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　特願２００４−３８１０８９「永久磁石部材及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　８月１８日出願公開、特開２００５−２２３３１７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１６年１２月２８日（優先権主張　平成１６年１月５日）に出願され、平成１７年８月１８日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年９月２７日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付で手続補正がなされたものである。
　
II．平成１７年９月２７日付の手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年９月２７日付の手続補正（以下本件補正という）を却下する。
　
［理由］
１．補正の内容
　本件補正により、本願の特許請求の範囲は、補正前の
「【請求項１】希土類磁石素体の表面が電解メッキ被膜で被覆されてなる永久磁石部材であって、前記電解メッキ被膜の厚さの分布が前記希土類磁石素体の形状によって相殺され、永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差が５０μｍ以下とされるとともに、２つの主面のうちの一方の主面を接着固定される固定面とし、これとは反対側の主面を作用面としたときに、平坦な基準面上に前記固定面が接するように永久磁石部材を載置した場合の前記作用面の高さ分布と、平坦な基準面上に前記作用面が接するように永久磁石部材を載置した場合の前記固定面の高さ分布が異なることを特徴とする永久磁石部材。
【請求項２】平坦な基準面上に前記固定面が接するように永久磁石部材を載置した場合の前記作用面の高さ分布と、平坦な基準面上に前記作用面が接するように永久磁石部材を載置した場合の前記固定面の高さ分布とを比較したときに、前者の高さ分布に比べて後者の高さ分布が大であることを特徴とする請求項１記載の永久磁石部材。
【請求項３】前記永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差が７μｍ以上であることを特徴とする請求項１または２記載の永久磁石部材。
【請求項４】外周端部における前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さが他の部分の前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さに比べて薄いことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項５】前記固定面において外周端部における高さが他の部分よりも高く、前記作用面において外周端部における高さが他の部分よりも低いことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項６】前記希土類磁石素体は、主面の面積の平方根を厚さで除した値として算出される扁平率が５以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項７】前記希土類磁石素体は、Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類焼結磁石（Ｒは１種又は２種以上の希土類元素を表し、ＴはＦｅ又はＦｅ及びＣｏを含む１種又は２種以上の遷移金属を表す。）からなることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項８】前記電解メッキ被膜は、Ｎｉメッキ膜であることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項９】ボイスコイルモータ用の永久磁石部材であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項１０】希土類磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、前記電解メッキ被膜の厚さの分布を相殺するように、予め希土類磁石素体の形成を加工しておき、永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差を５０μｍ以下とするとともに、当該永久磁石部材の接着固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化することを特徴とする永久磁石部材の製造方法。
【請求項１１】前記希土類磁石素体の形状の加工を、機械研磨により行うことを特徴とする請求項１０記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１２】前記機械研磨は、グラインダ用砥石により削り取ることにより行うことを特徴とする請求項１１記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１３】前記希土類磁石素体の形状の加工を、電解研磨により行うことを特徴とする請求項１０記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１４】外周端部における厚さが他の部分の厚さに比べて薄くなるように前記形状の加工を行うことを特徴とする請求項１０から１３のいずれか１項記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１５】前記希土類磁石素体の一方の主面側に対してのみ前記形状の加工を行うことを特徴とする請求項１０から１４のいずれか１項記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１６】前記希土類磁石素体は、主面の面積の平方根を厚さで除した値として算出される扁平率が５以上であることを特徴とする請求項１０から１５のいずれか１項記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１７】前記電解メッキが、バレルメッキであることを特徴とする請求項１０から１６のいずれか１項記載の永久磁石部材の製造方法。」
