【事件の表示】
　特願２００２−２２２３３９「薄膜磁気ヘッド」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月１８日出願公開、特開２００３−１１５１０２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１４年７月３１日（優先権主張平成１３年７月３１日）の出願であって、平成１８年４月２６日付けで手続補正がなされたが、平成１８年７月２５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年８月３０日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、平成１８年９月２９日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１８年９月２９日付け手続補正（以下「本件補正」という。）について
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年９月２９日付け手続補正を却下する。
［理由］
１．本件補正
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、補正前の、
　（ａ）　「【請求項１】絶縁膜を形成した基板上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第１の磁気抵抗効果素子が、該第１の磁気抵抗効果素子の形成された面に対して直交する前記基板の面が前記磁気記録媒体に対向するスライダ面になるように配置され、該スライダ面の研磨加工量を計測するための第２の磁気抵抗効果素子が前記第１の磁気抵抗効果素子に近接されて配置された薄膜磁気ヘッドであって、前記第１の磁気抵抗効果素子は第１の磁気抵抗効果膜及び該第１の磁気抵抗効果膜に接触させた一組の電極とを挟むように一組のシールド膜が形成されてなり、前記第２の磁気抵抗効果素子は第２の磁気抵抗効果膜に一組の電極を接触させて形成されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」を、
　（ｂ）　「【請求項１】絶縁膜を形成した基板上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第１の磁気抵抗効果素子が、該第１の磁気抵抗効果素子の形成された面に対して直交する前記基板の面が前記磁気記録媒体に対向するスライダ面になるように配置され、該スライダ面の研磨加工量を計測するための第２の磁気抵抗効果素子が前記第１の磁気抵抗効果素子に近接
して前記スライダ毎に
の両端部で
第１の
を
して積層された
前記絶縁膜上に配置され
及び該第２の磁気抵抗効果膜の両端部で接触させた
第２の
のみが前記絶縁膜上に配置されてなり
前記第１の磁気抵抗効果膜と前記第２の磁気抵抗効果膜、及び前記第１の電極と前記第２の電極とが各々幾何学的に同一形状であって、同一素材を用いて形成されてなる
　と補正するものである。
　本件補正は、補正前の請求項１に記載された発明の「第２の磁気抵抗効果素子」について、「
スライダ毎に
及び該第２の磁気抵抗効果膜の両端部で接触させた
第２の
のみが前記絶縁膜上に配置されてなり
第１の磁気抵抗効果膜と第２の磁気抵抗効果膜」及び「第１の電極と第２の電極」について、「各々幾何学的に同一形状であって、同一素材を用いて形成されてなる
　そこで、補正後における特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定される発明（以下「補正後の発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて以下に検討する。
　
２．引用例
（１）原査定の拒絶の理由に引用された特開２０００−３２２７１２号公報（以下「引用例１」という。）には、「薄膜磁気ヘッド、及び前記薄膜磁気ヘッドを形成する基板」に関し、次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与したものである。）
