【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年1月30日(2019.1.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
本発明により、これらの目的は、当初請求項１に記載の特徴を有する偏向光学ユニット、当初請求項９に記載の特徴を有するビーム案内光学ユニット、当初請求項４に記載の特徴を有するビーム成形光学ユニット、及び当初請求項１１に記載の特徴を有する照明系を用いて達成される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
当初請求項１に記載の偏向光学ユニットは、それによって偏向されるＥＵＶ放射線の低い損失をもたらす。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
当初請求項２に記載の偏向光学ユニットの場合に、それによって生成されるビーム案内光学ユニットのアスペクト比寄与を所定値に適応させることができる。一例として、アスペクト比に対する拡大率を値４と値５の間、又は値１．５と値２の間で、特に連続可変方式で変更することができる。偏向光学ユニットのかすめ入射偏向ミラーのうちの少なくとも１つを駆動方式で可変である曲率半径を有するように具現化することができる。その結果、偏向光学ユニットの光学効果の所定値への更に別の適応を達成することができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
当初請求項４に記載のビーム成形光学ユニットの場合に、群入射平面は、互いに垂直にすることができる。ビーム成形光学ユニットのミラー群は、２つのミラー、３つのミラー、又は更に多くのミラーを含むことができる。異なる群入射平面を有するより多くのミラー群の使用は、望ましいアスペクト比を生成するのに、２つの横方向寸法において独立してＥＵＶ放射線に影響を及ぼすことを可能にする。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
当初請求項５に記載の配置は、例えば、望ましいアスペクト比を生成するために、大きい拡大率を与えなければならない１つの同じミラー群のミラーの間に大きい距離を与える可能性をもたらす。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
当初請求項６に記載のＥＵＶ放射線の入射角は、ビーム成形光学ユニットを通過するときのＥＵＶ放射線に対する伝達率の最適化を可能にする。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
当初請求項７に記載の入射角は、ビーム成形光学ユニットの設計において柔軟性を高め、例えば、ミラーサイズが所定寸法の範囲に留まるように、かすめ入射を入射ＥＵＶビームの所定ビーム直径に適応させることを可能にする。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
当初請求項８に記載のビーム成形光学ユニットの設計は、例えば、ビーム成形光学ユニット内に入射するビームとビーム成形光学ユニットから射出するビームの両方を水平に案内することを可能にする。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
当初請求項９に記載のビーム案内光学ユニットは、絞り又は壁を通る比較的小さい通路開口部を通してＥＵＶ放射線を案内することを可能にする。それによってＥＵＶ放射線が内部で案内される様々なチャンバの間の望ましい分離が可能になる。これに加えて、中間フォーカスの下流において、所定開口数を有するＥＵＶ照明光の中間フォーカスと整合された投影露光装置のアセンブリを使用することができる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
当初請求項１０に記載のフォーカスアセンブリは、Ｉ型、ＩＩ型、又はＩＩＩ型のウォルターミラー群の方式で具現化することができる。フォーカスアセンブリの少なくとも２つのミラーは、ＥＵＶ個別出力ビームのビーム経路に順次配置することができる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
