【事件の表示】
　特願２００２−２６７１２５「有機ＥＬ素子の製造方法および製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月　２日出願公開、特開２００４−１０３５１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　
第１　手続の経緯・本願発明の認定
　本願は平成１４年９月１２日の出願であって、平成１９年６月４日付けで拒絶の理由が通知され、平成１９年８月１３日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、平成１９年１１月２日付けで拒絶の査定がされたため、これを不服として平成１９年１２月６日付けで本件審判請求がされたものである。
　したがって、本願の請求項４に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１９年８月１３日付けの手続補正で補正された明細書の特許請求の範囲【請求項４】に記載された事項によって特定される次のとおりのものと認める。
　
「排気系より排気される成膜室と、
　前記成膜室中に設けられた、被処理基板を保持する基板保持台と、
　前記成膜室中、前記基板保持台上に保持された被処理基板に対向するように設けられた蒸発源と、
　前記蒸発源と前記被処理基板との間に設けられた蒸着マスクと、
　前記成膜室の外部に設けられレーザビームを形成するレーザ光源と、
　前記成膜室の一部に形成され、前記レーザビームを成膜室内部に導入する光学窓と、
　前記レーザ光源により形成されたレーザビームを前記蒸着マスクに導く光学系と、
　前記蒸着マスクの表面を撮像する撮像素子とを備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造装置。」　
　
　
第２　当審の判断　
１．引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００２−２４１９２５号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の（ア）〜（キ）の記載が図示とともにある。
　
（ア）「【請求項１】真空槽と、
前記真空槽内に配置された基板ホルダと、
前記真空槽内で前記基板ホルダと対向する位置に配置された有機蒸着源と、
前記基板ホルダに配置された基板と前記有機蒸着源の間の位置に配置されたマスクと、
レーザ光発生装置とを有し、
前記レーザ光発生装置から射出されたレーザ光を前記マスクに照射できるように構成された有機蒸着装置。
【請求項２】前記真空槽内に配置された反射手段を有し、
前記レーザ光を前記反射手段で反射させ、前記マスクに照射するように構成された請求項１記載の有機蒸着装置。」
　
（イ）「【０００２】
【従来の技術】近年では、有機薄膜を用いた有機ＥＬ表示装置が注目されている。図５の符号２０１は、有機ＥＬ表示装置の一例であり、透明なガラス基板２１１上に、透明電極膜２１２と、バッファー層２１３と、有機薄膜２１４と、カソード電極膜２１５と、保護膜２１６とがこの順序で積層されている。
【０００３】透明電極膜２１２とカソード電極膜２１５の間に電圧を印加すると、電子とホールが有機薄膜内で結合し、発光する。その光は、ガラス基板２１１を透過し、外部に放射され、文字や図形等が表示される。
【０００４】上記のような有機薄膜２１４を用い、カラー表示可能な有機ＥＬ表示装置を製造するためには、三原色の各色の光を発生させる三種類の有機薄膜を透明電極膜上に形成する必要がある。」
　
（ウ）「【００１５】上述したように、カラー表示を行うためには、透明電極膜１０９表面に、パターニングした有機薄膜を形成する必要があり、そのため、孔１１１を有するマスク１１０をガラス基板１０８上に配置し、有機薄膜を成長させると、マスク１１０の遮蔽部材１１３上にも有機薄膜が形成されてしまう。
【００１６】遮蔽部材１１３上の有機薄膜が孔１１１内に向けて成長すると、孔１１１の大きさが次第に小さくなり、有機薄膜を希望通りの幅や長さに形成できなくなる。従って、マスク１１０は頻繁に交換する必要があった。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、正確なパターンの有機薄膜を形成できる技術を提供することにある。また、マスクを簡単に再生する技術を提供することにある。」
　
（エ）「【００２１】しかしながら、マスク表面にも有機材料の蒸気が付着するため、マスクにも有機薄膜が形成されてしまう。