　（ア）「【請求項１】　
下部シールド層と、前記下部シールド層の上に下部ギャップ層を介して形成された、磁気抵抗効果を発揮する多層膜と、前記多層膜の両側に形成されて前記多層膜にバイアス磁界を与える一対のバイアス層と、前記バイアス層上に形成されて前記多層膜に導通する一対の電極層とから成る磁気抵抗効果素子と、前記磁気抵抗効果素子の上に、上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを有する薄膜磁気ヘッド
前記電極層及びバイアス層は、ＡＢＳ面からハイト方向へ一定の長さ寸法で形成される先端領域と、この先端領域との境界からトラック幅方向に広がりを持って且つハイト方向へ向けて形成される後端領域とを有して構成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」（特許請求の範囲の請求項１）
　（イ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気抵抗効果を発揮する磁気抵抗効果素子を有する薄膜磁気ヘッド、及び前記薄膜磁気ヘッドが製造される前の段階でのモニター素子を備えた基板に係り、特に今後の高記録密度化に伴う狭ギャップ化に対応するために、スメアリングの発生を低減することが可能な薄膜磁気ヘッド、及び前記薄膜磁気ヘッドを形成する基板に関する。」
　（ウ）「【０００４】そして図６に示すように、複数の磁気抵抗効果素子１３と、１つのモニター素子５とが、下部ギャップ層４上であって、ＡＢＳ面方向（図示Ｘ方向）に一列に並んで形成されている。」（従来の技術の項）
　（エ）「【０００６】また前記モニター素子５も、前記磁気抵抗効果素子１３と全く同じ構造で形成されている。すなわち、前記モニター素子５の中央部には磁気抵抗効果を発揮する多層膜９が形成され、前記多層膜９の両側には、Ｃｒ（クロム）などの電極層１０が形成されている。磁気抵抗効果素子１３とモニター素子５は、下部ギャップ層４上に同時にパターン形成される。
【０００７】図５に示すように、磁気抵抗効果素子１３を構成する一対の電極層８及びモニター素子５を構成する一対の電極層１０は、共に多層膜７，９を挟んで、その両側に左右対称に形成されている。前記電極層８，１０は、ＡＢＳ面にて露出して形成されている。」（従来の技術の項）
　（オ）「【００１０】ところで、モニター素子５は、前記モニター素子５と同列に形成された複数の磁気抵抗効果素子１３の直流抵抗（ＤＣＲ）をある所定値に定めるために設けられた、いわゆる加工用モニターであり、加工用モニターとしての役割を果たした後、前記モニター素子は除去される。
【００１１】磁気抵抗効果素子１３の直流抵抗（ＤＣＲ）をある所定値に定めるためには、前記モニター素子５を構成する電極層１０間の直流抵抗を測定しながら、磁気抵抗効果素子及びモニター素子５のＡＢＳ面（図５参照）を研削加工する（ハイト出し）。そして、所定の直流抵抗値となったら、前記ＡＢＳ面の研削加工を終了する。
【００１２】前述したように、複数の磁気抵抗効果素子１３は全て同じ構造で、しかもＡＢＳ面と平行に一列上に形成されているので、研削加工を施してモニター素子５の直流抵抗値がある一定の直流抵抗値に達すると、各磁気抵抗効果素子１３の直流抵抗値も所定の直流抵抗値に達していることになる。」（従来の技術の項）
　（カ）「【００３１】ところで、
前記薄膜磁気ヘッドに形成された磁気抵抗効果素子の露出面をＡＢＳ面と称し
記録媒体信号の再生時において、この露出するＡＢＳ面が記録媒体と対向する
ＡＢＳ面に垂直方向であって、前記ＡＢＳ面が記録媒体と対向する際における前記記録媒体から離れる方向をハイト方向と称しているが、このハイト方向における磁気抵抗効果素子の長さ寸法
【００３２】磁気抵抗効果素子のハイト方向への長さを、前記直流抵抗との関係から所定寸法に研削加工（ハイト出し加工）するために、
前記磁気抵抗効果素子と全く同じ構成を有するモニター素子を、基板上に形成された磁気抵抗効果素子の形成位置と同列上に形成し、このモニター素子の直流抵抗を測定しながら、磁気抵抗効果素子及びモニター素子のＡＢＳ面に対してハイト出し加工を施している
