【手続補正書】
【提出日】平成20年4月14日(2008.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ｉ）少なくとも１つの熱可塑性バインダーと、付加重合可能な少なくとも１つの化合物と、光重合開始剤とを含む組成物を有する、支持体上の少なくとも１つの光重合性エラストマー層であって、２．１６キログラム重下１４０℃で少なくとも４グラム／１０分のメルトフローインデックスを有し、かつ化学線に露光し、動的貯蔵弾性率（Ｇ′）対周波数（ｆ）のｌｏｇ−ｌｏｇプロットを決定する場合に０．１８未満の勾配を示す光重合性エラストマー層を含む感光性要素を提供する工程、
ｉｉ）前記要素を化学線で像様露光し、放射線に露光された領域を重合する工程、および
ｉｉｉ）前記要素を熱処理して、重合されなかった材料を軟化または溶融または流動させ、かつレリーフ表面を形成する工程
を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項２】  熱処理する工程が、
ｉｉｉａ）ｉｉ）の要素を４０と２００℃との間の温度に加熱する工程と、
ｉｉｉｂ）前記要素を吸収剤と接触させ、重合されなかった材料を前記要素から除去する工程と
を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記要素を７５０から２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光に露光して、少なくとも１つの光重合性エラストマー層の表面またはこれよりも上に配置されたｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
上記の実施例では、熱処理した感光性要素では、エラストマー層についてのメルトフローインデックスおよびＧ′の勾配の限界値を調節し、像様露光の種類すなわちアナログまたはデジタルがレリーフおよび印刷版の印刷特性に及ぼす影響に適応できるようにすることができる。同様のワークフローすなわちフォトツールを介しての像様露光では、４グラム／１０分を超えるメルトフローインデックスを有し、０．１８未満のＧ′の勾配を有するエラストマー層で、同様の条件で処理される他の材料より深いレリーフを深彫する一方で精細画像要素を再生することが可能である。デジタルワークフローすなわちｉｎ−ｓｉｔｕマスクを通しての像様露光では、メルトフローインデックスが比較的低い感光性要素を用いる場合すらもメルトフローインデックスに対する要件を緩くし、良好なレリーフを深彫し、綺麗な印刷特性を得て、Ｇ′の勾配を０．２０と高くすることができる。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．  ｉ）ａ）支持体と、
ｂ）少なくとも１つの熱可塑性バインダーと、付加重合可能な少なくとも１つの化合物と、光重合開始剤とを含む組成物を有する、支持体上の少なくとも１つの光重合性エラストマー層であって、２．１６キログラム重下１４０℃でその層が少なくとも４グラム／１０分のメルトフローインデックスを有し、化学線に露光し、動的貯蔵弾性率（Ｇ′）対周波数（ｆ）のｌｏｇ−ｌｏｇプロットを決定する場合にその層が０．１８未満の勾配を示す光重合性エラストマー層と、
を含む感光性要素を提供する工程、
ｉｉ）前記要素を化学線で像様露光し、放射線に露光された領域を重合する工程、および
ｉｉｉ）ｉｉ）の要素を熱処理し、重合されなかった材料を前記要素から除去し、かつレリーフ表面を形成する工程
を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
２．  熱処理する工程が、
ｉｉｉａ）ｉｉ）の要素を４０と２００℃との間の温度に加熱する工程と、
ｉｉｉｂ）前記要素を吸収剤と接触させ、重合されなかった材料を前記要素から除去する工程と
を含むことを特徴とする前記１に記載の方法。
３．  ｉｉｉｃ）前記要素と吸収剤とを接触させながら、１平方センチメートルあたり２．１１キログラムから１平方センチメートルあたり約４．９２キログラムまでの間の実質的に均一の圧力をかける工程をさらに含むことを特徴とする前記２に記載の方法。
４．  接触させる工程ｉｉｉｂ）の後に、前記要素を吸収剤から分離する工程をさらに含むことを特徴とする前記２に記載の方法。
５．  加熱する工程ｉｉｉａ）と接触させる工程ｉｉｉｂ）とを２回以上繰り返すことを特徴とする前記２に記載の方法。
６．  光重合性エラストマー層が少なくとも５グラム／１０分のメルトフローインデックスを有することを特徴とする前記１に記載の方法。
７．  光重合性エラストマー層が少なくとも７．５グラム／１０分のメルトフローインデックスを有することを特徴とする前記１に記載の方法。
８．  光重合性エラストマー層が少なくとも５グラム／１０分のメルトフローインデックスを有し、ｌｏｇ−ｌｏｇプロットが０．１６未満の一次勾配であることを特徴とする前記１に記載の方法。
９．  光重合性エラストマー層が１０グラム／１０分より大きいメルトフローインデックスを有し、ｌｏｇ−ｌｏｇプロットが０．１４未満の一次勾配であることを特徴とする前記１に記載の方法。
１０．  ６００から１０００ｍジュール／ｃｍ2の化学線を用いて１ｍｍ厚の層を露光することによって光重合性層のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが決められることを特徴とする前記１に記載の方法。
