(57)【要約】  実施形態に係る気体処理装置は、筐体と、親液性の不織布と、液供給部と、気体導入部と、気体排出部とを備える。筐体は、内部空間を有する。親液性の不織布は、内部空間に配置される。液供給部は、不織布に洗浄液を供給する。気体導入部は、内部空間に気体を導入する。気体排出部は、気体を内部空間から排出する。そして、実施形態に係る気体処理装置は、不織布の表面に形成された洗浄液の液膜に気体導入部から導入された気体を接触させる。
2018150979.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部空間を有する筐体と、
前記内部空間に配置された親液性の不織布と、
前記不織布に洗浄液を供給する液供給部と、
前記内部空間に気体を導入する気体導入部と、
前記気体を前記内部空間から排出する気体排出部と
を備え、
前記不織布の表面に形成された洗浄液の液膜に前記気体導入部から導入された気体を接触させる、気体処理装置。
【請求項２】
前記気体導入部は、
前記内部空間の一端側から前記内部空間に前記気体を導入し、
前記気体排出部は、
前記気体を前記内部空間の他端側から排出し、
前記不織布は、
前記内部空間の前記一端側から前記他端側に沿って延在する、請求項１に記載の気体処理装置。
【請求項３】
前記不織布を平板状に保持し、保持した前記不織布を介して前記内部空間に連通する貯留空間を有する枠体
を備え、
前記液供給部は、
前記貯留空間に前記洗浄液を供給することにより、前記不織布における一方の板面に前記洗浄液を供給し、
前記気体導入部は、
前記不織布における前記一方の板面から他方の板面にしみ出した前記洗浄液によって前記他方の板面に形成された前記洗浄液の液膜に前記気体を接触させる、請求項２に記載の気体処理装置。
【請求項４】
複数の前記不織布を互いに間隔をあけた状態で平板状に保持する枠体
を備え、
前記筐体は、
前記内部空間の他端側を上方に向けた状態で配置され、
前記液供給部は、
複数の前記不織布の上方から複数の前記不織布に向けて前記洗浄液を供給する、請求項２に記載の気体処理装置。
【請求項５】
前記不織布は、
蛇腹形状を有する、請求項２に記載の気体処理装置。
【請求項６】
前記内部空間は、
円筒形状を有し、
前記不織布は、
前記内部空間の周方向に沿って山折部と谷折部とが円周上に交互に並んだ蛇腹形状を有する、請求項５に記載の気体処理装置。
【請求項７】
複数の平板状の前記不織布を垂直方向に互いに間隔をあけた状態で保持する棚体
を備え、
前記気体導入部は、
前記内部空間の一端側から前記内部空間に前記気体を導入し、
前記気体排出部は、
前記気体を前記内部空間の他端側から排出し、
前記筐体は、
前記内部空間の他端側を上方に向けた状態で配置され、
前記液供給部は、
複数の前記不織布のうち最上段の不織布の上方から前記不織布に向けて前記洗浄液を供給する、請求項１に記載の気体処理装置。
【請求項８】
前記気体に含まれる対象成分の濃度を検出する濃度検出部と、
前記濃度検出部の検出結果に基づき、前記液供給部から前記不織布に供給される前記洗浄液の流量を制御する制御部と
を備える、請求項１に記載の気体処理装置。
【請求項９】
薬品を用いて基板を処理する処理部と、前記処理部から排出される気体が流通する排気経路とを内部に有する基板処理装置の前記排気経路に設けられる、請求項１に記載の気体処理装置。
【請求項１０】
薬品を用いて基板を処理する処理部と、
前記処理部から排出される気体が流通する排気経路と、
前記排気経路に設けられ、前記排気経路を流通する前記気体に含まれる対象成分を前記気体から除去する気体処理装置と
を備え、
前記気体処理装置は、
内部空間を有する筐体と、
前記内部空間に配置された親液性の不織布と、
前記不織布に洗浄液を供給する液供給部と、
前記内部空間に前記気体を導入する気体導入部と、
前記気体を前記内部空間から排出する気体排出部と
を備え、
前記不織布の表面に形成された洗浄液の液膜に前記気体導入部から導入された気体を接触させる、基板処理装置。
【請求項１１】
前記排気経路は、
前記処理部から排出された前記気体を前記処理部へ戻す循環経路の少なくとも一部を構成する、請求項１０に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
開示の実施形態は、気体処理装置および基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造工程において排出される排ガスには、基板の処理に使用された薬品の成分、たとえば酸成分やアルカリ成分や有機成分が含まれている場合がある。【０００３】
薬品の成分を含んだ排ガスは、大気中に放出されることで環境や人体に影響を与えるおそれがある。そこで、半導体の製造工場には、排ガスから薬品成分を除外するスクラバと呼ばれる除去装置が設置される場合がある。【０００４】
スクラバは、洗浄液を噴霧するシャワーヘッドが上方に設けられた縦長の洗浄塔を有する。排ガスは、洗浄塔の内部に導入されて、シャワーヘッドから噴霧される洗浄液と接触する。これにより、排ガスに含まれる薬品成分が洗浄液に吸着され、排ガスから薬品成分が除去される。薬品成分が除去された排ガスは、洗浄塔から大気中へ放出され、薬品成分を吸着した水は、洗浄塔内の下部に設けられた貯留槽に貯留される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−６３３３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、スクラバは、排ガスが洗浄塔内を通過する間、洗浄塔内に洗浄液を絶えず噴霧しておく必要があることから、多量の洗浄液を要する。このため、洗浄液の使用量を削減するという点で改善の余地がある。【０００７】
実施形態の一態様は、洗浄液の使用量を削減することができる気体処理装置および基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態の一態様に係る気体処理装置は、筐体と、親液性の不織布と、液供給部と、気体導入部と、気体排出部とを備える。筐体は、内部空間を有する。親液性の不織布は、内部空間に配置される。液供給部は、不織布に洗浄液を供給する。気体導入部は、内部空間に気体を導入する。気体排出部は、気体を内部空間から排出する。そして、実施形態の一態様に係る気体処理装置は、不織布の表面に形成された洗浄液の液膜に気体導入部から導入された気体を接触させる。
【発明の効果】
【０００９】
実施形態の一態様によれば、洗浄液の使用量を削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。
【図２】図２は、処理ユニットおよび処理ユニットの排気経路の構成を示す図である。
【図３】図３は、第１の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
【図４】図４は、筐体、不織布および枠体の概略構成を示す斜視図である。
【図５】図５は、流量調整処理の手順を示すフローチャートである。
【図６】図６は、第２の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
【図７】図７は、第２の実施形態に係る枠体の構成を示す図である。
【図８】図８は、枠体および枠体に保持された複数の不織布の模式拡大図である。
【図９】図９は、複数の不織布および側板の模式的な断面図である。
【図１０】図１０は、図９に示すＨ部の模式的な拡大図である。
【図１１】図１１は、第３の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
【図１２】図１２は、第３の実施形態に係る複数の不織布の形状および配置を示す図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、第４の実施形態に係る処理ユニットの排気経路の構成を示す図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、第４の実施形態における変形例に係る処理ユニットの排気経路の構成を示す図である。
【図１４】図１４は、第５の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、第５の実施形態に係る棚体の構成を示す断面図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、棚体および棚体に保持された複数の不織布の模式拡大図である。
【図１６】図１６は、第６の実施形態に係る処理ユニットの排気経路の構成を示す図である。
【図１７】図１７は、第６の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
【図１８】図１８は、支柱部および液供給部の構成を示す図である。
【図１９】図１９は、複数の羽根車の構成を示す図である。
【図２０】図２０は、気体処理装置の動作説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本願の開示する気体処理装置および基板処理装置の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。
【００１２】
（第１の実施形態）
まず、第１の実施形態に係る基板処理システムの構成について図１を参照して説明する。
【００１３】
図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。
【００１４】
図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。
【００１５】
搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ（以下ウェハＷ）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。
