【事件の表示】
　特願２０００−５９８５１６「光変調器を利用した化学物質ライブラリー製造方法及び製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年８月１７日国際公開、ＷＯ００／４７５９８、平成１４年１２月３日国内公表、特表２００２−５４１４３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１２年２月１０日（優先権主張日平成１１年２月１０日、韓国）の国際出願であって、平成１７年３月３０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年７月１１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年８月９日付けで手続補正がなされたものである。
　
II．平成１７年８月９日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年８月９日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の請求項４に記載された発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項４は、次のとおりに補正された。（下線は補正箇所を示す。）
　
「【請求項４】複数個のマイクロウェルを含み、光照射器によって光の照査を受ける化学物質ライブラリーチップ製造装置であって、
ａ）
複数個の光スイッチのうちのそれぞれが複数個のマイクロウェルのうちのそれぞれに対応するように配列され、
それぞれの
ｂ）制御器の命令に従って一連の化学物質を順次に前記複数個のマイクロウェルに注入する装置；
ｃ）前記複数個のマイクロウェルにおいて注入されて結合していない化学物質を洗浄する装置；及び
ｄ）少なくとも時間によって前記マイクロウェルに光を照射する光スイッチのアドレス、及び各マイクロウェルで生成される最終化学物質に関する情報を含み、前記光照射器、前記化学物質注入装置及び前記洗浄装置の作動順序を制御するプログラムを有する制御器を含
み、前記化学物質ライブラリーチップ装置は、ヌクレオチド、ペプチド、サッカリド及びホスホリピドからなる群より選択される化学物質に適用される
　
　上記補正は、請求項４に記載した発明を特定するために必要な事項である「光スイッチ」について、「複数個の光スイッチのうちのそれぞれが複数個のマイクロウェルのうちのそれぞれに対応するように配列され」との限定を付加し、マイクロウエルへの光の照射が「それぞれ」のマイクロウエルに照射するものであるとの限定を付加し、さらに、「化学物質ライブラリーチップ製造装置」について、「前記化学物質ライブラリーチップ製造装置は、ヌクレオチド、ペプチド、サッカリド及びホスホリピドからなる群より選択される化学物質に適用される」と限定を付加するものであって、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、補正後の請求項４に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
２．引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願優先日前に頒布された刊行物である、引用刊行物１（原査定の引用文献１）、引用刊行物２（同引用文献５）、及び引用刊行物３（同引用文献４）には、図面と共に以下の事項が記載されている。
　
(引用刊行物１：特表平４−５０５７６３号公報の記載事項）
(1a)「32.その上に複数のアミノ酸配列を有する基体の製造のための装置であって、ａ）表面を有する基体；ｂ）光、電子ビーム及びＸ−線放射から成る群から選択されたエネルギー源への暴露の際に除去され得る、前記表面上の保護基；ｃ）前記表面上の選択された場所に前記エネルギー源を向けるための手段；並びにｄ）前記表面への結合のために該表面にアミノ酸を暴露するための手段；を含んで成る装置。」（請求項３２）
