【事件の表示】
　平成１０年特許願第１３９７９６号「直動形ガイド装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１２月　７日出願公開、特開平１１−３３６７５５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１０年５月２１日の出願であって、平成１９年２月２０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成１９年３月２８日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同日付けで明細書について手続補正がなされたものである。なお、平成１８年９月７日付け手続補正は、原審において平成１９年２月２０日付けで決定をもって却下された。
　
２　平成１９年３月２８日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１９年３月２８日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
２−１　補正事項
　本件補正は、補正前の明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
　「複数の転動体と、前記転動体を介して相対的に直動可能に配置された一対の軌道部材とを含む直動形ガイド装置において、
　前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動体の材質はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４であることを特徴とする直動形ガイド装置。」
を、
　「複数の転動体と、前記転動体を介して相対的に直動可能に配置された一対の軌道部材とを含
み、電子銃を用いた半導体の描画装置に使用される
　前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動
体は
を材質とし、かつ、非磁性材料である樹脂の保持器によって保持される
とする補正を含んでいる。なお、下線は対比の便のために当審において付したものである。
　
２−２　補正の目的・新規事項の有無
　上記補正は、願書に最初に添付した明細書及び図面に記載した事項に基づいて、補正前の請求項１に記載された「直動形ガイド装置」を「電子銃を用いた半導体の描画装置に使用される直動形ガイド装置」と、「前記転動体の材質はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４である」を「前記転動体は…ベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４を材質とし、かつ、非磁性材料である樹脂の保持器によって保持される」と、それぞれ限定して特定するものであるから、新規事項を追加するものではなく、発明を特定するために必要な事項を限定するものであって、発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題を変更することのない範囲で、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　よって、本件補正の目的は、平成１５年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に規定する目的に合致する。
　
２−３　独立特許要件　
　そこで、上記の特許請求の範囲の減縮を目的とした補正を含む補正後の本願発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１５年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
２−３−１　本願補正発明
　補正後の本願請求項１に係る発明は、平成１８年１月１９日付け及び平成１９年３月２８日付け手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。（以下、「本願補正発明」という。）なお、平成１８年９月７日付け手続補正は、原審において平成１９年２月２０日付けで決定をもって却下された。
　「複数の転動体と、前記転動体を介して相対的に直動可能に配置された一対の軌道部材とを含み、電子銃を用いた半導体の描画装置に使用される直動形ガイド装置において、
　前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動体はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４を材質とし、かつ、非磁性材料である樹脂の保持器によって保持されることを特徴とする直動形ガイド装置。」
　
２−３−２　引用例及びその記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開平３−８２４９号公報（以下、「第１引用例」という。）には、「超高真空用精密テーブル」に関して、図面とともに次の記載がある。
　（ア）　「産業上の利用分野
　本発明は、超高真空環境において、電子ビームやフォーカストイオンビームにより加工、検査を行なう半導体製造装置等の薄膜加工装置、検査装置等に用いる超高真空用精密テーブルに関するものである。」（第１ページ右欄第８行〜第１３行）
　（イ）　「サイドガイド３４、３５と第１のガイド２の対向面には長手方向に沿ってＶ字状面を有する凹入部４１と４２が形成され、これら凹入部４１と４２に多数のボール４３が介在され、これらのボール４３は保持器４４により保持されている。…各受部材４９の円錐状の凹入部５６と押圧ピン５２との間にはボール５７が介在され、圧縮ばね５５の弾性によりサイドガイド３５がボール４３を介して第１のガイド２へ、第１のガイド２がボール４３を介してサイドガイド３４へ、サイドガイド３４が基準ピン４８へ順次付勢されている。」（第５ページ左上欄第１４行〜左下欄第３行）
　以上の点を総合すると、第１引用例には、
　「複数のボール４３と、前記ボール４３を介して相対的に直動可能に配置された第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５とを含み、電子ビームやフォーカストイオンビームにより加工、検査を行なう半導体製造装置等の薄膜加工装置、検査装置等に用いる超高真空用精密テーブルにおいて、前記ボール４３は保持器４４によって保持されている前記超高真空用精密テーブル。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
　
