(57)【要約】  本発明は、低リターデーションで透明性が高く、フレキシブル性が良好であるガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。  上記目的を達成するため本発明は以下の構成を有する。すなわち、環状オレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、直接に、単一の無機膜からなるガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、前記無機膜が少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む、ガスバリア性フィルムである。
2018110272.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状オレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、直接に、単一の無機膜からなるガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、前記無機膜が少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む、ガスバリア性フィルム。
【請求項２】
前記無機膜のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定される、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％である、請求項１に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項３】
前記環状オレフィン樹脂フィルムの波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）が５００ｎｍ以下である、請求項１または２に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項４】
前記環状オレフィン樹脂フィルムが位相差フィルムとしての機能を有する、請求項１〜３のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
【請求項５】
前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚みが１００μｍ未満である、請求項１〜４のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
【請求項６】
前記無機膜の厚みが、３０〜６０ｎｍの範囲または１２０〜１７０ｎｍの範囲である、請求項１〜５のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
【請求項７】
前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚みが５０μｍ未満であり、かつ前記無機膜の厚みが３０〜６０ｎｍの範囲である、請求項５または６に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項８】
前記環状オレフィン樹脂フィルムのガスバリア層を有する面とは反対面に硬化樹脂層を有する、請求項１〜７のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
【請求項９】
前記硬化樹脂層が粒子を含有し、該粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．７以下である、請求項８に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項１０】
前記硬化樹脂層の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下である、請求項８または９に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを備えた、有機ＥＬデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性が必要とされる、食品、医薬品の包装用途、太陽電池、電子ペーパー、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイスなどの電子部材に好適に使用されるガスバリア性フィルム、およびガスバリア性フィルムを用いた有機ＥＬデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア性フィルムは、通常、基材フィルム上にガスバリア層が積層された構成となっている。【０００３】
ガスバリア層としては、無機酸化物、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の蒸着膜が一般的に知られている。【０００４】
基材フィルムとしては、各種プラスチックフィルム、例えば、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の樹脂からなるプラスチックフィルムが知られている。【０００５】
一方、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）や液晶等の電子デバイスのガスバリア性フィルムとして、低リターデーション（複屈折率が小さい）で透明性が高い環状オレフィン樹脂フィルムを基材フィルムとして使用したガスバリア性フィルムが知られている（特許文献１〜３）。【０００６】
また一方では、基材フィルムとガスバリア層との密着性向上などのために、基材フィルムとガスバリア層との間に、ハードコート層を配置することが提案されている（特許文献３、４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−８３６４４号公報
【特許文献２】特開２０１３−１０３３７３号公報
【特許文献３】特開２０１５−２４５３６号公報
【特許文献４】特開２００６−２２４５７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、ガスバリア性フィルムは、フレキシブル性を有する太陽電池デバイス、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイスや液晶表示デバイス等のフレキシブル電子デバイスへの展開が求められている。つまり、ガスバリア性フィルムには、湾曲、屈曲あるいは複雑な平面形状に耐え得る柔軟性が求められている。【０００９】
しかし、特許文献１〜３に記載されたガスバリア性フィルムのように、基材フィルムとして環状オレフィン樹脂フィルムを使用し、ガスバリア層として二酸化ケイ素等の無機膜を積層したガスバリア性フィルムは、フレキシブル性が低いという問題がある。また、特許文献３、４に記載されたガスバリア性フィルムのように、基材フィルムとガスバリア層との間にハードコート層を配置したガスバリア性フィルムもフレキシブル性が低いという問題がある。【００１０】
従って、本発明の目的は、上述の課題に鑑み、低リターデーションで透明性が高く、フレキシブル性が良好であるガスバリア性フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、本発明のガスバリア性フィルムを備えた有機ＥＬデバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の本発明によって達成される。
［１］環状オレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、直接に、単一の無機膜からなるガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、前記無機膜が少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む、ガスバリア性フィルム。
［２］前記無機膜のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定される、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％である、［１］に記載のガスバリア性フィルム。
［３］前記環状オレフィン樹脂フィルムの波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）が５００ｎｍ以下である、［１］または［２］に記載のガスバリア性フィルム。
［４］前記環状オレフィン樹脂フィルムが位相差フィルムとしての機能を有する、［１］〜［３］のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
［５］前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚みが１００μｍ未満である、［１］〜［４］のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
［６］前記無機膜の厚みが、３０〜６０ｎｍの範囲または１２０〜１７０ｎｍの範囲である、［１］〜［５］のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
