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【手続補正書】
【提出日】令和1年9月6日(2019.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織マトリックスを有する可撓性シートを備え、前記可撓性シートは前記組織マトリックスを貫通する穴のグループを有し、前記穴は５個の穴の繰返しモチーフからなるパターンに形成されている、組織マトリックス製品。
【請求項２】
前記繰返しモチーフは、矩形形状を有し、前記矩形のそれぞれのコーナ部に穴が位置し、前記矩形の中央に１個の穴が位置する、請求項１に記載の製品。
【請求項３】
前記可撓性シートは、矩形形状を有する、請求項１または２に記載の製品。
【請求項４】
前記モチーフは、少なくとも２つの縦列で繰り返す、請求項１から３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項５】
前記モチーフは、少なくとも３つの縦列で繰り返す、請求項４に記載の製品。
【請求項６】
前記モチーフは、少なくとも２つの横列で繰り返す、請求項４及び５のいずれか１項に記載の製品。
【請求項７】
前記モチーフは、少なくとも３つの横列で繰り返す、請求項４及び５のいずれか１項に記載の製品。
【請求項８】
それぞれの縦列間の距離は、それぞれの横列間の距離よりも大きい、請求項６及び７のいずれか１項に記載の製品。
【請求項９】
それぞれの穴は、約１．５ｍｍ〜２．５ｍｍの間の最大寸法を有する、請求項１から８のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１０】
それぞれの穴は、丸められた縁を有する、請求項１から９のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１１】
それぞれの穴は、円形である、請求項１から１０のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１２】
前記組織マトリックスは、無細胞組織マトリックスを有する、請求項１から１１のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１３】
前記組織マトリックスは、皮膚組織マトリックスを有する、請求項１から１２のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１４】
前記組織マトリックスは、ヒト組織マトリックスである、請求項１から１３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１５】
前記組織マトリックスは、ブタ組織マトリックスである、請求項１から１３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１６】
前記組織マトリックスから、実質的に全ての天然細胞マトリックスが除去されている、請求項１から１５のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１７】
前記穴のグループを有する前記組織マトリックスの可撓性シートは、前記シートに沿う任意の方向で測定した一軸方向引張強度であって、前記穴のグループのないシートの前記一軸方向引張強度の少なくとも６０％である前記一軸方向引張強度を有する、請求項１から１６のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１８】
前記穴のグループを有する前記組織マトリックスの可撓性シートは、前記シートに沿う任意の方向で測定した一軸方向引張強度であって、前記穴のグループのないシートの前記一軸方向引張強度の少なくとも７０％である前記一軸方向引張強度を有する、請求項１から１６のいずれか１項に記載の製品。
【請求項１９】
前記穴のグループを有する前記組織マトリックスの可撓性シートは、前記シートに沿う任意の方向で測定した一軸方向引張強度であって、前記穴のグループのないシートの前記一軸方向引張強度の少なくとも８０％である前記一軸方向引張強度を有する、請求項１から１６のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２０】
前記穴のグループのうちのいずれかの穴の前記縫合糸保持強度は、前記穴のない前記組織マトリックスの領域の前記縫合糸保持強度の少なくとも８０％である、請求項１から１９のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２１】
前記穴のグループのうちのいずれかの穴の前記縫合糸保持強度は、前記穴のない前記組織マトリックスの領域の前記縫合糸保持強度の少なくとも９０％である、請求項１から１９のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２２】
前記穴のグループのうちのいずれかの穴の前記縫合糸保持強度は、前記穴のない前記組織マトリックスの領域の前記縫合糸保持強度の少なくとも９５％である、請求項１から１９のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２３】
前記穴のグループは、前記組織マトリックスを貫通する１０個〜８０個の間の穴を包含し、前記可撓性シートは、１０ｃｍ〜３０ｃｍの間の幅、及び、１０ｃｍ〜３０ｃｍの間の長さを有する矩形形状を含み、前記穴は、約１．５ｍｍ〜２．５ｍｍの間の最大寸法を有する、請求項１に記載の製品。
【請求項２４】
前記可撓性シートは、１４個〜６４個の間の穴のグループを有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２５】
前記可撓性シートは、２０個〜４０個の間の穴のグループを有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２６】
前記可撓性シートは、２０個〜５０個の間の穴のグループを有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２７】
前記可撓性シートは、１０個〜３０個の間の穴のグループを有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２８】
前記可撓性シートは、１４個〜６４個の間の穴のグループを有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項２９】
前記可撓性シートは、１０ｃｍ〜２５ｃｍの間の幅と、１５ｃｍ〜３０ｃｍの間の長さとを有する、請求項１から２８のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３０】
前記可撓性シートは、１５ｃｍ〜２５ｃｍの間の幅と、１５ｃｍ〜３０ｃｍの間の長さとを有する、請求項１から２８のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３１】
前記可撓性シートは、１０ｃｍ〜２０ｃｍの間の幅と、１０ｃｍ〜２０ｃｍの間の長さとを有する、請求項１から２８のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３２】
前記可撓性シートは、２０ｃｍ〜２５ｃｍの間の幅と、２５ｃｍ〜３０ｃｍの間の長さとを有する、請求項１から２８のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３３】