(1b)「本発明は既知の場所における物質の合成及び配置に関する。特に、本発明の１つの態様は単一基体表面上の既知の場所における種々の化学配列の製造のための方法及び関連する装置を提供する。本発明は例えばオリゴマー、ペプチド、核酸、オリゴサッカライド、ホスホリピド、ポリマー又は薬剤同類調製物の製造の分野において、特に生物活性についてのスクリーニングにおいて使用するための化学的多様性の源を創製するために適用され得る。」（第４頁右下欄下から第１３行目〜第６行目）
(1c)「種々のポリマーの合成のための改良された方法及び装置が開示される。１つの好ましい態様においては・・・第一の選択された領域において、光除去可能な保護基が光に暴露されそしてリンカ−分子から除去される。次に基体を洗浄し、又は単一モノマーと接触せしめる。・・・次に、第二セットの選択された領域を光に暴露し、そしてリンカ−分子／保護されたアミノ酸上の光除去可能な保護基を該第二セットの領域において除去する。次に、基体を、暴露された官能基との反応のために光除去可能な保護基を含有する第二モノマーと接触せしめる。・・・本明細書に開示するリソグラフ法を用いることにより、基体上の相対的に小さな且つ正確に知られた場所に光を向けることが可能である。従って、基体上の知られた場所において知られた化学配列のポリマーを合成することが可能である。」（第５頁右下欄第２行目〜第６頁左上欄第３行目）
(1d)「ポリマーを合成するための選択された反応器系も開示される。この反応器系は、周辺付近で基体と適合する基体台を含む。この基体台は基体と該台との間に反応器空間を備えており、それを通して又はその中に反応流体がポンプ輸送され又は流れる。反応器空間中の基体の選択された領域を脱保護するように、基体上にマスクが置かれ又は集中され、そして照明される。モノマーが反応器空間を通ってポンプ輸送され又は基体と接触され、そして脱保護された領域と反応する。基体上の領域を選択的に脱保護し、そして反応空間を通して所定のモノマーを流すことにより、知られた場所において所望のポリマーを合成することができる。」（第６頁左上欄第２１行目〜右上欄第７行目）
(1e)「８．
基体
(1f)「幾つかの態様においては、暴露される領域、そしてそれ故に各異るポリマー配列がその上で合成される範囲は・・・好ましい態様においては、暴露される範囲は約１０，０００μｍ２未満であり・・・これらの領域内で、各ポリマーは好ましくは実質的に純粋な形で合成される。」（第８頁右下欄下から第７行目〜第９頁左上欄第１行目）
(1g)「光への基体の既知領域の暴露と同時に又はその後に、表面を第一モノマーユニットＭ１と接触させ、このユニットは脱保護段階において露出された官能基と反応する。・・・次に、表面の第二領域（これは第一領域を含むことができる）を光に暴露し、そして保護基Ｐ２を有する第二モノマ−Ｍ２・・・と接触せしめる。・・・光に暴露される基体の場所及び暴露に続き基体に暴露される試薬を制御することにより、各配列の場所が知られるであろう。」（第９頁左上欄第２行目〜第２５行目）
(1h)「本明細書においては、本発明を主として基体の選択された領域を照明するためのマスクの使用により説明するが、他の技法を用いることもできる。例えば、変調されたレーザー又はダイオード光源のもとで基体を翻訳することができる。この様な技法は例えば米国特許No．４，７１９，６１５　（Ｆｅｙｒｅｒら）に記載されており、引用によりこの明細書に繰り入れる。他の態様においては、レーザーガルバノメータースキャンナーが用いられる。他の態様においては、常用の液晶（本明細書で「光バルブ」と称する）又は光フアイバー光源上で又はそれらと接触して合成を行うことができる。液晶を適切に調節する（ｍｏｄｕｌａｔｅ）ことにより、光が基体上の選択された領域に接するように光を選択的に制御することができる。あるいは、光が選択的に当てられる一連の光ファイバーの末端で合成を行うことができる。光の暴露の場所を制御するための手段は当業者に明らかであろう。」（第１１頁右下欄下から第１５行目〜末行）