［７］前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚みが５０μｍ未満であり、かつ前記無機膜の厚みが３０〜６０ｎｍの範囲である、［５］または［６］に記載のガスバリア性フィルム。
［８］前記環状オレフィン樹脂フィルムのガスバリア層を有する面とは反対面に硬化樹脂層を有する、［１］〜［７］のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
［９］前記硬化樹脂層が粒子を含有し、該粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．７以下である、［８］に記載のガスバリア性フィルム。
［１０］前記硬化樹脂層の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下である、［８］または［９］に記載のガスバリア性フィルム。
［１１］［１］〜［１０］のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを備えた、有機ＥＬデバイス。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、低リターデーションで透明性が高く、フレキシブル性が良好であるガスバリア性フィルムを提供することができる。また、本発明のガスバリア性フィルムは、有機ＥＬデバイスに好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明のガスバリア性フィルムを備えた有機ＥＬデバイスの一例の模式断面図である。
【図２】本発明のガスバリア性フィルムを製造するための巻き取り式スパッタリング装置を模式的に示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明のガスバリア性フィルムは、環状オレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、直接に、単一の無機膜からなるガスバリア層を有する。かかる無機膜は、少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む。以下、少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む無機膜を「本発明のフィルムの無機膜」ということがある。
【００１５】
本発明におけるガスバリア層は、少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む単一の無機膜のみからなる。本発明において、少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む無機膜であれば、例えば、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムの組成比が異なる２以上の無機膜が積層されたものも単一の無機膜と定義する。すなわち、「本発明のフィルムの無機膜」に該当する無機膜のみが２以上積層されたものも単一の無機膜と定義する。
【００１６】
本発明におけるガスバリア層には、以下のような、本発明のフィルムの無機膜以外の、他の無機膜は含まない。例えば、ケイ素化合物（例えば酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素）のみからなる無機膜、アルミニウム化合物（例えば、酸化アルミニウム）のみからなる無機膜、亜鉛化合物（例えば、酸化亜鉛、硫化亜鉛）のみからなる無機膜、あるいは、上記ケイ素化合物と上記アルミニウム化合物のみからなる無機膜、上記ケイ素化合物と上記亜鉛化合物のみから無機膜、上記アルミニウム化合物と上記亜鉛化合物のみからなる無機膜は含まない。さらに、本発明におけるガスバリア層には、ガスバリア性有機膜、例えば、有機ケイ素化合物からなる有機膜は含まない。有機ケイ素化合物からなる有機膜としては、例えば、ポリシラザン骨格を有するケイ素化合物からなる有機膜、あるいは、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）ガスを用いたプラズマＣＶＤ膜などが挙げられる。
【００１７】
ガスバリア層として、本発明のフィルムの無機膜以外に上記したような他の無機膜あるいは有機膜が含まれると、ガスバリア性フィルムのフレキシブル性や透明性が低下することがある。
【００１８】
また、本発明のガスバリア性フィルムは、環状オレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、直接に、本発明のフィルムの無機膜を有する。つまり、本発明のガスバリア性フィルムは、環状オレフィン樹脂フィルムと本発明のフィルムの無機膜との間には、ハードコート層などのアンダーコート層は介在しない。
【００１９】
環状オレフィン樹脂フィルムと本発明のフィルムの無機膜との間に、硬度が比較的高いハードコート層が介在すると、ガスバリア性フィルムのフレキシブル性が低下することがある。
【００２０】
また、硬度が比較的高いハードコート層を設けると、ガスバリア性フィルムを所定サイズに切断するときにハードコート層に微小クラックが発生することがある。ハードコート層に微小クラックが発生すると、ハードコート層上に積層されたガスバリア層に伝染し、ガスバリア層にも微小クラックが発生することがある。ガスバリア層の切断部に微小クラックが発生すると、ガスバリア性フィルムがフレキシブルな有機ＥＬデバイスに適用され、折り曲げたり折り畳んだりされたときに、ガスバリア性が低下することがある。詳細は後述する。
【００２１】
［少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む無機膜］
本発明におけるガスバリア層は、少なくとも酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む無機膜（本発明のフィルムの無機膜）の単一層からなる。
【００２２】
本発明のフィルムの無機膜の組成としては、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定される、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％であることが好ましい。
【００２３】
Ｚｎ原子濃度が４０ａｔｏｍ％より大きくなると、またはＳｉ原子濃度が５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足しやすくなるため、空隙部分や欠陥部分が増加し、十分なガスバリア性が得られない場合がある。Ｚｎ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より小さくなると、またはＳｉ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より大きくなると、無機膜内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加しやすくなり、無機膜の柔軟性が低下する場合がある。
【００２４】
Ａｌ原子濃度が５ａｔｏｍ％より大きくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなりやすくなるため、無機膜の硬度が上昇しやすくなり、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。Ａｌ原子濃度が０．５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が不十分となり、無機膜を形成する粒子間の結合力が上がりにくくなるため、柔軟性が低下する場合がある。
【００２５】
Ｏ原子濃度が７０ａｔｏｍ％より大きくなると、無機膜内部の欠陥量が増加しやすくなるため、高いガスバリア性が得られない場合がある。Ｏ原子濃度が３５ａｔｏｍ％より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となりやすく、結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなりやすくなるため、ガスバリア性が悪化する場合がある。
【００２６】
上記観点から、さらに、Ｚｎ原子濃度が２５〜３５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１０〜１５ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が１〜３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５０〜６４ａｔｏｍ％であることが好ましい。
【００２７】
上記組成は、無機膜の形成時に使用した混合焼結材料と同程度の組成で形成されるため、目的とする無機膜の組成に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで調整することができる。
【００２８】
本発明のフィルムの無機膜を形成する方法は特に限定されず、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの単体材料を使用する場合は、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムをそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、無機膜の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。
