【事件の表示】
　特願２０００−５０９７６６「イオン交換膜」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　２月２５日国際公開、ＷＯ９９／０９０９１、平成１３年　９月１８日国内公表、特表２００１−５１５１１３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
［１］．手続きの経緯
　本願は、平成１０年８月１７日を国際出願日（優先日　平成９年８月１８日　米国）とする出願であり、平成１２年２月１８日に翻訳文が提出され、平成１３年１０月１１日に審査請求されるとともに手続補正書が提出され、平成１６年７月１３日付けで拒絶理由通知がなされ、平成１７年１月１７日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年３月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年６月９日に審判請求がなされるとともに手続補正書が提出され、同年８月８日に審判請求書の手続補正書（方式）が提出され、同年９月５日付けで前置報告がなされ、当審において平成１９年４月２４日付けで審尋がなされ、同年７月２６日に回答書が提出され、同年７月２７日付け（受付日：同年７月３０日）で手続補足書が提出されたものである。
　
［２］．補正却下の決定
［結　論］
　平成１７年６月９日付けの手続補正を却下する。
［理　由］
　（１）補正の内容
　平成１７年６月９日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、審判請求の日から３０日以内にされた補正であり、その内容は、平成１７年１月１７日付けの手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２を以下のように請求項１、２及び３に補正し、補正前の請求項３〜２３について、同一内容のまま項番を一つずつ繰り下げて請求項４〜２４とし、且つ、引用請求項の項番を補正後の請求項に整合させるものである。
　
「【請求項１】金属イオンを含む有機流体から金属イオンを除去する方法であって、前記有機流体をイオン交換膜を通過させて、より低い濃度の前記金属イオンを含む流出液を提供することを含み、前記イオン交換膜は多孔性ポリマー支持体と有機部分に少なくとも１つのイオン交換基が共有結合した前記有機部分とを含む方法において、前記有機部分は前記多孔性ポリマー支持体にグラフトしている、方法。
【請求項２】前記有機流体はフォトレジスト溶液である、請求項１に記載の方法。」を
「【請求項１】金属イオンを含み、かつ有機溶媒を含む有機流体から金属イオンを除去する方法であって、前記有機流体をイオン交換膜を通過させて、より低い濃度の前記金属イオンを含む流出液を提供することを含み、前記イオン交換膜は多孔性ポリマー支持体と有機部分に少なくとも１つのイオン交換基が共有結合した前記有機部分とを含む方法において、前記有機部分は前記多孔性ポリマー支持体にグラフトしている、方法。
【請求項２】金属イオンを含むフォトレジスト溶液から金属イオンを除去する方法であって、前記フォトレジスト溶液をイオン交換膜を通過させて、より低い濃度の前記金属イオンを含む流出液を提供することを含み、前記イオン交換膜は多孔性ポリマー支持体と有機部分に少なくとも１つのイオン交換基が共有結合した前記有機部分とを含む方法において、前記有機部分は前記多孔性ポリマー支持体にグラフトしている、方法。
【請求項３】前記有機流体はフォトレジスト溶液である、請求項１に記載の方法。」と補正する。
　
　本件補正により、補正前の請求項１における「有機流体」が「有機溶媒を含む有機流体」に限定（以下、「補正事項１」という。）され、補正前に従属形式で記載されていた請求項２が独立形式に変更（以下、「補正事項２」という。）され、補正後の請求項１を引用して「前記有機流体はフォトレジスト溶液である」との限定を付した請求項３が特許請求の範囲に新たに付加（以下、「補正事項３」という。）され、更に、補正前の請求項３〜２３の項番を一つずつ繰り下って請求項４〜２４とされるとともに引用請求項の項番が補正後の請求項に対応したものに補正（以下、「補正事項４」という。）された。
　
　（２）補正の適否についての判断
　　（２−１）新規事項の追加の有無
