(57)【要約】  遮光部分においても十分な光硬化性を発揮し、基材との接着性に優れ、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を形成可能な光硬化性シール剤組成物を提供すること。信頼性の高いシール性能を有するシール剤を含む物品を提供すること。高い信頼性を有する有機系太陽電池を提供すること。（Ａ）液状ゴムと、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基含有化合物と、（Ｃ）３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤と、（Ｄ）光重合開始剤と、を含む、光硬化性シール剤組成物。光硬化性シール剤組成物の硬化物を含む、太陽電池、ディスプレイ、電子部品、コーティング材および接着剤からなる群より選択される物品。第１の電極基材の第１の面上に、遮光性部材が配置されており、少なくとも遮光性部材の、前記入光面側とは反対側の遮光部分に、シール剤が位置する、有機系太陽電池。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）液状ゴムと、
（Ｂ）（メタ）アクリロイル基含有化合物と、
（Ｃ）３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤と、
（Ｄ）光重合開始剤と、
を含む、光硬化性シール剤組成物。
【請求項２】
（Ａ）成分のＳＰ値が、６〜９である、請求項１に記載の光硬化性シール剤組成物。
【請求項３】
（Ａ）成分が、エチレン−プロピレン−ターポリマー共重合体または液状飽和エラストマーである、請求項１または２に記載の光硬化性シール剤組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｂ）成分を１０〜２００質量部含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光硬化性シール剤組成物。
【請求項５】
（Ｄ）成分が、吸収波長が異なる２種類以上の光重合開始剤を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光硬化性シール剤組成物。
【請求項６】
前記光硬化性シール剤組成物を適用する基材が、有機樹脂である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光硬化性シール剤組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光硬化性シール剤組成物の硬化物を含む、太陽電池、ディスプレイ、電子部品、コーティング材および接着剤からなる群より選択される物品。
【請求項８】
第１の電極基材と、
第２の電極基材と、
遮光性部材と、
シール剤と、
を含む、有機系太陽電池であって、
前記第１の電極基材と、前記第２の電極基材とが、対向して配置されており、
前記第１の電極基材は、第１の面と第２の面の２つの面を有し、
前記第１の電極基材の前記第１の面が、前記第２の電極基材と対向しており、
前記第１の電極基材の前記第２の面が、入光面であり、
前記第１の電極基材の前記第１の面上に、遮光性部材が配置されており、
少なくとも前記遮光性部材の、前記入光面側とは反対側の遮光部分に、前記シール剤が位置する、有機系太陽電池。
【請求項９】
前記第１の電極基材が、３００ｎｍ以下の波長を５０％以上カットする、請求項８に記載の有機系太陽電池。
【請求項１０】
前記シール剤が、３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤を含む光硬化性シール剤組成物の硬化物である、請求項８または９に記載の有機系太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性シール剤組成物、物品および有機系太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
色素増感型太陽電池、ペロブスカイト型太陽電池などの有機系太陽電池では、電解液の封入にシール剤が用いられている。【０００３】
シール剤には、基材（電極基材）との優れた接着性が求められる。また、シール剤には、高い信頼性、すなわち、電解質に対する反応性が低いことが求められる。電解液に対する反応性が高いと、電解液によるシール剤の膨潤や劣化が生じやすく、光電変換効率の低下や電解液の漏洩につながる。【０００４】
特許文献１に記載の架橋可能なゴム組成物では、エチレン・α−オレフィン・非共役ポリエンランダム共重合体（Ａ）と、ヒドロシリル基含有化合物（Ｂ）とを組み合わせている。このゴム組成物は、低架橋度で接着性が低く、熱硬化性であるため、このゴム組成物をシールに用いるとシールの際に加熱が必要である。そのため、接着性の低さや加熱による太陽電池の劣化が懸念される。【０００５】
特許文献２では、（Ａ）（メタ）アクリル基を有する水添ポリブタジエン化合物を含む色素増感型太陽電池用シール剤組成物を開示している。しかし、このシール剤組成物は、信頼性に劣る。【０００６】
特許文献３では、ポリイソブチレン樹脂系シール剤を含む光電変換素子を開示している。しかし、このポリイソブチレン樹脂系シール剤では、シールの際に硬化収縮が生じ、接着性に劣る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１５−１３４９３７号公報
【特許文献２】特開２０１０−１８０２５８号公報
【特許文献３】再表２００７−０４６４９９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
図３は、一般的な直列構造（Ｚ型）の有機系太陽電池モジュールの一例を示した模式図である。図３の直列構造の有機系太陽電池モジュール１００では、光電極基材１０１と対極基材１０２が対向して配置され、基材１０３上に導電層１０４が設けられ、光電極基材１０１上には所定パターンで酸化チタン層（多孔質半導体微粒子層）１０５が配置されている。対極基材１０２上には、触媒層１０６が配置されている。そして、酸化チタン層１０５の周囲には光電極と対向電極間を導通させる導通接続材１０７や光電極基材１０１と対極基材１０２との接着のために、シール剤１０８が配置されている。基材１０３上のレーザーカットで絶縁された導電層１０４部分にシール剤１０８が充填されている。また、光電極基材１０１、対極基材１０２およびシール剤１０８で囲まれた空間に電解液１０９が封入されている。なお、本願の全ての図面では、説明の簡略化のため、酸化チタン層上の増感色素層を省略している。また、本願の全ての図面では、各部材を模式的に示しており、各部材の寸法、形状、配置の間隔などは必ずしも正確に描かれていない。【０００９】
図３に示す直列構造の有機系太陽電池モジュール１００を、真空張り合わせ法（ＯＤＦ法）により製造する場合の手順としては、例えば、以下のとおりである。まず、光電極基材１０１上に、酸化チタン層１０５を形成する。次いで、その酸化チタン層１０５に色素を吸着させ増感色素層を形成する。次いで、酸化チタン層１０５の導通部分に導通接続材（金めっき粒子など）１０７を含むシール剤組成物を塗布してシール剤１０８を形成する。次いで、真空下、酸化チタン層１０５のパターン部分に電解液１０９を塗布する。次いで、光電極基材１０１に対して、触媒層１０６を形成した対極基材１０２を、触媒層１０６と酸化チタン層１０５が向かい合うように貼り合わせる。なお、触媒層１０６として用いられることがある白金膜は光を一部カットしてしまう。また、近年、触媒層１０６として採用されることがあるカーボンナノチューブなどの炭素ナノ構造体は、通常、白金膜よりも光透過率が低い。このため、貼り合わせ後に、光電極基材１０１側から光照射を行い、シール剤組成物を硬化させて、有機系太陽電池モジュール１００を得る。【００１０】
図４は、シール剤組成物を光照射で硬化させる直前のシール剤組成物部分を拡大した一例の模式図である。対極基材１０２との接触・導通を確保するために、導通接続材１０７を含むシール剤組成物（導電性樹脂組成物）が光電極基材１０１と対極基材１０２との間に塗布されている。導通接続材１０７は、遮光性であるため、この光照射前の有機系太陽電池モジュールに光電極基材１０１側から光照射を行うと、図４に示すように、導通接続材１０７の光電極基材１０１とは反対側の部分が遮光部分１１０となり、遮光部分１１０のシール剤組成物に照射される光が減少するまたは光が照射されない。そのため、遮光部分１１０のシール剤組成物の光硬化が不十分となり、シール剤組成物の硬化不良や硬化時間が長くなる問題がある。【００１１】
さらに、電極の基材として、３００ｎｍ以下の紫外光（ＵＶ）を透過しないポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムやＵＶカットガラスを用いることがある。このような場合も、シール剤組成物の光硬化が不十分となり、上記と同様に、シール剤組成物の硬化不良などの問題が生ずる。【００１２】
そこで、本発明は、遮光部分においても十分な光硬化性を発揮し、基材との接着性に優れ、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を形成可能な光硬化性シール剤組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を含む物品を提供することを目的とする。また、本発明は、高い信頼性を有する有機系太陽電池を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、
（Ａ）液状ゴムと、
（Ｂ）（メタ）アクリロイル基含有化合物と、
（Ｃ）３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤と、
（Ｄ）光重合開始剤と、
を含む、光硬化性シール剤組成物である。組成物がこのような組成を有することにより、遮光部分においても十分な光硬化性を発揮し、基材との接着性に優れ、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を形成することができる。【００１４】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、（Ａ）成分のＳＰ値が、６〜９であることが好ましい。これにより電解液耐性と、水の浸入や酸素による劣化などに対する耐性が高まり、シール剤の信頼性と密着性が優れる。【００１５】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、（Ａ）成分が、エチレン−プロピレン−ターポリマー共重合体または液状飽和エラストマーであることが好ましい。【００１６】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、成分（Ａ）１００質量部に対して、成分（Ｂ）を１０〜２００質量部含むことが好ましい。これにより、樹脂の架橋度があがり、基材との密着性と電解質耐性、シール剤の塗布性の両立という効果がある。【００１７】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、（Ｄ）成分が、吸収波長が異なる２種類以上の光重合開始剤を含むことが好ましい。これにより、光硬化性シール剤組成物を早期にゲル化させ、次いで本硬化させることができる。【００１８】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、光硬化性シール剤組成物を適用する基材が有機樹脂である場合にも好適に使用することができる。【００１９】
本発明に係る物品は、上記のいずれかの光硬化性シール剤組成物の硬化物を含む、太陽電池、ディスプレイ、電子部品、コーティング材および接着剤からなる群より選択される物品である。物品がこのような硬化物を含むことにより、高い信頼性を有する。【００２０】
本発明に係る有機系太陽電池は、
第１の電極基材と、
第２の電極基材と、
遮光性部材と、
シール剤と、
を含む、有機系太陽電池であって、
前記第１の電極基材と、前記第２の電極基材とが、対向して配置されており、
前記第１の電極基材は、第１の面と第２の面の２つの面を有し、
前記第１の電極基材の前記第１の面が、前記第２の電極基材と対向しており、
前記第１の電極基材の前記第２の面が、入光面であり、
前記第１の電極基材の前記第１の面上に、遮光性部材が配置されており、
少なくとも前記遮光性部材の、前記入光面側とは反対側の遮光部分に、前記シール剤が位置する、有機系太陽電池である。有機系太陽電池がこのような硬化物を含むことにより、高い信頼性を有する。【００２１】
本発明に係る有機系太陽電池は、第１の電極基材が、３００ｎｍ以下の波長を５０％以上カットする場合にも好適に使用することができる。【００２２】
本発明に係る有機系太陽電池は、前記シール剤が、３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤を含む光硬化性シール剤組成物の硬化物であることが好ましい。これにより、遮光部分のシール剤の信頼性が高まる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、遮光部分においても十分な光硬化性を発揮し、基材との接着性に優れ、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を形成可能な光硬化性シール剤組成物を提供することができる。本発明によれば、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を含む物品を提供することができる。本発明によれば、高い信頼性を有する有機系太陽電池を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明に係る有機系太陽電池の一例の模式的な断面図である。
【図２】図２は、本発明に係る有機系太陽電池の別の一例の模式的な断面図である。
【図３】図３は、一般的な有機系太陽電池の一例の模式的な断面図である。
【図４】図４は、一般的な有機系太陽電池の一例の模式的な断面図の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態について説明する。これらの記載は、本発明の例示を目的とするものであり、本発明を何ら限定するものではない。
【００２６】
本明細書において、数値範囲は、別段の記載がない限り、その範囲の下限値および上限値を含むことを意図している。例えば、１０〜２００質量部は、下限値１０質量部と上限値２００質量部を含むことを意図しており、１０質量部以上２００質量部以下を意味する。
