【事件の表示】
　上記当事者間の特許第３０１６７０３号発明「被覆硬質部材」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第３０１６７０３号の請求項１及び２に係る発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第３０１６７０３号は、平成７年１月３１日に特許出願されたものであって、平成１１年１２月２４日にその設定登録がなされ、当該特許につき、平成１２年９月１日付け及び平成１２年９月４日付けで各々特許異議の申立てがなされ、平成１４年１０月１７日付けで本件明細書の訂正請求が請求され、平成１４年１０月１８日付けで特許を維持するとの異議の決定がなされて、上記訂正請求が容認され、その後、当審において、以下の手続を経たものである。
　無効審判請求書　　　　　　　　　　　　　平成１８年１２月２６日
　審判事件答弁書　　　　　　　　　　　　　平成１９年　３月１９日
　口頭審理陳述要領書（請求人）　　　　　　平成１９年　５月１５日
　口頭審理陳述要領書（被請求人）　　　　　平成１９年　５月１５日
　口頭審理（特許庁第１審判廷）　　　　　　平成１９年　５月１５日
　上申書（請求人）　　　　　　　　　　　　平成１９年　５月２９日
　上申書（被請求人）　　　　　　　　　　　平成１９年　６月１２日
　
II．本件発明
　本件請求項１及び２に係る発明は「被覆硬質部材」に関するものであり、平成１４年１０月１７日付け訂正請求により訂正された特許請求の範囲には、以下の事項が記載されている。
【請求項１】基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式
　Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）
で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴とする被覆硬質部材。
【請求項２】前記皮膜の層とＡｌＮ、周期律表４ａ、５ａ、６ａ族の炭化物、窒化物、炭窒化物、のうち１つから選ばれる層を２層以上の多層としたことを特徴とする請求項１記載の被覆硬質部材。
（以下、必要に応じて、「本件発明１」及び「本件発明２」という）
　
III．請求人の求めた審決及び主張
　審判請求人は、特許第３０１６７０３号の特許を無効とする、審判費用は被請求人の負担とする、との審決を求め、証拠方法として下記の書証をもって以下に示す無効理由により、本件請求項１及び２に係る発明の特許は無効にされるべきであると主張する。
（書　証）
甲第１号証：玉垣浩外２名著、「アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）法によるＴｉＡｌＮ皮膜の形成」、第８２回講演大会・講演要旨集、社団法人表面技術協会、平成２年９月２８日、第１２８及び１２９頁
甲第２号証：池田孜外２名著、「次世代の硬質膜コーティング技術」、Ｒ＆Ｄ神戸製鋼技報、Ｖｏｌ．４１、Ｎｏ．３、ＪＵＬＹ１９９１、第９〜１３頁
甲第３号証：特開平５−１７９３１０号公報
甲第４号証：特開平２−１９４１５９号公報
甲第５号証：特開平３−１７２５１号公報
甲第６号証：特表２００１−５１６６５４号公報
参考資料１：知的財産高等裁判所、平成１７年（行ケ）第１００４２号特許取消決定取消請求事件の判決の写し
参考資料２：東京高等裁判所、平成１３年（行ケ）第３３８号特許取消決定取消請求事件の判決の写し
参考資料３：知的財産高等裁判所、平成１７年（行ケ）第１０２０５号審決取消請求事件の判決の写し
参考資料４：特許第３０１６７０３号明細書（本件特許公報）
参考資料５：特開昭５６−１５６７６７号公報
参考資料６：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１３年１月２４日付け取消理由通知書
参考資料７：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１３年４月５日差出の特許異議意見書
参考資料８：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１３年４月５日差出の訂正請求書
参考資料９：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１４年５月１４日付け訂正請求取下書
参考資料10：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１４年１０月８日付け取消理由通知書
参考資料11：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１４年１０月１７日付け特許異議意見書
参考資料12：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１４年１０月１７日付け特許異議意見書に添付の平成１４年９月１７日付け実験結果報告書
参考資料13：特許異議申立２０００−７３３２４における平成１４年１０月１７日付け訂正請求書
参考資料14：異議２０００−７３３２４の特許決定公報
　なお、上記参考資料１〜１４については、甲第７〜２０号証として提出されたものであるが、これら証拠は、口頭審理後の上申書により提出されたものであり、上記のとおり参考資料として表示する。
（無効理由）　
【無効理由１】
　本件請求項１及び２に係る発明は、本願出願前に頒布された刊行物である甲第１〜５号証に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、したがって、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきである。
【無効理由２】
　本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、したがって、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきである。
【無効理由３】
　本件特許請求の範囲に記載された発明は、次の（イ）〜（ハ）の特定事項については、発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえず、本件出願は特許法第３６条第５項第１号に規定する要件を満たしておらず、したがって、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第４号に該当し、無効とすべきである。
（イ）本件請求項１（同様に、その従属請求項である請求項２）における「・・・Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること・・・」
（ロ）本件請求項１（同様に、その従属請求項である請求項２）における「・・・３元系の・・・」
（ハ）本件請求項２における「・・・２層以上の多層とした・・・」
【無効理由４】
　本件特許請求の範囲に記載された発明は、次の（ニ）〜（ヘ）の点で、明確でなく、本件出願は特許法第３６条第５項第２号に規定する要件を満たしておらず、したがって、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第４号に該当し、無効とすべきである。
（ニ）本件請求項１における「Ｉａ値が２．３以上」に限定する意義が発明の詳細な説明の記載から明らかでない。
（ホ）本件請求項１における「Ｉａ値が２．３以上」に限定する点は、下限だけを示す数値限定であって範囲をあいまいにする表現であり、発明の範囲が不明確である。
（ヘ）本件請求項１における発明特定事項として、「バイアス電圧値」については何も記載がない。
【無効理由５】
　本件明細書の発明の詳細な説明には、次の（ト）〜（ヌ）の点で、本件請求項１及び２に記載された事項により構成される発明を当業者が容易にその実施をすることができる程度にその発明の目的、構成及び効果が記載されていないから、本件出願は特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしておらず、したがって、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第４号に該当し、無効とすべきである。
（ト）本件請求項１及び２における「Ｉａ値が２．３以上であること」とするための本件発明特有の製造方法が発明の詳細な説明において当業者が実施できる程度に記載されていない。
（チ）発明の詳細な説明には、本件請求項１及び２に記載の発明の特定事項のうち「Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」については、「Ｉａ値の上限値」が記載されていない。
（リ）発明の詳細な説明には、本件請求項１及び２に記載の発明の特定事項のうち「Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」を達成するための製造方法に関し、「低電圧バイアス値」におけるＩａ値が記載されていない。
（ヌ）発明の詳細な説明において、「バイアス電圧値を中電圧（５０〜１００Ｖ）」（段落０００７）（本発明例では、６０、８０、９０Ｖ）を最適としながら、中電圧バイアスのＩａ値の上限値の具体的記載もない。
【無効理由６】
　平成１４年１０月１７日提出の訂正請求書によりした次の（ル）の訂正は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものではなく、また、この訂正は、実質上特許請求の範囲を変更するものであり、同法第１２６条第３項及び４項に規定する要件を満たしておらず、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第８号に該当し、無効とすべきである。
（ル）本件請求項１における「Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が１．５以上であること」の記載を「Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」と訂正した事項。
【無効理由７】
　本件請求項１及び２に係る発明は、未完成の発明であり、特許法第２９条第１項柱書きの発明に該当しないから、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、同法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきである。
　
IV．被請求人の求めた審決及び反論
　被請求人は、本件審判請求は成り立たない、審判費用は請求人の負担とするとの審決を求め、証拠方法として下記の書証をもって、本件請求項１及び２に係る発明の特許は、上記無効理由１〜７によっては無効とすることができないと主張する。
