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　平成１０年特許願第１０４９９６号「マルチビーム走査装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１０月２９日出願公開、特開平１１−２９５６２７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１０年４月１５日に特許出願したものであって、平成１７年８月１８日付で拒絶査定がなされ、これに対して同年９月２２日付で拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１０月２４日付で手続補正がなされ、当審において、その後平成１９年７月２４日付で上記手続補正が却下されるとともに拒絶理由が通知され、同年１０月１日付で手続補正書が提出されたものである。
　そして、その請求項に係る発明は、平成１９年１０月１日付手続補正書で補正された特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されるものであると認められるところ、請求項１に係る発明は次のものである。
　
「【請求項１】
　複数の発光部を副走査対応方向に概ね一直線上に配列した光源部の、各発光部からの発散光束をカップリングレンズにより以後の光学系に適合する光束に変換し、該変換された光束を、副走査対応方向に屈折力を有する第１結像系により偏向器の偏向面近傍に略線状に結像し、上記偏向器により偏向された光束を第２結像系により被走査媒体上に光スポットとして集光し、複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、
　マルチビーム走査装置として、設計上の基準温度を含む所定の使用可能温度範囲を設定され、
　光源部における任意の発光部の、カップリングレンズ光軸からの距離をＰ１、カップリングレンズの焦点距離をｆ１、第１結像系の焦点距離をｆ２、第２結像系の副走査対応方向の結像横倍率をβ、上記距離：Ｐ１の位置にある発光部から放射された光束が、被走査媒体上に集光する位置の、上記第２結像系光軸からの距離をＰ２とするとき、上記ｆ１，ｆ２，Ｐ１，Ｐ２，βが、設計基準において条件：
　（１）　０．９＜（ｆ１／ｆ２）・（Ｐ２／Ｐ１）・（１／｜β｜）
を満足させつつ、
　上記基準温度において上記第２結像系により集光される光束の副走査対応方向におけるビームウエスト位置を上記被走査面位置よりも上記偏向器側へシフトして設定することにより、副走査対応方向の光スポット径が、上記ビームウエスト位置の変動に拘わらず、上記使用可能温度範囲内において適正範囲内に収まるようにし、上記基準温度が２０℃であり、上記使用可能温度範囲が１０〜６０℃であることを特徴とするマルチビーム走査装置。」（以下、「本願発明」という。）
　
　
２．刊行物の記載事項
　当審における拒絶理由に引用した特開平６−２７３６８８号公報（以下、「引用刊行物１」という。）には、図面とともに下記の事項が記載されている。
（ア）「【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は光走査装置、より詳細には半導体レーザーアレイを光源として用い１度に複数ラインを光走査できる光走査装置に関する。」
（イ）「【００１１】
【作用】図２は、この発明を適用した光走査装置の１例を要部のみ略示している。符号１は光源を示す。光源１は光源素子として半導体レーザーアレイを用いたものである。光源素子に用いられた半導体レーザーアレイは、図１（ｂ）に符号１０で示すように、複数の微小なレーザー光源２０を１方向（図のｙ方向）に等間隔で配列したモノリシックなものであって、各レーザー光源２０から放射される発散性のレーザー光束はその強度が各レーザー光源ごとに独立して強度変調可能である。放射される各レーザー光束のファーフィールドパターンは、図示のようにレーザー光源２０の配列方向（ｙ方向）を短軸方向とする楕円形状である。
