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　平成１１年特許願第　５０２７９号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　９月１４日出願公開、特開２０００−２５２２５４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯及び本願発明
　本件審判請求に係る出願（以下、「本願」という。）は、平成１１年２月２６日の出願であって、平成１８年２月２１日付けで拒絶査定（発送日：同年２月２８日）がなされたところ、平成１８年３月３０日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　その後、当審において、平成２０年１月２８日付けで拒絶理由（発送日：同年１月２９日）を通知したところ、平成２０年３月２８日付けで、意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　したがって、本願の請求項１に係る発明は、平成２０年３月２８日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものである（以下、「本願発明」という。）。
　「基板を乾燥処理する乾燥処理室を構成するとともに、当該乾燥処理室
内に基板を搬入出するための開口を有する室構成体と、
　前記乾燥処理室内に清浄な気流を導入する清浄気流導入機構と、
　前記乾燥処理室内において搬送される基板に対して気体を吹き付けて付着している液体を除去するエアナイフと、
　前記乾燥処理室内の雰囲気を排出する排出機構と、
　前記開口を介した前記乾燥処理室における基板の搬入出を検知するセンサと、
　前記センサが前記乾燥処理室内に前記開口を介して基板が搬入されたことを検知したときに前記エアナイフを動作させ、それと同時に、前記エアナイフから供給される一定の気体の量とほぼ等しい量だけ、前記排出機構の排出量を増大させ、又は、前記排出機構の排出量を増大させるとともに前記清浄気流導入機構の導入量を減少させ、前記センサが乾燥処理室外に前記開口を介して基板が搬出されたことを検知したときに前記エアナイフを停止させ、それと同時に、前記排出機構の排出量を基板搬入前の状態まで減少させ、又は、前記排出機構の排出量を基板搬入前の状態まで減少させるとともに前記清浄気流導入機構の導入量を基板搬入前の状態まで増大させて、前記乾燥処理室内の圧力が前記開口を介して連通している空間の圧力及び／又は前記開口を介して連通している乾燥処理室外の圧力と略同一となるように、前記排出機構、又は、前記排出機構及び前記清浄気流導入機構を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。」
　
２．当審における拒絶理由の概要
　当審において通知した拒絶理由の一つは、本願は特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない、というものであり、概略、次のとおりである。
　
　本願明細書の記載（【００３３】、【００３４】）、及び、請求人の回答によれば、本願発明の制御手段は、乾燥処理室の開口（入口）近傍に設置されたセンサが、基板の「先端」を検知したときに、乾燥処理室内のエアナイフを動作させ、それと同時に、ダンパーを全開状態とし、乾燥処理室の開口（出口）近傍に設置されたセンサが、基板の「後端」を検知したときに、エアナイフの動作を停止させ、それと同時に、ダンパを半開状態とするものである。
　そこで、基板の（乾燥処理室への）搬入から搬出までの状態について勘案すると、基板は、乾燥処理室内においても一定速度で搬送され、エアナイフから基板に向けて吹き出される乾燥気体（以下、「気体」という。）により、基板の表面に付着している純水（以下、「純水」という。）が吹き飛ばされ除去されるものであるところ、基板とエアナイフとの位置関係からみて、気体がどのように基板に当たるかを、図１に示される実施例を参酌して検討すると、次のような状態を経るものである。 
　Ａ：基板の先端が乾燥処理室にあって、２つのエアナイフは動作しているが、気体は基板に当たらない状態（センサが基板の先端を検知してエアナイフが起動した直後）、 
　Ｂ：上流側のエアナイフからの気体が基板（の先端部分）に当たり、下流側のエアナイフからの気体は基板に当たらない状態、
　Ｃ：２つのエアナイフからの気体が基板に当たるが、基板後方はまだ乾燥室に入っていない状態（図１に示される状態）、 
　Ｄ：基板が完全に乾燥処理室内に入り、２つのエアナイフからの気体が、基板の中央から後端にかけて当たる状態、 
　Ｅ：下流側のエアナイフからの気体が基板の後端部分に当たり、上流側のエアナイフからの気体は基板に当たらない状態、 
　Ｆ：基板の後端部分は乾燥処理室内にあるが、２つのエアナイフからの気体は基板に当たらない状態（センサが基板の後端を検知する少し前）、 
　Ｇ：基板の後端が乾燥処理室内にあって、２つのエアナイフは動作しているが、気体は基板に当たらない状態（センサが基板の後端を検知してエアナイフが停止する直前）、 
