(57)【要約】  ナフテン系油を含む基油（Ａ）と、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）とを含有する、グリースを提供する。本発明のグリースは、クリーンルームのような発塵が極めて少ないクリーンな環境下で使用される装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分にも適用可能なレベルでの優れた低発塵性を有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナフテン系油を含む基油（Ａ）と、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）とを含有する、グリース。
【請求項２】
さらに石油樹脂、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂、及びこれらの水添樹脂から選ばれる樹脂成分（Ｃ）を含有する、請求項１に記載のグリース。
【請求項３】
金属原子含有化合物の含有量が、前記グリースの全量基準で、２質量％未満である、請求項１に記載のグリース。
【請求項４】
さらに石油樹脂、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂、及びこれらの水添樹脂から選ばれる樹脂成分（Ｃ）を含有し、且つ、金属原子含有化合物の含有量が、前記グリースの全量基準で、２質量％未満である、請求項１に記載のグリース。
【請求項５】
前記ナフテン系油が、合成ナフテン系油を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のグリース。
【請求項６】
基油（Ａ）の４０℃における動粘度が、５〜８０ｍｍ２／ｓである、請求項１〜５のいずれか一項に記載のグリース。
【請求項７】
基油（Ａ）の全量基準での前記ナフテン系油の含有量が５０〜１００質量％である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のグリース。
【請求項８】
クリーンルーム内で製造もしくは使用される装置に用いられる、請求項１〜７のいずれか一項に記載のグリース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グリースに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体製造装置、液晶製造装置、プリント基板製造装置等の精密電子機器製造装置は、塵埃の非常に少ないクリーンな環境での使用が求められており、通常クリーンルーム内に設置される。また、食品製造工場や医薬品製造工場等においても、製品への異物の混入を避けるため、クリーンな環境が求められている。
このようなクリーンな環境下で用いられる装置や機器には、軸受や摺動部、接合部があり、その潤滑部分には、油飛散が低減された、すなわち低発塵性のグリースが用いられている。【０００３】
このような低発塵性のグリースとしては、従来から、フッ素系グリースが使用されている。
しかしながら、フッ素系グリースは、一般的に高価であり、低発塵性も十分とは言い難い。また、フッ素系グリースは、他のグリースと比べて潤滑性能が不十分であり、当該フッ素系グリースを充填した潤滑部分のトルクが増大する場合がある。さらに、半導体装置等のような精密電子部品の製造においては、製品へのハロゲン成分の混入は、製品の歩留まりにも悪影響を及ぼす。【０００４】
非ハロゲン系の低発塵性のグリースとしては、増ちょう剤としてリチウム系石鹸を用いたグリースが知られている。このようなグリースとして、特許文献１には、所定の動粘度を有する基油に、炭素数が１０以上のヒドロキシル基を有していない脂肪酸のリチウム塩で、所定の繊維状の増ちょう剤を１５〜３０質量％含有するグリース組成物が開示されている。【０００５】
また、非ハロゲン系の低発塵性のグリースとして、特許文献２には、エステル油の割合が５０質量％以上の基油と、脂肪族ジウレアを含む増ちょう剤を２０質量％以上含有するグリース組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３５２９５３号公報
【特許文献２】特開２００５−２７２７６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１及び２に記載のグリース組成物は、低発塵性が不十分である。
さらに、特許文献１に記載のグリース組成物は、増ちょう剤として金属塩を含むため、当該グリース組成物が飛散した場合に、半導体装置等の精密電子機器に付着したことに起因する動作不良を引き起こしやすい。
また、特許文献２に記載のグリース組成物は、エステル油を多く含むために、加水分解しやすく、グリースの寿命の点で問題を有する。【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、クリーンルームのような発塵が極めて少ないクリーンな環境下で使用される装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分にも適用可能なレベルでの優れた低発塵性を有するグリースを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、ウレア系増ちょう剤と共に、基油としてナフテン系油を含むグリースが、上記の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記〔１〕に関する。
