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【手続補正書】
【提出日】平成30年12月4日(2018.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
手術システムであって、当該手術システムは、
複数の手術部位のシーンを取り込むように構成された画像取込システムであって、前記複数の手術部位のシーンの各手術部位のシーンが、複数の波長帯のうちの異なる波長帯の反射光から取り込まれ、前記複数の波長帯の各波長帯は、尿管組織及び該尿管組織の周りの組織によって異なって反射される、画像取込システムと、
前記画像取込システムに結合される尿管解析モジュールであって、前記取り込まれた手術部位のシーン内の尿管組織を識別するように構成される尿管解析モジュールと、
前記尿管解析モジュールに結合される表示装置であって、尿管を強調表示した状態で手術部位のシーンを表示するように構成される、表示装置と、を有する、
手術システム。
【請求項２】
照明器をさらに有しており、該照明器は、前記複数の異なる波長帯のそれぞれで手術部位を照射するように構成される、請求項１に記載の手術システム。
【請求項３】
前記取り込まれた手術部位のシーン内の尿管組織を識別するように構成される前記尿管解析モジュールは、
前記取り込まれた複数の手術部位のシーンのそれぞれの前記手術部位のシーン内の位置を尿管信号に変換し、
前記尿管信号が前記位置における尿管組織を示すかどうかを判定する、ように構成される前記尿管解析モジュールを含む、請求項１又は２に記載の手術システム。
【請求項４】
前記尿管信号が前記位置における尿管組織を示すかどうかを判定するように構成される前記尿管解析モジュールは、前記尿管信号を閾値と比較するように構成される前記尿管解析モジュールを含む、請求項３に記載の手術システム。
【請求項５】
前記尿管信号が前記位置における尿管組織を示すかどうかを判定するように構成される前記尿管解析モジュールは、前記尿管信号及び非尿管信号の比を閾値と比較するように構成される前記尿管解析モジュールを含む、請求項３に記載の手術システム。
【請求項６】
手術システムであって、当該手術システムは、
複数の手術部位のシーンを取り込む手段であって、前記複数の手術部位のシーンのそれぞれが、異なる光スペクトルを有する反射光から取り込まれ、各光スペクトルは、尿管組織及び該尿管組織の周りの組織によって異なって反射される、取り込む手段と、
該取り込まれた複数の手術部位のシーンを解析して、前記取り込まれた手術部位のシーン内の尿管組織を識別する手段と、
人為的に強調表示された前記尿管組織を含む手術部位のシーンを表示装置上に表示する手段と、を含む、
手術システム。
【請求項７】
複数の異なる光スペクトルで手術部位を照射する手段をさらに含む、請求項６に記載の手術システム。
【請求項８】
前記解析する手段は、前記取り込まれた複数の手術部位のシーンのそれぞれの前記手術部位のシーン内の位置を尿管信号に変換する手段と、
前記尿管信号が前記位置における尿管組織を示すかどうかを判定する手段と、をさらに含む、請求項６又は７に記載の手術システム。
【請求項９】
前記判定する手段は、前記尿管信号を閾値と比較するように構成される、請求項８に記載の手術システム。
【請求項１０】
前記判定する手段は、前記尿管信号及び非尿管信号の比を閾値と比較するように構成される、請求項８に記載の手術システム。
【請求項１１】
前記解析する手段は、尿管信号を閾値と比較するように構成される、請求項６又は７に記載の手術システム。
【請求項１２】
前記解析する手段は、尿管信号及び非尿管信号の比を閾値と比較するように構成される、請求項６又は７に記載の手術システム。
【請求項１３】
前記手術部位を照射する手段は、前記複数の異なる光スペクトルのうちの少なくとも２つで前記手術部位を順次に照射する手段を含む、請求項７に記載の手術システム。
【請求項１４】
前記手術部位を照射する手段は、
４５０ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲の波長の第１の光スペクトルで前記手術部位を照射する手段と、
６４０ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の波長の第２の光スペクトルで前記手術部位を照射する手段と、
９００ｎｍ〜１０８０ｎｍの範囲の波長の第３の光スペクトルで前記手術部位を照射する手段と、を含む、請求項７に記載の手術システム。
【請求項１５】
前記手術部位を照射する手段は、
４５０ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲の波長の第１の光スペクトルで前記手術部位を照射する手段と、
６４０ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の波長の光スペクトルで前記手術部位を照射する波長の第２の光スペクトルで前記手術部位を照射する手段と、を含む、請求項７に記載の手術システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月19日(2018.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
コーヒー濃縮物を調製するための方法であって、
‐  ０．５〜３ｍｍの平均マーチン径の最小値を有する、焙煎され挽かれたコーヒー豆を準備すること；
‐  該焙煎され挽かれたコーヒー豆を水による一次抽出に付すること；ここで、前記一次抽出は、せいぜい２のドローオフファクタで第１の一次抽出物を得ること、および前記第１の一次抽出の後に、第２の一次抽出物を取り出すことを包含している、
‐  二次抽出物を得るように、該一次抽出された、焙煎され挽かれたコーヒー豆を水による二次抽出に付すること；
‐  ３０重量％〜７５重量％の乾燥固形物質含有量を有する濃縮された抽出物を得るように、該第２の一次抽出物および該二次抽出物を蒸発に付すること；
‐  該濃縮された抽出物と該第１の一次抽出物とを混合すること；
‐  任意的に、水を加えること；
の各工程を包含し、
１５重量％〜５５重量％の乾燥固形物質含有量を有する液体コーヒー濃縮物を得る、ただし該一次抽出は、少なくとも０．３５の物質移動フーリエ数を満たすような条件の下で実行され、そして全抽出セクションにおいて得られた抽出収量に対する該第１の一次取り出し分の抽出収量の比は、０．１５〜１．０の範囲にある、
上記方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
該焙煎され挽かれたコーヒー豆のマーチン径最小値は、２．０ｍｍ未満である、請求項１に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
該焙煎され挽かれたコーヒー豆の平均マーチン径最小値は、１．４〜１．９ｍｍ、好ましくは１．６〜１．８ｍｍである、請求項２に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前述の要望の１以上により良く応えるために、本発明は、１の局面において、
コーヒー濃縮物を調製するための方法であって、
（ａ）０．５〜３ｍｍの平均マーチン径の最小値を有する、焙煎され挽かれたコーヒー豆を準備すること；
（ｂ）せいぜい２のドローオフファクタで第１の一次抽出物を得るように、該焙煎され挽かれたコーヒー豆を水による一次抽出に付すこと；
（ｃ）前記第１の一次抽出の後に、第２の一次抽出物を取り出すこと；
（ｄ）二次抽出物を得るように、該一次抽出された、焙煎され挽かれたコーヒー豆を水による二次抽出に付すること；
（ｅ）３０重量％〜７５重量％の乾燥固形物質含有量を有する濃縮された抽出物を得るように、該第２の一次抽出物および該二次抽出物を蒸発に付すること；