【００２７】
（光硬化性シール剤組成物）
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、
（Ａ）液状ゴムと、
（Ｂ）（メタ）アクリロイル基含有化合物と、
（Ｃ）３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤と、
（Ｄ）光重合開始剤と、
を含む、光硬化性シール剤組成物（以下、単に「シール剤組成物」ということがある）である。シール剤組成物がこのような組成を有することにより、遮光部分においても十分な光硬化性を発揮し、基材との接着性に優れ、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を形成することができる。
【００２８】
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、液状ゴムである。液状ゴムは、２３℃において液状であるゴムをいう。
【００２９】
（Ａ）成分は、液状ゴムであれば特に限定されず、公知の液状ゴムを用いることができる。例えば、液状の環状オレフィン構造を有するポリマー、液状飽和エラストマーなどが挙げられる。（Ａ）成分は、好ましくは、液状の環状オレフィン構造を有するポリマーおよび／または液状飽和エラストマーである。
【００３０】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーとしては、例えば、液状のノルボルネン構造を有するポリマーなどが挙げられる。
【００３１】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーは、エチレンから導かれる構成単位（ｉ）と、炭素原子数３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（ｉｉ）と、以下の一般式（１）で表されるノルボルネン化合物および一般式（２）で表されるノルボルネン化合物から選択される少なくとも１種の非共役ポリエンから導かれる構成単位（ｉｉｉ）とを含むことが好ましい。
【化１】
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一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ２は、水素原子または炭素原子数１〜５のアルキル基であり、ｎは、０〜１０の整数である。一般式（２）中、Ｒ３は、水素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基である。
【００３２】
構成単位（ｉｉ）を構成する炭素原子数３〜２０のα−オレフィンとしては、例えば、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、１−ペンタデセン、１−ヘキサデセン、１−ヘプタデセン、１−ノナデセン、１−エイコセン、９−メチル−１−デセン、１１−メチル−１−ドデセン、１２−エチル−１−テトラデセンなどが挙げられる。α−オレフィンは、好ましくは、炭素原子数３〜１０のα−オレフィンである。α−オレフィンは、より好ましくは、１−ブテン、１−ヘキセンおよび１−オクテンから選択される１種以上である。炭素原子数３〜２０のα−オレフィンは、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
構成単位（ｉｉｉ）を構成する非共役ポリエンは、末端ビニル基含有ノルボルネン化合物であり、上記一般式（１）で表されるノルボルネン化合物および一般式（２）で表されるノルボルネン化合物から選択される少なくとも１種である。
【００３４】
一般式（１）中、ｎは、０〜１０の整数である。ｎは、好ましくは０〜５の整数である。
【００３５】
一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基である。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などが挙げられる。Ｒ１は、好ましくは水素原子、メチル基またはエチル基である。
【００３６】
一般式（１）中、Ｒ２は、水素原子または炭素原子数１〜５のアルキル基である。アルキル基としては、例えば、上記Ｒ１の具体例のうち、炭素原子数１〜５のアルキル基が挙げられる。Ｒ２は、好ましくは水素原子、メチル基またはエチル基である。
【００３７】
一般式（２）中、Ｒ３は、水素原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基である。アルキル基としては、例えば、Ｒ１で挙げたアルキル基が挙げられる。
【００３８】
一般式（１）または（２）で表されるノルボルネン化合物としては、例えば、５−メチレン−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−（２−プロペニル）−２−ノルボルネン、５−（３−ブテニル）−２−ノルボルネン、５−（１−メチル−２−プロペニル）−２−ノルボルネン、５−（４−ペンテニル）−２−ノルボルネン、５−（１−メチル−３−ブテニル）−２−ノルボルネン、５−（５−ヘキセニル）−２−ノルボルネン、５−（５−ヘプテニル）−２−ノルボルネン、５−（１−メチル−４−ペンテニル）−２−ノルボルネン、５−（２，３−ジメチル−３−ブテニル）−２−ノルボルネン、５−（２−エチル−３−ブテニル）−２−ノルボルネン、５−（６−ヘプテニル）−２−ノルボルネン、５−（３−メチル−５−ヘキセニル）−２−ノルボルネン、５−（３，４−ジメチル−４−ペンテニル）−２−ノルボルネン、５−（３−エチル−４−ペンテニル）−２−ノルボルネン、５−（７−オクテニル）−２−ノルボルネン、５−（２−メチル−６−ヘプテニル）−２−ノルボルネン、５−（１，２−ジメチル−５−ヘキセシル）−２−ノルボルネン、５−（５−エチル−５−ヘキセニル）−２−ノルボルネン、５−（１，２，３−トリメチル−４−ペンテニル）−２−ノルボルネンなどが挙げられる。ノルボルネン化合物は、好ましくは、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチレン−２−ノルボルネン、５−（２−プロペニル）−２−ノルボルネン、５−（３−ブテニル）−２−ノルボルネン、５−（４−ペンテニル）−２−ノルボルネン、５−（５−ヘキセニル）−２−ノルボルネン、５−（５−ヘプテニル）−２−ノルボルネン、５−（６−ヘプテニル）−２−ノルボルネンおよび５−（７−オクテニル）−２−ノルボルネンから選択される１種以上である。
【００３９】
非共役ポリエンとして、一般式（１）および（２）で表されるノルボルネン化合物に加えて、追加の非共役ポリエンとして、例えば、１，４−ヘキサジエン、３−メチル−１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、４，５−ジメチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエンなどの鎖状非共役ジエン；メチルテトラヒドロインデン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−イソプロピリデン−２−ノルボルネン、５−ビニリデン−２−ノルボルネン、６−クロロメチル−５−イソプロペニル−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどの環状非共役ジエン；２，３−ジイソプロピリデン−５−ノルボルネン、２−エチリデン−３−イソプロピリデン−５−ノルボルネン、２−プロペニル−２，２−ノルボルナジエンなどのトリエンなどの非共役ポリエンを併用してもよい。
【００４０】
一般式（１）および（２）で表されるノルボルネン化合物と、上記追加の非共役ポリエンとを併用する場合、これらの比は適宜調節すればよく、特に限定されない。例えば、一般式（１）および（２）で表されるノルボルネン化合物１００モル％に対して、追加の非共役ポリエンは、通常５０モル％以下、好ましくは４０モル％以下、より好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは２０モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下で用いる。
【００４１】
エチレンから導かれる構成単位（ｉ）と、炭素原子数３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（ｉｉ）とのモル比（（ｉ）：（ｉｉ））は、適宜調節すればよく、特に限定されないが、通常３５：６５〜９５：５、好ましくは４０：６０〜９０：１０、より好ましくは４５：５５〜８５：１５である。
【００４２】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーは、特に好ましくはエチレン−プロピレン−ターポリマー共重合体である。
【００４３】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーは低粘度であることが好ましい。そのため、液状の環状オレフィン構造を有するポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１００００以下であり、より好ましくは２０００〜６０００である。
【００４４】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーのヨウ素価は、特に限定されず、適宜調節すればよいが、通常０〜５５（ｇ/１００ｇ）、好ましくは５〜３０（ｇ/１００ｇ）、より好ましくは１０〜２０（ｇ/１００ｇ）としてもよい。ヨウ素価を上記範囲内とすることにより、電解液との反応性を低くし、信頼性を高めることができ、成分（Ｂ）のメタクリル化合物と反応性もよい。
【００４５】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーの調製方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、新ポリマー製造プロセス（株式会社工業調査会、３０９〜３３０頁）や特許文献１に記載の方法により調製することができる。例えば、液状の環状オレフィン構造を有するポリマーは、バナジウム化合物および有機アルミニウム化合物を主成分として含有する触媒の存在下、重合温度２０〜６０℃、重合圧力０．４〜５ＭＰａ、非共役ポリエンとエチレンとの供給量のモル比（非共役ポリエン／エチレン）０．０１〜０．２の条件で、エチレンと、炭素原子数３〜２０のα−オレフィンと、非共役ポリエンとをランダム共重合することにより得られる。
【００４６】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーは、グラフト変性剤でグラフト変性されていてもよい。グラフト変性剤は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。グラフト変性剤としては、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸の酸無水物、不飽和カルボン酸エステル、ヒドロキシル基含有エチレン性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性不飽和化合物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物、芳香族ビニル化合物、ビニルエステル化合物、塩化ビニルなどが挙げられる。
【００４７】
グラフト変性剤としての不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、テトラヒドロフタル酸、ビシクロ（２，２，１）ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸などが挙げられる。
【００４８】
グラフト変性剤としての不飽和カルボンの酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水テトラヒドロフタル酸、ビシクロ（２，２，１）ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸無水物などが挙げられる。
【００４９】
グラフト変性剤としての不飽和カルボン酸エステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸モノメチル、フマル酸ジメチル、イタコン酸ジメチル、シトラコン酸ジエチル、テトラヒドロフタル酸ジメチル、ビシクロ（２，２，１）ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。
【００５０】
また、グラフト変性剤の使用量は、グラフト変性前のポリマー１００ｇ当たり、好ましくは０．１モル以下である。
【００５１】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマー（未変性ポリマー）をグラフト変性する方法は、特に限定されず、公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、未変性ポリマーとグラフト変性剤とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させることによって、グラフト変性ポリマーを得ることができる。
【００５２】
ラジカル開始剤としては、特に限定されず、適宜選択して用いることができる。例えば、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−アミルパーオキサイド、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシン）ヘキシン−３、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）ベンゼンなどのジアルキルパーオキサイド類；ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシフタレートなどのパーオキシエステル類；ジシクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類；およびこれらの組み合わせなどが挙げられる。
【００５３】
