Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月25日(2008.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）ポリ（テトラメチレンエーテル−ｃｏ−２−メチルテトラメチレンエーテル）グリコールと、
（Ｂ）１−イソシアナト−４−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンと全ジイソシアネートを基準にして２３〜５５モル％の１−イソシアナト−２−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンとの混合物と、
（Ｃ）少なくとも１種の連鎖延長剤と、
の反応生成物から本質的になる、およそ１７５〜１９０℃で≧８５％の熱セット効率を有するスパンデックス。
【請求項２】  ≧０．０２０ｄＮ／ｔｅｘのアンロードパワーを有することを特徴とする請求項１に記載のスパンデックス。
【請求項３】  前記連鎖延長剤が、エチレンジアミン、１，２−プロパンジアミン、２−メチル−１，５−ペンタンジアミン、１，３−シクロヘキサンジアミン、１，３−ジアミノペンタン、およびそれらの混合物からなる群より選択され、かつ成分（Ａ）および（Ｂ）の生成物が、２．４〜４．６重量％のＮＣＯ部分を含有することを特徴とする請求項１に記載のスパンデックス。
【請求項４】  前記連鎖延長剤が、全連鎖延長剤を基準にして６０〜９５モル％のエチレンジアミンと、１，４−ブタンジアミン、１，６−ヘキサンジアミン、１，２−プロパンジアミン、１，３−プロパンジアミン、２−メチル−１，５−ペンタンジアミン、１，４−シクロヘキサンジアミン、１，３−シクロヘキサンジアミン、１，３−ジアミノペンタン、およびそれらの混合物からなる群より選択された連鎖延長剤との混合物であることを特徴とする請求項１に記載のスパンデックス。
【請求項５】  １−イソシアナト−２−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンが２８〜５５モル％のレベルで存在することを特徴とする請求項１に記載のスパンデックス。
【請求項６】  およそ１７５〜１９０℃で≧８５％の熱セット効率を有するスパンデックスを製造する方法であって、
（Ａ）ポリ（テトラメチレンエーテル−ｃｏ−２−メチルテトラメチレンエーテル）グリコールを、１−イソシアナト−４−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンと全ジイソシアネートを基準にして２３〜５５モル％の１−イソシアナト−２−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンとの混合物に接触させて、およそ２．４〜４．６重量％のＮＣＯ部分を含有する生成物を形成する工程と；
（Ｂ）工程（Ａ）の生成物に溶媒を添加する工程と、
（Ｃ）工程（Ｂ）の生成物を少なくとも１種の連鎖延長剤に接触させる工程と、
（Ｄ）工程（Ｃ）の生成物を紡糸してスパンデックスを形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】  １−イソシアナト−２−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンが２５〜５５モル％のレベルで存在し、前記連鎖延長剤が、全連鎖延長剤を基準にして６０〜９５モル％のエチレンジアミンと、２−メチル−１，５−ペンタンジアミン、１，４−シクロヘキサンジアミン、１，３−シクロヘキサンジアミン、および１，３−ジアミノペンタンからなる群より選択された連鎖延長剤との混合物であり、かつ前記スパンデックスが、毎分約７５０メートルを超える速度で紡糸されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】  １−イソシアナト−２−［（４’−イソシアナトフェニル）メチル］ベンゼンが２８〜５５モル％で存在することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】  前記スパンデックスが≧０．０２０ｄＮ／ｔｅｘのアンロードパワーを有し、かつ前記連鎖延長剤が、エチレンジアミン、１，４−ブタンジアミン、１，６−ヘキサンジアミン、１，２−プロパンジアミン、１，３−プロパンジアミン、２−メチル−１，５−ペンタンジアミン、１，４−シクロヘキサンジアミン、１，３−シクロヘキサンジアミン、１，３−ジアミノペンタン、およびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月28日(2008.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  開位置と閉位置との間で捲上げ式の組立て扉（Ｄ）を昇降するためのシステム（１０、２１０）であって、
前記扉に連結されるカウンタバランスシステム（３０）、及び
前記扉の閉位置にある前記扉の近くに取り付けられ、前記扉の昇降のために前記カウンタバランスシステムを操作するオペレータモータ組立体を有するところのシステムであって、
前記オペレータモータ組立体（４０、２４０）の少なくとも一部分が、扉作動位置と扉ロック位置の間で移動可能であり、
扉ロック位置では、前記オペレータ組立体の前記一部分が、前記扉の開放を防止するために、閉位置から開位置への扉の経路中に位置する、
ところのシステム。
【請求項２】
前記オペレータモータ組立体（４０、２４０）の前記一部分が、前記扉作動位置と前記扉ロック位置との間の移動のために、枢動的に取り付けられる、ところの請求項１のシステム。
【請求項３】
さらに、前記オペレータモータ組立体（４０、２４０）と前記カウンタバランスシステムを選択的に連結し、前記オペレータモータ組立体と前記カウンタバランスシステム（３０）を分断するための分断手段を含み、このことにより、前記扉は、前記閉位置から手動で持ち上げ可能である、ところの請求項１または２のシステム。
【請求項４】
さらに、前記アクチュエータ（８０）に関連した非侵入機構（１２５）を含む、請求項１のシステム。
【請求項５】
さらに、通常の作動トルク範囲で前記扉を前記上下方向に移動する間、前記扉作動位置に前記オペレータモータ組立体を固定するために、リテーナ組立体を含む請求項１ないし４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
さらに、遠隔光組立体（６００）を含み、
前記遠隔光組立体が、
前記遠隔光組立体に枢動可能に取り付けられる受信機組立体（６１０）、及び
前記オペレータモータ組立体（４０、２４０）が作動すると、信号を送信するように、前記オペレータ（１０）に接続する送信機（６２５）、
を有し、
前記受信機（６１０）が、前記信号を受信し、前記光源を点灯する、
ところの請求項１のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月6日(2008.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  再帰反射キューブコーナーシート材であって、
