(57)【要約】  ＩＤＴ電極内において、中央領域と、エッジ領域との音速差を容易にかつ確実に設けることができる弾性波装置を提供する。  圧電性基板２上にＩＤＴ電極３及び第１の誘電体層６が設けられており、ＩＤＴ電極３の第１の電極指３ｃと、第２の電極指３ｄとが弾性波伝搬方向にみたときに重なり合っている交差領域が、中央領域Ｂと第１，第２の電極指３ｃ，３ｄが延びる方向において中央領域Ｂの両側に配置された第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄとを有し、第１の誘電体層６上に積層された質量付加膜７が少なくとも２種の厚み部分を有している、弾性波装置１。
2018131360.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電性基板と、前記圧電性基板上に設けられたＩＤＴ電極と、
前記ＩＤＴ電極を覆うように設けられた第１の誘電体層とを備え、
前記ＩＤＴ電極が第１のバスバーと、前記第１のバスバーと対向されている第２のバスバーと、前記第１のバスバーに一端が接続されている複数本の第１の電極指と、前記第２のバスバーに一端が接続されている複数本の第２の電極指とを有し、前記複数本の第１の電極指と前記複数本の第２の電極指とが間挿し合っており、弾性波伝搬方向にみたときに、前記第１の電極指と前記第２の電極指とが重なり合っている交差領域が、前記第１，第２の電極指が延びる方向において、中央領域と、該中央領域の両側に配置された第１及び第２のエッジ領域とを有し、
前記第１の誘電体層上に設けられた質量付加膜をさらに備え、前記質量付加膜が少なくとも２種の厚み部分を有している、弾性波装置。
【請求項２】
前記質量付加膜が、前記第１，第２のエッジ領域に位置する部分において、前記中央領域に位置する部分よりも厚くされている、請求項１に記載の弾性波装置。
【請求項３】
前記質量付加膜が、前記第１，第２の電極指が延びる方向において、前記第１のエッジ領域の外側の領域及び前記第２のエッジ領域の外側の領域に至っており、前記第１のエッジ領域の外側の領域の上方及び前記第２のエッジ領域の外側の領域の上方における前記質量付加膜の厚みが、前記第１，第２のエッジ領域の上方における前記質量付加膜の厚みよりも薄い、請求項１または２に記載の弾性波装置。
【請求項４】
前記第１，第２の電極指の延びる方向において、前記第１のエッジ領域の外側の領域及び前記第２のエッジ領域の外側の領域において、前記質量付加膜が設けられていない、請求項１または２に記載の弾性波装置。
【請求項５】
前記第１，第２の電極指の延びる方向において、前記第１のエッジ領域の外側の領域及び前記第２のエッジ領域の外側の領域において、前記質量付加膜の厚みが、前記中央領域の上方における前記質量付加膜の厚み以下である、請求項２に記載の弾性波装置。
【請求項６】
前記質量付加膜が、前記第１の誘電体層を構成している誘電体より密度が高い材料からなる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の弾性波装置。
【請求項７】
前記質量付加膜が、金属からなる、請求項６に記載の弾性波装置。
【請求項８】
前記質量付加膜が、前記第１の誘電体層よりも密度の高い誘電体からなる、請求項６に記載の弾性波装置。
【請求項９】
前記質量付加膜上に設けられた第２の誘電体層をさらに備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
【請求項１０】
前記第２の誘電体層が、前記第１の誘電体層と同じ材料からなる、請求項９に記載の弾性波装置。
【請求項１１】
前記第２の誘電体層の上面が平坦である、請求項９または１０に記載の弾性波装置。
【請求項１２】
前記第２の誘電体層上に積層された第３の誘電体層をさらに備える、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の弾性波装置。
【請求項１３】
前記質量付加膜が、前記ＩＤＴ電極において、前記弾性波伝搬方向において前記複数本の第１，第２の電極指が間挿し合っている領域の一端から他端に向けて連続している、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の弾性波装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電性基板上にＩＤＴ電極及び誘電体層が積層された弾性波装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、横モードリップルを抑制するために、ピストンモードを利用した弾性波装置が知られている。ピストンモードを利用した弾性波装置では、ＩＤＴ電極において、交差領域が、中央領域と、中央領域の両側のエッジ領域とを有する。なお、弾性波伝搬方向にみたときに、異なる電位に接続される電極指同士が重なり合っている領域が交差領域である。エッジ領域の音速を中央領域の音速に比べて低めることにより、ピストンモードが形成される。【０００３】
