【事件の表示】
　上記当事者間の特許第３２７２１１１号「低屈折率膜形成用塗料、帯電防止・反射防止膜および帯電防止・反射防止膜付き透明積層体並びに陰極線管」の特許無効審判事件についてされた平成１９年７月３１日付け審決に対し、知的財産高等裁判所において、請求項１についての部分の審決取消の判決（平成２０年５月２８日言渡、平成１９年（行ケ）１０３１９号）があったので、審決が取り消された部分である請求項１についてさらに審理のうえ、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第３２７２１１１号の請求項１に係る発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、６分の５を請求人の、６分の１を被請求人の負担とする。 
【理　由】
第１　手続の経緯 
　平成５年８月６日、名称を「低屈折率膜形成用塗料、および帯電防止・反射防止膜付き透明積層体および陰極線管」とする発明につき特許出願（特願平５−１９６５３５号、請求項の数９）がされ、拒絶理由通知を受けたので、平成１３年１１月２日付けで発明の名称を「低屈折率膜形成用塗料、帯電防止・反射防止膜および帯電防止・反射防止膜付き透明積層体並びに陰極線管」とし請求項の数を６とする等を内容とする手続補正がされたところ、平成１４年１月２５日に特許第３２７２１１１号として設定登録を受けた（請求項の数６。以下、その特許を「本件特許」、その明細書を「特許明細書」という。）。
　平成１８年１１月２日に本件特許の請求項１ないし６につき本件特許無効審判の請求がされ、平成１９年７月３１日に全請求項につき「本件審判の請求は、成り立たない。審判費用は、請求人の負担とする。」との審決がされたところ、請求項１に対する審決部分の取り消しを求め知的財産高等裁判所に出訴され、平成１９年（行ケ）１０３１９号事件として審理された結果、平成２０年５月２８日に「特許庁が無効２００６−８０２２８号事件について平成１９年７月３１日にした審決のうち、請求項１について審判の請求は成り立たないとした部分を取り消す。」との判決がされた。
　なお、請求項２ないし６に係る審決は、特許法第１７８条第３項に定める期間に審決取消の訴えがされなかったことにより、平成１９年９月１０日に確定した（当該請求項２ないし６に対する審決は、後記「参考」を参照のこと）。
　 
第２　本件発明 
　特許第３２７２１１１号の請求項１に係る発明（以下、「本件発明１」という。）は、特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものと認められる。 
 「シリコンアルコキシドと、非水溶媒と、平均粒子径が０．３〜１００ｎｍかつ屈折率が１．２〜１．４である多孔質シリカ微粉末とを分散含有してなることを特徴とする低屈折率膜形成用塗料。」 
　
第３　無効理由の概要　
　請求人は、本件発明についての特許を無効とする、審判費用は被請求人の負担とする、との審決を求め、証拠として、甲第１号証ないし甲第１５号証を提出した。
　本件発明１についての無効理由は、本件発明１は、甲第１号証又は甲第３号証に記載された発明であり若しくは甲第１号証又は甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項の規定に該当し、又は同法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないから、本件発明１についての特許は同法第１２３条第１項第２号の規定に違反してされたものである、というものである（以下、この理由を「本件無効理由」という。）。
　 
第４　証拠方法の内容　
　特開平５−１３０２１号公報（甲第１号証。以下「甲１」という。）には、以下の記載がある（下線は審決で付記。以下同じ。）。
「【請求項１】反射防止機能を有する超微粒子を分散した皮膜を基体に付与してなる反射防止体において、前記超微粒子は表面が凹凸を呈するものであることを特徴とする反射防止体。」
「【請求項２】反射防止機能を有する超微粒子を分散した皮膜を基体に付与してなる反射防止体において、前記超微粒子は少なくともその表面が多孔質である…反射防止体。」
「【請求項８】請求項１乃至６のいずれかにおいて、前記反射防止機能超微粒子はＳｉＯ２，ＭｇＦ２の群から選ばれることを特徴とする反射防止体。」
「【請求項３１】前記反射防止用超微粒子が粒径１００〜１５０ｎｍのＳｉＯ２超微粒子であることを特徴とする請求項１乃至９または２４乃至２７に記載の反射防止体。」
「【０００２】
【従来の技術】透明性板表面の反射率を低減する膜（反射防止膜）は古くから研究されておりカメラ，メガネなどのレンズに利用されてきた。…反射防止膜には様々なものが考えられているが、現在利用されているものは主に多層膜と不均一膜である。」
「【０００３】多層膜は透明性板表面に低屈折率物質と高屈折率物質とを交互に少なくとも三層積層した構造であり、その反射防止効果は各層感での光学的干渉作用の総合効果である。…」
「【０００４】また、膜厚方向に屈折率分布を持つ不均質膜は、膜の平均屈折率が基板ガラスよりも低い場合に反射防止膜となる。不均質膜は透明性板表面を多孔質化したものが一般的である。」
「【００１９】…超微粒子を規則正しく緻密に塗布した場合に最も反射率が小さくなることになる。」
「【００２０】本発明者等は、先に超微粒子を反射防止膜に適用することを提案したが、更に鋭意検討した結果、塗布液を基板表面上を一定速度で上昇あるいは下降することにより塗布液に混合されている超微粒子が基板上に規則正しく配列，塗布され、理論値に近い低反射率が得られることを見出した。」
「【００２１】この場合、表面に凹凸を有する超微粒子を用いることにより、超微粒子表面層での拡散反射が減少し、白濁のない膜が得られることを見出した。…」