（書　証）　　　　　　　　　　　　　記
乙第１号証：特開平１−２５２３０４号公報
乙第２号証：特開平３−１７２５１号公報
乙第３号証：特開平６−１３６５１４号公報
乙第４号証：米国特許第４，８７１，４３４号明細書
乙第５号証：O．Knotek　et　al．「Industrial　deposition　of　binary,ternary,and　quaternary　nitrides　of　titanium,zirconium,and　aluminum」、American　Vacuum　Sciety、J.Vac.Scl.Technol.A5(4)、1987、pp.2173〜2179　
乙第６号証：特開平４−１２８３６３号公報
　
Ｖ．甲号各証の記載事項
Ｖ−Ａ．甲第１号証（前記「アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）法によるＴｉＡｌＮ皮膜の形成」）の記載
（Ａ−１）「アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）法によるＴｉＡｌＮ皮膜の形成」（第１２８頁第１及び２行）
（Ａ−２）「２．実験方法
　使用したＡＩＰ装置（神戸製鋼所製ＡＩＰ−０５０型）の基本構成を図１に示す。陰極に取り付ける直径１００ｍｍのターゲット材としては，Ｔｉ：Ａｌの組成比が７５：２５、５０：５０、２５：７５（atomic%）のチタンアルミ合金を用いた。基板には表面を鏡面に研磨した市販超硬チップを洗浄したものを使用し、これをターゲット表面から約１９０ｍｍの位置の回転テーブル上に設置し，反応ガスとしてＮ２を１．３Ｐａの圧力で導入しながら、アーク電流１００Ａ、基板バイアス電圧−５０Ｖで２０分間のコーティングを行いＴｉＡｌＮ膜を形成した。」（第１２８頁下から第１９行〜下から第３行）
（Ａ−３）「３．結果
　形成した皮膜の主要な評価結果を下表に示す。
　ターゲットＡｌ／（Ｔｉ＋Ａｌ）％　　２５　　５０　　７５
　被膜組成Ａｌ／（Ｔｉ＋Ａｌ）％　　　２０　　４６　　７７
　膜厚　　　　（μｍ）　　　　　　　　２．４　２．３　３．３」旨（第１２９頁上段の抜粋）
（Ａ−４）「Ｘ線回折の結果からは、Ａｌの組成が２５％と５０％のターゲットから形成したＴｉＡｌＮ膜に関しては、（１１１）面または（２００）面に配向したＴｉＮ膜に相当するパターンが得られ、これらの皮膜ではＴｉＮの結晶格子中でＴｉ原子がＡｌ原子に置きかわったような結晶構造を持つと考えられる。一方、Ａｌ組成が７５％のターゲットから形成したＴｉＡｌＮ皮膜になると、主要な回折ピークはＴｉＮからの回折パターンに一致せず、異なった結晶構造を示す。」（第１２９頁下から第１９行〜下から第１０行）
　
Ｖ−Ｂ．甲第２号証（前記「次世代の硬質膜コーティング技術」）の記載
（Ｂ−１）「本稿では，イオンプレーティング法を用いてＴｉ−Ａｌ−Ｎ系におけるＮ２分圧，あるいはＡｌ添加量を変化させることにより，ＴｉｘＮ系および（Ｔｉ１−ＸＡｌＸ）Ｎ系の膜形成をおこない，その結晶構造の変化，硬さなどについて調べた。また，それらの耐摩耗性に関して酸化挙動などの観点から考察した。」（第９頁左欄末行〜右欄第５行）
（Ｂ−２）「１．Ｔｉ−Ａｌ−Ｎ系膜の形成とその特性
　膜形成は，蒸発源としてＴｉまたはＴｉ１−ＸＡｌＸ（ｘ＝０．２５〜０．８５）合金をカソードとしたアーク放電によりカソード物質を蒸発させ，Ｎ２ガスとの反応性イオンプレーティング法によりおこなった。カソードアークイオンプレーティング法の原理を第１図に示す。」（第９頁右欄第１０〜１５行）
（Ｂ−３）「１．２　（Ｔｉ１−ＸＡｌＸ）Ｎ系膜
　第５図は，Ｎ２分圧を４×１０−１Ｐａとした時の（Ｔｉ１−ＸＡｌＸ）Ｎ（ｘ＝０〜０．８５）膜のＸ線回折結果を示す。この結果から，ＴｉＮへのＡｌ固溶度の増加にしたがって，０＜ｘ＜０．７間では，ＴｉＮと同一のＢ１型結晶構造（立方晶）であることがわかる。
　しかし，ｘ＝０．７組成ではＢ１型結晶構造のほかに微量のウルツ鉱型（六方晶）とみなせる相が検出された。さらにＡｌの増加により，（Ｔｉ０．１５Ａｌ０．８５）Ｎではウルツ鉱型結晶構造となった。」（第１０頁右欄第３〜１２行）
（Ｂ−４）「ＴｉＮへＡｌを添加したときの耐摩耗性に与える影響をＴｉ−Ｎ系膜と比較して調べた。各種コーティング超硬チップの切削性能を切削時間に対するフランク摩耗幅で評価した結果を第９図に示す。・・・。第９図にみられるように（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎは優れた耐摩耗性を有することがわかった。これは，高硬度であることのほかに，切削中に発生する高温状態で膜最表面に形成されるアモルファスＡｌ酸化物の保護膜が（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎの酸化の進行を抑制しているためと考えられる。」（第１１頁左欄第１４〜２５行）
　
Ｖ−Ｃ．甲第３号証（特開平５−１７９３１０号公報）の記載
（Ｃ−１）「【産業上の利用分野】本発明は耐摩耗性の優れた超硬エンドミルに関し、殊に成分組成の特定されたＷＣ系超硬エンドミル基材の切削刃表面に、ＴｉＡｌＮＣ系の耐摩耗性皮膜を形成し、摩耗量を抑えると共に欠け等の損傷を抑制し長寿命化を可能にした耐摩耗性超硬エンドミルに関するものである。」（段落０００１）
（Ｃ−２）「【実施例】
　実施例１
　ＷＣ系超硬エンドミル素材（ＷＣの平均粒径：０．５μｍ、Ｃｏ含量：１２重量％、ＶＣ含量：０．３重量％）の切削刃表面に、表１に示す膜厚のＡｌＴｉＮＣ耐摩耗性皮膜を形成したものについて下記の条件で切削試験を行ない、切削刃の摩耗状況及び刃先部の欠け発生状況を調べた。」（段落００１６）
（Ｃ−３）「但し耐摩耗性皮膜の形成法は次の通りとした。即ちＡｌ０．６Ｔｉ０．４をカソード電極とするカソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーにエンドミル基材を取付ける。尚本装置には、皮膜形成状態の均一性を確保するための基材回転機構とヒータを設置した。」（段落００１７）
（Ｃ−４）「成膜に当たっては、ヒーターによって基材温度を４００℃に加熱保持し、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを７×１０−３Torrまで導入してアーク放電を行ない、放電時間を調整することにより所定の膜厚を得た。尚膜組成はオージェ分光分析法によりいずれも（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎであることを確認し、また膜厚は膜断面の走査型電子顕微鏡によって確認した。」（段落００１８の抜粋）
　
Ｖ−Ｄ．甲第４号証（特開平２−１９４１５９号公報）の記載
（Ｄ−１）「基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、
　　（ＡｌｘＴｉ１−ｘ）（ＮｙＣ１−ｙ）
　　　但し　０．５６≦ｘ≦０．７５
　　　　　　０．６　≦ｙ≦１
で示される化学組成からなり、膜厚が０．８〜１０μｍの耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性皮膜形成方法。」（特許請求の範囲、第１頁左下欄第５〜１２行）
（Ｄ−２）「本発明は、フライス加工工具等の表面に、密着性の優れた耐摩耗性皮膜を効率良く形成する方法に関するものである。」（第１頁左下欄第１５〜１７行）
（Ｄ−３）「実施例１
　Ａｌ０．６Ｔｉ０．４をカソード電極とするカソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに超硬合金製チップ（ＷＣ−１０％Ｃｏを主成分とする）を取付けた。尚本装置には、耐摩耗性皮膜形成状態の均一性を確保する為の基材回転機構等及びヒータを設置した。
　成膜に当たっては、ヒータによって基材温度を４００℃に加熱保持したまま、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを７×１０−３Ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始して基材表面に膜厚４μｍの皮膜を形成した。・・・。その結果Ａｌ，Ｔｉ，Ｎの膜厚さ方向には濃度変化がなく一定で、各成分元素のピーク高さから、膜組成は（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎであった。膜中の金属成分比Ｔｉ／Ａｌはカソード成分比とずれがなく殆んど同一といえる。」（第３頁右下欄第１０行〜第４頁左上欄第１１行）
（Ｄ−４）「実施例２
　Ａｌ０．７Ｔｉ０．３カソードを用いた以外は、実施例１と同一条件で成膜を行なった。成膜した膜厚は３．８μｍであり、膜組成は（Ａｌ０．７Ｔｉ０．３３）Ｎであった。」（第４頁左上欄第１２〜１６行）
　
Ｖ−Ｅ．甲第５号証（特開平３−１７２５１号公報）
（Ｅ−１）「（１）ＴｉＣｘＮ１−ｘ（但し０≦ｘ≦０．６）で示される化学組成からなり、膜厚が０．３〜６μｍの皮膜層が基材表面に形成されると共に、（ＡｌｙＴｉ１−ｙ）（ＮｚＣ１−ｚ）（但し０．０５≦ｙ≦０．７５，０．８≦ｚ≦１）示される化学組成からなり、膜厚が０．６〜８μｍの皮膜層が最上層に形成され、少なくとも２層からなることを特徴とする耐摩耗性皮膜。」（特許請求の範囲第１項、第１頁左下欄第５〜１２行）
（Ｅ−２）「実施例１
　Ｔｉカソード電極およびＡｌｙＴｉ１−ｙ（ｙ＝０．０５〜０．７５）の組成のカソード電極を用い、カソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに超硬合金製チップ（ＷＣ−１０％Ｃｏを主成分とする）を取付けた。尚本装置には、耐摩耗性皮膜形成状態の均一性を確保する為の基材回転機構等及びヒータを設置した。
　成膜に当たっては、ヒータによって基材温度を４５０℃に加熱保持したまま、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを５×１０−２Ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始し、基材表面にＴｉ（ＣｘＮ１−ｘ）系皮膜層（第１皮膜層）、中間層および（ＡｌｙＴｉ１−ｙ）（ＮｚＣ１−ｚ）系皮膜層（表面層）の順に積層して各種の皮膜を形成した。
　〈中　略〉
　その結果を各層の組成および層厚と共に第１表に示す。尚第１表には比較の為、実施例１で示した手段と同様にして（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｃ，Ｎ）系単層膜を形成したときのもの（Ｎｏ．８〜１０）、および第１皮膜層が本発明の範囲外のもの（Ｎｏ．１１）についても、その組成，膜厚およびフランク摩耗幅を示した。」（第４頁右下欄第８行〜第５頁右上欄第８行）
