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　平成１１年特許願第１７３０１７号「放射光発生装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　１月１２日出願公開、特開２００１−　　６９００〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１１年６月１８日の出願（特願平１１−１７３０１７号）であって、平成１９年４月１２日付で拒絶査定がなされ、これに対して、平成１９年５月１７日付で拒絶査定不服審判の請求がなされ、平成１９年６月１８日付で手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１９年６月１８日付の手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成１９年６月１８日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１については、平成１８年１２月２２日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
「【請求項１】　電子ビームを一定の軌道で安定に周回させるための複数の超電導偏向電磁石と、この超電導偏向電磁石の上下流側に配置された複数のビーム収束用多極電磁石とからなる電子ビームの蓄積リングまたは加速蓄積リングの一部に放射光を発生する挿入光源を装備した放射光発生装置であって、前記挿入光源として超電導ウイグラーを設け、この超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石はともに個々に備えられた１台ないし複数台の冷凍機により、液体ヘリウムを用いずに直接伝熱方式で前記超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石を構成する超電導コイルを冷却し、超電導線材での発熱や外部からの入熱を補って超電導線材を低温に保つ冷凍機直接冷却型としたことを特徴とする放射光発生装置。」が　
　
「【請求項１】　電子ビームを一定の軌道で安定に周回させるための複数の超電導偏向電磁石と、この超電導偏向電磁石の上下流側に配置された複数のビーム収束用多極電磁石とからなる電子ビームの蓄積リングまたは加速蓄積リングの一部に放射光を発生する挿入光源を装備した放射光発生装置であって、前記挿入光源として超電導ウイグラーを設け、前記放射光発生装置に設けられた全ての超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石は個々に備えられた１台ないし複数台の冷凍機により、液体ヘリウムを用いずに直接伝熱方式で前記超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石を構成する超電導コイルを冷却し、超電導線材での発熱や外部からの入熱を補って超電導線材を低温に保つ冷凍機直接冷却型としたことを特徴とする放射光発生装置。」と補正された。
　
　そして、この補正は、個々に備えられた１台ないし複数台の冷凍機により冷却される超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石について、「前記放射光発生装置に設けられた全ての超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石」であると特定したものであるから、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とするものに該当する。
　すなわち、上記補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものを含む。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成１９年６月１８日付手続補正書でなされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「電子ビームを一定の軌道で安定に周回させるための複数の超電導偏向電磁石と、この超電導偏向電磁石の上下流側に配置された複数のビーム収束用多極電磁石とからなる電子ビームの蓄積リングまたは加速蓄積リングの一部に放射光を発生する挿入光源を装備した放射光発生装置であって、前記挿入光源として超電導ウイグラーを設け、前記放射光発生装置に設けられた全ての超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石は個々に備えられた１台ないし複数台の冷凍機により、液体ヘリウムを用いずに直接伝熱方式で前記超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石を構成する超電導コイルを冷却し、超電導線材での発熱や外部からの入熱を補って超電導線材を低温に保つ冷凍機直接冷却型としたことを特徴とする放射光発生装置。」
