【事件の表示】
　平成８年特許願第２５８３１０号「電磁干渉抑制体及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年４月２４日出願公開、特開平１０−１０７５４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成８年９月３０日の出願であって、平成１８年６月１６日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された次のとおりの「電磁干渉抑制体及びその製造方法」に関するものと認める。
「【請求項１】粒子が扁平状であり、形状異方性を有する軟磁性体粉末を有機結合剤中に分散して複合磁性体とし、該複合磁性体を立方体と成したときの磁化困難軸方向の反磁界Ｈｄｄと磁化容易軸方向の反磁界Ｈｄｅとの比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定したときに、前記比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈する複合磁性体を材料とした電磁干渉抑制体。
　【請求項２】前記軟磁性体粉末と前記有機結合剤を溶媒と共に混練し、塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向に剪断応力を加える、若しくは塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工面方向に外部磁界を印加する、若しくはロール圧延するのいずれかの方法によって作られた複合磁性体を材料とした請求項１記載の電磁干渉抑制体の製造方法。」
　
２　当審における拒絶理由の概要
　当審において、平成１８年４月１３日付けで通知した拒絶理由の概要は、以下のとおりである。
「［理由１］本件出願は、明細書の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第４項及び第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　記
［理由１］
（１）本願請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明からみて「形状異方性を有する軟磁性体粉末を有機結合剤中に分散してなる複合磁性体であって、立方体と成した時の磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈することを特徴とする複合磁性体」の発明であるが、【発明の実施の形態】の記載においては、上記の発明に係る「複合磁性体」を当業者が製造することができる程度に明確かつ十分に記載されておらず、また、出願時の技術常識に基づいて当業者が上記の発明に係る「複合磁性体」を製造することができるということもできない。
　・・・（中略）・・・
前記「複合磁性体」を製造する際の具体的な製造条件、製造工程、軟磁性体粉末の形状、配列のされ方及び充填量等について何ら記載も示唆もされていないことから、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　・・・（中略）・・・
（２）、（３）略
（４）本願請求項３に係る発明は、発明の詳細な説明からみて「形状異方性を有する軟磁性体粉末と有機結合剤とを溶媒と共に混練し、これを塗工、乾燥してなる複合磁性体の製造方法において、該複合磁性体を立方体と成した時の磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈するようにするために、前記塗工時ないし乾燥前の段階で塗工方向に剪断応力を加えることを特徴とする複合磁性体の製造方法」の発明であるが、【発明の実施の形態】の記載においては、上記の発明に係る「複合磁性体の製造方法」を当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されておらず、また、出願時の技術常識に基づいて当業者が上記の発明に係る「複合磁性体の製造方法」を実施することができるということもできない。
　・・・（中略）・・・
前記「形状異方性を有する軟磁性体粉末と有機結合剤とを溶媒と共に混練し、これを塗工、乾燥」する際の製造条件、製造工程、及び、「前記塗工時ないし乾燥前の段階で塗工方向に剪断応力を加える」際の剪断応力の大きさや加える方向等について、具体的に何ら記載も示唆もされていないことから、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
（５）本願請求項４に係る発明は、発明の詳細な説明からみて「形状異方性を有する軟磁性体粉末と有機結合剤とを溶媒と共に混練し、これを塗工、乾燥してなる複合磁性体の製造方法において、該複合磁性体を立方体と成した時の磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈するようにするために、前記塗工時ないし乾燥前の段階で塗工面方向に外部磁界を印加することを特徴とする複合磁性体の製造方法」の発明であるが、【発明の実施の形態】の記載においては、上記の発明に係る「複合磁性体の製造方法」を当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されておらず、また、出願時の技術常識に基づいて当業者が上記の発明に係る「複合磁性体の製造方法」を実施することができるということもできない。
　・・・（中略）・・・
前記「形状異方性を有する軟磁性体粉末と有機結合剤とを溶媒と共に混練し、これを塗工、乾燥」する際の製造条件、製造工程、及び、「前記塗工時ないし乾燥前の段階で塗工面方向に外部磁界を印加する」際の外部磁界の大きさや印加する方向等について、具体的に何ら記載も示唆もされていないことから、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
（６）本願請求項５に係る発明は、発明の詳細な説明からみて「形状異方性を有する軟磁性体粉末と有機結合剤とを溶媒と共に混練し、これをロール圧延することによって、該複合磁性体を立方体と成した時の磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する複合磁性体を製造することを特徴とする複合磁性体の製造方法」の発明であるが、【発明の実施の形態】の記載においては、上記の発明に係る「複合磁性体の製造方法」を当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されておらず、また、出願時の技術常識に基づいて当業者が上記の発明に係る「複合磁性体の製造方法」を実施することができるということもできない。
　・・・（中略）・・・
