【事件の表示】
　上記当事者間の特許第３３４６２９１号「誘電体バリア放電ランプ、および照射装置」の特許無効審判事件についてされた平成１７年　４月１９日付け審決に対し、東京高等裁判所において審決取消の判決（平成１７年（行ケ）第１０５０６号平成２０年　２月２１日判決言渡）があったので、さらに審理のうえ、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第３３４６２９１号の請求項１及び２に係る発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
　第１　手続の経緯 
　本件特許無効審判被請求人ウシオ電機株式会社は、下記ア記載の特許の特許権者であり、その手続経緯概要は下記イのとおりである。 
　ア　特許第３３４６２９１号　「誘電体バリア放電ランプ、および照射装置」 
　　　特許出願　　　　　　　平成１０年７月３１日 
　　　出願番号　　　　　　　特願平１０−２１７１８７号 
　　　設定登録　　　　　　　平成１４年９月６日 
　イ　本件無効審判請求　　　平成１６年９月２２日
　　　請求人：日本電池株式会社
　　　（承継人（株）ジーエス・ユアサパワーサプライ）
　　　答弁書　　　　　　　　平成１６年１２月２０日　 
　　　弁駁書　　　　　　　　平成１７年２月４日　 
　　　審決　　　　　　　　　平成１７年４月１９日
　　　　　審決の結論：本件審判の請求は、成り立たない。 
　　　　　　　　　　　審判費用は、請求人の負担とする。 
　　　出訴（平成１７年（行ケ）第１０５０６号）平成１７年５月２８日
　　　判決　　　　　　　　　平成２０年２月２１日
　　　　　判決の主文：特許庁が無効２００４−８０１５８号事件について
　　　　　　　　　　　平成１７年４月１９日にした審決を取り消す。
　　　　　　　　　　　訴訟費用は被告の負担とする。
　　　判決確定　　　　　　　平成２０年３月１０日
　　　　
　第２　本件発明 
　本件特許３３４６２９１号の請求項１及び請求項２に係る発明（以下、「本件特許発明１」及び「本件特許発明２」という。）は、特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された次に掲げるとおりのものである。 
　「【請求項１】石英ガラスからなる放電容器の内部に誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填され、この放電容器の少なくとも一部に光透過性部分が形成されている誘電体バリア放電ランプにおいて、 
　前記光透過性部分における非水素結合性ＯＨ基の割合が、全体のＯＨ基に対して、０．３６以下であることを特徴とする誘電体バリア放電ランプ。 
【請求項２】誘電体バリア放電により放電容器内にエキシマが生成されて紫外線が放出される誘電体バリア放電ランプと、この誘電体バリア放電ランプを収納し、誘電体バリア放電ランプからの紫外線を取り出す窓部材よりなる照射装置において、 
　前記窓部材は、石英ガラスよりなり非水素結合性ＯＨ基の割合が全体のＯＨ基に対して、０．３６以下であることを特徴とする照射装置。」 
 　 
　第３　審判請求人の主張の概要 
　１　審判請求書における主張 
　本件特許の請求項１及び請求項２に係る発明は、本件出願前に日本国内において公然実施された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであり、したがって、本件特許の請求項１及び請求項２に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであって、同法１２３条第１項第２号の規定により無効とすべきものであると主張し、証拠方法として甲第１号証ないし甲第３号証を提出している。 
　＜証拠方法＞ 
　甲第１号証　信越石英株式会社「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　
　　　　　　　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　製品ガイド」 
　甲第２号証　ＰＨＹＳＩＣＡＬ　ＲＥＶＩＥＷ　Ｂ　ＶＯＬＵＭＥ　５９
　　　　　　　ＮＵＭＢＥＲ　６　抜粋（１９９９年２月１日発行） 
　甲第３号証　特開平５−１３８０１４号公報（平成５年６月１日発行） 
　甲各号証及び特許法２９条２項違反の理由についての主張は、概略以下の通りである。 
　（１）甲各号証について 
・甲第１号証は、信越石英株式会社の製品カタログであって、当該カタログの第９頁には合成石英ガラスの Ｓｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０ が記載されている。また、当該カタログの最終頁には、１９９５年７月３日に発行されたものであることが記載されており、Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は、１９９５年７月３日には日本国内において公然と譲渡の申出がされた事実が示されている。また、第１０頁には、Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０はランプ用透明石英ガラスとして用いられ、真空紫外から赤外までの透過率特性に優れていることが記載されている。すなわち、真空紫外を放射する誘電体バリアランプにも使用可能であることが示されている。 
・甲第２号証（ＰＨＹＳＩＣＡＬ　ＲＥＶＩＥＷ　Ｂ　ＶＯＬＵＭＥ５９，ＮＵＭＢＥＲ ６，１９９８年７月６日受理、１９９９年２月１日頒布）には、次の記載がある。 
（２−Ａ）「本研究には、市販されている４種類の合成シリカガラスを用いた：直接法で作成されたＥＳ（日本石英硝子株式会社）およびＳｕｐｒａｓｉｌ Ｐ２０（信越石英株式会社、Ｐ２０）、並びに気相軸付け法（ＶＡＤ）で作成されたＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０およびＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３００（信越石英株式会社、Ｆ３１０およびＦ３００）である。」（甲第２号証：第４０６６頁第２１行〜第４０６６頁第２７行（甲第２号証の翻訳文：第２頁第２４行〜第２頁第２７行））。 
 （２−Ｂ）第４０６８頁の図３下図には、Ｓｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０試料の紫外線４３０時間照射時（ａｓ−ｉｒｒａｄｉａｔｅｄ ４３０ｈ）のＯＨの吸収ピークが記載されている（甲第２号証の翻訳文：第５頁の図３右図）。 
・甲第３号証（特開平５−１３８０１４、平成５年（１９９３）６月１日発行）には、図１及び図２とともに次の記載がある。 
（３−Ａ）「少なくとも１つの高出力光源、充填ガスで充填された１つの放電空間（４）、この場合、充填ガスは、静電放電の作用下に、光線、有利にエキシマー光線を出射し、放電空間（４）が、壁面によって仕切られていて、この壁面の少なくとも１つが誘電性物質からなり、かつ放電空間中で発生した光線のために透過性であり、直接的に放電空間（４）の１つの壁面と境を接する１つの処理空間（６）、放電空間（４）の外に電極の対（２、７）およびこの放電の供給のために２つの電極（２、７）に接続した交流電源（１２）を有し、この場合、放電空間（４）の中への電気エネルギーの接続が、本質的に容量的に、処理すべき物質によって処理空間（６）中で行われる照射装置において、処理空間（６）が、非金属性物質または非金属性物質で隙間なく被覆された物質からなる壁面のすべての面で、閉鎖されていることを特徴とする、照射装置。」（甲第３号証；【特許請求の範囲】の【請求項１】）。なお、ここで、（３−Ａ）の「静電放電」は誘電体バリア放電に相当する。 
（３−Ｂ）「【実施例】図１および２に記載の照射装置は、内側の誘電性管１、例えばガラス管または石英管１を包含し、内側に、金属層２、有利にアルミニウム層を備えている。前記の層２は、光源の内側電極を形成している。この内側管１は、同心円状、かっこの管から間隔をあげて、ＵＶ−透過物質、例えば石英からなる中間の誘電性管３によって囲まれている。２つの管１および３の間の空間は、光源の放電空間４を形成している。」（甲第３号証：段落【０００８】） 
　（２）特許法２９条２項違反の理由 
　信越石英株式会社製の合成石英ガラス Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は本件特許の出願前に公然と譲渡の申出がされた物であることは、甲第１号証から明らかである。 
　この合成石英ガラス Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０の「非水素結合性ＯＨ基の割合が全体の ＯＨ 基に対していかなる値であるか」については甲第１号証に記載がないが、甲第２号証には、甲第１号証と同じ合成石英ガラス　ＳｕｐｒａｓｉｌＦ３１０について、その赤外線吸収スペクトルを測定した結果が図３に示されている。そこで、合成石英ガラス Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０ の非水素結合性ＯＨ基の割合を、甲第２号証の図３（Ｓｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０試料の紫外線４３０時間照射時）を解析して求めるため、甲第２号証の図３のグラフをスキャナーで読み取り、各プロット値をソフトにより読み取った。その上で、全体のＯＨ基に対する非水素結合のＯＨ基の割合を本件特許明細書記載の計算方法と同一の方法により計算したところ、０．２３７が得られた。読み取り誤差を考慮しても、Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０では、非水素結合性ＯＨ基の割合が、全体のＯＨ基に対して、０．３６以下となっていた。 
　本件特許の出願前に公然実施された上述の甲第１号証発明と、本件特許発明とを比較すると、前者が誘電体バリア放電ランプ用の合成石英ガラスに係る発明であるのに対し、後者が「石英ガラスからなる放電容器の内部に誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填され、この放電容器の少なくとも一部に光透過性部分が形成されている誘電体バリア放電ランプ」に関するものである点で相違する。 
　しかしながら、誘電体バリア放電ランプにおいて「石英ガラスからなる放電容器の内部に誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填され、この放電容器の少なくとも一部に光透過性部分が形成されている」構成は、例えば甲第３号証に記載されているように周知であるから、この周知技術に甲第１号証発明を組み合わせて本件特許発明を想起することは極めて容易である。 
 　　 
　２　平成１７年２月４日付け弁駁書における主張 
　市販のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０の非水素結合性ＯＨ基の濃度が０．３６以上であるとしても、そのガラスによって放電容器を形成した誘電体バリア放電ランプを点灯させれば、その石英ガラスの非水素結合性ＯＨ基の濃度は早期（２５時間紫外線照射後）に０．３６以下になるのだから、誘電体バリア放電ランプとして使用することにより非水素結合性ＯＨ基が０．３６以下となる合成石英ガラスの発明が公然と実施（譲渡の申出）がされていたことに帰し、この公然実施発明と、甲第３号証に記載された、合成石英ガラスからなる放電容器内にエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填された誘電体バリア放電ランプの発明とを組み合わせて本件特許発明を想起することは極めて容易であり、また、誘電体バリヤ放電ランプを内蔵した照明装置において、紫外線を取り出す窓部材を設け、窓部材にはランプの放電容器と同様に紫外線の透過率特性に優れた石英ガラスを用いることは周知であると主張し、参考資料を提出している。 
