【事件の表示】
　特願２００２−１５４９７３「高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１２月　３日出願公開、特開２００３−３４２６３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年５月２９日の出願であって、平成１６年１２月２日付けの拒絶理由通知に応答して、平成１７年２月２日付けで手続補正がなされたが、同年６月２２日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年７月２２日付けで審判請求がなされると共に、同年８月１９日付けで手続補正がされたものである。
　
２．平成１７年８月１９日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年８月１９日付けの手続補正を却下する。
　
［決定の理由］
（１）手続補正の内容
　本件手続補正のうち、特許請求の範囲に係る補正は、補正前の請求項１及び請求項３の「一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変え」を、「該２周波のそれぞれの周波数の高周波電力の和を一定にして、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比を任意に変え」に補正する内容を含むものである。　
　
（２）本件手続補正の適否
　上記補正は、補正前の請求項１及び請求項３に係る発明について、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比に変えるに際して、２周波のそれぞれの周波数の高周波電力の和を一定にして行うこととし、この発明を特定するために必要な事項を限定するものであって、発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
〈独立特許要件について〉
（２−１）本願補正発明
　本件補正後の発明は、補正後の明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されたものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明１」という。）は、次のとおりのものである。
　
「被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、該２周波のそれぞれの周波数の高周波電力の和を一定にして、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比を任意に変え、かつ前記２周波のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えて焼入処理することにより、前記加熱時間を一定にした場合に比べて焼入硬化層深さの変化の範囲を広く設定し、これに応じて、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。」
　
（２−２）引用文献及びその主な記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５０−１５８９４５号公報（以下、「引用文献」という。）には、次の事項が記載されている。
　
（イ）「互いに少なくとも高周波側の周波数が低周波側の周波数の５倍以上になるような差を有する二つ以上の周波数の高周波電流を同時に被加熱物に付加して加熱を行なうことを特徴とする高周波加熱方法」（特許請求の範囲）
　
（ロ）「本発明は金属の熱処理または溶接を行なうために高周波を用いて加熱する方法に関する。
　高周波電流は金属体の断面各部に一様に流れるものではなく、表面に集中し、内部に行くに従って指数的に減少する。この減少を表皮効果と言って、高周波加熱の特色である。この性質を利用して鋼の表面焼入れとか、溶接が実施されている。電力の９０％が消費される表面層の深さδ（以下浸透深さと称する）は材料の比透磁率μｓや抵抗率（Ω・ｃｍ）および周波数（Ｈｚ）によって定まる。すなわち深透深さに対して操作可能なものは周波数のみである。」（第１頁左下欄１０行〜同頁右下欄２行）
　
（ハ）「したがって実際においては、焼入れの場合は試料の大きさ、焼入れ深度に応じてたかだか二つの周波数を切替えて使用するか、または一つの周波数において加熱時間を変えることにより加熱深さを調整している。また高周波加熱溶接においては溶接物の肉厚に応じてある一定の周波数を使用し、肉厚を大きく変更する場合には、誘導加熱の場合は誘導子、直接通電加熱の場合はコンタクトチップの位置を、または溶接速度を変えて溶接部の加熱深さを調節している。すなわち、従来の方法は、金属の熱伝導性の良いことを利用して加熱時間の選定により加熱深さを調節する方法であり、したがって加熱深さが大きい時は処理時間が長くなり作業効率が低下する、作業が極めて経験的かつ不安定であるなどの欠点があった。」（第１頁右下欄３〜１８行）
　
（ニ）「第１図、第２図および第３図は金属を高周波加熱した場合の、被加熱物体の表面から内部方向への深さを横軸にとった加熱温度分布を示す。点Ａは必要とされる表面温度を示し、たとえば焼入れ温度、溶接温度を示す。第２図の加熱温度分布Ｘは比較的周波数の高い場合で、浸透深さδｘは非常に小さい。第３図は周波数は比較的低くδｙは大きい加熱温度分布Ｙを示している。これらの温度分布Ｘ、Ｙの形状は先にも述べたように周波数と加熱時間とによって変化し、出力はＡの値自体を変えるので望ましくない。
　第１図は本発明の加熱温度分布を示す。すなわち本発明による加熱温度分布Ｚは比較的高周波による加熱温度分布Ｘと、比較的低周波による加熱温度分布Ｙとの合成により成る。したがって、二つの周波数の電力比を調節することにより加熱温度分布Ｚに対するＸ、Ｙの寄与率が変化するために、点Ａのみでなく加熱温度分布Ｚの幾何学的形状も変えることが可能であるため、本発明による浸透深さδはδｘとδｙの間の任意の値をとれる。すなわち、周波数、加熱温度を変えたのと同じ効果を有する。」（第２頁左上欄７行〜同頁右上欄８行）
