(57)【要約】  本発明の目的は、良好なガスバリア性が得られるガスバリア性積層膜の転写用フィルムを提供することにある。  かかる目的のため、本発明は以下の構成を有する。すなわち、離型フィルム上に、アンダーコート層およびガスバリア層をこの順に含むガスバリア性積層膜を有し、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲であることを特徴とする、ガスバリア性積層膜の転写用フィルムである。
2018016346.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型フィルム上に、アンダーコート層およびガスバリア層をこの順に含むガスバリア性積層膜を有し、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲であることを特徴とする、ガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項２】
ガスバリア性積層膜の水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満である、請求項１に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項３】
前記アンダーコート層が熱硬化樹脂層もしくは活性エネルギー線硬化樹脂層である、請求項１または２に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項４】
前記アンダーコート層のガスバリア層側の面の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満である、請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項５】
前記ガスバリア層が少なくとも酸化亜鉛とケイ素酸化物を含有する、請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項６】
前記ガスバリア層が、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する層である、請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項７】
前記ガスバリア層における、Ｚｎ原子濃度が１０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％である、請求項６に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項８】
前記ガスバリア性積層膜が、アンダーコート層、ガスバリア層および封止樹脂層をこの順に含む、請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項９】
前記封止樹脂層が、封止樹脂として、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、スチレン−イソブチレン変性樹脂、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、およびポリブテンからなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、粘着付与樹脂を含有する、請求項８に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項１０】
前記封止樹脂層のガスバリア層側ではない面に第２離型フィルムを有する、請求項８または９に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項１１】
円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した屈曲性試験において、クラックが発生しない最小のマンドレル直径が４ｍｍである、請求項１〜１０のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルムのガスバリア性積層膜が有機ＥＬ素子上に被着された、有機ＥＬデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性が必要とされる被転写部材、例えば、有機ＥＬ素子、有機ＥＬデバイス、液晶ディスプレイ素子、太陽電池素子などの電子部材にガスバリア性積層膜を転写、被着するための転写用フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエチレンテレフタレートフィルムなどのプラスチックフィルムからなる基材フィルム上にガスバリア層が積層されたガスバリア性フィルムが一般に知られている。ガスバリア層としては、無機酸化物、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の蒸着膜が一般的に知られている。【０００３】
一方、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）や液晶を用いたディスプレイは、軽量化、薄膜化やフレキシブル性が求められており、それに伴って、これらのディスプレイに使用されるガスバリア性フィルムも薄膜化やフレキシブル性が要求されている。【０００４】
そこで、離型フィルムにガスバリア性積層膜（ガスバリア層および必要に応じて設けられる保護層やハードコート層を意味する。）を積層した、ガスバリア性積層膜の転写用フィルムが提案されている（特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１７９２９１号公報
【特許文献２】特開平８−２３４１８１号公報
【特許文献３】国際公開第２０１３／０１８６０２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記したガスバリア性積層膜の転写用フィルムは、一般的なガスバリア性フィルム（基材フィルム上にガスバリア層が積層されたものを意味する。）に比べて、良好なガスバリア性を安定的に得ることが難しいという問題があることが分かった。かかる問題は、ガスバリア性が良好な場合（例えば、水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満の場合、さらに０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満の場合）に顕著に表れる。【０００７】
そこで、本発明の目的は、上述の課題に鑑み、良好なガスバリア性が得られるガスバリア性積層膜の転写用フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の本発明によって達成される。
［１］離型フィルム上に、アンダーコート層およびガスバリア層をこの順に含むガスバリア性積層膜を有し、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲であることを特徴とする、ガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［２］ガスバリア性積層膜の水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満である、[１]に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［３］前記アンダーコート層が熱硬化樹脂層もしくは活性エネルギー線硬化樹脂層である、［１］または［２］に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［４］前記アンダーコート層のガスバリア層側の面の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満である、［１］〜［３］のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［５］前記ガスバリア層が少なくとも酸化亜鉛とケイ素酸化物を含有する、［１］〜［４］のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［６］前記ガスバリア層が、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する層である、［１］〜［５］のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［７］前記ガスバリア層における、Ｚｎ原子濃度が１０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％である、［６］に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［８］前記ガスバリア性積層膜が、アンダーコート層、ガスバリア層および封止樹脂層をこの順に含む、［１］〜［７］のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［９］前記封止樹脂層が、封止樹脂として、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、スチレン−イソブチレン変性樹脂、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、およびポリブテンからなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、粘着付与樹脂を含有する、［８］に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［１０］前記封止樹脂層のガスバリア層側ではない面に第２離型フィルムを有する、［８］または［９］に記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［１１］円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した屈曲性試験において、クラックが発生しない最小のマンドレル直径が４ｍｍである、［１］〜［１０］のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルム。
［１２］［１］〜［１１］のいずれかに記載のガスバリア性積層膜の転写用フィルムのガスバリア性積層膜が有機ＥＬ素子上に被着された、有機ＥＬデバイス。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、良好なガスバリア性を得ることができるガスバリア性積層膜の転写用フィルムを提供することができる。【００１０】
また、本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムは、基板上に有機ＥＬ素子が配置された有機ＥＬデバイスの有機ＥＬ素子上にガスバリア性積層膜を転写・被着させる場合に好適である。つまり、本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムのガスバリア性積層膜が被着された有機ＥＬデバイスは、良好なガスバリア性を有する。【００１１】
また、本発明の好ましい態様によれば、湾曲や屈曲に耐え得る高度なフレキシブル性を有するガスバリア性積層膜の転写用フィルムを提供することができる。従って、本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムの好ましい態様は高度なフレキシブル性を有する有機ＥＬ素子や有機ＥＬデバイスに好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムのガスバリア性積層膜を有機ＥＬ素子に転写・被着する工程の一例を示す模式断面図である。
