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　特願２０００−１８１４４５「基板処理装置及び基板処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１２月２６日出願公開、特開２００１−３５８１３４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１２年６月１６日の出願であって、平成１８年１月２６日付で拒絶査定がなされ、 これに対し、同年３月２日付で拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１８年３月２８日付の手続補正により、特許請求の範囲は請求項１〜６に補正されたものである。
　
ＩＩ．平成１８年３月２８日付手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年３月２８日付の手続補正を却下する。
　
［理　由］
１．補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１〜６は、次のとおりに補正された。
　
　「【請求項１】基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
　基板に処理を行うための処理部と、
　フッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を混合させて処理液を生成する処理液生成手段と、
　前記処理部にある基板に、前記処理液生成手段により生成された前記処理液を供給するとともに、循環路を介して回収された前記処理部で使用されたフッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を含む処理液を再度供給する処理液供給手段と、
を備え、
　前記処理液生成手段は、前記循環路と前記処理液供給手段との間に設けられ、
　前記フッ素系不活性液体は、一般式
　（Ｃ（ｎ）Ｆ（２ｎ＋１）−Ｏ−Ｒ１）
　（但し、Ｒ1はアルキル基、ｎは自然数）で示されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置において、
　前記処理部は、前記処理液供給手段から供給されたフッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を含む処理液を貯溜し、処理液に基板を浸漬することによって基板の処理を行うための処理槽と、前記処理槽へ基板を搬入するための搬送手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の基板処理装置において、
　前記有機溶媒は、イソプロピルアルコールであることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
　基板に処理を行うための処理部と、
　フッ素系不活性液体及びフッ酸を混合させて処理液を生成する処理液生成手段と、
　前記処理部にある基板に、前記処理液生成手段により生成された前記処理液を供給するとともに、循環路を介して回収された前記処理部で使用されたフッ素系不活性液体及びフッ酸を含む処理液を再度供給する処理液供給手段と、
を備え、
　前記処理液生成手段は、前記循環路と前記処理液供給手段との間に設けられ、
　前記フッ素系不活性液体は、一般式
　（Ｃ（ｎ）Ｆ（２ｎ＋１）−Ｏ−Ｒ１）
　（但し、Ｒ1はアルキル基、ｎは自然数）で示されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】請求項４に記載の基板処理装置において、
　前記処理部は、前記処理液供給手段から供給されたフッ素系不活性液体及びフッ酸を含む処理液を貯溜し、処理液に基板を浸漬することによって基板の処理を行うための処理槽と、前記処理槽へ基板を搬入するための搬送手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
　前記フッ素系不活性液体は、エチルパーフルオロブチルエーテル（Ｃ４Ｆ９−Ｏ−Ｃ２Ｈ５）であることを特徴とする基板処理装置。」
　
　この補正は、補正前の請求項１を引用する請求項３及び補正前の請求項５を引用する請求項７を、それぞれ補正後の請求項１及び請求項４に繰り上げるとともに、補正前の請求項１、請求項５、及び請求項９〜１５を削除し、補正前の請求項４、請求項６、及び請求項８を、請求項３、請求項５、及び請求項６に繰り上げ、引用する請求項を補正後の請求項に整合させ、さらに、補正後の請求項１及び請求項４に新たな発明特定事項を付加したものである。
