(57)【要約】  光の反射を十分に抑えることができる吸収型の反射防止材を提供することを目的とする。反射防止材１は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造３が第１の面21に形成された反射抑制層２と、反射抑制層２の第２の面22に形成され、反射抑制層２を透過した光を吸収する光吸収層４と、で主に構成される。反射抑制層２は、自己修復機能を有する材料からなる方が良い。また、凹凸構造は、大きさや配置をランダムにする等、回折光が生じない形態にする方が良い。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射した光の反射を抑制する凹凸構造が第１の面に形成された反射抑制層と、
前記反射抑制層の第２の面に形成され、前記反射抑制層を透過した光を吸収する光吸収層と、
を具備することを特徴とする反射防止材。
【請求項２】
入射した光の反射を抑制する凹凸構造が第１の面に形成された反射抑制層と、
前記反射抑制層の第２の面に形成され、任意の面に接着可能な接着層と、
を具備することを特徴とする反射防止材。
【請求項３】
前記接着層の表面に形成され、当該接着層から取り外し可能なカバーを具備することを特徴とする請求項２記載の反射防止材。
【請求項４】
前記反射抑制層の屈折率をｎ１、前記接着層の屈折率をｎ２とすると、当該屈折率ｎ２は、０．９ｎ１≦ｎ２≦１．１ｎ２
を満たすことを特徴とする請求項２又は３記載の反射防止材。
【請求項５】
前記反射抑制層は、自己修復機能を有する材料からなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項６】
前記凹凸構造は、前記光の波長をλ、前記凹凸構造の平均ピッチをＰとすると、Ｐ＞λを満たすことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項７】
前記光吸収層は、前記光を吸収する光吸収成分を含有するものであり、当該光吸収成分の平均粒径が、前記光の波長の２分の１以下であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項８】
前記凹凸構造は、Ｐ≧６λを満たす構造であることを特徴とする請求項６又は７記載の反射防止材。
【請求項９】
前記凹凸構造は、当該凹凸構造の平均深さをＨとすると、Ｈ／Ｐ≧１を満たす構造であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１０】
前記光吸収層の厚みをＬとすると、Ｌ≧λを満たすことを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１１】
前記凹凸構造は、平均ピッチＰが１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１２】
前記凹凸構造は、回折光が生じない形態にしたものであることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１３】
前記凹凸構造は、当該凹凸構造の要素構造の配置をランダムにしたことを特徴とする請求項１２記載の反射防止材。
【請求項１４】
前記凹凸構造は、前記要素構造の大きさ及び形状が一定の場合に比べ平面部が少なくなるように、当該要素構造の大きさ及び形状のいずれか一方又は両方が調節されたものであることを特徴とする請求項１３記載の反射防止材。
【請求項１５】
前記凹凸構造の要素構造は、放物線を回転させた砲弾形状であることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１６】
前記凹凸構造は、ラインアンドスペース形状であることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１７】
前記ラインアンドスペースの凸部の断面形状は、三角形であることを特徴とする請求項１６記載の反射防止材。
【請求項１８】
前記反射抑制層の材料は、インプリント用樹脂であることを特徴とする請求項１ないし１７のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項１９】
入射した光の反射を抑制する凹凸構造を透明薄膜の第１の面に形成する凹凸構造形成工程と、
前記凹凸構造形成工程の前又は後に、前記透明薄膜を透過する光を吸収する光吸収層上に前記透明薄膜を配置する２層形成工程と、
を有することを特徴とする反射防止材の製造方法。
【請求項２０】
