(57)【要約】  本製造方法は、（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、ガラス板の第１の主表面の側からレーザを照射することにより、第１の主表面に、複数のボイドが配列された面内ボイド領域が形成されるとともに、面内ボイド領域から第２の主表面に向かって、１または２以上のボイドが配列された、複数の内部ボイド列が形成される、工程と、（２）ガラス板の第１の主表面または第２の主表面に、有機膜を成膜する工程と、（３）ガラス板の有機膜が成膜された主表面の側に、面内ボイド領域に沿って、所定の条件で前記レーザとは別のレーザを照射、走査し、ガラス板からガラス物品を分離する工程と、を有する。
2018043016.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機膜を有するガラス物品の製造方法であって、
（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、該ガラス板の前記第１の主表面の側からレーザを照射することにより、前記第１の主表面に、複数のボイドが配列された面内ボイド領域が形成されるとともに、前記面内ボイド領域から前記第２の主表面に向かって、１または２以上のボイドが配列された、複数の内部ボイド列が形成される、工程と、
（２）前記ガラス板の前記第１の主表面または第２の主表面に、有機膜を成膜する工程と、
（３）前記ガラス板の前記有機膜が成膜された主表面の側に、前記面内ボイド領域またはその近傍に沿って前記レーザとは別のレーザを照射、走査し、前記ガラス板から前記面内ボイド領域に沿って１または２以上のガラス物品を分離する工程と、
を有し、
前記（３）の工程では、以下の条件を満たすように前記別のレーザが照射される、製造方法：
前記分離されたガラス物品の前記有機膜において、前記第１の主表面の側の中央部をＭＣとし、上面視、前記ガラス物品の端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、前記ガラス物品が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。
【請求項２】
さらに、前記（１）の工程の後であって、前記（２）の工程の前に、
（４）前記ガラス板を化学強化する工程
を有する、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
有機膜を有するガラス物品の製造方法であって、
（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、該ガラス板の前記第１の主表面に、有機膜を成膜する工程と、
（２）前記ガラス板の前記第１の主表面の側からレーザを照射することにより、前記第１の主表面に、複数のボイドが配列された面内ボイド領域が形成されるとともに、前記面内ボイド領域から前記第２の主表面に向かって、１または２以上のボイドが配列された、複数の内部ボイド列が形成される、工程と、
（３）前記ガラス板の前記第１の主表面の側に、前記面内ボイド領域またはその近傍に沿って前記レーザとは別のレーザを照射、走査し、前記ガラス板から前記面内ボイド領域に沿って１または２以上のガラス物品を分離する工程と、
を有し、
前記（３）の工程では、以下の条件を満たすように前記別のレーザが照射される、製造方法：
前記分離されたガラス物品の前記有機膜において、前記第１の主表面の側の中央部をＭＣとし、上面視、前記ガラス物品の端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、前記ガラス物品が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。
【請求項４】
前記面内ボイド領域において、隣接するボイド同士の間隔は、３μｍ〜１０μｍの範囲である、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の製造方法。
【請求項５】
前記有機膜は、シロキサン結合を主骨格として有し、Ｆ（フッ素）を含有するポリマーである、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の製造方法。
【請求項６】
前記（３）の工程では、以下の条件を満たすように前記別のレーザが照射される、請求項１乃至５のいずれかに一つに記載の製造方法：
前記ＭＰにおける前記有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＰとし、
前記点ＭＣにおける前記有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＣとしたとき、
ＴＭＰ／ＴＭＣ≧０．９０
を満たす。
【請求項７】
有機膜を有するガラス物品であって、
当該ガラス物品は、
相互に対向する第１の主表面および第２の主表面、ならびに端面を有するガラス基板と、
該ガラス基板の前記第１の主表面上に配置された有機膜と、
を有し、
前記有機膜において、前記第１の主表面の側の中央部をＭＣとし、上面視、前記端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、前記第１の主表面が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす、ガラス物品。
【請求項８】
前記ガラス基板の端面は、化学強化されている、請求項７に記載のガラス物品。
【請求項９】
前記化学強化されている端面において、前記第１の主表面から前記第２の主表面にわたる所定のアルカリ金属イオンの濃度プロファイルは、前記第１の主表面の側および前記第２の主表面の側ほど前記アルカリ金属イオンの濃度が高いプロファイルを有し、
前記所定のアルカリ金属イオンは、前記第１の主表面および前記第２の主表面に圧縮応力層を付与して、両主表面の強度を高めるためのアルカリ金属イオンであり、
前記端面において、前記濃度プロファイルにおける前記所定のアルカリ金属イオンの濃度は、当該ガラス物品のバルク濃度よりも高い、請求項８に記載のガラス物品。
【請求項１０】
前記化学強化されている端面において、前記第１の主表面から前記第２の主表面にわたる所定のアルカリ金属イオンの濃度プロファイルは、前記第１の主表面の側および前記第２の主表面の側ほど濃度が高い、略放物線状のプロファイルを有し、
前記所定のアルカリ金属イオンは、前記第１の主表面および前記第２の主表面に圧縮応力層を付与して、両主表面の強度を高めるためのアルカリ金属イオンであり、
前記端面において、前記濃度プロファイルにおける前記所定のアルカリ金属イオンの濃度は、前記ガラス基板のバルク濃度よりも高い、請求項８または９に記載のガラス物品。
【請求項１１】
前記有機膜は、シロキサン結合を主骨格として有し、Ｆ（フッ素）を含有するポリマーである、請求項７乃至１０のいずれか一つに記載のガラス物品。
【請求項１２】
前記有機膜において、
前記ＭＰにおける前記有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＰとし、
前記点ＭＣにおける前記有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＣとしたとき、
ＴＭＰ／ＴＭＣ≧０．９０
を満たす、請求項７乃至１１のいずれか一つに記載のガラス物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機膜を有するガラス物品の製造方法、および有機膜を有するガラス物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種ガラス物品の製造の過程で、しばしば、大判のガラス板から１または２以上のガラス物品を分離、採取する工程、いわゆる分離工程が必要となる場合がある。【０００３】
そのような分離工程では、ガラス板の主表面の所定の位置に、機械的加工によりスクライブ線を形成しておいてから、このスクライブ線に沿ってガラス板に曲げモーメントを加え、ガラス板を分断する操作が実施されることが多い。【０００４】
また、最近では、ガラス板に気体レーザであるＣＯ２レーザを照射し、ＣＯ２レーザからの入射熱により、ガラス板を所定の寸法に溶断して、ガラス物品を分離、採取する方法が提案されている（例えば特許文献１）。なお、このようなガラス物品を分離、採取する別の方法として、エキシマレーザ、Ａｒレーザ、もしくはＨｅ−Ｎｅレーザのような気体レーザ、ＹＡＧレーザのような固体レーザ、半導体レーザ、または自由電子レーザを使用する方法がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−５２６７２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述のように、ガラス板にレーザを照射し、ガラス板を所定の位置で溶断することにより、ガラス板からガラス物品を分離する方法が知られている。【０００７】
しかしながら、ガラス物品の中には、主表面に各種有機膜を有するものが多数存在する。例えば、携帯電子機器用のカバーガラスを製造する際には、ガラス板の上に、指紋付着防止膜（ＡＦＰ）などの有機膜が設置される場合がある。そのような有機膜を有するガラス板に対して、特許文献１のような分離工程を実施すると、特に端面において、レーザからの入射熱により、有機膜が損傷を受けるという問題が生じ得る。【０００８】
なお、この問題に対処するため、ガラス板からガラス基板を分離してから、分離された各ガラス基板に、有機膜の成膜を行うことが考えられる。【０００９】
