【事件の表示】
　特願２０００−１０９４７９「縦型炉」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１０月１９日出願公開、特開２００１−２９１６７４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１２年４月１１日の出願であって、平成１７年７月２９日付けで平成１７年２月２４日付けの手続補正を却下するとともに同日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年９月１５日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１０月１３日付けで手続補正がなされ、その後、当審において、平成１９年５月１１日付けで審尋がなされ、同年６月２７日に回答書が提出されたものである。
　
　
第２　平成１７年１０月１３日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年１０月１３日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲と発明の詳細な説明を補正するものであって、特許請求の範囲についての補正は、以下のとおりである。
補正事項ａ．
　本件補正前の請求項１の「【請求項１】
　縦型のプロセスチューブ及びヒータを有する縦型炉において、
　半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボートと、
　熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置され、最上位置に達した前記ボートの最上部以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があり、下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置とを備え、
　前記熱電対装置は、所定の高さ位置に熱電対部を配置した熱電対素線と、当該熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらを収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有する石英保護管とを備えたことを特徴とする縦型炉。」を
「【請求項１】
　縦型のプロセスチューブ及びヒータを有する縦型炉において、
　半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボートと、
　熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置され、最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があり、下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置とを備え、
　前記プロセスチューブ内に存在する前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線と、当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらをすべて収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管とを備えたものであることを特徴とする縦型炉。」と補正すること。
　
２　本件補正についての検討
２−１　補正の目的の適否及び新規事項の追加の有無についての検討
　以下、補正事項ａについて検討する。
２−１−１　補正事項ａについての整理
　補正事項ａについての補正は、本件補正前の請求項１の「最上位置に達した前記ボートの最上部以上の」を「最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の」と補正（以下、「補正事項ａ−１」という。）し、
「前記熱電対装置は」を「前記プロセスチューブ内に存在する前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は」と補正（以下、「補正事項ａ−２」という。）し、
「所定の高さ位置に熱電対部を配置した熱電対素線と」を「高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線と」と補正（以下、「補正事項ａ−３」という。）し、
「当該熱電対素線に外挿された絶縁碍子」を「当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子」と補正（以下、「補正事項ａ−４」という。）し、
「これらを収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有する石英保護管とを備えたこと」を「これらをすべて収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管とを備えたものであること」と補正（以下、「補正事項ａ−５」という。）したものである。
２−１−２　補正事項ａについての検討
補正事項ａについての補正は、補正事項ａ−１、補正事項ａ−２、補正事項ａ−３、補正事項ａ−４、補正事項ａ−５とからなるので、それぞれ検討する。
・補正事項ａ−１について
　補正事項ａ−１についての補正は、本件補正前の請求項１の「最上位置に達した前記ボートの最上部以上の」を「最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の」と補正するものであり、「最上部」を「最上部の天井板」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、本件補正後の請求項１の「最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の」については、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００６】段落に、「熱電対装置７の上端部７ａは、最上位置に達したボート５の最上部、すなわち天井板５ａの下面以上であって、ほぼ天井板の上面と同じ高さ位置にある。なお、さらに、天井板５ａより熱電対装置７の上端部７ａが上になってもよい。」と記載されているので、補正事項ａ−１についての補正は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
・補正事項ａ−２について
　補正事項ａ−２についての補正は、本件補正前の請求項１の「前記熱電対装置は」を「前記プロセスチューブ内に存在する前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は」と補正したものであり、「熱電対装置」を「前記プロセスチューブ内に存在する」点、「１個であ」る点で限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、本件補正後の請求項１の「前記プロセスチューブ内に存在する前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は」については、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００６】段落に、「細管状の熱電対装置７は、プロセスチューブ３の内壁に沿ってほぼ垂直に立設されている。」と記載されており、また、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００７】段落に、「図２は、上記熱電対装置７を単体で示した側面図であり、図３は断面図である。」と記載されており、また、図１〜図４には、熱電対装置は１個であることが、記載されているので、補正事項ａ−２についての補正は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
・補正事項ａ−３について
　補正事項ａ−３についての補正は、本件補正前の請求項１の「所定の高さ位置に熱電対部を配置した熱電対素線と」を「高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線」と補正したものであり、「熱電対素線」を「複数」備える点、「熱電対部」が配置される「高さ位置」が「相異なる所定の箇所」である点で限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、本件補正後の請求項１の「高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線」については、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００７】段落に、「高さ位置の相異なるＢ、Ｃ及びＴの３箇所に熱電対部を配置した３本の熱電対素線８」と記載されているので、補正事項ａ−３についての補正は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
・補正事項ａ−４について
　補正事項ａ−４についての補正は、本件補正前の請求項１の「当該熱電対素線に外挿された絶縁碍子」を「当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子」と補正したものであり、「当該熱電対素線」を「当該各熱電対素線」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、本件補正後の請求項１の「当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子」については、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００７】段落に、「各熱電対素線に外挿された絶縁碍子９」と記載されているので、補正事項ａ−４についての補正は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
・補正事項ａ−５について
　補正事項ａ−５についての補正は、本件補正前の請求項１の「これらを収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有する石英保護管とを備えたこと」を「これらをすべて収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管とを備えたものであること」と補正したものであり、「石英保護管」が「上端部に至」る点、「前記天井板」に側方からもたれかかる部分を有する点、「１本」である点で限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、本件補正後の請求項１の「これらをすべて収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管とを備えたものであること」については、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００７】段落に、「熱電対装置７は、高さ位置の相異なるＢ、Ｃ及びＴの３箇所に熱電対部を配置した３本の熱電対素線８と、各熱電対素線に外挿された絶縁碍子９と、これらを収納し、保護する石英保護管１０」と記載されており、同じく【０００７】段落に、「図３に示すように、熱電対素線８の上端であるＴの位置からさらに上部へ石英保護管１０のみが延伸されている。すなわち、熱電対装置７のＴの位置から上端部７ａまでは、石英保護管１０のみで構成されており、上端部７ａは、前述のように、最上位置に達したボート５の最上部の天井板５ａ以上の高さ位置にある。」と記載されており、また、本願の願書に最初に添付した明細書の【０００８】段落に、「熱変形により、熱電対装置７の上端部７ａがプロセスチューブ３の内方に傾斜することがあっても（図４参照）、熱電対装置７の上端部７ａは、ボート５の天井板５ａへ側方からもたれかかるように接触するだけであり、ボート５の下降時に熱電対装置７をひっかけることはない。」と記載されており、さらに、図１〜図４には、１本の石英保護管が、記載されているので、補正事項ａ−５についての補正は、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものである。