前記穴は、約１．８ｍｍ〜２．５ｍｍの間の最大寸法を有する、請求項１から３２のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３４】
前記穴は、約１．８ｍｍ〜２．２ｍｍの間の最大寸法を有する、請求項１から３３のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３５】
前記穴は、前記組織マトリックスの頂面または底面を斜めに横断して引いた直線が、少なくとも１個であって３個以下の前記穴を通ることができるようなパターンに配置される、請求項１から３４のいずれか１項に記載の製品。
【請求項３６】
前記パターンは、幅と前記幅よりも大きい長さとを有する矩形形状をなす５個の穴のモチーフを備え、前記モチーフは、少なくとも２つの縦列で繰り返し、隣接する縦列は、前記幅と異なる距離で互いに離間し、前記距離は、穴のない領域を画定する、請求項１に記載の製品。
【請求項３７】
前記２つの縦列のうちの第１の縦列における前記５個の穴のモチーフが、前記２つの縦列うちの第２の縦列における前記５個の穴のモチーフと横方向に整列しない、請求項３６に記載の製品。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月15日(2019.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
関連光源から光を受けかつ前記光を患者の口腔内へ伝播する口内光線療法デバイスであって、
外部光源と、
前記外部光源から光を受ける導光装置であり、挿入された時に前記口腔の輪郭に合うようにサイズおよび形状を設定されており、前記光を前記口腔の標的領域へ方向付ける光透過性の可撓性の生体適合性ポリマー材料で作製されている主本体部を含む、導光装置と
を含み、
前記主本体部は、前記光を前記口腔の前記標的領域へ伝達しかつ方向付けるために、前記口腔の両側の患者の歯と頬との間に受容されるようにサイズおよび形状を設定されている一対の横方向に離間された側翼を含み、
前記側翼は、前記光を前記口腔の前記標的領域へ伝達しかつ方向付けるために前記側翼と一体的に成形されている１つまたは複数の中実側部光経路を支持し、
前記側部光経路の各々が、略筒形の形状であり、そこからの制御された光放出のために、それらの長さに沿って選択的に先細にされているか、または、少なくとも２つの分岐を有し、前記光を前記口腔の前記標的部分により均一に分配する、
口内光線療法デバイス。
【請求項２】
前記分岐の少なくともいくつかが、そこからの制御された光放出のために、選択的に先細にされている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記側部光経路の少なくともいくつかが、制御された光放出のために、それらの長さに沿って中断部またはレンズを有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記側翼の内側面上に反射被覆をさらに含み、前記側部光経路の外側面を通して外向きに光を反射する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記側部光経路の少なくともいくつかが分割を利用して、前記光を前記口腔の前記標的領域へより均一に分配する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記側翼は、前記口腔の下顎頬面および上顎頬面に合うように形成されている湾曲を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記主本体部は、前記光を前記口腔の前記標的領域へ伝達しかつ方向付けるために、前記側翼の中間にある中心フラップをさらに含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記中心フラップは１つまたは複数の中実中心光経路を含む、請求項７に記載のデバイス。
【請求項９】
患者の歯茎と唇との間での挿入のために、前記側翼の弓形の接合される後方端部から上方及び下方に突出しており、光線療法治療中の回転に対抗して前記デバイスを安定させるのを助ける、一体的な弓形の可撓性の上部フラップおよび下部フラップをさらに含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
請求項１に記載の前記口内光線療法デバイスの周囲に空隙を維持するスリーブであって、内容積の境界の少なくとも一部を形成し、前記内容積内で前記口内光線療法デバイスの前記主本体部を受容する形状である、スリーブ。
【請求項１１】
前記口内光線療法デバイスの前記スリーブの内面上にかつ／または前記主本体部の外面上に分離要素をさらに含み、前記分離要素は、前記主本体部が前記スリーブの内部に配置された場合に前記スリーブと前記主本体部との間の接触を阻止することにより、前記スリーブと前記主本体部との間に前記空隙を維持するように構成されている、請求項１０に記載のスリーブ。
【請求項１２】
前記主本体部の外面に施されている金属被覆層をさらに含む、請求項１に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月29日(2019.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッテリモジュールと、前記バッテリモジュールが結合されるシステム、特に患者監視システムの別のデバイスとの間のデータ及び電力のワイヤレス交換のためのバッテリモジュールであって、前記バッテリモジュールは、
密閉ハウジングと、
電気エネルギーを格納するためのバッテリユニットと、
データを記憶するためのデータ記憶ユニットと、
コネクタとを備え、
前記コネクタは、
対となる他方のコネクタを有する前記システムの別のデバイスへデータを伝送する及び／又は別のデバイスからデータを受信するためのデータ伝送ユニット、並びに、前記データ伝送ユニットとは別の、誘導結合の使用により前記対となる他方のコネクタを有する前記システムの別のデバイスへ電力を伝送する及び／又は別のデバイスから電力を受信するための磁気結合ユニットを備え、
前記バッテリモジュールは、携帯使用のため、及び前記システムの異なるデバイスと結合するために構成されており、
前記密閉ハウジングは、前記対となる他方のコネクタを有する他のデバイスへの前記バッテリモジュールの積み重ねを可能にする、
バッテリモジュール。
【請求項２】
前記システムの２つの他のデバイスにデータを同時伝送する及び／若しくは２つの他のデバイスからデータを同時受信するため、並びに／又は前記システムの２つの他のデバイスに電力を同時伝送する及び／若しくは２つの他のデバイスから電力を同時受信するための第２のコネクタをさらに備える、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項３】
前記バッテリユニットは、再充電可能なバッテリ又はキャパシタ、特にスーパーキャパシタを備える、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項４】
温度センサ、電圧センサ、及び／又は電流センサを含むセンサユニットをさらに備える、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項５】
受信したデータのデータ処理、時間管理、自己診断、及び安全性のために処理ユニットをさらに備える、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項６】
