Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  外部からの信号入力を行うための複数のコネクタを有し、画像表示装置とは別体で構成するとともに、前記画像表示装置とケーブルを用いて電気的に接続されるコネクタユニットと、  前記コネクタユニットを前記画像表示装置の背面部に着脱可能なように保持する保持手段と、を有し、  前記保持手段は、前記コネクタユニットが有するコネクタに信号入力線が接続された状態で、前記信号入力線が前記画像表示装置の背面方向に突出しないように、前記コネクタユニットを保持することを特徴とする画像表示装置。    【請求項２】  前記コネクタユニットは、前記保持手段による保持状態を解除した場合に、前記画像表示装置の背面部から前記画像表示装置の前面側へ引き出すことが可能であることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。    【請求項３】  前記画像表示装置または前記コネクタユニットの少なくともどちらか一方に、前記画像表示装置の背面部に設けられた前記コネクタユニットの装着位置に、前記コネクタユニットが装着されているか否かを検出する検出手段を備え、  前記検出手段により前記コネクタユニットが前記画像表示装置の装着位置に装着されていないと検出された場合は、前記コネクタユニットと前記画像表示装置間の電気的接続を遮断することを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。    【請求項４】  前記コネクタユニットと前記画像表示装置間の電気的接続が遮断されている場合、使用者の操作によって、前記コネクタユニットと前記画像表示装置間の電気的接続を回復する回復手段を有し、  前記コネクタユニットが前記画像表示装置の装着位置に装着されていない場合でも、前記回復手段によって電気的接続の回復が可能であることを特徴とする請求項３に記載の画像表示装置。    【請求項５】  前記画像表示装置の背面部以外の面に、前記保持手段による前記コネクタユニットの保持状態を解除するための操作部を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像表示装置。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】    【発明の属する技術分野】  本発明はテレビジョン受像機等の画像表示装置に係り、特に薄型の画像表示装置に関するものである。【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】  本発明は上述の事情に鑑み考案されたものであって、画像表示装置の背面に設けられたコネクタユニットが、外部機器との接続の際、作業性がよくかつ、このユニットと接続するケーブルの収納を好適にし、かつこれらの電気的接続、遮断を適確にすることのできる画像表示装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】    【課題を解決するための手段】  前途の目的を達成するために本願の請求項１記載の発明は、外部からの信号入力を行うための複数のコネクタを有し、画像表示装置とは別体で構成するとともに、前記画像表示装置とケーブルを用いて電気的に接続されるコネクタユニットと、前記コネクタユニットを前記画像表示装置の背面部に着脱可能なように保持する保持手段と、を有し、前記保持手段は、前記コネクタユニットが有するコネクタに信号入力線が接続された状態で、前記信号入力線が前記画像表示装置の背面方向に突出しないように、前記コネクタユニットを保持することを特徴とする画像表示装置である。【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】 また、請求項２記載の発明は前記コネクタユニットは、前記保持手段による保持状態を解除した場合に、前記画像表示装置の背面部から前記画像表示装置の前面側へ引き出すことが可能であることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】  また、請求項３記載の発明は前記画像表示装置または前記コネクタユニットの少なくともどちらか一方に、前記画像表示装置の背面部に設けられた前記コネクタユニットの装着位置に、前記コネクタユニットが装着されているか否かを検出する検出手段を備え、前記検出手段により前記コネクタユニットが前記画像表示装置の装着位置に装着されていないと検出された場合は、前記コネクタユニットと前記画像表示装置間の電気的接続を遮断することを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】 また、請求項４記載の発明は前記コネクタユニットと前記画像表示装置間の電気的接続が遮断されている場合、使用者の操作によって、前記コネクタユニットと前記画像表示装置間の電気的接続を回復する回復手段を有し、前記コネクタユニットが前記画像表示装置の装着位置に装着されていない場合でも、前記回復手段によって電気的接続の回復が可能であることを特徴とする請求項３に記載の画像表示装置である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】 また、請求項５記載の発明は前記画像表示装置の背面部以外の面に、前記保持手段による前記コネクタユニットの保持状態を解除するための操作部を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像表示装置である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月16日(2007.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  入力信号内の有彩色信号を特定の色で表現し、無彩色信号を無彩色成分で表現する画像処理装置であって、
上記特定の色を表現するために用いる色剤の配合比率を求める配合比率演算手段と；
上記配合比率演算手段から得られた配合比率に基づいて、上記特定の色を再現する係数を得て該係数を用いマスキング演算し、特定の色を表現するために用いる離散データを算出する離散データ算出手段と；
上記離散データ算出手段が得た離散データの一部を使って、残りの離散データを変更する離散データ変更手段と；
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】  請求項１において、
上記離散データ算出手段は、上記特定の色を構成する場合に寄与しない色剤に係る係数を０にセットする手段であることを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】  請求項１において、
上記配合比率演算手段は、上記特定色の色度と、色剤の色度とが、色再現範囲内で最小になる配合比率を求める手段であることを特徴とする画像処理装置。
【請求項４】  請求項１において、
上記離散データ変更手段は、２次色を生成する離散データから、補間して１次色の離散データを生成する手段であることを特徴とする画像処理装置。
【請求項５】  請求項１において、
