(57)【要約】  光学特性に優れた画素分割層（８）および／または平坦化層（４）を具備していながら、優れた発光信頼性を有する有機ＥＬ表示装置を提供する。第一電極（１０）、画素分割層（８）、発光画素（９）、第二電極（５）、平坦化層（４）および基材（６）を具備する有機ＥＬ表示装置であって、画素分割層（８）および／または平坦化層（４）が、構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含有する、有機ＥＬ表示装置。
2018116988.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一電極、画素分割層、発光画素、第二電極、平坦化層および基材を具備する有機ＥＬ表示装置であって、
前記画素分割層および／または前記平坦化層が、下記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含有する、有機ＥＬ表示装置。
【化１】
2018116988.tif 000055
【請求項２】
前記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料が、下記構造式（７）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２を含有する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【化２】
2018116988.tif 000056
【請求項３】
前記画素分割層および／または前記平坦化層の周波数１ｋＨｚにおける誘電率が４．０以下であり、かつ膜厚１．０μｍあたりの光学濃度が０．５以上である、請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記画素分割層および／または前記平坦化層が、さらに青色顔料と赤色顔料とを含有し、前記青色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６およびＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、前記赤色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９およびＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記画素分割層および／または前記平坦化層が、さらに紫色顔料を含有し、前記紫色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９およびＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記画素分割層の表示エリアにおける開口率が２０％以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記画素分割層および／または前記平坦化層が、ネガ型感光性またはポジ型感光性を有する感光性組成物の硬化物からなり、前記感光性組成物が、感光剤と、下記一般式（２８）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂とを含有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【化３】
2018116988.tif 000057
（上記一般式（２８）中、Ｒ１は４〜１０価の有機基を表す。Ｒ２は２〜８価の有機基を表す。Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基またはチオール基を表す。ｐおよびｑは、それぞれ独立して、０〜６の範囲を表す。）
【請求項８】
前記感光剤が光重合開始剤を含有し、ネガ型感光性を有する、請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記感光性組成物が黄色顔料を全顔料中１０重量％〜４０重量％含有し、かつ前記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を、全黄色顔料中５０重量％以上含有する、請求項７または８に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記感光性組成物が、さらに、カルド樹脂を含有する、請求項８に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
前記感光剤が光酸発生剤を含有し、ポジ型感光性を有する、請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォン、タブレットＰＣおよびテレビなど、薄型ディスプレイを有する表示装置において、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイが搭載された多くの製品が開発されている。【０００３】
有機ＥＬ表示装置は、陰極から注入された電子と、陽極から注入された正孔との再結合によるエネルギーを用いて発光する自発光型の表示装置である。有機ＥＬ表示装置の発光画素に用いられる有機発光材料はガス成分や水分に弱く、これらに曝されることで有機ＥＬ表示装置の発光信頼性が低下することが知られている。発光信頼性を向上するためには、有機発光材料自身の耐久性を高めるだけでなく、電極上に形成された画素分割層や、駆動回路を覆う平坦化層といった発光素子を構成する周辺材料の特性向上が必要不可欠であり、特定範囲の硫黄／炭素原子数比率を有する画素分割層と、平坦化層とを具備する有機ＥＬが開示されている。（例えば、特許文献１）。【０００４】
また、近年、画素分割層および／または平坦化層に遮光性を付与することで、太陽光などの外光反射を低減し、有機ＥＬ表示装置の視認性およびコントラストを向上させる試みがなされている。その具体例として、黒色化された画素分割層を具備する有機ＥＬ表示装置が開示されている（例えば、特許文献２）。【０００５】
有機ＥＬ表示装置の黒色化された画素分割層を形成するための組成物としては、異なる色相の顔料を混合して擬似黒色化した感光性組成物が挙げられ、その具体例として、赤色顔料と青色顔料とを遮光材として含有する感光性組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。一方で、外光反射を低減する機能が求められる液晶表示装置のブラックマトリクスの分野においては、絶縁性に乏しく誘電率の高い黒色顔料であるカーボンブラックを代替する技術として、有機顔料の混合による擬似黒色化の技術が提案されており、その具体例として、黄色顔料、青色顔料及び紫色顔料の組み合わせ、または黄色顔料、赤色顔料及び青色顔料の組み合わせからなる複数種の顔料を遮光材として含有する感光性組成物が開示されている（例えば、特許文献４参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１６／０４７４８３号公報
【特許文献２】日本国特開２０１３−３０２９３号公報
【特許文献３】日本国特開２０１３−２０７１２４号公報
【特許文献４】日本国特開平９−３０２２６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、擬似黒色化した感光性組成物をフォトリソグラフィによりパターン加工して得られた硬化膜を有機ＥＬ表示装置の画素分割層および／または平坦化層として用いた場合、最終的に得られた画素分割層および／または平坦化層の光学特性と、有機ＥＬ表示装置の発光信頼性において、少なくともいずれかに問題が生じるという課題があった。以上の背景から、光学特性に優れた画素分割層および／または平坦化層を具備していながら、優れた発光信頼性を有する有機ＥＬ表示装置が切望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、第一電極、画素分割層、発光画素、第二電極、平坦化層および基材を具備する有機ＥＬ表示装置であって、前記画素分割層および／または前記平坦化層が、下記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含有することを特徴とする。【０００９】
【化１】
2018116988.tif 000003
【発明の効果】
【００１０】
本発明の有機ＥＬ表示装置によれば、優れた光学特性を有する画素分割層および／または平坦化層を具備することで高い視認性とコントラストを得ることができ、かつ優れた発光信頼性を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の実施形態を示す、有機ＥＬ表示装置のＴＦＴ基板の断面図である。
【図２】図２は、実施例１２における硬化膜の光透過率スペクトルを実線で、比較例２９における硬化膜の光透過率スペクトルを破線で示した図である。
【図３】図３は、実施例における、本発明の有機ＥＬ表示装置の作製方法を示す概略図である。
【図４】図４は、実施例における、本発明の有機ＥＬ表示装置の他の作製方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。本明細書中において画素分割層とは、有機ＥＬ表示装置用の画素分割層のことをいい、平坦化層とは、有機ＥＬ表示装置用の平坦化層のことをいう。有機ＥＬ表示装置とは、曲げることのできないリジッドタイプの有機ＥＬ表示装置と、曲げることができるフレキシブルタイプの有機ＥＬ表示装置の両方を指す。また、遮光性とは、可視光領域である波長３８０〜７８０ｎｍの光を遮蔽する程度を示し、遮光性が高いほど光の透過率が低いことを示す。着色材の呼称に用いた「Ｃ．Ｉ．」とは、Ｃｏｌｏｕｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｇｅｎｅｒｉｃ  Ｎａｍｅの略であり、Ｔｈｅ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｄｙｅｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ発行のカラーインデックスに基づき、カラーインデックスに登録済の着色材に関して、Ｃｏｌｏｕｒ  Ｉｎｄｅｘ  Ｇｅｎｅｒｉｃ  Ｎａｍｅが、顔料または染料の化学構造や結晶形を表す。本明細書中において、アルカリ現像液との記載は、特に断りがない限り、有機系アルカリ水溶液のことを指す。
【００１３】
遮光材とは、可視光領域のうち少なくとも一部の波長の光を吸収する機能を有する化合物のことをいい、具体的には顔料または染料のことを指し、感光剤はこれに該当しない。また、遮光材種ごとの色の呼称については、本発明者らの目視官能評価によるものではなく、例えば、黄色顔料とは、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」に属する顔料、またはそれらを母体とする顔料誘導体、青色顔料とは、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」に属する顔料、またはそれらを母体とする顔料誘導体、赤色顔料とは「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」に属する顔料、またはそれらを母体とする顔料誘導体、紫色顔料とは「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」に属する顔料、またはそれらを母体とする顔料誘導体のことを指し、橙色顔料、茶色顔料、緑色顔料、黒色顔料などの記載もまた同様である。
【００１４】
本発明者らが、上述の課題について原理検証を行なった結果、黒色の画素分割層および／または平坦化層を形成するために用いた感光性組成物に含有する（ａ）遮光材の耐久性が、最終的に得られる有機ＥＬ表示装置の発光信頼性に影響することがわかった。ここでいう発光信頼性の低下とは、有機ＥＬ表示装置を連続で点灯し続けた際、発光素子における発光面積が点灯初期を基準として点灯時間の経過とともに縮小し、結果として輝度が低下する現象をいい、発光信頼性が低いほど表示装置としての価値が下がってしまう。より具体的には、複数種の有機顔料を混合して擬似黒色化した場合、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を付与するために用いられる遮光材の耐熱性、耐アルカリ性の少なくともいずれかが不十分であることが、発光信頼性を低下させる原因となることを明らかとした。仮に、発光信頼性を損なわないようにするため、画素分割層に波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を付与しない場合、青味の外光反射を低減する効果が弱まり、加えて、画素分割層や平坦化層の上に成膜される第一電極である銀／マグネシウム合金の膜は、可視光領域における光透過率が短波長側ほど高いことから、結果として使用者が青味の反射光を感ずることになるため、表示装置としての価値が下がってしまう。色相が異なる複数種の顔料を混合して用いた擬似黒色化の技術は、所望の光学特性を画素分割層および／または平坦化層に付与する上で、単一種の黒色顔料を用いた場合と比べて、光の波長領域ごとの光学特性を自在に調整することができる点で非常に有用であるが、有機ＥＬ表示装置の画素分割層および／または平坦化層の波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を制御するために好適な遮光材がこれまでに見出されていなかったため、光学特性と発光信頼性とのトレードオフの関係が生じ、それらの両立が困難となっていた。
【００１５】
以上を鑑みて本発明者らが鋭意検討を行なった結果、第一電極、画素分割層、発光画素、第二電極、平坦化層および基材を具備する有機ＥＬ表示装置において、画素分割層および／または平坦化層が、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含有することで優れた光学特性と優れた発光信頼性とを両立することが可能となることを見出し、本発明を完成させた。
【００１６】
意外なことに、当業者の技術的常識において耐熱性、耐光性および耐薬品性が高いことがよく知られ、液晶表示装置の分野で長年用いられてきたＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、１３９、１５０などの有機黄色顔料のみを用いたとしても本課題の解決には至らず、これまで表示装置の分野では不適とされてきた上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料の有用性を見出すに至った。さらには、全くの別の技術分野であるプラスチック物品の練り込み着色のみに用途が限られてきたＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２を用いると、有機ＥＬ表示装置の発光信頼性が最良なものとなることを見出した。
【００１７】
一方、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を付与するための主成分としては黄色顔料以外では橙色顔料が考えられたが、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する橙色顔料のみを用いた場合では、本課題を解決するに至らなかった。具体例として、例えば、２５０℃以上の高温条件下における耐熱性を有することが一般的に知られているベンズイミダゾロン系橙色顔料である、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４が挙げられるが、アルカリ現像液との接触により橙色顔料が部分分解し液状化して、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性が現像工程中に低下するだけでなく、十分な発光信頼性が得られなかった。
【００１８】
以上から、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を選択することが、本課題の解決に当たり格別顕著な効果を奏する、との結論に至り、これを含有する画素分割層および／または平坦化層を具備することを特徴とする有機ＥＬ表示装置を発明した。
【００１９】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、第一電極、画素分割層、発光画素、第二電極、平坦化層および基材を具備する。図１に、本発明の実施形態の具体例として挙げられる有機ＥＬ表示装置におけるＴＦＴ基板の断面図を示す。
【００２０】
基材（６）の表面に、ボトムゲート型またはトップゲート型のＴＦＴ（１）（薄膜トランジスタ）が行列状に設けられており、ＴＦＴ（１）と、ＴＦＴ（１）に接続された配線（２）とを覆う状態でＴＦＴ絶縁層（３）が形成されている。さらに、ＴＦＴ絶縁層（３）の表面には、平坦化層（４）が形成されており、平坦化層（４）には配線（２）を開口するコンタクトホール（７）が設けられている。平坦化層（４）の表面には、第二電極（５）がパターン形成されており、配線（２）に接続されている。第二電極（５）のパターン周縁を囲むようにして、画素分割層（８）が形成されている。画素分割層（８）には開口部が設けられており、開口部には有機ＥＬ発光材料を含む、発光画素（９）が形成されており、第一電極（１０）が、画素分割層（８）と発光画素（９）とを覆う状態で成膜されている。以上の積層構成からなるＴＦＴ基板を真空下で封止した後に発光画素部に直接電圧を印加すれば、有機ＥＬ表示装置として発光させることできる。