「【００４９】【作用】上記（１）の如く、凹凸，多孔質化，超微粒子集合の各工夫にて、拡散反射を少なくすることが可能である。拡散反射とは反射の中であらゆる方向に拡散する反射をいう。本発明によれば光路先端が超微粒子の凹部に至るとその光の進行がその凹部内にとどまる。拡散反射は見た目に塗布した膜が白濁し、同時に透過率も悪くなり、しかも解像度も低下する。」
「【００５０】解像度を向上させつつ拡散反射率は極力０にしたいが実際には難かしい。超微粒子を極超微粒子（平均粒径０．０１μｍ以下）にすると、拡散反射率は０になるが、一方で正反射率が無処理に近づいてしまう。従って超微粒子としての大きさを保持しつつ、かつ拡散反射率を０に近づける工夫として、凹凸形成（含，多孔質，超微粒子集合）を提案した。」
「【００６２】（超微粒子）超微粒子の機能は透明性，透光性に支障のない限り特に限定はされないが、平均粒径としては０．１μｍ 以下のものをいう。代表的な機能は帯電防止，反射防止及び／又は赤外線反射である。」
「【００６４】上記反射防止用超微粒子の平均粒径は１００〜１５０ｎｍが望ましい。ＳｉＯ２等は１００ｎｍより小さな粒径では形成された膜の最外表面が平坦になりすぎて充分な反射防止効果が得られない恐れがあり、一方１５０ｎｍより大きな粒径では反射防止効果は充分得られるが、拡散反射が大きくなり、その結果白濁すると同時に解像度が低下する恐れがあるからである。従って反射防止用超微粒子の粒径は１００〜１５０ｎｍが好ましい。この場合、表面に凹凸を有する超微粒子を用いると、超微粒子表面での散乱光が減少し、その結果膜全体の拡散反射も非常に少なくなって白濁を解消することができる。」
「【００９２】薄膜形成方法は、Ｓｉ(ＯＲ)４（ただし、Ｒはアルキル基）を溶解したアルコール溶液に、本発明超微粒子…を分散し、この溶液を透光性画像表示画板上に塗布した後、この塗布面を加熱（焼成）して前記Ｓｉ(ＯＲ)４を加水分解した超微粒子薄膜をＳｉＯ２で覆った膜を形成することになる。Ｓｉ(ＯＲ)４ の分解物たるＳｉＯ２ は超微粒子と基板との間隙にも入り込むから接着剤の役目もある。」
「【００９３】上記Ｓｉ(ＯＲ)４のＲとしては、一般に炭素数１〜８特に５のアルキル基が好ましい。またＳｉ(ＯＲ)４を溶解させるためのアルコールは、上記Ｒの炭素数を増加と共にＳｉ(ＯＲ)４ アルコール溶液の粘性が高くなるので、作業性を考慮して粘性が高くなりすぎないように適宜アルコールを選択すればよい。一般に使用可能なアルコールとしては炭素数が１ないし５のアルコールが挙げられる。」
「【０１２１】光の反射は屈折率が急変する界面で生じるため、逆に界面において屈折率が徐々に変化すれば反射は生じなくなる。通常、ソーダガラス(屈折率約１．５３）の反射防止には、最も低反射率の物質フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２)（
屈折率約１．３８
「【０１２２】そこで、ガラス基板とＭｇＦ２との中間の屈折率を持つ物質、例えばＳｉＯ２(屈折率１．４６）の超微粒子とＭｇＦ２超微粒子を混合してガラス基板に塗布し、その混合比を膜厚方向で変える、すなわちガラス基板面から塗布膜表面に向って徐々にＳｉＯ２超微粒子の混合比を減らし、ＭｇＦ２超微粒子の混合比を増すことで、塗布面とガラス基板との界面における屈折率変化がよりゆるやかとなり、有効な反射防止効果が図れる。…」
「【０１２３】ガラス基板に近い屈折率を持つ物質(例えばＳｉＯ２）と空気に近い屈折率を持つ物質(例えばＭｇＦ２）とを混合する際に超微粒子を用いることで、両物質が光の波長より小さなレベルで均一に混合することができる。そのため、その屈折率はＳｉＯ２とＭｇＦ２との体積分率に対応した平均的屈折率となる。すなわち、ＳｉＯ２超微粒子とＭｇＦ２超微粒子とを混合した超微粒子膜において、膜厚方向Ｘの位置における平均的屈折率ｎ(ｘ)は、同位置におけるＳｉＯ２超微粒子の体積分率をＶ(ｓ)とすると、ｎ(ｘ)＝１．４６×Ｖ(ｓ)＋１．３８×{１−Ｖ(ｓ)}と示せる。従って膜厚方向に混合比を変えれば屈折率も対応して変化し、ガラス基板と塗布膜との界面の屈折率変化がゆるやかとなる。」
「【０１３６】（塗布溶液）本発明の超微粒子膜の形成には、所定の超微粒子にバインダー…その他添加物を加えた塗布溶液を用いる。」
「【０１３７】透光性板がガラス体のときはバインダーとしてＳｉ(ＯＲ)４（但しＲはアルキル基）を使用することが好ましく、透光性板がプラスチックのときはバインダーとしてＳｉ(ＯＲ)Ｘ （Ｘ＝２〜４、特に好ましくは３）を使用することが好ましい。…」
「【０１９０】光の反射は屈折率が急変する界面で生じるため、逆に界面において屈折率が徐徐に変化すれば反射は生じなくなる。以上の原理に基づいて膜厚方向に屈折率分布を持たせた膜が前述の不均質膜である。」
「【０１９１】基板上に光の波長よりも小さい凹凸があると、個々の凹凸は界面と見なせず、基板と空気の体積分率に対応する平均的な屈折率を持つ面とみなせる。すなわち、膜厚方向深さｘの位置における平均屈折率ｎｘは、基板の占める体積分率をｖ(ｘ) 、基板の屈折率をｎｓ、空気の屈折率をｎａとすると、ｎｘ＝ｎｓ・ｖ(ｘ)＋ｎａ(１−ｖ(ｘ))と表わされる。従って、微小な凹凸を形成して、基板の体積分率ｖ(ｘ) を連続的に変化させると、屈折率も連続変化し、不均質膜となり反射を防止することができる。」
「【０１９２】超微粒子膜をエッチングすると、超微粒子と同等あるいはそれ以下の大きさの凹凸が形成され、前記のごとく不均質膜となり、有効な反射防止膜となる。超微粒子表面の凹凸処理，多孔質化，集合による微粒子化も同様である。」
「【０１９３】（反射防止機能超微粒子自体の工夫）　図８により反射防止機能超微粒子の態様を例示する。」 
