(57)【要約】  インドリン骨格を有する新規なジヒドロキシ化合物の製造方法を提供することを課題とする。下記一般式（２）で表されるＮ-フェニルイサチン化合物と下記一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物とを反応させて、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造する方法により、上記課題は解決できる。【化１】2017170096.tif 000018 （式中、Ｒは炭素原子数２〜６のアルキレン基を示し、Ｒ１、Ｒ２は各々独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ただし、ｍが２以上の場合、Ｒ１は同一でも異なっていてもよく、ｎが２の場合、Ｒ２は同一でも異なっていてもよい。）  【化２】2017170096.tif 000019 （式中、Ｒ２、ｎは一般式（１）のそれと同じである。）【化３】2017170096.tif 000020 （式中、Ｒ、Ｒ１、ｍは一般式（１）のそれと同じである。）
2017170096.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）で表されるＮ-フェニルイサチン化合物と下記一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物とを反応させて、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造する方法。
【化１】
2017170096.tif 000015
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６のアルキレン基を示し、Ｒ１、Ｒ２は各々独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ただし、ｍが２以上の場合、Ｒ１は同一でも異なっていてもよく、ｎが２の場合、Ｒ２は同一でも異なっていてもよい。）
【化２】
2017170096.tif 000016
（式中、Ｒ２、ｎは一般式（１）のそれと同じである。）
【化３】
2017170096.tif 000017
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｍは一般式（１）のそれと同じである。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なジヒドロキシ化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ビスフェノキシアルコール類（ビスフェノール類のヒドロキシ基の水素原子をヒドロキシアルキル基に置換した化合物）は、ポリカーボネート樹脂等の熱可塑性合成樹脂原料、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂原料、酸化防止剤原料、感熱記録体原料、感光性レジスト原料などの用途で用いられており、近年、これらのビスフェノキシアルコール類に要求される性能はますます高度化している。
このようなビスフェノキシアルコール類としては、Ｎ−フェニルイソインドリン骨格を持つ３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−２−フェニルフタルイミジンが知られている（非特許文献１）。また、ビスフェノキシアルコール類の製造方法としては、ビスフェノール化合物とアルキレンカーボネート類やアルキレンオキシド類を反応させて製造する方法が知られているが、この方法では、中間体であるモノヒドロキシアルコキシ体や目的物のビスフェノキシアルコール類がアルキレンカーボネート類やアルキレンオキシド類と更に反応し、ヒドロキシアルコキシ基のヒドロキシ基が更にヒドロキシアルコキシ基に置換した化合物が生成してしまい、反応選択率が低くなる。また、芳香族性水酸基を有する原料や中間体が存在するため、得られる化合物は着色があり、熱安定性も悪いため、光学用途として使用するには繰り返し精製が必要となり、工業的に不利である（非特許文献１、特許文献１）。
その他の製造方法としては、カルド構造を持つ化合物である９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンの製造方法として、フルオレノンとフェノキシエタノールを反応させる方法が知られているが、フェノキシエタノール類はフェノール類と比較して反応性が低く、特許文献２には、フェノール類とケトン類の脱水縮合によるビスフェノール類の製造において一般的に触媒として用いられる、塩化水素ガスや陽イオン交換樹脂、固体酸等は全く活性を示さないと記載されている。
そこで、硫酸又はヘテロポリ酸触媒存在下にフルオレノン類とフェノキシエタノール類を反応させる方法が知られている（特許文献３、４）。しかし、触媒として硫酸を使用すると、硫酸が製品中に残存することにより、製品の色相悪化が懸念される。また、触媒としてヘテロポリ酸を使用する場合は反応温度を高温にする必要があるため、反応選択率が低下し、反応選択率を向上させるために大過剰のフェノキシエタノール類と反応させる必要があるなど、効率的ではない。
また、Ｎ−フェニルフタルイミドとフェノールの反応によるＮ−フェニルイソインドリン骨格を持つ３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルフタルイミジンの製造方法は知られている（特許文献５）。
しかし、Ｎ−フェニルイソインドリン骨格やＮ−フェニルインドリン骨格を持つ化合物では、同様のケトン類とフェノキシアルコール類との縮合反応によるビスフェノキシアルコール類の製法については知られていない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Izvestiya Akademii Nauk Gruzinskoi SSR, Seriya Khimicheskaya, 1985, vol.11, p.78-80
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０９−２５５６０９号公報