（ｆ）該濃縮された抽出物と該第１の一次抽出物とを混合すること；
（ｇ）任意的に、水を加えること；
の各工程を包含し、
１５重量％〜５５重量％の乾燥固形物質含有量を有する液体コーヒー濃縮物を得る、ただし該一次抽出は、少なくとも０．３５の物質移動フーリエ数を満たすような条件の下で実行され、そして全抽出セクションにおいて得られた抽出収量に対する該第１の一次取り出し分の抽出収量の比が、０．１５〜１．０の範囲にある、
上記方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の方法においては、最初に焙煎され挽かれたコーヒー豆が準備される。用いられる主要なコーヒー種は、水洗され及び水洗されないアラビカ豆及びロブスタ豆である。典型的には、両者の混合物が用いられうる。これらの豆は、特定の地理的起源、例えばコロンビア、ブラジル、またはインドネシアを有するものとして認識されうる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
一次抽出から１の部分的に抽出された、焙煎され挽かれたコーヒー豆は、さらに二次抽出に付される。当業者には公知であるように、二次抽出は、とりわけ、部分的に抽出された焙煎され挽かれたコーヒー粒子の熱加水分解を含んでいる。それにより、熱加水分解の間に生成された構成部分（それは水に溶けうる）は、コーヒーから抽出されよう。二次抽出は、熱加水分解によって生成された構成部分に限定されない。典型的にはまた、別の予め存在する（一次の、しかし未だ抽出されていない）可溶性の構成部分の更なる量は、二次抽出において抽出されよう。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
１１５グラムのコーヒー調製物が、小さなショット（Schott）フラスコ中に６±１℃に冷却されたコーヒー濃縮物の特定の量の計量及び、８５±１℃の熱湯で正確に１．６％の可溶性固形物含有量へ希釈されることによって準備される。熱湯の添加の後、ショットフラスコは直ぐに閉じられ、そして氷水浴内で直ぐに冷却される。冷却されたコーヒー調製物は、優しく振ることによって均一化される。コーヒー調製物は、分析の前には８±１℃で冷蔵庫に保存される。
1-カフェオイルキナ酸ラクトン（1-ＣＱＬ）の同定
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月17日(2018.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
好ましい実施形態を参照しながら本発明を説明してきたが、当業者は、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態及び詳細の変更を行えることを認識するであろう。
本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２０］に記載する。
［１］
第１の光学的に透明な接着剤組成物と、
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物を実質的に取り囲んだ第２の遮光性接着剤組成物と、を含む、２成分形接着剤層。
［２］
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセントを超える視感透過率、約２パーセント未満のヘイズ、及び約１パーセント未満の不透明度を有する、項目１に記載の２成分形接着剤層。
［３］
前記第２の遮光性接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセント未満の視感透過率、約２パーセントを超えるヘイズ、及び約１パーセントを超える不透明度を有する、項目１に記載の２成分形接着剤層。
［４］
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物は感圧性接着剤である、項目１に記載の２成分形接着剤層。
［５］
前記第２の遮光性接着剤組成物は感圧性接着剤である、項目１に記載の２成分形接着剤層。
［６］
約５マイクロメートル〜約２ミリメートルの厚さを有する、項目１に記載の２成分形接着剤層。
［７］
第１の基材と、
第２の基材と、
前記第１の基材の少なくとも１つの主表面と前記第２の基材の少なくとも１つの主表面との間に位置して、前記第１の基材の少なくとも１つの主表面と前記第２の基材の少なくとも１つの主表面とに接触した２成分形接着剤層であって、
第１の光学的に透明な接着剤組成物と、
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物を実質的に取り囲んだ第２の遮光性接着剤組成物とを含む、２成分形接着剤層と、を含む積層体。
［８］
前記第１の基材及び前記第２の基材のうちの少なくとも１つが実質的に透明である、項目７に記載の積層体。
［９］
前記第１の基材、前記第２の基材、又は前記第１の基材及び前記第２の基材の両方は、ディスプレイパネル、タッチパネル、光学フィルム、カバーレンズ、又は窓から選択される、項目７に記載の積層体。
［１０］
前記ディスプレイパネルは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＯＬＥＤディスプレイ、エレクトロウェッティング方式ディスプレイ、及び陰極線管ディスプレイから選択される、項目９に記載の積層体。
［１１］
前記光学フィルムは、反射体、偏光子、鏡、防眩又は反射防止フィルム、抗破片フィルム、拡散体、あるいは電磁干渉フィルタから選択される、項目９に記載の積層体。
［１２］
前記２成分形接着剤層は約５マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの厚さを有する、項目７に記載の積層体。
［１３］
少なくとも６０℃、かつ相対湿度８０%の環境に少なくとも７２時間置かれてから室温まで冷却した後に透明を維持する、項目７に記載の積層体。
［１４］
光学的に透明である第１の接着剤組成物を供給することと、
遮光性で、前記第１の接着剤組成物を実質的に取り囲んだ第２の接着剤組成物を供給することと、を含む、２成分形接着剤層を形成する方法。
［１５］
前記２成分形接着剤層は、約５マイクロメートル〜約２ミリメートルの厚さを有する、項目１４に記載の方法。
［１６］
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセントを超える視感透過率、約２パーセント未満のヘイズ、及び約１パーセント未満の不透明度を有する、項目１４に記載の方法。
［１７］
前記第２の遮光性接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセント未満の視感透過率、約２パーセントを超えるヘイズ、及び約１パーセントを超える不透明度を有する、項目１４に記載の方法。
［１８］
前記第１の接着剤組成物及び前記第２の接着剤組成物は、透明な基材上に供給される、項目１４に記載の方法。
［１９］
前記第１の接着剤組成物は感圧性接着剤である、項目１４に記載の方法。
［２０］
前記第２の接着剤組成物は感圧性接着剤である、項目１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学的に透明な接着剤組成物と、
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物を実質的に取り囲んだ第２の遮光性接着剤組成物と、を含む、２成分形接着剤層。
【請求項２】
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセントを超える視感透過率、約２パーセント未満のヘイズ、及び約１パーセント未満の不透明度を有し、前記第２の遮光性接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセント未満の視感透過率、約２パーセントを超えるヘイズ、及び約１パーセントを超える不透明度を有する、請求項１に記載の２成分形接着剤層。