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１０−２３３３００号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射光装置に用いる電子蓄積リングに関し、特に水平エミッタンスが低く、超電導ウィグラ、多極超電導ウィグラ、ミニアンジュレータ等を挿入して高輝度な放射光を得ることができる電子蓄積リングに関する。」
　
「【００３１】
【実施例】以下、電子ビームエネルギが２．２ＧｅＶ、蓄積電流が０．３Ａ、電子ビームの寿命が１０時間以上という仕様を満たす実施例を表した図面によって、本発明に係る電子蓄積リング構造を詳細に説明する。図１は、本発明の電子蓄積リングに用いる基本モジュール構成を示す電磁石配置図、図２は図１の電磁石配置におけるラティス関数を示す図面、図３は本発明の電子蓄積リングの８分の１に当たる基本構成を示す電磁石配置図、図４は図３の電磁石配置を２セット繋いだリングの４分の１部分におけるラティス関数を示す図面である。また、図５は本実施例における電子蓄積リングの電磁石配置を示す図面である。
【００３２】本実施例の電子蓄積リングにおける基本モジュールは図１に示したトリプルクロマティックベンド（ＴＣＢ）である。ＴＣＢは、主要素が３個の偏向電磁石ＢＭと２個の４極電磁石Ｑ３からなる鏡面対称構造を有している。図１において、参照番号１、２、３は同じ断面構造と磁場強度を持つ偏向電磁石（ＢＭ）で、内部を通過する電子ビームを所定角度、本実施例では１５度ずつ水平方向に偏向させる。偏向電磁石に挟まれて４極電磁石（Ｑ３）４、５が配置される。２個の４極電磁石４、５は、電子ビームを収束させることにより偏向電磁石内のラティス関数を適切に調整して、より小さい水平エミッタンスを生成するようにするものである。
【００３３】図２には、上記ＴＣＢ内における電子ビームの軌道に沿ったラティス関数の変化状態が表示されている。図２に表示したラティス関数は、水平ベータ関数βxと垂直ベータ関数βzと分散関数ηである。図中実線で表した分散関数ηは、初めの偏向電磁石１の中央で極小値を取った後増大するところを、４極電磁石４により再び減少して真ん中の偏向電磁石２の中央で極小値をとる。その後、増大するところを２個目の４極電磁石５により減少して、３番目の偏向電磁石３の中央で極小値を取って増大する。
【００３４】初めの偏向電磁石１の上流側には基本モジュール外側の直線部におけるベータ関数を調整するための１対の４極電磁石（Ｑ１、Ｑ２）６、７を配設し、さらに電子ビームの形状を整え色収差（chromaticity）を低減させるため、収束用の６極電磁石（ＳＦ）８と拡散用の６極電磁石（ＳＤ）９を配置してある。また、３番目の偏向電磁石３の下流には、４極電磁石６、７および６極電磁石８、９と鏡面対称に、４極電磁石（Ｑ２、Ｑ１）１０、１１および６極電磁石（ＳＤ、ＳＦ）１２、１３が配設されていて、電子ビームの形状を回復して次段のモジュールに供給するようにしている。
【００３５】また、図２中１点鎖線で表した水平ベータ関数βxも、分散関数ηとほぼ近似した変化を呈するように調整されている。なお、図中破線で表した垂直ベータ関数βzは、ＴＣＢ端部で０．３ｍから０．７ｍ程度の最小値を取り、偏向電磁石１、２、３の位置で大きくなるが、両端の偏向電磁石１、３の位置で約１４ｍと大きく、中央の偏向電磁石２の位置で約３ｍ程度とより小さくなるように調整されている。
【００３６】電子蓄積リングは、８基の基本モジュールをそれぞれ直線部を介して直列に連ねた形態で構成される。直線部は例えば２ｍあって垂直ベータ関数βzが０．３ｍから０．７ｍ程度で、ここにビームポジションセンサやステアリングマグネット、ミニアンジュレータ等を設置する。なお、この直線部では水平ベータ関数βxが約１８ｍと大きいので、ここに電子注入装置を設けることができる。
【００３７】さらに、超電導ウィグラなど超電導装置を設置するための直線部は、８基の内１個おきに配設される４基の第２の基本モジュールの中央部分に設けられる。図３は、上記第１基本モジュールの半分と中央偏向電磁石を分割した第２基本モジュールの半分を繋いで構成された電子蓄積リングの８分の１の部分を表した配置図である。図は、左側に第１基本モジュールの半分を描き、右側に第２基本モジュールの半分を描いてある。図中、図１と同じ要素には同じ参照番号を付してある。図３の磁石構成がそれぞれ面対称に連なって１個の電子蓄積リングを形成する。
【００３８】第２基本モジュールは図１により説明した第１の基本モジュールの中央偏向電磁石２を半分の長さを有する電磁石（ＤＢ）２１に２分割して両者を離設したもので、半分長の偏向電磁石２１の間が直線部になる。偏向電磁石１と半分長の偏向電磁石２１の間に設置された４極電磁石（Ｑ３１）２２は半分長の偏向電磁石２１内の水平方向分散関数の位置ηxと角度広がりηx’をゼロにする機能を有する。この直線部におけるベータ関数は３個の４極電磁石（Ｑ４、Ｑ５、Ｑ６）２３、２４、２５により受容可能な値になるように調整され、これ以外に特殊な４極電磁石を設ける必要はない。
