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【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エンジン側の出力軸と車輪側の入力軸との間に介装されたトルクコンバータをロックアップ制御するためのロックアップ機構の油圧制御装置において、
前記出力軸によって駆動される機械式オイルポンプと、
前記機械式オイルポンプでの発生油圧に基づく係合圧によって前記出力軸と前記入力軸とを係合させて機械的に直結させるロックアップクラッチと、
前記ロックアップクラッチに油圧を供給可能な電動オイルポンプと、
前記電動オイルポンプを制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記機械式オイルポンプでの発生油圧に基づく係合圧が前記ロックアップクラッチを係合するのに必要な必要係合圧に満たない場合に、前記電動オイルポンプを駆動して不足分以上の油圧を前記ロックアップクラッチに供給する、
ことを特徴とするロックアップ機構の油圧制御装置。
【請求項２】  前記ロックアップクラッチを、係合状態になりうるＯＮ状態と、係合状態が解除されたＯＦＦ状態とに切り換える切り換え手段を有し、
前記ロックアップクラッチの係合状態を維持すべき場合である、前記切り換え手段の切り換えによる前記ロックアップクラッチのＯＮ状態に、前記電動オイルポンプを駆動して不足分以上の油圧を前記ロックアップクラッチに供給する、
ことを特徴とする請求項１に記載のロックアップ機構の油圧制御装置。
【請求項３】  前記機械式オイルポンプの下流側でかつ前記ロックアップクラッチの上流側に調圧手段を有し、
前記電動オイルポンプは前記調圧手段の上流側に配設されている、
ことを特徴とする請求項２に記載のロックアップ機構の油圧制御装置。
【請求項４】  前記必要係合圧よりも高い第１の閾値を設け、車輌のコースト状態でかつ前記ロックアップクラッチのＯＮ状態において、前記機械式オイルポンプに基づく係合圧が前記第１の閾値まで低下したときに、前記制御手段は前記電動オイルポンプを駆動して、前記ロックアップクラッチに供給される係合圧が前記必要係合圧まで低下するタイミングを遅らせる、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載のロックアップ機構の油圧制御装置。
【請求項５】  前記エンジンのアイドリング回転近傍に第２の閾値を設け、前記エンジンの回転数が前記第２の閾値にまで低下したときに前記切り換え手段により前記ロックアップクラッチを係合解除状態にする、
ことを特徴とする請求項４に記載のロックアップ機構の油圧制御装置。
【請求項６】  前記制御手段は、前記必要係合圧を算出し、算出された必要係合圧が前記機械式オイルポンプの供給限界油圧を上回る場合に不足流量を演算し、演算結果に基づいて前記電動オイルポンプに対する電流指令値を算出し、前記電流指令値に基づいて前記電動オイルポンプを動作させる、
ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のロックアップ機構の油圧制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月1日(2005.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数のころと、金属板の打ち抜き加工品からなる２枚の略平行な環状の保持器とを備え、これら２枚の保持器のそれぞれが円周方向の複数箇所にポケットを有し、上記各ころが上記２枚の保持器の対応するポケットに渡って入れられ、かつこれら２枚の保持器により、各ころの保持器軸方向の両側への抜け出しが阻止されたスラストころ軸受において、上記保持器の各ポケット間の柱部のエッジに、面取り部を設けたことを特徴とするスラストころ軸受。
【請求項２】  請求項１において、上記面取り部の断面形状が、傾斜した直線状、または凸曲線状であるスラストころ軸受。
【請求項３】  請求項１または請求項２において、上記面取り部は、プレスによる潰し加工部分であるスラストころ軸受。
【請求項４】  請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、上記面取り部は、保持器のポケットの打ち抜き加工時におけるバリ発生側の保持器表面におけるエッジのみに設けたスラストころ軸受。
【請求項５】  請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、上記ポケットの長手方向に沿う内側面に、保持器両面に貫通する盗み溝を設けたスラストころ軸受。
【請求項６】  請求項１ないし請求項５のいずれかにおいて、上記２枚の保持器は内周部および外周部のいずれか片方または両方で、互いに結合されたものであるスラストころ軸受。
【請求項７】  請求項１に記載のスラストころ軸受を製造する製造方法であって、上記保持器は、金属板から各ポケットを打ち抜き加工によって形成し、各ポケットの柱部のエッジに対面する複数の潰し型部を有するポンチを用いて、上記外形およびポケットの打ち抜き状態の保持器に、上記各面取り部を同時に潰し加工で形成することを特徴とするスラストころ軸受の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明のスラストころ軸受は、複数のころと、金属板の打ち抜き加工品からなる２枚の略平行な環状の保持器とを備え、これら２枚の保持器のそれぞれが円周方向の複数箇所にポケットを有し、上記各ころが上記２枚の保持器の対応するポケットに渡って入れられ、かつこれら２枚の保持器により、各ころの保持器軸方向の両側への抜け出しが阻止されたスラストころ軸受において、上記保持器の各ポケット間の柱部のエッジに、面取り部を設けたことを特徴とする。
この構成によると、保持器の各柱部のエッジに面取り部を設けたので、ポケットの打ち抜き加工により生じる柱部のエッジのバリを完全に除去することができ、スラスト軌道輪の軌道面に形成される油膜が、保持器柱部のバリで掻き取られることが防止される。そのため、スラスト軌道輪の軌道面における油膜切れが防止され、軸受本来の寿命を発揮させることができる。すなわちスラスト軌道輪の軌道面における油膜形成能力を一定に保ち、潤滑性の向上を図ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【発明の効果】
この発明のスラストころ軸受は、複数のころと、金属板の打ち抜き加工品からなる２枚の略平行な環状の保持器とを備え、これら２枚の保持器のそれぞれが円周方向の複数箇所にポケットを有し、上記各ころが上記２枚の保持器の対応するポケットに渡って入れられ、かつこれら２枚の保持器により、各ころの保持器軸方向の両側への抜け出しが阻止されたスラストころ軸受において、上記保持器の各ポケット間の柱部のエッジに面取り部を設けたものであるため、ころの周面やスラスト軌道輪の軌道面に形成された油膜の状態を良好に保つことができ、潤滑性を向上させることができる。特に、上記面取り部を潰し加工部分とした場合は、簡単な加工で面取り部の形成が確実に行える。
