【手続補正書】
【提出日】平成20年2月28日(2008.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザポンピング源からレーザポンピング光を受けるべく光学経路に配置され、反対する第１および第２の表面を有し、第１の波長を有するレーザ出力を容易に発生するに適した固体レーザ媒体と、前記レーザ出力を前記レーザ媒体の前記各第１および第２の表面から伸長する前記光学経路の第１および第２の経路部分に沿って伝搬するためにパルス化されたレーザ出力に変換すべく、第１および第２の出力ポート間の前記光学経路に配置されたＱスイッチと、前記レーザ媒体の異なる側のそれぞれで前記光学経路に配置され、前記第１および第２のレーザ加工ビームのそれぞれがハーモニック波長を有するように前記パルスレーザ出力の波長を第１の波長のハーモニック波長にそれぞれ変換する第１および第２の波長変換器とを含み、第１の経路部分が第１の出力ポートを横切り、前記第２の経路部分が第２の出力ポートを横切り、前記第１および第２の経路部分は前記第１および第２の出力ポートのいずれにおいても相互に横切らず、前記第１および第２の出力ポートは前記パルスレーザ出力の第１および第２の各レーザ加工ビームの伝搬のために前記レーザ媒体の異なる側で前記光学経路に配置されている、固体レーザ。
【請求項２】
前記第１および第２の波長変換器は前記第１および第２の出力ポート間に配置されている、請求項１に記載のレーザ。
【請求項３】
前記第１および第２の出力ポートの少なくとも一方は、前記第１の波長を強く反射し、かつ相当量の前記ハーモニック波長を透過する共振器ミラーを含む、請求項２に記載のレーザ。
【請求項４】
前記第１の波長変換器は、第１および第２の非線形結晶であって前記第１の非線形結晶が前記第１の波長を前記ハーモニック波長に変換し前記第２の非線形結晶が前記ハーモニック波長を他のハーモニック波長に変換するように、前記第１の出力ポートの異なる側に配置された第１および第２の非線形結晶を含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項５】
少なくとも前記第１の出力ポートは、前記第１の波長を強く反射し、かつ前記ハーモニック波長の相当量を透過する共振器ミラーを含み、少なくとも前記第１の波長変換器は、第１および第２の非線形結晶であって前記第１の非線形結晶が前記第１の波長を前記ハーモニック波長に変換し前記第２の非線形結晶が前記ハーモニック波長を他のハーモニック波長に変換するように、前記第１の出力ポートの異なる側に配置された第１および第２の非線形結晶を含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項６】
少なくとも前記第１の出力ポートは相当量の前記第１の波長を透過する共振器ミラーを含み、少なくとも前記第１の波長変換器は前記第１の出力ポートの外部に配置された少なくとも一つの非線形結晶を含み、前記第１の波長は前記第１の出力ポートを通りまた前記非線形結晶は前記第１の波長を前記ハーモニック波長に変換する、請求項１に記載のレーザ。
【請求項７】
前記第１および第２の波長変換器は、前記第１および第２のレーザ加工ビームが異なるハーモニック波長を有するように、異なる特性を有する、請求項１に記載のレーザ。
【請求項８】
前記第１の出力ポートは、前記ハーモニック波長の少なくとも一部に対し透過性を示す第１の共振器ミラーと、前記光学経路を屈折する第１のプリズムまたは前記光学経路を屈折する第１の波長変換器のアングルカットとを備え、前記第２の出力ポートは、前記ハーモニック波長の少なくとも一部に対し透過性を示す第２の共振器ミラーと、前記光学経路を屈折する第２のプリズムまたは前記光学経路を屈折する第２の波長変換器のアングルカットとを備える、請求項１に記載のレーザ。
【請求項９】
前記第１の出力ポートは前記光学経路を屈折する第１のプリズムまたは前記光学経路を屈折する第１の波長変換器のアングルカットを備え、前記第２の出力ポートは前記光学経路を屈折する第２のプリズムまたは前記光学経路を屈折する第２の波長変換器のアングルカットとを備え、