【００３９】３図の左部分に描いた第１基本モジュールと右部分に描いた第２基本モジュールの間に約２ｍの直線部が形成されていて、この直線部に上述のように例えばミニアンジュレータ３１が挿入される。また図中最右端に半分表示された直線部には超電導ウィグラ３２が配設されている。この半分長の偏向電磁石に挟まれた直線部は約３ｍの長さを有する。図４から分かるように、直線部における分散関数ηは上述の通りほぼゼロになっているが、水平ベータ関数βxは約１０ｍ、垂直ベータ関数βzは約４ｍと、それぞれ適度な値を有するように調整されている。この直線部にはＲＦキャビティを設けることもできる。」
　
「【００４２】　図５は、第１基本モジュールと第２基本モジュールを各４基ずつ用いて構成された本実施例の電子蓄積リング全体を表したもので、電子ビームはリニアック３１で発生して小型のシンクロトロン４２で加速されタイミングを計って電子蓄積リング４３に入射される。電子蓄積リング４３は、４基の第１基本モジュール４４と４基の第２基本モジュール４５を交互に直列に接続してリングを形成し、またリング中に放射光で失われたビームのエネルギを補うための高周波加速装置４６を介設している。電子蓄積リング４３では、第１モジュールの中央偏向電磁石５１から放射光ＳＲが放射されるほか、第２基本モジュールの中央に設けられる直線部に超電導ウィグラ（ＳＣＳ）５２や多極超電導ウィグラＭＳＷ５３を設置して放射光を発生させ、また第１基本モジュールと第２基本モジュールの間に形成される直線部にミニアンジュレータ５４等の挿入光源を設置して別種の放射光を発生させることができる。
【００４３】上記のようにして構成されたＴＣＢを基本モジュールとして形成した本実施例の電子蓄積リングは、例えば２．２ＧｅＶの容量に対して周長が１２０ｍ程度、平均直径約３８ｍと極めて小型にすることができ、製作費用も低廉になる上、エミッタンスが小さいため小型の割に高輝度の放射光を得ることができる。なお、本実施例の説明に現れた具体的な寸法及び関数値は説明を明確にするために使用したものに過ぎず、本発明の技術的思想を逸脱することなく電子蓄積リングに要求される仕様に基づいて任意に変更できることは言うまでもない。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の電子蓄積リングはトリプルクロマティックベンド（ＴＣＢ）を用いて、より容易にエミッタンスの最小化を達成して小型リングにより高輝度の放射光を得ることができる。　本発明の電子蓄積リングは、超電導電磁石を使用してビームダイナミックに影響を与えず硬Ｘ線を発生させるようにすることができる。また、小さいギャップを有するミニアンジュレータを使用してもビーム寿命が長く、長期運転が可能である。」
　
　電子蓄積リングは、電子ビームをリング構造の軌道中を周回させて高エネルギーに保ちながら蓄積するものである。また、「電子蓄積リングは、８基の基本モジュールをそれぞれ直線部を介して直列に連ねた形態で構成され」（【００３２】）、「電子蓄積リングにおける基本モジュールは・・・主要素が３個の偏向電磁石ＢＭと２個の４極電磁石Ｑ３からなる鏡面対称構造を有している。・・・偏向電磁石に挟まれて４極電磁石（Ｑ３）４、５が配置される」（【００３６】）ことを参酌して、上記記載事項及び図面の記載を総合勘案すれば、引用例１には、
「電子ビームを一定のリング構造の軌道中で周回させるため、所定角度水平方向に偏向させるための複数の偏向電磁石ＢＭと、この偏向電磁石に挟まれて配置された複数のビーム収束用の４極電磁石Ｑ３とからなる電子ビームの蓄積リングの直線部に放射光を発生する超電導ウイグラ（ＳＣＳ）５２や多極超伝導ウイグラＭＳＷ５３を設けた放射光発生装置。」の発明（以下、「引用発明」という。）の記載が認められる。
　
　また、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平９−１０６９０９号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、超電導磁石に係り、特に、冷凍機と熱的に接触して冷却する超電導磁石に関する。
【０００２】
【従来の技術】超電導磁石を使用した核磁気共鳴診断装置、熱物性測定装置、電子加速器、放射光発生装置等では、磁石を超電導状態に保つために、冷凍装置を装着して磁石温度を極低温に保つ必要がある。
【０００３】一般にこれらの被冷却装置を冷却するには極低温の液体ヘリウムを使用するが、そのためには、冷媒である液体ヘリウムを溜めておく液体ヘリウムタンクを内装しなければならず、さらに液体ヘリウムはわずかな熱で蒸発し、かつ、高価であり、取り扱いに専門技術を要求するため、最近では、冷凍装置を超電導磁石に熱的に接触させて伝導的に超電導磁石を冷却する構造を持った伝導冷却式超電導磁石も発表されている。」
　
