(57)【要約】  長尺フィルムのシャワー方式の現像工程にて現像ムラをなくし、エアカットを用いずに現像液の洗浄液槽への流入を防ぐことのできる回路基板の製造方法、および、現像装置を提供することを課題とする。  潜像が形成された塗膜を有する基材を略水平に搬送し、前記基材に現像液を散液する現像工程と、洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄工程と、液体成分を除去する乾燥工程とを、この順で通し、かつ、前記現像工程では複数の散液ノズルで上流側に向けて現像液を散液する、回路基板の製造方法であって、前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、としたとき、前記散液ノズルから散液される現像液の散液方向Ｏ’を前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線Ｏ’ＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度α’が４５°以上８５°以下であり、前記散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’が前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度β’が、４５°以上８０°以下である、回路基板の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜像が形成された塗膜を有する基材を略水平に搬送し、前記基材に現像液を散液する現像工程と、洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄工程と、液体成分を除去する乾燥工程とを、この順で通し、かつ、前記現像工程では複数の散液ノズルで上流側に向けて現像液を散液する、回路基板の製造方法であって、前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、としたとき、前記散液ノズルから散液される現像液の散液方向Ｏ’を前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線Ｏ’ＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度α’が４５°以上８５°以下であり、前記散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’が前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度β’が、４５°以上８０°以下である、回路基板の製造方法。
【請求項２】
前記直線Ｏ’を前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線Ｏ’ＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γ’が、６０°以上９０°未満である、請求項１記載の回路基板の製造方法。
【請求項３】
前記現像液の散液部の長径Ｒ’ＸＹが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度λが５°以上９０°未満である、請求項１または２に記載の回路基板の製造方法。
【請求項４】
前記基材が、フィルムであり、該フィルムの搬送方向の長さをＡ、前記複数のノズルの散液孔の重心同士を結ぶ、Ｘ方向の最大幅をＢ、としたとき、１＜Ａ／Ｂの関係を満たす、請求項１〜３のいずれか一項に記載の回路基板の製造方法。
【請求項５】
前記基材を、ロール・ツー・ロール方式で搬送する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の回路基板の製造方法。
【請求項６】
前記散液ノズル当たりの現像液の散液量が、０．２〜５Ｌ／ｍｉｎである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の回路基板の製造方法。
【請求項７】
前記基材を搬送する速度が、０．５〜７ｍ／ｍｉｎである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の回路基板の製造方法。
【請求項８】
前記現像液が、アルカリ現像液であり、前記塗膜が、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布膜に露光によるパターン形成を施したものである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の回路基板の製造方法。
【請求項９】
前記ネガ型感光性樹脂組成物が、（ａ）導電性粒子（ｂ）カルボキシル基を有する感光性化合物及び（ｃ）光重合開始剤を含有する、請求項８に記載の回路基板の製造方法。
【請求項１０】
略水平の搬送面を有する基材の搬送手段と、該搬送手段の上流側から、前記基材に現像液を散液する現像手段と、洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄手段と、液体成分を除去する乾燥手段とを、この順で有し、かつ、前記現像手段として、複数の散液ノズルを有する現像液の供給管が、搬送面の上側に供給管の軸方向が該搬送面に略平行となるように配置された、潜像が形成された塗膜を有する基材の現像装置であって、前記散液ノズルの開孔面が上流側を向いており、前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、としたとき、前記散液ノズルの開孔面に対して垂直方向の直線Ｏを前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線ＯＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度αが４５°以上８５°以下であり、前記供給管と平行な直線Ｐが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度βが、４５°以上８０°以下である、
現像装置。
【請求項１１】
前記直線Ｏを前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線ＯＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γが、６０°以上９０°未満である、請求項１０記載の現像装置。
【請求項１２】
前記ノズルの散液孔が楕円形状であり、該散液孔の長径Ｒを前記Ｚ方向にＸＹ平面上に投影した直線ＲＸＹが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度λが５°〜９０°である、請求項１０又は１１記載の現像装置。
【請求項１３】
前記現像手段より上流に巻き出しロールと、乾燥手段より下流に巻き取りロールとを備える、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像装置及び回路基板の製造方法に関し、例えば、タッチパネルの製造において、基材の上に所定の配線電極を形成し回路基板とする際に用いられる現像装置、及び、それを用いた回路基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルとはディスプレイ表示機器とタッチパッドのようなタッチした座標の検出装置を組み合わせた電子部品であり、主に直感的に扱えることが要求される機器に組み込まれることが多い。具体的には携帯電話やタブレットなどのモバイル端末に搭載されており、近年タッチパネルの薄膜化、軽量化、狭額縁化、低コスト化が求められている。【０００３】
