【手続補正書】
【提出日】令和1年6月3日(2019.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明の特許請求の範囲を解釈する目的において、特定の用語「手段」又は「ステップ」が請求項に記載されていない限り、米国特許法第112条第6項の規定は援用されない。
本件出願は、以下の構成の発明を提供する。
（構成１）
倒立顕微鏡用の試料容器保持機構であって、光学対物レンズ、及び試料容器内の試料の走査を行うように構成された走査型プローブ顕微鏡（SPM）プローブと制御システムとを含むSPMヘッドを有し、該SPMヘッドは、該制御システムを利用して該SPMプローブの制御された動きを動作可能に生成し、該制御された動きは動作帯域幅内で該試料表面をトラッキングし、該試料容器保持機構は：
該試料容器を支持するためのプラットフォームであって、該SPMヘッドの動作中に該試料容器が上に置かれる表面を提供するプラットフォームと、
該プラットフォームに形成された開口部であって、該倒立顕微鏡の該対物レンズが該試料容器に下方から接近するための通路を提供するように寸法決めされた開口部と、
該試料容器のフロアと該プラットフォームの表面とを含むバウンダリを有する少なくとも一つの真空領域であって、該少なくとも一つの真空領域はそれぞれ真空発生器の動作によって該真空領域内の動作負圧を促進するために気圧によって該真空発生器に結合されている少なくとも一つの真空領域と、を含み、
該少なくとも一つの真空領域は、該SPMヘッドが動きを生じさせる動作を行う間、該動作負圧が、該試料容器のフロアを、該SPMプローブの制御された動きに起因する動作帯域幅内のすべての音響励起から実質的に隔離させるように、該開口部に実質的に近接して位置する少なくとも一部分を含む、前記試料容器保持機構。
（構成２）
前記少なくとも一つの真空領域は、前記開口部に近接して位置する内側シールと、該開口部に対して遠位に位置する遠位シールとを含み、該内側及び遠位シールはそれぞれ前記試料容器のフロアとの緊密な接触を維持するように配置されて、該真空領域を密封する、構成1記載の試料容器保持機構。
（構成３）
前記少なくとも一つの真空領域は、前記表面に平行な基準平面に環状断面を有する単一の真空領域である、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成４）
前記少なくとも一つの真空領域はそれぞれ、前記表面に平行な基準平面に環状断面を有する真空チャネルを含む、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成５）
前記内側シール及び前記遠位シールの少なくとも一つはＯリングを有する、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成６）
前記内側シール及び前記遠位シールの少なくとも一つは、前記プラットフォーム上に形成された機械加工された表面を含む、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成７）
前記遠位シールは単一の連続シールを含む、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成８）
前記内側シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸から固定の半径方向距離に位置する、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成９）
前記内側シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸から最大半径方向距離に位置し、該最大半径方向距離は該開口部の半径の半分以下である、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成１０）
前記内側シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸から最大半径方向距離に位置し、該最大半径方向距離は該開口部の半径の20％以下である、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成１１）
前記内側シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸から最大半径方向距離に位置し、該最大半径方向距離は該開口部の半径の１0％以下である、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成１２）
前記内側シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸に対して、該開口部の半径と揃えて配置される、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成１３）
前記遠位シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸から固定の半径方向距離に位置する、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成１４）
前遠位シールは、前記開口部の中心を通過し、かつ前記対物レンズの光軸に沿って配向された基準中心軸から最小半径方向距離に位置し、該最小半径方向距離は該試料容器の半径の少なくとも90％である、構成2記載の試料容器保持機構。
（構成１５）
前記プラットフォームは、前記試料容器のフロアが、真空領域のバウンダリではない少なくとも一つの部分を含み、該少なくとも一つの部分はそれぞれ面積が前記開口部よりも小さくなるように配置される、構成1記載の試料容器保持機構。
（構成１６）
前記少なくとも一つの真空領域は、前記プラットフォームに形成された複数の真空チャネルを含み、前記開口部に実質的に近接して位置する第1の真空チャネルのセットを含む、構成1記載の試料容器保持機構。
（構成１７）
前記少なくとも一つの真空領域は、隣接する真空チャネルと前記試料容器の周辺との間に最大間隔を有する第2の真空チャネルのセットをさらに含み、該最大間隔は前記開口部の直径よりも小さい、構成16記載の試料容器保持機構。
（構成１８）
前記少なくとも一つの真空領域は、前記プラットフォームに形成され、かつ前記開口部の直径よりも小さい距離だけ互いに離間した複数の真空チャネルを含む、構成1記載の試料容器保持機構。
（構成１９）
前記SPMヘッドが動作する間、前記動作負圧が形成されることにより、前記試料容器のフロアの共振振動数が、前記SPMプローブの制御された動きの動作帯域幅よりも高くなる、構成1記載の試料容器保持機構。
（構成２０）
前記試料容器はシャーレである、構成1記載の試料容器保持機構。
（構成２１）
前記倒立顕微鏡の前記対物レンズの開口数は0.2よりも大きい、構成１記載の試料容器保持機構。
（構成２２）
前記倒立顕微鏡の前記対物レンズの開口数は0.5よりも大きい、構成１記載の試料容器保持機構。
（構成２３）
倒立顕微鏡であって、
光学対物レンズと、
試料容器内の試料の走査を行うように構成され、かつ動作振動数範囲で振動成分を含む動きを動作可能に生成する走査型プローブ顕微鏡（SPM）プローブを含むSPMヘッドと、
試料容器保持機構であって、
該試料容器を支持するためのプラットフォームであって、該SPMヘッドの動作中に該試料容器が上に置かれる表面を提供するプラットフォームと、
該プラットフォームに形成された開口部であって、該倒立顕微鏡の該対物レンズが該試料容器に下方から接近するための通路を提供するように寸法決めされた開口部と、
該試料容器のフロアと該プラットフォームの表面とを含むバウンダリを有する少なくとも一つの真空領域であって、該少なくとも一つの真空領域はそれぞれ真空発生器の動作によって該真空領域内の動作負圧を促進するために気圧によって該真空発生器に結合されている少なくとも一つの真空領域と、を含む試料容器保持機構を含み、
該少なくとも一つの真空領域は、該SPMヘッドが動きを生じさせる動作を行う間、該動作負圧が、該試料容器のフロアを、該SPMプローブの制御された動きに起因する動作帯域幅内のすべての音響励起から実質的に隔離させるように、該開口部に実質的に近接して位置する少なくとも一部分を含む、前記倒立顕微鏡。