ポケットの長手方向に沿う内側面に盗み溝を設けた場合は、保持器内への油の流入性が向上し、また面取り部を潰し加工部分とする場合にその潰し加工が簡単かつ良好に行える。
この発明のスラストころ軸受の製造方法は、保持器の各ポケットの柱部のエッジに対面する複数の潰し型部を有するポンチを用い、上記外形およびポケットの打ち抜き状態の保持器に、上記各面取り部を同時に潰し加工する方法であるため、上記面取り部を生産性良く、かつ確実に加工することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  内輪と外輪との間に保持器を介して複数の転動体を略等間隔に転動自在に保持し、かつ繊維長が少なくとも３μｍである繊維状物を含むジウレア化合物を増ちょう剤として含有するグリースを封入してなることを特徴とする転がり軸受。
【請求項２】  繊維長が少なくとも３μｍである繊維状物が、増ちょう剤全量の３０重量％以上を占めることを特徴とする請求項１記載の転がり軸受。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２９】
水を供給するステップは、排気ガスを用いて、前記投入された酸化気体の加圧源を機械的にさらに圧縮した後で、前記排気ガスから水を抽出するステップによってもたらされる、請求項２８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース脂肪酸エステルのアシル基の少なくとも一部が炭素数３〜１８であるセルロース肪酸エステル８０〜９８重量％および多価アルコール系可塑剤２〜２０重量％を少なくとも含んでなる組成物からなる繊維であって、該繊維の強度Ｓ（ｃＮ／ｄｔｅｘ）と伸度Ｅ（％）が下記式を満たし、該繊維の降伏点応力が０．５〜１．５ｃＮ／ｄｔｅｘであることを特徴とするセルロース脂肪酸エステル繊維。
６≦Ｓ・Ｅ1/2≦１０
１５≦Ｅ≦５０
【請求項２】
セルロース脂肪酸エステルのアシル基の少なくとも一部が炭素数３〜１８であるセルロース脂肪酸エステルがセルロースアセテートプロピオネートであることを特徴とする請求項１に記載のセルロース脂肪酸エステル繊維。
【請求項３】
セルロース脂肪酸エステルのアシル基の少なくとも一部が炭素数３〜１８であるセルロースエステルおよび多価アルコール系可塑剤を少なくとも含んでなる組成物を溶融紡糸するに際し、紡糸温度を２００〜２８０℃、紡糸速度を７００〜２０００ｍ／分とし、口金下の雰囲気温度を８０〜２８０℃とすることを特徴とするセルロース脂肪酸エステル繊維の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するため、本発明は以下の構成を採用する。すなわち、
（１）セルロース脂肪酸エステルのアシル基の少なくとも一部が炭素数３〜１８であるセルロース脂肪酸エステル８０〜９８重量％および多価アルコール系可塑剤２〜２０重量％を少なくとも含んでなる組成物からなる繊維であって、該繊維の強度Ｓ（ｃＮ／ｄｔｅｘ）と伸度Ｅ（％）が下記式を満たし、該繊維の降伏点応力が０．５〜１．５ｃＮ／ｄｔｅｘであることを特徴とするセルロース脂肪酸エステル繊維。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
６≦Ｓ・Ｅ1/2≦１０
１５≦Ｅ≦５０
（２）セルロース脂肪酸エステルのアシル基の少なくとも一部が炭素数３〜１８であるセルロース脂肪酸エステルがセルロースアセテートプロピオネートであることを特徴とする前記（１）に記載のセルロース脂肪酸エステル繊維。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（３）セルロース脂肪酸エステルのアシル基の少なくとも一部が炭素数３〜１８であるセルロースエステルおよび多価アルコール系可塑剤を少なくとも含んでなる組成物を溶融紡糸するに際し、紡糸温度を２００〜２８０℃、紡糸速度を７００〜２０００ｍ／分とし、口金下の雰囲気温度を８０〜２８０℃とすることを特徴とするセルロース脂肪酸エステル繊維の製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
実施例１
セルロース脂肪酸エステルとしてセルロースアセテートプロピオネート（アセチル基の置換度：０．１、プロピオニル基の置換度：２．６、重量平均分子量：１６．０万；イーストマンケミカル社製ＣＡＰ−４８２−２０）９３重量％と平均分子量が６００であるポリエチレングリコール（ＰＥＧ６００）７重量％を二軸エクストルーダーを用いて１９０℃で混練し、５ｍｍ程度にカッティングしてセルロース脂肪酸エステル組成物ペレットを得た。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
実施例２
セルロース脂肪酸エステルとしてセルロースアセテートブチレート（アセチル基の置換度：１．０、ブチリル基の置換度：１．７、重量平均分子量：１５．５万；イーストマンケミカル社製ＣＡＢ−３８１−２０）９１重量％とジグリセリンテトラカプリレート９重量％を二軸エクストルーダーを用いて１９０℃で混練し、５ｍｍ程度にカッティングしてセルロース脂肪酸エステル組成物ペレットを得た。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
実施例３
セルロース脂肪酸エステルとしてセルロースアセテートプロピオネート（アセチル基の置換度：０．１、プロピオニル基の置換度：２．６、重量平均分子量：１６．０万；イーストマンケミカル社製ＣＡＰ−４８２−２０）８７重量％と平均分子量が２００であるポリエチレングリコールの末端水酸基にラウリル基が結合したポリオキシエチレンラウレート１３重量％を二軸エクストルーダーを用いて１９０℃で混練し、５ｍｍ程度にカッティングしてセルロース脂肪酸エステル組成物ペレットを得た。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
実施例４
セルロース（日本製紙（株）溶解パルプ、α−セルロース９２ｗｔ％）１００重量部に、酢酸２４０重量部とプロピオン酸６７重量部を加え、５０℃で３０分間混合した。混合物を室温まで冷却した後、氷浴中で冷却した無水酢酸１７２重量部と無水プロピオン酸１６８重量部をエステル化剤として、硫酸４重量部をエステル化触媒として加えて、１５０分間撹拌を行い、エステル化反応を行った。エステル化反応において、４０℃を越える時は、水浴で冷却した。反応後、反応停止剤として酢酸１００重量部と水３３重量部の混合溶液を２０分間かけて添加して、過剰の無水物を加水分解した。その後、酢酸３３３重量部と水１００重量部を加えて、８０℃で１時間加熱撹拌した。反応終了後、炭酸ナトリウム６重量部を含む水溶液を加えて、析出したセルロースエステルを濾別し、続いて水で洗浄した後、６０℃で４時間乾燥した。得られたセルロース脂肪酸エステルの置換度は２．４（アセチル基１．９、プロピオニル基０．５）、重量平均分子量は１２．０万であった。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