(1i)「図８Ａは、本発明の１つの観点に従って調製された基体上にポリマーを合成するための反応器系１００の好ましい態様を示す。この反応器系はその表面上に空洞１０４を有する体部１０２を含む。・・・基体１１２は空洞１０４の上方に載置される。基体にはその底部表面にそって、介在するリンカ−分子を伴って又は伴わないでＮＶＯＣのごとき光除去可能な保護基が設けられる。この基体は好ましくは広いスペクトルの光に対して透過性である・・・入口１０８及び出口１６０・・・流体は・・・ポンプ１１６により前記入口を通して空洞にポンプ輸送される。選択された流体はポンプにより空洞に入り、該空洞を通過しそして出口から出て循環され、さらに再循環されるか又は廃棄される。・・・基体１１２の上方にはレンズ１２０が設けられており・・・第二レンズ１２６はレンズ１１２と組合わされてマスクイメージを基体に投影する目的で設けることができる。リソグラフィーのこの形態を本明細書において投影プリンティングと称する。・・・光源からの光は、マスク１２８の結果として基体の選択された場所にのみ到達する・・・前記のような、基体の領域を選択的に暴露するために常用のマスクに代えて光バルプ（ＬＣＤ）を用いることができる。」（第１２頁左下欄下から第４行目〜第１３頁右上欄第９行目）
(1j)「１つのサイクルは次のことから成る：
１．次の残基が付加されるべき部位でのアミノ基の露出のための適当なマスクを通しての照射、及び脱保護の副生成物を除去するための適切な洗浄。
２．段階１において特定された部位においてのみ反応するであろう単一の活性化されそして保護された（同じ光化学的に除去可能な基による）モノマーの添加、及び過剰の試薬を表面から除去するために適当な洗浄。」（第１７頁左上欄第１行〜第８行目）
(1k)「上記の方法は手動の例により本法を説明している。言うまでもなく、自動化法又は半自動化法を用いることもできよう。試薬の自動添加及び除去によって、必要とする試薬の容量を最小にしそして反応条件をより注意深く調節するために、基体を流れセル中に配置することができる。次々に用いるマスクは手動的又は自動的に適用することができる。」（第１７頁左下欄第１９行目〜第２５行目）
　
（引用刊行物２：特開平５−１９６８８０号公報の記載事項）
(2a)「【請求項１】制御可能に回転可能な定められた面積領域を有し、かつ、ベース層と、前記制御可能に回転可能な面積領域を定める分離層と、前記回転可能面積領域を保持するためにおよび前記回転可能面積領域を前記ベース層に関して定められた移動の範囲内で移動することを可能にするために前記ベース層によって保持されかつ前記回転可能面積領域に連結され、および前記回転可能層の平面から分離された平面内に配置されたヒンジと、を有する空間的光変調装置。」
(2b)「【０００２】【従来の技術と問題点】変形可能鏡装置（ＤＭＤ）は光偏向技術の分野において多くの用途がある。動作のさいには、この装置は固定軸のまわりに回転する小さな鏡に類似している。この回転により、光がこの回転の制御の下で偏向する。したがって、ある応用では、画素と呼ばれる個別のＤＭＤが選択的に回転される時、種々の目的に対するパターンを作ることができるように、ＤＭＤのアレイが配置される。
【０００３】このＤＭＤ装置は、典型的な場合には、暗視野投影光学装置に用いられ、および、例えば、高品位テレビジョン装置（ＨＤＴＶ）に用いることができる。ＨＤＴＶへの応用では、要求された鮮明度をうるために、画素の大きなアレイが必要である。これらの大きな画素アレイは、個々のＤＭＤ画素を高密度に配列することを要求し、かつ、明るさを最大にしおよび光散乱を小さくしてコントラストを最大にするために、高い変調効率が要求される。」
　
（引用刊行物３：特開平１０−６２６９９号公報の記載事項）
(3a)「【請求項１】 基板と、前記基板の上面に形成された複数の電極と、前記電極に対して傾斜するように前記電極の上部に設けられた反射ミラーと、一端が前記基板上の前記電極の間に結合され、他端が前記反射ミラーの下面と一体で結合されて前記反射ミラーを支持し、前記反射ミラーが傾斜するように弾力性を有する少なくとも一つのポストとを含むことを特徴とする可動ミラー装置。」
(3b)「【０００２】【従来の技術】一般に、可動ミラー装置は、図１に示したように、ヒンジ３によりポスト２に回動可能に連結された複数の反射ミラー１を有する。前記各反射ミラー１は静電気力により回動され、各反射ミラー１に入射される光を所定角度で反射させる。前記可動ミラー装置は映写テレビの画像表示装置及びスキャナー、複写機、ファクシミリ等の光走査装置に適用される。可動ミラー装置の反射ミラー１は画素の数だけ二次元的に配列され、それぞれの反射ミラー１を各画素に対する画像信号に応じて回動させることにより光を反射させて色と明るさを調節する。」