　しかしながら、発明の詳細な説明には、本願発明の制御手段について、センサからの検知信号に基づいて、エアナイフの起動・停止を行い、且つ、エアナイフの起動・停止と同時に、ダンパーを全開・半開状態にする、という制御を行うことだけが記載されている。 
　他方、本願発明の目的は、「処理室内での処理の状況などにかかわらず、処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがない基板処理装置を提供する」（【０００７】）ことにあり、そのために、乾燥処理室と、該乾燥処理室に連通する他の処理室との圧力を略同一とするものであるところ、「エアナイフの起動・停止、及び、ダンパの全開・半開」を行うだけの制御手段では、上記のような様々な状態に対応して、乾燥処理室と他の処理室との圧力を略同一にするという制御ができるとは、到底認められない。 
　付言すれば、上記Ｃ（本願図面の図１参照）のとき、エアナイフは動作中であり、且つ、エアナイフは、基板の搬送方向の上流側斜め方向に気体を噴き出すように傾斜して設けられており（【００２７】参照）、更に、気体は、純水を吹き飛ばし除去するほどの勢いで吹き出されるものであるから、気体は、その勢いで基板上面を後方まで流れ、隣の処理室に侵入し、「隣接する処理室の気流を乱」すものと解される。 
　以上のとおりであるから、本件明細書の発明の詳細な説明には、制御手段について、特許請求の範囲の請求項１に記載された発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されていない。 
　
３．請求人の主張
　上記拒絶理由に対して、請求人は、平成２０年３月２８日付け意見書（以下、「意見書」という。）において、次のように主張する。
　
　補正前の本願明細書では、本願発明の目的を「処理室内での処理の状況などにかかわらず、処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、基板の処理品質の低下が生じない基板処理装置を提供する」のように記載しておりましたが、補正後の明細書では、このような断定的な記載を改め、本願発明の目的を「処理室内での処理の状況などにかかわらず、処理室に対する気体の出入りがほとんどない状態を保ち、基板の処理品質の低下が生じない基板処理装置を提供する」ことと致しました。
　今回の拒絶理由通知書において、本願発明は、基板への気体の当たり方について、Ａ〜Ｇのような状態を経るものであるとの指摘がされております。仮に、このようなＡ〜Ｇの状態を経ることにより、乾燥処理室に対して開口部経由の気体の出入りが多少あったとしても、本願発明のような制御をしない場合と比較しますと、本願発明では、上記のとおり乾燥処理室への気体の導入量と乾燥処理室からの気体の排出量との関係が一定に保たれるのでありますから、開口部経由の気体の出入りの量は大幅に減少します。すなわち、本願発明のような制御をしない場合の開口部経由の気体の出入りの量を基準として考えますと、開口部経由の気体の出入りが「ほとんどない」状態となる訳です。
　また、補正後の本願発明では、エアナイフから供給される気体の量を「一定」に限定致しました。エアナイフから供給される気体の量が一定であれば、発明の詳細な説明に記載されたダンパーを全開・半開状態にする、という制御だけでも、乾燥処理室への気体の導入量と乾燥処理室からの気体の排出量との関係を一定に維持することができます。従って、乾燥処理室に対する開口部経由の気体の出入りがほとんどない状態を保つという本願発明の目的を達成できます。
　以上のとおりでありますから、補正後の本願明細書の発明の詳細な説明は、補正手段（審決注：「制御手段」の誤り）について、補正後の請求項１に記載された発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されております。よって、補正後の本願は、特許法第３６条第４項違反の拒絶理由を有するものではありません。
　
４．判断
　特許法第３６条第４項に関する拒絶理由に対して、請求人は、本願発明の目的等に関連する記載を、補正前の「処理室内での処理の状況などにかかわらず、処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、基板の処理品質の低下が生じない基板処理装置を提供する」という断定的な記載から、「処理室内での処理の状況などにかかわらず、処理室に対する気体の出入りがほとんどない状態を保ち、基板の処理品質の低下が生じない基板処理装置を提供する」に補正した（意見書３頁４〜９行参照）ので、補正後の発明の詳細な説明について、特許法第３６条第４項違反はない旨、主張する。
　即ち、請求人の主張は、補正前の断定的な「処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、」となる記載を、「処理室に対する気体の出入りがほとんどない状態を保ち、」と補正したことを、根拠とするものである。
　そこで、補正前の「処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、」なる記載と、補正後の「処理室に対する気体の出入りがほとんどない状態を保ち、」なる記載について検討する。
　上記補正後の記載の内、「気体の出入りがほとんどない状態」について、「ほとんど」の意味が曖昧であるため、当該記載が、どの程度の状態を言うのか、明確でない。
