(57)【要約】  回折構造形成体は、光学的画像情報が記録された回折構造部を含む回折構造形成層と、回折構造部上の一部に位置するとともに、少なくとも１つの反射要素を含む反射層と、少なくとも１つの印刷要素を含むとともに、印刷要素が反射要素上に位置する印刷層と、を備え、印刷層は、反射層を形成するために用いられるマスクの少なくとも一部である。
2017159636.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的画像情報が記録された回折構造部を含む回折構造形成層と、
前記回折構造部上の一部に位置するとともに、少なくとも１つの反射要素を含む反射層と、
少なくとも１つの印刷要素を含むとともに、前記印刷要素が前記反射要素上に位置する印刷層と、を備え、
前記印刷層は、前記反射層を形成するために用いられるマスクの少なくとも一部である
回折構造形成体。
【請求項２】
前記回折構造形成層が広がる平面と対向する平面視において、
前記印刷要素は、その印刷要素が位置する前記反射要素の縁よりも内側に位置している
請求項１に記載の回折構造形成体。
【請求項３】
前記印刷層は、複数の前記印刷要素を含み、
複数の前記印刷要素には、前記回折構造形成層が広がる平面と対向する平面視において、その印刷要素が位置する前記反射要素と相似な形状を有した前記印刷要素が含まれる
請求項２に記載の回折構造形成体。
【請求項４】
前記印刷層が、色材、蛍光材、および、フィラー類のうち、少なくとも１つを含むフォトレジスト層である
請求項１から３のいずれか一項に記載の回折構造形成体。
【請求項５】
前記回折構造形成層に対して前記反射層とは反対側において前記回折構造形成層に接する支持体をさらに備え、
前記回折構造形成層と前記支持体とは積層体を構成し、
前記印刷層、前記反射層、および、前記積層体のなかで、前記印刷層の透過濃度が最も高く、前記積層体の透過濃度が最も低く、且つ、前記反射層の透過濃度が、前記印刷層の透過濃度と前記積層体の透過濃度との間の値である
請求項１から４のいずれか一項に記載の回折構造形成体。
【請求項６】
前記印刷層の透過濃度が０．５以上２．０未満であり、前記反射層の透過濃度が１．０以上であり、且つ、前記支持体の透過濃度が０．８以上２．０以下である
請求項５に記載の回折構造形成体。
【請求項７】
回折構造形成体と、
前記回折構造形成体を支持する物品と、を含む回折構造形成体付き物品であって、
前記回折構造形成体が、請求項１から６のいずれか一項に記載の回折構造形成体である
回折構造形成体付き物品。
【請求項８】
回折構造部を含む回折構造形成層と反射要素を含む反射層と印刷要素を含む印刷層とを備える回折構造形成体の製造方法であって、
前記回折構造部上に、前記反射層を形成するための薄膜を形成することと、
前記薄膜を所定の形状にエッチングするためのマスクを前記薄膜上に形成することと、
前記マスクを用いて前記薄膜をエッチングすることによって、前記反射要素を前記薄膜から形成するとともに、前記反射要素上に位置する前記印刷要素を前記マスクから形成することと、を含む
回折構造形成体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有価証券類の偽造や改竄の防止や、不正を容易に発見することが求められる偽造防止媒体に利用可能な回折構造形成体、回折構造形成体付き物品、および、回折構造形成体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、偽造を防止する対象である物品に取り付けることにより、物品の真贋を一目で容易に判定することが可能であり、且つ取扱いも容易であることから回折格子パターンが記録された回折構造部が、偽造を防止する手段として広く使われている。このような偽造防止手段として採用される回折構造部が形成された回折構造形成体としては、例えば、剥離性を持つ剥離層、回折格子が形成された回折構造形成層、金属光沢を持つ反射層、および接着層を基材上に順次積層して回折構造形成体を転写箔化したものがある（例えば、特許文献１参照）。【０００３】
また、透明な回折格子上に、反射層として透明な金属蒸着薄膜や無機化合物の薄膜を形成することにより、反射層よりも下層に位置するものも、回折格子を通して目視にて観察できるようにしたものもある（例えば、特許文献２参照）。【０００４】
更に、特許文献３では、ホログラムに対して、金属反射層が部分的に設けられた成形品およびその製造方法が提案されている。【０００５】
これらの従来から用いられている回折構造形成体では、何れも金属光沢を持った蒸着薄膜や透明薄膜からなる反射層が、決まったパターン状を有して回折構造部上に積層されるか、回折構造部の全体に積層されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開昭６１−１９０３６９号公報
【特許文献２】実開平１−５９６７１号公報
【特許文献３】特開昭６２−７９４８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
更に偽造防止効果を高めるために、反射層に対して回折構造部とは反対側にパターン状の印刷層を形成した場合、反射層と印刷層とは別々に形成されるため、印刷層と反射層とを高い精度で位置合わせすることは困難である。それゆえに、予め位置のずれを考慮して印刷層と反射層とを配置せざるを得ない。【０００８】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、パターン状の反射層に対する印刷層の位置のずれを抑えることができる回折構造形成体、回折構造形成体付き物品、および、回折構造形成体の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための回折構造形成体は、光学的画像情報が記録された回折構造部を含む回折構造形成層と、前記回折構造部上の一部に位置するとともに、少なくとも１つの反射要素を含む反射層と、少なくとも１つの印刷要素を含むとともに、前記印刷要素が前記反射要素上に位置する印刷層と、を備え、前記印刷層は、前記反射層を形成するために用いられるマスクの少なくとも一部である。【００１０】
上記回折構造形成体において、前記回折構造形成層が広がる平面と対向する平面視において、前記印刷要素は、その印刷要素が位置する前記反射要素の縁よりも内側に位置していることが好ましい。【００１１】
上記回折構造形成体において、前記印刷層は、複数の前記印刷要素を含み、複数の前記印刷要素には、前記回折構造形成層が広がる平面と対向する平面視において、その印刷要素が位置する前記反射要素と相似な形状を有した前記印刷要素が含まれてもよい。【００１２】
上記回折構造形成体において、前記印刷層が、色材、蛍光材、および、フィラー類のうち、少なくとも１つを含むフォトレジスト層であることが好ましい。【００１３】
上記回折構造形成体において、前記回折構造形成層に対して前記反射層とは反対側において前記回折構造形成層に接する支持体をさらに備え、前記回折構造形成層と前記支持体とは積層体を構成し、前記印刷層、前記反射層、および、前記積層体のなかで、前記印刷層の透過濃度が最も高く、前記積層体の透過濃度が最も低く、且つ、前記反射層の透過濃度が、前記印刷層の透過濃度と前記積層体の透過濃度との間の値であることが好ましい。【００１４】