【００２９】
無機膜をスパッタリング法等によって成膜する際、環状オレフィン樹脂フィルムの無機膜を成膜する面とは反対面に、耐熱性の保護フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに微粘着層が設けられたＰＥＴ保護フィルムを予め積層しておくことが好ましい。また、上記保護フィルムに代えて後述の硬化樹脂層を積層しておくことも好ましい。
【００３０】
本発明のフィルムの無機膜は、他の金属、例えば、チタン、錫、銅、インジウム、ガリウム、ジルコニウム、二オブ、モリブデン、タンタルなどの金属、あるいはこれらの金属の酸化物、窒化物、硫化物を、本発明の効果（ガスバリア性、フレキシブル性、透明性）を阻害しない範囲で含むことができる。
【００３１】
本発明のフィルムの無機膜の厚みは、良好なガスバリア性を得るという観点から、１０ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましく、特に３０ｎｍ以上が好ましい。一方、厚みの上限は、ガスバリア性フィルムのカールを抑制するという観点から、５００ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下が特に好ましい。
【００３２】
また、環状オレフィン樹脂フィルムに本発明のフィルムの無機膜を積層した場合において、高い透明性（高い全光線透過率）を得るという観点から、本発明のフィルムの無機膜の厚みは、３０〜６０ｎｍの範囲または１２０〜１７０ｎｍの範囲であることが好ましい。本発明のフィルムの無機膜の可視光線の屈折率（１．７０前後）と、環状オレフィン樹脂フィルムの可視光線の屈折率（１．５３前後）との関係から、環状オレフィン樹脂フィルムに本発明のフィルムの無機膜を積層したときの透過率は、上記の２つの範囲（無機膜の厚み３０〜６０ｎｍの範囲、あるいは１２０〜１７０ｎｍの範囲）において相対的に高くなる。
【００３３】
本発明のフィルムの無機膜は、切断時にクラックが発生しないか、またはクラックが発生しても極微小であるという特長を有する。この特長は、本発明のガスバリア性フィルムを所定サイズに切断して得られたカットシートをフレキシブルな有機ＥＬデバイスに適用し、折り曲げたり折り畳んだりしても、ガスバリア性が低下するのを抑制する効果がある。詳細は後述する。
【００３４】
無機膜の切断時のクラック発生を抑制するには、無機膜の厚みは小さい方が好ましく、この観点から、無機膜の厚みは３０〜６０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【００３５】
［環状オレフィン樹脂フィルム］
本発明における環状オレフィン樹脂フィルムは、環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）あるいは環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を主成分とする樹脂フィルムである。ここで、主成分とするとは、樹脂フィルムを構成する樹脂成分のうち、ＣＯＰあるいはＣＯＣの構成比率が５０質量％以上であることを意味するものであり、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくは９５質量％以上である。
【００３６】
環状オレフィン樹脂フィルムは、従来から広く用いられているポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムに比べて、相対的に透湿性が小さく、高い透明性を有しており、有機ＥＬデバイスに使用した際に、発光効率が向上するという特長がある。さらに、低リターデーション（複屈折率が小さい）で、有機ＥＬデバイスに使用した際、色の視野角依存性が小さいという利点を備えている。
【００３７】
環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）とは、環状オレフィンのホモポリマーからなる樹脂を意味する。環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）とは、環状オレフィンと環状オレフィン以外の他のモノマーとのコポリマーからなる樹脂を意味する。
【００３８】
ＣＯＰ、ＣＯＣを得るときに用いることができる環状オレフィンとしては、例えば、
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどの単環式オレフィン、
ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環式オレフィン、
などが挙げられる。これらの環状オレフィンは、それぞれ単独であるいは２種以上組合せて用いることができる。
【００３９】
環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を得るときに用いることができる環状オレフィン以外の他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられる。
【００４０】
本発明にかかる環状オレフィン樹脂フィルムは、市販品として入手することもできる。市販品としては、例えば、日本ゼオン（株）製の“ゼオネックス（登録商標）”、“ゼオノア（登録商標）”、積水化学工業（株）の“エッシーナ（登録商標）”、ＪＳＲ（株）の“アートン（登録商標）”、日立化成（株）の「オプトレッツ」、三井化学（株）の“アペル（登録商標）”などがある。
【００４１】
環状オレフィン樹脂フィルムの厚みは特に限定されないが、高い柔軟性を確保するという観点から厚みは小さい方が好ましく、具体的には、１００μｍ未満が好ましく、８０μｍ未満がより好ましく、５０μｍ未満が特に好ましい。下限の厚みは、引張りや衝撃に対する強度を確保するという観点から５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が特に好ましい。
【００４２】
また、本発明のガスバリア性フィルムを有機ＥＬデバイスに適用する場合は、有機ＥＬデバイスの厚みを小さくするという観点から、本発明のガスバリア性フィルムの厚みも小さいことが好ましい。この観点から、環状オレフィン樹脂フィルムの厚みは５０μｍ未満が好ましく、４０μｍ未満がより好ましく、３５μｍ未満が特に好ましい。下限の厚みは５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましい。
【００４３】
厚みが５０μｍ未満である環状オレフィン樹脂フィルムに本発明のフィルムの無機膜を一方の面のみに積層したガスバリア性フィルムは、カールが発生しやすくなる。このカールを抑制するために、本発明のフィルムの無機膜の厚みは３０〜６０ｎｍの範囲が好ましく、４０〜５５ｎｍの範囲がより好ましい。すなわち、本発明のガスバリア性フィルムにおいて、前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚みが５０μｍ未満であり、かつ前記無機膜の厚みが３０〜６０ｎｍの範囲であることが好ましく、前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚みが５０μｍ未満であり、かつ前記無機膜の厚みが４０〜５５ｎｍの範囲であることがより好ましい。厚みが５０μｍ未満である環状オレフィン樹脂フィルムに、厚みが３０〜６０ｎｍ、好ましくは４０〜５５ｎｍである本発明のフィルムの無機膜を積層することにより、良好なガスバリア性を維持しながら高い透明性（高い全光線透過率）を得やすくなる。
【００４４】
本発明における環状オレフィン樹脂フィルムは、低リターデーションであることが好ましい。具体的には、波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限は０ｎｍである。
【００４５】
有機ＥＬデバイスの有機ＥＬ素子を水蒸気から保護するためのガスバリア性フィルムの場合、環状オレフィン樹脂フィルムのリターデーションＲｅ５５０は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。このような低リターデーションの環状オレフィン樹脂フィルムを用いたガスバリア性フィルムは、有機ＥＬ素子の発光色の視野角依存性が小さくなるという利点を備えている。
【００４６】
また、本発明のガスバリア性フィルムは、有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）の円偏光板を構成する位相差フィルム（λ／４板）を兼ねることができる。この場合、環状オレフィン樹脂フィルムが位相差フィルム（λ／４板）としての機能を有することが好ましい。ここで、「環状オレフィン樹脂フィルムが位相差フィルムとしての機能を有する」とは、環状オレフィン樹脂フィルムのリターデーションＲｅ５５０が、１１０〜１７０ｎｍの範囲であることをいう。この場合のリターデーションＲｅ５５０は、１２０〜１５０ｎｍの範囲であることがより好ましく、１３０〜１４５ｎｍの範囲であることが特に好ましい。
【００４７】