　
２−２　補正の目的の適否及び新規事項の追加の有無についてのむすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしており、かつ、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する要件を満たす。
　
３　本件補正の独立特許要件についての検討
　本願の補正後の請求項１に係る発明は、「第２　１」に掲げた補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】
　縦型のプロセスチューブ及びヒータを有する縦型炉において、
　半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボートと、
　熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置され、最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があり、下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置とを備え、
　前記プロセスチューブ内に存在する前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線と、当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらをすべて収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管とを備えたものであることを特徴とする縦型炉。」
　
３−１　引用刊行物及び該引用刊行物記載の発明
刊行物１．実願昭６２−１２９４２号（実開昭６３−１２１４３１号）のマイクロフィルム（平成１７年１月６日付け拒絶理由通知において引用）
刊行物２．特開平１０−５０６２７号公報（平成１６年２月２５日付け拒絶理由通知において引用）
刊行物３．特開平１０−２５５７７号公報（平成１８年３月９日作成の前置報告及び平成１９年５月１１日付けの審尋で提示した刊行物）
刊行物４．特開２０００−７７３４６号公報（平成１８年３月９日作成の前置報告及び平成１９年５月１１日付けの審尋で引用した刊行物）
刊行物５．特開平７−６９５５号公報（平成１６年７月１４日付け拒絶理由通知において引用）
　
　本願出願前日本国内において頒布された刊行物１（実願昭６２−１２９４２号（実開昭６３−１２１４３１号）のマイクロフィルム）には、第１図〜第５図とともに、
「縦型炉用熱電対の取付け構造」（考案の名称）であり、
「本考案は半導体デバイス製造に使用する縦型拡散装置，ＣＶＤ装置等の縦型炉のヒータ内温度を検知するための熱電対の取付け構造に関する。」（明細書第１頁第１１〜１３行）、
「従来においては、第４図示のようにボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるよう第５図示のような熱電対２を複数個、第４図の例では４本，１列に並べて反応管７内に挿入配置し、各熱電対２によりヒータ内温度、即ちウェーハー近傍の各設定点温度を検知するようにしていた。
　第４図において５はヒータ、１１はヒータベース、６は均熱管、１０は反応管７のキヤップで、ボート８を支持する役目もある。
　また第５図において１は熱電対素線、１２は石英製の熱電対保護管、３は石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管、４は断熱材製の絶縁管固定部である。」（明細書第２頁第５〜１８行）、
「しかしながら上記従来例にあっては、○１反応管７の着脱時に熱電対２も着脱する必要があるため、着脱回数が多くなり、着脱によるジヤンクション位置を一定にすることが難しく再現性が悪く、メンテナンスが難しくなる。○２保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形する。○３また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触する等の問題点があった。」（明細書第２頁第２０行〜第３頁第８行）、
「第１図において５はヒータ、１１はヒータベース、６は均熱管、７は石英製の反応管、８は多数のウェーハー９を積載したボート、１０は反応管７のキヤップで、ボート８を支持する役目も果たす。
　熱電対２の保護管１３をＳｉＣ製とし、このＳｉＣ製保護管１３を使用した熱電対２を均熱管６と反応管７との間に挿入配置し、第１図の下部挿入式縦型炉の例ではＳｉＣ製保護管１３の下部をヒータベース１１に取付ける。
　熱電対２の使用数は、ボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定する設定点数（測温したい位置に設定される数）によって定められ、第１図例のように設定点数が４箇所の場合は、第３図（ａ），（ｂ）に示すように各設定点にジヤンクション位置がくるように熱電対２を４本、１列に並べて均熱管６と反応管７との間に挿入配置することになる。
　第２図（ａ）は上面閉塞型のＳｉＣ製保護管を使用した熱電対の例で、第１図及び第３図（ａ），（ｂ）に示したものと同じである。第２図（ｂ）は上面開放型のＳｉＣ製保護管を使用した熱電対の例である。
　第２図において１は熱電対素線、３は石英製またはアルミナ製の絶縁管、４は絶縁管３とＳｉＣ製保護管１３とを固定する断熱材製の固定部である。１４は保護管１３の下部に取付けられたＬ字型の熱電対固定金具で、この固定金具１４によりヒータベース１１に取付けられる（第１図参照）。１５は熱電対素線１の保護管１３より引き出された部分に被覆された耐熱性のフレキシブル断熱材製絶縁チューブである。 」（明細書第４頁第１７行〜第６頁第６行）、
「本実施例は上記のようにＳｉＣ製保護管１３を使用した熱電対２を測温したい設定点数に従って複数本，この例では４本を１列に並べてＬ字型の熱電対固定金具１４に固定し、この４本の熱電対２を均熱管６と反応管７との間に挿入配置し、当該固定金具１４によってヒータベース１１に取付けた構成であるから、測温設定点のヒータ内温度を各熱電対２で検知することができ、これによってウェーハー９の温度を知ることができる。」（明細書第７頁第３〜１１行）、
が、記載されている。
　
　以上の記載から、刊行物１には、特に、従来技術に注目して、以下の発明が記載されている。
「反応管７とヒータ５を有する縦型炉において、複数のウェーハー９を積載したボート８と、ボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように反応管７内に挿入配置した複数個の熱電対２とを備え、それぞれの熱電対２は、前記ジヤンクションに接続した２本の熱電対素線１と、前記各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３と、前記２本の熱電対素線１と前記熱電対絶縁管３とを収める石英製の熱電対保護管１２とを備えたものであることを特徴とする縦型炉。」
　
　本願出願前日本国内において頒布された刊行物２（特開平１０−５０６２７号公報）には、図１〜図４とともに、
「縦型炉」（発明の名称）であり、
「【請求項１】  ボートが乗載され炉口部を閉塞する炉口蓋を貫通させて棒状の温度検出器を設け、該温度検出器の上端をボートの天板に支持させたことを特徴とする縦型炉。」（特許請求の範囲）、
「【０００６】前記ウェーハ６処理中の温度は直接測定することは現実としてできないが、定常状態となった場合には、ウェーハの温度と周囲温度との差は±０．５℃程度以内となる為、図３に示される様に棒状の温度検出器１０を前記均熱管２と反応管３との間に複数挿入配設して、ウェーハ周囲の温度を検出している。
【０００７】前記温度検出器１０は特に図示していないが、各温度検出器１０は保護管内に熱電対１０ａ〜１０ｄが挿設された構成であり、各温度検出器１０で熱電対１０ａ〜１０ｄの位置が異なり、各温度検出器１０での検出位置が異なる様になっている。」、
「【００１０】図４は性能試験等を行う場合の縦型炉の構成を示しており、炉口蓋８を貫通して温度検出器１３が設けられ、該温度検出器１３は耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成であり、該熱電対１３ａ〜１３ｄの縦方向の位置は異なっており、反応管３内の温度分布が検出できる様になっている。
【００１１】前記温度検出器１０、温度検出器１３により温度検出を行いつつ温度制御のデータを取ることで、温度検出器１０と温度検出器１３間での温度偏差及び昇温、降温時のタイムラグ等が検出され、温度検出器１０のみで温度検出が行われる場合の修正がなされる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の縦型炉で性能試験を行った場合に、前記温度検出器１３は下端を炉口蓋８に支持されている構成である為、温度検出器１３上端での位置決めが難しく、又高温での使用が繰返されると下端支持部、或は保護管１４自体の経時的な変形を生じ、温度検出器１３の先端位置にずれを生じる。
【００１３】この為、ボート４のローディング時に前記温度検出器１３が反応管３の下端等炉口部に接触することがある。又、縦型炉の稼働時には前記温度検出器１３はなく、前記温度検出器１０のみで温度検出が行われる為、ウェーハ６の温度検出としての精度は低下するという問題があった。」、
「【００１８】中空のヒータ１内に均熱管２が立設され、該均熱管２内に反応管３が設けられ、前記ヒータ１はヒータベース７に立設されている。該反応管３内にボート１５が図示しないボートエレベータにより昇降され、装入、引出しされる様になっており、前記ボート１５はボートキャップ５を介して炉口蓋８に立設され、該炉口蓋８は前記ボートエレベータに支持されている。
【００１９】前記ボート１５には水平姿勢でウェーハ６が多段に装填され、該ウェーハ６はボート１５に装填された状態で不純物拡散、薄膜生成が行われる。
【００２０】複数の前記温度検出器１０が均熱管２と反応管３管に挿入配設され、前記各温度検出器１０には保護管内に熱電対１０ａ〜１０ｄが挿設されている。各温度検出器１０で挿設された熱電対１０ａ〜１０ｄの位置が異なり、各温度検出器１０での検出位置が異なる様になっている。又、前記ヒータ１はゾーン分割され、各ゾーンには温度検出器１１ａ〜１１ｄが埋設され、ヒータ１の加熱状態が検出される様になっている。」、
