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【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  液晶素子と、この液晶素子を駆動するための駆動パルス発生部と、前記液晶素子に入射する光の透過率を制御するために前記駆動パルスのパルス幅を変調するパルス幅制御部とを具備する調光装置。
【請求項２】  前記パルス幅変調による駆動パルスのパルス電圧が一定である、請求項１に記載した調光装置。
【請求項３】  前記パルス幅の変調時に前記液晶素子の駆動電極間に印加される電圧の時間平均がほぼゼロである、請求項１に記載した調光装置。
【請求項４】  駆動パルス波形が基本周波数の周期内に存在するように前記パルス幅変調が行われる、請求項１に記載した調光装置。
【請求項５】  定常駆動においてフリッカーが生じないように前記基本周波数と前記パルス幅変調の変調幅が調整される、請求項４に記載した調光装置。
【請求項６】  前記駆動波形のパルスが、駆動回路部のクロックと同期して取り出される、請求項４に記載した調光装置。
【請求項７】  出射光の輝度情報が制御回路部にフィードバックされ、この制御回路部からの制御信号により、前記駆動回路部のクロックと同期して、前記パルス幅変調された駆動パルスが得られるようにした、請求項６に記載した調光装置。
【請求項８】  前記液晶素子はゲスト−ホスト型液晶素子である、請求項１に記載した調光装置。
【請求項９】  前記液晶素子のホスト材料は、誘電率異方性が負又は正のネガ型又はポジ型液晶である、請求項８に記載した調光装置。
【請求項１０】  前記液晶素子のゲスト材料は、光吸収異方性が正又は負のポジ型又はネガ型の二色性染料分子からなる、請求項８に記載した調光装置。
【請求項１１】  前記液晶素子に入射する光の光路中に偏光板が配されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項１２】  前記偏光板が前記光路に対して出し入れ可能に配される、請求項１１に記載した調光装置。
【請求項１３】  前記偏光板は、機械式アイリスの可動部に配置されることにより前記光路に対して出し入れ可能とされる、請求項１２に記載した調光装置。
【請求項１４】  前記液晶素子の駆動電極が少なくとも有効光透過部の全域に亘って形成されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項１５】  液晶素子と、この液晶素子を駆動するための駆動パルス発生部と、前記液晶素子に入射する光の透過率を制御するために前記駆動パルスのパルス幅を変調するパルス幅制御部とを具備する調光装置が撮像系の光路中に配されている撮像装置。
【請求項１６】  前記調光装置が、請求項２〜１４のいずれか１項に記載した調光装置である、請求項１５に記載した撮像装置。
【請求項１７】  前記駆動回路部が、前記調光装置の光出射側に配された撮像素子の駆動回路部であり、前記撮像素子の出力信号が輝度情報として制御回路部にフィードバックされ、この制御回路部からの制御信号により、前記駆動回路部のクロックと同期して、前記パルス幅変調された駆動パルスが得られるようにした、請求項１５に記載した撮像装置。
【請求項１８】  液晶素子を駆動するに際し、前記液晶素子に入射する光の透過率を制御するために前記液晶素子の駆動パルスのパルス幅を変調する、調光装置の駆動方法。
【請求項１９】  前記パルス幅変調による駆動パルスのパルス電圧を一定とする、請求項１８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２０】  前記パルス幅の変調時に前記液晶素子の駆動電極間に印加される電圧の時間平均をほぼゼロとする、請求項１８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２１】  駆動パルス波形が基本周波数の周期内に存在するように前記パルス幅変調を行う、請求項１８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２２】  定常駆動においてフリッカーが生じないように前記基本周波数と前記パルス幅変調の変調幅を調整する、請求項２１に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２３】  前記駆動波形のパルスを、駆動回路部のクロックと同期して取り出す、請求項２１に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２４】  出射光の輝度情報を制御回路部にフィードバックし、この制御回路部からの制御信号により、前記駆動回路部のクロックと同期して、前記パルス幅変調された駆動パルスを得る、請求項２３に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２５】  前記液晶素子としてゲスト−ホスト型液晶素子を用いる、請求項１８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２６】  前記液晶素子のホスト材料として、誘電率異方性が負又は正のネガ型又はポジ型液晶を用いる、請求項２５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２７】  前記液晶素子のゲスト材料として、光吸収異方性が正又は負のポジ型又はネガ型の二色性染料分子を用いる、請求項２５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２８】  前記液晶素子に入射する光の光路中に偏光板を配する、請求項１８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２９】  前記偏光板を前記光路に対して出し入れ可能に配する、請求項２８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項３０】  前記偏光板を、機械式アイリスの可動部に配置することにより前記光路に対して出し入れ可能とする、請求項２９に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項３１】  液晶素子の駆動電極を少なくとも有効光透過部の全域に亘って形成した前記調光装置を用いる、請求項１８に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項３２】  液晶素子を撮像系の光路中に配した撮像装置を駆動するに際し、前記液晶素子に入射する光の透過率を制御するために前記液晶素子の駆動パルスのパルス幅を変調する、撮像装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  液晶素子と、この液晶素子に入射する光の透過光の透過光強度又は素子環境温度を検出する検出部と、この検出部による検出値を受けて素子環境温度に応じた目標透過光強度を設定する制御回路部と、この制御回路部による制御で前記目標透過光強度を生ぜしめる駆動信号を発生する駆動信号発生部とを有する調光装置。