（Ｅ−３）「第１表
　Ｎｏ．　　　　　　表　面　層　　　　　　　　　　　備考
　　　　　　組　成　　　　　　膜厚（μｍ）
　１　　Ａｌ０．６１Ｔｉ０．３９Ｎ　　４　　　　　　　　　　実施例
　２　　Ａｌ０．０７Ｔｉ０．９３Ｎ　　３．８　　　　　　　　実施例
　３　　Ａｌ０．２６Ｔｉ０．７４Ｎ　　４．５　　　　　　　　実施例
　４　　Ａｌ０．５６Ｔｉ０．４４Ｎ　　１．８　　　　　　　　実施例
　５　　Ａｌ０．６８Ｔｉ０．３２Ｎ　　５．８　　　　　　　　実施例
　６　　Ａｌ０．５８Ｔｉ０．４２Ｎ　　４．１　　　　　　　　実施例
　７　　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　３．５　　　　　　　　実施例
　１１　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　４．２　　　　　　　　比較例
　　　　　　　　　　第１皮膜層
　　　　　　組　成　　　　　　膜厚（μｍ）
　８　　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　４　　　　　　　　　　比較例
　９　　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　６．５　　　　　　　　比較例
　１０　Ａｌ０．２６Ｔｉ０．７４Ｎ　　５．３　　　　　　　　比較例」旨〔第４頁中段の表１（Ｎｏ．１〜７及び１１については、第１皮膜層、中間層、フランク摩耗幅の項の記載を省略。Ｎｏ８〜１１については中間層、表面層、フランク摩耗幅の項の記載を省略）〕
（Ｅ−４）「第１表より明らかな様に、比較例に比べて本発明はいずれも耐摩耗性に優れていた。」（第５頁右下欄第１及び２行）
（Ｅ−５）「実施例２
　６ｍｍφの（ＷＣ−９．５％Ｃｏを主成分とする）超硬ドリルに実施例１と同様に各種の皮膜を形成した。
　得られた各皮膜について、下記の条件にて切削を行なった。
　〈中　略〉
　このときの穴開け個数の結果を、各皮膜層の組成および層厚と共に第２表に示す。」（第５頁右下欄第４〜１７行）
（Ｅ−６）「第２表
　Ｎｏ．　　　　　　　表　面　層　　　　　　　　　　備考
　　　　　　　　組　成　　　　膜厚（μｍ）
　１１　Ａｌ０．６１Ｔｉ０．３９Ｎ　　３．８　　　　　　　　実施例
　１２　Ａｌ０．６１Ｔｉ０．３９Ｎ　　３．８　　　　　　　　実施例
　１３　Ａｌ０．６１Ｔｉ０．３９Ｎ　　３．８　　　　　　　　実施例
　１４　Ａｌ０．４８Ｔｉ０．５２Ｎ　　２．８　　　　　　　　実施例
　１５　Ａｌ０．４８Ｔｉ０．５２Ｎ　　２．８　　　　　　　　実施例
　１６　Ａｌ０．４８Ｔｉ０．５２Ｎ　　２．８　　　　　　　　実施例
　　　　　　　　　　第１皮膜層                      備考
　　　　　　組　成　　　　　　膜厚（μｍ）
　１７　Ａｌ０．６３Ｔｉ０．３７Ｎ　　４．８　　　　　　　　比較例
　１８　Ａｌ０．６３Ｔｉ０．３７Ｎ　　４．８　　　　　　　　比較例
　１９　Ａｌ０．６３Ｔｉ０．３７Ｎ　　４．８　　　　　　　　比較例
　２０　Ａｌ０．３８Ｔｉ０．６２Ｎ　　６　　　　　　　　　　比較例
　２１　Ａｌ０．３８Ｔｉ０．６２Ｎ　　６　　　　　　　　　　比較例
　２２　Ａｌ０．３８Ｔｉ０．６２Ｎ　　６　　　　　　　　　　比較例」旨〔第６頁上段の第２表（Ｎｏ．１１〜１６については第１皮膜層、中間層、穴開け個数、摩擦状況の項の記載を省略。Ｎｏ．１７〜２２については中間層、表面層、穴開け個数、摩擦状況の項の記載を省略。）〕
（Ｅ−７）「実施例３
　６ｍｍφハイスドリルに実施例１と同じ様にして各種皮膜を形成した。
　得られた各皮膜について、下記の条件にて切削を行なった。
　〈中　略〉
　このときの穴開け個数の結果を、各皮膜層の組成および層厚と共に第３表に示す。」（第６頁右上欄第５〜１６行）
（Ｅ−８）「第３表
　Ｎｏ．　　　　　　　表　面　層　　　　　　　　　　備考
　　　　　　　　組　成　　　　　膜厚（μｍ）
　２３　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　３．９　　　　　　　実施例
　２４　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　３．９　　　　　　　実施例
　２５　Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ　　３．９　　　　　　　実施例
　２６　Ａｌ０．０８Ｔｉ０．９２Ｎ　　４．５　　　　　　　実施例
　２７　Ａｌ０．０８Ｔｉ０．９２Ｎ　　４．５　　　　　　　実施例
　２８　Ａｌ０．０８Ｔｉ０．９２Ｎ　　４．５　　　　　　　実施例
　２９　Ａｌ０．２６Ｔｉ０．７４Ｎ　　３　　　　　　　　　実施例
　３０　Ａｌ０．２６Ｔｉ０．７４Ｎ　　３　　　　　　　　　実施例
　３１　Ａｌ０．２６Ｔｉ０．７４Ｎ　　３　　　　　　　　　実施例
　　　　　　　　　　第１皮膜層　　　　　　　　　　　備考
　　　　　　組　成　　　　　　膜厚（μｍ）
　３２　Ａｌ０．６５Ｔｉ０．３５Ｎ　　５．２　　　　　　　比較例
　３３　Ａｌ０．６５Ｔｉ０．３５Ｎ　　５．２　　　　　　　比較例
　３４　Ａｌ０．６５Ｔｉ０．３５Ｎ　　５．２　　　　　　　比較例
　３５　Ａｌ０．４５Ｔｉ０．５５Ｎ　　４．８　　　　　　　比較例
　３６　Ａｌ０．４５Ｔｉ０．５５Ｎ　　４．８　　　　　　　比較例
　３７　Ａｌ０．４５Ｔｉ０．５５Ｎ　　４．８　　　　　　　比較例
　３８　Ａｌ０．２８Ｔｉ０．７２Ｎ　　４．３　　　　　　　比較例
　３９　Ａｌ０．２８Ｔｉ０．７２Ｎ　　４．３　　　　　　　比較例
　４０　Ａｌ０．２８Ｔｉ０．７２Ｎ　　４．３　　　　　　　比較例」旨〔第６頁下段の第３表（Ｎｏ．２３〜３１については第１皮膜層、中間層、穴開け個数の項の記載を省略。Ｎｏ．３２〜４０については中間層、表面層、穴開け個数の項の記載を省略。）〕
（Ｅ−９）「本発明は以上の様に構成されているので、ＴｉＮを基本としたＴｉ（Ｃ，Ｎ）系皮膜元来の良好な基材密着性を有すると共に、表面層が、IIIｂ族の窒化物であるＡｌＮにＴｉが固溶した皮膜層である為、耐熱性、熱伝導性等に関し、ＡｌＮに近似した優れた特性が発揮される。」（第６頁右下欄第５〜１０行）
　
Ｖ−Ｆ．甲第６号証（特表２００１−５１６６５４号公報）
（Ｆ−１）「本発明は、工具本体および耐摩耗性層システムを有する工具に関し、該層システムは、少なくとも１層のＭｅＸ層を含み、
−Ｍｅはチタンおよびアルミニウムを含み、
−Ｘは窒素および炭素のうち少なくとも一方である。
定義
・用語Ｑ１は、θ−２θ法を使用する材料のＸ線回折において（２００）面および（１１１）面にそれぞれ割当てられる、回折強度Ｉ（２００）対Ｉ（１１１）の比として規定される。したがって、有効値Ｑ１＝Ｉ（２００）／（１１１）が存在する。強度値は、以下の機器を使用して以下の設定により測定された：
シーメンス回折器　Ｄ５００
パワー：　動作電圧：　３０ｋｖ
　　　　　動作電流：　２５ｍＡ
開口絞り：　絞り位置　Ｉ：　１°
　　　　　　絞り位置　II：０．１°
検出器絞り：　ソーラスリット
時定数：　４ｓ
２θ角速度：０．０５°／分
放射：　Ｃｕ−Ｋα（０．１５４０６ｎｍ）
　「ＭＳに従って測定された」という表現は、これらの機器および設定を使用して測定がなされたことを意味する。本願を通じたＱ１及びＩのすべての量的な結果は、ＭＳに従って測定されたものである。」（第６頁第５〜２５行）
（Ｆ−２）「図１に、上に説明した例を実現するため使用された反応性ＰＶＤ蒸着（ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法としての反応性陰極アーク蒸着（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）のために適用された、窒素分圧対工具本体のバイアス電圧の線形スケーリング（ｌｉｎｅａｒ　ｓｃａｌｉｎｇ）された図を示す。
　陰極アーク蒸着（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）プロセスのすべてのプロセスパラメータ、すなわち、アーク電流、プロセス温度、蒸着（ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）速度、蒸着（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）される材料、アーク源に隣接する磁場の強さおよび構成、プロセス室および処理されるワークピース工具のジオメトリおよび寸法、は一定に維持された。これ以外のプロセスパラメータ、すなわち、反応性ガスの分圧、または全圧、およびワークピースとしてコーティングされるべき工具本体の、室の壁の接地電位について、予め定められた基準電位に関してのバイアス電圧は変えられた。
　こうして、チタンアルミニウム窒化物が蒸着（ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）された。反応性ガスの分圧および工具本体のバイアス電圧に関しては、異なった、有効に作用する点が確定され、蒸着（ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）された硬質材料層におけるＱ１値がＭＳに従って測定され、得られた。
　図１の図からは、図の座標の原点に少なくとも隣接する部分から線形に第１の近似において伸びる領域Ｐがあり、結果として得られる層が、Ｉ（２００）およびＩ（１１１）の極めて低いＸＲＤ強度値となることがわかる。Ｐの境界を厳密に決定するためには、多数の測定を行なわなければならないことは明らかである。ここでは、ＭＳに従って測定した場合、平均ノイズレベルの２０倍もの大きさとなる強度値Ｉ（２００）および（１１１）は存在しない。
　図１に示すようにこの領域Ｐの一方側では、Ｑ１は１よりも大きく、Ｐに関して他方の領域においては、Ｑ１は１よりも小さい。これらのいずれの領域においても、ＭＳに従って測定した場合、値Ｉ（２００）、Ｉ（１１１）の少なくとも１つが平均ノイズレベルの２０倍よりも大きい。」（第２５頁下から第７行〜第２６頁下から第３行）
（Ｆ−３）「図１の矢印で示すように、反応性ガスの分圧の低下、または前記分圧と実質的に等しいのであれば全圧の低下および／またはコーティングされる工具本体のバイアス電圧の増加によって、Ｑ１が減少する。」（第２６頁末行〜第２７頁第２行）
（Ｆ−４）「そして所望のＱ１値を実現するためにこれらの２つのパラメータのいずれか一方または両方が調節され、この発明により、バイアス電圧が減少されるおよび／または反応性ガスの分圧が増加されて、上に説明したように少なくとも１より大きく好ましくは少なくとも２よりも大きくまたはさらに５でありより好ましくは１０であるＱ１値を得る。」（第２７頁第８〜１２行）
