【事件の表示】
　特願２００１−２６６７８０「高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　５月２８日出願公開、特開２００２−１５５１１７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
［１］．手続きの経緯
　本願は、平成１３年９月４日にした特許出願（優先日　平成１２年９月７日　日本国）であり、平成１６年４月７日に手続補正書が提出され、平成１７年１月２１日付けで拒絶理由通知がなされ、同年３月１６日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年５月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年６月２３日に審判請求がなされ、同年７月１５日に手続補正書と審判請求書の手続補正書（方式）が提出され、同年１１月９日付けで前置報告がなされ、当審において、平成１９年６月２６日付けで審尋がなされ、同年８月２３日に回答書が提出されたものである。
　
［２］．補正却下の決定
［結　論］
　平成１７年７月１５日付けの手続補正を却下する。
［理　由］
　（１）補正の内容
　平成１７年７月１５日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、審判請求の日から３０日以内にされた補正であり、その内容は、平成１７年３月１６日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１を以下のようにする補正を含むものである。
「下記式（３）−１〜（３）−８から選ばれる繰り返し単位Ａと、下記一般式（２）−１〜（２）−６から選ばれる酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂとを含むことを特徴とする高分子化合物。
　　【化１】
（式中、Ｆはフッ素原子である。）
　　【化２】
（式中、Ｒ７　〜Ｒ１４は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、一部がフッ素化されたアルキル基であってもよい。Ｒ１５は酸不安定基である。Ｒ１６はメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ１７は単結合又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基である。Ｒ１８は単結合又は炭素数１〜２０の２価炭化水素基であり、ヒドロキシ基、アセチル基又はアルコキシ基を含んでいてもよい。ｂは０又は１である。ｃは１又は２である。）」を
「下記式（３）−６の繰り返し単位Ａと、下記一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂとを含むことを特徴とする高分子化合物。
　　【化１】
（式中、Ｆはフッ素原子である。）
　　【化２】
（式中、Ｒ１２〜Ｒ１４は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、一部がフッ素化されたアルキル基であってもよい。Ｒ１５は酸不安定基である。Ｒ１６はメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ１８は単結合又は炭素数１〜２０の２価炭化水素基であり、ヒドロキシ基、アセチル基又はアルコキシ基を含んでいてもよい。ｂは０又は１である。）」と補正する。
　
　請求項１についての上記補正は、以下（イ）及び（ロ）の補正事項を含むものである。
　補正事項（イ）：「式（３）−１〜（３）−８から選ばれる繰り返し単位Ａ」を「式（３）−６の繰り返し単位Ａ」とする補正
　補正事項（ロ）：「一般式（２）−１〜（２）−６から選ばれる酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」を「一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」とし、「Ｒ　７〜Ｒ１１及びＲ１７」並びに「ｃ」についての説明を削除する補正
　
　また、請求項４は補正前も補正後も「請求項１，２又は３記載の高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。」であるが、引用する請求項１が上記のように補正されたため、実質的に請求項１と同様の補正がなされたものということができる。
　
　（２）補正の適否についての判断
　　（２−１）補正の範囲及び目的
　　　（ｉ）補正事項（イ）について
　補正事項（イ）は、補正前の請求項１に記載された高分子化合物の繰り返し単位Ａの選択肢を「式（３）−１〜（３）−８」から「式（３）−６」のみにするものであるから、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項を限定することを目的とするものである。また、繰り返し単位Ａとして式（３）−６のものは、願書に最初に添付した明細書（以下、「当初明細書」という。）の発明の詳細な説明（段落【００１６】）に記載されていたので、補正事項（イ）は、当初明細書に記載した事項の範囲内でしたものである。
　　　（ｉｉ）上記補正事項（ロ）について