　本願の願書に最初に添付した明細書（以下、「当初明細書」という。）には「流体を処理する本発明の方法は、例えば流体からイオンを除去するための、有機及び水性流体の両方の処理に適する。例えば、イオンを含む流体を処理する本方法は、乳酸エチルまたはメタノール等の有機溶媒の処理に対して適用できる。その上、流体を処理する本方法は、有機溶媒及び有機溶質を含むイオン含有有機溶液、例えば、有機溶媒／有機樹脂溶液の例えばメタノール性の有機樹脂溶液の処理に対して適用できる。加えて本発明の方法は、有機フォトレジスト溶媒と溶液とからイオンを有効に除去できる」（段落【００４５】）と記載されており、補正事項１及び３はいずれもこの記載に基くものであり、また補正事項２及び４は形式的な補正であって新規な技術事項を付加するものではない。
　そうすると、補正事項１〜４からなる本件補正は、当初明細書に記載された事項の範囲内でされたものであるから、特許法第１７条の２第３項に規定された要件を満たすものである。
　
　　（２−２）補正の目的
　補正後の請求項１は補正前の請求項１の「有機流体」を「有機溶媒を含む有機流体」に限定したものであるから補正前の請求項１に対応するものであり、また、補正後の請求項２は、従属形式で記載されていた補正前の請求項２を独立形式に書き換えたものであるから補正前の請求項２に対応するものである。
　しかしながら、補正後の請求項３は、補正後の請求項１を引用して「前記有機流体はフォトレジスト溶液である」との限定を付したものであり、補正前の特許請求の範囲には、これに対応する請求項は存在しない。
　そうすると、補正後の請求項３を付加する補正事項３は、特許請求の範囲に新たな請求項を設ける補正であり、それにより特許請求の範囲に記載した発明を特定するために必要な事項が限定されるものではなく、誤記の訂正や、拒絶理由通知に係る拒絶の理由に示す事項について明りょうでない記載の釈明がなされるわけでもない。
　したがって、補正事項３は、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第４項各号に掲げられたいずれの事項をも、その目的とするものとは認められない。
　
　　（２−３）まとめ
  以上のとおりであるから、補正事項３を含む本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
［３］．本願発明
  上記のとおり、平成１７年６月９日付けの手続補正が却下された。
　当該補正に先立つ平成１７年１月１７日付けの手続補正によって補正された明細書（以下、「本願明細書」という。）及び図面の記載からみて、本願請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）はその特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
「金属イオンを含む有機流体から金属イオンを除去する方法であって、前記有機流体をイオン交換膜を通過させて、より低い濃度の前記金属イオンを含む流出液を提供することを含み、前記イオン交換膜は多孔性ポリマー支持体と有機部分に少なくとも１つのイオン交換基が共有結合した前記有機部分とを含む方法において、前記有機部分は前記多孔性ポリマー支持体にグラフトしている、方法。」
　
［４］．原査定の理由
  原査定の理由とされた平成１６年７月１３日付け拒絶理由通知書に記載した理由Ｉの概要は以下のとおりである。
「この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において、頒布された下記１−７の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　記
請求項：１〜２３
　　　　　　　　　　　　引用文献等一覧
　１．国際公開第９６／２０９６５号パンフレット（１９９６年）
　２．国際公開第９６／０６１２１号パンフレット（１９９６年）
　３．国際公開第９４／１４８６３号パンフレット（１９９４年）
　４．特開平０７−０７４０７３号公報
　５．特開平０３−０５６５２３号公報
　６．特開昭６２−０８３００６号公報
　７．特開昭５６−１００６３８号公報　　　　」
　
［５］引用文献１〜６の記載事項
　引用文献１〜６には、それぞれ次の事項が記載されている。
　引用文献１
（１−１）
「１．金属イオンを非常に低レベルで含む水不溶性でかつ水性アルカリ可溶性のノボラックを製造する方法であって、
ａ）１）カラム中またはバッチ方法において、キレート形成性イオン交換樹脂を脱イオン水で処理し、これに次いで鉱酸溶液で処理し、次いで再び脱イオン水で処理することによって、このイオン交換樹脂中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ２００ｐｐｂ未満にまで低めるか、あるいは：
