【事件の表示】
　特願２００２−８８１８２「熱処理装置および熱処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年７月２５日出願公開、特開２００３−２０９０６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１４年３月２７日（優先権主張　平成１３年１１月８日）の出願であって、平成１６年２月２７日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年４月２日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年４月２０日付で手続補正がなされたものである。
　
II．平成１６年４月２０日付手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成１６年４月２０日付手続補正を却下する。
　
［理　由］
　
１．補正後の本願発明の内容
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１〜７の内、請求項１は次のとおり補正された。
　「【請求項１】上端が開口している加熱炉本体と、
　該加熱炉本体の上部開口部に配置された炉本体蓋体と、
　該加熱炉本体の内壁面に設置されている加熱手段と、
　上記加熱炉本体内に収容され、かつ、単一の管からなる反応容器とを少なくとも備えた熱処理装置において、
　該反応容器の上部に、上記反応容器内部の雰囲気を排気する排気配管を接続するための直角に屈曲した端部開口部をもつ排気配管接続部が該反応容器から上方へ延出して形成され、かつ、該排気配管接続部および該排気配管の周囲に温度制御手段が配置されていることを特徴とする熱処理装置。」
　
２．補正後の本願発明
　上記補正は、補正前の平成１５年２月２６日付手続補正書の請求項１において、「加熱炉本体上部開口部」を「加熱炉本体の上部開口部」と補正し、「加熱炉本体内壁面」を「加熱炉本体の内壁面」と補正し、「該加熱炉本体内に収容されており、単一の管からなる反応容器」を「上記加熱炉本体内に収容され、かつ、単一の管からなる反応容器」と補正し、「該反応容器内部雰囲気」を「上記反応容器内部の雰囲気」と補正し、さらに、「排気配管を接続するための排気配管接続部が該反応容器から延出して形成され」を「排気配管を接続するための直角に屈曲した端部開口部をもつ排気配管接続部が該反応容器から上方へ延出して形成され」と補正したものである。
　そこで、上記補正を検討すると、補正前の「排気配管接続部」、「該反応容器から延出」を、それぞれ「直角に屈曲した端部開口部をもつ排気配管接続部」、「該反応容器から上方へ延出」と補正した点は、排気配管接続部の構造をさらに具体的に限定したものであって、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。その他の補正については、明りょうでない記載の釈明に該当する。
　そこで、補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明１」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるのかについて検討する。
　
３．引用刊行物とその摘記事項
　原査定の拒絶の理由に引用した本願の優先権主張日前に頒布された刊行物１（特開平７−２４５２７３号公報）、刊行物２（特開平８−１２４８６６号公報）には次の事項が記載されている。
　
（１）刊行物１（特開平７−２４５２７３号公報）
（１ａ）「【０００２】【従来の技術】この種基板処理装置は減圧ＣＶＤ装置あるいは酸化拡散装置として知られ、例えば図３のごとく構成される。図は筒状反応管の軸線方向を鉛直方向とした縦型のものを示しているが、軸線方向を水平方向とした横型のものでも基本構成は同じであるので、ここでは、縦型のものを主体に説明する。
　【０００３】図３の装置は、通常ＳｉＯ２で作られる筒状の反応管１０と、反応管１０を囲むヒータ１１と、複数の被処理基板１２を軸方向積層状態に塔載するボート１２と上下方向に移動してボート１２の反応管１０内軸方向位置の位置決めをするボートステージ１４と、ヒータ１１から反応管１０内へ供給された輻射熱を外部へ逃がさないようにする遮熱機構１５と、原料ガスを反応管１０内へ導入するための原料ガス導入管１６と、図示されない真空排気系に接続された排気管１７と、未処理基板１２を反応管１０内へ挿入しあるいは処理済み基板１２を反応管１０外へ取り出すためにボートステージ１４を上下移動させる上下移動機構１８とを主要構成要素として構成されている。」
（１ｂ）「【０００４】基板１２への薄膜形成等の熱処理時には、ボート１３に軸方向積層状態に塔載された複数の基板１２が反応管１０内へ挿入され、ヒータ１１により所定の温度に加熱されたところで原料ガス導入管１６から原料ガスが排気系運転の下で１Ｔｏｒｒ前後以下の圧力となるように送り込まれる。このように反応管１０内の原料ガス圧力を低くすると、原料ガス分子の拡散が大きく、反応管１０内を軸方向に流れる原料ガスの基板中央部へのまわり込みが自由に行われ、薄膜形成，酸化，拡散いずれの処理においても処理結果の面内均一性が高くなる」
（１ｃ）図３には、排気管１７が反応管の上部から上方へ延出し、さらに、ほぼ直角に屈曲して水平方向に延出した形状のものが示されている。
　
（２）刊行物２（特開平８−１２４８６６号公報）