〔１〕ナフテン系油を含む基油（Ａ）と、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）とを含有する、グリース。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のグリースは、クリーンルームのような発塵が極めて少ないクリーンな環境下で設置される装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分にも適用可能なレベルでの優れた低発塵性を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
〔本発明のグリースの実施態様〕
本発明のグリースは、ナフテン系油を含む基油（Ａ）と、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）とを含有するものであるが、さらに樹脂成分（Ｃ）を含有することが好ましい。
また、本発明の一態様のグリースは、本発明の効果を損なわない範囲で、成分（Ａ）〜（Ｃ）以外の汎用添加剤を含有していてもよい。
【００１２】
本発明の一態様のグリースにおいて、上述の成分（Ａ）及び（Ｂ）の合計含有量は、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、好ましくは５５〜１００質量％、より好ましくは６５〜１００質量％、更に好ましくは７５〜１００質量％、より更に好ましくは８５〜１００質量％である。
【００１３】
本発明の一態様のグリースにおいて、上述の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計含有量は、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、好ましくは６０〜１００質量％、より好ましくは７５〜１００質量％、更に好ましくは８５〜１００質量％、より更に好ましくは９５〜１００質量％である。
【００１４】
本発明の一態様のグリースにおいて、金属原子含有化合物の含有量は、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、好ましくは２．０質量％未満、より好ましくは１．０質量％未満、更に好ましくは０．１質量％未満、より更に好ましくは０．０１質量％未満、特に好ましくは０．００１質量％未満である。
なお、本発明において、「金属原子含有化合物の含有量」は、ＡＳＴＭ  Ｄ４９５１に準拠して測定された値を意味する。
【００１５】
金属原子含有化合物の含有量が上記範囲であれば、得られるグリースの発塵の抑制効果を良好に保つことができ、クリーンな環境下で使用される装置の潤滑部分には適用することができる。
また、当該グリースが飛散し、当該装置から製造された精密電子機器に付着したことに起因する動作不良も、低減することができる。
【００１６】
金属原子含有化合物に含まれる金属原子としては、例えば、リチウム原子やナトリウム原子等のアルカリ金属原子、カルシウム原子やマグネシウム原子等のアルカリ土類金属原子、亜鉛やモリブデン等の遷移金属原子等が挙げられる。
金属原子含有化合物としては、例えば、増ちょう剤として配合される、カルボン酸又はそのエステルをアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム等の水酸化物でけん化した金属系石鹸やリチウムコンプレックス石鹸等の金属系コンプレックス石鹸、並びに、金属系分散剤、金属系清浄剤、金属系極圧剤、金属系摩擦調整剤、及び金属系防錆剤等として配合される金属塩や金属酸化物等が挙げられる。
【００１７】
また、低発塵性のグリースとする観点、並びに、当該グリースを半導体機器製造装置等の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分に用いた場合に当該製造装置から製造される製品の歩留まりを良好とする観点から、本発明の一態様において、ハロゲン系化合物を実質的に含有しないグリースであることが好ましく、特に、フッ素系化合物を実質的に含有しないグリースであることがより好ましい。
【００１８】
本発明において、ハロゲン系化合物とは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）を含有する化合物を指す。
具体的なハロゲン系化合物としては、例えば、基油として配合されるパーフルオロポリエーテル（ＰＥＰＥ）、増ちょう剤として配合されるポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、消泡剤として配合されるフッ素化シリコーン系化合物等が挙げられる。
【００１９】
なお、本発明において、「ハロゲン系化合物を実質的に含有しないグリース」とは、「ある特定の動機を持って、ハロゲン系化合物を意図的に配合してなるグリース」を除外したものであって、当該グリースには、不純物として含み得る程の微量のハロゲン系化合物を含有していてもよい。