前記「形状異方性を有する軟磁性体粉末と有機結合剤とを溶媒と共に混練し、これをロール圧延する」際の製造条件、製造工程等について、具体的に何ら記載も示唆もされていないことから、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。」
　
３　当審の判断
３−１　特許請求の範囲に記載の「電磁干渉抑制体及びその製造方法」は、その請求項１の記載によれば、次のとおりである。
「粒子が扁平状であり、形状異方性を有する軟磁性体粉末を有機結合剤中に分散して複合磁性体とし、該複合磁性体を立方体と成したときの磁化困難軸方向の反磁界Ｈｄｄと磁化容易軸方向の反磁界Ｈｄｅとの比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定したときに、前記比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈する複合磁性体を材料とした電磁干渉抑制体。」
　
　それに対し、本願明細書の段落【００３２】ないし【００４４】には、実施例として、
「【００３２】
　以下実施例について述べる。
　【００３３】
　【実施例】
　水アトマイズ法により作製された複数の鉄アルミ珪素合金粉末を用意し、アトライタ及びピンミルを用い様々な条件下にて粉砕、延伸・引裂加工を行い、更に、炭化水素系有機溶媒中で酸素分圧３５％の窒素−酸素混合ガスを導入しながら８時間撹拌し液相中徐酸処理した後、複数の粉末試料を得た。ここで得られた粉末を表面分析した結果、金属酸化物の生成が明確に確認され、試料粉末の表面に於ける酸化被膜の存在が認められた。
　【００３４】
　尚、粉砕、延伸・引裂加工処理された鉄アルミ珪素合金粉末を減圧乾燥し、これを酸素分圧２０％の窒素−酸素混合ガス雰囲気中で気相徐酸した試料についてもその表面に金属酸化物が検出され、本発明の複合磁性体に用いることの出来る少なくともその表面が酸化された軟磁性体粉末が液相中徐酸法あるいは気相中徐酸法にて作成できることが確認された。
　【００３５】
　これらの試料粉末を用いて以下の複合磁性体試料を得た。
　【００３６】
［試料１］
　以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し、これをドクターブレード法により支持体上に製膜し、塗工方向に引っ張り力を与え剪断力を加えた。これに熱プレスを施して後、８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料１を得た。
　【００３７】
　尚、得られた試料１を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ、粒子配列方向は試料膜面内方向であった。
　【００３８】
　　扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ａ・・・９５重量部
　　平均粒径　　　：φ２０μｍ×０．３μｍt
　　磁歪の大きさ　：＋０．７２
　　焼鈍処理　　　：なし
　　ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　・・・　８重量部
　　硬化剤（イソシアネート化合物）　　　　　　　　・・・　２重量部
　　溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）　　・・・４０重量部
［試料２］
　以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し、これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。これに面内方向の磁場を印加した後に、８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料２を得た。
　【００３９】
　尚、得られた試料２を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ、粒子配列方向は試料膜面内方向であった。
　【００４０】
　　扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ｂ・・・９５重量部
　　平均粒径　　　：φ２０μｍ×０．３μｍt 
　　磁歪の大きさ　：＋０．７２
　　焼鈍処理　　　：６５０℃×２ｈｒ
　　ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　・・・　８重量部
　　硬化剤（イソシアネート化合物）　　　　　　　　・・・　２重量部
　　溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）　　・・・４０重量部
［試料３］
　以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し、これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。これに熱プレスを施した後に、８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料３を得た。
　【００４１】
　尚、得られた試料３を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ、粒子配列方向は試料膜面内方向であった。
　【００４２】
　　扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ｎｉ合金）微粉末Ｃ　　　・・・９５重量部
　　平均粒径　　　：φ３０μｍ×０．４μｍt 
　　磁歪の大きさ　：−１．０３
　　焼鈍処理　　　：なし
　　ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　・・・　８重量部
　　硬化剤（イソシアネート化合物）　　　　　　　　・・・　２重量部
　　溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）　　・・・４０重量部
［試料４］
　以下の配合からなる軟磁性体を調合し、これをミキシングロールを用いてロール圧延により、シート状に形成し、試料４を得た。
　【００４３】
　尚、得られた試料４を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ、粒子配列方向は試料膜面内方向であった。
　【００４４】
　　扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ａ・・・６０重量部
　　平均粒径　　　：φ２０μｍ×０．３μｍt 
　　磁歪の大きさ　：＋０．７２
　　焼鈍処理　　　：なし
　　扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ｂ・・・３５重量部