観察表面と、平行な溝群の少なくとも２つの交差するセットによって画定される複数のキューブコーナー要素を備えた構造化表面と、該キューブコーナー要素の少なくともいくつかの上に配置された金属フィルムとを有するキューブ層と、
前面と該キューブ層の該観察表面に接合された後面とを有する実質的に透明なオーバーレイ層と、
該オーバーレイ層に配置された着色標示と、
を具備し、
該着色標示が該溝群の少なくとも１つのセットに対して整列配置される、再帰反射キューブコーナーシート材。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数のグループの組成物を、複数の収集器を備えた装置を用いて得る方法であって、
第１群の流体反応物を反応させて、第１群の生成組成物を形成する工程と、
前記第１群の生成組成物を、第１の収集器を用いて収集する工程と、
前記第１群の生成組成物の収集完了後、第２群の流体反応物を反応させて、前記第１群の生成組成物とは材料的に異なる第２群の生成組成物を形成する工程と、
前記第２群の生成組成物を、第２の収集器を用いて収集する工程を備えた方法。
【請求項２】  前記第２群の流体反応物の組成が、前記第１群の流体反応物の組成と異なることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記第２群の流体反応物の反応条件が、前記第１群の流体反応物の反応条件と異なることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記装置が、複数ある前記収集器に対して相対的に移動可能なノズルであって、前記第１群の生成組成物の収集完了後に、前記第１及び第２の収集器に対して相対的に移動するノズルを備えたことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記装置が、放射線源とそれを方向付けるための光学素子によって規定される放射線経路を有し、前記流体反応物の反応に、前記放射線源からの放射線と反応物との反応が含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】  さらに、前記第１群及び第２群の生成組成物の特性を評価する工程を備えたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】  粒子の特性を迅速に評価する方法であって、
ガス透過膜を備えて互いに分離した粒子収集器によって、複数群の粒子を群ごとに収集する工程と、
各群の粒子の特性を、前記ガス透過膜に付着した状態で評価する工程と、を有することを特徴とする評価方法。
【請求項８】  反応物源に接続されたノズルと、複数の収集器とを備えた装置であって、
前記複数の収集器と前記ノズルが互いに相対的に移動可能であることにより、ある収集器が前記ノズルから発射された流体の流れを選択的に受けとめるように収集器を配置することができ、前記収集器がガス透過性膜を有することを特徴とする装置。
【請求項９】  さらに、指向性を持つ光学素子を備え、前記光学素子により、反応チャンバ内に、前記ノズルからの流体の流れを横切る放射線の経路が規定されることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】  さらに、前記反応チャンバ内の流体の流れの内部において、各群の粒子を生成する工程を備えたことを特徴とする請求項９に記載の評価方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月21日(2008.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】減少されたヒステリシスを持つ硫黄架橋性ゴム組成物のエラストマーマトリックスを構成する為のｎ個のブロック（ｎ＝２又は３）を持つコポリマーであって、前記ブロックのそれぞれが、１５％より大きい共役ジエン由来の単位のモル含有量を有するジエンエラストマーを含み、ｎ＝２又はｎ＝３の時に、少なくとも一つのブロックが、ポリイソプレンから成る前記コポリマーの鎖末端を形成し、前記それぞれのポリイソプレン末端ブロックの数平均分子量Ｍn1が実質的に２，５００〜２０，０００ｇ／ｍｏｌであり、且つ、前記それぞれのポリイソプレン末端ブロック以外の前記コポリマーのブロックの数平均分子量Ｍn2が実質的に８０，０００〜３５０，０００ｇ／ｍｏｌである事を特徴とするコポリマー。
【請求項２】前記分子量Ｍn1／Ｍn2の比が実質的に５〜２０％である、請求項１に記載のブロックコポリマー。
【請求項３】前記それぞれのポリイソプレン末端ブロック以外の前記ブロックが、強化充填剤と相互作用する事の出来る官能基を含む、請求項１又は２に記載のブロックコポリマー。
【請求項４】前記官能基がシリカと相互作用することが出来る、請求項３に記載のブロックコポリマー。
【請求項５】前記官能基がシラノール基を含むシリカと相互作用することが出来る、請求項４に記載のブロックコポリマー。
【請求項６】前記官能基がモノ−、ジ−又はトリアルコキシシラン基を含むシリカと相互作用することが出来る、請求項４に記載のブロックコポリマー。
【請求項７】前記官能基がカーボンブラックと相互作用することが出来る、請求項３に記載のブロックコポリマー。
【請求項８】前記官能基がＣ−Ｓｎ結合を含むカーボンブラックと相互作用することが出来る、請求項７に記載のブロックコポリマー。
【請求項９】カーボンブラックと相互作用することが出来る前記官能基が、モノ−、ジ−、トリ−又はテトラハロ錫型の試薬との反応によって得られる、請求項８に記載のブロックコポリマー。
【請求項１０】カーボンブラックと相互作用することが出来る前記官能基がアミノ基を含む、請求項７に記載のブロックコポリマー。
【請求項１１】前記それぞれのポリイソプレン末端ブロック以外の前記ブロックがポリブタジエンである、請求項１〜１０の何れか一項に記載のブロックコポリマー。
【請求項１２】前記それぞれのポリイソプレン末端ブロック以外の前記ブロックがスチレンとブタジエンとのコポリマーである、請求項１〜１０の何れか一項に記載のブロックコポリマー。
【請求項１３】前記それぞれのポリイソプレン末端ブロック以外の前記ブロックがスチレンとイソプレンとのコポリマーである、請求項１〜１０の何れか一項に記載のブロックコポリマー。
【請求項１４】前記それぞれのポリイソプレン末端ブロックが、実質的に１〜２０％である３，４−及び１，２−ビニル結合の含有量を有する、請求項１〜１３の何れか一項に記載のブロックコポリマー。
【請求項１５】ポリブタジエンブロック中の１，２−結合含有量が実質的に１０％〜６０％である、請求項１１に記載のブロックコポリマー。
【請求項１６】前記スチレンとブタジエンコポリマーブロック中の１，２−結合とスチレン結合の含有量が、それぞれ、１０％〜７０％及び５％〜５０％である、請求項１２に記載のブロックコポリマー。
【請求項１７】エラストマーマトリックスを含む架橋性又は架橋ゴム組成物であって、前記組成物が架橋状態において減少されたヒステリシスを示すのに適したものであり、前記エラストマーマトリックスが請求項１〜１６の何れか一項に記載のブロックコポリマーを含む事を特徴とするゴム組成物。
【請求項１８】ゴム組成物が強化充填剤を含み、前記それぞれのポリイソプレン末端ブロック以外の前記ブロックが、前記強化充填剤と結合する為に、官能化、カップル化又は星状化されている、請求項１７に記載のゴム組成物。
