【事件の表示】
　特願２００６−　１０６３８「光学フィルムの製造方法、およびそのような製造方法により得られる光学フィルムを用いた画像表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　１月１１日出願公開、特開２００７−　　４１１９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　
　本願は、平成１８年１月１９日に出願された、特願２００６−１０６３８号であって、平成１９年６月２９日付けで拒絶理由通知がなされ、同年７月３０日付けで手続補正がなされ、同年９月２６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月３１日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに同年１１月１３日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１９年１１月１３日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　
　平成１９年１１月１３日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１．補正の内容
　
　本件補正は、特許請求の範囲について、補正前（平成１９年７月３０日付け手続補正書参照）に
　
「【請求項１】
　配向処理した基材に液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と；
　該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させて、該基材の表面に第１の光学補償層を形成する工程と；
　該基材表面に形成された該第１の光学補償層を透明保護フィルム（Ｔ）の表面に転写する工程と；
　透明保護フィルム（Ｔ）の表面に偏光子を積層する工程と；
　該第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程とを含み、
　該偏光子と該第１の光学補償層が、互いに透明保護フィルム（Ｔ）を介して反対側に配置され、
　該第１の光学補償層がλ／２板であり、
　該第１の光学補償層が、該第１の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°となるように形成され、
　該第２の光学補償層がλ／４板であり、
　該第２の光学補償層が、該第２の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋８５°〜＋９５°となるように形成され、
　該第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程が、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に塗工する工程と、該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、該ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸して、該基材シート上に該第２の光学補償層を形成する工程と、該基材シート上に形成された第２の光学補償層を該第１の光学補償層の表面に貼り付ける工程と、該基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程とを含む、
　光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
　前記液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、前記液晶材料の配向工程が、重合処理および／または架橋処理を行うことをさらに含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
　前記重合処理および／または架橋処理が、加熱または光照射により行われる、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
　前記第２の光学補償層が、そのＮｚ係数が１．２≦Ｎｚ≦２となるようにして形成される、請求項１から３までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
　前記基材シート上に前記第２の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマー層が該基材シートごと１．２倍〜３倍の延伸倍率で延伸される、請求項１から４までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
　前記基材シート上に前記第２の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマー層が該基材シートごと幅方向に延伸される、請求項１から５までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
　前記第２の光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍである、請求項１から６までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
　請求項１から７までのいずれかに記載の製造方法により得られる、光学フィルム。
【請求項９】
　請求項８に記載の光学フィルムを含む、画像表示装置。」
　
とあったものを、
　
「【請求項１】
　配向処理した基材に液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と；
　該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させて、該基材の表面に第１の光学補償層を形成する工程と；
　該基材表面に形成された該第１の光学補償層を透明保護フィルム（Ｔ）の表面に転写する工程と；
　透明保護フィルム（Ｔ）の表面に偏光子を積層する工程と；
　該第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程とを含み、
　該偏光子と該第１の光学補償層が、互いに透明保護フィルム（Ｔ）を介して反対側に配置され、
　該第１の光学補償層の屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚであり、
　該第１の光学補償層がλ／２板であり、
　該第１の光学補償層が、該第１の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°となるように形成され、
