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　特願２００１−２９３３４４「基板処理装置および基板処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月　２日出願公開、特開２００３−　９３９４３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯、本願発明
　本願は、平成１３年９月２６日の出願であって、平成１８年６月１６日付けで拒絶理由が通知され、平成１８年８月２１日付けで手続補正書が提出されたが、平成１８年１０月１３日付けで拒絶査定がなされ、平成１８年１１月２９日に拒絶査定に対する審判請求がされるともに平成１８年１２月１９日付けで手続補正書が提出され、その後、当審で平成１９年９月１８日付けで拒絶理由が通知され、平成１９年１１月２１日付けで手続補正書が提出されたものであって、その請求項１〜７に係る発明は、平成１９年１１月２１日付けの手続補正書により補正された明細書及び出願当初の図面の記載からみて、その明細書の特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　「【請求項１】　露光処理を受けたレジストをその表面に有する、基板に現像液を供給して該レジストに対する現像処理を行った後、該基板上でパターニングされたレジストに向けてリンス液を供給してリンス処理する基板処理装置において、
　基板を保持する基板保持ユニットと、
　前記基板保持ユニットに保持された基板に前記現像液を供給する現像液供給ユニットと、
　気体を連続的に供給可能な気体供給源から供給される気体の流量と、液体を連続的に供給可能な液体供給源から供給される液体の流量とのうち少なくとも一方の流量を可変対象因子として可変する可変手段を有し、該可変手段による流量調整を行いつつ前記気体と前記液体とを混合させて混合物を調製し、該混合物を前記リンス液としてリンス液供給ノズルから、前記基板保持ユニットに保持された基板上に形成され、しかも現像処理を受けてパターニングされたレジストに向けて吐出するリンス液供給ユニットと、
　前記基板表面上のレジストの種類に応じて前記可変手段を制御し、前記可変対象因子を前記レジストの種類に対応する値に設定して前記基板からのパーティクルの除去率を調整する制御手段と
を備えたことを特徴とする基板処理装置。」
　
２．引用文献記載の発明
（１）引用文献
　当審の拒絶の理由に引用された特開平１１−２１１９０７号公報（以下、「引用文献」という。）には、例えば、次の事項が記載されている。
　
ア．「【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するための本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基板上に塗布された感光性着色顔料レジストに光学マスクを介してパターン露光した後、該感光性着色顔料レジストに高圧微噴射ノズルを用いて現像液を塗布するカラーフィルタの製造方法において、前記現像液を塗布して所定時間放置した後、前記基板を回転させるとともに前記高圧微噴射ノズルを一定の高さで前記基板の端部から少なくとも回転中心を通過する範囲で水平往復移動させ、同時に該高圧微噴射ノズルから前記基板へ純水と気体とを噴霧状に吹き付けることを特徴とするものである。
【０００８】また、本発明に係る製造方法は、前記気体が、窒素又はドライエアーであることを特徴とする。
【０００９】また、本発明に係る製造方法は、前記基板から前記高圧微噴射ノズルの吐出口までの高さが、３乃至１５ｃｍの範囲であることを特徴とする。
【００１０】また、本発明に係る製造方法は、前記基板と前記高圧微噴射ノズルの軸心との成す角度が、４５乃至９０°の範囲であることを特徴とする。
【００１１】また、本発明に係る製造方法は、前記純水の圧力が、０．５乃至２ｋｇｆ／ｃｍ2 、前記純水の流量が、７０乃至１５０ｍｌ／ｍｉｎ、前記気体の圧力が、０．５乃至５ｋｇｆ／ｃｍ2 の範囲であることを特徴とする。