上記離散データ変更手段は、無彩色成分の離散データを１００％ＵＣＲで生成する手段であることを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】  請求項１において、
上記離散データ変更手段は、無彩色成分の離散データと最明色データとを補間して、無彩色成分の近傍の離散データを生成する手段であることを特徴とする画像処理装置。
【請求項７】  入力信号内の有彩色信号を特定の色で表現し、無彩色信号を無彩色成分で表現する画像処理方法であって、
上記特定の色を表現するために用いる色剤の配合比率を求める配合比率演算段階と；
上記配合比率演算段階で得られた配合比率に基づいて、上記特定の色を再現する係数を得て該係数を用いマスキング演算し、特定の色を表現するために用いる離散データを算出する離散データ算出段階と；
上記離散データ算出段階で得た離散データの一部を使って、残りの離散データを変更する離散データ変更段階と；
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】  入力信号内の有彩色信号を特定の色で表現し、無彩色信号を無彩色成分で表現する画像処理方法であって、
上記特定の色を表現するために用いる色剤の配合比率を求める配合比率演算手順と；
上記配合比率演算手段から得られた配合比率に基づいて、上記特定の色を再現する係数を得て該係数を用いマスキング演算し、特定の色を表現するために用いる離散データを算出する離散データ算出手順と；
上記離散データ算出手順で得た離散データの一部を使って、残りの離散データを変更する離散データ変更手順と；
をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項９】 入力信号内の有彩色信号を特定の色で表現し、無彩色信号を無彩色成分で表現する画像処理方法であって、
上記特定の色を表現するために用いる色剤の配合比率を求める配合比率演算段階と；
上記配合比率演算段階で得られた配合比率に基づいて、上記特定の色を表現するために用いるテーブルの離散データを算出する離散データ算出段階と；
上記離散データ算出段階で得た離散データの一部を使って、上記算出された離散データではない残りの離散データを得る離散データ獲得段階と；
を有することを特徴とする画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、入力信号内の有彩色信号を特定の色で表現し、無彩色信号を無彩色成分で表現する画像処理装置であって、上記特定の色を表現するために用いる色剤の配合比率を求める配合比率演算手段と、上記配合比率演算手段から得られた配合比率に基づいて、上記特定の色を再現する係数を得て該係数を用いマスキング演算し、特定の色を表現するために用いる離散データを算出する離散データ算出手段と、上記離散データ算出手段が得た離散データの一部を使って、残りの離散データを変更する離散データ変更手段とを有する画像処理装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】【請求項１】  上面に液晶モニターが取り付け可能な電子カメラにおいて、液晶モニターをカバーするカバーと、該カバーの内側に取り付けられた日除け遮蔽版とを備え、前記カバーは一辺を接点として開け閉めが可能であり、前記日除け遮蔽版は前記カバー及び遮蔽版で液晶モニターへ入光を遮蔽することを特徴とする電子カメラ。【請求項２】  前記カバーを前記電子カメラから取り外すことができることを特徴とする請求項１の電子カメラ。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】    【課題を解決するための手段】  請求項１の発明は、上面に液晶モニターが取り付け可能な電子カメラにおいて、液晶モニターをカバーするカバーと、該カバーの内側に取り付けられた日除け遮蔽版とを備え、前記カバーは一辺を接点として開け閉めが可能であり、前記日除け遮蔽版は前記カバーが全開したとき他の３面を遮蔽することができるものであって、撮影時に前記カバー及び遮蔽版で液晶モニターへ入光を遮蔽する構成とする。これにより野外での太陽光の下でも撮影が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月5日(2007.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の熱膨張係数及び第１の熱伝導率を有する熱発生電子機器のための吸熱器であって、
前記第１の熱膨張係数よりも大きな第２の熱膨張係数と、前記第１の熱伝導率よりも大きな第２の熱伝導率とを有して前記熱発生電子機器から熱を除去する躯体部と、
前記第１の熱膨張係数に略整合する熱膨張係数を有し、前記第１の熱伝導率よりも大きく、前記第２の熱伝導率よりも小さいかあるいは同等の熱伝導率を有する材料から成り、前記熱発生電子機器と前記躯体部との間に配置される中間領域部とを具備して成ることを特徴とする吸熱器。
【請求項２】  前記躯体部及び前記中間領域部が一体的であることを特徴とする、請求項１に記載の吸熱器。
【請求項３】  前記中間領域部が、前記熱発生電子機器と熱接触状態にあることを特徴とする、請求項１または２に記載の吸熱器。
【請求項４】  前記中間領域部の前記熱膨張係数が、前記熱発生電子機器の前記第１の熱膨張係数よりも約４．０×１０-6・Ｋ-1以上大きいことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の吸熱器。
【請求項５】  前記中間領域部が、約４．５×１０-6・Ｋ-1以上から約１０．０×１０-6・Ｋ-1までの熱膨張係数を有する材料から成ることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の吸熱器。
【請求項６】  前記中間領域部が炭化ケイ素アルミニウム合金ＡｌＳｉＣから成り、また前記躯体部がアルミニウムから成ることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の吸熱器。
【請求項７】  前記吸熱器が、更に、前記中間領域部の上部と前記躯体部の底部との間に１つ以上の分離層を具備して成り、前記各分離層がその真下の分離層よりも大きな熱膨張係数を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の吸熱器。
【請求項８】  前記躯体部が、更に、冷却用ファンを具備して成ることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の吸熱器。
【請求項９】  第１の熱膨張係数及び第１の熱伝導率を有する装置における熱循環によって誘発される応力を低減する方法であって、前記装置に隣接して前記第１の熱膨張係数に略整合する第２の熱膨張係数と、前記第１の熱伝導率よりも大きな第２の熱伝導率とを有する第１の躯体部を配設し、前記第１の躯体部に隣接して前記第２の熱膨張係数よりも大きな第３の熱膨張係数と、前記第２の熱伝導率よりも大きいかあるいは同等の第３の熱伝導率とを有する第２の躯体部を配設し、そして、連続した熱貫流径路が前記装置、前記第１の躯体部及び前記第２の躯体部の間に形成されるように、前記装置を前記第１の躯体部に、且つ前記第１の躯体部を前記第２の躯体部に結合することを特徴とする方法。
