【事件の表示】
　特願２０００−　８５８３１「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１０月　５日出願公開、特開２００１−２７４１３６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明 
　本件に係る出願（以下、「本願」という。）は、平成１２年３月２７日の出願であって、平成１８年４月４日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年４月１１日）、これに対し、同年５月１１日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年６月１日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１８年６月１日付け手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年６月１日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
(1)補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、次のとおりに補正された（以下、「本願補正発明」という。）。
　
「オゾン含有溶液により基板を処理する処理ユニットと、
　オゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽、この貯留槽の底部に連通し前記処理ユニットから排出されたオゾンを含む排液を導入するための導入路、前記貯留槽の内底部付近に設けられ貯留槽に一時的に貯留されたオゾンを含む排液中にガスをバブリングするバブリングノズル、前記貯留槽の上方から気体を排出するための排気口、および、前記貯留槽の上部に設けられオゾン脱気後の排液を排出するための排出部を有し、前記貯留槽の内部に金属酸化物を、前記排出部の取り付け位置の近くまでほぼ満たすように収容させ、前記処理ユニットから排出されたオゾンを含む排液を、金属酸化物に接触させてオゾンを分解させて、オゾンを除去するオゾン除去ユニットと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。」
　
　上記補正は、本件補正前の請求項１に「金属酸化物を収容しオゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽」とあったところを、「オゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽、・・・貯留槽の内部に金属酸化物を、排出部の取り付け位置の近くまでほぼ満たすように収容させ、」との限定を付加するものであって、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号にいう特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本願補正発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項に適合するか）について検討する。
　
(2)刊行物
(2-1)原査定の拒絶の理由（平成１７年６月２０日付け拒絶理由通知書）に示された特開平１０−１０７００３号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ア．「この発明の目的は、安価なランニングコストでオゾン水からオゾンガスを確実に脱気できるようにしたオゾン水分解処理装置およびそれを用いた洗浄処理装置を提供することにある。」（段落【0010】）
　
イ．「以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。図１に示す洗浄処理装置は処理チャンバ１を有する。この処理チャンバ１内には液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄物２が駆動源３によって回転駆動される回転テ−ブル４によって着脱自在に保持されている。
　上記被洗浄物２の上方にはノズル体５が配置されている。このノズル体５はオゾン水の供給源６に連通されていて、上記被洗浄物２に向けてオゾン水を噴射できるようになっている。それによって、上記被洗浄物２は、とくにその板面に付着した有機物を分解洗浄できるようになっている。
　上記処理チャンバ１の底部には排液管７の一端が接続されている。この排液管７の他端はバッファタンク８に連通していて、上記処理チャンバ１からのオゾン水を蓄えることができるようになっている。このバッファタンク８にはここに蓄えられるオゾン水の量を検出するセンサ１０が設けられている。
