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　特願２００１−１９８２６１「平板ディスプレイ製造装置の多機能洗浄モジュール及びこれを利用した洗浄装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　６月１８日出願公開、特開２００２−１７２３６９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成１３年６月２９日（パリ条約による優先権主張２０００年６月２９日、２００１年３月２０日、２００１年６月７日、韓国）の出願であって、平成１６年１２月９日付けで拒絶査定（発送日：同年１２月２１日）がなされ、これに対し、平成１７年３月１８日に審判請求がなされるとともに、同年４月１４日に手続補正がなされたものである。
　　
２．平成１７年４月１４日付けの手続補正についての補正却下の決定
　　
　［補正却下の決定の結論］
　平成１７年４月１４日付けの手続補正を却下する。
　　
　［理由］
（１）本件補正発明　　
　平成１７年４月１４日付け手続補正（以下「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、次のとおりに補正された。
　　
　「ガラス基板を通過させながら洗浄する平板ディスプレイ製造装置の洗浄モジュールにおいて、
　通過するガラス基板面とほぼ同一平面をなすように方向が決まった本体；
　前記本体上に配置されたエキシマー紫外線照射装置；
　前記本体上に配置されたブラシ；
　前記本体上に配置された高流速シャワー； 
　前記本体上に配置されたエアーナイフ；及び
　前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、及びエアーナイフの間に設置され、相互干渉を排除するようにする複数のエアーカーテンを含み；
　前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板が前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンの全てに連続的に投入されて洗浄処理され、前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンの全てが一つのガラス基板に対して同時に適用され、；
　ガラス基板の上・下部に上記高流速シャワーが上・下対称に配置されていることを特徴とする平板ディスプレイ製造装置の多機能洗浄モジュール。」
　　
　上記補正は、
　補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「エキシマー紫外線照査装置」を「エキシマー紫外線照射装置」として誤記の訂正を行うとともに、「前記エキシマー紫外線照査装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板がこの構成要素に連続的に投入されて構成要素に洗浄処理され、この構成要素のうち少なくとも二つの構成要素は一つのガラス基板に同時に適用され、」を、
「前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板が前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンの全てに連続的に投入されて洗浄処理され、前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンの全てが一つのガラス基板に対して同時に適用され、」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としており、かつ、当該事項は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下「当初明細書等」という。）の段落【００１６】及び【００１８】に記載された事項に基づくものであるから、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
　　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本件補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか否か、について検討する。
