【事件の表示】
　特願２００２−２２６９６６「Ｘ線分析装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　３月　４日出願公開、特開２００４−　６９４０７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件は、平成１４年８月５日を出願日とする特許出願（２００２年特許願第２２６９６６号。以下「本件出願」という。）につき、拒絶査定が平成１８年６月３０日付けでされ、同年７月６日に発送されたところ、拒絶査定不服審判が同年８月２日に請求されるとともに同月３０日付けで手続補正書が提出されたものである。
　　
第２　平成１８年８月３０日付けの手続補正についての補正却下の決定
　１　補正却下の決定の結論
　平成１８年８月３０日付けの手続補正を却下する。
　　
　２　補正却下の決定の理由
　（１）平成１８年８月３０日付けの手続補正書による手続補正（以下「本件補正」という。）の内容
　　本件補正は、本件出願明細書の特許請求の範囲の請求項１を以下のとおり補正することを含むものである。
　　ア　本件補正前の特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】
　分析方向の各分析位置において、分析位置と、Ｘ線検出器又はＸ線分光器との距離を一定とする試料ステージのＺ軸補正値を折れ線状のＺ軸補正関数として備え、
　前記Ｚ軸補正関数と現在の分析方向の分析位置とに基づいて次の分析方向に分析位置におけるＺ軸補正値を求め、
　前記Ｚ軸補正関数のＺ軸補正値が直線的に変化する各領域において、当該領域におけるＸ，Ｙ平面上の幅とＺ軸補正量に基づいて、
　当該領域における分析方向へのＸ軸及び／又はＹ軸の駆動速度を各領域毎に設定し、
　前記Ｚ軸補正関数の全領域において、Ｚ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し、
　求めたＺ軸補正値および各軸の駆動速度により試料ステージのＺ軸を駆動することを特徴とする、Ｘ線分析方法。」
　　　　　　　　　　　
　　イ　本件補正後の特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】
　分析方向の各分析位置において、分析位置と、Ｘ線検出器またはＸ線分光器との距離を一定とする試料ステージのＺ軸補正値を折れ線状のＺ軸補正関数として備え、
　前記Ｚ軸補正関数と現在の分析方向の分析位置とに基づいて次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め、
　前記Ｚ軸補正関数のＺ軸補正値が直線的に変化する各領域において、当該領域におけるＸ，Ｙ平面上の幅とＺ軸補正量に基づいて、
　当該領域における分析方向へのＸ軸及び／又はＹ軸の駆動速度を各領域毎に設定し、
　前記Ｚ軸補正関数の全領域において、試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まるＺ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し、
　求めたＺ軸補正値及び各軸の駆動速度により試料ステージのＺ軸を駆動することを特徴とする、Ｘ線分析方法。」
　　　　　　　
　（２）　本件補正の適否について
　本件補正は、本件補正前の請求項１に係る発明について、（ａ）「Ｘ線検出器又はＸ線分光器」を「Ｘ線検出器またはＸ線分光器」に、（ｂ）「次の分析方向に分析位置におけるＺ軸補正値を求め」を「次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め」に、（ｃ）「Ｚ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し」を「試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まるＺ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し」とそれぞれ補正するものである。