　補正事項（ロ）は、補正前の請求項１に記載された高分子化合物の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂの選択肢を「一般式（２）−１〜（２）−６」から「一般式（２）−３又は（２）−６」のみにするものであるから、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項を限定することを目的とするものである。また、繰り返し単位Ａとして一般式（２）−３又は（２）−６のものは、願書に最初に添付した明細書（以下、「当初明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項２に記載されていたので、補正事項（ロ）は、当初明細書に記載した事項の範囲内でしたものである。
　　　（ｉｉｉ）請求項４の補正について
　上記（ｉ）、（ｉｉ）のとおり、請求項１についての補正事項（イ）及び（ロ）は、いずれも請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項を限定することを目的とし、当初明細書に記載した事項の範囲内でしたものであるから、請求項１を引用する請求項４についても実質的にこれらの補正がなされ、その補正は、請求項４に記載した発明を特定するために必要な事項を限定することを目的とし、当初明細書に記載した事項の範囲内でしたものというべきである。
　
　　（２−２）独立特許要件
  上記のように補正事項（イ）及び（ロ）は請求項１及び４に記載した発明を特定するために必要な事項を限定することを目的とする補正であるから、補正事項（イ）及び（ロ）を含む本件補正は、特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものということができる。
　そこで、本件補正後の請求項１及び４に係る発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるか否かについて、以下に検討する。
　
　　　（ｉ）本件補正後の発明
　本件補正後の請求項１及び４に係る発明（以下、「本件補正発明１」及び「本件補正発明４」という。）は、本件補正後の明細書（以下、「本件補正明細書」という。）の請求項１及び４に記載された以下の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】下記式（３）−６の繰り返し単位Ａと、下記一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂとを含むことを特徴とする高分子化合物。
　　【化１】
（式中、Ｆはフッ素原子である。）
　　【化２】
（式中、Ｒ１２〜Ｒ１４は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、一部がフッ素化されたアルキル基であってもよい。Ｒ１５は酸不安定基である。Ｒ１６はメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ１８は単結合又は炭素数１〜２０の２価炭化水素基であり、ヒドロキシ基、アセチル基又はアルコキシ基を含んでいてもよい。ｂは０又は１である。）」及び
「【請求項４】請求項１，２又は３記載の高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。」
　
　　　（ｉｉ）引用文献の記載事項
　原審の拒絶査定の理由Ｉ（特許法第２９条第１項第３号違反）に引用された国際公開第００／１７７１２号パンフレット（以下、「引用文献」という。）には、以下の事項が記載されている。
　（ア）
「１．（ａ）少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物は多環式であり、かつ少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物はエチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマーと
  （ｂ）少なくとも１個の光活性成分と、
を含むホトレジストであって、前記フッ素含有コポリマーは芳香族官能基を含有せず、前記ホトレジストを３６５ｎｍより小さい波長を有する紫外線の像露光によりレリーフ像を生成するように現像可能にするのに十分な官能基を含有することを特徴とするホトレジスト。
−中略−
　４．少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物を、
からなる群から選択し、式中、
  ｍおよびｎはそれぞれ０、１または２であり、ｐは３以上の整数であり、
  ａおよびｂは独立に１から３であるが、ｂが２の場合ａは１でなく、その逆も同じであり、
  Ｒ１　からＲ１４は同じかまたは異なるものであり、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、Ｃ１　からＣ１４の二級または三級アルキルカルボキシレート、炭化水素基または置換炭化水素基を表し、
  Ｒ１５は、炭素原子約４から約２０個の飽和アルキル基であって、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じという条件下で、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有し、
  Ｒ１６からＲ２１は、Ｒ１８からＲ２１の少なくとも１つはＣＯ２　Ａであるという条件下で、各々独立に、水素原子、Ｃ１　からＣ１２のアルキル、（ＣＨ２　）ｑＣＯ２　Ａ、ＣＯ２　（ＣＨ２　）ｑＣＯ２　ＡまたはＣＯ２　Ａであり、ただし、ｑは１〜１２であり、Ａは水素または酸保護基であることを特徴とする請求項１に記載のホトレジスト。