しかしながら、このような方法では、成膜工程において、多数のガラス基板をハンドリングする必要があり、工程が煩雑となるため、ガラス物品の製造効率が低下してしまう。従って、この方法は、前述の問題の根本的な解決策とはならない。【００１０】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、ガラス板からガラス物品を分離する際に、主表面に存在する有機膜に対する損傷を有意に抑制することが可能な、ガラス物品の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明では、有機膜の損傷が有意に抑制されたガラス物品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明では、有機膜を有するガラス物品の製造方法であって、
（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、該ガラス板の前記第１の主表面の側からレーザを照射することにより、前記第１の主表面に、複数のボイドが配列された面内ボイド領域が形成されるとともに、前記面内ボイド領域から前記第２の主表面に向かって、１または２以上のボイドが配列された、複数の内部ボイド列が形成される、工程と、
（２）前記ガラス板の前記第１の主表面または第２の主表面に、有機膜を成膜する工程と、
（３）前記ガラス板の前記有機膜が成膜された主表面の側に、前記面内ボイド領域またはその近傍に沿って前記レーザとは別のレーザを照射、走査し、前記ガラス板から前記面内ボイド領域に沿って１または２以上のガラス物品を分離する工程と、
を有し、
前記（３）の工程では、以下の条件を満たすように前記別のレーザが照射される、製造方法が提供される：
前記分離されたガラス物品の前記有機膜において、前記第１の主表面の側の中央部をＭＣとし、上面視、前記ガラス物品の端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、前記ガラス物品が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。【００１２】
また、本発明では、
有機膜を有するガラス物品の製造方法であって、
（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、該ガラス板の前記第１の主表面に、有機膜を成膜する工程と、
（２）前記ガラス板の前記第１の主表面の側からレーザを照射することにより、前記第１の主表面に、複数のボイドが配列された面内ボイド領域が形成されるとともに、前記面内ボイド領域から前記第２の主表面に向かって、１または２以上のボイドが配列された、複数の内部ボイド列が形成される、工程と、
（３）前記ガラス板の前記第１の主表面の側に、前記面内ボイド領域またはその近傍に沿って前記レーザとは別のレーザを照射、走査し、前記ガラス板から前記面内ボイド領域に沿って１または２以上のガラス物品を分離する工程と、
を有し、
前記（３）の工程では、以下の条件を満たすように前記別のレーザが照射される、製造方法が提供される：
前記分離されたガラス物品の前記有機膜において、前記第１の主表面の側の中央部をＭＣとし、上面視、前記ガラス物品の端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、前記ガラス物品が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。【００１３】
さらに、本発明では、有機膜を有するガラス物品であって、
当該ガラス物品は、
相互に対向する第１の主表面および第２の主表面、ならびに端面を有するガラス基板と、
該ガラス基板の前記第１の主表面上に配置された有機膜と、
を有し、
前記有機膜において、前記第１の主表面の側の中央部をＭＣとし、上面視、前記端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、前記第１の主表面が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす、ガラス物品が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、ガラス板からガラス物品を分離する際に、主表面に存在する有機膜に対する損傷を有意に抑制することが可能な、ガラス物品の製造方法を提供することができる。また、本発明では、有機膜の損傷が有意に抑制されたガラス物品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法のフローを模式的に示した図である。
【図２】本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法において使用され得る、ガラス板の形態を模式的に示した図である
【図３】面内ボイド領域および内部ボイド列の形態を説明するための模式図である。
【図４】面内ボイド領域の一形態を模式的に示した図である。
【図５】ガラス板の第１の主表面に、複数の面内ボイド領域が形成された状態を模式的に示した図である。
【図６】面内ボイド領域の一例を模式的に示した図である。
【図７】面内ボイド領域の別の一例を模式的に示した図である。
【図８】本発明の一実施形態による、仮想端面の面内方向（ガラス板の厚さ方向に対応する）における導入イオンの濃度プロファイル模式的に示した図である。
【図９】ガラス板の第１の主表面に、有機膜が形成された様子を模式的に示した図である。
【図１０】ガラス板の第１の主表面に、有機膜が形成された様子を模式的に示した図である。
【図１１】ガラス板の第１の主表面に、有機膜が形成された様子を模式的に示した図である。
【図１２】本発明の一実施形態による別のガラス物品の製造方法のフローを模式的に示した図である。
【図１３】本発明の一実施形態によるガラス物品の概略的な斜視図である。
【図１４】図１３のＡ−Ａ線に沿った、ガラス物品の概略的な断面図である。
【図１５】例１に係るサンプルの有機膜におけるＸＰＳ分析結果の一例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
【００１７】
（本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法）
図１〜図１１を参照して、本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法について説明する。
【００１８】
図１には、本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）のフローを模式的に示す。
【００１９】
図１に示すように、第１の製造方法は、
（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、該ガラス板の前記第１の主表面の側からレーザを照射する、レーザ照射工程（工程Ｓ１１０）と、
（２）前記ガラス板の前記第１の主表面または第２の主表面に有機膜を成膜する、成膜工程（工程Ｓ１２０）と、
（３）前記ガラス板の前記有機膜が成膜された主表面の側に前記レーザとは別のレーザを照射し、前記ガラス板から１または２以上ガラス物品を分離する、分離工程（工程Ｓ１３０）と、
を有する。
【００２０】
以下、図２〜図１１を参照して、各工程について説明する。なお、図２〜図１１は、それぞれ、第１の製造方法の一工程を概略的に示した図である。
【００２１】
（工程Ｓ１１０）
まず、相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板が準備される。
【００２２】
ガラス板のガラス組成は、特に限られない。ガラス板は、例えば、ソーダライムガラス、およびアルカリアルミノシリケートガラス等であってもよい。
【００２３】
ガラス板の厚さは、特に限られないが、例えば０．０３ｍｍ〜６ｍｍの範囲であってもよい。
【００２４】
図２には、ガラス板１１０の形態の一例を模式的に示す。ガラス板１１０は、相互に対向する第１の主表面１１２および第２の主表面１１４と、端面１１６とを有する。
【００２５】
なお、ガラス板１１０の形態は、特に限られない。例えば、ガラス板１１０は、図２に示したような略矩形状の他、多角形状、楕円状（円状を含む）など、各種形態を有してもよい。
【００２６】
次に、ガラス板１１０にレーザが照射される。レーザは、ガラス板１１０の一方の主表面（ここでは、一例として、第１の主表面１１２とする）の側に照射される。なお、ここで使用されるレーザは、後の分離工程（工程Ｓ１３０）で使用されるＣＯ２レーザとは別のものであることに留意する必要がある。
【００２７】
レーザの照射により、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、面内ボイド領域が形成される。また、この面内ボイド領域から下側、すなわち第２の主表面１１４の側に向かって、複数の内部ボイド列が形成される。
【００２８】
ここで、「面内ボイド領域」とは、複数の表面ボイドが所定の配置で配列されて形成された線状領域を意味する。また、「内部ボイド列」とは、ガラス板の内部において、１または２以上のボイドが、第１の主表面１１２から第２の主表面１１４に向かって配列されて形成された線状領域を意味する。
【００２９】
以下、図３を用いて、「面内ボイド領域」および「内部ボイド列」の形態について、より詳しく説明する。図３には、ガラス板に形成された面内ボイド領域および内部ボイド列を模式的に示す。
【００３０】
図３に示すように、このガラス板１１０には、一つの面内ボイド領域１３０と、この面内ボイド領域１３０に対応する複数の内部ボイド列１５０とが形成されている。
【００３１】
前述のように、面内ボイド領域１３０は、複数の表面ボイド１３８が所定の配置で配列された線状領域を意味する。例えば、図３の例では、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、複数の表面ボイド１３８が一定の方向（Ｘ方向）に配列されており、これにより面内ボイド領域１３０が形成される。
【００３２】
各表面ボイド１３８は、第１の主表面１１２におけるレーザの照射位置に対応しており、例えば、１μｍ〜５μｍの間の直径を有する。ただし、表面ボイド１３８の直径は、レーザの照射条件およびガラス板１１０の種類等により変化する。
【００３３】