上記回折構造形成体において、前記印刷層の透過濃度が０．５以上２．０未満であり、前記反射層の透過濃度が１．０以上であり、且つ、前記支持体の透過濃度が０．８以上２．０以下であってもよい。【００１５】
上記課題を解決するための回折構造形成体付き物品は、回折構造形成体と、前記回折構造形成体を支持する物品と、を含む回折構造形成体付き物品であって、前記回折構造形成体が、上記回折構造形成体である。【００１６】
上記課題を解決するための回折構造形成体の製造方法は、回折構造部を含む回折構造形成層と反射要素を含む反射層と印刷要素を含む印刷層とを備える回折構造形成体の製造方法である。前記回折構造部上に、前記反射層を形成するための薄膜を形成することと、前記薄膜を所定の形状にエッチングするためのマスクを前記薄膜上に形成することと、前記マスクを用いて前記薄膜をエッチングすることによって、前記反射要素を前記薄膜から形成するとともに、前記反射要素上に位置する前記印刷要素を前記マスクから形成することと、を含む。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、パターン状の反射層に対する印刷層の位置のずれを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】回折構造形成体の一例における平面構造を示す平面図である。
【図２】図１に示す回折構造形成体を印刷層側から観察した平面構造を示す平面図である。
【図３】図２に示すＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図４】図１の回折構造形成体を透過光で観察したときの平面構造を示す平面図である。
【図５】回折構造形成体をステッカーとして具体化したときのステッカーの断面構造を示す断面図である。
【図６】回折構造形成体を転写箔として具体化したときの転写箔の断面構造を示す断面図である。
【図７Ａ】マスク版を用いた露光工程を示す工程図である。
【図７Ｂ】現像工程を示す工程図である。
【図７Ｃ】エッチング工程を示す工程図である。
【図７Ｄ】現像工程を示す工程図である。
【図８】回折構造形成体の別の例における平面構造を示す平面図である。
【図９】図８の回折構造形成体を印刷層側から観察した平面構造を示す平面図である。
【図１０】図８の回折構造形成体を透過光で観察したときの平面構造を示す平面図である。
【図１１】回折構造形成体を貼付した物品の一例における平面構造示す平面図である。
【図１２】図１１の破線部を透過光で観察したときの平面構造を拡大して示す拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、回折構造形成体、回折構造形成体付き物品、および、回折構造形成体の製造方法を具体化した好適な実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
図１は、回折構造形成体１０の平面構造を示す平面図であり、回折構造形成層１２側から順光すなわち反射光によって観察した光学的画像情報部１０１の状態の一例を示している。
【００２１】
これに対し、図２は、印刷層１５が形成された側から順光によって観察した場合の回折構造形成体１０における平面構造の一例を示している。光学的画像情報部１０１に設けられた反射層１４のパターンとは、異なる形状を有したパターンの印刷層１５が設けられている。
【００２２】
このことから、回折構造形成体１０は、回折構造形成体１０側からの順光による観察と印刷層１５側からの順光による観察とで異なる絵柄を表現することが可能となる。
【００２３】
図３は、図２における回折構造形成体１０のＡ−Ａ線に沿う断面構造を示す断面図である。回折構造形成層１２の支持体１１とは反対の面には、微細な凹凸からなる回折構造部１３が形成される。
【００２４】
回折構造形成層１２には反射層１４が積層されている。印刷層１５は、反射層１４を形成するために用いられるマスクの少なくとも一部である。より詳しくは、反射層１４を形成するための薄膜において選択的な除去を行なうために塗布されるフォトレジストの一部は、露光すなわち光の照射や現像が行われた後、エッチングによって薄膜の一部を除去した後も、反射層１４上にパターン状に位置することで、回折構造形成体１０において印刷層１５として機能する。これらの製造方法については、後ほど詳述する。
【００２５】
図３に示すように、回折構造形成体１０は、支持体１１と、支持体１１の一方の面上に位置する回折構造形成層１２とを備え、回折構造形成層１２のなかで、支持体１１に接する面とは反対側の面に、回折構造部１３が位置している。回折構造形成層１２のうち、回折構造部１３が位置する面は凹凸面である。回折構造形成層１２の凹凸面には、所定の形状を有した反射層１４が位置し、反射層１４は、凹凸面上において互いに離れて位置する複数の反射要素を備えている。反射層１４のなかで、凹凸面に接する面とは反対側の面上には、所定の形状を有した印刷層１５が位置している。印刷層１５は、凹凸面と対向する平面視において互いに離れて位置する複数の印刷要素を備え、１つの反射要素上には、少なくとも１つの印刷要素が位置している。
【００２６】
なお、１つの方向がＸ方向であり、Ｘ方向に直交する方向がＹ方向である。Ｘ方向とＹ方向との両方に直交する方向がＺ方向である。回折構造形成体１０は、Ｘ方向およびＹ方向に沿って広がる板状を有し、回折構造形成体１０の厚さ方向は、Ｚ方向と平行な方向である。
【００２７】
回折構造形成体１０には、第１観察方向と第２観察方向とを設定することが可能である。第１観察方向は、支持体１１に対して回折構造形成層１２とは反対側から回折構造形成体１０を観察する方向であり、第２観察方向は、回折構造形成層１２に対して支持体１１とは反対側から回折構造形成体１０を観察する方向である。
【００２８】
なお、第１観察方向から回折構造形成体１０を観察するときには、回折構造形成体１０に支持体１１から入射した光であって、反射層１４にて反射された光を観察することが可能である。また、第１観察方向から回折構造形成体１０を観察するときには、回折構造形成体１０に回折構造形成層１２から入射した光であって、少なくとも回折構造形成層１２および支持体１１を透過した光を観察することが可能である。
【００２９】
これに対して、第２観察方向から回折構造形成体１０を観察するときには、回折構造形成体１０において、反射層１４、印刷層１５、および、回折構造形成層１２に入射した光であって、各部位において反射された光を観察することが可能である。また、第２観察方向から回折構造形成体１０を観察するときには、回折構造形成体１０に支持体１１から入射した光であって、少なくとも支持体１１および回折構造形成層１２を透過した光を観察することが可能である。
【００３０】
上述したように、図１に示す平面構造は、回折構造形成体１０を回折構造形成層１２側から順光によって観察したときの平面構造である。言い換えれば、図１には、第１観察方向から回折構造形成体１０を観察し、且つ、回折構造形成体１０に支持体１１から入射した光であって、反射層１４にて反射された光を観察したときに、回折構造形成体１０が表示する像が示されている。