から、
「【請求項１】希土類磁石素体の表面が電解メッキ被膜で被覆されてなる永久磁石部材であって、前記電解メッキ被膜の厚さの分布が前記希土類磁石素体の形状によって相殺され、永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差が５０μｍ以下とされるとともに、２つの主面のうちの一方の主面を接着固定される固定面とし、これとは反対側の主面を作用面とし、平坦な基準面上に前記固定面が接するように永久磁石部材を載置した場合の前記作用面の高さ分布と、平坦な基準面上に前記作用面が接するように永久磁石部材を載置した場合の前記固定面の高さ分布とを比較したときに、前者の高さ分布に比べて後者の高さ分布が大であることを特徴とする永久磁石部材。
【請求項２】前記永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差が７μｍ以上であることを特徴とする請求項１記載の永久磁石部材。
【請求項３】外周端部における前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さが他の部分の前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さに比べて薄いことを特徴とする請求項１または２項記載の永久磁石部材。
【請求項４】前記固定面において外周端部における高さが他の部分よりも高く、前記作用面において外周端部における高さが他の部分よりも低いことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項５】前記希土類磁石素体は、主面の面積の平方根を厚さで除した値として算出される扁平率が５以上であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項６】前記希土類磁石素体は、Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類焼結磁石（Ｒは１種又は２種以上の希土類元素を表し、ＴはＦｅ又はＦｅ及びＣｏを含む１種又は２種以上の遷移金属を表す。）からなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項７】前記電解メッキ被膜は、Ｎｉメッキ膜であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項８】ボイスコイルモータ用の永久磁石部材であることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項記載の永久磁石部材。
【請求項９】希土類磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、前記電解メッキ被膜の厚さの分布を相殺するように、予め希土類磁石素体の外周端部における厚さが他の部分の厚さに比べて薄くなるように形状を加工しておき、永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差を５０μｍ以下とするとともに、当該永久磁石部材の接着固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化することを特徴とする永久磁石部材の製造方法。
【請求項１０】希土類磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、前記電解メッキ被膜の厚さの分布を相殺するように、予め希土類磁石素体の形状を加工すること、及び前記希土類磁石素体の一方の主面側に対してのみ前記形状の加工を行うことを特徴とする永久磁石部材の製造方法。
【請求項１１】前記希土類磁石素体の形状の加工を、機械研磨により行うことを特徴とする請求項９または１０記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１２】前記機械研磨は、グラインダ用砥石により削り取ることにより行うことを特徴とする請求項１１記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１３】前記希土類磁石素体の形状の加工を、電解研磨により行うことを特徴とする請求項９または１０記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１４】 前記希土類磁石素体は、主面の面積の平方根を厚さで除した値として算出される扁平率が５以上であることを特徴とする請求項９から１３のいずれか１項記載の永久磁石部材の製造方法。
【請求項１５】前記電解メッキが、バレルメッキであることを特徴とする請求項９から１４のいずれか１項記載の永久磁石部材の製造方法。」
と補正された。
　
２．補正の目的についての検討
　特許法第１７条の２第４項２号の「特許請求の範囲の減縮」についての「第３６条第５項の規定により請求項に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するものであって，その補正前の当該請求項に記載された発明とその補正後の当該請求項に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるものに限る。」との規定からみて、特許法第１７条の２第４項２号にいう、「特許請求の範囲の減縮」は、補正前の請求項と補正後の請求項との対応関係が明白であって、かつ、補正後の請求項が補正前の請求項を限定した関係になっていることが明確であることが要請されるものというべきであって、補正前の請求項と補正後の請求項とは、一対一又はこれに準ずるような対応関係に立つものでなければならない、と解される（平成１５年（行ケ）第２３０号判決参照）。
　
　そこで、本件補正後の請求項と本件補正前の請求項とが、一対一又はこれに準ずるような対応関係といえるかどうかについて検討する。
　
　本件補正後の請求項１０は、本件補正前の請求項１〜９とは、発明のカテゴリー自体が相違しており、また、本件補正前の請求項１０〜１７が有する「当該永久磁石部材の接着固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化すること」との限定が無いから、本件補正後の請求項１０と、本件補正前の請求項１〜１７とは、一対一又はこれに準ずるような対応関係にない。