隣接する表面ボイド１３８同士の中心間距離Ｐは、ガラス板１１０の組成および厚さ、ならびにレーザ加工条件等に基づいて、任意に定められる。例えば、中心間距離Ｐは、２μｍ〜１０μｍの範囲であってもよい。なお、表面ボイド１３８同士の中心間距離Ｐは、全ての位置で等しくなっている必要はなく、場所によって異なっていてもよい。すなわち、表面ボイド１３８は、不規則な間隔で配列されてもよい。
【００３４】
一方、内部ボイド列１５０は、前述のように、ガラス板１１０の内部において、１または２以上のボイド１５８が、第１の主表面１１２から第２の主表面１１４に向かって配列されて形成された線状領域を意味する。
【００３５】
ボイド１５８の形状、寸法、およびピッチは、特に限られない。ボイド１５８は、例えば、Ｙ方向から見たとき、円形、楕円形、矩形、または三角形等の形状であってもよい。また、Ｙ方向から見たときのボイド１５８の最大寸法（通常の場合、内部ボイド列１５０の延伸方向に沿ったボイド１５８の長さに相当する）は、例えば、０．１μｍ〜１０００μｍの範囲であってもよい。
【００３６】
面内ボイド領域１３０を構成する各表面ボイド１３８は、それぞれに対応する内部ボイド列１５０を有する。例えば、図３に示す例では、１８個の表面ボイド１３８のそれぞれに対応した、合計１８本の内部ボイド列１５０が形成されている。
【００３７】
なお、図３の例では、一つの内部ボイド列１５０を構成する各ボイド１５８は、ガラス板１１０の厚さ方向（Ｚ方向）に沿って配列されている。すなわち、各内部ボイド列１５０は、Ｚ方向に延在している。しかしながら、これは単なる一例あって、内部ボイド列１５０を構成する各ボイドは、Ｚ方向に対して傾斜した状態で、第１の主表面１１２から第２の主表面１１４まで配列されてもよい。
【００３８】
また、図３の例では、各内部ボイド列１５０は、それぞれ、表面ボイド１３８を除き、合計３個のボイド１５８の配列で構成されている。しかしながら、これは単なる一例であって、各内部ボイド列１５０は、１つもしくは２つのボイド１５８、または４つ以上のボイド１５８で構成されてもよい。また、それぞれの内部ボイド列１５０において、含まれるボイド１５８の数は、異なっていてもよい。さらに、いくつかのボイド１５８は、表面ボイド１３８と連結され、「長い」表面ボイド１３８が形成されてもよい。
【００３９】
さらに、各内部ボイド列１５０は、第２の主表面１１４で開口されたボイド（第２の表面ボイド）を有しても、有しなくてもよい。
【００４０】
なお、以上の説明から明らかなように、面内ボイド領域１３０は、実際に連続的な「線」として形成された領域ではなく、各表面ボイド１３８を結んだ際に形成される、仮想的な線状領域を表すことに留意する必要がある。
【００４１】
同様に、内部ボイド列１５０は、実際に連続的な「線」として形成された領域ではなく、各ボイド１５８を結んだ際に形成される、仮想的な線状領域を表すことに留意する必要がある。
【００４２】
さらに、一つの面内ボイド領域１３０は、必ずしも１本の「線」（表面ボイド１３８の列）として認識される必要はなく、一つの面内ボイド領域１３０は、相互に極めて接近した状態で配置された、平行な複数の「線」の集合体として形成されてもよい。
【００４３】
図４には、そのような複数の「線」の集合体して認識される面内ボイド領域１３０の一例を示す。この例では、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、相互に平行な２本の表面ボイド列１３８Ａ、１３８Ｂが形成されており、これらにより、一つの面内ボイド領域１３０が構成されている。両表面ボイド列１３８Ａおよび１３８Ｂの距離は、例えば、５μｍ以下であり、３μｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
なお、図４の例では、面内ボイド領域１３０は、２本の表面ボイド列１３８Ａおよび１３８Ｂで構成されているが、面内ボイド領域１３０は、より多くの表面ボイド列で構成されてもよい。
【００４５】
以下、このような複数の表面ボイド列で構成される面内ボイド領域を、特に「マルチライン面内ボイド領域」と称する。また、図３に示したような、一つの表面ボイド列で構成される面内ボイド領域１３０を、特に「シングルライン面内ボイド領域」と称し、「マルチライン面内ボイド領域」と区別する。
【００４６】
以上説明したような面内ボイド領域１３０および内部ボイド列１５０は、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、所定の条件で、レーザを照射することにより形成できる。
【００４７】
より具体的には、まず、ガラス板１１０の第１の主表面１１２の第１の位置に、レーザを照射することにより、第１の主表面１１２から第２の主表面１１４にわたって、第１の表面ボイドを含む第１の内部ボイド列が形成される。次に、ガラス板１１０に対するレーザの照射位置を変えて、ガラス板１１０の第１の主表面１１２の第２の位置に、レーザを照射することにより、第１の主表面１１２から第２の主表面１１４にわたって、第２の表面ボイドを含む第２の内部ボイド列が形成される。この操作を繰り返すことにより、面内ボイド領域１３０、およびこれに対応する内部ボイド列１５０を形成することができる。
【００４８】
なお、１回のレーザ照射で、第２の主表面１１４に十分に近接するボイド１５８を有する内部ボイド列が形成されない場合、すなわちボイド１５８の中で第２の主表面１１４に最近接のボイドが、依然として第２の主表面１１４から十分に遠い位置にある場合（例えば、第２の主表面１１４に最近接のボイドにおいて、第１の主表面１１２からの距離がガラス板１１０の厚さの１／２以下の場合）など、実質的に同じ照射位置において、２回以上、レーザ照射が行われてもよい。ここで、「実質的に同じ（照射）位置」とは、２つの位置が完全に一致する場合の他、多少ずれている場合（例えば最大３μｍのずれ）も含む意味である。
【００４９】
例えば、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に平行な第１の方向に沿って、複数回レーザ照射を行い、第１の面内ボイド領域１３０およびこれに対応する内部ボイド列１５０を形成した（第１のパス）後、第１のパスと略同じ方向および略同じ照射位置でレーザ照射を行う（第２のパス）ことにより、第１の面内ボイド領域１３０に対応した、より「深い」内部ボイド列１５０を形成してもよい。
【００５０】
ガラス板１１０の厚さにもよるが、内部ボイド列１５０を構成するボイド１５８のうち、第２の主表面１１４から最も近い位置にあるボイドの中心から、第２の主表面１１４までの距離は、０μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましい。
【００５１】
このような処理に使用可能なレーザとしては、例えば、パルス幅がフェムト秒オーダ〜ナノ秒オーダ、すなわち１．０×１０−１５〜９．９×１０−９秒の短パルスレーザが挙げられる。そのような短パルスレーザ光は、さらにバーストパルスであることが、内部ボイドが効率よく形成される点で好ましい。また、そのような短パルスレーザの照射時間での平均出力は、例えば３０Ｗ以上である。短パルスレーザのこの平均出力が１０Ｗ未満の場合には、十分なボイドが形成できない場合がある。バーストパルスのレーザ光の一例として、パルス数が３〜１０のバーストレーザで１つの内部ボイド列が形成され、レーザ出力は定格（５０Ｗ）の９０％程度、バーストの周波数は６０ｋＨｚ程度、バーストの時間幅は２０ピコ秒〜１６５ナノ秒が挙げられる。バーストの時間幅としては、好ましい範囲として、１０ナノ秒〜１００ナノ秒が挙げられる。
【００５２】
また、レーザの照射方法としては、カー効果（Ｋｅｒｒ−Ｅｆｆｅｃｔ）に基づくビームの自己収束を利用する方法、ガウシアン・ベッセルビームをアキシコンレンズとともに利用する方法、収差レンズによる線焦点形成ビームを利用する方法などがある。いずれにしても、面内ボイド領域および内部ボイド列が形成できる限り、どのような方法でもよい。
【００５３】
例えば、バーストレーザ装置を使用した場合、レーザの照射条件を適宜変更することにより、内部ボイド列１５０を構成する各ボイドの寸法、および内部ボイド列１５０に含まれるボイド１５８の個数等をある程度変化させることができる。
【００５４】
なお、以下の記載では、面内ボイド領域１３０と、該面内ボイド領域１３０に対応する内部ボイド列１５０とを含む平面（図３において、ハッチで示されている平面１６５）を、「仮想端面」と称する。この仮想端面１６５は、第１の製造方法により製造されるガラス物品の端面と実質的に対応する。
【００５５】
図５には、一例として、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、複数の面内ボイド領域１３０が形成された状態を模式的に示す。
【００５６】
図５の例では、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、横方向（Ｘ方向）に５本、および縦方向（Ｙ方向）に５本、面内ボイド領域１３０が形成されている。また、図５からは視認できないが、各面内ボイド領域１３０の下側、すなわち第２の主表面１１４の側には、１または２以上のボイドが第２の主表面１１４に向かって断続的に配列された、複数の内部ボイド列が形成されている。
【００５７】
図５において、ガラス板１１０の縦方向に近接する２つの面内ボイド領域１３０と横方向に近接する２つの面内ボイド領域１３０、ならびにこれらに対応する内部ボイド列によって仕切られる立体部分、すなわち４つの仮想端面によって取り囲まれた仮想的な立体の最小単位を、ガラスピースと称する。
【００５８】
面内ボイド領域１３０の形状、さらにはガラスピース１６０ａの形状は、実質的に、工程Ｓ１３０後に得られるガラス物品の形状に対応する。例えば、図５の例では、ガラス素材１１０から、最終的に、１６個の矩形状のガラス物品が製造される。また、前述のように、各面内ボイド領域１３０とこれに対応する内部ボイド列１５０を含む仮想端面１６５は、工程Ｓ１３０後に製造されるガラス物品の一つの端面に対応する。