前記凹凸構造形成工程は、光インプリントによって行うことを特徴とする請求項１９記載の反射防止材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面における光の反射を抑えた反射防止材およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カメラや液晶ディスプレイ等の光学素子においては、表面の光反射が問題となることがある。例えば、カメラのレンズユニット内には、一定の光量に絞って光を撮像素子に送る役割を持つ固定絞りがあるが、絞りの表面で光反射が生じると迷光となり鮮明な撮像を損なうため、表面の低反射性が要求される。また、固定絞りの内周端面等は、光路上に位置するため、レンズユニット内の不要な光がその端面で反射すると、撮像素子に入射してフレアやゴーストといった撮像不良が起こる。この撮像不良を防止するために、内周端面部の反射防止処理が施された固定絞り等が求められている。【０００３】
従来、樹脂からなる基板の表面に、微細柱状結晶からなる凹凸構造を有する酸化チタン膜を形成した黒色被覆膜がある（例えば、特許文献１参照）。【０００４】
【特許文献１】国際公開番号ＷＯ２０１０／０２６８５３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、当該凹凸構造は制御されたものではなく、反射防止の観点では、まだ十分なものではなかった。また、凹凸構造によって生じる回折光の防止については考慮されていない。更に、凹凸構造の製造が難しいという問題があった。【０００６】
そこで本発明では、光の反射を更に抑えることができる反射防止材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の反射防止材は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造が第１の面に形成された反射抑制層と、前記反射抑制層の第２の面に形成され、前記反射抑制層を透過した光を吸収する光吸収層と、を具備することを特徴とする。【０００８】
また、本発明の別の反射防止材は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造が第１の面に形成された反射抑制層と、前記反射抑制層の第２の面に形成され、任意の面に接着可能な接着層と、を具備することを特徴とする。この場合、前記接着層の表面に形成され、当該接着層から取り外し可能なカバーを具備する方が好ましい。また、前記反射抑制層の屈折率をｎ１、前記接着層の屈折率をｎ２とすると、当該屈折率ｎ２は、０．９ｎ１≦ｎ２≦１．１ｎ２を満たす方が好ましい。【０００９】
また、本発明の反射防止材における前記反射抑制層は、自己修復機能を有する材料で形成することができる。前記反射抑制層の材料は、インプリント用樹脂であっても良い。【００１０】
また、前記凹凸構造は、前記光の波長をλ、前記凹凸構造の平均ピッチをＰとすると、Ｐ＞λを満たす方が好ましく、更に好ましくは、Ｐ≧６λを満たす方が良い。ただし、前記凹凸構造は、平均ピッチＰが１０μｍ以下である方が好ましい。【００１１】
また、前記光吸収層は、前記光を吸収する光吸収成分を含有するものであり、当該光吸収成分の平均粒径が、前記光の波長の２分の１以下であっても良い。【００１２】
また、前記凹凸構造は、当該凹凸構造の平均深さをＨとすると、Ｈ／Ｐ≧１を満たす構造にすることができる。【００１３】
また、前記光吸収層の厚みをＬとすると、Ｌ≧λを満たす方が好ましい。【００１４】
また、前記凹凸構造は、回折光が生じない形態にした方が好ましい。【００１５】
また、前記凹凸構造は、当該凹凸構造の要素構造の配置をランダムにした方が好ましい。【００１６】
また、前記凹凸構造は、前記要素構造の大きさ及び形状が一定の場合に比べ平面部が少なくなるように、当該要素構造の大きさ及び形状のいずれか一方又は両方が調節されたものである方が好ましい。【００１７】
また、前記凹凸構造の要素構造は、放物線を回転させた砲弾形状である方が好ましい。【００１８】
また、前記凹凸構造は、ラインアンドスペース形状であっても良い。この場合、前記ラインアンドスペースの凸部の断面形状は、三角形である方が好ましい。【００１９】
また、本発明の反射防止材の製造方法は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造を透明薄膜の第１の面に形成する凹凸構造形成工程と、前記凹凸構造形成工程の前又は後に、前記透明薄膜を透過する光を吸収する光吸収層上に前記透明薄膜を配置する２層形成工程と、を有することを特徴とする。【００２０】
