(57)【要約】  本発明は、核酸の製造（合成）に好適なホスホロアミダイトをより効率よく、しかも高純度で製造する方法を提供することを目的とする。下記化学式（１０５）で表されるエーテル、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩と、配糖体化合物とのカップリング反応を用いて、効率的な核酸合成を可能とするホスホロアミダイトを得ることが可能となる。2018070543.tif 000126（式中、ｎは、正の整数であり、Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。）
2018070543.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式（１）で表される配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化１】
2018070543.tif 000099
前記化学式（１）中、
Ｂは、核酸塩基骨格を有する原子団であり、保護基を有していても有していなくても良く、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、水素原子もしくは保護基であり、
または、Ｒ１およびＲ２は、一体となって、下記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）もしくは（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成しても良く、
【化２】
2018070543.tif 000100
各Ｒ１ａは、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良く、
Ｒ３は、下記化学式（Ｒ３）で表される基であり、
【化３】
2018070543.tif 000101
前記化学式（Ｒ３）中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【請求項２】
Ｒ及びＲ’が同一又は異なってアシル基である請求項１に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項３】
Ｒ及びＲ’がアセチル基である請求項１に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項４】
前記化学式（１）中、
Ｒ１が、水素原子、または下記化学式（Ｒ１Ａ）、（Ｒ１Ｂ）、（Ｒ１Ｃ）もしくは（Ｒ１Ｄ）のいずれかで表される置換基である請求項１〜３のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化４】
2018070543.tif 000102
前記化学式（Ｒ１Ａ）中、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、直鎖もしくは分枝アルコキシ基、または直鎖もしくは分枝アルキル基であるか、または存在せず、同一でも異なっていても良く、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、存在する場合は１でも複数でも良く、複数の場合は同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｂ）中、
Ｒ１４〜Ｒ１６は、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｃ）中、
Ｒ１７〜Ｒ１９は、それぞれ、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｄ）中、
Ｒ２０〜Ｒ２２は、それぞれ、水素原子、または直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良い。
【請求項５】
前記化学式（１）中、
Ｒ１が、水素原子、または下記化学式（Ｒ１Ａａ）、（Ｒ１Ｂａ）、（Ｒ１Ｃａ）、（Ｒ１Ｃｂ）、もしくは（Ｒ１Ｄａ）で表される置換基である請求項１〜３のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化５】
2018070543.tif 000103
【請求項６】
前記化学式（１）中、
Ｒ１およびＲ２は、一体となって、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成し、
前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）中、
各Ｒ１ａが、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良い、請求項１〜３のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項７】
前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（２）で表される配糖体化合物である請求項１〜５のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化６】
2018070543.tif 000104
前記化学式（２）中、
Ｂ、Ｒ１およびＲ３は、前記化学式（１）と同じであり、
ただし、Ｒ１は保護基であり、
Ａは、下記化学式（２−１）、（２−２−１）、（２−２−２）又は（２−２−３）で表される基である。
【化７】
2018070543.tif 000105
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それぞれ、水素原子もしくは任意の置換基であり、同一でも異なっていても良く、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良く、
Ｒ２ｃは、水素原子、電子求引基または任意の置換基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良い。
【請求項８】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、それぞれ、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、さらに電子求引基で置換されていても置換されていなくても良く、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって５〜６員環の非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良い、
請求項７に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項９】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、それぞれ、メチル基、エチル基、イソプロピル基、もしくはt−ブチル基であるか、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって、ピペリジル基、モルホリノ基、ピロリジル基、チオモルホリノ基、もしくは他の含窒素脂環式基を形成する、
請求項７に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項１０】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃが、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良い、請求項７〜９のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項１１】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃが、電子求引基［Ｄ２］で置換された直鎖もしくは分枝アルキル基である請求項７〜９のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項１２】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃにおいて、前記電子求引基［Ｄ２］が、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン、アリールスルホニル基、またはトリハロメチル基である請求項７〜１１のいずれか一項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項１３】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃが、アルケニル基もしくはエチニル基であるか、または、電子求引基［Ｄ２］で置換され、［Ｄ２］とともにシアノエチル基を形成する、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項１４】
前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（３）で表される配糖体化合物である請求項１〜５及び７〜１３のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化８】
2018070543.tif 000106
前記化学式（３）中、
Ｒ、Ｒ’、Ｂおよびｎは、前記化学式（１）と同じであり、
ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基であり、
Ａ’は、下記化学式（３−１）、（３−２−１）又は（３−２−２）で表される基である。
【化９】
2018070543.tif 000107
【請求項１５】
前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）または（Ｕ５）で表される配糖体化合物である請求項１記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化１０】
2018070543.tif 000108
【化１１】
2018070543.tif 000109
【化１２】
2018070543.tif 000110
【化１３】
2018070543.tif 000111
【化１４】
2018070543.tif 000112
前記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）および（Ｕ５）中、Ｒ、Ｒ’およびｎは、前記化学式（１）と同じであり、ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基であり、Ａ’は、下記化学式（３−１）、（３−２−１）又は（３−２−２）で表される基である。
【化１５】
2018070543.tif 000113
【請求項１６】
前記化学式（１）中において、ｎ＝１である請求項１〜１５のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【請求項１７】
（１）下記化学式（１０２）で表される化合物をメチルチオメチル化して、下記化学式（１０３）で表される化合物を製造し；
（２）下記化学式（１０３）で表される化合物を開環反応に付して、下記化学式（１０４）で表される化合物を製造し；及び
（３）下記化学式（１０４）で表される化合物の水酸基を保護し、必要に応じ、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返すことを含む、
下記化学式（１０５）で表されるエーテルを製造する方法。
【化１６】
2018070543.tif 000114
各式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【請求項１８】
化学式（１０２）で表されるアルコールが下記化学式（１０１）で表されるジオールを環化により保護して得られる、請求項１７記載の方法。
【化１７】
2018070543.tif 000115
【請求項１９】
（１）下記化学式（１０１−１）で表される化合物をアルカリ加水分解して、下記化学式（１０１−２）で表されるアルコールを製造し；
（２）下記化学式（１０１−２）で表されるアルコールの水酸基を保護して、下記化学式（１０１−３）で表される化合物を製造し；
（３）下記化学式（１０１−３）で表される化合物を酸化して下記化学式（１０１−４）で表される化合物を製造し；
（４）下記化学式（１０１−４）で表される化合物をイソプロピリデン化して下記化学式（１０１−５）で表される化合物を製造し；及び
（５）下記化学式（１０１−５）で表される化合物を脱保護することを含む、
下記化学式（１０２）で表される化合物を製造する方法。
【化１８】
2018070543.tif 000116
各式中、
ＰＯＨは、水酸基の保護基であり、
Ｘは、ハロゲン原子、アセチルオキシ基、置換されていてもよいカルボキシル基または置換されていてもよいカルバモイル基である。
【請求項２０】
（１）下記化学式（１０４−１）で表される化合物の４位の水酸基を保護して、下記化学式（１０４−２）で表されるヒドロキシカルボン酸を製造し；
（２）下記化学式（１０４−２）で表されるヒドロキシカルボン酸の水酸基を保護し、アシル化して下記化学式（１０４−３）で表される化合物を製造し；
（３）下記化学式（１０４−３）で表される化合物の４位を脱保護して下記化学式（１０４−４）で表される化合物を製造し；及び
（４）下記化学式（１０４−４）で表される化合物をメチルチオメチル化し、必要に応じ、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返すことを含む、
下記化学式（１０５）で表されるエーテルを製造する方法。
【化１９】
2018070543.tif 000117
各式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｐ’ＯＨは、水酸基の保護基であり
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【請求項２１】
Ｒ及びＲ’がアセチル基である、請求項１７又は２０に記載の製造方法。
【請求項２２】
下記化学式（１０５）で表されるエーテル、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
【化２０】
2018070543.tif 000118
式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【請求項２３】
下記化学式（１０６）で表される配糖体化合物と、下記化学式（１０５）で表されるエーテルとを、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でカップリング反応させて、下記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物を製造するカップリング工程を含み、
下記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物は、前記化学式（１）中のＲ１およびＲ２が一体となって、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成した配糖体化合物である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩の製造方法。
【化２１】
2018070543.tif 000119
前記化学式（１０６）および（１ａ）中、
Ｌ２は、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団であり、
前記化学式（１０５）、（１０６）および（１ａ）中、 
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
【請求項２４】
前記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物から前記原子団Ｌ２を脱保護して下記化学式（１ｂ）で表される配糖体化合物を製造する脱保護工程をさらに含み、
下記化学式（１ｂ）で表される配糖体化合物は、前記化学式（１）においてＲ１およびＲ２が水素原子の配糖体化合物である、請求項２３に記載の製造方法。
【化２２】
2018070543.tif 000120
前記化学式（１ｂ）において、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
【請求項２５】
前記化学式（１ｂ）に保護基Ｒ１およびＲ２を導入して下記化学式（１ｃ）で表される配糖体化合物を製造する保護基導入工程をさらに含み、
下記化学式（１ｃ）で表される配糖体化合物は、前記化学式（１）において、Ｒ１およびＲ２が、水素原子、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）、および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）以外で表される配糖体化合物である、請求項２４に記載の製造方法。
【化２３】
2018070543.tif 000121
前記化学式（１ｃ）中、
Ｒ１およびＲ２は、前記化学式（１）中のＲ１およびＲ２のうち、水素原子、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）、および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）以外であり、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
【請求項２６】
前記ハロゲン化剤が、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド、ヨウ素、臭素および塩素からなる群から選択される少なくとも一つである請求項２３〜２５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２７】
前記ルイス酸が、ペルフルオロアルキルカルボン酸、ペルフルオロアルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つである請求項２３〜２６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２８】
前記ルイス酸が、トリフルオロメタンスルホン酸又はメタンスルホン酸である請求項２３〜２７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２９】
前記カップリング反応を、モレキュラーシーブの共存下で行う請求項２３〜２８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項３０】
下記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体
【化２４】
2018070543.tif 000122
前記化学式（Ｉ’）において、Ｂは、前記化学式（１）、（２）または（３）と同じであり、
Ｒ１０１は、下記化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基であり、
【化２５】
2018070543.tif 000123
前記化学式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基であり、
各Ｂは同一でも異なっていても良く、各Ｒ１０１は同一でも異なっていても良く、
ｍは、正の整数である。
【請求項３１】
下記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸の製造方法であって、
請求項７〜１６のいずれか１項に記載の配糖体化合物を縮合反応させる縮合工程を含むことを特徴とする製造方法。
【化２６】
2018070543.tif 000124
前記化学式（Ｉ）において、Ｂは、前記化学式（１）、（２）または（３）と同じであり、
Ｒ１００は、水素原子または水酸基、或いは、下記化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基であり、
【化２７】
2018070543.tif 000125
前記化学式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
各Ｂは同一でも異なっていても良く、各Ｒ１００は同一でも異なっていても良く、
ｍは、正の整数である。
【請求項３２】
縮合反応により得られた縮合化合物中の２’位を脱保護する工程を含む請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
脱保護が、（i）アンモニア処理工程、（ii）過ヨウ素酸処理工程、及び（iii）テトラアルキルアンモニウムハライド処理工程により実施される、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
（ii）過ヨウ素酸処理工程と（iii）テトラアルキルアンモニウムハライド処理工程の間に、２’位のホルミル基を保護する工程を含む、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
２’位のホルミル基を保護する工程で、アミン化合物を反応させる、請求項３４記載の方法。
【請求項３６】
アミン化合物が、電子吸引性基をもつベンジルアミン化合物である請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記化学式（Ｉ）中、各Ｒ１００が水酸基である請求項３１〜３６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３８】
前記化学式（Ｉ）中、各Ｒ１００が水素原子であり、
前記縮合工程により得られた核酸から、逆転写により、前記化学式（Ｉ）で表される核酸を製造する逆転写工程をさらに含む、請求項３１〜３６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３９】
前記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸であって各Ｒ１００が化学式（Ｒ４）で表される基である核酸を、テトラアルキルアンモニウムハライドで処理することにより、前記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸であって各Ｒ１００が水酸基である核酸、を得る工程を含む請求項３１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配糖体化合物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＤＮＡ、ＲＮＡ等の核酸の製造（合成）方法としては、例えば、ホスホロアミダイト法等が用いられる。ホスホロアミダイト法による核酸合成の原料としては、ヌクレオシドのホスホロアミダイト（以下、単に「ホスホロアミダイト」ということがある。）が使用される。前記ホスホロアミダイトの２’−位の保護基としては、例えば、ＴＢＤＭＳ（ターシャリーブチルジメチルシリル［tert-butyldimethylsilyl］）基、ＴＯＭ（トリイソプロピルシリルオキシメチル［triisopropylsilyloxymethyl］）基、ＡＣＥ（ビス（２−アセトキシエトキシ）メチル［bis(2-acetoxyethoxy)methyl]）基等、多数の保護基が用いられている。【０００３】
しかし、ＴＯＭアミダイト、ＡＣＥアミダイト等の従来のホスホロアミダイトは、その製造コストが高いため、医薬品等の合成原料としては用いにくい。また、ＴＢＤＭＳアミダイトは、カップリング（縮合）反応により核酸を合成する際の、核酸の収率および純度があまり高くない場合がある。
そこで、低コストに製造できて、かつ、核酸を高収率および高純度で製造可能なホスホロアミダイトを提供可能な、保護基の開発が試みられている（特許文献１及び２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＷＯ２０１３／０２７８４３
【特許文献２】ＷＯ２００８／０９０８２９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、核酸の製造（合成）に好適なホスホロアミダイトをより効率よく、しかも高純度で製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、ホスホロアミダイトの２’−位の保護基として、３，４−ジアセトキシブトキシメチル［3,4-diacetoxybutoxymethyl］（以下、ＤＢＭという）基を用いることによって、従来に比べ、より効率よく、且つ高純度にホスホロアミダイトを製造することができることを見出して本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は以下の通りである。
［１］下記化学式（１）で表される配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【０００７】
【化１】
2018070543.tif 000003
【０００８】
前記化学式（１）中、
Ｂは、核酸塩基骨格を有する原子団であり、保護基を有していても有していなくても良く、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、水素原子もしくは保護基であり、
または、Ｒ１およびＲ２は、一体となって、下記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）もしくは（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成しても良く、【０００９】
【化２】
2018070543.tif 000004
【００１０】
各Ｒ１ａは、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良く、
Ｒ３は、下記化学式（Ｒ３）で表される基であり、【００１１】
【化３】
2018070543.tif 000005