【００５９】
なお、図５に示したガラスピース１６０ａの形状および配置態様は、単なる一例であって、これらは、最終ガラス物品の形状に応じて、所定の形状および配置で形成され得る。
【００６０】
図６および図７には、想定される面内ボイド領域、さらにはガラスピースの別の形態の一例を模式的に示す。
【００６１】
図６の例では、各面内ボイド領域１３１は、略矩形状の一本の閉じた線（ループ）として配置され、コーナ部に曲線部分を有する。従って、面内ボイド領域１３１および内部ボイド列（視認されない）に取り囲まれたガラスピース１６０ｂは、コーナ部に曲線部分を有する略矩形板状の形態となる。
【００６２】
また、図７の例では、各面内ボイド領域１３２は、略楕円形の一本の閉じた線（ループ）として配置される。従って、ガラスピース１６０ｃは、略ディスク状の形態となる。
【００６３】
また、これらの例では、一つの仮想端面によって、ガラス物品の連続的な端面が形成されることになり、従って得られるガラス物品の端面は、いずれも一つとなる。
【００６４】
このように、面内ボイド領域１３０、１３１、１３２は、直線状、曲線状、または両者の組み合わせで形成されてもよい。また、ガラスピース１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃは、単一の仮想端面により囲まれても、複数の仮想端面により囲まれてもよい。
【００６５】
（化学強化処理）
ガラス板１１０がアルカリ金属を含有する場合、工程Ｓ１１０の後であって、工程Ｓ１２０の前に、ガラス板１１０に対して、化学強化処理が実施されてもよい。
【００６６】
化学強化処理は、ガラス板を、アルカリ金属を含む溶融塩中に浸漬させ、ガラス板１１０の表面に存在する原子径のより小さなアルカリ金属イオンを、溶融塩中に存在する原子径のより大きなアルカリ金属イオンと置換するプロセスである。
【００６７】
化学強化処理の条件は、特に限られない。化学強化処理は、例えば、４３０℃〜５００℃の溶融塩中に、ガラス板１１０を１分〜２時間の間、浸漬することにより実施されてもよい。
【００６８】
溶融塩としては、硝酸塩が使用されてもよい。例えば、ガラス板１１０に含まれるリチウムイオンを、より大きなアルカリ金属イオンに置換する場合、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、および硝酸セシウムのうちの少なくとも一つを含む溶融塩が使用されてもよい。また、ガラス板１１０に含まれるナトリウムイオンを、より大きなアルカリ金属イオンに置換する場合、硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、および硝酸セシウムのうちの少なくとも一つを含む溶融塩が使用されてもよい。さらに、ガラス板１１０に含まれるカリウムイオンを、より大きなアルカリ金属イオンに置換する場合、硝酸ルビジウムおよび硝酸セシウムのうちの少なくとも一つを含む溶融塩が使用されてもよい。
【００６９】
ガラス板１１０を化学強化処理することにより、ガラス板１１０の第１の主表面１１２および第２の主表面１１４に、圧縮応力層を形成することができ、これにより第１の主表面１１２および第２の主表面１１４の強度を高めることができる。圧縮応力層の厚さは、置換用のアルカリ金属イオンの侵入深さに対応する。例えば、硝酸カリウムを用いてナトリウムイオンをカリウムイオンに置換する場合、ソーダライムガラスでは圧縮応力層の厚さを８μｍ〜２７μｍとすることができ、アルミノシリケートガラスでは圧縮応力層の厚さを１０μｍ〜１００μｍとすることができる。アルミノシリケートガラスの場合、アルカリ金属イオンが侵入する深さは、１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましい。
【００７０】
ここで、化学強化処理の前のガラス板１１０には、前述のレーザ照射工程（工程Ｓ１１０）により、前述のような面内ボイド領域１３０、１３１、１３２および内部ボイド列１５０が形成されている。このため、ガラス板１１０に対して化学強化処理を実施すると、表面ボイド１３８およびボイド１５８を介して、溶融塩がガラス板１１０の内部に導入される。
【００７１】
その結果、化学強化処理により、ガラス板１１０の露出面（第１の主表面１１２、第２の主表面１１４、および端面１１６）に加えて、仮想端面においても、強度を高めることができる。
【００７２】
図８は、仮想端面の「面内（ｉｎ−ｐｌａｎｅ）方向」（ガラス板１１０の厚さ方向。図３のＺ方向参照）における導入イオンの濃度プロファイルを模式的に示した図である。
【００７３】
ここで、「導入イオン」とは、化学強化処理によってガラス板１１０に導入されたアルカリ金属イオン、すなわちガラス板１１０の第１の主表面１１２および第２の主表面１１４に圧縮応力層を付与して、これらの主表面の強度を高めるためのアルカリ金属イオンを意味する。
【００７４】
図８において、横軸は、ガラス板１１０の厚さ方向の相対位置ｔ（％）であり、第１の主表面１１２の側がｔ＝０％に対応し、第２の主表面１１４の側がｔ＝１００％に対応する。縦軸は、導入イオンの濃度Ｃである。ただし、この濃度Ｃは、ガラス板１１０の第１の主表面１１２、第２の主表面１１４、および端面１１６以外の部分、すなわちガラス板１１０のバルク部分に含まれる、導入イオンと同種のアルカリ金属イオンの濃度を差し引いて算出している。
【００７５】
図８に示すように、仮想端面では、ガラス板１１０の厚さ方向に沿った導入イオンの濃度Ｃは、仮想端面全体で、バルク部分の濃度（バルク濃度）より大きいプロファイルとなり、この例では略放物線状のプロファイルを示す。すなわち、導入イオンの濃度Ｃは、第１の主表面１１２の側（ｔ＝０％）および第２の主表面１１４の側（ｔ＝１００％）で最大値Ｃｍａｘを示し、深さ方向の中央部分（ｔ＝５０％）で最小値Ｃｍｉｎを示す傾向にある。ここで、最小値Ｃｍｉｎ＞０である。
【００７６】
なお、導入イオンの濃度プロファイルの形状は、ガラス板１１０の厚さおよび材質、ならびに化学強化処理の条件などにより変化するが、いずれの場合も、仮想端面全体でバルク部分に含まれる濃度より大きくなり、一例として、このような略放物線状のプロファイルが生じる。ただし、化学強化処理の方法などの影響により、第１の主表面１１２の側（ｔ＝０％）と、第２の主表面１１４の側（ｔ＝１００％）とで、導入イオンの濃度Ｃが厳密に一致しないことは、しばしば認められている。すなわち、いずれかの主表面での濃度ＣのみがＣｍａｘとなることは、よく認められる。また、ここでの略放物線状のプロファイルは、放物線の数学上の定義とは異なり、導入イオンの濃度Ｃが、厚さ方向の中央部分に対して、第１の主表面の側および第２の主表面の側で大きくなり、且つ、この濃度プロファイルにおける導入イオン濃度は、ガラス物品のバルク濃度よりも高いプロファイルをいう。このため、この略放物線状のプロファイルには、導入イオン濃度がガラス物品のバルク濃度よりも高いプロファイルであって、厚さ方向の中央部分で導入イオンＣが比較的緩やかに変化する略台形形状のプロファイルを含む。
【００７７】
このように、第１の製造方法では、仮想端面も化学強化処理することができる。
【００７８】
なお、この化学強化処理は、必要な場合に実施される工程であって、省略されてもよい。また、化学強化処理は、前述のレーザ照射工程（工程Ｓ１１０）の前に実施されてもよい。ただし、その場合、化学強化処理によって強化される領域は、露出面（第１の主表面１１２、第２の主表面１１４、および端面１１６）に限られ、仮想端面は強化されないことに留意する必要がある。
【００７９】
（工程Ｓ１２０）
次に、ガラス板１１０の第１の主表面１１２または第２の主表面１１４に、有機膜が成膜される。ここでは、一例として、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に有機膜が成膜される場合を例に説明する。
【００８０】
図９〜図１１には、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、有機膜１７０が形成された様子を模式的に示す。
【００８１】
有機膜１７０は、少なくとも、各ガラスピースの表面領域（ガラス板１１０の第１の主表面１１２に対応する表面）を覆うように設置される。
【００８２】
例えば、図９に示した例では、有機膜１７０は、各ガラスピース１６０ａの表面領域を覆い、第１の主表面１１２において、周囲部分のみが枠状に露出されるように設置されている。
【００８３】
また、図１０では、有機膜１７０は、各ガラスピース１６０ｃのそれぞれの表面領域を覆い、周囲部分のみが枠状に露出されるように設置されている。なお、図１０は、ガラス板１１０の第１の主表面１１２において、有機膜１７０が、ガラスピース１６０ｃ以外の領域にも設置されている点で、図９の態様とは異なっている。
【００８４】
さらに、図１１では、有機膜１７０は、複数の領域に、各ガラスピース１６０ｃのそれぞれの表面領域のみを覆うように設置されている。
【００８５】
なお、図９〜図１１に示した有機膜１７０の設置態様は、単なる一例であって、有機膜１７０は、各ガラスピース１６０ａ〜１６０ｃの表面領域を覆う限り、いかなる態様で設置されてもよい。特に、有機膜１７０は、第１の主表面１１２の全面にわたって成膜されることが好ましい。この場合、マスキング工程が不要となる。
【００８６】
有機膜１７０は、例えば、シロキサン結合を主骨格として有し、Ｆ（フッ素）を含有するポリマーであってもよい。
【００８７】
以下の（１）式には、そのような有機膜１７０の化学式の一例を示す。
【００８８】
【化１】
2018043016.tif 000003
ここで、反応基Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、Ｆ（フッ素）、Ｈ（酸素）、Ｃ（炭素）、およびＣｎＨ２ｎ−１（ｎ＝１〜１００）からなる群から選定される。
【００８９】
