(57)【要約】新規なポリマー、組成物及び成形品を提供する。下記一般式（１）（式中、Ｘ１１及びＸ１２は、同一又は異なり、水素原子、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、又は、フェニル基を表す。Ｙ１１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒｆ１１は、水素原子、又は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。ａは、１〜４の整数を表す。）で表される構造単位を有するポリマーである。［化１］2018105716.tif 000029
2018105716.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）：
【化１】
2018105716.tif 000028
（式中、Ｘ１１及びＸ１２は、同一又は異なり、水素原子、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、又は、フェニル基を表す。Ｙ１１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒｆ１１は、水素原子、又は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。ａは、１〜４の整数を表す。）で表される構造単位を有するポリマー。
【請求項２】
一般式（１）において、ベンゼン環に結合する一方のＳｉに対し、他方のＳｉがパラ位に位置している請求項１記載のポリマー。
【請求項３】
数平均分子量が０．５×１０３〜１．０×１０７である請求項１又は２記載のポリマー。
【請求項４】
含フッ素ポリマー、及び、請求項１、２又は３記載のポリマーを含むことを特徴とする組成物。
【請求項５】
含フッ素ポリマーは、含フッ素エラストマーである請求項４記載の組成物。
【請求項６】
含フッ素エラストマーは、ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーである請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーは、ＴＦＥ／一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー共重合体及びＴＦＥ／一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも１種である請求項６の組成物。
一般式（８）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ８１
（式中、Ｒｆ８１は、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１０）：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＲｆ１０１
（式中、Ｒｆ１０１は炭素数１〜６の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数５〜６の環式パーフルオロアルキル基、１〜３個の酸素原子を含む炭素数２〜６の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である）で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式（１１）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（Ｙ１１１）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎＦ
（式中、Ｙ１１１はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ｍは１〜４の整数である。ｎは１〜４の整数である。）
【請求項８】
ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーにおけるＴＦＥが全モノマーの４５モル％以上である、請求項６又は７記載の組成物。
【請求項９】
含フッ素ポリマーは、シアノ基を有する請求項４、５、６、７又は８記載の組成物。
【請求項１０】
含フッ素ポリマー１００質量部に対して０．５〜１００質量部の前記ポリマーを含む請求項４、５、６、７、８又は９記載の組成物。
【請求項１１】
成形材料である請求項４、５、６、７、８、９又は１０記載の組成物。
【請求項１２】
請求項４、５、６、７、８、９、１０又は１１記載の組成物から得られる成形品。
【請求項１３】
シール材である請求項１２記載の成形品。
【請求項１４】
半導体製造装置のシール材である請求項１２又は１３記載の成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマー、組成物及び成形品に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造分野では、半導体の微細化・高集積化の要求が年々高まっており、半導体製造装置用のＯ−リングにも、プロセスエラーを引き起こす異物を含まぬよう要求が強まっている。特に、Ｏ−リングの構成原料の１つであるフィラー（主にシリカ）には、Ｏ−リングの劣化が進んだ際に、それ自体が異物となってプロセスエラーを引き起こす問題が生じてきている。このため、機械的特性の発現と、酸素系プラズマからのベースポリマーの保護の両方の役割を持つフィラーの代替材料が望まれている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、新規なポリマー、組成物及び成形品を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、下記一般式（１）：
【化１】
2018105716.tif 000003
（式中、Ｘ１１及びＸ１２は、同一又は異なり、水素原子、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、又は、フェニル基を表す。Ｙ１１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒｆ１１は、水素原子、又は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。ａは、１〜４の整数を表す。）で表される構造単位を有するポリマーである。【０００５】
上記ポリマーは、一般式（１）において、ベンゼン環に結合する一方のＳｉに対し、他方のＳｉがパラ位に位置していることが好ましい。【０００６】
上記ポリマーは、数平均分子量が０．５×１０３〜１．０×１０７であることが好ましい。【０００７】
本発明は、含フッ素ポリマー、及び、上記ポリマーを含むことを特徴とする組成物でもある。【０００８】
上記含フッ素ポリマーは、含フッ素エラストマーであることが好ましい。【０００９】
上記含フッ素エラストマーは、ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーであることが好ましい。【００１０】
上記ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーは、ＴＦＥ／一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー共重合体及びＴＦＥ／一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式（８）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ８１
（式中、Ｒｆ８１は、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１０）：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＲｆ１０１
（式中、Ｒｆ１０１は炭素数１〜６の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数５〜６の環式パーフルオロアルキル基、１〜３個の酸素原子を含む炭素数２〜６の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である）で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式（１１）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（Ｙ１１１）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎＦ
（式中、Ｙ１１１はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ｍは１〜４の整数である。ｎは１〜４の整数である。）【００１１】
ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーにおけるＴＦＥが全モノマーの４５モル％以上であることが好ましい。【００１２】
上記含フッ素ポリマーは、シアノ基を有することが好ましい。【００１３】
上記組成物は、含フッ素ポリマー１００質量部に対して０．５〜１００質量部の上記ポリマーを含むことが好ましい。【００１４】
上記組成物は、成形材料であることが好ましい。【００１５】
本発明は、上記組成物から得られる成形品でもある。【００１６】
上記成形品は、シール材であることが好ましい。【００１７】
上記成形品は、半導体製造装置のシール材であることも好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、新規なポリマー、組成物及び成形品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を具体的に説明する。
【００２０】
本発明は、下記一般式（１）：
【化２】
2018105716.tif 000004
（式中、Ｘ１１及びＸ１２は、同一又は異なり、水素原子、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、又は、フェニル基を表す。Ｙ１１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒｆ１１は、水素原子、又は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。ａは、１〜４の整数を表す。）で表される構造単位を有する新規なポリマーである。
【００２１】
本発明のポリマーは、Ｒｆ１１で表される側鎖を有することにより、含フッ素ポリマーとの親和性が高い。また、Ｓｉ−Ｏ結合を有することにより、耐酸素プラズマ性を有する。本発明のポリマーは、これらの構造をベンゼン環を通して連結させた構造を有するので、含フッ素ポリマー（ベースポリマー）に添加した場合に、当該含フッ素ポリマーとの親和性を損なうことなく機械的特性・耐酸素プラズマ性も発現することができる。
【００２２】
一般式（１）において、Ｘ１１及びＸ１２は、同一又は異なり、水素原子、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、又は、フェニル基を表す。Ｘ１１とＸ１２とは同一であっても互いに異なってもよく、２つのＸ１１同士、２つのＸ１２同士も、同一であっても互いに異なってもよい。上記フッ素原子を有していてもよいアルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基及びフルオロアルキル基が挙げられる。上記炭素数は、３以下であることが好ましい。上記フッ素原子を有していてもよいアルキル基としては、より具体的に、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３等が挙げられる。Ｘ１１及びＸ１２は、水素原子、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３又はフェニル基（−Ｐｈ）であることが好ましい。