    ２）カラム中またはバッチ方法において、キレート形成性イオン交換樹脂を脱イオン水で処理し、これに次いで鉱酸溶液で処理し、再び脱イオン水で処理し、次いで水酸化アンモニウム溶液で処理してこのイオン交換樹脂をアンモニウム塩に変え、これに次いで再び脱イオン水で処理することによって、イオン交換樹脂中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ２００ｐｐｂ未満にまで低め；エレクトロニックグレードのアセトンで処理して水を除去し、次いでアセトンを除去するためにＰＧＭＥＡで処理し；
ｂ）１）ＰＧＭＥＡ中のノボラック樹脂溶液を、３０〜１５０℃の温度下に、１０分より長い滞留時間が得られるような速度で、上記アンモニウムキレート形成性イオン交換樹脂床に通すことによって、この溶液中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ１００ｐｐｂ未満にまで低めるか；
  あるいは：２）ＰＧＭＥＡ中のノボラック樹脂溶液と、上記キレート化されたイオン交換樹脂の処理済みのアンモニウム塩またはキレート化されたイオン交換樹脂の酸型とを、３０〜１５０℃の温度下に1〜８０時間混合し、これに次いで０．００１〜０．２μｍフィルターを通して濾過することによって、この溶液中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ１００ｐｐｂ未満にまで減らす、ことからなる上記方法。」（ＣＬＡＩＭＳ　１）
（１−２）
「本発明方法は、フォトレジスト組成物の製造方法、及びこのフォトレジスト組成物を用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。このフォトレジスト組成物は、感光剤、本発明による水不溶性でかつ水性アルカリ可溶性のノボラック樹脂及び適当な溶剤の混合物を調製することによって形成される。このフォトレジスト及びノボラック樹脂に好適な溶剤としては、プロピレングリコールモノ−アルキルエーテル、プロピレングリコールアルキル（例えばメチル）エーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートと乳酸エチルとの混合物、酢酸ブチル、キシレン、ジグリム、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートが包含される。好ましい溶剤は、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）及びエチル−３−エトキシプロピオネート（ＥＥＰ）である。」（第１１頁２７行〜第１２頁６行）
　
　引用文献２
（２−１）
「１． 下記ａ）〜ｄ）を含んでなる、塩基性陰イオン交換樹脂を使用してノボラック樹脂溶液を精製することにより、金属イオンレベルが非常に低い、水に不溶で、アルカリに可溶なノボラック樹脂を製造する方法。
ａ）陰イオン交換樹脂を水で洗浄し、続いて鉱酸溶液で洗浄し、再度水で洗浄し、続いて水酸化アンモニウム溶液で洗浄し、続いて脱イオン水で洗浄することにより、陰イオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンのレベルをそれぞれ２００ｐｐｂ未満に下げること、
ｂ）ノボラック樹脂を適当なノボラック樹脂溶剤に入れた溶液を製造すること、
ｃ）ノボラック樹脂溶剤と同じであるか、または少なくともそれと相容性がある溶剤で陰イオン交換樹脂を洗浄して、本質的にすべての水を除去すること、および
ｄ）ノボラック樹脂の溶液を洗浄した陰イオン交換樹脂床に、滞留時間が約１０分間を超える様な流量で通して、ノボラック樹脂溶液中のナトリウムおよび鉄イオンのレベルをそれぞれ１００ｐｐｂ未満に下げること。」（ＣＬＡＩＭＳ　１）
（２−２）