　　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−５０６４６号公報（以下「引用例１」という。）、実願昭６２−９９３７７号（実開昭６４−５６９１号）のマイクロフィルム（以下「引用例２」という。）及び実願平５−３０４４５号（実開平６−８１６８２号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下「引用例３」という。）には、それぞれ以下の事項が図面と共に記載されている。
　　
ａ　引用例１について
イ「【発明の属する技術分野】本発明は、基板の洗浄方法に関し、さらに詳細には、半導体基板、液晶素子用ガラス基板、カラーフィルタ基板などのような各種の基板の洗浄方法に関し、特に、半導体、液晶素子、カラーフィルタなどの製造工程において、不良の原因となる各種の基板上のゴミや汚れのような有機物や無機物の付着物（以下、単に「付着物」と称する。）を除去する基板の洗浄方法に関する。」（段落【０００１】）
　 
ロ「【従来の技術】従来より、半導体基板、液晶素子用ガラス基板、カラーフィルタ基板などの各種の基板（以下、単に「基板」と称する。）をウェット洗浄する技術としては、例えば、薬剤（Ｈ2ＳＯ4、Ｈ2Ｏ2、ＨＣｌ、ＮＨ4ＯＨ、有機アルカリ剤、界面活性剤など）や純水などの洗浄剤（以下、単に「洗浄剤」と称する。）を使用しての浸漬洗浄、超音波洗浄、ブラシ洗浄、スプレー洗浄などを組み合わせて洗浄を行って基板上の付着物を除去し、洗浄剤として純水ではなくて薬剤を使用した場合にはそれから純水などによるリンス洗浄を行った後に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の蒸気による乾燥やスピンナーあるいはエアーナイフによる乾燥などを行うことが一般的であった。
　しかしながら、上記した従来の技術のように、基板上の付着物を除去するための洗浄として、洗浄剤を使用して浸漬洗浄、超音波洗浄、ブラシ洗浄、スプレー洗浄などの種々の洗浄方法を組み合わせて洗浄しても、充分な洗浄効果を得るためには、所定の時間が必要となるので、洗浄装置としてスループットが悪化するという問題点があった。
　また、高スループットを維持するためには、当該洗浄装置の長さが長くなるという問題点があった。」（段落【０００２】〜【０００４】）
　　
ハ「従って、本発明のうち請求項１に記載の発明によれば、基板上の付着物を除去するための洗浄方法において、洗浄剤を使用するウェット洗浄の直前に、基板の表面に波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を大気中で照射することにより、図２の式１および式２に示す生成反応式によってオゾンラジカルが発生される。」（段落【００１１】）
　　
ニ「【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明による基板の洗浄方法の実施の形態の一例を詳細に説明するものとする。
・・・（中略）・・・。
　この洗浄装置は、第１槽１０と、第２槽１２と、第３槽１４と、第４槽１６との４槽を備えており、これら第１槽１０、第２槽１２、第３槽１４および第４槽１６の中央部を搬送用ローラー１８が貫通するようになされていて、この搬送用ローラー１８によって、基板２０が第１槽１０→第２槽１２→第３槽１４→第４槽１６へと入口から出口へ向けて連続的に送られるようになされている。
　第１槽１４（「第１槽１０」の誤記と思われる。）内には、搬送用ローラー１８の上方に波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を基板２０に照射する紫外線ユニット２２が設けられ、・・・（中略）・・・。また、搬送用ローラー１８と紫外線ユニット２２との間には、波長が１７２ｎｍの紫外線を透過する石英ガラス板２６が配設されている。
　第２槽１２乃至第４槽１６は、ウェット洗浄を行うための槽である。ここで、第２槽１２はブラシ洗浄ユニットであり、第２槽１２内には、搬送用ローラー１８の上方および下方に基板２０へ洗浄剤を噴射するための洗浄剤用シャワーノズル２８が設けられているとともに、基板２０をブラシ洗浄するためのロールブラシ３０が設けられている。
　また、第３槽１４はリンス用ユニットであり、第３槽１４内には、搬送用ローラー１８の上方および下方に基板２０へ純水を噴射するためのリンス用シャワーノズル３２が設けられている。
　そして、第４槽１６は乾燥用ユニットであり、第４槽１６内には、搬送用ローラー１８の上方および下方に基板２０を乾燥するためのエアーナイフ３４が設けられている。
