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【手続補正書】
【提出日】平成18年2月9日(2006.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤をノズルを通じて半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記気化された上記有機溶剤を、垂直方向から上記半導体基板の側に向かって２０°から５０°の角度で、上記半導体基板に吹き付けるようにした
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項２】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤をノズルを通じて半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記ノズルのノズル穴を、上記ノズルの断面の中心と上記ノズル穴の中心とを結ぶ直線が、上記ノズルの断面の中心と上記半導体基板の中心とを結んだ直線と、上記ノズルの断面の中心から上記半導体基板に引いた接線との間にあるように設ける
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項３】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記気化された上記有機溶剤の初期吐出量を０．８ｃｃ／秒以上１．５ｃｃ／秒以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項４】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記乾燥における上記有機溶剤の使用量を７０ｃｃ／バッチ以上２００ｃｃ／バッチ以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項５】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記気化された上記有機溶剤の初期吐出量を０．６ｃｃ／秒以上１．５ｃｃ／秒以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項６】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記乾燥における上記有機溶剤の使用量を５０ｃｃ／バッチ以上１５０ｃｃ／バッチ以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項７】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を、ノズルを通じて半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥装置において、
上記ノズルが３本以上設けられている
ことを特徴とする半導体基板の乾燥装置。
【請求項８】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤をノズルを通じて半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記気化された上記有機溶剤を、垂直方向から上記半導体基板の側に向かって２０°から５０°の角度で、上記半導体基板に吹き付けるようにした
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【請求項９】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤をノズルを通じて半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記ノズルの断面の中心と上記ノズルのノズル穴の中心とを結ぶ直線が、上記ノズルの断面の中心と上記半導体基板の中心とを結んだ直線と、上記ノズルの断面の中心から上記半導体基板に引いた接線との間にあるようにする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【請求項１０】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記気化された上記有機溶剤の初期吐出量を０．８ｃｃ／秒以上１．５ｃｃ／秒以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【請求項１１】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記乾燥における上記有機溶剤の使用量を７０ｃｃ／バッチ以上２００ｃｃ／バッチ以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【請求項１２】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記気化された上記有機溶剤の初期吐出量を０．６ｃｃ／秒以上１．５ｃｃ／秒以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【請求項１３】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤を半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記乾燥における上記有機溶剤の使用量を５０ｃｃ／バッチ以上１５０ｃｃ／バッチ以下とする
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【請求項１４】  有機溶剤を気化し、上記気化された上記有機溶剤をノズルを通じて半導体基板に吹き付けることにより上記半導体基板を乾燥させるようにした半導体基板の乾燥方法において、
上記ノズルを３本以上設け、これらのノズルを通じて上記気化された上記有機溶剤を上記半導体基板に吹き付けるようにした
ことを特徴とする半導体基板の乾燥方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  零でない整数のアルファベットに属する記号を用いた、４の倍数ではない固定長の系列の集合であって、そのうち少なくとも３つは対ごとに直交しており、互いに直交しない対の系列はいずれも逆位相系列から構成されている系列の集合から、送信すべきデータに対応する送信系列を選択する選択工程と、
送信チャネルを介して前記送信系列を送出する送出工程とを備えたことを特徴とする送信方法。
【請求項２】  前記集合は、前記系列の長さに等しい数の対ごとに直交する複数の系列を含むことを特徴とする請求項１記載の送信方法。