環状オレフィン樹脂フィルムの波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）は、下記式で表される値である。
【００４８】
｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ
（式中、ｎｘは環状オレフィン樹脂フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは環状オレフィン樹脂フィルムの面内の進相軸方向の屈折率を表し、ｄは膜厚（ｎｍ）を表す。）
ここで、面内とは、環状オレフィン樹脂フィルム面内を指し、該フィルムの厚み方向に垂直な面内を指す。リターデーションは、実施例で使用したような複屈折計を用いて平行ニコル回転法により測定できる。
【００４９】
環状オレフィン樹脂フィルムのリターデーションは、例えば、製造時（製膜時）の延伸方向や延伸倍率を調整することによって制御することができる。また、上述した市販品の中から適宜選択して用いることができる。
【００５０】
［ガスバリア性フィルム］
本発明のガスバリア性フィルムは、環状オレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層を有する。ガスバリア層は、環状オレフィン樹脂フィルムの片面のみに設けられてもよいし、両面に設けられてもよいが、片面のみに設けられることが好ましい。
【００５１】
ガスバリア層が環状オレフィン樹脂フィルムの片面のみに設けられる態様においては、環状オレフィン樹脂フィルムのガスバリア層が設けられた面とは反対面（以下、「裏面」ということがある）には、硬化樹脂層が設けられていることが好ましい。硬化樹脂層については、詳細は後述する。
【００５２】
本発明のガスバリア性フィルムは、フレキシブル性が高いことが好ましい。つまり、折り曲げ性が良好であることが好ましい。本発明においては、上記フレキシブル性を評価する指標として円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）を用いる。
【００５３】
円筒形マンドレル法は、直径２ｍｍ〜十数ｍｍの円筒マンドレル（円柱棒）にガスバリア性フィルムを巻き付けたときのクラック等の発生状況を観察し評価する方法である。具体的には、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠し、ガスバリア性フィルムを、ガスバリア層が外側となるように直径２ｍｍの円筒マンドレルに巻き付けたとき、その巻き付け部分のガスバリア層にクラックが発生しないことが好ましい。
【００５４】
本発明のガスバリア性フィルムのガスバリア性は、水蒸気透過率により評価する。本発明のガスバリア性フィルムの水蒸気透過率は、５．０×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることが好ましく、３．０×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることがより好ましく、１．０×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることが特に好ましい。
【００５５】
また、本発明のガスバリア性フィルムは、透明性が高いことが好ましい。具体的には、本発明のガスバリア性フィルムは、全光線透過率が８８％以上であることが好ましい。
【００５６】
［硬化樹脂層］
環状オレフィン樹脂フィルムのガスバリア層を有する面とは反対面（裏面）に硬化樹脂層を有することが好ましい。硬化樹脂層を有することにより、ガスバリア性フィルムの耐擦傷性が向上する。この観点から、硬化樹脂層の鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度）は、Ｆ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。上限の鉛筆硬度は高くなり過ぎると後述するフレキシブル性が悪化するので、３Ｈ以下が好ましく、２Ｈ以下が特に好ましい。
【００５７】
上記硬化樹脂層は、熱硬化樹脂層または活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、特に活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂層としては、紫外線硬化樹脂層が好ましい。
【００５８】
また、硬化樹脂層は、粒子を含有することが好ましい。さらに、硬化樹脂層は、その表面に粒子による微小突起を有することが好ましい。これによって、ガスバリア性フィルムの滑り性や耐ブロッキング性が向上する。
【００５９】
ガスバリア性フィルムに、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、粒子を含有する硬化樹脂層を設ける場合は、硬化樹脂層の厚みより平均粒子径が十分に小さい粒子を含有し、硬化樹脂層表面に該粒子による突起が形成されていることが好ましい。例えば、硬化樹脂層に含有される粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．７以下であることが好ましく、０．５以下であることがより好ましく、０．３以下であることが特に好ましい。下限の比率は、小さくなり過ぎると良好な滑り性が得られないことから、０．０１以上が好ましく、０．０２以上がより好ましく、０．０３以上が特に好ましい。
【００６０】
硬化樹脂層が積層されたガスバリア性フィルムについても、高いフレキシブル性を確保するという観点から、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠し、ガスバリア性フィルムを、硬化樹脂層が外側となるように直径２ｍｍの円筒マンドレルに巻き付けたとき（ガスバリア性フィルムのガスバリア層が円筒形マンドレルと接するように巻き付けたとき）、その巻き付け部分の硬化樹脂層にクラックが発生しないことが好ましい。
【００６１】
上記したように、硬化樹脂層に高いフレキシブル性を付与するという観点から、硬化樹脂層のナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さは、２００〜６００Ｎ／ｍｍ２の範囲が好ましく、２５０〜５５０Ｎ／ｍｍ２の範囲がより好ましく、特に３００〜５００Ｎ／ｍｍ２の範囲が好ましい。
【００６２】
上記観点から、硬化樹脂層の樹脂成分としては、ウレタン系樹脂を用いることが好ましい。つまり、硬化樹脂層は、ウレタン系樹脂（ウレタン（メタ）アクリレートモノマーやオリゴマー）を含有する活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましい。上記ウレタン系樹脂としては、１〜５官能のウレタン系樹脂が好ましく、１〜４官能のウレタン系樹脂がより好ましく、１〜３官能のウレタン樹脂が特に好ましい。
【００６３】
硬化樹脂層の厚みは、良好なフレキシブル性を確保するという観点およびガスバリア性フィルムのカールを抑制するという観点から、４μｍ未満が好ましく、３μｍ未満がより好ましく、２μｍ未満が特に好ましい。下限の厚みは、良好な滑り性を付与するという観点から、０．３μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、０．７μｍ以上が特に好ましい。
【００６４】
硬化樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）は０．０２〜０．５μｍの範囲が好ましく、０．０３〜０．４μｍの範囲がより好ましく、０．０４〜０．２μｍの範囲が特に好ましい。
【００６５】
硬化樹脂層に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）が０．０２μｍ未満であると良好な滑り性が得られなくなることがあり、一方、平均粒子径（ｒ）が０．５μｍより大きくなるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。
【００６６】
硬化樹脂層に含有させる粒子の含有量は、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、硬化樹脂層の固形分総量１００質量％に対して２〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３０質量％の範囲がより好ましく、５〜２０質量％の範囲が特に好ましい。
【００６７】
硬化樹脂層に含有させる粒子としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。
【００６８】
有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる２種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる。
【００６９】
アクリル系樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー、例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等との共重合樹脂粒子が挙げられる。
【００７０】
これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましい。乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が０．５μｍ以下の有機粒子を得ることができる。
