Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【事件の表示】
　特願２００２−　５２３５５「合鍵無用電子施錠」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　７月２５日出願公開、特開２００３−２０８６７１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年１月１０日の特許出願であって、平成１８年１２月５日付けで拒絶査定がなされ、平成１９年１月１０日提出日の審判請求書により拒絶査定不服審判の請求がなされたものであり、平成２０年２月１２日付けで当審拒絶理由が通知されているものである。
　なお、審判請求人から提出された平成１９年１月１１日受付日の手続補正書は、【補正対象書類名】を明細書とするものであるが、【特許請求の範囲】を補正することは明示されていないし、【請求項１】の欄に記載された内容は実質的にみて平成１９年１月１０日提出日の審判請求書の【請求の理由】を補充したものと認められる。したがって、上記手続補正書は明細書の補正書とは認められない。
　　　　
２．当審拒絶理由の内容
　当審拒絶理由は、次の理由を含むものである。
　
　平成１６年８月３日に提出された補正（以下、「本件補正」という。）は、下記の点で願書に最初に添付した明細書又は図面（以下「出願当初の明細書等」という。）に記載した事項の範囲内においてしたものでないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。　
　
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項９は次のように補正された。　
　「【請求項９】　デットボルトの移動によって、扉の施錠・解錠が行われるのには、デットボルトの内側にギヤ型レールと側面にあいた穴より小型モーターの軸に取り付けてある歯車が回転することによって、デットボルトのケース内部の底にある溝に電磁石によって差し込まれた鋼鉄ピンが刺さるためデットボルトが完全に固定される。」　
　　　
　これに対して、出願当初の明細書等には、図３に左右に移動する図はあるものの、デットボルトの移動に関して明確な記載はなされていない。　　
　そして、「デットボルトの内側にギヤ型レールと側面にあいた穴より小型モーターの軸に取り付けてある歯車が回転する」についての記載はない。　
　　　
　そうすると、本件補正は、出願当初の明細書等に記載された事項の範囲内においてなされたものと認めることができない。　
　
３．本件補正の検討
　上記本件補正が、出願当初の明細書等に記載した事項の範囲内のものか否か、検討する。
　出願当初の明細書等において、駆動機構については、以下の記載があるのみである。
・「【請求項２】合鍵無用の構成施錠デツトボルトの胴体の中央に深さ５ミリの穴を造り、扉の外側から鍵を掛けるとその穴に小バネに依り鋼鉄制のピンが嵌まる、扉を開けるときはテンキーを押すと鍵穴シリンダーに触れても警報器は鳴らない。
　【請求項３】テンキー式の操作、この構成に電磁石と制御装置に依り管理する。１）の為にテンキーと暗証番号に依り操作する。　暗証番号は任意の数値と桁数を設定出来る。」
・「【請求項５】此の施錠は硝子扉にも設置出来る。」
・「【発明の属する技術分野】
本発明は、デツトボルトの胴体の中央に深さ５ミリの穴を造り扉外側から鍵を掛けるとデツトボルトは移動するとデツドボルトの胴体中央の深さ５ミリの穴に小バネ依りその穴に鋼鉄制のピンが嵌まる、任宅扉ロックを強奪犯人が強引に扉を破壊し中に侵入すると扉枠の内側の天井にセンサーが設置してありそのセンサーの動作に依り第３危険信号の発生とともに扉枠の両側の電極導体から瞬間高周波が発生しこれ以上の侵入は出来ることはない。
　　　　【２】
【発明の構成】
合鍵無用はシリンダーのどのキーでも差し込みは出来ても、差し込み穴には関係しない、デツドボルトの胴軸に５ミリの鋼鉄制のピンが嵌まっていること、扉を外側から開けるには正しくテンキーを押すことに依り、電磁石に電流が流れ鋼鉄ピンが抜ける。
　　　　【３】
【テンキー式扉の操作】
扉開閉の操作は電磁石と制御装置に依り管理する。１）の為にテンキーと暗証番号に依り操作する。」
　
・「【図面の簡単な説明】
　　　　【図１】
扉正面外側と扉枠図面である。
１　扉枠　９　液体噴射孔　８　警報スピカー　２　扉外側　３　テンキー　４　鍵穴シリンダー　５　ハンドル　６　蟐番
　　　　【図２】
扉内側リレー縦断面図である。
３　商用１００ボルト引込み線　５　コンピュータ制御装置　４　高周波点滅信　号ランプ。　６　センサー高周波発生用　７　リレーパイプ、１４　扉外側に噴射する液体パイプ、　８　通電金具　９　制御装置のリレー、１０　非常用信号リレー、２　扉内側面、１５　高周波発生導体　１　内側扉枠．１１　扉内側サムタン、１２　デツボルト差込み穴、　１３　ハンドル。
　　　　【図３】
　扉外側内部装置縦断図面である。
１、扉枠、２、施錠ケース、３、商用１００ボルト引込み線、４、電磁石、５、施錠、デツトボルトの歯止め金具鋼鉄ピン、６、小バネ、ピンを差込みする、７、デツトボルト、扉枠に差込まって居る、８、デツトボルトの穴にピンが差込まって居る為合鍵は無となる、９、施錠になって居る、１０、解錠、１１、ハンドル、１２、テンキー、１３、扉外側鍵穴シリンダー」
　
　すなわち、出願当初の明細書等には、「デツトボルトの胴体の中央に深さ５ミリの穴を造り扉外側から鍵を掛けるとデツトボルトは移動するとデツドボルトの胴体中央の深さ５ミリの穴に小バネ依りその穴に鋼鉄制のピンが嵌まる」ことにより扉がロックされ、「扉を外側から開けるには正しくテンキーを押すことに依り、電磁石に電流が流れ鋼鉄ピンが抜ける」という電磁石の作用により扉のロックが解除される点が開示されているのみである。　　　
　してみると、上記特許請求の範囲の請求項９に係る補正事項のうち少なくとも「デットボルトの内側にギヤ型レールと側面にあいた穴より小型モーターの軸に取り付けてある歯車が回転する」事項は、出願当初の明細書等に記載されておらず、また、当該事項は、出願当初の明細書等に記載された事項から自明のものでもないから、当該事項を含む本件補正は、出願当初の明細書等に記載した事項の範囲内においてなされたものではない。
　そして、上述した点は、現時点においても解消されていない。　　
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。
　したがって、本願は、特許法第４９条第１号の規定に該当し拒絶されるべきものである。　