「【０１９４】（ａ）は表面を多孔質としたもので、各開孔径は０．０５μｍ以下であり、開孔率は５０％程度で球状面をまんべくなく（ほぼ均一に）開口している。全体径は平均０．１μｍ以下が好ましい。多孔質にする手法の一例として核生長法がある。この場合は例えばアルコキシド−水−酸−アルコールの出発原料の配合比を変化させ、加水分解，重合反応を不均一もしくは反応を速めると水分濃度の高い部分が内部に生じる。これらを焼処理すると水分が蒸発し、その跡は空孔となって多孔質となる。」
「【０１９８】（２層膜形成例）図９は、ガラス基板上に本発明の超微粒子膜を２層に形成した例の断面図であり、図１０は前記超微粒子膜の膜厚方向に対する平均屈折率の変化を示す図である。各超微粒子は図８のいずれかの態様による。」
「【０１９９】まず、エチルシリート〔Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５）４〕をエタノールに溶解し、さらに水，硝酸，イソプロピルアルコール，アセチルアセトンを加えた溶剤に、ＳｉＯ２超微粒子を加えて超音波振動により十分に分散させた。ＳｉＯ２超微粒子の量は、上記溶剤１ｌに対して、２５ｇとした。ＳｉＯ２超微粒子分散後、さらにシトラコン酸を加え、十分に溶解させた。シトラコン酸の量は上記溶剤１ｌに対して１０ｇとした。その後、さらに超音波振動を加えて、ＳｉＯ２超微粒子の十分な分散、各成分の十分な混合を図った。以上の混合を終えた溶剤を溶剤Ａとする。」
「【０２００】上記溶剤Ａに、あらかじめＭｇＦ２超微粒子，エチルシリケートをエタノールに分散しておいた溶剤Ｂを加え、超音波振動によって均一に混合した。溶剤Ｂ中のＭｇＦ２超微粒子量は溶剤１ｌに対し、約２５ｇである。溶剤Ａと溶剤Ｂとの混合比を変えて、ＳｉＯ２超微粒子とＭｇＦ２超微粒子の混合比を変える。」
「【０２０１】まず、ＳｉＯ２超微粒子とＭｇＦ２超微粒子の体積分率が７：３になるように溶剤Ａと溶剤Ｂとを混合した溶剤をガラス板面上に滴下し、さらにスピンナーで均一に塗布した後、空気中で４０℃に約１０分間保って上記塗布膜を乾燥させた。乾燥後、さらにＳｉＯ２超微粒子とＭｇＦ２超微粒子の体積分率が１：１になるように混合した溶剤を滴下し、スピンナーで均一に塗布した。その後、１６０℃で４５分間空気中で焼成し、エチルシリケートを熱分解してＳｉＯ２化した。ＭｇＦ２超微粒子，ＳｉＯ２超微粒子は熱分解で生じたＳｉＯ２によってガラス基板上に強固に固着される。」
「【０２０２】このようにして形成した超微粒子膜の断面を電子顕微鏡で観察したところ、図９に示すようにＳｉＯ２超微粒子５２とＭｇＦ２超微粒子５１が７：３となる層（第１層）が約０．１μｍ ，１：１となる層（第２層）が約０．１μｍ で計約０．２μｍ 膜厚の、ＳｉＯ２超微粒子，ＭｇＦ２超微粒子が均一に混合して、密に堆積した膜が観察された。５３はガラス基板である。」
「【０２０３】上記の超微粒子膜の、膜厚方向に対する平均屈降率の変化をＳｉＯ２超微粒子とＭｇＦ２超微粒子の体積分率から算出した結果を図１０に示す。ａは空気の屈折率で約１．０ 、ｂは第１層の屈折率で約１．４２ 、ｃは第２層の屈折率で約１．４４ 、ｄはソーダガラスの屈折率で約１．５３ である。膜全体としては、屈折率が徐々に変化しているため、塗布膜とガラス基板との界面における反射率を低減する効果がある。また、超微粒子によって膜を形成しているため、塗布膜表面に微小な凹凸が生じ、塗布膜表面での反射を低減する結果となっている。」
「【０２０４】上記の超微粒子膜を形成したガラス基板と未処理のガラス基板に対して、５°の入射角度で波長４００〜７００ｎｍの光を入射させ、その反射率を測定し結果を図１１に示す。図中Ｉが上記超微粒子膜を形成したガラス板の反射特性であり、IIが未処理のガラス板の反射特性である。」
「【０２０５】全波長域において本発明の反射防止膜は未処理のガラス板の約１／４まで反射率が低減している。また透過率は、波長４００〜７００ｎｍ間の積分値で示すと、未処理ガラス板が９２％に対して本発明の反射防止膜を形成したガラス板は約８６％となる。可視光全領域で低反射であり、かつ透過率が高いため、ＶＤＴ（ビジュアル・ディスプレイ・ターミナル）に対する反射防止膜として好適である。」
「【０２０６】なお、本実施例では混合比を変えた２層としたが、より多層として平均屈折率の変化をより小刻みとすれば反射防止効果は一層増すこととなる。」
「【０２０７】本実施例によれば、簡単な塗布法をくり返すことで屈折率が連続変化した膜を形成できるため、反射防止膜を低コストで製造できる、さらに大面積の反射防止膜も容易に形成できる効果がある。」
「【０２２８】…超微粒子の粒径が小さすぎると、形成される膜の最外表面が平滑になりすぎて充分な反射防止効果が得られない恐れがあるので平均粒径１００Å以上が好ましい。逆に大きすぎても拡散効果が大きすぎてしまい解像度が低下するとともに膜強度も低下するので、いわゆる超微粒子と定義される０．１μｍ 以下の平均粒径が好ましい。」 
　 
２　ＡＰＰＬＩＥＤ　ＯＰＴＩＣＳ、１９巻、９号、１９８０年５月１日　第１４２５〜１４２９頁（甲第５号証。以下「甲５」という。）には、以下の記載がある（摘示は抄訳による。）。
ａ　「物質の屈折率は、その密度に関係し、後者は多孔性を導入することによって低下されることができ、屈折率もまた下げられることができるからである。」（１４２５頁右欄下から９行〜７行）
　　　　
第５　当審の判断　
