【手続補正書】
【提出日】令和1年8月9日(2019.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１本又は複数本の電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源と、
サンプルをしっかり保持するよう構成されたサンプルステージと、
上記１本又は複数本の電子ビームのうち少なくとも一部分をサンプルのエッジ部分上へと差し向けるよう構成された一組の電子光学素子を有する電子光学カラムと、
サンプル付近に位置するサンプル位置基準装置と、
一通り又は複数通りのフリンジ場を補償すべくサンプルのエッジとサンプル位置基準装置との間に配置されており、自ガードリング装置に備わる一通り又は複数通りの特性が可調なガードリング装置と、
サンプルの表面に発する電子を検出するよう構成された検出器アセンブリと、
を備える電子光学システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、ガードリング装置が、
導電リング構造を備えるシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、ガードリング装置が、
導電素材で以て被覆されたリング構造を備えるシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムであって、ガードリング装置に備わる上記一通り又は複数通りの可調特性が、
ガードリング装置の高さを含むシステム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、ガードリング装置に備わる上記一通り又は複数通りの可調特性が、
サンプルの表面に対し垂直な方向に沿ったガードリング装置の高さを含むシステム。
【請求項６】
請求項４に記載のシステムであって、更に、
ガードリング装置に機械結合されたアクチュエータと、
アクチュエータに可通信結合されており、そのアクチュエータに指令することでガードリング装置の高さを調節するよう構成されているコントローラと、
を備えるシステム。
【請求項７】
請求項６に記載のシステムであって、ガードリング装置の高さの調節により、本電子光学システム内の上記一通り又は複数通りのフリンジ場の分布変更及び弱化のうち少なくとも一方を引き起こすシステム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムであって、ガードリング装置の高さの調節により、サンプルにおける上記１本又は複数本の電子ビームの歪みの低減を引き起こすシステム。
【請求項９】
請求項７に記載のシステムであって、ガードリング装置の高さの調節により、上記１本又は複数本の電子ビームの軸上非点収差の低減を引き起こすシステム。
【請求項１０】
請求項７に記載のシステムであって、ガードリング装置の高さの調節により、上記１本又は複数本の電子ビームの軸外ブラーの低減を引き起こすシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、ガードリング装置に備わる上記一通り又は複数通りの可調特性が、
ガードリング装置の電圧を含むシステム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のシステムであって、更に、
ガードリング装置に電気的に結合された電圧制御回路と、
電圧制御回路に可通信結合されており、その電圧制御回路に指令することでガードリング装置の電圧を調節するよう構成されているコントローラと、
を備えるシステム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のシステムであって、ガードリング装置の電圧の調節により、本電子光学システム内の上記一通り又は複数通りのフリンジ場の分布変更及び弱化のうち少なくとも一方を引き起こすシステム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のシステムであって、ガードリング装置の電圧の調節により、上記１本又は複数本の電子ビームの軸外ブラーの低減を引き起こすシステム。
【請求項１５】
請求項１３に記載のシステムであって、ガードリング装置の電圧の調節により、サンプルにおける上記１本又は複数本の電子ビームの歪みの低減を引き起こすシステム。
【請求項１６】
請求項１３に記載のシステムであって、ガードリング装置の電圧の調節により、上記１本又は複数本の電子ビームの軸上非点収差の低減を引き起こすシステム。
【請求項１７】
請求項１に記載のシステムであって、ガードリング装置の高さ及びガードリング装置の電圧が同時に調節されるシステム。
【請求項１８】
請求項１に記載のシステムであって、サンプル位置基準装置が、
１枚又は複数枚のミラープレートを備えるシステム。
【請求項１９】
請求項１に記載のシステムであって、電子ビーム源が、
１個又は複数個の電子銃を備えるシステム。
【請求項２０】
請求項１に記載のシステムであって、上記一組の電子光学素子が、
１個又は複数個の対物レンズを含むシステム。
【請求項２１】
請求項２０に記載のシステムであって、上記一組の電子光学素子が、
上記１個又は複数個の対物レンズに対し少なくとも近隣配置された１個又は複数個の接地装置を含むシステム。
【請求項２２】
請求項１に記載のシステムであって、上記一組の電子光学素子が、