　従って、この洗浄装置においては、入口から送られた基板２０は、まず紫外線ユニット２２によって、表側の表面に波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線が照射される。・・・（中略）・・・。
　上記のようにして、第１槽１０において波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を基板２０の表側の表面に照射した後に、搬送用ローラー１８によって基板２０を第２槽１２以降へ順次搬送し、ウェット洗浄を行うものである。
　ウェット洗浄としては、ブラシ洗浄ユニットたる第２槽１２において、洗浄剤用シャワーノズル２８から基板２０の表面に洗浄剤を噴射し、ロールブラシ３０により洗浄を行う。
　次に、リンス用ユニットたる第３槽１４において、リンス用シャワーノズル３２から基板２０の表面に純水を噴射し、洗浄剤をリンスする。
　その後に、乾燥用ユニットたる第４槽１６において、エアーナイフ３４により水切り乾燥を行うものである。」（段落【００１８】〜【００２９】）
　　
　そして、【図３】及び「ニ」によると、第１槽〜第４槽には、入口及び出口において、搬送される基板２０の近傍まで中央部を貫通するように仕切部材が設けられていることが理解できる。
　また、引用例１の洗浄装置は、搬送用ローラー１８を支持する部材を具備するものであり、当該部材は、基板２０面と同一平面をなすように方向が決められているものと理解できる。　
　
　そうすると、前記イ〜ニ及び図面の記載からみて、引用例１には、
　液晶素子用ガラス基板２０を搬送させながら洗浄する液晶素子の製造工程における洗浄装置において、入口から出口まで当該基板を搬送する搬送用ローラー１８を支持する部材、
　前記部材上に配置された波長が１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を基板表面に照射する紫外線ユニット２２、前記部材上下に配置されたロールブラシ３０、前記部材上下に配置された洗浄剤用シャワーノズル２８、リンス用シャワーノズル３２、前記部材上下に配置されたエアーナイフ３４；及び前記紫外線ユニット２２、ロールブラシ３０、洗浄剤用シャワーノズル２８、リンス用シャワーノズル３２、及びエアーナイフ３４の間に設置される基板２０の近傍まで中央部を貫通するように設けられた複数の仕切部材を含み、前記紫外線ユニット２２、ロールブラシ３０、洗浄剤用シャワーノズル２８、リンス用シャワーノズル３２、及びエアーナイフ３４は、略一つの平面上に連続的に配列され、液晶素子用ガラス基板２０が前記紫外線ユニット２２、ロールブラシ３０、洗浄剤用シャワーノズル２８、リンス用シャワーノズル３２、エアーナイフ３４の全てに連続的に投入されて洗浄処理され、液晶素子用ガラス基板２０の上・下部に洗浄剤用シャワーノズル２８、リンス用シャワーノズル３２が上・下対称に配置されている液晶素子の製造工程における洗浄装置（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　　
ｂ　引用例２について
イ「洗浄対象物をコンベアで搬送し、洗浄室内に設けられた洗浄槽内の洗剤でその洗浄対象物を洗浄するコンベア式溶剤洗浄機の排気フード装置において、前記洗浄室を覆い内壁に丸みをもった案内面が形成された排気フードと、前記洗浄槽の直後に設けられ洗浄後にエアを吹きつけ前記洗浄対象物に付いた溶剤を気化させるエアナイフと、前記洗浄室への前記コンベアの出入口に設けられエアを吹き出し解放部のエアカーテンとなるエア吹出口とから構成したことを特徴とする排気フード装置。」（実用新案登録請求の範囲）
　　
ロ「第１図は、本考案の一実施例を示した断面図である。
　本実施例では、印刷配線板などを洗浄対象物とするコンベア式溶剤洗浄機を例に説明する。
・・・（中略）・・・。
　フード３に覆われている部分に洗浄室４が配置されており、この洗浄室４には洗浄槽５が設けられている。洗浄槽５には内部に溶剤６が満たされている。洗浄槽５には、２機のブラシ７が設けられており、このブラシ７は一部が溶剤６に浸漬されて、上部でコンベア１によって搬送されてくる印刷配線板２を洗浄する。
　洗浄槽７の直後には、下方から前方に吹き上げるエアナイフ８が設けられている。このエアナイフ８は、印刷配線板２に付着した溶剤６をエアで吹き、気化させるためのものである。」（４頁１行〜５頁３行）
　　
ハ「コンベア１で搬送されてきた印刷配線板２は、排気フード３を有した洗浄室４に入り、洗浄槽５に貯えられた溶剤６でブラシ７を用いて洗浄される。
　洗浄槽５を出た印刷配線板２は、その直後に設けられたエアナイフ８によりエアで吹かれ、付着した溶剤６は気化することにより排気ダクト１０へ排出する。」（５頁１４行〜１７行）