【００１６】
搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウェハＷの搬送を行う。
【００１７】
処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。
【００１８】
搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウェハＷの搬送を行う。
【００１９】
処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウェハＷに対して所定の基板処理を行う。
【００２０】
また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。
【００２１】
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【００２２】
上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウェハＷを取り出し、取り出したウェハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウェハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。
【００２３】
処理ユニット１６へ搬入されたウェハＷは、処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウェハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。
【００２４】
次に、処理ユニット１６および処理ユニット１６の排気経路の構成について図２を参照して説明する。図２は、処理ユニット１６および処理ユニット１６の排気経路の構成を示す図である。
【００２５】
図２に示すように、処理ユニット１６は、チャンバ２０と、基板保持機構３０と、処理流体供給部４０と、回収カップ５０とを備える。
【００２６】
チャンバ２０は、基板保持機構３０と処理流体供給部４０と回収カップ５０とを収容する。チャンバ２０の天井部には、ＦＦＵ（Fan  Filter  Unit）２１が設けられる。ＦＦＵ２１には、給気管２２を介して気体供給源２３が接続される。ＦＦＵ２１は、気体供給源２３から給気管２２を介して供給される気体をチャンバ２０内の上方から下方に向けて供給することにより、チャンバ２０内にダウンフローを形成する。
【００２７】
基板保持機構３０は、保持部３１と、支柱部３２と、駆動部３３とを備える。保持部３１は、ウェハＷを水平に保持する。支柱部３２は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３３によって回転可能に支持され、先端部において保持部３１を水平に支持する。駆動部３３は、支柱部３２を鉛直軸まわりに回転させる。かかる基板保持機構３０は、駆動部３３を用いて支柱部３２を回転させることによって支柱部３２に支持された保持部３１を回転させ、これにより、保持部３１に保持されたウェハＷを回転させる。
【００２８】
処理流体供給部４０は、ウェハＷに対して処理流体を供給する。処理流体供給部４０は、処理流体供給源７０に接続される。
【００２９】
回収カップ５０は、保持部３１を取り囲むように配置され、保持部３１の回転によってウェハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ５０の底部には、排液口５１が形成される。排液口５１には、排液管５２が接続され、回収カップ５０によって捕集された処理液は、排液口５１から排液管５２を通って処理ユニット１６の外部へ排出される。
【００３０】
また、回収カップ５０の底部には、ＦＦＵ２１から供給される気体を処理ユニット１６の外部へ排出する排気口５３が形成される。排気口５３には、排気管５４が接続され、ＦＦＵ２１から処理ユニット１６に供給された気体は、排気口５３から排気管５４を通って処理ユニット１６の外部へ排出される。
【００３１】
ここで、処理ユニット１６から排出される気体（以下、「排ガス」と記載する）には、処理流体供給部４０から供給される処理流体の成分が含まれている場合がある。たとえば、処理流体が酸系、アルカリ系あるいは有機系の薬品である場合には、それぞれ酸成分、アルカリ成分、有機成分が排ガスに含まれる場合がある。
【００３２】
なお、酸系の薬品としては、たとえばＤＨＦ（希フッ酸）やＢＨＦ（フッ酸とフッ化アンモニウムの混合液）等があり、アルカリ系の薬品としては、たとえばＳＣ１（アンモニア、過酸化水素水および水の混合液）があり、有機系の薬品としては、たとえばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）がある。薬品は、液体に限らず、気体である場合もある。
【００３３】
上記成分を含んだ排ガスは、大気中に放出されることで環境や人体に影響を与えるおそれがある。そこで、第１の実施形態に係る基板処理システム１は、処理ユニット１６から排出された排ガスから酸成分、アルカリ成分、有機成分のうち少なくともいずれか一つを含む対象成分を除去する気体処理装置１００を備える。
【００３４】
図２に示すように、気体処理装置１００は、排気管５４に設けられる。排気管５４は、基板処理システム１が備える排気経路の一部を構成するものであり、基板処理システム１の内部に設けられる。そして、気体処理装置１００も、基板処理システム１の内部に設けられる。気体処理装置１００によって対象成分が除去された排ガスは、排気管５４を通って基板処理システム１から排出される。
【００３５】
次に、気体処理装置１００の構成について図３を参照して説明する。図３は、第１の実施形態に係る気体処理装置１００の構成を示す図である。なお、図３においては、排ガスの流れを破線の矢印で示し、洗浄液の流れを実線の矢印で示している。
【００３６】
図３に示すように、気体処理装置１００は、内部空間Ｓを有する筐体１１０と、親液性の不織布１２０と、液供給部１３０と、気体導入部１４０と、気体排出部１５０と、液排出部１６０と、枠体１７０とを備える。
【００３７】
気体導入部１４０は、排気管５４のうち気体処理装置１００よりも上流側に位置する上流側排気管５４ａ（図２参照）と筐体１１０とを接続し、上流側排気管５４ａを流れる排ガスを筐体１１０の内部空間Ｓに導入する。また、気体排出部１５０は、排気管５４のうち気体処理装置１００よりも下流側に位置する下流側排気管５４ｂ（図２参照）と筐体１１０とを接続し、筐体１１０の内部空間Ｓを通過した排ガスを筐体１１０から排出して下流側排気管５４ｂへ送る。
【００３８】
具体的には、気体導入部１４０は、筐体１１０の長手方向における一端側に接続され、筐体１１０の長手方向における一端側（すなわち内部空間Ｓの長手方向における一端側）から内部空間Ｓに排ガスを導入する。また、気体排出部１５０は、筐体１１０の長手方向における他端側に接続され、内部空間Ｓの長手方向における他端側から下流側排気管５４ｂに排ガスを排出する。したがって、内部空間Ｓには、内部空間Ｓの長手方向における一端側から他端側へ向かう排ガスの流れが形成される。
【００３９】
内部空間Ｓには、親液性の不織布１２０（以下、単に「不織布１２０」と記載する）が配置される。本明細書において、「親液性」とは、表面に洗浄液の液膜を形成し、且つ、形成した液膜を保持することができる性質のことをいう。
【００４０】
不織布１２０は、表面にプラズマ処理または親液性コーティングが施された不織布であり、プラズマ処理または親液性コーティングが施されることによって親液性を有している。なお、不織布１２０は、酸成分、アルカリ成分および有機成分のうち少なくともいずれかの成分を含んだ排ガスに晒されるため、耐薬品性に優れるフッ素繊維を用いることが好ましい。
【００４１】
不織布１２０は、枠体１７０によって保持された状態で筐体１１０の内部空間Ｓに配置される。枠体１７０は、不織布１２０を平板状に保持する。また、枠体１７０は、保持した不織布１２０を介して内部空間Ｓに連通する貯留空間Ｒを有する。
【００４２】
ここで、筐体１１０、不織布１２０および枠体１７０の構成について図４を参照して説明する。図４は、筐体１１０、不織布１２０および枠体１７０の概略構成を示す斜視図である。なお、図４では、筐体１１０、不織布１２０および枠体１７０以外の構成を省略して示している。
【００４３】
図４に示すように、筐体１１０および筐体１１０の内部空間Ｓならびに枠体１７０は、直方体形状を有する。内部空間Ｓおよび枠体１７０は、いずれも筐体１１０における長手方向の一端側から他端側に沿って延在する。
【００４４】
枠体１７０は、たとえば、直方体の一の面、具体的には、筐体１１０の長手方向における一端側および他端側との各対向面以外の面、すなわち、筐体１１０の長手方向に沿った面に矩形状の開口部１７５を有する。
【００４５】
開口部１７５の縁部には、不織布１２０の縁部が超音波溶着等によって取り付けられる。これにより、枠体１７０は、不織布１２０を矩形の平板状に保持した状態となる。
【００４６】
枠体１７０に保持された不織布１２０は、内部空間Ｓの長手方向における一端側から他端側に沿って、すなわち、排ガスの流れ方向に沿って延在する。上述したように、排ガスは、内部空間Ｓの長手方向における一端側から他端側に沿って流れる。
【００４７】
貯留空間Ｒは、不織布１２０が枠体１７０の開口部１７５を覆うことによって不織布１２０と枠体１７０との間に形成される閉空間である。貯留空間Ｒは、多孔質構造を有する不織布１２０を介して筐体１１０の内部空間Ｓに連通する。
【００４８】