【００３１】
これに対して、図２に示す平面構造は、回折構造形成体１０を印刷層１５が形成された側から順光によって観察した場合の回折構造形成体１０における平面構造である。言い換えれば、図２には、第２観察方向から回折構造形成体１０を観察し、且つ、回折構造形成体１０において、反射層１４、印刷層１５、および、回折構造形成層１２に入射した光であって、各部位において反射された光を観察したときに、回折構造形成体１０が表示する像が示されている。
【００３２】
以下、回折構造形成体１０が備える各要素について、より詳しく説明する。
（支持体）
支持体１１は、回折構造形成体１０を製造する際の基材としての役割を担う。なお、回折構造形成体１０がステッカーとして具体化される場合には、回折構造形成体１０が支持体を含んだ状態で物品に貼付される場合がある。一方で、回折構造形成体１０が転写箔として具体化される場合には、支持体は回折構造形成体１０の一部が物品に転写される際の支持基材となるが、回折構造形成体１０の一部が物品に転写された後は、回折構造形成体１０のうち支持体以外の部分から剥離される。
【００３３】
なお、支持体は必ずしも必要ではなく、支持体１１と回折構造形成層１２とが、同一素材であってもよい。すなわち、回折構造形成層１２が回折構造形成層１２の上に形成される反射層１４および印刷層１５を支持することが可能な機械的な強度を有していれば、支持体１１は省略されてもよい。
【００３４】
支持体１１は、フィルムまたはシートであればよい。フィルムまたはシートの材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの各種樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
一般には、入手のし易さや加工時の取り扱いやすさなどの点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が、支持体を形成する材料として最も好適であると言える。
【００３６】
（回折構造部）
回折構造部１３には、光学的画像情報が記録されている。反射層１４の存在下において、回折構造部１３に光が入射することで、回折構造部１３は回折光を発生し、この回折光が２Ｄ（二次元）画像または３Ｄ（三次元）による立体視が可能な画像を表示する。
【００３７】
一般的に、回折構造形成体１０が物品に付される場合には、回折構造形成体１０の用途に応じて、回折構造部１３に接着層が設けられる。この場合には、回折構造部１３上に反射層１４が形成されていないと、回折構造形成層１２と接着層との間の屈折率の差が小さいために、十分な輝度を有した回折光が得られない。そのため、回折構造部１３上には、反射層１４が位置している。
【００３８】
なお、光学的画像情報は、回折構造部１３に光が入射することで発生した回折光により表示される２Ｄまたは３Ｄによる視認可能な画像情報である。詳細には、絵柄や文字、色の変化を含むパターンであって、視覚によって認識が可能なパターンなどで構成される。
【００３９】
また、画像とは視覚により認識できる情報のことであり、イラストなどの絵画的画像のほか、文字、模様、色彩、所定の形状を含む。さらに、画像は回折光により表示されたものに限られず、印刷層１５により形成された画像および各構成要素の色彩も含む。
【００４０】
回折構造部１３が形成される回折構造形成層１２の材料として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂などを使用することができる。例えば、熱可塑性樹脂には、アクリル樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂などが挙げられる。また、熱硬化性樹脂には、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポレエステルポリオールなどにポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などが使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレートなどを使用することができる。これらの材料を主材料として、グラビア印刷法やマイクログラビア法など、公知の塗布方法によって回折構造形成層１２を形成することができる。
【００４１】
また、回折構造部１３への光学的画像情報の記録方法も、当分野でよく知られた方法を用いることができる。
【００４２】
光学的画像情報が微細な凹凸からなる回折構造を用いて記録される場合、この微細な凹凸構造を形成するためにレリーフ版が使用される。レリーフ版を形成するときには、まず、電子線硬化型樹脂の表面に電子線を照射して、電子線硬化型樹脂を所望のパターンで露光し、その後現像することによってマスター版が作製される。続いて、このマスター版の表面に電気メッキ法で金属膜を形成してマスター版の凹凸パターンを複製することによって、レリーフ版が形成される。
【００４３】
そして、回折構造形成層１２にこのレリーフ版を熱圧着させるか、未硬化の硬化型樹脂にレリーフ版を密着させながら硬化することで、微細な凹凸構造から構成される回折構造部１３が形成される。
【００４４】
また干渉性のよい光によって得た像の回折光を感光材料に記録させたものを回折構造部１３に組み込んでも良い。
【００４５】
（反射層）
反射層１４として用いることのできる材料としては、アルミニウム、銀、金、錫、銅、クロムなどの各種金属類、これらの金属を含む合金類などを挙げることができる。また、反射層１４の材料には、酸化チタン、硫化亜鉛、フッ化マグネシウム、硫化アンチモン、酸化ケイ素などの金属化合物を用いることもできる。反射層１４の厚さは、例えば１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４６】
以上のような材料を用いて、反射層１４を形成するための薄膜を形成する方法としては、公知の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの方法を用いることが可能である。
【００４７】
反射層１４の材料としては、入手の容易性や反射層の一部を除去するときの除去のし易さなどを考慮するとアルミニウムが最も好適であると言える。
【００４８】
（印刷層）
印刷層１５は文字やイラスト、模様など、目視にてその形状を視認することが可能な層である。印刷層１５は、以下のように形成される。すなわち、グラビア印刷法やスクリーン印刷法、凸版印刷法などの公知の印刷法あるいはコーティング法などによりフォトレジストを、反射層１４を形成するための薄膜の全面に均一に塗布する。その後、露光や現像を経て反射層１４上に位置する部分が、文字やイラスト、所定の模様の形状を有した印刷層１５になる。
【００４９】
フォトレジストとしては、ポジ型およびネガ型のいずれのフォトレジストを用いてもよい。ポジ型のフォトレジストにおける代表例としては、ノボラック樹脂を主成分とし、ナフトキノンジアジド（ＤＮＱ）を感光性物質として添加したいわゆるＤＮＱノボラックレジストがあげられるが、ポジ型のフォトレジストはこれに限定されるものではない。