　
（ホ）「第４図に示す方法は、電源１より入力を受けた、異なる周波数を有する高周波発振機２および３はそれぞれ異なる周波数の出力を被加熱金属５に同時に与える。高周波発振機２および３の出力調整は出力調整機４によって、それぞれ単独またはその比を任意に固定して調節する。」（第２頁右上欄１３〜１６行）
　
（ヘ）「また本発明の目的は、浸透深さに実用的な差を有するような異なる周波数を同時に被加熱金属に与えて加熱深度を調節することにあるので、周波数の数は２個に限らず３個以上でも良いが、設備の複雑化を招き余り意味が無い。」（第２頁右下欄６〜１０行）
　
（２−３）当審の判断
（２−３−１）引用文献発明
　引用文献の（イ）には、「互いに少なくとも高周波側の周波数が低周波側の周波数の５倍以上になるような差を有する二つ以上の周波数の高周波電流を同時に被加熱物に付加して加熱を行なうことを特徴とする高周波加熱方法」が記載されている。
　そして、（ヘ）の「本発明の目的は、浸透深さに実用的な差を有するような異なる周波数を同時に被加熱金属に与えて加熱深度を調節することにある。」という記載によると、この高周波加熱方法は、二つ以上の周波数の高周波電流を被加熱物に与えて加熱深度を調節することを目的とするものであるから、高周波加熱における加熱深さ調節方法ともいえるものである。
　ここで、（ニ）の「・・・したがって、二つの周波数の電力比を調節することにより・・・本発明による浸透深さδはδｘとδｙの間の任意の値をとれる。」、及び、（ロ）の「本発明は金属の熱処理または溶接を行なうために高周波を用いて加熱する方法に関する。・・・この性質を利用して鋼の表面焼入れとか、溶接が実施されている。」という記載を総合すると、この高周波加熱における加熱深さ調節方法は、高周波側の周波数と低周波側の周波数の電力比を調節して焼入れ処理することにより、浸透深さδ、すなわち、被加熱物の表面からの加熱深さを任意に調節する方法であるいえる。
　
　上記記載及び認定事項を本願補正発明１の記載ぶりに則って整理すると、引用文献には、次のとおりの発明が記載されているといえる。
　
「被加熱物を高周波加熱するに際し、前記被加熱物の表面からの加熱深度調節方法において、前記被加熱物に互いに少なくとも高周波側の周波数が低周波側の周波数の５倍以上になるような差を有する二つ以上の周波数の高周波電流を同時に付加して前記被加熱物を高周波加熱するとともに、前記高周波側の周波数による電力と前記低周波側の周波数による電力との電力比を調節して表面焼入れ処理することにより、前記被加熱物の表面からの加熱深さを任意に調整する、高周波加熱における加熱深度調節方法」（以下、「引用発明」という。）
　
（２−３−２）本願補正発明１と引用発明との対比
　まず、引用発明の「被加熱物」「高周波側の周波数」「低周波側の周波数」及び「表面焼入れ処理」は、それぞれ本願発明１の「被加熱体」「高い周波数」「低い周波数」及び「焼入処理」に相当する。
　また、引用発明の「電力比を調節して表面焼入れ処理すること」とは、表面焼入れ処理に応じて、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比を変えて加熱深さを任意に調整することであるから、本願補正発明１の「一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比を任意に変え」て「焼入処理すること」に相当する。
　
　そうすると、本願補正発明１と引用発明は、「被加熱体を高周波加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比を任意に変えて焼入処理することにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に調整する、高周波加熱における加熱深さ調整方法」である点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点１：被加熱体を高周波加熱する加熱手段に関して、本願補正発明１で　は、ひとつの高周波加熱コイルに高周波加熱電力を供給して被加熱体を高
　周波誘導加熱する加熱手段を用いるのに対して、引用発明では、被加熱体
　を高周波加熱するための加熱手段が不明である点。
相違点２：加熱手段に供給される２周波のそれぞれの周波数の高周波電力に
　関して、本願補正発明１では、両者の和を一定にするのに対して、引用発
　明では、両者の電力の配分比を調節するものの、両者の和を一定にするか
　否か不明である点。
相違点３：２周波のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間に関して
　、本願補正発明１では、両者の加熱時間をそれぞれ独立して任意に変える　ことにより、加熱時間を一定にした場合に比べて焼入硬化層深さの変化の　範囲を広く設定するのに対して、引用発明では、両者の加熱時間をそれぞ　れ独立して任意に変え、加熱時間を一定にした場合に比べて焼入硬化層深　さの変化の範囲を広く設定するものであるか否か不明である点。
　
（２−３−３）相違点についての判断
　そこで、上記相違点について検討する。
（ａ）相違点１について
　引用文献１の（ハ）の「・・・高周波加熱溶接においては・・・肉厚を大きく変更する場合には、誘導加熱の場合は誘導子、直接通電加熱の場合はコンタクトチップの位置を・・・変えて溶接部の加熱深さを調節している。」との記載によれば、引用発明は、被加熱物に高周波電流を付加して高周波加熱する加熱手段として、誘導加熱及び直接通電加熱の両方を用いることをその前提としているものであると解される。
　一方、ひとつの高周波加熱コイルを用いて被加熱体を高周波誘導加熱することは、本願出願前に周知の事項であるから、被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱することは、当業者が容易に想到し得たことである。