−中略−
　７．エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含有する前記エチレン性不飽和化合物を、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ペルフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ペルフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２　＝ＣＦＯ（ＣＦ２　）ｔＣＦ＝ＣＦ２　（ｔは１または２である）およびＲｆ　ＯＣＦ＝ＣＦ２　（Ｒｆ　は炭素原子１個から約１０個の飽和フルオロアルキル基である）からなる群から選択することを特徴とする請求項１に記載のホトレジスト。
−中略−
　１９．フッ素含有コポリマーであって、
  （ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含む少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位と、
  （ｉｉ）ＣＨ２　＝ＣＨＯ２　ＣＲ１５、ＣＨ２　＝ＣＨＯＣＨ２　Ｒ１５およびＣＨ２　＝ＣＨＯＲ１５からなる群から誘導された反復単位であり、式中、Ｒ１５は、炭素原子が約４個から約２０個の飽和アルキル基であり、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じであるという条件付きで、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有している反復単位と、を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマー。
−中略−
　２２．エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含有する前記エチレン性不飽和化合物は、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ペルフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ペルフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２　＝ＣＦＯ（ＣＦ２　）ｔＣＦ＝ＣＦ２　（ｔは１または２である）およびＲｆ　ＯＣＦ＝ＣＦ２　（Ｒｆ　は炭素原子１個から約１０個の飽和フルオロアルキル基である）らなる群から選択されることを特徴とする請求項１９または２０に記載のフッ素含有コポリマー。
−以下、略−」（クレーム；第４４頁１行〜第４９頁末行）
　
　（イ）
「 構造式Ｈを有する代表的なコモノマーとしては、以下のものに限定するものではないが、
を含む。」（第１３頁３〜７行）
　
　（ウ）
「構造式Ｍを有する代表的なコモノマーとしては、以下のものに限定するものではないが、
を含む。」（第１４頁８〜１２行）
　
　（エ）
「実施例１７
  ＴＦＥ／ノルボルネン／５−ノルボルネン−２−カルボン酸ｔ−ブチルエステル　ターポリマー＝Ｐ（ＴＦＥ／ＮＢ／５−ＮＢ−２−ＣＯ２　ｔＢｕ）の合成
  以下の手順を用いて、このポリマー合成用のコモノマーとして、５−ノルボルネン−２−カルボン酸ｔ−ブチルエステルを調製した。３００ｍｌの１つ口丸底フラスコにクラッキングしたばかりのシクロペンタジエン（１５．５ｇ、２３０ミリモル）とｔ−ブチルアクリレート（２９．４ｇ、２２９ミリモル）のキシレン（８５ｇ）溶液を加えた。反応混合物を、窒素雰囲気のもと、還流温度で８時間加熱し、生成物を次にスピニングバンド蒸留カラム（０．４ｍｍＨｇ〜０．５ｍｍＨｇで沸点４４℃〜４６℃）を用いて分別蒸留した。５−ノルボルネン−２−カルボン酸ｔ−ブチルエステルの収量は３０ｇ（６７％）であった。
  ノルボルネン３７．６ｇ（０．４０モル）、５−ノルボルネン−２−カルボン酸ｔ−ブチルエステル１９．４ｇ（０．１０モル）、Ｐｅｒｋａｄｏｘ（登録商標）１６Ｎ１．６ｇ、ＣＦＣ−１１３の１２０ｍｌ、およびＴＦＥ５０ｇ（０．５０モル）を使用して、実施例２の重合手順にしたがった。生成混合物は透き通った溶液で、これを過剰のメタノールに加えてポリマーを沈殿させた。白色ポリマー１８．６ｇ（１７％）が単離され、ＧＰＣ（ＭＥＫ）によるＭｗ＝４３００、Ｍｎ＝２３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９、インヘレント粘度＝０．０４０（ＭＥＫ）、Ｔｇ＝１７１℃であった。分析値は、Ｃ＝５９．２６、Ｈ＝６．００、Ｆ＝２９．１６であった。当てはまる１３Ｃ  ＮＭＲ共鳴の積分から、このポリマー組成物は、ＴＦＥ４２モル％、５−ノルボルネン−２−カルボン酸ｔ−ブチルエステル１７モル％およびノルボルネン４１モル％であることがわかった。」（第３１頁４〜２４行）
　
　　　（ｉｉｉ）対比、判断
　　　　（ｉｉｉ−１）引用発明
　引用文献には、その特許請求の範囲の請求項１に「（ａ）少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物は多環式であり、かつ少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物はエチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマーと（ｂ）少なくとも１個の光活性成分と、を含むホトレジストであって、前記フッ素含有コポリマーは芳香族官能基を含有せず、前記ホトレジストを３６５ｎｍより小さい波長を有する紫外線の像露光によりレリーフ像を生成するように現像可能にするのに十分な官能基を含有することを特徴とするホトレジスト。」が記載されている。この「（ａ）フッ素含有コポリマー」を構成する反復単位を誘導する「少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物」として、請求項４には、
