【事件の表示】
　特願２０００−３６２０３０「金属中微量成分分析用試料の予備処理方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　６月１４日出願公開、特開２００２−１６８７４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯　
　
　本願は、平成１２年１１月２９日の出願であって、平成１７年６月３日付けで拒絶査定がなされ、同月２８日に発送されたところ、これに対し、同年７月２７日に拒絶査定不服の審判請求が行われるとともに同日付けで手続補正が行われたものである。　
　
２．平成１７年７月２７日付け手続補正についての補正却下の決定　
　
［補正却下の決定の結論］　
　
　平成１７年７月２７日付け手続補正を却下する。　
　
［理由］　
　
（１）平成１７年７月２７日付け手続補正（本件補正）　
　本件補正は、補正の内容として、特許請求の範囲の請求項１について、補正前（願書に最初に添付された明細書）の　
　
「【請求項１】　分析試料を１０Ｐａ以下の雰囲気に暴露して表面汚染を除去することを特徴とする金属中微量成分分析用試料の予備処理方法。」を、　
　
「【請求項１】　分析試料を
先端が尖った分析試料押さえにより保持しながら
　
　この補正は、補正前の請求項１に記載した発明を特定するための事項である「分析試料を１０Ｐａ以下の雰囲気に暴露して表面汚染を除去する」について「先端が尖った分析試料押さえにより保持しながら」との限定を付加するものであって、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）引用例　
　
（２−１）引用刊行物１
　原査定の拒絶の理由で引用した、本願出願日前に頒布された刊行物である実願昭６３−１３５６９９号（実開平２−５７０４９号）の願書に添付した明細書及び図面の内容を撮影したマイクロフィルム（以下、「引用刊行物１」という。）には、「元素分析装置用脱ガス装置」に関する発明が記載されており、図面とともに次の記載がある（下線は、当審にて付加。）。
　
ア．第１ページ１５行−１８行
「［産業上の利用分野］
　本考案は、例えば
不活性ガス融解型や酸素気流中燃焼ガス分析型の元素分析装置に用いられる脱ガス装置
　
イ．第１ページ第１９行−第２ページ第６行
「［従来の技術］
　
金属試料の元素分析
　
ウ．第２ページ第７行−第３ページ第１行
「［考案が解決しようとする課題］
　ところが、上記の前処理における乾燥および洗浄剤の除去が不十分であった場合に、
金属試料の表面に水分や有機物の一部が残ったり、あるいは、乾燥の過程で金属試料の表面が活性化して当該試料表面に空気などが吸着することがあった。
　本考案は、上記の実情に鑑みて成されたものであって、
前処理をより一層厳密に行わせることで誤差要因をなくし、試料測定の信頼性を向上させるための脱ガス装置を提供する
　
エ．第３ページ第２行−１６行
「［課題を解決するための手段］
　上記の目的を達成するために本考案は、金属試料挿入用の気密開閉蓋と金属試料投入具と金属試料供給口を備えた気密構造の脱ガス器本体を有し、
該脱ガス器本体内のガスを真空排気するための排気ライン
［作用］
上記の特徴構成によれば、
前記脱ガス器本体を真空排気下におくことで、測定の誤差原因となる試料表面および表層部に付着のガス成分や試料表面に残留の水分が真空排気される。
　
オ．第５ページ第１３行−第６ページ第１０行
「而して、前記両ライン１０、１１のバルブＶ１、Ｖ２を閉弁下においた状態で、前記気密開閉蓋８を開放して
前記受け部材１２上に金属試料ａを挿入し
　即ち、前記リミットスイッチＬＳによる気密開閉蓋８の閉塞検知に基づいて、先ず、前記脱ガス器本体４の雰囲気を１００〜３００℃程度に加熱させるべく、前記ヒーターＨが発熱制御されると共に、前記金属試料ａが所定の温度に昇温された時点で前記
コンプレッサーＣが駆動される。
次いで、前記排気ライン１０のバルブＶ
１
が所定時間（例えば１〜２分程度）だけ開弁されて、前記脱ガス器本体４内の加熱ガス（本体内の空気と、金属試料ａの表面および表層部に吸着しているＯ
２
やＮ
２
やＣＯ
２
やＳＯ
２
等のガス成分、及び、金属試料ａの表面に残留している水分）が真空排気される。
　
　そして、これらの記載から、引用刊行物１には「金属試料ａを受け部材１２上に受けた状態で脱ガス器本体内を真空排気して、試料表面および表層部に付着のガス成分や試料表面に残留の水分を真空排気する金属試料の元素分析における金属試料ａの前処理方法。」（以下「引用刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
（２−２）引用刊行物２
　当審で新たに引用する、本願出願日前に頒布された刊行物である特開平１１−３１６２２０号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、「金属中微量元素の高精度分析方法および装置」に関する発明が記載されており、図面とともに次の記載がある。（下線は、当審にて付加。）　
　
カ．「【請求項１】  
不活性ガス雰囲気の予備処理室内において、試料表面に不活性ガススパッタリング処理を施して該試料のほぼ全表面の汚染部をほぼ同時に除去する
【請求項２】  
不活性ガススパッタリング処理は、試料を導電性試料押さえによって点支持して行う
