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【手続補正書】
【提出日】平成20年9月4日(2008.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材と、前記支持基材に蒸着されたアルミナ又はアルミニウムを含んだナノ構造コーティングの第１の層と、前記ナノ構造コーティングに蒸着されたケイ素又はタングステンを含んだ活性コーティングの第２の層とを含む装置。
【請求項２】
前記支持基材が半導体ウエハ、ガラスまたは水晶のシート、金属のシート、一片のセラミックまたはプラスチックである請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ナノ構造コーティングの第１の層が、少なくとも１つの寸法が約０．２μｍ未満の細長いまたは板状粒を含む請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記板状粒の長軸が前記支持基材の表面に実質的に垂直に配向されている請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記活性層の表面に蒸着された１つ以上の表面官能基をさらに含む請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記１つ以上の官能基が、炭化水素分子、フルオロカーボン分子または両種の分子の短鎖ポリマーを含む機能性有機層を含む請求項５に記載の装置。
【請求項７】
第１の表面と、前記第１の表面の少なくとも１つの領域に蒸着されたアルミナ又はアルミニウムから形成されると共に、ナノ構造表面を有する第１の材料の非ケイ素膜層とを有する支持基材と；前記第１の膜層に蒸着したケイ素又はタングステンを含んだ第２の材料の活性層と；前記第２の材料の活性層の表面に取り付けられた機能性有機層と；前記機能性有機層を介して前記活性層の領域と関連した少なくとも第１の分析物とを含み、前記分析物のレーザー脱離中のレーザー照射時に、前記活性層が前記少なくとも第１の分析物へのエネルギーの取込みおよび移動を支援する質量分析装置。
【請求項８】
前記ケイ素が前記下にあるアルミナまたはアルミニウム層へと拡散している請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記ケイ素活性層が化学蒸着プロセスにより前記薄膜層に蒸着されている請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記機能性有機層が炭化水素分子、フルオロカーボン分子または両種の分子の短鎖ポリマーを含む請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記炭化水素またはフルオロカーボンがシラン化学反応を介して前記活性層に取り付けられている請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記基材がステンレス鋼、プラスチック、ポリマー、セラミック、金属、合金またはこれらの混合物から選択される材料を含む請求項７に記載の装置。
【請求項１３】
前記非ケイ素層が約１０ｎｍ〜１０００ｎｍの厚さを有している請求項７に記載の装置。
【請求項１４】
前記非ケイ素層の厚さが約１００ｎｍ〜２００ｎｍである請求項７に記載の装置。
【請求項１５】
前記活性層の厚さが約５〜２００ｎｍである請求項７に記載の装置。
【請求項１６】
前記活性層の厚さが約１０〜５０ｎｍである請求項１３に記載の装置。
【請求項１７】
第１の表面と、前記第１の表面の少なくとも１つの領域にアルミナ又はアルミニウムを含むと共に、ナノ構造表面を有する非ケイ素材料の第１の膜層とを有する基材と、
前記第１の膜層に蒸着したケイ素又はタングステンを含む第２の材料の活性層と、
前記活性層の少なくとも第１の領域と関連した少なくとも第１の分析物と、
前記少なくとも第１の領域でエネルギーを導いて、前記第１の分析物を前記第１の領域から脱離するべく配置されたレーザーと、
前記活性層から脱離された前記少なくとも第１の分析物を受けるべく配置された質量分析器とを含み、レーザー脱離中に、前記活性層が分析物へのエネルギーの取込みおよび移動を支援する質量分析システム。
【請求項１８】
第１の表面を有する支持基材を提供する工程と、
前記第１の表面にアルミニウム又はアルミナを含んだ非ケイ素膜層を蒸着する工程と、
前記非ケイ素膜層からナノ構造表面を形成する工程と、
前記ナノ構造表面にケイ素又はタングステンを含んだ活性層を蒸着する工程と、
前記活性層の１つ以上の領域に１つ以上の分析物を蒸着する工程とを含む１つ以上の分析物の分析に有用な装置を製造する方法。
【請求項１９】
前記第１の表面に非ケイ素層を蒸着する工程が、物理蒸着、レーザーアブレーション、低温ＣＶＤ、高温ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、スプレーコーティング、ディップコーティングまたはスピンコーティングを用いて前記基材の前記第１の表面に前記非ケイ素膜層を蒸着する工程を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記ナノ構造表面を形成する工程が、（ａ）アルミナまたはアルミニウム膜を水または水蒸気に約９０〜１００℃の温度で約５〜３０分間露出する工程か、または（ｂ）前記アルミナまたはアルミニウム膜層を加圧滅菌する工程のいずれかを含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記活性層の前記表面を１つ以上の官能基で官能化する工程をさらに含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記１つ以上の官能基が、炭化水素分子、フルオロカーボン分子または両種の分子の短鎖ポリマーを含む機能性有機層を含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
第１の表面を有する支持基材と、前記第１の表面に蒸着したナノ構造表面を有するアルミナ又はアルミニウムを含んだ非ケイ素薄膜と、前記薄膜層に蒸着したケイ素又はタングステンを含んだ活性層と、前記活性層の１つ以上の領域と関連した１つ以上の分析物とを提供する工程と、
前記１つ以上の分析物を、前記表面に向けられたレーザーからのエネルギーにより、前記１つ以上の領域から脱離する工程と、
前記１つ以上の分析物を質量分析器で分析する工程とを含む質量分析を実施する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年8月1日(2008.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波で構造を検査するための装置であって、
構造の第１の表面に近接して配置されるよう構成される駆動されたプローブを含み、前記駆動されたプローブは、前記駆動されたプローブが構造の第１の表面上を動かされる間、構造を検査するための磁石およびセンサを含み、さらに、
構造の対向する第２の表面に近接して配置されるよう構成される追跡プローブを含み、前記追跡プローブも、駆動されたプローブおよび追跡プローブをそれぞれ構造の第１および第２の表面の方へ引寄せるように前記駆動されたプローブの前記磁石と協働するための磁石を含み、前記駆動されたプローブおよび追跡プローブの間の磁力が、前記駆動されたプローブの対応する動きに応答して、構造物の第２の表面上を前記追跡プローブが動かされるようにし、前記駆動されたプローブおよび前記追跡プローブの少なくとも１つが、前記駆動されたプローブの前記センサおよび前記追跡プローブの間の位置合わせ不良を補正するための位置合わせ補償器を含む、装置。
