【手続補正書】
【提出日】令和1年11月1日(2019.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
本発明は、先行の記載で例として説明されている。しかしながら、当業者は、特許請求の範囲によって規定される特許の範囲から逸脱することなく、本発明の異なる代替形態を製造することができることが理解される。
本開示の実施態様の一部を以下の〈態様１〉−〈態様１１〉に記載する。
〈態様１〉
少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含み、前記機能層（１４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）であって、
少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）が、前記基材（３０）の方向で機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、透明基材（３０）。
〈態様２〉
前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示すことを特徴とする、態様１に記載の基材（３０）。
〈態様３〉
酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、態様１又は２に記載の基材（３０）。
〈態様４〉
酸化ニッケルＮｉｙＯ層（１３４、１３６）が、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の上方でそれと接触して配置されており、かつ／又は、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層（１４０）に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、態様１〜３のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様５〉
酸化ニッケルＮｉｘＯ層が、機能層（１４０）の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様６〉
金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層（１４０）上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様７〉
酸化ニッケル層は、基材（３０）の方向で前記機能層（１４０）上に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層と前記機能層（１４０）との間に、異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉｘＯ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことを特徴とする、態様１〜６のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様８〉
前記下層の反射防止性コーティング（２０）及び上層の反射防止性コーティング（６０）は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも１つの誘電体層（２２，６６）を含むことを特徴とする、態様１〜７のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様９〉
態様１〜８のいずれかに記載の少なくとも１つの基材（３０）を、場合により少なくとも１つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング（１００）。
〈態様１０〉
モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング（１００）であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び／又は強化されていることを特徴とする、態様９に記載のグレージング（１００）。
〈態様１１〉
加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、態様１〜８のいずれかに記載の基材の使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含み、前記機能層（１４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）であって、
少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）が、前記基材（３０）の方向で機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、透明基材（３０）。
【請求項２】
前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
【請求項３】
酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の基材（３０）。
【請求項４】
酸化ニッケルＮｉｙＯ層（１３４、１３６）が、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の上方でそれと接触して配置されており、かつ／又は、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層（１４０）に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項５】
酸化ニッケルＮｉｘＯ層が、機能層（１４０）の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項６】
金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層（１４０）上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項７】
酸化ニッケル層は、基材（３０）の方向で前記機能層（１４０）上に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層と前記機能層（１４０）との間に、異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉｘＯ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項８】
前記下層の反射防止性コーティング（２０）及び上層の反射防止性コーティング（６０）は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも１つの誘電体層（２２，６６）を含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の少なくとも１つの基材（３０）を、場合により少なくとも１つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング（１００）。
【請求項１０】
モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング（１００）であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び／又は強化されていることを特徴とする、請求項９に記載のグレージング（１００）。
【請求項１１】
加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材の使用。