　請求人が主張する、本件発明１が特許を受けることができないとする理由は、第３のとおり、「本件発明１は、甲第１号証又は甲第３号証に記載された発明であり若しくは甲第１号証又は甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項の規定に該当し、又は同法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない」というものであって、その理由は、「本件発明１は、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない」という理由を含むものである。
　そこで、まずこの理由について検討する。
　
１　甲１に記載された発明
　甲１は、「反射防止機能を有する超微粒子を分散した皮膜を基体に付与してなる反射防止体において、前記超微粒子は表面が凹凸を呈するものであることを特徴とする反射防止体」（【請求項１】）に関し記載するものであって、その表面が凹凸を呈するものである超微粒子には「少なくともその表面が多孔質」（【請求項２】）である「ＳｉＯ２ 」（「シリカ」である。【請求項８】）が含まれることが認められる。
　そして、その「反射防止機能を有する超微粒子を分散した皮膜」は、Ｓｉ(ＯＲ)４（ただし、Ｒはアルキル基）を溶解したアルコール溶液に、上記超微粒子を分散し、この溶液を基体上に塗布した後、この塗布面を加熱（焼成）して前記Ｓｉ(ＯＲ)４を加水分解し、超微粒子薄膜をＳｉＯ２で覆った膜を形成する方法（段落【００９２】）などによって形成されることが認められるから、このＳｉ(ＯＲ)４（ただし、Ｒはアルキル基）を溶解したアルコール溶液に、上記超微粒子を分散したものは、反射防止体形成用塗料であるということができる。
　以上によれば、甲１には、 
 「アルコキシシランＳｉ(ＯＲ)４（ただし、Ｒはアルキル基）を溶解したアルコール溶液に少なくともその表面が多孔質であるシリカ超微粒子を分散させた反射防止体形成用塗料」 
 という発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されているということができる。 
　 
２　本件発明１と甲１発明との対比
　本件発明１の「シリコンアルコキシド」、「非水溶媒」は、具体的には特許明細書に「このシリコンアルコキシドは、テトラアルコキシシラン系化合物、アルキルトリアルコキシシラン系化合物、ジアルキルジアルコキシシラン系化合物などから選ぶことができる。また、非水溶媒は、アルコール系化合物、…などから選ぶことができる」（段落【００１１】）などと記載されているとおり、甲１発明の「アルコキシシランＳｉ(ＯＲ)４」、及び「アルコール」を包含するものである。
　また、本件発明１の多孔質シリカ微粉末は、具体的には特許明細書に「平均粒径が０．３〜１００ｎｍであることが好ましい」（段落【００１２】）と記載されているとおり、多孔質シリカの微粒子であるといえ、そして、甲１発明の「少なくともその表面が多孔質であるシリカ超微粒子」も、その好ましい平均粒子径について不明りょうな点はあるものの、少なくとも、ともに多孔質シリカの微粉末であるといえる。
　さらに、甲１発明は「反射防止体形成用塗料」であり、本件発明１は「低屈折率膜形成用塗料」であって、いずれも皮膜形成用塗料であるといえる。
　そうすると、本件発明１と甲１発明とは、 
 「シリコンアルコキシドと、非水溶媒と、多孔質シリカの微粒子とを分散含有してなる皮膜形成用塗料」 
 である点で一致するが、以下の点（ａ）、（ｂ）、（ｃ）で一応の相違が認められる。
 （ａ）　多孔質シリカの微粒子の平均粒子径が、本件発明１では、「０．３〜１００ｎｍ」と特定されるのに対し、甲１発明では、そのような平均粒子径の範囲であるかは明らかではない点
 （ｂ）　多孔質シリカの微粉末の屈折率が、本件発明１では、その「１．２〜１．４」と特定されるのに対し、甲１発明では、そのような屈折率の範囲であるかは明らかではない点
 （ｃ）　皮膜形成用塗料が、本件発明１では、「低屈折率膜」形成用塗料であるのに対し、甲１発明では、「反射防止体」形成用塗料である点 
 （以下これらの相違点を、それぞれ「相違点（ａ）」、「相違点（ｂ）」、「相違点（ｃ）」という。）
　
３　相違点の検討
　事案にかんがみ、まず、相違点（ｂ）について検討し、その後、相違点（ａ）、相違点（ｃ）の順に検討する。
　　　
（１）　相違点（ｂ）について 
ア　本件発明１は低屈折率膜形成用塗料に関する発明であり、その含有する塗料成分につき、シリコンアルコキシド、非水溶媒、多孔質シリカ微粉末とを含有することを発明特定事項としているところ、これら塗料成分により形成される低屈折率膜自体の屈折率については特定されていない。これについては、含有する上記の多孔質シリカの屈折率（１．２〜１．４）等及び平均粒子径（０．３〜１００ｎｍ）を規定する方法によっているものである。
　そして、本件明細書には、以下の記載がある。
「【０００２】
【従来の技術】一般に画像表示用透明基材、例えばＴＶブラウン管の画像表示部には静電気が帯電しやすく、この静電気によってほこりが表示面に付着するという問題点が知られている。また、上記画像表示面に、外部の光が反射し、あるいは外部影像が映り込み、表示面の画像を不明瞭にするなどの問題点も知られている。上記の問題点を解決するために、従来、透明基材の表面に、アンチモンをドープした酸化錫微粉末とシリコンアルコキシドの加水分解生成物（以下「シリカゾル」という）との非水性溶媒分散液を塗布・乾燥して帯電防止膜を形成し、前記帯電防止膜上に、それよりも屈折率の低い低屈折率膜を形成することが行われている。即ち、前述のアンチモンドープ酸化錫微粉末と上記のシリカゾルとの混合物を含む非水分散液からなる塗料を用いて帯電防止膜を形成し、その上にシリカゾルの非水分散液からなる塗料を塗布して低屈折率膜を形成するものである。」