液状の環状オレフィン構造を有するポリマーとしては、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、三井化学株式会社製のエチレン・プロピレン・ターポリマーのＰＸ−０６８などの三井ＥＰＴシリーズなどが挙げられる。
【００５４】
液状飽和エラストマーは、液状で、主鎖が飽和した樹脂であり、例えば、水添ポリブタジエン、水添ポリイソプレン、水添ブタジエン−イソプレン共重合体、ポリイソブチレンなどが挙げられる。液状飽和エラストマーは、好ましくは水添ポリブタジエン、水添ポリイソプレン、水添ブタジエン−イソプレン共重合体およびポリイソブチレンからなる群より選択される少なくとも一種である。
【００５５】
液状飽和エラストマーは、側鎖、一方の末端または両末端に官能基を有していてもよいし、有していなくてもよい。そのような末端官能基としては、例えば、（メタ）アクリル基、エポキシ基、酸無水物基、ヒドロキシル基、およびカルボキシル基などが挙げられる。
【００５６】
液状飽和エラストマーとしては、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、大阪有機化学工業株式会社製の製品名  ＳＰＢＤＡ−３０、ＳＰＢＤＡ−Ｓ３０、日本曹達株式会社製のＮＩＳＳＯ（登録商標）−ＰＢ  水素添加型ＰＢ樹脂（水添ポリブタジエン類）に属するＧＩシリーズ、ＣＩシリーズ、ＢＩシリーズ、新日本石油製（水添ポリブテン）ＨＶ−３００、ＨＶ−３００Ｍなどが挙げられる。具体例としては、ＧＩ−１０００（数平均分子量＝約１５００、ヨウ素価２１ｍｇ／１００ｇ以下）、ＧＩ−２０００（数平均分子量＝約２１００、ヨウ素価２１ｍｇ／１００ｇ以下、末端官能基＝ヒドロキシル基）、ＧＩ−３０００（数平均分子量＝約３０００、ヨウ素価２１ｍｇ／１００ｇ以下）などのＧＩシリーズ；ＣＩ−１０００（数平均分子量＝約１４００、ヨウ素価２１ｍｇ／１００ｇ以下、末端官能基＝カルボキシル基）などのＣＩシリーズ；ＢＩ−２０００（数平均分子量＝約２１００、ヨウ素価２１ｍｇ／１００ｇ以下）、ＢＩ−３０００（数平均分子量＝約３１００、ヨウ素価２１ｍｇ／１００ｇ以下）などのＢＩシリーズなどが挙げられる。
【００５７】
（Ａ）成分の重量平均分子量は、好ましくは１０００〜１００００である。
【００５８】
（Ａ）成分のＳＰ値は、好ましくは６〜９である。これにより電解液耐性と、水の浸入や酸素による劣化などに対する耐性が高まり、シール剤の信頼性と密着性が優れる。上述した（Ａ）成分のうちの一部のＳＰ値（単位：ｃａｌ／ｃｍ３）は以下のとおりである。
フッ素ゴム  ７．３
シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）  ７．４
ポリブタジエン  ８．３
ポリイソブチレン  ７．８
ポリイソプレン  ８．１
エチレン−プロピレン−ターポリマー共重合体  ８
ポリエチレン  ８．１
ポリスチレン  ８．７
スチレンブタジエン共重合体（ＳＢＲ）  ８，１〜８．６
【００５９】
（Ａ）成分は、特に好ましくはエチレン−プロピレン−ターポリマー共重合体または液状飽和ラストマーである。
【００６０】
（Ａ）成分は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６１】
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、（メタ）アクリロイル基含有化合物である。すなわち、アクリロイル基を有する化合物および／またはメタクリロイル基を有する化合物である。理論に拘束されることを望むものではないが、上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを併用することにより、架橋度が増大し、信頼性が向上するものと推測される。なお、後述する（Ｅ）成分の表面処理に用いるシランカップリング剤が、（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該シランカップリング剤は、（Ｂ）成分ではなく、シランカップリング剤として扱う。
【００６２】
（Ｂ）成分は、特に限定されず、適宜選択して用いることができる。例えば、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボン酸；グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなどの環状エーテル基を有する（メタ）アクリロイル基含有化合物；シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルエチルアクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、１−アダマンタニルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルエチルメタクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレート、１−アダマンタニルメタクリレートなどの環状脂肪族基を有する単官能（メタ）アクリロイル基含有化合物；（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルアクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメタクリレートなどのオキセタ基含有化合物、（２ーメチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチルアクリレートなどのジオキソラン基含有化合物、ラウリルアクリレート、イソノニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソノニルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、イソアミルメタクリレートなどの鎖状脂肪族基を有する単官能（メタ）アクリロイル基含有化合物；ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、フェノールＥＯ  変性アクリレートなどの芳香環を有する単官能（メタ）アクリロイル基含有化合物；Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミドなどのフタルイミド含有化合物；エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレートε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ及びトリアクリレートなどイソシアヌル酸含有化合物；ポリエチレングリコールジアクリレート、デカンジオールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの多官能（メタ）アクリロイル基含有化合物などが挙げられる。
【００６３】
（Ｂ）成分は、好ましくは、カルボキシル基または酸無水物基を有する化合物を含む。
【００６４】
（Ｂ）成分の重量平均分子量は、好ましくは１０００未満である。
【００６５】
（Ｂ）成分の量は、特に限定されず、適宜調節すればよい。シール剤組成物は、（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｂ）成分を、好ましくは１０〜２００質量部含む。
【００６６】
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤である。このような（Ｃ）成分をシール剤組成物に配合することにより、遮光部分でもシール剤組成物が光硬化し易くなる。
【００６７】
（Ｃ）成分としては、３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系化合物であれば特に限定されない。（Ｃ）成分としては、例えば、アントラセン化合物、クマリン化合物、カルバゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ナフタレン及びハロゲン化ナフタレン等のナフタレン化合物、スチルベン化合物、ベンジジン化合物、ピレン化合物、ペリレン化合物、ナフタルイミド化合物、及び、ベンゾトリアゾール化合物等が挙げられる。（Ｃ）成分として用いられるこのような化合物は、３００ｎｍ以上の波長の光を吸収してエネルギー移動や電子移動などを生ずるため、一方向からの光照射では充分な光照射が得られない遮光部分においてもシール剤組成物の十分な硬化が達成されると推定される。中でも、（Ｃ）成分は、好ましくはアントラセン化合物、カルバゾール化合物、ナフタレン化合物である。より好ましくはアントラセン化合物である。アントラセン環の９位または９位と１０位に、−ＯＲ基、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ基およびこれらの組み合わせから選択される１種以上の基（Ｒは、炭素原子数１〜１２のアルキル基、アリル基または炭素原子数６〜１２のアリール基である）を有する置換アントラセン化合物が挙げられる。アントラセン環の９位と１０位に上記の置換基を有する場合、これらの置換基は同じでもよいし、異なっていてもよい。
【００６８】
置換アントラセン化合物は、例えば、９位に−ＯＲ基を有する場合、９−置換アントラセン化合物であり、Ｒがアルキル基の場合は、９−アルコキシアントラセン化合物である。置換アントラセン化合物は、例えば、９位と１０位に−ＯＲ基を有する場合、９，１０−ジ置換アントラセン化合物であり、Ｒがアルキル基の場合は、９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物である。
【００６９】
置換アントラセン化合物は、例えば、９位に−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ基を有する場合、９−置換カルボニルオキシアントラセン化合物であり、Ｒがアルキル基の場合は、９−アルコキシカルボニルオキシアントラセン化合物である。置換アントラセン化合物は、例えば、９位と１０位に−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ基を有する場合、９，１０−ビス（置換カルボニルオキシ）アントラセン化合物であり、９，１０−ビス（アルコキシカルボニルオキシ）アントラセン化合物である。
【００７０】
Ｒのアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基又はドデシル基などが挙げられる。
【００７１】
Ｒのアリル基としては、例えば、アリル基、メタリル基などが挙げられる。
【００７２】
Ｒのアリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが挙げられる。
【００７３】
置換アントラセン化合物は、９位と１０位以外の位置に、さらに、炭素原子数１〜８のアルキル基およびハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）から選択されるいずれかまたは両方を１または２個以上有していてもよい。
【００７４】
好ましくは、９−アルコキシアントラセン化合物は、９−エトキシアントラセンであり、９，１０−ジアルコキシアントラセン化合物は、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、９，１０−ジ（ｎ−ブトキシ）アントラセン、９，１０−ジ（ｓ−ブトキシ）アントラセン、９，１０−ジ（ｉ−ブトキシ）アントラセンおよび９，１０−ジ（ｔ−ブトキシ）アントラセンから選択される１以上である。
【００７５】
９，１０−ビス（置換カルボニルオキシ）アントラセン化合物は、好ましくは、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（エトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ノニルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−デシルオキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−ドデシルオキシカルボニルオキシ）アントラセンおよび９，１０−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ）アントラセンから選択される１種以上である。
【００７６】
遮光部分の硬化性の観点から、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン及び９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン等のアントラセン化合物；４，４’−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）ビフェニル及び９−フェニルカルバゾール等のカルバゾール化合物；及び、２，５−チオフェンジイルビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール）等のベンゾオキサゾール化合物から選択される化合物を使用するのがより好ましい。
【００７７】
透明性の観点からは、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセン等のアントラセン化合物、４，４’−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）ビフェニル及び９−フェニルカルバゾール等のカルバゾール化合物；ｔｒａｎｓ−１，２−ジフェニルエチレン等のスチルベン化合物；Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン等のベンジジン化合物から選択される化合物を使用するのがより好ましい。カルバゾール化合物がさらに好ましく、４，４’−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）ビフェニル又は９−フェニルカルバゾールが特に好ましい。
【００７８】
（Ｃ）成分は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