　そして、補正後の請求項１及び請求項４に記載の、新たな発明特定事項である、「前記処理液生成手段は、前記循環路と前記処理液供給手段との間に設けられ」の点は、補正前の発明特定事項の「処理液生成手段」を具体的に限定したものといえるから、この補正は、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明１」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（同法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか否か）について以下検討する。
　
２．先願及び先願明細書の記載事項
　平成１７年６月１５日付の拒絶の理由に引用された、本願出願日前の平成１２年３月３１日を優先日とした優先権主張を伴う下記の特許出願（以下、「先願」という。）の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「先願明細書」という。）には、次の事項が記載されている。（なお、該事項は、前記優先権主張の基礎となった米国特許出願明細書にも記載されていると認められる。）
先願：特願２００１−５７３５３５号（特表２００３−５２９６７５号公報参照）
ａ．「【０００９】
発明の概要
  一態様において、本発明は、半導体および集積回路の製造において有用な洗浄組成物であって、弗素化溶媒、弗化水素またはそのオニウム錯体および均質混合物を形成するのに十分な量の共溶媒を含む洗浄組成物に関する。本発明は、比較的低い濃度のＨＦを含有するが効率的なエッチング速度を有する、エッチング、残留物の除去、リンスおよび乾燥のために有用な液体基板洗浄組成物を有利に提供する。・・・
　・・・
  　【００１４】
  なおもう１つの態様において、本発明は、弗素化溶媒、弗化水素（またはそのオニウム錯体）および均質混合物を形成するのに十分な量の共溶媒を含む均質洗浄組成物に基板を接触させる工程と、処理された基板から洗浄組成物を分離する工程とを含む基板の洗浄方法に関する。・・・
    【００１５】
  なおもう１つの態様において、本発明は、弗化水素含有エッチング組成物によって行われるエッチングプロセスを終了させる方法であって、（１）基板を提供する工程と、（２）弗化水素、弗素化溶媒および均質混合物を形成するのに十分な量の共溶媒を含む洗浄組成物に基板を接触させる工程と、（３）組成物が基板を所望程度にエッチングするのに十分な時間を与える工程と、（４）エッチングプロセスを終了させるのに十分な量のアルコールをエッチング組成物に添加する工程とを含む方法に関する。」
　
ｂ．「【００１６】
詳細な説明
  弗素化溶媒、弗化水素および共溶媒を含む本発明の組成物は、半導体の製造における後の作業のために必要でありうる洗浄作業などの、基板上で行われる種々の洗浄作業において有用である。本明細書において用いられる基板の「洗浄」は、エッチング、残留物および／または微粒子の除去、リンスおよび乾燥のいずれをも意味する。」
　
ｃ．「【００２２】
  本発明において用いられる共溶媒は、弗素化溶媒とＨＦ（無水ＨＦであろうとオニウム錯体であろうと）の両方を溶解することにより均質組成物を提供する。共溶媒は溶解度によって選択され、温度および圧力を含む使用の条件下でＨＦに対して実質的に非反応性であるべきである。有用な共溶媒には、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、エーテル、ポリエーテル、カルボン酸、フェノール系アルコールを含む第一アルコールおよび第二アルコールならびにヒドロクロロカーボンが挙げられる。
    【００２３】
  洗浄組成物において使用できる共溶媒の代表的な例には、・・・イソプロパノール、・・・が挙げられる。」
　
ｄ．「【００５３】
  洗浄組成物は液状で用いられ、基板に「接触させる」ための既知技術のどれも使用することができる。例えば、液体洗浄組成物を基板上に噴霧、ブラシがけ、または注入することができ、基板を液体組成物中に浸漬することができる。・・・
　・・・
    【００５６】
  通常は、組成物は、入れ替え、更新または精製が必要になる前に長い期間にわたって用いてもよい。微粒子を除去する濾過、可溶性残留物または塩を除去する抽出、弗素化溶媒を除去する蒸留およびデカンテーションを含むかかる技術を用いてもよい。表面を洗浄するか、あるいは特にエッチングするにつれて、組成物が汚れることになり始めることに気付くであろう。基板からの微粒子および残留物の除去は、洗浄組成物中へのこれらの材料の蓄積につながる。・・・その後、洗浄組成物、特に弗素化溶媒を再循環させてもよい。使用済み洗浄組成物から共溶媒およびＨＦを回収することは一般に必要でも望ましくもない。これらの材料は少量で存在し、容易には回収されない。弗素化溶媒を回収し、弗素化溶媒に新しい共溶媒およびＨＦ（またはオニウム錯体）を添加することが一般により望ましい。
    【００５７】
実施例
  ・・・
    【００５８】
評価したエッチング洗浄組成物
組成物Ａ
  ２％の無水ＨＦ・・・、１．９％のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）および・・・ＨＦＥ・・・（・・・約６０％のメチルパーフルオロイソブチルエーテルと４０％のメチルパーフルオロ−ｎ−ブチルエーテルとのブレンド）を合わせて混合することにより、均質非水性洗浄組成物を調製した。・・・実際の％ＨＦは１．６４％であると測定された。」