【請求項３】
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物と前記第２の遮光性接着剤組成物のうち少なくとも一つは感圧性接着剤である、請求項１に記載の２成分形接着剤層。
【請求項４】
約５マイクロメートル〜約２ミリメートルの厚さを有する、請求項１に記載の２成分形接着剤層。
【請求項５】
第１の基材と、
第２の基材と、
前記第１の基材の少なくとも１つの主表面と前記第２の基材の少なくとも１つの主表面との間に位置して、前記第１の基材の少なくとも１つの主表面と前記第２の基材の少なくとも１つの主表面とに接触した２成分形接着剤層であって、
第１の光学的に透明な接着剤組成物と、
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物を実質的に取り囲んだ第２の遮光性接着剤組成物とを含む、２成分形接着剤層と、を含む積層体。
【請求項６】
前記第１の基材、前記第２の基材、又は前記第１の基材及び前記第２の基材の両方は、ディスプレイパネル、タッチパネル、光学フィルム、カバーレンズ、又は窓から選択される、請求項５に記載の積層体。
【請求項７】
前記２成分形接着剤層は約５マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの厚さを有する、請求項５に記載の積層体。
【請求項８】
少なくとも６０℃、かつ相対湿度８０%の環境に少なくとも７２時間置かれてから室温まで冷却した後に透明を維持する、請求項５に記載の積層体。
【請求項９】
光学的に透明である第１の接着剤組成物を供給することと、
遮光性で、前記第１の接着剤組成物を実質的に取り囲んだ第２の接着剤組成物を供給することと、を含む、２成分形接着剤層を形成する方法。
【請求項１０】
前記第１の光学的に透明な接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセントを超える視感透過率、約２パーセント未満のヘイズ、及び約１パーセント未満の不透明度を有し、前記第２の遮光性接着剤組成物は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセント未満の視感透過率、約２パーセントを超えるヘイズ、及び約１パーセントを超える不透明度を有する、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月17日(2018.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
命令をランダム化してコンピュータセキュリティを高める方法であって、
外部処理システム（ＯＰＳ）と内部処理システム（ＩＰＳ）とを含む仮想マシン（ＶＭ）の前記ＩＰＳにおいて命令を暗号化するステップと、
前記ＩＰＳから、前記暗号化された命令を前記ＯＰＳへと送信するステップと、
前記ＯＰＳによって、受信した前記暗号化された命令を復号するステップであって、復号された命令は、前記ＩＰＳの帯域外であって、かつ、前記ＩＰＳによるアクセスが不可能であるステップと、
前記復号された命令を、前記ＩＰＳのためのトランスレータとして指定された２レベル文法を使用して、ＯＰＳ命令の組へと変換するステップと、
前記ＶＭ内のスタブルーチンを介して前記ＯＰＳ命令の組を実行するステップと、
を備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月28日(2018.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホールプラグを形成する方法において：
少なくとも１つの誘電体層と前記誘電体層の第１側部上の第１導電箔とを具える積層体構造を形成するステップと；
前記誘電体層の第２側部から前記第１導電箔に向けて延在し、前記誘電体層を少なくとも部分的に通る貫通していない孔または止まり孔を、前記積層体構造内に形成するステップであって、前記孔の深さと直径のアスペクト比が、２０対１未満であり、前記孔が、１２５度より大きい孔下部先端角を有する、ステップと；
前記孔内にビアフィルインクを堆積させるステップと；
前記ビアフィルインクを乾燥および／または硬化させてホールプラグを形成するステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法が更に：
前記誘電体層の第２側部上に第２導電箔をさらに具えるように前記積層体構造を形成するステップを具え、前記第２導電箔が前記孔によって貫通していることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法が更に：
前記第２誘電箔上に使い捨ての層をさらに具えるように前記積層体構造を形成するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法が更に：
ホールプラグ材料を通るめっきしたスルーホールを形成するステップを具えていることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、前記孔のアスペクト比が：
（ａ）１０：１未満、
（ｂ）５：１未満、
（ｃ）３：１未満、または
（ｄ）１：１未満
であることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、前記孔が１５５度以上の孔下部先端角を有することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法において、前記ドリルが、前記孔内にトリミングされた下隅を形成するよう構成されていることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法において、前記ビアフィルインクの堆積が真空により支援されていること特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法において、前記第１導電箔の厚さが、１２オンス以下、２オンス以下、または１オンス以下であることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法において、前記誘電体層の厚さが、２０ミル以下、１６ミル以下、または１２ミル以下であることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法において、前記ホールプラグがめっきレジストまたは金属めっきを防ぐ材料であることを特徴とする方法。
【請求項１２】
ホールプラグを有する積層体構造において：
少なくとも誘電体層と、前記誘電体層の第１側部上に第１導電箔とを具える積層体構造と；
前記積層体構造内に前記誘電体層の第２側部から前記第１導電箔に向けて延在する貫通していない孔、または止まり孔であって、深さ対直径のアスペクト比が２０：１未満であり、１２５度より大きい孔下部先端角を有する貫通していない孔または止まり孔と；
前記孔内に堆積させてホールプラグを形成するビアフィルインクと；
を具えることを特徴とする積層体構造。
【請求項１３】
請求項１２に記載の積層体構造が更に：
第２導電箔が前記孔によって貫通していることを特徴とする積層体構造。
【請求項１４】
請求項１２に記載の積層体構造が更に：
前記ホールプラグ材料を通るめっきしたスルーホールを具えることを特徴とする積層体構造。
【請求項１５】
ホールプラグを形成する方法において：
誘電体層と、前記誘電体層の第１側部上の第１導電箔と、前記誘電体層の第２側部上の第２導電箔と、を具える積層体構造を形成するステップと；
前記第２導電箔を部分的に除去して前記第２導電箔上に開口部を形成し、前記誘電体層の一部を曝露するステップと；
