【事件の表示】
　上記当事者間の特許第２６４４７１０号「耐摩耗性皮膜被覆部材」の特許無効審判事件についてされた平成１５年１１月２５日付け審決に対し、東京高等裁判所において審決取消の判決（平成１７年（行ケ）第１０２９６号平成１８年　３月２２日判決言渡）があったので、さらに審理のうえ、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許２６４４７１０号の請求項１に係る発明は、昭和６３年１１月２日（優先権主張：昭和６３年３月２４日（特願昭６３−７０９５６号、以下「第１基礎出願」という。）、昭和６３年１０月７日（特願昭６３−２５３９８０号、以下「第２基礎出願」という。））に出願した特願昭６３−２７８３２４号の一部を平成７年１１月２４日に新たな特許出願として出願されたものであって、平成９年５月２日にその特許の設定登録がなされたものである。
　これに対して、オー・ツェー・エリコン・バルザース・アクチェンゲゼルシャフト（以下、「請求人」という。）から平成１４年１２月１８日付けで請求項１に係る発明の特許について、無効審判の請求がなされたところ、その後の手続の経緯は、以下のとおりである。
　　答弁書：　　　　　　　　　　　　　平成１５年　３月２８日
　　上申書（被請求人）：　　　　　　　平成１５年　６月２６日
　　口頭審理陳述要領書（請求人）：　　平成１５年　９月　２日
　　口頭審理陳述要領書（被請求人）：　平成１５年　９月　２日
　　口頭審理：　　　　　　　　　　　　平成１５年　９月　２日
　　上申書（請求人）：　　　　　　　　平成１５年　９月１１日
　　上申書（被請求人）：　　　　　　　平成１５年１０月　２日
　　審決：　　　　　　　　　　　　　　平成１５年１１月２５日
　　審決謄本送達日：　　　　　　　　　平成１５年１２月　５日
　　審決取消訴訟の提起（平成１７年（行ケ）第１０２９６号）：
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　平成１６年　３月３０日
　　知財高裁、審決取消判決：　　　　　平成１８年　３月２２日
　　上申書（被請求人）：　　　　　　　平成１８年　７月２８日
　　回答書（請求人）：　　　　　　　　平成１８年１０月３１日
　　上申書（請求人）：　　　　　　　　平成１９年　６月２５日
　　上申書（被請求人）：　　　　　　　平成１９年　６月２７日
　
ＩＩ．本件発明
　本件特許第２６４４７１０号の特許請求の範囲請求項１に記載された発明（以下、「本件発明」という。）は、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　基材表面に、
　(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)
　　但し　０．５６≦ｘ≦０．７５
　　　　　　０．６≦ｙ≦１
で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する厚さ０．８−１０μｍの耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜が形成されたものであることを特徴とする耐摩耗性皮膜被覆部材。」
　
ＩＩＩ．請求人の主張と証拠方法
１．請求人の主張
　請求人は、本件発明についての特許を無効とする、審判費用は被請求人の負担とするとの審決を求め、証拠方法として、無効審判請求書、口頭審理（口頭審理陳述要領書を含む）、回答書、及び上申書において、下記「２」に示した証拠を提出して、次に示すとおり、本件発明の特許性は、第１基礎出願の出願日を基準として判断できないから、本件発明は、第２基礎出願の出願日前に頒布された甲第１号証に記載された発明であるか、少なくとも甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号ないし同法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件発明に係る特許は同法第１２３条第１項第２号の規定により無効とされるべきであると主張している。
　
（１）優先権主張の効果
　ア．本件発明の要旨である皮膜の組成、結晶構造及び膜厚は、下記ア−１〜ア−３のとおり第１基礎出願に何ら開示されていない。したがって、第１基礎出願には、本件発明と共通する部分が存在せず、第１基礎出願を根拠とした優先権は認められない。
　　ア−１．第１基礎出願では、(Ａｌ,Ｔｉ)Ｎ膜中のＴｉ組成が０．３５以上０．８以下であるため、(Ａｌ,Ｔｉ)Ｎ膜中のＡｌ組成は、０．２以上０．６５以下である。これに対して、本件発明のＡｌ組成ｘは０．５６以上０．７５以下である。そして、本件特許発明におけるＡｌ組成ｘの上限値は皮膜の硬度の観点から定められたものであり、第１基礎出願には、皮膜の硬度の観点からＡｌ組成の上限値を０．７５に定めるような記載は何ら存在しない。また、酸化開始温度を考慮してＡｌ組成の下限値を定めているが、第１基礎出願には、Ａｌ組成を本件特許発明のように限定する開示はない。したがって、第１基礎出願と本件発明とは発明思想が異なっている。（審判請求書第９頁６〜１０行、口頭審理陳述要領書第３頁２０行〜第４頁１９行、回答書第１０頁１６〜２５行）
　　ア−２．第１基礎出願では、皮膜の膜厚に関して３点の実施例が挙げられているのみであり、本件発明のように、膜厚を０．８〜１０μｍとすること、及び、当該膜厚とすることで耐摩耗性を向上させ、かつクラックが入ることを防止できるという技術思想は何ら開示されていない。（口頭審理陳述要領書第４頁２０行〜第５頁２５行、回答書第１１頁８〜１２行）
　　ア−３．第１基礎出願と本件発明とは、Ａｌ組成ｘと結晶構造との関係が対応しておらず。本件発明の内容は、第１基礎出願に何ら開示も示唆もされていない。（回答書第１１頁１〜７行）
　イ．第１基礎出願に請求項１の構成要件の一部が開示されたとしても、請求項１に係る特許発明と２つに分けて、その特許要件を別々の基準日に基づいて判断すること自体無理がある。その結果、全ての構成要件を開示していない第１基礎出願を基礎とした優先権主張の効果は認められない。（口頭審理陳述要領書第３頁９〜１９頁）
　ウ．第１基礎出願では、Ａｌ組成ｘがモル％であるか重量％であるか分からず、さらには結晶構造が明確に検証されておらず、当業者が実施することができないものであるため、第１基礎出願を根拠として優先権主張の効果は認められない。（回答書第５頁２１行〜第８頁７行）
　
（２）甲第１号証に基づく新規性欠如、及び進歩性欠如の主張
　エ．甲第１号証には、「高速度鋼（ＨＳＳ）ドリルとＳＳ−３０４シート標本とが共に本件の基板として用いられた」（第２１３６頁左欄２６〜２７行）、「（ターゲット材料として）使用されたＴｉＡｌの３つの組成は、９５：５（Ｔｉ，Ａｌ）、７５：２５（Ｔｉ，Ａｌ）、および５０：５０（Ａｌ）であり、・・・すべての組成は重量％である」（第２１３６頁右欄２〜６行）、「走査型オージェマイクロプローブ（ＳＡＭ）とイオンスパッタ深さプロファイルとを併せて(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜に対し行なった。スペクトルは純粋なＴｉＮ膜を基準とした。１００Åスパッタリング後のＴｉ５０Ａｌ５０Ｎ膜のＳＡＭスペクトルを図１に示す。」（第２１３７頁右欄１０行〜第２１３８頁左欄２行）、「対応の膜厚は５から７μｍの範囲であった」（第２１３６頁右欄１３〜１４行）と記載されている。そして、Ｔｉ５０Ａｌ５０Ｎ膜の下付き添字は重量％であるから、これを原子％に換算すると、(Ａｌ０．６４Ｔｉ０．３６)Ｎで表される膜が記載されているといえる。また、本件特許の明細書の段落【００１３】の「図１において、（Ｐ）はＮａＣｌ型（Ｂ１構造）領域、（Ｑ）はＺｎＳ型（ウルツァイト型）領域である。」との記載から、(Ａｌ０．６４Ｔｉ０．３６)Ｎで表される膜は、ＮａＣｌ型となる。したがって、本件発明は、甲第１号証に記載された発明である。（審判請求書第４頁３行〜第６頁１６行、平成１９年６月２５日付け上申書第３頁１４〜１８行）
　オ．甲第２号証には、Ｔｉの割合（原子比）が０．３以上では、反応生成物である(Ａｌ,Ｔｉ)ＮがＮａＣｌ型構造であることが示されている。したがって、甲第１号証に開示された(Ａｌ０．６４Ｔｉ０．３６)Ｎの薄膜は、ＮａＣｌ型構造であることは明らかである。
　カ．甲第４号証には、(Ａｌ,Ｔｉ)Ｎ、(Ａｌ,Ｔｉ)(Ｃ,Ｎ)は、ｆｃｃ構造（ＮａＣｌ構造）であることが示されているから、甲第１号証の(Ｔｉ,Ａｌ)(Ｃ,Ｎ)がＮａＣｌ構造を有していると容易に推測できる。
　キ．アークイオンプレーティング法では、合金ターゲットをターゲット材料に使用しても合金成分比をそのまま転写した皮膜を得ることが可能となる（参考資料８、９）。したがって、甲第１号証では、アークイオンプレーティング法を用いてＡｌとＴｉを組み合わせた合金をターゲット材料に使用しているため、このターゲット材料の合金成分比をほぼそのまま転写した皮膜を得ることができる。そして、その皮膜の組成には、「±１５％」ばらついたすべての組成が開示されているといえる。（回答書第１２頁６行〜第１４頁１４行）
　ク．甲第１号証と、第１基礎出願、第２基礎出願及び本件特許とを対比すると、同一の製法（アークイオンプレーティング）で、同一のターゲット（ＡｌＴｉ）を用いて、同一の組成（Ａｌが０．６５以下）の皮膜を形成していることから、皮膜の結晶構造が同一（ＮａＣｌ型）となることに疑いはない。仮に甲第１号証で開示された製法で製造された皮膜がＮａＣｌ型結晶構造を有していないとすると、甲第１号証と同じ「アークイオンプレーティング」で製造された本件発明の皮膜も、当然にＮａＣｌ型結晶構造を有していないことになり、発明として成立していないことになる。第１基礎出願、第２基礎出願及び本件特許は、ＮａＣｌ型結晶構造の(Ａｌ,Ｔｉ)Ｎ皮膜を製造することができる程度に記載されておらず、本件特許は、特許法第３６条第４項の要件を満たさないため無効とされるべきである。さらに、ＮａＣｌ型結晶構造により得られる効果が開示されておらず、ＮａＣｌ型結晶構造の存在を理由として進歩性を主張することは困難である。（口頭審理陳述要領書第９頁３行〜第１１頁１７行）
　ケ．甲第１号証の段落「Ａ．蒸着」で示される方法を用いれば、ＮａＣｌ型結晶構造を有する、組成が(Ｔｉ０．３４５Ａｌ０．６５５)Ｎで示される皮膜が得られることを検証した。その結果を実験成績証明書（参考資料４）に示す。実験成績証明書から明らかなように、甲第１号証の「ＩＩ．実験」で記載された方法を用いて製造した、組成が(Ｔｉ０．３４５Ａｌ０．６５５)Ｎで示される皮膜は、明らかにＮａＣｌ型結晶構造を有するものである。その結果、甲第１号証で開示された皮膜はＮａＣｌ型結晶構造を有することに疑いはない。（口頭審理陳述要領書第１２頁３〜１１行）
　コ．甲第１号証の「ＩＩ．実験」の「Ａ．蒸着」の欄では、「陰極アーク蒸着システムの原理と動作は以前に説明されている。」と記載されており、甲第５号証が引用されている。甲第５号証の著者は、甲第１号証の著者と同一である。そのため、甲第１号証の方法は、甲第５号証の内容に従って行われる。そうすると、甲第１号証と本件特許明細書中に記載された実施例１の成膜方法は、カソードアークイオンプレーティングで同一であり、成膜温度、電圧、成膜雰囲気、全圧、ターゲットなどのパラメータが同程度か共通するから、甲第１号証に基づいて製造された膜もＮａＣｌ型の結晶構造を有していることは明らかである。（平成１５年９月１１日付け上申書第１頁２０行〜第２頁６行、平成１９年６月２５日付け上申書第３頁１９行〜第４頁８行）
　サ．甲第１号証で製造されたＴｉＡｌＮ被覆ドリルの性能は、本件発明に従って製造されたＴｉＡｌＮ被覆ドリルと同程度の寿命を有するから、甲第１号証に記載された皮膜はＮａＣｌ型結晶構造である。（平成１９年６月２５日付け上申書第４頁９行〜第５頁２１行）
　シ．(Ｔｉ１−ｘＡｌｘ)Ｎフィルムが立方晶Ｂ１型（ＮａＣｌ型）結晶構造を有していても、開口ボイドが存在すれば、ＴｉＮよりも硬度が低くなるのであるから、(Ｔｉ１−ｘＡｌｘ)Ｎフィルムの硬度のみをもって結晶構造を特定することは妥当でない。（平成１９年６月２５日付け上申書第５頁２２行〜第６頁１１行）
　
２．証拠の記載事項
　ここで、平成１８年１０月３１日付け回答書に添付された参考資料１〜参考資料６は、それぞれ「参考資料６」〜「参考資料１１」と示し、平成１９年６月２５日付け上申書に添付された参考資料１〜参考資料３は、それぞれ「参考資料１２」〜「参考資料１４」と示す。
　
（１）甲第１号証（H.RANDHAWA et al., Deposition and characterization of ternary nitrides, J.Vac.Sci.Technol., May/Jun 1988, Vol.A6, No.3, p.2136-2139）
　（ａ）「A. Deposition
 Both high-speed steel (HSS) drills as well as a SS-304 sheet specimen were used as substrates in the present work. ... 
