【事件の表示】
　平成　９年特許願第３００６３５号「可変成形式荷電粒子ビーム露光装置及びこれに使用される第二アパーチャ」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　５月２１日出願公開、特開平１１−１３５４０３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年１０月３１日に出願された特願平９−３００６３５号であって、平成１９年１月１０日付で拒絶査定がされ、これに対して、平成１９年２月１５日付で拒絶査定不服審判の請求がされたものである。
　
２．本願発明  
　平成１８年８月２８日付の手続補正は、特許請求の範囲の請求項６〜９について補正したものであり、本願の各請求項に係る発明は、出願当初明細書、及び平成１８年８月２８日付手続補正書からみて、その請求項１〜９に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
本願発明；
「荷電粒子ビーム源と、
　矩形の第一開口部を備え、荷電粒子ビーム源から発射された荷電粒子ビームの断面形状を矩形に成形する第一成形アパーチャと、
　第一成形アパーチャを通過した荷電粒子ビームの収束及び偏向を行う成形偏向光学系と、
　第二開口部を備え、成形偏向光学系を通過した荷電粒子ビームの断面形状を、更に各種のパターンに成形する第二成形アパーチャと、
　第二成形アパーチャを通過した荷電粒子ビームの収束及び偏向を行い、試料表面に照射する対物偏向光学系と、
　を備えた可変成形式荷電粒子ビーム描画装置において、
　第二成形アパーチャの前記第二開口部は、
　前記第一開口部を構成する矩形の互いに直交する二辺の基準方向をＸ軸及びＹ軸とするとき、
　Ｘ軸及びＹ軸に対してそれぞれ平行な二辺から構成される少なくとも一箇所の角部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差し、それぞれ異なる方向を向いた四箇所の斜辺部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差するとともに互いに直交する二辺から構成され、それぞれ異なる方向を向いた四箇所の角部と、
　を有することを特徴とする可変成形式荷電粒子ビーム露光装置。」
　
３．引用例  
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された特開平９−２６０２３９号公報（以下、「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。
ア．【０００１】【発明の属する技術分野】
　本発明は、電子銃から出射された荷電ビームを成形アパーチャに通過させることにより所望のビーム形状を成形し、この成形された荷電ビームを試料に照射して描画を行なう荷電ビーム描画装置における成形アパーチャの形状評価方法及び成形アパーチャの回転調整方法に関する。
　
イ．【００３５】【発明の実施の形態】
　まず、この発明の実施の形態を説明する前に、この発明の方法を実施する際に使用される荷電ビーム描画装置の構成について、図１を参照して説明する。
【００３６】
　電子銃１から出射される荷電ビームの進行路には、第１照明レンズ２、第２照明レンズ３、第１投影レンズ４、第２投影レンズ５、縮小レンズ６及び対物レンズ７が配置されている。
【００３７】
　荷電ビームの進行路上では、第２照明レンズ３と第１投影レンズ４との間にブランキング偏向器８が配置され、第１投影レンズ４と第２投影レンズ５との間に成形偏向器９が配置され、さらに対物レンズ７の位置に対物偏向器１０が配置されている。
【００３８】
　また、荷電ビームの進行路上では、ブランキング偏向器８と第１投影レンズ４との間に丸形アパーチャ１１及び第１成形アパーチャ１２が配置され、第２投影レンズ５と縮小レンズ６との間に第２成形アパーチャ１３が配置され、さらに縮小レンズ６と対物レンズ７と間に丸形アパーチャ１４が配置されている。