（Ｃ）成分の量は、特に限定されず、適宜調節すればよい。例えば、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して、通常０．０１質量部以上、好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．５質量部以上、通常１０質量部以下、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下である。
【００８０】
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、光重合開始剤である。（Ｄ）成分は、特に限定されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。
【００８１】
（Ｄ）成分としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｍ−クロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、４−ジアルキルアセトフェノン、２−ベンジルメチル２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１などのアセトフェノン類；ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；ミヒラーケトンなどのミヒラーケトン類；ベンジル、ベンジルメチルエーテルなどのベンジル類；ベンゾイン、２−メチルベンゾインなどのベンゾイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなどのベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタールなどのベンジルジメチルケタール類；チオキサントンなどのチオキサントン類；プロピオフェノン、アントラキノン、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンゾイルベンゾエート、α−アシロキシムエステル、などの各種カルボニル化合物；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、ジフェニルジスルフィド、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどの硫黄化合物；アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリルなどのアゾ化合物；ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイドなどの過酸化物が挙げられる。この他、フェニルグリオキシレート類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドなどのアシルホスフィンオキシド類；有機色素系化合物、鉄−フタロシアニン系化合物などが挙げられる。
【００８２】
シール剤組成物は、好ましくは、（Ｄ）成分が、吸収波長が異なる２種類以上の光重合開始剤を含む。これにより、吸収波長によって硬化速度を変えて、有機系太陽電池の電解質とシール剤組成物とが接する部分を早期にゲル化させ、本硬化をその後実施するなどの態様が可能となる。
【００８３】
吸収波長が異なる２種類以上の光重合開始剤としては、例えば、吸光係数の高い主な吸収波長が３００ｎｍ以下である光重合開始剤と、吸光係数の高い主な吸収波長が３００ｎｍを超える光重合開始剤とが挙げられる。
【００８４】
吸光係数の高い主な吸収波長が３００ｎｍ以下である光重合開始剤としては、例えばα−ヒドロキシアルキルフェノン系ラジカル重合開始剤としては２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（商品名「ダロキュア１１７３」ビーエーエスエフ社製）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名「イルガキュア１８４」ビーエーエスエフ社製）、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名「イルガキュア２９５９」ビーエーエスエフ社製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）−ベンジル]フェニル｝−２−メチル−１−オン（商品名「イルガキュア１２７」ビーエーエスエフ社製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー（商品名「エサキュアＫＩＰ−１５０」ランバルティ社製）、ヨウ素塩としては、ヨードニウム，４−メチルフェニル［４−（２−メチルプロピル）フェニル］−，ヘキサフルオロホスフェート（１−）（商品名「イルガキュア２５０」ビーエーエスエフ社製）オキシフェニル酢酸、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物（イルガキュア  ７５４）など混合物などが挙げられ、透明性及び硬化性の観点からイルガキュア１８４、エサキュアＫＩＰ−１５０などがよい。
【００８５】
吸光係数の高い主な吸収波長が３００ｎｍを超える光重合開始剤としては、例えば、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名イルガキュア９０７）あるいは２−ベンジルメチル２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名イルガキュア３６９）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド（商品名ルシリンＴＰＯ）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（商品名イルガキュア８１９）等が挙げられ、接着剤内部の硬化性などの点から、ルシリンＴＰＯ、イルガキュア８１９などが優れる。
【００８６】
（Ｄ）成分は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８７】
（Ｄ）成分の量は、特に限定されず、適宜調節すればよい。例えば、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して、通常０．１質量部以上、好ましくは１質量部以上、通常１０質量部以下、好ましくは５質量部以下である。また（Ｃ）成分に対して、通常０．１重量倍以上１０重量倍以下であり、（Ｄ）成分／（Ｃ）成分のモル比で、通常０．１以上、１０．０以下、好ましくは０．５以上、８.０以下、より好ましくは３．５以上、６.０以下である。
【００８８】
（その他の任意成分）
シール剤組成物は、上述した（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）成分の他、任意に、シール剤組成物に用いられる、（Ｅ）フィラー、溶媒、触媒、着色剤、難燃剤、可塑剤、酸化防止剤、消泡剤、カップリング剤、レベリング剤、レオロジーコントロール剤、重合禁止剤、などを含んでいてもよい。保存安定性を保つために重合禁止剤を使用することができるが、重合禁止剤は添加量が多すぎると保存安定性が良くなる一方で、反応性が遅くなるため０．００１〜０．１質量にすることが好ましい。
【００８９】
＜（Ｅ）成分＞
（Ｅ）成分は、フィラーであり、任意成分である。（Ｅ）成分は、機械的性質や防湿性を高める効果やガス透過率の低減の効果がある。（Ｅ）成分は、特に限定されず、公知の無機フィラーおよび有機フィラーから選択して用いればよい。
【００９０】
無機フィラーとしては、例えば、シリカ、微粉ケイ酸、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化カルシウムなどの酸化物系フィラー；カーボンブラック、グラファイト；水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの水酸化物系フィラー；珪藻土、石灰岩などの堆積岩系フィラー；カオリナイト、モンモリオナイトなどの粘土鉱物系フィラー；フェライト、鉄、コバルトなどの磁性系フィラー；銀、金、銅、合金やこれらの金属を表面にめっきしたシリカや樹脂粒子などの導電性フィラー；軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、タルク、クレーなどが挙げられる。
【００９１】
シリカの種類は、特に限定されず、適宜選択すればよい。例えば、煙霧質シリカ、沈降性シリカなどが挙げられる。
【００９２】
カーボンブラックの種類は、特に限定されず、適宜選択すればよい。例えば、ＳＲＦ、ＧＰＦ、ＦＥＦ、ＨＡＦ、ＩＳＡＦ、ＳＡＦ、ＦＴ、ＭＴなどが挙げられる。
【００９３】
有機フィラーとしては、例えば、シリコーンフィラー、エポキシ樹脂フィラー、ポリアミド繊維などが挙げられる。
【００９４】
（Ｅ）成分は、表面処理されたものでもよいし、表面処理されていないものでもよいし、これらの組み合わせでもよい。（Ｅ）成分は、好ましくは表面処理されている。表面処理の手法は、特に限定されず、公知の表面処理の手法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤；ヘキサメチルジシラザン、クロロシラン、アルコキシシラン等の反応性シラン；低分子量のシロキサンなどを用いて表面処理してもよい。
【００９５】
シランカップリング剤としては、例えば、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン；３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルメチルジエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン；ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシラン；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン；Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−ミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン；３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００９６】
（Ｅ）成分の量は、特に限定されず、適宜調節すればよい。シール剤組成物は、（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｅ）フィラーを、好ましくは０．１〜１０００質量部含み、より好ましくは１〜３００質量部含む。形状は特に限定されず、粒など不定形、球、板状、棒状など適宜選択すればよい。粒径は、例えば、本発明のシール剤組成物を色素増感太陽電池に用いる場合、光電極と対向電極間の距離により適宜選択すればよいが、通常０．００１μｍ〜５００μｍ、好ましくは０．０１〜５０μｍである。
【００９７】
＜光硬化性シール剤組成物の調製方法＞
光硬化性シール剤組成物の調製方法は、特に限定されず、公知の方法を用いて調製すればよい。例えば、上述した（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）成分、ならびに必要に応じてその他の成分を、サンドミル、ディスパー、コロイドミル、プラネタリーミキサー、ニーダー、三本ロールなどの公知の混合装置を用いて、混合することで調製することができる。
【００９８】
＜光硬化性シール剤組成物の硬化方法＞
本発明の光硬化性シール剤組成物を硬化させるためのエネルギー線としては、紫外線、可視光、赤外線、電子線などの活性エネルギー線が用いられるが、高速印刷を実現させるためには紫外線、電子線が好ましい。
【００９９】
紫外線照射装置としては、通常２００〜５００ｎｍの範囲の光を含む光源、たとえば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド灯、ガリウム灯、キセノン灯、カーボンアーク灯などを有するものが使用できる。一方、電子線により硬化させる場合、通常１００〜５００ｅＶのエネルギーを有する電子線加速装置が使用できる。
【０１００】
硬化条件などは、通常実施される公知の条件で行えばよい。活性エネルギー線の積算照射量は通常１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは２００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２より好ましくは３００〜４０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１０１】
本発明の光硬化性シール剤組成物は、フレキソ印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、あるいはバーコート法、ディップコート法、フローコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ローラーコート法、リバースコート、エアナイフ、ディスペンスなどといったあらゆる印刷、塗装に使用することが可能であり、塗布される基材の形状等に応じて適宜選択することができる。
【０１０２】
光硬化性シール剤組成物を適用する基材は、好ましくは有機樹脂である。
【０１０３】
本発明に係る光硬化性シール剤組成物は、太陽電池、ディスプレイ、電子部品、コーティング材、接着剤などの物品に利用することができる。例えば、有機系太陽電池、マイクロコンピュータ、トランジスタ、コンデンサ、抵抗、リレー、トランス等、およびこれらを搭載した実装回路板などが挙げられ、さらにこれら電子部品に接合されるリード線、ハーネス、フィルム基材；液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル、有機エレクトロルミネッセンスパネル、フィールドエミッションディスプレイパネル等のフラットパネルディスプレイパネルの信号入力部、タッチパネルのタッチセンサーおよびその配線などに利用してもよい。
【０１０４】
（物品）
本発明に係る物品は、上記のいずれかの光硬化性シール剤組成物の硬化物を含む、太陽電池、ディスプレイ、電子部品、コーティング材および接着剤からなる群より選択される物品である。物品がこのような硬化物を含むことにより、高い信頼性を有する。
【０１０５】