【００２１】
発光画素（９）は、光の３原色である赤、青、緑領域それぞれの発光ピーク波長を有する異なる種類の画素が配列したもの、もしくは白色の発光光を放つ発光画素を全面に作製し、別途の積層部材として赤、青、緑のカラーフィルタを組み合わせたものであってもよい。通常表示される赤色領域のピーク波長は、５６０〜７００ｎｍ、青色領域のピーク波長は４２０〜５００ｎｍ、緑領域のピーク波長は、５００〜５５０ｎｍであるが、本発明の有機ＥＬ表示装置においては発光画素の種類は特に限定されず、発光光がいかなるピーク波長を有していてもよい。第二電極（５）としては、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる透明膜を好適に用いることができ、第一電極（１０）としては、例えば、銀／マグネシウムなどの合金膜を好適に用いることができるが、電極として機能させることができる層であれば、いかなる物質からなっていても構わない。また、発光画素を構成する有機ＥＬ発光材料としては、発光層に加え、さらに正孔輸送層および／または電子輸送層を組み合わせた材料を好適に用いることができる。
【００２２】
本発明の有機ＥＬ表示装置の光取り出し方向は、発光画素から放たれる発光光を、基材（６）を介して基材側へ取り出す、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよいし、第一電極を介して発光光を基材（６）の反対側へ取り出す、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよく、特に限定されない。平坦化層（４）と第二電極（５）の間には、１方向への光取り出し効率を高めるため、金属反射層をさらに設けるなどしてもよい。基材（６）にガラスなどに代表される硬質の板状基材を用いれば、曲げることができないリジッドタイプの有機ＥＬ表示装置に、ポリイミドなどの柔軟性に富んだ樹脂フィルムからなる基材を用いれば、曲げることができるフレキシブルタイプの有機ＥＬ表示装置となる。
【００２３】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層は、外光反射を抑制する機能をより効果的なものとするため、可視光領域の光の波長ごと光透過率の差異が少ない、すなわち遮光性において波長依存性が少ないほうが良く、画素分割層および／または平坦化層が含有する（ａ）遮光材が、（ａ−１）黄色顔料と青色顔料と赤色顔料、または（ａ−２）黄色顔料と紫色顔料とを含むことが好ましい。なお、黄色顔料と紫色顔料とを含む場合は、さらにそれら以外の色の遮光材を含んでいたとしても、（ａ−２）黄色顔料と紫色顔料の組み合わせに属するものと定義する。
【００２４】
（ａ）遮光材が（ａ−１）の組み合わせである場合において、黄色顔料は、波長３８０〜４５０ｎｍの領域の光を遮光するための成分として、青色顔料は、波長５５０〜７８０ｎｍの領域を遮光するための成分として、赤色顔料は、波長４５０〜６００ｎｍの領域の光を遮光するための成分として含有し、各波長領域において所望の光学特性が得られるよう混合比率を設定し、減法混色により擬似黒色化することができる。
【００２５】
一方で、（ａ）遮光材が（ａ−２）の組み合わせである場合において、黄色顔料は、波長３８０〜４５０ｎｍの領域の光を遮光するための成分として、紫色顔料は、波長４５０〜６５０ｎｍの領域の光を遮光するための成分として含有し、各波長領域において所望の光学特性が得られるよう混合比率を設定し、減法混色により擬似黒色化することができる。（ａ−２）の組み合わせにおいては、波長６５０〜７８０ｎｍの領域の光を遮光する成分をさらに含有しても構わない。
【００２６】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層は、（ａ）遮光材中の黄色顔料成分として、下記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含む。画素分割層および／または平坦化層は、感光性組成物を用いて形成することができ、該感光性組成物中に、（ａ）遮光材として、下記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含有させておくことで、画素分割層および／または平坦化層の膜中に、下記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を充填することができ、波長３８０〜４５０ｎｍの領域の光に対する遮光性を付与することができる。
【００２７】
【化２】
2018116988.tif 000004
【００２８】
上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料とは、下記構造式（２）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、下記構造式（３）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５１、下記構造式（３０）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、下記構造式（４）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１７５、下記構造式（５）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、下記構造式（６）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８１、下記構造式（７）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２、下記構造式（８）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４およびそれらを母体とする顔料誘導体のことをいう。
【００２９】
【化３】
2018116988.tif 000005
【００３０】
【化４】
2018116988.tif 000006
【００３１】
【化５】
2018116988.tif 000007
【００３２】
中でも、耐熱性および耐アルカリ性が優れる点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４がより好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２がさらに好ましい。これらの上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料は、単独あるいは複数種を混合して用いても構わない。
【００３３】
ここでいう顔料の耐熱性とは、後述する現像工程において、アルカリ現像液との接触により、顔料に対して化学的負荷がかけられた上で、さらに加熱処理されることに対する熱分解性および／または昇華性の程度をいい、顔料の熱分解物／昇華物の発生量を低減できるほど耐熱性に優れることを指す。また、顔料の耐熱性が及ぼす発光信頼性への影響は、顔料とアルカリ現像液とが接触することで生ずる顔料の溶解物および／または分解物が複合的に関与するため、アルカリ現像液の関与が無い、当業者間の技術的常識に基づく顔料単独の粉末状態における耐熱性の指標とは異なる。
【００３４】
有機ＥＬ表示装置の画素分割層および／または平坦化層に求められる耐熱温度は、好ましくは２００℃以上、より好ましくは２３０℃以上、さらに好ましくは２５０℃以上であり、高温条件下における画素分割層および／または平坦化層からのガス発生量が少ないほど良く、発光信頼性を向上できる。
【００３５】
ここでいう顔料の耐アルカリ性とは、後述する現像工程で用いられるアルカリ現像液である２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に対する、大気圧下１５℃〜１５０℃条件下における溶解性、分解性の程度のことを指す。ここで、大気圧下１５℃〜１５０℃条件下における耐性を指標とする理由は、後述するキュア工程で現像膜が加熱されるに伴い、現像膜の表面および／または内部に残留したアルカリ現像液の、顔料溶解能および／または顔料分解能が向上してしまうためである。したがって、本明細書中でいう耐アルカリ性とは、常温だけでなく、加熱条件下における耐アルカリ性をも包括する。
【００３６】
顔料または顔料を含有する膜の耐アルカリ性を示す指標としては、当業者間の技術的常識によれば、大気圧下１０〜３０℃条件下における１〜１０重量％水酸化ナトリウム水溶液や１〜１０重量％炭酸ナトリウム水溶液などの無機系アルカリ水溶液を用いることが一般的であるが、本明細書においては画素分割層および／または平坦化層の形成に好適な高濃度の有機系アルカリ現像液である、２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に対する耐性を、その評価基準としており、顔料の耐アルカリ性が高いほど、顔料の溶解物、分解物の発生を低減できることを指す。概して、有機顔料は、アルカリ水溶液のｐＨに関わらず、無機系アルカリ水溶液と比べて、有機系アルカリ水溶液に対する耐性が低い。
【００３７】
上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料は、ベンズイミダゾロン構造による水素結合で分子間相互作用が高まり、分子同士が強固に会合し、剛直な結晶構造を形成しており、有機ＥＬ表示装置の画素分割層および／または平坦化層が含有する（ａ）遮光材として好適な、高い耐熱性に加えて、高い耐アルカリ性を有することから、発光信頼性を損なうことなく優れた光学特性を得ることができる。上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料の最大の特徴は、有機系アルカリ水溶液に対する耐久性が極めて高く、現像工程で有機系アルカリ水溶液と接触した後であっても顔料種固有の高耐熱性を発現でき、有機ＥＬ発光材料の劣化を促進しづらく、発光信頼性を向上できる点にある。加えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４を除き、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、１５１、１７５、１８０、１８１、１９２、１９４およびそれらを母体とする顔料誘導体の分子構造は、ハロゲン原子や金属錯体構造を有さないにも関わらず、画素分割層および／または平坦化層に必要となる高耐熱性を十分に発現できることもまた発光信頼性を向上させる上で、さらに有利となる。このような、有機系アルカリ水溶液に対する耐性および顔料分子の構成元素という点において、顔料固有の耐久性を高めるためにハロゲン原子として塩素原子を多数有するＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８や、ニッケル錯体構造を有するＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０などの一般的に高耐熱性を有することがよく知られた有機黄色顔料と比べて、用途上顕著な優位性がある。
【００３８】
具体的には、画素分割層および／または平坦化層の形成時、現像工程において、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含む膜にアルカリ現像液が接触し浸透した際、顔料の溶解および／または分解を抑え、顔料由来の溶解物および／または分解物が、画素分割層および／または平坦化層の膜内部に残留することを抑制し、その結果として発光信頼性が向上する。また、後述する現像膜中への現像液の過度な浸透を抑えて現像工程における膜強度を高く維持することができ、現像膜が局所的に剥がれてしまうことによる開口部上の現像残渣の発生を低減することができる点からも、発光信頼性はなお一層向上する。画素分割層における開口部は、本発明の有機ＥＬ表示装置において発光画素部となる部位であり、表示品位に直結するため、画素分割層を形成する際、現像残渣を低減できるほどよい。
【００３９】
加熱および／またはアルカリなど外的負荷による顔料の溶解および／または分解の現象は、その結晶構造および／または分子構造の破壊によるものであり、画素分割層および／または平坦化層の形成過程で面内不均一に膜の変色や褪色を伴うため、所望の光学特性を生産上安定的に得る上でも、（ａ）遮光材が含む顔料の耐アルカリ性は高いほど良い。
【００４０】
黄色顔料を合成する際に、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を導入する方法としては、ベンズイミダゾロン構造を有する顔料中間体を合成原料の一部として用いて合成する方法が挙げられ、例えば、下記構造式（９）で表される、５−アセトアセチルアミノベンズイミダゾロンを顔料中間体として用いて、各種ジアゾニウム塩と反応させるなどして顔料クルードを合成し、次いで水洗、粉砕、分級などの顔料化工程を経ることで、上述のＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４を得ることができる。これらの群のうち、アゾカップリング反応により合成された顔料は、ジアゾニウム塩由来のハロゲン系不純物が極力除去されたものを選択することが望ましい。
【００４１】
【化６】
2018116988.tif 000008
【００４２】
また、下記構造式（１０）で表される、５，６−ジアミノベンズイミダゾロンを顔料中間体として用いて顔料クルードを合成し、次いで顔料化工程を経ることで、構造式（７）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２を得ることができる。Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２は、下記構造式（１１）で表される１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物を由来とする構造と、ベンズイミダゾロン構造からなる剛直な縮合多環構造を有することから、耐熱性および耐アルカリ性が極めて高い。
【００４３】
【化７】
2018116988.tif 000009
【００４４】
黄色顔料の含有量は、上記（ａ−１）の組み合わせ、あるいは（ａ−２）の組み合わせに寄らず、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を十分に得る上で、画素分割層および／または平坦化層を形成するための感光性組成物に含有する全顔料中１０重量％以上が好ましく、１５重量％以上がより好ましい。画素分割層および／または平坦化層を形成する際のパターンエッジ剥離を抑制して低テーパー化し、画素分割層上に成膜される電極の断線を回避して本発明の有機ＥＬ表示装置を駆動させた際、発光画素部において非点灯部位の発生を抑制する上で、黄色顔料の含有量は、感光性組成物中に含有する全顔料中４０重量％以下が好ましく、３５重量％以下がより好ましい。
【００４５】
また、構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料の含有量は、発光信頼性の観点から、感光性組成物が含む全黄色顔料中５０重量％以上が好ましく、８０重量％以上がより好ましく、１００重量％であることがさらに好ましい。
【００４６】
また、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有さない黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１３、１７、２０、２４、７４、８３、８６、９３、９５、１０９、１１０、１１７、１２５、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５５、１６６、１６８、１８５、１９１、１９３、１９９が挙げられ、これらの黄色顔料を単独あるいは複数種を混合して、発光信頼性を損なわない範囲で必要に応じて適量用いても構わない。
【００４７】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層が含有する、構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料とは、下記一般式（１２）で表される顔料誘導体をも包括し、これらの顔料誘導体を（ａ）遮光材の一部として含有してもよく、分散助剤として機能させてもよい。
【００４８】
【化８】
2018116988.tif 000010
（上記一般式（１２）中、Ｂｚは、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する有機顔料のうち、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」に属する顔料の残基を表す。硫黄原子および／または窒素原子を含む置換基Ｙは、Ｂｚに対する結合位置が限定されない、スルホン酸基、スルホン酸基の金属塩、スルホン酸基のアンモニウム塩、スルホンアミド基および／またはフタルイミドアルキル基を表す。置換基数ｎは、整数であり、１または２を表す。）
【００４９】
