【手続補正書】
【提出日】平成20年4月7日(2008.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面及び第２の面を備えた化学反応装置と、前記化学反応装置はたがいに隣接して配置される２つ以上の単位反応装置からなることと、各単位反応装置は、
第１の処理層と、
第２の処理層と、
前記第１及び第２の処理層の間に設けられる第１の周辺バリアと、前記第１の周辺バリア、第１の処理層、及び第２の処理層によって第１の凹部を画成することと、前記第１の凹部は前記第１の面上に開口を有することと、
前記第２の処理層と隣接する単位反応装置の第１の処理層の間に設けられる第２の周辺バリアと、前記第２の周辺バリア、前記第２の処理層、及び前記単位反応装置の第１の処理層によって第２の凹部を画成すること、前記第２の凹部は前記第２の面上に開口を有することとを備え、前記第１の処理層及び第２の処理層のうちの一方は、前記第１の周辺バリア及び第２の周辺バリアのうちの少なくとも一方と結合してフレームを形成する、化学反応装置。
【請求項２】
前記第２の処理層は前記第１及び第２の周辺バリアの両方と結合して前記フレームを形成する、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項３】
前記第１の周辺バリアは前記第１の処理層と結合して第１のフレームを形成し、前記第２の周辺バリアは前記第２の処理層と結合して第２のフレームを形成している、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項４】
前記第１の処理層又は前記第２の処理層と前記第１の周辺バリア又は前記第２の周辺バリアは結合して同一材料からなるフレームを形成する、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項５】
前記フレームは一体形成される、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項６】
前記第１及び第２の周辺バリアは前記化学反応装置の動作に使用される１つ以上の反応物を透過しない、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項７】
前記第１の凹部は第１の反応物プレナムから燃料を受けるべく設けられている、請求項
１に記載の化学反応装置。
【請求項８】
前記２つ以上の単位反応装置は、前記第１の反応物プレナムを囲みかつ前記第１の反応物プレナムの形状を画成する、請求項７に記載の化学反応装置。
【請求項９】
前記フレームの一部は前記第１の反応物プレナムの一部と一体形成されている、請求項７に記載の化学反応装置。
【請求項１０】
前記第２の凹部は第２の反応物プレナム又は周囲雰囲気から酸化剤を受けるべく設けられている、請求項７に記載の化学反応装置。
【請求項１１】
前記第１の面が向いている面は、前記第２の面が向いている向きと反対である、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１２】
前記第１の面と前記第２の面は平面であり、互いに平行な面である、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１３】
前記化学反応装置は１ナノメートル〜２センチメートルの範囲の厚さを有する、平面型の構造である、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１４】
前記２つ以上の単位反応装置は、中心軸の周りに直角に配置され、中心軸について並行に配置され、又は、環状の形状をなす、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１５】
前記２つ以上の単位反応装置は、第１の反応装置及び第２の反応装置からなり、前記第１の反応装置のフレームは前記第２の反応装置のフレームに結合されている、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１６】
第１及び第２の処理層は前記第１の凹部の間及び第２の凹部の間での輸送プロセスを可能とさせる、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１７】
前記第１の処理層は前記第２の処理層とは異なる役割を果たすために設けられている、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１８】
前記第１の処理層と前記第２の処理層のうちの少なくとも一方は２つ以上の材料から形成されている、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項１９】
前記第１の処理層と前記第２の処理層のうちの少なくとも一方は、イオン伝導性又は導電性の処理層からなる、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項２０】
前記第１及び第２の凹部は少なくとも部分的に多孔性材料からなる、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項２１】
前記第１及び第２の処理層の間の距離によって画定される前記第１の凹部の高さは、前記第１の凹部の深さ又は幅よりも小さい、請求項１に記載の化学反応装置。
【請求項２２】
前記第２の処理層と前記隣接する単位反応装置の処理層の間の距離によって画定される前記第２の凹部の高さは、前記第２の凹部の深さ又は幅よりも小さい、請求項２１に記載の化学反応装置。
【請求項２３】
前記第１の処理層と前記第２の処理層は、各々の高さ、深さ、又は幅のうち少なくとも
１つの寸法において異なる、請求項２２に記載の化学反応装置。
【請求項２４】
前記第１の凹部又は第２の凹部における、高さ、深さ、又は幅のうちの少なくとも１つは、同一の凹部内において、寸法が異なる、請求項２２に記載の化学反応装置。