さらに前記レーザは、第１および第２の共振器ミラーであって前記第１および第２の出力ポートが前記レーザ媒体と前記各共振器ミラーとの間に配置されるように、また前記第１および第２の加工ビームを提供すべく、前記第１および第２の出力ポートが、前記共振器からの前記ハーモニック波長が前記両共振器ミラーを通過することなく屈折するように、前記第１の波長を強く反射し共振器の両端部を規定する第１および第２の共振器ミラーを含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１０】
さらに、前記レーザ媒体の両側で前記光学経路に配置された第１および第２のエネルギ制御装置を含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１１】
前記第１および第２のエネルギ制御装置は波長板を備える、請求項１０に記載のレーザ。
【請求項１２】
前記第１および第２のエネルギ制御装置は、それぞれ前記第１および第２のレーザ加工ビームのレーザパルスエネルギが実質的に同一となるように、制御可能である請求項１０に記載のレーザ。
【請求項１３】
前記第１および第２のエネルギ制御装置は、前記第１のビームのレーザパルスエネルギが前記第２のビームのレーザパルスエネルギと著しく相違するように、制御可能である請求項１０に記載のレーザ。
【請求項１４】
前記第１および第２の波長変換器および出力ポートのそれぞれは、前記第１の出力ポートを経て伝搬する前記第１のレーザ加工ビームの第１の特性が前記第２の出力ポートを経て伝搬する前記第２のレーザ加工ビームの第２の特性に実質的に同一であるように、実質的に同一であり、前記第１および第２のビーム特性は、伝搬特性、レーザパルス幅またはレーザパルスエネルギのうちの一つ以上を含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１５】
前記パルスレーザ出力は１Hzを超える繰り返し率を有する、請求項１４に記載のレーザ。
【請求項１６】
前記パルスレーザ出力は５ｋHzを超える繰り返し率を有する、請求項１５に記載のレーザ。
【請求項１７】
さらに、前記第１および第２の出力ポート間の前記光学経路に配置された第２の固定レーザ媒体を含み、前記Ｑスイッチが前記レーザ媒体間に配置されている、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１８】
前記レーザ媒体は、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＶＯ４またはＹｂ：ＹＡＧを含み、前記第２のレーザ媒体は、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＶＯ４またはＹｂ：ＹＡＧを含む、請求項１７に記載のレーザ。
【請求項１９】
前記レーザ媒体は、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＶＯ４またはＹｂ：ＹＡＧを含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２０】
前記第１のレーザ加工ビームは、前記第１の波長の第２、第３、第４または第５高調波の少なくとも一つを含み、また前記第２のレーザ加工ビームは、前記第１の波長の第２、第３、第４または第５高調波の少なくとも一つを含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２１】
前記レーザ媒体のエンドポンピングを容易とするために入力結合ミラーが用いられている、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２２】
前記レーザポンピング源は、レーザダイオード、ダイオードアレイまたは他のレーザの少なくとも一つを含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２３】
前記レーザポンピング源は、一つまたは複数のランプを含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２４】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは同一のハーモニック波長を含み、前記ハーモニック波長の前記レーザ出力は、多くは前記波長変換器への損傷のリスクによって決まる従来の単一出力調波ビームの実用上での最大出力パワーを有し、前記レーザは、前記第１および第２の波長変換器に損傷を与えることなく、前記第１および第２のレーザ加工ビームの総合出力パワーであって従来の前記単一出力調波ビームの実用上の最大出力パワーよりも著しく大きな総合出力パワーを提供可能である、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２５】