「【００２３】前記ボート１５の天板１６は一部が突出しており、この突出部１７に温度検出器１３の上端が嵌入する支持孔１８が穿設されている。温度検出器１３の下端は炉口蓋８の前記支持孔１８に対峙する位置を貫通しており、温度検出器１３の上端は前記支持孔１８に嵌入する。而して、前記温度検出器１３は上端を天板１６に、又下端を前記炉口蓋８に、２点で支持された構成となる。
【００２４】従って、温度検出器１３の上端の位置が不安定となることはなく、又温度検出器１３の取付け時にも上端位置に気を使う必要がなくなる。又、温度検出器１３上端は天板１６により拘束されているので、位置の狂いが生ずることがなく、更に炉口蓋８の温度検出器１３支部、保護管１４自体の変形は前記温度検出器１３が天板１６に支持されていることで、拘束され、抑制される。」、
が、記載されている。
　
　本願出願前日本国内において頒布された刊行物３（特開平１０−２５５７７号公報）には、図１から図１１とともに、
「成膜処理装置」（発明の名称）であり、
「【０００５】ここで従来の縦型成膜処理装置について説明する。図９は従来の縦型の成膜処理装置を示す構成図である。この成膜処理装置は、石英製の内筒２とこの外側に同心円状に配置した石英製の外筒４とよりなる２重管構造の処理容器６を有しており、その外側は加熱ヒータ等の加熱手段８と断熱材１０を備えた加熱炉１２により覆われている。処理容器６の下端は開口されており、下方より多数枚の被処理体としての半導体ウエハＷを載置した支持ボート１４が昇降可能に挿脱自在になされている。この支持ボート１４は石英製の保温筒１６を介して回転テーブル１８上に載置されており、この回転テーブル１８は回転軸２２の上端に取り付けられている。この回転軸２２は処理容器６の下端開口部側を開放及び密閉自在とする蓋部２０を気密に回転自在に貫通しており、支持ボート１４の昇降時には、この蓋部２０も一体的に昇降される。
【０００６】処理容器６の下部側には、内筒２内に成膜用の処理ガスを導入する処理ガス導入ノズル２４及び外筒４の下部側には図示しない真空排気系に接続された排気口２６が設けられる。また、上記加熱炉１２は、上下方向に複数、例えば５つのゾーンに区分されており、ゾーン毎に独立して温度制御を行なうためにゾーン毎に少なくとも１つのヒータ用温度検出手段、例えば熱電対２８Ａ〜２８Ｅを設け、また、このゾーンに対応して内筒２と外筒４との間にも密閉された石英製の直径数ｍｍ程度の保護管３０内に収容された制御用温度検出手段、例えば熱電対３２Ａ〜３２Ｅが設けられている。
【０００７】さて、このように構成された装置において、温度分布を着目すると、当然のこととして熱源である加熱手段８の部分が最も温度が高く、これより処理容器６の内側に行くに従って、温度が低下して温度勾配がつくのが一般的である。例えば、容器中心に位置するウエハＷの処理温度を６００℃に設定したい場合には、それより外側の制御用熱電対３２の温度は６３０℃程度、それより更に外側のヒータ用熱電対２８の温度は６６０℃程度となる。この場合、所望するウエハ温度と、その時の制御用熱電対３２の温度とヒータ用熱電対２８の温度との相関は、処理装置毎に僅かに異なっており、そのため、プロセスを行なうに先立って組立工場レベル等において内筒２と支持ボート１４との間にテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅをゾーンに対応させて配置し、このテーブル用熱電対３４と、制御用熱電対３２と、ヒータ用熱電対２８との温度相関をゾーン毎に、且つ複数の所望するウエハ温度毎に取って予めテーブル化しておく。この場合、ウエハに最も近いテーブル用熱電対３４の検出温度をウエハ温度とみなす。」、
「【００２３】また、内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている。上記各熱電対の検出値は、例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御部４９へ入力されており、プロセス時にはこの検出値に基づいて各ゾーンの加熱ヒータ８Ａ〜８Ｅへの供給電力を個別的に独立して制御するようになっている。そして、この保護管３０に、本発明の特徴とする温度抑制管５０が設けられている。具体的には、この温度抑制管５０は、保護管３０の全体を覆うのではなく、熱容量が大きい保温筒１６が位置されるなどして昇温が最も遅くなって被処理体全体の温度安定化までの速度を律速する最下端のゾーン４８Ｅに位置する制御用熱電対３２Ｅの部分を少なくとも覆うようにして設ける。図２乃至図４に示すように具体的には、この温度抑制管５０は、長さＬが３０ｍｍ程度の石英管よりなり、その内径Ｒ１は、外径９ｍｍ程度の保護管３０よりも僅かに大きい１１ｍｍ程度に設定され、肉厚は１ｍｍ程度になされている。」、
「【００２５】次に、以上のように構成された装置を用いた成膜プロセスについて説明する。まず、実際の成膜プロセスの実行に先立って、この処理容器の半径方向の温度プロフィールをゾーン毎にとって予めテーブル化しておく。この温度プロフィールは、例えば装置を組み立てた時など、或いは試験的に成膜処理を行なって非常に僅かな不要な成膜が容器内壁に付着した時などに行なう。このテーブルを作成する時には、図１にて一点鎖線で示すようにゾーン毎に配置したテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅを石英細管５６内に収容した状態で内筒２の内側に設置する。このテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅは、限りなくウエハＷに近いので、その検出値がそのゾーンにおける実際のウエハ温度とみなすことができる。」、
が、記載されている。
　
　本願出願前日本国内において頒布された刊行物４（特開２０００−７７３４６号公報）には、図１〜図７とともに、
「熱処理装置」（発明の名称）であり、
「【請求項１】  所定のピッチで被処理体ボートに載置した複数の被処理体を、周囲に加熱手段を配置した縦型の熱処理容器内に収容し、前記処理容器内に処理ガスを流し、前記処理容器内に設けた温度測定手段の検出値に基づいて前記加熱手段への電力を制御しつつ前記被処理体に所定の処理を施す熱処理装置において、前記温度測定手段を保護管内に収容し、前記熱処理容器に前記保護管を収容するために半径方向外方へ向けて凸状になされた保護管収容部を高さ方向に沿って設けるように構成したことを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】  前記処理容器は、前記被処理体ボートをその内側に直接囲む内筒と、この内筒の外周に所定の間隔を隔てて同心状に配置される外筒とよりなり、前記保護管収容部は前記内筒に設けられることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項３】  前記処理容器は、その下端部において、上端部よりも直径が大きくなされていることを特徴とする請求項１または２記載の熱処理装置。」（特許請求の範囲）、
「【０００６】図７はこのような高速昇降温用の熱処理装置を示す概略構成図であり、処理容器２は内筒４とこれに同心状に配置された外筒６とにより構成され、この内筒４内にウエハボート８に多段に支持された半導体ウエハＷが収容されている。そして、この内筒４とウエハボート８との間隙に、複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２を高さ方向に沿って設けている。この熱電対１０の検出温度値を温度コントローラ１４に入力し、これに基づいて処理容器２の周囲にゾーン毎に区分して配置した高速昇温用の各加熱ヒータ１６の電力を制御し、ウエハ温度をコントロールしている。図示例では、高さ方向に４つのゾーンに分割している場合を示している。」、
「【００１１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る熱処理装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る熱処理装置を示す図、図２は熱処理装置内に収容され、熱処理容器を構成する内筒を示す斜視図、図３は該内筒を示す断面図である。ここでは、熱処理装置として例えば高速昇降温が可能な縦型熱処理装置を用いてシリコン酸化膜を成膜する場合を例にとって説明する。図示するようにこのバッチ式の縦型の熱処理装置２０は、透明な耐熱材料、例えば石英よりなる有天井であり且つ底部が開口された円筒体状の外筒２４とこの内側に所定の間隔を隔てて同心状に配置された円筒状の内筒２６とよりなる本発明の特徴とする熱処理容器２８を有しており、２重管構造になっている。この熱処理容器２８の内部には被処理体ボートとして同じく石英製のウエハボート３０が下方より挿脱可能に設けられ、このウエハボート３０に上下方向に所定のピッチで多段に配置された被処理体としての半導体ウエハＷが多数枚、例えば８インチウエハが１００〜１５０枚程度収容可能になされている。
【００１２】上記熱処理容器２８の下端開口部にはこれを気密に開閉するフランジキャップ部３２が設けられており、このキャップ部３２上に石英製の保温筒３４を介して上記ウエハボート３０が載置される。そして、このキャップ部３２はボートエレベータ３６にアーム３８を介して連結されており、これを昇降させることにより、ウエハボート３０に載置したウエハＷを熱処理容器２８に対して挿脱可能としている。また、この保温筒３４は、回転軸４０及び図示しない回転ベルトを介してモータ等に連結されており、回転可能になされている。従って、熱処理時には、ウエハボート３０と共にウエハＷを回転して熱処理の均一性を確保するようになっている。
【００１３】また、熱処理容器２８の外筒２４の下部には、例えばステンレススチール製のマニホールド４２が設けられ、この内側に設けた突起部４４により内筒２６の下端を支持している。そして、このマニホールド４２に、内筒２６の内側下部に原料ガスとしてジクロルシラン（ＳｉＨ2 Ｃｌ2 ）ガスを導入する直線状の成膜ガスノズル４６やＮ2Ｏガスを導入するガスノズル４８が水平方向へ挿通されている。また、このガスノズル４８からはＮ2ガスも導入できるようになっている。更に、このマニホールド４２には、図示しない真空ポンプに接続された排気口５０が設けられており、外筒２４と内筒２６との間の間隙から容器２８内を所望の真空度まで真空引きできるようになっている。」、
「【００１６】そして、本発明の特徴とする熱処理容器２８の内筒２６は、図２及び図３にも示すように、この内筒２６内を上昇する成膜ガスの上昇速度がある程度以上速くなるようにその直径（内径）Ｄ１’がかなり小さく設定され、ウエハＷの直径Ｄ２よりも僅かに大きくなっている。そして、この内筒２６には、その半径方向外方へ向けて凸状に突出させた断面略半円状の保護管収容部７２が高さ方向に沿って溝状に設けられている。そして、この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されている。この保護管７６の下端部は、Ｌ字状に屈曲されてマニホールド４２に貫通させて取り付けられている。この保護管７６内に収容した４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄは、その高さ方向に所定の間隔で配置されており、前記加熱ヒータ５４の各ゾーン５４Ａ〜５４Ｄに対応させて設けている。