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である実願平４−１７６２６号（実開平５−７９０４２号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「第２引用例」という。）には、「磁場環境下耐用転がり軸受」に関して、図面とともに次の記載がある。
　（ウ）　「【産業上の利用分野】
　本考案は、磁場環境下でも機械的な揺動部の軸受として好適に使用しえる転がり軸受に係り、特に内・外輪およびこれら両輪間の転動体の素材に特徴を持つ転がり軸受に関する。」（段落番号【０００１】）
　（エ）　「本考案の磁場環境下耐用転がり軸受は、内・外輪が共に銅合金で形成されているとともに、前記両輪間に配設される転動体がセラミックスで形成されていることに特徴を有する。」（段落番号【０００７】）
　（オ）　「図１および図２に本考案の一実施例を示している。この実施例では、深みぞ玉軸受を例に挙げている。図中、１は回転軸、２は軸受ハウジング、３は深みぞ玉軸受である。深みぞ玉軸受３は、内輪４と、外輪５と、複数個のボール６と、波形保持器７とを備えている。内輪４および外輪５はベリリウム銅で形成し、ボール６はセラミックス（窒化けい素を主体とする焼結体）で形成されている。保持器７は非磁性ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）で形成されている。」（段落番号【００１０】）
　
　また、本願出願前に頒布された刊行物である特開平９−７２３３４号公報（以下、「第３引用例」という。）には、「有限運動転がり案内ユニット」に関して、図面とともに次の記載がある。
　（カ）　「【発明の実施の形態】本発明は、半導体製造装置・組立装置などのように、高速往復直線運動が頻繁に繰り返される装置において、簡単な構成にて円滑な作動状態を保証すべく実施される。」（段落番号【００１７】）
　（キ）　「図１及び図２に示すように、上記両軌道部材３及び６の各軌道溝間には、転動体としての複数の円筒ころ（以下、単にころと称する）１１及び１２が配列されている。…保持器１４は、例えば鋼、銅あるいは合成樹脂を素材として略矩形板状となされ、…」（段落番号【００２７】
　
　同様に、本願出願前に頒布された刊行物である特開平９−１３３１２８号公報（以下、「第４引用例」という。）には、「非磁性転がり軸受」に関して、図面とともに次の記載がある。
　（ク）　「【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等の磁場を制御する装置で用いられる非磁性転がり軸受に関するものである。」（段落番号【０００１】）
　（ケ）　「また、上記転動体である玉２ｃは、Ｓｉ３ Ｎ４ 等のセラミックによって形成されることで、透磁率が１．０２（Ｈ／ｍ）程度以下となっている。また、上記保持器２ｄは、ポリアミド樹脂やフェノール樹脂（商品名：ベークライト）等の合成樹脂又は銅によって形成されることで、透磁率が１．０２（Ｈ／ｍ）程度以下となっている。」（段落番号【００１０】）
　
２−３−３　対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
　後者の「ボール４３」は前者の「転動体」に相当し、以下同様に、「第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５」は「一対の軌道部材」に、「電子ビームやフォーカストイオンビームにより加工、検査を行なう半導体製造装置等の薄膜加工装置、検査装置等に用いる超高真空用精密テーブル」は「電子銃を用いた半導体の描画装置に使用される直動形ガイド装置」に、それぞれ相当する。また、後者の「保持器４４」と前者の「保持器」は、非磁性材料であるか否かはさておき、ボール４３（転動体）を保持する限りにおいて共通している。
　したがって、両者は、本願補正発明の表記に倣えば、
　「複数の転動体と、前記転動体を介して相対的に直動可能に配置された一対の軌道部材とを含み、電子銃を用いた半導体の描画装置に使用される直動形ガイド装置において、前記転動体は保持器によって保持される直動形ガイド装置。」である点で一致し、次の点で相違している。
　〈相違点１〉
　本願補正発明は、「前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動体はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４を材質とし、かつ、非磁性材料である樹脂の保持器によって保持される」のに対し、引用発明は、第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５及びボール４３の材質がいかなるものか明らかでなく、しかも保持器４４が非磁性材料であるか否か明らかでない点。
　
２−３−４　相違点の判断
　前記（ウ）ないし（オ）の摘示によれば、第２引用例には、「磁場環境下でも好適に使用しえる転がり軸受に関して、内輪４および外輪５はベリリウム銅で形成し、ボール６は窒化けい素を主体とする焼結体で形成されている」事項が記載されているものと認める。
　第２引用例に記載されたものは、本願補正発明の如く「直動形ガイド装置」ではないものの、「内輪４および外輪５」は軌道部材であるといえ、さらに「ボール６」も転動体であるといえる。また、ベリリウム銅より窒化けい素（Ｓｉ３Ｎ４）の方が比透磁率が小さいことは当業者であれば容易に認識できる事項である。
　したがって、第２引用例に記載された「内輪４および外輪５」は本願補正発明の「軌道部材」に対応し、同様に「ボール６」は「転動体」に対応しているので、第２引用例には、上記相違点１に係る事項のうち「前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動体はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４を材質とし」なる事項が示唆されているといえる。
　また、前記（カ）及び（キ）の摘示によれば、第３引用例には、「半導体製造装置・組立装置などのように、高速往復直線運動が頻繁に繰り返される装置において、両軌道部材３及び６の各軌道溝間に転動体としての複数の円筒ころ１１及び１２を配列し、保持器１４は、合成樹脂を素材として略矩形板状とする」事項が記載されているものと認める。
　ここで、第３引用例に記載された「保持器１４は、合成樹脂を素材として」は本願補正発明の「非磁性材料である樹脂の保持器」に対応するので、第３引用例には、上記相違点１に係る事項のうち「非磁性材料である樹脂の保持器」なる事項が記載又は示唆されているといえる。