前記第１の出力ポートを経て伝搬する前記第１のレーザ加工ビームおよび前記第２の出力ポートを経て伝搬する前記第２のレーザ加工ビームは、レーザの共振器要素の経年劣化によって実質的に等しい影響を受ける出力特性を有する、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２６】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは、ほぼ同時に実質的に同一の作業をなすべく、それぞれ互いに間隔をおく第１および第２の実質的に同一のターゲットに向けられている、請求項１に記載のレーザ。
【請求項２７】
レーザポンピング源からレーザポンピング光を受けるべく光学経路に配置され、反対する第１および第２の表面を有し、第１の波長を有するレーザ出力を容易に発生するに適した固体レーザ媒体と、前記レーザ出力を前記レーザ媒体の前記各第１および第２の表面から伸長する前記光学経路の第１および第２の経路部分に沿って伝搬するためにパルス化されたレーザ出力に変換すべく、前記第１および第２の出力ポート間の光学経路に配置されたＱスイッチと、前記光学経路に配置され、前記第１のレーザ加工ビームがハーモニック波長を有するように前記第１のレーザ加工ビームの波長を第１の波長のハーモニック波長に変換する第１の波長変換器と、前記第１および第２のレーザ加工ビームのそれぞれの第１および第２のエネルギをそれぞれ制御するために、前記レーザ媒体の異なる側で前記光学経路に配置された第１および第２のエネルギ制御装置と、一つまたは複数の微細加工作業をなすべく前記１および第２のレーザ加工ビームを第１および第２のビーム経路に沿って第１および第２のターゲット位置のそれぞれに向けるに適したビーム位置合わせ装置とを含み、第１の経路部分が第１の出力ポートを横切り、前記第２の経路部分が第２の出力ポートを横切り、前記第１および第２の出力ポートのいずれにおいても相互に横切らず、前記第１および第２の出力ポートは前記パルスレーザ出力の第１および第２の各レーザ加工ビームの伝搬のために前記レーザ媒体の異なる側で前記光学経路に配置されている、レーザシステム。
【請求項２８】
さらに、前記第１の波長変換器の前記レーザ媒体側と異なる側で前記光学経路に配置され、前記第２のレーザ加工ビームがハーモニック波長を有するように前記第２のレーザ加工ビームの波長を前記第１の波長のハーモニック波長に変換する第２の波長変換器を含む、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項２９】
前記第１および第２の波長変換器および出力ポートのそれぞれは、前記第１の出力ポートを経て伝搬する前記第１のレーザ加工ビームの第１の特性が前記第２の出力ポートを経て伝搬する前記第２のレーザ加工ビームの第２の特性に実質的に同一であるように、実質的に同一であり、前記第１および第２のビーム特性は、伝搬特性、レーザパルス幅またはレーザパルスエネルギのうちの一つ以上を含む、請求項２８に記載のレーザ。
【請求項３０】
前記パルスレーザ出力は５ｋHzを超える繰り返し率を有する、請求項２９に記載のレーザシステム。
【請求項３１】
前記パルスレーザ出力は１Hzを超える繰り返し率を有する、請求項２７に記載のレーザ。
【請求項３２】
前記第１のレーザ加工ビームは、前記第１の波長の第２、第３、第４または第５高調波の少なくとも一つを含み、また前記第２のレーザ加工ビームは、前記第１の波長の第１、第２、第３、第４または第５高調波の少なくとも一つを含む、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項３３】
前記第１および第２の波長変換器は、前記第１および第２のレーザ加工ビームが異なるハーモニック波長を有するように、異なる特性を有する、請求項２８に記載のレーザシステム。
【請求項３４】
前記第１および第２の波長変換器は、それぞれ前記レーザ媒体と前記第１および第２の出力ポートのそれぞれとの間に配置されている、請求項２８に記載のレーザシステム。