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　特願２００１−３７９５３３「焼結含油軸受材」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　７月　３日出願公開、特開２００３−１８４８８２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１３年１２月１３日の出願であって、本願の請求項１ないし５に係る発明は、平成１８年４月２５日付け及び平成１８年１０月２０日付けの各手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし５に記載された事項によって特定されるとおりのものと認められるところ、本願の請求項１に係る発明は、以下のとおりのものである。
「【請求項１】銅被覆鉄粉を主材とし、しかも錫、鉛、黒鉛、二硫化モリブデン、ＢＮの何れをも非含有の素材金属粉であって、該素材金属粉の成分に占める鉄の割合が、１５〜３８（重量）％の範囲内にある素材金属粉を圧粉成形した軸受素材を焼結してなる焼結含油軸受材。」（以下「本願発明」という。）
　
２．引用刊行物とその記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された特開平１−２２５７４９号公報（以下「刊行物」という。）には、「含油軸受用焼結材およびその製造法」に関して、図面第１図ないし第４図とともに次の事項が記載されている。
　ア　「８．鉄粉に重量比で非鉄金属を１８〜５０wt％被覆した粉粒体１００重量部に更に非鉄金属粉１１〜２４０重量部を添加した原料粉を圧粉成形してから焼結し、サイジングすることを特徴とする含油軸受用焼結材の製造法。
……
１０．鉄粉に被覆される非鉄金属が……銅、……の何れか……による電気メッキ、溶融メッキ、無電解メッキ、溶射、ドライブレーティングの何れかである請求項７〜９の何れか１つに記載の含油軸受用焼結材の製造法。」（第２ページ左上欄第４行〜右上欄第２行）
　イ　「１４．非鉄金属を被覆した鉄粉に対し更に添加される非鉄金属粉が……Cu、Sn、Pb、Zn、……の何れか、またはそれらの合金……をも含有した粉末である請求項７から１３の何れか１つに記載の含油軸受用焼結材の製造法。
１５．非鉄金属を被覆した鉄粉に対し更に添加される非鉄金属粉が銅と亜鉛を主体とした合金としての黄銅粉である請求項１４に記載の含油軸受用焼結材の製造法。」（第２ページ右上欄第１２行〜左下欄第２行）
　   
　前記記載事項ア「８．」には、「鉄粉に重量比で非鉄金属を１８〜５０wt％被覆した粉粒体」との記載があり、当該記載の粉粒体における鉄粉の重量比は、計算すると５０〜８２wt％となる。また同じく、「粉粒体１００重量部に更に非鉄金属粉１１〜２４０重量部を添加した原料粉」との記載があり、当該記載の原料粉の成分に占める鉄の割合は、計算すると１４．７〜７３．９wt％となる。そして、前記記載事項ア「１０．」には、鉄粉に被覆される非鉄金属が銅である旨が記載されており、当該銅である場合の前記記載事項ア「８．」の粉粒体は、「銅被覆鉄粉」といえるものである。
　よって、刊行物には、
「銅被覆鉄粉を主材とした原料粉であって、該原料粉の成分に占める鉄の割合が、１４．７〜７３．９wt％の範囲内にある原料粉を圧粉成形した軸受素材を焼結してなる含油軸受用焼結材。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
３．発明の対比 
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「原料粉」及び「含油軸受用焼結材」は、それぞれ、本願発明の「素材金属粉」及び「焼結含油軸受材」に相当する。また、素材金属粉の成分に占める鉄の割合に関し、引用発明の「１４．７〜７３．９wt％」と本願発明の「１５〜３８（重量）％」とは、「１５〜３８（重量）％」の範囲で重複する。
　よって、本願発明と引用発明とは、
［一致点］
「銅被覆鉄粉を主材とした素材金属粉であって、該素材金属粉の成分に占める鉄の割合が、１５〜３８（重量）％の範囲内にある素材金属粉を圧粉成形した軸受素材を焼結してなる焼結含油軸受材。」
である点で一致し、次の点で相違する。
［相違点］
　素材金属粉に関し、本願発明では、「しかも錫、鉛、黒鉛、二硫化モリブデン、ＢＮの何れをも非含有の」素材金属粉と限定されるのに対して、引用発明では、素材金属粉に相当する原料粉が、「錫、鉛、黒鉛、二硫化モリブデン、ＢＮの何れをも非含有」であるとは明示されていない点。
　
４．当審の判断
　そこで、前記相違点について以下で検討する。
　刊行物の記載事項イには、非鉄金属を被覆した鉄粉に対し更に添加される非鉄金属粉として、Cu、Sn、Pb、Zn、等の何れか、またはそれらの合金を含有した粉末があるところ、前記非鉄金属粉が、それらのうちの銅と亜鉛を主体とした合金としての黄銅粉である旨が記載されている。そして、前記銅と亜鉛を主体とした合金には、銅と亜鉛のみを成分とする合金も含まれるから、前記刊行物の記載事項イは、引用発明の原料粉が、錫及び鉛を含有しない場合があることを示すものといえる。
　また、黒鉛、二硫化モリブデン等の固体潤滑剤を添加すると、油類の粘度を高めてトルクロスを大ならしめ好ましい摩擦係数低減を得難い場合があることは、周知の事項である（例えば、特開平４−２０２６３７号公報の第２ページ左上欄第１〜５行、参照）から、引用発明の原料粉が、固体潤滑剤である黒鉛、二硫化モリブデン、ＢＮを含有しないようにすることは、当業者であれば、必要に応じて適宜なし得るものといえる。
　そうすると、引用発明において、素材金属粉に相当する原料粉が、錫、鉛、黒鉛、二硫化モリブデン、ＢＮの何れをも含有しないようにすることは、刊行物の記載事項イ及び前記周知の事項に基づいて、当業者であれば容易に想到することができたものである。
　また、本願発明が奏する作用効果も、引用発明、刊行物の記載事項イ及び前記周知の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって、格別なものとはいえない。
　
５．むすび
　したがって、本願の請求項１に係る発明（本願発明）は、刊行物に記載された発明及び前記周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の請求項２ないし５に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成１０年特許願第５４８１７９号「反応容器装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１１月１２日国際公開、ＷＯ９８／５０１５８、平成１３年１１月２７日国内公表、特表２００１−５２４２１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　本願は、平成１０年５月１日の出願であって、その請求項１〜４１に係る発明は、平成１７年２月７日付け手続補正書で補正された特許請求の範囲の請求項１〜４１に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