前記処理ユニットは、測定モジュールに適用されるとき予測される動作時間を計算する、
請求項５に記載のバッテリモジュール。
【請求項７】
前記磁気結合ユニットと別のデバイスの磁気結合ユニットとの間の磁気結合の強度を検出するための検出ユニットと、
検出された前記磁気結合が第１のしきい値を上回る場合及び／又はその増加が第２のしきい値を上回る場合、前記データ伝送ユニットを低電力モードに切り替えるため及び／又は前記磁気結合ユニットを有効にするための、並びに前記検出された磁気結合が第３のしきい値を下回る場合及び／又はその減少が第４のしきい値を上回る場合、前記データ伝送ユニットを高電力モードに切り替えるため及び／又は前記磁気結合ユニットを無効にするための制御ユニットと、
をさらに備える、請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項８】
前記データ伝送ユニットは、ＲＦ伝送、光学伝送、容量結合、又は近接場通信の使用によりデータを伝送するために構成される、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項９】
前記コネクタは、キャリアをさらに備え、
前記データ伝送ユニットが、前記キャリア内又は前記キャリア上に配置されたＲＦアンテナ、並びに前記ＲＦアンテナを駆動する及び／又は前記ＲＦアンテナによって受信されたＲＦ信号を取得するためのＲＦ回路をさらに備える、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項１０】
前記磁気結合ユニットは、磁束を濃縮するための磁束濃縮器、及び前記磁束濃縮器の部分の周りに配置された１つ又は複数のコイルを備える、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【請求項１１】
前記磁気結合ユニットは、
磁束濃縮器の少なくとも部分が、Ｕ字状の脚部の間に凹所を形成するＵ字状の断面を有する、磁束濃縮器と、
前記磁束濃縮器の凹所内に配置された第１のコイルと、
前記第１のコイルが配置される前記凹所の外側に配置された第２のコイルと、を備え、
前記密閉ハウジングが、前記対となる他方のコネクタを有する他のデバイス上にバッテリモジュールを積み重ねることを可能にし、その結果、前記コネクタの前記第１のコイル及び前記コネクタ上に積み重ねられたコネクタの前記第２のコイルが、それらの間の誘導電力伝送のための第１の変圧器を一緒に形成し、並びに／又は前記コネクタの前記第２のコイル及び前記コネクタ上に積み重ねられた第３のコネクタの第１のコイルが、それらの間の誘導電力伝送のための第２の変圧器を一緒に形成する、
請求項１に記載のバッテリモジュール。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月18日(2019.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造をサポートするための基礎であって、
ａ．少なくとも２本の材木ポールの第１層を備え、前記第１層の各ポールは互いに平行で離間しており、
ｂ．少なくとも２本の材木ポールの第２層を備え、前記第２層の各ポールは互いに平行で離間しており、各々が前記第１層の材木ポール上に当該第１層の少なくとも２本のポールを横切って渡る角度で敷設され、かつ、各々が、前記ポールの少なくとも一つの交差箇所で前記第１層の前記２本のポールの各々に固定されており、
少なくとも一つの交差箇所で前記第１層のポールは止まり穴およびスルーホールの一つから選択される穴を含み、また、並置された第２層のポールは第１層のポールの前記穴と軸方向に整列されたスルーホールを含み、貫通式締着具が前記第１層のポールの前記穴および前記第２層のポールの前記穴に設置され、かつ、当該貫通式締着具は、当該貫通式締着具を横方向に通過して第１層のポールの中を少なくとも部分的に通過する第１のピンにより前記第１層のポールにピン留めされ、第２のピンが、前記貫通式締着具、並びに前記第２層のポールおよび当該第２層のポールの上に設置されて支えとなるジャックスタッドから選ばれた一つ以上を横方向に通過し、
前記締着具は、前記第１層のポールを前記第２層のポールの夫々に押圧し、又は押圧を維持するためのテンションを発している基礎。
【請求項２】
前記貫通式締着具は、前記交差箇所の前記ポールが接触する箇所で露出しない請求項１に記載の基礎。
【請求項３】
前記貫通式締着具は、まっすぐな剛性のあるチューブまたはロッドを備える請求項１または２に記載の基礎。
【請求項４】
前記貫通式締着具は、前記第１層のポールの外面に対して位置を決めるために前記貫通式締着具の一端にヘッドを有し、また前記第１層のポールおよび第２層のポールを通過する軸部を有し、前記貫通式締着具は、前記ヘッドが配置されるその一端の反対側に、前記第２層のポールの外面に設置されるべきナットを受けるように構成されているねじ切りされた端部をも有する請求項１乃至３の何れか１項に記載の基礎。
【請求項５】
前記貫通式締着具は、前記第１層のポールの外面に対して位置を決めるために前記貫通式締着具の一端にヘッドを有し、また前記第１層のポールおよび第２層のポール並びに垂直ジャックスタッドを通過する軸部を有し、前記貫通式締着具は、前記ヘッドが配置されるその一端の反対側に、前記ジャックスタッドの外面に設置されるべきナットを受けるように構成されているねじ切りされた端部をも有する請求項１乃至４の何れか１項に記載の基礎。
【請求項６】
垂直な前記ジャックスタッドは、前記交差箇所において前記第２層のポールの上に配置され、かつ前記第２層によって支えられる請求項１乃至５の何れか１項に記載の基礎。
【請求項７】
前記貫通式締着具は前記ジャックスタッドを貫通する請求項６に記載の基礎。
【請求項８】
前記ジャックスタッドは、自身の底面から当該ジャックスタッドの中に伸張している止まり穴を有し、その中に前記貫通式締着具が伸張している請求項６または７に記載の基礎。
【請求項９】
前記ジャックスタッドは、その上に支持されるべき構造の、またはその構造のための、材木ジョイスト、金属ジョイスト、フローリング、受台および枠空けの一つを支持することができる請求項６乃至８の何れか１項に記載の基礎。
【請求項１０】
前記貫通式締着具が位置する各交差箇所で、当該貫通式締着具は、当該貫通式締着具を横方向に通過して第２層のポールの中を少なくとも部分的に通過する第２のピンにより前記第２層のポールにピン留めされている請求項１乃至５の何れか１項に記載の基礎。
【請求項１１】
前記貫通式締着具が位置する各交差箇所で、当該貫通式締着具は、当該貫通式締着具を横方向に通過してジャックスタッドの中を少なくとも部分的に通過するジャックピンにより前記ジャックスタッドにピン留めされている請求項５乃至９の何れか１項に記載の基礎。
【請求項１２】
前記ポールは１００ｍｍの最小直径を有する請求項１乃至１１の何れか１項に記載の基礎。
【請求項１３】
ａ．実質的に平面な基礎を有するピットを形成するために土壌を取り除くことにより地面サイトを準備する工程と、
ｂ．前記ピットの中にポールの第１層を定めるために前記平面な基礎の上に複数のポールを配置し、かつ、前記第１層のポールの上にポールの第２層を定めるために前記第１層のポールに複数のポールを固定し、交差箇所において前記ポールの第２層は前記ポールの第１層にオーバーラップし、少なくとも一つの交差箇所で前記第１層のポールは止まり穴およびスルーホールの一つから選択される穴を含み、また、並置された第２層のポールは第１層のポールの前記穴と軸方向に整列されたスルーホールを含み、貫通式締着具が前記第１層のポールの前記穴および前記第２層のポールの前記穴に設置される工程と、
