【事件の表示】
　平成　９年特許願第２７５７５１号「真空処理システム内で基板を搬送するための装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　５月１２日出願公開、特開平１０−１２０１７１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件発明
　本件出願は、平成９年１０月８日（パリ条約による優先権主張１９９６年１０月１５日、スイス国）の特許出願であって、その請求項１ないし請求項１１に係る発明は、当審での平成１９年４月１８日付けの拒絶理由に対して平成１９年７月２３日付けの手続補正書によって補正された明細書及び願書に最初に添付された図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし請求項１１に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、次のとおりである。
「プレート状の基板を、上方縁領域および下方縁領域を有する平行六面体の基板ホルダを用いて、少なくとも１つの処理ステーションを有する真空処理システム内におよび同システムを通じて搬送するための装置であって、該基板は該基板ホルダ内で垂直面に保持されるように適合され、かつ該基板ホルダは該処理ステーション内で垂直面に保持されるように適合され、該装置は、
　該処理ステーション内に、該基板ホルダを支持しかつ該基板ホルダを該処理ステーション内の水平方向の搬送経路に沿って駆動するために、該基板ホルダの下方縁領域と係合する駆動手段を含み、該駆動手段は、該基板ホルダが該水平方向の搬送経路に対して横方向におよび該駆動手段を中心に傾斜することを許容し、該装置はさらに、
　該処理ステーション内に、該駆動手段の上方に垂直方向に間隔をおかれて配置され、かつ該基板ホルダの該上方縁領域と動作的に係合される磁気手段を含み、該磁気手段は、該基板ホルダの傾斜を阻止するように該基板ホルダの該上方縁領域を該磁気手段に対して中心に位置付けて、該基板ホルダが該駆動手段によって該水平方向の搬送経路に沿って動かされる間、該基板ホルダの両側に永久磁石間の反発力を付与することで、該基板ホルダを垂直方向に維持し、該磁気手段は、該処理ステーション内に、該基板ホルダの該上方縁領域を受けるように該水平方向の搬送経路に沿って延びる間隙を規定する磁石用ホルダと、該基板ホルダの該上方縁領域内に、該上方縁領域の対向する各側に対向する各極を有する第１の永久磁石と、該処理ステーション内の該間隙の対向する各側に、該第１の永久磁石の対向する各極と互いに反発し合って該基板ホルダの該上方縁領域を該間隙内の中心に位置付けるための１対の第２の永久磁石とを含み、前記第２の永久磁石は、Ｓ極からＮ極へ向かって延びる外周面と、前記外周面と直交するように延びる端面とを有し、前記第２の永久磁石の外周面と端面とが前記磁石用ホルダの内周面に接触して前記磁石用ホルダを厚み方向に貫通しないように前記磁石用ホルダに取付けられる装置。」
　
第２　引用例
　これに対して、当審での拒絶の理由に引用された本件出願の優先権主張日前に日本国内において頒布された刊行物である特開平２−２０７５４６号公報（以下「引用例」という。）の記載内容は以下のとおりである。
１　引用例記載の事項
　引用例には以下の事項が記載されている。
（１）第２頁左上欄第４〜８行。
「本発明は、スパッタリング装置、プラズマＣＶＤ装置等の真空装置の真空室内で基板を取付けたトレイを搬送し、該基板にスパッタリング、プラズマＣＶＤ等の処理を施すインライン式真空装置に於ける基板搬送装置に関する。」
（２）第３頁左上欄第１７行〜左下欄第１９行。
「該真空室（１）内には、側面に複数枚のシリコンウエハ等の基板（７）を治具（８）により取付けた板状のトレイ（９）が直立して開口（３）から送り込まれ、該トレイ（９）はその下方に設けられた機械的搬送装置（１０）により直立した状態で該トレイ（９）の板面の方向に搬送される。