【００１２】また、本発明に係る製造方法は、前記高圧微噴射ノズルの移動速度が、１０乃至５０ｍｍ／秒の範囲で、且つ、前記基板の回転速度が３０乃至１００ｒｐｍの範囲であることを特徴とする。
【００１３】また、本発明に係る製造方法は、前記基板が、５インチシリコンウエハであるときに、前記回転時間及び前記高圧微噴射ノズルからの吹き付け時間が、３０乃至１２０秒の範囲であることを特徴とする。
【００１４】このカラーフィルタの製造方法では、基板を回転させ、これと同時に、現像時に用いた高圧微噴射ノズルから純水と窒素ガスとを噴霧状に吹き付けながら、高圧微噴射ノズルを水平往復移動させることで、現像後のリンス工程において、一連のプロセスで現像残渣の除去が行える。また、この際、二流体を噴霧状に吹き付けることで、常に新しい液が吹き付けられることになり、現像残渣の除去効率が高まり、除去時間の短縮も可能となる。」
　　
イ．「【００１８】一定時間の放置の後、図１（Ｃ）に示すように、回転テーブル３の回転を開始し、現像時に用いた高圧微噴射ノズル５から純水及び気体を噴霧状にして、基板１の上面に吹き付ける。高圧微噴射ノズル５は、基板１の回転と同時に、基板１から一定の高さｈで、基板１の端部から少なくとも回転中心を通過する範囲で、水平往復移動させて駆動する。高圧微噴射ノズル５の移動は、少なくとも基板１の端部から、回転中心を超える範囲であればよいが、好ましくは回転する基板１の直径端から３／４程度の範囲とする。なお、高圧微噴射ノズル５は、水平軸回りに、揺動自在であることが好ましい。
【００１９】高圧微噴射ノズル５から純水と共に噴霧される気体は、不活性要素の大きい窒素、又はドライエアーを用いる。図２に示すように、高圧微噴射ノズル５から吐出される噴霧５ａのノズル移動方向ａに直交する方向の広がり幅ｗは、少なくとも回転する基板１の直径より大きくなるように設定してある。
【００２０】このようにして、現像液７の塗布後のリンス工程において、二流体を噴霧状にして基板１へ吹き付けることで、現像液７を除去しつつ、レジストや顔料微粒子の除去を行う。
【００２１】この際、二流体を吹き付けるための種々の条件のそれぞれには、最適値が存在する。この条件には、主に、基板１から高圧微噴射ノズル５の吐出口までの高さｈ、基板１と高圧微噴射ノズル軸心との成す角度θ、純水の圧力、純水の流量、気体の圧力、高圧微噴射ノズル５の移動速度、基板１の回転速度、基板１及び高圧微噴射ノズル５の駆動時間等がある。
【００２２】これらの条件は、最適値を超えると、現像残渣が除去される一方でパターンが剥がれる。また、最適値に至らないと、現像残渣が十分に除去できない。即ち。高圧微噴射ノズル５の高さｈは、高すぎると、二流体の吹き付け圧力が小さくなり、残渣除去の効果が低下する一方、近すぎると感光性着色顔料レジストに対する圧力が強くなり、カラーフィルタのパターンを剥がすことになる。
【００２３】高圧微噴射ノズル５の角度θは、小さいと、パターンを剥がし取る可能性が高まり、大きいと、逆テーパになっているパターンの裾の部分にある残渣が除去できなくなる。純水圧・液量・窒素圧は、適正でなく、水主体の噴霧になると、水粒子が的確に現像残渣に衝突しなくなり、除去率が低下する。逆に気体主体の噴霧となっても水粒子が現像残渣に当たらなくなり、除去率が低下する。」
　
ウ．「【００２５】基板１の回転は、遅いと、全体の現像残渣の除去が行き渡らなくなり、早いと取りこぼしが出てくる。基板１の回転時間は、短いと、全体の現像残渣の除去が行き渡らなくなり、長いと、パターン剥がれの原因となる。高圧微噴射ノズル５の広がり幅ｗは、基板１の回転直径より小さいと、現像ムラの原因となる。
【００２６】本実施形態によるカラーフィルタの製造方法では、これらの諸条件値を所定の値とすることで、現像液を除去しつつ、パターン剥がれを防止しながら、レジストや顔料微粒子等からなる現像残渣の除去を十分なものとした。本実施形態では、これらの所定の値を、実際にカラーフィルタを製造することで好適であったものから得ている。