【請求項２】  前記透過光をモニターしてその検出情報を前記制御回路部にフィードバックし、透過光強度が一定となるように制御されるか、或いは、素子環境温度をモニターしてその検出情報を前記制御回路部にフィードバックし、予め測定された特性値と比較して透過率が一定となるように制御される、請求項１に記載した調光装置。
【請求項３】  前記制御回路部による制御で、電圧変調された交流波形、或いは、パルス幅変調又はパルス密度変調された駆動パルスが得られる、請求項１に記載した調光装置。
【請求項４】  駆動時の基本波形がパルス幅変調され、前記素子環境温度に応じてパルス電圧が制御されるか、或いは、駆動時の基本波形がパルス電圧制御され、前記素子環境温度に応じてパルス幅が変調される、請求項２に記載した調光装置。
【請求項５】  駆動パルスが、駆動回路部のクロックと同期して取り出される、請求項１に記載した調光装置。
【請求項６】  前記液晶素子はゲスト−ホスト型液晶素子である、請求項１に記載した調光装置。
【請求項７】  前記液晶素子のホスト材料は、誘電率異方性が負又は正のネガ型又はポジ型液晶である、請求項６に記載した調光装置。
【請求項８】  前記液晶素子のゲスト材料は、光吸収異方性が正又は負のポジ型又はネガ型の二色性染料分子からなる、請求項６に記載した調光装置。
【請求項９】  前記液晶素子に入射する光の光路中に偏光板が配されている、請求項４に記載した調光装置。
【請求項１０】  前記偏光板が前記光路に対して出し入れ可能に配される、請求項９に記載した調光装置。
【請求項１１】  前記偏光板は、機械式アイリスの可動部に設置されることにより前記光路に対して出し入れ可能とされる、請求項１０に記載した調光装置。
【請求項１２】  前記液晶素子の駆動電極が少なくとも有効光路透過部の全域に亘って形成されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項１３】  液晶素子と、この液晶素子に入射する光の透過光の透過光強度又は素子環境温度を検出する検出部と、この検出部による検出値を受けて素子環境温度に応じた目標透過光強度を設定する制御回路部と、この制御回路部による制御で前記目標透過光強度を生ぜしめる駆動信号を発生する駆動信号発生部とを有する調光装置が撮像系の光路中に配されている撮像装置。
【請求項１４】  前記調光装置が、請求項２〜１２のいずれか１項に記載した調光装置である、請求項１３に記載した撮像装置。
【請求項１５】  液晶素子を駆動するに際し、前記液晶素子に入射する光の透過光の透過光強度又は素子環境温度を検出し、この検出値に基づいて素子環境温度に応じた目標透過光強度を設定し、この目標透過光強度を生ぜしめる駆動信号を発生させる、調光装置の駆動方法。
【請求項１６】  前記透過光をモニターしてその検出情報を前記制御回路部にフィードバックし、透過光強度が一定となるように制御するか、或いは、素子環境温度をモニターしてその検出情報を前記制御回路部にフィードバックし、予め測定された特性値と比較して透過率が一定となるように制御する、請求項１５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項１７】  前記制御で、電圧変調された交流波形、或いは、パルス幅変調又はパルス密度変調された駆動パルスを得る、請求項１５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項１８】  駆動時の基本波形をパルス幅変調し、前記素子環境温度に応じてパルス電圧を制御するか、或いは、駆動時の基本波形をパルス電圧制御し、前記素子環境温度に応じてパルス幅を変調する、請求項１６に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項１９】  駆動パルスを、駆動回路部のクロックと同期して取り出す、請求項１５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２０】  前記液晶素子として、ゲスト−ホスト型液晶素子を用いる、請求項１５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２１】  前記液晶素子のホスト材料を、誘電率異方性が負又は正のネガ型又はポジ型液晶とする、請求項２０に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２２】  前記液晶素子のゲスト材料を、光吸収異方性が正又は負のポジ型又はネガ型の二色性染料分子とする、請求項２０に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２３】  前記液晶素子に入射する光の光路中に偏光板を配する、請求項１５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２４】  前記偏光板を前記光路に対して出し入れ可能に配する、請求項２３に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２５】  前記偏光板は、機械式アイリスの可動部に設置されることにより前記光路に対して出し入れ可能とする、請求項２４に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２６】  前記液晶素子の駆動電極を少なくとも有効光路透過部の全域に亘って形成する、請求項１５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２７】  液晶素子を撮像系の光路中に配した撮像装置を駆動するに際し、前記液晶素子に入射する光の透過光の透過光強度又は素子環境温度を検出し、この検出値に基づいて素子環境温度に応じた目標透過光強度を設定し、この目標透過光強度を生ぜしめる駆動信号を発生させる、撮像装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  液晶素子と、この液晶素子に入射する光の透過率を現透過率から目標透過率へ、少なくとも２段階に制御された駆動パルスによって変化させるパルス制御部とを具備する調光装置。
【請求項２】  前記駆動パルスのパルス電圧が少なくとも２段階に制御される、請求項１に記載した調光装置。
【請求項３】  前記駆動パルスのパルス幅が少なくとも２段階に制御される、請求項１に記載した調光装置。
【請求項４】  前記駆動パルスが、駆動回路部のクロックと同期して取り出される、請求項１に記載した調光装置。