【特許文献２】特開２０００−１９１５７７号公報
【特許文献３】特開平０７−１６５６５７号公報
【特許文献４】特開２００７−０２３０１６号公報
【特許文献５】国際公開第２０１５／１０７４６７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上述した事情を背景としてなされたものであって、高耐熱性、高屈折率であるインドリン骨格を有する新規なジヒドロキシ化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、インドリン骨格を持つジヒドロキシ化合物の製造方法を検討した結果、Ｎ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物を出発原料として縮合反応することにより、従来の反応と比較して反応性が高いことを見出し、さらに、当該製造方法は、従来の方法よりも穏和な条件で縮合反応が進行するため、高品質のジヒドロキシ化合物の製造方法として工業的に有利な方法であることを明らかにし、本発明を完成した。【０００７】
本発明は以下の通りである。
１．下記一般式（２）で表されるＮ-フェニルイサチン化合物と下記一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物とを反応させて、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造する方法。
【化１】
2017170096.tif 000003
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６のアルキレン基を示し、Ｒ１、Ｒ２は各々独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ただし、ｍが２以上の場合、Ｒ１は同一でも異なっていてもよく、ｎが２の場合、Ｒ２は同一でも異なっていてもよい。）
【化２】
2017170096.tif 000004
（式中、Ｒ２、ｎは一般式（１）のそれと同じである。）
【化３】
2017170096.tif 000005
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｍは一般式（１）のそれと同じである。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明によるジヒドロキシ化合物の製造方法は、Ｎ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物の反応性が、従来知られているカルド構造の原料ケトン類とフェノキシアルコール化合物との反応性に比べて特異的に高いことを特長とする製造方法である。
また、Ｎ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物の反応性が高いため、同じ反応条件で比較すると、従来反応に比べて高収率及び／又は高転化率で反応が進行するか又は反応時間を短縮することができ、しかも、穏和な条件で反応が進行するので、工業的に有利な製造方法となり得る。
さらに、本発明の製造方法は、不純物をほとんど含有しない高純度なジヒドロキシ化合物を得ることができるため、工業的製造方法として有用である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のジヒドロキシ化合物は下記一般式（１）で表される。
【化４】
2017170096.tif 000006
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６のアルキレン基を示し、Ｒ１、Ｒ２は各々独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ただし、ｍが２以上の場合、Ｒ１は同一でも異なっていてもよく、ｎが２の場合、Ｒ２は同一でも異なっていてもよい。）
上記一般式（１）において、Ｒは各々独立して炭素原子数２〜６のアルキレン基であり、アルキレン基としては、具体的には、例えば、１，２−エチレンジイル基、１，２−プロパンジイル基、１，３−プロパンジイル基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられるが、好ましくは炭素原子数２〜４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、特に好ましくは炭素原子数２又は３のアルキレン基である。ここで、上記一般式（１）中の「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」で表されるヒドロキシアルコキシ基について説明すると、アルキレン基Ｒに結合したヒドロキシ基の結合位置は、エーテル基と直接結合したアルキレン基Ｒを構成する炭素原子（１位炭素原子）には結合しない。Ｒが炭素原子３以上のアルキレン基である場合に、ヒドロキシ基の結合位置は、アルキレン基「Ｒ」の２位または３位が好ましく、中でも２位がより好ましい。具体的には、例えば、２−ヒドロキシエトキシ基、２−ヒドロキシプロポキシ基、２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基等が挙げられる。
Ｒ１、Ｒ２は各々独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基であり、Ｒ１が炭素原子数１〜８のアルキル基である場合、アルキル基としては、好ましくは炭素原子数１〜４の直鎖状、分岐鎖状のアルキル基であり、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。このようなアルキル基には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、フェニル基、アルコキシ基等の置換基を有していてもよい。
