(57)【要約】本発明は、リボ核酸Ｈ−ホスホネートモノマーの合成方法および本モノマーを用いたオリゴヌクレオチド合成の方法に関する。本発明は、ＲＮＡオリゴヌクレオチド合成に必要なリボヌクレオシドモノマーの２’位を選択的に保護し、かつ低コストで製造できるＨ−ホスホネ−トヌクレオシド誘導体の製造方法に関するものである。本発明では、わずかに反応性の違う２’位と３’位の水酸基を芳香族アシルハライドと低温で反応させることにより、２’位の選択的なエステル化を行い、それに続く、ワンポットでの３’位の水酸基をホスフィチル基により捕捉することで、アシル基の２’位と３’位の転移を引き起こさせないことを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の一般式
【化１】
2017221929.tif 000054
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を製造する方法であって、該方法は、
工程１
【化２】
2017221929.tif 000055
と
【化３】
2017221929.tif 000056
（式中、Ｘはハロゲン原子である）
とを反応させて、
【化４】
2017221929.tif 000057
を得る工程および
工程２
【化５】
2017221929.tif 000058
と
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
とを反応させて、
【化６】
2017221929.tif 000059
を得る工程
を含み、該工程１および該工程２は１つの反応容器内で行われる、方法。
【請求項２】
前記保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基は、
【化７】
2017221929.tif 000060
（式中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂおよびＲ３ｃは、それぞれ独立に、水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルキルアシル基、置換または非置換のアリールアシル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を示すか、またはＲ３ａおよびＲ３ｂが一緒になってアミジン型保護基を形成する基である）
からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アミジン型保護基は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基またはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ１は、置換または非置換のアリール基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記置換または非置換のアリール基は、フェニル基である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ヒドロキシ基の保護基は、エーテル系保護基、シリルエーテル系保護基、アセタール系保護基およびアシル系保護基からなる群から選択される保護基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記エーテル系保護基は、
【化８】
2017221929.tif 000061
（式中、Ｒ４ａ１、Ｒ４ａ２、Ｒ４ａ３、Ｒ４ａ４、Ｒ４ａ５、Ｒ４ｂ１、Ｒ４ｂ２、Ｒ４ｂ３、Ｒ４ｂ４、Ｒ４ｂ５、Ｒ４ｃ１、Ｒ４ｃ２、Ｒ４ｃ３、Ｒ４ｃ４およびＲ４ｃ５は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基および置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基からなる群から選択される基である。）である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルコキシ基である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記シリルエーテル系保護基は、
【化９】
2017221929.tif 000062
（式中、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅおよびＲ４ｆは、それぞれ独立に置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のアルケニル基からなる群から選択される基である。）である、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記置換または非置換のアルケニル基は、アリル基である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記シリルエーテル系保護基は、
【化１０】
2017221929.tif 000063
（式中、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈおよびＲ４ｉは、それぞれ独立に置換または非置換の炭化水素基、置換または非置換のシリル基および置換または非置換のシリルオキシアルキル基からなる群から選択される基である。）
である、請求項６に記載の方法。
【請求項１３】
前記シリル基は、１〜３個のアルキル基により置換される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記置換または非置換の炭化水素基は、置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルケニル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルキニル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のシクロアルケニル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換の直鎖または分枝アリールアルキル基からなる群から選択される基である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ハロアルキル基である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記直鎖または分枝ハロアルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
【化１１】
2017221929.tif 000064
（式中、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）と
【化１２】
2017221929.tif 000065
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｘはハロゲン原子である）と
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）と
を含む、以下の一般式
【化１３】
2017221929.tif 000066
（式中、各記号は前記と同意義である）
で示される化合物を製造するためのキット。
【請求項１８】
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
を含む、
以下の一般式
【化１４】
2017221929.tif 000067
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を選択的に製造するためのリン試薬。
【請求項１９】
以下の一般式
【化１５】
2017221929.tif 000068
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を選択的に製造するための、Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＲＮＡオリゴヌクレオチド合成に必要なリボヌクレオシドモノマーの２’位を選択的に保護し、かつ低コストで製造できるＨ−ホスホネ−トヌクレオシド誘導体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＲＮＡｉの発見以来、ＲＮＡオリゴヌクレオチドは、ｓｉＲＮＡを中心に医薬品への利用が期待され世界中で開発が進められている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本発明者らは、鋭意検討した結果、ＲＮＡモノマーの製造に必要なリン部分の導入のためのリン試薬としてホスファイトを用いることにより、リン試薬の残渣を容易に除去することができ取り扱いが格段に改善した合成法を開発した。【０００４】
本発明は、また、以下の項目を提供する。
（項目１）
以下の一般式
【化１】
2017221929.tif 000002
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を製造する方法であって、該方法は、
工程１
【化２】
2017221929.tif 000003
と
【化３】
2017221929.tif 000004
（式中、Ｘはハロゲン原子である）
とを反応させて、
【化４】
2017221929.tif 000005
を得る工程および
工程２
【化５】
2017221929.tif 000006
と
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
とを反応させて、
【化６】
2017221929.tif 000007
を得る工程
を含み、該工程１および該工程２は１つの反応容器内で行われる、方法。
（項目２）
前記保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基は、
【化７】
2017221929.tif 000008
（式中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂおよびＲ３ｃは、それぞれ独立に、水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルキルアシル基、置換または非置換のアリールアシル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を示すか、またはＲ３ａおよびＲ３ｂが一緒になってアミジン型保護基を形成する基である）
からなる群から選択される、上記項目に記載の方法。
（項目３）
前記アミジン型保護基は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基またはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目４）
Ｒ１は、置換または非置換のアリール基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目５）
前記置換または非置換のアリール基は、フェニル基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目６）
前記ヒドロキシ基の保護基は、エーテル系保護基、シリルエーテル系保護基、アセタール系保護基およびアシル系保護基からなる群から選択される保護基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目７）
