(57)【要約】本開示の一側面は、第一フィルム基材と、第一フィルム基材上に形成されたコーティング層とを備える光学フィルムを提供する。この光学フィルムにおけるコーティング層は、バインダー樹脂と、平均粒子径が０．５μｍ以上１０．０μｍ以下であり且つ粒子径の標準偏差が平均粒子径の１／２未満である微粒子とを含む。
2018105213.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一フィルム基材と、
前記第一フィルム基材上に形成されたコーティング層と、
を備え、
前記コーティング層は、バインダー樹脂と、平均粒子径が０．５μｍ以上１０．０μｍ以下であり且つ粒子径の標準偏差が平均粒子径の１／２未満である微粒子とを含む、光学フィルム。
【請求項２】
前記コーティング層の算術平均粗さＲａが０．４μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記コーティング層の硬さが、鉛筆硬度でＨ〜２Ｈの範囲である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記微粒子の硬さが、ロックウェルＲ硬さスケールで１００以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記コーティング層の表面抵抗率が１．０×１０１３Ω／□以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
バリア層と、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
を備え、
前記バリア層は、前記光学フィルムの前記第一フィルム基材側の面上に形成されている、光学バリアフィルム。
【請求項７】
第二フィルム基材及びバリア層を含むバリア複合層と、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
を備え、
前記バリア複合層は、前記光学フィルムの前記第一フィルム基材側の面上に形成されている、光学バリアフィルム。
【請求項８】
前記バリア層は、ＳｉＯｘ（１．０≦ｘ≦２．０）で表されるシリコン酸化物からなる無機蒸着薄膜層を含む、請求項６又は７に記載の光学バリアフィルム。
【請求項９】
色変換層と、
前記色変換層を挟むように配置された二つの保護フィルムと、
を備え、
前記二つの保護フィルムの少なくとも一方が、請求項６〜８のいずれか一項に記載の光学バリアフィルムであり、
前記光学バリアフィルムは、前記コーティング層が前記色変換層と反対側を向くように配置されている色変換フィルム。
【請求項１０】
光源と、
導光板と、
前記導光板上に配置された請求項９に記載の色変換フィルムと、
を備え、
前記色変換フィルムは、前記コーティング層が前記導光板と接するように配置されている、バックライトユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、光学フィルム、並びに、それを用いた光学バリアフィルム、色変換フィルム及びバックライトユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等の電子デバイスでは、種々の光学フィルムが用いられている。特許文献１に記載の発明は、照明器具、電飾看板、背面投射スクリーン、液晶ディスプレイ等に用いられる光拡散シートに関する。特許文献１に記載の光拡散シートは、ポリメチルメタクリレートからなる真球状粒子を含有する光拡散性層を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３７９０５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１に記載の発明においては、光拡散性層に含まれる真球状粒子の粒度にバラツキが大きかったり、あるいは、真球状粒子が凝集して二次粒子を形成していたり、または光拡散性層における分散性が不十分であったりすると、光拡散性の指標であるヘイズ値（曇り度）にバラツキが生じやすく、この点において改善の余地があった。【０００５】
本開示は、ヘイズ値の面内バラツキが十分に小さい光学フィルム、並びに、それを用いた光学バリアフィルム、色変換フィルム及びバックライトユニットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一側面は、光学フィルムを提供する。この光学フィルムは、第一フィルム基材と、第一フィルム基材上に形成されたコーティング層とを備え、コーティング層は、バインダー樹脂と、平均粒子径が０．５μｍ以上１０．０μｍ以下であり且つ粒子径の標準偏差が平均粒子径の１／２未満である微粒子とを含む。この光学フィルムによれば、コーティング層における微粒子の粒度のバラツキが十分に小さいため、より具体的には平均粒子径が所定の範囲（０．５μｍ以上１０．０μｍ以下）であるとともに粒子径の標準偏差が平均粒子径の１／２未満であるため、ヘイズ値の面内バラツキが十分に小さいコーティング層を有する光学フィルムが提供される。より具体的には以下のような課題を解消できる。【０００７】
上記光学フィルムの製造過程において、例えばウェットコーティングによって第一フィルム基材上にコーティング層を形成することができる。ウェットコーティングは、バインダー樹脂と、これに分散した微粒子とを含む塗液を第一フィルム基材上に塗布する工程を経てコーティング層を形成する方法である。塗液に含まれる微粒子自体の粒度のバラツキ（標準偏差）が大きければ、成膜したコーティング層において観測される微粒子の粒度分布も必然的に大きくなる。一方、微粒子の粒度設計値が十分にバラツキの小さいものであったとしても、微粒子の凝集などによってバインダー樹脂中における微粒子の分散性が不十分であれば、成膜したコーティング層において観測される微粒子の粒度分布は微粒子の粒度設計値よりも大きくなる。本発明者らの検討によると、コーティング層に含まれる微粒子の粒度のバラツキが大きいとコーティング層によって発現される光拡散性（ヘイズ値）が安定しない（光学フィルムにおける面内バラツキが大きくなる）という課題がある。【０００８】
上記課題に加え、光学フィルムを用いた色変換フィルムの製造過程においては、光学フィルムの厚み（及びこれを含む光学バリアフィルムの厚み）が色変換材料の塗工厚みに影響するため、色変換フィルムの性能に大きく影響する。より具体的には、光学フィルムに含まれる微粒子の粒径のバラツキが大きいと、例えば大きな粒子はバインダー樹脂の表面から突出した状態となっており、この部分が光学フィルムの最大厚みとなり得るため、色変換フィルムの性能にもバラツキが生じる原因となる。本開示に係る光学フィルムによれば、これらの課題を十分に解決することができる。【０００９】
コーティング層からの微粒子の離脱（粉落ち）を抑制する観点から、コーティング層１４の算術平均粗さＲａは０．４μｍ以下であることが好ましい。【００１０】
コーティング層が他の部材（例えば、プリズムシート）によって傷付けられたり、コーティング層が他の部材（例えば、導光板）を傷付けたりすることを抑制する観点から、コーティング層の硬さは鉛筆硬度でＨ〜２Ｈの範囲であることが好ましい。コーティング層における微粒子の粒度のバラツキが十分に小さいため、コーティング層における鉛筆硬度のバラツキも十分に小さくできる。【００１１】
