【事件の表示】
　平成　７年特許願第２８４１８４号「スパッタリング装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　５月１３日出願公開、特開平　９−１２５２４６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成７年１０月３１日に出願したものであって、平成１７年３月４日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年４月７日に拒絶査定不服審判の請求がされるとともに、同年４月２７日付けで手続補正がなされたものである。
　
ＩＩ．平成１７年４月２７日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年４月２７日付け手続補正を却下する。
　
［理由］
１．平成１７年４月２７日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）の内容
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、補正前の請求項１に記載された
「【請求項１】電源に接続されカソード電極としての機能を有するバッキングプレートと、バッキングプレート上に接着される角形ターゲットと、バッキングプレート下に角形ターゲットと対向するように配置されるマグネットとを少なくとも備え、冷却キャンの周面を走行する非磁性支持体に対してスパッタリングを行うスパッタリング装置において、上記マグネットは、センターポールと、このセンターポールの周囲を取り囲む矩形環状のマグネットリングとから構成され、上記非磁性支持体の幅方向の両端部に位置する上記マグネットの両端部は上記角形ターゲットから遠ざけるように湾曲させてなり、中央部分は上記角形ターゲットと平行状態に形成されてなることを特徴とするスパッタリング装置。」
から、
「【請求項１】真空室内に配設された冷却キャンの周面に沿って走行するテープ状の非磁性支持体に対向してカソードターゲットを対向配置し、上記非磁性支持体の表面に少なくとも磁性層をスパッタリングにより形成するスパッタリング装置において、上記カソードターゲットは、電源に接続されてカソード電極として機能するバッキングプレートと、上記バッキングプレートの上記非磁性支持体と対向する上面側に配設された角形ターゲットと、上記バッキングプレートの下面側に上記角形ターゲットと対向するように配置されたマグネットと、上記バッキングプレート、上記角形ターゲット及び上記マグネットを収納したカソードケースとからなり、上記マグネットは、上記非磁性支持体の走行方向と直交する幅方向を長辺とした矩形環状のマグネットリングと、上記マグネットリングの長辺方向と平行に上記マグネットリング内に設けられたセンターポールとから構成され、上記非磁性支持体の幅方向の両端部側にそれぞれ対向する各端部側が、各端部に向かって上記角形ターゲットから徐々に離間するように湾曲されるとともに、上記両端部間に位置する中央部が上記角形ターゲットと平行状態になるように形成され、上記角形ターゲットの表面磁界を均一にするようにしたことを特徴とするスパッタリング装置。」に補正された。
　
２．本件補正に対する判断
（１）目的外補正
　本件補正のうち、補正前の請求項１に記載された「バッキングプレート上に接着される角形ターゲット」との発明特定事項を、補正後の請求項１に記載された「上記バッキングプレートの上記非磁性支持体と対向する上面側に配設された角形ターゲット」とする補正は、「バッキンプレート」と「角形ターゲット」との関係を「接着」されることから「配設」されることに補正するものである。そして、この「配設」とは、「接着」のみならず、「ネジ止め」や「フック止め」等の概念を包含する用語である。
　してみると、「接着」されることから「配設」されることとする補正は、発明特定事項を拡張するものであり、特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものに該当せず、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に該当しない。また、上記補正は、請求項の削除、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明を目的とするものにも該当せず、同法第１７条の２第４項第１号、第３号、及び第４号に該当しない。
　
（２）新規事項の追加
　本件補正のうち、請求項１の「上記バッキングプレートの上記非磁性支持体と対向する上面側に配設された角形ターゲット」とする補正の「配設された」との用語が、願書に最初に添付された明細書及び図面（以下、「当初明細書等」という。）に記載された事項の範囲内であるか検討する。
