【手続補正書】
【提出日】平成19年7月9日(2007.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、  前記レチクルのパターンを基板上に投影する投影光学系とを備え、  前記投影光学系の最も前記基板近くに配置された光学素子と前記基板との間隙に充填された液浸剤を介して、前記パターンで前記基板を露光する露光装置であって、
前記光学素子の光学面を保護するための光学面保護部材と、
該光学面保護部材を前記投影光学系に着脱する保護部材着脱機構とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基板を駆動する基板駆動系を有し、前記保護部材着脱機構が前記基板駆動系に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記保護部材着脱機構の昇降動作により前記光学面保護部材が前記投影光学系に着脱されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記光学面保護部材が、前記保護部材着脱機構に分離可能に結合されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記光学素子の光学面に付着した液浸剤を除去する液浸剤除去機構を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記光学面保護部材は、保護用液体を貯留することにより前記光学面を該保護用液体に浸漬可能とされていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記保護用液体は、前記液浸剤と同一成分であることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記保護用液体は、前記液浸剤と異なる成分の洗浄剤であることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項９】
前記光学面を、前記光学面保護部材に貯留された前記保護用液体に浸漬するか、又は液浸剤除去機構により前記光学面に付着した液浸剤を除去するかを選択する選択手段を有することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記光学面保護部材に貯留された前記保護用液体に前記基板が浸積可能とされていることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記基板を駆動する基板駆動系を有し、
前記光学面保護部材に前記保護用液体を供給する供給路と、前記光学面保護部材から前記保護用液体を回収する回収路とが、前記基板駆動系に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記供給路から少なくとも２種類の液体を供給するための供給液体切替え手段が備えられていることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
レチクルを照明光学系によって光源からの光で照明し、かつ該レチクルのパターンを投影光学系によって基板の上に投影する露光装置の非露光時に、
前記投影光学系の最も前記基板の近くに配置された光学素子の光学面を保護するための光学面保護部材を、前記基板を駆動する基板駆動系によって移動させて前記投影光学系の直下に位置させるステップと、
前記光学面保護部材と結合され、前記光学面保護部材を昇降させることにより該光学面保護部材を前記投影光学系に着脱する保護部材着脱機構によって前記光学面保護部材を上昇させ、前記投影光学系に前記光学面保護部材を装着するステップとを有することを特徴とする光学面の保護方法。
【請求項１４】
請求項１から請求項１２のうちいずれか１項に記載の露光装置によって基板にパターンを露光する工程と、
露光された前記基板に光学面保護のプロセスを行う工程とを有するデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
レチクルステージ１１は、架台３に取り付けられてＸ方向に駆動可能であり、Ｒステージ位置制御部４２からの制御指令に基づいて移動する。ウエハステージ２２は、Ｘ，Ｙ，Ｚ方向及び各軸の回転方向（ωｘ，ωy，ωｚ）に駆動可能である。これにより、ウエハチャック２１に保持したウエハ２０の所望のエリアを、Ｗステージ位置制御部４１からの制御指令に基づいて投影光学系６の直下へ移動したりウエハ２０の姿勢補正を行う。レチクルステージ１１とウエハステージ２２とはそれぞれレチクル側レーザ干渉計１２、とウエハ側レーザ干渉計２３（Ｙ方向のレーザ干渉計は不図示）により位置検出及び制御を行うことができる。さらに、レチクル１０とウエハ２０とを同時に走査移動しながらパターン転写を行う、いわゆるスキャン露光方式においても高精度な走査露光が可能とされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
給排ノズル２５は投影光学系の先端周辺に複数個配置される。図２においては２本の給排ノズル２５が記載されているが、本数はこれに限定されるものでない。各給排ノズル２５は、液浸剤２４のウエハ２０表面への供給と回収を兼用する構造になっている。そして、液浸剤給排制御部４４による管理のもとで露光時のウエハステージ駆動方向等の条件に応じてそれぞれ供給、回収あるいは停止の切替えや液浸剤２４の給排量の制御を行う。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図３は、露光時における露光装置の投影光学系６及びウエハ２０近傍を拡大して示す部分拡大図である。投影光学系６とウエハ２０との間隙は液浸剤２４で充たされている。
矢印Ｄ１で示す方向にウエハステージ２２（図１参照）を駆動してスキャン露光をする場合、給排ノズル２５ａは露光領域となるウエハ表面部分に液浸剤２４を供給し、給排ノズル２５ｂは露光領域から外れるウエハ上の液浸剤２４を回収するよう制御される。また、図２中に示す符号２６は投影光学系６の先端部を覆い最終レンズ７を露光装置内の周囲雰囲気から隔離するためのレンズカバー（光学面保護部材）、符号２７はそのレンズカバー２６を上下させる昇降動作のためのカバー昇降機構（保護部材着脱機構）である。
