【事件の表示】
　特願２００１−３５１４２１「画像形成装置および画像形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　５月２１日出願公開、特開２００３−１４９９５５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　
１．手続の経緯
　
　本願は、平成１３年１１月１６日の出願であって、平成１８年３月１０日付け拒絶理由通知に対して、同年５月２２日付けで明細書に係る手続補正がなされたが、同年６月８日付けで、拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月１３日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年８月１１日付けで図面に係る手続補正がなされたものである。
　
２．原査定の拒絶理由の内容
　
（１）原審の記載不備に関する拒絶の理由（理由Ｂ）は次のとおりである。
　
「−理由Ｂ−
　この出願は、発明の詳細な説明の記載が下記の点で、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない。
  
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　請求項２において
「２７．９＜（Ａ×Ｒ）×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）＜３５．６………（１）」
という関係式が記載されているが、この関係式が導かれる理由が不明であって請求項２に係る発明の技術的意義が理解できない。
　よって、この出願の発明の詳細な説明は、請求項２に係る発明について、特許法第３６条第４項の経済産業省令で定めるところによる記載がされていない。
　なお、明細書００５６段落における「１．１＜Ｂ×Ｒ／（２５．４×１０3 ）＜√２」という関係式の説明によると、レーザ光の短径Ｂはドットピッチよりも１．１〜√２倍大きくすれば良いことが理解できるが、同様の技術思想で上記（１）式を検討した場合、上記（１）式には誤りがあると考えられる。
　また、図５に示された画像が転写によって図６に示された状態となる点も不明であるので、意見書提出の際には説明をされたい。」
　
（２）原審の拒絶査定において、備考欄に以下の指摘がなされている。
　
「備考
　請求項１及び請求項５に記載された関係式
「２７．９＜（Ａ×Ｒ）×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）＜３５．９………（１）」
の技術的意義が次のとおり理解できない。
　
　上記（１）式は、明細書００５７段落の記載を参考にすると
　
　　１．１×（２５．４／Ｒ）
　　　　　　　　　＜　Ａ×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）　
　　　　　　　　　　　　　　　＜　√２×（２５．４／Ｒ）…（１’）
　
と変形することができる。
　ここで、Ｒは主走査方向の解像度であるから、「２５．４／Ｒ」は静電潜像担持体に形成した静電潜像パターン、あるいは、中間転写体上に転写された画像パターンの主走査方向のドットピッチである。また、「Ａ×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）」は潜像担持体上に形成した副走査方向の長さＡ（長径Ａ）の静電潜像パターンを現像剤により現像して中間転写体に転写した後の画像パターンの副走査方向の長さ（以下「Ａ’」とする）である。
　すなわち、（１）式は中間転写体上の画像パターンの副走査方向の長さＡ’を主走査方向のドットピッチの１．１倍より大きく√２倍未満にすることを意味しているが、Ａ’を主走査方向のドットピッチと比較することの技術的意義が不明である。Ａ’と比較するものは中間転写体上における副走査方向のドットピッチと考えられるが、本願明細書には中間転写体上における主走査方向の解像度と副走査方向の解像度が同じであるとは記載されていない。
　なお、この拒絶査定とは関係ないが、第５図に示された画像を転写して第６図に示された画像とすることは不可能であると思われるので再度検討されたい。」
　
３．請求項の記載
　
　前記平成１８年５月２２日付け手続補正により補正された請求項１は、次のとおりである。
　
「【請求項１】　静電潜像担持体の外周面を帯電手段によって所定の電位に帯電させた後、露光手段を用いて画像情報に対応した静電潜像パターンを前記静電潜像担持体上に形成し、現像剤を表面に担持して搬送する現像剤担持体からなる現像手段によって、前記静電潜像担持体上の静電潜像パターンを可視像化して画像パターンとした後、一旦、中間転写体に前記画像パターンを転写し、前記中間転写体に形成された画像パターンを転写手段によって、記録紙上に転写するようにした画像形成装置において、
　ビーム形状が楕円に形成された半導体レーザーを露光走査光学系に用い、楕円形状の長径側を副走査方向に、短径側を主走査方向に対応させ、かつ、転動体の作動速度を制御するための制御手段を設け、