上記微粒子の硬さはロックウェルＲ硬さスケールで１００以下であることが好ましい。微粒子の硬さが上記範囲内にあることにより、コーティング層及び他の部材の傷付きを抑制することができる。上記コーティング層の表面抵抗率は１．０×１０１３Ω／□以下であることが好ましい。コーティング層の表面抵抗率が上記範囲内にあることにより、コーティング層に帯電防止性能を好適に付与することができる。【００１２】
本開示は、第一の態様に係る光学バリアフィルムを提供する。この光学バリアフィルムは、バリア層と、上記光学フィルムとを備え、上記バリア層が、上記光学フィルムの上記第一フィルム基材側の面上に形成されている。本開示は、第二の態様に係る光学バリアフィルムを提供する。この光学バリアフィルムは、第二フィルム基材及びバリア層を含むバリア複合層と、上記光学フィルムとを備え、上記バリア複合層は、上記光学フィルムの上記第一フィルム基材側の面上に形成されている。これらの態様の光学バリアフィルムは、上記光学フィルムを備えるため、上述の課題を解消することが可能であるとともに、光学バリアフィルムと接する他の部材とのブロッキングを抑制しつつ、コーティング層及び他の部材の傷付きを抑制することができる。【００１３】
上記バリア層は、ＳｉＯｘ（１．０≦ｘ≦２．０）で表されるシリコン酸化物からなる無機蒸着薄膜層を含むことが好ましい。バリア層が上記無機蒸着薄膜層を含むことにより、光学バリアフィルムのバリア性能が向上する傾向がある。【００１４】
本開示の一側面は、色変換フィルムを提供する。この色変換フィルは、色変換層と、この色変換層を挟むように配置された二つの保護フィルムとを備え、上記二つの保護フィルムの少なくとも一方が、上記光学バリアフィルムであり、上記光学バリアフィルムは、上記コーティング層が上記色変換層と反対側を向くように配置されている。この色変換フィルムは、上記光学バリアフィルムを備えるため、上述の課題を解消することが可能であるとともに、例えば、バックライトユニットを構成する導光板と重ねても、導光板が傷付くことを抑制することができる。また、バリア層自身が傷付くことも抑制されることから、色変換層に空気及び水蒸気の侵入が適切に低減されて、色変換フィルムにおける色変換性能を長期間に亘って維持することができる。【００１５】
本開示の一側面は、バックライトユニットを提供する。このバックライトユニットは、光源と、導光板と、この導光板上に配置された上記色変換フィルムとを備え、上記色変換フィルムは、上記コーティング層が上記導光板と接するように配置されている。このバックライトユニットは、上記色変換フィルムを備えるため、上述の課題を解消することが可能であるとともに、上記色変換フィルムが接する上記導光板が傷付くことを抑制することができる。また、上記バリア層自身が傷付くことも抑制されることから、上記色変換層に空気及び水蒸気の侵入が適切に低減されて、上記バックライトユニットから長期間に亘って良好な白色光を得ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本開示によれば、ヘイズ値の面内バラツキが十分に小さい光学フィルム、並びに、それを用いた光学バリアフィルム、色変換フィルム及びバックライトユニットが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は本開示の一実施形態に係る光学フィルムの概略断面図である。
【図２】図２は本開示の第一実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。
【図３】図３は本開示の第二実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。
【図４】図４は本開示の第三実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。
【図５】図５は本開示の第四実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。
【図６】図６は本開示の一実施形態に係る色変換フィルムの概略断面図である。
【図７】図７は本開示の一実施形態に係るバックライトユニットの概略断面図である。
【図８】図８（ａ）は実施例２に係る光学フィルムのコーティング層を光学顕微鏡で拡大して示す画像であり、図８（ｂ）は図８（ａ）において丸で囲った粒子をさらに拡大して示す画像である。
【図９】図９は実施例２に係る光学フィルムのコーティング層において微粒子が削られたと認められる箇所を示す光学顕微鏡画像である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、図面において、同一又は同等の要素には同じ符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１９】
［光学フィルム］
図１は本開示の一実施形態に係る光学フィルムの概略断面図である。図１において、光学フィルム１０は、第一フィルム基材１２と、該第一フィルム基材１２上に形成されたコーティング層１４とを備える。
【００２０】
（コーティング層）
コーティング層１４は光を拡散させる機能を有する層であり、「マット層」などと称されることもある。コーティング層１４は微粒子１８を含有し、少なくとも一部の微粒子１８がコーティング層１４の第一フィルム基材１２と反対側の表面に突出している。コーティング層１４中の複数の微粒子１８のうちの少なくとも一部の微粒子がコーティング層１４の表面に突出していることにより、コーティング層１４は表面に凹凸形状を有することができる。コーティング層１４が第一フィルム基材１２と反対側の表面に凹凸形状を有する、すなわち、凹凸面１４Ａを有することにより、光学フィルム１０のコーティング層１４の表面上に他の部材を重ねた場合に、当該他の部材とのブロッキング（貼り付き）を抑制することができる。なお、微粒子１８がコーティング層１４の表面上に「突出する」とは、コーティング層１４の微粒子１８のない部分の表面を基準面として、微粒子１８の表面の少なくとも一部の領域が当該基準面外側に位置していればよい。突出した微粒子１８の表面はむき出しになっていてもよく、後述するバインダー樹脂等で覆われていてもよい。
【００２１】
微粒子１８の平均粒子径は０．５μｍ以上１０．０μｍ以下であり、１．０μｍ以上１０．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以上８．０μｍ以下であることがより好ましい。微粒子１８の平均粒子径が０．５μｍ以上であると、コーティング層１４とこれと接する他の部材とのブロッキングの発生を抑制し易くなる。一方、微粒子１８の平均粒子径が１０．０μｍ以下であると、突出した微粒子１８によってコーティング層１４の表面の凹凸形状を小さく制御し易くなるので、コーティング層１４の凹凸面１４Ａと接する他の部材が傷付くことを抑制し易くなる。
【００２２】
