【事件の表示】
　特願２００５−３８０４６７「ビーム位置補正装置およびビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　６月　８日出願公開、特開２００６−１４７５９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　
　本願は、平成９年５月１５日に出願された特願平９−１２５７１８号（以下、「原出願」という。）の一部を新たな特許出願としたものとして、平成１７年１２月２８日に出願された特願２００５−３８０４６７号であって、平成１８年８月１７日付け拒絶理由通知に対して、同年１０月１７日付けで手続補正がされたが、平成１８年１０月３１日付けで拒絶査定がされ、これに対し、平成１８年１１月２８日付けで審判請求がされるとともに、平成１８年１２月２７日付けで手続補正がされ、平成１９年４月１２日付けで前置報告がされたものである。
　
第２　平成１８年１２月２７日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　
　平成１８年１２月２７日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１．本件補正前及び本件補正後の本願発明
　
　本件補正は、特許請求の範囲について、
　補正前（平成１８年１０月１７日付け手続補正書参照）に
「【請求項１】
　ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段と、
　前記ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段とを備え、
　前記補正手段は、ビーム条件とビーム位置補正量との関係に基づいて、ビーム条件に対応してビーム偏位量を定めるものであり、
　荷電粒子ビーム源に供給する加速電圧と、荷電粒子ビームを収束させる収束レンズに供給するパワー比により定まるビーム電流とをビーム条件とし、
　前記加速電圧とビーム電流の２つのビーム条件に対するビーム位置補正量を格納しておき、ビーム条件に応じて対応するビーム位置補正量を読み出して、ビーム条件に対応するビーム偏位量を定めることを特徴とするビーム位置補正装置。
　【請求項２】
　ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段と、
　前記ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段とを備えるビーム位置補正装置においてビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法であって、
　所定ビーム条件における走査像をモニター上に表示し、
　前記ビーム偏位手段により当該走査像が所定位置となるように調整し、
　当該調整量をビーム位置補正量とすることによってビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めることを特徴とする、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法。
　【請求項３】
　ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段と、
　前記ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段とを備えるビーム位置補正装置においてビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法であって、
　所定ビーム条件における走査像をモニター上に表示し、
　当該走査像の指定位置における走査信号とモニター上の所定位置における走査信号とからビーム偏位量を求め、
　当該ビーム偏位量からビーム位置補正量を求めることによってビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めることを特徴とする、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法。」
とあったものを、
「【請求項１】
　ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段と、
　前記ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム条件の変更によるビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段とを備えるビーム位置補正装置においてビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法であって、