＜参考資料＞ 
　参考資料１　信越石英株式会社「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　
　　　　　　　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　製品ガイド」 
　参考資料２　信越石英株式会社「ランプ用透明石英ガラス」 
　参考資料３　レーザー研究第２３巻第１２号（平成７年１２月）　
　　　　　　　第２７頁〜第３１頁 
　参考資料４　特開平５−１７４７９３号公報 
　参考資料５　「信越石英株式会社　・技術情報・・・９３ＬＴ００１」
　参考資料６　「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ
　　　　　　　　Ｄａｔａ　Ｓｈｅｅｔ　‘９８／７　９８ＬＴ００１」 
　　
　第４　被請求人の主張の概要 
　被請求人は請求人の主張に反論するとともに乙１号証及び乙２号証を提出している。 
　（１）甲各号証について 
・　甲第１号証は、合成石英ガラス　Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０ を記載しており、また、Ｓｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０ がランプ用透明石英ガラスとして用いられること、および、真空紫外から赤外までの透過率特性に優れていることが記載される。 
・　甲第２号証は、合成石英ガラス Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０ のＯＨ基の吸光特性を示している。なお、甲第２号証は、本件特許発明の出願日（１９９８年７月 ３１日）より遅い１９９９年２月１日に頒布された文献であり、本件特許発明に対して公知文献ではない。 
・　甲第３号証は、誘電体バリア放電ランプが記載されており、請求書第５頁８行〜６頁１行に記載する内容が記載される。 
 　 
　（２）請求人の主張に対する反論　　 
・請求人は‘甲第１号証の合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０と、甲第２号証の合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は同じ物であるから’と判断しているが、甲第１号証の合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０と、甲第２号証の（請求人が解析した）合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉ１ Ｆ３１０は同じものではない。請求人が解析した甲第２号証の合成石英ガラス ＳｕｐｒａｓｉｌＦ３１０ は、紫外線を４３０時間照射させた後の合成石英ガラスであり、甲第１号証に記載される合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は、このような処理を施したことが何ら記載されていないからである。甲第１号証に記載される合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は、いかなる状態の合成石英ガラスであるかは必ずしも明らかではないが、少なくとも紫外線を４３０時間照射させて、市販のものと異なる性質に変化した合成石英ガラスと同じものとする根拠は存在せず、むしろ受理時（ａｓ−ｒｅｃｅｉｖｅｄ）の合成石英ガラスに相当すると考えられる。 
・被請求人は、請求人と同様の方法により、甲第２号証のＦＩＧ３のグラフから非水素結合性ＯＨ基の濃度を、４３０時間照射後のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０のみならず、受理時（ａｓ‐ｒｅｃｅｉｖｅｄ）のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０について解析した。その結果、４３０時間照射後のＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０の非水素結合性ＯＨ基の濃度は０．２４３、受理時（ａｓ‐ｒｅｃｅｉｖｅｄ）のＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０の濃度は０．４８４と導かれ、４３０時間照射後のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は、特許発明の０．３６以下に該当しているものの、 受理時（ａｓ‐ｒｅｃｅｉｖｅｄ）のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は、特許発明の０．３６以下に該当していない。第２号証の受理時のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０は、市販品の合成石英ガラスに相当すると考えられるから、甲第１号証のＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０の非水素結合性ＯＨ基の濃度も、本件特許発明の数値範囲から外れる可能性がきわめて高いといえる。 
・以上のように、甲第１号証の合成石英ガラスの非水素結合性ＯＨ基の濃度は、甲第１号証からは明らかでなく、仮に、甲第２号証の記載を参酌したとしても本件特許発明に規定される数値範囲と異なっているから、請求人の甲第１号証の認定には誤りがある。さらに、甲第１号証と甲第３号証の組み合わせによる、請求人の無効理由も、誤った認定に基づくものであり、本件請求項１に係る発明は、無効理由を有するものではない。 
・本件請求項２に係る発明は、前記請求項１に関する内容を同じ理由で無効理由を有するものではない。加えて、本件請求項２に係る発明は、誘電体バリア放電ランプを内蔵した照射装置の窓部材である石英ガラスに対して非水素結合性ＯＨ基の濃度を規定している。甲第１号証は、ランプの石英ガラスとして、Ｓｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０を採用できることは記載しているものの、ランプを内蔵した照射装置の窓部材としてＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０を使うことまでは記載していない。 
　＜乙号証＞ 
　乙第１号証　請求書１１頁５行に記載されるベクトルχの各成分値（Ｃ１〜Ｃ５）に相当する値を示す表　 
　乙第２号証　請求書１２頁２０行に記載される式１の各∫Ｉ（ｘ）ｄｘに相当する値を示す表
　　 
　第５　甲各号証及び参考資料の記載事項 
　１　甲第１号証は、「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　製品ガイド」との表題を有する信越石英株式会社の製品カタログであって、本件発明に関連した事項について、以下のように記載されている。 
　（ア）「透明石英ガラスは、通常のガラス類と比べて、光透過性が紫外から赤外の全波長にわたって非常に高いという特徴があります。特に短波長の紫外領域では、他のどんなガラスより良好な透過性を示します。」（４頁） 
　（イ）「合成石英ガラス　合成（「信越石英の主要品種」の項目）　ＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３００，３１０（「品種名」の項目）　ファイバ用・ランプ用　（「用途」の項目）　管・棒（「形状」の項目）」（４頁下段の表の抜粋） 
　（ウ）「ＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３００　ＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３１０（「品種名」の項目）　超高純度の合成石英ガラス管・棒で、泡や異物がなく金属不純物を含有していません。Ｆ３００は最高品質の光ファイバー用石英素材で、高強度で長尺の光ファイバーが高収率で得られます。Ｆ３１０はＯＨ基を含有しますが、他の特性はＦ３００と同等です。（「特徴」の項目）」（９頁下段「光通信用透明石英ガラス」の表の抜粋） 
　（エ）「ランプ用石英ガラス管として、Ｍシリーズ（Ｍ−２３５，Ｍ２８２，Ｍ３８２）、ＨＥＲＡＬＵＸ、及び合成石英ガラスＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３００，Ｆ３１０があります。いずれも独自のツールフリー法で製造、管の内外面は平滑で欠陥がありません。ＵＶランプ材として適しており、Ｍシリーズはオゾンレスタイプ、ＨＥＲＡＬＵＸはオゾンタイプです。また、ＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆシリーズは、真空紫外から赤外までの透過率特性に優れています。」（１０頁） 
　（オ）「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　’９５．７．３」（最終頁最下段） 
 　  　　 
　２　甲第２号証は、１９９９年２月１日に頒布された「ＰＨＹＳＩＣＡＬ　ＲＥＶＩＥＷ　Ｂ　ＶＯＬＵＭＥ５９，ＮＵＭＢＥＲ ６」の４０６６頁〜４０７３頁に掲載された「Ｅｆｆｅｃｔ　ｏｆ　Ｘｅ２＊　ｌｉｇｈｔ（７．２ｅＶ）ｏｎ　ｔｈｅ　ｉｎｆｒａｒｅｄ　ａｎｄ　ｖａｃｕｕｍ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ　ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　ｈｙｄｒｏｘｙｌ　ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　ｓｉｌｉｃａ　ｇｌａｓｓ」（「Ｘｅ２＊光（７．２ｅＶ）がシリカガラス中で水酸基の赤外および真空紫外吸収特性に及ぼす影響」；訳文として請求人の提出した「甲第２号証の翻訳文」を採用した。以下の訳文も同様とする。但し、明らかな誤記は、特に断ることなく訂正する。）と題する論文（１９９８年７月６日受理）であり、本件発明に関連した事項について、図面と共に以下のように記載されている。 
　（ア）「On the other hand, the ≡SiOH group gives intense optical absorption in the vacuum ultraviolet (vuv) region near the absorption edge of the glass.8-10 Although much effort has been made to determine specific forms of ≡SiOH in silica glass, it is still not known what particular kinds of ≡SiOH present in silica are responsible for the measured absorption of vuv light.  