下記の特許文献１に記載の弾性波装置では、ＩＤＴ電極を覆うように酸化ケイ素などからなる誘電体層が積層されている。この誘電体層内において、エッジ領域の上方に、金属ストリップが設けられている。この金属ストリップは、音響波の速度変更に十分な金属層である。さらに、対向し合っているバスバーの内側端縁間の領域において、上記誘電体層上に第２の誘電体層が設けられている。さらに、中央領域の上方において、第２の誘電体層上に、第３の誘電体層が積層されている。この第３の誘電体層は、音響波の速度変更に十分な誘電体層である。これらの音響波の速度変更に十分な金属層、誘電体層、あるいはその組み合わせによって、エッジ領域での速度が中央領域での速度より低くなるよう、中央領域の音速、エッジ領域の音速及びエッジ領域の外側の領域の音速が、異ならされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１８６８０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の弾性波装置では、中央領域と、エッジ領域と、エッジ領域の外側の領域の間の音速差が、複数の層を設けることにより、実現されている。従って、音速差を高精度に設けるための調整が容易ではなかった。【０００６】
本発明の目的は、ＩＤＴ電極内において、中央領域と、エッジ領域との間の音速差を容易にかつ確実に設けることができる、弾性波装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る弾性波装置は、圧電性基板と、前記圧電性基板上に設けられたＩＤＴ電極と、前記ＩＤＴ電極を覆うように設けられた第１の誘電体層とを備え、前記ＩＤＴ電極が第１のバスバーと、前記第１のバスバーと対向されている第２のバスバーと、前記第１のバスバーに一端が接続されている複数本の第１の電極指と、前記第２のバスバーに一端が接続されている複数本の第２の電極指とを有し、前記複数本の第１の電極指と前記複数本の第２の電極指とが間挿し合っており、弾性波伝搬方向にみたときに、前記第１の電極指と前記第２の電極指とが重なり合っている交差領域が、前記第１，第２の電極指が延びる方向において、中央領域と、該中央領域の両側に配置された第１及び第２のエッジ領域とを有し、前記第１の誘電体層上に設けられた質量付加膜をさらに備え、前記質量付加膜が少なくとも２種の厚み部分を有している。【０００８】
本発明に係る弾性波装置のある特定の局面では、前記質量付加膜が、前記第１，第２のエッジ領域に位置する部分において、前記中央領域に位置する部分よりも厚くされている。【０００９】
本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記質量付加膜が、前記第１，第２の電極指が延びる方向において、前記第１のエッジ領域の外側の領域及び前記第２のエッジ領域の外側の領域に至っており、前記第１のエッジ領域の外側の領域の上方及び前記第２のエッジ領域の外側の領域の上方における前記質量付加膜の厚みが、前記第１，第２のエッジ領域の上方における前記質量付加膜の厚みよりも薄い。この場合には、エッジ領域の外側に、エッジ領域よりも音速の高い高音速領域を設けることができる。従って、横モードをより一層効果的に抑制することができる。【００１０】
本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記第１，第２の電極指の延びる方向において、前記第１のエッジ領域の外側の領域及び前記第２のエッジ領域の外側の領域において、前記質量付加膜が設けられていない。この場合においても、エッジ領域の外側の領域に、エッジ領域に比べて音速の高い高音速領域を容易に設けることができる。従って、横モードをより一層効果的に抑制することができる。【００１１】