【００１２】
前記化学式（Ｒ３）中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
［２］Ｒ及びＲ’が同一又は異なってアシル基である上記［１］に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［３］Ｒ及びＲ’がアセチル基である上記［１］に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［４］前記化学式（１）中、
Ｒ１が、水素原子、または下記化学式（Ｒ１Ａ）、（Ｒ１Ｂ）、（Ｒ１Ｃ）もしくは（Ｒ１Ｄ）のいずれかで表される置換基である上記［１］〜［３］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【００１３】
【化４】
2018070543.tif 000006
【００１４】
前記化学式（Ｒ１Ａ）中、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、直鎖もしくは分枝アルコキシ基、または直鎖もしくは分枝アルキル基であるか、または存在せず、同一でも異なっていても良く、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、存在する場合は１でも複数でも良く、複数の場合は同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｂ）中、
Ｒ１４〜Ｒ１６は、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｃ）中、
Ｒ１７〜Ｒ１９は、それぞれ、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｄ）中、
Ｒ２０〜Ｒ２２は、それぞれ、水素原子、または直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良い。
［５］前記化学式（１）中、
Ｒ１が、水素原子、または下記化学式（Ｒ１Ａａ）、（Ｒ１Ｂａ）、（Ｒ１Ｃａ）、（Ｒ１Ｃｂ）、もしくは（Ｒ１Ｄａ）で表される置換基である上記［１］〜［３］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【００１５】
【化５】
2018070543.tif 000007
【００１６】
［６］前記化学式（１）中、
Ｒ１およびＲ２は、一体となって、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成し、
前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）中、
各Ｒ１ａが、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良い、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［７］前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（２）で表される配糖体化合物である上記［１］〜［５］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【００１７】
【化６】
2018070543.tif 000008
【００１８】
前記化学式（２）中、
Ｂ、Ｒ１およびＲ３は、前記化学式（１）と同じであり、
ただし、Ｒ１は保護基であり、
Ａは、下記化学式（２−１）、（２−２−１）、（２−２−２）又は（２−２−３）で表される基である。【００１９】
【化７】
2018070543.tif 000009
【００２０】
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それぞれ、水素原子もしくは任意の置換基であり、同一でも異なっていても良く、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良く、
Ｒ２ｃは、水素原子、電子求引基または任意の置換基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良い。
［８］前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、それぞれ、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、さらに電子求引基で置換されていても置換されていなくても良く、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって５〜６員環の非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良い、
上記［７］に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［９］前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、それぞれ、メチル基、エチル基、イソプロピル基、もしくはt−ブチル基であるか、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって、ピペリジル基、モルホリノ基、ピロリジル基、チオモルホリノ基、もしくは他の含窒素脂環式基を形成する、
上記［７］に記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［１０］前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃが、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良い、上記［７］〜［９］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［１１］前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃが、電子求引基［Ｄ２］で置換された直鎖もしくは分枝アルキル基である上記［７］〜［９］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［１２］前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃにおいて、前記電子求引基［Ｄ２］が、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン、アリールスルホニル基、またはトリハロメチル基である上記［７］〜［１１］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［１３］前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ｃが、アルケニル基もしくはエチニル基であるか、または、電子求引基［Ｄ２］で置換され、［Ｄ２］とともにシアノエチル基を形成する、上記［７］〜［１１］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［１４］前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（３）で表される配糖体化合物である上記［１］〜［５］及び［７］〜［１３］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【００２１】
【化８】
2018070543.tif 000010
【００２２】
前記化学式（３）中、
Ｒ、Ｒ’、Ｂおよびｎは、前記化学式（１）と同じであり、
ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基であり、
Ａ’は、下記化学式（３−１）、（３−２−１）又は（３−２−２）で表される基である。【００２３】
【化９】
2018070543.tif 000011
【００２４】
［１５］前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）または（Ｕ５）で表される配糖体化合物である上記［１］記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【００２５】
【化１０】
2018070543.tif 000012
【００２６】
【化１１】
2018070543.tif 000013
【００２７】
【化１２】
2018070543.tif 000014
【００２８】
【化１３】
2018070543.tif 000015
【００２９】
【化１４】
2018070543.tif 000016
【００３０】
前記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）および（Ｕ５）中、Ｒ、Ｒ’およびｎは、前記化学式（１）と同じであり、ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基であり、Ａ’は、下記化学式（３−１）、（３−２−１）又は（３−２−２）で表される基である。【００３１】
【化１５】
2018070543.tif 000017
【００３２】
［１６］前記化学式（１）中において、ｎ＝１である上記［１］〜［１５］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
［１７］（１）下記化学式（１０２）で表される化合物をメチルチオメチル化して、下記化学式（１０３）で表される化合物を製造し；
（２）下記化学式（１０３）で表される化合物を開環反応に付して、下記化学式（１０４）で表される化合物を製造し；及び
（３）下記化学式（１０４）で表される化合物の水酸基を保護し、必要に応じ、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返すことを含む、
下記化学式（１０５）で表されるエーテルを製造する方法。【００３３】
【化１６】
2018070543.tif 000018
【００３４】
各式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
［１８］化学式（１０２）で表されるアルコールが下記化学式（１０１）で表されるジオールを環化により保護して得られる、上記［１７］記載の方法。【００３５】
【化１７】
2018070543.tif 000019
【００３６】
［１９］（１）下記化学式（１０１−１）で表される化合物をアルカリ加水分解して、下記化学式（１０１−２）で表されるアルコールを製造し；
（２）下記化学式（１０１−２）で表されるアルコールの水酸基を保護して、下記化学式（１０１−３）で表される化合物を製造し；
（３）下記化学式（１０１−３）で表される化合物を酸化して下記化学式（１０１-４）で表される化合物を製造し；
（４）下記化学式（１０１−４）で表される化合物をイソプロピリデン化して下記化学式（１０１−５）で表される化合物を製造し；及び
（５）下記化学式（１０１−５）で表される化合物を脱保護することを含む、
下記化学式（１０２）で表される化合物を製造する方法。【００３７】
【化１８】
2018070543.tif 000020
【００３８】
各式中、
ＰＯＨは、水酸基の保護基であり、
Ｘは、ハロゲン原子、アセチルオキシ基、置換されていてもよいカルボキシル基または置換されていてもよいカルバモイル基である。
［２０］（１）下記化学式（１０４−１）で表される化合物の４位の水酸基を保護して、下記化学式（１０４−２）で表されるヒドロキシカルボン酸を製造し；
（２）下記化学式（１０４−２）で表されるヒドロキシカルボン酸の水酸基を保護し、アシル化して下記化学式（１０４−３）で表される化合物を製造し；
（３）下記化学式（１０４−３）で表される化合物の４位を脱保護して下記化学式（１０４−４）で表される化合物を製造し；及び
（４）下記化学式（１０４−４）で表される化合物をメチルチオメチル化し、必要に応じ、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返すことを含む、
下記化学式（１０５）で表されるエーテルを製造する方法。【００３９】
【化１９】
2018070543.tif 000021
【００４０】
各式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｐ’ＯＨは、水酸基の保護基であり
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
［２１］Ｒ及びＲ’がアセチル基である、上記［１７］又は［２０］に記載の製造方法。
［２２］下記化学式（１０５）で表されるエーテル、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。【００４１】
【化２０】
2018070543.tif 000022
【００４２】
式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
［２３］下記化学式（１０６）で表される配糖体化合物と、下記化学式（１０５）で表されるエーテルとを、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でカップリング反応させて、下記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物を製造するカップリング工程を含み、
下記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物は、前記化学式（１）中のＲ１およびＲ２が一体となって、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成した配糖体化合物である、上記［１］〜［１６］のいずれかに記載の配糖体化合物、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩の製造方法。【００４３】
【化２１】
2018070543.tif 000023
【００４４】
前記化学式（１０６）および（１ａ）中、
Ｌ２は、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団であり、
前記化学式（１０５）、（１０６）および（１ａ）中、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
［２４］前記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物から前記原子団Ｌ２を脱保護して下記化学式（１ｂ）で表される配糖体化合物を製造する脱保護工程をさらに含み、
下記化学式（１ｂ）で表される配糖体化合物は、前記化学式（１）においてＲ１およびＲ２が水素原子の配糖体化合物である、上記［２３］に記載の製造方法。【００４５】
【化２２】
2018070543.tif 000024
【００４６】
前記化学式（１ｂ）において、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
［２５］前記化学式（１ｂ）に保護基Ｒ１およびＲ２を導入して下記化学式（１ｃ）で表される配糖体化合物を製造する保護基導入工程をさらに含み、
下記化学式（１ｃ）で表される配糖体化合物は、前記化学式（１）において、Ｒ１およびＲ２が、水素原子、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）、および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）以外で表される配糖体化合物である、上記［２４］に記載の製造方法。【００４７】
【化２３】
2018070543.tif 000025
【００４８】
前記化学式（１ｃ）中、
Ｒ１およびＲ２は、前記化学式（１）中のＲ１およびＲ２のうち、水素原子、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）、および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）以外であり、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
［２６］前記ハロゲン化剤が、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド、ヨウ素、臭素および塩素からなる群から選択される少なくとも一つである上記［２３］〜［２５］のいずれかに記載の製造方法。
［２７］前記ルイス酸が、ペルフルオロアルキルカルボン酸、ペルフルオロアルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つである上記［２３］〜［２６］のいずれかに記載の製造方法。
［２８］前記ルイス酸が、トリフルオロメタンスルホン酸又はメタンスルホン酸である上記［２３］〜［２７］のいずれかに記載の製造方法。
［２９］前記カップリング反応を、モレキュラーシーブの共存下で行う上記［２３］〜［２８］のいずれかに記載の製造方法。
［３０］下記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体【００４９】
【化２４】
2018070543.tif 000026
【００５０】
前記化学式（Ｉ’）において、Ｂは、前記化学式（１）、（２）または（３）と同じであり、
Ｒ１０１は、下記化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基であり、【００５１】
【化２５】
2018070543.tif 000027
【００５２】
前記化学式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
各Ｂは同一でも異なっていても良く、各Ｒ１０１は同一でも異なっていても良く、
ｍは、正の整数である。
［３１］下記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸の製造方法であって、
上記［７］〜［１６］のいずれかに記載の配糖体化合物を縮合反応させる縮合工程を含むことを特徴とする製造方法。【００５３】
【化２６】
2018070543.tif 000028
【００５４】
前記化学式（Ｉ）において、Ｂは、前記化学式（１）、（２）または（３）と同じであり、
Ｒ１００は、水素原子または水酸基であり、或いは、下記化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基であり、【００５５】
【化２７】
2018070543.tif 000029
【００５６】
前記化学式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基であり、
各Ｂは同一でも異なっていても良く、各Ｒ１００は同一でも異なっていても良く、
ｍは、正の整数である。
［３２］縮合反応により得られた縮合化合物中の２’位を脱保護する工程を含む上記［３１］記載の方法。
［３３］脱保護が、（i）アンモニア処理工程、（ii）過ヨウ素酸処理工程、及び（iii）テトラアルキルアンモニウムハライド処理工程により実施される、上記［３２］記載の方法。
［３４］（ii）過ヨウ素酸処理工程と（iii）テトラアルキルアンモニウムハライド処理工程の間に、２’位のホルミル基を保護する工程を含む、上記［３３］記載の方法。
［３５］２’位のホルミル基を保護する工程で、アミン化合物を反応させる、上記［３４］記載の方法。
［３６］アミン化合物が、電子吸引性基をもつベンジルアミン化合物である上記［３５］記載の方法。
［３７］前記化学式（Ｉ）中、各Ｒ１００が水酸基である上記［３１］〜［３６］のいずれかに記載の方法。
［３８］前記化学式（Ｉ）中、各Ｒ１００が水素原子であり、
前記縮合工程により得られた核酸から、逆転写により、前記化学式（Ｉ）で表される核酸を製造する逆転写工程をさらに含む、上記［３１］〜［３６］のいずれかに記載の方法。
［３９］前記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸であって各Ｒ１００が化学式（Ｒ４）で表される基である核酸を、テトラアルキルアンモニウムハライドで処理することにより、前記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸であって各Ｒ１００が水酸基である核酸、を得る工程を含む請求項３１記載の方法。
【発明の効果】
【００５７】
本発明の配糖体化合物、エーテル、エーテルの製造方法、配糖体化合物の製造方法によれば、低コストに製造できて、かつ、核酸を高収率および高純度で製造可能なホスホロアミダイトを提供可能である。また、本発明の核酸の製造方法によれば、前記ホスホロアミダイトを用いて、核酸を高収率および高純度で製造可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】実施例７で製造した核酸（反応混合物）のＨＰＬＣチャートである。
【図２】実施例７で製造した核酸（反応混合物）のマススペクトル図である。
【図３】実施例８で製造した核酸（反応混合物）のＨＰＬＣチャートである。
【図４】実施例８で製造した核酸（反応混合物）のマススペクトル図である。
【図５】実施例１０で製造した核酸（反応混合物）のＨＰＬＣチャートである。
【図６】実施例１０で製造した核酸（反応混合物）のマススペクトル図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
以下、本発明について例を挙げて詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。
【００６０】
本明細書で使用する用語は、特に言及しない限り、当該技術分野で通常用いられる意味で用いることができる。
【００６１】
「核酸塩基骨格を有する原子団」とは、その構造の全てあるいは一部に核酸塩基骨格を有する官能基を意味する。ここで「核酸塩基骨格」とは天然核酸塩基骨格でも人工核酸塩基骨格でもよいが、好ましくは天然核酸塩基骨格である。
該天然核酸塩基としては、アデニン、シトシン、グアニン、ウラシル、チミン、またはその他の含窒素芳香環（例、５−アルキルピリミジン、５−ハロゲノピリミジン、デアザプリン、デアザピリミジン、アザプリン、アザピリミジン）であることがより好ましい。
【００６２】
「ハロゲン」としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
【００６３】
「電子求引基」とは、水素原子と比べて、結合原子側から電子をひきつけやすい基を示し、具体的には、シアノ、ニトロ、アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル、エチルスルホニル）、ハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）、アリールスルホニル（例、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル）、トリハロメチル（例、トリクロロメチル、トリフルオロメチル）、テトラアルキルアンモニウム（例、テトラメチルアンモニウム）等が挙げられる。
【００６４】
「水酸基の保護基」とは、水酸基の反応を防ぐために導入される、当業者に公知の一般的な水酸基の保護基を意味し、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis, published by John Wiley and Sons (1980)に記載の保護基等であり、具体的には、アセチル、ベンゾイル等のアシル系保護基、トリチル、４−メトキシトリチル、４，４’−ジメトキシトリチル、ベンジル等のアルキル系保護基、トリメチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル等のシリル系保護基が挙げられる。
【００６５】
本発明において、「アルキル」は、例えば、直鎖状または分枝状のアルキルを含む。前記アルキルの炭素数は、特に制限されず、例えば、１〜３０であり、好ましくは、１〜１２、１〜６または１〜４である。前記アルキルは、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル等が挙げられる。好ましくは、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ぺンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル等が挙げられる。アルキル基を構造中に含む基（アルキルアミノ基、アルコキシ基等）、または、アルキル基から誘導される基（ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、アルカノイル基等）においても同様である。
【００６６】
本発明において、「アルケニル」は、例えば、直鎖状または分枝状のアルケニルを含む。前記アルケニルは、前記アルキルにおいて、１個または複数の二重結合を有するもの等が挙げられる。前記アルケニルの炭素数は、特に制限されず、例えば、前記アルキルと同様であり、好ましくは２〜１２または２〜８である。前記アルケニルは、例えば、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、３−メチル−２−ブテニル等が挙げられる。
【００６７】
本発明において、「アルキニル」は、例えば、直鎖状または分枝状のアルキニルを含む。前記アルキニルは、前記アルキルにおいて、１個または複数の三重結合を有するもの等が挙げられる。前記アルキニルの炭素数は、特に制限されず、例えば、前記アルキルと同様であり、好ましくは２〜１２または２〜８である。前記アルキニルは、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル等が挙げられる。前記アルキニルは、例えば、さらに、１個または複数の二重結合を有してもよい。
【００６８】