 The present study focuses on clarifying the detailed form of the ≡SiOH absorbing vuv photons near the absorption edge in silica glass. As a hint for how to solve the problem Shelby11 reported that the 3672cm-1 ≡SiOH band was shifted to smaller wave number resulting from the creation of a shoulder on the low-frequency side of this band by irradiation with gamma rays up to 10-100 MGy. On our first atempt, we selected xenon-excited-dimmer (Xe2*) light (i.e. 7.2 eV) emitted from the Xe dielectric-barrier discharge lamp. This emission band originates from decay of the excited state of Xe2*.12 It was hoped that the band-edge absorption due to ≡SiOH would be excited by this irradiation and that consequent changes of the ≡SiOH absorption properties would be observed. By comparing the absorption property changes inducted by vacuum heat treatment with those inducted by the irradiation, we will discuss the origin of the ≡SiOH absorption in the vuv region of the silica glass.」（４０６６頁；「一方、≡ＳｉＯＨ基は、ガラスの吸収端近傍の真空紫外（ｖｕｖ）領域に極めて強い光吸収を生じさせる８−１０。シリカガラス中の≡ＳｉＯＨの特異形態を究明するために多くの努力が費やされてきたが、シリカ中に存在する≡ＳｉＯＨのどのような特殊な種類が、測定されたｖｕｖ光の吸収に関与しているかについてはまだ明らかにされていない。本研究では、シリカガラス中の吸収端近傍でｖｕｖ光子を吸収する≡ＳｉＯＨの詳しい形態を解明することに重点を置く。問題を解明するヒントとして、Ｓｈｅｌｂｙ１１は、１０‐１００ＭＧｙのγ線照射によって３６７２ｃｍ−１の≡ＳｉＯＨ帯の低周波側にショルダーが構築された結果、この帯がより小さい波数へシフトしたことを報告した。最初の試みとして、Ｘｅ誘電体バリア放電ランプから発せられるキセノン励起二量子体（Ｘｅ２＊）光（７．２ｅＶ）を選んだ。この発光帯は、Ｘｅ２＊の励起状態の崩壊から生じるものである１２。≡ＳｉＯＨによる帯端吸収がこの照射によって励起され、その結果として生じる≡ＳｉＯＨ吸収特性の変化が観察されることを期待した。真空熱処理によって誘起された吸収特性の変化と照射によって誘起されたその変化を比較することにより、シリカガラスのｖｕｖ領域における≡ＳｉＯＨの発生について論議する。」訳文２／１３頁） 
　（イ）「Four commercially available kinds of synthetic silica glass were used in this study: ES (Nippon Silica Glass Co., Ltd.) and Suprasil P20 (P20, Shinetsu Ouartz Products Co., Ltd.) which were made by the direct method and Suprasil F310 and Suprasil F300 (F310 and F300, Sinetsu Quarts Products Co., Ltd.) which were made by the vapor phase axis deposition (VAD) method. The ES, P20, and F310 samples contain 1200-1300, 〜700, and 〜300 weight (wt) ppm of ≡SiOH, respectively, while the concentration of ≡SiOH of the F300 sample is less than 1 wt ppm, according to the manufacture's catalog. These samples were selected to vary the absorption intensity in vuv absorption edge region and at 3673 cm-1 absorption band. In general, these materials include metallic impurities at levels below 0.1 wt ppm. Samples of 20×10×0.5mm3 were prepared with optically polished two faces.
 The samples were irradiated with the Xe dielectric-barrier discharge lamp (UEM20-172, Ushio, Inc.) under a nitrogen-flow atmosphere. The lamp emits relatively monochromatic light whose maximum intensity was located at 7.2 eV with an effective band width of 1.5 eV. The lamp spectrum is shown in Fig.1. The irradiance at the place where the samples were mounted was measured to be 14±0.8mWcm-2, and the temperature at the surface of the samples was 413±12K. All irradiations were performed continuously for a fixed duration: they were 25, 100, and 430 hours for all of the samples except for Suprasil F300 which was irradiated for 240 hours.」（４０６６頁〜４０６７頁；「本研究には、市販されている４種類の合成シリカガラスを用いた：直接法で作成された ＥＳ（日本石英硝子株式会社）およびＳｕｐｒａｓｉｌ Ｐ２０（信越石英株式会社、Ｐ２０）、並びに気相軸付け法 （ＶＡＤ）で作成されたＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３１０およびＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３００（信越石英株式会社、Ｆ３１０およびＦ３００）である．製造者のカタログによると、ＥＳ、Ｐ２０、およびＦ３１０試料は、それぞれ、１２００‐１３００、〜７００、および〜３００ ｗｔ　ｐｐｍの≡ＳｉＯＨを含有し、Ｆ３００試料の≡ＳｉＯＨ濃度は１ ｗｔ　ｐｐｍ以下となっている。これらの試料は、ｖｕｖ吸収端領域および３６７３ｃｍ−１吸収帯で吸収強度を変える為に選ばれた。一般的に言って、これらの材料は、０．１ｗｔ　ｐｐｍ以下のレベルでは金属不純物を含有している。両面を光学的に研磨して２０×１０×０．５ｍｍ３の試料を作成した。試料には、窒素流雰囲気で Ｘｅ誘電体バリア放電ランプ（ＵＥＭ２０−１７２、ウシオ電機株式会社）を照射した。ランプは相対的に単色光を発し、１．５ｅＶ の有効帯域幅で最大強度は７．２ｅＶ の位置にあった。ランプスペクトルを図１に示す。試料を取り付けた場所の放射照度は１４±０．８ ｍＷｃｍ−２と測定され、試料表面の温度は４１３±１２Ｋであった。すべての照射は一定時間継続して行われた：２４０時間照射したＳｕｐｒａｓｉｌ Ｆ３００を除いて、すべての試料に対して２５、１００、および４３０時間照射した。」訳文２／１３頁） 