【００５０】
また、ネガ型のフォトレジストとしては、エポキシ系樹脂タイプのものやカルボキシル基含有樹脂タイプのものなどを挙げることができるが、ネガ型のフォトレジストは、これらに限定されるものではない。印刷層１５の厚さは、例えば１μｍ以上３０μｍ以下である。
【００５１】
フォトレジストの現像工程と、アルミニウムなどの真空蒸着膜のエッチングによる部分的な除去によって反射層１４を形成する工程とは、単一の工程で実施できることが望ましい。そのため、フォトレジストは、酸あるいはアルカリによって現像が可能であることが望ましい。
【００５２】
なお、印刷層１５の形成材料は、反射層１４を形成するための薄膜をエッチングするときにマスクとして機能することができる材料であればよく、例えば、各種の金属や金属化合物であってもよい。すなわち、反射層１４を形成するため薄膜をエッチングするときに用いられるマスクが、ハードマスクであってもよい。
【００５３】
印刷層用のインキには、上述のフォトレジストに対して露光量に応じて光透過率の変化する吸光剤が含まれているものを用いてもよいし、印刷層用のインキには、色材、蛍光材料、そしてフィラー類からなる添加剤から１種以上のものが添加されていてもよい。すなわち、印刷層１５は、色材、蛍光材、および、フィラー類のうち、少なくとも１つを含むフォトレジスト層であってもよい。
【００５４】
色材としては、顔料並びに染料を使うことができる。なお、回折構造形成体１０は、支持体１１側から順に回折構造形成層１２、反射層１４、および、印刷層１５が積層された構成を有する。また、回折構造形成体１０は、支持体１１側からの観察において、順光すなわち反射光での観察と、逆光すなわち透過光での観察とによって視認されるパターンが変化することによって、偽造防止性が付与されるものである。
【００５５】
ここで、色材として染料を用いた場合よりも顔料を用いた場合の方が、透過光に対する隠蔽性が高く、且つ、逆光での観察に対して、より視認性が向上する。そのため、色材としては、染料よりも顔料がより好適であるといえる。
【００５６】
使用する顔料としては、カーボンブラックを始め、種々の公知の顔料を使用することができ、例えばアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、チオインジゴ系、アントラキノン系、イソインドリノン系などの顔料が挙げられる。
【００５７】
蛍光材においても染料タイプならびに顔料タイプを用いることができるが、顔料タイプの方がより好適であるといえる。
【００５８】
フィラー類としては、酸化チタン、沈降性硫酸バリウム、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、酸化アルミニウムなどの各種無機系フィラー類を用いることができる。また、フィラー類としては、アクリル系微粒子、スチレン系微粒子、アクリル−スチレン系微粒子、シリコン系微粒子、フッ素系微粒子などの各種有機系微粒子を用いることができる。更には、フィラー類としては、有機系あるいは無機系の中空微粒子などを用いることができるが、フィラー類は、これらに限定されるものではない。
【００５９】
（その他の構成要素）
回折構造形成体１０は、上述した構成および機能を妨げるものでない限り、他の任意の構成要素を備えてもよい。例えば帯電防止層や防汚層、剥離層、易接着処理層などのほかに、後述するような構成要素を備えてもよいが、他の構成要素はこれらに限られない。
【００６０】
（接着層）
接着層１６は、回折構造形成体１０を被着基材に貼付するために用いられる。図５は、回折構造形成体１０がステッカーとして具体化された一例を示している。図５に示すように、ステッカーは、支持体１１と、支持体１１上に形成された回折構造形成層１２とを備え、回折構造形成層１２は、支持体１１に接する面とは反対側の面に回折構造部１３を含んでいる。ステッカーにおいて、回折構造部１３の一部には、反射層１４が位置し、反射層１４上には印刷層１５が位置している。回折構造部１３のうち、反射層１４が位置していない部分は、接着層１６によって覆われ、また、反射層１４および印刷層１５が、接着層１６によって覆われている。
【００６１】
また、図６は、回折構造形成体１０が転写箔として具体化された一例を示し、転写箔において、支持体１１と回折構造形成層１２との間に剥離層１７が設けられている。なお、剥離層１７は離型層とも言う。剥離層１７の厚さは、例えば０．１μｍ以上５μｍ以下であり、０．５μｍ以上２μｍ以下であることが好ましい。図６に示すように、転写箔は、支持体１１と回折構造形成層１２との間に剥離層１７が位置する以外は、ステッカーと同様の構造である。
【００６２】
接着層には当分野で公知の材料を用いることができ、被貼付物によっては、感圧タイプや、感熱タイプの接着剤も使用することができる。接着層の厚さは、例えば１μｍ以上２０μｍ以下である。
【００６３】
（ステッカー用支持体）
ステッカー用支持体は、回折構造形成体１０がステッカーとして具体化された場合に、すなわち、回折構造形成体１０が接着層１６を有する場合に、接着層１６が有する接着面を保護する離型紙、または離型フィルムとして使用されるものである。ステッカー用支持体は、ステッカーが被貼付物に貼り付けられるときに、接着層１６から剥離される。
【００６４】
ステッカー用支持体としては、上質紙、コート紙、および、不織布などに離型材料を塗布した離型紙や、塩化ビニル樹脂、ポリエステルテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、および、ポリエチレン樹脂などをフィルム化し、これに離型層を設けた離型フィルムなどを利用することが可能である。
【００６５】
（回折構造形成体の製造方法）
回折構造部１３が有する微細な凹凸形状は、上述したように、回折構造形成層１２に対し、レリーフ版を熱圧着することにより形成することができる。
【００６６】
その後、アルミニウムなどからなる薄膜を真空蒸着法などによって、回折構造部１３の全体に均一に設ける。次に、印刷層１５となるフォトレジスト層を薄膜の表面に均一に塗布して設けることによって、印刷層１５が形成される前の回折構造形成体を得る。
【００６７】
図７Ａから図７Ｄは、マスク版を用いたパターン露光以降の製造工程を概略的に示す図である。図７Ａに示すように、回折構造形成体１０ａのフォトレジスト層１９側に、マスク版３０を介して、照射線すなわち照射光４０の照射を行い、これによりフォトレジスト層１９を露光する。すなわち、フォトレジスト層１９に対してパターニング前の反射層１４とは反対側から、マスク版３０を介してフォトレジスト層１９に照射光４０を照射する。ここで、フォトレジスト層１９に照射される放射線、すなわちフォトレジスト層１９が露光される照射線とは、紫外線などの光や電子線などを意味するものとする。
【００６８】
なお、回折構造形成体１０ａにおいて、支持体１１、回折構造形成層１２、パターニング前の反射層１４、および、フォトレジスト層１９が、記載の順に積み重なっている。
【００６９】