本発明に係る物品は、上記光硬化性シール剤組成物の硬化物を含めばよく、従来のシール剤に代えて、上記光硬化性シール剤組成物を光硬化させたシール剤を用いればよい。
【０１０６】
（有機系太陽電池）
本発明に係る有機系太陽電池は、
第１の電極基材と、
第２の電極基材と、
遮光性部材と、
シール剤と、
を含む、有機系太陽電池であって、
前記第１の電極基材と、前記第２の電極基材とが、対向して配置されており、
前記第１の電極基材は、第１の面と第２の面の２つの面を有し、
前記第１の電極基材の前記第１の面が、前記第２の電極基材と対向しており、
前記第１の電極基材の前記第２の面が、入光面であり、
前記第１の電極基材の前記第１の面上に、遮光性部材が配置されており、
少なくとも前記遮光性部材の、前記入光面側とは反対側の遮光部分に、前記シール剤が位置する、有機系太陽電池である。有機系太陽電池がこのような硬化物を含むことにより、高い信頼性を有する。
【０１０７】
有機系太陽電池としては、例えば、色素増感型太陽電池、ペロブスカイト型太陽電池などの有機系太陽電池が挙げられる。
【０１０８】
以下、本発明に係る有機系太陽電池の一例として、色素増感型太陽電池を基に説明する。
【０１０９】
図１は、本発明に係る有機系太陽電池（直列型色素増感型太陽電池）の構造の一例である。この有機系太陽電池１は、第１の電極基材（光電極基材）１１と、第２の電極基材（対向電極基材）１２と、遮光性部材１５と、シール剤１６とを含み、第１の電極基材１１と、第２の電極基材１２とが、対向して配置されており、第１の電極基材１１は、第１の面１７と第２の面１８の２つの面を有し、第１の電極基材１１の前記第１の面１７が、第２の電極基材１２と対向しており、第１の電極基材１１の第２の面１８が、入光面であり、第１の電極基材１１の第１の面１７上に、遮光性部材１５が配置されており、少なくとも遮光性部材１５の、入光面側とは反対側の部分が遮光部分１９となっており、その遮光部分１９に、シール剤１６が位置している。この図１に示した例では、遮光性部材１５は、銀配線２０と、導通接続材２１である。また、第１の電極基材１１と第２の電極基材１２とシール剤１６で囲まれた空間に電解質層（電解液）２２が封入されており、銀配線２０の間に多孔質半導体微粒子層２３と触媒層２４が配置されている。
【０１１０】
本発明に係る有機系太陽電池は、第１の電極基材が、３００ｎｍ以下の波長を５０％以上カットする場合にも好適に使用することができる。
【０１１１】
本発明に係る有機系太陽電池は、前記シール剤が、３００ｎｍ以上の波長の光を吸収可能な芳香族系増感助剤を含む光硬化性シール剤組成物の硬化物であることが好ましい。これにより、遮光部分のシール剤の信頼性が高まる。このような芳香族系増感助剤としては、例えば、上記光硬化性シール剤組成物の（Ｃ）成分が挙げられる。
【０１１２】
＜シール剤＞
シール剤には、（１）光ラジカル硬化系、（２）光カチオン硬化系、（３）光アニオン硬化系があり、光ラジカル硬化系が好ましい。
【０１１３】
（１）光ラジカル硬化系の樹脂としては、例えば、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリイソプレンアクリレート、ポリイソブチレンアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコーン樹脂アクリレートなどを挙げることができ、中でもエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートが好ましい。
【０１１４】
エポキシアクリレートは、エポキシ基に由来する〔−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２Ｏ−〕を含むエポキシ樹脂一分子中に、一個またはそれ以上の（メタ）アクリル酸を導入した化合物である。エポキシ残基以外の官能基、例えばエーテル基や水酸基などが含まれていてもよい。このような多官能エポキシアクリレートとしては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート、ビフェニル型エポキシアクリレート、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート、脂肪族多価アルコールのエポキシアクリレート、脂環式エポキシアクリレートなどが挙げられる。エポキシアクリレートは、一種でも二種以上の混合物であってもよい。
【０１１５】
また、ポリエステルアクリレートは、多塩基酸と多価アルコールとが脱水縮合したポリエステルの一個またはそれより多くのアルコール残基に、（メタ）アクリル酸がエステル結合した誘導体である。なお、分子中に、エステル基以外の官能基、例えばエーテル基や水酸基などが含まれていてもよい。二塩基酸としては、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テトラクロロフタル酸などが挙げられる。上記多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリングリコール、トリメチロールプロパンなどが挙げられる。ポリエステルアクリレートは、一種でも二種以上の混合物であってもよい。
【０１１６】
さらに、ウレタンアクリレートは、従来から知られている方法でポリイソシアネート、ポリオールおよび水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるものである。すなわち、はじめにポリイソシアネートとポリオールとを反応させて高分子ポリイソシアネートを生成し、ついでそれを水酸基含有（メタ）アクリレートと反応させて、末端に不飽和基を結合させることによって、または、まず水酸基含有（メタ）アクリレートとポリイソシアネートを反応させ、ついで得られた不飽和ポリイソシアネートとポリオールとを、場合によってはポリイソシアネート共存下に反応させて得られるものである。
【０１１７】
ウレタンアクリレート用のポリオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコールおよびこれらの共重合体、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、２，２’−チオジエタノールなどが挙げられる。これらポリオールは、一種でも二種以上の混合物であってもよい。ウレタンアクリレート用の水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また上述の＜成分Ｂ＞を光ラジカル硬化系の樹脂はさらに含んでもよい。光ラジカル硬化系の樹脂１００質量部に対して、（Ｂ）成分を、１〜３００質量部含んでいてもよい。
【０１１８】
（２）光カチオン硬化系の樹脂としては、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物、エポキシ化合物などが挙げられる。ビニルエーテル化合物としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテルなどが挙げられ、オキセタン化合物としては、２―エチルヘキシルオキセタン、３―エチル―３―ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコール）、アリルオキシオキセタン、キシリレンビスオキセタン、３―エチル―３｛［（３―エチルオキセタン―３―イル）メトキシ］メチル｝オキセタンなどが挙げられ、エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、芳香族グリシジルエーテル化合物、エポキシ変性シリコーン化合物、イソシアヌル化合物が挙げられる。脂環式エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペートが挙げられ、ダウ・ケミカル社製のＵＶＲ６１１０、ＵＶＲ６１０５などが市販されている。芳香族グリシジルエーテル化合物の具体例としては、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）プロパン、イソシアヌル化合物の具体例としては日産化学社製のＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ（エポキシ基３個含有）、ＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ１変性体（エポキシ基２個含有）、ＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ２変性体（エポキシ基１個含有）、ＴＥＩＰＣ−ＵＣ、ＴＥＰＩＣ−ＶＬ、ＴＥＰＩＣ−ＦＬなどが挙げられる。
【０１１９】
（３）光アニオン硬化系の樹脂としては、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物、エポキシ化合物などが挙げられる。ビニルエーテル化合物としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテルなどが挙げられ、オキセタン化合物としては、２―エチルヘキシルオキセタン、３―エチル―３―ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコール）、アリルオキシオキセタン、キシリレンビスオキセタン、３―エチル―３｛［（３―エチルオキセタン―３―イル）メトキシ］メチル｝オキセタンなどが挙げられ、エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物、芳香族グリシジルエーテル化合物、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ変性シリコーン化合物、イソシアヌル化合物が挙げられる。脂環式エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペートが挙げられ、ダウ・ケミカル社製のＵＶＲ６１１０、ＵＶＲ６１０５などが市販されている。水添エポキシ化合物の具体例としては、水添ノボラック型エポキシ化合物、水添ビスフェノール化合物などが挙げられ、ジャパンエポキシレジン社製のＹＸ８０３４（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂系）、大日本インキ社製のＵＸＡ７０１５、東都化成社製のＳＴ３０００、日本理化製リカレジンＨＢＥ−１００、新日鉄住金化学製ＳＴ−３０００，ＳＴ４０００Ｄなどが市販されている。芳香族グリシジルエーテル化合物の具体例としては、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）プロパン、イソシアヌル化合物の具体例としては日産化学社製のＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ（エポキシ基３個含有）が挙げられ、ＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ１変性体（エポキシ基２個含有）、ＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ２変性体（エポキシ基１個含有）、ＴＥＩＰＣ−ＵＣ、ＴＥＰＩＣ−ＶＬ、ＴＥＰＩＣ−ＦＬなどが挙げられる。この中でも脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物などが電解液の耐性の点で好ましい。
【０１２０】
樹脂は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。硬化速度や密着性の両立などで好ましくは光ラジカル硬化系の樹脂と光カチオン硬化系の樹脂、光ラジカル硬化系の樹脂と光アニオン硬化系の樹脂など組み合わせである。
【０１２１】
硬化剤として、可視光、紫外線などの活性エネルギー線の照射によってラジカル、酸、塩基などを発生する化合物を用いてもよい。光照射をすることによりラジカルを発生する化合物としては上記光硬化性シール剤組成物で説明したＤ成分などを用いることができる。光照射をすることにより酸を発生する化合物としては、オニウム塩である芳香族ヨードニウム塩または芳香族スルホニウム塩を使用することができる。芳香族ヨードニウム塩としては４−イソブチルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−イソプロピルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げられ、例えばチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製イルガキュア２５０（４−イソブチルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェートと溶剤の混合物、イルガキュアはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社の登録商標）、ローディア製２０７４（４−イソプロピルフェニル−４’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート）を用いることができる。芳香族スルホニウム塩としてはＳ，Ｓ，Ｓ’，Ｓ’−テトラフェニル−Ｓ，Ｓ’−（４、４’−チオジフェニル）ジスルホニウムビスヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート等が挙げられ、例えばダウ・ケミカル社製ＵＶＩ６９９２（Ｓ，Ｓ，Ｓ’，Ｓ’−テトラフェニル−Ｓ，Ｓ’−（４、４’−チオジフェニル）ジスルホニウムビスヘキサフルオロフォスフェート）を用いることができる。市販品としては、例えば、和光純薬工業株式会社製の製品名ＷＰＩ−１１３、１１６、１１６９、１７０、１２４などのＷＰＩシリーズなどが挙げられる。
【０１２２】
硬化剤に光照射をすることにより発生する塩基としては、例えば、アミン化合物、イミダゾール化合物、アミジン化合物、グラニジン化合物、ホスフィン化合物、ホウ素化合物などが挙げられる。
【０１２３】
