【事件の表示】
　特願２００４−　１６１６０「板状のワークの温度制御方法及びその装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　７月１５日出願公開、特開２００４−２００７０６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本願は、平成１２年８月３１日に出願した特願２０００−２６８４２４号の一部を平成１６年１月２３日に新たな特許出願としたものであって、平成１７年１１月１８日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年１２月２８日付で拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１８年１月２７日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１８年１月２７日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年１月２７日付の手続補正（以下、「本件補正という。」）を却下する。　
［理由］
（１）　補正後の本願発明
　本件補正は、補正前の請求項１を、
「露光装置等に移送する精密加工が施される板状のワークを設定温度にするための板状のワークの温度制御方法において、板状のワークが、最大幅が１ｍを越える大型の基板からなり、そのワークの表面に前後左右に１０〜５０ｍｍの間隔を置いて多数のノズルを設け、その各ノズルから大型の基板からなるワークの設定温度±０．１℃以内に温度調整された温調空気を、風速数ｍ／ｓｅｃ〜数１０ｍ／ｓｅｃでワークに向けて吹き出してワークを１分以内に設定温度に調整することを特徴とする板状のワークの温度制御方法。」から、
「露光装置等に移送する精密加工が施される板状のワークを設定温度にするための板状のワークの温度制御方法において、板状のワークが、最大幅が１ｍを越える大型の基板からなり、そのワークの表面に前後左右に１０〜５０ｍｍの間隔を置いた多数のノズルを有する吹込ヘッダを設け、その各ノズルから大型の基板からなるワークの設定温度±０．１℃以内に温度調整された温調空気を、風速数ｍ／ｓｅｃ〜数１０ｍ／ｓｅｃでワークに向けて噴流として吹き出してワークを１分以内に設定温度に調整することを特徴とする板状のワークの温度制御方法。」
と補正することを含むものである。
　上記補正は、補正前の請求項１に記載の「間隔を置いて多数のノズルを設け」を、「間隔を置いた多数のノズルを有する吹込ヘッダを設け」と補正して、ノズルは、吹込ヘッダが有するものであるとの限定をし、また、「吹き出して」を「噴流として吹き出して」と限定するものであるから、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）原査定の理由に引用された引用文献
　引用文献２；特開昭５９−１９５８２９号公報
　引用文献３；特開平１１−２６３６４号公報
　
（２）．１　引用文献３の記載内容
　記載１
　【０００１】段落には、
「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレイの製造工程においてガラス基板上にマスクのパターンを形成するプロキシミティ露光装置に係り、特にガラス基板やマスクを所望の温度に制御する方式に改良を加えたプロキシミティ露光装置に関する。」
と記載されている。
　
　記載２
 【０００３】段落には、
「【０００３】
【発明が解決しようとする課題】…本発明は…ガラス基板及びフォトマスクを常時所望の温度に調節することのできるプロキシミティ露光装置を提供することを目的とする。」
と記載されている。
　
　記載３
　【０００６】段落には、
「【０００６】…基板搬送ユニット６…の上部には、恒温送風ユニット…８が設けられている。恒温送風ユニット８は、設定温度±０．１°Ｃに調整されたエアーを０．１２μｍの粒子を集塵可能なフィルタを通してガラス基板１Ｂにダウンフローし、露光チャック２に搬送される前のガラス基板１Ｂの温度調整すなわち冷却を行うようになっている。…」
と記載されている。
　
　記載４
　【０００７】段落には、
「【０００７】アライメントステージユニット７は、露光チャック２、…ガラス基板アライメントステージ１１、…などで構成され…露光チャック２は基板搬送用ユニット６によって搬送されたガラス基板１を吸着保持する。…また、このアライメントステージユニット７には図示してない露光ユニットからの紫外線をガラス基板１Ｃ上のフォトマスク３に照射するための光学系などが存在する。」
と記載されている。
　
　記載５
　第１図には、基板搬送ユニット６及びアライメントステージユニット７が並んで図示されている。
　　
（２）．２　引用文献３に記載された発明
　ア．上記記載３から、引用文献３には、基板搬送ユニット６の上部には、恒温送風ユニット８が設けられ、設定温度±０．１°Ｃに調整されたエアーをガラス基板１Ｂにダウンフローし、露光チャック２に搬送される前のガラス基板１Ｂの温度調整を行うことが記載されている。