　当初明細書等には、「バッキングプレート上に接着される角形ターゲット」（特許請求の範囲）、「バッキングプレート１０６上に接着される角形ターゲット１０７」（段落【００１０】）、「バッキングプレート上に接着される角形ターゲット」（段落【００２３】）、「このカソードターゲット８の表面にターゲットとして金属磁性材料９が接着されている。」（段落【００３２】）及び「バッキングプレート２３上に接着される角形ターゲット２１」（段落【００３３】）と記載されているように、「バッキンプレート」と「角形ターゲット」とは「接着」させることのみが記載され、接着以外のネジ止めやフック止め等の概念を包含する「配設」されることについて記載も示唆もなされていない。また、接着以外のネジ止めやフック止め等の概念を包含する「配設」されることが、「接着される」ことや、当初明細書等の他の記載から自明な事項ともいえない。
　したがって、本件補正は、当初明細書等に記載された事項の範囲内においてしたものといえないから、特許法第１７条の２第３項の規定を満たしていない。
　
（３）独立特許要件違反
　本件補正が平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するものとして、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」）が特許出願の際、独立して特許を受けることができるものであるか（同法第１７条の２第５項において準用する同法１２６条５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（３−１）引用文献及びその記載事項
（Ａ）原査定に引用された本願出願前に頒布された刊行物である「特開平６−２２８７４８号公報」（以下、「引用文献１」という。）には、次の事項が記載されている。
　（ａ１）「【請求項１】ターゲットの下方位置にマグネットを配し、スパッタにより薄膜の形成を行う薄膜製造装置において、前記ターゲットの周囲に補助マグネットを配することを特徴とする薄膜製造装置。
【請求項２】薄膜が、導電性金属膜，金属磁性薄膜，耐摩耗性薄膜より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載の薄膜製造方法。」（特許請求の範囲）
　（ａ２）「本発明の薄膜製造装置は、例えば、非磁性支持体上に金属磁性薄膜，耐摩耗性薄膜（保護膜）等を設けてなる金属薄膜型の磁気テープ（いわゆる蒸着テープ）を製造するために使用されて好適である。」（段落【００１５】）
　（ａ３）「この製造装置においては、・・・内部が真空状態となされた真空室２内に・・・送りロール３と・・・巻取りロール４とが設けられ、これら送りロール３から巻取りロール４にテープ状の可撓性支持体５が順次走行するようになされている。
　これら送りロール３から巻取りロール４側に上記可撓性支持体５が走行する中途部には、・・・円筒キャン６が設けられている。・・・上記円筒キャン６には、内部に図示しない冷却装置が設けられ・・・ている。
　従って、上記可撓性支持体５は、送りロール３から順次送り出され、さらに上記円筒キャン６の周面に沿って走行し、巻取りロール４に巻取られていくようになされている。・・・
　また、上記真空室内には上記円筒キャン６の下方にカソードユニット９があり、この表面に薄膜材料であるターゲット材１０が接着されている。上記カソードユニット９は、・・・電源（図示せず。）に接続され負の電極となっているバッキングプレート１１、前記バッキングプレート１１の下方に配置されるマグネット１２及びマグネット１３、前記マグネット１２，１３を収納するカソードケース１４よりなるものである。
　そして、上記バッキングプレート１１上には、これよりも面積の小さいターゲット材１０が・・・接着され、ターゲット材１０以外をスパッタイオンが攻撃しないように、ターゲット材１０が配置されていない部分を覆うカソードカバー１５が設けられている。なお、矢印ｃは可撓性支持体５の走行方向を示し、矢印ｄは可撓性支持体５の幅方向を示している。」（段落【００２５】〜段落【００３０】）
　（ａ４）「マグネット１２，１３は、例えば図４に示すように、マグネット１２の周囲をマグネット１３が囲むように配置されている。」（段落【００３２】）
　（ａ５）「可撓性支持体５の幅方向に対応してカソードユニット９の両端面に補助マグネット１７が１つずつ走行方向ｃに平行に配置されている。」（段落【００３５】）
　（ａ６）「以上の説明からも明らかなように、本発明の薄膜製造装置においては、補助マグネットがターゲット上の磁界分布を均一化している。これによって、ターゲットが均一にスパッタされるため、歩留りが向上するとともに、成膜される薄膜の膜厚も均一なものとなる。」（段落【００７１】）