【００２２】本発明は上記のように構成されており、レーザ光をマスクに照射し、マスク表面に形成された有機薄膜を蒸発させ、マスクをクリーニングしている。従って、マスク表面に付着した有機薄膜によって孔の径が小さくなったり、マスク表面から有機薄膜が剥離し、ダストになることがない。」
　
（オ）「【００２８】
【発明の実施の形態】図１を参照し、符号２は本発明の一例の有機蒸着装置を示している。
【００２９】この有機蒸着装置２は真空槽３を有しており、該真空槽３内の底壁上には、複数の有機蒸着源が配置されている。ここでは、第１〜第３の有機蒸着源５５1〜５５3と、図示しない有機蒸着源とが配置されている。第１〜第３の有機蒸着源５５1〜５５3内には、三原色の各色に対応する３種類の有機材料５６1〜５６3がそれぞれ配置されており、また、不図示の有機蒸着源内には、有機薄膜の母材となる有機蒸着材料が配置されている。
【００３０】真空槽３内の天井側には、基板ホルダ３０が配置されている。該基板ホルダ３０は、第１〜第３の有機蒸着源５５1〜５５3及び不図示の有機蒸着源上に位置している。
【００３１】基板ホルダ３０は、マスク移動装置３１と、マスク懸吊板３２と、基板懸吊板３３とを有している。
【００３２】マスク移動装置３１は、その一端部が真空槽３の天井に取り付けられており、他端部には、マスク懸吊板３２と基板懸吊板３３とが、水平な状態で取り付けられている。
【００３３】マスク移動装置３１は、真空槽３外に配置されたモータに接続されており、このモータの駆動力によって、マスク懸吊板３２と基板懸吊板３３とを水平方向に移動させ、また、水平面内で回転させるように構成されている。
【００３４】マスク懸吊板３２と基板懸吊板３３の四隅には、フック３５、３６が下方に向けて垂直に取り付けられている。各フック３５、３６の下端部は、水平方向であって、マスク懸吊板３２や基板懸吊板３３の辺に沿った方向に曲げられており、その曲げられた部分の上に板状の部材を載置できるように構成されている。
【００３５】図１の符号１０は、マスク懸吊板３２のフック３５によって、基板ホルダ３０内に載置されたマスクを示している。また、同図符号８は、基板懸吊板３３のフック３６によって、基板ホルダ３０内に載置された状態のガラス製の基板を示している。
【００３６】マスク懸吊板３２に取り付けられたフック３５の下端部は、基板懸吊板３３に取り付けられたフック３６の下端部よりも下方に位置しており、基板８はマスク１０の真上に位置するようになっている。
【００３７】また、基板８とマスク１０とは、フック３５、３６によって水平にされており、基板８は、マスク１０に近接した位置に配置されるようになっている。
【００３８】上記のような有機蒸着装置２を使用し、有機薄膜を積層させる場合には、予め、各有機蒸着源５５1〜５５3内に、三原色に対応する有機蒸着材料５６1〜５６3を配置し、基板ホルダ３０に基板８を配置せず、マスク１０を装着した状態で真空槽３に接続された真空排気装置５２を動作させ、真空槽３内を真空排気しておく。
【００３９】真空槽３内の真空雰囲気を維持しながら、基板搬送ロボットによって基板８を真空槽３内に搬入する。この基板８はガラス製であり、その表面には予めパターニングされた透明導電膜が形成されている。基板８は、透明導電膜が形成された面を下にして基板ホルダ３０内に挿入され、上述したように、フック３６の下端部上に載置される。
【００４０】符号３４は押さえ板であり、基板８の上方から降下させ、基板８表面に密着させ、基板８がフック３６上で動かないようにする。」
　
（カ）「【００４２】位置合わせを行った後、先ず、母材となる有機材料の蒸気と、第１の有機蒸着源５５1内に配置された第１色目の有機材料６1とを放出させる。
【００４３】図３は、マスク３と、基板８と、第１の有機蒸着源５５1との間の相対的な位置関係を示した図である。同図の符号５７1は、母材となる有機化合物の蒸気及び第１の有機材料５６1の蒸気を示している。
【００４４】マスク１０は、板状のニッケル合金で構成された遮蔽部材１３と、該遮蔽部材１３に形成された複数の孔１１とを有している。
【００４５】蒸気５７1が、マスク１０の孔１１を通過し、基板８に到達すると、透明導電膜表面に、孔１１の配置パターンと同じパターンで第１の有機薄膜が形成される。
【００４６】なお、第１の有機薄膜及び後述する第２、第３の有機薄膜を形成する際には、マスク懸吊板３１及び基板懸吊板２１とを中心軸線６４を中心にして一緒に回転させ、基板８とマスク１０とを相対的に静止させた状態で一緒に回転させ、有機材料の蒸気が基板８表面に均一に到達するようにしておく。