ｃ．第１のピンを横方向に通して、前記貫通式締着具を通過させ、かつ少なくとも部分的に前記前記第１層のポールを通過させる工程と、
ｄ．第２のピンを横方向に通して前記締着具を通過させ、前記締着具の使用は前記第１層のポールが前記第２層のポールの夫々に圧縮され、または圧縮された状態に維持するための張力においてである工程と、
を備える基礎建設方法。
【請求項１４】
間隔を開けて（好ましくは平行に）配置されたポールの上方層を備え、前記上方層は、当該上方層のポールに対して横に伸び、間隔を開けて（好ましくは平行に）配置されたポールの下方層の上に支持され、そこにおいて、双方の層は、建築物の設置跡の実質部分の下で伸びるように構成され、かつ、下方層のポールと上方層のポールの間の交差箇所の少なくとも幾つかにおいて前記下方層のポールは締着具によって上方層のポールに固定され、各交差箇所は前記ポールによって互いにしっかりと係合され、前記締着具は前記層を一緒に圧縮しまたは圧縮し続けると共に前記層の平面と平行な方向の力に抵抗し、第１のピンは前記締着具を第１層のポールにピン留めするために構成され、第２のピンは前記締着具を第２層のポールの一つにピン留めするために構成される、材木ポール格子基礎。
【請求項１５】
地面条件の変化により悪影響を受けていた地面の上に支持される建築物を安定させる方法であって、前記建築物のために請求項１または１４に記載の基礎を組み立てる工程と、前記基礎を前記建築物の垂直支持とならしめる工程と、を備える方法。
【請求項１６】
傾斜した地面の上に位置する建築物のための基礎構造であって、
ａ．前記傾斜した地面の第１レベルに確立される第１台地における請求項１に記載の第１基礎と、
ｂ．前記第１レベルを越える前記傾斜した地面の第２レベルに確立される第２台地における請求項１に記載の第２基礎と、
ｃ．前記第１レベルから上向きに伸びている複数のポール（以下、「保持ポール」と称す）と、を備え、
前記保持ポールは、当該保持ポールの下方端で、各々が前記第１基礎の前記第１層のポール（ａ）および前記第１基礎の前記第２層のポール（ｂ）の一つに固定され、かつ、当該保持ポールの上方端で、前記第２基礎の前記第１層のポール（ａ）および前記第２基礎の前記第２層のポール（ｂ）の一つに固定される、基礎構造。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月1日(2019.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
過給機駆動装置動作モードの選択は、太陽歯車アセンブリ８３およびリング歯車１０７を係合するクラッチアセンブリによって可能になる。好ましくは、クラッチアセンブリは、固定シャフト上で遊星歯車機構と同軸上に取り付けられた、液圧作動式マルチプレートクラッチアセンブリである。これに関して、図２および図３を参照すると、環状ピストン支持ディスク１５０が、スプライン部７６の後方で、太陽歯車アセンブリ８３の内側環状壁の底部の滑らかな壁部分に嵌合されている。環状ピストンディスク１５２は、支持ディスク１５０内に形成された環状トラフ１５３に摺動可能に受け入れられている。一組の環状クラッチプレート１５５が、ピストンディスク１５２とリテーナフランジ９９の後面との間で、クラッチディスクハウジングのスプライン状の内壁部分７６内に保持される。クラッチプレート１５５は、第２のクラッチプレート１５７と交互に配置された第１のクラッチプレート１５６を含む。第１のクラッチプレート１５６は、クラッチハウジングのスプライン状の内壁部分７６と係合するスプラインを外縁に有する。第２のクラッチプレート１５７は、クラッチ保持アセンブリ９５のハブ９７の外壁に形成されたスプラインと係合するスプラインをその内縁に有する。ピストンディスク１５２と、リテーナハブ９７の内部に形成された環状トラフとの間には、圧縮伸縮ばね１５９が保持されている。クラッチアセンブリは、ピストン支持ディスク１５０とピストンディスク１５２との間の空間に加圧液圧流体（好ましくは潤滑油）を供給することによって作動する。例えば、加圧流体は、固定シャフト６５内の穿孔１６２および１６４、ならびに太陽歯車アセンブリ８３およびピストン支持ディスク１５０を通る適切な穿孔１７０および１７２を通って輸送されてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2018526563.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2018526563.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月9日(2019.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波状構造のファンブレードを少なくとも２つ備えていることを特徴とするファンのファンホイール。
【請求項２】
前記ファンブレードの表面が、波形がブレード前縁及びブレード後縁を指している場合に、スパンにわたって延在するランダムな平面視断面形状で見て波状ではない、または、殆ど波状ではないことを特徴とする請求項１に記載のファンホイール。
【請求項３】
前記ファンブレードの表面から少なくとも１つの平面視断面形状で見た波形が、前記スパンにわたって延在していることを特徴とする請求項１に記載のファンホイール。
【請求項４】
前記波形が、湾曲形状で延在し、
波形が、３ｍｍ〜５０ｍｍの範囲及び／又は最大ファンホイール径の０．５〜５％の範囲の振幅に相当する長さを有しているとともに、０．３°〜３°の範囲の振幅に相当する角度を有していることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のファンホイール。
【請求項５】
カバーリングが設けられず、前記ファンブレードの最外側領域（自由端）が、逆湾曲刃状の姿勢、場合によっては、Ｖ姿勢で終端していることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のファンホイール。
【請求項６】
前記ファンブレードの内側領域及び／又は外側領域（ハブリングまたはカバーリングにそれぞれ固定される端部）が、前記ハブリングと７５°〜１０５°の角度をなすことにより、非波状基準ブレードとなす対応角度が、よりかなり小さな鋭角、または、よりかなり大きな鈍角となる、すなわち、上記範囲に収まらないことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のファンホイール。
【請求項７】
前記ファンブレードが、薄板材料（金属またはプラスチック）により製造されていることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のファンホイール。
【請求項８】
前記ファンホイール全体が、鋳込み成形法（金属鋳込み成形または樹脂鋳込み成形）を用いて製造されていることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のファンホイール。
【請求項９】
前記ファンホイールが、放射状／斜流／軸流ファンホイールとして、または、入口ガイドベーンもしくは出口ガイドベーンとして、設計されていることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載のファンホイール。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の少なくとも１つのファンホイールを備えているファン。
