【事件の表示】
　平成　９年特許願第２６５４４５号「垂直磁気記録媒体およびこれを用いた磁気記録装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　４月１３日出願公開、特開平１１−１０２５１０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成９年９月３０日の出願であって、平成１６年８月２７日付けで手続補正がなされたが、平成１８年３月２７日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年４月２７日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１８年４月２７日付け手続補正（以下「本件補正」という。）について
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年４月２７日付け手続補正を却下する。
［理由］
１．本件補正
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、補正前の、
　（ａ）　「【請求項１】　基板上に形成した磁性膜の磁化容易軸が基板面に垂直方向に配向した磁気記録媒体であって、
　該磁性膜が少なくとも２層以上の磁性膜で構成されており、
　該磁性膜の膜面垂直方向の磁気異方性定数が異なる磁性膜で構成されており、
　基板面に近い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕａに比べて、基板から遠い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕｂが大きく、
　前記Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きく、
　上記該磁性膜の基板面に近い側の磁性膜の膜厚（ｔ１）が、基板から遠い側の磁性膜の膜厚（ｔ２）に比べて大きい（ｔ１＞ｔ２）ことを特徴とする垂直磁気記録媒体。」を、
　（ｂ）　「【請求項１】　基板上に形成した磁性膜の磁化容易軸が基板面に垂直方向に配向した磁気記録媒体であって、
　該磁性膜が少なくとも２層以上の磁性膜で構成されており、
　該磁性膜の膜面垂直方向の磁気異方性定数が異なる磁性膜で構成されており、
　基板面に近い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕａに比べて、基板から遠い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕｂが大きく、
　前記Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃ
以上であり
　上記該磁性膜の基板面に近い側の磁性膜の膜厚（ｔ１）が、基板から遠い側の磁性膜の膜厚（ｔ２）に比べて大きい（ｔ１＞ｔ２）ことを特徴とする垂直磁気記録媒体。」
　と補正するものである。
　本件補正は、補正前の「前記Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きく」を「前記Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃ
以上であり
　そこで、誤記の訂正に当たるかどうかについて検討する。明細書に、「一方第２磁性膜の磁気異方性定数Ｋｕｂは５×１０６ｅｒｇ／ｃｃから１×１０７ｅｒｇ／ｃｃの範囲であった」（段落１６）及び「第２磁性膜　５×１０６−１×１０７」（表１の媒体Ａ及びＢのＫｕ（ｅｒｇ／ｃｃ）欄）という記載があり「５×１０６ｅｒｇ／ｃｃ」に等しい場合を含むとも解される記載があるものの、一方出願当初から特許請求の範囲（例えば、当初明細書の請求項５参照）には、「Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きいことを特徴とする」と記載されているように、「５×１０６ｅｒｇ／ｃｃ」に等しい場合を含んでいない。請求の範囲が明細書の記載より狭く記載されていても特に誤記ではないから、補正前の請求項１の「前記Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きく」が誤記であったとはいえないので、本件補正は誤記の訂正であるとすることはできない。
　そして、補正前の「５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きく」を「５×１０６ｅｒｇ／ｃｃ