　これに対して、平成１９年１０月１９日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。
　当該拒絶理由通知の内容は、次のとおりである。
　
「本件出願の請求項１ないし４１に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
 　 
 　　　　　　　　　　　　　　記 
 　刊行物１：特開昭６３−１０６５６７号公報　 
 　刊行物２：米国特許第４８２４６４１号明細書　 
 　刊行物３：米国特許第４２８７１５５号明細書　 
 　刊行物４：特開平４−２３２８６７号公報　 
 　刊行物５：特開平８−１２２３３６号公報　 
 　刊行物６：国際公開第９７／０５４９２号　 
 　刊行物７：特開昭６４−８４１５１号公報　 
 　刊行物８：特開平４−５０４９１３号公報　 
 　刊行物９：特開昭６２−１４８８５８号公報　 
 　刊行物１０：特開昭６４−５３１６７号公報 
 　刊行物１１：特公昭５５−１３５５２号公報 
 　 
 　上記刊行物１には、ノズルチップ９を支持するノズルチップ嵌挿支持孔１１ａ、及びサンプル液充填カップ１０を支持するサンプル液充填カップ嵌挿支持孔１１ｂを有するノズルチップ台１１が記載されている（公報第３頁右下欄９行〜１３行、第２図、第５図参照）。 
 　上記刊行物２には、多数の試験管１６Ａ・・・、及び多数のピペットチップ２２Ａ・・・を保持するキャリア１５が記載されている（第４欄３１行〜３８行、第５欄４１行〜４６行、第６欄１８行〜２０行、第１図、第２図参照）。 
 　上記刊行物３には、サンプルカップ１９を保持するテーパー状穴８４及びディスポーザブルチップ５４を保持するテーパー状穴８６を備えたトレイ２０が記載されている（第３欄５７行〜６３行、第４図参照）。 
 　上記刊行物４には、カム４１、ハンドル４２、支持体４３からなる搬送手段４０を有するトレイ１において、アナライザからトレイ１を容易に取り出すためにスロープ４７と傾斜面４４を設けたことが記載されている（明細書段落【００１３】、図７参照）。 
 　上記刊行物５には、透明体で形成された基部５６と一端の側面に突出するように形成された摘み５４とを有し、基部５６には分注チップ３６を保持するためのチップサック５５及び測定用穴３２Ｋを含む複数の穴が設けられたカートリッジ容器３２が記載され（明細書段落【０００８】、図１〜図３参照）、さらにバーコード部分５６ｂを有することが記載されている（明細書段落【００１２】、図３参照）。 
 　上記刊行物６には、一端に８連の分注ノズルに装着して用いるピペットチップ５１を脱着した場合に保持するチップ保持用収容部４１Ａ〜４８Ａ、他端に測定用の収容部４１Ｈ〜４８Ｈ、さらに、両端を除いた部分に処理に応じて必要となる試薬等の収容部４１Ｂ〜４１Ｇ、・・・、４８Ｂ〜４８Ｇを形成したマイクロプレート４０が記載されている（第１７頁５行〜１３行、第１４図参照）。 
 　上記刊行物７には、ディスポノズル２を保持するための複数の保持孔３が直列に形成されると共にこれに対向して複数の希釈容器４が形成された希釈プレート４が記載されており（公報第２頁右上欄７行〜１０行、第１図〜第３図参照）、複数のディスポノズル受け７を固定したノズル受台６を下降させ、ディスポノズル受け７をディスポノズル２の太径部２ａに嵌合させて保持孔３より抜き取ることが記載されている（公報第２頁右下欄１２行〜１６行、第３図参照） 
 　上記刊行物８には、試料液体を貯蔵するリザーバ６６が設けられた可動のテーブル６８が、ピペット４０のステム７２に固定される使い捨てチップを保持していることが記載され（公報第４頁右上欄１行〜６行、第２図参照）、また、ピペットは高分子材料からなる使い捨てチップと協働し、摩擦接触により使い捨てチップを固定するものであることが記載されている（公報第２頁右下欄１２行〜１７行参照）。 
 　上記刊行物９には、被検体液を填加したサンプルカップ１３および各被検体に１個宛のノズルチップ１４を立てたカップホルダ１５を移送し、ノズル本体部にノズルチップを組付けて１検体毎に所定のテストカップ１７内に試料の一定量を分注することが記載されている（公報第３頁右下欄２０行〜第４頁左上欄８行、第３図、第１１図参照）。 
 　上記刊行物１０には、ピペットチップ３２を装着したノズル１１により、検体ラック１３に支持された検体容器１４から検体を吸引することが記載されており、図面には、検体容器と同数のピペットチップ３２が同じ検体ラック上に支持されていることが示されている（公報第４頁右下欄１６行〜１９行、第１図参照）。 
 　上記刊行物１１には、複数の反応管５とこれに対応する数の試料カップ４とを一体に結合した反応容器３が記載されている（公報第２頁第３欄１２行〜１４行、第３図参照）。 
 　 
 　化学または生物分析の実行に使用する容器装置であって、複数の容器の近傍にその各々と対応して、液体の吸引・分配ノズルに脱着して使用するチップレットの保持部を設けたものは、例えば上記刊行物１〜３、６〜１０に示すように本件出願前広く知られており、容器と保持部とを一体としたものも上記刊行物５〜８に記載されている。また、複数の試験管状の容器を一体成型した反応容器も刊行物１１に記載されていることから、それぞれがチップレットの保持部と関連している複数の容器を、互いに固定状態で接続する容器接続体により一体成型して一つの容器装置とすることは、これらの刊行物の記載に基づいて当業者が容易になし得ることである。 
 　また、このような容器装置において、容器装置を操作するための操作体、情報を記録できるラベル受け面等を設けることは、例えば上記刊行物４、５の記載を勘案して当業者が適宜なし得ることであり、さらに、用いられるチップレットの形状、及び着脱方法についても上記各刊行物に記載されているような周知技術を応用しただけのものにすぎないから、本件出願の請求項１ないし４１に係る発明は、いずれも上記各刊行物の記載及びこの出願前周知の技術的事項に基づいて当業者が容易になし得た発明である。 」
　
　そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　特願２０００−２４９２３４「半導体基板表面の酸化膜形成方法および半導体装置の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　２月２８日出願公開、特開２００２−　６４０９３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年８月２１日の出願であって、平成１７年１２月１日付拒絶理由通知に対して、平成１８年２月１３日付けで手続補正がされたが、平成１８年３月９日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年４月２７日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１８年５月２９日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１８年５月２９日付け手続補正について
結論
　平成１８年５月２９日付けの手続補正を却下する。
理由
（１）補正後の本件発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「半導体基板を１１３℃以上に加熱した熱濃硝酸に浸漬して表面に０．３nm以上の厚い酸化膜を形成することを特徴とする半導体基板表面の酸化膜形成方法。」
と補正された。
　上記補正は、補正後の請求項１に対応する補正前の請求項１から「その後不活性ガス中で熱処理すること」の限定を省いている。
　したがって、この補正は、特許請求の範囲の請求項の限定的減縮を目的としたものとは認められない。また、この補正は、誤記の訂正を目的とするものとも、明りょうでない記載の釈明を目的とするものとも認められない。
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項各号に規定するいずれの目的にも該当しないものであるから、同法１５９条第１項において読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１８年５月２９日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１８年２月１３日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「半導体基板を加熱した酸化性の薬液に浸漬して表面に酸化膜を形成し、その後不活性ガス中で熱処理することを特徴とする半導体基板表面の酸化膜形成方法。」（以下、「本願発明」という。）
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、国際公開第９０／１３９１１号パンフレット（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。
ａ．「（１）酸素及び／又は酸素を含む分子を含有する溶液を、酸化膜を形成しようとする基体の表面に接触させて該基体の表面に酸化膜を形成する第１工程、
　酸素、酸素を含む分子もしくは不活性ガスまたはこれらのうちの２種以上の混合物の気相中において、前記酸化膜を２０℃以上の温度で熱処理することにより前記酸化膜中の基体表面を構成する原子と酸素の結合を強くする第２工程、
とを少なくとも備えたことを特徴とする酸化膜の形成方法。」（特許請求の範囲、請求項１）
ｂ．「本発明によれば、例えば、シリコン基板を溶存酸素量が９容積ｐｐｍの超純水に浸し、その後酸素ガス中若しくは窒素ガス中で加熱すると、３ｎｍ以上の厚さを有しかつシリコンと酸素の結合が強い酸化膜を低温で形成できることが明らかとなった。」（第５頁第４行〜第５頁第８行）
ｃ．「本発明の第１工程において酸素及び／又は酸素を含む分子を含有する溶液とは、たとえば酸素が溶存する溶液、オゾンが溶存する溶液、過酸化水素水、硫酸・過酸化水素水溶液、・・・等が挙げられる。・・・
　本願発明の第１工程では上記酸素及び／又は酸素を含む分子を含有する溶液を基体の表面に接触させて、基体の表面に酸化膜を形成する。・・・
たとえば、室温では３０分間で１ｎｍの酸化膜が形成され、７０〜８５℃の温度範囲では２４時間で２〜５ｎｍの酸化膜が形成される。」（第５頁第２４行〜第６頁第１７行）
ｄ．「本発明の第２の工程で使用される酸素を含む分子としては前記第１工程と同様のものを気相で用いることができる。前記不活性ガスとしては、たとえば窒素ガス、アルゴンガス、・・・等が挙げられる。・・・
　第２工程の前記酸化膜の温度は２０〜６００℃が好ましく、１００〜５００℃がより好ましいが５００℃に近い温度の方が、短時間で目的が達せられて実用的な意味が大きいためさらに好ましい。
　第２工程の熱処理温度はウエハの状態が許す限り高い温度が望ましい。」（第７頁第１４行〜第８頁第７行）
ｅ．「さらに、酸化膜１の形成された２枚のウエハのうちの１枚を、窒素ガス（不純物濃度数ｐｐｂ以下）中において、８００℃×１時間の熱処理を行った。・・・この熱処理後の酸化膜を酸化膜２とする。
　・・・
　酸化膜１及び酸化膜２に１Vの電圧を印加したところ、酸化膜１には１Ａ／ｃｍ２以上の電流が流れたのに対し、酸化膜２には、１×１０−４Ａ／ｃｍ２の電流しか流れなかった。」（第１３頁第６行〜第２２行）
　
（２）対比
　引用例１には次の事項が記載されている。
「７０〜８５℃の温度範囲の過酸化水素水を、酸化膜を形成しようとするシリコン基板の表面に接触させて該基体の表面に酸化膜を形成する第１工程、
　酸素、酸素を含む分子もしくは不活性ガスまたはこれらのうちの２種以上の混合物の気相中において、前記酸化膜を５００℃に近い温度で熱処理することにより前記酸化膜中のシリコン基板表面を構成する原子と酸素の結合を強くする第２工程、
とを少なくとも備え、熱処理後の酸化膜２に１Vの電圧を印加したところ、１×１０−４Ａ／ｃｍ２の電流しか流れていない酸化膜の形成方法」（以下、「引用発明」という。）
　
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の、「７０〜８５℃の温度範囲の過酸化水素水」、「シリコン基板」、「接触」が、本願発明の、「加熱した酸化性の薬液」、「半導体基板」、「浸漬」にそれぞれ対応するから、両者は、「半導体基板を加熱した酸化性の薬液に浸漬して表面に酸化膜を形成し、その後ガス中で熱処理することを特徴とする半導体基板表面の酸化膜形成方法。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点
　本願発明では、熱処理するガスが不活性ガスであるのに対し、引用発明では、酸素、酸素を含む分子もしくは不活性ガスまたはこれらのうちの２種以上の混合物のガスである点
　
（３）判断
　引用発明においては、不活性ガスをそのまま用いることも含まれており、酸化性ガスを添加するのは、酸化膜の膜厚を増加させるためであるから、酸化膜厚を増加させる必要のない場合には酸化性ガスを添加しない不活性ガスのみを用いることは当業者が適宜成しうることである。
