【事件の表示】
　平成　８年特許願第２６１７４３号「磁気ディスク」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　４月２４日出願公開、特開平１０−１０５９６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯、本願発明
　本願は、平成８年１０月２日の出願であって、平成１７年１月２８日付けで手続補正がなされ、その後平成１７月８日２５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年９月２８日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　本願の請求項１ないし２に係る発明は、平成１７年１月２８日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　「【請求項１】表面処理皮膜が設けられたアルミニウム合金基板上に媒体が形成され、１００００ｒｐｍ以上の高速回転下で用いられる磁気ディスクであって、前記表面処理皮膜を含めた基板のヤング率Ｅ（ｋｇ／ｍｍ２）と密度ρ（ｇ／ｃｃ）との比Ｅ／ρが２８００以上であることを特徴とする高速回転安定性に優れた磁気ディスク。」
　
２　引用例
（１）原査定の拒絶の理由で引用された特開平３−２５０４２３号公報（以下「引用例１」という。）には、「磁気ディスク」に関して次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与した。）
　（ア）「磁気ディスク装置の高記録密度化に伴い、メッキまたはスパッタにより磁性膜を形成する薄膜ディスクが検討されている。磁性薄膜を形成してなる磁気ディスク用基板としては、アルミニウム合金表面をアルマイト被覆し、これを鏡面仕上げしたものや、あるいはアルミニウム合金表面にＮｉ−ＰやＮｉ−Ｃｕ−Ｐメッキを数１０μｍの厚さに施して、これを鏡面仕上げしたものが使用されてきた。
　以下、図面を用いて従来の磁気ディスクの一例について説明する。
　第３図は、例えば日本応用磁気学会誌、Ｖｏｌ．１０、Ｎｏ．１、１９８６、Ｐ１２に記載の
一般的な磁気ディスクの構成
Ａｌ合金基板（１）上に３０μｍ厚の無電解Ｎｉ−Ｐメッキ下地硬化層（２）、０．０８μｍ程度のＣｏ−Ｎｉ−Ｐメッキ媒体である磁性膜（３）
　（イ）「上記のように構成される磁気ディスクをコンタクト・スタート・ストップ（以下ＣＳＳと記す）テストに供した場合、摩擦係数がある程度以上になると、ディスクが共振し、可聴音を発生するという問題点があった。（この点については、電気関係学会、関西連合支部大会、１９８９年予稿集、Ｓ６−８、Ｓ４４頁参照）
　この発明は上記のような問題点を解決するためになされたもので、共振を抑制し、可聴音の発生を防止できる磁気ディスクを得ることを目的とする。」 （公報１頁右下欄１６行〜２頁左上欄６行、発明が解決しようとする課題の項）
　（ウ）「なお、下地硬化層として用いられるＮｉ合金等も剛性の高いものであるが、下地硬化層を厚くすると合金膜の内部応力によりディスクの平面度を確保できない。その最大限界膜厚は一般に数十ミクロンである。そのため下地硬化層でディスク自体の剛性を高めることはできず、共振を抑制するようには全く作用しない。従って、この発明がなされのであり、新たに剛性の高い制振材を付加することにより、ディスクの剛性を高め振動を起きにくくして、その共振を抑制し、可聴音の発生を防止している。」（公報３頁左上欄８行〜１７行の実施例の項の記載を、公報４頁左下欄２行〜６行の「６．補正の内容」の記載をもとに訂正した内容である。）
　
（２）同じく引用された特開昭５９−２２１８３２号公報（以下「引用例２」という。）には、「複合磁気デイスク」に関して次の事項が記載されている。
　（カ）「前記ドイツ国特許２６４８３０３号は合金製のデイスクの表面上に非磁性合金層を設けた磁気記録素子を開示している。この場合、鏡面仕上げを受けた非磁性合金層の表面上に磁性金属薄膜が存在する。」（公報２頁左下欄１２行〜１７行、従来技法の説明の項）
　（キ）「本発明の目的は表面の品質が高く、ベースになる材料の機械的特性がすぐれていて、例えば
弾性係数が大きい事によつて、極めて高速度の回転を可能とする剛性の支持体を有する複合磁気デイスクを与える
　本発明に従う磁気デイスクの支持体は重合体コア及び反応によつて結合された炭化ケイ素の１つもしくは２つのデイスクより成り、上述のケイ素円板を使用する支持体に匹敵する平坦性及び表面平滑性を有する。反応結合された炭化ケイ素の