１１．  ８００ｍジュールｃｍ2の化学線を用いて厚さ１ｍｍの光重合性層を露光することによって光重合性層のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが決められることを特徴とする前記１に記載の方法。
１２．  波長３４０から３８０ｎｍの放射線への露光によって光重合性層のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが決められることを特徴とする前記１に記載の方法。
１３．  熱可塑性バインダーがエラストマーであることを特徴とする前記１に記載の方法。
１４．  ｉ）ａ）支持体と、
ｂ）少なくとも１つの熱可塑性バインダーと、付加重合可能な少なくとも１つの化合物と、光重合開始剤とを含む組成物を有する、支持体上の少なくとも１つの光重合性エラストマー層であって、化学線に露光して動的貯蔵弾性率（Ｇ′）対周波数（ｆ）のｌｏｇ−ｌｏｇプロットを決める場合にその層が０．２０未満の勾配を示す光重合性エラストマー層と、
を含む感光性要素を提供する工程、
ｉｉ）前記光重合性層を大気中の酸素の存在下でｉｎ−ｓｉｔｕマスクを通して化学線で像様露光し、放射線に露光された領域を重合する工程、および
ｉｉｉ）ｉｉ）の要素を熱処理し、重合されなかった材料を前記要素から除去し、かつレリーフ表面を形成する工程
を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
１５．  光重合性層が１４０℃で２．１６キログラム重下で少なくとも０．５グラム／１０分のメルトフローインデックスを有することを特徴とする前記１４に記載の方法。
１６．  光重合性層が１４０℃で２．１６キログラム重下で１．５から４．０グラム／１０分の間のメルトフローインデックスを有することを特徴とする前記１４に記載の方法。
１７．  デジタル情報を用いてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程をさらに含むことを特徴とする前記１４に記載の方法。
１８．  感光性要素が赤外線に対する感受性を有する化学線不透過層をさらに含み、ｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程が赤外線レーザー光を用いて化学線不透過層を像様除去することによるものであることを特徴とする前記１４に記載の方法。
１９．  感光性要素が、赤外線に対して感受性を有する化学線不透過層を少なくとも有する第２の要素との集合体を形成し、化学線不透過層が光重合性エラストマー層に隣接し、ｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程が赤外線レーザー光を用いて化学線不透過層を感光性要素に像様転写することによるものであることを特徴とする前記１４に記載の方法。
２０．  支持体とは反対側の要素の表面にインクジェット法でｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程をさらに含むことを特徴とする前記１４に記載の方法。
２１．  熱処理する工程が、
ｉｉｉａ）ｉｉ）の要素を４０と２００℃との間の温度に加熱する工程と、
ｉｉｉｂ）前記要素を吸収剤と接触させ、重合されなかった材料を前記要素から除去する工程と
を含むことを特徴とする前記１４に記載の方法。
２２．  ｉｉｉｃ）前記要素と吸収剤とを接触させながら、１平方センチメートルあたり２．１１キログラムから１平方センチメートルあたり約４．９２キログラムの間の実質的に均一な圧力をかける工程をさらに含むことを特徴とする前記２１に記載の方法。
２３．  前記要素を吸収剤から分離する工程
を接触させる工程ｉｉｉｂ）の後にさらに含むことを特徴とする前記２１に記載の方法。
２４．  加熱する工程ｉｉｉａ）と接触させる工程ｉｉｉｂ）とを２回以上繰り返すことを特徴とする前記２１に記載の方法。
２５．  ６００から１０００ｍジュール／ｃｍ2の化学線を用いて１ｍｍ厚の層を露光することによって光重合性層のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが決められることを特徴とする前記１４に記載の方法。
２６．  ８００ｍジュール／ｃｍ2の化学線を用いて厚さ１ｍｍの光重合性層を露光することによって光重合性層のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが決められることを特徴とする前記１４に記載の方法。
２７．  波長３４０から３８０ｎｍの放射線への露光によって光重合性層のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが決められることを特徴とする前記１４に記載の方法。
２８．  動的貯蔵弾性率（Ｇ′）対周波数（ｆ）のｌｏｇ−ｌｏｇプロットが０．１８未満の勾配を示すことを特徴とする前記１４に記載の方法。
２９．  光重合性エラストマー層を、支持体を通してバックフラッシュ露光することをさらに含むことを特徴とする前記１に記載の方法。
３０．  バックフラッシュ露光が像様露光工程ｉｉ）の後に行われることを特徴とする前記２９に記載の方法。
３１．  像様露光がフォトツールを介して行われるものであることを特徴とする前記１に記載の方法。