【請求項３】  前記アルファベットの隣接する記号の値の差が複数種あることを特徴とする請求項１又は２記載の送信方法。
【請求項４】  前記アルファベットは２つの部分アルファベットを有し、この２つの部分アルファベットはそれぞれ隣接する記号の値の差が等しいことを特徴とする請求項３記載の送信方法。
【請求項５】  前記アルファベットは、絶対値が予め定められた値より小さく、零でない全ての整数を含むことを特徴とする請求項４記載の送信方法。
【請求項６】  前記直交する系列により形成される行列は、複数の循環正方部分行列に分解できることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の送信方法。
【請求項７】  前記送出工程において、前記系列は線形結合として送出されることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の送信方法。
【請求項８】  送信チャネルを介して、４の倍数でない固定長の受信系列を受信する受信工程と、
前記受信系列が、零でない整数のアルファベットに属する記号を用いた、前記固定長の系列の集合であって、そのうち少なくとも３つは対ごとに直交しており、互いに直交しない対の系列はいずれも逆位相系列から構成されている系列の集合に属する系列のいずれであるかを推定する推定工程とを備えたことを特徴とする受信方法。
【請求項９】  前記推定工程において、前記受信系列と、前記系列の集合の中で、対ごとに直交する系列の最大の組の記号の系列の各々とのスカラー積の計算を実行することを特徴とする請求項８記載の受信方法。
【請求項１０】  前記集合は、前記系列の長さに等しい数の、対ごとに直交する複数の系列を含むことを特徴とする請求項８又は９記載の受信方法。
【請求項１１】  アルファベットの隣接する記号の値の差が複数種あることを特徴とする請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載の受信方法。
【請求項１２】  前記アルファベットは２つの部分アルファベットを有し、この２つの部分アルファベットはそれぞれ隣接する記号の値の差が等しいことを特徴とする請求項１１記載の受信方法。
【請求項１３】  前記アルファベットは、絶対値が予め定められた値より小さく、零でない全ての整数を含むことを特徴とする請求項１２記載の受信方法。
【請求項１４】  前記直交する系列により形成される行列は、複数の循環正方部分行列に分解できることを特徴とする請求項８乃至請求項１３のいずれかに記載の受信方法。
【請求項１５】  零でない整数のアルファベットに属する記号を用いた、４の倍数ではない固定長の系列の集合であって、そのうち少なくとも３つは対ごとに直交しており、互いに直交しない対の系列はいずれも逆位相系列から構成されている系列の集合から、送信すべきデータに対応する送信系列を選択する選択手段と、
送信チャネルを介して前記送信系列を送信する送信手段とを有することを特徴とする送信装置。
【請求項１６】  送信チャネルを介して、４の倍数でない固定長の受信系列を受信する受信手段と、
前記受信系列が、零でない整数のアルファベットに属する記号を用いた、前記固定長の系列の集合であって、そのうち少なくとも３つは対ごとに直交しており、互いに直交しない対の系列はいずれも逆位相系列から構成されている系列の集合に属する系列のいずれであるかを推定する推定手段とを備えたことを特徴とする受信装置。
【請求項１７】  コンピュータにより読み取り可能な記憶媒体であって、請求項１乃至１４のいずれかに記載の方法をコンピュータに実行させるためのプログラムが格納された記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月18日(2006.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  プリント回路基板を保持する装置において、
可撓性シェル構造、
前記プリント回路基板の少なくとも一部を受入れ保持することができる凹部を形成するように、前記シェル構造に結合した可撓性フランジ、を備え、前記可撓性フランジは、前記プリント回路基板を受入れるため曲げることができ、前記プリント回路基板を受入れた後、ほぼ曲げる前の形状に戻ることができ、
前記可撓性フランジに係合できる取付けブラケットを備え、前記可撓性フランジは、前記シェル構造を前記取付けブラケット内に挿入できるように曲げることが出来、ほぼ前記取付けブラケット内に挿入される前の形状に戻ることができることを特徴とする装置。
【請求項２】  プリント回路基板を保持する装置において、
プリント回路基板を受入れる開口と、前記開口の少なくとも一部の周りに配置された内側スロットとを有する可撓性シェル構造を備え、前記内側スロットは、前記プリント回路基板の少なくとも一部を前記シェル構造内に受入れ保持することができ、前記シェル構造は、前記内側スロット内に前記プリント回路基板を受入れるため、前記開口を大きくするように曲げることができ、前記プリント回路基板を受入れた後、ほぼ曲げる前の形状に戻ることができ、前記シェル構造は、可撓性フランジを有し、
前記可撓性フランジに係合できる取付けブラケットを備え、前記可撓性フランジは、前記シェル構造を前記取付けブラケット内に挿入できるように曲げることが出来、ほぼ前記取付けブラケット内に挿入される前の形状に戻ることができることを特徴とする装置。
【請求項３】  請求項１又は２に記載した装置であって、前記可撓性シェル構造と前記可撓性フランジのうち少なくとも一方は、前記プリント回路基板の縁部の少なくとも一部の周りにぴったり合う大きさである装置。
【請求項４】  請求項１乃至３の何れか１項に記載した装置であって、前記可撓性シェル構造は、前記プリント回路基板をほぼ電気的に絶縁する誘電性材料で出来ている装置。
【請求項５】  請求項１乃至４の何れか１項に記載した装置であって、前記可撓性シェル構造と前記可撓性フランジのうち少なくとも一方は、衝撃を吸収する材料で出来ている装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月13日(2006.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】複数のアドレス指定可能な画素を有するディスプレイであって、
第一導電層を備える基板であって、該第一導電層が、絶縁材料によって分離されたエッジを有する複数の平行な行電極からなる、基板と、
前記平行な行電極の上に載る第一ポリマー層と、
前記第一ポリマー層の上に載る絶縁層であって、該絶縁層が、前記ディスプレイ用の画素を画定する窓を有し、前記平行な行電極の前記エッジの上に載り、前記窓が、前記第一ポリマー層へのアクセスを与える、絶縁層と、
