【事件の表示】
　特願２００２−２８９５０１「分析装置及び分析方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月２２日出願公開、特開２００４−１２５５８２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年１０月２日の出願であって、平成１６年１２月７日付けで拒絶理由が通知され（発送日：同年１２月１５日）、その指定期間内である平成１７年２月１４日に意見書及び手続補正書が提出され、さらに、同年３月３１日付けで最後の拒絶理由が通知され（発送日：同年４月６日）、その指定期間内である同年６月６日に意見書及び手続補正書が提出されたが、この手続補正は、同年７月２１日付け補正の却下の決定により却下され（発送日：同年７月２７日）、同日付けで平成１７年３月３１日付けで通知された拒絶理由の理由によって拒絶査定がなされ（発送日：同年７月２７日）、これに対して同年８月２６日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年９月２６日付けで手続補正がなされ、これに対し平成１９年８月２２日付けで当審において拒絶理由が通知され（発送日：同年８月２９日）、その指定期間内である同年１０月２６日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　　
２．本願発明
　本願の請求項１〜６に係る発明は、平成１９年１０月２６日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明は次のとおりである（以下、「本願発明」という。）。 
　　 
「入射Ｘ線の光軸を中心とする回折角度２θ＝０．１°〜５°の小角度領域における散乱Ｘ線を検出できるＸ線小角散乱装置と、
　イオン交換膜試料から脱離する分子の質量数を測定できる質量分析装置と、
　前記Ｘ線小角散乱装置と前記質量分析装置とに共通する試料位置に前記試料を支持する試料支持手段と、
　前記試料の温度を制御する試料温度制御手段と、
　前記Ｘ線小角散乱装置を用いた測定と前記質量分析装置を用いた測定とを同時に行うように制御する制御手段とを有し、
　前記Ｘ線小角散乱装置は、Ｘ線を発生するＸ線源と、該Ｘ線源と前記試料との間に配置されＸ線を１点に集光させることができるＸ線集光手段と、前記試料から出たＸ線を平面領域内で受光してその平面領域内の各点においてＸ線を検出できる２次元Ｘ線検出器とを有し、
　前記Ｘ線集光手段は、Ｘ線を反射又は回折できる材料を多数層重ねることによって形成された多層膜ミラーを２つ以上有すると共に該多層膜ミラーはＸ線を１点に集光させるように配置されており、
　前記試料支持手段は、前記Ｘ線小角散乱装置におけるＸ線照射位置に前記試料を置くと共に、前記試料から脱離する分子を不活性ガスであるキャリヤガスを用いて前記質量分析装置へ供給する
ことを特徴とする分析装置。」
　　
３．引用刊行物記載の発明
３−１．当審の拒絶理由に引用した、本願出願日前に頒布された刊行物である、引用刊行物１（Tim Fawcett，“Greater than the sum of its parts: A new instrument”，CHEMTECH，Ｖｏｌ．１７，Ｎｏ．９，１９８７年９月, ｐｐ．５６４−５６９）には、図面とともに次の事項が記載されている。
　　
（ア）「実験の設計 
発明での重大な設計は、回折と質量分析を実行する間に熱量計の完全な状態を保持することに集中させました。これは、些細な課題ではありません。商用の熱量計は正確な温度調節のために設計されています。それは、外部の大気および温度からサンプルを隔離するための高度に断熱密閉されたチャンバの中にサンプルが通常置かれることを意味します。他方では、X線の吸収および寄生する散乱を低下させるために、商用の回折計は、最低限の断熱及び開いたサンプル環境で設計されています。したがって、我々は、X線には比較的透明だが、サンプルの周囲の断熱環境を保持する材料を選ばなければなりませんでした。