弾性係数が大きく（約３５０ＫＮ／ｍｍ
２
）且つ密度が低い（約３．２ｇ／ｃｍ
３
）ので
略２倍の限界的回転速度が達成され得る
　（ク）「実施例の説明に先立つて、磁気デイスク記憶装置のアクセス時間について考察すると、周知の如くアクセス時間の減少はビツト密度の増大もしくは
デイスクの回転速度を高める事によつて実現され
ば臨界回転数Ωｃで表わされる予定の共振振動数によつて回転数の上限が決められている
臨界回転数に対しては　Ωｃ＝（Ｅ／ρ）の平方根　が成立つ。ここでＥは弾性係数ρは材料の密度である
　
３　対比・判断
（１）対比
　本願発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　引用例１には、特に上記２（ア）（下線部参照）に摘示した記載事項によれば、
　「Ａｌ合金基板上にＮｉ−Ｐメッキ下地硬化層、媒体である磁性膜を形成した磁気ディスク。」
　の発明が記載されている。
　引用例１に記載された発明の「Ａｌ合金基板」「Ｎｉ−Ｐメッキ下地硬化層」「媒体である磁性膜」は、それぞれ本願発明の「アルミニウム合金基板」「表面処理皮膜」「媒体」に相当している。
　引用例１に記載された発明の磁気ディスクは、引用例１が共振の抑制を目的としていることから、高速回転下で用いられることは明らかである。
　本願発明と引用例１に記載された発明は、
　「表面処理皮膜が設けられたアルミニウム合金基板上に媒体が形成され、高速回転下で用いられる磁気ディスク。」
　である点で一致しており、以下の点で相違している。
　
　（相違点）　本願発明では、「１００００ｒｐｍ以上の高速回転」と特定され、「表面処理皮膜を含めた基板のヤング率Ｅ（ｋｇ／ｍｍ２）と密度ρ（ｇ／ｃｃ）との比Ｅ／ρが２８００以上であること」及び「高速回転安定性に優れた」と特定されているのに対し、引用例１に記載された発明では、そのように特定されていない点。
　
（２）相違点についての判断
　引用例１に記載された磁気ディスク装置は、いわゆるハードディスク装置であり、ディスクが共振する問題点が記載されているように、高速回転における安定化が従来からの技術課題であることが明らかである。そして高速回転数が１００００ｒｐｍ以上の装置においても高速回転安定性に優れる磁気ディスクが要求されていることは明らかである。
　磁気ディスク装置において、高速回転を可能とするためには、磁気ディスクとして剛性の支持体を有することが望まれ（上記（キ）参照）、回転数の上限が、臨界回転数Ωｃ即ち、Ｅ／ρの平方根（Ｅは弾性係数、ρは密度）によって決定され（上記（ク）参照）、弾性係数Ｅを大きく、密度ρを低くすると、限界的回転速度を増加できること（上記（キ）参照）が、引用例２に示されている。
　そして、磁気ディスクの支持体の剛性を考慮するとき、支持体全体としての、即ち表面処理皮膜を含む基板全体の、Ｅ／ρが、臨界回転数に寄与するものとして扱うことは、ごく普通のことであるから、所望の高速回転数の磁気ディスク装置を設計するに当たり、当該所望の高速回転数を超える臨界回転数を磁気ディスクが有するように、Ｅ／ρの値を選定することは、上記臨界回転数ΩｃがＥ／ρの平方根によるという公知の関係に基いて、当業者が適宜なし得ることである。
　また、引用例１には、表面処理皮膜として３０μｍのＮｉＰメッキ膜が例示されている（上記（ア）参照）。本願発明では、Ｅ／ρが２８００以上のものを得るための具体的方法としてＮｉＰめっき膜を３０μｍ以上設けることが例示されていることをみれば、引用例１に例示される磁気ディスクは、本願発明の磁気ディスクと、磁気ディスクの構成が何ら相違しないものであり、Ｅ／ρが２８００以上の値のものを得るために格別な工夫を要するものでないことからも、本願発明は、当業者が容易に想到しうることである。
　なお、請求人は、引用例１に記載された表面処理皮膜を備える磁気ディスクは、そのＥ／ρが、２８００以上であるかどうかはわからないと主張しているが、高速回転下において、Ｅ／ρの値を所定値以上に設定しなければ、限界的回転速度のために共振が抑制できないことは、引用例２に記載され（上記（ク）参照）、磁気ディスクの支持体において当然要求されることともいえるから、Ｅ／ρの当該値は当業者が適宜採用し得る程度の値であって、請求人の主張は採用できない。
　
　以上のとおり、上記相違点の構成及び上記相違点に基づく作用効果は、引用例１及び２に記載された発明から、当業者であれば予測することができる程度のものにすぎず、格別顕著なものではない。
　
４　むすび
　したがって、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。