　上記バッファタンク８の底部には供給管９の一端が接続されている。この供給管９の中途部には第１の制御弁１１が接続され、他端はオゾン水の処理装置を構成する気密構造の処理タンク１２に接続されている。
　上記処理タンク１２の底部には一端側に多数のノズル部１３ａを有する気体供給管１３が配設されている。この気体供給管１３の他端は処理タンク１２から気密に導出され、第２の制御弁１４を介して加圧気体の供給源１５に接続されている。したがって、制御弁１４の開閉によって気体供給管１３から処理タンク１２内のオゾン水へ供給される気体によってオゾン水をバブリングできるようになっている。処理タンク１２内へ供給する気体としてはドライエア−あるいは窒素などの不活性ガスなどがよい。
　上記処理タンク１２の底部には、排液管１６の一端が接続され、上部には排ガス管１７の一端が接続されている。上記排液管１６は、第３の制御弁１８の一端に接続され、この制御弁１８の他端は図示しない下水道などに連通される。上記排ガス管１７には第４の制御弁１９を介してオゾン分解器２１の接続されている。
　なお、第４の制御弁１９とオゾン分解器２１の間には、たとえば送風機等からなる排気装置２０を介在させ、加圧気体の供給源１５からのアエ圧と排気装置２０の排気量とを設定することで、最適の処理時間にすることが可能である。」（段落【0018】〜【0024】）
　
ウ．「この図から分かるように、本願発明のようにバブリングあるいはバブリングと強制排気を組み合わせると、他の処理方法に比べて溶存オゾンガス濃度を短時間で低下せることができる。つまり、脱気速度を速めることができる。」（段落【0027】）
　
エ．「また、上述した実施形態では第３の制御弁１８と第４の制御弁１９を同時に開放するようにしたが、処理タンク１２内のオゾン水へ加圧エア−を供給中（第２の制御弁１４を開放中）、第４の制御弁１９を開放してもよい。また、処理タンク１２内のオゾン水からのオゾンの脱気を速めるため、処理タンク１２内に回転駆動される撹拌翼を設け、オゾン水を撹拌したり、ヒ−タなどの加熱器を設け、加熱するようにしてもよく、これらの方法を併用することで脱気速度を向上させることが可能である。」（段落【0038】）
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物１には、次の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されている。
　
「オゾン水により半導体ウエハを洗浄処理する処理チャンバ１と、
オゾン水を含む排液を蓄える処理タンク１２、この処理タンク１２に接続された供給管９、前記処理タンクの底部に配設された処理タンクに気体を供給する多数のノズル部１３ａ、前記処理タンクの上部に接続された排ガス管１７、前記処理タンクの底部に接続された排液管１６を有し、処理チャンバ１２からオゾン水を含む排液をバブリングさせてオゾンガスを脱気し、分解させる手段と、
を備える洗浄処理装置。」
　
(2-2)同じく特開平４−３３８２８３号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ア．「ところで、オゾンが残留していると、上水道、製薬工業、半導体工業などでは好ましくないので、この残留オゾンを除去することが必要であり、従来は、膜処理と別個に、活性炭濾過槽や金属酸化物などのオゾン分解（触媒）層によりオゾン吸着及び／又は分解処理を行っていたのが現状である。しかしながら、このようなオゾン処理により、供給水中のオゾンが除去される結果として、処理システム中で細菌等の増殖を招く問題点がある。
」（段落【0003】）
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物２には、次の発明（以下、「刊行物２記載の発明」という。）が記載されている。
　
「オゾン残留供給水から、金属酸化物などのオゾン分解層によりオゾンを分解させるオゾン除去処理システム。」
　
(2-3)今回新たに提示した特開平５−３８４９４号公報（以下、「刊行物３」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ア．「このような従来のオゾン除去方法で、水中の溶存オゾンを分解する場合、活性炭による吸着除去を行うと、活性炭吸着剤が細菌繁殖の温床となり、折角オゾンで殺菌された水が再び細菌で汚染されるという問題があった。
」（段落【0005】）
　
イ．「【作用】この構成によれば、亜硫酸カルシウムを用いて水中溶存オゾンを除去することにより、残留オゾンを含まず、細菌による汚染がない安全な水の供給が可能となり、オゾン処理水をさらに有効に利用することができることとなる。