レーザー穿孔を前記積層体構造の曝露部分を通して行い、前記第１導電箔に向けて延在し、前記誘電体層を少なくとも部分的に通る貫通していない孔または止まり孔を形成するステップであって、前記孔の深さと直径のアスペクト比が、２０対１未満であるステップと；
前記孔内にビアフィルインクを堆積させるステップと；
前記ビアフィルインクを硬化させてホールプラグを形成するステップと；
を具えていることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月10日(2018.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
埋め込みコイルアッセンブリであって、
上側表面を有する環状金属層と、
前記環状金属層の前記上側表面上の内側リングに配される第１の複数の金属ピラーと、
前記環状金属層の前記上側表面上の中間リングに配される第２の複数の金属ピラーと、
前記環状金属層の前記上側表面上の外側リングに配される第３の複数の金属ピラーと、
前記第１の複数の金属ピラーと前記第２の複数の金属ピラーとの間の前記環状金属層の前記上側表面上のフェライトリングと、
各々が前記前記第１の複数の金属ピラーと前記第２の複数の金属ピラーとの対応する金属ピラーを接続する、複数の導電性構造と、
前記フェライトリングと前記第１及び第２の複数の金属ピラーと前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも一部と前記導電性構造の少なくとも一部とを覆う封止層と、
を含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項２】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記環状金属層が複数の離間された円周方向セグメントを含み、各セグメントが前記第１の複数の金属ピラーの少なくとも１つと前記第２の複数の金属ピラーの少なくとも１つと前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも１つとを有する、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項３】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記複数の導電性構造が複数のボンドワイヤを含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項４】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記複数の導電性構造が前記封止層の頂部上にパターニングされる回路要素を含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項５】
請求項４に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記複数の導電性構造が前記パターニングされた回路要素と前記複数の金属ピラーとを接続する複数の充填されたビアを更に含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項６】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも１つが露出された垂直に延在する表面を有する、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項７】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記金属ピラーが焼結された金属ピラーと置かれた金属ピラーの少なくとも１つを含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項８】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記金属ピラーがステンシル印刷された金属パウダーから形成される、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項９】
請求項１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記環状金属層が、前記金属ピラーの内側リング内の位置において前記環状金属層を介する孔を有する、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１０】
埋め込みコイルアッセンブリであって、
第１の表面を有する環状金属層と、
前記環状金属層の第１の表面上の内側リングに配置される第１の複数の金属ピラーと、
前記環状金属層の第１の表面上の中間リングに配置される第２の複数の金属ピラーと、
前記環状金属層の第１の表面上の外側リングに配置される第３の複数の金属ピラーと、
前記第１の複数の金属ピラーと前記第２の複数の金属ピラーとの間の前記環状金属層の第１の表面上のフェライトコイルと、
前記フェライトコイルと前記第１及び第２の複数の金属ピラーと前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも一部を覆う封止層と、
を含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１１】
請求項１０に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
複数の導電性構造であって、各々が前記第１の複数の金属ピラーと前記第２の複数の金属ピラーの対応する１つを接続する、前記複数の導電性材料を更に含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１２】
請求項１０に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記環状金属層が間隔を開けられた円周方向セグメントを含み、各セグメントが前記第１の複数の金属ピラーの少なくとも１つと前記第２の複数の金属ピラーの少なくとも１つと前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも１つとを有する、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１３】
請求項１１に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記複数の導電性構造が複数のボンドワイヤを含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１４】
請求項１０に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記複数のボンドワイヤが２つの端部にボールボンドを含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１５】
請求項１０に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記第３の複数の金属ピラーの各々の一部が前記封止層から露出されている、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１６】
埋め込みコイルアッセンブリであって、
第１の表面を有する環状金属層と、
前記環状金属層の第１の表面上の内側リングに配置される第１の複数の金属ピラーと、
前記環状金属層の第１の表面上の中間リングに配置される第２の複数の金属ピラーと、
前記環状金属層の第１の表面上の外側リングに配置される第３の複数の金属ピラーと、
前記第１の複数の金属ピラーと前記第２の複数の金属ピラーとの間の前記環状金属層の第１の表面上のフェライトコイルと、