（式中、ｍおよびｎはそれぞれ０、１または２であり、ｐは３以上の整数であり、ａおよびｂは独立に１から３であるが、ｂが２の場合ａは１でなく、その逆も同じであり、Ｒ１　からＲ１４は同じかまたは異なるものであり、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、Ｃ１　からＣ１４の二級または三級アルキルカルボキシレート、炭化水素基または置換炭化水素基を表し、Ｒ１５は、炭素原子約４から約２０個の飽和アルキル基であって、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じという条件下で、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有し、Ｒ１６からＲ２１は、Ｒ１８からＲ２１の少なくとも１つはＣＯ２　Ａであるという条件下で、各々独立に、水素原子、Ｃ１　からＣ１２のアルキル、（ＣＨ２　）ｑＣＯ２　Ａ、ＣＯ２　（ＣＨ２　）ｑＣＯ２　ＡまたはＣＯ２　Ａであり、ただし、ｑは１〜１２であり、Ａは水素または酸保護基である）
が挙げられており、また、「エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物」として請求項７には、
テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ペルフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ペルフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２　＝ＣＦＯ（ＣＦ２　）ｔＣＦ＝ＣＦ２　（ｔは１または２である）およびＲｆ　ＯＣＦ＝ＣＦ２　（Ｒｆ　は炭素原子１個から約１０個の飽和フルオロアルキル基である）
が挙げられている。〔摘示記載（ア）〕
　また、引用文献には、請求項４に記載された化合物の内、「構造式（Ｈ）を有する代表的コモノマー」として
（以下、「Ｈ１化合物」という。）及び
（以下、「Ｈ２化合物」という。）
等の化合物〔摘示記載（イ）〕が記載されており、「構造式（Ｍ）を有する代表的コモノマー」として
（以下、「Ｍ１化合物」という。）
等の化合物〔摘示記載（ウ）〕が記載されている。
　そして、これらの化合物はいずれもエチレン性不飽和基を含有する多環式化合物であるから、引用文献の請求項１に記載された「（ａ）フッ素含有コポリマー」の反復単位を誘導する多環式エチレン性不飽和化合物にあたるものである。
　そうすると、引用文献には、
「少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物は、
（Ｈ１化合物）、
（Ｈ２化合物）、
（Ｍ１化合物）
等の多環式エチレン性不飽和化合物であり、
少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物は、ヘキサフルオロプロピレン等のエチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物である、フッ素含有コポリマー」
の発明（以下、「引用発明１」という。）及び、
「引用発明１と、（ｂ）少なくとも１個の光活性成分と、を含むホトレジスト」
の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されているものということができる。
　
　　　　（ｉｉｉ−２）本件補正発明と引用発明との対比
　そこで、ともに高分子化合物に係る本件補正発明１と引用発明１、及び、ともにレジスト材料に係る本件補正発明４と引用発明２とを、それぞれ以下に対比する。
　　　　　（ｉｉｉ−２−１）本件補正発明１と引用発明１との対比　
　引用発明１は、多環式エチレン性不飽和化合物とフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物からそれぞれ誘導される反復単位を含有するコポリマーであり、フッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物としてヘキサフルオロプロピレンを用いた場合には、それから誘導される反復単位が、
となり、本件補正発明１における「式（３）−６の繰り返し単位Ａ」と一致することが明らかである。
　また、多環式エチレン性不飽和化合物としてＨ１化合物及びＨ２化合物等の、不飽和結合を環の一部に有する化合物を用いた場合には、これから誘導される重合体は、当該不飽和結合が開いた構造の繰り返し単位を有することとなり、Ｈ１化合物からは、
においてｂが０、Ｒ１５が−Ｃ（ＣＨ３）３（ｔ−ブチル基）の繰り返し単位が、Ｈ２化合物からはｂが１、Ｒ１５が−Ｃ（ＣＨ３）３（ｔ−ブチル基）の繰り返し単位が誘導される。
　更に、多環式エチレン性不飽和化合物としてＭ１化合物等の、不飽和結合が環の外に存在する化合物を用いた場合には、これから誘導される重合体は、当該不飽和結合が開いた構造の繰り返し単位を有することとなり、Ｍ１化合物からは、
においてＲ１５が
（アダマンチル基）の繰り返し単位が誘導される。
