(57)【要約】  磁性粉末の製造方法は、酸化第一鉄を含む第１粒子を熱処理することにより、ε酸化鉄を含む第２粒子を作製することを含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化第一鉄を含む第１粒子を熱処理することにより、ε酸化鉄を含む第２粒子を作製すること
を含む磁性粉末の製造方法。
【請求項２】
前記第２粒子を還元処理すること
をさらに含む請求項１に記載の磁性粉末の製造方法。
【請求項３】
還元処理した前記第２粒子を酸化処理すること
をさらに含む請求項２に記載の磁性粉末の製造方法。
【請求項４】
前記熱処理前に、前記第１粒子にシリカコート処理を施し、
前記熱処理後に、前記第２粒子のシリカコートを除去すること
をさらに含む請求項１に記載の磁性粉末の製造方法。
【請求項５】
前記熱処理前に、液相熱分解法により前記第１粒子を作製すること
をさらに含む請求項１に記載の磁性粉末の製造方法。
【請求項６】
ε酸化鉄を含む粒子を含み、
下記の式（１）で表される変動係数が３０％以下であり、
ＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である磁性粉末。
変動係数［％］＝（［粒子径の標準偏差］／［平均粒子径］）×１００  ・・・（１）
【請求項７】
前記粒子は、
ε酸化鉄を含むコア部と、
α−Ｆｅを含むシェル部と
を備える請求項６に記載の磁性粉末。
【請求項８】
前記粒子は、
ε酸化鉄を含むコア部と、
α−Ｆｅを含む第１シェル部と
前記第１シェル部上に設けられ、酸化鉄を含む第２シェル部と
を備える請求項６に記載の磁性粉末。
【請求項９】
前記粒子は、鉄以外の金属さらに含んでいる請求項６に記載の磁性粉末。
【請求項１０】
ε酸化鉄を含む粒子を含む記録層を備え、
δ／Ｍｒｔが、下記の式（２）で表される関係を満たし、
ＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である磁気記録媒体。
２．０≦δ／Ｍｒｔ≦１２０．０  ・・・（２）
（但し、δ［ｎｍ］：前記記録層の平均厚み、Ｍｒｔ［ｍＡ］：残留磁化量と前記記録層の厚みの積である。）
【請求項１１】
記録層に対して垂直方向の角型比が、６０％以上である請求項１０に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、磁性粉末およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ε酸化鉄（ε−Ｆｅ2Ｏ3）は、塗布型磁気記録媒体の磁気記録材料への応用が期待されている。ε酸化鉄の製造方法としては、例えば以下のものが提案されている。【０００３】
特許文献１では、オキシ水酸化鉄（α−ＦｅＯＯＨ）の粒子を水蒸気が混合された水素ガス雰囲気等の弱還元雰囲気下において３００〜６００℃の範囲の温度で熱処理することにより立方晶酸化鉄を生成させる熱処理工程Ａと、熱処理工程Ａで得られた粒子を大気等の酸化雰囲気下において７００〜１３００℃の範囲の温度で熱処理することにより立方晶酸化鉄からε−Ｆｅ2Ｏ3結晶を生成させる熱処理工程Ｂとを有するε−Ｆｅ2Ｏ3結晶の製法が提案されている。【０００４】
非特許文献１では、逆ミセル法により水酸化鉄系化合物粒子を作製し、この粒子にシリカ被覆を施したのち、熱処理することで、ε酸化鉄粒子を製造する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１００８７１号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Shunsuke Sakurai，Jian Jin，Kazuhito Hashimoto and Shinichi Ohkoshi，JOURNAL OF THE PHYSICAL SOCIETY OF JAPAN，Vol.74，No.7，July，2005、p.1946-1949
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記の製造方法で得られたε酸化鉄では、粒子サイズのばらつきが大きく、磁気特性が低下する虞がある。【０００８】
本技術の目的は、優れた磁気特性を有する磁性粉末およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の課題を解決するために、第１の技術は、酸化第一鉄を含む第１粒子を熱処理することにより、ε酸化鉄を含む第２粒子を作製することを含む磁性粉末の製造方法である。【００１０】
第２の技術は、ε酸化鉄を含む粒子を含み、下記の式（１）で表される変動係数が３０％以下であり、ＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である磁性粉末である。
変動係数［％］＝（［粒子径の標準偏差］／［平均粒子径］）×１００  ・・・（１）【００１１】
第３の技術は、ε酸化鉄を含む粒子を含む記録層を備え、δ／Ｍｒｔが、下記の式（２）で表される関係を満たし、ＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である磁気記録媒体である。
２．０≦δ／Ｍｒｔ≦１２０．０  ・・・（２）
（但し、δ［ｎｍ］：記録層の平均厚み、Ｍｒｔ［ｍＡ］：残留磁化量と記録層の厚みの積である。）
【発明の効果】
【００１２】
本技術によれば、優れた磁気特性を有する磁性粉末を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、ＳＦＤ曲線の一例を示すグラフである。
【図２】図２は、本技術の第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。
【図３】図３Ａ〜図３Ｄは、本技術の第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法を説明するための断面図である。
【図４】図４は、本技術の第２の実施形態に係る磁性粉末の構成を示す断面図である。
【図５】図５は、本技術の第２の実施形態に係る磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】図６は、本技術の第３の実施形態に係る磁性粉末の構成を示す断面図である。
【図７】図７は、本技術の第３の実施形態に係る磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。
【図８】図８は、本技術の第４の実施形態に係る磁気記録媒体の構成を示す断面図である。
【図９】図９は、ＦｅＯナノ粒子の合成工程を説明するための工程図である。
【図１０】図１０は、シリカコートの処理工程を説明するための工程図である。