上記一般式（１２）で表される顔料誘導体は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、１５１、１７５、１８０、１８１、１９２または１９４を母体顔料として、スルホン化、中和、スルホンアミド化またはフタルイミドアルキル化など公知の誘導化処理によって合成することができる。上記一般式（１２）で表される顔料誘導体の好ましい具体例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４を母体としてスルホン化処理することで得られる、下記構造式（１３）で表されるモノスルホン化物、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２を母体としてスルホン化処理することで得られる、下記構造式（１４）で表されるモノスルホン化物が挙げられる。なお、上記一般式（１２）において、「硫黄原子および／または窒素原子を含む置換基Ｙは、Ｂｚに対する結合位置が限定されない」とは、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造中の芳香環を構成する炭素原子および／または複素環を構成する窒素原子に置換基Ｙが直接結合している場合や、結合位置の異なる分子が複数混在したものである場合をも包括する。
【００５０】
【化９】
2018116988.tif 000011
【００５１】
上記一般式（１２）で表される顔料誘導体は、後述するソルベントソルトミリングなどの湿式粉砕処理を行なう際に添加して混練し、誘導化処理されていない有機顔料の表面に予め担持させて用いてもよく、あるいは後述する湿式メディア分散処理を行なう際に添加して分散助剤として用いてもよい。なお、誘導化処理により母体顔料固有の遮光性を喪失することはなく、上記一般式（１２）で表される顔料誘導体自身も、画素分割層および／または平坦化層の遮光性向上に寄与する成分として機能させることができる。
【００５２】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層を形成するための感光性組成物中に、（ａ）遮光材として、黄色顔料以外の顔料をさらに含有させておくことで、画素分割層および／または平坦化層の膜中に、黄色顔料以外の顔料を充填し、遮光性を向上させることができる。
【００５３】
（ａ）遮光材が、（ａ−１）黄色顔料と青色顔料と赤色顔料を含む場合、青色顔料としては有機青色顔料、無機青色顔料が挙げられるが、誘電率が低い点から有機青色顔料が好ましく、具体例として、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、６０、６４、６５、７５、７９、８０が挙げられ、これらを単独あるいは複数種を混合して用いても構わない。中でも耐熱性および耐アルカリ性が高い点から、青色顔料が下記構造式（１５）で表される、β型銅フタロシアニンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、１５：４およびε型銅フタロシアニンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、下記構造式（１６）で表されるインダントロンブルー（インダンスレンブルー）であるＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０からなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。また、露光光領域の光の透過率が高く、後述する露光工程における感度を向上できる点で、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０が、青色顔料中５０重量％以上含まれることがさらに好ましい。
【化１０】
2018116988.tif 000012
【００５４】
青色顔料の含有量は、（ａ）遮光材が上記（ａ−１）の組み合わせである場合、波長５５０〜７８０ｎｍの領域の光を十分に遮光するため、感光性組成物に含有する全顔料中１５重量％以上が好ましく、３０重量％以上がより好ましい。後述の露光工程における感度の観点から、７０重量％以下が好ましく、６０重量％以下がより好ましい。
また、（ａ）遮光材が含む青色顔料は、青色顔料を母体とする顔料誘導体を含んでいても構わない。
【００５５】
赤色顔料としては有機赤色顔料、無機赤色顔料が挙げられるが、誘電率が低い点から有機赤色顔料が好ましく、具体例として、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、４８、９７、１２２、１２３、１４４、１４８、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９０、１９２、１９６、２０２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２５４が挙げられ、これらを単独あるいは複数種を混合して用いても構わない。中でも、耐熱性および耐アルカリ性が高く、発光信頼性が低下する要因となるハロゲン原子を構造中に有さない点から、赤色顔料が下記構造式（１７）で表されるペリレン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、下記構造式（１８）で表されるペリレン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、下記構造式（１９）で表されるアントラキノン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、下記構造式（２０）で表されるペリレン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、下記構造式（２１）で表されるペリレン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０からなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。また、着色力が高く、含有量あたりの遮光性を高くすることができる点で、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９および／または１９０が、赤色顔料中５０重量％以上含まれることがさらに好ましい。
【００５６】
【化１１】
2018116988.tif 000013
【００５７】
【化１２】
2018116988.tif 000014
【００５８】
【化１３】
2018116988.tif 000015
【００５９】
赤色顔料の含有量は、（ａ）遮光材が上記（ａ−１）の組み合わせである場合、波長４５０〜６００ｎｍの領域の光を十分に遮光するため、感光性組成物に含有する全顔料中１０重量％以上が好ましく、２０重量％以上がより好ましい。後述の光学濃度の観点から、６０重量％以下が好ましく、５０重量％以下がより好ましい。また、（ａ）遮光材が含む赤色顔料は、赤色顔料を母体とする顔料誘導体を含んでいても構わない。
【００６０】
（ａ）遮光材が、（ａ−２）黄色顔料と紫色顔料とを含む場合、紫色顔料としては有機紫色顔料、無機紫色顔料が挙げられるが、誘電率が低い点から有機紫色顔料が好ましく、具体例として、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３２、３７、４０、５０が挙げられ、これらを単独あるいは複数種を混合して用いても構わない。中でも耐熱性および耐アルカリ性が高く、発光信頼性が低下する要因となるハロゲン原子を構造中に有さない点から、紫色顔料が、下記構造式（２２）で表されるキナクリドン系紫色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、下記構造式（２３）で表されるペリレン系紫色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、下記構造式（２４）で表されるジオキサジン系紫色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７からなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。また、分散性が高い点で、少なくともＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９および／または２９が、紫色顔料中５０重量％以上含まれることがさらに好ましい。ここでいう、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９は、青味の強い紫色の色相を呈するβ型結晶、またはβ型結晶を５０重量％以上含む混晶であることが好ましい。
【化１４】
2018116988.tif 000016
【００６１】
紫色顔料の含有量は、波長４５０〜６５０ｎｍの領域の光を十分に遮光するため、感光性組成物に含有する全顔料中３０重量％以上が好ましく、４０重量％以上がより好ましい。波長４５０〜６５０ｎｍ以外の可視光領域を遮光する遮光材成分とのバランスを調整し、優れた光学特性を得る上で、９０重量％以下が好ましく、８０重量％以下がより好ましい。また、（ａ）遮光材が含む紫色顔料は、紫色顔料を母体とする顔料誘導体を含んでいても構わない。
【００６２】
上記（ａ−２）の組み合わせにおいては、さらに青色顔料を併用して波長６５０〜７８０ｎｍの領域の光の遮光性を高めてもよく、その際用いる青色顔料としては上記Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、１５：４、１５：６、６０の群から選ばれる少なくとも１種の有機青色顔料が好ましい。
【００６３】
さらに（ａ）遮光材として、上記の黄色顔料、青色顔料、赤色顔料および紫色顔料以外の顔料および／または種々の色相を有する染料を併用することで、画素分割層の光学特性を微調整しても構わない。重量あたりの着色力が高く、遮光性が高い点から顔料が好ましく、誘電率が低く、絶縁性が高い点から有機顔料がより好ましい。ただし、（ａ）遮光材が、（ａ−１）の組み合わせ、または（ａ−２）の組み合わせ、いずれの場合であっても、感光性組成物の貯蔵安定性と、光学特性を安定化させる上で、含有する顔料の合計色数を６色以下とすることが好ましく、５色以下とすることがより好ましく、４色以下とすることがさらに好ましい。
【００６４】
有機黒色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７、３１、３２、有機橙色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、４３、７１、７３、有機緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８、５９、有機茶色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、２６、２８、無機黒色顔料としては、窒化チタン、酸窒化チタンなどのチタンブラックが挙げられる。Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７であるカーボンブラックとしては、その製法から分類されるランプブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラックなどが挙げられる。
【００６５】
黒色染料としては、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック５、７、Ｃ．Ｉ．アシッドブラック２、黄色染料としては、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１１４、ダイレクトイエロー３３、３４、３５、３９、５０、５４、６９、７０、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３、青色染料としては、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー１２２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー７７、９０、９３、９４、９５、１００、１０１、１５０、１５３、１８７、１８９、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー１、５、７、８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー５９、１０２、赤色染料としては、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド８２、８３、８４、９８、９９、１０６、１０７、１７２、１７６、１８１、紫色染料としては、Ｃ．Ｉ．ダイレクトバイオレット４７、５２、５４、６０、Ｃ．Ｉ．ベーシックバイオレット１、２、３、４、７、１０、１３、１４、１５、１６、２０、緑色染料としては、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２７、３４、６５、Ｃ．Ｉ．ベーシックグリーン１、４が挙げられる。
【００６６】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層が含有する（ａ）遮光材の含有量は、可視光領域において十分な遮光性を得る上で全固形分中５重量％以上が好ましく、１０重量％以上がより好ましい。また、画素分割層および／または平坦化層を形成するための感光性組成物の貯蔵安定性を確保し、露光に対する十分な感度と現像性を得る上で、７０重量％以下が好ましく、５０重量％以下がより好ましい。
【００６７】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層中、あるいはそれらを形成するために用いる感光性組成物中に（ａ）遮光材として含む顔料、顔料誘導体および染料は、ＮＭＲ、ＩＣＰ質量分析、赤外吸収スペクトル、飛行時間質量分析計（ＴＯＦ−ＭＳ）、ＣｕＫα線による粉末Ｘ線回折を組み合わせることで、化学構造および結晶形を同定でき、カラーインデックスナンバーを特定することができる。顔料成分に関しては直接の分析が困難となる場合、組成物を遠心分離、濾過および洗浄を繰り返して顔料濃縮物となるよう前処理を行えば、より分析精度を高めることができる。
【００６８】
（ａ）遮光材として含有する黄色顔料、青色顔料、赤色顔料、紫色顔料それぞれの平均一次粒子径は、画素分割層および／または平坦化層の遮光性を向上する観点から、３０ｎｍ以上が好ましく、パターン直線性を向上させる観点から、１５０ｎｍ以下が好ましい。ここでいう平均一次粒子径とは、画像解析式粒度分布測定装置を用いた粒度測定法により算出した、一次粒子径の数平均値をいう。画像の撮影には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができ、倍率５００００倍の条件で、顔料の一次粒子が１００個以上撮影された画像から、平均一次粒子径を算出することができる。（ａ）遮光材が球状でない場合は、その長径と短径の平均値を一次粒子径とする。画像解析には、マウンテック社製画像解析式粒度分布ソフトウェアＭａｃ−Ｖｉｅｗを用いることができる。画素分割層および／または平坦化層に含有する顔料の一次粒子径は、画素分割層および／または平坦化層を基材ごと切り出して熱硬化性樹脂中に埋め込み、その割断面を研磨して観測すればよい。
【００６９】
平均一次粒子径を小径化させる、あるいは粗大分を摩砕して粒度分布をシャープなものとする必要がある場合、ソルベントソルトミリングなどの湿式混練処理により前処理を行い、平均一次粒子径を所望の範囲に調整した顔料を分散して感光性組成物に含有させ、それを用いて画素分割層および／または平坦化層を形成しても構わない。ソルベントソルトミリングとは、顔料と、摩砕材として機能する水溶性無機塩と、水溶性溶剤の混合物とを加温し、高粘度ペースト状態で混練する方法をいう。水溶性無機塩としては、塩化ナトリウムまたは塩化カリウムが挙げられ、水溶性溶剤としては、アルコール系溶剤またはグリコール系溶剤が挙げられるが、塩化ナトリウムとジエチレングリコールの使用が一般的である。混練処理には、例えば、ニーダー（（株）井上製作所製）を用いることができ、結晶成長速度と微細化速度とのバランスを調整して所望の粒度となるように顔料濃度、混練速度、温度および時間などの混練条件を適宜設定すればよい。
【００７０】
混練後に乾燥させ、さらに必要に応じて乾式粉砕処理を行なうことで、二次凝集粒子径分布の制御を行なっても構わない。粗大分をカットしておき、二次凝集粒子径分布を予め所望の範囲に制御しておくことで、その後の湿式分散処理工程において、目標とする到達分散後粒子径に対する必要分散処理時間を飛躍的に短縮することができる場合がある。乾式粉砕処理には、例えば、“ナノジェットマイザー”（登録商標）（（株）アイシンナノテクノロジーズ製）、“スパイラルジェットミル”（登録商標）（ホソカワミクロン（株）製）を用いることができる。
【００７１】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層を形成するために用いる感光性組成物の（ａ）遮光材以外の成分について、以下に説明する。
【００７２】