複数の分離された列電極を含む第二導電層であって、該複数の分離された列電極のそれぞれが、前記複数の行電極を横切り、前記絶縁層の前記窓上に前記画素を画定する点で配置される、第二導電層とを含む、ディスプレイ。
【請求項２】前記絶縁層と前記第二導電層との間に配置される第二ポリマー層をさらに含む、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項３】前記絶縁層がフォトレジストの層を含む、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項４】前記第一ポリマー層が正孔搬送材料を含む、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項５】前記第一ポリマー層が、ポリフルオレンとPPVからなる群から選択される電界発光材料を含む、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項６】前記第一ポリマー層が電子搬送材料を含む、請求項１に記載のディスプレイ。
【請求項７】複数のアドレス指定可能な画素からなる画素化ディスプレイを構成するための方法であって、
基板上に付着された導電層を、絶縁材料によって分離されたエッジを備えている複数の平行な行電極にパターン化するステップと、
前記平行な行電極の上に載る第一ポリマー層を付着させるステップと、
前記ポリマー層の上に載る絶縁層を付着させるステップであって、該絶縁層が、前記ディスプレイ用の画素を画定する窓を当該絶縁層内に備え、前記行電極の前記エッジの上に載り、前記窓が、前記第一ポリマー層へのアクセスを与える、ステップと、
複数の分離された列電極を含む第二導電層を付着させるステップであって、該複数の分離された列電極のそれぞれが、前記複数の行電極を横切り、前記絶縁層の前記窓上に前記画素を画定する点で配置される、ステップとを含む、方法。
【請求項８】前記絶縁層を付着した後、前記絶縁層と前記第二導電層との間に配置される第二ポリマー層を付着するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】前記絶縁層がフォトレジストの層を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】前記フォトレジストを架橋するのに十分な温度まで前記フォトレジストの層を焼付けるステップをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】前記第一ポリマー層が正孔搬送材料を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】前記第一ポリマー層が、ポリフルオレンを含む電界発光材料からなる、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】複数のアドレス指定可能な画素からなる画素化ディスプレイを構成するための方法であって、
基板上に付着された導電層を、絶縁材料によって分離されたエッジを備えている複数の平行な行電極にパターン化するステップと、
前記平行な行電極の上に載る第一ポリマー層を付着させるステップと、
前記ポリマー層の上に載る絶縁層を付着させるステップであって、該絶縁層が、前記ディスプレイ用の画素を画定する窓を当該絶縁層内に備え、前記行電極の前記エッジの上に載り、前記窓が、前記第一ポリマー層へのアクセスを与える、ステップと、
複数の分離された列電極を含む第二導電層を付着させるステップであって、該複数の分離された列電極のそれぞれが、前記複数の行電極を横切り、前記絶縁層の前記窓上に前記画素を画定する点で配置される、ステップとを含む方法であって、
前記第二導電層を付着するステップが、
前記絶縁層の上にフォトレジストの層を付着させるステップであって、該フォトレジストの層を通って延伸する開口を与えるように前記フォトレジストの層をパターン化し、該開口が、前記フォトレジストの層の、前記絶縁層に最近接した部分でより広くなっているステップと、
パターン化された前記フォトレジストの層を通して導電材料の層を付着するステップとを含む、方法。
【請求項１４】前記フォトレジストの層が、７μmを上回る厚みを有する、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月4日(2006.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図１に接続位置（閉鎖位置）を概略的に示した、本発明の第１の実施の形態による遮断器の焼損型開閉装置は、固定された第１の開閉部材を備えている。この開閉部材は弾性的な接触フィンガーを備えた接触チューリップ１として形成されている。この接触フィンガーは開閉軸線２を取り囲んでいる。可動の第２の開閉部材として、開閉ピン３が設けられている。この開閉ピンは開閉軸線２に沿って図示した接続位置と遮断位置（開放位置）との間で、切換え可能である。この遮断位置では、開閉ピンは接続位置でそれに接触するスライドチューリップ４の背後に後退させられる。接触チューリップ１とスライドチューリップ４の間にはアーク室５が設けられている。接続位置で開閉ピン３がこのアーク室内に位置し、アーク室は側方全体を圧力室６によって取り囲まれている。アーク室５と圧力室６は環状の吹き付け開口７を介して接続されている。開閉軸線２の方向においてアーク室５の接続側に、第１の排気室８ａが接続し、アーク室の遮断側に、第２の排気室８ｂが接続している。この排気室は遮断位置では、接触チューリップ１またはスライドチューリップ４によって取り囲まれた排気口９ａ，９ｂによって排気室に接続されている。遮断位置において排気口は開閉ピン３によって閉鎖されている。遮断器は更に、図示していない定格電流接触子を備えている。この定格電流接触子は遮断時にその都度、焼損接触子構造体の開閉部材の前に遮断される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