【００３９】
　このうち、第１成形アパーチャ１２は先の図２２（ａ）に示すように矩形のアパーチャ形状を有しており、第２成形アパーチャ１３は先の図２２（ｂ）に示すように鍵形のアパーチャ形状を有している。
　
ウ．【００４４】
　これとともに、電子銃１から出射された荷電ビームは、第１成形アパーチャ１２を通過し、この後、成形偏向器９により偏向されて第２成形アパーチャ１３を通過することにより、これら第１、第２成形アパーチャ１２、１３を組み合わせたアパーチャ形状に成形される。
　
エ．【００８２】
　次に、第１成形アパーチャ１２の各エッジのラフネスを測定して第１成形アパーチャ１２の形状評価を行なうこの発明の第４の実施の形態の方法について説明する。
【００８３】
　ここでは、第１成形アパーチャ１２の１つのエッジｅ１におけるラフネスを測定する場合を例にして説明する。なお、このエッジｅ１については、先に説明した方法によって既に第１成形アパーチャ１２の回転調整が終了しているものとする。
【００８４】
　まず、成形偏向器９を制御して、図９（ａ）に示すように、第１成形アパーチャ１２のエッジｅ１を第２成形アパーチャ像のコーナーＣ１から一定量ｈだけ第２成形アパーチャのアパーチャから露出させた状態で第１成形アパーチャ１２を偏向する。すなわち、このとき、第１成形アパーチャ１２のエッジｅ１と第２成形アパーチャ１３のコーナーＣ１とを用いて三角形ビームを成形させる。
【００８５】
　なお、上記長さｈは、第１成形アパーチャ像のエッジｅ１の長さに対して十分に短くなるように設定し、例えばエッジの長さの１／５０程度とする。
【００８６】
　次に、成形偏向器９をスキャン制御して、第１成形アパーチャ１２を正確にＸ方向にステップ偏向し、その都度、前記ビーム電流検出器１７でビーム電流値の測定を行なう。このときのステップ量（Ｘ方向の偏向量）は、第１成形アパーチャ像のエッジの長さに対して十分に短くなるように設定し、例えばエッジの長さの１／５０程度とする。
【００８７】
　図１２は、第１成形アパーチャのエッジｅ１にラフネスが存在していない場合に、第１成形アパーチャ像を第２成形アパーチャのコーナーＣ１に対してスキャンしたときの状態と、その都度、測定されたビーム電流値の変化を示している。図１２に示すように、第１成形アパーチャのエッジｅ１にラフネスが存在していない場合、ビーム電流変化は一定となる。
【００８８】
　一方、第１成形アパーチャのエッジｅ１に凹凸のラフネスが存在する場合に、第１成形アパーチャ像を第２成形アパーチャのコーナーＣ１に対してスキャンしたときの状態と、その都度、測定されたビーム電流値の変化を図１３に示している。
【００８９】
　この場合のラフネスは、前記図７で説明した場合と同様の方法で求めることができるので、その説明は省略する。
【００９０】
　他方、第１成形アパーチャ１３における残りのエッジｅ２、ｅ３についても、上記と同様の方法によりラフネスを求めることができる。
【００９１】
　そして、エッジｅ１（「エッジｅ１ｅ」は、誤記と認める。）、ｅ２、ｅ３のラフネスが求められたならば、これら求められたラフネスに基づき第１成形アパーチャ１２の形状評価を行なうことができる。
　
オ．【請求項４】　矩形を有する第１成形アパーチャで形成した荷電ビームを、投影レンズで、少なくとも斜線部を有する第２成形アパーチャ上に結像させるとともに、前記第１成形アパーチャで形成された像を成形偏向器により偏向することによって得られた像と、前記第２成形アパーチャの形状との組合せによって前記荷電ビームを成形し、この成形された荷電ビームを対物レンズで試料面に結像、照射する機能を有する荷電ビーム描画装置において、
　前記第１成形アパーチャのアパーチャ像エッジを第２成形アパーチャの角部の基準位置から所定量だけ第２成形アパーチャのアパーチャから露出させた状態で試料面の基準座標系に正確に一致させた成形偏向座標系において所望の第１成形アパーチャ像のエッジ角度と一致する偏向角度でステップ偏向し、前記第１、第２成形アパーチャを通過する荷電ビームのビーム電流量Ｉを測定し、このビーム電流量Ｉとビーム電流密度Ｊ及び第２成形アパーチャの角部の形状とから、第１成形アパーチャ像の基準エッジに対する凹凸量δｈを算出して、このδｈを前記第１成形アパーチャのエッジにおけるラフネスとすることを特徴とする荷電ビーム描画装置における成形アパーチャの形状評価方法。