微粒子１８の粒子径の標準偏差は、微粒子１８の平均粒子径の１／２未満であり、１／３未満であることが好ましく、１／４未満であることがより好ましい。この値が１／２未満であると、コーティング層１４におけるヘイズ値（曇り度）の面内バラツキを十分に小さくすることができる。また、微粒子１８の粒子径の標準偏差が微粒子１８の平均粒子径の１／２未満であるということは粒子径が過剰に大きい粒子が十分に少ないということを意味するから、光学フィルム１０の製造過程において、粒径の大きい粒子が塗布後に離脱することによる粉っぽさ（粉落ち）や外観の問題を十分に抑制できる。これに加え、ウェットコーティングによってコーティング層１４を形成する場合、塗布量を調整することによってコーティング層１４の厚さを管理することができるため、所望の厚さのコーティング層１４を形成しやすいという利点がある。なお、この値の下限値は、微粒子１８の製造技術の観点から、１／５程度である。
【００２３】
上述のとおり、コーティング層１４からの微粒子の離脱（粉落ち）はコーティング層１４に粒子径が過剰に大きい粒子が少なければ十分に抑制できる。コーティング層１４に大きい粒子が多いか否か（粉落ちが生じやすいか否か）はコーティング層１４の算術平均粗さＲａを測定することによって把握することができる。粉落ちを十分に抑制する観点から、コーティング層１４の算術平均粗さＲａは好ましくは０．４μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以下である。
【００２４】
コーティング層１４の鉛筆硬度はＨ〜２Ｈの範囲であることが好ましい。コーティング層１４に含まれる微粒子１８の粒度のバラツキが十分に小さいため、コーティング層１４における鉛筆硬度のバラツキも十分に小さくできる。コーティング層１４の鉛筆硬度がＨ以上であることで、コーティング層１４が他の部材（例えば、プリズムシート）によって傷付けられることを抑制できる。他方、コーティング層１４の鉛筆硬度が２Ｈ以下であることで、コーティング層１４が他の部材（例えば、導光板）を傷付けることを抑制できる。ここでいう鉛筆硬度はＪＩＳ  Ｋ５６００−５―４：１９９９（ＩＳＯ／ＤＩＳ  １５１８４：１９９６）「引っかき硬度（鉛筆法）」に準拠して測定される値であって、鉛筆の先端に荷重５００ｇをかけて測定される値を意味する。
【００２５】
コーティング層１４の厚さは０．５μｍ〜３０μｍであることが好ましい。本明細書において、コーティング層１４の厚さは、凹凸形状を含んだ平均の厚さとする。コーティング層１４の厚さは、ＪＩＳ  Ｋ５６００に則り、質量法により測定される。コーティング層１４が、この範囲の厚さを有すると、微粒子１８がコーティング層１４の表面に突出し易くなり、コーティング層１４に凹凸面１４Ａが形成され易くなる。
【００２６】
コーティング層１４中の微粒子１８の含有量は、コーティング層１４の全量を基準として２〜８０質量％であることが好ましく、５〜５０質量％であることがより好ましい。微粒子１８の含有量が２質量％以上であると、微粒子１８がコーティング層１４の表面に突出し易くなり、コーティング層１４とこれと接する他の部材とのブロッキングの発生を抑制し易くなる。一方、微粒子１８の含有量が８０質量％以下であると、コーティング層１４の凹凸面１４Ａと接する他の部材が傷付くことを抑制し易くなる。
【００２７】
コーティング層１４に含有される微粒子１８のうち、コーティング層１４の表面に突出した微粒子１８の割合は、１０〜１００％であることが好ましく、５０〜１００％であることがより好ましい。突出した微粒子１８の割合が１０％以上であると、ブロッキングの発生を抑制し易くなる。
【００２８】
微粒子１８の硬さは、ロックウェルＲ硬さスケールで１００以下であり、９０以下であることが好ましい。微粒子１８のロックウェルＲ硬さスケールにおける硬さが１００以下であると、コーティング層１４の凹凸面１４Ａと接する他の部材が突出した微粒子１８によって傷付くことを抑制し易くなる。また、同様の観点から、微粒子１８の硬さは、ロックウェルＭ硬さスケールにおいて、５０以下であることが好ましい。
【００２９】
微粒子１８は、ロックウェル硬さが上記範囲内にあれば特に限定されず、無機微粒子であってもよく、有機微粒子であってもよい。ロックウェル硬さを上記範囲内とするためには、微粒子１８は有機微粒子であることが好適である。有機微粒子としては、例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；ナイロン等のポリアミド樹脂；アクリルウレタン樹脂；スチレン樹脂；ウレタン樹脂；ベンゾグアナミン樹脂；シリコーン樹脂；アクリル樹脂等が挙げられる。微粒子１８は、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂、及びシリコーン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の有機微粒子であることがより好ましく、ポリプロピレン樹脂粒子又はウレタン樹脂粒子であることがさらに好ましい。また、微粒子１８が有機微粒子であると、微粒子１８が球状粒子となり易く、また、滑らかな凹凸形状への形状制御が容易となる。微粒子１８は、１種単独で使用されてもよく、複数種を組み合わせて使用されてもよい。なお、コーティング層１４は、本開示の効果を阻害しない範囲において、微粒子１８以外に、ロックウェル硬さが上記範囲内にない粒子を含有することもできる。
【００３０】
コーティング層１４は導電性材料を含有していてもよい。コーティング層１４が導電性材料を含有すると、コーティング層１４の表面抵抗率が低下する傾向がある。コーティング層１４の表面抵抗率は１．０×１０１３Ω／□以下であることが好ましい。コーティング層１４の表面抵抗率が１．０×１０１３Ω／□以下であると、コーティング層１４に帯電防止性能が好適に付与されるので、コーティング層１４への塵埃等の付着又は混入が減少する傾向がある。このため、バックライトユニットの製造工程などにおいて、塵埃に起因するコーティング層１４又は他の部材の傷付きが減少する傾向がある。導電性材料としては、例えば、四級アンモニウム塩化合物、導電性高分子、金属酸化物等が挙げられる。導電性材料は、１種単独で使用されてもよく、複数種を組み合わせて使用されてもよい。
【００３１】
四級アンモニウム塩化合物は四級アンモニウム塩を官能基として分子内に有する化合物であり、例えば、四級アンモニウム塩を官能基として分子内に有する（メタ）アクリレート化合物である。四級アンモニウム塩を官能基として分子内に有する（メタ）アクリレート化合物は、例えば、四級アンモニウム塩を官能基として分子内に有する多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステル（すなわち、四級アンモニウム塩（メタ）アクリレートエステル化合物）、又は、ジイソシアネート、多価アルコール、及び（メタ）アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等の反応物（すなわち、四級アンモニウム塩ウレタン（メタ）アクリレート化合物）等であることができる。また、四級アンモニウム塩化合物には、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することもできる。四級アンモニウム塩は四級アンモニウムカチオンとアニオンとを備える。四級アンモニウム塩のアニオンとしては、例えば、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、Ｆ−、ＨＳＯ４−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＰＯ４３−、ＨＰＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、ＳＯ３−、ＯＨ−等が挙げられる。