　（ウ）「Figure 2(a) shows the difference spectra in vuv region obtained by subtracting spectra of as-received samples from the ones of samples irradiated for 100 hours for the ES, P20, and F310 samples and 240 hours for 300 sample. By Xe2* light irradiation, a decrease in absorption from 7.4 eV up to 8.0 eV (upper limit of the measurement) was observed for the ES, P20, and F310 samples. Only the F300 sample, which does not contain ≡SiOH as low as the detection limit, did not show any decrement in the absorption at all, or even an increase. Figure 2(b) shows the decrement of absorption for ES, P20, and F310 samples with the irradiation time, where one notes that the longer the time, the greater the decrement of absorption. This negative change in vuv absorption induced by the Xe2* irradiation is, hereafter, called beta absorption. The contour of the 3673 cm-1 absorption band of ≡SiOH was also deformed by the irradiation. Figure 3 shows the changes in the absorption band shape for the ES, P20, and F310 samples, respectively. For each sample, the wave number of the absorption maximum shifted to lower wave number side and the bandwidth became broader with increasing irradiation time. For example, the wave number of the absorption maximum and the full width at half maximum of the band were 3673 and 119 cm-1 before irradiation for the ES sample, while they were measured to be 3647 and 161 cm-1, respectively, after 430 hours irradiation. The magnitude of the peak shift was smaller for the band with initial peak position at high wave number. Almost same results were obtained for the P20 and F310 samples. As seen in Fig.3, the absorption intensities at the absorption maximum were, on the other hand, almost unchanged by the irradiation for each sample containing ≡SiOH.」（４０６７頁〜４０６８頁；「図２（ａ）に、ＥＳ、Ｐ２０、およびＦ３１０試料に対しては１００時間、並びにＦ３００試料に対しては ２４０ 時間照射した試料のスペクトルから、受領時の試料のスペクトルを差し引いて求めたｖｕｖ領域の差スペクトルを表示する。Ｘｅ２＊光照射によって、ＥＳ、Ｐ２０、およびＦ３１０試料では、７．４ｅＶから ６．０ｅＶ（測定の上限）に及ぶ吸収の減少が観察された。検出可能範囲では≡ＳｉＯＨを含有していないＦ３００試料のみにおいて、いかなる吸収の減少も、もしくは増加さえも全く見られなかった。図２（ｂ）は、ＥＳ、Ｐ２０、およびＦ３１０試料の照射時間に伴う吸収の減少を示しており、時間が長ければ長いほど、吸収の減少が大きくなっているのがわかる。Ｘｅ２＊照射によって誘起されたｖｕｖ吸収のマイナスの変化は、以下「β吸収」と称する。≡ＳｉＯＨの３６７３ｃｍ‐１吸収帯の輪郭も、照射によって変形した。図３に、ＥＳ、Ｐ２０、およびＦ３１０試料の吸収帯形状の変化をそれぞれ表示する。各試料で、吸収極大波数は波数のより低い側へシフトし、帯域幅は照射時間の増大に伴ってより広くなった。例えば、吸収極大波数およびその帯の半値全幅は、ＥＳ試料で照射前には、３６７３および１１９ｃｍ−１であったが、４３０時間の照射後には、それぞれ ３６４７および１６１ｃｍ−１と測定された。ピークシフトの大きさは、初期のピーク位置が高波数にあった帯の方がより小さくなっていた。Ｐ２０およびＦ３１０試料に関しては、ほとんど同じ結果が得られた。一方、図３に示すように、吸収極大での吸収強度は、≡ＳｉＯＨを含む各試料では照射による変化はほとんど見られなかった。」訳文５／１３頁） 
　（エ）「Moreover, since the 3694cm-1 band is a specific part of the complex ≡SiOH's 3673 cm-1 bands, the beta absorption is closely correlated with a particular form of ≡SiOH whose absorption band is located at around 3694 cm-1 in ir region. 
 At least two ≡SiOH classes have been proposed; one is essentially gaslike or isolated ≡SiOH, whose absorption is located at 3690 cm-1, while the tail (〜3620 cm-1) is due to weakly interacting ≡SiOH groups.7　In order to obtain a more detailed understanding of the origin of the absorption band at around 3694 cm-1, band separations in the 3200-4000 cm-1 region were performed for the spectra obtained for the ES sample. Davis and Tomozawa6 reported a band separation technique using a Pearson VII band expressed as 
 I(ν)=Imax[1+K2(νmax-ν)2]-N, (4) 
 where K is a scaling factor given by  
 K=(2l/N-1)l/2/B (5) 
 I(ν) is the band intensity as a function of wave number ν, Imax is the maximum intensity, νmax is the wave number at the maximum of the band, B is the half width at half maximum, and N is a constant between 1 and 10, where 1 gives a Lorentzian profile and 10 gives approximately a Gaussian profile. By following the Pearson VII method, the features shown in Fig.9 were calculated; the six component bands used are listed in Table II. These six bands were also cited in the paper by Davis and Tomozawa6 i.e., band No.1 at 3426 cm-1 assigned to asymmetric stretching of molecular water bound to the silica network and symmetric stretching of free/hydrogen bonded (H bonded) molecular water inside the glass, band No.2 at 3551 cm-1, band No.3 at 3612 cm-1 due to OH stretching of ≡SiOH's which are H bonded to the oxygen of neighboring ≡SiOH, band No.4 at 3661 cm-1, band No.5 at 3694 cm-1 due to OH stretching of ≡SiOH, and band No.6 at 3810 cm-1, possibly arising from combination torsion and OH stretching of ≡SiOH. It is seen in Fig.9 that the species decreased by irradiation were the elements No.4 and No.5 and the increased ones were the Nos.1, 2, and 3 bands, respectively. The beta absorption generated by 430 hours irradiation corresponded to the 40% of the total amount of ≡SiOH for the ES sample. On the other hand, for the sum of the intensities of the 3694 and 3661 cm-1 ≡SiOH band elements, the percentage of the absorption intensity diminished by irradiation relative to that before irradiation was also 40%. As a matter of fact, two of the ratios were strikingly coincident with each other, as in the case of the P20 and F310 samples, as well.」