　本発明は、さらに従来の熱量実験装置と同じ時間枠上のX線回折データを集めるために、位置検出器（PSDs）として一般的に良く知られている高速の複数位置X線回折検出器の現在の成果を利用しました。検出器の高い光子効率及び速度によって、シンクロトロン、ニュートロン或いは他の高いフラックスのＸ線源の代わりに、比較的安い従来の低出力のＸ線源を使用することができました。 
　実験装置は、ガスマニホルド、サンプルホルダ／熱量計、XRD分析システム、MSの４つのセクションに分割することができます（図1）。ガスマニホルドは、３つのガスの混合気を混合することができるように設計されています。これによって、不活性な条件下、酸化条件下、或いは還元条件下での実験が行われることを可能にします。実験は、窒素、ヘリウム、空気、酸素、水素及びこれらガスの混合ガス中で行われました。雰囲気の制御は、実験者に、ポリマー中の溶融と再結晶、触媒中のか焼（calcination）と還元の進行のようなプロセスサイクルを模擬することを可能にします。 
　サンプルホルダ／熱量計は注文設計で、そのため、X線がサンプルに衝突でき、密封されたチャンバから回折することができるようになっています。コンピュータ化されたDSCデータ収集及び熱量計制御は、分析者に、いかなるプログラム可能な加熱速度、検査時間、或いは、多ステップの複雑な加熱／冷却プログラムの選択（またしてもプロセス化学を模擬すること。）も与えます。装置は、０．１℃の炉温度の制御で、室温から６００℃までの範囲を難なく有しています。 
　XRDシステムでは、X線は単色で、Kα１Ｘ線だけがサンプルに衝突し、高解像度の回折像を提供することになります。さらに、短い収束径（１１４mm）は、銅の放射線を使用する場合、商用のPSDが２θで２５−３０度の角度範囲をカバーすることを可能にします（3-6）。サンプル及び検出器だけが焦点円上にあるので、収束光学系は寄生散乱からの妨害を大幅に縮小します。広い２θ範囲は、検出器が一回の分析の間に走査する必要がないことを意味し、それにより、PSDを使用した他のシステムに比較してさえ分析回数が減少します。 
　PSDと電子機器は図１に概略図として示されています。機器の中でPSDを使用することのすさまじい利点は、Ｘ線データを実時間で、MSとDSCのデータと同じ時間枠において得ることができるということです。典型的には、データのスキャンは、必要とされるデータのタイプ、実験の長さ及びサンプルの結晶度に依存して、１５sから２０minまで集められます。データ収集のパラメータは対話式に変えることができます。或いは、データは、コンピュータ制御の下のプログラムされた間隔で集めて転送することができます。
　MSは、溶融石英の加熱された毛細管によってサンプルホルダに接続されます。これは機器の最新の部品で、ここに示された実験の内のいくつかだけがMSのデータを含むでしょう。質量分析装置は、最新の形態として、０−３００の質量範囲を持っています。 
　概略図に示されたように、データ出力の多くのソースがあります。実験の間に、リアルタイムのXRDのデータ、MSのデータ及びDSCのデータを見せるための３つの化合物を識別するために使用することができる、データ分析プログラムのXRDシリーズを概説します。」（第５６４頁下段の「実験の設計（Experimental design）」の欄） 
（イ）「我々は、雰囲気ガスの中で加熱される材料を完全に特徴付けることができるように、３つの強力な分析技術−示差走査熱量測定法（DSC）、X線回折（XRD）及び質量分析法（MS）−を組合せました。XRDの能力は、我々の反応室中の固相の構造について我々に教えます。MSは揮発物質をモニターします。そして、DSCは反応及び相転移熱化学について我々に教えます。現在まで、我々は、ポリマーの溶融挙動、銅触媒の還元のメカニズム及び調合薬の熱プロセスを研究するために装置一式を使用しました。 
　３つの技術が別々に実行される場合、結合した装置は分析に関していくつかの長所を持ちます。熱分析に影響する機器とサンプルの条件を考慮してください（表１）。個々の実験は、分析が比較される場合、大きな不一致を引き起こす場合がある異なるサンプル調整及び機器構成を通常要求します。 
