【事件の表示】
　特願２００４−１８３３８７「スペーサ情報を利用する液晶滴下装置及び液晶滴下方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　１月２０日出願公開、特開２００５−　１８０６２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１６年６月２２日（パリ条約による優先権主張　２００３年６月２４日（ＫＲ）韓国）の出願であって、原審において平成１７年７月５日付けで拒絶理由通知がなされ、平成１８年１月１１日付けで意見書及び手続補正書が提出されたところ、同年３月１３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年６月１９日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年７月１９日付けで手続補正書が提出されたものである。
　　
２．平成１８年７月１９日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年７月１９日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
２．１　本件補正後の本件発明について 
 　本件補正は、補正前の特許請求の範囲の記載の内、
「【請求項１】
　液晶が充填された容器と、
　前記容器に充填された液晶を吸入して吐出する吐出ポンプと、
　前記吐出ポンプから吐出された液晶を基板に滴下するノズルと、
　基板に形成されたスペーサの高さの測定値に基づいて液晶の滴下量を算出し、前記吐出ポンプを制御して基板上に算出された量の液晶を滴下する制御部とを含み、
　前記スペーサの高さの測定値として、スペーサ形成工程で測定されたものが前記制御部に提供されていることを特徴とする液晶滴下装置。」とあるのを、
　　
「【請求項１】
　液晶が充填された容器と、
　前記容器に充填された液晶を吸入して吐出する吐出ポンプと、
　前記吐出ポンプから吐出された液晶を
複数の液晶パネルが形成された
　基板に形成された
それぞれの液晶パネルに形成された
前記それぞれの液晶パネルに滴下される
　前記
それぞれの液晶パネルに形成された
　
　上記補正は、補正前の請求項１に係る「基板」を「複数の液晶パネルが形成された基板」に、「スペーサ」を「それぞれの液晶パネルに形成されたスペーサ」に、及び「液晶の滴下量」を「それぞれの液晶パネルに滴下される液晶の滴下量」に、それぞれ限定することを含むものであって、特許法第１７条の２第４項第２号に規定された特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。 
 
２．２　引用文献の記載事項 
　
（１）原査定の理由で引用された特開２００１−２８１６７８号公報（以下、「引用文献」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ａ．「【特許請求の範囲】
　　　【請求項１】基板上に液晶を滴下し、前記基板の液晶滴下面側を対向基板に対向させて真空中で貼り合わせから大気圧に戻すことにより液晶注入を行う液晶表示装置の製造方法において、
　液晶を滴下する基板の状態に基づいて、貼り合わせる２枚の基板間に封止される最適液晶量を予測し、予測値に基づいて滴下液晶量を制御することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
　　【請求項２】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
　前記最適液晶量は、前記２枚の基板間のセル厚を決定するために設けられた柱状スペーサの高さを測定して予測することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
　　【請求項３】・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
　　【請求項４】請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
　前記最適液晶量の予測は、多面取り基板にあってはパネル形成領域毎に行うことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
　　【請求項５】請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
　前記最適液晶量の予測は、前記２枚の基板の一方にメインシールを形成する工程と並行に行われることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
　　【請求項６】請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