 The principal and operations of a cathodic arc deposition system have been described previously.6 All the depositions were carred out in the atmosphere of nitrogen (99.999 % purity) at total pressure in the range 5-15 mTorr (in the Vac-Tec Model ATC-400 system).」（第２１３６頁左欄２５〜３９行、訳文「Ａ．蒸着　高速度鋼（ＨＳＳ）ドリルとＳＳ−３０４シート標本とがともに本件の基板として用いられた。・・・陰極アーク蒸着システムの原理と動作は以前から説明されている６。蒸着はすべて窒素（９９．９９９％純度）雰囲気中で、５〜１５ｍＴｏｒｒの全圧で（Ｖａｃ−ＴｅｃモデルＡＴＣ−４００システムで）行われた。」）
　（ｂ）「B. Target materials
 Three compositions of Ti Al used were 95:5(Ti,Al), 75:25(Ti,Al), and 50:50(Al), and in case of (Ti,Zr) composites were 50:50, 75:25, and 25:75. Targets of different composition behaved very similarly during the deposition process. All compositions are weight percentages.」（第２１３６頁右欄１〜６行、訳文「Ｂ．ターゲット材料　使用されたＴｉＡｌの３つの組成は、９５：５（Ｔｉ,Ａｌ）、７５：２５（Ｔｉ,Ａｌ）及び５０：５０（Ａｌ）であり、（Ｔｉ,Ｚｒ）組成物では、５０：５０、７５：２５、２５：７５であった。異なる組成のターゲットは蒸着プロセスの間非常に似通った挙動を示した。すべての組成は重量％である。」）
　（ｃ）「Corresponding film thickness was in the range of 5 to 7μm.」（第２１３６頁右欄１３〜１４行、訳文「対応の膜厚は５から７μｍの範囲であった。」）
　（ｄ）「D. Cutting tests
 The testing was carried out with uncoated and (Ti,Al)N, (Ti,Zr)N and TiN coated HSS drills, having a standard jobber geometry.」（第２１３６頁右欄１８〜２１行、訳文「Ｄ．切削試験　試験は標準のジョバージオメトリを有する、被覆なし、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ被覆、(Ｔｉ,Ｚｒ)Ｎ被覆及びＴｉＮ被覆のＨＳＳドリルで行われた。」）
　（ｅ）「A. Microhardness: (Ti,Al)N films
 The microhardness was measured on (Ti,Al)N and (Ti,Zr)N films of different compositions using a Knoop tester at 25-g load. The results are shown in Table I. As is clear from the results in Table I hardness values as high as 3000 kg/m2 were obtained in some cases. The corresponding microhardness for TiN was measured to be 2500±200 kg/mm2. It is interesting to note that films deposited from a target composition of TiAl(50:50) showed microhardness values similar to TiN.」（第２１３７頁左欄８行〜右欄４行、訳文「Ａ．微細硬度：(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜　２５ｇ負荷のヌープテスターを用いて、異なる組成の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎおよび(Ｔｉ,Ｚｒ)Ｎ膜について微細硬度を測定した。結果は表１に示すとおりである。表１の結果から明らかなように、場合によっては３０００ｋｇ／ｍ２（「ｋｇ／ｍｍ２」の誤記と認められる。）という高い硬度値が得られた。ＴｉＮの対応する微細硬度の測定値は２５００±２００ｋｇ／ｍｍ２であった。ＴｉＡｌ（５０：５０）のターゲット組成から蒸着された膜が、ＴｉＮと同様な微細硬度を示したことは興味深い。」）
　（ｆ）Table I（第２１３６頁）には、「Microhardness of (Ti,Al)N and (Ti,Zr)N films of thickness 5-7μm, 25-g load」（訳文「２５ｇ負荷の、膜厚５〜７μｍの (Ｔｉ,Ａｌ)Ｎおよび(Ｔｉ,Ｚｒ)Ｎ膜の微細硬度」）が示され、ＴｉＮ、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ（５０：５０）の微細硬度が、２５００±２００ｋｇ／ｍｍ２、２４５０±２００ｋｇ／ｍｍ２であることが示されている。
　（ｇ）「B. Film composition
1. (Ti,Al)N films
 Scanning Auger microprobe (SAM) in conjunction with ion sputter depth profiles were performed on (Ti,Al)N films. The spectra were referenced to pure TiN films. The SAM spectra for Ti50Al50N films after sputtering 100Å are shown in Fig.1. ... To determine more accurately the Ti/Al ratio in the films, XPS analysis was also performed. This is shown in Fig.2. The XPS analysis was taken on the target material as well as the film. Films deposited from alloyed targets were found to have within ±15 % the same metal composition as the targets.」（第２１３７頁右欄８行〜第２１３８頁左欄１０行、訳文「Ｂ．膜組成　１．(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜　走査型オージェマイクロプローブ（ＳＡＭ）とイオンスパッタ深さプロファイルとを併せて、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜に対して行った。スペクトルは純粋なＴｉＮ膜を基準とした。１００Åスパッタリング後のＴｉ５０Ａｌ５０Ｎ膜のＳＡＭスペクトルを図１に示す。・・・膜のＴｉ／Ａｌ比をより正確に定めるために、ＸＰＳ分析もまた行われた。これを図２に示す。ＸＰＳ分析はターゲット材料と膜とに行われた。合金化されたターゲットから蒸着した膜は、±１５％以内でターゲットと同じ金属組成を有することが認められた。」）
　（ｈ）「D. Drill test
 Drills of 0.25-in, diameter of standard construction were used to evaluate the cutting performance of HSS drills. Nitride films of TiAl(50:50) and TiZr(50:50) target compositions were deposited. 4150 alloy steel of AISI/SAE specifications of 30-RC hardness was used as the test material. The results were compared with TiN coated drills available commercially by ion plating as well as cathodic arc deposited films. Drills of the same geometry and same manufacturer were used for the test. The results are shown in Fig.5. Uncoated drills had an averge of 2 holes, while TiN coated drills had an average of 186 holes. In comparsion to this result TiAlN-coated drills lasted at an average of 422 holes. The films with (Ti,Al)N 50:50 were found to be the best performers.」（第２１３８頁左欄３０行〜右欄５行、訳文「Ｄ．ドリル試験　０．２５インチ直径の標準構造のドリルを用いてＨＳＳドリルの切削性能を評価した。ＴｉＡｌ（５０：５０）及びＴｉＺｒ（５０：５０）ターゲット組成の窒化物が蒸着された。ＡＩＳＩ／ＳＡＥ規格４１５０合金鋼で３０−ＲＣ硬度のものがテスト材料として用いられた。結果はイオンプレーティングと陰極アーク蒸着膜で商業的に入手可能なＴｉＮ被覆ドリルと比較された。テストには、同じ製造業者の同じジオメトリのドリルが用いられた。結果を図５に示す。被覆なしドリルでは平均２穴であったが、ＴｉＮ被覆ドリルでは平均で１８６穴であった。この結果と比較して、ＴｉＡｌＮ被覆ドリルは平均で４２２穴までもった。(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ５０：５０の膜の性能が最良であることが認められた。」）
　（ｉ）「IV. CONCLUSIONS
 The results on (Ti,Al) nitrides as well (TiZr)N show that these films have excellent wear as well as decorative properties.」（第２１３９頁右欄８〜１１行、訳文「ＩＶ．結論　(Ｔｉ,Ａｌ)窒化物、(Ｔｉ,Ｚｒ)Ｎとの結果は、膜が優れた摩耗性および装飾的特性と有することを示した。」）
　
（２）甲第２号証（P.J.SPENCER et al., Application of a Thermochemical Data Bank System to the Calculation of Metastable Phase Formation During PVD of Carbide, Nitride, and Boride Coatings, High Temperature Science, 1990, Vol.27, p.295-309）
　（ａ）「Knotek and Leyendecker (14) have recently carried out a more extensive study in the Al-Ti-N system. Their results show that the range of compositions in which the cubic NaCl structure is observed in PVD deposited coatings extends from TiN to about 60 mol% AlN in the TiN-AlN section (Fig.7). They do not report on the nature of the phase at higher AlN concentrations.」（第３０４頁１３〜１８行、訳文「ノテック及びライアンデッカー（１４）は最近、Ａｌ−Ｔｉ−Ｎ系においてより広範囲な研究を行っている。この結果は、ＰＶＤ蒸着被覆で立方晶ＮａＣｌ構造が観察される組成範囲は、ＴｉＮ−ＡｌＮセクションのＴｉＮから約６０ｍｏｌ％ＡｌＮに及ぶことを示している（図７）。彼らはより高いＡｌＮ濃度での相の特性については報告していない。」）
　（ｂ）「From Fig.8, it can be seen that the calculated ΔG curve at 500 K for the NaCl structure in AlN-TiN mixtures lies lower than the curve for the hexagonal structure at compositions from TiN to about 70 mol% AlN. At higher AlN concentrations the hexagonal structure has lower ΔG values. There is, thus, a very satisfactory correspondence between experiment and calculation with regard to the metastable range of the NaCl structure.」（第３０４頁１９〜２５行、訳文「図８から、ＡｌＮ−ＴｉＮ混合物におけるＮａＣｌ構造について５００Ｋでの計算されたΔＧ曲線は、ＴｉＮから約７０ｍｏｌ％ＡｌＮまでの組成で、六方晶構造についての曲線よりも下にあることがわかる。より高いＡｌＮ濃度では、六方晶構造のΔＧ値は低くなる。したがって、ＮａＣｌ構造の準安定範囲に関しては実験と計算の間に非常に満足のいく対応がある。」）
　（ｃ）Fig.7（第３０５頁）には、「Experimental range of the cubic NaCl phase in the Al-Ti-N system resulting from sputtering onto a low-temperature substrate.」（訳文「低温基板にスパッタリングした結果生じたＡｌ−Ｔｉ−Ｎ系における立方晶ＮａＣｌ相の実験による範囲」）が記載され、ＴｉＮ−ＡｌＮスパッタ皮膜のＴｉＮから約６０ｍｏｌ％ＡｌＮの組成範囲で立方晶ＮａＣｌ構造となることが窺える。