本発明において、「アリール」は、例えば、単環芳香族炭化水素基および多環芳香族炭化水素基を含む。前記単環芳香族炭化水素基は、例えば、フェニル等が挙げられる。前記多環芳香族炭化水素基は、例えば、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル、９−フェナントリル等が挙げられる。好ましくは、例えば、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル等のナフチル等が挙げられる。
【００６９】
本発明において、「ヘテロアリール」は、例えば、単環芳香族複素環式基および縮合芳香族複素環式基を含む。前記ヘテロアリールは、例えば、フリル（例：２−フリル、３−フリル）、チエニル（例：２−チエニル、３−チエニル）、ピロリル（例：１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、イミダゾリル（例：１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、ピラゾリル（例：１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル）、トリアゾリル（例：１，２，４−トリアゾール−１−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−４−イル）、テトラゾリル（例：１−テトラゾリル、２−テトラゾリル、５−テトラゾリル）、オキサゾリル（例：２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イソキサゾリル（例：３−イソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル）、チアゾリル（例：２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル）、チアジアゾリル、イソチアゾリル（例：３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル）、ピリジル（例：２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピリダジニル（例：３−ピリダジニル、４−ピリダジニル）、ピリミジニル（例：２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル）、フラザニル（例：３−フラザニル）、ピラジニル（例：２−ピラジニル）、オキサジアゾリル（例：１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）、ベンゾフリル（例：２−ベンゾ［ｂ］フリル、３−ベンゾ［ｂ］フリル、４−ベンゾ［ｂ］フリル、５−ベンゾ［ｂ］フリル、６−ベンゾ［ｂ］フリル、７−ベンゾ［ｂ］フリル）、ベンゾチエニル（例：２−ベンゾ［ｂ］チエニル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ［ｂ］チエニル、６−ベンゾ［ｂ］チエニル、７−ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンズイミダゾリル（例：１−ベンゾイミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、４−ベンゾイミダゾリル、５−ベンゾイミダゾリル）、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル（例：２−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル）、シンノリニル（例：３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル）、キナゾリル（例：２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル）、キノリル（例：２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、８−キノリル）、フタラジニル（例：１−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル）、イソキノリル（例：１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル、６−イソキノリル、７−イソキノリル、８−イソキノリル）、プリル、プテリジニル（例：２−プテリジニル、４−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル）、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル（例：１−アクリジニル、２−アクリジニル、３−アクリジニル、４−アクリジニル、９−アクリジニル）、インドリル（例：１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル）、イソインドリル、フェナジニル（例：１−フェナジニル、２−フェナジニル）またはフェノチアジニル（例：１−フェノチアジニル、２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル、４−フェノチアジニル）等が挙げられる。
【００７０】
本発明において、「シクロアルキル」は、例えば、環状飽和炭化水素基であり、炭素数は、特に限定されないが、例えば、３〜２４または３〜１５である。前記シクロアルキルは、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、橋かけ環式炭化水素基、スピロ炭化水素基等が挙げられ、好ましくは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、橋かけ環式炭化水素基等が挙げられる。
【００７１】
本発明において、「橋かけ環式炭化水素基」は、例えば、ビシクロ［２．１．０］ペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．２］オクチルおよびビシクロ［３．２．１］オクチル、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプチル、ビシクロ［３．３．１］ノナン、１−アダマンチル、２−アダマンチル等が挙げられる。
【００７２】
本発明において、「スピロ炭化水素基」は、例えば、スピロ［３．４］オクチル等が挙げられる。
【００７３】
本発明において、「シクロアルケニル」は、例えば、環状の不飽和脂肪族炭化水素基を含み、炭素数は、例えば、３〜２４または３〜７である。前記基は、例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル等が挙げられ、好ましくは、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等である。前記シクロアルケニルは、例えば、環中に不飽和結合を有する橋かけ環式炭化水素基およびスピロ炭化水素基も含む。
【００７４】
本発明において、「アリールアルキル」は、例えば、ベンジル、２−フェネチル、およびナフタレニルメチル等が挙げられ、「シクロアルキルアルキル」または「シクリルアルキル」は、例えば、シクロヘキシルメチル、アダマンチルメチル等が挙げられ、「ヒドロキシアルキル」は、例えば、ヒドロキシメチルおよび２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。
【００７５】
本発明において、「アルコキシ」は、例えば、前記アルキル−Ｏ−基を含み、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、およびｎ−ブトキシ等が挙げられ、「アルコキシアルキル」は、例えば、メトキシメチル等が挙げられ、「アミノアルキル」は、例えば、２−アミノエチル等が挙げられる。
【００７６】
本発明において、「シクリル」は、任意の環状の原子団であり、好ましくは、非芳香族の飽和または不飽和環状置換基である。その炭素数は、特に限定されないが、例えば、３〜２４である。
【００７７】
本発明において、「ヘテロシクリル」は、例えば、１−ピロリニル、２−ピロリニル、３−ピロリニル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、ピロリジノン、１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル、１−イミダゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、イミダゾリジノン、１−ピラゾリニル、３−ピラゾリニル、４−ピラゾリニル、１−ピラゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、ピペリジノン、ピペリジノ、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、ピペラジノン、２−モルホリニル、３−モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル等が挙げられる。
【００７８】
本発明において、「ヘテロシクリルアルキル」は、例えば、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル等が挙げられ、「ヘテロシクリルアルケニル」は、例えば、２−ピペリジニルエテニル等が挙げられ、「ヘテロアリールアルキル」は、例えば、ピリジルメチルおよびキノリン−３−イルメチル等が挙げられる。
【００７９】
本発明において、「シリル」は、式（Ｒ）３Ｓｉ−で表される基を含み、Ｒは、独立して、前記アルキル、アリールおよびシクロアルキルから選択でき、例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基等が挙げられ、「シリルオキシ」は、例えば、トリメチルシリルオキシ基等が挙げられ、「シリルオキシアルキル」は、例えば、トリメチルシリルオキシメチル等が挙げられる。
【００８０】
本発明において、「アシル」は、特に限定されないが、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、エトキシカルボニル等が挙げられる。アシル基を構造中に含む基（アシルオキシ基、アルカノイルオキシ基等）においても同様である。また、本発明において、アシル基の炭素数にはカルボニル炭素を含み、例えば、炭素数１のアルカノイル基（アシル基）とはホルミル基を指すものとする。
【００８１】
本発明において、「ペルフルオロアルキル」は、特に限定されないが、例えば、炭素数１〜３０の直鎖または分枝アルキル基から誘導されるペルフルオロアルキル基が挙げられる。前記「ペルフルオロアルキル」は、より具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル等の基から誘導されるペルフルオロアルキル基が挙げられる。ペルフルオロアルキル基を構造中に含む基（ペルフルオロアルキルスルホニル基、ペルフルオロアシル基等）においても同様である。
【００８２】
本発明において、前述した各種基は、置換されてもよい。前記置換基は、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル（例：ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３）、ニトロ、ニトロソ、シアノ、アルキル（例：メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル）、アルケニル（例：ビニル）、アルキニル（例：エチニル）、シクロアルキル（例：シクロプロピル、アダマンチル）、シクロアルキルアルキル（例：シクロヘキシルメチル、アダマンチルメチル）、シクロアルケニル（例：シクロプロペニル）、アリール（例：フェニル、ナフチル）、アリールアルキル（例：ベンジル、フェネチル）、ヘテロアリール（例：ピリジル、フリル）、ヘテロアリールアルキル（例：ピリジルメチル）、ヘテロシクリル（例：ピペリジル）、ヘテロシクリルアルキル（例：モルホリルメチル）、アルコキシ（例：メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ）、ハロゲン化アルコキシ（例：ＯＣＦ３）、アルケニルオキシ（例：ビニルオキシ、アリルオキシ）、アリールオキシ（例：フェニルオキシ）、アルキルオキシカルボニル（例：メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）、アリールアルキルオキシ（例：ベンジルオキシ）、アミノ［アルキルアミノ（例：メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ）、アシルアミノ（例：アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、アリールアルキルアミノ（例：ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ］、アルキルアミノアルキル（例：ジエチルアミノメチル）、スルファモイル、オキソ等が挙げられる。
【００８３】
また、本発明において、前述した各種基が、ヘテロ環であるか、またはヘテロ環を含む場合は、「炭素数」には、前記ヘテロ環を構成するヘテロ原子数も含むものとする。
【００８４】
本発明において「置換基」としては、
（１）ハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）；
（２）アルキル基（上述）；
（３）アルケニル基（上述）；
（４）アルキニル基（上述）；
（５）ハロアルキル基（例、クロロメチル、フルオロメチル、ジクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル等）；
（６）アリール基（上述）；
（７）ヘテロアリール基（上述）；
（８）アラルキル基（上述）
（９）シクロアルキル基（上述）；
（１０）シクロアルケニル基（上述）；
（１１）シクロアルキルアルキル基（上述）；、
（１２）シクロアルケニルアルキル基（例、シクロペンテニルエチル、シクロヘキセニルエチル、シクロヘキセニルブチル等）；
（１３）ヒドロキシアルキル基（例、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル等）；
（１４）アルコキシアルキル基（上述）；
（１５）アミノアルキル基（例、アミノメチル、アミノエチル、アミノプロピル等）；
（１６）ヘテロシクリル基（例、１−ピロリニル、２−ピロリニル、３−ピロリニル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、ピロリジノン、１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル、１−イミダゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、イミダゾリジノン、１−ピラゾリニル、３−ピラゾリニル、４−ピラゾリニル、１−ピラゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、ピペリジノン、ピペリジノ、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、ピペラジノン、２−モルホリニル、３−モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル等）；
（１７）ヘテロシクリルアルケニル基（例、２−ピペリジニルエテニル等）；
（１８）ヘテロシクリルアルキル基（例、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル等）；
（１９）ヘテロアリールアルキル基（例、ピリジルメチル、キノリン−３−イルメチル等）；
（２０）シリル基；
（２１）シリルオキシアルキル基（例、シリルオキシメチル、シリルオキシエチル等）
（２２）モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基（例、メチルシリル、エチルシリル等）；及び
（２３）モノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基（例、トリメチルシリルオキシメチル等）
等が挙げられる。これらの各置換基は、さらに電子求引基（上述）で置換されていてもされていなくても良い。
【００８５】
本発明によれば、例えば、下記［１］〜［４］のうち１または複数の効果を得ることができる。ただし、これらの効果は例示であって、本発明を限定しない。
［１］本発明の核酸の製造方法は、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物を用いることで、核酸を高純度かつ高収率で製造することができる。具体的には、例えば、ＤＮＡオリゴ合成時と同様な安価な核酸合成試薬と強い脱保護条件を用いて製造することができる。
［２］本発明のエーテル及び配糖体化合物は、安価な出発物質／試薬を使用することができ、従来のＡＣＥアミダイト、ＴＯＭアミダイト等よりも低コストに製造できる。
［３］本発明の方法によれば中間体のオリゴマーが安定であることから取り扱いが容易である。
［４］本発明の方法によれば、低コスト且つ高収率で目的核酸を製造することが可能となるため、工業化が容易である。
【００８６】
１．配糖体化合物
本発明の配糖体化合物は、前述のとおり、
下記化学式（１）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（１）とも称する）、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩である。
【００８７】
【化２８】
2018070543.tif 000030
【００８８】
前記化学式（１）中、
Ｂは、核酸塩基骨格を有する原子団であり、保護基を有していても有していなくても良く、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、水素原子もしくは保護基であり、
または、Ｒ１およびＲ２は、一体となって、下記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）もしくは（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成しても良く、
【００８９】
【化２９】
2018070543.tif 000031
【００９０】
各Ｒ１ａは、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良く、
Ｒ３は、下記化学式（Ｒ３）で表される基であり、
【００９１】
【化３０】
2018070543.tif 000032
【００９２】
前記化学式（Ｒ３）中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【００９３】
前記化学式（Ｒ３）中、水酸基の保護基としては、アセチル、ベンゾイル等のアシル基系保護基、トリチル、４−メトキシトリチル、４，４’−ジメトキシトリチル、ベンジル等のアルキル基系保護基、トリメチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル等のシリル系保護基が挙げられるが、好ましくはアシル基であり、より好ましくはアセチル基である。また、前記化学式（Ｒ３）中、ｎは、特に限定されないが、例えば、１〜３０の範囲であり、好ましくは、１〜２０の範囲であり、特に好ましくは、ｎは１である。
【００９４】
前記化学式（１）中、Ｒ１は、前述のとおり、水素原子または保護基である。保護基Ｒ１は、特に限定されないが、例えば、下記化学式（Ｒ１Ａ）、（Ｒ１Ｂ）、（Ｒ１Ｃ）もしくは（Ｒ１Ｄ）のいずれかで表される置換基である。
【００９５】
【化３１】
2018070543.tif 000033
【００９６】
前記化学式（Ｒ１Ａ）中、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、直鎖もしくは分枝アルコキシ基、または直鎖もしくは分枝アルキル基であるか、または存在せず、同一でも異なっていても良く、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、存在する場合は１でも複数でも良く、複数の場合は同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｂ）中、
Ｒ１４〜Ｒ１６は、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｃ）中、
Ｒ１７〜Ｒ１９は、それぞれ、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、同一でも異なっていても良く、
前記化学式（Ｒ１Ｄ）中、
Ｒ２０〜Ｒ２２は、それぞれ、水素原子、または直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良い。
【００９７】
前記化学式（Ｒ１Ａ）中、Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基であるか、または存在せず、同一でも異なっていても良いことが好ましい。Ｒ１１〜Ｒ１３は、前述のとおり、それぞれ、存在する場合は１でも複数でも良く、複数の場合は同一でも異なっていても良い。また、前記化学式（Ｒ１Ｂ）中、Ｒ１４〜Ｒ１６が、それぞれ、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基、または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良いことが好ましい。前記化学式（Ｒ１Ｃ）中、Ｒ１７〜Ｒ１９が、それぞれ、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルキニル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、炭素数５〜２４のアリール基、炭素数５〜２４のヘテロアリール基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、炭素数３〜２４のシクロアルキル基、炭素数３〜２４のシクロアルケニル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、炭素数５〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、炭素数１〜１２のシリルオキシアルキル基、アルキル炭素数１〜１２のモノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはアルキル炭素数１〜１２のモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルキル基であり、同一でも異なっていても良いことが好ましい。前記化学式（Ｒ１Ｄ）中、Ｒ２０〜Ｒ２２が、それぞれ、水素原子、または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良いことが好ましい。
【００９８】
本発明の配糖体化合物において、前記化学式（Ｒ１Ａ）で表される置換基が、下記化学式（Ｒ１Ａ２）で表される置換基であることが好ましい。
【００９９】
【化３２】
2018070543.tif 000034
【０１００】
前記化学式（Ｒ１Ａ２）中、
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルコキシ基、または直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良い。
【０１０１】
前記化学式（Ｒ１Ａ２）中、Ｒ１１〜Ｒ１３が、それぞれ、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルコキシ基、または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基であり、同一でも異なっていても良いことがより好ましい。
【０１０２】
本発明の配糖体化合物において、前記化学式（１）中、Ｒ１が、水素原子、または下記化学式（Ｒ１Ａａ）、（Ｒ１Ｂａ）、（Ｒ１Ｃａ）、（Ｒ１Ｃｂ）、もしくは（Ｒ１Ｄａ）で表される置換基であることがさらに好ましい。
【０１０３】
【化３３】
2018070543.tif 000035
【０１０４】
また、本発明の配糖体化合物における前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）中、各Ｒ１ａは、前述のとおり、それぞれ、水素原子、直鎖もしくは分枝アルキル基、または直鎖もしくは分枝アルコキシ基であり、同一でも異なっていても良い。前記直鎖もしくは分枝アルキル基は、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基であることがより好ましい。前記直鎖もしくは分枝アルコキシ基は、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルコキシ基であることがより好ましい。
【０１０５】
本発明の配糖体化合物において、前記化学式（１）で表される配糖体化合物が、下記化学式（２）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（２）とも称する）であることが好ましい。
【０１０６】
【化３４】
2018070543.tif 000036
【０１０７】
前記化学式（２）中、
Ｂ、Ｒ１およびＲ３は、前記化学式（１）と同じであり、
ただし、Ｒ１は保護基であり、
Ａは、下記化学式（２−１）、（２−２−１）、（２−２−２）又は（２−２−３）で表される基である。
【０１０８】
【化３５】
2018070543.tif 000037
【０１０９】
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それぞれ、水素原子もしくは任意の置換基であり、同一でも異なっていても良く、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良く、