図３に示すように、筐体１１０は、気体排出部１５０が設けられる他端側が、気体導入部１４０が設けられる一端側よりも高くなるように、水平面（ＸＹ平面）に対して０度よりも大きく９０度よりも小さい角度で傾斜した状態で配置される。なお、気体処理装置１００は、筐体１１０の角度を調整する角度調整機構を備えた図示しないフレームに支持される。
【００４９】
液供給部１３０は、一端側において枠体１７０の貯留空間Ｒに連通し、他端側において供給管１３１に接続される。供給管１３１には、供給機器群１３２を介して洗浄液供給源１３３が接続される。
【００５０】
洗浄液供給源１３３は、洗浄液として、たとえば純水を供給する。なお、洗浄液供給源１３３から供給される洗浄液は、純水に限定されない。たとえば、気体処理装置１００では、後述するドレインタンク１６１に貯留された使用済みの洗浄液を再利用してもよい。この場合、洗浄液供給源１３３は、使用済みの洗浄液、すなわち、排ガスから除去された対象成分を含んだ水を供給する。また、洗浄液供給源１３３から供給される洗浄液は、純水や水に限らず、対象成分の種類に応じて適宜選択可能である。供給機器群１３２は、たとえば、供給管１３１を開閉する開閉バルブやマスフローコントローラなどを含む。
【００５１】
液供給部１３０は、洗浄液供給源１３３から供給される洗浄液を枠体１７０の貯留空間Ｒに供給する。
【００５２】
貯留空間Ｒに供給された洗浄液は、貯留空間Ｒに貯留される。貯留空間Ｒに貯留された洗浄液は、液供給部１３０から供給される洗浄液の圧力によって、貯留空間Ｒに面する不織布１２０の一方の板面から不織布１２０内部の多孔質構造を通って内部空間Ｓに面する不織布１２０の他方の板面へしみ出る。そして、不織布１２０の他方の板面に到達した洗浄液は、不織布１２０が有する親液性によって不織布１２０の他方の板面に液膜Ｌを形成する。
【００５３】
液排出部１６０は、内部空間Ｓに形成される集液部１１５に連通し、集液部１１５に集められた洗浄液を内部空間Ｓから排出する。液排出部１６０には、ドレインタンク１６１が接続され、内部空間Ｓから排出された洗浄液は、ドレインタンク１６１に貯留される。ドレインタンク１６１の底部には、排液管１６２が接続され、排液管１６２にはバルブ１６３が設けられる。また、ドレインタンク１６１には、ドレインタンク１６１内の洗浄液の液面を検出する液面検出部１６４が設けられる。この例では、排液管１６２に排液ポンプ１６５が設けられる。排液ポンプ１６５は、ドレインタンク１６１に貯留された排液をバルブ１６３の下流に流す。特に排ガスの排気流量が高い場合に、排液が流れにくくなるため、排液ポンプ１６５が必要になる。この場合、気体処理装置１００に導入される排ガスの種類に応じて排液ポンプ１６５の動作を制御してもよい。例えば、排ガスがＩＰＡなどの揮発しやすい成分を含む場合、排液を比較的早く排出した方がよいので、排液ポンプ１６５を連続的に動作させてバルブ下流に積極的に流す。一方で、アルカリ成分など洗浄液に溶けやすい成分を含む排ガスの場合には、連続的に排液ポンプ１６５を動作させず、排液の薬液成分濃度が一定以上になった時に排液ポンプ１６５を動作させるようにしてもよい。
【００５４】
また、気体処理装置１００は、第１濃度検出部１４１と、第２濃度検出部１５１とを備える。第１濃度検出部１４１は、気体導入部１４０に設けられ、気体導入部１４０によって内部空間Ｓに供給される前の排ガスに含まれる対象成分の濃度を検出する。また、第２濃度検出部１５１は、気体排出部１５０によって内部空間Ｓから排出された後の排ガスに含まれる対象成分の濃度を検出する。
【００５５】
第１濃度検出部１４１、第２濃度検出部１５１および液面検出部１６４による検出結果は、制御部１８に出力される。また、供給機器群１３２およびバルブ１６３は、制御部１８によって制御される。
【００５６】
液面検出部１６４によってドレインタンク１６１の液面が検出された場合、制御部１８は、バルブ１６３を開放する。これにより、ドレインタンク１６１に貯留された使用済みの洗浄液は、排液管１６２を通って外部に排出される。
【００５７】
また、制御部１８は、第１濃度検出部１４１や第２濃度検出部１５１の検出結果に基づいて供給機器群１３２を制御することにより、液供給部１３０から枠体１７０の貯留空間Ｒに供給される洗浄液の流量を調整する流量調整処理を行う。流量調整処理の内容については後述する。
【００５８】
気体処理装置１００は上記のように構成され、気体導入部１４０から筐体１１０の内部空間Ｓへ導入された排ガスは、不織布１２０と筐体１１０との隙間を筐体１１０の一端側から他端側へ向かって流れる。
【００５９】
不織布１２０の内部空間Ｓに面する他方の面には、洗浄液の液膜Ｌが形成されている。したがって、排ガスは、不織布１２０と筐体１１０との隙間を通過する間に、洗浄液の液膜Ｌと接触する。
【００６０】
排ガスが液膜Ｌに接触することで、排ガスに含まれる対象成分が洗浄液に吸着される。これにより、排ガスから対象成分が除去される。対象成分が除去された排ガスは、気体排出部１５０によって内部空間Ｓから下流側排気管５４ｂ（図２参照）に排出される。また、対象成分を吸着した洗浄液は、不織布１２０の他方の面を流れ落ちて集液部１１５に集められた後、液排出部１６０によって内部空間Ｓからドレインタンク１６１に排出される。
【００６１】
このように、第１の実施形態に係る気体処理装置１００は、親液性を有する不織布１２０の表面に洗浄液の液膜Ｌを形成し、かかる液膜Ｌに排ガスを接触させることにより、排ガスから対象成分を除去することとした。
【００６２】
不織布１２０が有する親液性により、液膜Ｌを形成する洗浄液は、その場に留まろうとするため、上方から洗浄液を絶えず噴霧するスクラバと比較して、洗浄液をより長い時間内部空間Ｓに留めておくことができる。したがって、第１の実施形態に係る気体処理装置１００によれば、スクラバと比較して洗浄液の使用量を削減することができる。
【００６３】
また、第１の実施形態に係る気体処理装置１００では、筐体１１０を０度よりも大きく９０度よりも小さい角度で傾斜した状態で配置することで、洗浄液を不織布１２０に浸透させる際に洗浄液の自重を利用することができるため、液供給部１３０から加える圧力を小さく抑えることができる。
【００６４】
また、筐体１１０を傾斜させることで、対象成分を吸着した洗浄液が不織布１２０の表面を流れ落ちるようになる。したがって、筐体１１０を水平に配置した場合と比較して、使用済みの洗浄液を効率よく内部空間Ｓから排出することができる。
【００６５】
次に、制御部１８による洗浄液の流量調整処理について図５を参照して説明する。図５は、流量調整処理の手順を示すフローチャートである。
【００６６】
図５に示すように、制御部１８は、第２濃度検出部１５１による検出濃度、すなわち、気体排出部１５０を流れる排ガスに含まれる対象成分の濃度が、予め決められた上限値を上回るか否かを判定する（ステップＳ１０１）。そして、第２濃度検出部１５１による検出濃度が予め決められた上限値を上回ると判定した場合（ステップＳ１０１，Ｙｅｓ）、制御部１８は、供給機器群１３２を制御して、液供給部１３０から枠体１７０の貯留空間Ｒに供給される洗浄液の流量を増加させる（ステップＳ１０２）。
【００６７】
液供給部１３０から枠体１７０の貯留空間Ｒに供給される洗浄液の流量を増加させるほど、貯留空間Ｒに加わる圧力が増加することで、対象成分を吸着した使用済み洗浄液がより短期間で新鮮な洗浄液と交換されるようになる。これにより、液膜Ｌによる対象成分の吸着効率が高まることで、気体排出部１５０から排出される排ガスに含まれる対象成分の濃度を下げることができる。
【００６８】
一方、ステップＳ１０１において第２濃度検出部１５１による検出濃度が、予め決められた上限値を上回っていない場合（ステップＳ１０１，Ｎｏ）、制御部１８は、第２濃度検出部１５１による検出濃度が、予め決められた下限値を下回るか否かを判定する（ステップＳ１０３）。そして、第２濃度検出部１５１による検出濃度が予め決められた下限値を下回ると判定した場合（ステップＳ１０３，Ｙｅｓ）、制御部１８は、供給機器群１３２を制御して、液供給部１３０から貯留空間Ｒに供給される洗浄液の流量を低下させる（ステップＳ１０４）。
【００６９】
ステップＳ１０２，Ｓ１０４の処理を終えたとき、あるいは、ステップＳ１０３において第２濃度検出部１５１による検出濃度が予め決められた下限値を下回っていない場合（ステップＳ１０３，Ｎｏ）、制御部１８は、処理をステップＳ１０１に戻し、ステップＳ１０１〜Ｓ１０４の処理を繰り返す。
【００７０】
第２濃度検出部１５１による検出濃度が予め決められた下限値を下回る場合、排ガスから対象成分が必要以上に除去されていることになる。このような場合には、洗浄液の流量を低下させて、液膜Ｌによる対象成分の吸着効率を低くしても構わない。このようにすることで、洗浄液の過剰使用を抑えることができる。
【００７１】
なお、ここでは、第２濃度検出部１５１の検出結果に基づいて流量調整を行うこととしたが、制御部１８は、第１濃度検出部１４１の検出結果に基づいてステップＳ１０１〜Ｓ１０４の流量調整処理を行ってもよい。また、制御部１８によるステップＳ１０１〜Ｓ１０４の流量調整処理は、筐体１１０の内部空間Ｓを通過する排ガスに含まれる対象成分の濃度を検出する第３濃度検出部（図示せず）による検出濃度に基づいてステップＳ１０１〜Ｓ１０４の流量調整処理を行ってもよい。
【００７２】
上述してきたように、第１の実施形態に係る気体処理装置１００は、筐体１１０と、親液性の不織布１２０と、液供給部１３０と、気体導入部１４０と、気体排出部１５０とを備える。筐体１１０は、内部空間Ｓを有する。親液性の不織布１２０は、内部空間Ｓに配置される。液供給部１３０は、不織布１２０に洗浄液を供給する。気体導入部１４０は、内部空間Ｓに排ガスを導入する。気体排出部１５０は、排ガスを内部空間Ｓから排出する。そして、第１の実施形態に係る気体処理装置１００は、不織布１２０の表面に形成された洗浄液の液膜Ｌに気体導入部１４０から導入された排ガスを接触させる。
【００７３】