【請求項５】  出射光の輝度情報が制御回路部にフィードバックされ、この制御回路部からの制御信号により、前記駆動回路部のクロックと同期して、前記駆動パルスが得られるようにした、請求項４に記載した調光装置。
【請求項６】  前記液晶素子はゲスト−ホスト型液晶素子である、請求項１に記載した調光装置。
【請求項７】  前記液晶素子のホスト材料は、誘電率異方性が負又は正のネガ型又はポジ型液晶である、請求項６に記載した調光装置。
【請求項８】  前記液晶素子のゲスト材料は、光吸収異方性が正又は負のポジ型又はネガ型の二色性染料分子からなる、請求項６に記載した調光装置。
【請求項９】  前記液晶素子に入射する光の光路中に偏光板が配されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項１０】  前記偏光板が前記光路に対して出し入れ可能に配される、請求項９に記載した調光装置。
【請求項１１】  前記偏光板は、機械式アイリスの可動部に配置されることにより前記光路に対して出し入れ可能とされる、請求項１０に記載した調光装置。
【請求項１２】  前記液晶素子の駆動電極が少なくとも有効光透過部の全域に亘って形成されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項１３】  液晶素子と、この液晶素子に入射する光の透過率を現透過率から目標透過率へ、少なくとも２段階に制御された駆動パルスによって変化させるパルス制御部とを具備する調光装置が撮像系の光路中に配されている撮像装置。
【請求項１４】  前記調光装置が、請求項２〜１２のいずれか１項に記載した調光装置である、請求項１３に記載した撮像装置。
【請求項１５】  前記駆動回路部が、前記調光装置の光出射側に配された撮像素子の駆動回路部であり、前記撮像素子の出力信号が輝度情報として制御回路部にフィードバックされ、この制御回路部からの制御信号により、前記駆動回路部のクロックと同期して、前記駆動パルスが得られるようにした、請求項１３に記載した撮像装置。
【請求項１６】  液晶素子を駆動するに際し、前記液晶素子に入射する光の透過率を現透過率から目標透過率へ、少なくとも２段階に制御された駆動パルスによって変化させる、調光装置の駆動方法。
【請求項１７】  前記駆動パルスのパルス電圧を少なくとも２段階に制御する、請求項１６に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項１８】  前記駆動パルスのパルス幅を少なくとも２段階に制御する、請求項１６に記載した調光素子の駆動方法。
【請求項１９】  前記駆動パルスを、駆動回路部のクロックと同期して取り出す、請求項１６に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２０】  出射光の輝度情報を制御回路部にフィードバックし、この制御回路部からの制御信号により、前記駆動回路部のクロックと同期して、前記駆動パルスを得る、請求項１９に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２１】  前記液晶素子としてゲスト−ホスト型液晶素子を用いる、請求項１６に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２２】  前記液晶素子のホスト材料として、誘電率異方性が負又は正のネガ型又はポジ型液晶を用いる、請求項２１に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２３】  前記液晶素子のゲスト材料として、光吸収異方性が正又は負のポジ型又はネガ型の二色性染料分子を用いる、請求項２１に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２４】  前記液晶素子に入射する光の光路中に偏光板を配する、請求項１６に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２５】  前記偏光板を前記光路に対して出し入れ可能に配する、請求項２４に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２６】  前記偏光板を、機械式アイリスの可動部に配置することにより前記光路に対して出し入れ可能とする、請求項２５に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２７】  液晶素子の駆動電極を少なくとも有効光透過部の全域に亘って形成した前記調光装置を用いる、請求項１６に記載した調光装置の駆動方法。
【請求項２８】  液晶素子を撮像系の光路中に配した撮像装置を駆動するに際し、前記液晶素子に入射する光の透過率の現透過率を目標透過率へ、少なくとも２段階に制御された駆動パルスによって変化させる、撮像装置の駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
図２８（ａ）は、電圧を印加していない（電圧無印加）時のＧＨセル２の状態を示す。入射光５は、偏光板１を透過することにより直線偏光にされる。図２８（ａ）では、この偏光方向と二色性染料分子４の分子長軸方向とが一致するので、光は、二色性染料分子４に吸収され、ＧＨセル２の透過率が低下する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
これに対し、正、負のパルス数が異なる場合（負極性パルスが正極性パルスよりもｋ倍大きい場合）には、ｋ＝１の時が対称駆動時の透過率であるが、ｋが大きくなって非対称性が増すと、図２０に示すように透過率は所定の透過率よりも大きくなり、制御性を困難にしている。これは、ｍの値には依存せず、ｋに対して同様の変動を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体レーザと、前記半導体レーザより射出した光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束を被走査面上に結像させる結像光学手段と、を有する走査光学装置であって、
前記結像光学手段は、前記半導体レーザ側から順に、主走査方向及び副走査方向ともに凸の屈折パワーからなるプラスチック製の第１の結像光学素子と、プラスチック製の第２の結像光学素子とから成り、
前記第２の結像光学素子は、入射面が副走査方向に凸の屈折パワーを備え、出射面が主走査方向及び副走査方向ともに凸の回折パワーを備えた光学素子であり、
前記結像光学手段の副走査方向の横倍率βは、
１＜｜β｜＜３
を満足することを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】  半導体レーザと、前記半導体レーザより射出した光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束を被走査面上に結像させる結像光学手段と、を有する走査光学装置であって、