【図２】本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムのガスバリア性積層膜を有機ＥＬ素子に転写・被着する工程の一例を示す模式断面図である。
【図３】本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムを製造するための巻き取り式スパッタリング装置を模式的に示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムは、離型フィルム上に、アンダーコート層およびガスバリア層をこの順に含むガスバリア性積層膜を有する。以下の説明において、本発明のガスバリア性積層膜の転写用フィルムを単に「転写用フィルム」と略記することがある。
【００１４】
本発明の転写用フィルムは、使用に際し、離型フィルムからガスバリア性積層膜が剥離されて、ガスバリア性が必要な被転写部材、例えば、有機ＥＬ素子、有機ＥＬデバイス、液晶ディスプレイ素子、太陽電池素子などの電子部材、偏光板、位相差板、透明導電性フィルムなどの光学フィルムなどに、ガスバリア性積層膜が転写・被着される。離型フィルムとガスバリア性積層膜との剥離は、離型フィルムとアンダーコート層との間で行われる。
【００１５】
ここで、離型フィルムとガスバリア性積層膜を構成するアンダーコート層との剥離力が、ガスバリア性積層膜のガスバリア性に影響することを見出し、本発明を成すに至った。つまり、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力を、１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲に制御することにより、ガスバリア性が高いレベルで安定化することを見出した。
【００１６】
特に、ガスバリア性積層膜の水蒸気透過率（ガスバリア性）が、０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満が求められる場合、さらには０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満が求められる場合に、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力を１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲に制御することにより、この高いレベルのガスバリア性が安定的に得られる。
【００１７】
離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５ｍＮ／１８ｍｍより小さくなると、ガスバリア性が低下する。これは、離型フィルムとアンダーコート層との密着性が低下することが起因していると推測される。
【００１８】
つまり、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５ｍＮ／１８ｍｍより小さくなり、離型フィルムとアンダーコート層との密着力が小さくなると、離型フィルム上に塗布され積層されたアンダーコート層の均一性が悪化し、その上に製膜されるガスバリア層も均一膜が得られず、その結果ガスバリア性が低下すると推測される。また、同様に離型フィルムとアンダーコート層との密着力が小さくなると、アンダーコート層上にガスバリア層を製膜するときの高温雰囲気（１００〜２００℃程度）下で、離型フィルムとアンダーコート層との熱収縮率差によってアンダーコート層に歪が生じ、その影響により、ガスバリア性が低下すると推測される。
【００１９】
一方、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が７００ｍＮ／１８ｍｍより大きくなると、離型フィルムからガスバリア性積層膜がスムーズに剥離することができず、ガスバリア層にクラック等が発生して、ガスバリア性が低下すると考えられる。
【００２０】
上記観点から、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力は、２０ｍＮ／１８ｍｍ以上が好ましく、３０ｍＮ／１８ｍｍ以上がより好ましく、４０ｍＮ／１８ｍｍ以上が特に好ましい。また、前記剥離力は、６００ｍＮ／１８ｍｍ以下が好ましく、４００ｍＮ／１８ｍｍ以下がより好ましく、２５０ｍＮ／１８ｍｍ以下が特に好ましい。
【００２１】
[離型フィルム]
本発明に用いられる離型フィルムの種類は特に限定されず、既知あるいは市販の離型フィルムの中から適宜選択して用いることができる。つまり、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲となるように、適宜、離型フィルムを選択して用いることができる。
【００２２】
離型フィルムとしては、例えば、ポリオレフィン樹脂フィルム、フッ素樹脂フィルム、シリコーン樹脂フィルムなどの樹脂フィルム自体が離型性を有する離型フィルム、あるいはポリエステルフィルム等の基材フィルムに離型層が積層された離型フィルムなどが挙げられる。
【００２３】
本発明において、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力を１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲に安定的に制御するという観点から、離型フィルムとしては、基材フィルム上に離型層を有する離型フィルムが好ましく用いられる。基材フィルム上に離型層を有する離型フィルムを用いた場合は、離型層とアンダーコート層との間で剥離される。
【００２４】
以下、本発明に好ましく用いられる離型フィルム、すなわち、基材フィルム上に離型層を有する離型フィルムについて、詳細に説明する。
【００２５】
基材フィルムを構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂等の各種樹脂が使用できる。これらの中でも、加工のしやすさ、耐久性、耐熱性、コスト等の観点から、ポリエステル樹脂が好ましく、さらにポリエチレンテレフタレート樹脂が好ましい。また、基材フィルムは、無延伸フィルムでもよいが一軸延伸または二軸延伸されたフィルムであることが好ましい。
【００２６】
基材フィルムの厚みは、１０〜１００μｍの範囲が一般的であり、１５〜７５μｍの範囲が好ましく、２０〜５０μｍの範囲が特に好ましい。
【００２７】
離型層を構成する離型剤としては、例えば、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、長鎖アルキル基含有樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂、ゴム系エラストマーなどが挙げられ、これらの離型剤を単独あるいは複数を組み合わせて使用することができる。これらの離型剤の中でも、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力を１５〜７００ｍＮ／１８ｍｍの範囲に制御するという観点から、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、長鎖アルキル基含有樹脂が好ましい。
【００２８】
シリコーン樹脂としては、硬化型シリコーン樹脂が好ましく、硬化型シリコーン樹脂としては、例えば縮合反応型、付加反応型、紫外線もしくは電子線硬化型等が挙げられる。
【００２９】
硬化型シリコーン樹脂としては、具体的には、以下のものが例示される。
【００３０】
信越化学工業（株）のＫＳ−７７４、ＫＳ−７７５、ＫＳ−７７８、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８４７Ｈ、ＫＳ−８５６、ＫＳ−７２３Ａ、ＫＳ−７２３Ｂ、ＫＳ−３７０３、Ｘ−６２−２４２２、Ｘ−６２−２４６１、Ｘ−６２−１３８７、ＫＮＳ−３０５１、Ｘ−６２−１４９６、ＫＮＳ３２０Ａ、ＫＮＳ３１６、Ｘ−６２−１５７４Ａ／Ｂ、Ｘ−６２−７０５２、Ｘ−６２−７０２８Ａ／Ｂ、Ｘ−６２−７６１９、Ｘ−６２−７２１３など、
東芝シリコーン（株）のＴＰＲ−６７０１、−６７０２、−６７０３、−３７０４、−６７０５、−６７２２、−６７２１、−６７００、ＸＳＲ−７０２９、ＹＳＲ−３０２２、ＹＲ−３２８６など、
ダウコーニング（株）のＤＫＱ３−２０２、ＤＫＱ３−２０３、ＤＫＱ３−２０４、ＤＫＱ３−２０５、ＤＫＱ３−２１０、ＤＫＱ３−３０６１など、
東レ・ダウコーニング（株）のＳＲＸ３５７、ＳＲＸ２１１、ＳＲＸ６７、ＳＤ７２２０、ＬＴＣ７５０Ａ、ＬＴＣ７６０Ａ、ＳＰ７２５９、ＢＹ２４−４６８Ｃ、ＳＰ７２４８Ｓ、ＢＹ２４−４５２など、
モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのＹＳＲ−３０２２、ＴＰＲ−６７００、ＴＰＲ−６７２０、ＴＰＲ−６７２１、ＴＰＲ６５００、ＴＰＲ６５０１、ＵＶ９３００、ＵＶ９４２５、ＸＳ５６−Ａ２７７５、ＸＳ５６−Ａ２９８２、ＵＶ９４３０、ＴＰＲ６６００、ＴＰＲ６６０４、ＴＰＲ６６０５など。
【００３１】
また、上記のシリコーン樹脂に剥離力調整剤（重剥離剤や剥離コントロール剤とも言う）を併用することによって、剥離力を調整することができる。剥離力調整剤としては、（１）ＳｉＯ２単位を有するシリカ構造のもの、（２）ＳｉＯ２単位と（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２単位を有するレジン構造のもの、（３）ＳｉＯ２単位とＣＨ２＝ＣＨ（ＣＨ３）２ＳｉＯ１／２単位を有するレジン構造のもの等が挙げられる。このような剥離力調整剤の市販品としては、例えば、信越化学工業（株）のＫＳ−３８００、Ｘ−９２−１８３、東レ・ダウコーニング（株）のＳＤＹ７２９２、ＢＹ２４−８４３、ＢＹ２４−４９８０等を挙げることができる。
【００３２】
剥離力調整剤の添加量は、シリコーン樹脂１００質量部に対して、１〜１５０質量部の範囲が好ましく、５〜１００質量部の範囲がより好ましく、１０〜７５質量部の範囲が特に好ましい。
【００３３】
さらに、離型層中にはシリコーン樹脂を硬化させる触媒を添加することが好ましい。かかる触媒としては、白金系触媒が好ましく、具体的には、東レ・ダウコーニング（株）製のＬＴＣ−８５６、ＬＴＣ−７６１、ＳＲＸ−２１２、信越化学工業（株）製のＫＳ−３８００、Ｘ−６２−１８３、Ｘ−６２−２８２９、Ｘ−６２−２８５３、Ｘ−６２−２８５６、Ｘ−６２−２８５７、ＰＬ−５０００、ＰＬ−５０Ｔ等が挙げられる。触媒の添加量は、シリコーン樹脂１００質量部に対して０．３〜１５質量部の範囲が好ましく、１〜１２質量部の範囲がより好ましい。
【００３４】
変性シリコーン樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂等の有機樹脂とのグラフト重合等による変性シリコーン樹脂が挙げられる。変性シリコーン樹脂としては、具体的には、例えば、信越化学工業（株）製のＸ−６２−９０２７、Ｘ−６２−９００Ｂ、東レ・ダウコーニング（株）のＳＲ２１１４、ＳＲ２１０７、東芝シリコーン（株）のＴＳＲ１８０（以上アルキド変性シリコーン樹脂）、東芝シリコーン（株）のＴＳＲ１８７（ポリエステル変性シリコーン樹脂）、東芝シリコーン（株）のＴＳＲ１７１（アクリル変性シリコーン樹脂）などが挙げられる。
【００３５】
変性シリコーン樹脂の硬化を促進するために、酸触媒を添加することが好ましい。かかる酸触媒としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、ｐ−トルエンスルホン酸が好ましく用いられる。酸触媒の添加量は、変性シリコーン樹脂１００質量部に対して０．１〜１０質量部の範囲が適当である。
【００３６】
長鎖アルキル基含有樹脂とは、炭素数が８以上の直鎖あるいは分岐のアルキル基を有する樹脂を指し、具体的には、長鎖アルキル基含有ポリビニル樹脂、長鎖アルキル基含有アクリル樹脂、長鎖アルキル基含有ポリエステル樹脂、長鎖アルキル基含有エーテル化合物、長鎖アルキル基含有アミン化合物、長鎖アルキル基含有アルキド樹脂等が挙げられる。