　（ａ７）表１（第５頁）には、実施例１のターゲット材のサイズが、幅１８０ｍｍ×長さ１５０ｍｍであることが記載されている。
　（ａ８）図４には、記載事項（ａ４）に関し、マグネット１３が矩形環状であることが窺われる。
　
（Ｂ）原査定に引用された本願出願前に頒布された刊行物である「実願平３−７８３１３号（実開平５−３０１５６号）のＣＤ−ＲＯＭ」（以下、「引用文献２」という。）には、次の事項が記載されている。
　（ｂ１）「真空容器内に基板支持体およびターゲットを相互に対向して配設すると共に，これらの間に電源を接続して電極を構成し，前記ターゲットの背面側に，永久磁石からなりその磁界をターゲットに向けて作用させる磁界発生装置を設け，ターゲットの基板支持体との対向面の近傍に前記電源による基板支持体とターゲット間の電界に対して直交する磁界を発生するように構成したマグネトロンスパッタ装置において，磁界発生装置を形成する永久磁石を長辺部と短辺部とからなる額縁状に形成すると共に，短辺部の高さを長辺部の高さより小に形成して，磁性材料により平板状に形成したヨーク上に配設し，この永久磁石に包囲された領域の中央部に前記長辺部と平行にセンターヨークを設けたことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。」（実用新案登録請求の範囲、請求項１）
　（ｂ２）「図９は量産型のマグネトロンスパッタ装置の例を示す要部正面図であり，・・・図９において環状磁石７ｂは長辺部と短辺部とからなる額縁状に形成し，その中央部に棒状に形成した中心磁石７ａを配設する。１０はキャリアであり，基板６を保持して矢印方向に移動自在に形成する。上記の構成により，キャリア１０を介して基板６を磁界発生装置７に臨ませて矢印方向に移動させれば，基板６の表面にターゲット（図示せず）を構成する物質からなる薄膜を生成することができるのである。・・・
　上記図９に示す構成の装置によって，基板６の表面に順次薄膜を生成することができるのであるが，・・・キャリア１０に支持された基板６の位置によって薄膜の厚さが異なり，上下端に位置する基板６の膜厚が中央に位置する基板６の膜厚より大であり，かつ膜厚のバラツキも大であるという傾向がある。」（段落【０００６】〜段落【０００７】）
　（ｂ３）「磁界発生装置の上下端部と中央部とにおいて，空隙磁束密度の水平成分の分布を均一にすることができ，基板の支持位置と無関係に膜厚の均一化が図れるのである。」（段落【００１７】）
　（ｂ４）図９には、上記記載事項（ｂ２）に関し、キャリア１０の移動方向を示す矢印は、磁気発生装置７の長辺部を横切る方向であること、及び、キャリアの幅方向の両端側に磁気発生装置の上下端部である短辺部があることが窺われる。
　
（３−２）対比
　引用文献１には、記載事項（ａ３）によれば、「真空室内に、円筒キャンが設けられ、上記円筒キャンの内部に冷却装置が設けられ、テープ状の可撓性支持体は上記円筒キャンの周面に沿って走行し、また、上記真空室内の上記円筒キャンの下方にカソードユニットがあり、このカソードユニットは、電源に接続され負の電極となっているバッキングプレート、前記バッキングプレートの下方に配置されるマグネット１２及びマグネット１３、前記マグネット１２、１３を収納するカソードケースよりなり、そして、バッキングプレート上には、ターゲット材が接着されている製造装置」が記載されているといえる。そして、前記「可撓性支持体」は、記載事項（ａ２）によれば、非磁性支持体といえ、前記「製造装置」は、記載事項（ａ１）及び（ａ２）によれば、スパッタにより非磁性支持体上に金属磁性薄膜の形成を行う薄膜製造装置といえ、前記「ターゲット材」は、記載事項（ａ７）によれば、そのサイズが幅１８０ｍｍ×長さ１５０ｍｍであることから、角形ターゲットといえる。また、前記「マグネット１２、１３」については、記載事項（ａ４）のとおり、「マグネット１２の周囲をマグネット１３が囲むように配置」され、記載事項（ａ８）によれば、マグネット１３は矩形環状であるといえる。そして、記載事項（ａ５）によれば、「カソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面には、補助マグネットが１つずつ走行方向に平行に配置されている」といえる。