　（キ）「【００３５】上述した薄膜磁気ヘッドを形成する基板は、最終的に磁気抵抗効果素子毎に切断され、いわゆる薄膜磁気ヘッドが完成する。（略）」（課題を解決するための手段の項）
　（コ）「【００３８】図１に示すように、基板２０の正面は、ＡＢＳ面と呼ばれており、このＡＢＳ面に、複数の磁気抵抗効果素子２１と１つのモニター素子２２の正面構造が露出した状態となっている。
【００３９】前記基板２０のＡＢＳ面に、レール部（図示しない）の形成、クラウン形成等の所定の加工が施された後、基板２０が切断されて、１つの磁気抵抗効果素子２１を有する薄膜磁気ヘッドが完成する。
【００４０】図２に示すように、基板２０の上には、例えばＮｉＦｅ合金（パーマロイ）で形成された下部シールド層２３が形成されている。前記下部シールド層２３の幅寸法はＴ６で形成されている。また前記下部シールド層２３の上には、ＳｉＯ２（略）などの絶縁材料で形成され、ギャップ長Ｇ１を有する下部ギャップ層２４が形成されている。そして前記下部ギャップ層２４の上に、複数の磁気抵抗効果素子２１と、１つのモニター素子２２とがＸ方向（ＡＢＳ面方向）に一列に並んで形成されている。
【００４１】図２に示すように
磁気抵抗効果素子２１は
多層膜２５の両側に形成された
前記多層膜２５に導通する一対の電極層２６とで構成されている
【００４２】また
前記モニター素子２２は、磁気抵抗効果素子２１と全く同じ構成で形成されている。すなわち、前記モニター素子２２は、磁気抵抗効果を発揮する多層膜２７とその両側に一対のハードバイアス層と電極層２８とで構成されている
【００４３】図２に示すように、磁気抵抗効果素子２１及びモニター素子２２の上には、ＳｉＯ２（略）などの絶縁材料で形成され、ギャップ長Ｇ２を有する上部ギャップ層２９が形成されている。そして前記上部ギャップ層２９の上には、ＮｉＦｅ合金などで形成された上部シールド層３０が形成されている。前記上部シールド層３０の幅寸法はＴ５で形成されている。
【００４４】上述した
下部シールド層２３から上部シールド層３０までの多層構造体は、製品化された薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部に相当する部分
　（サ）「【００４６】本発明では、図１に示すように、
モニター素子２２の多層膜２７の両側に形成された電極層２８及び磁気抵抗効果素子２１の多層膜２５の両側に形成された電極層２６
　（シ）「【００７２】以上詳述した図１ないし図３に示す薄膜磁気ヘッドを形成する基板は、磁気抵抗効果素子２１の直流抵抗値をある所定値に設定するためのハイト出し加工が施されたものである。前記
ハイト出し加工は、モニター素子２２の電極層２８，２８間の直流抵抗値を測定しながら、ＡＢＳ面に対して研削加工（ハイト出し加工）を施しながら行われる
　（ス）「【００７５】ハイト出し加工を施した後、図１に示すように、薄膜磁気ヘッドを形成する基板を、各磁気抵抗効果素子２１間から切断線Ｆに沿って切断する。モニター素子２２の部分は、切断後、製品化されることなく除去されてもよいが、製品化されてもかまわない。また切断された個々の磁気抵抗効果素子２１を有する基板は、薄膜磁気ヘッドとして製品化される部分である。」（発明の実施の形態の項）
　（セ）図２には、基板２０の上に一層を介して、下部シールド層２３、下部ギャップ層２４の順で各層が設けられていることが図示されている。
　
（２）同じく引用された特開２００１−１３４９０２号公報（以下「引用例２」という。）には、「磁気ヘッド用バー状体の研磨装置および研磨方法」に関し、次の事項が記載されている。
　（タ）「【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置等で用いられる磁気ヘッド素子は、ウエハ状に形成したセラミックの基板に磁性膜や非磁性膜等を成膜し、
ＭＲ素子等のセンス部を含む磁気抵抗効果型ヘッド（再製ヘッド）、電磁変換ヘッド（記録ヘッド）から成る磁気ヘッド素子部と、この磁気ヘッド素子部（以下単に素子ということがある）に隣接するモニター用のＥＬＧ素子部
【０００３】（略）