　（ｄ）Fig.8（第３０５頁）には、「Gibbs energy of formation curves at 500K for the liquid, hexagonal and cubic NaCl phases in the AlN-TiN system.」（訳文「ＡｌＮ−ＴｉＮ系における液相、六方晶及び立方晶ＮａＣｌ相の５００Ｋでの形成曲線のギブスエネルギー」）が記載され、ｘ（ＴｉＮ）が０．３から１までの範囲で、立方晶ＮａＣｌ相の形成曲線が六方晶の形成曲線より下になることが窺える。
　
（３）甲第３号証（特許庁編，特許・実用新案審査基準，(社)発明協会，２００１年，第ＩＩ部，第２章，第１〜４頁）には、「頒布された時期の取扱い」として、「発行の年月が記載されているときは、その年月の末日」と推定することが記載されている（第２頁３１〜３４行）。
　
（４）甲第４号証（H.HOLLECK, DESIGNING ADVAVCED COATINGS FOR WEAR PROTECTION, Surface Engineering, 1991, Vol.7, No.2, p.137-144）
　（ａ）Fig.7（第１３９頁）には、「Synthesis of metallic and covalent hard materials in single phase metastable layers」（訳文「単相準安定層内での金属性または共有結合性硬質材料の合成」）が記載され、図中に「Metastable coating materials with fcc TiC- or TiN-structure: (Ti,Al)N, (Ti,Al)(C,N), (Ti,Si)C, (Ti,Si)(C,N)」（訳文「ｆｃｃ ＴｉＣまたはＴｉＮ構造を有する準安定コーティング材料：(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ、(Ｔｉ,Ａｌ)(Ｃ,Ｎ)、(Ｔｉ,Ｓｉ)Ｎ、(Ｔｉ,Ｓｉ)(Ｃ,Ｎ)」）と記載されている。
　（ｂ）Fig.14（第１４１頁）には、「PVD phase fields for the TiN-AlN, ZrN-AlN, and HfN-AlN systems (schematic)」（訳文「ＴｉＮ−ＡｌＮ、ＺｒＮ−ＡｌＮおよびＨｆＮ−ＡｌＮ系のＰＶＤ相図（概念図）」）について記載され、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎが成膜温度によってアモルファス相、ｆｃｃ相及び／またはｈｅｘ相、液相に変化することが窺える。
　
（５）甲第５号証（H.RANDHAWA et al., TECHNICAL NOTE: A REVIEW OF CATHODIC ARC PLASMA DEPOSITION PROCESSES AND THEIR APPLICATIONS, Surface and Coatings Technology, 1987, Vol.31, p.303-318）
　（ａ）「2. Cathodic arc plasma deposition process
 In the cathodic arc plasma deposition (CAPD) process, material is evaporated by the action of vacuum arcs. The source material is the cathode in the arc circuit. ... Arcs are sustained by voltages typically in the range of 15-50 V, depending on the cathodic material employed. Typical arc currents in the range of 30-400 A arc amployed.」（第３０３頁１８行〜第３０４頁５行、訳文「２．陰極アークプラズマ蒸着プロセス　陰極アークプラズマ蒸着（ＣＡＰＤ）プロセスでは、材料は真空アークによって蒸発する。アーク回路の陰極が原料材料ある。・・・アークは、陰極材料に依存して、一般に１５〜５０Ｖの範囲に保持され、３０〜４００Ａのアーク電流が使用される。）
　（ｂ）「TiC has been deposited by the cathodic arc plasma process at substrate temperatures as low as 400℃.」（第３１３頁２９〜３０行、訳文「ＴｉＣは、カソードアークプラズマプロセスにより基板上に温度４００℃の低温で堆積された。」）
　（ｃ）「The process operates at significantly lower temperatures (approximately 500℃) than dose the CVD process (approximately 1000℃) and it therefore offers the possibility of distortion-free coating of solid carbide tools.」（第３１５頁２３〜２６行、訳文「このプロセスは、ＣＶＤプロセス（約１０００℃）が行われるよりも低い温度（約５００℃）で行われ、それゆえ、超硬工具の転位のないコーティングの可能性を示す。」）
　
（６）甲第６号証（特許庁編，審査基準の手引き，発明協会刊，昭和５０年，第１８０〜１８１頁）には、要旨変更に関する例が示されている。
　
（７）甲第７号証（パテント，１９９８年，第５１巻，第４号，第６１頁、及び、昭和４５年（行ケ）第７５号判決，審決取消訴訟判決集，昭和５５年，第７３１〜７４２頁）には、要旨変更に関する判決が示されている。
　
（８）甲第８号証（昭和５４年（行ケ）第１５２号判決，判例時報，第１０９１号，第１３２〜１３６頁、及び、特公昭４７−３６１２１号公報）には、要旨変更に関する判決が示されている。
　
（９）甲第９号証（請求人作成の「本件特許と基礎出願１の対比」）には、本件発明の各構成要件と第１基礎出願に記載された技術事項が対比して記載されている。
　
（１０）参考資料１（特許庁編，工業所有権逐条解説，第９版，(社)発明協会，平成元年，第１３０〜１３９頁）には、「特許出願等に基づく優先権主張」に関して次の事項が記載されている。
　「先の出願の出願当初の明細書に「記載されている発明」であるか否かは、明細書等の要旨変更の例による。すなわち、優先権の主張を伴う後の特許出願を仮に手続き補正書とみた場合に、先の出願の出願当初の明細書等の要旨を変更しない部分については優先権の主張の効果が認められ、要旨を変更する部分については優先権の主張の効果が認められない。」（第１３７頁３〜６行）
　
（１１）参考資料２（昭和４３年（行ケ）第１５９号判決，審決取消訴訟判決集，昭和４９年，第４５５〜４５８頁）には、要旨変更に関する判決が示されている。
　
（１２）参考資料３（大木道則編，化学大辞典，第１版，(株)東京化学同人，１９８９年，第２０２８頁）には、「プラズマ［plasma］自由に運動するほぼ同数の正負の荷電粒子が共存して、電気的にほぼ中性を保つ状態をいう．」（第２０２８頁左欄２０〜２２行）と記載されている。
　
（１３）参考資料４（請求人作成の「実験成績証明書（ＮａＣｌ構造の立証）」）には、甲第１号証で開示される製造条件で製造したサンプル１及び２の、基材、アーク電流、バイアス電圧、成膜雰囲気、全圧、ターゲット、膜組成、結晶構造が記載され、「サンプル１及び２はＮａＣｌ型構造を有する」と記載されている。
　
（１４）参考資料５（請求人作成の「甲第１号証の皮膜のヌープ硬度」）には、甲第１号証の皮膜の「Ａｌの組成（原子比率）」と「ヌープ硬度」との関係が示されている。
　
（１５）参考資料６（平成１５年（行ケ）第２７２号判決）には、実施可能要件違反の判決が示されている。
　
（１６）参考資料７（特許庁編，審査基準，第ＩＶ部、第１章及び第２章）には、「優先権」に関して次の事項が記載されている。
　「（３）第一国出願の出願書類の全体には実施可能な程度に記載されていないが、実施の形態の追加等により、日本出願の請求項に係る発明が実施可能となり、第一国出願の出願書類の全体に記載した事項の範囲内のものでなくなる場合
　第一国出願の出願書類の全体の記載に基づいて当業者が実施をすることができなかった発明が、実施の形態の追加により実施をすることができるものとなった場合は、日本出願の請求項に係る発明は、第一国出願の出願書類の全体に記載した事項の範囲内でないものとなるので、優先権の主張の効果は認められない。（参考：東京高判平５．１０．２０、平成４年（行ケ）１００号審決取消請求事件「ＭＢ−５３０誘導体」、東京高判平１３．３．１５、平成１０年（行ケ）１８０号審決取消請求事件「イムノアッセイ法」）
　（技術常識の変化により、日本出願の請求項に係る発明が、実施可能となった場合も同様に扱う。）」（第５頁２１〜３１行）
　
（１７）参考資料８（赤理孝一郎，ＡＩＰ／ＵＢＭＳ法によるトライボロジ皮膜の自動車部品への適用，神戸製鋼技報，２００４年、第５４巻，第３号，第７７〜８０頁）には、ＡＩＰ（アークイオンプレーティング）法について記載されており、「融点や蒸気圧の異なる材料を組合わせた合金ターゲット材料でもほぼ合金成分比のまま蒸発させることが可能である。」（第７８頁左欄５〜７行）と記載されている。
　
（１８）参考資料９（高原一樹他，ＡＩＰ法における装置技術の展開，神戸製鋼技報，２０００年、第５０巻，第２号，第５３〜５７頁）には、ＡＩＰ（アークイオンプレーティング）法について記載されており、「アークスポットでの蒸発は、瞬時におこなわれるため融点と蒸気圧の異なる材料を組合わせた合金をターゲット材料に使用しても合金成分比をほぼそのまま転写した皮膜をえることができる。」（第５３頁右欄１０〜１３行）と記載されている。
　
（１９）参考資料１０（越後亮三他，機械工学辞典，初版，(株)朝倉書店，１９９６年，第５０７頁及び第７９４頁）には、「正規分布」及び「はらつき」について記載されている。
　
（２０）参考資料１１（C.JARM et al., Mechanical properties, structure and oxidation behaviour of Ti1-xAlxN-hard coatings deposited by pulsed d.c. plasma-assisted chemical vapour deposition (PACVD), Surface and Coatings Technology, 1998, Vol.108-109, p.206-210）
　（ａ）「The B1 structure (typical for TiN) can be detected in Ti1-xAlxN up to x=0.97」（第２０８頁左欄１〜２行、訳文「Ｂ１構造（ＴｉＮが典型的）がＴｉ１−ｘＡｌｘＮにおいてｘ＝０．９７まで検出される。」）
　（ｂ）Fig.2（第２０７頁）には、「Influence of the AlCl3 flow-rate on the micro-hardness of the Ti1-xAlxN coatings.」（訳文「Ｔｉ１−ｘＡｌｘＮ皮膜の微小硬度におけるＡｌＣｌ３流量の影響」）が示され、ｘ＝０．４６、０．６９、０．８８のＴｉ１−ｘＡｌｘＮ皮膜のビッカース硬度が、ＴｉＮ皮膜のビッカース硬度より下回っていることが窺える。
　（ｃ）「The maximum hardness of the deposited coatings is similar to that of PACVD TiN coatings. For coatings with x0.5, the hardness of the layers is 2000 HV 0.01. For x0.5 the hardness decreases to 1300 HV 0.01. The XRD measurements show that the decrease of the hardness is not caused by a transition from cubic B1 to the hexagonal Wurtzite structure, it may due to the formation of an amorphous or nano crystalline phase.」（第２１０頁左欄３〜１０行、訳文「蒸着皮膜の最大硬さは、ＰＡＣＶＤ・ＴｉＮ皮膜のそれと類似する。ｘ＜０．５の皮膜では、層の硬さは２００ＨＶ０．０１である。ｘ＞０．５の硬さは１３００ＨＶ０．０１に低下する。ＸＲＤ測定によれば、硬さの低下は立方晶Ｂ１から六方晶ウルツァイト構造への転移の為でなく、非晶質又はナノ結晶相の生成のためである。」）
　
（２１）参考資料１２（第１準備書面）には、平成１７年（行ケ）第１０２９６号審決取消請求事件における請求人の主張及び立証について記載されている。
　
（２２）参考資料１３（第２準備書面）には、平成１７年（行ケ）第１０２９６号審決取消請求事件における請求人の主張及び立証について記載されている。
　
（２３）参考文献１４（第３準備書面）には、平成１７年（行ケ）第１０２９６号審決取消請求事件における請求人の主張及び立証について記載されている。
　
ＩＶ．被請求人の反論と証拠方法
１．被請求人の反論
　被請求人は、請求人の主張に対して、下記「２」で示す証拠を提示し、答弁書、口頭審理（口頭審理陳述要領書を含む）及び上申書を整理すると、無効理由について、本件発明は全て第１基礎出願に開示されているから、優先権の効果は全ての範囲に及び、また仮にそうでないとしても、本件発明は、甲第１号証に対して新規性・進歩性を有するものであると反論し、主に次の点を主張している。
　
（１）優先権主張の効果
　あ．化学組成において、原子名と共に添字を数値で示せば、その原子の原子比（モル比）を示すことは技術常識である。この技術常識をもって第１基礎出願をみれば、「(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)」の添字ｘ及びｙがモル比を示していることは明らかである。そして、第１基礎出願には、このモル比として記載されている箇所が多数記載されているのに対して、重量％として記載されている箇所は図１の僅か１箇所である。この状況から合理的に考えれば、重量％が誤記といえる。（平成１８年７月２８日付け上申書第４頁１〜８行、平成１９年６月２９日付け上申書第２頁１１行〜第４頁１行）
