(57)【要約】  下記式（０）で表される化合物を含有する、光学部材形成組成物。2018052012.tif 000390
2018052012.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（０）で表される化合物を含有する、光学部材形成組成物。
【化１】
2018052012.tif 000378
（式（０）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜４０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、チオール基、水酸基または水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
【請求項２】
前記式（０）で表される化合物が下記式（０−１）で表される化合物である、請求項１に記載の光学部材形成組成物。
【化２】
2018052012.tif 000379
（式（０−１）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴ’は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ＲＴ’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
【請求項３】
前記式（０−１）で表される化合物が下記式（１）で表される化合物である、請求項２に記載の光学部材形成組成物。
【化３】
2018052012.tif 000380
（式（１）中、Ｒ０は、前記ＲＹと同義であり、
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、
ｎは前記Ｎと同義であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は、前記ｒと同義である。）
【請求項４】
前記式（０−１）で表される化合物が下記式（２）で表される化合物である、請求項２に記載の光学部材形成組成物。
【化４】
2018052012.tif 000381
（式（２）中、Ｒ０Ａは、前記ＲＹと同義であり、
Ｒ１Ａは、炭素数１〜６０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
ｎＡは、前記Ｎと同義であり、ここで、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜７の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜７の整数であり、
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。）
【請求項５】
前記式（１）で表される化合物が下記式（１−１）で表される化合物である、請求項３に記載の光学部材形成組成物。
【化５】
2018052012.tif 000382
（式（１−１）中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、ｎ、ｐ２〜ｐ５、ｍ４及びｍ５は、前記と同義であり、
Ｒ６〜Ｒ７は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｒ１０〜Ｒ１１は、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基であり、
ｍ６及びｍ７は、各々独立して、０〜７の整数であり、
但し、ｍ４、ｍ５、ｍ６及びｍ７は同時に０になることはない。）
【請求項６】
前記式（１−１）で表される化合物が下記式（１−２）で表される化合物である、請求項５に記載の光学部材形成組成物。
【化６】
2018052012.tif 000383
（式（１−２）中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ１０、Ｒ１１、ｎ、ｐ２〜ｐ５、ｍ６及びｍ７は、前記と同義であり、
Ｒ８〜Ｒ９は、前記Ｒ６〜Ｒ７と同義であり、
Ｒ１２〜Ｒ１３は、前記Ｒ１０〜Ｒ１１と同義であり、
ｍ８及びｍ９は、各々独立して、０〜８の整数であり、
但し、ｍ６、ｍ７、ｍ８及びｍ９は同時に０になることはない。）
【請求項７】
前記式（２）で表される化合物が下記式（２−１）で表される化合物である、請求項４に記載の光学部材形成組成物。
【化７】
2018052012.tif 000384
（式（２−１）中、Ｒ０Ａ、Ｒ１Ａ、ｎＡ、ｑＡ及びＸＡは、前記と同義であり、
Ｒ３Ａは、各々独立して、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｒ４Ａは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基であり、
ｍ６Ａは、各々独立して、０〜５の整数である。）
【請求項８】
下記式（０）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有する、光学部材形成組成物。
【化８】
2018052012.tif 000385
（式（０）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜４０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、チオール基、水酸基または水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
【請求項９】
下記式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有する、光学部材形成組成物。
【化９】
2018052012.tif 000386
（式（１）中、Ｒ０は、水素原子であり、
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、
ｎは、１〜４の整数であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は、各々独立して０〜２の整数である。）
【請求項１０】
前記式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂が、下記式（３）で表される構造を有する樹脂である、請求項９に記載の光学部材形成組成物。
【化１０】
2018052012.tif 000387
（式（３）中、Ｌは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合であり、
Ｒ０は、水素原子であり、
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、
ｎは、１〜４の整数であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は、各々独立して０〜２の整数である。）
【請求項１１】
下記式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有する、光学部材形成組成物。
【化１１】
2018052012.tif 000388
（式（２）中、Ｒ０Ａは、水素原子であり、
Ｒ１Ａは、炭素数１〜６０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
ｎＡは、１〜４の整数であり、ここで、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜７の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜７の整数であり、
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。）
【請求項１２】
前記式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂が、下記式（４）で表される構造を有する樹脂である、請求項１１に記載の光学部材形成組成物。
【化１２】
2018052012.tif 000389
（式（４）中、Ｌは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基又は単結合であり、
Ｒ０Ａは、水素原子であり、
Ｒ１Ａは、炭素数１〜３０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
ｎＡは、１〜４の整数であり、ここで、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜６の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜６の整数であり、
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。）
【請求項１３】
溶媒をさらに含有する、請求項１〜１２のいずれか１項記載の光学部材形成組成物。
【請求項１４】
酸発生剤をさらに含有する、請求項１〜１３のいずれか１項記載の光学部材形成組成物。
【請求項１５】
架橋剤をさらに含有する、請求項１３又は１４に記載の光学部材形成組成物。
【請求項１６】
前記架橋剤が、フェノール化合物、エポキシ化合物、シアネート化合物、アミノ化合物、ベンゾオキサジン化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、ウレア化合物、イソシアネート化合物及びアジド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１５に記載の光学部材形成組成物。
【請求項１７】
前記架橋剤が、少なくとも１つのアリル基を有する、請求項１５又は１６に記載の光学部材形成組成物。
【請求項１８】
前記架橋剤の含有量が、固形成分の全質量の０．１〜５０質量％である、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の光学部材形成組成物。
【請求項１９】
架橋促進剤をさらに含有する、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の光学部材形成組成物。
【請求項２０】
前記架橋促進剤が、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、及びルイス酸からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１９に記載の光学部材形成組成物。
【請求項２１】
前記架橋促進剤の含有量が、固形成分の全質量の０．１〜１０質量％である、請求項１９又は２０に記載の光学部材形成組成物。
【請求項２２】
ラジカル重合開始剤をさらに含有する、請求項１３〜２１のいずれか一項に記載の光学部材形成組成物。
【請求項２３】
前記ラジカル重合開始剤が、ケトン系光重合開始剤、有機過酸化物系重合開始剤及びアゾ系重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２２に記載の光学部材形成組成物。
【請求項２４】
前記ラジカル重合開始剤の含有量が、固形成分の全質量の０．１〜１０質量％である、請求項２２又は２３に記載の光学部材形成組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材形成組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学部材形成組成物として、様々なものが提案されており、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはアントラセン誘導体等が用いられている（特許文献１〜４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−１２０６１号公報
【特許文献２】特開２０１５−１７４８７７号公報
【特許文献３】特開２０１４−７３９８６号公報
【特許文献４】特開２０１０−１３８３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したとおり、従来、数多くの光学部材向け組成物が提案されているが、耐熱性、透明性及び屈折率を高い次元で両立させたものはなく、新たな材料の開発が求められている。【０００５】
本発明の目的は、耐熱性、透明性及び屈折率を高い次元で両立させた光学部材形成組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定構造を有する化合物又は樹脂を用いることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、つぎのとおりである。
［１］
下記式（０）で表される化合物を含有する、光学部材形成組成物。【０００７】
【化１】
2018052012.tif 000003
【０００８】
（式（０）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜４０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、チオール基、水酸基または水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
［２］
前記式（０）で表される化合物が下記式（０−１）で表される化合物である、上記［１］に記載の光学部材形成組成物。【０００９】
【化２】
2018052012.tif 000004
【００１０】
（式（０−１）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴ’は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ＲＴ’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）【００１１】
［３］
前記式（０−１）で表される化合物が下記式（１）で表される化合物である、上記［２］に記載の光学部材形成組成物。【００１２】
【化３】
2018052012.tif 000005
【００１３】
（式（１）中、Ｒ０は、前記ＲＹと同義であり、
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、
ｎは前記Ｎと同義であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は、前記ｒと同義である。）
［４］
前記式（０−１）で表される化合物が下記式（２）で表される化合物である、上記［２］に記載の光学部材形成組成物。【００１４】
【化４】
2018052012.tif 000006
【００１５】
（式（２）中、Ｒ０Ａは、前記ＲＹと同義であり、
Ｒ１Ａは、炭素数１〜６０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
ｎＡは、前記Ｎと同義であり、ここで、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜７の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜７の整数であり、
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。）
［５］
前記式（１）で表される化合物が下記式（１−１）で表される化合物である、上記［３］に記載の光学部材形成組成物。【００１６】
【化５】
2018052012.tif 000007
【００１７】
（式（１−１）中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、ｎ、ｐ２〜ｐ５、ｍ４及びｍ５は、前記と同義であり、
Ｒ６〜Ｒ７は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｒ１０〜Ｒ１１は、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基であり、
ｍ６及びｍ７は、各々独立して、０〜７の整数であり、
但し、ｍ４、ｍ５、ｍ６及びｍ７は同時に０になることはない。）
［６］
前記式（１−１）で表される化合物が下記式（１−２）で表される化合物である、上記［５］に記載の光学部材形成組成物。【００１８】
【化６】
2018052012.tif 000008
【００１９】
（式（１−２）中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ１０、Ｒ１１、ｎ、ｐ２〜ｐ５、ｍ６及びｍ７は、前記と同義であり、
Ｒ８〜Ｒ９は、前記Ｒ６〜Ｒ７と同義であり、
Ｒ１２〜Ｒ１３は、前記Ｒ１０〜Ｒ１１と同義であり、
ｍ８及びｍ９は、各々独立して、０〜８の整数であり、
但し、ｍ６、ｍ７、ｍ８及びｍ９は同時に０になることはない。）
［７］
前記式（２）で表される化合物が下記式（２−１）で表される化合物である、上記［４］に記載の光学部材形成組成物。【００２０】
【化７】
2018052012.tif 000009
【００２１】
（式（２−１）中、Ｒ０Ａ、Ｒ１Ａ、ｎＡ、ｑＡ及びＸＡは、前記と同義であり、
Ｒ３Ａは、各々独立して、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｒ４Ａは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基であり、
ｍ６Ａは、各々独立して、０〜５の整数である。）
［８］
下記式（０）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有する、光学部材形成組成物。【００２２】
【化８】
2018052012.tif 000010
【００２３】
（式（０）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜４０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、チオール基、水酸基または水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
［９］
下記式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有する、光学部材形成組成物。【００２４】
【化９】
2018052012.tif 000011
【００２５】
（式（１）中、Ｒ０は、水素原子であり、
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、
ｎは、１〜４の整数であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は、各々独立して０〜２の整数である。）
［１０］
前記式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂が、下記式（３）で表される構造を有する樹脂である、上記［９］に記載の光学部材形成組成物。【００２６】
【化１０】
2018052012.tif 000012
【００２７】
（式（３）中、Ｌは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合であり、
Ｒ０は、水素原子であり、
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数であり、
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、
ｎは、１〜４の整数であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は、各々独立して０〜２の整数である。）
［１１］
下記式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有する、光学部材形成組成物。【００２８】
【化１１】
2018052012.tif 000013
【００２９】
（式（２）中、Ｒ０Ａは、水素原子であり、
Ｒ１Ａは、炭素数１〜６０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
ｎＡは、１〜４の整数であり、ここで、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜７の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜７の整数であり、
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。）
［１２］
前記式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂が、下記式（４）で表される構造を有する樹脂である、上記［１１］記載の光学部材形成組成物。【００３０】
【化１２】
2018052012.tif 000014
【００３１】
（式（４）中、Ｌは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基又は単結合であり、
Ｒ０Ａは、水素原子であり、
Ｒ１Ａは、炭素数１〜３０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
ｎＡは、１〜４の整数であり、ここで、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜６の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜６の整数であり、
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。）
［１３］
溶媒をさらに含有する、上記［１］〜［１２］のいずれか記載の光学部材形成組成物。
［１４］
酸発生剤をさらに含有する、上記［１］〜［１３］のいずれか記載の光学部材形成組成物。
［１５］
架橋剤をさらに含有する、上記［１３］又は［１４］に記載の光学部材形成組成物。
［１６］
前記架橋剤が、フェノール化合物、エポキシ化合物、シアネート化合物、アミノ化合物、ベンゾオキサジン化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、ウレア化合物、イソシアネート化合物及びアジド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種である、上記［１５］に記載の光学部材形成組成物。
［１７］
前記架橋剤が、少なくとも１つのアリル基を有する、上記［１５］又は［１６］に記載の光学部材形成組成物。
［１８］
前記架橋剤の含有量が、固形成分の全質量の０．１〜５０質量％である、上記［１５］〜［１７］のいずれか記載の光学部材形成組成物。
［１９］
架橋促進剤をさらに含有する、上記［１５］〜［１８］のいずれか記載の光学部材形成組成物。
［２０］
前記架橋促進剤が、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、及びルイス酸からなる群より選ばれる少なくとも１種である、上記［１９］に記載の光学部材形成組成物。
［２１］
前記架橋促進剤の含有量が、固形成分の全質量の０．１〜１０質量％である、上記［１９］又は［２０］に記載の光学部材形成組成物。
［２２］
ラジカル重合開始剤をさらに含有する、上記［１３］〜［２１］のいずれか記載の光学部材形成組成物。
［２３］
前記ラジカル重合開始剤が、ケトン系光重合開始剤、有機過酸化物系重合開始剤及びアゾ系重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種である、上記［２２］に記載の光学部材形成組成物。
［２４］
前記ラジカル重合開始剤の含有量が、固形成分の全質量の０．１〜１０質量％である、上記［２２］又は［２３］に記載の光学部材形成組成物。
【発明の効果】
【００３２】
本発明により、耐熱性、透明性及び屈折率を高い次元で両立させた光学部材形成組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明を実施するための形態（以下「本実施形態」ともいう。）について説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明はその実施の形態のみに限定されない。
【００３４】
[光学部材形成組成物]
本実施形態における光学部材形成組成物は、以下に説明する化合物、及び／又は当該化合物を重合して得られる樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する。
【００３５】
［式（０）で表される化合物］
本実施形態における光学部材形成組成物は、下記式（０）で表される化合物を含有する。
【００３６】
【化１３】
2018052012.tif 000015
【００３７】
（式（０）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜４０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、チオール基、水酸基または水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
【００３８】
［式（０−１）で表される化合物］
本実施形態における式（０）で表される化合物は、以下の式（０−１）で表される化合物であることが好ましい。
【００３９】
【化１４】
2018052012.tif 000016
【００４０】
（式（０−１）中、ＲＹは、水素原子であり、
ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、
ＲＴ’は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ＲＴ’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、
ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数であり、
Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
【００４１】
本実施形態における式（０−１）で表される化合物は、耐熱性及び溶媒溶解性の観点から、以下の式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００４２】
【化１５】
2018052012.tif 000017
【００４３】
上記（１）式中、Ｒ０は、水素原子である。
Ｒ１は、炭素数１〜６０のｎ価の基又は単結合であり、このＲ１を介して各々の芳香環が結合している。
Ｒ２〜Ｒ５は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよい。但し、式（１）中、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基である。
ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の整数である。
ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数である。
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはない。
ｎは前記Ｎと同義であり、ここで、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、
ｐ２〜ｐ５は各々独立して０〜２の整数である。