【００１２】図２に戻ると、光源１からの複数のレーザー光束はコリメートレンズ２により平行光束化され、アパーチュア９により光束径を規制されたのちシリンダーレンズ３に入射する。シリンダーレンズ３は副走査対応方向にのみ正のパワーを有し、上記複数のレーザー光束をそれぞれ副走査対応方向にのみ収束させ、主走査対応方向に長い線像に結像させる。
【００１３】これら複数の線像の結像位置の近傍に偏向反射面４Ａを有する回転多面鏡である光偏向手段４は、上記複数のレーザー光束を同時に反射・偏向させる。光偏向手段４による複数のレーザー光束は、光走査用レンズ５および補正レンズ６を透過し、光路折り曲げミラー８により光路を折り曲げられ、光導電性の感光体７上に複数の光スポットとして集光する。感光体７の表面は被走査面に合致する。
【００１４】光偏向手段４により、複数の光束を同時に偏向させれば、上記複数の光スポットにより複数ラインが１度に走査される。換言すると、半導体レーザーアレイからの複数の光束は共通の光偏向手段４により偏向され、共通の結像光学系（コリメートレンズ２とシリンダーレンズ３と光走査用レンズ５および補正レンズ６により構成される）により被走査面上に複数の光スポットとして集光され、複数ラインを１度に光走査する。
【００１５】上記結像光学系は、一般には副走査対応方向に拡大倍率を有するため、半導体レーザーアレイ１０（図１（ｂ））におけるレーザー光源２０の配列方向を、副走査対応方向に対応させると、レーザー光源２０の配列ピッチ：Ｐ０を、上記拡大倍率で拡大したものが光走査の走査線ピッチとなり、この場合の走査線ピッチは一般には大き過ぎることになる。
【００１６】そこで、通常は図１（ｃ）に示すように、半導体レーザーアレイ１０のレーザー光源２０の配列方向を、副走査対応方向：Ｘに対し、傾き角：θだけ傾けて配列する。このようにすると、レーザー光源２０の副走査対応方向における配列ピッチは、Ｐ０・ｓｉｎθとなり、傾き角：θを調整することにより所望の走査線ピッチを得ることができる。
・・・・（中略）・・・・
【００１８】上述のように、図１（ｃ）の如く副走査対応方向に対して、傾き角：θで傾けた半導体レーザーアレイ１０における、副走査対応方向におけるレーザー光源の配列ピッチ：ＰＬＳはＰ０・ｓｉｎθであるが、このとき被走査面上における走査線ピッチ：ＰＳは、図２におけるコリメートレンズ２の焦点距離：ｆＣ、シリンダーレンズ３の副走査対応方向における焦点距離：ｆＣＹ、光走査用レンズ５および補正レンズ６の合成系における副走査対応方向の横倍率：βを用いて、
     ＰＬＳ＝ｆＣ・ＰＳ／（ｆＣＹ・β）                        （１）
となる。」
　
　ここで、引用刊行物１に記載の光走査装置の「半導体レーザーアレイ１０」の複数の「レーザー光源２０」は、傾き角θだけ傾けて配置されているが、該複数のレーザー光源２０は副走査対応方向にに配列ピッチＰＬＳで概ね一直線上に配列されている（【００１８】参照。）、ということができる。
　また、上記「レーザー光源２０」から射出されるレーザー光束は発散性のものであり（上記摘記事項（イ）【００１１】参照。）、この発散性のレーザー光束はコリメートレンズ２により平行光束化されたのちシリンダーレンズ３に入射するから、該コリメートレンズ２は、上記発散性のレーザー光束を以後の光学系に適合する光束に変換するものである、ということができる。
　さらに、引用刊行物１に記載の光走査装置において、副走査対応方向におけるレーザー光源２０の配列ピッチをＰＬＳ、コリメータレンズ２の焦点距離をｆＣ、シリンダーレンズ３の副走査対応方向における焦点距離をｆＣＹ、光走査用レンズ５および補正レンズ６の合成系における副走査対応方向の横倍率をβ、被走査面上における走査線ピッチをＰＳとしたとき、
　　　　ＰＬＳ＝ｆＣ・ＰＳ／（ｆＣＹ・β）
が成り立つ。
　
　したがって、上記記載事項を総合すると、引用刊行物１には次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている、といえる。
　
