ｍＬメタノールに溶解する。別のフラスコで、ｐ−トルエンスルホン酸の０．２５Ｍ水性原液を調製する。この水溶液３．６ｍＬ（０．９ｍｍｏｌ）を滴下する。水約５ｍＬを加え、混合物を室温で、沈殿が生じるまで攪拌する（約３０分）。沈殿固体を真空濾取し、風乾する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
２：１：１比のＮ−（２−プロピル−ペンタノイル）］−２’，２’−ジフルオロ−２’−デオキシ−シチジン／ｐ−トルエンスルホン酸／水のトルエンスルホン酸％を以下のように測定した。
理論値１７．８％ｐ−トルエンスルホン酸
結果値１９．１％ｐ−トルエンスルホン酸
ＨＰＬＣ：
カラム：Ｗａｔｅｒｓ  Ａｔｌａｎｔｉｓ  ｄＣ１８，  ３．０μｍ，  ４．６ｉ．ｄ．×１５０  ｍｍ
カラム温度：５０℃
ＵＶ波長：２４８ｎｍ
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月8日(2008.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＣＣＲアゴニストを含む、自己免疫障害を治療するための組成物。
【請求項２】
前記自己免疫障害がＴＨ１応答によって少なくとも部分的に媒介される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記自己免疫障害がＣＤ８＋Ｔ−細胞増殖によって少なくとも部分的に媒介される請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ＴＣＣＲアゴニストを含む、リンパ球においてＩＬ−１０発現またはＳＯＣＳ３発現を増加させるための組成物。
【請求項５】
前記自己免疫障害が同種異系移植片拒絶、自己免疫甲状腺疾患、自己免疫ブドウ膜網膜炎、巨細胞動脈炎、炎症性腸疾患、インスリン−依存性真性糖尿病、多発性硬化症、悪性貧血、乾癬、慢性関節リウマチ、サルコイドーシス、強皮症、または全身エリテマトーデスを含む、請求項１ないし３いずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＴＣＣＲアゴニストが抗体またはその断片である請求項１ないし３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記抗体断片は、Ｆａｂ、Ｆ（ａｂ’）２、ｓｃＦｖ、またはＦｖ断片を含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記ＴＣＣＲアゴニストは、モノクローナル抗体、ヒト化抗体、または単一鎖抗体である請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
前記モノクローナル抗体が、Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｔｙｐｅ  Ｃｕｌｔｕｒｅ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ受託番号ＡＴＣＣ  ＰＴＡ−６４４７下で寄託されたハイブリドーマ細胞株によって生産される、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
前記アゴニストは、ＴＣＣＲ細胞外ドメイン、ＩＬ−２７またはその部分、あるいはＩＬ−２７改変体を含む、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記アゴニストが、ＴＣＣＲおよびｇｐ１３０に結合することができるｐ２８の部分を含むＩＬ−２７改変体を含む、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記アゴニストが、ＴＨ１応答を減少または抑制することができるＩＬ−２７の部分、および異種ペプチドを含む融合蛋白質である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１３】
前記異種ペプチドが抗体のＦｃ部分を含む、請求項１２記載の組成物。
【請求項１４】
Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｔｙｐｅ  Ｃｕｌｔｕｒｅ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ受託番号ＡＴＣＣ  ＰＴＡ−６４４７の下で寄託されたハイブリドーマ細胞株。
【請求項１５】
ＩＬ−２７またはそのアゴニスト、あるいはＩＬ−６のアンタゴニストまたはその受容体を含む、免疫応答を治療または抑制するための組成物。
【請求項１６】
前記免疫応答がＴＨ１７細胞によって媒介される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記免疫応答がＴＨ１またはＴＨ２媒介応答である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１８】
前記免疫応答が過剰炎症応答または自己免疫応答である請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１９】
前記ＩＬ−２７がＩＬ−１７生産を抑制する請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