Ｒ２ｃは、水素原子、電子求引基または任意の置換基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良い。
【０１１０】
前記化学式（２−１）中、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それぞれ、水素原子もしくは任意の置換基であり、同一でも異なっていても良く、
または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良く、
Ｒ２ｃは、水素原子、電子求引基または任意の置換基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良い。
【０１１１】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、それぞれ、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、さらに電子求引基で置換されていても置換されていなくても良いことが好ましい。または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって５〜６員環の非芳香環を形成しても良く、前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良い。
【０１１２】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ａおよびＲ２ｂが、それぞれ、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルキニル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、炭素数５〜２４のアリール基、炭素数５〜２４のヘテロアリール基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、炭素数３〜２４のシクロアルキル基、炭素数３〜２４のシクロアルケニル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、炭素数５〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、炭素数１〜１２のシリルオキシアルキル基、アルキル炭素数１〜１２のモノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはアルキル炭素数１〜１２のモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルキル基であり、さらに電子求引基で置換されていても置換されていなくても良いことがより好ましい。または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって５〜６員環の非芳香環を形成しても良い。前記非芳香環は、前記窒素原子以外の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を有していても有していなくても良く、さらに置換基を有していても有していなくても良い。
【０１１３】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それぞれ、メチル基、エチル基、イソプロピル基、もしくはt−ブチル基であるか、または、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは、それらが結合する窒素原子と一体となって、ピペリジル基、モルホリノ基、ピロリジル基、チオモルホリノ基、もしくは他の含窒素脂環式基を形成することがさらに好ましい。より具体的には、例えば、前記化学式（２−１）中、−ＮＲ２ａＲ２ｂが、ジイソプロピルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ピロリジル（特に、ピロリジン−１−イル）基、ピペリジル（特に、ピペリジン−１−イル）基、モルホリノ（特に、モルホリン−１−イル）基、チオモルホリノ（特に、チオモルホリン−１−イル）基、またはアリールアミノ基であることがさらに好ましい。
【０１１４】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ｃが、水素原子、ハロゲン、直鎖もしくは分枝アルキル基、直鎖もしくは分枝アルケニル基、直鎖もしくは分枝アルキニル基、直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、シリルオキシアルキル基、モノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシアルキル基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良いことが好ましい。
【０１１５】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ｃが、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルキニル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝ハロアルキル基、炭素数５〜２４のアリール基、炭素数５〜２４のヘテロアリール基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝アリールアルキル基、炭素数３〜２４のシクロアルキル基、炭素数３〜２４のシクロアルケニル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝シクロアルキルアルキル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝シクリルアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１２の直鎖もしくは分枝アルコキシアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アミノアルキル基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルケニル基、炭素数４〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロシクリルアルキル基、炭素数６〜３０の直鎖もしくは分枝ヘテロアリールアルキル基、シリル基、炭素数１〜１２のシリルオキシアルキル基、アルキル炭素数１〜１２のモノ・ジもしくはトリアルキルシリル基、またはアルキル炭素数１〜１２のモノ・ジもしくはトリアルキルシリルオキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルキル基であり、さらに電子求引基［Ｄ２］で置換されていても置換されていなくても良いことがより好ましい。
【０１１６】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ｃが、電子求引基［Ｄ２］で置換された直鎖もしくは分枝アルキル基であることがさらに好ましい。前記化学式（２−１）中、Ｒ２ｃが、電子求引基［Ｄ２］で置換された炭素数１〜１２の直鎖もしくは分枝アルキル基であることがさらに好ましい。
【０１１７】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ｃにおいて、前記電子求引基［Ｄ２］が、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン、アリールスルホニル基、トリハロメチル基、またはテトラアルキルアンモニウム基であることが好ましい。前記トリハロメチル基は、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
【０１１８】
前記化学式（２−１）中、Ｒ２ｃが、アルケニル基もしくはエチニル基であるか、または、電子求引基［Ｄ２］で置換され、［Ｄ２］とともに、シアノエチル基を形成することが特に好ましい。
【０１１９】
本発明の配糖体化合物において、前記化学式（１）で表される配糖体化合物は、下記化学式（３）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（３）とも称する）であることがより好ましい。
【０１２０】
【化３６】
2018070543.tif 000038
【０１２１】
前記化学式（３）中、
Ｒ、Ｒ’、Ｂおよびｎは、前記化学式（１）と同じであり、
ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基であり、
Ａ’は、下記化学式（３−１）、（３−２−１）又は（３−２−２）で表される基である。
【０１２２】
【化３７】
2018070543.tif 000039
【０１２３】
本発明の配糖体化合物において、前記化学式（１）中、Ｂにおける核酸塩基は、特に限定されないが、天然核酸塩基骨格を有する原子団であることが好ましい。前記天然核酸塩基は、保護基を有していても有していなくても良い。前記天然核酸塩基は、アデニン、シトシン、グアニン、ウラシル、チミン、またはその他の含窒素芳香環であることがより好ましい。前記化学式（１）中、Ｂが、アデニンの９位窒素、シトシンの１位窒素、グアニンの９位窒素、ウラシルの１位窒素またはチミンの１位窒素で前記化学式（１）中のＤ−リボース骨格に結合していることがさらに好ましい。また、Ｂにおける核酸塩基は、核酸塩基（例えば、前記アデニン、シトシン、グアニン、ウラシル、チミン等の核酸塩基）が、任意の置換基で置換されていても良いし、置換されていなくても良い。前記置換基としては、例えば、ハロゲン、アシル基、アルキル基、アリールアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。これらの置換基は、０個でも、１個でも複数個（例えば２〜３個）でも良いし、複数個の場合は、１種類でも複数種類でも良い。
【０１２４】
また、Ｂは、前述のとおり、保護基を有していても良いし、有していなくても良い。例えば、Ｂにおける前記核酸塩基が環外にアミノ基（アミノ置換基）を有する場合（例えば、前記核酸塩基がアデニン、グアニン、シトシン等である場合）、前記アミノ基が保護基により保護されていても良い。前記アミノ基の保護基は特に限定されず、例えば、公知の核酸化学で用いる保護基等と同じでも良い。前記アミノ基の保護基としては、例えば、アシル基が挙げられる。前記アシル基としては、例えば、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基等が挙げられる。また、アシル基以外には、例えば、（ジメチルアミノ）メチレン基等が挙げられる。
【０１２５】
本発明の配糖体化合物において、前記化学式（１）で表される配糖体化合物は、下記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）または（Ｕ５）で表される配糖体化合物（以下、それぞれ単に、配糖体化合物（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）または（Ｕ５）とも称する）であることがさらに好ましい。
【０１２６】
【化３８】
2018070543.tif 000040
【０１２７】
【化３９】
2018070543.tif 000041
【０１２８】
【化４０】
2018070543.tif 000042
【０１２９】
【化４１】
2018070543.tif 000043
【０１３０】
【化４２】
2018070543.tif 000044
【０１３１】
前記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）および（Ｕ５）中、Ｒ、Ｒ’およびｎは、前記化学式（１）と同じであり、ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基であり、Ａ’は、下記化学式（３−１）、（３−２−１）又は（３−２−２）で表される基である。
【０１３２】
【化４３】
2018070543.tif 000045
【０１３３】
Ａ’が前記化学式（３−１）の場合、前記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）および（Ｕ５）で表される化合物は、それぞれ下記化学式（ＡＡ５−１）、（ＡＢ５−１）、（Ｃ５−１）、（Ｇ５−１）および（Ｕ５−１）で表される。Ａ’が前記化学式（３−２−１）の場合、前記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）および（Ｕ５）で表される化合物は、それぞれ下記化学式（ＡＡ５−２−１）、（ＡＢ５−２−１）、（Ｃ５−２−１）、（Ｇ５−２−１）および（Ｕ５−２−１）で表される。Ａ’が前記化学式（３−２−２）の場合、前記化学式（ＡＡ５）、（ＡＢ５）、（Ｃ５）、（Ｇ５）および（Ｕ５）で表される化合物は、それぞれ下記化学式（ＡＡ５−２−２）、（ＡＢ５−２−２）、（Ｃ５−２−２）、（Ｇ５−２−２）および（Ｕ５−２−２）で表される。各式中、Ｒ、Ｒ’およびｎは、前記化学式（１）と同じであり、ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基である。ＣＰＧはControlled Pore Glassを表す。
【０１３４】
【化４４】
2018070543.tif 000046
【０１３５】
【化４５】
2018070543.tif 000047
【０１３６】
【化４６】
2018070543.tif 000048
【０１３７】
【化４７】
2018070543.tif 000049
【０１３８】
【化４８】
2018070543.tif 000050
【０１３９】
【化４９】
2018070543.tif 000051
【０１４０】
【化５０】
2018070543.tif 000052
【０１４１】
【化５１】
2018070543.tif 000053
【０１４２】
【化５２】
2018070543.tif 000054
【０１４３】
【化５３】
2018070543.tif 000055
【０１４４】
【化５４】
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【０１４５】
【化５５】
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【０１４６】
【化５６】
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【０１４７】
【化５７】
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【０１４８】
【化５８】
2018070543.tif 000060
【０１４９】
前記化学式中において、ｎ＝１であることが、合成の容易性等の観点から特に好ましい。
【０１５０】
なお、本発明の配糖体化合物、エーテル等の、本発明により提供される新規化合物（以下、単に「本発明の化合物」ということがある）に、鏡像異性体、互変異性体または立体異性体（例：幾何異性体、配座異性体および光学異性体）等の異性体が存在する場合は、いずれの異性体も本発明の化合物に含まれる。例えば、本発明の配糖体化合物を表す化学式は、配糖体の糖骨格がＤ−リボースであるように描き表しているが、その鏡像体すなわちＬ−リボースであっても良い。また、本発明の化合物が塩を形成し得る場合は、その塩も、本発明の化合物に含まれる。前記本発明の化合物の塩は、酸付加塩でも良いが、塩基付加塩でも良い。さらに、前記酸付加塩を形成する酸は無機酸でも有機酸でも良く、前記塩基付加塩を形成する塩基は無機塩基でも有機塩基でも良い。前記無機酸としては、特に限定されないが、例えば、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜フッ素酸、亜塩素酸、亜臭素酸、亜ヨウ素酸、フッ素酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、過フッ素酸、過塩素酸、過臭素酸、および過ヨウ素酸等が挙げられる。前記有機酸も特に限定されないが、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸、炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸および酢酸等が挙げられる。前記無機塩基としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩等が挙げられ、より具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウムおよび炭酸カルシウム等が挙げられる。前記有機塩基も特に限定されないが、例えば、エタノールアミン、トリエチルアミンおよびトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等が挙げられる。これらの塩の製造方法も特に限定されず、例えば、前記電子供与体・受容体連結分子に、前記のような酸や塩基を公知の方法により適宜付加させる等の方法で製造することができる。また、置換基等に異性体が存在する場合はどの異性体でも良く、例えば、「ナフチル基」という場合は、１−ナフチル基でも２−ナフチル基でも良く、「プロピル基」という場合は、ｎ−プロピル基でもイソプロピル基でも良い。
【０１５１】
２．エーテル
つぎに、本発明のエーテルは、前述のとおり、下記化学式（１０５）で表されるエーテル（以下、単に化合物（１０５）とも称する）、その鏡像異性体、互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩である。
【０１５２】
【化５９】
2018070543.tif 000061
【０１５３】
式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【０１５４】
前記化学式（１０５）中、水酸基の保護基としては、アセチル、ベンゾイル等のアシル基系保護基、トリチル、４−メトキシトリチル、４，４’−ジメトキシトリチル、ベンジル等のアルキル基系保護基、トリメチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル等のシリル系保護基が挙げられるが、好ましくはアシル基であり、より好ましくはアセチル基である。また、前記化学式（１０５）中、ｎは、特に限定されないが、例えば、１〜３０の範囲であり、好ましくは、１〜２０の範囲であり、特に好ましくは、ｎは１である。
【０１５５】
前記化学式（１０５）で表される本発明のエーテルは、前記本発明の配糖体化合物の合成中間体として好適である。ただし、本発明のエーテルは、これに限定されず、どのような用途に用いても良い。
【０１５６】
３．エーテルの製造方法
本発明のエーテルの製造方法の一態様は、下記工程よりなる（製造方法１）。
（１）下記化学式（１０２）で表される化合物（以下、単に化合物（１０２）とも称する）をメチルチオメチル化して、下記化学式（１０３）で表される化合物（以下、単に化合物（１０３）とも称する）を製造し；
（２）化合物（１０３）を開環反応に付して、下記化学式（１０４）で表される化合物（以下、単に化合物（１０４）とも称する）を製造し；及び
（３）化合物（１０４）の水酸基を保護して、必要に応じ、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返し、下記化学式（１０５）で表されるエーテル（以下、単に化合物（１０５）とも称する）を製造する。
［スキーム１］
【０１５７】
【化６０】
2018070543.tif 000062
【０１５８】
各式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
【０１５９】
化合物（１０２）は、下記化学式（１０１）で表されるジオール（以下、単に化合物（１０１）とも称する）を環化により保護することによって製造することができる。
［スキーム２］
【０１６０】
【化６１】
2018070543.tif 000063
【０１６１】
スキーム１中、ｎは正の整数であれば特に限定されないが、例えば１〜３０であり、好ましくは１〜２０であり、より好ましくは１である。
スキーム１中、Ｒ及びＲ’における水酸基の保護基は水酸基を保護することが可能な基であれば特に限定されないが、好ましくは当業者に公知の一般的な水酸基の保護基であり、より好ましくはアセチル、ベンゾイル等のアシル系保護基、特に好ましくはアセチル基である。Ｒ及びＲ’は同一でも異なっていてもよいが、より簡便であることから同一であることが好ましい。
【０１６２】
（１）スキーム１における工程１（メチルチオメチル化反応）の条件は、特に限定されないが、例えば化合物（１０２）を、酸の存在下、反応溶媒中、ジメチルスルホキシド等のメチルチオメチル化剤と反応させることによって行うことができる。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来公知のものが用いられるが、酢酸、酢酸メチル等のカルボン酸やカルボン酸エステル系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水系極性溶媒；又はこれらの混合溶媒が使用できるが、特にジメチルスルホキシドが好ましい。酸としては、酢酸が好ましい。反応温度は０〜８０℃、好ましくは２０〜６０℃である。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１〜１０時間、好ましくは２〜８時間、より好ましくは３〜６時間である。化合物（１０２）とメチルチオメチル化剤の濃度は特に限定されず、適宜設定可能である。化合物（１０２）とメチルチオメチル化剤の物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。メチルチオメチル化剤のモル数は、化合物（１０２）のモル数に対して、例えば１〜３０倍、好ましくは３〜２０倍、より好ましくは５〜１５倍である。当該反応の反応条件は、例えば、後述の実施例１を参考にして設定しても良い。
【０１６３】
（２）スキーム１における工程２（開環反応）の条件は、特に限定されないが、例えば化合物（１０３）を、反応溶媒中、酸と反応させることによって行うことができる。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来公知のものが用いられるが、水；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水系極性溶媒；又はこれらの混合溶媒が使用できる。特に水が好ましい。酸としては、酢酸が好ましい。反応温度は０〜４０℃までの範囲で行うことができるが、特に室温が好ましい。反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分〜６時間、好ましくは３０分〜５時間、より好ましくは１〜４時間である。化合物（１０３）と酸の濃度は特に限定されず、適宜設定可能である。化合物（１０３）と酸の物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。酸のモル数は、化合物（１０３）のモル数に対して、例えば１〜４０倍、好ましくは５〜３０倍、より好ましくは１０〜２０倍である。当該反応の反応条件は、例えば、後述の実施例１を参考にして設定しても良い。
【０１６４】
（３）スキーム１における工程３（水酸基を保護する反応）の条件は特に限定されず、また、必要に応じ実施する、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でのメチルチオメタノールとのカップリング反応の条件も特に限定されない。
水酸基の保護には塩基性条件下で脱保護される保護基、例えばアシル系保護基が用いられる。アシル化剤としては、特に限定されないが、例えば、無水酢酸、フェノキシ酢酸無水物等が挙げられる。前記アシル化剤は、例えば、溶液にして用いても良い。前記溶液の溶媒は、特に限定されないが、例えば、ピリジン、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。特にピリジンが好ましい。前記溶液の濃度も特に限定されないが、例えば、０．０５〜１Ｍである。また、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール等の適宜な反応促進剤を併用しても良い。反応温度は、特に限定されないが、２０〜５０℃、好ましくは室温である。反応時間は、特に限定されず、使用するアシル化剤の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、２〜８時間、好ましくは４〜６時間である。前記アシル化剤の使用量は特に限定されないが、化合物（１０４）のモル数に対し、例えば１〜３０倍、好ましくは２〜２０倍、より好ましくは５〜１０倍である。
得られた化合物は、必要に応じ、さらにハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとカップリング反応することにより炭素鎖を伸長することができる。当該カップリング反応に用いる反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジオキサン等のエーテル、またはアセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。前記ハロゲン化剤は、特に限定されないが、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド、ヨウ素、臭素および塩素からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記ルイス酸も特に限定されないが、ペルフルオロアルキルカルボン酸、ペルフルオロアルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記カップリング反応の反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分〜４時間、好ましくは３０分〜２時間、より好ましくは３０分〜１時間である。前記カップリング反応の反応温度は、特に限定されないが、例えば、１５〜４０℃、好ましくは、１５〜３７℃、より好ましくは２０〜３７℃である。ハロゲン化物の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。