この場合、前記凹凸構造形成工程は、光インプリントによって行うことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の反射防止材は、凹凸構造を制御することにより、光の反射を十分に抑制することができる。また、反射防止剤を反射抑制層と光吸収層とに分けたことにより、凹凸構造を形成する反射抑制層の材料選択の幅を広げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の反射防止材を示す断面図である。
【図２】本発明の反射防止材の反射特性を示すグラフである。
【図３】本発明の反射防止材に係る凹凸構造を示す斜視図である。
【図４】本発明の反射防止材に係る凹凸構造を示す平面図である。
【図５】図４のＩ−Ｉ線方向から見た凹凸構造の形状を示す説明図である。
【図６】本発明の別の反射防止材を示す斜視図である。
【図７】本発明の別の反射防止材の反射特性を示すグラフである。
【図８】凹凸構造の断面の形状を示す説明図である。
【図９】別の反射防止材の反射特性を示すグラフである。
【図１０】実施例１の反射防止材に係る凹凸構造を示す平面図である。
【図１１】反射防止材の反射特性を示すグラフである。
【図１２】入射角５°における反射防止材の反射スペクトルを示すグラフである。
【図１３】入射角４５°における反射防止材の反射スペクトルを示すグラフである。
【図１４】入射角６０°における反射防止材の反射スペクトルを示すグラフである。
【図１５】本発明の別の反射防止材を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の反射防止材１は、所定波長λの光の反射を防止するためのもので、図１に示すように、反射抑制層２と、反射抑制層２の第２の面22に形成され、反射抑制層２を透過した光を吸収する光吸収層４と、で主に構成される。
【００２４】
反射抑制層２は、第１の面21と第２の面22を有し、第１の面21には、入射した光の反射を抑制する凹凸構造３が形成されている。
【００２５】
反射抑制層２の材質は、反射を防止したい光を透過するものであればどのようなものでも良く、例えば、４００ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光領域で光学的に透明な材料としては、ガラスや樹脂を用いることができる。また、紫外光領域において用いる場合には、紫外線の透過率が高い石英ガラスやサファイアガラスを含む材料を用いることが好ましい。
【００２６】
また、反射抑制層２は、使用環境における外力に対して少なくとも凹凸構造３を自己修復可能な弾性材料からなる方が好ましい。これにより、外力によって凹凸構造３が変形しても、元の形状に戻すことができる。このような弾性材料としては、ウレタンアクリレートやシリコン系樹脂、ＰＤＭＳ、ロタキサン等がある。
【００２７】
また、反射抑制層２全体の形状は、第１の面21と第２の面22を有していれば特に限定されず、平面状や曲面状等、光学部材の機能や用途に合わせて自由に設計できる。
【００２８】
凹凸構造３は、入射した光の反射を抑制するためのものである。凹凸構造の形態は、光の反射を抑制できるものであればどのようなものでも良いが、回折光が生じない形態にする方が好ましい。例えば、凹凸構造３の平均ピッチＰが光の波長λに比較して小さいと当該凹凸構造３によって回折光が生じることがある。したがって、凹凸構造３の平均ピッチＰは、光の波長λより大きく形成する方が良い。すなわち、Ｐ＞λを満たすように形成すれば良い。
【００２９】
なお、ここでいう光とは、反射の防止を望む所定波長の光（電磁波）を意味する。したがって、光が波長の異なる複数の電磁波を含む場合には、反射の防止を望む総ての光の波長に対しＰ＞λを満足するように凹凸構造３を構成する必要がある。すなわち、光に含まれる電磁波の最大波長をλmaxとすると、凹凸構造３をP＞λmaxを満たすように構成すれば良い。例えば、波長が３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲にある可視光について、総ての電磁波の反射を防止したい場合には、凹凸構造３をＰ＞７８０ｎｍを満たすように構成すれば良い。
【００３０】