【請求項１０】  前記装置が、電子回路であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年10月17日(2007.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に島状の絶縁膜と、
前記島状の絶縁膜を覆って形成された下地絶縁膜と、
前記島状の絶縁膜と前記下地絶縁膜とが重なる領域および前記下地絶縁膜が形成された領域に連続して形成された半導体膜と、
前記半導体膜上にゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極とを有し、
前記島状の絶縁膜の上の前記半導体膜にチャネル形成領域が設けられ、前記島状の絶縁膜と重ならない領域に不純物領域が設けられ、
前記チャネル形成領域の半導体膜は結晶性を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
基板上に下地絶縁膜と、
前記下地絶縁膜上に形成された島状の絶縁膜と、
前記下地絶縁膜と前記島状の絶縁膜とが重なる領域および前記下地絶縁膜が形成された領域に連続して形成された半導体膜と、
前記半導体膜上にゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極とを有し、
前記島状の絶縁膜の上の前記半導体膜にチャネル形成領域が設けられ、前記島状の絶縁膜と重ならない領域に不純物領域が設けられ、
前記チャネル形成領域の半導体膜は結晶性を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記島状の絶縁膜は矩形であり、前記半導体膜と交差するように形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、前記島状の絶縁膜の形状は円形であり、直径は１．０μｍ以上、２．０μｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２において、前記島状の絶縁膜の形状は矩形で内側に開孔部を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
基板上に一対の島状の絶縁膜と、
前記島状の絶縁膜を覆って形成された下地絶縁膜と、
前記島状の絶縁膜と前記下地絶縁膜とが重なる領域と前記下地絶縁膜が形成された領域とに連続して形成された半導体膜と、
前記半導体膜の上にゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜の上にゲート電極とを有し、
前記一対の島状の絶縁膜はその一部が島状に形成された前記半導体膜と重なるように設けられ、かつ前記一対の島状の絶縁膜に挟まれた領域がチャネル形成領域となり、
前記チャネル形成領域の半導体膜は結晶性を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項６において、前記一対の島状の絶縁膜は島状に形成された前記半導体膜の縁と一部が重なるように設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、前記島状の絶縁膜の膜厚は５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、前記島状の絶縁膜の側面の角度は５°以上５０°未満であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、前記基板は透光性を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、前記島状の絶縁膜と前記下地絶縁膜には同一の材料を用いることを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
基板上に島状の絶縁膜を形成する工程と、
前記島状の絶縁膜上に下地絶縁膜を形成する工程と、
前記下地絶縁膜上に半導体膜を設ける工程と、
前記島状の絶縁膜を覆うように前記半導体膜を島状に形成する工程と、
島状半導体膜をレーザ光により結晶化する工程と、
前記島状半導体膜上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、前記島状の絶縁膜の側面の角度は５°以上５０°未満であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜に島状の突起状の絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜および前記突起状の絶縁膜を覆う半導体膜を形成する工程と、
前記突起状の絶縁膜を覆うように前記半導体膜を島状に形成する工程と、
島状半導体膜をレーザ光により結晶化する工程と、
前記島状半導体膜状にゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至請求項１４のいずれか一項において、前記基板は、透光性を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１２乃至請求項１５のいずれか一項において、レーザ光による結晶化は、半導体膜の表面及び裏面の両面に直接レーザ光を照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１２乃至請求項１６のいずれか一項において、前記島状の絶縁膜および前記下地絶縁膜は同一の材料を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成19年2月14日(2007.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  パターンが形成された原版を移動する原版ステージと、前記原版のパターンを介して露光される基板を移動する基板ステージとを備え、前記原版及び前記基板を、前記原版ステージ及び前記基板ステージを介して同期走査させながら、且つ走査軸方向において前記基板ステージを加速させながら第１の距離だけ移動させたのち走査軸方向において前記基板ステージを等速度で第２の距離だけ移動させてから、前記基板のショット領域を、前記原版のパターンを介して露光する露光装置において、
前記基板ステージのステップ移動に改行が伴うか否かを検出する改行検出手段と、
前記改行検出手段によりステップ移動に改行が伴わないことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行ってから、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させ、前記改行検出手段によりステップ移動に改行が伴うことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行わずに、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させるステージ制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記ステージ制御手段は、前記減速の開始と同時に前記基板ステージを非走査軸方向へステップ移動させ、前記減速が完了した後に、前記走査軸方向における前記基板ステージの走査方向を反転させることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項３】  パターンが形成された原版を移動する原版ステージと、前記原版のパターンを介して露光される基板を移動する基板ステージとを用い、前記原版及び前記基板を、前記原版ステージ及び前記基板ステージを介して同期走査させながら、且つ走査軸方向において前記基板ステージを加速させながら第１の距離だけ移動させたのち走査軸方向において前記基板ステージを等速度で第２の距離だけ移動させてから、前記基板のショット領域を、前記原版のパターンを介して逐次露光する露光方法において、