圧力室６の外壁には、爆薬の装填物１０が設けられている。この装填物は圧力室の一部に充填され、少なくとも所定の状況下で遮断時に点火させられる。圧力室６の周囲にわたって分配配置された多数の装填物を設けることができる。装填物１０はいかなる場合でも、錠剤の形に圧縮してもよいし、粉末爆薬をケースに充填することによって薬莢のように設けてもよい。この爆薬は異なる組成を有していてもよい。爆薬は勿論、爆発時に反応生成物に変換される。この反応生成物はアークを消弧するために少なくとも充分に適している。その際、環境負荷を回避するために、消弧ガスとしては窒素が有利である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の範囲内において、上記の実施の形態の多数の変形が可能である。例えば装填物を備えた複数の圧力室を設けることができる。この装填物は例えば所定の時間的間隔をおいてあるいは開閉ピンの位置に依存して点火される。既に述べたように、慣用のガス吹き付け装置との組み合わせが可能である。このガス吹き付け装置は例えば小さな電流強さのときに充分であり、大きな漏洩電流の場合にのみ装填物の点火を必要とする。圧力室はそれぞれ比較的に小さく、装填物を一杯に充填することができる。第３の実施の形態による焼損型開閉装置の場合には、装填物の点火の際に発生する消弧ガス流がアークを消すために充分であるように、装填物が採寸されている場合には、加熱室を省略することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月29日(2006.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、ＣＰＵ２２０は、デジタル振動信号ＷＬＸＤ、ＷＬＹＤ、ＷＲＸＤ、ＷＲＹＤのそれぞれについて、センサＤによって検出された回転体１００のキー溝１０２の位置を基準とする位相θを引数とする関数ＷＬＸ（θ）、ＷＬＹ（θ）、ＷＲＸ（θ）、ＷＲＹ（θ）を求める。ＷＬＸ（θ）、ＷＬＹ（θ）、ＷＲＸ（θ）、ＷＲＹ（θ）のθに対する変動は回転体１００の偏心によるものである。従って、ＷＬＸ（θ）およびＷＬＹ（θ）はＸＹ平面上を回転するベクトルの成分を示す。θの値に関わらずＷＬＸ（θ）およびＷＬＹ（θ）によって決定されるベクトルの大きさは一定である。このことは、ＷＲＸ（θ）、ＷＲＹ（θ）についても同様である。いま、θ＝０の時にＷＬＸ（θ）およびＷＬＹ（θ）によって表されるベクトルをＶＷＬ、ＷＲＸ（θ）およびＷＲＹ（θ）によって表されるベクトルをＶＷＲとすると、ベクトルＶＷＬ、ＶＷＲからは、数１を用いて回転体の動的不つり合いＵＬ、ＵＲを求めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月20日(2006.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験信号を受信するサンプリング経路であって、
前記試験信号を第１の閾値と比較し、比較結果として第１の比較信号を供給する第１の比較器と、
複数の連続する第１のタイミングマークからなる第１のタイミング信号とともに前記第１の比較信号を入力として受信するとともに、１つ以上の前記第１のタイミングマークについて第１の比較信号の値を得る第１のサンプリング装置と、
を有するサンプリング経路と、
前記試験信号を受信する基準経路であって、
前記試験信号を第２の閾値と比較し、比較結果として第２の比較信号を供給する第２の比較器と、
複数の連続する第２のタイミングマークからなる第２のタイミング信号とともに前記第２の比較信号を入力として受信するとともに、１つ以上の前記第２のタイミングマークについて第２の比較信号の値を得る第２のサンプリング装置と、
を有する基準経路と、
解析器と、
を備え、
前記解析器は、前記サンプリング経路および前記基準経路の双方の出力を受信し、前記基準経路の出力と組み合わせた基本的に既知の予想試験信号から予想試験信号を生成し、前記試験信号は、エラーを示すことなく、前記基本的に既知の予想試験信号からある範囲まで逸脱することがあり、そのような逸脱は、好ましくはデータプロトコルあるいはスクランブル処理の少なくとも一方から生じ、前記生成された予想試験信号を前記サンプリング経路の出力と比較するように構成されていることを特徴とする、ディジタル試験信号を解析するための信号解析装置。
【請求項２】
前記第１のサンプリング装置が、１つ以上の個別の第１のタイミングマークにわたるあるいは関連する前記第１の比較信号の１つ以上の導出値を表わす第１のサンプリング信号を出力として供給し、かつ／または、
前記第２のサンプリング装置が、１つ以上の個別の第２のタイミングマークにわたるあるいは関連する前記第２の比較信号の１つ以上の導出値を表わす第２のサンプリング信号を出力として供給する、
請求項１記載の信号解析装置。
【請求項３】
前記第１および第２のタイミング信号が、相互に所定の関係を持って供給され、それにより前記第１および第２のタイミングマークの対応するマーク間にも所定の関係が存在する、請求項２記載の信号解析装置。
【請求項４】
前記第１および第２のタイミング信号がクロック信号から得られる、請求項２または３に記載の信号解析装置。
【請求項５】
前記解析器が、合同解析用に、前記第１および第２の閾値とともに、サンプリング経路および基準経路の双方の出力に関する情報を用いる、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の信号解析装置。
【請求項６】
前記試験信号における個々の状態の確実な検出を得るために、前記第２のタイミング信号とともに第２の閾値電圧が供給され、かつ／または、前記第１のタイミング信号とともに前記第１の閾値電圧が、前記試験信号の挙動を完全にあるいは部分的に解析するために変更される、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の信号解析装置。
【請求項７】
前記第１および第２の比較器の少なくとも一方が、前記試験信号を個々の閾値と比較し、前記試験信号が前記閾値より大きい場合は第１の値を、また前記試験信号が前記閾値より小さい場合は第２の値を比較信号として供給する、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の信号解析装置。
【請求項８】
前記解析器が、前記基準経路の出力をデコードまたはデスクランブル処理し、制御文字またはアイドルセルの位置およびタイプを検出し、対応する制御文字またはアイドルセルを前記基本的に既知の予想試験信号に挿入するように構成されている、請求項１に記載の信号解析装置。
【請求項９】
前記試験信号を受信して前記第１および第２のタイミングマークの少なくとも一方を導出するためのクロック再生器をさらに備えている、請求項１記載の信号解析装置。
【請求項１０】
前記解析器が、前記試験信号に関するビット誤り率の値を決定する、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の信号解析装置。
【請求項１１】
（ａ）試験信号を第１の閾値と比較し、比較結果として第１の比較信号を供給するステップと、
（ｂ）複数の連続する第１のタイミングマークからなる第１のタイミング信号とともに前記第１の比較信号を入力として受信し、１つ以上の前記第１のタイミングマークについて第１の比較信号の値を導出するステップと、
（ｃ）前記試験信号を第２の閾値と比較し、比較結果として第２の比較信号を供給するステップと、