　上記（ａ）の補正は「又は」を「または」と補正するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当しないし、さらに誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明、請求項の削除を目的とするものにも該当しないが、上記（ｂ）の補正は「次の分析方向に」を「次の分析方向の」と補正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当し、また、上記（ｃ）の補正は、「Ｚ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し」の構成に「試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まる」構成を新たに付加することにより、「Ｚ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し」の構成をさらに限定的に減縮する補正であるから、本件補正は、限定的に減縮する上記（ｃ）の補正を含む補正であり、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものに該当する。
　 　
　（３）　独立特許要件について
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
　（ア）引用刊行物記載の発明
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２０００−１７３５２７号公報（以下、「引用刊行物Ａ」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。
（Ａ−１）「【特許請求の範囲】
【請求項１】　分析方向の各分析位置において、Ｘ線分光器の集光条件を満足させる試料ステージのＺ軸補正値を階段状のＺ軸補正関数として備え、前記Ｚ軸補正関数と現在の分析方向の分析位置とに基づいて、次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め、求めたＺ軸補正値に試料ステージのＺ軸を駆動する、電子プローブマイクロアナライザーのステージ駆動方法。」
（Ａ−２）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子プローブマイクロアナライザーの制御方法に関し、特に試料ステージの高さ方向の駆動制御方法に関する。」
（Ａ−３）「【０００２】
【従来の技術】波長分散型分光器を用いた電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）では、電子線照射によって試料から放出される特性Ｘ線を検出するための集光条件として、試料，及び分光結晶，検出器のＸ線分光器がローランド円の円周上に精度良く配置されることが求められている。通常、このＸ線分光器の集光条件は試料面の高さを位置合わせすることによって行っている。
【０００３】電子プローブマイクロアナライザー等を用いた表面分析では、試料面の１点を分析する点分析の他、試料面上で分析位置を逐一変更しながらその都度Ｘ線信号を検出することによってＸ線信号の一次元又は二次元の分布を得る線分析やマッピング分析がある。
【０００４】線分析やマッピング分析では、試料をＸ，Ｙ平面上で一定速度で移動させ、この移動の間に一定間隔でＸ線信号の測定を行う。凹凸のある試料面に対して、線分析やマッピング分析を行う場合には、試料がＸ，Ｙ平面上で移動することによって、分析位置における試料面の高さが変化する。そのため、精度の良い測定を行うには、各分析位置において試料面の高さがＸ線分光器の集光条件を満足するように常に試料ステージの高さ方向を制御する必要がある。
【０００５】　従来、試料ステージの高さ方向を制御する方法として、試料面の高さがＸ線の集光条件を満足するときの試料ステージのＺ軸座標値の実測値あるいは近似値を、分析領域全面にわたってあらかじめ求めておき、求めたＺ軸座標値に基づいて試料ステージのＺ軸座標を制御する方法が知られている。従来、試料ステージのＺ軸座標を制御する駆動方法として、分析領域全体を一平面で近似し、Ｘ，Ｙ軸方向の一定速度の移動に対してＺ軸を一定速度で移動させることにより平面の傾斜に沿わせる駆動方法が知られている。
・・・
