【手続補正書】
【提出日】平成18年10月19日(2006.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ビームスプリッタアセンブリに当たる入射光線束（Ｓ）を少なくとも１つの第１射出光線束（ＳＡ１，ＳＡ２；ＳＢ１；ＳＢ２）と、第１射出光線束に平行な少なくとも１つの第２光線束とに分割し、その際ビームスプリッタセンブリは、少なくとも１つのビームスプリッタ要素（１；２１；３１；４１；７１；８１）と、少なくとも１つの補償要素（２；２２；３２Ａ；３２Ｂ；４２Ａ；４２Ｂ；７２；８２）とから成り、ビームスプリッタ要素（（１；２１；３１；４１；７１；８１）は透明板から成り、透明板は２つの平行な境界表面（１．１，１．２，２１．１，２１．２，３１．１，３１．２）を有し、１方の境界表面（１．２；２１．１；３１．１，３１．２）は、少なくとも部分的にビームスプリッタ表面（１．３，２１．３，３１．３，３１．５，３１．６，４１．３，４１．４，４１．５；７１．２；８１．２）として作用し、更に第１境界表面（１．２，２１．１，３１．１，３１．２）に対して平行な他方の境界表面（１．１；２１．２，３１．１，３１．２）は、少なくともサブ領域において、少なくとも部分反射する反射鏡表面（１．４，２１．４，３１．３，３１．５，３１．６、４１．１，４１．２，７１．１、８１．１）として作用し、補償要素（２；２２；３２Ａ；３２Ｂ；４２Ａ；４２Ｂ；７２；８２）は、少なくとも２つの射出光線束（ＳＡ１，ＳＡ２；ＳＢ１，ＳＢ２）が互いに平行に走行するように、ビームスプリッタ要素（１；２１；３１；４１；７１；８１）に対して配置されている、ビームスプリッタアセンブリにおいて
補償要素（２；２２；３２Ａ；３２Ｂ；４２Ａ；４２Ｂ；７２；８２）は、その上、射出光線束（ＳＡ１，ＳＡ２；ＳＢ１，ＳＢ２）が本質的にビームスプリッタ要素（１；２１；３１；４１；７１；８１）と補償要素（ＳＡ１，ＳＡ２；ＳＢ１，ＳＢ２；４２Ａ，４２Ｂ；７２；８２）とにおいて等しい光路長を経るように寸法設定されていることを特徴とする前記ビームスプリッタアセンブリ。
【請求項２】  ビームスプリッタ表面（１．３；２１．３；３１．３；３１．５；３１．６；４１．３：４１．４；４１．５；７１．２；８１．２）は、ビームスプリッタ表面に当たる入射光線束（Ｓ）を、互いに直角方向に偏光された２つの平行な部分光線束（ＳＴ；ＳＴＲ、ＳＴＴ，ＳＴＲＲ）に分離することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項３】  ビームスプリッタ表面（１．３；２１．３；３１．３；３１．５；３１．６；４１．３：４１．４；４１．５；７１．２；８１．２）は、ビームスプリッタ表面に当たる入射光線束（Ｓ）を、同方向に偏光された２つの部分光線束（ＳＲ，ＳＴ；ＳＴＲ，ＳＴＴ，ＳＴＲＲ）に分離することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項４】  反射鏡面（１．４；２１．４；３１．３；３１．５；３１．６；４１．１；４１．２；７１．１，８１．１）は、１つの高反射誘電層として構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項５】  補償要素（２；２２；３２Ａ；３２Ｂ；４２Ａ；４２Ｂ；７２；８２）がビームスプリッタ要素（１；２１；３１；４１；７１；８１）から一定距離に配設されていることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項６】  補償要素（２；２２；３２Ａ；３２Ｂ；４２Ａ；４２Ｂ；７２；８２）もまた、平面平行板の形に構成されており、補償要素の平行な境界表面（２．１，２．２；２２．１；２２．２；３２．Ａ１，３２．Ａ２，３２．Ｂ１，３２．Ｂ２）を通って、光線束が入射し射出することを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタ。
【請求項７】  ビームスプリッタ要素（２１）と補償要素（２２）は、入射光線束（Ｓ）がビームスプリッタ要素（１）に、第１境界表面（１．１）に垂直（Ｌ）に対して特定の入射角（ａ）で入射しかつその後に第２境界表面（１．２）上でビームスプリッタ表面（１．３）に当たるように、構成されかつ入射光線束（Ｓ）に対して配置されており、