また、確実に回折光の発生を防止するには、Ｐ≧２λ、Ｐ≧３λ、Ｐ≧４λ、Ｐ≧５λ、Ｐ≧６λ、Ｐ≧７λ、Ｐ≧８λ、Ｐ≧９λ、Ｐ≧１０λと大きくする方が良い。ただし、平均ピッチＰが大きすぎると人間の目で凹凸構造を識別することが可能になることや、凹凸構造の頂点部や底部が、光の波長に対して平面と近似できる大きさとなり反射抑制効果が低くなるため、平均ピッチＰは１０μｍ以下である方が好ましい。
【００３１】
また、回折光の発生を防止する別の方法としては、凹凸構造３の要素構造の配置をランダムにする方法がある。ただし、凹凸構造３の要素構造の大きさや形状が同じままで、配置だけをランダムにすると、要素構造間に隙間が生じ平面となる部分が生じる。当該平面では光が反射し易くなるという問題がある。したがって、要素構造間に平面となる部分が生じない方が好ましい。そのためには、凹凸構造の要素構造の大きさ及び形状が一定の場合に比べ平面部が少なくなるように、当該要素構造の大きさ及び形状のいずれか一方又は両方を調節する方が良い。また、アッシング等により、平面部に更に凹凸構造を形成するようにしても良い。
【００３２】
凹凸構造３の形成は、サンドブラストによる加工等でも良いが、このような加工では、凹凸構造３の形態の制御はされておらず、場合によっては反射光や回折光が生じることもある。したがって、凹凸構造３の要素構造の形態、例えば要素構造の形状や隣り合う要素構造のピッチ、要素構造の深さ、ピッチと深さの比であるアスペクト比等を制御して形成する方が好ましい。形態を制御できる製造方法としては、例えば、インプリント加工やエンボス加工、射出成形等が挙げられる。この場合には、反射抑制層２の材料は、インプリント加工やエンボス加工、射出成形等、凹凸構造３の形態を制御できる製法に適した材料が好ましい。インプリント加工に適した材料としては、熱インプリントに適した熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等がある。また、本発明の反射防止材は、反射抑制層２と光吸収層４とに分けているため、光吸収層４に凹凸構造３を設ける場合と比較して、凹凸構造３を形成する反射抑制層２の材料選択の幅を広げることができる。例えば、凹凸構造３を形成する反射抑制層２の材料として透明な材料を用いることができる。したがって、反射抑制層２の材料として、光インプリントに適した光硬化性樹脂を用いることも可能であり、凹凸構造３を光インプリントによって形成することができる。
【００３３】
また、凹凸構造３は、透明薄膜の第１の面に形成される（凹凸構造形成工程）。この透明薄膜は、光吸収層４上に配置される（２層形成工程）。光吸収層４上への透明薄膜の配置は、凹凸構造形成工程の前におこなっても良いし、後におこなっても良い。例えば、フィルム状の光吸収層４上に光硬化性樹脂を塗布することによって透明薄膜を形成し、２層を形成する。その後、インプリント技術等によって透明薄膜に凹凸構造３を形成すれば良い。また、インプリント技術等によって透明薄膜に先に凹凸構造３を形成し、当該透明薄膜を光吸収層４上に配置しても良い。この場合、透明薄膜と光吸収層４は溶着や接着剤の塗布等によって接合しても良い。
【００３４】
光吸収層４は、少なくとも反射抑制層２を透過した光を吸収する材料であればどのようなものでも良い。ここで、光を吸収する材料とは、少なくとも光を反射するよりも光を吸収する割合が大きい材料をいうが、好ましくは、消衰係数ｋが０．４以下、好ましくは０．２以下、更に好ましくは０．１以下であることが好ましい。このような材料としては、例えば、カーボンブラックやアニリンブラック、チタンブラック、アセチレンブラック等の黒色顔料が該当する。また、樹脂等に前記材料を光吸収成分として含有するものでも良い。この際、光吸収成分の粒径は、散乱や反射が生じないように、吸収する光の波長に対して十分に小さいことが好ましい。具体的には、材料に含まれる粒子の平均粒径が、吸収する光の波長の２分の１以下、更に好ましくは４分の１以下であるのが良い。なお、光吸収成分の平均粒径は、粒度分布測定装置を用いて測定すれば良い。粒度分布測定装置の測定原理としては、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等の電子顕微鏡で直接、粒子の画像を取得し、その画像イメージから粒子の大きさに換算する画像イメージング法や、粒子群にレーザ光を照射し、そこから発せられる回折・散乱光の強度分布パターンから計算によって粒度分布を求めるレーザ回折・散乱法により測定するものがある。
【００３５】
また、光吸収層４の厚みＬが光の波長λと比較して小さくなり過ぎると当該光は光吸収層４を透過し易くなり、反射防止材１の光吸収効果が低くなる場合がある。したがって、光吸収層４の厚みは、Ｌ≧λを満たす方が好ましい。