【００２３】
一般式（１）において、Ｙ１１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙ１１が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、互いに異なってもよい。Ｙ１１は、硫黄原子であることが好ましい。
【００２４】
一般式（１）において、Ｒｆ１１は、水素原子、又は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。Ｒｆ１１が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、互いに異なってもよい。上記フッ素原子を有していてもよいアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基及びフルオロアルキル基が挙げられる。上記炭素数は、４以上であることが好ましく、また、１０以下であることが好ましい。上記フッ素原子を有していてもよいアルキル基としては、より具体的に、−ＣＨ３、−（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数、好ましくは０〜７の整数を表す。）、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数、好ましくは０〜７の整数を表す。）、−ＣＨ２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数、好ましくは０〜７の整数を表す。）、−ＣＨ２（ＣＦ２）ｎＨ（ｎは、０以上の整数、好ましくは０〜８の整数を表す。）、−ＣＦ（ＣＦ３）２等が挙げられる。Ｒｆ１１は、−（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数、好ましくは０〜７の整数を表す。）、又は、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数、好ましくは０〜７の整数を表す。）であることが好ましく、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）３ＣＦ３、又は、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）５ＣＦ３であることがより好ましい。
【００２５】
一般式（１）において、ａは、１〜４の整数を表す。ａは、１又は２であることが好ましい。
【００２６】
一般式（１）において、ベンゼン環に結合する２つのＳｉの位置は任意であるが、一方のＳｉに対し、他方のＳｉがメタ位又はパラ位に位置することが好ましい。なかでも、パラ位に位置することがより好ましい。
【００２７】
一般式（１）で表される構造単位としては、下記一般式（１−１）及び（１−２）のいずれかで表される構造単位が好ましい。
【化３】
2018105716.tif 000005
（式中、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｙ１１及びＲｆ１１は、上記定義と同じ。）
【化４】
2018105716.tif 000006
（式中、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｙ１１及びＲｆ１１は、上記定義と同じ。）
【００２８】
本発明のポリマーは、数平均分子量が０．５×１０３〜１．０×１０７であることが好ましい。上記数平均分子量は、０．８×１０３以上がより好ましく、また、１．５×１０６以下がより好ましく、１．０×１０６以下が更に好ましい。
上記数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求めることができる。
【００２９】
本発明のポリマーは、下記一般式（２）：
【化５】
2018105716.tif 000007
（式中、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｙ１１、Ｒｆ１１及びａは、上記定義と同じ。）で表される化合物（２）を縮合重合することにより、製造することができる。
【００３０】
上記縮合重合は、触媒の存在下に行うことが好ましい。上記触媒としては、１，１，３，３−テトラメチルグアジニウム−２−エチルヘキサノエート、アミン類（例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＭＡＰ、ＤＢＵ、プロトンスポンジ、ＤＡＢＣＯ、キヌクリジン、アニリン、トリブチルアミン、アンモニア）、有機溶媒に可溶な酸（例えば、硫酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸）等が挙げられる。
【００３１】
上記縮合重合は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。上記溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、アニソール、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
【００３２】
上記縮合重合は、２０〜１５０℃の温度で行うことができる。
【００３３】
上記縮合重合のその他の条件は、シラノール化合物の脱水縮合反応の公知の条件に基づき適宜設定することができる。
【００３４】
本発明のポリマーは、再沈殿等により分離精製することができる。
【００３５】
本発明のポリマーは、化合物（２）の単独重合体であってもよく、化合物（２）、及び、化合物（２）と縮合重合可能な他の化合物の共重合体であってもよい。上記他の化合物としては、ジシラノール化合物（化合物（２）は除く）、末端シラノール基を有するポリシロキサン化合物等が挙げられる。
【００３６】
上記化合物（２）のうち、Ｒｆ１１が−（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）、又は、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）であり、かつＹ１１が硫黄原子であるものは、新規化合物である。
【００３７】
化合物（２）は、下記一般式（３）：
【化６】
2018105716.tif 000008
（式中、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｙ１１、Ｒｆ１１及びａは、上記定義と同じ。）で表される化合物（３）を酸化することにより、製造することができる。
【００３８】
上記酸化反応は、触媒の存在下に行うことが好ましい。上記触媒としては、パラジウム／炭素、パラジウム／アルミナ、白金／炭素，白金／アルミナ、ルテニウム／炭素、ルテニウム／アルミナ、ロジウム／炭素、ロジウム／アルミナ等が挙げられる。
【００３９】
上記酸化反応は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。上記溶媒としてはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
【００４０】
上記酸化反応は、−４０〜１５０℃の温度で行うことができる。
【００４１】
上記酸化反応のその他の条件は、ヒドロシラン化合物の酸化反応の公知の条件に基づき適宜設定することができる。
【００４２】
化合物（２）は、カラムクロマトグラフィー、再結晶等により分離精製することができる。
【００４３】
上記化合物（３）のうち、Ｒｆ１１が−（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）、又は、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）であり、かつＹ１１が硫黄原子であるものは、新規化合物である。
【００４４】
化合物（３）は、下記一般式（４）：
【化７】
2018105716.tif 000009
（式中、Ｙ１１、Ｒｆ１１及びａは、上記定義と同じ。Ｚ１１は、同一又は異なり、ハロゲン原子を表す。）で表される化合物（４）と、金属マグネシウム又は金属亜鉛と、一般式（５）：Ｚ１２ＳｉＸ１１Ｘ１２Ｈ（式中、Ｚ１２は、ハロゲン原子を表す。Ｘ１１及びＸ１２は、上記定義と同じ。）で表される化合物（５）とを反応させることにより、製造することができる。
【００４５】
一般式（４）において、Ｚ１１は、同一又は異なり、ハロゲン原子を表す。Ｚ１１は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましく、臭素原子であることがより好ましい。
【００４６】
一般式（５）において、Ｚ１２は、ハロゲン原子を表す。Ｚ１２は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。
【００４７】
上記反応においては、金属マグネシウム又は金属亜鉛を使用する。中でも金属マグネシウムを使用することが好ましい。
【００４８】
化合物（４）と金属マグネシウム又は金属亜鉛と化合物（５）との反応は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。上記溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム、１，４−ジオキサン等が挙げられる。
【００４９】
上記反応は、−２０〜１００℃の温度で行うことができる。
【００５０】
上記反応のその他の条件は、有機金属試薬を発生させて用いる公知の反応条件に基づき適宜設定することができる。
【００５１】
化合物（３）は、カラムクロマトグラフィー、再結晶等により分離精製することができる。
【００５２】
上記化合物（４）のうち、Ｒｆ１１が−（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）、又は、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）であり、かつＹ１１が硫黄原子であるものは、新規化合物である。
【００５３】
化合物（４）は、具体的な構造に応じて、公知の反応を組み合わせて製造することができる。以下に、いくつかの例を示す。
【００５４】
（Ｙ１１が硫黄原子、Ｒｆ１１がフッ素原子を有していてもよいアルキル基、ａが１である化合物）
下記一般式（Ａ−１）：
【化８】
2018105716.tif 000010
（式中、Ｚ１１は、上記定義と同じ。）で表される化合物（Ａ−１）と、二硫化炭素（ＣＳ２）等とを反応させることにより、下記一般式（Ａ−２）：
【化９】
2018105716.tif 000011
（式中、Ｚ１１は、上記定義と同じ。）で表される化合物（Ａ−２）を得る工程（Ａ−１）、及び、化合物（Ａ−２）と、一般式（ａ）：Ｚ１３−Ｒｆ１１（式中、Ｚ１３は、ハロゲン原子を表す。Ｒｆ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。）で表される化合物（ａ）とを塩基性条件下で反応させることにより、下記一般式（Ａ−３）：
【化１０】
2018105716.tif 000012
（式中、Ｚ１１は、上記定義と同じ。Ｒｆ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。）で表される化合物（Ａ−３）を得る工程（Ａ−２）、を含む方法により製造することができる。
【００５５】