【００３２】
導電性高分子は、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフェニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）、及びこれらの誘導体から選ばれる１種又は２種以上の混合物からなることができる。
【００３３】
金属酸化物としては、例えば、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、リチウム塩、アンチモン含有酸化亜鉛、インジウム含有酸化亜鉛等が挙げられる。
【００３４】
導電性材料の粒子径は、例えば５００ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以下であることが好ましい。導電性材料の粒子径が５００ｎｍ以下であると、導電性材料としてロックウェル硬さが上記範囲内にない粒子を用いたとしても、傷付き抑制の効果を損なうことなくコーティング層１４の表面抵抗率を低下させることができる傾向がある。コーティング層１４中の導電性材料の含有量は、コーティング層１４の表面抵抗率が所望の範囲となるように導電性材料の種類ごとに適宜設定される。なお、コーティング層１４と第一フィルム基材１２との密着性の観点から、コーティング層１４中の導電性材料の含有量は、３０質量％以下であってもよい。
【００３５】
図１において、コーティング層１４はさらにバインダー樹脂１６を含有している。バインダー樹脂１６は光学的透明性に優れた樹脂であり、熱可塑性樹脂の成形体であってもよく、熱硬化性樹脂又は放射線硬化性樹脂の硬化物であってもよい。バインダー樹脂を構成する樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
【００３６】
バインダー樹脂１６が熱硬化性樹脂の硬化物である場合、熱硬化性樹脂の硬化物は該熱硬化性樹脂と硬化剤との反応物であってもよい。バインダー樹脂１６は水酸基を有する熱硬化性樹脂とイソシアネート硬化剤との硬化物であることが好ましい。この場合、イソシアネート硬化剤が有するイソシアネート基と熱硬化性樹脂の水酸基とが反応し、熱硬化性樹脂とイソシアネート硬化剤とが硬化することができる。
【００３７】
イソシアネート硬化剤は、ポリオール樹脂を架橋できる観点から、イソシアネート基を２つ以上有するイソシアネート硬化剤であることが好ましく、イソシアネート基を２つ有するジイソシアネート硬化剤であることがより好ましい。ジイソシアネート硬化剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、及びこれらの誘導体が挙げられる。
【００３８】
コーティング層１４は、例えば、コーティング層組成物を第一フィルム基材１２上に塗布し、必要に応じて塗膜を乾燥及び硬化する、又は、成形することにより、形成される。コーティング層組成物は、例えば、上述の微粒子１８、導電性材料、及び、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は放射線硬化性樹脂を含んで構成される。コーティング層組成物は、さらに、溶剤、光重合開始剤、レベリング剤、又は滑剤を含んでいてもよい。コーティング層組成物の塗布には、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター等が用いられる。
【００３９】
コーティング層組成物が溶剤を含む場合、加熱又は送風により塗膜が乾燥される。加熱する場合の乾燥温度は、例えば、６０〜１００℃程度であり、乾燥時間は、例えば、１０秒〜１０分程度である。上記乾燥により塗膜から溶剤の多くが除去される。
【００４０】
コーティング層組成物が熱硬化性樹脂を含む場合、乾燥後の塗膜が加熱される。加熱温度は、例えば、５０〜１００℃程度であり、加熱時間は、例えば、１２時間〜３日程度である。上記加熱により塗膜が硬化する。
【００４１】
コーティング層組成物が放射線硬化性樹脂を含む場合、乾燥後の塗膜に放射線が照射される。放射線は、例えば、紫外線又は電子線であることができる。紫外線は、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、及びキセノンアーク等の光源から発生される。また、電子線は、例えば、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、及び高周波型等の各種電子線加速器から発生される。上記放射線照射により塗膜が硬化する。
【００４２】
（第一フィルム基材）
第一フィルム基材１２は、例えば、有機高分子フィルムであることができる。第一フィルム基材１２は透明であることが好ましく、具体的には、第一フィルム基材１２の全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。第一フィルム基材１２としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系フィルム基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム基材、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系フィルム基材、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系フィルム基材、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系フィルム基材、ポリスチレン系フィルム基材、ポリ塩化ビニル系フィルム基材、ポリイミド系フィルム基材、ポリビニルアルコール系フィルム基材、ポリカーボネート系フィルム基材、及びエチレンビニルアルコール系フィルム基材であることができる。
【００４３】
第一フィルム基材１２の厚さは、例えば、５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。第一フィルム基材１２の厚さが５μｍ以上であると、第一フィルム基材１２の強度が向上して、例えば、バックライトユニット作製工程等において、第一フィルム基材１２の取り扱いが容易となる傾向がある。一方、第一フィルム基材１２の厚さが３００μｍ以下であると、ロールｔｏロール方式による成膜工程時において、第一フィルム基材１２の取り扱いが容易となる傾向がある。
【００４４】
［光学バリアフィルム］
（第一実施形態）
図２は本開示の第一実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。図２において、光学バリアフィルム２０Ａは、バリア層２４と、光学フィルム１０とを備える。バリア層２４は、光学フィルム１０の第一フィルム基材１２側の面上に形成されている。すなわち、光学バリアフィルム２０Ａは、第一フィルム基材１２と、第一フィルム基材１２の一方の面上に形成されたコーティング層１４と、第一フィルム基材１２の他方の面上に形成されたバリア層２４とを備えるということもできる。上述のとおり、コーティング層１４は、ヘイズ値の面内バラツキが十分に小さいため、光学バリアフィルム２０Ａのヘイズ値の面内バラツキも十分に小さくすることができる。