【０１６５】
化合物（１０２）は、化合物（１０１）を環化により保護することによって製造することができる（スキーム２）。スキーム２における工程０（環化反応）の条件は、特に限定されない。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来公知のものが用いられるが、アセトン等のケトン系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水系極性溶媒；又はこれらの混合溶媒が使用できる。特にアセトンが好ましい。酸としては、特に限定されないが、ｐ−トルエンスルホン酸が好ましい。反応温度は０〜４０℃までの範囲で行うことができるが、特に室温が好ましい。反応時間は、特に限定されないが、例えば、１０〜２４時間、好ましくは１０時間〜一晩である。化合物（１０１）、酸及び塩基の濃度は特に限定されず、適宜設定可能である。化合物（１０１）、酸及び塩基の物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。酸のモル数は、化合物（１０１）のモル数に対して、例えば０．０１〜１０倍、好ましくは０．０１〜０．１倍である。当該反応の反応条件は、例えば、後述の実施例１を参考にして設定しても良い。
【０１６６】
ここで、化合物（１０２）は下記工程によっても製造することができる。
（１）下記化学式（１０１−１）で表される化合物（以下、単に化合物（１０１−１）とも称する）をアルカリ加水分解して、下記化学式（１０１−２）で表される化合物（以下、単に化合物（１０１−２）とも称する）を製造し；
（２）化合物（１０１−２）の水酸基を水酸基の保護基で保護して、下記化学式（１０１−３）で表される化合物（以下、単に化合物（１０１−３）とも称する）を製造し；
（３）化合物（１０１−３）を酸化して下記化学式（１０１-４）（以下、単に化合物（１０１−４）とも称する）で表されるジオールを製造し；
（４）化合物（１０１−４）をイソプロピリデン化により保護して下記化学式（１０１−５）で表される化合物（以下、単に化合物（１０１−５）とも称する）を製造し；
（５）化合物（１０１−５）の水酸基を脱保護して化合物（１０２）を製造する。
［スキーム３］
【０１６７】
【化６２】
2018070543.tif 000064
【０１６８】
各式中、
ＰＯＨは、水酸基の保護基であり、
Ｘは、ハロゲン原子、アセチルオキシ基、置換されていてもよいカルボキシル基または置換されていてもよいカルバモイル基である。
ＰＯＨの水酸基の保護基としては、水酸基を保護することが可能な基であれば特に限定されないが、好ましくは当業者に公知の一般的な水酸基の保護基であり、より好ましくはシリル系保護基、アセチル、ベンゾイル等のアシル系保護基、特に好ましくはトリイソプロピルシリル基である。
Ｘは、好ましくはハロゲン原子である。
【０１６９】
（１）スキーム３における工程１（アルカリ加水分解反応）の条件は、特に限定されないが、例えば化合物（１０１−１）を、反応溶媒中、アルカリと反応させることによって行うことができる。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来公知のものが用いられるが、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水系極性溶媒；ピリジン、トリエチルアミン等の塩基性溶媒；又はこれらの混合溶媒が使用できる。特にテトラヒドロフランが好ましい。アルカリとしては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、アンモニア、アミン類等が挙げられ、なかでも、取り扱い性の点から、アルカリ金属の水酸化物が好ましい。特に好ましくは水酸化ナトリウムである。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
（２）スキーム３における工程２（水酸基の保護反応）の条件は、特に限定されず、使用する保護基によって適宜設定される。保護基としてアセチル基等のアシル系保護基を用いる場合には、ピリジンやトリエチルアミン等の塩基（好ましくはピリジン）の存在下、塩化アセチルや無水酢酸（好ましくは無水酢酸）で処理する方法が挙げられ、保護基としてトリイソプロピルシリル基等のシリル系保護基を用いる場合には、イミダゾール等の塩基の存在下、各種シリルクロリド（好ましくはトリイソプロピルシリルクロリド）を、反応溶媒（好ましくはジメチルホルムアミド）中で反応させる方法が挙げられる。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
（３）スキーム３における工程３（酸化反応）の条件は、特に限定されないが、例えば化合物（１０１−３）を反応溶媒中、酸化剤と反応させることによって行うことができる。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来公知のものが用いられるが、アセトン等のケトン系溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水系極性溶媒；ピリジン、トリエチルアミン等の塩基性溶媒；又はこれらの混合溶媒が使用できる。酸化剤としては、過酸化水素、過マンガン酸カリウム、塩素酸カリウム、二クロム酸カリウム、臭素酸ナトリウム、臭素酸カリウム、ハロゲン、濃硫酸、硝酸、次亜塩素酸ナトリウム、二酸化塩素、クロラミン、四酸化オスミウム、ジメチルスルホキシドおよびメタクロロ過安息香酸等が挙げられるが、好ましくは四酸化オスミウムである。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
（４）スキーム３における工程４（イソプロピリデン化による保護反応）の条件は、特に限定されないが、例えば化合物（１０１−４）をアセトン中、パラトルエンスルホン酸と反応させることによって行うことができる。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
（５）スキーム３における工程５（脱保護反応）の条件は、特に限定されず、工程２で用いた保護基（即ち脱離すべき保護基）によって適宜設定される。保護基としてアセチル基等のアシル系保護基を用いた場合には、ナトリウムメトキシドや水酸化ナトリウム水溶液あるいはアンモニア水等のアルカリ水を用いることができる。保護基としてトリイソプロピルシリル基等のシリル系保護基を用いた場合には、反応溶媒中、フッ化水素ピリジン、フッ化水素トリエチルアミン、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸、テトラブチルアンモニウムフロリド等の脱保護剤を用いる。前記脱保護反応の反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン等のケトン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）等のエーテル、またはメタノール、エタノール等のアルコール、アセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
【０１７０】
ここで、化合物（１０２）は下記工程によっても製造することができる。
（１）下記化学式（１０１−５）で表されるポリオール（以下、単に化合物（１０１−５）とも称する）を環化により保護して下記化学式（１０１−６）で表される化合物（以下、単に化合物（１０１−６）とも称する）を製造し；
（２）化合物（１０１−６）を過ヨウ素酸化して下記化学式（１０１−７）で表される化合物（以下、化合物（１０１−７）とも称する）を製造し；及び
（３）化合物（１０１−７）を炭素伸長して化合物（１０２）を製造する。
［スキーム４］
【０１７１】
【化６３】
2018070543.tif 000065
【０１７２】
工程１〜２は、例えば文献（Organic Syntheses, Coll. Vol.9, p450 (1998); Vol.72, p16 (1995)）記載の方法に準じて、工程３は、例えば文献(European Journal of Organic Chemistry 2015(32), 7009-7019)記載の方法に準じて行うことができる。
【０１７３】
本発明のエーテルの製造方法の別の一態様は、下記工程よりなる（製造方法２）。
（１）下記化学式（１０４−１）で表される化合物（以下、単に化合物（１０４−１）とも称する）の４位の水酸基を保護して、下記化学式（１０４−２）で表されるヒドロキシカルボン酸（以下、単に化合物（１０４−２）とも称する）を製造し；
（２）化合物（１０４−２）のカルボニル基を還元し、さらにアシル化による水酸基を保護して下記化学式（１０４−３）で表される化合物（以下、単に化合物（１０４−３）とも称する）を製造し；
（３）化合物（１０４−３）の４位を脱保護して下記化学式（１０４−４）で表される化合物（以下、単に化合物（１０４−４）とも称する）を製造し；及び
（４）化合物（１０４−４）をメチルチオメチル化し、必要に応じ、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返し、化合物（１０５）を製造する。
［スキーム５］
【０１７４】
【化６４】
2018070543.tif 000066
【０１７５】
各式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｐ’ＯＨは、水酸基の保護基であり
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
スキーム５中、ｎは正の整数であれば特に限定されないが、例えば１〜３０であり、好ましくは１〜２０であり、より好ましくは１である。
スキーム５中、Ｒ及びＲ’における水酸基の保護基は水酸基を保護することが可能な基であれば特に限定されないが、好ましくは当業者に公知の一般的な水酸基の保護基であり、より好ましくはアセチル、ベンゾイル等のアシル系保護基、特に好ましくはアセチル基である。Ｒ及びＲ’は同一でも異なっていてもよいが、より簡便であることから同一であることが好ましい。
Ｐ’ＯＨの水酸基の保護基としては、水酸基を保護することが可能な基であれば特に限定されないが、好ましくは当業者に公知の一般的な水酸基の保護基であり、より好ましくは弱酸で除去できる保護基であり、トリチル、４−メトキシトリチル、４，４’−ジメトキシトリチル、ベンジル等のアルキル基系保護基、特に好ましくはトリチル基である。
【０１７６】
（１）スキーム５における工程１（水酸基の保護反応）の条件は、特に限定されず、使用する保護基によって適宜設定される。保護基としてトリチル基を用いる場合には、有機塩基（ＤＭＡＰ、コリジン、ＤＢＵ等）の存在下、塩化トリチル等のトリチル化剤で処理する方法が挙げられる。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
（２）スキーム５における工程２（還元反応及びアシル化反応）の条件は、特に限定されないが、例えば化合物（１０４−２）を、反応溶媒中、水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ４）、水素化アルミニウムリチウム（ＬｉＡｌＨ４）等のヒドリド還元剤と反応させることによってカルボニル基を還元し、次いで、スキーム１における工程３に準じてアシル化反応を行うことができる。反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来公知のものが用いられるが、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非水系極性溶媒；ピリジン、トリエチルアミン等の塩基性溶媒；又はこれらの混合溶媒が使用できる。
（３）スキーム５における工程３（脱保護反応）の条件は、特に限定されず、工程１で用いた保護基（即ち脱離すべき保護基）によって適宜設定される。保護基としてトリチル基を用いた場合には、トリフルオロ酢酸などのブロンステッド酸や、ルイス酸を用いる。加水素分解による脱保護も行われる。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
（４）スキーム５における工程４の条件は、特に限定されず、スキーム１の工程１に準じてメチルチオメチル化し、さらに必要に応じてスキーム１の工程３に準じてメチルチオメタノールとのカップリング反応を繰り返して炭素鎖を伸長する。反応温度、反応時間は常法に従って適宜設定することができる。各反応物質の濃度、使用量は特に限定されず、当該反応が進行する範囲で適宜設定可能である。
【０１７７】
４．配糖体化合物の製造方法
本発明の配糖体化合物の製造方法は、特に限定されず、例えば、公知の配糖体（ＡＣＥアミダイト等）の製造方法を参考にして適宜行うことができる。例えば、Current Protocols in Nucleic Acid Chemistry, unit 2.16.1-2.16.31(2009).に記載されている製造方法を参考にしても良い。
【０１７８】
本発明の配糖体は、例えば、前記本発明の製造方法（配糖体化合物の製造方法）により製造することが好ましい。前記本発明の製造方法（配糖体化合物の製造方法）は、前述のとおり、下記化学式（１０６）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（１０６）とも称する）と、化合物（１０５）とを、ハロゲン化剤およびルイス酸の存在下でカップリング反応させて、下記化学式（１ａ）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（１ａ）とも称する）を製造するカップリング工程を含み、配糖体化合物（１ａ）は、前記化学式（１）中のＲ１およびＲ２が一体となって、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団を形成した配糖体化合物である。
［スキーム６］
【０１７９】
【化６５】
2018070543.tif 000067
【０１８０】
前記化学式（１０６）および（１ａ）中、
Ｌ２は、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）または（Ｒ１Ｒ２Ｂ）で表される原子団であり、
前記化学式（１０５）、（１０６）および（１ａ）中、 
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
【０１８１】
配糖体化合物（１０６）の入手方法は特に限定されず、例えば、市販品として入手しても良いし、公知の方法により製造しても良い。前記カップリング反応（前記スキーム６）において、前記ハロゲン化剤は、特に限定されないが、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド、ヨウ素、臭素および塩素からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記ルイス酸も特に限定されないが、ペルフルオロアルキルカルボン酸、ペルフルオロアルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記ルイス酸は、トリフルオロメタンスルホン酸またはメタンスルホン酸であることが特に好ましい。
【０１８２】
本発明の配糖体化合物の製造方法において、配糖体化合物（１０６）と、化合物（１０５）とのカップリング反応の条件は、特に限定されない。前記カップリング反応の反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン等のケトン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジオキサン等のエーテル、またはアセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。前記カップリング反応の反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分〜１２時間、好ましくは３０分〜８時間、より好ましくは３０分〜４時間である。前記カップリング反応の反応温度は、特に限定されないが、例えば、−７５〜３０℃、好ましくは、−６０〜３０℃、より好ましくは−５０〜３０℃である。配糖体化合物（１０６）および化合物（１０５）の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。配糖体化合物（１０６）と化合物（１０５）との物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。化合物（１０５）のモル数は、配糖体化合物（１０６）のモル数に対し、例えば１〜５倍、好ましくは１〜３倍、より好ましくは１.２〜２倍である。前記ハロゲン化剤のモル数は、配糖体化合物（１０６）のモル数に対し、例えば１〜１０倍、好ましくは１〜８倍、より好ましくは１.２〜６倍である。前記ルイス酸のモル数は、配糖体化合物（１０６）のモル数に対し、例えば０．０５〜５倍、好ましくは０．１〜２倍、より好ましくは０．１〜１．５倍である。前記カップリング反応の反応条件は、例えば、前述のとおり、公知の配糖体化合物のアミダイト合成等の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例２〜５のいずれかの条件を参考にして適宜設定しても良い。
【０１８３】
本発明の配糖体化合物の製造方法は、配糖体化合物（１ａ）から前記原子団Ｌ２を脱保護して下記化学式（１ｂ）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（１ｂ）とも称する）を製造する脱保護工程をさらに含むことが好ましい。この場合において、配糖体化合物（１ｂ）は、前記化学式（１）においてＲ１およびＲ２が水素原子の配糖体化合物である。
【０１８４】
【化６６】
2018070543.tif 000068
【０１８５】
前記化学式（１ｂ）において、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
【０１８６】
前記脱保護工程において、脱保護反応の条件は特に限定されないが、例えば、公知の脱保護剤を用いることができる。前記脱保護剤は、特に限定されないが、例えば、フッ化水素ピリジン、フッ化水素トリエチルアミン、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸、テトラブチルアンモニウムフロリド等が挙げられる。前記脱保護反応の反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトン等のケトン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）等のエーテル、またはメタノール、エタノール等のアルコール、アセトニトリル等のニトリル等が挙げられる。前記脱保護反応の反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分〜２４時間、好ましくは２〜１２時間、より好ましくは２〜４時間である。前記脱保護反応の反応温度は、特に限定されないが、例えば、０〜１００℃、好ましくは、２０〜６０℃、より好ましくは２０〜５０℃である。配糖体化合物（１ａ）および前記脱保護剤の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。配糖体化合物（１ａ）と前記脱保護剤との物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。前記脱保護剤のモル数は、配糖体化合物（１ａ）のモル数に対し、例えば１〜１０倍、好ましくは１〜５倍、より好ましくは１〜３倍である。前記脱保護反応の反応条件は、例えば、公知の配糖体における類似の脱保護反応等の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例２から５のいずれかの条件を参考にして適宜設定しても良い。
【０１８７】
本発明の配糖体化合物の製造方法は、前記化学式（１ｂ）に保護基Ｒ１およびＲ２を導入して下記化学式（１ｃ）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（１ｃ）と称する場合がある）を製造する保護基導入工程をさらに含むことがより好ましい。この場合において、配糖体化合物（１ｃ）は、前記化学式（１）において、Ｒ１およびＲ２が、水素原子、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）、および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）以外で表される配糖体化合物である。
【０１８８】
【化６７】
2018070543.tif 000069
【０１８９】
前記化学式（１ｃ）中、
Ｒ１およびＲ２は、前記化学式（１）中のＲ１およびＲ２のうち、水素原子、前記化学式（Ｒ１Ｒ２Ａ）、および（Ｒ１Ｒ２Ｂ）以外であり、
Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じである。
【０１９０】
前記保護基導入工程の反応条件も特に限定されず、例えば、公知の配糖体化合物における類似の反応等を参考に適宜設定しても良い。前記保護基導入工程においては、例えば、前記Ｒ１およびＲ２は、同時に（一工程で）導入しても良いし、Ｒ１を導入した後にＲ２を付加させても良いし、Ｒ２を導入した後にＲ１を導入しても良い。例えば、Ｒ１を導入した後にＲ２を導入することが好ましい。保護基Ｒ１およびＲ２は、特に限定されないが、例えば、前述のとおりである。
【０１９１】
保護基Ｒ１の導入反応において、保護基導入剤は、Ｒ１に応じて適宜選択すればよい。反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、ピリジン等の極性溶媒、またはアセトニトリル等のニトリル、テトラヒドロフラン等のエーテル等が挙げられる。反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分〜２４時間、好ましくは２〜１２時間、より好ましくは２〜４時間である。反応温度は、特に限定されないが、例えば、０〜１００℃、好ましくは、１０〜６０℃、より好ましくは２０〜３０℃である。用いる配糖体化合物および保護基導入剤の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。前記配糖体化合物と前記保護基導入剤との物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。前記保護基導入剤のモル数は、前記配糖体化合物のモル数に対し、例えば１〜１００倍、好ましくは１〜２０倍、より好ましくは１〜５倍である。保護基Ｒ１の導入反応の反応条件は、例えば、公知の配糖体における類似の反応の条件を参考にして適宜設定しても良いし、後述の実施例２から５のいずれかの条件を参考にして適宜設定しても良い。
【０１９２】
保護基Ｒ２の導入反応において、保護基導入剤は、Ｒ２に応じて適宜選択すればよい。反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトニトリル等のニトリル、またはテトラヒドロフラン等のエーテル、ジクロロメタン等のハロゲン化溶媒等が挙げられる。反応時間は、特に限定されないが、例えば、３０分〜２４時間、好ましくは１〜１２時間、より好ましくは２〜１２時間である。反応温度は、特に限定されないが、例えば、０〜１００℃、好ましくは、１０〜６０℃、より好ましくは２０〜４０℃である。用いる配糖体化合物および保護基導入剤の濃度も、特に限定されず、適宜設定可能である。前記配糖体化合物と前記保護基導入剤との物質量比も特に限定されず、例えば、化学量論比でも良いし、他の任意の比でも良い。その他の反応物質の使用量も、特に限定されない。前記保護基導入剤のモル数は、前記配糖体化合物のモル数に対し、例えば１〜２０倍、好ましくは１〜５倍、より好ましくは１〜２倍である。
【０１９３】
固相担体（例えばＣＰＧ）に配糖体化合物を結合させる反応は、例えば次のように行うことができる。
長鎖アルキルアミノ（ＬＣＡＡ）基を有する定孔ガラス（ＣＰＧ）に無水コハク酸をピリジン溶液中ジメチルアミノピリジン存在下で作用させ、コハク酸化ＣＰＧ−ＬＣＡＡを得る。
【０１９４】
【化６８】
2018070543.tif 000070
【０１９５】
式中、Ｙは下記化学式（４）で表される基である。
【０１９６】
【化６９】
2018070543.tif 000071
【０１９７】
式中、Ｘａ及びＸａ’は同一又は異なって（好ましくは同一で）単結合又は−Ｏ−を表し、Ｒａ及びＲａ’は同一又は異なって（好ましくは同一で）アルキル（好ましくはメチル）又はＣＰＧであり、Ｌ３はリンカーを表す。リンカーとしては、エステル結合（−ＣＯＯ−）、アミド結合（−ＣＯＮＨ−）、カーボネート結合（−ＯＣＯＯ−）、エーテル結合（−Ｏ−）及び／又はチオエーテル結合（−Ｓ−）を有していてもよい２価の炭化水素基が挙げられる。本明細書において２価の炭化水素基とは、炭化水素の炭素原子から水素原子が２個外れた基を指す。該２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アリーレン等が挙げられる。「アルキレン」としては、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜８のもの、例えば、メチレン、エチレン、１−メチルエチレン、２−メチルエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレンを挙げることができる。「アルケニレン」としては、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数２〜８のもの、例えば、エテニレン、１−プロペニレン、２−プロペニレン、１−ブテニレン、２−ブテニレン、３−ブテニレン、１−ペンテニレン、２−ペンテニレン、３−ペンテニレン、４−ペンテニレンを挙げることができる。「アルキニレン」としては、炭素数２〜６のもの、例えばエチニレン、プロビニレン、ブテニレン、ベンチニレン、ヘキセニレンを挙げることができる。「アリーレン」としては炭素数６〜１４のもの、例えばフェニレン、ナフチレンを挙げることができる。
