【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（２４５ｃｂ）を調製するためのプロセスであって、
１，１，１−トリフルオロ−２，３−ジクロロプロパン（２４３ｄｂ）を含む組成物の気相触媒脱塩化水素化により、３，３，３−トリフルオロ−２−クロロ−プロパ−１−エン（ＣＦ３ＣＣｌ＝ＣＨ２、１２３３ｘｆ）、塩化水素（ＨＣｌ）、及び空気を含む中間組成物を生成することと、
前記中間組成物のフッ化水素（ＨＦ）を用いた気相触媒フッ素化により、２４５ｃｂ、ＨＦ、ＨＣｌ、及び空気を含む反応器生成組成物を生成することと、を含み、
前記プロセスが、空気を同時供給しながら行われ、前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、０．１〜５００モル％である、プロセス。
【請求項２】
前記脱塩化水素化ステップが、第１の反応器で行われ、前記フッ素化ステップが、第２の反応器で行われる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、１〜２００モル％である、請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、２〜１００モル％である、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、５〜１００モル％である、請求項４に記載のプロセス。
【請求項６】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、１０〜１００モル％である、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、１５〜９５モル％である、請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、２０〜９０モル％である、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記プロセスに同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、２５〜８５モル％である、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
空気が、第１及び第２の反応器の両方に同時供給され、前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、前記第２の反応器に同時供給される空気の量よりも、モル基準で少ない、請求項２〜９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、前記第２の反応器に同時供給される空気の量の２分の１未満である、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、前記第２の反応器に同時供給される空気の量の４分の１未満である、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、前記第２の反応器に同時供給される空気の量の１０分の１未満である、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記中間組成物が、前記第１の反応器を出て、前記第２の反応器に直接供給される、請求項２〜１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１５】
１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（２４５ｃｂ）を調製するためのプロセスであって、
１，１，１−トリフルオロ−２，３−ジクロロプロパン（２４３ｄｂ）を含む組成物の第１の反応器における気相触媒脱塩化水素化により、３，３，３−トリフルオロ−２−クロロ−プロパ−１−エン（ＣＦ３ＣＣｌ＝ＣＨ２、１２３３ｘｆ）及び塩化水素（ＨＣｌ）を含む中間組成物を生成することと、
前記中間組成物の第２の反応器におけるフッ化水素（ＨＦ）を用いた気相触媒フッ素化により、２４５ｃｂ、ＨＦ、ＨＣｌ、及び空気を含む反応器生成組成物を生成することと、を含み、
前記プロセスが、前記第２の反応器へ空気を同時供給しながら行われ、前記第２の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、５〜１００モル％である、プロセス。
【請求項１６】
前記第２の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、１０モル％〜１００モル％である、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記第２の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、１５〜９５モル％である、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記第２の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、２０〜９０モル％である、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記第２の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、２５〜８５モル％である、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
空気が前記第１の反応器に更に同時供給され、前記中間組成物が、空気を更に含む、請求項１５〜１９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、０．１〜１００モル％である、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、０．２〜５０モル％である、請求項２１に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、０．３〜２０モル％である、請求項２２に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、０．４〜１０モル％である、請求項２３に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記第１の反応器に同時供給される空気の量が、有機物の量に基づいて、０．４〜５モル％である、請求項２４に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記中間組成物が、前記第１の反応器を出て、前記第２の反応器に直接供給される、請求項１５〜２５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２７】