本発明の一態様のグリースにおける、ハロゲン系化合物の含有量としては、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、通常２．０質量％未満、好ましくは１．０質量％未満、より好ましくは０．１質量％未満、更に好ましくは０．０１質量％未満、より更に好ましくは０．００１質量％未満である。
【００２０】
以下、本発明のグリースに配合される各成分について説明する。
＜基油（Ａ）＞
本発明のグリースは、ナフテン系油を含む基油（Ａ）を含有する。
本発明者らは、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）を用いたグリースにおいて、基油として、ナフテン系油を用いることで、得られるグリースの低発塵性が著しく向上することを見い出した。本発明は、その知見をもとになされたものである。
【００２１】
基油（Ａ）中のナフテン系油の含有量は、低発塵性により優れたグリースとする観点から、基油（Ａ）の全量（１００質量％）基準で、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは５５〜１００質量％、より好ましくは６５〜１００質量％、更に好ましくは７５〜１００質量％、更に好ましくは８５〜１００質量％、より更に好ましくは９５〜１００質量％である。
【００２２】
なお、本発明で用いるナフテン系油としては、一分子中に飽和環（ナフテン環）を有する炭化水素系化合物であればよく、ナフテン系鉱油であってもよく、合成ナフテン系油であってもよい。
ただし、低発塵性により優れたグリースとする観点から、本発明の一態様で用いるナフテン系油としては、合成ナフテン系油が好ましい。
【００２３】
ナフテン系鉱油としては、ナフテン系原油を常圧蒸留もしくは常圧蒸留残渣油を減圧蒸留して得られる留出油、これらの留出油を常法に従って精製することによって得られる精製油（具体的には溶剤精製油、水添精製油、脱ロウ処理油、白土処理油等）が挙げられる。
【００２４】
合成ナフテン系油としては、例えば、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン環化合物の二量体の水素化物、ビシクロ〔３．２．１〕オクタン環化合物の二量体の水素化物、ビシクロ〔３．３．０〕オクタン環化合物の二量体の水素化物、ビシクロ〔２．２．２〕オクタン環化合物の二量体の水素化物等が挙げられる。
【００２５】
なお、基油（Ａ）は、本発明の効果を損なわない範囲で、ナフテン系油以外の基油を含有してもよい。
ナフテン系油以外の基油としては、鉱油であってもよく、合成油であってもよく、さらにこれらの混合基油であってもよい。
ナフテン系油以外の鉱油としては、例えば、パラフィン系基系原油や中間基系原油等を常圧蒸留もしくは常圧蒸留残渣油を減圧蒸留して得られる留出油、これらの留出油を常法に従って精製することによって得られる精製油（具体的には溶剤精製油、水添精製油、脱ロウ処理油、白土処理油等）が挙げられる。
【００２６】
ナフテン系油以外の合成油としては、例えば、炭化水素系油や芳香族系油等が挙げられる。
当該炭化水素系油としては、例えば、ノルマルパラフィン、イソパラフィン、ポリブテン、ポリイソブチレン、１−デセンオリゴマー、１−デセンとエチレンコオリゴマー等のポリ−α−オレフィン（ＰＡＯ）及びこれらの水素化物等が挙げられる。
また、当該芳香族系油としては、例えば、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン等のアルキルベンゼン、モノアルキルナフタレン、ジアルキルナフタレン、ポリアルキルナフタレン等のアルキルナフタレン等が挙げられる。
【００２７】
ただし、エーテル系油及びエステル系油の含有量が増加するほど、得られるグリースの低発塵性が低下する傾向にある。また、エーテル系油及びエステル系油は、得られるグリースの寿命の低下を引き起こしやすい。
そのため、基油（Ａ）中のエーテル系油及びエステル系油の合計含有量は、少ないほど好ましい。
上記観点から、本発明の一態様において、エーテル系油及びエステル系油の合計含有量が、基油（Ａ）の全量（１００質量％）基準で、好ましくは１０質量％未満、より好ましくは５質量％未満、更に好ましくは１質量％未満、より更に好ましくは０．１質量％未満である。
【００２８】
基油（Ａ）の４０℃における動粘度としては、好ましくは５〜８０ｍｍ２／ｓ、より好ましくは５〜４０ｍｍ２／ｓ、より好ましくは７〜３５ｍｍ２／ｓ、更に好ましくは１０〜３０ｍｍ２／ｓ、より更に好ましくは２０〜３０ｍｍ２／ｓである。
当該動粘度が５ｍｍ２／ｓ以上であれば、得られるグリースが油分離してしまう現象を抑制することができる。
一方、当該動粘度が８０ｍｍ２／ｓ以下であれば、グリースを装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分に供給し易く、当該潤滑部分の部材の焼き付きの発生を抑制することができる。
本発明で用いる基油（Ａ）は、高粘度の基油と、低粘度の基油とを組み合わせて、４０℃における動粘度を上記範囲に調製した混合基油を用いてもよい。
【００２９】
基油（Ａ）の粘度指数としては、好ましくは５０以上、より好ましくは６０以上、更に好ましくは７５以上である。