【請求項３５】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは、実質的に異なる少なくとも一つのレーザ処理パラメータを含み、該レーザ処理パラメータは、ビーム波長、レーザパルス幅、レーザパルスエネルギまたはレーザパルス数を含む、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項３６】
前記第１のエネルギ制御装置は、波長板、偏光子、電気光学素子、偏光子と波長板、または偏光子と電気光学素子の少なくとも一つを含み、また前記第２のエネルギ制御装置は、波長板、偏光子、電気光学素子、偏光子と波長板、または偏光子と電気光学素子の少なくとも一つを含む、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項３７】
前記第１および第２のエネルギ制御装置は、それぞれ前記第１および第２のレーザ加工ビームをそれらのレーザパルスエネルギが実質的に同一となるように制御する、請求項３６に記載のレーザシステム。
【請求項３８】
前記第１および第２のエネルギ制御装置は、前記第１および第２のレーザ加工ビームをそれらのエネルギが著しく相違するように制御する、請求項３６に記載のレーザシステム。
【請求項３９】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは、それぞれに異なるターゲット位置で同時に異なる作業をなす、請求項３８に記載のレーザシステム。
【請求項４０】
前記第１の出力ポートは、前記ハーモニック波長の少なくとも一部に対し透過性を示す第１の共振器ミラーと、前記光学経路を屈折する第１のプリズムまたは前記光学経路を屈折する第１の波長変換器のアングルカットとを備える、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４１】
前記ビーム位置合わせ装置は、前記第１および第２のレーザ加工ビームを互いに間隔をおく前記第１および第２の実質的に同一のターゲットに向け、実質的に同時に同一に作業する第１および第２のスキャンヘッドを含む、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４２】
前記第１および第２のビーム経路は、同軸的な伝搬のために結合され、レーザ加工作業を共同して実行すべくスキャンヘッドによって方向付けられる、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４３】
前記第２のビーム経路は、前記第１または第２のレーザ加工ビームのパルス幅間隔よりも長い期間の有効パルス幅を生成すべく前記第１のレーザ加工ビームが浸食を開始した後前記第２のレーザ加工ビームが浸食を開始するように、前記第１のビーム経路の特性と異なる特性を有する、請求項４２に記載のレーザシステム。
【請求項４４】
前記第１および第２のビーム経路は、所定の角度のずれを以て結合され、レーザ加工作業を共同して実行すべくスキャンヘッドによって方向付けられる、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４５】
前記第１および第２のビーム経路は、横方向への所定のずれを以て結合され、レーザ加工作業を共同して実行すべくスキャンヘッドにより方向付けられる、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４６】
前記第１および第２のビーム経路はレーザ加工作業を共同して実行すべく結合され、また前記第１および第２のレーザ加工ビームは、少なくとも一つの意図的な実質的に異なるビーム特性を有し、該ビーム特性は、ビーム波長、レーザパルス幅またはレーザパルスエネルギを含む、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４７】
前記第１および第２のビームはビアを穿孔すべく共同する、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４８】