実施例５
実施例４で用いたセルロース脂肪酸エステル８５重量％と平均分子量が６００でポリエチレングリコール１５重量％を二軸エクストルーダーを用いて混練二軸エクストルーダーを用いて２３０℃で混練し、５ｍｍ程度にカッティングしてセルロース脂肪酸エステル組成物ペレットを得た。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
【表１】
2004211278.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月27日(2005.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
これを坪量80g/m2の広葉樹晒しクラフトパルプ単独配合原紙に、片面当たり固形分で12.5g/m2になるようにブレードコータで両面塗被、乾燥させた。さらに線圧50kg/cmで2ニップのスーパーカレンダ処理をして塗工紙を調製した。
［実施例２］
スーパーカレンダ条件を200kg/cmで4ニップのスーパーカレンダ処理をしたこと以外は実施例1と同様に塗工紙を調製した。
［実施例３］
顔料成分としてウィスカー状炭酸カルシウム80部、二級カオリン20部を用いた以外は実施例1と同様に塗工紙を調製した。
［実施例４］
長径10μm、短径1μmのウィスカー状炭酸カルシウム40部、0.7μmの重質炭酸カルシウム20部、二級カオリン20部、微粒カオリン20部を用いた以外は実施例1と同様に塗工紙を調製した。
［比較例１］
ウィスカー状炭酸カルシウムの代わりに平均粒子径0.7μmの重質炭酸カルシウム（FMT-90：ファイマテック社製）を用い、スーパーカレンダ処理を行わないこと以外は実施例1と同様に行った。
［比較例２］
ウィスカー状炭酸カルシウムを用いずに平均粒子径0.7μmの重質炭酸カルシウム（FMT-90:ファイマテック社製）80部、二級カオリン20部を用いたこと以外は実施例1と同様に塗工紙を調製した。
［比較例３］
粗粒（平均粒子径1.5μm）の重質炭酸カルシウム85部と微粒カオリン15部を用い、カレンダ処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様に行った。
［比較例４］
長径5.0μｍ、短径0.25μｍのウィスカー状炭酸カルシウム60部を用いたこと以外は実施例1と同様に行った。
［比較例５］
ウィスカー状炭酸カルシウムを用いずに、長径2.0μｍ、短径0.40μｍの針状炭酸カルシウム60部を用いたこと以外は実施例1と同様に行った。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月17日(2005.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なお、通気材１３，２４，２６は、壁体を組み立てる前にあらかじめ後述するような関係でまぐさ１２，２３、窓台２５に固定して一体化したものを用いてもよいし、あるいは、まぐさや窓台を取り付けた後の任意の時点で後述の関係が得られるようにしてまぐさや窓台に取り付けてもよい。いずれの場合も、通気材１３，２４，２６をまぐさ１２，２３、窓台２５に固定する際には、釘やステープルの打ち込み、接着剤、粘着テープなどの常用手段を用いることができる。また、その他の部材同士の連結固定に際しても、釘打ち、ボルト止め、仕口加工による連結等の常用手段を用いることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図３は、窓開口部２０のまぐさ２３左側上方部分の通気壁構造についての変形態様を拡大して示すとともにこの部分の空気の流れ状態を示す斜視図である。この実施形態では、まぐさ受け２７’が管柱８に添着されていてそれらの間に隙間がない状態とされているので、まぐさ２３の端部前面側に通気溝を形成することに代えて、段差２９と略同一高さにおいて管柱８の前面側を横切る通気溝３１を形成している。この実施形態によると、管柱８の左側を上昇してきた空気流ｂが通気溝３１を通って管柱８の右側に入り込み、その後は図２の実施形態の場合と略同様にして、上昇空気流ｂ１、および、段差２９に沿って水平方向（右方）に流動する空気流ｂ２となることができるため、良好な通気が確保される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月14日(2006.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電極を有する半導体素子と、
第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面とを有する金属ブロックと、
前記金属ブロックの前記第１の面と接合される電極端子と、
前記金属ブロックの前記第２の面と接合され、両面に金属層を有するセラミック基板と
を備え、
前記半導体素子は前記電極と共に前記金属ブロックの前記第１の面と接合材によって接合される半導体装置。
【請求項２】  前記セラミック基板の両面に有する各前記金属層は同じ厚さである、請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】  前記半導体素子は複数設けられ、
前記金属ブロック及び前記セラミック基板は、前記半導体素子間の絶縁単位ごとに分離し、
前記金属ブロック及び前記セラミック基板のうちの一方は、少なくとも一つの前記半導体素子に対応して設けられ、
前記金属ブロック及び前記セラミック基板のうちの他方は、前記絶縁単位を構成する前記半導体素子のすべてに渡って設けられる、請求項１及び請求項２のいずれか一つに記載の半導体装置。
【請求項４】  第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面とを有する金属ブロックと、
前記金属ブロックの前記第１の面と接合材によって接合される半導体素子と、
第３の面と、前記第３の面とは反対側の第４の面とを有し、前記金属ブロックの前記第２の面と前記第３の面が接合される樹脂絶縁層と、
前記金属ブロック及び前記半導体素子を封止する樹脂パッケージと
を備え、
前記樹脂絶縁層は、その前記第４の面が露出しており、前記樹脂パッケージよりも弾力性が良い半導体装置。