【請求項１９】タイヤトレッドを含むタイヤのローリング抵抗を減少させる為に使用できるタイヤトレッドであって、請求項１７又は１８に記載の架橋ゴム組成物を含む事を特徴とするタイヤトレッド。
【請求項２０】請求項１９のタイヤトレッドを含む事を特徴とするタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月17日(2008.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】   (a)非イオン性乳化剤を水性フルオロポリマー分散液に添加する工程と、(b)前記水性フルオロポリマー分散液のｐＨ価が５未満、任意にｐＨ価が１〜３で、分散液中の蒸気揮発性のフッ素化乳化剤の濃度が所望の値に達するまで蒸留することで、蒸気揮発性のフッ素化乳化剤を除去する工程と、を含む、蒸気揮発性のフッ素化された乳化剤を水性フルオロポリマー分散液から遊離酸形態で除去する方法。
【請求項２】   (a)強い鉱酸、任意に硝酸、及び(b)陽イオン交換の少なくとも１つにより、前記ｐＨが設定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】   (a)前記水性フルオロポリマー分散液が、フルオロポリマーを生じる重合プロセスから得られた未精製分散液である、(b)フルオロポリマーがフルオロエラストマーであり、任意にフルオロエラストマーが１５０，０００未満の分子量を有する、の少なくとも一方を満たす、請求項１に記載の方法。
【請求項４】   (a)水が蒸留によって分散液から除去され、かくして分散液の濃度を上昇させる、(b)蒸気揮発性のフッ素化乳化剤の前記除去に引き続き、前記水性フルオロポリマー分散液のｐＨを７より大きくする、(c)フッ素化乳化剤の除去に先立って水性フルオロポリマー分散液がアップ濃縮される、のうち少なくとも１つの工程をさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法によって得られた水性フルオロポリマー分散液を用いて基材を被覆する方法。
【請求項６】  基材を請求項１に従って調製されたフルオロポリマーと接触させる工程を含み、任意に基材が金属又布帛である、基材を処理して、非粘着性、耐候性、および不燃性から成る群より選択される特徴をそれに提供する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月17日(2008.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  室温で固体である、無溶剤型湿分硬化性一液型のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物であって、ポリウレタン組成物の質量％で、
（ａ）１０％〜９０％の、０．２５％〜１５％のイソシアネート含量及び１より大で５までのイソシアネート指数を有するウレタンプレポリマー、及び
（ｂ）５％〜９０％の、エチレン酢酸ビニル／エチレンアクリレートターポリマーであり、前記エチレン酢酸ビニル／エチレンアクリレートターポリマーのエチレン含量が１０％〜５５％である、熱可塑性樹脂、
を含む、ホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項２】  前記（ａ）からウレタンプレポリマーがポリイソシアネート及びポリオールの縮重合により製造される請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項３】  前記ウレタンプレポリマーにおけるポリイソシアネートが、エチレンジイソシアネート、エチリデンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネートシアヌレート、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、シクロペンチレン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，４−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，２−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，２−ジフェニルプロパン−４，４'−ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，４−ナフチレンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、ジフェニル−４，４'−ジイソシアネート、アゾベンゼン−４，４'−ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−４，４'−ジイソシアネート、ジクロロヘキサメチレンジイソシアネート、フルフリリデンジイソシアネート、１−クロロベンゼン−２，４−ジイソシアネート、４，４’，４”−トリイソシアナトトリフェニルメタン、１，３，５−トリイソシアナトベンゼン、２，４，６−トリイソシアナトトルエン及び４，４’−ジメチルジフェニルメタン−２，２’，５，５’−テトライソシアネートからなる群から選択される請求項２に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項４】  前記ポリオールが、ポリアルキレンエーテルグリコール、ポリヒドロキシポリアルキレンエーテル、ポリヒドロキシポリエステル、ポリオールのエチレン及びプロピレンオキシド付加物並びにグリセリンのエステルからなる群から選択される請求項２に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項５】  前記エチレン酢酸ビニル／エチレンアクリレートターポリマーの酸価が０〜１３であり、メルトインデックスが１〜９００である請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項６】  前記エチレン酢酸ビニル／エチレンアクリレートターポリマーの酸価が４〜８であり、メルトインデックスが１０〜５００である請求項５に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項７】  さらに、エステル化、水素添加、マレエート化、ホルムアルデヒド付加及び／またはフェノレート化された、ロジンまたはロジン誘導体粘着性付与剤を含む請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項８】  さらに、アルキルもしくはテルペンフェノールである、ロジンまたはロジン誘導体粘着性付与剤または安息香酸スクロースを含む請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項９】  さらに、スチレン、スチレンフェノール、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、第３級ブチルスチレン及びクロロスチレンからなる群から選択される、スチレン系コポリマー粘着性付与剤を含む請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項１０】  前記（ａ）におけるウレタンプレポリマーが３０％〜６５％の量で存在する請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【請求項１１】  前記（ｂ）における熱可塑性樹脂が３０％〜６５％の量で存在する請求項１に記載のホットメルトポリウレタン接着剤またはシーラント組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
