【事件の表示】
　特許第３４２１３２８号に関する訂正審判事件についてした平成１８年６月１９日付けの審決に対し、知的財産高等裁判所において、上記審決を取り消す旨の判決（平成１８年（行ケ）第１０３４６号、平成２０年１月３１日判決言渡）があったので、更に審理の上、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第３４２１３２８号に係る明細書を本件審判請求書に添付された訂正明細書のとおり訂正することを認める。
【理　由】
第１．手続の経緯  
 　本件特許第３４２１３２８号の発明は、平成９年９月３０日に特許出願された特願平９−２８２６６４号の一部を分割して平成１３年１０月１５日に特許出願され、平成１５年４月１８日に特許権の設定登録がなされたものであり、その後、石川　増和及び渋谷　朋美より請求項１〜５に係る特許について特許異議の申立てがあり、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１６年１１月１２日に特許異議意見書が提出された。そして、平成１７年６月１４日付けで請求項１〜５に係る特許を取り消す特許異議の決定がなされ、これを不服として平成１７年７月２６日付けで知的財産高等裁判所に特許取消決定取消請求の裁判が申し立てられ、平成１７年（行ケ）第１０５８６号事件として審理されていたところ、平成１７年１０月２１日付けで本件訂正審判が請求され、平成１７年１２月２０日付けで訂正拒絶理由が通知され、平成１８年１月２５日付けで意見書が提出され、さらに、平成１８年３月７日付けで再度訂正拒絶理由が通知され、平成１８年４月７日付けで意見書が提出され、平成１８年６月１９日付けで本件審判の請求は成り立たない旨の審決がなされた。
　これを不服として平成１８年７月２４日に知的財産高等裁判所に審決取消請求の裁判が提起され、平成１８年（行ケ）第１０３４６号事件として審理されたところ、平成２０年１月３１日付けで、「特許庁が訂正２００５−３９１９３号事件について平成１８年６月１９日にした審決を取り消す。訴訟費用は被告の負担とする。」との判決がなされ、その後、請求人から平成２０年３月１３日に上申書が提出されたものである。
　
第２．訂正事項　  
　本件審判の請求の要旨は、特許第３４２１３２８号の明細書を審判請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正しようとするものであり、該訂正の内容は次のとおりである。
訂正事項ａ：特許請求の範囲の  
 「【請求項１】 加熱された溶媒中に、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及び重合開始剤又は重合触媒を添加し、共重合させることを特徴とする極性基含有脂環式官能基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する放射線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。  
 【請求項２】 モノマー（Ｃ）の極性基が、ケトン、アルコール、エーテル、エステル、カルボン酸、酸無水化合物、又はこれらの構造の一部の原子が硫黄、窒素、若しくはハロゲンで置換された構造の基であることを特徴とする請求項１に記載の放射線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。  
 【請求項３】 モノマー（Ｃ）の脂環式官能基が、ノルボニル基、シクロヘキシル基、トリシクロデカニル基又はアダマンチル基であることを特徴とする請求項１に記載の放射線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。  
 【請求項４】 モノマー（Ｃ）の極性基が、ケトン、アルコール、エーテル、エステル、カルボン酸、酸無水化合物、又はこれらの構造の一部の原子が硫黄、窒素、若しくはハロゲンで置換された構造の基であり、モノマー（Ｃ）の脂環式官能基が、ノルボニル基、シクロヘキシル基、トリシクロデカニル基又はアダマンチル基であることを特徴とする請求項１に記載の放射線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。  
 【請求項５】 樹脂（Ａ）がアクリル樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の放射線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。」を  
 「【請求項１】 加熱された溶媒中に、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）であるヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を添加し、共重合させることを特徴とするヒドロキシアダマンチル基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。  
 【請求項２】 樹脂（Ａ）がアクリル樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。」と訂正する。  
　
訂正事項ｂ：特許明細書の段落【０００９】を次のとおり訂正する。  
