(57)【要約】  各副画素（３）において、共通正孔輸送層（３１）と発光層（２７）との間に、個別に個別正孔輸送層（２６）が配置されており、個別正孔輸送層（２６）のＬＵＭＯのエネルギー準位の値は、共通正孔輸送層（３１）のＬＵＭＯのエネルギー準位の値よりも小さく、副画素（３）における発光層（２７）のＬＵＭＯのエネルギー準位の値よりも大きい。これにより、発光層へ効率よく正孔の注入が可能である。
2018179116.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる色の光を発光する複数の副画素を有する画素が表示領域にマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置であって、
上記各副画素に個別に配置され、上記副画素毎に異なる色の光を発光する発光層と、
上記発光層を介在させて対向配置された電極である陽極および陰極と、
上記陽極と上記発光層との間に、上記各副画素に共通する共通正孔輸送層が配置されており、
さらに、上記各副画素において、上記共通正孔輸送層と上記発光層との間に、当該副画素毎に個別に個別正孔輸送層が配置されており、
上記副画素毎に、上記個別正孔輸送層の最低空軌道のエネルギー準位の値は、上記共通正孔輸送層の最低空軌道のエネルギー準位の値よりも小さく、当該副画素における上記発光層の最低空軌道のエネルギー準位の値よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
上記各副画素において、上記個別正孔輸送層の最高被占軌道のエネルギー準位の値は、上記共通正孔輸送層の最高被占軌道のエネルギー準位の値よりも大きく、当該副画素における上記発光層の最高被占軌道のエネルギー準位の値よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
上記副画素毎に、上記個別正孔輸送層の膜厚が異なることで、上記陽極と上記発光層との間または上記陽極と上記陰極との間で光学調整がされていることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
上記画素は上記複数の副画素として、青色光を発光する上記発光層である青色発光層が配置された青色副画素を有することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素のうち、上記青色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である青色個別正孔輸送層の上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが最も大きいことを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
上記複数の副画素のうち、上記青色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である青色個別正孔輸送層の膜厚が最も薄いことを特徴とする請求項４または５に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
上記画素は上記複数の副画素として、赤色光を発光する上記発光層である赤色発光層が配置された赤色副画素を有することを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素のうち、上記赤色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である赤色個別正孔輸送層の上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが最も小さいことを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
上記複数の副画素のうち、上記赤色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である赤色個別正孔輸送層の膜厚が最も厚いことを特徴とする請求項７または８に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
上記画素は上記複数の副画素として、緑色光を発光する上記発光層である緑色発光層が配置された緑色副画素を有することを特徴とする請求項７〜９の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素のうち、上記緑色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である緑色個別正孔輸送層の上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップは、上記赤色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である赤色個別正孔輸送層の上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップよりも大きいことを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１２】
上記複数の副画素のうち、上記緑色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である緑色個別正孔輸送層の膜厚は、上記赤色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である赤色個別正孔輸送層の膜厚よりも薄いことを特徴とする請求項１０または１１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１３】
最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素のうち、上記緑色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である緑色個別正孔輸送層の上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップと、上記赤色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である赤色個別正孔輸送層の上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとが等しいことを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
上記複数の副画素のうち、上記緑色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である緑色個別正孔輸送層の膜厚と、上記赤色副画素に配置された上記個別正孔輸送層である赤色個別正孔輸送層の膜厚とが等しいことを特徴とする請求項１０または１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１５】
上記複数の副画素のうち、上記青色副画素以外の他副画素に配置された上記個別正孔輸送層は、複数の上記他副画素に跨って共通に配置されていることを特徴とする請求項４〜６の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１においては、各副画素に個別に配置された発光層と、各副画素に共通するよう配置された正孔注入層と、上記発光層と上記正孔注入層との間に上記各副画素に共通する中間層とを配置する構成が記載されている。特許文献１によると、この中間層により、多様なバンドギャップと、最低空軌道（ＬＵＭＯ：Lowest Unoccupied Molecular Orbital)、最高被占軌道（ＨＯＭＯ：Highest Occupied Molecular Orbital)の値の調節が容易であるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】日本国公開特許公報「特開２００５‐１８３４０４号公報」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