【０００４】
バー状体の側面を研磨するのは、成膜されたＭＲ素子等のセンス部の高さ（ストリップハイト、あるいはＭＲハイトともいう）を所要高さに調整するため
【０００５】上記のように、スプリットハイトに非常に高い精度が要求されているため、
各磁気ヘッド素子部に隣接して、センス部が磁気ヘッド素子部と同一の構造をもつＥＬＧ素子部を設けて、このＥＬＧ素子部も同時に研磨し、各ＥＬＧ素子部の抵抗値変化を計測することにより、各磁気ヘッド素子部のスプリットハイトを個別にモニターし、磁気ヘッド素子部毎に高い研磨精度が得られるようにしている
　（チ）「【００３９】次に図１７に示すように、バー状体２２をフイルム３６に固定したままの状態で、
バー状体２２を各磁気ヘッド素子部とＥＬＧ素子部との組の個片に切断分離する
【００４０】そして、図１８に示すように、仕切壁の無い、図１に示すのと同様な保持枠体２０にフイルム３６を介してバー状体２２を接着剤により固定、保持し、アクチュエータ３０によりフイルム３６を介して
各個片に分離したバー状体２２の第２の面を押圧して、第１の面をラップ盤３２に押し当て、研磨をする
【００４１】（略）
【００４２】ところで、
もともと、バー状体２２の研磨は、各個片に分離した後、それぞれ研磨するのが、個片毎研磨量をモニターできるから理想ではある
個片に分離することによって、アクチュエータ３０からの押圧力を確実に対応する個片にのみ作用させることができ、一段と高精度の研磨が行える
【００４３】なお、個片に分離されているから、以後の、クラウンラップ等の調整研磨、ＡＢＳ（浮上面）の形成工程なども、個片をフイルム３６に固定したままで行う。この場合、図２０に示すように、配線パターン３８を形成した不用なフイルム部分は切断除去して、以後の工程を行うと好適である。」
　
３．対比判断
（１）対比
　補正後の発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　上記２で摘示した記載事項、特に（ア）（カ）（下線部参照）によれば、引用例１には、
　「下部シールド層と、前記下部シールド層の上に下部ギャップ層を介して形成された、磁気抵抗効果を発揮する多層膜と、前記多層膜の両側に形成されて前記多層膜にバイアス磁界を与える一対のバイアス層と、前記バイアス層上に形成されて前記多層膜に導通する一対の電極層とから成る磁気抵抗効果素子と、前記磁気抵抗効果素子の上に、上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを有する薄膜磁気ヘッドであって、
　薄膜磁気ヘッドに形成された磁気抵抗効果素子の露出面をＡＢＳ面と称し、記録媒体信号の再生時において、この露出するＡＢＳ面が記録媒体と対向し、
　ＡＢＳ面に垂直方向であって、前記ＡＢＳ面が記録媒体と対向する際における前記記録媒体から離れる方向をハイト方向と称し、磁気抵抗効果素子のハイト方向への長さが、所定寸法に研削加工されて形成された、薄膜磁気ヘッド。」
　の発明が記載されている。
　
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果を発揮する多層膜」「多層膜に導通する一対の電極層」「下部シールド層と上部シールド層」「ＡＢＳ面」は、それぞれ補正後の発明の「第１の磁気抵抗効果膜」「１組の第１の電極」「一組のシールド膜」「スライダ面」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果素子」は、下部シールド層の上に下部ギャップ層を介して形成され、上に、上部ギャップ層を介して上部シールド層が形成されているので、補正後の発明の「第１の磁気抵抗効果膜及び該第１の磁気抵抗効果膜の両端部で接触させた一組の第１の電極を挟むようにして積層された一組のシールド膜」に相当する構成を備えている。