【０００９】図５は上記（ｂ）の制御で発生するＺ軸方向の位置誤差を説明するためのグラフである。図５（ａ）は平面近似した試料面に対して、Ｘ，Ｙ方向の移動に対する試料ステージのＺ軸方向の制御値であるＺ軸座標値Ｄを示している。試料ステージのＺ軸は、各分割した平面において、図５（ｂ）に示す速度Ｆのように、一定速度で上下に移動させる。この一定速度による制御では、各分析領域の切り替わりにおいて制御の遅れ時間Ｔが発生し、図５（ｃ）の実線Ｇに示すように、破線で示す目標値Ｄからずれが生じることになる。図５（ｄ）はこのＺ軸方向の位置誤差Ｈを示しており、該位置誤差ＨはＸ，Ｙ方向の移動に伴って蓄積されることになる。」
（Ａ−４）「【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態について図を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の電子プローブマイクロアナライザーのステージ駆動方法を適用した構成例の概略ブロック図である。図１に示す電子プローブマイクロアナライザー１において、フィラメント１１から発生された電子線１２はコンデンサレンズ１３，対物レンズ１４を介して試料ステージ１７上に配置された試料Ｓに照射される。試料Ｓから放出されたＸ線は、波長別に分光する分光素子１５と分光された特性Ｘ線を検出する検出器１６を含むＸ線分光器で分析される。
【００１７】試料ステージ１７は、ステージコントローラ３からの制御パルスを受けたドライバ４によってＸ，Ｙ，Ｚ軸方向移動可能である。Ｘ軸，Ｙ軸の駆動によって、試料Ｓを電子線１２に対してＸ，Ｙ平面上で移動させ、線分析あるいはマッピング分析を行う。
【００１８】ステージコントローラ３はコンピュータ２からの制御コマンドによって、Ｘ，Ｙ軸方向の位置決めや、Ｚ軸方向の高さ調整を行う。試料Ｓの観察は、反射鏡１８で反射した像をＣＣＤカメラ等の撮像装置５で撮像しモニタ６に表示する。線分析及びマッピング分析は、検出器１６で得た測定信号をコンピュータ２内の各機能でデータ処理することによって行われる。コンピュータ２は、データメモリ２５やデータ処理部２６等の機能手段を備え、測定信号のデータ処理やモニタ６の表示を行う。
【００１９】コンピュータ２がＺ軸方向の高さ補正を行うために、Ｚ軸座標値を階段状の関数で表したＺ軸補正値を入力し、Ｚ軸補正関数を求めるＺ軸補正関数手段２１、Ｚ軸補正関数からＺ軸補正値及びステップ幅に相当するパルス数を形成するＺ軸補正値形成部２２、分析方向の移動量を計数するカウンタ２３、及びＺ軸補正値をステージコントローラ３に送るタイミングを定める割り込み処理部２４等の各機能手段を備える。なお、図１では、各機能をブロック２１〜２６で示しているが、これらの各機能はソフトウエアで実行することができ、必ずしも対応する構成部分を備えるものではない。
【００２０】Ｚ軸補正関数は、測定対象の試料の分析方向に沿った各分析位置において、Ｘ線分光器の集光条件を満足させるために試料ステージを補正するＺ軸補正値を階段状関数としたものである。通常、電子プローブマイクロアナライザーでは、Ｘ線分光器の集光条件となる位置と光学顕微鏡による観察像の焦点位置とが一致するように構成されている。光学顕微鏡による観察像は、撮像装置５によって取得することができ、該観察像の焦点位置は図示しないオートフォーカス機能によって求めることができる。そこで、電子プローブマイクロアナライザー１の図示しない手段によって、分析領域中の複数の分析位置において、試料面がＸ線分光器の集光条件を満たすときのＺ軸座標値を、光学顕微鏡による観察像の焦点位置から求めることができる。なお、Ｚ軸座標値は、光学顕微鏡による観察像から求める他に、その他の測定手段によって得ることもできる。
【００２１】Ｚ軸補正関数手段２１は求めたＺ軸座標値を入力し、分析領域中の各分析位置においてそれぞれ集光条件を満たすＺ軸座標値をＺ軸補正値として求め、求めたＺ軸補正値の分布を求める。さらに、線分析やマッピング分析の分析方向に対するＺ軸補正値の変化を階段状のＺ軸補正関数として形成する。したがって、Ｚ軸補正関数は、線分析やマッピング分析の分析領域や分析するラインに応じて異なる関数となる。なお、Ｚ軸座標値の変化幅は任意に設定することができる。
【００２２】Ｚ軸補正値形成部２２は、試料ステージ１７の高さ方向の補正制御を行わせるためのパラメータを形成し、該パラメータをステージコントローラ３に出力する部分である。Ｚ軸補正値形成部２２はＺ軸補正値のパラメータをステージコントローラ３に出力し、該Ｚ軸補正値のステップ幅に相当するパルス数を割り込み処理部２４に出力する。
