(57)【要約】  この回折格子ユニット（１０）は、第１方向と第２方向とにより規定されるＸ線透過面（４）を有する平板状の単位回折格子（１）を複数備える。単位回折格子（１）は、隣接する単位回折格子（１）をＸ線透過面（４）と直交する第３方向に部分的に重ねて配置されているとともに、Ｘ線高吸収体（３）同士、またはＸ線低吸収体（２）同士が第３方向に互いに重なる領域を有する。
2018066198.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、前記Ｘ線高吸収体と前記Ｘ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の単位回折格子を複数備え、
前記単位回折格子は、隣接する単位回折格子を前記Ｘ線透過面と直交する第３方向に部分的に重ねて配置されているとともに、前記単位回折格子と、前記第３方向に部分的に重ねて配置された単位回折格子とがＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が前記第３方向に互いに重なる領域を有する、回折格子ユニット。
【請求項２】
前記第３方向から見て、互いに重ねて配置された複数の前記単位回折格子の格子ピッチが全体として略一定の状態を保つように、前記単位回折格子同士が重ねて配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項３】
前記単位回折格子の前記第１方向の端部に前記Ｘ線高吸収体が配置され、
前記単位回折格子同士の重なり部において、前記端部の前記Ｘ線高吸収体同士が前記第３方向に互いに重なり合うように配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項４】
隣接する前記単位回折格子同士が、前記第３方向に互いに接触した状態で積層されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項５】
複数の前記単位回折格子が、平板状の基板の一方表面および他方表面にそれぞれ配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項６】
前記単位回折格子は、前記Ｘ線高吸収体と前記Ｘ線低吸収体とが交互に並ぶ格子領域の少なくとも前記第１方向の外側に設けられた接続部を有しており、
前記接続部は、Ｘ線低吸収体から構成されているとともに、前記接続部は、前記第３方向に重ねて配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項７】
Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、前記Ｘ線高吸収体と前記Ｘ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の単位回折格子を複数備えた格子ユニットの製造方法であって、
互いに隣接する前記単位回折格子同士を、前記Ｘ線透過面と直交する第３方向に相互にずらして保持する工程と、
前記第３方向に相互にずらして保持された前記単位回折格子のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が互いに重なる領域を有するように、前記第１方向の位置を合わせる工程と、
前記第１方向の位置を合わせた単位回折格子同士を固定する工程と、を備える、格子ユニットの製造方法。
【請求項８】
前記単位回折格子と前記第３方向に相互にずらして保持された単位回折格子との前記第１方向の位置を合わせる工程は、前記単位回折格子に所定波長の電磁波を照射することによって得られる透過像もしくは回折像に基づいて、各単位回折格子の相互位置を合わせる工程を含む、請求項７に記載の格子ユニットの製造方法。
【請求項９】
Ｘ線源と、
Ｘ線の照射方向と直交する方向に複数のスリットが配列されて構成された複数の格子ユニットと、
検出器とを備え、
前記格子ユニットが、請求項１に記載の構造を有する、Ｘ線位相イメージ撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回折格子ユニット、格子ユニットの製造方法およびＸ線位相イメージ撮影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、回折格子を備えた回折格子ユニットおよび回折格子を備えたＸ線位相イメージ撮影装置が知られている。このような回折格子を備えた回折格子ユニットおよび回折格子を備えたＸ線位相イメージ撮影装置は、たとえば、国際公開第２０１１／０３３７９８号および特開２０１３−１９８６６１号公報に開示されている。【０００３】
上記国際公開第２０１１／０３３７９８号には、回折格子を用いてＸ線の位相変化によってコントラストを得る位相コントラスト法を用いたＸ線位相イメージ撮影装置が開示されている。すなわち、位相格子と、位相格子の後面に設けられた吸収格子との干渉によって形成されるモアレ縞を観察する方法が開示されている。モアレ縞の観察方法として、格子を一定周期間隔に走査して得られた複数のモアレ縞画像から再構成画像を作成する方法（縞走査法）によって、位相イメージ画像を得ている。【０００４】
上記国際公開第２０１１／０３３７９８号のように、Ｘ線用の回折格子をＸ線診断装置に用いる場合、一度に診断する診断面積の都合上、撮像面積と同程度以上の面積（たとえば、一辺が２０ｃｍ以上の正方形）の回折格子が必要となる。非破壊検査用のＸ線画像観察装置においても、大面積化のニーズが存在しており、大型の回折格子が求められている。しかしながら、シリコン等の半導体ウェハ、樹脂もしくはガラス基板を用いて上記面積の回折格子を製造することは、均一性等の点から困難である。【０００５】
そこで、従来、撮像面積と同程度以上の面積の回折格子を得る方法として、複数の回折格子を備えた回折格子ユニットを用いる方法が提案されている（特開２０１３−１９８６６１号公報参照）。【０００６】
上記特開２０１３−１９８６６１号公報では、回折格子の格子領域の外側に接続しろ領域を設け、接続しろ同士を当接させて回折格子ユニットを作成する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２０１１／０３３７９８号