【図１１】図１１は、シリカコートの除去工程を説明するための工程図である。
【図１２】図１２は、α−Ｆｅ層および耐酸化被膜の形成工程を説明するための工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１  第１の実施形態（磁性粉末の例）
２  第２の実施形態（磁性粉末の例）
３  第３の実施形態（磁性粉末の例）
４  第４の実施形態（磁気記録媒体の例）
【００１５】
＜１  第１の実施形態＞
［磁性粉末の構成］
本技術の第１の実施形態に係る磁性粉末は、ε酸化鉄を含むナノ粒子（以下「ε酸化鉄粒子」という。）の粉末を含んでいる。第１の実施形態に係る磁性粉末は、高密度の磁気記録媒体の記録層（磁性層）に用いて好適なものである。ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、ε−Ｆｅ2Ｏ3結晶（Ｆｅサイトの一部が金属元素Ｍで置換されたものを含む）を主相とするものが好ましく、単相のε−Ｆｅ2Ｏ3からなるものがより好ましい。金属元素Ｍは、例えば、Ａｌ、ＧａおよびＩｎからなる群より選ばれる１種以上である。但し、鉄酸化物におけるＭとＦｅのモル比をＭ：Ｆｅ＝ｘ：（２−ｘ）と表すとき、０≦ｘ＜１である。
【００１６】
本技術において、ε−Ｆｅ2Ｏ3結晶には、特に断らない限り、Ｆｅサイトが他の元素で置換されていない純粋なε−Ｆｅ2Ｏ3結晶の他、Ｆｅサイトの一部が３価の金属元素Ｍで置換されており、純粋なε−Ｆｅ2Ｏ3結晶と空間群が同じである（すなわち空間群がＰｎａ２1である）結晶が含まれる。
【００１７】
（変動係数）
下記の式（１）で表される磁性粉末の変動係数が３０％以下である。
変動係数［％］＝（［粒子径の標準偏差］／［平均粒子径］）×１００  ・・・（１）
変動係数が３０％を超えると、ε酸化鉄粒子の粒子サイズのばらつきが大きくなり、磁性粉末の磁気特性のばらつきが大きくなる虞がある。
【００１８】
上記の磁性粉末の変動係数は、以下のようにして求められる。まず、透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope：ＴＥＭ）を用いて、磁性粉末を撮影する。次に、撮影したＴＥＭ写真から５００個のε酸化鉄粒子を無作為に選び出し、それらの各粒子の面積Ｓを求める。次に、粒子の断面形状が円形であると仮定して、以下の式から各粒子の粒径（直径）Ｒを粒子サイズとして算出し、磁性粉末の粒度分布を得る。
Ｒ＝２×（Ｓ／π）1/2
次に、求めた粒度分布からメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを平均粒子サイズＤaveとする。また、求めた粒度分布から標準偏差σを求める。次に、求めた平均粒子サイズＤaveおよび粒度分布の標準偏差σからσ／Ｄaveを計算し、これを変動係数として算出する。
【００１９】
（ＳＦＤ）
磁性粉末のＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である（図１参照）。比率Ｙ／Ｘが０．５を超えると、ε酸化鉄粒子の粒子サイズのばらつきが大きくなり、磁性粉末の磁気特性のばらつきが大きくなる虞がある。
【００２０】
上記の比率Ｙ／Ｘは、振動試料型磁力計(Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ)または超伝導量子干渉計（Superconducting Quantum Interference Device：ＳＱＵＩＤ）を用いて、以下のようにして求められる。まず、磁性粉末を所定の形にサンプリングする。サンプリングの形式は、測定用カプセルへの圧密、測定用テープへの貼り付けなど、測定に影響を及ぼさない範囲で自由に行うことができる。次に、磁性粉末サンプルのＭ−Ｈループを測定し、得られたＭ−Ｈ曲線からＳＦＤ曲線を算出する。ＳＦＤ曲線の算出には測定機に付属のプログラムを用いてもよいし、その他のプログラムを用いてもよい。ここで、Ｍ−Ｈループの測定は、室温（２３℃）にて行われる。求めたＳＦＤ曲線がＹ軸（ｄＭ／ｄＨ）を横切る点の絶対値を「Ｙ」とし、Ｍ−Ｈループで言うところの保磁力Ｈｃ近傍に見られるメインピークの高さを「Ｘ」として、比率Ｙ／Ｘを算出する。
【００２１】
［磁性粉末の製造方法］
以下、図２、図３Ａ〜図３Ｄを参照して、本技術の第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法について説明する。この磁性粉末の製造方法は、ＦｅＯ（酸化第一鉄）を含むナノ粒子（以下「ＦｅＯ粒子」という。）の粉末を出発原料としてε酸化鉄粒子の粉末を合成するものである。
【００２２】
（ＦｅＯ粒子合成）
まず、ステップＳ１１において、図３Ａに示すように、出発原料としてのＦｅＯ粒子（第１粒子）１１ａの粉末を真空中で液相錯体熱分解法により合成する。この際、溶媒、兼、配位子としてオレイン酸およびオレイルアミンを使用することが好ましい。凝集が少ないＦｅＯ粒子を合成することができるからである。これにより、シャープな粒度分布を有するＦｅＯ粒子１１ａの粉末が得られる。
【００２３】
上記工程において、ＦｅＯ粒子１１ａの粉末の粒度分布が、目的とするε酸化鉄粒子の粉末の粒度分布とほぼ同様なものとなるように、ＦｅＯ粒子１１ａの粉末を合成することが好ましい。具体的には、上記の式（１）で表されるＦｅＯ粒子１１ａの粉末の変動係数が３０％以下であることが好ましい。これにより、磁性粉末の変動係数を３０％以下とすることができるからである。なお、ＦｅＯ粒子１１ａの粉末の変動係数は、上記の磁性粉末の変動係数と同様にして求められる。
【００２４】
（コート処理）
次に、ステップＳ１２において、次工程の高温熱処理による粒子凝集を抑制するために、逆ミセル法によりＦｅＯ粒子１１ａの表面にシリカカート処理を行う。これにより、図３Ｂに示すように、ＦｅＯ粒子１１ａの表面にシリカコート層１１ｂが形成される。
【００２５】
（高温熱処理）
続いて、ステップＳ１３において、シリカコート処理されたＦｅＯ粒子１１ａの粉末を１０００℃以上の高温で焼成することにより、図３Ｃに示すように、ＦｅＯ粒子１１ａの粉末をε酸化鉄粒子（第２粒子）１１の粉末に変態させる。
【００２６】
（コート除去）
最後に、ステップＳ１４において、アルカリ溶液を用いて、図３Ｄに示すように、ε酸化鉄粒子１１の表面のシリカコート層１１ｂを除去することにより、目的とするε酸化鉄粒子１１の粉末を得る。
【００２７】
［効果］
第１の実施形態に係る磁性粉末では、上記の式（１）で表される磁性粉末の変動係数が３０％以下であり、かつ、磁性粉末のＳＦＤ曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である。これにより、ε酸化鉄粒子の粒子サイズのばらつきを抑制し、良好な磁気特性を有する磁性粉末が得られる。この磁性粉は高密度の磁気記録媒体に適用して好適なものである。