【００４４】
なお、前記ｎ価の基とは、ｎ＝１の場合は、炭素数１〜６０のアルキル基、ｎ＝２の場合は、炭素数１〜３０のアルキレン基、ｎ＝３の場合は、炭素数２〜６０のアルカンプロパイル基、ｎ＝４の場合は、炭素数３〜６０のアルカンテトライル基を示す。前記ｎ価の基としては、例えば、直鎖状炭化水素基、分岐状炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有するもの等が挙げられる。ここで、前記脂環式炭化水素基については、有橋脂環式炭化水素基も含まれる。また、前記ｎ価の基は、炭素数６〜６０の芳香族基を有していてもよい。
【００４５】
また、前記ｎ価の炭化水素基は、脂環式炭化水素基、二重結合、ヘテロ原子もしくは炭素数６〜６０の芳香族基を有していてもよい。ここで、前記脂環式炭化水素基については、有橋脂環式炭化水素基も含まれる。
【００４６】
上記式（１）で表される化合物は、屈折率が高く、また、比較的に低分子量ながらも、その構造の剛直さにより高い耐熱性を有するので、高温ベーク条件でも使用可能である。また、安全溶媒に対する溶解性が高く、結晶性が抑制され、耐熱性及びエッチング耐性が良好であるため、上記式（１）で表される化合物を含む光学部材形成組成物は、良好な光学部材形状を与えることができる。また、低温から高温までの広範囲の熱処理によっても着色が比較的抑制されることから、各種光学部材形成組成物として有用である。光学部品としては、フィルム状、シート状の部品の他、プラスチックレンズ（プリズムレンズ、レンチキュラーレンズ、マイクロレンズ、フレネルレンズ、視野角制御レンズ、コントラスト向上レンズ等）、位相差フィルム、電磁波シールド用フィルム、プリズム、光ファイバー、フレキシブルプリント配線用ソルダーレジスト、メッキレジスト、多層プリント配線板用層間絶縁膜、感光性光導波路として有用である。
【００４７】
上記式（１）で表される化合物は、架橋のし易さと有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（１−１）で表される化合物であることが好ましい。
【００４８】
【化１６】
2018052012.tif 000018
【００４９】
式（１−１）中、
Ｒ０、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、ｎ、ｐ２〜ｐ５、ｍ４及びｍ５は、前記と同義であり、
Ｒ６〜Ｒ７は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、
Ｒ１０〜Ｒ１１は、各々独立して、水素原子又は酸架橋性基または酸解離性基であり、
ｍ６及びｍ７は、各々独立して０〜７の整数であり、
但し、ｍ４、ｍ５、ｍ６及びｍ７は同時に０になることはない。
【００５０】
また、上記式（１−１）で表される化合物は、さらなる架橋のし易さと有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【００５１】
【化１７】
2018052012.tif 000019
【００５２】
式（１−２）中、
Ｒ０、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ１０、Ｒ１１、ｎ、ｐ２〜ｐ５、ｍ６及びｍ７は、前記と同義であり、
Ｒ８〜Ｒ９は、前記Ｒ６〜Ｒ７と同義であり、
Ｒ１２〜Ｒ１３は、前記Ｒ１０〜Ｒ１１と同義であり、
ｍ８及びｍ９は、各々独立して、０〜８の整数である。
但し、ｍ６、ｍ７、ｍ８及びｍ９は同時に０になることはない。
【００５３】
また、上記式（１−１）で表される化合物は、原料の供給性の観点から、下記式（１ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【００５４】
【化１８】
2018052012.tif 000020
【００５５】
上記式（１ａ）中、Ｒ０〜Ｒ５、ｍ２〜ｍ５及びｎは、上記式（１）で説明したものと同義である。
【００５６】
上記式（１ａ）で表される化合物は、有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（１ｂ）で表される化合物であることがより好ましい。
【００５７】
【化１９】
2018052012.tif 000021
【００５８】
上記式（１ｂ）中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、ｍ４、ｍ５、ｎは上記式（１）で説明したものと同義であり、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ１０、Ｒ１１ｍ６、ｍ７は上記式（１−１）で説明したものと同義である。
【００５９】
上記式（１ｂ）で表される化合物は、有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（１ｃ）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【００６０】
【化２０】
2018052012.tif 000022
【００６１】
上記式（１ｃ）中、Ｒ０、Ｒ１、Ｒ６〜Ｒ１３、ｍ６〜ｍ９、ｎは上記式（１−２）で説明したものと同義である。
【００６２】
上記式（０）で表される化合物の具体例を以下に例示するが、式（０）で表される化合物は、ここで列挙した具体例に限定されるものではない。
【００６３】
【化２１】
2018052012.tif 000023
【００６４】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００６５】
【化２２】
2018052012.tif 000024
【００６６】
【化２３】
2018052012.tif 000025
【００６７】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００６８】
【化２４】
2018052012.tif 000026
【００６９】
【化２５】
2018052012.tif 000027
【００７０】
【化２６】
2018052012.tif 000028
【００７１】
【化２７】
2018052012.tif 000029
【００７２】
【化２８】
2018052012.tif 000030
【００７３】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００７４】
【化２９】
2018052012.tif 000031
【００７５】
【化３０】
2018052012.tif 000032
【００７６】
【化３１】
2018052012.tif 000033
【００７７】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００７８】
【化３２】
2018052012.tif 000034
【００７９】
【化３３】
2018052012.tif 000035
【００８０】
【化３４】
2018052012.tif 000036
【００８１】
【化３５】
2018052012.tif 000037
【００８２】
【化３６】
2018052012.tif 000038
【００８３】
【化３７】
2018052012.tif 000039
【００８４】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００８５】
【化３８】
2018052012.tif 000040
【００８６】
【化３９】
2018052012.tif 000041
【００８７】
【化４０】
2018052012.tif 000042
【００８８】
【化４１】
2018052012.tif 000043
【００８９】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００９０】
【化４２】
2018052012.tif 000044
【００９１】
【化４３】
2018052012.tif 000045
【００９２】
【化４４】
2018052012.tif 000046
【００９３】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【００９４】
【化４５】
2018052012.tif 000047
【００９５】
【化４６】
2018052012.tif 000048
【００９６】
【化４７】
2018052012.tif 000049
【００９７】
【化４８】
2018052012.tif 000050
【００９８】
【化４９】
2018052012.tif 000051
【００９９】
【化５０】
2018052012.tif 000052
【０１００】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲT’は上記式（０-１）で説明したＲT’と同義であり、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは１〜９の整数である。ＲT’の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【０１０１】
上記式（０）で表される化合物の具体例を、さらに以下に例示するが、ここで列挙した限りではない。
【０１０２】
【化５１】
2018052012.tif 000053
【０１０３】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲY’、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲY、ＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１０４】
【化５２】
2018052012.tif 000054
【０１０５】
【化５３】
2018052012.tif 000055
【０１０６】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１０７】
【化５４】
2018052012.tif 000056
【０１０８】
【化５５】
2018052012.tif 000057
【０１０９】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、ＲY’、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲY、ＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１１０】
【化５６】
2018052012.tif 000058
【０１１１】
【化５７】
2018052012.tif 000059
【０１１２】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義である。また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１１３】
【化５８】
2018052012.tif 000060
【０１１４】
【化５９】
2018052012.tif 000061
【０１１５】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義である。また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１１６】
【化６０】
2018052012.tif 000062
【０１１７】
【化６１】
2018052012.tif 000063
【０１１８】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義である。また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１１９】
【化６２】
2018052012.tif 000064
【０１２０】
【化６３】
2018052012.tif 000065
【０１２１】
【化６４】
2018052012.tif 000066
【０１２２】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義である。また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１２３】
【化６５】
2018052012.tif 000067
【０１２４】
【化６６】
2018052012.tif 000068
【０１２５】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義である。また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１２６】
【化６７】
2018052012.tif 000069
【０１２７】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１２８】
【化６８】
2018052012.tif 000070
【０１２９】
【化６９】
2018052012.tif 000071
【０１３０】
【化７０】
2018052012.tif 000072
【０１３１】
【化７１】
2018052012.tif 000073
【０１３２】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１３３】
【化７２】
2018052012.tif 000074
【０１３４】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１３５】
【化７３】
2018052012.tif 000075
【０１３６】
【化７４】
2018052012.tif 000076
【０１３７】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１３８】
【化７５】
2018052012.tif 000077
【０１３９】
【化７６】
2018052012.tif 000078
【０１４０】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１４１】
【化７７】
2018052012.tif 000079
【０１４２】
【化７８】
2018052012.tif 000080
【０１４３】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１４４】
【化７９】
2018052012.tif 000081
【０１４５】
【化８０】
2018052012.tif 000082
【０１４６】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１４７】
【化８１】
2018052012.tif 000083
【０１４８】
【化８２】
2018052012.tif 000084
【０１４９】
【化８３】
2018052012.tif 000085
【０１５０】
【化８４】
2018052012.tif 000086
【０１５１】
【化８５】
2018052012.tif 000087
【０１５２】
【化８６】
2018052012.tif 000088
【０１５３】
【化８７】
2018052012.tif 000089
【０１５４】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１５５】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１５６】
【化８８】
2018052012.tif 000090
【０１５７】
【化８９】
2018052012.tif 000091
【０１５８】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１５９】
【化９０】
2018052012.tif 000092
【０１６０】
【化９１】
2018052012.tif 000093
【０１６１】
【化９２】
2018052012.tif 000094
【０１６２】
【化９３】
2018052012.tif 000095
【０１６３】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１６４】
【化９４】
2018052012.tif 000096
【０１６５】
【化９５】
2018052012.tif 000097
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１６６】
【化９６】
2018052012.tif 000098
【０１６７】
【化９７】
2018052012.tif 000099
【０１６８】
上記式中、Ｘは、上記式（０）で説明したものと同義であり、また、ＲZ’は上記式（０）で説明したＲZと同義である。さらに、R4Aは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基または酸解離性基である。
【０１６９】
以下に、上記式（１）で表される化合物の具体例を例示するが、ここで列挙した限りではない。
【０１７０】
【化９８】
2018052012.tif 000100
【０１７１】
【化９９】
2018052012.tif 000101
【０１７２】
【化１００】
2018052012.tif 000102
【０１７３】
【化１０１】
2018052012.tif 000103
【０１７４】
【化１０２】
2018052012.tif 000104
【０１７５】
【化１０３】
2018052012.tif 000105
【０１７６】
【化１０４】
2018052012.tif 000106
【０１７７】
【化１０５】
2018052012.tif 000107
【０１７８】
前記化合物中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は上記式（１）で説明したものと同義であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基である。ｍ２及びｍ３は各ヶ独立して０〜８の整数であり、ｍ４及びｍ５は各ヶ独立して０〜９の整数である。但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５が同時に０となることはない。
【０１７９】
【化１０６】
2018052012.tif 000108
【０１８０】
【化１０７】
2018052012.tif 000109
【０１８１】
【化１０８】
2018052012.tif 000110
【０１８２】
【化１０９】
2018052012.tif 000111
【０１８３】
前記化合物中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は上記式（１）で説明したものと同義であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基である。ｍ２及びｍ３は各ヶ独立して０〜８の整数であり、ｍ４及びｍ５は各ヶ独立して０〜９の整数である。但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５が同時に０となることはない。
【０１８４】
【化１１０】
2018052012.tif 000112
【０１８５】
【化１１１】
2018052012.tif 000113
【０１８６】
【化１１２】
2018052012.tif 000114
【化１１３】
2018052012.tif 000115
【０１８７】
前記化合物中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は上記式（１）で説明したものと同義であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基である。ｍ２及びｍ３は各ヶ独立して０〜８の整数であり、ｍ４及びｍ５は各ヶ独立して０〜９の整数である。但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５が同時に０となることはない。
【０１８８】
【化１１４】
2018052012.tif 000116
【０１８９】
【化１１５】
2018052012.tif 000117
【０１９０】
【化１１６】
2018052012.tif 000118
【０１９１】
前記化合物中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は上記式（１）で説明したものと同義であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基である。ｍ２及びｍ３は各ヶ独立して０〜８の整数であり、ｍ４及びｍ５は各ヶ独立して０〜９の整数である。但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５が同時に０となることはない。
【０１９２】
【化１１７】
2018052012.tif 000119
【０１９３】
【化１１８】
2018052012.tif 000120
【０１９４】
【化１１９】
2018052012.tif 000121
【０１９５】
【化１２０】
2018052012.tif 000122
【０１９６】
【化１２１】
2018052012.tif 000123
【０１９７】
【化１２２】
2018052012.tif 000124
【０１９８】
【化１２３】
2018052012.tif 000125
【０１９９】
【化１２４】
2018052012.tif 000126
【０２００】
【化１２５】
2018052012.tif 000127
【０２０１】
【化１２６】
2018052012.tif 000128
【０２０２】
【化１２７】
2018052012.tif 000129
【０２０３】
【化１２８】
2018052012.tif 000130
【０２０４】
【化１２９】
2018052012.tif 000131
【０２０５】
【化１３０】
2018052012.tif 000132
【０２０６】
【化１３１】
2018052012.tif 000133
【０２０７】
【化１３２】
2018052012.tif 000134
【０２０８】
前記化合物中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は上記式（１−２）で説明したものと同義である。
【０２０９】
【化１３３】
2018052012.tif 000135
【０２１０】
【化１３４】
2018052012.tif 000136
【０２１１】
【化１３５】
2018052012.tif 000137
【０２１２】
【化１３６】
2018052012.tif 000138
【０２１３】
【化１３７】
2018052012.tif 000139
【０２１４】
【化１３８】
2018052012.tif 000140
【０２１５】
【化１３９】
2018052012.tif 000141
【０２１６】
【化１４０】
2018052012.tif 000142
【０２１７】
【化１４１】
2018052012.tif 000143
【０２１８】
【化１４２】
2018052012.tif 000144
【０２１９】
【化１４３】
2018052012.tif 000145
【０２２０】
【化１４４】
2018052012.tif 000146
【０２２１】
【化１４５】
2018052012.tif 000147
【０２２２】
【化１４６】
2018052012.tif 000148
【０２２３】
【化１４７】
2018052012.tif 000149
【０２２４】
【化１４８】
2018052012.tif 000150
【０２２５】
【化１４９】
2018052012.tif 000151
【０２２６】
前記化合物中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は上記式（１−２）で説明したものと同義である。
前記式（１）で表される化合物は、さらなる有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（ＢｉＦ−１）〜（ＢｉＦ−１０）で表される化合物であることが特に好ましい（具体例中のＲ１０〜Ｒ１３は上述のものと同義である）。
【０２２７】
【化１５０】
2018052012.tif 000152
【化１５１】
2018052012.tif 000153
【化１５２】
2018052012.tif 000154
【０２２８】
【化１５３】
2018052012.tif 000155
【０２２９】
【化１５４】
2018052012.tif 000156
【０２３０】
【化１５５】
2018052012.tif 000157
【０２３１】
【化１５６】
2018052012.tif 000158
【０２３２】
【化１５７】
2018052012.tif 000159
【０２３３】
【化１５８】
2018052012.tif 000160
【０２３４】
【化１５９】
2018052012.tif 000161
【０２３５】
上記式（ＢｉＦ−１）〜（ＢｉＦ−１０）中、Ｒ６’〜Ｒ９’は、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基又はチオール基であり、ここで、Ｒ６’〜Ｒ９’の少なくとも１つは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、Ｒ１０〜Ｒ１３は上記式（１ｃ）で説明したものと同義である。
【０２３６】
【化１６０】
2018052012.tif 000162
【０２３７】
前記式中、Ｒ０、Ｒ１、ｎは上記式（１−１）で説明したものと同義であり、Ｒ１０’及びＲ１１’は上記式（１−１）で説明したＲ１０及びＲ１１と同義であり、Ｒ４’及びＲ５’は各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基、水酸基又は式（０−１）で示される基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基、前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合またはエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ１０’及びＲ１１’の少なくとも１つは式（０−１）で示される基を含む。ｍ４’及びｍ５’は、０〜８の整数であり、ｍ１０’及びｍ１１’は１〜９の整数であり、ｍ４’＋ｍ１０’及びｍ５’＋ｍ１１’は各々独立して１〜９の整数である。
【０２３８】
Ｒ０は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレニル基、ビフェニル基、ヘプタセン基が挙げられる。
Ｒ４’及びＲ５’は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレニル基、ビフェニル基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
【０２３９】
前記Ｒ０、Ｒ４’、Ｒ５’の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０２４０】
【化１６１】
2018052012.tif 000163
【０２４１】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１６は、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、炭素数６〜３０の2価のアリール基、又は炭素数２〜３０の2価のアルケニル基である。