「複数のレーザー光源を副走査対応方向に概ね一直線上に配列した半導体レーザーアレイの、各レーザー光源からの発散性のレーザー光束をコリメートレンズにより以後の光学系に適合するレーザー光束に変換し、該変換されたレーザー光束を、副走査対応方向にのみ正のパワーを有するシリンダーレンズにより回転多面鏡の偏向反射面近傍に線状に結像し、上記回転多面鏡により偏向されたレーザー光束を光走査用レンズおよび補正レンズにより被走査面上に光スポットとして集光し、複数ラインを１度に光走査する光走査装置において、
　半導体レーザーアレイにおけるレーザー光源の副走査対応方向の配列ピッチをＰＬＳ、コリメートレンズの焦点距離をｆＣ、シリンダーレンズの副走査対応方向における焦点距離をｆＣＹ、光走査用レンズおよび補正レンズの合成系における副走査対応方向の横倍率をβ、被走査面上における走査線ピッチをＰＳとするとき、上記ｆＣ，ｆＣＹ，ＰＬＳ，ＰＳ，βが、式：
　（Ａ）　　　ＰＬＳ＝ｆＣ・ＰＳ／（ｆＣＹ・β）
を満足する、光走査装置。」
　
　同じく、特開平４−２７７７１５号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、図面とともに下記の事項が記載されている。
（ウ）「【請求項３】光源から発する光束を平行光束とするコリメーターレンズと、該平行光束を副走査方向に収束させて線像を形成するシリンドリカルレンズと、該シリンドリカルレンズを透過した光束を主走査方向に偏向する走査偏向器と、単一、あるいは複数のプラスチックレンズから構成される結像レンズ、及び前記結像レンズより像面側に設けられ、単一のプラスチックレンズから構成される補正レンズから構成される走査レンズとを備え、温度変化による焦点変動を光学系の焦点深度内に収めたことを特徴とするアナモフィック光学系。」
（エ）「【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、プラスチックレンズを用いたアナモフィック光学系に関するものであり、温度変化による焦点変動が少ないアナモフィック光学系に関するものである。」
（オ）「【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラスチックレンズは温度変化による屈折率変化、線膨張がガラスレンズと比較して大きいため、焦点変動による結像性能の劣化が大きい。従って、レーザープリンターのようにフォーカシングを行わない装置では、プラスチックレンズを使用することが困難であった。」
（カ）「【００１１】従って、プラスチックレンズをアナモフィック光学系に利用する場合、像面湾曲を焦点深度内に抑えると共に、温度変化による焦点変動をも焦点深度内に収める必要がある。」
（キ）「【００１６】
【発明の目的】この発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、プラスチックレンズを使用しつつ、温度変化による影響を受けにくいアナモフィック光学系を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的を達成させるため、単一、あるいは複数のプラスチックレンズから構成される結像レンズと、結像レンズより像面側に設けられ、単一のプラスチックレンズから構成される補正レンズとを備え、温度変化による焦点変動を光学系の焦点深度内に収めたことを特徴とする。」
（ク）「【００１９】
【実施例１】図１は、この発明にかかるアナモフィック光学系の実施例１を示したものである。この光学系において、半導体レーザー１から発したレーザー光は、コリメーターレンズ２により平行光束とされ、シリンドリカルレンズ３によって副走査方向に収束して走査偏向器としてのポリゴンミラー４から距離Ｌの位置に線像を形成する。この収束光は、ポリゴンミラー４により走査、偏向され、結像レンズ５、補正レンズ６により図示せぬ像面上にスポットを形成する。
【００２０】この実施例では、ｆθ特性を有する走査レンズが、単一のプラスチックレンズである結像レンズ５（第１レンズ）と、単一のプラスチックレンズである補正レンズ６（第２レンズ）とから構成されている。」
　
　ここで、引用刊行物２に記載のアナモフィック光学系は、ポリゴンミラー等の走査偏向器を用いてレーザー光を走査する光走査装置に用いられる光学系であることは明らかである。