　
VI．当審の判断
VI−１．無効理由３について
VI−１−１．無効理由３の（イ）
【本件請求項１における「・・・Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること・・・」が、本件明細書の発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえない、との無効理由３の（イ）について】
　本件請求項１の記載によれば、ＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材の皮膜につき、そのＩａ値が２．３以上であると規定するものである。
《本件明細書の発明の詳細な説明の記載について》
　そこで、当該Ｉａ値につき本件明細書の記載をみると、そこには、以下の記載がある。
（ａ）「更に、ＰＶＤ、ＣＶＤ法などで基体上にＴｉ、Ｚｒ等の炭化物、窒化物を形成した場合、基体表面の結晶性、及び成膜装置でのガス雰囲気、条件により特定の面に配向した皮膜を得ることができる。特開昭５６−１５６７６７号公報には、超硬合金またはサーメットの基体表面に被覆されたＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆの炭化物、窒化物、炭窒化物の皮膜の結晶性が（２００）面に強く配向されてなる被覆硬質合金について記載されている。このようにして形成される皮膜の結晶配向性を制御することにより膜特性を向上させることが出来、被覆硬質合金の耐摩耗性、耐欠損性は改善される。」（段落０００４）
（ｂ）「【発明が解決しようとしている課題】よって、前記（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ膜についてはＴｉ／Ａｌ比により皮膜の特性も変わるため、高硬度の膜を得ることが難しい。さらに皮膜の結晶配向性について検討されたことはなく、皮膜と基体との密着性に問題がある。本発明は、前記問題点を解決したものであり硬質部材上にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆させる場合に、皮膜の結晶配向性を最適にすることにより密着性を向上させ耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆硬質部材の提供を目的とする。」（段落０００５）
（ｃ）「【課題を解決するための手段】本発明者は、超硬部材表面にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系の窒化物を被覆して皮膜の結晶配向性と基体との密着性について検討を行った結果、最適な結晶配向面があることを見い出した。すなわち、本発明の被覆硬質部材は、基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴としている。」（段落０００６の抜粋）
（ｄ）「【作用】表１に、各種合金ターゲットを用意してアークイオンプレーティング法により、バイアス電圧値を中電圧（５０〜１００Ｖ）、高電圧（１５０〜２００Ｖ）、反応ガス（窒素）圧力１０−１Ｐａの条件で各種皮膜を３μｍ作製し、前記Ｉａ値が異なる場合のスクラッチ試験機による臨界荷重値の評価結果を示す。尚、成膜に用いた基体は８４ＷＣ−３ＴｉＣ−１ＴｉＮ−３ＴａＣ−９ｖｏｌ％Ｃｏ組成の超硬工具である。」（段落０００７）
（ｅ）「【表１】
　番号　　　　　　膜質　　　　　ピーク強度　　臨界荷重　バイアス電
　　　　　　　　　　　　　　　　　比　　　　　値（Ｎ）　圧値（Ｖ）
　比較例１　　（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ　　１．２　　　３１　　　　１５０
　比較例２　　（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｎ　　０．９　　　２７　　　　２００
　比較例３　　（Ｔｉ、Ｖ）Ｎ　　　１．１　　　２４　　　　１８０
　比較例４　　（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎ　　０．８　　　２５　　　　１６０
　比較例５　　（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎ　　１．４　　　２８　　　　１５０
　比較例６　　（Ｔｉ、Ｎｂ）Ｎ　　１．０　　　２１　　　　１９０
　本発明例７　（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ　　２．３　　　５４　　　　　８０
　本発明例８　（Ｔｉ、Ｖ）Ｎ　　　２．５　　　４５　　　　　６０
　本発明例９　（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎ　　３．１　　　４７　　　　　９０
　本発明例１０（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎ　　２．７　　　５１　　　　　６０」旨（段落０００８）
（ｆ）「ところで、表１より、Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値はバイアス電圧値により調節することが可能である。中電圧と低バイアス電圧値では適当なイオン衝撃のために残留圧縮応力も小さく密着性に優れているが、高バイアス電圧値にするとイオン衝撃が大きくなって残留圧縮応力も大きくなり膜は剥離し易くなる。しかしながら逆に５０Ｖ未満の低バイアス電圧値では充分なイオン衝撃が得られないために膜は剥離してしまう。そのため、本検討に用いたアークイオンプレーティング装置では、中電圧を最適バイアス電圧値とした。
　これから、どの皮膜においてもＩａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）が１．５を越えると臨界荷重値が大きくなり密着性が向上することがわかる。このことから、Ｉａの値は２．３以上と決定した。本発明は前記窒化物の他に炭化物、炭窒化物にも適用することができる。また本発明はＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物にも適用することができる。さらにまた本発明は皮膜を形成する基体を限定するものではなく、ＷＣ超硬合金やサーメット、ハイス、或いは耐摩合金等用途に応じて適宜選択すれば良い。以下、実施例により本発明を詳細に説明する。」（段落０００９及び００１０）
（ｇ）「【実施例】８４ＷＣ−３ＴｉＣ−１ＴｉＮ−３ＴａＣ−９ｖｏｌ％Ｃｏの組成になるように市販の平均粒径２．５μｍのＷＣ粉末、同１．５μｍのＴｉＣ粉末、同ＴｉＮ粉末、同１．２μｍのＴａＣ粉末をボールミルにて９６時間混合し、乾燥造粒の後、ＳＥＥ４２ＴＮのスローアウェイチップをプレスし、焼結後、所定の工具形状に加工した。
　このチップ上にアークイオンプレーティング法により各種合金ターゲットを用意して、表２に示すような皮膜を形成した。そしてこれらの被覆超硬工具を以下の切削条件によりフライス切削試験を行い最大摩耗量が０．２ｍｍに達するまでの切削長を求めた。その結果を表２に併記する。
　　　被削材　　ＳＫＤ６１
　　　切削速度　２５０ｍ／ｍｉｎ
　　　送り　　　０．２ｍｍ／刃
　　　切り込み　２．０ｍｍ
　　　切削油　　なし
　　　工具形状　ＳＥＥ４２ＴＮ−Ｇ９Ｙ」（段落００１１及び００１２）
（ｈ）「【表２】
　番号　　　　膜厚　　ピーク強度比　　切削長　　　摩耗状態
　　　　　　　μｍ　　　　　　　　　　（ｍ）
　従来例１　　　３　　　１．２　　　　２．３　　　正常摩耗
　従来例２　　　３　　　０．９　　　　２．１　　　　〃
　従来例３　　　３　　　１．１　　　　１．９　剥離による異常摩耗
　従来例４　　　３　　　０．８　　　　１．７　　　　〃
　従来例５　　　３　　　１．４　　　　２．２　　　　〃
　従来例６　　　３　　　１．０　　　　２．１　　　　〃
　本発明例７　　３　　　２．３　　　　２．９　　　正常摩耗
　本発明例８　　３　　　２．５　　　　２．７
　本発明例９　　３　　　３．１　　　　３．０　　　　〃
　本発明例１０　３　　　２．７　　　　２．８　　　　〃　　　　　　」（段落００１３）
（ｉ）「【発明の効果】本発明の被覆硬質部材はＸ線回折パターンの強度比Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）が２．３以上の皮膜を有することにより、基体との密着性を向上させ耐摩耗性に優れ格段に長い寿命が得られるものである。」（段落００１５）
　
　上記の記載（ａ）〜（ｃ）及び（ｉ）によれば、本件明細書には、Ｉａ値につき、従来、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆの炭化物、窒化物、炭窒化物の皮膜の結晶配向性を制御することにより膜特性を向上させることができ、被覆硬質合金の耐摩耗性、耐欠損性は改善されるものの、（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ膜については皮膜の結晶配向性について検討されたことはなく、皮膜と基体との密着性に問題があるところ、本発明（本件発明１）は、前記課題を解決するものであり、また、硬質部材上にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆させる場合において、皮膜の結晶配向性を最適にすることにより皮膜と基体との密着性を向上させ耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆硬質部材を提供することを発明の目的とするものであり、そして、本件明細書の請求項１に記載される構成を採択することにより、皮膜と基体との密着性を向上させ耐摩耗性に優れ格段に長い寿命の被覆硬質部材が得られたことが記載されているといえる。
