【手続補正書】
【提出日】令和1年10月30日(2019.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック・メンブレンであって、
バインダを備え、第１面、第２面、及び前記第１面を前記第２面に接続する長手面を有する基板と、
前記基板の前記第１面の少なくとも一部分上の第１のメンブレン層と、
前記基板の前記第２面の少なくとも一部分上の第２のメンブレン層と、
前記基板の前記長手面の少なくとも一部分上の第３のメンブレン層と、を含み、
前記セラミック・メンブレンは、約２０ｐｓｉ以下のメンブレン間圧力で、メンブレン表面積１平方メートルあたり約２０００リットル／時間の清浄な水フラックスを有するように構成され、
前記バインダは、チロース、ポリプロピレン、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリプロピレンカーボネート、カルボキシメチルセルロース、デンプン、デキストリン、ワックスエマルジョン、リグノスルホネート、パラフィン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸マグネシウムアルミニウム、及びベントナイトからなる群から選択される物質を含む、
セラミック・メンブレン。
【請求項２】
前記基板は、
（ｉ）さらに、アルミナ、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、及び炭化シリコンからなる群から選択された基板ベース物質を含み、及び／又は、
（ｉｉ）約３μmから約１０μmの平均ポアサイズを有する、
請求項１に記載のセラミック・メンブレン。
【請求項３】
前記セラミック・メンブレンは、約２０℃で約２０ｐｓｉ以下のメンブレン間圧力を有するように構成される、請求項１又は２に記載のセラミック・メンブレン。
【請求項４】
（ｉ）前記セラミック・メンブレンの前記第１面及び前記第２面のそれぞれは、約３８ｍｍから約９０ｍｍの直径を有し、
（ｉｉ）前記セラミック・メンブレンは六角形のプリズムであり、
（ｉｉｉ）前記セラミック・メンブレンの前記第１面及び前記第２面のそれぞれは、約８０ｍｍの直径を有し、及び／又は、
（ｉｖ）前記セラミック・メンブレンは、約８００ｍｍから約１６００ｍｍの長さを有する、
請求項１から３のいずれか一項に記載のセラミック・メンブレン。
【請求項５】
前記第１面、前記第２面、及び／又は第３のメンブレン層は、アルミナ、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、及び炭化シリコンからなる群から選択される物質を含む、
請求項１から４のいずれか一項に記載のセラミック・メンブレン。
【請求項６】
（ｉ）前記第１のメンブレン層の３つまでの被覆は、前記セラミック・メンブレンの前記第１面の少なくとも一部に接触し、
（ｉｉ）前記第２のメンブレン層の３つまでの被覆は、前記セラミック・メンブレンの前記第２面の少なくとも一部に接触し、及び／又は、
前記第３のメンブレン層の３つまでの被覆は、前記セラミック・メンブレンの前記長手面の少なくとも一部に接触する、
請求項１から５のいずれか一項に記載のセラミック・メンブレン。
【請求項７】
セラミック・メンブレンを製造する方法であって、前記方法は、
第１面、第２面、及び前記第１面を前記第２面に接続する長手面を有する押出基板を形成するバインダを含む基板を押出す段階であり、前記バインダは、チロース、ポリプロピレン、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリプロピレンカーボネート、カルボキシメチルセルロース、デンプン、デキストリン、ワックスエマルジョン、リグノスルホネート、パラフィン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸マグネシウムアルミニウム、及びベントナイトからなる群から選択される物質を含む、段階と、
前記押出基板を乾燥してセラミック・メンブレン基板を形成する段階と、
前記第１面の一部に第１のメンブレン層を接触させる段階と、
前記第２面の一部に第２のメンブレン層を接触させる段階と、
前記長手面の少なくとも一部分に第３のメンブレン層を接触させる段階と、
を備えるセラミック・メンブレンの製造方法。
【請求項８】
前記基板は、
（ｉ）さらに、アルミナ、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、及び炭化シリコンからなる群から選択された基板ベース物質を含み、及び／又は、
（ｉｉ）約３μmから約１０μmの平均ポアサイズを有する、
請求項７に記載のセラミック・メンブレンの製造方法。
【請求項９】
（ｉ）前記セラミック・メンブレンの前記第１面及び前記第２面のそれぞれは、約３８ｍｍから約９０ｍｍの直径を有し、
（ｉｉ）前記セラミック・メンブレンは六角形のプリズムであり、
（ｉｉｉ）前記セラミック・メンブレンの前記第１面及び前記第２面のそれぞれは、約８０ｍｍの直径を有し、及び／又は、
（ｉｖ）前記セラミック・メンブレンは、約８００ｍｍから約１６００ｍｍの長さを有する、