（ｄ）複数の連続する第２のタイミングマークからなる第２のタイミング信号とともに前記第２の比較信号を入力として受信し、１つ以上の前記第２のタイミングマークについて第２の比較信号の値を導出するステップと、
を含み、
（ｅ）前記ステップ（ｄ）の出力と組み合わせた基本的に既知の予想試験信号から予想試験信号を生成し、前記試験信号は、エラーを示すことなく、前記基本的に既知の予想試験信号からある範囲まで逸脱することがあり、そのような逸脱は、好ましくはデータプロトコルあるいはスクランブル処理の少なくとも一方から生じ、前記予想試験信号を前記ステップ（ｂ）の出力と比較すること、により特徴付けられる、ディジタル試験信号を解析するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月9日(2006.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉応用光ネットワーク・アナライザを較正するための装置であって、
制御光学素子のために複数組の干渉応用測定結果を受信する干渉応用測定結果受信部分であって、前記複数組の干渉応用測定結果は、第１の振幅の第１の偏光波および第２の振幅の第２の偏光波を利用して得られる、干渉応用測定結果受信部分と、
前記干渉応用光ネットワーク・アナライザに関する較正結果を導くためのプロセッサであって、前記較正結果は、前記複数組の干渉応用測定結果を利用して得られ、前記プロセッサは前記干渉応用測定結果受信部分に結合されており、前記較正結果は、前記干渉応用光ネットワーク・アナライザに固有の光学特性に起因する不確実性を低減した状態で、被測定物（ＤＵＴ）の光学的性質が測定されるのを可能にする、プロセッサと、
前記プロセッサに結合されたユーザ・インターフェイスと、
を有する装置。
【請求項２】
前記較正結果が、前記第１の振幅と前記第２の振幅の比（Ｒ）、及び、前記干渉応用光ネットワーク・アナライザに対応する較正行列（Ｍｃａｌ）から構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
干渉応用光ネットワーク・アナライザを較正するための干渉方法であって、
制御光学素子のために複数組の干渉応用測定結果を受信するステップであって、前記複数組の干渉応用測定結果は、第１の振幅の第１の偏光波および第２の振幅の第２の偏光波を利用して得られる、ステップと、
前記干渉応用光ネットワーク・アナライザに関する較正結果を導き出すステップであって、前記較正結果は、前記複数組の干渉応用測定結果を利用して得られ、前記干渉応用光ネットワーク・アナライザに固有の光学特性に起因する不確実性を低減した状態で、被測定物（ＤＵＴ）の光学的性質が測定されるのを可能にする、ステップと、
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線検知器要素（１８）組立体であって、
シンチレータ（４６）（５６）（６６）と光センサ（４４）とを備え、
前記シンチレータが、前記光センサ（４４）に対して近位にある第１表面と、前記第１表面に対して遠位にあり放射線ビーム（１４）を受ける第２表面とを含み、
前記シンチレータ（４６）（５６）（６６）の側部（６８）が、その上への放射線ビーム（１４）の衝突を遮って、該側部（６８）への前記衝突に対する前記光センサ（４４）の応答を減らすように構成されている、
ことを特徴とする放射線検知器。
【請求項２】
前記第２表面が、前記放射線ビーム（１４）の一部が衝突し、前記衝突に対する前記光センサ（４４）の応答を減らすように、前記第１表面より大きく構成された該第２表面上にのみ存在することを特徴とする、請求項１に記載の放射線検知器（１８）。
【請求項３】
前記放射線ビーム（１４）がＸ線ビームであることを特徴とする、請求項１に記載の放射線検知器要素（１８）。
【請求項４】
入射放射線ビーム（１４）を検知する方法であって、
光センサ（４４）に対して近位にある第１表面と、前記第１表面に対して遠位にある第２表面とを含むシンチレータ（４６）（５６）（６６）の前記第２表面上に入射する放射線ビーム（１４）を受け、
前記シンチレータ（４６）（５６）（６６）の側部（６８）上への衝突に対する前記光センサ（４４）の応答を減らすように構成された該側部（６８）により放射線ビーム（１４）の衝突を遮る、
段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
前記第２表面を前記第１表面より大きく構成し、前記放射線ビーム（１４）の一部が前記第２表面上だけに衝突し、前記衝突に対する前記光センサ（４４）の応答を減らすようにすることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記放射線ビーム（１４）がＸ線ビームであることを特徴とする、請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】
画像形成システムにおいて用いられる放射線検知器アレイ（６）であって、
複数の光センサ（４４）を含む光センサ（４４）アレイと作動可能な構成で配設された、複数のシンチレータ（４６）（５６）（６６）を含むシンチレータ（４６）（５６）（６６）アレイを備え、
前記複数のシンチレータ（４６）（５６）（６６）の各々のシンチレータ（４６）（５６）（６６）が、前記複数の光センサ（４４）の光センサ（４４）に対して近位にある第１表面と、前記第１表面に対して遠位にあり放射線ビーム（１４）を受ける第２表面とを含み、
前記各々のシンチレータ（４６）（５６）（６６）の側部（６８）が、その上に衝突する放射線ビームを遮って、該側部への前記衝突に対する各々の光センサ（４４）のそれぞれの応答を減らすように構成されている、
ことを特徴とする放射線検知器アレイ（６）。
【請求項８】
入射放射線ビーム（１４）を検知するための手段であって、
光センサ（４４）に対して近位にある第１表面と、前記第１表面に対して遠位にある第２表面とを含むシンチレータ（４６）（５６）（６６）の前記第２表面上に入射する放射線ビーム（１４）を受けるための手段と、
前記シンチレータ（４６）（５６）（６６）の側部（６８）上への衝突に対する前記光センサ（４４）の応答を減らすように構成された該側部（６８）により放射線ビーム（１４）の衝突を遮るための手段と、
を含むことを特徴とする入射放射線ビーム（１４）を検知するための手段。
【請求項９】
前記第２表面を前記第１表面より大きく構成し、前記放射線ビーム（１４）の一部が前記第２表面上だけに衝突し、前記衝突に対する前記光センサ（４４）の応答を減らすようにすることを特徴とする、請求項８に記載の入射放射線ビーム（１４）を検知するための手段。
【請求項１０】