さらに、第１および第２のレーザパルスゲート装置を含み、該第１および第２のレーザパルスゲート装置は、前記第１のレーザ加工ビームのパルス化されたレーザ出力が、第１のスキャンヘッドを通り前記第１のビーム経路に沿って第１のターゲット位置へ伝搬可能な第１の出力伝搬状態を提供するように、かつ前記第２のレーザ加工ビームのパルス化されたレーザ出力が、第２のスキャンヘッドを通り、前記第２のビーム経路に沿って第２のターゲット位置へ伝搬可能な第２の出力伝搬状態を提供するように、前記第１および第２のレーザ加工ビームのそれぞれのパルスレーザ出力を選択的にゲートで制御するために前記第１および第２のビーム経路にそれぞれ配置されており、前記第１および第２のレーザパルスゲート装置は、該第１および第２のレーザパルスゲート装置が前記第１または第２のレーザ加工ビームの一方の前記パルスレーザ出力のターゲットに向けての伝搬を許し、かつ同時的に前記第１または第２のレーザ加工ビームの他方の前記パルスレーザ出力のビーム経路に沿った伝搬を阻止し、前記パルスレーザ出力が実質的に定まった繰り返し率でほぼ連続して生成されるように、前記第１および第２のビーム経路に沿った前記第１および第２のレーザ加工ビームの伝搬を阻止する第１および第２の非伝搬状態をそれぞれ提供する、請求項２７に記載のレーザシステム。
【請求項４９】
前記第１および／または第２のレーザパルスゲート装置は、前記パルスレーザ出力のレーザパルスに一致する第１または第２の出力伝搬状態のそれぞれが前記各レーザ加工ビームのパルスレーザ出力を伝搬するように、また前記パルスレーザ出力のレーザパルスに不一致の出力伝搬状態が前記レーザ加工ビームのレーザパルスの伝搬を阻止するように、実質的に規則的な間隔でかつ前記パルスレーザ出力のレーザパルスにほぼ近似する時間に出力伝搬状態を提供する、請求項４８に記載のレーザシステム。
【請求項５０】
前記第１および／または第２のレーザパルスゲート装置は音響光学変調器、または減偏光子を備える電気光学素子を含む、請求項４８に記載のレーザシステム。
【請求項５１】
前記第１および第２のレーザパルスゲート装置は、前記各第１および第２のエネルギ制御装置として機能し、また前記各レーザパルスゲート装置が出力伝搬状態にあるときはいつでも前記各第１および第２のレーザ加工ビームのレーザエネルギ伝搬割合を制御すべく適用される、請求項４８に記載のレーザシステム。
【請求項５２】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは、少なくとも一つの実質的に異なるレーザ処理パラメータを含み、該レーザ処理パラメータは、ビーム波長、レーザパルス幅、レーザエネルギまたはレーザパルス数を含む、請求項４８に記載のレーザシステム。
【請求項５３】
光学経路に配置された反対する第１および第２の面を有するレーザ媒体にポンピング光を供給すること、パルス化されたレーザ出力を提供すべく、前記レーザ媒体の両側で前記光学経路に配置された第１および第２の出力ポート間の前記光学経路に配置されたＱスイッチを用いること、前記レーザ媒体の前記各第１および第２の表面から伸長する前記光学経路の第１および第２の経路部分であって、前記パルスレーザ出力が前記第１の経路部分に沿って伝搬されて前記第１の出力ポートから第１のレーザ加工ビームが提供され、また前記パルスレーザ出力が前記第２の経路部分に沿って伝搬されて前記第２の出力ポートから第２のレーザ加工ビームが提供されるように、前記第１の経路部分が前記第１の出力ポートを横切り、前記第２の経路部分が前記第２の出力ポートを横切り、前記第１および第２の出力ポートのいずれにおいても相互に横切らない第１および第２の経路部分に沿って前記パルスレーザ出力を伝搬すること、一つまたは複数の微細加工作業をなすために、前記第１のレーザ加工ビームを第２のターゲット位置に向け、また前記第２のレーザ加工ビームを第２のターゲット位置に向けることを含む、２つのレーザ加工ビームを生成する方法。
【請求項５４】
前記第１のレーザ加工ビームは第１、第２、第３、第４または第５のハーモニック波長の少なくとも一つを含み、前記第２のレーザ加工ビームは第１、第２、第３、第４または第５のハーモニック波長の少なくとも一つを含む、請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
さらに、第１および第２の波長変換器であって該各第１および第２の波長変換器および出力ポートがそれぞれ実質的に同一であるように、かつ前記第１の出力ポートを通って伝搬する前記第１のレーザ加工ビームの第１の特性が前記第２の出力ポートを通って伝搬する前記第２のレーザ加工ビームの第２の特性に実質的に一致するように、パルスレーザ出力である前記第１および第２のレーザ加工ビームをハーモニック波長に変換すべく、前記レーザ媒体の異なる側で前記光学経路に配置される第１および第２の波長変換器を用いることを含み、前記ビーム特性はビーム伝搬特性、レーザパルス幅およびレーザパルスエネルギのうちの一つまたは複数を含む、請求項５３に記載の方法。