【００４７】図４(ａ)及び(ｂ)〜(ｅ)は、３種類の有機薄膜を基板８上に形成する場合の工程を示しており、図４(ａ)に示すように、第１の有機薄膜４１が所定膜厚に形成されたら、蒸気放出を一旦停止させ、マスク移動装置３１によってマスク１０と基板８とを所定量だけ相対的に移動させ(図４(ｂ))、次いで、母材となる有機材料の蒸気と、第２の蒸着源５５2内に配置された第２の有機薄膜材料５６2の蒸気とを放出させ、第１の有機薄膜４１に隣接する位置に第２の有機薄膜４２を形成する(図４(ｃ))。
【００４８】第２の有機薄膜４２の形成後、同様にマスク１０と基板８とを所定量だけ相対的に移動させ(同図(ｄ))、第１、第２の有機薄膜４１、４２に隣接する位置に第３の有機薄膜４３を形成する(図４(ｅ))。」
　
（キ）「【００５０】以上のように、マスク１０を用い、基板８上にパターニングした有機薄膜を形成すると、マスク１０の遮蔽部材１３表面にも有機薄膜が成長してしまう。図１、２の符号１４は、遮蔽部材１３上の有機薄膜を示している。
【００５１】本発明の有機蒸着装置２は、遮蔽部材１３上の有機薄膜１４を除去するためのレーザ光発生装置２７と、反射手段２１と、反射手段移動装置２４とを有している。
【００５２】レーザ光発生装置２７は真空槽３の外部に配置されており、該レーザ光発生装置２７が射出するレーザ光は、真空槽３に設けられた窓２６を通って真空槽３内に入射するように構成されている。
【００５３】反射手段２１は、真空槽３内であって、真空槽３内に入射するレーザ光の光路上に配置されている。
【００５４】従って、真空槽３内に入射したレーザ光は反射手段２１に照射され、該反射手段２１によって反射される。反射手段２１は、反射したレーザ光を真空槽３の天井側に照射するように配置されている。
【００５５】この反射手段２１は、支持部材２３を介して反射手段移動装置２４に取り付けられており、反射手段移動装置２４を動作させ、支持部材２３を伸縮させることで、レーザ光の光路上を移動できるように構成されている。
【００５６】従って、反射手段移動装置２４によって反射手段２１を移動させ、マスク１０の下方に位置させると、反射されたレーザ光はマスク１０に照射される。
【００５７】図２の符号２８は、レーザ光発生装置２７から射出され、反射手段２１によって反射されたレーザ光を示しており、真空排気装置５２を動作させ、真空槽３内を真空雰囲気にし、レーザ光２９をマスク１０に照射すると、マスク１０が昇温し、マスク１０表面に形成されている有機薄膜１４が蒸発し、除去される。
【００５８】レーザ光２９を照射している間、真空排気系５２を動作させておくと、マスク１０から発生した有機薄膜１４の蒸気は真空排気装置５２によって排気される。」
　
２．引用例１記載の発明の認定
　引用例１の上記記載（イ）、上記記載（オ）の段落【００３８】乃至【００３９】の記載及び上記記載（カ）から、引用例１に記載された有機蒸着装置が有機ＥＬ表示装置の製造に用いられることは明らかである。また、引用例１の上記記載（オ）から、引用例１の「基板」は「基板ホルダ内に載置され」ていることも明らかである。
　したがって、引用例１には次のような発明が記載されていると認めることができる。
　
「真空排気装置を動作させることにより真空排気される真空槽と、
　前記真空槽内の天井側に配置され、内部に基板を載置する基板ホルダと、
　前記真空槽内の底壁上であって前記基板ホルダと対向する位置に配置された有機蒸着源と、
　前記基板ホルダに配置された前記基板と前記有機蒸着源の間の位置に配置されたマスクと、
　前記真空槽外部に配置され、前記マスク上の有機薄膜を除去するためのレーザ光を射出するレーザ光発生装置と、
　前記レーザ光発生装置が射出するレーザ光を前記真空槽内に入射させるために前記真空槽に設けられた窓と、
　前記レーザ光発生装置が射出するレーザ光を前記マスクに照射する反射手段と、
を備えた、前記マスクの孔の配置パターンと同じパターンで前記基板に有機薄膜を形成する有機ＥＬ表示装置製造用有機蒸着装置。」（以下、「引用発明１」という。）
　
３．本願発明と引用発明１の一致点及び相違点の認定
（ア）引用発明１の「真空排気装置」は、本願発明の「排気系」に相当する。また、引用発明１では「真空槽」内で「基板に有機薄膜を形成」しているから、引用発明１の「真空排気装置を動作させることにより真空排気される真空槽」は、本願発明の「排気系より排気される成膜室」に相当する。
　