　該機械的搬送装置（１０）は、トレイ（９）の下端に沿って取付けたフレーム（１１）の両側に夫々回転自在に設けた複数個のローラ（１２）と、該フレーム（１１）の下側にばね（１３）を介して上下動自在に取付けたラック（１４）と、各ローラ（１２）を案内するように真空室（１）の底部に設けられたチャンネル状の１対のガイドレール（１５）と、１対のガイドレール（１５）の中間に設けられて該ラック（１４）に咬合う複数個のピニオンギア（１６）及び各ピニオンギア（１６）の支軸（１７）に駆動を与える真空室（１）の外部の電動機（１８）により構成するようにした。
　該真空室（１）内にトレイ（９）が送り込まれると、トレイ（９）の下端のラック（１４）に回転するピニオンギア（１６）が咬合い、ガイドレール（１５）に沿って回転するローラ（１２）によりトレイ（９）が支持されてその板面の方向に搬送され、該トレイ（９）に取付けられた基板（７）にスパッタリングカソード（５）により薄膜形成の処理が施されると該真空室（１）から外部へ送り出される。
　直立して搬送されるトレイ（９）の上方は、無接触保持装置（１９）により該トレイ（９）がその板面の方向に傾かないように保持される。該無接触保持装置（１９）は、トレイ（９）の上端に取付けた第１磁石（２０）と、真空室（１）内に取付けられ且つ第１磁石（２０）と反発する第２磁石（２１）を備え、第４図及び第５図示の実施例では、該第１磁石（２０）をトレイ（９）の板面の方向で磁極が異なる長い永久磁石からなる１本の棒磁石とし、これをトレイ（９）の上部にその搬送方向に沿わせて配置するようにし、また該第２磁石（２１）は６個のブロック状の永久磁石を第１磁石（２０）の配列方向の両側に沿って該第１磁石（２０）と反発するように３個ずつ配置した。これによってトレイ（９）が真空室（１）内に搬入されると、該トレイ（９）の上部の第１磁石（２０）が第２磁石（２１）の間に進入し、磁力による反発作用により第２磁石（２１）の間に無接触で保持され該トレイ（９）はその板面の方向に傾動することなく搬送される。」
（３）ここで、図面の第４図および第５図を参照すると、基板（７）は、トレイ（９）に垂直面に保持されるように適合されており、また、トレイ（９）は真空室（１）内で垂直面に保持されるように適合されているのが見て取れる。
　また、トレイ（９）は、ガイドレール（１５）に沿って回転するローラ（１２）によって支持されていることから、真空室（１）内を、ガイドレール（１５）が設けられている水平方向の搬送径路に沿って搬送されていることがわかる。
　トレイ（９）の下方である下端には、フレーム（１１）が取り付けられ、フレーム（１１）の下端にばね（１３）を介して上下動自在にラック（１４）が取り付けられ、該ラック（１４）にピニオンギア（１６）が咬合っている。トレイ（９）はばね（１３）を介してラック（１４）に取り付けられ、トレイ（９）はガイドレール（１５）上にローラ（１２）を介して載っているだけなので、搬送径路に対して横方向におよびラック（１４）を中心に傾斜することが可能である。
　ラック（１４）およびピニオンギア（１６）の垂直方向に間隔をおいた上方には、磁石を用いた無接触保持装置（１９）が設けられており、磁石の反発力により、トレイ（９）の上方は、無接触保持装置（１９）の中心に位置付けられている。また、該無接触保持装置（１９）において、第１磁石（２０）と第２磁石（２１）との間に間隙が設けられており、これにより、トレイ（９）の上方を受けるように水平方向の搬送径路に沿って延びる間隙が規定されている。そして、トレイ（９）上方の第１磁石（２０）は、対向する各側に対向する各極を有するものであり、真空室（１）の該間隙の対向する各側には、該第１磁石（２０）の対向する各極と互いに反発する第２磁石（２１）が設けられ、これにより、トレイ（９）の上方は該間隙内の中心に位置付けられている。