 「【０００９】すなわち、本発明の第１は、 加熱された溶媒中に、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）であるヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を添加し、共重合させることを特徴とするヒドロキシアダマンチル基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法を提供する。本発明の第２は、樹脂（Ａ）がアクリル樹脂であることを特徴とする本発明の第１に記載の半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法を提供する。」　  
　
第３．訂正の可否  
１．訂正要件の有無  
　訂正事項ａは、請求項１に係る発明について、「極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）」を「極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）であるヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート」と訂正（以下、「訂正ａ−１」という。）し、「重合開始剤又は重合触媒」を「ラジカル重合開始剤」と訂正（以下、「訂正ａ−２」という。）し、「放射線感光材料用樹脂（Ａ）」を「半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）」と訂正（以下、「訂正ａ−３」という。）し、更に、請求項２〜４を削除し請求項５を請求項２に繰り上げる訂正（以下、「訂正ａ−４」という。）をするものである。  
　訂正ａ−１は、特許明細書段落【０００８】、【００１１】、【００３５】、【００３６】、【００４１】、【００４２】、【００４５】、【００４６】、【００５０】、【００５１】に記載された事項に基づいて限定したものである。  
　訂正ａ−２は、特許明細書段落【００１５】、【００３５】、【００４１】、【００４５】に記載された事項に基づいて限定したものである。  
　訂正ａ−３は、特許明細書段落【０００２】、【０００７】、【００１３】、【００４０】に記載された事項に基づいて限定したものである。  
　訂正ａ−４は、請求項を削除し、それに伴って請求項の項番を整理するものである。  
　したがって、この訂正事項ａは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるから、特許法第１２６条第１項ただし書第１号に該当する。  
　訂正事項ｂは、上記訂正事項ａによる特許請求の範囲を減縮する訂正による訂正後の特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るためのものである。  
　したがって、この訂正事項ｂは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであるから、特許法第１２６条第１号ただし書第３号に該当する。
　そして、いずれの訂正事項も実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。  
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２６条第１項ただし書第１号及び第３号、第３項並びに第４項の規定に適合する。  
　
　上記訂正は、特許法第１２６条第１項ただし書第１号に掲げる事項を目的とする訂正を含むので、訂正後における請求項１〜２に記載されている事項により特定された発明（以下、それぞれ、「訂正後の発明１」〜「訂正後の発明２」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものか否かについて、次に検討する。 
 　
２．独立特許要件の判断  
　２−１．刊行物およびその記載事項
　平成１７年１２月２０日付けの訂正拒絶理由通知において示した刊行物およびその記載事項は以下のとおりである。  
 ＜刊行物＞  
刊行物１：特開平７−２５２３２４号公報 （訂正審判請求書の証拠の甲第１号証）  
刊行物２：特開平６−３８２６号公報 （訂正審判請求書の証拠の甲第２号証）  
参考資料１：「１４１０２の化学商品」，化学工業日報社，2002．1．29，ｐ．616 　  
　
＜刊行物の記載事項＞  
　 Ａ．刊行物１  
 （Ａ−１）　「【請求項１】一般式（１）で示されるビニル基含有単量体。  
 　  
 （上式において、Ｒ１は水素原子、ターシャル−ブトキシカルボニル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチル基、１−ブトキシエチル基、あるいは１−プロポキシエチル基、Ｒ２は有橋環式炭化水素基を有する炭素数７ないし１２の炭化水素残基、Ｒ３は水素原子あるいはメチル基を表す）
【請求項２】一般式（２）で示されるビニル基含有重合体。  
 
  （上式において、Ｒ１およびＲ６は水素原子、ターシャル−ブトキシカルボニル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチル基、１−ブトキシエチル基、あるいは１−プロポキシメチル基、Ｒ２およびＲ４は有橋環式炭化水素基を有する炭素数７ないし１２の炭化水素残基、Ｒ３ 、Ｒ５ 、Ｒ７およびＲ８は水素原子あるいはメチル基、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、ａとｂは同時に０であることはなく、ａは０ないし０．９、ｂは０ないし０．９、ｃは０ないし０．７、ｄは０ないし０．５、ｎは１０〜５００の整数を表す）  