また、Ｒ１、Ｒ２が炭素原子数１〜８のアルコキシ基である場合、アルコキシ基としては、好ましくは炭素原子数１〜４の直鎖状、分岐鎖状のアルコキシ基であり、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。このようなアルコキシ基には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、フェニル基、アルコキシ基等の置換基を有していてもよい。
好ましいＲ１、Ｒ２はメチル基である。
また、上記一般式（１）において、ｍは０、１、２又は３であり、好ましくは０、１又は２であり、特に好ましくは０又は１である。上記一般式（１）において、ｎは０、１又は２であり、好ましくは０又は１であり、特に好ましくは０である。
【００１０】
また、上記一般式（１）において、インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル基に置換する「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基及びＲ１の置換位置については、まず、「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基は、インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル炭素原子に対して４位又は２位に置換することが好ましく、４位に置換することがより好ましい。
またＲ１は、上記「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基に対してｏ−位又はｐ−位に置換することが好ましく、前記インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル炭素原子に対して、「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基が４位に置換しているときは、３位又は５位に置換することが好ましく、「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基が２位に置換しているときは、３位又は５位に置換することが好ましい。
また、ｍが２の場合のＲ１の置換位置は、前記インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル炭素原子に対して、「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基が４位、Ｒ１が３位及び５位に置換するか又は「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基が４位、Ｒ１が２位及び５位に置換することが好ましい。
さらに、ｍが３の場合のＲ１の置換位置は、前記インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル炭素原子に対して、「−Ｏ−Ｒ−ＯＨ」基が４位、Ｒ１が２位、３位及び５位に置換することが好ましい。
【００１１】
従って、上記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物としては、下記一般式（４）で表される化合物が好ましい。
【化５】
2017170096.tif 000007
（式中、Ｒ２、ｎは一般式（１）のそれと同じであり、Ｒ３は各々独立して水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を示し、Ｒ４は各々独立して水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、ただし、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するＲ４の炭素原子数の合計は４以下である。）  
上記一般式（４）において、Ｒ２、ｎに関する好ましい例や具体例は、一般式（１）のそれと同じである。
また、上記一般式（４）において、Ｒ３が炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基である場合には、その好ましい例や具体例は、一般式（１）のＲ１が炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基である場合と同じである。より好ましいＲ３は水素原子、メチル基である。好ましい組み合わせとしては、インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル炭素原子に対して、３位及び５位のＲ３は少なくともどちらか一方は水素原子であることが好ましく、また、インドリン骨格の３位の炭素原子と直接結合しているフェニル炭素原子に対して、２位及び５位のＲ３は水素原子であることが好ましい。また、特にＲ３すべて水素原子であることが好ましい。
上記一般式（４）において、Ｒ４が炭素原子数１〜４のアルキル基である場合には、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等が挙げられる。
Ｒ４は、中でも水素原子又はメチル基が好ましい。
【００１２】
本発明の一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には例えば、３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
【化６】
2017170096.tif 000008
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシ−２−メチルエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（３−エチル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−２，５−ジメチルフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−２，３，５−トリメチルフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（２−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（２−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−（２−メチルフェニル）−１Ｈ−インドール−２−オン