【特許文献２】特開２０１３−１９８６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特開２０１３−１９８６６１号公報のように、回折格子の接続しろ同士を当接させて回折格子ユニットを作成する場合、各回折格子の当接部分において、接続しろの分だけ互いの格子が離れることにより、回折格子ユニット全体での格子ピッチが不均等になるため、取得するＸ線画像にアーチファクトが発生するという問題点がある。アーチファクトが発生すると、Ｘ線画像診断や、非破壊検査の妨げとなる。なお、本明細書において、「アーチファクト」とは、回折格子の接続部分において、格子ピッチが不均等になることにより画像に発生する縞模様のことである。【０００９】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、大面積化を図りつつ、Ｘ線画像に発生するアーチファクトを抑制することが可能な、回折格子ユニット、回折格子ユニットの製造方法および、Ｘ線位相イメージ撮影装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における回折格子ユニットは、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の単位回折格子を複数備え、単位回折格子は、隣接する単位回折格子をＸ線透過面と直交する第３方向に部分的に重ねて配置されているとともに、単位回折格子と、第３方向に部分的に重ねて配置された単位回折格子とがＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が第３方向に互いに重なる領域を有するように構成されている。なお、本明細書において、「Ｘ線高吸収体」とは、Ｘ線の吸収率が高い物体であり、たとえば、金や鉛などの重元素を含む。また、「Ｘ線低吸収体」とは、Ｘ線の吸収率が低い物体または空間であり、たとえば、シリコンや樹脂などの軽元素を含み、単にスリット（空間、隙間）で構成されていてもよい。【００１１】
この発明の第１の局面による回折格子ユニットでは、上記のように、単位回折格子を、Ｘ線透過面と直交する第３方向に部分的に重ねて配置するとともに、単位回折格子のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が第３方向に互いに重なる領域を有するように構成する。これにより、隣接する単位回折格子の格子同士を部分的に重ねて格子配列を連続させることができるので、回折格子ユニット全体におけるＸ線高吸収体とＸ線低吸収体との配列による格子ピッチを略均一化することができる。したがって、回折格子ユニットを、大面積を有する回折格子とみなすことができる。その結果、複数の単位回折格子を備えた回折格子ユニットを用いて大面積化を図りつつ、Ｘ線画像にアーチファクトが発生することを抑制することができる。【００１２】
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、第３方向から見て、互いに重ねて配置された複数の単位回折格子の格子ピッチが全体として略一定の状態を保つように、単位回折格子同士が重ねて配置されている。このように構成すれば、第３方向から見た回折格子ユニットの格子ピッチを略均等にすることができるので、格子ピッチが一定でない部分を含む場合に発生するアーチファクトを抑制することができる。その結果、Ｘ線画像に発生するアーチファクトを、より一層抑制することができる。【００１３】
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、単位回折格子の第１方向の端部にＸ線高吸収体が配置され、単位回折格子同士の重なり部において、端部のＸ線高吸収体同士が第３方向に互いに重なり合うように配置されている。このように構成すれば、Ｘ線高吸収体はＸ線を吸収するために設けられているので、重なり部においてＸ線高吸収体の厚みが増加することとなり、Ｘ線をより吸収する方向に寄与し、Ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙが向上する。【００１４】
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、隣接する単位回折格子同士が、第３方向に互いに接触した状態で積層されている。このように構成すれば、隣接する単位回折格子同士を隙間なく積層することができる。その結果、隣接する単位回折格子同士を離して配置する場合と比較して、Ｘ線画像に発生するアーチファクトの発生をより一層抑制することができる。【００１５】
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、複数の単位回折格子が、平板状の基板の一方表面および他方表面にそれぞれ配置されている。このように構成すれば、１枚の基板に複数の単位回折格子を接合することによって回折格子ユニットを構成することができる。その結果、単位回折格子同士を直接接合させる場合と比較して、単位回折格子と、基板との接合面積が大きくなるため、単位回折格子の接合が容易になるとともに、回折格子ユニットの機械的強度を向上させることができる。【００１６】
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、単位回折格子は、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ格子領域の少なくとも第１方向の外側に設けられた接続部を有しており、接続部は、Ｘ線低吸収体から構成されているとともに、接続部は、第３方向に重ねて配置されている。このように構成すれば、単位回折格子の接続部同士をＸ線透過面と直交する第３方向に重ねて配置することによって、単位回折格子の端部のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士をＸ線透過面と直交する第３方向に重ねて配置することができる。これにより、格子領域の外側に接続部を有している場合でも、Ｘ線低吸収体同士またはＸ線高吸収体同士が重なった回折格子ユニットを得ることができる。【００１７】
この発明の第２の局面における回折格子ユニットの製造方法は、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の単位回折格子を複数備えた格子ユニットの製造方法であって、互いに隣接する単位回折格子同士を、Ｘ線透過面と直交する第３方向に相互にずらして保持する工程と、第３方向に相互にずらして保持された単位回折格子のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が互いに重なる領域を有するように、第１方向の位置を合わせる工程と、第１方向の位置を合わせた単位回折格子同士を固定する工程とを備える。【００１８】