　
　また、本件補正後の請求項１０を直接または間接に引用する本件補正後の請求項１１〜１５についても、本件補正後の請求項１０と同様のことがいえる。
　
　よって、本件補正は、本件補正後の請求項１０および請求項１０を直接または間接に引用する本件補正後の請求項１１〜１５について、補正前の請求項と補正後の請求項とが一対一又はこれに準ずるような対応関係に立つものでなく、特許請求の範囲の減縮に該当しないから、特許法第１７条の２第４項第２号に該当せず、また、同項の他の各号にも該当しないことが明らかである。
　
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反し、同法第１５９条第１項にて読み替えて準用する同法第５３条第１号の規定により却下すべきものである。
　
III．本願発明について
１．本願発明１０
　平成１７年９月２７日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１７に係る発明は、平成１７年５月２７日付手続補正書の特許請求の範囲１〜１７に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１０に係る発明（以下、「本願発明１０」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１０】希土類磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、前記電解メッキ被膜の厚さの分布を相殺するように、予め希土類磁石素体の形成を加工しておき、永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差を５０μｍ以下とするとともに、当該永久磁石部材の接着固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化することを特徴とする永久磁石部材の製造方法。」
　
２．引用刊行物とその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用した本願の優先権主張日前に頒布された特開平１１−１４０７００号公報（以下、「引用例」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
　
（１）引用例（特開平１１−１４０７００号）
（１ａ）「【請求項１】  永久磁石をｐＨ６．０以上の電解研摩液中に浸漬し、通電して永久磁石表面を陽極電解研摩した後、電気めっきを施す永久磁石のめっき方法。
・・・
【請求項３】  請求項１または請求項２において、永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石またはＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石である永久磁石のめっき方法。」（【請求項１】、【請求項３】）
（１ｂ）「【０００２】
【従来の技術】従来、高性能永久磁石、特にＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）は・・・
・・・
【０００５】現在、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、その高性能を生かすべく小型精密機器、コンピュータ機器、オーディオ機器などに多用されており、必然的に小型・軽量化とともに高い寸法精度が要求され、かつ高耐食性を有することが不可欠とされている。」（【０００２】〜【０００５】）
（１ｃ）「【００１６】
【発明の実施の形態】この発明の工程の一例は、図１Ａに示す如く、・・・例えば直方体の磁石素材１を電解研摩液中に浸漬し、所要時間通電して永久磁石表面、特に端部を中心に所要深さだけ電解研摩した後めっき処理すると、電流が被処理物の端部に集中するため、めっき層２は直方体の磁石素材１の端部に厚く成膜される。
【００１７】詳述すると、この発明は、めっきとは全く逆の陽極電解研摩により、被処理永久磁石素材の端部を優先的に研摩するもので、研摩量を次工程のめっき時に当該位置に付着するめっき層厚み分と等しくすることにより、めっき処理後に成膜されためっき層厚みの中央部と端部との差が、めっき磁石表面に寸法差として現われず、磁石表面の平行度、平面度及び輪郭度などの寸法精度が極めて優れているという効果を奏する。」（【００１６】〜【００１７】）
（１ｄ）「【００２４】
【実施例】実施例１
寸法が３０ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍからなる直方体のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を被処理磁石素材１として、電解研磨液（・・・ｐＨ＝７．０）に浸漬し、・・・通電し、・・・
【００３５】実施例４
電流密度１．５Ａ／ｄｍ2で２０分間通電する以外は、実施例１と同じ磁石素材、同じ方法で、陽極電解研摩処理、Ｎｉめっきを施した。磁石素材時、陽極電解研摩処理後、Ｎｉめっき後の各々の厚み寸法の分布を図２に示す。・・・。なお、縦軸は分布割合（％）を示す。
【００３６】図２から明らかなように、この発明によれば、電解研摩後の分布において、中央部と端部とが完全に分れ二山を形成している。これは、電解研摩によって端部のみが研摩されたことを示す。また、Ｎｉめっき後の分布は、中央部と端部はほぼ重なっており、平面度が良好であることが分かる。」（【００２４】〜【００３６】）
（１ｅ）【図面の簡単な説明】の【図２】には、「【図２】この発明よるめっき方法の工程毎における被処理物の厚み寸法の分布を示すグラフであり、Ａは素材の場合、Ｂば電解研摩後の場合、ＣはＮｉ電気めっき後の場合である。」と記載されている。