「【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の帯電防止膜の屈折率は、ｎ＝１．５０〜１．５４程度であって、シリコンアルコキシドの加水分解生成物（シリカゾル）により形成される前記低屈折率膜の屈折率との差が小さく、従って、従来の帯電防止膜と低屈折率膜との組合せによる反射防止効果は十分なものではなかった。また、前述した酸化インジウム等の透明導電膜をスパッタ法や蒸着法等で形成したフェースプレートを表示面に張り付ける方法で得られる陰極線管は、非常に高価である。一方、着色帯電防止液をコーティングする方法によって得られる帯電防止・光フィルター付き陰極線管では、導電性が不足しているために、十分な電磁波遮蔽効果が得られず、更には、着色帯電防止コーティング液をスプレーする方法によって形成される帯電防止・光フィルター・反射防止機能付き陰極線管の場合は、形成された膜の凹凸により、画像の解像度が著しく低下するという問題があった。また、シリカゾルの非分散液からなる低屈折率膜形成用塗料を塗布して形成した低屈折率膜にあっては、帯電防止・反射防止膜付き透明積層体の反射防止機能が不十分であった。」
「【０００５】本発明は上記問題を解決するために、十分な反射防止機能を有する低屈折率膜形成用塗料、帯電防止性にすぐれた帯電防止・反射防止膜、および、透明基材の面上に、帯電防止性にすぐれた帯電防止・反射防止膜付き透明積層体、特に帯電防止・高屈折率膜とその上に形成された低屈折率膜とを有する透明積層体ならびに少なくとも表示面がこの帯電防止・反射防止膜で形成された帯電防止・反射防止機能付き陰極線管を提供することにある。」
「【００１０】
【作用】本発明の低屈折率膜形成用塗料では、シリコンアルコキシドと、非水溶媒と、平均粒子径が０．３〜１００ｎｍかつ屈折率が１．２〜１．４である多孔質シリカ微粉末とを分散含有するので、この塗料を塗布・乾燥し、焼付け処理することによって低屈折率膜を形成することができる。こうして得られた低屈折率膜は、十分な反射防止機能を有する。…」
「【００１１】…本発明の低屈折率膜形成用塗料は、シリコンアルコキシドと、非水溶媒と、平均粒子径が０．３〜１００ｎｍかつ屈折率が１．２〜１．４である多孔質シリカ微粉末とを分散含有してなる。このシリコンアルコキシドは、テトラアルコキシシラン系化合物、アルキルトリアルコキシシラン系化合物、ジアルキルジアルコキシシラン系化合物などから選ぶことができる。また、非水溶媒は、アルコール系化合物、エステル系化合物、およびケトン系化合物などから選ぶことができる。これらは単一種で用いてもよく、２種以上の混合物として用いても良い。上記塗料を、帯電防止・高屈折率膜上に塗布、乾燥し、これを焼き付け処理すると、シリコンアルコキシド加水分解生成物はシリカとなる。
シリカの屈折率は、ｎ＝１．４６
「【００１２】本発明の低屈折率膜形成用塗料中に含まれる多孔質シリカ微粉末（屈折率：ｎ＝１．２〜１．４）の含有率には、格別の制限はなく、対応する帯電防止・高屈折率膜の組成に応じて適宜に対応することができるが、一般にはシリコンアルコキシドの重量（ＳｉＯ２）に対して０．０１〜６０％の範囲内にあることが好ましい。この多孔質シリカ微粉末は、平均粒径が０．３〜１００ｎｍであることが好ましい。この平均粒径が１００ｎｍを越えると、得られる低屈折率膜において、レイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率膜が白っぽく見え、その透明性が低下することがある。」
「【００１３】また、前記多孔質シリカの平均粒径が０．３ｎｍ未満であると、微粒子が凝集しやすく、したがって塗料中における微粒子の均一分散が困難になり、塗料の粘度が過大になるなどの問題が生ずる。…」
「【００１４】前記多孔質シリカは、シリコンのアルコキシドをアルカリの存在下において、加水分解させたり、シリコンのアルコキシドを高分子、例えば、ポリビニルアルコール、セルロースの存在下において加水分解させることなどにより製造することができる。また、多孔質シリカ微粉末は、粉末状で使用してもよく、分散されたゾル状で使用してもよい。粉末状の多孔質シリカを使用したときの形状は、球状、針状、板状、および鎖状等のいずれであってもよい。」
「【００３１】このため、帯電防止・高屈折率膜形成用塗料を用いて得られる帯電防止・高屈折率膜は、極めて優れた帯電防止効果および電磁波遮蔽効果を示す。そして、前記帯電防止・高屈折率膜は、ｎ（屈折率）＝１．６〜２．０という高屈折率を具有する。」
「【００３２】また、特に本発明の透明積層体にあっては、基材面での反射光を低減させるために、上記の帯電防止・高屈折率膜の上に屈折率差０．１以上、好ましくは０．１５以上の低屈折率膜を設ける。これにより、極めて優れた反射防止性をも具現すことになる。これは、低屈折率膜表面からの反射光と帯電防止・高屈折率膜の界面からの反射光とが干渉によって打ち消しあい、さらに高屈折率膜に存在するカーボンブラック粒子により、帯電防止・高屈折率膜内に侵入する外光が吸収されるからである。これによって、反射防止効果を従来以上に高めることができる。」
「【００３７】前記塗料により形成された第一層目の膜では、アンチモンドープ酸化錫に、さらに高導電性の黒色系着色導電性微粉末が添加されたことによって、帯電防止効果の他に、電磁波シールド効果、さらに光吸収による画像の高コントラスト化効果を付与することができる。また、第一層目の膜上に、それより低屈折率の第二層目の膜を形成したことによって、第一層目と第二層目との組み合わせによる光学的反射防止効果を付与することができる。」
