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【手続補正書】
【提出日】平成18年10月2日(2006.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂と発泡剤と架橋剤とを含む発泡性シートであって、熱可塑性樹脂がランダム系ポリプロピレン樹脂であり、発泡剤の分解温度が１４０〜１８０℃であり、発泡温度が１８０℃以下であることを特徴とする発泡性シート。
【請求項２】
ランダム系ポリプロピレン樹脂がプロピレン・エチレンのランダム共重合体からなり、共重合体中に含まれるエチレン量が5重量％以下であることを特徴とする請求項１に記載
の発泡性シート。
【請求項３】
ランダム系ポリプロピレン樹脂がプロピレン・エチレン・1 -ブテンの３元ランダム共
重合体からなり、共重合体中に含まれるエチレン量が3重量％以下、ブテン量が4重量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の発泡性シート。
【請求項４】
熱可塑性樹脂１００重量部に対して、１〜１０重量部の発泡剤および０．０１〜１．０重量部の架橋剤を含むことを特徴とする請求項２または３に記載の発泡性シート。
【請求項５】
請求項４に記載の発泡性シートを発泡させ、かつ架橋してなることを特徴とする発泡成形体。
【請求項６】
請求項４に記載の発泡性シートの片面または両面に、無機または高分子材料を一体的に積層してなることを特徴とする発泡性を有する成形用積層体。
【請求項７】
分解温度が１５０〜１７０℃である発泡剤を用いること特徴とする、請求項４に記載の発泡性シートまたは請求項６に記載の発泡性を有する成形用積層体。
【請求項８】
分解温度が１５０〜１７０℃である発泡剤を用い、かつ１６０〜１８０℃で発泡を行なうことを特徴とする、請求項４に記載の発泡性シートの製造方法または請求項６に記載の発泡性を有する成形用積層体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、省エネルギー化の時代の要請に答えるべく、低熱量・低温度条件等による加熱発泡成形用シートの開発を行い提案するものである。具体的には発泡性シートの発泡温度条件を、160〜180℃の比較的低めに設定し、例えば塗装工程の温度条件等で加熱発泡させることで、適度に剛性を付与し、横持性の良い、各種外装材・内装材を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の成形用発泡性シートは、プロピレン系ランダム共重合体からなる熱可塑性樹脂を発泡させてなる発泡性シートであって、熱可塑性樹脂がランダム系ポリプロピレン樹脂であり、発泡温度が180℃以下であることを特徴とする発泡性シートである。
本発明のプロピレン系ランダム共重合体は、プロピレンとα−オレフィンを少なくともモノマー単位として含み、示差走査型熱量計で測定した融点が125〜155℃の範囲にあるものをいう。
本発明のプロピレン系ランダム共重合体は、下記の構成を好ましい態様としてあげることができる；
（１）プロピレンとエチレンとのランダム共重合体であって、エチレン含量が5重量％以
下、示差走査型熱量計で測定した融点が130〜155℃のもの。
（２）プロピレンとエチレンの他に5重量％以下の他のα−オレフィンとの３元ランダム
共重合体であって、示差走査型熱量計で測定した融点が125〜150℃であり、結晶性のもの。プロピレン・エチレン・1-ブテンの３元ランダム共重合体であって、共重合体中に含まれるエチレン量が3重量%以下、ブテン量が4重量％以下であるものがとりわけ好ましい。
さらに、当該プロピレン樹脂（Ａ）の100重量部に対して発泡剤（Ｂ）が１〜１０重量部
の割合で用いられる発泡性シートが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の成形用積層体の製造に用いる発泡性材料の主成分であるプロピレン系樹脂は、ランダム系ポリプロピレンおよび３元ランダム系ポリプロピレンで、特定の範囲のMFRを持
つ材料であって、発泡剤の分解温度が150〜170℃のものを選定することで、加熱温度が170〜180℃で発泡倍率の高い発泡層をもった成形体が得られる。発泡性材料に発泡剤を混練するに先立って架橋を行った場合には、架橋剤および架橋条件また発泡剤などの選択範囲が広い。これらの利益は、すでに開示した発明においてみられるものであって、本発明ではそれがすべて享受できる。
[発明を実施するための最良の形態]
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
発泡剤（Ｂ）は、分解温度が140〜180℃、好ましくは150〜170℃のものである。分解温度が140℃未満のものは、混練押出し時の樹脂温度よりも発泡分解温度が低いため、押出機
出口で分解が始まり、気泡を巻き込んだシートとなる。このため、後工程での加熱発泡成形時において、二次発泡に寄与する発泡剤の量が不足して気泡径が大きくなるばかりでなく、所望の発泡倍率が得られない。一方、分解温度が180℃を越えるものは、加熱温度条
件が170〜180℃の範囲では分解に必要な熱量が不足し、発泡倍率が低くなると共にシートの熱収縮が進み、所望の形状・板厚の成形体が得られない。
発泡剤（Ｂ）の量が上記範囲を逸脱して少なすぎると発泡倍率が２倍以上の発泡体が得られず、一方、上記範囲を越え多すぎると、発生ガスの膨張力が大きくなり過ぎ、溶融樹脂膜の伸長性が不足し該膜が破れ始めるためガスが逃失し、ガスの有効利用率が低下して発泡倍率が低下する上、独立気泡度が低下する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
まず、プロピレンパウダーに安定剤を入れ、高速混合機（ヘンシェルミキサー）を用いて１分間混合した後、次に架橋剤と架橋助剤を加えて、高速混合機（ヘンシェルミキサー）を用いて１分間混合し、最後に発泡剤を加えて再び高速混合機（ヘンシェルミキサー）を用いて１分間混合し、発泡性材料を準備した。
こうして得た発泡性材料を、押出機に開口幅500mm、開口厚さ1mmのコートハンガー型のダイを装着したものを用いて、樹脂温度160℃、スクリュー回転数40rpmの条件で押出して厚さ1mmの未発泡シート原反を得、次に定尺に裁断した。
このようにして用意した発泡性シートを、肉厚0.3mmのアルミ板上に載せ、170℃、および180℃の2水準の温度条件に設定したオーブン中で30分間加熱しフリー発泡条件で二次発泡させた。その後オーブン外に取り出し、自然冷却し発泡成形体を得た。
発泡成形体の発泡倍率を水中置換法による比重から求めたところ、170℃の温度条件で4.3倍、180℃条件で5.9倍となっていた。
[実施例２]
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】物品残量在庫管理発注方法および物品残量在庫管理発注システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