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−インドール−２−オン
等が挙げられる。
【００１３】
本発明の一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物の製造方法において、原料の１つは下記一般式（２）で表されるＮ−フェニルイサチン化合物である。
【化７】
2017170096.tif 000009
（式中、Ｒ２、ｎは一般式（１）のそれと同じである。）
Ｒ２、ｎの好ましい例や具体例も一般式（１）のそれと同じである。
このような上記一般式（２）で表されるＮ―フェニルイサチン化合物としては、具体的には、例えば
１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン
１−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン
１−（２−メチルフェニル）−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン
１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン
等が挙げられる。
【００１４】
もう１つの原料は、下記一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物である。
【化８】
2017170096.tif 000010
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｍは一般式（１）のそれと同じである。）
Ｒ、Ｒ１、ｍに関する好ましい例や具体例も一般式（１）のそれと同じである。
このような上記一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物としては、一般式（６）で表される化合物が好ましい。
【化９】
2017170096.tif 000011
（式中、Ｒ３、Ｒ４は一般式（４）のそれと同じである。）
Ｒ３、Ｒ４に関する好ましい例や具体例も一般式（４）のそれと同じである。
このような上記一般式（６）で表される化合物としては、具体的には、例えば
２−フェノキシエタノール
２−フェノキシプロパノール
１−フェノキシ−２−プロパノール
２−（２−メチルフェノキシ）エタノール
２−（２−エチルフェノキシ）エタノール
２−（２，６−ジメチルフェノキシ）エタノール
２−（２，５−ジメチルフェノキシ）エタノール
２−（２，３，６−トリメチルフェノキシ）エタノール
等が挙げられる。
【００１５】
本発明の製造方法である、一般式（２）で表されるＮ−フェニルイサチン化合物と、一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物を反応させて、インドリン骨格を有する一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造する方法について詳しく説明する。
縮合反応は、上記のＮ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物を、通常酸触媒の存在下に反応させて行う。まず、Ｎ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物を酸触媒の存在下に反応させ、得られた反応混合物をアルカリで中和した後、公知の方法に従い、晶析、ろ過して、１次晶析ろ過物を得る。
反応に際して、Ｎ−フェニルイサチン化合物に対するフェノキシアルコール化合物の仕込みモル比は、理論値（２．０）以上であれば、特に限定されるものではないが、好ましくは、３．０倍モル量以上、より好ましくは、３．５〜２０倍モル量の範囲、特に好ましくは４．０〜１５倍モル量の範囲で用いられる。
酸触媒としては、例えば、塩酸、塩化水素ガス、６０〜９８％硫酸、８５％リン酸等の無機酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、蟻酸、トリクロロ酢酸又はトリフルオロ酢酸等の有機酸、ヘテロポリ酸、イオン交換樹脂、活性白土、シリカ−アルミナ等の固体酸等を挙げることができる。好ましくは塩化水素ガスである。このような酸触媒の使用量は反応条件によって好適な量は異なるが、例えば塩化水素ガスの場合は、反応系の空気を窒素ガス等の不活性ガスで置換した後、塩化水素ガスを吹き込み、反応容器内の気相中の塩化水素ガス濃度を７５〜１００容量％とし、反応液中の塩化水素濃度を飽和濃度にするのがよい。３５％塩酸の場合はフェノキシアルコール化合物１００重量部に対して、５〜７０重量部の範囲、好ましくは、１０〜４０重量部の範囲、より好ましくは２０〜３０重量部の範囲で用いられる。ここで、酸触媒として硫酸を使用すると、硫酸が目的とする化合物中に残存することより化合物の色相悪化が懸念され、また、酸触媒としてヘテロポリ酸を使用する場合は反応温度を高温にする必要があるため、反応選択率が低下する等、効率的ではない。
反応に際し、酸触媒と共に必要に応じて助触媒を用いてもよい。例えば、塩化水素ガスを触媒として用いる場合、助触媒としてチオール類を用いることによって、反応速度を加速させることができる。このようなチオール類としては、アルキルメルカプタン類やメルカプトカルボン酸類が挙げられ、好ましくは、炭素原子数１〜１２のアルキルメルカプタン類や炭素原子数１〜１２のメルカプトカルボン酸類であり、例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ラウリルメルカプタン等やそれらのナトリウム塩等のようなアルカリ金属塩、チオ酢酸、チオグリコール酸、β-メルカプトプロピオン酸等が挙げられる。
また、これらは単独または二種類以上を組み合わせて使用できる。