「【００４０】次いで、第二層目の低屈折率膜形成用塗料としては、表面硬度、屈折率の点から、シリコンアルコキシドを加水分解して得られるシリカゾルを含む塗料を用いてもよい。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のシリコンアルコキシドをメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル等のエーテル類、ケトン類、アルデヒド類、エチルセロソルブ等の１種又は２種以上の混合溶媒に加え、それに水と塩酸、硝酸、硫酸、リン酸等の酸を加えて加水分解してシリカゾルを生成した溶液を第二層目の低屈折率膜形成用塗料として用いることができる。これら塗料の塗布方法としては、スピンコート法、スプレー法、ディップ法等が適用できるが、陰極線管上に膜厚の均一な膜を形成する場合には、スピンコート法が好ましい。」
「【００４３】（実施例２）実施例１と同様な操作を行い、下記の調製した塗料（ｂ）を用いた。１００ｇのテトラメトキシシランと５３０ｇのメタノールとを混合し、この混合液に室温で２３．５ｇのアンモニア水を添加し、２４時間撹拌した。その後、２４時間還流してアンモニアを除去してさらに濃縮し、平均粒子径が１０ｎｍの多孔質シリカゾル（固形分２０重量％）を得た。この多孔質シリカ／バインダーの量比を変化させて反射防止膜を作製し、その時の屈折率と多孔質シリカ濃度との関係から、多孔質シリカ１００％の値を外挿し、
屈折率が１．２５の多孔質シリカ
「【００５４】【発明の効果】本発明の低屈折率膜形成用塗料は、シリコンアルコキシドと、非水溶媒と、平均粒子径が０．３〜１００ｎｍかつ屈折率が１．２〜１．４である多孔質シリカ微粉末とを分散含有しているので、帯電防止・高屈折率用膜の上に均一にシリコンアルコキシドを分散させて積層させることができる。この塗料中に多孔質シリカ微粉末を分散含有させるので、十分に反射防止機能を有する低屈折率膜を製造でき、これを用いて帯電防止・反射防止膜の反射防止機能を向上させることができる。」
「【００５５】本発明に係わる帯電防止・反射防止膜は、透明基材上に帯電防止性に優れ屈折率が高い膜を容易に形成することを可能にするものであって、特に、帯電防止・高屈折率膜形成用塗料を用いて得られた帯電防止・高屈折率膜に低屈折率膜を組み合わせることによって、実用的性能の優れた帯電防止・反射防止膜付き透明積層体が得られる。…」
イ　上記によれば、以下の事実が認められる。
　（ア）　従来、画像表示用透明基材（ブラウン管等）の画像表示部が帯電してほこり等が付着する問題、及び、画像表示部に光が反射等し画像を不明瞭にする問題を解決するため、画像を表示する透明基材の表面に、まず帯電防止膜を形成し、その上にシリカゾルの非水分散液からなる塗料を塗布し、低屈折率膜を形成する方法がとられてきた（段落【０００２】）。
　しかし、帯電防止膜の上に形成する上記の低屈折率膜は、従来シリカゾル（シリコンアルコキシドの加水分解生成物）の非水分散液からなる塗料を用いて形成していたが、その帯電防止膜の屈折率（１．５０〜１．５４）との差が小さく反射防止効果が十分でないという課題があった（段落【０００２】、【０００４】）。
　そこで、本件発明１は十分な反射防止機能を有する低屈折率膜を形成することができる塗料を提供する（段落【０００５】、【００１０】）ことを目的及び効果とする。
　すなわち、本件発明１は、上記の低屈折率膜（の形成用塗料）に関する発明である。
　そして本件発明１に係る低屈折率膜は、第一層の膜として帯電防止・高屈折率膜を形成した後に、その上に塗布・形成し、この第一層目と第二層目の組み合わせにより光学的反射防止効果を付与するものであり（段落【００３７】）、第二層目（低屈折率膜）の塗料成分等について段落【００１１】、【００４０】に記載されている。
　（イ）　既に検討したとおり、本件発明１は、その特許請求の範囲に記載されたようにシリコンアルコキシド、非水溶媒、多孔質シリカ微粉末とを含有する低屈折率膜形成用塗料であるところ、これにより形成される膜自体の屈折率は規定されておらず、多孔質シリカの屈折率等によって規定されている。
　そして、この多孔質シリカの屈折率（１．２〜１．４）の点についての本件明細書の記載をみると、まず「シリカの屈折率は１．４６」（段落【００１１】）とあるのはシリカの一般の屈折率をいうにすぎないところ、本件発明１の多孔質シリカ微粉末の屈折率「１．２〜１．４」はこれよりも低い数値である。そしてその屈折率の数値については、段落【００１１】、【００１２】にこの屈折率の多孔質シリカ微粉末を用いるとの記載はあるものの、上記で該当段落を摘示したとおり、その屈折率の多孔質シリカ微粉末を用いると記載されているだけで、その屈折率に関する技術的ないし臨界的意義に関しては何らの記載もない。
　加えて、本件明細書に記載された実施例１〜３のうち、多孔質シリカ微粉末の屈折率についての記載があるのは実施例２（段落【００４３】〜【００４８】。そのうち実施例２に用いた低屈折率膜形成用塗料の作製に関する記載は段落【００４３】）のみであるところ、そこにも「屈折率が１．２５の多孔質シリカを得た。」（段落【００４３】）との記載があるだけである。この屈折率が１．２５の多孔質シリカを得るに当たっては、低屈折率膜形成用塗料の原料として段落【００４０】にあげられたテトラメトキシシランとメタノールを用いて多孔質シリカを得たとされているものの、「この多孔質シリカ／バインダーの量比を変化させて反射防止膜を作製し、その時の屈折率と多孔質シリカ濃度との関係から、多孔質シリカ１００％の値を外挿し、屈折率が１．２５の多孔質シリカを得た。」とするのみで、具体的に屈折率が１．２〜１．４の多孔質シリカ微粉末を用いることに関する記載はない。
　なお、「帯電防止・高屈折率膜は、ｎ（屈折率）＝１．６〜２．０…上記の帯電防止・高屈折率膜の上に屈折率差０．１以上」（段落【００３１】〜【００３２】）と、低屈折率膜につき帯電防止・高屈折率膜との屈折率との差を０．１以上とすることの記載はあるものの、多孔質シリカ微粉末の屈折率との関係についての記載はない。