　第５図を参照すると、無接触保持装置（１９）において、逆Ｕ字形の保持部材の内周面に第２磁石（２１）が取付けられているのが見てとれる。
２　引用例記載の発明
　上記（１）ないし（２）の記載事項、及び（３）の認定事項を、本件発明に照らして整理すると、引用例には以下の発明が記載されていると認める。（以下「刊行物記載の発明」という。）
「シリコンウエハ等の基板（７）を、上方および下方を有するトレイ（９）を用いて、該基板（７）にスパッタリング、プラズマＣＶＤ等の処理を施す真空室（１）を有するインライン式真空装置内におよび同真空装置を通じて搬送するための基板搬送装置であって、該基板（７）はトレイ（９）内で垂直面に保持されるように適合され、かつ該トレイ（９）は該真空室（１）内で垂直面に保持されるように適合され、該基板搬送装置は、
　該真空室（１）内に、該トレイ（９）を支持しかつ該トレイ（９）を該真空室（１）内の水平方向の搬送径路に沿って駆動するために、該トレイ（９）の下方と係合するラック（１４）およびピニオンギア（１６）を含み、該ラック（１４）は、トレイ（９）が水平方向の搬送径路に対して横方向およびラック（１４）を中心に傾斜することを許容し、該基板搬送装置はさらに、
　該真空室（１）内に、ラック（１４）およびピニオンギア（１６）の上方に垂直方向に間隔をおかれて配置され、かつ該トレイ（９）の上方を無接触で傾かないように保持する磁石を用いた無接触保持装置（１９）を含み、該無接触保持装置（１９）は、該トレイ（９）の板面の方向に傾かないように該トレイ（９）の上方を無接触保持装置（１９）に対して中心に位置付けて、該トレイ（９）が該ラック（１４）およびピニオンギア（１６）によって水平方向の搬送径路に沿って動かされる間、該トレイ（９）の両側に永久磁石間の反発力を付与することで、該トレイ（９）を垂直方向に維持し、
　該無接触保持装置（１９）は、該真空室（１）内に、該トレイ（９）の上方を受けるように該水平方向の搬送径路に沿って延びる間隙を規定する逆Ｕ字形の保持部材と、該トレイ（９）の上方に、該上方の対向する各側に対向する各極を有する永久磁石からなる第１磁石（２０）と、該真空室（１）内の該間隙の対向する各側に、該第１磁石（２０）の対向する各極と互いに反発し合って該トレイ（９）の該上方を該間隙内の中心に位置付けるための１対の永久磁石からなる第２磁石（２１）とを含み、第２磁石（２１）は、逆Ｕ字形の保持部材の内周面に取付けられる基板搬送装置。」
　
第３　対比
　本件発明と刊行物記載の発明とを対比すると、後者の「シリコンウエハ等の基板（７）」、「上方」、「下方」、「トレイ（９）」、「スパッタリング、プラズマＣＶＤ等の処理を施す真空室（１）」、「インライン式真空装置」、「基板搬送装置」、「ラック（１４）およびピニオンギア（１６）」、「磁石を用いた無接触保持装置（１９）」、「逆Ｕ字形の保持部材」、「永久磁石からなる第１磁石（２０）」、「永久磁石からなる第２磁石（２１）」は、それぞれ、前者の「プレート状の基板」、「上方縁領域」、「下方縁領域」、「基板ホルダ」、「処理ステーション」、「真空処理システム」、「装置」、「駆動手段」、「磁気手段」、「磁石用ホルダ」、「第１の永久磁石」、「第２の永久磁石」に相当している。
　したがって、本件発明と刊行物記載の発明とは、以下の一致点及び相違点を有している。
１　一致点
「プレート状の基板を、上方縁領域および下方縁領域を有する基板ホルダを用いて、少なくとも１つの処理ステーションを有する真空処理システム内におよび同システムを通じて搬送するための装置であって、該基板は該基板ホルダ内で垂直面に保持されるように適合され、かつ該基板ホルダは該処理ステーション内で垂直面に保持されるように適合され、該装置は、
　該処理ステーション内に、該基板ホルダを支持しかつ該基板ホルダを該処理ステーション内の水平方向の搬送経路に沿って駆動するために、該基板ホルダの下方縁領域と係合する駆動手段を含み、該駆動手段は、該基板ホルダが該水平方向の搬送経路に対して横方向におよび該駆動手段を中心に傾斜することを許容し、該装置はさらに、