（１ｆ）図２は、それぞれ複数本の、斜線で塗りつぶした棒グラフ及び白の棒グラフ及び「中央：平均」、「端：平均」との語句と数値が記載されたＡＢＣ３つの図からなることが示されている。また、Ａ及びＢの図には、それぞれ、斜線で塗りつぶした棒グラフ横に「：素材中央部」「：電解後端部」と、また、白の棒グラフ横に「：素材端部」「：電解後中央部」と、記載されている。また、Ｃの図には、斜線で塗りつぶした棒グラフ、白の棒グラフともに、横軸の厚み寸法（ｍｍ）が、約１．９５から、約１．９９の間に分布することが、示されている。
　
３．対比・判断
　引用例には、摘記事項（１ａ）によれば、「【請求項１】  永久磁石をｐＨ６．０以上の電解研摩液中に浸漬し、通電して永久磁石表面を陽極電解研摩した後、電気めっきを施す永久磁石のめっき方法。・・・【請求項３】  請求項１または請求項２において、永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石またはＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石である永久磁石のめっき方法。」と記載されているから、「Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石である永久磁石をｐＨ６．０以上の電解研摩液中に浸漬し、通電して永久磁石表面を陽極電解研摩した後、電気めっきを施す永久磁石のめっき方法。」の発明が記載されている。
　また、摘記事項（１ｂ）によれば、「特にＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）」、「Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、・・・コンピュータ機器、オーディオ機器などに多用されており、」と記載されており、また、摘記事項（１ｄ）には、「寸法が３０ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍからなる直方体のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を被処理磁石素材１として、・・・電解研磨液（・・・ｐＨ＝７．０）に浸漬し、・・・通電し、」と記載されている。よって、「Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石である永久磁石をｐＨ６．０以上の電解研摩液中に浸漬し、通電」するところの、永久磁石とは、「コンピュータ機器用のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）である寸法が３０ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍからなる直方体の永久磁石素材」である、といえる。
　また、摘記事項（１ｃ）によれば、「この発明は、・・・陽極電解研摩により、・・・、研摩量を次工程のめっき時に当該位置に付着するめっき層厚み分と等しくすることにより、めっき処理後に成膜されためっき層厚みの中央部と端部との差が、めっき磁石表面に寸法差として現われず」と記載されているから、「陽極電解研摩」することとは、研摩量を次工程のめっき時に当該位置に付着するめっき層厚み分と等しくすることにより、めっき処理後に成膜されためっき層厚みの中央部と端部との差が、めっき磁石表面に寸法差として現われないように陽極電解研摩すること、であると理解できる。
　また、摘記事項（１ｄ）の「Ｎｉめっき後の各々の厚み寸法の分布を図２に示す。・・・。また、Ｎｉめっき後の分布は、中央部と端部はほぼ重なっており、」との記載及び、摘記事項（１ｅ）「【図２】・・・、ＣはＮｉ電気めっき後の場合」との記載があることからみて、図２のＣの図において、複数本の斜線で塗りつぶした棒グラフ、及び、複数本の白の棒グラフは、いずれか一方が、めっき後中央部の厚み寸法の分布を示し、他方が、めっき後端部厚み寸法の分布を示すものと理解できる。それゆえ、摘記事項（１ｄ）〜（１ｆ）によれば、めっき後の被処理物の厚み寸法（ｍｍ）は、めっき後中央部、めっき後端部のいずれも約１．９５から、約１．９９の間に分布している、といえる。
　
　よって、摘記事項（１ａ）〜（１ｆ）を総合すると、引用例には、
　「コンピュータ機器用のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）である寸法が３０ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍからなる直方体の永久磁石素材をｐＨ６．０以上の電解研摩液中に浸漬し、通電して、研摩量を次工程のめっき時に当該位置に付着するめっき層厚み分と等しくすることにより、めっき処理後に成膜されためっき層厚みの中央部と端部との差が、めっき磁石表面に寸法差として現われないように、永久磁石表面を陽極電解研摩した後、電気めっきを施して、めっき後の被処理物の厚み寸法（ｍｍ）を、めっき後中央部、めっき後端部のいずれも約１．９５から、約１．９９の間に分布させる、永久磁石のめっき方法。」の発明（以下、「引用例記載発明」という。）が記載されていることになる。
　
本願発明１０と引用例記載発明とを対比する。
　引用例記載発明の「Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）である寸法が３０ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍからなる直方体の永久磁石素材」、「電気めっき」、「めっき層」、「めっき後の被処理物の厚み寸法」は、それぞれ、本願発明１０の「希土類磁石素体」、「電解メッキ」、「電解メッキ被膜」、「電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さ」に相当している。
　引用例記載発明の「陽極電解研摩」は、この出願の請求項１３の「希土類磁石素体の形状の加工を、電解研磨により行う」との記載からも明らかなように、本願発明１０の「加工」に該当するものである。
　引用例記載発明の「コンピュータ機器用の・・・永久磁石のめっき方法。」は、コンピュータ機器の部材として用いられる永久磁石の製造工程の一部であるから、本願発明１０の「磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、・・・永久磁石部材の製造方法。」に対応している。