【請求項１１】
先行技術による少なくとも１つの更に別のそれ自体が、公知のファンホイールを備えている請求項１０に記載のファン。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１に記載の少なくとも１つのファンを備えているシステムであって、
（高精度）温度調節装置、小型／温度調節箱、電子冷却モジュール、発電機換気設備、産業用冷房装置または住宅用冷房装置、ヒートポンプなどを含んでいるシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月7日(2019.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気熱量材料のファイバによって形成された磁気熱量格子素子であって、
前記ファイバは、互いに平行な格子面に配列され、各ファイバは、磁気熱量材料のそれぞれの質量を有し、
任意の所定の格子面の前記ファイバは互いに接触しないが、前記所定の格子面の前記ファイバは、それぞれ、次に隣接する格子面の少なくとも２つのそれぞれの他のファイバに接触し、
前記磁気熱量格子素子は、長手ファイバ伸長の１つの主要質量加重方向を正確に示すことを特徴とする磁気熱量格子素子。
【請求項２】
各ファイバは、長手方向のファイバセグメントに区切られ、各ファイバセグメントが、セグメント質量と、それぞれの長手方向のセグメント方向に沿った長手セグメント伸長とを有するとみなされる場合、長手ファイバ伸長の前記主要質量加重方向は、長手ファイバ伸長の主要方向への、全てのファイバセグメントの前記それぞれの長手セグメント伸長の、全てのスカラー投影の加重和が、これに対応する、長手セグメント伸長の他の任意の方向への、全てのファイバセグメントの前記それぞれの長手セグメント伸長の、全てのスカラー投影の加重和よりも大きいという条件によって定義され、各ファイバセグメントは、そのそれぞれのセグメント質量に比例する前記加重和で加重される、請求項１に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項３】
全てのファイバは、第１又は第２のファイバセットに属し、前記第１のファイバセットの前記ファイバは、ファイバ伸長の共通の第１の長手方向に沿って全て延びており、前記第２のファイバセットの前記ファイバは、前記第１の長手方向とは異なるファイバ伸長の共通の第２の長手方向に沿って全て延びている、請求項１又は２に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項４】
前記第１の長手方向と前記第２の長手方向との間の格子角度は、５°から８５°の間の鋭角である、請求項３に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項５】
前記第１のファイバセットは、磁気熱量材料の質量が前記第２のファイバセットよりも少ないものを含む、請求項３又は４に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項６】
前記第１のファイバセット内のファイバの数は、前記第２のファイバセット内のファイバの数よりも少ない、請求項５に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項７】
前記それぞれのファイバセグメントの前記長手方向の伸長と平行な表面ベクトルを有する断面表面領域を考慮して、前記第１のファイバセットは、前記第２のファイバセットの少なくとも２倍小さい、請求項５又は６に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項８】
長手方向のファイバ伸長と垂直な方向の前記ファイバの伸長が、５０μｍから８００μｍの間である、請求項１から７の何れか１項に記載の磁気熱量格子素子。
【請求項９】
磁気熱量熱交換器であって、
熱交換器ハウジングと、
前記熱交換器ハウジング内にある、請求項１から８の少なくとも１つに記載の磁気熱量格子素子と、
前記磁気熱量格子素子を通る流体の流れを案内するように構成された流体チャネルシステムとを備えることを特徴とする磁気熱量熱交換器。
【請求項１０】
磁気熱量ヒートポンプであって、
請求項１から８の少なくとも１つに記載の磁気熱量格子素子、又は請求項９に記載の磁気熱量熱交換器を備え、
前記磁気熱量格子素子に外部磁場を印加するための磁石アセンブリをさらに備え、
前記磁気熱量格子素子及び前記磁石アセンブリは、前記磁気熱量格子素子に前記外部磁場を、長手ファイバ伸長の前記主要質量加重方向と平行な磁界方向で印加するように相互配置するように構成されることを特徴とする磁気熱量ヒートポンプ。
【請求項１１】
請求項４に記載の磁気熱量格子素子を備え、全てのファイバは、それぞれ同じ磁気熱量材料の質量を有し、前記磁気熱量格子素子及び前記磁石アセンブリは、前記磁気熱量格子素子に前記外部磁界を、第１の長手方向と第２の長手方向との間の鋭角の格子角度の二等分線に沿って向いた磁界方向で印加するように相互に配置される、請求項１０に記載の磁気熱量ヒートポンプ。
【請求項１２】
請求項５に記載の磁気熱量格子素子を備え、前記第１の長手方向は前記第２の長手方向と垂直であり、前記磁気熱量格子素子及び前記磁石アセンブリは、前記磁気熱量格子素子に前記外部磁界を、前記長手方向のファイバ伸長の前記主要質量加重方向を形成する、第２の長手方向に沿って向いた磁界方向で印加するように配置するように構成される、請求項１０に記載の磁気熱量ヒートポンプ。
【請求項１３】
請求項１から８の何れか１つに記載の磁気熱量格子素子を備えること、を特徴とする冷却装置。
【請求項１４】
請求項１から８の何れか１つに記載の磁気熱量格子素子を備えること、を特徴とする磁気熱量発電機。
【請求項１５】
磁気熱量ヒートポンプを動作させるための方法であって、
請求項１から８の少なくとも１つに記載の磁気熱量格子素子を提供する工程と、
磁石アセンブリを供給し、前記磁気熱量格子素子に外部磁場を印加する工程と、
前記磁気熱量格子素子及び前記磁石アセンブリを配置して、前記磁気熱量格子素子に前記外部磁場を、長手方向のファイバ伸長の前記主要質量加重方向と平行な磁場方向で印加する工程とを備えることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月27日(2019.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボリュート壁と、
圧送される流体を受容するポンプ吸込口と、
圧送される流体を提供するポンプ吐出口と、
前記ボリュート壁上に構成されて、該ボリュートにおける二重ボリュートを形成するケーシングベーンであって、該ケーシングベーンは、前記ポンプ吐出口から最遠の上側巻き始め部であって、上側巻き始め部喉部面積と、該上側巻き始め部のための通路の端部とを画成する上側巻き始め部を備えて構成され、また、前記ポンプ吐出口に最も近い下側巻き始め部であって、下側巻き始め部喉部と、該下側巻き始め部のための通路の対応する端部とを画成する下側巻き始め部も備えて構成され、前記上側巻き始め部及び前記下側巻き始め部は、実質的に１８０°未満の角度αで半径方向が変位させられる、ケーシングベーンと、
を備えて成る、ポンプ用のボリュートであって、
前記上側巻き始め部喉部面積は、該上側巻き始め部喉部面積及び前記下側巻き始め部喉部面積が、圧送される流体の角度的掃引距離に応じて、前記上側巻き始め部及び前記下側巻き始め部の両方において実質的に等しい流速を提供する様に、前記下側巻き始め部喉部面積より大きく且つ不等に寸法決定され、且つ、