前記アンタゴニストが抗体もしくは抗体断片、アプタマー、またはその受容体でＩＬ−６の活性化をブロックする小分子アンタゴニストである、請求項１５に記載の組成物。
【請求項２１】
ＩＬ−２７またはそのアゴニストを含む、ＩＬ−１７、ＩＬ−６、またはＧＭ−ＣＳＦ生産を阻害するための組成物。
【請求項２２】
ＴＣＣＲアゴニストをスクリーニングする方法であって、
ＴＣＣＲを発現する単離された細胞を候補ＴＣＣＲアゴニストと接触させる工程；
該候補ＴＣＣＲアゴニストに応答してＴＣＣＲ−活性化ポリペプチドの発現を分析する工程；そして、
該ＴＣＣＲ−活性化ポリペプチドの発現の増加を該候補ＴＣＣＲアゴニストの活性と相関させる工程；
を含む、方法。
【請求項２３】
前記ＴＣＣＲ−活性化ポリペプチドがＩＬ−１０、ＳＯＣＳ−３、またはこれらの組み合わせを含む、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
前記細胞がＴ−リンパ球である、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２５】
前記分析は、定量的ＰＣＲ分析またはイムノアッセイ分析を含む、請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２６】
Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｔｙｐｅ  Ｃｕｌｔｕｒｅ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ受託番号ＡＴＣＣ  ＰＴＡ−６４４７の下で寄託されたハイブリドーマ細胞株によって生産されるモノクローナル抗体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月1日(2008.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体および色素層を含んでなる供与体を得る工程であって、前記色素層がバインダーおよび色素を含んでなり、前記バインダーがエチルセルロースを含んでなる工程；
支持体および当該支持体上に色素受理層を有する受理体を得る工程；
供与体の色素層を受理体の色素受理層に隣接して設置する工程；および
供与体に像様に熱を印加して受理体上に色素画像を形成する工程；
を含み、前記画像が２ミリ秒以下のライン速度で形成される、印刷方法。
【請求項２】
支持体および色素層を含んでなる染料供与体要素であって、前記色素層が色素およびバインダーを含んでなり、前記バインダーが、エトキシル含量が５０．５％以上の第１のエチルセルロースおよびエトキシル含量が５０．５％未満の第２のエチルセルロースから実質的になる染料供与体要素。
【請求項３】
供与体および受理体を含んでなる印刷アセンブリーであって、前記供与体が支持体および色素層を含んでなり、前記色素層がバインダーおよび色素を含んでなり、前記バインダーがエチルセルロースを含んでなり、前記受理体が支持体および支持体上に押出された色素受理層を含んでなる、印刷アセンブリー。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月2日(2008.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋸と、
鋸歯との組合せであって、前記鋸歯は、
複数の歯を有する本体であって、前記複数の歯は、前記本体の縁で画定され、前記本体は、さらに前記鋸歯を前記鋸に接続する接続部を有する、本体と、
前記本体に備えられた情報伝達部であって、前記本体の設計や作動の特性を表示する、情報伝達部とを備えており、
前記情報伝達部は、前記本体の前記特性に基づき、前記鋸と情報伝達して前記本体の作動速度を設定する、組み合わせ。
【請求項２】
前記情報伝達部は、前記鋸に直接的に接触することによって前記鋸と情報伝達する、請求項１に記載の組合せ。
【請求項３】
前記情報伝達部は、直接的な接触を必要としない方法で前記鋸と情報伝達する、請求項１に記載の組合せ。
【請求項４】
前記情報伝達部は、前記鋸と電子的に情報伝達する、請求項１に記載の組合せ。
【請求項５】
前記情報伝達部は、窪みまたはスプラインのうちの１つであり、前記窪みまたは前記スプラインのうちの１つは、前記鋸と直接的に接触することによって前記鋸と情報伝達する、請求項１に記載の組合せ。
【請求項６】
前記情報伝達部は、前記鋸歯の前記本体に画定された穴または切欠きのうちの１つであり、前記穴または前記切欠きのうちの１つは、前記鋸が前記穴または前記切欠きのうちの１つを検出することによって、前記鋸と情報伝達する、請求項１に記載の組合せ。
【請求項７】
前記情報伝達部は、電子素子であり、該情報伝達部は、ＲＦＩＤ素子またはＷＩ−ＦＩ素子のうちの１つである、請求項１に記載の組合せ。
【請求項８】
前記情報伝達部は、前記本体の歯の数を表示する、請求項１に記載の組合せ。
【請求項９】
前記本体は、実質的に引き延ばされており、前記複数の歯が画定される前記本体の前記縁は、前記本体の長さに実質的に平行な方向で配置される、請求項１に記載の組合せ。
【請求項１０】
前記本体は、実質的に環状であり、前記複数の歯が画定される前記本体の前記縁は、前記本体の外周に沿って配置される、請求項１に記載の組合せ。