　い．第１基礎出願の第１図には、Ａｌの組成が０〜８０％までの範囲内の耐摩耗性の皮膜の少なくとも一部にＮａＣｌ型の結晶構造が含まれていることが図示されているといえる。また、Ａｌ組成とＮ組成に対する技術思想が一致している。さらに、膜厚を０．８〜１０μｍ程度とすることは普通に採用されていたものであり、その特性も通常備えている一般的な特性にすぎないので、この点も第１基礎出願に記載されているに等しいといえる。そうすると、本件発明の全ての範囲で、優先権の効果が及ぶこととなる。（平成１８年７月２８日付け上申書第４頁９〜２０行、平成１９年６月２９日付け上申書第４頁２行〜第８頁２３行）
　う．仮にＡｌ組成の全ての範囲に優先権の効果が及ばないとしても、Ａｌの組成が５６〜６５％迄の範囲に第１基礎出願の優先権の効果は及ぶ。（答弁書第４頁１８行〜第５頁３行、平成１８年７月２８日付け上申書第４頁２０〜２６行）
　
（２）甲第１号証に基づく新規性欠如、進歩性欠如
　え．甲第１４号証のＦｉｇ１４の記載から、被覆層がどのような構造となるか判断するには、蒸着温度を考慮することが重要である。本件発明では、基板温度を４００℃として皮膜の主構造をＮａＣｌ型にしている。これに対して甲第１号証では蒸着温度に関する記載は全くなく、ＮａＣｌ型になっていると考える根拠は何処にもない。（口頭審理陳述要領書第１０頁５行〜第１１頁１１行）
　お．甲第２号証の図８に記載された反応ギブスエネルギーは、５００Ｋ（２２７℃）での平衡系における各物質のエネルギー順位を論理計算に基づいて表しているものであり、図７の実験データと比較すると、このデータから直ちに「常温下におけるＴｉ原子比０．３以上の(Ｔｉ,Ａｌ)ＮはＮａＣｌ構造になる」とは言えない。（答弁書第６頁２６行〜第７頁３４行）
　か．甲第４号証の図９の開示は、(Ｔｉ,Ａｌ)(Ｃ,Ｎ)といった風に、ＴｉとＡｌの比率に全く無頓着な開示態様であり、このような甲第４号証から、本件発明の完成に何らかの寄与を与える知見なり示唆は得られない。
　き．審判請求人は実験成績証明書を提出しているが、甲第１号証に蒸着温度の記載がない以上、甲第１号証の発明を再現できるはずがなく、該事件成績証明書は甲第１号証とは無関係の技術に関するものである。
　け．甲第１号証では「陰極アーク蒸着システムの原理と動作は以前から説明されている」のような概説的な記載にレファレンス番号を付しているに過ぎない以上、該“陰極アーク蒸着システム”なる手法を定める点から重要でない基材温度を甲第１号証でも踏襲している根拠は何処にもない。しかも、カソードアーク方式イオンプレーティング法において、基材温度は２００〜６００℃程度の範囲から採用することが一般的である。したがって、甲第５号証に記載された数値が甲第１号証に採用されている根拠はない。（平成１５年１０月２日付け上申書第２頁２行〜第５頁９行、）
　こ．甲第１号証の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ［５０：５０］はＴｉＮよりもドリル寿命が向上しているが、その向上幅は２．３倍にすぎない。ドリル寿命の２．３倍程度の向上は、耐酸化性が向上したことを反映するものにすぎず、このことからＮａＣｌ型であるという結論を導き出せない。（平成１８年７月２８日付け上申書第５頁２０〜２６行）
　さ．甲第１号証の(Ｔｉ,Ａｌ)ＮのＡｌ比は特定できない。また、請求人が主張するように、「±１５％以内でターゲットと同じ金属組成」がその範囲内のすべての組成を意味するのであれば、膜組成が不均質化してしまっていることを意味し、むしろ組成を規定できないというべきである。（平成１９年６月２９付け上申書第８頁２４行〜第１０頁２４行）
　し．(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜がＮａＣｌ型を維持しているのであれば、Ａｌ比が高くなるほど皮膜が硬くなることは、乙第１５号証〜乙第１７号証の記載から明らかである。甲第１号証の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜は、ＴｉＮ膜より柔らかい特性を有しており、ＮａＣｌ型といえない。（平成１８年７月２８日付け上申書第５頁１１行〜第６頁末行、平成１９年６月２９付け上申書第１１頁１６行〜第１６頁１０行、他）
　
２．証拠の記載事項
　ここで、平成１８年７月２８日付け上申書に添付された参考資料１は、「参考資料２」と示す。
　
（１）乙第１号証（本件特許の第１基礎出願に係る願書、明細書、図面）
　（ａ）「基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、
　(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)
　　但し　０．３５≦ｘ≦０．８
　　　　　　０．４≦ｙ≦１
で示される化学組成からなる耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性皮膜形成方法。」（特許請求の範囲）
　（ｂ）「本発明は、フライス加工工具等の表面に、密着性の優れた耐摩耗性皮膜を効率良く形成する方法に関するものである。」（第１頁１５〜１７行）
　（ｃ）「耐熱性や硬度が更に優れた皮膜として、イオンプレーティング法やスパッタリング法によるＴｉＡｌＮ，ＴｉＡｌＣ，或はＴｉＡｌＣＮ等の皮膜が提案された［特開昭６２−５６５６５，・・・］。」（第２頁１８行〜第３頁４行）
　（ｄ）「この様にして得られる皮膜の組成は
　(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)
　　但し　０．３５≦ｘ≦０．８
　　　　　　０．４≦ｙ≦１
であることが必要である。」（第５頁１８行〜第６頁２行）
　（ｅ）「本固溶体は、窒化物系で代表して説明すると、ＴｉＮ−ＡｌＮを端組成とする固溶体で、種々の成分範囲について調べた結果、第１図に示すような結晶構造を有することが明らかとなった。図中（Ａ）はＮａＣｌ（Ｂ１構造）領域、（Ｂ）はＺｎＳ型（ウルツァイト型）領域であり、また（Ｃ）は（Ａ）及び（Ｂ）の混成領域である。即ち本発明の成分範囲は、第１図から明らかなようにＡｌＮ固溶量で６５％までの広い範囲に亘って同一のＢ１構造を有するものである。」（第６頁３〜１２行）
　（ｆ）「Ｔｉ固溶度（ｘ）が０．３５未満の場合は、皮膜組成がＡｌＮに近似してくる結果、皮膜の軟質化を招き、十分な硬度が得られなくなり、フランク摩耗を容易に引き起す。一方ｘが０．３５以上になると、皮膜は高硬度化し、フランク摩耗は解消され、優れた耐酸化性が発揮される。しかしｘが０．８を超えると皮膜組成はＴｉＮに近似する様になり耐酸化性が劣化する。」（第６頁１３〜２０行）
　（ｇ）「次に窒素の固溶に関して説明すれば、本来一般式(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎで表わされる窒化物を基本として十分な特性が得られるのであるが、本発明では炭窒化物とすることによりＴｉＣの高硬度性（常温硬度Ｈｖ：約３１００ｋｇ／ｍｍ２）を発揮させるものである。即ち前記式においてｙの値が減少するにつれて硬度は大となり耐摩耗性は向上する。但しｙが０．４未満になると耐酸化性が低下してクレータ摩耗を起こし易くなる。ｙ≧０．４の範囲では耐酸化性の顕著な低下はみられない。」（第７頁１〜１０行）
　（ｈ）「実施例１・・・基材表面に膜厚４μｍの皮膜を形成した。・・・膜組成は(Ｔｉ０．４８Ａｌ０．５２)Ｎであった。・・・
実施例２・・・成膜した膜厚は３．８μｍであり、膜組成は(Ｔｉ０．７９Ａｌ０．２１)Ｎであった。
実施例３・・・成膜した膜厚は４．３μｍであり、膜組成は(Ｔｉ０．５２Ａｌ０．４８)(Ｎ０．７Ｃ０．３)であった。」（第７頁１６行〜第９頁８行）
　（ｉ）「実施例１〜３及び比較例１〜４によって得られたチップを、・・・切削試験に供した。・・・
　第２図に１５分切削試験後の逃げ面摩耗幅を示す。
　第２図から明らかな様に、本発明方法で得られた成膜材は、いずれの比較材よりも耐摩耗性に優れていることがわかった。・・・また、第２表にこれらの試験材のクレータ摩耗量を示す。比較例に比べ本発明のクレータ摩耗量はいずれも少ないことから、優れた耐熱皮膜として有用であることが分かる。」（第１１頁５行〜第１２頁４行）
　（ｊ）第２表（第１３頁）には、上記記載事項（ｉ）に関し、実施例１〜３及び比較例１〜４の「クレータ摩耗量（μｍ）」が示され、実施例１は「５μｍ」、実施例２は「１０μｍ」、実施例３は「７μｍ」、比較例１は「欠損」、比較例２は「２０μｍ」、比較例３は「欠損」、比較例４は「４０μｍ」となることが示されている。
　（ｋ）第１図には、上記記載事項（ｄ）に関し、「(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ組成（窒化物で代表）と結晶構造の関係を示す図」が示され、「ＡｌＮ（重量％）」と結晶構造の関係が示されており、ＡｌＮが０〜６５％が（Ａ）領域、６５〜８０％が（Ｃ）領域、８０〜１００％が（Ｂ）領域であることが窺える。
　（ｍ）第２図には、上記記載事項（ｉ）に関し、「逃げ面摩耗幅と切削時間の関係を示すグラフ」が示され、実施例１〜３の「逃げ面摩耗幅（ｍｍ）」が比較例１〜４と比較して小さな値となっていることが窺える。
　
（２）乙第２号証（U.WAHLSTROM et al., Crystal growth and microstructure of polycrystalline Ti1-xAlxN alloy films deposited by ultra-high-vacuum dual-target magnetron sputtering, Thin Solid Films, 1993, Vol.235, p.62-70）
　（ａ）「Ti1-xAlxN (0≦x≦1) films were grown by reactive dc magnetron sputtering in an ultra-high-vacuum dual-target sputter deposition system, shown schematically in Fig. 1.」（第６３頁左欄１９〜２２行、訳文「Ｔｉ１−ｘＡｌｘＮ（０≦ｘ≦１）膜を、図１で概略的に示された超高真空デュアルターゲットスパッタ蒸着システムにより、反応性ＤＣマクネトロンスパッタで成膜した。」）
　（ｂ）「XRD patterns from films with 0≦x≦0.52 show only a NaCl structure (002) peak with a position that continuously shifts towards higher 2θ values with increasing x. For films with x≧0.59, peaks indexable to the wurtzite structure appeared.」（第６４頁右欄６〜１０行、訳文「０≦ｘ≦０．５２の膜で得られたＸＲＤでは、ｘの増大と共に２θがより高くなる方向へ連続的にシフトする位置に単一のＮａＣｌ構造（００２）ピークが認められた。０．５９≧ｘの膜では、ウルツァイト型に同定できるピークが認められた。」）
　
（３）乙第３号証（Y.TANAKA et al., Structure and properties of (Ti1-xAlx)N films prepared by reactive sputtering, Thin Solid Films, 1993, Vol.228, p.238-241）
　（ａ）「All films investigated were grown by reactive cosputtering from Ti (99.98 % pure) and Al (99.99 % pure) targets in a mixed Ar-N2 d.c. discharge.」（第２３８頁左欄２１〜２３行、訳文「Ｔｉ（９９．９８％純度）とＡｌ（９９．９９％純度）のターゲットを用いＡｒ-Ｎ２中で反応性スパッタリング法にて成膜した膜を調査した。」）
　（ｂ）「As shown in Fig. 1, for films where 0≦x≦0.5, the diffraction lines were indexed with a single phase cubic B1 structure typical for titanium nitride. However, films with x=0.69 and 0.71 were determined to have two phases: a wurtzite structure and a small amount of the cubic structure.」（第２３９頁左欄１３〜１８行、訳文「第１図に示すように、０≦ｘ≦０．５の膜では、回折線はＴｉＮにおける典型的な構造である単一の立方晶Ｂ１構造に同定できた。しかし、ｘ＝０．６９、０．７１ではウルツァイト構造と少量の立方晶構造の二相を持つことが明らかとなった。」）
　
（４）乙第４号証（池田孜他，ＰＶＤ法によって作製したＴｉ-Ａｌ-Ｎ系硬質膜の高温酸化特性と耐摩耗性，日本金属学会誌，１９９３年、第５７巻，第８号，第９１９〜９２５頁）には、陰極アークイオンプレーティング装置を用いて、基板温度４００℃、カソード材料Ｔｉ１−ｘＡｌｘ（ｘ＝０〜０．８５）を用いて、Ｔｉ１−ｘＡｌｘＮ膜を形成したところ、０≦ｘ≦０．７の広い固溶囲において立方晶Ｂ１構造であったことが記載されている。（第９２０頁左欄５行〜右欄１行、Table 1（第９２０頁）、第９２１頁左欄１９〜２６行）
　
（５）乙第５号証（岡本康治他，真空アーク蒸着法によるＴｉＮ膜の特性，真空，１９８７年，第３０巻，第１０号，第７８６〜７９２頁）
　（ａ）「真空アーク蒸着法のプロセスパラメータとして前処理法、コーティング時のガス圧力、アーク電流、基板のバイアス電圧などが挙げられる・・・
　本研究では、真空アーク蒸着法により成膜したＴｉＮ膜の構造、組成、硬さ、密着性、膜内残留応力などの諸特性およびドリル切削寿命と、上記プロセスパラメータの一つである基板バイアス電圧との関連性を調べた。」（第７８６頁左欄９〜１６行）
　（ｂ）Table 1（第７８７頁）には、ＴｉＮ膜のプロセス条件が示され、温度が２８０℃、３００℃、３３０℃、３９０℃、４８０℃で行っていることが示されている。
　
（６）乙第６号証（河野通広他，マルチアーク放電型イオンプレーティング，実務表面技術，１９８６年，第３３巻，第６号，第２０６〜２１２頁）には、物理蒸着法の処理温度が２００〜６００℃であることが示されている。（第２０８頁の表２）
　
