【事件の表示】
　特願２００１−２６２８５２「リソグラフィ装置を操作する方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造されるデバイス」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　４月１２日出願公開、特開２００２−１１０５４０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．経緯
　本願は、平成１３年８月３１日（パリ条約による優先権主張２０００年９月１日、欧州）の出願であって、平成１６年６月４日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年８月２５日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付で手続補正がなされた後、当審において拒絶の理由が通知され、その指定期間内に提出された平成１８年７月２５日付け手続補正書によって補正されたものである。
　本願請求項１に係る発明（以下、「本願第１発明」という。）は、明細書及び図面の記載からみて、請求項１に記載された次のとおりのものである。
　請求項１
　放射投影ビームを供給する放射システムと、
　マスク平面でマスクを保持する第１のオブジェクト・テーブルと、
　基板平面で基板を保持する第２のオブジェクト・テーブルと、
　少なくともマスクの一部分を基板の目標部分上に結像する投影システムとを含んだリソグラフィ投影装置を操作する方法であって、
　１つのピンホールを用いる前記装置内の前記マスク平面で前記投影ビームの少なくとも１つの部分から少なくとも１つの放射スポットを形成するステップと、
　前記ピンホールの回折格子に用いる前記放射スポットを回折するステップと、
　前記スポットに関して焦点位置の外に置かれた単一のスポットセンサの１つのピンホールで、前記スポットまたは前記スポットの像から焦点を外した放射の強度の空間変動を測定するために前記センサをスキャンするステップと、
　前記スキャンステップで得られた情報から前記装置の特性を決定するステップとを含むことを特徴とする方法。
　　
２．当審の拒絶の理由に引用した引用例
　引用例１　特開平３−６５６２３号公報
　
２．１ 引用例１の記載内容
　引用例１の第３頁左上欄第１９行〜左下欄第９行には、
「本発明の目的は、上記問題を解決するために、光学系のレンズ入射瞳上の照度分布を正確にかつ、自動的に求めて照明系の部分コヒーレンシ(σ値)及び、テレセン度(光源の中心ずれ量)を測定し、…投影形露光装置や検査光学系の解像性能を最大限に発揮せしめ得る、照明系の瞳上照度分布測定方法及びその装置を提供することにある。
…
〔作用〕
　即ち、第２図に示すように、ウエハ６を位置せしめるべき面にピンホール３を置きこの下に検出センサ４を設け、照明光束の照度分布を測定する。その照度分布データより瞳の大きさ（直径）Ｄ０に対する照明光束の大きさｄ０と、瞳の大きさＤ０の中心に対する照明光束中心のずれＣ０とを観測すれば照明光の光束とレンズの最大光束との関係が求められる。さらに、瞳径Ｄｉと瞳上の照明光束ｄｉ及び、瞳上の照明光束の中心ずれＣｉと上記測定値Ｄ０、ｄ０、Ｃ０との関係は幾何学的に、
　
　
のように表すことができ、これによりσ値やテレセン度を求めることが可能となる。」
と記載されている。
　
　引用例１の第４頁右上欄第１３行〜第５頁右上欄第２行には、
「実施例II：
　第５図は照度検出用にフォトマル等の単一センサを用いて本発明を露光装置に適用した実施例である。
　ここでは、レチクル１３として第１９図（ａ）、（ｂ）に示すようにガラス板２９に形成されたクロム膜２８にピンホール１２のパターンを複数個又は、１個形成されたものを使用する。瞳上照度分布検出ユニット１６は、ウエハ６面からｈだけ下げた位置に設けた受光側ピンホール１５と単一光センサ１４から成る。この検出ユニット１６はウエハステージ５上に設けてあり、ステージを動かすことによりＸＹ平面内で移動可能である。
　瞳上の照度分布の測定は、第６図に示すように行われる。レチクル１３上のピンホール１２の像は、縮小レンズ２を通り、レチクル１３と共役となる位置２０すなわち、ウエハ６面と同じ高さに結像する。ウエハステージ５上に設けた瞳上照度分布検出ユニット１６の受光側ピンホール１５はこの共役面２０からｈ離れた位置に設けてあり、この受光側ピンホール１５と単一のセンサ１４とを一体として、ウエハステージ５をＸまたはＹ方向に移動することにより、走査しながら光量測定することで瞳上の照度分布を第８図（ａ）又は第９図（ａ）の様に検出することが可能となる。
　さて、この実施例では第５図のレチクル１３の上に、すりガラス又は散乱板１７が挿入できるようになっている。第７図に示す様に、レチクル１３上にすりガラス１７を挿入すると、このすりガラス１７により、照明系７からの光が散乱して大きく広がるためレチクル１３上のピンホール１２を通った光は、縮小レンズ２の入射瞳９の径Ｄｉよりも大きい光束４６となり、該入射瞳９の全開口面積を通って縮小レンズ２に入射する。このようにして、瞳全体を透過した光は、一旦レチクル共役面２０（第７図参照）上に結像するが、共役面２０から一定距離ｈ離れた位置で、瞳上照度分布検出ユニット１６を走査すると第８図（ｂ）の様な照度分布が得られ、これから入射瞳９の径Ｄｉに対応するセンサ面上での径Ｄ０が求められる。
　そして第８図（ａ）と（ｂ）とに示す照度分布から、…照明系の部分的コヒ−レンジ（σ値）を求めることが可能となる。さらに、同図（ａ）で得られた波形の重心等から光源像の中心４５（第３図参照）を求めると、テレセン度に相当する入射瞳の中心４４からのずれＣ０（又はＣｉ）を式（２）によって得ることができる。