　イ．上記記載４から、引用文献３には、アライメントステージユニット７は、露光チャック２などで構成され、当該露光チャック２は、基板搬送用ユニット６によって搬送されたガラス基板１を吸着保持し、さらに、上記アライメントステージユニット７には、図示してない露光ユニットからの紫外線をガラス基板１Ｃ上のフォトマスク３に照射するための光学系などが設けられていることが記載されている。　
　ウ．上記記載１、４から、引用文献３には、ガラス基板１Ｃ（ガラス基板１Ｃは、記載３の「ガラス基板１Ｂ」をアライメントステージユニット７に搬送したものであり、以下、ガラス基板１Ｂ、１Ｃを「ガラス基板１」という。）がアライメントステージユニット７において露光処理されることが明らかであり、アライメントステージユニット７は、図示してない露光ユニットを含めて、実質的に露光装置を構成するといえる。
　エ．液晶ディスプレイの製造工程においてガラス基板上にマスクのパターンを形成することは、ガラス基板上にレジストを塗布し、露光・現像することを伴う精密加工であることは明らかであるから、上記記載１、４から、引用文献３には、ガラス基板１が精密加工されることが記載されているといえる。
　オ．上記ア〜エから、引用文献３には、「露光装置等に移送する精密加工が施されるガラス基板１を設定温度にするためのガラス基板１の温度制御方法」が記載されている。
　カ．上記記載３から、引用文献３には、恒温送風ユニット８は、設定温度±０．１°Ｃに調整されたエアーをガラス基板１にダウンフローすることが記載されているといえる。
　キ．引用文献３に記載された「設定温度±０．１°Ｃに調整されたエアー」は、「温調空気」であるといえる。
　
　そうすると、上記引用文献３の記載から、引用文献３には、
「露光装置等に移送する精密加工が施されるガラス基板１を設定温度にするためのガラス基板１の温度制御方法において、
　基板搬送ユニット６及び基板センタリングユニット９の上部に、恒温送風ユニット８を設け、恒温送風ユニット８は、設定温度±０．１°Ｃに調整された温調空気を、ガラス基板１にダウンフローし、露光装置に搬送される前のガラス基板１の温度調整を行う方法。」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
（２）．３　引用文献２の記載内容
　記載１
　第３頁左上欄第１１行〜同欄２０行には、
「すなわち本発明は、被処理基板上にレジストを塗布し、…冷却時間若しくは冷却速度を制御して上記レジストを均一に冷却するようにした方法である。」
と記載されている。
　
　記載２
　第５頁左下欄第５行〜同欄１２行には、「第８図に示す例は、小孔８１を所定の間隔で画一的に多数設けた…管を、小孔群がすべてレジスト面に対向するように、平面状に複数個配列したものである。この場合…加熱ガス…を噴出させる管８２と、…冷却ガス…を噴出させる管８３とを交互に配列してある」
と記載されている。
　
　記載３
　第５頁右下欄第１行〜同欄１９行には、「ベーク・冷却器の他の例を第１０図に示す。本例では…開口端を略平面状に配置させた管群から成る加熱・冷却源１０３を該基板１０１のレジスト塗布面と平行対面する態様で所定の間隔にて配置している。…第１０図及び第１１図に示した例では、…夫々の開口部から加熱ガス，冷却ガスを噴出させることによって、所定のベーク・冷却処理を行なうことができる。」　
と記載されている。
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明の「ガラス基板１」は、本願補正発明の「板状のワーク」に相当する。
　また、引用発明の「設定温度±０．１°Ｃに調整された温調空気を、ガラス基板１にダウンフロー」することは、本願補正発明の「温調空気」を、「ワークに向けて」「吹き出」すことに相当する。
　引用発明の「設定温度±０．１°Ｃに調整された温調空気」は、本願補正発明の「設定温度±０．１°Ｃ以内に温度調整された温調空気」の構成を満たしている。
　
　そうすると両者は、
「露光装置等に移送する精密加工が施される板状のワークを設定温度にするための板状のワークの温度制御方法において、設定温度±０．１℃以内に温度調整された温調空気を、ワークに向けて吹き出して設定温度に調整する板状のワークの温度制御方法。」
において一致し、以下の点で相違する。
　
　相違点１
　本願補正発明が、板状のワークが、「最大幅が１ｍを越える大型の基板からなり、そのワークの表面に前後左右に１０〜５０ｍｍの間隔を置いた多数のノズルを有する吹込ヘッダを設け」るのに対して、引用発明には、その旨の記載がない点。
　
　相違点２
　本願補正発明が、「温調空気を、風速数ｍ／ｓｅｃ〜数１０ｍ／ｓｅｃでワークに向けて噴流として吹き出してワークを１分以内に」設定温度に調整するのに対して、引用発明には、その旨の記載がない点。
　
　相違点３