前記上側巻き始め部のための通路の端部は、前記ポンプ吐出口における前記上側及び下側の巻き始め部の通路面積が、その中で圧送される流体の異なる流量の関数としてバランスされる様に、且つ、前記上側及び下側の巻き始め部通路面積に結び付けられた端部から圧送される流体が、実質的に等しい速度を以て前記ポンプ吐出口において合流する様に、前記下側巻き始め部のための通路の対応する端部の対応する下側巻き始め部通路面積より大きく且つ不等の上側巻き始め部通路面積を以て寸法決定される、
ボリュート。
【請求項２】
前記角度αは１００°と１２０°との間の範囲内にある、請求項１に記載のボリュート。
【請求項３】
ボリュート壁と、
圧送される流体を受容するポンプ吸込口と、
圧送される流体を提供するポンプ吐出口と、
前記ボリュート壁上に構成されて、該ボリュートにおける二重ボリュートを形成するケーシングベーンであって、該ケーシングベーンは、前記ポンプ吐出口から最遠の上側巻き始め部であって、上側巻き始め部喉部面積と、該上側巻き始め部のための通路の端部とを画成する上側巻き始め部を備えて構成され、また、前記ポンプ吐出口に最も近い下側巻き始め部であって、下側巻き始め部喉部と、該下側巻き始め部のための通路の対応する端部とを画成する下側巻き始め部も備えて構成される、ケーシングベーンと、
を備えて成る、ポンプ用のボリュートであって、
前記上側巻き始め部喉部面積は、該上側巻き始め部喉部面積及び前記下側巻き始め部喉部面積が、圧送される流体の角度的掃引距離に応じて、前記上側巻き始め部及び前記下側巻き始め部の両方において実質的に等しい流速を提供する様に、前記下側巻き始め部喉部面積より大きく且つ不等に寸法決定され、且つ、
前記上側巻き始め部のための通路の端部は、前記ポンプ吐出口における前記上側及び下側の巻き始め部の通路面積が、その中で圧送される流体の異なる流量の関数としてバランスされる様に、且つ、前記上側及び下側の巻き始め部通路面積に結び付けられた端部から圧送される流体が、実質的に等しい速度を以て前記ポンプ吐出口において合流する様に、前記下側巻き始め部のための通路の対応する端部の対応する下側巻き始め部通路面積より大きく且つ不等の上側巻き始め部通路面積を以て寸法決定され、
前記上側巻き始め部及び前記下側巻き始め部は、約１０８°と約１１０°との間の範囲内の角度αで半径方向が変位させられる、ボリュート。
【請求項４】
該ボリュートは、インペラベーンを備えたインペラであって、該ボリュート又はケーシング内において前記二重ボリュートの一方内に配置されるインペラを有する二重渦巻ポンプの一部分を形成する、請求項１に記載のボリュート。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月28日(2019.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのタイプのナノ構造体（３０、３５、３７）を製造する方法であって、
−  単結晶層または多層構造体（３）の表面を不連続のマスク（４）で部分的に覆って、少なくとも１つのサブマイクロメートルの横寸法を有し、かつ前記層または多層構造体の蒸発温度より高い蒸発温度を有する材料から作製された、分離した微小島を形成するステップと、
−  真空下で前記層または多層構造体を、前記層または多層構造体の前記蒸発温度より高いが前記マスクの蒸発温度より低い、いわゆるエッチング温度まで加熱して、前記マスクによって覆われている領域の外側の前記層または多層構造体の蒸発をもたらすステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記単結晶層または多層構造体が結晶構造を有し、その蒸発の速度が、前記表面に対して平行な結晶面に沿った方が、前記表面に対して傾斜したまたは垂直な結晶面に沿うより高い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
単結晶層または多層構造体の表面を不連続のマスクで部分的に覆う前記ステップが、前記表面上の前記マスクの自己組織化成長によって実施される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記単結晶層または多層構造体のエピタキシャル成長の予備ステップをまた含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
少なくとも、前記単結晶層または多層構造体のエピタキシャル成長の前記ステップ、および前記表面上の自己組織化成長による前記マスクの堆積の前記ステップが、まったく同一のエピタキシ反応器内部で実施される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
真空下で前記層または多層構造体を加熱する前記ステップもまた、前記エピタキシ反応器内部で実施される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記単結晶層または多層構造体のエピタキシャル成長の前記ステップ、および前記表面上の自己組織化成長による前記マスクの堆積の前記ステップが、分子線エピタキシおよび気相エピタキシから選択される技法によって実施される、請求項４〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記単結晶層または多層構造体が、前記エッチング温度より高い蒸発温度を有する、バリア層（２）と呼ばれる層の上部に堆積する、請求項４〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
真空下で前記層または多層構造体を加熱する前記ステップが、前記層または多層構造体の結晶面に対応する面を有し、かつ頂部に前記マスクの前記微小島を有する、ピラミッド（３５）の形態での構造体が形成されると、停止する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
真空下で前記層または多層構造体を加熱する前記ステップが、頂部に前記マスクの前記微小島を有するピラー（３０）の形態の構造体が形成されるまで、継続される、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記層または多層構造体が、少なくとも１つの量子井戸を備える多層構造体である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
真空下で加熱する前記ステップの後に実施される、新たな単結晶層または多層構造体（３００）のエピタキシャル成長のステップをまた含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