Ｒ１６は、例えば、メチレン基、エチレン基、プロペン基、ブテン基、ペンテン基、ヘキセン基、ヘプテン基、オクテン基、ノネン基、デセン基、ウンデセン基、ドデセン基、トリアコンテン基、シクロプロペン基、シクロブテン基、シクロペンテン基、シクロヘキセン基、シクロヘプテン基、シクロオクテン基、シクロノネン基、シクロデセン基、シクロウンデセン基、シクロドデセン基、シクロトリアコンテン基、2価のノルボルニル基、2価のアダマンチル基、2価のフェニル基、2価のナフチル基、2価のアントラセン基、2価のピレン基、2価のビフェニル基、2価のヘプタセン基、2価のビニル基、2価のアリル基、2価のトリアコンテニル基が挙げられる。
【０２４２】
前記Ｒ１６の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０２４３】
【化１６２】
2018052012.tif 000164
【０２４４】
【化１６３】
2018052012.tif 000165
【０２４５】
【化１６４】
2018052012.tif 000166
【０２４６】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１４は各々独立して、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、又は炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ｍ１４は０〜５の整数である。ｍ１４’は０〜４の整数であり、ｍ１４は０〜５の整数である。
【０２４７】
Ｒ１４は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレニル基、ビフェニル基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
【０２４８】
前記Ｒ１４の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０２４９】
【化１６５】
2018052012.tif 000167
【０２５０】
前記式中、Ｒ０、Ｒ４’、Ｒ５’、ｍ４’、ｍ５’、ｍ１０’、ｍ１１’は前記と同義であり、Ｒ１’は、炭素数１〜６０の基である。
【０２５１】
【化１６６】
2018052012.tif 000168
【０２５２】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１４は各々独立して、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、又は炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ｍ１４は０〜５の整数であり、ｍ１４’は０〜４の整数であり、ｍ１４’’は０〜３の整数である。
【０２５３】
Ｒ１４は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレニル基、ビフェニル基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
前記Ｒ１４の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０２５４】
【化１６７】
2018052012.tif 000169
【０２５５】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１５は、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、又は炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基である。
【０２５６】
Ｒ１５は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレニル基、ビフェニル基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
【０２５７】
前記Ｒ１５の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０２５８】
【化１６８】
2018052012.tif 000170
【０２５９】
【化１６９】
2018052012.tif 000171
【０２６０】
【化１７０】
2018052012.tif 000172
【０２６１】
【化１７１】
2018052012.tif 000173
【０２６２】
【化１７２】
2018052012.tif 000174
【０２６３】
【化１７３】
2018052012.tif 000175
【０２６４】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義である。
【０２６５】
原料の入手性の観点から、更に好ましくは以下に表される化合物である。
【０２６６】
【化１７４】
2018052012.tif 000176
【０２６７】
【化１７５】
2018052012.tif 000177
【０２６８】
【化１７６】
2018052012.tif 000178
【０２６９】
【化１７７】
2018052012.tif 000179
【０２７０】
【化１７８】
2018052012.tif 000180
【０２７１】
【化１７９】
2018052012.tif 000181
【０２７２】
【化１８０】
2018052012.tif 000182
【０２７３】
【化１８１】
2018052012.tif 000183
【０２７４】
【化１８２】
2018052012.tif 000184
【０２７５】
【化１８３】
2018052012.tif 000185
【０２７６】
【化１８４】
2018052012.tif 000186
【０２７７】
【化１８５】
2018052012.tif 000187
【０２７８】
【化１８６】
2018052012.tif 000188
【０２７９】
【化１８７】
2018052012.tif 000189
【０２８０】
【化１８８】
2018052012.tif 000190
【０２８１】
【化１８９】
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【０２８２】
【化１９０】
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【０２８３】
【化１９１】
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【０２８４】
【化１９２】
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【０２８５】
【化１９３】
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【０２８６】
【化１９４】
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【０２８７】
【化１９５】
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【０２８８】
【化１９６】
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【０２８９】
【化１９７】
2018052012.tif 000199
【０２９０】
【化１９８】
2018052012.tif 000200
【０２９１】
【化１９９】
2018052012.tif 000201
【０２９２】
【化２００】
2018052012.tif 000202
【０２９３】
【化２０１】
2018052012.tif 000203
【０２９４】
【化２０２】
2018052012.tif 000204
【０２９５】
【化２０３】
2018052012.tif 000205
【０２９６】
【化２０４】
2018052012.tif 000206
【０２９７】
【化２０５】
2018052012.tif 000207
【０２９８】
【化２０６】
2018052012.tif 000208
【０２９９】
【化２０７】
2018052012.tif 000209
【０３００】
【化２０８】
2018052012.tif 000210
【０３０１】
【化２０９】
2018052012.tif 000211
【０３０２】
【化２１０】
2018052012.tif 000212
【０３０３】
【化２１１】
2018052012.tif 000213
【０３０４】
【化２１２】
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【０３０５】
【化２１３】
2018052012.tif 000215
【０３０６】
【化２１４】
2018052012.tif 000216
【０３０７】
【化２１５】
2018052012.tif 000217
【０３０８】
【化２１６】
2018052012.tif 000218
【０３０９】
【化２１７】
2018052012.tif 000219
【０３１０】
【化２１８】
2018052012.tif 000220
【０３１１】
【化２１９】
2018052012.tif 000221
【０３１２】
【化２２０】
2018052012.tif 000222
【０３１３】
【化２２１】
2018052012.tif 000223
【０３１４】
【化２２２】
2018052012.tif 000224
【０３１５】
【化２２３】
2018052012.tif 000225
【０３１６】
【化２２４】
2018052012.tif 000226
【０３１７】
【化２２５】
2018052012.tif 000227
【０３１８】
【化２２６】
2018052012.tif 000228
【０３１９】
【化２２７】
2018052012.tif 000229
【０３２０】
【化２２８】
2018052012.tif 000230
【０３２１】
【化２２９】
2018052012.tif 000231
【０３２２】
【化２３０】
2018052012.tif 000232
【０３２３】
【化２３１】
2018052012.tif 000233
【０３２４】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義である。
【０３２５】
さらに前記式で表される化合物は、エッチング耐性の観点から以下の構造が好ましい。
【０３２６】
【化２３２】
2018052012.tif 000234
【０３２７】
【化２３３】
2018052012.tif 000235
【０３２８】
前記式中、Ｒ１Ａ’はＲＺと同義であり、Ｒ１０〜Ｒ１３は、前記式（１−２）で説明したものと同義である。
【０３２９】
【化２３４】
2018052012.tif 000236
【０３３０】
【化２３５】
2018052012.tif 000237
【０３３１】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は、前記式（１−２）で説明したものと同義である。Ｒ１４は各々独立して、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、又は炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ｍ１４は０〜４の整数である。
【０３３２】
Ｒ１４は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
前記Ｒ１４の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０３３３】
【化２３６】
2018052012.tif 000238
【０３３４】
【化２３７】
2018052012.tif 000239
【０３３５】
【化２３８】
2018052012.tif 000240
【０３３６】
【化２３９】
2018052012.tif 000241
【０３３７】
【化２４０】
2018052012.tif 000242
【０３３８】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１５は、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、又は炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基である。
【０３３９】
Ｒ１５は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
前記Ｒ１５の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０３４０】
【化２４１】
2018052012.tif 000243
【０３４１】
【化２４２】
2018052012.tif 000244
【０３４２】
【化２４３】
2018052012.tif 000245
【０３４３】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１６は、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、炭素数６〜３０の2価のアリール基、又は炭素数２〜３０の2価のアルケニル基である。
【０３４４】
Ｒ１６は、例えば、メチレン基、エチレン基、プロペン基、ブテン基、ペンテン基、ヘキセン基、ヘプテン基、オクテン基、ノネン基、デセン基、ウンデセン基、ドデセン基、トリアコンテン基、シクロプロペン基、シクロブテン基、シクロペンテン基、シクロヘキセン基、シクロヘプテン基、シクロオクテン基、シクロノネン基、シクロデセン基、シクロウンデセン基、シクロドデセン基、シクロトリアコンテン基、2価のノルボニル基、2価のアダマンチル基、2価のフェニル基、2価のナフチル基、2価のアントラセン基、2価のヘプタセン基、2価のビニル基、2価のアリル基、2価のトリアコンテニル基が挙げられる。
前記Ｒ１６の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０３４５】
【化２４４】
2018052012.tif 000246
【０３４６】
【化２４５】
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【０３４７】
【化２４６】
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【０３４８】
【化２４７】
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【０３４９】
【化２４８】
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【０３５０】
【化２４９】
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【０３５１】
【化２５０】
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【０３５２】
【化２５１】
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【０３５３】
【化２５２】
2018052012.tif 000254
【０３５４】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１４は各々独立して、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、又は炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、チオール基であり、ｍ１４’は０〜５の整数である。
【０３５５】
Ｒ１４は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリアコンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロトリアコンチル基、ノルボニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ヘプタセン基、ビニル基、アリル基、トリアコンテニル基、メトキシ基、エトキシ基、トリアコンチキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、チオール基が挙げられる。
前記Ｒ１４の各例示は、異性体を含んでいる。例えば、ブチル基には、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を含んでいる。
【０３５６】
【化２５３】
2018052012.tif 000255
【０３５７】
【化２５４】
2018052012.tif 000256
【０３５８】
【化２５５】
2018052012.tif 000257
【０３５９】
【化２５６】
2018052012.tif 000258
【０３６０】
【化２５７】
2018052012.tif 000259
【０３６１】
【化２５８】
2018052012.tif 000260
【０３６２】
【化２５９】
2018052012.tif 000261
【０３６３】
【化２６０】
2018052012.tif 000262
【０３６４】
【化２６１】
2018052012.tif 000263
【０３６５】
【化２６２】
2018052012.tif 000264
【０３６６】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義である。
【０３６７】
前記式で表される化合物は、ジベンゾキサンテン骨格を有する方が耐熱性の観点から好ましい。
【０３６８】
原料の入手性の観点から、更に好ましくは以下に表される化合物である。
【０３６９】
【化２６３】
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【０３７０】
【化２６４】
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【０３７１】
【化２６５】
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【０３７２】
【化２６６】
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【０３７３】
【化２６７】
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【０３７４】
【化２６８】
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【０３７５】
【化２６９】
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【０３７６】
【化２７０】
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【０３７７】
【化２７１】
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【０３７８】
【化２７２】
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【０３７９】
【化２７３】
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【０３８０】
【化２７４】
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【０３８１】
【化２７５】
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【０３８２】
【化２７６】
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【０３８３】
【化２７７】
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【０３８４】
【化２７８】
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【０３８５】
【化２７９】
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【０３８６】
【化２８０】
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【０３８７】
【化２８１】
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【０３８８】
【化２８２】
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【０３８９】
【化２８３】
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【０３９０】
【化２８４】
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【０３９１】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義である。
【０３９２】
前記式で表される化合物は、ジベンゾキサンテン骨格を有する方が耐熱性の観点から好ましい。
【０３９３】
前記式で表される化合物は、原料入手性の観点から以下の構造が好ましい。
更に、ジベンゾキサンテン骨格を有する方が耐熱性の観点から好ましい。 
【０３９４】
【化２８５】
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【０３９５】
前記式中、Ｒ１Ａ’はＲＺと同義であり、Ｒ１０〜Ｒ１３は、前記式（１−２）で説明したものと同義である。
前記式で表される化合物は、キサンテン骨格を有する方が耐熱性の観点から好ましい。
【０３９６】
【化２８６】
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【０３９７】
【化２８７】
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【０３９８】
【化２８８】
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【０３９９】
【化２８９】
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【０４００】
【化２９０】
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【０４０１】
【化２９１】
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【０４０２】
【化２９２】
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【０４０３】
【化２９３】
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【０４０４】
【化２９４】
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【０４０５】
【化２９５】
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【０４０６】
【化２９６】
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【０４０７】
【化２９７】
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【０４０８】
【化２９８】
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【０４０９】
【化２９９】
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【０４１０】
【化３００】
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【０４１１】
【化３０１】
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【０４１２】
【化３０２】
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【０４１３】
【化３０３】
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【０４１４】
【化３０４】
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【０４１５】
【化３０５】
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【０４１６】
【化３０６】
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【０４１７】
【化３０７】
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【０４１８】
【化３０８】
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【０４１９】
【化３０９】
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【０４２０】
【化３１０】
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【０４２１】
【化３１１】
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【０４２２】
【化３１２】
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【０４２３】
【化３１３】
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【０４２４】
【化３１４】
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【０４２５】
【化３１５】
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【０４２６】
【化３１６】
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【０４２７】
【化３１７】
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【０４２８】
【化３１８】
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【０４２９】
【化３１９】
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【０４３０】
【化３２０】
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【０４３１】
【化３２１】
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【０４３２】
前記式中、Ｒ１０〜Ｒ１３は前記式（１−２）で説明したものと同義であり、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、ｍ１４、ｍ１４‘は前記と同義である。  
