【手続補正書】
【提出日】平成31年4月22日(2019.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームラインを生成するシステムであって、
照射ビームを走査するように構成されたビーム走査装置と、
前記ビームが第１の方向に走査されるように、前記ビームをサンプルの表面に向かわせるように位置決めされた対物レンズであり、前記対物レンズの光軸が前記第１の方向と垂直に配向するとともに、前記サンプルの表面に対して斜め入射角でさらに配向した、対物レンズと、
前記対物レンズと前記ビーム走査装置との間に位置決めされ、
前記第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと前記ビームを分割することと、
走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正することと、
を行うように構成された１つ以上の光学素子と、
を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記２本以上のオフセットビームが、２本以上の交互行を伴うオフセットビームの２次元アレイを含んでおり、前記２本以上の交互行が、前記第１の方向に配向したことを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の光学素子が、１つ以上の回折光学素子を含むことを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項３に記載のシステムであって、前記１つ以上の光学素子が、周期Ｔの格子を含むとともに、振幅Ａのデフォーカス波面変形をさらに含む回折光学素子を含んでおり、
前記回折光学素子が、前記第２の方向に分離された２つ以上の回折次数Ｋへと入射ビームを分割し、
前記２つ以上の回折次数Ｋが、走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合い、
前記回折光学素子が、Ｋ＝０、±１、±２・・・であり、ｙが前記第１の方向に対応し、ｘが前記第２の方向に対応するものとして、Ｋ＊［２＊π＊ｘ／Ｔ＋Ａ（ｘ＾２＋ｙ＾２）］の位相遅延を導入することを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項３に記載のシステムであって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、反射モードおよび透過モードの少なくとも一方で動作することを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項３に記載のシステムであって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、ホログラフィック格子を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の回折光学素子が、１つ以上の屈折光学素子を含むことを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムであって、前記１つ以上の屈折光学素子のうちの少なくとも１つが、マイクロレンズアセンブリを備えたことを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の光学素子が、前記第１の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するとともに前記走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するように構成された第１の光学素子と、前記第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するように構成された第２の光学素子とを含むことを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、前記サンプルからの光を受光するように位置決めされた１つ以上の検出器をさらに備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、前記２本以上のオフセットビームが、前記サンプル上の位置と無関係の一定のスポットサイズを有することを特徴とするシステム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、検出感度が前記サンプル上の前記ビームの位置と無関係であることを特徴とするシステム。
【請求項１３】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム走査装置が、音響光学偏向器、電気光学ビーム偏向器、多角形走査子、共鳴走査子、および検流計走査子のうちの少なくとも１つを具備したことを特徴とするシステム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム走査装置が、音響光学偏向器であり、当該音響光学偏向器に結合されたトランスデューサが、当該音響光学偏向器の固体媒質を伝搬する線形変動周波数の超音波の１つ以上のチャープパケットを生成し、前記１つ以上のチャープパケットが、ラインに沿って伝搬するスポットに対して、当該音響光学偏向器に入射する照射ビームの少なくとも一部を集束させる、音響光学偏向器を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシステムであって、前記音響光学偏向器に入射する前記ビームが、前記１つ以上のチャープパケットを同時に照射するように、前記固体媒質を完全に照射することを特徴とするシステム。
【請求項１６】
請求項１４に記載のシステムであって、前記ビーム走査装置が、前記音響光学偏向器中を伝搬するチャープパケットへと前記ビームを向かわせるように位置決めされたビーム偏向器であり、前記ビームのサイズが前記チャープパケットのサイズに対応する、ビーム偏向器をさらに備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１７】
傾斜面上にスポットを生成する装置であって、表面に対して斜角で配向した対物レンズの前のビーム走査システム中に位置決め可能な１つ以上の光学素子であり、前記レンズの光軸が前記表面により規定された平面上の第１の方向と垂直であり、
前記第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへとビームを分割することと、
走査中に前記表面上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正することと、
を行うように構成された、１つ以上の光学素子を備えたことを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置であって、前記２本以上のオフセットビームが、２本以上の交互行を伴うオフセットビームの２次元アレイを含んでおり、前記２本以上の交互行が、前記第１の方向に配向したことを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１７に記載の装置であって、前記１つ以上の光学素子が、１つ以上の回折光学素子を含むことを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の装置であって、前記１つ以上の光学素子が、周期Ｔの格子を含むとともに、振幅Ａのデフォーカス波面変形をさらに含む回折光学素子を含んでおり、
前記回折光学素子が、前記第２の方向に分離された２つ以上の回折次数Ｋへと入射ビームを分割し、
前記２つ以上の回折次数Ｋが、前記表面上で同時に焦点が合い、
前記回折光学素子が、Ｋ＝０、±１、±２・・・であり、ｙが前記第１の方向に対応し、ｘが前記第２の方向に対応するものとして、Ｋ＊［２＊π＊ｘ／Ｔ＋Ａ（ｘ＾２＋ｙ＾２）］の位相遅延を導入することを特徴とする装置。
【請求項２１】
請求項１９に記載の装置であって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、反射モードおよび透過モードの少なくとも一方で動作することを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項１９に記載の装置であって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、ホログラフィック格子を備えたことを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項１７に記載の装置であって、前記１つ以上の回折光学素子が、１つ以上の屈折光学素子を含むことを特徴とする装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載の装置であって、前記１つ以上の屈折光学素子のうちの少なくとも１つが、マイクロレンズアセンブリを備えたことを特徴とする装置。
【請求項２５】
請求項１７に記載の装置であって、前記１つ以上の光学素子が、前記第１の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するとともに前記２本以上のオフセットビームが前記走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するように構成された第１の光学素子と、前記第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するように構成された第２の光学素子とを含むことを特徴とする装置。
【請求項２６】
請求項１７に記載の装置であって、前記２本以上のオフセットビームが、前記サンプル上の前記ビームの位置と無関係の一定のスポットサイズを有することを特徴とする装置。
【請求項２７】
斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームを生成する方法であって、
照射ビームを生成するステップと、
前記ビームを斜角で表面に向かわせるステップであり、前記ビームが前記表面により規定された平面上の第１の方向と実質的に垂直である、ステップと、
前記ビームを向かわせるステップの前に、
前記第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと前記ビームを分割するステップと、
前記表面上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の方法であって、前記２本以上のオフセットビームが、交互行を伴うオフセットビームの２次元アレイを含んでおり、前記２本以上の交互行が、前記第１の方向に配向したことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
なお、本明細書において、２本以上のオフセットビーム１１１としては、任意数のビームが挙げられる。さらに、オフセットビーム１１１は、光学素子１０９からの回折次数の任意の組み合わせで生成されるようになっていてもよい。本開示の１つ以上の実施形態によれば、図３Ｃは、光学素子１０９の０次（非回折）で構成された第１のオフセットビーム１１１ｂおよび光学素子１０９の＋１の回折次数で構成された第２のオフセットビーム１１１ｃの構成を示している。本開示の１つ以上の実施形態によれば、図３Ｄは、光学素子１０９の−１次で構成された第１のオフセットビーム１１１ａおよび光学素子１０９の＋１の回折次数で構成された第２のオフセットビーム１１１ｃの構成を示している。さらに、走査ライン間の分離を大きくすると、マルチチャンネル検出器（たとえば、１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８）における隣接チャンネル間のクロストークが抑えられる場合もある。別の実施形態において、光学素子１０９により生成された回折次数と関連付けられた２本以上のオフセットビーム１１１は、システム１００の１つ以上のアイリスによって選択される。