　前記最適液晶量の予測は、前記液晶を滴下する基板ステージ上で行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。」
　
ｂ．「【０００７】
　　　【発明が解決しようとする課題】滴下注入法では、液晶滴下注入装置（ディスペンサ）を用いて所定量の液晶を基板上に滴下する。ところが、ディスペンサの滴下精度やセルギャップのばらつきにより、貼り合わせる２枚の基板間に封止される液晶量に過不足が生じるという問題がある。封止された液晶量が不足しているといわゆる気泡ができてしまう。また封止液晶量が多いと表示むらを生じる。これら気泡や表示むらを生じているパネルはいずれも不良品となる。
　　　【０００８】セルギャップを柱状スペーサで確保する方法では、基板上に数ミクロンの高さの樹脂製支柱を形成するため、基板間で支柱高さ（膜厚）にばらつきが生じ易い。基板間での支柱高さのばらつきが大きいと、ある基板用に設定した液晶滴下量を他の基板にそのまま適用すると、液晶量が多過ぎたり少な過ぎたりする事態を生じる。１枚のガラス基板から複数の液晶表示パネルを形成する多面取り用基板でも、各表示パネル形成領域間で支柱高さにばらつきを生じる可能性がある。このため、多面取りガラス基板内の最適液晶滴下量は各表示パネル形成領域毎に異なる場合が生じる。」
　
ｃ．「【００１２】上記本発明の液晶表示装置の製造方法において、前記最適液晶量は、前記２枚の基板間のセル厚を決定するために設けられた柱状スペーサの高さを測定して予測することを特徴とする。
　　　【００１３】・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・　　　【００１４】上記本発明の液晶表示装置の製造方法において、前記最適液晶量の予測は、多面取り基板にあってはパネル形成領域毎に行うことを特徴とする。
　　　【００１５】上記本発明の液晶表示装置の製造方法において、前記最適液晶量の予測は、前記２枚の基板の一方にメインシールを形成する工程と並行に行われることを特徴とする。
　　　【００１６】上記本発明の液晶表示装置の製造方法において、前記最適液晶量の予測は、前記液晶を滴下する基板ステージ上で行うことを特徴とする。
　　　【００１７】本発明によれば、滴下注入法を用いる液晶表示装置の製造方法において、柱状スペーサの支柱高さを測定し、その測定値に基づいて最適液晶量を滴下することができる。また、球状粒子を散布する場合は、その散布密度を測定してそれに基づいて最適液晶量を滴下することができる。したがって、本発明によれば、液晶表示パネル毎に最適な液晶量を滴下でき、液晶量の不足によるいわゆる気泡や液晶量の過多による表示むらをなくすことができ、安定した量産が可能となる。」
　
ｄ．「【００１８】
　　【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を図１乃至図１１を用いて説明する。・・・・・・・・・・・・・・・　　　【００２０】次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法で用いるフランジャーポンプ式のディスペンサの概略の構成について図２を用いて説明する。図２において、ディスペンサ３０は、中空の円筒形状の筐体３２を有しており、円筒形状の中心軸をほぼ鉛直方向に向けて使用するようになっている。筐体３２内には、円筒形状の中心軸に沿って細長い棒状のピストン３４が鉛直方向に移動可能に支持されている。ピストン３４の先端部は、筐体３２の鉛直下方端に設けられたノズル３６内方を移動することができるようになっている。筐体３２のノズル３６近傍の側壁の開口からは、液晶収納容器３８内の液晶が供給管４０を介して図示の矢印に沿ってノズル３６にまで流入できるようになっている。ノズル３６内に達した液晶は、ノズル３６でのピストン３４先端の移動量に依存してノズル３６から滴下するようになっており、外力を受けない限り液晶自身の表面張力によりノズル３６から吐出しないようになっている。
　　　【００２１】筐体３２内の空気室の側壁には、鉛直方向に離れて設けられた２つの空気流入口４２、４４が取り付けられている。ピストン３４には、空気室内を２つに分離する隔壁４６が固定されている。隔壁４６は、ピストン３４と共に、空気流入口４２、４４の間の空気室内壁を摺動することができるようになっている。したがって、隔壁４６は、空気流入口４２から空気室内に空気が流入すると鉛直下方に圧力を受けて下方に移動し、空気流入口４４から空気室内に空気が流入すると鉛直上方に圧力を受けて上方に移動する。これにより、ピストン３４を鉛直方向に所定量移動させることができるようになっている。
　　　【００２２】空気流入口４２、４４は、ポンプコントローラ４８に接続されている。ポンプコントローラ４８は、空気を吸入して所定のタイミングで空気流入口４２、４４のいずれかに空気を送り込むようになっている。 　　　【００２３】以上説明した構成のディスペンサ３０は、１ショット当り５ｍｇの液晶５０を滴下するようになっている。なお、この１ショット当りの液晶滴下量は、筐体３２上方に突出したピストン３４に固定されたマイクロゲージ５２を用いて、ピストン３４の鉛直方向の移動量を制御することにより調整するこができるようになっている。」