【００２７】即ち、基板１から高圧微噴射ノズル５の吐出口までの高さは、３乃至１５ｃｍの範囲とした。基板１と高圧微噴射ノズル５の軸心との成す角度は、４５乃至９０°の範囲とした。純水の圧力は、０．５乃至２ｋｇｆ／ｃｍ2 、純水の流量は、７０乃至１５０ｍｌ／ｍｉｎ、窒素の圧力は、０．５乃至５ｋｇｆ／ｃｍ2 の範囲とした。高圧微噴射ノズル５の移動速度は、１０乃至５０ｍｍ／秒の範囲で、且つ、基板１の回転速度は、３０乃至１００ｒｐｍの範囲とした。また、基板１が５インチシリコンウエハである場合、上述の高圧微噴射ノズル５の移動速度及び基板１の回転速度の下で、基板１の回転時間及び高圧微噴射ノズル５からの吹き付け時間は、３０乃至１２０秒の範囲とした。
【００２８】このように、上述のカラーフィルタの製造方法によれば、感光性着色顔料レジストを用いて固体撮像素子や液晶表示装置のカラーフィルタを形成する際、現像時に用いた高圧微噴射ノズル５を用い、基板１を回転させながら高圧微噴射ノズル５を移動させ、この高圧微噴射ノズル５から純水と窒素ガスとを噴霧状に吹き付けることとしたので、工程を複雑にすることなく現像残渣を良好に除去することができる。そして、二流体を噴霧状に吹き付けるので、常に新しい液を吹き付けることができ、現像残渣の除去効率を高めることができ、その結果、除去時間の短縮も可能にすることができる。
【００２９】また、二流体を吹き付けるための諸条件値を、上述した最適範囲とすることで、パターン剥がれを防止しながら、現像残渣の除去効率を最大に引き出すことができる。」
　　
エ．「【００３０】
【実施例】以下、本発明に係る製造方法の具体的な実施例を説明する。５インチシリコンウエハ（直径１２５ｍｍ）に、紫外線硬化性の感光性着色顔料レジストを塗布し、レジスト層を形成した後、所定の加熱温度にて、プリベーク処理を行った。次いで、光学マスクを介して紫外線を照射し、レジスト層へパターンを転写した。パターン転写後のウエハを、回転テーブル上に載置固定し、高圧微噴射ノズルにより、現像液を塗布した。
【００３１】現像液の塗布後、一定時間放置することにより、レジスト層の現像反応を進ませた。その後、ウエハを８０ｒｐｍで回転させ、同時に、高圧微噴射ノズルからの噴霧を開始し、高圧微噴射ノズルをウエハ端部からウエハ回転中心方向へ平行に往復移動させた。この際の二流体を吹き付けるための諸条件値は、以下の通りとした。
  ・回転時間                            ６０ｓｅｃ
  ・噴霧の広がり幅ｗ                    １２５乃至１３５ｍｍ
  ・高圧微噴射ノズルの移動速度          ２５ｍｍ／ｓｅｃ
  ・ノズル高さｈ                        ７ｃｍ
  ・ノズル角度θ                        ７０°
  ・純水圧力                            ２ｋｇｆ／ｃｍ2 
  ・液量                                １００ｍｌ／ｍｉｎ
  ・窒素圧力                            ２ｋｇｆ／ｃｍ2 
  ・高圧微噴射ノズルの駆動時間          ６０ｓｅｃ
【００３２】上記の諸条件によりウエハと高圧微噴射ノズルとを駆動させたのち、ウエハと高圧微噴射ノズルとの駆動を停止し、純水ノズルシャワーで洗浄を行って残渣除去工程を完了した。」
　
オ．「【００３８】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係るカラーフィルタの製造方法によれば、感光性着色顔料レジストを用いて固体撮像素子や液晶表示装置のカラーフィルタを形成する際、現像時に用いた高圧微噴射ノズルを用い、基板を回転させながら高圧微噴射ノズルを移動させ、この高圧微噴射ノズルから純水と窒素ガスとを噴霧状に吹き付けることとしたので、工程を複雑にすることなく現像残渣を一連のプロセスによって良好に除去することができる。この結果、カラーフィルタの品質を向上させることができるとともに、カラーフィルタ製造時の歩留りを向上させることができる。」