【請求項２】
前記位置合わせ補償器は、前記駆動されたプローブおよび前記追跡プローブの間の磁力を少なくとも部分的に変えるための永久磁石を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記位置合わせ補償器は、前記駆動されたプローブおよび前記追跡プローブの間の磁力を少なくとも部分的に変えるための電磁石を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記位置合わせ補償器はさらに、
前記位置合わせ補償器の前記電磁石に電気的に接続される可変電源と、
前記位置合わせ補償器の前記可変電源に相互運用可能に接続されるコントローラとを含む、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記位置合わせ補償器はさらに、前記コントローラに通信可能に接続される位置合わせセンサを含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記コントローラは、前記位置合わせセンサによって受取られ、前記コントローラに通信される信号に基づいて前記電磁石への電力を調整することができる、請求項５に記載の
装置。
【請求項７】
構造を検査するための方法であって、
構造の第１の表面に近接して駆動されたプローブを位置決めし、構造の対向する第２の表面に近接して追跡プローブを位置決めするステップと、
駆動されたプローブおよび追跡プローブがそれぞれ構造の第１および第２の表面に向かって引寄せられるように、駆動されたプローブおよび追跡プローブの間に磁力を確立するステップと、
追跡プローブが構造の第２の表面に沿って対応して動かされるように、駆動されたプローブを構造の第１の表面に沿って動かすステップと、
結果として生じる磁力が追跡プローブおよび駆動されたプローブを位置合わせするのに非対称であるように、磁力に位置合わせ補償磁界を導入することによって駆動されたプローブおよび追跡プローブの間の磁力を少なくとも部分的に変えるステップと、
駆動されたプローブが構造の第１の表面に沿って動かされ、追跡プローブが構造の第２の表面に沿って対応して動かされる間、構造に対して超音波信号を送信し、構造から超音波信号を受取るステップとを含む、方法。
【請求項８】
磁力を変える前記ステップは、駆動されたプローブおよび追跡プローブの間の位置合わせ不良を補償するための位置合わせ補償器の電磁石を作動するステップを含む、請求項７に記載の構造を検査するための方法。
【請求項９】
磁力を変える前記ステップは、駆動されたプローブおよび追跡プローブの間の位置合わせを感知するステップをさらに含む、請求項８に記載の構造を検査するための方法。
【請求項１０】
駆動されたプローブおよび追跡プローブの間の位置合わせを感知する前記ステップは、駆動されたプローブおよび追跡プローブの少なくとも１つから受取られる超音波信号をモニタするステップを含む、請求項９に記載の構造を検査するための方法。
【請求項１１】
磁力を変える前記ステップはさらに、
駆動されたプローブおよび追跡プローブの構造のそれぞれ第１および第２の表面に沿った動きの速度、駆動されたプローブおよび追跡プローブの構造のそれぞれ第１および第２の表面に沿った動きの加速、駆動されたプローブおよび追跡プローブの構造のそれぞれ第１および第２の表面に沿った垂直から水平位置のグループから選択される少なくとも１つの特性における変化をモニタするステップと、
モニタされた変化を補償するために位置合わせ補償器の少なくとも１つの電磁石の磁界強度を調整するステップとを含む、請求項９に記載の構造を検査するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月19日(2008.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架橋多糖類系クロマトグラフィーマトリックスの製造方法であって、
（ａ）水酸基の少なくとも一部が求核攻撃に非感受性の基で置換された１種以上のゲル化性多糖類の水溶液を準備する工程、
（ｂ）置換多糖類溶液の実質的に球形の液滴を準備する工程、
（ｃ）置換多糖類溶液のゲルを形成する工程、及び、
（ｄ）ゲルを架橋する工程
を含んでなる方法。
【請求項２】
前記求核攻撃に非感受性の基がエーテル、エステル、アミド及びキサンテートからなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記多糖類がアガロースである、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記多糖類のゲル化温度が対応する非置換多糖類のゲル化温度よりも１℃以上低い、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記架橋工程が架橋剤を添加することを含む、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
架橋後に前記求核攻撃に非感受性の基を開裂する、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記求核攻撃に非感受性の基が加水分解によって開裂するエステル基である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
架橋後に、ゲル化した多糖類の水酸基にクロマトグラフィーリガンドを結合させる後工程を含む、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
ゲル化した多糖類のアリル基にクロマトグラフィーリガンドを結合させる後工程を含む、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｂ）を、置換多糖類溶液の多糖類メンブランを準備する工程で置き換える、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動物体のナビゲーションパラメータを決定する方法であって、
（ａ）測距信号源から受信する信号から該記物体での擬似距離（ＰＲ）測定値を測定することと、
（ｂ）該記測距信号源から受信する信号から該物体での累積デルタ距離（ＡＤＲ）測定値を測定することと、
（ｃ）連続するＡＤＲ測定値の間の時間間隔よりも大きな時間間隔によって分離される、ＡＤＲ測定値の間のＡＤＲ差を計算することと、
（ｄ）該ＰＲ測定値および該ＡＤＲ差から該移動物体の少なくとも一つのナビゲーションパラメータを推定することと
を包含する、方法。
【請求項２】
前記ＡＤＲ差を計算するために使用される、ＡＤＲ測定値の間の最適な時間間隔を決定することをさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＡＤＲ測定値の間の前記最適な時間間隔を決定することは、二つのＡＤＲ測定値に対する速度推定値誤差の分散の最小値を計算することを包含する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記最適な時間間隔を決定することは伝播モデルの精密さに依存し、より精密な伝播モデルが使用されるときには、該最適な時間間隔はより長くなり得る、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