このような反応基を有する有機膜を使用した場合、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、撥水性を発現させることができる。
【００９０】
有機膜１７０の厚さは、これに限られるものではないが、例えば、１ｎｍ〜１μｍの範囲であり、Ｆ（フッ素）系の有機膜の場合は、１ｎｍ〜１０ｎｍがより好ましい。
【００９１】
有機膜１７０の成膜方法は、特に限られない。有機膜１７０は、例えば、スパッタ法、蒸着法、および塗布法など、従来の成膜技術により成膜されてもよい。
【００９２】
なお、ガラス板１１０の第１の主表面１１２には、有機膜１７０を成膜する前に、別の１または２以上の機能膜を形成してもよい。例えば、ガラス板１１０の第１の主表面１１２には、反射防止膜を成膜してもよい。反射防止膜は、通常、屈折率の異なる複数の酸化物層を交互に積層することにより構成される。あるいは、反射防止膜以外の機能膜が設置されてもよい。
【００９３】
（工程Ｓ１３０）
次に、ガラス板１１０からガラス物品が分離される。
【００９４】
この分離工程では、工程Ｓ１１０のレーザとは別のレーザ（以下、「別のレーザ」という。）が使用される。なお、別のレーザは、前述の成膜工程（工程Ｓ１２０）において、ガラス板１１０の有機膜１７０が成膜された主表面（以下、「成膜面」と称する）の側に照射される。なお、別のレーザの照射面は、成膜面でない側の面でもよい。例えば、成膜面でない側の面に黒色の膜等が形成されている場合には、成膜面の側に照射することが好ましい。
【００９５】
別のレーザとしては、例えば、固体レーザ、気体レーザ、半導体レーザ、または自由電子レーザ等が挙げられる。固体レーザの例としては、ＹＡＧレーザ等が挙げられる。気体レーザの例としては、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ、ＡｒレーザおよびＨｅ−Ｎｅレーザ等が挙げられる。
【００９６】
前述の工程（工程Ｓ１１０）においてガラス板１１０に形成された仮想端面１６５は、その面内に、面内ボイド領域１３０および対応する内部ボイド列１５０に含まれる、複数の表面ボイド１３８およびボイド１５８を有する。このため、分離工程では、これらの表面ボイド１３８およびボイド１５８が、いわば「ミシン目（ｐｅｒｆｏｒａｔｉｏｎ）」のような役割を果たす。
【００９７】
すなわち、面内ボイド領域１３０（またはその近傍。以下同じ）に、別のレーザが照射されると、該別のレーザからの熱により、照射位置の近傍にある内部ボイド列１５０を構成するボイド１５８同士がつながり、ガラス板１１０の深さ方向に貫通する切断線が形成される。従って、面内ボイド領域１３０に沿って、そのような別のレーザを走査させると、各内部ボイド列１５０において、ボイド１５８同士がつながり、内部ボイド列１５０が切断線に変化する。さらに、各面内ボイド領域１３０を構成する表面ボイド１３８同士も接続され、第１の主表面１１２の面内にも、切断線が生じる。
【００９８】
その結果、ガラス板１１０は、前述の仮想端面１６５で分断されることになり、これによりガラス板１１０からガラス物品が分離される。
【００９９】
以上のように、第１の製造方法では、工程Ｓ１１０〜工程Ｓ１３０を経て、ガラス板１１０から１または２以上のガラス物品を製造することができる。
【０１００】
ここで、特許文献１に記載のような方法で、別のレーザをガラス板に照射し、ガラス板を溶断した場合、ガラス物品を分離することはできても、この際に有機膜１７０が損傷を受けるおそれがある。
【０１０１】
これに対して、第１の製造方法では、別のレーザによる分離の前に、工程Ｓ１１０により、ガラス板１１０には既に面内ボイド領域１３０および内部ボイド列１５０が形成されている。このため、第１の製造方法では、ガラス板１１０を溶断するような高エネルギーの別のレーザを照射しなくても、ガラス物品を比較的容易に分離することができる。
【０１０２】
具体的には、第１の製造方法では、工程Ｓ１３０において使用される別のレーザは、以下の条件を満たす照射条件で、成膜面に照射される：
分離されたガラス物品の有機膜において、面内の中央部をＭＣとし、上面視、ガラス物品の端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、ガラス物品が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。
【０１０３】
なお、スポット径の中の照射エネルギーは、スポット径の中で必ずしも一様ではなく、例えば、スポット径の範囲の中央部分が周辺部分に比べて低いエネルギーの場合もあり、逆の場合もある。このため、前記ＭＰにおける端面には、端面だけでなく、端面付近の別のレーザの有機膜上のスポット径の範囲が含まれ、ＩＭＰ（Ｆ）は、端面とこのスポット径の範囲での最小値を表す。以下で記載するＭＰおよびＩＭＰ（Ｆ）も、同様である。
【０１０４】
このような照射条件で、ガラス板１１０に別のレーザを照射した場合、有機膜１７０に与える影響を有意に抑制することができる。
【０１０５】
その結果、第１の製造方法では、ガラス板１１０の成膜面に別のレーザを照射し、別のレーザを面内ボイド領域１３０に沿って走査することにより、有機膜１７０に顕著な影響を及ぼすことなく、ガラス板１１０からガラス物品を分離することが可能となる。
【０１０６】
前述のような照射条件を得るには、レーザの種類、レーザ照射の出力、走査速度、およびスポット径等を調整すればよい。例えば、別のレーザがＹＡＧレーザの場合、ガラスに対するレーザエネルギーの吸収率がＣＯ２レーザよりも低い分、エネルギーが多く必要となる。
【０１０７】
（本発明の一実施形態による別のガラス物品の製造方法）
次に、図１２を参照して、本発明の一実施形態による別のガラス物品の製造方法について説明する。
【０１０８】
図１２には、本発明の一実施形態による別のガラス物品の製造方法（以下、「第２の製造方法」と称する）のフローを模式的に示す。
【０１０９】
図１２に示すように、第２の製造方法は、
（１）相互に対向する第１の主表面および第２の主表面を有するガラス板において、該ガラス板の前記第１の主表面に、有機膜を成膜する、成膜工程（工程Ｓ２１０）と、
（２）前記ガラス板の前記第１の主表面の側からレーザを照射する、レーザ照射工程（工程Ｓ２２０）と、
（３）前記ガラス板の前記第１の主表面の側から前記レーザとは別のレーザを走査し、前記ガラス板から１または２以上ガラス物品を分離する、分離工程（工程Ｓ２３０）と、
を有する。
【０１１０】
以下、各工程について説明する。なお、明確化のため、以下の説明においても、各部材および部分を表す際には、前述の第１の製造方法の説明に使用した図２〜図１１に示された参照符号を使用する。
【０１１１】
（工程Ｓ２１０）
まず、相互に対向する第１の主表面１１２および第２の主表面１１４を有するガラス板１１０が準備される。
【０１１２】
ガラス板１１０は、前述の図２に示したような形態を有してもよい。
【０１１３】
次に、必要な場合、ガラス板１１０に対して、化学強化処理を実施してもよい。ただし、第２の製造方法では、化学強化処理により強化される領域は、露出面（第１の主表面１１２、第２の主表面１１４、および端面１１６）に限られ、後述の工程（工程Ｓ１２０）で得られる仮想端面は、強化されないことに留意する必要がある。
【０１１４】
次に、ガラス板１１０の第１の主表面１１２に、有機膜１７０が成膜される。
【０１１５】
なお、有機膜１７０の仕様、成膜方法、および成膜位置などは、前述の第１の製造方法において詳しく記載した。従って、ここでは、詳細な記載を省略する。
【０１１６】
前述のように、有機膜１７０は、ガラス板１１０の第１の主表面１１２の全面にわたって成膜されることが好ましい。ガラス板１１０の有機膜１７０が成膜された主表面を、以下、「成膜面」とも称する。
【０１１７】
（工程Ｓ２２０）
次に、ガラス板１１０の成膜面に、レーザが照射される。なお、ここで使用されるレーザは、後の分離工程（工程Ｓ２３０）で使用されるレーザとは別のものであることに留意する必要がある。
【０１１８】
レーザの照射により、ガラス板１１０の成膜面、すなわち第１の主表面１１２に、面内ボイド領域１３０が形成される。また、この面内ボイド領域１３０から下側、すなわち第２の主表面１１４に向かって、複数の内部ボイド列１５０が形成される。
【０１１９】
前述のように、面内ボイド領域１３０と、該面内ボイド領域１３０に対応する内部ボイド列１５０とを含む平面を、仮想端面１６５と称する。この仮想端面１６５は、第２の製造方法により製造されるガラス物品の端面と実質的に対応する。
【０１２０】
（工程Ｓ２３０）
次に、ガラス板１１０からガラス物品を分離する、分離工程が実施される。
【０１２１】
この分離工程では、前記レーザとは別のレーザ（以下、「別のレーザ」という。）が使用される。なお、該別のレーザは、ガラス板１１０の成膜面の側に照射される。
【０１２２】
前述のように、別のレーザの照射および走査により、ガラス板１１０は、前述の仮想端面１６５で分断され、ガラス板１１０から１または２以上のガラス物品が分離される。
【０１２３】
第２の製造方法においても、別のレーザによる分離の前に、工程Ｓ２２０により、ガラス板１１０には既に面内ボイド領域１３０および内部ボイド列１５０が形成されている。このため、第２の製造方法では、ガラス板１１０を溶断するような高エネルギーのレーザを照射しなくても、ガラス物品を比較的容易に分離することができる。
【０１２４】
具体的には、第２の製造方法では、工程Ｓ２３０において使用される別のレーザは、以下の条件を満たす照射条件で、成膜面に照射される：
分離されたガラス物品の有機膜において、面内の中央部をＭＣとし、上面視、ガラス物品の端面の一つの点をＭＰとしたとき（ただし、ガラス物品が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点を除く点から選定される）、
前記ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