（イ）引用発明１の「基板」は本願発明の「被処理基板」に相当する。したがって、引用発明１の「真空槽内の天井側に配置され、内部に基板を載置」する「基板ホルダ」は、本願発明の「前記成膜室中に設けられた、被処理基板を保持する基板保持台」に相当する。
　　
（ウ）引用発明１の「基板」は「基板ホルダ」内に「載置」されているから、引用発明１の「前記基板ホルダと対向する位置に配置された有機蒸着源」は「基板」「と対向する位置に配置された有機蒸着源」であることは明らかである。また、引用発明１の「前記真空槽の底壁上」に「配置された有機蒸着源」は本願発明の「前記成膜室中…に設けられた蒸発源」に相当する。
　したがって、引用発明１の「前記真空槽内の底壁上であって前記基板ホルダと対向する位置に配置された有機蒸着源」は本願発明の「前記成膜室中、前記基板保持台上に保持された被処理基板に対向するように設けられた蒸発源」に相当する。
　
（エ）引用発明１の「前記基板ホルダに配置された前記基板と前記有機蒸着源の間の位置に配置されたマスク」は本願発明の「前記蒸発源と前記被処理基板との間に設けられた蒸着マスク」に相当する。
　
（オ）引用発明１の「前記真空槽外部に配置され、前記マスク上の有機薄膜を除去するためのレーザ光を射出するレーザ光発生装置」は、本願発明の「前記成膜室の外部に設けられレーザビームを形成するレーザ光源」に相当する。
　また、引用発明１の「前記レーザ光発生装置が射出するレーザ光を前記真空槽内に入射させるために前記真空槽に設けられた窓」は、本願発明の「前記成膜室の一部に形成され、前記レーザビームを成膜室内部に導入する光学窓」に相当する。
　さらに、引用発明１の「前記レーザ光発生装置が射出するレーザ光を前記マスクに照射する反射手段」は、本願発明の「前記レーザ光源により形成されたレーザビームを前記蒸着マスクに導く光学系」に相当する。
　
（カ）引用発明１の「有機ＥＬ表示装置製造用有機蒸着装置」は、本願発明の「有機ＥＬ素子の製造装置」に相当する。
　
（キ）したがって、本願発明と引用発明１とは、
「排気系より排気される成膜室と、
　前記成膜室中に設けられた、被処理基板を保持する基板保持台と、
　前記成膜室中、前記基板保持台上に保持された被処理基板に対向するように設けられた蒸発源と、
　前記蒸発源と前記被処理基板との間に設けられた蒸着マスクと、
　前記成膜室の外部に設けられレーザビームを形成するレーザ光源と、
　前記成膜室の一部に形成され、前記レーザビームを成膜室内部に導入する光学窓と、
　前記レーザ光源により形成されたレーザビームを前記蒸着マスクに導く光学系と、
　を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造装置。」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
〈相違点〉
　本願発明の「有機ＥＬ素子の製造装置」は「蒸着マスクの表面を撮像する撮像素子」を備えているのに対し、引用発明１の「有機ＥＬ表示装置製造用有機蒸着装置」は前記撮像素子を備えていない点。
　
４．相違点についての判断
　物の表面に付着した不要物を除去する際、前記物の表面を撮像する撮像素子を設け、前記撮像素子により前記物の表面を観察しながら前記不要物を除去することは、本願出願時において周知の技術である（特開２０００−２０２３８４号公報（請求項１、請求項２、段落【０００８】乃至【００１２】、図１）、特開２００１−４１９０４号公報（段落【００３０】、【００４４】乃至【００５６】、図１、図３）を参照。）。
　そして、引用発明１の「マスク上の有機薄膜」は「レーザ光」により「除去」されるものであるから、引用発明１の「マスク上の有機薄膜」は「マスク」の表面に付着した不要物である。
　すると、引用発明１の「有機ＥＬ表示装置製造用有機蒸着装置」において「レーザ光」により「マスク上の有機薄膜を除去する」際、上記周知技術を採用して撮像素子を設け、前記撮像素子により前記マスクの表面を観察しながら「マスク上の有機薄膜を除去する」ことは、当業者にとって容易に想到し得る。
　したがって、前記相違点に係る本願発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　また、本願発明の効果は、引用発明１及び周知技術から予測し得る程度のものである。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。そして、本願発明が特許を受けることができない以上、本願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶を免れない。 
　よって、結論のとおり審決する。