【事件の表示】
　特願２００３−２９６５０３「チャック、リソグラフィ装置、およびデバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月　２日出願公開、特開２００４−１０４１１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本件出願は、平成１５年８月２０日（優先権主張２００２年８月２３日、欧州特許庁）の特許出願であって、同１７年１１月９日付けで拒絶の理由が通知され、同１８年２月１３日に意見書が提出されたが、同年６月１２日付けで拒絶をすべき旨の査定がされ、同年７月２８日に本件審判の請求とともに、手続補正（以下「本件補正」という。）がなされ、同１９年９月１８日付けで審尋がなされ、同年１２月１７日に回答書が提出されたたものである。
　本審決において、意匠法等の一部を改正する法律（平成１８年法律第５５号）附則第３条第１項に規定される各条については、同項の規定により、なお従前の例による。
　
第２．本件補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１．補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲について補正をするものであって、特許請求の範囲の請求項１について補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
　
（１）補正前
「物品を静電力によって支持テーブル上に保持する際に使用するチャックにおいて、前記物品が、
　リソグラフィ投影技法を使用してデバイスを製造する際に加工される基板、または
　リソグラフィ投影装置内のリソグラフィ投影マスクもしくはマスク・ブランク、マスク検査装置もしくはマスク洗浄装置などマスク取扱い装置、またはマスク製造装置であり、
　前記物品に面する前記誘導部材の側が複数のピンを備え、該ピンの少なくともそれぞれが、前記物品と接触する表面上に少なくとも導電層を有し、前記導電層の比抵抗率が１０Ωｍ未満であることを特徴とするチャック。」
　
（２）補正後
「物品を静電力によって支持テーブル上に保持する際に使用するチャックにおいて、前記物品が、
　リソグラフィ投影技法を使用してデバイスを製造する際に加工される基板、または
　リソグラフィ投影装置内のリソグラフィ投影マスクもしくはマスク・ブランク、マスク検査装置もしくはマスク洗浄装置などマスク取扱い装置、またはマスク製造装置であり、
　
前記チャックが、該チャックの誘電部材に電位差を加えるために互いに対向する第１及び第２電極を有し、
　
２．補正の適否　　　
　本件補正の特許請求の範囲の請求項１についての補正は、「電極」についての事項を付加するものであり、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）が、特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか否か（いわゆる独立特許要件）について検討する。
　
（１）補正発明
　補正発明は、本件補正により補正された明細書及び願書に添付した図面の記載からみて、上記１．（２）のとおりのものと認める。
　
（２）刊行物に記載された発明
　これに対し、原査定で引用され、本件優先日前に日本国内において頒布された刊行物である特開平１１−２５１４１７号公報（以下「刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。
　
ア．段落０００２
「【従来の技術】近年、半導体製造装置においてシリコンウエハ等の半導体ウエハ（以下、ウエハと略す）の固定、搬送にはクランプリングの代わりに静電チャックが用いられてきており、電子ビーム描画装置、ドライエッチング装置、ＣＶＤ装置、ＰＶＤ装置等でシリコンウエハの固定、搬送に静電チャックが有効とされている。」
　
イ．段落００１９〜００２２
「【発明の実施の形態】本発明の静電チャックについて以下に詳細に説明する。図１〜図３は本発明を示し、図１は円板状等の平板状であり静電チャックＳの基体（本体）を成す絶縁体１の断面図、図２は図１の絶縁体を上方から見た平面図、・・・。
　図１及び図２において、１は静電チャックＳの基体（本体）を成す絶縁体、１ａはセラミックから成るベース基体、１ｂはベース基体１ａ上に配置され一体的に焼結される基体、３は基体１ｂ上に気相成長法等で形成された絶縁体層、４は絶縁体層３上に気相成長法等で形成された導電層、５は静電チャック用の静電電極、６は静電電極５に電力を供給するための電力供給線、・・・である。