（２ａ）「【０００２】【従来の技術】半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）の製造プロセスでは、成膜処理、エッチング、アッシングなど種々の真空処理が行われる。このような真空処理を行った場合、例えば成膜処理では反応副生成物が、またエッチングでは処理ガスとウエハ表面から削り取られた成分との反応生成物が真空室の排気口から排気路を通じて排出されていくが、この際排気路が所定温度に加熱されていないと、排気路内壁にこれらが付着してしまうという問題を生じる。」
（２ｂ）「【０００５】　・・・・・
　これらの反応副生成物は排気管８５のみならず処理室８１の内壁にも付着するがこのような付着物が、排気管内壁に付着すると処理室内の排気効率が経時的に変化し、被処理体の処理のバラツキが生じたり、また処理室内を減圧雰囲気から大気雰囲気に変化させる等の処理室内の圧力変動によって、排気管から処理室内に排気管内壁に付着している付着物が飛散し、パーティクルとなって被処理体に付着してしまい被処理体の歩留りが低下してしまうという問題が生じる。」
（２ｃ）「【００２０】【作用】処理室に排気路を介して真空ポンプを接続し、この排気路の少くとも一部に複数の加熱手段例えば抵抗発熱体を各々が並列に接続されるように設ける。この加熱手段により排気路を所定温度以上に加熱すると、排気物例えば反応副生成物は排気路内を気体のまま通過するため、反応副生成物が析出して排気路内に付着することを防止することができる。そして加熱手段を分割して設けているため、例えば加熱手段の電力を変えることにより、排気路の長さ方向において温度調整を行うことができ、例えば真空ポンプへ向かうにつれて加熱温度を低くすることにより、排気路の部分毎に圧力に見合った、排気物の付着防止に必要な温度を与えているので不要なエネルギーを少なくしながら排気物の付着防止が行なえる。」
（２ｄ）「【００２５】また処理室１の下部には、排気口５０を介して排気管５１が設けられており、この排気管５１の端部は反応副生成物の回収手段としてのトラップ５２を介して真空排気手段、例えば真空ポンプ６に接続されている。ここで排気管５１はこの実施例では複数の配管を接続してなり、排気管５１の途中にはバルブ５３が介装されていて、これら排気管５１やバルブ５３により排気路が構成されている。ただし排気菅５１は必ずしも分割されていなくてもよい。なお図中５４は配管（各配管は図示の便宜上短く描いてある）の接続部である。
【００２６】排気管５１の外周囲には、各配管毎に分割された排気管５１の長さ方向の全体に亘って、第１の加熱手段例えばテープヒータ７が設けられている。ここでテープヒータ７は例えば各配管毎に分割されて排気管５１の外周面に巻装されており、各テープヒータ７1 〜７n は図２に示すように並列に接続されると共に電源部８が接続されている。・・・」
（２ｅ）「【００２８】またこの成膜処理の際、上述のガスによる反応副生成物、例えばＮＨ４Ｃｌが凝集作用により析出して排気管５１の内壁に付着することを防止するために、排気管５１はテープヒータ７により加熱される。この際、上述のように各テープヒータ７1 〜７n は並列に接続されているため、各テープヒータ７1 〜７n の例えば長さを変えて抵抗値を変えることにより、各テープヒータ７1 〜７n ごとに発熱量を変えて加熱温度を調整することができる。このため排気管５１の長さ方向に亘って、部分的に加熱温度を調整することができ、排気管５１の温度調整を行なうことができる。」
　
４．対比・判断
　上記刊行物１の摘記事項を総合すると、刊行物１には、「筒状の反応管と、反応管を囲むヒータと、真空排気系に接続された排気管とを有する基板処理装置であって、排気管が反応管の上部から上方へ延出し、さらに、ほぼ直角に屈曲して水平方向に延出して真空排気系に接続するようにしたもの」（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されていることになる。
　そこで、本願補正発明１と刊行物１発明とを対比する。
　刊行物１発明の「排気管」は、反応管の上部と接続して上方へ延出し、さらに、ほぼ直角に屈曲して水平方向に延出して真空排気系に接続するものであるから、本願補正発明１の「排気配管接続部」に相当し、また、当該「真空排気系」には、反応管内の雰囲気を排気するための管を有することも当然のことであり、更に、刊行物１発明の「排気管」は、真空排気系と接続するための端部開口部を有することも明らかである。
　また、刊行物１の 摘記事項（１ｂ）には、基板１２への薄膜形成等の熱処理時と記載されているから、刊行物１発明の「基板処理装置」は、本願補正発明１の「熱処理装置」に相当している。
　そうすると、両者は、「加熱手段と、単一の管からなる反応容器とを備えた熱処理装置において、反応容器の上部に、上記反応容器内部の雰囲気を排気する排気配管を接続するための直角に屈曲した端部開口部をもつ排気配管接続部が該反応容器から上方へ延出して形成されている熱処理装置」の点で一致するものの、次の点で相違する。
　相違点（１）：本願補正発明１の反応容器を収容した加熱炉本体は、その上部開口部に炉本体蓋体が配置され、その内壁面には加熱手段が設置されているのに対し、刊行物１発明にはこの点が記載されていない点。
　相違点（２）：本願補正発明１の排気配管接続部と排気配管の周囲には、温度制御手段が配置されているのに対し、刊行物１発明の排気管と真空排気系にはそのような温度制御手段を有していない点。
　
　そこで、上記相違点（１）、（２）について次に検討する。
相違点（１）について