　
　したがって、上記記載事項を総合すると、引用刊行物２には次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されている、といえる。
　
「光源から発するレーザー光束を平行光束とするコリメーターレンズと、該平行光束を副走査方向に収束させて線像を形成するシリンドリカルレンズと、該シリンドリカルレンズを透過した光束を主走査方向に偏向する走査偏向器と、単一、あるいは複数のプラスチックレンズから構成される結像レンズ、及び前記結像レンズより像面側に設けられ、単一のプラスチックレンズから構成される補正レンズから構成される走査レンズとを備える光走査装置において、温度変化による焦点変動が光学系の焦点深度内に収まるようにしたもの。」
　
　同じく、特開平８−２３４１２５号公報（以下、「引用刊行物３」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。  
（ケ）「【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレーザビームプリンタ等に用いられる光走査装置に関するもので、特に温度変動による光学特性の劣化を補償する方法に関するものである。」
（コ）「【００１６】この発明はこのような点に鑑みてなされたもので、次に列挙するような様々な要因を全て考慮し、それら要因による像面の移動量を相互に相殺するか、あるいは各要因による移動量の総和を加算して最小値となすか、または実用上問題のない範囲まで小さくなるように光学系を最適化することで、環境温度の変動によらず一定の結像性能を発揮する光走査装置を提供することを目的とする。
ａ．各レンズの温度による膨張（あるいは収縮）に伴うレンズの形状変化。
ｂ．各レンズの温度による位置の変動、特にコリメータレンズと光源の距離の変動。
ｃ．光軸に関して、主走査方向と副走査方向で光学特性が異なる場合の各方向における温度に対する上記の特性。
ｄ．走査光学系の特性である非点収差と像面湾曲に伴う偏向角による像面の移動。」
（サ）「【００２１】
【実施例】本発明の実施例を図面を参照して説明する。図１は第一発明の第１実施例の光走査装置の構成を示す斜視図、図２はその光学系の主走査断面図、図３は光軸を含み主走査断面に直交する副走査断面図を示している。即ち、半導体レーザー１１より射出されたレーザービームはコリメータレンズ２１により略平行なビーム断面形状に整形される。この整形されたビームはシリンドリカルレンズ２２によって回転多面鏡３１の偏向面３２上に走査方向に平行な線像を結ぶように結像する。回転多面鏡３１により偏向された光束は走査レンズ５１によって集束ビームとなる。この偏向された集束ビームは折り返しミラー６１で反射され、方向を変えて被走査面８１上に所定のスポット形状に結像する。この走査レンズ５１は従来技術で述べたようにｆθ特性を有している。
【００２２】・・・（中略）・・・。上記走査レンズ５１は２枚のレンズ５１ａ，５１ｂで構成されており、レンズ５１ａは光学ガラス，レンズ５１ｂはプラスチックを材料として形成されている。これはレンズ５１ｂの光束を射出する面にトーリック面Ｓ９を有しており、プラスチックを用いて成形した方が製作が容易であるからである。」 
（シ）「【００２９】次に、上記で説明した半導体レーザーや各レンズへの温度の影響について説明する。まず最初に、半導体レーザーの温度による発振波長の変化について説明する。　・・・・（中略）・・・・
【００３２】次に、レンズ材料の屈折率と温度の関係について説明する。　・・・・（中略）・・・・
【００３４】最後に、レンズ材料の温度による体積の変化について説明する。　・・・・（中略）・・・・
【００３６】さて、ここで、図２，図３に示したこの第一発明の第１実施例で、全体の温度が１℃上昇したときの像面の移動量を検討してみる。各レンズ材料の屈折率変動（ｄｎ／ｄＴ），分散と波長変動から生じる屈折率変動（ｄｎ´／ｄＴ），レンズの膨張（β）による像面の移動量への寄与の割合と、それら全てを加えたときの像面の移動量を主走査断面および副走査断面の各々において計算すると、次の表３のようになる。