【０４３３】
［式（１）で表される化合物の製造方法］
本実施形態における式（１）で表される化合物は、公知の手法を応用して適宜合成することができ、その合成手法は特に限定されない。
例えば、常圧下、ビフェノール類、ビナフトール類又はビアントラセンオールと、対応するアルデヒド類とを酸触媒下にて重縮合反応させることによって、上記式（１）で表される化合物を得ることができる。また、その化合物の少なくとも１つのフェノール性水酸基に、公知の方法により酸解離性基または酸架橋性基を導入できる。また、必要に応じて、加圧下で行うこともできる。
【０４３４】
前記ビフェノール類としては、例えば、ビフェノール、メチルビフェノール、メトキシビナフトール等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらは、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、原料の安定供給性の観点から、ビフェノールを用いることがより好ましい。
【０４３５】
前記ビナフトール類としては、例えば、ビナフトール、メチルビナフトール、メトキシビナフトール等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、炭素原子濃度を上げ、耐熱性を向上させる観点から、ビナフトールを用いることがより好ましい。
【０４３６】
前記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラール等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、高い耐熱性を付与する観点から、ベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、シクロヘキシルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラールを用いることが好ましく、エッチング耐性を向上させる観点から、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、シクロヘキシルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラールを用いることがより好ましい。
アルデヒド類としては、高い耐熱性及び高いエッチング耐性を兼備するという観点から、芳香環を有するアルデヒドを用いることが好ましい。
【０４３７】
上記反応に用いる酸触媒については、公知のものから適宜選択して用いることができ、特に限定されない。このような酸触媒としては、無機酸や有機酸が広く知られており、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、フッ酸等の無機酸；シュウ酸、マロン酸、こはく酸、アジピン酸、セバシン酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸等の有機酸；塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸、或いはケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸又はリンモリブデン酸等の固体酸等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらの中でも、製造上の観点から、有機酸および固体酸が好ましく、入手の容易さや取り扱い易さ等の製造上の観点から、塩酸又は硫酸を用いることがより好ましい。なお、酸触媒については、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、酸触媒の使用量は、使用する原料及び使用する触媒の種類、さらには反応条件等に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、反応原料１００質量部に対して、０．０１〜１００質量部であることが好ましい。
【０４３８】
上記反応の際には、反応溶媒を用いてもよい。反応溶媒としては、用いるアルデヒド類と、ビフェノール類、ビナフトール類又はビアントラセンジオールとの反応が進行するものであれば、特に限定されず、公知のものの中から適宜選択して用いることができる。反応溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。なお、溶媒は、１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０４３９】
また、これらの反応溶媒の使用量は、使用する原料及び触媒の種類、さらには反応条件等に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、反応原料１００質量部に対して０〜２０００質量部の範囲であることが好ましい。さらに、上記反応における反応温度は、反応原料の反応性に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、通常１０〜２００℃の範囲である。
【０４４０】
本実施形態における式（１）で表される化合物を得るためには、反応温度は高い方が好ましく、具体的には６０〜２００℃の範囲が好ましい。なお、反応方法は、公知の手法を適宜選択して用いることができ、特に限定されないが、ビフェノール類、ビナフトール類又はビアントラセンジオール、アルデヒド類、触媒を一括で仕込む方法や、ビフェノール類、ビナフトール類又はビアントラセンジオールやケトン類を触媒存在下で滴下していく方法が挙げられる。重縮合反応終了後、得られた化合物の単離は、常法に従って行うことができ、特に限定されない。例えば、系内に存在する未反応原料や触媒等を除去するために、反応釜の温度を１３０〜２３０℃にまで上昇させ、１〜５０ｍｍＨｇ程度で揮発分を除去する等の一般的手法を採ることにより、目的物である化合物を単離することができる。
【０４４１】
好ましい反応条件としては、アルデヒド類１モルに対し、ビフェノール類、ビナフトール類又はビアントラセンジオールを１モル〜過剰量、及び酸触媒を０．００１〜１モル使用し、常圧で、５０〜１５０℃で２０分〜１００時間程度反応させることが挙げられる。
【０４４２】
反応終了後、公知の方法により目的物を単離することができる。例えば、反応液を濃縮し、純水を加えて反応生成物を析出させ、室温まで冷却した後、濾過を行って分離させ、得られた固形物を濾過し、乾燥させた後、カラムクロマトグラフにより副生成物と分離精製し、溶媒留去、濾過、乾燥を行って目的物である前記式（１）で表される化合物を得ることができる。
【０４４３】
また、ポリフェノール化合物の少なくとも１つのフェノール性水酸基に、酸解離性基または酸架橋性基を導入する方法は公知である。例えば、以下のようにして、前記化合物の少なくとも１つのフェノール性水酸基に、酸解離性基または酸架橋性基を導入することができる。
【０４４４】
酸解離性基を導入するための化合物は、公知の方法で合成もしくは容易に入手でき、例えば、酸クロライド、酸無水物、ジカーボネートなどの活性カルボン酸誘導体化合物、アルキルハライド、ビニルアルキルエーテル、ジヒドロピラン、ハロカルボン酸アルキルエステル等が挙げられるが、特に限定はされない。
【０４４５】
例えば、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の非プロトン性溶媒に前記化合物を溶解又は懸濁させる。続いて、エチルビニルエーテル等のビニルアルキルエーテル又はジヒドロピランを加え、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホナート等の酸触媒の存在下、常圧で、２０〜６０℃、６〜７２時間反応させる。反応液をアルカリ化合物で中和し、蒸留水に加え白色固体を析出させた後、分離した白色固体を蒸留水で洗浄し、乾燥することにより、水酸基の水素原子が酸解離性基に置換された化合物を得ることができる。
【０４４６】
また、例えば、アセトン、ＴＨＦ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の非プロトン性溶媒に、水酸基を有する前記化合物を溶解又は懸濁させる。続いて、エチルクロロメチルエーテル等のアルキルハライド又はブロモ酢酸メチルアダマンチル等のハロカルボン酸アルキルエステルを加え、炭酸カリウム等のアルカリ触媒の存在下、常圧で、２０〜１１０℃、６〜７２時間反応させる。反応液を塩酸等の酸で中和し、蒸留水に加え白色固体を析出させた後、分離した白色固体を蒸留水で洗浄し、乾燥することにより、水酸基の水素原子が酸解離性基に置換された化合物を得ることができる。
なお、酸解離性基を導入するタイミングについては、ビナフトール類とケトン類との縮合反応後のみならず、縮合反応の前段階でもよい。また、後述する樹脂の製造を行った後に行ってもよい。
【０４４７】
本実施形態において酸解離性基とは、酸の存在下で開裂して、アルカリ可溶性基等の溶解性を変化させる官能基を生じる特性基をいう。アルカリ可溶性基としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、ヘキサフルオロイソプロパノール基等が挙げられ、中でも、アルカリ現像性の観点から、フェノール性水酸基及びカルボキシル基が好ましく、フェノール性水酸基が特に好ましい。酸解離性基は、光学部材形成の生産性を向上させる観点から、酸の存在下で連鎖的に開裂反応を起こす性質を有することが好ましい。
【０４４８】
酸架橋性基を導入するための化合物は、公知の方法で合成もしくは容易に入手でき、例えば、アリルハライド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸ハライド、メタクリル酸ハライド、ビニルベンジルハライド、エピハロヒドリン等が挙げられるが、特に限定はされない。
【０４４９】
例えば、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の非プロトン性溶媒に前記化合物を溶解又は懸濁させる。続いて、エピクロルヒドリンやエピブロモヒドリン等のエピハロヒドリンを加え、塩酸等の酸触媒の存在下、常圧で、０〜６０℃、６〜７２時間反応させる。反応液をアルカリ化合物で中和し、蒸留水に加え白色固体を析出させた後、分離した白色固体を蒸留水で洗浄し、乾燥することにより、水酸基の水素原子が酸架橋性基に置換された化合物を得ることができる。
【０４５０】
また、例えば、アセトン、ＴＨＦ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の非プロトン性溶媒に、水酸基を有する前記化合物を溶解又は懸濁させる。続いて、アリルクロライドやアリルブロマイド等のアリルハライド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロライドやアクリル酸ブロマイド等のアクリル酸ハライド、メタクリル酸クロライドやメタクリル酸ブロマイド等のメタクリル酸ハライド、ビニルベンジルクロライドやビニルベンジルブロマイド等のビニルベンジルハライドを加え、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、炭酸カリウム等のアルカリ触媒の存在下、常圧で、０〜１１０℃、６〜７２時間反応させる。反応液を塩酸等の酸で中和し、蒸留水に加え白色固体を析出させた後、分離した白色固体を蒸留水で洗浄し、乾燥することにより、水酸基の水素原子が酸架橋性基に置換された化合物を得ることができる。
なお、酸架橋性基を導入するタイミングについては、ビナフトール類とケトン類との縮合反応後のみならず、縮合反応の前段階でもよい。また、後述する樹脂の製造を行った後に行ってもよい。
【０４５１】
本実施形態において酸架橋性基とは、ラジカルまたは酸／アルカリの存在下で反応し、塗布溶媒や現像液に使用される酸、アルカリ又は有機溶媒に対する溶解性が変化する特性基をいう。
酸架橋性基としては、例えば、アリル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、アルコキシメチル基やシアナト基が挙げられるが、ラジカルまたは酸／アルカリの存在下で反応すれば、これらに限定されない。
酸架橋性基は、光学部材形成の生産性を向上させる観点から、酸の存在下で連鎖的に開裂反応を起こす性質を有することが好ましい。
【０４５２】
［式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂］
前記式（１）で表される化合物は、光学部材形成組成物に含有させて使用することができる。また、前記式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を光学部材形成組成物に含有させて使用することもできる。樹脂は、例えば、前記式（１）で表される化合物と架橋反応性のある化合物とを反応させて得られる。
前記式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂としては、例えば、以下の式（３）で表される構造を有するものが挙げられる。すなわち、本実施形態における光学部材形成組成物は、下記式（３）で表される構造を有する樹脂を含有するものであってもよい。
【０４５３】
【化３２２】
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【０４５４】
式（３）中、Ｌは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合である。
Ｒ０、Ｒ１、Ｒ２〜Ｒ５、ｍ２及びｍ３、ｍ４及びｍ５、ｐ２〜ｐ５、ｎは前記式（１）におけるものと同義である。
但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０になることはなく、Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【０４５５】
［式（１）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂の製造方法］
本実施形態における樹脂は、上記式（１）で表される化合物を、架橋反応性のある化合物と反応させることにより得られる。架橋反応性のある化合物としては、前記式（１）で表される化合物をオリゴマー化又はポリマー化し得るものである限り、公知のものを特に制限なく使用することができる。その具体例としては、例えば、アルデヒド、ケトン、カルボン酸、カルボン酸ハライド、ハロゲン含有化合物、アミノ化合物、イミノ化合物、イソシアネート、不飽和炭化水素基含有化合物等が挙げられるが、これらに特に限定されない。
【０４５６】
前記式（３）で表される構造を有する樹脂の具体例としては、例えば、上記式（１）で表される化合物を架橋反応性のある化合物であるアルデヒド及び／又はケトンとの縮合反応等によってノボラック化した樹脂が挙げられる。
【０４５７】
ここで、前記式（１）で表される化合物をノボラック化する際に用いるアルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラール等が挙げられるが、これらに特に限定されない。ケトンとしては、前記ケトン類が挙げられる。これらの中でも、ホルムアルデヒドがより好ましい。なお、これらのアルデヒド及び／又はケトン類は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記アルデヒド及び／又はケトン類の使用量は、特に限定されないが、上記式（１）で表される化合物１モルに対して、０．２〜５モルが好ましく、より好ましくは０．５〜２モルである。
【０４５８】
前記式（１）で表される化合物とアルデヒド及び／又はケトンとの縮合反応においては、酸触媒を用いることもできる。ここで使用する酸触媒については、公知のものから適宜選択して用いることができ、特に限定されない。このような酸触媒としては、無機酸や有機酸が広く知られており、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、フッ酸等の無機酸；シュウ酸、マロン酸、こはく酸、アジピン酸、セバシン酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸等の有機酸；塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸、或いはケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸又はリンモリブデン酸等の固体酸等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらの中でも、製造上の観点から、有機酸および固体酸が好ましく、入手の容易さや取り扱い易さ等の製造上の観点から、塩酸又は硫酸が好ましい。なお、酸触媒については、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０４５９】
また、酸触媒の使用量は、使用する原料及び触媒の種類、さらには反応条件等に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、反応原料１００質量部に対して、０．０１〜１００質量部であることが好ましい。但し、インデン、ヒドロキシインデン、ベンゾフラン、ヒドロキシアントラセン、アセナフチレン、ビフェニル、ビスフェノール、トリスフェノール、ジシクロペンタジエン、テトラヒドロインデン、４−ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、５−ビニルノルボルナ−２−エン、α−ピネン、β−ピネン、リモネン等の非共役二重結合を有する化合物との共重合反応の場合は、必ずしもアルデヒド類は必要ない。
【０４６０】
前記式（１）で表される化合物とアルデヒド及び／又はケトンとの縮合反応においては、反応溶媒を用いることもできる。この重縮合における反応溶媒としては、公知のものの中から適宜選択して用いることができ、特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。なお、溶媒は、１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０４６１】
また、これらの溶媒の使用量は、使用する原料及び触媒の種類、さらには反応条件などに応じて適宜設定でき、特に限定されないが、反応原料１００質量部に対して０〜２０００質量部の範囲であることが好ましい。さらに、反応温度は、反応原料の反応性に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、通常１０〜２００℃の範囲である。なお、反応方法は、公知の手法を適宜選択して用いることができ、特に限定されないが、上記式（１）で表される化合物、アルデヒド及び／又はケトン類、触媒を一括で仕込む方法や、上記式（１）で表される化合物やアルデヒド及び／又はケトン類を触媒存在下で滴下していく方法が挙げられる。
【０４６２】
重縮合反応終了後、得られた化合物の単離は、常法に従って行うことができ、特に限定されない。例えば、系内に存在する未反応原料や触媒等を除去するために、反応釜の温度を１３０〜２３０℃にまで上昇させ、１〜５０ｍｍＨｇ程度で揮発分を除去する等の一般的手法を採ることにより、目的物であるノボラック化した樹脂を単離することができる。
【０４６３】
ここで、前記式（３）で表される構造を有する樹脂は、前記式（１）で表される化合物の単独重合体であってもよいが、他のフェノール類との共重合体であってもよい。ここで共重合可能なフェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、トリメチルフェノール、ブチルフェノール、フェニルフェノール、ジフェニルフェノール、ナフチルフェノール、レゾルシノール、メチルレゾルシノール、カテコール、ブチルカテコール、メトキシフェノール、メトキシフェノール、プロピルフェノール、ピロガロール、チモール等が挙げるが、これらに特に限定されない。
【０４６４】
また、前記式（３）で表される構造を有する樹脂は、上述した他のフェノール類以外に、重合可能なモノマーと共重合させたものであってもよい。かかる共重合モノマーとしては、例えば、ナフトール、メチルナフトール、メトキシナフトール、ジヒドロキシナフタレン、インデン、ヒドロキシインデン、ベンゾフラン、ヒドロキシアントラセン、アセナフチレン、ビフェニル、ビスフェノール、トリスフェノール、ジシクロペンタジエン、テトラヒドロインデン、４−ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルナエン、ピネン、リモネン等が挙げられるが、これらに特に限定されない。なお、前記式（３）で表される構造を有する樹脂は、前記式（１）で表される化合物と上述したフェノール類との２元以上の（例えば、２〜４元系）共重合体であっても、前記式（１）で表される化合物と上述した共重合モノマーとの２元以上（例えば、２〜４元系）共重合体であっても、前記式（１）で表される化合物と上述したフェノール類と上述した共重合モノマーとの３元以上の（例えば、３〜４元系）共重合体であっても構わない。
【０４６５】
なお、前記式（３）で表される構造を有する樹脂の分子量は、特に限定されないが、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜３０，０００であることが好ましく、より好ましくは７５０〜２０，０００である。また、架橋効率を高めるとともにベーク中の揮発成分を抑制する観点から、前記式（３）で表される構造を有する樹脂は、分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１．２〜７の範囲内であることが好ましい。なお、上記Ｍｗ及びＭｎは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析による、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）をいう。
【０４６６】
前記式（３）で表される構造を有する樹脂は、湿式プロセスの適用がより容易になる等の観点から、溶媒に対する溶解性が高いものであることが好ましい。より具体的には、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＧＭＥ）及び／又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を溶媒とする場合、当該溶媒に対する溶解度が１０質量％以上であることが好ましい。ここで、ＰＧＭＥ及び／又はＰＧＭＥＡに対する溶解度は、「樹脂の質量÷（樹脂の質量＋溶媒の質量）×１００（質量％）」と定義される。例えば、前記樹脂１０ｇがＰＧＭＥＡ９０ｇに対して溶解する場合は、前記樹脂のＰＧＭＥＡに対する溶解度は、「１０質量％以上」となり、溶解しない場合は、「１０質量％未満」となる。
【０４６７】
なお、上記式（０）で表される化合物、式（０−１）で表される化合物、及びそれをモノマーとして得られる樹脂は、上述した式（１）で表される化合物、及びそれをモノマーとして得られる樹脂の製造方法に準じて製造することができる。
【０４６８】
［式（２）で表される化合物］
本実施形態における化合物（０−１）は、耐熱性及び溶媒溶解性の観点から、下記式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４６９】
【化３２３】
2018052012.tif 000325
【０４７０】
式（２）中、Ｒ０Ａは、水素原子である。
Ｒ１Ａは、炭素数１〜６０のｎＡ価の基又は単結合であり、
Ｒ２Ａは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、ハロゲン原子、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、同一のナフタレン環又はベンゼン環において同一であっても異なっていてもよい。ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよい。但し、式（２）中、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
ｎＡは１〜４の整数であり、ここで、式（２）中、ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよい。
ＸＡは、各々独立して、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示す。ここで、ＸＡが、優れた耐熱性を発現する傾向にあるため、酸素原子又は硫黄原子であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。ＸＡは、溶解性の観点からは、無架橋であることが好ましい。
ｍ２Ａは、各々独立して、０〜７の整数である。但し、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜７の整数である。
ｑＡは、各々独立して、０又は１である。
【０４７１】
なお、前記ｎ価の基とは、ｎ＝１の場合は、炭素数１〜６０のアルキル基、ｎ＝２の場合は、炭素数１〜３０のアルキレン基、ｎ＝３の場合は、炭素数２〜６０のアルカンプロパイル基、ｎ＝４の場合は、炭素数３〜６０のアルカンテトライル基を示す。前記ｎ価の基としては、例えば、直鎖状炭化水素基、分岐状炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有するもの等が挙げられる。ここで、前記脂環式炭化水素基については、有橋脂環式炭化水素基も含まれる。また、前記ｎ価の基は、炭素数６〜６０の芳香族基を有していてもよい。
【０４７２】
また、前記ｎ価の炭化水素基は、脂環式炭化水素基、二重結合、ヘテロ原子もしくは炭素数６〜６０の芳香族基を有していてもよい。ここで、前記脂環式炭化水素基については、有橋脂環式炭化水素基も含まれる。
【０４７３】
また、前記ｎ価の炭化水素基は、脂環式炭化水素基、二重結合、ヘテロ原子もしくは炭素数６〜３０の芳香族基を有していてもよい。ここで、前記脂環式炭化水素基については、有橋脂環式炭化水素基も含まれる。
【０４７４】
上記式（２）で表される化合物は、屈折率が高く、また、比較的に低分子量ながらも、その構造の剛直さにより高い耐熱性を有するので、高温ベーク条件でも使用可能である。また、安全溶媒に対する溶解性が高く、結晶性が抑制され、耐熱性及びエッチング耐性が良好であるため、上記式（２）で表される化合物を含む光学部材形成組成物は、良好な光学部材形状を与えることができる。また、低温から高温までの広範囲の熱処理によっても着色が比較的抑制されることから、各種光学部材形成組成物として有用である。光学部品としては、フィルム状、シート状の部品の他、プラスチックレンズ（プリズムレンズ、レンチキュラーレンズ、マイクロレンズ、フレネルレンズ、視野角制御レンズ、コントラスト向上レンズ等）、位相差フィルム、電磁波シールド用フィルム、プリズム、光ファイバー、フレキシブルプリント配線用ソルダーレジスト、メッキレジスト、多層プリント配線板用層間絶縁膜、感光性光導波路として有用である。
【０４７５】
上記式（２）で表される化合物は、架橋のし易さと有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（２−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４７６】
【化３２４】
2018052012.tif 000326
【０４７７】
