【手続補正書】
【提出日】平成19年6月1日(2007.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成された表示部を有し、
前記表示部は、一方の基板に形成した絶縁層上に形成され、
前記一対の基板は、前記表示部の外周を囲んで、前記絶縁層上に形成されたシール材により固着され、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成され、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記第１の領域における前記絶縁層は保護膜により被覆された開口部を有し、かつ前記シール材は前記開口部を覆って前記保護膜に接して形成され、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部は、前記保護膜またはシール材により被覆されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
一対の基板間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成された表示部を有し、
前記表示部は、一方の基板に形成した絶縁層上に形成され、
前記一対の基板は、前記表示部の外周を囲んで、前記絶縁層上に形成されたシール材により固着され、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成され、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記第１の領域における前記絶縁層は、保護膜により被覆された複数の凹凸部を有し、かつ前記シール材は前記凹凸部を覆って前記保護膜に接して形成され、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部は、前記保護膜またはシール材により被覆されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
第１基板と第２基板との間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成された表示部を有し、
前記表示部は、前記第１基板に形成した絶縁層上に形成され、
前記第１基板と前記第２基板とは、前記表示部の外周を囲んで、前記絶縁層上に形成されたシール材により固着され、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成され、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記第１の領域における前記絶縁層及び前記第２基板は、複数の凹凸部を有し、前記絶縁層の複数の凹凸部は保護膜により被覆され、前記第１の領域において前記シール材は前記保護膜により被覆された前記絶縁層の複数の凹凸部、及び前記第２基板の複数の凹凸部に接して形成され、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部は、前記保護膜またはシール材により被覆されていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
第１基板と第２基板との間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成された表示部を有し、
前記表示部は、前記第１基板に形成した絶縁層上に形成され、
前記第１基板と前記第２基板とは、前記表示部の外周を囲んで、前記絶縁層上に形成されたシール材により固着され、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成され、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記絶縁層及び前記第２基板は保護膜により被覆された複数の凹凸部を有し、
前記第１の領域の前記シール材は前記保護膜により被覆された前記絶縁層及び前記第２基板の複数の凹凸部に接して形成され、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部は、前記保護膜またはシール材により被覆されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記第１の領域における前記絶縁層の外端部は、前記保護膜またはシール材により被覆されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、前記保護膜は導電性薄膜または絶縁性薄膜から選ばれた一種、または複数種からなることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６において、前記導電性薄膜はＡｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、ＷもしくはＳｉの元素から選ばれた一種、または複数種からなることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、前記導電性薄膜は、前記発光素子の下方に設けられたＴＦＴのソース電極又はドレイン電極と同じ材料からなり、かつ、同工程で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項６または請求項７において、前記絶縁性薄膜は窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、または窒素含有炭素膜から選ばれた一種、または複数種からなることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、前記有機樹脂材料はアクリル、ポリアミド、ポリイミド、またはアルキル基を含む酸化珪素から選ばれた一種、または複数種からなることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
一対の基板間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成された表示部を有し、
前記表示部を、一方の基板に形成した絶縁層上に形成し、
前記一対の基板を、前記表示部の外周を囲んで前記絶縁層上に形成したシール材により固着する表示装置の作製方法であって、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成し、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記第１の領域における前記絶縁層に保護膜により被覆した開口部を形成し、かつ前記シール材を前記開口部を覆って前記保護膜に接して形成し、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部を、前記保護膜またはシール材により被覆することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１２】
一対の基板間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成された表示部を有し、
前記表示部を、一方の基板に形成した絶縁層上に形成し、
前記一対の基板を、前記表示部の外周を囲んで前記絶縁層上に形成したシール材により固着する表示装置の作製方法であって、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成し、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記第１の領域における前記絶縁層に、保護膜により被覆した複数の凹凸部を形成し、かつ前記シール材を前記凹凸部を覆って前記保護膜に接して形成し、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部を、前記保護膜またはシール材により被覆することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１３】
第１基板と第２基板との間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成した表示部を有し、
前記表示部を、前記第１基板に形成した絶縁層上に形成し、
前記第１基板と前記第２基板とを、前記表示部の外周を囲んで前記絶縁層上に形成したシール材により固着する表示装置の作製方法であって、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成し、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記第１の領域における前記絶縁層及び前記第２基板に、複数の凹凸部を形成し、前記絶縁層の複数の凹凸部を保護膜により被覆し、
前記第１の領域において前記シール材を前記保護膜により被覆した前記絶縁層の複数の凹凸部、及び前記第２基板の複数の凹凸部に接して形成し、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部を、前記保護膜またはシール材により被覆することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１４】
第１基板と第２基板との間に有機発光材料を用いた発光素子を配列して形成した表示部を有し、
前記表示部を、前記第１基板に形成した絶縁層上に形成し、
前記第１基板と前記第２基板とを、前記表示部の外周を囲んで前記絶縁層上に形成したシール材により固着する表示装置の作製方法であって、
前記絶縁層の少なくとも一層は、有機樹脂材料で形成し、
前記外周は第１の領域と第２の領域を有し、
前記絶縁層及び前記第２基板に、保護膜により被覆した複数の凹凸部を形成し、
前記第１の領域における前記シール材を、前記保護膜により被覆した絶縁層及び前記第２基板の複数の凹凸部に接して形成し、
前記第２の領域における前記絶縁層の外端部を、前記保護膜またはシール材により被覆することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１１乃至１４のいずれか一項において、
前記第１の領域における前記絶縁層の外端部を、前記保護膜または前記シール材により被覆することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１１乃至１５のいずれか一項において、前記保護膜は導電性薄膜または絶縁性薄膜から選ばれた一種、または複数種からなることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１６において、前記導電性薄膜はＡｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、ＷもしくはＳｉの元素から選ばれた一種、または複数種から形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１６または請求項１７において、前記導電性薄膜は、前記発光素子の下方に設けられたＴＦＴのソース電極又はドレイン電極と同じ材料からなり、かつ、同工程で形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１９】
請求項１６または請求項１７において、前記絶縁性薄膜は窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、または窒素含有炭素膜から選ばれた一種、または複数種から形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２０】
請求項１１乃至１９のいずれか一項において、前記有機樹脂材料はアクリル、ポリアミド、ポリイミド、またはアルキル基を含む酸化珪素から選ばれた一種、または複数種から形成することを特徴とする表示装置の作製方法。