前記結像光学手段は、前記半導体レーザ側から順に、主走査方向及び副走査方向ともに凸の屈折パワーからなるプラスチック製の第１の結像光学素子と、プラスチック製の第２の結像光学素子とから成り、
前記第２の結像光学素子は、出射面が副走査方向に凸の屈折パワー及び主走査方向及び副走査方向ともに凸の回折パワーを備えた光学素子であり、
前記結像光学手段の副走査方向の横倍率βは、
１＜｜β｜＜３
を満足することを特徴とする走査光学装置。
【請求項３】  請求項１又は２記載の走査光学装置を有することを特徴とするレーザビームプリンタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段及び作用】
上記の課題を解決するための本発明は、半導体レーザと、前記半導体レーザより射出した光束を偏向走査する偏向手段と、前記偏向手段の偏向面にて偏向走査された光束を被走査面上に結像させる結像光学手段と、を有する走査光学装置であって、前記結像光学手段は、前記半導体レーザ側から順に、主走査方向及び副走査方向ともに凸の屈折パワーからなるプラスチック製の第１の結像光学素子と、プラスチック製の第２の結像光学素子とから成り、前記第２の結像光学素子は、入射面が副走査方向に凸の屈折パワーを備え、出射面が主走査方向及び副走査方向ともに凸の回折パワーを備えた光学素子であり、前記結像光学手段の副走査方向の横倍率βは、１＜｜β｜＜３を満足することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月10日(2006.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１及び第２の偏光板間に映像信号に応じて光源の光軸方向に出射した光を変調する液晶パネルを設けた液晶プロジェクターにおいて、前記第１の偏光板と前記液晶パネルと間に前記液晶パネルに対して、前記液晶パネルとは配向方向が同じで、ツイスト方向が同じである補正用液晶パネルを前記光軸を中心に略１８０度回転して配置して設けたことを特徴とする液晶プロジェクター。
【請求項２】  第１及び第２の偏光板間に映像信号に応じて光源の光軸方向に出射した光を変調する液晶パネルを設けた液晶プロジェクターにおいて、前記第１の偏光板と前記液晶パネルと間に前記液晶パネルに対して、前記液晶パネルとは配向方向が表裏逆で、ツイスト方向が逆である補正用液晶パネルを前記光軸を中心に配置して設けたことを特徴とする液晶プロジェクター。
【請求項３】  請求項１又は２記載の液晶プロジェクターにおいて、前記補正用液晶パネルは、電圧駆動により、液晶分子を最適な補正のできる配列状態にできるようにしたことを特徴とする液晶プロジェクター。
【請求項４】  請求項１又は２記載の液晶プロジェクターにおいて、前記補正用液晶パネルは、液晶分子が最適な補正のできる配列状態で硬化されていることを特徴とする液晶プロジェクター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明液晶プロジェクターは、第１及び第２の偏光板間に映像信号に応じて光源の光軸方向に出射した光を変調する液晶パネルを設けた液晶プロジェクターにおいて、この第１の偏光板と前記液晶パネルと間にこの液晶パネルに対して、この液晶パネルとは配向方向が同じで、ツイスト方向が同じである補正用液晶パネルをこの光軸を中心に略１８０度回転して配置して設けたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明液晶プロジェクターは、第１及び第２の偏光板間に映像信号に応じて光源の光軸方向に出射した光を変調する液晶パネルを設けた液晶プロジェクターにおいて、この第１の偏光板とこの液晶パネルと間にこの液晶パネルに対して、この液晶パネルとは配向方向が表裏逆で、ツイスト方向が逆である補正用液晶パネルをこの光軸を中心に配置して設けたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月15日(2006.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力信号を所定時間長のブロック単位に区切り、
当該ブロック内の信号より信号属性に関する特徴量を抽出し、
当該特徴量に基づいて上記ブロック単位に信号のカテゴリ分類を行う
ことを特徴とする信号分類方法。
【請求項２】
上記ブロック内における信号の信号源の種類に基づくカテゴリ分類を行うことを特徴とする請求項１記載の信号分類方法。
【請求項３】
上記ブロック内における信号が持つ信号源の種類に依存しない構造に基づくカテゴリ分類を行うことを特徴とする請求項１記載の信号分類方法。
【請求項４】
上記入力信号はオーディオ信号であり、上記ブロック内のオーディオ信号の信号源の種類に基づくカテゴリとして、無音、音声、男性音声、女性音声、音楽、ボーカル音楽、楽器音楽、雑音、打撃音、環境音、雑踏音、拍手音、歓声の、一つ又は複数を用い、音源的なカテゴリ分類を行うことを特徴とする請求項２記載の信号分類方法。
【請求項５】
上記入力信号はオーディオ信号であり、上記ブロック内のオーディオ信号の信号源の種類に依存しない構造にもとづくカテゴリとして、上記ブロック中に有意な音が存在しない無音構造、上記ブロック中に一つの音源に関する音のみが存在する単音源構造、上記ブロック中に二つの音源に関する音が存在する二音構造、上記ブロック中に無音を含む音源が一回のみ代わる音源変化構造、上記ブロック中に複数の音源が同時に変化する音源同時変化構造、上記ブロック中に複数の音源のうち一部の音源が変化する音源部分変化構造、上記ブロック中の構造が上記各構造の何れにも該当しない他の構造の、各構造のうち一つ又は複数の構造を用い、構造的なカテゴリ分類を行うことを特徴とする請求項３記載の信号分類方法。
【請求項６】
上記ブロック中の信号パワーの平均及び分散、上記ブロック中の信号のバンドパス信号のパワーの平均及び分散、上記ブロック中の信号のスペクトログラムの広がりの平均及び分散、上記ブロック中の信号のピッチ周波数の平均及び分散、上記ブロック中の信号の調波構造の程度の平均及び分散、上記ブロック中の信号の線形予測分析の残差信号の平均及び分散、上記ブロック中の信号の線形予測分析の残差信号のピッチゲインの平均及び分散の、各平均及び分散のうち、一つ又は複数の平均及び分散を、上記特徴量として用いることを特徴とする請求項１記載の信号分類方法。
【請求項７】
上記調波構造の程度の平均は、上記ブロック中の信号のピッチ周波数の整数倍成分のエネルギの全周波数エネルギに対する比率の、上記ブロック内の時間平均であり、
上記調波構造の程度の分散は、上記ブロック中の信号のピッチ周波数の整数倍成分のエネルギの全周波数エネルギに対する比率の、上記ブロック内の時間的な相対標準偏差であることを特徴とする請求項６記載の信号分類方法。
【請求項８】
上記カテゴリの分類方法として、ベクトル量子化法を用いることを特徴とする請求項１記載の信号分類方法。