【００１７】このように、保護管７６を収容するスペースとして断面略半円状の保護管収容部７２を設けることにより、内筒２６の直径Ｄ１’を、保護管７６と干渉させることなく小さく設定することが可能となる。実際には、ウエハサイズを８インチとすると、図７に示す内筒４の直径Ｄ１が２６２ｍｍ程度であったのに対して、本発明装置の内筒２６の直径Ｄ１’は２４０ｍｍ程度であり、２２ｍｍ程度小さくすることが可能である。また、内筒２６の全体に亘ってその厚みは３ｍｍ程度に設定されている。そして、保護管７６の直径Ｄ３は１０ｍｍ程度である。そして、上記各熱電対７４Ａ〜７４Ｄにおける検出値は、温度コントローラ７８に入力されており、これに基づいて各ゾーン毎の加熱ヒータ５４Ａ〜５４Ｄの温度制御を個別に行ない得るようになっている。」、
が、記載されている。
　
　本願出願前日本国内において頒布された刊行物５（特開平７−６９５５号公報）には、図１から図６とともに、
「高速熱処理炉の温度制御方法及びその装置」（発明の名称）であり、
「【００１６】◎第一実施例
図１はこの発明の第一実施例の温度制御装置を具備する縦型高速熱処理炉の断面図が示されている。
【００１７】上記高速熱処理炉は、石英ガラス等からなる有底筒状のプロセスチューブ１と、底部を上面にして直立されたこのプロセスチューブ１との間に隙間２をおいて包囲すると共に、その内壁面に加熱手段としてのヒータ３を有する断熱性の炉本体４と、複数のウエハＷを垂直方向に配列保持する石英製のウエハボート５と、このウエハボート５を昇降する昇降機構６とで主要部が構成されている。そして、上記隙間２に連通する供給口７と排気口８に、それぞれ冷却空気の供給ファン１５と排気ファン１６を接続して、隙間２内に強制的に冷却空気を供給し得るように構成されている。更に、高速熱処理炉には、ウエハＷの処理中の降温制御を行うこの発明の温度制御装置が具備されている。
【００１８】この発明の温度制御装置は、ウエハＷの配列方向に沿って複数（上部、中央部及び下部）に分割配置される加熱手段としての上部ヒータ３ａ，中央部ヒータ３ｂ及び下部ヒータ３ｃと、プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃと、これら内部熱電対１８ａ〜１８ｃからの検出温度信号を受けて上記ヒータ３ａ〜３ｃを制御する制御手段である温度コントローラ２０とで構成されている。この場合、各ヒータ３ａ〜３ｃの温度は各ヒータ３ａ〜３ｃの近傍位置に配置されるヒータ部熱電対１９ａ〜１９ｃによって検出され、その検出温度信号は温度コントローラ２０に入力されるようになっている。この温度コントローラ２０は、内部に図示しないマイクロコンピュータが内蔵され、プログラムによって予め実験によって収集した上部、中央部及び下部のウエハの温度と、上記ヒータ部熱電対１９ａ〜１９ｃの温度及び内部熱電対１８ａ〜１８ｃの温度を収集した温度データをメモリ２１に記憶し、各熱電対１８ａ〜１８ｃ，１９ａ〜１９ｃから得られた温度データを基にヒータ電源２２を制御するように構成されている。」
「【００２１】一方、上記ウエハボート５は、ウエハＷを多段状に保持する保持部５ａの下に保温筒１１を介して石英製の蓋体１２を設けており、この蓋体１２がプロセスチューブ１の開口を塞ぐことによって蓋体１２に周設されたＯリング１２ａによってプロセスチューブ１内が密封されるように構成されている。したがって、プロセスチューブ１内を排気管１０を用いて真空引きし、更に排気管１０からの排気を行いつつ反応ガス導入管９から所定の反応ガスをプロセスチューブ１内に供給することができる。」、
が、記載されている。
　
３−２　対比・判断
３−２−１　本願の補正後の請求項１に係る発明について
　本願の補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正後発明」という。）と刊行物１に記載された発明（以下、「刊行物１発明」という。）とを対比すると、刊行物１発明の「反応管７」、「ヒータ５」、「複数のウェーハー９を積載したボート８」は、それぞれ、本願補正後発明の「縦型のプロセスチューブ」、「ヒータ」、「半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボート」に相当し、刊行物１発明の「ボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように反応管７内に挿入配置した複数個の熱電対２」、「２本の熱電対素線１」、「各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３」、「石英製の熱電対保護管１２」は、それぞれ、本願補正後発明の「熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置され」「た熱電対装置」、「複数の熱電対素線」、「当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子」、「石英保護管」に相当する。
　すると、本願補正後発明と刊行物１発明とは、
「縦型のプロセスチューブ及びヒータを有する縦型炉において、半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボートと、熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置された熱電対装置とを備え、この熱電対装置は、複数の熱電対素線と、当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、前記複数の熱電対素線と、前記各熱電対素線に外挿された絶縁碍子を収容し、保護する石英保護管とを備えたものであることを特徴とする縦型炉。」の点で一致し、
本願補正後発明は、「最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があ」る「熱電対装置」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「熱電対２」が最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があるかどうか不明である点（以下、「相違点１」という。）、
本願補正後発明は、「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「熱電対２」の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された」ものではない点（以下、「相違点２」という。）、
本願補正後発明は、「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線と、当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらをすべて収容し、保護する」「１本の石英保護管」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「複数個の熱電対２」「を備え」、「それぞれの熱電対２は、前記ジヤンクションに接続した２本の熱電対素線１と、前記各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３と、前記２本の熱電対素線１と前記熱電対絶縁管３とを収める石英製の熱電対保護管１２とを備えたものであり、また、「石英製の熱電対保護管１２」が複数個の熱電対２に対応して複数本である点（以下、「相違点３」という。）、
本願補正後発明は、「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「石英製の熱電対保護管１２」が収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有するかどうか不明であり、また、「石英製の熱電対保護管１２」が複数個の熱電対２に対応して複数本である点（以下、「相違点４」という。）、
で相違している。
　そこで、上記相違点１〜４について検討する。
ａ．相違点１について
　刊行物１の「従来においては、第４図示のようにボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように第５図示のような熱電対２を複数個、第４図の例では４本，１列に並べて反応管７内に挿入配置し、各熱電対２によりヒータ内温度、即ちウェーハー近傍の各設定点温度を検知するようにしていた。」（明細書第２頁第５〜１１行）という記載によれば、「第５図示のような熱電対２を第４図の例では４本，１列に並べて反応管７内に挿入配置し」ているが、第４図の「熱電対２」の「石英製の熱電対保護管１２」の上端は、ボート８の最上部よりも高いことが見て取れる。そして、刊行物１の「○２保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形する。○３また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触する等の問題点があった。」（明細書第３頁第４〜８行）という記載によると、「熱電対２」の「保護管１２が軟化し」「変形が大きくな」ると、「ボート８に接触する」ものであり、ボートの上側には、通常、本願補正後発明の「天井板」に相当する第４図の一番上の部分（符号８が指し示す部分）の他には、主に、ウェーハー９を支える棒状の部材があるが、「ボート８に接触する」ということは、「ボート８」の天井板「に接触する」ことをも意味する。また、刊行物１の第１図を参照すると、設けられている場所は違うが、「熱電対２」の「ＳｉＣ製保護管１３」の上端は、「ボート８」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、刊行物２の「図４は性能試験等を行う場合の縦型炉の構成を示しており、炉口蓋８を貫通して温度検出器１３が設けられ、該温度検出器１３は耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成であり、該熱電対１３ａ〜１３ｄの縦方向の位置は異なっており、反応管３内の温度分布が検出できる様になっている。」（【００１０】段落）の記載と、刊行物２の「前記ボート１５の天板１６は一部が突出しており、この突出部１７に温度検出器１３の上端が嵌入する支持孔１８が穿設されている。温度検出器１３の下端は炉口蓋８の前記支持孔１８に対峙する位置を貫通しており、温度検出器１３の上端は前記支持孔１８に嵌入する。而して、前記温度検出器１３は上端を天板１６に、又下端を前記炉口蓋８に、２点で支持された構成となる。」（【００２３】段落）の記載と、図１と図４とを参照すると、図４の「耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成」の「温度検出器１３」の「耐熱性の保護管１４」の上端は、ボートの最上部と同等な位置にあることが見て取れ、図１の「温度検出器１３の上端は」「天板１６」の「前記支持孔１８に嵌入」して「支持され」ているので、「温度検出器１３の上端」は、ボートの最上部の「天板１６」と同等な位置にある。