なお、本発明において、基油（Ａ）の４０℃における動粘度及び粘度指数は、ＪＩＳ  Ｋ２２８３に準拠して測定した値を意味する。
【００３０】
本発明の一態様のグリースにおいて、基油（Ａ）の含有量は、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは５５質量％以上、更に好ましくは６０質量％以上、より更に好ましくは６５質量％以上であり、また、好ましくは９７質量％以下、より好ましくは９５質量％以下、更に好ましくは９３質量％以下、より更に好ましくは９０質量％以下である。
【００３１】
＜ウレア系増ちょう剤（Ｂ）＞
本発明のグリース組成物は、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）を含有する。
本発明で用いるウレア系増ちょう剤（Ｂ）は、１種からなるものであってもよく、２種以上の混合物であってもよい。
ウレア系増ちょう剤（Ｂ）としては、ウレア結合を有する化合物であればよいが、２つのウレア結合を有するジウレアが好ましく、下記一般式（ｂ１）で表される化合物がより好ましい。
Ｒ１−ＮＨＣＯＮＨ−Ｒ３−ＮＨＣＯＮＨ−Ｒ２        （ｂ１）
上記一般式（ｂ１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素数６〜２４の１価の炭化水素基を示し、Ｒ１及びＲ２は、同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。Ｒ３は、炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を示す。
【００３２】
前記一般式（ｂ１）中のＲ１及びＲ２として選択し得る１価の炭化水素基の炭素数としては、６〜２４であるが、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１８である。
また、Ｒ１及びＲ２として選択し得る１価の炭化水素基としては、飽和又は不飽和の１価の鎖式炭化水素基、飽和又は不飽和の１価の脂環式炭化水素基、１価の芳香族炭化水素基が挙げられ、飽和又は不飽和の１価の鎖式炭化水素基が好ましい。
【００３３】
１価の飽和鎖式炭化水素基としては、炭素数６〜２４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられ、具体的には、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、オクタデセニル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。
１価の不飽和鎖式炭化水素基としては、炭素数６〜２４の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基が挙げられ、具体的には、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基、オレイル基、ゲラニル基、ファルネシル基、リノレイル基等が挙げられる。
なお、１価の飽和鎖式炭化水素基及び１価の不飽和鎖式炭化水素基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
【００３４】
１価の飽和脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基等のシクロアルキル基；メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、ジエチルシクロヘキシル基、プロピルシクロヘキシル基、イソプロピルシクロヘキシル基、１−メチル−プロピルシクロヘキシル基、ブチルシクロヘキシル基、ペンチルシクロヘキシル基、ペンチル−メチルシクロヘキシル基、ヘキシルシクロヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基で置換されたシクロアルキル基（好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基で置換されたシクロヘキシル基）；等が挙げられる。
【００３５】
１価の不飽和脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基等のシクロアルケニル基；メチルシクロヘキセニル基、ジメチルシクロヘキセニル基、エチルシクロヘキセニル基、ジエチルシクロヘキセニル基、プロピルシクロヘキセニル基等の炭素数１〜６のアルキル基で置換されたシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基で置換されたシクロヘキセニル基）；等が挙げられる。
【００３６】
１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニルエチル基、ジフェニルプロピル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基等が挙げられる。
【００３７】
前記一般式（ｂ１）中のＲ３として選択し得る２価の芳香族炭化水素基の炭素数としては、６〜１８であるが、好ましくは６〜１５、より好ましくは６〜１３である。