残量監視用センサからのデータによって物品の残量を管理し、
前記物品の在庫を管理し、
前記残量の管理によって得られた前記物品の残量データを前記在庫の管理によって得られた在庫データに反映させ、
前記残量データが反映された前記在庫データに基づき前記物品を発注することを特徴とする物品残量在庫管理発注方法。
【請求項２】
請求項１において、
ＩＣタグまたは在庫管理用センサを用いて少なくとも前記在庫データを含む情報を得ることにより、前記在庫の管理を行うことを特徴とする物品残量在庫管理発注方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記在庫管理用センサは少なくとも前記在庫データを含む情報を無線で送信する無線機能を有することを特徴とする物品残量在庫管理発注方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項において、
前記物品が使用され該物品の残量が検知される場所と、前記物品が保管され該物品の在
庫が管理される場所とは、互いに異なることを特徴とする物品残量在庫管理発注方法。
【請求項５】
センサネットワークを用いる物品残量在庫管理発注システムであって、
物品の使用状況および前記物品の在庫状況の計測結果を、前記センサネットワークを介して取得する計測結果取得部と、
前記使用状況および前記在庫状況の計測結果に基づいて、前記物品の補充、交換、および前記物品の発注の少なくとも１つの必要性を判定する交換発注判定部と、
前記交換発注判定部による判定結果に基づいて、前記物品の補充、交換、発注、および
購買支援の少なくとも１つを行う発注処理部と、
を具備して成ることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項６】
請求項５において、
前記使用状況は、前記物品の使用場所における残量、劣化度、および消費期限までの時間の少なくとも何れかであることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項７】
請求項５または６において、
無線通信機能付き読取器または無線通信機能付きセンサ、及び無線通信機能付きICタグをさらに備え、
前記物品の在庫状況は、前記物品に付加されている無線通信機能付きICタグに書き込まれている前記物品の所定の情報を、前記保管場所またはその近傍に設置されている前記無線通信機能付き読取器または前記無線通信機能付きセンサを用いて計測されることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項８】
請求項７において、
前記無線通信機能付きICタグは、前記物品の開封時に無線通信不能となるよう前記物品に付加されていることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項９】
請求項７において、
前記無線通信機能付きICタグの識別子を書き換えるタグ書き込み器をさらに備えることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項１０】
請求項５乃至９において、
記録部を更に備え、
前記交換発注判定部は、前記物品の残量値が前記記録部に記録されている所定の交換時期残量値以下の場合、前記補充あるいは交換と判定して通知し、
前記物品の残量と在庫量との合計値が前記記録部に記録されている所定の発注時期の残量と在庫量との合計値以下である場合に前記発注が必要と判定して通知することを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記交換発注判定部は、更に前記記録部に記録されている特定時間単位の使用量を用いて、補充、交換及び発注が必要となる時期の予測結果を通知することを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項１２】
請求項５乃至１１において、
前記物品残量在庫管理発注システムは承認者サーバを有し、
前記発注処理部は、前記物品の発注先として物品毎に、前記記録部に記録されている
業者から所定の条件を満たす少なくとも１の業者を選択し、
上記選択された業者への発注は、前記発注処理部または前記承認者サーバが発注し、
前記物品を発注しない指定を前記発注処理部が受けるよう構成されていることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記業者の選択は、前記物品の価格、納期、およびサービスの少なくとも１つを含む所
定の物品情報の評価結果に基づき指定される選択条件に適合するように行われることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項１４】
請求項１２または１３において、
前記物品残量在庫管理発注システムはさらに携帯端末、通報装置及び受信装置を有し、
前記発注処理部は、前記物品を発注しない指定を受けると、前記物品に係る所定の物品情報を取得し、前記物品の物品名、価格、および購入業者名の少なくとも１つを含む情報を記録した買い物リストを受信し、該受信した買い物リストをプリントアウトまたは前記携帯端末に送信し、
前記発注処理部が前記買い物リストにある物品の陳列場所を前記携帯端末に通知すること、および該携帯端末が受信した前記買い物リストを前記受信装置に送信し、前記受信装置が前記物品の陳列場所に設置された通報装置に前記買い物リスト送信し、前記通報装置が受信した前記買い物リストに基づいて前記携帯端末に前記物品陳列場所を通知すること、の少なくとも一方を行うことを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【請求項１５】
請求項５乃至１４において、
前記物品の使用状況及び在庫状況は、残量監視用センサ及び在庫管理量センサを用いて計測し、
前記残量監視用センサまたは前記在庫管理用センサの電源は、外部電源、該残量監視用センサ及び前記在庫管理用センサが内蔵する電池、発電機能を有する残量監視用センサ及び前記在庫管理用センサの電源部、の少なくとも何れかから供給されることを特徴とする物品残量在庫管理発注システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月28日(2006.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動される給送ローラ軸に設けられ、被記録媒体と接して回転することにより被記録媒体を下流側に給送する給送ローラと、
被記録媒体を支持するとともに、被記録媒体を前記給送ローラに圧接させる状態と、前記給送ローラから離間させる状態とを揺動することによって変化可能に設けられるホッパと、