　また、刊行物３の「内筒２と外筒４との間にも密閉された石英製の直径数ｍｍ程度の保護管３０内に収容された制御用温度検出手段、例えば熱電対３２Ａ〜３２Ｅが設けられている。」（【０００６】段落）の記載と、「プロセスを行なうに先立って組立工場レベル等において内筒２と支持ボート１４との間にテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅをゾーンに対応させて配置し、このテーブル用熱電対３４と、制御用熱電対３２と、ヒータ用熱電対２８との温度相関をゾーン毎に、且つ複数の所望するウエハ温度毎に取って予めテーブル化しておく。」（【０００７】段落）の記載と、図９とから、「テーブル用熱電対３４」の上端と「制御用熱電対３２」の上端は、いずれも、「支持ボート１４」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れ、刊行物３の「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている。」（【００２３】段落）の記載と、「このテーブルを作成する時には、図１にて一点鎖線で示すようにゾーン毎に配置したテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅを石英細管５６内に収容した状態で内筒２の内側に設置する。このテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅは、限りなくウエハＷに近いので、その検出値がそのゾーンにおける実際のウエハ温度とみなすことができる。」（【００２５】段落）の記載と、図１とから、「テーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅ」を「収容」する「石英細管５６」の上端と「制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅ」を「収容」する「石英製の保護管３０」の上端は、いずれも、「支持ボート１４」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、刊行物４の「図７はこのような高速昇降温用の熱処理装置を示す概略構成図であり、処理容器２は内筒４とこれに同心状に配置された外筒６とにより構成され、この内筒４内にウエハボート８に多段に支持された半導体ウエハＷが収容されている。そして、この内筒４とウエハボート８との間隙に、複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２を高さ方向に沿って設けている。」（【０００６】段落）の記載と図７とから、「複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２」の上端は、「ウエハボート８」の最上部と同等な位置にあることが見て取れ、刊行物４の「この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されている。」（【００１６】段落）の記載と図１とから、「例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６」の上端は、「ウエハボート８」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、刊行物５の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」（【００１８】段落）の記載と図１とから、「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」の上端は、「ウエハボート５」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、上記した刊行物３の図１と図９、刊行物４の図１と図７、刊行物５の図１に示されたボートの状態は、いずれも、本願補正後発明の「最上位置に達した前記ボート」の状態に相当しており、刊行物２の図１と図４に示された状態は、本願補正後発明の「最上位置に達した前記ボート」の状態かどうかはわからないが、刊行物２の図１と図４に示された、「温度検出器１３は」「下端を前記炉口蓋８に」「支持され」ているので、ボートの上下の位置がどのような位置にあっても、「温度検出器１３の上端」は、ボートの最上部の「天板１６」と同等な位置にあることに変わりはない。
　すると、刊行物２ないし５に記載されているように、熱電対による温度検出手段は、プロセスチューブ内にあるかどうかにかかわらず、本願補正後発明の「保護管」に相当するものの上端が、いずれも、ボートの最上部よりも高いか、又はボートの最上部と同等な位置にあるものであることは、周知技術であるので、刊行物１発明の「反応管７内に挿入配置した」「熱電対２」に、刊行物２ないし５に記載の上記周知技術を適用して、本願補正後発明のごとく、「最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があ」るように構成することは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
ｂ．相違点２について
　刊行物３の「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている。」（【００２３】段落）の記載において、刊行物３の「内筒２と外筒４」、「マニホールド３８」、「各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０」は、それぞれ、本願補正後発明の「プロセスチューブ」、「支持部」、「熱電対装置」に相当するので、刊行物３に記載の「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている」ことは、本願補正後発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。また、刊行物３の図９の記載も、同様に、本願補正後発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。
　また、刊行物４の「この内筒２６には、その半径方向外方へ向けて凸状に突出させた断面略半円状の保護管収容部７２が高さ方向に沿って溝状に設けられている。そして、この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されている。この保護管７６の下端部は、Ｌ字状に屈曲されてマニホールド４２に貫通させて取り付けられている。」（【００１６】段落）の記載において、刊行物４の「内筒２６」、「マニホールド３８」、「内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６」は、それぞれ、本願補正後発明の「プロセスチューブ」、「支持部」、「熱電対装置」に相当するので、刊行物４に記載の「この内筒２６には、その半径方向外方へ向けて凸状に突出させた断面略半円状の保護管収容部７２が高さ方向に沿って溝状に設けられて」おり、「この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されて」おり、「この保護管７６の下端部は、Ｌ字状に屈曲されてマニホールド４２に貫通させて取り付けられている」ことは、本願補正後発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。また、刊行物４の図７の記載も、同様に、本願補正後発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。
　さらに、刊行物５の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」（【００１８】段落）の記載と図１の記載とから、刊行物５の「プロセスチューブ１」、「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」は、それぞれ、本願補正後発明の「プロセスチューブ」、「熱電対装置」に相当し、刊行物５の図１に示されているように、刊行物５に記載の「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」の下端部はプロセスチューブの支持部側面から外方に引き出されているので、刊行物５に記載の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」は、本願補正後発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。
　すると、刊行物３ないし５に記載されているように、下端部がプロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対による温度検出手段は、周知技術であるので、刊行物１発明の「反応管７内に挿入配置した」「熱電対２」に、刊行物３ないし５に記載の上記周知技術を適用して、本願補正後発明のごとく、「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」とすることは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
ｃ．相違点３について
　刊行物２の「図４は性能試験等を行う場合の縦型炉の構成を示しており、炉口蓋８を貫通して温度検出器１３が設けられ、該温度検出器１３は耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成であり、該熱電対１３ａ〜１３ｄの縦方向の位置は異なっており、反応管３内の温度分布が検出できる様になっている。」（【００１０】段落）の記載と、刊行物２の「前記ボート１５の天板１６は一部が突出しており、この突出部１７に温度検出器１３の上端が嵌入する支持孔１８が穿設されている。温度検出器１３の下端は炉口蓋８の前記支持孔１８に対峙する位置を貫通しており、温度検出器１３の上端は前記支持孔１８に嵌入する。而して、前記温度検出器１３は上端を天板１６に、又下端を前記炉口蓋８に、２点で支持された構成となる。」（【００２３】段落）の記載と、図１と図４とを参照すると、図４の「耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成」の「温度検出器１３」は、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当し、刊行物２の図１の「温度検出器１３」は、図４の「耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成」の「温度検出器１３」と同等であるので、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当する。
