【事件の表示】
　特願２００２−　２９２０３「大気圧プラズマ処理装置、該大気圧プラズマ処理装置を用いて製造した膜、製膜方法及び該製膜方法を用いて製造した膜」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　８月１５日出願公開、特開２００３−２２９２９９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯 
　本願は、平成１４年２月６日の出願であって、平成１９年４月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成１９年６月７日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
２　本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成１８年６月２０日付けの手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下「本願発明」という。）
「大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に基材を位置させ、さらに反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を前記電極間に印加することにより放電プラズマを発生させ、前記基材の表面に膜を形成する大気圧プラズマ処理装置において、
前記電極は誘電体を被覆しており、更にその表面の少なくとも一部に交換可能な被覆物を設けたことを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。」
　
３　引用刊行物に記載された発明
　原査定の理由に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である特開平６−４１７５５号公報（以下「引用刊行物１」という。）には、「大気圧プラズマによる表面処理法」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
　
＜記載事項１＞
「【０００９】本発明の目的は、安価な希釈性気体を用い大気圧下で高度に安定なグロー放電を行なわせて被処理体にプラズマによる表面薄膜形成および／または表面改質を行う大気圧プラズマ表面処理法を提供することである。」
＜記載事項２＞
「【００１３】図１は本発明の表面処理法に用いられるプラズマ反応装置の１例を示す。即ち、図１は、電極間に被処理体を静止状態で保持して大気圧プラズマ表面処理を行うプラズマ反応装置の概略を示す断面図である。上部電極１の下部及び下部電極２の上部には誘電体被覆３が貼付されている。誘電体被覆の材質はポリイミド、雲母、セラミック、ガラス等を例示することができる。この誘電体被覆３の使用はグロー放電を安定な状態で持続させるために好ましく、被処理体が比較的厚いプラスチックフイルムである場合には上部電極１のみに貼付されてもよい。」
＜記載事項３＞
「【００１４】下部電極２の上部に被処理体４、例えばポリエステルフイルム、載置する。次いでＣＦ4のような反応性気体及び例えば少量のエタンを含有するアルゴンのような希釈性気体を流入口５より導入し、流出口６より排出する。気体の流速は任意であるが、装置内の残存空気が混合基体で完全に置換されたら流入を止めてもよい。
【００１５】次に上下電極間に例えば３,０００Ｈz、５,０００Ｖの高周波電圧を印加してグロー放電を起こさせプラズマ励起を行い、被処理体の表面処理を行う。」　
＜記載事項４＞
「【００１７】本発明で用いられる希釈性気体の気体組成物は、アルゴン及び上記低級脂肪族炭化水素に加えて、必要に応じ更なる不活性気体を含有することができる。このような不活性気体としては、ヘリウム、ネオン窒素等を例示することができる。本発明の大気圧プラズマ表面処理法で用いられる反応性気体は、プラズマ励起された状態で被処理体表面上に重合体の薄膜を形成する気体またはプラズマ励起された状態で被処理体の表面と化学反応して該表面上に反応生成物の薄膜を形成する気体等をいう。」
　
　そして、「次いでＣＦ4のような反応性気体及び例えば少量のエタンを含有するアルゴンのような希釈性気体を流入口５より導入し、流出口６より排出する。」との記載（記載事項３）及び流入口５、流出口６を有する反応装置の中に上部電極１及び下部電極２が設けられた、図１の記載からみて、上部電極１及び下部電極２に、ＣＦ4のような反応性気体及び例えば少量のエタンを含有するアルゴンのような希釈性気体が存在することは明らかである。
　
したがって、上記記載事項１〜４、及び図面に基づけば、引用刊行物１には、
「大気圧下で、上下電極間に被処理体を静止状態で保持して、さらにＣＦ4のような反応性気体及び例えば少量のエタンを含有するアルゴンのような希釈性気体を存在させて上下電極間に高周波電圧を印加してグロー放電を起こさせプラズマ励起を行い、被処理体表面上に重合体の薄膜を形成するプラズマ反応装置において、
上部電極１の下部及び下部電極２の上部には誘電体被覆３が貼付されたプラズマ反応装置。」の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　
　同じく、原査定の理由に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である特開平７−３３５６２７号公報（以下「引用刊行物２」という。）には、「ドライエッチング装置」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項５＞