　そうすると、本件発明１の低屈折率膜形成用塗料は、所定成分を配合することにより低屈折率の塗膜を形成できるものであって、分散含有される多孔質シリカ微粉末については、シリカゾルから形成される従来のシリカ（屈折率１．４６）よりも低い屈折率物質であることを特定したものであると解されるにとどまるというべきである。
ウ　一方、甲５には「物質の屈折率は、その密度に関係し、後者は多孔性を導入することによって低下されることができ、屈折率もまた下げられることができるからである。」（摘示ａ）と記載されている。
　上記の記載によれば、物質の屈折率は、その物質の多孔質化により小さくなることは周知事項であると認められる。
エ　さらに、甲１の段落【０１９８】〜【０２０７】には、屈折率の異なる２種類の粒子を混合し、その混合比を変えて屈折率が異なる２層の膜をガラス基板上に形成した実施例が記載されている。具体的には、ＳｉＯ２（屈折率１．４６）及びそれよりも低屈折率のＭｇＦ２（屈折率１．３８）を７：３で混合したガラス基板上の層、１：１で混合したその上の層からなり、体積分率から算出された平均屈折率は前者の層が約１．４４、後者の層が約１．４２であると認められる。
　これらの記載によれば、甲１には、低屈折率の粒子を混合することによって、シリカ（ＳｉＯ２）単独の膜よりも低屈折率の膜を形成する手段が開示されているといえる。
　そして、上記低屈折率膜を形成するＭｇＦ２粒子の屈折率１．３８は、本件発明１の多孔質シリカ微粉末の屈折率（１．２〜１．４）の範囲内の数値である。
オ　そうすると、甲１発明の反射防止体形成用塗料は、下記（３）で述べるとおり低屈折率膜形成用塗料を含むと認められるところ、その低屈折率膜を形成する手段として「少なくともその表面が多孔質であるシリカ超微粒子」をシリカよりも低屈折率のものとすることは当業者が容易に想到し得る事項であり、上記ウのように多孔質シリカは中実（孔のない）のシリカよりも屈折率が小さいこと、（中実の）シリカの屈折率が１．４６であることを考慮すれば、甲１発明の「少なくともその表面が多孔質であるシリカ超微粒子」の屈折率を、「１．４６」より低い数値範囲の「１．２〜１．４」とすることに格別の困難性は認められないというべきである。
カ　さらに、このような屈折率の多孔質シリカの微粉末を分散含有したことによる本件発明１の効果については、本件明細書に「この塗料中に多孔質シリカ微粉末を分散含有させるので、十分に反射防止機能を有する低屈折率膜を製造でき、これを用いて帯電防止・反射防止膜の反射防止機能を向上させることができる。」（段落【００５４）】）と記載されているとおり、低屈折率膜の形成により反射防止効果を向上させるという、低屈折率膜から予想できる程度の効果にすぎず、格別顕著なものとは認められない。
キ　以上の検討によれば、甲１発明において、相違点（ｂ）に係る本件発明１の発明特定事項を甲１発明に適用することは、甲１の記載及び当業者の技術常識に基づいて容易に想到することができたものであると認められる。
　
（２）　相違点（ａ）について 
ア　甲１には「反射防止膜には様々なものが考えられているが、現在利用されているものは主に多層膜と不均一膜である」（段落【０００２】）と、反射防止膜には主に２種のものがあり、前者の「多層膜」は「透明性板表面に低屈折率物質と高屈折率物質とを交互に少なくとも三層積層した構造であり、その反射防止効果は各層感での光学的干渉作用の総合効果である」（段落【０００３】）ものとされている。また、後者の「不均一膜」（不均質膜）は「膜厚方向に屈折率分布を持つ不均質膜は、膜の平均屈折率が基板ガラスよりも低い場合に反射防止膜となる。不均質膜は透明性板表面を多孔質化したものが一般的である。」（段落【０００４】）ものとされ、さらに、「光の反射は屈折率が急変する界面で生じるため、逆に界面において屈折率が徐徐に変化すれば反射は生じなくなる。以上の原理に基づいて膜厚方向に屈折率分布を持たせた膜が前述の不均質膜である。基板上に光の波長よりも小さい凹凸があると、個々の凹凸は界面と見なせず、基板と空気の体積分率に対応する平均的な屈折率を持つ面とみなせる。すなわち、膜厚方向深さｘの位置における平均屈折率ｎｘは、基板の占める体積分率をｖ(ｘ) 、基板の屈折率をｎｓ、空気の屈折率をｎａとすると、ｎｘ＝ｎｓ・ｖ(ｘ)＋ｎａ(１−ｖ(ｘ))と表わされる。従って、微小な凹凸を形成して、基板の体積分率ｖ(ｘ) を連続的に変化させると、屈折率も連続変化し、不均質膜となり反射を防止することができる。」（段落【０１９０】〜【０１９１】）と記載されている。
　甲１発明の反射防止体の反射防止は、例えば、図５に示されるような、超微粒子により皮膜表面を微小な凹凸の皮膜によることから、不均質膜を形成したことによるものと認められる。そして、その「不均質膜」には、微小な凹凸の皮膜のほか、段落【０１９８】〜【０２０７】に記載される例のような、屈折率の異なる２種類の粒子を混合しその混合比を変えた、屈折率が異なる２層ないしそれ以上の膜からなるものが包含されることが認められる。
イ　そして、甲１には、その反射防止体形成用塗料に用いる超微粒子の（平均）粒径について、１００〜１５０ｎｍ（が好ましい）とする記載、１００ｎｍ以下（が好ましい）とする記載等、様々な記載が見受けられる。 
　例えば、前者として、「反射防止用超微粒子が粒径１００〜１５０ｎｍのＳｉＯ２超微粒子である」（【請求項３１】）、「反射防止用超微粒子の平均粒径は１００〜１５０ｎｍが
望ましい
恐れがあり
恐れがある
好ましい
好ましい
恐れがある
好ましい
好ましい
　上記のとおり甲１には、超微粒子の（平均）粒径について、様々な記載が見受けられるものの、その平均粒子径の両者の範囲の意義は、下限値について、前者は「１００ｎｍより小さな粒径では形成された膜の最外表面が平坦になりすぎて充分な反射防止効果が得られない