　
キ．「【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は金属中微量元素の高精度分析方法
　
ク．「【０００３】
しかし、鋼の高純度化が進むに従い、その正確な分析には分析前に試料表面の汚染部を確実に除去することが極めて重要となってきている。たとえば、酸素分析の場合、表面に吸着した有機物や炭酸ガス、大気等の周辺雰囲気による表面酸化物をあらかじめ除去しないと正確な分析値を得られない。
試料表面の汚染部除去の前処理法として、酸等を用いた電解研磨法や化学研磨法が報告されている。
　
ケ．「【００１４】
上記予備処理室４において、試料２にはその表面に不活性ガススパッタリング処理が施され、試料表面の汚染部が除去される。不活性ガスとしては、アルゴンを用い、試料２を陰極側とし、予備処理室４の内壁５を陽極として減圧下でグロー放電スパッタリングによりイオン化されたアルゴンを試料表面に高速で衝突させてスパッタリング処理を行う。気体の圧力および電圧は所定時間内に試料表面の汚染が除去できるように選定すればよい。
具体的には、試料２を円錐形の支持棒２０によって点支持することによって行うことができる。また、試料をその頂点あるいは稜線によって支持するなどの手段をとることができる。要するに、試料を支持する際に支持手段が試料を覆う面積を極力小さくすればよい。
　
コ．「【００１８】
上記分析方法を実施するための分析装置には図１、図２に示すように、予備処理室４を設ける。予備処理室４はアルゴンスパッタリングを完了するまではアルゴンガス源６からバルブ８を経由してアルゴンを導入し、排気ポンプ１０によりバルブ１２を経由して排気させるように構成されている。
【００１９】（省略）
【００２０】したがって、予備処理室４の試料投入口２４を開いて
試料２を試料押さえ２０にセットし、
排気ポンプ１０を作動させて、所定圧力のアルゴン雰囲気とした後、
その際、試料押さえ２０が図に示すように先端が尖った円錐形に構成されていれば、試料２は点支持され、スパッタリングによる汚染除去は試料全面に対し同時に行われることとなる。
　
　そして、これらの記載から、引用刊行物２には「先端が尖った円錐形の試料押さえ２０により試料２を点支持しながら、排気ポンプ１０を作動させて不活性ガス雰囲気の予備処理室内を所定減圧の雰囲気とし、該試料の表面の汚染部を除去する金属中微量元素の高精度分析方法。」（以下、「引用刊行物２記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
（３）対比・判断　
　本願補正発明と上記引用刊行物１記載の発明とを対比する。　
　
　引用刊行物１記載の発明の「金属試料ａ」、「試料表面および表層部に付着のガス成分や試料表面に残留の水分」、「金属試料の元素分析」及び「前処理方法」が、それぞれ本願補正発明の「金属中微量成分分析用試料」、「表面汚染」、「金属中微量成分分析」及び「予備処理方法」に相当することは明らかである。　
　
　また、引用刊行物１記載の発明の「金属試料ａを受け部材１２上に受けた状態で脱ガス器本体内を真空排気して」と本願補正発明の「分析試料を先端が尖った分析試料押さえにより保持しながら１０Ｐａ以下の雰囲気に曝露して」とは、分析試料を所定の部材により保持しながら減圧状態の雰囲気に暴露するという点で共通する。
　
　したがって、両者は「分析試料を所定の部材により保持しながら減圧状態の雰囲気に暴露して表面汚染を除去する金属中微量成分分析用試料の予備処理方法。」である点で一致し、次の相違点１及び相違点２で相違する。
　
（相違点１）　
　分析試料を保持する所定の部材が、本願補正発明においては、「先端が尖った分析試料押さえ」であるのに対して、引用刊行物１記載の発明においては、「金属試料ａを上に受ける受け部材１２」である点。
　
（相違点２）　
　試料が暴露される減圧状態の雰囲気が、本願補正発明においては、「１０Ｐａ以下の雰囲気」であるのに対して、引用刊行物１記載の発明においては、「真空排気」される減圧状態がどの程度の圧力であるか明記されていない点。
　
　上記相違点について検討する。　
　
相違点１について
　
　引用刊行物２記載の発明は、金属中微量元素の高精度分析方法であって、該試料の表面の汚染部を除去するための予備処理室内を所定減圧の雰囲気とし、先端が尖った円錐形の試料押さえ２０により試料２を点支持している。
　引用刊行物２には、上記汚染部を除去するために引用刊行物１記載の発明とは異なる処理であるスパッタリング処理を行うことが記載されているものの、前記先端が尖った円錐形の試料押さえ２０は、前記汚染部を除去する処理を行うために試料を減圧状態の雰囲気内に置くための構成である点で、引用刊行物１記載の発明における、減圧状態の雰囲気である脱ガス器本体内に試料を保持する受け部材１２と同様の機能を有するものであるから、引用刊行物１記載の発明において減圧状態の雰囲気内に置くための保持方法として、上記受け部材１２上に置く方法に代えて、引用刊行物２記載の発明の先端が尖った円錐形の試料押さえにより保持する方法を用いることは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
相違点２について
　