【００２８】
第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法では、ＦｅＯ粒子の粉末を熱処理することにより、ε酸化鉄粒子の粉末を作製しているので、ε酸化鉄粒子の粉末の粒度分布をシャープにすることができる。
【００２９】
第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法では、液相錯体熱分解法によりＦｅＯ粒子の粉末を合成しているので、シャープな粒度分布を有するＦｅＯ粒子の粉末が得られる。このような粒度分布を有するＦｅＯ粒子の粉末（すなわち粒子サイズのばらつきが小さいＦｅＯ粒子の粉末）を熱処理することでε酸化鉄粒子の粉末を合成しているため、α相やγ相の形成が抑制されて、不純物が少ない高純度なε酸化鉄粒子の粉末を得ることができる。したがって、単相のε酸化鉄粒子の粉末または単相に近いε酸化鉄粒子の粉末を得ることができる。
【００３０】
［変形例］
ＦｅＯ粒子合成の工程後、コート処理の工程前において、ＦｅＯ粒子１１ａの磁性粉末を分級処理して、よりシャープな粒度分布を有するＦｅＯ粒子１１ａの粉末を得るようにしてもよい。この場合、ε酸化鉄粒子のサイズのばらつきをさらに抑制できるので、より優れた磁気特性を有するε酸化鉄粒子の粉末を得ることができる。
また、ε酸化鉄粒子の粉末の保磁力ＨＣを調整するために、ε酸化鉄粒子の粉末の製造工程において、ε酸化鉄粒子をコアシェル化してもよいし、添加剤を添加してもよい。なお、ε酸化鉄粒子のコアシェル化の詳細については、第２、第３の実施形態にて説明する。
【００３１】
＜２  第２の実施形態＞
［磁性粉末の構成］
本技術の第２の実施形態に係る磁性粉末は、コアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末である。コアシェル粒子は、図４に示すように、コア部１２と、このコア部１２の周囲に設けられたシェル部１３とを備える。コア部１２とシェル部１３とは交換結合している。コア部１２とシェル部１３の界面において、両者の組成および／または状態などが不連続的に変化していてもよいし、連続的に変化していてもよい。第２の実施形態に係る磁性粉末は、高密度の磁気記録媒体の記録層（磁性層）に用いて好適なものである。
【００３２】
（コア部）
コア部１２は、第１の実施形態におけるε酸化鉄粒子と同様である。
【００３３】
（シェル部）
シェル部１３は、コア部１２の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。具体的には、シェル部１３は、コア部１２の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部１２の周囲全体を覆っていてもよい。コア部１２とシェル部１３の交換結合を十分なものとし、磁気特性を向上する観点からすると、コア部１２の表面全体を覆っていることが好ましい。
【００３４】
シェル部１３は、軟磁性体であるα−Ｆｅを含んでいる。シェル部１３は、例えば、コアシェル粒子の前駆体としてのε酸化鉄粒子（硬磁性粒子）の表面を還元することにより得られうるものである。具体的には例えば、シェル部１３に含まれるα−Ｆｅは、コア部１２に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られうるものである。
【００３５】
［磁性粉末の製造方法］
本技術の第２の実施形態に係る磁性粉末の製造方法は、図５に示すように、コート除去の工程（ステップＳ１４）後に、以下の還元処理の工程（ステップＳ１５）をさらに備える点において、第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法と異なっている。
【００３６】
（還元処理）
ステップＳ１５において、シリカコート層１１ｂを除去することにより得られたε酸化鉄粒子１１の粉末を還元処理する。具体的には、上記のε酸化鉄粒子１１の粉末を高温水素雰囲気下で一定時間熱処理することにより、粒子表面を還元させる。これにより、α−Ｆｅを含むシェル部１３がコア部１２の周囲に形成される。以上により、目的とするコアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末が得られる。
【００３７】
［効果］
第２の実施形態に係る磁性粉末は、ε酸化鉄を含むコア部１２とα−Ｆｅを含むシェル部１３とを備えるコアシェル粒子の粉末を含んでいる。この磁性粉末を用いて磁気記録媒体の記録層を形成することで、高出力で、優れた熱安定性を有し、また記録容易性を有する磁気記録媒体を実現できる。
【００３８】
第２の実施形態に係る磁性粉末の製造方法では、硬磁性粒子であるε酸化鉄粒子を還元処理することにより、軟磁性体であるα−Ｆｅを含むシェル部１３を備えるコアシェル粒子を形成する。これにより、均一なコアシェル粒子を作製することができ、コア部１２となるε酸化鉄粒子とシェル部１３となるα−Ｆｅの交換相互作用を均一に発現させることができる。したがって、高い飽和磁化量σｓを有する軟磁性体の特徴を生かすことができ、コアシェル粒子全体として高い飽和磁化量σｓを得ることができる。記録容易性についても同様に、コア部１２単体の保磁力Ｈｃは熱安定性を確保するために大きな値に保ちつつ、コアシェル粒子全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できるため、記録容易性が高まる。また、コア部１２となるε酸化鉄粒子も従来方法に比べて大きく作ることができるため、高い保磁力Ｈｃを保ちやすく、熱安定性の向上に有利である。
【００３９】
また、第２の実施形態に係る磁性粉末の製造方法では、予め作製したε酸化鉄粒子の表面を直接還元処理するため、前駆体となるε酸化鉄粒子の粒子径と、還元処理により得られるコアシェル粒子の粒子径とが同程度になる。したがって、前駆体となるε酸化鉄粒子の粒子径を調整することで、所望の粒子径を有するコアシェル粒子を作製することができる。したがって、粒度分布のばらつきの発生を抑制できる。
【００４０】
＜３  第３の実施形態＞
［磁性粉末の構成］
本技術の第３の実施形態に係る磁性粉末は、図６に示すように、コア部１２と、このコア部１２の周囲に設けられた２層構造のシェル部１４とを備えるコアシェル粒子の粉末である。第２の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
【００４１】
（シェル部）
２層構造のシェル部１４は、コア部１２上に設けられた第１シェル部１４ａと、第１シェル部１４ａ上に設けられた第２シェル部１４ｂとを備える。