マスク版３０は、放射線透過率Ａである第１領域３０ａ、放射線透過率Ｂである第２領域３０ｂ、放射線透過率Ｃである第３領域３０ｃであって、互いに異なる透過率を有する３種の領域からなるパターンを形成している。すなわち、マスク版３０は、放射線の透過率がＡ％である第１領域３０ａ、放射線の透過率がＢ％である第２領域３０ｂ、および、放射線の透過率がＣ％である第３領域３０ｃから構成される所定のパターンを有している。
【００７０】
なお、マスク版３０の各領域における放射線の透過率は以下のように設定されている。すなわち、フォトレジスト層１９のなかで、第１領域３０ａを介して放射線が照射された領域での現像液に対する耐性が最も低く、第３領域３０ｃを介して放射線が照射された領域での現像液に対する耐性が最も高くなるように、マスク版３０における第１領域３０ａの透過率、および、第３領域３０ｃの透過率が設定されている。加えて、第２領域３０ｂを介して放射線が照射された領域での現像液に対する耐性が、第１領域３０ａと第３領域３０ｃとの間になるように、マスク版３０における第２領域３０ｂの透過率が設定されている。
【００７１】
例えば、第１領域３０ａの透過率は、フォトレジスト層１９のなかで、第１領域３０ａを介して放射線が照射された領域が未硬化の状態であり、これによりフォトレジスト層１９が現像液に曝される時間が第１時間になったときに、この領域がエッチングされる値に設定される。また、第２領域３０ｂの透過率は、フォトレジスト層１９のなかで、第２領域３０ｂを介して放射線が照射された領域の一部が硬化し、これによりフォトレジスト層１９が現像液に曝される時間が第１時間よりも長い第２時間になったときに、この領域がエッチングされる値に設定される。また、第３領域３０ｃの透過率は、フォトレジスト層１９のなかで、第３領域３０ｃを介して放射線が照射された領域が、完全に硬化し、且つ、下層である反射層１４に密着する値に設定される。
【００７２】
より具体的には、フォトレジスト層１９がポジ型のレジストから形成されるときには、透過率Ａが最も高く、透過率Ｃが最も低く、且つ、透過率Ｂが、透過率Ａと透過率Ｃとの間の透過率に設定される。これに対して、フォトレジスト層１９がネガ型のレジストから形成されるときには、透過率Ａが最も低く、透過率Ｃが最も高く、且つ、透過率Ｂが、透過率Ａと透過率Ｃとの間の透過率に設定される。
【００７３】
また、マスク版３０を介してフォトレジスト層１９に照射される放射線には、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプを光源とする紫外線などを用いることができ、放射線をフォトレジスト層１９に照射する際には、放射線が平行光であることが望ましい。
【００７４】
このようにして、マスク版３０を介して、フォトレジスト層１９にパターン露光がなされることにより、フォトレジスト層１９には、露光量Ａの第１領域１９ａ、露光量Ｂの第２領域１９ｂ、および露光量Ｃの第３領域１９ｃが形成される。
【００７５】
なお、フォトレジスト層１９がポジ型のレジストから形成されるときには、露光量Ａが最も大きく、露光量Ｃが最も小さく、且つ、露光量Ｂが、露光量Ａと露光量Ｃとの間の露光量である。これに対して、フォトレジスト層１９がネガ型のレジストから形成されるときには、露光量Ａが最も小さく、露光量Ｃが最も大きく、且つ、露光量Ｂが露光量Ａと露光量Ｃとの間の露光量である。
【００７６】
図７Ｂに示すように、露光済みの回折構造形成体を現像液に投入すると、露光量に応じてフォトレジスト層１９が現像される。例えば、フォトレジスト層１９のなかで、露光量が露光量Ａである第１領域１９ａが、最初に現像によって除去され、アルミニウムなどから形成される反射層１４であって、パターニング前の反射層１４のうち、第１領域１９ａに覆われていた部分が露出する。
【００７７】
これにより、図７Ｃが示すように、パターニング前の反射層１４のうち、フォトレジスト層１９から露出された部分のみがエッチングされることにより、所定のパターンを有した反射層１４が形成される。
【００７８】
その後、図７Ｄに示すように、更にフォトレジスト層１９の現像を進めることにより、フォトレジスト層１９のなかで、露光量が露光量Ｂである第２領域１９ｂが除去され、現像を止めることで露光量Ｃである第３領域１９ｃが残り、これにより印刷層１５が形成される。印刷層１５は複数の印刷要素を含み、各印刷要素は、その印刷要素が位置する反射要素の縁よりも内側に位置している。
【００７９】
なお、各印刷要素の縁と、その印刷要素が位置する反射要素の縁とがほぼ一致していてもよい。言い換えれば、回折構造形成層１２が広がる平面と対向する平面視において、各印刷要素は、その印刷要素が位置する反射要素と相同な形状を有してもよい。この場合には、回折構造形成体１０の製造方法において、図７Ｄを参照して先に説明した工程を割愛することができる。
【００８０】
このように、回折構造形成体１０の製造方法は、回折構造形成層１２が含む回折構造部１３上に反射層１４を形成するための薄膜を形成することと、薄膜を所定の形状にエッチングするためのマスクを薄膜上に形成することとを含む。また、回折構造形成体１０の製造方法は、マスクを用いて薄膜をエッチングすることによって、反射層１４が含む反射要素を薄膜から形成するとともに、反射要素上に位置し、且つ、印刷層１５が含む印刷要素をマスクから形成することと、を含む。
【００８１】
なお、フォトレジスト層１９の第２領域１９ｂがエッチングされる条件によって印刷層１５あるいは反射層１４は以下のような形状を有することがある。すなわち、フォトレジスト層１９において第２領域１９ｂと第３領域１９ｃとが並ぶ方向が配列方向であり、印刷層１５のなかで、反射層１４に接する端部が基端であり、基端とは反対側の端部が先端である。印刷層１５を構成する各印刷要素は、配列方向における各縁に向けて、印刷要素の厚さが次第に小さくなる部分を含むことがある。
【００８２】
また、回折構造部１３と対向する平面視において、各反射要素のなかで印刷要素よりも外側に位置する部分が外側要素である。反射要素において、外側要素の厚さが、反射要素における外側要素以外の部分の厚さよりも小さいことがある。
【００８３】
また、フォトレジスト層１９が露光される条件によってフォトレジスト層１９は以下のような形状を有することがある。フォトレジスト層１９から形成された印刷層１５を構成する各印刷要素は、配列方向における各縁に向けて印刷要素の厚さが次第に小さくなる部分を含むことがある。この印刷要素の厚さが次第に小さくなる部分は、各印刷要素を縁取るように形成される。フォトレジスト層１９から形成された印刷層１５を構成する各印刷要素において、配列方向における各縁に向けて印刷要素の厚さが次第に小さくなる部分には、以下の２つの場合がある。すなわち、フォトレジスト層１９から形成された印刷層１５を構成する各印刷要素は、配列方向における各縁に向けて、且つ、先端から基端に向けて、印刷要素の厚さが次第に小さくなる場合と、印刷層１５を構成する各印刷要素は、配列方向における各縁に向けて、且つ、基端から先端に向けて、印刷要素の厚さが次第に小さくなる場合とがある。どちらの場合となるかは、フォトレジストがポジ型およびネガ型いずれであるか、フォトレジストの特性、また、現像条件、エッチング条件などにより決定される。