本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、前記第１，第２の電極指の延びる方向において、前記第１のエッジ領域の外側の領域及び前記第２のエッジ領域の外側の領域において、前記質量付加膜の厚みが、前記中央領域の上方における前記質量付加膜の厚み以下である。この場合には、エッジ領域の外側に高音速領域を設けることができ、横モードをより一層効果的に抑制することができる。【００１２】
本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記質量付加膜が、前記第１の誘電体層を構成している誘電体より密度が高い材料からなる。好ましくは、前記質量付加膜は、金属からなる。【００１３】
本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記質量付加膜が、前記第１の誘電体層よりも密度の高い誘電体からなる。【００１４】
本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、前記質量付加膜上に設けられた第２の誘電体層がさらに備えられている。【００１５】
本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、前記第２の誘電体層が、前記第１の誘電体層と同じ材料からなる。この場合には、誘電体材料の種類を少なくすることができる。また、製造工程の煩雑さも招き難い。【００１６】
本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、前記第２の誘電体層の上面が平坦である。この場合には、第２の誘電体層上に、表面が平坦な第３の誘電体層などを設けることができる。【００１７】
本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、前記第２の誘電体層上に積層された第３の誘電体層がさらに備えられている。【００１８】
本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記質量付加膜が、前記ＩＤＴ電極において、前記弾性波伝搬方向において前記複数本の第１，第２の電極指が間挿し合っている領域の一端から他端に向けて連続している。この場合には、質量付加膜を容易に形成することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る弾性波装置によれば、中央領域と、エッジ領域との音速差を容易にかつ確実に設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１（ａ）は、第１の実施形態に係る弾性波装置において質量付加膜、第２，第３の誘電体層を除いた構造の平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＩ−Ｉ線に沿う部分であって質量付加膜、第２，第３の誘電体層が積層されている構造の断面図である。
【図２】図２は、第１の実施形態の弾性波装置におけるＩＤＴ電極内の音速差を説明するための模式的平面図である。
【図３】図３は、第１の実施形態の弾性波装置において、第１の誘電体層上に質量付加膜が設けられている構造の部分切欠き平面図である。
【図４】図４は、比較例の弾性波装置の断面図である。
【図５】図５は、実施例の弾性波装置におけるエッジ領域幅と、３次以上の高次横モードの電気機械結合係数及び基本波すなわち１次モードの電気機械結合係数との関係を示す図である。
【図６】図６は、比較例の弾性波装置におけるエッジ領域幅と、３次以上の高次横モードの電気機械結合係数及び基本波すなわち１次モードの電気機械結合係数との関係を示す図である。
【図７】図７は、本発明の第２の実施形態に係る弾性波装置の要部を説明するための部分切欠き正面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
【００２２】
なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。
【００２３】
図１（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置において質量付加膜、第２，第３の誘電体層を除いた構造の平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＩ−Ｉ線に沿う部分であって質量付加膜、第２，第３の誘電体層が積層されている構造の断面図である。
【００２４】
弾性波装置１は圧電性基板２を有する。圧電性基板２は、ＬｉＮｂＯ３またはＬｉＴａＯ３などの圧電単結晶からなる。もっとも、圧電性基板２は、圧電性を有しない材料からなる支持基板上に圧電膜を積層した構造を有していてもよい。