【００２３】ステージコントローラ３は、試料ステージ１７のステッピングモータを制御するパルスをドライバ４に供給する。Ｘ軸方向の移動及びＹ軸方向の移動距離は、送られるパルス数によって定まり、該パルス数を計数することによって、線分析やマッピング分析の分析方向における分析位置を求めることができる。また、ステージコントローラ３は、Ｚ軸補正値形成部２２から送られたＺ軸補正値に基づいてドライバ４を駆動し、試料ステージ１７の高さ補正を行う。カウンタ２３は、ステージコントローラ３が出力するＸ軸，Ｙ軸方向のパルス数ｎを計数し分析位置を求める。割り込み処理部２４は、Ｚ軸補正値形成部２２からＺ軸補正値のステップ幅に相当するパルス数Ｎを受け取り、カウンタ２３が計数するパルス計数ｎを入力し、パルス数Ｎとパルス計数ｎとの比較を行う。パルス計数ｎがパルス数Ｎに達した時点で割り込み信号を発生させ、次のＺ軸補正値による高さ補正を行わせる。
【００２４】・・・
　図２のフローチャート及び図３のグラフを用いて、本発明のステージ駆動方法の概略例を説明する。図２のフローチャートにおいて、Ｚ軸補正関数手段２１は、あらかじめ求めたＺ軸補正値を入力し、集光条件を満たすＺ軸座標値をＺ軸補正値として求め、このＺ軸補正値の分布から線分析やマッピング分析の分析方向に対するＺ軸補正値の変化を階段状のＺ軸補正関数として求める。図３（ａ）は階段状のＺ軸補正関数の一例を示しており、Ｚ軸補正値Ｚｍでステップ幅Ｗｍとする階段状に形成される（ステップＳ１）。Ｚ軸補正値形成部２２は、Ｚ軸補正関数に基づいてＺ軸補正値Ｚｍ（図３（ｂ）のＢ）、該Ｚ軸補正値Ｚｍのステップ幅Ｗｍに相当するパルス数Ｎｍ（図３（ｃ））を求める（ステップＳ２）。
【００２５】Ｚ軸補正値形成部２２は、以下のステップＳ３〜ステップＳ１０に従って、図３（ｂ）に示すＺ軸補正値Ｚｍを、図３（ｃ）に示されるパルス数Ｎｍを計数する毎に順にステージコントローラ３に出力する。はじめに、階段のステップを計数するためのカウント値ｍを１とし（ステップＳ３）、一番目の階段のステップのステップ幅Ｗ１に相当するパルス数Ｎ１を読み取り、ステップＳ５〜ステップＳ８に従って、一番目の階段によるＺ軸の補正を行う。ステップＳ５でパルス計数ｎを１に初期化した後、ステップＳ６で一番目の階段のＺ軸補正値Ｚ１をステージコントローラ３に出力して、Ｚ軸補正値Ｚ１による高さ補正を行う。この後、ステップＳ７，８によって、パルス計数ｎがパルス数Ｎ１を越えるまで、ステージコントローラ３が出力するパルスを順にカウントする。
【００２６】ステップＳ７において、パルス計数ｎがパルス数Ｎ１に達したことによって、分析方向における分析位置が一番目のステップの端部に到達したことを検出することができる。この後、カウント値ｍに１を加算した後（ステップＳ９）、ステップＳ４からステップＳ８を繰り返して、次の階段によるＺ軸補正を行う。
【００２７】ステップＳ４からステップＳ９の工程を、カウント値ｍが階段数Ｍに達するまで繰り返し、これによって、階段状のＺ軸補正関数によるＺ軸補正を行う。なお、通常のプログラム中では、割り込み処理が行われたことを認識した場合に、Ｚ軸が駆動中でない場合に、現在設定されている目標とするＺ軸座標値への駆動を開始する。」
（Ａ−５）「【００３０】本発明の実施態様では、目標とするＺ軸座標値の変更を割り込み処理ルーチンで行うため、現在の目標とするＺ軸座標値を現在位置とＺ軸座標値とを逐次比較して求める必要がなく、比較演算による制御遅れのおそれがない。また、階段の一ステップ内においてＺ軸座標値に制御された状態では、新たにＺ軸の駆動制御を行わないため、Ｚ軸駆動中に速度を急激に変えたり、瞬時に停止させることがなく、試料ステージに機械的な負担をかけることがない。」
（Ａ−６）図５の（ａ）には、平面近似して分割したＸ，Ｙ方向の各分割領域において、各分割領域のＸ，Ｙ方向に対してＺ軸方向の制御値が直線的に変化するとともに、隣り合う分割領域のＺ軸方向の制御値が折れ線状に変化することが描かれている。
　　　　　　　　　　
　上記（Ａ−１）〜（Ａ−６）の記載を参照すると、上記引用刊行物Ａには、
「分析方向の各分析位置において、Ｘ線分光器の集光条件を満足させる試料ステージのＺ軸補正値を階段状のＺ軸補正関数として備え、