　
３．当審の判断
３−１．先願明細書に記載の発明
(ア)先願明細書の摘示事項ａには、先願明細書に記載の技術は、弗素化溶媒、弗化水素（ＨＦ）、共溶媒を含み、効率的なエッチング速度を有する、エッチング、残留物の除去等のために有用な洗浄組成物に関するものであり、また、弗素化溶媒、弗化水素、及び、均質混合物を形成するのに十分な量の共溶媒を含む均質洗浄組成物に基板を接触させる工程と、処理された基板から洗浄組成物を分離する工程とを含む基板の洗浄方法に関するものであることが記載されている。
(イ)上記先願明細書の摘記事項ｄには、使用済み洗浄組成物から弗素化溶媒を再循環させるのはよいが、使用済み洗浄組成物から共溶媒及びＨＦを回収するのは、これらの材料が少量で存在し、容易には回収されないために、一般に必要でも望ましくないことから、弗素化溶媒を回収して、このフッ素化溶媒に新しい共溶媒及びＨＦを添加するのが一般により望ましい旨が記載されているものの、「洗浄組成物、特に弗素化溶媒を再循環させてもよい。」との記載からみて、弗素化溶媒だけでなく、共溶媒及びＨＦについても、回収して再循環させることが記載されているといえる。
(ウ)上記先願明細書には、基板を処理する手段について、具体的な明示はないが、基板を洗浄組成物に浸漬して洗浄やエッチングを行う以上、基板の洗浄乃至エッチング手段を有することは、当然のことである。
(エ)各種の処理組成物を使用する際に、処理組成物の構成成分を予め均質にに混合する混合手段を設けることは、例えば、特開平１１−２３８７１７号公報（図１とその関連記載参照）、特開平１１−２２４８７３号公報（図１とその関連記載参照）、特開平１１−１７６７８３号公報（図１とその関連記載参照）の記載にみられるように、本願出願前において、周知乃至慣用の事項であるし、上記先願明細書に記載のものにおいても、洗浄組成物として、弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦを混合させた均質洗浄組成物を使用するのであるから、該均質洗浄組成物を使用する前に、予め、弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦを均質に混合する混合手段を設けておくことは、上記先願明細書に記載された範囲内の事項といえる。
(オ)洗浄組成物を基板の洗浄又はエッチング手段に供給する必要があるから、洗浄組成物の供給手段を有すること、回収した使用済み洗浄組成物を再循環路を介して再循環させ、基板の洗浄又はエッチング手段に供給する以上、上記洗浄組成物の供給手段を使用済み洗浄組成物の供給手段としても用いることも当然のことといえる。
　
　以上の(ア)〜(オ)の事項を考慮し、先願明細書の摘記事項ａ〜ｄを総合すると、先願明細書には、次のエッチング装置についての発明（以下、「先願明細書発明」という。）が記載されているといえる。
　　先願明細書発明：「基板を、弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦを混合した洗浄組成物に浸漬することにより、基板の洗浄又はエッチングを行う装置において、基板の洗浄又はエッチング手段、弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦを混合して洗浄組成物とする、弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦの混合手段、洗浄組成物を基板の洗浄又はエッチング手段に供給するとともに、使用済み洗浄組成物から弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦを回収して再循環させ、基板の洗浄又はエッチング手段に供給する、洗浄組成物と使用済み洗浄組成物の供給手段とを備え、弗素化溶媒として、ＨＦＥ（約６０％のメチルパーフルオロイソブチルエーテルと４０％のメチルパーフルオロ−ｎ−ブチルエーテルとのブレンド）を使用する、基板の洗浄又はエッチング装置」
　
３−２．対比・判断
　本願補正発明１と先願明細書発明を対比すると、先願明細書発明の「弗素化溶媒」は、本願補正発明１の「フッ素系不活性液体」に相当し、以下同様に、「共溶媒」は「有機溶媒」に、「ＨＦ」は「フッ酸」に、「洗浄組成物」は「処理液」に、「洗浄又はエッチング手段」は「処理部」に、「（弗素化溶媒、共溶媒、及びＨＦの）混合手段」は「処理液生成手段」に、「（洗浄組成物と使用済み洗浄組成物の）供給手段」は「処理液供給手段」に、「メチルパーフルオロイソブチルエーテル」乃至「メチルパーフルオロ−ｎ−ブチルエーテル」は「一般式（Ｃ（ｎ）Ｆ（２ｎ＋１）−Ｏ−Ｒ１）（但し、Ｒ1はアルキル基、ｎは自然数）で示されるフッ素系不活性液体」に、それぞれ相当する。（以下、先願明細書発明の用語の代わりに、それに相当する本願補正発明１の用語を使用することがある。）