恐れがあり
恐れがある
好ましい
恐れがある
好ましい
ウ　そうすると、甲１発明の「少なくともその表面が多孔質であるシリカ超微粒子」には、いずれにしても、平均粒径が１００ｎｍの場合が包含されるといえるから、本件発明１の平均粒子径（下記エのとおり「平均粒径」と同義）が０．３〜１００ｎｍである多孔質シリカ微粉末と甲１発明の平均粒子径が１００ｎｍの「少なくともその表面が多孔質であるシリカ超微粒子」とは、重複し、この点で、少なくとも両者は相違するとはいえない。
　また、甲１には、１００ｎｍ以上のものが
好ましい
　加えて、甲１発明の「反射防止体」の皮膜が段落【０１９８】〜【０２０７】に記載される例のような、屈折率の異なる２種類の粒子を混合しその混合比を変えた、屈折率が異なる２層ないしそれ以上の膜からなる不均質膜であるものは、その反射防止効果が（皮膜表面の凹凸あった方がよいとしても）その皮膜表面の凹凸に基づくものではないから、超微粒子の皮膜表面を平坦にしすぎないことは必ずしも必要とされるものではない。そうすると、その場合における超微粒子には、拡散反射及び解像度等の点からより小さいものが好ましいといえるのであるから、その平均粒子径を１００ｎｍより小さい適当な平均粒子径とすることは、当業者が容易に想到し得る事項である。
エ　そして、多孔質シリカ微粉末を本件発明１の平均粒子径（０．３〜１００ｎｍ）としたことによる本件発明１の意義について本件明細書の記載をみると、その平均粒子径の範囲の数値については、段落【００１２】、【００１３】に、「この多孔質シリカ微粉末は、平均粒径が０．３〜１００ｎｍであることが
好ましい。
ことがある。
凝集しやすく
　そうすると、本件発明１の低屈折率膜形成用塗料に分散含有される平均粒子径の多孔質シリカ微粉末は、それを超える平均粒子径であると「得られる低屈折率膜において、レイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率膜が白っぽく見え、その透明性が低下する
ことがある
凝集しやすく
オ　そして、平均粒子径に基づく本件発明１のこれらの効果は、甲１の記載及び技術常識から予測しうることであって格別のものではない。
　すなわち、甲１には、「拡散反射は見た目に塗布した膜が白濁し、同時に透過率も悪くなり、しかも解像度も低下する」（段落【００４９】）ため低減することが好ましいことが示され、「超微粒子を極超微粒子（平均粒径０．０１μｍ（審決注：１０ｎｍに同じ）以下）にすると、拡散反射率は０になる」（段落【００５０】）、「１５０ｎｍより大きな粒径では…、拡散反射が大きくなり、その結果白濁すると同時に解像度が低下する恐れがある」（段落【００６４】）と平均粒子径が１０ｎｍを超えると拡散反射があり、１５０ｎｍより大きな粒径で拡散反射が大きくなり、膜が白濁することが示されている。そうすると、その１５０ｎｍよりも小さい、例えば１００ｎｍ以下とすれば、「超微粒子表面での散乱光が減少し、その結果膜全体の拡散反射も非常に少なくなって白濁を解消することができる」こと、「低屈折率膜が白っぽく見え、その透明性が低下することが」ないという本件発明１の効果は予想できる効果であるといえる。
　また、平均粒子径が微細すぎると「微粒子が凝集しやすく、したがって塗料中における微粒子の均一分散が困難になり、塗料の粘度が過大になるなどの問題が生ずる」ことは、超微粒子における技術常識であって、何ら格別のことではない。
　よって、本件発明１において多孔質シリカ微粒子の平均粒子径の範囲を「０．３〜１００ｎｍ」とする点の効果は、甲１及び技術常識から予測しうることであって格別のものということはできない。
カ　以上のとおり、相違点（ａ）は本件発明１と甲１発明との相違点とはいえないか、又は甲１発明において、相違点（ａ）に係る本件発明１の発明特定事項を甲１発明に適用することは、甲１の記載及び当業者の技術常識に基づいて容易に想到することができたものであると認められる。
　
（３）　相違点（ｃ）について 
　本件発明１の「低屈折率膜」形成用塗料は、上記（１）イのとおり、本件発明１に係る多孔質シリカ微粉末を配合することにより、シリカ膜よりも低屈折率の塗膜を形成できるものといえる。
　他方、甲１発明の「反射防止体」形成用塗料には、上記（２）イのとおり、段落【０１９８】〜【０２０７】に記載される例のような、屈折率の異なる２種類の粒子を混合しその混合比を変えた、屈折率が異なる２層ないしそれ以上の膜からなる皮膜を形成できるものも含まれるが、それらの各層の膜は、シリカより低屈折率の微粒子を混合したシリカ膜よりも低屈折率の塗膜であるといえるから、甲１発明の「反射防止体」形成用塗料は、本件発明１の「低屈折率膜」形成用塗料といえる。
　以上のとおり、相違点（ｃ）は、本件発明１と甲１発明との相違点とはいえない。 
　
４　まとめ
　そうすると、本件発明１は、甲１に記載された発明及び当業者の技術常識に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができるものではない。
　
第６　むすび　
　以上のとおり、本件発明１は、甲１に記載された発明及び当業者の技術常識に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができるものではない。そうすると、本件発明１に係る特許は、本件無効理由に含まれるその余の理由を検討するまでもなく、同法第１２３条第１項第２号の規定に該当し、無効とすべきものである。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、その６分の５を請求人が、６分の１を被請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。