【００３６】
また、反射抑制層２は、凹凸構造３に対する光の入射角（反射抑制層２に対する垂直方向を０°とした場合の角度）に応じて反射率が異なる。図２は、凹凸構造３に対する光の入射角φ（°）と光の反射率との関係を、凹凸構造３の大きさごとにシミュレーションし比較したものである。ここで、反射抑制層２は、屈折率ｎ＝１．４５、消衰係数ｋ＝０の透明な材料を用いることを想定した。また、光吸収層４は、屈折率ｎ＝１．６、消衰係数ｋ＝０．２の材料を用いることを想定した。
【００３７】
凹凸構造３の形状は、図３〜図５に示すように、深さをＨ、幅をＤとしたとき下記式（１）を満たす放物線の回転体からなる砲弾形状からなる穴（要素構造）をピッチＰ＝Ｈとなるように三角配置で複数配列するハニカム構造とした。
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また、凹凸構造３の深さＨは、０．５μｍ、１μｍ、１．５μｍ、２μｍ、２．５μｍ、３μｍ、３．５μｍ、４μｍ、４．５μｍ、５μｍの場合について比較した。反射抑制層の残膜（凹凸構造３が形成されていない部分）の厚みは１０μｍ、反射抑制層２の厚みは１００μｍとした。また、光源の光の波長λは５００ｎｍとした。
【００３８】
なお、シミュレーションには、シノプシス社（synopsys, Inc）製のソフトDiffractMODを用いた。
【００３９】
図２より、凹凸構造３を構成する穴を大きくする程、反射率は低下することがわかる。また、凹凸構造３を構成する穴が大きい程、入射角が大きくなっても、反射率を十分におさえていることがわかる。入射角８５度において、深さＨ＝λ（５００ｎｍ）の時と比較し、Ｈ＝２λになると反射率が大きく下がり、Ｈ＝３λになると約半分になる。Ｈ＝６λになると反射率は３５％未満になる。
【００４０】
また、凹凸構造３は、図６に示すようなラインアンドスペース形状であっても良い。この場合、反射防止特性は異方性が生じる等の欠点もあるが、凹凸構造３の強度を上げることができるという利点がある。図７は、形態がラインアンドスペースである凹凸構造３に対する光の入射角φと光の反射率との関係を、入射光の波長ごとにシミュレーションし比較したものである。図７（ａ）は、ラインアンドスペースと直交する線を軸とした入射角度で光源の光を凹凸構造３に当てた場合の結果を示し、図７（ｂ）は、ラインアンドスペースのラインを軸とした入射角度で光源の光を凹凸構造３に当てた場合の結果を示す。ここで、反射抑制層２は、屈折率ｎ＝１．４５、消衰係数ｋ＝０の透明な材料を用いることを想定した。また、光吸収層４は、屈折率ｎ＝１．６、消衰係数ｋ＝０．２の材料を用いることを想定した。
【００４１】
凹凸構造３は、図８（ａ）に示すように、断面の高さ（深さ）が１５μｍ、底辺の長さ（幅）が１０μｍである二等辺三角形からなるラインアンドスペース構造とした。反射抑制層２の残膜（凹凸構造３が形成されていない部分）の厚みは１０μｍ、光吸収層４の厚みは、１００μｍとした。
【００４２】
また、光源の光の波長λは４００ｎｍ、５００ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍの４種類とした。
【００４３】
また、図８（ｂ）に示すように、断面の高さ（深さ）が１．５μｍ、底辺の長さ（幅）が１μｍである二等辺三角形からなるラインアンドスペース構造についても、シミュレーションを行った。この場合も、反射抑制層２の残膜（凹凸構造３が形成されていない部分）の厚みは１０μｍ、光吸収層４の厚みは、１００μｍとした。その結果を図９に示す。図９（ａ）は、ラインアンドスペースと直交する線を軸とした入射角度で光源の光を凹凸構造３に当てた場合の結果を示し、図９（ｂ）は、ラインアンドスペースのラインを軸とした入射角度で光源の光を凹凸構造３に当てた場合の結果を示す。
【００４４】
なお、シミュレーションには、シノプシス社（synopsys, Inc）製のソフトDiffractMODを用いた。
【００４５】
図７より、反射を十分に抑えていることがわかる。また、図９と比較すると、凹凸構造を構成するラインアンドスペースが大きい方が、反射率は低下することがわかる。
【００４６】
次に、光の波長と本発明の反射防止材の反射率との関係を測定した。本発明の反射防止材（実施例１）としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる基材上に黒色塗料（トーヨーカラー製TB8100）からなる光吸収層とＵＶ硬化型自己修復塗料（株式会社トクシキ製AUP-838C-80）からなる反射抑制層を形成したものを用いた。反射抑制層の凹凸構造としては、図１０に示すように、下記式（１）を満たす放物線の回転体からなる砲弾形状からなる穴（要素構造）をランダム配置で複数配列する構造とした。
