【事件の表示】
　平成　５年特許願第１５５５８６号「耐用寿命が改善された電極」拒絶査定不服審判事件〔平成　６年　４月１２日出願公開、特開平　６−１０１０８３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成５年６月２５日（パリ条約による優先権主張１９９２年６月２５日、アメリカ合衆国）を出願日とし、平成１７年１２月５日に審判請求があった特許出願であって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成１８年１月４日付け手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものであると認める。
　
「金属基材から電極を調整する方法において、該基材上にプロフィルメータで測定して少なくとも約２５０ミクロインチの平均表面粗さおよびプロフィルメータにより４００ミクロインチの上限と３００ミクロインチの下限を基準として少なくとも約４０の平均表面ピーク／インチを有する粗い表面を調整し、そして該粗い表面に電気触媒被覆を適用することを含む方法であって、該粗い表面を下記工程：
（ａ）該金属基材の粒界エッチングを行う工程であって、そのエッチングが三次元粒に深い粒界を形成する工程；または
（ｂ）前記金属基材上にバルブ金属層を溶射する工程；または
（ｃ）該金属基材表面に尖ったグリットでグリットブラストを行って三次元表面を形成させ、その後、エッチングする工程、
　によって該金属基材上に適用して、表面粗さを有する表面を生成させ、そして前記の表面粗さを保ちながら、下記工程（１）ないし（３）：
（１）該粗い表面を酸素含有雰囲気中で約４５０℃を超える高温に少なくとも約１５分間加熱する工程、または
（２）該粗い表面に１層以上の金属酸化物前駆物質をドーピング剤とともにまたはドーピング剤なしで適用し、この場合にその金属前駆物質は加熱すると金属酸化物を形成し、次いで前記前駆物質を高温で熱処理して金属酸化物に変える工程；または
（３）ドーピング化合物とともにまたはドーピング化合物なしで揮発性出発物質の化学蒸着によって該粗い表面に下級酸化物層を堆積させる工程、ここで、前記出発物質は、少なくとも約２５０℃の温度に加熱された前記表面粗さを有する表面に不活性ガスのキャリヤーを介して移動する工程、
の１つ以上によって、工程（ａ）、工程（ｂ）、または工程（ｃ）により生成させた該粗い表面上に、セラミック酸化物バリヤー層を生成させることを特徴とし、ついで、前記の表面粗さを有するセラミック酸化物バリヤー層上に該電気触媒被覆を適用する方法。」
　
２．当審の拒絶理由
　一方、当審において平成１８年８月４日付けで通知した拒絶の理由の概要は、本願発明は、本願の優先権主張の日前の平成２年３月１日に頒布された特開平２−６１０８３号公報（以下「刊行物１」という。）、同じく平成３年２月２８日に頒布された特開平３−４７９９９号公報（以下「刊行物２」という。）に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　
３．引用刊行物の記載事項
３−１　そして、刊行物１には、次のことが記載されている。
（１）「本発明は酸素発生を伴う電解工程、特にスズ，亜鉛，クロム等の電気メッキに使用される不溶性陽極に関するものである。」（第１頁右欄下６〜下４行）
（２）「本発明は、導電性金属基体上に、（中略）導電性を有する中間被覆層及び該中間被覆層上に（中略）酸素発生触媒能を有する表面被覆層を形成したことを特徴とする酸素発生用陽極及びその製法である。」（第２頁右下欄２〜１２行）
（３）「導電性金属基体の表面を酸処理，ブラスト処理等の方法でエッチングを行なって粗面化させた後、塩化チタン，塩化タンタル，（中略）等の金属塩をエチルアルコール，ブチルアルコール等の溶媒に溶解して所定組成の混合溶液としたものを刷毛塗り，ロール塗り，スプレー法或いは浸漬法等の手段で塗布する。次いで１００〜１５０℃で数分間乾燥し、空気又は酸素雰囲気の電気炉中３００〜７００℃で１０〜２０分間熱分解処理を行う。」（第３頁右上欄５〜１５行）
　　　
３−２　また、刊行物２には、次のことが記載されている。
