【事件の表示】
　特願２００１−３８０８９４「光情報記録媒体の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年７月４日出願公開、特開２００３−１８７５０４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１３年１２月１４日の出願であって、拒絶理由通知に対し平成１７年４月１８日付けで手続補正がされたが、同年５月１０日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年６月１６日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年７月１９日付けで手続補正がされたものである。
　
２．平成１７年７月１９日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１７年７月１９日付けの手続補正を却下する。
　
［理　由］
（１）補正後の本願発明
　平成１７年７月１９日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「トラックピッチが２００〜４００ｎｍで、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５０ｎｍ以下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、
　基板上に金属反射層を形成する金属反射層形成工程；
　該金属反射層上に有機色素系の記録層を塗布法で形成する記録層形成工程；及び
　該記録層上に０．０１〜０．５ｍｍのカバー層を形成するカバー層形成工程；
をこの順に有し、
　前記金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの時間が６時間以下であること、及び
　前記金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの保存温度を２０〜２５℃とし、保存湿度を３０〜５０％とすること、
を特徴とする光情報記録媒体の製造方法。」
と補正された。
　上記補正は、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「記録層」の形成方法を「塗布法」に限定し、「金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの時間」について補正前の「１２時間以下」を「６時間以下」に、同じく「保存温度及び湿度」について、それぞれ「２０〜４０℃、３０〜８０％」を「２０〜２５℃、３０〜５０％」とその範囲をさらに限定するものであって、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物には、それぞれ、以下の事項が記載されている。（なお、
下線
　
　ア．特開２００１−２８７４６５号公報（平成13年10月16日公開。以下、引用例１という。）には、「光記録媒体」に関して、図面とともに以下の事項が記載されている。
　（ア−１）「【０００１】
　【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、特に
波長４３０ｎｍ以下の短波長レーザーで記録を施す高密度記録可能な記録層を有する光情報記録媒体
　（ア−２）「【００１５】又、別の実施形態として、特開平１０−３０２３１０号公報に開示の構成、例えば、図２に示すように、
案内溝の形成された支持基板１’上に、反射層３’、有機色素を主成分とする記録層２’がこの順で成膜され、この記録層２’上に任意に形成される透明保護層４’を介して光透過層５’が形成され、情報の記録及び再生は、光透過層５’側から実施される
　（ア−３）「【００１７】これらの基板の表層には、サブミクロンオーダーの案内溝及び／又はプレピットが螺旋状又は同心円上に形成されていても良い。これら案内溝及びプレピットは、基板形成時に付与されているのが好ましく、スタンパー原盤を用いての射出成型や、フォトポリマーを用いた熱転写法により付与することができる。尚、図２における光透過層５’に案内溝及び／又はプレピットを形成しても良く、付与する場合も同様の方法を適用できる。
案内溝のピッチ及び深さは、ＤＶＤよりも高密度記録を行うＨＤ−ＤＶＤＲの場合、ピッチとして０．２５〜０．８０μｍ、深さとして２０〜１５０ｎｍの範囲から選択するのが好ましい
　（ア−４）「【００２１】この様にして選択される有機色素の基本分子の母核には、各種の置換基修飾が成されていても良く、それにより波長フィッティング、色素の溶解性などの加工性改善などが成される。
これらの材料は、通常、適切な溶媒に溶解又は分散させてスピンコート法、スプレー法等で塗布し、乾燥させることで成膜することができる
　（ア−５）「【００３４】　実施例３
　
ピッチ０．５５μｍ、溝深１００ｎｍ、溝幅０．２７μｍのグルーブ形状を有したスタンパー原盤から熱転写法により形成した厚さ１．２ｍｍのアクリル２Ｐ基板上に、ＡｇＰｄＣｕ合金からなる反射層を５０ｎｍ厚にスパッタ法で形成し
その上にＵＶ接着剤を塗布し、厚み１００μｍのポリカーネート製薄型シートを貼り付けた
　【００３５】該媒体を
薄型シート側から、波長４０３ｎｍ、ＮＡ＝０．８０の２枚組レンズで集光し、記録ピットをランド及びグルーブ双方に形成した
　線速度＝７ｍ／ｓで、線密度０．２５μｍの最短ピットが、記録パワー＝６ｍＷでランド部＝４６ｄＢ、グルーブ部＝４８ｄＢのＣＮ比にて観測された。」（6頁右欄〜7頁左欄）