これまで、タッチパッドのようなタッチした座標の検出装置に用いられるタッチモジュールの基材１９としてはスズドープ酸化インジウム（以下ＩＴＯと記す）付きのガラスが採用されていたが、薄膜化、安価化という顧客ニーズのもと現在はＩＴＯ付きの長尺のポリエチレンテレフタレートフイルム（以下ＰＥＴフィルムと記す）が主流となってきている。【０００４】
一方、タッチモジュールの引出配線には導電インキのパターン印刷工法が採用されていたが、同工法では引出配線の解像度に限界があるため、狭額縁化という顧客ニーズのもと、現在は感光性の導電インキを用いたフォトリソグラフィ工法が主流となってきている。【０００５】
この導電インキのフォトリソグラフィ工法の製造工程の一つである現像工程には、スピン式、ディップ式、シャワー式等、種々の方式が用いられている。このうち、シャワー式の現像方式にあっては基材をコンベア等で移動させつつ現像液を高圧かつ大流量でシャワー状に基材の被処理面に供給するため、現像処理を洗浄工程と連続して実施することが可能になり生産性に大きな利点がある。【０００６】
このうち、長尺のＰＥＴフィルムを用いたシャワー式の現像方法にあっては、上述したように現像液が基材上に散液供給されるため、フィルム基材上で現像液が滞留しやすく、現像液の置換効率が低下し、現像の不十分な部分と現像過多な部分が発生する。また、滞留した現像液が次工程である洗浄工程に流入にしてしまい、洗浄液が汚染されるといった問題がある。【０００７】
シャワー式の現像装置が開示された文献としては、たとえば特許文献１、特特許文献２がある。【０００８】
特許文献１においては、現像部の下流部分にエアカット９１を設置し、当該エアカットを用いて基材表面にエアを吹き付けることでその流出を対策が採られている。【０００９】
また、特許文献２では、傾斜状態の基材への現像液の吐出による現像、現像吐出量の制御により現像液の滞留を制御することで対策を講じている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平７−２６１０１３号公報
【特許文献２】特開２００９−８８８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１では、当該対策を施した場合には現像液がエアを吹き付けられることで現像液が乾燥してしまい、現像液に含まれている成分が基材上に残存してしまうことになる。【００１２】
また、特許文献２の対策では傾斜状態で基材を搬送するために現像装置の大幅な改造が必要となってしまう。【００１３】
本発明は、これらの問題を解決すること、すなわち、長尺フィルムのシャワー方式の現像工程にて現像ムラをなくし、エアカットを用いずに現像液の洗浄液槽への流入を防ぐことのできる現像装置、および、回路基板の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、かかる課題に対し鋭意検討を行った結果、現像液を基材に対して特定範囲の角度で散液することにより、基材上で現像液が滞留することなく、基材進行方向に対して逆方向の一様な流れを発生し、洗浄液槽への現像液の流入が抑制され、ムラのない均一な現像が可能となることを見いだし、本発明を完成したものである。【００１５】
本発明は、潜像が形成された塗膜を有する基材を略水平に搬送し、上流側から、前記基材に現像液を散液する現像工程と、洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄工程と、液体成分を除去する乾燥工程とを、この順で有し、かつ、前記現像工程では複数の散液ノズルで上流側に向けて現像液を散液する、回路基板の製造方法であって、前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、としたとき、前記散液ノズルから散液される現像液の散液方向Ｏ’を前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線Ｏ’ＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度α’が４５°以上８５°以下であり、前記供給管と平行方向の直線Ｐが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度βが、４５°以上８０°以下である、回路基板の製造方法である。【００１６】
また、本発明は、略水平の搬送面を有する基材の搬送手段と、該搬送手段の上流側から、前記基材に現像液を散液する現像手段と、洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄手段と、液体成分を除去する乾燥手段とを、この順で有し、かつ、前記現像手段として、複数の散液ノズルを有する現像液の供給管が、搬送面の上側に供給管の軸方向が該搬送面に略平行となるように配置された、潜像が形成された塗膜を有する基材の現像装置であって、前記散液ノズルの開孔面が上流側を向いており、前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、としたとき、前記散液ノズルの開孔面に対して垂直方向の直線Ｏを前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線ＯＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度αが４５°以上８５°以下であり、前記供給管と平行方向の直線Ｐが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度βが、６０°以上８０°以下である、現像装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の現像装置、現像方法を用いれば、現像時に基材上に現像液の一様な流れが基材搬入口方向に形成されるため、現像液の滞留による現像ムラ、洗浄液槽への現像液の流入を防ぐことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の現像装置の一例を示す概略図である。
【図２】基材の搬送面とＸ、Ｙ、Ｚ方向との関係を示す図である。
【図３】現像液の散液ノズルと直線Ｐ、Ｏとの関係を示す図である。
【図４】現像液の供給管の配置を示す平面図（ＸＹ平面図）である。
【図５】散液ノズルの配置を示す側面図（ＸＺ平面図）である。
【図６】散液ノズルの配置を示す搬送方向から見た図（ＺＹ平面図）である。
【図７】本発明に用いる現像液の散液ノズルの開孔面を示す概略図である。
【図８】現像工程における現像液の散液方向を示す図である。
【図９】現像工程における現像液の散液方向を示す側面図（ＸＺ平面図）である。
【図１０】現像工程における現像の散液方向を示す側面図（ＺＹ平面図）である。
【図１１】現像工程における現像液の散液の状況の一例を示した斜視図である
【図１２】現像工程における現像液の散液部のｘｙ平面投影図（ＸＹ平面図）である。
【図１３】比較例６の現像装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に本発明による現像装置・回路基板の製造方法を図面を参照して詳細に説明する。
【００２０】
［現像装置の概略］
本発明の現像装置は、略水平の搬送面を有する基材の搬送手段と、
該搬送手段の上流側から、
前記基材に現像液を散液する現像手段と、
洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄手段と、