この発明の第２の局面における回折格子ユニットの製造方法では、上記のように、互いに隣接する単位回折格子同士をＸ線透過面と直交する第３方向にずらして保持する工程と、単位回折格子のＸ線高吸収体またはＸ線低吸収体同士が重なる領域を有するように第１方向の位置を合わせる工程と、第１方向の位置を合わせた単位回折格子同士を固定する工程とを備える。これらの工程により、隣接する単位回折格子の格子同士を部分的に重ねて格子配列を連続させることができるので、回折格子ユニット全体における、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体との配列による格子ピッチを均一化することができる。その結果、回折格子ユニットを、単一の回折格子とみなすことができるので、大面積化を図りつつ、Ｘ線画像に発生するアーチファクトを抑制できる回折格子ユニットを製造することが可能となる。【００１９】
この場合、好ましくは、単位回折格子と第３方向に相互にずらして保持された単位回折格子との第１方向の位置を合わせる工程は、単位回折格子に所定波長の電磁波を照射することによって得られる透過像もしくは回折像に基づいて、各単位回折格子の相互位置を合わせる工程を含む。これにより、微細構造の単位回折格子を直接見て位置合わせを行うのではなく、投影面に投影された透過像もしくは回折像に基づいてピッチを拡大させて位置合わせを行うことができる。その結果、単位回折格子同士の位置合わせが容易になる。【００２０】
この発明の第３の局面におけるＸ線位相イメージ撮影装置は、Ｘ線源と、Ｘ線の照射方向と直交する方向に複数のスリットが配列されて構成された複数の格子ユニットと、検出器とを備え、格子ユニットが、上記第１の局面に記載のいずれか１つの構造を有するように構成されている。【００２１】
この発明の第３の局面によるＸ線位相イメージ撮影装置では、上記のように、Ｘ線源と、上記第１の局面に記載のいずれか１つの格子ユニットと、検出器とを備えるように構成されている。これにより、複数の単位回折格子が、Ｘ線高吸収体同士またはＸ線低吸収体同士がＸ線の照射方向に重なるように配置されて構成されている回折格子ユニットによってＸ線画像を撮像することができる。その結果、大面積化を図りつつ、アーチファクトの発生が抑制されたＸ線画像を撮像することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、上記のように、大面積化を図りつつ、Ｘ線画像に発生するアーチファクトを抑制することが可能な、回折格子ユニット、回折格子ユニットの製造方法および、Ｘ線位相イメージ撮影装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第１実施形態のＸ線位相イメージ装置の全体構造を示す図である。
【図２】本発明の第１実施形態の回折格子ユニットを構成する単位回折格子を示す斜視図である。
【図３】本発明の第１実施形態の回折格子ユニットの全体を示す模式的な斜視図である。
【図４】本発明の第１実施形態の回折格子ユニットの図３の２００−２００線に沿った回折格子ユニットの平面図である。
【図５】本発明の第１実施形態の回折格子ユニットの位置合わせを行う装置の構成図である。
【図６】本発明の第１実施形態の回折格子ユニットの位置がずれている状態を表すイメージ図（Ａ）と位置があっている状態を表すイメージ図（Ｂ）である。
【図７】本発明の第２実施形態の回折格子ユニットの平面図である。
【図８】本発明の第３実施形態の回折格子ユニットの平面図である。
【図９】本発明の第４実施形態の回折格子ユニットの平面図である。
【図１０】本発明の第５実施形態の回折格子ユニットの平面図である。
【図１１】本発明の第１実施形態の第１変形例の回折格子ユニットの斜視図である。
【図１２】本発明の第１実施形態の第２変形例の回折格子ユニットの斜視図である。
【図１３】本発明の第５実施形態の第１変形例の回析格子ユニットの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２５】
［第１実施形態］
図１〜図６を参照して、本発明の第１実施形態によるＸ線位相イメージ装置１００の構成、回折格子ユニット１０の構成および回折格子ユニット１０の製造方法について説明する。
【００２６】
（Ｘ線位相イメージ装置の構成）
まず、図１を参照して、第１実施形態によるＸ線位相イメージ装置１００の構成について説明する。
【００２７】
図１に示すように、Ｘ線位相イメージ装置１００は、Ｘ線源１０１と、マルチスリット１０２と、位相格子１０３と、被写体１０４と、回折格子ユニット１０と、検出器１０５とを備えている。なお、本明細書において、Ｘ線源１０１からマルチスリット１０２に向かう方向をＺ２方向、その逆向きの方向をＺ１方向とする。また、Ｚ方向と直交する面内の左右方向をＸ方向とし、紙面の奥に向かう方向をＸ２方向、紙面の手前側に向かう方向をＸ１方向とする。また、Ｚ方向と直交する面内の上下方向をＹ方向とし、上方向をＹ１方向、下方向をＹ２方向とする。なお、Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向はそれぞれ、請求の範囲の「第１方向」、「第２方向」および「第３方向」の一例である。
【００２８】
Ｘ線源１０１は、高電圧が印加されることにより、Ｘ線を発生させるとともに、発生されたＸ線を照射するように構成されている。
【００２９】
マルチスリット１０２はＹ方向に所定の周期（ピッチ）で配列される複数のスリット１０２ａおよびＸ線吸収部１０２ｂを有している。各スリット１０２ａおよびＸ線吸収部１０２ｂはＸ方向に延びるように構成されている。
【００３０】
マルチスリット１０２は、Ｘ線源１０１と位相格子１０３との間に設置されており、Ｘ線源１０１からＸ線が照射される。マルチスリット１０２は、各スリット１０２ａを通過したＸ線を、各スリット１０２ａの位置に対応する線光源とするように構成されている。これにより、マルチスリット１０２は、Ｘ線源１０１から照射されるＸ線の可干渉性を高めることが可能である。
【００３１】