前記フェライトコイルと前記第１及び第２の複数の金属ピラーと前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも一部を覆う封止層と、
を含み、
前記環状金属層の一部が前記封止層から露出されている、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１７】
請求項１６に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
複数の導電性構造であって、各々が前記第１の複数の金属ピラーと前記第２の複数の金属ピラーの対応する１つを接続する、前記複数の導電性構造を更に含む、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１８】
請求項１６に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記環状金属層が複数の間隔があけられた円周方向セグメントを含み、各セグメントが前記第１の複数の金属ピラーの少なくとも１つと前記第２の複数の金属ピラーの少なくとも１つと前記第３の複数の金属ピラーの少なくとも１つとを有する、埋め込みコイルアッセンブリ。
【請求項１９】
請求項１６に記載の埋め込みコイルアッセンブリであって、
前記第３の複数の金属ピラーの各々の一部が前記封止層から露出されている、埋め込みコイルアッセンブリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】埋め込みコイルアッセンブリ
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月19日(2018.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射源を含む、
自由空間光コヒーレンス断層映像法システムであって、
前記放射源は、少なくとも１つのプローブビームと、１つの基準ビームとを生成し、当該自由空間光コヒーレンス断層映像法システムの前記基準ビームは、空間的にフィルタリングされ、該空間的にフィルタリングされる基準ビームの部分が、前記空間的にフィルタリングされる基準ビームの前記部分に対応するプローブ放射の部分を備える、少なくとも１つの干渉信号を形成し、それにより、結果として得られる干渉信号を効果的に空間的にフィルタリングし、
前記基準ビームは、前記基準ビームをある表面に集束させることによって空間的にフィルタリングされ、前記表面は、前記表面の所定の領域で反射的であり、該所定の領域は、前記集束させられる基準ビームのウエストの寸法の１〜４倍と略等しい範囲内にある直径を有する、
自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項２】
前記表面の前記所定の領域は、部分的に反射的であり、前記表面の反射率は、８０〜９５パーセントの範囲内にある、請求項１に記載の自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項３】
前記部分的に反射的な表面は、屈折率分布型レンズの表面である、請求項２に記載の自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項４】
前記表面の所定の領域で反射的である前記表面は、基準ミラー表面である、請求項１に記載の自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項５】
８０〜９５パーセントの範囲内の反射率の所定の領域を有する第２の表面を更に含み、前記領域は、前記集束させられる基準ビームのウエストの寸法の１〜４倍と略等しい範囲内にある直径を有し、前記第２の表面は、前記基準ミラー表面からの反射を受けるように方向付けられる、請求項４に記載の自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項６】
基準放射及びプローブ放射を生成する放射源と、検出器と、基準放射のための経路であって、８０〜９５パーセントの範囲内で反射する部分ミラーを含む経路と、基準ミラーと、プローブ放射のための経路と、前記基準放射及び前記プローブ放射によって形成され且つ前記検出器で受信される干渉信号を捕捉し且つ処理する手段とを含み、
前記部分ミラーは、その反射表面に事前に選択される領域を有することで、前記部分ミラーの前記事前に選択される領域と前記基準ミラーとの間で反射させられる放射が選択され、実質的に全ての他の放射が基準信号から濾過される、
改良された自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項７】
前記部分ミラーの前記事前に選択される領域は、集束させられる基準ビームのウエストの寸法の値の１〜４倍と略等しい範囲内の直径を有する、請求項６に記載の自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【請求項８】
基準放射及びプローブ放射を生成する放射源と、検出器と、基準放射のための経路と、基準ミラーと、プローブ放射のための経路と、前記基準放射及び前記プローブ放射によって形成され且つ前記検出器で受信される干渉信号を捕捉し且つ処理する手段とを含み、
前記基準ミラーは、その反射表面に事前に選択される領域を有することで、前記事前に選択される領域から反射される放射が選択され、実質的に全ての他の放射が基準信号から濾過され、
前記基準ミラーの前記事前に選択される領域は、集束させられる基準ビームのウエストの寸法の値の１〜４倍と略等しい範囲内の直径を有する、
改良された自由空間光コヒーレンス断層映像法システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月25日(2018.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素繊維を製造するための方法であって、
凝固槽でアクリルポリマーを紡糸し、それにより単一フィラメントのアクリル繊維を形成すること；
アクリル繊維を二より多い槽で延伸することであって、第一及び第二の槽の温度が、第二の槽から出るアクリル繊維の膨潤により測定されるような繊維ネットワーク密度が第一の槽から出るアクリル繊維の繊維ネットワーク密度よりも低いか又はそれに等しいように設定され、かつアクリル繊維の伸張が最終槽で緩和される、延伸すること；並びに
アクリル繊維を安定化し、続いて炭化させること
を含む方法。
【請求項２】
炭素繊維を製造するための方法であって、
（ａ）凝固槽でアクリルポリマーを紡糸し、それにより単一フィラメントのアクリル繊維を形成すること；
（ｂ）４つの加熱槽を通してアクリル繊維を延伸することであって、槽の温度は第一から第四の槽へと増加し、第一の槽の温度が７０℃〜８０℃の範囲であり、第二の槽の温度が７５℃〜８５℃の範囲であり、第三の槽の温度が８５℃〜９５℃の範囲であり、かつ第四の温度が９０℃〜１００℃であり、槽における繊維の延伸又は伸張比が、第一の槽において１．０〜２．０であり、第二の槽において１．０〜２．０であり、第三の槽において１．５〜４．０であり、第四の槽において０．９５〜１．２０である、延伸すること；
（ｃ）第四の槽から出るアクリル繊維を酸化して、酸化繊維を形成すること；並びに
（ｄ）酸化繊維を炭化させること
を含む方法。
【請求項３】
槽における繊維の延伸又は伸張比が、第一の槽において１．０〜１．２５であり、第二の槽において１．０〜１．２５であり、第三の槽において１．２５〜２．０であり、第四の槽において０．９０〜１．０である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
（ｃ）における酸化が、２２０℃〜２８５℃の温度範囲内の空気中で実施され；かつ