（７）乙第７号証（被告準備書面（１））には、平成１７年（行ケ）第１０２９６号審決取消請求事件における被請求人の主張及び立証について記載されている。
　
（８）乙第８号証（被告準備書面（２））には、平成１７年（行ケ）第１０２９６号審決取消請求事件における被請求人の主張及び立証について記載されている。
　
（９）乙第９号証（被告準備書面（４））には、平成１７年（行ケ）第１０２９６号審決取消請求事件における被請求人の主張及び立証について記載されている。
　
（１０）乙第１０号証（大木道則編，化学大辞典，第１版，(株)東京化学同人，１９８９年，第４０９頁）には、「化学組成［chemical composition］化合物あるいは混合物の構成成分の名称とその量的割合をいう．たとえば，水の分子式はＨ２Ｏであるが，これは水の化学組成が水素と酸素とから成り，両者の原子比が２：１であることを意味する．」（第４０９頁右欄５５〜５９行）と記載されている。
　
（１１）乙第１１号証（長倉三郎編，理化学辞典，第５版，(株)岩波書店，１９９８年，第１３３頁及び第３６８頁）には、「化学式」と「実験式」について記載されている。
　
（１２）乙第１２号証（化学大辞典編集委員会編，化学大辞典，縮刷版，共立出版(株)，昭和４６年，第８７８頁及び第８８５頁）には、「窒化アルミニウム」と「窒化チタン」について記載されている。
　
（１３）乙第１３号証（玉虫文一編，理化学辞典，第３版増補版，(株)岩波書店，１９８７年，第３９９頁）には、「結晶構造解析」について記載されている。
　
（１４）乙第１４号証（臼井英治著，現代切削理論，共立出版(株)，１９９０年、第１８８〜１９１頁）には、図４．２７（第１９０頁）に「工具面上の温度分布の測定結果」が記載され、すくい面の温度が８００℃以上であることが窺える。
　
（１５）乙第１５号証（石川剛史他，切削工具用超高硬度ＴｉＳｉＮ系コーティング材料の開発，日立金属技報，２００５年、第２１巻，第５９〜６４頁）には、ＡＩＰ法で形成したＴｉＡｌＮ膜の硬度について、次の事項が記載されている。
　「図２に，ＴｉＮへの第三元素添加量と押込み硬さの関係を示す。ＴｉＮへＡｌを添加したＴｉＡｌＮは約５５ａｔ％で最大押込み硬さが得られている・・・Ａｌ含有量が６０ａｔ％以上のＴｉＡｌＮが軟化する要因は六方晶ＡｌＮの出現によるものである。図３に，ＴｉＮへの第三元素添加量とＸ線回折より得られる岩塩構造型の（２００）面より算出した格子定数の関係を示す。ＴｉＡｌＮの場合は，Ａｌ添加に伴い，格子定数が単調に減少し・・・通常，単一固溶体を形成する場合，Ｔｉに対してより原子半径の小さいＡｌやＳｉを添加することにより，格子定数は減少する。ＴｉＡｌＮ皮膜においては，理論的に算出される格子定数とほぼ一致しており，このことはＴｉＡｌＮ固溶体を形成していることを示唆しており，ＴｉＡｌＮにおける硬化は，Ａｌの固溶強化であると結論付けることができる。」（第６０頁左欄１４〜３０行）
　
（１６）乙第１６号証（A.KIMURA at al., Effects of Al content on hardness, lattice parameter and microstructure of Ti1-xAlxN films, Surface and Coatings Technology, 1999, Vol.120-121, p.438-441）
　（ａ）「Ti1-xAlxN films were deposited on mirror-polished cemented carbide (WC-Co) substrates by the AIP method using Ti1-xAlx alloy targets with Al contents of 0, 10, 30, 50, 60, 70, 80, 90, 100 at.%. ... The Ti1-xAlx alloy targets were evaporated by arc-discharge with an arc current of 100 A, and films were deposited at a substrate temperature of 〜500℃ under a nitrogen atmosphere. The pressure was kept at 25 mTorr and substrates were biased at 20 V during the film deposition.」（第４３８頁右欄１２行〜第４３９頁左欄３行、訳文「Ａｌ量を０、１０、３０、５０、６０、７０、８０、９０、１００ａｔ％としたＴｉ１−ｘＡｌｘ合金ターゲットを用いたＡＩＰ法によって、鏡面研磨した超硬合金（ＷＣ−Ｃｏ）基材にＴｉ１−ｘＡｌｘＮ膜を蒸着した。・・・Ｔｉ１−ｘＡｌｘ合金ターゲットは１００Ａのアーク電流のアーク放電によって蒸発し、窒素雰囲気下、〜５００℃の基材温度で膜を蒸着した。膜蒸着中は、圧力を２５ｍＴｏｒｒに維持し、基材に２０Ｖのバイアスをかけた。」）
　（ｂ）「First of all, it was confirmed by EDX analysis that the atomic ratios Al/Ti of films were approximately equal to those of targets. ... For films with x=0.6, the peaks gradually shifted to higher diffraction angle in proportion to the x value, indicating that the lattice parameter decreased with the addition of Al. It has been reported that the change in lattice parameter was attributed to the substitution of Al atoms with Ti atoms in TiN, keeping the NaCl structure [4,9]. ... 
 For films with x≧0.7, new peaks appeared at positions close to those associated with the AlN wurtzite structure.」（第４３９頁左欄２１〜４１行、訳文「まず始めに、膜の原子比Ａｌ／Ｔｉがターゲットとほぼ等しいことをＥＤＸ分析で確認した。・・・ｘ＝０．６の膜では、Ａｌの増加によって格子定数が減少しつつ、ｘ値に応じてピークは高散乱角に徐々にシフトした。格子定数の変化は、ＮａＣｌ構造を維持しつつ、ＴｉＮのＴｉ原子がＡｌ原子に置換したためであると報告されている[4,9]。・・・ｘ≧０．７の膜では、ＡｌＮウルツァイト構造のピークと近接する位置に新しいピークが現れた。」）
　（ｃ）「The hardness of film with x=0, that is TiN, was 〜2000 HV and similar to that of bulk TiN. Comparing the open and closed circles in Fig. 2, the hardness of films with x≦0.6 gradually increased up to 〜3200 HV, while the lattice parameter correspondingly decreased. The film showed the highest hardness at x=0.6 and abruptly decreased from 〜3000 HV for x=0.7 to 1400 HV for x=1.」（第４３９頁右欄１行〜第４４０頁左欄４行、訳文「ｘ＝０、即ちＴｉＮの膜の硬さは〜２０００ＨＶであってバルクＴｉＮと同様であった。図２の白丸と黒丸とを対比すれば、ｘ≦０．６の膜の硬さは〜３２００ＨＶまで徐々に増加する一方、格子定数はこれに対応しながら減少した。膜の硬さはｘ＝０．６で最大となり、ｘ＝０．７の〜３０００ＨＶからｘ＝１の１４００ＨＶに突然低下した。」）
　
（１７）乙第１７号証（Soon Young Yoon et al., Impact-wear behaviors of TiN and Ti-Al-N coatings on AISI D2 steel and WC-Co substrates, Surface and Coatings Technology, 2004, Vol.177-178, p.645-650）
　（ａ）「TiN and Ti-Al-N coatings were deposited onto AISI D2 steel and WC-Co substrates by AIP technique.」（第６４５頁右欄１６〜１７行、訳文「ＡＩＰ技術によってＴｉＮとＴｉ-Ａｌ-Ｎ皮膜をＡＩＳＩ・Ｄ２鋼やＷＣ-Ｃｏ基材に蒸着した。」）
　（ｂ）「The mixed orientation and the internal stress for Ti-Al-N coatings would induce higher hardness and denser microstructure than TiN coatings [13].」（第６４６頁右欄１５〜１８行、訳文「Ｔｉ-Ａｌ-Ｎ皮膜は、配向の組み合わせと内部歪みによって、ＴｉＮ皮膜よりも高硬度で高密度になる。」）
　
（１８）乙第１８号証（バルザース社のホームページ）には、ＴｉＮコーティング材の硬度が２３００ＨＶ０．０５、ＴｉＡｌＮコーティング材の硬度が３４００ＨＶ０．０５、３３００ＨＶ０．０５であることが記載されている。
　
（１９）乙第１９号証（内田仁教授の「回答書」）には、甲第５号証の記述内容だけでは、執筆者独自のＣＡＰＤ法による成膜条件が特定できないと判断されるとの内田仁教授の見解が記載されている。
　
（２０）乙第２０号証（内田仁教授の「自己紹介」）
　
（２１）乙第２１号証（被請求人作成の「甲第１号証トレース実験」）には、甲第１号証のトレース実験が示され、甲第１号証の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ［Ａｌ＝５０ｗｔ％］は、ＴｉＮよりも硬度が低いのに対して、トレース実験の結果はＴｉＮに比べて高い皮膜硬度を有する点と、甲第１号証の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎの硬度がＡｌ量の増加に対して減少するが、トレース実験の結果では硬度が増加する点で異なったことが記載されている。
　
（２２）乙第２２号証（Prof. Dr. Christian Mittererの「見解書」及び作成者履歴書、著作物一覧）
　（ａ）「From the point of view of the undersigned it is however, ... , not possible to extrapolate the properties of coatings from the examples given in the patent 63-70956 (i.e. x=0.21, 0.48 and 0.52) up to higher Al contents (i.e. in the range 0.56≦x≦0.65),」（第２頁１５〜２０行、訳文「しかしながら、著者の観点では、・・・特許６３−７０９５６で与えられた例（すなわち、ｘ＝０．２１、０．４８、０．５２）からより高いＡｌ含有量（すなわち０．５６≦ｘ≦０．６５の範囲）の被覆の特性を外挿することは不可能である。」）
　（ｂ）「For a long time the superior application behaviour of Ti1-xAlxN coatings has been assumed to be related to their high hardness caused by the formation of the metastable fcc Ti1-xAlxN phase and their superior oxidation properties caused by formation of a protective Al-rich oxide layer on top of the coating [3].」（第１頁１３〜１６行、訳文「長い間、Ｔｉ１−ｘＡｌｘＮ被覆を適用して得られる優れた挙動は、準安定ｆｃｃＴｉ１−ｘＡｌｘＮ相の形成によって得られる高い硬度と、被覆の最上層にＡｌに富む保護酸化物層が形成されることによって得られる優れた酸化特性とに関連があると考えられていた[3]。」）
　
（２３）参考資料１（甲第２号証の図７に赤線を付記したもの）には、甲第２号証の図７に被請求人が赤線を付記したものが示されている。
　
（２４）参考資料２（平成１６年（ネ）第１５６３号判決）には、実施例を追加した場合に、優先権の効果が及ぶかどうかに関する判決が示されている。
　
Ｖ．当審の判断
　
１．優先権主張の効果
（一）特許法第４２条の２第２項は、同法第２９条の適用に係る優先権主張の効果について、「・・・優先権の主張を伴う特許出願に係る発明のうち、当該優先権の主張の基礎とされた先の出願の願書に最初に添付された明細書又は図面・・・に記載された発明・・・についての・・・第２９条・・・の適用については、当該特許出願は、当該先の出願の時にされたものとみなす」と規定している。
　同規定によれば、新規性及び進歩性の判断を行う場合に、本件発明のうち、第１基礎出願及び第２基礎出願の願書に最初に添付された明細書及び図面（以下、「当初明細書等」という）に記載された発明は、その特許出願が各基礎出願の時にされたものとみなされることになるが、本件発明のうち第１基礎出願及び第２基礎出願の当初明細書等に記載された発明の範囲を超える部分については、優先権の効果が認められないので、後の出願の出願日が基準となる。
　請求人は、甲第１号証に基づいて新規性欠如、進歩性欠如を主張しているが、請求人が引用する甲第１号証の公知日は、本件特許の原出願日及び第２基礎出願の出願日の前であり、第１基礎出願の出願日の後である。したがって、本件発明のうち第１基礎出願の当初明細書等に記載された発明の範囲を超える発明は、甲第１号証に基づいて新規性、進歩性の判断を行う必要がある。
　そこで、本件発明のうち第１基礎出願の当初明細書等（乙第１号証）に記載された発明の範囲を超える範囲について検討する。
　