位相格子１０３は、Ｙ方向に所定の周期（ピッチ）で配列される複数のスリット１０３ａおよび、Ｘ線位相変化部１０３ｂを有している。各スリット１０３ａおよびＸ線位相変化部１０３ｂはそれぞれ、Ｘ方向に延びるように形成されている。
【００３２】
位相格子１０３は、マルチスリット１０２と、回折格子ユニット１０との間に設置されており、マルチスリット１０２を通過したＸ線が照射される。位相格子１０３は、タルボ効果により、自己像を形成するために設けられている。可干渉性を有するＸ線が、スリットが形成された格子を通過すると、格子から所定の距離（タルボ距離）離れた位置に、格子の像（自己像）が形成される。これをタルボ効果という。自己像は、Ｘ線の干渉によって生じる干渉縞である。
【００３３】
回折格子ユニット１０は、Ｙ方向に所定の周期（ピッチ）で配列される複数のＸ線低吸収体２およびＸ線高吸収体３とを有する複数の単位回折格子１を備えている。
【００３４】
回折格子ユニット１０は、位相格子１０３と検出器１０５との間に配置されており、位相格子１０３を通過したＸ線が照射される。また、回折格子ユニット１０は、位相格子１０３からタルボ距離離れた位置に配置される。回折格子ユニット１０は、位相格子１０３の自己像と干渉して、モアレ縞（図示せず）を形成する。
【００３５】
検出器１０５は、Ｘ線を検出するとともに、検出されたＸ線を電気信号に変換し、変換された電気信号を画像信号として読み取るように構成されている。検出器１０５は、たとえば、ＦＰＤ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）である。検出器１０５は、複数の変換素子（図示せず）と複数の変換素子上に配置された画素電極（図示せず）とにより構成されている。複数の変換素子および画素電極は、所定の周期（画素ピッチ）で、Ｘ方向およびＹ方向に並んで配置されている。
【００３６】
検出器１０５の検出信号から、モアレ縞を写したモアレ画像が得られる。Ｘ線位相イメージ装置１００は、回折格子ユニット１０をＹ方向に一定周期間隔で走査して得られた複数のモアレ画像から、各画像の位相差に基づく再構成画像（Ｘ線位相イメージ）を生成するように構成されている。
【００３７】
（回折格子ユニットの構成）
次に、回折格子ユニット１０の構成について詳細に説明する。回折格子ユニット１０は、たとえば、Ｘ線リソグラフィやＤｅｅｐ−ＲＩＥなどの手法によって、シリコンや樹脂などのＸ線低吸収基板に深溝を形成し、その後、形成された深溝に金などのＸ線高吸収体３の充填めっきを行うことによって作製される単位回折格子１を複数備えた構成となっている。単位回折格子の例として、たとえば、図２に示す単位回折格子１がある。図２に示す単位回折格子１は、一辺が長さＡ（たとえば、５ｃｍ）の正方形であり、厚さがＨ（たとえば、２００μｍ）の回折格子である。単位回折格子１は、金などの重金属により構成される幅Ｌ（たとえば、２．５μｍ）のＸ線高吸収体３と、シリコンや樹脂などから構成される幅Ｓ（たとえば、２．５μｍ）のＸ線低吸収体２とを有している。Ｘ線低吸収体２は、シリコンや樹脂などに深溝が掘られた櫛形となっている。また、Ｘ線高吸収体３は、Ｚ方向に長辺を有する矩形状となっている。単位回折格子１は、Ｘ線高吸収体３と、Ｘ線低吸収体２とが、Ｘ方向に交互に並ぶように構成されている。幅Ｌと幅Ｓとの比率は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、単位回折格子１の格子ピッチＰは、Ｘ線高吸収体３の幅ＬとＸ線低吸収体２の幅Ｓとを合わせた長さ（たとえば５．０μｍ）となっている。また、単位回折格子１の別の例としては、図３に示すように、Ｙ方向に長手の矩形状の単位回折格子１ａ〜１ｄであってもよい。
【００３８】
図３に示すように、回折格子ユニット１０は、Ｘ線高吸収体３とＸ線低吸収体２とが交互に並ぶＸ方向と、Ｘ線高吸収体３とＸ線低吸収体２とが並行に延びるＹ方向とによって規定されるＸ線透過面４ａ〜４ｄを有する平板状の単位回折格子１ａ、１ｂ、１ｃおよび１ｄを備える。単位回折格子１ａ〜１ｄは、隣接する単位回折格子をＸ線透過面と直交するＺ方向にそれぞれ部分的に重ねて配置されている。Ｚ方向に部分的に重ねて配置された単位回折格子１ａ〜１ｄそれぞれが、Ｘ線高吸収体３同士、またはＸ線低吸収体２同士がＺ方向に互いに重なる重なり部１１ａ〜１１ｃを有するように構成されている。第１実施形態では、Ｘ線低吸収体２同士が互いに重なる構成の例を示す。
【００３９】
具体的には、図４に示す回折格子ユニット１０では、重なり部１１ａにおいて、単位回折格子１ａの端部のＸ線低吸収体２と、単位回折格子１ｂの端部のＸ線低吸収体２とが重なるように配置されている。単位回折格子１ｂと単位回折格子１ｃとの重なり部１１ｂおよび、単位回折格子１ｃと単位回折格子１ｄとの重なり部１１ｃにおいても同様に、単位回折格子の端部のＸ線低吸収体２同士がＺ方向に重なるように配置されている。なお、「Ｚ方向に重なる」とは、単位回折格子１ａのＸ線透過面４ａのＺ１側と単位回折格子１ｂのＸ線透過面４ｂのＺ２側とが、重なり部１１ａで重なることをいう。
【００４０】
互いに重なり合うＸ線低吸収体２同士は、Ｘ方向位置が完全に一致するように重なってもよいし、互いにずれて（たとえば、Ｓ／２程度）いてもよい。図４に示す第１実施形態では、Ｚ方向から見て互いに重ねて配置された単位回折格子１ａ〜１ｄの格子ピッチＰが全体として略一定の状態を保つように単位回折格子１ａ〜１ｄ同士が重ねて配置されている。つまり、重なり合うＸ線低吸収体２同士のＸ方向位置が完全に一致している。
【００４１】
また、第１実施形態では、隣接する単位回折格子１ａ〜１ｄが、Ｚ方向に互いに接触した状態で積層されている。つまり、重なり部１１ａ〜１１ｃにおいて、Ｘ線透過面４ａ〜４ｄが互いに接触している。
【００４２】
また、第１実施形態では、隣接する単位回折格子１ａ〜１ｄが、重なり部１１ａ〜１１ｃにおいて、互いに接合されている。これにより、各単位回折格子１同士が相互に固定された回折格子ユニット１０が構成されている。単位回折格子１同士の接合は、たとえば、真空接合、オプティカルコンタクト、陽極酸化接合、接着などの方法のうちのいずれか１つを用いることができる。
【００４３】
（第１実施形態の構造の効果）
第１実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００４４】