推定することは、前記物体の瞬間速度推定値を導き出すために、該物体の位置および速度を示す状態ベクトルの少なくとも速度成分に関する、前記ＡＤＲ差の偏導関数を計算することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
推定することは、前記物体の瞬間速度推定値を導き出すために、該物体の位置および速度を示す状態ベクトルの少なくとも速度成分に関する、前記ＡＤＲ差の偏導関数を計算することと、時間Ｎ−１での該状態ベクトルに基づいて時間Ｎにおける該物体に対する該状態ベクトルを計算する伝播方程式を用いて、該状態ベクトルを伝播することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
計算すること（ｃ）は、ＡＤＲ測定値が測定される連続する基準時点の間の期間よりも大きな前記期間によって分離される二つの基準時点での、ＡＤＲ測定値の間のＡＤＲ差を計算することを包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
移動物体の位置および速度を決定する方法であって、
（ａ）測距信号源から受信する信号から、該物体での擬似距離（ＰＲ）測定値を測定することと、
（ｂ）該測距信号源から受信する信号から、該物体での累積デルタ距離（ＡＤＲ）測定値を測定することと、
（ｃ）連続するＡＤＲ測定値の間の時間間隔よりも大きな時間間隔によって分離される、ＡＤＲ測定値の間のＡＤＲ差を計算することと、
（ｄ）該ＰＲ測定値および該ＡＤＲ差および以前の状態での状態ベクトルから、現在の状態での前記物体の少なくとも位置および速度を備える状態ベクトルの成分を推定することと
を包含する、方法。
【請求項９】
計算すること（ｃ）は、前記時間間隔によって分離されるＡＤＲ測定値に対するＡＤＲ差を計算することを包含し、該時間間隔は、二つのＡＤＲ測定値に対する速度推定値誤差の分散の最小値を計算することによって決定される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
推定することは、前記物体の瞬間速度推定値を導き出すために、前記状態ベクトルの少なくとも速度成分に関する、前記ＡＤＲ差の偏導関数を計算することを包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
命令を記憶する、処理装置で読み取り可能な媒体であって、該命令は、処理装置によって実行されるときには、該処理装置に、
（ａ）測距信号源から受信する信号から、物体での擬似距離（ＰＲ）測定値を取得させ、
（ｂ）該測距信号源から受信する信号から、該物体での累積デルタ距離（ＡＤＲ）測定値を取得させ、
（ｃ）連続するＡＤＲ測定値の間の時間間隔よりも大きな時間間隔によって分離される、ＡＤＲ測定値の間のＡＤＲ差を計算させ、
（ｄ）該ＰＲ測定値および該ＡＤＲ差から移動物体の少なくとも一つのナビゲーションパラメータを推定させる、
媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月10日(2008.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９１】
これらの測定値は、ＦＭＵＴが、以下に示されるように表２に示されるプロセス条件を受ける間に行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９２】
【表２】
2008513774.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９４】
表２の各ランに関して、複数の実際の質量流れの測定値、ＦＭＵＴ温度、およびＦＭＵＴ駆動周波数が行われる。以下のようであるとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２０】
図１１の要素１１０６は、要素１００６および１１０４の出力を受信し、かつ式１．５を解くことによって示される質量流量を導く。これらの機能は、図１５のメモリ１５０２およびプロセッサ１５０１によって実行される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月13日(2008.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つもしくはそれ以上の精油所プロセスの金属学に対する精油所供給原料の腐食作用を評価する方法において、
（ｉ）複数の精油所供給原料および／または１つもしくはそれ以上の精油所供給原料の複数のフラクションを供給し、
（ｉｉ）精油所に存在する金属学の代表である複数の金属試料からなるアレイを供給し、
（ｉｉｉ）複数の金属試料のそれぞれを１つもしくはそれ以上の異なる精油所供給原料もしくはフラクションと非静電条件下で接触させ、
（ｉｖ）金属試料に対する前記供給原料および／またはフラクションの腐食作用を決定し、
工程（ｉｉｉ）の各接触を並列で行う
ことを特徴とする評価方法。
【請求項２】
精油所供給原料を原油、合成原油、バイオ成分、中間流、たとえば残油、ガス油、減圧ガス油、ナフサもしくは熱分解原料、および前記成分の１つもしくはそれ以上のブレンドから選択する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
精油所に存在する金属学の代表である金属試料を炭素鋼、クロム鋼および／またはステンレス鋼から選択する請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
金属試料のミクロ加工アレイを使用して行う請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
１つもしくはそれ以上の精油所供給原料の複数のフラクションを、ミクロ蒸留カラムもしくはミクロフラクショネータの使用により得る請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
精油所供給原料を分割して複数の部分（すなわち複数の金属試料のそれぞれにつき１つ）を生成させ、ここで各部分を処理して金属試料と接触させるための特定沸点範囲を有するフラクションを生成させる請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
工程（ｉｉｉ）の非静電条件が金属試料を精油所供給原料および／またはフラクションと可変流動条件、可変剪断条件および／または可変温度条件の下で接触させることを含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
金属試料がワイヤ、薄いシートもしくはメッシュの形態である請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
金属試料の温度を抵抗加熱により調節すると共に監視する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
精油所供給原料および／またはフラクションを複数の抵抗加熱金属ワイヤもしくはメッシュ試料にわたり流動させると共に、経時的に抵抗変化を測定して前記金属試料の腐食速度を決定する請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