【００４５】
光学フィルム１０はコーティング層１４側の表面に凹凸形状を有する、すなわち、凹凸面１４Ａを有する。これにより、光学バリアフィルム２０Ａの光学フィルム１０（コーティング層１４）の表面上に他の部材を重ねた場合に、当該他の部材とのブロッキングを抑制することができる。また、光学バリアフィルム２０Ａを他の部材と重ねることがあっても、コーティング層１４及びコーティング層１４の凹凸面１４Ａと接する他の部材が突出した微粒子１８によって傷付くことを抑制できる。なお、バリア層２４は、密着層を介して、光学フィルム１０の第一フィルム基材１２側の面上に形成されていてもよい。
【００４６】
バリア層２４は気体の侵入を遮断できる層である。バリア層２４は無機薄膜層を含むことが好ましい。無機薄膜層は無機化合物を含み、金属又は金属酸化物を含むことが好ましい。上記金属としては、例えば、アルミニウム、銅、及び銀が挙げられる。また上記金属酸化物は、例えば、イットリウムタンタルオキサイド、アルミニウム酸化物、シリコン酸化物、及びマグネシウム酸化物等からなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物であることができ、安価であり、水蒸気等の侵入を遮断するバリア性能に優れる点から、シリコン酸化物であることが好ましい。シリコン酸化物はＳｉＯｘで表され、式中のｘは１．５以上２．０以下であることが好ましい。ｘが１．５以上、より好ましくは１．７以上であると、透明性が向上する傾向がある。また、ｘが２．０以下であると、バリア性に優れる傾向がある。無機薄膜層は、例えば、蒸着法又はスパッタ法によって形成され、蒸着法によって形成された無機蒸着薄膜層であることが好ましい。無機薄膜層の厚さは、１０〜３００ｎｍであることが好ましく、２０〜１００ｎｍであることがより好ましい。無機薄膜層の厚さが１０ｎｍ以上であることにより、均一な膜が得られやすく、ガスバリア性が得られやすくなる傾向がある。一方、無機薄膜層の厚さが３００ｎｍ以下であることにより、無機薄膜層に柔軟性を保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引っ張り等の外力により、亀裂等が生じにくくなる傾向がある。
【００４７】
バリア層２４はガスバリア性被覆層を含んでいてもよい。バスバリア性被覆層は下記式（１）で表わされる金属アルコキシド及びその加水分解物からなる群より選択される少なくとも１種を含む組成物から形成されることが好ましい。
Ｍ（ＯＲ１）ｍ（Ｒ２）ｎ−ｍ  ・・・（１）
【００４８】
上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１〜８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であることが好ましい。ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のｎ価の金属原子を示す。ｍは１〜ｎの整数である。金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４］、トリイソプロポキシアルミニウム［Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３］等が挙げられる。金属アルコキシドは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であることから、テトラエトキシシラン又はトリイソプロポキシアルミニウムであることが好ましい。金属アルコキシドの加水分解物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物であるケイ酸（Ｓｉ（ＯＨ）４）、及び、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物である水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）等が挙げられる。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。
【００４９】
上記組成物はさらに水酸基含有高分子化合物を含んでいてもよい。水酸基含有高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及びデンプン等の水溶性高分子が挙げられる。水酸基含有高分子化合物はバリア性の観点からポリビニルアルコールであることが好ましい。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における水酸基含有高分子化合物の含有量は、例えば、１０〜９０質量％である。
【００５０】
ガスバリア性被覆層の厚さは、５０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１００〜５００ｎｍであることが好ましい。ガスバリア性被覆層の厚さが５０ｎｍ以上であると、より十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、１０００ｎｍ以下であると、十分な柔軟性を保持できる傾向がある。
【００５１】
バリア層２４が無機薄膜層とガスバリア性被覆層の両方を含む場合、第一フィルム基材１２の表面上に無機薄膜層が形成され、該無機薄膜層の表面上にガスバリア性被覆層が形成されていてもよい。
【００５２】
（第二実施形態）
図３は本開示の第二実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。図３において、光学バリアフィルム２０Ｂは、第二フィルム基材１２ａ及びバリア層２４ａを含むバリア複合層２２ａと、光学フィルム１０と、を備える。バリア複合層２２ａは、第一フィルム基材１２とバリア層２４ａとが対向するように、光学フィルム１０上に接着層２６ａを介して形成されている。
【００５３】
光学バリアフィルム２０Ｂが第二フィルム基材１２ａを含むバリア複合層２２ａを備えることにより、水蒸気遮断性や酸素遮断性に優れるとともにバリア層等の損傷を一層低減した光学バリアフィルムを実現できる。第二フィルム基材１２ａの材料は第一フィルム基材１２と同様であってもよい。第二フィルム基材１２ａの厚さは、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。第二フィルム基材１２ａの厚さが５μｍ以上であると、第二フィルム基材１２ａの強度が向上して、例えば、バックライトユニット作製工程等において、第二フィルム基材１２ａの取り扱いが容易となる傾向がある。一方、第二フィルム基材１２ａの厚さが５０μｍ以下であると、基材端面からの水蒸気や酸素の侵入によるバリア性の低下を抑制することができる。
【００５４】