　
（２）ここで、上記ア．〜オ．の記載及び図面を参酌すると、引用文献には以下の点が記載されていることがわかる。
　「基板上に塗布されたレジストをパターン露光した後、現像液７を現像液塗布ノズル９を用いて噴射して基板上のレジストを現像処理している。
　現像処理した後のリンス工程において、基板上にパターンを転写されたレジストに向けて純水と気体との二流体を噴霧状に吹き付けて、パターン剥がれを防止しながら、レジストや顔料微粒子等を除去していることから、二流体でリンス処理をしている。
　なお、純水は純水供給源から、また、気体は気体供給源からそれぞれ供給されることは当然である。
　基板１は、上面にバキューム吸着口を有する回転テーブル３に載置固定されている。
　回転テーブル３に載置固定された基板に現像液７を噴射する現像液ノズル９と、純水と気体との二流体を噴霧状に吹き付け、常に新しい液が吹き付けられ、吹き付けに際しては純水圧、液量、窒素圧等の最適値が存在し、水主体の噴霧、気体主体の噴霧となると除去率が低下する。
  二流体を高圧微噴射ノズル５から、回転テーブル３に載置固定された基板上に形成され、しかも現像処理を受けてパターン転写されたレジストに向けて吐出する高圧微噴射ノズル５があり、高圧噴射ノズル５は 角度、高さを調整でき、純水圧・液量・窒素圧等を設定して、基板からのレジストや顔料微粒子等の現像残渣の除去を行うカラーフィルタの製造装置。」
　　
（３）引用文献記載の発明
　上記２．（１）及び（２）の記載から、引用文献には次の発明が記載されている。
　「露光処理を受けたレジストをその表面に有する、基板に現像液を供給して該レジストに対する現像処理を行った後、リンス工程で、該基板上でパターニングされたレジストに向けて気体と純水との二流体を供給してリンス処理するカラーフィルタの製造装置において、
　基板を保持する回転テーブルと、
　前記回転テーブルに保持された基板に前記現像液を供給する現像液塗布ノズルと、
　気体を連続的に供給可能な気体供給源から供給される気体の圧力と、純水を連続的に供給可能な純水供給源から供給される純水の流量、圧力を可変対象因子として、流量調整を行い、前記気体と前記純水との二流体の噴霧を調整し、高圧微噴射ノズルから、前記回転テーブルに保持された基板上に形成され、しかも現像処理を受けてパターニングされたレジストに向けて吐出する高圧微噴射ノズルと、
　前記基板表面上のレジストに対して、前記可変対象因子を対応する値に設定して前記基板からの現像残渣の除去率を調整することを備えたカラーフィルタの製造装置。」（以下、「引用文献記載の発明」という。）
　
３．対比
  本願発明と引用文献記載の発明とを対比すると、引用文献記載の発明における「回転テーブル」は、本願発明における「基板保持ユニット」に相当し、同様に引用文献記載の発明における「現像液塗布ノズル」、「気体の圧力、純水の流量、圧力」、「気体」と「純水」、「現像残渣」及び「カラーフィルタの製造装置」は、本願発明における「現像液供給ユニット」、「可変対象因子」、「気体」と「液体」、「パーティクル」及び「基板処理装置」に各々相当する。そして、引用文献記載の発明においては、リンス工程で、基板上でパターニングされたレジストに向けて純水と気体との二流体を供給してリンス処理していることから、引用文献記載の発明における「気体と純水との二流体」は、本願発明における「混合物」又は「リンス液」に相当し、引用文献記載の発明における「高圧微噴射ノズル」は、本願発明における「リンス液供給ノズル」に相当する。
　また、引用文献記載の発明における「高圧微噴射ノズル」はレジストに向けて高さ、角度を調整することから、本願発明における「リンス液供給ユニット」に相当するものを有することは明白である。