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果素子」では、基板の上に一層を介して下部シールド層が設けられている（上記（セ）、図２参照）ことが示されており、基板の上に絶縁膜を介して下部シールド層が設けられることが技術常識であるから、引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果素子」は、補正後の発明の「絶縁膜を形成した基板上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第１の磁気抵抗効果素子が、」「配置され」に相当する構成を備え、かつ補正後の発明の「第１の磁気抵抗効果素子は第１の磁気抵抗効果膜及び該第１の磁気抵抗効果膜の両端部で接触させた一組の第１の電極を挟むようにして積層された一組のシールド膜が前記絶縁膜上に配置され」に相当する構成を備えている。
　引用例１に記載された発明の「薄膜磁気ヘッド」は、「薄膜磁気ヘッドに形成された磁気抵抗効果素子の露出面をＡＢＳ面と称し、記録媒体信号の再生時において、この露出するＡＢＳ面が記録媒体と対向する」ので、補正後の発明の「第１の磁気抵抗効果素子が、該第１の磁気抵抗効果素子の形成された面に対して直交する前記基板の面が前記磁気記録媒体に対向するスライダ面になるように配置され」に相当する構成を実質的に備えている。
　そうすると、補正後の発明と引用例１に記載された発明との一致点及び相違点は以下のとおりである。
　（一致点）　「絶縁膜を形成した基板上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第１の磁気抵抗効果素子が、該第１の磁気抵抗効果素子の形成された面に対して直交する前記基板の面が前記磁気記録媒体に対向するスライダ面になるように配置された薄膜磁気ヘッドであって、前記第１の磁気抵抗効果素子は第１の磁気抵抗効果膜及び該第１の磁気抵抗効果膜の両端部で接触させた一組の第１の電極を挟むようにして積層された一組のシールド膜が前記絶縁膜上に配置されてなる、薄膜磁気ヘッド。」
　（相違点ア）　補正後の発明は、「スライダ面の研磨加工量を計測するための第２の磁気抵抗効果素子が第１の磁気抵抗効果素子に近接してスライダ毎に配置され」、「前記第２の磁気抵抗効果素子は第２の磁気抵抗効果膜及び該第２の磁気抵抗効果膜の両端部で接触させた一組の第２の電極のみが前記絶縁膜上に配置されてなり、前記第１の磁気抵抗効果膜と前記第２の磁気抵抗効果膜、及び前記第１の電極と前記第２の電極とが各々幾何学的に同一形状であって、同一素材を用いて形成されてなること」と特定しているのに対して、引用例１に記載された発明の薄膜磁気ヘッドは、スライダ面の研磨加工量を計測するための第２の磁気抵抗効果素子を備えていない点。
　
（２）相違点アについての判断
　引用例１では、磁気抵抗効果素子を有する薄膜磁気ヘッドを製造する際に、磁気抵抗効果素子のハイト方向への長さを所定寸法に研削加工（ハイト出し加工）するために、前記磁気抵抗効果素子と全く同じ構成を有するモニター素子を、基板上に形成された磁気抵抗効果素子の形成位置と同列上に形成し、このモニター素子の直流抵抗を測定しながら、磁気抵抗効果素子及びモニター素子のＡＢＳ面に対してハイト出し加工を施し（上記（カ）参照）、その後、上記基板が、最終的に磁気抵抗効果素子毎に切断される（上記（キ）参照）ものである。また、引用例１には、モニター素子の部分について、切断後、製品化されることなく除去されてもよいが、製品化されてもかまわない（上記（ス）参照）と記載されている。
　引用例１では、ハイト出し加工するためのモニター素子は、複数の再生用の磁気抵抗効果素子の並ぶ基板に設けられて後に切断されているが、切断分離した再生用の磁気抵抗効果素子毎にモニター素子を設けておいて個々の素子毎に制御してハイト出し加工を行うことは、当業者がまず考慮することである（引用例２（チ）の段落４２参照））といえる。引用例２では、バー状体を各個片に切断してから研磨すると極めて小さな個片となり不可能であると考えられるところ、フィルムに固着したまま個片に分離する工夫をすることで、各個片毎に切断してそれぞれに押圧力を作用させて研磨量をモニターしながら行うことが示され、再生用の磁気抵抗効果素子毎にモニター素子を設けてスライダ毎のハイト出し加工を行うことが例示されている。