　
ｅ．「【００２６】図５は、液晶表示パネルの柱状スペーサの支柱高さと最適液晶量との関係を示している。図５において、横軸は支柱高さ（μｍ）を表し、縦軸は最適液晶量（ｍｇ）を表している。図５に示すように、支柱高さが５μｍを中心に±０．２μｍの範囲内でばらつくと、最適液晶量は２５０ｍｇを中心に±１０ｍｇの範囲内でばらつく。
　　　【００２７】・・・また、１枚のガラス基板から複数のパネルを形成する多面取りの場合、ガラス基板上の各パネル形成領域に形成される柱状スペーサの支柱高さが各パネル形成領域間で±０．１μｍ程度相違することが
あり得る。
　　　【００２８】支柱高さの相違に対する最適滴下量の範囲は例えば図６に示すようになる。・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
　　　【００２９】液晶の滴下量が支柱高さ５μｍ用に設定してあるとして、実際に液晶滴下する基板の支柱高さが、図６に示すように４．９μｍであったり５．１μｍであったりすると次のような問題が生じる。すなわち、最適滴下範囲２１２の基板に最大許容滴下量の２５０ｍｇを越える範囲（矢印２１６で示す）の液晶が滴下されると液晶過多が生じる。あるいは、最適滴下範囲２１４の基板に最小許容滴下量の２５０ｍｇより少ない範囲（矢印２１８で示す）の液晶が滴下されると液晶不足が生じる。
　　　【００３０】このように、支柱高さに対して滴下量が２．０％以上違うと不良が発生する。換言すれば、支柱高さが０．１μｍ違うとすれば、５μｍのセル厚に対し２％の狂いが生じる。セル厚が５μｍであると仮定して液晶の滴下量を固定してしまうと、基板毎の支柱高さのばらつきを吸収できるマージンが全くないためディスペンサ等の他の要素が原因で液晶滴下量がばらついたらパネル不良が生じてしまう。
　　　【００３１】そこで、本実施の形態では、図３を用いて説明した滴下注入工程において、柱状スペーサの支柱高さを予め測定し、測定値に基づいて液晶滴下量を制御できるようにしている。」
　
ｆ．「【００３２】図７は、支柱高さを測定する方法を例示している。図７は、１枚のガラス基板８０から２枚の液晶表示パネル８２を作製する２面取りの場合を示している。例えば柱状スペーサが形成された２枚のＣＦ基板８２を図示のようにＡ面、Ｂ面として、Ａ面とＢ面のそれぞれで、複数点（図示例では数字１〜数字５の５箇所）の支柱高さをレーザ変位計８４で測定して平均値を求める。・・・・
　　　【００３３】次に、配向処理後のＴＦＴ基板側には熱併用型のＵＶシール剤を塗布する。次いで、図７に示した方法で予め測定されたＣＦ基板側の支柱高さに基づいて、ＴＦＴ基板側に滴下する液晶の量を制御する。
　・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・　　　【００３６】まず、ＵＶシール剤９８の枠内のＴＦＴ基板９６を形成する面上に、１ショット５ｍｇに調整したディスペンサ９０を用い、予め測定したＣＦ基板側に配置した柱状スペーサの支柱高さの平均値に基づいて所定量の液晶１００を滴下する。例えばＣＦ基板のできあがりの寸法測定（抜き取り）でＡ面が平均５μｍ、Ｂ面が平均５．１μｍの支柱高さを有している場合を例にとって説明する。
　　　【００３７】Ａ面に対向するＴＦＴ基板が形成される面では、・・・例えば基板毎あるいは所定間隔での抜き取りにより柱状スペーサの支柱高さを測定し、０．１μｍの増減ばらつきで１ショット増加、もしくは１ショット減の制御をする。
　　　【００３８】Ｂ面に対向するＴＦＴ基板が形成される面では、・・・例えば基板毎あるいは所定間隔での抜き取りにより柱状スペーサの支柱高さを測定し、０．１μｍの増減ばらつきで１ショット増加、もしくは１ショット減の制御をする。・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・　　　【００４０】次いで、このようにして滴下量を制御したガラス基板同士を、図３（ｂ）で説明したように真空中で貼り合わせる。・・・貼り合わせた２枚のガラス基板の各面の所定位置をスクライブして切断することにより、２枚の液晶表示パネルが得られる。」
　
ｇ．「【００４２】次に、図９乃至図１１を用いて、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法で用いるインラインプロセス装置の構成例について説明する。図９は、支柱高さ測定とシール描画を並行して行う場合の装置構成を示している。・・・洗浄されたＣＦ基板は、支柱高さ測定装置１２４に搬送される。洗浄されたＴＦＴ基板は、シール描画装置１２６に搬送される。
　　　【００４３】支柱高さ測定装置１２４は、例えばレーザ変位計を備えている。ＣＦ基板に形成された柱状スペーサの複数点の支柱高さが測定され、その平均値が支柱高さ測定結果として液晶滴下装置１２８に与えられる。