助触媒としてのチオール類の使用量は、原料のＮ−フェニルイサチン化合物に対し通常０．５〜２０モル％の範囲、好ましくは２〜１０モル％の範囲で用いられる。
【００１６】
また、反応に際して反応溶媒は、原料のＮ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物の融点が低く、操作性に問題がなければ、溶媒を使用する必要はないが、工業的生産時の操作性や反応速度の向上などの理由で、使用してもよい。反応溶媒としては、反応温度において反応器から留出せず、反応に不活性であれば特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソブチルアルコール等の脂肪族アルコール、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のカルボン酸エステル類又はこれらの混合物が挙げられる。これらのうち、脂肪族アルコールが好ましく用いられる。
また、フェノキシアルコール化合物の凝固点を下げ酸触媒の反応を促進するため、必要に応じて少量の水を添加してもよい。特に酸触媒が塩化水素ガスの場合は、水は触媒の塩化水素ガスの吸収を促進する理由で好ましい。水を添加する場合その添加量は、フェノキシアルコール化合物１００重量部に対し、０．５〜１５．０重量部の範囲が好ましい。
反応温度は、使用する触媒等の条件により異なるが、２０〜７０℃の範囲が好ましく、３０〜６０℃の範囲がより好ましい。反応圧力は、通常、常圧下で行われるが、用いてもよい有機溶媒の沸点によっては、反応温度が前記範囲内になるように、加圧又は減圧下で行ってもよい。このような条件下で反応を行えば、反応は、通常１〜３０時間程度で終了する。
反応の終点は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー分析にて確認することができる。未反応のＮ−フェニルイサチン化合物が消失し、目的物の増加が認められなくなった時点を反応の終点とするのが好ましい。
フェノキシアルコール化合物に対する反応収率は、通常７５〜９５モル％程度である。
反応終了後、得られた反応混合物に、アンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ溶液を加えて酸触媒を中和して、本発明の一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を含む反応終了混合液を得る。
中和した反応混合液を、必要に応じて、未反応の原料フェノキシアルコール化合物を蒸留で除去した後、水及び水に不溶性の有機溶媒を加えて十分に撹拌して油層を分離する水洗処理を行う。このときに使用する有機溶媒としては、一般式（１）のジヒドロキシ化合物を溶解し、また水への溶解度が小さい有機溶媒であることが必要である。この性質を有する有機溶媒として、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン系、ブタノール等のアルコール溶媒を採用することができる。
上記中和・水洗後に得られた有機溶媒層を、必要に応じて溶媒を蒸留により一部除去した後、その有機溶媒をそのまま又は一旦加熱して均一の溶液とし、冷却するか、もしくは適宜晶析溶媒や貧溶媒を加えて冷却することにより、結晶が析出する場合にはその結晶をろ別することで、粗製又は高純度の目的物を得ることができる。
上記で得られた目的物はさらに溶媒を使用して再結晶を行い、精製することもできる。このときに使用する有機溶媒としてはトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒および酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、ブタノール等のアルコール溶媒が挙げられ、これらは単独でも２種類以上の混合物でも用いることができる。
上記晶析操作の代わりに反応終了後、反応溶媒等を減圧下に濃縮し、その残渣をカラムクロマトグラフィー等により精製することで高純度品を得ることもできる。
【００１７】
ここで、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物が、含有する可能性のある不純物として、下記一般式（７）で表される１ＥＯ体（モノヒドロキシアルコキシ体）、下記一般式（８）で表される多ＥＯ体（ヒドロキシアルコキシ基のヒドロキシ基が更にヒドロキシアルコキシ基に置換した化合物）が挙げられる。しかしながら、本発明の製造方法により、一般式（２）で表されるＮ−フェニルイサチン化合物と、一般式（３）で表されるフェノキシアルコール化合物を反応させて、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造することにより、下記一般式（７）で表される１ＥＯ体や下記一般式（８）で表される多ＥＯ体の不純物を含有しない一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造することが可能となる。
上述の１ＥＯ体は、下記一般式（７）で表される。
【化１０】
2017170096.tif 000012
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎは一般式（１）のそれと同じである。）
Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎに関する好ましい例や具体例も一般式（１）のそれと同じである。
上述の多ＥＯ体は、下記一般式（８）で表される。      
【化１１】
2017170096.tif 000013
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎは一般式（１）のそれと同じであり、ｋは各々独立して１〜５の整数を示し、但し、ｋが同時に１である場合を除く。）
Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎに関する好ましい例や具体例も一般式（１）のそれと同じである。
上記一般式（８）で表される多ＥＯ体の中でより含有する可能性が高い化合物である３ＥＯ体は、下記一般式（９）で表される。   