あらゆる適当な有機ポリイソシアネート、例えば、エチレンジイソシアネート、エチリデンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、シクロペンチレン−１，３−ジイソシアネート、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネートシアヌレート、シクロヘキシレン−１，４−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，２−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，２−ジフェニルプロパン−４，４'−ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，４−ナフチレンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、ジフェニル−４，４'−ジイソシアネート、アゾベンゼン−４，４'−ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−４，４'−ジイソシアネート、ジクロロヘキサメチレンジイソシアネート、フルフリリデンジイソシアネート、１−クロロベンゼン−２，４−ジイソシアネート、４，４’，４”−トリイソシアナトトリフェニルメタン、１，３，５−トリイソシアナトベンゼン、２，４，６−トリイソシアナトトルエン及び４，４’−ジメチルジフェニルメタン−２，２’，５，５’−テトライソシアネートなどを用い得る。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  冷蔵機器の運転中において、金属表面の磨耗抵抗を改良し、冷蔵機器中に加水分解に安定な環境を維持する方法であって、ネオペンチルグリコールと２−エチルヘキサン酸源との反応生成物である第１のエステルを約１０〜９０重量％と、ネオペンチルグリコールと炭素数が４〜１０の少なくとも１種の直鎖の酸との反応生成物である第２のエステルを９０〜１０重量％の少なくとも２種類のエステルを含むエステル潤滑剤基油(lubricant base stock)ブレンド物によって金属表面を潤滑することを含む上記方法であり、上記ブレンド物は更に、任意成分としてペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるポリオールと２−エチルヘキサン酸源との反応生成物である第３のエステル、およびペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるポリオールと炭素数が４〜１０の少なくとも１種の直鎖の酸との反応生成物である第４のエステルの少なくとも１種を含み、得られたエステル潤滑剤基油ブレンド物が、４０℃で約６.１２〜約１１.０センチストークスの粘度、５０以下の加水分解安定性ＴＡＮ結果を有し、２０ｋｇをかけて１２００ｒｐｍで１０７℃で１時間の４球試験（four ball test）条件の下で金属表面への４球磨耗抵抗値０.６０ｍｍ以下を与える方法。
【請求項２】  冷蔵機器の運転中において、金属表面の磨耗抵抗を改良し、冷蔵機器中の加水分解に安定な環境を維持する方法であって、塩素を含まないフッ素含有熱伝達液体と、ネオペンチルグリコールと２−エチルヘキサン酸源との反応生成物である第１のエステルを約１０〜９０重量％と、ネオペンチルグリコールと炭素数が４〜１０の少なくとも１種の直鎖の酸との反応生成物である第２のエステルを９０〜１０重量％の少なくとも２種類のエステルを含むエステル潤滑剤基油ブレンド物とからなる作動液体によって金属表面を潤滑することを含む上記方法であり、上記ブレンド物は更に、任意成分としてペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるポリオールと２−エチルヘキサン酸源との反応生成物である第３のエステル、およびペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるポリオールと炭素数が４〜１０の少なくとも１種の直鎖の酸との反応生成物である第４のエステルの少なくとも１種を含み、得られたエステル潤滑剤基油ブレンド物が、４０℃で約６.１２〜約１１.０センチストークスの粘度、５０以下の加水分解安定性ＴＡＮ結果を有し、２０ｋｇをかけて１２００ｒｐｍで１０７℃で１時間の４球試験（four ball test）条件の下で金属表面への４球磨耗抵抗値０.６０ｍｍ以下を与える方法。
【請求項３】  潤滑剤組成物と接触することによって金属表面の磨耗抵抗を改良し、冷蔵機器中に加水分解安定性環境を維持するに有用な潤滑剤組成物であって、上記組成物はネオペンチルグリコールと２−エチルヘキサン酸源との反応生成物である第１のエステルを約１０〜９０重量％と、ネオペンチルグリコールと炭素数が４〜１０の少なくとも１種の直鎖の酸との反応生成物である第２のエステルを９０〜１０重量％の少なくとも２種類のエステルを含むエステル潤滑剤基油ブレンド物を含み、上記ブレンド物は更に、任意成分としてペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるポリオールと２−エチルヘキサン酸源との反応生成物である第３のエステル、およびペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるポリオールと炭素数が４〜１０の少なくとも１種の直鎖の酸との反応生成物である第４のエステルの少なくとも１種を含み、得られたエステル潤滑剤基油ブレンド物が、４０℃で約６.１２〜約１１.０センチストークスの粘度、５０以下の加水分解安定性ＴＡＮ結果を有し、２０ｋｇをかけて１２００ｒｐｍで１０７℃で１時間の４球試験（four ball test）条件の下で金属表面への４球磨耗抵抗値０.６０ｍｍ以下を与える潤滑剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月4日(2008.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビニルシクロヘキセンジオキシドを、ビニル芳香族炭化水素モノマーを重合させた少なくとも１つのブロックと共役ジエンモノマーを重合させた少なくとも１つのブロックとをモル比０．４０から０．６０で含むリビングブロックコポリマーと混合し、最低でも６５℃の温度でカップリング反応を行って、カップリングしたスチレン系ブロックコポリマーを生成することを含む、スチレン系ブロックコポリマーのカップリング方法。