　　
ニ「また、洗浄槽の直後にエアナイフを設けることにより、洗浄対象物に付着した溶剤を排気フード内で速やかに蒸発させることができる。」（６頁１３行〜１５行）
　
　そして、第１図には、洗浄室４内において連続的に配列されたブラシ７とエアナイフ８が一つの印刷配線板２に対して同時に適用されていることが記載されている。
　　
　したがって、前記イ〜ニの記載及び第１図から、引用例２には次の発明が記載されている。
　　
　洗浄室４内において連続的に配列された洗浄手段であるブラシ７とエアナイフ８が、これら洗浄手段に連続的に投入されて洗浄処理される印刷配線板２などの一つの洗浄対象物に対して同時に適用されること（以下「引用発明２」という。）。
　　
ｃ引用例３について
イ「【産業上の利用分野】この考案は、紫外線の照射およびオゾンガスの噴射などによる脱脂行程の前段に機械的油切り行程を追加した、金属、セラミックス、ガラスなど無機質部品表面の一般脱脂を目的とした光ドライ洗浄装置に関するものである。【従来の技術】従来、半導体製造行程や液晶表示器のガラス基板製造行程などにおいて、フロンやトリクレンなどの有機溶剤洗浄後の仕上げ洗浄を目的として、オゾンガスを併用した紫外線照射装置があった。」（段落【０００１】、【０００２】）　
　
ロ「【問題を解決するための手段】被洗浄物の導入部および予備加熱室（１）、高圧加温乾燥ガスを被洗浄物に噴射する油切り機構（２）、その噴射によって吹き飛ばされた油や切り粉などの回収皿（３）、被洗浄物の搬送機構（４）、排気用強力ファン（５）およびエアーカーテン発生デバイス（６）などで本考案のエアージェット部を構成する。そして低圧水銀ランプ（７）、反射板（８）、オゾンガス噴射デバイス（９）、ランプ冷却用ファン（１０）、高さ調節機能付き搬送コンベア（１１）、排気用強力ファン（１２）、オゾン分解フィルター（１３）、コンプレッサ（１４）、エアーカーテン発生デバイス（１５）、電源（１６）および当該装置全体の制御ユニット（１７）などから構成される紫外線／オゾン照射部を、前述のエアージェット部と連結する。本考案は、以上の様な構成の光ドライ洗浄装置である。」（段落【０００４】）
　
ハ「【実施例】以下、本考案の実施例について説明する。
（イ）予備加熱炉（１）に導入された被洗浄物を５０℃から１００℃に加熱すると、油切り機構（２）による高圧加温乾燥ガスの噴射によって比較的容易に、表面付着加工油および切り粉などの異物を吹き飛ばすことが可能となる。吹き飛ばされた加工油等は、この油切り機構の下部に設置された回収皿（３）に集められ、レベルセンサーによって液量が監視される。被洗浄物表面の加工油の除去が不十分な場合には、この油切り機構による高圧加温乾燥ガスの噴射の後に、車輪状に形成された払拭布（バフ布など）を利用して付着油を拭き取ってもよい。
（ロ）被洗浄物は、搬送機構（４）によって連続または間欠送りされて、次行程の紫外線／オゾン照射部に搬入される。エアーカーテン発生デバイス（６）によって両行程の境界はエアーカーテンで仕切られており、油切り機構部で発生するオイルミストや塵あいが紫外線照射部に進入しないように配慮されている。炉内のオイルミストや塵あいは排気用強力ファン（５）によって吸引されフィルターを通して外部に排気される。
・・・（中略）・・・。
（ニ）高さ調節機能付き搬送コンベア（１１）は、被洗浄物の大きさに対して柔軟に対応し、コンプレッサ（１４）によって発生した高圧ガスは、エアーカーテン発生デバイス（１５）を通して、外部または各行程の雰囲気を分離するエアーカーテンを生成する。電源（１６）および制御ユニット（１７）など、その他装置構成に必要なデバイスや安全設計を組み込んで、本考案の光ドライ洗浄装置が完成する。
（ホ）なお本考案は、搬送機構、油切り機構、紫外線／オゾンガス照射機構を変更することで、棒状、板状、ブロック状、またはシート状など多用な形状の被洗浄物に対応することができる。」（段落【０００６】）
　
　上記イ〜ハの記載及び図面からみて、引用例３には、
　半導体製造行程や液晶表示器のガラス基板製造行程などにおける光ドライ洗浄装置において、複数の行程の境界をエアーカーテンで仕切り、各行程の雰囲気を分離すること（以下「引用発明３」という。）が記載されている。　
（３）対比・判断