　該第２の光学補償層の屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであり、
　該第２の光学補償層がλ／４板であり、
　該第２の光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍであり、
　該第２の光学補償層が、該第２の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋８５°〜＋９５°となるように形成され、
　該第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程が、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に塗工する工程と、該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、該ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸して、該基材シート上に該第２の光学補償層を形成する工程と、該基材シート上に形成された第２の光学補償層を該第１の光学補償層の表面に貼り付ける工程と、該基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程とを含み、
　得られる光学フィルムの全体の厚みが４０〜１５０μｍである、
　光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
　前記液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、前記液晶材料の配向工程が、重合処理および／または架橋処理を行うことをさらに含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
　前記重合処理および／または架橋処理が、加熱または光照射により行われる、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
　前記第２の光学補償層が、そのＮｚ係数が１．２≦Ｎｚ≦２となるようにして形成される、請求項１から３までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
　前記基材シート上に前記第２の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマー層が該基材シートごと１．２倍〜３倍の延伸倍率で延伸される、請求項１から４までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
　前記基材シート上に前記第２の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマー層が該基材シートごと幅方向に延伸される、請求項１から５までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
　請求項１から６までのいずれかに記載の製造方法により得られる、光学フィルム。
【請求項８】
　請求項７に記載の光学フィルムを含む、画像表示装置。」
　
　と補正するものであるところ、その内容は、以下の補正事項１ないし補正事項７のとおりである。
　
（１）補正事項１
　補正前の請求項１の「該偏光子と該第１の光学補償層が、互いに透明保護フィルム（Ｔ）を介して反対側に配置され、」と「該第１の光学補償層がλ／２板であり、」との間に、「該第１の光学補償層の屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚであり、」を挿入する。
　
（２）補正事項２
　補正前の請求項１の「該第１の光学補償層が、該第１の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°となるように形成され、」と「該第２の光学補償層がλ／４板であり、」との間に、「該第２の光学補償層の屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであり、」を挿入する。
　
（３）補正事項３
　補正前の請求項１の「該第２の光学補償層がλ／４板であり、」と「該第２の光学補償層が、該第２の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋８５°〜＋９５°となるように形成され、」との間に、「該第２の光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍであり、」を挿入する。
　
（４）補正事項４
　補正前の請求項１の「該基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程とを含み、」と「光学フィルムの製造方法。」との間に、「得られる光学フィルムの全体の厚みが４０〜１５０μｍである、」を挿入する。
　
（５）補正事項５
　補正前の請求項７を削除する。
　
（６）補正事項６
　補正前の請求項８における「請求項１から７までのいずれかに記載の」という記載を、補正後の請求項７において「請求項１から６までのいずれかに記載の」と補正する。
　
（７）補正事項７
　補正前の請求項９における「請求項８に記載の」という記載を、補正後の請求項８において「請求項７に記載の」と補正する。
　
２．独立特許要件について
　補正事項１は、「第１の光学補償層」について「屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ」であると限定し、補正事項２は、「第２の光学補償層」について「屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」であると限定し、補正事項３は、「第２の光学補償層」について「厚みが１μｍ〜１０μｍ」であると限定し、補正事項４は、「光学フィルム」について「全体の厚みが４０〜１５０μｍ」であると限定するものであるから、特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものに該当する。また、補正事項５は、補正前の請求項７を削除するものであるから、請求項の削除に該当する。補正事項６及び７は、前記補正事項５の請求項７の削除に伴い、請求項の引用関係を補正するものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする補正である。よって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項の各号に掲げる事項を目的とする補正に該当する。