【００２５】
圧電性基板２の上面２ａ上に、ＩＤＴ電極３が設けられている。ＩＤＴ電極３の弾性波伝搬方向両側に反射器４，５が設けられている。ＩＤＴ電極３、反射器４，５を覆うように、第１の誘電体層６が設けられている。なお、図１（ｂ）に示すように、第１の誘電体層６上に、質量付加膜７、第２の誘電体層８及び第３の誘電体層９が積層されている。図１（ａ）は、質量付加膜７、第２の誘電体層８及び第３の誘電体層９が除去された構造の平面図である。
【００２６】
ＩＤＴ電極３は、第１のバスバー３ａと、第１のバスバー３ａと対向している第２のバスバー３ｂとを有する。第１のバスバー３ａに、複数本の第１の電極指３ｃの一端が接続されている。第２のバスバー３ｂに、複数本の第２の電極指３ｄの一端が接続されている。第１の電極指３ｃと、第２の電極指３ｄとが間挿し合っている。反射器４，５では、複数本の電極指の両端が短絡されている。
【００２７】
弾性波装置１は、ＩＤＴ電極３と、反射器４，５とを有する１ポート型弾性波共振子である。もっとも、本発明における弾性波装置は、１ポート型弾性波共振子に限定されない。縦結合共振子型弾性波フィルタなどの他の弾性波装置であってもよい。
【００２８】
ＩＤＴ電極３及び反射器４，５は、適宜の金属からなる。このような金属としては、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｗ、Ｍｏ及びＡｌＣｕ合金などが挙げられる。
【００２９】
ＩＤＴ電極３及び反射器４，５は、複数の金属膜を積層してなる積層金属膜からなっていてもよい。第１の誘電体層６は、酸化ケイ素からなる。第１の誘電体層６は、ＩＤＴ電極３、反射器４，５を覆うように設けられている。図１（ｂ）に示すように、第１の誘電体層６の上面６ａは平坦である。
【００３０】
第１の誘電体層６を構成する誘電体は、酸化ケイ素に限定されず、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素などの他の誘電体であってもよい。第１の誘電体層６が酸化ケイ素や酸窒化ケイ素である場合、周波数温度特性を好的に改善することができる。
【００３１】
質量付加膜７は、第１の誘電体層６よりも密度が高い材料からなる。本実施形態では、質量付加膜７は、金属からなる。金属として、チタン、Ｃｕなどの高密度の金属が好適に用いられる。質量付加膜７は、誘電体からなっていてもよい。もっとも、誘電体の場合、第１の誘電体層６よりも密度の高い誘電体を用いることが必要である。
【００３２】
質量付加膜７は、厚みが異なる第１の部分７ａ，第２の部分７ｂ及び第３の部分７ｃを有する。図２に示すように、ＩＤＴ電極３では、第１の電極指３ｃと第２の電極指３ｄとが弾性波伝搬方向にみたときに重なっている領域が交差領域Ａである。本実施形態では、交差領域Ａは、第１，第２の電極指３ｃ，３ｄが延びる方向において中央に位置している中央領域Ｂと、中央領域Ｂの両側に配置された第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄとを有する。
【００３３】
また、第１，第２の電極指３ｃ，３ｄが延びる方向において、第１のエッジ領域Ｃの外側に、第１の高音速領域Ｅが設けられている。第２のエッジ領域Ｄの外側に第２の高音速領域Ｆが設けられている。第１，第２の電極指３ｃ，３ｄが延びる方向において、第１の高音速領域Ｅの外側に、第３の低音速領域Ｇが設けられている。さらに、第２の高音速領域Ｆの外側には、同様に、第４の低音速領域Ｈが設けられている。なお、第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄは、中央領域Ｂにおける音速よりも音速が低い、低音速領域である。従って、第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄが、第１，第２の低音速領域に相当する。そのため、低音速領域Ｇ，Ｈを、それぞれ、第３の低音速領域Ｇ及び第４の低音速領域Ｈと表現することとする。
【００３４】
ピストンモードを形成するために、これらの領域の音速は、図２に示す音速Ｖ１〜Ｖ４とされている。図２の右側における音速Ｖ１〜Ｖ４においては、矢印で示すように、右側にいくにつれて、音速が高いことを示す。すなわち、音速Ｖ３＞Ｖ１＞Ｖ２＞Ｖ４である。第３，第４の低音速領域Ｇ，Ｈは、第１，第２のバスバー３ａ，３ｂが設けられている部分である。従って、音速が最も低くなっている。
【００３５】