　してみれば、引用例１に記載された発明において、再生用の磁気抵抗効果素子と全く同じ構成を有するモニター素子を、再生用の磁気抵抗効果素子に近接してスライダ毎に設けることは、当業者が容易に想到しうることであり、当該モニター素子を特に除くことなく薄膜磁気ヘッドとすることは適宜なし得ることといえる。
　また、引用例１におけるモニター素子は、再生用の磁気抵抗効果素子と全く同じ構成を有するものであり、長さ寸法及び抵抗を同じくするには、磁気抵抗効果素子とその両側に接触する１組の電極の形状と素材を同一にすることが、自明のことといえる。また、抵抗を計測しているモニター素子においてシールド膜を設ける必要がないことも当業者には明らかであるから、シールド膜を設けるか設けないかは、適宜なし得ることである。シールド膜の有無について、原審の拒絶査定において示された特開２０００−１８７８２０号公報（以下「公知文献」という。）には、磁気抵抗効果を発揮する磁気抵抗効果素子と同じ構造で形成され、且つ前記磁気抵抗効果素子の直流抵抗値を測定するためのモニター素子が形成された基板において、直流抵抗の測定時に、前記モニター素子がショートしないように、モニター素子の上下に形成されるシールド層を設けないこと（請求項１、段落１、２７、３９等参照）が記載され、シールド層を設けないことによる作用効果が示されている。
　そうすると、引用例１に記載された発明において、ハイト出し加工に用いるための、再生用の磁気抵抗効果素子と同じ形状で同じ素材のモニター素子を、上下のシールド膜を備えることなく、スライダ毎に設けて除くことなく薄膜磁気ヘッドとすることは、当業者が容易に想到しうることである。
　
　そして、上記相違点アを総合的に検討しても、補正後の発明の効果は、引用例１乃至２に記載された発明及び上記公知文献から予測される範囲内であるので、上記相違点アに格別の困難性を要したものではない
　
４．むすび
　以上のとおり、補正後の発明は、本願出願前に頒布された引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　平成１８年９月２９日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至３に係る発明は、平成１８年４月２６日付け手続補正の特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりである。
　「【請求項１】上記「第２の１の（ａ）」のとおり。」
　
１．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１及び２の記載事項は、上記「第２の２」に記載されたとおりである。
　
２．対比判断
（１）対比
　本願発明と引用例１に記載された発明を対比する。
　引用例１には、上記「第２の３（１）」に記載されたとおりの発明が記載されている。
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果を発揮する多層膜」「多層膜に導通する一対の電極層」「下部シールド層と上部シールド層」「ＡＢＳ面」は、それぞれ本願発明の「第１の磁気抵抗効果膜」「１組の電極」「一組のシールド膜」「スライダ面」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果素子」は、下部シールド層の上に下部ギャップ層を介して形成され、上に、上部ギャップ層を介して上部シールド層が形成されているので、本願発明の「第１の磁気抵抗効果膜及び該第１の磁気抵抗効果膜に接触させた一組の電極とを挟むように一組のシールド膜が形成されて」に相当する構成を備えている。
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果素子」では、基板の上に一層を介して下部シールド層が設けられている（上記（セ）、図２参照）ことが示されており、基板の上に絶縁膜を介して下部シールド層が設けられることが技術常識であるから、引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果素子」は、本願発明の「絶縁膜を形成した基板上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第１の磁気抵抗効果素子が、」「配置され」に相当する構成を備えている。