　同時の分析は、分析者が、特定の構造、或いは化学過程のデータを観測された熱的事象に直接帰することを可能にします。同じ環境及びサンプルが３つの分析すべてに使用されるので、機器と試料調整の条件及びこれらに関連したエラーは、一定に保持されます。」（第５６４頁右上欄第１行〜第５６５頁左上欄第４行） 
（ウ）「ポリエチレンの溶融挙動 
　我々は、基本的な溶融特性を特徴付けるために、いくつかのポリエチレンの線形性及び密度を使用しました。さらに、我々は、結晶化動力学をみるために、結晶度対温度履歴及び時間研究を使用しました。 
　図２は、ポリエチレンの溶融／再結晶サイクルの典型的なDSC曲線を示します。吸熱性の事象は下向きを示し（負の流れ）、発熱性の事象は上向きを示します（正の流れ）。低い方の軌跡は、ポリエチレンの温度に対する溶融を概説し、その一方で高い方の軌跡は、ポリエチレンの冷却過程における溶融状態からの再結晶を示しています。２℃／分の加熱及び冷却の速度は、２３℃から１４０℃までで使用されました。ソフトウエアは、ユーザが単一のプログラム中の一連の可変温度及び速度を選択することを可能にし、これは、我々が複雑な作業条件を模擬することを可能にします。サンプルが加熱・冷却された一方、XRDスキャンは２分毎に得られました。このポリエチレンサンプルについては、実験の間に、およそ５５回のXRDスキャンが得られました。図３は、冷却サイクルにおける選択されたXRDスキャンを示します。それは、溶融からのポリエチレンの再結晶を示します。」（第５６５頁左欄第５行〜第５６６頁右欄第１行） 
（エ）「触媒の特徴 
　銅触媒は、多くの工業プロセスで使用されています。商用の触媒の前処理は、通常とても重要です。酸化と還元の前処理の組合せは、触媒の分散及び表面積を最適化し、潜在的な触媒毒を縮小することができます。これらは、次には、特別の触媒の選択性、集率及び寿命をコントロールします。 
　DSC/XRD/MSは、熱、構造及び化学組成を分析するために計量器具と雰囲気と熱制御を組み合わせるので、触媒の性質を研究するには理想的な機器です。 
　我々は、後の酸化を伴う急冷が後続する、２３℃から５００℃に温度を上昇させる間に、ヘリウム中に５％の水素を入れた還元雰囲気中における一連の商用の触媒の研究をしました（9）。これらの実験の目的は、触媒の還元行為間の違いを調査するとともに、触媒中の結晶子サイズと同様に、抑制剤の粒径の影響を比較することでした。 
　アルミナ触媒上の市販の銅の還元で、発熱の最大値は、重複する広い発熱に続く約２４０℃で現れます（図７）。図８におけるMSのデータは、サンプルからの水の放出と、その放出がDSCに示された熱流の振る舞いを模倣することを示しています。還元中に得られた選択されたXRDスキャンは、図９の中で示されます。５分間のXRDスキャンが２θが２９−５１度の領域で得られました。２℃／分の加熱速度、５分間のXRDスキャンで、各スキャンは１０℃の温度範囲を表します。示されるように、認められるサンプルの回折パターンは、黒銅鉱（CuO）のパターンによって支配されます。詳細な分析は、さらに支援として、結晶子サイズのγ-アルミナを示します。そのXRDデータは、我々が２８０−２９０℃の走査に目を向けるまで、著しくは変化しません。これらのデータの分析は、赤銅鉱中間生成物（Cu2O）の化成及び銅の金属相の最初の成長を示します。赤銅鉱種の中間生成物の寿命は、実験条件に応じて相当に変わり、遅い動力学条件（図９のトップのスキャン）の下でより容易に観察されます。一層の還元は、銅の金属相の成長及び焼鈍（結晶子サイズの増加）を伴う酸化物相を除去します。黒銅鉱の還元は、次のメカニズムを通ります。 
 　　　CuO＋H2→Cu2O＋H2O 
 　　　Cu2O＋H2→Cu（金属）＋H2O 