　Ｚ軸補正関数と現在の分析方向の分析位置とに基づいて、次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め、
　求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸をステッピングモータで駆動する、電子プローブマイクロアナライザーの駆動方法。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　　　　　　
　（イ）本願補正発明についての対比・判断
　（イ−１）　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　（i）　上記引用刊行物Ａの（Ａ−３）に「【０００２】【従来の技術】波長分散型分光器を用いた電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）では、電子線照射によって試料から放出される特性Ｘ線を検出するための集光条件として、試料，及び分光結晶，検出器のＸ線分光器がローランド円の円周上に精度良く配置されることが求められている。通常、このＸ線分光器の集光条件は試料面の高さを位置合わせすることによって行っている。
・・・
【０００４】線分析やマッピング分析では、試料をＸ，Ｙ平面上で一定速度で移動させ、この移動の間に一定間隔でＸ線信号の測定を行う。凹凸のある試料面に対して、線分析やマッピング分析を行う場合には、試料がＸ，Ｙ平面上で移動することによって、分析位置における試料面の高さが変化する。そのため、精度の良い測定を行うには、各分析位置において試料面の高さがＸ線分光器の集光条件を満足するように常に試料ステージの高さ方向を制御する必要がある。」と記載されていることから、引用発明の「分析方向の各分析位置において、Ｘ線分光器の集光条件を満足させる」ことは、分析位置と検出器であるＸ線分光器と距離を一定にすることを意味することは明らかであり、さらに、引用発明の「Ｘ線分光器」は「Ｘ線検出器」でもあることから、引用発明の「分析方向の各分析位置において、Ｘ線分光器の集光条件を満足させる試料ステージのＺ軸補正値を階段状のＺ軸補正関数として備え」と本願補正発明の「分析方向の各分析位置において、分析位置と、Ｘ線検出器またはＸ線分光器との距離を一定とする試料ステージのＺ軸補正値を折れ線状のＺ軸補正関数として備え」とは、「分析方向の各分析位置において、分析位置と、Ｘ線検出器またはＸ線分光器との距離を一定とする試料ステージのＺ軸補正値をＺ軸補正関数として備え」る点で共通するものである。
　（ii）　上記引用刊行物Ａの（Ａ−４）には「【００１６】【発明の実施の形態】・・・図１は本発明の電子プローブマイクロアナライザーのステージ駆動方法を適用した構成例の概略ブロック図である。図１に示す電子プローブマイクロアナライザー１において、フィラメント１１から発生された電子線１２はコンデンサレンズ１３，対物レンズ１４を介して試料ステージ１７上に配置された試料Ｓに照射される。試料Ｓから放出されたＸ線は、波長別に分光する分光素子１５と分光された特性Ｘ線を検出する検出器１６を含むＸ線分光器で分析される。【００１７】試料ステージ１７は、ステージコントローラ３からの制御パルスを受けたドライバ４によってＸ，Ｙ，Ｚ軸方向移動可能である。Ｘ軸，Ｙ軸の駆動によって、試料Ｓを電子線１２に対してＸ，Ｙ平面上で移動させ、線分析あるいはマッピング分析を行う。」と記載されていることから、引用発明の「電子プローブマイクロアナライザーの駆動方法」はＸ線分光器により試料Ｓから放出されたＸ線を検出して試料を分析するための駆動方法を用いたX線分析方法であるから、引用発明の「電子プローブマイクロアナライザーの駆動方法」は本願補正発明の「Ｘ線分析方法」に相当し、引用発明の「電子プローブマイクロアナライザーの駆動方法」は、「求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸を駆動する」から、本願補正発明の「Ｘ線分析方法」とは「求めたＺ軸補正値により試料ステージのＺ軸を駆動する」点で共通するものである。
　　
　そうすると、本願補正発明と引用発明とは、
　「分析方向の各分析位置において、分析位置と、Ｘ線検出器またはＸ線分光器との距離を一定とする試料ステージのＺ軸補正値をＺ軸補正関数として備え、
　前記Ｚ軸補正関数と現在の分析方向の分析位置とに基づいて次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め、