式（２−１）中、Ｒ０Ａ、Ｒ１Ａ、ｎＡ及びｑＡ及びＸＡは、上記式（２）で説明したものと同義である。
Ｒ３Ａは、各々独立して、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、又は置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基であり、同一のナフタレン環又はベンゼン環において同一であっても異なっていてもよい。ここで、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよい。
Ｒ４Ａは、各々独立して、水素原子、酸架橋性基又は酸解離性基である。
ｍ６Ａは、各々独立して、０〜５の整数である。
【０４７８】
また、上記式（２−１）で表される化合物は、原料の供給性の観点から、下記式（２ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【０４７９】
【化３２５】
2018052012.tif 000327
【０４８０】
上記式（２ａ）中、ＸＡ、Ｒ０Ａ〜Ｒ２Ａ、ｍ２Ａ及びｎＡは、上記式（２）で説明したものと同義である。
【０４８１】
また、上記式（２−１）で表される化合物は、有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（２ｂ）で表される化合物であることがより好ましい。
【０４８２】
【化３２６】
2018052012.tif 000328
【０４８３】
上記式（２ｂ）中、ＸＡ、Ｒ０Ａ、Ｒ１Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ、ｍ６Ａ及びｎＡは、上記式（２−１）で説明したものと同義である。
【０４８４】
また、上記式（２−１）で表される化合物は、有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（２ｃ）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【０４８５】
【化３２７】
2018052012.tif 000329
【０４８６】
上記式（２ｃ）中、ＸＡ、Ｒ０Ａ、Ｒ１Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ、ｍ６Ａ及びｎＡは、上記式（２−１）で説明したものと同義である。
【０４８７】
上記式（２）で表される化合物は、さらなる有機溶媒への溶解性の観点から、下記式（ＢｉＮ−１）〜（ＢｉＮ−４）又は（ＸｉＮ−１）〜（ＸｉＮ−３）で表される化合物であることが特に好ましい。
【０４８８】
【化３２８】
2018052012.tif 000330
【０４８９】
【化３２９】
2018052012.tif 000331
【０４９０】
【化３３０】
2018052012.tif 000332
【０４９１】
【化３３１】
2018052012.tif 000333
【０４９２】
【化３３２】
2018052012.tif 000334
【０４９３】
【化３３３】
2018052012.tif 000335
【０４９４】
【化３３４】
2018052012.tif 000336
【０４９５】
［式（２）で表される化合物の製造方法］
本実施形態における式（２）で表される化合物は、公知の手法を応用して適宜合成することができ、その合成手法は特に限定されない。
例えば、常圧下、フェノール類、ナフトール類又はアントラセンオールと、対応するアルデヒド類とを酸触媒下にて重縮合反応させることによって、上記式（２）で表される化合物を得ることができる。またその化合物の少なくとも１つのフェノール性水酸基に公知の方法により酸架橋性基または酸解離性基を導入できる。また、必要に応じて、加圧下で行うこともできる。
【０４９６】
前記フェノール類としては、特に限定されず、例えば、フェノール、メチルフェノール、メトキシベンゼン、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン等が挙げられる。
【０４９７】
前記ナフトール類としては、特に限定されず、例えば、ナフトール、メチルナフトール、メトキシナフトール、ナフタレンジオール等が挙げられ、中でも、キサンテン構造を容易に作ることができるという観点から、ナフタレンジオールを用いることが好ましい。
【０４９８】
前記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラール等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、高い耐熱性を付与する観点から、ベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、シクロヘキシルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラールを用いることが好ましく、エッチング耐性を向上させる観点から、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、シクロヘキシルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラールを用いることがより好ましい。アルデヒド類として、芳香環を有するアルデヒドを用いることが、高い耐熱性及び高いエッチング耐性を兼備する観点から好ましい。
【０４９９】
上記反応に用いる酸触媒については、公知のものから適宜選択して用いることができ、特に限定されない。酸触媒としては、周知の無機酸、有機酸より適宜選択することができ、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、ふっ酸等の無機酸；シュウ酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸等の有機酸；塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸；あるいはケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸又はリンモリブデン酸等の固体酸が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さや取り扱い易さ等の製造上の観点から、塩酸又は硫酸を用いることが好ましい。酸触媒については、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０５００】
前記式（２）で表される化合物を製造する際には、反応溶媒を用いてもよい。反応溶媒としては、用いるアルデヒド類とナフトール類等との反応が進行すれば特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はこれらの混合溶媒を用いることができる。反応溶媒の量は、特に限定されず、例えば、反応原料１００質量部に対して０〜２０００質量部の範囲である。
【０５０１】
反応温度は、特に限定されず、反応原料の反応性に応じて適宜選択することができるが、１０〜２００℃の範囲であることが好ましい。本実施形態における式（２）で表される化合物を選択性良く合成する観点からは、温度が低い方が好ましく、１０〜６０℃の範囲であることがより好ましい。
【０５０２】
反応方法は、特に限定されないが、例えば、ナフトール類等、アルデヒド類、触媒を一括で仕込む方法や、触媒存在下ナフトール類やアルデヒド類を滴下していく方法が挙げられる。重縮合反応終了後、系内に存在する未反応原料、触媒等を除去するために、反応釜の温度を１３０〜２３０℃にまで上昇させ、１〜５０ｍｍＨｇ程度で揮発分を除去することもできる。
【０５０３】
原料の量は、特に限定されないが、例えば、アルデヒド類１モルに対し、ナフトール類等を２モル〜過剰量、及び酸触媒を０．００１〜１モル使用し、常圧で、２０〜６０℃で２０分〜１００時間程度反応させることが好ましい。
【０５０４】
反応終了後、公知の方法により目的物を単離する。目的物の単離方法は、特に限定されず、例えば、反応液を濃縮し、純水を加えて反応生成物を析出させ、室温まで冷却した後、濾過を行って分離し、得られた固形物を濾過し、乾燥させた後、カラムクロマトグラフにより、副生成物と分離精製し、溶媒留去、濾過、乾燥を行って目的化合物を単離する方法が挙げられる。
【０５０５】
また、ポリフェノール化合物の少なくとも１つのフェノール性水酸基に酸解離性基または酸架橋性基を導入する方法は公知である。例えば、以下のようにして、前記化合物の少なくとも１つのフェノール性水酸基に酸解離性基または酸架橋性基を導入することができる。酸解離性基または酸架橋性基を導入するための化合物は、公知の方法で合成もしくは容易に入手でき、例えば、酸クロライド、酸無水物、ジカーボネートなどの活性カルボン酸誘導体化合物、アルキルハライド、ビニルアルキルエーテル、ジヒドロピラン、ハロカルボン酸アルキルエステルなどが挙げられるが、これらに特に限定はされない。
【０５０６】
例えば、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の非プロトン性溶媒に前記化合物を溶解又は懸濁させる。続いて、エチルビニルエーテル等のビニルアルキルエーテル又はジヒドロピランを加え、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホナート等の酸触媒の存在下、常圧で、２０〜６０℃、６〜７２時間反応させる。反応液をアルカリ化合物で中和し、蒸留水に加え白色固体を析出させた後、分離した白色固体を蒸留水で洗浄し、乾燥することにより、水酸基の水素原子が酸解離性基に置換された化合物を得ることができる。
【０５０７】
また、例えば、アセトン、ＴＨＦ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の非プロトン性溶媒に、水酸基を有する前記化合物を溶解又は懸濁させる。続いて、エチルクロロメチルエーテル等のアルキルハライド又はブロモ酢酸メチルアダマンチル等のハロカルボン酸アルキルエステルを加え、炭酸カリウム等のアルカリ触媒の存在下、常圧で、２０〜１１０℃、６〜７２時間反応させる。反応液を塩酸等の酸で中和し、蒸留水に加え白色固体を析出させた後、分離した白色固体を蒸留水で洗浄し、乾燥することにより、水酸基の水素原子が酸解離性基に置換された化合物を得ることができる。
なお、酸解離性基を導入するタイミングについては、ビナフトール類とケトン類との縮合反応後のみならず、縮合反応の前段階でもよい。また、後述する樹脂の製造を行った後に導入してもよい。
【０５０８】
酸解離性基および酸架橋性基、並びにそれらを導入するための化合物については、式（１）で表される化合物において説明したものと同様である。
【０５０９】
［式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂］
本実施形態における光学部材形成組成物は、前記式（２）で表される化合物を含有していてもよく、また、前記式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂を含有していてもよい。樹脂は、例えば、前記式（２）で表される化合物と架橋反応性のある化合物とを反応させて得られる。
前記式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂としては、例えば、以下の式（４）で表される構造を有するものが挙げられる。すなわち、本実施形態における光学部材形成組成物は、下記式（４）で表される構造を有する樹脂を含有するものであってもよい。
【０５１０】
【化３３５】
2018052012.tif 000337
【０５１１】
式（４）中、Ｌは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又は単結合である。
Ｒ０Ａ、Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、ｍ２Ａ、ｎＡ、ｑＡ及びＸＡは前記式（２）におけるものと同義であり、
ｎＡが２以上の整数の場合、ｎＡ個の［  ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、少なくとも１つのｍ２Ａは１〜６の整数であり、Ｒ２Ａの少なくとも１つは水酸基又は水酸基の水素原子が酸架橋性基または酸解離性基で置換された基である。
【０５１２】
［式（２）で表される化合物をモノマーとして得られる樹脂の製造方法］
本実施形態における樹脂は、上記式（２）で表される化合物を、架橋反応性のある化合物と反応させることにより得られる。架橋反応性のある化合物としては、前記式（２）で表される化合物をオリゴマー化又はポリマー化し得るものである限り、公知のものを特に制限なく使用することができる。その具体例としては、例えば、アルデヒド、ケトン、カルボン酸、カルボン酸ハライド、ハロゲン含有化合物、アミノ化合物、イミノ化合物、イソシアネート、不飽和炭化水素基含有化合物等が挙げられるが、これらに特に限定されない。
【０５１３】
前記式（４）で表される構造を有する樹脂の具体例としては、例えば、上記式（２）で表される化合物を架橋反応性のある化合物であるアルデヒド及び／又はケトンとの縮合反応等によってノボラック化した樹脂が挙げられる。
【０５１４】
ここで、前記式（２）で表される化合物をノボラック化する際に用いるアルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、メチルベンズアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、ブチルベンズアルデヒド、ビフェニルアルデヒド、ナフトアルデヒド、アントラセンカルボアルデヒド、フェナントレンカルボアルデヒド、ピレンカルボアルデヒド、フルフラール等が挙げられるが、これらに特に限定されない。ケトンとしては、前記ケトン類が挙げられる。これらの中でも、ホルムアルデヒドがより好ましい。なお、これらのアルデヒド及び／又はケトン類は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記アルデヒド及び／又はケトン類の使用量は、特に限定されないが、上記式（２）で表される化合物１モルに対して、０．２〜５モルであることが好ましく、より好ましくは０．５〜２モルである。
【０５１５】
前記式（２）で表される化合物とアルデヒド及び／又はケトンとの縮合反応においては、酸触媒を用いることもできる。ここで使用する酸触媒については、公知のものから適宜選択して用いることができ、特に限定されない。このような酸触媒としては、無機酸や有機酸が広く知られており、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、フッ酸等の無機酸；シュウ酸、マロン酸、こはく酸、アジピン酸、セバシン酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸等の有機酸；塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸、或いはケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸又はリンモリブデン酸等の固体酸等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらの中でも、製造上の観点から、有機酸又は固体酸が好ましく、入手の容易さや取り扱い易さ等の製造上の観点から、塩酸又は硫酸が好ましい。なお、酸触媒については、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０５１６】
また、酸触媒の使用量は、使用する原料及び使用する触媒の種類、さらには反応条件等に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、反応原料１００質量部に対して、０．０１〜１００質量部であることが好ましい。但し、インデン、ヒドロキシインデン、ベンゾフラン、ヒドロキシアントラセン、アセナフチレン、ビフェニル、ビスフェノール、トリスフェノール、ジシクロペンタジエン、テトラヒドロインデン、４−ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、５−ビニルノルボルナ−２−エン、α−ピネン、β−ピネン、リモネン等の非共役二重結合を有する化合物との共重合反応の場合は、必ずしもアルデヒド類は必要ない。
【０５１７】
前記式（２）で表される化合物とアルデヒド及び／又はケトンとの縮合反応においては、反応溶媒を用いることもできる。この重縮合における反応溶媒としては、公知のものの中から適宜選択して用いることができ、特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。なお、溶媒は、１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０５１８】
また、これらの溶媒の使用量は、使用する原料及び使用する触媒の種類、さらには反応条件などに応じて適宜設定でき、特に限定されないが、反応原料１００質量部に対して０〜２０００質量部の範囲であることが好ましい。さらに、反応温度は、反応原料の反応性に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、通常１０〜２００℃の範囲である。なお、反応方法は、公知の手法を適宜選択して用いることができ、特に限定されないが、上記式（２）で表される化合物、アルデヒド及び／又はケトン類、触媒を一括で仕込む方法や、上記式（２）で表される化合物やアルデヒド及び／又はケトン類を触媒存在下で滴下していく方法が挙げられる。
【０５１９】
重縮合反応終了後、得られた化合物の単離は、常法に従って行うことができ、特に限定されない。例えば、系内に存在する未反応原料や触媒等を除去するために、反応釜の温度を１３０〜２３０℃にまで上昇させ、１〜５０ｍｍＨｇ程度で揮発分を除去する等の一般的手法を採ることにより、目的物であるノボラック化した樹脂を単離することができる。
【０５２０】
ここで、前記式（４）で表される構造を有する樹脂は、前記式（２）で表される化合物の単独重合体であってもよいが、他のフェノール類との共重合体であってもよい。ここで共重合可能なフェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、トリメチルフェノール、ブチルフェノール、フェニルフェノール、ジフェニルフェノール、ナフチルフェノール、レゾルシノール、メチルレゾルシノール、カテコール、ブチルカテコール、メトキシフェノール、メトキシフェノール、プロピルフェノール、ピロガロール、チモール等が挙げるが、これらに特に限定されない。
【０５２１】
また、前記式（４）で表される構造を有する樹脂は、上述した他のフェノール類以外に、重合可能なモノマーと共重合させたものであってもよい。かかる共重合モノマーとしては、例えば、ナフトール、メチルナフトール、メトキシナフトール、ジヒドロキシナフタレン、インデン、ヒドロキシインデン、ベンゾフラン、ヒドロキシアントラセン、アセナフチレン、ビフェニル、ビスフェノール、トリスフェノール、ジシクロペンタジエン、テトラヒドロインデン、４−ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルナエン、ピネン、リモネン等が挙げられるが、これらに特に限定されない。なお、前記式（４）で表される構造を有する樹脂は、前記式（２）で表される化合物と上述したフェノール類との２元以上の（例えば、２〜４元系）共重合体であっても、前記式（２）で表される化合物と上述した共重合モノマーとの２元以上（例えば、２〜４元系）共重合体であっても、前記式（２）で表される化合物と上述したフェノール類と上述した共重合モノマーとの３元以上の（例えば、３〜４元系）共重合体であっても構わない。
【０５２２】
なお、前記式（４）で表される構造を有する樹脂の分子量は、特に限定されないが、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜３０，０００であることが好ましく、より好ましくは７５０〜２０，０００である。また、架橋効率を高めるとともにベーク中の揮発成分を抑制する観点から、前記式（４）で表される構造を有する樹脂は、分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１．２〜７の範囲内であることが好ましい。
【０５２３】
前記式（４）で表される構造を有する樹脂は、湿式プロセスの適用がより容易になる等の観点から、溶媒に対する溶解性が高いものであることが好ましい。より具体的には、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＧＭＥ）及び／又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を溶媒とする場合、当該溶媒に対する溶解度が１０質量％以上であることが好ましい。ここで、ＰＧＭＥ及び／又はＰＧＭＥＡに対する溶解度は、「樹脂の質量÷（樹脂の質量＋溶媒の質量）×１００（質量％）」と定義される。例えば、前記樹脂１０ｇがＰＧＭＥＡ９０ｇに対して溶解する場合は、前記樹脂のＰＧＭＥＡに対する溶解度は、「１０質量％以上」となり、溶解しない場合は、「１０質量％未満」となる。
【０５２４】
本実施形態における光学部材形成組成物は、上記式（０）で表される化合物、式（０−１）で表される化合物、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び上記各化合物をモノマーとして得られる樹脂（以下、総称して「成分（Ａ）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する。
【０５２５】
（光学部材形成組成物の他の成分）
本実施形態の光学部材形成組成物は、成分（Ａ）のいずれか１種以上を固形成分として含有することに加えて、以下に説明する成分が含まれていてもよい。
【０５２６】
本実施形態における光学部材形成組成物は、溶媒を含有することが好ましい。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミル等の乳酸エステル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸ｎ−ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチルプロピオン酸ブチル、３−メトキシ−３−メチル酪酸ブチル、アセト酢酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；γ−ラクトン等のラクトン類等を挙げることができるが、これらに特に限定はされない。これらの溶媒は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０５２７】
溶媒は安全溶媒であることが好ましく、より好ましくは、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ、ＣＨＮ、ＣＰＮ、２−ヘプタノン、アニソール、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル及び乳酸エチルから選ばれる少なくとも１種であり、さらに好ましくはＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ及びＣＨＮから選ばれる少なくとも１種である。
【０５２８】
本実施形態の光学部材形成組成物において、固形成分の量と溶媒の量は、特に限定されないが、固形成分及び溶媒の合計質量１００質量％に対して、固形成分１〜８０質量％及び溶媒２０〜９９質量％であることが好ましく、より好ましくは固形成分１〜５０質量％及び溶媒５０〜９９質量％、さらに好ましくは固形成分２〜４０質量％及び溶媒６０〜９８質量％であり、特に好ましくは固形成分２〜１０質量％及び溶媒９０〜９８質量％である。
【０５２９】
本実施形態の光学部材形成組成物は、他の固形成分として、酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）、酸拡散制御剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有してもよい。なお、本明細書において、「固形成分」とは溶媒以外の成分をいう。
【０５３０】
本実施形態の光学部材形成組成物において、成分（Ａ）の含有量は、特に限定されないが、固形成分（成分（Ａ）、酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）、酸拡散制御剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）等の任意に使用される固形成分の総和、以下同様。）の５０〜９９．４質量％であることが好ましく、より好ましくは５５〜９０質量％、さらに好ましくは６０〜８０質量％、特に好ましくは６０〜７０質量％である。成分（Ａ）の含有量が５０質量％以上であることにより、良好な屈折率となる傾向にあり、９９．４質量％以下であることにより、良好な形状の部材となる傾向にある。
なお、化合物及びその化合物に由来する樹脂の両方を含有する場合、前記含有量は、化合物及びその化合物に由来する樹脂との合計量を意味する。
【０５３１】
（酸発生剤（Ｃ））
本実施形態の光学部材形成組成物は、熱により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｃ）を１種以上含有することが好ましい。酸発生剤（Ｃ）の含有量は、固形成分の全質量の０．００１〜４９質量％であることが好ましく、１〜４０質量％であることがより好ましく、３〜３０質量％であることがさらに好ましく、１０〜２５質量％であることが特に好ましい。酸発生剤（Ｃ）の含有量が上記範囲内である場合、屈折率がより一層高くなる傾向にある。
【０５３２】
本実施形態の光学部材形成組成物においては、系内に酸が発生すれば、酸の発生方法は特に限定されない。ｇ線、ｉ線等の紫外線の代わりにエキシマレーザーを使用すれば、より微細加工が可能となるし、また高エネルギー線として電子線、極端紫外線、Ｘ線、イオンビームを使用すれば、さらに微細加工が可能となる。
【０５３３】
酸発生剤（Ｃ）としては、特に限定されず、良好な酸の発生量の観点から、下記式（８−１）〜（８−８）で示される化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５３４】
【化３３６】
2018052012.tif 000338
【０５３５】
式（８−１）中、Ｒ１３は、各々同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキル基、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルコキシ基、ヒドロキシル基又はハロゲン原子であり、Ｘ−は、アルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基若しくはハロゲン置換アリール基を有するスルホン酸イオン又はハロゲン化物イオンである。
【０５３６】