　したがって、本件補正は平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げるいわゆる限定的減縮を目的とするものに該当するものであるから、本件補正後における特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか）否かを、請求項１に係る発明（以下、「本件補正発明」という。）について以下に検討する。
　
（１）引用例
（ア）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００４−３０９７７２号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。
　
（ａ）「【請求項１】
（１）配向基板上に形成された液晶配向が固定化された液晶物質層１を、接着剤層を介して等方性基板と接着せしめた後、配向基板を剥離して液晶物質層１を等方性基板に転写し、等方性基板／接着剤層／液晶物質層１からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）配向基板上に形成された液晶配向が固定化された液晶物質層２を、粘・接着剤層を介して前記液晶物質層１と貼り合わせ、等方性基板／接着剤層／液晶物質層１／粘着剤（接着剤）層／液晶物質層２／配向基板からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、
および
（３）前記積層体（Ｂ）の配向基板を剥離し、等方性基板または液晶物質層２に偏光板を貼合する第３工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とする光学積層体の製造方法。」
　
（ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種光学素子に有用な光学積層体の製造方法に関する。また本発明は、かかる製造方法で得られた光学積層体からなる楕円偏光板または円偏光板に関し、さらには該楕円偏光板または円偏光板を具備する液晶表示装置に関する。」
　
（ｃ）「【０００９】
液晶物質層に使用することのできる液晶物質は、液晶フィルムが目的とする用途や製造方法により、低分子液晶物質、高分子液晶物質を問わず広い範囲から選定することができるが、高分子液晶物質が好ましい。さらに液晶物質の分子形状は、棒状であるか円盤状であるかを問わない。例えばディスコティックネマチック液晶性を示すディスコティック液晶化合物も使用することができる。
固定化前の液晶物質層の液晶相としては、ネマチック相、ねじれネマチック相、コレステリック相、ハイブリッドネマチック相、ハイブリッドねじれネマチック相、ディスコティックネマチック相、スメクチック相等が挙げられる。
【００１０】
前記高分子液晶物質としては、各種の主鎖型高分子液晶物質、側鎖型高分子液晶物質、またはこれらの混合物を用いることができる。主鎖型高分子液晶物質としては、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリベンズイミダゾール系、ポリベンズオキサゾール系、ポリベンズチアゾール系、ポリアゾメチン系、ポリエステルアミド系、ポリエステルカーボネート系、ポリエステルイミド系等の高
分子液晶物質、またはこれらの混合物等が挙げられる。また、側鎖型高分子液晶物質としては、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリビニル系、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリマロネート系、ポリエステル系等の直鎖状または環状構造の骨格鎖を有する物質に側鎖としてメソゲン基が結合した高分子液晶物質、またはこれらの混合物が挙げられる。これらのなかでも合成や配向の容易さなどから、主鎖型高分子液晶物質のポリエステル系が好ましい。」
　
（ｄ）「【００１４】
塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、ロールコート法、ダイコート法、ディップコート法、カーテンコート法、スピンコート法などを挙げることができる。塗布の後に、ヒーターや温風吹きつけなどの方法による溶媒除去（乾燥）工程を入れても良い。塗布された膜の乾燥状態における膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは０．２μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．３μｍ〜１０μｍである。この範囲外では、得られる液晶物質層の光学性能が不足したり、液晶物質の配向が不十分になるなどして好ましくない。」
　
（ｅ）「【００２４】
本発明に使用される等方性基板としては、４−メチルペンテン−１、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂、トリアセチルセルロース、あるいはエポキシ樹脂などの各フィルムが使用できる。」
　
（ｆ）「【００２６】
前記偏光板は、偏光フィルム単独で使用しても良いし、強度向上、耐湿性向上、耐熱性の向上等の目的で偏光フィルムの片面または両面に透明な保護層等を設けたものであっても良い。透明な保護層としては、ポリエステルやトリアセチルセルロース等の透明プラスチックフィルムを直接または接着剤層を介して積層したもの、樹脂の塗布層、アクリル系やエポキシ系等の光硬化型樹脂層などが挙げられる。これら透明な保護層を偏光フィルムの両面に被覆する場合、両面に同じ透明な保護層を設けても良いし、また異なる透明な保護層を設けても良い。」
　
（ｇ）「【００２７】
次に、本発明の光学積層体の製造方法について具体的に説明する。
まず、本発明の等方性基板上に接着剤層を介して形成された液晶物質層１からなる積層体（Ａ）を製造する第１工程について説明する。
まず、配向基板上に、液晶物質の塗膜を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、加熱等により液晶の配向を完成せしめ、用いた液晶物質に適した手段により液晶物質層１の配向を固定化する。次いで、配向が固定化された液晶物質層１上に、接着剤層を形成し、接着剤層を介して液晶物質層１と等方性基板を密着した後、必要により接着剤層を反応（硬化）させた後、配向基板を剥離する。
このようにして、配向の固定化された液晶物質層１を等方性基板に転写させることができる。かくして等方性基板上に接着剤層を介し接着された液晶物質層１からなる積層体（Ａ）を得ることができる。」
　
（ｈ）「【００４５】