【請求項５】  前記樹脂絶縁層は、セラミック材料を充填したシリコン樹脂で形成される、請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】  前記金属ブロックは、前記半導体素子の絶縁単位ごとに設けられる、請求項４及び請求項５のいずれか一つに記載の半導体装置。
【請求項７】  前記金属ブロックは、前記接合材よりも広い面を前記接合材と反対側に有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一つに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図４は図３中の部分Ｂを拡大して示す断面図である。また、図５は金属ブロック３のパワー素子１を搭載する面から見た斜視図である。図４で示すように、パワー素子１のＩＧＢＴ１ａは一方の主面にコレクタ電極５０を有し、もう一方の主面にゲート電極５１及びエミッタ電極５２を有している。ＩＧＢＴ１ａは、コレクタ電極５０が金属ブロック３と接するように金属ブロック３に搭載され、接合材９で接合されている。金属ブロック３は例えば銅材から形成されており、接合材９は例えば半田や導電性樹脂などが使用される。また、図４，５で示すように、金属ブロック３のパワー素子１が搭載される面は、搭載されているＩＧＢＴ１ａの中心から離れるほどＩＧＢＴ１ａとの隙間が広くなるような形状をしている。接合材９がこの隙間を埋める結果、ＩＧＢＴ１ａの周辺において、その中心よりも接合材９が厚くなっている。図示していないが、ダイオード１ｂは一方の主面にカソード電極を有し、もう一方の主面にアノード電極を有している。そして、カソード電極が金属ブロック３と接するように金属ブロック３に搭載され、接合材９で接合されている。なお、ダイオード１ｂが搭載されている部分における金属ブロック３の形状についても、搭載されているダイオード１ｂの中心から離れるほどダイオード１ｂとの隙間が広くなっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図７，８は本実施の形態１に係る半導体装置の変形例を示す平面図である。図７で示すように、本実施の形態１に係る半導体装置は、絶縁基板４ｐがＰ側のパワー素子１ｐのすべてに渡って形成されていれば、Ｐ側の金属ブロック３ｐはＮ側の金属ブロック３ｎのように各パワー素子１ｐごとに分離されていても良い。このときＩＧＢＴ１ａｐのコレクタ電極５０は絶縁基板４ｐの金属層５ｐによって互いに電気的に接続される。また図８で示すように、本実施の形態１に係る半導体装置は、金属ブロック３ｐがＰ側のパワー素子１ｐのすべてに渡って形成されていれば、Ｐ側の絶縁基板４ｐはＮ側の絶縁基板４ｎのように各パワー素子１ｐごとに分離されていても良い。このときＩＧＢＴ１ａｐのコレクタ電極５０は金属ブロック３ｐによって互いに電気的に接続される。つまり、金属ブロック３及び絶縁基板４はパワー素子１間の絶縁単位ごとに分離されており、絶縁基板４がその絶縁単位を構成するパワー素子１のすべてに渡って設けられていれば、少なくとも一つのパワー素子１に対応した金属ブロック３が複数設けられても良いし、金属ブロック３がその絶縁単位を構成するパワー素子１のすべてに渡って設けられていれば、少なくとも一つのパワー素子１に対応した絶縁基板４が複数設けられても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図９で示すように、本実施の形態２に係る半導体装置は、パワー素子１，電極端子２ａ，２ｂ，２ｃ，金属ブロック３，樹脂絶縁層１４及び樹脂パッケージ１１を備えている。パワー素子１が搭載された金属ブロック３は、パワー素子１の絶縁単位ごとに設けられている。樹脂絶縁層１４は、パワー素子１と反対側の面で金属ブロック３に形成されており、すべての金属ブロック３に渡って形成されている。言い換えれば、樹脂絶縁層１４の上に複数の金属ブロック３が搭載されている。樹脂絶縁層１４は、例えばシリコン樹脂に充填材としてセラミック粉末を混入したものである。セラミック粉末としては、例えばシリカ，特に結晶性シリカ，アルミナ，窒化アルミニウム，窒化ケイ素，窒化ボロンなどの一種又はそれらを混合した粉末を使用する。また、樹脂絶縁層１４の厚みは、例えば０．２〜０．５ｍｍである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
樹脂パッケージ１１は、例えばエポキシ樹脂が使用されており、樹脂絶縁層１４を露出させつつ、パワー素子１，電極端子２ａ，２ｂ，２ｃ及び金属ブロック３を封止している。そして、樹脂絶縁層１４の露出部分には外部放熱器（図示せず）が取り付けられる。本実施の形態２では、樹脂絶縁層１４を金属ブロック３に形成した後に樹脂パッケージ１１でパワー素子１などを封止したが、金属ブロック３のパワー素子１と反対側の面を露出させつつ、パワー素子１，電極端子２ａ，２ｂ，２ｃ及び金属ブロック３を樹脂パッケージ１１で封止し、金属ブロック３の露出面及びその露出面の周囲の樹脂パッケージ１１を覆うように樹脂絶縁層１４を形成する構造であっても良い。その他の構造については、上述の実施の形態１に係る半導体装置と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月7日(2006.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体要素を形成する方法であって、前記方法は、
（ｉ）第２半導体またはその前駆体を含む液相に懸濁された第１半導体粒子を含む混合物が基板上に生じるように、前記第１半導体の粒子を含む懸濁液および前記第２半導体またはその前駆体を含む溶液を基板表面に積層する工程と、
（ｉｉ）前記第１半導体の隣接粒子を電気的に接続する前記第２半導体のマトリックス中に前記第１半導体の粒子を含む前記半導体要素を形成するための前記混合物を凝固させる工程とを含み、
前記第１および第２半導体が、同じ伝導形式であり、且つ同じかまたは異なる物質から形成される方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記第１および第２の半導体が異種物質であり、前記第２半導体が第１半導体よりも固有電荷担体移動度が低い方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の方法において、
前記第２半導体の溶液に前記第２半導体の溶媒が含まれている方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の請求項の方法において、
前記第２半導体がその前駆体として積層され、
さらに、前記積層混合物を加熱して前記前駆体を前記第２半導体に変換する工程が含まれている方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の方法において、