Ｒ３として選択し得る２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ジフェニルメチレン基、ジフェニルエチレン基、ジフェニルプロピレン基、メチルフェニレン基、ジメチルフェニレン基、エチルフェニレン基等が挙げられる。
これらの中でも、フェニレン基、ジフェニルメチレン基、ジフェニルエチレン基、又はジフェニルプロピレン基が好ましく、ジフェニルメチレン基がより好ましい。
【００３８】
成分（Ｂ）として用いるジウレア化合物は、通常ジイソシアネートとモノアミンとを反応させることによって得ることができる。当該反応は、上述のナフテン系油を含む基油（Ａ）に、ジイソシアネートを配合し、加熱溶解して得た、ジイソシアネートを含む基油を加熱し撹拌しながら、そこに、ナフテン系油を含む基油（Ａ）にモノアミンを溶解させた基油を添加する方法が好ましい。
例えば、前記一般式（ｂ１）で表される化合物を合成する場合に、ジイソシアネートとしては、前記一般式（ｂ１）中のＲ３で示される２価の芳香族炭化水素基に対応する基を有するジイソシアネートを用い、モノアミンとしては、Ｒ１及びＲ２で示される１価の炭化水素基に対応する基を有するアミンを用いて、上記の方法により、所望のジウレア化合物を合成することができる。
【００３９】
本発明の一態様のグリースにおいて、成分（Ｂ）の含有量は、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、好ましくは３〜４０質量％、より好ましくは５〜３５質量％、更に好ましくは７〜３０質量％、より更に好ましくは１０〜２５質量％である。
成分（Ｂ）の含有量が３質量％以上であれば、得られるグリースの混和ちょう度を適度な範囲に調製し易く、取り扱い易いグリースとすることができる。
一方、成分（Ｂ）の量が４０質量％以下であれば、得られるグリースが硬くなり過ぎず、貧潤滑によって、装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分の部材に焼き付きの発生等の弊害を抑制することができる。
【００４０】
＜金属石けん＞
本発明の一態様のグリースにおいて、本発明の効果を損なわない範囲で、増ちょう剤として、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）と共に、金属石けんを含有してもよい。
ただし、グリースの発塵の発生を抑制する観点から、金属石けんの含有量は、少ないほど好ましい。
具体的な金属石けんの含有量としては、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）の全量１００質量部に対して、好ましくは１０質量部未満、より好ましくは１質量部未満、更に好ましくは０．１質量部未満、より更に好ましくは０．０１質量部未満である。
【００４１】
＜樹脂成分（Ｃ）＞
本発明の一態様のグリースは、成分（Ａ）及び（Ｂ）と共に、さらに石油樹脂、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂、及びこれらの水添樹脂から選ばれる樹脂成分（Ｃ）を含有することが好ましい。
特定の樹脂成分（Ｃ）を含有するグリースとすることで、より優れた低発塵性を発現させることができる。また、得られるグリースの粘性を上昇させることができる。
なお、本発明の一態様のグリースとしては、低発塵性をより向上させたグリースとする観点から、成分（Ａ）及び（Ｂ）と共に、さらに石油樹脂、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂、及びこれらの水添樹脂から選ばれる樹脂成分（Ｃ）を含有し、且つ、金属原子含有化合物の含有量が２質量％未満であるグリースであることがより好ましい。
【００４２】
本発明の一態様で用いる樹脂成分（Ｃ）は、単独で又は２種以上を併用してもよい。
なお、樹脂成分（Ｃ）としては、低発塵性をより向上させたグリースとする観点から、石油樹脂及び水添石油樹脂から選ばれる１種以上であることが好ましく、水添石油樹脂であることがより好ましい。
【００４３】
本発明の一態様で用いる「石油樹脂」とは、例えば、ナフサ分解により、エチレン、アセチレン、プロピレン等を生産する際に副生産される分解油留分を精製した石油由来の不飽和炭化水素を原料として得られる石油樹脂を意味する。
また、本発明の一態様で用いる樹脂成分（Ｃ）としては、上記石油樹脂の残存している不飽和結合に水素を付加させて還元した水添石油樹脂であってもよい。
なお、当該水添石油樹脂は、水素化されていない不飽和結合を含み得る部分水添石油樹脂であってもよく、不飽和結合のすべてが水素化された完全水添石油樹脂であってもよい。
【００４４】
石油樹脂としては、例えば、Ｃ５留分を共重合して得られるＣ５系石油樹脂であるジシクロペンタジエン系樹脂、部分水添芳香族変性ジシクロペンタジエン系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するＣ９留分を共重合して得られるＣ９系石油樹脂、上記したＣ５留分とＣ９留分の共重合石油樹脂等が挙げられる。
また、水添石油樹脂としては、上記の樹脂を水素化した水添樹脂が挙げられる。
【００４５】
テルペン系樹脂とは、テレピン油を原料とした樹脂であって、具体的には、α−ピネンやβ−ピネンを重合してなるテルペン樹脂、フェノールとテルペンの共重合体であるテルペンフェノール樹脂、スチレン等で極性を付与した芳香族変性テルペン樹脂等が挙げられる。
