(57)【要約】  ヘッドスライダ（２３）の裏面の隅にレーザ光（６１）が照射される。こうしてヘッドスライダ（２３）の隅は部分的に溶融する。溶融部分は固化する。ヘッドスライダ（２３）の隅はヘッドスライダ（２３）の裏面側に反り返る。その結果、媒体対向面（３２）の隅は面取りされる。このとき、面取りの形状は明確に観察されることができる。所望の形状に到達するまで何回でも処理が繰り返されることができる。その結果、高い精度で簡単に面取りが施されることができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面で媒体対向面を規定するヘッドスライダの裏面の隅にレーザ光を照射する工程を少なくとも備えることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項２】
請求の範囲第１項に記載のヘッドスライダの製造方法において、前記ヘッドスライダには、前記レーザ光の照射に基づき溶融し、固化に際して収縮応力を発生させる材料が用いられることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項３】
請求の範囲第１項に記載のヘッドスライダの製造方法において、前記レーザ光は点状に照射されることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項４】
請求の範囲第１項に記載のヘッドスライダの製造方法において、前記レーザ光は線状に照射されることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項５】
ヘッドスライダの媒体対向面の隅に切れ込みを形成する工程を備えることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項６】
請求の範囲第５項に記載の製造方法において、前記切れ込みの形成にあたって、前記媒体対向面には集束イオンビームが照射されることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項７】
スライダ本体と、前記スライダ本体に規定される媒体対向面で空気流出端側の隅にレーザ光の照射に基づき形成される面取り部とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項８】
請求項７に記載のヘッドスライダにおいて、前記面取り部は湾曲面で形成されることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項９】
スライダ本体と、前記スライダ本体に規定される媒体対向面で空気流出端側の隅にレーザ光の照射に基づき形成される面取り部とを備えるヘッドスライダが少なくとも組み込まれたことを特徴とする記憶装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の記憶装置において、前記面取り部は湾曲面で形成されることを特徴とする記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）に組み込まれるヘッドスライダの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１に開示されるように、ヘッドスライダは媒体対向面でハードディスク（ＨＤ）の表面に向き合わせられる。ヘッドスライダでは媒体対向面の隅は面取りされる。面取りに基づき傾斜面が形成される。たとえヘッドスライダがＨＤの表面に接触しても、傾斜面の働きでＨＤの損傷は抑制される。
【特許文献１】日本国特開２０００−３０６２２６号公報
【特許文献２】日本国特開平４−１３４７７０号公報
【特許文献３】国際公開第２０００／６０５８２号パンフレット
【特許文献４】日本国特開平８−２２１７２９号公報
【発明の開示】
【０００３】
面取りにあたってヘッドスライダの隅は例えば定盤に擦り当てられる。定盤上には砥粒を含むスラリーが滴下される。スラリーは傾斜面を覆う。傾斜面の形状は確認されることができない。確認にあたってヘッドスライダは洗浄されなければならない。面取りにあたって手間がかかる。
【０００４】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、高い精度で簡単に媒体対向面の隅を面取りすることができるヘッドスライダの製造方法を提供することを目的とする。本発明は、そういった製造方法に基づき面取りされるヘッドスライダを提供することを目的とする。
【０００５】
上記目的を達成するために、第１発明によれば、表面で媒体対向面を規定するヘッドスライダの裏面の隅にレーザ光を照射する工程を少なくとも備えることを特徴とするヘッドスライダの製造方法が提供される。
【０００６】