得られたコハク酸化ＣＰＧ−ＬＣＡＡに化学式（１ｃ）中のＲ１が４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基かつＲ２が水素原子である配糖体化合物を、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミドとジメチルアミノピリジン存在下で作用させ、目的の固相担体結合配糖体化合物を合成することができる。
【０１９８】
【化７０】
2018070543.tif 000072
【０１９９】
式中、
Ｙは、前記化学式（４）と同じであり、Ｂ、ｎ、Ｒ及びＲ’は、前記化学式（１）と同じであり、ＤＭＴｒは、４，４’−ジメトキシ（トリフェニルメチル）基である。ＣＰＧはControlled Pore Glassを表す。
固相担体結合配糖体化合物として好ましくは上記した配糖体化合物（ＡＡ５−２−１）、（ＡＢ５−２−１）、（Ｃ５−２−１）、（Ｇ５−２−１）、（Ｕ５−２−１）、（ＡＡ５−２−２）、（ＡＢ５−２−２）、（Ｃ５−２−２）、（Ｇ５−２−２）及び（Ｕ５−２−２）が挙げられる。
【０２００】
前記各反応工程において、反応生成物の精製方法も、特に限定されず、公知の方法等を参考にして適宜行うことができる。
【０２０１】
また、本発明の配糖体化合物の製造方法において、化合物（１０５）は、前記本発明のエーテルの製造方法により製造することがさらに好ましい。これらにより、本発明の配糖体化合物を、いっそう収率よく得ることができる。
【０２０２】
５．核酸の製造方法
本発明による核酸の製造方法は、前述のとおり、下記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸の製造方法であって、前記化学式（１）で表される配糖体化合物と、下記化学式（２）で表される配糖体化合物である本発明の配糖体化合物とを縮合反応させる縮合工程を含むことを特徴とする。
【０２０３】
【化７１】
2018070543.tif 000073
【０２０４】
【化７２】
2018070543.tif 000074
【０２０５】
前記化学式（Ｉ）において、Ｂは、前記化学式（１）、（２）または（３）と同じであり、
Ｒ１００は、水素原子または水酸基であり、或いは、下記化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基であり、
【０２０６】
【化７３】
2018070543.tif 000075
【０２０７】
前記化学式中、
ｎは、正の整数であり、
Ｒ及びＲ’は同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護基である。
各Ｂは同一でも異なっていても良く、各Ｒ１００は同一でも異なっていても良く、
ｍは、正の整数である。
化学式（Ｉ）中、Ｒ１００が化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基である、下記化学式（Ｉ’）で表される構造を含む核酸は新規化合物である。
【０２０８】
【化７４】
2018070543.tif 000076
【０２０９】
前記化学式（Ｉ’）において、Ｒ１０１は、下記化学式（Ｒ３）又は（Ｒ４）で表される基であり、それ以外の各記号は、化学式（Ｉ）と同義である。
【０２１０】
【化７５】
2018070543.tif 000077
【０２１１】
（式中、各記号は化学式（Ｉ）と同義である）
【０２１２】
本発明の核酸の製造方法における反応条件は、特に限定されず、例えば、一般的なホスホロアミダイト法等と同様に行うことができる。例えば、本発明の核酸の製造方法は、一般的な核酸の自動合成装置等を用いて製造（合成）しても良い。すなわち、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物は、自動核酸合成用のアミダイトとして使用できる。本発明の核酸の製造方法は、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物を用いることで、核酸を高純度かつ高収率で製造することができる。
【０２１３】
本発明の核酸の製造方法は、例えば、前記化学式（Ｉ）で表される構造を含む核酸が、下記化学式（II）で表される核酸であり、
【０２１４】
【化７６】
2018070543.tif 000078
【０２１５】
前記化学式（II）中、
Ｂ、Ｒ１００およびｍは、前記化学式（Ｉ）と同じであり、各Ｂは同一でも異なっていても良く、各Ｒ１００は同一でも異なっていても良く、
Ｚは、水素原子またはリン酸基であり、
かつ、
下記工程Ａ１〜Ａ６を含む製造方法であっても良い。
【０２１６】
［工程Ａ１］
下記化学式（２０１）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（２０１）とも称する）に酸を作用させ、５’位の水酸基を脱保護して、下記化学式（２０２）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（２０２）とも称する）を製造する工程。
【０２１７】
【化７７】
2018070543.tif 000079
【０２１８】
前記化学式（２０１）および（２０２）中、
ｍおよびＢは、前記化学式（II）と同じであり、
Ｒ１およびＲ２ｃは、前記化学式（２）と同じであり、
各Ｒ２００は、それぞれ、水素原子、アシルオキシ基または下記化学式（２０３）で表される置換基を表し、同一でも異なっていても良く、
Ｔは、水素原子、アシルオキシ基、または下記化学式（２０３）もしくは（２０４）で表される置換基であり、
Ｅは、アシル基であるか、または、下記化学式（２０４）で表される置換基であり、
ＥおよびＴの少なくとも一方は、下記化学式（２０４）で表される置換基であり、
【０２１９】
【化７８】
2018070543.tif 000080
【０２２０】
前記化学式（２０３）中、
Ｒ、Ｒ’およびｎは、前記化学式（１）と同じであり、
【０２２１】
【化７９】
2018070543.tif 000081
【０２２２】
前記化学式（２０４）中、
Ｙは前記化学式（４）と同じであり、
Ｑは、下記化学式（２０５）で表される置換基であり、
【０２２３】
【化８０】
2018070543.tif 000082
【０２２４】
前記化学式（２０５）中、
Ｗは、
【０２２５】
【化８１】
2018070543.tif 000083
【０２２６】
である。
式中、ｎは、前記化学式（１）と同じである。
【０２２７】
前記化学式（２０１）および（２０２）中、Ｅにおける前記アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基等が挙げられる。ＴおよびＲ２００における前記アシルオキシ基中のアシル基も同様である。
【０２２８】
本工程Ａ１に使用する前記酸は、特に限定されないが、例えば、ハロゲン化カルボン酸等が挙げられる。前記ハロゲン化カルボン酸としては、例えば、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等が挙げられる。前記酸は、例えば、適当な溶媒に溶解させて使用しても良い。その溶液の濃度は特に限定されないが、例えば、１〜５重量％である。前記溶媒も特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン等のハロゲン化溶媒、アセトニトリル等のニトリル、および水等が挙げられ、単独で用いても複数種類併用しても良い。本工程Ａ１の反応温度は、特に限定されないが、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間も特に限定されず、使用する酸の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１分〜１時間である。前記酸の使用量（モル数）も特に限定されないが、前記配糖体化合物（２０１）中の糖（または塩基）のモル数に対し、例えば１〜１００倍、好ましくは１〜１０倍である。
【０２２９】
［工程Ａ２］
前記工程Ａ１において製造した配糖体化合物（２０２）に、活性化剤の存在下で核酸モノマー化合物を縮合させ、下記化学式（２０６）で表される配糖体化合物（以下、単に配糖体化合物（２０６）とも称する）を製造する工程。
【０２３０】
【化８２】
2018070543.tif 000084
【０２３１】
前記化学式（２０６）中、
Ｂ、Ｅ、ｍ、Ｒ１、Ｒ２００、Ｔ、およびＲ２ｃは、前記化学式（２０１）と同様であり、各Ｂ、各Ｒ２００、および各Ｒ２ｃは、それぞれ、同一でも異なっていても良い。
【０２３２】
本工程Ａ２において、前記「核酸モノマー化合物」としては、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物が挙げられる。前記「核酸モノマー化合物」として、他の配糖体化合物を用いることもできるが、反応効率、目的生成物の収率、目的生成物の純度等の観点から、前記化学式（２）で表される配糖体化合物を用いることが好ましい。また、前記化学式（２）で表される配糖体化合物を、他の配糖体化合物とともに用いても良い。前記「他の配糖体化合物」としては、例えば、前記化学式（２）において、Ｒ３をＨ（水素原子）またはＯＨ（水酸基）に変えた配糖体化合物が挙げられる。本発明の核酸の製造方法においては、最低限１分子以上、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物を用いて核酸を製造する。また、後述するように、工程Ａ１〜Ａ４を適宜な回数繰り返すことで、本工程Ａ２における縮合反応を複数回繰り返しても良い。これにより、目的とする核酸（配糖体化合物（Ｉ）または（II））の鎖長を、所望の（所定の）鎖長とすることができる。本発明の核酸の製造方法においては、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物を複数分子重合（縮重合）させることが好ましい。これにより、例えば、ＲＮＡ（すなわち、前記化学式（Ｉ）または（II）中、Ｒ１００が全て水素原子である核酸）の合成（製造）ができる。また、ＤＮＡ（前記化学式（Ｉ）または（II）中、Ｒ１００が全て水酸基である核酸）を合成するには、例えば、前記化学式（２）で表される本発明の配糖体化合物を複数分子重合（縮重合）させて合成したＲＮＡから、逆転写により合成しても良い。化学式（Ｉ）または（II）中、Ｒ１００として、水素および水酸基の両方を含む核酸を合成するには、例えば、前記化学式（２）で表される配糖体化合物と、前記化学式（２）においてＲ３をＨ（水素原子）に変えた配糖体化合物とを縮合反応させても良い。
【０２３３】
本工程Ａ２において、前記活性化剤は、特に限定されず、例えば、公知の核酸合成に用いる活性化剤と同様でも良い。前記活性化剤としては、例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−エチルチオテトラゾール、４，５−ジクロロイミダゾール、４，５−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラート、ピリジニウムトリフラート、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，４，６−コリジン／Ｎ−メチルイミダゾール等が挙げられる。
【０２３４】
本工程Ａ２において、反応溶媒は、特に限定されないが、例えば、アセトニトリル等のニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等が挙げられる。これらの溶媒は、１種類でも良いし、複数種類併用しても良い。反応温度も特に限定されないが、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間も特に限定されず、使用する活性化剤の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１分〜１時間である。前記核酸モノマー化合物の使用量（モル数）は、特に限定されないが、前記配糖体化合物（２０２）中の糖（または塩基）のモル数に対し、例えば１〜１００倍、好ましくは１〜１０倍である。前記活性化剤の使用量も同様である。
【０２３５】
［工程Ａ３］
前記工程Ａ２において未反応である前記配糖体化合物（２０２）の５’位の水酸基をキャッピングする工程。
【０２３６】
【化８３】
2018070543.tif 000085
【０２３７】
前記化学式（２０７）中、
Ｒ３００は、メチル基またはフェノキシメチル基であり、
Ｂ、Ｅ、ｍ、Ｒ２００、Ｔ、およびＲ２ｃは、前記化学式（２０１）と同じである。
【０２３８】
本工程Ａ３においては、前記工程Ａ２終了時に未反応である５’位の水酸基にキャッピング剤を反応させて保護する。前記キャッピング剤は、特に限定されないが、例えば、無水酢酸、フェノキシ酢酸無水物等が挙げられる。前記キャッピング剤は、例えば、溶液にして用いても良い。前記溶液の溶媒は、特に限定されないが、例えば、ピリジン、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。前記溶液の濃度も特に限定されないが、例えば、０．０５〜１Ｍである。また、本工程Ａ３において、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール等の適宜な反応促進剤を併用しても良い。反応温度は、特に限定されないが、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、特に限定されず、使用するキャッピング剤の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１〜３０分間である。前記キャッピング剤の使用量（モル数）は特に限定されないが、前記配糖体化合物（２０２）中の糖（または塩基）のモル数に対し、例えば１〜１００倍、好ましくは１〜１０倍である。前記活性化剤の使用量も同様である。前記反応促進剤の使用量も同様である。
【０２３９】
［工程Ａ４］
前記工程Ａ２において製造した配糖体化合物（２０６）に酸化剤を作用させ、前記化学式（２０６）中の亜リン酸基をリン酸基に変換する工程。
【０２４０】
【化８４】
2018070543.tif 000086
【０２４１】
前記化学式（２０８）中、
Ｂ、Ｅ、ｍ、Ｒ１、Ｒ２００、Ｔ、およびＲ２ｃは、前記化学式（２０６）と同じである。
【０２４２】
本工程Ａ４における前記酸化剤は、特に限定されないが、例えば、ヨウ素、過酸化物（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド）等が挙げられる。前記酸化剤は、溶液にして用いても良い。前記溶液の溶媒は、特に限定されないが、例えば、ピリジン、テトラヒドロフラン、水、酢酸、塩化メチレン、およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。前記溶液としては、例えば、ヨウ素を水とピリジンとテトラヒドロフランの混合溶媒に溶かした溶液、ヨウ素をピリジンと酢酸の混合溶媒に溶かした溶液、過酸化物を塩化メチレンに溶かした溶液等を用いることができる。前記溶媒の濃度も特に限定されないが、例えば、０．０５〜２Ｍである。反応温度は、特に限定されないが、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、特に限定されず、使用する酸化剤の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１〜３０分間である。前記酸化剤の使用量（モル数）は、特に限定されないが、前記化合物（２０６）中の糖（または塩基）のモル数に対し、例えば１〜１００倍、好ましくは１〜１０倍である。
【０２４３】
なお、本工程Ａ４後、次の工程Ａ５を行う前に、工程Ａ１に戻っても良い。このようにして、工程Ａ１〜Ａ４を適宜な回数繰り返すことにより、目的とする核酸（配糖体化合物（２０８））の鎖長を、所望の（所定の）鎖長とすることができる。
【０２４４】
［工程Ａ５］
前記工程Ａ４において製造した配糖体化合物（２０８）を前記固相担体から切り出し、各核酸塩基部および各２’位の水酸基を脱保護する工程。
【０２４５】
【化８５】
2018070543.tif 000087
【０２４６】
前記化学式（２０９）中、
Ｂ、ｍ、Ｒ１、およびＲ２００は、前記化学式（２０８）と同じであり、
Ｒ１００およびＺは、前記化学式（II）と同じである。
【０２４７】
本工程Ａ５において、前記配糖体化合物（２０８）すなわち所定の鎖長の核酸を固相担体から切り出す工程（切り出し工程）は、前記核酸（２０８）が担持された固体担体に切り出し剤を添加して行うことができる。前記切り出し剤としては、特に限定されないが、例えば、濃アンモニア水、メチルアミン等が挙げられ、１種類でも２種類以上併用しても良い。前記切り出し剤は、例えば、溶媒に溶解させて用いても良い。前記溶媒は、特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランまたはこれらの混合溶媒等が挙げられ、エタノールが特に好ましい。前記溶液の濃度も特に限定されないが、例えば、前記溶液中の水酸化アンモニウムの濃度が２０〜３０重量％となるようにする。前記水酸化アンモニウムの濃度は、好ましくは２５〜３０重量％、より好ましくは２８〜３０重量％である。前記切り出し剤の使用量（モル数）は、特に限定されないが、前記配糖体化合物（２０８）中の糖（または塩基）のモル数に対し、例えば１〜１００倍、好ましくは１〜１０倍である。前記切り出し工程の反応温度は、特に限定されないが、例えば、２０℃〜９０℃である。反応時間は、特に限定されず、使用する切り出し剤の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１〜２４時間、好ましくは３〜１２時間である。
Ｒ１００が化学式（Ｒ３）の場合のアンモニア処理工程の反応を以下に示す。
【０２４８】
【化８６】
2018070543.tif 000088
【０２４９】
（式中、Ｒ及びＲ’の少なくとも一方は水素原子ではなく、それ以外の各記号の定義は上述と同じである）
【０２５０】
本工程Ａ５における前記２’位の水酸基の脱保護工程において、まず始めに弱酸性下にて酸化剤を使用し、１，２−ジオール基を酸化してホルミル基に変換してアルデヒド誘導体を得る。前記酸化剤としては、特に限定されないが、例えば過ヨウ素酸ナトリウムや過ヨウ素酸カリウムが挙げられ、過ヨウ素酸ナトリウムが特に好ましい。反応溶液は弱酸性が好ましく、ｐＨ３〜ｐＨ５がより好ましい。使用する緩衝液は特に限定されないが、例えば、ｐＨ４．２の０．４Ｍ酢酸緩衝液を使用する。前記酸化工程の反応温度は、特に限定されないが、例えば、１０℃〜６０℃、好ましくは２０℃〜５０℃である。反応時間は、特に限定されず、使用する酸化剤の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１０分〜３時間、好ましくは３０分〜１時間である。反応終了後はグリセリンやエチレングリコールを添加して反応を停止させ、反応溶液から目的生成物を分離精製する。分離精製する方法としては、特に限定されず、定法の精製方法を用いることができる。前記精製方法は、例えば、ろ過、溶出、濃縮、中和、遠心分離、クロマトグラフィー（シリカゲルカラム、薄層、逆相ＯＤＳ、イオン交換、ゲルろ過）、透析、限外ろ過等が挙げられ、単独で用いても複数種類併用しても良い。
該工程、特に過ヨウ素酸処理工程の反応を以下に示す。
【０２５１】
【化８７】
2018070543.tif 000089
【０２５２】
（式中、各記号の定義は上述と同じである）
続いて使用する脱保護剤は、２’−位のβ−オキシアルデヒド部分からβ脱離により、アクロレインが生成し、その結果、２’−保護基が除去され、２’−水酸基に変換可能なものであれば、特に限定されない。
例えば、テトラアルキルアンモニウムハライドが挙げられ、より具体的には、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド（ＴＢＡＦ）が挙げられる。前記脱保護工程において用いる溶媒は、特に限定されないが、例えば、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。また、前記脱保護工程において生ずるアクロレイン等の副生成物は、例えば、アルキルアミン、チオール、ニトロメタンまたはそれらの混合物で捕捉しても良い。前記アルキルアミンとしては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基を有するアルキルアミンが挙げられる。前記チオールとしては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基を有するアルキルチオールが挙げられる。前記脱保護工程の反応時間および反応温度は特に限定されないが、それぞれ、３０分〜５０時間、好ましくは４０〜１０時間、および１０〜７０℃、好ましくは２０〜５０℃であることが好ましい。前記脱保護剤の使用量は、前記化合物（２０２）中の糖（または塩基）のモル数に対して、例えば、１０〜１０００倍、好ましくは、５０〜２００倍である。前記捕捉剤の使用量も同様である。また、前記脱保護工程の反応混合物から、目的生成物である配糖体化合物（２０９）を分離精製する方法としては、特に限定されず、定法の精製方法を用いることができる。前記精製方法は、例えば、ろ過、溶出、濃縮、中和、遠心分離、クロマトグラフィー（シリカゲルカラム、薄層、逆相ＯＤＳ、イオン交換、ゲルろ過）、透析、限外ろ過等が挙げられ、単独で用いても複数種類併用しても良い。
該工程、特にテトラアルキルアンモニウムハライド処理工程の反応を以下に示す。
【０２５３】
【化８８】
2018070543.tif 000090
【０２５４】
（式中、各記号の定義は上述と同じである）
前記工程Ａ５の２’位の水酸基の脱保護工程では、酸化剤（例、過ヨウ素酸ナトリウム及び過ヨウ素酸カリウム、好ましくは過ヨウ素酸ナトリウム）による酸化反応によってアルデヒド誘導体を得る工程、及び脱保護剤（例、テトラアルキルアンモニウムハライド、好ましくはＴＢＡＦ）による脱保護反応の間に酸化工程で得られたアルデヒド誘導体の２’位のホルミル基を保護する工程を実施することができる（工程Ａ５’）。
本工程Ａ５’における前記２’位のホルミル基の保護工程において、まず始めに工程Ａ４の過ヨウ素化反応（過ヨウ素酸処理）で得られたアルデヒド誘導体にアミン化合物（オルト及びパラ位に電子吸引性基を持つベンジルアミン（例、オルトニトロベンジルアミン））を反応させイミノ誘導体を得る。前記保護工程において用いる溶媒は、特に限定されないが、例えば、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。前記保護工程の反応温度は、特に限定されないが、例えば、１０℃〜６０℃、好ましくは室温程度である。反応時間は、特に限定されず、使用するアミン化合物の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１〜１０時間、好ましくは数時間である。
該イミノ化合物を次工程である工程Ａ６に供する。
【０２５５】
［工程Ａ６］
前記工程Ａ５（又は工程Ａ５’）において製造した化合物（２０９）の５’位の水酸基の保護基を除去する工程。
【０２５６】
【化８９】
2018070543.tif 000091
【０２５７】
本工程Ａ６に使用する前記酸は、特に限定されないが、例えば、ハロゲン化カルボン酸またはカルボン酸等が挙げられる。前記ハロゲン化カルボン酸またはカルボン酸としては、例えば、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、酢酸等が挙げられる。前記酸は、例えば、適当な溶媒に溶解させて使用しても良い。その溶液の濃度は特に限定されないが、例えば、１０〜７０重量％である。前記溶媒も特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、アセトニトリル、クロロホルム、エタノール、水、ｐＨが２〜５の緩衝液、およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。前記緩衝液としては、例えば、酢酸緩衝液が挙げられる。本工程Ａ６の反応温度は、特に限定されないが、１０℃〜６０℃が好ましい。反応時間も特に限定されず、使用する酸の種類、反応温度等によって異なるが、例えば、１分〜３０分である。前記酸の使用量（モル数）は特に限定されないが、前記配糖体化合物（２０９）中の糖（または塩基）のモル数に対し、例えば１〜２００倍、好ましくは１〜２０倍である。
【０２５８】
、
続いて使用する脱保護剤は、（ＩＩ）のイミノ誘導体部分からβ脱離により、２’−水酸基に変換可能なものであれば特に限定されない。
例えば、テトラアルキルアンモニウムハライドが挙げられ、より具体的には、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド（ＴＢＡＦ）が挙げられる。前記脱保護工程において用いる溶媒は、特に限定されないが、例えば、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。また、前記脱保護工程において生ずるアクロレイン等の副生成物は、例えば、アルキルアミン、チオール、ニトロメタンまたはそれらの混合物で捕捉しても良い。前記アルキルアミンとしては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基を有するアルキルアミンが挙げられる。前記チオールとしては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基を有するアルキルチオールが挙げられる。前記脱保護工程の反応時間および反応温度は特に限定されないが、それぞれ、３０分〜５０時間、好ましくは４０〜１０時間、および１０〜７０℃、好ましくは２０〜５０℃である。前記脱保護剤の使用量は、前記化合物（２０２）中の糖（または塩基）のモル数に対して、例えば、１０〜１０００倍、好ましくは、５０〜２００倍である。前記捕捉剤の使用量も同様である。また、前記脱保護工程の反応混合物から、目的生成物である配糖体化合物（２０９）を分離精製する方法としては、特に限定されず、定法の精製方法を用いることができる。前記精製方法は、例えば、ろ過、溶出、濃縮、中和、遠心分離、クロマトグラフィー（シリカゲルカラム、薄層、逆相ＯＤＳ、イオン交換、ゲルろ過）、透析、限外ろ過等が挙げられ、単独で用いても複数種類併用しても良い。