　【実施例】本発明の一実施例の水中溶存オゾン分解装置を図面を参照しながら説明する。図１に水中溶存オゾン分解装置の構成を示す。図１に示すように、反応器１には、オゾン水導入口２と排出口５が設けられており、反応器１内には微粒状あるいはハニカム状の亜硫酸カルシウム粒３がフィルター４を介して充填されている。」（段落【0009】、【0010】）
　
ウ．図１には、反応器１の底部にオゾン水導入口２が設けられ、反応器１の上部に排出口５が設けられ、反応器内には、排出口５の近くまでほぼ満たすように亜硫酸カルシウム粒３が充填されていることが示されている。
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物３には、次の発明（以下、「刊行物３記載の発明」という。）が記載されている。
　
「反応器１の底部に設けられるオゾン水導入口２、反応器１の上部に設けられる排出口５を有し、反応器１内には、排出口５の近くまでほぼ満たすように、水中溶在オゾンを分解する亜硫酸カルシウム粒３が充填されているオゾン分解によるオゾン除去装置。」
　
(3)対比
　本願補正発明と刊行物１記載の発明を対比する。
　刊行物１記載の発明の「オゾン水」は、本願補正発明の「オゾン含有溶液」に相当し、以下、同様に、「半導体ウエハ」は「基板」に、「処理チャンバ１」は「処理ユニット」に、「排液」は「オゾンを含む排液」に、「処理タンク１２」は「貯留槽」に、「供給管９」は「導入路」に、「ノズル部１３ａ」は「バブリングノズル」に、「排ガス管１７」は「排気口」に、「排液管１６」は「排出部」に、「オゾンガスを脱気させ、分解する手段」は「オゾン除去ユニット」に、「洗浄処理装置」は「基板処理装置」に、それぞれ、相当する。
　
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。
　
［一致点］
「オゾン含有溶液により基板を処理する処理ユニットと、
　オゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽、この貯留槽に連通し前記処理ユニットから排出されたオゾンを含む排液を導入するための導入路、前記貯留槽の内底部付近に設けられ貯留槽に一時的に貯留されたオゾンを含む排液中にガスをバブリングするバブリングノズル、前記貯留槽の上方から気体を排出するための排気口、および、前記貯留槽に設けられオゾン脱気後の排液を排出するための排出部を有し、前記処理ユニットから、オゾンを除去するオゾン除去ユニットと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。」
　
［相違点１］
　本願補正発明が、オゾンを含む液を、金属酸化物に接触させてオゾンを分解させているのに対して、刊行物１記載の発明はこの発明特定事項を有しない点。
　
［相違点２］
　本願補正発明が、貯留槽の底部に連通する導入路、貯留槽の上部に設けられる排出部を有し、オゾンを分解する金属化合物を貯留槽の内部に、前記排出部の取り付け位置の近くまでほぼ満たすように収容させているのに対して、刊行物１記載の発明はこの発明特定事項を有しない点。
　
(4)当審の判断
　以下、上記相違点１、２について検討する。
　
(4-1)相違点１について
　刊行物２記載の発明と本願補正発明とを対比する。
　刊行物２記載の発明の「オゾン残留供給水」、「金属酸化物などのオゾン分解層により」は、それぞれ、本願補正発明の「オゾンを含む液」、「金属酸化物に接触させ」に相当する。
　したがって、刊行物２記載の発明は、「オゾンを含む液を、金属酸化物に接触させ、オゾンを分解させるオゾン除去処理システム。」と言い換えることができる。
　即ち、刊行物２には、上記相違点１に係る事項が記載されている。
　
　そして、刊行物１記載の発明及び刊行物２記載の発明は、共に、オゾンを含む液から、オゾンを除去する装置という共通の技術分野に属する発明である。
　また、刊行物１には、バブリング処理と他の処理、例えば、強制排気処理、撹拌翼による撹拌処理、加熱処理を組み合わせることにより脱気速度を速めることについても記載されている（上記(2-1)ウ．、エ．参照のこと。）。
　
　ゆえに、刊行物１記載の発明におけるオゾン除去手段に、脱気速度を速めるために、刊行物２記載の発明におけるオゾン除去手段を組み合わせ適用させることは、当業者が容易になし得たものと認められる。
　
(4-2)相違点２について
　刊行物３記載の発明と本願補正発明とを対比する。
　刊行物３記載の発明の「反応器１」、「底部に設けられるオゾン水導入口２」、「上部に設けられる排出口５」は、それぞれ、本願補正発明の「貯留槽」、「底部に連通する導入路」、「上部に設けられる排出部」に相当する。
　また、刊行物３記載の発明の亜硫酸カルシウム粒３は、水中溶存オゾンを亜硫酸カルシウム粒３に接触させて分解させる金属化合物である。
　