【００３７】
長鎖アルキル基の炭素数は、８以上が好ましく、１０以上がより好ましく、１２以上が特に好ましい。上限の炭素数は３０以下が好ましく、２８以下がより好ましく、２５以下が特に好ましい。
【００３８】
長鎖アルキル基含有樹脂は市販されているものを使用することができる。具体的には、中京油脂社製のレゼムシリーズの「Ｋ−２５６」、「Ｎ−１３７」、「Ｐ−６７７」、「Ｑ−４７２」、アシオ産業社製のアシオレジンシリーズの「ＲＡ−９５Ｈ」、「ＲＡ−５８５Ｓ」、一方社油脂社製のピーロイルシリーズの「ＨＴ」、「１０５０」、「１０１０」、「１０７０」、「４０６」、日本酢ビ・ポバール社製の「ＺＦ−１５」、「ＺＦ−１５Ｈ」、日本触媒社製のエポミン「ＲＰ−２０」などが挙げられる。
【００３９】
離型剤として長鎖アルキル基含有樹脂を用いる場合は、架橋剤を併用することが好ましい。かかる架橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、メラミン系架橋剤等が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤が好ましく用いられる。
【００４０】
メラミン系架橋剤は、トリアジン環の３つの炭素原子にアミノ基がそれぞれ結合した、いわゆるメラミン［１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミン］のアミノ基に種々の変性を施した化合物の総称であり、トリアジン環が複数縮合したものも含む。変性の種類としては、３つのアミノ基の水素原子の少なくとも１つがアルキル化もしくはメチロール化されたものが好ましく用いられる。特に、少なくとも１つ以上のアミノ基がメチロール置換された、メチロール化メラミン化合物が好ましく用いられる。
【００４１】
また、長鎖アルキル基含有樹脂および架橋剤の硬化を促進させるために酸触媒を添加することが好ましい。酸触媒としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、ｐ−トルエンスルホン酸が好ましく用いられる。酸触媒の添加量は、長鎖アルキル基含有樹脂１００質量部に対して０．１〜１０質量部の範囲が適当である。
【００４２】
離型層の厚みは、１０〜１０００ｎｍの範囲が一般的であり、２０〜５００ｎｍの範囲が好ましく、５０〜２００ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００４３】
離型層は、基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布され、乾燥、加熱硬化されて形成されることが好ましい。かかるウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。加熱硬化条件としては、８０〜２００℃、好ましくは１００〜１８０℃で、１０〜２００秒加熱することが好ましい。
【００４４】
また、離型層は、基材フィルムの製膜工程でインラインコーティングすることができる。例えば、ポリエステルフィルムの製造工程内で、ポリエステルフィルムを一軸延伸した後、離型層を塗布し、さらに延伸する（トータルで二軸延伸する）方法が挙げられる。
【００４５】
離型フィルムは、基材フィルムと離型層との間に、密着性向上、オリゴマー析出防止性、あるいは帯電防止性などのためにアンカー層を設けることができる。また、基材フィルムの離型層とは反対面にもオリゴマー析出防止層や帯電防止層を設けることができる。
【００４６】
［ガスバリア性積層膜］
本発明にかかるガスバリア性積層膜は、アンダーコート層およびガスバリア層を含む。さらに、本発明にかかるガスバリア性積層膜は、アンダーコート層およびガスバリア層以外の層、例えば封止樹脂層や保護層などの機能層を含むことができる。具体的には、アンダーコート層、ガスバリア層および封止樹脂層をこの順に含む構成、アンダーコート層、ガスバリア層および保護層をこの順に含む構成、アンダーコート層、ガスバリア層、保護層および封止樹脂層をこの順に含む構成など、を採用することができる。
【００４７】
本発明にかかるガスバリア性積層膜の水蒸気透過率は、０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることが好ましく、０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることがより好ましく、０．００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることが特に好ましい。下限の水蒸気透過率は特に限定されないが、現実的には１×１０−６ｇ／ｍ２／ｄａｙ程度である。
【００４８】
［アンダーコート層］
アンダーコート層は、樹脂層であることが好ましく、さらに硬化樹脂層であることがより好ましい。アンダーコート層が硬化樹脂層であることにより、離型フィルムとの剥離力を制御しやすくなる。硬化樹脂層は、熱硬化樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、特に活性エネルギー線硬化樹脂層であることがより好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂層は比較的硬度が高いので、その上に積層されるガスバリア層のガスバリア性が良好となる。
【００４９】
アンダーコート層は、単一層であってもよいし、２〜４層の積層構成であってもよい。上記積層構成の場合は、少なくとも１層は硬化樹脂層であることが好ましい。アンダーコート層は、生産性、ガスバリア性および剥離性の観点から、硬化樹脂層の単一層であることが特に好ましい。
【００５０】
熱硬化樹脂層は、少なくとも熱硬化樹脂を含有する被膜を加熱することによって硬化せしめられた硬化樹脂層である。かかる熱硬化樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、ポリビニル樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等があげられる。これらの樹脂の中でも、ポリウレタン樹脂が好ましく用いられる。
【００５１】
また、熱硬化樹脂層は、上記樹脂を架橋する架橋剤（例えば、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤）を含有することができる。
【００５２】
本発明におけるアンダーコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましい。以下、アンダーコート層が活性エネルギー線硬化樹脂層である態様について詳細に説明する。
【００５３】
活性エネルギー線硬化樹脂層は、少なくとも活性エネルギー線硬化樹脂を含有する塗布膜に紫外線や電子線を照射することによって硬化せしめられた硬化樹脂層である。活性エネルギー線硬化樹脂は、活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。かかる活性エネルギー線硬化樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。かかる化合物としては、例えば、ウレタン系化合物、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、ポリエーテル系化合物、シリコーン系化合物などが挙げられる。これらの中でも、ウレタン系化合物が好ましい。さらに、ウレタン系化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましく用いられる。
【００５４】
尚、本発明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。
【００５５】
ウレタン系化合物（ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
【００５６】
ａ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のポリカプロラクトン変性アルキル（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｂ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｃ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、ポリカーボネートジオールおよび１〜５官能のヒドロキシ変性（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｄ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のヒドロキシ変性エポキシ（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物。
【００５７】
ｅ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｆ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｇ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
などが挙げられる。
【００５８】
上記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。
【００５９】
また、ウレタン系化合物（ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）またはウレタン系化合物を含む組成物は、市販されており用いることができる。例えば、共栄社化学社製のＡＴ−６００、ＵＡ−１０１ｌ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ、ＵＦ−８００１、ＵＦ−８００３等、日本合成化学社製のＵＶ７５５０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ等、新中村化学社製のＵ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−２ＰＰＡ、ＵＡ−ＮＤＰ等、ダイセルユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ−２７０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−２８４、Ｅｂｅｃｒｙｌ−２６４、Ｅｂｅｃｒｙｌ−９２６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製のＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等、三菱レイヨン製のＲＱシリーズ、荒川化学工業製のビームセットシリーズ、大日精化工業（株）製のセイカビームシリーズ、アイカ工業（株）製のアイカアイトロンシリーズ、ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズ、大成ファインケミカル（株）の８ＫＸシリーズ等が挙げられる。
【００６０】
上記したウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの中でも、アンダーコート層のフレキシブル性や剥離性を向上させるという観点から、一分子中における官能基（エチレン性不飽和基）の数は、５個以下が好ましく、４個以下がより好ましく、３個以下が特に好ましい。また、前記官能基の数は１個以上が好ましく、２個以上がより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの、一分子中における官能基（エチレン性不飽和基）の数を上記範囲とすることにより、後述する円筒形マンドレル法による屈曲性試験においてクラックの発生が抑制されやすくなる。