　前記制御手段は、
　前記露光手段で静電潜像パターンを書き込む際に、装置のプロセス速度をＶｐｒｏ、前記静電潜像担持体の作動速度をＶｏｐｃとし、ビームの楕円形状の長径側をＡ、短径側をＢとし、露光時の解像度をＲとした時に、
　２７．９＜（Ａ×Ｒ）×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）＜３５．９………（１）
　上記関係式（１）を満足するように、前記静電潜像担持体を前記装置のプロセス速度よりも高速で転動させることによって、前記静電潜像パターンを副走査方向に伸長させ、
　前記現像手段によって副走査方向に伸長された前記静電潜像パターンを可視像化した後、前記中間転写体を前記装置のプロセス速度で転動させて、前記中間転写体に可視像化された画像パターンを転写した後、記録紙に転写し、主走査方向と副走査方向の両方向で線像の連続性を確保できるように制御することを特徴とする画像形成装置。」
　
４．発明の詳細な説明の記載
　
　本願明細書の発明の詳細な説明には、以下の記載がある。（下線は、当審にて付与した。）
　
　ア．「【００４４】
　図２は、静電潜像担持体１０の表面上にレーザー光による書き込みを行う前の画像データの概念図である。図３は、一
般的なレーザーのビーム形状（断面）を示し、主走査方向の幅をＢ、副走査方向の幅をＡとした場合、レーザー光の楕円率は、Ａ／Ｂ（×１００％）で表すことができる。
　【００４５】
　図４は、従来の画像形成プロセスにおける静電潜像担持体１０に形成される静電潜像パターンの概念図である。同図に示すように、従来では、静電潜像担持体１０上の静電潜像パターンは副走査方向でレーザー光が重なり合っているため、本来、独立して孤立状態にあるべきはずのドットが、主走査方向には部分的に重合して連続性を帯びるようになってしまう。このような静電潜像パターンに対して、現像手段４０で可視像化すると、本来の元画像である第２図に示した画像パターンを忠実に再現することは困難となる。
　【００４６】
　そこで、本装置では、
静電潜像担持体１０に図２の画像パターンを露光する際に、静電潜像担持体１０の回転速度をＶｏｐｃとし、画像形成装置のプロセス速度をＶｐｒｏとした場合、レーザー光のビーム形状の楕円率Ａ／Ｂと同等の比率、言い換えると、Ｖｏｐｃ／Ｖｐｒｏ＝Ａ／Ｂの関係を満たすように、静電潜像担持体１０の回転速度もしくは移動速度を設定している。
　
　イ．「【００５６】
　《実施形態２》
　静電潜像担持体１０上に静電潜像パターンを形成する露光手段３０で使用する
半導体レーザー３０１は、図３に示すように、長径側をＡ、短径側をＢとした楕円率Ａ／Ｂを満たすビーム形状である。
　【００５７】
　
主走査方向のレーザー光の短径Ｂ（μｍ）は、主走査方向の解像度Ｒ（ｄｐｉ）とすると、一般的な画像形成装置では、１．１＜Ｂ×Ｒ／（２５．４×１０
3
 ）＜√２で設定されている。
　これは、主走査方向の線の連続性を確保するために、露光用のレーザービームを重ね合わせることによって実現している。
　【００５８】
　副走査方向に対しても同様に、線の連続性を確保する必要がある。しかしながら、従来の画像形成装置では、副走査方向の長径Ａ（μｍ）を制御することは困難であり、走査光学系の副走査方向のレンズ形状を変更するには、コスト的にも取付精度においても困難な課題であった。
　【００５９】
　そこで、本実施形態では、露光手段３０で使用する半導体レーザー３０１のビームの楕円形状に依存することなく、
静電潜像担持体１０とプロセス速度で回転もしくは移動している中間転写体５０１との間に周速比を設けることによって、副走査方向の線の連続性を容易に確保できるようにしている
　【００６０】
　具体的には、
画像形成プロセスのプロセス速度をＶｐｒｏ、さらには、静電潜像担持体１０の作動速度（回転速度もしくは移動速度）をＶｏｐｃとし、露光手段３０で使用する半導体レーザー３０１のビーム形状の楕円率をＡ／Ｂとした場合、
　
２７．９＜（Ａ×Ｒ）×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）＜３５．９…（１）　上記（１）式が満たされるように、上記Ｖｏｐｃを設定することによって、副走査方向の隣接するドットパターンの連続性を確保することができる。
　【００６１】
　つまり、
静電潜像担持体１０と中間転写体５０１の周速比を、前記の条件のように、レーザービーム形状の楕円比率に基づいて設定する
副走査方向のドットの連続性が確保されており、従って、高画質の画像が形成される
　
５．記載不備についての当審の判断
　
５−１．特許法第３６条第４項の要件に関して
　
（１）関係式（１）の技術的意義について
　原査定の指摘のとおり、段落【００５７】の記載を参考に、関係式（１）を変形すると、下記の式（１’）となる。
　２７．９＜（Ａ×Ｒ）×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）＜３５．９………（１）
　１．１×（２５．４／Ｒ）＜　Ａ×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）　