【請求項３】少なくとも請求項２に記載の樹脂と、露光により酸を発生する光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物であって、組成物中の含有率は、樹脂が７５ないし９９．８重量部であり、光酸発生剤が０．２ないし２５重量部であることを特徴とする感光性樹脂組成物。」〔特許請求の範囲〕  
 （Ａ−２）　「【００２０】Ｒ2 およびＲ4 は有橋環式炭化水素基を有する炭素数７ないし１２の炭化水素残基であり、より好ましくは有橋環式炭化水素基を有する炭素数７ないし１２の脂肪族炭化水素残基である。また、一般式（２）においてＲ2 とＲ4 、およびＲ3 、Ｒ5 、Ｒ7 とＲ8 は同一であっても良いし、異なっていても構わない。より具体的には、
Ｒ
2
 とＲ
4
 
【００２１】
【表１】　　　　
」〔段落【００２０】〜【００２１】〕
（なお、【００２０】の下線部は当審で付したものであり、「Ｒ3 、Ｒ5 、Ｒ7 とＲ8 」ではなく、「Ｒ2 とＲ4 」の誤記であることが明らかであるから上記のように認定した。）
 （Ａ−３）　「【００２８】一般式（１）で表される単量体の重合反応は、例えばテトラヒドロフラン溶剤中、不活性ガス（アルゴン、窒素など）雰囲気下、適当なラジカル開始剤（例えばアゾビスイソブチロニトリル、単量体／開始剤の仕込みモル比＝１０〜２００）を加えて５０〜７０℃で０．５〜１０時間加熱攪拌することにより実施される。」〔段落【００２８】〕  
 （Ａ−４）　「【００４４】【作用】本発明の新規な単量体を重合することにより得られる新規な重合体を利用することにより、新規な水酸基含有単量体及び重合体を提供できる。これらの重合体の利用により２２０ｎｍ以下の光の透明性が高く、ドライエッチング耐性が高く、且つ露光前後の溶解度差を発揮しうる官能基を有し、基板密着性の向上した新しいレジスト用樹脂材料が提供され、これらと感光剤（光酸発生剤）からなる感光性組成物により、２２０ｎｍ以下の短波長光露光により発生したプロトン酸を触媒とした水酸基保護基の分解によりレジストの溶解性の著しい変化が誘起される。その結果、微細パターンが形成可能となる。」〔段落【００４４】〕  
 （Ａ−５）　「【００８８】・・・
　（実施例１８）（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレートとトリシクロデカンジメタノールモノメタクリレートの共重合体の合成
【００８９】　
　
【００９０】（但し、Ｚ1 はトリシクロデカン−４，８−ジイル基、Ｚ2 はテトラヒドロピラン−２−イル基、ｍは正の整数、ｘは０〜１を表す。）実施例１３と同様にして、但し、（２−テトラヒドロピラニル）オキシメチルトリシクロデカンメタノール　メタクリレート２．０ｇ（５．７ｍｍｏｌ）に代えて、テトラヒドロピラニルメタクリレート（公知の方法［Ｇ．Ｎ．テイラー（Ｇ．Ｎ．Ｔａｙｌｏｒ）ら、ケミストリー・マテリアル（ＣｈｅｍｉｓｔｒｙＭａｔｅｒｉａｌ）第３（６）巻、１０３１〜１０４０頁（１９９１）．］により合成）０．５２ｇ（３．１ｍｍｏｌ）を用いて合成し、目的とするコポリマー粉末１．２ｇを得た。共重合比は1 Ｈ−ＮＭＲ測定により求めたところ、ｘは３５であり、共重合比は原料の仕込み比と同じであった。ポリスチレン換算の重量平均分子量は２２３００であった。
【００９１】（実施例１９）下記の組成からなるレジスト材料を調製した。以下の実験はイエローランプ下にておこなった。
（ａ）樹脂（実施例１８）　　　０．９９５ｇ
（ｂ）シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウム　トリフルオロメタンスルホナート（光酸発生剤：一般式（４）の化合物）
　　　　　　　　　　　　　　　０．００５ｇ
（ｃ）エチレングリコールモノメチルエーテル（溶媒）
　　　　　　　　　　　　　　　４．０００ｇ
　上記混合物を０．２μm のテフロンフィルターを用いてろ過し、レジストを調製した。３インチシリコン基板上に上記レジスト材料をスピンコート塗布し、８０℃、６０秒間ホットプレート上でベーキングをおこない、膜厚が０．７μm の薄膜を形成した。得られた膜の透過率の波長依存性を紫外可視分光光度計を用いて測定した結果、この薄膜の１９３．４nmにおける透過率は６８％であり、単層レジストとして充分な透明性を示すことを確認した。」〔段落【００８８】〜【００９１】〕
　（Ａ−６）　「【０１０７】（実施例２４）実施例１９のレジストを用い、窒素で充分パージされた密着型露光実験機中に成膜したウェハーを静置した（図２）。石英板上にクロムでパターンを描いたマスクをレジスト膜上に密着させ、そのマスクを通してＡｒＦエキシマレーザ光を照射した［図１（ｂ）］。その後すぐさま８０℃、６０秒間ホットプレート上でベークし、液温２３℃のアルカリ現像液（２．３重量部のテトラメチルアンモニウムヒドロオキサイドを含有する水溶液）で６０秒間浸漬法による現像をおこない、続けて６０秒間純水でリンス処理をそれぞれおこなった。この結果、レジスト膜の露光部分のみが現像液に溶解除去され、ポジ型のパターンが得られた［図１（ｃ）］。この実験において露光エネルギーが約４３ｍＪ／cm2 のとき０．２５μm ラインアンドスペースの解像性が得られた。このとき走査電子顕微鏡（ＳＥＭ、日立製作所製、ＳＥ−４１００）にて解像したパターンを観察したが、現像残り、パターン剥がれなどの現象はみられなかった。同様にして、実施例２３で示したレジストを用いてパターン解像実験をおこなった。その結果露光エネルギーが約３０ｍＪ／cm2 のとき０．３μm ラインアンドスペースの解像性が得られた。」〔段落【０１０７】〕