具体的には、第１の実施形態に係る気体処理装置１００は、不織布１２０を平板状に保持し、保持した不織布１２０を介して内部空間Ｓに連通する貯留空間Ｒを有する枠体１７０を備える。また、液供給部１３０は、貯留空間Ｒに洗浄液を供給することにより、不織布１２０における一方の板面に洗浄液を供給する。そして、気体導入部１４０は、不織布１２０における一方の板面から他方の板面にしみ出した洗浄液によって他方の板面に形成された洗浄液の液膜Ｌに排ガスを接触させる。
【００７４】
したがって、第１の実施形態に係る気体処理装置１００によれば、洗浄液の使用量を削減することができる。
【００７５】
また、第１の実施形態に係る基板処理システム１は、処理ユニット１６（処理部の一例）と、排気管５４（排気経路の一例）と、気体処理装置１００とを備える。処理ユニット１６は、処理流体（薬品の一例）を用いてウェハＷ（基板の一例）を処理する。排気管５４は、処理ユニット１６から排出される排ガス（気体の一例）が流通する。気体処理装置１００は、排気管５４に設けられ、排気管５４を流通する排ガスに含まれる対象成分を排ガスから除去する。
【００７６】
したがって、第１の実施形態に係る基板処理システム１によれば、対象成分が除去されたクリーンな排ガスを基板処理システム１の外部へ排出することができる。
【００７７】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る気体処理装置の構成について図６を参照して説明する。図６は、第２の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。なお、図６においては、図３と同様に、排ガスの流れを破線の矢印で示し、洗浄液の流れを実線の矢印で示している。
【００７８】
図６に示すように、第２の実施形態に係る気体処理装置１００Ａは、筐体１１０Ａと、複数（ここでは、５枚）の親液性の不織布１２０Ａと、複数の液供給部１３０Ａと、気体導入部１４０Ａと、気体排出部１５０Ａと、液排出部１６０Ａと、枠体１７０Ａとを備える。
【００７９】
筐体１１０Ａおよび筐体１１０Ａの内部空間ＳＡは、直方体形状を有し、筐体１１０Ａの一端側を下方に向け、他端側を上方に向けた状態で基板処理システム１内に配置される。
【００８０】
気体導入部１４０Ａは、筐体１１０Ａの一端側、すなわち、筐体１１０Ａの下部に接続され、上流側排気管５４ａ（図２参照）を流れる排ガスを筐体１１０Ａの内部空間ＳＡに導入する。
【００８１】
気体排出部１５０Ａは、筐体１１０Ａの他端側、すなわち、筐体１１０Ａの上部に接続され、筐体１１０Ａの内部空間ＳＡを通過した排ガスを筐体１１０Ａから排出して下流側排気管５４ｂ（図２参照）へ送る。これにより、内部空間ＳＡには、内部空間ＳＡの下部から上部へ向かう排ガスの流れが形成される。
【００８２】
不織布１２０Ａとしては、たとえば上述した第１の実施形態に係る不織布１２０と同様の材質で不織布１２０よりも薄型に形成されたものが使用される。
【００８３】
枠体１７０Ａは、複数の不織布１２０Ａを互いに隙間をあけた状態で平板状に保持する。ここで、枠体１７０Ａの構成について図７および図８を参照して説明する。図７は、第２の実施形態に係る枠体１７０Ａの構成を示す図である。また、図８は、枠体１７０Ａおよび枠体１７０Ａに保持された複数の不織布１２０Ａの模式拡大図である。
【００８４】
図７に示すように、枠体１７０Ａは、複数（ここでは１０個）のスペーサー１７１と、２つの側板１７２とを備える。
【００８５】
複数のスペーサー１７１は、不織布１２０Ａよりも厚く形成された長板状の部材であり、たとえば樹脂で形成される。複数のスペーサー１７１は、たとえば超音波溶着により、矩形状に形成された各不織布１２０Ａの左右両辺に１つずつ取り付けられる。また、２つの側板１７２は、不織布１２０Ａとほぼ同形の平板であり、たとえば樹脂で形成される。
【００８６】
左右両辺にスペーサー１７１が取り付けられた複数の不織布１２０Ａは、互いに重ね合わされ、さらに、２枚の側板１７２によって挟み込まれて固定される。これにより、図８に示すように、枠体１７０Ａは、複数の不織布１２０Ａを矩形の平板状に保持した状態となる。また、各不織布１２０Ａは、スペーサー１７１によって互いに間隔をあけた状態で枠体１７０Ａに保持される。なお、各不織布１２０Ａ間の間隔は、たとえば１〜１０ｍｍであり、スペーサー１７１の厚みにより適宜調整可能である。
【００８７】
第１の実施形態に係る不織布１２０と同様に、複数の不織布１２０Ａは、内部空間ＳＡの一端側から他端側に沿って延在する。したがって、複数の不織布１２０Ａ間の隙間は、内部空間ＳＡの一端側から他端側に沿って、すなわち、上下方向に沿って延在する。
【００８８】
複数の液供給部１３０Ａは、枠体１７０Ａに保持された複数の不織布１２０Ａの上方に配置される。具体的には、複数の液供給部１３０Ａは、筐体１１０Ａの天板１１１に取り付けられる（図６参照）。
【００８９】
複数の液供給部１３０Ａは、先端にノズル１３５を有し、洗浄液供給源１３３から供給される洗浄液を下方の不織布１２０Ａへ向けてノズル１３５から噴霧する。これにより、複数の不織布１２０Ａに洗浄液が供給され、各不織布１２０Ａの両板面に洗浄液の液膜が形成される。
【００９０】
液排出部１６０Ａは、筐体１１０Ａの底部に設けられ、筐体１１０Ａの底部に溜まった洗浄液をドレインタンク１６１へ排出する。
【００９１】
図９は、複数の不織布１２０Ａおよび側板１７２の模式的な断面図である。図９に示すように、各不織布１２０Ａの両板面には洗浄液の液膜Ｌが形成される。
【００９２】
気体導入部１４０Ａから内部空間ＳＡに導入された排ガスは、不織布１２０Ａ間の隙間および不織布１２０Ａおよび側板１７２間の隙間を内部空間ＳＡの一端側から他端側へ、すなわち、下方から上方へ向かって流れる。この間に、排ガスと液膜Ｌとが接触して排ガスから対象成分が除去される。対象成分が除去された排ガスは、気体排出部１５０Ａによって内部空間ＳＡから下流側排気管５４ｂ（図２参照）に排出される。また、対象成分を吸着した洗浄液は、筐体１１０Ａの底部に落下し、液排出部１６０Ａによって内部空間ＳＡからドレインタンク１６１に排出される。
【００９３】
図１０は、図９に示すＨ部の模式的な拡大図である。図１０に示すように、側板１７２の不織布１２０Ａとの対向面には、不織布１２０Ａとの対向面に向けて突出する複数の突起１７３が設けられてもよい。複数の突起１７３は、筐体１１０Ａの一端側から他端側に沿って間隔をあけて並べて配置される。
【００９４】
かかる突起１７３を設けることで、側板１７２と不織布１２０Ａとの隙間が部分的に狭まることとなる。これにより、洗浄液の液膜Ｌに接触することなく側板１７２と不織布１２０Ａとの隙間を通過する排ガスの量を減らすことができる。したがって、液膜Ｌによる対象成分の吸着効率を高めることができる。なお、複数の突起１７３は、第１の実施形態に係る気体処理装置１００が備える筐体１１０における不織布１２０との対向面に設けられてもよい。
【００９５】
上述したように、第２の実施形態に係る気体処理装置１００Ａは、枠体１７０Ａを備える。枠体１７０Ａは、複数の不織布１２０Ａを互いに間隔をあけた状態で平板状に保持する。また、筐体１１０Ａは、内部空間ＳＡの他端側を上方に向けた状態で配置され、液供給部１３０Ａは、複数の不織布１２０Ａの上方から複数の不織布１２０Ａに向けて洗浄液を供給する。
【００９６】
第１の実施形態に係る気体処理装置１００と同様、第２の実施形態に係る気体処理装置１００Ａは、不織布１２０Ａの板面に洗浄液の液膜Ｌを形成し、かかる液膜Ｌに排ガスを接触させる。したがって、第２の実施形態に係る気体処理装置１００Ａによれば、洗浄液の使用量を削減することができる。
【００９７】
なお、ここでは、気体処理装置１００Ａが複数の不織布１２０Ａを備える場合の例を示したが、気体処理装置１００Ａは、１つの不織布１２０Ａを備える構成であってもよい。
【００９８】
（第３の実施形態）
次に、第３の実施形態に係る気体処理装置の構成について図１１および図１２を参照して説明する。図１１は、第３の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。また、図１２は、第３の実施形態に係る複数の不織布の形状および配置を示す図である。
【００９９】
図１１に示すように、第３の実施形態に係る気体処理装置１００Ｂは、筐体１１０Ｂと、複数の親液性の不織布１２０Ｂと、複数の液供給部１３０Ｂと、気体導入部１４０Ｂと、気体排出部１５０Ｂと、液排出部１６０Ｂとを備える。
【０１００】
筐体１１０Ｂおよび筐体１１０Ｂの内部空間ＳＢは、円柱形状を有し、筐体１１０Ｂの一端側を下方に向け、他端側を上方に向けた状態で基板処理システム１内に配置される。
【０１０１】
気体導入部１４０Ｂは、筐体１１０Ｂの一端側、すなわち、筐体１１０Ｂの下部に接続され、上流側排気管５４ａ（図２参照）を流れる排ガスを筐体１１０Ｂの内部空間ＳＢに導入する。
【０１０２】
気体排出部１５０Ｂは、筐体１１０Ｂの他端側、すなわち、筐体１１０Ｂの上部に接続され、筐体１１０Ｂの内部空間ＳＢを通過した排ガスを筐体１１０Ｂから排出して下流側排気管５４ｂ（図２参照）へ送る。これにより、内部空間ＳＢには、内部空間ＳＢの下部から上部へ向かう排ガスの流れが形成される。
【０１０３】
第３の実施形態に係る複数の不織布１２０Ｂの各々は、蛇腹形状を有する。具体的には、図１２に示すように、不織布１２０Ｂは、円柱形状を有する内部空間ＳＢの周方向に沿って山折部１２１と谷折部１２２とが円周上に交互に並んだ蛇腹形状を有する。そして、複数の不織布１２０Ｂは、内部空間ＳＢの径方向に多段に間隔をあけて配置される。なお図１２には、２つの不織布１２０Ｂのみを示しているが、実際には、３つ以上の不織布１２０Ｂが設けられてもよい。
【０１０４】