【００７１】
無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、ゼオライトなどの無機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカや気相法シリカ（乾式シリカやヒュームドシリカとも言う）が好ましい。
【００７２】
無機粒子、例えば、シリカ粒子は、有機化合物で変性（表面処理）することが好ましい。無機粒子を有機化合物で表面処理することにより、硬化樹脂層の表面側（環状オレフィン樹脂フィルムとは反対側）に粒子を多く局在（浮上）させることができる。これによって、比較的少ない粒子含有量で高い滑り性を付与することができる。
【００７３】
無機粒子の変性（表面処理）に使用する有機化合物としては、下記の一般式（１）〜（３）が挙げられ、これらの有機化合物を単独もしくは組み合わせて用いることができる。
ＣｎＦ２ｎ＋１−（ＣＨ２）ｍ−Ｓｉ（Ｑ）３    ・・・・一般式（１）
（一般式（１）において、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。Ｑは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
Ｂ−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ（ＯＲ６）３−ｎ    ・・・・一般式（２）
Ｄ−Ｒ７−Ｒｆ２    ・・・・一般式（３）
（一般式（２）および（３）において、ＢおよびＤはそれぞれ独立に反応性部位を表し、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ独立に炭素数１から３のアルキレン基、あるいは前記アルキレン基から導出されるエステル構造を表し、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に水素あるいは炭素数が１から４のアルキル基を表し、Ｒｆ２はフルオロアルキル基を表し、ｎは０から２の整数を表す。）。
【００７４】
一般式（１）の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。
Ｃ４Ｆ９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＢｒ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）Ｃｌ２。
【００７５】
一般式（２）の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
【００７６】
一般式（３）の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。
【００７７】
硬化樹脂層は、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、硬化樹脂層表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下であることが好ましい。硬化樹脂層の表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満となると、滑り性が低下することがある。また、表面粗さ（Ｒａ）が１０．０ｎｍを超えると、透明性が低下することがある。上記観点から、さらに、硬化樹脂層表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．５ｎｍ以上７．０ｎｍ以下であることが好ましく、３．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【００７８】
［封止粘着剤層］
本発明のガスバリア性フィルムを後述の有機ＥＬデバイスに適用する場合、本発明のガスバリア性フィルムは封止粘着剤層を介して有機ＥＬ素子に貼合されることが好ましい。つまり、本発明のガスバリア性フィルムは、ガスバリア層の面に封止粘着剤層が積層されていることが好ましい。
【００７９】
封止粘着剤層は、封止樹脂として、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、スチレン−イソブチレン変性樹脂、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、およびポリブテンからなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。これらの中でもポリイソブチレンやブチルゴムを含むことがより好ましい。
【００８０】
封止粘着剤層は、さらに粘着付与樹脂を含有することが好ましい。かかる粘着付与樹脂としては、例えば、脂環族系石油樹脂、脂環族系水添石油樹脂、芳香族系石油樹脂、およびロジン系樹脂が挙げられる。これらの粘着付与樹脂の中でも脂環族系石油樹脂が好ましく、さらに脂環族系水添石油樹脂の中でも、水素添加テルペン系樹脂、水素添加エステル系樹脂、Ｃ５系石油樹脂の水素添加樹脂、Ｃ９系石油樹脂の水素添加樹脂が好ましい。
【００８１】
封止樹脂と粘着付与樹脂との質量比（封止樹脂／粘着付与樹脂）は、１０／９０〜１００／０であることが好ましく、２０／８０〜９０／１０であることがより好ましい。
【００８２】
また、封止粘着剤層は、さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、充填剤、難燃剤、架橋剤、および防錆剤等を含有することができる。
【００８３】
封止粘着剤層の厚みは、５〜１５０μｍの範囲が好ましく、１０〜１００μｍの範囲がより好ましく、２０〜８０μｍの範囲が特に好ましい。また、封止粘着剤層は、水蒸気透過率が、４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、３０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。
【００８４】
封止粘着剤層は、ガスバリア性フィルムのガスバリア層の上に塗布して形成してもよいし、一旦離型フィルムに封止粘着剤層を塗布した後、封止粘着剤層の面とガスバリア性フィルムのガスバリア層の面とを貼合してもよい。
【００８５】
［ガスバリア性フィルムの適用例］
本発明のガスバリア性フィルムは、医薬品などの包装材、有機ＥＬ照明、有機ＥＬデバイス、太陽電池などの電子デバイスに好適に用いることができる。
【００８６】
特に、本発明のガスバリア性フィルムは、高いフレキシブル性を有することから、フレキシブル（折り曲げ可能あるいは折り畳み可能）な有機ＥＬデバイスに好適である。また、本発明のガスバリア性フィルムは、位相差フィルム（λ／４板）として好適である。
【００８７】
フレキシブルな有機ＥＬデバイスとして、例えば、フォルダブルディスプレイ（折り畳み可能なディスプレイ）、ベンダブルディスプレイ（折り曲げ可能なディスプレイ）およびローラブルディスプレイ（巻き取り可能なディスプレイ）などのフレキシブルディスプレイが挙げられる。本発明のガスバリア性フィルムは、上記したようなフレキシブルディスプレイに好適である。
【００８８】
ガスバリア性フィルムは、有機ＥＬデバイス等に適用する際に所定サイズに切断される。このとき、ガスバリア層の切断部に微小クラックが発生することがある。所定サイズに切断されたガスバリア性フィルムのカットシートのガスバリア層の切断部のみに微小クラックが発生していても、ガスバリア性能は、通常、問題とはならない。しかし、ガスバリア層の切断部に微小クラックが発生したカットシートをフレキシブルディスプレイに適用した場合、フレキシブルディスプレイを折り曲げたり折り畳んだりしたときに、カットシートのガスバリア層の切断部に存在する微小クラックが中央方向に伝播してガスバリア性が低下することがある。
【００８９】
本発明のガスバリア性フィルムの無機膜は、切断時にクラックが発生しないか、またはクラックが発生しても極微小であるかまたは極少数である。このような本発明のガスバリア性フィルムのカットシートは、フレキシブルな有機ＥＬデバイスに適用して、折り曲げたり折り畳んだりしてもガスバリア性の低下が抑制される。
【００９０】
つまり、本発明のガスバリア性フィルムのカットシートは、フレキシブルな有機ＥＬデバイス、例えば、フレキシブル有機ＥＬディスプレイに好適である。特に、フォルダブル有機ＥＬディスプレイやベンダブル有機ＥＬディスプレイに好適である。
【００９１】
本発明の有機ＥＬデバイスは、本発明のガスバリア性フィルムを備える。
【００９２】
図１は、本発明のガスバリア性フィルム（カットシート）を備えた有機ＥＬデバイスの一例の模式断面図である。但し、本発明はこれに限定されない。有機ＥＬデバイス１００は、背面基板１０１（ポリイミド基板）に有機ＥＬ素子１０２を有する。有機ＥＬ素子１０２は封止粘着剤層１０３を介してガスバリア性フィルム１０４で被覆されている。
【００９３】
ガスバリア性フィルム１０４上には、光学フィルム１０５（偏光フィルム、位相差フィルム、タッチパネルなど）が積層され、さらにその上に表面保護フィルム１０６（ハードコートフィルム、反射防止フィルムなど）が積層されている。光学フィルム１０５が表面保護機能を兼ねる場合は、表面保護フィルム１０６を省略することができる。
【００９４】
[ガスバリア性フィルムのカットシート]