また１／４波長板機能を有する液晶物質層は、本発明の如く偏光板と組み合わせることにより、円偏光板や反射型の液晶表示装置やＥＬ表示装置の反射防止フィルター等として用いることができる。とりわけ、可視光領域の広帯域にわたって機能する広帯域１／４波長板を得る為には、５５０ｎｍの単色光での複屈折光の位相差が略１／４波長である１／４波長板と５５０ｎｍの単色光での複屈折光の位相差が略１／２波長である１／２波長板とを、それらの遅相軸が交差した状態で積層することが有効であることが一般に知られており、実際に反射型の液晶表示装置などで広く用いられている。すなわち、本発明の製造方法のように薄肉の光学積層体を得る技術を用いれば、従来の高分子延伸フィルムだけでは困難であった薄型の広帯域１／４波長板が得られることになる。ここで、１／４波長板のリターデーション値は、通常５０ｎｍ〜１８０ｎｍ、好ましくは７０ｎｍ〜１６０ｎｍ、特に好ましくは９０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲である。また、１／２波長板のリターデーション値は、通常１８０ｎｍ〜３２０ｎｍ、好ましくは２００ｎｍ〜３００ｎｍ、特に好ましくは２２０ｎｍ〜２８０ｎｍの範囲である。１／４波長板と１／２波長板のリターデーション範囲が上記から外れた場合、液晶表示装置に不必要な色付きが生じる恐れがある。なお、リターデーション値とは複屈折Δｎと膜厚ｄとの積を表わす。」
　
（ｉ）「【００４８】
［調製例］
テレフタル酸５０ｍｍｏｌ、２，６−ナフタレンジカルボン酸５０ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンジアセテート４０ｍｍｏｌ、カテコールジアセテート６０ｍｍｏｌおよびＮ−メチルイミダゾール６０ｍｇを用いて窒素雰囲気下、２７０℃で１２時間重縮合を行った。次に得られた反応生成物をテトラクロロエタンに溶解した後、メタノールで再沈殿を行って精製し、液晶性ポリエステル１４．６ｇを得た。この液晶性ポリエステル（ポリマー１）の対数粘度（フェノール／テトラクロロエタン（６／４  質量比）混合溶媒：３０℃）は０．１６ｄｌ／ｇ、液晶相としてネマチック相を持ち、等方相−液晶相転移温度は２５０℃以上、示差走査熱量計（ＤＳＣ）によるガラス転移温度は１１２℃であった。
２０ｇのポリマー１を８０ｇのＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解させ溶液を調製した。この溶液を、レーヨン布にてラビング処理したポリイミドフィルム（商品名「カプトン」、デュポン社製）上にスピナーにて塗布し、溶媒を乾燥除去した後、２１０℃で２０分熱処理することでネマチック配向構造を形成させた。熱処理後、室温下まで冷却してネマチック配向構造を固定化し、ポリイミドフィルム上に実膜厚０．７μｍの均一に配向した液晶物質層（液晶物質層１）を得た。実膜厚は触針式膜厚計を用いて測定した。
次に、上記と同様の条件でスピナーでの塗布時の厚みだけを変えることにより、ポリマー１のネマチック配向構造をポリイミドフィルム上に固定化した実膜厚１．４μｍの均一に配向した液晶物質層（液晶物質層２）を得た。
【００４９】
［実施例１］
調製例で得られた液晶物質層１の上（ポリイミドフィルムと反対側の面）に市販のＵＶ硬化型接着剤（ＵＶ−３４００、東亞合成（株）製）を５μｍの厚さに接着剤層１として塗布し、この上に厚さ４０μｍの等方性基板であるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム１（富士写真フィルム（株）製）をラミネートし、約６００ｍＪのＵＶ照射により該接着剤層１を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルム１／接着剤層１／液晶物質層１／ポリイミドフィルムが一体となった積層体からポリイミドフィルムを剥離することにより液晶物質層１を等方性基板であるＴＡＣフィルム１上に転写し、ＴＡＣフィルム１／接着剤層１／液晶物質層１からなる液晶積層体（Ａ）を得た。ここで、液晶積層体（Ａ）のΔｎｄは１４０ｎｍであった。
得られた液晶積層体（Ａ）の液晶物質層１の上（ＴＡＣフィルム１と反対側の面）に市販のＵＶ硬化型接着剤（ＵＶ−３４００）を５μｍの厚さに接着剤層２として塗布し、この上に調製例で得られたポリイミドフィルム上に配向固定化された液晶物質層２の面をラミネートし、ＴＡＣフィルム１側から約６００ｍＪのＵＶ照射により該接着剤層２を硬化させた。この積層体からポリイミドフィルムを剥離することにより、ＴＡＣフィルム１／接着剤層１／液晶物質層１／接着剤層２／液晶物質層２からなる積層体を得た。
該積層体の液晶物質層２の面に予め片面に厚み２５μｍの粘着剤層を形成した偏光板（厚み約１０５μｍ；住友化学工業（株）製ＳＱＷ−０６２）を貼合した後、ＰＥＴフィルム１を剥離することにより、偏光板／粘着剤層／液晶物質層２／接着剤層２／液晶物質層１／接着剤層１／ＴＡＣフィルム１からなる本発明の円偏光板を得た。該円偏光板の総厚みは、１９０μｍであった。」
　上記記載を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
「配向基板上に液晶物質を溶解させた溶液を塗布して形成され、加熱等により液晶の配向を完成せしめ、液晶配向が固定化された液晶物質層１を、接着剤層を介して等方性基板と接着せしめた後、配向基板を剥離して液晶物質層１を等方性基板に転写し、等方性基板／接着剤層／液晶物質層１からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
配向基板上に形成された液晶配向が固定化された液晶物質層２を、粘・接着剤層を介して前記液晶物質層１と貼り合わせ、等方性基板／接着剤層／液晶物質層１／粘着剤（接着剤）層／液晶物質層２／配向基板からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、および
前記積層体（Ｂ）の配向基板を剥離し、等方性基板に、片面または両面に透明な保護層等を設けた偏光板を貼合する第３工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とし、
塗布された液晶物質の膜の乾燥状態における膜厚が０．３μｍ〜１０μｍであり、
液晶物質層に使用する液晶物質が、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエステルイミド系等の高分子液晶物質、またはこれらの混合物等であって、前記液晶物質を溶解させた溶液を、配向基板上に塗布し、溶媒を乾燥除去した後、熱処理することで配向構造を形成して液晶物質層２を得て、配向固定化された液晶物質層２の面を液晶物質層１の上にラミネートして、前記積層体（Ｂ）を得る、
１／４波長板と１／２波長板が積層された光学積層体の製造方法。」
　　
（イ）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２０００−１９０３８５号公報（以下「引用例２」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は位相差フィルム、偏光フィルム等各種光学フィルムとして好適な二軸性の光学フィルム及びそれらの製造法、並びにこの光学フィルムを含む液晶表示装置に関する。」
　