図１は、この実施の形態１に係る液浸露光装置のレンズカバー２６近傍の概略構成図である。レンズカバー２６には液浸剤２４と略同等、又は同一の成分を有する保護用液体２４ａを貯留可能であり、保護用液体２４ａが充填されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１（ａ）は露光処理中の状態を示す。露光処理中ではカバー昇降機構２７は下降しており、レンズカバー２６と投影光学系６の先端とが干渉する虞がない。また、この状態のときにはまだレンズカバー２６内に保護用液体２４ａが充填されていないほうが望ましい。図１（ｂ）は、最終レンズ７の表面に付着した液浸剤２４が蒸発することによりレンズ表面に水痕やゴミが付着するのを防止する目的で投影光学系６の先端部をレンズカバー２６で覆った状態を示したものである。
図１（ａ）から図１（ｂ）へ至る手順を説明する。ウエハ２０への露光終了後、ウエハ２０をウエハチャック２１から取り外して回収し、レンズカバー２６が投影光学系６の真下に来るようにウエハステージ２２を駆動する。次にカバー昇降機構２７を上方、すなわちＺ方向へ上昇させて投影光学系６に近接させ、最終レンズ７の表面をレンズカバー２６内の保護用液体２４ａに浸す（この状態をレンズカバー２６が投影光学系６に装着されたという。）。ここで、レンズカバー２６内に保護用液体２４ａが充填されていない場合は、カバー昇降機構２７の上昇途中で投影光学系６の周辺に配置された給排ノズル２５から液浸剤２４を保護用液体２４ａとして供給し、光学面を浸漬可能とする。レンズカバー２６を最終レンズ７から外す際には給排ノズル２５によってレンズカバー２６内の保護用液体２４ａを回収することが望ましい。保護用液体２４ａを回収することにより、露光時にウエハステージ２２が駆動されてもレンズカバー２６から保護用液体２４ａがこぼれて周囲に飛散してしまう虞がなくなる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
露光処理開始時には上記と逆の手順で、つまりウエハステージ２２上のカバー昇降機構２７がレンズカバー２６の取り付けられた投影光学系６の真下に来るようにウエハステージ２２を駆動する。そして、レンズカバー２６内の保護用液体２４ａを回収してカバー昇降機構２７を上昇させ、カバー結合フック３２を矢印Ｄ２と反対方向に駆動してレンズカバー２６を投影光学系６から取り外す。なお、保護用液体２４ａの回収はウエハステージ２２の駆動動作及びその後のカバー昇降機構２７の上昇動作と並行して行うことも可能であり、そのようにすることで処理時間の短縮をさらに図ることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図５（ａ）において、ローラ２８はレンズカバー２６の側面に配置されている。ローラ２８は、投影光学系６先端の最終レンズ７表面の液浸剤除去機構として機能し、最終レンズ７の表面に付着した液浸剤２４を拭き取る。図５（ｂ）は、非露光時にレンズカバー２６で最終レンズ７を覆う処理を示す。露光終了後にウエハ２０をウエハチャック２１から取り外して回収し、レンズカバー２６が投影光学系６の真下に来るようにウエハステージ２２を駆動する。その駆動途中で、ローラ２８が最終レンズ７の表面に接触しつつ相対的に位置２８’から位置２８’’（図５（ｃ）参照）まで移動することにより最終レンズ７表面を清掃する。清掃後、レンズカバー２６を投影光学系６の真下の位置まで移動させ、カバー昇降機構２７を上昇させて最終レンズ７をレンズカバー２６によってカバーする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
この実施の形態３においては、液浸剤除去機構として機能するローラ２８を最終レンズ７表面に直接接触させて拭き取る構成とした。しかし、もちろんこれに限定されるものではない。例えば、液浸剤除去機構として機能するエアーブローノズル２８ａによって最終レンズ７表面にエアーを吹き付け、それにより非接触にて最終レンズ７表面の液浸剤２４を飛散させて除去するように構成してもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、図６に示すように最終レンズ７をレンズカバーで覆った状態で供給路２９及び回収路３０の流量制御を行いつつ保護用液体２４ａを流すことにより、最終レンズ７表面を洗浄することも可能である。上記実施の形態１においてもレンズカバー２６を装着した状態（図１（ｂ）参照）で給排ノズル２５の流量を制御することにより最終レンズ７表面を洗浄することが可能である。しかしながら本実施の形態４では、供給路から２種類の液体を供給するための供給液体切り替え手段が備えられている。これにより、液浸剤２４とは異なる成分の洗浄効果の高い洗浄剤を供給路２９及び回収路３０に流すことができる。それにより高い洗浄効果を得ることができるうえに、洗浄剤を給排ノズル２５に流さなくてよいので給排ノズル２５が洗浄剤により詰まったりすることがない。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
最終レンズ７を洗浄した後、レンズカバー２６内の洗浄剤を回収路３０を通して回収し、給排ノズル２５から保護用液体２４ａとしての液浸剤２４を供給して最終レンズ７表面を液浸剤２４により保護することが可能である。また、供給路２９から洗浄剤と保護用液体２４ａとしての液浸剤２４との両方を供給可能に構成し、それらの供給を切替えによって制御することにより、給排ノズル２５から液浸剤２４を供給する必要なく、最終レンズ７表面の洗浄と保護とを行うことができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
なお、本実施の形態４においては、図６に示すように液浸露光装置が供給路２９と回収路３０とを別々に備えているが、もちろん１つの流路によって洗浄剤の供給と回収とを行うように構成することも可能である。その場合、例えば洗浄剤の供給動作と回収動作とをシーケンシャルに繰り返すような制御を行うことによって最終レンズ７表面を洗浄する。なお、最終レンズ７の洗浄処理は、レンズカバー２６を最終レンズ７に装着する度に行なう場合や、メンテナンス・コマンドとして洗浄動作を行わせるための洗浄機能を予め用意しておき、オペレータの判断に基づいて洗浄を行う場合が考えられる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ロット単位での一連の露光処理が終了すると、液浸露光装置はアイドル状態となり、最終レンズ７表面をレンズカバー２６で覆って最終レンズ７表面を周囲雰囲気から隔離する。このとき、例えばすぐに次ロットの露光処理が予定される場合には、レンズカバー２６内に保護用液体２４ａを充填して最終レンズ７表面を保護用液体２４ａに浸した状態に保つ。また、すぐに次ロットの露光処理が予定されない場合や装置を停止する場合は、ローラ２８によって最終レンズ７表面の液浸剤２４を除去し乾燥したレンズカバー２６で覆う。