　しかしながら、「ほとんど」には、「ほぼ１００％」のものも含まれ、又、補正前の（願書に最初に添付された）明細書【００１７】の「エアナイフの動作にかかわらず処理室に対する気流の出入りがほとんどない状態を実現でき、処理室外の雰囲気を吸い込んだり、隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、」との記載は、「エアナイフの動作にかかわらず処理室に対する気流の出入りがほとんどない状態を実現でき」るからこそ、「処理室外の雰囲気を吸い込んだり、隣接する処理室の気流を乱したりすることがな」い状態が実現できることを表現していると解されるから、結局、補正前、補正後の２つの記載は、ほぼ同様の内容を表現しているものと言える。
　即ち、目的（効果）の記載を、「断定的」でないものとしたからと言って、上記のとおり、その内容はほぼ同様のものであるから、その補正を以てしても、制御手段が明確に記載されているとは言えない。
　したがって、上記補正を根拠とする請求人の主張は、首肯し難い。
　この点に関して、一例を挙げれば、先の拒絶理由で指摘した、Ａ〜Ｇの状態の内、特に、Ｃ（本願図面の図１参照：気体は、吹き出された勢いで基板上面を後方まで流れ、隣の処理室に侵入する。）の状態を参酌すれば、請求人の主張に首肯できないことは明らかである。
　ところで、請求人は、上記Ａ〜Ｇの状態について、「このようなＡ〜Ｇの状態を経ることにより、乾燥処理室に対して開口部経由の気体の出入りが多少あったとしても、
本願発明のような制御をしない場合
本願発明のような制御をしない場合
　しかしながら、本願発明においては、基板は、常に一定速度で搬送され、基板の状態（エアナイフとの位置関係等）は刻々と変化するものである。そのような本願発明の制御手段の効果を、単に制御しない状態との比較において論じることは的を射ない反論であって、採用できない。
　即ち、どのような制御であっても、制御しないものと比較すれば、程度の差こそあれ、効果が有ることは言うまでもないからである。
　本願発明の制御手段は、エアナイフのＯＮ−ＯＦＦに応じて、ダンパの全開−半開を切り換えるだけのものである。
　拒絶理由はその点を指摘して、そのような制御だけでは、
一定速度で搬送される
　敢えて付言すれば、仮に、基板が完全に乾燥室に入った状態（上記Ｄの状態）で、搬送を停止し、その状態のとき、エアナイフが起動されるのであれば（仮に、これを「停止起動状態」という。なお、このような状態は明細書に記載がなく、又、それを窺わせる記載もない。）、請求人の主張も、あながち誤りではない。
　しかしながら、上記拒絶理由において指摘したとおり、基板は、常に一定の速度で搬送され、入口において基板前端が感知されてエアナイフが起動され、出口において基板後端が感知されてエアナイフが停止されるもの（この点は、請求人も認めている。）であり、そのように刻々と変化する状態（Ａ〜Ｇの状態、特にＣの状態）に対して、単に、エアナイフのＯＮ−ＯＦＦに応じて、ダンパの全開−半開を切り換えるだけでは、所期の目的が達成できるとは到底言えないから、請求人の当該主張は失当と言う他はない。
　又、請求人は、「エアナイフから供給される気体の量が一定であれば、発明の詳細な説明に記載されたダンパーを全開・半開状態にする、という制御だけでも、乾燥処理室への気体の導入量と乾燥処理室からの気体の排出量との関係を一定に維持することができます。」（意見書３頁２２〜２４行）とも主張する。
　そこで、この「エアナイフから供給される気体の量が一定」について、検討する。
　「エアナイフから供給される気体の量」は、明細書【００３３】の「制御装置３３は乾燥気体供給機構３１を動作させるのと同時に、ダンパー３５を全開状態とするよう制御する。これにより、排気路３４を介して乾燥処理室４から排出される排気の単位時間当たりの量が増大する。その増大量は、エアナイフ９から乾燥処理室４内に供給される乾燥気体の量とほぼ等しくなり、」との記載によれば、ダンパーが半開から全開に切り換えられたときの、単位時間当たりの排気量の増大量のことであるから、「エアナイフから供給される気体の量が一定」とは、エアナイフから、単位時間当たり「一定」の量の気体が供給される、という当たり前のことを特定しているにすぎず、これを以て、上記したＡ〜Ｇの状態（特にＣの状態）に対応できるとは、到底認められない。
　なお、この点についても、上記「停止起動状態」のものであれば、供給量と増大量とがほぼ等しくなるように制御することにより、上記の効果を奏すると言えるかもしれない。
　
　以上のとおり、平成２０年３月２８日付け手続補正書により、請求項１及び目的・効果の記載を補正したとしても、本願発明の「制御手段」は、先の拒絶理由に例示したＡ〜Ｇの状態に応じて、気体の出入りがほとんどない状態を保つように制御できるとは認められないから、拒絶理由において指摘した、特許法第３６条第４項に関する点は、未だ解消していない。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、特許法第３６条第４項の規定に違反するものであるから、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。