また、本発明の一態様で用いる樹脂成分（Ｃ）は、上記テルペン系樹脂の残存している不飽和結合に水素を付加させて還元した水添テルペン系樹脂であってもよい。
【００４６】
ロジン系樹脂としては、マツ類の樹脂等から得られるアビエチン酸又はその誘導体を主成分とする樹脂であって、具体的には、ガムロジンやウッドロジン等のロジン樹脂、フェノールとロジンの共重合体であるロジンフェノール樹脂、及びそれらのエステル化合物等が挙げられる、
また、本発明の一態様で用いる樹脂成分（Ｃ）は、上記ロジン系樹脂の残存している不飽和結合に水素を付加させて還元した水添ロジン系樹脂であってもよい。
【００４７】
樹脂成分（Ｃ）の軟化点としては、好ましくは７０〜２００℃、より好ましくは８０〜１６０℃、更に好ましくは９０〜１４０℃である。
なお、本明細書において、樹脂成分（Ｃ）の軟化点は、ＪＩＳ  Ｋ  ２２０７に準拠して測定された値を意味する。
【００４８】
樹脂成分（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、通常１００００以下、好ましくは２００〜８０００、より好ましくは３００〜５０００、更に好ましくは５００〜３５００である。
なお、本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定される標準ポリスチレン換算の値である。
【００４９】
本発明の一態様のグリースにおいて、成分（Ｃ）を含有する場合、成分（Ｃ）の含有量は、より優れた低発塵性を有するグリースとする観点から、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、好ましくは１〜３０質量％、より好ましくは３〜２５質量％、更に好ましくは５〜２０質量％、より更に好ましくは８〜１５質量％である。
【００５０】
＜汎用添加剤＞
本発明の一態様のグリースは、本発明の効果を損なわない範囲で、一般的なグリースに配合される、成分（Ａ）〜（Ｃ）以外の汎用添加剤を含有していてもよい。
このような汎用添加剤としては、例えば、酸化防止剤、防錆剤、極圧剤、増粘剤、固体潤滑剤、清浄分散剤、腐食防止剤、金属不活性剤等が挙げられる。
これらの各汎用添加剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
酸化防止剤としては、例えば、アルキル化ジフェニルアミン、フェニル−α−ナフチルアミン、アルキル化−α−ナフチルアミン等のアミン系酸化防止剤；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）等のフェノール系酸化防止剤；等が挙げられる。
防錆剤としては、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル、アミン化合物等が挙げられる。
極圧剤としては、例えば、リン系化合物等が挙げられる。
増粘剤としては、例えば、ポリメタクリレート（ＰＭＡ）、オレフィン共重合体（ＯＣＰ）、ポリアルキルスチレン（ＰＡＳ）、スチレン-ジエン共重合体（ＳＣＰ）等が挙げられる。
固体潤滑剤としては、例えば、ポリイミド、メラミンシアヌレート（ＭＣＡ）等が挙げられる。
清浄分散剤としては、例えば、コハク酸イミド、ボロン系コハク酸イミド等の無灰分散剤が挙げられる。
腐食防止剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、チアゾール系化合物等が挙げられる。
金属不活性剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物等が挙げられる。
【００５２】
なお、本発明の一態様のグリースにおいて、金属原子含有化合物やハロゲン系化合物は、上述の含有量の範囲であれば、含有してもよい。
【００５３】
本発明の一態様のグリースにおける、各汎用添加剤の含有量は、当該グリースの全量（１００質量％）基準で、通常０〜１０質量％、好ましくは０〜７質量％、より好ましくは０〜５質量％、より更に好ましくは０〜２質量％である。
【００５４】
〔本発明のグリースの物性〕
本発明の一態様のグリースの混和ちょう度は、適度な硬さを有し、作業性及び潤滑性能に優れたグリースとする観点から、好ましくは１８０〜２９５、より好ましくは２００〜２９０、更に好ましくは２２０〜２８５、より更に好ましくは２４０〜２８０である。
なお、本明細書において、グリースの混和ちょう度は、ＪＩＳ  Ｋ２２２０．７に準拠して測定された値を意味する。
【００５５】
〔本発明のグリースの用途〕
本発明のグリースは、クリーンルームのような発塵が極めて少ないクリーンな環境下で設置される装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分にも適用可能なレベルでの優れた低発塵性を有する。
そのため、本発明のグリースは、クリーンルーム内で製造もしくは使用される装置（例えば、半導体製造装置、液晶製造装置、プリント基板製造装置等）に用いられることが好ましく、より具体的には当該装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分の潤滑用途に用いられることがより好ましい。
