【事件の表示】
　特願２００２−１５１７０６「基板のガス処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１２月　３日出願公開、特開２００３−３４１８３５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成１４年５月２７日の出願であって、平成１７年１１月１４日付けで拒絶の理由が通知され、平成１８年１月１３日に意見書の提出とともに明細書について補正がなされたが、同年４月１１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月１７日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同年６月６日付けで明細書について補正（以下「本件補正」という。）がなされたものである。
　
第２　本件補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は、明細書の全文を変更するものであって、特許請求の範囲の請求項１について、本件補正前の記載と、本件補正後の記載とを、補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
　
（１）本件補正前
「【請求項１】　箱形をなし、対向した一方の側面（１）に被処理物搬入口（３）を、もう一方の側面（２）に被処理物搬出口（４）を有する処理室（５）内に、送りローラー（６）を同軸状に固定した複数の回転シャフト（７）を並列状に軸支し、前記送りローラー（６）に載置した被処理物（１５）である各種基板を一定方向に搬送出来る様にすると共に、処理室（５）内にガス噴射孔（１３）を設け、被処理物（１５）表面に向って処理ガス（１２）を吹き付けられる様にした基板のガス処理装置において、空間を隔てて従動側磁気ディスク（１８）と駆動側磁気ディスク（２５）とを対向させ、従動側磁気ディスク（１８）及び駆動側磁気ディスク（２５）の対向面には同心円状に等間隔で円盤状をなした磁石（１９）のＮ極とＳ極とを交互に埋め込んだマグネットカップリング（１７）の従動側磁気ディスク（１８）を処理室（５）内の回転シャフト（７）の軸端に固定すると共に、駆動側磁気ディスク（２５）を処理室（５）の側壁（２３）を隔てて前記従動側磁気ディスク（１８）と対向する位置に固定し、処理室（５）外に設置された回転駆動源（２２）から供給された回転力をマグネットカップリング（１７）を介して処理室（５）内の送りローラー（６）に非接触状態で伝達できる様にし、更に、処理室（５）の被処理物搬入口（３）及び被処理物搬出口（４）にシャッター（２６）を設け、該シャッタ（２６）を開閉自在にしたことを特徴とする基板のガス処理装置。」
　
（２）本件補正後
「【請求項１】　箱形をなし、対向した一方の側面（１）に被処理物搬入口（３）を、もう一方の側面（２）に被処理物搬出口（４）を有する処理室（５）内に、送りローラー（６）を同軸状に固定した複数の回転シャフト（７）を並列状に軸支し、前記送りローラー（６）に載置した被処理物（１５）である各種基板を一定方向に搬送出来る様にすると共に、処理室（５）内にガス噴射孔（１３）を設け、被処理物（１５）表面に向って処理ガス（１２）を吹き付けられる様にした基板のガス処理装置において、空間を隔てて従動側磁気ディスク（１８）と駆動側磁気ディスク（２５）とを対向させ、従動側磁気ディスク（１８）及び駆動側磁気ディスク（２５）の対向面には同心円状に等間隔で円盤状をなした磁石（１９）のＮ極とＳ極とを交互に埋め込んだマグネットカップリング（１７）の従動側磁気ディスク（１８）を処理室（５）内の回転シャフト（７）の軸端に固定すると共に、駆動側磁気ディスク（２５）を処理室（５）の
非磁性体製の
開閉自在の
処理室（５）内を気密状態に保持出来る様にした
　
２　補正の適否
　本件補正のうち、特許請求の範囲の請求項１についての補正は、本件補正前の請求項１に記載した発明特定事項である「側壁（２３）」を「非磁性体製」と限定するものであり、また、シャッター（２６）によって「処理室（５）内を気密状態に保持出来る様にした」点を限定するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された事項により特定される、請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号による改正前特許法（以下「改正前特許法」という。）第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かについて、以下に検討する。