【請求項２５】
第１の面及び第２の面を備えた化学反応装置と、前記化学反応装置はたがいに隣接して配置される２つ以上の単位反応装置からなることと、各単位反応装置は、第１の処理層と、第２の処理層と、前記第１及び第２の処理層の間に設けられる第１の周辺バリアと、前記第１の周辺バリア、第１の処理層、及び第２の処理層によって第１の凹部を画成することと、前記第１の凹部は前記第１の面上に開口を有することと、前記第２の処理層と隣接する単位反応装置の第１の処理層の間に設けられる第２の周辺バリアと、前記第２の周辺バリア、前記第２の処理層、及び前記単位反応装置の第１の処理層によって第２の凹部を画成すること、前記第２の凹部は前記第２の面上に開口を有することとを備え、前記第１の処理層及び第２の処理層のうちの一方は、前記第１の周辺バリア及び第２の周辺バリアのうちの少なくとも一方と結合してフレームを形成する、化学反応装置の操作方法において、前記第１及び第２の凹部のそれぞれに対応する反応物を供給する工程を備える、化学反応装置の操作方法。
【請求項２６】
前記反応物を供給する工程は、前記第１の凹部に燃料を供給し、及び前記第２の凹部には酸化剤を供給する工程からなる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記反応物を供給する工程は、前記第１の凹部に燃料を供給し、及び前記第２の凹部を周囲雰囲気に晒す工程からなる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
各反応物は拡散によって対応する凹部全体を移動する、請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
各反応物は強制対流によって対応する凹部全体を移動する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
第１の面及び第２の面を備えた燃料電池組立体と、前記燃料電池組立体はたがいに隣接して配置される２つ以上の単位燃料セルからなることと、各単位燃料セルは、
(a) 第１の処理層と、
(b) 第２の処理層と、
(c) 前記第１及び第２の処理層の間に設けられる第１の周辺バリアと、前記第１の周辺バリア、第１の処理層、及び第２の処理層によって第１の凹部を画成することと、前記第１の凹部は前記第１の面に連通する開口を有することと、
(d) 前記第２の処理層と隣接する単位燃料セルの第１の処理層の間に設けられる第２の周辺バリアと、前記第２の周辺バリア、前記第２の処理層、及び前記隣接する単位燃料セルの第１の処理層によって第２の凹部を画成すること、前記第２の凹部は前記第２の面に連通する開口を有することとを備え、前記第１の処理層及び第２の処理層のうちの一方は、対応する単位燃料セルの前記第１の周辺バリア及び第２の周辺バリアのうちの少なくとも一方と結合してフレームを形成する、化学反応装置。
【請求項３１】
中心軸を有する小型化学反応装置において、
a. 少なくとも第１の単位反応装置及び第２の単位反応装置と、前記第１の単位反応装
置及び第２の単位反応装置は互いに隣接して設けられることによって前記小型化学反応装置の前面及び背面をなすことと、
b. 前記前面に連通している前部反応物プレナムと、
c. 前記背面に連通している背部反応物プレナムと、前記反応物プレナムのうちの少な
くとも１つは反応物を含むことと、
d. 各単位反応装置は前面及び背面を有するとともに、
i.  第１の処理層と、
ii. 第２の処理層と、
iii. 前記第１及び第２の処理層の間に画成される前部凹部と、
iv. 前記第２の処理層と隣接する単位燃料セルの第１の処理層の間に画成される背部凹部と、
v. 前記背部凹部を囲むように前記第２の処理層上に設けられた前部周囲バリアと、
vi. 前記前部凹部を囲むように前記第１の処理層上に設けられた背部周囲バリアとを備え、
vii. 前記前部凹部は前記前面と連通し、前記背部凹部は前記背面と連通し、及び、
前記処理層のうちの少なくとも１つは前記反応物プレナムの間での輸送プロセスを容易にさせる、小型化学反応装置
【請求項３２】
前記小型化学反応装置は燃料電池層からなる、請求項３１に記載の小型化学反応装置。
【請求項３３】
高アスペクト比を備えた凹部を有する小型化学反応装置の製造方法において、
a. ２つ以上の中間体組立体を形成する工程であって、
i. 処理層、周辺バリア及び少なくとも１つの低アスペクト比凹部からなる少なくと
も１つのフレーム、又は、
ii. 処理層、２つの周辺バリア及び前記処理層の片側に設けられた少なくとも２つの低アスペクト比凹部からなる少なくとも１つのフレーム、又は、
iii. 少なくとも１つの低アスペクト比凹部を備えた処理層の片側に周囲バリアを備
えた少なくとも１つの層、又は、
iv. i.及びiii.を一体に結合した組立体であって、各低アスペクト比凹部は前記周辺バリアによって囲まれることによって片面に開口を有している組立体
の中から部品を選択する、中間体組立体を形成する工程と、
b. それぞれが低アスペクト比凹部を備えている少なくとも２つの中間体組立体を、前
記中間体組立体の開口が隣接する中間体組立体の開口に対向するように設けて高アスペクト比凹部を有したユニット反応装置を形成し、２つ以上の処理層の間の距離によって画成される凹部の高さが同凹部の深さ又は幅よりも小さくなるように、一体に結合する工程と、
c. 第１の群のユニット反応装置と第２の群のユニット反応装置とを交互に配置するこ
とによってユニット反応装置を結合して小型化学反応装置を形成する工程であって、前記第１の群のユニット反応装置は前記第１の群のユニット反応装置の開口を通じて第１の反応物プレナムと連通する高アスペクト比凹部を有し、前記第２の群のユニット反応装置は前記第２の群のユニット反応装置の開口を通じて第２の反応物プレナムと連通する高アスペクト比凹部を有することによって、前記小型化学反応装置における反応物プレナムと処理層の間の輸送プロセスを可能とさせる、小型化学反応装置を形成する工程とからなる、方法。