　また、刊行物３の「内筒２と外筒４との間にも密閉された石英製の直径数ｍｍ程度の保護管３０内に収容された制御用温度検出手段、例えば熱電対３２Ａ〜３２Ｅが設けられている。」（【０００６】段落）の記載と、「プロセスを行なうに先立って組立工場レベル等において内筒２と支持ボート１４との間にテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅをゾーンに対応させて配置し、このテーブル用熱電対３４と、制御用熱電対３２と、ヒータ用熱電対２８との温度相関をゾーン毎に、且つ複数の所望するウエハ温度毎に取って予めテーブル化しておく。」（【０００７】段落）の記載と、図９とから、刊行物３に記載の「テーブル用熱電対３４」と「制御用熱電対３２」とは、いずれも、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当し、刊行物３の「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されて」いる（【００２３】段落）の記載と、「このテーブルを作成する時には、図１にて一点鎖線で示すようにゾーン毎に配置したテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅを石英細管５６内に収容した状態で内筒２の内側に設置する。」（【００２５】段落）の記載と、図１とから、「テーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅ」と「制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅ」とは、いずれも、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当する。
　また、刊行物４の「この内筒４とウエハボート８との間隙に、複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２を高さ方向に沿って設けている。」（【０００６】段落）の記載と図７とから、刊行物４に記載の「複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２」は、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当し、刊行物４の「この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されている。」（【００１６】段落）の記載と図１とから、「４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６」は、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当する。
　また、刊行物５の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」（【００１８】段落）の記載と図１とから、刊行物５に記載の「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」は、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」ものに相当する。
　すると、刊行物２ないし５に記載されているように、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」「１本の石英保護管」を備えたものは、周知技術である。
　また、刊行物１発明は、「ボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように反応管７内に挿入配置した複数個の熱電対２」「を備え」ており、「複数個の熱電対２」が全体として、本願補正後発明の「熱電対装置」に相当する。さらに、刊行物１発明は、「それぞれの熱電対２は、前記ジヤンクションに接続した２本の熱電対素線１と、前記各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３と、前記２本の熱電対素線１と前記熱電対絶縁管３とを収める石英製の熱電対保護管１２とを備えたものである」ので、刊行物１発明の「複数個の熱電対２」の換わりに、刊行物２ないし５に記載されているように、周知技術である、前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した１本の石英保護管を備えたものを適用すると、刊行物１発明の「石英製の熱電対保護管」も１本となり、その１本の「石英製の熱電対保護管」の中に、それぞれの熱電対２の「石英製の熱電対保護管」に収められていた、「前記ジヤンクションに接続した２本の熱電対素線１と、前記各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３」とを、単に、まとめて収めることになり、格別なことではない。
　したがって、刊行物１発明の「複数個の熱電対２」の換わりに、刊行物２ないし５に記載されているように、周知技術である、前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した１本の石英保護管を備えたものを適用して、本願補正後発明のごとく、「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した複数の熱電対素線と、当該各熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらをすべて収容し、保護する」「１本の石英保護管」を備えたものとすることは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
ｄ．相違点４について
　刊行物４の図１に記載の「熱電対７４ａ」と「石英製の保護管７６」の上端部を参照すると、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対７４ａ」の位置は、「ウエハボート３０」の最上部よりも低い位置にあり、「石英製の保護管７６」の上端は、「ウエハボート３０」の最上部よりも高い位置にあるので、本願補正後発明の「収容する熱電対素線の最上端位置」に相当する刊行物４に記載の「熱電対７４ａ」の位置と、本願補正後発明の「石英保護管」に相当する刊行物４に記載の「石英製の保護管７６」の上端部との間の部分は、本願補正後発明の「石英保護管」の「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸され」る部分に相当する。また、刊行物３の「図１にて一点鎖線で示すようにゾーン毎に配置したテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅを石英細管５６内に収容した」もの（【００２５】段落）において、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対３４Ａ」と「石英細管５６」の上端との間の部分は、わずかに隙間が空いており、同じ刊行物３の図９の「石英細管」「内に収容された状態」の「テーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅ」においても、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対３４Ａ」と「石英細管」の上端との間の部分は、明らかに隙間が空いており、刊行物５の「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」において、熱電対の中で最も高い位置にある「内部上方熱電対１８ａ」と「石英管１７」の上端との間の部分は、わずかに隙間が空いており、刊行物３又は５の上記の隙間は、本願補正後発明の「石英保護管」の「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸され」る部分に相当する。
　そして、刊行物１の「○２保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形する。○３また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触する等の問題点があった。」という記載によれば、石英製の保護管は、軟化し変形するものであるから、刊行物４に注目すると、刊行物４に記載の「石英製の保護管７６」も、軟化し変形するので、「ウエハボート３０」の最上部よりも高い位置にある刊行物４に記載の「石英製の保護管７６」の上端は、「保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形」し、「また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触」することになり、本願補正後発明の「石英保護管」の「熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分」に相当することになる。
　また、上記「ｃ．相違点３について」に記載したように、刊行物２ないし５に記載されているように、本願補正後発明の「前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した」「１本の石英保護管」を備えたものは、周知技術である。
　したがって、刊行物１発明の「複数個の熱電対２」の換わりに、刊行物２ないし５に記載されているように、周知技術である、前記熱電対装置は１個であって、この熱電対装置は、高さ位置の相異なる所定の箇所に熱電対部を配置した１本の石英保護管を備えたものを適用する際に、石英保護管として、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対７４ａ」の位置は、ウエハボート３０の最上部よりも低い位置にあり、「石英製の保護管７６」の上端は、「ウエハボート３０」の最上部よりも高い位置にある刊行物４の第１図に記載の「石英製の保護管７６」を用い、本願補正後発明のごとく、「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて前記上端部に至り、熱変形時に前記天井板に側方からもたれかかる部分を有する１本の石英保護管」を備えたものとすることは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
　
　したがって、本願補正後発明は、その出願前に国内において頒布された上記刊行物１ないし５に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　まとめ
　以上のとおり、本願補正後発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるので、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合しない。
　よって、本件補正は、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
　
第３　本願発明について
　平成１７年１０月１３日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１６年９月１０日付けの手続補正書で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるものであるところ、本願の請求項１に係る発明は、「第２　１」に掲げた次のとおりのものである。
「【請求項１】
　縦型のプロセスチューブ及びヒータを有する縦型炉において、
　半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボートと、
　熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置され、最上位置に達した前記ボートの最上部以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があり、下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置とを備え、
　前記熱電対装置は、所定の高さ位置に熱電対部を配置した熱電対素線と、当該熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらを収容し、保護するとともに、収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有する石英保護管とを備えたことを特徴とする縦型炉。」
　
１　引用刊行物及び該引用刊行物記載の発明
刊行物１．実願昭６２−１２９４２号（実開昭６３−１２１４３１号）のマイクロフィルム（平成１７年１月６日付け拒絶理由通知において引用）
　
　刊行物１には、上記「第２　３−１」に記載されたとおりの事項が記載されており、「反応管７とヒータ５を有する縦型炉において、複数のウェーハー９を積載したボート８と、ボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように反応管７内に挿入配置した複数個の熱電対２とを備え、それぞれの熱電対２は、前記ジヤンクションに接続した２本の熱電対素線１と、前記各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３と、前記２本の熱電対素線１と前記熱電対絶縁管３とを収める石英製の熱電対保護管１２とを備えたものであることを特徴とする縦型炉。」（刊行物１発明）が、記載されている。
　
２　対比・判断
２−１　本願の請求項１に係る発明について
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明の「反応管７」、「ヒータ５」、「複数のウェーハー９を積載したボート８」は、それぞれ、本願発明の「縦型のプロセスチューブ」、「ヒータ」、「半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボート」に相当し、刊行物１発明の「ボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように反応管７内に挿入配置した」「熱電対２」、「前記ジヤンクションに接続した２本の熱電対素線１」、「各熱電対素線１を被覆する石英製またはアルミナ製の熱電対絶縁管３」、「石英製の熱電対保護管１２」は、それぞれ、本願発明の「熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置され」「た熱電対装置」、「所定の高さ位置に熱電対部を配置した熱電対素線」、「当該熱電対素線に外挿された絶縁碍子」、「石英保護管」に相当する。
　すると、本願発明と刊行物１発明とは、
「縦型のプロセスチューブ及びヒータを有する縦型炉において、半導体ウェハが載置された状態で、前記プロセスチューブ内に搬入及び搬出されるボートと、熱電対を保護管に収めたものであって、前記プロセスチューブの内壁に沿って縦方向に配置された熱電対装置とを備え、前記熱電対装置は、所定の高さ位置に熱電対部を配置した熱電対素線と、当該熱電対素線に外挿された絶縁碍子と、これらを収容し、保護する石英保護管とを備えたことを特徴とする縦型炉。」の点で一致し、
本願発明は、「最上位置に達した前記ボートの最上部以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があ」る「熱電対装置」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「熱電対２」が最上位置に達した前記ボートの最上部以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があるかどうか不明である点（以下、「相違点５」という。）、
本願発明は、「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「熱電対２」の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された」ものではない点（以下、「相違点６」という。）、
本願発明は、「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有する石英保護管」を備えたものであるのに対して、刊行物１発明は、「石英製の熱電対保護管１２」が収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有するかどうか不明である点（以下、「相違点７」という。）、
で相違している。
　そこで、上記相違点５〜７について検討する。
ｅ．相違点５について
　刊行物１の「従来においては、第４図示のようにボート８に積載されたウェーハー９の積載長の方向に設定された位置にジヤンクション位置がくるように第５図示のような熱電対２を複数個、第４図の例では４本，１列に並べて反応管７内に挿入配置し、各熱電対２によりヒータ内温度、即ちウェーハー近傍の各設定点温度を検知するようにしていた。」（明細書第２頁第５〜１１行）という記載によれば、「第５図示のような熱電対２を第４図の例では４本，１列に並べて反応管７内に挿入配置し」ているが、第４図の「熱電対２」の「石英製の熱電対保護管１２」の上端は、ボート８の最上部よりも高いことが見て取れる。そして、刊行物１の「○２保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形する。○３また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触する等の問題点があった。」（明細書第３頁第４〜８行）という記載によると、「熱電対２」の「保護管１２が軟化し」「変形が大きくな」ると、「ボート８に接触する」ものであり、ボートの上側には、通常、本願発明の「ボートの最上部」に相当する第４図の一番上の部分（符号８が指し示す部分）の他には、主に、ウェーハー９を支える棒状の部材があるが、「ボート８に接触する」ということは、「ボート８」の最上部「に接触する」ことをも意味する。また、刊行物１の第１図を参照すると、設けられている場所は違うが、「熱電対２」の「ＳｉＣ製保護管１３」の上端は、「ボート８」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、周知文献２．特開平１０−５０６２７号公報（平成１６年２月２５日付け拒絶理由通知において引用；上記「第２　３−１」の刊行物２に同じ）（図１、図２、図４、及び、【００１０】、【００２３】段落参照）の「図４は性能試験等を行う場合の縦型炉の構成を示しており、炉口蓋８を貫通して温度検出器１３が設けられ、該温度検出器１３は耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成であり、該熱電対１３ａ〜１３ｄの縦方向の位置は異なっており、反応管３内の温度分布が検出できる様になっている。」（【００１０】段落）の記載と、「前記ボート１５の天板１６は一部が突出しており、この突出部１７に温度検出器１３の上端が嵌入する支持孔１８が穿設されている。温度検出器１３の下端は炉口蓋８の前記支持孔１８に対峙する位置を貫通しており、温度検出器１３の上端は前記支持孔１８に嵌入する。而して、前記温度検出器１３は上端を天板１６に、又下端を前記炉口蓋８に、２点で支持された構成となる。」（【００２３】段落）の記載と、図１と図４とを参照すると、図４の「耐熱性の保護管１４内に複数の熱電対１３ａ〜１３ｄが挿設された構成」の「温度検出器１３」の「耐熱性の保護管１４」の上端は、ボートの最上部と同等な位置にあることが見て取れ、図１の「温度検出器１３の上端は」「天板１６」の「前記支持孔１８に嵌入」して「支持され」ているので、「温度検出器１３の上端」は、ボートの最上部の「天板１６」と同等な位置にある。
　また、周知文献３．特開平１０−２５５７７号公報（平成１８年３月９日作成の前置報告及び平成１９年５月１１日付けの審尋で提示した刊行物；上記「第２　３−１」の刊行物３に同じ）（図１、図９、及び、【０００６】、【０００７】、【００２３】、【００２５】段落参照）の、「内筒２と外筒４との間にも密閉された石英製の直径数ｍｍ程度の保護管３０内に収容された制御用温度検出手段、例えば熱電対３２Ａ〜３２Ｅが設けられている。」（【０００６】段落）の記載と、「プロセスを行なうに先立って組立工場レベル等において内筒２と支持ボート１４との間にテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅをゾーンに対応させて配置し、このテーブル用熱電対３４と、制御用熱電対３２と、ヒータ用熱電対２８との温度相関をゾーン毎に、且つ複数の所望するウエハ温度毎に取って予めテーブル化しておく。」（【０００７】段落）の記載と、図９とから、「テーブル用熱電対３４」の上端と「制御用熱電対３２」の上端は、いずれも、「支持ボート１４」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れ、周知文献３の、「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている。」（【００２３】段落）の記載と、「このテーブルを作成する時には、図１にて一点鎖線で示すようにゾーン毎に配置したテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅを石英細管５６内に収容した状態で内筒２の内側に設置する。このテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅは、限りなくウエハＷに近いので、その検出値がそのゾーンにおける実際のウエハ温度とみなすことができる。」（【００２５】段落）の記載と、図１とから、「テーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅ」を「収容」する「石英細管５６」の上端と「制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅ」を「収容」する「石英製の保護管３０」の上端は、いずれも、「支持ボート１４」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、周知文献４．特開２０００−７７３４６号公報（平成１８年３月９日作成の前置報告及び平成１９年５月１１日付けの審尋で引用した刊行物；上記「第２　３−１」の刊行物４に同じ）（図１、図７、及び、【０００６】、【００１６】段落参照）の「図７はこのような高速昇降温用の熱処理装置を示す概略構成図であり、処理容器２は内筒４とこれに同心状に配置された外筒６とにより構成され、この内筒４内にウエハボート８に多段に支持された半導体ウエハＷが収容されている。そして、この内筒４とウエハボート８との間隙に、複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２を高さ方向に沿って設けている。」（【０００６】段落）の記載と図７とから、「複数の熱電対１０を収容した石英製の保護管１２」の上端は、「ウエハボート８」の最上部と同等な位置にあることが見て取れ、周知文献４の「この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されている。」（【００１６】段落）の記載と図１とから、「例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６」の上端は、「ウエハボート８」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、周知文献５．特開平７−６９５５号公報（平成１６年７月１４日付け拒絶理由通知において引用；上記「第２　３−１」の刊行物５に同じ）（図１、及び、【００１８】段落参照）の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」（【００１８】段落）の記載と図１とから、「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」の上端は、「ウエハボート５」の最上部よりも高い位置にあることが見て取れる。