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
　　　【００４４】液晶滴下装置１２８は、図２に示したディスペンサを有し、ＣＦ基板での支柱高さの測定結果に基づく所定量の液晶をＴＦＴ基板のメインシール内に滴下する。次いで、ＣＦ基板とＴＦＴ基板は真空貼り合わせ装置１３０に搬送されて所定のセルギャップを保って貼り合わされ、ＵＶ硬化装置１３２にて硬化処理を受けた後下流装置へ搬送される。 」
　
ｈ．「【００４５】次に、図１０を用いて本実施の形態による液晶表示装置の製造方法で用いるインラインプロセス装置の他の構成例について説明する。図１０は、支柱高さ測定とシール描画を同一の基板でほぼ同時に行う場合の装置構成を示している。図１０において、洗浄されたＣＦ基板は、支柱高さ測定及びシール描画装置１２５に搬入され、支柱高さの測定とシール描画がほぼ同時に行われる。・・・」
　
ｉ．「【００４６】次に、図１１を用いて本実施の形態による液晶表示装置の製造方法で用いるインラインプロセス装置のさらに他の構成例について説明する。図１１は、支柱高さ測定と液晶滴下をほぼ同時に行う場合の装置構成を示している。図１１において、洗浄されたＣＦ基板は、支柱高さ測定及び液晶滴下装置１２９に搬送される。また、シール描画装置１２６でシール描画がなされたＴＦＴ基板も支柱高さ測定及び液晶滴下装置１２９に搬入される。
　　　【００４７】支柱高さ測定及び液晶滴下装置１２９は、ディスペンサに加え、支柱高測定用の小型のレーザ変位計が液晶滴下のＸＹステージに組み込まれている。したがって、支柱高さ測定及び液晶滴下装置１２９では、ＣＦ基板上の柱状スペーサの支柱高さの測定値に基づく所定量の液晶をＣＦ基板またはＴＦＴ基板に滴下する。・・・
　　　【００４８】以上の過程で作製された液晶表示パネルは、支柱高さに応じて液晶量が決定されている。そのため、液晶の不足によるいわゆる気泡や過多によるギャップ不良は全く発生しないことになるので、極めて安定した表示品質を保つことができるようになる。また、製作日が異なるＣＦ基板を混在してプロセス上に流すことは、従来では不良の発生を意味していたが、本実施の形態によれば、その制約がなくなるだけでなく、同一ロット内での最適滴下量の変動や、多面取り用ガラス基板面内での最適滴下量の変動を全て吸収できるので、滴下注入法による液晶表示装置の量産に対応できるようになる。」
　
ｊ．「【００５１】
　　　【発明の効果】以上の通り本発明によれば、液晶表示パネル毎に最適な液晶量を滴下できるので、いわゆる気泡や液晶過多によるギャップ不良をなくすことができ、安定した量産が可能となる。したがって、本発明によれは、滴下注入プロセスによる不良を低減させて、現行の真空注入プロセス並みの歩留りを達成できるようになる。また、滴下注入法の適用による工程の簡略化によるコスト低減を図ることができる。」
　
　また、【図７】、【図８】及びその説明（【００３２】、【００３５】）によれば、
ｋ．「ディスペンサは、１枚のガラス基板から２枚の液晶表示パネルを作製する、２面取り、に用いられること」が見て取れ、
　
　さらに【図１１】及びその説明（【００４６】、【００４７】）によれば、
ｌ．「柱状スペーサの支柱高さの測定及び測定値に基づく液晶滴下量の予測を液晶滴下工程中で行う場合には、液晶滴下工程中で測定されたものが柱状スペーサの支柱高さの測定値として用いられること」が見て取れる。
　
　したがって、上記ａ〜ｌによれば、引用文献には、
「液晶が充填された液晶収納容器と、
　前記容器に充填された液晶を吸入して吐出するためのピストンを備えてなる筐体と、
　前記ピストンを備えてなる筐体から吐出された液晶を２つの液晶表示パネルが形成された基板に滴下するノズルと、を含むディスペンサであって、
　前記ディスペンサは、基板に形成されたそれぞれの液晶表示パネルに形成された柱状スペーサの支柱高さの測定値に基づいて前記それぞれの液晶表示パネルに滴下される液晶の滴下量を予測し、当該予測された滴下量の液晶を滴下するものであり、
　前記それぞれの液晶パネルに形成されたスペーサの高さの測定値として、液晶滴下工程で測定されたものが用いられる、ディスペンサ。」が記載されている（以下、「引用発明」という。）。
　
２．３　対比・判断 
　本件補正発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「液晶収納容器」、「ピストンを備えてなる筐体」、「液晶表示パネル」、「ノズル」、「柱状スペーサの支柱高さ」、「滴下量を予測」及び「ディスペンサ」は、本件補正発明の「容器」、「吐出ポンプ」、「液晶パネル」、「ノズル」、「スペーサの高さ」、「滴下量を算出」及び「液晶滴下装置」にそれぞれ相当する。
　
　また、引用発明のディスペンサは、液晶滴下工程において測定されたスペーサの高さの測定値から液晶の滴下量を予測（算出）し、ピストンを備えてなる筐体（吐出ポンプ）を制御して基板上に当該予測（算出）された量の液晶を滴下するものであるから（引用文献の【００３１】〜【００３９】、【００４６】〜【００４７】参照）、本件補正発明の「制御部」に相当する部材を具備するものであることは明らかである。　