【請求項２】  ビニル芳香族モノマーを重合させた少なくとも１つのブロックＡと共役ジエンを重合させた少なくとも１つのブロックＢとを含む最大３０重量％のスチレン系ブロックコポリマーと、ビニルシクロヘキセンジオキシドとカップリングさせた少なくとも７０重量％の前記スチレン系ブロックコポリマーとを含むポリマー組成物。
【請求項３】  請求項２に記載のポリマー組成物を含む接着剤。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月10日(2008.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
従って架橋されたポリビニルブチラールは以下の構造式を有する：
Ｐ−ＯＯＣ−（ＣＨ2 ）n −ＣＯＯＰ
［式中、ｎは０〜４であり、そしてＰはそれぞれポリビニルブチラール鎖である。］
本発明ポリビニルブチラールは伝統的な製品に比較して機械的強度が著しく高いことに特徴がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
引裂強度：
引裂強度を測定する前にフィルムを、２３℃、５０％の相対湿度に制御して２４時間放置する。引裂強度の測定はＤＩＮ５３４５５に従って引張−および圧縮強度測定機（製造元：Cadis GbR 、型式:BRP 201) を用いて測定する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月31日(2008.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  硬化性組成物であって、
Ａ．フルオロエラストマーであって、
（１）０．０５〜４モルパーセントのフルオロオレフィンで構成される共重合単位であって、前記フルオロオレフィンが式Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n−ＣＨ＝ＣＦ2（式中、ＲfはＣ1〜Ｃ6パーフルオロアルキル基またはＣ1〜Ｃ6パーフルオロアルコキシ基であり、ｎは１〜３の整数である）で表される、共重合単位と、
（２）フルオロエラストマー鎖末端に化学的に結合した、０〜１モルパーセントのヨウ素と、
（３）共重合単位であって、（ｉ）３５〜８５モルパーセントのフッ化ビニリデン、１０〜６０モルパーセントのパーフルオロ（ビニルエーテル）、および０〜３５モルパーセントのテトラフルオロエチレン、
（ｉｉ）３０から７０モルパーセントのテトラフルオロエチレン、５〜２５モルパーセントのフッ化ビニリデン、および１５〜５５モルパーセントの炭化水素オレフィン、ならびに 
（ｉｉｉ）１０から４０モルパーセントの炭化水素オレフィン、２から６０モルパーセントのテトラフルオロエチレン、および２０から４５モルパーセントのパーフルオロ（ビニルエーテル）、からなる群から選択される共重合単位とから本質的になるフルオロエラストマーと、
Ｂ．ポリヒドロキシ架橋剤と、
Ｃ．加硫促進剤と、
Ｄ．金属酸化物または金属水酸化物とを含むことを特徴とする、硬化性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
ＦＯ１加硫部位モノマーを含有しない対照ポリマーＡでは、本質的に硬化応答は全く認められなかった。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．  硬化性組成物であって、 
Ａ．フルオロエラストマーであって、
（１）０．０５〜４モルパーセントのフルオロオレフィンで構成される共重合単位であって、前記フルオロオレフィンが式Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n−ＣＨ＝ＣＦ2（式中、ＲfはＣ1〜Ｃ6パーフルオロアルキル基またはＣ1〜Ｃ6パーフルオロアルコキシ基であり、ｎは１〜３の整数である）で表される、共重合単位と、
（２）フルオロエラストマー鎖末端に化学的に結合した、０〜１モルパーセントのヨウ素と、
（３）共重合単位であって、
（ｉ）３５〜８５モルパーセントのフッ化ビニリデン、１０〜６０モルパーセントのパーフルオロ（ビニルエーテル）、および０〜３５モルパーセントのテトラフルオロエチレン、 
（ｉｉ）３０から７０モルパーセントのテトラフルオロエチレン、５〜２５モルパーセントのフッ化ビニリデン、および１５〜５５モルパーセントの炭化水素オレフィン、ならびに 
（ｉｉｉ）１０から４０モルパーセントの炭化水素オレフィン、２から６０モルパーセントのテトラフルオロエチレン、および２０から４５モルパーセントのパーフルオロ（ビニルエーテル）、からなる群から選択される共重合単位とから本質的になるフルオロエラストマーと、 
Ｂ．ポリヒドロキシ架橋剤と、
Ｃ．加硫促進剤と、 
Ｄ．金属酸化物または金属水酸化物とを含むことを特徴とする、硬化性組成物。
２．  前記フルオロエラストマーが、 
３５〜８５モルパーセントのフッ化ビニリデンと、 
１０〜６０モルパーセントのパーフルオロ（メチルビニルエーテル）と、 
０〜３５モルパーセントのテトラフルオロエチレンと、 
フルオロエラストマー鎖末端と化学的に結合した、０〜１モルパーセントのヨウ素と、 
０．０５〜４モルパーセントのフルオロオレフィンと
から構成される共重合単位から本質的になり、 
前記フルオロオレフィンが、 
１，１，３，３，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−オクテンと、 １，１，３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセンと、 
１，１，３，３，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロ−１−デセンと 、
からなる群から選択されることを特徴とする、前記１．に記載の組成物。
３．  前記フルオロエラストマーが、 
３０から７０モルパーセントのテトラフルオロエチレンと、 
５〜２５モルパーセントのフッ化ビニリデンと、 
１５〜５５モルパーセントのプロピレンと、 
フルオロエラストマー鎖末端と化学的に結合した、０〜１モルパーセントのヨウ素と、
０．０５〜４モルパーセントのフルオロオレフィンと
から構成される共重合単位から本質的になり、 
前記フルオロオレフィンが、 
１，１，３，３，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−オクテンと、 １，１，３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセンと、 
１，１，３，３，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロ−１−デセンと
からなる群から選択されることを特徴とする、前記１．に記載の組成物。
４．  前記フルオロエラストマーが、 
１０から４０モルパーセントのエチレンと、 
２から６０モルパーセントのテトラフルオロエチレンと、 
２０から４５モルパーセントのパーフルオロ（メチルビニルエーテル）と、 
フルオロエラストマー鎖末端と化学的に結合した、０〜１モルパーセントのヨウ素と、 
０．０５〜４モルパーセントのフルオロオレフィンと
から構成される共重合単位から本質的になり、 
前記フルオロオレフィンが、 