当初請求項１１に記載のビーム成形光学ユニットと出力結合光学ユニットとを含む照明系は、ＥＵＶビーム直径の所定アスペクト比を有する複数のＥＵＶ個別出力ビームを供給することを可能にする。一方でビーム成形光学ユニットによって与えられ、他方で出力結合光学ユニット及びその下流のビーム案内光学ユニットによって与えられるアスペクト比寄与には、望ましい設定値アスペクト比、例えば、照明される物体視野のアスペクト比を乗じることができる。生ビームから始まる複数の個々の出力ビームの１：１の望ましいアスペクト比寄与の生成は、最初はビーム成形光学ユニットによる１に等しくないアスペクト比寄与の生成に割り振られ、複数の個々の出力ビームへの集合出力ビームの分割後に、出力結合光学ユニット及びビーム案内光学ユニットによる対応するアスペクト比寄与の生成によるものである。それによって光源から物体視野に至るまでのＥＵＶ照明光の経路上で、ＥＵＶビームが通過する様々な光学アセンブリによって余儀なく引き起こされるアスペクト比変化が穏やかな変化であることが可能になる。これに代えて、最初にビーム成形光学ユニットを使用することにより、異なるアスペクト比寄与を生成する、例えば、Ｎ本のＥＵＶ個別出力ビームに対して１：Ｎのアスペクト比寄与を生成することができる。この場合に、下流の出力結合光学ユニットは、このようにして生成されたＥＵＶ集合出力ビームをそれにも関わらず分割しなければならないが、各場合に１：１のアスペクト比寄与を有するＥＵＶ個別出力ビームを予め定めるのにこのユニット独自のアスペクト比影響効果を必要としない。各場合に１：１のアスペクト比寄与を有する個数ＮのＥＵＶ個別出力ビームを生成するのに、一方でビーム成形光学ユニットによって生成されるアスペクト比寄与と、他方で出力結合光学ユニット及びビーム案内光学ユニットによって生成されるアスペクト比寄与との異なる分布も可能である。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
当初請求項１４に記載の投影露光装置、当初請求項１５に記載の生成方法、及び当初請求項１６に記載の構造化構成要素の利点は、先行当初請求項を参照して上述したものに対応する。
［当初請求項１］
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のための偏向光学ユニット（１３；３５；３６；３７，３８；３９；４０）であって、
複数の偏向ミラー（Ｄ１からＤ４；Ｄ１からＤ５，Ｄ１からＤ６；Ｄ１からＤ８）を含み、その上にＥＵＶ放射線（３）が、かすめ入射で共通偏向入射平面（ｘｚ）に入射し、 ７０°よりも大きい偏向効果を前記偏向入射平面（ｘｚ）に共同で有する少なくとも４つのかすめ入射のための偏向ミラー（Ｄ１からＤ４）が設けられ、
前記偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、凸円柱ミラーとして具現化され、及び／又は該偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、凹円柱ミラーとして具現化される、
ことを特徴とする偏向光学ユニット（１３；３５；３６；３７，３８；３９；４０）。
［当初請求項２］
前記偏向ミラー（Ｄ１；Ｄ１からＤ８；Ｄ１からＤ４）のうちの少なくとも１つが、駆動方式で変位可能であるように具現化されることを特徴とする当初請求項１に記載の偏向光学ユニット。
［当初請求項３］
前記偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、駆動方式で可変である曲率半径を用いて具現化されることを特徴とする当初請求項１及び当初請求項２のいずれか１項に記載の偏向光学ユニット。
［当初請求項４］
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のためのビーム成形光学ユニット（６）であって、
ミラー（２７i，２８i）の少なくとも２つの群（２７，２８）を含み、その上にＥＵＶ放射線（３）が、かすめ入射で入射し、
各ミラー群（２７，２８）が、共通群入射平面（ｙｚ，ｘｚ）を有し、
前記ミラー群（２７，２８）の前記群入射平面（ｙｚ，ｘｚ）は、互いに異なっている、
ことを特徴とするビーム成形光学ユニット（６）。
［当初請求項５］
前記ミラー群のうちの一方（２８）の全てのミラー（２８1，２８2）が、更に別のミラー群（２７）の最初のミラー（２７1）の下流、かつ該更に別のミラー群（２７）の最後のミラー（２７2；２７3）の上流のビーム経路に配置されることを特徴とする当初請求項４に記載のビーム成形光学ユニット。
［当初請求項６］
前記ミラー群（２７，２８）のうちの一方の全てのミラー（２７i，２８i）上への前記ＥＵＶ放射線の入射の角度（α）が、同一の大きさのものであることを特徴とする当初請求項４又は当初請求項５に記載のビーム成形光学ユニット。
［当初請求項７］
前記ミラー群（２７，２８）のうちの一方の少なくとも２つのミラー（２７1，２７2；２８1，２８2；２７1，２７2，２７3）上への前記ＥＵＶ放射線（３）の入射の異なる角度（α，β；α，β，γ）を特徴とする当初請求項４又は当初請求項５に記載のビーム成形光学ユニット。
［当初請求項８］
入射の異なる角度（α，β；α，β，γ）で前記ミラー群（２７）の前記群入射平面（ｘｚ）の上に投影されると、発生されたＥＵＶ集合出力ビーム（７）が、ビーム成形光学ユニット（３０）に入射するＥＵＶ生ビーム（４）と同じ方向（ｚ）に進むことを特徴とする当初請求項４から当初請求項７のいずれか１項に記載のビーム成形光学ユニット。
［当初請求項９］