前記ホッパの下端と対向して、傾斜姿勢にセットされる被記録媒体先端を下方から支持する先端支持面及び前記給送ローラと対向して被記録媒体先端を下流側へ案内するガイド面を有するガイド部材と、
を備えるとともに、前記ホッパの揺動動作に伴い、前記ホッパに支持された被記録媒体の先端が前記先端支持面と摺接するよう構成された被記録媒体給送装置であって、
前記ホッパの揺動中心が、前記ホッパが被記録媒体を支持する支持面に対して前記給送ローラの側に位置する様に設けられている、
ことを特徴とする被記録媒体給送装置。
【請求項２】
請求項１において、前記揺動中心が、被記録媒体の最大セット枚数時における最上位の被記録媒体の成す平面近傍に位置している、
ことを特徴とする被記録媒体給送装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記先端支持面が、前記ホッパの下端部が前記ホッパの揺動動作によって描く軌跡に沿う様な曲面に形成されている、
ことを特徴とする被記録媒体給送装置。
【請求項４】
被記録媒体に記録を行う記録部を備えた記録装置であって、請求項１から３のいずれか１項に記載された前記被記録媒体給送装置を備えている、
ことを特徴とする記録装置。
【請求項５】
回転駆動される給送ローラ軸に設けられ、被噴射媒体と接して回転することにより被噴射媒体を下流側に給送する給送ローラと、
被噴射媒体を支持するとともに、被噴射媒体を前記給送ローラに圧接させる状態と、前記給送ローラから離間させる状態とを揺動することによって変化可能に設けられるホッパと、
前記ホッパの下端と対向して、傾斜姿勢にセットされる被噴射媒体先端を下方から支持する先端支持面及び前記給送ローラと対向して被噴射媒体先端を下流側へ案内するガイド面を有するガイド部材と、
前記給送ローラの下流側に設けられ、被噴射媒体を下流側に搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の下流側に設けられ、被噴射媒体に液体噴射を行う液体噴射手段と、を有するとともに、前記ホッパの揺動動作に伴い、前記ホッパに支持された被噴射媒体の先端が前記先端支持面と摺接するよう構成された液体噴射装置であって、
前記ホッパの揺動中心が、前記ホッパが被噴射媒体を支持する支持面に対して前記給送ローラの側に位置する様に設けられている、
ことを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月2日(2006.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
側面視Ｄ形状の給送ローラと、該給送ローラと対向して設けられるリタードローラとを備える媒体分離装置であって、
前記給送ローラへの媒体案内路における、前記給送ローラとリタードローラとのニップ点直前の間口部に、前記間口部の左右両側から対向して延びる間口規制部材が設けられ、
前記間口規制部材は、前記間口部へ案内される被記録媒体の先端が当接する当接規制部と、前記当接規制部の上端から前記ニップ点側へ延びる媒体案内面とを備え、
前記媒体案内面は、側面視で、前記給送ローラの外周面との間に被記録媒体の案内方向に沿ってその入口部から前記被記録媒体の給送方向下流に向かってほぼ一様な隙間が出来る面形状であり、
前記給送ローラの被記録媒体に接触を開始する始端側には被記録媒体の前記隙間への飛び込みを防止する飛び込み防止部が設けられていることを特徴とする媒体分離装置における間口規制装置。
【請求項２】
請求項１に記載の媒体分離装置における間口規制装置において、前記被記録媒体の飛び込み防止部は、給送ローラの外周面の始端側に形成された膨張部であることを特徴とする媒体分離装置における間口規制装置。
【請求項３】
請求項１に記載の媒体分離装置における間口規制装置において、前記被記録媒体の飛び込み防止部は、給送ローラの外周面の両側に設けられたフランジ部の始端側に形成された膨張部であることを特徴とする媒体分離装置における間口規制装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の媒体分離装置における間口規制装置において、前記膨張部は、前記給送ローラとリタードローラとによる最初の被記録媒体のニップ点よりも回転方向の前に位置していることを特徴とする媒体分離装置における間口規制装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の媒体分離装置における間口規制装置を備えることを特徴とする記録装置。
【請求項６】
側面視Ｄ形状の給送ローラと、該給送ローラと対向して設けられるリタードローラとを備える媒体分離装置において、
前記給送ローラへの媒体案内路における、前記給送ローラとリタードローラとのニップ点直前の間口部に、前記間口部の左右両側から対向して延びる間口規制部材が設けられ、
前記間口規制部材は、前記間口部へ案内される被噴射媒体の先端が当接する当接規制部と、前記当接規制部の上端から前記ニップ点側へ延びる媒体案内面とを備え、
前記媒体案内面は、側面視で前記給送ローラの外周面との間に被噴射媒体の案内方向に沿ってその入口部から前記被噴射媒体の給送方向下流に向かってほぼ一様な隙間が出来る面形状であり、
前記給送ローラの被噴射媒体に接触を開始する始端側には被噴射媒体の前記隙間への飛び込みを防止する飛び込み防止部が設けられていることを特徴とする媒体分離装置における間口規制装置。
【請求項７】
請求項６に記載の媒体分離装置における間口規制装置を備えることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項８】
側面視Ｄ形状の給送ローラを構成要素とする媒体分離装置であって、
前記給送ローラへの媒体案内路における、前記給送ローラによる媒体分離位置となるニップ点直前の間口部に、前記間口部の左右両側から対向して延びる間口規制部材が設けられ、
前記間口規制部材は、前記間口部へ案内される被記録媒体の先端が当接する当接規制部と、前記当接規制部の上端から前記ニップ点側へ延びる媒体案内面とを備え、
前記媒体案内面は、側面視で、前記給送ローラの外周面との間に被記録媒体の案内方向に沿ってその入口部から前記被記録媒体の給送方向下流に向かってほぼ一様な隙間が出来る面形状であり、
前記給送ローラの被記録媒体に接触を開始する始端側には被記録媒体の前記隙間への飛び込みを防止する飛び込み防止部が設けられていることを特徴とする媒体分離装置における間口規制装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月1日(2006.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレベータ昇降路内に互いに対向するように配置された一対のガイドレールのそれぞれに設けられたガイドレール固定部と、
前記ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能であるとともに、前記ガイドレール固定部間に連結される連結手段と、