（ｂ）「【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の方法は、光学フィルムを製造する方法であり、特にｎｙ＞ｎｘ＞ｎｚの屈折率構造を有する二軸性の光学フィルムを製造する方法である。本明細書においては、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚはそれぞれ、ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向の３方向の主屈折率であり、ｘ方向とｙ方向とは互いに直交するフィルム面内の方向であり、ｚ方向はフィルムの膜厚方向とする。」
　
（ｃ）「【００１９】前記プラスチックフィルムとしては、キャスト法で作られたもの、又はポリマーの溶融状態を経て成膜した後、延伸操作を施したもの等を挙げることができるが、後者が特に好ましい。これは後者のフィルムの方が、第２の延伸工程において基板がある程度の強度を発現することにより、より精密な負の一軸フィルムの変形が行えるためである。
【００２０】前記プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフイン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルフアイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等のフィルムを挙げることができる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロース系プラスチック等が特に好ましい。また、これらのプラスチックフィルムに、親水化処理や疎水化処理等の表面処理を施したものを用いることもできる。」
　
（ｄ）「【００６８】前記一軸延伸を行う場合、延伸倍率は通常１．０１倍以上２．０倍以下、好ましくは１．０３倍以上１．５倍以下、さらに好ましくは１．０５倍以上１．３倍以下とすることができる。延伸倍率が１．０１倍未満であると延伸による効果が十分でなくフィルムが負の一軸性に近い構造にしかならないおそれがあるため好ましくない。延伸倍率が２．０倍より大きい時は、延伸むらのためにフィルムが不均一な屈折率構造となってしまうおそれがある。
【００６９】二軸延伸を行う場合は、直交する２方向の延伸方向のうちより大きい張力をかける方向の張力をＴｙ、それに直交する方向にかける張力をＴｘとしたとき、ＴｙをＴｘに比べ十分に大きくすることにより、具体的にはＴｙ／Ｔｘ＞３、より好ましくはＴｙ／Ｔｘ＞５、さらに好ましくはＴｙ／Ｔｘ＞１０であるような条件とすることにより、ある程度屈折率分布の少ない二軸性フィルムを得ることができる。Ｔｙ／Ｔｘ比は極力大きい方が屈折率分布の少ない二軸性フィルムを得る上で有利であり、Ｔｘ＝０の場合は一軸延伸に相当し最も好ましい。より大きい張力をかける方向の延伸倍率は通常１．０１倍以上２．０倍以下、好ましくは１．０３倍以上１．５倍以下、さらに好ましくは１．０５倍以上１．３倍以下とすることができる。」
　
（ｅ）「【００７４】以上の工程により得られる二軸性フィルムは、そのまま製品である本発明の光学フィルムとすることも可能であるが、通常は比較的薄い膜であるので、前記第１工程で用いたものとは別の他の基板（以下、第１工程で用いた前記基板と区別して「第２の基板」という。）に転写して本発明の光学フィルムとすることがより好ましい。前記転写は、例えば、前記基板上の二軸性フィルムと第２の基板とを接着剤又は粘着剤を用いて貼り合わせ、次いで前記基板のみを、前記二軸性フィルムとの界面で剥離して除去することにより行うことができる。
【００７５】転写に用いられる第２の基板としては、適度な平面性を有するものであれば特に限定されないが、ガラスや、透明で光学的等方性を有するプラスチックフィルム等が好ましい。かかるプラスチックフィルムの例としては、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリオレフイン、トリアセチルセルロースあるいはエポキシ樹脂等のフィルムをあげることができる。なかでもポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルフォン等が好ましく用いられる。また、光学的に異方性な基板も、目的とする用途にとって必要な部材である場合には第２の基板として使用することができる。このような光学的に異方性の第２の基板の例としては、ポリカーボネートやポリスチレン等のプラスチックフィルムを延伸して得られる位相差フィルム、偏光フィルム等が挙げられる。」
　
（ウ）本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１１−１８３７２３号公報（以下「周知例１」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【請求項１】偏光フィルムと２分の１波長板と４分の１波長板がこの順序で積層されてなり、偏光フィルムの吸収軸と２分の１波長板のフィルム面内の遅相軸のなす角度が１０度〜２０度で、かつ２分の１波長板のフィルム面内の遅相軸と４分の１波長板のフィルム面内の遅相軸のなす角度が５５度〜６５度であり、２分の１波長板の遅相軸が偏光フィルムの吸収軸と４分の１波長板の遅相軸の間であることを特徴とする複合偏光板。
・・・
【請求項８】タッチパネルに請求項１または請求項２記載の複合偏光板を積層したことを特徴とする反射防止機能付きタッチパネル。」
　
（ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は可視光波長領域の広い波長範囲で良好な反射防止機能を有するとともに、広い視認角度範囲で良好な反射防止機能を有する複合偏光板に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＲＴなどの表示装置では、表示装置の表面で反射される外光の影響によりコントラストが低下したり、外光による不要な反射像が見えて表示が判別しにくくなるなどの問題があった。反射防止機能を有したフィルターを表示装置の表面に配置することでこの外光の影響を低減している。現在このような反射防止機能を有するフィルターとしては、透明な高分子シートの片面に偏光フィルムと４分の１波長板からなる円偏光板を積層したものが使用されている。」
　