液体成分を除去する乾燥手段とを、この順で有し、かつ、
前記現像手段として、複数の散液ノズルを有する現像液の供給管が、搬送面の上側に供給管の軸方向が該搬送面に略平行となるように配置された、
潜像が形成された塗膜を有する基材の現像装置であって、散液ノズルが特定の方向に配置されたものである。なお、本明細書においては、「潜像が形成された塗膜を有する基材」を単に基材と記す場合もある。
【００２１】
図１は本発明の現像装置の一例を示す断面図である。図１においては、搬送手段は、巻き出しロール１３、巻き取りロール１４および搬送コンベア１５で構成されており、基材を図中に示す搬送方向に搬送することができる。本発明の現像装置は、基材に現像液を散液する現像手段が配置された現像領域１０と、洗浄液を散液する洗浄手段が配置された洗浄領域１１と、液体成分を除去する乾燥手段が配置された乾燥領域１２とを、搬送手段の上流側（すなわち巻き出しロール１３の側）から、この順で有する。かかる構成を採ることにより潜像が形成された塗膜を有する基材１９に対し、現像、洗浄、乾燥の各々の処理を連続して行うものである。なお、各領域（現像領域１０、洗浄領域１１、乾燥領域１２）は装置における各手段（現像手段、洗浄手段、乾燥手段）のそれぞれの作用がおよぶ大凡の範囲を便宜的に示したものであり、厳密な境界を有する必要はない。
【００２２】
［搬送手段］
本発明の現像装置における搬送手段は、潜像が形成された塗膜を有する基材を、前述の、各手段（現像手段、洗浄手段、乾燥手段）による処理を連続して行うために搬送する手段である。ここで、連続して搬送するとは、前記各手段の間で基材を止めることなく、同じ速度で基材を搬送することをいう。かかる搬送手段としては、例えば、ローラー式のコンベア、ベルト式のコンベア等の搬送手段が挙げられるが、これらに特に限定されるわけではない。
【００２３】
また、この搬送手段は略水平の搬送面を有するものである。ここで、略水平とは水平を中心として、±１０°の傾きの範囲を含むものと定義する。
【００２４】
また、搬送面とは基材を移動させる搬送手段の上面であり、例えばローラー式のコンベアではローラーの上部接触面である。
【００２５】
かかる搬送手段により、潜像が形成された塗膜を有する基材は、基材に現像液を散液する現像手段が配置された現像領域１０、洗浄液を散液する洗浄手段が配置された洗浄領域１１、液体成分を除去する乾燥手段が配置された乾燥領域１２、を連続して搬送され、現像、洗浄、乾燥の各々の処理が施される。
【００２６】
［Ｘ、Ｙ、及び、Ｚの各方向］
次に、本発明の現像装置の現像領域における現像液の供給管及び散液ノズルについて説明するが、説明に際しては、図２に示す様に、前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、と定義し、これらの方向、および、これらを座標として定義される平面（例えば図４〜６及び図８〜１２）を用いて、散液ノズルの方向や前記ノズルの散液孔等の配置方向を表すものとする。
【００２７】
［現像液の供給管の配置］
本発明の現像装置において、前記現像領域には、現像手段として複数の散液ノズルを有する現像液の供給管が、搬送面の上側に供給管の軸方向が該搬送面に略平行となるように配置される。具体的には、例えば、図１における現像領域１０には、搬送面（図１においては基材１９の面と重なる）の上側に、図３に示すような複数の散液ノズル１６を有する現像液の供給管２０が、現像液の供給管２０の軸方向と平行な直線Ｐが搬送面に略平行となるように配置される。ここで略平行とは、平行な面を基準として任意の方向に±５°以内の傾きの範囲であることを表すものとする。現像液の供給管２０の軸方向と平行な直線Ｐが搬送面に略平行となるように配置されることにより、基材と散液ノズル間の距離が一定となり均一な散液が可能となる。図３において、散液ノズル１６は、現像液の供給管２０から枝分かれして突き出た形態で記されているが、必ずしも現像液の供給管２０から突き出ている必要はなく、現像液の供液管２０自体に所定の方向に向けて散液できるように散液孔が形成されていてもよい。また、散液ノズルの数については、図３では３である例を示しているが、現像する幅に応じて適宜設定することができ、現像液放射７１の大きさや形状に合わせて現像する幅方向に対して現像液が均一に供給されるように設定する。
【００２８】
図４は、本発明の現像装置の現像領域における現像液の供給管２０の配置を示す平面図（ＸＹ平面図）である。図４に示すように、現像液の供給管２０の軸方向に平行な直線Ｐが、基材１９の搬送方向（Ｘ方向）に対して交差する様に現像液の供給管２０は配置される。なお、図４は供給管の方向の説明を目的としているので散液ノズルは図示していない。ここで、直線Ｐと前記Ｘ方向とが形成する鋭角側の角度をβとすると、角度βが４５°以上８０°以下となるように現像液の供給管２０は配置される。βが４５°より小さくなると基材１９の幅方向に現像液の散液ムラが発生することで現像ムラが生じてしまい、一方、８０°より大きいと同一の現像液の供給管２０において隣り合う散液ノズル１６から供給された現像液の流れが干渉し合い、基材１９上で現像液が滞留し現像ムラが発生してしまう。これらの理由により、前記Ｘ方向と前記直線Ｐとが形成する鋭角側の角度であるβが４５°以上８０°以下の範囲であることが好ましい。
【００２９】
［散液ノズルの配置］
本発明の現像装置において、前記散液ノズルの開孔面は上流側を向いている。前記散液ノズルの開孔面が上流側を向いていることにより、現像液の上流方向への流れを形成し、洗浄液槽への現像液の流入を防ぐことが可能となる。
【００３０】
また、前記散液ノズルの開孔面に対して垂直方向の直線を直線Ｏとしたとき、前記散液ノズルの開孔面に対して垂直方向の直線Ｏを前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線ＯＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度αが４５°以上８５°以下である。
【００３１】
ここで、散液ノズルの開孔面に対して垂直方向の直線Ｏは、図３に示す様に、ノズルの散液方向に対応する。
【００３２】
図５は、本発明の現像装置の現像領域における散液ノズル１６の配置を示す側面図（ＸＺ平面図）である。なお、図５においては、散液ノズル１６は現像液の各供給管ごとに最も手前の１本のみを図示している。図５に示すように、散液ノズルの開孔面に対して垂直方向の直線Ｏを前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線ＯＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度αは４５°以上８５°以下の範囲である。αが４５°より小さいと散液される現像液の打圧が小さくなり塗布膜の溶解、除去が上手く行われず残渣が発生してしまう。一方、８５°より大きいと現像液が基材１９上で滞留し次工程である洗浄工程に現像液が流入し、洗浄液を汚染してしまうため、前記Ｘ方向と前記直線ＯＸＺとが形成する鋭角側の角度であるαが、４５°以上８０°以下の範囲であることが好ましく、洗浄工程への現像液の流入を防止するためには７５°以下であることがより好ましい。
【００３３】
また、前記直線Ｏを前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線ＯＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γが、６０°以上９０°未満であることが好ましい。
【００３４】