前記エーテル系保護基は、
【化８】
2017221929.tif 000009
（式中、Ｒ４ａ１、Ｒ４ａ２、Ｒ４ａ３、Ｒ４ａ４、Ｒ４ａ５、Ｒ４ｂ１、Ｒ４ｂ２、Ｒ４ｂ３、Ｒ４ｂ４、Ｒ４ｂ５、Ｒ４ｃ１、Ｒ４ｃ２、Ｒ４ｃ３、Ｒ４ｃ４およびＲ４ｃ５は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基および置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基からなる群から選択される基である。）である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目８）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルコキシ基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目９）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１０）
前記シリルエーテル系保護基は、
【化９】
2017221929.tif 000010
（式中、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅおよびＲ４ｆは、それぞれ独立に置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のアルケニル基からなる群から選択される基である。）である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１１）
前記置換または非置換のアルケニル基は、アリル基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１２）
前記シリルエーテル系保護基は、
【化１０】
2017221929.tif 000011
（式中、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈおよびＲ４ｉは、それぞれ独立に置換または非置換の炭化水素基、置換または非置換のシリル基および置換または非置換のシリルオキシアルキル基からなる群から選択される基である。）
である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１３）
前記シリル基は、１〜３個のアルキル基により置換される、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１４）
前記置換または非置換の炭化水素基は、置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルケニル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルキニル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のシクロアルケニル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換の直鎖または分枝アリールアルキル基からなる群から選択される基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１５）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ハロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１６）
前記直鎖または分枝ハロアルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載の方法。
（項目１７）
【化１１】
2017221929.tif 000012
（式中、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）と
【化１２】
2017221929.tif 000013
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｘはハロゲン原子である）と
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）と
を含む、以下の一般式
【化１３】
2017221929.tif 000014
（式中、各記号は前記と同意義である）
で示される化合物を製造するためのキット。
（項目１８）
前記保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基は、
【化１４】
2017221929.tif 000015
（式中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂおよびＲ３ｃは、それぞれ独立に、水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルキルアシル基、置換または非置換のアリールアシル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を示すか、またはＲ３ａおよびＲ３ｂが一緒になってアミジン型保護基を形成する基である）
からなる群から選択される、上記項目に記載のキット。
（項目１９）
前記アミジン型保護基は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基またはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２０）
Ｒ１は、置換または非置換のアリール基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２１）
前記置換または非置換のアリール基は、フェニル基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２２）
前記ヒドロキシ基の保護基は、エーテル系保護基、シリルエーテル系保護基、アセタール系保護基およびアシル系保護基からなる群から選択される保護基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２３）
前記エーテル系保護基は、
【化１５】
2017221929.tif 000016
（式中、Ｒ４ａ１、Ｒ４ａ２、Ｒ４ａ３、Ｒ４ａ４、Ｒ４ａ５、Ｒ４ｂ１、Ｒ４ｂ２、Ｒ４ｂ３、Ｒ４ｂ４、Ｒ４ｂ５、Ｒ４ｃ１、Ｒ４ｃ２、Ｒ４ｃ３、Ｒ４ｃ４およびＲ４ｃ５は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基および置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基からなる群から選択される基である。）である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２４）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルコキシ基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２５）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２６）
前記シリルエーテル系保護基は、
【化１６】
2017221929.tif 000017
（式中、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅおよびＲ４ｆは、それぞれ独立に置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のアルケニル基からなる群から選択される基である。）である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２７）
前記置換または非置換のアルケニル基は、アリル基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２８）
前記シリルエーテル系保護基は、
【化１７】
2017221929.tif 000018
（式中、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈおよびＲ４ｉは、それぞれ独立に置換または非置換の炭化水素基、置換または非置換のシリル基および置換または非置換のシリルオキシアルキル基からなる群から選択される基である。）
である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目２９）
前記シリル基は、１〜３個のアルキル基により置換される、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目３０）
前記置換または非置換の炭化水素基は、置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルケニル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルキニル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のシクロアルケニル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換の直鎖または分枝アリールアルキル基からなる群から選択される基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目３１）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ハロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目３２）
前記直鎖または分枝ハロアルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載のキット。
（項目３３）
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
を含む、
以下の一般式
【化１８】
2017221929.tif 000019
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を選択的に製造するためのリン試薬。
（項目３４）
前記保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基は、
【化１９】
2017221929.tif 000020
（式中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂおよびＲ３ｃは、それぞれ独立に、水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルキルアシル基、置換または非置換のアリールアシル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を示すか、またはＲ３ａおよびＲ３ｂが一緒になってアミジン型保護基を形成する基である）
からなる群から選択される、上記項目に記載のリン試薬。
（項目３５）
前記アミジン型保護基は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基またはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目３６）