　所定ビーム条件における走査像をモニター上に表示し、
　前記ビーム偏位手段により当該走査像が所定位置となるように調整し、
　当該調整量をビーム位置補正量とすることによってビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めることを特徴とする、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法。
　【請求項２】
　ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段と、
　前記ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム条件の変更によるビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段とを備えるビーム位置補正装置においてビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法であって、
　所定ビーム条件における走査像をモニター上に表示し、
　当該走査像の指定位置における走査信号とモニター上の所定位置における走査信号とからビーム偏位量を求め、
　当該ビーム偏位量からビーム位置補正量を求めることによってビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めることを特徴とする、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法。」
　
　と補正するものであって、本件補正は、補正前の特許請求の範囲の請求項１を削除すると共に、補正前の請求項２及び３における「ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段」を補正後の請求項１及び２において「ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム条件の変更によるビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段」と限定するものであるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　
　そこで、本件補正後における特許請求の範囲に記載されている事項により構成される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか）否かを、請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）について以下に検討する。
　
２．引用例
　
（１）原審の審査官が、平成１８年８月１７日付けの拒絶理由の通知において引用した、原出願前に頒布された刊行物である実願昭６０−１９２３０号（実開昭６１−１３５４５７号）のマイクロフィルム（以下、「引用例１」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「電子銃と、該電子銃よりの電子線を加速するための手段と、該加速された電子線を細く絞るための対物レンズと、該電子線を任意の方向に水平及び垂直走査するための走査信号を発生する走査回転手段と、該走査回転手段よりの走査信号の供給に基づいて該電子線を偏向するための該対物レンズの後段に配置された偏向器と、該電子線の走査によって試料より発生する信号を検出するための検出器と、該検出器よりの出力信号に基づいて試料像を表示するための表示手段とを備えた装置において、該加速電圧及び若しくは該対物レンズの励磁強度を表わす信号に基づいて該走査回転手段を制御し該電子線の水平又は垂直走査方向を常に該検出器の軸方向に一致させるための手段を具備することを特徴とする電子線装置。」（【実用新案登録請求の範囲】参照）
　
（ｂ）「そのため、このシンチレータに印加された高圧に基づく電界Ｅにより、対物レンズを通過して試料に向かう電子線が検出器の向きに電気力を受ける。その結果、試料への電子線の照射位置が正規の位置からずれるが、電子線の水平又は垂直走査の方向がこの検出器の軸方向に平行で無い場合には、得られる像の歪みは顕著なものとなる。」（明細書第２頁第１３〜１９行参照）
　