一般式（ａ）において、Ｚ１３は、ハロゲン原子を表す。Ｚ１３は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましく、ヨウ素原子であることがより好ましい。
【００５６】
工程（Ａ−１）の反応は、例えば、特開２０００−７６４９号公報に記載される条件下で行うことができる。
【００５７】
工程（Ａ−２）の反応は、例えば、Ｊ．  Ｍａｔｅｒ．  Ｃｈｅｍ．  ６，  ７１１−７１７（１９９６）に記載される条件下で行うことができる。
【００５８】
（Ｙ１１が硫黄原子、Ｒｆ１１がフッ素原子を有していてもよいアルキル基、ａが２である化合物）
下記一般式（Ｂ−１）：
【化１１】
2018105716.tif 000013
（式中、Ｚ２１は、同一又は異なり、ハロゲン原子を表す。）で表される化合物（Ｂ−１）と、ｉ−ＰｒＳＨ（（ＣＨ３）２ＣＨＳＨ）と、金属ナトリウムとを反応させることにより、下記一般式（Ｂ−２）：
【化１２】
2018105716.tif 000014
で表される化合物（Ｂ−２）を得る工程（Ｂ−１）、化合物（Ｂ−２）と、一般式（ａ）：Ｚ１３−Ｒｆ１１（式中、Ｚ１３は、ハロゲン原子を表す。Ｒｆ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。）で表される化合物（ａ）とを塩基性条件下で反応させることにより、下記一般式（Ｂ−３）：
【化１３】
2018105716.tif 000015
（式中、Ｒｆ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。）で表される化合物（Ｂ−３）を得る工程（Ｂ−２）、及び、化合物（Ｂ−３）と、一般式（ｂ）：Ｚ１１２（式中、Ｚ１１は、上記定義と同じ。）で表される化合物（ｂ）とを反応させることにより、下記一般式（Ｂ−４）：
【化１４】
2018105716.tif 000016
（式中、Ｚ１１は、上記定義と同じ。Ｒｆ１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基を表す。）で表される化合物（Ｂ−４）を得る工程（Ｂ−３）、を含む方法により製造することができる。
【００５９】
一般式（Ｂ−１）において、Ｚ２１は、同一又は異なり、ハロゲン原子を表す。Ｚ２１は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましく、臭素原子であることがより好ましい。
【００６０】
工程（Ｂ−１）の反応は、例えば、Ｅｕｒ．  Ｊ．  Ｉｎｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．  ３５，  ５３２８−５３３４（２００９）に記載される条件下で行うことができる。
【００６１】
工程（Ｂ−２）の反応は、例えば、Ｊ．  Ｍａｔｅｒ．  Ｃｈｅｍ．  ６，  ７１１−７１７（１９９６）に記載される条件下で行うことができる。
【００６２】
工程（Ｂ−３）の反応は、例えば、Ｊ．  Ｐｈｙｓ．  Ｃｈｅｍ．  １１７，  ４４４２−４４４８（２０１３）に記載される条件下で行うことができる。
【００６３】
上記化合物（Ｂ−３）のうち、Ｒｆ１１が−（ＣＦ２）ｎ＋１ＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）、又は、−（ＣＨ２）２（ＣＦ２）ｎＣＦ３（ｎは、０以上の整数を表す。）であるものは、新規化合物である。
【００６４】
本発明は、含フッ素ポリマー、及び、上述した本発明のポリマーを含む組成物でもある。本発明の組成物は、含フッ素ポリマーと上記ポリマーとの親和性が高く、かつ機械的特性・耐酸素プラズマ性にも優れる。
【００６５】
上記含フッ素ポリマーとしては、シール性、耐薬品性及び耐熱性が優れることから、含フッ素エラストマーが好ましい。
上記含フッ素エラストマーとしては、部分フッ素化エラストマーであってもよいし、パーフルオロエラストマーであってもよいが、耐薬品性、耐熱性が更に優れている点よりパーフルオロエラストマーを用いることが好ましい。
【００６６】
部分フッ素化エラストマーとしては、ビニリデンフルオライド（ＶｄＦ）系フッ素ゴム、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）／プロピレン（Ｐｒ）系フッ素ゴム、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）／プロピレン／ビニリデンフルオライド（ＶｄＦ）系フッ素ゴム、エチレン／ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）系フッ素ゴム、エチレン／ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）／ビニリデンフルオライド（ＶｄＦ）系フッ素ゴム、エチレン／ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）／テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）系フッ素ゴム等が挙げられる。なかでも、ビニリデンフルオライド系フッ素ゴム及びテトラフルオロエチレン／プロピレン系フッ素ゴムからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００６７】
上記ビニリデンフルオライド系フッ素ゴムは、ビニリデンフルオライド４５〜８５モル％と、ビニリデンフルオライドと共重合可能な少なくとも１種の他のモノマー５５〜１５モル％とからなる共重合体であることが好ましい。好ましくは、ビニリデンフルオライド５０〜８０モル％と、ビニリデンフルオライドと共重合可能な少なくとも１種の他のモノマー５０〜２０モル％とからなる共重合体である。
【００６８】
本明細書において、フルオロポリマーを構成する各モノマーの含有量は、ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析をモノマーの種類によって適宜組み合わせることで算出できる。
【００６９】
上記ビニリデンフルオライドと共重合可能な少なくとも１種の他のモノマーとしては、テトラフルオロエチレン〔ＴＦＥ〕、へキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕、フルオロアルキルビニルエーテル、クロロトリフルオロエチレン〔ＣＴＦＥ〕、トリフルオロエチレン、トリフルオロプロピレン、ペンタフルオロプロピレン、トリフルオロブテン、テトラフルオロイソブテン、ヘキサフルオロイソブテン、フッ化ビニル、一般式（６）：ＣＨ２＝ＣＦＲｆ６１（式中、Ｒｆ６１は炭素数１〜１２の直鎖又は分岐したフルオロアルキル基）で表されるフルオロモノマー、一般式（７）：ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＦ２）ｎ−Ｘ２（式中、Ｘ２はＨ又はＦであり、ｎは３〜１０の整数である。）で表されるフルオロモノマー、架橋部位を与えるモノマー等のモノマー；エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテル等の非フッ素化モノマーが挙げられる。これらをそれぞれ単独で、又は、任意に組み合わせて用いることができる。これらのなかでも、ＴＦＥ、ＨＦＰ、フルオロアルキルビニルエーテル及びＣＴＦＥからなる群より選択される少なくとも１種を用いることが好ましい。
フルオロアルキルビニルエーテルとしては、
一般式（８）：ＣＦ２＝ＣＦ−ＯＲｆ８１
（式中、Ｒｆ８１は、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１０）：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＲｆ１０１
（式中、Ｒｆ１０１は炭素数１〜６の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数５〜６の環式パーフルオロアルキル基、１〜３個の酸素原子を含む炭素数２〜６の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である）で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式（１１）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（Ｙ１１１）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎＦ
（式中、Ｙ１１１はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ｍは１〜４の整数である。ｎは１〜４の整数である。）で表されるフルオロモノマー
からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、
一般式（８）で表されるフルオロモノマーがより好ましい。
【００７０】
ビニリデンフルオライド系フッ素ゴムの具体例としては、ＶｄＦ／ＨＦＰ系ゴム、ＶｄＦ／ＨＦＰ／ＴＦＥ系ゴム、ＶｄＦ／ＣＴＦＥ系ゴム、ＶｄＦ／ＣＴＦＥ／ＴＦＥ系ゴム、ＶｄＦ／一般式（６）で表されるフルオロモノマー系ゴム、ＶｄＦ／一般式（６）で表されるフルオロモノマー／ＴＦＥ系ゴム、ＶｄＦ／パーフルオロ（メチルビニルエーテル）〔ＰＭＶＥ〕系ゴム、ＶｄＦ／ＰＭＶＥ／ＴＦＥ系ゴム、ＶｄＦ／ＰＭＶＥ／ＴＦＥ／ＨＦＰ系ゴム等が挙げられる。ＶｄＦ／一般式（６）で表されるフルオロモノマー系ゴムとしては、ＶｄＦ／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３系ゴムが好ましく、ＶｄＦ／一般式（６）で表されるフルオロモノマー／ＴＦＥ系ゴムとしては、ＶｄＦ／ＴＦＥ／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３系ゴムが好ましい。
【００７１】
上記ＶｄＦ／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３系ゴムは、ＶｄＦ４０〜９９．５モル％、及び、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３０．５〜６０モル％からなる共重合体であることが好ましく、ＶｄＦ５０〜８５モル％、及び、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３１５〜５０モル％からなる共重合体であることがより好ましい。
【００７２】
上記テトラフルオロエチレン／プロピレン系フッ素ゴムは、テトラフルオロエチレン４５〜７０モル％、プロピレン５５〜３０モル％、及び、架橋部位を与えるフルオロモノマー０〜５モル％からなる共重合体であることが好ましい。
【００７３】
上記含フッ素エラストマーは、パーフルオロエラストマーであってもよい。上記パーフルオロエラストマーとしては、ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマー、例えばＴＦＥ／一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー共重合体及びＴＦＥ／一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。その組成は、ＴＦＥが全モノマーの４５モル％以上であることが好ましい。上限は９０モル％が好ましい。
また、その組成は、ＴＦＥ／ＰＭＶＥ共重合体の場合、好ましくは、４５〜９０／１０〜５５（モル％）であり、より好ましくは、５５〜８０／２０〜４５であり、更に好ましくは、５５〜７０／３０〜４５である。
ＴＦＥ／ＰＭＶＥ／架橋部位を与えるモノマー共重合体の場合、好ましくは、４５〜８９．９／１０〜５４．９／０．０１〜４（モル％）であり、より好ましくは、５５〜７７．９／２０〜４９．９／０．１〜３．５であり、更に好ましくは、５５〜６９．８／３０〜４４．８／０．２〜３である。