各副画素に配置された発光層は、発光色毎に、最低空軌道（ＬＵＭＯ)と、最高被占軌道（ＨＯＭＯ)とのうち少なくとも一方のエネルギー準位の値は異なる。【０００５】
このため、特許文献１のように、各副画素に共通する中間層を設けただけだと、副画素における発光層毎に効率よく正孔を注入できない場合がある。正孔が効率よく発光層に注入されないと、発光層の発光効率が低下する。【０００６】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、正孔注入層から発光層へ効率よく正孔の注入が可能な有機ＥＬ表示装置を得ることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置は、異なる色の光を発光する複数の副画素を有する画素が表示領域にマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置であって、上記各副画素に個別に配置され、上記副画素毎に異なる色の光を発光する発光層と、上記発光層を介在させて対向配置された電極である陽極および陰極と、上記陽極と上記発光層との間に、上記各副画素に共通する共通正孔輸送層が配置されており、さらに、上記各副画素において、上記共通正孔輸送層と上記発光層との間に、個別に個別正孔輸送層が配置されており、上記個別正孔輸送層の最低空軌道のエネルギー準位の値は、上記共通正孔輸送層の最低空軌道のエネルギー準位の値よりも小さく、当該副画素における上記発光層の最低空軌道のエネルギー準位の値よりも大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一態様によれば、正孔注入層から発光層へ効率よく正孔の注入が可能な有機ＥＬ表示装置を得るという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す平面図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置の副画素におけるＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを表す図である。
【図４】本発明の実施形態２に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図５】本発明の実施形態２に係る有機ＥＬ表示装置の画素におけるＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを表す図である。
【図６】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置の発光層におけるＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを説明する図である。
【図７】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置のＨＴＬ、ＨＴＬ’、ＥＭＬのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを説明する図である。
【図８】本発明の実施形態３に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
〔実施形態１〕
本発明の実施形態１について、図１〜図３、図６および図７に基づいて説明する。
【００１１】
（有機ＥＬ表示装置１の概略構成）
図２は、本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置１の構成を表す平面図である。図１は、図２に示すＬ１‐Ｌ２線断面図である。
【００１２】
図２に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、表示領域１ａに、マトリクス状に配置された複数の画素２を備えている。なお、図２では、図示の便宜上、画素２の数を省略している。
【００１３】
図１および図２に示すように、各画素２（すなわち、１画素）は、異なる色の光を発光する副画素３を有する。本実施形態においては、各画素２は、副画素３として、赤色光を発光する赤色副画素３Ｒと、緑色光を発光する緑色副画素３Ｇと、青色光を発光する青色副画素３Ｂとを有する。これにより、有機ＥＬ表示装置１は、表示領域１ａに、フルカラー画像を表示することができる。なお、図２に示すように、本実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置１は、赤色副画素３Ｒと、緑色副画素３Ｇと、青色副画素３Ｂとがそれぞれ直線状（がストライプ状）に配列された、ＲＧＢストライプ配列と称される画素配列を有する。
【００１４】
図１に示すように、各副画素３には、副画素３毎に異なる色の光を発光する発光層２７と、発光層２７を介在させて対向配置された電極である陽極２０および陰極３４とが配置されている。
【００１５】
さらに、陽極２０と発光層２７との間に、各副画素３に共通する共通正孔輸送層２５が配置されている。加えて、各副画素３において、共通正孔輸送層２５と発光層２７との間に、各副画素３それぞれに個別に配置された個別正孔輸送層２６が配置されている。
【００１６】
青色副画素３Ｂには、発光色が青色の有機ＥＬ素子５である青色有機ＥＬ素子５Ｂが配置されており、緑色副画素３Ｇには、発光色が緑色の有機ＥＬ素子５である緑色有機ＥＬ素子５Ｇが配置されており、赤色副画素３Ｒには、発光色が赤色の有機ＥＬ素子５である赤色有機ＥＬ素子５Ｒが配置されている。有機ＥＬ素子５は、陽極２０と、陰極３４と、陽極２０及び陰極３４間の各層からなる有機ＥＬ層３０とにより構成されている。
【００１７】
有機ＥＬ表示装置１は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板１０上に、陽極２０と、エッジカバー２３と、有機ＥＬ層３０と、陰極３４と、円偏光フィルタ３５と、封止層４０とが形成された構成を有している。有機ＥＬ表示装置１は、各副画素３を駆動させるための図示しない駆動回路を備えている。有機ＥＬ表示装置１は、さらに、封止層４０上にタッチパネルを有していてもよい。
【００１８】
ＴＦＴ基板１０上には、上述した複数の各色の有機ＥＬ素子５が、それぞれ設けられている。
【００１９】
これら各色に発光する複数の有機ＥＬ素子５は、ＴＦＴ基板１０および封止層４０の間に封入されている。本実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置１は、封止層４０側から光を取り出すトップエミッション型の表示装置である。以下に、より詳細に説明する。
【００２０】
（ＴＦＴ基板１０の構成）
ＴＦＴ基板１０は、ＴＦＴ１２および配線１３を含むＴＦＴ回路が形成された回路基板である。ＴＦＴ基板１０には、支持体１１と、ＴＦＴ１２および配線１３と、パッシベーション膜１４と、層間絶縁膜１５とがこの順に積層された構成を有している。
【００２１】
支持体１１は、プラスチックフィルム、またはガラス基板などの透明な絶縁性の材料からなる。
【００２２】
ＴＦＴ１２は、有機ＥＬ層３０に駆動電流を供給するための駆動用トランジスタである。ＴＦＴ１２は、支持体１１上又は他の層を介して、各画素３に形成されている。ＴＦＴ１２は、図示しないが、半導体層、ゲート電極、ドレイン電極およびソース電極を有している。
【００２３】
配線１３は、支持体１１には、ＴＦＴ１２のゲート電極に接続されたゲート配線と、ＴＦＴ１２のソース電極に接続されたソース配線とを含む配線１３が形成されている。ＴＦＴ基板１０の基板面に対し垂直方向から見たときに、ゲート配線とソース配線とは、直交するように交差している。ゲート配線とソース配線とによって囲まれた領域が副画素３である。
【００２４】
各副画素３の発光強度は、配線１３およびＴＦＴ１２による走査および選択により決定される。このように、有機ＥＬ表示装置１は、ＴＦＴ１２を用いて、各有機ＥＬ素子５を選択的に所望の輝度で発光させることにより画像を表示する。
【００２５】
パッシベーション膜１４は、ＴＦＴ１２における金属膜の剥離を防止し、ＴＦＴ１２を保護する。パッシベーション膜１４は支持体１１上又は他の層を介して形成されており、ＴＦＴ１２を覆っている。パッシベーション膜１４は、窒化シリコンや酸化シリコンなどからなる無機絶縁性膜である。