　XRDデータが２８０℃まで重要な変化を示さないのに対し、DSCとMSのデータが発熱反応がおよそ１６０℃で始まることを示すことに注目することは興味深い。同様のタイムラグは、DSC/XRD/MSの全ての実験で観測されました。XRDは集団固定法です。しかし、DSCとMSはより微量成分の分析技術です。回折信号を観測するために、十分な格子面が回折するべき位置に、サンプルに存在しなければなりません。還元と室温への冷却の後、サンプルは再酸化されました。図１０は、酸化中における選択された走査を示しています。室温における走査は、赤銅鉱と銅金属相の両者を示しています。精細に分割された状態の銅金属は、脱酸素剤と、水素が含まれた流れが止まると直ぐに形成された赤銅鉱です。そのデータは、銅の酸化から赤銅鉱、赤銅鉱から黒銅鉱を明白に示します。 
　同時のDSC/XRD/MSは、材料の熱的構造の振る舞いを研究するための強力なツールです。機器の正確な温度及び雰囲気コントロールの能力は、さらにそれをプラント・プロセスの分析及び最適化用のツールにします。機器のマルチ分析能力は、分析者が複雑なシステムをデコンヴォルーションすること、混合物における熱的構造の相互関係についての基本的な理解を得ることを可能にします。このシステムは、調合薬、ポリマー及び触媒を研究するために使用されましたが、これらのシステムに制限されるものではありません。」（第５６７頁右欄第５行〜第５６９頁左欄第６行） 
 　 
　これらの記載によると、引用刊行物１には次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
 　 
「２θが２５−３０度の角度範囲をカバーするＸ線回折装置と、
　サンプルから揮発する物質をモニターする質量分析装置と、
　Ｘ線がサンプルに衝突できるとともに、質量分析装置に接続されているサンプルホルダと、 
　サンプルの温度を制御するコンピュータと、 
　Ｘ線回折と質量分析を同時に行うように制御するコンピュータとを有し、
　Ｘ線回折装置が、Ｘ線源と、サンプルで回折したＸ線を検出する位置検出器とを有し、 
　サンプルの雰囲気を窒素、ヘリウム、空気、酸素、水素及びこれらの混合ガスにできる実験装置。」 
 　 
３−２．当審の拒絶理由に引用した、本願出願日前に頒布された刊行物である引用刊行物２（特開２００１−３５６１９７号公報）には、「小角散乱測定用のＸ線光学装置と多層膜ミラー」に関する発明が記載されており、図面とともに次の事項が記載されている。  
　　
（ア）「【０００１】 
【発明の属する技術分野】本発明は、物質の小角散乱測定に用いられ、Ｘ線源から放射されたＸ線を試料に収束させるためのＸ線光学装置と多層膜ミラーに関する。
【０００２】 
【従来の技術】物質によっては、Ｘ線を照射したときに入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域（例えば、０゜〜５゜程度）の角度領域において、散乱Ｘ線を発生することがある。 
【０００３】例えば、物質中に１０〜１０００Å程度の微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の不均一な領域が存在すると、Ｘ線の入射方向に散漫な散乱、いわゆる中心散乱が生じる。この中心散乱は粒子の内部構造には無関係で粒子が小さいほど広がる。この散乱は、結晶質あるいは非晶質に関わらず存在し、散乱角すなわち入射Ｘ線の光軸からの角度が０゜〜５゜程度の小角度領域で観測される。 
【０００４】また、小角度領域には上記の中心散乱の他に、蛋白質の結晶のように格子面間隔が非常に大きい場合や、繊維試料で結晶質と非晶質とが周期的に並んだ、いわゆる長周期構造の場合のＸ線回折などが観測される。 
【０００５】以上のような中心散乱及びＸ線回折を含め、小角度領域において観測されるＸ線は、一般に小角散乱と呼ばれており、この小角散乱を測定することにより、試料に関する種々の特性を判定することができる。」 
（イ）「【００２１】 
【発明の実施の形態】以下、この発明の最適な実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の実施形態に係る小角散乱測定用光学装置の構成図である。図１に示すように、本実施形態の小角散乱測定用光学装置は、Ｘ線源２、多層膜ミラー１、第１，第２，第３のスリット４，５，６を備えている。Ｘ線源２は、ポイント状の焦点からＸ線を放射する高出力のＸ線発生器を用いている。多層膜ミラー１は、互いに直交する第１反射部１ａと第２反射部１ｂによって構成されている。 