前記基板ステージのステップ移動に改行が伴うか否かを検出し、
ステップ移動に改行が伴わないことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行ってから、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させ、ステップ移動に改行が伴うことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行わずに、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させることを特徴とする露光方法。
【請求項４】  前記減速の開始と同時に前記基板ステージを非走査軸方向へステップ移動させ、前記減速が完了した後に、前記走査軸方向における前記基板ステージの走査方向を反転させることを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
【請求項５】  請求項１または２に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板の各ショット領域を逐次露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置及び露光方法に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、ステップ移動する距離を短縮し、スループットを向上できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明による走査露光装置は、パターンが形成された原版を移動する原版ステージと、前記原版のパターンを介して露光される基板を移動する基板ステージとを備え、前記原版及び前記基板を、前記原版ステージ及び前記基板ステージを介して同期走査させながら、且つ走査軸方向において前記基板ステージを加速させながら第１の距離だけ移動させたのち走査軸方向において前記基板ステージを等速度で第２の距離だけ移動させてから、前記基板のショット領域を、前記原版のパターンを介して露光する露光装置において、
前記基板ステージのステップ移動に改行が伴うか否かを検出する改行検出手段と、
前記改行検出手段によりステップ移動に改行が伴わないことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行ってから、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させ、前記改行検出手段によりステップ移動に改行が伴うことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行わずに、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させるステージ制御手段とを具備することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、本発明の露光方法は、パターンが形成された原版を移動する原版ステージと、前記原版のパターンを介して露光される基板を移動する基板ステージとを用い、前記原版及び前記基板を、前記原版ステージ及び前記基板ステージを介して同期走査させながら、且つ走査軸方向において前記基板ステージを加速させながら第１の距離だけ移動させたのち走査軸方向において前記基板ステージを等速度で第２の距離だけ移動させてから、前記基板のショット領域を、前記原版のパターンを介して逐次露光する露光方法において、
前記基板ステージのステップ移動に改行が伴うか否かを検出し、
ステップ移動に改行が伴わないことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行ってから、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させ、ステップ移動に改行が伴うことが検出された場合、ショット領域の露光終了後、走査軸方向において前記基板ステージの前記第２の距離の移動を行わずに、走査軸方向において前記基板ステージの減速を開始させることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、本発明のデバイス製造方法は、前記露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【発明の効果】
本発明によれば、ステップ移動する距離を短縮し、スループットを向上できる露光方法及び露光装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月29日(2007.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像を読み込む画像読み込み手段と、読み込まれた画像の画像データを記録紙に出力する出力手段とを備えると共に、オペレータの指示を入力する入力手段と、該入力手段により入力された前記オペレータの指示に関する操作設定情報を前記画像データに埋め込む埋め込み手段と、前記画像データに埋め込まれた操作設定情報を認識する画像認識手段と、前記操作設定情報に基づいて操作設定を行う操作設定手段とを備える画像形成装置において、
前記操作設定手段が前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできない場合に、他の操作設定情報を指示する指示手段を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】  前記操作設定手段は、さらに前記他の操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定を変更することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】  前記指示手段は、前記画像認識手段が前記操作設定情報を認識する前に、前記他の操作設定情報を予め指示しておくことを特徴とする請求項１又は２記載の画像形成装置。
【請求項４】  前記指示手段は、前記操作設定手段が前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできないときに、前記他の操作設定情報を指示することを特徴とする請求項１又は２記載の画像形成装置。