を備えたことを特徴とするエレベータ緩衝器の支持装置。
【請求項２】
連結手段は、
各ガイドレール固定部に設けられた端部繋ぎ材と、
前記各端部繋ぎ材を連結するとともに、前記端部繋ぎ材に対して複数の位置に取付可能な中央部繋ぎ材と、
を備えたことを特徴とする請求項１に記載のエレベータ緩衝器の支持装置。
【請求項３】
連結手段は所定の棒状を呈し、緩衝器の設置位置の両側に配置されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のエレベータ緩衝器の支持装置。
【請求項４】
エレベータ昇降路内に互いに対向するように配置された一対のガイドレールのそれぞれに設けられたガイドレール固定部間に連結され、前記ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能で、且つ、前記ガイドレール固定部から取外し可能なことを特徴とするエレベータ緩衝器の支持装置用連結手段。
【請求項５】
請求項４において、複数の固定穴を有することによって、ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能なことを特徴とするエレベータ緩衝器の支持装置用連結手段。
【請求項６】
請求項４において、長穴及び位置決め手段を有することによって、ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能なことを特徴とするエレベータ緩衝器の支持装置用連結手段。
【請求項７】
ガイドレール固定部にそれぞれの一端部が設けられる２つの端部繋ぎ材と、
この２つの端部繋ぎ材のそれぞれの他端部に設けられ、前記２つの端部繋ぎ材を連結する中央部繋ぎ材と
を備えたことを特徴とする請求項４〜請求項６の何れかに記載のエレベータ緩衝器の支持装置用連結手段。
【請求項８】
前記端部繋ぎ材及び前記中央部繋ぎ材は、断面がＬ字状を呈することを特徴とする請求項７に記載のエレベータ緩衝器の支持装置用連結手段。
【請求項９】
エレベータ昇降路内に互いに対向するように配置された一対のガイドレールのそれぞれに設けられたガイドレール固定部間に、前記ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能な連結手段を連結する工程と、
前記ガイドレール固定部間に連結された前記連結手段を利用して、緩衝器を前記昇降路のピットに設置する工程と、
前記緩衝器を設置した後、前記ガイドレール固定部から前記連結手段を取り外す工程と、
を備えたことを特徴とするエレベータ緩衝器の支持装置の設置方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明に係るエレベータ緩衝器の支持装置は、エレベータ昇降路内に互いに対向するように配置された一対のガイドレールのそれぞれに設けられたガイドレール固定部と、ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能であるとともに、ガイドレール固定部間に連結される連結手段と、を備えたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明は、以上説明したように、エレベータ昇降路内に互いに対向するように配置された一対のガイドレールのそれぞれに設けられたガイドレール固定部と、ガイドレール間距離に対応してその長さが調節可能であるとともに、ガイドレール固定部間に連結される連結手段と、を備える構成としたことで、エレベータのガイドレール間距離が異なる場合においても共通の部品を使用して設置することができ、さらに部品の軽量化及び小型化を図ることにより輸送や保管を容易にすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月5日(2006.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性の基板と、
前記基板の一面に配置され、同一周波数の高周波信号を同時に印加するための給電点をそれぞれの同じ側の縁上の位置または前記同じ側の縁から内奥へ所定距離だけ入った位置にもち、サイズと形状において略同一であり、励振方向の長さが前記高周波信号の前記基板上での波長の略二分の一である、複数のアンテナ電極と、
前記基板の他面又は内部に配置される、グランドレベルを提供するための接地電極と、
前記複数のアンテナ電極のすべてのアンテナ電極を前記給電点とは別の少なくとも一箇所にて前記接地電極に接続するか、否かを切り替え可能とするスイッチを含んだ接続手段とを備えたマイクロストリップアンテナ。
【請求項２】
前記アンテナ電極の前記接地電極に接続される前記少なくとも一箇所が、前記アンテナ電極の前記給電点から前記同じ側とは反対側の縁へ向って前記高周波信号の１／４波長の奇数倍の距離だけ離れた位置とは異なる位置に存在することを特徴とする請求項１に記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項３】
前記接続手段が、前記アンテナ電極の前記少なくとも一箇所に対応する前記基板の箇所を貫通する導電性のスルーホールであって、前記アンテナ電極の前記少なくとも一箇所に接続された一端と、前記接地電極に接続された他端と、前記スルーホールによる前記アンテナ電極と前記接地電極との間の接続を開閉するスイッチとを有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項４】
前記アンテナ電極の少なくとも一つの縁が、前記基板の少なくとも一つの縁に沿って配置され、
前記接続手段が、前記基板の前記少なくとも一つの縁の側面上に配置された導電体であって、前記アンテナ電極の前記少なくとも一つの縁の少なくとも一箇所に接続された一端と、前記接地電極に接続された他端と、前記導電体による前記アンテナ電極と前記接地電極との間の接続を開閉するスイッチとを有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項５】
前記アンテナ電極の前記接地電極に接続される前記少なくとも一箇所が、前記アンテナ電極の前記同じ側とは反対側の縁の近傍であって、前記給電点から前記反対側の縁に向かう方向に直交する方向において略中央の位置に存在することを特徴とする請求項１乃至４いずれか1項記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項６】
前記スイッチが、前記接続手段と前記接地電極との接続箇所に配置されている請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項７】
前記スイッチが、前記接続手段と前記接地電極にそれぞれ接続された２つの電気接点を有し、前記２つの電気接点が、ＯＮ状態では第1のギャップを間にもって離れ、ＯＦＦ状態では前記第１のギャップより大きい第２のギャップをもって離れるようになっている請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項８】