　また、上記した周知文献３の図１と図９、周知文献４の図１と図７、周知文献５の図１に示されたボートの状態は、いずれも、本願発明の「最上位置に達した前記ボート」の状態に相当しており、周知文献２の図１と図４に示された状態は、本願発明の「最上位置に達した前記ボート」の状態かどうかはわからないが、周知文献２の図１と図４に示された、「温度検出器１３は」「下端を前記炉口蓋８に」「支持され」ているので、ボートの上下の位置がどのような位置にあっても、「温度検出器１３の上端」は、ボートの最上部の「天板１６」と同等な位置にあることに変わりはない。
　すると、周知文献２ないし５に記載されているように、熱電対による温度検出手段は、プロセスチューブ内にあるかどうかにかかわらず、本願発明の「保護管」に相当するものの上端が、いずれも、ボートの最上部よりも高いか、又はボートの最上部と同等な位置にあるものであることは、周知技術であるので、刊行物１発明の「反応管７内に挿入配置した」「熱電対２」に、周知文献２ないし５に記載の上記周知技術を適用して、本願発明のごとく、「最上位置に達した前記ボートの最上部の天井板以上の、前記プロセスチューブ内の一定の高さ位置に当該保護管の上端部があ」るように構成することは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
ｆ．相違点６について
　上記周知文献３の「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている。」（【００２３】段落）の記載において、周知文献３の「内筒２と外筒４」、「マニホールド３８」、「各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０」は、それぞれ、本願発明の「プロセスチューブ」、「支持部」、「熱電対装置」に相当するので、周知文献３に記載の「内筒２と外筒４との間にも、各ゾーンに対応させて制御用温度検出手段としてここでは５つの制御用熱電対３２Ａ〜３２Ｅが、１つの密封された石英製の保護管３０内に収容された状態で位置されており、この保護管３０の下端は、屈曲されてマニホールド３８を気密に貫通して支持されている」ことは、本願発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。また、上記周知文献３の図９の記載も、同様に、本願発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。
　また、上記周知文献４の「この内筒２６には、その半径方向外方へ向けて凸状に突出させた断面略半円状の保護管収容部７２が高さ方向に沿って溝状に設けられている。そして、この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されている。この保護管７６の下端部は、Ｌ字状に屈曲されてマニホールド４２に貫通させて取り付けられている。」（【００１６】段落）の記載において、周知文献４の「内筒２６」、「マニホールド３８」、「内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６」は、それぞれ、本願発明の「プロセスチューブ」、「支持部」、「熱電対装置」に相当するので、上記周知文献４に記載の「この内筒２６には、その半径方向外方へ向けて凸状に突出させた断面略半円状の保護管収容部７２が高さ方向に沿って溝状に設けられて」おり、「この断面略半円状の保護管収容部７２の内側に、内部に複数の温度測定手段として例えば４つの熱電対７４Ａ〜７４Ｄを収容した石英製の保護管７６が設置されて」おり、「この保護管７６の下端部は、Ｌ字状に屈曲されてマニホールド４２に貫通させて取り付けられている」ことは、本願発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。また、上記周知文献４の図７の記載も、同様に、本願発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。
　さらに、上記周知文献５の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」（【００１８】段落）の記載と図１の記載とから、上記周知文献５の「プロセスチューブ１」、「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」は、それぞれ、本願発明の「プロセスチューブ」、「熱電対装置」に相当し、上記周知文献５の図１に示されているように、上記周知文献５に記載の「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」の下端部はプロセスチューブの支持部側面から外方に引き出されているので、上記周知文献５に記載の「プロセスチューブ１内に垂直に配置される石英管１７内に挿入されてのウエハボート５にて保持されるウエハＷの近傍の複数箇所（上部、中央部及び下部）に配置される温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」は、本願発明の「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」に相当する。
　すると、上記周知文献３ないし５に記載されているように、下端部がプロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対による温度検出手段は、周知技術であるので、刊行物１発明の「反応管７内に挿入配置した」「熱電対２」に、刊行物３ないし５に記載の上記周知技術を適用して、本願発明のごとく、「下端部は前記プロセスチューブの支持部側面から外方に引き出された熱電対装置」とすることは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
ｇ．相違点７について
　上記周知文献４の図１に記載の「熱電対７４ａ」と「石英製の保護管７６」の上端部を参照すると、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対７４ａ」の位置は、「ウエハボート３０」の最上部よりも低い位置にあり、「石英製の保護管７６」の上端は、「ウエハボート３０」の最上部よりも高い位置にあるので、本願発明の「収容する熱電対素線の最上端位置」に相当する上記周知文献４に記載の「熱電対７４ａ」の位置と、本願発明の「石英保護管」に相当する上記周知文献４に記載の「石英製の保護管７６」の上端部との間の部分は、本願発明の「石英保護管」の「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸され」る部分に相当する。また、上記周知文献３の「図１にて一点鎖線で示すようにゾーン毎に配置したテーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅを石英細管５６内に収容した」もの（【００２５】段落）において、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対３４Ａ」と「石英細管５６」の上端との間の部分は、わずかに隙間が空いており、同じ上記周知文献３の図９の「石英細管」「内に収容された状態」の「テーブル用熱電対３４Ａ〜３４Ｅ」においても、熱電対の中で最も高い位置にある「熱電対３４Ａ」と「石英細管」の上端との間の部分は、明らかに隙間が空いており、上記周知文献５の「石英管１７内に挿入され」た「温度検出手段である内部上方熱電対１８ａ，内部中央部熱電対１８ｂ及び内部下方熱電対１８ｃ」において、熱電対の中で最も高い位置にある「内部上方熱電対１８ａ」と「石英管１７」の上端との間の部分は、わずかに隙間が空いており、上記周知文献３又は５の上記の隙間は、本願発明の「石英保護管」の「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸され」る部分に相当する。
　すると、上記周知文献３ないし５に記載されているように、本願発明の「石英保護管」の「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸され」る部分の構成は、周知技術であると認められる。
　そして、刊行物１の「○２保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形する。○３また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触する等の問題点があった。」（明細書第３頁第４〜８行）という記載によれば、石英製の保護管は、軟化し変形するものであるから、上記周知文献３に記載の「石英細管５６」、上記周知文献４に記載の「石英製の保護管７６」、上記周知文献５に記載の「石英管１７」は、いずれも、軟化し変形するので、本願発明の「石英保護管」の「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸され」る部分に相当する、ボートの最上部よりも高い位置にある、上記周知文献３に記載の「石英細管５６」、上記周知文献４に記載の「石英製の保護管７６」、上記周知文献５に記載の「石英管１７」のそれぞれの上端は、いずれも、刊行物１に記載のように、「保護管１２が石英製であるため、１１００℃以上の温度領域で保護管１２が軟化し変形」し、「また１１００℃以下の温度領域でも長期間使用すると変形が大きくなり、ボート８に接触」することになり、本願発明の「石英保護管」の「熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分」に相当することになる。
　したがって、刊行物１発明の「石英製の熱電対保護管１２」の換わりに、上記周知文献３に記載の「石英細管５６」、上記周知文献４に記載の「石英製の保護管７６」、上記周知文献５に記載の「石英管１７」のような石英保護管を採用し、本願発明のごとく、「収容する熱電対素線の最上端位置からさらに上部へ延伸されて熱変形時に前記最上部に側方からもたれかかる部分を有する石英保護管」を備えたものとすることは、当業者が適宜なし得たことと認められる。
　
　したがって、本願の請求項１に係る発明は、その出願前に日本国内において頒布された刊行物１に記載された発明及び上記周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。