Ｒ１は、置換または非置換のアリール基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目３７）
前記置換または非置換のアリール基は、フェニル基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目３８）
前記ヒドロキシ基の保護基は、エーテル系保護基、シリルエーテル系保護基、アセタール系保護基およびアシル系保護基からなる群から選択される保護基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目３９）
前記エーテル系保護基は、
【化２０】
2017221929.tif 000021
（式中、Ｒ４ａ１、Ｒ４ａ２、Ｒ４ａ３、Ｒ４ａ４、Ｒ４ａ５、Ｒ４ｂ１、Ｒ４ｂ２、Ｒ４ｂ３、Ｒ４ｂ４、Ｒ４ｂ５、Ｒ４ｃ１、Ｒ４ｃ２、Ｒ４ｃ３、Ｒ４ｃ４およびＲ４ｃ５は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基および置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基からなる群から選択される基である。）である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４０）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルコキシ基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４１）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４２）
前記シリルエーテル系保護基は、
【化２１】
2017221929.tif 000022
（式中、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅおよびＲ４ｆは、それぞれ独立に置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のアルケニル基からなる群から選択される基である。）である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４３）
前記置換または非置換のアルケニル基は、アリル基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４４）
前記シリルエーテル系保護基は、
【化２２】
2017221929.tif 000023
（式中、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈおよびＲ４ｉは、それぞれ独立に置換または非置換の炭化水素基、置換または非置換のシリル基および置換または非置換のシリルオキシアルキル基からなる群から選択される基である。）
である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４５）
前記シリル基は、１〜３個のアルキル基により置換される、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４６）
前記置換または非置換の炭化水素基は、置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルケニル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルキニル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のシクロアルケニル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換の直鎖または分枝アリールアルキル基からなる群から選択される基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４７）
前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ハロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４８）
前記直鎖または分枝ハロアルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である、上記項目のいずれか１項に記載のリン試薬。
（項目４９）
以下の一般式
【化２２Ａ】
2017221929.tif 000024
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を選択的に製造するための、Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
の使用。【０００５】
本発明において、上記の一つまたは複数の特徴は、明示された組み合わせに加え、さらに組み合わせて提供され得ることが意図される。本発明のなおさらなる実施形態および利点は、必要に応じて以下の詳細な説明を読んで理解すれば、当業者に認識される。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、リボ核酸Ｈ−ホスホネートモノマーを低コストで製造することが可能になり、その結果としてＲＮＡを低コストで製造することが可能となった。本発明では、わずかに反応性の違う２’位と３’位の水酸基を芳香族アシルハライドと低温で反応させることにより、２’位の選択的なエステル化を行い、それに続く、ワンポットでの３’位の水酸基をホスフィチル基により捕捉することで、アシル基の２’位と３’位の転移を引き起こさせないことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、５’−ＨＯ−ｒＵ１９ｄＴ−３’−ＯＨのＬＣ−ＭＳ分析結果を示す。
【図２】図２は、５’−ＨＯ−ｒＵ３ｒＣｒＧｒＡｒＵ３ｄＴ−３’−ＯＨのＬＣ−ＭＳ分析結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明を最良の形態を示しながら説明する。本明細書の全体にわたり、単数形の表現は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。従って、単数形の冠詞（例えば、英語の場合は「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」など）は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当該分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用される全ての専門用語および科学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書（定義を含めて）が優先する。
【０００９】
（用語の定義）
本明細書における用語について以下に説明する。
【００１０】
本明細書において「置換」とは、有機化合物のある特定の水素原子をほかの原子あるいは原子団で置き換えることをいう。水素原子の代わりに導入された原子または原子団を「置換基」という。官能基はいずれも置換基とみなすことができる。置換基の例として、たとえば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基等が挙げられる。
【００１１】
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を包含する。
【００１２】
本明細書において「ヒドロキシ基」とは、−ＯＨで表される基をいう。
【００１３】
本明細書において「直鎖」である基とは、その基を構成する炭素が枝分かれなく環も作らずに、直線状に連なっている形状を有する基をいう。
【００１４】
本明細書において「分枝」である基とは、その基を構成する炭素原子に２個以上の炭素原子が結合している構造を有する基をいう。
【００１５】
本明細書において、Ｃ１、Ｃ２、、、Ｃｎは、炭素数を表す（ここで、ｎは任意の正の整数を示す。）。従って、Ｃ１は炭素数１個の置換基を表すために使用される。
【００１６】
本明細書において「アルキル基」とは、メタン、エタン、プロパンのような脂肪族炭化水素（アルカン）から水素原子が一つ失われて生ずる１価の基をいい、一般にＣｎＨ２ｎ＋１−で表される（ここで、ｎは正の整数である）。たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−へプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。本明細書において「置換アルキル基」とは、上記に規定する置換基によってアルキル基のＨが置換されたアルキル基をいう。
【００１７】
本明細書において「アルケニル基」とは、分子内に二重結合を一つ有する脂肪族炭化水素（アルケン）から水素原子が一つ失われて生ずる１価の基をいい、一般にＣｎＨ２ｎ−１−で表される（ここで、ｎは２以上の正の整数である）。たとえば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。「置換アルケニル基」とは、上記に規定する置換基によってアルケニル基のＨが置換されたアルケニル基をいう。
【００１８】
本明細書において「アリル基」とは、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−で表される基をいう。
【００１９】
本明細書において「アルキニル基」とは、分子内に三重結合を一つ有する脂肪族炭化水素（アルケン）から水素原子が一つ失われて生ずる１価の基をいい、一般にＣｎＨ２ｎ−３−で表される（ここで、ｎは２以上の正の整数である）。たとえば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。「置換アルキニル基」とは、上記に規定する置換基によってアルキニル基のＨが置換されたアルキニル基をいう。
【００２０】
本明細書において「シクロアルキル基」とは、環式構造を有するアルキルをいう。たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。「置換シクロアルキル基」とは、上記に規定する置換基によってシクロアルキルのＨが置換されたシクロアルキルをいう。
【００２１】
本明細書において「シクロアルケニル基」とは、環式構造を有するアルケニルをいう。たとえば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル、シクロノネニル、シクロデセニル等が挙げられる。「置換シクロアルキル基」とは、上記に規定する置換基によってシクロアルキルのＨが置換されたシクロアルキルをいう。
【００２２】
本明細書において「アリール基」とは、芳香族炭化水素の環に結合する水素原子が１個脱離して生ずる基をいう。ベンゼンからはフェニル基（Ｃ６Ｈ５−）、トルエンからはトリル基（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４−）、キシレンからはキシリル基（（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３−）、ナフタレンからはナフチル基（Ｃ１０Ｈ８−）、フェナントレンからはフェナントリル基（Ｃ１４Ｈ９−）、アントラセンからはアントラセニル基（Ｃ１４Ｈ９−）、テトラセンからはテトラセニル基（Ｃ１８Ｈ１１−）、クリセンからはクリセニル基（Ｃ１８Ｈ１１−）、ピレンからはピレニル基（Ｃ１８Ｈ１１−）、ベンゾピレンからは、ベンゾピレニル基（Ｃ２０Ｈ１１−）ペンタセンからはペンタセニル基（Ｃ２２Ｈ１３−）が誘導される。