【０２５９】
なお、前記工程Ａ６の目的生成物である前記化合物（II）を、必要に応じ分離精製しても良い。「分離」とは、例えば、単離することを含む。分離精製方法は特に限定されず、例えば、抽出、濃縮、中和、濾過、遠心分離、逆相カラムクロマトグラフィー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、ゲルろ過カラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、透析、限外ろ過等が挙げられ、単独で用いても複数種類併用しても良い。
【０２６０】
なお、本工程Ａ５（又は工程Ａ５’）と前記工程Ａ６との順序は、前後させても良い。すなわち、前記工程Ａ４後に、前記工程Ａ５（又は工程Ａ５’）に先立って前記工程Ａ６を行い、その後に前記工程Ａ５を行っても良い。
【０２６１】
本発明の核酸の製造方法により製造した核酸の用途は、特に限定されず、例えば、公知の核酸の用途と同様に用いることができる。前記核酸は、本発明の核酸の製造方法により製造することで、低コストに、かつ高純度で製造できるので、その用途は広範であり、例えば、医薬の製造等の用途に適する。
【０２６２】
以下に実施例等により本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０２６３】
［実施例１：ＤＢＭ化試薬の合成］
下記スキームに従い、ＤＢＭ化試薬を合成した。なお、「ＤＢＭ」は、「３，４−ジアセトキシブトキシメチル（３，４−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｂｕｔｏｘｙｍｅｔｈｙｌ）」の略である（以下において同じ）。
試薬は以下のものを使用した。
１，２，４−ブタントリオール（＞９７．０％、試薬１級、東京化成工業）
アセトン（９９．５＋％、試薬特級、和光純薬工業）
ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（９９．０＋％、試薬特級、和光純薬工業）
酢酸（９９．７＋％、試薬特級、和光純薬工業）
無水酢酸（９７．０＋％、試薬特級、和光純薬工業）
ジメチルスルホキシド（９９．０＋％、脱水、和光純薬工業）
ピリジン（脱水）（９９．５＋％、有機合成用、和光純薬工業）【０２６４】
【化９０】
2018070543.tif 000092
【０２６５】
化合物２の合成
化合物１（３０ｇ；２８３ｍｍｏｌ）をアセトン（４００ｍＬ）に加え撹拌した。ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．４ｇ；０．０２５ｅｑ．）を加え、室温にて終夜撹拌した。トリエチルアミン（５ｍＬ）を加えて撹拌し、ｐＨ試験紙にてｐＨ８以上であることを確認した。エバポレーターにて減圧濃縮し、粗生成物を得た。５．０ｍｍＨｇで減圧蒸留し、主留として目的化合物２（３５ｇ、収率８５％、沸点９８〜９９℃）を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ: 4.29-4.25 (m, 1H), 4.10 (m, 1H), 3.80 (s, 2H), 3.59 (t, J= 8.0 Hz, 1H), 2.42 (s, 1H), 1.92-1.81 (m, 2H), 1.43 (s, 3H), 1.37 (s, 3H).【０２６６】
化合物３の合成
化合物２（１５ｇ，１０３ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１１０ｍＬ）に溶解させ、無水酢酸（１５０ｍＬ）、酢酸（６０ｍＬ）を加え、４０℃にて８時間撹拌した。ＴＬＣにて化合物２の消失を確認後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１．６Ｌ）に反応溶液を加え、１時間撹拌した。酢酸エチルにより抽出し、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。エバポレーターにて減圧濃縮し、目的化合物３の粗生成物（３９ｇ）を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ: 4.62 (s, 2H), 4.22-4.17 (m, 1H), 4.07 (dd, J = 8.0, 6.1 Hz, 1H), 3.67-3.60 (m, 2H), 3.57 (t, J= 8.0 Hz, 1H), 2.15 (s,3H), 1.96-1.89 (m, 1H), 1.86-1.79 (m, 1H), 1.41 (s, 3H), 1.36 (s, 3H).【０２６７】
化合物４の合成
化合物３の粗生成物（３９ｇ）を８０％酢酸水溶液（１５０ｍＬ）に加え、室温にて３時間撹拌した。真空ポンプで溶媒を留去し、さらにピリジンで共沸した。目的化合物４の粗生成物（２２ｇ）を得た。【０２６８】
化合物５の合成
化合物４の粗生成物（２２ｇ）をピリジン（１５０ｍＬ）に溶解させた。無水酢酸（１００ｍＬ）を加え、室温にて５時間撹拌した。ＴＬＣにて化合物４の消失を確認後、０℃にて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）に反応溶液を加え、３０分間撹拌した。酢酸エチルにより抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、目的化合物５（１３ｇ，収率５０％／３ｓｔｅｐｓ）を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ: 5.24-5.19 (m, 1H), 4.60 (dd, J = 13.4, 11.5 Hz, 2H), 4.29 (dd, J = 12.0, 3.2 Hz, 1H), 4.10-4.07 (m, 1H), 3.57 (t, J= 8.0 Hz, 2H), 2.14 (s, 3H), 2.06(d, 6Hz, 6H), 1.89 (q, J = 6.2 Hz, 2H).【０２６９】
また、下記スキームに従い、化合物２を合成した。
試薬は以下のものを使用した。
３−ブテン−１−オール（＞９８．０％、試薬特級、東京化成工業）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（超脱水）（９９．５＋％、有機合成用、和光純薬工業）イミダゾール（９８．０＋％、試薬特級、和光純薬工業）
トリイソプロピルシリルクロリド（９７．０＋％、有機合成用、和光純薬工業）
アセトン（超脱水）（９９．５＋％、有機合成用、和光純薬工業）
アセトニトリル（９９．８＋％、和光純薬工業）
４−メチルモルホリン  Ｎ−オキシド（＞９８．０％、東京化成工業）
マイクロカプセル化四酸化オスミウム（１０％、有機合成用、和光純薬工業）
２，２−ジメトキシプロパン（９５．０％、試薬１級、和光純薬工業）
ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（＞９８．０％、試薬１級、東京化成工業）
テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物（９８．０＋％、シンクエストラボラトリーズ）
テトラヒドロフラン（超脱水）（９９．５＋％、有機合成用、和光純薬工業）【０２７０】
【化９１】
2018070543.tif 000093
【０２７１】
化合物１−３の合成
化合物１−２(７．２ｇ，０．１ｍｏｌ)をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(５０ｍＬ)に溶解させ、イミダゾール(１３．６ｇ，２．０ｅｑ．)、トリイソプロピルシリルクロリド(２３．１ｇ，１．２ｅｑ．)を加え、室温にて終夜撹拌した。ジクロロメタンにより抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧濃縮し、シリカゲルで不純物を除去し、目的化合物１−３の粗生成物（２９．７ｇ）を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ: 5.90-5.81 (m, 1H), 5.10-5.01 (m, 2H), 3.73 (t, J=6.8 Hz, 2H), 2.33-2.29 (m, 2H), 1.13-1.02 (m, 21H).【０２７２】
化合物１−４の合成
化合物１−３の粗生成物(２９．７ｇ)をアセトン／アセトニトリル／水（１：１：１）の混合溶媒（１２０ｍＬ）に溶解させた。４−メチルモルホリン  Ｎ−オキシド（１５．２ｇ，１．３ｅｑ．）、マイクロカプセル化四酸化オスミウム（１ｇ，０．００４ｅｑ．）を加え、室温にて終夜撹拌した。反応終了後、マイクロカプセル化四酸化オスミウムを反応系中より取り出した後、水を加え、ジクロロメタンにより抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧濃縮し、シリカゲルで不純物を除去し、目的化合物１−４の粗生成物（３１．３ｇ）を得た。【０２７３】
化合物１−５の合成
化合物１−４の粗生成物（３１．３ｇ）をアセトン（７５ｍＬ）に溶解させた。これに２，２−ジメトキシプロパン（７．５ｍＬ）、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホン酸（０．５０ｇ，０．０２ｅｑ．）を加え、室温にて終夜撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。ジクロロメタンにより抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮し、目的化合物１−５の粗生成物（５１．８ｇ）を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ: 4.24-4.21 (m, 1H), 4.11-4.08 (m, 1H), 3.83-3.75 (m, 2H), 3.59 (t, J=7.8 Hz, 1H), 1.90-1.85 (m, 1H), 1.81-1.75 (m, 1H), 1.40 (s, 3H), 1.36 (s, 3H), 1.13-1.03 (m, 21H).【０２７４】
化合物２の合成
化合物１−５の粗生成物（５１．８ｇ）にテトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物（３０ｇ）／テトラヒドロフラン（１３０ｍＬ）を加え、室温にて終夜撹拌した。減圧下溶媒留去し、水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた。水層（３５０ｍＬ）に飽和塩化ナトリウム水溶液（１１０ｍＬ）を加え、ジクロロメタンによりさらに抽出し、ジクロロメタン層を硫酸ナトリウムにて乾燥させた。乾燥した有機層を合わせて減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８／１〜１／１）で精製し、目的化合物２（１３．４ｇ）を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ: 4.31-4.25 (m, 1H), 4.11-4.08 (m, 1H), 3.83-3.80 (m, 2H), 3.60 (t, J=7.8 Hz, 1H), 2.25 (brs, 1H), 1.85-1.81 (m, 2H), 1.43 (s, 3H), 1.37 (s, 3H).【０２７５】
実施例２〜６で各種ＤＢＭアミダイトを合成した。
試薬は以下のものを使用した。
アセトン（９９．０％、和光純薬工業）
アセトニトリル（超脱水）（９９．０％、和光純薬工業）
フッ化アンモニウム（９７．０％、和光純薬工業）
２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（９７．０％、和光純薬工業）、（９８．９％、ChemGenes Corporation）
ジクロロメタン（９９．０％、和光純薬工業）
ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（Current Protocols in Nucleic Acid Chemistry, unit 2.15.16により調製）
ジイソプロピルエーテル（ＥＰ  ９８．０％、和光純薬工業）
４，４’−ジメトキシトリチルクロライド（ＤＭＴｒ−Ｃｌ、９５．０％、Sigma-Aldrich）
酢酸エチル（９９．５％、和光純薬工業）
ヘキサン（９５．０％、和光純薬工業）
ヨウ素（ＧＲ９９．８％、関東化学工業）
Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＥＰ９８．０％、東京化学工業）
メタンスルホン酸（ＧＲ９８．０％、和光純薬工業）
メタノール（９９．８％、和光純薬工業）
モレキュラーシーブス４Ａ  １／１６（和光純薬工業）
脱水ピリジン（９９．５％、和光純薬工業）
シリカゲル（Ｗａｋｏｇｅｌ  Ｃ−２００、和光純薬工業）
テトラヒドロフラン（超脱水、安定剤不含）（９９．５％、和光純薬工業）
トルエン（超脱水）（９９．５％、和光純薬工業）
トリエチルアミン（ＧＲ９９．０％、和光純薬工業）
トリエチルアミン  トリハイドロフルオリド（９８．０％、Sigma-Aldrich）
トリフルオロメタンスルホン酸（９８．０％、東京化学工業）【０２７６】
［実施例２：ウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）の合成］
下記スキームに従い、ウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を合成した。【０２７７】
【化９２】
2018070543.tif 000094
【０２７８】
（１）３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）ウリジン（Ｕ２）の合成
化合物Ｕ１（５．０ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）をトルエンとＴＨＦの混合溶媒で２回、ＴＨＦにて１回共沸し、１時間真空乾燥させた。これをアルゴン雰囲気下で脱水ＴＨＦ（３０ｍＬ）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（５．０ｇ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（３．５ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて撹拌し、その混合液を−４５℃に冷却した。５分間撹拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸（１．４ｍＬ，１．５ｅｑ．）を滴下した。５分間撹拌した後、ＤＢＭ化試薬（３．９ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて−４５℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、室温で茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、目的化合物Ｕ２の粗生成物を９．５ｇ（純度９４．８％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 80% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２７９】
（２）２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）ウリジン（Ｕ３）の合成
化合物Ｕ２（９．５ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）の脱水メタノール（３６ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下でフッ化アンモニウム（１．５ｇ，３．０ｅｑ．）を加えて、５０℃で４時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残渣にアセトニトリルを加え生じた沈殿物をろ別し、ろ液を減圧下溶媒留去した。粘性のある残渣にジイソプロピルエーテルを加えトリチュレーションし、デカンテーションにより溶媒を除去した。この操作（トリチュレーションとデカンテーション）を３回行った。真空乾燥後、目的化合物Ｕ３の粗生成物を８．５ｇ（純度７７．１％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; B conc. 0-10%/15min, 10-100%/20min; Flow rate, 1 mL/min;
Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２８０】
（３）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）ウリジン（Ｕ４）の合成
化合物Ｕ３（８．５ｇ，１９．１ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し、１時間真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水ピリジン（７５ｍＬ）を加え、そして０℃でＤＭＴｒ−Ｃｌ（９．０ｇ，１．４ｅｑ．）を加え、室温で終夜撹拌した。反応終了後、メタノール（１０ｍＬ）を加え５分間撹拌した。減圧下溶媒留去し、残渣にジクロロメタンを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１：２、０．０５％ピリジン含有）により精製し、目的化合物Ｕ４を淡黄色泡状物質として５．６ｇ（純度９９．３％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 50% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
ESI-Mass:771.29 [M+Na]+【０２８１】
（４）５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｕ５）の合成
化合物Ｕ４（７．８ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥した。これをアルゴン雰囲気下で脱水アセトニトリル（４０ｍＬ）に溶解させ、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（２．１ｇ，１．２ｅｑ．）と２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（３．８ｍＬ，１．２ｅｑ．）を加え、４０℃にて２時間撹拌した。減圧下溶媒留去し、酢酸エチルを加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１回ずつ洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１：２、０．１％トリエチルアミン含有）で精製し、目的化合物Ｕ５を白色泡状物質として４．４ｇ（純度９８．３％）得た。HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 75% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
31P-NMR (202 MHz, CDCl3) δ: 150.51, 150.53, 151.45
ESI-Mass:971.39 [M+Na]+【０２８２】
［実施例３：シトシンＤＢＭアミダイト（Ｃ５）の合成］【０２８３】
【化９３】
2018070543.tif 000095
【０２８４】
（１）Ｎ４−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）シチジン（Ｃ２）の合成
化合物Ｃ１（２．０ｇ，３．９ｍｍｏｌ）をトルエンとＴＨＦの混合溶媒で２回共沸し、さらにＴＨＦで１回共沸した後、１時間真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下、脱水ＴＨＦ（１２ｍＬ）とモレキュラーシーブス４Ａ（２．０ｇ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（１．３ｇ，１．５ｅｑ．）を加え撹拌し、この混合物を−４５℃に冷却した。５分間撹拌し、トリフルオロメタンスルホン酸（０．９ｇ，１．５ｅｑ．）を滴下した。５分間撹拌し、ＤＢＭ化試薬（１．５ｇ，１．５ｅｑ．）を加え、−４５℃で３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、室温で茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１：２）により精製し、目的化合物Ｃ２を２．３ｇ（純度９８．４％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 80% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２８５】
（２）Ｎ４−アセチル−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）シチジン（Ｃ３）の合成
化合物Ｃ２（２．０ｇ）の脱水ＴＨＦ（１２ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下でＴＥＡ／３ＨＦ（０．５４ｍＬ，１．２ｅｑ．）を加え、室温で３時間撹拌した。反応溶液にｎ−ヘキサンを加えると、粘稠性が生成した。上澄みをデカンテーションにより除いた。ｎ−ヘキサンを加えトリチュレーションし、溶媒をデカンテーションにより除いた。この操作（(1)ｎ−ヘキサンの添加、(2)上澄みのデカンテーション）をもう一度行った。固体をろ別し、真空乾燥により非晶質の固体として目的化合物Ｃ３を１．２ｇ（純度９８．０％）得た。
HPLC conditions: Column, Inertsil ODS-3 reverse-phase (5.0 μm, 4.6 x 150 mm; GL Sciences); Buffer A, H2O; Buffer B, MeOH; B conc. 0-100%/10min, 100%/10-25min; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２８６】
（３）Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）シチジン（Ｃ４）の合成
化合物Ｃ３（１．７ｇ，３．５ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し、１時間真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水ピリジン（２０ｍＬ）を加え、そして０℃でＤＭＴｒ−Ｃｌ（１．８ｇ，１．５ｅｑ．）を加え、室温で終夜撹拌した。反応終了後、メタノール（６ｍＬ）を加え５分撹拌した。減圧下溶媒留去し、残渣にジクロロメタンを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル／アセトン＝１：１：１、０．０５％ピリジン含有）により精製し、目的化合物Ｃ４を白色泡状物質として１．８ｇ（純度９８．６％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 50% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm. 
ESI-Mass: 790.31 [M+H]+【０２８７】
（４）Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）シチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｃ５）の合成
化合物Ｃ４（２．０ｇ，２．５ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで共沸し、１時間真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水アセトニトリル（８ｍＬ）を加え、さらにジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（０．９２ｇ，１．２ｅｑ．）を加え懸濁させた。２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．５２ｇ，１．２ｅｑ．）の脱水アセトニトリル（２ｍＬ）溶液を加え、４０℃で３時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒留去し、残渣にジクロロメタンを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／アセトン＝４：３、０．１％トリエチルアミン含有）により精製し、目的化合物Ｃ５を白色泡状物質として２．０ｇ（純度９７．５％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 70% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm. 