【００２６】
層間絶縁膜１５は、パッシベーション膜１４上の凹凸を平坦化する。層間絶縁膜１５はパッシベーション膜１４上に形成されている。層間絶縁膜１５はアクリルまたはポリイミドなどの感光性樹脂からなる有機絶縁膜である。
【００２７】
（有機ＥＬ素子５の構成）
各有機ＥＬ素子５は、陽極２０、有機ＥＬ層３０、陰極３４を備えている。有機ＥＬ層３０は、陽極２０と陰極３４とに挟持されている。本実施形態では、陽極２０と陰極３４との間に設けられた層を総称して有機ＥＬ層３０と称する。陽極２０、有機ＥＬ層３０、陰極３４は、ＴＦＴ基板１０側からこの順に積層されている。
【００２８】
陽極２０は、副画素３毎に島状に個別にパターン形成されており、陽極２０の端部は、エッジカバー２３に覆われている。各陽極２０は、パッシベーション膜１４および層間絶縁膜１５に設けられたコンタクトホールを介してＴＦＴ１２と接続されている。
【００２９】
エッジカバー２３は、隣接する副画素３を区切るように配置されている。エッジカバー２３は絶縁層であり、例えば感光性樹脂で構成されている。エッジカバー２３は、陽極２０の端部を覆うように形成されている。エッジカバー２３は、陽極２０の端部で、電極集中や有機ＥＬ層３０が薄くなって陰極３４と短絡することを防止する。また、エッジカバー２３は、隣り合う副画素３に電流が漏れないように、画素分離膜としても機能している。
【００３０】
陰極３４は、各副画素３に共通に設けられた共通電極である。陰極３４は、全ての画素２における副画素３に共通して設けられている。但し、本実施形態は、これに限定されるものではなく、副画素３毎に陰極３４が個別に設けられていてもよい。
【００３１】
陰極３４上には、陰極３４を覆うように円偏光フィルタ３５が設けられている。そして円偏光フィルタ３５上には円偏光フィルタ３５を覆う封止層４０が設けられている。円偏光フィルタ３５は必要に応じて設ければよい。
【００３２】
封止層４０は、上側電極である陰極３４を保護し、酸素や水分が外部から各有機ＥＬ素子５内に浸入することを阻止する。なお、封止層４０は、全ての有機ＥＬ素子５における陰極３４を覆うように設けられている。
【００３３】
（陽極２０および陰極３４）
陽極２０および陰極３４は、対の電極である。陽極は、有機ＥＬ層３０に正孔（ｈ＋）を注入する電極としての機能を有していればよい。また、陰極は、有機ＥＬ層３０に電子（ｅ−）を注入する電極としての機能を有していればよい。
【００３４】
陽極および陰極の形状、構造、大きさ等は、特に制限はなく、有機ＥＬ素子５の用途、目的に応じて、適宜選択することができる。
【００３５】
本実施形態では、図１に示すように、陽極２０が、パターン化されてＴＦＴ基板１０上に配置されており、陽極２０との間に有機ＥＬ層３０を介在させて、陰極３４が、全ての画素２における副画素３に共通して設けられた陰極である場合を例に挙げて説明する。
【００３６】
しかしながら、本実施形態はこれに限定されるものではなく、陽極２０が陰極であり、陰極３４が陽極であってもよい。この場合、有機ＥＬ層３０を構成する各機能層の積層順あるいはキャリア移動度（キャリア輸送性、つまり、正孔輸送性と電子輸送性と）が反転する。同様に、陽極２０および陰極３４を構成する材料も反転する。
【００３７】
陽極および陰極として用いることができる電極材料としては、特に限定されるものではなく、例えば公知の電極材料を用いることができる。
【００３８】
陽極としては、例えば、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、およびニッケル（Ｎｉ）等の金属、並びに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）等の透明電極材料等が利用できる。
【００３９】
陰極としては、発光層３４に電子を注入する目的で、仕事関数の小さい材料が好ましい。陰極としては、例えば、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、セリウム（Ｃｅ）、バリウム（Ｂａ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属、またはこれらの金属を含有するＡｇ（銀）−Ｍｇ（マグネシウム）合金、Ａｌ−Ｌｉ合金等の合金等が利用できる。
【００４０】
なお、陽極および陰極の厚みは、特に限定されるものではなく、従来と同様に設定することができる。
【００４１】
陽極２０は、ＴＦＴ基板１０側から、反射電極２１、透光性電極２２が、この順に積層された構成を有している。なお、陽極２０は、反射電極材料からなる単層構造であってもよい。
【００４２】
反射電極材料としては、例えば、タンタル（Ｔａ）または炭素（Ｃ）等の黒色電極材料、Ａｌ、Ａｇ、金（Ａｕ）、Ａｌ−Ｌｉ合金、Ａｌ−ネオジウム（Ｎｄ）合金、またはＡｌ−シリコン（Ｓｉ）合金等の反射性金属電極材料等が挙げられる。
【００４３】
透光性電極材料としては、例えば、上述した透明電極材料等を用いてもよいし、薄膜にしたＡｇ等の半透明の電極材料を用いてもよい。
【００４４】
反射電極２１は、各副画素３におけるＴＦＴ１２のドレイン電極と接続されるように、副画素３毎に同じ膜厚で独立して形成されている。
【００４５】
透光性電極２２も、副画素３毎に同じ膜厚で独立して形成されている。透光性電極２２は、同一の製造プロセスにて各副画素３に形成する。
【００４６】
（有機ＥＬ層３０）
有機ＥＬ層３０は、機能層として、陽極２０側から、正孔注入層２４（ＨＩＬ）と、共通正孔輸送層２５（ＨＴＬ）と、青色個別正孔輸送層２６Ｂ（ＨＴＬ‐Ｂ）・緑色個別正孔輸送層２６Ｇ（ＨＴＬ‐Ｇ）・赤色個別正孔輸送層２６Ｒ（ＨＴＬ‐Ｒ）と、青色発光層２７Ｂ（ＥＭＬ‐Ｂ）・緑色発光層２７Ｇ（ＥＭＬ‐Ｇ）・赤色発光層２７Ｒ（ＥＭＬ‐Ｒ）と、正孔遮断層３１（ＨＢＬ）と、電子輸送層３２（ＥＴＬ）と、電子注入層３３（ＥＩＬ）とが、この順に積層された構成を有している。
【００４７】
有機ＥＬ表示装置１においては、有機ＥＬ素子５毎、すなわち、副画素３毎に、陽極２０と発光層２７との間または陽極２０と陰極３４との間で光学調整がされている。これにより、高精細な画像の表示が可能である。本実施軽形態においては、有機ＥＬ素子５毎、すなわち、副画素３毎に、個別正孔輸送層２６の膜厚を変えることで、陽極２０と発光層２７との間または陽極２０と陰極３４との間で光学調整を行う。
【００４８】
正孔注入層２４、共通正孔輸送層２５、正孔遮断層３１、電子輸送層３２、電子注入層３３は、複数の画素２に共通する共通層として、複数の画素２に跨がって形成されている。このため、正孔注入層２４、共通正孔輸送層２５、正孔遮断層３１、電子輸送層３２、電子注入層３３は、副画素３Ｂ・３Ｇ・３Ｒに共通して形成されている。
【００４９】
以下、青色個別正孔輸送層２６Ｂと、緑色個別正孔輸送層２６Ｇと、赤色個別正孔輸送層２６Ｒとを区別する必要がない場合には、これら青色個別正孔輸送層２６Ｂと、緑色個別正孔輸送層２６Ｇと、赤色個別正孔輸送層２６Ｒを総称して単に個別正孔輸送層２６（ＨＴＬ）と称する。
【００５０】
また、青色発光層２７Ｂと、緑色発光層２７Ｇ、赤色発光層２７Ｒを区別する必要がない場合には、これら青色発光層２７Ｂ、緑色発光層２７Ｇ、赤色発光層２７Ｒを総称して単に発光層２７と称する。
【００５１】
共通正孔輸送層２５、個別正孔輸送層２６および発光層２７以外の機能層は、有機ＥＬ層３０として必須の層ではなく、要求される有機ＥＬ素子５の特性に応じて適宜形成すればよい。以下に、上記各機能層について説明する。
【００５２】
＜正孔注入層２４（ＨＩＬ）および共通正孔輸送層２５（ＨＴＬ）＞
正孔注入層２４は、正孔注入性材料を含み、発光層２７への正孔注入効率を高める機能を有する層である。正孔注入層２４は各副画素３に共通して形成されており、陽極２０上およびエッジカバー２３上に形成されている。また、共通正孔輸送層２５は正孔輸送性材料を含み、陽極２０から注入され、正孔注入層２４を介して輸送されてきた正孔を発光層２７へ輸送する効率を高める機能を有する。
【００５３】
正孔注入層２４と共通正孔輸送層２５とは、互いに独立した層として形成されていてもよく、正孔注入層兼正孔輸送層として一体化されていてもよい。また、正孔注入層２４と共通正孔輸送層２５とが両方設けられている必要はなく、共通正孔輸送層２５のみが設けられていてもよい。