以上
　よって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項の各号のいずれにも該当しないので、特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　平成１８年４月２７日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至７に係る発明は、平成１６年８月２７日付け手続補正の特許請求の範囲の請求項１乃至７に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は上記「第２の１の（ａ）」のとおりである。
　
１．引用例
（１）原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−１７６０２７号公報（以下「引用例１」という。）には、「磁気記録媒体及び磁気記録再生装置」に関し、次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与したものである。）
　（ア）「【請求項１】
磁性膜の構造制御用の下地層の上に少なくとも２層からなる磁性膜を非磁性中間層を介して積層した構造を有する磁気記録媒体であって
磁気記録媒体の磁化容易方向の磁化−磁界曲線において、飽和磁化（Ｍｓ）と反磁界補正を加えない残留磁化（Ｍｒ）がＭｒ／Ｍｓ≧０．８の関係を有し、磁界の強さを保磁力で規格化し、磁化を飽和磁化で規格化した磁化−磁界曲線において、磁化ゼロの点を通過する曲線の接線と規格化磁界軸のなす角（θ）が３５°≦θ≦９０°の範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体
【請求項５】
基板面に対して垂直
の方向に実効的な磁化容易軸を有する
【請求項６】
基板に近い側の磁性膜ａの磁気異方性定数Ｋｕ
ａ
と基板から遠い側の磁性膜ｂの磁気異方性定数Ｋｕ
ｂ
とがＫｕ
ｂ
≧Ｋｕ
ａ
の関係を有する
　（イ）「【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、基板上に形成する垂直磁化膜としてのＣｏ基合金薄膜の結晶配向や磁気異方性、あるいは磁性粒子間の相互作用を制御することによって、磁気記録したときの微細な磁区構造を制御し、優れた低ノイズ特性を有し超高密度磁気記録に好適な
垂直磁気記録媒体
　（ウ）「【００１５】基板に近い側の磁性膜ａのａ軸の長さ（ａ１）及び磁気異方性定数（Ｋｕａ）と、基板から遠い側の磁性膜ｂのａ軸の長さ（ａ２）及び磁気異方性定数（Ｋｕｂ）の間には、下記（１）及び（２）の関係が成立するようにする。ただし、ａ１及びａ２は、ｈｃｐ構造結晶の六角形の底面の一辺の長さである。
　ａ２　≧ａ１　　　（１）
　Ｋｕｂ　≧Ｋｕａ　（２）
【００１６】組成の異なる２種以上の磁性薄膜を互いに界面を接して積層した積層磁性薄膜の上層と下層の積層膜厚比は目的により任意に設定でき、
積層膜厚比１：３〜３：１の範囲
　（エ）「【００２４】磁性膜を非磁性中間層を介して多層に構成することにより、磁性膜の膜厚方向においての磁気的な相互作用の強さを制御でき、
垂直記録したときの逆磁区（記録磁化の向きと逆方向に形成される磁区）の発生を抑制する効果があり、再生ノイズを低減できる
前記（１）及び（２）の関係を満たすことにより、多層化による保磁力と異方性磁界の低下を防止でき、また磁気記録したとき記録ビット内部に形成される逆磁区による再生ノイズを低減でき、高密度磁気記録に好適な磁気記録媒体が得られる
【００２５】すなわち、本発明の多層磁性膜において、膜面垂直方向の垂直磁気異方性はＣｏ基磁性膜の結晶磁気異方性と磁性粒子の形態からくる形状磁気異方性、及び格子定数の異なる磁性膜を積層することにより界面に発生するストレスに起因する磁気異方性からなる。膜面から磁気ヘッドにより磁気記録を行う場合、ヘッド端面に近いほど強い磁束が発生し、
良好な垂直記録を実現するには上層の磁性層の磁気異方性を大きくするのが有効である
　（オ）「【００２８】すなわち、垂直記録における再生ノイズの主たる原因は、記録ビット内部に形成される逆磁区の発生である。一般に用いられるＣｏＣｒ系の垂直磁化膜のＭ−Ｈ曲線では、Ｍｒ／Ｍｓ＜０．３である。これは磁性膜に発生する反磁界の影響が原因であり、これにより磁気記録したときに記録ビット内部に逆磁区が形成される。
逆磁区の発生を防止するには、膜面垂直方向の磁気異方性を強く