　これら記載を、本願補正発明の記載ぶりに則して整理すると、引用文献１には、「真空室内に、周面に沿ってテープ状の非磁性支持体を走行するための円筒キャンが設けられ、前記円筒キャンの内部には冷却装置が設けられ、また、前記円筒キャンの下方にカソードユニットがあり、スパッタにより非磁性支持体上に金属磁性薄膜の形成を行う薄膜製造装置において、このカソードユニットは、電源に接続され負の電極となっているバッキングプレートと、前記バッキングプレート上に接着されている角形ターゲットと、前記バッキングプレートの下方に配置されるマグネット１２及びマグネット１３と、前記マグネット１２、１３を収納するカソードケースよりなり、前記マグネット１２、１３は、マグネット１２の周囲を矩形環状のマグネット１３が囲むように配置され、さらに、カソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面には、補助マグネットが１つずつ走行方向に平行に配置されている薄膜製造装置」の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている。
　そこで、本願補正発明と引用発明１とを対比すると、引用発明１の「円筒キャン」は、内部に冷却装置が設けられていることから、本願補正発明の「冷却キャン」に相当し、引用発明１の「カソードユニット」は、ターゲットを含むことから、本願補正発明の「カソードターゲット」に相当し、引用発明１の「薄膜製造装置」は、スパッタにより薄膜を形成していることから、本願補正発明の「スパッタリング装置」に相当する。また、引用発明１の「金属磁性薄膜」、「電源に接続され負の電極となっているバッキングプレート」は、本願補正発明の「磁性層」、「電源に接続されてカソード電極として機能するバッキングプレート」にそれぞれ相当する。
　また、スパッタリングとは、ターゲット材をスパッタリングして支持体にターゲット材の薄膜を形成する技術であり、ターゲット材と支持体とは互いに向き合った位置にあることは明らかである。そして、引用発明１においては、円筒キャンの周面に沿ってテープ状の非磁性支持体が走行していることから、引用発明１の「円筒キャンの下方にカソードユニットがあ」ることは、本願補正発明の「冷却キャンの周面に沿って走行するテープ状の非磁性支持体に対向してカソードターゲットを対向配置」されることに相当する。同様に、引用発明１のように、角形ターゲットがバッキングプレート上に接着されていることは、バッキングプレートの非磁性支持体と対向する上面側に接着されていることを示し、さらに、「接着」は「配設」することの概念の１つであることから、引用発明１の「バッキングプレート上に接着されている角形ターゲット」は、本願補正発明の「バッキングプレートの非磁性支持体と対向する上面側に配設された角形ターゲット」に相当する。さらに、引用発明１の「バッキングプレートの下方に配置されるマグネット１２及びマグネット１３」は、バッキングプレート上にターゲットがあることから、本願補正発明の「バッキングプレートの下面側に角形ターゲットと対向するように配置されたマグネット」に相当する。
　そして、引用発明１の「矩形環状のマグネット１３」は、本願補正発明の「矩形環状のマグネットリング」に相当し、引用発明１の「マグネット１２」は、その周囲を矩形環状のマグネット１３が囲むように配置されていることから、本願補正発明の「マグネットリング内に設けられたセンターポール」に相当する。
　また、引用発明１の「カソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面には、補助マグネットが１つずつ走行方向に平行に配置されている」ことは、記載事項（ａ６）によれば、ターゲット上の磁界分布を均一化するための手段であることから、本願補正発明の「上記非磁性支持体の幅方向の両端部側にそれぞれ対向する各端部側が、各端部に向かって上記角形ターゲットから徐々に離間するように湾曲されるとともに、上記両端部間に位置する中央部が上記角形ターゲットと平行状態になるように形成され、上記角形ターゲットの表面磁界を均一にするようにした」ことと、角形ターゲットの表面磁界を均一にするための手段である点で共通するものである。
　したがって、本願補正発明と引用発明１とは、「真空室内に配設された冷却キャンの周面に沿って走行するテープ状の非磁性支持体に対向してカソードターゲットを対向配置し、上記非磁性支持体の表面に少なくとも磁性層をスパッタリングにより形成するスパッタリング装置において、上記カソードターゲットは、電源に接続されてカソード電極として機能するバッキングプレートと、上記バッキングプレートの上記非磁性支持体と対向する上面側に配設された角形ターゲットと、上記バッキングプレートの下面側に上記角形ターゲットと対向するように配置されたマグネットと、カソードケースとからなり、上記マグネットは、矩形環状のマグネットリングと、上記マグネットリング内に設けられたセンターポールとから構成され、角形ターゲットの表面磁界を均一にするための手段を有することを特徴とするスパッタリング装置」で一致し、以下の点で相違している。
［相違点１］
　本願補正発明の「カソードケース」が、「バッキングプレート、角形ターゲット及びマグネットを収納したカソードケース」であるのに対して、引用発明１では、「マグネットを収納したカソードケース」である点。