【００４２】
（第１シェル部）
軟磁性層である第１シェル部１４ａは、第２の実施形態におけるシェル部１４と同様である。
【００４３】
（第２シェル部１４ｂ）
第２シェル部１４ｂは、酸化防止層としての酸化被膜である。第２シェル部１４ｂは、第１シェル部１４ａに含まれるα−Ｆｅ（軟磁性体）を酸化することにより得られうる材料、例えばＦｅ3Ｏ4、Ｆｅ2Ｏ3およびＦｅＯのうちの少なくとも１種の酸化鉄を含んでいる。
【００４４】
［磁性粉末の製造方法］
本技術の第３の実施形態に係る磁性粉末の製造方法は、図７に示すように、コート除去の工程（ステップＳ１４）後に、以下の還元処理の工程（ステップＳ１６）と徐酸化処理の工程（ステップＳ１７）とをさらに備える点において、第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法と異なっている。
【００４５】
（還元処理）
ステップＳ１６において、シリカコート層１１ｂを除去することにより得られたε酸化鉄粒子１１の粉末を還元処理する。これにより、α−Ｆｅを含む第１シェル部１４ａがコア部１２の周囲に形成される。なお、ステップＳ１６の還元処理は、第２の実施形態におけるステップＳ１５の還元処理と同様である。
【００４６】
（徐酸化処理）
ステップＳ１７において、第１シェル部１４ａにより表面が覆われたε酸化鉄粒子１１の粉末を徐酸化処理する。具体的には、上記のε酸化鉄粒子１１の粉末を窒素雰囲気中で室温まで冷却したのち、Ｏ2＋Ｎ2混合ガスの雰囲気中で熱処理を行うことにより、最外層に酸化被膜としての第２シェル部１４ｂを形成する。これにより耐酸化性に優れたコアシェル型ε酸化鉄粒子の粉末を得ることができる。
【００４７】
［効果］
第３の実施形態に係る磁性粉末では、コアシェル粒子が表面に第２シェル部１４ｂを有しているので、コアシェル粒子の表面が空気中に暴露されて、コアシェル粒子の表面に錆びなどが発生することを抑制することができる。したがって、磁性粉末の特性劣化を抑制することができる。
【００４８】
＜４  第４の実施形態＞
［磁気記録媒体の構成］
本技術の第４の実施形態に係る磁気記録媒体は、いわゆる垂直磁気記録媒体であり、図８に示すように、長尺状の基体２１と、基体２１の一方の主面上に設けられた下地層（非磁性層）２２と、下地層２２上に設けられた記録層（磁性層）２３とを備える。磁気記録媒体が、必要に応じて、記録層２３上に設けられた保護層（図示せず）および潤滑剤層（図示せず）などをさらに備えるようにしてもよい。また、必要に応じて、基体２１の他方の主面上に設けられたバックコート層２４をさらに備えるようにしてもよい。
【００４９】
（ＳＦＤ）
ＳＦＤ曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である（図１参照）。比率Ｙ／Ｘが０．５を超えると、ε酸化鉄粒子の粒子サイズのばらつきが大きくなり、記録層２３の磁気特性が低下し、Ｃ／Ｎ（Carrier to Noise Ratio）が悪化する虞がある。
【００５０】
上記の比率Ｙ／Ｘは、以下のようにして求められる。まず、ＶＳＭを用いて磁気記録媒体全体のＭ−Ｈループを測定する。その後、アセトンおよびエタノールなどを用いて塗膜（下地層２２、記録層２３など）を払拭し、基体２１のみを残して、バックグラウンド補正用として、基体２１のＭ−Ｈループを測定する。ここで、Ｍ−Ｈループの測定は、室温（２３℃）にて行われる。その後、磁気記録媒体全体のＭ−Ｈループから基体２１のＭ−Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループを算出する。これ以降は第１の実施形態に係る磁性粉末の場合と同様にして比率Ｙ／Ｘを求める。なお、ＶＳＭのＭ−Ｈループ測定において、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループが飽和しない場合には、より高い印可磁界を得られるＳＱＵＩＤを用いるものとする。上記の比率Ｙ／Ｘは、記録層２３に対して垂直方向に測定をした値である。また、垂直方向に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。
【００５１】
（δ／Ｍｒｔ）
δ／Ｍｒｔが、下記の式（２）で表される関係を満たしている。
２．０≦δ／Ｍｒｔ≦１２０．０  ・・・（２）
（但し、δ［ｎｍ］：記録層２３の平均厚み、Ｍｒｔ［ｍＡ］：残留磁化量と記録層２３の厚みの積である。）
記録層２３の平均厚みδが小さいと、平均厚みδに対する平均厚みδの変動の割合が必然的に大きくなってしまい、結果としてＣ／Ｎが劣化してしまう虞がある。一方、記録層２３の平均厚みδが大きいと、記録した磁化が記録層２３中で閉ループを形成してしまい、出力の減少が引き起こされ、Ｃ／Ｎが劣化してしまう虞がある。また、Ｍｒｔが小さいと、出力が減少し、Ｃ／Ｎの劣化が引き起こされる虞がある。一方、Ｍｒｔが大きいと、再生ヘッドが飽和してしまい、良好なＣ／Ｎが得られなくなる虞がある。上記のようなＣ／Ｎの劣化を抑制するために、δ／Ｍｒｔが上記の式（２）で表される関係を満たすようにしている。
【００５２】
上記の比率δ／Ｍｒｔは、以下のようにして求められたδ［ｎｍ］およびＭｒｔ［ｍＡ］から算出される。
【００５３】
δ［ｎｍ］は、以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体をＦＩＢ（Focused Ion Beam）法などにより加工してＴＥＭ観察用薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。観察倍率としては、記録層２３の厚みが明瞭に観察できるよう、少なくとも１０万倍以上で行うのが好ましい。断面ＴＥＭの観察は、磁気記録媒体の長手方向（走行方向）に１００ｍごとに合計５か所の位置で行われる。それらの各位置における観察方向は、磁気記録媒体の横方向（幅方向）である。一視野あたり均等に５０ポイントにおいて記録層２３の厚みを観察し、５視野全ての厚みを単純に平均（算術平均）して記録層２３の平均厚みδ［ｎｍ］を求める。
【００５４】
Ｍｒｔ［ｍＡ］は、以下のようにして求められる。まず、ＶＳＭを用いて、磁気記録媒体のＭ−Ｈループを測定する。次に、磁気記録媒体の塗膜（下地層２２、記録層２３など）をアセトンおよびエタノールで払拭し、基体２１のみを残し、その基体２１単体でのＭ−Ｈループを測定する。続いて、磁気記録媒体のＭ−Ｈループから、基体２１単体のＭ−Ｈループを差し引きすることで、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループを得る。ここで、Ｍ−Ｈループの測定は、室温（２３℃）にて行われる。その後、得られたバックグラウンド補正後のＭ−Ｈループから残留磁化量Ｍｒ［ｅｍｕ］を得て、測定サンプルの面積で除することによってＭｒｔ［ｍＡ］を算出する。なお、ＶＳＭのＭ−Ｈループ測定において、バックグラウンド補正後のＭ−Ｈループが飽和しない場合には、より高い印可磁界を得られるＳＱＵＩＤを用いるものとする。