こうした製造方法によれば、ヘッドスライダの裏面の隅にレーザ光が照射される。こうしてヘッドスライダの隅は部分的に溶融する。溶融部分は固化する。ヘッドスライダの隅はヘッドスライダの裏面側に反り返る。その結果、媒体対向面の隅は面取りされる。このとき、面取りの形状は明確に観察されることができる。所望の形状に到達するまで何回でも処理が繰り返されることができる。その結果、高い精度で簡単に面取りが施されることができる。
【０００７】
しかも、所望の形状に応じて例えばレーザ光の照射時間や照射エネルギ、照射回数といった条件が予め把握されれば、そういった条件に基づきヘッドスライダの面取りは高い精度で正確に実施されることができる。加えて、多数のヘッドスライダに同一の条件で簡単に面取りが施されることができる。
【０００８】
加えて、ヘッドスライダの溶融に際して塵埃の発生は回避される。ヘッドスライダの媒体対向面に塵埃の付着は防止される。その一方で、例えばラッピング処理にあたってヘッドスライダは砥粒に擦り付けられる。塵埃が生成される。塵埃は媒体対向面に付着してしまう。媒体対向面は汚染されてしまう。
【０００９】
こういった製造方法では、ヘッドスライダには、レーザ光の照射に基づき溶融し、固化に際して収縮応力を発生させる材料が用いられればよい。レーザ光は点状に照射されてもよく、線状に照射されてもよい。
【００１０】
第２発明によれば、ヘッドスライダの媒体対向面の隅に切れ込みを形成する工程を備えることを特徴とするヘッドスライダの製造方法が提供される。
【００１１】
媒体対向面の隅に切れ込みが形成されると、切れ込みに基づきヘッドスライダの表面では残留応力が開放される。その結果、媒体対向面の隅は面取りされる。このとき、面取りの形状は明確に観察されることができる。所望の形状に到達するまで何回でも処理は繰り返されることができる。その結果、高い精度で簡単に面取りが施されることができる。
【００１２】
しかも、所望の形状に応じて例えば切れ込みの長さや幅、形成場所といった条件が予め把握されれば、そういった条件に基づきヘッドスライダの面取りは正確に実施されることができる。同時に、多数のヘッドスライダに同一の条件で簡単に面取りが施されることができる。こうした製造方法では、切れ込みの形成にあたって、媒体対向面には集束イオンビームが照射されればよい。
【００１３】
以上のような製造方法によれば、スライダ本体と、スライダ本体に規定される媒体対向面で空気流出端側の隅にレーザ光の照射に基づき形成される面取り部とを備えることを特徴とするヘッドスライダが提供されることができる。こうしたヘッドスライダでは、面取り部は湾曲面で形成されればよい。こうしたヘッドスライダは例えばハードディスク駆動装置といった記憶装置に組み込まれればよい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置の内部構造を概略的に示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す斜視図である。
【図３】スライダ本体の隅に点状にレーザ光を照射する様子を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図４】溶融に基づきスライダ本体の隅に面取りが施される様子を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図５】スライダ本体の隅に線状にレーザ光を照射する様子を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図６】スライダ本体の隅に切れ込みを形成する様子を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図７】切れ込みに基づきスライダ本体の隅に面取りが施される様子を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図８】本発明の他の実施形態に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す斜視図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明する。【００１６】
図１は記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の内部構造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は、例えば平たい直方体の内部空間を区画する箱形の筐体本体１２を備える。筐体本体１２は例えばアルミニウムといった金属材料から鋳造に基づき成形されればよい。筐体本体１２には蓋体すなわちカバー（図示されず）が結合される。カバーと筐体本体１２との間で収容空間は密閉される。カバーは例えばプレス加工に基づき１枚の板材から成形されればよい。【００１７】