前記点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。
【０１２５】
このような照射条件で、ガラス板１１０に別のレーザを照射した場合、有機膜１７０に与える影響を有意に抑制することができる。
【０１２６】
その結果、第２の製造方法では、ガラス板１１０の成膜面に別のレーザを照射し、該別のレーザを面内ボイド領域１３０に沿って走査することにより、有機膜１７０に顕著な影響を及ぼすことなく、ガラス板１１０からガラス物品を分離することが可能となる。
【０１２７】
また、ガラス板１１０からガラス物品を分離する際には、前記ＭＰにおける有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＰとし、
前記点ＭＣにおける前記有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＣとしたとき、
ＴＭＰ／ＴＭＣ≧０．９０
を満たすように別のレーザを照射することが好ましい。
【０１２８】
このような照射条件でガラス板１１０に別のレーザを照射した場合、有機膜１７０の撥水性を損なうことなく、ガラス物品を分離することができる。
【０１２９】
以上、第１および第２の製造方法を例に、本発明の一実施形態によるガラス物品の製造方法について説明した。しかしながら、これらは単なる一例であって、本発明では、さらに別の製造方法を適用してもよい。例えば、第１および第２の製造方法において、一部の工程は、修正もしくは変更されても良く、ならびに／または第１および第２の製造方法に、別の工程が追加されてもよい。
【０１３０】
なお、第１および第２の製造方法では、ガラス板に複数の面内ボイドが形成されているため、ガラス板からガラス物品を分離する際に、従来のような高いエネルギーは必要ではない。このため、レーザを利用せず、単に前記ガラス板に熱風を当てることによって、ガラス物品を分離できる場合がある。ただし、この場合には、ガラス物品の形状通りに分離するための熱風のコントロールがレーザに比べて難しくなる。これは、熱風を利用する場合には、ガラス板の熱風におる温度分布がレーザによる場合に比べて広がるためである。
【０１３１】
（本発明の一実施形態によるガラス物品）
次に、図１３および図１４を参照して、本発明の一実施形態によるガラス物品について説明する。
【０１３２】
図１３には、本発明の一実施形態によるガラス物品（以下、「第１のガラス物品」と称する）の概略的な斜視図を示す。また、図１４には、図１３のＡ−Ａ線に沿った、第１のガラス物品の概略的な断面図を示す。
【０１３３】
図１３および図１４に示すように、第１のガラス物品３００は、相互に対向する第１の主表面３０２および第２の主表面３０４と、両者を接続する端面とを有する。
【０１３４】
図１３の例では、第１のガラス物品３００は、略矩形状の形態を有し、４つの端面３０６−１〜３０６−４を有する。また、各端面３０６−１〜３０６−４は、第１のガラス物品３００の厚さ方向（Ｚ方向）と平行に延在する。
【０１３５】
図１４に明確に示すように、第１のガラス物品３００は、ガラス基板３２０と、有機膜３７０とを有する。ガラス基板３２０は、相互に対向する第１の主表面３２２および第２の主表面３２４と、両者を接続する端面３２６とを有する。有機膜３７０は、ガラス基板３２０の第１の主表面３２２の側に配置される。
【０１３６】
第１のガラス物品３００の第１の主表面３０２は、有機膜３７０の表面に対応し、第１のガラス物品３００の第２の主表面３０４は、ガラス基板３２０の第２の主表面３２４に対応する。また、第１のガラス物品３００の４つの端面３０６−１〜３０６−４は、それぞれ、ガラス基板３２０の一つの端面３２６と、有機膜３７０の対応する端面３７２とで構成される。
【０１３７】
なお、図１３および図１４に示した例では、第１のガラス物品３００は、略矩形状の形態を有する。
【０１３８】
しかしながら、これは単なる一例であって、第１のガラス物品３００の形態として、各種形態が想定される。例えば、第１のガラス物品３００の形状は、矩形状の他、三角形、五角形以上の多角形、円形、または楕円形等の形状であってもよい。また、多角形の場合、各コーナ部は、ラウンド処理されていてもよい。
【０１３９】
また、第１のガラス物品３００の端面の数は、第１の主表面３０２および第２の主表面３０４の形態に応じて、例えば、１つ、３つ、または４つ以上であってもよい。さらに、第１のガラス物品３００の端面は、Ｚ方向から傾斜して（すなわちＺ方向とは非平行な方向に）、延在してもよい。この場合、「傾斜」端面が得られる。
【０１４０】
第１のガラス物品３００の厚さは、特に限られない。第１のガラス物品３００の厚さは、例えば、０．０３ｍｍ〜６ｍｍの範囲であってもよい。
【０１４１】
ここで、第１のガラス物品３００において、有機膜３７０は、上面視、第１のガラス物品３００の端面３０６−１〜３０６−４の位置においても適正に存在するという特徴を有する。すなわち、上面視、端面３０６−１〜３０６−４の位置における有機膜３７０の厚さは、第１のガラス物品３００の中央部に比べて薄くなってはいるが、ゼロではないという特徴を有する。
【０１４２】
これは、ガラス板を高エネルギーのレーザで溶断してガラス物品を分離するような従来の製造方法では得られない、有意な特徴である。従来の方法で製造されたガラス物品では、有機膜は、レーザからの熱により損傷を受け、分断面すなわち端面には、ほとんど残存しないからである。
【０１４３】
第１のガラス物品３００においては、例えば、前述の第１の製造方法または第２の製造方法を用いてこれを製造することにより、このような特徴を得ることができる。
【０１４４】
特に、有機膜３７０は、上面視、略中央部をＭＣ（図１３参照）とし、第１のガラス物品３００の端面３０６−１〜３０６−４上の一つの点をＭＰとし（図１３参照。ただし、第１のガラス物品３００が略多角形の場合、ＭＰは２辺の交点部を除く点から選定される）、
点ＭＰにおいて、Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＰ（Ｓｉ）とし、ＩＭＰ（Ｆ）／ＩＭＰ（Ｓｉ）をＲＭＰとし、
点ＭＣにおいて、前記Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）法により得られるフッ素のカウント数をＩＭＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＭＣ（Ｓｉ）とし、ＩＭＣ（Ｆ）／ＩＭＣ（Ｓｉ）をＲＭＣとしたとき、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ≧０．３
を満たす。
【０１４５】
ここで、
比ＲＭＰ／ＲＭＣ＜１
である。
【０１４６】
このように、第１のガラス物品３００では、有機膜３７０の切断部分の損傷が少なく、第１のガラス物品３００の第１の主表面３０２の全体にわたって有機膜３７０を配置することができる。
【０１４７】
（その他の特徴）
（有機膜３７０）
有機膜３７０のポリマーの構成、化学式、および膜の厚さ等は、前述の有機膜１７０と同様である。有機膜３７０を使用した場合、第１のガラス物品３００の第１の主表面３０２に、撥水性を発現させることができる。
【０１４８】
特に、撥水性を損なわないためには、前記ＭＰにおける有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＰとし、
前記点ＭＣにおける前記有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＭＣとしたとき、
ＴＭＰ／ＴＭＣ≧０．９０
を満たすように照射されることが好ましい。
【０１４９】
（化学強化）
第１のガラス物品３００において、ガラス基板３２０は、化学強化されたものであってもよい。この場合、第１の主表面３２２および第２の主表面３２４に加えて、端面３２６も化学強化されていてもよい。
【０１５０】
ただし、この場合、ガラス基板３２０の第１の主表面３２２および第２の主表面３２４と、端面３２６とでは、化学強化の状態、すなわち導入イオン（化学強化処理により導入されたアルカリ金属イオン）の分布の状態が異なる。
【０１５１】
例えば、ガラス基板３２０において、端面３２６は、前述の図８に示したような、第１の主表面３２２から第２の主表面３２４に向かって、略放物線状の導入イオンの濃度プロファイルを有してもよい。
【０１５２】
このような導入イオンの濃度プロファイルは、前述の第１の製造方法において、工程Ｓ１１０と工程Ｓ１２０の間で化学強化処理を実施して、第１のガラス物品３００を製造した場合、得ることができる。
【０１５３】
これに対して、前述のように、大判のガラス板の段階で化学強化処理を実施した場合、ガラス基板３２０の第１の主表面３２２および第２の主表面３２４は強化されるが、端面３２６は強化されない。
【０１５４】
以上、図１３および図１４を参照して、第１のガラス物品３００の構成例について説明した。
【０１５５】
第１のガラス物品３００は、例えば、電子機器（例えば、スマートフォン、ディスプレイなどの情報端末機器）、カメラやセンサのカバーガラス、建築用ガラス、産業輸送機用ガラス、および生体医療用ガラス機器等に適用することができる。
【０１５６】
例えば、第１のガラス物品３００がカバーガラスである場合、有機膜３７０は、指紋付着防止膜（ＡＦＰ）であってもよい。また、この場合、ガラス基板３２０と有機膜３７０の間に、反射防止膜のような追加の層が含まれてもよい。反射防止膜は、複数の酸化物層の繰り返し構造を有してもよい。
【実施例】
【０１５７】
以下、本発明の実施例について説明する。【０１５８】
（実施例Ｉ）
以下の説明において、例１〜例５は、実施例であり、例１１〜例１２は、比較例である。【０１５９】
（例１）
評価用のサンプルを調製するため、前述の第１の製造方法における工程Ｓ１２０および工程Ｓ１３０を実施した。【０１６０】