　　平均粒径　　　：φ２０μｍ×０．３μｍt 
　　磁歪の大きさ　：＋０．７２
　　焼鈍処理　　　：６５０℃×２ｈｒ
　　ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　・・・　８重量部
　　硬化剤（イソシアネート化合物）　　　　　　　　・・・　２重量部
　　溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）　　・・・４０重量部
　以上の試料について、ＨddおよびＨdeを求めたところ、４以上であり、又、試料をトロイダル形状に加工し、これに１ターンのコイルを巻回し、コイルに高周波電流を流して、そのインピーダンスを測定して、透磁率を求めた。透磁率は良好な高周波特性を示した。」が記載されている。
　
３−２　実施例について
（１）ここで、実施例として得られる複合磁性体試料として、まず、［試料１］について検討する。
　
　発明の詳細な説明の段落【００３６】には、［試料１］に関する説明として、「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し、これをドクターブレード法により支持体上に製膜し、塗工方向に引っ張り力を与え剪断力を加えた。これに熱プレスを施して後、８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料１を得た。」とある。
　ここで、「ドクターブレード法により支持体上に製膜し」とあるが、上記「ドクターブレード法」により製膜する際のブレードの移動速度、膜厚等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「ドクターブレード法」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　また、「塗工方向に引っ張り力を与え剪断力を加えた」とあるが、上記「塗工方向」が如何なる方向であるか、「引っ張り力」の大きさや与える方法、「剪断力」の大きさや加える方法等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「塗工方向に引っ張り力を与え剪断力を加えた」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　また、「これに熱プレスを施して後」とあるが、上記「熱プレス」の温度、熱を加える方法等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「熱プレス」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　
（２）また、実施例として得られる複合磁性体試料として、［試料２］について検討する。
　
　発明の詳細な説明の段落【００３８】には、［試料２］に関する説明として、「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し、これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。これに面内方向の磁場を印加した後に、８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料２を得た。」とある。
　ここで、「ドクターブレード法により支持体上に製膜した」とあるが、上記「ドクターブレード法」により製膜する際のブレードの移動速度、膜厚等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「ドクターブレード法」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　また、「これに面内方向の磁場を印加した後に」とあるが、上記「面内方向」が如何なる方向であるか、「磁場を印加」する際の磁場の大きさや印加する方法等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「これに面内方向の磁場を印加した後に」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　
（３）また、実施例として得られる複合磁性体試料として、［試料３］について検討する。
　
　発明の詳細な説明の段落【００４０】には、［試料３］に関する説明として、「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し、これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。これに熱プレスを施した後に、８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料３を得た。」とある。
　ここで、「ドクターブレード法により支持体上に製膜した」とあるが、上記「ドクターブレード法」により製膜する際のブレードの移動速度、膜厚等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「ドクターブレード法」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　また、「これに熱プレスを施した後に」とあるが、上記「熱プレス」の温度、熱を加える方法等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「熱プレス」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　
（４）また、実施例として得られる複合磁性体試料として、［試料４］について検討する。
　
　発明の詳細な説明の段落【００４２】には、［試料４］に関する説明として、「以下の配合からなる軟磁性体を調合し、これをミキシングロールを用いてロール圧延により、シート状に形成し、試料４を得た。」とある。
　ここで、「これをミキシングロールを用いてロール圧延により、シート状に形成し」とあるが、上記「ロール圧延」する際のロールの形状やロールの移動速度、圧延する際の圧力の大きさや圧力を加える方法、シート状に形成する際の膜厚等の製造条件が明らかではなく、また、上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないから、上記「ロール圧延」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　
　したがって、本願明細書には「電磁干渉抑制体及びその製造方法」の一般的な製造方法が記載されているにすぎず、本願でいう「電磁干渉抑制体」の要件を満たすためには、一般的な製造方法の中から、如何なる製造条件によって得られるかという、製造条件と本願でいう「電磁干渉抑制体」の要件とを結びつける記載は認められない。