上述したように、本発明のガスバリア性フィルムのカットシート（以下、単に「カットシート」ということがある）は、折り曲げたり折り畳んだりしても、水蒸気透過率が増大しないという特長を有する。具体的には、カットシートの折り畳み試験後の水蒸気透過率は、折り畳み試験前と同様に、５．０×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることが好ましく、３．０×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることがより好ましく、１．０×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることが特に好ましい。折り畳み試験の詳細は後述する。
【００９５】
本発明のガスバリア性フィルムのカットシートは、ガスバリア層の切断部に微小クラックが実質的に存在しないことが好ましい。これによって、カットシートの折り畳み試験後の水蒸気透過率の増大が抑制され、カットシートの折り畳み試験後の水蒸気透過率を上記範囲とすることができる。
【００９６】
ここで、微小クラックは、長さが３０μｍ以上のクラックを指す。また、ガスバリア層の切断部に微小クラックが実質的に存在しないとは、デジタルマイクロスコープ（キーエンス（株）製の「ＶＨＸ−１０００」）を用いて倍率２００倍にて、カットシートの切断部（例えば、カットシートが矩形の場合、その４辺）について、概略１０ｍｍの間隔で観察し、切断部長さ２００ｍｍ当たりの微小クラックの個数が５０個未満であることを意味する。上記微小クラックの測定方法における微小クラックの個数は、３０（個／切断部長さ２００ｍｍ）未満が好ましく、１０（個／切断部長さ２００ｍｍ）未満がより好ましく、０（個／切断部長さ２００ｍｍ）が特に好ましい。
【００９７】
本発明のガスバリア性フィルムの構成によって、すなわち、環状オレフィン樹脂フィルムに、直接に、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む無機膜の単一膜からなるガスバリア層を有する構成によって、切断時における微小クラックの発生が抑制される。
【実施例】
【００９８】
以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
［評価方法］
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価ｎ数は、特に断らない限り、ｎ＝５とし平均値を求めた。【００９９】
（１）ガスバリア性フィルムのガスバリア層のフレキシブル性（Ａ）の評価
円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠して、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ガスバリア性フィルムのガスバリア層が外側になるように巻き付け、その巻き付け部分のガスバリア層にクラックが生じるか否かを目視で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：クラックが確認できない。
Ｂ：クラックが確認される。【０１００】
（２）ガスバリア性フィルムの硬化樹脂層のフレキシブル性（Ｂ）の評価
硬化樹脂層が設けられたガスバリア性フィルムについて、上記（１）と同様にして評価した。但し、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ガスバリア性フィルムのガスバリア層とは反対面の硬化樹脂層が外側になるように巻き付け、硬化樹脂層にクラックが発生しているかどうかを評価した。【０１０１】
（３）硬化樹脂層のナノインデンテーション法による押し込み硬さの測定
（株）エリオニクス製のナノインデンター「ＥＮＴ−２１００」を用いて測定した。ガスバリア性フィルムの測定面（硬化樹脂層面）とは反対面を、接着剤（東亞合成（株）製“アロンアルファ（登録商標）”を介して専用のサンプル固定台に固定し、硬化樹脂層の押し込み硬さ（ＨＩＴ（Ｎ／ｍｍ２））を、稜間角１１５°の三角錐ダイヤモンド圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子）を用いて下記条件にて測定した。測定データは「ＥＮＴ−２１００」の専用解析ソフト（ｖｅｒｓｉｏｎ  ６．１８）により処理した。
＜測定条件＞
・測定モード：負荷−除荷試験
・最大荷重：１００ｍＮ
・最大荷重に達した時の保持時間：１秒
・荷重速度、除荷速度：１０ｍＮ／ｓｅｃ
・押し込み深さ：膜厚の１／１０。【０１０２】
（４）各層の厚み
ガスバリア性フィルムの断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（日立製ＦＢ−２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８〜１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−９０００ＵＨＲII）により、加速電圧３００ｋＶとして、断面観察用サンプルの断面を観察し、ガスバリア層、硬化樹脂層の厚みを測定した。【０１０３】
（５）硬化樹脂層に含有される粒子の平均粒子径の測定
硬化樹脂層の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察（約１万〜３０万倍）し、その断面写真の幅（硬化樹脂層の厚み方向に直交する長さ）１μｍに存在する全ての粒子の最大長さを計測し、それらを算術平均した値を粒子の平均粒子径とした。【０１０４】
（６）原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）の測定
硬化樹脂層の表面粗さ（Ｒａ）を、日立ハイテクサイエンス製の原子間力顕微鏡「ＡＦＭ５１００Ｎ」を用い、下記条件による測定した。
・走査モード：ＤＦＭ
・走査範囲：５μｍ×５μｍ
・データ数：２５６×２５６
・測定環境：２５℃、大気中。【０１０５】
（７）ガスバリア性フィルムの水蒸気透過率の測定
温度４０℃、湿度９０％ＲＨ、測定面積５０ｃｍ２の条件で、英国、テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置（機種名：“ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ（登録商標）”）を使用して測定した。サンプル数は１水準当たり２検体とし、測定回数は各検体について５回とし、得られた１０点の平均値を水蒸気透過率（ｇ／ｍ２／ｄａｙ）とした。【０１０６】
（８）ガスバリア層（無機膜）の組成分析
ガスバリア層の組成分析（無機膜が酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムを含むかどうか、および各元素の含有比率）は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により行った。すなわち、アルゴンイオンを用いたスパッタエッチングにより、最表層を５ｎｍ程度エッチングして除去した後、各元素の含有比率を測定した。ＸＰＳ法の測定条件は下記の通りである。
・装置                      ：ＥＳＣＡ  ５８００（アルバックファイ社製）
・励起Ｘ線                  ：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ  ＡｌＫα
・Ｘ線出力                  ：３００Ｗ
・Ｘ線径                    ：８００μｍ
・光電子脱出角度            ：４５°
・Ａｒイオンエッチング      ：２．０ｋＶ、１０ｍＰａ。【０１０７】
（９）ガスバリア性フィルムの滑り性の評価
裏面に硬化樹脂層が設けられたガスバリア性フィルムの滑り性を以下の要領で評価した。【０１０８】
ガスバリア性フィルムをカットして２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製した。２枚のシート片のガスバリア層面と硬化樹脂層とが向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。測定環境は２３℃、５５％ＲＨである。
Ａ：上方のシート片が滑る。
Ｂ：上方のシート片が滑らない。【０１０９】
（１０）基材フィルムのリターデーション（Ｒｅ５５０）の測定
基材フィルムの波長５５０ｎｍに光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）について、王子計測器社製複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、平行ニコル回転法により測定した。【０１１０】
（１１）全光線透過率の測定
ＪＩＳ  Ｋ７３６１（１９９７）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。【０１１１】
（１２）硬化樹脂層の鉛筆硬度の測定
鉛筆硬度試験機ＨＥＩＤＯＮ−１４（新東科学（株））を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に従って測定した。【０１１２】
（１３）ガスバリア性フィルムのカットシートの切断部の微小クラックの観察