前記スイッチが、前記接続手段と前記接地電極にそれぞれ接続され、相互間の距離が可変である２つの電気接点と、前記２つの電気接点の間に設けられた絶縁膜とを有する請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項９】
前記複数のアンテナ電極に高周波電力を供給するための給電ラインを更に備え、前記給電ラインが、前記基板の前記他面上に設けられ、かつ前記基板を貫通する導電性のスルーホールを通じて前記複数のアンテナ電極の前記給電点に接続されている請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１０】
前記複数のアンテナ電極に高周波電力を供給するための給電ラインを更に備え、前記給電ラインが、発振回路と接続される大本の給電点を基板のほぼ中央に有し、前記大本の給電点から互いに反対の両方向へ分岐し、そして、前記大本の給電点からの前記給電ラインの分岐方向と個々のアンテナ電極を励振する方向とが１方向にて一致しないようになっていることを特徴とする請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１１】
前記基板の一面上の前記複数のアンテナ電極が、前記基板の比誘電率よりも大きい比誘電率をもつ誘電体で覆われていることを特徴とする請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１２】
前記アンテナ電極が、前記給電点から前記同じ側とは反対側の縁へ向かう方向へ伸びる複数のストライプ電極に分割されていることを特徴とする請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１３】
前記アンテナ電極の端部に接するよう配置された誘電体を更に備える請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１４】
前記アンテナ電極の近傍に形成されたキャビティ構造を更に備える請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１５】
前記アンテナ電極の近傍に配置された無給電電極を更に備える請求項１記載のマイクロストリップアンテナ。
【請求項１６】
高周波の電波を出力するためのマイクロストリップアンテナを用いた送信アンテナと、前記送信アンテナから出力された電波の物体からの反射波又は透過波を受信するための、前記送信アンテナと同一物の又は前記送信アンテナとは別物の受信アンテナと、前記受信アンテナからの電気信号を受けて処理する処理回路とを備えた高周波センサにおいて、
前記マイクロストリップアンテナが、
絶縁性の基板と、
前記基板の一面に配置され、同一周波数の高周波信号を同時に印加するための給電点をそれぞれの同じ側の縁上の位置または前記同じ側の縁から内奥へ所定距離だけ入った位置にもち、サイズと形状において略同一であり、励振方向の長さが前記高周波信号の前記基板上での波長の略二分の一である、複数のアンテナ電極と、
前記基板の他面又は内部に配置される、グランドレベルを提供するための接地電極と、
前記複数のアンテナ電極のすべてのアンテナ電極を前記給電点とは別の少なくとも一箇所にて前記接地電極に接続するか、否かを切り替え可能とするスイッチを含んだ接続手段とを備えた高周波センサ。
【請求項１７】
絶縁性の基板と、
前記基板の一面に配置され、同一周波数の高周波信号を同時に印加するための給電点をそれぞれの同じ側の縁上の位置または前記同じ側の縁から内奥へ所定距離だけ入った位置にもち、サイズと形状において略同一であり、励振方向の長さが前記高周波信号の前記基板上での波長の略二分の一である、複数のアンテナ電極と、
前記基板の他面又は内部に配置される、グランドレベルを提供するための接地電極と
を備えたマイクロストリップアンテナを駆動する方法であって、
前記複数のアンテナ電極の前記給電点に前記同一周波数の高周波信号を同時に印加するステップと、
前記複数のアンテナ電極のすべてのアンテナ電極を前記給電点とは別の少なくとも一箇所にて前記接地電極に接続するか、否かを切り替えることにより、前記接地電極に接続されているアンテナ電極の高周波信号の位相を、前記接地電極に接続されていないアンテナ電極のそれからずらせるか、否かを切り替えるステップと
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月27日(2006.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】処理液の調整方法及び感光材料処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  原液及び該原液を希釈する希釈水を処理槽に投入して、該処理槽に貯留する処理液を調整する処理液の調整方法であって、所定量の原液と共に一定量の希釈水を前記処理槽へ供給した後、処理する感光材料の種類に応じた希釈比率で、補充用の原液と該補充用の原液を希釈する希釈水とを供給する調整補充を行うことを特徴とする処理液の調整方法。
【請求項２】  原液及び該原液を希釈する希釈水を処理槽に投入して、該処理槽内に貯留する処理液を調整する処理液の調整方法であって、所定量の原液と共に一定量の希釈水を前記処理槽へ供給し、処理する感光材料の種類に応じた希釈比率で補充用の原液と該補充用の原液を希釈する希釈水とを供給後、電導度センサによる検出結果に応じて前記補充用の原液ないし該補充用の原液を希釈する希釈水を供給する調整補充を行うことを特徴とする処理液の調整方法。
【請求項３】  前記一定量の希釈水が、前記処理槽内に貯留する処理液の容量が最も少ない処理液の量に基づいて設定されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理液の調整方法。
【請求項４】  前記所定量の原液と前記一定量の希釈水を前記処理槽へ供給したときの液面レベルを検出する液面検出手段を設けたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の処理液の調整方法。
【請求項５】  前記調整補充を，前記処理槽へ補充用の原液と希釈水を供給する補充手段を用いて行うことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の処理液の調整方法。
【請求項６】  処理槽に貯留されている処理液によって感光材料を処理する感光材料処理装置であって、
前記処理槽へ処理液の補充用の原液を供給する原液供給手段と、
前記処理槽へ前記補充用の原液を希釈する希釈水を供給する希釈水供給手段と、
前記感光材料の種類に応じた補充パターンを記憶する記憶手段と、