前記２４３ｄｂの触媒脱塩化水素化が、ＨＦの存在下で行われ、前記中間組成物が、ＨＦを更に含有する、請求項１〜２６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記２４３ｄｂを含む組成物が、ＨＦを、０．５：１〜４０：１のＨＦ：２４３ｄｂのモル比で更に含有する、請求項２７に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記ＨＦ：２４３ｄｂのモル比が、１：１〜１５：１である、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記第２の反応器における前記ＨＦ：１２３３ｘｆのモル比が、１：１〜４５：１である、請求項２〜２９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３１】
前記第２の反応器における前記ＨＦ：１２３３ｘｆのモル比が、２：１〜２０：１である、請求項３０に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記第２の反応器における前記ＨＦ：１２３３ｘｆのモル比が、３：１〜１５：１である、請求項３１に記載のプロセス。
【請求項３３】
ＨＦの更なる供給が、前記第２の反応器に提供される、請求項３０〜３２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３４】
前記空気が、同時供給される前に圧縮される、請求項１〜３３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３５】
前記空気が、同時供給される前に乾燥される、請求項１〜３４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記反応器生成組成物が、２４５ｃｂ及びＨＦを含む流れと、ＨＣｌ及び空気を含む流れとに分離される、請求項１〜３５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記２４５ｃｂ及びＨＦを含む流れが、２４５ｃｂを豊富に含む流れとＨＦを豊富に含む流れとに分離される、請求項３６に記載のプロセス。
【請求項３８】
前記２４５ｃｂを豊富に含む流れが、残留ＨＦが前記２４５ｃｂを豊富に含む流れから実質的に除去され、ＨＦを実質的に含まない２４５ｃｂを豊富に含む流れを生成するスクラビングステップを受ける、請求項３７に記載のプロセス。
【請求項３９】
前記２４５ｃｂが、存在するいずれの更なるフルオロカーボンからも分離され、実質的に純粋な２４５ｃｂ生成物を生成する、請求項１〜３８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項４０】
前記触媒脱塩化水素化が、２００〜４５０℃の温度かつ０．１〜３０ｂａｒａの圧力でで行われる、請求項１〜３９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項４１】
前記触媒脱塩化水素化が、２５０〜３８０℃の温度かつ１〜２０ｂａｒａの圧力で行われる、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４２】
前記触媒脱塩化水素化が、３００〜３５０℃の温度かつ５〜２０ｂａｒａの圧力で行われる、請求項４１に記載のプロセス。
【請求項４３】
前記触媒脱塩化水素化が、活性炭、ゼロ価金属、金属酸化物、金属オキシハライド、金属ハロゲン化物、または上記の混合物を含む、バルク型または担持型触媒の存在下で行われる、請求項１〜４２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項４４】
前記金属が、遷移金属、アルカリ土類金属、またはアルミニウムである、請求項４３に記載のプロセス。
【請求項４５】
前記触媒が、クロミアに基づく、請求項４３または４４に記載のプロセス。
【請求項４６】
前記触媒が、亜鉛／クロミア触媒に基づく、請求項４５に記載のプロセス。
【請求項４７】
前記触媒フッ素化が、２００〜４５０℃の温度かつ０．１〜３０ｂａｒａの圧力で行われる、請求項１〜４６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項４８】
前記触媒フッ素化が、２５０〜４２０℃の温度かつ１〜２０ｂａｒａの圧力で行われる、請求項４７に記載のプロセス。
【請求項４９】
前記触媒フッ素化が、３００〜３８０℃の温度かつ５〜２０ｂａｒａの圧力で行われる、請求項４８に記載のプロセス。
【請求項５０】
前記触媒フッ素化が、活性炭、ゼロ価金属、金属酸化物、金属オキシハライド、金属ハロゲン化物、または上記の混合物を含む、バルク型または担持型触媒の存在下で行われる、請求項１〜４９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５１】
前記金属が、遷移金属、アルカリ土類金属、またはアルミニウムである、請求項５０に記載のプロセス。
【請求項５２】
前記触媒が、クロミアに基づく、請求項５０または５１に記載のプロセス。
【請求項５３】
前記触媒が、亜鉛／クロミア触媒に基づく、請求項５２に記載のプロセス。
【請求項５４】
前記反応器生成組成物中の前記ＨＦが、前記２４３ｄｂ及びＨＦを含む組成物の前記触媒脱塩化水素化に少なくとも部分的に再利用される、請求項１〜５３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５５】
前記ＨＦを豊富に含む流れ中の前記ＨＦが、前記２４３ｄｂ及びＨＦを含む組成物の前記触媒脱塩化水素化に再利用される、請求項３７に記載のプロセス。
【請求項５６】
前記ＨＦを豊富に含む流れが、ＨＦの流れと有機物の流れとに分離され、前記ＨＦの流れが、前記２４３ｄｂ及びＨＦを含む組成物の前記触媒脱塩化水素化に再利用される、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５７】
前記反応器生成組成物が、２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（１２３４ｙｆ）を更に含有する、請求項１〜５６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５８】
前記２４５ｃｂを脱フッ化水素化反応器に供給して、２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（１２３４ｙｆ）及びＨＦを含む脱フッ化水素化生成物を生成することを更に含む、請求項１〜５７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５９】
前記２４５ｃｂが、気相において１２３４ｙｆに触媒的に脱フッ化水素化される、請求項５７に記載のプロセス。