前記式（８−１）で示される化合物は、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルトリルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジ−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−４−ｔ−ブトキシフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−４−ｔ−ブトキシフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−フルオロフェニル）−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリ（４−メトキシフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリ（４−フルオロフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニル−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウム−４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウム−２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニル−２，４，６−トリメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニルナフチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウム１０−カンファースルホネート、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム１０−カンファースルホネート及びシクロ（１，３−パーフルオロプロパンジスルホン）イミデートからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５３７】
【化３３７】
2018052012.tif 000339
【０５３８】
式（８−２）中、Ｒ１４は、各々同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状、分枝状若しくは環状アルキル基、直鎖状、分枝状若しくは環状アルコキシ基、ヒドロキシル基又はハロゲン原子を示す。Ｘ−は式（８−１）と同義である。
【０５３９】
前記式（８−２）で示される化合物は、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム１０−カンファースルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム１０−カンファースルホネート、ジフェニルヨードニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム−４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム−２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムへキサフルオロベンゼンスルホネート、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムベンゼンスルホネート及びジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウム１０−カンファースルホネートからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５４０】
【化３３８】
2018052012.tif 000340
【０５４１】
式（８−３）中、Ｑはアルキレン基、アリーレン基又はアルコキシレン基であり、Ｒ１５はアルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基又はハロゲン置換アリール基である。
【０５４２】
前記式（８−３）で示される化合物は、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（パーフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（１−ナフタレンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−ナフタレンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト−５−エンー２，３−ジカルボキシイミド及びＮ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ナフチルイミドからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５４３】
【化３３９】
2018052012.tif 000341
【０５４４】
式（８−４）中、Ｒ１６は、各々同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、任意に置換された直鎖、分枝若しくは環状アルキル基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基又は任意に置換されたアラルキル基である。
【０５４５】
前記式（８−４）で示される化合物は、ジフェニルジスルフォン、ジ（４−メチルフェニル）ジスルフォン、ジナフチルジスルフォン、ジ（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジスルフォン、ジ（４−ヒドロキシフェニル）ジスルフォン、ジ（３−ヒドロキシナフチル）ジスルフォン、ジ（４−フルオロフェニル）ジスルフォン、ジ（２−フルオロフェニル）ジスルフォン及びジ（４−トルフルオロメチルフェニル）ジスルフォンからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５４６】
【化３４０】
2018052012.tif 000342
【０５４７】
式（８−５）中、Ｒ１７は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、任意に置換された直鎖、分枝若しくは環状アルキル基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基又は任意に置換されたアラルキル基である。
【０５４８】
前記式（８−５）で示される化合物は、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニルアセトニトリル、α−（トリフルオロメチルスルホニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル、α−（トリフルオロメチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニルアセトニトリル、α−（エチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニルアセトニトリル、α−（プロピルスルホニルオキシイミノ）−４−メチルフェニルアセトニトリル及びα−（メチルスルホニルオキシイミノ）−４−ブロモフェニルアセトニトリルからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【０５４９】
【化３４１】
2018052012.tif 000343
【０５５０】
式（８−６）中、Ｒ１８は、各々同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立して、１以上の塩素原子及び１以上の臭素原子を有するハロゲン化アルキル基である。ハロゲン化アルキル基の炭素数は１〜５であることが好ましい。
【０５５１】
【化３４２】
2018052012.tif 000344
【０５５２】
【化３４３】
2018052012.tif 000345
【０５５３】
式（８−７）及び（８−８）中、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシル基；又はフェニル基、トルイル基、ナフチル基等アリール基であり、好ましくは、炭素数６〜１０のアリール基である。Ｌ１９及びＬ２０は、それぞれ独立して、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する有機基である。１，２−ナフトキノンジアジド基を有する有機基としては、具体的には、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル基、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基、１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホニル基等の１，２−キノンジアジドスルホニル基を好適なものとして挙げることができる。特に、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル基及び１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基が好ましい。ｓ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数、ｓ２はそれぞれ独立して、０〜４の整数、かつ１≦ｓ１＋ｓ２≦５である。Ｊ１９は単結合、炭素数１〜４のポリメチレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、下記式（８−７−１）で示される基、カルボニル基、エステル基、アミド基又はエーテル基であり、Ｙ１９は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Ｘ２０は、それぞれ独立して下記式（８−８−１）で示される基である。
【０５５４】
【化３４４】
2018052012.tif 000346
【０５５５】
【化３４５】
2018052012.tif 000347
【０５５６】
式（８−８−１）中、Ｚ２２は、それぞれ独立して、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、Ｒ２２はアルキル基、シクロアルキル基又はアルコキシル基であり、ｒは０〜３の整数である。
【０５５７】
その他の酸発生剤としては、ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｎ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（イソブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｎ−プロピルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタン、１、３−ビス（シクロヘキシルスルホニルアゾメチルスルホニル）プロパン、１、４−ビス（フェニルスルホニルアゾメチルスルホニル）ブタン、１、６−ビス（フェニルスルホニルアゾメチルスルホニル）ヘキサン、１、１０−ビス（シクロヘキシルスルホニルアゾメチルスルホニル）デカン等のビススルホニルジアゾメタン類；２−（４−メトキシフェニル）−４，６−（ビストリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−（ビストリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）−１，３，５−トリアジン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレート等のハロゲン含有トリアジン誘導体等が挙げられる。
【０５５８】
酸発生剤（Ｃ）としては、耐熱性の観点から、芳香環を有する酸発生剤が好ましく、式（８−１）又は（８−２）で示される酸発生剤がより好ましい。中でも、光学部材の形状をより良好とする観点から、式（８−１）又は（８−２）のＸ−が、アリール基若しくはハロゲン置換アリール基を有するスルホン酸イオンを有する酸発生剤であることがさらに好ましく、アリール基を有するスルホン酸イオンを有する酸発生剤であることがよりさらに好ましく、ジフェニルトリメチルフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロメタンスルホナートが特に好ましい。酸発生剤を用いることで、ラインエッジラフネスを低減することができる。
酸発生剤（Ｃ）は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０５５９】
（酸架橋剤（Ｇ））
本実施形態の光学部材形成組成物は、構造体の強度を増すための添加剤として、酸架橋剤（Ｇ）を１種以上含むことが好ましい。酸架橋剤（Ｇ）とは、酸発生剤（Ｃ）から発生した酸の存在下で、成分（Ａ）を分子内又は分子間架橋し得る化合物である。このような酸架橋剤（Ｇ）としては、特に限定されないが、例えば、成分（Ａ）を架橋し得る１種以上の基（以下、「架橋性基」という。）を有する化合物を挙げることができる。
【０５６０】
このような架橋性基の具体例としては、特に限定されないが、例えば（ｉ）ヒドロキシ（炭素数１〜６のアルキル基）、炭素数１〜６のアルコキシ（炭素数１〜６のアルキル基）、アセトキシ（炭素数１〜６のアルキル基）等のヒドロキシアルキル基又はそれらから誘導される基；（ｉｉ）ホルミル基、カルボキシ（炭素数１〜６のアルキル基）等のカルボニル基又はそれらから誘導される基；（ｉｉｉ）ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、ジメチロールアミノメチル基、ジエチロールアミノメチル基、モルホリノメチル基等の含窒素基含有基；（ｉｖ）グリシジルエーテル基、グリシジルエステル基、グリシジルアミノ基等のグリシジル基含有基；（ｖ）ベンジルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基等の、炭素数１〜６のアリルオキシ（炭素数１〜６のアルキル基）、炭素数１〜６のアラルキルオキシ（炭素数１〜６のアルキル基）等の芳香族基から誘導される基；（ｖｉ）ビニル基、イソプロペニル基等の重合性多重結合含有基等を挙げることができる。酸架橋剤（Ｇ）の架橋性基としては、ヒドロキシアルキル基、及びアルコキシアルキル基等が好ましく、特にアルコキシメチル基が好ましい。
【０５６１】
架橋性基を有する酸架橋剤（Ｇ）としては、特に限定されないが、例えば（ｉ）メチロール基含有メラミン化合物、メチロール基含有ベンゾグアナミン化合物、メチロール基含有ウレア化合物、メチロール基含有グリコールウリル化合物、メチロール基含有フェノール化合物等のメチロール基含有化合物；（ｉｉ）アルコキシアルキル基含有メラミン化合物、アルコキシアルキル基含有ベンゾグアナミン化合物、アルコキシアルキル基含有ウレア化合物、アルコキシアルキル基含有グリコールウリル化合物、アルコキシアルキル基含有フェノール化合物等のアルコキシアルキル基含有化合物；（ｉｉｉ）カルボキシメチル基含有メラミン化合物、カルボキシメチル基含有ベンゾグアナミン化合物、カルボキシメチル基含有ウレア化合物、カルボキシメチル基含有グリコールウリル化合物、カルボキシメチル基含有フェノール化合物等のカルボキシメチル基含有化合物；（ｉｖ）ビスフェノールＡ系エポキシ化合物、ビスフェノールＦ系エポキシ化合物、ビスフェノールＳ系エポキシ化合物、ノボラック樹脂系エポキシ化合物、レゾール樹脂系エポキシ化合物、ポリ（ヒドロキシスチレン）系エポキシ化合物等のエポキシ化合物等を挙げることができる。
【０５６２】
酸架橋剤（Ｇ）としては、さらに、フェノール性水酸基を有する化合物、並びにアルカリ可溶性樹脂中の酸性官能基に前記架橋性基を導入し、架橋性を付与した化合物及び樹脂を使用することができる。その場合の架橋性基の導入率は、特に限定されず、フェノール性水酸基を有する化合物、及びアルカリ可溶性樹脂中の全酸性官能基に対して、例えば、５〜１００モル％、好ましくは１０〜６０モル％、より好ましくは１５〜４０モル％に調節される。架橋性基の導入率が上記範囲であると、架橋反応が十分起こり、残膜率の低下、パターンの膨潤現象や蛇行等が避けられる傾向にあるので好ましい。
【０５６３】
酸架橋剤（Ｇ）としては、アルコキシアルキル化ウレア化合物若しくはその樹脂、又はアルコキシアルキル化グリコールウリル化合物若しくはその樹脂であることが好ましい。酸架橋剤（Ｇ）としては、下記式（１１−１）〜（１１−３）で表される化合物及びアルコキシメチル化メラミン化合物（以下、総称して「酸架橋剤（Ｇ１）」ともいう。）が特に好ましい。
【０５６４】
【化３４６】
2018052012.tif 000348
【０５６５】
前記式（１１−１）〜（１１−３）中、Ｒ７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアシル基を示し；Ｒ８〜Ｒ１１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、アルキル基又はアルコキシル基を示し；Ｘ２は、単結合、メチレン基又は酸素原子を示す。
【０５６６】
Ｒ７が表すアルキル基としては、特に限定されず、炭素数１〜６が好ましく、炭素数１〜３がより好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。Ｒ７が表すアシル基としては、特に限定されず、炭素数２〜６が好ましく、炭素数２〜４がより好ましく、例えば、アセチル基、プロピオニル基が挙げられる。Ｒ８〜Ｒ１１が表すアルキル基としては、特に限定されず、炭素数１〜６が好ましく、炭素数１〜３がより好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。Ｒ８〜Ｒ１１が表すアルコキシル基としては、特に限定されず、炭素数１〜６が好ましく、炭素数１〜３がより好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が挙げられる。Ｘ２は、単結合又はメチレン基であることが好ましい。Ｒ７〜Ｒ１１、Ｘ２は、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。複数個のＲ７、Ｒ８〜Ｒ１１は、各々同一でも異なっていてもよい。
【０５６７】
式（１１−１）で表される化合物として、具体的には、例えば、以下に表される化合物等を挙げることができる。
【０５６８】
【化３４７】
2018052012.tif 000349
【０５６９】
式（１１−２）で表される化合物としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（メトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（エトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（ｎ−プロポキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（イソプロポキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（ｎ−ブトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（ｔ−ブトキシメチル）グリコールウリル等を挙げることができる。この中でも、特に、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（メトキシメチル）グリコールウリルが好ましい。
【０５７０】
式（１１−３）で表される化合物としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、以下に表される化合物等を挙げることができる。
【０５７１】
【化３４８】
2018052012.tif 000350
【０５７２】
アルコキシメチル化メラミン化合物としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（メトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（エトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（ｎ−プロポキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（イソプロポキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（ｎ−ブトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（ｔ−ブトキシメチル）メラミン等を挙げることができる。この中でも特に、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（メトキシメチル）メラミンが好ましい。
【０５７３】
酸架橋剤（Ｇ１）は、例えば、尿素化合物又はグリコールウリル化合物、及びホルマリンを縮合反応させてメチロール基を導入した後、更にメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等の低級アルコール類でエーテル化し、次いで反応液を冷却して析出する化合物又はその樹脂を回収することで得られる。また、酸架橋剤（Ｇ１）は、ＣＹＭＥＬ（商品名、三井サイアナミッド製）、ニカラック（三和ケミカル（株）製）のような市販品としても入手することができる。
【０５７４】
また、他の酸架橋剤（Ｇ）としては、分子内にベンゼン環を１〜６個有し、ヒドロキシアルキル基及び／又はアルコキシアルキル基を分子内全体に２以上有し、該ヒドロキシアルキル基及び／又はアルコキシアルキル基が前記いずれかのベンゼン環に結合しているフェノール誘導体（以下、「酸架橋剤（Ｇ２）」ともいう。）を挙げることができる。中でも、分子量が１５００以下、分子内にベンゼン環を１〜６個有し、ヒドロキシアルキル基及び／又はアルコキシアルキル基を合わせて２個以上有し、該ヒドロキシアルキル基及び／又はアルコキシアルキル基が前記ベンゼン環のいずれか一又は複数のベンゼン環に結合してなるフェノール誘導体が好ましい。
【０５７５】
ベンゼン環に結合するヒドロキシアルキル基としては、特に限定されず、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、及び２−ヒドロキシ−１−プロピル基等の炭素数１〜６のものが好ましい。ベンゼン環に結合するアルコキシアルキル基としては、炭素数２〜６のものが好ましい。具体的には、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、２−メトキシエチル基又は２−メトキシ−１−プロピル基が挙げられる。
【０５７６】
これらのフェノール誘導体のうち、特に好ましいものを以下に挙げる。
【０５７７】
【化３４９】
2018052012.tif 000351
【０５７８】
【化３５０】
2018052012.tif 000352
【０５７９】
【化３５１】
2018052012.tif 000353
【０５８０】
【化３５２】
2018052012.tif 000354
【０５８１】
【化３５３】
2018052012.tif 000355
【０５８２】
【化３５４】
2018052012.tif 000356
【０５８３】
前記式中、Ｌ１〜Ｌ８は、同じであっても異なっていてもよく、それぞれ独立して、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基を示す。ヒドロキシメチル基を有するフェノール誘導体は、対応するヒドロキシメチル基を有さないフェノール化合物（前記式においてＬ１〜Ｌ８が水素原子である化合物）とホルムアルデヒドとを塩基触媒下で反応させることによって得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐために、反応温度を６０℃以下で行うことが好ましい。具体的には、特開平６−２８２０６７号公報、特開平７−６４２８５号公報等に記載されている方法に従って合成することができる。
アルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は、対応するヒドロキシメチル基を有するフェノール誘導体とアルコールとを酸触媒下で反応させることによって得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐために、反応温度を１００℃以下で行うことが好ましい。具体的には、ＥＰ６３２００３Ａ１等に記載されている方法に従って合成することができる。
【０５８４】
このようにして合成されたヒドロキシメチル基及び／又はアルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は、保存時の安定性の観点から好ましく、アルコキシメチル基を有するフェノール誘導体が特に好ましい。酸架橋剤（Ｇ２）は、単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０５８５】
また、他の酸架橋剤（Ｇ）としては、少なくとも一つのα−ヒドロキシイソプロピル基を有する化合物（以下、「酸架橋剤（Ｇ３）」ともいう。）を挙げることができる。α−ヒドロキシイソプロピル基を有する限り、その構造に特に限定はない。また、前記α−ヒドロキシイソプロピル基中のヒドロキシル基の水素原子が、１種以上の酸解離性反応基（Ｒ−ＣＯＯ−基、Ｒ−ＳＯ２−基等、Ｒは、炭素数１〜１２の直鎖状炭化水素基、炭素数３〜１２の環状炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２の１−分岐アルキル基及び炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基からなる群から選ばれる置換基を表す）で置換されていてもよい。前記α−ヒドロキシイソプロピル基を有する化合物としては、例えば、少なくとも１つのα−ヒドロキシイソプロピル基を含有する置換又は非置換の芳香族系化合物、ジフェニル化合物、ナフタレン化合物、フラン化合物等の１種又は２種以上が挙げられる。具体的には、例えば、下記式（１２−１）で表される化合物（以下、「ベンゼン系化合物（１）」という。）、下記式（１２−２）で表される化合物（以下、「ジフェニル系化合物（２）」という。）、下記式（１２−３）で表される化合物（以下、「ナフタレン系化合物（３」という。）、及び下記式（１２−４）で表される化合物（以下、「フラン系化合物（４）」という。）等が挙げられる。
【０５８６】
【化３５５】
2018052012.tif 000357
【０５８７】
前記式（１２−１）〜（１２−４）中、各Ａ２は、それぞれ独立して、α−ヒドロキシイソプロピル基又は水素原子を示し、かつ少なくとも１つのＡ２が、α−ヒドロキシイソプロピル基である。また、式（１２−１）中、Ｒ５１は、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数２〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキルカルボニル基又は炭素数２〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示す。さらに、式（１２−２）中、Ｒ５２は単結合、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＣＯＯ−を示す。また、式（１２−４）中、Ｒ５３及びＲ５４は、相互に独立して、水素原子又は炭素数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。
【０５８８】