（１）「本発明は被膜付着性の向上に適合する表面を備えた金属物品において、（中略）該表面が金属表面の粒界に位置する不純物のエッチングを含めてエッチングされており、この粒子間エッチングによってプロフィルメーター測定による平均表面あらさ少なくとも約６．４μｍ（２５０マイクロインチ）および平均表面ピーク数少なくとも約１６／ｃｍ（４０／インチ）−プロフィルメータ閾値上限約１０．２μｍ（４００マイクロインチ）およびプロフィルメータ閾値下限約７．６μｍ（３００マイクロインチ）を基準とする−が与えられた物品を目的とする。」（第５頁左下欄１３行〜同頁右下欄７行）
（２）「エッチングにより達成される粗面性のほかにまたはこれと共に採用しうる他の粗面化法も考慮され、たとえばバルブ金属またはバルブ金属酸化物−バルブ金属亜酸化物（ suboxide )を含む−１種または２種以上を金属表面にブラス溶射することによって粗面性を得ることもできる。これらの特性をプロフィルメーターにより測定したものについては、のちにより詳細に延べる。」（第７頁左上欄下３行〜同頁右上欄６行）
（３）「目的とする表面あらさを達成するために採用する方法に関係なく、たとえばプラズマ溶射または粒子間エッチングのいずれであっても、金属表面は平均表面あらさ（Ra)少なくとも約６．４μm（２５０マイクロインチ）および平均表面ピーク数（Nr)少なくとも約１６／ｃｍ（４０／インチ）を持つことが必要である。」（第８頁右上欄１０行〜１６行）
（４）「十分に調整された金属が電気触媒被覆され、酸素発生電極として用いられる場合、（中略）この種の電極はきわめて望ましい有効寿命をもつ。」（第６頁左上欄１０〜１５行）
　　
４．刊行物１及び２に記載された発明及び検討
４−１　刊行物１に記載された発明
　３−１に摘記した刊行物１の記載事項から、刊行物１には次のことが記載されている（以下「刊行物１発明」という）。
「導電性金属基体の表面を、酸処理、ブラスト処理等の方法でエッチングして粗面化した後、塩化チタン等の金属塩の混合溶液を塗布後に乾燥・熱処理して導電性を有する中間被覆層を形成し、その後に酸素発生触媒能を有する表面被覆層を形成することからなる、酸素発生用陽極の製造方法。」
　
４−２　刊行物２に記載された発明
　３−２の（２）及び（３）によれば、刊行物２には金属表面の粗面化方法として、具体的にはブラス溶射、プラズマ溶射及び粒子間エッチングが挙げられており、いずれの粗面化方法によっても、この刊行物の他の箇所で数値範囲を限定する特定の表面粗さを達成する必要があるとしている。そして、（２）にあるように、バルブ金属酸化物等を金属表面に溶射することにより粗面化を行った場合には、金属表面には溶射によりバルブ金属酸化物層が形成され、これにより粗面化が行われているとすることができる。
　したがって、３−２の（１）〜（４）を総合すれば、刊行物２には、次のことが記載されている（以下「刊行物２発明」という）。
「金属物品に電気触媒被覆を施して酸素発生電極を形成する方法であって、該被覆の密着性を向上するために、下記(i)の特定の粗面化方法を採用でき、いずれの粗面化方法であっても、下記(ii)の特定の粗面化の程度に金属物品表面を粗面化する方法。ここで：
　(i)粗面化方法；金属物品表面をエッチングにより粗面化する方法と、溶射により金属物品表面にバルブ金属酸化物等の溶射膜を形成する方法。
　(ii)粗面化の程度；プロフィルメータ測定による平均表面あらさ少なくとも約６．４μｍ（２５０マイクロインチ）であり平均表面ピーク数少なくとも約１６／ｃｍ（４０／インチ）であること。ここで、プロフィルメータ閾値上限を約１０．２μｍ（４００マイクロインチ）、及びプロフィルメータ閾値下限を約７．６μｍ（３００マイクロインチ）を基準とする」
　
５．対比
　そこで、本願発明と刊行物１発明とを比較すると、刊行物１発明における「酸処理」、「塩化チタン等の金属塩」は、本願発明における「エッチング」、「金属酸化物前駆物質」に相当する。同様に、刊行物１発明における「導電性金属基体」、「導電性を有する中間被覆層」、「酸素発生触媒能を有する表面被覆層」及び「酸素発生用陽極」は、それぞれ、本願発明における「金属基材」、「セラミック酸化物バリヤー層」、「電気触媒被覆」及び「電極」に相当する。