　引用例記載発明の「永久磁石表面を、永久磁石素材の端部を研摩量を次工程のめっき時に当該位置に付着するめっき層厚み分と等しくすることにより、めっき処理後に成膜されためっき層厚みの中央部と端部との差が、めっき磁石表面に寸法差として現われないように」することとは、本願発明１０の「電解メッキ被膜の厚さの分布を相殺するように、」することといえる。
　引用例記載発明の「陽極電解研摩した後、電気めっきを施」すことは、本願発明１０の「希土類磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、・・・、予め希土類磁石素体の形成を加工しておき、」に相当している。
　引用例記載発明の「めっき後の被処理物の厚み寸法（ｍｍ）を、めっき後中央部、めっき後端部のいずれも約１．９５から、約１．９９の間に分布させ」れば、めっき後中央部及びめっき後端部の、厚み寸法の最大値、最小値も、約１．９５（ｍｍ）から、約１．９９（ｍｍ）の間に存在することになる。厚み寸法の差の最大値は、厚み寸法の最大値と最小値との差であるから、厚み寸法の差は、１．９９−１．９５＝約０．０４（ｍｍ）、即ち約４０μより、小さいことになる。したがって、引用例記載発明の「めっき後の被処理物の厚み寸法（ｍｍ）を、めっき後中央部、めっき後端部のいずれも約１．９５から、約１．９９の間に分布させ」れば、本願発明１０の「電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差を５０μｍ以下とする」ことを満たす。
　
　よって、両者は、「希土類磁石素体の表面に電解メッキにより電解メッキ被膜を形成して永久磁石部材とするに際し、前記電解メッキ被膜の厚さの分布を相殺するように、予め希土類磁石素体の形成を加工しておき、永久磁石部材全体において前記電解メッキ被膜を含めた永久磁石部材の厚さの差を５０μｍ以下とする永久磁石部材の製造方法。」の点で一致するものの、次の点で相違する。
　
相違点：本願発明１０においては、「当該永久磁石部材の接着固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化する」のに対して、引用例記載発明では、このことが、明らかでない点。
　
　上記相違点について次に検討する。
　
　引用例記載発明においては、「寸法が３０ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍからなる直方体の永久磁石素材」に、μｍオーダーの研磨、メッキを施して、製造するものであり、かつ、めっき後の被処理物の厚み寸法（ｍｍ）は、めっき後中央部、めっき後端部のいずれも約１．９５から、約１．９９の間に分布するのである。よって、製造された部材は、４０μｍ程度の差異はあるとしても、ｍｍオーダーで見れば、直方体形状である、といえる。
　また、永久磁石部材を、コンピュータ機器を構成する他の部材と組み合わせて使う場合に、何れかの箇所で接着固定を行うことは当然のことであり、また、直方体の永久磁石部材をその一面で接着固定すれば、接着面は固定面といえ、固定面の反対側は作用面といえることは明らかである。
　そして、本願発明１０においては、「固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化すること」について、どのように最適化するのかについて、何ら、具体的な限定が無い。
　どのように最適化するのかについて、何ら具体的な限定の無い「固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化すること」とは、引用例記載発明においても、当然に設けられる「固定される固定面とこれとは反対側の作用面」について、「最適化」という、当業者の通常の創作能力の発揮を行うことそのもの、である。よって、引用例記載発明において、当業者の通常の創作能力の発揮を行って、相違点についての構成となすことは、当業者が容易に想到しうることである。
　
　そして、本願発明１０による効果も引用例の記載から予測することができる程度のものであって格別顕著なものとは認められない。
　
　なお、本願発明１０にいう最適化による、寸法精度以外の効果に関して、本件特許明細書段落【００２７】に、「接着剤が内側部分に形成される凹部内に収容されることで、確実に接着力を確保」する効果を奏する、とも解し得る記載があることに鑑みて、上記接着力を確保する効果の顕著性を参酌して、「最適化する」との発明特定事項となすことに進歩性があるといえるかどうか、について、念のため、検討する。
　本願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う出願であるが、優先権主張の基礎となる特願２００４−５６６号の明細書及び図面には、「固定面」、「作用面」、「最適化」について、全く記載がなく、「固定される固定面とこれとは反対側の作用面の高さ分布をそれぞれ最適化すること」を規定した本願発明１０は、特願２００４−５６６号の明細書及び図面に記載されていない発明である。よって、本願発明１０に、優先権主張は認められず、本件発明１０の、新規性・進歩性の判断の基準日は、本件出願の実際の出願日である平成１６年１２月２８日となる。
　したがって、同日以前の、平成１６年１０月２８日に公開された刊行物である、特開２００４−３０４９６８号公報（【０００８】等参照。）及び、平成１６年１１月１１日に公開された刊行物である、国際公開第２００４／９８０２４号（【００３６】等参照。）に記載された、ＶＣＭ用永久磁石部材における、表面凹部に接着剤を保持して接着性を確保するべく、めっき後の高さ分布を制御する技術も、本件発明１０の新規性・進歩性の判断の基準日における当業者の技術水準を構成するものである
　よって、仮に、本願発明１０において、上記接着力を確保する効果があるとしても、該効果は、引用例の記載等から予測することができる程度のものであるから、「最適化する」との発明特定事項となすことに進歩性はない。
　
　したがって、本願発明１０は、引用例に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
以上のとおり、本願の請求項１０に係る発明は、引用例に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。