接着層２６ａは接着剤又は粘着剤から形成される。上記接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等が挙げられる。上記接着剤はエポキシ樹脂を含むことが好ましい。接着剤がエポキシ樹脂を含むことにより、光学フィルム１０とバリア複合層２２ａとの密着性を向上させることができる。また、上記粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、でんぷん糊系接着剤等が挙げられる。接着層２６ａの厚さは０．５〜５０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましく、２〜６μｍあることがさらに好ましい。接着層２６ａの厚さが０．５μｍ以上であることにより、光学フィルム１０とバリア複合層２２ａとの密着性が得られやすくなり、上記厚さが５０μｍ以下であることにより、より優れたガスバリア性が得られやすくなる傾向がある。
【００５５】
第二実施形態に係る光学バリアフィルム２０Ｂは、例えば、光学フィルム１０とは別に第二フィルム基材１２ａ上にバリア層２４ａを形成してバリア複合層２２ａを作製し、その後、光学フィルム１０とバリア複合層２２ａとを貼り合わせ、必要に応じてエージングを行うことにより得ることができる。第二実施形態に係る光学バリアフィルム２０Ｂの製造方法は上記に限定されない。
【００５６】
（第三実施形態）
図４は本開示の第三実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。図４において、光学バリアフィルム２０Ｃは、第二フィルム基材１２ａ及びバリア層２４ａを含むバリア複合層２２ａと、光学フィルム１０と、を備える。バリア複合層２２ａは、第一フィルム基材１２と第二フィルム基材１２ａとが対向するように、光学フィルム１０上に接着層２６ａを介して形成されている。
【００５７】
（第四実施形態）
図５は本開示の第四実施形態に係る光学バリアフィルムの概略断面図である。図５において、光学バリアフィルム２０Ｄは、第二フィルム基材１２ａ及びバリア層２４ａを含むバリア複合層２２ａと、第三フィルム基材１２ｂ及びバリア層２４ｂを含むバリア複合層２２ｂと、光学フィルム１０と、を備える。バリア複合層２２ａは、第一フィルム基材１２と第二フィルム基材１２ａとが対向するように、光学フィルム１０上に接着層２６ａを介して形成されおり、バリア複合層２２ｂは、バリア層２４ａとバリア層２４ｂとが対向するように、バリア複合層２２ａ上に接着層２６ｂを介して形成されている。
【００５８】
［色変換フィルム］
図６は本開示の一実施形態に係る色変換フィルムの概略断面図である。色変換フィルムは液晶ディスプレイ用バックライトユニットの光源からの光の一部の波長を変換可能なフィルムである。図６において、色変換フィルム３０は、色変換層３２と、色変換層３２を挟むように配置された光学バリアフィルム２０とを備える。光学バリアフィルム２０は、上述の光学バリアフィルム２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄのいずれであってもよく、二つの光学バリアフィルム２０の構成は互いに同じであっても異なっていてもよい。光学バリアフィルム２０は、コーティング層１４が色変換層３２と反対側を向くように色変換層３２上に配置されている。したがって、色変換フィルム３０はコーティング層１４の凹凸面１４Ａに由来する凹凸面２０Ｆ，２０Ｇを有する。上述のとおり、光学バリアフィルム２０が備えるコーティング層１４に含まれる微粒子の粒子径のバラツキが十分に小さいため、色変換フィルム３０の性能のバラツキも十分に小さくすることができる。
【００５９】
色変換フィルム３０は表面に凹凸面２０Ｆ，２０Ｇを有することにより、色変換フィルム３０の凹凸面２０Ｆ，２０Ｇ上に他の部材を重ねた場合に、当該他の部材とのブロッキングを抑制することができる。また、色変換フィルム３０を、例えば、バックライトユニットを構成する導光板と重ねても、導光板が突出した微粒子１８によって傷付くことを抑制できる。また、バリア層自身が傷付くことも抑制されることから、色変換層３２に空気及び水蒸気の侵入が適切に低減されて、色変換フィルム３０における色変換性能が長期間に亘って維持される。
【００６０】
本開示に係る色変換フィルムは上記実施形態に限定されない。図６において、色変換層３２が二つの光学バリアフィルム２０（保護フィルム）で挟まれた構成の色変換フィルム３０を例示したが、色変換層３２を挟む二つの保護フィルムのうちの一方が光学バリアフィルム２０であり、他方が他の構成の保護フィルムであってもよい。
【００６１】
色変換層３２は樹脂及び蛍光体を含む。色変換層３２の厚さは数十〜数百μｍである。上記樹脂としては、例えば、光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用することができる。色変換層３２は、発光ナノ結晶（量子ドット）からなる２種類の蛍光体を含むことが好ましい。また、色変換層３２は、１種類の蛍光体を含む蛍光体層と別の種類の蛍光体を含む蛍光体層が２層以上積層されたものであってもよい。２種類の蛍光体には、励起波長が同一のものが選択される。励起波長は、バックライトユニットの光源が照射する光の波長に基づいて選択される。２種類の蛍光体の蛍光色は相互に異なる。光源に青色発光ダイオード（青色ＬＥＤ）を用いる場合、各蛍光色は、赤色及び緑色である。各蛍光の波長、及び光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば、赤色で６１０ｎｍであり、緑色で５５０ｎｍである。
【００６２】
次に、蛍光体の粒子構造を説明する。蛍光体としては、特に発光効率の良いコア・シェル型発光ナノ結晶が好適に用いられる。コア・シェル型発光ナノ結晶は、例えば、無機材料を含む材料、好ましくは、無機導体又は半導体材料を含む材料から製造される。
【００６３】
半導体材料としては、例えば、ＩＩ−ＶＩ族、ＩＩＩ−Ｖ族、ＩＶ−ＶＩ族、及びＩＶ族半導体が挙げられる。半導体材料は、より具体的には、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｂ、Ｃ（ダイヤモンドを含む）、Ｐ、ＢＮ、ＢＰ、ＢＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＢｅＳ、ＢｅＳｅ、ＢｅＴｅ、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ、ＧｅＳ、ＧｅＳｅ、ＧｅＴｅ、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＯ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、ＣｕＦ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、Ｓｉ３Ｎ４、Ｇｅ３Ｎ４、Ａｌ２Ｏ３、（Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ）２（Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ）３、及びＡｌ２ＣＯのいずれか一種、又は、これらの２種以上の任意の組合せを含む。
【００６４】