　
　そうすると、両者は、「基板に所定の処理を行う基板処理装置において、基板に処理を行うための処理部と、フッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を混合させて処理液を生成する処理液生成手段と、前記処理部にある基板に、前記処理液生成手段により生成された前記処理液を供給するとともに、循環路を介して回収された前記処理部で使用されたフッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を含む処理液を再度供給する処理液供給手段と、を備え、前記フッ素系不活性液体は、一般式（Ｃ（ｎ）Ｆ（２ｎ＋１）−Ｏ−Ｒ１）（但し、Ｒ1はアルキル基、ｎは自然数）で示されている基板処理装置」の点で一致するものの、次の点で一応の相違がみられる。
　
　相違点：本願補正発明１では、処理液生成手段が循環路と処理液供給手段との間に設けているのに対し、先願明細書発明では、処理液生成手段（混合手段）の位置が明確には規定されていない点
　
　つぎに、上記相違点について検討する。
　先願明細書発明は、処理液生成手段（混合手段）により、フッ素系不活性液体（弗素化溶媒）、有機溶媒（共溶媒）、及びフッ酸（ＨＦ）を混合した処理液（洗浄組成物）を、処理液供給手段を介して処理部（洗浄又はエッチング手段）に供給することから、処理液生成手段を処理液供給手段の手前に配置する必要があることは当然であり、また、使用済み処理液を再循環路を介して再循環させた後、処理液供給手段を介して処理部に供給することから、処理液供給手段の手前に再循環路を配置することも当然のことである。
　そうすると、先願明細書発明には、処理液生成手段（混合手段）を再循環路と処理液供給手段の間に設ける場合が含まれると解されるから、上記相違点は、実質的な相違ではないというべきである。
　
　したがって、本願補正発明１は先願明細書発明と同一であるということができ、しかも、本願補正発明１の発明者が先願明細書発明の発明者と同一であるとも、また、本願出願の時に、その出願人が上記先願の出願人と同一であるとも認められない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願補正発明１は、特許法第２９条の２の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
ＩＩＩ．本願発明について 
１．本願発明 
　平成１８年３月２８日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１５のうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、平成１７年８月１８日付の手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　
　「基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
　基板に処理を行うための処理部と、
　フッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を混合させて処理液を生成する処理液生成手段と、
　前記処理部にある基板に前記処理液生成手段により生成された前記処理液を供給する処理液供給手段と、
を備え、
　前記フッ素系不活性液体は、一般式
　（Ｃ（ｎ）Ｆ（２ｎ＋１）−Ｏ−Ｒ１）
　（但し、Ｒ1はアルキル基、ｎは自然数）で示されていることを特徴とする基板処理装置。」
　
２．先願及び先願明細書の記載事項
　平成１７年６月１５日付の拒絶の理由に引用された先願明細書の記載事項は、上記ＩＩ．２．のとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明１は、上記本願補正発明１の発明特定事項である処理液供給手段について、「とともに、循環路を介して回収された前記処理部で使用されたフッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を含む処理液を再度供給する」という限定事項、及び、「前記処理液生成手段は、前記循環路と前記処理液供給手段との間に設けられ、」という限定事項を削除したものに相当する。
　
　そうすると、本願発明１の構成を全て含み、さらに他の構成を付加したものに相当する本願補正発明１は、上記ＩＩ．３−２．に記載したとおり、先願明細書発明と同一であるといえるから、本願発明１についても、同様の理由により、先願明細書発明と同一であるといえる。
　しかも、本願発明１の発明者が先願明細書発明の発明者と同一であるとも、また、本願出願の時に、その出願人が上記先願の出願人と同一であるとも認められない。
　
４．むすび 
　以上のとおりであるから、本願発明１は、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。