【００５４】
正孔注入層２４、共通正孔輸送層２５の材料には、以下に挙げるような既知の材料を用いることができる。但し、後述するように、正孔注入層２４と、共通正孔輸送層２５とは、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが、共通正孔輸送層２５の方が小さくなるように構成されている。なお、このＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップについては、図３を用いて後述する。
【００５５】
正孔注入層２４および共通正孔輸送層２５の構成材料としては、例えば、ナフタレン、アントラセン、アザトリフェニレン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニレン、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、オキザゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、およびこれらの誘導体、チオフェン系化合物、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、アニリン系化合物等の鎖状式あるいは複素環式共役系のモノマー、オリゴマー、またはポリマー等が挙げられる。より具体的には、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（α−ＮＰＤ）、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサシアノ−１，４，５，８，９，１２−ヘキサアザトリフェニレン（ＨＡＴ−ＣＮ）、１，３−ビス（カルバゾール−９−イル）ベンゼン（ｍＣＰ）、ジ−［４−（Ｎ，Ｎ−ジトリル−アミノ）−フェニル］シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）、９，１０−ジフェニルアントラセン−２−スルフォネート（ＤＰＡＳ）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−（４−（ジ（３−トリル）アミノ）フェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＤＮＴＰＤ）、イリジウム（III）トリス［Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンズイミダゾル−２−イリデン−Ｃ２，Ｃ２’］（Ｉｒ（ｄｐｂｉｃ）３）、４，４’，４”−トリス−（Ｎ−カルバゾリル）−トリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）、２，２−ビス（ｐ−トリメリットオキシフェニル）プロパン酸無水物（ＢＴＰＤ）、ビス［４−（ｐ，ｐ−ジトリルアミノ）フェニル］ジフェニルシラン（ＤＴＡＳｉ）等が用いられる。
【００５６】
なお、正孔注入層２４、共通正孔輸送層２５は、不純物がドープされていない真性正孔注入性材料あるいは真性正孔輸送性材料であってもよいし、導電性を高める等の理由で不純物がドープされていても構わない。
【００５７】
＜電子輸送層３２および電子注入層３３＞
電子注入層３３は、電子注入性材料を含み、発光層２７への電子注入効率を高める機能を有する層である。また、電子輸送層３２は、電子輸送性材料を含み、発光層２７への電子輸送効率を高める機能を有する層である。
【００５８】
電子注入層３３および電子輸送層３２は、各副画素３に共通して形成されている。電子輸送層３２は各発光層２７および共通正孔輸送層２５上に形成されている。電子注入層３３は、電子輸送層３２上に形成されている。
【００５９】
なお、電子注入層３３と電子輸送層３２とは、互いに独立した層として形成されていてもよく、電子注入層兼電子輸送層として一体化されていてもよい。また、電子注入層３３と電子輸送層３２とが両方設けられている必要もなく、一方のみ、例えば電子輸送層３２のみが設けられていてもよい。両方とも設けられていなくても構わない。
【００６０】
電子注入層３３、電子輸送層３２は、既知の材料を用いることができる。
【００６１】
電子注入層３３、電子輸送層３２の構成材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、およびこれらの誘導体や金属錯体、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等が挙げられる。
【００６２】
より具体的には、例えば、ビス［（２−ジフェニルホスホリル）フェニル］エーテル（ＤＰＥＰＯ）、４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（Ｂｐｈｅｎ）、３，３’−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）ビフェニル（ｍＣＢＰ）、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＢＣＰ）、１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾル−２−イル）ベンゼン（ＴＰＢＩ）、３−フェニル−４（１’−ナフチル）−５−フェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、１，１０−フェナントロリン、Ａｌｑ（トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム）、ＬｉＦ等が挙げられる。
【００６３】
＜封止層４０＞
封止層４０は、円偏光フィルタ３５上に形成されている。封止層４０は、表示領域の全面を封止する。封止層４０は、有機ＥＬ層３０を薄膜封止（TFE：Thin Film Encapsulation）することで、外部から浸入した水分や酸素によって有機ＥＬ層３０が劣化するのを防止する。
【００６４】
封止層４０は、一例として、無機層、有機層、および無機層がこの順に積層された３層構造とすることができる。上記有機層の材料としては、例えば、ポリシロキサン、酸化炭化シリコン（ＳｉＯＣ）、アクリレート、ポリ尿素、パリレン、ポリイミド、ポリアミド等の有機絶縁材料（樹脂材料）が挙げられる。上記無機層の材料としては、例えば、窒化シリコン、酸化シリコン、酸窒化シリコン、Ａｌ２Ｏ３等の無機絶縁材料が挙げられる。なお、封止層４０の構造は、上述した３層構造に限定されるものではない。
【００６５】
＜個別正孔輸送層２６・発光層２７＞
各副画素３おいて、共通正孔輸送層２５上に島状の個別正孔輸送層２６が形成されており、個別正孔輸送層２６上に発光層２７が形成されている。
【００６６】
青色副画素３Ｂにおいては、共通正孔輸送層２５上に、個別正孔輸送層２６である青色個別正孔輸送層２６Ｂが形成されており、青色個別正孔輸送層２６Ｂ上に青色光を発光する青色発光層２７Ｂが形成されている。緑色副画素３Ｇにおいては、共通正孔輸送層２５上に、個別正孔輸送層２６である緑色個別正孔輸送層２６Ｇが形成されており、緑色個別正孔輸送層２６Ｇ上に緑色光を発光する緑色発光層２７Ｇが形成されている。赤色副画素３Ｒにおいては、共通正孔輸送層２５上に、個別正孔輸送層２６である赤色個別正孔輸送層２６Ｒが形成されており、赤色個別正孔輸送層２６Ｒ上に赤色光を発光する赤色発光層２７Ｒが形成されている。
【００６７】
陽極２０から発光層２７注入された正孔と、陰極３４から発光層２７注入された電子とは、発光層２７において再結合されることによって、励起子が形成される。形成された励起子は励起状態から基底状態へと失活する際に光を放出する。これにより、青色発光層２７Ｂは青色光を発光し、緑色発光層２７Ｇは緑色光を発光し、赤色発光層２７Ｒは赤色光を発光する。
【００６８】
ここで、この再結合に要するエネルギーは、青色発光層２７Ｂと、緑色発光層２７Ｇと、赤色発光層２７Ｒとでは異なる。このため、単に、青色発光層２７Ｂと、緑色発光層２７Ｇと、赤色発光層２７Ｒとのそれぞれに共通する共通正孔輸送層２５を設けただけだと、青色発光層２７Ｂと、緑色発光層２７Ｇと、赤色発光層２７Ｒとのそれぞれの個別の材料および特性に応じて正孔を注入することができない。
