【手続補正書】
【提出日】平成20年6月25日(2008.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式：
【化１】
2008515971.tif 000001
（式中、
Ａ及びＢは、一対の縮合５、６又は７員環を表し、前記縮合Ａ／Ｂ環系は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される０〜４個のヘテロ原子を含有し、前記両環は更に、ハロゲン原子、−ＯＨ、低級アルキル基、−Ｏ−低級アルキル、フルオロ低級アルキル基、−Ｏ−低級フルオロアルキル、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、アルコキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、オキソ基、オキシド基、−ＣＮ、ニトロ基、−Ｓ−低級アルキル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノアルキル基、カルボキシ基、カルボアルコキシ基、オルトエステル基、アシル基、アシルアルキル基、カルボキサミド基、低級アルキルスルホキシド基、低級アルキルスルホン基、アシルアミノ基、フェニル基、ベンジル基、スピロチアゾリジニル基、フェノキシ基及びベンジルオキシ基から独立に選択される０〜４個の置換基で置換され；
ａ及びｂは、それぞれ残基Ｙ及びＷの結合点を表し、ａ及びｂは、前記縮合Ａ／Ｂ環系で互いにペリ位の関係にあり；
ｄ及びｅは、前記縮合Ａ／Ｂ環系におけるＡ環とＢ環の間の縮合点を表し；
Ｗは、Ｃ２〜Ｃ８アルキル基であり、そこで１又は２個の−ＣＨ２−を、それぞれ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、若しくは−Ｎ（アルキル）−により置き換えることができるか、又は２個の−ＣＨ２−を、一緒にして−ＣＨ＝ＣＨ−に置き換えることができ；
Ｙは、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基であり、そこで１又は２個の−ＣＨ２−を、それぞれ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、若しくは−Ｎ（アルキル）−により置き換えることができるか、又は２個の−ＣＨ２−を、一緒にして−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えることができ；
Ｍは、アリール基、置換されたアリール基、ヘテロシクリル基、置換されたヘテロシクリル基、Ｃ６〜Ｃ２０アルキル基及び置換されたＣ６〜Ｃ２０アルキル基から選択され；
Ｑは、−Ｎ（ＳＯ２Ｒ１）−、−Ｎ（ＣＯＲ１）−、−Ｎ（ＣＯ２Ｒ１）−、−Ｎ［ＰＯ（Ｏ−アルキル）２］−、−ＮＨＮＲ１０（ＳＯ２Ｒ１）から選択され、Ｗが−ＣＦ２−又は−ＣＨ２ＣＦ２−である場合、Ｑは更に、−ＮＨ−であることができ；
Ｒ１は、アリール基、置換されたアリール基、ヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基、Ｃ３〜Ｃ２０アルキル基及びフルオロアルキル基から選択され；並びに
Ｒ１０は、アルキル基、アリール基及びヘテロアリール基から選択される）
で表される化合物。
【請求項２】
Ｗが、Ｃ２アルキル基であり、そこで１又は２個の−ＣＨ２−を、それぞれ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、若しくは−Ｎ（アルキル）−により置き換えることができるか、又は２個の−ＣＨ２−を、一緒にして−ＣＨ＝ＣＨ−に置き換えることができ；そして
Ｙは、Ｃ１又はＣ２アルキル基であり、そこで１又は２個の−ＣＨ２−を、それぞれ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、若しくは−Ｎ（アルキル）−により置き換えることができるか、又は２個の−ＣＨ２−を、一緒にして−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えることができる、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｗが、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＯＣ（ＣＨ３）２−、−ＯＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−及び−ＮＨＣＨ２−から選択され；
Ｙが、−ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、＝Ｎ−、−ＮＨ−、＝ＮＳＯ２−、−ＮＨＳＯ２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−及び−ＳＯ２−から選択され；並びに左手の結合が、Ａ環又はＢ環への結合点を示す、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｑが−Ｎ［ＰＯ（Ｏ−アルキル）２］−である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