（ｃ）「６ｘ、６ｙは電子線ＥＢをＸ及びＹ方向に偏向するための対物レンズの前段に配置された偏向コイルである。７ｈ、７ｖは電子線を水平及び垂直方向に走査するための各々第２図（ａ），（ｂ）に示す如き水平及び垂直走査信号ｅｈ（ｔ）及びｅｖ（ｔ）を発生する走査信号発生回路である。水平走査信号発生回路７ｈよりの走査信号は第１の円形分圧抵抗Ｒ１の端子Ｔ１に送られていると共に、第１の反転回路８ｈを介して抵抗Ｒ１の端子Ｔ１’に送られている。同様に、垂直走査信号発生回路７ｖよりの走査信号は第２の反転回路８ｖを介して第２の円形分圧抵抗Ｒ２の端子Ｔ２に送られていると共に、抵抗Ｒ２の端子Ｔ２’に送られている。Ｍ１，Ｍ１’は摺動点が常に９０度離間する関係を保ちながら円形分圧抵抗Ｒ１に沿って摺動可能に設けられた摺動子であり、Ｍ２，Ｍ２’は円形分圧抵抗Ｒ２に沿って摺動可能に設けられた摺動子であり、摺動子Ｍ２，Ｍ２’は各々摺動子Ｍ１，Ｍ１’と一体的に摺動するようになっている。これら摺動子Ｍ１，Ｍ１’，Ｍ２，Ｍ２’はモータ１２に接続されている。摺動子Ｍ１，Ｍ２’よりの信号は第１の加算回路９ｘに送られている。又、摺動子Ｍ１’よりの信号は反転回路１０を介して第２の加算回路９ｙに送られていると共に、摺動子Ｍ２よりの信号は第２の加算回路９ｙに送られている。
　従って摺動子Ｍ１，Ｍ１’，Ｍ２，Ｍ２’が基準の位置に対して角θ回転した位置にある場合、第１、第２の加算回路９ｘ、９ｙを介して偏向コイル６ｘ、６ｙには各々以下の式で与えられるｅｈ’（ｔ），ｅｖ’（ｔ）が供給される。
ｅｈ’（ｔ）＝ｅｈ（ｔ）ｃｏｓθ＋ｅｖ（ｔ）ｓｉｎθ　…（１）
　（「ｅｖｓｉｎθ」は誤記と認める。）
ｅｖ’（ｔ）＝−ｅｈ（ｔ）ｓｉｎθ＋ｅｖ（ｔ）ｃｏｓθ　…（２）
　（「ｅｖｃｏｓθ」は誤記と認める。）
　そのため、試料上における電子線の水平及び垂直走査方向はθだけ回転する。」（明細書第５頁第２行〜第６頁第１８行参照）
　
（ｄ）「記憶装置２１には電子線ＥＢの加速電圧値Ｖｍと対物レンズ４の励磁電流値Ｉｎの各組（Ｖｍ，Iｎ）に対して、試料上における電子線の水平走査方向を検出器１２の軸の方向に一致させるために必要なモータ１２（摺動子Ｍ１，Ｍ１’，Ｍ２，Ｍ２’）の回転角θを表すデータが記憶されている。」（明細書第７頁第１１〜１７行参照）
　
（ｅ）「その結果、電子線の走査位置が検出器側に近ずくに従って画素の大きさは徐々に増加するものの走査領域は矩形に保たれるため、陰極線管１４に表示される像が大きく歪むことはない。」（明細書第９頁第５〜９行参照）
　
　上記引用例１記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「電子線ＥＢをＸ及びＹ方向に偏向する偏向コイル６ｘ，６ｙと、
　前記偏向コイル６ｘ，６ｙの水平又は垂直走査の方向の回転角θを調整して電子線ＥＢの加速電圧値Ｖｍと対物レンズ４の励磁電流値Ｉｎの変更による試料への電子線の照射位置の補正を行う円形分圧抵抗Ｒ１，Ｒ２とを備える電子線装置において、
　試料像を陰極線管１４に表示して、
　電子線の照射位置の補正を行う方法。」
　
（２）また、原審の審査官が、平成１９年４月１２日付けの前置報告において引用した、原出願前に頒布された刊行物である特開平２−２３４３３６号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
　「まず、軸ずれ補正値記憶部１００への前述のような補正データの格納操作の一例を説明する。
　すなわち、標準パターンや通常の試料である対象物２０の所定の画像の観察において、電子線３０の加速電圧やビーム電流などを所望の値に一定にした条件下で、意図的に電子線３０の対象物２０に対する焦点位置を、正焦点から、過焦点または不足焦点に変化させる。そして、この時に電子光学系５０の軸ずれに起因して生じる観察画像の移動が解消されるように、軸ずれ補正コイル５２に対して、現在の指令電流値から適宜増減させる操作を、電子光学系５０の光軸に直交する平面内において互いに直交する２方向（Ｘ，Ｙ方向）について独立に行い、指令電流値の現在値からの増減量を、相対指令電流値として対応する観察画像の移動量とともに軸ずれ補正値記憶部１００に記憶させる。
　この操作を、電子線３０の異なる加速電圧やビーム電流値毎に行っておく。」（公報第４頁右上欄第９行〜同頁左下欄第７行参照。）
　
（３）原出願前に頒布された刊行物である特開平５−２６６８４０号公報（以下、「引用例３」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
（ａ）「【０００２】
【従来の技術】走査形電子顕微鏡で用いられる電子銃は、電子を引き出す引出電極と引き出された電子を加速する加速電極を有している。一般にこれらの電極は静電レンズとして作用するために、二つの電極に印加される電圧の比が変化すると光学系の軸ずれが発生する。軸ずれが発生すると、光学軸上にある絞り等によって電子線が遮断されるといった問題や、分解能の低下といった問題が発生する。」
　
（ｂ）「【０００６】