【００６９】
発光層２７に注入されなかった正孔は共通正孔輸送層２５内に滞留してしまうことになる。この分、発光層２７において再結合されなくなるため、電子輸送層３２から発光層２７へ注入される電子も減少し、あまった電子は電子輸送層３２に滞留することになる。
【００７０】
そこで、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１においては、各副画素３において、共通正孔輸送層２５と発光層２７との間に、共通正孔輸送層２５に加えて、さらに、個別に個別正孔輸送層２６が形成されている。
【００７１】
図３は、本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置の副画素におけるＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを表す図である。図３に示す各エネルギー準位の値を以下のように定義する。なお、本実施形態においては、各エネルギー準位の値は負の値であるものとする。
【００７２】
正孔注入層２４（ＨＩＬ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＩＬ‐Ｌとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＩＬ‐Ｈとする。
【００７３】
共通正孔輸送層２５（ＨＴＬ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐Ｌとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐Ｈとする。
【００７４】
赤色個別正孔輸送層２６Ｒ（ＨＴＬ‐Ｒ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐Ｌとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐Ｈとする。
【００７５】
赤色発光層２７Ｒ（ＥＭＬ‐Ｒ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐ＲＬとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐ＲＨとする。
【００７６】
緑色個別正孔輸送層２６Ｇ（ＨＴＬ‐Ｇ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐ＧＬとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐ＧＨとする。
【００７７】
緑色発光層２７Ｇ（ＥＭＬ‐Ｇ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐ＧＬとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐ＧＨとする。
【００７８】
青色個別正孔輸送層２６Ｂ（ＨＴＬ‐Ｂ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐ＢＬとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ‐ＢＨとする。
【００７９】
青色発光層２７Ｂ（ＥＭＬ‐Ｂ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐ＢＬとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐ＢＨとする。
【００８０】
また、最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値と、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップと称する。
【００８１】
ＨＩＬとＨＴＬとでは、ＨＩＬ‐ＬよりもＨＴＬ‐Ｌの値が小さく、ＨＩＬ‐ＨよりもＨＴＬ‐Ｈの値が大きい。ＨＩＬとＨＴＬとでは、ＨＴＬの方がＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが小さい。
【００８２】
ＨＴＬとＥＭＬ‐Ｂとでは、ＨＴＬ‐ＬよりもＥＭＬ‐ＢＬの値が小さく、ＨＴＬ‐ＨよりもＥＭＬ‐ＢＨの値が大きい。ＨＴＬとＥＭＬ‐Ｂとでは、ＥＭＬ‐Ｂの方がＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが小さい。
【００８３】
ＥＭＬ‐ＢとＥＭＬ‐Ｇとでは、ＥＭＬ‐ＢＬよりもＥＭＬ‐ＧＬの値が小さく、ＨＴＬ‐ＢＨよりもＥＭＬ‐ＧＨの値が大きい。ＥＭＬ‐ＢとＥＭＬ‐Ｇとでは、ＥＭＬ‐Ｇの方がＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが小さい。
【００８４】
ＥＭＬ‐ＧとＥＭＬ‐Ｒとでは、ＥＭＬ‐ＧＬよりもＥＭＬ‐ＲＬの値が小さく、ＨＴＬ‐ＧＨよりもＥＭＬ‐ＲＨの値が大きい。ＥＭＬ‐ＧとＥＭＬ‐Ｒとでは、ＥＭＬ‐Ｒの方がＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが小さい。
【００８５】
そして、各副画素３に形成された個別正孔輸送層２６は以下のように構成されている。
【００８６】
ＨＴＬ‐Ｂは、ＨＴＬ‐ＢＬがＥＭＬ−ＢＬより大きくＨＩＬ‐Ｌよりも小さくなっており、ＨＴＬ‐ＢＨがＥＭＬ−ＢＨより小さくＨＩＬ‐Ｈよりも大きくなっている。
【００８７】
ＨＴＬ‐Ｇは、ＨＴＬ‐ＧＬがＥＭＬ−ＧＬより大きくＨＴＬ‐ＢＬよりも小さくなっており、ＨＴＬ‐ＧＨがＥＭＬ−ＧＨより小さくＨＩＬ‐ＢＨよりも大きくなっている。
【００８８】
ＨＴＬ‐Ｒは、ＨＴＬ‐ＲＬがＥＭＬ−ＲＬより大きくＨＴＬ‐ＧＬよりも小さくなっており、ＨＴＬ‐ＲＨがＥＭＬ−ＲＨより小さくＨＩＬ‐ＧＨよりも大きくなっている。
【００８９】
ＨＯＭＯ側を式で表すと以下のように表すことができる。
【００９０】
｜ＨＩＬ‐Ｈ｜＞｜ＨＴＬ‐Ｈ｜＞｜ＨＴＬ‐ＢＨ｜＞｜ＥＭＬ‐ＢＨ｜＞｜ＨＴＬ‐ＧＨ｜＞｜ＥＭＬ‐ＧＨ｜＞｜ＨＴＬ‐ＲＨ｜＞｜ＥＭＬ‐ＲＨ｜・・・（式１）
ＬＵＭＯ側を式で表すと以下のように表すことができる。
【００９１】
｜ＨＩＬ‐Ｌ｜＜｜ＨＴＬ‐Ｌ｜＜｜ＨＴＬ‐ＢＬ｜＜｜ＥＭＬ‐ＢＬ｜＜｜ＨＴＬ‐ＧＬ｜＜｜ＥＭＬ‐ＧＬ｜＜｜ＨＴＬ‐ＲＬ｜＜｜ＥＭＬ‐ＲＬ｜・・・（式２）
有機ＥＬ表示装置１では、上記（式１）かつ上記（式２）を満たすように、個別正孔輸送層２６が形成されている。
【００９２】
このように、個別正孔輸送層２６の最低空軌道のエネルギー準位（ＬＵＭＯ）の値（ＨＴＬ−ＢＬ，ＨＴＬ−ＧＬ，ＨＴＬ−ＲＬ）は、共通正孔輸送層２５の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＴＬ‐Ｌ）よりも小さく、副画素３における発光層２７Ｂ・２７Ｇ・２７Ｒの最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値（ＥＭＬ−ＢＬ，ＥＭＬ−ＧＬ，ＥＭＬ−ＲＬ）よりも大きい。
【００９３】
これにより、各副画素３において、最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値が、共通正孔輸送層２５の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値よりも小さく、当該副画素３における発光層２７の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値よりも大きい個別正孔輸送層２６が、個別に配置されている。これにより、副画素３毎に、正孔を効率よく発光層２７へ注入することができる。このため、副画素３毎に発光層２７を効率よく発光させることができる。
【００９４】