前記放射線ビーム（１４）がＸ線ビームであることを特徴とする、請求項８または９に記載の入射放射線ビーム（１４）を検知するための手段。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一般に、シンチレーションにおけるピクセルの縁部は、Ｘ線に対して遮蔽されているため、Ｘ線ビームの角度、或いは、Ｘ軸方向又はＺ軸方向における焦点スポットの運動に関係なく、該Ｘ線ビームに影響を受けないようになっている。ピクセルの縁部をＸ線に対して遮蔽する１つの方法は、交番配置されたタングステンワイヤをＸ軸方向に、かつピクセルの縁部上に位置させて、Ｘ線ビームが、例えば該ピクセルの縁部などのピクセル間のギャップのような通常は非シンチレーション区域に到達するのを防ぐものである。しかしながら、そのような方法は、本来はシンチレーション区域となる部分をブロックする結果として、空間的な画像解像度及び光熱出力の減少をもたらすものとなる。
【特許文献１】米国特許第６４１４３１５号
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基質の表面に共有結合する少なくとも２つの異なるリガンドからなるアレイを生成する方法であって、
（ａ）酢酸基を含むシラン化剤に基質表面を接触させて、酢酸基の性質を示す表面を生じさせるステップと、
（ｂ）前記表面における前記酢酸基をヒドロキシル基に変換するステップと、
（ｃ）ヒドロキシル基の性質を示す前記表面を少なくとも２つの異なるリガンドに接触させて、前記アレイが生成されるようにするステップを有し、前記ヒドロキシル基が接触時に前記リガンドと共有結合しない場合には、前記ヒドロキシル基をリガンド反応性官能基に変換するステップを更に含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記シラン化剤に、アルキル鎖によって分離された末端シリル基と酢酸基が含まれることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記酢酸基は、加水分解によって前記ヒドロキシル基に変換されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記基質は、ガラスであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれかに記載の方法に従って生成されたことを特徴とするリガンドアレイ。
【請求項６】
試料中における検体の存在を検出する方法であって、
（ａ）前記検体を含むと思われる試料と請求項５に記載のリガンドアレイを接触させるステップと、
（ｂ）前記アレイの表面において結合錯体を検出して、結合錯体データを取得するステップと、
（ｃ）前記結合錯体データを利用して、前記試料中における前記検体の存在を確認するステップを有することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法によって得られる読み取り結果を表わしたデータを受信する方法。
【請求項８】
基質の表面に共有結合する少なくとも２つの異なるリガンドからなるアレイを生成する方法であって、
（ａ）アルケン基を含む第１のシラン化剤に基質表面を接触させて、アルケン基の性質を示す表面を生じさせるステップと、
（ｂ）前記表面における前記アルケン基をカルボキシル基に変換するステップと、
（ｃ）カルボキシル基の性質を示す前記表面をリガンドに接触させて、前記アレイが生成されるようにするステップを有し、前記カルボキシル基が接触時に前記リガンドと共有結合しない場合には、前記カルボキシル基をリガンド反応性官能基に変換するステップを更に含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
前記第１のシラン化剤に、アルキル鎖によって分離された末端シリル基とアルケニル基が含まれることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記アルケン基は、酸化によって前記カルボキシル基に変換されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記ヒドロキシルまたはカルボキシル基をリガンド反応性官能基に変換するステップを有することを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記アルキル鎖が、長さが約６ないし約２０の炭素原子であることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記基質がガラスであることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
請求項８から１３までのいずれかに記載の方法に従って生成されたことを特徴とするリガンドアレイ。
【請求項１５】
試料中における検体の存在を検出する方法であって、
（ａ）前記検体を含むと思われる試料と請求項１４に記載のリガンドアレイを接触させるステップと、
（ｂ）前記アレイの表面において結合錯体を検出して、結合錯体データを取得するステップと、
（ｃ）前記結合錯体データを利用して、前記試料中における前記検体の存在を確認するステップを有することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法によって得られる読み取り結果を表わしたデータを受信する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月23日(2006.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
調整車２は、ワークＷの外周面を回転支持するもので、その回転支持面（外周面）が、ワークＷの最終形状つまり外周面の最終仕上げ形状に対応したプロフィールを有するとともに、調整車軸１２に取外し可能に取付け固定され、この調整車軸１２が調整車台１３上（図示省略）に回転可能に軸承されるとともに、動力伝導ベルトや歯車機構等の動力伝達手段を介して駆動モータ等の駆動源に駆動連結されている。図示の実施形態においては、調整車２によるワークＷの回転安定化のため、駆動源としてサーボモータが採用されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、調整車軸１２の支持構造は、調整車２側の高剛性化対策の要請から、上記砥石車軸１０と異なり、高剛性両持ち支持構造が採用されている。ただし、調整車２は砥石車１に比較して小型軽量であることから、その交換作業は、砥石車１と同様、装置正面（図１の紙面に対して手前）から行うことができる。よって、後述する調整車用ドレッシング装置５の配置構成も砥石車用ドレッシング装置４と同様な上方配置構成とされている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかし、上記した製造方法は、廃無機フィラーの含有量が約１０〜３０wt%であるため、廃無機フィラーの再資源利用効率が悪く、また成形物中における廃無機フィラーの分散状態が不均一になり、耐薬品性、耐強度性、耐候性等が悪く、高品質の成形物の成形原料としては不適当であった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