【請求項９】
入力信号を所定時間長のブロック単位に区切るブロック化部と、
当該ブロック内の信号より信号属性に関する特徴量を抽出する特徴抽出部と、
当該特徴量に基づいて上記ブロック単位に信号のカテゴリ分類を行うカテゴリ分類部と
を有することを特徴とする信号分類装置。
【請求項１０】
入力信号を所定時間長のブロック単位に区切り、
当該ブロック内の信号より信号属性に関する特徴量を抽出し、
当該特徴量に基づいて上記ブロック単位に信号のカテゴリ分類を行い、
上記カテゴリ分類に応じた記述子を生成する
ことを特徴とする記述子生成方法。
【請求項１１】
入力信号を所定時間長のブロック単位に区切るブロック化部と、
当該ブロック内の信号より信号属性に関する特徴量を抽出する特徴抽出部と、
当該特徴量に基づいて上記ブロック単位に信号のカテゴリ分類を行うカテゴリ分類部と、
上記カテゴリ分類に応じた記述子を生成する記述子生成部と
を有することを特徴とする記述子生成装置。
【請求項１２】
入力信号を所定時間長のブロック単位に区切り、
当該ブロック内の信号より信号属性に関する特徴量を抽出し、
当該特徴量に基づいて上記ブロック単位に信号のカテゴリ分類を行い、
上記カテゴリ分類結果或いは当該カテゴリ分類結果に応じた記述子を用いて信号検索を行う
ことを特徴とする信号検索方法。
【請求項１３】
上記カテゴリ分類結果或いは当該カテゴリ分類結果に応じた記述子を用いて、信号の変化点を検索することを特徴とする請求項１２記載の信号検索方法。
【請求項１４】
入力信号を所定時間長のブロック単位に区切るブロック化部と、
当該ブロック内の信号より信号属性に関する特徴量を抽出する特徴抽出部と、
当該特徴量に基づいて上記ブロック単位に信号のカテゴリ分類を行うカテゴリ分類部と、
上記カテゴリ分類結果或いは当該カテゴリ分類に応じた記述子を用いて、信号検索を行う信号検索部と
を有することを特徴とする信号検索装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク制御装置と、複数のミラード・ディスク装置とを有し、前記ミラード・ディスク装置はデータのストライピングがなされている第１のデバイス群と第１のデバイス群のミラーとなる第２のデバイス群とから構成され、前記ミラード・ディスク装置を構成する個々のデバイスがそれぞれ異なる伝送路を介して前記ディスク制御装置に接続されるよう構成されることを特徴とするディスクサブシステム。
【請求項２】
ディスク制御装置と、複数のミラード・ディスク装置とを有し、前記ミラード・ディスク装置はデータのストライピングがなされている第１のデバイス群と第１のデバイス群のミラーとなる第２のデバイス群とから構成され、少なくとも第１のデバイス群と第２のデバイス群がそれぞれ異なる伝送路を介して前記ディスク制御装置に接続されるよう構成されるディスクサブシステムであって、前記ディスク制御装置は、前記ミラード・ディスク装置に対する先読み機能によるデータリードに関して、複数の前記伝送路が分散してデータ転送に利用されるように使用する伝送路と使用するデバイス群を決定するよう制御する手段を有することを特徴とするディスクサブシステム。
【請求項３】
前記第１のデバイス群及び第２のデバイス群は、それぞれストライピングされたデバイスの集合の代わりに単一のデバイスであることを特徴とする請求項２記載のディスクサブシステム。
【請求項４】
ディスク制御装置と、複数のミラード・ディスク装置とを有し、前記ミラード・ディスク装置はデータのストライピングがなされている第１のデバイス群と第１のデバイス群のミラーとなる第２のデバイス群とから構成され、少なくとも第１のデバイス群と第２のデバイス群がそれぞれ異なる伝送路を介して前記ディスク制御装置に接続されるよう構成されるディスクサブシステムであって、前記ディスク制御装置は、前記ミラード・ディスク装置に対する先読み機能によるデータリードに関して、複数の前記伝送路が分散してデータ転送に利用されるように、前記ミラード・ディスク装置ごとに使用する伝送路と使用するデバイス群とを設定することを特徴とするディスクサブシステム。
【請求項５】
ディスク制御装置と、複数のミラード・ディスク装置とを有し、前記ミラード・ディスク装置はデータのストライピングがなされている第１のデバイス群と第１のデバイス群のミラーとなる第２のデバイス群とから構成され、少なくとも第１のデバイス群と第２のデバイス群がそれぞれ異なる伝送路を介して前記ディスク制御装置に接続されるよう構成されるディスクサブシステムであって、前記ディスク制御装置は、前記ミラード・ディスク装置に対する先読み機能によるデータリードに関して、複数の前記伝送路が分散してデータ転送に利用されるように、仕掛り中の前記データリードに応じて使用する伝送路と使用するデバイス群とを動的に選択することを特徴とするディスクサブシステム。
【請求項６】
ディスク制御装置と、複数のミラード・ディスク装置とを有し、前記ミラード・ディスク装置はデータのストライピングがなされている第１のデバイス群と第１のデバイス群のミラーとなる第２のデバイス群とから構成され、前記ミラード・ディスク装置を構成する個々のデバイスがそれぞれ異なる伝送路を介して前記ディスク制御装置に接続されるよう構成されるディスクサブシステムであって、前記ディスク制御装置は、
前記第１のデバイス群と前記第１のデバイス群が接続される第１の伝送路群との対応情報、および前記第２のデバイス群と前記第２のデバイス群が接続される第２の伝送路群との対応情報を格納するデバイス接続テーブルの記憶手段と、
前記第１の伝送路群および前記第２の伝送路群の各々について処理仕掛り中の先読み機能によるリードコマンド数を格納する伝送路負荷状況テーブルの記憶手段と、
先読み機能によるリードコマンドを受信したとき、前記伝送路負荷状況テーブルを参照して、前記第１の伝送路群および前記第２の伝送路群について仕掛り中のリードコマンド数を比較する手段と、
前記リードコマンド数の小さい方の伝送路群又は前記リードコマンド数が等しい場合には前記第１の伝送路群について、前記デバイス接続テーブルを参照して前記第１のデバイス群と前記第２のデバイス群のうち対応するデバイス群を選択する手段と、
前記伝送路負荷状況テーブル上の選択した伝送路群の前記リードコマンド数に１を加える手段と、
当該先読み機能によるリードコマンドの処理が終了したとき、前記伝送路負荷状況テーブル上の選択した伝送路群の前記リードコマンド数から１を引く手段とを有することを特徴とするディスクサブシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月18日(2006.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面及び前記前面から拡張し、一体的に形成された部分的に完全なリフレクタを備えるベース部分；