【００２３】
本明細書において「ヘテロアリール基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、アリール基を意味する。２環以上のヘテロアリール基は、単環または２環以上のヘテロアリール基に、上記「アリール基」における環が縮合したものも包含する。
【００２４】
単環のヘテロアリール基としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。たとえば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
【００２５】
２環のヘテロアリール基としては、たとえば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
【００２６】
３環以上のヘテロアリール基としては、たとえば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。
【００２７】
本明細書において「アルコキシ基」とは、上記「アルキル基」が酸素原子に結合した基を意味する。たとえば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。
【００２８】
本明細書において「ハロアルキル基」とは、１以上の上記「ハロゲン原子」が上記「アルキル基」に結合した基を意味する。たとえば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，２−ジブロモエチル、１，１，１−トリフルオロプロパン−２−イル等が挙げられる。
【００２９】
本明細書において「ペルフルオロアルキル基」とはアルキル基の炭素に結合する水素のすべてまたは一部がフッ素で置換されたアルキル基をいう。
【００３０】
本明細書において「ペルフルオロアルコキシ基」とはアルコキシ基の炭素に結合する水素のすべてまたは一部がフッ素で置換されたアルコキシ基をいう。
【００３１】
本明細書において「アルキルアシル基」とは、上記「アルキル基」がカルボニル基に結合した基を意味する。たとえば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。
【００３２】
本明細書において「アリールアシル基」とは、上記「アリール基」がカルボニル基に結合した基を意味する。たとえば、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル、フェナントリルカルボニル、アントラセニルカルボニル等が挙げられる。
【００３３】
本明細書において「アリールアルキル基」とは、１以上の上記「アリール基」で置換されているアルキルを意味する。たとえば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピニル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル等が挙げられる。
【００３４】
本明細書において「シリル基」とは、上記「アルキル基」、「アルケニル基」、「アルキニル基」または「アリール基」３個がケイ素原子に結合している基を意味する。ここで３個のケイ素原子に結合している基は同一でも異なっていてもよい。たとえば、これに限定されるわけではないが、トリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＤＭＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）等が挙げられる。
【００３５】
本明細書において「シリルオキシアルキル基」とは、上記「シリル基」が酸素原子に結合した基である「シリルオキシ基」により上記「アルキル基」上の水素が置換された基を意味する。たとえば、これに限定されるわけではないが、トリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシブチル基等が挙げられる。
【００３６】
本明細書において「カチオン」とは、正電荷を持つイオンをいい、たとえば、これに限定されるわけではないが、水素イオン、４級アンモニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等が挙げられる。
【００３７】
本明細書において「３級アミン」とは、アンモニアの水素がすべて上記「アルキル基」または上記「アリール基」によって置換された化合物をいう。たとえば、これに限定されるわけではないが、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、トリプロピルアミン等が挙げられる。
【００３８】
本明細書において「核酸塩基」とは、核酸を構成する塩基成分をいい、たとえば、これに限定されるわけではないがアデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、シトシン（Ｃ）、チミン（Ｔ）、ウラシル（Ｕ）等が挙げられる。
【００３９】
本明細書において「オリゴマー」とは、低重合度の重合体をいい、オリゴマーの重合度は、これに限定されるわけではないが、２〜１００である。
【００４０】
本明細書において「保護基」とは、特定の化学反応から官能基を保護するために使用される基をさす。
【００４１】
ヒドロキシ基の保護基としては、これに限定されるわけではないがエーテル系保護基（メチル基（Ｍｅ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、ｔｅｒｔ−ブチル基（ｔ−Ｂｕ）、トリチル基（Ｔｒ）等）、シリルエーテル系保護基（トリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＤＭＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）等）、アセタール系保護基（メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、エトキシエチル基（ＥＥ）等）、アシル系保護基（アセチル基（Ａｃ）、ピバロイル基（Ｐｉｖ）、ベンゾイル基（Ｂｚ）等）等が挙げられる。
【００４２】
アミノ基の保護基としては、これに限定されるわけではないがカルバメート系保護基（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（Ｔｒｏｃ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｌｏｃ）等）、アミド系保護基（トリフルオロアセチル基等）、イミド系保護基（フタロイル基（Ｐｈｔ）等）、スルホンアミド系保護基（ｐ−トルエンスルホニル基（Ｔｓ）、２−ニトロベンゼンスルホニル基（Ｎｓ）等）、アミジン型保護基（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基等）等が挙げられる。
【００４３】
本明細書において「アミジン型保護基」とは、以下の一般式
【化２３】
2017221929.tif 000025
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に、水素、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基である）
で表される保護基であり、たとえば、これに限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基等が挙げられる。
【００４４】
本明細書において、「溶媒和」とは、溶質分子またはイオンをいくつかの溶媒分子がとりまいて一つの集団をつくる現象のことである。
【００４５】
本発明の化合物は、塩としても提供することができる。たとえば、有機塩基（トリエチルアミン等）との塩が挙げられる。特にトリエチルアミンとの塩が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。あるいは本発明の製造方法の条件によっては、化合物が塩として生成され得る（たとえば添加剤に由来するものである）。
【００４６】
本発明の化合物は、溶媒和物としても提供することができる。たとえば、水や３級アミンとの溶媒和物が挙げられる。このような溶媒和物は、通常行われる方法によって形成させることができる。あるいは本発明の製造方法の条件によっては、化合物が溶媒和物として生成され得る。さらに、上記化合物の塩が、溶媒和物として生成され得、提供され得る。
【００４７】
本明細書において、「反応容器」とは、化学物質の製造過程において化学反応を行わせる装置を意味し、たとえばこれに限定されるわけではないが、フラスコやビーカーなどが挙げられる。
【００４８】
本明細書において、「構成単位」とは、オリゴマーの基本構造の一部分を構成する原子または原子団を意味し、「モノマー」と同義で使用される。
【００４９】
（好ましい実施形態の説明）
以下に本発明の好ましい実施形態を説明する。以下に提供される実施形態は、本発明のよりよい理解のために提供されるものであり、本発明の範囲は以下の記載に限定されるべきでないことが理解される。従って、当業者は、本明細書中の記載を参酌して、本発明の範囲内で適宜改変を行うことができることは明らかである。また、本発明の以下の実施形態は単独でも使用されあるいはそれらを組み合わせて使用することができることが理解される。
【００５０】
１つの局面において、本発明は、以下の一般式
【化２４】
2017221929.tif 000026
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を製造する方法であって、該方法は、
工程１
【化２５】
2017221929.tif 000027
と
【化２６】
2017221929.tif 000028
（式中、Ｘはハロゲン原子である）
とを反応させて、
【化２７】
2017221929.tif 000029
を得る工程、および
工程２
【化２８】
2017221929.tif 000030
と
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）とを反応させて、
【化２９】
2017221929.tif 000031
を得る工程を含み、該工程１および該工程２は１つの反応容器内で行われる方法を提供する。
【００５１】
従来、２’位保護リボヌクレオシドモノマーを有機合成反応により選択的に得る場合、下式に示すように
【化３０】
2017221929.tif 000032
２’位のヒドロキシ基に保護基を導入した後にリン試薬を用いて３’位のヒドロキシ基にリン酸基を導入するという手法が知られている。上記合成を行う際、２’位のヒドロキシ基が保護された中間体（Ａ）と３’位のヒドロキシ基が保護された中間体（Ｂ）は平衡関係にあり、時間経過とともに中間体（Ａ）と中間体（Ｂ）のモル比が５０／５０になってしまうため、リン酸基を導入する反応を速やかに行う必要がある。そのため反応性が非常に高いリン試薬が用いる必要があった。
【００５２】
しかしながら、反応性が非常に高いリン試薬は通常毒性が高く、室温で不安定など取り扱いが困難である。またリン試薬によっては試薬残渣（たとえばリン酸）の除去が難しくカラムクロマトグラフィーの回数を増やす必要があるなど精製に手間がかかるという問題点があるものもある。
【００５３】