【００６１】
ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの官能基数が５個を超えるとフレキシブル性が低下することがある。
【００６２】
活性エネルギー線硬化樹脂層は、上記したウレタン系化合物に加えて、さらにウレタン系化合物以外の化合物（分子中にエチレン性不飽和基を２〜８個有する化合物（モノマー））を含有することができる。ウレタン系化合物以外の化合物（モノマー）の含有量は、ウレタン系化合物１００質量部に対して１〜１００質量部の範囲が好ましく、３〜５０質量部の範囲が好ましく、５〜３０質量部の範囲が特に好ましい。
【００６３】
ウレタン系化合物以外の化合物（モノマー）としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６４】
活性エネルギー線硬化樹脂層は、さらに光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００６５】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００６６】
上記光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化樹脂層の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、０．５〜８質量％の範囲がより好ましい。
【００６７】
活性エネルギー線硬化樹脂層を硬化させるための活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
【００６８】
紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いることができる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。
【００６９】
紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。前記照射光量は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【００７０】
アンダーコート層は、離型フィルム上に、ウェットコーティング法により塗布されることが好ましい。かかるウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
【００７１】
アンダーコート層の厚みは、ガスバリア性積層膜を離型フィルムから剥離するときの剥離性や剥離後のガスバリア性積層膜の強度を保持するという観点から、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、２μｍ以上が特に好ましい。アンダーコート層の厚みが厚くなり過ぎると剥離性が悪化することがあるので、アンダーコート層の厚みは１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、８μｍ以下が特に好ましい。
【００７２】
アンダーコート層の表面は平滑であることが好ましい。アンダーコート層上にガスバリア層を積層するとき、アンダーコート層の表面平滑性が低いと、ガスバリア層にピンホールやクラックが発生し、ガスバリア性が悪化することがある。
【００７３】
アンダーコート層の表面平滑性は、例えば、原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）で表すことができる。アンダーコート層表面、すなわち、アンダーコート層のガスバリア層側の面の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ未満が好ましく、１．５ｎｍ以下がより好ましく、１．０ｎｍ以下が特に好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｎｍ程度である。
【００７４】
前述したように、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力が１５ｍＮ／１８ｍｍより小さくなると、離型フィルムに対するアンダーコート層の塗布性が低下して、アンダーコート層の表面平滑性が低下することがある。従って、上記観点からも、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力は１５ｍＮ／１８ｍｍ以上が必要であり、２０ｍＮ／１８ｍｍ以上が好ましく、３０ｍＮ／１８ｍｍ以上がより好ましく、４０ｍＮ／１８ｍｍ以上が特に好ましい。
【００７５】
本発明におけるアンダーコート層は、各種の機能を有する層であってもよい。例えば、ハードコート層、反射防止層、位相差層、密着強化層、平滑化層などが挙げられる。アンダーコート層は、特にハードコート層であることが好ましい。アンダーコート層を上述の熱硬化樹脂層や活性エネルギー線硬化樹脂層とすることにより、ハードコート層としての機能を付与することができる。
【００７６】
［ガスバリア層］
ガスバリア層は、公知の材料を用いて積層することができる。ガスバリア層は単一膜であってもよいし、複数膜の積層構成であってもよい。
【００７７】
ガスバリア層を形成する材料としては、例えば、
（ｉ）Ｓｉ，Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ等の元素の酸化物、窒化物、硫化物またはこれらの混合物、
（ｉｉ）有機ケイ素化合物、
（ｉｉｉ）ガスバリア性樹脂、
（ｉｖ）高分子化合物にイオンを注入したもの、
などが挙げられる。
【００７８】
以下、これらの材料について詳細に説明する。
【００７９】
［（ｉ）の材料について］
上記した（ｉ）の材料の中でも酸化物が好ましく、酸化物の中でもＳｉ，Ｚｎ、Ａｌの酸化物が好ましく、さらに、少なくとも酸化亜鉛もしくは硫化亜鉛を含有することが好ましい。
【００８０】
また、酸化亜鉛もしくは硫化亜鉛とケイ素酸化物を含むことにより、膜質が非晶質かつ緻密に形成でき、優れたガスバリア性が得られる。特に、優れたガスバリア性が安定的に得られ、かつ色調が無彩色に近いことから、ガスバリア層は酸化亜鉛とケイ素酸化物を含むことが好ましい。
【００８１】
上記の酸化亜鉛とケイ素酸化物を含むガスバリア層の中でも、さらに、（ａ）酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する層が好ましく用いられる。このガスバリア層は、１つのガスバリア層の中に、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムが共存することが好ましい。
【００８２】
＜（ａ）酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する層＞
このガスバリア層の組成としては、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定されるＺｎ原子濃度は１０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度は５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度は０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度は３５〜７０ａｔｏｍ％であることが好ましい。
【００８３】
Ｚｎ原子濃度が４０ａｔｏｍ％より大きくなる、もしくはＳｉ原子濃度が５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、十分なガスバリア性が得られない場合がある。Ｚｎ原子濃度が１０ａｔｏｍ％より小さくなる、またはＳｉ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より大きくなると、ガスバリア層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下する場合がある。
【００８４】
Ａｌ原子濃度が５ａｔｏｍ％より大きくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなるため膜の硬度が上昇し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。Ａｌ原子濃度が０．５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が不十分となり、層を形成する粒子間の結合力が向上できないため、柔軟性が低下する場合がある。
【００８５】
Ｏ原子濃度が７０ａｔｏｍ％より大きくなると、ガスバリア層内の欠陥量が増加するため、高いガスバリア性が得られない場合がある。Ｏ原子濃度が３５ａｔｏｍ％より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となり、結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなるため、ガスバリア性が悪化する場合がある。
【００８６】
上記観点から、さらに、Ｚｎ原子濃度が２０〜３５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１０〜１５ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が１〜３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５０〜６４ａｔｏｍ％であることが好ましい。
【００８７】
上記組成は、ガスバリア層の形成時に使用した混合焼結材料と同等の組成で形成されるため、目的とするガスバリア層の組成に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで調整することができる。
【００８８】
上記のガスバリア層を形成する方法は特に限定されず、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの単体材料を使用する場合は、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムをそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、ガスバリア層の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。
【００８９】
［（ｉｉ）有機ケイ素化合物］
ケイ素含有有機化合物としては、例えば、シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、エチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、テトラエチルシラン、プロポキシシラン、ジプロポキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ウンデカメチルシクロヘキサシロキサン、ジメチルジシラザン、トリメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、デカメチルシクロペンタシラザン、ウンデカメチルシクロヘキサシラザンなどが挙げられる。中でも取り扱い上の観点からヘキサメチルジシロキサン、テトラエトキシシランが好ましい。
【００９０】
上記有機ケイ素化合物を原料としてプラズマＣＶＤ法などで製膜することにより、酸化ケイ素膜、酸窒化ケイ素膜、窒化ケイ素膜などの無機膜を形成することができる。
【００９１】