　そして、本願発明の効果も引用発明のものから予測しうる程度のものである。
　
（４）むすび
　よって、本願請求項１に係る発明は、引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　従って、その余の請求項について論及するまでもなく本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　特願２００１−１５９０１０号「胸骨変形防止用プロテクタ」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１２月　３日出願公開、特開２００２−３４５８６８号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１３年５月２８日の出願であって、平成１７年１２月１９日付けで明細書について手続補正がなされた後、平成１８年５月１８日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年６月２８日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
II．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を、「本願発明」という。）は、平成１７年１２月１９日付けの手続補正書により補正された明細書の、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　「胸部の形状に応じて変形する可撓性を備えた保護パッドを取付手段により胸部に取り付けることにより該保護パッドに胸部の切開部位を常時押圧させ、以て胸骨を上下方向に切開する手術を受けた後、該胸骨が隆起することを防止するようにしたことを特徴とする胸骨変形防止用プロテクタ。」
　　
III．引用例の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００１−１２９００８号公報（以下、「引用例」という。）には、次の事項が記載されている。
ア．「・・・（略）・・・図面１の胸椎矯正具の胸押圧パット３を保持する支持棒４を取り外し、固定調節具６より固定バンド５を外して、本体前面を左右に開くと、患者は自分の胸胴部に矯正具（コルセット）を装具することができる。適当位置を決定して、固定バンド５を固定調節具６に入れて適当に締めつけると矯正具は固定して胸椎や脊椎は保護される、この場合胸椎が前方向に曲るのを防止するため胸押圧パット３を使用するのであって、湾曲した支持棒４の中央部に胸押圧パット３が設置され両端に継手８が存在するので、これを図１のように設置する。・・・（略）・・・」（段落【０００５】）
　　　
イ．「この場合、支持バンド１７の取り付け位置は図６（背面部）でも、請求項２に記したように胸椎矯正具側面の硬性合成樹脂部でも、本発明ではガイド固定帯２６があるので、可動的に取り付てある支持バンド１７を図５のように支持棒４にある固着部７を巻き込むように押しつけると、固着部７にある面ファスナーが支持バンド１７内面にある面ファスナー１８とかみ合って適当位置で支持棒４は固定され胸押圧パット３も安置されて胸部を支え治療に役立つ特徴を発揮する。」（段落【０００６】）
　
　これら記載事項を総合し、本願発明の記載ぶりに則って整理すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　「胸押圧パットを支持棒により胸部に取り付ける胸椎矯正具。」
　　
IV．対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、その構造または機能からみて、引用発明の「胸押圧パット」は、本願発明の「保護パッド」に相当し、以下同様に「支持棒」は「取付手段」に相当する。
　そして、引用発明の「胸椎矯正具」と、本願発明の「胸骨変形防止用プロテクタ」は、いずれも矯正具であり、人体を矯正することによって、使用するものである点で共通している。
　
　そこで、本願発明の用語を用いて表現すると、両者は次の点で一致する。
（一致点）
　「保護パッドを取付手段により胸部に取り付ける矯正具。」
　　
　そして、両者は次の点で相違する（対応する引用発明の用語を（　）内に示す）。
（相違点１）
　本願発明では、保護パッドが胸部の形状に応じて変形する可撓性を備えているのに対し、引用発明は、保護パッド（胸押圧パット）が胸部の形状に応じて変形する可撓性を備えているかどうか明らかでない点。
　　
（相違点２）
　本願発明は、胸部の切開部位を常時押圧させ、以て胸骨を上下方向に切開する手術を受けた後、該胸骨が隆起することを防止するようにした胸骨変形防止用プロテクタであるのに対し、引用発明は、胸椎が前方向に曲るのを防止するための胸椎矯正具である点。
　　
V．判断
　上記相違点について検討する。
（相違点１について）
　人体を矯正するためのパットに人体の形状に応じて変形する性質を備えさせることは周知である（例えば、特開平１０−２４８９８７号公報、実願昭６０−７９３２５号（実開昭６１−１９４５０９号）のマイクロフィルム等参照。）。
　よって、引用発明に上記周知技術を適用し、その際の保護パッドを可撓性を備えたものとし、本願発明の相違点１に係る発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
（相違点２について）
　治療上の必要に応じて、人体各部の不都合な隆起を防ぐため押圧する矯正具を使用することは周知技術である（例えば、実願昭６０−７９３２５号（実開昭６１−１９４５０９号）のマイクロフィルム、実願昭６２−１３５５００号（実開昭６４−３９７１５号）のマイクロフィルム、実願昭６２−１４８５５６号（実開昭６４−５０８１７号）のマイクロフィルム、登録実用新案３０４２５５６号公報、特開昭６３−２１２３５４号公報等参照。）。
　よって、このような周知技術を熟知した当業者であれば、胸骨上下方向に切開する手術を受けた後の胸骨隆起を防ぐ必要があるケースに遭遇した場合に、引用発明を上記ケースに適用して、本願発明の相違点２に係る発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
　そして、本願発明による効果も、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得た程度のものであって、格別のものとはいえない。
　
　VI．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　特願２００２−１１１１３８「はんだ接合用銅電極の製造方法及び該銅電極」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１０月２８日出願公開、特開２００３−３０５５６５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件出願の発明