（エ）本願の出願前に頒布された刊行物である特開平７−２５３５７３号公報（以下「周知例２」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【請求項１】透明電極を有した一対の透明基板が、スペーサーを介して前記透明電極を対向させ、前記透明基板間にほぼ９０度に捻れた配向を有するネマチック液晶からなる液晶パネルと、偏光軸が隣接する前記液晶パネル基板上の液晶分子の配向方位にほぼ平行もしくはほぼ直交の何れかとなるように配置した一対の偏光板と、光学異方性素子からなる表示素子において、前記光学異方性素子の面内屈折率をそれぞれｎ1x、ｎ1y、ｎ2x、ｎ2yとし、また前記光学異方性素子の厚さ方向の屈折率をそれぞれｎ1z、ｎ2zとすると、前記光学異方性素子の３軸方向の主屈折率ｎx、ｎy、ｎzが、ｎ1x＞ｎ1y＝ｎ1zの関係を有する第１の光学異方性素子と、ｎ2x≧ｎ2y＞ｎ2zの関係を有する第２の光学異方性素子とを積層してなる光学異方性素子複合体を、前記液晶パネルとその外側の一対の前記偏光板との間に配置されていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】光学異方性素子複合体の厚み方向位相差の大きさδaが、下記（数１）の式１で定義され、前記光学異方性素子複合体の面内位相差の大きさδbが、下記（数１）の式２で定義され、前記δaと前記δbとが共に互いに等しい関係にある前記光学異方性複合体を、液晶パネルの両側に設けたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【数１】
ここにおいて、ｎ1x、ｎ1y、ｎ2x、ｎ2yは光学異方性素子の面内屈折率、ｎ1z、ｎ2zは光学異方性素子の厚さ方向の屈折率を表しており、ｄ1、ｄ2はそれぞれ前記第１、第２の光学異方性素子の厚みを表している。」
　
（ｂ）「【００６０】（実施例２）屈折率値が異なる種々のフィルムを積層することにより、位相差の異なる多くの光学的異方性素子複合体を作成した。積層したフィルムの屈折率と複合体の位相差を（表２）に示す。次に、実施例１で用いた液晶パネルにフィルムＦ−ＥとＦ−Ｆとを積層した複合体をパネルの両側に貼り合わせ、視角特性を測定した結果を図７に示す。
【００６１】
【表２】
」
　
（２）対比
　
　本件補正発明と引用発明１とを対比する。
　
　引用発明１の「配向基板」は、本件補正発明の「配向処理した基材」に相当する。
　引用発明１の「配向基板上に液晶物質を溶解させた溶液を塗布」することは、本件補正発明の「配向処理した基材に液晶材料を含有する塗工液を塗工する」ことに相当する。
　引用発明１の「加熱等により液晶の配向を完成せしめ、液晶配向が固定化」することは、本件補正発明の「塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させ」ることに相当する。
　引用発明１の「液晶物質層１」は、「配向基板上に液晶物質を溶解させた溶液を塗布」し、「加熱等により液晶の配向を完成せしめ、液晶配向が固定化」して形成されたものであるから、本件補正発明の「配向処理した基材に液晶材料を含有する塗工液を塗工」し、「該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させて、該基材の表面に」形成された「第１の光学補償層」に相当する。
　引用発明１の「液晶配向が固定化された液晶物質層１を、接着剤層を介して等方性基板と接着せしめた後、配向基板を剥離して液晶物質層１を等方性基板に転写」することと、本件補正発明の「基材表面に形成された該第１の光学補償層を透明保護フィルム（Ｔ）の表面に転写する」こととは、「基材表面に形成された該第１の光学補償層を他の基材の表面に転写」するという点で一致する。
　引用発明１の「等方性基板」と、本件補正発明の「透明保護フィルム（Ｔ）」とは、「第１の光学補償層が転写される他の基材」であるという点で一致する。
　引用発明１の「等方性基板に、片面または両面に透明な保護層等を設けた偏光板を貼合する」ことと、本願発明の「透明保護フィルム（Ｔ）の表面に偏光子を積層」することとは、「第１の光学補償層が転写された他の基材に偏光子を積層」するという点で一致する。
　引用発明１の「液晶物質層２」は、本件補正発明の「第２の光学補償層」に相当する。
　引用発明１の「液晶物質層２を、粘・接着剤層を介して前記液晶物質層１と貼り合わせ」ることは、本件補正発明の「第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する」ことに相当する。
　引用発明１の、接着剤層を介して「液晶物質層１」が接着された「等方性基板」に「偏光板を貼合する」ことは、「等方性基板」の「液晶物質層１」が接着された面と反対側の面に「偏光板を貼合する」のであるから、引用発明１の、接着剤層を介して「液晶物質層１」が接着された「等方性基板」に「偏光板を貼合」したことは、本件補正発明の「偏光子と該第１の光学補償層が、互いに透明保護フィルム（Ｔ）を介して反対側に配置され」ていることとは、「偏光子と第１の光学補償層が、該第１の光学補償層が転写された他の基材を介して反対側に配置され」ているという点で一致する。
　引用発明１の「塗布された液晶物質の膜の乾燥状態における膜厚が０．３μｍ〜１０μｍ」であることと、本件補正発明の「第２の光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍ」であることとは、「光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍ」であるという点で一致する。
　引用発明１の「ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエステルイミド系等の高分子液晶物質、またはこれらの混合物等」の「液晶物質を溶解させた溶液」と、本件補正発明の「ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液」とは、「ポリイミド、ポリアミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液」であるという点で一致する。
　引用発明１の「ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエステルイミド系等の高分子液晶物質、またはこれらの混合物等」の「液晶物質を溶解させた溶液」を、「配向基板上に塗布し、溶媒を乾燥除去した後、熱処理することで配向構造を形成して液晶物質層２を得」ることと、本件補正発明の「ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に塗工する工程と、該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、該ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸して、該基材シート上に該第２の光学補償層を形成する工程」とは、「ポリイミド、ポリアミド、およびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に塗工する工程と、該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、該ポリマー層を配向処理して該基材シート上に該第２の光学補償層を形成する工程」であるという点で一致する。
