【事件の表示】
　特願２００１−５４５８３２「高線束低バックグラウンド２次元小角Ｘ線散乱用光学系」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　６月２１日国際公開、ＷＯ０１／４４７９３、平成１５年　５月２７日国内公表、特表２００３−５１７６０３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年１２月１８日（優先権主張１９９９年１２月１７日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成１８年１月２７日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年５月８日に拒絶査定不服審判の請求が行われるとともに、同年６月７日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１８年６月７日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
　［補正却下の決定の結論］
　　平成１８年６月７日付けの手続補正を却下する。
　
　［理由］
２−１．補正後の本願発明
　平成１８年６月７日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、補正の内容として、特許請求の範囲の請求項１について、補正前（平成１７年１１月１４日付け手続補正書）の
「【請求項１】　Ｘ線分析システムで、
　Ｘ線ビームを生成するための実験室のＸ線点状線源と、
　Ｘ線ビームを焦点に集束させる集束光学系と、
　前記集束光学系と光学的に結合する第１スリットと、
　前記第１スリットと光学的に結合する第２スリットと、
　Ｘ線検出器とを備え、前記焦点が前記第２スリットと前記Ｘ線検出器との間に配置されるＸ線分析システム。」を、
「【請求項１】　Ｘ線分析システムで、
　Ｘ線ビームを生成するための実験室のＸ線点状線源と、
　Ｘ線ビームを焦点に集束させる集束光学系と、
　前記集束光学系と光学的に結合する第１スリットと、
　前記第１スリットと光学的に結合
して、前記第１スリットと共に前記Ｘ線ビームを形成しかつ画定
　
前記Ｘ線によってサンプルを照射することによって作り出された散乱パターンを検出する
　
　上記補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「第２スリット」について、「
前記第１スリットと共に前記Ｘ線ビームを形成しかつ画定
前記Ｘ線によってサンプルを照射することによって作り出された散乱パターンを検出する
　
　そこで、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
２−２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用した、本願優先権主張日前に頒布された刊行物である、特開平５−２５６８００号公報（以下「引用例」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている（下線は、当審にて付加した）。
　
（ア）「【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、Ｘ線回折を用いて、塗装を施された多結晶金属材料の腐食生成物を非破壊で測定する技術の分野に属する
　
（イ）「【００１２】多段スリットによればノイズを低減し、Ｓ／Ｎ比を改善できる。多段スリットとは最も試料に近いモノクロメータ（またはミラー）と試料の間に３段以上のスリットを有することを指す。
最も試料から遠い（すなわちＸ線入射側の）スリットをビームの寸法に合わせる。以下の下流側のスリットをビームの寸法より少し大きめに設定することによりノイズを減少させることができる
　
（ウ）「【００１３】
【実施例】以下に本発明を実施例により説明する。図１は本発明の第１および第２の実施例での概略構成図（平面図）である。
Ｘ線管球１で発生した特性Ｘ線２は
第１ミラー６により水平方向のＸ線を収束させ、さらに第２ミラー７により垂直方向のＸ線を収束させ、試料１１上に集光する。第２ミラー７と試料１１の間には第１スリット８、第２スリット９、
を置く。
試料１１からの回折Ｘ線１３は
カウンター１５によって計数される。
　
　以上の記載を総合すると、引用例には、「Ｘ線管球１で特性Ｘ線２を発生し、第１ミラー６により水平方向のＸ線を収束させ、さらに第２ミラー７により垂直方向のＸ線を収束させ、試料１１上に集光させ、第２ミラー７と試料１１の間には第１スリット８、第２スリット９が置かれ、試料１１からの回折Ｘ線１３はカウンター１５によって計数される、装置。」（以下、「引用例に記載された発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
２−３．対比・判断
　本願補正発明と引用例に記載された発明とを対比する。
　引用例に記載された発明の「Ｘ線管球１」について、通常のＸ線管は点状のＸ線源となることは当業者には周知であり、また上記摘記事項（ア）に記載されるような、Ｘ線回折を用いて、塗装を施された多結晶金属材料の腐食生成物を非破壊で測定することは、実験室において行われるのが一般的であるから、引用例に記載された発明の「Ｘ線管球１」は、本願補正発明の「Ｘ線ビームを生成するための実験室のＸ線点状線源」に相当する。
　また、引用例に記載された発明の「第１ミラー６」及び「第２ミラー７」は、Ｘ線管球１からのＸ線を水平方向及び垂直方向に収束させ、試料１１上に集光させるものであり、試料上に焦点があることは当業者には明らかであることから、引用例に記載された発明の「第１ミラー６」及び「第２ミラー７」は、本願補正発明の「Ｘ線ビームを焦点に集束させる集束光学系」に相当する。
　次に、引用例に記載された発明の「第１スリット８、第２スリット９」について、第１スリットは第１ミラー及び第２ミラーからのＸ線を制限するものであり、第２スリットは第１スリットからのＸ線を制限するものであると共に、上記摘記事項（イ）に「最も試料から遠い（すなわちＸ線入射側の）スリットをビームの寸法に合わせる。以下の下流側のスリットをビームの寸法より少し大きめに設定することによりノイズを減少させることができる」と記載されることからすると、第１スリット及び第２スリットによってビームの寸法が規定されることは明らかであるから、引用例に記載された発明の「第１スリット８」及び「第２スリット９」は、それぞれ本願補正発明の「第１スリット」及び「第２スリット」に相当する。
　また、引用例に記載された発明の「カウンター１５」は、試料１１からの回折Ｘ線１３を計数するものであり、回折Ｘ線は試料にＸ線を照射した時の散乱パターンとして放射されることは当業者には明らかであるから、引用例に記載された発明の「カウンター１５」は、本願補正発明の「前記Ｘ線によってサンプルを照射することによって作り出された散乱パターンを検出するＸ線検出器」に相当する。
　さらに、上記の通り、引用例に記載された発明においては試料上に焦点があり、試料は第２スリットとカウンターとの間に配置されることから、引用例に記載された発明が、本願補正発明における「前記焦点が前記第２スリットと前記Ｘ線検出器との間に配置される」配置となっていることは、明らかである。
　そして、引用例に記載された発明の「装置」は、上記摘記事項（ア）の記載によれば、Ｘ線回折を用いて、塗装を施された多結晶金属材料の腐食生成物を非破壊で測定する技術の分野に属するもの、すなわちＸ線を用いて分析を行うものであるから、本願補正発明の「Ｘ線分析システム」に相当する。
　
　そうすると、本願補正発明の発明特定事項は、すべて引用例に示されているものであって、本願補正発明は、引用例に記載された発明である。
　したがって、本願補正発明は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
２−４．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
３−１．本願発明
　平成１８年６月７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１７年１１月１４日付け手続補正書の請求項１に記載された事項により特定される、上記２−１．に記載のとおりのものである。
　
３−２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は、上記２−２．に記載したとおりである。
　
３−３．対比・判断
　本願発明は、上記２．で検討した本願補正発明において、「第２スリット」について、「前記第１スリットと共に前記Ｘ線ビームを形成しかつ画定する」との限定を削除し、「Ｘ線検出器」について、「前記Ｘ線によってサンプルを照射することによって作り出された散乱パターンを検出する」との限定を削除したものである。
　
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記２−３．に記載したとおり、引用例に記載された発明と同一のものであるから、本願発明も同様の理由により、引用例に記載された発明と同一である。
　
３−４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　
　したがって、請求項２乃至１２に係る発明について審理するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。