このような複合樹脂組成物を原料として成形物を成形すると、成形物には上記空隙の空気により空隙ができ易くなり、成形物の強度等を悪くする問題を有している。また、複合樹脂組成物の輸送時に付着した水が内部に浸透して結合水になり易く、結合水を有した複合樹脂組成物を成形物の原料として成形すると、成形物には蒸気による空隙ができたり、表面に蒸気が抜ける際の跡が形成されて成形物の品質を低下させる原因になっていた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
押出し手段７は、上記した溶融混練手段３と同様に押出しチューブ３５内に、電動モータ３７に連結された押出しスクリュー３９及び脱気手段５の接続箇所に応じた押出しチューブ３５側において電動モータ３７にギャ（図示せず）等を介して連結されて押出しスクリュー３９と反対方向又は同一方向に回転する補助スクリュー４０を押出しスクリュー３９と近接した平行状態で回転可能に設けた２軸構造からなり、これら押出しスクリュー３９の基端部側及び補助スクリュー４０との協働により脱気手段５から供給される溶融した廃複合樹脂原料１９を押出しチューブ３５内へ巻込んで供給可能にしている。尚、押出し手段７は１本の押出しスクリュー３９のみを設けた構造としてもよいことは勿論である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月10日(2006.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
車両装着時におけるトレッドの少なくとも赤道から車両外側の領域に、タイヤ周方向に延びる陸部とその外側に隣接する主溝とを設け、前記陸部に前記主溝に片端のみ開口して斜めに延長し、かつ溝幅が一定であるか又は溝端に向かうほど漸減する傾斜ラグ溝をタイヤ周方向に複数本間隔をおいて設けたタイヤであって、前記傾斜ラグ溝のタイヤ幅方向外側の溝壁がトレッド法線方向に対してなす傾斜角度を、前記主溝に対する開口側から少なくとも溝長さ方向中央まで漸増するように形成した空気入りタイヤ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
サーキット走行では旋回走行時の横加速度が通常走行時に比べて非常に大きく、略真横から力が作用することが分かっている。このような略真横からの力に対して、タイヤが高い操縦安定性を確保するようにするためには、トレッド面を出来るだけ有効に接地させるようにすることが重要である。このための対策としては、トレッド面に設けた溝について、そのタイヤ幅方向外側の溝壁角度（トレッド面法線方向に対する溝壁角度）を大きく形成することが有効であることが知られている（特許文献１等）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の目的は、上記のようにトレッド面の主溝に片端だけが開口する傾斜ラグ溝を設けたタイヤにおいて、サーキット走行等で生ずる偏摩耗や操縦安定性低下を防止する空気入りタイヤを提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成する本発明の空気入りタイヤは、車両装着時におけるトレッドの少なくとも赤道から車両外側の領域に、タイヤ周方向に延びる陸部とその外側に隣接する主溝とを設け、前記陸部に前記主溝に片端のみ開口して斜めに延長し、かつ溝幅が一定であるか又は溝端に向かうほど漸減する傾斜ラグ溝をタイヤ周方向に複数本間隔をおいて設けたタイヤであって、前記傾斜ラグ溝のタイヤ幅方向外側の溝壁がトレッド法線方向に対してなす傾斜角度を、前記主溝に対する開口側から少なくとも溝長さ方向中央まで漸増するように形成したことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月14日(2006.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクロールの指示によりスクロールさせて、所定の表示領域にファイルの内容を表示する情報処理装置において、
１つのファイルの末尾の部分に続いて、続くファイルの先頭の部分を配置するようにして、複数ファイルの内容を前記表示領域に連続して表示する表示手段を有する
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記複数ファイルが、所定のフォルダに保持されたファイルである
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記複数ファイルが、ユーザーにより指示されたファイルである
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示手段は、
所定の入力手段からの入力に応じて、複数行を単位にして、前記表示領域の表示をスクロールさせ、
前記スクロールの方向におけるファイルの長さに応じて、スクロールさせる行数を切り換え、前記続くファイル又は前記１つのファイルの先頭行を前記表示領域の先頭に表示する
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示手段は、
前記１つのファイルの末尾と、前記続くファイルの先頭との間に、少なくとも前記続くファイルのファイル名を表示する
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記スクロールの指示が、ユーザーによる操作子の回転操作であり、
前記表示手段は、
前記操作子の回転操作の方向に応じてスクロールの方向を切り換える
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
スクロールの指示によりスクロールさせて、所定の表示領域にファイルの内容を表示する情報処理方法において、
１つのファイルの末尾の部分に続いて、続くファイルの先頭の部分を配置するようにして、複数ファイルの内容を前記表示領域に連続して表示する
ことを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
複数行を単位にして、前記表示領域の表示をスクロールさせ、
前記スクロールの方向におけるファイルの長さに応じて、スクロールさせる行数を切り換え、前記続くファイル又は前記１つのファイルの先頭の部分を前記表示領域の先頭に表示する