「【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１により説明する。寒冷発生機である冷凍機１は、例えばギフォード・マクマホン膨張機（ＧＭ膨張機）で構成される。ヘリウム圧縮機ユニット２の高圧ガスは冷凍機１中に流入して内部で断熱膨張し、第１ステージ３、第２ステージ４でそれぞれ温度約４０Ｋ、５Ｋの寒冷を発生する。膨張後のガスは、再び、圧縮機ユニット２に戻る。被冷却体である超電導磁石２４は、冷凍機の第２ステージ４と熱的に接続され冷却される。」
　
　また、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平４−１８７１３号公報（以下、「引用例３」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「第３図は、例えば特開昭64-2300号公報に示された従来の超電導マグネット装置を用いた電子蓄積リングの全体平面図である。図において、超電導偏向マグネット(1)は、鉄心(2)および超電導コイル(3)からなっている。４極電磁石(4)、高周波加速空洞(5)は真空チャンバ(6)内を通過して周回する電子ビームの平行軌道(7)に沿って配置されている。(8)は、インフレクタである。」（第１ページ左下欄第１６行〜右下欄第３行）
　
「従来の超電導マグネット装置は以上のように構成されているので、高価な液体ヘリウムを大量に消費したり、さらに、液体ヘリウムの注液回数が増すなど、装置のランニングコストが極めて増大していた。また、各超電導マグネット毎に液体ヘリウムを液入れしなければならないなどの問題点があった。
　超電導マグネットの運転方法としては、液体ヘリウムの液入れの代わりとしてヘリウム冷凍機を設置する場合もあり得る。この場合には、熱侵入量が大きいと大容量の冷凍機が必要となったり、あるいは、それぞれの超電導マグネットに独立して冷凍機を取付けねばならないなどの問題点があった。」（第２ページ右上欄第１０行〜左下欄第３行）
　
（３）対比
　ここで、引用発明と本願補正発明とを対比する。
　引用発明における「電子ビームを一定のリング構造の軌道中で周回させるため、所定角度水平方向に偏向させるための複数の偏向電磁石ＢＭ」と、本願補正発明における「電子ビームを一定の軌道で安定に周回させるための複数の超電導偏向電磁石」とは、「電子ビームを一定の軌道で安定に周回させるための複数の偏向電磁石」である点で一致している。
　引用発明における「偏向電磁石に挟まれて配置された複数のビーム収束用の４極電磁石Ｑ３」は、本願補正発明の「偏向電磁石の上下流側に配置された複数のビーム収束用多極電磁石」に相当する。
　引用発明における「電子ビームの蓄積リングの直線部」は、本願補正発明の「電子ビームの蓄積リングまたは加速蓄積リングの一部」に相当する。
　引用発明における「放射光を発生する超電導ウイグラ（ＳＣＳ）５２や多極超伝導ウイグラＭＳＷ５３」は、本願補正発明の「放射光を発生する挿入光源」としての「超電導ウイグラー」に相当する。
　したがって、本願補正発明と引用発明は、
「電子ビームを一定の軌道で安定に周回させるための複数の偏向電磁石と、この偏向電磁石の上下流側に配置された複数のビーム収束用多極電磁石とからなる電子ビームの蓄積リングまたは加速蓄積リングの一部に放射光を発生する挿入光源を装備した放射光発生装置であって、前記挿入光源として超電導ウイグラーを設けた放射光発生装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ア　相違点１；
　電子ビームを周回させるための偏向電磁石に関して、本願補正発明の偏向電磁石が、「超電導偏向電磁石」であるのに対し、引用発明の偏向電磁石においては、その限定がない点。
　
イ　相違点２；
　本願補正発明が、「前記放射光発生装置に設けられた全ての超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石は個々に備えられた１台ないし複数台の冷凍機により、液体ヘリウムを用いずに直接伝熱方式で前記超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石を構成する超電導コイルを冷却し、超電導線材での発熱や外部からの入熱を補って超電導線材を低温に保つ冷凍機直接冷却型とした」のに対し、引用発明は、その限定がない点。
　
（４）当審の判断
　各相違点について検討する。
　
ア　相違点１について
　偏向電磁石として超電導偏向電磁石（超電導偏向マグネット）を用いることは、例えば、上記の引用例３にも記載されているように、電子蓄積リングを用いた放射光発生装置において周知の技術である。したがって、引用発明においても、上記周知技術を採用し、偏向電磁石として超電導偏向電磁石を用いることに格別の困難性は認められない。よって、上記相違点１に係る発明特定事項を得ることは、上記周知技術を勘案して当業者が容易に想到し得たことである。
　
イ　相違点２について