腐食作用を、溶液における腐食金属の濃度を測定することにより測定する請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月22日(2008.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧製品を分配するための容器であって、前記容器は、
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又は類似のプラスチック材料から延伸ブロー成形されるとともに開口部を包囲する形状化された首部を有する本体と、
プラスチック材料から射出成形されるとともに、前記開口部の周囲にて、前記本体の前記形状化された首部とスナップ式に嵌合するように形状化されたカラーと、
前記首部及びカラーに取り付けられる分配バルブであって、可鍛性材料から形成され、かつ力を加えることにより前記カラーの周囲に嵌合されるとともに同カラーに保持されるように形状化された外側フランジを有する分配バルブと、
を含む、容器。
【請求項２】
前記形状化された首部はその周囲に環状の凹部を含み、かつ前記カラーは同カラーから内向きに突出する環状リップを含み、それにより前記リップが前記凹部と協働するように構成されて、前記カラーが前記本体の前記首部にスナップ式に嵌合される、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
前記首部は同首部の周囲に外向きに配置された突出部を含み、それにより、前記カラーは前記突出部とスナップ式に嵌合され、かつ前記容器に保持される、請求項１又は２に記載の容器。
【請求項４】
前記突出部は、画定されたリップ、外向きテーパ、又は前記首部の上側部に向かって直径が徐々に拡大する拡径部のうちの任意の一つ以上である、請求項３に記載の容器。
【請求項５】
前記分配バルブは、ゴム又は同様の材料から形成されるとともに、前記首部と前記フランジとの間に配置されて前記製品の漏出を回避するシールを更に含む、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の容器。
【請求項６】
前記本体は、蓋を解放可能に係合するための蓋係合手段を備える、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の容器。
【請求項７】
前記本体は、ベースを同本体に取り付けるためのベース係合手段を備える、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の容器。
【請求項８】
前記容器は、同容器に構造的な強度を与えるために、同容器の周囲に少なくとも一つの強化リブを組み込んでいる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の容器。
【請求項９】
前記本体は、同本体にラベルを適用するためのほぼ円筒状の中間部を備える、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１０】
加圧製品を分配するための容器を形成するための予備成形物であって、前記予備成形物はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又は同様のプラスチック製材料から射出成形され、前記予備成形物は、形状化された首部を有し、前記首部の先端部は、ブロー成形装置と、製造の後の段階における切断装置とのいずれにも支持可能なように構成されている、予備成形物。
【請求項１１】
前記予備成形物は後に延伸ブロー成形するために使用され、射出成形されたプラスチック製のカラーと、加圧製品を分配するために取り付けられるとともに使用される分配バルブとを有する、請求項９に記載の予備成形物。
【請求項１２】
加圧製品を分配するための容器を製造する方法において、前記方法は、
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又は同様のプラスチック製材料からの予備成形物を射出成形する工程と、前記予備成形物が、形状化された首部を有し、かつ前記首部の先端部は、ブロー成形装置と製造の後の製造工程における切断装置とのいずれにおいても支持可能なように構成されていることと、
容器が前記形状化された首部から延伸するように前記予備成形物を延伸ブロー成形する工程と、
前記首部が開口部を包囲するように、前記首部の先端部を前記容器から切断する工程と、
射出成形されたプラスチック製カラーを、前記容器の前記首部に、前記開口部を包囲する位置にてスナップ式に嵌合する工程と、
前記首部及びカラーに分配バルブを取り付ける工程と、前記バルブは、可鍛性材料から形成されるとともに、前記カラーの周囲にて力を加えることにより同カラーに嵌合されるとともに保持されるように形状化された外側フランジを含むことと、
からなる方法。
【請求項１３】
前記首部は外向きにテーパ状であり、それにより、前記首部の先端部が切断された場合に、前記カラーのスナップ式嵌合を助けるべく作用する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記分配バルブを取り付ける工程の前に、前記製品が前記容器内に供給され、その後、前記分配バルブが取り付けられた後に前記製品が前記容器内にて加圧される、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載の方法は、
前記本体の上側部に蓋を解放可能に取り付ける工程と、
前記本体の下側部にベースを係合する工程と、
前記本体の中間部にラベルを適用する工程と、
からなる工程のうちの一つ以上を更に含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月30日(2008.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記本体デッキは少なくとも、（Ａ）前記第１分配領域を画定するデッキ第１部分と、（Ｂ）前記第２分配領域を画定するデッキ第２部分とを有し、
前記本体は、（Ａ）前記デッキ第１部分及び前記デッキ第２部分より高い高位にある高められたプラットフォームを含み、（Ｂ）少なくとも前記デッキ第１部分と前記デッキ第２部分との間に延び、（Ｃ）環状スナップフィット保持ビードを備えた１つのアンカー凹所を画定し、
前記本体は少なくとも２つの上向きに突出する壁を含み、各壁は（Ａ）前記プラットフォームに隣接して位置し、（Ｂ）前記プラットフォームより高い高位に延びており、
前記突起の１つは、前記２つの壁の１つから前記の高くなったプラットフォームを覆って横方向に突出し、
頂部を含み、前記頂部は、
（Ａ）前記第１蓋と、
（Ｂ）前記第２蓋と、
（Ｃ）定置中央パネルと、
（Ｄ）アンカー・ポストであって、
（１）前記中央パネルの下から突出しており、
（２）前記アンカー・ポストが前記アンカー凹所の中に挿入されると、前記アンカー・ポスト保持ビードと協働して前記中央パネルを前記プラットフォームに取り付けるスナップフィット係合部を作り出すアンカー・ポストと、
（Ｅ）前記中央パネルを前記第１蓋に連結する第１蝶番と、
（Ｆ）前記中央パネルを前記第２蓋に連結する第２蝶番と