【００２２】本実施形態で用いる第１，第２反射部１ａ，１ｂは、それぞれ図４に示すように、基板１０の表面に原子番号の大きな物質（例えば、タングステンＷや白金Ｐｔ）の層１１と、原子番号の小さな物質（例えば、炭素Ｃや珪素Ｓｉ）での層１２を交互に積層した多層膜構造を有している。各層１１，１２の厚さは、数ｎｍから数１０ｎｍで、周期が１００〜２００層に形成してある。また、各層１１，１２でのＸ線の屈折による影響を考慮して、各層１１，１２の表面はそれぞれ基板１０の表面に対して所定の傾き角を設定してある。さらに、各反射部１ａ，１ｂは、反射Ｘ線を一点に収束させるために同一の楕円面状に湾曲形成してある。」 
（ウ）「【００２７】試料Ｓは、多層膜ミラー１からの反射Ｘ線ｂの収束点（焦点Ｂ）に配置することが好ましく、その下流にＸ線検出器３が設置されている。Ｘ線検出器３としては、試料Ｓから発散された小角散乱Ｘ線を広い範囲にわたって検出できるように、イメージングプレート（ＩＰ）を用いている。」
　　
　これらの記載によると、引用刊行物２には次の発明が記載されているものと認められる。
　　
「試料に衝突したＸ線が試料で散乱し回折したＸ線を検出するＸ線散乱装置として、散乱角が０°〜５°程度の小角度領域における散乱Ｘ線を検出できるＸ線小角散乱装置であって、Ｘ線源と試料との間に配置され、それぞれがＸ線を反射できる材料を多数層重ねることによって形成された第１反射部と第２反射部によって構成され、Ｘ線を１点に集光させることができる多層膜ミラーと、試料から出たＸ線を受光してＸ線を検出できるイメージングプレートを有したＸ線小角散乱装置。」
　　　
３−３．当審の拒絶理由に引用した、本願出願日前に頒布された刊行物である引用刊行物３（特開平４−９５８６９号公報）には、「発生気体分析機能を備えた熱分析装置」に関する発明が記載されており、図面とともに次の事項が記載されている。 
　　
（ア）「ガス供給管２２は、比較的分子量の小さいガス、例えばヘリウム（Ｈｅ）ガスを吸気ポート２０ａを介してキャリヤガスとして分岐管２０内へ送り込む。送り込まれたキャリヤガスは、上記の間隙Ｇを通って下方へ流れ、保護管３の上部よりその保護管３内へ流れ込む。密封部材２１があるためキャリヤガスは図の上方へは流れない。 
　保護管３内に配置された試料１０が温度変化する際、試料１０の性質に応じてその試料１０から気体が発生することは既に述べた通りである。この発生気体は、保護管３内に送り込まれた上記のキャリヤガスによって毛細ガラス管１４内へ送り込まれる。その後、発生気体は、キャリヤガスによって毛細ガラス管１４内を搬送され、第１図に示した質量分析装置２へ送り込まれる。」（第４頁左上欄第１２行〜同頁右上欄第６行） 
 　 
３−４．当審の拒絶理由に引用した、本願出願日前に頒布された刊行物である引用刊行物４（特開平１０−２６６０６号公報）には、「金属粉末成形方法のための脱脂燒結状態監視方法並びに金属粉末成形方法のための脱脂燒結条件シミュレーション方法及び装置」に関する発明が記載されており、図面とともに次の事項が記載されている。 
　　
（ア）「【００２０】熱分析装置１によって一次成形品８の経時的な重量変化（ＴＧ）及び経時的な温度差変化（ＤＴＡ）が測定される間、一次成形品８からガスが発生すると、そのガスは保護管１５の上端に設けたガス導入口１８から導入されたキャリヤガス、例えばヘリウムガスによって搬送され、ガス排出管１７を通って切換弁２３へ運ばれる。切換弁２３がダイレクトモードに設定されていると、ガスは質量分析計４へ直接搬送される。切換弁２３がトラップモードに設定されていると、ガスはガスサンプラ２へ搬送される。」 
 　 
４．対比  
　本願発明と引用発明１とを対比する。 
　まず、引用発明１の(a)「サンプル」が本願発明の(a')「試料」に相当することは明らかである。 
　引用発明１の(b)「Ｘ線回折装置」と、本願発明の(b')「Ｘ線小角散乱装置」は、ともに試料に衝突したＸ線が試料で散乱し回折したＸ線を検出するＸ線散乱装置であり、引用発明１の(c)「２θ」は、本願発明の(c')「入射Ｘ線の光軸を中心とする回折角度２θ」に相当するから、両者は、「入射Ｘ線の光軸を中心とする回折角度２θの領域における散乱Ｘ線を検出できるＸ線散乱装置」である点で共通する。 