　（Ａ−７）　「【０１０８】
【発明の効果】以上に説明したことから明らかなように、本発明の新規な単量体を重合することにより得られる新規な重合体を含有成分とする感光性樹脂組成物は、２２０ｎｍ以下の遠紫外領域に対し高い透明性を有し、かつ遠紫外線の露光光に対し高い感度、解像度を示し、２２０ｎｍ以下の遠紫外線とくにＡｒＦエキシマレーザを露光光とするフォトレジストに最適なものである。さらに、本発明の感光性樹脂組成物を用いることで、半導体素子製造に必要な微細パターン形成が可能である。」〔段落【０１０８】〕
　  
　Ｂ．刊行物２  
 （Ｂ−１）　「（ａ）α，β−エチレン性不飽和カルボン酸のｔ−ブチルエステル２０〜９４重量％と、式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−ＣＯＯ−（Ｒ２−Ｏ）ｎ−Ｒ３　　　Ｉ
[式中、Ｒ１は水素またはメチル基であり、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキレン基であり、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、ｎは１〜１０の整数である]で示される(メタ)アクリル酸エステル５〜７９重量％と、他のα，β−エチレン性不飽和化合物１〜７５重量％と、からなる酸価２〜２００の重合体；および（ｂ）露光により酸を生じさせる光活性剤；を含有するポジ型レジスト組成物。」〔特許請求の範囲〕
 （Ｂ−２）　「【０００１】本発明は印刷板、集積回路用フォトレジストおよびカラーフィルター用フォトレジスト材料などに有用なポジ型レジスト組成物に関し、特に、複数回の露光現像が可能なポジ型レジスト組成物に関する。」〔段落【０００１】〕  
 （Ｂ−３）　「【００３３】
【調製例１】メチルイソブチルケトン１４９部を反応容器に仕込み８５℃に昇温した後に、ｔ−ブチルメタクリレート８０部、メタクリル酸１０部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート１０部およびｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１部を混合溶解したモノマー溶液を反応容器に２時間かけて滴下し、更に、４時間反応させて重合体を得た。反応溶液を冷却後、メチルイソブチルケトン２５０部およびトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート１５部を加えてポジ型レジスト組成物を得た。重合体の酸価は６８であった。」〔段落【００３３】〕  
　
　Ｃ．参考資料１  
 （参−１）「ｔ−ブチルパーオキシオクトエート」の項に、「別名・・・；ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート」及び「用途　ビニル化合物、低密度ポリエチレン、スチレン、アクリレートなどの重合開始剤、・・・」と記載されている。〔第６１６頁〕 
　
　２−２．刊行物１に記載された発明
　刊行物１の特許請求の範囲には、一般式（１）で示されるビニル単量体を重合成分として含む一般式（２）で示されるビニル共重合体と、露光により酸を発生する光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物が記載され〔摘示記載（Ａ−１）〕、該感光性樹脂組成物は、２２０ｎｍ以下の遠紫外領域に対し高い透明性を有し、とくに２２０ｎｍ以下の遠紫外線であるＡｒＦエキシマレーザを露光光とするフォトレジストに最適なものであり、該感光性樹脂組成物を用いることで、半導体素子製造に必要な微細パターン形成が可能であること〔摘示記載（Ａ−４）、（Ａ−７）〕も記載されている。さらに、単量体の重合反応は、例えばテトラヒドロフラン溶剤中、不活性ガス雰囲気下、適当なラジカル開始剤を加えて５０〜７０℃で０．５〜１０時間加熱攪拌することにより実施されること〔摘示記載（Ａ−３）〕も開示されている。そして、前記ビニル共重合体として、実施例１８には（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレートとトリシクロ［５．２．１．０2.6 ］デカン−４，８−ジメタノールモノメタクリレートの共重合体が開示されている〔摘示記載（Ａ−５）〜（Ａ−６）〕  
　そうすると、刊行物１には、「遠紫外線で露光させる半導体素子用感光性樹脂組成物に用いられる共重合体（２）を製造する方法であって、一般式（１）で示されるビニル基含有単量体において、Ｒ１が水素原子でＲ２がトリシクロ［５．２．１．０2.6 ］デカン−４，８−ジメチレン基〔以下、「トリシクロデカンジメチレン基」という。〕のメタクリレート〔以下、「トリシクロデカンジメタノールモノメタクリレート」という場合がある。〕と、共重合単量体として（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレートとを、テトラヒドロフラン溶剤中、ラジカル開始剤を加えて５０〜７０℃で共重合反応させる方法」の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されているということができる。 　