前記基板上にコロイド状懸濁液として前記半導体粒子を積層する工程を含む方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、
予め積層されたコロイド状懸濁液の上に前記第２半導体またはその前駆体の溶液を引き続き積層する工程を含む方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の方法において、
前記第２半導体またはその前駆体の溶液を液滴の状態で発射して積層することを含む方法。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の方法において、
さらに、前記第２半導体またはその前駆体の溶液を積層する前に、１００〜１５０℃の温度において前記コロイド状半導体を焼きなます工程を含む方法。
【請求項９】
請求項１乃至５のいずれかに記載の項の方法において、
前記第２半導体またはその前駆体の溶液中に前記第１半導体の粒子を分散させ、引き続き、得られた分散体を前記基板の表面に積層する工程を含む方法。
【請求項１０】
請求項１乃至５のいずれかに記載の項の方法において、
前記基板の表面に前記第２半導体またはその前駆体の溶液を積層し、その上に前記第１半導体の前記懸濁液を引き続き積層し、前記混合物を形成する工程を含む方法。
【請求項１１】
隣接半導体粒子を電気的に接続している半導体結合剤のマトリックス中に半導体粒子を含む半導体要素であって、
前記結合剤と粒子とは同じ伝導形式であり、前記結合剤は前記粒子を形成している物質と同じかまたは異なる物質から形成されている半導体要素。
【請求項１２】
請求項１１に記載の半導体要素において、
前記半導体粒子と前記半導体結合剤の容積比が、５０：５０〜９５：５の範囲にある半導体要素。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の項の半導体要素において、
前記粒子および結合剤両方の伝導形式がｎ型である半導体要素。
【請求項１４】
請求項１１または請求項１２に記載の半導体要素において、
前記結合剤がポリ（ベンズアミドアゾベンゾ・フェナンスロリン）、メタノフラーレン［６，６］−フェニルＣ61酪酸メチルエステルまたはポリ［２，３−ジ（ｐ−トリル）−キノキサリン−５，８−ジイル］である半導体要素。
【請求項１５】
請求項１１乃至１３のいずれかに記載の項の半導体要素において、
前記粒子および結合剤両方の伝導形式がｐ型である半導体要素。
【請求項１６】
請求項１１又は１２に記載の半導体要素において、
前記結合剤の分子に共役結合構造が含まれる半導体要素。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれかに記載の半導体要素において、
前記第２半導体の前記分子が固着基または固着部分により前記第１半導体の隣接粒子に連結されている半導体要素。
【請求項１８】
請求項１１乃至１７のいずれかに記載の半導体要素を含む薄膜トランジスター。
【請求項１９】
請求項１１乃至１７のいずれかに記載の半導体要素を含むダイオード。
【請求項２０】
請求項１８に記載の薄膜トランジスター、または請求項１９に記載のダイオードを含む電子装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月5日(2006.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大面積基板を搬送する為の基板用ロボットにおいて、前記基板用ロボットは少なくとも２つのエンドエフェクタを有し、各エンドエフェクタは：
第１共振周波数を有する少なくとも一つの基部と；
第２共振周波数を有する少なくとも一つの先端であって、前記少なくとも一つの基部に結合され、前記基部と前記先端は、実質的に平坦な細長い表面を画成し、前記第１共振周波数及び第２共振周波数は異なる、前記先端と；
を備える、前記基板用ロボット。
【請求項２】
前記基部と前記先端が異なる材料で作成されている、請求項１に記載の基板用ロボット。
【請求項３】
前記基部が、金属、金属マトリックス複合体、金属合金、またはＣＦＲＰで作成されている、請求項２に記載の基板用ロボット。
【請求項４】
前記先端がセラミックで作成されている、請求項２に記載の基板用ロボット。
【請求項５】
前記基部と前記先端が同一の材料で作成されている、請求項１に記載の基板用ロボット。
【請求項６】
前記基部と前記先端がセラミックで作成されている、請求項５に記載の基板用ロボット。
【請求項７】
前記基部と前記先端上に形成された低放射率コーティングを更に備える、請求項１に記載の基板用ロボット。
【請求項８】
前記コーティングが、前記基部および前記先端上にスパッタリングまたはメッキしたもののいずれか一方である、請求項７に記載の基板用ロボット。
【請求項９】
前記コーティングがアルミニウム、クロム、またはニッケルで形成されている、請求項７に記載の基板用ロボット。
【請求項１０】
前記コーティングに形成された複数の応力解放溝を更に備える、請求項７に記載の基板用ロボット。
【請求項１１】
前記基部と前記先端の間に挟持されたパッドを更に備える、請求項１に記載の基板用ロボット。
【請求項１２】
前記パッドがゴムまたはアルミニウムフィルムで作成されている、請求項１１に記載の基板用ロボット。
【請求項１３】
前記基部及び前記先端に結合された複数のシールド部を更に備える、請求項１に記載の基板用ロボット。
【請求項１４】
前記複数のシールド部の各々は、約０．０４から約０．１１の放射率を有する、請求項１３に記載の基板用ロボット。
【請求項１５】
大面積基板を搬送する為の基板用ロボットにおいて、前記基板用ロボットは少なくとも２つのエンドエフェクタを有し、各エンドエフェクタは：
第１端部に形成された貫板を有する基部と；
先端と；
前記基部の前記第１端部に前記先端を結合する固定手段であって、前記先端及び前記基部は、異なる共振周波数を有するセラミックで形成され、前記先端及び前記基部の上面は、実質的に平坦面を画成する、前記基板用ロボット。
【請求項１６】
前記固定手段は、少なくとも一つのボルトである、請求項１５に記載の基板用ロボット。
【請求項１７】
前記基部及び前記先端の間に挟まれたパッドを更に備える、請求項１５に記載の基板用ロボット。
【請求項１８】
前記パッドが金属またはゴムで作成されている、請求項１７に記載の基板用ロボット。
【請求項１９】
前記基部は、前記基板用ロボットのリストに結合するように適合された第２端部を有する、請求項１５に記載の基板用ロボット。
【請求項２０】
前記基部及び前記先端に結合された複数のシールド部を更に備える、請求項１５に記載の基板用ロボット。
【請求項２１】
前記複数のシールド部の各々は、約０．０４から約０．１１の放射率を有する、請求項２０に記載の基板用ロボット。
【請求項２２】