上述した不織布１２０，１２０Ａと同様、複数の不織布１２０Ｂは、内部空間ＳＢの一端側から他端側に沿って延在する。したがって、複数の不織布１２０Ｂ間の隙間は、内部空間ＳＢの一端側から他端側に沿って、すなわち、上下方向に沿って延在する。
【０１０５】
液供給部１３０Ｂは、複数の不織布１２０Ｂの上方に配置される。液供給部１３０Ｂは、先端にノズル１３５を有し、洗浄液供給源１３３から供給される洗浄液を下方の不織布１２０Ｂへ向けてノズル１３５から噴霧する。これにより、複数の不織布１２０Ｂに洗浄液が供給され、各不織布１２０Ｂの両板面に洗浄液の液膜Ｌが形成される。
【０１０６】
液排出部１６０Ｂは、筐体１１０Ｂの底部に設けられ、筐体１１０Ｂの底部に溜まった洗浄液をドレインタンク１６１へ排出する。
【０１０７】
第３の実施形態に係る不織布１２０Ｂは、蛇腹形状を有するため、蛇腹形状を有しない不織布と比べて表面積を稼ぐことができることから、気体処理装置１００Ｂの小型化を図ることができる。また、不織布１２０Ｂの形状を山折部１２１と谷折部１２２とが円周上に交互に並ぶ蛇腹形状とすることで、不織布１２０Ｂを自立させることができる。したがって、枠体を用いることなく不織布１２０Ｂの形状を維持することができる。
【０１０８】
なお、ここでは、気体処理装置１００Ｂが複数の不織布１２０Ｂを備える場合の例を示したが、気体処理装置１００Ｂは、１つの不織布１２０Ｂを備える構成であってもよい。
【０１０９】
（第４の実施形態）
次に、第４の実施形態に係る処理ユニット１６の排気経路の構成について図１３Ａを参照して説明する。図１３Ａは、第４の実施形態に係る処理ユニット１６の排気経路の構成を示す図である。
【０１１０】
図１３Ａに示すように、第４の実施形態に係る基板処理システム１Ｃは、排気管５４Ｃを備える。排気管５４Ｃは、処理ユニット１６の排気口５３に接続され、中途部には気体処理装置１００が設けられる。なお、基板処理システム１Ｃは、気体処理装置１００に代えて気体処理装置１００Ａまたは気体処理装置１００Ｂを備える構成であってもよい。
【０１１１】
排気管５４Ｃは、気体処理装置１００よりも上流側に位置し、排気口５３と気体処理装置１００とを接続する上流側排気管５４Ｃａと、気体処理装置１００よりも下流側に位置し、気体処理装置１００から排出された排ガスを基板処理システム１Ｃの外部へ排出する下流側排気管５４Ｃｂとを備える。
【０１１２】
また、下流側排気管５４Ｃｂは、分岐管５４Ｃｃを有し、この分岐管５４Ｃｃは、給気管２２Ｃの中途部に接続される。
【０１１３】
第４の実施形態に係る処理ユニット１６の排気経路は上記のように構成されており、気体処理装置１００によって対象成分が除去されたクリーンな排ガスは、下流側排気管５４Ｃｂから分岐管５４Ｃｃを介して給気管２２Ｃに供給される。また、給気管２２Ｃに供給された排ガスは、気体供給源２３から供給される新鮮な気体と混合されてＦＦＵ２１からチャンバ２０内に再び供給される。なお、給気管２２Ｃには、給気管２２Ｃを流れる気体の温度および湿度を調整する温湿度調整部２５が設けられる。
【０１１４】
このように、第４の実施形態に係る基板処理システム１Ｃにおいて、処理ユニット１６の排気経路である排気管５４Ｃは、処理ユニット１６から排出された排ガスを処理ユニット１６へ戻す循環経路の一部を構成し、気体処理装置１００は、かかる排気管５４Ｃに設けられる。
【０１１５】
したがって、第４の実施形態に係る基板処理システム１Ｃによれば、気体処理装置１００によって対象成分が除去されたクリーンな排ガスを再利用することができることから、処理ユニット１６における気体の使用量を削減することができる。
【０１１６】
なお、従来のスクラバは、基板処理装置とは別体に、しかも、屋上などの基板処理装置から遠く離れた場所に設置されていた。このため、仮に、スクラバから排出されるクリーンな排ガスを再び基板処理装置に供給しようとした場合、配管距離が長くなるという問題があった。これに対し、第４の実施形態に係る基板処理システム１Ｃによれば、気体処理装置１００を内部に備えるため、従来のスクラバから排出される排ガスを再利用する場合と比べ、配管距離を短くすることができる。
【０１１７】
図１３Ａに示す例では、気体処理装置１００から排出される排ガスの一部をチャンバ２０内に戻し、残りを基板処理システム１Ｃから排出する排気経路の構成を示したが、排気経路は、基板処理システムから排出される全ての排ガスをチャンバ２０内に戻してもよい。
【０１１８】
図１３Ｂは、第４の実施形態における変形例に係る処理ユニット１６の排気経路の構成を示す図である。
【０１１９】
変形例に係る基板処理システム１Ｄは、排気管５４Ｄを備える。排気管５４Ｄは、処理ユニット１６の排気口５３に接続され、中途部には気体処理装置１００が設けられる。なお、基板処理システム１Ｄは、気体処理装置１００に代えて気体処理装置１００Ａまたは気体処理装置１００Ｂを備える構成であってもよい。
【０１２０】
排気管５４Ｄは、気体処理装置１００よりも上流側に位置し、排気口５３と気体処理装置１００とを接続する上流側排気管５４Ｄａと、気体処理装置１００よりも下流側に位置し、気体処理装置１００から排出された排ガスをＦＦＵ２１へ供給する下流側排気管５４Ｄｂとを備える。すなわち、排気管５４Ｄにより、処理ユニット１６から排出された排ガスを処理ユニット１６へ戻す循環経路が構成される。なお、下流側排気管５４Ｄｂには、温湿度調整部２５が設けられる。
【０１２１】
このように、基板処理システム１Ｄは、処理ユニット１６から排出された気体を再び処理ユニット１６へ戻す循環経路を備え、かかる循環経路に気体処理装置１００を設けることとしてもよい。
【０１２２】
（第５の実施形態）
次に、第５の実施形態に係る気体処理装置の構成について図１４を参照して説明する。図１４は、第５の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。なお、図１４においては、図３と同様に、排ガスの流れを破線の矢印で示し、洗浄液の流れを実線の矢印で示している。
【０１２３】
図１４に示すように、第５の実施形態に係る気体処理装置１００Ｅは、筐体１１０Ｅと、複数（ここでは、６枚）の親液性の不織布１２０Ｅと、複数の液供給部１３０Ｅと、気体導入部１４０Ｅと、気体排出部１５０Ｅと、液排出部１６０Ｅと、棚体１７０Ｅとを備える。
【０１２４】
筐体１１０Ｅおよび筐体１１０Ｅの内部空間ＳＥは、直方体形状を有し、筐体１１０Ｅの一端側を下方に向け、他端側を上方に向けた状態で基板処理システム１内に配置される。
【０１２５】
気体導入部１４０Ｅは、筐体１１０Ｅの一端側、すなわち、筐体１１０Ｅの下部に接続され、上流側排気管５４ａ（図２参照）を流れる排ガスを筐体１１０Ｅの内部空間ＳＥに導入する。
【０１２６】
気体排出部１５０Ｅは、筐体１１０Ｅの他端側、すなわち、筐体１１０Ｅの上部に接続され、筐体１１０Ｅの内部空間ＳＥを通過した排ガスを筐体１１０Ｅから排出して下流側排気管５４ｂ（図２参照）へ送る。これにより、内部空間ＳＥには、内部空間ＳＥの下部から上部へ向かう排ガスの流れが形成される。
【０１２７】
不織布１２０Ｅとしては、たとえば上述した第１の実施形態に係る不織布１２０と同様の材質で不織布１２０よりも薄型に形成されたものが使用される。
【０１２８】
棚体１７０Ｅは、複数の不織布１２０Ｅを互いに隙間をあけた状態で平板状に保持する。
【０１２９】
ここで、棚体１７０Ｅの構成について図１５Ａおよび図１５Ｂを参照して説明する。図１５Ａは、第５の実施形態に係る棚体１７０Ｅの構成を示す断面図である。また、図１５Ｂは、棚体１７０Ｅおよび棚体１７０Ｅに保持された複数の不織布１２０Ｅの模式拡大図である。なお、図１５Ａでは、気体導入部１４０Ｅおよび気体排出部１５０Ｅを省略して示している。
【０１３０】
図１５Ａに示すように、棚体１７０Ｅは、複数（ここでは６個）の棚板部１５０１を備える。また、棚体１７０Ｅの内部及び外部には複数の中間液供給部１５０２と液循環部１５０３が設けられている。
【０１３１】
複数の棚板部１５０１は、筐体１１０Ｅと一体化されかつ同じ素材で形成された平板である。それぞれの棚板部１５０１の上面には不織布１２０Ｅが１つずつ取り付けられている。
【０１３２】
上面に不織布１２０Ｅが取り付けられた棚板部１５０１は、互いに重ね合わされ、筐体１１０Ｅに対して固定される。これにより、棚体１７０Ｅは、複数の不織布１２０Ｅを鉛直方向に互いに間隔をあけた状態で保持した状態となる。なお、各不織布１２０Ｅ間の間隔は、たとえば１００ｍｍであり適宜調整可能である。
【０１３３】
複数の棚板部１５０１は、内部空間ＳＥの一端側から他端側に沿って水平に延在する。各棚板部１５０１の端部のうち、一方は筐体１１０Ｅの内壁に接触し、他方は筐体１１０Ｅの内壁との間に間隙を有している。この隙間は、筐体１１０Ｅに供給された洗浄液および気体を通過させるための開口１５０４である。筐体１１０Ｅに供給された洗浄液は、それぞれの棚板部１５０１と同一平面上にある開口１５０４を介して下方向に通過可能であり、筐体１１０Ｅに供給された気体は、開口１５０４を解して介して上方向に通過可能である。
【０１３４】
複数の液供給部１３０Ｅは、棚体１７０Ｅを構成する複数の棚板部１５０１のうち最上段の棚板部の上方に配置される。具体的には、複数の液供給部１３０Ｅは、筐体１１０Ｅの天板１１１に取り付けられる（図１５Ａ参照）。
【０１３５】
複数の液供給部１３０Ｅは、先端にノズルを有し、洗浄液供給源１３３から供給される洗浄液を下方の不織布１２０Ｅへ向けてノズルから噴霧する。これにより、最上段の不織布１２０Ｅに洗浄液が供給される。
【０１３６】
第５の実施形態では、図１５Ｂに示すように、棚板部１５０１の開口１５０４側の端部において壁部１５０５が設けられている。したがって、不織布１２０Ｅに供給された洗浄液は棚板部１５０１に液だまりＬを形成した後、オーバーフローを起こして落下する。これにより、下段の棚板部１５０１へと洗浄液が供給されるようになっている。