　求めたＺ軸補正値により試料ステージのＺ軸を駆動することを特徴とする、Ｘ線分析方法。」である点で一致し、次の相違点（あ）で相違している。
　　　　　　　
・相違点（あ）
　本願補正発明のＺ軸補正関数は「折れ線状のＺ軸補正関数」であり、「Ｚ軸補正関数のＺ軸補正値が直線的に変化する各領域において、当該領域におけるＸ，Ｙ平面上の幅とＺ軸補正量に基づいて、当該領域における分析方向へのＸ軸及び／又はＹ軸の駆動速度を各領域毎に設定し、Ｚ軸補正関数の全領域において、試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まるＺ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し、求めたＺ軸補正値及び各軸の駆動速度により試料ステージのＺ軸を駆動する」のに対して、引用発明のＺ軸補正関数は「階段状のＺ軸補正関数」であり、「求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸を駆動する」点。
　　　　　　　　
　（イ−２）当審の判断
　そこで、上記相違点（あ）について判断する。
（ａ）上記引用刊行物Ａの（Ａ−３）に「【０００５】・・・従来、試料ステージのＺ軸座標を制御する駆動方法として、分析領域全体を一平面で近似し、Ｘ，Ｙ軸方向の一定速度の移動に対してＺ軸を一定速度で移動させることにより平面の傾斜に沿わせる駆動方法が知られている。・・・【０００９】・・・試料ステージのＺ軸は、各分割した平面において、図５（ｂ）に示す速度Ｆのように、一定速度で上下に移動させる。」と記載されているように、試料ステージを一定の駆動速度で駆動することは技術常識であることから、引用発明の駆動方法も分割領域のＺ軸補正値Ｚｍのステップ幅Ｗｍに相当するパルス数Ｎｍをステッピングモータに供給してＸ軸，Ｙ軸方向に試料ステージを移動させる際の駆動速度も一定の駆動速度であることが推認できるものである。
（ｂ）そして、上記引用刊行物Ａの（Ａ−４）に「【００２３】ステージコントローラ３は、試料ステージ１７のステッピングモータを制御するパルスをドライバ４に供給する。Ｘ軸方向の移動及びＹ軸方向の移動距離は、送られるパルス数によって定まり、該パルス数を計数することによって、線分析やマッピング分析の分析方向における分析位置を求めることができる。・・・カウンタ２３は、ステージコントローラ３が出力するＸ軸，Ｙ軸方向のパルス数ｎを計数し分析位置を求める。」と記載されていることから、一定速度でＸ軸及びＹ軸方向のステッピングモータが駆動されるものであり、さらにこのときのＸ軸及びＹ軸方向のステッピングモータに供給する複数のパルスの時間間隔をΔＴxy、１パルスを供給した際の試料ステージの一ステップの移動距離をΔＬxyとすると駆動速度Ｖxyは、
　　Ｖxy＝ΔＬxy／ΔＴxy
の関係式で表される一定速度であることは明らかである。
　また、同様にＺ軸方向のステッピングモータに供給する複数のパルスの時間間隔をΔＴz、１パルスを供給した際の試料ステージの一ステップの移動距離をΔＬzとするとＺ軸方向の駆動速度Ｖzは、
　　Ｖz＝ΔＬz／ΔＴz
の関係式で表される一定速度であることは明らかであるから、引用発明の駆動方法においても、求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸をステッピングモータで駆動する際、Ｘ軸及びＹ軸方向の駆動速度は全分析領域において一定の駆動速度で駆動され、また、Ｚ軸方向は上下に駆動されるからＺ軸方向の駆動速度は全分析領域において絶対値が常に一定の駆動速度で駆動されることは明らかである。