【００５５】
（角型比）
記録層２３に対して垂直方向の角型比Ｒｓが、６０％以上であることが好ましい。角型比Ｒｓが６０％未満であると、Ｃ／Ｎが低下する虞がある。
【００５６】
角型比Ｒｓ［％］は以下のようにして求められる。まず、上記の“δ／Ｍｒｔ”を求めた場合と同様にして、残留磁化量Ｍｒ［ｅｍｕ］を求める。次に、上記の“δ／Ｍｒｔ”を求めたときに測定したＭ−Ｈループのうち、十分に磁界を掛け磁化量が飽和している部分の磁化量Ｍｓ［ｅｍｕ］を求める。そして、上述のようにして求めたＭｒ［ｅｍｕ］をＭｓ［ｅｍｕ］で除することによりＭ−Ｈループの角型比Ｒｓ［％］（＝（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００）を算出する。なお、上述のＭｒならびにＭｓは、記録層２３に対して垂直方向に測定をした値である。
【００５７】
（基体）
基体２１は、可撓性を有する長尺状のフィルムである。基体２１の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースブチレートなどのセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミドなどのプラスチック、アルミニウム合金、チタン合金などの軽金属、アルミナガラスなどのセラミックなどを用いることができる。磁気記録媒体の機械的強度を高めるために、ＡｌまたはＣｕの酸化物などを含む薄膜が基体２１の少なくとも一方の主面に設けられていてもよい。
【００５８】
（記録層）
記録層２３は、例えば、第１の実施形態に係る磁性粉末、結着剤および導電性粒子を含んでいる。記録層２３が、必要に応じて、潤滑剤、研磨剤、防錆剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００５９】
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂などに架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体に対して要求される物性などに応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体において一般的に用いられる樹脂であれば、特に限定されない。
【００６０】
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴムなどが挙げられる。
【００６１】
また、熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。
【００６２】
また、上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2などの極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Ｍは、水素原子、あるいはリチウム、カリウム、ナトリウムなどのアルカリ金属である。
【００６３】
更に、極性官能基としては、−ＮＲ１Ｒ２、−ＮＲ１Ｒ２Ｒ３+Ｘ-の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ１Ｒ２+Ｘ-の主鎖型のものが挙げられる。ここで、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、または炭化水素基であり、Ｘ-は弗素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、エポキシ基なども挙げられる。
【００６４】
記録層２３は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）などをさらに含有していてもよい。
【００６５】
（下地層）
下地層２２は、非磁性粉末および結着剤を主成分として含む非磁性層である。下地層２２が、必要に応じて、導電性粒子、潤滑剤、硬化剤および防錆剤などのうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００６６】
非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性粉末は、カーボンブラックなどでもよい。無機物質としては、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。非磁性粉末の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状などの各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。結着剤は、上述の記録層２３と同様である。
【００６７】
［磁気記録媒体の製造方法］
次に、上述の構成を有する磁気記録媒体の製造方法の一例について説明する。まず、非磁性粉末および結着剤などを溶剤に混練、分散させることにより、下地層形成用塗料を調製する。次に、第１の実施形態に係る磁性粉末および結着剤などを溶剤に混練、分散させることにより、記録層形成用塗料を調製する。記録層形成用塗料および下地層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。
【００６８】
上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテートなどのエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、適宜混合して用いてもよい。
【００６９】
上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダーなどの混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」など）、ホモジナイザー、超音波分散機などの分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。
【００７０】