「本発明は、フォトレジスト組成物の製造法およびその様なフォトレジスト組成物を使用する半導体デバイスの製造法を提供する。フォトレジスト組成物は、光増感剤、本発明のノボラック樹脂および適当な溶剤を混合することにより形成される。その様なフォトレジストおよび水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂に適当な溶剤には、プロピレングリコールモノーアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキル（例えばメチル）エーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートと乳酸エチルの混合物、酢酸ブチル、キシレン、ジグライム、２−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートがある。好ましい溶剤は、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸エチルおよびエチル−３−エトキシプロピオネート（ＥＥＰ）である。」（第８頁２４行〜第９頁２行）
　
　引用文献３
（３−１）
「１．下記のａ）〜ｄ）を含んでなることを特徴とする、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂の製造法。
ａ）酸性イオン交換樹脂を水で洗浄し、イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄して、それによってイオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンをそれぞれ５００ｐｐｂ未満に減少させること、
ｂ）水／ホルムアルデヒド溶液をイオン交換樹脂に通して、それによって溶液のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ５００ｐｐｂ未満に下げること、 次いで、
ｃ）１種またはそれより多いフェノール性化合物をイオン交換樹脂に通して、それによってナトリウムおよび鉄イオンの含有量をそれぞれ２００ｐｐｂ未満に下げるか、または １種またはそれより多いフェノール性化合物を蒸留して、それによってナトリウムおよび鉄イオンの含有量をそれぞれ２００ｐｐｂ未満に下げるか、または １種またはそれより多いフェノール性化合物から鉱酸溶液で金属イオンを抽出して、それによってナトリウムおよび鉄イオンの含有量をそれぞれ２００ｐｐｂ未満に下げること、および
ｄ）縮合前にルイス塩基濃度を約１０〜１０００ｐｐｍの水準に調節し、触媒の存在下で、このホルムアルデヒドをこの１種またはそれより多いフェノール性化合物と縮合させて、それによって所望の、本質的に一定した分子量を有し、ナトリウムおよび鉄イオン量がそれぞれ５００ｐｐｂ未満である、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂を製造すること。」（ＣＬＡＩＭＳ　１）　
（３−２）　
「本発明は、ノボラック樹脂の製造法、その様なノボラック樹脂を含むフォトレジスト組成物の製造法およびその様なフォトレジスト組成物を使用する半導体デバイスの製造法に関する。フォトレジスト組成物は、光増感剤、水に不溶で水性アルカリに可溶なノボラック樹脂および適当な溶剤を混合することにより形成される。その様なフォトレジストおよびノボラック樹脂に適当な溶剤には、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキル（例えばメチル）エーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートと乳酸エチルの混合物、酢酸ブチル、キシレン、ジグライム、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートがある。好ましい溶剤は、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）およびエチル−３−エトキシプロピオネート（ＥＥＰ）である。」（第１４頁１０〜２０行）　
　
　引用文献４
（４−１）
「感電離放射線性樹脂組成物またはその組成成分溶液を、粘土層間化合物、活性炭、グラファイト、シリカゲル、アルミナゲル、アルミノ−シリカゲルより選ばれる少なくとも１つの吸着剤を用いて精製することを特徴とする不純金属成分の低減された感電離放射線性樹脂組成物の製造方法。」（特許請求の範囲、請求項１）
（４−２）
「従来、レジスト中の不純金属成分を低減させる方法としては、原料を蒸留、再結晶等により精製する方法、得られる製品を精製する方法などがある。・・・後者の方法としては、特開昭５７−７４３７０号に開示されているイオン交換樹脂法等があり、スルホニル基等の官能基を有する陽イオン交換樹脂を用いて陽イオンを吸着させ、さらにアミノ基等の官能基を有する陰イオン交換樹脂を用いて陰イオンを吸着させる方法が知られている。」（段落【０００６】）