【作用】電子銃と対物レンズの間に配置された複数の偏向器には、電子線を試料上で走査するための偏向信号に同期した交流信号と、電子線を恒常的に偏向するための直流信号を重畳して流すことができる。光学系で軸ずれが発生した場合、光軸の目標中心位置が表示されている画面上に絞りあるいはレンズ位置における電子線像を表示する。偏向器に流されている直流信号を変化させ、電子線像を目標中心位置と一致させることで、電子線を絞りあるいはレンズに対して適切な位置に移動することができる。また、画面上に表示された電子線位置と直流信号値を対応させることで、電子線位置を自動的に適切な位置に設定することができる。したがって、非常に高い操作性を実現することができる。」
　
（ｃ）「【０００８】絞りの上部で軸ずれが生じた場合、スイッチＸ３０とスイッチＹ３１をそれぞれＡ側に接続し、上軸調整コイルＸ２０と上軸調整コイルＹ２１によって軸調整を行う。それぞれのコイルは、上軸調整コイル駆動回路Ｘ２２と上軸調整コイル駆動回路Ｙ２３によって駆動される。駆動回路Ｘ２２は、上直流増幅回路Ｘ２５と上加算回路Ｘ２６から構成されている。上加算回路Ｘ２６には直流信号源Ｘ24から発生した直流信号を上直流増幅回路Ｘ２５で増幅された直流信号と、Ｘ走査信号発生回路１２で発生した走査信号が加えられる。また、駆動回路Ｙ２３は、上直流増幅回路Ｙ２８と上加算回路Ｙ２９から構成されている。上加算回路Ｙ２９（「上加算回路Ｘ29」は誤記と認める。）には直流信号源Ｙ２７から発生した直流信号を上直流増幅回路Ｙ２８で増幅された直流信号と、Ｙ走査信号発生回路１６で発生した走査信号が加えられる。図２は、軸ずれがある場合でのＣＲＴ１１上の表示例である。この場合、ＣＲＴ１１上に表示されている目標中心位置４０に対して電子線像４１の位置が一致するように、上直流増幅回路Ｘ２５と上直流増幅回路Ｙ２８のゲインを調整する。図３は、調整後の電子線像を示している。像の移動が終了したら、スイッチＸ３０とスイッチＹ３１を開放する。すると、各軸調整コイルには適正な直流信号のみが供給されることになり、常に電子線が偏向を受け、絞り位置における最適な位置を通過することになる。」
　
（ｄ）「【０００９】絞り３の位置での電子線２の軸調整が終了した後、対物レンズ４の位置での電子線２の軸調整を行う必要がある。この場合、図１のスイッチＸ３０とスイッチＹ３１をそれぞれＢ側に接続し、下軸調整コイルＸ３２と下軸調整コイルＹ３３によって軸調整を行う。それぞれのコイルは、下軸調整コイル駆動回路Ｘ３４と下軸調整コイル駆動回路Ｙ３５によって駆動される。駆動回路Ｘ３４は、下直流増幅回路Ｘ３６と下加算回路Ｘ３７から構成されている。下加算回路Ｘ３７には直流信号源Ｘ２４から発生した直流信号を下直流増幅回路Ｘ３６で増幅された直流信号と、Ｘ走査信号発生回路１２で発生した走査信号が加えられる。また、駆動回路Ｙ３５は、下直流増幅回路Ｙ３８と下加算回路Ｙ３９から構成されている。下加算回路Ｙ３９には直流信号源Ｙ２７から発生した直流信号を下直流増幅回路Ｙ３８で増幅された直流信号と、Ｙ走査信号発生回路１６で発生した走査信号が加えられる。図４は、対物レンズ４で軸ずれが発生している場合のＣＲＴ１１上での表示例である。対物レンズは複数の軸対称な円筒から構成されるため、ＣＲＴ１１上には目標中心位置４０と複数の円を含むレンズ磁極像４２が表示される。この場合も、ＣＲＴ１１上に表示されている目標中心位置４０に対してレンズ磁極像４２の位置が一致するように、下直流増幅回路Ｘ３６と下直流増幅回路Ｙ３８のゲインを調整する。図５は、調整後のレンズ磁極像を示している。像の移動が終了したら、スイッチＸ３０とスイッチＹ３１を開放する。すると、各軸調整コイルには適正な直流信号のみが供給されることになり、常に電子線が偏向を受け、対物レンズに対して最適な位置を通過することになる。」
　
３．対比
　本願補正発明を、引用発明と対比する。
　引用発明における「偏向コイル６ｘ，６ｙ」は、電子線をＸ及びＹ方向に偏向するためのものであるから、本願補正発明における「ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段」に相当する。
　引用発明における「電子線ＥＢの加速電圧値Ｖｍと対物レンズ４の励磁電流値Ｉｎ」は、本願補正発明における「ビーム条件」に相当する。
　引用発明における「試料への電子線の照射位置」は、本願補正発明における「ビーム走査面上でのビーム位置」に相当する。
　引用発明における「円形分圧抵抗Ｒ１，Ｒ２」は、「偏向コイル６ｘ，６ｙ」の水平又は垂直走査の方向の回転角を、「電子線ＥＢの加速電圧値Ｖｍと対物レンズ４の励磁電流値Ｉｎ」に基づいて調整するものであるから、本願補正発明における「ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム条件の変更によるビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段」に相当する。