また、上記有機ケイ素化合物を公知の湿式塗布方式（スリットダイコーターやグラビアコーターなどを用いた塗布方式）により塗布後、真空紫外線（エキシマ光）を照射することにより、酸化ケイ素膜、酸窒化ケイ素膜、窒化ケイ素膜などの無機膜を形成することができる。
【００９２】
［（ｉｉｉ）ガスバリア性樹脂］
ガスバリア性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、又はその部分ケン化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン等が挙げられる。これらの樹脂を公知の湿式塗布方式（スリットダイコーターやグラビアコーターなどを用いた塗布方式）で塗布することによりガスバリア層を形成することができる。
【００９３】
［（ｉｖ）高分子化合物にイオンを注入したもの］
ガスバリア層は、高分子化合物を含む層にイオン注入して形成することができる。かかる高分子化合物としては、ケイ素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの高分子化合物は１種単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができる。
【００９４】
これらの高分子化合物の中でもケイ素含有高分子化合物が好ましく、さらにケイ素含有高分子化合物の中でもポリシラザン系化合物が好ましい。
【００９５】
高分子化合物を含有する層は、公知の湿式塗布方法（スリットダイコーターやグラビアコーターなどを用いた塗布方式）を用いて形成することができる。
【００９６】
高分子化合物を含む層に注入されるイオンとしては、例えば、水素、酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等のガスが好ましく用いられる。
【００９７】
上述したガスバリア層の中でも、水蒸気透過率を小さくするという観点、および後述するマンドレル法による屈曲性試験におけるクラックの発生を抑制するという観点から、ガスバリア層が少なくとも酸化亜鉛とケイ素酸化物を含むことが好ましく、さらに、前述した（ａ）酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する層であることが特に好ましい。
【００９８】
ガスバリア層の厚みは、１０〜８００ｎｍの範囲が適当であり、２０〜５００ｎｍの範囲が好ましく、３０〜３００ｎｍの範囲がより好ましく、５０〜２００ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００９９】
［封止樹脂層］
封止樹脂層は、ガスバリア性積層膜をガスバリア性が必要な被転写部材（例えば、有機ＥＬ素子、有機ＥＬディスプレイ素子、液晶ディスプレイ素子、太陽電池素子など）に転着する機能を有していることが好ましい。
【０１００】
封止樹脂層は、封止樹脂として、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、スチレン−イソブチレン変性樹脂、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、およびポリブテンからなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。これらの中でもポリイソブチレンやブチルゴムを含むことがより好ましい。
【０１０１】
また、封止樹脂層は、さらに粘着付与樹脂を含有することが好ましい。かかる粘着付与樹脂としては、例えば、脂環族系石油樹脂、脂環族系水添石油樹脂、芳香族系石油樹脂、およびロジン系樹脂が挙げられる。これらの粘着付与樹脂の中でも脂環族系石油樹脂が好ましく、さらに脂環族系水添石油樹脂の中でも、水素添加テルペン系樹脂、水素添加エステル系樹脂、Ｃ５系石油樹脂の水素添加樹脂、Ｃ９系石油樹脂の水素添加樹脂が好ましい。
【０１０２】
封止樹脂と粘着付与樹脂との質量比（封止樹脂／粘着付与樹脂）は、１０／９０〜１００／０であることが好ましく、２０／８０〜９０／１０であることがより好ましい。
【０１０３】
また、封止樹脂層は、さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、充填剤、難燃剤、架橋剤、および防錆剤等を含有することができる。
【０１０４】
封止樹脂層の厚みは、５〜１５０μｍの範囲が好ましく、１０〜１００μｍの範囲がより好ましく、２０〜８０ｎｍの範囲が特に好ましい。また、封止樹脂層は、水蒸気透過率が、４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、３０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。
【０１０５】
封止樹脂層は、ガスバリア層の上に塗布して形成してもよいし、一旦別の離型フィルムに封止樹脂層を塗布した後、封止樹脂層のみをガスバリア層上に転写してもよいし、または別の離型フィルムに封止樹脂層を塗布し、離型フィルムと一緒にガスバリア層上に貼り付けてもよい。
【０１０６】
［保護層］
保護層は、ガスバリア層を保護する機能を有する。保護層は、硬化樹脂層であることが好ましい。保護層としての硬化樹脂層は、熱硬化樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、特に活性エネルギー線硬化樹脂層であることがより好ましい。
【０１０７】
保護層としての熱硬化樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化樹脂層は、前述のアンダーコート層と同様の構成とすることができる。保護層の厚みは、０．３〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜３μｍの範囲がより好ましく、０．７〜２μｍの範囲が特に好ましい。
【０１０８】
［ガスバリア性積層膜の転写用フィルム］
本発明の転写用フィルムについて、いくつかの構成例を以下に挙げるが、これらの構成例には限定されない。
１）離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層
２）離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／保護層
３）離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／保護フィルム
４）離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／封止樹脂層／第２離型フィルム
５）離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／保護層／封止樹脂層／第２離型フィルム
上記構成例３）において、転写用フィルムからガスバリア性積層膜（アンダーコート層／ガスバリア層）を被転写部材に転写・被着するときは、先ず保護フィルムを剥離することが好ましく、そのためには保護フィルムとガスバリア層との剥離力は、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力より小さいことが好ましい。具体的には、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力（Ａ）と、保護フィルムとガスバリア層との剥離力（Ｂ）との差（Ａ−Ｂ）は、３ｍＮ／１８ｍｍ以上が好ましく、５ｍＮ／１８ｍｍ以上がより好ましく、１０ｍＮ／１８ｍｍ以上が好ましい。
【０１０９】
ここで、保護フィルムは、基材フィルム（好ましくはポリエステルフィルムやポリオレフィンフィルムなど）に微粘着性の粘着剤層が積層されたもの、あるいは自己粘着性フィルムが用いられる。
【０１１０】
同様に、構成例４）および５）の場合も、先ず第２離型フィルムを剥離することが好ましく、そのためには第２離型フィルムと封止樹脂層との剥離力は、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力より小さいことが好ましい。具体的には、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力（Ａ）と、第２離型フィルムと封止樹脂層との剥離力（Ｃ）との差（Ａ−Ｃ）は、３ｍＮ／１８ｍｍ以上が好ましく、５ｍＮ／１８ｍｍ以上がより好ましく、１０ｍＮ／１８ｍｍ以上が好ましい。
【０１１１】
ここで、第２離型フィルムは、前述の離型フィルムと同様の構成を採用することができるが、封止樹脂層との剥離力を小さくするために、第２離型フィルムは、離型剤としてシリコーン樹脂を含む離型層が基材フィルム上に積層されたものが好ましく用いられる。また、市販の軽剥離性の離型フィルムを用いることができる。
【０１１２】
本発明の転写用フィルムは、後述するように、有機ＥＬ素子や有機ＥＬデバイスに適用されることが好ましく、さらに、湾曲や屈曲に耐え得る高度なフレキシブル性を有する有機ＥＬ素子や有機ＥＬデバイスに適用されることが好ましい。転写用フィルムを高度なフレキシブル性を有する有機ＥＬ素子や有機ＥＬデバイスに適用するには、転写用フィルムは湾曲や屈曲に耐え得る高度なフレキシブル性を有することが好ましい。
【０１１３】
上記観点から、本発明の転写用フィルムは、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠した屈曲性試験において、クラックが発生しない最小のマンドレル直径が４ｍｍであることが好ましく、３ｍｍであることがより好ましく、２ｍｍであることが特に好ましい。
【０１１４】
［ガスバリ性積層膜の転写用フィルムの適用例］
本発明は、ガスバリア性が必要とされる被転写部材、例えば、有機ＥＬ素子、有機ＥＬデバイス、液晶ディスプレイ素子、太陽電池素子などの電子部材、偏光板、位相差板、透明導電性フィルムなどの光学フィルムなどに、ガスバリア性積層膜を転写するため転写用フィルムとして好適である。特に、有機ＥＬ素子および有機ＥＬデバイス（基板上に有機ＥＬ素子を配置したもの）に好適である。
【０１１５】
本発明の転写用フィルムを有機ＥＬ素子および有機ＥＬデバイスに適用するときの態様を説明する。図１および図２は、本発明の転写用フィルムのガスバリア性積層膜を有機ＥＬ素子に転写・被着する工程を示す模式断面図である。
【０１１６】
図１は、上記１）の構成（離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層）からなる転写用フィルムの適用例を示す。図１は、基板１１上に配置された有機ＥＬ素子１２には予め封止樹脂層１３が被覆されており、これに、転写用フィルム１０（離型フィルム１／アンダーコート層２／ガスバリア層３）を適用する態様である（図１ａ）。
【０１１７】
先ず、封止樹脂層１３と、転写用フィルム１０のガスバリア層３とが向き合うようにラミネートされる（図１ｂ）。次いで、転写用フィルム１０の離型フィルム１が剥離されて、転写用フィルム１０からガスバリア性積層膜（アンダーコート層２／ガスバリア層３）が転写・被着される（図１ｃ）。
【０１１８】
上記２）の構成（離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／保護層）からなる転写用フィルムを適用する場合も、図１と同様であり、先ず、封止樹脂層１３と、転写用フィルム１０の保護層（不図示）とが向き合うようにラミネートされ、次いで、転写用フィルム１０の離型フィルム１が剥離されて、転写用フィルム１０からガスバリア性積層膜（アンダーコート層／ガスバリア層／保護層）が転写・被着される。
【０１１９】
図２は、上記４）の構成（離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／封止樹脂層／第２離型フィルム）からなる転写用フィルムの適用例を示す。図２は、基板１１上に有機ＥＬ素子１２が配置されており、これに、転写用フィルム１０（離型フィルム１／アンダーコート層２／ガスバリア層３／封止樹脂層４／第２離型フィルム５）を適用する態様である（図２ａ）。