　本件補正発明と引用発明１を対比すると、引用発明１の「液晶素子用ガラス基板」は本件補正発明の「ガラス基板」に相当し、以下同様に、「搬送させながら洗浄する」は「通過させながら洗浄する」に、「液晶素子の製造工程における洗浄装置」は「平板ディスプレイ製造装置の洗浄モジュール」及び「平板ディスプレイ製造装置の多機能洗浄モジュール」に、「入口から出口まで当該基板を送る搬送用ローラー１８を支持する部材」は「通過するガラス基板面とほぼ同一平面をなすように方向が決まった本体」に、「１７２ｎｍにピークをもつ紫外線を基板表面に照射する紫外線ユニット２２」は「エキシマー紫外線照射装置」に、「ロールブラシ３０」は「ブラシ」に、「洗浄剤用シャワーノズル２８、リンス用シャワーノズル３２」は「シャワー」に、それぞれ相当している。
　
　したがって、両者は、次の一致点と相違点を有する。
　　
　［一致点］
　ガラス基板を通過させながら洗浄する平板ディスプレイ製造装置の洗浄モジュールにおいて、
　通過するガラス基板面とほぼ同一平面をなすように方向が決まった本体；
　前記本体上に配置されたエキシマー紫外線照射装置；
　前記本体上に配置されたブラシ；
　前記本体上に配置されたシャワー；
　前記本体上に配置されたエアーナイフ；
　を含み；
　前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、エアーナイフは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板が前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、エアーナイフの全てに連続的に投入されて洗浄処理され、
　ガラス基板の上・下部にシャワーが上・下対称に配置されている平板ディスプレイ製造装置の多機能洗浄モジュール。
　　
　［相違点］
ア．シャワーについて、本件補正発明では、シャワーは、高流速シャワーであるのに対し、引用発明１では、流速についての限定がない点。
　
イ．エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、及びエアーナイフの間に、本件補正発明では、相互干渉を排除するようにする複数のエアーカーテンを設けるとともに、エアーカーテンで洗浄処理をしているのに対し、引用発明１では、エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、及びエアーナイフの間に、基板２０の近傍まで、中央部を貫通するように設けられた仕切部材を設けている点。
　　
ウ．ガラス基板と各洗浄部材との関係について、本件補正発明では、エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、及びエアーナイフ及びエアーカーテンの全てが１つのガラス基板に対して同時に適用されるのに対し、引用発明１では、該構成を具備しない点。
　　
　そこで、上記相違点について検討する。
　まず、相違点アについて検討する。
　
　洗浄性を高めるために、シャワーを高流速のものとする程度のことは、当業者であれば、必要に応じて、適宜想到しえる設計的事項である。
　
　次に、相違点イについて検討する。
　洗浄処理行程において、エアーカーテンを用いることは、本願出願の優先日前、周知の技術である（例えば、特開昭６４−３１４９７号公報参照。）。
　
　そして、引用発明３は、複数の洗浄行程において、各洗浄行程の境界をエアーカーテンで仕切るものである。
　
　また、エアーナイフの空気吹出力を弱めれば、エアーカーテンを構成するのであるから、エアーカーテンを洗浄処理に用いることは、当業者が、必要に応じて、容易に想到し得ることである。
　
　さらに、引用発明１における、各洗浄モジュールの間に設置される基板２０の近傍まで中央部を貫通するように設けられた複数の仕切部材は、相互干渉を排除するように機能するものと理解できる。
　
　そうすると、引用発明３も引用発明１も同じ技術分野に属する技術であることから、引用発明１において、エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、及びエアーナイフの間に、本件補正発明のように、相互干渉を排除するようにする複数のエアーカーテンを設けるようにするとともに、エアーカーテンで洗浄処理を行うようにすることは、引用発明３及び周知技術に基づいて、当業者であれば、容易に想到し得たことである。
　
　さらに、相違点ウについて検討する。
　引用発明２は、連続的に配列された洗浄手段であるブラシ７とエアナイフ８が、これら洗浄手段に連続的に投入されて洗浄処理される印刷配線板２などの一つの洗浄対象物に対して同時に適用されるものである。
　
　引用発明１において、従来、洗浄装置の長さが長くなることが問題であったとの課題が記載されている（「２．（２）ａロ」参照。）。
　