感光性組成物は、（ｂ）感光剤を含有することで、後述する露光工程、現像工程を含む、フォトリソグラフィによる高解像度のパターン形成が可能となる。感光性組成物は、露光マスクを介したパターン露光により露光部の膜のアルカリ溶解性を低下させて、アルカリ現像液により未露光部の膜を除去してパターン形成をする、いわゆるネガ型のフォトリソグラフィに用いられるネガ型感光性組成物であってもよく、あるいは、露光マスクを介したパターン露光により露光部の膜のアルカリ溶解性を、未露光部の膜のアルカリ溶解性と比べて相対的に高くすることで、アルカリ現像液により露光部の膜を除去してパターン形成する、いわゆるポジ型のフォトリソグラフィに用いられるポジ型の感光性組成物であってもよいが、僅かな露光量であっても良好にパターニングすることができ、最終的に得られる画素分割層および／または平坦化層の遮光性をより高くすることが可能であることから、ネガ型の感光性組成物であることが好ましい。画素分割層および平坦化層は、有機ＥＬ表示装置の駆動原理上、絶縁膜としての機能がいずれも求められることから、画素分割層を形成するための感光性組成物と、平坦化層を形成するための感光性組成物が同一であってもよく、異なっていてもよい。また、両層を形成するための感光性組成物が有する、ネガ型またはポジ型いずれかの感光性が、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７３】
感光性組成物が、ネガ型感光性組成物である場合には、（ｂ）感光剤が、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物と、光重合開始剤とを含む。２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を、後述する光重合開始剤と併用することで、露光によりラジカル重合反応を起こして光硬化させ、未露光部をアルカリ現像液により除去することでパターニングすることができる。なお、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の硬化物は、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層の構成成分となる。
【００７４】
ラジカル重合性基としては、露光時の感度向上および硬化膜の硬度向上の観点から、（メタ）アクリル基が好ましい。ここでいう（メタ）アクリル基とは、メタクリル基またはアクリル基を指す。２つ以上の（メタ）アクリル基を有する化合物としては、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌル酸、１，３−ビス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌル酸、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロキシフェニル）フルオレンまたはそれらの酸変性体、エチレンオキシド変性体もしくはプロピレンオキシド変性体などが挙げられ、これらを単独あるいは複数種混合して用いてもよい。
【００７５】
２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、後述するアルカリ可溶性樹脂と２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の含有量の合計１００重量部に対して、５重量部以上が好ましく、１５重量部以上がより好ましい。一方、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の含有量は、後述するキュア工程におけるリフロー性の観点から、アルカリ可溶性樹脂と２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の含有量の合計１００重量部に対して、８０重量部以下が好ましく、６０重量部以下が好ましい。
【００７６】
光重合開始剤とは、露光によって結合開裂および／または反応してラジカルを発生する化合物をいう。光重合開始剤を含有させることにより、露光により、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を光硬化させ、未露光部をアルカリ現像液により除去することでパターニングすることができる。
【００７７】
光重合開始剤としては、例えば、“アデカオプトマー”（登録商標）Ｎ−１８１８、Ｎ−１９１９、“アデカクルーズ”（登録商標）ＮＣＩ−８３１（以上、いずれも（株）ＡＤＥＫＡ製）などのカルバゾール系光重合開始剤、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）ＴＰＯ）などのアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）ＯＸＥ０１）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）ＯＸＥ０２）などのオキシムエステル系光重合開始剤、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニルフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）９０７）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）３６９）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（ＢＡＳＦ社製“イルガキュア”（登録商標）３７９ＥＧ）などのα−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤などが挙げられ、これらを単独であるいは複数種混合して用いてもよい。中でも、後述する露光工程において、ｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）からなる混合線に対する感度が高い点で、カルバゾール系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤がより好ましい。
【００７８】
感光性組成物がネガ型である場合における光重合開始剤の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物１００重量部に対して、５重量部以上が好ましく、１０重量部以上がより好ましい。一方、光重合開始剤の含有量は、露光に対する深部硬化性の観点から、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物１００重量部に対して、６０重量部以下が好ましく、４０重量部以下がより好ましい。なお、光重合開始剤は、後述するキュア工程で揮散させて除去し、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層中の残留量を極力少なくすることが望ましい。
【００７９】
感光性組成物が、ポジ型感光性組成物である場合には、（ｂ）感光剤が、光酸発生剤を含む。光酸発生剤を含むことで、露光により、未露光部に対して露光部のアルカリ溶解性を相対的に高めて、露光部をアルカリ現像液により除去することでパターニングすることができる。
【００８０】
光酸発生剤としては、キノンジアジド化合物が好ましい。キノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物を、キノンジアジドスルホニル酸クロリドでエステル化した反応物がより好ましい。
【００８１】
フェノール性水酸基を有する化合物としては、Ｂｉｓ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＥＺ、ＴｅｋＰ−４ＨＢＰＡ、ＴｒｉｓＰ−ＨＡＰ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ、ＴｒｉｓＰ−ＰＨＢＡ、ＢｉｓＯＣＨＰ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＭＺ、ＢｉｓＰ−ＰＺ、ＢｉｓＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＯＣＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＰ−ＣＰ、ＢｉｓＲＳ−２Ｐ、ＢｉｓＲＳ−３Ｐ、ＢｉｓＰ−ＯＣＨＰ、メチレントリス−ｐ−ＣＲ、メチレンテトラ−ｐ−ＣＲ、ＢｉｓＲＳ−２６Ｘ、Ｂｉｓ−ＰＦＰ−ＰＣ（いずれも本州化学工業（株）製）、ＢＩＲ−ＯＣ、ＢＩＰ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＴＢＰ、ＢＩＲ−ＰＣＨＰ、ＢＩＰ−ＢＩＯＣ−Ｆ、４ＰＣ、ＢＩＲ−ＢＩＰＣ−Ｆ、ＴＥＰ−ＢＩＰ−Ａ（いずれも旭有機材工業（株）製）が挙げられる。
【００８２】
キノンジアジドスルホニル酸クロリドとしては、４−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド、５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドが挙げられる。このようなキノンジアジド化合物は、後述する露光工程において、ｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）からなる混合線に対する感度が高いため好ましい。
【００８３】
このようなキノンジアジド化合物の添加量としては、パターン加工性と、最終的に得られる画素分割層の耐熱性の観点から、後述のアルカリ溶解性樹脂１００重量部に対して１〜５０重量部が好ましい。感光性組成物のアルカリ溶解性を向上させる必要がある場合、上記フェノール性水酸基を有する化合物のフェノール性水酸基の一部をエステル化せず意図的に残存させても構わない。
【００８４】
感光性組成物は、ネガ型またはポジ型でのフォトリソグラフィでパターニングして画素分割層および／または平坦化層を形成する上で、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。なお、アルカリ可溶性樹脂の硬化物は、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層の構成成分となる。
【００８５】
ここでいうアルカリ可溶性樹脂とは、その構造中にアルカリ可溶性基として水酸基および／またはカルボキシル基を有し、かつ酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上で、重量平均分子量（Ｍｗ）が５００以上１５０，０００以下の樹脂のことをいう。ここで、重量平均分子量（Ｍｗ）とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値である。
【００８６】
アルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解速度は、高解像度を得る上で５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。一方、現像による過度な薄膜化やパターン剥がれを抑制する上では、１０，０００ｎｍ以下が好ましく、８，０００ｎｍ以下がより好ましい。ここでいうアルカリ溶解速度とは、１分間あたりアルカリ現像液に対して溶解した膜厚のことを指し、具体的には、アルカリ可溶性樹脂をγ−ブチロラクトンに溶解した溶液をシリコンウェハ基板上に塗布して、実温１２０℃に設定したホットプレート上で４分間プリベークして膜厚１２μｍ±０．５μｍのプリベーク膜を得て、次いでプリベーク膜を液温２３±１℃の２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で１分間現像し、水で３０秒間リンスすることで現像膜を得て、プリベーク膜の膜厚から現像膜の膜厚を差し引いた値をいう。
【００８７】
アルカリ可溶性樹脂としては、カルド樹脂、アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミド樹脂、シロキサン樹脂が挙げられるが、高温下におけるアウトガス量（ガス発生量）が少ない樹脂を含有することが、発光信頼性を向上する上で好ましい。
【００８８】
感光性組成物がネガ型である場合、パターン加工性と発光信頼性の観点から、カルド樹脂および／またはポリイミド樹脂を含有することが好ましく、さらに発光信頼性と感光性組成物の分散安定性の観点から、少なくともポリイミド樹脂を含有することがより好ましい。
【００８９】
一方、感光性組成物がポジ型である場合は、パターン加工性と発光信頼性の観点から、ポリイミド樹脂、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾオキサゾール前駆体、シロキサン樹脂から選ばれる少なくとも１種のアルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましく、パターン加工性の観点から、ポリイミド樹脂および／またはポリイミド前駆体を含有することがより好ましい。
【００９０】
カルド樹脂とは、カルド骨格を有する樹脂のことをいい、カルド骨格とは、環状構造を構成する環炭素原子である４級炭素原子に、２つの芳香族基が単結合で繋がった骨格をいう。ここでいう環状構造としては、例えば、フルオレン骨格、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格またはＮ−フェニルフェノールフタレイン骨格が挙げられ、芳香族基としては、例えば、フェニル基が挙げられ、カルド骨格としては、フルオレン骨格、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格、またはＮ−フェニルフェノールフタレイン骨格が有する４級炭素原子に、２つのフェニル基が、それぞれ炭素−炭素の単結合で繋がった骨格が挙げられる。このようなカルド樹脂は、フルオレン骨格、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格および／またはＮ−フェニルフェノールフタレイン骨格と、水酸基またはエポキシ基のいずれかを有する２つの芳香族基とを分子内に有する化合物を由来として合成することができる。感光性組成物がネガ型感光性組成物である場合、ラジカル重合性基を有するカルド樹脂を用いることが好ましい。
【００９１】
カルド樹脂の好ましい具体例としては、フルオレン骨格を有し、下記一般式（２５）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するカルド樹脂、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格を有し、下記一般式（２６）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するカルド樹脂、Ｎ−フェニルフェノールフタレイン骨格を有し、下記一般式（２７）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するカルド樹脂が挙げられる。
【００９２】
【化１５】
2018116988.tif 000017
（上記一般式（２５）、（２６）および（２７）中、Ｑ１〜Ｑ８は、ベンゼン環に直接結合する原子または置換基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基であり、ａ〜ｈは、炭素数１〜６のアルキル基および／または炭素数１〜６のアルコキシ基の置換基数を示し、１または２である。）
【００９３】
カルド樹脂の酸価は、画素分割層および／または平坦化層を形成する際の現像性を高める上で、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、パターンエッジの剥がれを抑制する上で、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
【００９４】
カルド樹脂の重量平均分子量は、パターンエッジの剥がれを抑制する観点から、２，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましい。一方、カルド樹脂の重合時のゲル化抑制と、現像工程における現像残渣を抑制する観点から、４０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。ここで、重量平均分子量（Ｍｗ）とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値である。
【００９５】
カルド樹脂としては、市販品を用いることもでき、例えば、“ＡＤＥＫＡ  ＡＲＫＬＳ”（登録商標）ＷＲ−３０１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、“オグゾール”（登録商標）ＣＲ−ＴＲ１、ＣＲ−ＴＲ２、ＣＲ−ＴＲ３、ＣＲ−ＴＲ４、ＣＲ−ＴＲ５、ＣＲ−ＴＲ６（以上、いずれも大阪ガスケミカル（株）製）が挙げられる。
【００９６】
ポリイミド樹脂としては、下記一般式（２８）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂を含有することが好ましい。
【化１６】
2018116988.tif 000018
（上記一般式（２８）中、Ｒ１は４〜１０価の有機基を表す。Ｒ２は２〜８価の有機基を表す。Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基またはチオール基を表す。ｐおよびｑは、それぞれ独立して、０〜６の範囲を表す。）
【００９７】