所定量の原液と共に一定量の希釈水が前記処理槽へ供給された状態で、前記記憶手段に記憶されている前記補充パターンから前記処理する感光材料の種類に基づいて選択される補充パターンに基づいて前記原液供給手段ないし前記希釈水供給手段の作動を制御して前記処理槽に貯留する処理液の調整補充を行う制御手段と、
を含むことを特徴とする感光材料処理装置。
【請求項７】  前記制御手段が、前記処理槽に前記所定量の原液が供給されたときに、前記希釈水供給手段を作動させて前記一定量の希釈水を処理槽へ供給することを特徴とする請求項６に記載の感光材料処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理槽の容量に応じた量の処理液を調整する時の処理液の調整方法及び、処理槽に貯留している処理液によって感光材料を処理する感光材料処理装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、処理槽内に原液と水を供給して仕込み液を調整するときに、処理タンク等の部品の共通化と共に，仕込み液等の調整の汎用化を可能とする処理液の調整方法及び感光材料処理装置を提案することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この発明によれば、所定量の原液に追加して一定量の希釈水を処理槽へ投入する。この後に、所望の量までの残分を感光材料の種類に応じた希釈比で補充用の原液とこの補充用の原液を希釈する希釈水を供給する。その後、電導度センサによって電導度を見て、目標とする電導度から外れている場合は、検出結果に基づいて補充用の原液ないし希釈水を供給する調整補充を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明では、処理槽内の処理液の量が所定量に達することを検出する液面検出手段を設け、この液面検出手段の検出する液面に合わせて処理液が所定量となるまで、原液に加えて希釈用の水を供給する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
さらに、本発明は、前記調整補充を，前記処理槽へ補充用の原液と希釈水を供給する補充手段を用いて行うことが好ましく、調整補充のための機構を別に設けることなく、正確な調整補充が可能となる。
ここから、本発明が適用される感光材料処理装置は、処理槽に貯留されている処理液によって感光材料を処理する感光材料処理装置であって、前記処理槽へ処理液の補充用の原液を供給する原液供給手段と、前記処理槽へ前記補充用の原液を希釈する希釈水を供給する希釈水供給手段と、前記感光材料の種類に応じた補充パターンを記憶する記憶手段と、所定量の原液と共に一定量の希釈水が前記処理槽へ供給された状態で、前記記憶手段に記憶されている前記補充パターンから前記処理する感光材料の種類に基づいて選択される補充パターンに基づいて前記原液供給手段ないし前記希釈水供給手段の作動を制御して前記処理槽に貯留する処理液の調整補充を行う制御手段と、を含むものであれば良く、また、前記制御手段が、前記処理槽に前記所定量の原液が供給されたときに、前記希釈水供給手段を作動させて前記一定量の希釈水を処理槽へ供給することがより好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月3日(2006.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  処理槽内の処理液を吸引すると共に吸引した前記処理液を前記処理槽内へ噴出する循環手段によって、前記処理槽内の処理液を循環させながら感光材料を処理する感光材料処理装置であって、
前記感光材料の搬送幅方向に沿った中間部に前記処理槽から吸引された前記処理液を噴き出す噴出し口を設け、前記噴出し口から前記処理槽の一方の側壁へ向けて前記処理液を噴出し、前記側壁で折り返された前記処理液が前記感光材料の表裏面に沿って流れるようにしたことを特徴とする感光材料処理装置。
【請求項２】  前記噴出し口が、前記処理槽の前記感光材料の搬送幅方向に沿った他方の側壁側から突設された噴出しパイプの先端に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の感光材料処理装置。
【請求項３】  前記処理槽内に、それぞれから処理液を噴出可能とする複数の前記噴出しパイプが設けられているときに、少なくとも１本の噴出しパイプの噴出し口が、前記搬送幅方向の中間部から前記一方の側壁へ向けて前記処理液を噴出する前記吹出し口であることを特徴とする請求項２に記載の感光材料処理装置。
【請求項４】  前記噴出し口から噴き出す処理液を吸引する吸引口を、前記噴出し口と前記噴出し口からの処理液の噴き出し方向と反対方向側の側壁の間に設けていることを特徴とする請求項１から請求項３の何れかに記載の感光材料処理装置。
【請求項５】  前記処理槽内に配置される処理ラックの一対の側板の間に配置して前記感光材料を搬送方向に沿って案内するガイド板を、前記噴出し口と前記感光材料の搬送路の間に設けていることを特徴とする請求項１から請求項４の何れかに記載の感光材料処理装置。
【請求項６】  前記処理ラックの一対の側板と前記ガイド板との間に、前記ガイド板の上面側と下面側を連通する切込み部が形成されていることを特徴とする請求項５に記載の感光材料処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、処理槽内の処理液を吸引すると共に吸引した前記処理液を前記処理槽内へ噴出する循環手段によって、前記処理槽内の処理液を循環させながら感光材料を処理する感光材料処理装置であって、前記感光材料の搬送幅方向に沿った中間部に前記処理槽から吸引された前記処理液を噴き出す噴出し口を設け、前記噴出し口から前記処理槽の一方の側壁へ向けて前記処理液を噴出し、前記側壁で折り返された前記処理液が前記感光材料の表裏面に沿って流れるようにしたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明によれば、処理液を噴出する噴出し口を、感光材料の搬送路の一方側で、搬送幅方向に沿った中間部に設けており、処理液は、この噴出し口から、処理槽の一方の側壁へ向けて、感光材料の幅方向に沿って噴出される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このような本発明の噴出し口は、前記処理槽の他方の側壁側から搬送幅方向に沿って突設された噴出しパイプの先端に形成することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、前記処理槽内に、それぞれから処理液を噴出可能とする複数の前記噴出しパイプが設けられているときに、少なくとも１本の噴出しパイプの噴出し口が、前記搬送幅方向の中間部から前記一方の側壁へ向けて前記処理液を噴出する前記吹出し口とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月29日(2005.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）下記一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−４）の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び（Ｃ）下記一般式（ＣＩ）で表される化合物、一般式（ＣＩＩ）で表される化合物、及び下記一般式（ＣＩＩＩ）で示される多環式構造上に酸不安定性基により保護されているカルボン酸基を含む置換基を少なくともひとつ有する構造を、少なくとも二つ有する化合物から選ばれる少なくともひとつの化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