ナノ結晶は、例えば、ｐ型又はｎ型のドーパントを含むことができる。また、ナノ結晶は、例えば、ＩＩ−ＶＩ又はＩＩＩ−Ｖ半導体を含むことができる。ＩＩ−ＶＩ半導体ナノ結晶は、例えば、Ｚｎ、Ｃｄ、及びＨｇなどのＩＩ族の元素と、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、及びＰｏなどのＶＩ族の元素との任意の組合せを含む。ＩＩＩ−Ｖ半導体ナノ結晶は、例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＴｌなどのＩＩＩ族の元素と、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、及びＢｉなどのＶ族の元素との任意の組合せを含む。
【００６５】
コア・シェル型発光ナノ結晶は、発光部としての半導体結晶コアが保護膜としてのシェルにより被覆されたものである。例えば、コアにはセレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、シェルには硫化亜鉛（ＺｎＳ）が使用可能である。ＣｄＳｅの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいＺｎＳにより被覆されることで量子収率が向上する。また、蛍光体は、コアが第一シェル及び第二シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはＣｄＳｅ、第一シェルにはセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、第二シェルにはＺｎＳが使用可能である。
【００６６】
色変換層３２は、蛍光体を全て単一の層に分散させた単層構成を有していてもよく、各蛍光体を複数の層に別々に分散させ、これらを積層する多層構成を有していてもよい。
【００６７】
次に、本実施形態の色変換フィルム３０の製造方法について説明する。色変換層３２の形成方法としては、特に限定されず、例えば、特表２０１３−５４４０１８号明細書に記載される方法が挙げられる。バインダー樹脂に蛍光体を分散させ、調製した蛍光体分散液を光学バリアフィルム２０（第一保護フィルム）のコーティング層１４と反対側の面上に塗布した後、塗布面に別の光学バリアフィルム２０（第二保護フィルム）を、コーティング層１４が色変換層３２と反対側を向くように貼り合わせ、色変換層３２を硬化することにより、色変換フィルム３０を製造することができる。
【００６８】
［バックライトユニット］
図７は本開示の一実施形態に係るバックライトユニットの概略断面図である。図７において、バックライトユニット４０は、光源４２と、導光板４６と、導光板４６上に配置された色変換フィルム３０とを備える。色変換フィルム３０は、凹凸面２０Ｆ（すなわち、コーティング層１４の凹凸面１４Ａ）が導光板４６と接するように配置されている。詳細には、バックライトユニット４０は、色変換フィルム３０の凹凸面２０Ｆ上に導光板４６及び反射板４４がこの順で配置され、光源４２は上記導光板４６の側方（導光板４６の面方向）に配置される。バックライトユニット４０は、性能の面内バラツキが十分に小さい色変換フィルム３０を備えるため、バックライトユニット４０の性能（発色、輝度等）のバラツキも十分に小さくすることができる。バックライトユニット４０は、色変換フィルム３０が接する導光板４６が傷付くことを抑制することができる。また、バリア層自身が傷付くことも抑制されることから、色変換層に空気及び水蒸気の侵入が適切に低減されて、バックライトユニットから長期間に亘って良好な白色光を得ることができる。
【００６９】
導光板４６及び反射板４４は、光源４２から照射された光を効率的に反射し、導くものであり、公知の材料が使用される。導光板４６としては、例えば、アクリル、ポリカーボネート、及びシクロオレフィンフィルム等が使用される。導光板４６に使用される材料は、大きな硬度を有しないことが多く、他の部材との接触により傷付きやすい傾向がある。特に、ポリカーボネートは透明性の高さと加工の容易さから一般に使用されるが、表面硬度が低く傷付きやすい。光源４２には、例えば、青色発光ダイオード素子が複数個設けられている。この発光ダイオード素子は、紫色発光ダイオード、又はさらに低波長の発光ダイオードであってもよい。光源４２から照射された光は、導光板４６（Ｄ１方向）に入射した後、反射及び屈折等を伴って色変換層３２（Ｄ２方向）に入射する。色変換層３２を通過した光は、色変換層３２を通過する前の光に色変換層３２で発生した黄色光が混ざることで、白色光となる。
【実施例】
【００７０】
以下、実施例を挙げて本開示に係る発明について具体的に説明するが、本開示に係る発明の範囲はこれらに限定されるものではない。【００７１】
（使用成分）
実施例１〜５及び比較例１のコーティング層組成物（塗液）を調製するため、以下の成分を準備した。
・主剤１：ウレタン系微粒子（平均粒子径６．２０μｍ、粒子径の標準偏差２．２５μｍ）とクリア剤の混合剤（ＤＩＣグラフィックス株式会社製）
・主剤２：ウレタン系微粒子（平均粒子径７．４６μｍ、粒子径の標準偏差１３．３９μｍ）とクリア剤の混合剤（ＤＩＣグラフィックス株式会社製）
・クリア剤：主剤１，２の微粒子濃度を調整するためのニス（ＤＩＣグラフィックス株式会社製）
・硬化剤：イソシアネート硬化剤（ＤＩＣグラフィックス株式会社製）
・帯電防止剤：レジスタットＰＵ−１０１（商品名、第一工業製薬株式会社製）
・溶剤：トルエン（和光純薬工業株式会社製、鹿１級）【００７２】
（主剤１，２に含まれる微粒子の物性値測定）
主剤１，２に含まれる微粒子の「平均粒子径」及び「粒子径の標準偏差」を以下のようにして測定した。すなわち、主剤をガラス瓶に入れ、１００回振とうした後、酢酸エチルを添加した。これによって得られた試料に含まれる微粒子の平均粒子径及び粒子径の標準偏差をレーザー回折・散乱式粒子径分布測定装置（日機装株式会社、マイクロトラックＭＴ３３００（商品名））を使用して測定した。表１に結果を示す。【００７３】
【表１】
2018105213.tif 000003
【００７４】
（光学フィルムの作製）
第一フィルム基材上に、表２に示す組成を混合してなるコーティング層組成物を塗布し、ワイヤーバーコーターによって塗膜を形成した。続いて、この塗膜を８０℃３０秒間加熱して、塗膜を乾燥させた。この乾燥した塗膜に対して、６０℃２日間エージングを行って、実施例１〜５及び比較例１の光学フィルムをそれぞれ作製した。実施例１〜５においては、コーティング層組成物の塗膜を形成するにあたり、番手の異なるワイヤーバーをそれぞれ使用することによって塗布量を変え、これにより、厚さの異なるコーティング層を第一フィルム基材上にそれぞれ形成した。【００７５】
【表２】
2018105213.tif 000004
【００７６】
上記実施例及び比較例に係る光学フィルムに対し、以下の項目について評価を行った。表３に結果を示す。【００７７】
（ヘイズ及び全光線透過率）
実施例及び比較例に係る光学フィルムのヘイズ及び全光線透過率は、ヘイズメータ（濁度計）ＮＤＨ−２０００（商品名、日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。【００７８】
（傷付け防止性）
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを４ｃｍ×４ｃｍの大きさに切り取り、切り取った光学フィルムのコーティング層とポリカーボネートフィルムとを互いに接するように重ね、室温で２５ｋｇｆ／ｃｍ２の荷重下で３０秒間放置した。その後、光学フィルムとポリカーボネートフィルムとを目視及び顕微鏡によって観察して、下記基準に従って傷付け防止性を評価した。なお、ポリカーボネートフィルムは、バックライトユニットの導光板を模して用意した。ポリカーボネートフィルムの厚みは１８８μｍであった。