（４０７１頁〜４０７２頁；「更に、３６９４ｃｍ−１帯は錯体≡ＳｉＯＨの３６７３ｃｍ−１帯の特定の部分であることから、β吸収は、その吸収帯がｉｒ領域の３６９４ｃｍ−１周辺に位置する≡ＳｉＯＨの特別の形態と密接に関連する。少なくとも２つのクラスの≡ＳｉＯＨが、提示されている；１つは、基本的に気体状もしくは孤立した≡ＳｉＯＨでその吸収は３６９０ ｃｍ−１に位置しており、一方テール部（〜３６２０ｃｍ−１）は相互作用が弱い≡ＳｉＯＨ基に起因している。３６９４ｃｍ−１周辺での吸収帯の起源をより詳細に理解するために、ＥＳの試料で得たスペクトルに関して３２００‐４０００ｃｍ−１領域の帯域分離が実施された。ＤａｖｉｓとＴｏｍｏｚａｗａ６は、次の式で表される ＰｅａｒｓｏｎVII帯を用いた帯域分離法を報告した。 
I(ν)=Imax[1+K2(νmax-ν)2]-N, (4) 
ここで、Ｋは倍率であり、次式で求める。 
K=(2l/N -1)l/2 /B (5) 
Ｉ（ν）は波数νの関数としての帯の強度、Ｉｍａｘは最大強度、νｍａｘは帯の極大での波数、Ｂは半値半幅、およびＮは１と１０の間の定数であり、１はローレンツプロファイル、１０はほぼガウスプロファイルである。ＰｅａｒｓｏｎVII法に従い、図９に表示される特徴を算出した；使用した６つの成分帯を表２にまとめる。これらの６帯は、ＤａｖｉｓとＴｏｍｏｚａｗａ６の論文にも引用されている；即ち、シリカネットワークに結合した水分子の非対称伸縮およびグラス中の自由／水素結合（Ｈ結合）水分子の対称伸縮に帰属される ３４２６ｃｍ−１の帯Ｎｏ．１、≡ＳｉＯＨ近傍の酸素にＨ結合している≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による３５５１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．２と３６１２ｃｍ−１の帯Ｎｏ．３、≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による３６６１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．４と３６９４ｃｍ−１の帯Ｎｏ．５、並びに≡ＳｉＯＨのねじれと０Ｈ伸縮の組合せから起こると思われる３８１０ｃｍ−１の帯Ｎｏ．６である。図９から、照射によって減少した種はＮｏ．４およびＮｏ．５のエレメント、並びに増大した種は帯Ｎｏ．１、２、および３であることがわかる。４３０時間照射によって生成されたβ吸収は、試料ＥＳでは≡ＳｉＯＨ総量の４０％に相当した。一方、３６９４および３６６１ｃｍ−１の≡ＳｉＯＨ帯エレメントの強度の合計では、照射前の吸収強度と比較して、照射によって低下した吸収強度の比率も４０％であった。実際、Ｐ２０およびＦ３１０の試料の場合と同様に、２つの比率は互いに驚くほど一致していた。」訳文１０／１３、１１／１３頁；尚、提出翻訳文における「３５５１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．２、≡ＳｉＯＨ近傍の酸素にＨ結合している≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による ３６１２ｃｍ−１の帯Ｎｏ．３」、「３６６１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．４、≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による３６９４ｃｍ−１の帯Ｎｏ．５」との記載では「≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による」の係りが不適切であり、上記のように「≡ＳｉＯＨ近傍の酸素にＨ結合している≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による３５５１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．２と３６１２ｃｍ−１の帯Ｎｏ．３」、「≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮による３６６１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．４と３６９４ｃｍ−１の帯Ｎｏ．５」と訂正した。） 
　（オ）「(3) Supposing that the isolated ≡SiOH absorption band at 3694 cm-1 consisted mainly of the 3694 and 3661 cm-1 bands, the ratio of the diminished isolated ≡SiOH was the same as the ratio of the decrease in intensity of vuv absorption spectra (PE7.4 eV).」（４０７３頁；「（３）３６９４ｃｍ−１の孤立した≡ＳｉＯＨ吸収帯は主に３６９４および３６６１ｃｍ−１帯から構成されていると仮定すると、減少した孤立した≡ＳｉＯＨの比率は、ｖｕｖ吸収スペクトル（ＰＥ＞７．４ｅｖ）の強度の減少の比率と同じであった。」訳文１３／１３頁） 
　　　
　３　甲第３号証は、本件発明の出願前に頒布された刊行物である特開平５−１３８０１４号公報であり、本件発明に関連した事項について、図面とともに以下のように記載されている。 
　（ア）「【請求項１】　少なくとも１つの高出力光源、充填ガスで充填された１つの放電空間（４）、この場合、充填ガスは、静電放電の作用下に、光線、有利にエキシマー光線を出射し、放電空間（４）が、壁面によって仕切られていて、この壁面の少なくとも１つが誘電性物質からなり、かつ放電空間中で発生した光線のために透過性であり、直接的に放電空間（４）の１つの壁面と境を接する１つの処理空間（６）、放電空間（４）の外に電極の対（２、７）およびこの放電の供給のために２つの電極（２、７）に接続した交流電源（１２）を有し、この場合、放電空間（４）の中への電気エネルギーの接続が、本質的に容量的に、処理すべき物質によって処理空間（６）中で行われる照射装置において、処理空間（６）が、非金属性物質または非金属性物質で隙間なく被覆された物質からなる壁面 のすべての面で、閉鎖されていることを特徴とする、照射装置。」（２頁左欄） 
　（イ）「【０００８】 
【実施例】図１および２に記載の照射装置は、内側の誘電性管１、例えばガラス管または石英管１を包含し、内側に、金属層２、有利にアルミニウム層を備えている。前記の層２は、光源の内側電極を形成している。この内側管１は、同心円状、かつこの管から間隔をあけて、ＵＶ−透過物質、例えば石英からなる中間の誘電性管３によって囲まれている。２つの管１および３の間の空間は、光源の放電空間４を形成している。外に向かって、放電空間４は、誘電性物質、例えばガラスまたは石英からなる外側管５によって仕切られている。この管３および管５の間の空間は、照射装置の処理空間６を形成している。有利にアルミニウムからなる第２の金属層７は、管６の外側面の上へ取付けられ、かつ光源の外側電極を形成している。」（３頁左欄）
　　 
　４　参考資料１は、上記甲１号証の（ア）ないし（エ）と同様の記載内容を有し、（オ）に相当する最終頁最下段に「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　’９４．７．３」との記載がある信越石英株式会社の製品カタログである。 
　５　参考資料２は、同じく信越石英株式会社の「ランプ用透明石英ガラス」の製品カタログであり、第１頁の品種表に合成石英ガラス　ＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３１０のＯＨ基含有量が約３００ｐｐｍであること、同頁の左下段にＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３１０の波長と透過率との関係を示す紫外線の透過率のグラフが記載されており、また、第２頁の最下段に「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．２００４．９．１４」との記載がある。
　　　 
　６　参考資料３は、レーザー研究第２３巻第１２号（平成７年１２月）の第２７頁〜第３１頁に掲載された「誘電体バリア放電エキシマランプの原理と応用」と題する刊行物であり、本件発明に関連した事項について、図面とともに以下のように記載されている。 