　そして、引用文献には、多環式エチレン性不飽和化合物として例示されたヘキサフルオロプロピレンと、フッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物として例示されたＨ１化合物、Ｈ２化合物及びＭ１化合物の何れかとから、それぞれ誘導される繰り返し単位同士の組み合わせを避けるべきことは記載されていないから、引用発明には、ヘキサフルオロプロピレンから誘導された繰り返し単位と、Ｈ１化合物、Ｈ２化合物及びＭ１化合物の何れかから誘導された繰り返し単位とを、ともに包含するフッ素含有コポリマーが、当然含まれるものというべきである。
　そうすると、本件補正発明１と引用発明１とは、ともに、
「下記式（Ａ）の繰り返し単位Ａと、下記一般式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）の繰り返し単位Ｂとを含む高分子化合物。
（Ａ）
（式中、Ｆはフッ素原子である。）
（Ｂ−１）
（Ｂ−２）
（式中、Ｒ１２〜Ｒ１４は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、一部がフッ素化されたアルキル基であってもよい。Ｒ１６はメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ１８は単結合又は炭素数１〜２０の２価炭化水素基であり、ヒドロキシ基、アセチル基又はアルコキシ基を含んでいてもよい。ｂは０又は１である。）」
である点で一致しているが、以下の点で、これらの発明は一応相違する。
＜相違点＞
　（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）の「Ｒ１５」基について、本件補正発明１では「Ｒ１５は酸不安定基である」としているのに対して、引用文献にはＲ１５に相当する基がｔ−ブチル基、アダマンチル基等の化合物が例示されているものの、引用発明１ではこの基を「酸不安定基」としては規定していない点。                                          
　
　この点について検討すると、本件補正明細書には、「Ｒ１５で示される酸不安定基としては、下記式（５）、（６）で示される基、下記式（７）で示される炭素数４〜４０の三級アルキル基、炭素数１〜６のトリアルキルシリル基、炭素数４〜２０のオキソアルキル基等であることが好ましい。」（段落【００２４】）と記載されており、式（７）として、
が示されている。また、同明細書には、「次に、式（７）においてＲ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基等の１価炭化水素基であり、酸素、硫黄、窒素、フッ素などのヘテロ原子を含んでもよく、Ｒ２３とＲ２４、Ｒ２３とＲ２５、Ｒ２４とＲ２５とは互いに結合して環を形成してもよい。」（段落【００３４】）及び「式（７）に示される三級アルキル基としては、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリエチルカルビル基、１−エチルノルボニル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロペンチル基、２−（２−メチル）アダマンチル基、２−（２−エチル）アダマンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基等を挙げることができる。」（段落【００３５】）と記載されており、ｔｅｒｔ−ブチル基が酸不安定基であることが明記されている。また、「式（７）に示される三級アルキル基」として例示された２−（２−メチル）アダマンチル基及び２−（２−エチル）アダマンチル基はともにアダマンチル基の誘導体であり、アダマンチル基自体が「（Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基等の１価炭化水素基であり）Ｒ２３とＲ２４、Ｒ２３とＲ２５、Ｒ２４とＲ２５とが互いに結合して環を形成した」基に該当するので、アダマンチル基が酸不安定基であることも同明細書に実質的に開示されているものというべきである。
　そうすると、本件補正発明１における「酸不安定基」としての「Ｒ１５ 」には、実質的にｔ−ブチル基及びアダマンチル基が包含されるものと解されるので、この点は実質的な相違点ではない。
　よって、本件補正発明１と引用発明１とは、実質的に同一の発明である。
　
　なお、請求人は審判請求書において、引用文献には、本件補正発明１における「式（３）−６の繰り返し単位Ａ」と「一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」との組み合わせを具体的に開示するところはなく、本願補正発明１はそれによって優れた効果を奏するので特許性を有する、旨主張している。
  しかしながら、上記のとおり、引用文献には、本件補正発明１における「式（３）−６の繰り返し単位Ａ」を誘導する化合物としてヘキサフルオロエチレンが記載され、また、「一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」を誘導するＨ１化合物、Ｈ２化合物及びＭ１化合物も記載されているのであり、しかも、これらの化合物の組み合わせを避けるべきことは記載されていないから、引用文献には、本件補正発明１における「式（３）−６の繰り返し単位Ａ」と「一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」との組み合わせが記載されているものというほかはない。