次に、下地層形成用塗料を基体２１の一方の主面に塗布して乾燥させることにより、下地層２２を形成する。次に、この下地層２２上に記録層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、記録層２３を下地層２２上に形成する。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉末を基体２１の厚さ方向に磁場配向させるようにしてもよい。次に、必要に応じて、記録層２３上に保護層および潤滑剤層を形成してもよいし、基体２１の他方の主面にバックコート層２４を形成してもよい。
【００７１】
次に、下地層２２および記録層２３が形成された基体２１を大径コアに巻き直し、硬化処理を行う。次に、下地層２２および記録層２３が形成された基体２１に対してカレンダー処理を行った後、所定の幅に裁断する。以上により、目的とする磁気記録媒体が得られる。
【００７２】
［効果］
本技術の第４の実施形態に係る磁気記録媒体では、記録層２３が、第１の実施形態に係る磁性粉末を含んでいるので、優れた磁気特性を有する磁気記録媒体を実現することができる。したがって、高密度記録した信号を低ノイズで再生することができる。よって、高いＣ／Ｎを実現することができる。
【００７３】
［変形例］
記録層２３が、第１の実施形態に係る磁性粉末に代えて、第２または第３の実施形態に係る磁性粉末を含むようにしてもよい。この場合、第４の実施形態に係る磁気記録媒体よりも高いＣ／Ｎを実現することができる。
【実施例】
【００７４】
以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。【００７５】
＜ｉ  磁性粉末についての実施例、比較例＞
［実施例１Ａ］
（ＦｅＯナノ粒子合成）
図９は、ＦｅＯナノ粒子合成の工程の概要を示す。まず、容量３００ｍｌの丸底三口フラスコに鉄アセチルアセトナート８．０ｍｍｏｌ、オレイン酸２０．０ｍＬおよびオレイルアミン２０．０ｍＬを秤量し、１００Ｐａの減圧雰囲気下、２１０℃で２４ｈの前処理加熱を行った。【００７６】
次に、Ｎ2雰囲気に切り替え、３２０℃まで昇温し３０ｍｉｎ加熱した。その後、室温へ自然冷却し、エタノールによって遠心・洗浄を複数回行ってＦｅＯナノ粒子を得た。最後に、得られたＦｅＯナノ粒子をシクロヘキサン中に再分散させた。この際、得られたＦｅＯナノ粒子は表面酸化が進み、Ｆｅ3Ｏ4に変化することがあるが、ε酸化鉄の生成には影響は見られない。【００７７】
（シリカコート処理）
図１０は、シリカコート処理の工程の概要を示す。まず、容量１００ｍｌのナス型フラスコにシクロヘキサン８０ｍＬ、ポリオキシエチレン（５）ノニルフェニルエーテル（ＩＧＥＰＡＬ（登録商標））１２ｍＬおよびアンモニア水２ｍＬを混合し、透明な均一溶液となるまで超音波を照射しながら、６００ｒｐｍで６０ｍｉｎ間攪拌した。【００７８】
そこに、あらかじめシクロヘキサン中に分散させた状態のＦｅＯナノ粒子を加え、さらにテトラエチルオルソシリケートを、Ｆｅ／Ｓｉのｍｏｌ比が０．１となるように任意の速度で滴下した。滴下後、さらに６００ｒｐｍで１６時間攪拌を続けた。反応終了後、メタノールを加え、遠心分離を行う作業を複数回繰り返し、洗浄を行った。遠心分離により得られた沈殿物を６０℃の乾燥機で乾燥させ、シリカコートＦｅＯナノ粒子を回収した。【００７９】
（高温熱処理）
まず、得られたシリカコートＦｅＯナノ粒子をアルミナるつぼに投入し、マッフル炉に投入した。その後、マッフル炉を１１００℃まで加熱し、２００時間焼成を行った。これにより、単相に近いε酸化鉄ナノ粒子の粉末が得られた。【００８０】
（シリカコート除去）
図１１は、シリカコート除去の工程の概要を示す。まず、テフロン遠沈管にε酸化鉄ナノ粒子の粉末および５Ｍに調整したＮａＯＨ水溶液を投入し、オイルバスにて６０℃まで加熱し、２４時間放置した。その後、イオン交換水を添加し遠沈分離する作業を複数回繰り返した。さらにエタノールを添加後、遠心分離をかけたのち、６０℃で乾燥させることにより、シリカコートが除去された状態のε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。【００８１】
［実施例２Ａ、３Ａ］
以下のこと以外は実施例１Ａと同様にしてε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。すなわち、ＦｅＯナノ粒子合成の工程において、２１０℃の前処理加熱の時間をコントロールすることにより、合成されるＦｅＯナノ粒子のサイズをコントロールした。実施例２Ａでは、前処理加熱の時間を２４ｈよりも長くすることにより粒子サイズを小さくした。一方、実施例３Ａでは、前処理加熱の時間を２４ｈより短くすることにより粒子サイズを大きくした。【００８２】
［実施例４Ａ］
まず、２１０℃の前処理加熱の時間を２４ｈよりも長くすることによりＦｅＯナノ粒子の粒子サイズを小さくすること以外は実施例１と同様にしてε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。次に、以下のようにして、得られたε酸化鉄ナノ粒子の粉末の粒子表面にα−Ｆｅ層および耐酸化被膜を形成することにより、コアシェル型のε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。【００８３】
（還元処理および徐酸化処理）
図１２は、還元処理および徐酸化処理の工程の概要を示す。まず、ε酸化鉄ナノ粒子の粉末を石英ボートに載せ、管状炉へ投入した。投入後、管状炉を一度Ｎ2雰囲気に置換した後、所定の温度まで昇温させた。昇温後、１００％Ｈ2を流量１００ｍｌ／ｍｉｎでフローさせながら、３５０℃で１時間加熱処理を行った。これにより、ε酸化鉄ナノ粒子の表面が還元されα−Ｆｅに変態した。その後、再びＮ2雰囲気に置換して、室温まで冷却した。冷却後、さらに所定の温度まで加熱し、微量酸素を含むＮ2ガスを同流量でフローさせながら、３００℃で５分間加熱処理を行った。その後、再びＮ2雰囲気に置換して、室温まで冷却した。これにより、最外層に耐酸化被膜が付与された３層構造のコアシェル粒子の粉末が得られた。【００８４】
（比較例１Ａ）
非特許文献１に記載の方法によりε酸化鉄ナノ粒子を作製した。すなわち、逆ミセル法により水酸化鉄系化合物粒子を作製し、この粒子にシリカ被覆を施したのち、熱処理することで、ε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。【００８５】
（比較例２Ａ）
特許文献１に記載の方法によりε酸化鉄ナノ粒子を作製した。すなわち、オキシ水酸化鉄（α−ＦｅＯＯＨ）を原料粉に使用してε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。【００８６】
＜ii  磁気テープについての実施例、比較例＞
［実施例１Ｂ］
（記録層形成用塗料の調製工程）