図６は、本発明の現像装置の現像領域における散液ノズル１６を搬送方向から見た図（ＺＹ平面図）である。なお、図６においては、現像液の供給管２０は１本のみを図示している。図６に示すように、直線Ｏを前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線ＯＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γが６０°以上９０°未満に傾けることで、現像液の基材上での滞留を解消し基材幅方向に現像液の流れを生じさせることで、現像液の新液交換効率を改善し、より均一な現像を施すことができるため好ましい。一方、γが６０°より小さいと散液される現像液の打圧が小さくなり塗布膜の溶解、除去が上手く行われず残渣が発生してしまう場合があり、γが９０°であると現像液の上流方向への流れを形成できず、洗浄液槽に現像液が流入してします場合があるため、直線Ｏを前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線ＯＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γが６０°以上９０°未満の範囲であることが好ましい。
【００３５】
［ノズルの散液孔の詳細］
図７は本発明に用いる現像液の散液ノズルの開孔面を示す概略図である。前記ノズルの散液孔の形状は特に限定されないが、図７に示すように、現像効率を上げるために扁平な形状が好ましく、楕円形状がより好ましい。また、該散液孔の長径Ｒを前記Ｚ方向にＸＹ平面上に投影した直線ＲＸＹと前記Ｘ方向とが形成する鋭角側の角度λが５°〜９０°であることが好ましい。ここで長径とは、散液孔に外接する面積が最小となる長方形の重心を通り長辺と平行な線分とする。また角度βとλは−１０＜β−λ＜１０の範囲であることがより好ましい。現像液の散液角度であるλを供給管の配置角度であるβに対して−１０＜β−λ＜１０に設定することで、基材１９上にて現像液が滞留することなく均一な流れを形成し、より現像ムラのない均一な現像を施すことができる。
【００３６】
［洗浄領域、乾燥領域］
洗浄領域１１には、洗浄液を散液し基材１９上の現像液を希釈する洗浄手段が配置されており、基材上に残存する現像液の成分がほとんどなくなる程度まで希釈することを目的とする。なお、現像液の成分がほとんどなくなる程度とは、現像液の成分の濃度が０．０５質量％以下であることをいい、０．０１質量％以下であればより好ましい。そのために、洗浄領域１１では洗浄手段として洗浄液を基材１９に供給するため複数の散液ノズル１６を有する洗浄液の供給管２１を基材１９上部に設置し、洗浄液ノズル１７から洗浄液を散液することで基材１９上に残存する現像液を希釈する。この際使用する洗浄液としては、特に限定されず、例えば、洗浄性やコスト面、環境面から純水が最適であるが、電解イオン水、オゾン溶解液などの特殊機能加工水なども用いられる。
【００３７】
乾燥領域１２には、液体成分を除去する乾燥手段が配置される。乾燥手段については、特に限定はしないが、例えば乾燥ブロー１８などを用いエアーを吹きつけることで液体を除去する方式や熱風により液体成分を乾燥させる乾燥手段などを用いることができる。
【００３８】
［巻き出しロール、巻き取りロール］
基材１９の材質は特に限定はしないが、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」）、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、アラミドフィルムなどを用いることができ、なかでもコスト面からＰＥＴフィルムを使用することが好ましい。
【００３９】
また、基材１９の形態は生産性の観点から枚葉ではなく連続したフィルムが好ましく、長尺フィルムを使用することがより好ましい。
【００４０】
前記現像手段より上流に巻き出しロールと、乾燥手段より下流に巻き取りロールを備えることが好ましい。かかる構成を採ることにより、長尺のフィルムを適用し、ロールからの巻き出し−一連の処理−ロールへの巻き取りを連続して行ういわゆるロール・ツー・ロール（ＲｔｏＲ）方式で処理を行うことができるためである。
【００４１】
［回路基板の製造方法］
本発明の回路基板の製造方法は、潜像が形成された塗膜を有する基材を略水平に搬送し、前記基材に現像液を散液する現像工程と、洗浄液を散液し現像液を希釈する洗浄工程と、液体成分を除去する乾燥工程とを、この順で通し、かつ、現像工程では複数の散液ノズルで上流側に向けて現像液を散液する、回路基板の製造方法であって、
前記基材の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向、としたとき、
前記散液ノズルから散液される現像液の散液方向Ｏ’を前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線Ｏ’ＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度α’が４５°以上８５°以下であり、
前記散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’が前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度β’が、４５°以上８０°以下である回路基板の製造方法である。かかる条件にて、現像液を散液するには、例えば、図１に示す様な、基材の搬送面の上側に供給管の軸方向が該搬送面に略平行となるように複数配置された現像液の供給管２０に備えられる複数の散液ノズル１６から現像液を散液する現像装置を用いることが好ましい。
【００４２】
［直線Ｏ’、Ｒ’等の定義］
本発明の回路基板の製造方法における現像工程の基材１９、搬送コンベア１５、供給管２０、散液ノズル１６の配置状況を図２を用いて説明する。図２に示すように、基材１９の搬送方向をＸ方向、鉛直方向をＺ方向、機幅方向をＹ方向と定義する。すなわち、Ｘ方向及びＺ方向に直角となる方向がＹ方向である。
また、図３、８に示すように、前記散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’、前記散液ノズルから散液される現像液の散液方向Ｏ’、図９に示すように、直線Ｏ’をＸＺ平面上に投影した直線をＯ’ＸＺ、図１０に示すように、直線Ｏ’をＺＹ平面上に投影した直線をＯ’ＺＹ、と定義し、図１２に示すように、現像液の散液部の長径をＲ’ＸＹと定義する。ここで、前記散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’の意味は、散液ノズルから散液される現像液の散液元すなわち散液距離の起点となる位置の並びを示すものであり、通常、供給管と平行な直線Ｐと直線Ｐ’は平行である。
【００４３】
［現像液の散液方向］
現像工程においては、現像液を基材１９に供給するための複数の散液ノズル１６を有する現像液の供給管２０が搬送面の上側に供給管の軸方向が該搬送面に略平行となるように複数配置され、直線Ｐと直線Ｐ’が平行である装置を用いて行うことが好ましい。図４は、本発明の回路基板の製造方法の現像工程における現像液の供給管の配置を示す平面図（ＸＹ平面図）である。なお、既述の通り図４では散液ノズルを省略しており、本説明は直線Ｐと直線Ｐ’が平行である例に基づくものとする。また、本説明においては、図４中のＰはＰ’と、βはβ’と読み替えるものとする。図４に示すように、図示しない散液ノズルが設置されている現像液の供給管の平行方向である前記直線Ｐ（すなわち、直線Ｐ’と等価）と前記Ｘ方向とが形成する鋭角側の角度であるβ（すなわちβ’と等価）が４５°以上８０°以下となるように現像液が散液される。β’が４５°より小さくなると現像液の基材１９の幅方向に散液ムラが発生することで現像ムラが生じてしまい、一方、８０°より大きいと隣り合う現像液同士の流れが干渉し合い、基材１９上で現像液が滞留し現像ムラが発生してしまう。したがって、前記Ｘ方向と前記直線Ｐとが形成する鋭角側の角度であるβが４５°以上８０°以下の範囲であることが好ましい。