ＴＦＥ／炭素数が４〜１２の一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー共重合体の場合、好ましくは、５０〜９０／１０〜５０（モル％）であり、より好ましくは、６０〜８８／１２〜４０であり、更に好ましくは、６５〜８５／１５〜３５である。
ＴＦＥ／炭素数が４〜１２の一般式（８）、（１０）又は（１１）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体の場合、好ましくは、５０〜８９．９／１０〜４９．９／０．０１〜４（モル％）であり、より好ましくは、６０〜８７．９／１２〜３９．９／０．１〜３．５であり、更に好ましくは、６５〜８４．８／１５〜３４．８／０．２〜３である。
これらの組成の範囲を外れると、ゴム弾性体としての性質が失われ、樹脂に近い性質となる傾向がある。
なお、上記ＴＦＥを含むパーフルオロエラストマーにおいて、架橋部位を与えるモノマーはパーフルオロモノマーでなくてもよい。
【００７４】
上記パーフルオロエラストマーとしては、ＴＦＥ／一般式（１１）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるフルオロモノマー共重合体、ＴＦＥ／一般式（１１）で表されるパーフルオロビニルエーテル共重合体、ＴＦＥ／一般式（８）で表されるフルオロモノマー共重合体、及び、ＴＦＥ／一般式（８）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００７５】
上記パーフルオロエラストマーとしては、国際公開第９７／２４３８１号、特公昭６１−５７３２４号公報、特公平４−８１６０８号公報、特公平５−１３９６１号公報等に記載されているパーフルオロエラストマーも挙げることができる。
【００７６】
架橋部位を与えるモノマーとは、架橋剤により架橋を形成するための架橋部位をフルオロポリマーに与える架橋性基を有するモノマー（キュアサイトモノマー）である。
【００７７】
架橋部位を与えるモノマーとしては、
一般式（１２）：ＣＸ３２＝ＣＸ３−Ｒｆ１２１ＣＨＲ１２１Ｘ４
（式中、Ｘ３は、水素原子、フッ素原子又はＣＨ３、Ｒｆ１２１は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロ（ポリ）オキシアルキレン基又はパーフルオロ（ポリ）オキシアルキレン基、Ｒ１２１は、水素原子又はＣＨ３、Ｘ４は、ヨウ素原子又は臭素原子である）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１３）：ＣＸ３２＝ＣＸ３−Ｒｆ１３１Ｘ４
（式中、Ｘ３は、水素原子、フッ素原子又はＣＨ３、Ｒｆ１３１は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロポリオキシアルキレン基又はパーフルオロポリオキシアルキレン基、Ｘ４は、ヨウ素原子又は臭素原子である）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１４）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎ−Ｘ５
（式中、ｍは０〜５の整数、ｎは１〜３の整数、Ｘ５は、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、又は、−ＣＨ２Ｉである）で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式（１５）：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ（ＣＦ３））ｎ−Ｘ６
（式中、ｍは０〜５の整数、ｎは１〜３の整数、Ｘ６は、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、又は−ＣＨ２ＯＨである）で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式（１６）：ＣＲ１６２Ｒ１６３＝ＣＲ１６４−Ｚ−ＣＲ１６５＝ＣＲ１６６Ｒ１６７
（式中、Ｒ１６２、Ｒ１６３、Ｒ１６４、Ｒ１６５、Ｒ１６６及びＲ１６７、は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。Ｚは、直鎖又は分岐状で酸素原子を有していてもよい、炭素数１〜１８のアルキレン基、炭素数３〜１８のシクロアルキレン基、少なくとも部分的にフッ素化している炭素数１〜１０のアルキレン基若しくはオキシアルキレン基、又は、
−（Ｑ）ｐ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２−（Ｑ）ｐ−
（式中、Ｑはアルキレン基またはオキシアルキレン基である。ｐは０または１である。ｍ／ｎが０．２〜５である。）で表され、分子量が５００〜１００００である（パー）フルオロポリオキシアルキレン基である。）で表されるモノマーからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００７８】
Ｘ３は、フッ素原子であることが好ましい。Ｒｆ１２１及びＲｆ１３１は炭素数が１〜５のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ１２１は、水素原子であることが好ましい。Ｘ５は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、又は、−ＣＨ２Ｉであることが好ましい。Ｘ６は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、又は−ＣＨ２ＯＨであることが好ましい。
【００７９】
架橋部位を与えるモノマーとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＨ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＮ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２Ｉ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６ＣＨ＝ＣＨ２、及び、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＮからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮがより好ましい。
【００８０】
上記含フッ素ポリマーはシアノ基を有することが好ましい。含フッ素ポリマーがシアノ基を有することによって、上記本発明のポリマーが架橋剤として好適に作用し、更に、耐熱性に優れる成形品を得ることができる。
上記シアノ基は、上述した架橋部位を与えるモノマーによって含フッ素ポリマーに導入することができる。また、他の方法としては、国際公開第００／０５９５９号に記載の方法によって導入することもできる。
上記シアノ基を有する含フッ素ポリマーは、架橋部位を与えるモノマーを全単量体単位に対して０．１〜５．０モル％含むことが好ましく、０．２〜２．０モル％含むことがより好ましい。この場合、架橋部位を与えるモノマーはシアノ基を有する単量体であることが好ましい。
【００８１】
上記含フッ素エラストマーは、高温における圧縮永久歪特性に優れる点から、ガラス転移温度が−７０℃以上であることが好ましく、−６０℃以上であることがより好ましく、−５０℃以上であることが更に好ましい。また、耐寒性が良好であるという点から、５℃以下であることが好ましく、０℃以下であることがより好ましく、−３℃以下であることが更に好ましい。
【００８２】
上記ガラス転移温度は、示差走査熱量計を用い、試料１０ｍｇを１０℃／ｍｉｎで昇温することによりＤＳＣ曲線を得て、ＤＳＣ曲線の二次転移前後のベースラインの延長線と、ＤＳＣ曲線の変曲点における接線との２つの交点の中点を示す温度として求めることができる。
【００８３】
上記含フッ素エラストマーは、耐熱性が良好な点で、１７０℃におけるムーニー粘度ＭＬ（１＋２０）が３０以上であることが好ましく、４０以上であることがより好ましく、５０以上であることが更に好ましい。また、加工性が良好な点で、１５０以下であることが好ましく、１２０以下であることがより好ましく、１１０以下であることが更に好ましい。
【００８４】
上記含フッ素エラストマーは、耐熱性が良好な点で、１４０℃におけるムーニー粘度ＭＬ（１＋２０）が３０以上であることが好ましく、４０以上であることがより好ましく、５０以上であることが更に好ましい。また、加工性が良好な点で、１８０以下であることが好ましく、１５０以下であることがより好ましく、１１０以下であることが更に好ましい。
【００８５】
上記含フッ素エラストマーは、耐熱性が良好な点で、１００℃におけるムーニー粘度ＭＬ（１＋１０）が１０以上であることが好ましく、２０以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。また、加工性が良好な点で、１２０以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、８０以下であることが更に好ましい。
【００８６】
上記ムーニー粘度は、ＡＬＰＨＡ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ社製  ムーニー粘度計ＭＶ２０００Ｅ型を用いて、１７０℃又は１４０℃、１００℃において、ＪＩＳ  Ｋ６３００に従い測定することができる。
【００８７】
上述した部分フッ素化エラストマー及びパーフルオロエラストマーは、常法により製造することができるが、得られる重合体は分子量分布が狭く、分子量の制御が容易である点、末端にヨウ素原子又は臭素原子を導入することができる点から、連鎖移動剤としてヨウ素化合物又は臭素化合物を使用することもできる。ヨウ素化合物又は臭素化合物を使用して行う重合方法としては、例えば、実質的に無酸素状態で、ヨウ素化合物又は臭素化合物の存在下に、加圧しながら水媒体中で乳化重合を行う方法が挙げられる（ヨウ素移動重合法）。使用するヨウ素化合物又は臭素化合物の代表例としては、例えば、一般式：
Ｒ１３ＩｘＢｒｙ
（式中、ｘ及びｙはそれぞれ０〜２の整数であり、かつ１≦ｘ＋ｙ≦２を満たすものであり、Ｒ１３は炭素数１〜１６の飽和若しくは不飽和のフルオロ炭化水素基又はクロロフルオロ炭化水素基、又は炭素数１〜３の炭化水素基であり、酸素原子を含んでいてもよい）で表される化合物が挙げられる。ヨウ素化合物又は臭素化合物を使用することによって、ヨウ素原子又は臭素原子が重合体に導入され、架橋点としても機能する場合がある。
【００８８】
ヨウ素化合物及び臭素化合物としては、例えば１，３−ジヨードパーフルオロプロパン、２−ヨードパーフルオロプロパン、１，３−ジヨード−２−クロロパーフルオロプロパン、１，４−ジヨードパーフルオロブタン、１，５−ジヨード−２，４−ジクロロパーフルオロペンタン、１，６−ジヨードパーフルオロヘキサン、１，８−ジヨードパーフルオロオクタン、１，１２−ジヨードパーフルオロドデカン、１，１６−ジヨードパーフルオロヘキサデカン、ジヨードメタン、１，２−ジヨードエタン、１，３−ジヨード−ｎ−プロパン、ＣＦ２Ｂｒ２、ＢｒＣＦ２ＣＦ２Ｂｒ、ＣＦ３ＣＦＢｒＣＦ２Ｂｒ、ＣＦＣｌＢｒ２、ＢｒＣＦ２ＣＦＣｌＢｒ、ＣＦＢｒＣｌＣＦＣｌＢｒ、ＢｒＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｂｒ、ＢｒＣＦ２ＣＦＢｒＯＣＦ３、１−ブロモ−２−ヨードパーフルオロエタン、１−ブロモ−３−ヨードパーフルオロプロパン、１−ブロモ−４−ヨードパーフルオロブタン、２−ブロモ−３−ヨードパーフルオロブタン、３−ブロモ−４−ヨードパーフルオロブテン−１、２−ブロモ−４−ヨードパーフルオロブテン−１、ベンゼンのモノヨードモノブロモ置換体、ジヨードモノブロモ置換体、並びに（２−ヨードエチル）及び（２−ブロモエチル）置換体等が挙げられ、これらの化合物は、単独で使用してもよく、相互に組み合わせて使用することもできる。