　　　　　　　　　　　　　　　　＜　√２×（２５．４／Ｒ）…（１’）
　ここで、Ｒは主走査方向の解像度であるから、「２５．４／Ｒ」は静電潜像担持体に形成した静電潜像パターン、あるいは、中間転写体上に転写された画像パターンの主走査方向のドットピッチである。
　また、「Ａ×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）」は潜像担持体上に形成した副走査方向の長さＡ（長径Ａ）の静電潜像パターンを現像剤により現像して中間転写体に転写した後の画像パターンの副走査方向の長さ（以下「Ａ’」とする）である。
　ところで、関係式（１）のＲに関して、請求項及び段落【００１８】には、「露光時の解像度をＲとした時に」と、段落【００５７】には、「主走査方向の解像度Ｒ（ｄｐｉ）」とあるが、副走査方向の解像度については何ら記載されていない。
　「副走査方向の隣接するドットパターンの連続性を確保する」（段落【００６０】）ためには、副走査方向の解像度が必須であるから、審査官も指摘したように、「Ａ’と比較するものは中間転写体上における副走査方向のドットピッチと考えられるが、本願明細書には中間転写体上における主走査方向の解像度と副走査方向の解像度が同じであるとは記載されていない」ことから、「Ａ’を主走査方向のドットピッチと比較することの技術的意義が不明である」と言わざるを得ない。
（２）Ｖｏｐｃの設定について
　Ｖｏｐｃについて検討すると、段落【００４６】の記載では、「Ｖｏｐｃ／Ｖｐｒｏ＝Ａ／Ｂ」であるから、Ｖｏｐｃは、Ａ、Ｂ及びＶｐｒｏの値に基づき一義的に設定されるものである。
　一方、段落【００５７】の記載では、関係式（１）を満たすように「Ｖｏｐｃを設定」、すなわち、「Ｖｏｐｃを制御」（主走査方向と副走査方向の両方向で線像の連続性を確保できるように制御）するものである。
　したがって、段落【００４６】と段落【００５７】とで記載内容が矛盾しており、Ｖｏｐｃが如何にして設定されるのかが不明であるから、関係式（１）の技術的意義も不明である。
　なお、「Ｖｏｐｃ／Ｖｐｒｏ＝Ａ／Ｂ」であれば、上記Ａ’は、「Ａ×（Ｖｐｒｏ／Ｖｏｐｃ）」であるから、「Ａ’＝Ｂ」となる。ここで、「中間転写体上における主走査方向の解像度と副走査方向の解像度が同じ」であれば、関係式（１）は、「副走査方向の隣接するドットパターンの連続性を確保する」ものといえるが、「中間転写体上における副走査方向の解像度」については記載がない。
（３）まとめ
　以上のとおり、関係式（１）の技術的意義が不明であるから、本願の発明の詳細な説明は、当業者が請求項１に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていない。
　
５−２．特許法第３６条第６項第２号の要件に関して（予備的判断）
　原査定の拒絶理由には、特許法第３６条第６項第２号の要件違反は示されていないが、請求項１に係る発明の明確性につき予備的に判断しておく。
　
　関係式（１）に関して、上記５−１で指摘したとおり、式の技術的意義が不明であるから、請求項１に係る発明自体が不明確である。
　したがって、本願の特許請求の範囲の記載は、特許を受けようとする発明が明確でないから、本願は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たさないものである。
　
５−３　請求人の主張に関して
　
　関係式（１）の技術的意義が不明であるとの、原審の審査官の指摘に対して、請求人は、請求の理由において、
「本願発明は、電子写真方式の画像形成に使用されるレーザ光のビーム形状が長径を短径の約１．１倍〜√２倍である楕円を呈することを考慮して、副走査方向のピッチを主走査方向のピッチの１．１倍〜√２倍とすることで、主走査方向に高解像度化しても副走査方向についてレーザ光の干渉を生じないようにしています。・・・一般的な楕円ビーム形状のレーザ光を用いて感光体に画像を書き込んで画像形成を行う場合に、感光体の周速と中間転写体の周速との制御とともに、副走査方向のドットピッチを主走査方向のドットピッチの比率をレーザ光のビーム形状に応じた値とすることで、副走査方向のドットの連続性を確保しつつ、縦横比率を１：１とした画像を得ることができる点に、上記（１）式の技術的意義があります。」と、関係式（１）の技術的意義を主張している。
　
　しかしながら、「副走査方向のピッチを主走査方向のピッチの１．１倍〜√２倍とすること」及び「副走査方向のドットピッチを主走査方向のドットピッチの比率をレーザ光のビーム形状に応じた値とすること」は、本願の明細書及び図面には記載も示唆もない事項であるから、上記主張は、明細書等の記載に基づかないものであり、採用できない。
　
６．むすび
　
　以上のとおりであるから、本願は、発明の詳細な説明の記載が特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない。
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。