【００４４】
図９は、本発明の回路基板の製造方法の現像工程における現像液の散液方向を示す側面図（ＸＺ平面図）である。図９に示すように、散液方向の直線Ｏ’を前記Ｙ方向にＸＺ平面上に投影した直線Ｏ’ＸＺが前記Ｘ方向と形成する鋭角側の角度α’が４５°以上８５°以下の範囲であり、前記直線Ｏ’ＸＺは散液孔を起点として上流側にある。α’が４５°より小さいと散液される現像液の打圧が小さくなり塗布膜の溶解、除去が上手く行われず残渣が発生してしまう。一方、８５°より大きいと現像液が基材１９上で滞留し次工程である洗浄工程に現像液が流入し、洗浄液を汚染してしまうため、前記Ｘ方向と前記直線Ｏ’ＸＺとが形成する鋭角側の角度であるα’が、４５°以上８０°以下の範囲であることが好ましい。
【００４５】
図１０は、本発明の回路基板の製造方法の現像工程における現像液の散液方向を示す側面図（ＸＺ平面図）である。図１０に示すように、直線Ｏ’を前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線Ｏ’ＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γ’を６０°以上９０°未満に傾けることで、現像液の基材上での滞留を解消し基材幅方向に現像液の流れを生じさせることで、現像液の新液交換効率を改善し、均一な現像を施すことができる。一方、γ’が６０°より小さいと散液される現像液の打圧が小さくなり塗布膜の溶解、除去が上手く行われず残渣が発生してしまうため、直線Ｏ’を前記Ｘ軸方向にＺＹ平面上に投影した直線Ｏ’ＺＹが前記Ｙ方向と形成する鋭角側の角度γ’が６０°以上９０°未満の範囲であることが好ましい。
【００４６】
［現像液の散液部の形状］
図１１は、本発明の回路基板の製造方法の現像工程における現像液の散液の状況の一例を示した斜視図であり、図１２は現像液の散液部の平面図（ＸＹ平面図）である。前記現像液の散液部の形状は特に限定しないが、現像効率を上げるために扁平な形状が好ましく、図１２に示すように、楕円形状が、より好ましい。また、散液部の長径をＲ’ＸＹとすると直線Ｒ’ＸＹと前記Ｘ方向とが形成する鋭角側の角度λ’が５°〜９０°であることが好ましい。ここで長径とは、散液部に外接する面積が最小となる長方形の重心を通り長辺と平行な線分とする。また角度β’とλ’は−１０＜β’−λ’＜１０の範囲であることがより好ましい。現像液の散液角度であるλ’を前記散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’をＸＹ平面上に投影した角度であるβ’に対して−１０＜β’−λ’＜１０とすることで、基材１９上にて現像液が滞留することなくより均一な流れを形成し、現像ムラのないより均一な現像を施すことができる。
【００４７】
［現像液散液量］
散液ノズル１６から散液される現像液の散液量は特に限定はしないが、０．２〜５Ｌ／ｍｉｎの範囲が好ましく、０．４〜１．０Ｌ／ｍｉｎの範囲がより好ましい。散液ノズル１６から散液される散液量が０．２Ｌ／ｍｉｎより少ないと、基材１９上で現像液の交換が行われず現像ムラが発生してしまう場合があり、一方、５Ｌ／ｍｉｎより多いと、散液される現像液の打圧によりパターンが剥がれてしまう場合があるためである。
【００４８】
［搬送速度］
基材１９の搬送速度は特に限定はしないが、０．５〜７ｍ／ｍｉｎが好ましく、２〜５ｍ／ｍｉｎの範囲がより好ましい。基材１９の搬送速度が７ｍ／ｍｉｎより速いと、現像液暴露時間が短くなりパターン間に残留が発生する場合があり、０．５ｍ／ｍｉｎより遅いと現像液暴露時間が長くなりパターン剥がれが発生する場合があるためである。
【００４９】
［現像液の種類］
潜像が形成された塗膜がネガ型感光性樹脂組成物に露光によるパターンの潜像を形成したものである場合、現像工程にて使用する現像液としては、アルカリ現像液が好ましい。かかる現像液としては、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム、ジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン又はヘキサメチレンジアミンの水溶液が挙げられるが、これらの水溶液に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド若しくはγ−ブチロラクトン等の極性溶媒、メタノール、エタノール若しくはイソプロパノール等のアルコール類、乳酸エチル若しくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチルケトン若しくはメチルイソブチルケトン等のケトン類又は界面活性剤を添加しても構わない。有機現像を行う場合の現像液としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド若しくはヘキサメチルホスホルトリアミド等の極性溶媒又はこれら極性溶媒とメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、キシレン、水、メチルカルビトール若しくはエチルカルビトールとの混合溶液を用いることができるが、汎用性、現像能力の安定性の観点から、より好ましくは炭酸ナトリウムを使用する
［ロール・ツー・ロール方式］
基材１９の材質は特に限定はしないが、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」）、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、アラミドフィルムなどを用いることができ、なかでもＰＥＴフィルムを使用することが好ましい。
【００５０】
また、基材１９の形態は生産性の観点から長尺フィルムを使用することが好ましく、長尺フィルムを使用することがより好ましい。かかる場合、長尺フィルムフィルムを巻き出しロールから現像工程に供給し、巻き出して現像処理を行い、洗浄処理、乾燥処理後に巻き取りロールに巻き取るいわゆるロール・ツー・ロール方式（ＲｔｏＲ方式）で処理を行うことが好ましい。
【００５１】
［塗膜］
本発明において、潜像が形成された塗膜がネガ型感光性樹脂組成物に露光によるパターンの潜像を形成したものである場合に用いられるネガ型感光性樹脂組成物としては、（ａ）導電性粒子、（ｂ）カルボキシル基を有する感光性化合物、及び、（ｃ）光重合開始剤を含有する、ネガ型感光性樹脂組成物を用いることが好ましい。
【００５２】
導電性粒子（ａ）としては、銀（以下、「Ａｇ」）、金（以下、「Ａｕ」）、銅、白金、鉛、スズ、ニッケル、アルミニウム、タングステン、モリブデン、クロム、チタン若しくはインジウム又はこれら金属の合金が挙げられるが、導電性の観点からＡｇ、Ａｕ又は銅が好ましく、コスト及び安定性の観点からＡｇがより好ましい。
【００５３】