【化１２】
2017170096.tif 000014
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎは一般式（１）のそれと同じである。）
Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎに関する好ましい例や具体例も一般式（１）のそれと同じである。
【００１８】
本発明の製造方法は、従来の製造方法に比べ反応性が高いため、穏和な反応条件下において反応が進行し、従来反応に比べて高収率及び／又は高転化率で目的とするジヒドロキシ化合物を得ることができる。
また、本発明の製造方法により得られた一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物は、上述する１ＥＯ体、３ＥＯ体に代表される多ＥＯ体の不純物を含有せず高純度であるため、熱安定性、製品色相等の光学特性に優れている。
本発明の製造方法により得られた一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物は高純度であるため、高耐熱性・高屈折率を有することが期待され、特に光学材料用ポリカーボネートにおいて優れた効果が期待される。すなわち、高分子量ポリカーボネートとすることで、透明性、耐熱性、機械特性、耐衝撃性、流動性等に優れ、光ディスク、レンズなどの光学用途や、エンジニアリングプラスチックとして自動車分野、電気・電子分野、各種容器等、様々な分野での使用が期待できる。
また、ポリカーボネートオリゴマーとしては、各種重合方法により、高分子量ポリカーボネートを製造する際の原料として使用することができるだけでなく、表面改質剤、難燃剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、可塑剤、樹脂アロイ用溶化剤などのポリマー改質剤等、添加剤としても幅広く利用することができる。
また、本発明の製造方法により得られた本発明のジヒドロキシ化合物は、末端のヒドロキシ基を利用して、ポリカーボネート以外にも、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ノボラック、レゾール等の樹脂原料、その他感光性組成物原料、レジスト添加剤、顕色剤、酸化防止剤としての利用も期待できる。
特に、本発明のジヒドロキシ化合物をアクリル酸等と反応させて得られるジアクリレート等のアクリルモノマーやアクリル樹脂原料としての利用、及びそれらを用いた光学ハードコーティング材料としての使用が期待できる。
【実施例】
【００１９】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお、実施例における軟化点、屈折率、純度は以下の方法により測定した。
［分析方法］
１．軟化点測定
装置：株式会社島津製作所製 DSC-60 DIFFERENTIAL SCANNING CALORIMETER
昇温条件：10℃/分  （30℃→200℃）
雰囲気ガス：窒素ガス（流量：50ml/分）
測定方法：
上記昇温条件で１回目の測定を行い、その吸熱ピークから融点を測定した。
その後、同じ試料を室温まで冷却し、同条件で２回目の測定を行い、その吸熱ピークを軟化点とした。
２．屈折率測定
装置：京都電子工業株式会社製 Refractometer RA-500N
測定方法：
濃度10、15、30%のTHF溶液(THF屈折率1.40)を調整し、その溶液の屈折率から測定化合物の屈折率を外挿法により算出した。
３．純度測定
装置：株式会社島津製作所製 CLASS-LC10
ポンプ：LC-10ATvp
カラムオーブン：CTO-10Avp
検出器：SPD-10Avp
カラム：Shim-pack  CLC-ODS  内径6ｍｍ、長さ150ｍｍ
オーブン温度：50℃
流量：1.0ml/min
移動相：（Ａ）メタノール、（Ｂ）0.2vol%酢酸水
グラジエント条件：（Ａ）体積%（分析開始からの時間）
60%（0min）→60%（20min）→100%（40min）→100%（50min）
試料注入量：20μl
検出波長：280nm【００２０】
＜実施例１＞
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの製造−１
温度計、撹拌機、冷却管を備えた四つ口フラスコに２−フェノキシエタノール３３１．２ｇ（２．４０モル）、１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン４４．６ｇ（０．２０モル）を仕込み、反応容器を窒素置換した後、４０℃で塩化水素ガスを吹込み、気相部の塩化水素ガス濃度を９５％以上とした。その後、１５％メチルメルカプタンナトリウム水溶液４．２ｇ（メチルメルカプタンナトリウムとして０．００９モル）を添加し、４０℃で２２時間撹拌した。
反応終了後の１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン転化率は９９．７％、３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの反応収率（対１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン）は９３．７％であった。
反応終了後、１６％水酸化ナトリウム水溶液３０４．５ｇ(水酸化ナトリウムとして１．２２モル)を加え、ｐＨが６となるように調整した。得られた溶液を１５０℃まで昇温し、２．４ｋＰａの減圧下で未反応の２-フェノキシエタノールを蒸留により除去した後、トルエン２６８．３ｇを添加した。得られた溶液に水４５．０ｇを加え、８０℃で撹拌した後静置して水層を抜き取る水洗操作を２回行った。水洗後、得られた油層を１６０℃まで昇温し、１．０ｋＰａの減圧下に溶媒を蒸留により除去した後、冷却し、１１０℃でトルエン５８２．２ｇを添加、７０℃でメタノール７２．３ｇを添加した。その後、３０℃まで冷却し、析出した結晶をろ別することにより、白色結晶として粗結晶６１．４ｇを得た。