Ａ：光学フィルムのコーティング層及びポリカーボネートフィルムに傷が認められない。
Ｂ：光学フィルムのコーティング層及びポリカーボネートフィルムの少なくとも一方に傷が認められる。
Ｃ：光学フィルムのコーティング層及びポリカーボネートフィルムの少なくとも一方に傷が顕著に認められる。【００７９】
（表面抵抗率）
実施例及び比較例で得られた光学フィルムのコーティング層の表面について、高抵抗抵抗率計（商品名：ハイレスターＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０、ダイアインスツルメンツ社製）を用い、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して表面抵抗率を測定した（印加電圧：５００Ｖ、時間：１０秒、プローブ：ＵＲＳの条件、２３℃５５％ＲＨ環境下）。【００８０】
【表３】
2018105213.tif 000005
【００８１】
表３に示すとおり、実施例２の光学フィルム（コーティング層の厚さ４．５μｍ）のヘイズ値は４４．０％であり、一方、比較例１の光学フィルム（コーティング層の厚さ６．０μｍ）のヘイズ値は４０．３％であって両者の値が比較的近かった。そこで、以下のとおり、実施例２及び比較例１の光学フィルムの複数の箇所についてそれぞれヘイズを測定することでヘイズの面内バラツキを評価するとともに、これらのコーティング層に含まれる微粒子の物性値（平均粒子径及び粒子径の標準偏差）を測定した。【００８２】
（ヘイズの面内バラツキ評価）
実施例２及び比較例１の光学フィルムを１００ｍｍ角にそれぞれ切り取った試料を準備した。これらの試料の中央と四隅付近の計５ヶ所（測定点１〜５）についてそれぞれヘイズを測定した。これらの測定値からヘイズの平均値及びヘイズの標準偏差を算出した。表４に結果を示す。【００８３】
【表４】
2018105213.tif 000006
【００８４】
（コーティング層に含まれる微粒子の物性値測定）
実施例２及び比較例１に係る光学フィルムのコーティング層に含まれる微粒子の「平均粒子径」及び「粒子径の標準偏差」を以下のようにして測定した。すなわち、実施例２及び比較例１に係る光学フィルムを光学顕微鏡で１０００倍に拡大し（図８（ａ）参照）、ランダムに抽出した５０個の微粒子の直径を測定した。図８（ｂ）に示すように、横方向の長さ（Ｘ）と縦方向の長さ（Ｙ）をそれぞれ測定し、その平均値（＝（Ｘ＋Ｙ）／２）を対象粒子の直径とした。表５にこれらの測定値から算出した微粒子の「平均粒子径」及び「粒子径の標準偏差」の値を示す。なお、図８（ａ）は実施例２に係る光学フィルムのコーティング層を光学顕微鏡で拡大して示す画像であり、図８（ｂ）は図８（ａ）において丸で囲った粒子をさらに拡大して示す画像である。【００８５】
【表５】
2018105213.tif 000007
【００８６】
（コーティング層の算術平均粗さＲａの測定）
実施例２及び比較例１に係る光学フィルムのコーティング層の算術平均粗さＲａを測定した。測定には非接触表面層断面計測システム（バートスキャン、株式会社菱化システム製）を使用した。その結果は以下のとおりであった。
・実施例２：０．２７μｍ
・比較例１：０．４２μｍ【００８７】
（コーティング層から離脱した微粒子量の評価）
実施例２に係る光学フィルムのコーティング層の表面をコーティング層同士で擦る処理を行った後、当該表面を光学顕微鏡で拡大し、画像内において、上記処理によって微粒子が削られたと認められる箇所をカウントしたところ、そのような箇所が８箇所あった。当該箇所の横方向の長さ（Ｘ）と縦方向の長さ（Ｙ）をそれぞれ測定し（図９参照）、その平均値（＝（Ｘ＋Ｙ）／２）を削られている部分の直径とし、それぞれの箇所の面積を算出した。表６に結果を示す。【００８８】
比較例１に係る光学フィルムのコーティング層に対しても同様の処理を行った後、当該表面を光学顕微鏡で拡大し、画像内において、上記処理によって微粒子が削られたと認められる箇所をカウントしたところ、そのような箇所が９箇所あった。これらの箇所についても、横方向の長さ（Ｘ）と縦方向の長さ（Ｙ）をそれぞれ測定し、その平均値（＝（Ｘ＋Ｙ）／２）を削られている部分の直径とし、それぞれの箇所の面積を算出した。表７に結果を示す。【００８９】
【表６】
2018105213.tif 000008
【００９０】
【表７】
2018105213.tif 000009
【００９１】
（コーティング層の鉛筆強度の評価）
幅２１０ｍｍの第一フィルム基材上に、表８に示す組成を混合してなるコーティング層組成物を塗布し、ワイヤーバーコーターによって長さ３００ｍｍにわたって塗膜を形成した。続いて、この塗膜を８０℃３０秒間加熱して、塗膜を乾燥させた。この乾燥した塗膜に対して、６０℃２日間エージングを行って、実施例６及び比較例２の光学フィルムをそれぞれ作製した。実施例６及び比較例２において、第一フィルム基材上に形成されたコーティング層の厚さはいずれも、３μｍであった。なお、実施例６では実施例１〜５と同じ成分を使用し、比較例２では比較例１と同じ成分を使用した。【００９２】
実施例６及び比較例２に係るコーティング層のそれぞれ１２箇所の鉛筆強度をＪＩＳ  Ｋ５６００−５―４：１９９９「引っかき硬度（鉛筆法）」に準拠して測定した。鉛筆の先端にかかる荷重は５００ｇとした。表９に結果を示す。【００９３】
【表８】
2018105213.tif 000010
【００９４】
【表９】
2018105213.tif 000011
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本開示によれば、ヘイズ値の面内バラツキが十分に小さい光学フィルム、並びに、それを用いた光学バリアフィルム、色変換フィルム及びバックライトユニットが提供される。
【符号の説明】
【００９６】
１０…光学フィルム、１２…第一フィルム基材、１４…コーティング層、１４Ａ…凹凸面、１６…バインダー樹脂、１８…微粒子、２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０…光学バリアフィルム、２２ａ，２２ｂ…バリア複合層、２４，２４ａ，２４ｂ…バリア層、３０…色変換フィルム、３２…色変換層、４０…バックライトユニット。
【図１】
2018105213.tif 000012
【図２】
2018105213.tif 000013
【図３】
2018105213.tif 000014
【図４】
2018105213.tif 000015
【図５】
2018105213.tif 000016
【図６】
2018105213.tif 000017
【図７】
2018105213.tif 000018
【図８】
2018105213.tif 000019
【図９】
2018105213.tif 000020
【国際調査報告】
2018105213.tif 000021
2018105213.tif 000022
2018105213.tif 000023
2018105213.tif 000024