収容空間には記録媒体としての１枚以上の磁気ディスク１３が収容される。磁気ディスク１３はスピンドルモータ１４の回転軸に装着される。スピンドルモータ１４は例えば５４００ｒｐｍや７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍといった高速度で磁気ディスク１３を回転させることができる。【００１８】
収容空間にはヘッドアクチュエータ部材すなわちキャリッジ１５がさらに収容される。このキャリッジ１５はキャリッジブロック１６を備える。キャリッジブロック１６は、垂直方向に延びる支軸１７に回転自在に連結される。キャリッジブロック１６には、支軸１７から水平方向に延びる複数のキャリッジアーム１８が区画される。こういったキャリッジブロック１６は例えば鋳造に基づきアルミニウムから成型されればよい。【００１９】
個々のキャリッジアーム１８の先端には、キャリッジアーム１８から前方に延びるヘッドサスペンション１９が取り付けられる。ヘッドサスペンション１９の先端にはいわゆるジンバルばね（図示されず）が接続される。ジンバルばねの表面に浮上ヘッドスライダ２１は固定される。こうしたジンバルばねの働きで浮上ヘッドスライダ２１はヘッドサスペンション１９に対してその姿勢を変化させることができる。【００２０】
浮上ヘッドスライダ２１にはいわゆる磁気ヘッドすなわち電磁変換素子（図示されず）が搭載される。この電磁変換素子は書き込み素子および読み出し素子で構成される。書き込み素子には、例えば、薄膜コイルパターンで生成される磁界を利用して磁気ディスク１３に情報を書き込む薄膜磁気ヘッドが利用されればよい。読み出し素子には、スピンバルブ膜やトンネル接合膜の抵抗変化を利用して磁気ディスク１３から情報を読み出す巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）素子やトンネル接合磁気抵抗効果（ＴＭＲ）素子が利用されればよい。【００２１】
磁気ディスク１３の回転に基づき磁気ディスク１３の表面で気流が生成されると、気流の働きで浮上ヘッドスライダ２１には正圧すなわち浮力および負圧が作用する。浮力および負圧とヘッドサスペンション１９の押し付け力とが釣り合うことで磁気ディスク１３の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスライダ２１は浮上し続けることができる。【００２２】
キャリッジブロック１６には動力源すなわちボイスコイルモータ（ＶＣＭ）２２が接続される。このＶＣＭ２２の働きでキャリッジブロック１６は支軸１７回りで回転することができる。こうしたキャリッジブロック１６の回転に基づきキャリッジアーム１８およびヘッドサスペンション１９の揺動は実現される。支軸１７回りでキャリッジアーム１８が揺動すると、浮上ヘッドスライダ２１は半径方向に磁気ディスク１３の表面を横切ることができる。こうした浮上ヘッドスライダ２１の半径方向移動に基づき電磁変換素子は目標の記録トラックに位置決めされる。【００２３】
ヘッドサスペンション１９の先端には、ヘッドサスペンション１９の先端から前方に延びるロードタブ２３が固定される。ロードタブ２３はキャリッジアーム１８の揺動に基づき磁気ディスク１３の半径方向に移動することができる。ロードタブ２３の移動経路上には磁気ディスク１３の外側でランプ部材２４が配置される。ランプ部材２４およびロードタブ２３は協働でいわゆるロードアンロード機構を構成する。ランプ部材２４は例えば硬質プラスチック材料から成型されればよい。【００２４】
次に浮上ヘッドスライダ２１の構造を詳述する。この浮上ヘッドスライダ２１は、例えば図２に示されるように、平たい直方体に形成されるスライダ本体３１を備える。スライダ本体３１は媒体対向面すなわち浮上面３２で磁気ディスク１３に向き合う。浮上面３２には平坦なベース面３３が規定される。磁気ディスク１３が回転すると、スライダ本体３１の前端から後端に向かって浮上面３２には気流３４が作用する。スライダ本体３１は、例えばＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ（アルチック）製の母材３５と、この母材３５の空気流出側端面に積層されるＡｌ２Ｏ３（アルミナ）膜３６とで構成されればよい。【００２５】
スライダ本体３１の浮上面３２では気流３４の上流側すなわち空気流入側でベース面３３から１筋のフロントレール３７が立ち上がる。フロントレール３７はベース面３３の空気流入端に沿って気流３４を横切る左右方向に延びる。同様に、気流３４の下流側すなわち空気流出側ではベース面３３から１対のリアサイドレール３８、３８が立ち上がる。リアサイドレール３８はベース面３３の縁に沿って配置される。リアサイドレール３８同士の間ではベース面３３からリアセンターレール３９が立ち上がる。リアセンターレール３９はベース面３３の空気流出端から空気流入側に向かって前後方向に延びる。【００２６】