　（ア）「これらの光化学反応用の光源には、紫外領域あるいは真空紫外領域のある特定の波長範囲にだけ、高効率の放射を有することが望まれる。・・・最近になり、誘電体バリア放電を励起源としたエキシマランプが開発され、実用化されるに到った。」（２７頁左欄） 
　（イ）「Ｆｉｇ．１を使用して、誘電体バリア放電の動作原理について簡単に説明する。ランプは石英ガラスの２重構造になっており、内管の内側には金属電極、外管の外側には金属網電極がそれぞれ施されている。また石英ガラス管内には、放電ガスが充満されている。電極間に高周波、高電圧電圧を印加すると、２枚の誘電体を通して放電空間に電圧が印加され、この電圧が放電空間の放電破壊電圧以上になると放電空間で放電が発生する。・・・すなわち、直径は０．１ｍｍ程度、寿命は数十ｎｓ程度の放電プラズマが、放電空間に多数本発生することになる。この放電プラズマにより、放電ガスの原子が励起されて、瞬間的にエキシマ状態（Ｘｅ２＊）となる。このエキシマ状態が基底状態に戻るときに、そのエキシマ特有のスペクトルを発光（エキシマ発光）する。発光スペクトルは、充填された放電ガスの組成によって設定することが出来る。」（２７頁右欄〜２８頁左欄） 
　（ウ）「１２６ｎｍ，１４６ｎｍランプは照射窓にＭｇＦ２を用いている６，７）が他ランプの照射窓は石英ガラスを使用している。発光スペクトルはほぼ単色光である。」（２８頁左欄） 
　（エ）「大面積を照射出来るタイプのランプ１０）をＦｉｇ．６に示す。・・・合成石英ガラス窓付きのランプハウス内で発光長２５０ｍｍの管形Ｘｅエキシマランプ４本を並列点灯する方式である。」（３０頁右欄） 
　（オ）「３．３　寿命　初期出力の７０％まで減衰する時間を寿命と定義すると，約１０００時間の値が得られている。」（２９頁右欄）
　　 
　７　参考資料４は、本件発明の出願前に頒布された刊行物である特開平５−１７４７９３号公報であり、本件発明に関連した事項について、図面とともに以下のように記載されている。 
　（ア）「【００１８】【実施例】図１および図２に模式的に示された照射装置はＵＶ高出力ビーム発生器を有する。このＵＶ高出力ビーム発生器は、外部の誘電管１（例えば石英ガラス製）およびそれに同心配置された内部の誘電管２からなる。内部誘電管の内壁には内部電極３が設けられている。２つの管１と２の間のリング状空間はビーム発生器の放電室４を形成する。内部管２はガス気密に外部管１へ差し込まれており、外部管には前もってガスまたはガス混合体が充填されている。このガスは無声放電の影響の下でＵＶビームまたはＶＵＶビームを放射する。 
【００１９】外部電極５として目の粗い金属メッシュを用いるか、または外部電極は管長手方向に延在する個々の金属ワイヤまたは金属条材からなる。外部電極は外部管１のほぼ上側半周囲にわたって延在する。条材状の電極構成の場合、個々の条材は軸上に分布された複数の個所で相互に接続される。外部電極５も、外部誘電管１も、生成されたＵＶビームに対して透過性である。管１の下側周囲には反射器６が設けられている。これは例えば蒸着したアルミニウム層により実現することができる。この反射器は外部電極５と同じ電位にある。 
【００２０】上に述べたビーム発生器は金属壁部７、８、９、１７、１８により画定された冷却剤浴１０に浸漬される。この浴には冷却剤流入部１１と冷却剤流出部１２を介し、冷却剤、有利には蒸留水が流過する。上部にはＵＶ透過性の窓１３、例えば石英ガラス製が設けられている。」（３頁左欄〜右欄） 
　　　
　８　参考資料５及び参考資料６は、信越石英株式会社の「技術情報」及び「Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　Ｄａｔａ　Ｓｈｅｅｔ」との表題を有する資料であり、ともにＳＵＰＲＡＳＩＬ−Ｆ３１０の紫外線の透過率のグラフが記載されているものと認められる。
　　　 
　第６　当審の判断 
　１　「合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０」について 
 　甲第１号証は、「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　製品ガイド」との表題を有する信越石英株式会社の製品カタログであって、その最終頁最下段に「Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ　ＱＵＡＲＴＺ　ＰＲＯＤＵＣＴＳ　’９５．７．３」との記載があるところから、少なくとも本件発明の出願前に頒布されたものと推認できる。また、上記第５「１（イ）」乃至「１（エ）」の記載から、ランプ用石英ガラス管として、ＯＨ基を含有する合成石英ガラスＳＵＲＡＳＩＬ−Ｆ３１０があり、真空紫外から赤外までの透過率特性に優れ、ＵＶランプ材として適していることが読み取れる。 
 そこで、「ＯＨ基を含有し、真空紫外から赤外までの透過率特性に優れ、ＵＶランプ材として適している石英ガラス」である合成石英（シリカ）ガラス「Ｓｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０」（以下、「石英ガラスＦ３１０」という。）について、その市販時期及び含有する「非水素結合性」ＯＨ基の割合を検討する。 
　（ア）石英ガラスＦ３１０が市販された時期 
　甲２号証は本件発明の出願前に頒布された刊行物ではないが、上記掲載論文の受理日は、本件発明の出願前の１９９８年７月６日であることが認められる。上記第５「２（イ）」の記載から、石英ガラスＦ３１０は、信越石英株式会社から市販（commercially available）されており、それを入手し試料として研究に使用したことが認められるところ、提出論文の作成はその受理日以前になされたことから、論文作成のための実験に使用した試料の入手が、本件発明の出願前になされたことは明らかである。そうすると、石英ガラスＦ３１０は、信越石英株式会社から本件発明の出願前に市販されていたものと認められる。 
　（イ）石英ガラスＦ３１０に含有される本件発明でいう「非水素結合性」ＯＨ基の割合 
　「非水素結合性」ＯＨ基に関して、本件発明の特許明細書において「【００１４】ここで、非水素結合性ＯＨ基とは、図２(ａ)に示すようにＯＨ基が一つのケイ素(Ｓｉ)とのみ結合するものを意味し、図２(ｂ)、(ｃ)において点線で示すような、いわゆる水素結合を持たないものを意味している。」と記載されている。 
　また、このような非水素結合性ＯＨ基の存在位置に関しては、同じく特許明細書において、「【００１５】石英ガラス中のＯＨ基は複数の文献（例えば、Phys.Chem.Glasses,3(1962)129, J.Non-Cryst.Solid,139(1992)35など）にあるように波長２７．１μｍ（振動数３６７２ｃｍ-1）に幅の広い吸収帯を示す。後者の文献には、この吸収帯は２種類のＯＨ基、即ち、上記幅の広い吸収帯のうち高周波領域側には非水素結合性ＯＨ基が、そして低周波領域側には水素結合性ＯＨ基が位置していることを述べている。図２（ａ）に示した分子構造式が前者であり、図２（ｂ）（ｃ）に示した構造式が後者である。」と記載されており、３６７２ｃｍ‐１吸収帯におけるこのような２種類のＯＨ基の存在位置を利用して両ＯＨ基の濃度割合を測定する方法に関しては、同じく特許明細書において、「【００１６】このように振動数３６７２ｃｍ-1の吸収帯において、非水素結合性ＯＨ基と水素結合性ＯＨ基の存在位置が示されていることを利用して、本発明者らは、両ＯＨ基の濃度割合を測定する方法を以下のようにした。すなわち、石英ガラス中に含まれるＯＨ基のうち、上記２種類のＯＨ基の濃度比率を計るためには、まず、振動数３６７２ｃｍ-1の幅の広い吸収帯を細かく分けてみた。すなわち、ガウス分布で表される５つの吸収帯（「要素バンド」と呼ぶ）を仮定して、この５つの要素バンドの和が赤外透過スペクトル測定された振動数３６７２ｃｍ-1の幅の広い吸収帯にできるだけ一致するように要素バンドの強度を設定する方法を確立した。この点をさらに詳細に説明する。一般に、ガウス分布は、Ｉｘ＝（Ｃ／σ√２π）ｅｘｐ（−（ｘ−ｙ）2／２σ2）で表される。ここで、Ｃは係数、ｘは振動数、σは分散、ｖは要素バンドの中心波数である。５つの要素バンドの中心波数と分散とは何れの場合も図５の値に設定する。ここで、強度を決定するＣは、５つの要素バンドの和が測定された振動数３６７２ｃｍ-1の吸収帯にできるだけ一致するように適当に設定する。図中、非水素結合性ＯＨ基は１，２の要素バンドに相当し、水素結合性ＯＨ基とは３，４，５が相当する。 
【００１７】図６は５つの要素バンドの波形を示すもので、横軸は光の振動数、縦軸は対象物である石英ガラスでの光吸収である。このようにして求めた５つの要素バンドから非水素結合性ＯＨ基を求める。全体のＯＨ基に対する非水素結合性ＯＨ基の割合とは、破線で示した要素バンド１と要素バンド２の面積の和（すなわち、非水素結合性ＯＨ基の要素バンドの和）を、振動数３６７２ｃｍ-1の広い吸収帯の面積で除したものである。ここで、振動数３６７２ｃｍ-1の吸収帯の面積とは、振動数４０００ｃｍ-1の吸収帯と振動数３０００ｃｍ-1の吸収帯での値を直線で結んだものを基線(この基線をゼロラインとして、それ以下の光強度は加算しない)として、振動数３６７２ｃｍ-1の吸収帯について３２００ｃｍ-1〜３７７０ｃｍ-1までの範囲で求めた面積をいう。したがって、ある石英ガラスの非水素結合性ＯＨ基の濃度が、全体のＯＨ基に対してどのくらいであるかを評価するには、図６に示すような要素バンドの波形を求めて上記面積の割合を求めることで判定できる。」と記載されている。 