　具体的には、上記の記載（ｄ）〜（ｉ）によれば、本件明細書では、本件発明の実施例である、膜質（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎで被覆され皮膜のＩａ値が２．３である超硬工具〔本願発明例７〕、膜質（Ｔｉ、Ｖ）Ｎで被覆され皮膜のＩａ値が２．５である超硬工具〔本願発明例８〕、膜質（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎで被覆され皮膜のＩａ値が３．１である超硬工具〔本願発明品９〕、及び、膜質（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎで被覆され皮膜のＩａ値が２．７である超硬工具〔本願発明品１０〕については、皮膜と基体との密着性を向上させ耐摩耗性に優れ格段に長い寿命のものであることが記載され、そのＩａ値が本件発明１の数値を満たさない比較例である、膜質（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎで被覆され皮膜のＩａ値が１．２である超硬工具〔従来例１〕、膜質（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｎで被覆された皮膜のＩａ値が０．９である超硬工具〔従来例２〕、膜質（Ｔｉ、Ｖ）Ｎで被覆された皮膜のＩａ値が１．１である超硬工具〔従来例３〕、膜質（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎで被覆された皮膜のＩａ値が０．８である超硬工具〔比較例４〕、膜質（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎで被覆された皮膜のＩａ値が１．４である超硬工具〔比較例５〕、及び、膜質（Ｔｉ、Ｎｂ）Ｎで被覆された皮膜のＩａ値が１．０である超硬工具〔比較例６〕については、皮膜と基体との密着性が十分でなく耐摩耗性に劣ることが記載されているといえる。
　そして、本件明細書では、上記したとおり当該被覆硬質部材の皮膜につきＩａ値を２．３以上とすることが、発明の課題を解決し、発明の目的を達成するうえで不可欠の構成であると表見上記載されるものの、上記実施例以外の箇所では、当該Ｉａ値の条件を満たすことで当該課題を解決し、発明の目的を達成することができることが当業者において理解できる程度に記載されていない。
　
《発明の詳細な説明に記載された発明と特許請求の範囲の請求項１に記載された発明との対比・検討》
　特許法第３６条第５項第１号に規定される要件は、特許請求の範囲に発明として記載して特許を受けるためには、明細書の発明の詳細な説明において、当該発明の課題が解決でき、また、当該発明の目的を達成することができることが当業者において認識できるように記載しなければならないことを含むものである。
　そこで、本件明細書の記載が本件請求項１の記載との関係で、上記の要件を満たし得るか否かにつき検討する。
　本件発明１は、本件請求項１の記載からみて明らかなように、ＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材の皮膜につき、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であるとの構成を採用するものであるところ、当該「Ｉａ値が２．３以上」といえば、その数値が（２００）面と（１１１）面の比をいうだけのものであるから上限なく高い値の比が想定でき、かつ、その比の値に制限があるとする特段の事情も存在しないことから、当該Ｉａ値の数値としては、２．３を超える高い数値、すなわち、５、１０、２０等の数値を含み得るものである。
　事実、当該Ｉａ値として、５、１０程度のものが存在することは特許異議の申立の審理段階で被請求人自身が提出した特許異議意見書に添付した実験結果報告書（参考資料１２）の表１〜４において確認される。
　これに対して、本件明細書の発明の詳細な説明では、当該被覆硬質部材の皮膜につきＩａ値を２．３以上とすることが、発明の課題を解決し、発明の目的を達成するうえで不可欠の構成であると表見上記載されるものの、当該Ｉａ値が２．３以上との構成を採用することの有効性を示すためのその実施例では、上記したとおり、膜質（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎでは皮膜のＩａ値が２．３、膜質（Ｔｉ、Ｖ）Ｎでは同２．５、膜質（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎでは同３．１、及び、膜質（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎでは同２．７である被覆硬質部材が記載され、その四例の被覆硬質部材では、皮膜と基材との密着性を向上させ、耐摩耗性、耐欠損性に優れたものとすることができたことが記載されるだけであり、Ｉａ値が５、１０、２０等の高い数値を示す場合の実施例については何も示されるものはない。
　しかも、上記したとおり、本件明細書においては、その実施例以外の箇所において、皮膜の当該Ｉａ値が５、１０、２０等の高い数値を示す場合を含め、それが２．３以上であれば、その余の構成と相俟って、上記発明の課題を解決し、上記発明の目的を達成することができることにつき、当業者において理解できる程度に記載されていない。すなわち、本件明細書では、当該Ｉａ値を採択することにより当該発明の課題解決及び発明の目的達成に至る因果関係ないしはメカニズムにつき技術的に説明されるものが何もない。
　外に、本件出願前に、当該Ｉａ値の数値と、当該発明の課題及び発明の目的との関係につき、当業者において認識できることを裏付けるところの証拠の提出もない。
　そうであれば、本件明細書の発明の詳細な説明では、当該Ｉａ値が５、１０、２０等の高い数値を示す場合においては、発明の課題が解決できるということ、また、発明の目的を達成することができるということについては、当業者において認識できるように記載されているということができない。
　してみれば、Ｔｉと周期律表４ａ族のＺｒ、同Ｈｆ、周期律表５ａ族のＶ、周期律表６ａ族のＣｒ、Ａｌの中から選ばれる２元系の窒化物を被覆してなる被覆硬質部材の皮膜につき、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であれば、全体として、上記発明の課題を解決し且つ発明の目的を達成することができるとまでいえるものではない。
　当然のこととして、本件明細書において膜質につき全く確認されないものを含むところの、ＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材の皮膜につき、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であれば、全体として、上記発明の課題を解決し且つ発明の目的を達成することができるとはいえない。
　したがって、本件請求項１に記載される発明は、「・・・Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること・・・」との構成を具備する点で、発明の詳細な説明において発明の課題を解決し、また、発明の目的を達成することを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものであるから、本件明細書の発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえず、本件出願は、特許法第３６条第５項第１号に規定する要件を満たしていないといわざるを得ない。
　また、本件請求項２は本件請求項１の構成を全て引用するものであり、本件請求項２に記載される発明は、上記した理由と同じ理由により、本件明細書の発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえず、本件出願は、特許法第３６条第５項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
VI−１−２．無効理由３の（ロ）
【本件請求項１における「・・・３元系の・・・」が、本件明細書の発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえない、との無効理由３の（ロ）について】
　本件請求項１の記載によれば、ＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材の皮膜につき、そのＩａ値が２．３以上であると規定するものである。
　そこで、本件被覆硬質部材の被覆に用いられる炭化物、窒化物及び炭窒化物の金属元素につき、本件明細書で記載される内容をみると、そこには、以下の事項が記載されている。
「・・・Ｔｉ、Ｚｒ等の炭化物、窒化物、炭窒化物の硬質膜を利用した被覆硬質部材が多く用いられている。・・・」（段落０００２）、
「・・・前記Ｔｉ、Ｚｒ等の炭化物、窒化物、炭窒化物では耐熱性が劣るため・・・そこで耐酸化性に優れている（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ膜が注目されるようになり開発が進められている。・・・また、改善案としてＴｉ／Ａｌの比率を限定した特公平５−５７７０５号や（Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ）Ｎ、（Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ）Ｎといったさらに多次元化した皮膜に関する特許（米国特許４８７１４３４号）も提案されている。」（段落０００３）、
「・・・特開昭５６−１５６７６７号公報には、超硬合金またはサーメットの基体表面に被覆されたＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆの炭化物、窒化物、炭窒化物の皮膜の結晶性が（２００）面に強く配向されてなる被覆硬質合金について記載されている。・・・」（段落０００４）、
「【発明が解決しようとしている課題】よって、前記（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ膜についてはＴｉ／Ａｌ比により皮膜の特性も変わるため、高硬度の膜を得ることが難しい。さらに皮膜の結晶配向性について検討されたことはなく、皮膜と基体との密着性に問題がある。本発明は、前記問題点を解決したものであり硬質部材上にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆させる場合に、皮膜の結晶配向性を最適にすることにより密着性を向上させ耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆硬質部材の提供を目的とする。」（段落０００５）
「【課題を解決するための手段】本発明者は、超硬部材表面にＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系の窒化物を被覆して皮膜の結晶配向性と基体との密着性について検討を行った結果、最適な結晶配向面があることを見い出した。すなわち、本発明の被覆硬質部材は、基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングで、皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であることを特徴としている。また、前記皮膜の層とＡｌＮ、周期律表４ａ、５ａ、６ａ族の炭化物、窒化物、炭窒化物のうち１つから選ばれる層を２層以上の多層としたことを特徴としている。」（段落０００６）