【０１２０】
先ず、転写用フィルム１０から第２離型フィルム５が剥離される（図２ｂ）。次いで、基板１１上に配置された有機ＥＬ素子１２と、転写用フィルム１０の封止樹脂層４とが向き合うようにラミネートされる（図２ｃ）。次いで、転写用フィルム１０の離型フィルム１が剥離されて、転写用フィルム１０からガスバリア性積層膜（アンダーコート層２／ガスバリア層３／封止樹脂層４）が転写・被着される（図２ｄ）。
【０１２１】
上記３）の構成（離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／保護フィルム）からなる転写用フィルムを適用する場合も、図２と同様であり、先ず、転写用フィルム１０から保護フィルム（不図示）が剥離され、次いで、基板１１上に配置された有機ＥＬ素子と、転写用フィルム１０のガスバリア層とが向き合うようにラミネートされ、次いで、転写用フィルム１０の離型フィルム１が剥離されて、転写用フィルム１０からガスバリア性積層膜（アンダーコート層／ガスバリア層）が転写・被着される。
【０１２２】
上記５）の構成（離型フィルム／アンダーコート層／ガスバリア層／保護層／封止樹脂層／第２離型フィルム）からなる転写用フィルムを適用する場合も、図２と同様であり、先ず、転写用フィルム１０から第２離型フィルム５が剥離され、次いで、基板１１上に配置された有機ＥＬ素子１２と、転写用フィルム１０の封止樹脂層とが向き合うようにラミネートされ、次いで、転写用フィルム１０の離型フィルム１が剥離されて、転写用フィルム１０からガスバリア性積層膜（アンダーコート層／ガスバリア層／保護層／封止樹脂層）が転写・被着される。
【実施例】
【０１２３】
以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
［評価方法］
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価ｎ数は、特に断らない限り、ｎ＝５とし平均値を求めた。【０１２４】
（１）離型フィルムとアンダーコート層との剥離力の測定
実施例および比較例で作製した転写用フィルムを幅２０ｍｍ×長さ１００ｍｍに切断して試験用サンプルを作製した。この試験用サンプルのガスバリア層の面に、粘着テープ（日東電工（株）の３１Ｂ；幅１８ｍｍ×長さ１００ｍｍ）を貼り合せ、自重４００ｇのゴムローラで圧着した後、２３℃、相対湿度５５％の雰囲気下で２４時間放置した後、引っ張り試験機を用いて、上記粘着テープを１８０°方向に２００ｍｍ／分の速度で剥離し、剥離力（ｍＮ／１８ｍｍ）を測定した。【０１２５】
実施例４１〜４４で作製した転写用フィルムについては、離型フィルムとアンダーコート層との剥離力より第２離型フィルムと封止樹脂層との剥離力が小さいため、先ず、封止樹脂層から第２離型フィルムを剥離する必要がある。次に、第２離型フィルムが剥離されて露出した封止樹脂層の面に粘着テープ（日東電工（株）の３１Ｂ；幅１８ｍｍ×長さ１００ｍｍ）を貼り合せ、自重４００ｇのゴムローラで圧着した後、２３℃、相対湿度５５％の雰囲気下で２４時間放置した後、引っ張り試験機を用いて、上記粘着テープを１８０°方向に２００ｍｍ／分の速度で剥離し、剥離力（ｍＮ／１８ｍｍ）を測定した。【０１２６】
（２）封止樹脂層と第２離型フィルムとの剥離力の測定
実施例４１〜４４で作製した転写用フィルムを幅２０ｍｍ×長さ１００ｍｍに切断して試験用サンプルを作製した。引っ張り試験機を用いて、試験用サンプルの第２離型フィルムを１８０°方向に２００ｍｍ／分の速度で剥離し、剥離力（ｍＮ／１８ｍｍ）を測定した。【０１２７】
（３）ガスバリア性積層膜の水蒸気透過率の測定その１
実施例１〜４０および比較例１〜３２で作製した転写用フィルムを幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍに切断し、この転写用フィルムのガスバリア層の面を、上記と同サイズの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）の“ルミラー（登録商標）”「Ｕ４８」；厚み１００μｍ）の一方の面に、アクリル系粘着剤（スリーエム（株）の「８１４６−１」；厚み２５μｍ）を介して貼り合せ、自重４００ｇのゴムローラで圧着して測定用サンプルを作製した。このサンプルを２３℃、相対湿度５５％の雰囲気下で２４時間放置した後、下記測定装置の測定サイズにカットし、転写用フィルムの離型フィルムを剥離した後、水蒸気透過率を測定し、以下の基準で評価した。【０１２８】
なお、上記で使用した二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）の“ルミラー（登録商標）”「Ｕ４８」；厚み１００μｍ）の水蒸気透過率は、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ程度であり、ガスバリア性積層膜の水蒸気透過率の測定には影響は与えない。貼り合わせに用いた粘着剤も同様である。【０１２９】
＜測定装置および測定条件＞
英国のテクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置（機種名：ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ（登録商標））を使用し、温度４０℃、湿度９０％ＲＨ、測定面積５０ｃｍ２の条件で測定した。【０１３０】
＜評価基準＞
Ａ；水蒸気透過率が０．００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
Ｂ；水蒸気透過率が０．００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、０．００５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
Ｃ；水蒸気透過率が０．００５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
Ｄ；水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
Ｅ；水蒸気透過率が０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
Ｆ；水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上。【０１３１】
（４）ガスバリア性積層膜の水蒸気透過率の測定その２
実施例４１〜４４で作製した転写用フィルムを幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍに切断し、第２離型フィルムを剥離した後、上記と同サイズの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）の“ルミラー（登録商標）”「Ｕ４８」；厚み１００μｍ）の一方の面に、転写用フィルムの封止樹脂層の面を貼り合せ、自重４００ｇのゴムローラで圧着し、測定用サンプルを作製した。このサンプルを、２３℃、相対湿度５５％の雰囲気下で２４時間放置した後、上記測定装置の測定サイズにカットし、転写用フィルムの離型フィルムを剥離した後、水蒸気透過率を測定し、上記基準で評価した。測定装置および測定条件は、上記と同じである。【０１３２】
（５）ガスバリア層の組成分析
ガスバリア層の組成分析（ガスバリア層が酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムを含むかどうか、および各元素の含有比率）は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により行った。すなわち、アルゴンイオンを用いたスパッタエッチングにより、最表層を５ｎｍ程度エッチングして除去した後、各元素の含有比率を測定した。ＸＰＳ法の測定条件は下記の通りである。
・装置                      ：ＥＳＣＡ  ５８００（アルバックファイ社製）
・励起Ｘ線                  ：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ  ＡｌＫα
・Ｘ線出力                  ：３００Ｗ
・Ｘ線径                    ：８００μｍ
・光電子脱出角度            ：４５°
・Ａｒイオンエッチング      ：２．０ｋＶ、１０ｍＰａ。【０１３３】
（６）各層の厚み
転写用フィルムの断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（日立製ＦＢ−２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８〜１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−９０００ＵＨＲII）により、加速電圧３００ｋＶとして、断面観察用サンプルの断面を観察し、アンダーコート層、ガスバリア層、離型フィルムの離型層、封止樹脂層等の各層の厚みを測定した。【０１３４】
（７）アンダーコート層の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）の測定
アンダーコート層の表面粗さ（Ｒａ）を、日立ハイテクサイエンス製の原子間力顕微鏡「ＡＦＭ５１００Ｎ」を用い、下記条件による測定した。
・走査モード：ＤＦＭ
・走査範囲：５μｍ×５μｍ
・データ数：２５６×２５６
・測定環境：２５℃、大気中。【０１３５】
（８）円筒形マンドレル法による屈曲性試験
円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠して、直径２ｍｍ〜５ｍｍの円筒形マンドレルに転写用フィルムのガスバリア層側が外側になるように（離型フィルムが円筒形マンドレルに接触するように）巻き付け、その巻き付け部分にクラックが生じるか否かを目視で観察し、クラックが発生しないマンドレルの最小直径を確認し、以下の基準で評価した。【０１３６】
Ａ：最小直径２ｍｍ（直径２ｍｍでクラックは発生しない）。【０１３７】
Ｂ：最小直径３ｍｍ（直径２ｍｍでクラックが発生するが、直径３ｍｍではクラックは発生しない）。【０１３８】
Ｃ：最小直径４ｍｍ（直径３ｍｍでクラックが発生するが、直径４ｍｍではクラックは発生しない）。【０１３９】
Ｄ：最小直径５ｍｍ（直径４ｍｍでクラックが発生するが、直径５ｍｍではクラックは発生しない）。【０１４０】
Ｅ：最小直径が５ｍｍを超える（直径５ｍｍでクラックが発生する）。【０１４１】
［離型フィルムの作製］
＜離型フィルム１＞
厚みが３８μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）の“ルミラー（登録商標）”「Ｒ８０」）の平滑面側に、下記の離型層塗工液ｐ１をグラビアコーターで塗布し、１００℃で予備乾燥後、１６０℃で加熱乾燥して、離型層を積層した。離型層の厚みは１００ｎｍであった。【０１４２】
＜離型層塗工液ｐ１＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３７０３」）４５質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）５質量部、硬化剤（信越化学工業(株)の白金触媒「ＰＬ−５０Ｔ」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液１００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１４３】
＜離型フィルム２＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ２に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１４４】