Ｑが−Ｎ（ＣＯＲ１）−、又は−Ｎ（ＣＯ２Ｒ１）−である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１がフェニル基、置換されたフェニル基、５員環ヘテロアリール基、置換された５員環ヘテロアリール基、ＣＦ２ＣＦ３及びＣＦ３から選択される、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｑが−Ｎ（ＳＯ２Ｒ１）−である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ１がフェニル基、置換されたフェニル基、５員環ヘテロアリール基、置換された５員環ヘテロアリール基及びＣＦ３から選択される、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１がフルオロフェニル基である、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｍがアリール基、置換されたアリール基、ヘテロシクリル基及び置換されたヘテロアリール基から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｍがフェニル基、置換されたフェニル基、ナフチル基、置換されたナフチル基、ヘテロアリール基及び置換されたヘテロアリール基から選択される、請求項１０に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｍがフルオロフェニル基である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ａ／Ｂ環系が一対の縮合５員環：
【化２】
2008515971.tif 000002
である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１４】
Ａ／Ｂ環系が：
【化３】
2008515971.tif 000003
から選択される、請求項１３に記載の化合物。
【請求項１５】
Ａ／Ｂ環系が一対の縮合６員環：
【化４】
2008515971.tif 000004
である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１６】
Ａ／Ｂ環系が：
【化５】
2008515971.tif 000005
から選択される、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
Ａ／Ｂ環系が縮合５及び６員環の対：
【化６】
2008515971.tif 000006
である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１８】
Ａ／Ｂ環系がインドール、インドリン、インドロン、テトラヒドロインドロン、ペルヒドロインドロン、イサチン、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾリノン、ベンゾフラン及びインダゾールから選択される、請求項１７に記載の化合物。
【請求項１９】
Ａ／Ｂ環系がインドール又はインドロンである、請求項３に記載の化合物。
【請求項２０】
Ａ／Ｂ環系がインドールである、請求項１９に記載の化合物。
【請求項２１】
Ｑが−Ｎ（ＳＯ２Ｒ１）−であり、Ｒ１がフェニル基、置換されたフェニル基、５員環ヘテロアリール基、置換された５員環ヘテロアリール基、フルオロフェニル基及びＣＦ３から選択される、請求項２０に記載の化合物。
【請求項２２】
Ｍが置換されたフェニル基、ナフチル基及び二環式窒素へテロアリール基から選択される、請求項２１に記載の化合物。
【請求項２３】
Ｒ１及びＭのうち少なくとも一つがフルオロフェニル基である、請求項２２に記載の化合物。
【請求項２４】
Ｙが−ＣＨ２−であり、Ｗが−ＣＨ＝ＣＨ−である、請求項２２に記載の化合物。
【請求項２５】
式：
【化７】
2008515971.tif 000007
で表される、請求項２４に記載の化合物。
【請求項２６】
Ｍが２，４−ジクロロフェニル基であり、Ｒ１が４，５−ジクロロチエン−２−イル基である、請求項２５に記載の化合物。
【請求項２７】
一般式：
【化８】
2008515971.tif 000008
（式中、
Ｕは、−Ｏ−及び−ＮＨ−から選択され；並びに
Ｒ２０〜Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子及びメチル基から独立に選択される）
で表される化合物。
【請求項２８】
プロスタグランジン媒介疾患又は病態の治療的治療及び／又は予防的治療のための医薬の製造における、請求項１〜３又は１９〜２７のいずれか一項に記載の化合物、又は前記化合物のエステルの使用。
【請求項２９】
前記疾患又は病態が、
痛み、リウマチ熱・インフルエンザ若しくは他のウイルス感染と関連する発熱又は炎症、風邪、腰痛及び頸痛、骨の痛み、分娩後の痛み、月経困難症、頭痛、片頭痛、歯痛、捻挫及び挫傷、筋炎、神経痛、滑膜炎、慢性関節リウマチ・変形性関節疾患（変形性関節症）を含む関節炎、痛風及び強直性脊椎炎、滑液嚢炎、放射線及び腐食性薬品傷害を含むやけど、日焼け、外科手術及び歯科処置後の痛み、免疫及び自己免疫疾患；
細胞性悪性形質転換又は転移性腫瘍増殖；
糖尿病性網膜症、腫瘍脈管形成；
月経困難症、早期分娩、喘息又は好酸球関連障害と関連するプロスタノイド誘発性平滑筋収縮；
アルツハイマー病；
緑内障；
骨量減少；
骨粗鬆症；
パジェット病；
消化性潰瘍、胃炎、限局性腸炎、潰瘍性大腸炎、憩室炎又は他の胃腸障害；胃腸出血；
低プロトロンビン血症、血友病及び他の出血問題から選択される凝固障害；
腎臓疾患；
血栓症、心筋梗塞、脳卒中；並びに
閉塞性血管疾患
から選択される、請求項２８に記載の使用。
【請求項３０】
前記疾患が閉塞性血管疾患である、請求項２８に記載の使用。
【請求項３１】
アテローム性動脈硬化症の治療において斑を減少させるための医薬の製造における、請求項１〜３又は１９〜２７のいずれか一項に記載の化合物、又は前記化合物のエステルの使用。
【請求項３２】
骨形成の促進のための又は細胞保護のための医薬の製造における、請求項１〜３又は１９〜２７のいずれか一項に記載の化合物、又は前記化合物のエステルの使用。
【請求項３３】
痛み、炎症、アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳卒中又は血管閉塞性障害の治療又は予防のための医薬の製造における、請求項１〜３又は１９〜２７のいずれか一項に記載の化合物、又は前記化合物のエステルの使用。
【請求項３４】
薬学的に許容可能な担体、及び、請求項１〜３又は１９〜２７のいずれか一項に記載の化合物又は前記化合物のエステルを含む医薬製剤。
【請求項３５】
血小板凝集阻害剤、ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤、抗高脂血症剤、及びシクロオキシゲナーゼ阻害剤から選択される追加の治療剤を含む、請求項３４に記載の医薬製剤。