カットシートの４辺のガスバリア層切断部をデジタルマイクロスコープ（キーエンス（株）製の「ＶＨＸ−１０００」）を用いて倍率２００倍にて観察し、長さが３０μｍ以上の微小クラックの個数を計測した。４辺の切断部についてそれぞれ概略１０ｍｍ間隔で観察し、微小クラックの合計個数を求め、下記式にて切断部長さ２００ｍｍ当たりの個数に換算し、以下の基準で評価した。【０１１３】
切断部２００ｍｍ当たりの個数＝合計個数／（２００ｍｍ／切断部の合計長さ）・・・式１
（尚、本実施例における切断部の合計長さは、６４０ｍｍである）
Ａ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が１０個未満である。
Ｂ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が１０個以上３０個未満である。
Ｃ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が３０個以上５０個未満である。
Ｄ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が５０個以上１００個未満である。
Ｅ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が１００個以上である。【０１１４】
（１４）カットシートの折り畳み試験および折り畳み試験後の水蒸気透過率の測定
ＡＳＴＭ−Ｄ５２２に準拠したガードナー式マンドレル屈曲試験機（（株）安田精機製の「Ｎｏ．５５０ ガードナー式マンドレル屈曲試験機」）を用いて、直径３ｍｍのロッドに、カットシートの無機膜が外側になるように巻き付け、約１秒かけて１８０度に折り畳んだ。この操作を１０回繰り返した。上記屈曲試験でロッドに当接した箇所が略中央になるように水蒸気透過率測定用サンプルを作製し、上記（７）と同様にして水蒸気透過率を測定した。【０１１５】
［実施例１］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ；片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）の保護フィルムが積層されていない面に、下記の無機膜からなるガスバリア層を積層してガスバリア性フィルムを作製した。無機膜の厚みは１３０ｎｍとなるように調整した。【０１１６】
＜無機膜の積層＞
図２に示す構造の巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置１を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極１２に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、環状オレフィン樹脂フィルムの一方の面上に無機膜を積層してガスバリア性フィルム４を得た。【０１１７】
具体的な操作は以下の通りである。まず、スパッタ電極１２に、酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの組成質量比が７７／２０／３で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置１の巻き取り室６の中で、巻き出し軸７に環状オレフィン樹脂フィルムの無機膜を設ける側の面がスパッタ電極１２に対向するようにセットし、巻き出し、巻き出し側ガイドロール８、９、１０を介して、クーリングドラム１１に通した。減圧度２×１０−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力４０００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、無機膜を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、巻き取り側ガイドロール１３、１４、１５を介して巻き取り軸１６に巻き取った。【０１１８】
この無機膜の組成は、Ｚｎ原子濃度が２７．５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１３．１ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が２．３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５７．１ａｔｏｍ％であった。【０１１９】
［実施例２］
厚みが２３μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４−０２３：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ：片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）に変更し、かつ無機膜の厚みを５０ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。【０１２０】
［実施例３］
下記要領で、位相差フィルム（λ／４板）としての機能を有するガスバリア性フィルムを作製した。すなわち、厚みが２８μｍ、リターデーションＲｅ５５０が１４０ｎｍである環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＭ１４−１４０：片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）の保護フィルムが積層されていない面に、実施例１と同様にして無機膜を積層してガスバリア性フィルムを作製した。但し、無機膜の厚みは５０ｎｍとなるように調整した。【０１２１】
［比較例１］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ：片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）の保護フィルムが積層されていない面に、コロナ処理を施し、アンダーコート層として下記のハードコート層用塗布液をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層の厚みは２μｍであった。【０１２２】
＜アンダーコート層（ハードコート層用塗布液）＞
ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−１７００Ｂ」）を、有機溶剤（ＭＥＫ）で固形分濃度が２０質量％となるように希釈した。【０１２３】
＜ガスバリア層の積層＞
上記で得られたハードコート層が積層された環状オレフィン樹脂フィルムのハードコート層の面に、実施例１と同様にして無機膜を形成してガスバリア性フィルムを作製した。【０１２４】
［比較例２］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ：片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）の保護フィルムが積層されていない面に、実施例１と同様にして厚みが１００ｎｍの無機膜を積層した。次に、この無機膜の上に、図２に示す構造の巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置１を使用し、ヘキサメチルジシラザンを原料とした化学気相蒸着（ＣＶＤ）を実施して、ＳｉＯ２膜を積層した。このＳｉＯ２膜の厚み１２０ｎｍであった。【０１２５】
［比較例３］
基材フィルムを厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製の“ルミラー（登録商標）”Ｕ４８）に変更した以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。【０１２６】
［比較例４］
比較例１において、基材フィルムを厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製の“ルミラー（登録商標）”Ｕ４８）に変更した以外は、比較例１と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。【０１２７】
［比較例５］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ；片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）の保護フィルムが積層されていない面に、図２に示す構造の巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置１を使用し、厚みが２００ｎｍの二酸化ケイ素膜（ＳｉＯ２膜）を積層した。【０１２８】
［比較例６］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ；片面に予めＰＥＴ保護フィルムを積層）の保護フィルムが積層されていない面に、図２に示す構造の巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置１を使用し、厚みが２００ｎｍの窒化ケイ素膜（ＳｉＮ膜）を積層した。窒化ケイ素膜の製膜は、ＳｉＨ４、ＮＨ３、Ｎ２からなる混合ガス中にてプラズマを発生させて行った。【０１２９】
［評価］