なお、工程Ｓ１１０は実施しなかった。これは、工程Ｓ１１０〜工程Ｓ１３０の全てを実施して、ガラス板からガラス物品を分離してしまうと、以降の有機膜の評価（撥水性評価およびＸＰＳ分析）は、ガラス物品の端面部分の先端で実施する必要が生じ、分析操作が煩雑となるためである。逆に、工程Ｓ１２０および工程Ｓ１３０のみを実施したガラス板では、未だガラス板が分離されていないため、工程Ｓ１３０においてレーザ照射された有機膜の領域を評価すれば良く、有機膜の評価をより簡便に実施することができる。なお、このような評価で得られる結果が、第１の製造方法により分離されたガラス物品の端部で得られる結果と実質的に同等であることは明確である。【０１６１】
まず、ガラス板として、アルミノシリケートガラスのＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標）の化学強化前の素板を準備した。ガラス板の寸法は、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．８ｍｍである。【０１６２】
次に、ガラス板の一方の主表面（第１の主表面）の全体に、反射防止膜および有機膜を順次成膜した。【０１６３】
反射防止膜は、Ｎｂ２Ｏ５（目標厚さ１５ｎｍ）／ＳｉＯ２（目標厚さ３５ｎｍ）／Ｎｂ２Ｏ５（目標厚さ１２０ｎｍ）／ＳｉＯ２（目標厚さ８０ｎｍ）の４層構造とし、スパッタ法により成膜した。【０１６４】
有機膜は、指紋付着防止膜（ＫＹ１８５：信越化学社製）とし、蒸着法により成膜した。有機膜の目標厚さは、４ｎｍとした。【０１６５】
次に、ガラス板の第１の主表面の側にＣＯ２レーザを照射した。このＣＯ２レーザは、前述の第１の製造方法における「分離工程」（工程Ｓ１３０）で使用される「別のレーザ」に相当する。【０１６６】
ＣＯ２レーザの照射条件は、以下の通りである：
出力Ｑ＝３８．７Ｗ、
スポット径φ＝３ｍｍ、
走査速度ｖ＝３０ｍｍ／秒
なお、このスポット径は、５ｍｍ厚のアクリル板に、出力３８．７Ｗ、レーザ走査速度７０ｍｍ／秒でレーザを照射した際に生じる加工痕の幅である。この時、レーザ集光レンズからアクリル板までの距離は、スポット径が最も小さくなる距離よりも遠ざけて、焦点をアクリル板の表面に対してずらしている。異なるスポット径の場合にも、スポット径は、所定の出力と走査速度から、５ｍｍ厚のアクリル板の加工痕の幅とする。【０１６７】
これにより、評価用のサンプルが製造された。【０１６８】
（評価）
前述の方法で製造されたサンプル（以下、「例１に係るサンプル」という）を用いて、以下の評価を行った。【０１６９】
（有機膜の撥水性評価）
例１に係るサンプルの有機膜の表面の撥水性を評価した。撥水性の評価は、有機膜の上に体積が１〜３μＬの水滴を垂らし、この水滴の接触角を測定することにより実施した。測定には、協和界面科学社製のＤＭｏ−７０１を用いた。【０１７０】
評価は、有機膜の略中央部分（以下、「中央領域」という）と、有機膜のＣＯ２レーザが照射された一領域（以下、「対象被照射領域」という）の２箇所において実施した。【０１７１】
測定の結果、有機膜の中央領域においては、撥水性が強すぎて水滴がはじかれてしまい、接触角を測定することはできなかった。一方、有機膜の対象被照射領域においても、接触角は、１１３．２゜と十分に大きな値を示した。【０１７２】
このことから、例１に係るサンプルでは、ＣＯ２レーザ照射領域においても、有機膜の機能が損なわれてはいないことが確認された。【０１７３】
（有機膜のＸＰＳ分析）
次に、例１に係るサンプルにおいて、有機膜のＸ線光電分光（ＸＰＳ）分析を行った。分析は、有機膜の対象被照射領域から、有機膜の中央領域に沿って、所定の間隔で実施した。測定には、ＰＨＩ社製のＱｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭを用い、プローブ径２ｍｍφ、測定時間０．２分／サイクル、パスエネルギ２２４．０ｅＶ、ステップエネルギー０．４ｅＶ、試料角度４５°とした。【０１７４】
図１５には、ＸＰＳ分析結果の一例を示す。【０１７５】
図１５において、横軸は、有機膜の対象被照射領域からの距離を表し、距離０は、有機膜の対象被照射領域に対応する。すなわち、横軸は、有機膜の対象被照射領域と中央領域とを結ぶ直線の方向における、対象被照射領域からの距離を表す。一方、図１５の縦軸は、Ｆ（フッ素）とＳｉ（ケイ素）のカウント数の比Ｆ／Ｓｉを表す。【０１７６】
図１５に示すように、カウント数の比Ｆ／Ｓｉは、距離０の付近で最も低く（１２．８）、距離の増加とともに、徐々に上昇する傾向を示した。図１５から、距離が４ｍｍを超えると、比Ｆ／Ｓｉは、距離１０から２０までの平均値で２５．９の値を示した。【０１７７】
このように、距離０の地点においても、比Ｆ／Ｓｉが０ではないことから、例１に係るサンプルでは、対象被照射領域においても有機膜が存在することが確認された。【０１７８】
ここで、対象被照射領域におけるフッ素のカウント数をＩＡＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＡＰ（Ｓｉ）とし、ＩＡＰ（Ｆ）／ＩＡＰ（Ｓｉ）をＲＡＰと表す。また、中央領域におけるフッ素のカウント数をＩＡＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＡＣ（Ｓｉ）とし、ＩＡＣ（Ｆ）／ＩＡＣ（Ｓｉ）をＲＡＣと表す。【０１７９】
この表記に基づいて計算すると、例１に係るサンプルでは、比ＲＡＰ／ＲＡＣは、０．４９となった。【０１８０】
なお、ガラス板からガラス物品が分離されることを想定した場合、この比ＲＡＰ／ＲＡＣが、実質的に前述の比ＲＭＰ／ＲＭＣに相当することは、明らかであろう。【０１８１】
（例２〜例５）
例１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０１８２】
ただし、これらの例２〜例５では、ＣＯ２レーザの照射条件として、例１とは異なる照射条件を選定した。【０１８３】
得られたサンプル（例２〜例５に係るサンプル）を用いて、例１の場合と同様の評価を実施した。【０１８４】
（例１１〜例１２）
例１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０１８５】
ただし、これらの例１１〜例１２では、ＣＯ２レーザの照射条件として、例１とは異なる照射条件を選定した。【０１８６】
得られたサンプル（例１１〜例１２に係るサンプル）を用いて、例１の場合と同様の評価を実施した。【０１８７】
以下の表１には、各例におけるＣＯ２レーザの照射条件、および各例に係るサンプルにおいて得られた評価結果をまとめて示した。【０１８８】
【表１】
2018043016.tif 000004
表１の結果から、例１〜例５では、比ＲＡＰ／ＲＡＣが０．３を超えており、有機膜は、サンプルのＣＯ２レーザが照射された領域にも、実質的に相当量残存していることがわかった。この結果は、サンプルの対象被照射領域においても、１００゜を超える大きな接触角が得られている結果（表１の接触角（°）「ＴＡＰ」欄参照）とも対応する。【０１８９】
このように、例１〜例５に係るサンプルにおいては、ＣＯ２レーザ照射の際に、有機膜があまり損傷、消失されていないことが確認された。このことから、前述の第１の製造方法において、分離工程の実施後には、ガラス物品を適正に分離することができると言える。【０１９０】
一方、例１１〜例１２に係るサンプルにおいては、比ＲＡＰ／ＲＡＣが０．３を下回っており、有機膜は、ＣＯ２レーザの照射領域にはあまり残存していないことがわかった。この結果は、サンプルの対象被照射領域において、接触角が大きく低下している（１００゜未満となっている）事実とも対応する。【０１９１】
このように、例１１〜例１２に係るサンプルにおいては、第１の製造方法を想定した場合、ＣＯ２レーザ照射による分離工程の際に、有機膜の端部が損傷、消失され、有機膜が適正な状態でガラス物品を分離することができないと考えられる。【０１９２】
ここで、前記対象被照射領域における有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＡＰとし、前記中央領域における有機膜の水滴に対する接触角の値をＴＡＣとすると、例２〜例５に係るサンプルにおいては、ＴＡＰ／ＴＡＣは０．９０以上となった。一方、例１１〜例１２に係るサンプルにおいては、ＴＡＰ／ＴＡＣは０．９０未満となった。【０１９３】
なお、ガラス板からガラス物品が分離されることを想定した場合、この比ＴＡＰ／ＴＡＣが、実質的に前述の比ＴＭＰ／ＴＭＣに相当することは、明らかであろう。【０１９４】
（例１５）
以上の例では、第１の製造方法において、工程Ｓ１１０を実施しなかった。そこで、第１の製造方法の実施により、ガラス板からガラス物品が分離できることを確認するため、以下の実験を行った。【０１９５】
ガラス板の第１の主表面にレーザを照射し、ガラス板に、複数の面内ボイド領域および対応する内部ボイド列を形成した。ガラス板には、前述の例１において使用したガラス板と同じものを使用した。【０１９６】
装置には、ピコ秒オーダの短パルスレーザを出射できる、Ｒｏｆｉｎ社（独国）のバーストレーザ（パルス数は３）を使用した。レーザの出力は、定格（５０Ｗ）の９０％とした。レーザの１つのバーストの周波数は６０ｋＨｚ、パルス幅は１５ピコ秒、１つのバースト幅は６６ナノ秒である。各面内ボイドは、「シングルライン面内ボイド領域」とした。また、面内ボイド領域の配置は、前述の図５に示したような、略格子状とした。面内ボイド領域を構成する各面内ボイドの中心間距離は、４μｍ〜６μｍ程度とした。【０１９７】
次に、例１におけるＣＯ２レーザの照射条件と同じ条件で、面内ボイド領域に沿ってＣＯ２レーザを照射した。【０１９８】
なお、この例１５では、有機膜の成膜は実施していない。ただし、前述の例１に係るサンプルの評価結果から、ＣＯ２レーザ照射によって、有機膜にはほとんど損傷が生じないことが確認されている。【０１９９】
ＣＯ２レーザの照射後に、ガラス板からガラス物品を分離することができた。【０２００】