図１（ｂ）に戻り、第１の部分７ａの膜厚をＴ１、第２の部分７ｂの膜厚をＴ２、第３の部分７ｃの膜厚をＴ３とする。Ｔ２＞Ｔ１＞Ｔ３である。
【００３６】
中央領域Ｂ、第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄ及び第１，第２の高音速領域Ｅ，Ｆの音速は、弾性波伝搬方向にみたときの第１，第２の電極指３ｃ，３ｄの配置と、質量付加膜７の厚みとにより調整させられている。
【００３７】
質量付加膜７の第２の部分７ｂは、図２のハッチングをして示す第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄの上方に設けられている。なお、図２では、ハッチングは、第１，第２の電極指３ｃ，３ｄ上にのみ示しているが、本実施形態では、質量付加膜７は、図３に示すように、弾性波伝搬方向において、第１，第２の電極指３ｃ，３ｄ間にも至っている。すなわち、質量付加膜７は、複数本の第１の電極指３ｃと複数本の第２の電極指３ｄとが間挿し合っている領域において、該領域の弾性波伝搬方向一端側から他端側に向かって連続している。
【００３８】
第２の部分７ｂは、図２の第１のエッジ領域Ｃ及び第２のエッジ領域Ｄにおいて、第１，第２の電極指３ｃ，３ｄの上方に設けられている。また、第１の部分７ａは、中央領域Ｂにおいて、ＩＤＴ電極３の上方に設けられている。第３の部分７ｃは、第１，第２の高音速領域Ｅ，Ｆの上方から第３，第４の低音速領域Ｇ，Ｈ上に至るように設けられている。なお、第３の部分７ｃは、第３の低音速領域Ｇ上に至っておらずともよい。同様に、第３の部分７ｃは、第４の低音速領域Ｈ上に至っておらずともよい。
【００３９】
上記のように、３種類の膜厚部分を有する質量付加膜７が設けられているため、図２に示すように、音速の高さは、Ｖ３＞Ｖ１＞Ｖ２＞Ｖ４とされている。
【００４０】
中央領域Ｂの音速Ｖ１に比べて、第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄの音速Ｖ２が低くなっている。そして、第１，第２のエッジ領域Ｃ，Ｄの外側に、第１，第２の高音速領域Ｅ，Ｆが設けられている。従って、ピストンモードにより横モードを抑制することが可能とされている。
【００４１】
上記音速差は、ＩＤＴ電極３を設けた後に、１種類の材料層を、すなわち、質量付加膜７を設けるだけで実現することができる。従って、質量付加膜７の形成に際し、パターニングを行ったり、マスクを用いて成膜を行うだけで、音速差を容易にかつ確実に設けることができる。
【００４２】
図１（ｂ）に示すように、質量付加膜７上に、第２の誘電体層８及び第３の誘電体層９が積層されている。なお、第２の誘電体層８や第３の誘電体層９は設けられずともよい。第２の誘電体層８は、酸化ケイ素や、酸窒化ケイ素などの適宜の誘電体材料からなる。好ましくは、第２の誘電体層８は、第１の誘電体層６と同じ誘電体材料からなることが望ましい。その場合には、製造工程の煩雑さを招き難い。また、材料の種類を低減することができる。
【００４３】
第２の誘電体層８の上面は、平坦とされている。従って、堆積法で第３の誘電体層９を成膜した場合、第３の誘電体層９の上面も平坦となる。第２の誘電体層８及び第３の誘電体層９の上面が平坦であることが望ましい。それによって、特性のばらつきを小さくすることができる。
【００４４】
第３の誘電体層９は、本実施形態では、窒化ケイ素からなる。それによって、第２の誘電体層８以下の構造の保護が図られている。また、第３の誘電体層９の膜厚を調整することにより、周波数調整を行ってもよい。すなわち、第３の誘電体層９は、周波数調整膜であってもよい。なお、窒化ケイ素に限らず、酸窒化ケイ素、アルミナなどの他の誘電体を用いてもよい。
【００４５】
上記実施形態の弾性波装置１の実施例と、図４に示した構造を有する比較例の弾性波装置を作製した。実施例の構造は、以下の通りとした。
【００４６】
圧電性基板２:ＬｉＮｂＯ３基板。
【００４７】
ＩＤＴ電極３及び反射器４，５の電極構造：上層から順に、Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ／Ｐｔ／ＮｉＣｒの積層構造。これらの厚みは、Ｔｉ膜＝１０ｎｍ／Ａｌ膜＝１３０ｎｍ／Ｔｉ膜＝１０ｎｍ／Ｐｔ膜＝３０ｎｍ／ＮｉＣｒ膜＝１０ｎｍ。
【００４８】
ＩＤＴ電極３におけるデューティは０．５、電極指ピッチで定まる波長λは２μｍとした。
【００４９】
第１の誘電体層６：酸化ケイ素からなり、厚み０．２μｍ。
【００５０】
第２の誘電体層８：酸化ケイ素からなり、厚み０．３１μｍ。
【００５１】