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体を利用した薄膜トランジスタ、ＬＳＩ、太陽電池等の各種デバイスを製造するにあたり、基体上に形成された金属膜を配線パターン、電極パターン等を残してエッチングしたり、基体上に形成された半導体膜を所定パターンを残してエッチングしたりするドライエッチング装置に関する。」
＜記載事項６＞
「【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このように反応性が低いＩＴＯ膜やＩｎ−Ｐ膜の反応性エッチングでは、該反応生成物が真空容器内の各部に付着し、堆積し易い。さらに、厚くなった堆積物が一部剥がれてパーティクルが発生する。該反応生成物は真空容器内壁等の被処理物に対向する面に多く付着するため、被処理物表面へのパーティクルの付着量が多くなる。また、エッチング用ガスであるＣＨ4 ガス等の重合物が生成して真空容器内壁の各部に付着し、これらは比較的堆積量の少ない時点から一部剥がれてパーティクルが発生する。
【０００８】真空容器内各部、例えば図３に示す装置における被処理物Ｓに対向する電極３には、一般に、耐プラズマ性や耐熱性の観点からＡｌ、ステンレス、セラミック等の無機材料が用いられる。このような無機材料は、ＣＨ4 の重合物やメチル基（−ＣＨ3 ）を含む反応生成物等との熱膨張率の差が大きいため、プラズマ発生のオン、オフに伴う表面温度の一時的な昇降による熱ストレスで前記堆積物が剥がれ易い。」
＜記載事項７＞
「【００１４】前記ドライエッチング装置において、前記シートは前記真空容器内の少なくとも被処理物に対向する面の少なくとも一部、例えば被処理物に対向する電極面を覆うものであるが、これに加えて真空容器内のその他の部分も覆っていてもよい。前記シートは、これを所定の位置、例えば被処理物対向電極面に被せた状態で周縁部を、真空容器に直接又は間接的に連結した引張バネにて全体に張力を与えつつ該面に密着させて支持することや、例えばシリコン系その他の接着剤等を用いて所定の位置、例えば前記被処理物対向電極面に貼着することが考えられる。バネに支持させるときは、バネとシートの連結をシート交換可能なものとすることも考えられる。また、この場合、シートの電極面への密着性を向上させるために、電極面を凸曲面に形成してもよい。」
＜記載事項８＞
「【００１６】
【作用】本発明のドライエッチング装置によると、被処理物のエッチングを行う真空容器内の少なくとも被処理物に対向する面の少なくとも一部が、前記フッ素樹脂又はポリイミド樹脂からなるシートで覆われている。この樹脂は、ＩＴＯ膜やＩｎ−Ｐ膜等のエッチングにエッチング用ガスとして多用されるＣＨ4 ガスを用いる場合に発生するＣＨ4 の重合物やメチル基含有反応生成物等との熱膨張率の差が小さいため、該樹脂からなるシート上に堆積した前記重合物や反応生成物等は剥がれにくい。その結果、真空容器内に発生するパーティクルが低減するとともに、被処理物表面に付着するパーティクルが低減する。」
＜記載事項９＞
【００１７】
「実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。図１は本発明の１実施例であるエッチング装置を示す図である。この装置は、図３に示す従来のエッチング装置において、電極３に代えて、基体Ｓに臨む面が略球面状に形成された電極５を有し、電極５の前記の面がシート加工性のよいポリテトラフルオロエチレンン（ＰＴＦＥ）からなるシート４１で覆われたものである。シート４１は、真空容器１に一端を連結した複数のバネ４２を介して容器１に取り付けられており、バネ４２の力で電極５の略球面状の面に密着させられている。電極５は、シート４１との密着性を良くするため、エッチング対象基体Ｓに臨む面が略球面状に形成されているが、図３の装置における電極３を採用しても構わない。ＰＴＦＥシート４１の厚味は一般的には０．０５〜０．５ｍｍ程度、より好ましくは０．０５〜０．１５ｍｍ程度でよい。」
＜記載事項１０＞
「【００１９】また、従来は真空容器内各部への付着物は定期的に擦り落としたり、薬液に浸して除去していたが、シート４１を取り替えるだけで済み、生産性が向上する。（略）」
　
　記載事項５〜記載事項１０の記載からみて、引用刊行物２には、真空容器内に導入するＣＨ4 ガス等をプラズマ化して処理物をドライエッチングするエッチング装置において、上記プラズマ化により発生するＣＨ4の重合物等が、被処理物に対向する電極に堆積する問題を解決するために、従来の定期的な擦り落とし等に代えて、上記電極をポリテトラフルオロエチレンン（ＰＴＦＥ）からなるシート４１を複数のバネ４２により取り替え可能に設ける発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている。
　
　また、本願出願前に頒布された刊行物である特開平１１−５８５７号公報（以下「周知文献」という。）には、「支持体の表面処理方法、支持体の表面処理装置及び塗布方法」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
　
＜記載事項１１＞
「【特許請求の範囲】
【請求項１】  連続搬送される支持体の表面を処理する方法において、
一対の電極間を、大気圧若しくはその近傍下で少なくとも５０圧力％以上のアルゴンを含有したガスの雰囲気とし、かつ、前記一対の電極間の間隙を１０ｍｍ以下とし、前記一対の電極間を連続搬送されている支持体に対してグロー放電を施すことを特徴とする支持体の表面処理方法。」