そして、各副画素３において、個別正孔輸送層２６の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＩＬ‐ＢＨ，ＨＩＬ‐ＧＨ，ＨＩＬ‐ＲＨ）は、共通正孔輸送層２５の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＴＬ‐Ｈ）よりも大きく、当該副画素３における発光層２７Ｂ・２７Ｇ・２７Ｒの最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値（ＥＭＬ‐ＢＨ，ＥＭＬ‐ＧＨ，ＥＭＬ‐ＲＨ）よりも小さい。これにより、副画素３毎に、正孔を効率よく発光層２７へ注入することができる。このため、副画素３毎に発光層２７を効率よく発光させることができる。
【００９５】
また、画素２における副画素３に配置された個別正孔輸送層２６のうち、青色個別正孔輸送層２６ＢのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが最も大きい。
【００９６】
具体的には、青色個別正孔輸送層２６ＢのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップは、緑色個別正孔輸送層２６Ｇおよび赤色個別正孔輸送層２６ＲそれぞれのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップよりも大きいため、正孔を、青色発光層２７Ｂに効率よく注入することができる。
【００９７】
さらに、画素２における副画素３に配置された個別正孔輸送層２６のうち、赤色個別正孔輸送層２６ＲのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが最も小さい。
【００９８】
具体的には、赤色個別正孔輸送層２６ＲのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップは、緑色個別正孔輸送層２６ＧのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップよりも小さいため、赤色発光層２７Ｒ及び青色発光層２７Ｂそれぞれに効率よく正孔を注入することができる。
【００９９】
そして、緑色個別正孔輸送層２６ＧのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップは、赤色個別正孔輸送層２６ＲのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップより大きく、青色個別正孔輸送層２６ＢのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップより小さい。これにより、緑色発光層２７Ｇに効率よく正孔を注入することができる。
【０１００】
加えて、画素２における副画素３に配置された個別正孔輸送層２６のうち、青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１が最も薄い。
【０１０１】
具体的には、青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１と、緑色個別正孔輸送層２６Ｇの膜厚ｔ２と、赤色個別正孔輸送層２６Ｒの膜厚ｔ３とのうち、青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１が一番薄いため、青色発光層２７Ｂを効率よく発光させることができる。
【０１０２】
さらに、画素２における副画素３に配置された個別正孔輸送層２６のうち、赤色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ３が最も厚い。
【０１０３】
具体的には、赤色個別正孔輸送層２６Ｒの膜厚ｔ３は、緑色個別正孔輸送層２６Ｇの膜厚ｔ２よりも厚いため、緑色発光層２７Ｇおよび赤色発光層２７Ｒそれぞれを効率よく発光させることができる。
【０１０４】
そして、緑色個別正孔輸送層２６Ｇの膜厚ｔ２は、赤色個別正孔輸送層２６Ｒの膜厚ｔ３より薄く、青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１より厚い。これにより、緑色発光層２７Ｇに効率よく正孔を注入することができる。
【０１０５】
この個別正孔輸送層２６は、共通正孔輸送層２５を成膜した後、塗り分け蒸着により、各副画素３内にパターニングして形成することができる。すなわち、個別正孔輸送層２６は、マスク等を用いて、副画素３Ｂ・３Ｇ・３Ｒそれぞれ個別に順位パターン形成していく。
【０１０６】
なお、共通正孔輸送層２５と個別正孔輸送層２６とのうち、共通正孔輸送層２５を省略して、個別正孔輸送層２６だけを設ける構成とすることは好ましくない。これは、個別正孔輸送層２６は３色分、順にパターン形成する必要があるところ、共通正孔輸送層２５をパターン形成するために要する時間が３倍かかってしまい、生産効率の低下を招くためである。
【０１０７】
上記（式１）および（式２）を成り立たせるための、発光層２７および個別正孔輸送層２６としては以下の材料を挙げることができる。
【０１０８】
青色個別正孔輸送層２６Ｂとしては、ＨＡＴ‐ＣＮ、ＣｕＰｃなどを挙げることができる。
【０１０９】
緑色個別正孔輸送層２６Ｇとしては、α‐ＮＰＤなどを挙げることができる。
【０１１０】
赤色個別正孔輸送層２６Ｒとしては、ＰＣｚＰＡなどを挙げることができる。
【０１１１】
青色発光層２７Ｂとしては、ＴＡＰＣ、ＴＡＺなどを挙げることができる。
【０１１２】
緑色発光層２７Ｇとしては、α―ＮＰＤ、ＢＣＰなどを挙げることができる。
【０１１３】
赤色発光層２７Ｒとしては、ＴＰＤ、ＴＰＢＩなどを挙げることができる。
【０１１４】
また、青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１としては一例として１０ｎｍ程度である。緑色個別正孔輸送層２６Ｇの膜厚ｔ２としては一例として５０ｎｍ程度である。赤色個別正孔輸送層２６Ｒの膜厚ｔ３としては一例として１００ｎｍ程度である。
【０１１５】
図６は、本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置の発光層におけるＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを説明する図である。
【０１１６】
正孔輸送系のホスト材料と、電子輸送系のホスト材料とを混合させた混合ホストは、図６に示すように、最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値が小さく、また、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値が大きくなる。すなわち、正孔輸送系のホスト材料と、電子輸送系のホスト材料とを混合させることで、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが小さい混合ホストを得ることができる。この混合ホストを、発光層２７に含ませることで、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが小さい発光層２７を得ることができる。これにより、上述した（式１）および（式２）を満たす発光層２７を得やすくなる。
【０１１７】
このような正孔輸送系のホスト材料の一例としてα―ＮＰＤを挙げることができる。また、このような電子輸送系のホスト材料の一例としてＢＣＰを挙げることができる。
【０１１８】
なお、赤色発光層２７Ｒ、緑色発光層２７Ｇおよび青色発光層２７Ｂの全ての発光層に混合ホストを含ませる必要はなく、例えば、赤色発光層２７Ｒおよび緑色発光層２７Ｇそれぞれは混合ホストを含み、青色発光層２７Ｂは混合ホストを含まない構成であってもよい。
【０１１９】
図７は、本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示装置１のＨＴＬ、ＨＴＬ’、ＥＭＬのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを説明する図である。
【０１２０】
個別正孔輸送層２６（ＨＴＬ’）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ’‐Ｌとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＨＴＬ’‐Ｈとする。