（二）まず、第１基礎出願の当初明細書等では、記載されているＴｉとＡｌの組成比の単位が整合していない。すなわち、第１基礎出願の明細書には、記載事項（ａ）、（ｄ）、（ｇ）及び（ｈ）に記載されているように、化学式で記載されており、明細書では、ＴｉとＡｌの組成比はモル比で示されているといえる。一方、記載事項（ｋ）のように、第１図のみが「ＡｌＮ（重量％）」と記載されているため、明細書に記載された組成比の単位と整合していない。
　そこで、この点について検討すると、第１基礎出願の当初明細書等に記載されたＴｉＡｌＮ皮膜のＴｉとＡｌの組成比は、ＴｉＮ−ＡｌＮを端組成とする固溶体のＴｉとＡｌの組成比を示したものであり、その固溶体の組成変化はＴｉ原子とＡｌ原子との置き換わりを示していることが技術常識といえる。したがって、Ｔｉ原子とＡｌ原子との置き換わりを示すための組成比は、原子比、モル比またはモル％で示されるものといえる。そして、第１基礎出願の当初明細書等には、原子の置き換わりを示すために重量％を用いることを意味する記載はない。
　そうすると、第１基礎出願の当初明細書等に記載された組成比のうち、第１図に記載された「ＡｌＮ（重量％）」は「ＡｌＮ（モル％）」の誤記といえる。
　この点について、請求人は、Ａｌ組成がモル％か重量％であるか分からず、当業者が実施できないものであるため、第１基礎出願を根拠として優先権主張の効果は認められないと主張している（請求人の主張ウ参照）が、上述のとおり、ＴｉとＡｌの組成比は、モル比またはモル％で示されることが技術常識といえるから、請求人の主張は採用できない。
　
（三）本件発明と第１基礎出願の当初明細書等に記載された事項とを対比すると、本件発明は、上記「ＩＩ．」に記載したとおり、「基材表面に、(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．５６≦ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１、で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する厚さ０．８−１０μｍの耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜が形成されたものであることを特徴とする耐摩耗性皮膜被覆部材。」であり、耐摩耗性皮膜の化学組成、結晶構造、膜厚を主たる構成要件とする耐摩耗性皮膜被覆部材の発明である。
　一方、第１基礎出願の当初明細書等には、乙第１号証の記載事項（ａ）のとおり、(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)で示される化学組成からなる耐摩耗性皮膜が形成された基材について記載され、耐摩耗性皮膜が形成された基材は、本件発明の「耐摩耗性皮膜被覆部材」に相当するといえる。また、記載事項（ｅ）、（ｈ）及び（ｋ）によれば、該耐摩耗性皮膜の結晶構造や膜厚についても記載されている。したがって、第１基礎出願の当初明細書等には、皮膜の化学組成、結晶構造、膜厚が記載されている耐摩耗性皮膜の耐摩耗性皮膜被覆部材が示されているといえる。
　してみると、第１基礎出願の当初明細書等には、「耐摩耗性皮膜被覆部材」は記載されているといえるから、本件発明が第１基礎出願の当初明細書等に記載された事項の範囲内か否かの判断は、本件発明の皮膜の化学組成、結晶構造、膜厚を主たる構成要件とする耐摩耗性皮膜が、第１基礎出願の当初明細書等に技術的事項として記載されているかどうかを検討することによって行う。
　
（四）まず、耐摩耗性皮膜の膜厚についてみてみると、本件発明の膜厚は、「厚さ０．８−１０μｍ」であり、この点について、本件特許明細書の段落【００１７】には、「膜厚が０．８μｍ未満の場合は耐摩耗性が不十分となり、一方１０μｍを超えると膜自体にクラックが入り易くなって強度が不十分となる。」と記載されている。これら事項から、本件発明の皮膜の膜厚が０．８〜１０μｍである場合に、被覆部材の耐摩耗性皮膜としての効果を奏するといえる。
　これに対して、第１基礎出願の当初明細書等には、記載事項（ｈ）によれば、耐摩耗性皮膜の膜厚として、「３．８μｍ」、「４μｍ」、「４．２μｍ」との具体的な数値が記載されているのみであり、作用効果を奏するために膜厚を特定の厚さとするとの技術的事項については、記載されていない。
　しかしながら、耐摩耗性皮膜の厚さについては、第１基礎出願に従来技術として記載された「特開昭６２−５６５６５号公報」（記載事項（ｃ）参照）に「基体部材の表面に、ＴｉとＡｌの炭化物、窒化物、および炭窒化物のうちの１種の単層・・・からなる硬質被覆層を、０．５〜１０μｍの層厚で形成してなる耐摩耗性のすぐれた表面被覆硬質部材。」（特許請求の範囲）、及び「この発明の表面被覆硬質部材において、硬質被覆層の層厚を０．５〜１０μｍと限定したのは、その層厚が０．５μｍ未満では所望の耐摩耗性向上効果が得られず、一方その層厚が１０μｍを越えると耐摩耗性が劣化するようになるという理由にもとづくものである。」（第２頁左上欄１９行〜同頁右上欄３行）と記載されているように、耐摩耗性被覆部材の耐摩耗性向上効果や被覆層の劣化を考慮して０．５〜１０μｍの膜厚とすることは、当該技術分野において普通に採用されていることといえる。
　したがって、本件発明の耐摩耗性皮膜の厚さは、第１基礎出願の当初明細書等に実質的に記載されている技術的事項といえる。
　
（五）つぎに、耐摩耗性皮膜の化学組成と結晶構造についてみてみる。
　本件発明には、「(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．５６≦ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１、で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する」と記載されている。
　そして、本件特許明細書には、「本発明は以上の様に構成されているので、・・・ＡｌＮにＴｉが固溶した皮膜である為、耐熱性，熱伝導性等に関し、ＡｌＮに近似した優れた特性が発揮され、その結果として、耐摩耗性、耐高温酸化性及び硬度に優れた皮膜が密着性良く被覆形成された耐摩耗性皮膜被覆部材を提供することに成功した。」（段落【００４０】）と記載され、さらに、「ＮａＣｌ型（Ｂ１構造）を有する組成範囲内で、ＡｌＮにＴｉＮが２５〜４４モル％固溶した固溶体である。この範囲に限定した理由を以下に述べる。・・・Ａｌ量（ｘ）が０．７５を超える場合は、皮膜組成がＡｌＮに近似してくる結果、皮膜の軟質化を招き、十分な硬度が得られなくなり、フランク摩耗を容易に引き起す。一方ｘが０．７５以下になると、皮膜は高硬度化し、フランク摩耗量は減少する。・・・（ＡｌｘＴｉ１−ｘ)Ｎにおける・・・ｘが０．７５を超えると硬度が大きく低下することが分かる。・・・ＡｌＮの耐高温酸化特性を有効に発揮するためには次に述べる様な下限がある・・・Ａｌ量が増加するにつれて酸化開始温度が上昇する・・・酸化開始温度が８００℃以上の組成をｘ＝０．５６と決めた。」（段落【００１３】〜【００１５】）、「本発明の組成式においては、ｙの値が減少するにつれて硬度が大となり、耐摩耗性は向上する。・・・ｙが０．６未満になると耐酸化性が低下してクレータ摩耗を起こし易くなる。ｙ≧０．６の範囲では耐酸化性の顕著な低下はみられない。」（段落【００１６】）と記載されている。
　これら記載からみて、本件発明の耐摩耗性皮膜は、(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)皮膜で、ＮａＣｌ型（Ｂ１構造）を有する組成範囲内で、０．５６≦ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１である場合に、耐摩耗性、耐高温酸化性及び硬度に優れた効果を奏するといえる。
　
（六）そこで、本件発明のような優れた効果を奏する耐摩耗性皮膜の化学組成と結晶構造について、第１基礎出願の当初明細書等をみてみる。
　第１基礎出願の当初明細書等には、記載事項（ａ）のとおり「基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．３５≦ｘ≦０．８、０．４≦ｙ≦１で示される化学組成からなる耐摩耗性皮膜を・・・形成することを特徴とする耐摩耗性皮膜形成方法。」が記載されており、(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．３５≦ｘ≦０．８、０．４≦ｙ≦１で示される化学組成からなる耐摩耗性皮膜が記載されているといえる。
　また、第１基礎出願の当初明細書等には、記載事項（ｈ）によれば、実施例１に、(Ｔｉ０．４８Ａｌ０．５２)Ｎの膜組成からなり膜厚４μｍの皮膜、実施例２に、(Ｔｉ０．７９Ａｌ０．２１)Ｎの膜組成からなり膜厚３．８μｍの皮膜、及び、実施例３に、(Ｔｉ０．５２Ａｌ０．４８)(Ｎ０．７Ｃ０．３)の膜組成からなり、膜厚４．３μｍの皮膜が記載されているといえる。
　さらに、図１には、記載事項（ｋ）のとおり、「(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ組成と結晶構造の関係を示す図」が示され、ＡｌＮが０〜６５モル％が（Ａ）領域、６５〜８０モル％が（Ｃ）領域、８０〜１００モル％が（Ｂ）領域であることが窺える。そして、記載事項（ｅ）によれば、この(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ組成は、(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ皮膜の組成といえ、また、これら（Ａ）〜（Ｃ）領域は、（Ａ）はＮａＣｌ（Ｂ１構造）領域、（Ｂ）はＺｎＳ型（ウルツァイト型）領域、（Ｃ）は（Ａ）及び（Ｂ）の混成領域であるといえるから、図１には、Ａｌの組成が０〜８０モル％までの範囲内の(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)Ｎ皮膜の少なくとも一部にＮａＣｌ結晶構造が含まれていることが図示されているといえる。
　そして、これら(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)皮膜が有する効果についての記載事項をみてみると、第１基礎出願の当初明細書等には、記載事項（ｆ）によれば、「Ｔｉ固溶度（ｘ）が０．３５未満の場合は、皮膜組成がＡｌＮに近似してくる結果、皮膜の軟質化を招き、十分な硬度が得られなくなり、フランク摩耗を容易に引き起す。一方ｘが０．３５以上になると、皮膜は高硬度化し、フランク摩耗は解消され、優れた耐酸化性が発揮される。しかしｘが０．８を超えると皮膜組成はＴｉＮに近似する様になり耐酸化性が劣化する。」と記載されている。したがって、Ａｌの組成が０．２以上０．６５以下の(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ皮膜が、高硬度で、耐酸化性に優れていること、Ａｌの組成が０．６５を超える(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ皮膜は、軟質化することが記載されているといえる。
　また、記載事項（ｇ）によれば、「次に窒素の固溶に関して説明すれば、本来一般式(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎで表わされる窒化物を基本として十分な特性が得られるのであるが、本発明では炭窒化物とすることによりＴｉＣの高硬度性（常温硬度Ｈｖ：約３１００ｋｇ／ｍｍ２）を発揮させるものである。即ち前記式においてｙの値が減少するにつれて硬度は大となり耐摩耗性は向上する。但しｙが０．４未満になると耐酸化性が低下してクレータ摩耗を起こし易くなる。ｙ≧０．４の範囲では耐酸化性の顕著な低下はみられない。」と記載されており、「前記式においてｙの値」とは、記載事項（ｄ）によれば、「(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)」で示されるＮの組成といえるから、第１基礎出願の当初明細書等には、Ｎの組成が０．４以上１以下の(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)皮膜は、高硬度で、耐酸化性に優れていることが記載されているといえる。
　さらに、第１基礎出願の当初明細書等には、実施例１〜３で得られたチップの効果が示され、記載事項（ｊ）によれば、クレータ摩耗量が比較例に比べて小さな値となっていること、また、記載事項（ｍ）によれば、逃げ面摩耗量が比較例に比べて小さな値となっていることが示されている。また、記載事項（ｉ）によれば、これら結果から、実施例１〜３で得られたチップは、耐摩耗性、耐熱性に優れていることが示されている。そして、実施例１〜３で得られたチップは、記載事項（ｈ）のとおりの膜組成および膜厚を有するものであるから、第１基礎出願の当初明細書等には、(Ｔｉ０．４８Ａｌ０．５２)Ｎの膜組成からなり膜厚４μｍの皮膜、(Ｔｉ０．７９Ａｌ０．２１)Ｎの膜組成からなり膜厚３．８μｍの皮膜、及び、(Ｔｉ０．５２Ａｌ０．４８)(Ｎ０．７Ｃ０．３)の膜組成からなり膜厚４．３μｍの皮膜が、耐摩耗性及び耐熱性が優れていることが示されているといえる。
　以上の記載事項から、第１基礎出願の当初明細書等には、Ａｌの組成が０．２以上０．６５以下、Ｎの組成が０．４以上１以下の(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)皮膜であって、ＮａＣｌ型の結晶構造を含む皮膜が、高硬度で耐摩耗性や耐酸化性に優れた効果を奏することが記載されているといえ、一方、Ａｌの組成が０．６５〜０．８の(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)Ｎ皮膜であって、ＮａＣｌ型の結晶構造を含む皮膜は、軟質化することのみが記載されているため、この組成の皮膜は、高硬度になるとの効果を奏することが記載されているとはいえない。
　したがって、第１基礎出願の当初明細書等に記載された、耐摩耗性皮膜の化学組成と結晶構造に関する技術的事項は、Ａｌの組成が０．２以上０．６５以下、Ｎの組成が０．４以上１以下の(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)皮膜であって、ＮａＣｌ型の結晶構造を含む皮膜が、高硬度で耐摩耗性や耐酸化性に優れた効果を奏するということである。
　