【０１３７】
下段の棚板部１５０１に供給された処理液は、同様に液だまりＬを形成した後、そのまた下段の棚板部１５０１へと供給される。以上の処理を繰り返した後、処理液は筐体１１０Ｅの底部まで流れ込む。そして、筐体１１０Ｅの底部に溜まった洗浄液は、液排出部１６０Ｅからドレインタンク１６１へ排出される。
【０１３８】
図１５Ｂに示すように、洗浄液の液だまりＬは、各不織布１２０Ｅの表面に形成される。
【０１３９】
気体導入部１４０Ｅから内部空間ＳＥに導入された排ガスは、棚板部１５０１のうち最下段側から最上段側へ、すなわち、下方から上方へ向かって流れる。この間に、各段の棚板部１５０１において、排ガスと液だまりＬとが接触して排ガスから対象成分が除去される。対象成分が除去された排ガスは、気体排出部１５０Ｅによって内部空間ＳＥから下流側排気管５４ｂ（図２参照）に排出される。また、対象成分を吸着した洗浄液は、筐体１１０Ｅの底部に落下し、液排出部１６０Ｅによって内部空間ＳＥからドレインタンク１６１に排出される。
【０１４０】
第５の実施形態では、筐体１１０Ｅの底部に落下して一旦貯留した洗浄液を液循環部１５０３を用いて中間液供給部１５０２へと戻すようにしている。図１５Ａに示すように、液循環部１５０３は、排出側循環液管１５０６とポンプ１５０７と供給側循環液管１５０８から構成されている。
【０１４１】
排出側循環液管１５０６は、筐体１１０Ｅの底部に貯留された洗浄液に接液され、ポンプ１５０７は、排出側循環液管１５０６を介して洗浄液を引き上げて供給側循環液管１５０８に向けて圧送する。例えば、筐体１１０Ｅに供給された洗浄液のうち半分を液循環部１５０３を用いて循環させる。複数の中間液供給部１５０２は複数の棚板部１５０１のうち中間の段（ここでは上から４段目）の上方に設けられており、複数の液供給部１３０Ｅと同様に４段目の棚板部１５０１に向けて循環された洗浄液を供給する。このように循環ラインを設けることにより、除外効率を向上させることができる。
【０１４２】
上述したように、第５の実施形態に係る気体処理装置１００Ｅは、棚体１７０Ｅを備える。棚体１７０Ｅは、複数の棚板部１５０１を垂直方向に互いに間隔をあけた状態で保持する。また、液供給部１３０Ｅは、最上段の棚板部１５０１の上方から不織布１２０Ｅに向けて洗浄液を供給する。
【０１４３】
第１の実施形態に係る気体処理装置１００と同様、第５の実施形態に係る気体処理装置１００Ｅは、不織布１２０Ｅの板面に洗浄液の液だまりＬを形成し、かかる液だまりＬに排ガスを接触させる。したがって、第５の実施形態に係る気体処理装置１００Ｅによれば、洗浄液の使用量を削減することができる。
【０１４４】
なお、第１の実施形態に係る気体処理装置１００と同様、気体導入部１４０Ｅに第１濃度検出部１４１を設け、気体排出部１５０Ｅに第２濃度検出部１５１を設けて、第１濃度検出部１４１および第２濃度検出部１５１の検出結果に基づき、液供給部１３０Ｅから不織布１２０Ｅに供給される洗浄液の流量を制御することも可能である。また、図１３Ａおよび図１３Ｂに示す気体処理装置１００を第５の実施形態に係る気体処理装置１００Ｅに置き換えることも可能である。
【０１４５】
また、第５の実施形態にかかる気体処理装置１００Ｅは、必ずしも不織布１２０Ｅを備えることを要しない。すなわち、第５の実施形態にかかる気体処理装置１００Ｅによれば、棚板部１５０１上に洗浄液の液だまりＬを形成し、形成した液だまりＬに排ガスを接触させることにより、排ガスから酸成分、アルカリ成分、有機成分のうち少なくともいずれか一つを含む対象成分を除去することが可能である。
【０１４６】
（第６の実施形態）
次に、第６の実施形態に係る気体処理装置について説明する。まず、第６の実施形態に係る処理ユニット１６の排気経路の構成について図１６を参照して説明する。図１６は、第６の実施形態に係る処理ユニット１６の排気経路の構成を示す図である。
【０１４７】
図１６に示すように、第６の実施形態に係る基板処理システム１Ｆは、複数の排気管５４Ｆを備える。複数の排気管５４Ｆの一端は、複数の処理ユニット１６の排気口５３に接続され、他端は、集合排気管５５に接続される。
【０１４８】
集合排気管５５は、排気管５４Ｆよりも大径の配管であり、中途部には気体処理装置１００Ｆが設けられる。具体的には、集合排気管５５は、気体処理装置１００Ｆよりも上流側に位置し、複数の排気管５４Ｆに接続される上流側集合排気管５５ａと、気体処理装置１００Ｆよりも下流側に位置し、気体処理装置１００Ｆから排出された排ガスを基板処理システム１Ｆの外部へ排出する下流側集合排気管５５ｂとを備える。
【０１４９】
ここで、従来の気体処理装置においては、排ガスの流速が速くなるほど、排ガスと洗浄液との接触時間が短くなり、対象成分の除去効率が低下するおそれがある。そこで、気体処理装置の容積を大きくして排ガスの流速を低下させることが考えられるが、気体処理装置の容積を大きくすると気体処理装置が大型化するという問題がある。特に、集合排気管に接続される気体処理装置は、各排気管に接続される気体処理装置と比較して大流量の排ガスを処理する必要があるため、気体処理装置の大型化の問題は顕著となる。
【０１５０】
このように、従来の気体処理装置においては、装置の大型化を抑制しつつ、排ガスの流速の増加に伴う除去効率の低下を抑制するという点でさらなる改善の余地がある。なお、かかる課題は、上述した第１〜第５の実施形態のように排気管に気体処理装置を設ける場合にも同様に生じ得る課題である。
【０１５１】
そこで、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆでは、排ガスの流れによって回転する羽根車を設け、かかる羽根車に洗浄液を供給し、羽根車の回転によって洗浄液の液膜を形成することにより、排ガスと洗浄液とを接触させて排ガスから対象成分を除去することとした。
【０１５２】
羽根車は、排ガスの流れによって回転するため、排ガスの流速が速くなるほど、羽根車の回転速度は速くなる。したがって、排ガスの流速が速くなるほど、排ガスと洗浄液とが羽根車の回転によってより攪拌されるようになる。すなわち、排ガスと洗浄液とがより長時間より高頻度で接触するようになる。したがって、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆによれば、排ガスの流速の増加に伴う除去効率の低下を抑制することができる。
【０１５３】
次に、かかる気体処理装置１００Ｆの構成について図１７を参照して説明する。図１７は、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆの構成を示す図である。
【０１５４】
図１７に示すように、気体処理装置１００Ｆは、内部空間ＳＦを有する筐体１１０Ｆと、気体導入部１４０Ｆと、気体排出部１５０Ｆと、液排出部１６０Ｆとを備える。
【０１５５】
筐体１１０Ｆは、たとえば水平方向を長手とする直方体形状を有する。気体導入部１４０Ｆおよび気体排出部１５０Ｆは、たとえば両端が開放された円筒形状を有しており、両端を上下に向けた状態で、すなわち中心軸を鉛直方向に延在させた状態で、筐体１１０Ｆの上面に設けられる。
【０１５６】
気体導入部１４０Ｆは、集合排気管５５のうち上流側集合排気管５５ａ（図１６参照）と筐体１１０Ｆとを接続し、上流側集合排気管５５ａを流れる排ガスを筐体１１０Ｆの内部空間ＳＦに導入する。また、気体排出部１５０Ｆは、集合排気管５５のうち下流側集合排気管５５ｂ（図１６参照）と筐体１１０Ｆとを接続し、筐体１１０Ｆの内部空間ＳＦを通過した排ガスを筐体１１０Ｆから排出して下流側集合排気管５５ｂへ送る。なお、気体排出部１５０Ｆの内部には、排ガスから水分を除去するミストセパレータ１５５が設けられている。
【０１５７】
液排出部１６０Ｆは、内部空間ＳＦに連通し、内部空間ＳＦに集められた洗浄液を内部空間ＳＦから排出する。
【０１５８】
気体処理装置１００Ｆは、さらに、支柱部１８０と、液供給部１９０と、複数（ここでは３つ）の羽根車２０１〜２０３とを備える。
【０１５９】
支柱部１８０は、鉛直方向に延在する部材であり、複数の羽根車２０１〜２０３を回転自在に支持する。液供給部１９０は、支柱部１８０を介して複数の羽根車２０１〜２０３に洗浄液を供給する。
【０１６０】
ここで、支柱部１８０および液供給部１９０の構成について図１８を参照して説明する。図１８は、支柱部１８０および液供給部１９０の構成を示す図である。
【０１６１】
図１８に示すように、支柱部１８０は、最も内側に配置される円筒状の第１支柱部材１８１と、第１支柱部材１８１の外方において第１支柱部材１８１と同心円状に配置される円筒状の第２支柱部材１８２と、第２支柱部材１８２の外方において第２支柱部材１８２と同心円状に配置される円筒状の第３支柱部材１８３とを備える。
【０１６２】
各支柱部材１８１〜１８３の基端部は、内部空間ＳＦの底面に固定される。また、各支柱部材１８１〜１８３の先端部は、気体導入部１４０Ｆの内部に到達する。気体導入部１４０Ｆの内部において、第１支柱部材１８１の先端部は、第２支柱部材１８２の先端部よりも高い位置に配置され、第２支柱部材１８２の先端部は、第３支柱部材１８３の先端部よりも高い位置に配置される。
【０１６３】
第１支柱部材１８１の内部には、第１供給路１８１ａが形成され、第１支柱部材１８１の先端部には、第１供給路１８１ａに連通する第１吐出口１８１ｂが形成される。また、第１支柱部材１８１と第２支柱部材１８２とは互いに間隔をあけて配置されており、第２支柱部材１８２の内部には、第１支柱部材１８１の外周面と第２支柱部材１８２の内周面とによって第２供給路１８２ａが形成され、第２支柱部材１８２の先端部には、第２供給路１８２ａに連通する第２吐出口１８２ｂが形成される。また、第２支柱部材１８２と第３支柱部材１８３とは互いに間隔をあけて配置されており、第３支柱部材１８３の内部には、第２支柱部材１８２の外周面と第３支柱部材１８３の内周面とによって第３供給路１８３ａが形成され、第３支柱部材１８３の先端部には、第３供給路１８３ａに連通する第３吐出口１８３ｂが形成される。