（ｄ）おける炭化が、３５０℃〜６５０℃及びその後８００℃〜１３００℃の温度範囲内の窒素中で実施される
請求項２又は３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月30日(2018.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のジエンエラストマーと、補強充填剤と、可塑化系と、架橋系とをベースとする少なくとも１種のゴム組成物を含むタイヤであって、組成物が、エラストマー100質量部当たり30〜350質量部、phr、の範囲にある含有量の、補強充填剤として10m2/g以上のBET比表面積を有する六方晶系窒化ホウ素、および窒化ホウ素をジエンエラストマーに結合することのできるカップリング剤を含むことを特徴とする、前記タイヤ。
【請求項２】
窒化ホウ素の含有量が、60〜250phrの範囲にある、請求項１に記載のタイヤ。
【請求項３】
窒化ホウ素が、組成物の主な補強充填剤である、請求項１又は２に記載のタイヤ。
【請求項４】
窒化ホウ素が、組成物の唯一の補強充填剤である、請求項３に記載のタイヤ。
【請求項５】
組成物が、少なくとも部分的にトレッドを構成する、請求項１〜４のいずれか１項に記載のタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月20日(2018.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）、
多段ポリマー
を含み、多段ポリマーがポリマー組成物の少なくとも２０重量％を構成する、ポリマー組成物。
【請求項２】
（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が１０００００ｇ／ｍｏｌ未満の質量平均分子量Ｍｗを有することを特徴とする、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項３】
多段ポリマーが
ａ）１０℃未満のガラス転移温度を有するポリマー（Ａ１）を含む１つの段（Ａ）、
ｂ）少なくとも３０℃のガラス転移温度を有するポリマー（Ｂ１）を含む１つの段（Ｂ）
を含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載のポリマー組成物。
【請求項４】
段（Ａ）が第１の段であり、ポリマー（Ｂ１）を含む段（Ｂ）がポリマー（Ａ１）を含む段（Ａ）の上にグラフトしていることを特徴とする、請求項３に記載のポリマー組成物。
【請求項５】
ポリマー（Ａ１）及び（Ｂ１）がアクリル又はメタクリルポリマーであることを特徴とする、請求項３又は４に記載のポリマー組成物。
【請求項６】
ポリマー（Ａ１）がイソプレン又はブタジエン由来のポリマー単位を少なくとも５０重量％含むことを特徴とする、請求項３又は４に記載のポリマー組成物。
【請求項７】
ポリマー（Ａ１）がシリコーンゴム系ポリマーであることを特徴とする、請求項３又は４に記載のポリマー組成物。
【請求項８】
（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）の５０重量％以上を構成する（メタ）アクリルモノマーを含み、より好ましくは（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が、少なくとも６０重量％、有利には少なくとも７０重量％の（メタ）アクリルモノマーを含むことを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項９】
（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が官能性コモノマーも含むことを特徴とする、請求項１から８の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項１０】
ａ）（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）と多段ポリマーを混合する工程、
ｂ）前工程で得られた混合物を、ポリマー粉末の形態で回収する工程
を含み、工程ａ）における（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）及び多段ポリマーが水性相中の分散体の形態である、ポリマー組成物を製造する方法。
【請求項１１】
（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が１０００００ｇ／ｍｏｌ未満の質量平均分子量Ｍｗを有することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
多段ポリマーが乾燥ポリマー組成物の少なくとも２０重量％を構成することを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１から９の何れか一項に記載の、又は請求項１０又は１１に記載の方法により得られるポリマー組成物の、熱硬化性樹脂又は熱可塑性ポリマーにおけるマスターバッチとしての使用。
【請求項１４】
請求項１から９の何れか一項に記載の、又は請求項１０又は１１に記載の方法により得られるポリマー組成物の、熱硬化性樹脂におけるマスターバッチとしての使用であって、樹脂がエポキシ、ポリエステル又は（メタ）アクリル樹脂から選択される、使用。
【請求項１５】
熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂であることを特徴とする、請求項１４に記載の使用。
【請求項１６】
ａ）ポリマー（Ｐ２）、及び
ｂ）（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）、及び
ｃ）多段プロセスにより得られるポリマーであって、
−  ０℃未満のガラス転移温度を有するポリマー（Ａ１）を含む１つの段（Ａ）、
−  少なくとも３０℃のガラス転移温度を有するポリマー（Ｂ１）を含む１つの段（Ｂ）
を備えるポリマー
を含む耐衝撃性改良ポリマー組成物において、多段ポリマーが組成物の少なくとも５重量％を構成することを特徴とする、耐衝撃性改良ポリマー組成物。
【請求項１７】
（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が１０００００ｇ／ｍｏｌ未満の質量平均分子量Ｍｗを有することを特徴とする、請求項１６に記載の耐衝撃性改良ポリマー組成物。
【請求項１８】
ポリマー（Ｐ２）が、エポキシ、ポリエステル又は（メタ）アクリル樹脂から好ましくは選択される熱硬化性樹脂Ｒ１であることを特徴とする、請求項１６又は１７に記載の耐衝撃性改良ポリマー組成物。
【請求項１９】
ポリマー（Ｐ２）が、２５℃以下のＴｇを有するエポキシ樹脂Ｅ１である熱硬化性樹脂Ｒ１であり、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が８０重量％−１００重量％のメタクリル酸メチルを含むことを特徴とする、請求項１６又は１７に記載の耐衝撃性改良ポリマー組成物。
【請求項２０】
ポリマー（Ｐ２）が、エポキシ樹脂Ｅ１である熱硬化性樹脂Ｒ１であり、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が官能性コモノマーを含むことを特徴とする、請求項１６又は１７に記載の耐衝撃性改良ポリマー組成物。
【請求項２１】
ポリマー（Ｐ２）が、メタクリル樹脂であり、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ１）が８０重量％−１００重量％のメタクリル酸メチルを含むことを特徴とする、請求項１６又は１７に記載の耐衝撃性改良ポリマー組成物。
【請求項２２】
ａ）エポキシ樹脂Ｅ１をマスターバッチと混合する工程