１個又は複数個のコンデンサレンズを含むシステム。
【請求項２３】
請求項１に記載のシステムであって、上記一組の電子光学素子が、
１個又は複数個の走査素子を含むシステム。
【請求項２４】
請求項１に記載のシステムであって、サンプルが、
ウェハを含むシステム。
【請求項２５】
請求項１に記載のシステムであって、検出器アセンブリが、１個又は複数個の二次電子検出器及び１個又は複数個の後方散乱電子検出器のうち少なくとも１個を備えるシステム。
【請求項２６】
請求項１に記載のシステムであって、
電子ビーム式検査システム及び電子ビーム式レビューシステムのうち少なくとも一方を備える電子光学システムであるシステム。
【請求項２７】
電子光学システム内の一通り又は複数通りのフリンジ場を補償すべく、サンプルのエッジ部分とサンプル位置基準装置との間に配置されたガードリング装置と、
ガードリング装置に備わる一通り又は複数通りの特性を調節することで、電子光学システム内の上記一通り又は複数通りのフリンジ場をそのガードリング装置に補償させるよう、構成されているコントローラと、
を備えるフリンジ場補償装置。
【請求項２８】
１本又は複数本の電子ビームを生成するよう構成された電子ビーム源と、
サンプルをしっかり保持するよう構成されたサンプルステージと、
上記１本又は複数本の電子ビームのうち少なくとも一部分をサンプルのエッジ部分上へと差し向けるよう構成された一組の電子光学素子を有する電子光学カラムと、
サンプルの表面に発する電子を検出するよう構成された検出器アセンブリと、
電子ビーム源、電子光学カラムに備わる一組の電子光学素子並びにステージのうち少なくとも１個の一部分又は複数部分に可通信結合されたコントローラと、
を備え、コントローラが、
サンプルのエッジ部分における上記１本又は複数本の電子ビームの一通り又は複数通りの特性を代表する１個又は複数個のパラメタを受け取るよう、
本電子光学システム内の一通り又は複数通りのフリンジ場を補償するためのルックアップテーブルを生成するよう、且つ
生成したルックアップテーブルに基づき本電子光学システムの一通り又は複数通りの特性を調節するよう、
構成されている電子光学システム。
【請求項２９】
請求項２８に記載のシステムであって、コントローラが電子光学カラムのスティグメータに可通信結合されており、上記一通り又は複数通りのフリンジ場により引き起こされた軸上非点収差を、そのスティグメータを制御することで補償するよう、そのコントローラが構成されているシステム。
【請求項３０】
請求項２８に記載のシステムであって、コントローラが電子光学カラムに備わる１個又は複数個の集束素子に可通信結合されており、上記一通り又は複数通りのフリンジ場により引き起こされた上記１本又は複数本の電子ビームの焦点ぼけを、当該１個又は複数個の集束素子を制御することで補償するよう、そのコントローラが構成されているシステム。
【請求項３１】
請求項２８に記載のシステムであって、コントローラが、サンプルと電気的に通信する電圧制御回路に可通信結合されており、上記一通り又は複数通りのフリンジ場により引き起こされた上記１本又は複数本の電子ビームの焦点ぼけを、その電圧制御回路を制御しサンプルに対するバイアスを調節することで補償するよう、そのコントローラが構成されているシステム。
【請求項３２】
請求項２８に記載のシステムであって、上記一通り又は複数通りのフリンジ場により引き起こされた位置オフセットを、上記電子ビーム源を制御することで補償するよう、コントローラが構成されているシステム。
【請求項３３】
請求項２８に記載のシステムであって、上記一通り又は複数通りのフリンジ場により引き起こされた位置オフセットを、ステージを制御することで補償するよう、コントローラが構成されているシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
なお、図１Ｇ〜図１Ｌでは明瞭化のためガードリング装置の高さ調節と電圧調節とを切り分けて示したが、これは本件開示の技術的範囲に対する限定事項ではない。寧ろ、システム１００の働きでフリンジ場を（負から正へと）分布変更させうること、並びにガードリング装置１０６の高さ及びそのガードリング装置１０６に作用する電圧のいずれを調節することでもフリンジ場を補償しうることを認識されたい。その際、本システム１００では、まずガードリング装置１０６の高さを設定し、その後その高さにおける最適高さを見いだす、という要領で、フリンジ場を補償することが可能である。或いは、まずガードリング装置１０６に作用する電圧を設定し、その後その電圧における最適電圧を見いだす、という要領で、本システム１００によりフリンジ場を補償することもできる。こうすることで、一通り又は複数通りのフリンジ場の影響、例えばビーム位置オフセット、焦点ぼけ及び非点収差を補正（或いは少なくとも低減）することができる。更に、高さ及び電圧の同時調節により、ガードリング装置１０６の電圧不適正化及び／又は高さ不適正化のリスクを軽減し、本システム１００の様々な使用状況、とりわけそのパラメタ例えばビームエネルギ、ランディングエネルギ及び抽出場に大きな違いが現れうる諸状況全般に亘る柔軟性を、高めることができる。例えば、最適電圧Ｖｒｉｎｇ−ｏｐｔにするのに必要な電圧を下げアーク発生のリスクを排するためには、ガードリング装置を調節して指定高さにし、そこで小さめの近隣電極間電位差で以てガードリング装置電圧を印加すればよい。