を含む請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月4日(2008.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験体において１つ以上の薬物の望ましい濃度範囲を維持するための組成物であって、該組成物は、該被験体に該薬物に特異的に結合する少なくとも１つの抗体またはその抗原結合フラグメントを同時または逐次的に、およびいずれかの順序で投与するのに適している少なくとも１用量の薬物を含み、ここで該抗体に関しては抗体解離定数ＫＤは該薬物の望ましい濃度に実質的に類似する値を有し、かつ該抗体解離定数ＫＤは該被験体における特異的な薬物標的に対する該薬物の親和性とは独立している、組成物。
【請求項２】
被験体の身体区画において１つ以上の薬物の望ましい濃度範囲を維持するための組成物であって、該方法は、該身体区画に該薬物に特異的に結合する少なくとも１つの抗体またはその抗原結合フラグメントを同時または逐次的かついずれかの順序で投与するのに適している少なくとも１用量の薬物を含み、ここで該抗体に関しては抗体解離定数ＫＤは該薬物の望ましい濃度に実質的に類似する値を有し、かつ該抗体解離定数ＫＤは該被験体における特異的な薬物標的に対する該薬物の親和性とは独立している、組成物。
【請求項３】
前記身体区画が中枢神経系区画、心膜、胸膜腔、眼窩後区画、眼区画、関節包、リンパ区画、腹膜区画、鼻内区画、肺区画、および泌尿生殖器区画からなる群より選択される区画を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記身体区画が中枢神経系区画を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
前記身体区画が中枢神経系区画を含み、そして前記薬物を含む組成物は、髄腔内、脳室内、実質、硬膜下、くも膜下または硬膜外に投与するのに適している、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
前記薬物を含む組成物は、少なくとも２用量において投与するのに適している、請求項２に記載の組成物。
【請求項７】
前記抗体および前記薬物を含む組成物は、ほぼ等モル濃度で投与するのに適している、請求項２に記載の組成物。
【請求項８】
前記抗体および前記薬物を含む組成物は、抗体対薬物モル比が少なくとも２：１で投与するのに適している、請求項２に記載の組成物。
【請求項９】
前記抗体がモノクローナル抗体である、請求項２に記載の組成物。
【請求項１０】
前記抗体がキメラ抗体またはヒト化抗体である、請求項２に記載の組成物。
【請求項１１】
前記抗原結合フラグメントがＦａｂフラグメント、Ｆａｂ’フラグメント、（Ｆａｂ’）２フラグメント、Ｆｄフラグメント、Ｆｖフラグメント、ｓｃＦｖ、ｄＡｂおよびダイアボディからなる群より選択される、請求項２に記載の組成物。
【請求項１２】
前記少なくとも１用量の第１薬物を含む組成物は、該第１薬物に特異的に結合する少なくとも１つの第１抗体またはその抗原結合フラグメントと一緒に投与するのに適しており；少なくとも１用量の第２薬物を含む組成物は、該第２薬物に特異的に結合する少なくとも１つの第２抗体またはその抗原結合フラグメントと一緒に投与するのに適している、請求項２に記載の組成物。
【請求項１３】
前記抗体またはその抗原結合フラグメントが前記薬物に特異的に結合する複数の抗体またはその抗原結合フラグメントを含み、ここで該抗体の各々は該薬物の望ましい濃度範囲内である望ましい濃度範囲に実質的に類似する値を有する抗体解離定数ＫＤを有する、請求項２に記載の組成物。
【請求項１４】
被験体の中枢神経系区画において該薬物の望ましい濃度範囲を維持するための組成物であって、該組成物は、該中枢神経系区画に該薬物に特異的に結合する抗体またはその抗原結合フラグメントを同時または逐次的かついずれかの順序で投与するのに適している少なくとも１用量の薬物を含み、ここで該抗体に関しては抗体解離定数ＫＤは薬物の望ましい濃度に実質的に類似する値を有し、そして該抗体解離定数ＫＤは被験体における特異的な薬物標的に対する該薬物の親和性とは独立している、組成物。
【請求項１５】
前記被験体が中枢神経系疾患または障害を有する、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記中枢神経系疾患または障害が新生物による症状、神経変成疾患、血管疾患および自己免疫疾患からなる群より選択される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記被験体が中枢神経系の新生物による症状を有する、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１８】
前記新生物による症状がグリオーマ、星細胞腫、神経線維腫、神経芽細胞腫、リンパ腫、脳転移、ならびに脳実質、髄膜、脳神経、下垂体、松果体、乏突起膠細胞、上衣および脈絡叢のうちの少なくとも１つに存在する腫瘍からなる群より選択される、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
被験体の身体区画における薬物の望ましい濃度範囲を維持することができる抗体を同定するための方法であって、該方法は、
（ａ）該被験体の身体区画において維持される該薬物の望ましい濃度範囲を決定すること；ならびに
（ｂ）該薬物に特異的に結合し、かつ該身体区画において維持される該薬物の望ましい濃度に実質的に類似する値を有する抗体解離定数ＫＤを有する抗体を調製し、そしてそれにより該薬物の望ましい濃度範囲を維持することができる抗体を同定すること；
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月30日(2008.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンポーネント（複数）を受容し、底部に形成された少なくとも２つの凹みを備えた底部と、底部に結合されたカバーフィルムとを有する多チャンバ形包装であって、コンポーネント（複数）を相互に混合するため、少なくとも２つの凹みの間の結合範囲を圧力印加によって引離すことができる形式のものにおいて、
カバーフィルムが、性質の異なる２つのフィルム（２０，３０）から構成され、
第１のフィルムとして、ガス通気性に構成されたプラスチックフィルム（２０）が底部（１０）に対向して配設され、
底部（１０）を形成するフィルム及び上側を部分的にのみ被う第２のフィルム（３０）がガス非通気性フィルムであり、
少なくとも１つの凹み（１１）の上部に配されたガス通気性面を形成する部分が、ガス通気性のプラスチックフィルム（２０）のみによって被われていること、
を特徴とする多チャンバ形包装。
【請求項２】
ガス排出面が、ガス通気性プラスチックフィルム（２０）を被う第２のフィルムとしての高バリヤフィルムに設けた多数の打抜き部分により構成されることを特徴とする、請求項１記載の多チャンバ形包装。
【請求項３】
前記ガス通気性プラスチックフィルム（２０）が、透明であるか、有色であることを特徴とする請求項１の多チャンバ形包装。
【請求項４】
前記ガス通気性プラスチックフィルム（２０）が、透明であり、該フィルムには、少なくとも部分的に印刷マーク（Ｄ）が印刷されていることを特徴とする請求項１又は２の多チャンバ形包装。
【請求項５】
印刷マークの印刷色が、コンポーネント（Ｐ１，Ｐ２）の正しい完全な混合物の色に対応することを特徴とする請求項４の多チャンバ形包装。
【請求項６】
双方の凹み（１１，１２）の間に、結合範囲のシールのため、１８０°の折畳み部分を含む賦活防止手段が備えられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の多チャンバ形包装。