　反応容器を収容した加熱炉本体と、加熱炉本体の上部開口部に配置された炉本体蓋体と、加熱炉本体に加熱手段が設置されている熱処理装置は、例えば次に示すとおり周知のことである。
　周知例１：特開平１０−３２６７８９号公報、図１ないしその説明（段落【００１４】）には、反応管２を収用した密閉容器７と、密閉容器の上部開口部に配置された上板７ｂと、密閉容器にヒータが設置されている加熱炉が示されている。
　周知例２：特開平７−４５５４５号公報、図１ないしその説明（段落【０００８】【０００９】）には、処理室１２を含む内側胴部１４を収用した外側胴部２４と、外側胴部２４の上部開口部に配置された上板（内側胴部の上部での膨出した排出口２８の下方部分）と、外側胴部２４に加熱素子２２が設置されている垂直炉１０が示されている。
　また、加熱手段を加熱炉本体の内壁面に設置することは必要に応じて適宜になしうる程度の設計的事項にすぎない。
　そうすると、刊行物１発明の、筒状の反応管と、反応管を囲むヒータと、反応管の上部から上方へ延出し、さらに、ほぼ直角に屈曲して水平方向に延出して真空排気系に接続された排気管とを有する基板処理装置においても、反応管と反応管を囲むヒータの周りを囲む本体を備えることは処理装置としては当然のことであるから、刊行物１発明の基板処理装置に上記周知技術を適用して上記相違点（１）を構成することは当業者ならば容易に想到し得ることである。
　                        
相違点（２）について
　反応管内の雰囲気を排気する排出側の付着粒子を減少させることは周知の技術課題であって（必要ならば、周知例２：特開平７−４５５４５号公報、段落【０００３】【０００４】）、特開平４−３２５６８２号公報（段落【０００５】）参照）、刊行物２には、排気管の外周囲に温度調整可能な加熱手段が設けられ、排気管を加熱することにより、排気管への反応副生成物の付着を防止することが記載されているから、刊行物１発明の排気管と真空排気系（の管）の周囲に温度調整可能な加熱手段を配置することは当業者ならば容易に想到し得ることである。
　
　そして、本願補正発明１による効果も刊行物１、２の記載及び上記周知技術から予測することができる程度のものであって格別顕著なものとは認められない。
　
　したがって、本願補正発明１は、刊行物１、２に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。  
　
 ４．むすび 
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。 
　
III．本願発明について 
１．本願発明１ 
　平成１６年４月２０日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１４に係る発明は、平成１５年２月２６日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜１４に記載された事項により特定されるとおりであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、次のとおりのものである。
　「【請求項１】上端が開口している加熱炉本体と、
　該加熱炉本体上部開口部に配置された炉本体蓋体と、
　該加熱炉本体内壁面に設置されている加熱手段と、
　該加熱炉本体内に収容されており、単一の管からなる反応容器とを少なくとも備えた熱処理装置において、
　該反応容器の上部に、該反応容器内部雰囲気を排気する排気配管を接続するための排気配管接続部が該反応容器から延出して形成され、かつ、該排気配管接続部、および該排気配管の周囲に温度制御手段が配置されていることを特徴とする熱処理装置。」
　
２．引用刊行物とその記載事項 
　原査定の拒絶の理由に引用した本願の優先権主張日前に頒布された刊行物１、２及びその記載事項は、上記「II．３．引用刊行物とその摘記事項」に記載されたとおりである。
　
３．対比・判断 
　本願発明１は、上記「II．４．対比・判断」において検討した本願補正発明１の、排気配管接続部が、「直角に屈曲した端部開口部をもつ」及び「反応容器から上方へ延出して形成され」という具体的な限定事項を、「排気配管接続部が該反応容器から延出して形成され」とすることにより省くとともに、「加熱炉本体の上部開口部」、「加熱炉本体の内壁面」、「上記加熱炉本体内に収容され、かつ、単一の管」、「上記反応容器内部の雰囲気」を、それぞれ「加熱炉本体上部開口部」、「加熱炉本体内壁面」、「該加熱炉本体内に収容されており、単一の管」、「該反応容器内部雰囲気」としたものである。 
　そうすると、本願発明１を特定するために必要と認める事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本願補正発明１が、前記「II．４．対比・判断」に記載したとおり、刊行物１、２に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明１についても、同様の理由により、刊行物１、２に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
４．むすび 
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物１、２に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本願の請求項２〜１４に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。  
　よって、結論のとおり審決する。