導電性粒子の体積平均粒子径は、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜６μｍがより好ましい。体積平均粒子径が０．１μｍ以上であると、キュア工程での導電性粒子（ａ）同士の接触確率が向上し、製造された導電パターンの比抵抗及び断線確率が低くなる。さらには、露光工程において露光光が、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布して得られた塗膜中をスムーズに透過することができ、微細パターニングが容易となる。一方で、体積平均粒子径が１０μｍ以下であると、製造された導電パターンの表面平滑度、パターン精度及び寸法精度が向上する。なお、導電性粒子（ａ）の体積平均粒子径は、コールターカウンター法により測定することができる。
【００５４】
導電性粒子の含有量は、ネガ型感光性樹脂組成物中の全固形分に対して６０〜９５質量％が好ましい。全固形分に対する含有量が６０質量％以上であると、キュア時の導電性粒子（ａ）同士の接触確率が向上し、製造された導電パターンの比抵抗及び断線確率が低くなる。一方で、全固形分に対する含有量が９５質量％以下であると、露光工程において露光光が、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布して得られた塗布膜中をスムーズに透過することができ、微細なパターニングが容易となる。ここで全固形分とは、溶剤を除く、ネガ型感光性樹脂組成物の全構成成分をいう。
【００５５】
カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）としては、分子内に重合性不飽和基を有するモノマー、オリゴマーもしくはポリマーを含むものである。
【００５６】
例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン若しくはヒドロキシメチルスチレン等のスチレン類、アクリル系モノマー、１−ビニル−２−ピロリドン、アクリル系共重合体又はエポキシカルボキシレート化合物が挙げられる。
【００５７】
アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−プロパンアクリレート、グリシジルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレートイソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、チオフェノールアクリレート若しくはベンジルメルカプタンアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート若しくはトリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート若しくはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド若しくはＮ−イソブトキシメチルアクリルアミド、エポキシ基を不飽和酸で開環させた水酸基を有するエチレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、グリセリンジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ビスフェノールＦのアクリル酸付加物若しくはクレゾールノボラックのアクリル酸付加物等のエポキシアクリレートモノマー又はγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、あるいは、それらのアクリル基を、メタクリル基に置換した化合物が挙げられる。
【００５８】
アクリル系共重合体とは、用いるモノマーすなわち共重合成分にアクリル系モノマーを含む共重合体をいう。
【００５９】
カルボキシル基を有するアルカリ可溶性のアクリル系共重合体は、モノマーとして不飽和カルボン酸等の不飽和酸を用いることにより得られる。不飽和酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸若しくは酢酸ビニル又はこれらの酸無水物が挙げられる。用いる不飽和酸の多少により、得られるアクリル系共重合体の酸価を調整することができる。
【００６０】
また、上記アクリル系共重合体が有するカルボキシル基と、グリシジル（メタ）アクリレート等の不飽和二重結合を有する化合物と、を反応させることにより、側鎖に反応性の不飽和二重結合を有する、アルカリ可溶性のアクリル系共重合体が得られる。
【００６１】
エポキシカルボキシレート化合物とは、エポキシ化合物と、不飽和二重結合を有するカルボキシル化合物と、を出発原料として合成することができる化合物をいう。出発原料となり得るエポキシ化合物としては、例えば、グリシジルエーテル類、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類又はエポキシ樹脂が挙げられるが、より具体的には、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、テトラメチルビフェノールグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート又はｔｅｒｔ−ブチルグリシジルアミンが挙げられる。また、不飽和二重結合を有するカルボキシル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸又はα−シアノ桂皮酸が挙げられる。
【００６２】
エポキシカルボキシレート化合物と多塩基酸無水物とを反応させて、エポキシカルボキシレート化合物の酸価を調整しても構わない。多塩基酸無水物としては、例えば、無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、３−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、４−メチルーヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸又は無水マレイン酸が挙げられる。
【００６３】
上記多塩基酸無水物と反応させたエポキシカルボキシレート化合物が有するカルボキシル基と、グリシジル（メタ）アクリレート等の不飽和二重結合を有する化合物と、を反応させることにより、エポキシカルボキシレート化合物が有する反応性の不飽和二重結合の量を調整しても構わない。
【００６４】
エポキシカルボキシレート化合物が有するヒドロキシ基と、ジイソシアネート化合物を反応させることにより、ウレタン化をしても構わない。ジイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート、トリデンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネト、イソホロンジイソシアネート、アリルシアンジイソシアネート又はノルボルナンジイソシアネートが挙げられる。
【００６５】
カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）の酸価は、アルカリ可溶性を至適なものとするため、３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、可溶部分の溶解性が低下する場合がある。一方で、酸価が２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、現像許容幅が狭くなる場合がある。なお、カルボキシル基含有化合物（Ｂ）の酸価は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０：１９９２に準拠して測定することができる。
【００６６】