　上記引用例２における「寒冷発生機である冷凍機１は、例えばギフォード・マクマホン膨張機（ＧＭ膨張機）で構成される。ヘリウム圧縮機ユニット２の高圧ガスは冷凍機１中に流入して内部で断熱膨張し、第１ステージ３、第２ステージ４でそれぞれ温度約４０Ｋ、５Ｋの寒冷を発生する。膨張後のガスは、再び、圧縮機ユニット２に戻る。被冷却体である超電導磁石２４は、冷凍機の第２ステージ４と熱的に接続され冷却される」（【０００７】）の記載事項から、引用例２には、放射光発生装置において、超電導部材を、冷凍機により液体ヘリウムを用いずに直接伝熱方式で冷却することにより超伝導状態を保つことが記載されているといえる。なお、引用例２には、「液体ヘリウムはわずかな熱で蒸発し、かつ、高価であり、取り扱いに専門技術を要求する」（【０００３】）という液体ヘリウムを用いることにともなう問題点を解決しようとする技術課題についても記載されている。
　また、上記引用例３には、超電導マグネットに独立して冷凍機を取り付けることが記載されており、個々の超電導部材を独立して冷却することは、引用例３にも記載されている周知の技術であるといえる。
　したがって、引用発明においても、液体ヘリウムを用いることにともなう問題点を解決しようとする技術課題の共通性から、引用例２の、超電導部材を冷凍機により液体ヘリウムを用いずに直接伝熱方式で冷却することにより超伝導状態を保つ技術を適用することは、当業者が容易に想到し得ることである。そして、上記適用において、引用例３に記載の周知技術を参酌して、超電導部材である「超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石」に個々に独立して冷凍機を備えさせたことは、当業者が容易に想到し得る事項である。
　さらに、「全ての超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石」に冷凍機を備えさせるとした点は、超電導部材の冷凍の必要性に応じて、当業者が容易に設定し得た事項である。
　以上より、上記相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明、引用例２に記載の発明及び引用例３に記載の周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用発明、引用例２に記載の発明及び引用例３に記載の周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
（５）むすび
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明、引用例２に記載された発明、及び引用例３に記載された従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成１９年６月１８日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成１８年１２月２２日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記「第２　平成１９年６月１８日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」において記載したとおりのものである。
　　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物の記載事項は、上記「第２　平成１９年６月１８日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりのものである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、本願補正発明から、上記「第２　平成１９年６月１８日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」で述べた、個々に備えられた１台ないし複数台の冷凍機により冷却される超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石について、「前記放射光発生装置に設けられた全ての超電導ウイグラーおよび前記超電導偏向電磁石」であると特定した限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成１９年６月１８日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」において記載したとおり、引用発明、引用例２に記載された発明、及び引用例３に記載された従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明、引用例２に記載された発明、及び引用例３に記載された従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、引用例２に記載された発明、及び引用例３に記載された従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。