【００８９】
これらのなかでも、重合反応性、架橋反応性、入手容易性等の点から、１，４−ジヨードパーフルオロブタン、１，６−ジヨードパーフルオロヘキサン、２−ヨードパーフルオロプロパンを用いるのが好ましい。
【００９０】
上記組成物は、上記含フッ素ポリマー１００質量部に対して０．５〜１００質量部の上記本発明のポリマーを含むことが好ましい。より好ましくは５〜５０質量部であり、更に好ましくは５〜２５質量部である。本発明のポリマーが少なすぎると補強性、耐酸素プラズマ性に乏しく、本発明のポリマーが多すぎると硬くてシール性が低下するおそれがある。
【００９１】
上記組成物は、更に一般的な架橋剤を含んでもよい。上記架橋剤としては、パーオキサイド架橋、ポリオール架橋、ポリアミン架橋、トリアジン架橋、オキサゾール架橋、イミダゾール架橋、及び、チアゾール架橋において用いる架橋剤が挙げられる。
【００９２】
パーオキサイド架橋において用いる架橋剤は、熱や酸化還元系の存在下で容易にパーオキシラジカルを発生し得る有機過酸化物であればよく、具体的には、例えば１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、α，α−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）−ヘキシン−３、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン等を挙げることができる。一般に活性−Ｏ−Ｏ−の量、分解温度等を考慮して有機過酸化物の種類並びに使用量が選ばれる。
【００９３】
また、この場合に用いることのできる架橋助剤としては、パーオキシラジカルとポリマーラジカルに対して反応活性を有する化合物であればよく、例えばＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−、ＣＦ２＝ＣＦ−等の官能基を有する多官能性化合物が挙げられる。具体的には、例えばトリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）、トリアクリルホルマール、トリアリルトリメリテート、Ｎ，Ｎ’−ｎ−フェニレンビスマレイミド、ジプロパギルテレフタレート、ジアリルフタレート、テトラアリルテレフタレートアミド、トリアリルホスフェート、ビスマレイミド、フッ素化トリアリルイソシアヌレート（１，３，５−トリス（２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル）−１，３，５−トリアジン２，４，６−トリオン）、トリス（ジアリルアミン）−Ｓ−トリアジン、亜リン酸トリアリル、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、１，６−ジビニルドデカフルオロヘキサン等が挙げられる。
【００９４】
ポリオール架橋に用いる架橋剤としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＦ等の多価アルコール化合物が挙げられる。
【００９５】
ポリアミン架橋に用いる架橋剤としては、ヘキサメチレンジアミンカルバメート、Ｎ，Ｎ’−ジシンナミリデン−１，６−ヘキサンジアミン、４，４’−ビス（アミノシクロヘキシル）メタンカルバメート等の多価アミン化合物が挙げられる。
【００９６】
トリアジン架橋に用いる架橋剤としては、テトラフェニルスズ、トリフェニルスズ等の有機スズ化合物が挙げられる。
【００９７】
オキサゾール架橋、イミダゾール架橋、チアゾール架橋に使用する架橋剤としては、例えば一般式（２０）：
【００９８】
【化１５】
2018105716.tif 000017
【００９９】
（式中、Ｒ４は−ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基又は単結合手又は、
【０１００】
【化１６】
2018105716.tif 000018
【０１０１】
で示される基であり、Ｒ５及びＲ６は一方が−ＮＨ２であり他方が−ＮＨＲ７、−ＮＨ２、−ＯＨ又は−ＳＨであり、Ｒ７は水素原子、フッ素原子又は一価の有機基であり、好ましくはＲ５が−ＮＨ２でありＲ６が−ＮＨＲ７である。炭素数１〜６のアルキレン基の好ましい具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等を挙げることができ、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基としては、
【０１０２】
【化１７】
2018105716.tif 000019
【０１０３】
等が挙げられる。なお、これらの化合物は、特公平２−５９１７７号公報、特開平８−１２０１４６号公報等で、ビスジアミノフェニル化合物の例示として知られているものである）で示されるビスジアミノフェニル系架橋剤、ビスアミノフェノール系架橋剤、ビスアミノチオフェノール系架橋剤、一般式（２１）：
【０１０４】
【化１８】
2018105716.tif 000020
【０１０５】
で示されるビスアミドラゾン系架橋剤、一般式（２２）：
【０１０６】
【化１９】
2018105716.tif 000021
【０１０７】
（式中、Ｒｆ３は炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基である）、
又は一般式（２３）：
【０１０８】
【化２０】
2018105716.tif 000022
【０１０９】
（式中、ｎは１〜１０の整数である）で示されるビスアミドオキシム系架橋剤等が挙げられる。これらのビスアミノフェノール系架橋剤、ビスアミノチオフェノール系架橋剤又はビスジアミノフェニル系架橋剤等は従来シアノ基を架橋点とする架橋系に使用していたものであるが、カルボキシル基及びアルコキシカルボニル基とも反応し、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環を形成し、架橋物を与える。
【０１１０】
特に好ましい架橋剤としては、複数個の３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル基、又は３−アミノ−４−メルカプトフェニル基を有する化合物、若しくは一般式（２４）：
【０１１１】
【化２１】
2018105716.tif 000023
【０１１２】
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、は前記と同じである）で示される化合物が挙げられ、具体的には、例えば２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（一般名：ビス（アミノフェノール）ＡＦ）、２，２−ビス（３−アミノ−４−メルカプトフェニル）ヘキサフルオロプロパン、テトラアミノベンゼン、ビス−３，４−ジアミノフェニルメタン、ビス−３，４−ジアミノフェニルエーテル、２，２−ビス（３，４−ジアミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−メチルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−エチルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−プロピルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−パーフルオロフェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−ベンジルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン等である。
【０１１３】
これらの中でも、架橋剤としては耐熱性、耐スチーム性、耐アミン性、良好な架橋性の点から、２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンが好ましい。
【０１１４】
上記一般的な架橋剤は、含フッ素ポリマー１００質量部に対して、０．０５〜１０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部であることがより好ましい。
【０１１５】
上記組成物は、一般的な充填剤を含有してもよい。
【０１１６】
上記一般的な充填剤としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のイミド構造を有するイミド系フィラー；ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリオキシベンゾエート等のエンジニアリングプラスチック製の有機フィラー（化合物（１）は除く）、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化イットリウム等の金属酸化物フィラー、炭化ケイ素、炭化アルミニウム等の金属炭化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の金属窒化物フィラー、フッ化アルミニウム、フッ化カーボン等の無機フィラーが挙げられる。
【０１１７】
これらの中でも、各種プラズマの遮蔽効果の点から、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化ケイ素、ポリイミド、フッ化カーボンが好ましい。
【０１１８】
また、上記無機フィラー、有機フィラーを単独で、又は２種以上を組み合わせて配合してもよい。
【０１１９】
上記一般的な充填剤の配合量は、含フッ素ポリマー１００質量部に対して、好ましくは０．５〜１００質量部、より好ましくは５〜５０質量部である。ただし、無機フィラーは、半導体製造用途においてプロセスエラーを引き起こす異物となり得ることから、少量であることが好ましい。上記組成物は、無機フィラーを含まないことがより好ましい。
【０１２０】
特に高純度かつ非汚染性が要求されない分野では、必要に応じて含フッ素ポリマー組成物に配合される通常の添加物、例えば充填剤、加工助剤、可塑剤、着色剤等を配合することができ、前記のものとは異なる常用の架橋剤や架橋助剤を１種又はそれ以上配合してもよい。
【０１２１】
上記組成物は、上記の各成分を、通常のポリマー用加工機械、例えば、オープンロール、バンバリーミキサー、ニーダー等を用いて混合することにより調製することができる。この他、密閉式混合機を用いる方法によっても調製することができる。上記組成物は、成形して成形品を得るための成形材料として好適に使用でき、また、架橋成形して成形品を得るための成形材料としても好適に使用できる。
【０１２２】
上記組成物を成形材料として予備成形体を得る方法は通常の方法でよく、金型にて加熱圧縮する方法、加熱された金型に圧入する方法、押出機で押出す方法等公知の方法で行なうことができる。ホースや電線等の押出製品の場合は押出後にスチーム等による加熱架橋を行なうことで、成形品を得ることができる。
【０１２３】
上記架橋条件としては、
【０１２４】
（標準架橋条件）
混練方法    ：ロール練り
プレス架橋  ：１８０℃で３０分間
オーブン架橋：２９０℃で１８時間
であり、特に断らない限りは、この条件で架橋する。
【０１２５】
本発明はまた、上記組成物から得られる成形品でもある。
本発明の成形品は、上述した本発明のポリマーを含むため、機械的特性に優れる。更に、耐酸素プラズマ性にも優れる。