本発明において、潜像が形成された塗膜がネガ型感光性樹脂組成物に露光によるパターンの潜像を形成したものである場合に用いられるネガ型感光性樹脂組成物は、分子内に重合性不飽和基を有するモノマー、オリゴマーもしくはポリマーを含有するが、これらの成分はいずれも活性光線のエネルギー吸収能力はないため、光硬化を行わせるためには光重合開始剤（ｃ）を用いる必要がある。光重合開始剤（ｃ）は、光硬化に使用される光源によって選択され、光ラジカル重合開始剤や光カチオン重合開始剤等が使用できる。
【００６７】
光重合開始剤（ｃ）としては、例えば、１，２−オクタンジオンー１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、エタノンー１−［９−エチル−６−２（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、１−フェニル−１，２−ブタンジオン−２−（Ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（Ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４’−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン又はメチレンブルー等の光還元性色素と、アスコルビン酸若しくはトリエタノールアミン等の還元剤との組み合わせが挙げられるが、光感度の高い、オキシムエステル系化合物が好ましい。
【００６８】
光重合開始剤（ｃ）の含有量は、カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）１００質量部に対して０．０５〜３０質量部が好ましい。カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）１００質量部に対する含有量が０．０５質量部以上であると、露光部の硬化密度が増加し、現像後の残膜率を高くすることができる。一方で、カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）１００質量部に対する含有量が３０質量部以下であると、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布して得られた塗布膜上部での、光重合開始剤（ｃ）による過剰な光吸収が抑制される。その結果、製造された導電パターンが逆テーパー形状となることによる、基材との密着性低下が抑制される。
【００６９】
本発明において、潜像が形成された塗膜がネガ型感光性樹脂組成物に露光によるパターンの潜像を形成したものである場合に用いられるネガ型感光性樹脂組成物は、光重合開始剤（ｃ）と共に、増感剤を含有しても構わない。
【００７０】
増感剤としては、例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニルビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール又は１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールが挙げられる。
【００７１】
増感剤の含有量は、カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）１００質量部に対して０．０５〜１０質量部が好ましい。カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）１００質量部に対する含有量が０．０５質量部以上であると、光感度が向上する。一方で、カルボキシル基を有する感光性化合物（ｂ）１００質量部に対する含有量が１０質量部以下であると、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布して得られた塗布膜上部での、過剰な光吸収が抑制される。その結果、製造された導電パターンが逆テーパー形状となることによる、基材との密着性低下が抑制される
本発明において、潜像が形成された塗膜がネガ型感光性樹脂組成物に露光によるパターンの潜像を形成したものである場合に用いられるネガ型感光性樹脂組成物は、有機溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジアセトンアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（以下、「ＤＭＥＡ」）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル又は２，２，４，−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレートが挙げられるが、沸点が１５０℃以上の溶媒が好ましい。沸点が１５０℃以上であると、溶剤の揮発が抑制され、ネガ型感光性樹脂組成物の増粘を抑制することができる。
【００７２】
本発明において、潜像が形成された塗膜がネガ型感光性樹脂組成物に露光によるパターンの潜像を形成したものである場合に用いられるネガ型感光性樹脂組成物は、その所望の特性を損なわない範囲であれば、分子内に不飽和二重結合を有しない非感光性ポリマー又は可塑剤、レベリング剤、界面活性剤、シランカップリング剤、消泡剤若しくは顔料等の添加剤を含有しても構わない。
【００７３】
上記の非感光性ポリマーとしては、例えば、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド前駆体又は既閉環ポリイミドが挙げられる。
【００７４】
可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール又はグリセリンが挙げられる。
【００７５】
レベリング剤としては、例えば、特殊ビニル系重合物又は特殊アクリル系重合物が挙げられる。
【００７６】
シランカップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン又はビニルトリメトキシシランが挙げられる。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。【００７８】
（実施例１）
５０℃で４８時間真空乾燥したバインダーポリマー（根上工業社製ＴＲ−２５００）６０ｇ、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート１００ｇを撹拌装置、温度計を備えた３つ口フラスコに計量し、６０℃で加熱溶解させた。フラスコを３０℃まで冷却し、イソオクチルアクリレート５ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５ｇ、１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．１ｇ、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５ｇ、分散剤（共栄社化学社製、“フローレン（登録商標）”Ｇ−７００ＤＭＥＡ）２ｇを加え、２時間撹拌した。得られた有機成分１２０ｇと湿式還元法により製造されたもので平均粒径１．１９μｍ、比表面積１．１２ｍ２／ｇ、タップ密度４．８ｇ／ｃｍ３のＡｇ粉末を３本ローラーで混練してネガ型感光性樹脂組成物を得た。【００７９】
このネガ型感光性樹脂組成物をロール上のＰＥＴフィルム基材１９（幅５００ｍｍ、厚さ２００ｕｍ）に、ポリエステル製スクリーンメッシュを用いて８μｍの厚みに均一に塗布したのちに、ボックス式のオーブンにて１００℃で１０分間加熱し乾燥させた。乾燥後、所望のストライプ状パターン（ピッチ４０μｍ、線幅２５μｍ）を有するフォトマスクを用いて、４００ｍＪ／ｃｍ２（波長３６５ｎｍ換算）の露光量にて行った。そして、現像工程を図１に示す現像装置にて現像処理を行い、光硬化していないスペース部分の塗布膜を除去してストライプ状のパターンを形成した。【００８０】