次に、ＣＯ２レーザの照射条件を、例２〜例５で採用したそれぞれの条件に変えて、同様の実験を実施した。その結果、いずれのＣＯ２レーザの照射条件においても、ＣＯ２レーザの照射後に、ガラス板からガラス物品が分離できることが確認された。【０２０１】
（実施例ＩＩ）
以下の説明において、例２１〜例２５および例３１〜３４は、実施例であり、例２６、例３５および例３６は、比較例である。【０２０２】
（例２１）
評価用のサンプルを調製するため、以下のように、前述の第１の製造方法における工程Ｓ１１０〜工程Ｓ１３０を実施した。【０２０３】
まず、ガラス板として、前述の実施例Ｉと同様のガラス板を準備した。ガラス板の寸法は、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．８ｍｍである。【０２０４】
次に、ガラス板の一方の主表面（第１の主表面）から、以下の条件でレーザを照射して、ガラス板に複数の面内ボイド領域および内部ボイド列を形成した。【０２０５】
レーザ装置には、ピコ秒オーダの短パルスレーザを出射できる、Ｒｏｆｉｎ社（独国）のバーストレーザ（パルス数は３）を使用した。レーザの出力は、定格（５０Ｗ）の９０％とした。レーザの１つのバーストの周波数は６０ｋＨｚ、パルス幅は１５ピコ秒、１つのバースト幅は６６ナノ秒である。【０２０６】
各面内ボイド領域は、「シングルライン面内ボイド領域」とした。また、面内ボイド領域の配置は、前述の図５に示したような、略格子状とした。面内ボイド領域を構成する各表面ボイドの中心間距離は、４μｍ〜６μｍ程度とした。【０２０７】
次に、ガラス板の第１の主表面の全体に、反射防止膜および有機膜を順次成膜した。【０２０８】
反射防止膜は、Ｎｂ２Ｏ５（目標厚さ１５ｎｍ）／ＳｉＯ２（目標厚さ３５ｎｍ）／Ｎｂ２Ｏ５（目標厚さ１２０ｎｍ）／ＳｉＯ２（目標厚さ８０ｎｍ）の４層構造とし、スパッタ法により成膜した。【０２０９】
有機膜は、指紋付着防止膜（Ａｆｕｉｄ  Ｓ５５０：旭硝子社製）とし、蒸着法により成膜した。有機膜の目標厚さは、４ｎｍとした。【０２１０】
次に、ガラス板の第１の主表面の側にＣＯ２レーザを照射した。このＣＯ２レーザは、前述の第１の製造方法における「分離工程」（工程Ｓ１３０）で使用される「別のレーザ」に相当する。【０２１１】
ＣＯ２レーザの照射条件は、以下の通りである：
出力Ｑ＝３８．７Ｗ、
スポット径φ＝３ｍｍ、
走査速度ｖ＝５０ｍｍ／秒
なお、このスポット径は、実施例Ｉの場合と同様、５ｍｍ厚のアクリル板に、出力３８．７Ｗ、レーザ走査速度７０ｍｍ／秒でレーザを照射した際に生じる加工痕の幅である。【０２１２】
ＣＯ２レーザの照射後に、ガラス板からガラス物品が分離された。得られたガラス物品の一つを回収し、以下の評価用サンプル（「例２１に係るサンプル」と称する）とした。【０２１３】
（例２２〜例２５）
例２１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０２１４】
ただし、これらの例２２〜例２５では、それぞれ、ＣＯ２レーザの照射条件として、例２１とは異なる照射条件を選定した。【０２１５】
得られたサンプルを、それぞれ、「例２２〜例２５に係るサンプル」と称する。【０２１６】
（例２６）
例２１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０２１７】
ただし、この例２６では、ＣＯ２レーザの照射条件として、例２１とは異なる照射条件を選定した。【０２１８】
得られたサンプルを、「例２６に係るサンプル」と称する。【０２１９】
（例３１）
前述の例２１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０２２０】
ただし、この例３１では、ガラス板の第１の表面に設置される有機膜を、例２１の場合とは変化させた。具体的には、有機膜は、指紋付着防止膜（Ａｆｕｉｄ  Ｓ５５０：旭硝子社製）とし、スプレー法により成膜した。有機膜の目標厚さは、５ｎｍとした。【０２２１】
ＣＯ２レーザの照射後に、ガラス板からガラス物品が分離された。得られたガラス物品の一つを回収し、以下の評価用サンプル（「例３１に係るサンプル」と称する）とした。【０２２２】
（例３２〜例３４）
例３１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０２２３】
ただし、これらの例３２〜例３４では、それぞれ、ＣＯ２レーザの照射条件として、例３１とは異なる照射条件を選定した。【０２２４】
得られたサンプルを、それぞれ、「例３２〜例３４に係るサンプル」と称する。【０２２５】
（例３５および例３６）
例３１と同様の方法により、評価用のサンプルを製造した。【０２２６】
ただし、これらの例３５および例３６では、それぞれ、ＣＯ２レーザの照射条件として、例３１とは異なる照射条件を選定した。【０２２７】
得られたサンプルを、それぞれ、「例３５および例３６に係るサンプル」と称する。【０２２８】
（評価）
前述の方法で製造された各サンプルを用いて、以下の評価を行った。【０２２９】
（有機膜の撥水性評価）
例２１〜例２６および例３１〜例３６に係るサンプルの有機膜の表面の撥水性を評価した。撥水性の評価方法は、実施例Ｉの場合と同様である。【０２３０】
ただし、実施例ＩＩでは、撥水性は、サンプルの第１の表面における有機膜の中央部分、および有機膜の一つのレーザ切断端面から５００μｍだけ内側の位置（前述の「対象被照射領域」に対応する）を端面と見なして測定した。それぞれの位置における接触角を、「ＴＡＰ」および「ＴＡＣ」で表す。【０２３１】
（有機膜のＸＰＳ分析）
各サンプルにおいて、有機膜のＸ線光電分光（ＸＰＳ）分析を行った。分析方法は、実施例Ｉの場合と同様である。【０２３２】
ただし、実施例ＩＩでは、レーザ切断端面から５００μｍだけ内側の位置（前述の「対象被照射領域」に対応する）を端面と見なし、この位置から、有機膜の中央部分に沿って、所定の間隔でＸＰＳ分析を実施した。【０２３３】
ここで、対象被照射領域におけるフッ素のカウント数をＩＡＰ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＡＰ（Ｓｉ）とし、ＩＡＰ（Ｆ）／ＩＡＰ（Ｓｉ）をＲＡＰと表す。また、中央部分におけるフッ素のカウント数をＩＡＣ（Ｆ）とし、ケイ素のカウント数をＩＡＣ（Ｓｉ）とし、ＩＡＣ（Ｆ）／ＩＡＣ（Ｓｉ）をＲＡＣと表す。【０２３４】
表２には、例２１〜例２６に係るサンプルにおけるＣＯ２レーザの照射条件、および各例に係るサンプルにおいて得られた評価結果をまとめて示す。【０２３５】
【表２】
2018043016.tif 000005
表２の結果から、例２１〜例２５では、比ＲＡＰ／ＲＡＣが０．３を超えており、有機膜は、サンプルのＣＯ２レーザが照射された領域にも、実質的に相当量残存していることがわかった。この結果は、例２１〜例２５の場合、サンプルの対象被照射領域においても、８９．５゜を超える大きな接触角が得られている結果とも対応する。【０２３６】
このように、例２１〜例２５に係るサンプルにおいては、ＣＯ２レーザ照射の際に、有機膜があまり損傷、消失されていないことが確認された。このことから、前述の第１の製造方法において、分離工程の実施後には、ガラス物品を適正に分離することができると言える。【０２３７】
一方、例２６に係るサンプルにおいては、比ＲＡＰ／ＲＡＣが０．３を大きく下回っており、有機膜は、ＣＯ２レーザの照射領域にはあまり残存していないことがわかった。この結果は、サンプルの対象被照射領域において、接触角が約８０°まで低下している事実とも対応する。【０２３８】
表３には、例３１〜例３６に係るサンプルにおけるＣＯ２レーザの照射条件、および各例に係るサンプルにおいて得られた評価結果をまとめて示す。【０２３９】
【表３】
2018043016.tif 000006
表３の結果から、例３１〜例３４では、比ＲＡＰ／ＲＡＣが０．３を超えており、有機膜は、サンプルのＣＯ２レーザが照射された領域にも、実質的に相当量残存していることがわかった。この結果は、例３１〜例３４では、サンプルの対象被照射領域において、１００゜を超える接触角が得られている結果とも対応する。【０２４０】
このように、例３１〜例３４に係るサンプルにおいては、ＣＯ２レーザ照射の際に、有機膜があまり損傷、消失されていないことが確認された。このことから、前述の第１の製造方法において、分離工程の実施後には、ガラス物品を適正に分離することができると言える。【０２４１】
一方、例３５〜例３６に係るサンプルにおいては、比ＲＡＰ／ＲＡＣが０．３を下回っており、有機膜は、ＣＯ２レーザの照射領域にはあまり残存していないことがわかった。この結果は、サンプルの対象被照射領域において、接触角が低下している（８８．９゜以下となっている）事実とも対応する。【０２４２】
本願は、２０１６年９月１日に出願した日本国特許出願２０１６−１７１２９６号に基づく優先権を主張するものであり同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
【符号の説明】
【０２４３】
１１０      ガラス板
１１２      第１の主表面
１１４      第２の主表面
１１６      端面
１３０、１３１、１３２  面内ボイド領域
１３８      表面ボイド
１３８Ａ、１３８Ｂ  表面ボイド列
１５０      内部ボイド列
１５８      ボイド
１６０ａ〜１６０ｃ  ガラスピース
１６５      仮想端面
１７０      有機膜
３００      第１のガラス物品
３０２      第１の主表面
３０４      第２の主表面
３０６−１〜３０６−４  端面
３２０      ガラス基板
３２２      第１の主表面
３２４      第２の主表面
３２６      端面
３７０      有機膜
３７２      有機膜の端面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【国際調査報告】
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