第１実施形態では、上記のように、回折格子ユニット１０に、単位回折格子１ａ、１ｂ、１ｃおよび１ｄを設け、単位回折格子１ａ〜１ｄを、隣接する単位回折格子をＸ線透過面と直交するＺ方向にそれぞれ部分的に重ねて配置し、Ｚ方向に部分的に重ねて配置された単位回折格子１ａ〜１ｄそれぞれを、Ｘ線高吸収体３同士、またはＸ線低吸収体２同士がＺ方向に互いに重なる重なり部１１ａ〜１１ｃを有するように構成する。これにより、隣接する単位回折格子１ａ〜１ｄの格子同士を部分的に重ねて格子配列を連続させることができるので、回折格子ユニット１０全体における、Ｘ線高吸収体３とＸ線低吸収体２との配列による格子ピッチを略均一化することができる。したがって、回折格子ユニット１０を一つの回折格子であるとみなすことができる。その結果、大面積化を図りつつ、連続した格子を有するＸ線画像に発生するアーチファクトを抑制することができる。
【００４５】
また、第１実施形態では、上記のように、Ｚ方向から見て互いに重ねて配置された単位回折格子１ａ〜１ｄの格子ピッチＰが全体として略一定の状態を保つように、単位回折格子１ａ〜１ｄ同士を重ねて配置する。これにより、回折格子ユニット１０の全体で、格子ピッチＰが均等となる。その結果、Ｘ線画像に発生するアーチファクトをより一層抑制することができる。
【００４６】
また、第１実施形態では、上記のように、隣接する単位回折格子１ａ〜１ｄが、Ｚ方向に互いに接触した状態で積層されている。これにより、隣接する単位回折格子１同士の隙間をなくすことができる。その結果、隣接する単位回折格子１同士を離して積層する場合と比べて、Ｘ線画像に発生するアーチファクトをさらに抑制することができる。
【００４７】
（回折格子ユニットの製造方法）
次に、回折格子ユニット１０の製造方法について説明する。
【００４８】
（Ｘ線透過面をＺ方向にずらす工程）
まず、図４に示すように、単位回折格子１ｂを単位回折格子１ａに対してＺ１方向にずらして保持する。単位回折格子１ｃおよび１ｄに対しても同様に位置合わせを行い保持する。
【００４９】
（単位回折格子のＸ方向の位置を合わせる工程）
次に、第１実施形態では、単位回折格子１ａと１ｂとの格子ピッチＰが連続するように、Ｘ方向の位置合わせを行う。具体的には、図５に示すＸ線位相イメージ装置１１０を用いてＸ方向の位置合わせを行う。すなわち、Ｘ線源１０１から回折格子ユニット１０に対してＸ線を照射し、検出器１０５に現れる回折像に基づき、Ｘ方向の位置を合わせる。単位回折格子１ａと１ｂとのＸ方向の位置がずれている場合、図６（Ａ）の領域１２に示すように、回折格子ユニット１０の回折像１０ａのピッチが一致しない部分がある。そこで、図６（Ｂ）に示す回折像１０ｂのように、回折格子ユニット１０のピッチが一定となるように単位回折格子１ａと１ｂとのＸ方向の位置合わせを行う。単位回折格子１ｃおよび１ｄに対しても同様にＸ方向の位置合わせを行う。
【００５０】
（単位回折格子を固定する工程）
その後、Ｚ方向およびＸ方向の位置合わせが完了した単位回折格子１ａ、１ｂ、１ｃおよび１ｄのそれぞれの重なり部１１ａ〜１１ｃにおいて、上記接合方法のうちのいずれか１つにより単位回折格子を固定することにより、回折格子ユニット１０が完成する。
【００５１】
（第１実施形態の製造方法の効果）
第１実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００５２】
第１実施形態では、上記のように、単位回折格子１をＺ方向にずらす工程と、Ｘ線位相イメージ装置１１０のＸ線源１０１から回折格子ユニット１０に対してＸ線を照射し、検出器１０５で得られる回折像に基づき単位回折格子１ａ〜１ｄのＸ方向の位置を合わせる工程と、回折格子を固定する工程とを設ける。これにより、隣接する単位回折格子１ａ〜１ｄの格子同士を部分的に重ねて格子配列を連続させることができるので、回折格子ユニット１０全体における、Ｘ線高吸収体３とＸ線低吸収体２との配列による格子ピッチを均一化することができる。したがって、回折格子ユニット１０を、大面積を有する回折格子とみなすことができる。その結果、大面積化を図りつつ、Ｘ線画像に発生するアーチファクトを抑制する回折格子ユニット１０を作成することができる。
【００５３】
［第２実施形態］
次に、図７を参照して、本発明の第２実施形態による回折格子ユニット２０について説明する。端部にＸ線低吸収体２が配置された単位回折格子１ａ〜１ｄのＸ線低吸収体２同士を重ねて構成されている第１実施形態とは異なり、第２実施形態では、端部にＸ線高吸収体３を配置した単位回折格子１ｅ〜１ｈのＸ線高吸収体３同士を重ねて構成されている。なお、上記第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。
【００５４】
図７に示すように、第２実施形態による回折格子ユニット２０では、端部にＸ線高吸収体３を配置した単位回折格子１ｅ〜１ｈによって構成されている。具体的には、回折格子ユニット２０では、重なり部２１ａ〜２１ｃにおいて、単位回折格子１ｅ〜１ｈのＸ線高吸収体３同士がＺ方向に重なり合うように構成されている。
【００５５】
Ｘ線高吸収体３はＸ線を吸収するために設けられているので、重なり部２１ａ〜２１ｃにおいてＸ線高吸収体３のＺ方向の厚みが増加することとなり、Ｘ線をより吸収する方向に寄与し、Ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙが向上する。一方、第１実施形態のように、Ｘ線低吸収体２の部分で重ね合わせると、Ｘ線低吸収体２のＺ方向の厚みが増加することとなり、Ｘ線の透過量の減少につながり、Ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙにとっては良くない。従って、Ｘ線高吸収体３同士がＺ方向に重なり合うように構成することが好ましい。また、Ｘ線高吸収体３は金や鉛等の重元素を含むことから、シリコンや樹脂等の軽元素を含むＸ線低吸収体２と比較して強度が高く、従って、Ｘ線高吸収体３同士がＺ方向に重なり合うように構成すれば重なり部２１ａ〜２１ｃの強度を高めることができる。
【００５６】
［第３実施形態］
次に、図８を参照して、本発明の第３実施形態による回折格子ユニット３０について説明する。第３実施形態では、上記第１実施形態とは異なり、単位回折格子１ａ〜１ｄの重なり部３１ａ〜３１ｃにおいて、単位回折格子の交互に並ぶＸ線低吸収体２およびＸ線高吸収体３のうち複数が、Ｚ方向に互いに重なり合うように構成されている。なお、複数とは、２つ以上のＸ線低吸収体２またはＸ線高吸収体３であればよい。複数の一例として、図８では、３つのＸ線低吸収体２と、２つのＸ線高吸収体３とが重なりあう例を示している。なお、上記第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。