　そして、審判請求書に記載された実験例や本件補正明細書の実施例及び比較例をみても、本件補正発明１において繰り返し単位Ｂとして特定の化合物を用いた場合の効果が窺われるにすぎず、本件補正発明１のすべての範囲において顕著な作用効果を奏し得るものと認めることはできない。
　この点は、請求人が回答書中で提示している補正案のとおりに本件補正発明１が補正されたとしても、同様である。
　よって、請求人の主張は採用できない。
　
　したがって、本件補正発明１は、引用文献に記載された発明である。　
　
　　　　　（ｉｉｉ−２−２）本件補正発明４と引用発明２との対比　
　本件補正発明４は、「請求項１、２又は３記載の高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料」であり、一方、引用発明２は、「引用発明１と、（ｂ）少なくとも１個の光活性成分と、を含むホトレジスト」である。
　引用発明２は「（ｂ）少なくとも１個の光活性成分」を含むものであるが、本件補正明細書にも、請求項１に記載された高分子化合物に酸発生剤を配合してホトレジスト材料とすることが記載（請求項５等）されており、この酸発生剤は光により活性化する（段落【００６９】等）ものであるから、引用発明２における光活性成分に相当するものである。また、「レジスト材料」と「ホトレジスト」とは、ともにホトレジスト（材料）を指すものであり、技術的な差異はない。
　そうすると、本件補正発明４と引用発明２とは、それぞれ、本件補正発明１を含むレジスト材料、及び、引用発明１を含むレジスト材料であり、上記のとおり本件補正発明１と引用発明１とは同一の発明であるから、上記と同様の理由により、本件補正発明４と引用発明２もまた同一の発明である。
　よって、本件補正発明４は、引用文献に記載された発明である。　
　
　　　（ｉｖ）小括
　したがって、本件補正発明１及び４は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
　　（２−３）まとめ
  以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。　
　
［３］．本願発明
  上記のとおり、平成１７年７月１５日付けの手続補正が却下された。
　当該補正に先立つ平成１７年３月１６日付けの手続補正によって補正された明細書（以下、「本願明細書」という。）の記載からみて、本願請求項１及び４に係る発明（以下、「本願発明１」及び「本願発明４」という。）はその特許請求の範囲の請求項１及び４に記載された以下のとおりのものである。
「下記式（３）−１〜（３）−８から選ばれる繰り返し単位Ａと、下記一般式（２）−１〜（２）−６から選ばれる酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂとを含むことを特徴とする高分子化合物。
　　【化１】
（式中、Ｆはフッ素原子である。）
　　【化２】
（式中、Ｒ７　〜Ｒ１４は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、一部がフッ素化されたアルキル基であってもよい。Ｒ１５は酸不安定基である。Ｒ１６はメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ１７は単結合又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基である。Ｒ１８は単結合又は炭素数１〜２０の２価炭化水素基であり、ヒドロキシ基、アセチル基又はアルコキシ基を含んでいてもよい。ｂは０又は１である。ｃは１又は２である。）」
及び
「【請求項４】　請求項１，２又は３記載の高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。」
　
［４］．原査定の理由
  原査定の理由とされた平成１７年１月２１日付け拒絶理由通知書に記載した理由Ｉの概要は以下のとおりである。
「この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
請求項　　：１〜４、６及び８
引用文献１：国際公開第００／１７７１２号パンフレット」
　
［５］．引用文献の記載事項
  引用文献１（以下、「引用文献」という。）には、上記［２］．（２）．（２−２）．（ｉｉ）で指摘した点が記載されている。
　
［６］．対比、判断
　本願発明１は、本件補正発明１において、
　（イ）：「式（３）−６の繰り返し単位Ａ」を「式（３）−１〜（３）−８から選ばれる繰り返し単位Ａ」とし、
　（ロ）：「一般式（２）−３又は（２）−６の酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」を「一般式（２）−１〜（２）−６から選ばれる酸不安定基を有する繰り返し単位Ｂ」としたものであり、いずれも、選択肢を拡大したものである。
　そうすると、本願発明１は、本件補正発明１を包含するものということができる。
　また、本願発明１を引用する本願発明４も同様に、本件補正発明４を包含するものということができる。
　そして、上記 ［２］．（２）．（２−２）．で指摘したとおり、本件補正発明１及び４は引用文献に記載された発明であるから、本願発明１及び４もまた同様の理由により、引用文献に記載された発明である。
　
［７］．むすび
  以上のとおりであるから、本願発明１及び４は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。