　そうすると、引用発明１において、連続的に配列された洗浄手段であるエキシマー紫外線照射装置、ブラシ、シャワー、及びエアーナイフの全てが１つのガラス基板に対して同時に適用されるものとし、加えて、エアーカーテンを同時に適用するものとした点は、効率的な洗浄を行うとともに、洗浄装置の長さを長くならないものとする必要に応じ、引用発明２および周知技術に基づいて、当業者であれば、容易に想到し得たことである。
　
　そして、本件補正発明の効果を全体としてみても、引用発明１〜引用発明３から当業者が予測し得る範囲のものであって、格別なものではない。
　　
　したがって、本件補正発明は、引用発明１〜引用発明３及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　　
（４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項に違反するので、平成１８年改正前特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　　
３．本願発明について
（１）本願発明
　本件補正は前記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１５に係る発明は、平成１６年７月８日付け手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１〜１５に記載されたとおりのものであり、請求項１に係る発明は、その請求項１に記載された次の事項により特定されるものである（以下「本願発明」という。）。
　　
　「【請求項１】ガラス基板を通過させながら洗浄する平板ディスプレイ製造装置の洗浄モジュールにおいて、
　通過するガラス基板面とほぼ同一平面をなすように方向が決まった本体；
　前記本体上に配置されたエキシマー紫外線照査装置；
　前記本体上に配置されたブラシ；
　前記本体上に配置された高流速シャワー； 
　前記本体上に配置されたエアーナイフ；及び
　前記エキシマー紫外線照査装置、ブラシ、高流速シャワー、及びエアーナイフの間に設置され、相互干渉を排除するようにする複数のエアーカーテンを含み；
　前記エキシマー紫外線照査装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板がこの構成要素に連続的に投入されて構成要素に洗浄処理され、この構成要素のうち少なくとも二つの構成要素は一つのガラス基板に同時に適用され、；
　ガラス基板の上・下部に上記高流速シャワーが上・下対称に配置されていることを特徴とする平板ディスプレイ製造装置の多機能洗浄モジュール。」
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　　
（３）対比・判断
　本願発明は、「エキシマー紫外線照査装置」という誤記を含み、前記「２．（１）」に記載した本件補正発明の「前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板が前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンの全てに連続的に投入されて洗浄処理され、前記エキシマー紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンの全てが一つのガラス基板に対して同時に適用され、」を、「前記エキシマー紫外線照査装置、ブラシ、高流速シャワー、エアーナイフ及びエアーカーテンは、一つの平面上に連続的に配列され、ガラス基板がこの構成要素に連続的に投入されて構成要素に洗浄処理され、この構成要素のうち少なくとも二つの構成要素は一つのガラス基板に同時に適用され、」とした以外は、本件補正発明と実質的に同一のものである。
　　
　そうすると、前記の誤記を訂正し、かつ本願発明を限定して減縮した本件補正発明について、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用発明１〜引用発明３及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである以上、本願発明も、同様の理由により、引用発明１〜引用発明３及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）まとめ
　以上のとおりであるから、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　
　よって、他の請求項に係る発明については検討するまでもなく、結論のとおり審決する。