【請求項５】  前記操作設定手段が前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできないときに、前記他の操作設定情報に対するオペレータの指示が前記入力手段より入力された場合、前記オペレータの指示に従って処理が行われることを特徴とする請求項２又は４記載の画像形成装置。
【請求項６】  前記操作設定情報は、両面複写、縮小レイアウト及び拡大縮小の少なくとも１つの操作設定情報を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項７】  前記他の操作設定情報は、前記画像形成装置に備えられている機能の実行を指示する情報を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項８】  画像を読み込む画像読み込み手段と、読み込まれた画像の画像データを記録紙に出力する出力手段とを備える画像形成装置の画像形成方法であって、
オペレータの指示を入力する入力工程と、該入力工程で入力された前記オペレータの指示に関する操作設定情報を前記画像データに埋め込む埋め込み工程と、前記画像データに埋め込まれた操作設定情報を認識する画像認識工程と、前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定を行う操作設定工程とを含む画像形成方法において、
前記操作設定工程で前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできない場合に、他の操作設定情報を指示する指示工程を含むことを特徴とする画像形成方法。
【請求項９】  前記操作設定工程で、さらに前記他の操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定を変更することを特徴とする請求項８記載の画像形成方法。
【請求項１０】  前記指示工程で、前記画像認識工程により前記操作設定情報を認識する前に、前記他の操作設定情報を予め指示しておくことを特徴とする請求項８又は９記載の画像形成方法。
【請求項１１】  前記指示工程で、前記操作設定工程により前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできないときに、前記他の操作設定情報を指示することを特徴とする請求項８又は９記載の画像形成方法。
【請求項１２】  前記操作設定工程で、前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできないときに、前記他の操作設定情報に対するオペレータの指示が前記入力工程で入力された場合、前記オペレータの指示に従って処理が行われることを特徴とする請求項９又は１１記載の画像形成方法。
【請求項１３】  前記操作設定情報は、両面複写、縮小レイアウト及び拡大縮小の少なくとも１つの操作設定情報を含むことを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか１項記載の画像形成方法。
【請求項１４】  前記他の操作設定情報は、前記画像形成装置に備えられている機能の実行を指示する情報を有することを特徴とする請求項８乃至１３のいずれか１項記載の画像形成方法。
【請求項１５】  画像を読み込む画像読み込み手段と、読み込まれた画像の画像データを記録紙に出力する出力手段とを備える画像形成装置で使用されるプログラムを記憶した記憶媒体であって、
オペレータの指示を入力する入力モジュールと、該入力モジュールで入力された前記オペレータの指示に関する操作設定情報を前記画像データに埋め込む埋め込みモジュールと、前記画像データに埋め込まれた操作設定情報を認識する画像認識モジュールと、前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定を行う操作設定モジュールとを含むプログラムを記憶した記憶媒体において、
前記プログラムは、前記操作設定モジュールで前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできない場合に、他の操作設定情報を指示する指示モジュールを含むことを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の画像形成装置は、画像を読み込む画像読み込み手段と、読み込まれた画像の画像データを記録紙に出力する出力手段とを備えると共に、オペレータの指示を入力する入力手段と、該入力手段により入力された前記オペレータの指示に関する操作設定情報を前記画像データに埋め込む埋め込み手段と、前記画像データに埋め込まれた操作設定情報を認識する画像認識手段と、前記操作設定情報に基づいて操作設定を行う操作設定手段とを備える画像形成装置において、前記操作設定手段が前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできない場合に、他の操作設定情報を指示する指示手段を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項１２の画像形成方法は、請求項９又は１１記載の画像形成方法において、前記操作設定工程で、前記操作設定情報に基づいて前記画像形成装置の操作設定をできないときに、前記他の操作設定情報に対するオペレータの指示が前記入力工程で入力された場合、前記オペレータの指示に従って処理が行われることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年4月17日(2007.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  感光体上に形成されたトナー画像を中間転写体上に転写し、中間転写体上に転写されたトナー画像を記録媒体に転写し、第１及び第２の加熱ヒータを有する定着部にて記録媒体にトナーを定着させて画像を形成する画像処理装置における画像形成方法であって、
前記中間転写体に複数の画像を転写して前記記録媒体に転写させる複数画像形成動作モード実行時において、少なくとも、前記中間転写体に１つの画像を転写してから次の画像を転写するまでの間、前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれか一方を通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御することを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】  感光体上に形成されたトナー画像を中間転写体上に転写し、中間転写体上に転写されたトナー画像を記録媒体に転写し、第１及び第２の加熱ヒータを有する定着部にて記録媒体にトナーを定着させて画像を形成する画像処理装置における画像形成方法であって、
前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれかを通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御することを特徴とする画像形成方法。
【請求項３】  前記感光体上に形成される画像は、原稿読み取り装置により読み込まれる画像であり、前記中間転写体に複数の画像を転写する際には連続して読み取った原稿画像を前記感光体上に形成するものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項４】  感光体上に形成されたトナー画像を中間転写体上に転写し、中間転写体上に転写されたトナー画像を記録媒体に転写し、第１及び第２の加熱ヒータを有する定着部にて記録媒体にトナーを定着させて画像を形成するプリンタエンジン部を有する画像処理装置であって、