つまり、本発明は、クリーンルーム内で製造もしくは使用される装置の潤滑部分に、上述の本発明のグリースを使用する潤滑方法も提供される。
【００５６】
また、本発明のグリースは、製品への異物の混入をさけるために、クリーンルームに限らず、食品製造工場や医薬品製造工場等で使用される装置の軸受や摺動部、接合部等の潤滑部分の潤滑用途にも好適である。
【００５７】
〔本発明のグリースの製造方法〕
本発明のグリースの製造方法としては、少なくとも下記工程（１）を有する製造方法が挙げられ、さらに下記工程（２）を有してもよい。
工程（１）：ナフテン系油を含む基油（Ａ）に、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）を配合する工程。
工程（２）：樹脂成分（Ｃ）を配合する工程。
【００５８】
工程（１）において、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）は、基油に溶解させた状態で、基油（Ａ）に配合してもよい。
当該基油としては、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）の合成に使用した基油でもよいが、基油（Ａ）の一部をウレア系増ちょう剤（Ｂ）の合成で使用し、ウレア系増ちょう剤（Ｂ）を含む基油（Ａ）を調製した後、残りの基油（Ａ）と混合することが好ましい。
なお、工程（１）における基油（Ａ）の温度としては、好ましくは１００〜２００℃である。
【００５９】
工程（２）において、樹脂成分（Ｃ）は、工程（１）の後に基油（Ａ）に配合してもよく、工程（１）で基油（Ａ）にウレア系増ちょう剤（Ｂ）を配合する前に、基油（Ａ）に配合してもよい。
また、工程（２）においては、樹脂成分（Ｃ）と共に、上述の成分（Ａ）〜（Ｃ）以外の汎用添加剤を配合してもよい。
【実施例】
【００６０】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、「基油」及び「グリースから増ちょう剤を除いた組成物」の４０℃動粘度及び粘度指数は、ＪＩＳ  Ｋ２２８３に準拠して測定した。
また、「金属原子含有化合物の含有量」は、ＡＳＴＭ  Ｄ４９５１に準拠して測定した。【００６１】
実施例１
基油（Ａ−１）として、合成ナフテン油（４０℃動粘度：２７．９ｍｍ２／ｓ、粘度指数：７０）を用いた。
１Ｌの金属容器の反応釜内に、上記合成ナフテン油３７０．０ｇと、増ちょう剤の原料となる「ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）」６４．７ｇ（２５９ｍｍｏｌ）とを加え、加熱溶解し、ＭＤＩを含む合成ナフテン油を調製した。また、別途用意した１Ｌの金属容器内に、上記合成ナフテン油３６０．０ｇと、ステアリルアミン１３５．３ｇ（５０２ｍｍｏｌ）とを加え、加熱溶解し、ステアリルアミンを含む合成ナフテン油を別途調製した。
そして、ＭＤＩを含む合成ナフテン油が入った反応釜内に、上述のステアリルアミンを含む合成ナフテン油を加えて、撹拌し均一化させた後、反応液を９０〜１３０℃まで昇温し、１時間保持し、反応を進行させた。
１時間保持後、反応液を冷却して、前記一般式（ｂ１）中のＲ１及びＲ２がステアリル基（オクタデシル基）、Ｒ３がジフェニルメチレン基である脂肪族ジウレアである増ちょう剤（Ｂ−１）を合成した。
さらに、増ちょう剤（Ｂ−１）を含む反応液に、下記に示す添加剤混合物を合計２０ｇ加え、室温（２５℃）まで冷却した後、３本ロールミルを用いた仕上げ処理を行い、グリース（１）を得た。
グリース（１）の全量（１００質量％）基準での、増ちょう剤（Ｂ−１）の含有量は２０質量％であった。
上記グリース（１）の調製に使用した「添加剤混合物」は、以下の添加剤を含む（なお、いずれの添加剤も、金属原子及びハロゲン原子を実質的に含まない化合物である）。
・極圧剤：硫黄系極圧剤
・酸化防止剤：アミン系酸化防止剤
・防錆剤：エステル系防錆剤【００６２】
実施例２
基油（Ａ−１）の合計配合量を６８０ｇに調製し、さらに下記に示す水添石油樹脂（Ｃ−１）を１００ｇ加えた以外は、実施例１と同様にして、グリース（２）を得た。
なお、グリース（２）の全量（１００質量％）基準での、増ちょう剤（Ｂ−１）の含有量は２０質量％であり、水添石油樹脂（Ｃ−１）の含有量は１０質量％であった。
・水添石油樹脂（Ｃ−１）：出光興産株式会社製、製品名「アイマーブ（登録商標）Ｐ−１００」、軟化点１００℃、Ｃ５留分を共重合して得られる水添ジシクロペンタジエン系樹脂、Ｍｗ＝６６０。【００６３】
実施例３
基油（Ａ−１）に代えて、下記に示す基油（Ａ−２）を用い、基油（Ａ−２）の合計配合量を６８０ｇに調製し、さらに実施例２でも使用した水添石油樹脂（Ｃ−１）を１００ｇ加えた以外は、実施例１と同様にして、グリース（３）を得た。
なお、グリース（３）の全量（１００質量％）基準での、増ちょう剤（Ｂ−１）の含有量は２０質量％であり、水添石油樹脂（Ｃ−１）の含有量は１０質量％であった。
・基油（Ａ−２）：合成ナフテン油（４０℃動粘度：１８．６ｍｍ２／ｓ、粘度指数：７７）。【００６４】
実施例４
摩擦調整剤として、下記に示すＭｏＤＴＣを１ｇ加え、基油（Ａ−１）の合計配合量を７７９ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして、グリース（４）を得た。