本発明ではリン試薬として比較的反応性が低いホスホネートを用いることにより、予想外に２’位のヒドロキシ基に保護基が選択的に導入されることおよびホスホネートの残渣は反応生成物から容易に取り除くことができるということを見出すことができた。さらにホスホネートの残渣を容易に取り除くことができるようになることから２’位保護リボヌクレオシドモノマーの純度も従来法に比べ向上した。
【００５４】
また従来の酵素を用いる方法と比較すると基質特異性が広いことからより多様な種類の２’位保護リボヌクレオシドモノマーを合成することができる。
【００５５】
１つの好ましい実施形態では、工程１は室温未満の低温で行われ、その時の反応温度は、これに限定されるわけではないが、−４０〜２０℃、−４０〜１５℃、−４０〜１０℃、−４０〜５℃、−４０〜０℃、−４０〜−１０℃、−４０〜−２０℃、−４０〜−３０℃、−３０〜２０℃、−２０〜２０℃、−１０〜２０℃、０〜２０℃、５〜２０℃であり、好ましくは−４０〜２０℃である。理論的に拘束されることを望まないが、塩基や溶媒によっては、中間体（Ａ）と中間体（Ｂ）の異性化反応が進行し、中間体（Ａ）と中間体（Ｂ）のモル比が５０／５０になってしまうからである。なお仮に室温以上で反応を行った場合であったとしても、短い時間(数時間)おいておく程度では、さほど異性化は起こらず、特定の条件（たとえば濃縮時）で室温以上においておくと上記異性化反応が進行することが判明している。また仮に異性化反応が進行したとしても、１０％程度までであれば、ホスホネート化後に精製で取り除くことが可能である為、許容可能である。
【００５６】
１つの好ましい実施形態では、工程２は工程１が終了した後１分以内、２分以内、３分以内、４分以内、５分以内、１０分以内、２０分以内、３０分以内、４０分以内、５０分以内、１時間以内、２時間以内、３時間以内、４時間以内に行われ、好ましくは１時間以内に行われる。工程１が終了したかどうかは、これに限定されるわけではないが薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）や液体クロマトグラフィーにより確認することができる。また、あらかじめ予備実験をしておき、工程１が終了する時間に目安がついている場合、工程１が終了したかどうかを確認することなく工程２を行うことができる。
【００５７】
１つの好ましい実施形態では、工程２を行う際の反応系中の温度は、これに限定されるわけではないが、−４０〜２５℃、−４０〜２０℃、−４０〜１０℃、−４０〜５℃、−４０〜０℃、−４０〜−１０℃、−４０〜−２０℃、−４０〜−３０℃、−３０〜２５℃、−２０〜２５℃、−１０〜２５℃、０〜２５℃、５〜２５℃、１０〜２５℃、２０〜２５℃、−３０〜２０℃、−２０〜２０℃、−１０〜２０℃、０〜２０℃、５〜２０℃、１０〜２０℃であり、好ましくは−２０〜２０℃である。
【００５８】
１つの好ましい実施形態では、工程２においてホスファイトを添加する前に塩基を添加することが好ましい。理論的に拘束されることを望まないが、工程１において添加した過剰量のアシルハライドをクエンチするためである。この際に添加する塩基はこれに限定されるわけではないが、ジメチルアミン塩酸塩が好ましい。塩基を添加後ホスファイトを添加するまでの時間は、これに限定されるわけではないが、３０分、１時間、２時間、３時間、４時間である。また塩基を添加する際の温度はこれに限定されるわけではないが、−４０℃〜室温、−４０〜３０℃、−４０〜２０℃、−４０〜１０℃、−４０〜５℃、−４０〜０℃、−４０〜−１０℃、−４０〜−２０℃、−４０〜−３０℃、−３０〜３０℃、−２０〜３０℃、−１０〜３０℃、０〜３０℃、５〜３０℃、１０〜３０℃、２０〜３０℃であり、好ましくは−４０℃〜室温、−４０〜０℃である。
【００５９】
本発明の反応により得られる生成物は精製前の純度についても従来の反応により得られるものよりも高いため、その後の精製も従来の反応により得られるものよりも容易に行うことができる。
【００６０】
１つの好ましい実施形態では、前記保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基は、
【化３１】
2017221929.tif 000033
（式中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂおよびＲ３ｃは、それぞれ独立に、水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルキルアシル基、置換または非置換のアリールアシル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を示すか、またはＲ３ａおよびＲ３ｂが一緒になってアミジン型保護基を形成する基である）からなる群から選択され、さらなる好ましい実施形態では、前記アミジン型保護基は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジノ基またはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミジノ基である。本発明の反応では、核酸塩基がプリン塩基のときだけでなく、ピリミジン塩基のときであっても２’位選択的に進行する。
【００６１】
１つの好ましい実施形態では、Ｒ１は、置換または非置換のアリール基であり、さらなる好ましい実施形態では、前記置換または非置換のアリール基は、フェニル基である。理論的に拘束されることを望まないが、工程１の反応の際に２’位選択的に反応が進行するようになるからである。
【００６２】
１つの好ましい実施形態では、前記ヒドロキシ基の保護基は、エーテル系保護基、シリルエーテル系保護基、アセタール系保護基およびアシル系保護基からなる群から選択される保護基である。いずれの保護基を用いても２’位選択的に反応は進行する。
【００６３】
さらなる好ましい実施形態では、前記エーテル系保護基は、
【化３２】
2017221929.tif 000034
（式中、Ｒ４ａ１、Ｒ４ａ２、Ｒ４ａ３、Ｒ４ａ４、Ｒ４ａ５、Ｒ４ｂ１、Ｒ４ｂ２、Ｒ４ｂ３、Ｒ４ｂ４、Ｒ４ｂ５、Ｒ４ｃ１、Ｒ４ｃ２、Ｒ４ｃ３、Ｒ４ｃ４およびＲ４ｃ５は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基および置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基からなる群から選択される基である。）である。理論的に拘束されることを望まないが、フェニル基上の置換基を変化させることによって脱離能を調整することができる。
【００６４】
さらなる好ましい実施形態では、前記置換または非置換の直鎖または分枝アルコキシ基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルコキシ基であり、また前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である。理論的に拘束されることを望まないが、脱保護した後の保護基と目的生成物とをフッ素含有溶媒を用いることにより簡便な分離・精製が可能となるからである。
【００６５】
さらなる好ましい実施形態では、前記シリルエーテル系保護基は、
【化３３】
2017221929.tif 000035
（式中、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅおよびＲ４ｆは、それぞれ独立に置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のアルケニル基からなる群から選択される基である。）である。さらなる好ましい実施形態では、前記置換または非置換のアルケニル基は、アリル基である。理論的に拘束されることを望まないが、ケイ素原子上の置換基を変化させることによって脱離能を調整することができる。
【００６６】
さらなる好ましい実施形態では、前記シリルエーテル系保護基は、
【化３４】
2017221929.tif 000036
（式中、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈおよびＲ４ｉは、それぞれ独立に置換または非置換の炭化水素基、置換または非置換のシリル基および置換または非置換のシリルオキシアルキル基からなる群から選択される基である。）であり、さらなる好ましい実施形態では、前記シリル基は、１〜３個のアルキル基により置換される。理論的に拘束されることを望まないが、置換基を変化させることによって脱離能を調整することができる。
【００６７】
さらなる好ましい実施形態では、前記置換または非置換の炭化水素基は、置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルケニル基、置換または非置換の直鎖または分枝アルキニル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のシクロアルケニル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換の直鎖または分枝アリールアルキル基からなる群から選択される基である。
【００６８】
さらなる好ましい実施形態では、前記置換または非置換の直鎖または分枝アルキル基は、直鎖または分枝ハロアルキル基であり、さらなる好ましい実施形態では、前記直鎖または分枝ハロアルキル基は、直鎖または分枝ペルフルオロアルキル基である。理論的に拘束されることを望まないが、脱保護した後の保護基と目的生成物とをフッ素含有溶媒を用いることにより簡便な分離・精製が可能となるからである。
【００６９】
１つの局面において、本発明は、
【化３５】
2017221929.tif 000037
（式中、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）と
【化３６】
2017221929.tif 000038
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｘはハロゲン原子である）と
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）と
を含む、以下の一般式
【化３７】
2017221929.tif 000039
（式中、各記号は前記と同意義である）
で示される化合物を製造するためのキットを提供する。理論的に拘束されることを望まないが、上記キットを用いて２’位保護リボヌクレオシドモノマーを合成する場合、精製の際にリン試薬の残渣を容易に除去することができるため、純度が高い２’位保護リボヌクレオシドモノマーをより容易に得ることができるからである。
【００７０】
１つの局面において、本発明は、
Ｐ（ＯＲ３）（ＯＲ３’）ＯＨ
（式中、Ｒ３およびＲ３’は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表す）
を含む、
以下の一般式
【化３８】
2017221929.tif 000040
（式中、Ｒ１は置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｒ２は水素原子またはヒドロキシ基の保護基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
で示される化合物もしくはその塩またはその溶媒和物を選択的に製造するためのリン試薬を提供する。理論的に拘束されることを望まないが、上記「選択的に製造する」とはＸ個の生成物ができると予想される場合に、反応生成物全体における目的生成物の割合が１／Ｘ以上または１／Ｘより大きいことを意味する。たとえば２個の生成物ができると予想される場合は、反応生成物全体における目的生成物の割合が５０％（＝１／２）以上または５０％より大きいことを意味し、好ましくは５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、９９．１％、９９．２％、９９．３％、９９．４％、９９．５％、９９．６％、９９．７％、９９．８％、９９．９％以上またはそれより大きいことをいう。