前記第１及び第２の加熱ヒータの加熱制御を行う制御手段を備え、
前記制御手段は、前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれかを通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御することを特徴とする画像処理装置。
【請求項５】  原稿画像を読み取る画像読取部を備え、前記画像読取部よりの読み取り画像を前記プリンタエンジン部の前記感光体上に形成することを特徴とする請求項４記載の画像処理装置。
【請求項６】  前記画像読取部を制御する読み取り制御手段を前記プリンタエンジン部を制御するプリンタ制御手段と前記プリンタエンジン部間に設け、前記プリンタ制御手段と前記プリンタエンジン部間の制御情報などを前記読み取り制御手段を介して授受することを特徴とする請求項４記載の画像処理装置。
【請求項７】  前記プリンタエンジン部の中間転写体上に前記感光体上より少なくとも２回に渡り画像を転写してから前記記録媒体に前記中間転写体に転写した画像を転写する２枚貼りページ形成が可能であり、前記制御手段は当該２枚貼りページ形成時に前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれかを通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御することを特徴とする請求項６記載の画像処理装置。
【請求項８】  前記読み取り制御手段は、前記画像読取部での読み取り画像を前記プリンタエンジン部より画像形成する時に前記制御手段による加熱ヒータの加熱制御を行うことを特徴とする請求項７記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、感光体上に形成されたトナー画像を中間転写体上に転写し、中間転写体上に転写されたトナー画像を記録媒体に転写し、第１及び第２の加熱ヒータを有する定着部にて記録媒体にトナーを定着させて画像を形成する画像処理装置における画像形成方法であって、前記中間転写体に複数の画像を転写して前記記録媒体に転写させる複数画像形成動作モード実行時において、少なくとも、前記中間転写体に１つの画像を転写してから次の画像を転写するまでの間、前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれか一方を通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御する工程を含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
または、感光体上に形成されたトナー画像を中間転写体上に転写し、中間転写体上に転写されたトナー画像を記録媒体に転写し、第１及び第２の加熱ヒータを有する定着部にて記録媒体にトナーを定着させて画像を形成する画像処理装置における画像形成方法であって、前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれかを通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御する工程を含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして例えば、前記感光体上に形成される画像は、原稿読み取り装置により読み込まれる画像であり、前記中間転写体に複数の画像を転写する際には連続して読み取った原稿画像を前記感光体上に形成するものであることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
または、感光体上に形成されたトナー画像を中間転写体上に転写し、中間転写体上に転写されたトナー画像を記録媒体に転写し、第１及び第２の加熱ヒータを有する定着部にて記録媒体にトナーを定着させて画像を形成するプリンタエンジン部を有する画像処理装置であって、前記第１及び第２の加熱ヒータの加熱制御を行う制御手段を備え、前記制御手段は、前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれかを通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
更に例えば、前記プリンタエンジン部の中間転写体上に前記感光体上より少なくとも２回に渡り画像を転写してから前記記録媒体に前記中間転写体に転写した画像を転写する２枚貼りページ形成が可能であり、前記制御手段は当該２枚貼りページ形成時に前記第１及び第２の加熱ヒータのうちのいずれかを通電し、同時に前記第１及び第２の加熱ヒータによる加熱が起きないように制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月18日(2007.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
コンピュータが読込み実行することで、前記コンピュータを、画像が少なくとも１つのタイルに分割され、各タイルについて低解像度から高解像度の画像を段階的にデータ生成するため、解像度別の符号化データで構成される画像符号化データを処理する画像処理装置として機能させるコンピュータプログラムであって、
出力しようとする画像の出力解像度を判定する判定手段と、
該判定手段で判定された出力解像度に基づき、変換対象の画像符号化データ中の復号すべき符号化データの位置を判定し、当該判定した位置までの符号化データを用いて復号し、出力用画像データを生成する復号手段と、
該復号手段で復号して得られた解像度の画像データを最低解像度として再符号化し、前記復号手段で判定された位置以降の符号化データと接合し、符号化データとして出力する再符号化手段
として機能させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成19年9月6日(2007.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板中に所定の分布を有する希土類元素イオンの拡散領域を形成する工程と、
熱処理によって前記希土類元素イオンの分布状態を所定の分布状態に保持して前記基板の深さ方向に前記希土類元素イオンの拡散領域を移動させる工程と
を備えたことを特徴とする希土類元素イオンの拡散領域の製造方法。
【請求項２】
基板上に形成された発光層に量子井戸と希土類元素イオンとを含んでいる発光素子の製造方法であって、
前記量子井戸に接する前記発光層を構成する材料層に前記希土類元素イオンを導入した後、
前記発光層を構成する材料層に導入された前記希土類元素イオンの分布状態を所定の分布状態に保持して前記基板の深さ方向に前記希土類元素イオンの拡散領域を移動させる熱処理を行う
ことを特徴とする発光素子の製造方法。
【請求項３】
前記発光層を構成する材料層に導入された前記希土類元素イオンの分布状態を所定の分布状態に保持して前記基板の深さ方向に前記希土類元素イオンの拡散領域を移動させる熱処理は、