一般式（２８）中、Ｒ１−（Ｒ３）ｐは、酸二無水物の残基を表す。Ｒ１は、芳香族環または環状脂肪族基を有する、炭素原子数５〜４０の有機基が好ましい。
酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物などの芳香族環を有するテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族基を有するテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクタンテトラカルボン酸二無水物などの環状脂肪族基を有するテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００９８】
一般式（２８）中、Ｒ２−（Ｒ４）ｑはジアミンの残基を表す。Ｒ２は、芳香族環または環状脂肪族基を有する、炭素原子数５〜４０の有機基が好ましい。
ジアミンとしては、例えば、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルプロパン、ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、ジアミノジフェニルチオエーテル、ベンジジン、２，２’−ビストリフルオロベンジジン、２，２’−ビストリフルオロベンジジンなどの芳香族環を有するジアミン、２，５−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタンなどの環状脂肪族基を有するジアミンが挙げられる。
【００９９】
一般式（２８）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂は、主鎖末端に、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基および／またはチオール基を有することが好ましい。ポリイミド樹脂の末端を、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基および／またはチオール基を有する末端封止剤を用いて封止することにより、主鎖末端にこれらの基を導入することができる。末端封止剤としては、例えば、モノアミン、酸無水物、モノカルボン酸、モノ酸クロリド化合物、またはモノ活性エステル化合物が挙げられる。
【０１００】
ポリイミド樹脂の酸価は現像性の観点から、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、画素分割層および／または平坦化層のパターンエッジ剥離を抑制する観点から、酸価は３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
【０１０１】
ポリイミド樹脂の重量平均分子量は、画素分割層の硬度の観点から、５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましい。一方、アルカリ現像液への溶解性の観点から、１００，０００以下が好ましく、７０，０００以下がより好ましい。ここで、重量平均分子量（Ｍｗ）とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値である。
【０１０２】
感光性組成物は、分散剤を含有しても構わない。分散剤とは、顔料表面への化学的結合または吸着作用を有する顔料親和性基と、親溶媒性を有する高分子鎖または基とを併せ持つものをいう。分散剤の作用機構としては、酸−塩基相互作用の他、水素結合、Ｖａｎ−ｄｅｒ−Ｗａａｌｓ力などが複合的に関与し、後述する顔料分散液を作製する際に行う湿式メディア分散処理において、有機顔料表面の分散媒への湿潤性を高め、高分子鎖による有機顔料同士の立体反発効果および／または静電反発効果を高めることにより、顔料の二次凝集体の解凝集を促進し、かつ再凝集を抑制することで、その分散状態を安定化する効果を奏する。
【０１０３】
分散剤としては、塩基性吸着基を有する分散剤、酸性基を有する分散剤、ノニオン系分散剤を好ましく用いることができ、塩基性吸着基を有する分散剤としては、例えば、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１４２、１４５、１６４、１６７、１８２、１８７、２００１、２００８、２００９、２０１０、２０１３、２０２０、２０２５、９０７６、９０７７、ＢＹＫ−ＬＰ  Ｎ６９１９、ＢＹＫ−ＬＰ  Ｎ２１１１６、ＢＹＫ−ＪＥＴ９１５２（以上、いずれもビックケミー社製）、“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標）９０００、１１２００、１３６５０、２００００、２４０００、２４０００ＳＣ、２４０００ＧＲ、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６０００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３９０００、５６０００、７６５００（以上、いずれもルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ−ＰＸ４３１０、４３２０、４７１０（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられ、酸性基を有する分散剤としては、例えば、“Ｔｅｇｏ  ｄｉｓｐｅｒｓ”（登録商標）６５５（エボニック社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１０２、１１８、１７４、２０９６（以上、いずれもビックケミー社製）、が挙げられ、ノニオン系分散剤としては、例えば、“ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ”（登録商標）５４０００（ルーブリゾール社製）、“Ｔｅｇｏ  ｄｉｓｐｅｒｓ”（登録商標）６５０、６５２、７４０Ｗ（以上、いずれもエボニック社製）が挙げられ、（ａ）遮光材が含む各顔料固有の表面特性や平均一次粒子径を考慮して、後述の平均分散粒子径が得られるよう、適宜これらの分散剤を単独であるいは複数種混合して用いてもよい。
【０１０４】
分散剤の含有量は、後述の湿式メディア分散処理における十分な解凝集性と、分散処理後の再凝集を抑制する上で、（ａ）遮光材が含む顔料１００重量部に対して１０重量部以上が好ましく、２０重量部以上がより好ましい。一方、顔料の過分散による再凝集性を抑制する上で、（ａ）遮光材が含む顔料１００重量部に対して１００重量部以下が好ましく、６０重量部以下がより好ましい。
【０１０５】
感光性組成物は、溶剤を含有しても構わない。溶剤を含有することで粘度、塗布性、貯蔵安定性を調整することができ、適切な溶剤を選択することで、最終的に得られる画素分割層および／または平坦化層の膜厚均一性を向上することができる。
【０１０６】
溶剤としては、例えば、エーテル類、アセテート類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルコール類などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。エーテル類としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどが挙げられる。アセテート類としては、例えば、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）、３−メトキシブチルアセテート（以下、「ＭＢＡ」）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３―メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテートなどが挙げられる。エステル類としては、例えば、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどの乳酸アルキルエステル類、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチルなどが挙げられる。ケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノンなどが挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレンなどが挙げられる。アルコール類としては、例えば、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。一般的に、顔料と染料を大別する上で、顔料は溶剤に対して不溶の着色材であるとされることがあるが、顔料種と溶剤種の組み合わせによっては、一定の溶解度で顔料が僅かに溶解する場合がある。本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦化層を形成するための感光性組成物においては、（ａ）遮光材が含む顔料の溶解を抑制して、分散安定性および発光信頼性を高める上で、全溶剤中にアセテート系溶剤の含有量が５０重量％以上であることが好ましく、７０重量％以上であることがより好ましい。
【０１０７】
感光性組成物中における溶剤の含有量は、塗布工程における塗布膜の膜厚均一性の観点から、５０重量％以上が好ましく、７０重量％以上がより好ましい。一方、溶剤の含有量は、顔料沈降を抑制する観点から、９５重量％以下が好ましく、９０重量％以下がより好ましい。
【０１０８】
感光性組成物は、熱架橋剤を含有しても構わない。熱架橋剤を含有することにより、最終的に得られる画素分割層および／または平坦化層の膜強度を向上させることができる。熱架橋剤としては、分子内にアルコキシメチル基及び／又はメチロール基を少なくとも２つ以上有する化合物、エポキシ基を２つ以上有する化合物が挙げられる。
【０１０９】
アルコキシメチル基及び／又はメチロール基を２つ以上有する化合物としては、例えば、ニカラック（登録商標）ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−２７０、ＭＸ−２８０、ＭＸ−２９０（三和ケミカル（株）製）、ＤＭＬ−ＰＣ（本州化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１１０】
エポキシ基を２つ以上有する化合物としては、例えば、“エポライト”（登録商標）４０Ｅ、同１００Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、同７０Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同４０００、同３００２（Ｎ）（以上、いずれも共栄社化学（株）製）、“ｊＥＲ”（登録商標）８２８、同１００２、同１７５０、同１００７、同ＹＸ８１００−ＢＨ３０、同Ｅ１２５６、同Ｅ４２５０、同Ｅ４２７５（以上、いずれも三菱化学（株）製）、“ＴＥＣＨＭＯＲＥ”（登録商標）ＶＧ−３１０１Ｌ（（株）プリンテック製）、“ＴＥＰＩＣ”（登録商標）Ｓ、同Ｇ、同Ｐ、同Ｌ（以上、いずれも日産化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１１１】
感光性組成物は、レベリング剤を含有しても構わない。レベリング剤を含有することにより、塗布性や、塗布膜の表面の平滑性を向上させることができ、最終的に得られる画素分割層および／または平坦化層の膜厚均一性を向上することができる。レベリング剤としては、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面活性剤、ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの陽イオン界面活性剤、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤、ポリジメチルシロキサンなどを主骨格とするシリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤が挙げられ、市販品としては、例えば、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３９２（以上、いずれもビックケミー社製）が挙げられる。
【０１１２】
感光性組成物を調製する方法としては、例えば、（ａ）遮光材として、少なくとも上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含む顔料分散液を予め調製し、さらに（ｂ）感光剤を含む他の成分を添加して撹拌して、必要に応じて濾過を行ない、調製する方法が挙げられる。
【０１１３】
顔料分散液は、顔料、分散剤、溶剤および必要に応じて他の成分を混合して湿式メディア分散処理をして得ることができ、（ａ）遮光材が含む顔料種の特性を考慮して、単一の顔料ごとそれぞれ顔料分散液を調製した後に、それらを混合して得てもよく、あるいは複数種の顔料を混合し同時に分散する、共分散処理により得てもよい。
【０１１４】
湿式メディア分散処理を行なうための分散機としては、横型または縦型ビーズミル、ロールミルなどが挙げられ、例えば、“ＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ”（登録商標）（Ｗｉｌｌｙ  Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）、“スパイクミル”（登録商標）（（株）井上製作所製）、“サンドグラインダー”（登録商標）（デュポン社製）が挙げられる。分散機用のメディアとしては、ジルコニアビーズ、ジルコンビーズ、無アルカリガラスビーズが挙げられ、割れや摩砕によるコンタミネーションにより発光信頼性が低下するのを回避するため、金属および金属イオン不純物源となる成分を含まないビーズを用いることが好ましい。また、ビーズの直径は０．０３〜５ｍｍが好ましく、真球度が高いほど好ましい。分散機の運転条件は、顔料の分散後平均粒度や粘度が所望の範囲となるように、ビーズ硬度、ハンドリング性、生産性などを考慮して適宜設定すればよい。
【０１１５】
顔料分散液中において、（ａ）遮光材が含む顔料の平均分散粒子径は、塗布性と貯蔵安定性の観点から、４０ｎｍ以上であることが好ましい。一方、画素分割層および／または平坦化層のパターン直線性を向上させる観点から、２００ｎｍ以下であることが好ましい。ここでいう、顔料の平均分散粒子径とは、粒子径の数平均値を指し、粒度分布測定装置を用いて測定することができる。粒度分布測定装置としては、動的光散乱法粒度分布測定装置「ＳＺ−１００（ＨＯＲＩＢＡ製）」またはレーザー回折・散乱法粒度分布測定装置「ＭＴ−３０００（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ製）」を用いることができる。
【０１１６】
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦層において好ましい膜特性と形成方法について説明する。本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦層は、ネガ型またはポジ型のいずれかの感光性を有する感光性組成物を硬化させて得られる硬化膜である。
【０１１７】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦層は、外光反射を低減し、表示装置としての価値を高める上で、膜厚１．０μｍあたりの光学濃度が、０．５以上であることが好ましく、０．８以上であることがより好ましく、１．０以上であることがさらに好ましい。ここでいう光学濃度とは、透光性基材上に感光性組成物を用いて膜厚１．０μｍの膜厚となるよう硬化膜を形成して、光学濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製；Ｘ−ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ）を用いて入射光強度と透過光強度を測定し、以下の式から算出される値のことをいい、光学濃度が高いほど遮光性が高いことを示す。
光学濃度  ＝  ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）
Ｉ０：入射光強度
Ｉ：透過光強度
【０１１８】
また、波長５５０ｎｍにおける光透過率と、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における最大光透過率との差が、３０％未満であることが好ましく、２５％未満であることがより好ましく、２０％未満であることがさらに好ましい。ここでいう光透過率は、透光性基材上に膜厚１．０μｍの膜厚となるよう硬化膜を形成して、紫外可視分光光度計である「ＵＶ−２６０（島津製作所（株）製）」で測定することができる。透光性基材としては、透光性ガラス基材である「テンパックス（ＡＧＣテクノグラス（株）製）」を好ましく用いることができる。
【０１１９】
波長５５０ｎｍにおける光透過率と、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における最大光透過率との差、および光学濃度の双方を両立することが光学特性上好ましい。