　一方、甲２号証においては、本件発明の「非水素結合性」ＯＨ基に対応するＯＨ基として、「孤立した≡ＳｉＯＨ」（isolated ≡SiOH）が、また、本件発明の５つの「要素バンド」に対応するものとして、本件発明の要素バンドを含むＰｅａｒｓｏｎVII帯が示され、そのうちの３６６１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．４と３６９４ｃｍ−１の帯Ｎｏ．５が≡ＳｉＯＨのＯＨ伸縮によるものとされている（上記第５「２（エ）」の記載参照）。また、本件発明のように各バンドをガウス分布で表す点に関しては、４０７１頁に記載されている（４）式の指数Ｎについて、Ｎが１０の場合はほぼガウスプロファイルであるとの記載があり、ＰｅａｒｓｏｎVII帯に関するＴＡＢＬＥ II（４０７２頁）には、指数Ｎは、３６１２ｃｍ−１の帯Ｎｏ．３が４．５、３６６１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．４が８．７、３４２６ｃｍ−１の帯Ｎｏ．１、３５５１ｃｍ−１の帯Ｎｏ．２、及び３６９４ｃｍ−１の帯Ｎｏ．５は１０であることが示されている（上記第５「２（エ）」の記載及びＰｅａｒｓｏｎVII帯に関するＴＡＢＬＥ II（４０７２頁）参照）。 
　このことから、上記のＮｏ．３及びＮｏ．４の帯を除く他の帯は、ほぼガウス分布で表すことができるものである。また、Ｎｏ．４の帯の指数は８．７と１０に近くガウス分布で近似し得るものであり、Ｎｏ．３の帯についてもガウス分布で近似することにより多大の誤差を生じる等の格別の不都合が生じるものとも認められないから、本件発明の明細書に記載されている非水素結合性ＯＨ基の割合を求めるための手法を、甲２号証に示されている試料受領時（as-received）の合成石英（シリカ）ガラス「Ｓｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０」に適用して、含有される「非水素結合性」ＯＨ基の割合を求めることに格段不都合はないものと認められる。 
　試料受領時（as-received）の石英ガラスＦ３１０は、石英ガラスＦ３１０の市販品を入手し、試料として加工したものではあるものの、その加工により非水素結合性ＯＨ基の割合を大きく変更させるものでないことは実験の趣旨から当然要請されるところであるから、この試料受領時（as-received）の石英ガラスＦ３１０の分析結果から、市販品入手時の石英ガラスＦ３１０に含有される非水素結合性ＯＨ基の割合、即ち、石英ガラスＦ３１０に含有される非水素結合性ＯＨ基の割合を推認し得るものである。 
　試料受領時の石英ガラスＦ３１０の非水素結合性ＯＨ基の割合を調べるために利用可能なデータとして、４０６８頁の図３（ｂ）があり、図３（ｂ）には、合成石英ガラスＦ３１０を含む試料の表面を、最大強度７．２ｅＶのランプスペクトルを持つＸｅ誘電体バリア放電ランプで、試料表面温度を４１３±１２Ｋとし一定時間継続してＸｅ２＊光照射した場合の、照射による≡ＳｉＯＨの３６７３ｃｍ‐１吸収帯の輪郭の変形が、試料の受領時（as-received）と４３０時間照射時との対比でグラフで示されている（上記第５「２（イ）」及び「２（ウ）」の記載及び図３参照）。 
　このデータ中の試料の受領時（as-received）のデータを使用して上記割合を推定するため、図３（ｂ）のグラフから数値を読み取り、得られた数値データを利用して各要素バンドのガウス分布の係数Ｃを求め、これにより非水素結合性ＯＨ基の割合が計算されている。 
　上記の計算に基づき得られた受理時の非水素結合性ＯＨ基の割合に関しては、被請求人が提出した乙第２号証によれば、０．４８４との値が示され、また、請求人が提出した弁駁書によれば０．４８１との値が示されており、いずれにしても０．３６を越える０．４８程度の値であることは明らかである。 
　　　　
　２　本件発明の出願前に公然実施された発明 
 請求人は、石英ガラスＦ３１０に関して、審判請求書において、非水素結合性ＯＨ基の割合が全体のＯＨ基に対して０．３６以下の解析結果が得られる、石英ガラスＦ３１０試料の紫外線４３０時間照射時のものが本件発明の出願前に公然実施されていたものである旨の主張を行い、また、弁駁書において、市販の石英ガラスＦ３１０の非水素結合性ＯＨ基の濃度が０．３６以上であるとしても、そのガラスによって放電容器を形成した誘電体バリア放電ランプを点灯させれば、その石英ガラスの非水素結合性ＯＨ基の濃度は早期に０．３６以下になるのだから、誘電体バリア放電ランプとして使用することにより非水素結合性ＯＨ基が０．３６以下となる合成石英ガラスの発明が公然と実施（譲渡の申出）がされていたことに帰する旨主張しているので、この点について検討する。 
　信越石英株式会社から市販された石英ガラスＦ３１０は、石英ガラスＦ３１０を所定の温度範囲で所定時間紫外線照射を行った後に得られた加工後の合成石英ガラスではなく、加工前のものであり、加工前の市販の時点では非水素結合性ＯＨ基の割合が０．４８程度であって、０．３６以下という条件を満たしていないことは、上記１で検討したとおりである。 
　そして、請求人の提出した証拠方法からは、上記の加工後の合成石英ガラスが譲渡等により公然と実施された事実は認めることができない。
　すなわち、石英ガラスＦ３１０は，平成６年発行の参考資料１、平成７年発行の甲第１号証、平成１６年発行の参考資料２の製品カタログに掲載され、本件出願前に市販されていたことからすれば、本件出願前に、これをカタログに記載された用途に適する「ランプ」が製造された可能性があるとしても、上記の証拠のみでは，本件出願前に石英ガラスＦ３１０を放電ランプの光透過性部分又は照射装置の窓部材に使用して「石英ガラスＦ３１０使用の誘電体バリア放電ランプ」ないし「石英ガラスＦ３１０使用の照射装置」が製造されたうえ，公然販売又は使用されたとまでは認めるには十分でないというべきである。
　しかして、本件発明の出願前に公然実施されていた石英ガラスＦ３１０に係る発明（以下、「石英ガラスＦ３１０発明」という。）は、以下のものとと認められる。 
 「非水素結合性ＯＨ基の割合が０．４８程度であり、真空紫外から赤外までの透過率特性に優れ、ＵＶランプ材として適している石英ガラス」
　　　 　　
　３　本件特許発明１と「石英ガラスＦ３１０発明」との対比／判断 
　本件特許発明１（前者）と石英ガラスＦ３１０発明（後者）とを対比すると、両者は「ＵＶランプ材として適している所定割合の非水素結合性ＯＨ基を含む石英ガラス」の点の構成で一致し、以下の点で相違する。 
［相違点１］ 
　前者が、「石英ガラスからなる放電容器の内部に誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填され、この放電容器の少なくとも一部に光透過性部分が形成されている誘電体バリア放電ランプ」であるのに対し、後者にはこのような誘電体バリア放電ランプの構成が示されていない点。 
［相違点２］ 
　石英ガラスに含まれる非水素結合性ＯＨ基の割合に関し、前者が０．３６以下としているのに対し、後者は０．４８程度であって、０．３６以下という条件を満たしていない点。 
　相違点について検討する。 
［相違点１］について　　 
　前者の有する「石英ガラスからなる放電容器の内部に誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填され、この放電容器の少なくとも一部に光透過性部分が形成されている誘電体バリア放電ランプ」の点の構成については、上記「第５」６の刊行物（レーザー研究第２３巻第１２号（平成７年１２月））の記載（ア）中の「最近になり、誘電体バリア放電を励起源としたエキシマランプが開発され、実用化されるに到った。」、記載（イ）中の「ランプは石英ガラスの２重構造になっており、内管の内側には金属電極、外管の外側には金属網電極がそれぞれ施されている。」、記載　（ウ）中の「ランプの照射窓は石英ガラスを使用している。」との記載並びに上記「第５」３の刊行物（特開平５−１３８０１４号公報）の記載（ア）中の「エキシマー光線を出射し、放電空間（４）が、壁面によって仕切られていて、この壁面の少なくとも１つが誘電性物質からなり、かつ放電空間中で発生した光線のために透過性であり」、記載（イ）中の「内側の誘電性管１、例えばガラス管または石英管１」との記載等からみて、上記の点の構成は従来周知のものと認められる。そして、このような従来周知の構成の放電ランプの放電容器の石英ガラスとして、後者の「真空紫外から赤外までの透過率特性に優れ、ＵＶランプ材として適している」石英ガラスを使用することは、当業者が格別の推考力を要することなくなし得る程度のことと認められる。 　 
［相違点２］について 
　石英ガラスに含ませるＯＨ基の割合に関して、本件特許明細書には次のように記載されている。 
　「【０００５】ところで、この石英ガラスは適量のＯＨ基(水酸基)を含ませる方が、純粋なシリカ（ＳｉＯ2 ）で構成するより、放射する紫外線によるダメージを軽減できるということが知られている。つまり、石英ガラスにＯＨ基を含ませる方が良いわけであるが、その含有量があまりに多くなるとＯＨ基自体による紫外線吸収によって早期に所望の放射量が得られなくなるという問題がある。逆に、ＯＨ基の含有量があまりに少なすぎる場合は、紫外線のダメージを受けてしまい石英ガラスの劣化を招くなどの問題を生ずる。
【０００６】【発明が解決しようとする課題】そこで、この発明が解決しようとする課題は、ＯＨ基を含有した石英ガラスを光透過性部分とした誘電体バリア放電ランプ、および誘電体バリア放電ランプを光源とし、ＯＨ基を含有した石英ガラスを窓部材とした照射装置であって、石英ガラスの紫外線によるダメージを良好に抑え、かつ、十分な紫外線放射量を得ることができる構造を提供することである。 