硬化剤としては、光照射によって塩基を発生し得る化合物であればよく、特に限定されず、公知の光塩基発生剤を用いることができる。硬化剤としては、例えば、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ−（３−ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ−（４−ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ−（４−クロロ−２−ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ−（５−メチル−２−ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ−（４，５−ジメチル−２−ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾールなどのイミダゾール誘導体；Ｎ−（２−メチル−２−フェニルプロピオニルオキシ）−Ｎ−シクロヘキシルアミン；などを挙げることができる。
【０１２４】
硬化剤の具体例としては、９−アントリルメチル  Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバメート、（Ｅ）−１−［３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−プロペノイル］ピペリジン、１−（アントラキノン−２−イル）エチル  イミダゾールカルボキシラート、２−ニトロフェニルメチル  ４−メタクリロイルオキシピペリジン−１−カルボキシラートなど非イオン型光塩基発生剤、１，２−ジイソプロピル−３−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］グアニジウム  ２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオナート、１，２−ジシクロヘキシル−４，４，５，５−テトラメチルビグアニジウム  ｎ−ブチルトリフェニルボラートなどイオン型光塩基発生剤を挙げることができる。
これらは適宜選択すればよく、増感剤を併用してもよい。
【０１２５】
硬化剤の調製方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、ニトロベンジルアルコール誘導体を原料としてカルボニルジイミダゾールと反応させることにより合成する方法が挙げられる。また、例えば、Ｎｉｓｈｉｋｕｂｏ，Ｔ．  ｅｔ  ａｌ，  Ｐｏｌｙｍ．  Ｊ．，  ２６（７），  ８６４  （１９９４）に記載の方法に準じて調製することができる。
【０１２６】
硬化剤は、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、和光純薬工業株式会社製の製品名ＷＰＢＧ−０１８、０２７、１４０、１６５、２６６、３００などのＷＰＢＧシリーズなどが挙げられる。
【０１２７】
硬化剤の配合量は、特に限定されず、適宜調整すればよい。例えば、樹脂の合計１００質量部に対して、通常０．０１質量部以上、好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは１質量部以上であり、通常２０質量部以下、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは５質量部以下、特に好ましくは３質量部以下である。
【０１２８】
硬化剤は、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２９】
これらの他、上記光硬化性シール剤組成物で説明した各種材料を用いてもよい。
【０１３０】
以下、有機系太陽電池の一例として色素増感型太陽電池の光電極、電解質層、対向電極の例を説明する。
【０１３１】
＜光電極＞
光電極は、特に限定されず、公知の光電極を適宜選択して用いることができる。例えば、光電極基材（第１の電極基材）と、その上に形成された多孔質半導体微粒子層と、この多孔質半導体微粒子層の表面に増感色素が吸着されて形成された増感色素層とからなるものでもよい。銀配線などの集電配線が形成された光電極基材は、多孔質半導体微粒子層などを担持する役割と、集電体としての役割を担うものである。
【０１３２】
光電極基材は、特に限定されず、公知の光電極基材を適宜選択して用いることができる。例えば、透明樹脂やガラスなどの基材上に、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなど金属メッシュの導電膜、Ａｇ、Ａｇワイヤーなど金属ナノ粒子を塗布した導電膜、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）やインジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、フッ素ドープスズ（ＦＴＯ）などの複合金属酸化物からなる導電膜、カーボンナノチューブやグラフェンなどカーボン系導電膜、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳなど導電性高分子膜など及びこれらを混合・積層した層を積層してなるもの、または透過性を不要とするならチタン、ＳＵＳ、アルミなどの箔や板などが挙げられる。導電膜の表面抵抗値は１００Ω／□以下が好ましく、５０Ω／□以下がより好ましく、３０Ω／□以下がさらに好ましく、１０Ω／□以下がさらにまた好ましく、５Ω／□以下が最も好ましい。透明基材上に透明電極層を設けた光電極基材の光透過率（測定波長：５００ｎｍ）は、６０％以上が好ましく、７５％以上であることがさらに好ましく、８０％以上が最も好ましい。
【０１３３】
透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート（ＰＡｒ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリエステルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、透明ポリイミド（ＰＩ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などの合成樹脂が挙げられる。
【０１３４】
光電極基材の基材は、好ましくは有機樹脂である。
【０１３５】
色素増感太陽電池は、好ましくは光エネルギーが照射される面に、３００ｎｍ以下の波長を５０％以上カットする基材および/または電極基材を備える。このような基材としては、例えば、三菱樹脂製のイースター、イースターＵＶカット、スリーエム製スコッチティントなど、ＵＶカットフィルムを基材に積層させたものがあり、例えばガラス基材、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の有機基材などにつけたものがある。またＩＴＯやＦＴＯ、グラフェンやカーボンナノチューブなどカーボン、ＰＥＤＯＴなど導電性高分子、白金など貴金属導電層を積層したガラス、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート（ＰＡｒ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリエステルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、透明ポリイミド（ＰＩ）、またはポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、透明ポリイミド（ＰＩ）などの電極基材が挙げられる。
【０１３６】
多孔質半導体微粒子層は、半導体微粒子を含有する多孔質状の層である。多孔質状の層であることで、増感色素の吸着量が増え、変換効率が高い色素増感型太陽電池が得られやすくなる。
【０１３７】
半導体微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどの金属酸化物の粒子が挙げられる。
【０１３８】
半導体微粒子の粒子径（一次粒子の平均粒子径）は、特に限定されず、適宜調節すればよい。好ましくは２〜８０ｎｍ、より好ましくは２〜６０ｎｍである。粒子径が小さいことで、抵抗を低下させることができる。
【０１３９】
多孔質半導体微粒子層の厚みは、特に限定されないが、通常、０．１〜５０μｍ、好ましくは５〜３０μｍである。
【０１４０】
多孔質半導体微粒子層の形成方法は特に限定されず、公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、プレス法、水熱分解法、泳動電着法、バインダーフリーコーティング法などの公知の方法により多孔質半導体微粒子層を形成することができる。
【０１４１】
増感色素層は、光によって励起されて多孔質半導体微粒子層に電子を渡し得る化合物（増感色素）が、多孔質半導体微粒子層の表面に吸着されてなる層である。
【０１４２】
増感色素は、特に限定されず、公知の色素増感型太陽電池の増感色素を適宜選択して用いることができる。例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素、キサンテン色素、スクワリリウム色素、ポリメチン色素、クマリン色素、リボフラビン色素、ペリレン色素などの有機色素；鉄、銅、ルテニウムなどの金属のフタロシアニン錯体やポルフィリン錯体などの金属錯体色素などが挙げられる。例えばＮ３、Ｎ７１９、Ｎ７４９、Ｄ１０２、Ｄ１３１、Ｄ１５０、Ｎ２０５、ＨＲＳ−１、ＭＫ−２、などが代表的な増感色素として挙げられる。色素を溶解させる有機溶媒は、溶媒に存在している水分及び気体を除去するために、予め脱気及び蒸留精製しておくことが好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノールなどアルコール類、アセトニトリルなどニトリル類、ハロゲン化炭化水素、エーテル類、アミド類、エステル類、炭酸エステル類、ケトン類、炭化水素、芳香族、ニトロメタンなどの溶媒が好ましい。
【０１４３】
増感色素層の形成方法は特に限定されず、公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、増感色素の溶液中に多孔質半導体微粒子層を浸漬する方法や、増感色素の溶液を多孔質半導体微粒子層上に塗布する方法などの方法により増感色素層を形成することができる。
【０１４４】
＜電解質層＞
電解質層は、光電極と対向電極とを分離するとともに、電荷移動を効率よく行わせるための層である。電解質層としては、固体、液体、ゲル状など半固体など特に限定されない。電解質層は、通常、支持電解質、酸化還元対（酸化還元反応において可逆的に酸化体および還元体の形で相互に変換しうる一対の化学種）、溶媒などを含有する。
【０１４５】
支持電解質としては、例えば、リチウムイオンなどアルカリ金属、アルカリ土類金属などの塩、イミダゾリウムイオン、４級窒素原子をスピロ原子に持つ化合物、４級アンモニウムイオンなどの陽イオンを含むイオン性液体などが挙げられる。
【０１４６】
酸化還元対は、酸化された増感色素を還元し得るものであれば、公知のものを用いることができる。酸化還元対としては、例えば、塩素化合物−塩素、ヨウ素化合物−ヨウ素、臭素化合物−臭素、タリウムイオン（ＩＩＩ）−タリウムイオン（Ｉ）、ルテニウムイオン（ＩＩＩ）−ルテニウムイオン（ＩＩ）、銅イオン（ＩＩ）−銅イオン（Ｉ）、鉄イオン（ＩＩＩ）−鉄イオン（ＩＩ）、コバルトイオン（ＩＩＩ）−コバルトイオン（ＩＩ）、バナジウムイオン（ＩＩＩ）−バナジウムイオン（ＩＩ）、マンガン酸イオン−過マンガン酸イオン、フェリシアン化物−フェロシアン化物、キノン−ヒドロキノン、フマル酸−コハク酸などが挙げられる。
【０１４７】
溶媒は、太陽電池の電解質層の形成用溶媒として公知のものを用いることができる。溶媒としては、例えば、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、メトキシプロピオニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメチルスルホニルイミド、炭酸プロピレン、グリコールエーテル、γ―ブチルラクトンなどが挙げられる。
【０１４８】
電解質層の形成方法は特に限定されず、公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、電解質層の構成成分を含有する溶液（電解液）を光電極上に塗布すること；光電極と対向電極を有するセルを作製し、その隙間に電解液を注入することで形成することができる。
【０１４９】
＜遮光性部材＞
遮光性部材とは、光を遮るまたは透過性を５０％以上低減させる部材である。具体的には、後述する電極表面の集電配線、電極間を接続する際に使用する導通接続材、後述する対向電極上の炭素材料または炭素ナノ複合体からなる触媒層、取出し電極などが含まれる。
【０１５０】
＜遮光部分＞
遮光部分は、遮光性部材の、前記入光面側とは反対側の部分であり、上記遮光性部材によって、光が遮られた部分または透過性が５０％以上低減した部分である。この遮光性部分にシール剤が位置している。
【０１５１】
＜導通接続材＞
導通接続材は、セル内の光電極と対向電極を導電接続するものである。太陽電池のある一つのセルと隣のセルを直列接続および／または並列接続するために使用されるものである。例えばＺ型の太陽電池の場合、図１に示すような垂直な断面で、光電極と対向電極を上下に導通させ、セル同士を接続させるものである。特に導電性を持つものなら限定されないが、通常、金、銀、銅、チタン、カーボンなど金属フィラーや、ガラスビーズ、ポリスチレンやアクリル樹脂の粒子の表面に金、銀、銅、ニッケルなどめっきした粒子、異方導電性フィルムなどを用いる。めっきした粒子などは、粒径を均一に制御でき好ましい。粒子径は適宜選択できるが、通常０．１〜１００μｍ、好ましくは１〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。これらの配合量は全シール剤組成物中において通常０．０１〜２０体積％、好ましくは０．０５〜１０体積％、より好ましくは０．１〜５体積％である。
＜集電配線＞
光電極または対向電極の透明導電膜に集電配線を配備し、区分されたセル部を設け、電流の電極内の移動を速やか行えるように設計するのが好ましい。光電極および対向電極の集電配線は、銀、銅、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロムのうちから選ばれた少なくとも１つ以上の金属あるいはこれらの合金からなることが好ましい。集電配線が透明基材上に格子状に形成された形状でも好ましい。集電配線の形成法としては、スパッタ法、蒸着法、メッキ法あるいはスクリーン印刷法などが用いられる。
【０１５２】
＜対向電極＞
対向電極（対極）は、公知の対向電極を適宜選択して用いることができる。例えば、基材（第２の基材）上に導電膜と触媒層とをこの順で備える対向電極などが挙げられる。