　
（１）本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、上記１（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの「基板のガス処理装置」であると認められる。
　
（２）引用刊行物の記載内容および引用発明
　原査定の拒絶の理由には、本願の出願前に頒布された刊行物である次の刊行物が引用されており、当該刊行物には、以下の技術的事項が記載されている。
　
　引用刊行物：実願平５−５８５７８号（実開平７−２７２９０号）のＣＤ−ＲＯＭ
　
（ａ）段落【０００３】〜【０００８】
「一般的な基板処理装置として、基板に上方から処理液を噴霧するシャワーノズルと、基板を水平に移動させるローラコンベアとを備えたものが既に開発されている・・・。ローラコンベアは、搬送ローラ（被駆動部の一例）を搬送方向に多数並設した構造を有している。搬送ローラへは、たとえばチェーン及びヘリカルギア等の駆動力伝達装置を介して、モータ（駆動力発生部の一例）で発生した駆動力が伝達される。この駆動力伝達装置は、シャワーノズルや搬送ローラを配置した処理室の外側に配置されているため、処理室の側壁を搬送ローラの回転軸が貫通している。回転軸の貫通部分には、ノズルから噴射された液体やその蒸気が処理室外へ漏れないようにするために、たとえば、４フッ化エチレン樹脂製のＶリングやＯリング等のシール部材が装着されている。
・・・前記従来の構成では、搬送ローラの回転軸が処理室の側壁を貫通しているので、そこにＶリングやＯリング等のシール部材を装着しなければならない。このシール部材は、搬送ローラの位置ずれや磨耗、または経年変化等で劣化する。シール部材が劣化すると、所定のシール性能を発揮できなくなり、液体やガス等の流体の漏洩が発生する。この漏洩が、駆動力伝達装置やその他の部品の汚染や腐食を生じさせるため、装置の寿命が著しく短縮する。
・・・流体の漏洩を防止するために、本考案者は、非接触で駆動力を駆動力発生部から被駆動部に伝達できればよいという考えに至った。処理室の側壁に貫通孔を設ける必要がなくなるからである。・・・
・・・本考案に係る駆動力伝達装置では、処理室外に配置された駆動力発生部で駆動力が発生すると、発生した駆動力により駆動磁石が駆動される。駆動磁石が駆動されると、駆動磁石に処理室の隔壁を挟んで対向配置された従動磁石が磁力により駆動磁石に吸引されて駆動磁石に従って運動する。・・・
・・・駆動磁石と従動磁石とを隔壁を挟んで対向配置し、その吸引力によって駆動力を伝達しているので、非接触で被駆動部に駆動力を伝達できる。このため、処理室内の流体の漏洩を生じることなく、処理室外の駆動部から処理室内の被駆動部に駆動力を伝達することができる。」
　
（ｂ）段落【０００９】〜【００１６】
「・・・図１は、一連の基板処理を連続して行う連接型表面処理装置の概略構成を示している。この装置は、たとえば液晶基板の製造ラインの一部を構成しており、主に、現像機１と、スプレーエッチング機２と、レジスト膜剥離機３とから構成されている。現像機１、スプレーエッチング機２及びレジスト膜剥離機３は、外部から遮断された処理室１１と、処理液を角型基板Ｗに塗布するためのスプレー管１２とをそれぞれ備えている。各処理室１１は、図示しない排気ファンにそれぞれ接続されており、各処理室１１の内部の雰囲気ガスが強制的に排気されるようになっている。
　現像機１の上流側（図左側）には、図示しない前段の処理室と現像機１の処理室１１とを連絡するための第１連絡室５が設けられている。現像機１の処理室１１とスプレーエッチング機２の処理室１１との間には第２連絡室６が設けられ、スプレーエッチング機２の処理室１１とレジスト膜剥離機３の処理室１１との間には第３連絡室７が設けられている。さらに、レジスト膜剥離機３の下流側には、後段の処理室（図示せず）と処理室１１とを連絡するための第４連絡室８が設けられている。各連絡室５〜８の上壁には、それぞれ開口２１が形成されており、各連絡室５〜８の内部が外部に連通している。各連絡室５〜８の開口２１には、開口２１を通って各連絡室５〜８内に不要物が落下するのを防ぐために、蓋部材２２が設けられている。蓋部材２２は、連絡室５〜８の上壁の上方に所定距離を隔てて配置され、開口２１を被覆するとともに空気の通路を形成するようになっている。