記録層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第一組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、第一組成物と、下記配合の第二組成物を加えて予備混合を行った。その後、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、記録層形成用塗料を調製した。【００８７】
（第一組成物）
ε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末：１００質量部
塩化ビニル系樹脂（シクロヘキサノン溶液３０質量％）：１０質量部
（重合度３００、Ｍｎ＝１００００、極性基としてＯＳＯ3Ｋ＝０．０７ｍｍｏｌ／ｇ、２級ＯＨ＝０．３ｍｍｏｌ／ｇを含有する。）
酸化アルミニウム粉末：５質量部
（α−Ａｌ2Ｏ3、平均粒径０．２μｍ）
カーボンブラック：２質量部
（東海カーボン社製、商品名：シーストＴＡ）
なお、上記のε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末としては、実施例１Ａのε酸化鉄ナノ粒子の粉末を用いた。【００８８】
（第二組成物）
塩化ビニル系樹脂：１．１質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
ｎ−ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１２１．３質量部
トルエン：１２１．３質量部
シクロヘキサノン：６０．７質量部【００８９】
（下地層形成用塗料の調製工程）
下地層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第三組成物をエクストルーダで混練した。その後、ディスパーを備えた攪拌タンクに、第三組成物と、下記配合の第四組成物を加えて予備混合を行った。その後、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、下地層形成用塗料を調製した。【００９０】
（第三組成物）
針状酸化鉄粉末：１００質量部
（α−Ｆｅ2Ｏ3、平均長軸長０．１５μｍ）
塩化ビニル系樹脂：５５．６質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
カーボンブラック：１０質量部
（平均粒径２０ｎｍ）【００９１】
（第四組成物）
ポリウレタン系樹脂ＵＲ８２００（東洋紡績製）：１８．５質量部
ｎ−ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１０８．２質量部
トルエン：１０８．２質量部
シクロヘキサノン：１８．５質量部【００９２】
（バックコート層形成用塗料の調製工程）
バックコート層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バックコート層形成用塗料を調製した。
カーボンブラック（旭社製、商品名：＃８０）：１００質量部
ポリエステルポリウレタン：１００質量部
（日本ポリウレタン社製、商品名：Ｎ−２３０４）
メチルエチルケトン：５００質量部
トルエン：４００質量部
シクロヘキサノン：１００質量部【００９３】
次に、上述のようにして作製した記録層形成用塗料、および下地層形成用塗料のそれぞれに、硬化剤として、ポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）：４質量部と、ミリスチン酸：２質量部とを添加した。【００９４】
（塗布工程）
次に、これらの塗料を用いて、非磁性支持体である厚さ６．２μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム）上に下地層、および記録層を以下のようにして形成した。まず、ＰＥＮフィルム上に、下地層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、ＰＥＮフィルム上に下地層を形成した。次に、下地層上に、記録層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、下地層上に記録層を形成した。次に、下地層、および記録層が形成されたＰＥＮフィルムに対してカレンダー処理を行い、記録層表面を平滑化した。なお、カレンダー処理後の下地層の厚さは１１００ｎｍ、記録層の厚さは７０ｎｍとした。次に、記録層とは反対側の面に、バックコート層形成用塗料を膜厚０．６μｍに塗布し乾燥することにより、バックコート層を形成した。【００９５】
（裁断の工程）
最後に、上述のようにして下地層、記録層およびバックコート層が形成されたＰＥＮフィルムを１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅に裁断し、磁気テープを得た。【００９６】
［実施例２Ｂ］
記録層形成用塗料の調製工程における第二組成物の塩化ビニル系樹脂の配合量を１５．０質量部とした。塗布工程において記録層形成用塗料の塗布量を調整して、記録層の厚みを１００ｎｍとした。上記以外のことは、実施例１Ｂと同様にして磁気テープを得た。【００９７】
［実施例３Ｂ］
記録層形成用塗料の調製工程における第一組成物の塩化ビニル系樹脂の配合量を５５質量部にした。記録層形成用塗料の調製工程における第二組成物の塩化ビニル系樹脂の配合量を１１．６質量部に変更した。塗布工程において記録層形成用塗料の塗布量を調整して、記録層の厚みを６０ｎｍとした。上記以外のことは、実施例１Ｂと同様にして磁気テープを得た。【００９８】
［実施例４Ｂ］
塗布工程においてε酸化鉄ナノ粒子の粉末をＰＥＮフィルムの厚さ方向に垂直配向させた。塗布工程において記録層形成用塗料の塗布量を調整して、記録層の厚みを６５ｎｍとした。上記以外のことは、実施例１Ｂと同様にして磁気テープを得た。【００９９】
［実施例５Ｂ］
第一組成物のε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末として実施例２Ａのε酸化鉄ナノ粒子の粉末を用いたこと以外は、実施例２Ｂと同様にして磁気テープを得た。【０１００】
［実施例６Ｂ］
第一組成物のε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末として実施例３Ａのε酸化鉄ナノ粒子の粉末を用いたこと以外は、実施例２Ｂと同様にして磁気テープを得た。【０１０１】
［実施例７Ｂ］
第一組成物のε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末として実施例４Ａのε酸化鉄ナノ粒子の粉末を用いた。塗布工程において記録層形成用塗料の塗布量を調整して、記録層の厚みを６５ｎｍとした。上記以外のことは、実施例２Ｂと同様にして磁気テープを得た。【０１０２】
