【事件の表示】
　平成１１年特許願第２９２２０４号「廃棄物処理装置及び廃棄物処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　４月２７日出願公開、特開２００１−１１６２３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１１年１０月１４日の出願であって、平成１８年　５月　１日付けで拒絶査定がなされ（平成１８年　５月　９日発送）、これに対し、同年　６月　８日に審判請求がなされるとともに、同年　７月１０日付けで手続補正がなされた（この平成１８年　７月１０日付けの手続補正は、補正の却下の決定により却下された。）。
　そして、当審において、新たに、平成２０年　２月　５日付けで拒絶の理由を通知（同月１２日発送）し、これに対して、平成２０年　４月　９日に手続補正がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願発明は、平成２０年　４月　９日付けの手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるものである（以下「本願発明」という。）。
　　
「廃棄物を燃焼させた後に燃焼排ガスの処理をする廃棄物処理装置において、
　ボイラ出口に２５０〜６００℃の温度の燃焼排ガスを集じんするハニカム式のセラミックフィルター式集じん装置を配置し、
　前記セラミックフィルター式集じん装置出口に触媒反応塔を配置し、
　前記触媒反応塔の出口にフィンチューブ式またはプレート式の節炭器を配置したことを特徴とする廃棄物処理装置。」
　
３．引用例
　当審における拒絶理由通知において示した、特開平１０−１６５７４２号公報（以下「引用例」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　　　
ア「【特許請求の範囲】
【請求項１】廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処理方法において、該排ガスをダイオキシン合成温度領域外の高温で集塵処理し、排ガス中のダスト、重金属類を除去後に、該排ガスを熱回収処理及び／又は浄化処理することを特徴とする燃焼排ガスの処理方法。
【請求項２】　前記ダイオキシン合成温度領域外の高温が、６００℃前後であることを特徴とする請求項１記載の燃焼排ガスの処理方法。
【請求項３】　前記浄化処理が、低温での集塵処理、添加剤を添加後の集塵処理、及び触媒によるダイオキシン分解及び脱硝処理から選ばれた一種以上の処理であることを特徴とする請求項１又は２記載の燃焼排ガスの処理方法。・・・（中略）・・・
【請求項５】　廃棄物燃焼施設からの燃焼排ガスの処理装置において、該排ガスをダイオキシン合成温度領域外の高温で集塵する集塵装置と、熱回収装置及び／又は排ガス浄化装置とを順次接続して設けたことを特徴とする燃焼排ガスの処理装置。
【請求項６】　前記高温集塵装置が、サイクロン集塵機又はセラミックフィルタであることを特徴とする請求項５記載の燃焼排ガスの処理装置。」（特許請求の範囲【請求項１】〜【請求項３】、【請求項５】、【請求項６】）　　
イ「【発明の属する技術分野】本発明は、燃焼排ガスの処理に係り、特に、廃棄物燃焼ボイラ及び燃焼炉の燃焼排ガス中のダイオキシンの生成を減少させる燃焼排ガスの処理方法と装置に関する。」（段落【０００１】）
　　　
ウ「また、燃焼排ガスは、冷却過程（廃熱回収過程）で、ダスト中の物質及び構成材料の触媒作用によって、ダイオキシンが再合成されるので、触媒処理前のダイオキシン濃度は高く、例えば１８０〜２３０℃の低温領域の分解触媒では触媒での分解効率を上げても、規定値以下にダイオキシン濃度を下げるのが困難であった。
　そして、ダイオキシン合成は、２５０℃〜６００℃の温度範囲で行われることが公知であり、ダスト中の触媒金属によって合成されることも確認（実証）されている。」（段落【０００４】）
　　
エ「【発明の実施の形態】上記のように、本発明では、ダイオキシン合成温度以上の個所、又はその近くの温度領域に高温集塵装置を設置し、ダイオキシン合成の触媒となる物質（金属、ダスト）及びダイオキシン前駆体と結合した物質を捕集して、ダイオキシン合成温度領域でのダイオキシン合成を極力防止するものである。」（段落【０００８】）
　　　
オ「図３においては、・・・（中略）・・・。また、後段に、熱交換器又は空気予熱器３’を設けているが、・・・。図４においては、図１の高温集塵装置の後流側に触媒によって構成されるダイオキシン分解及び脱硝装置５を設置するものである。」（段落【００１１】、【００１２】）