＜離型層塗工液ｐ２＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３７０３」）４０質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）１０質量部、硬化剤（信越化学工業(株)の白金触媒「ＰＬ−５０Ｔ」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液１００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１４５】
＜離型フィルム３＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ３に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１４６】
＜離型層塗工液ｐ３＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３７０３」）３５質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）２５質量部、硬化剤（信越化学工業(株)の白金触媒「ＰＬ−５０Ｔ」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液１００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１４７】
＜離型フィルム４＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ４に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１４８】
＜離型層塗工液ｐ４＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「Ｘ−６２−５０３９」）１０質量部、硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「Ｘ−９２−１８５」）０．４質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）１０重量部、硬化剤（信越化学工業（株）の白金触媒「ＰＬ−５０００」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液２００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１４９】
＜離型フィルム５＞
厚みが３８μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）の“ルミラー（登録商標）”「Ｒ８０」）の平滑面側に、下記のアンカー層塗工液をグラビアコーターで塗布し、１２０℃で乾燥加熱後、下記の離型層塗工液ｐ５をグラビアコーターで塗布し、１００℃で予備乾燥後、１６０℃で加熱乾燥して、離型層を積層した。アンカー層の厚みは５０ｎｍ、離型層の厚みは１００ｎｍであった。【０１５０】
＜アンカー層塗工液＞
エポキシ基含有有機ケイ素化合物であるＢＹ２４−８４６Ｂ（東レ・ダウコーニング(株)）５質量部、メタクリル基含有有機ケイ素化合物であるＢＹ２４−８４６Ｃ（東レ・ダウコーニング(株)）質量部、アルミニウムキレートであるＢＹ２４−８４６Ｄ（東レ・ダウコーニング(株)）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液１００質量部を混合してアンカー層塗工液を調製した。【０１５１】
＜離型層塗工液ｐ５＞
アルキド変性シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「Ｘ−６２−９００Ｂ）２０質量部、酸触媒としてパラトルエンスルホン酸（信越化学工業（株）の「ＣＡＴ−ＰＳ−８０」）０．２５質量部、希釈溶媒としてＭＥＫ３０質量部、トルエン５０質量部を混合し離型層塗工液を調製した。【０１５２】
＜離型フィルム６＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ６に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１５３】
＜離型層塗工液ｐ６＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「Ｘ−６２−５０３９」）１０質量部、硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「Ｘ−９２−１８５」）０．４質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）１５重量部、硬化剤（信越化学工業（株）の白金触媒「ＰＬ−５０００」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液２００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１５４】
＜離型フィルム７＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ７に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１５５】
＜離型層塗工液ｐ７＞
長鎖アルキル基含有樹脂（アシオ産業（株）の「アシオレジン」ＲＡ−９５Ｈ）をトルエンで溶解して、固形分濃度２．０質量％の塗工液を調製した。【０１５６】
＜離型フィルム８＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ８に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１５７】
＜離型層塗工液ｐ８＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３７０３」）２３質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）７６質量部、硬化剤（信越化学工業(株)の白金触媒「ＰＬ−５０Ｔ」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液４００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１５８】
＜離型フィルム９＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ９に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１５９】
＜離型層塗工液ｐ９＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３７０３」）１７質量部、剥離力調整剤（信越化学工業（株）の「ＫＳ−３８００」）８２質量部、硬化剤（信越化学工業(株)の白金触媒「ＰＬ−５０Ｔ」）１質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液４００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１６０】
＜離型フィルム１０＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ１０に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１６１】
＜離型層塗工液ｐ１０＞
硬化型シリコーン樹脂（信越化学工業(株)の「ＫＳ８４７Ｈ」）１０質量部、硬化剤（信越化学工業(株)の白金触媒「ＰＬ−５０Ｔ」）０．０５質量部、トルエン／ＭＥＫ（５０／５０）混合液１００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１６２】
＜離型フィルム１１＞
離型フィルム１の作製において、下記の離型層塗工液ｐ１１に変更する以外は、離型フィルム１と同様にして作製した。【０１６３】
＜離型層塗工液ｐ１１＞
離型剤として長鎖アルキル基含有樹脂（ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ（株）の「ピーロイル」ＨＴ）を固形分換算で１０質量部、架橋剤としてメラミン系架橋剤（三井化学（株）の「ユーバン」２８−６０）を固形分換算で２．５質量部、酸触媒としてｐ−トルエンスルホン酸（テイカ（株）の「ＴＡＹＣＡＣＵＲＥ」ＡＣ−７００）を固形分換算で１．８質量部、トルエン／ＴＥＫ（４０／１０）混合液５００質量部を混合した離型層塗工液を調製した。【０１６４】
［実施例１］
離型フィルム１の離型層上に、下記のアンダーコート層用塗工液ａ１をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてアンダーコート層を形成した。このアンダーコート層の厚みは１μｍであった。【０１６５】
＜アンダーコート層用塗工液ａ１＞
３官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗工液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−７５５０Ｂ」）を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。【０１６６】
＜ガスバリア層の積層＞  
上記で形成されたアンダーコート層の上に、下記要領にてガスバリア層を厚みが１５０ｎｍとなるように積層して転写用フィルムを作製した。【０１６７】
図３に示す構造の巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置２１を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極３２に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、アンダーコート層が積層された離型フィルム２４のアンダーコート層（不図示）の面上にガスバリア層（不図示）を積層した。【０１６８】
具体的な操作は以下の通りである。まず、スパッタ電極３２に酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの組成質量比が７７／２０／３で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置２１の巻き取り室２６の中で、巻き出し軸２７にアンダーコート層が積層された離型フィルム２４のアンダーコート層（不図示）の面がスパッタ電極３２に対向するようにセットし、巻き出し、巻き出し側ガイドロール２８、２９、３０を介して、クーリングドラム３１に通した。減圧度２×１０−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力４０００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、ガスバリア層を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、巻き取り側ガイドロール３３，３４，３５を介して巻き取り軸３６に巻き取った。【０１６９】
このガスバリア層の組成は、Ｚｎ原子濃度が２７．５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１３．１ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が２．３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５７．１ａｔｏｍ％であった。【０１７０】