　（カ）「【００３２】この上に引き続き同一真空中で厚さ５０ｎｍの第１磁性膜３、非磁性中間層４、厚さ５０ｎｍの第２磁性膜５を順次形成して図１（ａ）に示すごとく構成した多層膜媒体Ａ６を作製した。（略）
【００３３】（略）
【００３４】（略）第１磁性膜３の膜厚（δａ）と第２磁性膜の膜厚（δｂ）は任意に選択できる。」（実施例１の項）
　（キ）「【００４２】（略）さらに、この構成の多層磁性膜媒体において第１磁性膜３の磁気異方性定数（Ｋｕａ）と第２磁性膜５の磁気異方性定数（Ｋｕｂ）の間は、
Ｋｕ
ｂ
≧Ｋｕ
ａ
の関係を与えることが磁気記録の際の逆磁区の発生を抑止する効果
Ｋｕ
ｂ
＝３×１０
６
ｅｒｇ／ｃｃ
　（ク）「【００４５】一方、本発明の多層膜垂直磁気記録媒体では、Ｍｒ＊／Ｍｓ＊の比が０．８≦Ｍｒ＊／Ｍｓ＊≦１と大きい試料が作製でき、また磁気異方性（Ｋｕ）も上記の単層膜垂直磁気記録媒体に較べて数倍以上大きくできる。（略）本発明の多層膜垂直磁気記録媒体は、Ｍｒ＊やＫｕが大きいため、比較的薄い記録膜でも高い記録磁化が得られ、高い再生出力を得ることができる。また
Ｋｕを大きくできるため、磁気記録したときに逆磁区の発生領域を減少でき、その結果再生ノイズも低下できる。さらには記録磁区の境界が鋭く形成でき、高密度の磁気記録が可能である
　（ケ）「【００４６】〔実施例２〕第１磁性膜３と第２磁性膜５の膜厚をδａ＝δｂ＝５０ｎｍに設定し、第１磁性膜３としてＣｏ−１７ａｔ％Ｃｒ−４ａｔ％Ｔａ、第２磁性膜としてＣｏ−１０ａｔ％Ｃｒ−１５ａｔ％Ｐｔ系磁性膜、非磁性中間層としてＰｔを用い、図１（ａ）の構成の多層膜を形成した。
【００４７】本実施例の多層膜の場合、（ａ２−ａ１）／ａ１＝０．０２５、Ｋｕａ＝０．９×１０６ｅｒｇ／ｃｃ、
Ｋｕ
ｂ
＝３×１０
６
ｅｒｇ／ｃｃ
δ
ａ
：δ
ｂ
を１：３〜３：１の間で変化させても同じ効果が得られた
　
２．対比判断
（１）対比
　本願発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　上記１で摘示した記載事項、特に（ア）（イ）（ウ）（ケ）（下線部参照）によれば、引用例１には、
　「磁性膜の構造制御用の下地層の上に少なくとも２層からなる磁性膜を非磁性中間層を介して積層した構造を有する磁気記録媒体であって、
　磁気記録媒体の磁化容易方向の磁化−磁界曲線において、飽和磁化（Ｍｓ）と反磁界補正を加えない残留磁化（Ｍｒ）がＭｒ／Ｍｓ≧０．８の関係を有し、磁界の強さを保磁力で規格化し、磁化を飽和磁化で規格化した磁化−磁界曲線において、磁化ゼロの点を通過する曲線の接線と規格化磁界軸のなす角（θ）が３５°≦θ≦９０°の範囲にあり、
　基板面に対して垂直の方向に実効的な磁化容易軸を有し、
　基板に近い側の磁性膜ａの磁気異方性定数Ｋｕａと基板から遠い側の磁性膜ｂの磁気異方性定数ＫｕｂとがＫｕｂ≧Ｋｕａの関係を有し、
　上記磁性膜ａと上記磁性膜ｂの膜厚比が１：３〜３：１である、垂直磁気記録媒体。」
　の発明が記載されている。
　
　引用例１に記載された発明の「基板に近い側の磁性膜ａ」「基板から遠い側の磁性膜ｂ」は、それぞれ本願発明の「基板面に近い側の磁性膜」「基板から遠い側の磁性膜」に相当し、引用例１に記載された発明の「基板に近い側の磁性膜ａの磁気異方性定数Ｋｕａ」「基板から遠い側の磁性膜ｂの磁気異方性定数Ｋｕｂ」は、それぞれ「基板面に近い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕａ」「基板から遠い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕｂ」に相当している。
　引用例１に記載された発明は、「基板に近い側の磁性膜ａの磁気異方性定数Ｋｕａと基板から遠い側の磁性膜ｂの磁気異方性定数ＫｕｂとがＫｕｂ≧Ｋｕａの関係を有し」ていて、「Ｋｕｂ≧Ｋｕａの関係」とは「Ｋｕｂ＞Ｋｕａの関係」を含んでいるから、本願発明の「磁性膜の膜面垂直方向の磁気異方性定数が異なる磁性膜で構成されており、基板面に近い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕａに比べて、基板から遠い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕｂが大きく」に相当する構成を備えている。
　引用例１に記載された発明は、「下地層の上に少なくとも２層からなる磁性膜を非磁性中間層を介して積層した構造を有する磁気記録媒体」であるところ、本願発明も、その具体例として「基板面に近い側の磁性膜と基板から遠い側の磁性膜の間に非磁性層を形成してなること」（本願の請求項３）を含むものであり、引用例１に記載された発明と本願発明とは、「磁性膜が少なくとも２層以上の磁性膜で構成されて」いる点で共通している。