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のためのビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）であって、
それぞれのＥＵＶ個別出力ビーム（９i）をビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）の中間フォーカス（４２）内に伝達するフォーカスアセンブリ（１４；４１；４５；４６；４９；５２；５５）を含む、
ことを特徴とするビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）。
［当初請求項１０］
前記フォーカスアセンブリ（１４；４１；４５，４６；４９；５２；５５）は、少なくとも２つのミラー（４７，４８；５０；５１；５３，５４）、すなわち
一方で少なくとも１つの楕円面ミラー（４７；５０；５４）と、
他方で少なくとも１つの放物面ミラー（５３）又は少なくとも１つの双曲面ミラー（４８；５１）と、
を含むことを特徴とする当初請求項９に記載のビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）。
［当初請求項１１］
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系であって、
シンクロトロン放射線ベースの光源（２）のＥＵＶ生ビーム（４）からＥＵＶ集合出力ビーム（７）を発生させるためのビーム成形光学ユニット（６）を含み、
前記ＥＵＶ集合出力ビーム（７）から複数のＥＵＶ個別出力ビーム（９i）を発生させるための出力結合光学ユニット（８）を含み、
各場合に、前記それぞれのＥＵＶ個別出力ビーム（９i）をリソグラフィマスク（１２）を配置可能である物体視野（１１）に向けて案内（誘導）するためのビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）を含む、
ことを特徴とする照明系。
［当初請求項１２］
前記ビーム成形光学ユニット（６）は、
2016537681.tif 000001
のアスペクト比寄与を有する前記ＥＵＶ集合出力ビーム（７）を発生させるように具現化され、
前記出力結合光学ユニット（８）及び／又は前記ビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）は、各場合に１：１のアスペクト比寄与を有する個数Ｎの前記ＥＵＶ個別出力ビーム（９1，９N）を続いて発生させるように具現化される、
ことを特徴とする当初請求項１１に記載の照明系。
［当初請求項１３］
ＥＵＶ光源（２）を含むことを特徴とする当初請求項１１又は当初請求項１２に記載の照明系。
［当初請求項１４］
ＥＵＶリソグラフィのための投影露光装置（１）であって、
当初請求項１１から当初請求項１３のいずれか１項に記載の照明系を含み、
光学系の照明光（３）が入射することになるレチクル（１２）を物体視野（１１）に装着するためのレチクルホルダ（２０）を含み、
照明視野（１１）を像平面（２３）内の像視野（２２）の中に結像するための投影光学ユニット（１９）を含み、
投影露光中に前記物体視野（１１）に配置されたレチクル構造が前記像視野（２２）に配置されたウェーハセクションの上に結像されるようにウェーハ（２４）を前記像平面（２３）に装着するためのウェーハホルダ（２５）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置（１）。
［当初請求項１５］
構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル（１２）及びウェーハ（２４）を与える段階と、
当初請求項１３に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１２）上の構造を前記ウェーハ（２４）の感光層の上に投影する段階と、
微細構造又はナノ構造を前記ウェーハ（２４）上に生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
［当初請求項１６］
当初請求項１５に記載の方法に従って生成された構造化構成要素。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のための偏向光学ユニット（１３；３５；３６；３７，３８；３９；４０）であって、
複数の偏向ミラー（Ｄ１からＤ４；Ｄ１からＤ５，Ｄ１からＤ６；Ｄ１からＤ８）を含み、その上にＥＵＶ放射線（３）が、かすめ入射で共通偏向入射平面（ｘｚ）に入射し、  ７０°よりも大きい偏向効果を前記偏向入射平面（ｘｚ）に共同で有する少なくとも４つのかすめ入射のための偏向ミラー（Ｄ１からＤ４）が設けられ、
前記偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、凸円柱ミラーとして具現化され、及び／又は該偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、凹円柱ミラーとして具現化される、