大面積基板を搬送する為の基板用ロボットにおいて、前記基板用ロボットは少なくとも２つのエンドエフェクタを有し、各エンドエフェクタは：
第１端部に形成された貫板を有する基部と；
先端と；
前記基部の前記第１端部に前記先端を結合する固定手段であって、前記先端及び前記基部は、異なる共振周波数を有するセラミックで形成され、前記先端及び前記基部の上面は、それらに結合された複数のシールド部を有し、前記先端及び前記基部の前記上面から離間された基板受容面を画成する、前記基板用ロボット。
【請求項２３】
前記複数のシールド部の各々は、前記基部及び前記先端に、ネジ留め、ボルト留め、溶接、接着、糊付け、或いはこれらの組合せにより固定される、請求項２２に記載の基板用ロボット。
【請求項２４】
前記複数のシールド部の各々は、約０．０４から約０．１１の放射率を有する、請求項２２に記載の基板用ロボット。
【請求項２５】
前記固定手段は、少なくとも一つのボルトである、請求項２２に記載の基板用ロボット。
【請求項２６】
前記パッドがゴムまたはアルミニウムフィルムで作成されている、請求項２２に記載の基板用ロボット。
【請求項２７】
前記パッドがゴムまたは金属で作成されている、請求項２６に記載の基板用ロボット。
【請求項２８】
前記基部は、前記基板用ロボットのリストに結合するように適合された第２端部を有する、請求項２２に記載の基板用ロボット。
【請求項２９】
基板を搬送する方法において：
エンドエフェクタアセンブリ上に基板を支持するステップであって、このアセンブリが、
リスト部、
リスト部の第１側部と結合した基部、
リスト部と反対側の基部と結合した先端であって、この先端と基部が第１エンドエフェクタを画成する先端、
第１エンドエレクタと離間しているリスト部の第１側部と結合した第２エンドエフェクタ、
を備える前記ステップと；
基板を基板支持部へ搬送するステップと；
を含む方法。
【請求項３０】
エンドエフェクタアセンブリが、搬送チャンバ内に配置した基板搬送ロボットの一部である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
エンドエフェクタアセンブリを製造する方法において：
第１側部を有するリスト部を提供するステップと；
基部をリスト部の第１側部と結合するステップと；
先端をリスト部の反対側の基部と結合するステップであって、この先端と基部が、第１共振周波数を有する第１エンドエフェクタを画成するステップと；
第２エンドエフェクタを、第１エンドエフェクタと離間しているリスト部の第１側部と結合するステップであって、この第２エンドエフェクタが、第１共振周波数と異なる第２共振周波数を有するステップと；
を含む方法。
【請求項３２】
基部と先端の間に振動減衰パッドを挿入するステップを更に含む、請求項３１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月12日(2006.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
また、本実施の形態によれば、通気膜６５の外端部Ｃ点と通気穴９１の内側下端部Ａ点とを結んだ直線上または直線より内側に通気穴９１の外側上端部Ｂ点が位置しており、これにより、故意的な通気膜６５への負荷に対しても通気膜６５を保護することが可能であり、通気膜６５の損傷を軽減することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2006041304.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月18日(2006.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板を用意する工程と、
該半導体基板上に第１層間絶縁膜を形成する工程と、
該第１層間絶縁膜上にメタル層、第１導電体層、強誘電体層及び第２導電体層を順次に積層してキャパシタ形成用積層膜を形成する工程と、
該キャパシタ形成用積層膜上にタンタル酸ストロンチウム又はニオブ酸ストロンチウムからなるエッチングマスク形成用膜を形成する工程と、
該エッチングマスク形成用膜上に強誘電体キャパシタ被形成領域を覆うシリコン酸化膜マスクを形成する工程と、
該シリコン酸化膜マスクを用いてエッチングマスク形成用膜に対するウェットエッチングを行うことにより、エッチングマスクを形成する工程と、
該エッチングマスクを用いて前記キャパシタ形成用積層膜に対してドライエッチングを行うことにより、バリアメタル、下部電極、強誘電体膜、及び上部電極を備える積層体を形成する工程と
を備えることを特徴とする強誘電体キャパシタの製造方法。
【請求項２】
前記積層体を形成する工程の後、
前記積層体上にタンタル酸ストロンチウム又はニオブ酸ストロンチウムからなるエッチストップ膜を形成する工程と、
前記第１層間絶縁膜及び前記エッチストップ膜上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
該第２層間絶縁膜の部分であって、前記エッチストップ膜上の部分にコンタクトホールを設ける工程と、
ウェットエッチングにより、前記エッチストップ膜に開口部を設ける工程と
を備えることを特徴とする請求項１に記載の強誘電体キャパシタの製造方法。
【請求項３】
前記積層体を形成する工程の後、
前記第１層間絶縁膜及び前記エッチングマスク上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
該第２層間絶縁膜の前記エッチングマスク上の部分に、前記エッチングマスクをエッチストップ膜としてコンタクトホールを設ける工程と、
ウェットエッチングにより、前記エッチングマスクに開口部を設ける工程と
を備えることを特徴とする請求項１に記載の強誘電体キャパシタの製造方法。
【請求項４】
前記ウェットエッチングを硝酸、フッ酸及び酢酸の混合酸で行うこと
を特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の強誘電体キャパシタの製造方法。
【請求項５】
前記ウェットエッチングを硝酸及びフッ酸の混合酸で行うこと
を特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の強誘電体キャパシタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（第１実施形態）
図１〜３を参照して、第１実施形態の強誘電体キャパシタの製造方法について説明する。図１〜３は、第１実施形態の強誘電体キャパシタの製造方法を説明するための概略的断面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（第２実施形態）