［比較例１Ｂ］
第一組成物のε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末として比較例１Ａのε酸化鉄ナノ粒子の粉末を用いたこと以外は、実施例２Ｂと同様にして磁気テープを得た。【０１０３】
［比較例２Ｂ］
第一組成物のε−Ｆｅ2Ｏ3結晶磁性粉末として比較例２Ａのε酸化鉄ナノ粒子の粉末を用いたこと以外は、実施例２Ｂと同様にして磁気テープを得た。【０１０４】
［磁性粉の評価］
上述のようにして得られた実施例１Ａ〜４Ａ、比較例１Ａ、２Ａの磁性粉の変動係数および比率Ｙ／Ｘを、上述の第１の実施形態にて説明した方法により求めた。【０１０５】
［磁気テープの評価］
上述のようにして得られた実施例１Ｂ〜７Ｂ、比較例１Ｂ、２Ｂの磁気テープのδ／Ｍｒｔ、角型比Ｒｓおよび比率Ｙ／Ｘを、上述の第４の実施形態にて説明した方法により求めた。また、磁気テープのＣ／Ｎを以下のようにして求めた。【０１０６】
（Ｃ／Ｎ）
記録周波数を１０ＭＨｚ（記録波長０．２μｍ）とし、最適記録電流で記録再生を行い、スペクトラムアナライザーを用いて、１０ＭＨｚの再生出力値と、１０ＭＨｚ±１ＭＨｚのノイズの平均値を計測し、それらの差をＣ／Ｎ値と定義した。表２中では、比較例１ＢのＣ／Ｎ値を０ｄＢとして、その相対差で表記している。なお、相対差が３ｄＢ以上を良好なＣ／Ｎと定義した。【０１０７】
表１は、実施例１Ａ〜４Ａ、比較例１Ａ、２Ａの磁性粉末の評価結果を示す。
【表１】
2018074162.tif 000003
なお、表１中、平均粒子サイズは、平均粒子体積［ｎｍ3］で表記している。【０１０８】
表２は、実施例１Ｂ〜７Ｂ、比較例１Ｂ、２Ｂの磁気テープの評価結果を示す。
【表２】
2018074162.tif 000004
【０１０９】
表１から以下のことがわかる。
ＦｅＯナノ粒子を熱処理することによりε酸化鉄ナノ粒子を合成した実施例１Ａ〜４Ａでは、変動係数を３０％以下とし、かつ比率Ｙ／Ｘを０．５以下とすることができる。
一方、非特許文献１、特許文献１に記載の方法でε酸化鉄ナノ粒子を合成した比較例１Ａ、２Ａでは、変動係数が３０％を超え、かつ比率Ｙ／Ｘが０．５を超えてしまう。【０１１０】
表２から以下のことがわかる。
実施例１Ａ〜４Ａのε酸化鉄ナノ粒子を用いて記録層を形成した実施例１Ｂ〜７Ｂでは、δ／Ｍｒｔを２．０≦δ／Ｍｒｔ≦１２０．０の範囲とし、かつ比率Ｙ／Ｘを０．５以下とすることができる。このため、比較例１Ｂ、２Ｂに比して良好なＣ／Ｎ値が得られた。
一方、比較例１Ａ、２Ａのε酸化鉄ナノ粒子を用いて記録層を形成した比較例１Ｂ、２Ｂでは、δ／Ｍｒｔを２．０≦δ／Ｍｒｔ≦１２０．０の範囲とできるが、比率Ｙ／Ｘを０．５以下とすることができない。このため、実施例１Ｂ〜７Ｂに比して悪いＣ／Ｎ値しか得られない。【０１１１】
以上、本技術の実施形態および実施例について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。【０１１２】
例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。【０１１３】
また、上述の実施形態および実施例の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。【０１１４】
また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
酸化第一鉄を含む第１粒子を熱処理することにより、ε酸化鉄を含む第２粒子を作製すること
を含む磁性粉末の製造方法。
（２）
前記第２粒子を還元処理すること
をさらに含む（１）に記載の磁性粉末の製造方法。
（３）
還元処理した前記第２粒子を酸化処理すること
をさらに含む（２）に記載の磁性粉末の製造方法。
（４）
前記熱処理前に、前記第１粒子にシリカコート処理を施し、
前記熱処理後に、前記第２粒子のシリカコートを除去すること
をさらに含む（１）から（３）のいずれかに記載の磁性粉末の製造方法。
（５）
前記熱処理前に、液相熱分解法により前記第１粒子を作製すること
をさらに含む（１）から（４）のいずれかに記載の磁性粉末の製造方法。
（６）
ε酸化鉄を含む粒子を含み、
下記の式（１）で表される変動係数が３０％以下であり、
ＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である磁性粉末。
変動係数［％］＝（［粒子径の標準偏差］／［平均粒子径］）×１００  ・・・（１）
（７）
前記粒子は、
ε酸化鉄を含むコア部と、
α−Ｆｅを含むシェル部と
を備える（６）に記載の磁性粉末。
（８）
前記粒子は、
ε酸化鉄を含むコア部と、
α−Ｆｅを含む第１シェル部と
前記第１シェル部上に設けられ、酸化鉄を含む第２シェル部と
を備える（６）に記載の磁性粉末。
（９）
前記粒子は、鉄以外の金属さらに含んでいる（６）から（８）のいずれかに記載の磁性粉末。
（１０）
ε酸化鉄を含む粒子を含む記録層を備え、
δ／Ｍｒｔが、下記の式（２）で表される関係を満たし、
ＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが０．５以下である磁気記録媒体。
２．０≦δ／Ｍｒｔ≦１２０．０  ・・・（２）
（但し、δ［ｎｍ］：前記記録層の平均厚み、Ｍｒｔ［ｍＡ］：残留磁化量と前記記録層の厚みの積である。）
（１１）
記録層に対して垂直方向の角型比が、６０％以上である（１０）に記載の磁気記録媒体。
【符号の説明】
【０１１５】
１１    ε酸化鉄粒子（第２粒子）
１１    ＦｅＯ粒子（第１粒子）
１２    コア部
１３、１４    シェル部
１４ａ    第１シェル部
１４ｂ    第２シェル部
２１    基体
２２    下地層
２３    記録層
２４    バックコート層
【図１】
2018074162.tif 000005
【図２】
2018074162.tif 000006
【図３】
2018074162.tif 000007
【図４】
2018074162.tif 000008
【図５】
2018074162.tif 000009
【図６】
2018074162.tif 000010
【図７】
2018074162.tif 000011
【図８】
2018074162.tif 000012
【図９】
2018074162.tif 000013
【図１０】
2018074162.tif 000014
【図１１】
2018074162.tif 000015
【図１２】
2018074162.tif 000016
【国際調査報告】
2018074162.tif 000017
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