ビームスプリッタ表面から、第１の部分光線束（ＳＲ）は、第１境界表面（１．１）の方向で、反射鏡面（１．４）に反射して戻され、第２境界表面は透明領域で第１の部分光束を通過させ、かつ光線束は第１射出光線束（ＳＡ１）としてそのビームスプリッタアセンブリを離れ、
第２部分光線束（ＳＴ）は、そのビームスプリッタ表面（１．３）を透過し、補償要素（２）の第１境界表面（２．１）に当たり、これを経て、第２境界表面（２．２）で、第２射出光線束（ＳＡ２）としてその補償要素を離れることを特徴とする請求項１に記載のビームスプリッタアセンブリ．
【請求項８】  入射角（ａ）がブリュスターの角に相応することを特徴とする, 請求項７に記載のビームスプリッタ。
【請求項９】  補償要素（２）の厚さ（Ｄ2 ）が、ビームスプリッタ要素（１）の厚さ（Ｄ1 ）の二倍であることを特徴とする、請求項７に記載のビームスプリッタ。
【請求項１０】  ビームスプリッタ要素（２１）と補償要素（２２）は、入射光線束（Ｓ）が垂直に対して特定された入射角でビームスプリッタ要素（２１）の第１境界面（２１．１）に当たり、この領域でビームスプリッタ表面（２１．３）として作用するように、構成されかつ入射光線束（Ｓ）に対して配置されており、
その第１部分光線束（ＳＴ）は、そのビームスプリッタ表面（２１．３）を透過し、かつビームスプリッタ要素（２１）の向かい合う第２の境界表面（２１．２）に当たり、その第２境界表面はこの領域で反射鏡面（２１．４）として作用しかつそこから順次ビームスプリッタ要素（２１）の第１境界表面（２１．１）の方向に反射され、第１境界表面は透明領域で光線束を通過させかつその光線束は第１射出光線束（ＳＡ１）としてそのビームスプリッタアセンブリを離れ、
第２部分光線束（ＳＲ）は、そのビームスプリッタ表面（２１．３）によって補償要素（２２）の方向に反射され、かつ光線束は補償要素（２２）の第１境界表面（２２．１）に当たり、これを経て、第２境界表面（２２．２）で第２射出光線束（ＳＡ２）として補償要素を離れることを特徴とする前記ビームスプリッタアセンブリ。
【請求項１１】  ビームスプリッタ要素（３１）と、２つの補償要素（３２Ａ，３２Ｂ）は、入射光線束（Ｓ）が垂直に対する特定された入射角でビームスプリッタ要素（３１）の第１境界表面に当たり、この領域が第１ビームスプリッタ表面（３１．３）として作用するように、構成されかつ入射光線束（Ｓ）に対して配置されており、そこから、
第１部分光線束（ＳＲ）は、第１補償要素（３２．２Ｂ）の方向に第１ビームスプリッタ表面（３１．３）によって反射され、かつ第１補償要素（３２Ｂ）の第１境界表面（３２．Ｂ１）に当たり、これを経て、第２境界表面（３２．Ｂ２）で第１射出光線束（ＳＢ１）として第１補償要素を離れ、
第２部分光線束（ＳＴ）は、第１ビームスプリッタ要素（３１．３）を透過し、ビームスプリッタ要素（３１）を経て第２境界表面（３１．２）の方向に向かい、そこで第３ビームスプリッタ表面（３１．５）として作用するサブ領域に達し、
第３の光線束（ＳＴＲ）が、第１境界表面（３１．１）の方向に反射して戻され、そこで第３のビームスプリッタ表面（３１．６）として作用するサブ領域に当たり、
第５の部分光線束が、第３のビームスプリッタ表面（３１．６）を通り、かつ第２の射出光線束（ＳＢ２）としてビームスプリッタアセンブリを離れ、第２射出光線束は第１射出光線束（ＳＢ１）に対して平行に向けられ、
第２ビームスプリッタ表面（３１．５）上に達した第４部分光線束（ＳＴＴ）は、第２補償要素（３２．Ａ）の第１境界表面（３２．Ａ１）に当たり、これを経て、第２境界表面（３２．Ａ２）で、第３射出光線束（ＳＡ．２）として第２補償要素（３２．Ａ）を離れ、
第３ビームスプリッタ表面（３１．６）上で反射された第６部分光線束（ＳＴＴ）は、ビームスプリッタ要素（３１）の第２境界表面（３１．２）の方向に反射され、第２境界表面を透過して第３射出光線束（ＳＡ２）に平行に向けられた第４射出光線束（ＳＡ１）としてビームスプリッタアセンブリを離れることを特徴とする、請求項１に記載のビームスプリッタアセンブリ。