　　
　上記ア〜オの記載及び図面によると、引用例には、次の発明が記載されている。
「廃棄物を燃焼させた後に燃焼排ガスを処理する燃焼排ガスの処理装置において、ボイラ１後流のダイオキシン合成温度以上の個所、又はその近くの温度領域に、セラミックフィルタである高温集塵装置２を配置し、その後流に脱硝装置５を配置し、その後流に熱交換器３’を配置した燃焼排ガスの処理装置」（以下「引用発明」という。）
　
４．対比・判断
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「燃焼排ガスの処理装置」は本願発明の「廃棄物処理装置」に相当し、以下同様に「セラミックフィルタである高温集塵装置２」は「セラミックフィルター式集じん装置」に、「後流に」は「出口に」に、「脱硝装置５」は「触媒反応塔」に、それぞれ相当する。そして、本願発明の「節炭器」も、引用発明と同様、「熱交換器」である点で共通している。
　
　したがって、両者は、
「廃棄物を燃焼させた後に燃焼排ガスの処理をする廃棄物処理装置において、
　ボイラ出口に所定温度の燃焼排ガスを集じんするセラミックフィルター式集じん装置を配置し、
　前記セラミックフィルター式集じん装置出口に触媒反応塔を配置し、前記触媒反応塔の出口に熱交換器を配置した廃棄物処理装置。」
　の点で一致し、
　次の１〜３点で相違している。
　　
［相違点１］
　本願発明では、ボイラ出口に「２５０〜６００℃の温度の」燃焼排ガスを集塵するセラミックフィルター式集塵装置を配置するのに対し、引用発明では、ボイラ出口に「ダイオキシン合成温度以上の個所、又はその近くの温度領域の」燃焼排ガスを集塵するセラミックフィルター式集じん装置を配置する点。
　
［相違点２］
　本願発明では、セラミックフィルター式集じん装置がハニカム式であるのに対し、引用発明１では、当該事項は不明である点。
　
［相違点３］
　本願発明では、触媒反応塔の出口に配置する熱交換器がフィンチューブ式またはプレート式の節炭器であるのに対し、引用発明では、当該事項は不明である点。
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　　　
　まず、相違点１について検討する。
　前記のとおり、引用例には、ダイオキシン合成温度として「６００℃前後」との温度領域が示されている（「３．ア」）。
　「６００℃前後」とは、字義どおり解釈すると、６００℃より低い温度を含むものであり、引用発明は、その近くの温度領域の燃焼排ガスを集塵するものである。
　　　
　そして、ダイオキシン合成温度領域は、従来、幅を有するものであること、また、セラミックフィルターは、ダイオキシン合成温度領域内でも使用可能であることを勘案すると、ボイラ出口に「２５０〜６００℃の温度の」燃焼排ガスを集塵するセラミックフィルター式集塵装置を配置するものとした点は、当業者であれば、通常の創作能力を発揮することにより想到することができたものというべきである。
　
　次に、相違点２について検討する。
　当該技術分野において、セラミックフィルター式集じん装置をハニカム式とすることは、本願出願前周知の技術である（例えば、特開平１１−２３９７０６号公報参照。）。
　
　そうすると、引用発明において、セラミックフィルター式集じん装置をハニカム式とした点は、当業者であれば、周知技術に基づいて、容易に想到し得たことである。
　
　さらに、相違点３について検討する。
　触媒反応装置の出口に配置する熱交換器を節炭器とすることは、当該技術分野においては、良く知られた技術であり、また、節炭器をフィンチューブ式またはプレート式とすることも、本願出願前周知の技術である（例えば、特開平４−１３５０１４号公報、特開平５−１２６４８６号公報、実願昭６３−１４１３８号（実開平１−１１７４７２号）のマイクロフィルム参照）。
　
　そうすると、引用発明において、触媒反応塔の出口に配置する熱交換器をフィンチューブ式またはプレート式の節炭器とした点は、当業者であれば、引用発明２及び周知技術に基づいて、容易に想到し得たことである。
　
　そして、廃棄物の種類が多様であるのは、技術常識ともいえることであって、燃焼排ガス処理装置において、求められる利用の形態に応じて温度範囲、機器の形式を選択する程度のことは、当業者が通常試みる創作活動の範囲内のものであるというべきである。
　
　また、本願発明の奏する効果を全体としてみても、引用発明及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきである。
　よって、結論のとおり審決する。