　
３．対比
　上記引用刊行物１の記載事項（上記(1a)(1b)(1c)(1d)(1g)(1j)）、そして、基体の光への暴露に続いて、基体へモノマーを接触させ、さらに過剰試薬の洗浄を行うこと（上記(1j)）が記載されていることからみて、上記引用刊行物１には、「その上に複数のアミノ酸配列等のポリマーを有する基体の製造のための装置であって、表面を有する基体、光への暴露の際に除去され得る、前記表面上の保護基、前記表面上の選択された場所に光を向けるための手段、前記表面への結合のために該表面にアミノ酸等のモノマーを接触させるための手段、並びに、過剰試薬の洗浄を行うための手段を含んで成る装置」の発明（以下、「引用刊行物１発明」という。）が記載されているところ、本願補正発明と引用刊行物１発明とを比較する。
　なお、本願補正発明の「光照射器によって光の照査を受ける」は、「光照射器によって光の照射を受ける」の、「前記化学物質ライブラリーチップ装置は」は、「前記化学物質ライブラリーチップ製造装置は」の誤記と認められるから、本願補正発明の「照査」は、「照射」と、「化学物質ライブラリーチップ装置」は、「化学物質ライブラリーチップ製造装置」として対比を行う。
　
（ア）本願補正発明の「化学物質ライブラリーチップ」は、本願明細書段落【０００５】の記載からみて、化学物質のライブラリーが、マイクロウエル表面に結合しているチップといえる。
　一方、引用刊行物１発明の「複数のアミノ酸配列等のポリマー」は、化学物質であり、基体上に結合されているから、チップを構成しているといえ、さらに、引用刊行物１（上記(1b)）には、引用刊行物１発明は、化学物質のスクリーニングにおいて使用するための化学的多様性の源を創製するのに適用できることが記載されていることから、引用刊行物発明の「複数のアミノ酸配列等のポリマー」は化学物質のライブラリーとして用いられるものといえる。
　そうすると、引用刊行物１発明の「複数のアミノ酸配列等のポリマーを有する基体の製造のための装置」は、本願補正発明の「化学物質ライブラリーチップ製造装置」に相当するといえる。
（イ）引用刊行物１（上記(1e)）には、「基体」が、異なるポリマーのための合成領域を、ウエルにより物理的に分離するのが望ましいことが記載されていることから、引用刊行物１発明の基体は、複数のマイクロウエルを有しているといえる。
（ウ）引用刊行物１発明の「表面上の選択された場所に光を向けるための手段」と、本願補正発明の「複数個の光スイッチ、及びこれら光スイッチに対するアドレス回路を含む光変調器」は、いずれも、選択された領域に選択的に光を照射する光照射器である点では共通している。
（エ）引用刊行物１発明の「アミノ酸等のモノマー」は、本願補正発明の「一連の化学物質」に包含されるものである。
（オ）引用刊行物１発明の「表面にアミノ酸等のモノマーを接触させるための手段」は、アミノ酸等のモノマーを基体上に注入する装置であるといえ、引用刊行物１発明の「過剰試薬」は、本願補正発明の「注入されて結合していない化学物質」に相当する。
　したがって、両者の間には、以下の一致点及び相違点がある。
　
（一致点）
　複数個のマイクロウェルを含み、光照射器によって光の照射を受ける化学物質ライブラリーチップ製造装置であって、
ａ）選択された領域に選択的に光を照射する光照射器、
ｂ）一連の化学物質を複数個のマイクロウェルに注入する装置、
ｃ）複数個のマイクロウェルにおいて注入されて結合していない化学物質を洗浄する装置を含み、前記化学物質ライブラリーチップ製造装置は、ヌクレオチド、ペプチド、サッカリド及びホスホリピドからなる群より選択される化学物質に適用される化学物質ライブラリーチップ製造装置である点。
　
（相違点１）
　選択された領域に選択的に光を照射する光照射器が、本願補正発明では、「複数個の光スイッチ、及びこれら光スイッチに対するアドレス回路を含む光変調器」であり、「複数個の光スイッチのうちのそれぞれが複数個のマイクロウェルのうちのそれぞれに対応するように配列され」、「複数個の前記マイクロウェルのうちの対応するそれぞれの前記マイクロウェルに光を照射する」ものであるのに対し、引用刊行物１発明では、その構造や作動が規定されていない点。
（相違点２）