　本発明の絶縁体層３は、・・・。即ち、絶縁体層３は前記炭化物を覆うように形成されてあり、この絶縁体層３が誘電分極層として機能し吸着力が劣化することはない。
　また、導電層４は、被吸着体と絶縁体層３との間を離隔させるとともに、この導電層４が直接被吸着体に接する。この場合、被吸着体と接触している導電層４と被吸着体との間には電位差が生じないため、この部分では静電吸着力は発生せず、そのため導電層４から被吸着体に吸着する異物が少なくなる。また、吸着力が生じる、被吸着体と絶縁体層３との間は間隔があるため、絶縁体層３から被吸着体に吸着する異物もほとんど無く、従って被吸着体に付着する異物の量はきわめて少ないものとなる。」
　
ウ．段落００３０〜００３１
「また、導電層４の材質は絶縁体１との熱膨張率差による変形を小さくするものがよく、Ａｌ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ等の塑性変形可能なソフトメタル、絶縁体１と熱膨張率がほぼ同一のＴｉ，Ｗ，Ｍｏ，Ｓｉ等及びＷＣ，ＴｉＣ，ＴｉＮ等の前記元素の化合物、合金等、その他ＳｉＣ，Ｂ4 Ｃ等の導電性セラミックまた比抵抗が１×１０3 Ωｃｍ以下のダイヤモンド状カーボン等でもよい。・・・。
　導電層４の比抵抗は、静電気力（クーロン力）による吸着力を発揮するためには、１×１０3 Ωｃｍ以下とするのがよい。」
　
エ．段落００３４
「上記実施形態では、被吸着体を一方の電極とする単極型の静電チャックについて説明したが、電極２を複数形成しこれらの電極２間に電圧を印加する双極型の静電チャックについても適用できる。」
　
オ．図１
「チャックが互いに対向する２つの電極５を有する」ことが看取できる。
　
　ここで、「２つの電極間に電圧を印加する双極型の静電チャック」においては、「誘電分極層である絶縁体層３に電位差を加えるため」に電極を有することは明らかである。
　
　これらの記載事項を、技術常識を考慮しながら補正発明に照らして整理すると、刊行物１には以下の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されていると認める。
　
「ウエハを、固定、搬送時に、静電力によって保持する際に使用するチャックにおいて、前記ウエハが、
　電子ビーム描画装置を使用してデバイスを製造する際に加工されるウエハであり、
　前記チャックが、該チャックの誘電分極層に電位差を加えるために互いに対向する２つの電極を有し、前記ウエハに面する前記誘電分極層の側が複数の導電層を備え、前記導電層は比抵抗が１×１０3 Ωｃｍ以下の例えばＴｉＮであるチャック。」
　
（３）対比
　補正発明と刊行物１発明とを対比する。
　刊行物１発明の「ウエハ」は、補正発明の「物品」及び「基板」に相当し、同様に、「誘電分極層」は「誘電部材」に相当する。
　補正発明は、本件補正による請求項５に係る発明を含むものであるから、補正発明の「ピン」は、請求項５で特定される「誘電部材の表面上に載置された導電ピン」を含むものである。そして、刊行物１発明の「導電層」は、「絶縁体層３上に形成」され、「被吸着体と絶縁体層３との間を離隔させる」ものであり、刊行物１の図１、図２をも踏まえると、補正発明の「ピン」に相当する。さらに、刊行物１発明の「ピン」は、「導電層」であるから、「ピンの少なくともそれぞれが、物品と接触する表面上に少なくとも導電層を有し」ていることは明らかである。
　補正発明の「第１及び第２電極」について検討する。請求項１の記載によれば、「チャック」が「第１及び第２電極」を有するものであるから、明細書の「発明の詳細な説明」の段落００４６〜００４７、「図５」に相当する「双極チャック」を含むものである。よって、補正発明の「第１及び第２電極」は、刊行物１発明の「２つの電極」に相当する。
　
　したがって、補正発明と刊行物１発明とは、次の点で一致している。
「物品を静電力によって保持する際に使用するチャックにおいて、前記物品が、
　デバイスを製造する際に加工される基板であり、
　前記チャックが、該チャックの誘電部材に電位差を加えるために互いに対向する第１及び第２電極を有し、前記物品に面する前記誘導部材の側が複数のピンを備え、該ピンの少なくともそれぞれが、前記物品と接触する表面上に少なくとも導電層を有するチャック。」
　
　そして、補正発明と刊行物１発明とは、以下の点で相違している。
　相違点１：補正発明は、物品を支持テーブル上に保持する際に使用されるものであるが、刊行物１発明は、その点が明らかでない点。
