【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークピースのある領域のターゲット表面材料を、近隣のターゲットでない材料部分の望まない変化を避けつつ加工する方法であって、この方法が：
ある波長とパルス幅を有する１以上のパルスを含むパルスレーザ出力を生成するステップと；
前記ワークピースのターゲット表面材料に、当該ターゲット表面材料をテクスチャリングする１以上のパルスを含むパルスレーザ出力を照射するステップとを含み、このパルスレーザ出力は、前記ターゲット表面材料の少なくとも一部を除去し始めるのに十分な合計フルエンスと、この領域とこの領域周辺のターゲットでない材料のスラグを実質的に除去するのに十分に短いパルス幅を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１の方法において、前記テクスチャリングされる表面材料は、刻印（indicia）を含み、当該刻印が少なくとも半永久的か、除去可能であることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１の方法において、前記ターゲット表面材料は、半導体基板、薄膜、金属層、誘電層の少なくとも１つであることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１の方法において、前記ワークピースは、ＭＥＭデバイス、光電子工学デバイス、生物医学チップのいずれか１であることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項２の方法において、前記刻印は機械読み取り可能であり、当該刻印のフォントサイズが０．３ｍｍより小さいことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１の方法がさらに、第２のレーザ出力を生成し、前記テクスチャリングされた表面材料を前記第２のレーザ出力で照射し、前記テクスチャリングされた表面材料を加工するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６の方法において、前記テクスチャリングされた表面材料が刻印を含んでおり、前記第２のレーザ出力を照射するステップにおいて前記刻印が消去されることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１の方法において、前記テクスチャリングされた表面材料が、マイクロテクスチャリングされた（microtextured）パターンを含み、このパターンは、バーパターン、マトリクスパターン、文字や数字の列、ロゴタイプのいずれかであることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１の方法において、前記パルス幅が約１００ｐｓ以下であることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項２の方法において、前記刻印の拡散反射が０．５％−５％の範囲内であることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１の方法において、前記合計フルエンスが約０．１Ｊ／ｃｍ２より大きいことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１の方法において、前記ターゲット表面材料はシリコンであることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１の方法において、前記ターゲット表面材料が金属または誘電体であることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１の方法において、前記ターゲット表面材料が、誘電体不活性化層の一部であり、この層の誘電体は、無機物、有機物、あるいはｌｏｗ−ｋ誘電体であることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１の方法において、前記ターゲット表面材料が、ＭＥＭデバイスの一部であることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項２の方法において、前記刻印の一部は、約０．２５ミクロン−約１ミクロンの範囲内の表面高度差（surface variation）を有することを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項２の方法において、前記刻印の高さ寸法（feature dimension）は、前記１以上のパルスの数波長分であることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１の方法において、前記照射するステップは、前記パルスレーザ出力の偏光を制御して前記テクスチャリングされた表面材料の特性を向上または制御するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１１の方法において、前記照射するステップは、非ガウスまたはトップハットスポットプロファイル（non-Gaussion or top hat spot