【００８４】
フォトレジスト層１９がポジ型のフォトレジストから形成されているときには、印刷層１５を構成する各印刷要素において、配列方向における各縁に向けて、且つ、先端から基端に向けて、印刷要素の厚さが次第に小さくなりやすい。フォトレジスト層１９がネガのフォトレジストから形成されているときには、印刷層１５を構成する各印刷要素において、配列方向における各縁に向けて、且つ、基端から先端に向けて、印刷要素の厚さが次第に小さくなりやすい。
【００８５】
そのため、反射層１４および印刷層１５が上述した形状を含むか否かによって、回折構造形成体１０の備える印刷層１５が、反射層１４を形成するためのエッチングに用いられたフォトレジスト層１９の一部であるか否かを判断することが可能なことがある。
【００８６】
ここで、フォトレジスト層１９が、酸あるいはアルカリによって現像される材料であれば、フォトレジスト層１９の現像工程と反射層１４のエッチング工程とを一つの工程として行うことができ、回折構造形成体１０の生産性を向上させることができる。
【００８７】
（回折構造形成体の検証方法）
回折構造形成体１０は、図１から図３に例示される構成を有し、光学的画像情報部１０１は、パターン形成された反射層１４と回折構造部１３を含む回折構造形成層１２とによって構成されている。
【００８８】
ここで、印刷層１５の透過濃度が０．５以上２．０未満であり、且つ、反射層１４の透過濃度が１．０以上であり、さらに、これらを支持する支持体１１の透過濃度が０．８以上２．０以下とであることにより、以下の効果を得ることができる。なお、印刷層１５の透過濃度、反射層１４の透過濃度、および、回折構造形成層１２と支持体１１との積層体の透過濃度は、以下の関係を有している。すなわち、印刷層１５、反射層１４、および、回折構造形成層１２と支持体１１との積層体の間において、印刷層１５の透過濃度が最も高く、回折構造形成層１２と支持体１１との積層体の透過濃度が最も低く、且つ、反射層１４の透過濃度が、これらの透過濃度の間の値である。
【００８９】
図１に示されるように、回折構造形成層１２側からの順光すなわち反射光による観察では、光学的画像情報部１０１が表示する光学的画像情報のみが観察される。なお、図１には、第１観察方向から観察したときに、回折構造形成体１０にて反射された光によって形成される像が示されている。このとき、反射層１４にて反射された光によって形成された像が視認されるため、反射層１４に対して観察側とは反対側に位置する印刷層１５が形成する像は視認されない。
【００９０】
これに対し、図２に示されるように、印刷層１５側から観察することにより、反射層１４のパターンとの位置合わせの精度が高い状態で形成された印刷層１５のパターンが観察される。なお、図２には、第２観察方向から観察したときに、回折構造形成体１０にて反射された光によって形成される像が示されている。そのため、印刷層１５にて反射された光、および、反射層１４にて反射された光によって形成される像が視認される。それゆえに、反射層１４が形成する像と、反射層１４の内側に位置する印刷層１５が形成する像とが視認される。
【００９１】
更に、回折構造形成体１０を逆光すなわち透過光によって観察すると、図４に示されるように、反射層１４のパターンと位置合わせの精度が高い状態で形成された印刷層１５のパターンにより、濃淡のコントラストからなる透かし画像２０を観察することができる。言い換えれば、図４には、第１観察方向から回折構造形成体１０を観察し、且つ、回折構造形成体１０に入射した光であって、少なくとも回折構造形成層１２および支持体１１を透過した光を観察したときに、回折構造形成体１０が表示する像が示されている。
【００９２】
上述したように、回折構造形成体１０において、印刷層１５の透過濃度が最も高く、回折構造形成層１２と支持体１１との積層体の透過濃度が最も低く、且つ、反射層１４の透過濃度は、印刷層１５の透過濃度と、回折構造形成層１２と支持体１１との積層体の透過濃度との間の値である。そのため、第１観察方向から回折構造形成体１０を透過した光を観察したときには、観察される光において、印刷層１５を透過した光の光量が最も小さく、回折構造形成層１２と支持体１１とを透過した光の光量が最も大きい。また、第１観察方向から回折構造形成体１０を透過した光を観察したときには、反射層１４を透過した光の光量が、印刷層１５を透過した光の光量と、回折構造形成層１２と支持体１１とを透過した光の光量との間の大きさである。
【００９３】
それゆえに、第１観察方向から回折構造形成体１０を透過した光を観察したときには、反射層１４によって形成される像に対して、印刷層１５によって形成される像が重なるように視認される。
【００９４】
図８から図１０は、別の回折構造形成体１０の一例を示す平面図である。図８に示された回折構造形成層１２側から観察される光学的画像情報部１０１に対して、図９に示されるように反射層１４と同形であり、且つ反射層１４よりも少し縮小された印刷層１５が形成されている。言い換えれば、印刷層１５は、複数の印刷要素を含み、回折構造形成層１２が広がる平面と対向する平面視において、各印刷要素は、その印刷要素が位置する反射要素よりも小さく、且つ、その印刷要素と相似な形状を有している。なお、複数の印刷要素のうち、一部の印刷要素のみが、その印刷要素が位置する反射要素と相似な形状を有してもよい。
【００９５】
従来、既に形成されている反射層のパターンに合わせて印刷層を形成する場合には、印刷層を形成するための印刷工程において、既に形成されている反射層のパターンとの位置合わせをしながら印刷をする必要があった。そのため、実際には、反射層の位置と印刷層の位置との間に微妙な位置のずれが生じてしまう。
【００９６】
従って、図９に示すように、僅かに輪郭部を残して反射層１４のパターンと正確に位置合わせをしながら、印刷層１５を形成することは困難であった。言い換えれば、従来の方法では、反射層１４の位置に対する印刷層１５の位置を正確に合わせながら、反射層１４の縁よりも僅かに内側に位置する印刷層１５を反射層１４上に形成することは困難であった。これに対し、上述した回折構造形成体１０の製造方法を用いることにより、反射層１４と印刷層１５との位置合わせの精度を高めることができ、反射層１４の位置と印刷層１５の位置との間のずれを抑えることが可能となる。
【００９７】
これにより、図１０に示されるように、回折構造形成体１０を逆光すなわち透過光で観察すると、均一な輪郭を残して二重の濃淡画像としてパターンを認識することが可能となる。より詳しくは、回折構造形成層１２に対して支持体１１とは反対側から回折構造形成体１０に入射した光であって、少なくとも回折構造形成層１２と支持体１１とを透過した光を、上述した第２観察方向から観察する。これにより、反射要素を透過した光によって形成される像の内側に、印刷要素を透過した光によって形成される像である透かし画像２０が位置する像が視認される。
【００９８】