　引用発明１の「液晶物質層２の面を液晶物質層１の上にラミネート」することは、本件補正発明の「第２の光学補償層を該第１の光学補償層の表面に貼り付ける」ことに相当する。
　引用発明１の「等方性基板／接着剤層／液晶物質層１／粘着剤（接着剤）層／液晶物質層２／配向基板からなる」「積層体（Ｂ）の配向基板を剥離」することと、本件補正発明の「基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程」とは、「基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程」であるという点で一致する。
　引用発明１の「１／４波長板と１／２波長板が積層された光学積層体」と、本件補正発明の「第１の光学補償層がλ／２板」であり、「第２の光学補償層がλ／４板」である「光学フィルム」とは、λ／２板とλ／４板を有する光学フィルムであるという点で一致する。
　
　よって、本件補正発明と引用発明１とは、
「配向処理した基材に液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と；
　該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させて、該基材の表面に第１の光学補償層を形成する工程と；
　該基材表面に形成された該第１の光学補償層を他の基材の表面に転写する工程と；
　他の基材の表面に偏光子を積層する工程と；
　該第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程とを含み、
　該偏光子と該第１の光学補償層が、互いに他の基材を介して反対側に配置され、
　光学補償層の厚みが１μｍ〜１０μｍであり、
　該第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程が、ポリイミド、ポリアミド、およびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に塗工する工程と、該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、該ポリマー層を配向処理して、該基材シート上に該第２の光学補償層を形成する工程と、該基材シート上に形成された第２の光学補償層を該第１の光学補償層の表面に貼り付ける工程と、該基材シートを該第２の光学補償層から剥離する工程とを含む、
　λ／２板とλ／４板を有する光学フィルムの製造方法。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
（相違点１）
　「第１の光学補償層」が転写される他の基材が、本件補正発明では「透明保護フィルム（Ｔ）」であるのに対して、引用発明１では「等方性基板」である点。
　
（相違点２）
　本件補正発明では「第１の光学補償層の屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ」であり、「第２の光学補償層の屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ」であるのに対して、引用発明１では液晶物質層１および液晶物質層２の屈折率特性が明らかでない点。
　
（相違点３）
　本件補正発明では「第１の光学補償層がλ／２板」であり、「第２の光学補償層がλ／４板」であるのに対して、引用発明１では「液晶物質層１」および「液晶物質層２」のいずれが「λ／２板」或いは「λ／４板」であるのかが明らかでない点。
　　
（相違点４）
　本件補正発明では「第１の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°」であり、「第２の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が＋８５°〜＋９５°」であるのに対して、引用発明１では「液晶物質層１」の遅相軸、「液晶物質層２」の遅相軸および偏光子の吸収軸がなす角度が明らかでない点。
　
（相違点５）
　「塗工液」が、本件補正発明では「ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミド」からなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含むのに対して、引用発明１では「ポリイミド、ポリアミド、およびポリエステルイミド」からなる群から選択される少なくとも１つのポリマーを含む点。
　
（相違点６）
　ポリマー層を配向処理して、基材シート上に該第２の光学補償層を形成する際に、本件補正発明では「ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸」するのに対して、引用発明１では「配向基板上に塗布し」、「熱処理することで配向構造を形成」している点。
　
（相違点７）
　本件補正発明では「得られる光学フィルムの全体の厚みが４０〜１５０μｍである」のに対して、引用発明１ではこのことが明らかでない点。
　
（３）判断
　上記相違点１について検討する。
　引用例１には、「偏光子」の片面または両面に透明な保護層を設け、該保護層としてトリアセチルセルロース等の透明プラスチックフィルムを用いることが記載されており（上記摘記事項（ア）（ｆ）参照。）、さらに、「等方性基板」としてトリアセチルセルロースを用いることも記載されているので（上記摘記事項（ア）（ｅ）参照。）、引用発明１において、「第１の光学補償層」が転写される「等方性基板」を本件補正発明の「透明保護フィルム（Ｔ）」とすることは当業者が容易に想到しうることである。
　
　上記相違点２について検討する。
　引用例１には、「液晶物質層１」と「液晶物質層２」と偏光子を積層した「光学積層体」を液晶表示装置に用いることが記載されており（上記摘記事項（ア）（ｂ）参照。）、液晶表示装置において、光学異方性素子の３軸方向の主屈折率ｎx、ｎy、ｎzが、ｎ1x＞ｎ1y＝ｎ1zの関係を有する一軸性フィルムである第１の光学異方性素子と、ｎ2x≧ｎ2y＞ｎ2zの関係を有する二軸性フィルムである第２の光学異方性素子とを積層してなる光学異方性素子複合体を、前記液晶パネルとその外側の一対の前記偏光板との間に配置することは、例えば周知例２に記載されているように周知であるから、「液晶物質層１」の屈折率特性をｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚとし、「液晶物質層２」の屈折率特性をｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとすることは当業者が容易に想到しうることである。
　
　上記相違点３について検討する。