　また、引用発明１の(d)「サンプルから揮発する物質をモニターする質量分析装置」は、本願発明の(d')「試料から脱離する分子の質量数を測定できる質量分析装置」に相当し、引用発明１の(e)「Ｘ線がサンプルに衝突できるとともに、質量分析装置に接続されているサンプルホルダ」は、サンプルホルダに支持されているサンプルについてＸ線回折と質量分析を行うためのものであって、Ｘ線散乱装置におけるＸ線照射位置にサンプルを置くものであるから、引用発明１の(e)「サンプルホルダ」と本願発明の(e')「試料支持手段」とは、「Ｘ線散乱装置と質量分析装置とに共通する試料位置に試料を支持する試料支持手段」である点、及び「試料支持手段は、Ｘ線散乱装置におけるＸ線照射位置に試料を置く」点で共通する。 
　また、その機能からみて、引用発明１の(f)「サンプルの温度を制御するコンピュータ」は、本願発明の(f')「前記試料の温度を制御する試料温度制御手段」に相当し、引用発明１の(g)「Ｘ線回折と質量分析を同時に行うように制御するコンピュータ」と、本願発明の(g')「制御手段」とは、「Ｘ線散乱装置を用いた測定と質量分析装置を用いた測定とを同時に行うように制御する制御手段」である点で共通する。 
　また、Ｘ線散乱装置に関して、引用発明１の「Ｘ線回折装置」の(h)「Ｘ線源」、(i)「サンプルで回折したＸ線を検出する位置検出器」は、それぞれ本願発明の(h')「Ｘ線を発生するＸ線源」、(i')「試料から出たＸ線を・・・受光して・・・Ｘ線を検出できる・・・Ｘ線検出器」に相当する。 
　そして、引用発明１においては「サンプルの雰囲気を窒素、ヘリウム、空気、酸素、水素及びこれらの混合ガスにできる」ようになっているが、窒素、ヘリウムは不活性ガスとして周知のものであって、本願発明と引用発明１とは、不活性ガスを試料の周囲に供給する点で一致している。 
　したがって、本願発明と引用発明１とは、 
　
 ＜一致点＞ 
「入射Ｘ線の光軸を中心とする回折角度２θの領域における散乱Ｘ線を検出できるＸ線散乱装置と、 
　試料から脱離する分子の質量数を測定できる質量分析装置と、 
　前記Ｘ線散乱装置と前記質量分析装置とに共通する試料位置に前記試料を支持する試料支持手段と、 
　前記試料の温度を制御する試料温度制御手段と、 
　前記Ｘ線散乱装置を用いた測定と前記質量分析装置を用いた測定とを同時に行うように制御する制御手段とを有し、 
　前記Ｘ線散乱装置は、Ｘ線を発生するＸ線源と、前記試料から出たＸ線を受光してＸ線を検出できるＸ線検出器とを有し、 
　前記試料支持手段は、前記Ｘ線散乱装置におけるＸ線照射位置に前記試料を置くと共に、前記試料の周囲に不活性ガスを供給する分析装置」 
である点で一致し、次の点で相違する。 
 　 
 ＜相違点１＞
　本願発明は、試料が「イオン交換膜」であるのに対し、引用刊行物１には、試料の具体例として、ポリマー（ポリエチレン）、銅触媒、調合薬が記載されているが、「イオン交換膜」の記載はない点。
 ＜相違点２＞ 
　Ｘ線散乱装置が、本願発明は、回折角度２θ＝０．１°〜５°の小角度領域における散乱Ｘ線を検出できるＸ線小角散乱装置であって、該Ｘ線小角散乱装置が、Ｘ線源と試料との間に配置され、Ｘ線を反射又は回折できる材料を多数層重ねることによって形成された多層膜ミラーを２つ以上有すると共に該多層膜ミラーはＸ線を１点に集光させるように配置されたＸ線集光手段と、試料から出たＸ線を平面領域内で受光してその平面領域内の各点においてＸ線を検出できる２次元Ｘ線検出器とを有するのに対し、引用発明１は、回折角度２θ＝２５°〜３０°の領域における散乱Ｘ線を検出するＸ線散乱装置であって、Ｘ線散乱装置はこのようなＸ線集光手段と２次元Ｘ線検出器を有していない点。 
 ＜相違点３＞ 
　本願発明は、試料の周囲に供給される不活性ガスがキャリヤガスであって、試料から脱離する分子を該キャリヤガスを用いて質量分析装置ヘ供給するのに対し、引用刊行物１には試料の周囲に供給される不活性ガスをキャリヤガスとして用いることの記載はない点。 