前記希土類元素イオンが前記発光層を構成する材料層に導入された後に行われる熱処理後に行う、
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項４】
前記希土類元素イオンの拡散領域における濃度分布ピーク値の位置を、前記量子井戸からフォースター機構によるエネルギー遷移が起こる範囲内にする
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項５】
前記希土類元素イオンの拡散領域における濃度分布ピーク値の位置を、前記量子井戸から１０ｎｍの範囲内にする
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項６】
前記希土類元素イオンの拡散領域における濃度分布ピーク値の位置を、前記量子井戸からデクスター機構によるエネルギー遷移が起こる範囲内にする
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項７】
前記希土類元素イオンの拡散領域における濃度分布ピーク値の位置を、前記量子井戸から１ｎｍの範囲内にする
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項８】
前記希土類元素イオンの拡散領域における濃度分布ピーク値の位置を、前記量子井戸からフォトンを介したエネルギー遷移が起こる範囲内にする
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項９】
前記発光層は、量子井戸と希土類元素イオンとシリコンを主成分とする材料層とから構成される
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１０】
前記シリコンを主成分とする材料層は、シリコン系酸化物からなる
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１１】
前記希土類元素は、ユーロビウム（Ｅｕ）、プラセオジウム（Ｐｒ）、エルビウム（Ｅｒ）、テルビウム（Ｔｂ）、セリウム（Ｃｅ）、ツリウム（Ｔｍ）もしくは複数種の希土類元素である
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１２】
前記熱処理は不活性な雰囲気中で行われる
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１３】
前記不活性な雰囲気はアルゴン雰囲気である
ことを特徴とする請求項１２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１４】
前記不活性な雰囲気は窒素雰囲気である
ことを特徴とする請求項１２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１５】
前記不活性な雰囲気は真空雰囲気である
ことを特徴とする請求項１２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１６】
前記発光層を構成する材料層は、
化学的気相成長法もしくはスパッタリング法によりＳｉＯ2-x（２≧ｘ≧０）膜で作製した後、アニール処理して形成される
ことを特徴とする請求項２記載の発光素子の製造方法。
【請求項１７】
基板上に形成された発光層に量子井戸と希土類元素イオンとを含んでいる発光素子であって、
熱処理によって、前記希土類元素イオンの分布状態を所定の分布状態に保持して前記基板の深さ方向に前記希土類元素イオンの拡散領域が移動するものである
ことを特徴とする発光素子。
【請求項１８】
前記希土類元素イオンの分布の中心位置を移動させることで発光強度が調整されたものからなる
ことを特徴とする請求項１７記載の発光素子。
【請求項１９】
前記希土類元素イオンの分布の中心位置を移動が熱処理により行われたものからなる
ことを特徴とする請求項１７記載の発光素子。
【請求項２０】
前記希土類元素イオンがイオン注入法により前記発光層中に導入されたものからなる
ことを特徴とする請求項１７記載の発光素子。
【請求項２１】
前記発光層は、量子井戸と希土類元素イオンとシリコンを主成分とする材料層とから構成されたものからなる
ことを特徴とする請求項１７記載の発光素子。
【請求項２２】
前記シリコンを主成分とする材料層は、シリコン系酸化物からなる
ことを特徴とする請求項２１記載の発光素子。
【請求項２３】
前記希土類元素は、ユーロビウム（Ｅｕ）、プラセオジウム（Ｐｒ）、エルビウム（Ｅｒ）、テルビウム（Ｔｂ）、セリウム（Ｃｅ）、ツリウム（Ｔｍ）もしくは複数種の希土類元素である
ことを特徴とする請求項１７記載の発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月16日(2007.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アイレット本体に、アイレット本体とは別体に形成された放熱体が接合されてなる半導体パッケージ用ステムであって、
前記アイレット本体が、一対の鉄層で銅層を挟んだ３層構造からなるクラッド材によって形成されるとともに、前記放熱体が接合される接合領域に、前記クラッド材の銅層が露出して形成され、
前記放熱体が前記銅層の露出面の領域内に接合されていることを特徴とする半導体パッケージ用ステム。
【請求項２】
前記アイレット本体の放熱体が接合される表面が、前記銅層の露出面を含めて平坦面に形成されていることを特徴とする請求項１記載の半導体パッケージ用ステム。
【請求項３】
前記放熱体が銅からなることを特徴とする請求項１または２記載の半導体パッケージ用ステム。
【請求項４】
一対の鉄層で銅層を挟んだ３層構造からなるクラッド材を、銅層を露出させる領域に合わせて凹部が形成されたプレス金型を用いて、鉄層部が段差状に突出する部位を形成する面側から押圧し、当該クラッド材の片面に形成された鉄層の放熱体を接合する領域部分を、クラッド材の表面から当該領域部分の鉄層部が段差状に突出するようにプレス加工する工程と、
前記クラッド材の表面から段差状に突出した鉄層部を除去してクラッド材の表面を平坦面に形成するとともに、前記鉄層部の下層の銅層を露出させる平坦化加工によってアイレット本体を形成し、
当該アイレット本体とは別工程により形成した放熱体を、前記アイレット本体の前記銅層の露出面にろう付けする工程とを含むことを特徴とする半導体パッケージ用ステムの製造方法。
【請求項５】
前記プレス加工により、前記鉄層部を、下層の銅層を一部含む前記鉄層の厚さ分以上に前記クラッド材の表面から段差状に突出させ、
前記平坦化加工として、シェービング加工により、前記クラッド材の表面から段差状に突出する前記鉄層部を銅層から切削して除去し、銅層の表面を前記鉄層の表面と同一高さ面に露出させることを特徴とする請求項４記載の半導体パッケージ用ステムの製造方法。
【請求項６】