　本件出願は、平成１４年４月１２日の特許出願であって、その請求項１ないし請求項４に係る発明は、平成１９年５月１１日付けの手続補正によって補正された明細書及び願書に添付した図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし請求項４に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項３に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。　
「水素ガスを含むガスを高周波電力によりプラズマ化した水素プラズマを照射することにより水素を吸蔵させたことを特徴とするプリント回路基板におけるはんだ接合用銅電極。」
　
第２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願の出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平５−６９１２２号公報（以下「引用例」という。）の記載内容は以下のとおりである。
１　引用例記載の事項
　引用例には以下の事項が記載されている。
ア　段落【０００１】
「【産業上の利用分野】本発明は、はんだ付技術に関するものである。」
イ　段落【０００４】〜【０００５】
「【問題点を解決するための手段】本発明では、まず被接合材料である金属または合金に腐食性および人体への有害性の無い水素を吸蔵等の方法により含有させておき、はんだ付時の熱等により被接合材料から水素を放出させ、この水素の持つ還元作用等により被接合材料の酸化皮膜を除去し良好なはんだ付を行うものである。
【作用】銅、錫、鉛、ニッケル等の金属の酸化皮膜は水素雰囲気中で平衡論的には、はんだ付温度で還元され易い。また、水素吸蔵は水素を最も高密度に保つ方法の一つである。この発明におけるはんだ付工程では、はんだ付時の熱等により、高密度で含有されていた水素が被接合材料内部から高濃度、高純度で放出され、この過程において被接合材料表面の酸化皮膜と反応しこれを還元除去し良好なはんだ付が可能となる。水素の還元作用により酸化皮膜から生ずるのは被接合材料金属と水蒸気であり、接合部には腐食性残さは残らない。従って、はんだ付後の洗浄は必要ない。」
ウ　段落【０００７】
「【実施例１】被接合材料としてりん脱酸銅板Ｃ１２２０Ｐ（0.5×5×50ｍｍ）を用い、陰極電解法で水素チャージを行いメニスコグラフ法によりはんだ付性を調べた。陰極電解条件を表１に、はんだ付性試験条件を表２に示す。尚、はんだ付性試験は大気中で行った。」
２　引用例記載の発明
　引用例記載の事項を本願発明に照らして整理すると引用例には以下の発明が記載されていると認める。
「陰極電解法により水素を吸蔵させたはんだ付用銅板。」（以下、「引用発明」という。）
　
第３　対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「はんだ付用銅板」は、「はんだ接合用銅材」であるという限りで、本願発明の「プリント回路基板におけるはんだ接合用銅電極」と共通している。
　したがって、本願発明と引用発明とは以下の点で一致している。
「水素を吸蔵させたはんだ接合用銅材。」
　そして、本願発明と引用発明とは以下の２点で一応相違している。
１　＜相違点１＞
　水素を吸蔵させるために、本願発明では、水素ガスを含むガスを高周波電力によりプラズマ化した水素プラズマを照射するのに対して、引用発明では、陰極電解法によっている点。
２　＜相違点２＞
　はんだ接合用銅材が、本願発明では、プリント回路基板におけるはんだ接合用銅電極であるのに対して、引用発明では、どのような用途に用いられるものであるのか明らかでない点。
　
第４　相違点についての検討
１　＜相違点１＞について
　引用発明も本願発明と同様に銅板に水素を吸蔵させたものであるところ、本願発明は、「プリント回路基板におけるはんだ接合用銅電極」という物の発明に係るものであり、その構造は、水素を吸蔵させるための具体的な方法の如何を問わず、「水素を吸蔵させた」という事項により特定されるものである。
　また、金属に水素を反応させるために、水素ガスを含むガスを高周波電力によりプラズマ化した水素プラズマを照射することは、例えば、特開平１０−２９４３１５号公報（特に、段落【００１４】〜【００１５】参照。）に示されているように従来周知である。
　そうしてみると、相違点１については、本願発明と引用発明との間に物の発明としては実質上の差異がないものであり、また、製造方法においても、当業者が格別の創意を要することなく容易に想到し得る事項である。
２　＜相違点２＞について
「プリント回路基板におけるはんだ接合用銅電極」自体は特に例示するまでもなく従来周知であり、また、引用発明をこの従来周知の銅電極に適用することを妨げる特段の事由も見当たらない。
　そうしてみると、引用発明をプリント回路基板におけるはんだ接合用銅電極とすることに格別の困難性はない。
３  本件出願の発明の効果について
　本願発明の採用する構成によってもたらされる効果も、引用発明及び従来周知の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
　
第５　むすび
　したがって、本願発明は、引用発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許をすることができない。
　よって、本件出願の請求項１、２及び４に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきであるから、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　特願２００３−２８９１９１「磁気記録媒体の製造方法及び製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年３月３日出願公開、特開２００５−５６５３５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯、本願発明
　本願は、平成１５年８月７日の出願であって、本願請求項１乃至５に係る発明は、平成１７年９月２２日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１乃至５に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　「【請求項１】基板両面に連続記録層が形成された被加工体を加工し、多数の分割記録要素で構成された分割記録層を前記基板両面に形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