【請求項１１】
前記情報伝達部は、前記本体に位置付けられる、請求項１に記載の組合せ。
【請求項１２】
前記情報伝達部は、温度センサである、請求項１に記載の組合せ。
【請求項１３】
鋸と、
前記鋸と使用され、第１の複数の歯を有する第１の鋸歯と、
前記第１の鋸歯に備えられた第１の情報伝達部であって、前記第１の鋸歯の歯の数を前記鋸に伝えて、第１の速度で前記鋸を作動するための、第１の情報伝達部と、
前記鋸と使用され、第２の複数の歯を有する第２の鋸歯と、
前記第２の鋸歯に備えられた第２の情報伝達部であって、前記第２の鋸歯の歯の数を前記鋸に伝えて、前記第１の速度とは異なる第２の速度で前記鋸を作動するための、第２の情報伝達部と、を備える組合せ。
【請求項１４】
前記第１及び第２の情報伝達部のそれぞれは、前記鋸に直接的に接触することによって前記鋸と情報伝達する、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項１５】
前記第１及び第２の情報伝達部のそれぞれは、直接的な接触を必要としない方法で前記鋸と情報伝達する、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項１６】
前記第１及び第２の情報伝達部のそれぞれは、前記鋸と電子的に情報伝達する、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項１７】
前記第１及び第２の情報伝達部のそれぞれは、前記第１及び第２の鋸歯のそれぞれにある窪みまたはスプラインのうちの１つであり、前記第１及び第２の鋸歯のそれぞれにある前記窪みまたは前記スプラインのうちの１つは、前記鋸が前記穴または前記切欠きのうちの１つを検出することによって、前記鋸と情報伝達する、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項１８】
前記第１の情報伝達部は、前記第１の鋸歯に第１の複数の穴を含み、前記第２の情報伝達部は、前記第２の鋸歯に第２の複数の穴を含んでおり、前記第２の複数の穴は、前記第１の複数の穴の数とは異なる数である、請求項１７に記載の組合せ。
【請求項１９】
前記第１及び第２の情報伝達部のそれぞれは、電子素子であり、前記第１及び第２の情報伝達部のそれぞれは、ＲＦＩＤ素子またはＷＩ−ＦＩ素子のうちの１つである、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項２０】
前記第１及び第２の鋸歯のそれぞれは、往復動鋸歯である、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項２１】
前記第１及び第２の鋸歯のそれぞれは、丸鋸歯である、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項２２】
前記第１の情報伝達部は、前記第１の鋸歯に位置付けられ、前記第２の情報伝達部は、前記第２の鋸歯に位置付けられる、請求項１３に記載の組合せ。
【請求項２３】
前記第１の鋸歯に備えられた第３の情報伝達部であって、前記第１の鋸歯の温度を前記鋸に伝えて、第３の速度で前記鋸を作動するための、第３の情報伝達部と、
前記第２の鋸歯に備えられた第４の情報伝達部であって、前記第２の鋸歯の温度を前記鋸に伝えて、前記第３の速度とは異なる第４の速度で前記鋸を作動するための、第４の情報伝達部とをさらに備える、請求項１３に記載の組合せ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月24日(2008.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくとも一つの物品（１）の積み重ね（１ａ、1ｂ）を形成するように、物品(１)を
積み重ねるための、少なくとも一つの積み重ね動作ステーション(８)を有するタイプの、
浸出製品を含む物品（1）をパックするユニット(１００)であって、
前記積み重ねステーション(８)は、バッグ状のパケット（１１）の中に、前記物品（1）が送られるように、該物品(１)の前記積み重ね（１ａ、１ｂ）を案内し制御する、前記物品(１)を操作する装置(９)を有することを特徴とする、ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記操作装置(９)は、前記積み重ねステーション（８）に位置付けられた中空要素(１４)を有する垂直通路(１３)を備える、案内要素(１０,１７)を有し、前記通路(１３)は、前記物品(１)の通路のための、少なくとも一つの領域(１５,１６)を規定する内側領域を有していて、
前記操作装置(９)は、物品(１)をパケット（１１）の中に向かって動かすように、前記中空要素(１４)の上に位置付けられて、通路(１３)に沿って往復運動する、物品(１)押圧/随伴要素（１７）を有することを特徴とする、請求項１に記載のユニット。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この時点で、一対の積み重ね１ａと１ｂは、積み重ね１ａと１ｂの全体がバッグ状のパケット１１の中にある状態になるまで、要素１７により垂直通路１３に沿って、案内される方法で下側に押される（矢印Ｆ１７Ｃ、図３および図５を参照のこと）。