「【表１】
　番号　　　　　　膜質　　　　　ピーク強度　　臨界荷重　バイアス電
　　　　　　　　　　　　　　　　　比　　　　　値（Ｎ）　圧値（Ｖ）
　比較例１　　（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ　　１．２　　　３１　　　　１５０
　比較例２　　（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｎ　　０．９　　　２７　　　　２００
　比較例３　　（Ｔｉ、Ｖ）Ｎ　　　１．１　　　２４　　　　１８０
　比較例４　　（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎ　　０．８　　　２５　　　　１６０
　比較例５　　（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎ　　１．４　　　２８　　　　１５０
　比較例６　　（Ｔｉ、Ｎｂ）Ｎ　　１．０　　　２１　　　　１９０
　本発明例７　（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ　　２．３　　　５４　　　　　８０
　本発明例８　（Ｔｉ、Ｖ）Ｎ　　　２．５　　　４５　　　　　６０
　本発明例９　（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎ　　３．１　　　４７　　　　　９０
　本発明例１０（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎ　　２．７　　　５１　　　　　６０」旨（段落０００８）、及び
「・・・本発明は前記窒化物の他に炭化物、炭窒化物にも適用することができる。また本発明はＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物にも適用することができる。・・・」（段落００１０）、
　
　本件明細書の以上の記載によれば、「本発明はＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物にも適用することができる」（段落００１０）ことが表見上記載されているものの、そこでは、具体的には、本件被覆硬質部材の被覆に用いられる炭化物、窒化物及び炭窒化物の金属元素につき、従来、Ｔｉ、Ｚｒ等の単元系の炭化物、窒化物、炭窒化物、（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎの二元系の窒化物、（Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ）Ｎ、（Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ）Ｎの三元系の窒化物が知られていたこと、及び、その実施例において、（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｖ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｎｂ）Ｎとの特定の二元系の窒化物につき実際にそのＩａ値を求め、この内、（Ｔｉ、Ａｌ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｖ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｈｆ）Ｎ、（Ｔｉ、Ｃｒ）Ｎについてのみ、その皮膜のＩａ値が順に２．３、２．５、３．１、２．７であったことが示されるだけであり、これによれば、本件明細書では、Ｔｉと周期律表４ａ属（Ｚｒ、Ｈｆ）、５ａ属（Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ）、６ａ族（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ）、Ａｌの中から選ばれる３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物からなる皮膜を採択した場合において、そのＩａ値が２．３以上のものについては、一種たりともその存在が確認されていないものである。
　しかも、上記実施例の箇所の外には、本件明細書においては、皮膜が３元系の場合を含め皮膜のＩａ値が２．３以上であれば、その被覆硬質部材が上記VI−１−１．で記載する本件発明１の課題を解決し、同じく、上記VI−１−１．で記載する本件発明１の皮膜と基材との密着性を向上させ耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆硬質部材を得るという発明の目的を達成することができることにつき、その因果関係ないしはメカニズムにつき技術的に説明されるものが何もなく、そのように課題解決及び目的達成に至る関係が、当業者において理解できる程度に記載されていない。
　なお、被請求人は乙第４〜６号証を提示しするものの、それら乙号証では、特定の三元系化合物の被膜を硬質金属基体に設けることが記載されるとしても、その被膜のＩａ値が２．３以上となること、更には、そのＩａ値を有するものが、上記発明の課題を解決することができること等につき、教示または説明するものは何もない。
　そうであれば、本件請求項１に記載される発明は、「・・・三元系の・・・」との構成を具備する点で、発明の詳細な説明において発明の課題を解決し、また、発明の目的を達成することを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものであるから、本件明細書の発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえず、本件出願は、特許法第３６条第５項第１号に規定する要件を満たしていないといわざるを得ない。
　また、本件請求項２は本件請求項１の構成を全て引用するものであり、本件請求項２における構成は、上記した理由と同じ理由により、本件明細書の発明の詳細な説明の項に記載されたものであるとはいえず、本件出願は、特許法第３６条第５項第１号に規定する要件を満たしていない。
　
VI−２．無効理由５について
VI−２−１．無効理由５の（ト）
【請求項１における「Ｉａ値が２．３以上であること」とするための本件発明特有の製造方法が発明の詳細な説明において当業者が実施できる程度に記載されていない、との無効理由５の（ト）について】
　本件請求項１の記載によれば、ＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材の皮膜につき、そのＩａ値が２．３以上であると規定するものである。
　ところが、本件発明１が属するイオンプレーテイング技術においては、そのイオンプレーテイングにより得られる皮膜の物性は、（雰囲気）圧力Ｐ、イオン衝撃電力Ｗ、堆積速度Ｒ、サブストレート（基板）温度Ｔの各プロセイスパラメータに依存して変移することは周知の事項である〔社団法人金属表面技術協会編集、「金属表面技術便覧（改訂新版）」、日刊工業新聞社、昭和５４年１２月２０日３版、第５６６頁下から第８行〜第５６９頁第１７行〕。
　更に、甲第１号証では、その（Ａ−３）、（Ａ−４）及び（Ａ−１）によれば、アークイオンプレーティング法により作成したＴｉＡｌＮ膜につき、その皮膜組成の成分割合の違いにより、Ｘ線回折したときの（１１１）面及び（２００）面への配向に差異が生ずること、また、甲第２号証の第５図及びその（Ｂ−２）によれば、アークイオンプレーティング法により作成した（Ｔｉ１−ＸＡｌＸ）Ｎ膜のｘ数値、すなわち、皮膜組成におけるＴｉ成分とＡｌ成分の割合の変位により、当該膜のＸ線回折パターン（１１１）及び（２００）における強度又はパターンの有無に差異が生ずることが、具体的に示される。
　そうであれば、アークイオンプレーティングにより皮膜を形成するに際しては、その皮膜の物性の一種であるＸ線回折パターンにおける（２００）面、（１１１）面のピーク強度及びその比であるＩａ値は、イオン衝撃電力Ｗ、堆積速度Ｒ、サブストレート（基板）温度Ｔの各プロセスパラメータにより影響を受けるものであり、特に、皮膜の組成の成分割合により強く影響を受け、そのＩａ値はその成分割合の選定により大きく変位するといえるものである。
　一方、本件発明１の被覆硬質部材の製造方法につき、本件明細書をみると、前記VI−１−１．の本件明細書の記載の（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）〔段落０００７〜０００９、００１１及び００１２〕によれば、本願明細書では、本件発明１の被覆硬質部材につき、基材（被被覆材）として８４ＷＣ−３ＴｉＣ−１ＴｉＮ−３ＴａＣ−９ｖｏｌ％Ｃｏの組成のスローアウェイチップと、各種合金ターゲット（但し、成分割合不明）を用意して、バイアス電圧値を中電圧（５０〜１００Ｖ）、反応ガス（窒素）圧力１０−１Ｐａの条件でアークイオンプレーティング法により各種皮膜を３μｍ作製することにより製造できることが示されるだけであって、アークイオンプレーティング法ないしはイオンプレーテイング法により必要とされる製造条件につき概括的に説明するものは何もなく、また、サブストレート（基板）温度Ｔ等の他のプロセスパラメータにつき記載されるものは何もなく、更には、その製造条件の中でも、被覆硬質部材の皮膜のＩａ値に大きな影響を及ぼす皮膜組成におけるＴｉ成分とＡｌ等の他成分の割合につき記載されるものは何もない。
　してみれば、本件明細書では、その被覆硬質部材の製造条件として、皮膜組成の成分割合等のＩａ値にとって重要であるパラメータにつきその開示を欠くものであり、したがって、その製造条件のみでは皮膜のＩａ値を決定ないしは特定することができず、所定のＩａ値を保有する被覆硬質部材の皮膜を製造することができないものである。
　そうであれば、そのＩａ値が２．３以上であると規定する本件請求項１に記載の発明については、本件明細書に当該Ｉａ値が２．３以上のものを得るうえで特有の製造方法が記載されていない点で、本件明細書の発明の詳細な説明には、当業者が容易にその実施をすることができる程度に、その発明の構成及び効果が記載されているということはできない。
　したがって、本件出願は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない。