ベンゼン系化合物（１）としては、特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシイソプロピルベンゼン、１，３−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼン、１，４−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼン、１，２，４−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼン、１，３，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼン等のα−ヒドロキシイソプロピルベンゼン類；３−α−ヒドロキシイソプロピルフェノール、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェノール、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェノール、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェノール等のα−ヒドロキシイソプロピルフェノール類；３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニルメチルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニルメチルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニルエチルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル−ｎ−プロピルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニルイソプロピルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル−ｎ−ブチルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル−ｔ−ブチルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル−ｎ−ペンチルケトン、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニルメチルケトン、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニルエチルケトン、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニルメチルケトン等のα−ヒドロキシイソプロピルフェニルアルキルケトン類；３−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸メチル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸メチル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸エチル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸ｎ−プロピル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸イソプロピル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸ｎ−ブチル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸ｔ−ブチル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸ｎ−ペンチル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸メチル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸エチル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸メチル等の４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸アルキル類等が挙げられる。
【０５８９】
ジフェニル系化合物（２）としては、特に限定されないが、例えば、３−α−ヒドロキシイソプロピルビフェニル、４−α−ヒドロキシイソプロピルビフェニル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、３，３’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、３，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、４，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、３，３’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、３，４’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、２，３’，４，６，−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、２，４，４’，６，−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、３，３’，５，５’−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、２，３’，４，５’，６−ペンタキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、２，２’，４，４’，６，６’−ヘキサキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル等のα−ヒドロキシイソプロピルビフェニル類；３−α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルメタン、４−α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルメタン、１−（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）−２−フェニルエタン、１−（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）−２−フェニルプロパン、２−（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）−２−フェニルプロパン、１−（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）−３−フェニルプロパン、１−（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）−４−フェニルブタン、１−（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）−５−フェニルペンタン、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルメタン、３，３’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、３，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、４，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、１，２−ビス（４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）エタン、１，２−ビス（４−α−ヒドロキシプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−α−ヒドロキシプロピルフェニル）プロパン、１，３−ビス（４−α−ヒドロキシプロピルフェニル）プロパン、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、３，３’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、３，４’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、２，３’，４，６−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、２，４，４’，６−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、３，３’，５，５’−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、２，３’，４，５’，６−ペンタキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン、２，２’，４，４’，６，６’−ヘキサキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルメタン等のα−ヒドロキシイソプロピルジフェニルアルカン類；３−α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルエーテル、４−α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルエーテル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル���ジフェニルエーテル、３，３’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、３，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、４，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、３，３’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、３，４’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、２，３’，４，６−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、２，４，４’，６−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、３，３’，５，５’−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、２，３’，４，５’，６−ペンタキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル、２，２’，４，４’，６，６’−ヘキサキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルエーテル等のα−ヒドロキシイソプロピルジフェニルエーテル類；３−α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルケトン、４−α−ヒドロキシイソプロピルジフェニルケトン、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、３，３’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、３，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、４，４’−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、３，３’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、３，４’，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、２，３’，４，６−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、２，４，４’，６−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、３，３’，５，５’−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、２，３’，４，５’，６−ペンタキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン、２，２’，４，４’，６，６’−ヘキサキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ジフェニルケトン等のα−ヒドロキシイソプロピルジフェニルケトン類；３−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸フェニル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸フェニル、安息香酸３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、安息香酸４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸フェニル、３−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、３−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、安息香酸３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸フェニル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、３−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、安息香酸２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸４−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、３−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、４−α−ヒドロキシイソプロピル安息香酸２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、３，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル、２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）安息香酸２，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）フェニル等のα−ヒドロキシイソプロピル安息香酸フェニル類等が挙げられる。
【０５９０】
ナフタレン系化合物（３）としては、特に限定されないが、例えば、１−（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、２−（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，３−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，４−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，５−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，６−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，７−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、２，６−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、２，７−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，３，５−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，３，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，３，７−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，４，６−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，４，７−トリス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン、１，３，５，７−テトラキス（α−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレン等が挙げられる。
【０５９１】
フラン系化合物（４）としては、特に限定されないが、例えば、３−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−メチル−３−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−メチル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−エチル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−ｎ−プロピル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−イソプロピル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−ｎ−ブチル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−ｔ−ブチル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２−ｎ−ペンチル−４−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２，５−ジメチル−３−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２，５−ジエチル−３−（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、３，４−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２，５−ジメチル−３，４−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン、２，５−ジエチル−３，４−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）フラン等を挙げることができる。
【０５９２】
酸架橋剤（Ｇ３）としては、遊離のα−ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有する化合物が好ましく、α−ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有する前記ベンゼン系化合物（１）、α−ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有する前記ジフェニル系化合物（２）、α−ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有する前記ナフタレン系化合物（３）が更に好ましく、α−ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有するα−ヒドロキシイソプロピルビフェニル類、α−ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有するナフタレン系化合物（３）が特に好ましい。
【０５９３】
酸架橋剤（Ｇ３）は、通常、１，３−ジアセチルベンゼン等のアセチル基含有化合物に、ＣＨ３ＭｇＢｒ等のグリニヤール試薬を反応させてメチル化した後、加水分解する方法や、１，３−ジイソプロピルベンゼン等のイソプロピル基含有化合物を酸素等で酸化して過酸化物を生成させた後、還元する方法により得ることができる。
【０５９４】
本実施形態の光学部材形成組成物において、酸架橋剤（Ｇ）の含有量は、固形成分の全質量の０．５〜４９質量％であることが好ましく、０．５〜４０質量％であることがより好ましく、１〜３０質量％であることがさらに好ましく、２〜２０質量％であることが特に好ましい。酸架橋剤（Ｇ）の含有量が０．５質量％以上である場合、光学部材形成組成物の有機溶媒に対する溶解性の抑制効果を向上させることができる傾向にあり、一方、４９質量％以下である場合、光学部材形成組成物としての耐熱性の低下を抑制できる傾向にある。
【０５９５】
また、酸架橋剤（Ｇ）中の酸架橋剤（Ｇ１）、酸架橋剤（Ｇ２）、酸架橋剤（Ｇ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物の含有量も特に限定はなく、光学部材形成組成物を形成する際に使用される基板の種類等に応じて種々の範囲とすることができる。
【０５９６】
全酸架橋剤成分において、アルコキシメチル化メラミン化合物及び／又は（１２−１）〜（１２−４）で表される化合物の含有量は、特に限定されず、好ましくは５０〜９９質量％、より好ましくは６０〜９９質量％、さらに好ましくは７０〜９８質量％、特に好ましくは８０〜９７質量％である。アルコキシメチル化メラミン化合物及び／又は（１２−１）〜（１２−４）で表される化合物の含有量が全酸架橋剤成分の５０質量％以上である場合、解像度を一層向上させることができる傾向にあり、９９質量％以下である場合、構造体の形状を良好とし易くなる傾向にある。
【０５９７】
（酸拡散制御剤（Ｅ））
本実施形態の光学部材形成組成物は、酸発生剤から生じた酸の光学部材形成組成物中における拡散を制御して、好ましくない化学反応を阻止する作用等を有する酸拡散制御剤（Ｅ）を含有してもよい。酸拡散制御剤（Ｅ）を使用することにより、光学部材形成組成物の貯蔵安定性が向上する。また解像度が一層向上するとともに、加熱後の引き置き時間の変動による構造体の線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れたものとなる。
【０５９８】
酸拡散制御剤（Ｅ）としては、特に限定されず、例えば、窒素原子含有塩基性化合物、塩基性スルホニウム化合物、塩基性ヨードニウム化合物等の放射線分解性塩基性化合物が挙げられる。酸拡散制御剤（Ｅ）は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０５９９】
酸拡散制御剤としては、特に限定されず、例えば、含窒素有機化合物や、露光により分解する塩基性化合物等が挙げられる。含窒素有機化合物としては、特に限定されず、例えば、下記式（１４）で示される化合物が挙げられる。
【０６００】
【化３５６】
2018052012.tif 000358
【０６０１】
含窒素有機化合物としては、前記式（１４）で示される化合物（以下、「含窒素化合物（Ｉ）」という。）、同一分子内に窒素原子を２個有するジアミノ化合物（以下、「含窒素化合物（ＩＩ）」という。）、窒素原子を３個以上有するポリアミノ化合物や重合体（以下、「含窒素化合物（ＩＩＩ）」という。）、アミド基含有化合物、ウレア化合物、及び含窒素複素環式化合物等を挙げることができる。なお、酸拡散制御剤（Ｅ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０６０２】
前記式（１４）中、Ｒ６１、Ｒ６２及びＲ６３は、相互に独立して、水素原子、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。また、前記アルキル基、アリール基又はアラルキル基は、非置換でもよく、ヒドロキシル基等で置換されていてもよい。ここで、前記直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基は、特に限定されず、例えば、炭素数１〜１５、好ましくは１〜１０のものが挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、テキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。また、前記アリール基としては、炭素数６〜１２のものが挙げられ、具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、１−ナフチル基等が挙げられる。さらに、前記アラルキル基は、特に限定されず、炭素数７〜１９、好ましくは７〜１３のものが挙げられ、具体的には、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【０６０３】
含窒素化合物（Ｉ）としては、特に限定されず、具体的には、例えば、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、メチル−ｎ−ドデシルアミン、ジ−ｎ−ドデシルメチル、シクロヘキシルメチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、ジメチル−ｎ−ドデシルアミン、ジ−ｎ−ドデシルメチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、１−ナフチルアミン等の芳香族アミン類等を挙げることができる。
【０６０４】
含窒素化合物（ＩＩ）としては、特に限定されず、具体的には、例えば、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４−ビス［１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、１，３−ビス［１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル］ベンゼン等を挙げることができる。
【０６０５】
含窒素化合物（ＩＩＩ）としては、特に限定されず、具体的には、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）アクリルアミドの重合体等を挙げることができる。
【０６０６】
アミド基含有化合物としては、特に限定されず、具体的には、例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【０６０７】
ウレア化合物としては、特に限定されず、具体的には、例えば、尿素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレア、１，３−ジフェニルウレア、トリ−ｎ−ブチルチオウレア等を挙げることができる。
【０６０８】
含窒素複素環式化合物としては、特に限定されず、具体的には、例えば、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；及び、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、ピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等を挙げることができる。