【００５７】
図８に示すように、第３実施形態による回折格子ユニット３０では、単位回折格子１ａ〜１ｄそれぞれの重なり部３１ａ〜３１ｃにおいて、３対のＸ線低吸収体２と、２対のＸ線高吸収体３とがＺ方向に重なるように構成されている。このため、第３実施形態では、重なり部３１ａ〜３１ｃの面積が大きくなっており、各単位回折格子１ａ〜１ｄは、これらの重なり部３１ａ〜３１ｃの全体で面接触した状態で互いに接合されている。
【００５８】
なお、第３実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００５９】
（第３実施形態の効果）
第３実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００６０】
第３実施形態では、上記のように、重なり部３１ａ〜３１ｃにおいて、３対のＸ線低吸収体２と２対のＸ線高吸収体３とがＺ方向に重なるように構成されている。これにより、単位回折格子１同士の当接面積を大きくすることができるので、単位回折格子１のＸ方向の位置合わせが容易になるとともに、重なり部３１ａ〜３１ｃにおいて、単位回折格子１同士が接合されるので、回折格子ユニット３０の機械的強度を向上させることができる。
【００６１】
［第４実施形態］
次に、図９を参照して、本発明の第４実施形態による回折格子ユニット４０について説明する。第４実施形態では、単位回折格子１ａ〜１ｄの端部同士をそれぞれ接合する上記第１実施形態とは異なり、単位回折格子１ａ〜１ｄが平板状の基板７の一方表面７ａおよび他方表面７ｂにそれぞれ配置されている。なお、上記第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。
【００６２】
第４実施形態では、基板７は、樹脂などのＸ線低吸収体で作成されている。基板７の厚みは、図９では便宜上、単位回折格子１よりも小さく図示しているが、単位回折格子１と同等かそれ以上の厚みを有していてもよい。単位回折格子１と基板７とは、Ｘ線透過面４のＺ１側と基板７の他方表面７ｂと、もしくはＸ線透過面４のＺ２側と基板７の一方表面７ａとが接合されている。単位回折格子１ａ〜１ｄは、基板７を介してＺ方向にずれて重なっているので、単位回折格子同士は離れた位置で接合されている。
【００６３】
なお、第４実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００６４】
（第４実施形態の効果）
第４実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００６５】
第４実施形態では、基板７の一方表面７ａおよび他方表面７ｂに単位回折格子１ａ〜１ｄをそれぞれ接合するように構成されている。これにより、単位回折格子１ａ〜１ｄと、基板７との接合面積を大きくすることができるので、単位回折格子１ａ〜１ｄの接合が容易になるとともに、回折格子ユニット４０の機械的強度を向上させることができる。
【００６６】
［第５実施形態］
次に、図１０を参照して、本発明の第５実施形態による回折格子ユニット５０について説明する。第５実施形態では、上記第１実施形態で用いた単位回折格子１とは異なり、単位回折格子１ａおよび１ｂは、Ｘ線高吸収体３とＸ線低吸収体２とが交互に並ぶ格子領域の少なくともＸ方向の外側に接続部８を有している。なお、上記第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。
【００６７】
接続部８は、Ｘ線低吸収体から構成されているとともに、接続部８はＺ方向に重ねて配置されている。また、第５実施形態では、接続部８ｂのＺ２側に凹部５１を形成し、接続部８ｃのＺ１側に凸部５２を形成し、接続部８ｂの凹部５１と接続部８ｃの凸部５２とを嵌め合わせて接合している。なお、接続部とは、格子領域の外側に設けられる部分であり、Ｘ線低吸収体で形成されている。接続部は、微細構造の単位回折格子の格子領域を保護するために形成される。また、接続部は、単位回折格子と一体的に形成されていてもよいし、樹脂などにより別体で形成されていてもよい。接続部の形状は、図１０に示すようなコの字型でもよいし、単位回折格子と同じ面が長手の矩形状でもよい。
【００６８】
第５実施形態では、単位回折格子１のＸ方向の両端に、接続部８が設けられ、互いにＸ線透過面４と直交するＺ方向に重ねて配置されている。このように構成すれば、単位回折格子１ａの接続部８ｂと、単位回折格子１ｂの接続部８ｃとを、Ｘ線透過面４と直交するＺ方向に重ねて配置することによって、単位回折格子１ａおよび、１ｂの端部のＸ線高吸収体３同士、またはＸ線低吸収体２同士をＸ線透過面４と直交するＺ方向に重ねて配置することができる。これにより、格子領域の外側に接続部８を有している場合でも、Ｘ線低吸収体２同士または、Ｘ線高吸収体３同士が重なった回折格子ユニット１０を得ることができる。
【００６９】
（変形例）
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。
【００７０】
たとえば、上記第１〜第５実施形態では、Ｙ方向に長い長方形の回折格子を備える例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図１１に示すように、Ｙ方向にも単位回折格子を重ねて配置する構成でもよい。
【００７１】
また、上記第１〜第５実施形態では、単位回折格子がＺ方向に２層となる例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図１２に示すように、単位回折格子がＺ方向に４層となるように構成されていてもよい。
【００７２】
また、上記第３実施形態では、３対のＸ線低吸収体２と、２対のＸ線高吸収体３とを重ねる構成を示したが、本発明はこれに限られない。２つの単位回折格子がＸ方向でずれていれば、重ねるピッチ数は問わない。
【００７３】
また、上記第５実施形態では、単位回折格子１のＸ方向の両側に接続部８を設ける例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｚ方向の両端にさらに接続部８を設けて、単位回折格子１の４面に接続部８を有する構成でもよいし、Ｙ方向の両端にさらに接続部８を設けて、図１３に示すように、単位回折格子１の６面に接続部８を有する構成でもよい。