【０１２１】
発光層２７（ＥＭＬ）の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐Ｌとし、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値をＥＭＬ‐Ｈとする。
【０１２２】
個別正孔輸送層２６（ＨＴＬ’）は、発光層２７（ＥＭＬ）から正孔輸送層２６（ＨＴＬ）へ電子が侵入することを防ぐことができれば問題ない。
【０１２３】
このため、ＨＴＬ‐Ｌ≧ＨＴＬ’‐Ｌであっても問題はない。
【０１２４】
また、ＨＴＬ‐Ｌ＞＞ＥＭＬ‐Ｌであれば、ＨＴＬ’‐Ｌはどの程度の値でも問題はない。
【０１２５】
〔実施形態２〕
本発明の実施形態２について、図４および図５に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【０１２６】
図４は、本発明の実施形態２に係る有機ＥＬ表示装置１Ａの構成を表す断面図である。
【０１２７】
有機ＥＬ表示装置１Ａは、有機ＥＬ表示装置１（図１参照）のうち、緑色個別正孔輸送層２６Ｇを緑色個別正孔輸送層２６ＧＡへ変更し、赤色個別正孔輸送層２６Ｒを赤色個別正孔輸送層２６ＲＡへ変更した構成である。有機ＥＬ表示装置１Ａの他の構成は、有機ＥＬ表示装置１と同様である。
【０１２８】
図５は、本発明の実施形態２に係る有機ＥＬ表示装置の副画素におけるＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップを表す図である。
【０１２９】
図４および図５に示すように、有機ＥＬ表示装置１Ａは、以下の（式３）かつ（式４）が成り立つ構成を有する。
【０１３０】
すなわち、ＨＯＭＯ側を式で表すと以下のように表すことができる。
【０１３１】
｜ＨＩＬ‐Ｈ｜＞｜ＨＴＬ‐Ｈ｜＞｜ＨＴＬ‐ＢＨ｜＞｜ＥＭＬ‐ＢＨ｜＞｜ＨＴＬ‐ＧＨ｜＝｜ＨＴＬ‐ＲＨ｜＞｜ＥＭＬ‐ＧＨ｜＞｜ＥＭＬ‐ＲＨ｜・・・（式３）
ＬＵＭＯ側を式で表すと以下のように表すことができる。
【０１３２】
｜ＨＩＬ‐Ｌ｜＜｜ＨＴＬ‐Ｌ｜＜｜ＨＴＬ‐ＢＬ｜＜｜ＥＭＬ‐ＢＬ｜＜｜ＨＴＬ‐ＧＬ｜＝｜ＨＴＬ‐ＲＬ｜＜｜ＥＭＬ‐ＧＬ｜＜｜ＥＭＬ‐ＲＬ｜・・・（式４）
このように、赤色個別正孔輸送層２６ＲＡのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップと、緑色個別正孔輸送層２６ＧＡのＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとが等しい。
【０１３３】
また、緑色個別正孔輸送層２６ＧＡの膜厚ｔ２は、赤色個別正孔輸送層２６ＲＡの膜厚ｔ３と等しい。
【０１３４】
これにより、赤色個別正孔輸送層２６Ｒと、緑色個別正孔輸送層２６Ｇとを同じ材料により構成することができる。これにより生産効率を向上させることができる。
【０１３５】
緑色個別正孔輸送層２６ＧＡの材料としては、ＣｕＰｃ、ＴＰＤなどを挙げることができる。
【０１３６】
赤色個別正孔輸送層２６ＲＡの材料としては、ＴＡＰＣ、α―ＮＰＤなどを挙げることができる。
【０１３７】
〔実施形態３〕
本発明の実施形態３について、図８に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、実施形態１、２にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【０１３８】
図８は、本発明の実施形態３に係る有機ＥＬ表示装置１Ｂの構成を表す断面図である。
【０１３９】
有機ＥＬ表示装置１Ｂは、有機ＥＬ表示装置１Ａ（図４参照）のうち、緑色個別正孔輸送層２６ＧＡおよび赤色個別正孔輸送層２６ＲＡを、共通の共通個別正孔輸送層２６ＲＧへ変更した構成である。有機ＥＬ表示装置１Ｂの他の構成は、有機ＥＬ表示装置１Ａと同様である。
【０１４０】
共通個別正孔輸送層２６ＲＧは、複数の副画素３のうち、青色副画素３Ｂ以外の他副画素である緑色副画素３Ｇおよび赤色副画素３Ｒに跨って、緑色副画素３Ｇおよび赤色副画素３Ｒに共通に配置された個別正孔輸送層２６である。なお、青色副画素３Ｂには、個別正孔輸送層２６として、共通個別正孔輸送層２６ＲＧとは異なる青色個別正孔輸送層２６Ｂが配置されている。
【０１４１】
共通個別正孔輸送層２６ＲＧとしては、共通個別正孔輸送層２６ＲＧが配置されている複数の副画素に含まれる発光層のうちＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが大きい発光層よりもＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが大きくなるようにする。本実施形態では、共通個別正孔輸送層２６ＲＧは、ＬＵＭＯ側は、ＥＭＬ‐ＧＬよりも大きく、ＨＯＭＯ側は、ＥＭＬ‐ＧＨよりも小さいエネルギー準位の値を有するよう構成する。
【０１４２】
緑色副画素３Ｇに配置された共通個別正孔輸送層２６ＲＧの膜厚ｔ２と、赤色副画素３Ｒに配置された共通個別正孔輸送層２６ＲＧの膜厚ｔ３とは等しい。
【０１４３】
上記構成によると、上記他副画素に配置された個別正孔輸送層を同じ材料により構成することができる。これにより生産効率を向上させることができる。
【０１４４】
なお、膜厚ｔ２・ｔ３は、青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１よりも大きい。
【０１４５】
〔まとめ〕
本発明の態様１に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａは、異なる色の光を発光する複数の副画素３を有する画素２が表示領域１にマトリクス状に配置された有機ＥＬ表示装置１・１Ａであって、上記各副画素３に個別に配置され、上記副画素３毎に異なる色の光を発光する発光層２７と、上記発光層２７を介在させて対向配置された電極である陽極２０および陰極３４と、上記陽極２０と上記発光層２７との間に、上記各副画素３に共通する共通正孔輸送層２５が配置されており、さらに、上記各副画素３において、上記共通正孔輸送層２５と上記発光層２７との間に、当該副画素３毎に個別に個別正孔輸送層２６が配置されており、上記副画素３毎に、上記個別正孔輸送層２６の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＴＬ−ＢＬ，ＨＴＬ−ＧＬ，ＨＴＬ−ＲＬ）は、上記共通正孔輸送層２５の最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＴＬ‐Ｌ）よりも小さく、当該副画素３における上記発光層２７Ｂ・２７Ｇ・２７Ｒの最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値（ＥＭＬ−ＢＬ，ＥＭＬ−ＧＬ，ＥＭＬ−ＲＬ）よりも大きいことを特徴とする。
【０１４６】
上記構成によると、各副画素において、最低空軌道のエネルギー準位の値が、共通正孔輸送層の最低空軌道のエネルギー準位の値よりも小さく、当該副画素における発光層の最低空軌道のエネルギー準位の値よりも大きい個別正孔輸送層が、個別に配置されている。これにより、副画素毎に、正孔を効率よく発光層へ注入することができる。このため、副画素毎に発光層を効率よく発光させることができる。
【０１４７】
本発明の態様２に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａは、上記態様１において、上記各副画素３において、上記個別正孔輸送層２６の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＩＬ‐ＢＨ，ＨＩＬ‐ＧＨ，ＨＩＬ‐ＲＨ）は、上記共通正孔輸送層２５の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値（ＨＴＬ‐Ｈ）よりも大きく、当該副画素３における上記発光層２７Ｂ・２７Ｇ・２７Ｒの最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値（ＥＭＬ‐ＢＨ，ＥＭＬ‐ＧＨ，ＥＭＬ‐ＲＨ）よりも小さいことが好ましい。
【０１４８】
上記構成によると、副画素毎に、正孔を効率よく発光層へ注入することができる。このため、副画素毎に発光層を効率よく発光させることができる。