【０１６４】
液供給部１９０は、洗浄液供給源１９１と、供給管１９２と、供給機器群１９３とを備える。洗浄液供給源１９１は、洗浄液としてたとえば純水を供給する。供給管１９２の一端は、洗浄液供給源１９１に接続される。また、供給管１９２の他端は、複数に分岐して、それぞれ第１供給路１８１ａ、第２供給路１８２ａおよび第３供給路１８３ａに接続される。供給機器群１９３は、たとえば、供給管１９２を開閉する開閉バルブやマスフローコントローラなどを含む。
【０１６５】
液供給部１９０は上記のように構成されており、洗浄液供給源１９１から供給される洗浄液は、供給管１９２を介して第１供給路１８１ａ、第２供給路１８２ａおよび第３供給路１８３ａにそれぞれ供給される。なお、洗浄液供給源１９１から供給される洗浄液は、純水に限らず、対象成分の種類に応じて適宜選択されてもよい。
【０１６６】
複数の羽根車２０１〜２０３は、気体導入部１４０Ｆの内部に配置され、支柱部１８０に回転自在に支持される。複数の羽根車２０１〜２０３は、モータ等の駆動源によらず、気体導入部１４０Ｆを流れる排ガスの流れによって回転する。
【０１６７】
ここで、複数の羽根車２０１〜２０３の構成について図１９を参照して説明する。図１９は、複数の羽根車２０１〜２０３の構成を示す図である。
【０１６８】
図１９に示すように、複数の羽根車２０１〜２０３は、上方から羽根車２０１、羽根車２０２および羽根車２０３の順に配置される。
【０１６９】
羽根車２０１は、第１支柱部材１８１に支持される。具体的には、羽根車２０１は、ベアリング等の軸受を介して第１支柱部材１８１に回転自在に支持される本体部２１１と、本体部２１１に取り付けられる複数（ここでは４つ）の羽根２１２とを備える。
【０１７０】
羽根車２０２は、第２支柱部材１８２に支持される。具体的には、羽根車２０２は、ベアリング等の軸受を介して第２支柱部材１８２に回転自在に支持される本体部２２１と、本体部２２１に取り付けられる複数（ここでは８つ）の羽根２２２とを備える。
【０１７１】
羽根車２０３は、第３支柱部材１８３に支持される。具体的には、羽根車２０３は、ベアリング等の軸受を介して第３支柱部材１８３に回転自在に支持される本体部２３１と、本体部２３１に取り付けられる複数（ここでは４つ）の羽根２３２とを備える。
【０１７２】
各羽根車２０１〜２０３の本体部２１１，２２１，２３１は、上方に向かって突出するドーム状の上部と、複数の羽根２１２，２２２，２３２が取り付けられる円筒状の下部とを有する。本体部２１１，２２１，２３１の上部の上端は、それぞれ第１吐出口１８１ｂ、第２吐出口１８２ｂおよび第３吐出口１８３ｂと同一の高さ位置またはそれより低い位置に配置される。第１吐出口１８１ｂ、第２吐出口１８２ｂおよび第３吐出口１８３ｂから吐出された洗浄液は、それぞれ本体部２１１，２２１，２３１の上部を伝って下方に流れ、回転する羽根２１２，２２２，２３２によって周囲に飛散される。
【０１７３】
羽根車２０１および羽根車２０３の羽根２１２，２３２は、羽根車２０１および羽根車２０３を第１の回転方向に回転させるピッチ角で取り付けられている。一方、羽根車２０２の羽根２２２は、羽根車２０２を第１の回転方向とは反対の第２の回転方向に回転させるピッチ角で取り付けられている。
【０１７４】
また、羽根車２０２における羽根２２２の枚数（ここでは、８枚）は、他の羽根車２０１，２０３における羽根２１２，２３２の枚数（ここでは、４枚）よりも多い。したがって、羽根車２０２は、他の羽根車２０１，２０３と異なる回転速度で回転する。具体的には、羽根の枚数が多い羽根車ほど低速で回転するため、羽根車２０２は、他の羽根車２０１，２０３よりも低速で回転する。
【０１７５】
次に、気体処理装置１００Ｆの動作について図２０を参照して説明する。図２０は、気体処理装置１００Ｆの動作説明図である。
【０１７６】
図２０に示すように、気体導入部１４０Ｆ内に排ガスが流入すると、気体導入部１４０Ｆの内部に配置された複数の羽根車２０１〜２０３が排ガスの流れによって回転する。各羽根車２０１〜２０３には、液供給部１９０から洗浄液が供給されており、羽根車２０１〜２０３が回転することにより、洗浄液が周囲に飛散して、羽根車２０１〜２０３の周囲に洗浄液の液膜が形成される。
【０１７７】
排ガスは、気体導入部１４０Ｆの内部を通過する際に、上記洗浄液の液膜と接触する。これにより、排ガスに含まれる対象成分が洗浄液に吸着され、排ガスから対象成分が除去される。対象成分が除去された排ガスは、筐体１１０Ｆの内部空間ＳＦから気体排出部１５０Ｆを通って下流側集合排気管５５ｂに排出される。一方、対象成分を吸着した洗浄液は、筐体１１０Ｆの内部空間ＳＦに落下して内部空間ＳＦ内に貯留され、液排出部１６０Ｆから内部空間ＳＦの外部に排出される。
【０１７８】
上述したように、複数の羽根車２０１〜２０３は、モータ等の駆動源によらず、気体導入部１４０Ｆを流れる排ガスの流れによって回転する。このため、排ガスの流速が速くなるほど、羽根車２０１〜２０３が速く回転して、排ガスと洗浄液とがより攪拌されるようになる。すなわち、排ガスと洗浄液とがより長時間より高頻度で接触するようになるため、排ガスの流速が速くなった場合であっても、排ガスと洗浄液との接触時間および接触頻度の低下を抑制することができる。
【０１７９】
このように、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆは、内部空間ＳＦを有する筐体１１０Ｆと、内部空間ＳＦに排ガスを導入する気体導入部１４０Ｆと、排ガスを内部空間ＳＦから排出する気体排出部１５０Ｆとを備える。また、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆは、気体導入部１４０Ｆの内部に配置され、気体導入部１４０Ｆを流れる排ガスによって回転する複数の羽根車２０１〜２０３と、複数の羽根車２０１〜２０３に洗浄液を供給する液供給部１９０とを備える。したがって、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆによれば、装置の大型化を抑制しつつ、排ガスの流速が速い場合における除去効率の低下を抑制することができる。
【０１８０】
また、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆにおいて、複数の羽根車２０１〜２０３は、排ガスの流れによって第１の回転方向に回転する羽根車２０１，２０３と、排ガスの流れによって第１の回転方向とは反対方向の第２の回転方向に回転する羽根車２０２とを含む。
【０１８１】
これにより、複数の羽根車２０１〜２０３をすべて同じ方向に回転させる場合と比較して、排ガスの流れをより乱すことができる。言い換えれば、排ガスと洗浄液とがより攪拌されるようになる。したがって、排ガスの流速が速い場合における除去効率の低下をさらに抑制することができる。
【０１８２】
また、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆにおいて、複数の羽根車２０１〜２０３は、第１の回転速度で回転する羽根車２０１，２０３と、第１の回転速度と異なる速度で回転する羽根車２０２とを含む。
【０１８３】
これにより、複数の羽根車２０１〜２０３がすべて同じ速度で回転する場合と比較して、排ガスの流れをより乱すことができる。言い換えれば、排ガスと洗浄液とがより攪拌されるようになる。したがって、排ガスの流速が速い場合における除去効率の低下をさらに抑制することができる。なお、ここでは、羽根の枚数を異ならせることで、羽根車２０２の回転速度を他の羽根車２０１，２０３の回転速度と異ならせることとしたが、たとえば、本体部２２１と第２支柱部材１８２との抵抗を、他の本体部２１１，２３１と支柱部材１８１，１８３との抵抗と異ならせることで、羽根車２０２の回転速度を他の羽根車２０１，２０３の回転速度と異ならせることとしてもよい。
【０１８４】
また、第６の実施形態に係る気体処理装置１００Ｆにおいて、液供給部１９０は、複数の羽根車２０１〜２０３の各々に対して洗浄液を供給する。具体的には、気体処理装置１００Ｆは、先端部において羽根車２０１を回転自在に支持する第１支柱部材１８１と、第１支柱部材１８１の外方に第１支柱部材１８１と同心円状に配置され、羽根車２０１よりも下方に位置する先端部において羽根車２０２を回転自在に支持する第２支柱部材１８２と、第２支柱部材１８２の外方に第２支柱部材１８２と同心円状に配置され、羽根車２０２よりも下方に位置する先端部において羽根車２０３を回転自在に支持する第３支柱部材１８３とを備える。そして、液供給部１９０は、第１支柱部材１８１の内部に形成された第１供給路１８１ａを介して第１支柱部材１８１の先端部に設けられた第１吐出口１８１ｂから羽根車２０１に洗浄液を供給する。また、液供給部１９０は、第１支柱部材１８１と第２支柱部材１８２との間に形成された第２供給路１８２ａを介して第２支柱部材１８２の先端部に設けられた第２吐出口１８２ｂから羽根車２０２に洗浄液を供給する。また、液供給部１９０は、第２支柱部材１８２と第３支柱部材１８３との間に形成された第３供給路１８３ａを介して第３支柱部材１８３の先端部に設けられた第３吐出口１８３ｂから羽根車２０３に洗浄液を供給する。
【０１８５】
これにより、複数の羽根車２０１〜２０３の各々に対して新鮮な洗浄液を供給することができる。したがって、たとえば、最も上方に配置される羽根車２０１にのみ洗浄液を供給する場合、すなわち、他の羽根車２０２，２０３については、羽根車２０１から落下する洗浄液を供給することとした場合と比較して、除去効率を向上させることができる。
【０１８６】