　本願補正発明が、「少なくとも時間によって前記マイクロウェルに光を照射する光スイッチのアドレス、及び各マイクロウェルで生成される最終化学物質に関する情報を含み、前記光照射器、前記化学物質注入装置及び前記洗浄装置の作動順序を制御するプログラムを有する制御器を含み」、一連の化学物質を順次に前記複数個のマイクロウェルに注入する装置が「制御器の命令に従って」注入する装置であるのに対し、引用刊行物１には、自動化法を用いることもでき、試薬の自動添加及び除去によって反応条件を調節することができることができることが記載されているものの、引用刊行物１発明は、光照射器、化学物質注入装置及び洗浄装置の作動順序を制御するプログラムを有する制御器を含み、制御器の命令に従って一連の化学物質を順次に複数個のマイクロウェルに注入する装置を設けることは規定していない点。
　
４．判断
（相違点１について）
　引用刊行物１には、選択された領域を照射するためにマスクを使用することが記載され、さらに、これに代わる方法として、例えば、変調されたレーザー又はダイオード光源（米国特許No．４，７１９，６１５）、レーザーガルバノメータースキャンナー、さらに、常用の液晶(「光バルブ」)又は光フアイバー光源が記載され、液晶を適切に調節することにより、光が基体上の選択された領域に接するように光を選択的に制御することができ、あるいは、光が選択的に当てられる一連の光ファイバーの末端で合成を行うことができること、光の暴露の場所を制御するための手段は当業者に明らかであろうことが記載されている（上記(1h)）。
　そして、引用刊行物１にマスクに代わるものとして記載された、常用の液晶(「光バルブ」)は、通常、画像形成装置として用いられるものであるところ、上記引用刊行物２及び３に記載されるように、固定軸のまわりに回転する微小な鏡を画素として配置し、個別の鏡を選択的に回転させ、種々の目的に対するパターンを作ることができるようにして、高品位テレビジョン装置のような画像表示装置として用いることも、本願優先日前の周知技術といえる。
　そうすると、引用刊行物１にマスクに代わるものとして記載された、常用の液晶(「光バルブ」)と同様に、画像形成装置として用いられる引用刊行物２及び３に記載されるような、周知の回転可能な微小な鏡を配置した装置も、マスクに代わるものとして使用できることは、当業者であれば容易に想到し得たものといえる。ここで、上記回転可能な微小な鏡は、本願補正発明でいうところの「光スイッチ」に包含されるものである。
　そして、引用刊行物１（上記(1f)）の記載からみて、引用刊行物１発明において、基体をマイクロウエルで構成した場合、複数の異なるアミノ酸配列等のポリマーを合成する領域は、各アミノ酸配列等のポリマー毎に、複数個のマイクロウェルの各々であり、光を選択的に照射する単位領域は、当然、各々のマイクロウェル単位となるといえるから、光照射器は、選択された領域、つまり複数個のマイクロウェルのうちの選択されたものそれぞれに、選択的に光が照射されるように光照射の場所を制御されるといえる。
　したがって、引用刊行物１発明の選択領域に光を照射する装置として、回転可能な微小な鏡、つまり「光スイッチ」を採用した際に、基体の複数のマイクロウェルのそれぞれに、各光スイッチが対応するように配列し、各々独立的に対応するそれぞれのマイクロウエルに光を照射するようにすることは、当業者が容易になし得たものといえる。
　
（相違点２について）
　引用刊行物１には、光に暴露される基体の場所及び暴露に続き基体に暴露される試薬を制御すること（上記(1g)）、及び試薬の自動添加及び除去やマスクを自動的に適用するといった自動化法を用いることもできことができることが記載されている（上記(1k)）。
　そして、引用刊行物１発明において、多様な化学物質ライブラリーを製造する場合、当然、各マイクロウェルにどのような最終化学物質を生成させるのかを事前に認識して、最終化学物質に対応した順序と種類でモノマー物質を結合させるために、何時、どのマイクロウエルに光を照射して保護基を除去すべきかを認識して製造を行わなければならないし、さらに、モノマーなどの化学物質の注入及び注入されたが結合していないモノマーなどの洗浄も、当然、特定のマイクロウエルへの光照射による保護基の除去に対応して順次行わなければならない工程であるから、自動化する際に、少なくとも時間によって前記マイクロウェルに光を照射する光スイッチのアドレス、及び各マイクロウェルで生成される最終化学物質に関する情報を含み、前記光照射器、前記化学物質注入装置及び前記洗浄装置の作動順序を制御するプログラムを有する制御器、及び制御器の命令に従って一連の化学物質を順次に前記複数個のマイクロウェルに注入する装置を含むように装置設計をすることは、当業者が容易になし得たものといえる。