＜記載事項１２＞
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続搬送される支持体上にグロー放電処理を施す表面処理方法、表面処理装置及びこの表面処理がなされた支持体上に塗布液を塗布する塗布方法に関する。」
＜記載事項１３＞
「【０００５】（略）グロー放電処理の処理時間の経過に伴い、プラズマ反応による一対の電極間のガス濃度の変化や電極の汚れ（異物の付着）などにより、グロー放電処理を長時間、安定して施すことが困難である。更に、一対の電極間の間隙を狭めるとグロー放電ではなくアーク放電が生じて安定した放電処理を行うことができないばかりでなく、支持体や電極に傷をつける（穴があく）ことがある。」
＜記載事項１４＞
「００５２】そこで、本実施の形態では、図８（ｂ）に示すように、一対の電極２、３が互いに対向する面ばかりでなく、一対の電極２、３の側面にも誘電体７を設ける（略）」
　
　上記記載によれば、周知文献に示されるように、大気圧若しくはその近傍下で一対の電極間を支持体に対してグロー放電処理を行う場合、その処理時間の経過に伴い、プラズマ反応による電極の汚れ（異物の付着）などにより、グロー放電処理を長時間、安定して施すことが困難であるという課題は従来周知の課題であり、その上記電極として誘電体が被覆されている電極も対象になることも従来周知の事項である。
　
４　対比
　本願発明と引用発明１とを比較する。
（１）引用発明１の「大気圧下で」は、本願発明の「気圧又は大気圧近傍の圧力下において」に相当し、以下同様に、「上下電極間」は「対向する電極間」に、「被処理体」は「基材」に、「保持して」は「位置させ」に、「ＣＦ4のような反応性気体」は「反応ガス」に、「例えば少量のエタンを含有するアルゴンのような希釈性気体」は「不活性ガス」に相当する。
（２）引用発明１の「上下電極間に高周波電圧を印加してグロー放電を起こさせプラズマ励起を行い」は、本願発明の「高周波電圧を前記電極間に印加することにより放電プラズマを発生させ」に相当し、以下同様に、「被処理体表面上」は「基材の表面」に、「重合体の薄膜」は「膜」に相当する。
（３）引用発明１の「プラズマ反応装置」は、大気圧下で反応性気体のプラズマ励起を行うから、本願発明の「大気圧プラズマ処理装置」に相当する。
（４）引用発明１の「上部電極１の下部及び下部電極２の上部」、「誘電体被覆３が貼付された」は、本願発明の「電極」、「誘電体を被覆しており」に相当する。
　
　したがって、本願発明と引用発明１の両者は、
「大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に基材を位置させ、さらに反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を前記電極間に印加することにより放電プラズマを発生させ、前記基材の表面に膜を形成する大気圧プラズマ処理装置において、
前記電極は誘電体を被覆している大気圧プラズマ処理装置。」の点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１］
　電極について、本願発明は、「その表面の少なくとも一部に交換可能な被覆物を設けた」のに対して、引用発明１は、その点が限定されていない点。
　
５　当審の判断
　相違点１について検討する。
　
　上述したように、引用刊行物２には、真空容器内に導入するＣＨ4 ガス等をプラズマ化して処理物をドライエッチングするエッチング装置において、上記プラズマ化により発生するＣＨ4の重合物等が、被処理物に対向する電極に堆積する問題を解決するために、従来の定期的な擦り落とし等に代えて、上記電極をポリテトラフルオロエチレンン（ＰＴＦＥ）からなるシート４１を複数のバネ４２により取り替え可能に設ける発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている。
　
　同じく、上述したように、周知文献に示されるように、大気圧若しくはその近傍下で一対の電極間を支持体に対してグロー放電処理を行う場合、その処理時間の経過に伴い、プラズマ反応による電極の汚れ（異物の付着）などにより、グロー放電処理を長時間、安定して施すことが困難であるという課題は従来周知の課題である。
　
　そして、引用発明１も引用発明２も、被処理物をプラズマ処理する装置という共通の技術分野に属する発明であるから、引用発明２を引用発明１に適用することに困難性はない。　　　　　　　
　したがって、上記従来周知の課題を解決するために、引用発明２を引用発明１に適用することによって、相違点１に係る本願発明の発明特定事項である、（電極の）表面の少なくとも一部に交換可能な被覆物を設けることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
　そして、本願発明の効果は、引用刊行物１，２の記載及び従来周知の事項から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　
　よって、本願発明は、引用刊行物１，２に記載された発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。　
　
６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１，２に記載された発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。