　したがって、刊行物３記載の発明は、「貯留槽の底部に連通する導入路、貯留槽の上部に設けられる排出部を有し、オゾンを分解させる金属化合物を貯留槽の内部に、前記排出部の取り付け位置の近くまでほぼ満たすように収容させているオゾン分解装置。」と言い換えることができる。
　
　そして、刊行物１記載の発明及び刊行物３記載の発明は、共に、オゾンを含む液から、オゾンを除去する装置という共通の技術分野に属する発明である。
　
　ゆえに、刊行物１記載の発明におけるオゾン除去手段に、脱気速度を速めるために、刊行物３記載の発明におけるオゾン除去手段を組み合わせ適用させることは、当業者が容易になし得たものと認められる。
　
　また、本願補正発明のバブリングによるオゾンの脱気と、金属酸化物によるオゾンの分解との相互作用により奏せられる効率的なオゾン除去の効果は、刊行物１乃至３記載の発明から当業者が予測できた範囲内のものである。
　
　よって、本願補正発明は、刊行物１乃至３記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
(5)むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、平成１８年改正前特許法第１５９条第１項の規定で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
 ３．本願発明について
(1)本願発明
　平成１８年６月１日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１７年９月２日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　
　「オゾン含有溶液により基板を処理する処理ユニットと、
　金属酸化物を収容しオゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽、この貯留槽の底部に連通し前記処理ユニットから排出されたオゾンを含む排液を導入するための導入路、前記貯留槽の内底部付近に設けられ貯留槽に一時的に貯留されたオゾンを含む排液中にガスをバブリングするバブリングノズル、前記貯留槽の上方から気体を排出するための排気口、および、前記貯留槽の上部に設けられオゾン脱気後の排液を排出するための排出部を有し、前記処理ユニットから排出されたオゾンを含む排液を、金属酸化物に接触させてオゾンを分解させて、オゾンを除去するオゾン除去ユニットと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。」
　
(2)刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物１、２、刊行物１、２の記載事項、及び、刊行物１、２記載の発明は、前記「２．［理由］(2)刊行物」に記載したとおりである。
　
(3)対比・判断
　本願発明と刊行物１記載の発明とを対比する。
　本願発明は、前記「２．［理由］」で検討した本願補正発明から、「オゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽・・・貯留槽の内部に金属酸化物を、排出部の取り付け位置の近くまでほぼ満たすように収容させ、」とあったところを、「金属酸化物を収容しオゾンを含む排液を一時的に貯留する貯留槽」と限定を省いたものである。
　本願発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、両者の相違点は、前記「２．［理由］(3)」の相違点１および、次の相違点２である。
　
［相違点２］
　本願発明が、貯留槽の底部に連通する導入路、貯留槽の上部に設けられる排出部を有するのに対して、刊行物１記載の発明はこの発明特定事項を有しない点。
　
　相違点１についての判断は、前記「２．［理由］(4)」に記載したとおりである。
　そこで、相違点２について検討する。
　
　刊行物１記載の発明において、供給管９および排液管１６を処理タンク１２のどこの箇所に設けるのかは、液の流れ方向によるオゾン脱気に対する影響度、バブリング圧力、バブリングガスの種類等の諸条件を総合勘案して、当業者が決定することである。
　したがって、刊行物１記載の発明において、上記相違点２に係る本願発明の構成を採用することには、当業者にとっての格別の創意工夫が見いだせない。
　
　また、本願発明の奏する効果は、刊行物１及び２記載の発明から、当業者が予測できた範囲内のものである。
　
　したがって、本願発明は、刊行物１、２記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
(4)むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物１、２記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。