新たな単結晶層または多層構造体（３００）のエピタキシャル成長の前記ステップの後に、前記新たな単結晶層または多層構造体の表面を新たな不連続のマスクで部分的に覆って、少なくとも１つのサブマイクロメートルの横寸法を有し、かつ前記新たな層または多層構造体の蒸発温度より高い蒸発温度を有する材料から作製された、分離した微小島を形成するステップと、真空下で前記新たな層または多層構造体を、その蒸発温度より高いが前記マスクの蒸発温度より低いエッチング温度まで加熱して、前記マスクによって覆われている領域の外側で前記新たな層または多層構造体の蒸発をもたらすステップとをまた含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記マスクの上部における新たな単結晶層または多層構造体（３００）のエピタキシャル成長のステップと、その後の、前記新たな単結晶層または多層構造体の表面を新たな不連続のマスクによって部分的に覆って、少なくとも１つのサブマイクロメートルの横寸法を有し、かつ前記単結晶層または多層構造体の蒸発温度より高い蒸発温度を有する材料から作製された、分離した微小島を形成するステップとをまた含み、これらのステップの後に、前記層または多層構造体の前記蒸発温度より高いが前記マスクの蒸発温度より低いエッチング温度で実施される、真空下で加熱する前記ステップが続く、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
基板（１、２）の表面から前記基板に対して概して垂直な方向に延在する複数のナノワイヤ（３０）を備え、複数の前記ナノワイヤが第１長さを有し、別の複数の前記ナノワイヤが、前記第１長さとは異なる第２長さを有する、構造体。
【請求項１６】
平面基板の上に堆積した単結晶マトリックス（３００）に少なくとも１つの量子ドット（３７）群を備え、前記群または各前記群の前記量子ドットが、前記基板に対して概して垂直な方向に位置合わせされている、構造体。
【請求項１７】
各前記群の前記量子ドット（３７）が、前記基板からの距離に応じて低減する横寸法を有する、請求項１６に記載の構造体。
【請求項１８】
まったく同一のエピタキシャルマトリックス（３００）内に含まれる複数のナノワイヤ（３０）を備え、前記ナノワイヤが、前記マトリックスのエピタキシャル成長の方向に対して平行に配向されている、構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本明細書で開示される表示アセンブリ、及びそれを貼り付ける方法は、記載及び例示の実施態様に関して提示されているが、本開示は、それらの代替物、及び記載の実施態様に限定されるものではないことを理解すべきである。
本件出願は、以下の構成の発明を提供する。
（構成１）
加硫ゴム物品に取り付けるための表示アセンブリであって、
表示印を提供するように構成されたエラストマー材料の1以上の表示層と；
該1以上の表示層のものとは異なるエラストマー材料から形成された中間層と；
接着層と、
を含み、
該中間層は、該接着層と該1以上の表示層との間に介在され、該接着層は、加硫ゴム物品の表面と化学的に結合することが可能な材料から形成される
前記表示アセンブリ。
（構成２）
第1表示層と、該第1表示層の下に配置された第2表示層とを含む、構成1に記載の表示アセンブリ。
（構成３）
前記第1表示層が、前記第2表示層とは異なった色を有する、構成2に記載の表示アセンブリ。
（構成４）
前記1以上の表示層と前記中間層との間に介在された中間接着層をさらに含む、構成1に記載の表示アセンブリ。
（構成５）
前記第2表示層と前記中間層との間に介在された中間接着層をさらに含む、構成2に記載の表示アセンブリ。
（構成６）
前記1以上の表示層上に配置され、前記表示アセンブリの最表面を形成する保護層をさらに含み、
該保護層が、光透過性材料から形成される、構成1に記載の表示アセンブリ。
（構成７）
その中に配置された空洞をさらに含む、構成1に記載の表示アセンブリ。
（構成８）
前記空洞内に配置された要素をさらに含む、構成7に記載の表示アセンブリ。
（構成９）
前記空洞が、前記1以上の表示層の下に配置される、構成5に記載の表示アセンブリ。
（構成１０）
前記第1表示層が、1以上の貫通開口部を含み、前記第2表示層が、前記1以上の開口部を通して見ることができる、構成2に記載の表示アセンブリ。
（構成１１）
表示アセンブリを加硫ゴム物品の表面に取り付けるための方法であって、
加硫ゴム物品の表面をクリーニングすることで該表面の準備をする工程と；
接着材料を塗布して、接着層を形成する工程と；
該表面と接触するように表示アセンブリを配置し、該表示アセンブリと該表面との間に該接着層を介在させ、該表示アセンブリと該表面との間に結合を形成する工程と
を含み、
該表示アセンブリは、
表示印を提供するように構築されたエラストマー材料の1以上の表示層と；
該1以上の表示層のものとは異なるエラストマー材料から形成された中間層と；
を含み、
該中間層は、該接着層と該1以上の表示層との間に介在され、該接着層は、該表示アセンブリを該加硫ゴム物品の表面に化学的に結合させることが可能な材料から形成される
前記方法。
（構成１２）
前記配置工程の前に前記表面を粗くするように前記表面を処理することをさらに含む、構成11に記載の方法。
（構成１３）
前記接着材料を塗布する前記工程の前に、テンプレートを前記表面に付けることをさらに含み、該テンプレートが、切抜き部分を有し、前記塗布工程中に、該切抜き部分から露出した前記表面に前記接着材料を塗布する、構成12に記載の方法。
（構成１４）
前記配置工程後に圧力を前記表示アセンブリに加えることをさらに含む、構成11に記載の方法。
（構成１５）
前記塗布工程後に前記接着材料を加熱する工程をさらに含む、構成11に記載の方法。
（構成１６）
前記表示アセンブリが、前記1以上の表示層上に配置された転写キャリアを含み、前記配置工程後、該転写キャリアを前記表示アセンブリから除去する、構成11に記載の方法。
（構成１７）
前記配置工程後、さらなる表示層を前記1以上の表示アセンブリ表示層上に配置し、該さらなる表示層と前記表示アセンブリとの間に接着層を介在させる、構成11に記載の方法。
（構成１８）
前記加硫ゴム物品が、タイヤであり、前記表面が、該タイヤの側壁表面である、構成11に記載の方法。
（構成１９）
加硫ゴムタイヤであって：
該ゴムタイヤの一部に沿って配置された標的表面と；
該標的表面上に配置され、
エラストマー材料の表示層と；
該1以上の表示層のものとは異なるエラストマー材料から形成された中間層と；
該表示アセンブリを該標的表面に結合させる、該標的表面と該中間層との間に介在される接着層と
を含む表示アセンブリと
を含む、加硫ゴムタイヤ。
（構成２０）
前記表示層が、2つの表示層を含み、該2つの表示層が、所望の表示印を提供するように前記アセンブリ内に構成される、構成19に記載のゴムタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月8日(2019.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空体（１０、．．．、９０）の内部を占める密閉空間を取り囲む、一次プラスチックベース材料（１）製の固い壁（１８、．．．、９８）を備えた中空体であって、ポリマーからなる二次材料（２）が提供される中空体であり、該二次ポリマー（２）が、芳香族または任意には脂肪族構造を有する環状化合物として、環状ジイソシアネートである第１成分（Ａ）、および少なくとも１つの付加成分（Ｂ）から形成され、該二次プラスチック材料（２）が中空体（１０、．．．、９０）にバリア（１２、．．．、９２）を形成し、該二次プラスチック材料がポリウレタンにより形成されることを特徴とする中空体。
【請求項２】
前記二次プラスチック材料が、芳香族ブロックがベースとしてＭＸＤＩ（１，３−ジメチルキシリレンジイソシアネート）により形成される芳香環構造を有し、バリア要素として組み込まれている請求項１記載の中空体。
【請求項３】
芳香環構造を有する前記環状化合物がＭＤＩ（メチレンジフェニルジイソシアネート）により形成される請求項１記載の中空体。
【請求項４】
前記環状化合物が、Ｃn環、特にＣ6環を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項５】