【符号の説明】
【００７４】
１、１ａ〜１ｄ  単位回折格子
２  Ｘ線低吸収体
３  Ｘ線高吸収体
４  Ｘ線透過面
７  平板状の基板
８ａ〜８ｄ  接続部
１０、４０、５０  回折格子ユニット
１１、１１ａ〜１１ｃ  重なり部
１００  Ｘ線位相イメージ装置
１０１  Ｘ線源
１０５  検出器
【図１】
2018066198.tif 000003
【図２】
2018066198.tif 000004
【図３】
2018066198.tif 000005
【図４】
2018066198.tif 000006
【図５】
2018066198.tif 000007
【図６】
2018066198.tif 000008
【図７】
2018066198.tif 000009
【図８】
2018066198.tif 000010
【図９】
2018066198.tif 000011
【図１０】
2018066198.tif 000012
【図１１】
2018066198.tif 000013
【図１２】
2018066198.tif 000014
【図１３】
2018066198.tif 000015
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月29日(2019.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、前記Ｘ線高吸収体と前記Ｘ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の基板に設けられた単位回折格子を複数備え、
前記単位回折格子は、隣接する単位回折格子を前記Ｘ線透過面と直交する第３方向に部分的に重ねて配置されているとともに、前記単位回折格子と、前記第３方向に部分的に重ねて配置された単位回折格子とがＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が前記第３方向に互いに重なる領域を有しており、
前記単位回折格子を構成する前記基板の前記第１方向の端部に格子として機能する前記Ｘ線高吸収体または前記Ｘ線低吸収体が配置され、
前記単位回折格子同士の重なり部において、前記基板の端部の前記Ｘ線高吸収体同士または前記Ｘ線低吸収体同士が前記第３方向に互いに重なり合うように配置されている、回折格子ユニット。
【請求項２】
前記第３方向から見て、互いに重ねて配置された複数の前記単位回折格子の格子ピッチが全体として略一定の状態を保つように、前記単位回折格子同士が重ねて配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項３】
隣接する前記単位回折格子同士が、前記第３方向に互いに接触した状態で積層されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項４】
複数の前記単位回折格子が、平板状の基板の一方表面および他方表面にそれぞれ配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項５】
前記単位回折格子は、前記Ｘ線高吸収体と前記Ｘ線低吸収体とが交互に並ぶ格子領域の少なくとも前記第１方向の外側に設けられた接続部を有しており、
前記接続部は、Ｘ線低吸収体から構成されているとともに、前記接続部は、前記第３方向に重ねて配置されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項６】
前記端部に配置された前記Ｘ線高吸収体の幅または前記Ｘ線低吸収体の幅は、前記端部以外に配置された前記Ｘ線高吸収体の幅または前記Ｘ線低吸収体の幅と一致するように形成されている、請求項１に記載の回折格子ユニット。
【請求項７】
Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、前記Ｘ線高吸収体と前記Ｘ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の基板に設けられた単位回折格子を複数備えた格子ユニットの製造方法であって、
互いに隣接するとともに、前記基板の前記第１方向の端部に格子として機能する前記Ｘ線高吸収体または前記Ｘ線低吸収体が配置された前記単位回折格子同士を、前記Ｘ線透過面と直交する第３方向に相互にずらして保持する工程と、
前記第３方向に相互にずらして保持された前記単位回折格子の前記基板の端部のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が互いに重なる領域を有するように、前記第１方向の位置を合わせる工程と、
前記第１方向の位置を合わせた単位回折格子同士を固定する工程と、を備える、格子ユニットの製造方法。
【請求項８】
前記単位回折格子と前記第３方向に相互にずらして保持された単位回折格子との前記第１方向の位置を合わせる工程は、前記単位回折格子に所定波長の電磁波を照射することによって得られる透過像もしくは回折像に基づいて、各単位回折格子の相互位置を合わせる工程を含む、請求項７に記載の格子ユニットの製造方法。
【請求項９】
前記単位回折格子同士を前記第３方向に相互にずらして保持する工程は、前記端部に配置された前記Ｘ線高吸収体の幅または前記Ｘ線低吸収体の幅が、前記端部以外に配置された前記Ｘ線高吸収体の幅または前記Ｘ線低吸収体の幅と一致するように形成された前記単位回折格子同士を、前記第３方向に相互にずらして保持する工程を含む、請求項７に記載の格子ユニットの製造方法。
【請求項１０】
Ｘ線源と、
Ｘ線の照射方向と直交する方向に複数のスリットが配列されて構成された複数の格子ユニットと、
検出器とを備え、