［相違点２］
　本願補正発明の「矩形環状のマグネットリング」と「センターポール」が、「非磁性支持体の走行方向と直交する幅方向を長辺とした」矩形環状のマグネットリング、「マグネットリングの長辺方向と平行」に設けられたセンターポールであるのに対して、引用発明１では、この点について明示されていない点。
［相違点３］
　本願補正発明の「角形ターゲットの表面磁界を均一にするための手段」が、「非磁性支持体の幅方向の両端部側にそれぞれ対向する各端部側が、各端部に向かって角形ターゲットから徐々に離間するように湾曲されるとともに、上記両端部間に位置する中央部が上記角形ターゲットと平行状態になるように形成され、上記角形ターゲットの表面磁界を均一にするようにした」マグネットであるのに対して、引用発明１では、カソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面に１つずつ走行方向に平行に配置されている補助マグネットである点。
　
（３−３）判断
　上記相違点について検討する。
［相違点１］
　本願補正発明において、カソードケースが、バッキングプレート、角形ターゲット及びマグネットを収納することで、格別な作用効果を奏することは、本願明細書に何ら記載されていない。また、引用発明１において、バッキングプレート、角形ターゲット、マグネット及びマグネットを収容するカソードケースは、カソードユニットとして一体的に取り扱われるものである。したがって、引用発明１のマグネットを収納しているカソードケースにより、マグネットと共に、バッキングプレート及び角形ターゲットを一体的に収納するようにすることは、当業者であれば容易になし得るものである。
［相違点２］
　特開平１−２６８８６９号公報には「マグネトロン型のスパッタリング装置」（第１頁右下欄第１行）に関して、「各ターゲット１Ａ、１Ｂの裏面にはターゲット形状に適宜対応した永久磁石４２Ａ、４２Ｂが配置され」（第２頁左上欄第５〜７行）と記載されているように、マグネトロンスパッタリング装置において、ターゲット裏面にマグネットを固定配置する場合に、ターゲット形状に対応した形状のマグネットを用いることは、技術常識といえるから、引用発明１の矩形環状のマグネット１３も角形ターゲットに対応した形状であるといえる。そして、角形ターゲットは、引用文献１の記載事項（ａ７）によれば、幅方向を長辺とした角形形状であるといえ、この幅方向は、記載事項（ａ３）によれば、支持体の幅方向を示しているといえるから、引用文献１の矩形環状のマグネット１３は、支持体の幅方向を長辺とした矩形環状の形状であるといえる。
　また、引用文献２には、記載事項（ｂ１）によれば、マグネトロンスパッタ装置の磁界発生装置として、永久磁石を長辺部と短辺部とからなる額縁状に形成すると共に、この永久磁石に包囲された領域の中央部に前記長辺部と平行にセンターヨークを設けた磁界発生装置が記載され、このような磁気発生装置は普通に用いられているものである。したがって、引用発明１において、矩形環状のマグネット１３内のセンターポールに相当するマグネット１２を、マグネット１３の長辺方向と平行に設けることは、当業者であれば容易に想到し得るものである。
［相違点３］
　引用文献２には、記載事項（ｂ１）によれば、ターゲットの背面側に、永久磁石からなりその磁界をターゲットに向けて作用させる磁界発生装置を設けたマグネトロンスパッタ装置において、磁界発生装置を形成する永久磁石を長辺部と短辺部とからなる額縁状に形成すると共に、短辺部の高さを長辺部の高さより小に形成して、磁性材料により平板状に形成したヨーク上に配設し、この永久磁石に包囲された領域の中央部に前記長辺部と平行にセンターヨークを設けたことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置が記載されている。そして、磁界発生装置の永久磁石の短辺部は、記載事項（ｂ２）及び（ｂ４）によれば、基板のキャリアの幅方向に対応する両端側であるといえる。
　ところで、特開平４−３７１号公報には、「スパッタリング装置」（第１頁右下欄第５行）に関して「磁界を形成する永久磁石４１、４２は例えばサマリゥム−コバルトからなり、これらがターゲット５面に対して平行なリング状に配置される」（第２頁右下欄第１２〜１４行）と記載されているように、マグネトロンスパッタリング装置において、永久磁石をターゲット面に対して平行に配置することは、技術常識といえる。
　したがって、引用文献２に記載されたマグネトロンスパッタ装置においても、永久磁石及びセンターヨークは、ターゲットと平行になっているといえるから、永久磁石の短辺部の高さを長辺部の高さより小とすることは、永久磁石の短辺部が長辺部よりターゲットから離間していることと同義であるといえる。