そのため、本発明の成形品は、シール材として好適に使用できる。特に機械的特性・耐酸素プラズマ性が要求される半導体製造装置、特に半導体製造装置のシール材として好適に使用できる。上記シール材としては、Ｏ−リング、角−リング、ガスケット、パッキン、オイルシール、ベアリングシール、リップシール等が挙げられる。
そのほか、半導体製造装置に使用される各種のポリマー製品、例えばダイヤフラム、チューブ、ホース、各種ゴムロール、ベルト等としても使用できる。また、コーティング用材料、ライニング用材料としても使用できる。
【０１２６】
なお、本発明でいう半導体製造装置は、特に半導体を製造するための装置に限られるものではなく、広く、液晶パネルやプラズマパネルを製造するための装置等、高度なクリーン度が要求される半導体分野において用いられる製造装置全般を含むものであり、例えば次のようなものを挙げることができる。
【０１２７】
（１）エッチング装置
ドライエッチング装置
プラズマエッチング装置
反応性イオンエッチング装置
反応性イオンビームエッチング装置
スパッタエッチング装置
イオンビームエッチング装置
ウェットエッチング装置
アッシング装置
（２）洗浄装置
乾式エッチング洗浄装置
ＵＶ／Ｏ３洗浄装置
イオンビーム洗浄装置
レーザービーム洗浄装置
プラズマ洗浄装置
ガスエッチング洗浄装置
抽出洗浄装置
ソックスレー抽出洗浄装置
高温高圧抽出洗浄装置
マイクロウェーブ抽出洗浄装置
超臨界抽出洗浄装置
（３）露光装置
ステッパー
コータ・デベロッパー
（４）研磨装置
ＣＭＰ装置
（５）成膜装置
ＣＶＤ装置
スパッタリング装置
（６）拡散・イオン注入装置
酸化拡散装置
イオン注入装置
【０１２８】
本発明の成形品は、例えば、ＣＶＤ装置、プラズマエッチング装置、反応性イオンエッチング装置、アッシング装置又はエキシマレーザー露光機のシール材として優れた性能を発揮する。
【実施例】
【０１２９】
次に本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。【０１３０】
合成例１
不活性ガス雰囲気下、反応容器に水酸化ナトリウム０．３１２ｇ、純水１．００ｍＬ、ＤＭＦ２．５０ｍＬを加え撹拌した。３，５−Ｄｉｂｒｏｍｏｂｅｎｚｅｎｅｔｈｉｏｌ（１）１．３９ｇと蒸留ＤＭＦ７．１０ｍＬの混合溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で１時間撹拌した。パーフルオロヘキシルヨージド１．６８ｍＬと蒸留ＤＭＦ２．２０ｍＬの混合溶液を滴下し、室温下で１６時間撹拌した。
反応終了後、ジエチルエーテルで抽出し、純水で洗浄を行った。無水硫酸マグネシウムで脱水を行った後にろ過し、減圧下で溶媒を留去した。各種精製操作により単離し、無色透明液体の３，５−Ｄｉｂｒｏｍｏ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（２ａ）を得た。収量は２．４５ｇ、収率は８０．５％であった。【０１３１】
３，５−Ｄｉｂｒｏｍｏ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（２ａ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ７．７６（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．８２（ｓ，１Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８１．７（ｔ，Ｊ＝２．５０Ｈｚ，３Ｆ，−ＣＦ３），−８７．０（ｍ，２Ｆ，−Ｓ−ＣＦ２−），−１２０．０（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２２．３（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２３．７（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．０（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：２５５０ｃｍ−１の−ＳＨによる吸収バンドが消失していることを確認した。【０１３２】
合成例２
不活性ガス雰囲気下、反応容器にマグネシウム０．４５１ｇ（１８．８ｍｍｏｌ）、クロロジメチルシラン１．８１ｇ、ＴＨＦ３．９０ｍＬ、ヨウ素を１粒加え撹拌した。３，５−Ｄｉｂｒｏｍｏ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（２ａ）１．８３ｇとＴＨＦ３．９０ｍＬの混合溶液を滴下し、８０℃で１２時間還流させた。
反応終了後、希塩酸水に注ぎ込み反応を停止させた。各種精製操作により単離し、無色透明液体の３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（３ａ）を得た。収量は０．７７９ｇ、収率は４５．８％であった。【０１３３】
３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（３ａ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ０．３８（ｍ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），４．４５（ｍ，２Ｈ，ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．７８（ｓ，３Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８１．７（ｔ，Ｊ＝２．５０Ｈｚ，３Ｆ，−ＣＦ３），−８７．５（ｍ，２Ｆ，−Ｓ−ＣＦ２−），−１２０．２（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２２．３（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２３．７（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．１（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：１２５０ｃｍ−１と２１４０ｃｍ−１にジメチルシリル基に起因する吸収バンドを確認した。【０１３４】
合成例３
反応容器にＴＨＦ１．１０ｍＬ、Ｈ２Ｏ０．０７１１ｍＬ、５％Ｐｄ／Ｃ０．０３６０ｇを加え撹拌した。３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（３ａ）０．３５９ｇとＴＨＦ１．１０ｍＬの混合溶液を滴下し、室温下で４時間撹拌した。
反応混合物に対して各種精製操作を行い、白色結晶の３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ１ａ）を得た。収量は０．２５４ｇ、収率は６６．９％であった。【０１３５】
３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ１ａ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ０．４３（ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），２．２１（ｓ，２Ｈ，ｈｙｄｒｏｘｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．８５（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．９３（ｓ，１Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８１．７（ｔ，Ｊ＝２．５５Ｈｚ，３Ｆ，−ＣＦ３），−８７．４（ｍ，２Ｆ，−Ｓ−ＣＦ２−），−１２０．１（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２２．３（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２３．７（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．１（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：２１４０ｃｍ−１のジメチルシリル基に起因する吸収バンドの消失、及び、３３００ｃｍ−１の水酸基の吸収バンドを確認した。【０１３６】
合成例４
反応容器に３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ１ａ）２．４０ｇ、ベンゼン８．３０ｍＬを加え撹拌した。１，１，３，３−テトラメチルグアニジニウム−２−エチルヘキサノエート（１，１，３，３−テトラメチルグアニジン：２−エチルヘキサン酸＝１：１ｍｏｌでの混合物）をスパチュラ１杯加え１００℃で２４時間撹拌した。
反応溶液に対し各種精製操作を行い、淡黄色固体のＰｏｌｙ［５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ１ａ）を得た。収量は１．３４ｇ、収率は５５．８％であった。【０１３７】
Ｐｏｌｙ［５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ１ａ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ０．２９（ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．７５（ｓ，３Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．１（ｔ，Ｊ＝２．５５Ｈｚ，３Ｆ，−ＣＦ３），−８７．７（ｍ，２Ｆ，−Ｓ−ＣＦ２−），−１２０．４（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２２．６（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２４．０（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．４（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：３３００ｃｍ−１の水酸基に起因する吸収バンドの消失、及び、１０８０ｃｍ−１のＳｉ−Ｏ−Ｓｉの吸収バンドを確認した。
ＧＰＣ：ＲＩ検出器ではポリマーが検出できなかったため、ＵＶ検出器を使用してＧＰＣによる測定を行った。ポリマーの数平均分子量は、１．１×１０５であった。【０１３８】
合成例５
反応容器に３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ１ｂ）２．３６ｇ、ベンゼン９．４０ｍＬを加え撹拌した。スパチュラ１杯の１，１，３，３−テトラメチルグアニジニウム−２−エチルヘキサノエート（１，１，３，３−テトラメチルグアニジン：２−エチルヘキサン酸＝１：１ｍｏｌでの混合物）を加え、１００℃で２４時間撹拌した。
反応溶液に少量のクロロホルムを加え、メタノール中に注ぎ、再沈殿を３回行い、Ｐｏｌｙ（３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ）（Ｐ１ｂ）を赤褐色粘性液体として得た。収量は０．７６４ｇ、収率は３２．２％であった。【０１３９】