　また、本件請求項２は本件請求項１の構成を全て引用するものであり、本件請求項２における構成については、上記した理由と同じ理由により、本件明細書の発明の詳細な説明には、当業者が容易にその実施をすることができる程度に、その発明の構成及び効果が記載されているということはできない。
　したがって、本件出願は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない。
　
VI−３．無効理由１について
VI−３−１．その１（甲第１号証に記載の発明との対比）
　甲第１号証には、その前記（Ａ−１）及び（Ａ−２）によれば、「基板として硬質チップを用い、ターゲット材としてＴｉ：Ａｌの組成比が７５：２５、５０：５０、２５：７５（atomic%）のチタンアルミ合金を用い、反応ガスとしてＮ２を１．３Ｐａの圧力で導入しながら、基板バイアス電圧−５０Ｖの条件下で、アークイオンプレーテイング法により、ＴｉＡｌＮ膜を形成した硬質チップ」が記載されており、また、当該ＴｉＡｌＮ膜については、前記（Ａ−３）によれば、上記ターゲット材のＡｌ／（Ｔｉ＋Ａｌ）％が２５及び５０である場合は、その皮膜組成のＡｌ／（Ｔｉ＋Ａｌ）％がそれぞれ２０及び４６、すなわち、Ｔｉ０．８０Ａｌ０．２０窒化物及びＴｉ０．４６Ａｌ０．５４窒化物であるものが得られ、かつ、Ａｌの組成が２５％と５０％のターゲットから形成したＴｉＡｌＮ膜に関しては、前記（Ａ−４）により、Ｘ線回折の結果、（１１１）面または（２００）面に配向したパターンを示したことが記載される。
　そうであれば、甲第１号証には、
「基板として硬質チップを用い、反応ガスとしてＮ２を１．３Ｐａの圧力で導入しながら、基板バイアス電圧−５０Ｖ等の条件下で、アークイオンプレーテイング法により、Ｔｉ０．８０Ａｌ０．２０窒化物及びＴｉ０．４６Ａｌ０．５４窒化物からなるＴｉＡｌＮ膜を形成した硬質チップであって、
当該ＴｉＡｌＮ膜が、（１１１）面または（２００）面に配向したＸ線回折パターンを示す上記硬質チップ　」に関する発明（以下、必要に応じて、「甲１発明」という）が記載されているということができる。
　そこで、本件発明１と甲１発明とを対比する。
　甲１発明の「硬質チップ」は、本件発明１の「硬質部材」及び「基体」に相当し、また、甲１発明のアークイオンプレーテイング法は、本件発明１のＰＶＤ法に含まれる。
　そして、甲１発明では、アークイオンプレーテイングにより、本件発明１と同じように、硬質チップの表面を被覆するものであって、その「ＴｉＡｌＮ膜を形成した硬質チップ」は、本件発明１の「ＴｉとＡｌの中から選ばれる２元系窒化物を被覆してなる被覆硬質部材」に相当することは明らかである。
　よって、両者は、
「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングである、被覆硬質部材」である点で一致し、以下の点で相違する。
【相違点１】被覆硬質部材につき、本件発明１は、「皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」とするのに対して、甲１発明では、その硬質チップにＴｉＡｌＮ膜が形成されているので皮膜を保有するといえるものの、当該Ｉａ値が示されない点
　以下、上記相違点につき検討する。
　当該相違点に対する請求人の具体的主張は、『本件発明の被覆硬質部材は、その製造条件から見て、甲第１〜５号証に記載されたものと異なるところがない。したがって、本件発明の製造条件によって得られた被覆硬質部材が、「Ｉａ値が２．３以上」であるとするならば、甲第１〜５号証に記載されたものにおいても、当然「Ｉａ値が２．３以上」となるはずであり、それを覆す証拠はない。』（審判請求書第１６頁下から第２行〜１７頁第３行）というものであるので、この主張につき検討する。
　上記VI−２−１．で記載したとおり、本件明細書では、その被覆硬質部材の製造条件としては、皮膜組成の成分割合等のＩａ値にとって重要であるパラメータにつきその開示を欠くものであり、したがって、その製造条件のみでは皮膜のＩａ値を決定ないしは特定することができないものである。
　してみると、本件発明１の被覆硬質部材につき、その製造条件が甲１発明のものと、実質上、異なることがないとしても、又は、両者の製造条件の間で唯一相違するところの反応ガス（窒素）圧力につき、甲第６号証の前記（Ｆ−３）及び（Ｆ−４）とその図１の記載を参照すれば甲１発明の膜のＩａ値が本件の製造条件で製造される膜の１ａ値よりも高い数値を示すとしても、そもそも、本件明細書で開示される製造条件のみでは製造される膜のＩａ値が特定できないものである以上、本件明細書で開示される製造条件に基づき甲１発明のＴｉＡｌＮ膜のＩａ値を推定することなどできるものではなく、また、そのように推定してもＩａ値の適正な数値が得られるものでもなく、したがって、甲１発明の当該膜のＩａ値が２．３以上であると断定することなどできるものではない。
　他に、甲１発明の膜のＩａ値につき教示するものはない。
　そうであれば、本件発明１が甲１発明とが同一であるということはできず、本件発明１は甲第１号証に記載された発明であるということができない。
　また、本件発明２は本件発明１の構成の全てを引用するものであり、上記した理由と同じ理由により、本件発明２は甲第１号証に記載された発明であるということができない。
　
VI−３−２．その２（甲第２号証に記載の発明との対比）
　甲第２号証には、その前記（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）と、その第５図の（Ｔｉ０．３Ａｌ０．７）Ｎ膜におけるＸ線回折の（２００）／（１１１）のピーク強度が約１．９との記載によれば、「Ｔｉ１−ＸＡｌＸ（ｘ＝０．２５〜０．８５）合金をカソードとなし、かつ、Ｎ２分圧を４×１０−１Ｐａとしてカソードアークイオンプレーティング法により、（２００）／（１１１）のピーク強度が約１．９である（Ｔｉ０．４Ａｌ０．６）Ｎ膜を含むＴｉ１−ＸＡｌＸＮ系の膜を基板上に形成した」ことが記載されており、また、そこでは、当該基板として、前記（Ｂ−４）の前段の記載により、超硬チップを供し得ることが示される。
　以上のことから、甲第２号証には、
「Ｔｉ１−ＸＡｌＸ（ｘ＝０．２５〜０．８５）合金をカソードとなし、かつ、Ｎ２分圧を４×１０−１Ｐａとして、カソードアークイオンプレーティング法により、（２００）／（１１１）のピーク強度が約１．９である（Ｔｉ０．４Ａｌ０．６）Ｎ膜を含むＴｉ１−ＸＡｌＸＮ系の膜を形成した超硬チップ」に関する発明（以下、必要に応じて、「甲２発明」という）が記載されているということができる。
　そこで、本件発明１と甲２発明とを対比する。
　甲２発明の「硬質チップ」は、本件発明１の「硬質部材」及び「基体」に相当し、また、甲２発明のカソードアークイオンプレーテイング法は、本件発明１のＰＶＤ法に含まれ、また、そのカソードアークイオンプレーティングは本件発明１のアークイオンプレーティングに含まれる。
　そして、甲２発明では、アークイオンプレーテイングにより、本件発明１と同じように、硬質チップの表面を被覆するものであって、その「Ｔｉ１−ＸＡｌＸＮ系の膜を形成した超硬チップ」は、本件発明１の「ＴｉとＡｌの中から選ばれる２元系窒化物を被覆してなる被覆硬質部材」に相当することは明らかである。
　よって、両者は、
「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングである、被覆硬質部材」である点で一致し、以下の点で相違する。
【相違点２】被覆硬質部材につき、本件発明１は、「皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」とするのに対して、甲２発明では、その硬質チップにＴｉ１−ＸＡｌＸＮ系の膜が形成されているので皮膜を保有するといえるものの、具体的に示される皮膜のＩａ値は約１．９でしかなく、また、その他の膜においてはそのＩａ値が不明であり、したがって、Ｉａ値が２．３以上であるとする上記構成を具備しない点
　以下、上記相違点につき検討する。
　上記VI−３−１．の相違点１についての箇所で記載したとおり、本件明細書では、その被覆硬質部材の製造条件として、皮膜組成の成分割合等のＩａ値にとって重要であるパラメータにつきその開示を欠くものであり、したがって、その製造条件のみでは皮膜のＩａ値を決定ないしは特定することができないものである。
　してみると、本件発明１の被覆硬質部材につき、その製造条件が甲２発明のものと類似するとしても、また、更に、両者の反応ガス（窒素）圧力の相違につき甲第６号証の前記（Ｆ−３）及び（Ｆ−４）とその図１の記載を参照すれば甲２発明の膜のＩａ値が本件の製造条件で製造される膜の１ａ値よりも高い数値を示す可能性があるとしても、そもそも、本件明細書で開示される製造条件のみでは製造される膜のＩａ値が特定できないものである以上、本件明細書で開示される製造条件に基づき甲２発明のＴｉ１−ＸＡｌＸＮ系の膜のＩａ値を推定することなどできるものではなく、また、そのように推定してもＩａ値の適正な数値が得られるものでもなく、したがって、甲２発明の当該膜のＩａ値が２．３以上であると断定することなどできるものではない。
　他に、甲２発明の膜のＩａ値が２．３以上であることにつき教示するものは何もない。
　そうであれば、本件発明１が甲２発明とが同一であるということはできず、本件発明１は甲第２号証に記載された発明であるということができない。
　また、本件発明２は本件発明１の構成の全てを引用するものであり、上記した理由と同じ理由により、本件発明２は甲第２号証に記載された発明であるということができない。
　
VI−３−３．その３（甲第３号証に記載の発明との対比）
　甲第３号証には、その前記（Ｃ−２）〜（Ｃ−４）によれば、「カソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーにＷＣ系超硬エンドミル基材を取付け、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、該装置内に高純度Ｎ２ガスを７×１０−３Torrまで導入して、アーク放電を行い、（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎの皮膜をその切削刃表面に形成してなる、ＷＣ系超硬エンドミル」に関する発明（以下、必要に応じて、「甲３発明」という）が記載されているということができる。
　そこで、本件発明１と甲３発明とを対比する。
　甲３発明の「ＷＣ系超硬エンドミル」は、本件発明１の「硬質部材」及び「基体」に相当し、また、甲３発明ではカソードアーク方式イオンプレーテイング装置により皮膜を形成するものであるから、本件発明１と同じように、アークイオンプレーティングにより且つＰＶＤ法により皮膜を形成するものであるといえる。