を含む耐衝撃性改良ポリマー組成物を製造する方法において、前記マスターバッチが、請求項１から９の何れか一項に記載の、又は請求項１０から１２の何れか一項に記載の方法により得られるポリマー組成物を含むことを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月19日(2018.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応ゾーンで触媒の存在下で固体バイオマスを反応させること；生成物ストリーム又は反応ゾーンから出る生成物ストリームを生成すること；前記反応ゾーンから固体混合物を取り出すこと；除去される前記固体混合物は、前記生成物ストリーム又はストリームから分離している；触媒再生ステップ前に前記固体混合物からチャーの少なくとも一部を分離すること；及び前記生成物ストリームから芳香族化合物又はオレフィンを回収することを含む、芳香族化学物質又はオレフィンの生成方法。
【請求項２】
前記分離されたチャーの少なくとも一部が、前記反応ゾーンに付加され、前記反応ゾーンに付加された前記分離されたチャーが、前記反応ゾーン前にバイオマスと接触しない、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
芳香族化合物が、前記生成物ストリームから回収され、前記回収された芳香族化合物は、前記バイオマス中の炭素に基づいた収率が少なくとも１０％、好ましくは少なくとも１５％の量で、ベンゼン、トルエン、及びキシレンを含み、前記収率が、前記ベンゼン、トルエン、及びキシレン中の炭素の合計を前記バイオマス原料中の炭素によって割ったものである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記固体混合物の分離が、サイクロン又は連続したサイクロンで、又は好ましくはガス及び固体粒子の気泡床を含む固体フローテーション又はエルトリエーションによって、又は固体の分離が粒子サイズ差に基づいて生じる、さまざまな穴開口部を有するスクリーン、スクリーン一式、又はもう１つのサイズ排除デバイスによって、又はチャー富化及びチャー低減ストリームを与えるためのエルトリエーションによって実施される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記チャーの少なくとも一部が、それが他の固体から分離される前に粉砕される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記触媒から分離された前記チャーの一部が、チャーの二酸化炭素及び水への変換を完了するのに最小限必要な酸素を超過した酸素又はこれと等しい酸素により燃焼される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
熱が、前記チャーの燃焼から回収され、前記触媒バイオマス変換炉に移される、又は熱が、スチームを生成するのに利用される、又は熱が、電気を生成するために利用される、或いはこれらの組み合わせである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記触媒が、ゼオライトを含み、前記触媒再生が、７５０℃未満、又は７００℃未満、又は６５０℃未満、又は６２５℃未満、又は５５０℃〜７５０℃、又は５７５℃〜７００℃、又は６００℃〜６５０℃の温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記チャーの少なくとも一部を化学的に反応させ、前記反応させたチャーの一部が、前記触媒バイオマス炉に戻される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記チャーが、オゾン、酸素、希薄空気、過酸化水素、過酢酸（ＣＨ3Ｃ（Ｏ）ＯＯＨ）、過ギ酸（ＨＣ（Ｏ）ＯＯＨ）、過酸化イソブチル、ＮＯ2、ＮＯ、又は他の気体又は液体酸化剤との反応によって部分的に酸化される、請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
前記チャーが、酸性溶液；好ましくは前記酸性溶液が、酢酸、ギ酸、硝酸、硫酸、プロピオン酸、又は炭酸を含む、又は前記ＣＦＰプロセスで生成される水の一部、又はこれらの組み合わせで処理される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記チャーの燃焼が、循環流動床炉、ライザー炉、ガス化炉、対向流ガス化炉、並流ガス化炉、直交流ガス化炉、流動床ガス化炉、二連バーナー型ガス化炉、浮遊床ガス化炉、溶融浴ガス化炉、熱交換炉、循環ループ炉、段階式燃焼炉、又は任意の他の燃焼炉中で実施される、請求項６に記載の方法。
【請求項１３】
前記触媒リジェネレーター中の熱放出が、前記チャー及びコークス化触媒が分離されずリジェネレーター中で一緒に燃焼される場合の熱放出と比べて、前記チャーが除去される場合、少なくとも２０％、又は少なくとも３３％、又は少なくとも５０％、又は少なくとも６０％、又は少なくとも６６％、又は少なくとも７５％少ない、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月20日(2018.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２５℃未満の温度において固体であるエポキシ樹脂Ｅ１、及び
多段階ポリマー
を含み、多段階ポリマーが組成物の少なくとも２０重量％、好ましくは少なくとも３０重量％、より好ましくは少なくとも４０重量％、有利には少なくとも５０重量％を占める、ポリマー組成物。
【請求項２】
エポキシ樹脂が５０℃未満、好ましくは７０℃未満の温度において固体であることを特徴とする、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項３】
エポキシ樹脂が、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリグリシジル−ｐ−アミノ−フェノール、ブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ｍ−アミノ−フェノールのトリグリシジルエーテル、テトラグリシジルメチレンジアニリン、（トリヒドロキシ−フェニル）メタンのトリグリシジルエーテル、フェノール−ホルムアルデヒドノボラックのポリグリシジルエーテル、オルト−クレゾールノボラックのポリ−グリシジルエーテル及びテトラフェニル−エタンのテトラグリシジルエーテル、又はこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１又は２に記載のポリマー組成物。
【請求項４】
多段階ポリマーが、
ａ）０℃未満のガラス転移温度を有するポリマー（Ａ１）を含む１つの段階（Ａ）、
ｂ）少なくとも３０℃のガラス転移温度を有するポリマー（Ｂ１）を含む１つの段階（Ｂ）
を含むことを特徴とする、請求項１から３の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項５】
ポリマー（Ａ１）及び（Ｂ１）がアクリル又はメタクリルポリマーであることを特徴とする、請求項４に記載のポリマー組成物。
【請求項６】
ポリマー（Ａ１）がシリコーンゴム系ポリマーであることを特徴とする、請求項４に記載のポリマー組成物。
【請求項７】
ポリマー（Ａ１）が、イソプレン又はブタジエン由来のポリマー単位を少なくとも５０重量％含むことを特徴とする、請求項４に記載のポリマー組成物。
【請求項８】
１μｍ−５００μｍの体積メジアン粒径Ｄ５０を有するポリマー粉末の形態であることを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項９】
固体組成物であることを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項１０】