１，１，３，３，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−オクテンと、 １，１，３，３，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセンと、 
１，１，３，３，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロ−１−デセンと
からなる群から選択されることを特徴とする、前記１．に記載の組成物。
５．  前記ポリヒドロキシ架橋剤が、 
ｉ）ジヒドロキシ−、トリヒドロキシ−およびテトラヒドロキシ−ベンゼン、−ナフタレンおよび−アントラセンと、 
ｉｉ）式
【化１】
2003531263.tif 000001
で表されるビスフェノール（式中、Ａは安定した二価のラジカルであり、ｘは０または１であり、ｎは１または２である）と、 
ｉｉｉ）前記ビスフェノールのジアルカリ塩と、 
ｉｖ）前記ビスフェノールの第４級アンモニウム塩および第４級ホスホニウム塩と、 
ｖ）前記ビスフェノールの第３級スルホニウム塩と、 
ｖｉ）前記ビスフェノールのエステルと
からなる群から選択される架橋剤であることを特徴とする、前記１．に記載の組成物。
６．  前記加硫促進剤が、第４級アンモニウム塩と、第３級スルホニウム塩と、第４級ホスホニウム塩と、からなる群から選ばれることを特徴とする、前記１．に記載の硬化性組成物。
７．  前記加硫促進剤が、 
ｉ）前記ポリヒドロキシ架橋剤（Ｂ）の第４級アンモニウム塩と、 
ｉｉ）前記ポリヒドロキシ架橋剤（Ｂ）の第４級ホスホニウム塩と、 
ｉｉｉ）前記ポリヒドロキシ架橋剤（Ｂ）の第３級スルホニウム塩と
からなる群から選択されることを特徴とする、前記６．に記載の硬化性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月15日(2008.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
剪断減粘用添加剤
好適な剪断減粘用添加剤は分散したグラファイト粒子と一緒に水性溶剤中に混和性又は分散性であり、そして約０．０１〜約０．８好ましくは約０．０５〜約０．６０そして最も好ましくは約０．１〜約０．３の剪断減粘性指数（ｎ）を有する消去可能な剪断減粘性筆記用組成物を提供する。剪断減粘性指数（ｎ）は、レオロジー測定から得られた剪断応力（τ）及び剪断速度（γ）値を実験指数法則式：τ＝Ｋγn（ここで、係数Ｋは一定値である）に当てはめることによって決定される。Ｋの正確な値は、試験しようとする組成物に依存する。また、剪断減粘性指数は米国特許４６７１６９１にも記載されているので、必要ならばその開示を参照されたい。剪断応力値は０．５／秒〜１０００／秒まで連続して測定され、そして剪断減粘性指数を決定するために指数法則モデルに当てはめられる。剪断減粘性の測定は、米国デラウエア州ニュー・キャスル所在のティー・エイ・インストルメンツから入手できる「Ｃａｒｒｉ−Ｍｅｄ  Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒ  ＣＳＬ2−５００」の如きレオメーター（流動計）で実施されることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
他の好適な剪断減粘用添加剤としては、水分散性ガム又は樹脂（これらは、天然又は合成のどちらであってもよい）が挙げられる。天然ガムとしては、海草抽出物、植物浸出物、種又は茎ガム、及び微生物発酵ガムが挙げられる。セルロース又は澱粉の変性種の如き合成ガムとしては、プロピレングリコールアルギネート、カルボキシメチルロカストビーンガム及びカルボキシメチルグアルが挙げられる。また、多糖類として、多くの水分散性ガムも挙げることができる。何故ならば、それらの構造は反覆糖単位よりなるからである。水分散性ガムの例としては、キサンタンガム（米国カリホルニア州サンジェゴ所在のケルコ・バイオポリマーズによって製造販売される商品名「Ｋｅｌｔｒｏｌ」及び「Ｋｅｌｚａｎ」）、カルボキシメチルセルロース（米国デラウエア州ウイルミントン所在のハーキュルス・インコーポレーテッドによってナトリウム塩として製造販売される商品名「Ｂｌａｎｏｓｅ」）、ヒドロキシメチルセルロース（ハーキュルスによって製造販売される商品名「Ｎａｔｒｏｓｏｌ」、米国コネチカット州ダンバリー所在のユニオン・カーバイト・コーポレーションにより商品名「Ｃｅｌｌｏｓｉｚｅ」）、アルギン酸ナトリウム及びアルギン酸の他の塩、カッパ、イオタ及びランブダカラギーナン（赤色海草から抽出される硫酸化多糖類）、アラビアガム（アラビン酸の混成塩）、カラヤガム（アセチル化多糖類）、トラガカンスガム（酸性多糖類の錯体混合物）、ガッチガム（錯体多糖類のカルシウム及びマグネシウム塩）、グアルガム（直鎖ガラクトマンナン）及びその誘導体（米国ニュージャージー州クランバリー所在のロディア・インコーポレーテッドによって製造販売される商品名「Ｊａｇａｒ」）、イナゴマメガム（分岐ガラクトマンナン）、タマリンドガム、オオバコ種ガム、マルメロ種ガム、カラマツガム、ペクチン及びその誘導体、デキストラン、ヒドロキシプロピルセルロース（ハーキュルスによって製造販売される商品名「Ｋｌｕｃｅｌ」）、セルロースエーテル（米国ミシガン州ミッドランド所在のダウ・ケミカル・カンパニーによって製造販売される商品名「Ｍｅｔｈｏｃｅｌ」）及びこのタイプの他の水溶性ガムが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
例８
表３に記載した成分重量％に従って試料を１５〜３０ｍＬの少量で処方した。５０ｍＬのポリプロピレン遠心管においてプロピレングリコール、キサンタンガム及び総水量２ｍＬを除いてすべての成分を先ず混合することによって混合操作を実施した。管をキャッピングし、そして手で振盪した。次いで、管を「Ｖｏｒｔｅｘ−Ｇｅｎｉｅ  ２」ミキサー（米国ペンシルバニア州ピッツバーグ所在のフィッシャー・サイエンティフィック・カンパニー）に水平に取り付けて５分間の高速渦流を行なった。プロピレングリコール及びキサンタンガムを第二の管に一緒に入れた。この第二の管を手で振盪させてキサンタンガムをプロピレングリコール中に確実に分散させた。５分間の高速渦流後に、第一の管の内容物を第二の管に加えた。残りの２ｍＬの水を第一の管に加え、そしてこれを再キャップして十分に振盪した。次いで、第一管のこの濯ぎ水を第二管に加えた。第二管をキャップし、手で振盪し、次いでミキサー装置に水平に取り付けた。１５ｍＬの試料では、管を先ず５分間渦流させ、この点において混合を中断して側部をパスツールピペットでかき落とした。その後、管を更に１５分間渦流させた。３０ｍＬの試料では、管を先ず１０分間渦流させ、この時において混合を中断して側部をパスツールピペットでかき落とした。その後、管を更に１５分間渦流させた。渦流が完了した後、管を遠心分離機（米国マサチューセッツ州ニードハム・ハイツ所在のインターナショナル・イクイプメント・カンパニーによる「ＩＥＣ  ＰＲ−７０００Ｍ」遠心分離機）に入れ、そして１００Ｇで１．５分間回転させて空気バブルの放出を助けた。この操作を必要に応じて更に３回まで反復した。次いで、管を２４時間を越えない時間の間静止させた状態にした。剪断減粘性組成物を使用する前に、管を超音波クリーナー（米国ペンシルバニア州ピッツバーグ所在のフィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーによる「Ｍｏｄｅｌ  ＦＳ６０」）に約３０秒間入れた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