（４−３）
「また本発明においては、前記吸着剤を用いるのが好ましいが、必要によっては、陽イオン交換樹脂あるいは陰イオン交換樹脂等併せて使用し、金属不純物を低減することもできる。−中略−　具体的には、前記本発明の吸着剤とイオン交換樹脂をあらかじめ混合し、カラム法やバッジ法を行ってもかまわないし、また前記吸着剤を用いて精製した後、さらにイオン交換樹脂で精製しても良いし、この逆でもかまわない。」（段落【００５４】）
（４−４）
「【実施例１０〜１３】〔レジストの調製〕上記合成例１及び２で得られたノボラツク樹脂ａ，ｂ、合成例３，４で得られた感光物ａ，ｂを、下記表２に示す割合でエチルセロソルブアセテート１５ｇに溶解し、０．２μｍのミクロフイルターを用いて濾過し、組成物Ａ〜Ｄを調製した。」（段落【００９５】）
（４−５）
「
」（【表２】）
（４−６）
「【比較例１】上記合成例１で合成されたノボラック樹脂ａ３５ｇをエチルセロソルブアセテート６５ｇに溶解後、溶液を０．２μｍのテフロン製フィルターで濾過し、３５％ノボラック溶液を調製した。
　次いで、あらかじめエチルセロソルブアセテートで洗浄し、１００℃で２４時間乾燥させたオルガノ社製アンバーリスト１５（強性陽イオン交換樹脂）１．０ｇを溶液中に入れ室温下２４時間撹拌した。撹拌後、溶液を０．２μｍのテフロン製フィルターで濾過し、イオン交換樹脂を分離した。実施例１と同様にして、不純金属分の分析を行った。精製処理前の結果を表３、および精製処理後の結果を表４に示す。」（段落【０１００】〜【０１０２】）
（４−７）
「【比較例２】表２に示すレジスト組成物Ａの溶液を０．２μｍのテフロンフィルターで濾過した。
　次いで、比較例１で用いたイオン交換樹脂０．２ｇを溶液中に入れ、３６時間撹拌した。撹拌後、溶液を０．２μｍのテフロンフィルターで濾過し、イオン交換樹脂を分離した。　実施例１と同様にして、不純金属分の分析を行った。精製処理前の結果を表３、および精製処理後の結果を表４に示す。」（段落【０１０３】〜【０１０５】）
（４−８）
「
」（【表３】）
（４−９）
「
」（【表４】）
　
　引用文献５
（５−１）
「市販のノボラック樹脂を、有機溶剤または溶剤混合物中に約２５〜５０重量％の濃度に溶解させ、該樹脂溶液を酸性の、好ましくは錯体を形成する化合物に一回または繰り返して接触させることにより、前記溶液の金属イオン含有量を減少させることを特徴とする、低減された金属イオン含有量を有するノボラック樹脂の製造方法。」（特許請求の範囲、請求項１）　
（５−２）
「水に溶解した酸性抽出剤とは別に、酸性官能基（例えば−ＳＯ３Ｈ、−ＣＯＯＨ）を有する固体陽イオン交換樹脂もあまり著しくはないが、ある程度の精製効果を示す。その様な固体イオン交換樹脂を使用する場合には、その樹脂がノボラック樹脂の有機溶剤により膨潤または溶解しない様に、特に注意する必要がある。」（第３頁左下欄１９行〜同頁右下欄５行）」　
（５−３）
「実施例６ 固体イオン交換体の精製作用を、下記の３０重量％濃度のノボラック樹脂溶液で測定する。
溶液Ａ ２．８ｐｐｍのナトリウムイオンおよび１．３ｐｐｍの鉄イオンを含むＥＢＸ溶液。
溶液Ｂ ４．１ｐｐｍのナトリウムイオンおよび３．１ｐｐｍの鉄イオンを含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液。
イオン交換体を室温で攪拌しながら樹脂溶液に加え、攪拌により平衡状態を保つ。その結果を第６表に示す。」（第６頁右下欄１〜１３行）
（５−４）
「
」（第６表）
　
　引用文献６
（６−１）
「（１）多孔性基材に、カチオン交換基を含有するモノマーまたはカチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマーをグラフト重合することを特徴とする分離機能材料の製造方法
（２）多孔性基材が、３次元網目構造の連通孔を有する多孔性高分子膜であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造方法
（３）多孔性高分子膜がオレフイン系またはハロゲン化オレフイン系重合体からなることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の製造方法
（４）モノマーが、スルホン酸基、カルボン酸基、フエノール性水酸基またはこれらのアルカリ金属塩を有する、炭化水素系または含ハロゲン炭化水素系モノマーであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造方法