（ｃ）ところで、引用発明では、求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸をステッピングモータで駆動する際のＺ軸補正関数として、「階段状のＺ軸補正関数」を用いているが、上記引用刊行物Ａの（Ａ−６）には「平面近似して分割したＸ，Ｙ方向の各分割領域において、各分割領域のＸ，Ｙ方向に対してＺ軸方向の制御値が直線的に変化するとともに、隣り合う分割領域のＺ軸方向の制御値が折れ線状に変化する」ことが記載され、さらに、Ｘ線検出器において補正関数として、階段状関数の代わりに折れ線関数を用いることは技術常識（例えば、特開平７−１２４１５０号公報の段落【０００１】、【００３５】の記載参照）であり、また、折れ線関数は各分割領域において補正値が直線的に変化することから、引用発明においても、求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸をステッピングモータで駆動する際のＺ軸補正関数として「階段状のＺ軸補正関数」の代わりに「折れ線状のＺ軸補正関数」を用いて、「Ｚ軸補正関数のＺ軸補正値が直線的に変化する各領域において」、求めたＺ軸補正値により、試料ステージの各Ｘ、Ｙ軸、Ｚ軸を駆動することは当業者が容易になし得たものである。
　さらに、求めたＺ軸補正値により試料ステージのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸をステッピングモータで駆動する際のＺ軸補正関数として「階段状のＺ軸補正関数」の代わりに「折れ線状のＺ軸補正関数」を用いた場合、折れ線状のＺ軸補正関数のＺ軸補正値は各分割領域において直線的に変化し、その直線の傾きは、例えば、上記引用刊行物Ａの（Ａ−４）の段落【００２５】に記載されたＺ軸補正値Ｚｍ、Ｘ、Ｙ軸方向の分析位置のステップ幅Ｗｍを用いれば、Ｚｍ／Ｗｍとなるが、この直線の傾きＺｍ／Ｗｍは、Ｚｍ、Ｗｍの値が各分割領域においてそれぞれ異なるから、各分割領域においてそれぞれ異なるものであり、ステッピングモータで駆動するＸ、Ｙ軸方向の駆動速度及びＺ軸方向の駆動速度は全分析領域においてともに一定の駆動速度で駆動することはできないことになる。したがって、Ｘ、Ｙ軸方向の駆動速度又はＺ軸方向の駆動速度の何れか一方を全分析領域において一定の駆動速度で駆動する必要があることは明らかである。そして、全分析領域において一定の駆動速度で駆動する軸方向をいずれにするかは当業者が適宜なし得る選択的事項であり、また、上記引用刊行物Ａの（Ａ−３）に「【０００９】・・・試料ステージのＺ軸は、各分割した平面において、図５（ｂ）に示す速度Ｆのように、一定速度で上下に移動させる。この一定速度による制御では、各分析領域の切り替わりにおいて制御の遅れ時間Ｔが発生し、図５（ｃ）の実線Ｇに示すように、破線で示す目標値Ｄからずれが生じることになる。図５（ｄ）はこのＺ軸方向の位置誤差Ｈを示しており、該位置誤差ＨはＸ，Ｙ方向の移動に伴って蓄積されることになる。」こと、及び（Ａ−５）に「【００３０】・・・また、階段の一ステップ内においてＺ軸座標値に制御された状態では、新たにＺ軸の駆動制御を行わないため、Ｚ軸駆動中に速度を急激に変えたり、瞬時に停止させることがなく、試料ステージに機械的な負担をかけることがない。」ことが記載されているように、Ｚ軸方向の速度の変化を問題とする場合には一定の駆動速度で駆動する軸方向として、Ｚ軸方向を選択することは当業者であれば容易に想到しうる事項であるから、一定の駆動速度で駆動する軸方向をＺ軸方向に選択することは当業者が必要に応じて適宜選択しうる設計的事項である。
　そうすると、折れ線状のＺ軸補正関数のＺ軸補正値をＺ軸方向の駆動速度で駆動して補正する際に必要とするパルス数Ｎｍは、例えば、上記（ｂ）に記載したように、Ｚ軸のステッピングモータの１パルスを供給した際の試料ステージの一ステップの移動距離をΔＬzとすると、Ｚｍ／ΔＬzであり、このときのＺ軸補正値を補正するＺ軸駆動時間Ｔzｍは、例えば、Ｚ軸方向のステッピングモータに供給する複数のパルスの時間間隔をΔＴzとすると、Ｎｍ×ΔＴzとなり、さらにＸ、Ｙ軸方向の各分割領域ごとの駆動速度Ｖxyは、Ｚ軸補正値Ｚｍのステップ幅Ｗｍとすると、Ｗｍ／Ｔzｍとなるから、本願補正発明のごとく「Ｚ軸補正関数のＺ軸補正値が直線的に変化する各領域において、当該領域におけるＸ，Ｙ平面上の幅とＺ軸補正量に基づいて、当該領域における分析方向へのＸ軸及びＹ軸の駆動速度を各領域毎に設定し、Ｚ軸補正関数の全領域において、試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まるＺ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定」されるのは明らかであり、さらに、Ｚ軸の駆動も「求めたＺ軸補正値及び各軸の駆動速度により試料ステージのＺ軸を駆動する」ことになることは明らかである。