前記部分的に完全なリフレクタに対して備えられた第１支持及び第２支持であって、前記ベース部分から拡張し互いに間隔を開けて配置された、枢軸点を備える第１支持及び第２支持；及び、
前記部分的に完全なリフレクタに調節可能に取り付けられた実質的に凹状の筐体であって、互いに間隔を開けて配置され軸方向に整列した１組のナビンであって、第１のナビンが前記第１支持の前記枢軸点に回転可能に取り付けられ、第２のナビンが前記第２支持の前記枢軸点に回転可能に取り付けられる１組のナビンを備える凹状の筐体を備える、２つの部分から成るリフレクタ組立品。
【請求項２】
前記枢軸点の少なくとも１つが軸の周りの回転のための第１表面を画定する第１側面、及び前記軸の周りの回転のための第２表面を画定し、前記第１側面に対してオフセットを持って配置された第２側面を有し、前記第１側面及び第２側面が前記第１側面と第２側面の間に拡張する枢軸用通路を画定する、請求項１に記載のリフレクタ組立品。
【請求項３】
前記支持が前記ナビンを対応する前記枢軸点に誘導するために前記ナビンの動きを制限するための、前記実質的に凹状の筐体の方向に拡張する壁を有する、請求項２に記載のリフレクタ組立品。
【請求項４】
前記実質的に凹状の筐体が前記実質的に凹状の筐体を前記部分的に完全なリフレクタに対して所望の方向に固定するための手段を含む、請求項１に記載のリフレクタ組立品。
【請求項５】
回転軸を画定する第１枢軸シャフト及び第２枢軸シャフトを有するリフレクタ；及び、
第１支持及び第２支持を有する筐体部材であって、前記支持の各々が対応する前記枢軸シャフトが軸方向に回転可能に結合するための枢軸点を備え、前記支持の各々が前記第１枢軸シャフト及び第２枢軸シャフトを受容するために、前記枢軸点の間の距離を広げるのに十分な程度に可撓性であり、且つ、前記第１枢軸シャフト及び第２枢軸シャフトを受容した後、前記第１枢軸シャフト及び第２枢軸シャフトを前記枢軸点に保持するために前記枢軸点を閉じるために十分な程度の堅さを有する筐体部材を備える旋回可能なリフレクタランプ組立品。
【請求項６】
前記支持の少なくとも１つが前記支持の遠位の端から前記枢軸点の１つに拡張する傾斜部を備える、請求項５に記載のランプ組立品。
【請求項７】
前記支持の１つが前記枢軸シャフトの１つの外面に適当に結合するような形状及び配置の穴を画定する壁部分を備える、請求項５に記載のランプ組立品。
【請求項８】
前記支持の少なくとも１つが前記リフレクタの対応する表面に結合するような形状及び配置の表面を備える、請求項５に記載のランプ組立品。
【請求項９】
前記枢軸点の少なくとも１つが軸の周りの回転のための第１表面を画定する第１側面、及び前記軸の周りの回転のための第２表面を画定し、前記第１側面に対してオフセットを持って配置された第２側面を有し、前記第１側面及び第２側面が前記第１側面と第２側面の間に拡張する枢軸用通路を画定する、請求項５に記載のランプ組立品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  積層された第１のヨーク内に設けられ、第１の方向に往復動する可動子と、前記第１のヨークに付設された第２のヨークと、永久磁石とを備えた操作装置であって、
前記第１のヨークには前記可動子が接する第１、第２の部位を有すると共に、少なくとも１個のコイルが設けられており、前記可動子は前記コイルが励磁されることにより、前記第１のヨークとで第１の磁気回路をなすとともに、前記第１のヨークの第１の部位または第２の部位に向けて所定のストロークを往復動するものであり、
前記永久磁石は、前記第１のヨーク、第２のヨークおよび可動子とで作る第２の磁気回路上に設けられており、その磁束によって前記可動子が前記第１のヨークの第１または第２の部位で保持されることを特徴とする操作装置。
【請求項２】  前記永久磁石は、前記第１のヨークと第２のヨークとの対面の間、あるいは前記可動子に対面する第２のヨークの端面に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項３】  前記可動子が、前記第１のヨークの第１の部位で保持されるとき、前記可動子の前記第１のヨークに接する端面と前記第２の部位との間には、第２の空隙Ｇ２が設けられており、前記可動子が前記第１のヨークの第２の部位で保持されるとき前記可動子の前記第１のヨークに接する端面と前記第１の部位との間には、前記第２の空隙Ｇ２と異なる第１の空隙Ｇ１が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項４】  前記第２のヨークが、前記第１の方向に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項５】  前記第２のヨークが、前記第１の方向と直交する第２の方向に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項６】  前記第２のヨークが積層構造であることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項７】  前記第１のヨークの第２の部位の断面積が第１の部位の断面積より小さいことを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項８】  前記可動子が前記第１の部位と第２の部位で前記第１のヨークに保持されるときに、前記可動子と前記第１のヨークが接する面には、局部的に隙間を有するよう前記第１のヨーク面に階段状の形状が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項９】  前記第２のヨークにはジャッキボルトが設けられており、前記ジャッキボルトを操作することにより、前記第２のヨークに設けられた前記永久磁石と前記可動子との空隙を可変とするとともに、前記第２のヨークと前記第１のヨークとの間に薄板が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項１０】  前記第１のヨークには、第１のコイルと第２のコイルとが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項１１】  前記第１のコイルと第２のコイルの起磁力が異なることを特徴とする請求項１０に記載の操作装置。
【請求項１２】  前記少なくとも１個のコイルが、それぞれ複数の巻線で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項１３】  前記可動子が前記第１のヨークと接する端面の磁束が通る断面積が、前記端面以外の磁束が通る断面積に比べて、小さいことを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項１４】  前記可動子が積層構造であることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項１５】  前記可動子の積層構造は、ソリッドの端板によって締め付けられた構造であることを特徴とする請求項１４に記載の操作装置。