　そして、記載事項（ｂ３）によれば、当該マグネトロンスパッタ装置によって、磁界発生装置の上下端部と中央部とにおいて、空隙磁束密度の分布を均一にして、膜厚の均一化が図れることが示され、磁界発生装置の上下端部と中央部とは、記載事項（ｂ４）によれば、キャリアの幅方向の端部と中央部であるといえるから、当該マグネトロンスパッタ装置によって、磁界発生装置のキャリア幅方向の磁束密度分布を均一にする効果を奏するといえる。
　以上のことから、引用文献２には、永久磁石を長辺部と短辺部とからなる額縁状に形成して、磁性材料により平板状に形成したヨーク上に配設し、この永久磁石に包囲された領域の中央部に前記長辺部と平行にセンターヨークを設けた磁気発生装置をターゲットの背面側に設けたマグネトロンスパッタ装置において、基板のキャリアの幅方向に対応する両端側にある永久磁石の短辺部を中央部にある長辺部よりターゲットから離間させて、キャリア幅方向の磁束密度分布を均一にする磁気発生装置が記載されているといえる。
　そして、引用発明１のカソードユニットの端面に設けられた補助ターゲットも、引用文献２に記載された磁気発生装置も、ターゲット上の磁界分布を均一化するための手段であることで共通するから、引用発明１のカソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面に１つずつ走行方向に平行に配置されている補助マグネットに代えて、引用文献２に記載されているように、可撓性支持体幅方向に対応する矩形環状のマグネットリングの両端側にある短辺部を中央部にある長辺部よりターゲットから離間するように構成することは、当業者であれば容易になし得ることである。
　そして、特開平７−１６６３４６号公報に「永久磁石のターゲットの背面の中心部寄りと対向する側を該背面に対して接近離反させて該永久磁石を傾斜させることにより、・・・ターゲット表面の内側と外側で有効磁界を変えてイオンの分布を変えることができ」（第３頁左欄第３５〜４０行）ると記載され、また、特開平３−２４３７６２号公報に「第１図（ａ）はマグネット２ａ、２ｂを搭載したマグネット搭載板２とマグネット３ａ、３ｂを搭載したマグネット搭載板３が、ターゲットｌ主面に垂直な垂直線ｌａに対して回転対称の位置にターゲット１主面とθの角度をもって配置された状態を示している。・・・一方、第１図（ｂ）はマグネット搭載板３を第１図（ａ）とは逆の方向にθの角度だけ傾けた状態を示している。・・・第１図（ａ）と第１図（ｂ）を比較してみると、エロージョン領域４は第１図（ａ）の状態ではターゲット１の中心部に寄り、第１図（ｂ）の状態ではターゲット１の周辺部に寄っている。」（第２頁右下欄６行〜第３頁左上欄第１行）と記載されているように、ターゲットに対してマグネットを傾斜させることによってターゲット表面の磁界分布が変化することは、周知の技術事項である。してみると、マグネットの高さを変化させることに代えて、マグネットの一部を傾斜させることにより、マグネットの両端側をターゲットから徐々に離間するように屈曲させるようにすることは、当業者が適宜なし得る設計的事項にすぎない。
　また、上述したとおり、マグネトロンスパッタリング装置において、永久磁石をターゲット面に対して平行に配置することは、技術常識といえるから、ターゲットからの距離を変化させない中央部にあるマグネットリングの長辺部を角型ターゲットと平行とすることに格別の困難性を奏するとはいえない。
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用文献１、引用文献２、周知技術及び技術常識から当業者が予測できる範囲のものである。
　以上のように、本願補正発明は、引用文献１及び引用文献２に記載された発明、周知技術並びに技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許出願の際、独立して特許を受けることができないものである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第３項、第４項及び第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条１項において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下されるべきものである。
　
ＩＩＩ．本願発明について