　引用例１に記載された発明の「薄膜磁気ヘッド」は、「薄膜磁気ヘッドに形成された磁気抵抗効果素子の露出面をＡＢＳ面と称し、記録媒体信号の再生時において、この露出するＡＢＳ面が記録媒体と対向する」ので、本願発明の「第１の磁気抵抗効果素子が、該第１の磁気抵抗効果素子の形成された面に対して直交する前記基板の面が前記磁気記録媒体に対向するスライダ面になるように配置され」に相当する構成を実質的に備えている。
　そうすると、本願発明と引用例１に記載された発明との一致点及び相違点は以下のとおりである。
　（一致点）　「絶縁膜を形成した基板上に磁気記録媒体からの磁気信号を再生するための第１の磁気抵抗効果素子が、該第１の磁気抵抗効果素子の形成された面に対して直交する前記基板の面が前記磁気記録媒体に対向するスライダ面になるように配置された薄膜磁気ヘッドであって、前記第１の磁気抵抗効果素子は第１の磁気抵抗効果膜及び該第１の磁気抵抗効果膜に接触させた一組の電極とを挟むように一組のシールド膜が形成されてなる薄膜磁気ヘッド。」
　（相違点イ）　本願発明は、「スライダ面の研磨加工量を計測するための第２の磁気抵抗効果素子が第１の磁気抵抗効果素子に近接されて配置され」、「前記第２の磁気抵抗効果素子は第２の磁気抵抗効果膜に一組の電極を接触させて形成されてなること」と特定しているのに対して、引用例１に記載された発明の薄膜磁気ヘッドは、スライダ面の研磨加工量を計測するための第２の磁気抵抗効果素子を備えていない点。
　
（２）相違点イについての判断
　引用例１では、磁気抵抗効果素子を有する薄膜磁気ヘッドを製造する際に、磁気抵抗効果素子のハイト方向への長さを所定寸法に研削加工（ハイト出し加工）するために、前記磁気抵抗効果素子と全く同じ構成を有するモニター素子を、基板上に形成された磁気抵抗効果素子の形成位置と同列上に形成し、このモニター素子の直流抵抗を測定しながら、磁気抵抗効果素子及びモニター素子のＡＢＳ面に対してハイト出し加工を施し（上記（カ）参照）、その後、上記基板が、最終的に磁気抵抗効果素子毎に切断される（上記（キ）参照）ものである。また、引用例１には、モニター素子の部分について、切断後、製品化されることなく除去されてもよいが、製品化されてもかまわない（上記（ス）参照）と記載されている。
　引用例１では、ハイト出し加工するためのモニター素子は、複数の再生用の磁気抵抗効果素子の並ぶ基板に設けられて後に切断されているが、切断分離した再生用の磁気抵抗効果素子毎にモニター素子を設けておいて個々の素子毎に制御してハイト出し加工を行うことは、当業者がまず考慮することである（上記引用例２（チ）の段落４２参照））といえる。
　してみれば、引用例１に記載された発明において、再生用の磁気抵抗効果素子と同じ構成を有するモニター素子を、再生用の磁気抵抗効果素子に近接して設けることは、当業者が容易に想到しうることであり、当該モニター素子を特に除くことなく薄膜磁気ヘッドとすることは適宜なし得ることといえる。
　なお、スライダ面の研磨加工量を計測するためのモニター素子である第２の磁気抵抗効果素子が、シールド膜を備えているか備えていないかは、本願発明においては特定されていないので、何れの場合も含むものといえ、また、抵抗を計測しているモニター素子において、シールド膜を設ける必要がないことが当業者には明らかであるから、シールド膜を設けるか設けないかは、適宜なし得ることである。
　
　そして、上記相違点イを総合的に検討しても、引用例１に記載された発明の薄膜磁気ヘッドとして、モニター素子である磁気抵抗効果素子を除くことなく備えた状態にすることは、当業者が容易に想到しうることであり、また本願発明の効果は、引用例１乃至２に記載された発明から予測される範囲内であるので、上記相違点に格別の困難性を要したものではない。
　
３．むすび
　以上のとおり、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。