【００７１】
リボ核酸Ｈ−ホスホネートモノマーの一般合成方法
【化３９】
2017221929.tif 000041
（上記スキーム中、ＰＧ１およびＰＧ２は任意のヒドロキシル基の保護基を表し、Ｒ３およびＲ３’は、置換または非置換のアリール基および置換または非置換のヘテロアリール基からなる群から選択される基を表し、Ｂは保護基を有していても有していなくてもよい核酸塩基を表す）
【００７２】
（１）５’位保護ヌクレオシドの合成
不活性ガス（たとえば窒素）雰囲気下、適切な反応容器（たとえば三口フラスコ（５００ｍＬ））にヌクレオシド（たとえばアデノシン５．３４ｇ（２０ｍｍｏｌ））と適切な反応溶媒（たとえばピリジン４００ｍＬ）を入れ、適切な反応温度（たとえば０℃）で撹拌する。適切な保護試薬（たとえばｔ−ブチルクロロジメチルシラン３．０７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液４０ｍＬ）を（たとえばゆっくり滴下することにより）添加し、不活性ガス（たとえば窒素）雰囲気下、適切な温度で適切な時間（たとえば室温で１２時間）撹拌する。反応溶媒を留去し、得られる残渣に水（たとえば１００ｍＬ）と有機溶媒（たとえばクロロホルム１００ｍＬ／メタノール４０ｍＬ）を加えて、抽出を行う。（たとえば水層を更に、クロロホルム１００ｍＬでもう一度抽出した後、）有機層を減圧留去する。得られた混合物を（たとえばシリカゲルカラムにて）精製を行い、目的のフラクションを減圧濃縮することで、目的生成物（たとえば白色固体）を得る。
【００７３】
（２）リボ核酸Ｈ−ホスホネートモノマーの合成
不活性ガス（たとえば窒素）雰囲気下、適切な反応容器（たとえば三口フラスコ（３００ｍＬ）に５’位保護ヌクレオシド（たとえばｔ−ブチルジメチルシリル保護アデノシン３．８２ｇ（１０ｍｍｏｌ））と適切な溶媒（たとえばピリジン１００ｍＬ）を入れ、適切な反応温度（たとえば−４０℃）で撹拌する。適切な保護試薬（たとえばベンゾイルクロライド２．１１ｇ（１５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液１０ｍＬ）を（たとえば３０分かけてゆっくり滴下することにより）添加し、適切な温度で適切な時間（たとえば−４０℃で３時間）撹拌する。反応液に適切な試薬（たとえばジメチルアミン塩酸塩４８９ｍｇ（６ｍｍｏｌ））を加え、（たとえば冷却槽をはずして−４０℃から室温に）温度を上げていき、試薬を添加後適切な時間（たとえば２時間）撹拌する。適切な温度（たとえば室温）で適切なリン試薬（たとえばジフェニルホスファイト７．０３ｇ（３０ｍｍｏｌ）のピリジン溶液２０ｍＬ）を（たとえばゆっくり滴下することにより）添加し、適切な温度で適切な時間（たとえば室温で３時間）撹拌する。適切な塩基（たとえばトリエチルアミン１０ｍＬと水１０ｍＬ）を加えた後、更に適切な温度で適切な時間（たとえば室温で１時間）撹拌する。反応溶媒（たとえばピリジン、ジクロロメタン）を減圧留去し、得られた残渣に水（たとえば１００ｍＬ）を加え、有機溶媒（たとえばクロロホルム１００ｍＬ）で（たとえば二度）抽出する。得られた有機層の洗浄を（たとえばトリエチルアミン４ｍＬと水１００ｍＬを加えて）行った後、有機溶媒（たとえばクロロホルム）を減圧留去する。（たとえば０．５ｍＬのトリエチルアミンを粗生成物に加え、シリカゲルカラムにて）精製を行い、目的のフラクションを減圧濃縮することで、目的生成物（たとえば白色固体）を得る。
【００７４】
（３）オリゴヌクレオチドの合成
オリゴヌクレオチドの合成を、適切な反応溶媒（たとえばピリジン：ＭｅＣＮ＝１：１（０．０５Ｍ））中、適切な反応温度（たとえば２５℃）で開始塩基（５’−ＯＨ−ｄＴ−３’−Ｏ−ｓｕｃ−Ｏ−ＰＥＧ）、モノマー（たとえばＴＢＤＭＳ−ｒＵ−Ｈ−ホスホネート（１．３当量））、縮合剤（たとえば塩化ピバロイル（６．５当量））、酸化剤（たとえば０．１Ｍ  Ｉ２（１．５当量））、脱シリル化剤（フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）（１５当量））を用いて（たとえば液相合成にて）伸長反応を行い、各伸長時に（たとえばエーテル沈殿による）精製を行う。所望の重合度（たとえば重合度２０）まで伸長したあと２’位ヒドロキシ基の保護基および３’位ヒドロキシ基のポリマーの脱保護を適切な試薬（たとえばエチレンジアミン）により行ったあと、（たとえばさらにＨＰＬＣ精製を行うことで）所望のオリゴヌクレオチドを得る。更に、５’位ヒドロキシ基の保護基（たとえばＴＢＤＭＳ基）の脱保護を適切な試薬（たとえばＴＢＡＦ）により行ったあと、（たとえばさらにＨＰＬＣ精製を行うことで）所望のオリゴヌクレオチドを得る。
【００７５】
本明細書において引用された、科学文献、特許、特許出願などの参考文献は、その全体が、各々具体的に記載されたのと同じ程度に本明細書において参考として援用される。
【００７６】
以上、本発明を、理解の容易のために好ましい実施形態を示して説明してきた。以下に、実施例に基づいて本発明を説明するが、上述の説明および以下の実施例は、例示の目的のみに提供され、本発明を限定する目的で提供したものではない。したがって、本発明の範囲は、本明細書に具体的に記載された実施形態にも実施例にも限定されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。
【実施例】
【００７７】
以下の実施例・比較例に従って本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定解釈されるものではなく、各実施例に開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施例も、本発明の範囲に含まれるものとする。尚、以下の実施例および比較例において示された化合物名は必ずしもＩＵＰＡＣ命名法に従うものではない。【００７８】
また、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
Ｂｕ：ブチル
Ｅｔ：エチル
ｄ：デオキシ（ＤＮＡ）
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
Ｍｅ：メチル
ＮＭＲ：核磁気共鳴
ＰＥＧ：ポリエチレングリコール
Ｐｈ：フェニル
ｒ：リボース（ＲＮＡ）
ｓｕｃ：コハク酸
ＴＢＡＦ：フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ＴＢＤＭＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
ｔ−Ｂｕ：ターシャリーブチル
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｘ：ハロゲン基【００７９】
ＮＭＲスペクトルをＢｒｕｋｅｒ社製  ＡＶＡＮＣＥ  ＩＩＩ  ４００により、測定した。【００８０】
（参考例１）アデノシンを用いた２’位選択的エステル化反応の条件検討
【化４０】
2017221929.tif 000042
ｔ−ブチルジメチルシリル基保護アデノシンスズアセタールのベンゾイル化について条件検討を行った。２’−エステルと３’−エステルの分離はシリカゲルカラムで可能である為、精製を行い単離収率により生成比を求めた。
【表１】
2017221929.tif 000043
【００８１】
安息香酸無水物を試薬に用いた場合、３’位保護されたエステル体が優先した。塩化ベンゾイルを用いた場合には、目的の２’位保護されたエステル体が優先した。更に選択的に反応を行おうと、スズアセタールやボリン酸エステルを促進剤とした反応の場合、選択性の低下が見られた。【００８２】
反応液を室温以上で減圧濃縮するとモル比で、５０／５０へ異性化が起こってしまうことがわかった。【００８３】
上記の結果をうけ、ワンポット法によるホスホネート体の合成を試みるとことにより、異性化の問題を解決し、良好な収率で目的の化合物であるアデノシンモノマーを得ることが出来た。【００８４】
（実施例１）リボ核酸Ｈ−ホスホネートモノマーの合成
（１）アデノシンモノマーの合成方法
【化４２】
2017221929.tif 000044
【００８５】
（１−１）５’−ｔ−ブチルジメチルシリルアデノシンの合成
窒素雰囲気下三口フラスコ（５００ｍＬ）にアデノシン５．３４ｇ（２０ｍｍｏｌ）とピリジン４００ｍＬを入れ、０℃で撹拌した。ｔ−ブチルクロロジメチルシラン３．０７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液４０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で１２時間撹拌した。ピリジンとジクロロメタンを留去し、得られた残渣に水１００ｍＬとクロロホルム１００ｍＬ／メタノール４０ｍＬを加えて、抽出を行った。水層を更に、クロロホルム１００ｍＬでもう一度抽出した後、有機層を減圧留去した。得られた混合物をシリカゲルカラムにて精製を行い、目的のフラクションを減圧濃縮することで、４．８０ｇ（収率６３％）で白色固体を得た。【００８６】
（１−２）５’−ｔ−ブチルジメチルシリル−２’−ベンゾイルアデノシン−３’−Ｈ−ホスホネートの合成
窒素雰囲気下三口フラスコ（３００ｍＬ）にｔ−ブチルジメチルシリル保護アデノシン３．８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）とピリジン１００ｍＬを入れ、−４０℃で撹拌した。ベンゾイルクロライド２．１１ｇ（１５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液１０ｍＬを３０分かけてゆっくり滴下し、窒素雰囲気下−４０℃で３時間撹拌した。反応液にジメチルアミン塩酸塩を４８９ｍｇ（６ｍｍｏｌ）加え、冷却槽をはずして−４０℃から室温に温度を上げていき、ジメチルアミン塩酸塩添加後２時間撹拌した。２０℃でジフェニルホスファイト７．０３ｇ（３０ｍｍｏｌ）のピリジン溶液２０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン１０ｍＬと水１０ｍＬを加えた後、更に室温で１時間撹拌した。ピリジン、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた残渣に水１００ｍＬを加え、クロロホルム１００ｍＬで二度抽出した。得られた有機層にトリエチルアミン４ｍＬと水１００ｍＬを加えて洗浄を行った後、クロロホルムを減圧留去した。０．５ｍＬのトリエチルアミンを粗生成物に加え、シリカゲルカラムにて目的物の精製を行い、目的のフラクションを減圧濃縮することで、４．２３ｇ（収率６５％）で白色固体を得た。
1H  NMR  (400MHz,  CDCl3),  σ0.098(6H,  d),  σ0.907(9H,  s),  σ1.363(9H,  t,  J=7.6  Hz),  σ2.628-2.754  (2H,  m),  σ3.095  (6H,  q,  J=7.6  Hz),  σ3.915(2H,  ddd),  σ4.341(1H,  q),  σ4.964-5.007(1H,  m),  σ5.798(2H,  br),  σ6.546(1H,  dd),  σ6.975(1H,  d,  JPH=617  Hz),  σ8.224(1H,  s),  σ8.324(1H,  s).