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、上記引用発明及び周知の技術事項から予測される範囲内のものであって、格別のものではない。
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　　　　　　　　　　　　
　（４）　補正却下の決定についてのむすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下しなければならないものである。　
　　　　　　　　　　　　　　
第３　本願発明について
　１．本願発明
　平成１８年８月３０日付けの手続補正は上記のとおり却下されるものとなったので、本願の請求項１〜２に係る発明は、平成１８年５月８日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜２に記載された事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明は、上記「第２　２　（１）」の「ア　本件補正前の特許請求の範囲の請求項１」に記載したように、以下のとおりのものである。
　　　　　　　　　
「【請求項１】
　分析方向の各分析位置において、分析位置と、Ｘ線検出器又はＸ線分光器との距離を一定とする試料ステージのＺ軸補正値を折れ線状のＺ軸補正関数として備え、
　前記Ｚ軸補正関数と現在の分析方向の分析位置とに基づいて次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め、
　前記Ｚ軸補正関数のＺ軸補正値が直線的に変化する各領域において、当該領域におけるＸ，Ｙ平面上の幅とＺ軸補正量に基づいて、
　当該領域における分析方向へのＸ軸及び／又はＹ軸の駆動速度を各領域毎に設定し、
　前記Ｚ軸補正関数の全領域において、Ｚ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し、
　求めたＺ軸補正値および各軸の駆動速度により試料ステージのＺ軸を駆動することを特徴とする、Ｘ線分析方法。」
　なお、上記「第２　２　（２）」の「本件補正の適否について」に記載したように、「次の分析方向に分析位置におけるＺ軸補正値を求め」は「次の分析方向の分析位置におけるＺ軸補正値を求め」の誤記と認められるので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）を上記のように認定した。
　
　２．引用刊行物の記載事項
　　原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物の記載事項は上記「第２　２　（３）」の（ア）に記載したとおりである。
　
　３．　対比・判断
　（３−１）本願発明と引用発明の対比
　本願発明は、上記「第２　２　（３）」の（イ）で検討した本願補正発明から、（ａ）「Ｘ線検出器またはＸ線分光器」を「Ｘ線検出器又はＸ線分光器」に補正し、（ｂ）「試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まるＺ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し」から「試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まる」の事項を削除したものに相当する。
　上記（ａ）の補正は「または」のひらがなによる記述を「又は」の漢字の記述に変更したものであり、発明の特定事項に実質的な変更がないことから、本願発明は、上記「第２　２　（３）」の（イ）で検討した本願補正発明の「Ｚ軸の駆動速度の絶対値を常に一定に設定し」の限定的事項である、「試料ステージの一ステップ当たりのＺ軸方向の移動量と該ステップが発生する時間間隔によって定まる」の事項を削除したものに相当する。
　そうすると、本願発明を限定した本願補正発明が、前述のとおり、上記引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　　　　
　４．むすび
　以上のとおり、本願発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本件出願は、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。