得られた粗結晶５５．５ｇに１−ブタノール２２６．５ｇを添加し、１１０℃で溶解した後、常圧下で１-ブタノール１１２．７ｇを蒸留により除去した後、３０℃まで冷却し、析出した結晶をろ別した。得られた結晶を減圧下、８０℃で乾燥することにより、３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン４８．５ｇを得た。
純度                  ９９．２％（高速液体クロマトグラフィー面積％）
一般式（７）で表される１ＥＯ体（検出限界以下）
一般式（９）で表される３ＥＯ体（検出限界以下）
収率                  ５５％（対１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，
３−ジオン）
融点                  １５３℃（示差走査熱量分析）
軟化温度              ７３℃（示差走査熱量分析）
屈折率(ｎＤ２０)      １．６０
プロトン核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、溶媒ＤＭＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）化学シフト（シグナル形状、プロトン数）：３．７ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ），４．０ｐｐｍ（ｔ，４Ｈ），４．９ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ），６．７ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ），６．９ｐｐｍ（ｄ，４Ｈ），７．１〜７.２ｐｐｍ（ｍ，５Ｈ），７．３ｐｐｍ（ｔ，１Ｈ），７．４ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ），７．５ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ），７．６ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）．【００２１】
＜実施例２＞
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの製造−２
温度計、撹拌機、冷却管を備えた四つ口フラスコに２−フェノキシエタノール３４．８ｇ（０．２５モル）、１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン１０．０ｇ（０．０４５モル）、ｎ−オクチルメルカプタン０．３５ｇ（０．００２４モル）を仕込み、系内の温度を５０〜５５℃に保ちながらメタンスルホン酸２０．７ｇを添加し、その後５０〜５５℃で４．５時間撹拌した。
反応終了後の１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン転化率は１００％、３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの反応収率（対１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン）は８５．３％、一般式（７）で表される１ＥＯ体及び一般式（９）で表される３ＥＯ体は共に検出限界以下であった。【００２２】
実施例１、２の結果より、本発明の製造方法は、一般式（７）で表される１ＥＯ体や、一般式（９）で表される３ＥＯ体の不純物をほとんど含有しない高純度なジヒドロキシ化合物を得ることができる方法であることが確認され、工業的製造方法として有用であることが明らかとなった。
なお、特表２０１０−５０５０１１号公報等に記載された製造方法を参考にして、一般式（２）で表されるＮ−フェニルイサチン化合物とフェノール化合物とを反応させ、次いで、得られたインドリン骨格を有するビスフェノール化合物をアルキレンカーボネート等と反応させてヒドロキシアルキル化し、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を製造する方法は、一般式（７）で表される１ＥＯ体や、一般式（９）で表される３ＥＯ体の不純物の生成を抑制することができないため、結果として高純度なジヒドロキシ化合物が得られない。このことを、下記「比較例１」において具体的に説明する。【００２３】
＜比較例１＞
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの製造
（工程１）
３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの製造
温度計、撹拌機、冷却管を備えた四つ口フラスコにフェノール２２５．９ｇ（２．４０モル）、１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン４４．６ｇ（０．２０モル）を仕込み、反応容器を窒素置換した後、４０℃で塩化水素ガスを吹込み、気相部の塩化水素ガス濃度を９５％以上とした。その後、３０℃で２２時間撹拌した。反応終了後の１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン転化率は１００％、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの反応収率（対１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジオン）は８８．８％であった。
反応終了後、１６％水酸化ナトリウム水溶液５７．４ｇ(水酸化ナトリウムとして０．２３モル)、７５％リン酸０．３ｇ、水３．０ｇ、トルエン４０．０ｇを添加し、７５℃まで昇温して撹拌した。その後、３０℃まで冷却し、析出した結晶をろ別することにより、粗結晶８６．８ｇを得た。