　そうすると、本願発明と引用例１に記載された発明との一致点及び相違点は以下のとおりである。
　（一致点）　「基板上に形成した磁性膜の磁化容易軸が基板面に垂直方向に配向した磁気記録媒体であって、
　該磁性膜が少なくとも２層以上の磁性膜で構成されており、
　該磁性膜の膜面垂直方向の磁気異方性定数が異なる磁性膜で構成されており、
　基板面に近い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕａに比べて、基板から遠い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕｂが大きい、垂直磁気記録媒体。」
　（相違点１）　「基板面に近い側の磁性膜」と「基板から遠い側の磁性膜」について、本願発明は、「Ｋｕｂは、５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きく」、「基板面に近い側の磁性膜の膜厚（ｔ１）が、基板から遠い側の磁性膜の膜厚（ｔ２）に比べて大きい（ｔ１＞ｔ２）こと」と特定しているのに対して、引用例１に記載された発明は、そのように特定していない点。
　
（２）相違点１についての判断
　「基板面に近い側の磁性膜」と「基板から遠い側の磁性膜」の膜厚について、引用例１に記載された発明では、膜厚比が１：３〜３：１が示され、また具体例として、同じ膜厚の場合に加えて「１：３〜３：１の間で変化させても同じ効果が得られた。」（上記（ケ）参照）と記載されている。してみれば、本願発明の「基板面に近い側の磁性膜の膜厚（ｔ１）が、基板から遠い側の磁性膜の膜厚（ｔ２）に比べて大きい（ｔ１＞ｔ２）こと」は、引用例１に記載された発明の一例として示されているのであるから、本願発明と引用例１に記載された発明とは、２つの磁性膜の膜厚の大小関係において格別相違しないものである。
　また、引用例１に記載された発明において、基板から遠い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕｂを、基板面に近い側の磁性膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕａに比べて大きくすることにより、逆磁区の発生を抑止する作用効果があることが示され（上記（エ）（キ）参照）、かつ、引用例１には、垂直磁気記録媒体でＫｕを大きくすると、磁気記録したときに逆磁区の発生領域を減少でき、その結果再生ノイズも低下でき、記録磁区の境界が鋭く形成でき、高密度の磁気記録が可能であることが記載されている（上記（ク）参照）のであるから、引用例１においてＫｕｂをより大きくすれば良いという傾向が示されているといえる。そうすると、引用例１におけるＫｕｂの例示のＫｕｂ＝３×１０６ｅｒｇ／ｃｃ（上記（キ）（ケ）、実施例１及び２参照）よりさらに大きいＫｕｂの磁性膜を用いることは当業者が必要に応じ適宜なし得ることであり、また「５×１０６ｅｒｇ／ｃｃより大きく」と下限を限定することに格別の臨界的意義があるものでもない。
　そして、上記相違点１を総合的に検討しても、本願発明の効果は、引用例１に記載された発明から予測される範囲内であるので、上記相違点１に格別の困難性を要したものではない。
　
第４　補正後の発明についての検討
　なお、平成１８年４月２７日付け手続補正が、誤記の訂正を目的とするものに仮に該当しているとするとき、補正後における特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定される発明（以下「補正後の発明」という。）が特許を受けることができるものであるのかどうかについて以下検討する。
　
１．補正後の発明
　補正後の発明は、上記「第２の１の（ｂ）」のとおりである。
　
２．引用例
　引用例１には、上記「第３の１（１）」のとおりの事項が記載されている。
　
３．対比判断
　補正後の発明は、「５×１０６ｅｒｇ／ｃｃ
以上
　そうすると、本願発明が、上記「第３の２」に記載したとおり、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、補正後の発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　よって、補正後の発明も、特許を受けることができないものである。
　
第５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。