【０６０９】
放射線分解性塩基性化合物としては、特に限定されず、例えば、下記式（１５−１）で示されるスルホニウム化合物、又は下記式（１５−２）で示されるヨードニウム化合物が挙げられる。
【０６１０】
【化３５７】
2018052012.tif 000359
【０６１１】
【化３５８】
2018052012.tif 000360
【０６１２】
前記式（１５−１）及び（１５−２）中、Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４及びＲ７５は、相互に独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、ヒドロキシル基又はハロゲン原子を示す。Ｚ−は、ＨＯ−、Ｒ−ＣＯＯ−（ここで、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１１のアリール基若しくは炭素数７〜１２のアルカリール基を示す。）又は下記式（１５−３）で示されるアニオンを示す。
【０６１３】
【化３５９】
2018052012.tif 000361
【０６１４】
放射線分解性塩基性化合物として、具体的には、特に限定されず、例えば、トリフェニルスルホニウムハイドロオキサイド、トリフェニルスルホニウムアセテート、トリフェニルスルホニウムサリチレート、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムハイドロオキサイド、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムアセテート、ジフェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムサリチレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムハイドロオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムハイドロオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニル−４−ヒドロキシフェニルヨードニウムハイドロオキサイド、４−ｔ−ブチルフェニル−４−ヒドロキシフェニルヨードニウムアセテート、４−ｔ−ブチルフェニル−４−ヒドロキシフェニルヨードニウムサリチレート等が挙げられる。
【０６１５】
酸拡散制御剤（Ｅ）の含有量は、固形成分の全質量の０．００１〜４９質量％であることが好ましく、０．０１〜１０質量％であることがより好ましく、０．０１〜５質量％であることがさらに好ましく、０．０１〜３質量％であることが特に好ましい。酸拡散制御剤（Ｅ）の含有量が、上記範囲内であると、解像度の低下、パターン形状、寸法忠実度等の劣化を一層抑制できる傾向にある。さらに、電子線照射から放射線照射後加熱までの引き置き時間が長くなっても、パターン上層部の形状が劣化するリスクを低減することができる。また、酸拡散制御剤（Ｅ）の含有量が１０質量％以下であると、感度、未露光部の現像性等の低下を防ぐことができる傾向にある。また、酸拡散制御剤を使用することにより、光学部材形成組成物の貯蔵安定性が向上し、また解像度が向上するとともに、放射線照射前の引き置き時間、放射線照射後の引き置き時間の変動による光学部材形成組成物の線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れたものとなる。
【０６１６】
（その他の成分（Ｆ））
本実施形態の光学部材形成組成物には、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、その他の成分（Ｆ）として、溶解促進剤、溶解制御剤、増感剤、界面活性剤及び有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体等の各種添加剤を１種又は２種以上添加することができる。
【０６１７】
［溶解促進剤］
溶解促進剤は、成分（Ａ）の現像液に対する溶解性が低すぎる場合に、その溶解性を高めて、現像時の前記化合物の溶解速度を適度に増大させる作用を有する成分であり、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。溶解促進剤としては、例えば、低分子量のフェノール性化合物を挙げることができ、例えば、ビスフェノール類、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン等を挙げることができる。これらの溶解促進剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。溶解促進剤の含有量は、使用する成分（Ａ）の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０〜４９質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。
【０６１８】
［溶解制御剤］
溶解制御剤は、成分（Ａ）が現像液に対する溶解性が高すぎる場合に、その溶解性を制御して現像時の溶解速度を適度に減少させる作用を有する成分である。このような溶解制御剤としては、光学部品の焼成、加熱、現像等の工程において化学変化しないものが好ましい。
【０６１９】
溶解制御剤としては、特に限定されず、例えば、フェナントレン、アントラセン、アセナフテン等の芳香族炭化水素類；アセトフェノン、ベンゾフェノン、フェニルナフチルケトン等のケトン類；メチルフェニルスルホン、ジフェニルスルホン、ジナフチルスルホン等のスルホン類等を挙げることができる。これらの溶解制御剤は、単独で又は２種以上を使用することができる。
溶解制御剤の含有量は、特に限定されず、成分（Ａ）の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０〜４９質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。
【０６２０】
［増感剤］
増感剤は、照射された放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生剤（Ｃ）に伝達し、それにより酸の生成量を増加する作用を有し、レジストの見掛けの感度を向上させる成分である。このような増感剤は、特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン類、ビアセチル類、ピレン類、フェノチアジン類、フルオレン類等を挙げることができる。これらの増感剤は、単独で又は２種以上を使用することができる。増感剤の含有量は、成分（Ａ）の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０〜４９質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。
【０６２１】
［界面活性剤］
界面活性剤は、本実施形態の光学部材形成組成物の塗布性やストリエーション等を改良する作用を有する成分である。このような界面活性剤は、特に限定されず、アニオン系、カチオン系、ノニオン系或いは両性のいずれでもよい。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン系界面活性剤は、光学部材形成組成物の製造に用いる溶媒との親和性がよく、より効果が顕著となる傾向にある。ノニオン系界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類等が挙げられるが、特に限定はされない。市販品としては、以下商品名で、エフトップ（ジェムコ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業社製）、フロラード（住友スリーエム社製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子社製）、ペポール（東邦化学工業社製）、ＫＰ（信越化学工業社製）、ポリフロー（共栄社油脂化学工業社製）等を挙げることができる。界面活性剤の含有量は、特に限定されず、成分（Ａ）の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０〜４９質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。
【０６２２】
［有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体］
本実施形態の光学部材形成組成物は、感度劣化防止又は構造体、引き置き安定性等の向上の目的で、任意の成分として、有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体をさらに含有してもよい。なお、これらの化合物は、酸拡散制御剤と併用することもできるし、単独で用いてもよい。有機カルボン酸としては、特に限定されず、例えば、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸等が好適である。リンのオキソ酸若しくはその誘導体としては、リン酸、リン酸ジ−ｎ−ブチルエステル、リン酸ジフェニルエステルなどのリン酸又はそれらのエステル等の誘導体；ホスホン酸、ホスホン酸ジメチルエステル、ホスホン酸ジ−ｎ−ブチルエステル、フェニルホスホン酸、ホスホン酸ジフェニルエステル、ホスホン酸ジベンジルエステル等のホスホン酸又はそれらのエステルなどの誘導体；ホスフィン酸、フェニルホスフィン酸等のホスフィン酸及びそれらのエステル等の誘導体が挙げられ、これらの中で特にホスホン酸が好ましい。
【０６２３】
有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体は、単独で又は２種以上を使用することができる。有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体の含有量は、成分（Ａ）に由来する樹脂の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０〜４９質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。
【０６２４】
［その他添加剤］
本実施形態の光学部材形成組成物には、本発明の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、前記溶解制御剤、増感剤、及び界面活性剤以外の添加剤を１種又は２種以上含有できる。そのような添加剤としては、特に限定されず、例えば、染料、顔料、及び接着助剤等が挙げられる。染料又は顔料を含有すると、露光部の潜像を可視化させて、露光時のハレーションの影響を緩和できる傾向にある。また、接着助剤を含有すると、基板との接着性を改善することができる傾向にある。他の添加剤としては、さらに、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、形状改良剤等が挙げられ、具体的には４−ヒドロキシ−４’−メチルカルコン等を挙げることができる。
本実施形態の光学部材形成組成物は、架橋剤をさらに含有することが好ましい。
前記架橋剤は、フェノール化合物、エポキシ化合物、シアネート化合物、アミノ化合物、ベンゾオキサジン化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、ウレア化合物、イソシアネート化合物及びアジド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。また、前記架橋剤は、少なくとも１つのアリル基を有することがより好ましい。
前記架橋剤の含有量は、固形成分の全質量の０．１〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましく、０．１〜１質量％であることがさらに好ましい。
本実施形態の光学部材形成組成物は、架橋促進剤をさらに含有することが好ましい。
前記架橋促進剤は、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、及びルイス酸からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
前記架橋促進剤の含有量は、固形成分の全質量の０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、０．１〜１質量％であることがさらに好ましい。
本実施形態の光学部材形成組成物は、ラジカル重合開始剤をさらに含有することが好ましい。
前記ラジカル重合開始剤は、ケトン系光重合開始剤、有機過酸化物系重合開始剤及びアゾ系重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
前記ラジカル重合開始剤の含有量は、固形成分の全質量の０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、０．１〜１質量％であることがさらに好ましい。
【０６２５】
任意成分（Ｆ）の合計含有量は、固形成分の全質量の０〜４９質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。
【０６２６】
本実施形態の光学部材形成組成物において、成分（Ａ）、酸発生剤（Ｃ）、酸拡散制御剤（Ｅ）、任意成分（Ｆ）の含有量（成分（Ａ）／酸発生剤（Ｃ）／酸拡散制御剤（Ｅ）／任意成分（Ｆ））は、固形物基準の質量％で、好ましくは５０〜９９．４／０．００１〜４９／０．００１〜４９／０〜４９、より好ましくは５５〜９０／１〜４０／０．０１〜１０／０〜５、さらに好ましくは６０〜８０／３〜３０／０．０１〜５／０〜１、特に好ましくは６０〜７０／１０〜２５／０．０１〜３／０である。
各成分の含有割合は、その総和が１００質量％になるように各範囲から選ばれる。各成分の含有割合が上記範囲であると、感度、解像度、現像性等の性能に一層優れる傾向にある。
【０６２７】
本実施形態の光学部材形成組成物の調製方法としては、特に限定されず、例えば、使用時に各成分を溶媒に溶解して均一溶液とし、その後、必要に応じて、例えば、孔径０．２μｍ程度のフィルター等でろ過する方法等が挙げられる。
【０６２８】
本実施形態の光学部材形成組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、その他の樹脂を含むことができる。その他の樹脂としては、特に限定されず、例えば、ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール類、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、スチレン−無水マレイン酸樹脂、及びアクリル酸、ビニルアルコール、又はビニルフェノールを単量体単位として含む重合体或いはこれらの誘導体等が挙げられる。その他の樹脂の含有量は、特に限定されず、成分（Ａ）の種類に応じて適宜調節されるが、成分（Ａ）１００質量部当たり、３０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは１０質量部以下、さらに好ましくは５質量部以下、特に好ましくは０質量部である。
【０６２９】
本実施形態の光学部材形成組成物を硬化することにより硬化物を得ることができる。硬化物は、各種樹脂として使用することができる。また、これらの硬化物は、高融点、高屈折率及び高透明性といった様々な特性を付与する高汎用性の材料として様々な用途に用いることができる。なお、硬化物は、上記の組成物を光照射、加熱等の各組成に対応した公知の方法を用いることによって得ることができる。
【０６３０】
これらの硬化物は、例えば、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の各種合成樹脂として、更には、機能性を活かしてレンズ、光学シート等の光学材料、ホログラム記録材料、有機感光体（例えば、蛍光素子の発光層等）、フォトレジスト材料、反射防止膜、多層レジスト材料、半導体封止材等の高機能材料等として用いることができる。
【実施例】
【０６３１】
以下、本実施形態を合成例及び実施例によりさらに詳細に説明するが、本実施形態は、これらの例によってなんら限定されるものではない。【０６３２】
炭素濃度及び酸素濃度、並びに分子量については、以下に従って測定した。
（炭素濃度及び酸素濃度）
有機元素分析により炭素濃度及び酸素濃度（質量％）を測定した。
装置：ＣＨＮコーダーＭＴ−６（ヤナコ分析工業(株)製）【０６３３】
（分子量）
化合物の分子量は、Ｗａｔｅｒ社製Ａｃｑｕｉｔｙ  ＵＰＬＣ／ＭＡＬＤＩ−Ｓｙｎａｐｔ  ＨＤＭＳを用いて、ＬＣ−ＭＳ分析により測定した。【０６３４】
（実施例１）ＢｉＰ−１の合成
攪拌機、冷却管及びビュレットを備えた内容積３００ｍＬの容器において、ｏ−フェニルフェノール（シグマ−アルドリッチ社製試薬）１２ｇ（６９．０ｍｍｏｌ）を１２０℃で溶融後、硫酸０．２７ｇを仕込み、４−ビフェニルアルデヒド（シグマ−アルドリッチ社製試薬）２．７ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）を加えて、内容物を１２０℃で６時間撹拌して反応を行って反応液を得た。次に反応液にＮ−メチル−２−ピロリドン（関東化学株式会社製）１００ｍＬ、純水５０ｍＬを加えた後、酢酸エチルにより抽出した。次に純水を加えて中性になるまで分液後、濃縮を行って溶液を得た。
得られた溶液を、カラムクロマトグラフによる分離後、下記式（ＢｉＰ−１）で表される目的化合物（ＢｉＰ−１）を５．０ｇ得た。
得られた化合物（ＢｉＰ−１）について、前記方法により分子量を測定した結果、５０４であった。また、炭素濃度は８８．１質量％、酸素濃度は６．３質量％であった。
得られた化合物（ＢｉＰ−１）について、前記測定条件で、ＮＭＲ測定を行ったところ、以下のピークが見出され、下記式（ＢｉＰ−１）の化学構造を有することを確認した。
δ（ｐｐｍ）９．４８（２Ｈ，Ｏ−Ｈ）、６．８８〜７．６１（２５Ｈ，Ｐｈ−Ｈ）、５．５４（１Ｈ，Ｃ−Ｈ）【０６３５】
【化３６０】
2018052012.tif 000362
【０６３６】
（実施例２）ＢｉＰ−２の合成
ｏ−フェニルフェノールの代わりに４，４’−ビフェノールを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、下記式（ＢｉＰ−２）で表される目的化合物（ＢｉＰ−２）を２．０ｇ得た。【０６３７】
【化３６１】
2018052012.tif 000363
【０６３８】
（実施例３）ＸｉＮ−１の合成
ｏ−フェニルフェノールの代わりに２，６−ジヒドロキシナフタレンを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、下記式（ＸｉＮ−１）で表される目的化合物（ＸｉＮ−１）を２．０ｇ得た。【０６３９】
【化３６２】
2018052012.tif 000364
【０６４０】
（実施例４）ＸｉＮ−３の合成
ｏ−フェニルフェノールの代わりに２，６−ジヒドロキシナフタレンを用い、また、４−ビフェニルアルデヒドの代わりに４，４’−ジホルミルビフェニルを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、下記式（ＸｉＮ−３）で表される目的化合物（ＸｉＮ−３）１．５ｇを得た。【０６４１】
【化３６３】
2018052012.tif 000365
【０６４２】
（実施例５）ＸＢｉＮ−３の合成
ｏ−フェニルフェノールの代わりに２，７−ジヒドロキシナフタレンを用い、また、４−ビフェニルアルデヒドの代わりに４，４’−ジホルミルビフェニルを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、下記式（ＸＢｉＮ−３）で表される目的化合物（ＸＢｉＮ−３）１．５ｇを得た。【０６４３】
【化３６４】
2018052012.tif 000366
【０６４４】
（実施例６〜１３）
実施例１の原料であるｏ−フェニルフェノール及び４−ビフェニルアルデヒドを表１のように変更し、その他は実施例１と同様に行い、各目的物を得た。
それぞれ、構造を表２に示すように、１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０６４５】
【表１】
2018052012.tif 000367
【０６４６】
【表２】
2018052012.tif 000368
【０６４７】
【化３６５】
2018052012.tif 000369
【０６４８】
【化３６６】
2018052012.tif 000370
【０６４９】
【化３６７】
2018052012.tif 000371
【０６５０】
【化３６８】
2018052012.tif 000372
【０６５１】
（実施例１４〜１６）
実施例１の原料であるｏ−フェニルフェノール及び４−ビフェニルアルデヒドを表３のように変更し、水１．５ｍＬ、ドデシルメルカプタン７３ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）、３７％塩酸２．３ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加え、反応温度を５５℃に変更し、その他は実施例１と同様に行い、各目的物を得た。
それぞれ、構造を表４で示すように、１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０６５２】
【表３】
2018052012.tif 000373
【０６５３】
【表４】
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【０６５４】
【化３６９】
2018052012.tif 000375
【０６５５】
【化３７０】
2018052012.tif 000376
【０６５６】
（実施例１７）樹脂（Ｒ１−ＸｉＮ−１）の合成
ジムロート冷却管、温度計及び攪拌翼を備えた、底抜きが可能な内容積１Ｌの四つ口フラスコを準備した。この四つ口フラスコに、窒素気流中、実施例３で得られた化合物（ＸｉＮ−１）を３２．６ｇ（７０ｍｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）、４０質量％ホルマリン水溶液２１．０ｇ（ホルムアルデヒドとして２８０ｍｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）及び９８質量％硫酸（関東化学(株)製）０．９７ｍＬを仕込み、常圧下、１００℃で還流させながら７時間反応させた。その後、希釈溶媒としてオルソキシレン（和光純薬工業（株）製試薬特級）１８０．０ｇを反応液に加え、静置後、下相の水相を除去した。さらに、中和及び水洗を行い、オルソキシレンを減圧下で留去することにより、褐色固体の樹脂（Ｒ１−ＸｉＮ−１）３４．１ｇを得た。【０６５７】
得られた樹脂（Ｒ１−ＸｉＮ−１）は、Ｍｎ：１９７５、Ｍｗ：３６５０、Ｍｗ／Ｍｎ:１．８４であった。【０６５８】
（実施例１８）樹脂（Ｒ２−ＸｉＮ−１）の合成
ジムロート冷却管、温度計及び攪拌翼を備えた、底抜きが可能な内容積１Ｌの四つ口フラスコを準備した。この四つ口フラスコに、窒素気流中、実施例３で得られた化合物（ＸｉＮ−１）を３２．６ｇ（７０ｍｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）、４−ビフェニルアルデヒド５０．９ｇ（２８０ｍｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）、アニソール（関東化学(株)製）１００ｍＬ及びシュウ酸二水和物（関東化学(株)製）１０ｍＬを仕込み、常圧下、１００℃で還流させながら７時間反応させた。その後、希釈溶媒としてオルソキシレン（和光純薬工業（株）製試薬特級）１８０．０ｇを反応液に加え、静置後、下相の水相を除去した。さらに、中和及び水洗を行い、有機相の溶媒および未反応の４−ビフェニルアルデヒドを減圧下で留去することにより、褐色固体の樹脂（Ｒ２−ＸｉＮ−１）３４．７ｇを得た。【０６５９】
得られた樹脂（Ｒ２−ＸｉＮ−１）は、Ｍｎ：１６１０、Ｍｗ：２５６７、Ｍｗ／Ｍｎ:１．５９であった。【０６６０】
得られた化合物および樹脂を用い、以下の方法に従って、溶解性、屈折率、透明性、及び耐熱性の評価を行った。評価結果を表５に示す。【０６６１】
（溶解性）
化合物を試験管に精秤し、２３℃でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを所定の濃度となるよう加え、超音波洗浄機にて３０分間超音波をかけ、その後の液の状態を目視にて観察し、完全に溶解した溶解量の濃度を求め、以下の基準に従って評価した。
［溶解性試験］
Ａ：５．０質量％≦溶解量
Ｂ：３．０質量％≦溶解量＜５．０質量％
Ｃ：溶解量＜３．０質量％【０６６２】
（屈折率および透明性）
化合物をプロピレングリコールメチルエーテルに５質量％となるように溶解させて光学部材形成材料を調製した。次に、これらの光学部材形成材料をシリコン基板上に回転塗布し、その後、１１０℃で６０秒間ベークして、膜厚１０００ｎｍの光学部材形成膜を作製した。
次いで、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製  真空紫外域多入射角分光エリプソメーター（ＶＵＶ−ＶＡＳＥ）を用いて、６３３ｎｍの波長における屈折率および透明性試験を行い、以下の基準に従って屈折率および透明性を評価した。
[屈折率の評価基準]
Ａ：屈折率が１．６５以上  
Ｃ：屈折率が１．６５未満
[透明性の評価基準]
Ａ：吸光定数が０．０３未満
Ｂ：吸光定数が０．０３以上、０．０５未満
Ｃ：吸光定数が０．０５以上【０６６３】
（膜耐熱性）
上記で得られた光学部材形成膜を、１１０℃で５分ベークし、以下の基準に従って膜耐熱性の評価を実施した。
[膜耐熱性の評価基準]
Ａ：目視で膜に欠陥なし
Ｃ：目視で膜に欠陥が見られる（膜消失を含む）【０６６４】
【表５】
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【０６６５】
表５から明らかなとおり、本実施形態における化合物を使用した光学部材形成組成物は、屈折率が高く、また、比較的に低分子量ながらも、その構造の剛直さにより高い耐熱性を有するので、高温ベーク条件でも使用可能である。また、安全溶媒に対する溶解性が高く、結晶性が抑制され、耐熱性が良好であり、本実施形態の光学部材形成組成物は良好な光学部材形状を与える。
【産業上の利用可能性】
【０６６６】
本発明は、例えば、高屈折率や高透明性等の光学特性が必要とされる電気用絶縁材料、レジスト用樹脂、半導体用封止樹脂、プリント配線板用接着剤、電気機器・電子機器・産業機器等に搭載される電気用積層板、電気機器・電子機器・産業機器等に搭載されるプリプレグのマトリックス樹脂、ビルドアップ積層板材料、繊維強化プラスチック用樹脂、液晶表示パネルの封止用樹脂、塗料、各種コーティング剤、接着剤、半導体用のコーティング剤、半導体用のレジスト用樹脂、下層膜形成用樹脂、フィルム状、シート状で使われるほか、プラスチックレンズ（プリズムレンズ、レンチキュラーレンズ、マイクロレンズ、フレネルレンズ、視野角制御レンズ、コントラスト向上レンズ等）、位相差フィルム、電磁波シールド用フィルム、プリズム、光ファイバー、フレキシブルプリント配線用ソルダーレジスト、メッキレジスト、多層プリント配線板用層間絶縁膜、感光性光導波路等の光学部品等において、広く且つ有効に利用可能である。
【国際調査報告】
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