（５）グラフト重合が、電離性放射線を基材に照射する工程と、それにつづくモノマーを基材に接触反応させる工程とからなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造方法
（６）接触反応が１５℃〜５０℃の範囲で行われることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の製造方法」（特許請求の範囲）
（６−２）
「（産業上の利用分野）
本発明は各種液性混合溶液中の陽イオンを選択的に効率よく吸着し、かつ混合物質を濾過分離する分離機能材料の製造方法に関する。」（第１頁右欄９〜１１行）
（６−３）
「（実施例）
　実施例１
　特開昭５５−１３１０２８号公報に記載された方法で得た３次元網目構造からなるポリエチレン多孔膜を、電子加速器（加速電圧１．５ＭｅＶ、電子線電流１ｍＡ）を用いて窒素雰囲気下１００ＫＧｙで照射し、あらかじめ溶存酸素を０．１ｐｐｍ以下にした５０％アクリル酸水溶液（０．２５ｗｔ％のモール塩を含有）に浸漬して２５°Ｃで１時間反応させた。これにより、グラフト率６３％の膜を得た。この膜の陽イオン交換容量は４．７ミリ当量／グラム重合体であった。
この膜を用い、膜面積１００ｃｍ２　、濾過圧力１ｋｇ／ｃｍ２　で原水（０．２ｕ以上の微粒子１０４　コ　／ｃｃ、Ｎａ＋　濃度５０ｐｐｍ）の濾過テストを行った。その結果、通水８時間において透水量９００　ｌ／ｍ２　・ｈｒ・ａｔｍ、微粒子およびナトリウムイオン除去率は１００％であった。」（第３頁左上欄１０行〜同頁右上欄６行）
（６−４）
「実施例２
　実施例１と同様な膜を、実施例１と同様に１０Ｍｒａｄ電子線照射し、溶存酸素０．ｌｐｐｍ以下のスチレンモノマーに浸漬し、２５℃で１時間反応させた。これにより、グラフト率６７％の膜を得た。これを無水硫酸のジオキサンとジクロロエタンの飽和溶液中で５°Ｃ、８時間反応させ、スルホン化した。得られた膜の陽イオン交換容量は３．５ミリ当量／グラム重合体であった。この膜を実施例１と同様な方法で濾過テストしたところ、通水８時間で平均透水速度は８００　ｌ／ｍ２　・ｈｒ・ａｔｍ　、微粒子およびナトリウムイオン除去率は１００％であった。」（第３頁右上欄１３行〜同頁左下欄５行）
　
［６］．対比、判断 
　（ｉ）引用発明
  引用文献６の特許請求の範囲には、「（１）多孔性基材に、カチオン交換基を含有するモノマーまたはカチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマーをグラフト重合することを特徴とする分離機能材料の製造方法
（２）多孔性基材が、３次元網目構造の連通孔を有する多孔性高分子膜であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造方法」〔摘示記載（６−１）〕が記載されており、発明の詳細な説明には、この分離機能材料が「各種液性混合溶液中の陽イオンを選択的に効率よく吸着し、かつ混合物質を濾過分離する」〔摘示記載（６−２）〕ものであることが記載されている。また引用文献６には、３次元網目構造からなるポリエチレン多孔膜に窒素雰囲気下で１０Ｍｒａｄの電子線照射を行い、溶存酸素０．ｌｐｐｍ以下のスチレンモノマーに浸漬し、２５℃で１時間反応させてグラフト率６７％の膜を得、これを無水硫酸のジオキサンとジクロロエタンの飽和溶液中で５°Ｃ、８時間反応させてスルホン化してなる膜を用い、膜面積１００ｃｍ２　、濾過圧力１ｋｇ／ｃｍ２　で原水（０．２ｕ以上の微粒子１０４　コ　／ｃｃ、Ｎａ＋　濃度５０ｐｐｍ）の濾過テストを行ったところ、通水８時間で平均透水速度は８００　１／ｍ２　・ｈｒ・ａｔｍ　、微粒子およびナトリウムイオン除去率は１００％であった、との実施例２〔摘示記載（６−３）、（６−４）〕が示されている。
　引用文献６の請求項２の記載を独立形式で表すと、「３次元網目構造の連通孔を有する多孔性高分子膜に、カチオン交換基を含有するモノマーまたはカチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマーをグラフト重合することを特徴とする分離機能材料の製造方法」となり、この方法において、モノマーとして「カチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマー」を選択した場合には、実施例２においてスチレンモノマーをグラフト重合させた後にスルホン化しているように、グラフト重合後にカチオン交換基に変換する工程を設けることは自明である。また、このような方法で得られる分離機能材料は基材である高分子膜の形態に由来する膜状を呈するものというべきであり、摘示（６−２）によれば、これを濾過分離に用いることにより「各種液性混合溶液中の陽イオンを選択的に効率よく吸着」し得るものである。