　尚、第９（ａ）は上記測定をＸＹ方向について行った照度分布であり、これから第９図（ｂ）に示すような等高線を求めることもできる」
と記載されている。
　
　引用例１に記載された第２，５〜９図は以下のとおりである。
　
　
　
２．２　引用例１に記載された発明
　上記引用例１の記載及び図面から、引用例１には、
「投影形露光装置において、レチクルの上に散乱板を挿入し、照明光束により、レチクル上のピンホールを通った光が入射瞳の全開口面積を通って縮小レンズに入射するようにして、レチクル上のピンホールの像をレチクルと共役となる位置すなわちウエハ面と同じ高さに結像させ、さらに、ウエハステージ上に設けた瞳上照度分布検出ユニットの受光側ピンホールを上記共役となる位置からｈ離れた位置に設け、この受光側ピンホールと単一のセンサとを一体として、ウエハステージに乗せ、当該ウエハステージをＸまたはＹ方向に移動することにより、受光側ピンホールと単一のセンサを走査しながら光量測定することにより照度分布を検出する方法。」
の発明が記載されている。
　
３．対比
　本願第１発明と引用例１に記載された発明とを比較する。
　引用例１に記載された発明の「投影形露光装置」、「照明光束」、「レチクル」、「ウエハステージ」、「縮小レンズ」、「レチクル上のピンホール」、「ピンホールの像」、「受光側ピンホールと単一のセンサ」及び「走査」は、それぞれ、本願第１発明の「リソグラフィ装置」、「投影ビーム」、「マスク」、「マスク平面でマスクを保持する第１のオブジェクト・テーブル」、「投影システム」、「マスク上の一部分」、「放射スポット」、「単一のスポットセンサ」及び「スキャン」に相当する。
　また、引用例１に記載された発明の「レチクル上のピンホールを通った光」が「縮小レンズに入射」して、「ウエハ面と同じ高さに結像」することは、本願第１発明の「１つのピンホールを用いる前記装置内の前記マスク平面で前記投影ビームの少なくとも１つの部分から少なくとも１つの放射スポットを形成する」ことに実質的に相当する。
　また、引用例１に記載された発明の「照度分布を検出する」ことは、本願第１発明の「装置の特性を決定する」ことに実質的に相当する。
　
　そうすると、両者は、
「基板平面で基板を保持する第２のオブジェクト・テーブルと、
　少なくともマスクの一部分を基板の目標部分上に結像する投影システムとを含んだリソグラフィ投影装置を操作する方法であって、
　１つのピンホールを用いる前記装置内の前記マスク平面で前記投影ビームの少なくとも１つの部分から少なくとも１つの放射スポットを形成するステップと、
　前記スポットに関して焦点位置の外に置かれた単一のスポットセンサの１つのピンホールで、前記スポットまたは前記スポットの像から焦点を外した放射の強度の空間変動を測定するために前記センサをスキャンするステップと、
　前記スキャンステップで得られた情報から前記装置の特性を決定するステップとを含むことを特徴とする方法。」
において一致し、以下の相違点を有する。
　
　相違点１
　本願第１発明は、「放射投影ビームを供給する放射システムと、マスク平面でマスクを保持する第１のオブジェクト・テーブル」を有するのに対し、引用例１に記載された発明は、上記構成の記載がない点。
　
　相違点２　
　本願第１発明は、「放射の強度の空間変動を測定する」のに対し、引用例１に記載された発明は、上記構成の記載がない点。
　
　相違点３
  本願第１発明は、「ピンホールの回折格子に用いる放射スポットを回折する」のに対し、引用例１に記載された発明は、上記構成の記載がない点。
　
４．判断
　相違点１について
　引用例１に記載された発明は、レチクルを保持するテーブルの明示的記載がないが、引用例１に記載された発明は、投影形露光装置に関するから、当然レチクルを保持するテーブルを有していることは明らかである。
　したがって、相違点１は実質的な相違点ではない。
　
　相違点２について
　本願第１発明の「放射の強度の空間変動を測定する」ことは、「スポットに関して焦点位置の外に置かれた単一のスポットセンサの１つのピンホールで、前記スポットまたは前記スポットの像から焦点を外した放射の強度の空間変動」を「センサをスキャンする」ことにより測定することであり、このことは、引用例１に記載された発明の「ウエハステージ上に設けた瞳上照度分布検出ユニットの受光側ピンホールを共役となる位置からｈ離れた位置に設け、この受光側ピンホールと単一のセンサとを一体として、ウエハステージに乗せ、当該ウエハステージをＸまたはＹ方向に移動することにより、受光側ピンホールと単一のセンサを走査しながら光量測定する」ことに実質的に相当するから、相違点２は、特に意味あるものではない。
　
　相違点３について
　本願第１発明における「回折格子」は、本願明細書【００６４】段落等を参照すると、散光器程度のものであって、散光器を用いた場合に比べ回折格子を用いたことによる特段の意義は認められないから、本願第１発明における「回折格子」は、引用例１に記載された発明の「散乱板」程度のものにすぎず、引用例１に記載された発明の「散乱板」に代えて「回折格子」を用いることに格別の意義はない。
　したがって、相違点３は、引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到できたことである。
　
　そして、本願発明の作用効果も、引用例１に記載された発明の作用効果から当業者が予測できる範囲のものである。
　　
５．むすび
　そうすると、本願請求項１に係る発明は、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。