【請求項１６】  前記端板の端面は、積層部端面より内方に位置することを特徴とする請求項１５に記載の操作装置。
【請求項１７】  前記永久磁石は、前記第１と第２のヨーク内で、前記第２のヨークを構成する部材の間に位置することを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項１８】  前記可動子を前記第１の方向に駆動する作動機構が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  原板ステージ上の原板のパターンを基板ステージ上の基板に真空雰囲気内で露光するＥＵＶ露光装置において、前記原板ステージと前記基板ステージの少なくとも一方を駆動する真空雰囲気内の電磁力モータと、前記電磁力モータの発熱による前記電磁力モータの過熱破損を防止するために前記電磁力モータを冷却する冷却手段を有することを特徴とするＥＵＶ露光装置。
【請求項２】 冷媒を循環させて前記電磁力モータを冷却することを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ露光装置。
【請求項３】 原版及び／または基板、及びそれぞれの支持部材の少なくとも一方を前記電磁力モータの発熱部分と非接触に分離することを特徴とする請求項１または２に記載のＥＵＶ露光装置。
【請求項４】 前記原版ステージ及び／または基板ステージに対して電磁力を利用して非接触に駆動できる微動機構を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のＥＵＶ露光装置。
【請求項５】 前記電磁力モータの発熱部分を、前記原版ステージ及び／または基板ステージのガイド、もしくは原版ステージ及び／または基板ステージの位置を計測する計測器、もしくはＥＵＶ露光光を調整するための光学系、もしくは露光雰囲気を達成するためのチャンバーの少なくともいずれか一つに対して非接触に分離することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のＥＵＶ露光装置。
【請求項６】 基板及び／もしくは原版の位置を計測する干渉計システムの計測光路を真空雰囲気内に配置することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のＥＵＶ露光装置。
【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかのＥＵＶ露光装置を利用して半導体デバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月24日(2005.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  薄板上に形成された膜をエッチングしてスクライブラインを形成する加工方法であって、
薄板が巻き付けられた第１ロールから引き出した前記薄板を、第２ロールへ送りつつ第２ロールに巻き取る工程と、第１ロールと第２ロールの間にある薄板の近傍に配置されたマイクロプラズマ源にガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源または薄板に電力を供給することにより、マイクロプラズマを発生させ、前記マイクロプラズマ源の開口部から供給される活性粒子を薄板上に形成された膜に作用させ、ロールの送り方向と概垂直方向に膜の微細線状部分をエッチングする工程とを含むこと
を特徴とする加工方法。
【請求項２】  マイクロプラズマ源の開口部が微細点状を為し、膜の微細線状部分をエッチングする工程において、マイクロプラズマ源をロールの送り方向と概垂直方向に移動させつつエッチングすること
を特徴とする請求項１記載の加工方法。
【請求項３】  マイクロプラズマ源の開口部が微細線状を為し、膜の微細線状部分をエッチングする工程において、マイクロプラズマ源をロールの送り方向と概垂直方向に移動させつつエッチングすること
を特徴とする請求項１記載の加工方法。
【請求項４】  複数のマイクロプラズマ源を用いて、同時に複数の微細線状部分をエッチングすること
を特徴とする請求項１記載の加工方法。
【請求項５】  薄膜太陽電池の裏面電極としての膜をエッチングする方法として用いられること
を特徴とする請求項１記載の加工方法。
【請求項６】  モリブデン薄膜をエッチングすることを特徴とする請求項１記載の加工方法。
【請求項７】  被処理物から離れた位置において、マイクロプラズマ源にガスを供給しつつ電力を供給することにより、マイクロプラズマを発生させる工程と、被処理物の近傍にマイクロプラズマ源を配置させ、マイクロプラズマ源の開口部から供給される活性粒子を被処理物に作用させ、被処理物を加工する工程とを含むこと
を特徴とする加工方法。
【請求項８】  被処理物の近傍に、被処理物の表面にほぼ連続した面に表面を有する着火用電極を配置する工程と、着火用電極の近傍に配置したマイクロプラズマ源にガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源または着火用電極に電力を供給することにより、マイクロプラズマを発生させる工程と、被処理物の近傍にマイクロプラズマ源を配置させ、マイクロプラズマ源の開口部から供給される活性粒子を被処理物に作用させ、被処理物を加工する工程とを含むこと
を特徴とする加工方法。
【請求項９】  被処理物の近傍に配置したマイクロプラズマ源に不活性ガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源または被処理物に電力を供給することにより、マイクロプラズマを発生させる工程と、被処理物の近傍にマイクロプラズマ源を配置させ、マイクロプラズマ源に不活性ガスと反応性ガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源または被処理物に電力を供給することにより、マイクロプラズマ源の開口部から供給される活性粒子を被処理物に作用させ、被処理物を加工する工程とを含むこと
を特徴とする加工方法。
【請求項１０】  被処理物の近傍にマイクロプラズマ源を配置させ、マイクロプラズマ源にガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源または被処理物に電力を供給することにより、マイクロプラズマ源の開口部から供給される活性粒子を被処理物に作用させ、被処理物を加工する工程と、被処理物の近傍に、被処理物の表面にほぼ連続した面に表面を有する消火用電極を配置する工程と、消火用電極の近傍にマイクロプラズマ源を配置させ、マイクロプラズマ源または消火用電極に供給する電力を停止してマイクロプラズマの発生を停止する工程とを含むこと
を特徴とする加工方法。