　引用発明における「試料像」は、本願補正発明における「走査像」に相当する。
　引用発明における「陰極線管１４」は、本願補正発明における「モニター」に相当する。
　引用発明における「電子線装置」は、「偏向コイル」の水平又は垂直走査の方向の回転角を、「電子線の加速電圧値と対物レンズの励磁電流値」に基づいて調整する手段を有するので、本願補正発明における「ビーム位置補正装置」に相当する。
　引用発明における「電子線の照射位置の補正を行う方法」は、本願補正発明の「ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法。」と、ビーム位置補正を行う方法であるという点で共通する。
　
　すると、本願補正発明と、引用発明とは、次の点で一致する。
　
「ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段と、
　前記ビーム偏位手段のビーム偏位量を調整してビーム条件の変更によるビーム走査面上でのビーム位置の補正を行う補正手段とを備えるビーム位置補正装置において、
　走査像をモニター上に表示して、
　ビーム位置補正を行う方法。」
　
　一方で、両者は、次の相違点で相違する
　
＜相違点＞
　本願補正発明では、モニター上に表示した所定ビーム条件における走査像がビーム偏位手段により所定位置となるように調整した調整量を、ビーム位置補正量とすることによって、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めるのに対して、引用例１には、ビーム位置補正を行う際に、前記の事項を行うことについて記載がない点。
　
４．判断
　上記相違点について検討する。
　
　モニター上に表示した所定ビーム条件における走査像がビーム偏位手段により所定位置となるように調整することは例えば引用例２及び３の上記記載事項（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）に記載されるように周知である。また、引用例１の記載事項（ｄ）には、ビーム条件に対するビーム位置補正量を記憶することも記載されており、ビーム条件に対するビーム位置補正量を記憶する際に、モニター上に表示した走査像がビーム偏位手段により所定位置となるように調整した調整量を、ビーム位置補正量とすることによって、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めることも、引用例２に記載されるように周知である。したがって、引用発明においても、モニター上に表示した所定ビーム条件における走査像がビーム偏位手段により所定位置となるように調整した調整量を、ビーム位置補正量とすることによって、ビーム条件とビーム位置補正量との関係を求めることは、当業者が容易に想到しうることであり、その作用効果も引用例１乃至３から予期し得ない格別のものであるとも認められない。
　
５．本件補正についての結び
　以上のとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成１８年１２月２７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至３に係る発明は平成１８年１０月１７日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載されたとおりのものであるところ、請求項２に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、第２［理由］１．に本件補正前の請求項２として記載したとおりものである。
　　
２．引用例
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例及びその記載事項は、前記第２［理由］２．に記載したとおりである。
　
３．対比
　
　本願発明は、前記第２［理由］で検討した本願補正発明から、「ビーム条件の変更によるビーム走査面上でのビーム位置の補正」とあったところを、「ビーム走査面上でのビーム位置の補正」と、限定を解除したものに相当する。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、更に他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が前記第２［理由］４．に記載したとおり、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願の請求項２に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結審のとおり審決する。