【０１４９】
本発明の態様３に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記副画素３毎に、上記個別正孔輸送層２６の膜厚が異なることで、上記陽極２０と上記発光層２７との間または上記陽極２０と上記陰極３４との間で光学調整がされていることが好ましい。上記構成により、高精細な画像の表示が可能である。
【０１５０】
本発明の態様４に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様１〜３において、
上記画素２は上記複数の副画素３として、青色光を発光する上記発光層２７である青色発光層２７Ｂが配置された青色副画素３Ｂを有してもよい。
【０１５１】
本発明の態様５に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様４において、最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位の値と、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素のうち、青色副画素３Ｂに配置された上記個別正孔輸送層２６である青色個別正孔輸送層２６Ｂの上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが最も大きくてもよい。上記構成によると、正孔を、上記青色発光層に効率よく注入することができる。
【０１５２】
本発明の態様６に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様５において、上記複数の副画素３のうち、上記青色副画素３Ｂに配置された上記個別正孔輸送層２６である青色個別正孔輸送層２６Ｂの膜厚ｔ１が最も薄くてもよい。上記構成により、青色発光層に効率よく正孔を注入することができる。
【０１５３】
本発明の態様７に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様１〜６において、上記画素は上記複数の副画素として、赤色光を発光する上記発光層である赤色発光層が配置された赤色副画素を有してもよい。
【０１５４】
本発明の態様８に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様７において、最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素３のうち、上記赤色副画素３Ｒに配置された上記個別正孔輸送層２６である赤色個別正孔輸送層２６Ｒの上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップが最も小さくてもよい。上記構成により、赤色発光層に効率よく正孔を注入することができる。
【０１５５】
本発明の態様９に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様７または８において、上記複数の副画素３のうち、上記赤色副画素３Ｒに配置された上記個別正孔輸送層２６である赤色個別正孔輸送層２６の膜厚ｔ３が最も厚くてもよい。上記構成により、赤色発光層に効率よく正孔を注入することができる。
【０１５６】
本発明の態様１０に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様７または８において、上記画素２は上記複数の副画素３として、緑色光を発光する上記発光層２７である緑色発光層２７が配置された緑色副画素３Ｒを有してもよい。
【０１５７】
本発明の態様１１に係る有機ＥＬ表示装置１・１Ａ・１Ｂは、上記態様１０において、最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素３のうち、上記緑色副画素３Ｇに配置された上記個別正孔輸送層２６である緑色個別正孔輸送層２６Ｇの上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップは、上記赤色副画素３Ｒに配置された上記個別正孔輸送層２６Ｒである赤色個別正孔輸送層２６Ｒの上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップよりも大きくてもよい。上記構成により、赤色発光層および緑色発光層に効率よく正孔を注入することができる。
【０１５８】
本発明の態様１２に係る有機ＥＬ表示装置１は、上記態様１０において、上記複数の副画素３のうち、上記緑色副画素３Ｇに配置された上記個別正孔輸送層２６である緑色個別正孔輸送層２６Ｇの膜厚ｔ２は、上記赤色副画素３Ｒに配置された上記個別正孔輸送層２６である赤色個別正孔輸送層２６Ｒの膜厚ｔ３よりも薄くてもよい。上記構成により、赤色発光層および緑色発光層に効率よく正孔を注入することができる。
【０１５９】
本発明の態様１３に係る有機ＥＬ表示装置１Ａ・１Ｂは、上記態様１０において、最低空軌道のエネルギー準位の値と、最高被占軌道のエネルギー準位の値との差を、ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとすると、上記複数の副画素３のうち、上記緑色副画素３Ｇに配置された上記個別正孔輸送層２６である緑色個別正孔輸送層２６Ｇの上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップと、上記赤色副画素３Ｒに配置された上記個別正孔輸送層２６Ｒである赤色個別正孔輸送層２６Ｒの上記ＨＯＭＯ‐ＬＵＭＯエネルギーギャップとが等しくてもよい。上記構成によると、上記赤色個別正孔輸送層と、上記緑色個別正孔輸送層とを同じ材料により構成することができる。これにより生産効率を向上させることができる。
【０１６０】
本発明の態様１４に係る有機ＥＬ表示装置１Ａ・１Ｂは、上記態様１０または１３において、上記複数の副画素３のうち、上記緑色副画素３Ｇに配置された上記個別正孔輸送層２６である緑色個別正孔輸送層２６Ｇの膜厚ｔ２と、上記赤色副画素３Ｒに配置された上記個別正孔輸送層２６である赤色個別正孔輸送層２６Ｒの膜厚ｔ３とが等しくてもよい。
【０１６１】
上記構成によると、上記赤色個別正孔輸送層と、上記緑色個別正孔輸送層とを同じ材料により構成することができる。これにより生産効率を向上させることができる。
【０１６２】
本発明の態様１５に係る有機ＥＬ表示装置１Ｂは、上記態様４〜６において、上記複数の副画素３のうち、上記青色副画素３Ｂ以外の他副画素に配置された上記個別正孔輸送層２６は、複数の上記他副画素に跨って共通に配置されていてもよい。上記構成によると、上記他副画素に配置された個別正孔輸送層を同じ材料により構成することができる。これにより生産効率を向上させることができる。
【０１６３】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
【符号の説明】
【０１６４】
１ａ  表示領域
１・１Ａ・１Ｂ  有機ＥＬ表示装置
３  副画素
３Ｂ  青色副画素
３Ｇ  緑色副画素
３Ｒ  赤色副画素
５  有機ＥＬ素子
５Ｂ  青色有機ＥＬ素子
５Ｇ  緑色有機ＥＬ素子
５Ｒ  赤色有機ＥＬ素子
１０  ＴＦＴ基板
１１  支持体
１２  ＴＦＴ
１３  配線
１４  パッシベーション膜
１５  層間絶縁膜
２０  陽極
２１  反射電極
２２  透光性電極
２３  エッジカバー
２４  正孔注入層
２５  共通正孔輸送層
２５  正孔輸送層
２６  個別正孔輸送層
２６Ｂ  青色個別正孔輸送層（個別正孔輸送層）
２６Ｇ、２６ＧＡ  緑色個別正孔輸送層（個別正孔輸送層）
２６Ｒ、２６ＲＡ  赤色個別正孔輸送層（個別正孔輸送層）
２６ＲＧ  共通個別正孔輸送層（個別正孔輸送層）
２７  発光層
２７Ｂ  青色発光層
２７Ｇ  緑色発光層
２７Ｒ  赤色発光層
３０  有機ＥＬ層
３１  正孔遮断層
３２  電子輸送層
３３  電子注入層
３４  陰極
３５  円偏光フィルタ
４０  封止層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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