　前記被加工体の両面の連続記録層をイオンビームエッチングを用いて同時に加工して前記分割記録層を前記基板両面に形成する連続記録層加工工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。」
　
２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００１−１６７４２０号公報（以下、引用例という。）には、「磁気記録媒体およびその製法」に関して図面とともに、以下の事項が記載されている。
　
　ア「【0017】図１に示す磁気ディスクは、
ディスク状の基板１上に、その周方向（記録トラック延在方向）および半径方向のそれぞれに間隔をおいて配置された多数の単磁区微小記録部３を有する
　イ「【0021】
Ｓｍ−Ｃｏ合金の基板への付着には、スパッタ法を利用することが好ましい
前記文献２では、膜面内に磁界を印加して真空蒸着法でＳｍ−Ｃｏ薄膜を形成しているが、スパッタ法は真空蒸着法に比べ以下に挙げる利点がある。第１に、スパッタ粒子のもつエネルギーは、蒸着粒子のそれに比べはるかに高いため、磁界の影響を受けやすい。そのため、磁気異方性の誘導が容易である。第２に、真空蒸着法では膜構成元素の蒸気圧の違いによって組成ずれが生じやすいが、スパッタ法ではこのような組成ずれが生じない。後述するようにＳｍ−Ｃｏ合金の誘導磁気異方性は合金中のＳｍ含有率に大きく影響されるため、組成を正確に制御することは重要である。第３に、膜厚の制御が容易である。短軸方向に磁気異方性を誘導するためには、短軸方向長さよりも厚さを小さくすることが好ましいため、単磁区微小記録部の厚さ制御は重要である。」
　ウ「【0030】基板構成材料は特に限定されず、従来の磁気ディスクと同様であってよい。例えば
本発明をハードディスクに適用する場合には、基板構成材料をアルミ合金やガラスなどから選択すればよく、また、シリコンや樹脂を用いてもよい
　エ「【0032】本発明の磁気記録媒体を製造する方法の好ましい例を、図２に工程（Ａ）〜工程（Ｈ）として示す。
【0033】工程（Ａ）では、まず、ガラスからなる
基板１上に、下地層２、磁性層３Ａ、中間層101、非磁性層102および電子線レジスト層103をこの順で形成する
【0036】工程（Ｄ）では、マスク層104をエッチングマスクとして利用し、ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）により非磁性層102および中間層101をエッチングする。ＲＩＥにおける反応性ガスとしては、例えばCHF3＋O2を用いることができる。
【0037】工程（Ｅ）では、中間層101、非磁性層102およびマスク層104をエッチングマスクとして利用し、
スパッタエッチングやＲＩＥ等により磁性層３Ａおよび下地層２をエッチングする。このエッチングにより磁性層３Ａがパターニングされ、単磁区微小記録部３が形成される
　オ「【0050】　実施例３
　シリコンウエハ上に、実施例１のサンプルNo.２と同条件でＳｍ−Ｃｏ磁性層を形成した。次いで、Ｇａイオンを用いたフォーカスト・
イオンビーム・エッチング
　
　上記ア〜オによれば、引用例には、次の発明が記載されている。
　「基板上に、間隔をおいて配置された多数の単磁区微小記録部を有する磁気記録媒体の製造方法であって、基板上に磁性層を形成し、該磁性層をイオンビームエッチングによりパターニングして単磁区微小記録部を形成する行程を含む磁気記録媒体の製造方法」（以下、「引用例発明」という。）
　
３．対比
　引用例発明における「単磁区微小記録部」は間隔をおいて配置されており、本願発明の「分割記録要素で構成された分割記録層」に相当する。
　引用例発明における「磁性層」は、Ｓｍ−Ｃｏ合金の基板への付着にはスパッタ法で行われるものであり、スパッタ法で形成される層は連続的に形成されるものであることは周知であるから、本願発明の「連続記録層」に相当する。
　そして、引用例発明において、磁性層はイオンビームエッチングによりパターニングされるから、引用例発明の「磁性層をエッチングによりパターニングして単磁区微小記録部を形成する行程」は、本願発明の「被加工体の連続記録層をイオンビームエッチングを用いて加工して前記分割記録層を前記基板に形成する連続記録層加工工程」に相当する。
　
　したがって、本願発明と引用例発明との一致点、相違点は次のとおりである。
　［一致点］
　「基板に連続記録層が形成された被加工体を加工し、多数の分割記録要素で構成された分割記録層を前記基板に形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
　前記被加工体の連続記録層をイオンビームエッチングを用いて加工して前記分割記録層を前記基板に形成する連続記録層加工工程を含む磁気記録媒体の製造方法。」である点。
　
　［相違点］
　本願発明では、連続記録層が基板の両面に形成されており、両面同時に加工することにより分割記録層を形成するのに対し、引用例発明では、連続記録層が基板の
両面
両面同時
　
４．相違点についての判断
　以下、上記相違点について検討する。
　本願発明は、ハードディスクに適用するものであるところ（上記ウ）、ハードディスクの磁気記録媒体は両面に記録層が設けられていることは周知であり、記録層が分割記録層である磁気記録媒体においても分割記録層を基板の両面に設けたものは周知であるから（例えば、原査定の拒絶の理由に引用された、特開２００１−１４３２５２号公報、特開平５−２８４８８号公報、特開平８−２８７４６１号公報等参照）、引用例記載の磁気記録媒体において両面に微小記録部を有するものとすることは当業者が容易に推考できたものである。
　また、その製造方法として、両面に連続記録層を形成し、同時に加工して分割記録層を形成することは当業者が容易に想到しうる事項であって、イオンビームエッチング法は周知の方法であって、イオンビームエッチングを両面同時に行うことについて特段の阻害事由は見あたらない。
　そして、本願発明の効果も、当業者が予測しうる範囲を超えたものということもできない。
　
　したがって、本願発明は、その出願前に頒布された刊行物である引用例に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび
　上記のとおり、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。
【事件の表示】