　本願補正発明は、温調空気が「ワークの」設定温度±０．１℃以内に温度調整されたものであるのに対し、引用発明では、温調空気が設定温度±０．１℃以内に温度調整されたものであるものの、「ワークの」設定温度との限定がない点。
　
（４）判断
　相違点１について検討する。
　当該技術分野において、「ワークの表面に多数のノズルを有する吹込ヘッダを設け」てワークの温度調整することは、引用文献２の上記記載２、３から公知手段にすぎないことは明らかであり、また、ワークの温度調整のために引用文献２記載の上記公知手段を用いることに阻害要因は認められない。
　さらに、「最大幅が１ｍを越える大型の基板からなり、そのワークの表面に前後左右に１０〜５０ｍｍの間隔を置いた多数のノズル」との数値限定については単に設計上の事項にすぎない。
　したがって、相違点１は当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点２について検討する。
　当該技術分野において、複数のノズルからガスを噴出させて被処理基板の温度調整することは引用文献２の記載２、３に示されるように公知手段であり、当該「ノズルからガスを噴出させ」ることは噴流として吹き出すということができる。
　また、風速数ｍ／ｓｅｃ〜数１０ｍ／ｓｅｃで」ワークに向けて噴流として吹き出す点における数値範囲及び「ワークを１分以内に」設定温度に調整することは、上記数値範囲に臨界的意義はなく、単に設計事項にすぎない。
　したがって、相違点２は当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点３について検討する。
　引用発明は、基板を温度調整するために設定温度±０．１°Ｃに調整されたエアーを基板にダウンフローさせており、その「設定温度」は、基板の設定温度であることは明らかである。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用発明及び公知手段から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　なお、請求人は、審判請求の理由（第５頁第１０行以下）において、原出願における平成１６年９月１６日付上申書を引用して本願補正発明の効果を主張しているが、上記上申書をみると、同上申書に示されたものは、本願補正発明の「ワーク」としての一例示にすぎない「ガラス」を挙げ、かつガラス厚、初期温度が特定のものにしたときの効果に過ぎず、さらに、風速数１０ｍの噴流においてタクトタイム内で特定のガラス基板を設定温度±０．１°Ｃにすることができるとの主張にとどまるから、本願補正発明に記載された数値範囲における一般的なワークに対する効果を補強するとは認められない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び公知手段に基づいて当業者が容易に想到しえたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１８年１月２７日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１７年１０月２７日付で補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「露光装置等に移送する精密加工が施される板状のワークを設定温度にするための板状のワークの温度制御方法において、板状のワークが、最大幅が１ｍを越える大型の基板からなり、そのワークの表面に前後左右に１０〜５０ｍｍの間隔を置いて多数のノズルを設け、その各ノズルから大型の基板からなるワークの設定温度±０．１℃以内に温度調整された温調空気を、風速数ｍ／ｓｅｃ〜数１０ｍ／ｓｅｃでワークに向けて吹き出してワークを１分以内に設定温度に調整することを特徴とする板状のワークの温度制御方法。」
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２、３及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断      
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明の、「多数のノズルを有する吹込ヘッダを設け」から「多数の」及び「吹込ヘッダ」の限定を省き、また、本願補正発明の、「噴流として吹き出して」から「噴流として」の限定を省くものである。
　
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用発明及び公知手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明及び公知手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び公知手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
よって、結論のとおり審決する。