　なお、セラミック酸化物バリヤー層の形成方法は、刊行物１に記載されているものの他、例えば特開昭５６−５８９８４号公報（第３頁右上欄１６行〜右下欄末行）に記載されているように種々の方法が知られており、周知の技術である。
  したがって、両者の一致点と相違点は次のとおりである。
＜一致点＞
『金属基材から電極を調製する方法において、該基材上に粗い表面を調製し、そして該粗い表面に電気触媒被覆を適用することを含む方法であって、該粗い表面を下記工程：
（ａ）該金属基材表面をエッチングする工程
（ｃ）該金属基材表面をブラスト処理する工程
　によって該金属基材上に適用して、表面粗さを有する表面を生成させ、
（２）該粗い表面に１種以上の金属酸化物前駆物質を適用し、次いで前記前駆物質を高温で熱処理して金属酸化物に変える工程
　によって、工程（ａ）または工程（ｃ）により生成させた該粗い表面上に、セラミックス酸化物バリヤー層を生成させることを特徴とし、ついで、前記のセラミック酸化物バリヤー層上に該電気触媒被覆を適用する方法。』
　
＜相違点＞　
（１）本願発明では、金属基材表面の粗面化の程度を、プロフィルメータでの測定による平均表面あらさの下限と平均表面ピーク数の下限の値を設定することにより特定しているが、刊行物１発明では粗面を形成すると表現するのみで、粗面化の程度については特に言及していない点。
（２）本願発明では、金属基材の表面粗さを保ちながらセラミック酸化物バリヤー層を形成し、その表面粗さを有するセラミック酸化物バリヤー層上に電気触媒被覆を形成することとしているが、刊行物１発明ではこの点について明記していない点。
　
６．当審の判断
　そこで、上記相違点について検討する。
６−１　相違点（１）について
　刊行物２には、上記４−２で摘記したとおり、電気触媒被覆されて酸素発生電極として用いられる金属物品について、その表面の粗さをプロフィルメータで測定した平均表面あらさと平均ピーク数で特定することは公知の技術である。また、本願発明で採用する金属基体表面粗さは、刊行物２発明で特定する上記(ii)の数値範囲と同一となっている。
　そして、刊行物２発明においても、電気触媒被覆の密着性を高めて電極の有効寿命を確保することを目的としており、この点で共通するのであるから、刊行物１発明において電気触媒被覆を形成する金属基材表面の粗さを、刊行物２発明で採用する上記(ii)の表面粗さと同程度の粗面としようとすることは、当業者であれば適宜なしうるところである。
　
６−２　相違点（２）について
　この点に関し、請求人は、平成１８年８月４日付けの拒絶理由通知に対する平成１９年２月８日付け意見書において、バリヤー層をコーティングしている間に金属基体の表面粗さを維持することが必要であり、この点で本願発明は刊行物１発明と相違する旨を主張する。
　しかし、上記４−２の(i)に摘記したように、刊行物２には、金属基材への電気触媒被覆の密着性を高めるために、金属基材表面をエッチングして表面粗さを調整することと共に、バルブ金属酸化物溶射層を形成することで金属基材の表面粗さを調整することも記載されており、本願発明の（２）の工程で形成する金属酸化物からなるセラミック酸化物バリヤー層と同じ下地になっていることが理解できる。そして、該バルブ金属酸化物層も上記エッチングによる表面粗さと同様の表面粗さを求められているのだから、引用例１発明においても、金属基材表面の表面粗さを整えることと共に、当該金属基材表面に形成するセラミック酸化物バリヤー層によって、電気触媒被覆形成面の表面粗さを適切な範囲に調整することは、当業者であれば当然に考慮するところである。
　したがって、引用例１発明において、金属基材の表面粗さを保ちながら、その上に形成するバリヤ層においてもその表面粗さを維持するようにすることは、当業者であれば容易になしうることである。
　
　そして、相違点（１）及び（２）に係る本願発明の特定事項によってもたらされる効果も、刊行物１、刊行物２に記載された発明及び上記周知技術から、当業者が普通に予測しうる程度のものであって格別のものといえない。
　
７．むすび
　したがって、本願発明は、刊行物１及び２に記載された発明、及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。