また、気体処理装置１００Ｆは、内部空間ＳＦに連通し、内部空間ＳＦに集められた洗浄液を内部空間ＳＦから排出する液排出部１６０Ｆを備え、気体導入部１４０Ｆは、鉛直方向に延在し、筐体１１０Ｆの内部空間ＳＦは、気体導入部１４０Ｆの下方に配置される。
【０１８７】
かかる構成とすることにより、対象成分を吸着した洗浄液を重力により内部空間ＳＦに落下させることができる。また、排ガスは、気体導入部１４０Ｆを上方から下方に向かって流れるため、洗浄液の落下を阻害しない。したがって、対象成分を吸着した洗浄液を内部空間ＳＦから早期に排出することができる。
【０１８８】
なお、複数の羽根車２０１〜２０３が有する羽根２１２，２２２，２３２は、撥水性を有することとしてもよい。これにより、対象成分を吸着した洗浄液が羽根２１２，２２２，２３２に残存しにくくなるため、対象成分を吸着した洗浄液を内部空間ＳＦから早期に排出することができる。
【０１８９】
上述した第６の実施形態では、気体処理装置１００Ｆを集合排気管５５に設けることとしたが、気体処理装置１００Ｆは、第１〜第５の実施形態と同じように、各処理ユニット１６の排気管５４，５４Ｃ，５４Ｄに１つずつ設けられてもよい。
【０１９０】
また、上述した第６の実施形態では、気体処理装置１００Ｆが３つの羽根車２０１〜２０３を備えることとしたが、羽根車の数は３つに限定されるものではなく、１つまたは２つであってもよいし、４つ以上であってもよい。また、各羽根車２０１〜２０３が有する羽根２１２，２２２，２３２の枚数やピッチ角も上記の例に限定されない。
【０１９１】
（第６の実施形態における変形例）
上述したように、複数の羽根車２０１〜２０３は、排ガスの流れによって回転する。このため、排ガスの流れが速すぎる場合、複数の羽根車２０１〜２０３が必要以上に高速で回転してしまうおそれがある。また、排ガスの流れが遅すぎる場合には、液膜を形成するのに十分な速度で回転することが困難となるおそれがある。
【０１９２】
そこで、気体処理装置１００Ｆは、複数の羽根車２０１〜２０３の回転速度に応じて複数の羽根２１２，２２２，２３２のピッチ角を変更することとしてもよい。
【０１９３】
この場合の気体処理装置１００Ｆは、羽根２１２，２２２，２３２を駆動する駆動部、羽根２１２，２２２，２３２のピッチ角を検出する第１検出器、羽根車２０１〜２０３の回転速度または回転数を検出する第２検出器等をさらに備える。駆動部、第１検出器、第２検出器等は、たとえば本体部２１１，２２１，２３１の内部に設けられる。
【０１９４】
そして、制御部１８（図１参照）は、第２検出器による検出結果に応じて、第１検出器の検出結果を参照しつつ羽根２１２，２２２，２３２のピッチ角を変更する。たとえば、羽根２１２，２２２，２３２の回転速度または回転数が第１閾値を下回った場合、制御部１８は、羽根２１２，２２２，２３２の回転速度または回転数が上がるように羽根２１２，２２２，２３２のピッチ角を変更する。また、羽根２１２，２２２，２３２の回転速度または回転数が第２閾値（＞第１閾値）を超えた場合、制御部１８は、羽根２１２，２２２，２３２の回転速度または回転数が下がるように羽根２１２，２２２，２３２のピッチ角を変更する。
【０１９５】
これにより、排ガスの流れが遅い場合に羽根車２０１〜２０３の回転速度が遅くなり過ぎることを抑制することができるとともに、排ガスの流れが速い場合に羽根車２０１〜２０３の回転速度が速くなり過ぎることを抑制することができる。
【０１９６】
さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。
【符号の説明】
【０１９７】
Ｌ  液膜
Ｒ  貯留空間
Ｓ  内部空間
１  基板処理システム
１６  処理ユニット
１８  制御部
５４  排気管
１００  気体処理装置
１１０  筐体
１２０  親液性の不織布
１３０  液供給部
１４０  気体導入部
１５０  気体排出部
１６０  液排出部
１７０  枠体
【図１】
2018150979.tif 000003
【図２】
2018150979.tif 000004
【図３】
2018150979.tif 000005
【図４】
2018150979.tif 000006
【図５】
2018150979.tif 000007
【図６】
2018150979.tif 000008
【図７】
2018150979.tif 000009
【図８】
2018150979.tif 000010
【図９】
2018150979.tif 000011
【図１０】
2018150979.tif 000012
【図１１】
2018150979.tif 000013
【図１２】
2018150979.tif 000014
【図１３Ａ】
2018150979.tif 000015
【図１３Ｂ】
2018150979.tif 000016
【図１４】
2018150979.tif 000017
【図１５Ａ】
2018150979.tif 000018
【図１５Ｂ】
2018150979.tif 000019
【図１６】
2018150979.tif 000020
【図１７】
2018150979.tif 000021
【図１８】
2018150979.tif 000022
【図１９】
2018150979.tif 000023
【図２０】
2018150979.tif 000024
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月1日(2018.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（削除）
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
（削除）
【請求項５】
（削除）
【請求項６】
（削除）
【請求項７】
内部空間を有する筐体と、
前記内部空間に配置された複数の平板状の棚板部を垂直方向に互いに間隔をあけた状態で保持する棚体と、
前記棚体に洗浄液を供給する液供給部と、
前記内部空間に気体を導入する気体導入部と、
前記気体を前記内部空間から排出する気体排出部と
を備え、
前記気体導入部は、
前記内部空間の下方から前記内部空間に前記気体を導入し、
前記気体排出部は、
前記気体を前記内部空間の上方から排出し、
前記液供給部は、
複数の前記棚板部のうち最上段の棚板部の上方から前記棚体に向けて前記洗浄液を供給する、気体処理装置。
【請求項８】
前記気体に含まれる対象成分の濃度を検出する濃度検出部と、
前記濃度検出部の検出結果に基づき、前記液供給部から前記棚体に供給される前記洗浄液の流量を制御する制御部と
を備える、請求項７に記載の気体処理装置。
【請求項９】
薬品を用いて基板を処理する処理部と、前記処理部から排出される気体が流通する排気経路とを内部に有する基板処理装置の前記排気経路に設けられる、請求項７に記載の気体処理装置。
【請求項１０】
薬品を用いて基板を処理する処理部と、
前記処理部から排出される気体が流通する排気経路と、
前記排気経路に設けられ、前記排気経路を流通する前記気体に含まれる対象成分を前記気体から除去する気体処理装置と
を備え、
前記気体処理装置は、
内部空間を有する筐体と、
前記内部空間に配置された複数の平板状の棚板部を垂直方向に互いに間隔をあけた状態で保持する棚体と、
前記棚体に洗浄液を供給する液供給部と、
前記内部空間に前記気体を導入する気体導入部と、
前記気体を前記内部空間から排出する気体排出部と
を備え、
前記棚板部の表面に形成された洗浄液の液膜に前記気体導入部から導入された気体を接触させる、基板処理装置。
【請求項１１】
前記排気経路は、
前記処理部から排出された前記気体を前記処理部へ戻す循環経路の少なくとも一部を構成する、請求項１０に記載の基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
課題を解決するための手段
［０００８］
実施形態の一態様に係る気体処理装置は、筐体と、棚体と、液供給部と、気体導入部と、気体排出部とを備える。筐体は、内部空間を有する。棚体は、内部空間に配置された複数の平板状の棚板部を垂直方向に互いに間隔をあけた状態で保持する。液供給部は、棚体に洗浄液を供給する。気体導入部は、内部空間に気体を導入する。気体排出部は、気体を内部空間から排出する。気体導入部は、内部空間の下方から内部空間に気体を導入する。気体排出部は、気体を内部空間の上方から排出する。液供給部は、複数の棚板部のうち最上段の棚板部の上方から棚体に向けて洗浄液を供給する。
発明の効果
［０００９］
実施形態の一態様によれば、洗浄液の使用量を削減することができる。
図面の簡単な説明
［００１０］
［図１］図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。
［図２］図２は、処理ユニットおよび処理ユニットの排気経路の構成を示す図である。
［図３］図３は、第１の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
［図４］図４は、筐体、不織布および枠体の概略構成を示す斜視図である。
［図５］図５は、流量調整処理の手順を示すフローチャートである。
［図６］図６は、第２の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
［図７］図７は、第２の実施形態に係る枠体の構成を示す図である。
［図８］図８は、枠体および枠体に保持された複数の不織布の模式拡大図である。
［図９］図９は、複数の不織布および側板の模式的な断面図である。
［図１０］図１０は、図９に示すＨ部の模式的な拡大図である。
［図１１］図１１は、第３の実施形態に係る気体処理装置の構成を示す図である。
［図１２］図１２は、第３の実施形態に係る複数の不織布の形状および配置を示す図である。
【国際調査報告】
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