図４及び図５を参照して第２実施形態の強誘電体キャパシタの製造方法について説明する。図４及び５は、第２実施形態の強誘電体キャパシタの製造方法を説明するための概略的断面図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
（第３実施形態）
図６を参照して第３実施形態の強誘電体キャパシタの製造方法について説明する。図６は、第３実施形態の強誘電体キャパシタの製造方法を説明するための概略的断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月6日(2006.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、前記負荷加重と前記浮上力との均衡により記録媒体との間に隙間をつくるスライダーと、
前記スライダーが前記サスペンションアームに対する姿勢を変化し得るフレクシャー構造と、
前記スライダーに形成され、前記スライダーに光を入射する光入射口あるいは前記スライダーから光を出射する光出射口と、
前記スライダー内部において前記光入射口から前記スライダー底面まで、あるいは前記スライダー底面から前記光出射口まで光を導くスライダー内導光構造と、から成り、
前記スライダーが前記記録媒体表面を走査するときに、光を介して前記記録媒体と前記スライダーが相互作用することによって情報の記録および再生を行う記録装置用スライダーおよびフレクシャーにおいて、
前記スライダーは、前記フレクシャー構造で設けたローリング支持軸とピッチング支持軸のうち少なくともいずれか一方が遙動軸となって前記サスペンションアームに対して姿勢を変化し、前記光入射口あるいは前記光出射口が、前記ローリング支持軸と前記ピッチング支持軸のうち少なくともいずれかの前記遙動軸に近接または一致するように配置されていることを特徴とする情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項２】  前記スライダーの底面部に、近視野光を介して記録媒体と相互作用する微小構造が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項３】  前記ローリング支持軸と前記ピッチング支持軸とは、方向が直行するように配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項４】  前記スライダーが、前記遙動軸を含む面が前記スライダーの外部に露出している構造を持つことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項５】  前記スライダーが、前記遙動軸を含む面が前記スライダーの外部に光学的に露出している構造を持つことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項６】  前記スライダー内導光構造が光導波路からなることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項７】  入射光あるいは出射光を伝播する構造が前記光入射口あるいは前記光出射口に近接して配置されたものであることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【請求項８】  前記光入射口に入射する光あるいは前記光出射口から出射する光が前記フレクシャーにおける前記遙動軸に直交することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の情報記録および再生装置用スライダーおよびフレクシャー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  画像形成装置と、該画像形成装置と接続する通信アダプタ装置と、該通信アダプタ装置と通信回線を介して接続し、前記通信アダプタ装置を介して前記画像形成装置を遠隔で制御管理するセンタ装置とからなる画像形成装置管理システムにおいて、
前記通信アダプタ装置に、端末装置との接続インタフェイス手段を設け、
該接続インタフェイス手段に前記端末装置を接続し、
該端末装置に、前記通信アダプタ装置を介して前記画像形成装置の内部データを取得し、該内部データを記憶装置に蓄積して管理する内部データ管理手段を設けたことを特徴とする画像形成装置管理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  請求項１又は２記載の画像形成装置管理システムにおいて、
前記端末装置を、携帯型端末装置にしたことを特徴とする画像形成装置管理システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】  請求項１又は２記載の画像形成装置管理システムにおいて、
前記端末装置に、ローカルエリアネットワークを介して複数のクライアント端末装置を接続し、該各クライアント端末装置に対してサービスを実現するサーバ手段と、前記各クライアント端末装置に対して前記記憶装置への内部データの読み書きを許可する手段とを設けたことを特徴とする画像形成装置管理システム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】  請求項３記載の画像形成装置管理システムにおいて、
前記携帯型端末装置に、電波によるデータ通信が可能な移動体通信装置を接続する手段と、該手段に接続された移動体通信装置を介して前記センタ装置と前記内部データの送受信を行なうようにしたことを特徴とする画像形成装置管理システム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】  画像形成装置と、該画像形成装置と接続する通信アダプタ装置と、該通信アダプタ装置と通信回線を介して接続し、前記通信アダプタ装置を介して前記画像形成装置を遠隔で制御管理するセンタ装置とからなる画像形成装置管理システムにおいて、
前記画像形成装置に、端末装置を接続し、
該端末装置に、前記画像形成装置の内部データを取得し、該内部データを記憶装置に蓄積して管理する内部データ管理手段を設けたことを特徴とする画像形成装置管理システム。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  請求項１１記載の画像形成装置管理システムにおいて、
前記端末装置に、ローカルエリアネットワークを介して複数のクライアント端末装置を接続し、該各クライアント端末装置に対してサービスを実現するサーバ手段と、前記各クライアント端末装置に対して前記記憶装置への内部データの読み書きを許可する手段とを設けたことを特徴とする画像形成装置管理システム。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【課題を解決するための手段】