　
カ．【図２２】の記載事項
　図２２（ｂ）に示される第２成形アパーチャ１３の鍵形のアパーチャ形状は、
　図２２（ａ）に示される第１成形アパーチャ１２の矩形のアパーチャ形状の直交する二辺の基準方向をＸ軸及びＹ軸とするとき、
　Ｘ軸及びＹ軸に対してそれぞれ平行な二辺から構成される二箇所の角部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差し、それぞれ異なる方向を向いた四箇所の斜辺部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差するとともに互いに直交する二辺から構成され、それぞれ異なる方向を向いた三箇所の角部とを有していることが、読み取れる。
　
　したがって、上記記載事項ア．〜カ．、及び各図面から、引用例１には、
「電子銃１と、
　矩形のアパーチャ形状を備え、電子銃１から発射された荷電ビームの断面形状を矩形に成形する第１成形アパーチャ１２と、
　第１成形アパーチャ１２を通過した荷電ビームの収束及び偏向を行う第１投影レンズ４、成形偏向器９及び第２投影レンズ５と、
　鍵形のアパーチャ形状を備え、第１投影レンズ４、成形偏向器９及び第２投影レンズ５を通過した荷電ビームの断面形状を、更に各種のパターンに成形する第２成形アパーチャ１３と、
　第２成形アパーチャ１３を通過した荷電ビームの収束及び偏向を行い、試料表面に照射する縮小レンズ６、丸形アパーチャ１４、対物偏向器１０及び対物レンズ７と、
　を備えた荷電ビーム描画装置において、
　第２成形アパーチャ１３の前記鍵形のアパーチャ形状は、
　前記矩形のアパーチャ形状を構成する矩形の互いに直交する二辺の基準方向をＸ軸及びＹ軸とするとき、
　Ｘ軸及びＹ軸に対してそれぞれ平行な二辺から構成される二箇所の角部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差し、それぞれ異なる方向を向いた四箇所の斜辺部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差するとともに互いに直交する二辺から構成され、それぞれ異なる方向を向いた三箇所の角部と、
　を有することを特徴とする荷電ビーム描画装置。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
  
４．対比  
　引用発明の「電子銃１」は、本願発明の「荷電粒子ビーム源」に相当し、以下、同様に「矩形のアパーチャ形状」は「矩形の第一開口部」に、「荷電ビーム」は「荷電粒子ビーム」に、「第１成形アパーチャ１２」は「第一成形アパーチャ」に、「第１投影レンズ４、成形偏向器９及び第２投影レンズ５」は「成形偏向光学系」に、「鍵形のアパーチャ形状」は「第二開口部」に、「第２成形アパーチャ１３」は「第二成形アパーチャ」に、「縮小レンズ６、丸形アパーチャ１４、対物偏向器１０及び対物レンズ７」は「対物偏向光学系」に、それぞれ相当する。
　
　引用発明の「平行な二辺から構成される二箇所の角部」は、本願発明の「平行な二辺から構成される少なくとも一箇所の角部」に相当する。
　
　引用発明の「異なる方向を向いた三箇所の角部」と、本願発明の「異なる方向を向いた四箇所の角部」とは、「異なる方向を向いた所定箇所の角部」の点で一致する。
　
　引用発明の「荷電ビーム描画装置」は、電子銃から出射された荷電ビームを成形アパーチャに通過させることにより所望のビーム形状を成形するものであるから、本願発明の「可変成形式荷電粒子ビーム露光装置」に相当する。
　
　したがって、両者は、
「荷電粒子ビーム源と、