得られた粗結晶にトルエン１５１．９ｇ、メチルエチルケトン３２５．５ｇ、水８７．０ｇを添加し、７０℃で溶解した後、静置して水層を抜き取った。更に水を加えて７０℃で撹拌した後、静置して水層を抜き取る水洗操作を２回行った。水洗後、得られた油層を１１０℃まで昇温し、溶媒を蒸留により除去した後、トルエンを添加し、３０℃まで冷却して析出した結晶をろ別した。得られた結晶を減圧下、６０℃で乾燥することにより、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン５６．１ｇを得た。
純度      ９９．５％（高速液体クロマトグラフィー面積％）
収率      ７１．３％（対１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジ
オン）
融点      ３００℃（示差走査熱量分析）【００２４】
（工程２）
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オンの製造
温度計、撹拌機、冷却管を備えた四つ口フラスコに工程１で得られた３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン４０．０ｇ（０．１０モル）、１−ブタノール６０．０ｇ、エチレンカーボネート２６．０ｇ（０．３０モル）、４８％水酸化カリウム水溶液０．６０ｇ（水酸化カリウムとして０．００５１モル）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３３ｇ（０．００１０モル）を仕込み、反応容器を窒素置換した後、１１８〜１２０℃を保ちながら１２時間撹拌し、その後、水５．１ｇを添加して、１０５〜１０７℃を保ちながらさらに４時間撹拌した。
得られた反応液に、７０℃で１０％酢酸水溶液１２．７ｇを添加した後、メチルイソブチルケトン２０．０ｇ、水４０．０ｇを添加し、８０℃で溶解した後、静置して水層を抜き取った。更に水を加えて撹拌した後、静置して水層を抜き取る水洗操作を１回行った。水洗後、得られた油層を１２６℃まで昇温し、溶媒を蒸留により除去した後、トルエンおよび水を添加した。２５℃まで冷却して析出した結晶をろ別することにより粗結晶７５．１ｇを得た。
得られた粗結晶に１-ブタノール３００．４ｇを添加し、７５℃で溶解した後、１２０℃まで昇温し、溶媒を蒸留により除去した後、２５℃まで冷却して析出した結晶をろ別した。得られた結晶を減圧下、８０℃で乾燥することにより、３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン３１．５ｇを得た。
純度      ９７．１％（高速液体クロマトグラフィー面積％）
一般式（７）で表される１ＥＯ体：０．０６％
一般式（９）で表される３ＥＯ体：２．７６％
収率      ７１．７％（対３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１
−フェニル−１Ｈ−インドール−２−オン）
総収率    ５１．１％（対１−フェニル−１Ｈ−インドール−２，３−ジ
オン）
融点      １５０．２℃（示差走査熱量分析）【００２５】
＜比較例２＞
９，９−（（４−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンの製造
温度計、撹拌機、冷却管を備えた四つ口フラスコに２−フェノキシエタノール７８．３ｇ（０．５７モル）を仕込み、反応容器を窒素置換した後、４０℃で塩化水素ガスを吹込み、気相部の塩化水素ガス濃度を９８％以上とした。続いて２１％メチルメルカプタンナトリウム水溶液１１．３ｇ（メチルメルカプタンナトリウムとして０．０３４モル）を仕込んだ後、２−フェノキシエタノール７５ｇ(０．５４モル)に溶解した９−フルオレノン５０．０ｇ(０．２８モル)を２時間かけて滴下した。４０℃にて３０時間撹拌した後の９−フルオレノン転化率は２７％、９，９−（（４―ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン反応収率は１５％であった。【００２６】
＜比較例３＞
３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−２−フェニルフタルイミジンの製造
温度計、撹拌機、冷却管を備えた四つ口フラスコに、２−フェノキシエタノール３３１．６g (２．４０モル)、Ｎ−フェニルフタルイミド４４．８ｇ（０．２０モル）を仕込み、反応容器を窒素置換した後、４０℃で塩化水素ガスを吹込み、気相部の塩化水素ガス濃度を９５％以上とした。その後、１５％メチルメルカプタンナトリウム水溶液４．２ｇ（メチルメルカプタンナトリウムとして０．００９モル）を添加し、４０℃で２２時間撹拌した。
反応２２時間後の反応液において、３，３−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−２−フェニルフタルイミジンの生成は認められなかった。【００２７】
比較例２及び３の結果より、本発明の製造方法である、一般式（２）で表されるＮ−フェニルイサチン化合物と一般式（３）で表されるフェノキシエタノール化合物の反応性が、９−フルオレノンと２−フェノキシエタノールの反応（比較例２）やＮ−フェニルフタルイミドと２−フェノキシエタノールの反応（比較例３）と比較して、特異的に高いことが確認できる。
すなわち、本発明の一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物の製造方法は、Ｎ−フェニルイサチン化合物とフェノキシアルコール化合物の反応性が、従来知られているカルド構造の原料ケトン類とフェノキシアルコール化合物との反応性に比べて特異的に高いことを特長とする製造方法である。
本発明の製造方法は、この反応性が高いことにより、従来公知の製造方法に比べて高収率及び／又は高転化率で反応が進行するか又は反応時間を短縮することができ、しかも、穏和な条件で反応が進行するので、工業的に有利な製造方法となり得る。
さらに、本発明の製造方法は、不純物をほとんど含有しない高純度なジヒドロキシ化合物を得ることができるため、工業的製造方法として有用である。
【国際調査報告】
2017170096.tif 000021
2017170096.tif 000022
2017170096.tif 000023
2017170096.tif 000024