　平成１７年４月２７日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１６年８月２３日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「【請求項１】電源に接続されカソード電極としての機能を有するバッキングプレートと、バッキングプレート上に接着される角形ターゲットと、バッキングプレート下に角形ターゲットと対向するように配置されるマグネットとを少なくとも備え、冷却キャンの周面を走行する非磁性支持体に対してスパッタリングを行うスパッタリング装置において、上記マグネットは、センターポールと、このセンターポールの周囲を取り囲む矩形環状のマグネットリングとから構成され、上記非磁性支持体の幅方向の両端部に位置する上記マグネットの両端部は上記角形ターゲットから遠ざけるように湾曲させてなり、中央部分は上記角形ターゲットと平行状態に形成されてなることを特徴とするスパッタリング装置。」
　
ＩＶ．引用文献及びその記載事項
　原査定に引用された引用文献、並びにそれら記載事項は、前記「ＩＩ．」の前記「（３−１）引用文献及びその記載事項」に記載したとおりである。
　
Ｖ．対比
　本願発明と引用発明１とを対比すると、前記「ＩＩ．」の前記「（３−２）対比」で検討したと同様に、引用発明１の「電源に接続され負の電極となっているバッキングプレート」、「円筒キャン」、「バッキングプレートの下方に配置されるマグネット１２及びマグネット１３」、「薄膜製造装置」、「マグネット１２」、「矩形環状のマグネット１３」は、本願発明の「電源に接続されてカソード電極として機能するバッキングプレート」、「冷却キャン」、「バッキングプレート下に角形ターゲットと対向するように配置されたマグネット」、「スパッタリング装置」、「センターポール」、「矩形環状のマグネットリング」にそれぞれ相当する。そして、引用発明１の「カソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面には、補助マグネットが１つずつ走行方向に平行に配置されている」ことは、ターゲット上の磁界分布を均一化するための手段であることから、本願発明の「上記非磁性支持体の幅方向の両端部側に位置する上記マグネットの両端部は上記角形ターゲットから遠ざけるように湾曲されてなり、中央部分は上記角形ターゲットと平行状態になるように形成されてなる」ことと、角形ターゲットの表面磁界を均一にするための手段である点で共通するものである。
　したがって、本願発明と引用発明１とは、「電源に接続されカソード電極としての機能を有するバッキングプレートと、バッキングプレート上に接着される角形ターゲットと、バッキングプレート下に角形ターゲットと対向するように配置されるマグネットとを少なくとも備え、冷却キャンの周面を走行する非磁性支持体に対してスパッタリングを行うスパッタリング装置において、上記マグネットは、センターポールと、このセンターポールの周囲を取り囲む矩形環状のマグネットリングとから構成され、角形ターゲットの表面磁界を均一にするための手段を有することを特徴とするスパッタリング装置」で一致し、以下の点で相違している。
［相違点Ａ］
　本願発明の「角形ターゲットの表面磁界を均一にするための手段」が、「非磁性支持体の幅方向の両端部に位置するマグネットの両端部は上記角形ターゲットから遠ざけるように湾曲させてなり、中央部分は上記角形ターゲットと平行状態に形成されてなる」マグネットであるのに対して、引用発明１では、カソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面に１つずつ走行方向に平行に配置されている補助マグネットである点。
　
ＶＩ．判断
　上記相違点Ａについて検討すると、上記相違点Ａの本願発明の発明特定事項は、上記相違点３の本願補正発明と発明特定事項と比較して、本願補正発明の「両端部側にそれぞれ対向する各端部側」、「各端部に向かって角形ターゲットから徐々に離間するように」、「両端部間に位置する中央部」との表現を、本願発明の「両端部に位置する両端部」、「上記角形ターゲットから遠ざけるように」、「中央部分」との表現にそれぞれ上位概念化し、さらに、本願補正発明の「上記角形ターゲットの表面磁界を均一にするようにした」との発明特定事項を除いたものである。したがって、前記「ＩＩ．」の前記「（３−３）判断」の相違点３に対して検討したと同様に、引用発明１のカソードユニットの可撓性支持体の幅方向に対応する両端面に１つずつ走行方向に平行に配置されている補助マグネットに代えて、「非磁性支持体の幅方向の両端部に位置するマグネットの両端部は上記角形ターゲットから遠ざけるように湾曲させてなり、中央部分は上記角形ターゲットと平行状態に形成されてなる」マグネットとすることは、引用文献２に記載された発明、周知技術及び技術常識を考慮して当業者が容易になし得たものである、
　
ＶＩＩ．むすび
　したがって、本願発明は、引用文献１及び引用文献２に記載された発明、周知技術並びに技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。