　該処理ステーション内に、該駆動手段の上方に垂直方向に間隔をおかれて配置され、かつ該基板ホルダの該上方縁領域と動作的に係合される磁気手段を含み、該磁気手段は、該基板ホルダの傾斜を阻止するように該基板ホルダの該上方縁領域を該磁気手段に対して中心に位置付けて、該基板ホルダが該駆動手段によって該水平方向の搬送経路に沿って動かされる間、該基板ホルダの両側に永久磁石間の反発力を付与することで、該基板ホルダを垂直方向に維持し、
　該磁気手段は、該処理ステーション内に、該基板ホルダの該上方縁領域を受けるように該水平方向の搬送経路に沿って延びる間隙を規定する磁石用ホルダと、該基板ホルダの該上方縁領域内に、該上方縁領域の対向する各側に対向する各極を有する第１の永久磁石と、該処理ステーション内の該間隙の対向する各側に、該第１の永久磁石の対向する各極と互いに反発し合って該基板ホルダの該上方縁領域を該間隙内の中心に位置付けるための１対の第２の永久磁石とを含む、装置。」
２　相違点
＜相違点１＞
　基板ホルダに関して、その全体形状が、本件発明では、「平行六面体」であると特定しているのに対し、刊行物記載の発明では、基板ホルダに相当するトレイ（９）の全体形状について不明な点。
＜相違点２＞
　第２の永久磁石の磁石用ホルダへの取付けに関して、本件発明では、「第２の永久磁石は、Ｓ極からＮ極へ向かって延びる外周面と、前記外周面と直交するように延びる端面とを有し、前記第２の永久磁石の外周面と端面とが磁石用ホルダの内周面に接触して前記磁石用ホルダを厚み方向に貫通しないように前記磁石用ホルダに取付けられる」と特定しているのに対し、刊行物記載の発明では、磁石用ホルダに相当する逆Ｕ字形の保持部材は、第２の永久磁石に相当する第２磁石（２１）をそのように支持していない点。
　
第４　相違点についての検討
＜相違点１＞について
　基板ホルダの形状を「平行六面体」であると特定しても、そのことによる効果は特段見当たらず、また、プレート状の基板を垂直に支持する基板ホルダの全体形状をほぼ平行六面体としたものは引例を提示するまでもなく周知の事項であることから、刊行物記載の発明においても、そのトレイ（９）の全体形状を平行六面体とすることは、当業者が容易になし得たものである。
＜相違点２＞について
　永久磁石を保持部材で保持する場合、Ｓ極からＮ極へ向かって延びる面と、該面と直交するように延びる端面とを保持部材に接触させて保持することは、例えば実願昭６１−１４０５７２号（実開昭６３−４８７３０号）のマイクロフィルム（第１、２図中、永久磁石４、８参照。）、あるいは実願平２−８３５２号（実開平３−９９２２１号）のマイクロフィルム（第１、３図中、固定側永久磁石３、４参照。）に記載されているように従来周知の事項であり、また、刊行物記載の発明においても、第２磁石（２１）、（２１）は、第１磁石（２０）に対して反発力を受けるものであることから、第２磁石（２１）を逆Ｕ字形の保持部材で保持する場合には、第２磁石（２１）における第１磁石（２０）とは反対側の面を支えようとすることは、当然考えられることであることからすれば、刊行物記載の発明において、第２磁石（２１）において、そのＳ極からＮ極へ向かって延びる外周面と、該外周面と直交する端面とを逆Ｕ字形の保持部材で保持することは当業者が容易になし得たものである。
　そして、第２磁石（２１）の端面を逆Ｕ字形の保持部材で保持すれば、第２磁石（２１）は、当然ながら、逆Ｕ字形の保持部材を貫通しないものである。
　
第５　むすび
　したがって、本件発明は、刊行物記載の発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許をすることができない。
　よって、本件出願の請求項２ないし請求項１１に係る発明について検討するまでもなく結論のとおり審決する。