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なお、穴（要素構造）の幅はＤ＝１，２，３，４，５，６（μｍ）の６種類とし、深さは総てＨ＝１０（μｍ）とした。
【００４７】
また、実施例１の反射防止材に対してアッシングを行い、前記凹凸構造３の表面（要素構造間に位置する平面部31を含む）に当該凹凸構造３よりも小さい凹凸構造を形成したもの（実施例２）を作製した。
【００４８】
このように形成した反射防止材の反射率を紫外可視近赤外分光光度計（株式会社日立ハイテクサイエンス製UH4150）を用いて測定した。また、比較のために下記５つの反射防止材についても測定した。
比較例１：ベルベット（株式会社マゼランオリジナル植毛紙1304）
比較例２：Metal Velvet（Acktar社）
比較例３：ソマブラック（ソマール株式会社ソマブラックNR-N50）
比較例４：Spectral Black（Acktar社）
比較例５：スーパーブラックＩＲ（株式会社渋谷光学）
【００４９】
図１１より、可視光に対して、実施例１，２の反射防止材は、比較例３〜５の反射防止材よりも反射を抑制できることがわかる。また、可視光のうち長波長側では、比較例１，２よりも反射を抑制できることがわかる。
【００５０】
また、実施例１，２および比較例１〜５の反射防止材について、入射角（反射抑制層２に対する垂直方向を０°とした場合の角度）が５°、４５°、６０°である場合の反射率の測定結果を図１２〜図１４に示す。なお、入射角が６０°の場合、比較例２の反射防止材の反射率は０．２％を大きく超えていたため、当該反射スペクトルは図１４には表示されていない。
【００５１】
図１２〜図１４に示すように、入射角が５°、４５°、６０°である場合の反射率は、実施例２の方が実施例１よりも低いことがわかる。
【００５２】
なお、上記説明では、反射抑制層２と光吸収層４を一体に形成する場合について説明したが、光吸収層４の代わりになる物体の表面に反射抑制層２を接着して利用したい場合もある。この場合には、光吸収層４を設ける代わりに、図１５（ａ）に示すように、上述した反射抑制層２の第２の面22に形成され、任意の面に接着可能な接着層５を設けるようにしても良い。
【００５３】
この場合、反射抑制層２と接着層５の界面における光の反射を防止するために、接着層５の材料は、反射抑制層２の屈折率と接着層５の屈折率の違いが１０％以下となるものが好ましい。すなわち、接着層５の材料は、反射抑制層２の屈折率をｎ１、接着層５の屈折率をｎ２とすると、当該屈折率ｎ２は、０．９ｎ１≦ｎ２≦１．１ｎ２を満たすものが好ましい。もちろん、反射抑制層２の屈折率と接着層５の屈折率が同じであることが最も好ましい。このような材料としては、例えば、反射抑制層２の材料がPMMA系UV樹脂（屈折率：1.49）である場合には、接着層５の材料としてOCA用アクリル系粘着剤（屈折率：1.49）等を用いることができる。
【００５４】
また、接着層５の表面52は、そのままでは、他のものに不用意に接着する可能性があり不便である。したがって、図１５（ｂ）に示すように、接着層５の表面52に形成され、当該接着層５から取り外し可能なカバー６を具備する方が好ましい。カバーとしては、接着層から容易に剥がすことができるものであればどのようなものでも良く、例えば、厚さ２５μｍのセパレーターフィルム（PET）を用いることができる。
【符号の説明】
【００５５】
１  反射防止材
２  反射抑制層
３  凹凸構造
４  光吸収層
５  接着層
６  カバー
21  第１の面
22  第２の面
31  平面部
52  表面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2018062481.tif 000015
【図１２】
2018062481.tif 000016
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【国際調査報告】
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2018062481.tif 000021
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