【化１】
2002296779.tif 000001
【化２】
2002296779.tif 000002
【化３】
2002296779.tif 000003
一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−４）中；
Ｒ1〜Ｒ5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。Ｒ1〜Ｒ5の内の２つは、結合して環を形成してもよい。
一般式（ＣＩ）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ53）−、又は単結合を表す。Ｒ51、Ｒ52及びＲ53は、各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ’は、−ＣＯＯＲ’で酸分解性基を構成する基を表す。Ｒは有橋式炭化水素、飽和環式炭化水素またはナフタレン環を含むｎ1 価の残基を表す。ｎ１は１〜４の整数を示し、ｑ１は０〜１０の整数を示す。
一般式（ＣＩＩ）中、Ｒ60は、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ61は、−Ｏ−Ｒ61で酸分解性基を構成する基を表し、ｍ１は０〜４の整数を示す。ｐ１は１〜４の整数を示す。
【請求項２】  （Ｂ）の樹脂が、更に下記一般式（ｐＩ）〜（ｐＶＩ）で表される脂環式炭化水素構造を含む基のうちの少なくとも１種の基で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【化４】
2002296779.tif 000004
一般式（ｐＩ）〜（ｐＶＩ）中；
Ｒ11は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基またはｓｅｃ−ブチル基を表し、Ｚは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。
Ｒ12〜Ｒ16は、各々独立に、炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、Ｒ12〜Ｒ14のうち少なくとも１つ、もしくはＲ15、Ｒ16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ17〜Ｒ21は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、Ｒ17〜Ｒ21のうち少なくとも１つは脂環式炭化水素基を表す。また、Ｒ19、Ｒ21のいずれかは炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ22〜Ｒ25は、各々独立に、炭素数１〜４個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、Ｒ22〜Ｒ25のうち少なくとも１つは脂環式炭化水素基を表す。
【請求項３】  前記一般式（ｐＩ）〜（ｐＶＩ）で表される脂環式炭化水素構造を含む基が、下記一般式（ＩＩ）で表される基であることを特徴とする請求項２に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【化５】
2002296779.tif 000005
一般式（ＩＩ）中、Ｒ28は、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｒ29〜Ｒ31は、同じでも異なっていてもよく、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボキシ基あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基又はアシル基を表す。ｐ、ｑ、ｒは、各々独立に、０又は１〜３の整数を表す。
【請求項４】  前記（Ｂ）の樹脂が、下記一般式（ａ）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【化６】
2002296779.tif 000006
一般式（ａ）中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１から４の置換もしくは非置換のアルキル基を表す。Ｒ32〜Ｒ34は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は水酸基を表す。Ｒ32〜Ｒ34のうち少なくとも１つは水酸基を表す。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光基板表面に所定の光像パターンを形成するため、光透過パターン部と遮光パターン部とが配置されたマスクの製造方法であって、
与えられたマスクのレイアウトパターンの設計データから、前記マスクの面積に対する、光透過パターン部或いは遮光パターン部の面積の割合であるパターン面積率と、与えられたレイアウトパターンから抽出された領域の面積に対する、該領域内の前記光透過パターン部或いは遮光パターン部の割合であるパターン密度とをそれぞれ演算するステップと、
演算されたパターン面積率及びパターン密度から、前記与えられたレイアウトパターンを用いてマスクにパターンを形成した場合に、形成されるパターンの寸法を予測するステップと、
予測されたパターン寸法に基づいて、前記与えられたレイアウトパターンに補正量を与えるステップとを含むことを特徴とするマスクの製造方法。
【請求項２】
前記レイアウトパターンから抽出された領域は、レイアウトパターンの中で最も高い寸法精度を必要とするパターンを含む領域であることを特徴とする請求項１記載のマスクの製造方法。
【請求項３】
前記パターン寸法の予測は、
前記パターン面積率と、マスクを実際に加工して得られるパターン寸法との関係を表す第１の関数、
前記パターン密度と、マスクを実際に加工して得られるパターン寸法との関係を表す第２の関数、
及び前記パターン面積率及びパターン密度と、マスクを実際に加工して得られるパターン寸法との関係を表す第３の関数の何れかを用いて行われることを特徴とする請求項１に記載のマスクの製造方法。
【請求項４】