［実施例２］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム２に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７１】
［実施例３］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム３に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７２】
［実施例４］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム４に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７３】
［実施例５］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム５に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７４】
［実施例６］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム６に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７５】
［実施例７］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム７に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７６】
［実施例８］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム８に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７７】
［実施例９］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム９に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７８】
［比較例１］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム１０に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１７９】
［比較例２］
実施例１において、離型フィルム１を離型フィルム１１に変更する以外は実施例１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１８０】
［評価］
上記の実施例１〜９および比較例１〜２で得られた転写用フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表１に示す。【０１８１】
【表１】
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【０１８２】
［実施例１１〜１９および比較例１１〜１２］
実施例１〜９および比較例１〜２において、アンダーコート層用塗工液を下記の塗工液ａ２に変更し、かつアンダーコート層の厚みを３μｍ変更する以外は、実施例１〜９および比較例１〜２と同様にして、離型フィルム上にアンダーコート層を積層した。【０１８３】
＜アンダーコート層用塗工液ａ２＞
大日精化工業（株）製の紫外線硬化性樹脂「セイカビーム ＩＬ−ＰＣ２」を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。【０１８４】
＜ガスバリア層の積層＞
上記で形成されたアンダーコート層上に、実施例１と同様の製造装置（図３）を用いて、スパッタターゲットを酸化アルミニウム（アルミニウム原子に対する酸素原子数比（Ｏ／Ａｌ比率）が１．５で焼結されたスパッタターゲット）に変更し、かつガスバリア層の厚みを２００ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にしてガスバリア層を積層して転写用フィルムを作製した。【０１８５】
［評価］
上記の実施例１１〜１９および比較例１１〜１２で得られた転写用フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表２に示す。【０１８６】
【表２】
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【０１８７】
［実施例２１〜２９および比較例２１〜２２］
実施例１〜９および比較例１〜２において、アンダーコート層用塗工液を下記の塗工液ａ３に変更し、かつアンダーコート層の厚みを５μｍに変更する以外は、実施例１〜９および比較例１〜２と同様にして転写用フィルムを作製した。【０１８８】
＜アンダーコート層用塗工液ａ３＞
下記のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ＵＡ）１４０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）９０７」）５質量部、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して、固形分濃度が２０質量％に調製した。【０１８９】
＜ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ＵＡ）の合成＞
４つ口フラスコに、ビスフェノールＦ型ジエポキシ樹脂（東都化成（株）製、商品名：エポトートＹＤＦ−８１７０Ｃ、エポキシ当量：１５９）を３１８０質量部、アクリル酸（三菱化学（株）製、商品名：アクリル酸）１４４０質量部、重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテル４．６質量部、合成触媒としてジメチルアミノエチルメタアクリレート（三菱レイヨン（株）製、商品名：アクリエステルＤＭ）２３質量部を入れ、攪拌しながら９５℃まで昇温させ、９５℃に保持した状態で１４時間反応を続けた。酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になったところで内温が６０℃になるまで冷却してエポキシ（メタ）アクリレートを得た。【０１９０】
次に、４つ口フラスコに、上記エポキシ（メタ）アクリレート２９８質量部、酢酸エチル７１１．３質量部を入れ、内温６０℃になるように加温した。合成触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫０．２１質量部を添加し、攪拌しながら、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート（三井化学ポリウレタン（株）製、商品名：タケネート６００）１９９質量部を１時間かけて滴下した。滴下終了後２時間反応を続行し、続いてジエチレングリコール（和光純薬工業（株）製試薬、商品名：ジエチレングリコール、分子量１０６）２７．３質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（東亜合成（株）製、商品名：アロニックスＭ−３０６）１８７質量部の混合物を１時間かけて滴下した。滴下後５時間反応を続行し、質量平均分子量１９８００のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ＵＡ）を得た。【０１９１】
［実施例３０］
実施例２１において、アンダーコート層用塗工液を下記の塗工液ａ４に変更する以外は実施例２１と同様にして、転写用フィルムを作製した。【０１９２】
＜アンダーコート層用塗工液ａ４＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業（株）の「Ａ−ＤＰＨ」）９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）９０７」）５質量部を有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して、固形分濃度が２０質量％に調製した。【０１９３】
［評価］
上記の実施例２１〜３０および比較例２１〜２２で得られた転写用フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表３に示す。【０１９４】
【表３】
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【０１９５】
［実施例３１〜４０および比較例３１〜３２］
実施例２１〜３０および比較例２１〜２２において、下記のガスバリア層に変更する以外は、実施例２１〜３０および比較例２１〜２２と同様にして転写用フィルムを作製した。【０１９６】
＜ガスバリア層の積層＞
図３に示す構造の巻き取り式のスパッタリング・ＣＶＤ装置２１を使用し、ヘキサメチルジシラザンを原料とした化学気相蒸着（ＣＶＤ）を実施して、ＳｉＯ２膜を積層した。このＳｉＯ２膜の厚み２００ｎｍであった。【０１９７】
［評価］
上記の実施例３１〜４０および比較例３１〜３２で得られた転写用フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表４に示す。【０１９８】
【表４】
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【０１９９】
［実施例４１］
実施例３で得られた転写用フィルムのガスバリア層上に下記の封止樹脂層塗工液をバーコーターで乾燥厚みが４０μｍとなるように塗布し、１１０℃で乾燥して封止樹脂層を積層した。続いて、封止樹脂層上に第２離型フィルム（ニッパ（株）のシリコーン系離型フィルム「ＰＥＴ３８×１−Ａ３」）を積層して転写用フィルムを作製した。【０２００】
＜封止樹脂層＞
封止樹脂としてポリイソブチレン（ＢＡＳＦ社製の「オパノールＢ１００」）６０質量部と、粘着付与樹脂として脂環族系水添石油樹脂（エクソン・モービル社製の「エスコレッツ５３４０」）４０質量部とをトルエンに溶解して１５質量％の樹脂溶液を調製した。【０２０１】
［実施例４２］
実施例５で得られた転写用フィルムのガスバリア層上に、実施例４１と同様にして封止樹脂層および第２離型フィルムを積層して、転写用フィルムを作製した。【０２０２】
［実施例４３］
実施例２３で得られた転写用フィルムのガスバリア層上に、実施例４１と同様にして封止樹脂層および第２離型フィルムを積層して、転写用フィルムを作製した。【０２０３】
［実施例４４］
実施例２５で得られた転写用フィルムのガスバリア層上に、実施例４１と同様にして封止樹脂層および第２離型フィルムを積層して、転写用フィルムを作製した。【０２０４】
［評価］
上記の実施例４１〜４４で得られた転写用フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表５に示す。【０２０５】
【表５】
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【符号の説明】
【０２０６】
１  離型フィルム
２  アンダーコート層
３  ガスバリア層
４  封止樹脂層
５  第２離型フィルム
１０  転写用フィルム
１１  基板
１２  有機ＥＬ素子
１３  封止樹脂層
２１  巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置
２４  アンダーコート層が積層された離型フィルム
２６  巻き取り室
２７  巻き出し軸
２８、２９、３０  巻き出し側ガイドロール
３１  クーリングドラム
３２  スパッタ電極またはＣＶＤ電極
３３、３４、３５  巻き取り側ガイドロール
３６  巻き取り軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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