【事件の表示】
　平成　９年特許願第１３８３２８号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１２月　８日出願公開、特開平１０−３２３６３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件審判請求に係る出願は、平成９年５月２８日の出願であって、平成１７年１月２５日付けで拒絶査定（発送日：同年２月１日）がなされたところ、平成１７年３月３日に拒絶査定不服審判が請求され、同年３月２４日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１７年３月２４日付けの手続補正について
［結論］
　平成１７年３月２４日付けの手続補正を却下する。
［理由］                                          
　１．平成１７年３月２４日付け手続補正による発明
　　平成１７年３月２４日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
　「基板を回転させつつ前記基板に洗浄液を供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　a) 基板を略水平に保持した状態で基板を回転させる回転保持手段と、
　b) 前記回転保持手段とは非連結に設けられ、前記回転保持手段に保持された基板を囲み、その上部が開口した飛散防止カップと、
　c) 基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
を備え、
　前記飛散防止カップの内壁面の少なくとも一部と、前記回転保持手段によって保持された状態での基板とが形成する角度が、３０°〜６０°の範囲内の角度とされていることを特徴とする基板処理装置。」
　と補正された（以下、「本件補正発明」という。）。
　本件補正は、本件補正前の発明を特定する事項である「処理液」を、処理液の下位概念である「洗浄液」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、又、当該事項は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「当初明細書」という。）の【００１５】、【００４１】等に記載された事項であるから、当初明細書に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
　そこで、本件補正発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、即ち、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか否か、について検討する。
　
　２．引用例に記載された事項
　(１)原審において引用された、特開平９−２９１８９号公報（以下、「引用例」という。）には、次の事項が図面と共に記載されている。
　Ａ．「【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウエハ等の被処理体を洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に関するものである。」（【０００１】）
　Ｂ．「上記スピンチャック３は、上側表面に図示しない真空吸着孔を有し、駆動軸３ａ内に設けられた真空吸着孔に連通する通路３ｂ及びシール部５を介して図示しない真空装置に連通して、真空吸着によりウエハＷを上面に保持し得るように構成されている。また、処理室１の底部から外部に突出するスピンチャック３の駆動軸３ａには、処理室１の外部に配置固定されるモータ４が連結されて、モータ４の駆動によりスピンチャック３が回転し得るように構成されている。」（【００３０】）
　Ｃ．「上記カップ６は、処理室１の底部に架設固定される底板８上に起立するように設けられた筒状の外カップ６ａと、この外カップ６ａの内側に配設され垂直方向に移動可能な内カップ６ｂとで構成されている。この場合、内カップ６ｂは、円筒状基部６ｃの上端開口側に内側に向って狭小のテーパ面６ｄを有し、かつ、その先端には内向きフランジ部６ｅを有してなる。この内カップ６ｂは、円筒状基部６ｃの下端から延びる取付部にブラケット６ｆを介して昇降ロッド６ｇが取付けられ、昇降ロッド６ｇに連結部材６ｈを介して処理室１の下端外方に垂下状に配置される昇降シリンダ７のピストンロッド７ａが連結されている。したがって、昇降シリンダ７の駆動によって内カップ６ｂが昇降し、上昇時にはスピンチャック３及びウエハＷの外側を包囲し、下降時には内カップ６ｂの上端がスピンチャック３の下方部位に位置することができるようになっている。なお、内カップ６ｂが上昇した際に底板８と内カップ６ｂ下端との間に生じる隙間は外カップ６ａによって塞がれるように構成されているので、洗浄に供される洗浄液がカップ６の外に流れるのを阻止することができる。」（【００３１】）
　Ｄ．「また、取付軸１０ｃのブラシ部材１０ｂの取付部の上部には円筒容器状に洗浄液受部１０ｄが設けられており、この洗浄液受部１０ｄに向って洗浄液供給管１０ｅから洗浄液例えば純水が供給され、洗浄液受部１０ｄの底部に設けられた図示しない流通路を通過した洗浄液がブラシ部材１０ｂに伝わってウエハＷの洗浄に供されるようになっている。」（【００３５】１〜７行）
　
　(２)同じく引用された、特開平６−１５４６９４号公報（以下、「引用例２」という。）には、次の事項が、図面と共に記載されている。
　Ｅ．「スピンカップ５の内部の中央に設けてある回転ヘッド８には、基板６を搭載したときにその位置決めを行う基板ガイド７が設けてあり、この基板ガイド７の上方の位置の外側に、インナリング３が設けてある。インナリング３は、内周側が上方となり、外周側が下方となるように傾斜しており、その外周をスピンカップ５の内周に着脱自在に取付けられている。インナリング３の下面には、粘着テープ４が貼着されている。スピンカップ５の外径が５００ｍｍの場合は、インナリング３の外周の位置を基板６と位置とほぼ同じにし、傾斜角度を約３０度とすることにより、回転塗布の飛散するレジストの殆どすべてを受け止めることができ、粘着テープ４によって受け止めたレジストの再飛散を防止できる。スピンカップ５の上には、開閉可能なスピンカップ蓋１が設けられており、このスピンカップ蓋１によってスピンカップ５の内部が密封される。」（【００１２】）
　
　３．引用例１に記載された発明
　上記摘記事項Ａ〜Ｅ及び図２等によれば、引用例１には、次のような発明が記載されていると認められる（以下、「引用例１記載の発明」という。）。
　上面にウエハを保持し、モータにより回転するスピンチャックと、
　ウエハ表面に洗浄液を供給する洗浄液供給管と、
　スピンチャック及びウエハの外側を包囲する内カップとを備え、
　内カップは、円筒状基部の上端開口側に内方に傾斜するテーパ面を有し、且つ、上部が開口している洗浄装置。
　
　４．対比・判断
　本件補正発明と引用例１記載の発明とを対比する。