【０１５３】
基材は、触媒層を担持する役割を担うものである。基材としては、例えば、金属、金属酸化物、炭素材料、導電性高分子などを用いて形成された導電性のシートや、透明樹脂やガラスからなる非導電性のシートが挙げられる。
【０１５４】
透明樹脂は、例えば、上記光電極で挙げた透明樹脂が挙げられる。
【０１５５】
導電膜としては、例えば、上記光電極で挙げた導電膜の他、カーボンナノバット、フラーレンなどの炭素材料；およびこれら２種以上の組み合わせ；などからなるものが挙げられる。
【０１５６】
触媒層は、色素増感太陽電池において、対向電極から電解質層に電子を渡すときの触媒として機能する。触媒層は、公知の触媒層を適宜選択して用いることができる。例えば、触媒作用を有する、導電性高分子、炭素ナノ構造体、貴金属粒子、または炭素ナノ構造体と貴金属粒子の両方を含むことが好ましい。
【０１５７】
導電性高分子としては、例えば、ポリ（チオフェン−２，５−ジイル）、ポリ（３−ブチルチオフェン−２，５−ジイル）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン−２，５−ジイル）、ポリ（２，３−ジヒドロチエノ−［３，４−ｂ］−１，４−ジオキシン）（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン；ポリアセチレンおよびその誘導体；ポリアニリンおよびその誘導体；ポリピロールおよびその誘導体；ポリ（ｐ−キシレンテトラヒドロチオフェニウムクロライド）、ポリ［（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ））−１，４−フェニレンビニレン］、ポリ［（２−メトキシ−５−（３’，７’−ジメチルオクチロキシ）−１，４−フェニレンビニレン）］、ポリ［２−２’，５’−ビス（２’’−エチルヘキシロキシ）フェニル］−１，４−フェニレンビニレン］等のポリフェニレンビニレン類；などを挙げることができる。
【０１５８】
炭素ナノ構造体としては、例えば、天然黒鉛、活性炭、人造黒鉛、グラフェン、カーボンナノチューブ、カーボンナノバットなどを挙げることができる。
【０１５９】
貴金属粒子としては、触媒作用のあるものであれば特に限定されず、公知の貴金属粒子を適宜選択して用いることができる。例えば、金属白金、金属パラジウムおよび金属ルテニウムなどが挙げられる。
【０１６０】
触媒層の形成方法は、特に限定されず、公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、導電性高分子、炭素ナノ構造体、貴金属粒子、または炭素ナノ構造体と貴金属粒子の両方を適当な溶媒に溶解または分散させて得られる混合液を、導電膜上に塗布または噴霧し、該混合液の溶媒を乾燥させることにより行うことができる。炭素ナノ構造体や貴金属粒子を用いる場合、混合液にさらにバインダーを含有させてもよく、バインダーとしては炭素ナノ構造体の分散性や基材との密着性の点から、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基、リン酸基など官能基、およびこれら官能基のナトリウム塩などをもつ高分子を用いるのが好ましい。
【０１６１】
触媒層は、カーボンナノチューブの平均直径（Ａｖ）と直径の標準偏差（σ）が０．６０＞３σ／Ａｖ＞０．２０（以下、式（Ａ）ということがある）を満たすカーボンナノチューブ（以下、「特定のカーボンナノチューブ」ということがある）を含有するものであってもよい。ここで、「特定のカーボンナノチューブ」とは、それを構成する所定のカーボンナノチューブの集合の総称であり、「直径」とは当該所定のカーボンナノチューブの外径を意味する。
【０１６２】
特定のカーボンナノチューブの平均直径（Ａｖ）および直径の標準偏差（σ）は、それぞれ標本平均値および標本標準偏差である。それらは、透過型電子顕微鏡での観察下、無作為に選択されたカーボンナノチューブ１００本の直径を測定した際の平均値および標準偏差として求められる。式（Ａ）における３σは得られた標準偏差（σ）に３を乗じたものである。
【０１６３】
特定のカーボンナノチューブを用いることにより、優れた触媒活性を有する対向電極を得ることができる。得られる対向電極の特性を向上させる観点から、０．６０＞３σ／Ａｖ＞０．２５が好ましく、０．６０＞３σ／Ａｖ＞０．５０がより好ましい。
【０１６４】
３σ／Ａｖは、特定のカーボンナノチューブの直径分布を表し、この値が大きいほど直径分布が広いことを意味する。直径分布は正規分布をとるものが好ましい。その場合の直径分布は、透過型電子顕微鏡を用いて観察できる、無作為に選択された１００本のカーボンナノチューブの直径を測定し、その結果を用いて、横軸に直径、縦軸に頻度を取り、得られたデータをプロットし、ガウシアンで近似することで得られる。異なる製法で得られたカーボンナノチューブなどを複数種類組み合わせることでも３σ／Ａｖの値を大きくすることはできるが、その場合正規分布の直径分布を得ることは難しい。特定のカーボンナノチューブは、単独のカーボンナノチューブからなるものであっても、又は単独のカーボンナノチューブに、その直径分布に影響しない量の他のカーボンナノチューブを配合してなるものであってもよい。
【０１６５】
特定のカーボンナノチューブの平均直径（Ａｖ）は、優れた触媒活性を得る観点から、０．５ｎｍ以上、１５ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下がより好ましい。
【０１６６】
特定のカーボンナノチューブの平均長さは、好ましくは０．１μｍ〜１ｃｍ、より好ましくは０．１μｍ〜１ｍｍである。特定のカーボンナノチューブの平均長さが上記範囲内であることで、高活性の触媒層を形成し易くなる。特定のカーボンナノチューブの平均長さは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、無作為に選択された１００本のカーボンナノチューブを測定することで、算出することができる。
【０１６７】
特定のカーボンナノチューブの比表面積は、好ましくは１００〜２５００ｍ２／ｇ、より好ましくは４００〜１６００ｍ２／ｇである。特定のカーボンナノチューブの比表面積が上記範囲内であることで、高活性の触媒層を形成し易くなる。特定のカーボンナノチューブの比表面積は、窒素ガス吸着法により求めることができる。
【０１６８】
特定のカーボンナノチューブを構成するカーボンナノチューブは、単層のものであっても、多層のものであってもよいが、触媒層の活性を向上させる観点から、単層から５層のものが好ましい。
【０１６９】
特定のカーボンナノチューブを構成するカーボンナノチューブは、表面にカルボキシル基などの官能基が導入されたものであってもよい。官能基の導入は、過酸化水素や硝酸などを用いる公知の酸化処理法により行うことができる。
【０１７０】
特定のカーボンナノチューブは、公知の方法、例えば、表面にカーボンナノチューブ製造用触媒層（以下、「ＣＮＴ製造用触媒層」ということがある）を有する基材（以下、「ＣＮＴ製造用基材」ということがある）上に、原料化合物およびキャリアガスを供給して、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）によりカーボンナノチューブを合成する際に、系内に微量の酸化剤を存在させることで、ＣＮＴ製造用触媒層の触媒活性を飛躍的に向上させるという方法（スーパーグロース法）により、得ることができる（例えば、国際公開第２００６／０１１６５５号）。以下、スーパーグロース法により製造されたカーボンナノチューブをＳＧＣＮＴということがある。
【０１７１】
特定のカーボンナノチューブを構成材料とする触媒層は、金属を含まないものであっても、十分な活性を有する。したがって、必ずしも金属を含まないものであってもよいが、特定のカーボンナノチューブにナノサイズの微量な白金などを担持してもよく、その場合、触媒効果の向上が期待される。カーボンナノチューブへの金属の担持は公知の方法に従って行うことができる。
【０１７２】
触媒層の厚みは、好ましくは０．００５μｍ〜１００μｍである。
【０１７３】
触媒層に含まれる特定のカーボンナノチューブの量は、好ましくは０．１〜２×１０４ｍｇ／ｍ２、より好ましくは０．５〜５×１０３ｍｇ／ｍ２である。
【０１７４】
特定のカーボンナノチューブを構成材料とする触媒層を含む対向電極は、例えば、特定のカーボンナノチューブを含有する分散液を調製し、この分散液を基材上に塗布し、得られた塗膜を乾燥させて触媒層を形成することで、作製することができる。
【０１７５】
分散液の調製に用いる溶媒としては、例えば、水；メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライムなどのエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含イオウ系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１７６】
分散液には、特定のカーボンナノチューブの分散性を向上させるための分散剤を含んでいてもよい。好ましい分散剤としては、例えば、公知のイオン性界面活性剤；カルボキシルメチルセルロース（ＣＭＣ）、カルボキシルメチルセルロース塩などの非イオン性界面活性剤；ポリスチレンスルホン酸ナトリウムなどのポリスチレンスルホン酸塩などの高分子活性剤が挙げられる。
【０１７７】
分散液は、さらに、結着剤、導電助剤、界面活性剤などを含有してもよい。これらは公知のものを適宜使用すればよい。
【０１７８】
分散液は、例えば、特定のカーボンナノチューブ、および、必要に応じて、その他の成分を溶媒中で混合し、カーボンナノチューブを分散させることで得ることができる。
【０１７９】
混合処理や分散処理は、公知の方法を利用することができる。例えば、ナノマイザー、アルティマイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、ダイノミル、スパイクミル、ＤＣＰミル、バスケットミル、ペイントコンディショナー、高速撹拌装置などを用いる方法が挙げられる。
【０１８０】
分散液中の特定のカーボンナノチューブの含有量は、特に限定されないが、分散液全体中、好ましくは０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜５質量％である。
【０１８１】
＜その他＞
電極として作用する光電極及び対向電極の一方又は両方に、防汚層、ハードコートなど保護層、反射防止層、ガスバリア層等の機能性層を設けてもよい。第１の電極基材と多孔質半導体層の間に緻密な半導体（金属酸化物ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＷＯ３、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５など）の薄膜層を下地層として設けてもよい。また、短絡防止のためのセパレータを含ませてもよい。
【０１８２】
図２は、本発明に係る有機系太陽電池の構造の別の一例である。図２に示すように、電解液２２と接するシール剤（１重目シール剤）１６の外側に、第２のシール剤（２重目シール剤）２５を設けて、二重シール構造としてもよい。
【０１８３】
＜取出し電極＞
作成したモジュールから電流を取り出すために、取出し電極を設置することができる。通常、取出し電極の位置、材料、作成方法など特に限定されず、公知の方法で実施すればよい。材質としては、アルミニウム、ニッケル、ステンレス鋼、銅、金、銀、半田などの金属やカーボンなどのペースト、導電性テープなどを用いることができる。これらは光電極、対向電極側の一方および／またはそれぞれから負極・正極側の取出し電極となるように適宜作成することができる。
【０１８４】
モジュールの構造としては、特に限定されないがＺ型、Ｗ型、並列型、集電配列型、モノリシック型などがある。これらのモジュールを一つまたは２つ以上組み合わせて直列や並列接続して、複数接続してもよい。接続方法は、公知の手段を用いればよく、半田、金属板、ケーブル、フラットケーブル、フレキシブル基材、ケーブルなどを適宜選択すればよい。
【０１８５】
上述した色素増感型太陽電池の他、ペロブスカイト型太陽電池の例としては、例えば、特開２０１４−０４９６３１、特開２０１５−０４６５８３、特開２０１６−００９７３７などに記載のペロブスカイト型太陽電池が挙げられる。
【０１８６】
＜太陽電池モジュール製造方法＞
モジュールの製造法は特に限定されず、真空張り合わせ法（ＯＤＦ法）や、エンドシール法など、公知の方法で製造することができる。ＯＤＦ法としては、例えば、ＷＯ２００７／０４６４９９に記載の方法が挙げられる。エンドシール法としては、例えば、特開２００６−００４８２７に記載の方法が挙げられる。これらのモジュールは、ガスバリアフィルムなどで積層や包装および外装されていてもよい。ガスバリアフィルムは、例えばプラスチック支持体上に水蒸気やガスの透過性が低い酸化ケイ素や酸化アルミニウムやアルミニウムなどのバリアー層を公知の方法で積層したフィルムなどが挙げられる。
【実施例】
【０１８７】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、これらの実施例は、本発明の例示を目的とするものであり、本発明を何ら限定するものではない。特に断らない限り、配合量は、質量部を意味する。【０１８８】
実施例で用いた材料の詳細は以下のとおりである。
（Ａ）成分（液状ゴム）
液状ＥＰＴ：液状エチレン−プロピレン−ターポリマー共重合体（三井化学株式会社製の製品名  ＰＸ−０６８）、ＳＰ値７．９ｃａｌ／ｃｍ３
液状水添ポリブタジエンジアクリレート（液状飽和エラストマー）：大阪有機化学工業株式会社製の製品名  ＳＰＢＤＡ−Ｓ３０、ＳＰ値８．１ｃａｌ／ｃｍ３
（Ｂ）成分（（メタ）アクリロイル基含有化合物）
イソボルニルアクリレート：共栄社化学株式会社製の製品名  ライトアクリレート（登録商標）ＩＢ−ＸＡ
（Ｄ）成分（光重合開始剤）
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ社製の製品名  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４、吸収波長２５４ｎｍ）
２，２−ジメトキシ‐１，２‐ジフェニルメタン‐１−オン（ＢＡＳＦ社製の製品名  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、吸収波長３００ｎｍ超）