なお、グリース（４）の全量（１００質量％）基準での、増ちょう剤（Ｂ−１）の含有量は２０質量％であり、ＭｏＤＴＣの含有量は０．１質量％であった。
・ＭｏＤＴＣ：下記式で表される二核ジアルキルジチオカルバミン酸モリブデン、デカサクラルーブ５１５（株式会社ＡＤＥＫＡ製）。
【化１】
2018043744.tif 000002
（上記式中、Ｒは、それぞれ独立に、炭素数が８又は１３の炭化水素基である。）【００６５】
実施例で調製したグリース（１）〜（４）について、以下の（ｉ）〜（iii）の測定及び試験を行った。これらの結果を表１に示す。【００６６】
（ｉ）グリースの混和ちょう度の測定
ＪＩＳ  Ｋ  ２２２０．７に準拠して測定した。【００６７】
（ii）ＬＭガイド発塵試験
ＩＳＯ  １４６４４−１  Ｐａｒｔ１で規定の「ＩＳＯ  ｃｌａｓｓ２」に相当する清浄度を有するクリーンブースに設置したアクリルケース内で、ボールリテーナータイプのＬＭガイド（Linear Motion Guide）を往復運転し、発生した塵埃を２．８３Ｌ／分の流量でパーティクルカウンタに吸引し、粒子径０．１μｍ以上の塵埃の発塵数を計測した。
本試験中のアクリルケース内の環境は、温度２６±１℃、相対湿度７０〜８１％に調整した。ガイドの駆動は、サーボモータを用いたアクチュエータにより加速度と最高速度を制御した。
より具体的な本試験方法としては、ガイドをレール、ブロック、リテーナー、ボールに分解、洗浄を行ない、組み立てたブロックに、試料となるグリースを１．５ｇ塗布し、レールに取り付け、速度５００ｍｍ／ｓ、ストローク２００ｍｍの条件で、慣らし運転を行い、計測される発塵数の値が安定してから、ガイドの往復運転を５０時間行った。なお、ブロックのグリースシールは取り外している。
各グリースを用いた際の５０時間のＬＭガイド発塵試験によって計測された粒子径０．１μｍ以上の塵埃の平均発塵数（単位：個／Ｌ）を表１に示す。
当該平均発塵数の値が小さい程、低発塵性のグリースといえる。また、この平均発塵数の値を基に、下記の基準によるＬＭガイド発塵試験でのグリースの発塵性も評価した。
（ＬＭガイド発塵試験でのグリースの発塵性の評価基準）
Ａ：上記の平均発塵数が、２０個／Ｌ未満である。
Ｂ：上記の平均発塵数が、２０個／Ｌ以上、５０個／Ｌ未満である。
Ｃ：上記の平均発塵数が、５０個／Ｌ以上である。【００６８】
（iii）ボールネジ発塵試験
ＩＳＯ  １４６４４−１  Ｐａｒｔ１で規定の「ＩＳＯ  ｃｌａｓｓ２」に相当する清浄度を有するクリーンブースに設置したアクリルケース内で、ボールネジを往復運転し、発生した塵埃を０．５Ｌ／分の流量でパーティクルカウンタに吸引し、粒子径０．３μｍ以上の塵埃の発塵数を計測した。
本試験におけるアクリルケース内の環境は、温度２６±１℃、相対湿度７０〜８１％に調整した。
また、ボールネジの駆動は、サーボモータを用いたアクチュエータにより最高速度（ボールネジの回転数）を制御した。
より具体的な本試験方法としては、ボールネジ（外径２５ｍｍ、リード５ｍｍ）のネジ面全体に、試料となるグリースを６．０ｇ塗布し、ボール−ナット速度１００ｍｍ／ｓ、ストローク１５０ｍｍの条件で、慣らし運転を行い、計測される発塵数の値が安定してから、ボールネジの往復運転を５０時間行った。なお、ナット端部のグリースシールは取り外している。
各グリースを用いた際の５０時間のボールネジ発塵試験によって計測された粒子径０．３μｍ以上の塵埃の平均発塵数（単位：個／Ｌ）を表１に示す。
当該平均発塵数の値が小さい程、低発塵性のグリースといえる。また、この平均発塵数の値を基に、下記基準によるボールネジ発塵試験でのグリースの発塵性も評価した。
（ボールネジ発塵試験でのグリースの発塵性の評価基準）
Ａ：上記の平均発塵数が、３０個／Ｌ未満である。
Ｂ：上記の平均発塵数が、３０個／Ｌ以上、６０個／Ｌ未満である。
Ｃ：上記の平均発塵数が、６０個／Ｌ以上である。【００６９】
比較例１
以下の基油（Ａ−３）及び増ちょう剤（Ｂ−１）を表１に示す配合量で配合してなる、市販品のグリース（５）（製品名「ＡＦＥ−ＣＡ」）について、実施例で調製したグリースと同様に、上記（ｉ）〜（iii）の測定及び試験を行った。これらの結果を表１に示す。
・基油（Ａ−３）：脂肪酸エステル（ジペンタエリスリトールカルボン酸エステル）とポリα−オレフィンとの混合合成油。
・増ちょう剤（Ｂ−１）：前記一般式（ｂ１）中のＲ１及びＲ２がステアリル基（オクタデシル基）、Ｒ３がジフェニルメチレン基である脂肪族ジウレア。【００７０】
【表１】
2018043744.tif 000003
【００７１】
表１により、実施例１〜４で調製したグリース（１）〜（４）は、比較例１のグリース（５）に比べて、発塵が極めて効果的に抑制されていることがわかる。なお、実施例１〜４のグリース（１）〜（４）は、ハロゲン系化合物を実質的に含まない、非ハロゲン系の低発塵性グリースである。
【国際調査報告】
2018043744.tif 000004
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2018043744.tif 000007
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