【事件の表示】
　特願２０００−１４６８９５「電磁波シールド性光透過窓材の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１１月３０日出願公開、特開２００１−３３２８８９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年５月１８日の出願であって、平成１７年３月３１日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年５月６日に審判が請求されると共に、同年６月１日付けで手続補正がされ、その後、当審において、平成１９年８月２９日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月２日付けで手続補正がされたものである。
　
２．本願発明
　本願発明は、平成１９年１１月２日付けで手続補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、そのうちの請求項１に係る発明は、次のとおりのものである。
　
「フィルム面に、フィルム露出領域が線幅３０μｍ以下のメッシュ状となるようにポリビニルアルコールのドットを形成した後、該フィルム面に水に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、次いで、該フィルム面を水と接触させて該ドット及び該ドット上の導電材料層を除去することにより、開口率７５％以上の格子状の導電材料パターンを形成することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。」（以下、「本願発明１」という。）
　　
３．原査定の理由の概要
　平成１９年８月２９日付けで通知した当審の拒絶理由の概要は、次のとおりのものである。
　本願の請求項１〜５に係る発明は、その出願前頒布された下記刊行物１に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
刊行物１：特開平１１−２９８１８５号公報
　
４．引用刊行物とその記載事項
　当審の拒絶理由にある刊行物１には、次の事項が記載されている。
　
（ａ）「透明基体上に、電磁波シールドパターン形状と逆パターンのレジスト層を形成し、次いで金属酸化物または金属硫化物からなる黒色層を全面的に形成し、次いでその上に金属薄膜層を全面的に形成し、次いでレジスト層をその上に積層された黒色層と金属薄膜層とともに除去することを特徴とする透視性電磁波シールド材料の製造方法。」（特許請求の範囲の請求項３）
　
（ｂ）「この発明は、各種計測機器やＶＤＴ、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などディスプレイの前面に配置して、これらの機器から放射される電磁波を遮蔽するとともに表示部を透視することができる電磁波シールド材料とその製造方法に関する。」（段落【０００１】）
　
（ｃ）「レジスト層４は、ポジ型もしくはネガ型レジスト液を透明基体１上に塗布し乾燥させ、パターン露光し、現像することにより得ることができる（図２参照）。レジストパターン形状は、得ようとする電磁波シールドパターン形状と逆パターンにする。すなわち、得ようとする電磁波シールドパターン形状をポジとすれば、このポジに対応するネガとなっている。電磁波シールドパターン形状としては、導電層の線幅10〜50μｍ、線間ピッチ50〜500μｍの格子状パターンなどとするとよい。線幅および線間ピッチを決めるには、電磁波シールド材料の電磁波シールドレベルおよび光透過レベルを考慮するとよい。すなわち、電磁波シールドレベルを高くかつ光透過レベルも高くするには、線幅および線間ピッチの両方を小さくするとよい。」（段落【００１９】）
　
（ｄ）「その後、レジスト層４とともに、その上に積層された黒色層２と金属薄膜層３を除去する（図１参照）。レジスト層４を除去するには、水酸化ナトリウム水溶液などの剥離液を用いるとよい。レジスト層４上に形成された黒色層２と金属薄膜層３は、被覆状態が不完全であり、レジスト層４の縁で黒色層２および金属薄膜層３に割れ目が生じ、剥離液が浸入してレジスト層４を膨潤、溶解させる。」（段落【００２３】）
　
（ｅ）「実施例２
　厚さ0.1ｍｍ、100ｍｍ角のポリエステルフィルム上にレジスト層をスクリーン印刷法により全面的に形成し、その後電磁波シールドパターン形状とは逆パターンのマスクで露光、現像をしてレジスト層をパターン化した。
　次に、イオンプレーティング法により、酸化銀、銀の順にそれぞれ0.2μｍの厚みで黒色層と金属薄膜層とを形成した。
　次に、５％の水酸化ナトリウム水溶液を剥離液として用い、レジスト層およびその上の黒色層と金属薄膜層とを除去し、線幅20μｍ、線間ピッチ100μｍの格子状パターンの導電部が形成された透視性電磁波シールド材料を得た。」（段落【００３２】〜【００３４】）
　
５．当審の判断
（１）引用発明
　刊行物１の（ａ）には、「透明基体上に、電磁波シールドパターン形状と逆パターンのレジスト層を形成し、次いで金属酸化物または金属硫化物からなる黒色層を全面的に形成し、次いでその上に金属薄膜層を全面的に形成し、次いでレジスト層をその上に積層された黒色層と金属薄膜層とともに除去することを特徴とする透視性電磁波シールド材料の製造方法。」が記載されている。
　ここで、上記「電磁波シールドパターン形状」とは、（ｃ）の「電磁波シールドパターン形状としては、導電層の線幅10〜50μｍ、線間ピッチ50〜500μｍの格子状パターンなどとするとよい。」という記載によると、『線幅10〜50μｍ、線間ピッチ50〜500μｍの格子状パターン形状』であるといえる。
　そして、上記「透明基体」は、（ｅ）の「厚さ0.1ｍｍ、100ｍｍ角のポリエステルフィルム上にレジスト層を・・・形成し」という記載によると、『フィルム』であるものも記載されているといえる。
　
　上記記載及び認定事項を本願発明１の記載ぶりに則って整理すると、刊行物１には、次のとおりの発明が記載されているといえる。
　