画像分析装置系は、２５０Ｗの白熱タングステン灯（米国イリノイ州オーランド・パーク所在のウイコ）、「Ｓｏｎｙ  ＤＣＲ−ＶＸ１０００」デジタルビデオカメラレコーダー（日本のソニー・コーポレーション）及び「Ｏｐｔｉｍａｓ  Ｖｅｒｓｉｏｎ  ６．５」ソフトウエア（米国メリーランド州シルバー・スプリング所在のメディア・シバーネティックス）よりなっていた。
【手続補正書】
【提出日】平成20年3月19日(2008.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固定される底部固着強磁性層と、
頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固着される頂部固着強磁性層と、前記底部固着強磁性層および前記頂部固着強磁性層が、相互に逆平行に形成されていることと、
前記底部固着強磁性層と前記頂部固着強磁性層との間に形成されている底部トンネル・バリヤ層と、自由強磁性層と、頂部トンネル・バリヤ層とを備え、
前記頂部トンネル・バリヤ層は正であり、それにより逆平行整列磁極に対して最大抵抗を有し、かつ平行整列磁極に対して最小抵抗を有する磁気トンネル接合を形成し、前記底部トンネル・バリヤ層は逆であり、それにより平行整列磁極に対して最大抵抗を有し、かつ逆平行整列磁極に対して最小抵抗を有する磁気トンネル接合を形成する磁気素子。
【請求項２】
前記自由強磁性層、前記頂部固着強磁性層および前記底部固着強磁性層は、ニッケル−鉄、ニッケル−鉄−コバルト、コバルト−鉄、およびコバルトのうちの少なくとも１つからなり、
前記自由強磁性層は、前記底部トンネル・バリヤ層と前記頂部トンネル・バリヤ層とを分離する単一層として形成され、前記自由強磁性層は、印加磁界が存在する場合にも自由に回転する磁化を有する、請求項１に記載の磁気素子。
【請求項３】
頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固定される底部固着強磁性層と、
前記底部固着強磁性層の頂面上に形成されている底部トンネル・バリヤ層と、
前記底部トンネル・バリヤ層の頂面上に形成された自由強磁性層と、該自由強磁性は頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化方向が自由に回転することと、
前記自由強磁性層の頂面上に形成されている頂部トンネル・バリヤ層と、
前記頂部トンネル・バリヤ層の頂面上に形成されており、印加磁界が存在する場合に、磁化方向が好適な方向に固定される頂部固着強磁性層とを備え、
それにより、前記自由強磁性層が、前記底部固着強磁性層および前記頂部固着強磁性層と共線的に整列されているか、または前記底部固着強磁性層および前記頂部固着強磁性層と直交して整列されている磁気素子。
【請求項４】
頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固定される底部固着強磁性層と、
頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固着される頂部固着強磁性層と、前記底部固着強磁性層および頂部固着強磁性層が相互に逆平行に形成されることと、
前記底部固着強磁性層と前記頂部固着強磁性層との間に形成されている底部トンネル・バリヤ層、自由強磁性層を含む合成反強磁性（ＳＡＦ）構造体、および頂部トンネル・バリヤ層とを備え、
前記頂部トンネル・バリヤ層は正であり、それにより逆平行整列磁極に対して最大抵抗を有し、かつ平行整列磁極に対して最小抵抗を有する磁気トンネル接合を形成し、前記底部トンネル・バリヤ層は逆であり、それにより平行整列磁極に対して最大抵抗を有し、かつ逆平行整列磁極に対して最小抵抗を有する磁気トンネル接合を形成する磁気素子。
【請求項５】
磁気素子を製造するための方法であって、
頂面と底面と厚さを有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固着される底部固着強磁性層を形成するステップと、
頂面および底面を有し、かつ印加磁界が存在する場合に、その磁化の方向が好適な方向に固着されている頂部固着強磁性層を形成するステップと、前記底部固着強磁性層と前記頂部固着強磁性層とが相互に逆平行に形成されることと、
前記底部固着強磁性層と前記頂部固着強磁性層との間に、底部トンネル・バリヤ層、自由強磁性層、および頂部トンネル・バリヤ層を形成するステップとを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月4日(2008.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  紫外線発生装置であって、
縦方向に延在しているマイクロ波チャンバーと、
前記マイクロ波チャンバー内に装着された縦方向に延在しているプラズマランプバルブと、
前記マイクロ波チャンバーに結合されており且つ前記チャンバー内にマイクロ波エネルギー場を発生して前記プラズマランプバルブを励起し前記チャンバーの底端部から紫外線を放出させる少なくとも１つのマイクロ波発生器と、
前記マイクロ波チャンバー内に装着されており且つ前記プラズマランプバルブによって発生される紫外線を反射する反射器と
を具備しており、
前記反射器は、前記プラズマバルブに対して離隔させられている関係で装着された縦方向に延在している第１反射器パネルと、前記第１反射器パネルと対向する反射鏡面の関係で且つ前記プラズマバルブに対して離隔させられている関係で装着された縦方向に延在している第２反射器パネルと、前記第１反射器パネル及び前記第２反射器パネル並びに前記プラズマランプバルブに対して離隔させられている関係で装着された縦方向に延在している中間部材とを具備しており、前記第１反射器パネル及び前記第２反射器パネル並びに前記中間部材は、装着された組合せ体において、空気を前記プラズマランプバルブに向けて通過させるように構成された縦方向に延在している１対のスロットを形成していることを特徴とする紫外線発生装置。
【請求項２】  前記第１反射器パネル及び前記第２反射器パネルのそれぞれは、縦方向に延在している縁部を有しており、前記縁部は、前記それぞれの反射器パネルの縦方向軸線に平行であることを特徴とする請求項１に記載の紫外線発生装置。
【請求項３】  前記第１反射器パネル及び前記第２反射器パネルのそれぞれは、縦方向に延在している縁部を有しており、前記縁部は、前記縁部の縦方向の長さに沿って形成されている少なくとも１つの凸部又は凹部を設けられていることを特徴とする請求項１に記載の紫外線発生装置。
【請求項４】  前記中間部材は、縦方向に延在している１対の互いに反対側にある縁部を有しており、前記縁部のそれぞれは、前記中間部材の縦方向軸線に平行であることを特徴とする請求項２又は３に記載の紫外線発生装置。