前記格子ユニットが、請求項１に記載の構造を有する、Ｘ線位相イメージ撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における回折格子ユニットは、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の基板に設けられた単位回折格子を複数備え、単位回折格子は、隣接する単位回折格子をＸ線透過面と直交する第３方向に部分的に重ねて配置されているとともに、単位回折格子と、第３方向に部分的に重ねて配置された単位回折格子とがＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が第３方向に互いに重なる領域を有しており、単位回折格子を構成する基板の第１方向の端部に格子として機能するＸ線高吸収体またはＸ線低吸収体が配置され、単位回折格子同士の重なり部において、基板の端部のＸ線高吸収体同士またはＸ線低吸収体同士が第３方向に互いに重なり合うように配置されている。なお、本明細書において、「Ｘ線高吸収体」とは、Ｘ線の吸収率が高い物体であり、たとえば、金や鉛などの重元素を含む。また、「Ｘ線低吸収体」とは、Ｘ線の吸収率が低い物体または空間であり、たとえば、シリコンや樹脂などの軽元素を含み、単にスリット（空間、隙間）で構成されていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明の第１の局面による回折格子ユニットでは、上記のように、単位回折格子を、Ｘ線透過面と直交する第３方向に部分的に重ねて配置するとともに、単位回折格子のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が第３方向に互いに重なる領域を有しており、単位回折格子を構成する基板の第１方向の端部に格子として機能するＸ線高吸収体またはＸ線低吸収体が配置され、単位回折格子同士の重なり部において、基板の端部のＸ線高吸収体同士またはＸ線低吸収体同士が第３方向に互いに重なり合うように配置されている。これにより、隣接する単位回折格子の格子同士を部分的に重ねて格子配列を連続させることができるので、回折格子ユニット全体におけるＸ線高吸収体とＸ線低吸収体との配列による格子ピッチを略均一化することができる。したがって、回折格子ユニットを、大面積を有する回折格子とみなすことができる。その結果、複数の単位回折格子を備えた回折格子ユニットを用いて大面積化を図りつつ、Ｘ線画像にアーチファクトが発生することを抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、単位回折格子は、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ格子領域の少なくとも第１方向の外側に設けられた接続部を有しており、接続部は、Ｘ線低吸収体から構成されているとともに、接続部は、第３方向に重ねて配置されている。このように構成すれば、単位回折格子の接続部同士をＸ線透過面と直交する第３方向に重ねて配置することによって、単位回折格子の端部のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士をＸ線透過面と直交する第３方向に重ねて配置することができる。これにより、格子領域の外側に接続部を有している場合でも、Ｘ線低吸収体同士またはＸ線高吸収体同士が重なった回折格子ユニットを得ることができる。
上記第１の局面による回折格子ユニットは、好ましくは、端部に配置された前記Ｘ線高吸収体の幅またはＸ線低吸収体の幅は、端部以外に配置されたＸ線高吸収体の幅またはＸ線低吸収体の幅と一致するように形成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この発明の第２の局面における回折格子ユニットの製造方法は、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが交互に並ぶ第１方向と、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体とが平行に延びる第２方向とにより規定されるＸ線透過面を有する平板状の基板に設けられた単位回折格子を複数備えた格子ユニットの製造方法であって、互いに隣接するとともに、基板の第１方向の端部に格子として機能するＸ線高吸収体またはＸ線低吸収体が配置された単位回折格子同士を、Ｘ線透過面と直交する第３方向に相互にずらして保持する工程と、第３方向に相互にずらして保持された単位回折格子の基板の端部のＸ線高吸収体同士、またはＸ線低吸収体同士が互いに重なる領域を有するように、第１方向の位置を合わせる工程と、第１方向の位置を合わせた単位回折格子同士を固定する工程とを備える。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この発明の第２の局面における回折格子ユニットの製造方法では、上記のように、互いに隣接するとともに、基板の第１方向の端部に格子として機能するＸ線高吸収体またはＸ線低吸収体が配置された単位回折格子同士をＸ線透過面と直交する第３方向にずらして保持する工程と、単位回折格子の基板の端部のＸ線高吸収体またはＸ線低吸収体同士が重なる領域を有するように第１方向の位置を合わせる工程と、第１方向の位置を合わせた単位回折格子同士を固定する工程とを備える。これらの工程により、隣接する単位回折格子の格子同士を部分的に重ねて格子配列を連続させることができるので、回折格子ユニット全体における、Ｘ線高吸収体とＸ線低吸収体との配列による格子ピッチを均一化することができる。その結果、回折格子ユニットを、単一の回折格子とみなすことができるので、大面積化を図りつつ、Ｘ線画像に発生するアーチファクトを抑制できる回折格子ユニットを製造することが可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この場合、好ましくは、単位回折格子と第３方向に相互にずらして保持された単位回折格子との第１方向の位置を合わせる工程は、単位回折格子に所定波長の電磁波を照射することによって得られる透過像もしくは回折像に基づいて、各単位回折格子の相互位置を合わせる工程を含む。これにより、微細構造の単位回折格子を直接見て位置合わせを行うのではなく、投影面に投影された透過像もしくは回折像に基づいてピッチを拡大させて位置合わせを行うことができる。その結果、単位回折格子同士の位置合わせが容易になる。
上記第２の局面における回折格子ユニットの製造方法は、好ましくは、単位回折格子同士を第３方向に相互にずらして保持する工程は、端部に配置されたＸ線高吸収体の幅またはＸ線低吸収体の幅が、端部以外に配置されたＸ線高吸収体の幅またはＸ線低吸収体の幅と一致するように形成された単位回折格子同士を、第３方向に相互にずらして保持する工程を含む。
【国際調査報告】
2018066198.tif 000016
2018066198.tif 000017
2018066198.tif 000018
2018066198.tif 000019