profile）を有する形成済みスポットを得るべく前記出力のスポットを形成するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項６の方法において、前記パルスレーザ出力は前記ターゲット表面材料を精密にテクスチャリングするとともに、前記第２のレーザ出力は前記テクスチャリングされた表面材料を粗く加工することを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項６の方法において、前記テクスチャリングされた表面材料が刻印を含み、前記第２のレーザ出力で照射するステップにおいて負のウィンドウマーク（negative window mark）が形成されることを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項６の方法において、前記テクスチャリングされた表面材料がパターンを含み、前記第２のレーザ出力で照射するステップが、前記パターンを微細加工することを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項６の方法において、前記第２のレーザ出力で照射するステップは、前記テクスチャリングされた表面材料の電気的または機械的なパラメータを刻むことを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項６の方法において、前記第２のレーザ出力は、前記テクスチャリングされた表面材料に吸収される波長を有する１以上のパルスを含むことを特徴とする方法。
【請求項２５】
請求項２４の方法において、前記第２のビームの１以上のパルスの波長が、前記領域周辺のターゲットでない材料に吸収されるものであることを特徴とする方法。
【請求項２６】
ワークピースのある領域のターゲット表面材料を、近隣のターゲットでない材料部分の望まない変化を避けつつ加工するシステムであって、このシステムが：
ある波長とパルス幅を有する１以上のパルスを含むパルスレーザ出力を生成する第１のレーザ源を有する第１のレーザサブシステムと；
前記ワークピースのターゲット表面材料に、当該ターゲット表面材料をテクスチャリングする１以上のパルスレーザ出力を照射する供給サブシステムとを具え、前記パルスレーザ出力が、前記ターゲット表面材料の少なくとも一部を除去し始めるのに十分な合計フルエンスと、前記領域とこの材料周辺のターゲットでない材料のスラグを実質的に除去するのに十分に短いパルス幅を有することを特徴とするシステム。
【請求項２７】
請求項２６のシステムにおいて、前記第１のレーザ源が、１ｎｓ以下のパルス幅のパルスを生成するレーザを具えることを特徴とするシステム。
【請求項２８】
請求項２６のシステムがさらに、前記テクスチャリングされた表面材料に照射される第２のレーザ出力を生成する第２のレーザ源を有する第２のレーザサブシステムを具えることを特徴とするシステム。
【請求項２９】
請求項２８のシステムにおいて、前記第２のレーザ出力は少なくとも、前記テクスチャリングされた表面材料の領域を消去、微細加工、溶接、あるいは励起（actuate）することを特徴とするシステム。
【請求項３０】
請求項２６のシステムにおいて、前記供給サブシステムが、前記レーザ出力の偏光を制御する偏光制御部を具えることを特徴とするシステム。
【請求項３１】
請求項２６のシステムにおいて、  前記第１のレーザ源が、ダイオード励起（diode-pumped）、固体ＵＶレーザを具え、前記パルス幅がおよそ２０ｎｓより小さいことを特徴とするシステム。
【請求項３２】
請求項３１のシステムにおいて、前記パルス幅が１００ｐｓより小さいことを特徴とするシステム。
【請求項３３】
請求項２６のシステムにおいて、前記供給サブシステムが、前記ワークピースを前記レーザ出力に対して移動させる１以上の移動ステージを具えることを特徴とするシステム。
【請求項３４】
請求項２６のシステムにおいて、前記第１のレーザ源は、モードロック発振器とダイオード励起、固体レーザ増幅器を具えることを特徴とするシステム。
【請求項３５】
請求項２６のシステムにおいて、前記第１のレーザ源が、ＭＯＰＡと少なくとも１の光ファイバ増幅器とを具えることを特徴とするシステム。
【請求項３６】
請求項２６のシステムにおいて、前記レーザ出力の平均レーザ出力が、０．０１Ｗ−２Ｗの範囲内であることを特徴とするシステム。
【請求項３７】
請求項２６のシステムにおいて、前記テクスチャリングされた表面材料が刻印を含み、前記システムがさらに前記刻印を読み取る読み取りサブシステムを具え、この読み取りサブシステムは、照明具と、電子画像サブシステムとを具えることを特徴とするシステム。
【請求項３８】
請求項３７のシステムにおいて、前記照明具は、明視野、暗視野、明視野と暗視野の組合せ、のいずれかであることを特徴とするシステム。
【請求項３９】
製造品であって：
この製品の少なくとも１の製造ステップにおいて識別可能な刻印が形成された１以上の表面材料を具え、前記刻印は、ワークピースのある領域内のターゲット表面材料を選択的にパルスレーザ出力で照射する方法により形成され、前記刻印は、少なくとも半永久的で、前記製品の以降の製造工程に利用可能であり；
前記領域と、この領域周辺のターゲットでない材料は実質的にスラグが除去され；
１以上の製造ステップにおいて、前記領域の少なくとも一部における表面の粗さが増進され、これにより前記刻印の読み取りに用いられるエネルギー反射が減少することを特徴とする製造品。
【請求項４０】
請求項３９の製造品において、前記領域の背景面は、強度の鏡面反射成分を有することを特徴とする製造品。
【請求項４１】
請求項３９の製造品において、前記識別可能な刻印と前記領域の背景間の反射コントラストは、２０度以上の視野角範囲で３０：１を越えることを特徴とする製造品。