「フィルム上に、線幅10〜50μｍの格子状パターン形状と逆パターンのレジスト層を形成した後、金属酸化物または金属硫化物からなる黒色層を全面的に形成し、その上に金属薄膜層を全面的に形成し、次いで、該レジスト層及び該レジスト層上に積層された黒色層と金属薄膜層を除去することにより、線幅10〜50μｍ、線間ピッチ50〜500μｍの格子状の電磁波シールドパターンを形成する透視性電磁波シールド材料の製造方法」（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　
（２）本願発明１と引用発明との対比
　本願発明１と引用発明とを対比する。
　まず、引用発明の「金属薄膜層」は、本願発明１の「導電材料層」に相当する。
　そして、引用発明の「格子状パターン形状と逆パターンのレジスト層」は、格子で囲まれた点状、すなわち、ドット状の領域であることは明らかであるし、本願発明１の「ポリビニルアルコールのドット」及び引用発明の「格子状パターン形状と逆パターンのレジスト層」は共に、フィルム面に導電材料層が形成されないようにするマスキング材として機能することも明らかであるから、本願発明１と引用発明は、フィルム面にマスキング材のドットを形成する点で共通するといえる。
　また、引用発明の「透視性電磁波シールド材料」は、刊行物１の（ｂ）に記載された「この発明は、・・・ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などディスプレイの前面に配置して、これらの機器から放射される電磁波を遮蔽するとともに表示部を透視することができる電磁波シールド材料とその製造方法に関する。」によると、ＰＤＰの前面に配置され、ＰＤＰからの電磁波をシールドするための前面フィルタのことであることは当業者にとって明らかであるといえる。一方、本願発明１の「電磁波シールド性光透過窓材」とは、本願明細書の段落【０００１】の「本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタ・・・として有用な電磁波シールド性光透過窓材の製造方法に係り」という記載によると、ＰＤＰの前面フィルタのことであるといえる。すると、引用発明の「透視性電磁波シールド材料」は、本願発明１の「電磁波シールド性光透過窓材」に相当するといえる。
　そして、引用発明の「線幅10〜50μｍの格子状パターン形状と逆パターンのレジスト層」が形成されたフィルム上の領域は、「レジスト層及び該レジスト層上に積層された黒色層と金属薄膜層を除去」した後に、フィルム露出領域になることは明らかであり、また、そのときに形成される「線幅10〜50μｍの格子状パターン形状」は、メッシュ状ともいえるものである。
　
　そうすると、本願発明１と引用発明は、「フィルム面に、フィルム露出領域が線幅３０μｍ以下のメッシュ状となるようにマスキング材のドットを形成した後、該フィルム面に水に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、次いで、該ドット及び該ドット上の導電材料層を除去することにより、格子状の導電材料パターンを形成する電磁波シールド性光透過窓材の製造方法」である点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点イ：マスキング材が、本願発明１では、「ポリビニルアルコール」であって、「フィルム面を水と接触させてドット及び該ドット上の導電材料層を除去する」点。
　
相違点ロ：格子状の導電材料パターンが、本願発明１では「開口率７５％以上」である点。
　
（３）相違点についての判断
　そこで、上記相違点について検討する。
（３−１）相違点イについて
　フィルム面に所定パターンの金属薄膜層を形成する方法として、該フィルム面に、ポリビニルアルコールにより金属薄膜層の逆パターンを形成した後、該フィルム面に金属薄膜層を形成し、次いで、該フィルム面を水と接触させてポリビニルアルコールとその上の金属薄膜層を除去することは、特開昭６０−２６２９５９号公報、特開平３−２６５４０号公報、特開昭６３−１３０７６２号公報などに見られるように、本願出願前に周知の技術である。
　そうすると、引用発明において、この周知の事項を採用し、レジスト層の材料として「ポリビニルアルコール」を選択し、「フィルム面を水と接触させてドット及び該ドット上の導電材料層を除去する」ことは、当業者が容易に想到し得たことであるといえる。
　すると、上記相違点イは容易に想到し得たことである。
　
（３−２）相違点ロについて
　引用発明では、線幅10〜50μｍ、線間ピッチ50〜500μｍの格子状の電磁波シールドパターンを形成するものである。そして、刊行物１の（ｅ）の「線幅20μｍ、線間ピッチ100μｍの格子状パターンの導電部が形成された透視性電磁波シールド材料」という記載によると、引用発明の具体例である実施例２の電磁波シールドパターンとして、開口率が、大凡、７０％（1002/1202）に相当する格子状のものが記載されているといえるし、（ｃ）の「線幅および線間ピッチを決めるには、電磁波シールド材料の電磁波シールドレベルおよび光透過レベルを考慮するとよい。すなわち、電磁波シールドレベルを高くかつ光透過レベルも高くするには、線幅および線間ピッチの両方を小さくするとよい。」という記載によると、光透過レベル、すなわち、開口率を高くすることが示唆されているといえる。
　そうすると、引用発明において、上記「線幅10〜50μｍ、線間ピッチ50〜500μｍ」を満たす条件の範囲内で、電磁波シールドパターンの開口率を上記７０％よりも高くし、７５％以上とすることは当業者が容易に想到し得たことであるといえる。
　すると、上記相違点ロは容易に想到し得たことである。
　
（４）小括
　したがって、上記相違点イ及びロは当業者が容易に想到し得たことであるから、本願発明１は、引用発明及び周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものといえる。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明１は、引用発明及び周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、その余の請求項について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。