　したがって、上記相違点１は、当業者が容易になし得たことである。
　なお、付言すれば、ひとつの高周波加熱コイルに２つの周波数の高周波電力を同時に供給して焼入処理することも、例えば、特表平５−５０７１１７号公報（原査定にある刊行物１）に記載されており、本願出願前に公知の技術事項である。
　
（ｂ）相違点２について
　引用発明は、被加熱物に高周波側の周波数による電力と低周波側の周波数による電力を同時に供給して表面焼入れ処理をするものである。
　一方、高周波誘導加熱において、温度上昇のために必要な電力は、上昇温度が高くなるにつれて大きくなることは、本願出願前に周知の事項であるから（必要があれば、熊谷三郎ら、「高周波加熱装置」日刊工業新聞社、p.175〜177（昭和４１年）を参照。）、被加熱物に供給する電力が大きくなると被加熱物が過熱されてしまい、電力が小さいと被加熱物が十分に加熱されない恐れがあることは、当業者にとって明らかなことである。すると、引用発明において、２つの高周波電力の和が過大となれば被加熱物を過熱し、また、この和が過小となれば被加熱物を十分に加熱できないという問題が生じるであろうことは、当業者が容易に予測できたことであるといえる。
　してみると、このような問題の発生を防止して被加熱物を適切に加熱するために、上記電力の和を一定にする程度のことは、当業者が容易に想到し得たことである。
　したがって、上記相違点２は、当業者が容易になし得たことである。
　
（ｃ）相違点３について
　引用発明は、被加熱物に、高周波側の周波数による電力と低周波側の周波数による電力とを供給して、表面焼入れ処理をするものである。
　一方、高周波誘導加熱による焼入処理において、ある周波数の電力による加熱時間を変化させることにより、焼入れ深さ、すなわち焼入硬化層深さを変化させることができることは、本願出願前に周知の事項である（必要があれば、熊谷三郎ら、「高周波加熱装置」日刊工業新聞社、p.175〜176、p.202〜203（昭和４１年）や、引用文献１の（ハ）を参照。）。
　すると、引用発明において、高周波側の周波数による電力の加熱時間を変化させ、また、低周波側の周波数による電力の加熱時間も独自に変化させて焼入処理すること、すなわち、２周波のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えて焼入処理することは、当業者が容易に想到し得たことであり、その結果として、加熱時間を一定にした場合に比べて焼入硬化層深さの変化の範囲を広く設定することが可能となることは、上記周知の事項から当業者にとって明らかである。
　したがって、上記相違点３は、当業者が容易になし得たことである。
　
（２−３−４）小括
　よって、本願補正発明１は、引用発明及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（２−４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明についての審決
（１）本願発明
　平成１７年８月１９日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願発明は、平成１７年２月２日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されたものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は次のとおりである。
「被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変え、かつ前記２周波のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えて焼入処理することにより、前記加熱時間を一定にした場合に比べて焼入硬化層深さの変化の範囲を広く設定し、これに応じて、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。」
　
（２）原査定の理由の概要
　原審の拒絶査定の理由の概要は、次のとおりのものである。
　本願の請求項１〜３に係る発明は、その出願前頒布された下記刊行物１〜３に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
特表平５−５０７１１７号公報
特開昭５０−１５８９４５号公報
特開昭６２−１４９８０９号公報
　
（３）引用文献及びその主な記載
　原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５０−１５８９４５号公報の主な記載事項は、上記２．（２−２）に記載したとおりである。
　
（４）当審の判断
　上記２．（２−１）の本願補正発明１は、本願発明１の「一方の周波数の
高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変え」る工程について、「該２周波のそれぞれの周波数の高周波電力の和を一定にして、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分比を任意に変え」のように、より狭い範囲に定めて、発明を特定するために必要な事項を限定したものである。
　このように発明を特定するために必要な事項をより狭い範囲に限定した本願補正発明１が、引用発明及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであると認められる以上、本願発明１も、上記２．（２−３）に記載したものと同様の理由により、引用発明及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本願発明１は、引用発明及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その他の発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。