31P  NMR(162MHz,CDCl3),  σ3.57【００８７】
（２）ウリジンモノマーの合成方法
【化４３】
2017221929.tif 000045
【００８８】
（２−１）５’−ｔ−ブチルジメチルシリルウリジンの合成
窒素雰囲気下三口フラスコ（１００ｍＬ）にウリジン４．８８ｇ（２０ｍｍｏｌ）とピリジン４０ｍＬを入れ、０℃で撹拌した。ｔ−ブチルクロロジメチルシラン３．０７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液４０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で１２時間撹拌した。ピリジンとジクロロメタンを減圧留去し、得られた残渣に水１００ｍＬを加え、クロロホルム１００ｍＬで二回抽出した。クロロホルムを減圧留去し、シリカゲルカラムにて精製を行い、目的のフラクションを減圧濃縮することで、５．５９ｇ  （収率７８％）で白色固体を得た。【００８９】
（２−２）５’−ｔ−ブチルジメチルシリル−２’−ベンゾイルウリジン−３’−Ｈ−ホスホネートの合成
窒素雰囲気下三口フラスコ（３００ｍＬ）にｔ−ブチルジメチルシリル保護ウリジン３．５８ｇ（１０ｍｍｏｌ）とピリジン１００ｍＬを入れ、−４０℃で撹拌した。ベンゾイルクロライド２．１１ｇ（１５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液１０ｍＬを３０分かけてゆっくり滴下し、窒素雰囲気下−４０℃で３時間撹拌した。反応液にジメチルアミン塩酸塩を４８９ｍｇ（６ｍｍｏｌ）加え、冷却槽をはずして−４０℃から室温に温度を上げていき、ジメチルアミン塩酸塩添加後２時間撹拌した。２０℃ジフェニルホスファイト７．０３ｇ（３０ｍｍｏｌ）のピリジン溶液２０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン１０ｍＬと水１０ｍＬを加え、室温で１時間撹拌した。ピリジン、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた残渣に水１００ｍＬを加え、クロロホルム１００ｍＬで二回抽出した。クロロホルム層にトリエチルアミン４ｍＬと水１００ｍＬを加えて洗浄を行った後、クロロホルムを減圧留去した。０．５ｍＬのトリエチルアミンを粗生成物に加え、シリカゲルカラムにて精製を行うことで、６．２７ｇ（収率７４％）で白色固体を得た。
1H  NMR  (400MHz,  CDCl3),  σ0.101(6H,  d,  J=3.2  Hz),  σ0.902(9H,  s),  σ1.368(9H,  t,  J=7.6  Hz),  σ2.055  (1H,  q),  σ2.52-2.58  (1H,  dd),  σ3.092(6H,  q,  J=7.2  Hz),  σ3.874(2H,  t,  J=12.8  Hz),  σ4.265(1H,  s),  σ4.864(1H,  t,  J=6.8  Hz),  σ6.324(1H,  t,  J=6.4  Hz),  σ7.018(1H,  d,  JPH=627  Hz),  σ7.424(1H,  br),  σ7.158(1H,  s),  σ8.377(1H,  br).
31P  NMR  (162MHz,  CDCl3),  σ2.99【００９０】
（３）シチジンモノマーの合成方法
【化４４】
2017221929.tif 000046
【００９１】
（３−１）５’−ｔ−ブチルジメチルシリルシチジンの合成
窒素雰囲気下三口フラスコ（５００ｍＬ）にシチジン４．８６ｇ（２０ｍｍｏｌ）とピリジン４００ｍＬを入れ、０℃で撹拌した。ｔ−ブチルクロロジメチルシラン３．０７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液４０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で１２時間撹拌した。ピリジンとジクロロメタンを減圧留去し、得られた残渣に水１００ｍＬを加え、クロロホルム１００ｍＬで二回抽出した。有機層を減圧留去し、シリカゲルカラムにて精製を行うことで、４．９３ｇ（収率６９％）で白色固体を得た。【００９２】
（３−２）５’−ｔ−ブチルジメチルシリル−２’−ベンゾイルシチジン−３’−Ｈ−ホスホネートの合成
窒素雰囲気下三口フラスコ（３００ｍＬ）にｔ−ブチルジメチルシリル保護シチジン３．５７ｇ（１０ｍｍｏｌ）とピリジン１００ｍＬを入れ、−４０℃で撹拌した。ベンゾイルクロライド２．１１ｇ（１５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液１０ｍＬを３０分かけてゆっくり滴下し、窒素雰囲気下−４０℃で３時間撹拌した。反応液にジメチルアミン塩酸塩を４８９ｍｇ（６ｍｍｏｌ）加え、冷却槽をはずして−４０℃から室温に温度を上げていき、ジメチルアミン塩酸塩添加後２時間撹拌した。２０℃でジフェニルホスファイト７．０３ｇ（３０ｍｍｏｌ）のピリジン溶液２０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン１０ｍＬと水１０ｍＬを加え、室温で１時間撹拌した。ピリジン、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた残渣に水１００ｍＬを加え、クロロホルム１００ｍＬで二回抽出した。有機層にトリエチルアミン４ｍＬと水１００ｍＬを加えて洗浄した。クロロホルムを減圧留去し、０．５ｍＬのトリエチルアミンを粗生成物に加え、シリカゲルカラムにて精製を行うことで、４．３２ｇ（収率６９％）で白色固体を得た。
1H  NMR  (400MHz,  CDCl3),  σ0.167(6H,  d,  J=9.2  Hz),  σ0.958(9H,  s),  σ1.241(9H,  t,  J=7.2  Hz),  σ2.955  (6H,  q,  J=7.2  Hz),  σ3.963  (2H,  s),  σ4.544(1H,  s),  σ4.97-5.02(1H,  m),  σ5.411(1H,  t,  J=5.6  Hz),  σ5.713(1H,  d,  J=8.0  Hz),  σ6.480(1H,  d,  J=6.8  Hz),  σ6.897(1H,  d,  JPH=628  Hz),  σ7.416(2H,  t,  J=7.2  Hz),  σ7.551(1H,  t,  J=7.2  Hz),  σ8.005(1H,  d,  J=8.0  Hz),  σ8.058(2H,  d,  J=8.0  Hz).