　各連絡室５〜８と各処理室１１とは一直線上に配置されており、各処理室１１の側壁１５に形成されたパスライン開口１５ａによって連通している。各処理室１１と各連絡室５〜８の内部には、搬送機構１０が設けられている。この搬送機構１０は、一直線上に配置されており、各処理室１１のパスライン開口１５ａを通じて基板Ｗを水平に搬送するようになっている。
　搬送機構１０は、搬送方向に並設された多数の搬送ローラ１３を有している。各搬送ローラ１３は、図１の奥行き方向に延びており、図２に示すように、円筒状のローラ部２５と、ローラ部２５の両端から同心に突出する回転軸２６とを有している。回転軸２６は、軸受２７により処理室１１の側壁１５ｂに回転自在に支持されている。また回転軸２６の一端には、従動部２８の中心が固定されている。
　従動部２８は、図３に示すように、円板状の磁石取付部材２９と、磁石取付部材２９の側壁１５ｂ側面（図３の手前側面）に取り付けられた４個の従動磁石３０，３１とを有している。従動磁石３０，３１は取付部材２９の周方向に等間隔を隔てて配置されており、同一直径上に配置された１対の従動磁石３０の図３手前側がＮ極、別の同一直径上に配置された１対の従動磁石３１の図３手前側がＳ極になっている。即ち、従動磁石３０，３１はＮ極とＳ極とが交互に配置された状態となっている。
　従動部２８に対向して側壁１５ｂを挟み間隔を隔てて駆動部３２が配置されている。駆動部３２は、図４に示すように、円板状の磁石取付部材３３と、磁石取付部材３３の側壁１５ｂ側面（図４の手前側面）に取り付けられた４個の駆動磁石３４，３５とを有している。駆動磁石３４，３５は取付部材３３の周方向に等間隔を隔てて配置されており、同一直径上に配置された１対の駆動磁石３４の図４手前側がＳ極、別の同一直径上に配置された１対の駆動磁石３５の図４手前側がＮ極になっている。即ち、従動磁石３０，３１はＮ極とＳ極とが交互に配置された状態となっている。
　ここでは、側壁１５ｂを隔てて、従動磁石３０のＮ極と駆動磁石３４のＳ極とが磁力により引き合って対向しており、また従動磁石３１のＳ極と駆動磁石３５のＮ極とが磁力により引き合って対向している。これによって、従動部２８と駆動部３２は連結され、駆動部３２が回転すれば従動部２８がそれに従って回転することになる。
　図２に示すように、駆動部３２の磁石取付部材３３の中心には、隔壁１５ｂから離れる方向に水平に突出する回転軸３８が設けられている。回転軸３８は、側壁１５ｂから延びる支持ブラケット３７に取り付けられた軸受３６により回転自在に支持されている。
　回転軸３８の先端には、ヘリカルギア３９が取り付けられている。ヘリカルギア３９は、駆動軸４０に取り付けられたヘリカルギア４１に噛合している。駆動軸４０は、回転軸３８と直交する水平方向（すなわち、搬送機構１０の搬送方向）に延びている。ヘリカルギア４１は、各搬送ローラ１３に対応して駆動軸４０に固定されている。駆動軸４０は、スプロケット４２、チェーン４３及びスプロケット４５を介してモータ４４に連結されている。この結果、モータ４４により駆動軸４０が回転駆動されると、ヘリカルギア４１及びヘリカルギア３９を介して駆動力が駆動部３２に伝達される。」
　
（ｃ）段落【００２２】
　「この駆動力伝達の際には、非接触で駆動部３２から従動部２８に駆動力が伝達されるので、その間を側壁１５ｂによって遮蔽できる。このため、シール部材を用いなくても、各処理室１１内の雰囲気ガスや処理液が外部に漏洩しない。・・・」
　
（ｄ）図１〜２によれば、各処理室１１は箱形をなしていることが看取できる。
　
（ｅ）図２〜３によれば、従動部２８を構成する円板状の磁石取付部材２９が回転軸２６の軸端に固定されていることが看取できる。
　
　そこで、上記記載事項を技術常識を勘案しながら本件補正発明に照らして整理すると、引用刊行物には次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
［引用発明］