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製の製品名  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＴＰＯ、吸収波長３００ｎｍ超）
（Ｅ）成分（フィラー）
シリカ（メタクリルシランで表面処理したフュームドシリカ）：エボニック  デグサ  ゲーエムベーハー社製の製品名ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）Ｒ７１１【０１８９】
バインダーフリーの酸化チタンペースト：ペクセル・テクノロジーズ株式会社製の製品名  ＰＥＣＣ−Ｃ０１−０６
増感色素溶液：増感色素  ルテニウム錯体（ソラロニクス社製の製品名  Ｎ７１９）、溶媒  アセトニトリル、ｔｅｒｔ−ブタノール、濃度０．４ｍＭ【０１９０】
この他、実施例で使用した（Ｃ）成分の９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセン（吸収波長３５０〜４５０ｎｍ吸収波長帯３００〜４２０ｎｍ、３００、３６５，３８５，４０５ｎｍに吸収ピークを持つ。）および（Ｃ）成分の９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセン（吸収波長帯３００〜４２０ｎｍ、３００、３６５，３８５，４０５ｎｍに吸収ピークを持つ。）を、それぞれ、以下のように合成した。【０１９１】
（９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセンの合成例）
脱気したトルエン１５ｍＬに、窒素雰囲気下、９，１０−ジヒドロキシアントラセン４．２０ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）およびクロロ炭酸メチル４．３５ｇ（４６．０ｍｍｏｌ）を加え、氷水で冷やした。次いで、得られたスラリーに、トリエチルアミン４．６５ｇ（４６．０ｍｍｏｌ）を溶解した溶液を加えた。析出した塩基の塩酸塩をそのまま０℃で１０時間ゆっくり撹拌した。その後、水４０ｍＬを加え、良く撹拌して析出物を溶解させ、トルエン、水の二層とした。次いで、トルエン層を抽出して、当該トルエン層にメタノール５０ｍＬを加え、減圧濃縮した。析出した結晶を吸引ろ過、乾燥し、９，１０−ビス（メトキシカルボニルオキシ）アントラセンの白色の微結晶３．７０ｇ（１１．３ｍｍｏｌ）を得た。【０１９２】
（９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセンの合成例）
窒素雰囲気下、９，１０−ジヒドロキシアントラセン２．１ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）を脱気水１５ｇ中でリスラリーした。そこに、水酸化ナトリウム０．８８ｇ（２２．０ｍｍｏｌ）を水３ｇに溶解した溶液を加えた。しばらくして９，１０−ジヒドロキシアントラセンが溶解し、９，１０−ジヒドロキシアントラセンのジナトリウムのエンジ色の水溶液となった。次いで、氷水で冷やしながら、得られた９，１０−ジヒドロキシアントラセンのジナトリウム水溶液に、クロロ炭酸−ｉ−ブチル３．００g（２２．０ｍｍｏｌ）をトルエン２０ｇに溶解した溶液を添加した。添加後５時間撹拌し、溶液の色は消えて無色の二層となった。水層を捨て、トルエン層を水１０ｍＬで２回洗浄した。その後、メタノール４０ｍＬを加え、濃縮した。析出した結晶を吸引ろ過、乾燥し、９，１０−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）アントラセンの薄黄色の結晶２．６０ｇ（６．３５ｍｍｏｌ）を得た。【０１９３】
（９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセンの合成例）
窒素雰囲気下の攪拌機付きの３００ｍｌ三口フラスコ中、９，１０−ジヒドロキシアントラセン２．１０ｇ（１０．０ミリモル）を水３０ｇでスラリー化し、水酸化ナトリウム０．９２ｇ（２３．０ミリモル）の水２．５ｇ溶液を加え９，１０−ジヒドロキシアントラセンのジナトリウム塩の水溶液を作成した。この水溶液にテトラブチルアンモニウムブロミドを２０ｍｇ加え氷水で冷却しつつ、塩化ｎ−オクタノイル３．５８ｇ（２２．０ミリモル）のトルエン２２ｇ溶液を３０分かけて添加した。添加後、４時間撹拌し、水層を分離した。ついでトルエン層を水２０ｍｌで３回洗浄した後、メタノール４０ｍｌ加え、濃縮した。析出した結晶を乾燥し、９，１０−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）アントラセンの白色の結晶３．４ｇ（７．４ミリモル）を得た。【０１９４】
以下のとおり有機系太陽電池を作製した。【０１９５】
（１）電解液の調製
ヨウ化リチウム０．１ｍｏｌ／Ｌ、ｔ−ブチルピリジン０．５ｍｏｌ／Ｌ、および、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムヨージド０．６ｍｏｌ／Ｌとなるようにメトキシアセトニトリルに加えた。超音波洗浄機による振動により１時間撹拌したのち、２４時間以上暗所に静置して、電解液を調製した。【０１９６】
（２）色素溶液の調製
ルテニウム錯体色素（Ｎ７１９、ソラロニクス社製）７２ｍｇを２００ｍＬのメスフラスコに入れた。脱水エタノール１９０ｍＬを混合し、撹拌した。メスフラスコに栓をしたのち超音波洗浄器による振動により、６０分間撹拌した。溶液を常温に保った後、脱水エタノールを加え、全量を２００ｍＬとすることで、色素溶液を調製した。【０１９７】
（３）導電性樹脂組成物
表１に示す光硬化性シール剤組成物に導電性粒子であるミクロパールＡＵ（積水樹脂製、平均粒子径（メディアン径）８μｍ）を３体積％添加し、自転公転ミキサーにより均一に混合した。【０１９８】
（４）モジュールの作成
（ａ）光電極の作製
透明基材（ポリエチレンナフタレートフィルム、厚み２００μｍ）上に透明導電層（インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ））を積層した導電性電極基材（シート抵抗１５Ω／ｓｑ  透過率０％＠３００ｎｍ、４８％＠３９５ｎｍ）を作成した。この上にスクリーン印刷法により導電性銀ペースト（Ｋ３１０５、ペルノックス（株）製）を光電極セル幅に応じた間隔で印刷塗布し、１５０℃の熱風循環型オーブン中で１５分間加熱乾燥して集電配線を作製した。乾燥後の集電配線の厚み８μｍであった。
下地層は、上記導電性電極基材の集電配線形成面を上にして塗布コーターにセットし、１．６％に希釈したオルガチックＰＣ−６００溶液（マツモトファインケミカル製）をワイヤーバーにより掃引速度（１０ｍｍ／秒）で塗布し、１０分間室温乾燥した後、さらに１０分間１５０℃で加熱乾燥して作製した。下地層を形成した透明導電性基材の下地層形成面に、光電極セル幅に応じた間隔でレーザー処理を行い、絶縁線を形成した。
高圧水銀ランプ（定格ランプ電力４００Ｗ）光源をマスク貼合面から１０ｃｍの距離に置き、電磁波を１分間照射後直ちに、ポリマー成分を含まないバインダーフリー酸化チタンペースト（バインダー量１％未満、ＰＥＣＣ−ＡＷ１−０１、ペクセル・テクノロジーズ（株）製）をベーカー式アプリケータにより塗布した。ペーストを１５０℃の熱風循環式オーブン中で１０分間加熱乾燥し、多孔質半導体微粒子層（長さ：６０ｍｍ、幅５ｍｍ）を形成した。
その後、多孔質半導体微粒子層（長さ：６０ｍｍ、幅５ｍｍ）を形成した導電性電極基材を、調製した色素溶液（４０℃）に浸し、軽く攪拌しながら、色素を吸着させた。９０分後、色素吸着済み酸化チタン膜を色素吸着容器から取り出し、エタノールにて洗浄して乾燥させ、光電極を作製した。【０１９９】
（ｂ）対向電極
透明基材（ポリエチレンナフタレートフィルム、厚み２００μｍ）上に透明導電層（インジウム-スズ酸化物（ＩＴＯ））を積層した導電性電極基材（シート抵抗１５０Ω／ｓｑ）の導電面に、開口部（長さ：６０ｍｍ、幅５ｍｍ）を打ち抜き加工した金属製マスクを重ね合わせ、スパッタ法により白金膜パターン（触媒層）を形成し、触媒層形成部分が７２％程度の光透過率を有する対向電極層を得た。このとき、上記光電極層と対向電極層とを、お互いの導電面を向かい合わせて重ね合せた時、酸化チタンパターン（多孔質半導体微粒子層形成部）と白金パターン（触媒層形成部分）とは一致する構造とした。【０２００】
（ｃ）有機系太陽電池の作製
対向電極層の触媒層形成面を表面として、アルミ製吸着板上に真空ポンプを使って固定し、表１の光硬化性シール剤組成物を自動塗布ロボットによりディスペンサーで酸化チタン層の外周部分（貼り合せ後の封止剤幅０．９ｍｍ、厚み３０μｍになるように）に塗布した。また銀配線部分の上部に、光電極と対向電極間を導通させるための導電性樹脂組成物を同様にディスペンサーで塗布した。その後、酸化チタン層パターン部分に上記のように調製した電解液を所定量塗布し、自動貼り合せ装置を用いて長方形の酸化チタンパターンと同型の白金パターンが向かい合う構造となるように、減圧環境中で、電極間距離が（３０μｍ）になるよう重ね合せ、光電極側からメタルハライドランプにより光照射（メタルハライドランプ  ３０℃、積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ２）を行なった（銀配線の部分が遮光部となる）。その後、貼り合せ後の基材内に配置された複数個の素子を各々切出し、取出し電極部分に導電性銅泊テープ（ＣＵ７６３６Ｄ、ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス（株）製）を貼ることで色素増感光型太陽電池（Ｚ型構造）を作製した。【０２０１】
表１に示す配合で、実施例および比較例のシール剤組成物を調製した。そして、以下に示す方法で、シール剤組成物の接着性および信頼性（シール剤１つのみ）を評価した。その結果を表１に合わせて示す。【０２０２】
（接着性評価）
ＩＴＯ／ＰＥＮのＩＴＯ面上に、電解液（ヨウ化リチウム０．１ｍｏｌ／Ｌ、ｔ−ブチルピリジン０．５ｍｏｌ／Ｌ、および、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムヨージド０．６ｍｏｌ／Ｌとなるようにメトキシアセトニトリルに溶解させたもの）を溶解させた電解液）を滴下し、次いで、シール剤組成物を電解液で濡れているＩＴＯ／ＰＥＮのＩＴＯ面上に滴下した。高圧水銀灯（２７０ｍＷ／ｃｍ２）で１０秒間、紫外線を照射して、シール剤組成物を硬化させた。ガラス板から電解液を除去するために、ＩＴＯ／ＰＥＮのＩＴＯ面をイソプロパノールで洗浄し、その後、ＩＴＯ／ＰＥＮのＩＴＯ面上のシール剤組成物の形状を観察し、シール剤組成物の残存面積の割合に基づいて、以下の基準で評価した。
Ａ：滴下したシール剤組成物の９０％以上が電極基材上に接着している
Ｂ：滴下したシール剤組成物の５０％以上９０％未満が電極基材上に接着している
Ｃ：滴下したシール剤組成物の５０％未満が電極基材上に接着している【０２０３】
（信頼性評価）
作成したモジュールの評価として、擬似太陽光照射装置（ＡＥＬ−０１０１−ＳＨ２４１ＳＰ、ペクセル・テクノロジーズ（株）製）光源を用いた。光量は、１０万ルクスに調整した。初期の光電変換効率を測定し、室温１５日後の変換効率を測定し、以下の式を用いて、変換効率の維持率を求め、信頼性を評価した。ただし、比較例１，２では、セル自体の封止ができなかったため、未評価（−）とした。
維持率％＝（室温１５日後の光電変換効率）／（初期の光電変換効率）
Ａ：８５％以上
Ｂ：８５％未満【０２０４】
【表１】
2017169986.tif 000004
【０２０５】
表２に示すように実施例２，４および８の光硬化性シール剤組成物を用いて、図２に示すような二重シール剤を備える太陽電池を作製した（貼り合せ後の幅０．９ｍｍ、厚み３０μｍになるように）。そして、以下に示す方法で、シール剤組成物の信頼性（２重シール剤）を評価した。その結果を表２に合わせて示す。【０２０６】
（信頼性評価）
初期の光電変換効率を測定し、室温１５日後と３０日後の変換効率を測定し、以下の式を用いて、変換効率の維持率を求め、信頼性を評価した
維持率％＝（室温１５日後または３０日後の光電変換効率）／（初期の光電変換効率）
Ａ：８５％以上
Ｂ：８５％未満【０２０７】
【表２】
2017169986.tif 000005
【０２０８】
表１に示すように、（Ｃ）成分を含まない組成物を用いた比較例１〜３では、接着性が低かった。とくに、比較例１，２では、セル自体が封止できなかった。また比較例３では信頼性も低かった。これに対して、実施例１〜８、１１および１２では、接着性に優れ、信頼性も高い結果となった。さらに、２種類以上の（Ｄ）成分を用いた実施例５，７では、信頼性がとくに高い結果となった。【０２０９】
表２に示すように、２重シール剤の構成の場合、内側のシール剤を形成するシール剤組成物に、吸収波長が３００ｎｍ以下の硬化速度が速い光重合開始剤を用いた実施例９，１０では、優れた信頼性が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０２１０】
本発明によれば、遮光部分においても十分な光硬化性を発揮し、基材との接着性に優れ、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を形成可能な光硬化性シール剤組成物を提供することができる。本発明によれば、信頼性の高いシール性能を有するシール剤を含む物品を提供することができる。本発明によれば、高い信頼性を有する有機系太陽電池を提供することができる。
【符号の説明】
【０２１１】
１：有機系太陽電池
１１：第１の電極基材
１２：第２の電極基材
１３：基材
１４：導電層
１５：遮光性部材
１６：シール剤
１７：第１の面
１８：第２の面
１９：遮光部分
２０：銀配線
２１：導通接続材
２２：電解質層
２３：多孔質半導体微粒子層
２４：触媒層
２５：第２のシール剤
１００：一般的な直列型色素増感型太陽電池
１０１：光電極基材
１０２：対極（対向電極）基材
１０３：基材
１０４：導電層
１０５：酸化チタン層
１０６：触媒層
１０７：導通接続材（金めっき粒子）
１０８：シール剤
１０９：電解液
１１０：遮光部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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