　
（本願補正発明の効果について）
　引用刊行物１発明において、上記相違点１及び２に係る構成を採用することに伴う効果は、引用刊行物１ないし３の記載から、当業者が予測しうる範囲をでるものでない。
　
５．まとめ
　したがって、本願補正発明は、本願出願前に国内において頒布された上記引用刊行物１に記載された発明、及び引用刊行物２、３に記載された周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により、却下すべきものである。
　
III．本願発明について
１．本願発明
　平成１７年８月９日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし７に係る発明は、平成１６年８月２日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし７に記載されたとおりのものであって、その請求項４の記載は次のとおりである。（以下、「本願発明」という。）
「【請求項４】　複数個のマイクロウェルを含み、光照射器によって光の照射を受ける化学物質ライブラリーチップ製造装置であって、
　ａ）各々独立的に複数個の前記マイクロウェルのうちの対応する一つの前記マイクロウェルに光を照射する複数個の光スイッチ、及びこれら光スイッチに対するアドレス回路を含む光変調器；
　ｂ）制御器の命令に従って一連の化学物質を順次に前記複数個のマイクロウェルに注入する装置；
　ｃ）前記複数個のマイクロウェルにおいて注入されて結合していない化学物質を洗浄する装置；及び
　ｄ）少なくとも時間によって前記マイクロウェルに光を照射する光スイッチのアドレス、及び各マイクロウェルで生成される最終化学物質に関する情報を含み、前記光照射器、前記化学物質注入装置及び前記洗浄装置の作動順序を制御するプログラムを有する制御器を含む化学物質ライブラリーチップ製造装置。」
　なお、「光照射器によって光の
照査
照射
　
２．引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物、及びその記載事項は、前記「II．２．」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、前記「II．」において検討した本願補正発明の「光スイッチ」に関する限定事項である、「複数個の光スイッチのうちのそれぞれが複数個のマイクロウェルのうちのそれぞれに対応するように配列され」という構成、及びのマイクロウエルへの光の照射が、「それぞれ」のマイクロウエルへの照射であるとの構成を省き、さらに、化学物質ライブラリーチップ製造装置に関する限定事項である「前記化学物質ライブラリーチップ製造装置は、ヌクレオチド、ペプチド、サッカリド及びホスホリピドからなる群より選択される化学物質に適用される」という構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が前記「II．３．及び４．」記載したとおり、上記引用刊行物１に記載された発明、及び引用刊行物２、３に記載された周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、上記引用刊行物１に記載された発明、及び引用刊行物２、３に記載された周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、上記引用刊行物１に記載された発明、及び引用刊行物２、３に記載された周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その他の請求項について判断を示すまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。