【０１２０】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦層の誘電率は、有機ＥＬ表示装置の発光信頼性および駆動安定性を向上する上で、低いほど好ましい。ここでいう誘電率とは、比誘電率のことをいい、画素分割層、平坦層ともに、周波数１ｋＨｚにおける誘電率が、７．０以下であることが好ましく、５．０以下であることがより好ましく、４．０以下であることがさらに好ましい。ここで、誘電率は、Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製ＬＣＲメーターなどの誘電率測定装置を用いて測定することができる。
【０１２１】
本発明の有機ＥＬ表示装置の画素分割層は、表示エリアを高精細化でき、画像あるいは映像の表示品位を高め、表示装置としての価値を高められる点から、表示エリアにおける画素分割層の開口率が３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。ここでいう、開口率とは、画素分割層の面積に対する、画素分割層の開口部の面積率をいう。開口率が低くなるほど、表示エリアにおける画素分割層の形成面積が大きくなるため、画素分割層の光学特性と、発光信頼性にかかる性能が大きく影響する。すなわち、開口率が低く、高精細な表示エリアを有する有機ＥＬ表示装置であるほど、本発明の効果がより大きく寄与することとなる。
【０１２２】
本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層および／または平坦層は、例えば、塗布工程、プリベーク工程、露光工程、現像工程、キュア工程をこの順に含む方法により形成することができる。生産性向上の観点から、基板一枚あたり有機ＥＬ表示装置数枚分をまとめて配置し形成する、多面取り加工を行ってもよい。
【０１２３】
塗布工程においては、感光性組成物を基材に塗布して塗布膜を得る。例えば、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置の場合、基材としては、ガラス基材またはフレキシブル基材の表面に、パターン状の銀／銅合金などからなる反射層と、同パターン状のＩＴＯ電極が順に積層されたものが挙げられる。フレキシブルフィルム基材としては、高い耐熱性と屈曲性を有する基材が好ましく、中でも、仮支持体であるガラス基材の表面にポリイミド系フィルムが固定された基材がより好ましい。
【０１２４】
塗布工程においては、感光性組成物を塗布して塗布膜を得る。塗布工程に用いる塗布装置としては、例えば、スリットコーター、スピンコーター、グラビアコーター、ディップコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、スプレーコーター、スクリーン印刷機、インクジェットが挙げられる。画素分割層および平坦化層は部材構成上、通常０．５〜３μｍ程度の厚さで形成されるため、薄膜塗布に好適で塗布欠陥が発生しにくく、膜厚均一性と生産性に優れることから、スリットコーターまたはスピンコーターが好ましく、省液の観点からスリットコーターがより好ましい。
【０１２５】
プリベーク工程においては、加熱により塗布膜中の溶剤を揮散させることによりプリベーク膜を得る。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ホットプレート、遠赤外線オーブン（ＩＲオーブン）などが挙げられる。ピンギャッププリベークあるいはコンタクトプリベークを行っても構わない。プリベーク温度は、５０〜１５０℃が好ましく、プリベーク時間は、３０秒間〜数時間が好ましい。例えば、８０℃で２分間プリベークした後、１２０℃で２分間プリベークするなど、二段またはそれ以上の多段でプリベークしてもよい。膜厚均一性をより向上させるため、塗布工程の後に真空／減圧乾燥機により塗布膜が含む溶剤の一部を揮散させた後に、加熱によるプリベーク工程を行ってもよい。
【０１２６】
露光工程においては、プリベーク膜の膜面側から、フォトマスクを介して活性化学線を照射して露光膜を得る。露光工程に用いる露光装置としては、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）などが挙げられる。露光時に照射する活性化学線としては、例えば、紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザーなどが挙げられる。中でも、水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）またはｇ線（波長４３６ｎｍ）が好ましく、それらの混合線がより好ましい。露光量は通常１０〜４０００ｍＪ／ｃｍ２程度（ｉ線換算値）である。マスクとしては、例えば、ガラス、石英またはフィルムなどの露光波長における透光性を有する基材の片側の表面に、クロムなどの金属や黒色有機樹脂からなる露光光遮蔽性を有する薄膜がパターン状に成膜されたマスクが挙げられる。画素分割層および／または平坦化層の形成においては、ネガ型あるいはポジ型のいずれかのマスクを用いることができ、マスク開口部のみ活性化学線を透過させてパターン露光することにより、露光膜を得る。
【０１２７】
現像工程においては、感光性組成物がネガ型感光性を有する場合は、現像により未露光部を除去して、パターン状の現像膜を得る。一方、感光性組成物がポジ型感光性を有する場合は、現像により露光部を除去して、パターン状の現像膜を得る。現像方法としては、例えば、現像液である有機系アルカリ水溶液または無機系アルカリ水溶液に、シャワー、ディッピング、パドルなどの方法により、露光膜を１０秒〜１０分間浸漬する方法が挙げられる。
【０１２８】
露光膜において、露光部／未露光部の現像液に対する溶解性の差を利用して、パターン状の現像膜を得ることができる。ここで、露光部とは、マスク開口部を介して露光光が照射された部位をいい、一方で未露光部とは露光光が照射されない部位をいう。
【０１２９】
感光性組成物がネガ型感光性を有する場合は、未露光部がパターン開口部となり、ポジ型感光性を有する場合は、露光部がパターン開口部となる。より具体的には、画素分割層を形成する場合、開口部は最終的に有機ＥＬ表示装置における発光画素部となる。一方、平坦化層を形成する場合、開口部は最終的に有機ＥＬ表示装置におけるコンタクトホールとなる。
【０１３０】
現像工程で用いることができる現像液としては、有機系アルカリ水溶液、無機系アルカリ水溶液が挙げられ、通常、大気圧下１５〜３５℃の範囲内で一定の液温で使用する。有機系アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液（以下、「ＴＭＡＨ」）、ジエタノールアミン水溶液、ジメチルアミノエタノール水溶液、ジエチルアミノエタノール水溶液、トリエチルアミン水溶液、ジエチルアミン水溶液が挙げられる。無機系アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化カリウム水溶液（以下、「ＫＯＨ」）、炭酸水素ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液が挙げられる。中でも、現像工程において現像膜の表層あるいは内部に浸透し残留した現像液を、現像後のキュア工程において容易に揮散させることができる点から、ＴＭＡＨ水溶液が好ましく、中でも、高い現像性が得られ、かつ生産タクトを短縮化できる点から、ＴＭＡＨ水溶液の濃度は１重量％以上がより好ましい。通常、画素分割層および平坦化層の形成に用いられる現像液は、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液である。２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液は市販品を用いてもよく、あるいは高濃度品を希釈して用いてもよく、発光信頼性に悪影響の無い範囲でノニオン系界面活性剤を微量添加して現像に用いてもよい。また、現像後は脱イオン水のシャワーによる洗浄処理および／またはエアー噴射による水切り処理を加えても構わない。
【０１３１】
キュア工程においては、加熱により現像膜を熱硬化させると同時に、水分、残留した現像液などの成分を揮散させて、硬化膜を得る。キュア工程後に得られた硬化膜が、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層または平坦化層に相当する。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ＩＲオーブンなどが挙げられる。発光信頼性を向上させるため、加熱温度は２００〜２８０℃が好ましく、加熱時間は１５〜９０分間が好ましい。加熱雰囲気は空気または窒素雰囲気が好ましく、加熱時の圧力は大気圧が好ましい。
【実施例】
【０１３２】
以下に本発明を、その実施例および比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。なお、実施例および比較例に記載の各種顔料は、表面処理剤などの他成分を意図的に含有させていない未処理タイプの顔料のみを用いた。
まず、各実施例および比較例における評価方法について説明する。【０１３３】
＜必要最低露光量の算出方法＞
１００ｍｍ×１００ｍｍの無アルカリガラス基板の表面に、スパッタ法により、厚さ１０ｎｍの銀／銅合金の薄膜（体積比１０：１）を全面成膜し、エッチングしてパターン状の金属反射層を形成し、次いでスパッタ法により、膜厚１０ｎｍのＩＴＯ透明導電膜を全面成膜し、必要最低露光量評価用基板を得た。【０１３４】
得られた必要最低露光量評価用基板の表面に、感光性組成物を、最終的に得られる硬化膜の厚さが１．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置（マスクアライナーＰＥＭ−６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用いて、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ  ＭＯＤＥＬ  ４０００−５−ＦＳ；Ｏｐｔｏ−Ｌｉｎｅ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）及びｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線でパターニング露光した後、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、現像膜を得た。次いで、ＦＰＤ検査顕微鏡（ＭＸ−６１Ｌ；オリンパス（株）製）を用いて、作製した現像膜の解像パターンを観察し、ライン・アンド・スペースパターンにおいて、パターン線幅とピッチ幅が１対１に形成する露光量（ｍＪ／ｃｍ２：ｉ線照度計の値）を、感光性組成物の必要最低露光量（感度）とした。【０１３５】
（１）光学特性の評価
（ｉ）光学濃度
実施例１〜３１および比較例１〜３４により得られたテンパックスの表面に硬化膜を具備する光学特性評価用基板について、光学濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製Ｘ−Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ）を用いて膜面側から面内３箇所において光学濃度（ＯＤ値）を測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求め、硬化膜の厚さ（μｍ）で除することにより、硬化膜の厚さ１．０μｍあたりのＯＤ値（ＯＤ／μｍ）を算出した。硬化膜を形成していないテンパックスの基板固有のＯＤ値を別途測定した結果、０．００であったため、光学特性評価用基板のＯＤ値を、硬化膜のＯＤ値とみなした。なお、硬化膜の厚さは、触針式膜厚測定装置（東京精密（株）；サーフコム）を用いて、面内３箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。【０１３６】
（ｉｉ）波長３８０〜４５０ｎｍの領域における最大光透過率と、波長５５０ｎｍにおける光透過率との差
実施例１〜３１および比較例１〜３４により得られたテンパックスの表面に硬化膜を具備する光学特性評価基板について、紫外可視分光光度計である「ＵＶ−２６０（島津製作所（株）製）」を用いて、可視光領域である３８０〜７８０ｎｍの各波長における光透過率を１ｎｍごと測定し、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における最大光透過率（％）の値から、波長５５０ｎｍにおける光透過率（％）の値を差し引いて、光透過率の差を算出した。波長３８０〜４５０ｎｍの領域における最大光透過率と、波長５５０ｎｍにおける光透過率との差が小さい硬化膜ほど優れた光学特性であるとし、以下の判定基準に基づいて評価して、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。なお、全ての実施例および比較例において、光透過率の差が、負の値となる光学特性評価基板は無かった。
Ａ  ：  ２０％未満
Ｂ  ：  ２０％以上２５％未満
Ｃ  ：  ２５％以上３０％未満
Ｄ  ：  ３０％以上３５％未満
Ｅ  ：  ３５％以上【０１３７】
（２）誘電率の評価
実施例１〜３１および比較例１〜３４により得られた、アルミニウム基材、硬化膜、アルミニウム薄膜を順に具備する誘電率評価用基板について、誘電率測定装置である「ＬＣＲメーター４２９４Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）」を用いて周波数１ｋＨｚにおける誘電率を面内４箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、少数点第一位までの数値を求めた。なお、硬化膜の厚さは、触針式膜厚測定装置（東京精密（株）；サーフコム）を用いて、面内４箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。【０１３８】
（３）発光信頼性の評価
実施例１〜３１および比較例１〜３４により得られた有機ＥＬ表示装置を、発光面を上にして８０℃に加熱したホットプレート上に、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させたまま静置し、発光画素の面積に対する発光部の面積率（画素発光面積率）を、１時間後、５００時間後、１０００時間後に測定して、１時間後の画素発光面積率を基準として、高い画素発光面積率を維持できるほど発光信頼性が優れているとし、以下の判定基準に基づいて評価して、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｆを不合格とした。
Ａ  ：  ９０％以上
Ｂ  ：  ８５％以上９０％未満
Ｃ  ：  ８０％以上８５％未満
Ｄ  ：  ６０％以上８０％未満
Ｅ  ：  ６０％未満
Ｆ  ：  駆動直後の時点で非点灯の発光画素部が１箇所以上有り【０１３９】
（合成例：ポリイミド樹脂溶液Ａの合成）
乾燥窒素気流下、１５０．１５ｇの２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（０．４１ｍｏｌ）、６．２０ｇの１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン（０．０２モル）、および、末端封止剤である１３．６５ｇの３−アミノフェノール（０．１３ｍｏｌ）を、溶剤である５００ｇのＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、「ＮＭＰ」）に溶解し、そこに１５５．１０ｇのビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（０．５０モル）および１５０ｇのＮＭＰを加えて２０℃で１時間撹拌し、さらに水を除去しながら１８０℃で４時間撹拌した。反応終了後、反応液を１０Ｌの水に投入し、生成した沈殿物を濾過して集め、水で５回洗浄し、８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥して、上記一般式（２８）で表される構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂である、ポリイミド樹脂粉末を合成し、これを、溶剤であるＰＧＭＥＡに溶解して、固形分３０重量％のポリイミド樹脂溶液Ａを得た。なお、ポリイミド樹脂粉末は、重量平均分子量（Ｍｗ）が２５，０００、固形分酸価が１６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、ＰＧＭＥＡに対して易溶であった。【０１４０】
（合成例：キノンジアジド化合物ａの合成）
乾燥窒素気流下、フェノール性水酸基を有する化合物である２１．２３ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＴｒｉｓＰ−ＰＡ（本州化学工業（株）製）と、３３．５８ｇ（０．１２５ｍｏｌ）の５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドを、４５０．００ｇの１，４−ジオキサンに溶解させ、室温にした。ここに、５０．００ｇの１，４−ジオキサンと混合させた１２．６５ｇ（０．１２５ｍｏｌ）のトリエチルアミンを系内が２５〜３５℃となるよう維持しつつ滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。次いで、トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入し、析出した沈殿を濾過し回収した。この沈殿物を真空乾燥機で乾燥させ、構造式（２９）で表されるキノンジアジド化合物ａを得た。