なお、回折構造形成層１２が広がる平面と対向する平面視において、各印刷要素の中心が、その印刷要素が位置する反射要素の中心とほぼ一致するように、反射要素上に印刷要素が位置している。そのため、第１観察方向から回折構造形成体１０を透過した光が視認されたときには、反射要素によって形成される像のなかで、その反射要素上に位置する印刷要素によって形成される像よりも外側に位置する部分は、ほぼ等しい幅を有する。
【００９９】
また、露光時のマスク版は、透過率が互いに異なる３種の部分を備えているが、透過率が互いに異なる４種以上の領域を備える構成でもよい。このように、透過率が互いに異なる４種以上の領域で構成されたパターンを用いてフォトレジスト層１９の露光を行うことで、透過光によって回折構造形成体１０を観察したときに、印刷層１５のなかにおいて濃淡を表現することも可能となる。これにより、逆光すなわち透過光による観察時に観察者が確認することのできる透かし画像をより表現豊かなものとすること、言い換えれば、透かし画像の意匠性を高めることができる。
【実施例】
【０１００】
以下、実施例およびその効果について説明するが、実施例は本発明の適用範囲を限定するものではない。【０１０１】
（実施例１）
ステッカーの支持体として、厚さが５０μｍであるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用した。この支持体の片面に、下記インキ組成物をグラビア印刷法にて塗布した後、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が１．５μｍである回折構造形成層１２を形成した。【０１０２】
（回折構造形成層インキ組成物）
ウレタン系樹脂                  １５．０重量部
トルエン                        ４２．５重量部
メチルエチルケトン              ４２．５重量部【０１０３】
次に、回折光パターンを発現するためのレリーフ版に熱圧を加えながら回折構造形成層１２に押し当て、回折構造形成層１２上に所望の回折構造部１３を形成した。【０１０４】
次に、回折構造部１３を有する回折構造形成層１２上に、真空蒸着法にてアルミニウムを積層し、膜厚が４０ｎｍである反射層１４を形成するための薄膜、すなわちパターニング前の反射層１４を形成した。【０１０５】
次に、パターニング前の反射層１４上に、下記インキ組成物を、グラビア印刷法にて塗布した後、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が１０μｍであるフォトレジスト層１９を形成した。なお、フォトレジストとして、ネガ型のフォトレジストを用いた。【０１０６】
（フォトレジスト層インキ組成物）
紫外線硬化型フォトレジスト      ２０．０重量部
疎水性無機フィラー                ５．０重量部
メチルエチルケトン              ７５．０重量部【０１０７】
次に、光線透過率が９８％以上である第３領域、光線透過率が２０％である第２領域、光線透過率が０％である第１領域であって、透過率が互いに異なる３種類の領域によって文字や絵柄パターンが構成された露光用のマスク版を用意した。なお、第１領域は不透明であり、第２領域は半透明であり、第３領域は透明であった。フォトレジスト層１９上にこのマスク版を重ね合わせ、超高圧水銀ランプを光源とし、更に平行光化した紫外線を、マスク版越しにフォトレジスト層１９に照射して、フォトレジスト層１９の露光を行なった。【０１０８】
次に、露光済みのフォトレジスト層１９を含むフィルム、すなわち、支持体１１、回折構造形成層１２、反射層１４、および、フォトレジスト層１９から構成される積層体を１％の水酸化ナトリウム水溶液である現像液に浸漬した。【０１０９】
積層体を現像液に浸漬したところ、フォトレジスト層１９のなかで、フォトレジスト層１９が露光されるときに、マスク版において光線透過率が０％である領域、すなわち第１領域と対向する未露光部分である第１領域１９ａが最初に溶解し、これにより、第１領域１９ａの直下に位置する反射層１４が露出した。更に、積層体を現像液に浸漬した状態を維持すると、反射層１４のなかで、フォトレジスト層１９から露出した部分がエッチングされて溶解した。更に、積層体を現像液に浸漬した状態を維持すると、フォトレジスト層１９のなかで、フォトレジスト層１９が露光されるときに、マスク版において光線透過率が２０％である領域、すなわち第２領域と対向する第２領域１９ｂが溶解し、最後に、フォトレジスト層１９のなかで、フォトレジスト層１９が露光されるときに、マスク版において光線透過率が９８％以上である領域、すなわち第３領域と対向する第３領域１９ｃが印刷層１５として反射層１４上に残った。これにより、所定の形状にパターニングされた反射層１４と印刷層１５とを形成した。【０１１０】
次に、回折構造形成層１２、反射層１４、および、印刷層１５の全面を覆うように、下記インキ組成物をグラビア印刷にて塗布した後、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が５μｍである接着層１６言い換えれば粘着層を積層した。次いで、厚さが約１００μｍであるクラフト紙の片面にポリエチレン層をラミネートし、ポリエチレン層の上にシリコン処理を施してセパレータを形成した。このセパレータを接着層１６に仮粘着させることによって、ステッカーを得た。【０１１１】
（接着層用インキ組成物）
アクリル粘着剤                  ３０．０重量部
酢酸エチル                      ５０．０重量部
トルエン                        ２０．０重量部【０１１２】
こうして得られた回折構造形成体１０としてのステッカーでは、順光環境下では反射層１４が位置する部分に光が入射すると回折光が発生し、反射層１４が有するパターン形状に対応した回折構造による文字や画像が観察されることが認められた。更に逆光環境下では、反射層１４の下層に位置する印刷層１５が文字や絵柄のパターン状に形成されることで、黒い透かし画像として観察されることが認められた。【０１１３】
また、逆光環境下では、反射層１４と印刷層１５との位置合わせの精度が高いために、文字パターンの印刷層１５に同じ形状を有した反射層１４が輪郭として観察されること認められた。言い換えれば、反射層１４によるマイクロ文字の内側に、反射層１４が表示するマイクロ文字よりも微細なマイクロ文字や絵柄を観察することが可能であることが認められた。【０１１４】
なお、順光環境下とは、第１観察方向から回折構造形成体１０が反射した光を観察している状態であり、これに対して、逆光環境下とは、第１観察方向から回折構造形成体１０を透過した光を観察している状態である。【０１１５】
（実施例２）
支持体１１として、厚さが２５μｍであるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用した。この支持体１１の片面に、下記インキ組成物をグラビア印刷法にて塗布した後、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が０．５μｍである剥離層１７を形成した。【０１１６】
（剥離層インキ組成物）
ポリアミドイミド樹脂            １９．０重量部
ポリエチレンパウダー              １．０重量部