図１に示すようにこの実施例における現像装置では、ネガ型感光性樹脂組成物が塗布されて露光されたロール状に巻かれた基材１９を巻き出す巻き出しロール１３と、現像液を散液するための複数の散液ノズル１６、散液後の現像液を回収するための現像槽を備えた現像手段が配置された現像領域１０と、洗浄液（純水）を散液し現像液を希釈するための複数の洗浄液ノズル１７、散液後の洗浄液を回収するための洗浄槽を備えた洗浄手段が配置された洗浄領域１１、フィルム上に残留する液体成分を除去し乾燥する乾燥領域１２、現像処理を行ったフィルムをロール状に巻取るフィルム巻取りロール１４を有し、上部各部を通して設けられた搬送コンベア１５により幅２０ｃｍの基材１９を４ｍ／ｍｉｎの速度で搬送して現像するようになっている。現像領域には現像手段として現像液を散液する現像液の散液ノズル１６は計１８本配置されている。具体的には図３に示すよう（図示されているノズルの数と実施例の数は異なる）に１本当たり各６本の現像液の散液ノズルが５ｃｍ間隔で設けられた現像液の供給管２０が図４に示す様に３列配置されている。ここで、この現像液の供給管と平行な直線Ｐ（および、散液ノズルの一連の散液孔を結ぶ直線Ｐ’）とｘ軸とが形成する角度β（およびβ’）を７０°になるように配置した。また、図５、図６に示すようにこの現像液の散液ノズル１６はＸ方向、Ｙ方向に傾斜を有しており、開孔面に対して垂直方向の直線Ｏ（および、これに対応して、現像液の散液方向Ｏ’）とＸ軸とがなす角度α（およびα’）が７０°、Ｙ軸とがなす角度γ（およびγ’）が８０°になるよう調整した。また設置している現像液の散液ノズル１６のノズルの散液孔が楕円形状であり、散液ノズル１６から吐出される現像液の散液部の形状が楕円状に散液された。また、その散液部の長手方向に結ぶ直線ＲとＹ軸とが形成する鋭角側の角度λ（およびλ’）が７０°となるように現像液の散液ノズル１６を設置した。現像液として３０℃に保持した炭酸ナトリウムの０．２質量％の水溶液を用いて、各現像液の散液ノズル１６から２Ｌ／ｍｉｎの散液量にて現像液をフィルムに散液して、光硬化していないスペース部分の塗布膜を溶解・除去した。現像領域にて基材１９上に散布されていた現像液は洗浄領域方向に流れ込むことなく、現像部内の現像槽に回収された。次に、洗浄領域にて、純水を洗浄液ノズル１７から散液することで基材１９上の現像液を希釈して除去し、基材１９を洗浄し、乾燥領域にて基材１９に熱処理を施し洗浄液を乾燥させた。現像後のパターンをボックス式のオーブンにて１４０℃で６０分間熱処理を施し、導電パターンを形成した。【００８１】
（実施例２）
実施例１において、搬送速度を７．５ｍ／ｍｉｎになるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８２】
（実施例３）
実施例１において、搬送速度を０．２ｍ／ｍｉｎになるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８３】
（実施例４）
実施例１において、各現像液の散液ノズル１６からの散液量を０．１Ｌ／ｍｉｎになるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８４】
（実施例５）
実施例１において、各現像液の散液ノズル１６からの散液量を６．０Ｌ／ｍｉｎになるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８５】
（実施例６）
実施例１において、γ（およびγ’）の角度が４５°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８６】
（実施例７）
実施例１において、γ（およびγ’）の角度が９０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８７】
（実施例８）
実施例１において、λ（およびλ’）の角度が４０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８８】
（実施例９）
実施例１において、α（およびα’）の角度が４５°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００８９】
（実施例１０）
実施例１において、α（およびα’）の角度が８０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９０】
（比較例１）
実施例１において、α（およびα’）の角度が９０°、β（およびβ’）の角度が９０°、γ（およびγ’）の角度が９０°、λ（およびλ’）の角度が９０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９１】
（比較例２）
実施例１において、α（およびα’）の角度が３０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９２】
（比較例３）
実施例１において、α（およびα’）の角度が９０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９３】
（比較例４）
実施例１において、β（およびβ’）の角度が３０°、λ（およびλ’）の角度が３０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９４】
（比較例５）
実施例１において、β（およびβ’）の角度が９０°、λ（およびλ’）の角度が９０°になるように設定し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９５】
（比較例６）
実施例１において、γ（およびγ’）を９０°、λ（およびλ’）を９０°になるように現像液の散液ノズル１６を下流方向に向けて設置・配置し、図１３に示すように現像領域と洗浄領域の間に現像液の洗浄領域への流れ込みを防止するためのエアカット９１を設置し、それ以外の条件は実施例１と同様にして、導電パターンの作製を行った。【００９６】
（評価手法）
以上の実施例、比較例に示した通り得られた導電パターンを光学顕微鏡（ＶＨＸ−５００）にて確認し、残渣、パターン剥がれ、配線の直進性を基準に評価を行った。残渣、剥がれがなくパターンの直進性も良好なものを「Ａ」、残渣、剥がれがないが、パターンの直進性は多少悪化しているものを「Ｂ」、残渣や剥がれが発生しているものを「Ｃ」と評価した。その結果を表１に示す。【００９７】
また、２０ｓｈｅｅｔ分の現像処理を施した後、洗浄工程にて使用している純水のＰＨ測定機を用いて測定することで、現像液の流入度合いの評価を行った。ＰＨ＜＝７．８のものを「Ａ」、７．８＜ＰＨ＜＝８．０のものを「Ｂ」、ＰＨ＞８．０のものを「Ｃ」と評価した。その結果を表１に示す。【００９８】
【表１】
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【符号の説明】
【００９９】
１０  現像領域
１１  洗浄領域
１２  乾燥領域
１３  巻き出しロール
１４  巻き取りロール
１５  搬送コンベア
１６  散液ノズル
１７  洗浄液ノズル
１８  乾燥ブロー
１９  基材
２０  現像液の供給管
２１  洗浄液の供給管
７１  現像液放射
９１  エアカット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【国際調査報告】
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