前記平坦化加工を施した後、アイレット本体にリードを挿通する透孔を形成する孔あけ加工を施すとともに、アイレット本体の外形抜き加工を施して個片のアイレット本体に形成することを特徴とする請求項４または５記載の半導体パッケージ用ステムの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか一項記載の半導体パッケージ用ステムの放熱体にレーザ素子が搭載されていることを特徴とする光半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、半導体パッケージ用ステムの製造方法として、一対の鉄層で銅層を挟んだ３層構造からなるクラッド材を、銅層を露出させる領域に合わせて凹部が形成されたプレス金型を用いて、鉄層部が段差状に突出する部位を形成する面側から押圧し、当該クラッド材の片面に形成された鉄層の放熱体を接合する領域部分を、クラッド材の表面から当該領域部分の鉄層部が段差状に突出するようにプレス加工する工程と、前記クラッド材の表面から段差状に突出した鉄層部を除去してクラッド材の表面を平坦面に形成するとともに、前記鉄層部の下層の銅層を露出させる平坦化加工によってアイレット本体を形成し、当該アイレット本体とは別工程により形成した放熱体を、前記アイレット本体の前記銅層の露出面にろう付けする工程とを含むことを特徴とする。
また、前記プレス加工により、前記鉄層部を、下層の銅層を一部含む前記鉄層の厚さ分以上に前記クラッド材の表面から段差状に突出させ、前記平坦化加工として、シェービング加工により、前記クラッド材の表面から段差状に突出する前記鉄層部を銅層から切削して除去し、銅層の表面を前記鉄層の表面と同一高さ面に露出させることを特徴とする。
また、前記平坦化加工を施した後、アイレット本体にリードを挿通する透孔を形成する孔あけ加工を施すとともに、アイレット本体の外形抜き加工を施して個片のアイレット本体に形成することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成19年6月18日(2007.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
また、半導体レーザ素子１では、サブバンド間遷移を利用して光を生成している結果、生成される光の偏波モードとしては、ＴＭモードが許容されている。ＧａＡｓ結晶中に縦波が伝搬する場合の光弾性係数をＰ１２とすると、ＴＭモードの光と周期的な屈折率分布との結合係数κＴＭは、
【数２】
2006135256.tif 000001
と表される。ただし、ｎはＧａＡｓの屈折率で、Ｓ１は、
【数３】
2006135256.tif 000002
である。また、βは、波長λの光の波数（２π／λ）、ρはＧａＡｓの密度、Ｉｓは弾性波Ｅのパワー密度である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また、後進波Ｗ２が、例えば、金属膜５１で反射した反射波Ｗ３の周波数はω３は、
【数５】
2006135256.tif 000003
と表される。この場合、式（４）及び式（５）より、周波数ω３は結局周波数ω１となるので、後進波Ｗ２の反射波Ｗ３もレーザ発振の条件に影響を及ぼさない。
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月9日(2007.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、
シリコン基板上に相変化膜が設けられた段階の相変化メモリのプロセス基板を保持する基板支持部と、
前記レーザ光源から出射したレーザ光を前記基板支持部に保持されたシリコン基板上の相変化膜に収束して照射するレーザヘッドとを備え、
レーザ照射によって前記相変化膜を初期結晶化することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項２】
請求項１記載のレーザ初期結晶化装置において、前記レーザヘッドから前記基板支持部に保持されたプロセス基板に照射されるレーザ光は、スポット面積が１０-6ｃｍ2以上１０-3ｃｍ2以下であり、プロセス基板上の各位置に対するレーザ照射時間が０．１μｓ以上１ｍｓ以下となるように前記基板支持部と前記レーザヘッドを相対的に駆動することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項３】
請求項２記載のレーザ初期結晶化装置において、前記基板支持部に保持されたプロセス基板上でレーザスポットの形状が変化しないようにするオートフォーカス機構を有することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項４】
請求項１記載のレーザ初期結晶化装置において、前記基板支持部はプロセス基板を着脱するウェハ操作機構の爪を差し込むことができる基板受け部を有することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項５】
請求項１記載のレーザ初期結晶化装置において、透明窓を有する真空室を有する成膜装置を備え、前記基板支持部は前記真空室内に設けられ、前記レーザヘッドは前記真空室外に設けられていることを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項６】
レーザ光源と、
シリコン基板上に相変化膜が設けられた段階の相変化メモリのプロセス基板を保持する基板支持部と、
前記レーザ光源から出射したレーザ光を前記基板支持部に保持されたプロセス基板上の相変化膜に収束して照射するレーザヘッドと、
前記基板支持部と前記レーザヘッドを相対的に駆動する相対駆動手段とを備え、
レーザ照射によって前記相変化膜を初期結晶化することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項７】
請求項６記載のレーザ初期結晶化装置において、前記相対駆動手段は前記基板支持部を一方向に駆動する手段と前記レーザヘッドを前記基板支持部の駆動方向に交差する方向に往復駆動する手段を有することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項８】
請求項６記載のレーザ初期結晶化装置において、前記相対駆動手段は前記基板支持部を回転駆動する手段と前記レーザヘッドを前記基板支持部の回転中心の方向に駆動する手段を有することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項９】
請求項８記載のレーザ初期結晶化装置において、前記基板支持部に保持されたプロセス基板の中心からの距離により同心円状にレーザ光の照射条件を変えることを特徴とするレーザ初期結晶化装置。
【請求項１０】
レーザ光源と、
シリコン基板上に相変化膜が設けられた段階の相変化メモリのプロセス基板を保持する基板支持部と、
前記レーザ光源から出射したレーザ光を前記基板支持部に保持されたプロセス基板上の相変化膜に収束して照射するレーザヘッドと、
前記基板支持部と前記レーザヘッドを相対的に駆動する相対駆動手段と、
前記基板支持部に対して前記レーザヘッドと反対側に、プロセス基板のレーザ光照射位置の裏面に照準した赤外光センサと、
前記赤外光センサの出力に基づいて前記レーザ光源の出力、レーザパルス周波数、レーザパルスデューティ及び／又は前記相対駆動手段による前記基板支持部又は前記レーザヘッドの駆動速度を制御する制御部とを備え、
レーザ照射によって前記相変化膜を初期結晶化することを特徴とするレーザ初期結晶化装置。