　引用例１記載の発明の「ウエハ」は、本件補正発明の「基板」に相当し、同様に、「スピンチャック」は「回転保持手段」に、「洗浄液供給管」は「洗浄液供給手段」に、「内カップ」は「飛散防止カップ」に、それぞれ、相当する。
　又、引用例１記載の発明にいう「洗浄」は、基板に対する処理の一種であるから、引用例１記載の発明の「洗浄装置」は、「基板処理装置」と言い換えることができる。
　さらに、本願発明と引用例１記載の発明とは、その傾斜角度はともかく、飛散防止カップの上部が、基板を囲むように内方に傾斜している点で共通するものである。
　ここで、本件補正発明の「飛散防止カップ」が「回転保持手段とは非連結に設けられ」ている点について、検討する。
　「飛散防止カップと回転保持手段とが非連結」とは、本願明細書の「カップＣ及び支持管Ｔはスピンチャック５０とは非連結であり、スピンチャック５０が回転してもカップＣは回転しない。」（【００２０】３〜４行）との記載からみて、スピンチャックが回転してもカップは回転しない、ということである。この点に着目して、引用例１をみるに、上記摘記事項Ｂ、Ｃ及び図２等の記載からみて、引用例１記載の発明においては、モータ４の駆動により駆動軸３ａが回転しても、底板８は回転しないから、底板８に起立するように設けられている外カップ６ａ、内カップ６ｂが回転しないことは明らかである。
　即ち、引用例１記載の発明においても、飛散防止カップとスピンチャックとは非連結に設けられているものである。
　以上の点からみて、本件補正発明と引用例１記載の発明とは、次の一致点、相違点を有するものである。
［一致点］
　基板を回転させつつ前記基板に洗浄液を供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　a) 基板を略水平に保持した状態で基板を回転させる回転保持手段と、
　b) 前記回転保持手段とは非連結に設けられ、前記回転保持手段に保持された基板を囲み、その上部が開口した飛散防止カップと、
　c) 基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
を備え、
　前記飛散防止カップの内壁面が内方に傾斜していることを特徴とする基板処理装置。
［相違点］
　飛散防止カップの内壁面の少なくとも一部と回転保持手段によって保持された状態での基板とが形成する角度が、本件補正発明では、３０°〜６０°の範囲内であるのに対して、引用例１記載の発明では、具体的に記載されていない点。
　
　［相違点］について検討する。
　上記引用例２には、回転ヘッドに基板を搭載・回転させて処理を行う基板処理装置において、回転ヘッドの上方に、傾斜したインナリング（飛散防止カップ）を設け、その傾斜角度を約３０度とすることにより、飛散するレジスト（処理液）の殆どすべてを受け止めることができる基板処理装置が記載されている。
　ところで、基板を回転させて処理する基板処理装置において、ミスト等の飛散を防止するためにカップを傾斜させることは普通に行われていることであるところ、上記引用例２に記載されるように、処理液ではあるが、その飛散防止をより効果的に行うために、その傾斜角度についても最適な角度を検討し決定することは、よく行われている技術事項である。
　そして、洗浄液はレジストに比して、ミスト等が多く飛散することは技術常識であるから、レジスト（処理液）以上に、洗浄液についても、ミストの飛散に対処することは、当業者が、当然に配慮すべき技術事項であると言える。
　してみると、引用例１記載の発明の飛散防止カップについても、その傾斜角度をミスト飛散防止に最適な角度とすることは、当然に配慮されるべき技術事項であり、具体的に、傾斜角度を３０°〜６０°とすることは、当業者が通常の創作能力を発揮して決定し得る数値であると認められる。
　
　［作用効果］について
　本件補正発明の奏する作用効果も、引用例１記載の発明及び引用例２に記載された技術事項の奏する作用効果から、当業者が予測できる範囲のものである。
　
　以上のとおり、本件補正発明は、引用例１記載の発明及び引用例２に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　５．むすび
　したがって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、平成１８年改正前特許法第１５９条第１項の規定で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　１．本願発明
　上記のとおり、平成１７年３月２４日付け手続補正は却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１６年４月８日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、次のとおりのものである（以下、「本願発明」という。）。
　「基板を回転させつつ前記基板に処理液を供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　a) 基板を略水平に保持した状態で基板を回転させる回転保持手段と、
　b) 前記回転保持手段とは非連結に設けられ、前記回転保持手段に保持された基板を囲み、その上部が開口した飛散防止カップと、
　c) 基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、
を備え、
　前記飛散防止カップの内壁面の少なくとも一部と、前記回転保持手段によって保持された状態での基板とが形成する角度が、３０°〜６０°の範囲内の角度とされていることを特徴とする基板処理装置。」
　
　２．引用例に記載された事項
　上記「第２　２．」に記載したとおりである。
　
　３．引用例１に記載された発明
　上記「第２　３．」に記載したとおりである。
　
　４．対比・判断
　本願発明は、上記「第２　１．」に記載した本件補正発明における「洗浄液」を、その上位概念である「処理液」とするものである。
　そうすると、本願発明の構成を全て含み、更に「処理液」を、下位概念である「洗浄液」に限定した本件補正発明が、上記「第２　４．」に記載したとおり、引用例１記載の発明及び引用例２に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである以上、本願発明も、同様の理由により、引用例１記載の発明及び引用例２に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　［作用効果］について
　本願発明の奏する作用効果も、引用例１記載の発明及び引用例２に記載された技術事項の奏する作用効果から、当業者が予測できる範囲のものである。
　
　以上のとおり、本願発明は、引用例１記載の発明及び引用例２に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　５．むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。