【請求項１１】  薄板が巻き付けられた第１ロールと、前記薄板を巻きつけた第１ロールから引き出した薄板を巻き取る第２ロールと、第１ロールと第２ロールの間にある薄板の近傍に配置されたマイクロプラズマ源と、マイクロプラズマ源にガスを供給するガス供給装置と、マイクロプラズマ源または薄板に電力を供給する電源とを備えたこと
を特徴とする加工装置。
【請求項１２】  マイクロプラズマ源の開口部が微細点状を為し、マイクロプラズマ源をロールの送り方向と概垂直方向に移動させる機構を備えたこと
を特徴とする請求項１１記載の加工装置。
【請求項１３】  マイクロプラズマ源の開口部が微細線状をなし、マイクロプラズマ源をロールの送り方向と概垂直方向に移動させる機構を備えたことを特徴とする、請求項１１記載の加工装置。
【請求項１４】  複数のマイクロプラズマ源を備えたことを特徴とする請求項１１記載の加工装置。
【請求項１５】  マイクロプラズマ源と、マイクロプラズマ源にガスを供給するガス供給装置と、マイクロプラズマ源に電力を供給する電源と、マイクロプラズマ源を被処理物から離れた位置及び被処理物の近傍に配置させる機構を備えたこと
を特徴とする加工装置。
【請求項１６】  マイクロプラズマ源と、マイクロプラズマ源にガスを供給するガス供給装置と、マイクロプラズマ源または被処理物に電力を供給する電源とを備えた加工装置であって、
被処理物を配置することが予定された被処理物位置の近傍に、被処理物が配置された際における被処理物の表面にほぼ連続した面に表面を配置させる着火用電極を備えたこと
を特徴とする加工装置。
【請求項１７】  マイクロプラズマ源と、マイクロプラズマ源にガスを供給するガス供給装置と、マイクロプラズマ源または被処理物に電力を供給する電源とを備えた加工装置であって、
被処理物を配置することが予定された被処理物位置の近傍に、被処理物が配置された際における被処理物の表面にほぼ連続した面に表面を配置させる消火用電極を備えたこと
を特徴とする加工装置。
【請求項１８】  開口部が微細線状を為すマイクロプラズマ源を用いた加工方法であって、外側ガス流路にガスを供給し、外側ガス流路に通じ、かつ、外側ガス流路よりも浅い外側ガス排出口から被処理物に向けてガスを吹き出すとともに、内側ガス流路にガスを供給し、内側ガス流路に通じ、かつ、内側ガス流路よりも浅い内側ガス排出口から被処理物に向けてガスを吹き出しつつ、電極または被処理物に電力を供給することによってマイクロプラズマを発生させること
を特徴とする加工方法。
【請求項１９】  開口部が微細線状を為すマイクロプラズマ源を用いた加工装置であって、マイクロプラズマ源が、外側ガス流路と、外側ガス流路に通じ、かつ、外側ガス流路よりも浅い外側ガス排出口と、内側ガス流路と、内側ガス流路に通じ、かつ、内側ガス流路よりも浅い内側ガス排出口と、電極とから為り、また、外側ガス流路及び内側ガス流路にガスを供給するガス供給装置と、電極または被処理物に電力を供給する電源とを備えたこと
を特徴とする加工装置。
【請求項２０】  複数の薄膜からなり、薄板状でフレキシブルな電子デバイスであって、パターニングされた薄膜の断面形状がテーパー状であること
を特徴とする電子デバイス。
【請求項２１】  複数の薄膜からなり、薄板状でフレキシブルな電子デバイスであって、パターニングされた薄膜の断面形状において、パターンの肩部がなだらかな曲線であること
を特徴とする電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月4日(2006.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気ポンピング式垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）であって、
１対の分布型ブラッグ・レフレクタ（ＤＢＲ）と、
前記ＤＢＲ間に配置された光共振器と、
前記光共振器内に配置された活性領域と、
前記活性領域と等しい数のｐ−ｉ−ｎ接合構造とを有し、
前記活性領域のそれぞれが、前記ｐ−ｉ−ｎ接合構造の対応する１つの真性（ｉ）層を構成し、前記ｐ−ｉ−ｎ接合構造のそれぞれが、ｐ型材料、ｎ型材料、前記ｐ型材料と前記活性領域のうち対応する１つとの間のｐ−ｉ接合、及び、前記活性領域のうち対応する１つと前記ｎ型材料の間のｉ−ｎ接合を含み、
さらに、前記ｐ−ｉ接合が前記ｎ−ｉ接合に互いに直交するよう配置される、ＶＣＳＥＬ。
【請求項２】
前記ｐ−ｉ−ｎ接合構造を並列に接続する電極をさらに有する、請求項１に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項３】
少なくとも１つのトンネル接合をさらに有する、請求項１に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項４】
前記トンネル接合によって、２つのｐ−ｉ−ｎ接合構造が電気的に直列に接続される、請求項３に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項５】
前記トンネル接合が、電流を閉じ込める構造になっている、請求項３に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項６】
前記ＶＣＳＥＬにおける光学縦モードを閉じ込めるための手段をさらに有する、請求項１に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項７】
前記閉じ込め手段が、前記活性領域の少なくとも１つに隣接して配置された電流閉じ込め領域を含む、請求項６に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項８】
前記活性領域の間のドライブ電流密度を制御する手段をさらに有する、請求項１に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項９】
制御手段は、前記それぞれの活性領域に隣接する電流閉じ込め領域を含む、請求項８に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項１０】
前記活性領域のうちの隣接活性領域が、前記活性領域のうちの別の活性領域とは異なる光学利得を示すように、前記電流閉じ込め領域の少なくとも１つが構成される、請求項９に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項１１】
前記ＤＢＲの少なくとも１つが、ＶＣＳＥＬの同調のために移動可能である、請求項１に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項１２】
前記ＤＢＲのうちの前記１つを動かすように結合された静電モータを付加的に有する、請求項１１に記載のＶＣＳＥＬ。
【請求項１３】
前記ｐ−ｉ−ｎ接合構造のそれぞれと結合された１対の電極をさらに有する、請求項１に記載のＶＣＳＥＬ。