上記の実施例および比較例で得られたガスバリア性フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表１に示す。尚、上記測定および評価は、保護フィルムを剥離した状態で実施した。【０１３０】
【表１】
2018110272.tif 000003
【０１３１】
表中、COPは環状オレフィン樹脂フィルム、PETはポリエチレンテレフタレートフィルムを表す。HCはハードコート層を表す。【０１３２】
表１から分かるように、実施例１〜３は、水蒸気透過率、ガスバリア性、全光線透過率に優れている。【０１３３】
一方、比較例１は、環状オレフィン樹脂フィルムとガスバリア層との間にアンダーコート層（ハードコート層）が配置されているため、ガスバリア層のフレキシブル性（Ａ）が低下している。【０１３４】
比較例２は、ガスバリア層として本発明のフィルムの無機膜と他の膜（ＳｉＯ２膜）が積層されているため、ガスバリア層のフレキシブル性（Ａ）が低下している。【０１３５】
比較例３は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）に直接に本発明のフィルムの無機膜が積層されているが、ガスバリア性（水蒸気透過率）が劣っている。この理由は、ＰＥＴフィルムは環状オレフィン樹脂フィルムに比べて平滑性が劣っていることが影響していると推測される。また、基材フィルムとしてＰＥＴフィルムが用いられていることから全光線透過率が低下している。【０１３６】
比較例４は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）に、アンダーコート層（ハードコート層）を介してガスバリア層（本発明のフィルムの無機膜）が積層されており、ガスバリア性（水蒸気透過率）は良好であるが、ガスバリア層のフレキシブル性（Ａ）が低下し、また、全光線透過率も低下している。【０１３７】
比較例５および６は、本発明のフィルムの無機膜に代えて二酸化ケイ素膜（ＳｉＯ２膜）または窒化ケイ素膜（ＳｉＮ膜）を設けたガスバリア性フィルムであるが、ガスバリア性、フレキシブル性および全光線透過率が劣っている。【０１３８】
また、実施例１〜３のガスバリア性フィルムのカットシートは、ガスバリア層の切断部には微小クラックの発生が実質的になく、折り畳み試験後の水蒸気透過率の上昇が抑制されている。【０１３９】
一方、アンダーコート層（ハードコート層）を設けた比較例１および４、本発明のフィルムの無機膜と他の膜（ＳｉＯ２膜）を積層した比較例２、本発明のフィルムの無機膜に代えて二酸化ケイ素膜（ＳｉＯ２膜）または窒化ケイ素膜（ＳｉＮ膜）を設けた比較例５、６のガスバリア性フィルムのカットシートは、いずれもガスバリア層の切断部に微小クラックが発生しており、折り畳み試験後の水蒸気透過率が大きく上昇している。【０１４０】
［実施例１１］
実施例１のガスバリア性フィルムを作製するに先立ち、環状オレフィン樹脂フィルムの保護フィルムを剥離し、この剥離面に、下記の硬化樹脂層用塗布液ａ１をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて硬化樹脂層を形成した。【０１４１】
この硬化樹脂層の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．０８μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０５であった。また、この硬化樹脂層の鉛筆硬度はＦであった。【０１４２】
＜硬化樹脂層用塗布液ａ１）
アイカ工業（株）製の紫外線硬化性コート剤“アイカアイトロン（登録商標）”Ｚ−８５０−３に、下記シリカ粒子分散液ｂ１を固形分換算で塗布液の全固形分に対して１０質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。【０１４３】
（シリカ粒子分散液ｂ１）
気相法シリカ（日本アエロジル（株）の“アエロジル（登録商標）”ＯＸ５０）を有機溶剤（ＭＥＫ）中で分散してシリカ濃度が１５質量％の分散液を得た。分散装置としてビーズミルを用いた。【０１４４】
次に、この分散液３００質量部に、フルオロアルキルアルコキシシラン（信越化学（株）製の「ＫＢＭ７１０３」）を８質量部混合し、５０℃で１時間加熱撹拌して、表面処理されたシリカ粒子の分散液を得た。【０１４５】
＜ガスバリア層（無機膜）の積層＞
硬化樹脂層が積層された環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層の面とは反対面に、実施例１と同様にしてガスバリア層（無機膜）を積層してガスバリア性フィルムを作製した。【０１４６】
［実施例１２］
実施例２のガスバリア性フィルムを作製するに先立ち、環状オレフィン樹脂フィルムの保護フィルムを剥離し、この剥離面に、実施例１１と同様にして硬化樹脂層を積層した。次に、硬化樹脂層が積層された環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層の面とは反対面に、実施例２と同様にしてガスバリア層（無機膜）を積層してガスバリア性フィルムを作製した。【０１４７】
［実施例１３］
実施例３のガスバリア性フィルムを作製するに先立ち、環状オレフィン樹脂フィルムの保護フィルムを剥離し、この剥離面に、実施例１１と同様にして硬化樹脂層を積層した。次に、硬化樹脂層が積層された環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層の面とは反対面に、実施例３と同様にしてガスバリア層（無機膜）を積層したガスバリア性フィルムを作製した。【０１４８】
［比較例１１］
比較例１のガスバリア性フィルムを作製するに先立ち、環状オレフィン樹脂フィルムの保護フィルムを剥離し、この剥離面に、下記の硬化樹脂層用塗布液ａ２をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて硬化樹脂層を形成した。【０１４９】
この硬化樹脂層の厚みは１．５μｍ、粒子の平均粒子径は０．０８μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）と硬化樹脂層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．０５であった。この硬化樹脂層の鉛筆硬度はＨであった。【０１５０】
次に、硬化樹脂層が積層された環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層の面とは反対面に、比較例１と同様にしてハードコート層とガスバリア層（無機膜）を順次積層してガスバリア性フィルムを作製した。【０１５１】
＜硬化樹脂層用塗布液ａ２＞
ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−１７００Ｂ」）に、上記シリカ粒子分散液ｂ１を固形分換算で塗布液の全固形分に対して８質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。【０１５２】
［比較例１２］
比較例２のガスバリア性フィルムを作製するに先立ち、環状オレフィン樹脂フィルムの保護フィルムを剥離し、この剥離面に、下記の硬化樹脂層用塗布液ａ３をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させて硬化樹脂層を形成した。【０１５３】
この硬化樹脂層の厚みは１．５μｍであった。この硬化樹脂層の鉛筆硬度はＨであった。【０１５４】
次に、硬化樹脂層が積層された環状オレフィン樹脂フィルムの硬化樹脂層の面とは反対面に、比較例２と同様にしてハードコート層とガスバリア層（無機膜）を順次積層してガスバリア性フィルムを作製した。【０１５５】
＜硬化樹脂層用塗布液ａ３＞
ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ−１７００Ｂ」）を有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。【０１５６】
［評価］
上記の実施例および比較例で得られたガスバリア性フィルムについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表２に示す。【０１５７】
【表２】
2018110272.tif 000004
【０１５８】
表中、COPは環状オレフィン樹脂フィルムを表す。HCはハードコート層を表す。
【符号の説明】
【０１５９】
１  巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置
４  ガスバリア性フィルム
６  巻き取り室
７  巻き出し軸
８、９、１０  巻き出し側ガイドロール
１１  クーリングドラム
１２  スパッタ電極
１３、１４、１５  巻き取り側ガイドロール
１６  巻き取り軸
１００  有機ＥＬデバイス
１０１  背面基板
１０２  有機ＥＬ素子
１０３  封止粘着剤層
１０４  ガスバリア性フィルム
１０５  光学フィルム
１０６  表面保護フィルム
【図１】
2018110272.tif 000005
【図２】
2018110272.tif 000006
【国際調査報告】
2018110272.tif 000007
2018110272.tif 000008
2018110272.tif 000009
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