　
　２−３．対比・判断
（１）訂正後の発明１について
　訂正後の発明１と刊行物１発明とを以下に対比する。
　刊行物１発明の「一般式（１）で示されるビニル基含有単量体においてＲ１が水素原子でＲ２がトリシクロデカンジメチレン基のメタクリレート」、「（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート」、「テトラヒドロフラン溶剤」、「ラジカル開始剤」、「遠紫外線で露光させる半導体素子用感光性樹脂組成物に用いられる共重合体（２）」は、それぞれ、訂正後の発明１の「極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）」、「酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）」、「溶媒」、「ラジカル重合開始剤」、「半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）」に相当するので、両発明は、
「極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を溶媒に添加し、共重合させることからなる酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）の製造方法。」 である点で一致しているが、以下の２点で相違している。
　相違点１：訂正後の発明１では、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）として「ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート」を用いるのに対し、刊行物１発明では、「一般式（１）で示されるビニル基含有単量体においてＲ１が水素原子でＲ２がトリシクロデカンジメチレン基のメタクリレート」つまり、「トリシクロデカンジメタノールモノメタクリレート」を用いる点。
　相違点２：訂正後の発明１における、モノマー（Ｃ）、モノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を「加熱された」溶媒中に添加して共重合させる点が刊行物１発明では特定されていない点。
　
　上記相違点について検討する。
　相違点１について
　刊行物１には、共重合体に用いる一般式（１）で示されるビニル基含有単量体のＲ２として、トリシクロデカンジメチレン基に相当するトリシクロ［５．２．１．０2.6 ］デカン−４，８−ジメチレン基やアダマンタンジイル基などが選択可能なものとして例示はあるものの〔摘示記載（Ａ−２）〕、Ｒ２がアダマンタンジイル基であるビニル基含有単量体を重合した共重合体についての具体的な記載はない。
　一方、平成２０年３月１３日に提出された上申書に添付された実験成績証明書には、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）として、刊行物１発明の実施例１８に用いた「トリシクロデカンジメタノールモノメタクリレート」と、訂正後の発明１に係る「ヒドロキシアダマンチルメタクリレート」を比較すると、後者の方がポリマーとした際のドライエッチング耐性に著しく優れることが開示されている〔実験成績証明書表１ 樹脂１と３〕。
　してみると、訂正後の発明１は、アダマンタンジイル基の採用によってドライエッチング耐性に優れるという顕著な効果を奏するものであるが、このような効果は刊行物１の記載から自明なものではない。
　そうであれば、刊行物１に、共重合体の一般式（１）で示されるビニル基含有単量体のＲ２としてトリシクロデカンジメチレン基とアダマンタンジイル基がともに選択可能な基として例示されていたとしても、刊行物１発明のＲ２のトリシクロデカンジメチレン基に代えて具体的にアダマンタンジイル基を選択して、相違点１に係る訂正後の発明１の構成とすることによって奏される効果は、予測できるものではない。
　そして、刊行物２、参考資料１にも上記相違点１に関する記載や示唆はなく、技術常識を参酌してもそのような示唆ないし動機付けは見当たらない。
　したがって、相違点２について検討するまでもなく、訂正後の発明１は、刊行物１，２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、訂正後の発明１について、他に特許出願の際独立して特許を受けることができないとすべき理由は見当たらない。
　
（２）訂正後の発明２について
　訂正後の発明２は、訂正後の発明１を引用し、樹脂（Ａ）がアクリル樹脂であることを特徴とするものであるから、訂正後の発明１と同様に、刊行物１，２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものではないし、他に特許出願の際独立して特許を受けることができないとすべき理由も見当たらない。
　
３．むすび  
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２６条第１項第１号及び第３号に掲げる事項を目的とし、かつ、同条第３項ないし第５項の規定に適合する。
　よって、結論のとおり審決する