【請求項３６】
前記血小板凝集阻害剤が、チロフィバン、ジピリダモール、クロピドグレル、及びチクロピジンから選択される、請求項３５に記載の医薬製剤。
【請求項３７】
前記ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤が、ロバスタチン、シンバスタチン、プラバスタチン、ロスバスタチン、メバスタチン、アトルバスタチン、セリバスタチン、ピタバスタチン、及びフルバスタチンから選択される、請求項３５に記載の医薬製剤。
【請求項３８】
前記シクロオキシゲナーゼ阻害剤が、
ロフェコキシブ、メロキシカム、セレコキシブ、エトリコキシブ、ルミラコキシブ、バルデコキシブ、パレコキシブ、シミコキシブ、ジクロフェナク、スリンダク、エトドラク、ケトロラク、ケトプロフェン、ピロキシカム、及びＬＡＳ−３４４７５から選択される、請求項３５に記載の医薬製剤。
【請求項３９】
標識した請求項１〜３又は１９〜２７のいずれか一項に記載の化合物を、プロスタノイド受容体と接触させること、及び、試験化合物によりその置換を測定することを含む、選択的プロスタノイド受容体リガンドのためのインビトロでのスクリーニング方法。
【請求項４０】
前記標識した化合物をクローン化されたヒトＥＰ３受容体と接触させること、及び試験化合物によりその置換を測定することを含む、選択的ＥＰ３リガンドのためのインビトロでの請求項３９に記載のスクリーニング方法。
【請求項４１】
一般式：
【化９】
2008515971.tif 000009
（式中、
Ａ及びＢは、５−員の窒素複素環式基に縮合した６−員の炭素環式基を表し、前記Ａ／Ｂ環系は、インドール、還元インドール、２−オキソインドール、及び還元２−オキソインドールから選択される）
で表される請求項１に記載の化合物。
【請求項４２】
【化１０】
2008515971.tif 000010
一般式：
（式中、
Ｒ３及びＲ４は、一方又は両方の環において、ハロゲン原子、−ＯＨ、低級アルキル基、−Ｏ−低級アルキル、フルオロ低級アルキル基、−Ｏ−低級フルオロアルキル、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、アルコキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、オキソ基、オキシド基、−ＣＮ、ニトロ基、−Ｓ−低級アルキル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノアルキル基、カルボキシ基、カルボアルコキシ基、オルトエステル基、アシル基、アシルアルキル基、カルボキサミド基、低級アルキルスルホキシド基、低級アルキルスルホン基、アシルアミノ基、フェニル基、ベンジル基、スピロチアゾリジニル基、フェノキシ基、及びベンジルオキシ基から独立に選択される置換基である）
で表される、Ａ／Ｂ環系がインドールである、請求項４１に記載の化合物。
【請求項４３】
【化１１】
2008515971.tif 000011
一般式：
（式中、
Ｒ３及びＲ４は、一方又は両方の環において、ハロゲン原子、−ＯＨ、低級アルキル基、−Ｏ−低級アルキル、フルオロ低級アルキル基、−Ｏ−低級フルオロアルキル、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、アルコキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、オキソ基、オキシド基、−ＣＮ、ニトロ基、−Ｓ−低級アルキル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノアルキル基、カルボキシ基、カルボアルコキシ基、オルトエステル基、アシル基、アシルアルキル基、カルボキサミド基、低級アルキルスルホキシド基、低級アルキルスルホン基、アシルアミノ基、フェニル基、ベンジル基、スピロチアゾリジニル基、フェノキシ基、及びベンジルオキシ基から独立に選択される置換基である）
で表される、Ａ／Ｂ環系が２−オキソインドールである、請求項４１に記載の化合物。
【請求項４４】
【化１２】
2008515971.tif 000012
一般式：
（式中、
Ｒ３及びＲ４は、一方又は両方の環において、ハロゲン原子、−ＯＨ、低級アルキル基、−Ｏ−低級アルキル、フルオロ低級アルキル基、−Ｏ−低級フルオロアルキル、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、アルコキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、オキソ基、オキシド基、−ＣＮ、ニトロ基、−Ｓ−低級アルキル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノアルキル基、カルボキシ基、カルボアルコキシ基、オルトエステル基、アシル基、アシルアルキル基、カルボキサミド基、低級アルキルスルホキシド基、低級アルキルスルホン基、アシルアミノ基、フェニル基、ベンジル基、スピロチアゾリジニル基、フェノキシ基、及びベンジルオキシ基から独立に選択される置換基である）
で表される、Ａ／Ｂ環系が還元２−オキソインドールである、請求項４１に記載の化合物。
【請求項４５】
Ｍは、アリール基、置換されたアリール基、ヘテロシクリル基、及び置換されたヘテロシクリル基から選択される、請求項４１に記載の化合物。
【請求項４６】
Ｗが鎖に２原子を含むリンカーであり、及びＹが鎖に１原子又は２原子を含むリンカーである、請求項４５に記載の化合物。
【請求項４７】
Ｗが、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＯＣ（ＣＨ３）２−、−ＯＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、及び−ＮＨＣＨ２から選択され、
Ｙが、−ＣＨ２−、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−から選択され、並びに左手の結合が、Ａ環又はＢ環への結合点を示す、請求項４６に記載の化合物。