【００３７】
【表３】略
【００３８】この表において、温度が変化しても各レンズおよび光源（半導体レーザー），被走査面の位置は変化しないものとして計算してある。符号は像面が光源から遠ざかる方向を正としている。表３に示されるように走査レンズ５１ｂの光学材料の屈折率変動による像面の移動量が他の要因によるものと比べて大きくなっている。また、他の要因もおおむね像面を遠ざける方向に向かっていることが分かる。」
（ス）「【００４２】表３に見るように、このまま何らかの補正手段を設けない場合、像面は副走査断面内では温度１℃当たり約０．５６ｍｍ移動する。」
　
　ここで、引用刊行物３に記載された光走査装置は、その像面が副走査断面内で温度１℃当たり約０．５６ｍｍ光源から遠ざかる方向に移動することが表３から見て取れる。
　
　したがって、上記記載事項を総合すると、引用刊行物３には次の発明（以下、「引用発明３」という。）が記載されている、といえる。
　
「光源より射出されたレーザービームをコリメータレンズにより略平行なビーム断面形状に整形し、この整形されたレーザービームをシリンドリカルレンズにより回転多面鏡の偏向面上に走査方向に平行な線像を結ぶように結像させ、該回転多面鏡により偏向された光束を走査レンズにより集束ビームとして被走査面上に所定のスポット形状に結像させる光走査装置において、その像面が副走査断面内で温度が１℃上昇すると約０．５６ｍｍ光源から遠ざかる方向に移動するもの、そして、環境温度の変動によらず像面の移動量の総和を加算して実用上問題のない範囲まで小さくなるように光学系を最適化するもの。」
　
　
３．対比
　本願発明と引用発明１とを対比する。
i）引用発明１の「（複数の）レーザー光源」、「半導体レーザアレイ」、「発散性のレーザー光束」、「コリメートレンズ」、「レーザー光束」、「副走査対応方向にのみ正のパワーを有するシリンダーレンズ」、「回転多面鏡」、「偏向反射面」、「線状」、「光走査用レンズおよび補正レンズ」、「被走査面」及び「複数ラインを１度に光走査する光走査装置」は、それぞれ、本願発明における「（複数の）発光部」、「光源部」、「発散光束」、「カップリングレンズ」、「光束」、「副走査対応方向に屈折力を有する第１結像系」、「偏向器」、「偏向面」、「略線状」、「第２結像系」、「被走査媒体」及び「複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置」に相当する。 
ii）引用発明１の「半導体レーザーアレイにおける（複数の）レーザー光源の副走査対応方向の配列ピッチＰＬＳ」は、本願発明と同様にある一つのレーザー光源をコリメートレンズの光軸上に配置した場合にその隣のレーザー光源の該コリメートレンズ光軸からの距離となるから、本願発明における「光源部における（カップリングレンズ光軸に最も近く、且つ該カップリングレンズ光軸上にはない）発光部の、カップリングレンズ光軸からの距離Ｐ１」に相当する、ということができる。
iii）引用発明１の「被走査面上における走査線ピッチＰＳ」は、やはり本願発明と同様にある一つのレーザー光源をコリメートレンズの光軸上に配置した場合に、該ある一つのレーザー光源からＰＬＳ離れた位置にある隣のレーザー光源から射出されたレーザー光束が、被走査面上に集光する位置の、光走査用レンズおよび補正レンズの合成系の光軸からの距離である、といえるから、本願発明の「上記距離Ｐ１の位置にある発光部から放射された光束が、被走査媒体上に集光する位置の、上記第２結像系光軸からの距離Ｐ２」に相当する、ということができる。
iv）引用発明１の「コリメートレンズの焦点距離ｆＣ」及び「シリンダーレンズの副走査対応方向における焦点距離ｆＣＹ」は、それぞれ本願発明における「カップリングレンズの焦点距離ｆ１」及び「第１結像系の焦点距離ｆ２」に相当する。
v）上記ii）〜iv）を考慮すると、引用発明１の式（Ａ）は
　（Ａ′）　（ｆ１／ｆ２）・（Ｐ２／Ｐ１）・（１／β）＝１
と変形することができるから、引用発明１は、設計基準において本願補正発明の条件（１）