この発明は上記の目的を達成するため、画像形成装置と、その画像形成装置と接続する通信アダプタ装置と、その通信アダプタ装置と通信回線を介して接続し、上記通信アダプタ装置を介して上記画像形成装置を遠隔で制御管理するセンタ装置とからなる画像形成装置管理システムにおいて、上記通信アダプタ装置に、端末装置との接続インタフェイス手段を設け、その接続インタフェイス手段に上記端末装置を接続し、その端末装置に、上記通信アダプタ装置を介して上記画像形成装置の内部データを取得し、その内部データを記憶装置に蓄積して管理する内部データ管理手段を設けたものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
さらに、上記のような画像形成装置管理システムにおいて、上記端末装置を、携帯型端末装置にするとよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また、上記のような画像形成装置管理システムにおいて、上記端末装置に、ローカルエリアネットワークを介して複数のクライアント端末装置を接続し、その各クライアント端末装置に対してサービスを実現するサーバ手段と、上記各クライアント端末装置に対して上記記憶装置への内部データの読み書きを許可する手段を設けるとよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、上記のような画像形成装置管理システムにおいて、上記携帯型端末装置に、電波によるデータ通信が可能な移動体通信装置を接続する手段と、その手段に接続された移動体通信装置を介して上記センタ装置と上記内部データの送受信を行なうようにするとよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
さらに、画像形成装置と、その画像形成装置と接続する通信アダプタ装置と、その通信アダプタ装置と通信回線を介して接続し、上記通信アダプタ装置を介して上記画像形成装置を遠隔で制御管理するセンタ装置とからなる画像形成装置管理システムにおいて、上記画像形成装置に、端末装置を接続し、その端末装置に、上記画像形成装置の内部データを取得し、その内部データを記憶装置に蓄積して管理する内部データ管理手段を設けたものも提供する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
また、上記のような画像形成装置管理システムにおいて、上記端末装置に、ローカルエリアネットワークを介して複数のクライアント端末装置を接続し、その各クライアント端末装置に対してサービスを実現するサーバ手段と、上記各クライアント端末装置に対して上記記憶装置への内部データの読み書きを許可する手段を設けるとよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月26日(2006.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  背景音楽を再生しつつ、入力された情報の合成音声による読
み上げを行う音声合成システムにおいて、
前記入力された情報の内容に応じて前記背景音楽の再生条件を変更する第１の
変更手段を備えていることを特徴とする音声合成システム。
【請求項２】 情報の内容に対応させて、前記背景音楽の再生条件を変更す
るための変更データが格納された格納手段を備え、
前記第１の変更手段が、前記入力された情報の内容に対応した変更データを前
記格納手段から読み出し、読み出した前記変更データに基づいて前記再生条件を
変更するものであることを特徴とする請求項１記載の音声合成システム。
【請求項３】  入力された情報の合成音声による読み上げを開始音の出力後
に行う音声合成システムにおいて、
前記入力された情報の内容に応じて前記開始音の出力条件を変更する第２の変
更手段を備えていることを特徴とする音声合成システム。
【請求項４】  入力された情報を合成音声により読み上げるとともに該情報
を背景画像上に文字にて画面表示する音声合成システムにおいて、
前記入力された情報の内容に応じて前記背景画像の表示条件を変更する第３の
変更手段を備えていることを特徴とする音声合成システム。
【請求項５】  背景音楽を再生しつつ、前記入力された情報の合成音声によ
る読み上げを行うものからなり、
前記第３の変更手段に加えて、前記情報の内容に応じて前記背景音楽の再生条
件を変更する第４の変更手段を備えていることを特徴とする請求項４記載の音声
合成システム。
【請求項６】  前記情報の内容が、該情報の長さ、該情報の種類、該情報の
重要度、該情報の緊急度、該情報の新旧度のいずれか一つ又はこれらの中の二つ
以上の組み合わせで構成されるものであることを特徴とする請求項１〜５のいず
れかの項に記載の音声合成システム。
【請求項７】  ユーザーの選択により入力される複数の情報それぞれを合成
音声により読み上げる音声合成システムにおいて、
前記複数の情報全ての取り込みが完了するまで待機することなく、取り込みが
完了した情報から読み上げる読み上げ処理手段を備えていることを特徴とする音
声合成システム。
【請求項８】  前記情報を読み上げている間に、前記複数の情報の中で前記
読み上げている情報とは別の情報の取り込みが完了した場合、該取り込みの完了
を報知する取り込み完了報知手段を備えていることを特徴とする請求項７記載の
音声合成システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその効果】
上記課題を解決するために本発明に係る音声合成システム（１）は、背景音楽
を再生しつつ、入力された情報の合成音声による読み上げを行う音声合成システ
ムにおいて、前記入力された情報の内容に応じて前記背景音楽の再生条件を変更
する第１の変更手段を備えていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明に係る音声合成システム（３）は、入力された情報の合成音声に
よる読み上げを開始音の出力後に行う音声合成システムにおいて、前記入力され
た情報の内容に応じて前記開始音の出力条件を変更する第２の変更手段を備えて
いることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明に係る音声合成システム（５）は、入力された情報を合成音声に
より読み上げるとともに該情報を背景画像上に文字にて画面表示する音声合成シ
ステムにおいて、前記入力された情報の内容に応じて前記背景画像の表示条件を
変更する第３の変更手段を備えていることを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明に係る音声合成システム（７）は、上記音声合成システム（５）
又は（６）において、背景音楽を再生しつつ、前記入力された情報の合成音声に
よる読み上げを行うものからなり、前記第３の変更手段に加えて、前記情報の内
容に応じて前記背景音楽の再生条件を変更する第４の変更手段を備えていること
を特徴としている。