【手続補正書】
【提出日】令和1年5月10日(2019.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが自転することによって自転するとともに前記ディスクの中心を軸として公転する少なくとも一つのサセプタ；
前記サセプタの下部に結合し、中心が前記サセプタの中心と一致するように配置される金属リング；
前記ディスクの下部に前記ディスクの中心を基準に放射状に配置され、少なくとも一部が前記金属リングと上下方向に対向するように備えられるマグネット; 及び
前記ディスクを収容する収容部を備えるフレームを含み、
前記マグネットは前記フレームに前記収容部の中心を基準に放射状に回転できないように配置されることを特徴とする、基板処理装置。
【請求項２】
前記ディスク及び前記サセプタとそれぞれ接触するように配置されるベアリングをさらに含み、
前記ディスクが自転することによって前記金属リングは前記マグネットの磁気力によって自転し、これによって前記サセプタが自転することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記サセプタの下部に突設され、前記金属リングと結合し、前記ベアリングを支持する第１支持部を備えることを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記金属リングは、
前記第１支持部と結合する内側リング；
前記内側リングと結合する外側リング；及び
前記外側リングと前記内側リングの間に形成され、前記外側リングと前記内側リングを互いに結合させるリング結合部を含むことを特徴とする、請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記外側リングは前記マグネットと上下方向に対向するように備えられ、
外側リングの幅は前記マグネットの幅より大きく形成されることを特徴とする、請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記外側リングは前記マグネットと上下方向に対向するように備えられ、
前記外側リングは前記マグネットと対向する部位で前記マグネットを上下方向に全て覆う部位が存在するように構成されることを特徴とする、請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記マグネットは複数のマグネット片が一定間隔で放射状に配置されるように備えられることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記マグネット片は円筒状に備えられることを特徴とする、請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記収容部の中心部に形成される通孔に挿入され、前記ディスクを自転させるシャフトと、下側で前記シャフトの上端と結合するとともに上側で前記ディスクと結合するディスク支持部を備えることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記マグネットの直径に対する前記金属リングの直径の比に前記サセプタの自転速度が比例することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記マグネットの直径はリング状に配置される前記マグネットの幅の中心間の距離を直径方向に測定した値であり、前記金属リングの直径は前記金属リングの幅の中心間の距離を直径方向に測定した値であることを特徴とする、請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記金属リングは強磁性体でなることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記ディスクの自転方向と前記サセプタの自転方向は同一であることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
前記マグネットは前記ディスクの下部に前記ディスクの中心を基準に放射状に配置され、
前記マグネットの中心と前記金属リングの中心は互いに離隔するように備えられることを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１５】
回転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが回転することによって自転するとともに前記ディスクの中心を軸として公転するサセプタ；
前記サセプタの下部に結合し、中心が前記サセプタの中心と一致するように配置される金属リング；及び
前記ディスクの下部に前記ディスクの中心を基準に放射状に配置され、前記金属リングと上下方向に対向するように備えられるマグネットを含み、
前記サセプタは前記ディスクが自転することによってディスクの自転方向と同一方向に自転する、基板処理装置。
【請求項１６】
前記金属リングはリング状に形成される前記マグネットを上下方向に全て覆う部位が存在するように構成されることを特徴とする、請求項１５に記載の基板処理装置。
【請求項１７】
回転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが回転することによって自転するとともに前記ディスクの中心を軸として公転するサセプタ；
前記サセプタの下部に結合し、中心が前記サセプタの中心と一致するように配置される金属リング；及び
前記ディスクの下部に前記ディスクの中心を基準に放射状に配置され、前記金属リングと上下方向に対向するように備えられるマグネットを含み、
前記マグネットの直径に対する前記金属リングの直径の比に前記サセプタの自転速度が比例する、基板処理装置。
【請求項１８】
第１回転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが第１回転することによって第１回転するとともに前記ディスクの中心を軸として第２回転する少なくとも一つのサセプタ；
前記サセプタの下部に結合し、中心が前記サセプタの中心と一致するように配置される金属リング；及び
前記ディスクの下部に前記ディスクの中心を基準に放射状に配置され、少なくとも一部が前記金属リングと上下方向に対向するように備えられるマグネットを含む、基板処理装置。
【請求項１９】
回転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが回転することによって自転するとともに前記ディスクの中心を軸として公転する少なくとも一つのサセプタ；
前記サセプタの外周面に結合する金属リング；及び
工程チャンバーの内壁に結合し、前記金属リングと軸方向に対向するように備えられるマグネットを含む、基板処理装置。
【請求項２０】
第１回転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが第１回転することによって第１回転するとともに前記ディスクの中心を軸として第２回転する少なくとも一つのサセプタ；
前記サセプタの下部に結合し、中心が前記サセプタの中心と一致するように配置される金属リング；
前記金属リングの下部に前記金属リングと上下方向に対向するように備えられる少なくとも一つのマグネット；及び
一端が工程チャンバーに結合し、前記マグネットを支持する支持部を含む、基板処理装置。
【請求項２１】
第１回転可能に構成されるディスク；
前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが第１回転することによって第１回転するとともに前記ディスクの中心を軸として第２回転する少なくとも一つのサセプタ；
前記サセプタに結合する金属リング；及び
前記ディスク及び前記サセプタから離隔して配置され、前記金属リングに対向するように備えられるマグネットを含む、基板処理装置。
【請求項２２】
ディスク中心を軸としてディスクが自転するディスクの自転段階；
前記ディスクが自転することによって前記ディスク中心を軸としてサセプタが公転するサセプタの公転段階；
前記サセプタの下部に結合する金属リングが、前記サセプタが公転することによって、前記ディスク中心を軸として公転する金属リングの公転段階；
上下方向に互いに対向する位置に置かれた前記金属リングとマグネットの間で前記マグネットが前記金属リングを引っ張る引力作用段階；及び
前記マグネットと前記金属リングの間に作用する引力によって前記金属リングが結合する前記サセプタが前記マグネットによって引っ張られて自転するサセプタの自転段階を含む、基板処理装置の作動方法。