２５℃未満の温度において固体であるエポキシ樹脂Ｅ１、及び多段階ポリマーを含むポリマー粉末の形態であり、好ましくは固体流動性粉末であることを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項１１】
連続相として２５℃未満の温度において固体であるエポキシ樹脂Ｅ１、及び分散相として多段階ポリマーを含むポリマー粉末の形態であることを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項１２】
ａ）２５℃未満の温度において固体であるエポキシ樹脂Ｅ１、及び多段階ポリマーを混合する工程、
ｂ）前工程の得られた混合物を回収する工程
を含み、工程ａ）におけるエポキシ樹脂Ｅ１及び多段階ポリマーが水性相中の分散体の形態である、ポリマー組成物を製造する方法。
【請求項１３】
多段階ポリマーがポリマー組成物の少なくとも２０重量％を占めることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
回収する工程ｂ）が凝集又は噴霧乾燥により行われることを特徴とする、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１から１１の何れか一項に記載の、又は請求項１２から１４の何れか一項に記載の方法により得られるポリマー組成物の、熱硬化性樹脂におけるマスターバッチとしての使用。
【請求項１６】
ａ）エポキシ樹脂Ｅ２及び
ｂ）請求項１から１１の何れか一項に記載の、又は請求項１２から１４の何れか一項に記載の方法により得られるポリマー組成物
を含む、ポリマー組成物を含むエポキシ樹脂。
【請求項１７】
ａ）エポキシ樹脂Ｅ２をマスターバッチと混合する工程
を含む、ポリマー組成物を含むエポキシ樹脂を製造する方法において、前記マスターバッチが、請求項１から１１の何れか一項に記載の、又は請求項１２から１４の何れか一項に記載の方法により得られるポリマー組成物を含むことを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月12日(2018.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一外側フィルム表面を画定する離型層と、
前記第一外側フィルム表面と対向する第二外側フィルム表面を画定する接着層と、を備え、
前記接着層は、スチレン含有量が約３０重量％から約４０重量％の範囲内の水素化スチレンブロックコポリマーを含み、
前記水素化スチレンブロックコポリマーは、前記接着層の１５重量％から８０重量％の範囲内であり、前記接着層は、１０重量％から５０重量％の低密度ポリエチレン、および１０重量％から３５重量％の高密度ポリエチレンをさらに含む、フィルム。
【請求項２】
前記水素化スチレンブロックコポリマーは、前記接着層の２５重量％から５０重量％の範囲内であり、前記接着層は、２５重量％から４０重量％の低密度ポリエチレン、および２５重量％から３５重量％の高密度ポリエチレンをさらに含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記水素化スチレンブロックコポリマーは、前記接着層の約３３重量％であり、前記接着層は、約３２重量％の低密度ポリエチレン、および約３５重量％の高密度ポリエチレンをさらに含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項４】
前記離型層は、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリプロピレンランダムコポリマー、ポリプロピレンインパクトコポリマー、メタロセン直鎖状低密度ポリエチレンからなる群の少なくとも１つを含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項５】
前記離型層は、低密度ポリエチレン、および高密度ポリエチレンを含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項６】
前記離型層は、４０〜６０重量％の低密度ポリエチレン、および４０〜６０重量％の高密度ポリエチレンを含む、請求項５に記載のフィルム。
【請求項７】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、２３℃で、１インチ当たり１００グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項８】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、２３℃で、１インチ当たり２５グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項９】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、６０℃で、１インチ当たり２００グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１０】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、６０℃で、１インチ当たり５０グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１１】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、９０℃で、１インチ当たり１４０グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１２】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、９０℃で、１インチ当たり６０グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１３】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、６０℃で、１インチ当たり５グラム以上、かつ１インチ当たり５０グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１４】
平滑なポリカーボネート表面への貼付後に、９０℃で、１インチ当たり２０グラム以上、かつ１インチ当たり６０グラム未満の１８０度剥離強度を示す、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１５】
前記フィルムが示す、前記フィルムの第一部分の前記第一外側フィルム表面と、前記フィルムの第二部分の前記第二外側フィルム表面との間の１８０度剥離強度が、前記第一部分に対し前記第二部分が２０００ｐｓｉの圧力で１時間押圧された後で、１インチ当たり４０グラム未満である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１６】
前記フィルムが示す、前記フィルムの第一部分の前記第一外側フィルム表面と、前記フィルムの第二部分の前記第二外側フィルム表面との間の１８０度剥離強度が、前記第一部分に対し前記第二部分が２０００ｐｓｉの圧力で１時間押圧された後で、１インチ当たり１０グラム未満である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１７】
前記接着層と前記離型層の間のコア層をさらに含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項１８】
前記コア層が、本質的に、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、および低密度ポリエチレンと高密度ポリエチレンのブレンドからなる群の１つからなる、請求項１７に記載のフィルム。