31P  NMR  (162MHz,  CDCl3),  σ4.05【００９３】
（４）グアノシンモノマーの合成
（４−１）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジン保護グアノシンの合成
【化４５】
2017221929.tif 000047
【００９４】
窒素雰囲気下三口フラスコ（３００ｍＬ）にグアノシン５．６６ｇ（２０ｍｍｏｌ）とメタノール２００ｍＬを入れ、室温で撹拌した。ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２０ｍＬとメタノール２０ｍＬの混合溶液を加え、窒素雰囲気下室温で１６時間撹拌した。生成した固体をろ別してメタノールで洗浄し、減圧乾燥することで、６．３６ｇ（収率９４％）で白色固体を得た。【００９５】
（４−２）５’−ｔ−ブチルジメチルシリル・Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジン保護グアノシンの合成
【化４６】
2017221929.tif 000048
【００９６】
窒素雰囲気下三口フラスコ（１００ｍＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド保護グアノシン３．３８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、脱水ピリジン４０ｍＬを入れ、０℃で撹拌した。ｔ−ブチルクロロジメチルシラン２．２６ｇ（１５ｍｍｏｌ）の脱水ピリジン溶液２０ｍＬをゆっくり滴下し、窒素雰囲気下室温で２４時間撹拌した。ピリジンを減圧留去し、得られた残渣にクロロホルム１００ｍＬ、メタノール５０ｍＬ、水１００ｍＬを加えて抽出した。クロロホルム、メタノールを減圧留去した後、シリカゲルカラムにて精製を行うことで、４．１１ｇ（収率９１％）で白色固体を得た。【００９７】
（４−３）５’−ｔ−ブチルジメチルシリル・Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミジン保護−２−ベンゾイルグアノシン−３’−Ｈ−ホスホネートの合成
【化４７】
2017221929.tif 000049
【００９８】
塩化カルシウム管をつけた三口フラスコに保護されたグアノシン４．５３ｇ（１０ｍｍｏｌ）と脱水ピリジン６０ｍＬを入れ、−４０℃で撹拌した。ベンゾイルクロライド２．１１ｇ（１５ｍｍｏｌ）の脱水ジクロロメタン溶液２０ｍＬを３０分かけて滴下し、−４０℃で３０分間撹拌した。ジフェニルホスファイト７．０３ｇ（３０ｍｍｏｌ）の脱水ピリジン溶液２０ｍＬを１５分かけて滴下し、滴下終了後冷却槽をはずして氷水に浸し、０℃で１時間撹拌した。トリエチルアミン１０ｍＬと水１０ｍＬを加え、０℃で撹拌し反応を停止させた。ピリジン、ジクロロメタンを減圧留去し、得られた残渣に水を加え、クロロホルムで二度抽出した。クロロホルム層にトリエチルアミンと水を加えて洗浄して亜リン酸とフェノールを除去した。クロロホルムを留去し、減圧乾燥してトリエチルアミンをできるだけ取り除いてからシリカゲルカラムにて目的物を粗精製した。更に、得られた粗生成物５ｇをメタノール／クロロホルムの混合溶媒に溶解し、５ｗｔ％クエン酸水溶液で有機層を洗浄し、クロロホルム層の副生成物を除去した。水層を再度クロロホルムで洗浄し副生成物を除去した後、水層にトリエチルアミンを加えてアルカリ性にし、クロロホルムで目的物を抽出した。クロロホルムを留去し、減圧乾燥して、トリエチルアミンをできるだけ取り除いてからシリカゲルカラムにて、精製を行い、５．７０ｇ（収率７９％）で白色固体を得た。
1H  NMR  (400MHz,  CDCl3),  σ0.121(6H,  d,  J=4.8  Hz),  σ0.938(9H,  s),  σ1.234(9H,  t,  J=7.2  Hz),  σ2.964  (6H,  q,  J=7.2  Hz),  σ3.077  (3H,  s),  σ3.233(3H,  s),  σ3.482(3H,  s),  σ3.952(2H,  q,  J=10.0  Hz),  σ4.478(1H,  s),  σ5.166(1H,  q,  J=4.8  Hz),  σ5.932(1H,  t,  J=5.2  Hz),  σ6.330  (1H,  d,  J=5.6  Hz),  σ6.904(1H,  d,  JPH=624  Hz),  σ7.392(2H,  t,  J=7.6  Hz),  σ7.539(1H,  t,  J=7.6  Hz),  σ7.959(1H,  s),  σ8.040(2H,  d,  J=7.2  Hz),  σ8.725(1H,  br),  σ8.763(1H,  s).
31P  NMR  (162MHz,  CDCl3),  σ3.51【００９９】
（実施例２）ＲＮＡオリゴマーの合成
上記で合成したモノマーを用いて、ＲＮＡオリゴマーを液相合成にて合成を行った。
【表２】
2017221929.tif 000050
【０１００】
上記の反応条件にて、伸長反応を行い、各伸長時にエーテル沈殿することで、精製した。
【表３】
2017221929.tif 000051
【０１０１】
キャラクタリゼーション
２０塩基目まで伸長した５’−ＴＢＤＭＳ−ｒＵ１９ｄＴ−３’−Ｏ−ｓｕｃ−Ｏ−ＰＥＧを得た後、２’位のベンゾイル基保護と３’−ｓｕｃ−Ｏ−ＰＥＧの脱保護をエチレンジアミンで行った後、ＨＰＬＣ精製を行うことで、５’−ＴＢＤＭＳ−ｒＵ１９ｄＴ−３’−ＯＨを得た。更に、５’位ＴＢＤＭＳ基の脱保護をＴＢＡＦで行い、再度ＨＰＬＣ精製を行ったサンプルをＬＣ−ＭＳ分析を行うことで、５’−ＨＯ−ｒＵ１９ｄＴ−３’−ＯＨの分子量と一致したｍ／ｚ＝６０５８．９０（理論値：６０５９．３８）を確認した(図１参照)。【０１０２】
各種塩基を導入した伸長反応
【表４】
2017221929.tif 000052
【０１０３】
各塩基種を導入しながら、１０塩基まで伸長した結果を下記に示す。
【表５】
2017221929.tif 000053
【０１０４】
２０塩基まで伸長した時と同様に、５’−ＴＢＤＭＳ−ｒＵ３ｒＣｒＧｒＡｒＵ３ｄＴ−３’−Ｏ−ｓｕｃ−Ｏ−ＰＥＧを得た後、２’位のベンゾイル基保護と３’−ｓｕｃ−Ｏ−ＰＥＧの脱保護をエチレンジアミンで行った。ＨＰＬＣ精製を行い、５’−ＴＢＤＭＳ−ｒＵ３ｒＣｒＧｒＡｒＵ３ｄＴ−３’−ＯＨを得た。更に、５’位ＴＢＤＭＳ基の脱保護をＴＢＡＦで行い、再度ＨＰＬＣ精製を行ったサンプルをＬＣ−ＭＳ分析を行うことで、５’−ＨＯ−ｒＵ３ｒＣｒＧｒＡｒＵ３ｄＴ−３’−ＯＨの分子量と一致したｍ／ｚ＝３０５８．６０（理論値：３０５８．８２）を確認した（図２参照）。【０１０５】
以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および他の文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明は核酸医薬等を用いる製薬産業および試薬産業において有用である。
【配列表フリーテキスト】
【０１０７】
配列番号１：表３中の塩基数１０の配列
配列番号２：表３中の塩基数１５の配列
配列番号３：表３中の塩基数１９の配列
配列番号４：表３中の塩基数２０の配列
配列番号５：表５中の塩基数１０の配列
【図１】
2017221929.tif 000069
【図２】
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【配列表】
2017221929000001.app
【国際調査報告】
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