請求項７又は８に記載のセラミック・メンブレンの製造方法。
【請求項１０】
前記第１面、前記第２面、及び／又は第３のメンブレン層は、アルミナ、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、及び炭化シリコンからなる群から選択される物質を含む、
請求項７から９のいずれか一項に記載のセラミック・メンブレンの製造方法。
【請求項１１】
（ｉ）前記第１のメンブレン層の３つまでの被覆は、前記セラミック・メンブレンの前記第１面の少なくとも一部に接触し、
（ｉｉ）前記第２のメンブレン層の３つまでの被覆は、前記セラミック・メンブレンの前記第２面の少なくとも一部に接触し、及び／又は、
前記第３のメンブレン層の３つまでの被覆は、前記セラミック・メンブレンの前記長手面の少なくとも一部に接触する、
請求項７から１０のいずれか一項に記載のセラミック・メンブレンの製造方法。
【請求項１２】
流体濾過システムであって、
メンブレン・ハウジングであって、
（ａ）汚染された流体を受け入れるように構成された入口と、
（ｂ）前記汚染された流体を濾過して透過物を形成するように構成された複数のメンブレンであって、前記複数のメンブレンのそれぞれが、
前記汚染された流体を受け取るように構成された第１の端部と、
前記透過物を放出するように構成された第２の端部と、
前記第１の端部と前記第２の端部との間に延びる長さと、
前記第１の端部から前記第２の端部まで長手軸に沿って配向された少なくとも1つのチャンネルと、
を含む、前記複数のメンブレンと、
（ｃ）前記入口に隣接し、前記汚染された流体を前記複数のメンブレンの前記第１の端部に送るように構成されたコネクタと、
（ｄ）前記第２の端部から放出された前記透過物を受け取るように構成された出口と、を含む前記メンブレン・ハウジングを備え、
前記メンブレン・ハウジングは、前記複数のメンブレンの長さが前記メンブレン・ハウジングの長手軸に実質的に平行になるようにして、前記複数のメンブレンを収容する、流体濾過システム。
【請求項１３】
前記複数のメンブレンは、
バインダ及び基板ベースを含む基板と、
メンブレンを形成するセラミック材料と、
をさらに含み、
前記基板ベースは、アルミナ、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、又は炭化シリコンからなる群から選択される物質を含む、
請求項１２に記載の流体濾過システム。
【請求項１４】
前記複数のメンブレンは、アルミナ、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、又は炭化シリコンからなる群から選択される物質を含むセラミックコーティングをさらに含み、
前記複数のメンブレンの各メンブレンは、六角形のプリズムであり、
前記六角形のプリズムは、約３８ｍｍ〜約９０ｍｍの頂点間距離を有する、
請求項１２又は１３に記載の流体濾過システム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのチャンネルは、円形、正方形、三角形、台形、ダイヤモンド形、菱形、平行四辺形、矩形、五角形、六角形、八角形、非円形、楕円形、又は六角形から選択される形状を含み、及び／又は、
前記少なくとも１つのチャンネルのセクションは、約４ｍｍ〜約６ｍｍの直径を有する円を画定する、
請求項１２から１４のいずれか一項に記載の流体濾過システム。
【請求項１６】
（ｉ）前記メンブレン・ハウジングは、約１個〜約２００個までのメンブレンを含み、
（ｉｉ）前記メンブレン・ハウジングは、約１７１個までのメンブレンを含み、及び／又は、
（ｉｉｉ）前記メンブレン・ハウジングは、約３０個〜約４０個までのメンブレンを含む、
請求項１２から１５のいずれか一項に記載の流体濾過システム。
【請求項１７】
有効なメンブレン表面積は、約０．５ｍ２〜約６００ｍ２である、請求項１２から１６のいずれか一項に記載の流体濾過システム。
【請求項１８】
可溶性又は不溶性の汚染物質及び流体を含む流体濾過方法であって、
複数の六角プリズム形状のメンブレンを含むメンブレン・ハウジングの流体入口端部から汚染された流体を前記メンブレン・ハウジングの流体出口端部に流す段階を備え、透過物は、前記メンブレン・ハウジングから放出される、流体濾過方法。
【請求項１９】
汚染された流体を濾過するシステムであって、
メンブレン・ケーシング及び複数のメンブレンと、
近位端で汚染流体を受け取り、遠位端で透過物を放出し、且つ前記汚染流体を濾過するための少なくとも１つの約８００ｍｍ〜約１６００ｍｍの長さの六角プリズム形状のメンブレンと、
頂点間距離が約８０ｍｍの少なくとも１つの六角プリズム形状のメンブレンと、
約２９〜約４３のメンブレン数と、
透過チャンネルを有しない少なくとも１つのメンブレンと、
バインダと、
約１１０ｍ２〜約１６５ｍ２の有効なメンブレン表面積と、を含み、
前記システムは、約２０℃で約２０ｐｓｉ以下のメンブレン間圧で、メンブレン表面積の１平方メートル当たり、約２０００リットル／時間の清浄な水の流れを有するように構成される、汚染された流体を濾過するシステム。