フロントレール３７には、ベース面３３から立ち上がる２筋のサイドレール４１、４１が接続される。サイドレール４１、４１はベース面３３の縁に沿ってフロントレール３７からリアサイドレール３８、３８に向かってそれぞれ前後方向に延びる。サイドレール４１、４１は対応するリアサイドレール３８、３８の手前で途切れる。こうしてサイドレール４１と対応のリアサイドレール３８との間には気流の逃げ道が確保される。サイドレール４１、４１は相互に平行に延びればよい。【００２７】
フロントレール３７、リアサイドレール３８およびリアセンターレール３９の頂上面にはいわゆるＡＢＳ（空気軸受け面）４３、４４、４５が規定される。ＡＢＳ４３、４４、４５はベース面３３から一定の距離でベース面３３に平行に広がる１仮想平面内で広がる。ＡＢＳ４３、４４、４５の空気流入端は段差４６、４７、４８でレール３７、３８、３９の頂上面に接続される。ここでは、段差４６、４７、４８の高さは等しく規定されればよい。【００２８】
スライダ本体３１には前述の電磁変換素子すなわち読み出し書き込みヘッド素子４９が搭載される。この読み出し書き込みヘッド素子４９はスライダ本体３１のアルミナ膜３６内に埋め込まれる。読み出し書き込みヘッド素子４９の読み出しギャップや書き込みギャップはリアセンターレール３９のＡＢＳ４５で露出する。ただし、ＡＢＳ４５の表面には、読み出し書き込みヘッド素子４９の前端に覆い被さるＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）保護膜が形成されてもよい。【００２９】
浮上面３２すなわちベース面３３の空気流出端側の２隅には面取り部すなわち湾曲面５１、５１が形成される。湾曲面５１の曲率は所定値に設定される。湾曲面５１は、ベース面３３、浮上ヘッドスライダ２１の側面および空気流出側の端面に接続される。湾曲面５１は母材３５およびアルミナ膜３６に跨って形成される。湾曲面５１の形成にあたって面取りが施される。面取り方法の詳細は後述される。【００３０】
磁気ディスク１３が回転すると、磁気ディスク１３の表面に沿って気流３４が生成される。気流３４はスライダ本体３１の浮上面３２に沿って流れる。このとき、段差４６、４７、４８の働きでＡＢＳ４３、４４、４５には比較的に大きな正圧すなわち浮力が生成される。しかも、フロントレール３７の後方すなわち背後には大きな負圧が生成される。これら浮力および負圧のバランスに基づき浮上ヘッドスライダ２１の浮上姿勢すなわちピッチ角は確立される。ピッチ角は気流の流れ方向に沿ったスライダ本体３１の前後方向の傾斜角をいう。スライダ本体３１は空気流出端で最も磁気ディスク１３に接近する。【００３１】
以上のような浮上ヘッドスライダ２１では、湾曲面５１の働きでベース面３３の隅の鋭利な頂点が丸められる。その結果、たとえ浮上ヘッドスライダ２１が湾曲面５１で磁気ディスク１３に衝突しても、浮上ヘッドスライダ２１や磁気ディスク１３の損傷は十分に抑制されることができる。ＨＤＤ１１の耐衝撃性は十分に高められることができる。【００３２】
しかも、鋭利な頂点が磁気ディスク１３に接触すると、接触の衝撃で浮上ヘッドスライダ２１の隅でアルチック粒子が脱落してしまう。しかしながら、鋭利な頂点に予め湾曲面５１が形成されれば、アルチック粒子の脱落は抑制されることができる。【００３３】
例えば湾曲面５１および磁気ディスク１３の接触の反動で浮上ヘッドスライダ２１にはモーメントが生成される。こうしたモーメントは鋭利な頂点および磁気ディスク１３の接触時に比べて小さく抑えられる。その結果、浮上ヘッドスライダ２１の浮上姿勢の変化は抑制される。【００３４】
次に浮上ヘッドスライダ２１の製造方法を簡単に説明する。まず、ウエハからウェハバーが切り出される。ウェハバーには複数の読み出し書き込みヘッド素子４９が形成される。ウェハバーの切断面には例えばフォトリソグラフィ法に基づき浮上面３２が形作られる。フロントレール３７やリアサイドレール３８、リアセンターレール３９が形作られる。その後、ウェハバーから個々のスライダ本体３１が切り分けられる。【００３５】
図３に示されるように、表面で浮上面３２を規定するスライダ本体３１の裏面の隅に点状のレーザ光６１が照射される。レーザ光６１は、例えば母材３５およびアルミナ膜３６の境界に近い位置で母材３５に向かって照射される。レーザ光６１の照射時間は所定の時間に設定される。レーザ光６１には例えばＹＡＧレーザ光が用いられる。その結果、レーザ光６１の照射領域およびその周囲で母材３５すなわちアルチックは溶融する。【００３６】
レーザ光６１の照射が終了すると、スライダ本体３１では溶融したアルチックはすぐさま固化する。このとき、アルチックの固化に際してスライダ本体３１では収縮応力が発生する。その結果、図４に示されるように、スライダ本体３１の隅は反り返る。浮上面３２の隅には面取りが施される。スライダ本体３１の浮上面３２の隅には湾曲面５１が形成される。こうして浮上ヘッドスライダ２１が製造される。【００３７】