「箱形をなし、対向した一方の側面にパスライン開口１５ａを、もう一方の側面にパスライン開口１５ａを有する処理室１１内に、ローラ部２５を同軸状に固定した複数の回転軸２６を並列状に軸支し、前記ローラ部２５に載置した被処理物である各種基板を一定方向に搬送出来る様にすると共に、処理室１１内に処理液スプレー管１２を設け、被処理物表面に向って処理液を吹き付けられる様にした基板の処理装置において、空間を隔てて円板状の磁石取付部材２９と円板状の磁石取付部材３３とを対向させ、円板状の磁石取付部材２９及び円板状の磁石取付部材３３の対向面には同心円状に等間隔で磁石のＮ極とＳ極とを交互に配置したマグネットカップリングの円板状の磁石取付部材２９を処理室１１内の回転軸２６の軸端に固定すると共に、円板状の磁石取付部材３３を処理室１１の側壁１５ｂを隔てて前記磁石取付部材２９と対向する位置に固定し、処理室１１外に設置されたモータ４４から供給された回転力をマグネットカップリングを介して処理室１１内のローラ部２５に非接触状態で伝達できる様にした基板の処理装置。」
　
（３）対比
　本件補正発明と引用発明とを対比すると、
　引用発明における「パスライン開口１５ａ」は本件補正発明における「被処理物搬入口」および「被処理物搬出口」に相当し、以下同様に、「ローラ部２５」は「送りローラー」に、「回転軸２６」は「回転シャフト」に、「円板状の磁石取付部材２９」は「従動側磁気ディスク」に、「円板状の磁石取付部材３３」は「駆動側磁気ディスク」に、「モータ４４」は「回転駆動源」に、相当する。
　また、引用発明における「処理液」は、基板の処理用流体という限りにおいて、本件補正発明における「ガス」と共通するものであり、引用発明の「基板の処理装置」は、基板の処理装置という限りで、本件補正発明の「基板のガス処理装置」と共通している。
　そして、引用発明の「処理液スプレー管１２」が基板の処理用流体噴射孔を備えていることは明らかである。
　さらに、引用発明の「同心円状に等間隔で磁石のＮ極とＳ極とを交互に配置した」は、同心円状に等間隔で磁石のＮ極とＳ極とを交互に配置した、という限りで、本件補正発明の「同心円状に等間隔で円盤状をなした磁石（１９）のＮ極とＳ極とを交互に埋め込んだ」と共通している。
　したがって、両者の一致点と相違点は次のとおりと認められる。
　
［一致点］
「箱形をなし、対向した一方の側面に被処理物搬入口を、もう一方の側面に被処理物搬出口を有する処理室内に、送りローラーを同軸状に固定した複数の回転シャフトを並列状に軸支し、前記送りローラーに載置した被処理物である各種基板を一定方向に搬送出来る様にすると共に、処理室内に基板の処理用流体噴射孔を設け、被処理物表面に向って基板の処理用流体を吹き付けられる様にした基板の処理装置において、空間を隔てて従動側磁気ディスクと駆動側磁気ディスクとを対向させ、従動側磁気ディスク及び駆動側磁気ディスクの対向面には同心円状に等間隔で磁石のＮ極とＳ極とを交互に配置したマグネットカップリングの従動側磁気ディスクを処理室内の回転シャフトの軸端に固定すると共に、駆動側磁気ディスクを処理室の側壁を隔てて前記従動側磁気ディスクと対向する位置に固定し、処理室外に設置された回転駆動源から供給された回転力をマグネットカップリングを介して処理室内の送りローラーに非接触状態で伝達できる様にした基板の処理装置」である点。
　
［相違点１］
　本件補正発明では基板の処理用流体として「ガス」を用いた「基板のガス処理装置」であるのに対し、引用発明では処理用流体として液体を用いている基板の処理装置である点。
　
［相違点２］
　マグネットカップリングの磁石が、本件補正発明では「円盤状をなし」ており、従動側磁気ディスク及び駆動側磁気ディスクに「埋め込んだ」ものであるのに対し、引用発明ではそのようなものではない点。
　
［相違点３］
　処理室の側壁が、本件補正発明では「非磁性体製」であるのに対し、引用発明ではそのように特定されていない点。
　
［相違点４］
　本件補正発明では「処理室の被処理物搬入口及び被処理物搬出口に開閉自在のシャッターを設け、処理室内を気密状態に保持出来る様にした」のに対し、引用発明ではそのように特定されていない点。
　
（４）検討
　上記各相違点について、以下で検討する。
［相違点１］について
　基板の処理用流体は処理の内容等に応じて当業者が適宜選択し得るものであり、また、液体の処理用流体も気体の処理用流体も基板の処理用流体として従来周知であるから、引用発明の処理用流体としてガスを用いて基板のガス処理装置とすることに格別の困難性は認められない。