【請求項５】  前記中間部材は、縦方向に延在している１対の互いに反対側にある縁部を有しており、前記縁部のそれぞれは、前記縁部の縦方向の長さに沿って形成されている少なくとも１つの凸部又は凹部を設けられていることを特徴とする請求項２又は３に記載の紫外線発生装置。
【請求項６】  前記第１反射器パネルの縁部及び前記第２反射器パネルの縁部の縦方向の長さに沿って形成されている前記少なくとも１つの凸部は、前記中間部材の縁部のそれぞれの縦方向長さに沿って形成されている前記少なくとも１つの凹部と対向する関係で装着されるように構成されていることを特徴とする請求項５に記載の紫外線発生装置。
【請求項７】  前記第１反射器パネル及び前記第２反射器パネル並びに前記中間部材の前記縦方向に延在している前記縁部のそれぞれは、ほぼ正弦波の形状を有していることを特徴とする請求項６に記載の紫外線発生装置。
【請求項８】  紫外線発生装置であって、
縦方向に延在しているマイクロ波チャンバーと、
前記マイクロ波チャンバー内に装着された縦方向に延在しているプラズマランプバルブと、
前記マイクロ波チャンバーに結合されており且つ前記チャンバー内にマイクロ波エネルギー場を発生して前記プラズマランプバルブを励起し前記チャンバーの底端部から紫外線を放出させる少なくとも１つのマイクロ波発生器と、
前記マイクロ波チャンバー内に装着されており且つ前記プラズマランプバルブによって発生される紫外線を反射する反射器と
を具備しており、
前記反射器は、前記プラズマバルブに対して離隔させられている関係で装着された縦方向に延在している第１反射器パネルと、前記第１反射器パネルと対向する反射鏡面の関係で且つ前記プラズマバルブに対して離隔させられている関係で装着された縦方向に延在している第２反射器パネルと、前記第１反射器パネル及び前記第２反射器パネルに接続されており且つ前記プラズマランプバルブに対して離隔させられている関係で装着された縦方向に延在している中間部材とを具備しており、前記中間部材は、前記中間部材を貫通する複数のアパーチャーを有しており、前記複数のアパーチャーは、二列に並べられて、空気を前記プラズマランプバルブに向けて通過させるように構成されていることを特徴とする紫外線発生装置。
【請求項９】  縦方向に延在している一方の列の前記アパーチャーは、縦方向に延在している他方の列の前記アパーチャーに対してジグザグに配置されていることを特徴とする請求項８に記載の紫外線発生装置。
【請求項１０】  マイクロ波チャンバーと、前記マイクロ波チャンバー内に装着された反射器と、プラズマランプバルブの縦方向の両側において前記反射器に形成された縦方向に延在している１対のスロットとを有するマイクロ波励起紫外線ランプシステムにおける前記プラズマランプバルブを冷却する方法であって、
縦方向に延在している一方のスロットを通して空気をプラズマランプバルブに向けて一方向に通過させる工程と、
縦方向に延在している他方のスロットを通して空気をプラズマランプバルブに向けて同じ方向に通過させる工程と、
プラズマランプバルブを冷却するために、プラズマランプバルブをその外面の周りで完全に且つ効果的に包囲する工程と
を具備していることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  高圧気体放電ランプを点灯させると共にこれに給電する安定器であって、
前記高圧気体放電ランプに接続する出力端子と、
点灯期間中、前記高圧気体放電ランプに交流電圧を点灯周波数で供給する手段と、
前記点灯期間に続くグロー期間中、前記高圧気体放電ランプに交流電圧をグロー周波数で供給する手段と、
前記点灯期間及び前記グロー期間の始動手順を繰り返す手段と、
最後の始動手順に続く点灯期間中、前記高圧気体放電ランプに給電する手段とを有する当該安定器において、
最後ではない前記始動手順において、前記グロー期間に続く中断期間中、電源供給を中断する手段を備えている、
ことを特徴とする安定器。
【請求項２】  前記中断期間が、前記高圧気体放電ランプに入っている気体をほぼ脱イオンするのに充分長い、
請求項１に記載の安定器。
【請求項３】  前記中断期間が、50ミリ秒〜500 ミリ秒の範囲、好ましくは250 ミリ秒〜350 ミリ秒の範囲である、
請求項１または２に記載の安定器。
【請求項４】  前記グロー周波数が前記点灯周波数よりも低い、
請求項１または２に記載の安定器。
【請求項５】  前記点灯周波数が30kHz〜120kHzの範囲であって、
前記点灯期間が0.25〜５秒の範囲である、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の安定器。
【請求項６】  前記グロー周波数が10kHz〜40kHzの範囲であって、
前記グロー期間が0.4〜1.7秒の範囲である、
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の安定器。
【請求項７】  最後の前記始動手順の後、最後のグロー期間中、前記グロー周波数より小さい最後のグロー周波数で、前記ランプに給電することができる手段を更に備えている、
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の安定器。
【請求項８】  前記最後のグロー周波数が、8kHz〜30kHzの範囲であって、
前記最後のグロー期間が、0.25秒〜1秒の範囲である、
請求項６に記載の安定器。
【請求項９】  作動周波数のＡＣ電圧をランプに印加する手段と備え、
該作動周波数が、50kHz〜200kHzの範囲である、
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の安定器。
【請求項１０】  請求項１ないし９のいずれか１項に記載の安定器を備えた投影ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】以下を備える照明装置：
少なくとも２つの異なるスペクトルを生成するよう適合された少なくとも２つのＬＥＤ（４）、
少なくとも１つの照明プログラムを格納するメモリ（６）、
前記メモリ（６）に結合され、前記メモリ（６）に格納された少なくとも１つの照明プログラム（８、９、１０、１１）を実行し、且つ前記の実行された少なくとも１つの照明プログラム（８、９、１０、１１）に基づいて少なくとも１つの制御信号を出力するプロセッサ（２）、
前記プロセッサ（２）に結合され、前記少なくとも２つのＬＥＤ（４）のうちの少なくとも１つのＬＥＤに供給される電力を少なくとも１つの制御信号に基づいて独立して制御する少なくとも１つの制御器（３）、
前記プロセッサ（２）の動作を制御するユーザ・インターフェース（１）であって、ユーザが次の動作のうちの少なくとも１つを行うことを可能にするよう適合されているもの： 
前記プロセッサ（２）により実行するための、前記メモリに格納された所望の照明プログラム（８、９、１０、１１）を選択すること、および
少なくとも１つの照明プログラム（８、９、１０、１１）の実行を修正すること、
そして、
各ＬＥＤは複数の強度設定を有し、
前記制御器の配置は、前記少なくとも２つのＬＥＤの相対強度を制御するようになされ、
前記装置は材料（４０）をさらに備え、該材料の構成は、前記複数のＬＥＤ（４）から放射された光を受け取り、前記複数のＬＥＤ（４）の少なくとも２つの異なるスペクトルの組み合わせである色を材料に表示させるようになされている。