以上のような製造方法によれば、面取りの実施にあたってスライダ本体３１にはレーザ光６１が照射される。スライダ本体３１の隅は溶融する。溶融に基づき湾曲面５１が形成される。湾曲面５１の形状は明確に観察されることができる。所望の形状に到達するまで何回でも処理は繰り返されることができる。その結果、高い精度で簡単に面取りが施されることができる。【００３８】
しかも、所望の形状に応じて例えばレーザ光６１の照射時間や照射エネルギ、照射回数といった条件が予め把握されれば、そういった条件に基づきスライダ本体３１の湾曲面５１は高い精度で正確に形成されることができる。同時に、多数のスライダ本体３１に同一の条件で簡単に面取りが施されることができる。【００３９】
加えて、スライダ本体３１の溶融に際して塵埃の発生は回避される。例えばスライダ本体３１の浮上面３２に塵埃の付着は防止される。その一方で、例えばラッピング処理にあたってスライダ本体は砥粒に擦り付けられる。塵埃が生成される。塵埃は浮上面３２に付着してしまう。浮上面３２は汚染されてしまう。【００４０】
その他、図５に示されるように、レーザ光６１は線状に照射されてもよい。レーザ光６１は、例えば相互に交差するベース面３３の縁を横切る方向に直線状に照射されればよい。照射にあたって例えばプリズムレンズが利用されればよい。こうして、前述と同様に、スライダ本体３１の隅には湾曲面５１が形成されることができる。【００４１】
その他、図６に示されるように、湾曲面５１の形成にあたって、スライダ本体３１には浮上面３２の隅に切れ込みすなわち溝６２が形成されてもよい。溝６２の形成にあたってスライダ本体３１には集束イオンビームが照射されればよい。溝６２は、相互に交差するベース面３３の縁を横切る方向に直線状に形成されればよい。【００４２】
こうした溝６２の働きで、スライダ本体３１の浮上面３２では母材３５やアルミナ膜３６の表面でスライダ本体３１内の残留応力が解放される。その結果、図７に示されるように、浮上面３２の隅は湾曲する。浮上面３２の隅は面取りされる。スライダ本体３１には湾曲面５１が形成される。こうして浮上ヘッドスライダ２１は製造される。【００４３】
以上のような製造方法によれば、面取りの実施にあたって集束イオンビームが照射される。スライダ本体３１の隅に溝６２が形成される。溝６２に基づき湾曲面５１が形成される。湾曲面５１の形状は明確に観察されることができる。所望の形状に到達するまで何回でも処理は繰り返されることができる。その結果、高い精度で簡単に面取りが施されることができる。【００４４】
しかも、所望の形状に応じて例えば溝６２の長さや幅、形成場所といった条件が予め把握されれば、そういった条件に基づきスライダ本体３１の湾曲面５１は正確に形成されることができる。同時に、多数のスライダ本体３１に同一の条件で簡単に面取りが施されることができる。【００４５】
その他、図８に示されるように、スライダ本体３１の空気流入端側の２隅にも湾曲面６３、６３が形成されてもよい。こうして浮上面３２の４隅で面取りが施されてもよい。こういった浮上ヘッドスライダ２１ａによれば、前述と同様に、たとえ浮上ヘッドスライダ２１ａが湾曲面５１で磁気ディスク１３に衝突しても、浮上ヘッドスライダ２１ａや磁気ディスク１３の損傷は十分に抑制されることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年7月17日(2008.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面で媒体対向面を規定するヘッドスライダの裏面の隅にレーザ光を照射する工程を少なくとも備えることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のヘッドスライダの製造方法において、前記ヘッドスライダには、前記レーザ光の照射に基づき溶融し、固化に際して収縮応力を発生させる材料が用いられることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のヘッドスライダの製造方法において、前記レーザ光は点状に照射されることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項４】
ヘッドスライダの媒体対向面の隅に切れ込みを形成する工程を備えることを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項５】
スライダ本体と、前記スライダ本体に規定される媒体対向面で空気流出端側の隅にレーザ光の照射に基づき形成される面取り部とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項６】
スライダ本体と、前記スライダ本体に規定される媒体対向面で空気流出端側の隅にレーザ光の照射に基づき形成される面取り部とを備えるヘッドスライダが少なくとも組み込まれたことを特徴とする記憶装置。
【国際調査報告】
2007132501.tif 000011
2007132501.tif 000012