前記二次プラスチック材料が非反応性ポリマーにより形成される請求項２または３記載の中空体。
【請求項６】
前記ポリウレタンが、前記芳香族または任意の脂肪族ジイソシアネートと、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオールおよび／またはジエチレングリコールから選択可能であるジオールとの反応から形成される請求項１記載の中空体。
【請求項７】
前記ポリウレタンが、前記芳香族または任意の脂肪族ジイソシアネートと、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，９−ノナンジオールおよび／または１，１０−デカンジオールから選択可能であるジオールとの反応から形成される請求項１記載の中空体。
【請求項８】
前記二次プラスチック材料が、脂肪族ブロックがＣＨＤＩ（水素化キシリレンジイソシアネート）により形成される脂肪族環構造を有し、バリア要素として組み込まれている請求項１記載の中空体。
【請求項９】
前記一次プラスチックベース材料がポリエステル類から選択され、特に前記一次プラスチックベース材料がＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）から選択される請求項１〜８のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項１０】
前記一次プラスチックベース材料がポリオレフィン類から選択され、特に前記一次プラスチックベース材料が、それぞれポリエチレンまたはポリプロピレンの中から選択される請求項１〜８のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項１１】
添加剤が、前記二次プラスチック材料に、および／または任意には、一次ベース材料に添加され、特に接着機能を有する接着促進剤が前記二次バリア材料に添加され、材料の接着が促進される請求項１〜１０のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項１２】
容器をブロー成形するためのプリフォームからなり、ネック部（１５、２５、３５）、底部（１７、２７、３７）、ネック部と底部の間にその軸（ｌ）に沿って延びる壁部（１６、２６、３６）を含み、特にプラスチック容器（４０、５０、６０）を製造するための二軸延伸プラスチック材料から構成される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項１３】
多層構造、特に、一次プラスチック材料製であり、バリア層（２２）、特に不活性バリアが含まれるベース層（２１）からなる三層構造であって、バリア層が不要成分を遮断する二次プラスチック材料製である三層構造を有する請求項１〜１２のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項１４】
前記プリフォーム（１０、２０、３０）が射出成形品からなる請求項１２または１３のいずれか１項に記載の中空体。
【請求項１５】
オーバーモールドプリフォーム（１０）からなり、可能には、２つの異なる材料を含み、可能には、内側および外側プリフォーム（１１、１２）を有する請求項１２または１４記載の中空体。
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれか１項に記載のプリフォームから得られるような容器。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の中空体、特に請求項１２〜１６のいずれか１項に記載のプリフォームまたは容器の製造方法であって、種々のモノマーによりバリアポリマーを生成するための反応が、モノマーを無水溶媒中に一緒に入れて二次プラスチック材料の形成が行われる工程で進められる製造方法。
【請求項１８】
重合反応が、ポリマーが２０ｋＤ超、特に＞５０ｋＤのモル質量となるまで実施され、反応後、ポリマーが沈殿し、そしてさらに精製される請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
中空体、特に請求項１２〜１６記載のプリフォームまたは容器のそれぞれを製造するための請求項１７または１８記載の方法であって、
ａ）二次プラスチックが共射出により、オーバーモールドにより、または混合により、プリフォーム（２０）、（１０）または（３０）に導入され、それにより液体または上記のような望ましくない成分に対するプラスチックバリア（２２）、（１２）または（３２）を生成し、プリフォーム（２０）、（１０）または（３０）、または容器（５０）、（４０）または（６０）をそれぞれ形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月9日(2019.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に流体を塗布するノズルアセンブリであって、
ともに固定される複数のプレートと、
第１の流体を受け入れるように構成される第１の入口を有する第１の流体導管と、
前記第１の流体導管の下流に配置されるとともに該第１の流体導管と流体連通する第１の吐出オリフィスであって、大気に通じていて、前記第１の流体を概ね第１の方向に吐出するように構成される、第１の吐出オリフィスと、
第２の流体を受け入れるように構成される第２の入口を有する第２の流体導管と、
前記第２の流体導管の下流に配置されるとともに該第２の流体導管と流体連通する第２の吐出オリフィスであって、大気に通じていて、前記第２の流体を、前記第１の方向と交差する概ね第２の方向に吐出するように構成される、第２の吐出オリフィスと、
前記第２の導管の下流に配置されるとともに該第２の導管と流体連通する第３の吐出オリフィスであって、大気に通じていて、前記第１の流体の吐出時に、前記第２の流体を吐出して前記第１の流体を振動又は揺動させるように構成される、第３の吐出オリフィスと、
を備える、ノズルアセンブリ。
【請求項２】
ノズルアセンブリを用いて基材上に流体を塗布する方法であって、前記ノズルアセンブリは、ともに固定される複数のプレートと、第１の流体を受け入れるように構成される第１の入口を有する第１の流体導管と、該第１の流体導管の下流に配置されるとともに該第１の流体導管と流体連通する第１の吐出オリフィスであって、前記第１の流体を概ね第１の方向に吐出するように構成される、第１の吐出オリフィスと、第２の流体を受け入れるように構成される第２の入口を有する第２の流体導管と、該第２の流体導管の下流に配置されるとともに該第２の流体導管と流体連通する第２の吐出オリフィスであって、第２の流体を、前記第１の方向と交差する概ね第２の方向に吐出するように構成される、第２の吐出オリフィスと、前記第２の導管の下流に配置されるとともに該第２の導管と流体連通する第３の吐出オリフィスであって、前記第２の流体を吐出して、前記第１の流体を振動又は揺動させるように構成される、第３の吐出オリフィスとを備え、該方法は、
前記ノズルアセンブリによって前記基材に対して連続的に供給することと、
前記第１の方向において、前記第１の流体を前記第１の吐出オリフィスから前記基材上に吐出することと、
前記第２の方向において、前記第２の流体を前記第２の吐出オリフィスから吐出して、前記第１の吐出オリフィスから吐出される前記第１の流体を、前記第１の吐出オリフィスにおいて断ち切ることと、
前記第２の流体を前記第３の吐出オリフィスから概ね前記第１の方向に吐出することと、
を含む、方法。