第２の関数及び第３の関数は、複数のパターン密度を有する寸法測定パターンが配置され、パターン面積率が異なる複数のパターンデータを用いて加工された、それぞれの評価用マスクのパターン寸法を測定することにより導出されることを特徴とする請求項３に記載のマスクの製造方法。
【請求項５】
被露光基板表面に所定の光像パターンを形成するため、光透過パターン部と遮光パターン部とが配置されたマスクの製造方法であって、
与えられたマスクのレイアウトパターンの設計データから、前記マスクの面積に対する、光透過パターン部或いは遮光パターン部の面積の割合であるパターン面積率と、与えられたレイアウトパターンから抽出された領域の面積に対する、該領域内の前記光透過パターン部或いは遮光パターン部の割合であるパターン密度とをそれぞれ演算するステップと、
演算されたパターン面積率及びパターン密度から、前記与えられたレイアウトパターンの設計データを用いてマスクにパターンを形成した場合に、形成されるパターンの位置精度を予測するステップと、
予測された位置精度に基づいて、前記与えられたレイアウトパターンに補正量を与えるステップとを含むことを特徴とするマスクの製造方法。
【請求項６】
被露光基板表面に所定の光像パターンを形成するため、光透過パターン部と遮光パターン部とが配置されたマスクの製造方法であって、
与えられたマスクのレイアウトパターンの設計データから、前記マスクの面積に対する、光透過パターン部或いは遮光パターン部の面積の割合であるパターン面積率と、与えられたレイアウトパターンから抽出された領域の面積に対する、該領域内の前記光透過パターン部或いは遮光パターン部の割合であるパターン密度とをそれぞれ演算するステップと、
演算されたパターン面積率及びパターン密度から、前記与えられたレイアウトパターンの設計データを用いてマスクにパターンを形成した場合に、形成されるパターンのＸＹ差を予測するステップと、
予測されたＸＹ差に基づいて、前記与えられたレイアウトパターンに補正量を与えるステップとを含むことを特徴とするマスクの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れかに記載されたマスクの製造方法を用いてマスクを製造し、このマスクを用いた半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被露光基板に所定の光像パターンを転写するためのマスクのレイアウトパターンの設計データを補正するマスクの製造方法、及びこの製造方法を用いて製造されたマスクを用いた半導体装置の製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
寸法測定パターン領域２０４に形成される寸法測定パターンは、各チップ領域及び各評価用マスクで共通のパターンが形成される。寸法測定パターン２０５は、図３（ｃ），（ｄ）に示すように、各領域でパターン密度が異なるパターンが形成されている。例えば、配線パターンのパターン密度Ｄを変える（図３（ｃ））、或いはホールパターンの密度を変える（図３（ｄ））。パターン密度が変化する各領域Ｐn（ｎは抽出する領域番号）に対する、パターン密度をＤnとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
パターン面積率Ｃ及びパターン密度Ｄに対する、パターン寸法のＸＹ差Ｓの関数ｈ（ｃ，ｄ）相関関係を示す図。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月1日(2005.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  文字盤（１０）と、
文字盤の上方に配置されて、それぞれがヘッド（２９、３５）および長く延びた本体（２８、３４）を形成する透明材料製の部品を有し、それぞれのヘッドが重なって、共通の回転軸（１５）まわりに回転するようにそれぞれのシャフト（１３、１４）に固定されている一対の時針・分針（１１、１２）と、
針のヘッドを下方から回転軸にほぼ平行な光束によって照明するように配置された静止光源（２１）とを備えた時計用の発光針を有する表示装置であって、
各針の前記ヘッド（２９、３５）は、前記ヘッド内に設けられ、針の長く延びた本体（２８、３４）に向って前期光束の一部を反射するように設けられた複数のリフレクタ（４０、４１）が設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】  前記リフレクタ（４０、４１）は、前記ヘッド内に、前記本体付近だけでなく、前記本体から距離を置いた位置にあるヘッド部分の領域にも分散配置されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】  前記リフレクタ（４０、４１）の少なくとも一部は、異なったそれぞれの向きを有することを特徴とする請求項１および２のいずれかに記載の装置。
【請求項４】  前記リフレクタ（４０、４１）は、前記軸（１５）にほぼ平行な光線の内部全反射を生じるように構成されていることを特徴とする請求項１，２および３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】  ヘッド（２９、３０）は平坦であり、その上面と底面は平面状であって、各リフレクタ（４０、４１）は、ヘッドの上面に形成した透明材料製の部品内に配置された中空部分（４３）の傾斜面によって形成されていることを特徴とする請求項４記載の装置。
【請求項６】  各針に設けたリフレクタ（４０、４１）は互に離れた位置に設けられた前記いずれかの請求項記載の装置。
【請求項７】  前記針の各々において、リフレクタ（４０、４１）が回転軸（１５）からほぼ同一距離（Ｒ１、Ｒ２）に配置されており、該距離が針毎に異なっていることを特徴とする前記いずれかの請求項記載の装置。
【請求項８】  光源（２１）は、前記シャフト（１３、１４）の周囲に分散配置されて文字盤（１０）の下方位置の印刷回路素子（２０）上に取り付けられた発光ダイオード（２３）を有することを特徴とする前記いずれかの請求項記載の装置。
【請求項９】  文字盤（１０）と、
文字盤の上方に配置されて、それぞれがヘッド（２９、３５）および長く延びた本体（２８、３４）を形成する透明材料製の部品を有し、それぞれのヘッドが重なって、共通の回転軸（１５）まわりに回転するようにそれぞれのシャフト（１３、１４）に固定されている一対の時針・分針（１１、１２）と、
針のヘッドを下方から回転軸にほぼ平行な光束によって照明するように配置された静止光源（２１）とを備えた時計用の発光針を有する表示装置であって、
上記光源（２１）は上記シャフト（１３、１４）の周囲に設けられた複数の発光ダイオード（２３）を有すると共に分針（１１）のヘッド（２９）はヘッド内に設けられ且つ分針の長く延びた本体（２８）に向って前期光束の一部を反射するように構成して互に分離している複数のリフレクタ（４０）を有することを特徴とする装置。