　平成　９年特許願第１５９５３１号「立軸槽外形ポンプ」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　１月１２日出願公開、特開平１１−　　６４９０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願の発明
　本願は、平成９年６月１７日の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年１１月２２日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるとおりのものと認める。
「気中に全体が配置された状態で、モートルによってポンプケーシングの羽根車が回転されると、ポンプケーシング内に流体を吸引して、ポンプケーシングから吐出するようになった立軸槽外形ポンプであって、モートルにおけるステーターケーシングの上端面を覆うモートルカバーの中央部に、上方に突出する軸受収容部が設けられる一方、この軸受収容部の周面がモートルカバーから下方に円筒状に突出されており、この軸受収容部に配置された軸受によって、モートルのローターシャフト上端部が支持されていることを特徴とする立軸槽外形ポンプ。」
　
２．引用刊行物                                                  
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された実願昭５６−２５８６３号（実開昭５７−１３７７９３号）のマイクロフィルム（以下、「引用例」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
　・「本考案は貯水槽からの水を該貯水槽外に設置した立軸ポンプにて揚水、送水、或いは排水を行う槽外形立軸ポンプに関するものである。」（明細書１頁１０〜１２行）
　
　・「第２図に示す第１実施例において、４は貯水槽で、該貯水槽４に連通される吸込管５、弁６、吸込ベンド７を順次介して貯水槽４内の水を立軸軸流ポンプ或いは立軸斜流ポンプＰへ給送し、吐出管１０にて排水する。立軸軸・斜流ポンプＰは貯水槽４の外側すなわち、槽外形に地面１１に設置されており、ポンプの胴体となるボウル１２内に上、下軸受１３，１４にて回転自在に支承される主軸１５の先端に羽根車１６が取付られており、該立軸軸斜流ポンプＰの上方に設置されるモータ３にて回転が付与される。」（同書２頁１２行〜３頁２行）
　
　・また、第２図には、羽根車１６を収容するポンプケーシング、モータ３の引出線で示された部位であるモータケーシング、及び、モータケーシングの上側を覆っている部材等が設けられている槽外形立軸ポンプの構成が示されている。
　
　上記記載事項及び図示内容を総合すると、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
「貯水槽外の地面に設置された状態で、モータ３によってポンプケーシングの羽根車１６が回転されると、ポンプケーシング内に水を給送して、ポンプケーシングから排水するようになった槽外形立軸ポンプであって、モータケーシングの上側を覆う部材が設けられている槽外形立軸ポンプ。」
　
３．対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、その機能・作用からみて、後者の「貯水槽外の地面に設置」は前者の「気中に全体が配置」に相当し、以下同様に、「モータ３」は「モートル」に、「水」は「流体」に、「給送」は「吸引」に、「排水」は「吐出」に、「槽外形立軸ポンプ」は「立軸槽外形ポンプ」に、それぞれ相当している。
　また、後者の「モータケーシング」は前者の「モートルにおけるステーターケーシング」に相当していると解されるから、後者の「モータケーシングの上側を覆う部材」は前者の「モートルにおけるステーターケーシングの上端面を覆うモートルカバー」に相当しているといえる。
　
　したがって、両者は、
「気中に全体が配置された状態で、モートルによってポンプケーシングの羽根車が回転されると、ポンプケーシング内に流体を吸引して、ポンプケーシングから吐出するようになった立軸槽外形ポンプであって、モートルにおけるステーターケーシングの上端面を覆うモートルカバー（が設けられている）立軸槽外形ポンプ。」
である点で一致し、次の点で相違する。
［相違点］
　本願発明が、モートルカバー「の中央部に、上方に突出する軸受収容部が設けられる一方、この軸受収容部の周面がモートルカバーから下方に円筒状に突出されており、この軸受収容部に配置された軸受によって、モートルのローターシャフト上端部が支持されている」のに対し、引用発明では、モートルカバーの具体的な構成については明らかでない点。
　
４．判断
　上記相違点について以下検討する。
　例えば、原査定時に提示した昭和１４年実用新案出願公告第１３９４６号公報にも開示されているように、モートルカバー（「蓋板５」が相当）の中央部に、外方に突出する軸受収容部が設けられ、この軸受収容部の周面がモートルカバーから内方に円筒状に突出され（図面参照）、この軸受収容部に配置された軸受（「軸承７」が相当）によって、モートル（「電動機」が相当）のローターシャフト（「心軸６」が相当）端部が支持されるように構成することは、モータの分野における周知技術である。
　そうすると、引用発明において、モートルカバーを構成する際に、上記周知技術を採用することにより、上記相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者であれば適宜なし得るところであり、上記周知技術の採用を阻害する格別の要因を見出すこともできない。
　なお、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭４６−７４０８号公報（特に２頁右下欄７〜１５行の記載及びＦＩＧ．１参照）にも開示されているように、外方に突出するように設けたモートルの軸受収容部（「軸受支持体」が相当）が周囲の空気と直接接触することで熱放散効果が得られることは技術常識であるといえるから、引用発明に上記周知技術を採用したものにおいて、外気による冷却効果が期待できるのは当然のことである。
　
　そして、本願発明の全体構成によって奏される効果も、引用発明、上記周知技術及び上記技術常識から、当業者が予測し得る範囲内のものである。
　したがって、本願発明は、引用発明、上記周知技術及び上記技術常識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび
　以上のとおりであって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないため、本願は拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。