　そうすると、引用文献６には、「多孔性高分子膜にカチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマーをグラフト重合させ、これをカチオン交換基に変換してなる膜を用いて、陽イオンを含む液性混合溶液を濾過し、陽イオンを除去する方法」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものということができる。
　
　（ｉｉ）引用発明との対比
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明における「陽イオン」は、実施例２にナトリウムイオンが例示されているように、溶液からイオン交換により除去される対象として典型的なイオンである「金属イオン」を実質的に意味するものというべきであり、引用発明における「多孔性高分子膜」及びこれにグラフト重合する「カチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマー」は、それぞれ、本願発明における「多孔性ポリマー支持体」及びこれにグラフトする「有機部分」に相当するものである。また、引用発明における「多孔性高分子膜にカチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマーをグラフト重合させ、これをカチオン交換基に変換してなる膜」においては、実施例２におけるスルホン化したスチレンのように、グラフト重合したモノマーと導入されるカチオン交換基とが共有結合すると解するのが自然であり、このような膜は、本願発明において「前記イオン交換膜は多孔性ポリマー支持体と有機部分に少なくとも１つのイオン交換基が共有結合した前記有機部分とを含む」とされている「イオン交換膜」に相当するものである。そして、引用発明において「・・・カチオン交換基に変換してなる膜を用いて、陽イオンを含む液性混合溶液を濾過し、陽イオンを除去する」ことと、本願発明において「前記流体をイオン交換膜を通過させて、より低い濃度の前記金属イオンを含む流出液を提供すること」とが、同じ処理操作を指すことは明らかである。　
　
　（ｉｉｉ）一致点及び相違点
　そうすると、本願発明と引用発明とは、ともに、「金属イオンを含む流体から金属イオンを除去する方法であって、前記流体をイオン交換膜を通過させて、より低い濃度の前記金属イオンを含む流出液を提供することを含み、前記イオン交換膜は多孔性ポリマー支持体と有機部分に少なくとも１つのイオン交換基が共有結合した前記有機部分とを含む方法において、前記有機部分は前記多孔性ポリマー支持体にグラフトしている、方法」である点で一致しており、ただ、本願発明が金属イオンを含む「流体」を「有機流体」としているのに対して、引用発明では「液性混合溶液」としている点で、これらの発明の間には相違が認められる。
　
　 （ｉｖ）相違点についての検討
  そこで、この相違点について以下に検討する。
  引用文献１には、感光剤、水不溶性でかつ水性アルカリ可溶性のノボラック樹脂及び適当な溶剤の混合物を調製することによってフォトレジスト組成物を製造する方法について記載されており、その溶剤として、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）及びエチル−３−エトキシプロピオネート（ＥＥＰ）等が例示〔摘示記載（１−２）〕されている。また、その特許請求の範囲の請求項１には、ＰＧＭＥＡ中のノボラック樹脂溶液を、ナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ２００ｐｐｂ未満にまで低めたアンモニウムキレート形成性イオン交換樹脂床に通すことによって、この溶液中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ１００ｐｐｂ未満にまで低める方法、が記載されている。
　即ち、引用文献１には、有機流体であるＰＧＭＥＡの樹脂溶液中から、イオン交換樹脂を用いて金属イオンであるナトリウム及び鉄イオンを除去することが記載されているのであり、引用文献２及び３にも同様に、有機流体の樹脂溶液中からイオン交換樹脂を用いて金属イオンを除去すること（〔摘示記載（２−１）〜（３−２）〕）が記載されている。