【請求項７】
ウェブ（５）が、双方の凹み（１１，１２）の間のほぼ中心に設けてあり、従って、包装を、フィルム（２０，３０）とともに、折畳むことができ、この位置において係止できることを特徴とする請求項６の多チャンバ形包装。
【請求項８】
付着ラベル（４１）または切込みによって係止を達成することを特徴とする請求項７の多チャンバ形包装。
【請求項９】
対向側の切込み（４１Ａ；４２Ｂ，４２Ｃ）によって係止を達成することを特徴とする請求項７の多チャンバ形包装。
【請求項１０】
折畳箱（４０）などの囲み包装によって係止を達成することを特徴とする請求項７の多チャンバ形包装。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この課題は、本発明にもとづき、下記の多チャンバ形包装によって解決される。即ち、コンポーネント（複数）を受容し、底部に形成された少なくとも２つの凹みを備えた底部と、底部に結合されたカバーフィルムとを有する多チャンバ形包装であって、コンポーネント（複数）を相互に混合するため、少なくとも２つの凹みの間の結合範囲を圧力印加によって引離すことができる形式のものにおいて、
カバーフィルムが、性質の異なる２つのフィルムから構成され、
第１のフィルムとして、ガス通気性に構成されたプラスチックフィルムが底部に対向して配設され、
底部を形成するフィルム及び上側を部分的にのみ被う第２のフィルムがガス非通気性フィルムであり、
少なくとも１つの凹みの上部に配されたガス通気性面を形成する部分が、ガス通気性のプラスチックフィルムのみによって被われていること、を特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の基本的考え方は、“必要プロフィル”に適合した双方のフィルムによって底部または双方の凹み内にあるコンポーネント（複数）を選択的に被うことによって、双方の凹みのために気密性および透光性に関して所望の物理的性質を別個（各別）に“調節”すると云うことにある。
即ち、コンポーネントを受容する少なくとも２つの凹みを備えた底部と、底部に結合されたカバーフィルムとを有する多チャンバ形包装であって、コンポーネント（複数）を相互に混合するため、少なくとも２つの凹みの間の結合範囲を圧力印加によって引離すことができる形式のものにおいて、
カバーフィルムが、性質の異なる２つのフィルムから構成され、少なくとも１つの凹みの上方の部分または面が、双方のフィルムのうち１つのフィルムのみによって被われていることを特徴とする多チャンバ形包装。（形態１）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この場合、従属請求項に詳細に説明した多数の可能な態様が得られる。
底部へ向くフィルムが、プラスチックフィルムであることを特徴とする。（形態２）
上側を形成するフィルムが、特にガス（例えば、水蒸気）を透過しないフィルム（高バリヤフィルム）、例えば、アルミニウムフィルムであることを特徴とする。（形態３）
前記プラスチックフィルムが、通気性であることを特徴とする。（形態４）
前記プラスチックフィルムが、透明であるか、有色であることを特徴とする。（形態５）
前記プラスチックフィルムが、透明であり、該フィルムには、少なくとも部分的に印刷マークが印刷されていることを特徴とする。（形態６）
印刷マークの印刷色が、コンポーネントの正しい完全な混合物の色に対応することを特徴とする。（形態７）
ウェブが、双方の凹みの間のほぼ中心に設けてあり、従って、包装を、フィルムとともに、折畳むことができ、この位置において係止でき、かくして、ウェブの不測な開放が避けられることを特徴とする。（形態８）
付着ラベルまたは切込みによって係止を達成することを特徴とする。（形態９）
対向側の切込みによって係止を達成することを特徴とする。（形態１０）
囲み包装、特に、折畳箱によって係止を達成することを特徴とする。（形態１１）
ガス排出面が、ガス通気性プラスチックフィルムを被う第２のフィルムとしての高バリヤフィルムに設けた多数の打抜き部分により構成されることを特徴とする。（形態１２）
双方の凹みの間に、結合範囲のシールのため、１８０°の折畳み部分を含む賦活防止手段が備えられていることを特徴とする。（形態１３）
なお、特許請求の範囲の各請求項に付記した図面参照符号は、専ら理解を助けるためのものであって、図示の態様に限定することを意図するものではない。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月17日(2008.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開封前に加圧されている１つの長方形物品又は複数の長方形物品を含むパック（１０）であって、
開封前の前記パック（１０）の内側の圧力は、前記パック（１０）の外側の圧力よりも大きく、かつ
前記長方形物品が、喫煙可能物品であるシガレットであることを特徴とするパック（１０）。
【請求項２】
前記パック（１０）の内側の圧力と前記パック（１０）の外側の圧力との間の差異が約１００ｍｂａｒ、好ましくは約２５０ｍｂａｒであることを特徴とする前記請求項１に記載のパック（１０）。
【請求項３】
前記パック（１０）の内側と外側との間の圧力差は、その内容物を含むパック（１０）に好ましくは弁又は好ましくはシール可能な孔を介して好ましくは窒素である不活性ガスなどの適切なガスを供給することによって達成されることを特徴とする前記請求項１または請求項２のいずれかの請求項に記載のパック（１０）。
【請求項４】
底部、上端部（２２）、及びウェブ又はスリーブ（２３）を含むことを特徴とする前記請求項１ないし３のいずれか１項に記載のパック（１０）。
【請求項５】
内側フレームを更に含むことを特徴とする請求項４に記載のパック（１０）。
【請求項６】
前記底部が、ガス注入手段を備えることを特徴とする請求項４または５のいずれか１項に記載のパック（１０）。
【請求項７】
前記底部が、従属フランジを有する第１の端部キャップによって形成され、前記上端部（２２）が、従属フランジを有する第２の端部キャップによって形成され、前記ウェブ又はスリーブ（２３）が、第１及び第２の端部キャップの従属フランジに巻かれて取り付けられることを特徴とする請求項４から６のいずれか１項に記載のパック（１０）。
【請求項８】
前記ウェブ（２３）が、少なくとも１層のプラスチック材料、好ましくはポリオレフィン、特にポリエチレン又はポリプロピレンを含む多層構造を有することを特徴する請求項４から７のいずれか１項に記載のパック（１０）。
【請求項９】
前記請求項のいずれかに記載のパック（１０）を製造するプロセスであって、
シガレットコレーションが前記パック（１０）内に包装され、前記パック（１０）は、２つの硬質プラスチック端部と、前記シガレットと前記端部キャップの従属フランジに巻かれたウェブ（２３）とを含み、前記パック（１０）の上端（２２）を形成する端部キャップがヒンジリッド（４１）を含み、
前記ヒンジリッド（４１）に箔が塗布され、
前記ウェブ（２３）がシールされ、
前記パック（１０）から孔を通して空気が排気され、
次いで前記パック（１０）は前記孔を通して窒素が充填され、
前記孔がシールによって閉鎖される、