　
　上記記載事項（特に下線部参照）によれば、引用例１には、
「案内溝のピッチ及び深さが０．２５〜０．８０μｍ、２０〜１５０ｎｍで、波長が４３０ｎｍ以下の短波長レーザーで記録を施す光情報記録媒体の製造方法であって、
　支持基板上に、反射層、有機色素を主成分とする記録層がこの順で成膜され、記録層上に任意に形成される透明保護層を介して光透過層が形成される工程を有する光情報記録媒体の製造方法」の発明（以下「引用例１発明」という。）が開示されている。
　
　イ．特開２０００−４０２５５号公報（以下、引用例２という。）には、「光情報記録媒体及びその製造方法」に関して、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
　（イ−１）「【請求項５】基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる記録層を有し、該記録層上に光反射層及び保護層を有するヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法において、
　銀を含む材料で前記光反射層を形成し、
　前記
光反射層の成膜後に２秒以上、５分以内で前記保護層を形成する
　（イ−２）「【００５５】
光反射層２０８の材料
金属
【００５６】これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金として用いてもよい。
特に好ましくはＡｇもしくはその合金である
【００５７】光反射層２０８は、例えば、前記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。」（6頁右欄）
　（イ−３）「【００６９】特に本実施の形態では、前記
光反射層２０８の成膜後に２秒以上、５分以内で保護層を形成する
このため、光反射層２０８の成膜後に、該光反射層２０８が酸化されるのを有効に防止することができ、光反射率の向上、エラーの発生率の低下を更に促進させることができる
　
（３）対比
　光記録媒体において、ランド又はグルーブの一方に記録するものと、ランドとグルーブの双方に記録するものがあることは周知であり、ランド又はグルーブに記録する場合のトラックピッチは、案内溝のピッチと同じであり、ランド及びグルーブに記録する場合にはトラックピッチは案内溝ピッチの約半分となる。
　引用例１の実施例３の場合、（溝）ピッチ０．５５μｍ、溝幅０．２７μｍで、ランド及びグルーブに記録しており、トラックピッチは約０．２７μｍ（２７０ｎｍ）になるから、引用例１発明における案内溝のピッチ０．２５〜０．８０μｍ（２５０〜８００ｎｍ）は、本願補正発明のトラックピッチ２００〜４００ｎｍと重複する範囲である。
　また、引用例１発明で使用する波長４３０ｎｍは、本願補正発明の波長４５０ｎｍ以下と重複するから、引用例１発明の「案内溝のピッチ及び深さが０．２５〜０．８０μｍ、２０〜１５０ｎｍで、波長が４３０ｎｍ以下の短波長レーザーで記録を施す光情報記録媒体の製造方法」は、本願補正発明の「トラックピッチが２００〜４００ｎｍで、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５０ｎｍ以下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法」に相当する。
　そして、引用例１発明の「支持基板」「反射層」「有機色素を主成分とする記録層」「光透過層」は、それぞれ、本願補正発明の「基板」「金属反射層」「有機色素系の記録層」「カバー層」に相当し、引用例１発明において、有機色素を主成分とする記録層の形成方法としてスピンコート法、スプレー法等で塗布する方法を開示している（上記ア−４）から、引用例１発明の「支持基板上に、反射層、有機色素を主成分とする記録層がこの順で成膜され、記録層上に任意に形成される透明保護層を介して光透過層が形成される工程」は、本願補正発明の「基板上に金属反射層を形成する金属反射層形成工程；
　該金属反射層上に有機色素系の記録層を塗布法で形成する記録層形成工程；及び
　該記録層上にカバー層を形成するカバー層形成工程；
をこの順に有する」に相当する。
　
　そこで、本願補正発明と引用例１発明とを比較すると、両者は、
「トラックピッチが２００〜４００ｎｍで、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５０ｎｍ以下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、
　基板上に金属反射層を形成する金属反射層形成工程；
　該金属反射層上に有機色素系の記録層を塗布法で形成する記録層形成工程；及び
　該記録層上にカバー層を形成するカバー層形成工程；
をこの順に有する光情報記録媒体の製造方法」である点で一致し、以下の点で相違している。
　
　ア．カバー層の厚さが、本願補正発明では、０．０１〜０．５ｍｍと特定されているのに対し、引用例１発明では特定されていない点。［相違点１］
　イ．本願補正発明では金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの時間が６時間以下であるのに対し、引用例１発明では、金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの時間について特定されていない点。［相違点２］