31P-NMR (202 MHz, CDCl3) δ: 151.50, 150.39
ESI-Mass: 990.43 [M+H]+【０２８８】
［実施例４：グアノシンＤＢＭアミダイト（Ｇ５）の合成］【０２８９】
【化９４】
2018070543.tif 000096
【０２９０】
（１）Ｎ２−イソブチリル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）−グアノシン（Ｇ２）の合成
化合物Ｇ１（１．０ｇ，１．７ｍｍｏｌ）をトルエンとＴＨＦの混合溶媒で２回、ＴＨＦにて１回共沸し、１時間真空乾燥させた。これにアルゴン雰囲気下で、脱水ＴＨＦ（６ｍＬ）とモレキュラーシーブス４Ａ（１．０ｇ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（０．６ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて撹拌し、この混合液を−４５℃に冷却した。５分間撹拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸（０．２ｍＬ，１．５ｅｑ．）を滴下した。５分間撹拌し、ＤＢＭ化試薬（０．６ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて−４５℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、室温で茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。目的化合物Ｇ２の粗生成物を１．４ｇ（純度９６．５％）を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１：２）により精製し、目的化合物Ｇ２を白色泡状物質として１．２ｇ（純度９９．２％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 80% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２９１】
（２）Ｎ２−イソブチリル−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）グアノシン（Ｇ３）の合成
化合物Ｇ２（１．０ｇ，１．２５ｍｍｏｌ）の脱水ＴＨＦ（３ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下でＴＥＡ／３ＨＦ（０．２５ｍＬ，１．２ｅｑ．）を加えて室温にて３時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残渣にｎ−ヘキサン（１５ｍＬ）を加えてトリチュレーション、溶媒をデカンテーションにより除去した。残渣にジクロロメタンを加えて飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール＝２０：１）で精製し、目的化合物Ｇ３を白色固体として０．７ｇ（純度９７．８％）得た。
HPLC conditions: Column, Inertsil ODS-3 reverse-phase (5.0 μm, 4.6 x 150 mm; GL Sciences); Buffer A, H2O; Buffer B, MeOH; B conc. 0-100%/10min, 100%/10-25min; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２９２】
（３）Ｎ２−イソブチリル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）グアノシン（Ｇ４）の合成
化合物Ｇ３（２．０ｇ，３．６ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し、真空乾燥させた。これにアルゴン雰囲気下でピリジン（２０ｍＬ）を加え、そして０℃でＤＭＴｒ−Ｃｌ（１．８ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて室温にて終夜撹拌した。反応終了後、メタノール（５ｍＬ）を加えて３０分間撹拌した。減圧下溶媒留去した残渣に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／酢酸エチル＝２：３、０．０５％ピリジン含有）で精製し、目的化合物Ｇ４を白色泡状物質として１．８ｇ（純度９８．３％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 50% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
ESI-Mass: 858.35 [M+H]+【０２９３】
（４）Ｎ２−イソブチリル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（Ｇ５）の合成
化合物Ｇ４（１．７ｇ，２．０ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥させた。これをアルゴン雰囲気下でアセトニトリル（６ｍＬ）に溶解させ、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（０．４ｇ，１．２ｅｑ．）と２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．８ｍＬ，１．２ｅｑ．）を加え、室温にて終夜撹拌した後、２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．５ｍＬ，０．８ｅｑ．）を追加し、室温にてさらに３時間撹拌した。減圧下溶媒留去し、酢酸エチルを加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１回ずつ洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１：４、０．１％トリエチルアミン含有）で精製し、目的化合物Ｇ５を白色泡状物質として１．２ｇ（純度９８．０％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 75% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
31P-NMR (202 MHz, CDCl3) δ: 150.86, 150.49
ESI-Mass: 1058.45 [M+H]+【０２９４】
［実施例５：アデノシンＤＢＭアミダイト（ＡＢ５）の合成］【０２９５】
【化９５】
2018070543.tif 000097
【０２９６】
（１）Ｎ６−ベンゾイル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン（ＡＢ２）の合成
化合物ＡＢ１（１．０ｇ，１．６ｍｍｏｌ）をトルエンとＴＨＦの混合溶媒で２回、ＴＨＦにて１回共沸し、１時間真空乾燥させた。この残渣をアルゴン雰囲気下で脱水ＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（１．０ｇ）を加えて０℃に冷却した。この混合物にメタンスルホン酸（０．０１ｍＬ，０．１ｅｑ．）を滴下した。１０分間撹拌した後、ヨウ素（２．５ｇ，６．０ｅｑ．）を加え、１０分間撹拌した。ＤＢＭ化試薬（０．８ｇ，２．０ｅｑ．）を加えて０℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、室温で茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール＝４０：１）により精製し、目的化合物ＡＢ２を０．３７ｇ（純度９８．４％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 80% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２９７】
（２）Ｎ６−ベンゾイル−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン（ＡＢ３）の合成
化合物ＡＢ２（０．３７ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）の脱水ＴＨＦ（２ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下でＴＥＡ／３ＨＦ（０．２２ｍＬ，３ｅｑ．）を加え、室温で３．５時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮して、オイル状の残渣を得た。この残渣にｎ−ヘキサンを加えると、ヘビーシロップが生成した。上澄みをデカンテーションにより除いた。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール＝２０：１）により精製し、目的化合物ＡＢ３を０．１７ｇ（純度９１．３％）得た。
HPLC conditions: Column, Inertsil ODS-3 reverse-phase (5.0 μm, 4.6 x 150 mm; GL Sciences); Buffer A, H2O; Buffer B, MeOH; B conc. 0-100%/10min, 100%/10-25min; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０２９８】
（３）Ｎ６−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン（ＡＢ４）の合成
化合物ＡＢ３（０．１３ｇ，０．２３ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し、真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水ピリジン（２ｍＬ）を加え、そして０℃でＤＭＴｒ−Ｃｌ（０．１２ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて、室温で終夜撹拌した後、さらにＤＭＴｒ−Ｃｌ（０．０７６ｇ，１ｅｑ．）を加え室温で撹拌した。３時間後にさらにＤＭＴｒ−Ｃｌ（０．１９ｇ，２．５ｅｑ．）を加え室温で２時間撹拌した。反応の進行を確認し、メタノール（０．２５ｍＬ）を加え１０分撹拌した。減圧下溶媒留去した残渣にジクロロメタンを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール＝１００：１〜６０：１，０．０５％ピリジン含有）により精製し、目的化合物ＡＢ４を０．１０ｇ（純度９６．７％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 50% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
ESI-Mass:876.35 [M+H]+【０２９９】
（４）Ｎ６−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（ＡＢ５）の合成
化合物ＡＢ４（０．０９ｇ，０．１１ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで共沸し、真空乾燥した。これにジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（０．０２ｇ，１．１ｅｑ．）を加えて、さらに真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水アセトニトリル（１．６ｍＬ）を加え懸濁させた。２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．０３５ｇ，１．１ｅｑ．）を加え、４０℃で２時間撹拌した。さらに２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．０４ｇ，１．２  ｅｑ．）を加え４０℃で撹拌し、１．５時間後に２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．０８ｇ，２．５ｅｑ．）を加え４０℃で撹拌した。さらに１時間後にジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（０．０２ｇ，１．１ｅｑ．）を加え４０℃で１時間撹拌した。減圧下溶媒留去した残渣にジクロロメタンを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１：２，０．１％トリエチルアミン含有）により精製し、目的化合物ＡＢ５を０．０２４ｇ（純度９１．４％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 70% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
31P-NMR (202 MHz, CDCl3) δ: 151.19, 151.10
ESI-Mass:1076.46 [M+H]+【０３００】
［実施例６：アデノシンＤＢＭアミダイト（ＡＡ５）の合成］【０３０１】
【化９６】
2018070543.tif 000098
【０３０２】
（１）Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン（ＡＡ２）の合成
化合物ＡＡ１（１．０ｇ，１．８ｍｍｏｌ）をトルエンとＴＨＦの混合溶媒で２回、ＴＨＦにて１回共沸し、１時間真空乾燥した。これをアルゴン雰囲気下で脱水ＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解させ、モレキュラーシーブス４Ａ（１．０ｇ）を加えて０℃に冷却した。この混合物にメタンスルホン酸（０．０１ｍＬ，０．１ｅｑ．）を滴下した。１０分間撹拌した後、ヨウ素（２．８ｇ，６．０ｅｑ．）を加え、１０分間撹拌した。ＤＢＭ化試薬（０．７ｇ，１．５ｅｑ．）を加えて０℃にて３０分間撹拌した。反応終了後、冷却した飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の混合溶液を反応溶液に加え、室温で茶褐色が消失するまで激しく撹拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜１：３）により精製し、目的化合物ＡＡ２を０．４５ｇ（純度９９．３％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 80% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０３０３】
（２）Ｎ６−アセチル−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン（ＡＡ３）の合成
化合物ＡＡ２（０．４５ｇ，０．９ｍｍｏｌ）の脱水ＴＨＦ（２ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下でＴＥＡ／３ＨＦ（０．１２ｍＬ，１．２ｅｑ．）を加えて、室温で２時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残渣にｎ−ヘキサンを加えトリチュレーションし、デカンテーションにより溶媒を除去した。この操作（トリチュレーションとデカンテーション）を３回行った。真空乾燥後、目的化合物ＡＡ３の粗生成物を０．４７ｇ（純度８７．２％）得た。
HPLC conditions: Column, Inertsil ODS-3 reverse-phase (5.0 μm, 4.6 x 150 mm; GL Sciences); Buffer A, H2O; Buffer B, MeOH; B conc. 0-100%/10min, 100%/10-25min; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.【０３０４】
（３）Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン（ＡＡ４）の合成
化合物ＡＡ３（０．４７ｇ，０．９ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し、１時間真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水ピリジン（４ｍＬ）を加え、そして０℃でＤＭＴｒ−Ｃｌ（０．５ｇ，１．５ｅｑ．）を加え、室温で２時間撹拌した後、さらにＤＭＴｒ−Ｃｌ（０．５ｇ，１．５ｅｑ．）を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、メタノール（１ｍＬ）を加え３０分間撹拌した。減圧下溶媒留去し、残渣にジクロロメタンを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：３〜１：２，０．０５％ピリジン含有）により精製し、目的化合物ＡＡ４を０．１８ｇ（純度１００％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 50% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
ESI-Mass: 814.32 [M+H]+【０３０５】
（４）Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）アデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（ＡＡ５）の合成
化合物ＡＡ４（０．１７ｇ，０．２ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで共沸し、１時間真空乾燥した。これにアルゴン雰囲気下で脱水アセトニトリル（１．４ｍＬ）を加え、さらにジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（０．０４ｇ，１．１ｅｑ．）を加え懸濁させた。２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．０７ｇ，１．１ｅｑ．）を加え、４０℃で２時間撹拌した。さらに２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．０７ｇ，１．１ｅｑ．）を加え４０℃で撹拌し、１時間後に２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（０．１４ｇ，２．２ｅｑ．）を加え４０℃で撹拌した。さらに１時間後にジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（０．０４ｇ，１．１ｅｑ．）を加え４０℃で１時間撹拌した。反応の進行を確認し減圧下溶媒留去した。残渣にジクロロメタンを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：アセトン＝３：１〜２：１，０．１％トリエチルアミン含有）により精製し、目的化合物ＡＡ５を０．０４ｇ（純度９８．６％）得た。
HPLC conditions: Column, XBridge Oligonucleotide BEH C18 reverse-phase (2.5 μm, 4.6 x 50 mm; Waters); Buffer A, 5% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B, 90% CH3CN/ 50 mM TEAA, pH 7.0; Buffer B 70% isocratic; Flow rate, 1 mL/min; Temperature, 35oC; Detection, UV 260 nm.
31P-NMR (202 MHz, CDCl3) δ: 151.19, 151.08.
ESI-Mass: 1014.44 [M+H]+【０３０６】
［実施例７：ウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を用いたウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）の合成］
実施例２で合成したウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）および核酸自動合成機（ＡＢＩ  ３９００：Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ社の商品名）を用いて下記配列番号１の配列で表されるウリジン２０量体を合成した。３’末端の固相担体には２’−ＯＨ基を持たないデオキシチミジンを用いた。
5’-UUUUUUUUUUUUUUUUUUUUT-3’    （配列番号１）【０３０７】
本実施例のウリジン２０量体合成では、固相担体として、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）チミジンをリンカーで結合したＣＰＧ固相担体を用いた。さらに、核酸モノマー化合物として、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）すなわちウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を、縮合剤として５−ベンジルメルカプト−１Ｈ−テトラゾールを、酸化剤としてヨウ素溶液を、キャッピング溶液として無水酢酸／ピリジン溶液とＮ−メチルイミダゾール溶液を、それぞれ用いた。この条件で、前記核酸モノマー化合物を２０回縮合させた後に、固相上で５’末端の水酸基を脱保護し、濃アンモニア水−エタノール混合液（３：１）を用いて、８０℃、６時間かけてＣＰＧ固相担体からの切り出し及び各リン酸部位を脱保護した。このようにして得られた反応混合物を０．２Ｍ酢酸緩衝液（ｐＨ４．２）中、過ヨウ素酸ナトリウムを用いて１，２−ｃｉｓ−ジオールを酸化し、反応終了後グリセリンを加えて撹拌した。このようにして得られた溶液にエタノールを加えて沈殿を生じさせ、その沈殿を注射用水に溶解し、１ＭのテトラブチルアンモニウムフルオリドのＤＭＳＯ溶液中において室温にて一晩反応させて、２’位の水酸基を脱保護した。このようにして得られた溶液にエタノールを加えて沈殿を生じさせ、その沈殿を注射用水に溶解して目的化合物であるウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）を含む水溶液を得た。【０３０８】
上記により得られたウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）のＨＰＬＣによる分析結果を、図１に示す。図示のとおり、ほぼ単一の鋭いピークが得られたことから、目的のウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）が高純度で得られたことが示唆された。図１のピーク強度に基づいて算出したウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）の純度は、９３．５８％であった。また、この反応混合物の質量分析結果（マススペクトルチャート）を、図２に示す。図示のとおり、分子量６３６５．１０の分子イオンピークが観測された。この分子量は、目的のウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）の分子量の計算値である６３６５．５７と良い一致を示したことから、目的のウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）が得られていることが確認できた。【０３０９】
なお、ウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）のＨＰＬＣ分析は、株式会社島津製作所の機器（ＨＰＬＣシステム）を用いて測定し、質量分析は、Ｗａｔｅｒｓ社の機器ＳＹＮＡＰＴ  Ｇ２（商品名）を用いて行った。【０３１０】
［実施例８：ウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を用いたウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）の合成−１］
実施例２で合成したウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）および核酸自動合成機（ＡＢＩ  ３９００：Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ社の商品名）を用いて下記配列番号２の配列で表されるウリジン４９量体を合成した。３’末端の固相担体には２’−ＯＨ基を持たないデオキシチミジンを用いた。
5’-UUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUT-3’    (配列番号２）【０３１１】
本実施例のウリジン４９量体合成では、固相担体として、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）チミジンをリンカーで結合したＣＰＧ固相担体を用いた。さらに、核酸モノマー化合物として、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（３，４−ジアセトキシブトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）すなわちウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を、縮合剤として５−ベンジルメルカプト−１Ｈ−テトラゾールを、酸化剤としてヨウ素溶液を、キャッピング溶液として無水酢酸／ピリジン溶液とＮ−メチルイミダゾール溶液を、それぞれ用いた。この条件で、前記核酸モノマー化合物を４９回縮合させた後に、固相上で５’末端の水酸基を脱保護し、濃アンモニア水−エタノール混合液（３：１）を用いて、８０℃、６時間かけてＣＰＧ固相担体からの切り出し及び各リン酸部位を脱保護した。このようにして得られた反応混合物を０．２Ｍ酢酸緩衝液（ｐＨ４．２）中、過ヨウ素酸ナトリウムを用いて１，２−ｃｉｓ−ジオールを酸化し、反応終了後グリセリンを加えて撹拌した。このようにして得られた溶液にエタノールを加えて沈殿を生じさせ、その沈殿を注射用水に溶解し、反応フラスコに移し、真空ポンプにて減圧乾固した。その残渣に１ＭのテトラブチルアンモニウムフルオリドのＤＭＳＯ溶液を加え、室温にて一晩反応させて、２’位の水酸基を脱保護した。このようにして得られた溶液にエタノールを加えて沈殿を生じさせ、その沈殿を注射用水に溶解して目的化合物であるウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）を含む水溶液を得た。【０３１２】
上記により得られたウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）のＨＰＬＣによる分析結果を、図３に示す。図示のとおり、ほぼ単一の鋭いピークが得られたことから、目的のウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）が高純度で得られたことが示唆された。図３のピーク強度に基づいて算出したウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）の純度は、７４．７４％であった。また、この反応混合物の質量分析結果（マススペクトルチャート）を、図４に示す。図示のとおり、分子量１５２４４．５０の分子イオンピークが観測された。この分子量は、目的のウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）の分子量の計算値である１５２４４．３７と良い一致を示したことから、目的のウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）が得られていることが確認できた。【０３１３】
［実施例９：ウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を用いたウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）の合成−２］
実施例８の過ヨウ素化反応で得られたアルデヒド誘導体にオルトニトロベンジルアミン（アルデヒド基に対して２〜５当量使用）のＤＭＳＯ溶液を加え、室温で数時間反応させ、イミノ化合物を得る。このようにして得られた反応溶液にエタノールを加えて沈殿を生じさせ、その沈殿を注射用水に溶解し、反応フラスコに移し、真空ポンプにて減圧乾固する。その残渣に１ＭのテトラブチルアンモニウムフルオリドのＤＭＳＯ溶液を加え、室温にて一晩反応させて、２’位の保護基を脱保護する。このようにして得られた溶液にエタノールを加えて沈殿を生じさせ、その沈殿を注射用水に溶解して目的化合物であるウリジン４９量体（ｄＴ＋Ｕ４９ｍｅｒ）を含む水溶液を得ることができる。【０３１４】
［実施例１０：グアノシンＤＢＭアミダイト（Ｇ５）及びウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）を用いたグアノシン・ウリジン２０量体（ｄＴ＋ＧＵ２０ｍｅｒ）の合成］
実施例８と同様にして、実施例２で合成したウリジンＤＢＭアミダイト（Ｕ５）および実施例４で合成したグアノシンＤＢＭアミダイト（Ｇ５）、核酸自動合成機（ＡＢＩ  ３９００：Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ社の商品名）を用いて下記配列番号３の配列で表されるグアノシン・ウリジン２０量体を合成した。３’末端の固相担体には２’−ＯＨ基を持たないデオキシチミジンを用いた。
5’-GUGUGUGUGUGUGUGUGUGUT-3’    (配列番号３）
上記により得られたグアノシン・ウリジン２０量体（ｄＴ＋ＧＵ２０ｍｅｒ）のＨＰＬＣによる分析結果を、図５に示す。図示のとおり、ほぼ単一の鋭いピークが得られたことから、目的のグアノシン・ウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）が高純度で得られたことが示唆された。図５のピーク強度に基づいて算出したグアノシン・ウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）の純度は、９１．４７％であった。また、この反応混合物の質量分析結果（マススペクトルチャート）を、図６に示す。図示のとおり、分子量の分子イオンピークが観測され、目的のグアノシン・ウリジン２０量体（ｄＴ＋Ｕ２０ｍｅｒ）が得られていることが確認できた。【０３１５】
以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解しうる様々な変更をすることができる。
【産業上の利用可能性】
【０３１６】
以上、説明したとおり、本発明の配糖体化合物、エーテル、エーテルの製造方法、配糖体化合物の製造方法によれば、低コストに製造できて、かつ、核酸を高収率および高純度で製造可能なホスホロアミダイトを提供可能である。また、本発明の核酸の製造方法によれば、前記ホスホロアミダイトを用いて、核酸を高収率および高純度で製造可能である。本発明により製造した前記エーテル、配糖体化合物、または核酸の用途は、特に限定されず、広範な用途に用いることができる。本発明によれば、例えば、これらを、低コストに、高収率かつ高純度で得ることができるので、これらを、医薬品またはその合成中間体として好適に用いることができる。【０３１７】
本出願は、日本で出願された特願２０１６−２０２６６３（出願日：２０１６年１０月１４日）及び特願２０１７−０５３６３３（出願日：２０１７年３月１７日）を基礎としており、その内容は本明細書に全て包含されるものである。
【図１】
2018070543.tif 000127
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【配列表】
2018070543000001.app
【国際調査報告】
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