　相違点２：補正発明の基板は、「リソグラフィ投影技法を使用してデバイスを製造する際に加工される」ものであるが、刊行物１発明の基板は、「電子ビーム描画装置を使用してデバイスを製造する際に加工される」ものである点。
　相違点３：導電層について、補正発明は「比抵抗率が１０Ωｍ未満」であるが、刊行物１発明は「比抵抗が１×１０3 Ωｃｍ以下の例えばＴｉＮ」である点。
　
（４）相違点の検討
　相違点１について検討する。
　刊行物１発明の「チャック」は、「固定、搬送時」に用いられるものであるところ、「固定、搬送時」に、物品を支持テーブル上に保持することは、適宜なしうる設計的事項にすぎない。
　
　相違点２について検討する。
　電子ビーム描画装置として、リソグラフィ投影技法は周知である。また、補正発明が、リソグラフィ投影技法に特定したことにより、格別の技術的意義は認められない。
　よって、この点は、当業者が適宜選択すべき事項にすぎない。
　
　相違点３について検討する。
　刊行物１発明においては、「比抵抗が１×１０3 Ωｃｍ以下」である物質として、ＴｉＮが例示されているから、導電層として、ＴｉＮを選択することに困難性は認められない。
　また、補正発明の「発明の詳細な説明」の段落００３２には、「導電層はたとえばＴｉＮである」と記載されていることから、ＴｉＮは、「比抵抗率が１０Ωｍ未満」を充足するものと認められる。
　しかも、補正発明が「比抵抗率が１０Ωｍ未満」と特定したことにより、臨界的効果が生じるとも認められない。
　よって、この点は、当業者が適宜選択すべき事項にすぎない。
　
　請求人は、補正発明は「ジョンソン−ラーベック効果を最小限に抑える」（段落００１１）という効果を主張している。しかし、かかる効果は、補正発明の「発明の詳細な説明」の段落００１２、００３４によれば、「ピンの表面に導電層を設け、導電層の比抵抗率が１０Ωｍ未満」としたことによるものであるから、格別なものではない。
　また、請求人が主張する「引用文献２（当審注、刊行物１のこと）の静電チャックはその絶縁体１がベース基体１aや一体的に焼結される基体１bで構成され、気相成長法等で形成される絶縁体層３および導電層４を積層する複雑な構成」である点については、補正発明が、かかる構成のものを排除するものではないから、根拠がない。しかも、ベースである絶縁体を一体とするものは、珍しいものではない。
　
　以上のことから、補正発明は、刊行物１発明、周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際、独立して特許を受けることができないものである。
　
３．むすび
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３．回答書について
　請求人は、回答書において、補正案を示し、補正案に基づく主張を行っている。
　しかしながら、補正案は法的効果を有するものではないから、かかる主張は根拠がない。
　なお、審判部では、かねてから「審判請求時までに適切な補正」をお願いしているところである（例えば、「説明会テキスト」を参照）。
　念のため、補正案について、一応、検討する。
　審査において引用された特開平１０−１０７１３２号公報の段落００３４、図３等には、誘電体層からなる支持部材９の表面を導電膜１２で被覆したチャックが記載されている。
　したがって、補正案を採用したとしても、当業者が容易に発明をすることができたことに変わりはない。
　
第４．本願発明について
１．本願発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１ないし１３に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２．１．（１）に示す請求項１に記載されたとおりである。
　
２．刊行物等
　これに対して、原査定の際にあげられた刊行物及びその記載内容は、上記第２．２．（２）に示したとおりである。
　
３．対比・検討
　本願発明は、上記第２．２．で検討した補正発明において、限定事項を削除するものである。
　そうすると、本願発明を構成する事項のすべてを含み、さらに他の事項を付加する補正発明が、上記第２．２．（４）で示したとおり、刊行物１発明、周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないことから、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。