【手続補正書】
【提出日】平成20年2月5日(2008.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量分析計であって、
ベースプレート；
真空ハウジングであって、真空チャンバを形成するような構成である少なくとも１つの壁および真空フランジを備え、該真空フランジが該ベースにシールするように結合されている、真空ハウジング；
該ベースプレート上に支持される磁気セクションであって、該磁気セクションは、
ヨークであって、主要本体、第１のヨーク端部、および第２のヨーク端部を有するヨーク；
第１の永久磁石であって、該第１のヨーク端部に近接して該ヨークに結合されている第１の永久磁石；
該第２のヨーク端部に結合されている第２の永久磁石であって、該第２の永久磁石は、該第１の永久磁石から離れて間隔を空けられ、それらの間に磁気的隙間を形成する、第２の永久磁石；
該ヨークの少なくとも一部のまわりに形成されるコイルであって、該コイルは電流を通すような構成であり、該電流が該コイルを通過するとき、磁束が生成される、コイル；
磁気センサーであって、該磁気的隙間の近くに配置され、該磁束の測定値を示すシグナルを生成する、磁気センサー；ならびに
該磁気センサーおよび該コイルと連絡するコントローラーであって、該磁気センサーから、該磁束の測定値を示すシグナルを受容するような構成であり、かつ該コイルを通過する該電流を調節して、該磁束を所望の範囲内に制御可能に維持するような構成である、コントローラー、
を備える、磁気セクション；
該ベースプレートの第１の部分内に置かれる第１の加熱要素；ならびに
該ベースプレートの第２の部分内に置かれる第１の温度センサーであって、該第１の部分が、一定量のベースプレート材料により、該第２の部分から引き離されている、第１の温度センサー、
を備える、質量分析計。
【請求項２】
前記第１のヨーク端部と前記第２のヨーク端部との間に配置される磁気分路子をさらに備え、該磁気分路子は、前記ヨークの第１の温度が第２の温度へと変化するとき、前記磁気的隙間の変化を低減する、請求項１に記載の質量分析計。
【請求項３】
前記第１の部分および前記第２の部分の位置が、前記磁気セクションが支持されている前記ベースプレートの領域に対応する、請求項１に記載の質量分析計。
【請求項４】
前記第１の加熱要素を制御するように結合され、前記第１の温度センサーに連絡して結合される温度コントローラーをさらに備え、該温度コントローラーは、該温度センサーにより獲得されるベースプレートの温度測定値に従って該第１の加熱要素を調節するような構成である、請求項１に記載の質量分析計。
【請求項５】
質量分析計であって、
ベースプレート；
真空ハウジングであって、真空チャンバを形成するような構成である少なくとも１つの壁および真空フランジを備え、該真空フランジが該ベースにシールするように結合されている、真空ハウジング；
磁気セクションであって、磁束を発生するような構成であり、かつ該ベースプレート上に支持される、磁気セクション；
該ベースプレートの第１の部分内に置かれる第１の加熱要素；
該ベースプレートの第２の部分内に置かれる第１の温度センサー；および
温度コントローラーであって、該温度コントローラーは、該第１の加熱要素および第１の温度センサーと電気連絡しており、該温度コントローラーは、該第１の加熱要素を制御して該ベースプレートの温度を制御するような構成であり、かつ該磁束を所望の範囲内に制御可能に維持するような構成である、温度コントローラー、
を備える、質量分析計。
【請求項６】
前記ベースプレートの第２の部分内に置かれる第２の加熱要素；および
該ベースプレートの第３の部分内に置かれる第２の温度センサー
をさらに備える、請求項５に記載の質量分析計。
【請求項７】
前記磁気セクションが、
ヨークであって、主要本体、第１のヨーク端部、および第２のヨーク端部を有するヨーク；
第１の永久磁石であって、該第１のヨーク端部に近接して結合されている第１の永久磁石；
該第２のヨーク端部に結合されている第２の永久磁石であって、該第２の永久磁石は、該第１の永久磁石から離れて間隔を空けられ、それらの間に磁気的隙間を形成する、第２の永久磁石；
該ヨークの主要本体の少なくとも一部のまわりに形成されるコイルであって、該コイルは電流を通すような構成であり、該電流が該コイルを通過するとき、磁束が生成されるような構成である、コイル、
をさらに備える、請求項５に記載の質量分析計。
【請求項８】
前記第１のヨーク端部および前記第２のヨーク端部を横切って配置される磁気分路子をさらに備え、該磁気分路子は、前記ヨークの第１の温度が第２の温度へと変化するとき、前記磁気的隙間の変化を低減する、請求項７に記載の質量分析計。
【請求項９】
磁気センサーであって、前記磁気的隙間の近くに配置され、前記磁束の測定値を示すシグナルを生成する、磁気センサー；ならびに
該磁気センサーおよび前記コイルと連絡するコントローラーであって、該磁気センサーから、該磁束の測定値を示すシグナルを受容するような構成であり、かつ少なくとも一部は該磁束の測定値に基づき、該コイルを通過する前記電流を調節するような構成である、コントローラー、
をさらに備える、請求項７に記載の質量分析計。
【請求項１０】
質量分析計を制御する方法であって、該方法は、
ベースプレートの第１の領域内に配置された温度センサーを用いて、該ベースプレートの温度を測定する工程；
該測定されたベースプレートの温度に応答して、該ベースプレートの第１の領域内に配置される加熱要素に対する温度調整量を決定する工程；および
該加熱要素の温度を制御可能に調整し、該磁気セクション内に置かれる第１の対の永久磁石の間の相対的分離の量を制御可能に維持し、そして該第１の対の永久磁石の間に存在する磁束を所望の範囲内に制御可能に維持する工程、
を包含する、方法。
【請求項１１】
前記磁場セクションに置かれたヨークの第１のヨーク端部および第２のヨーク端部を横切って分路し、前記第１の対の永久磁石の間の相対的分離の量を制限する工程、
をさらに包含する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記磁気セクションのある範囲内に存在する磁束を測定する工程；および
該測定された磁束に基づき、該磁気セクション内でコイルを通過する電流の量を制御する工程であって、該電流は、該磁束を所望の範囲内に維持するように制御される、工程、をさらに包含する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記磁気セクションのある範囲内に存在する磁束を測定する工程が、２つの対向する永久磁石により形成される磁気的隙間内の該磁束を測定することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記磁気セクションのある範囲内に存在する磁束を測定する工程が、２つの対向する永久磁石により形成される磁気的隙間内に実質的に置かれる磁気センサーを用いて、該磁束を測定することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記測定された磁束に基づき、前記コイルを通過する電流の量を制御する工程が、前記電流の量を増やして、前記磁気セクションの温度の変化から生じる磁束のずれを補うことを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記ヨークの第１のヨーク端部および第２のヨーク端部を横切って分路し、前記２つの対向する永久磁石の間の相対的分離の量を制限する工程、
をさらに包含する、請求項１２に記載の方法。