　ウ．本願補正発明では、金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの保存温度を２０〜２５℃とし、保存湿度を３０〜５０％とするのに対し、引用例１発明では、金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの保存温度、保存湿度について特定されていない点。［相違点３］
　
（４）判断
［相違点１］について
　引用例１には、本願補正発明のカバー層に相当する光透過層として厚さ１００μｍ（０．１ｍｍ）のポリカーネート製薄型シートを用いた例（実施例３）が記載されている。
　カバー層の厚みとして、０．１ｍｍを含む範囲である０．０１〜０．５ｍｍとすることは当業者が適宜設定しうる範囲にすぎない。
　
［相違点２］について
　引用例２には、光反射層の成膜後に２秒以上、５分以内で前記保護層を形成して構成することにより、銀を含む材料からなる光反射層の成膜後に、該光反射層が酸化されるのを有効に防止することができ、光反射率の向上、エラーの発生率の低下を促進させることができることが記載されている。（上記イ−１〜イ−３）。
　スパッタ法等により製膜される金属反射層が酸化されやすいことは周知であり、引用例１発明において、金属反射膜を製膜後長時間空気に晒すことなく、速やかに金属反射膜をカバー層で保護すべきであることは当業者にとって自明である。
　金属反射層形成工程の終了直後からカバー層形成工程開始までの時間を６時間以下とすることは、当業者が適宜なしうる事項にすぎず、金属反射膜の製膜からカバー層形成までの時間が６時間以下であることに格別な技術的意義があるものと認めることはできない。
　
［相違点３］について
　一般に、金属が空気中の酸素や湿気によって酸化されることや、化学反応は温度が高いほど早くなることは、当業者にとって技術常識であるから、金属反射層形成工程の終了直後からカバー層形成工程開始まで高温多湿を避けて保存することは常套手段である。
　そうすると、保存温度を通常の室温の範囲内である２０〜２５℃とし、保存湿度を３０〜５０％とすることは当業者が容易に想到しうる事項にすぎず、かかる保存温度、保存湿度とすることによる効果も当業者が予測しうるものである。
　
　そして、本願補正発明の上記各相違点について総合的に検討しても、上記各相違点による作用効果は、引用例１、引用例２及び技術常識から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　なお、請求人は、「本願発明が解決しようとする課題は、基板上に反射層と記録層と光透過層とが順次形成されたブルーレイディスクの層構成で、かつ有機色素を含有する塗布液を塗布して記録層を形成する光情報記録媒体において特有の課題である」旨主張しているが、金属反射層が酸化されることによりエラー発生率が上昇することを防止するため、形成後の金属反射層が水分・酸素に晒される時間を短くすることは、引用例２の光情報記録媒体と共通する事項であるから、本願補正発明と層構成が同じ光情報記録媒体が記載された引用例１に対し、引用例２に記載の発明を結びつける動機付けがある。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例１及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１７年７月１９日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１７年４月１８日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「トラックピッチが２００〜４００ｎｍで、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５０ｎｍ以下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、
　基板上に金属反射層を形成する金属反射層形成工程；
　該金属反射層上に有機色素系の記録層を形成する記録層形成工程；及び
　該記録層上に０．０１〜０．５ｍｍのカバー層を形成するカバー層形成工程；
をこの順に有し、
　前記金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの時間が１２時間以下であること、及び
　前記金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの保存温度を２０〜４０℃とし、保存湿度を３０〜８０％とすること、
を特徴とする光情報記録媒体の製造方法。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、および、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明において限定された事項である、「記録層」の形成方法を「塗布法」とした限定、「金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形成工程開始までの時間」について補正前の「１２時間以下」を「６時間以下」とした限定、同じく「保存温度及び湿度」について、それぞれ「２０〜４０℃、３０〜８０％」を「２０〜２５℃、３０〜５０％」とその範囲をさらに限定を解除したものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。