ことを特徴とするプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月18日(2008.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロヘキセノンを含む有機混合物中のシクロヘキセノンの濃度を低減するための方法であって、前記有機混合物を、亜硫酸、亜硫酸の塩、またはアルカリ水酸化物の少なくとも１つを含む添加剤の有効量で処理する工程を含むことを特徴とする、方法。
【請求項２】
シクロヘキセノンとシクロヘキサノンとを含む有機混合物中の２−シクロヘキセン−１−オンの濃度を低減する方法であって、前記有機混合物を亜硫酸、亜硫酸の塩、アルカリ水酸化物、またはこれらの化合物の２つ以上の混合物からなる群から選択された添加剤の有効量で処理する工程を含むことを特徴とする、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明は、本願明細書に記載された特定の実施形態によって範囲において限定されるものではない。確かに、本願明細書に記載された改良に加えて、本発明の様々な改良は、前述の説明から当業者には明白であろう。従って、このような改良は、以下の添付された請求項の範囲内にあることが意図される。さらに、本発明は、特定の目的のために特定の環境での特定の実施という脈絡の中で本願明細書において説明されたが、当業者は、その有用性がそれに限定されず、任意の数の目的のために任意の数の環境において本発明が有利に実施されうることを理解するであろう。したがって、以下に示された請求項は、本願明細書に開示された本発明の全範囲と精神を考慮して解釈されるべきである。
本発明は、以下の態様を包含する。
[１]  シクロヘキセノンを含む有機混合物中のシクロヘキセノンの濃度を低減するための方法であって、前記有機混合物を、亜硫酸、亜硫酸の塩、またはアルカリ水酸化物の少なくとも１つを含む添加剤の有効量で処理する工程を含むことを特徴とする、方法。
[２]  前記有機混合物が、約６０〜約１６０℃の範囲の温度において処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[３]  前記有機混合物が約１０〜約９０分間、処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[４]  前記有機混合物が亜硫酸、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウムまたはこれらの化合物の２つ以上の混合物の少なくとも１つで処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[５]  前記有機混合物が亜硫酸の塩で処理され、前記有機混合物が炭酸ナトリウムでさらに処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[６]  前記有機混合物が亜硫酸水素ナトリウムで処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[７]  前記有機混合物が亜硫酸水素ナトリウムおよび炭酸ナトリウムで処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[８]  前記有機混合物が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、またはその２つの混合物で処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[９]  前記有機混合物が水酸化ナトリウムで処理されることを特徴とする、[８]に記載の方法。
[１０]  シクロヘキサノンを前記有機混合物に添加する工程を含むことを特徴とする、[８]に記載の方法。
[１１]  前記有機混合物がシクロヘキサノンおよびシクロヘキセノンを含むことを特徴とする、[１]に記載の方法。
[１２]  前記有機混合物がシクロヘキサノールをさらに含むことを特徴とする、[１１]に記載の方法。
[１３]  前記有機混合物が、シクロヘキサンを酸化する方法によって得られることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[１４]  前記有機混合物がシクロヘキサノールおよびシクロヘキセノンを含むことを特徴とする、[１]に記載の方法。
[１５]  前記有機混合物が亜硫酸、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウムまたはこれらの化合物の２つ以上の混合物で処理されることを特徴とする、[１４]に記載の方法。
[１６]  前記有機混合物がまた、炭酸ナトリウムで処理されることを特徴とする、[１５]に記載の方法。
[１７]  前記有機混合物が、シクロヘキセノンとシクロヘキサノールとを含む混合物を脱水素化する方法によって得られることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[１８]  前記有機混合物がシクロヘキサノールおよびシクロヘキサノンを含み、前記混合物が脱水素化方法の後に処理されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[１９]  前記添加剤が、シクロヘキセノンの濃度を約７５％低減させるために有効な量において添加されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[２０]  前記添加剤が、シクロヘキセノンの濃度を約９０％低減させるために有効な量において添加されることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[２１]  前記シクロヘキセノンが２−シクロヘキセン−１−オンであることを特徴とする、[１]に記載の方法。
[２２]  前記有機混合物が、シクロヘキサノールをフェノールから製造する方法によって得られたシクロヘキサノールを含むことを特徴とする、[１]に記載の方法。
[２３]  [１]の方法によって製造されたシクロヘキセノン減損有機混合物から製造されることを特徴とする、ε−カプロラクタムの製造に適したシクロヘキサノン供給原料。
[２４]  シクロヘキセノンとシクロヘキサノンとを含む有機混合物中の２−シクロヘキセン−１−オンの濃度を低減する方法であって、前記有機混合物を亜硫酸、亜硫酸の塩、アルカリ水酸化物、またはこれらの化合物の２つ以上の混合物からなる群から選択された添加剤の有効量で処理する工程を含むことを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月3日(2008.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相乗的に有効な量のＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチド及びＣＤ２０抗体を含有してなる、哺乳動物の癌細胞の治療のための医薬。
【請求項２】
前記癌細胞が、前記の相乗的に有効な量のＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチド及びＣＤ２０抗体にインビボで曝される、請求項１に記載の医薬。
【請求項３】
前記癌細胞がリンパ腫細胞である、請求項１に記載の医薬。
【請求項４】
さらに、一又は複数の成長阻害剤を含有してなる、請求項１に記載の医薬。
【請求項５】
前記細胞が放射線に曝される、請求項１に記載の医薬。
【請求項６】