質量付加膜７：チタンからなる膜。第１の部分７ａの膜厚Ｔ１＝０．１４μｍ、第２の部分７ｂの膜厚Ｔ２＝０．２１μｍ、第３の部分７ｃの膜厚Ｔ３＝０．１μｍ。
【００５２】
第３の誘電体層９は設けなかった。
【００５３】
比較例では、図４に示すように、第１の誘電体層６上に、エッジ領域１０２においてのみ、質量付加膜１０１を設けた。この質量付加膜１０１は、エッジ領域１０２において、弾性波伝搬方向において延びているチタンストリップである。この質量付加膜１０１の厚みは、０．１μｍとした。比較例では、中央領域、高音速領域及びバスバーの上方には質量付加膜は設けていない。その他は、比較例は実施例と同様とした。
【００５４】
上記実施例及び比較例の弾性波装置における１次モードすなわち基本モードの電気機械結合係数と、３次以上の高次横モードの電気機械結合係数を有限要素法により求めた。また、実施例及び比較例において、エッジ領域の幅を種々異ならせ、上記電気機械結合係数を求めた。
【００５５】
図５は、上記実施例の弾性波装置におけるエッジ領域幅と、１次モードの電気機械結合係数及び３次以上の高次横モードの電気機械結合係数との関係を示す図である。
【００５６】
図６は、上記比較例の弾性波装置におけるエッジ領域幅と、基本波（１次モード）の電気機械結合係数と、３次以上の高次横モードの電気機械結合係数との関係を示す図である。弾性波装置では、利用する基本波の電気機械結合係数が大きいことが必要である。図６に示すように、比較例では、基本波の電気機械結合係数が大きい、エッジ領域幅が０．５５λ〜０．６３λの範囲において、３次の横モードの電気機械結合係数がかなり大きく、５次の横モードの電気機械結合係数、７次の横モードの電気機械結合係数も比較的大きい。
【００５７】
これに対して、図５に示すように、実施例によれば、基本波の電気機械結合係数が高いエッジ領域幅である０．７５λ〜０．８λの範囲において、３次の横モード、５次の横モード及び７次の横モードのいずれの電気機械結合係数も小さい。特に、エッジ領域幅が０．７７λ〜０．７８λ付近において、３次の横モード、５次の横モード及び７次の横モードの電気機械結合係数曲線が、極小となっている。従って、エッジ領域幅を０．７７λ〜０．７８λの範囲とすれば、高次の横モードを十分に抑圧して、基本波については、高い電気機械結合係数を得ることができる。よって、良好な特性の弾性波装置を提供し得ることがわかる。
【００５８】
図７は、第２の実施形態に係る弾性波装置の要部を示す部分切欠き正面断面図である。第２の実施形態の弾性波装置２１では、質量付加膜２７は、第１の部分２７ａと第２の部分２７ｂとを有し、図１（ｂ）に示した第３の部分７ｃは設けられていない。この場合においても、質量付加膜２７の成膜に際し、２種の膜厚部分を設けるだけで、音速差を形成することができる。すなわち、中央領域Ｂの音速に比べて、第１のエッジ領域Ｃにおける音速を十分に低めることができる。このように、第１，第２の高音速領域の上方に、質量付加膜が設けられておらずともよい。
【００５９】
本発明においては、質量付加膜では、ピストンモードを形成する限り、上記のように、少なくとも２種の膜厚部分が設けられておればよく、第１，第２のエッジ領域において、質量付加膜の膜厚が最も厚くされておりさえすればよい。
【００６０】
従って、図１（ｂ）において、第１の部分７ａの膜厚Ｔ１は、第３の部分７ｃの膜厚Ｔ３よりも厚くされていたが、膜厚Ｔ１と膜厚Ｔ３とは等しくてもよい。第３の部分７ｃの膜厚Ｔ３は、第１の部分７ａの膜厚Ｔ１以下であればよい。
【符号の説明】
【００６１】
１…弾性波装置
２…圧電性基板
２ａ…上面
３…ＩＤＴ電極
３ａ，３ｂ…第１，第２のバスバー
３ｃ，３ｄ…第１，第２の電極指
４，５…反射器
６…第１の誘電体層
６ａ…上面
７…質量付加膜
７ａ…第１の部分
７ｂ…第２の部分
７ｃ…第３の部分
８…第２の誘電体層
９…第３の誘電体層
２１…弾性波装置
２７…質量付加膜
２７ａ，２７ｂ…第１，第２の部分
【図１】
2018131360.tif 000003
【図２】
2018131360.tif 000004
【図３】
2018131360.tif 000005
【図４】
2018131360.tif 000006
【図５】
2018131360.tif 000007
【図６】
2018131360.tif 000008
【図７】
2018131360.tif 000009
【国際調査報告】
2018131360.tif 000010
2018131360.tif 000011
2018131360.tif 000012