ジメチルアセトアミド            ３０．０重量部
トルエン                        ５０．０重量部【０１１７】
次に、剥離層１７上に下記インキ組成物をグラビア印刷法にて塗布した後、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が１．５μｍである回折構造形成層１２を積層した。その後、回折光パターンを発現するためのレリーフ版に熱圧を加えながら回折構造形成層１２に押し当てるエンボス加工を行うことによって、回折構造形成層１２上に所望の回折構造部１３を形成した。【０１１８】
（回折構造形成層インキ組成物）
ウレタン系樹脂                  １５．０重量部
トルエン                        ４２．５重量部
メチルエチルケトン              ４２．５重量部【０１１９】
次に、回折構造部１３を有する回折構造形成層１２上に、真空蒸着法にてアルミニウムを積層し、膜厚が４０ｎｍである反射層１４を形成した。【０１２０】
次に、反射層１４上に、下記インキ組成物を、グラビア印刷法にて塗布した後に、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が１０μｍであるフォトレジスト層１９を形成した。【０１２１】
（フォトレジスト層インキ組成物）
紫外線硬化型フォトレジスト      ２０．０重量部
疎水性無機フィラー                ５．０重量部
メチルエチルケトン              ７５．０重量部【０１２２】
次に、光線透過率が９８％以上である第３領域、光線透過率が２０％である第２領域、光線透過率が０％である第１領域であって、透過率が互いに異なる３種類の領域によって文字や絵柄のパターンが構成されたマスク版を用意した。なお、第１領域は不透明であり、第２領域は半透明であり、第３領域は透明であった。フォトレジスト層１９上にこのマスク版を重ね合わせ、超高圧水銀ランプを光源とし、更に平行光化した紫外線を、マスク版越しにフォトレジスト層１９に照射して、フォトレジスト層１９の露光を行なった。【０１２３】
次に、露光済みのフォトレジスト層１９を含むフィルム、すなわち、支持体１１、剥離層１７、回折構造形成層１２、反射層１４、および、フォトレジスト層１９から構成される積層体を１％の水酸化ナトリウム水溶液である現像液に浸漬した。【０１２４】
積層体を浸漬したところ、フォトレジスト層１９のなかで、フォトレジスト層１９が露光されるときに、マスク版において光線透過率が０％である領域、すなわち第１領域と対向する未露光部分である第１領域１９ａが最初に溶解し、これにより、第１領域１９ａの直下に位置する反射層が露出した。更に、積層体を現像液に浸漬した状態を維持すると、反射層１４のなかで、フォトレジスト層１９から露出した部分がエッチングされて溶解した。更に、積層体を浸漬した状態を維持すると、フォトレジスト層１９のなかで、フォトレジスト層１９が露光されるときに、マスク版において光線透過率が２０％である領域、すなわち第２領域と対向する第２領域１９ｂが溶解し、最後に、フォトレジスト層１９のなかで、フォトレジスト層１９が露光されるときに、マスク版において光線透過率が９８％以上である領域、すなわち第３領域と対向する第３領域１９ｃが印刷層１５として反射層１４上に残った。これにより、所定の形状にパターニングされた反射層１４と印刷層１５とを形成した。【０１２５】
次に、回折構造形成層１２、反射層１４、および、印刷層１５の全面を覆うように、下記インキ組成物をグラビア印刷法にて塗布した後に、塗膜を乾燥させることによって、膜厚が３μｍである接着層１６を積層した。これにより、回折構造形成体１０としての転写箔を得た。【０１２６】
（接着層用インキ組成物）
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂  １５．０重量部
アクリル樹脂                    １０．０重量部
シリカ                            １．０重量部
メチルエチルケトン              ４４．０重量部
トルエン                        ３０．０重量部【０１２７】
次に、厚さが５０μｍである透明なＰＥＴフィルムを、転写箔の被転写基材として準備した。そして、被転写基材上に転写箔を重ねて置き、熱ロール転写機で転写箔の一部を転写してから支持体１１を剥離することによって、接着層１６、印刷層１５、反射層１４、回折構造形成層１２、および、剥離層１７から構成される積層体から支持体１１を除去した。【０１２８】
これにより、図１１に示すように、回折構造形成体１０を有する偽造防止媒体である物品５０を得た。実施例２では、物品５０をギフトカードに具体化した。【０１２９】
こうして得られた回折構造形成体付き物品５０は、順光環境下では剥離層１７側から反射層１４が位置する部分に光が入射すると回折光が発生し、これにより、剥離層１７側から観察すると、反射層１４が有するパターン形状に対応した回折構造による文字や画像が観察されることが認められた。【０１３０】
図１２に示すように、逆光環境下では、反射層１４の下層に位置する印刷層１５が文字や絵柄のパターン状に形成されることで、黒い透かし画像として観察されることが認められた。また、逆光環境下では、反射層１４と印刷層１５との位置合わせの精度が高いために、文字パターンの印刷層１５に同じ形状を有した反射層１４が輪郭として観察されることが認められた。言い換えれば、反射層１４によるマイクロ文字の内側に、反射層１４が表現するマイクロ文字よりも微細なマイクロ文字や絵柄を観察することが可能であることが認められた。【０１３１】
一方、接着層１６側から透明な被転写基材越しに物品５０を観察すると、反射層１４と印刷層１５とが位置合わせされた状態で観察され、また、印刷層１５が着色されている場合には、剥離層１７側からは確認することができない印刷層１５の色彩も視認されることが認められた。【０１３２】
このように、回折構造形成体１０は、ステッカーや転写箔などの偽造防止媒体として具体化され、これにより、各種の物品に回折構造形成体１０が付されることによって、偽造や改竄が困難な物品５０を提供することができる。
【符号の説明】
【０１３３】
１０  …  回折構造形成体
１０ａ…  フォトレジストのパターン形成前回折構造形成体
１１  …  支持体
１２  …  回折構造形成層
１３  …  回折構造形成部
１４  …  反射層
１５  …  印刷層
１６  …  接着層
１７  …  剥離層
１９  …  フォトレジスト層
１９ａ…  第１領域
１９ｂ…  第２領域
１９ｃ…  第３領域
１０１…  光学的画像情報部
２０  …  透かし画像
３０  …  マスク版
３０ａ…  第１領域
３０ｂ…  第２領域
３０ｃ…  第３領域
４０  …  照射光
５０  …  物品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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