相乗的に有効な量のＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチド及びＣＤ２０抗体を含有してなる、免疫関連疾患の治療のための医薬。
【請求項７】
前記免疫関連疾患が関節リウマチ又は多発性硬化症である、請求項６に記載の医薬。
【請求項８】
前記Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドが図１(配列番号１)に記載のアミノ酸１−２８１又はその断片ないしは変異体を含有してなる、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項９】
前記Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドが図１(配列番号１)に記載のアミノ酸１１４−２８１を含有してなる、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項１０】
前記Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドが、ＣＨＯ細胞、酵母菌及び大腸菌からなる群から選択される組み換え宿主細胞内で発現される、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項１１】
前記Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドがポリエチレングリコール分子に結合しているものである、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項１２】
前記ＣＤ２０抗体がモノクローナル抗体である、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項１３】
前記ＣＤ２０抗体が抗体リツキシマブである、請求項１２に記載の医薬。
【請求項１４】
前記Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチド及びＣＤ２０抗体が連続して投与される、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項１５】
前記Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチド及びＣＤ２０抗体が同時に投与される、請求項１又は６に記載の医薬。
【請求項１６】
(ａ)ＣＤ２０抗体を具備する容器と、
(ｂ)Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドを具備する容器と、
(ｃ)患者の癌を治療するための指示書を有するパッケージ挿入物
とを含んでなり、該指示書にＣＤ２０抗体及びＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドが癌の治療に相乗効果を与えるのに効果的な量で該患者に投与されることを示すものである製造品。
【請求項１７】
前記ＣＤ２０抗体がリツキシマブであり、Ａｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬポリペプチドが図１に記載のアミノ酸１１４−２８１を含んでなる、請求項１６に記載の製造品。
【請求項１８】
前記パッケージ挿入物が非ホジキンリンパ腫癌の治療についての指示を提供する、請求項１６に記載の製造品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月10日(2008.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
a)  水素生成供給原料から水素ガスを含む反応生成物を生成するように適合された触媒床
を含む反応チャンバー;および
b)  触媒床からの反応生成物を受け、反応生成物を(1)水素を含む生成物流および(2)副生成物流に分離するように適合された少なくとも１つの水素選択性水素透過性ガス分離モジュール
を含む反応器であって、
該ガス分離モジュールは、
(i)  多孔質基材;
(ii)  多孔質基材上に重層される中間多孔質金属層;および
(iii)  中間多孔質金属層上に重層される水素選択性膜
を含む、反応器。
【請求項２】
少なくとも１つの分布燃焼チャンバーが、前記触媒床と熱伝導的な関係である、請求項１記載の反応器。
【請求項３】
ガス分離モジュールがチューブである、請求項１または２記載の反応器。
【請求項４】
金属水素化物前駆物質が前記反応チャンバーから前記ガス分離モジュールによって分離され、前記金属水素化物前駆物質が、前記ガス分離モジュールを透過する水素と反応して金属水素化物を形成するように配置される、請求項１〜３いずれか記載の反応器。
【請求項５】
水素選択性膜が、パラジウムまたはその銅、銀、金、白金、ルテニウム、ロジウム、イットリウム、セリウムおよびインジウムからなる群より選択される少なくとも１種類の金属との合金で形成され、多孔質基材が、多孔質のセラミック基材またはステンレス鋼、クロムおよびニッケルを含む合金、ニッケル系合金、ならびにクロム、ニッケルおよびモリブデンを含む合金からなる群より選択される多孔質金属基材である、請求項１〜４いずれか記載の反応器。
【請求項６】
中間多孔質金属層がパラジウムまたはパラジウムおよびIB族金属を含む、請求項１〜５いずれか記載の反応器。
【請求項７】
中間多孔質金属層が、パラジウムおよびIB族金属の交互の層を含む、請求項１〜６いずれか記載の反応器。
【請求項８】
中間多孔質金属層が1マイクロメートル〜10マイクロメートルの平均厚さを有する、請求項１〜７いずれか記載の反応器。
【請求項９】
中間多孔質金属層の平均孔径が多孔質基材の平均孔径未満である、請求項１〜８いずれか記載の反応器。
【請求項１０】
セラミックの層が、多孔質基材上に重層され、かつ中間多孔質金属層の下にある、請求項１〜９いずれか記載の反応器。
【請求項１１】
多孔質基材の表面が酸化される、請求項１〜１０いずれか記載の反応器。
【請求項１２】
多孔質基材の表面を水素選択性金属の核でシードする、請求項１〜１１いずれか記載の反応器。
【請求項１３】
反応器が水蒸気改質反応器であり、触媒床が水蒸気改質触媒床である、請求項１記載の反応器。
【請求項１４】
反応器が脱水素反応器であり、触媒床が脱水素触媒床である、請求項１記載の反応器。
【請求項１５】
(a)  水素および二酸化炭素とより少ない量の一酸化炭素との混合物を生成させるための改質触媒を含む水蒸気改質反応チャンバー内で、200℃〜700℃の温度および約0.1MPa〜約20MPaの圧力で、水蒸気を水素生成供給原料と反応させること;および
(b)  水素選択性水素透過性ガス分離モジュールを用い、前記反応チャンバーならびに前記二酸化炭素および前記一酸化炭素から水素を分離することを含み;ここで、ガス分離モジュールは、
(i)  多孔質基材;
(ii)  前記多孔質基材上に重層される中間多孔質金属層;および
(iii)  中間多孔質金属層上に重層される水素選択性膜
を含む、水素の生成のための水蒸気改質方法。
【請求項１６】
請求項１〜１４いずれか記載の反応器を使用する、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
請求項１記載の反応器を含む一体型水蒸気改質反応器-水素燃料電池であって、水素を含有する生成物流が反応器から該水素燃料電池のアノード区画に送達され、反応器からの副生成物流が該水素燃料電池のカソード区画に送達される、水素燃料電池。