　　
５．判断
　上記相違点１，２，３について検討する。
 ＜相違点１について＞
　引用刊行物１には、Ｘ線回折と質量分析を同時に行う具体例としては、銅触媒の測定例しか記載されてはいないが、引用刊行物１に記載されたＸ線回折と質量分析を同時に行える実験装置自体は、「このシステムは、調合薬、ポリマー及び触媒を研究するために使用されましたが、これらのシステムに制限されるものではありません。」（第５６９頁右欄第４〜６行）と記載されてもいるとおり、測定試料を問わないものであり、何を測定試料とするかは、当業者が適宜設定し得る事項である。
　そして、当審の拒絶理由において指摘したとおり、イオン交換膜を加熱して、その発生ガスを質量分析測定すること（特開平１１−２０４１１９号公報の特に、段落【００１５】，【００１６】参照。）、イオン交換膜のＸ線小角散乱測定をすること（J.A. Elliott 他３名,“Interpretation of the Small-Angle X-ray Scattering from Swollen and Oriented Perfluorinated Ionomer Membranes”, Macromolecules, Vol.33, 2000年, pp.4161-4171）はいずれも公知であるから、引用発明１における試料を「イオン交換膜」とすることは、当業者が適宜なし得た事項である。 
 ＜相違点２について＞
　引用刊行物２には、試料に衝突したＸ線が試料で散乱し回折したＸ線を検出するＸ線散乱装置として、散乱角が０°〜５°程度の小角度領域における散乱Ｘ線を検出できるＸ線小角散乱装置であって、Ｘ線源と試料との間に配置され、それぞれがＸ線を反射できる材料を多数層重ねることによって形成された第１反射部と第２反射部によって構成され、Ｘ線を１点に集光させることができる多層膜ミラーと、試料から出たＸ線を受光してＸ線を検出できるイメージングプレートを有したＸ線小角散乱装置の発明が記載されており、ここで引用刊行物２記載のＸ線小角散乱装置の小角度領域における「散乱角」は本願発明の「回折角度２θ」に相当し、さらに「第１反射部と第２反射部」は本願発明の２つの「多層膜ミラー」に相当するから、引用発明１において、Ｘ線散乱装置として、当該引用刊行物２に記載されたＸ線小角散乱装置を採用して、本願発明のごとく構成することは、当業者が容易に想到し得たことである。 
　そして、上述のごとく、引用刊行物２記載のＸ線小角散乱装置の回折角度は２θ＝０°〜５°程度であり、「イメージングプレート」は、試料から出たＸ線を平面領域内で受光してその平面領域内の各点においてＸ線を検出できる２次元Ｘ線検出器であるから、このように構成したものが、回折角度２θ＝０．１°〜５°の小角度領域における散乱Ｘ線を検出でき、試料から出たＸ線を平面領域内で受光してその平面領域内の各点においてＸ線を検出できる２次元Ｘ線検出器を有したものとなることは明らかである。
 ＜相違点３について＞
　質量分析装置において、試料から発生したガスを不活性ガスであるキャリヤガスを用いて質量分析装置へ供給することは、例えば引用刊行物３（上記３−３．（ア）参照。）、引用刊行物４（上記３−４．（ア）参照。）にも記載されているとおり周知である。 
　よって、引用発明１において、該周知技術を採用して、試料の周囲に供給する不活性ガスを、試料から離脱する分子を質量分析装置に供給するためのキャリヤガスとして用いるように構成することは、当業者が容易に想到し得たことである。 
   　 
　そして、本願発明の作用効果も、引用刊行物１，２に記載された発明及び周知技術から、当業者であれば予想できる範囲のものである。  
　したがって、本願発明は、引用刊行物１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　 
６．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、請求項２〜６について論及するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。