ことを特徴とする偏向光学ユニット（１３；３５；３６；３７，３８；３９；４０）。
【請求項２】
前記偏向ミラー（Ｄ１；Ｄ１からＤ８；Ｄ１からＤ４）のうちの少なくとも１つが、駆動方式で変位可能であるように具現化されることを特徴とする請求項１に記載の偏向光学ユニット。
【請求項３】
前記偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、駆動方式で可変である曲率半径を用いて具現化されることを特徴とする請求項１及び請求項２のいずれか１項に記載の偏向光学ユニット。
【請求項４】
請求項１に記載の偏向光学ユニットを含む、ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のためのビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）であって、
それぞれのＥＵＶ個別出力ビーム（９i）をビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）の中間フォーカス（４２）内に伝達するフォーカスアセンブリ（１４；４１；４５；４６；４９；５２；５５）を含む、
ことを特徴とするビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）。
【請求項５】
前記フォーカスアセンブリ（１４；４１；４５，４６；４９；５２；５５）は、少なくとも２つのミラー（４７，４８；５０；５１；５３，５４）、すなわち
一方で少なくとも１つの楕円面ミラー（４７；５０；５４）と、
他方で少なくとも１つの放物面ミラー（５３）又は少なくとも１つの双曲面ミラー（４８；５１）と、
を含むことを特徴とする請求項４に記載のビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）。
【請求項６】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系であって、
シンクロトロン放射線ベースの光源（２）のＥＵＶ生ビーム（４）からＥＵＶ集合出力ビーム（７）を発生させるためのビーム成形光学ユニット（６）を含み、
前記ＥＵＶ集合出力ビーム（７）から複数のＥＵＶ個別出力ビーム（９i）を発生させるための出力結合光学ユニット（８）を含み、
各場合に、前記それぞれのＥＵＶ個別出力ビーム（９i）をリソグラフィマスク（１２）を配置可能である物体視野（１１）に向けて案内（誘導）するための、請求項４に記載のビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）を含む、
ことを特徴とする照明系。
【請求項７】
前記ビーム成形光学ユニット（６）は、
2016537681.tif 000002
のアスペクト比寄与を有する前記ＥＵＶ集合出力ビーム（７）を発生させるように具現化され、
前記出力結合光学ユニット（８）及び／又は前記ビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）は、各場合に１：１のアスペクト比寄与を有する個数Ｎの前記ＥＵＶ個別出力ビーム（９1，９N）を続いて発生させるように具現化される、
ことを特徴とする請求項６に記載の照明系。
【請求項８】
ＥＵＶ光源（２）を含むことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の照明系。
【請求項９】
ＥＵＶリソグラフィのための投影露光装置（１）であって、
請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の照明系を含み、
光学系の照明光（３）が入射することになるレチクル（１２）を物体視野（１１）に装着するためのレチクルホルダ（２０）を含み、
照明視野（１１）を像平面（２３）内の像視野（２２）の中に結像するための投影光学ユニット（１９）を含み、
投影露光中に前記物体視野（１１）に配置されたレチクル構造が前記像視野（２２）に配置されたウェーハセクションの上に結像されるようにウェーハ（２４）を前記像平面（２３）に装着するためのウェーハホルダ（２５）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置（１）。
【請求項１０】
構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル（１２）及びウェーハ（２４）を与える段階と、
請求項８に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１２）上の構造を前記ウェーハ（２４）の感光層の上に投影する段階と、
微細構造又はナノ構造を前記ウェーハ（２４）上に生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法に従って生成された構造化構成要素。