【０００７】【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、この発明にかかる誘電体バリア放電ランプは、石英ガラスからなる放電容器の内部に誘電体バリア放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填され、この放電容器の少なくとも一部に光透過性部分が形成されており、この光透過性部分における非水素結合性ＯＨ基の割合が全体のＯＨ基に対して、０．３６以下であることを特徴とする。 
【０００８】さらに、この発明にかかる照射装置は、誘電体バリア放電により放電容器内にエキシマが生成されて紫外線が放出される誘電体バリア放電ランプと、この誘電体バリア放電ランプを収納し、誘電体バリア放電ランプからの紫外線を取り出す窓部材よりなる構成において、前記窓部材は、石英ガラスよりなり非水素結合性ＯＨ基の割合が全体のＯＨ基に対して、０．３６以下であることを特徴とする。」 
　また、非水素結合性ＯＨ基の果たす役割については、次のように記載されている。 
　「【００１３】この点をもう少し説明する。本発明者らは、石英ガラスにＯＨ基が含まれる場合は、いかなる場合であってもＯＨ基自身による紫外線の吸収が起こるという従来の常識（例えば、「J,Spectrosc,Soc,Jap,vol.41,2(1992)81」には、石英ガラス中のＯＨ基は１６８ｎｍ以下の波長の光を吸収することが開示される）を覆し、種々の研究のすえ、石英ガラスに含まれるＯＨ基のうち非水素結合性ＯＨ基がこの現象に深く関与していることを見出したのである。すなわち、水素結合性ＯＨ基は紫外光、特には真空紫外光の吸収が大きいものではないということである。従って、真空紫外光を放射させる誘電体バリア放電ランプやこの誘電体バリア放電ランプを光源とする照射装置にあっては、光透過性部分や光透過窓を構成する石英ガラスは、非水素結合性ＯＨ基の濃度を限りなく少なくして、水素結合性ＯＨ基の濃度をある程度維持することによって、真空紫外光の石英ガラス自身による吸収を良好に抑えることができるとともに、紫外線照射によるダメージを軽減できるというものである。」 
　さらに、全体のＯＨ基に対する非水素結合性ＯＨ基の割合と紫外線透過量の関係については、次のように記載されている。　 
　「【００１８】次に、全体のＯＨ基濃度に対する非水素結合性ＯＨ基の割合と紫外線透過量の関係を示す。図４は縦軸に波長１６０ｎｍの光の透過率（％）を表し、横軸に非水素結合性ＯＨ基の相対濃度を表す。図より、石英ガラス中の非水素結合性ＯＨ基の濃度が０．３６より小さい場合は、真空紫外光、図においては波長１６０ｎｍの光の透過率が１３％以上であることがわかる。そして、非水素結合性ＯＨ基濃度が０．３０より小さい場合に透過率は１６％以上となり、さらにＯＨ基濃度が０．２７以上の場合は０．１８以上となり、急激に透過率が増加していることがわかる。」 
　上記の記載から、 
・ 放射する紫外線によるダメージを軽減するためには、石英ガラスにＯＨ基を含ませる方が良いが、その含有量があまりに多くなるとＯＨ基自体による紫外線吸収によって早期に所望の放射量が得られなくなるという問題があること 
・ このＯＨ基自体による紫外線吸収という現象に深く関与しているのは、非水素結合性ＯＨ基であること 
・ したがって、この非水素結合性ＯＨ基の濃度を限りなく少なくし、紫外線吸収が大きくない水素結合性ＯＨ基の濃度をある程度維持することによって、真空紫外光の石英ガラス自身による吸収を良好に抑えるとともに、紫外線照射によるダメージを軽減することができること 
・ また、石英ガラス中の非水素結合性ＯＨ基の濃度が０．３６より小さい場合は、真空紫外光の透過率が１３％以上であること 
が読み取れる。
　ところで、審判事件弁駁書の５頁の表及び関連記載によれば，甲第２号証の図３及び図７から読み取ったデータに基づき、本件明細書の段落【００１６】【００１７】記載の算出方法によって、石英ガラスＦ３１０（信越石英化学株式会社製の合成石英ガラスＳｕｐｒａｓｉｌ　Ｆ３１０）について、Ｘｅ誘電体バリア放電ランプを照射した際の、受理時（照射前）、２５時間照射後、１００時間照射後、４３０時間照射後の非水素結合性ＯＨ基割合を求めたものが示されており、同表によれば石英ガラスＦ３１０においては、非水素結合性ＯＨ基の割合は、受理時（照射前）に０．４８１であったものがランプ照射後にその割合が徐々に減少し、２５時間照射後に０．３５３、１００時間照射後に０．３５３（本件出訴の平成１７年（行ケ）第１０５０６号において０．３０９の誤りと判明。）、４３０時間照射後に０．２３７となっており，本件特許発明１で特定される０．３６以下の範囲のものとなっていることが認められる。上記表の数値は、甲第２号証の図３及び図７から読み取ったデータに基づくものであるので、数値自体厳密に正確なものとはいえず、また，ガラスの厚みにより要する時間の多少はあるにせよ、上記表によれば，非水素結合性ＯＨ基を含む石英ガラスに誘電体バリア放電ランプを照射すれば、使用当初の非水素結合性ＯＨ基の割合が０．３６以上であっても、相応の時間（数十時間程度）が経過すると、０．３６以下になることは推測に難くないものと認められる。
　本件特許発明１は、放電容器が石英ガラスからなる誘電体バリア放電ランプであるから、Ｘｅを放電ガスとして使用すれば、石英ガラスがＸｅ誘電体バリア放電ランプからの紫外線を照射されることになる。
　そうすると、誘電体バリア放電ランプの寿命が約１０００時間とされる（参考資料３の２９頁右欄「寿命」の欄）ところ、使用当初の非水素結合性ＯＨ基の割合が０．３６以上か否かにかかわらず、数１０時間程度の照射で０．３６以下という本件特許発明１の要件を満たすことになるので、本件特許発明１を特定するに当たり、非水素結合性ＯＨ基の割合を０．３６以下と規定したことは、使用につれて変化する特定ＯＨ基の割合について、単に、使用中のある時点（寿命と対比して、使用開始から相当短い時点）の数値を特定したにすぎないことになり、真空紫外光の石英ガラス自身による吸収を良好に抑えるとともに紫外線照射によるダメージを軽減することができるといった、本件明細書記載の格別の技術的意義を生ずるような特定とはいえず、単なる設計的事項以上のものということはできない。
　したがって、本件特許発明１において、非水素結合性ＯＨ基に着目し、その割合を特定したことに技術的意義は認められず，単なる設計的事項以上のものということはできない。
　　　　　　
　４　本件特許発明２と「石英ガラスＦ３１０発明」との対比／当審の判断
本件特許発明２（前者）と石英ガラスＦ３１０発明（後者）とを対比すると、両者は「ＵＶランプ材として適している所定割合の非水素結合性ＯＨ基を含む石英ガラス」の点の構成で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１］
　前者が、「誘電体バリア放電により放電容器内にエキシマが生成されて紫外線が放出される誘電体バリア放電ランプと、この誘電体バリア放電ランプを収納し、誘電体バリア放電ランプからの紫外線を取り出す窓部材よりなる照射装置」であるのに対し、後者にはこのような照射装置の構成が示されていない点。
［相違点２］
　石英ガラスに含まれる非水素結合性ＯＨ基の割合に関し、前者が０．３６以下としているのに対し、後者は０．４８程度であって、０．３６以下という条件を満たしていない点。
相違点について検討する。
［相違点１］について
　前者の有する「誘電体バリア放電により放電容器内にエキシマが生成されて紫外線が放出される誘電体バリア放電ランプと、この誘電体バリア放電ランプを収納し、誘電体バリア放電ランプからの紫外線を取り出す窓部材よりなる照射装置」の点の構成については、上記「第５」「６」の刊行物（レーザー研究第２３巻第１２号（平成７年１２月））の記載（ア）中の「最近になり、誘電体バリア放電を励起源としたエキシマランプが開発され、実用化されるに到った。」、記載（エ）中の「合成石英ガラス窓付きのランプハウス内で発光長２５０ｍｍの管形Ｘｅエキシマランプ４本を並列点灯する方式である。」との記載並びに上記「第５」「７」の刊行物（特開平５−１７４７９３号公報）の記載（ア）中の「【００２０】上に述べたビーム発生器（当審注；図１および図２に模式的に示された照射装置のＵＶ高出力ビーム発生器）は金属壁部７、８、９、１７、１８により画定された冷却剤浴１０に浸漬される。・・・上部にはＵＶ透過性の窓１３、例えば石英ガラス製が設けられている。」との記載等からみて、上記の点の照射装置の構成及び窓部材として石英ガラスを用いることは従来周知のものと認められる。そして、このような従来周知の構成の照射装置の窓部材として、後者の「真空紫外から赤外までの透過率特性に優れ、ＵＶランプ材として適している」石英ガラスを使用することは、当業者が格別の推考力を要することなくなし得る程度のことと認められる。
［相違点２］について
　相違点２は上記「３」の相違点２と同じであるから、相違点２については、上記「３」の相違点２において指摘した理由と同様の理由により、単なる設計的事項以上のものということはできない。
　　　　　　　　　　　　　
　第７　むすび
　以上、本件の請求項１及び請求項２に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、同法第１２３条第１項第２号の規定に該当するから、本件特許は無効にすべきものである。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、被請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。