【請求項５６】
前記パルスレーザ出力は５ｋHzを超える繰り返し率を有する、請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
さらに、第１および第２の波長変換器であって該各第１および第２の波長変換器が特性を有するように、かつ前記第１および第２のレーザ加工ビームが異なるハーモニック波長を有するように、パルスレーザ出力である前記第１および第２のレーザ加工ビームをハーモニック波長に変換すべく、前記レーザ媒体の異なる側で前記光学経路に配置される第１および第２の波長変換器を用いることを含む、請求項５３に記載の方法。
【請求項５８】
さらに、前記第１および第２のレーザ加工ビームのそれぞれの第１および第２のエネルギをそれぞれ制御するために、前記レーザ媒体の異なる側で前記光学経路に配置された第１および第２のエネルギ制御装置を用いることを含み、前記第１のエネルギ制御装置は、波長板、偏光子、電気光学素子、偏光子と波長板、または偏光子と電気光学素子の少なくとも一つを含み、また前記第２のエネルギ制御装置は、波長板、偏光子、電気光学素子、偏光子と波長板、または偏光子と電気光学素子の少なくとも一つを含む、請求項５３に記載の方法。
【請求項５９】
前記第１のレーザ加工ビームのパルス化されたレーザ出力が第１のスキャンヘッドを通り前記第１のビーム経路に沿って第１のターゲット位置へ伝搬可能な第１の出力伝搬状態を提供するように、かつ前記第２のレーザ加工ビームのパルス化されたレーザ出力が第２のスキャンヘッドを通り、前記第２のビーム経路に沿って第２のターゲット位置へ伝搬可能な第２の出力伝搬状態を提供するように、第１および第２のレーザパルスゲート装置が、前記第１および第２のレーザ加工ビームのそれぞれのパルスレーザ出力を選択的にゲートで制御すべく、前記第１および第２のビーム経路にそれぞれ配置されており、前記第１および第２のレーザパルスゲート装置は、該第１および第２のレーザパルスゲート装置が前記第１または第２のレーザ加工ビームの一方の前記パルスレーザ出力のターゲットに向けての伝搬を許し、かつ同時的に前記第１または第２のレーザ加工ビームの他方の前記パルスレーザ出力のビーム経路に沿った伝搬を阻止し、前記パルスレーザ出力が実質的に定まった繰り返し率でほぼ連続して生成されるように、前記第１および第２のビーム経路に沿った前記第１および第２のレーザ加工ビームの伝搬を阻止する第１および第２の非伝搬状態をそれぞれ提供する、請求項５３に記載の方法。
【請求項６０】
前記第１および第２のレーザパルスゲート装置は、前記各第１および第２のエネルギ制御装置として機能し、また前記各レーザパルスゲート装置が出力伝搬状態にあるときはいつでも前記各第１および第２のレーザ加工ビームのレーザエネルギ伝搬割合を制御すべく適用される、請求項５９に記載の方法。
【請求項６１】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは同一のハーモニック波長を含み、また前記ハーモニック波長の前記レーザ出力は、多くは前記波長変換器への損傷のリスクによって決まる従来の単一出力調波ビームの実用上での最大出力パワーを有し、前記レーザは、前記第１および第２の波長変換器に損傷を与えることなく、前記第１および第２のレーザ加工ビームの総合出力パワーであって従来の前記単一出力調波ビームの実用上の最大出力パワーよりも著しく大きな総合出力パワーを提供可能である、請求項５３に記載の方法。
【請求項６２】
第１および第２のスキャンヘッドが、前記第１および第２のレーザ加工ビームを互いに間隔をおく前記第１および第２の実質的に同一のターゲットに向け、実質的に同時に同一に作業する、請求項５３に記載の方法。
【請求項６３】
前記第１および第２のレーザ加工ビームは共同してレーザ加工作業を実行すべく共通スキャンヘッドを通って伝搬するように結合されている、請求項５３に記載の方法。
【請求項６４】
前記第１および第２の波長変換器は前記第１および第２の出力ポートの外部で前記光学経路に配置されている、請求項５３に記載の方法。