　引用刊行物１には、試料表面および表層部に付着のガス成分や試料表面に残留の水分が真空排気される減圧状態がどの程度の圧力であるか明記されていないが、上記２．（２）ウ．に摘記したように、乾燥の過程で金属試料の表面が活性化して当該試料表面に空気などが吸着することを課題としている以上、上記減圧状態を決定するにあたって、吸着される空気との接触を極力少なくするために実現可能な範囲で十分減圧することが示唆されていると言え、減圧されればされるほど含まれる空気等の量も少なくなり、空気等が試料表面と接触することが少なくなることも自明である。そして、どの程度十分減圧するかは金属試料を前処理する際に当業者が適宜選択し得るものであり、さらに、上記減圧状態の具体的な圧力を決定する際に、中真空（１００Ｐａ〜０．１Ｐａ）の一部や高真空（０．１Ｐａ〜１０μＰａ）及び超高真空（１０μＰａ以下）（（ＪＩＳ　Ｚ　８１２６−１「真空技術−用語−第１部：一般用語」平成１１年４月３０日発行参照）に属する減圧状態である１０Ｐａよりも低い圧力とすることを妨げる格別の理由もないから、引用刊行物１記載の発明における真空排気の減圧状態の圧力として、１０Ｐａ以下の減圧状態とすることは当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用刊行物１記載の発明及び引用刊行物２記載の発明から当業者であれば予測できる範囲のものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願補正発明は、引用刊行物１記載の発明及び引用刊行物２記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際に独立して特許を受けることができないものである。　
　
　したがって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。　
　
　
３．本願発明について　
　
（１）本願発明　
　平成１７年７月２７日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、願書に最初に添付された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された、上記２．（１）に記載のとおりのものである。（以下、願書に最初に添付された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明を「本願発明」という。）
　
（２）引用例　
　原査定の拒絶の理由に引用した引用刊行物１及びその記載事項は上記「２．（２−１）引用刊行物１」に記載したとおりである。　
　
　そして、それらの記載から、引用刊行物１には「金属試料ａを挿入した状態で脱ガス器本体内を真空排気して、試料表面および表層部に付着のガス成分や試料表面に残留の水分を真空排気する金属試料の元素分析における金属試料ａの前処理方法。」（以下「引用刊行物１記載の引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
（３）対比・判断　
　本願発明と上記引用刊行物１記載の引用発明とを対比する。　
　
　引用刊行物１記載の引用発明の「金属試料ａ」、「試料表面および表層部に付着のガス成分や試料表面に残留の水分」、「金属試料の元素分析」及び「前処理方法」が、それぞれ本願発明の「金属中微量成分分析用試料」、「表面汚染」、「金属中微量成分分析」及び「予備処理方法」に相当することは明らかである。　
　
　また、引用刊行物１記載の引用発明の「金属試料ａを挿入した状態で脱ガス器本体内を真空排気して」と本願発明の「分析試料を１０Ｐａ以下の雰囲気に曝露して」とは、分析試料を減圧状態の雰囲気に暴露するという点で共通する。
　
　したがって、両者は「分析試料を減圧状態の雰囲気に暴露して表面汚染を除去する金属中微量成分分析用試料の予備処理方法。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
（相違点）　
　試料が暴露される減圧状態の雰囲気が、本願発明においては、「１０Ｐａ以下の雰囲気」であるのに対して、引用刊行物１記載の引用発明においては、「真空排気」される減圧状態がどの程度の圧力であるか明記されていない点。
　
　上記相違点について検討する。
　
　上記本願発明と引用文献１記載の引用発明との相違点は、上記２．（３）対比・判断において示した上記本願補正発明と引用文献１記載の発明との「相違点２」と同様であり、該「相違点２」についての検討と同様に、引用刊行物１記載の引用発明における真空排気の減圧状態の圧力として、１０Ｐａ以下の減圧状態とすることは当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、本願発明の作用効果も、引用刊行物１記載の引用発明から当業者であれば予測できる範囲のものである。
　
（４）むすび　
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１記載の引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　
　したがって、請求項２−４に係る発明について審理するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。　
　
　よって、結論のとおり審決する。