　　　　　　０．９＜（ｆ１／ｆ２）・（Ｐ２／Ｐ１）・（１／｜β｜）
を満足するものである、といえる。
　
　よって、本願発明と引用発明１とは、
「複数の発光部を副走査対応方向に概ね一直線上に配列した光源部の、各発光部からの発散光束をカップリングレンズにより以後の光学系に適合する光束に変換し、該変換された光束を、副走査対応方向に屈折力を有する第１結像系により偏向器の偏向面近傍に略線状に結像し、上記偏向器により偏向された光束を第２結像系により被走査媒体上に光スポットとして集光し、複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、
　光源部における発光部の、カップリングレンズ光軸からの距離をＰ１、カップリングレンズの焦点距離をｆ１、第１結像系の焦点距離をｆ２、第２結像系の副走査対応方向の結像横倍率をβ、上記距離：Ｐ１の位置にある発光部から放射された光束が、被走査媒体上に集光する位置の、上記第２結像系光軸からの距離をＰ２とするとき、上記ｆ１，ｆ２，Ｐ１，Ｐ２，βが、設計基準において条件：
　（１）　０．９＜（ｆ１／ｆ２）・（Ｐ２／Ｐ１）・（１／｜β｜）
を満足する、マルチビーム走査装置。」
の点で一致し、以下の点で相違する。  
 　  
相違点
［相違点１］：本願発明は、設計上の基準温度を含む所定の使用可能温度範囲を設定され、上記基準温度において、上記第２結像系により集光される光束の副走査対応方向におけるビームウエスト位置を上記被走査面位置よりも上記偏向器側へシフトして設定することにより、副走査対応方向の光スポット径が、上記ビームウエスト位置の変動に拘わらず、上記使用可能温度範囲内において適正範囲内に収まるようにし、上記基準温度が２０℃であり、上記使用可能温度範囲が１０〜６０℃であるのに対し、引用発明１にはそのような限定がない点。
［相違点２］：本願発明の距離Ｐ１は、光源部における「任意の」発光部の、カップリングレンズ光軸からの距離であるのに対し、引用発明１の距離Ｐ１は、光源部における、カップリングレンズ光軸に最も近く、且つ該カップリングレンズ光軸上にはない発光部の、カップリングレンズ光軸からの距離である点。
　
　
４．判断
　上記相違点について検討する。
［相違点１］について：
　温度変化による焦点変動（像面の移動）が光学系の焦点深度内に収まるようにした光走査装置の発明は上記引用刊行物２及び上記引用刊行物３に記載されているところ、被走査面に向かう集束ビームの像面が副走査断面内で温度上昇に伴い光源から遠ざかる方向、即ち偏向器から遠ざかる方向に移動する光走査装置の発明（引用発明３）は上記引用刊行物３に記載されている。してみると、温度が変動しても光スポット径の変動等を許容範囲内に収まるように、これらの発明を引用発明１に適用し、その際その使用可能温度範囲を１０〜６０℃、設計上の基準温度を２０℃と設定し、該基準温度（２０℃）において第２結像系により集光される光束の副走査対応方向におけるビームウエスト位置を被走査面位置よりも偏向器側へシフトして設定して、副走査対応方向の光スポット径が上記ビームウエスト位置の変動に拘わらず、上記使用可能温度範囲内において適正範囲内に収まるようにすること、は当業者が容易になし得ることである。
　
［相違点２］について：
　引用発明１の上記式（Ａ′）
　　（ｆ１／ｆ２）・（Ｐ２／Ｐ１）・（１／β）＝１
は、カップリングレンズ光軸から距離Ｐ１に配置された「任意の」発光部と、該「任意の」発光部から放射された光束が、被走査媒体上に集光する位置の、上記第２結像系光軸からの距離をＰ２に対して常に成り立つ式である、といえる（本願明細書【００１０】参照。）。
　したがって、この点については実質的な相違点であるとはいえない。
　
　そして、本願発明によってもたされる効果は、上記引用刊行物１〜３に記載の発明から当業者が予測し得る程度のものである。　  
　
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、上記引用刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。