Ｐｏｌｙ（３，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ）（Ｐ１ｂ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ０．３０（ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），２．３６（ｍ，２Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．０７（ｍ，２Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．５１（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．５７（ｓ，１Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．２（ｔ，Ｊ＝２．９０Ｈｚ，３Ｆ，−ＣＦ３），−１１５．５（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２５．４（ｍ，２Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．１（ｍ，２Ｆ，−ＣＨ２−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：３３００ｃｍ−１の水酸基に起因する吸収バンドの消失、及び、１０８０ｃｍ−１のＳｉ−Ｏ−Ｓｉの吸収バンドを確認した。
ＧＰＣ：ポリマーの数平均分子量は、８．９×１０５であった。【０１４０】
合成例６
不活性ガス雰囲気下、反応容器にジメチルアセトアミド６０．０ｍＬと２−プロパンチオール１０．２ｍＬとナトリウム２．５３ｇを入れ撹拌した。１，４−ブロモベンゼン４．８０ｇを加え、１００℃で１６時間撹拌した。その後、ナトリウム４．３７ｇを加え、１００℃で２０時間撹拌した。
反応終了後、純水２５０ｍＬと塩酸２５ｍＬを加え反応停止を行った。反応混合物に対して各種精製操作を行い、淡黄色固体の１，４−Ｂｅｎｚｅｎｅｄｉｔｈｉｏｌ（４）を得た。収量は１．５８ｇ、収率は５５．５％であった。【０１４１】
１，４−Ｂｅｎｚｅｎｅｄｉｔｈｉｏｌ（４）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ３．４１（ｓ，２Ｈ，ｔｈｉｏｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．１６（ｓ，４Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ１２８．１（ｐｈｅｎｙｌ  ｃａｒｂｏｎ），１３０．５（ｐｈｅｎｙｌ  ｃａｒｂｏｎ）
ＦＴ−ＩＲ：２５５０ｃｍ−１に−ＳＨによる吸収バンドを確認した。【０１４２】
合成例７
不活性ガス雰囲気下、反応容器に水酸化ナトリウム１．１０ｇ、純水２．００ｍＬ、ＤＭＦ５．２０ｍＬを加え撹拌した。１，４−Ｂｅｎｚｅｎｅｄｉｔｈｉｏｌ（４）１．５７ｇとＤＭＦ１６．０ｍＬの混合溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で１時間撹拌した。パーフルオロブチルエチルヨージド５．３０ｍＬとＤＭＦ４．３０ｍＬの混合溶液を滴下し、１６時間撹拌した。
反応終了後、各種精製操作を行って目的物を単離し、１，４−Ｄｉｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（５ｂ）を白色結晶として得た。収量は５．３８ｇ、収率は７７．１％であった。【０１４３】
１，４−Ｄｉｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（５ｂ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ２．３８（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．１１（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．３２（ｓ，４Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．０（ｔ，Ｊ＝６．１５Ｈｚ，６Ｆ，−ＣＦ３），−１１５．４（ｍ，４Ｆ，−ＣＨ２−ＣＦ２−），−１２５．３（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．０（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：２５５０ｃｍ−１の−ＳＨによる吸収バンドが消失していることを確認した。【０１４４】
合成例８
不活性ガス雰囲気下、反応容器に１，４−Ｄｉｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（５ｂ）３．７９ｇ、ジクロロメタン２２．１ｍＬ、ヨウ素１粒を加え撹拌した。反応容器を遮光し、氷冷下で臭素６．４９ｍＬを滴下した。滴下終了後、室温で７２時間撹拌した。
反応終了後、チオ硫酸ナトリウム水溶液に注ぎ込み反応を停止させた。反応混合物に対して各種精製操作を行って単離し、白色結晶の２，５−Ｄｉｂｒｏｍｏ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（６ｂ）を得た。収量は３．７１ｇ、収率は７８．４％であった。【０１４５】
２，５−Ｄｉｂｒｏｍｏ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（６ｂ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ２．４５（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．１５（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．４６（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．０（ｔ，Ｊ＝３．０５Ｈｚ，６Ｆ，−ＣＦ３），−１１５．２（ｍ，４Ｆ，−ＣＨ２−ＣＦ２−），−１２５．２（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．０（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−）【０１４６】
合成例９
不活性ガス雰囲気下、反応容器にマグネシウム０．３５５ｇ、クロロジメチルシラン１．４１ｇ、ＴＨＦ３．３０ｍＬ、ヨウ素１粒を加え撹拌した。２，５−Ｄｉｂｒｏｍｏ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（６ｂ）１．９３ｇとＴＨＦ３．１０ｍＬの混合溶液を滴下し１２時間還流させた。
反応終了後、希塩酸水に注ぎ込んだ。反応混合物に対して各種精製操作を行って単離し、白色固体の２，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（７ｂ）を得た。収量は０．９３８ｇ、収率は５１．２％であった。【０１４７】
２，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（７ｂ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．４１（ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），２．３９（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．１２（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），４．５４（ｍ，２Ｈ，ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．５０（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．０（ｔ，Ｊ＝３．１０Ｈｚ，６Ｆ，−ＣＦ３），−１１５．４（ｍ，４Ｆ，−ＣＨ２−ＣＦ２−），−１２５．４（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．１（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：１２５０ｃｍ−１と２１４０ｃｍ−１にジメチルシリル基に起因する吸収バンドを確認した。【０１４８】
合成例１０
反応容器にＴＨＦ１．７０ｍＬ、Ｈ２Ｏ０．１１０ｍＬ、５％Ｐｄ／Ｃ０．１００ｇを加え撹拌した。２，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（７ｂ）０．７６７ｇとＴＨＦ１．７０ｍＬの混合溶液を滴下し、室温下で４時間撹拌した。
反応混合物に対して各種精製操作を行い、白色固体の２，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ２ｂ）を得た。収量は０．６８４ｇ、収率は８５．７％であった。【０１４９】
２，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ２ｂ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．４８（ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），１．８０（ｓ，２Ｈ，ｈｙｄｒｏｘｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），２．４１（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．１６（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．５９（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．０（ｔ，Ｊ＝３．１０Ｈｚ，６Ｆ，−ＣＦ３），−１１５．４（ｍ，４Ｆ，−ＣＨ２−ＣＦ２−），−１２５．３（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．０（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：２１４０ｃｍ−１のジメチルシリル基（Ｓｉ−（ＣＨ３）２Ｈ）に起因する吸収バンドの消失、及び、３３００ｃｍ−１の水酸基の吸収バンドを確認した。【０１５０】
合成例１１
反応容器に２，５−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ（Ｍ２ｂ）０．５８９ｇ、ベンゼン２．５０ｍＬを加え撹拌した。１，１，３，３−テトラメチルグアニジニウム−２−エチルヘキサノエート（１，１，３，３−テトラメチルグアニジン：２−エチルヘキサン酸＝１：１ｍｏｌでの混合物）をスパチュラ１杯加え２４時間還流撹拌した。
反応溶液に対し各種精製操作を行い、白色固体のＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｂ）を得た。収量は０．５１０ｇ、収率は８６．６％であった。【０１５１】
Ｐｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｂｕｔｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｂ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．４６（ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），２．２８（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．０２（ｍ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．６６（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｏｔｒｉｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ＣＤＣｌ３）：δ−８２．８（ｍ，６Ｆ，−ＣＦ３），−１１６．０（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２５．９（ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２７．７（ｍ，４Ｆ，−ＣＨ２−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：３３００ｃｍ−１の水酸基に起因する吸収バンドの消失、及び、１０８０ｃｍ−１のＳｉ−Ｏ−Ｓｉの吸収バンドを確認した。
ＧＰＣ：ポリマーの数平均分子量は、２．１×１０５であった。【０１５２】
合成例１２
二口フラスコに蒸留ＴＨＦ  ０．４４ｍＬ、Ｈ２Ｏ  ０．２８４ｍＬ（１．５８０ｍｍｏｌ）、５％Ｐｄ／Ｃ  ０．０２００ｇを加え撹拌した。２，５−Ｄｉｍｅｔｈｌｙｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ  （７ｃ）０．２５０ｇ（０．２６３ｍｍｏｌ）と蒸留ＴＨＦ  ０．４４ｍＬの混合溶液を滴下し、室温下で４時間撹拌した。
セライトろ過で５％Ｐｄ／Ｃを取り除き、ろ液を減圧下で溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル：ヘキサン＝１：５、Ｒｆ値＝０．３８）で単離した。へキサンで再結晶を行い、白色結晶（Ｍ２ｃ）を得た。収量０．２０７ｇ、収率は８０％であった。【０１５３】
２，５−Ｄｉｍｅｔｈｌｙｈｙｄｒｏｘｙｓｉｌｙｌ−１，４−ｂｉｓ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ  （Ｍ２ｃ）の構造確認は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．４８  （ｓ，１２Ｈ，ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），２．４１  （ｔｔ，Ｊ＝８．４５  Ｈｚ，２６．１Ｈｚ，４Ｈ，ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），３．１６  （ｍ，  ４Ｈ，  ｅｔｈｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ），７．５９（ｓ，２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｔｏｎｓ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１．１１  （ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｙｌ  ｃａｒｂｏｎｓ），  ２６．４  （ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂｏｎｓ），  ３１．５  （ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂｏｎｓ），  １３６．９  （ｐｈｅｎｙｌ  ｃａｒｂｏｎｓ），  １３８．３  （ｐｈｅｎｙｌ  ｃａｒｂｏｎｓ），  １４４．８  （ｐｈｅｎｙｌ  ｃａｒｂｏｎｓ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ−８１．８  （ｔｔ，  Ｊ＝  １．１  Ｈｚ，１０．１  Ｈｚ  ６Ｆ，−ＣＦ３），−１１５．２  （ｍ，  ４Ｆ，  −ＣＨ２−ＣＦ２−  ），−１２２．９  （ｓ，  ４Ｆ，  −ＣＦ２−  ），−１２３．９  （ｓ，４Ｆ，−ＣＦ２−），−１２４．４  （ｄ，  Ｊ＝  １２．７  Ｈｚ，  ４Ｆ，  −ＣＦ２−），−１２７．２  （ｍ，４Ｆ，−ＣＦ２−）
ＦＴ−ＩＲ：２１４０ｃｍ−１のジメチルシリル基（Ｓｉ−（ＣＨ３）２Ｈ）に起因する吸収バンドが消失し，３３００ｃｍ−１に水酸基の吸収バンドを確認した。【０１５４】
合成例１３
ナス型フラスコに合成例１２で得られた（Ｍ２ｃ）を０．７４０ｇ（０．７５３ｍｍｏｌ）、ベンゼン２．５ｍＬを加え撹拌した。１，１，３，３−テトラメチルグアニジニウム−２−エチルヘキサノエート（１，１，３，３−テトラメチルグアニジン：２−エチルヘキサン酸＝１：１ｍｏｌでの混合物）をスパチュラ１杯加え２４時間還流撹拌した。
反応終了後、メタノールによる洗浄を３回行い、Ｐｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）を回収した。【０１５５】
実施例１
合成例１３で得られたＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）を１００℃、１０分間プレスしてシートを作製し、さらにカッターナイフを用いて一辺５ｍｍの角形サンプルを作製し、ＲＦ電極の中心部に配置した後、以下の条件下でプラズマ照射処理を行い、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表１に示す。【０１５６】
プラズマ照射装置：
サムコ株式会社製高密度プラズマＩＣＰエッチング装置ＭＯＤＥＬ  ＲＩＥ−１０１ｉＰＨ【０１５７】
プラズマ照射条件：
ガス：酸素
ガス流量：１６ｓｃｃｍ
ＲＦ出力：４００Ｗ
圧力：２．６６Ｐａ
エッチング時間：６０分間【０１５８】
重量測定：
ザルトリウス（Ｓａｒｔｏｒｉｕｓ）・ＧＭＢＨ（株）製の電子分析天秤ＢＰ２１１Ｄを使用し、０．０１ｍｇまで重量を測定し０．０１ｍｇの桁を四捨五入する。【０１５９】
比較例１
Ｃａｎｃａｒｂ社製カーボンブラックＴｈｅｒｍａｘ  Ｎ９９０を錠剤成型器により７ｍｍφの錠剤を作製して被験サンプルとして用いたほかは実施例１と同様にしてプラズマ照射し、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表１に示す。【０１６０】
【表１】
2018105716.tif 000024
【０１６１】
実施例２
実施例１と同様にしてＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）の一辺５ｍｍの角形サンプルを作製し、ＲＦ電極の中心部に配置した後、以下の条件下でプラズマ照射処理を行い、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表２に示す。【０１６２】
プラズマ照射条件：
ガス：ＣＦ４
ガス流量：１６ｓｃｃｍ
ＲＦ出力：４００Ｗ
圧力：２．６６Ｐａ
エッチング時間：６０分間【０１６３】
比較例２
日本アエロジル社製シリカＡｅｒｏｓｉｌ  ５０を錠剤成型器により７ｍｍφの錠剤を作製して被験サンプルとして用いたほかは実施例２と同様にしてプラズマ照射し、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表２に示す。【０１６４】
【表２】
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【０１６５】
実施例３
含フッ素エラストマー（ＴＦＥ／ＰＭＶＥ／シアノ基含有単量体＝５９．４／４０．１／０．５（モル比））１００質量部に対して、合成例１３で得られたＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）１０質量部、架橋剤２，２−ビス［３−アミノ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン０．８質量部を１５００質量部の含フッ素溶剤中で予備混合してから、６０℃で含フッ素溶剤を揮発させ、オープンロールにて混練して含フッ素エラストマー組成物を得た。なお、含フッ素溶剤は、Ｒ−３１８（ダイキン工業（株）製、主成分：Ｃ４Ｆ８Ｃｌ２）を用いた。【０１６６】
得られた含フッ素エラストマー組成物を、１８０℃で３０分間プレスして架橋を行ったのち、さらに２９０℃のオーブン中で１８時間かけてオーブン架橋し成形品を得た。
得られた成形品について、後述の耐プラズマ性評価を行った。耐プラズマ性評価の結果を表３に示す。【０１６７】
比較例３
実施例１のＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）を配合しなかった以外は、実施例３と同様にして、含フッ素エラストマー組成物を得た。得られた含フッ素エラストマー組成物から、実施例３と同様にして、成形品を得た。得られた成形品について、後述の耐プラズマ性評価を行った。耐プラズマ性評価の結果を表３に示す。【０１６８】
（耐プラズマ性評価）
実施例３、比較例３で得られた成形品について、一部をカプトン電気絶縁用テープにて被覆し、以下の条件下でプラズマ照射処理を行い、被覆面と暴露面との段差を測定してエッチング量を調べた。結果を表３に示す。【０１６９】
プラズマ照射条件：
ガス：酸素、ＣＦ４
ガス流量：１６ｓｃｃｍ
ＲＦ出力：４００Ｗ
圧力：２．６６Ｐａ
エッチング時間：３０分間【０１７０】
エッチング量測定：
株式会社キーエンス製  レーザマイクロスコープＶＫ−９７００を使用し、被覆面と暴露面との段差を測定してエッチング量を調べた。【０１７１】
【表３】
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【０１７２】
実施例４
含フッ素エラストマー（ＴＦＥ／ＰＭＶＥ＝６０／４０／（モル比））１００質量部に対して、合成例１３で得られたＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）  １０質量部を１５００質量部の含フッ素溶剤中で予備混合してから、６０℃で含フッ素溶剤を揮発させ、オープンロールにて混練して含フッ素エラストマー組成物を得た。また、含フッ素溶剤は、Ｒ−３１８（ダイキン工業（株）製、主成分：Ｃ４Ｆ８Ｃｌ２）を用いた。【０１７３】
得られた含フッ素エラストマー組成物を、８５℃で、１０分間かけてプレス成形を行った。得られた成形品について、５０％質量減少温度の測定を行った。測定結果を表４に示す。【０１７４】
比較例４
合成例１３で得られたＰｏｌｙ［２，５−（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏｈｅｘｙｌｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｎｙｌ）ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，４−ｓｉｌｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｉｌｏｘａｎｅ］（Ｐ２ｃ）を配合しなかった以外は、実施例４と同様にして、含フッ素エラストマー組成物を得た。得られた含フッ素エラストマー組成物から、実施例４と同様にして、成形品を得た。得られた成形品について、５０％質量減少温度の測定を行った。測定結果を表４に示す。【０１７５】
５０％質量減少温度
示差熱熱重量同時測定装置（セイコーインスツルメンツ社製  ＴＧ−ＤＴＡ６２００）を用い、空気２００ｍｌ／ｍｉｎ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、温度範囲２０〜６００℃の条件で質量変化を測定し、５０％質量減少時の温度を測定した。結果を表４に示す。【０１７６】
【表４】
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【国際調査報告】
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