（七）そして、耐摩耗性皮膜の化学組成と結晶構造に関する技術的事項について、本件発明と第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項とを対比すると、第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項における「耐摩耗性皮膜」は、高硬度で、耐摩耗性や耐酸化性に優れるとの効果を奏するものである。また、該皮膜が形成された耐摩耗性皮膜被覆部材は、記載事項（ｂ）によれば、フライス加工工具等に用いられるものであり、摩擦熱による高温状態に晒されるものであるといえるから、上記効果は高温状態での効果といえる。したがって、第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項における「耐摩耗性皮膜」は、高硬度で、高温状態での耐摩耗性や耐酸化性に優れるとの効果を奏するから、本件発明の「耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜」に相当するといえる。
　そして、「耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜」の化学組成についてみてみると、本件発明では「(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し０．５６≦ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１」であり、第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項においては「(ＴｉｘＡｌ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、Ａｌの組成が０．２以上０．６５以下、Ｎの組成が０．４以上１以下」であるから、両者は「(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し０．５６≦ｘ≦０．６５、０．６≦ｙ≦１」で重複し、本件特許のうちｘが「０．６５＜ｘ≦０．７５」の範囲については、第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項として記載されていない。
　また、「耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜」の結晶構造を比較すると、両者は「ＮａＣｌ型の結晶構造」を有する点で共通している。
　したがって、本件発明の耐摩耗性皮膜のうち、「(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．５６≦ｘ≦０．６５、０．６≦ｙ≦１、で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜」との技術的事項のみが、第１基礎出願の当初明細書等に記載されているといえ、「(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．６５＜ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１、で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜」については、第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項の範囲を超えるものといえる。
　
（八）以上のことを整理すると、本件発明のうち第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項の範囲内の発明は、「基材表面に、(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．５６≦ｘ≦０．６５、０．６≦ｙ≦１、で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する厚さ０．８−１０μｍの耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜が形成されたものであることを特徴とする耐摩耗性皮膜被覆部材」の発明といえ、本件発明のうち第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項を超える発明は、「基材表面に、(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．６５＜ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１、で示される化学組成からなり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有する厚さ０．８−１０μｍの耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜が形成されたものであることを特徴とする耐摩耗性皮膜被覆部材。」の発明（以下、「本件発明ａ」という。）といえる。
　したがって、本件発明ａは、第１基礎出願に基づく優先権主張の効果が認められない。
　
（九）なお、この点について、被請求人は、Ａｌ組成が０〜８０％の範囲まで優先権主張の効果が及ぶと主張している（被請求人の反論い参照）。
　しかしながら、前記（六）で検討したとおり、第１基礎出願の当初明細書等に記載された技術的事項として開示された皮膜の化学組成は、Ａｌ組成が６５％までの皮膜であり、６５％を超える組成の皮膜は、高硬度で耐摩耗性や耐酸化性に優れた効果を奏する皮膜として認識されていなかったから、本件発明の耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜のうち、Ａｌ組成が６５％を超える部分については、第１基礎出願の当初明細書等に記載されているとはいえない。
　よって、被請求人の主張は採用できない。
　
２．甲第１号証に基づく、新規性欠如及び進歩性欠如の検討
（一）本件発明ａは、上述のとおり、第１基礎出願に基づく優先権主張の効果が認められないから、本件特許の原出願日又は第２基礎出願の出願日前に頒布された刊行物である甲第１号証に基づいて、本件発明ａの新規性及び進歩性についての検討を行う。
　
（二）甲第１号証には、記載事項（ｄ）によれば、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ被覆ＨＳＳドリルが記載され、この被覆ドリルは、記載事項（ｈ）によれば、ＴｉＡｌ（５０：５０）ターゲット組成の窒化物である(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ５０：５０の膜が蒸着されたものといえ、ＴｉＡｌ（５０：５０）ターゲット組成は、記載事項（ｂ）によれば、重量％であるといえる。さらに、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ５０：５０膜についてみると、記載事項（ｅ）及び（ｆ）によれば、ＴｉＡｌ（５０：５０）のターゲット組成から蒸着された膜の微細硬度は、２４５０±２００ｋｇ／ｍｍ２であり、 (Ｔｉ,Ａｌ)Ｎは、記載事項（ｉ）によれば、優れた摩耗性を有するといえ、その膜厚は、記載事項（ｃ）及び（ｆ）によれば、５〜７μｍであるといえる。さらに、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ５０：５０膜の組成については、記載事項（ｇ）によれば、±１５％以内でターゲットと同じ金属組成を有しているといえる。
　これら記載事項を本件発明ａの記載ぶりに則して整理すると、甲第１号証には、「ＨＳＳドリルに、ＴｉＡｌ（５０：５０（重量％））のターゲットから蒸着され、±１５％以内でターゲットと同じ金属組成を有している(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜であって、膜厚５〜７μｍ、微細硬度２４５０±２００ｋｇ／ｍｍ２の優れた摩耗性を有する(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜が被覆された(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ被覆ＨＳＳドリル」の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されている。
　
（三）本件発明ａと甲１発明とを対比すると、後者の「ＨＳＳドリル」は、記載事項（ａ）の「高速度鋼（ＨＳＳ）ドリルとＳＳ−３０４シート標本とがともに本件の基板として用いられた」との記載によれば、前者の「基材」に相当する。また、後者の膜厚が５〜７μｍである点で、前者の皮膜の厚さの範囲に重複している。そして、後者の「摩耗性を有する(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ膜が被覆された(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ被覆ＨＳＳドリル」は、前者の「耐摩耗性皮膜被覆部材」に相当する。
　したがって、両者は、「基板表面に、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎからなり、厚さ５〜７μｍの耐摩耗性皮膜が形成されたものであることを特徴とする耐摩耗性皮膜被覆部材」で一致し、以下の点で相違している。
［相違点１］
　本件発明ａでは、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の化学組成が「(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．６５＜ｘ≦０．７５、０．６≦ｙ≦１」であるのに対して、甲１発明では、「ＴｉＡｌ（５０：５０（重量％））のターゲットから蒸着され、±１５％以内でターゲットと同じ金属組成」である点。
［相違点２］
　本件発明ａでは、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、「ＮａＣｌ型の結晶構造を有する」のに対して、甲１発明では、その点について明示されていない点。
［相違点３］
　本件発明ａでは、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、「耐高温酸化性に優れ高硬度」であるのに対して、甲１発明では、「微細硬度２４５０±２００ｋｇ／ｍｍ２」であることが示されているのみである点。
　
（四）上記相違点のうち、まず相違点３について検討する。
　本件特許明細書の段落【００１２】には、
「この様にして得られる皮膜の組成は
　(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)
　但し　０．５６≦ｘ≦０．７５
　　　　　０．６≦ｙ≦１
であることが必要であり、且つＮａＣｌ型の結晶構造を有するものである。そしてその厚さは、０．８−１０μｍであり、これらの要件を満足することによって、耐高温酸化性に優れた高硬度耐摩耗性皮膜としての特性を発揮する。」と記載されている。
　この記載をみると、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の皮膜組成、結晶構造、厚さが本件発明ａの要件を満足すれば、「耐高温酸化性に優れ高硬度」の皮膜となるといえる。
　そうすると、相違点３は、相違点１及び相違点２に依存するものであるといえるから、相違点１及び相違点２が解消されるのであれば必然的に解消されるものである。
　したがって、上記相違点のうち、相違点１及び相違点２が解消されるかを検討する。
　
（五）相違点１について検討する。
　甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、「ＴｉＡｌ（５０：５０（重量％））のターゲットから蒸着され、±１５％以内でターゲットと同じ金属組成」である。
　したがって、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜のＡｌとＴｉの組成は、重量％で、５０±１５：５０±１５＝３５〜６５：６５〜３５となり、これをモル比に換算すると、ＡｌとＴｉの組成は、モル％で４９〜７７：５１〜２３となる。
　ここで、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜が「±１５％以内でターゲットと同じ金属組成」であることについて検討すると、甲第１号証の記載事項（ｇ）は、「Films deposited from alloyed targets were found to have within ±15 % the same metal composition as the targets.」と記載され、複数の皮膜がターゲット組成から±１５％内で同じ組成を有していることを示すものであるから、複数の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の個々の皮膜の組成が、ターゲット組成から±１５％の範囲内のいずれかの組成を有しているといえる。
　したがって、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、ＡｌとＴｉの組成がモル％で４９〜７７：５１〜２３の範囲のうちの何れかの組成を有しているといえ、これを、本件発明ａの記載ぶりに直すと、(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．４９≦ｘ≦０．７７、ｙ＝１、の化学組成の何れかの組成を有しているといえる。
　そうすると、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の化学組成は、本件発明ａの皮膜の化学組成と、(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)(ＮｙＣ１−ｙ)、但し、０．６５＜ｘ≦０．７５、ｙ＝１の範囲で重複しているから、本件発明ａの皮膜の化学組成を有している蓋然性は高い。
　この点について、請求人は、得られた皮膜は、ターゲット材料の合金成分比をそのまま転写した組成であり、±１５％のばらついたすべての組成を有していると主張している（請求人の主張キ参照）が、上記のとおり、甲第１号証の記載事項から、１つの皮膜の組成が±１５％のばらついたすべての組成を有しているとはいえない。
　
（六）相違点２について検討する。