　さらに、引用文献記載の発明における「基板表面上のレジストに対して、可変対象因子を対応する値に設定して基板からの現像残渣の除去率を調整する」と、本願発明における「基板表面上のレジストの種類に応じて可変手段を制御し、可変対象因子をレジストの種類に対応する値に設定して基板からのパーティクルの除去率を調整する制御手段」とは、「基板表面上のレジストに対して、可変対象因子を対応する値に設定して基板からのパーティクルの除去率を調整する」限りにおいて一致するから、
本願発明と引用文献記載の発明とは
　「露光処理を受けたレジストをその表面に有する、基板に現像液を供給して該レジストに対する現像処理を行った後、該基板上でパターニングされたレジストに向けてリンス液を供給してリンス処理する基板処理装置において、
　基板を保持する基板保持ユニットと、
　前記基板保持ユニットに保持された基板に前記現像液を供給する現像液供給ユニットと、
　液体を連続的に供給可能な液体供給源から供給される液体の流量を可変対象因子として流量調整を行い前記気体と前記液体とを混合させて混合物を調製し、該混合物を前記リンス液としてリンス液供給ノズルから、前記基板保持ユニットに保持された基板上に形成され、しかも現像処理を受けてパターニングされたレジストに向けて吐出するリンス液供給ユニットと、
  基板表面上のレジストに対して、前記可変対象因子を対応する値に設定して前記基板からのパーティクルの除去率を調整すること
　を備えた基板処理装置。」
　の点で一致しており、次の点で相違する。
（１）本願発明が「気体を連続的に供給可能な気体供給源から供給される気体の流量と、液体を連続的に供給可能な液体供給源から供給される液体の流量とのうち少なくとも一方の流量を可変対象因子として可変する可変手段を有し、該可変手段による流量調整を行いつつ前記気体と前記液体とを混合させて」いるのに対して、引用文献記載の発明は、可変対象因子として純水圧、液量、窒素圧があるものの、可変手段による流量調整を行いつつ気体と液体とを混合させているかどうか明らかではない点（以下、「相違点１」という。）。
　　
（２）本願発明が「基板表面上のレジストの種類に応じて可変手段を制御し、可変対象因子をレジストの種類に対応する値に設定して基板からのパーティクルの除去率を調整する制御手段」を備えているのに対して、引用文献記載の発明においては、上記の点が明確ではない点（以下、「相違点２」という。）。
　　
 ４．判断
　上記相違点１及び相違点２について、検討する。
　（１）上記相違点１に関して、液体を連続的に供給可能な液体供給源から供給される液体の流量を可変対象因子として可変する可変手段を有し、該可変手段による流量調整を行いつつ混合させることは周知技術（例えば、特開平９−４５６５４号公報、特開平１１−３２９９３６号公報参照、以下、「周知技術１」という。）であって、周知技術１を引用文献記載の発明に適用して上記相違点１に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に推考し得るものである。
　
（２）上記相違点２に関して、基板表面上のレジストの種類に応じて可変手段を制御し、可変対象因子をレジストの種類に対応する値に設定することは周知技術（例えば、特開平３−２８０５２７号公報参照、以下、「周知技術２」という。）であって、結果としてパーティクルの除去率を制御しているといえるものであるから、知技術２を引用文献記載の発明に適用して上記相違点２に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に推考し得るものである。
　
　また、本願発明を全体として検討しても、引用文献記載の発明、周知技術１及び周知技術２から予測される以上の格別の効果を奏するとも認めることができない。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、引用文献記載の発明、周知技術１及び周知技術２に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。