　そして、甲３発明の「（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎの皮膜をその切削刃表面に形成してなる、ＷＣ系超硬エンドミル」は、本件発明１の「ＴｉとＡｌの中から選ばれる２元系窒化物を被覆してなる被覆硬質部材」に相当することは明らかである。
　よって、両者は、
「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングである、被覆硬質部材」である点で一致し、以下の点で相違する。
【相違点３】被覆硬質部材につき、本件発明１は、「皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」とするのに対して、甲３発明では、そのエンドミル表面に（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎの皮膜を有するものの、その皮膜のＩａ値が示されず、したがって、上記構成を具備しない点
　以下、上記相違点につき検討する。
　上記VI−３−１．の相違点１についての箇所で記載したとおり、本件明細書では、その被覆硬質部材の製造条件として、皮膜組成の成分割合等のＩａ値にとって重要であるパラメータにつきその開示を欠くものであり、したがって、その製造条件のみでは皮膜のＩａ値を決定ないしは特定することができないものである。
　してみると、本件発明１の被覆硬質部材につき、その製造条件が甲３発明のものと、実質上、異なることがないとしても、又は、両者の製造条件の間で唯一相違するところの反応ガス（窒素）圧力につき、甲第６号証の前記（Ｆ−３）及び（Ｆ−４）とその図１の記載を参照すれば甲３発明の皮膜のＩａ値が本件の製造条件で製造される皮膜の１ａ値よりも高い数値を示すとしても、そもそも、本件明細書で開示される製造条件のみでは製造される膜のＩａ値が特定できないものである以上、本件明細書で開示される製造条件に基づき甲３発明の（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎの皮膜のＩａ値を推定することなどできるものではなく、また、そのように推定してもＩａ値の適正な数値が得られるものでもなく、したがって、甲３発明の当該皮膜のＩａ値が２．３以上であると断定することなどできるものではない。
　他に、甲３発明の膜のＩａ値が２．３以上であることにつき教示するものは何もない。
　そうであれば、本件発明１が甲３発明とが同一であるということはできず、本件発明１は甲第３号証に記載された発明であるということができない。
　また、本件発明２は本件発明１の構成の全てを引用するものであり、上記した理由と同じ理由により、本件発明２は甲第３号証に記載された発明であるということができない。
　
VI−３−４．その４（甲第４号証に記載の発明との対比）
　甲第４号証には、その前記（Ｅ−３）及び（Ｅ−４）によれば、
「カソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに超硬合金製チップ（ＷＣ−１０％Ｃｏを主成分とする）を取付け、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを７×１０−３Ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始して、その表面に（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎ及び（Ａｌ０．７Ｔｉ０．３３）Ｎの皮膜を形成してなる、該超硬合金製チップ」に関する発明（以下、必要に応じて、「甲４発明」という）が記載されているということができる。
　そこで、本件発明１と甲４発明とを対比する。
　甲４発明の「超硬合金製チップ」は、本件発明１の「硬質部材」及び「基体」に相当し、また、甲４発明ではカソードアーク方式イオンプレーテイング装置により皮膜を形成するものであるから、本件発明１と同じように、アークイオンプレーティングにより且つＰＶＤ法により皮膜を形成するものであるといえる。
　そして、甲４発明の「その表面に（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎ及び（Ａｌ０．７Ｔｉ０．３３）Ｎの皮膜を形成してなる、超硬合金製チップ」は、本件発明１の「ＴｉとＡｌの中から選ばれる２元系窒化物を被覆してなる被覆硬質部材」に相当することは明らかである。
　よって、両者は、
「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングである、被覆硬質部材」である点で一致し、以下の点で相違する。
【相違点４】被覆硬質部材につき、本件発明１は、「皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」とするのに対して、甲４発明では、その超硬合金製チップ表面に（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎ及び（Ａｌ０．７Ｔｉ０．３３）Ｎの皮膜を有するものの、その皮膜のＩａ値が示されず、したがって、上記構成を具備しない点
　以下、上記相違点につき検討する。
　上記VI−３−１−４．の相違点３についての箇所で記載した理由と同じ理由により、本件明細書で開示される製造条件に基づき甲４発明の（Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８）Ｎ及び（Ａｌ０．７Ｔｉ０．３３）Ｎの皮膜のＩａ値を推定することなどできるものではなく、また、そのように推定してもＩａ値の適正な数値が得られるものでもなく、したがって、甲４発明の当該皮膜のＩａ値が２．３以上であると断定することなどできるものではない。
　他に、甲４発明の膜のＩａ値が２．３以上であることにつき教示するものは何もない。
　したがって、本件発明１が甲４発明とが同一であるということはできず、本件発明１は甲第３号証に記載された発明であるということができない。
　また、本件発明２は本件発明１の構成の全てを引用するものであり、上記した理由と同じ理由により、本件発明２は甲第４号証に記載された発明であるということができない。
　
VI−３−５．その５（甲第５号証に記載の発明との対比）
　甲第５号証には、その前記（Ｅ−２）〜（Ｅ−８）によれば、
「カソードアーク方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに、超硬合金製チップ（ＷＣ−１０％Ｃｏを主成分とする）、超硬ドリル（ＷＣ−９．５％Ｃｏを主成分とする）、ハイスドリル〔以下、「超硬合金製チップ等」という〕を取付け、基材に−７０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度Ｎ２ガスを５×１０−２Ｔｏｒｒまで導入し、アーク放電を開始し、その表面に、直接又は中間層を介して、下記のＡｌＴｉＮ皮膜を形成してなる、該超硬合金製チップ等
　　　　　　　　　　　　　　記
Ａｌ０．６１Ｔｉ０．３９Ｎ、Ａｌ０．０７Ｔｉ０．９３Ｎ、Ａｌ０．２６Ｔｉ０．７４Ｎ 、Ａｌ０．５６Ｔｉ０．４４Ｎ、Ａｌ０．６８Ｔｉ０．３２Ｎ、Ａｌ０．５８Ｔｉ０．４２Ｎ、Ａｌ０．６２Ｔｉ０．３８Ｎ、Ａｌ０．４８Ｔｉ０．５２Ｎ、Ａｌ０．６３Ｔｉ０．３７Ｎ、Ａｌ０．３８Ｔｉ０．６２Ｎ、Ａｌ０．０８Ｔｉ０．９２Ｎ、Ａｌ０．６５Ｔｉ０．３５Ｎ、Ａｌ０．４５Ｔｉ０．５５Ｎ、Ａｌ０．２８Ｔｉ０．７２Ｎ」に関する発明（以下、必要に応じて、「甲５発明」という）が記載されているということができる。
　そこで、本件発明１と甲５発明とを対比する。
　甲５発明の「超硬合金製チップ等」は、本件発明１の「硬質部材」及び「基体」に相当し、また、甲５発明ではカソードアーク方式イオンプレーテイング装置により皮膜を形成するものであるから、本件発明１と同じように、アークイオンプレーティングにより且つＰＶＤ法により皮膜を形成するものである。
　そして、甲５発明の「その表面に、直接又は中間層を介して、ＡｌＴｉＮ皮膜を形成してなる、超硬合金製チップ等」は、本件発明１の「ＴｉとＡｌの中から選ばれる２元系窒化物を被覆してなる被覆硬質部材」に相当することは明らかである。
　よって、両者は、
「基体表面にＰＶＤ法によってＴｉとＴｉ以外の周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌの中から選ばれる２元系、ないし３元系の炭化物、窒化物、炭窒化物を被覆してなる被覆硬質部材において、前記ＰＶＤ法はアークイオンプレーティングである、被覆硬質部材」である点で一致し、以下の点で相違する。
【相違点５】被覆硬質部材につき、本件発明１は、「皮膜のＸ線回折パターンにおける（２００）面のピーク強度をＩ（２００）、（１１１）面のピーク強度をＩ（１１１）としたときに、次式Ｉａ＝Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）で表されるＩａ値が２．３以上であること」とするのに対して、甲５発明では、その超硬合金製チップ等の表面にＡｌＴｉＮの皮膜を有するものの、その皮膜のＩａ値が示されず、したがって、上記構成を具備しない点
　以下、上記相違点につき検討する。
　上記VI−３−１−４．の相違点３についての箇所で記載した理由と同じ理由により、本件明細書で開示される製造条件に基づき甲５発明のＡｌＴｉＮの皮膜のＩａ値を推定することなどできるものではなく、また、そのように推定してもＩａ値の適正な数値が得られるものでもなく、したがって、甲５発明の当該皮膜のＩａ値が２．３以上であると断定することなどできるものではない。
　他に、甲５発明の膜のＩａ値が２．３以上であることにつき教示するものは何もない。
　そうであれば、本件発明１が甲５発明とが同一であるということはできず、本件発明１は甲第３号証に記載された発明であるということができない。
　また、本件発明２は本件発明１の構成の全てを引用するものであり、上記した理由と同じ理由により、本件発明２は甲第５号証に記載された発明であるということができない。
　
VI−３−６．理由１の結論
　請求人の提出した証拠方法によっては、本件請求項１及び２に係る発明は、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当するとはいえない。
　
VII．まとめ
　前記VI−１−１．、VI−１−２．及びVI−２−１．で記載したとおり、本件出願は特許法第３６条第４項及び第５項第１号に規定する要件を満たさないものであり、本件請求項１及び２に係る発明の特許については、特許法第１２３条第１項第４号の規定により無効とすべきものである。
　また、審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、被請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。