　前記のとおり、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の組成が本件発明ａの組成と一致するとして、この(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の結晶構造がＮａＣｌ型結晶構造であるかをみてみると、（１）甲第１号証には、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜がＮａＣｌ型結晶構造であることが示されておらず、（２）(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の結晶構造は、組成以外にも成膜時の結晶温度によっても変化するから、甲１発明の皮膜のＡｌ組成０〜７０モル％の範囲であっても、ＮａＣｌ型結晶構造であるとはいえないし、また、（３）甲１発明の皮膜と本件発明ａの皮膜とは、成膜温度を含めた成膜条件が同じ成膜方法で得られた膜であるといえないから、甲１発明の皮膜はＮａＣｌ型結晶構造であるともいえない。そして、（４）甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の硬度は、本件発明と異なり、ＴｉＮ皮膜と同程度の硬度であることから、甲１発明の皮膜は、ＮａＣｌ型結晶構造であるともいえない。
　
（七）すなわち、本件特許明細書の段落【００１３】及び図１によれば、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜のＡｌＮモル比が０〜７０モル％であれば、ＮａＣｌ型結晶構造であることが示されている。しかしながら、甲第４号証の記載事項（ｂ）によれば、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、成膜温度によって、アモルファス相やｆｃｃ相及び／またはｈｅｘ相、液相に変化することが示されており、得たれた皮膜の結晶構造を決定するためには、成膜時の成膜温度も重要であるといえる。してみると、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の組成が、本件特許に示されたように、ＮａＣｌ型結晶構造であるＡｌＮモル比が０〜７０モル％であったとしても、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜がＮａＣｌ型結晶構造であるとはいえない。
　この点について、請求人は、本件特許明細書の段落【００１３】の記述や、甲第２号証及び甲第４号証を提示し、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜のＡｌの原子比が０．７以下であればＮａＣｌ型であることが技術常識であることを主張している（請求人の主張エ、オ、カ）が、上記のとおり、成膜方法のうち特に成膜温度によって結晶構造が変化するから、組成のみからＮａＣｌ型結晶構造であるとする根拠は見いだせない。
　
（八）また、甲１発明の皮膜と本件発明ａの皮膜との成膜方法をみてみると、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、甲第１号証の記載事項（ａ）及び（ｂ）によれば、高速度鋼（ＨＳＳ）ドリルとＳＳ−３０４シート標本を基板として用い、陰極アーク蒸着システムにより、窒素雰囲気中で、５〜１５ｍＴｏｒｒの全圧で、ＴｉＡｌ（５０：５０（重量％））のダーゲットを用いて成膜している。
　これに対して、本件発明ａの皮膜については、本件特許明細書の段落【００２１】に「Ａｌ０．７Ｔｉ０．３カソードを用いた以外は、実施例１と同一条件で成膜を行なった。成膜した膜厚は３．８μｍであり、膜組成は(Ａｌ０．６７Ｔｉ０．３３)Ｎであった。」と記載され、そして、実施例１の条件は、「Ａｌ０．６Ｔｉ０．４をカソード電極とするカソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに、超硬合金製チップ（主成分：ＷＣ−１０％Ｃｏ）を取付けた。・・・成膜に当たっては、ヒータによって基材温度を４００℃に加熱保持したまま、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを７×１０−３Ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始して基材表面に膜厚４μｍの皮膜を形成した。」（段落【００１９】〜【００２０】）と記載されている。これらの記載事項から、本件発明ａの皮膜は、超硬合金製チップを基材とし、カソードアーク方式イオンプレーティング装置により、７×１０−３ＴｏｒｒのＮ２ガス雰囲気で、基材温度４００℃、基材バイアス電圧−７０Ｖの条件で成膜されている。
　甲１発明と本件発明ａの成膜方法を比較すると、甲１発明では、基板温度と基板バイアス電圧が示されておらず、両者の成膜方法が同じであるとはいえない。しかも、上述したように、甲第４号証によれば、得られた皮膜の結晶構造を決定するためには、成膜時の成膜温度も重要である。
　してみると、甲１発明と本件発明ａの皮膜の組成範囲が同じであるとしても、成膜温度を含む成膜条件が同じ条件で成膜されているといえないので、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜が、本件発明ａと同様のＮａＣｌ型結晶構造であるとはいえない。
　この点について、請求人は、同一の製法で、同一のＡｌＴｉターゲットを用いて、同一の組成の皮膜を形成していることを根拠に、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の結晶構造がＮａＣｌ型構造であると主張している（請求人の主張ク参照）が、上述したように、製造方法が同一といえないから、出願人の主張は採用できない。
　
（九）さらに、甲１発明と本件発明ａの得られた(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の硬度を比較すると、本件特許明細書の段落【００１３】の「本発明の成分範囲は、図１，２から明らかな様に、ＮａＣｌ型（Ｂ１構造）を有する組成範囲内で、ＡｌＮにＴｉＮが２５〜４４モル％固溶した固溶体である。」との記載、及び図３の(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)Ｎにおけるｘの値とビッカース硬さとの関係から、本件発明ａの(ＡｌｘＴｉ１−ｘ)Ｎ皮膜は、ＴｉＮが２５〜４４モル％固溶した皮膜のビッカース硬度は、ＴｉＮ皮膜より高い値となっている。これに対して、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の微細硬度は、２４５０±２００ｋｇ／ｍｍ２であり、甲第１号証の記載事項（ｅ）によれば、ＴｉＮ皮膜の微細硬度が、２５００±２００ｋｇ／ｍｍ２であることから、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の硬度は、本件発明ａと異なり、ＴｉＮ皮膜と同程度の硬度となっている。
　そして、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の結晶構造と硬度について、乙第１５号証に「ＴｉＮへＡｌを添加したＴｉＡｌＮは約５５ａｔ％で最大押込み硬さが得られている・・・Ａｌ含有量が６０ａｔ％以上のＴｉＡｌＮが軟化する要因は六方晶ＡｌＮの出現によるものである。」と記載されている。また、乙第１６号証に「ｘ＝０．６の膜では、Ａｌの増加によって格子定数が減少しつつ、ｘ値に応じてピークは高散乱角に徐々にシフトした。格子定数の変化は、ＮａＣｌ構造を維持しつつ、ＴｉＮのＴｉ原子がＡｌ原子に置換したためであると報告されている。・・・ｘ≧０．７の膜では、ＡｌＮウルツァイト構造のピークと近接する位置に新しいピークが現れた。」、及び「ｘ＝０、即ちＴｉＮの膜の硬さは〜２０００ＨＶであってバルクＴｉＮと同様であった。図２の白丸と黒丸とを対比すれば、ｘ≦０．６の膜の硬さは〜３２００ＨＶまで徐々に増加する一方、格子定数はこれに対応しながら減少した。膜の硬さはｘ＝０．６で最大となり、ｘ＝０．７の〜３０００ＨＶからｘ＝１の１４００ＨＶに突然低下した。」と記載されている。このように、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、ＮａＣｌ型結晶構造であれば、ＴｉＮ皮膜より高硬度となり、六方晶ＡｌＮの出現により軟化するといえる。
　してみると、ＴｉＮ皮膜と同程度の硬さを示す甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜が、ＮａＣｌ型結晶構造を有するとはいえない。
　この点について、請求人は、硬度のみをもって結晶構造を断定するのは妥当でないと主張している（請求人の主張シ参照）。しかしながら、この請求人の主張を採用したとしても、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜が、ＮａＣｌ型結晶構造を有する根拠は見いだせない。
　
（十）そして、請求人のその他の主張についてみてみると、請求人は、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の結晶構造に関して、甲第１号証の「ＩＩ．実験」の「Ａ．蒸着」の欄では、「陰極アーク蒸着システムの原理と動作は以前に説明されている。」と記載され、甲第５号証が引用されていることを根拠にして、甲第１号証の方法は、甲第５号証の内容に従って行われ、甲第１号証と本件特許明細書中に記載された実施例１の成膜方法は、カソードアーク方式イオンプレーティングで同一であり、成膜温度、電圧、成膜雰囲気、全圧、ターゲットなどのパラメータが同程度か共通するから、甲第１号証に基づいて製造された(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜もＮａＣｌ型の結晶構造を有していることは明らかであると主張している（請求人の主張コ参照）。
　しかしながら、甲第１号証の「陰極アーク蒸着システムの原理と動作は以前に説明されている。」として引用された甲第５号証は、陰極アーク蒸着システムの原理と動作を引用するものであり、しかも、甲第５号証には、その一部に、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜と異なるＴｉＣ皮膜の成膜条件が示されているにすぎない。さらに、乙第５号証及び乙第６号証に記載されているように、カソードアーク方式イオンクレーティング法の基板温度は、２００〜５００℃程度の範囲から採用していることからみても、甲第５号証に記載された成膜条件を、甲１発明の成膜条件として用いたとはいえない。したがって、この主張から、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜がＮａＣｌ型結晶構造を有するとはいえない。
　また、請求人は、甲第１号証で製造された(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ被覆ドリルの性能は、本件発明ａに従って製造されたＴｉＡｌＮ被覆ドリルと同程度の寿命を有するから、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜はＮａＣｌ型結晶構造であると主張している（請求人の主張サ参照）。
　しかしながら、乙第２２号証の記載事項（ｂ）の「Ｔｉ１−ｘＡｌｘＮ被覆を適用して得られる優れた挙動は、準安定ｆｃｃＴｉ１−ｘＡｌｘＮ相の形成によって得られる高い硬度と、被覆の最上層にＡｌに富む保護酸化物層が形成されることによって得られる優れた酸化特性とに関連があると考えられていた。」とのように、ドリル性能から直接、皮膜の結晶構造を判断できるものでない。したがって、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ被覆ドリルの性能が同程度であることから、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜がＮａＣｌ型結晶構造を有するとはいえない。
　さらに、請求人は、甲第１号証の「ＩＩ．実験」の「Ａ．蒸着」の欄で示された方法を用いて形成した皮膜が、ＮａＣｌ型結晶構造であるとする実験成績証明書（参考資料４）を提出し、甲第１号証に記載された皮膜はＮａＣｌ型結晶構造であると主張している（請求人の主張ケ参照）。
　しかしながら、参考資料４は、成膜温度等の具体的な成膜条件や成膜方法などが十分に開示されておらず、信憑性に欠けるものであるから、この参考資料に基づいて、甲１発明の皮膜がＮａＣｌ型結晶構造であるとすることはできない。
　以上の請求人の主張、及びその他の主張、並びに他の証拠方法を検討しても、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜がＮａＣｌ型結晶構造を有するとはいえない。
　
（十一）以上のとおり、甲１発明の(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜は、ＮａＣｌ型結晶構造であるといえないから、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明ａは甲１発明といえず、本件発明ａは、甲１発明に対して新規性を有するものと認められる。
　
（十二）また、甲第１号証には、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜がＮａＣｌ型結晶構造を有することによって、高硬度となることについて、何ら記載されておらず、また、請求人の提出した証拠方法を参酌しても、(Ｔｉ,Ａｌ)Ｎ皮膜の結晶構造をＮａＣｌ型として、高硬度耐摩耗性皮膜とすることが容易になし得ることとも判断できない。したがって、本件発明ａは、甲１発明に基づいて容易に発明することができたものでもない。
　
３．ところで、請求人は口頭審理において、「第１基礎出願、第２基礎出願及び本件特許は、ＮａＣｌ型結晶構造の(Ａｌ,Ｔｉ)Ｎ皮膜を製造することができる程度に記載されておらず、本件特許は、特許法第３６条第４項の要件を満たさないため無効とされるべきである。」と主張している（請求人の主張ク参照）。しかしながら、この主張は、審判請求書の請求の理由に記載された主張の要旨を変更するものであり、平成１５年改正前特許法第１３１条第２項に規定されているように認められるものでないから、この点についての判断は行わない。
　
ＶＩ．結び
　以上のとおりであるから、請求人の主張及び証拠方法によっては、本件発明に係る特許を無効とすることができない。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。