ことを特徴とする請求項７に記載の情報処理方法。
【請求項９】
スクロールの指示によりスクロールさせて、所定の表示領域にファイルの内容を表示する情報処理プログラムを記録した記録媒体において、
前記情報処理プログラムは、
１つのファイルの末尾の部分に続いて、続くファイルの先頭の部分を配置するようにして、複数ファイルの内容を前記表示領域に連続して表示する
ことを特徴とする情報処理プログラムを記録した記録媒体。
【請求項１０】
複数行を単位にして、スクロールさせ、
前記スクロールの方向におけるファイルの長さに応じて、スクロールさせる行数を切り換え、前記続くファイル又は前記１つのファイルの先頭行を前記表示領域の先頭に表示する
ことを特徴とする請求項９に記載の情報処理プログラムを記録した記録媒体。
【請求項１１】
スクロールの指示によりスクロールさせて、所定の表示領域にファイルの内容を表示する情報処理装置において、
スクロール操作の入力を検出するスクロール検出手段と、
前記所定の表示領域に、１つのファイルの末尾を表示したか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段により１つのファイルの末尾を表示したと判定され、前記スクロール検出手段により末尾側へのスクロール操作の入力が検出された場合、続くファイルの先頭部分を前記所定の表示領域に表示する表示手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１２】
スクロールの指示によりスクロールさせて、所定の表示領域にファイルの内容を表示する情報処理方法において、
スクロール操作の入力を検出するスクロール検出ステップと、
前記所定の表示領域に、１つのファイルの末尾を表示したか否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにより前記１つのファイルの末尾を表示したと判定した場合であって、かつ前記スクロール検出ステップにより末尾側へのスクロール操作の入力を検出した場合、続くファイルの先頭部分を前記所定の表示領域に表示する表示ステップとを有する
ことを特徴とする情報処理方法。
【請求項１３】
スクロールの指示によりスクロールさせて、所定の表示領域にファイルの内容を表示する情報処理プログラムを記録した記録媒体において、
前記情報処理プログラムは、
スクロール操作の入力を検出するスクロール検出ステップと、
前記所定の表示領域に、１つのファイルの末尾を表示したか否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにより１つのファイルの末尾を表示したと判定した場合であって、かつ前記スクロール検出ステップにより末尾側へのスクロール操作の入力を検出した場合、続くファイルの先頭部分を前記所定の表示領域に表示する表示ステップとを有する
ことを特徴とする情報処理プログラムを記録した記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電源回路及び制御装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の定電圧を出力する第１安定化回路と、
基準電圧と出力を比較することにより第２の定電圧を出力する第２安定化回路と、
前記第１安定化回路の出力と前記第２安定化回路の出力とを比較し、該比較結果に基づいて、前記第２安定化回路の出力を制御する制御回路とを有する電源回路。
【請求項２】  前記制御回路は、前記第１安定化回路の出力が前記第１の定電圧以下のとき、前記第２安定化回路の出力を前記第１安定化回路の出力の変化に応じた電圧に制御する請求項１に記載の電源回路。
【請求項３】  前記制御回路は、前記第２安定化回路の出力より一定電圧だけ低い電圧と前記第１安定化回路の出力とを比較する請求項２に記載の電源回路。
【請求項４】  前記制御回路は、前記第２安定化回路の出力と接地間に接続された抵抗と定電流源の直列回路を有し、前記第２安定化回路の出力より前記抵抗の電位差だけ低い電圧と前記第１安定化回路の出力とを比較する請求項３に記載の電源回路。
【請求項５】  前記制御回路は、前記第２安定化回路の出力に比例した電圧と前記第１安定化回路の出力とを比較する請求項２に記載の電源回路。
【請求項６】  前記制御回路は、前記第２安定化回路の出力と接地間に接続された複数の抵抗による直列回路を有し、該直列回路による前記第２安定化回路の出力に比例した電圧と前記第１安定化回路の出力とを比較する請求項５に記載の電源回路。
【請求項７】  前記制御回路は、前記第２安定化回路の出力と接地間に接続されたトランジスタを有し、前記電源回路のオフ時に、前記比較結果に基づいて前記トランジスタを駆動し前記第２安定化回路の出力を制御する請求項２に記載の電源回路。
【請求項８】  前記制御回路は、前記第１安定化回路の出力より一定電圧だけ低い電圧と前記第２安定化回路の出力とを比較する請求項２に記載の電源回路。
【請求項９】  前記制御回路は、前記第１安定化回路の出力と接地間に接続された抵抗と定電流源の直列回路を有し、前記第１安定化回路の出力より前記抵抗の電位差だけ低い電圧と前記第２安定化回路の出力とを比較する請求項８に記載の電源回路。
【請求項１０】  前記制御回路は、前記第１安定化回路の出力の比例電圧と前記第２安定化回路の出力とを比較する請求項８に記載の電源回路。
【請求項１１】  前記制御回路は、前記第１安定化回路の出力と接地間に接続された複数の抵抗による直列回路を有し、該直列回路による前記第１安定化回路の出力に比例した電圧と前記第２安定化回路の出力とを比較する請求項１０に記載の電源回路。
【請求項１２】  前記制御回路は、前記第１安定化回路の出力の比例電圧と前記基準電圧とを比較し、該比較結果に基づいて前記制御回路出力を調整する請求項８に記載の電源回路。
【請求項１３】  マイクロコンピュータに電源を供給する為の定電圧を出力する電源安定化回路と、
基準電圧と出力を比較することにより信号変換用基準電源として定電圧を出力する基準電源安定化回路と、
前記電源安定化回路の出力と前記基準電源安定化回路の出力とを比較し、該比較結果に基づいて、該基準電源安定化回路の出力を制御する制御回路と
を有する電源回路。
【請求項１４】  入力された信号に所定の変換を行うマイクロコンピュータと、
前記マイクロコンピュータに電源を供給する為の定電圧を出力する電源安定化回路と、
基準電圧と出力を比較することにより信号変換用基準電源として定電圧を出力する基準電源安定化回路と、
前記電源安定化回路の出力と前記基準電源安定化回路の出力とを比較し、該比較結果に基づいて、該基準電源安定化回路の出力を制御する制御回路と
を有する電源回路を備えた制御装置。