　矩形の第一開口部を備え、荷電粒子ビーム源から発射された荷電粒子ビームの断面形状を矩形に成形する第一成形アパーチャと、
　第一成形アパーチャを通過した荷電粒子ビームの収束及び偏向を行う成形偏向光学系と、
　第二開口部を備え、成形偏向光学系を通過した荷電粒子ビームの断面形状を、更に各種のパターンに成形する第二成形アパーチャと、
　第二成形アパーチャを通過した荷電粒子ビームの収束及び偏向を行い、試料表面に照射する対物偏向光学系と、
　を備えた可変成形式荷電粒子ビーム描画装置において、
　第二成形アパーチャの前記第二開口部は、
　前記第一開口部を構成する矩形の互いに直交する二辺の基準方向をＸ軸及びＹ軸とするとき、
　Ｘ軸及びＹ軸に対してそれぞれ平行な二辺から構成される少なくとも一箇所の角部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差し、それぞれ異なる方向を向いた四箇所の斜辺部と、
　Ｘ軸及びＹ軸に対して４５度で交差するとともに互いに直交する二辺から構成され、それぞれ異なる方向を向いた所定箇所の角部と、
　を有することを特徴とする可変成形式荷電粒子ビーム露光装置。」である点で一致し、以下の点で相違する。
  
［相違点１］  
　異なる方向を向いた所定箇所の角部が、本願発明では、四箇所であるのに対し、引用発明では、三箇所である点。
　
５．当審の判断  
　以下、相違点について検討する。
［相違点１］について；
　引用例１の上記記載事項エ．には、第１成形アパーチャ１３におけるエッジｅ１、ｅ２、ｅ３についてラフネスを求める点が記載されている。
　そして、物体の形状をより正確に評価することは一般的な技術課題であるから、引用発明において、矩形のアパーチャ形状のエッジｅ１〜３のラフネスの測定を行うのと同様に、第１成形アパーチャ１２のエッジｅ４についてもラフネスの測定を行うことは、当業者が容易に着想し得る技術的課題である。
　引用例１に記載されている発明は、請求人が主張するような、ビームを直角二等辺三角形に成形するために設けられている斜辺が互いに交差する３つの角部を利用し、矩形のアパーチャ形状の３つのエッジのラフネスを測定する（上記記載事項エ．に示された実施例）という限定的なものではなく、鍵形のアパーチャ形状の所定の位置に形成されている角部を利用することで、矩形のアパーチャ形状の所定のエッジについてラフネスを測定するというものである（例えば、上記記載事項オ．の請求項４参照）。
　
　なお、上記のように四箇所とすることは、容易に着想し得ることであるが、その場合、矩形のアパーチャ形状の特定のエッジについてラフネスを測定するために利用される角部が鍵形のアパーチャ形状に形成されていないのであれば、鍵形のアパーチャ形状の所定の位置に、そのような角部をもう１つ形成することで、矩形のアパーチャ形状の特定のエッジについてもラフネスを測定することができることは、当業者にとって明らかである。そして、引用発明においては、鍵形のアパーチャ形状の最大のＹ値、最小のＹ値、最大のＸ値の位置に形成されている角部ｃ１〜３を利用することで、矩形のアパーチャ形状のエッジｅ１〜３のラフネスを測定しているのであるから、もう一つの角部を形成する位置として、鍵形のアパーチャ形状の最小のＸ値の位置を採用することは、当業者が最も自然に想起し得る技術的事項である。
　
　結局、物体の形状をより正確に評価するという一般的な技術課題を考慮すれば、引用発明に異なる方向を向いた三箇所の角部に加え、もう一箇所追加して、上記相違点１に係る本願発明の構成を得ることは、当業者にとって容易である。
　
　そして、本願発明の作用効果も、引用発明のものから、予測される範囲のものである。
　
　なお、蛇足ながら、本願発明は、本願の出願日前に出願され、出願後に公開された明細書（特開平１０−２６００２８号参照）に記載されたもの（【図５】（ｃ））でもある。
　
６．むすび
　したがって、本願発明は、引用例１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。