　
　したがって、両者は、
「液晶が充填された容器と、
　前記容器に充填された液晶を吸入して吐出する吐出ポンプと、
　前記吐出ポンプから吐出された液晶を２つの液晶パネルが形成された基板に滴下するノズルと、
　基板に形成されたそれぞれの液晶パネルに形成されたスペーサの高さの測定値に基づいて前記それぞれの液晶パネルに滴下される液晶の滴下量を算出し、前記吐出ポンプを制御して基板上に算出された量の液晶を滴下する制御部とを含む液晶滴下装置。」の点で一致し、以下の点で相違している。
　
【相違点】：本件補正発明は、制御部に提供されるスペーサの高さの測定値が、「スペーサ形成工程で測定されたもの」であるのに対して、引用発明は、「液晶滴下工程で測定されたもの」である点。
　　
　上記相違点について検討すると、引用発明は、本件補正発明と同様、液晶滴下工程での液晶の滴下量の算出を、設定されたセルギャップに基づいて行うのではなく、実際に製作された液晶パネルごとにスペーサの高さを測定し、その測定値に基づいて行うようにすることで、滴下量の過不足に起因した表示品質の低下を防止するものであるから、液晶滴下量の算出のための「スペーサの支柱高さの測定」は、少なくとも、液晶パネルへの液晶滴下の直前までに行えば良いのであって、スペーサ形成工程から、液晶滴下工程までの、何れの時点（工程）で測定された測定値であっても良いはずである。
　実際に、引用文献の実施例は、「液晶滴下工程」に限らず、それより以前の「シール描画工程」もしくは「シール描画工程と並行して行う工程」での測定値に基づいて液晶滴下量の算出ならびに滴下を行っている例を開示しており（【図１０】、【図９】参照）、これらによれば、スペーサの支柱高さの測定時期は、種々の変更が可能なことが示唆されていると見ることができ、引用発明において、その制御部に提供されるスペーサの高さの測定値として、「液晶滴下工程で測定されたもの」に替えて「スペーサ形成工程で測定されたもの」とすることは当業者が容易に想到し得るものと云える。
　そして、本件補正発明の効果は、引用文献に記載された発明から当業者が当然予測し得る範囲のものである。
　                                 
　したがって、本件補正発明は、引用文献に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。　
　
２．４　むすび 
 　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、特許法第１５９条第１項で読み替
えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
３．本件発明について 
　平成１８年７月１９日付の手続補正は、上記のとおり却下されたので、本件の請求項に係る発明は、平成１８年１月１１日付の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜１７に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という）は、以下のとおりである。 
　
「【請求項１】
　液晶が充填された容器と、
　前記容器に充填された液晶を吸入して吐出する吐出ポンプと、
　前記吐出ポンプから吐出された液晶を基板に滴下するノズルと、
　基板に形成されたスペーサの高さの測定値に基づいて液晶の滴下量を算出し、前記吐出ポンプを制御して基板上に算出された量の液晶を滴下する制御部とを含み、
　前記スペーサの高さの測定値として、スペーサ形成工程で測定されたものが前記制御部に提供されていることを特徴とする液晶滴下装置。」
　 
３．１　引用例記載の発明
　原査定の理由に引用された引用文献及びその記載事項は、前記「２．２」に記載したとおりである。
　
３．２　対比・判断 
　本件補正発明は、本件補正前の請求項１に係る「基板」を「複数の液晶パネルが形成された基板」に、「スペーサ」を「それぞれの液晶パネルに形成されたスペーサ」に、及び「液晶の滴下量」を「それぞれの液晶パネルに滴下される液晶の滴下量」に、それぞれ限定したものに相当するから、本件発明の発明特定事項を全て含み、さらにその発明特定事項の一部を限定・具体化したものに相当する本件補正発明が、前記「２．３」に記載したとおり、引用文献に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も、同様の理由により引用文献に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 
 　 
３．３　むすび 
　以上のとおり、本件発明は、引用文献に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
 　よって、結論のとおり審決する。