【化１７】
2018116988.tif 000019
【０１４１】
（調製例１）
分散剤である３７．５０ｇのＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  ２００００（分子末端に塩基性吸着基として３級アミノ基を有するポリエーテル系高分子分散剤）を、溶剤である８５０．００ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料である１１２．５０ｇのＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２を投入して３０分間撹拌して、０．４ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルで３０分間循環方式で湿式メディア分散処理を行った。さらに０．０５ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルで１時間循環方式で湿式メディア分散処理を行い、固形分１５重量％の顔料分散液１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。【０１４２】
【表１】
2018116988.tif 000020
【０１４３】
（調製例２〜１８）
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、１８１、１９４、１５１、１７５、１８０をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で顔料分散液２〜７を調製した。
また、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有さない黄色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７、１５５、５５、７４、８３、１３８、１３９、１５０をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液８〜１５を調製した。
さらに、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、６２、６４をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液１６〜１８を調製した。
各原料の配合量（ｇ）を表１に示す。【０１４４】
（調製例１９〜３２）
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、６０、１６をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液１９〜２１をそれぞれ調製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、１４９、１７９、１９０、２５４をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液２２〜２６を調製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２９、３７、２３をそれぞれ用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液２７〜３０を調製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７を用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液３１を調製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７を用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液３２を調製した。なお、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７には、ファーネス法で製造された酸性カーボンブラックを用いた。
各原料の配合量（ｇ）を表２に示す。【０１４５】
【表２】
2018116988.tif 000021
【０１４６】
（調製例３３）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  ２００００に替えて、分散剤としてＴｅｇｏ  ｄｉｓｐｅｒｓ６５５（分子末端に酸性吸着基としてリン酸基を有するエチレンオキサイド／スチレンオキサイド系高分子分散剤）を用いて、調製例１と同様の手順で、顔料分散液３３を調製した。
各原料の配合量（ｇ）を表２に示す。【０１４７】
（調製例３４〜３７）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  ２００００に替えて、分散剤としてＴｅｇｏ  ｄｉｓｐｅｒｓ６５５を用いて、また、ピグメントイエロー１９２に替えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９を用いて、調製例１と同様の手順で顔料分散液３４〜３７をそれぞれ調製した。
各原料の配合量（ｇ）を表２に示す。【０１４８】
（調製例３８）
６．６０ｇの顔料分散液１と、８．８０ｇの顔料分散液２０と、６．６０ｇの顔料分散液２４を混合して撹拌後、５．６３ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物である１．６９ｇのジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加アクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０；日本化薬（株）製）と、光重合開始剤として０．４５ｇの“アデカクルーズ”（登録商標）ＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）と、熱架橋剤として分子内に３つのエポキシ基を有する化合物である０．３８ｇのＶＧ−３１０１Ｌと、溶剤である１１．３６ｇのＰＧＭＥＡおよび８．５０ｇのＭＢＡを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、固形分１５重量％のネガ型感光性組成物１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表３に示す。【０１４９】
【表３】
2018116988.tif 000022
【０１５０】
（調製例３９〜５４）
表３〜４に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、固形分１５重量％のネガ型感光性組成物２〜１７をそれぞれ調製した。【０１５１】
【表４】
2018116988.tif 000023
【０１５２】
（調製例５５）
６．６０ｇの顔料分散液１と、８．８０ｇの顔料分散液２０と、６．６０ｇの顔料分散液２４を混合して撹拌後、アルカリ可溶性樹脂である、５．１１ｇの“ＡＤＥＫＡ  ＡＲＫＬＳ”（登録商標）ＷＲ−３０１（（株）ＡＤＥＫＡ製；エポキシ基を有する芳香族化合物及び不飽和カルボン酸を開環付加反応させて得られる樹脂に、カルボン酸無水物を反応させて得られるカルド樹脂を４４重量％、ＰＧＭＥＡを５６重量％の割合で含む樹脂溶液）と、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物である１．１３ｇのＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０と、光重合開始剤として０．４５ｇのＮＣＩ−８３１と、熱架橋剤として分子内に３つのエポキシ基を有する化合物である０．３８ｇのＶＧ−３１０１Ｌと、溶剤である１２．４４ｇのＰＧＭＥＡおよび８．５０ｇのＭＢＡとを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、固形分１５重量％のネガ型感光性組成物１８を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表４に示す。なお、ＷＲ−３０１の固形分酸価は９９（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、重量平均分子量は５７００であった。【０１５３】
（調製例５６〜８８、９０〜９５）
表４〜９に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、固形分１５重量％のネガ型感光性組成物１９〜５７をそれぞれ調製した。【０１５４】
【表５】
2018116988.tif 000024
【０１５５】
【表６】
2018116988.tif 000025
【０１５６】
【表７】
2018116988.tif 000026
【０１５７】
【表８】
2018116988.tif 000027
【０１５８】
【表９】
2018116988.tif 000028
【０１５９】
（調製例９６）
３．２４ｇの顔料分散液３３と、４．３１ｇの顔料分散液３５と、３．２４ｇの顔料分散液３６を混合して撹拌後、１６．３４ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、感光剤として０．９８ｇのキノンジアジド化合物ａと、溶剤である１３．４０ｇのＰＧＭＥＡおよび８．５０ｇのＭＢＡとを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、固形分１５重量％のポジ型感光性組成物１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表１０に示す。【０１６０】
【表１０】
2018116988.tif 000029
【０１６１】
（調製例９７〜９９）
表１０に示す各原料の種類および配合量（ｇ）で、固形分１５重量％のポジ型感光性組成物２〜４をそれぞれ調製した。【０１６２】
（実施例１）
テンパックス（５０ｍｍ×５０ｍｍの透光性ガラス基材）の表面に、ネガ型感光性組成物１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが１．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー  ＰＥＭ−６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用いて超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、前述の方法で得られた必要最低露光量でプリベーク膜全面に露光光を照射して、露光膜を得た。次いで、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、脱イオン水で３０秒間リンスして現像膜を得て、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ−９ＣＤ−Ｓ；光洋サーモシステム（株）製）を用いて、窒素雰囲気下、現像膜を２５０℃で６０分間加熱して、テンパックス上に膜厚１．０μｍの硬化膜を得た。以上の手順で作製した光学特性評価用基板を用いて、前述の方法で、硬化膜の光学特性を評価した結果を表１１に示す。【０１６３】
次いで、厚さ０．５ｍｍのアルミニウム基材（７０ｍｍ×７０ｍｍ）の表面に、ネガ型感光性組成物１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが２．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレートを用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置を用いて超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、前述の方法で得られた必要最低露光量でプリベーク膜全面に露光光を照射して、露光膜を得た。高温イナートガスオーブンを用いて、窒素雰囲気下、露光膜を２５０℃で６０分間加熱して、アルミニウム基材上に厚さ２．０μｍの硬化膜を得た。さらに、硬化膜の表面に、アルミニウム薄膜を７０ｎｍの膜厚となるようパターン蒸着し、誘電率評価用基板を得た。硬化膜の誘電率を評価した結果を表１１に示す。なお、ホットプレート、両面アライメント片面露光装置、高温イナートガスオーブンは、上記の光学特性評価用基板作製時と同一のものを用いた。【０１６４】
【表１１】
2018116988.tif 000030
【０１６５】
次いで、以下の方法で、ネガ型感光性組成物１を硬化して得られる硬化膜を、画素分割層として備える、発光信頼性評価用の有機ＥＬ表示装置を作製した。
図３に、画素分割層を具備する有機ＥＬ表示装置の作製工程を示す。
３８ｍｍ×４６ｍｍの無アルカリガラス基板（１１）の表面に、スパッタ法により、厚さ１０ｎｍの銀／銅合金の薄膜（体積比１０：１）を全面成膜し、エッチングしてパターン状の金属反射層（１２）を形成した。次いで、スパッタ法により、厚さ１０ｎｍのＩＴＯ透明導電膜を全面成膜し、エッチングして同パターン状の第二電極（１３）と、引き出し電極として補助電極（１４）を形成した後、“セミコクリーン”（登録商標）５６（フルウチ化学（株）製）で１０分間超音波洗浄し、超純水で洗浄して、電極形成基板を得た。【０１６６】
電極形成基板の表面に、スピンコーター（ＭＳ−Ａ１００；ミカサ（株）製）を用いて、最終的に得られる画素分割層の厚さが１．０μｍとなるように回転数を調節してネガ型感光性組成物１を塗布し、塗布膜を得た。ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。
両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー  ＰＥＭ−６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用いて、ネガ型露光マスクを介して、超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、必要最低露光量でプリベーク膜に露光光をパターン照射して、露光膜を得た。次いで、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、脱イオン水で３０秒間リンスして、現像膜を得た。【０１６７】
さらに、高温イナートガスオーブンを用いて、窒素雰囲気下、現像膜を２５０℃で６０分間加熱して硬化膜とし、電極形成基板中央部の縦１６ｍｍ／横１６ｍｍのエリア内に、開口部（横７０μｍ／縦２６０μｍ）が配列した、厚さ１．０μｍの画素分割層（１５）を形成した、開口率２５％の画素分割層形成基板１を得た。なお、この開口部が、後述のプロセスを経た後、最終的に有機ＥＬ表示装置の発光画素部となる部分である。【０１６８】
次に、画素分割層形成基板１を用いて、有機ＥＬ表示装置の作製を行った。真空蒸着法により発光層を含む発光画素（１６）を形成するため、真空度１×１０−３Ｐａ以下の蒸着条件下で、蒸着源に対して画素分割層形成基板１を回転させ、まず、正孔注入層として、化合物（ＨＴ−１）を膜厚１０ｎｍ、正孔輸送層として、化合物（ＨＴ−２）を膜厚５０ｎｍとなるように成膜した。次に、発光層上に、ホスト材料として、化合物（ＧＨ−１）とドーパント材料として、化合物（ＧＤ−１）を膜厚４０ｎｍとなるように蒸着した。その後、電子輸送材料として、化合物（ＥＴ−１）と化合物（ＬｉＱ）を、体積比１：１で４０ｎｍの厚さで積層した。【０１６９】
次に、化合物（ＬｉＱ）を膜厚２ｎｍとなるように蒸着した後、銀／マグネシウム合金（体積比１０：１）を膜厚１０ｎｍとなるように蒸着して第一電極（１７）とした。その後、低湿／窒素雰囲気下、エポキシ樹脂系接着剤を用いて、キャップ状ガラス板を接着することにより封止し、有機ＥＬ表示装置１を得た。なお、ここでいう厚さは、水晶発振式膜厚モニターの表示値である。
発光画素の形成に用いた化合物群（ＨＴ−１、ＨＴ−２、ＧＤ−１、ＧＨ−１、ＬｉＱ、ＥＴ−１）の化学構造を、それぞれ以下に示す。【０１７０】
【化１８】
2018116988.tif 000031
【化１９】
2018116988.tif 000032
【化２０】
2018116988.tif 000033
【０１７１】
次いで、別途、ネガ型露光マスクの開口率のみを替えて、同様の方法により、開口率１８％の画素分割層を備えた有機ＥＬ表示装置２を作製した。
有機ＥＬ表示装置１および２について、前述の方法により発光信頼性を評価した結果を表１２に示す。【０１７２】
【表１２】
2018116988.tif 000034
【０１７３】
次いで、以下の方法で、ネガ型感光性組成物１を硬化して得られる硬化膜を、画素分割層および平坦化層として備える、発光信頼性評価用の有機ＥＬ表示装置を作製した。
図４に、画素分割層および平坦化層を具備する有機ＥＬ表示装置の作製工程を示す。【０１７４】