　さらに、前記（ク）及び（ケ）の摘示によれば、第４引用例には、「半導体製造装置等の磁場を制御する装置で用いられる非磁性転がり軸受において、Ｓｉ３ Ｎ４ 等のセラミックによって形成される転動体とポリアミド樹脂やフェノール樹脂等の合成樹脂によって形成される保持器を有する」事項が記載されているものと認める。
　ここで、第４引用例に記載された「Ｓｉ３ Ｎ４ 等のセラミックによって形成される転動体」及び「ポリアミド樹脂やフェノール樹脂等の合成樹脂によって形成される保持器」は本願補正発明の「転動体は…Ｓｉ３ Ｎ４を材質とし」及び「非磁性材料である樹脂の保持器」に対応するので、第４引用例には上記相違点１に係る事項のうち「前記転動体は非磁性材料である樹脂の保持器によって保持される」事項が記載又は示唆されているといえる。
　ここで、引用発明及び第２引用例ないし第４引用例に記載された事項は、ともに半導体製造装置等磁性環境下に使用する技術であるので、引用発明に第２引用例ないし第４引用例に記載された事項を適用することを妨げる特段の事情も見受けられない。
　したがって、引用発明及び第２引用例ないし第４引用例に記載された事項に接した当業者であれば、引用発明において、第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５の材質をベリリウム銅とし、ボール４３の材質をＳｉ３Ｎ４ とし、保持器４４を非磁性材料である合成樹脂として、上記相違点１に係る本願補正発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得るものと認める。
　そして、本願補正発明の効果も、引用発明及び第２引用例ないし第４引用例に記載された事項から、当業者であれば予測できる程度のものであって格別なものとはいえない。
　
　よって、本願補正発明は、第１引用例ないし第４引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
２−３−５　むすび
　以上により、本件補正は、平成１５年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであるから、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３　本願発明について
３−１　本願発明
　平成１９年３月２８日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１及び２に係る発明は、平成１８年１月１９日付け手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明は以下のとおりである。（以下、「本願発明」という。）
　「複数の転動体と、前記転動体を介して相対的に直動可能に配置された一対の軌道部材とを含む直動形ガイド装置において、
　前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動体の材質はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４であることを特徴とする直動形ガイド装置。」
　
３−２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された第１引用例及び第２引用例の記載事項は、前記［２−３−２　引用例及びその記載事項］に記載したとおりである。
　
３−３　対比
　本願発明と引用発明を対比する。
後者の「ボール４３」は前者の「転動体」に相当し、以下同様に、「第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５」は「一対の軌道部材」に、「電子ビームやフォーカストイオンビームにより加工、検査を行なう半導体製造装置等の薄膜加工装置、検査装置等に用いる超高真空用精密テーブル」は「直動形ガイド装置」に、それぞれ相当する。
　したがって、両者は、本願発明の表記に倣えば、
　「複数の転動体と、前記転動体を介して相対的に直動可能に配置された一対の軌道部材とを含む直動形ガイド装置。」である点で一致し、次の点で相違している。
　〈相違点２〉
　本願発明は、「前記軌道部材の材質はベリリウム銅であり、前記転動体の材質はベリリウム銅より比透磁率が小さいＳｉ３Ｎ４である」のに対し、引用発明は、第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５及びボール４３の材質がいかなるものか明らかでない点。
　
３−４　相違点の判断
　前記（ウ）ないし（オ）の摘示によれば、第２引用例には、「磁場環境下でも好適に使用しえる転がり軸受に関して、内輪４および外輪５はベリリウム銅で形成し、ボール６は窒化けい素を主体とする焼結体で形成されている」事項が記載されているものと認める。
　第２引用例に記載されたものは、本願発明の如く「直動形ガイド装置」ではないものの、「内輪４および外輪５」は軌道部材であるといえ、さらに「ボール６」も転動体であるといえる。また、ベリリウム銅より窒化けい素（Ｓｉ３Ｎ４）の方が比透磁率が小さいことは当業者であれば容易に認識できる事項である。
　したがって、第２引用例に記載された「内輪４および外輪５」は本願発明の「軌道部材」に対応し、同様に「ボール６」は「転動体」に対応しているので、第２引用例には、上記相違点２に係る事項が示唆されているといえる。
　ここで、引用発明及び第２引用例に記載された事項は、ともに半導体製造装置等磁性環境下に使用する技術であるので、引用発明に第２引用例に記載された事項を適用することを妨げる特段の事情も見受けられない。
　したがって、引用発明及び第２引用例に記載された事項に接した当業者であれば、引用発明において、第１のガイド２とサイドガイド３４又は３５の材質をベリリウム銅とし、ボール４３の材質をＳｉ３Ｎ４ として、上記相違点２に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得るものと認める。
　そして、本願発明の効果も、引用発明及び第２引用例に記載された事項から、当業者であれば予測できる程度のものであって格別なものとはいえない。
　
　よって、本願発明は、第１引用例及び第２引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上により、請求項１に係る発明（本願発明）は、第１引用例及び第２引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　それゆえ、本願は、特許請求の範囲の請求項２に係る発明について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。