　また、本願でいう「電磁干渉抑制体」の要件を満たすための製造方法が、当業者の技術常識であるともいえない。
　したがって、本願明細書の発明の詳細な説明は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。
　
３−３　請求人は、平成１８年６月１６日付けの意見書において、
「・・・（中略）・・・
　４）　次に、特許法第３６条第４項、いわゆる「実施可能要件」違反の拒絶理由について反論致します。
　４−１）・・・（中略）・・・
　ここで、拒絶理由の根拠としている箇所は、明細書の発明の詳細な説明の段落【００１９】〜【００２６】の記載に基づいていますが、この認定は、本願明細書の他の段落の記載については何等言及されていません。したがって、本願明細書の一部だけを取り出して全体の記載を不明確であるとの認定には、承服できません。
　実際、本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】〜【００４４】の実施例には、具体的な製造条件、製造工程、軟磁性体粉末の形状、配列のされ方及び充填量等が記載されていますので、審判長殿のこのご認定にも全く承服できません。
　４−２）　次に、［理由１］の（４）について反論致します。審判長殿は、［理由１］の（４）において、・・・（中略）・・・
　ここで、拒絶理由の根拠としている箇所は、明細書の発明の詳細な説明の段落【００２８】の記載に基づいており、確かに、この段落だけを参照すれば、ご指摘の通りです。
　しかしながら、本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００２８】以外の段落【００３２】〜【００３８】に記載された実施例には、製造条件、製造工程、剪断応力の加える方向等に具体的に記載しております。したがって、審判官殿のこのご認定にも全く承服できません。尚、剪断応力の大きさにつきましては、比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上とするような大きさであることは、出願当初の明細書の記載から明白であります。
　４−３）　次に、［理由１］の（５）について反論致します。審判長殿は、［理由１］の（５）において、・・・（中略）・・・
　ここで、拒絶理由の根拠としている箇所は、明細書の発明の詳細な説明の段落【００２９】の記載だけに基づいており、他の段落の記載については全く言及されておりません。
　一方、本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】〜【００３５】及び【００３８】〜【００４０】の実施例には、製造条件、製造工程、外部磁場の印加する方向等に具体的に記載していますので、審判長殿のこのご認定にも全く承服できません。
　４−４）　次に、［理由１］の（６）について反論致します。審判長殿は、［理由１］の（６）において、・・・（中略）・・・
　ここで、拒絶理由の根拠としている箇所は、明細書の発明の詳細な説明の段落【００３０】の記載だけに基づいており、他の段落の記載は何等参照されておりません。
　他方、本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】〜【００３５】及び【００４２】〜【００４４】の実施例には、製造条件、製造工程等を具体的に記載しておりますので、審判長殿のこのご認定にも全く承服できません。・・・（中略）・・・」と主張している。（第５頁第１１行〜第６頁第２６行）
　
　しかしながら、「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】〜【００４４】の実施例には、具体的な製造条件、製造工程、軟磁性体粉末の形状、配列のされ方及び充填量等が記載されていますので、審判長殿のこのご認定にも全く承服できません。」とする請求人の上記主張は、上記「３−２　実施例について」で判断したとおり、本願明細書の発明の詳細な説明は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず、よって、採用することができない。
　また、「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００２８】以外の段落【００３２】〜【００３８】に記載された実施例には、製造条件、製造工程、剪断応力の加える方向等に具体的に記載しております。したがって、審判官殿のこのご認定にも全く承服できません。」とする請求人の上記主張は、上記「３−２　実施例について」で判断したとおり、本願明細書の発明の詳細な説明は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず、よって、採用することができない。そして、「剪断応力の大きさにつきましては、比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上とするような大きさであることは、出願当初の明細書の記載から明白であります。」とする請求人の上記主張は、「比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上とするような大きさ」が如何なる量の大きさであるか明確でなく、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず、よって、採用することができない。
　また、「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】〜【００３５】及び【００３８】〜【００４０】の実施例には、製造条件、製造工程、外部磁場の印加する方向等に具体的に記載していますので、審判長殿のこのご認定にも全く承服できません。」とする請求人の上記主張は、上記「３−２　実施例について」で判断したとおり、本願明細書の発明の詳細な説明は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず、よって、採用することができない。
　また、「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】〜【００３５】及び【００４２】〜【００４４】の実施例には、製造条件、製造工程等を具体的に記載しておりますので、審判長殿のこのご認定にも全く承服できません。」とする請求人の上記主張は、上記「３−２　実施例について」で判断したとおり、本願明細書の発明の詳細な説明は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず、よって、採用することができない。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていないので、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。