３８ｍｍ×４６ｍｍの無アルカリガラス基板（１８）の表面に、スピンコーターを用いて、最終的に得られる平坦化層の厚さが１．５μｍとなるように回転数を調節してネガ型感光性組成物１を塗布し、塗布膜を得た。ホットプレートを用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置を用いて、ネガ型露光マスクを介して、超高圧水銀灯のｊ線（３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、必要最低露光量でプリベーク膜に露光光をパターン照射して、露光膜を得た。次いで、フォトリソグラフィ用小型現像装置を用いて、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、脱イオン水で３０秒間リンスして、現像膜を得た。さらに、高温イナートガスオーブンを用いて、窒素雰囲気下、現像膜を２５０℃で６０分間加熱して硬化膜とし、無アルカリガラス基板の中央に、面内に開口部を有さないベタ膜状の平坦化層（１９）を得た。【０１７５】
次いで、平坦化層（１９）の表面に、厚さ１０ｎｍの銀／銅合金の薄膜（体積比１０：１）と、厚さ１０ｎｍのＩＴＯ透明導電膜とを、それぞれスパッタ法で順に全面成膜した。銀／銅合金の薄膜とＩＴＯ透明導電膜の２層を一括でエッチングして、金属反射層／第二電極（２０）と、金属反射層／補助電極（２１）をパターン形成した後、“セミコクリーン”５６で１０分間超音波洗浄し、超純水で洗浄して、電極形成基板を得た。なお、金属反射層／第二電極の２層からなる積層パターンを、最終的に得られる有機ＥＬ表示装置の有効発光エリアにおける開口率が７０％となるように形成することで、平坦化層（１９）の表面積のうち、３０％の膜表面が該積層パターンで覆われ、７０％の膜表面が露出した状態とした。以降の工程については、上述の有機ＥＬ表示装置２作製時と同様の方法で、ネガ型感光性組成物１を用いて画素分割層（２２）を形成し、さらに発光画素（２３）、第一電極（２４）を順に形成した後に封止して、膜厚１．０μｍ／開口率１８％の画素分割層と、膜厚１．５μｍ／開口率０％の平坦化層とを具備する有機ＥＬ表示装置３を作製し、前述の方法で発光信頼性の評価を行った。評価結果を表１２に示す。【０１７６】
（実施例２〜２６、比較例１〜３１）
ネガ型感光性組成物１に代えて、ネガ型感光性組成物２〜５７をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様の方法で硬化膜の形成および有機ＥＬ表示装置を作製し、前述の方法で光学特性、誘電率および発光信頼性の評価を行った。用いたネガ型感光性組成物とその評価結果を、まとめて表１１〜２４に示す。なお、実施例２〜２６および比較例１〜３１では、実施例１と同様に、同一の感光性組成物を用いて有機ＥＬ表示装置の画素分割層および平坦化層をそれぞれ形成した。【０１７７】
【表１３】
2018116988.tif 000035
【０１７８】
【表１４】
2018116988.tif 000036
【０１７９】
【表１５】
2018116988.tif 000037
【０１８０】
【表１６】
2018116988.tif 000038
【０１８１】
【表１７】
2018116988.tif 000039
【０１８２】
【表１８】
2018116988.tif 000040
【０１８３】
【表１９】
2018116988.tif 000041
【０１８４】
【表２０】
2018116988.tif 000042
【０１８５】
【表２１】
2018116988.tif 000043
【０１８６】
【表２２】
2018116988.tif 000044
【０１８７】
【表２３】
2018116988.tif 000045
【０１８８】
【表２４】
2018116988.tif 000046
【０１８９】
波長Ｗ（ｎｍ）に対する光透過率Ｔ（％）スペクトルを図２に示す。実施例１２における硬化膜の光透過率スペクトルを実線で、比較例２９における硬化膜の光透過率スペクトルを破線で示す。比較例２９における硬化膜と比べて、実施例１２における硬化膜は、同等の光学濃度を有していながら、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における最大光透過率と、波長５５０ｎｍにおける光透過率との差が小さく、優れた光学特性を有していることがわかる。【０１９０】
（実施例２７〜２８、比較例３２〜３３）
ネガ型感光性組成物１に代えて、ポジ型感光性組成物１〜４をそれぞれ用い、ネガ型露光マスクに対して開口部と遮光部とが反転したポジ型露光マスクを用いた以外は、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製し、前述の方法で光学特性、誘電率および発光信頼性の評価を行った。用いたポジ型感光性組成物とその評価結果を、表２５〜２６に示す。なお、実施例２７〜２８および比較例３２〜３３では、実施例１と同様に、同一の感光性組成物を用いて有機ＥＬ表示装置の画素分割層および平坦化層をそれぞれ形成した。【０１９１】
【表２５】
2018116988.tif 000047
【０１９２】
【表２６】
2018116988.tif 000048
【０１９３】
（調製例１００）
３７．５０ｇのＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  ２００００を、８５０．００ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料である３２．６３ｇのＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２と、１．１３ｇの構造式（１４）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２のモノスルホン化物と、４５．００ｇのＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０と、３３．７５ｇのＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７９を投入して３０分間撹拌して、０．４ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルで３０分間循環方式で一括して湿式メディア分散処理を行い、さらに０．０５ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルで１時間循環方式で湿式メディア分散処理を行い、固形分１５重量％の顔料分散液３８を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２７に示す。【０１９４】
【表２７】
2018116988.tif 000049
【０１９５】
（調製例１０１）
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２をＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４に替えて、構造式（１４）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２のモノスルホン化物を、構造式（１３）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４のモノスルホン化物に替えた以外は調製例１００と同様の手順で、固形分１５重量％の顔料分散液３９を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２７に示す。【０１９６】
（調製例１０２）
３７．５０ｇのＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  ２００００を、８５０．００ｇのＰＧＭＥＡに混合して１０分間撹拌した後、３３．７５ｇの下記構造式（３０）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４と、４５．００ｇのＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０と、３３．７５ｇのＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７９を投入して３０分間撹拌して、０．４ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルで３０分間循環方式で一括して湿式メディア分散処理を行った。さらに０．０５ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルで１時間循環方式で湿式メディア分散処理を行い、固形分１５重量％の顔料分散液４０を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２７に示す。なお、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４は、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有し、ハロゲンとしてフッ素原子を分子内に有する黄色顔料である。
【化２１】
2018116988.tif 000050
【０１９７】
（調製例１０３）
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４に替えて、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有さず、ニッケルを含む有機金属錯体系黄色顔料である、下記構造式（３１）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０を用いた以外は調製例１０２と同様の手順で、固形分１５重量％の顔料分散液４１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２７に示す。
【化２２】
2018116988.tif 000051
【０１９８】
（調製例１０４）
２２．００ｇの顔料分散液３８と、５．６３ｇのポリイミド樹脂溶液Ａと、１．６９ｇのＤＰＣＡ−６０と、０．４５ｇのＮＣＩ−８３１と、０．３８ｇのＶＧ−３１０１Ｌと、１１．３６ｇのＰＧＭＥＡおよび８．５０ｇのＭＢＡを混合し、密栓して３０分間シェーカー上で撹拌し、固形分１５重量％のネガ型感光性組成物５８を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２８に示す。【０１９９】
【表２８】
2018116988.tif 000052
【０２００】
（調製例１０５〜１０７）
顔料分散液３８に替えて、顔料分散液３９〜４１をそれぞれ用いた以外は調製例１０４と同様の手順で、固形分１５重量％のネガ型感光性組成物５９〜６１を調製した。各原料の配合量（ｇ）を表２８に示す。【０２０１】
（実施例２９）
ネガ型感光性組成物１に替えて、ネガ型感光性組成物５８を用いた以外は、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を形成し、前述の方法で光学特性、誘電率および発光信頼性の評価を行った。評価結果を表２９〜３０に示す。【０２０２】
【表２９】
2018116988.tif 000053
【０２０３】
【表３０】
2018116988.tif 000054
【０２０４】
（実施例３０〜３１、比較例３４）
ネガ型感光性組成物１に替えて、ネガ型感光性組成物５９〜６１をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様の方法で硬化膜および有機ＥＬ表示装置を作製し、前述の方法で光学特性、誘電率および発光信頼性の評価を行った。評価結果を表２９〜３０に示す。
【０２０５】
実施例１〜３１の結果から、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を用いて波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を向上させたことにより、優れた光学特性と高い発光信頼性とを両立できることがわかる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２を用いた実施例１、８、９では、特に高い発光信頼性が得られたことがわかる。【０２０６】
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を用いた実施例１７と比べて、ペリレン系赤色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、１２３、１４９、１９０を用いた実施例１２、１４〜１６では、より優れた発光信頼性が得られたことがわかる。【０２０７】
ハロゲンとして塩素原子を分子内に含有するＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を用いた実施例２３と比べて、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９、２９、３７などのハロゲンを分子内に有さない紫色顔料を用いた実施例２０〜２２では、より優れた発光信頼性が得られたことがわかる。【０２０８】
実施例１、１８、１９、２０、２４、２５の結果から、カルド樹脂と比べて、一般式（２８）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂を用いることで、より優れた発光信頼性が得られたことがわかる。【０２０９】
比較例１〜８の結果から、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有さない黄色顔料を用いて波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を向上させたことで、比較例２７〜３１と比べて発光信頼性が低下したことがわかる。【０２１０】
比較例９〜１１の結果から、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造の有無に関わらず、橙色顔料を用いて波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を向上させたことで、発光信頼性が低下したことがわかる。さらに、実施例との比較により、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する顔料が、黄色顔料でなければ本課題を解決できないことがわかる。【０２１１】
比較例１２、２６の結果から、カーボンブラックを用いて波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を付与したことで誘電率が過度に高くなり、初期発光特性に悪影響が生じたことがわかる。【０２１２】
比較例１３〜２２の結果から、ベンズイミダゾロン構造を有さない黄色顔料または橙色顔料と混合して用いる顔料を紫色顔料に替えたとしても、発光特性の点で何ら改善が観られないことがわかる。【０２１３】
比較例２４の結果から、ポリ塩素化銅フタロシアニンであるＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７を用いて波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性を向上させたことで、比較例２７〜３１と比べて発光信頼性が低下していることがわかる。【０２１４】
比較例２７〜３１の結果から、有機青色顔料と有機赤色顔料のみを混合すれば発光信頼性に問題が観られないものの、波長３８０〜４５０ｎｍの領域における遮光性が十分に得られておらず、光学特性に劣ることがわかる。【０２１５】
以上から、第一電極、画素分割層、発光画素、第二電極、平坦化層および基材を具備する有機ＥＬ表示装置において、画素分割層および／または平坦化層が、上記構造式（１）で表されるベンズイミダゾロン構造を有する黄色顔料を含有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置により、優れた光学特性と優れた発光特性の両立が達成され、本課題を解決することができたことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０２１６】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、高い視認性と高い発光信頼性とが必要とされる用途、例えば、スマートフォン、テレビ、パーソナルコンピュータなどの電子機器に利用することができる。
【符号の説明】
【０２１７】
１：ＴＦＴ
２：配線
３：ＴＦＴ絶縁膜
４：平坦化層
５：第二電極
６：基材
７：コンタクトホール
８：画素分割層
９：発光画素（有機ＥＬ層）
１０：第一電極
１１：無アルカリガラス基板
１２：金属反射層
１３：第二電極（ＩＴＯ電極）
１４：補助電極（ＩＴＯ電極）
１５：画素分割層
１６：発光画素（有機ＥＬ層）
１７：第一電極
１８：無アルカリガラス基板
１９：平坦化層
２０：第二電極（ＩＴＯ電極）
２１：補助電極（ＩＴＯ電極）
２２：画素分割層
２３：発光画素（有機ＥＬ層）
２４：第一電極
【図１】
2018116988.tif 000058
【図２】
2018116988.tif 000059
【図３】
2018116988.tif 000060
【図４】
2018116988.tif 000061
【国際調査報告】
2018116988.tif 000062
2018116988.tif 000063
2018116988.tif 000064
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