　上記周知例２には、「Ｆ−Ｅ／Ｆ−Ｆ複合体」、「Ｆ−Ｇ／Ｆ−Ｈ複合体」、「Ｆ−Ｏ／Ｆ−Ｐ複合体」において、一軸性フィルムの屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚであり、二軸性フィルムの屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであり、厚み方向位相差δａと面内位相差δｂが、「Ｆ−Ｅ／Ｆ−Ｆ複合体」においてはδａ＝１９１ｎｍ、δｂ＝１４７ｎｍであり、「Ｆ−Ｇ／Ｆ−Ｈ複合体」においてはδａ＝２０３ｎｍ、δｂ＝１４５ｎｍであり、「Ｆ−Ｏ／Ｆ−Ｐ複合体」においてはδａ＝１９１ｎｍ、δｂ＝１４７ｎｍであることが記載されている。一方、引用例１には、５５０ｎｍの単色光での複屈折光の位相差が、１／４波長板においてはリターデーション値が、通常５０ｎｍ〜１８０ｎｍ、好ましくは７０ｎｍ〜１６０ｎｍ、特に好ましくは９０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であり、１／２波長板においてはリターデーション値は、通常１８０ｎｍ〜３２０ｎｍ、好ましくは２００ｎｍ〜３００ｎｍ、特に好ましくは２２０ｎｍ〜２８０ｎｍの範囲であることが記載されている（上記摘記事項（ア）（ｈ）参照。）。そうすると、λ／４板に屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚである一軸性フィルムを用い、λ／２板に屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである二軸性フィルムを用いることは周知の事実である。したがって、引用発明１において、上記周知の事実を適用して、「液晶物質層１」を「λ／２板」とし、「液晶物質層２」を「λ／４板」とすることは当業者が容易に想到しうることである。
　
　上記相違点４について検討する。
　２分の１波長板の遅相軸、４分の１波長板の遅相軸および偏光子の吸収軸が所定の角度をなすように配置することは例えば周知例１に記載されるように周知であり、周知例１には、偏光フィルムの吸収軸と２分の１波長板の遅相軸のなす角度が１０度〜２０度で、かつ２分の１波長板の遅相軸と４分の１波長板の遅相軸のなす角度が５５度〜６５度であること、すなわち、偏光フィルムの吸収軸と４分の１波長板の遅相軸のなす角度が６５度〜８５度であることが記載されていることから、上記相違点４に係る本件補正発明の角度範囲はいずれも周知の角度範囲であるといえる。したがって、引用発明１において、「液晶物質層１」の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度を＋１７°〜＋２７°または−１７°〜−２７°とし、「液晶物質層２」の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度を＋８５°〜＋９５°とすることは当業者が必要に応じて適宜なし得ることである。
　
　上記相違点５について検討する。
　引用例２には、液晶表示装置において偏光フィルムとして用いる二軸性フィルムを、ポリマーの溶融状態を経て成膜する際に、前記ポリマーとしてポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトンを用いることが記載されており、引用発明１において、「塗工液」に含まれるポリマーをポリエーテルケトンあるいはポリアミドイミドからも選択できるようにしておくことは当業者が容易に想到しうることである。
　
　上記相違点６について検討する。
　引用例２には、二軸性フィルムを、ポリマーの溶融状態を経て成膜した後、延伸操作を施すことにより製造することが記載されており、引用発明１において、ポリマー層に延伸操作を施すことにより配向構造を形成することは当業者が容易に想到しうることである。
　
　上記相違点７について検討する。
　引用発明１の光学補償層の厚みは０．３μｍ〜１０μｍであり、引用例１にはさらに、ＴＡＣフィルム１、接着剤層１、接着剤層２、粘着剤層の厚みをそれぞれ４０μｍ、５μｍ、５μｍ、２５μｍの厚さにしたことが記載されている（上記摘記事項（ア）（ｉ）参照。）。また、液晶表示装置において光学フィルムの薄型化は自明の技術課題であるから、引用発明１において、偏光板／粘着剤層／液晶物質層２／接着剤層２／液晶物質層１／接着剤層１／ＴＡＣフィルム１からなる光学フィルムの全体の厚みを所望の厚みとすることは当業者が容易に想到しうることであり、偏光板／粘着剤層／液晶物質層２／接着剤層２／液晶物質層１／接着剤層１／ＴＡＣフィルム１からなる光学フィルムの全体の厚みを４０〜１５０μｍとすること、すなわち、偏光子の厚みを５５μｍ以下とすることは、厚みが５５μｍ以下の偏光子は例えば特開２００３−２３２９２１号公報に記載されるように周知慣用技術であるから、当業者が容易になし得ることである。
　
　そして、本件補正発明の作用効果は引用発明１及び引用例２に記載の発明並びに周知技術から当業者が予期できたものである。
　
　したがって、本件補正発明は、引用発明１及び引用例２に記載の発明並びに周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．本件補正についての結び
　
　よって、本件補正発明は、上記引用発明１及び引用例２に記載された発明並びに周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるので、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反する。
　
　したがって、本件補正は、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、「第２［理由］１．」に本件補正前の請求項１として記載したとおりのものである。
　
　本願発明は、前記「第２［理由］２．」で検討した本件補正発明から、「第１の光学補償層」及び「第２の光学補償層」の「屈折率特性」についての限定を省き、「第２の光学補償層」及び「光学フィルム」の「厚み」についての限定を省いたものに相当する。
　
２．対比・判断
　本願発明を、引用発明１と対比すると、本願発明と引用発明１とは、本件補正発明と引用発明１との一致点において一致し、上記相違点１ないし７において相違する。
　
　相違点１ないし７については、上記「第２［理由］２．」で検討したとおりである。
　
　そして、本願発明の作用効果が引用発明１及び引用例２に記載の発明並びに周知技術から予期し得ない格別のものであるとも認められない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明１及び引用例２に記載の発明並びに周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明１及び引用例２に記載された発明並びに周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。