　また、引用文献４には、その特許請求の範囲の請求項１に「感電離放射線性樹脂組成物またはその組成成分溶液を、粘土層間化合物、活性炭、グラファイト、シリカゲル、アルミナゲル、アルミノ−シリカゲルより選ばれる少なくとも１つの吸着剤を用いて精製することを特徴とする不純金属成分の低減された感電離放射線性樹脂組成物の製造方法」〔摘示記載（４−１）〕が記載されており、その従来技術として、レジスト中の不純金属成分を低減させる方法としては、スルホニル基等の官能基を有する陽イオン交換樹脂を用いて陽イオンを吸着させ、さらにアミノ基等の官能基を有する陰イオン交換樹脂を用いて陰イオンを吸着させる方法が知られていたこと〔摘示記載（４−２）〕、及び、特許請求の範囲に係る発明において、必要によっては、陽イオン交換樹脂あるいは陰イオン交換樹脂等を併せて使用し、金属不純物を低減することもできること〔摘示記載（４−３）〕も記載されている。また、引用文献４には、レジスト組成物を有機流体であるエチルセロソルブアセテートに溶解し、強性陽イオン交換樹脂とともに攪拌することにより、組成物中のＮａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｍｇ及びＡｌ含有量が低減したことを示す例（比較例１、２）〔摘示記載（４−４）〜（４−９）〕が掲げられている。
　更に、引用文献５には、その特許請求の範囲の請求項１に「ノボラック樹脂を、有機溶剤または溶剤混合物中に約２５〜５０重量％の濃度に溶解させ、該樹脂溶液を酸性の、好ましくは錯体を形成する化合物に一回または繰り返して接触させることにより、前記溶液の金属イオン含有量を減少させることを特徴とする、低減された金属イオン含有量を有するノボラック樹脂の製造方法」〔摘示記載（５−１）〕が記載されており、酸性抽出剤とは別に、酸性官能基（例えば−ＳＯ３Ｈ、−ＣＯＯＨ）を有する固体陽イオン交換樹脂も用いることができ、その様な固体イオン交換樹脂を使用する場合には、その樹脂がノボラック樹脂の有機溶剤により膨潤または溶解しない様に、特に注意する必要があること〔摘示記載（５−２）〕も記載されている。また、引用文献５には、ナトリウムイオン及び鉄イオンを含有するノボラック樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液にイオン交換体を加えて攪拌することによりナトリウムイオン及び鉄イオンの含有量が低減したとの実験結果〔摘示記載（５−３）、（５−４）〕が示されている。
　
　以上のとおり、有機流体の樹脂溶液中からイオン交換樹脂を用いて金属イオンを除去することは本願の出願前に当業界で広く知られていたものというべきであり、引用発明の「多孔性高分子膜にカチオン交換基に変換しうる官能基を有するモノマーをグラフト重合させ、これをカチオン交換基に変換してなる膜」を有機流体中に含有された金属イオンの除去に適用することは、該周知技術を踏まえて当業者が適宜試みる程度のことというべきである。
　そして、本願明細書の記載をみても、それにより、特に予測を超える作用効果を生じ得たものとは認められない。
　したがって、本願発明は、引用文献１〜６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、請求人は、平成１９年７月２６日付けの回答書中で、請求項１を削除して請求項２を請求項１とし、「有機部分はアリール部分を含む」との記載を付加する等の補正案を提示している。しかしながら、請求人はこのような補正を行う機会があったにもかかわらずそれを徒過したものであり、しかも、仮にこのような補正が行われたとしても、請求項２で特定されている、フォトレジスト溶液から金属イオンを除去することは、引用文献１〜４に記載されているように当業界で普通に行われていることであり、また、アリール部分を含む有機部分をグラフト重合する点についても、引用文献６の実施例２にスチレンモノマーをグラフト重合することが明示されているのであるから、補正後の請求項１に係る発明は依然として、引用文献１〜６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた範疇を超えるものではない。
　
［７］．むすび
  以上のとおりであるから、本願発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶を免れない。
　よって結論のとおり審決する。