　
［相違点２］について
　マグネットカップリングの磁石の形状や配置手段は当業者が必要に応じて適宜設定し得る設計的事項にすぎず、しかも、円盤状をなした磁石を埋め込んだマグネットカップリングも従来周知である（必要であれば、特開平１０−２２０４９２号公報（特に段落【００１４】、図２〜４）を参照）から、引用発明のマグネットカップリングの磁石を円盤状として従動側磁気ディスク及び駆動側磁気ディスクに埋め込んだものとすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
［相違点３］について
　引用発明のマグネットカップリングにおいて、従動側と駆動側の対応する各磁石同士に磁気結合を与えて駆動側から従動側へと駆動力を伝達するマグネットカップリングとしての機能を適切に発揮するには側壁が非磁性体製であれば良いことは当業者にとって自明な事項であり、しかも、マグネットカップリングにおいて従動側と駆動側とを隔てる隔壁を非磁性体製としたものも従来周知である（必要であれば、特開昭６２−９５９６０号公報（第２頁左上欄第１１行〜右上欄第５行、第１図）を参照）から、引用発明の側壁を非磁性体製とすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
［相違点４］について
　基板の処理装置において、処理室の被処理物搬入出口に開閉自在のシャッターを設けて処理室内を気密状態に保持出来る様にすることは、従来周知の事項である（必要であれば、特開昭６１−１２９８１２号公報（特に第２頁左下欄第５〜１３行および右下欄第１７〜２０行、第１図）を参照）から、引用発明の処理室の被処理物搬入口及び被処理物搬出口に開閉自在のシャッターを設けて処理室内を気密状態に保持出来る様にすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
　また、本件補正発明の作用効果についてみても、引用発明および従来周知の事項から当業者が十分予測し得る範囲内のものであって、格別顕著なものとはいえない。
　
　よって、本件補正発明は、引用刊行物に記載された発明および従来周知の事項に基づいて、その出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際に独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおり、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、改正前特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について
１　本件発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１に係る発明は、平成１８年１月１３日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、上記第２の１（１）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの「基板のガス処理装置」であると認められる。
　
２　引用刊行物の記載内容および引用発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物及びその記載内容並びに引用発明は、上記第２の２（２）に示したとおりである。
　
３　対比・検討
　本件発明は、上記第２の２で検討した本件補正発明から、「側壁（２３）」を「非磁性体製」とする限定およびシャッター（２６）によって「処理室（５）内を気密状態に保持出来る様にした」とする限定を削除したものである。
　そうすると、本件発明を特定する事項の全てを含み、さらに他の限定事項を付加したものに相当する本件補正発明が、上記第２の２（４）で示したとおり、引用刊行物に記載された発明および従来周知の事項に基づいて、その出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同様の理由により、その出願前に当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、本件出願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。