【手続補正書】
【提出日】平成18年9月7日(2006.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレーナ表面のワークピースのイオンインプラント装置であって、当該装置は、望ましいスピーシーズのイオンビームを発生する手段と、前記イオンビームをコリメートして、長手軸に平行に移動すると共に主横軸に沿う長手寸法と副横軸に沿う短手寸法を有する平行リボンビームを形成するエネルギー手段とを備え、前記ビームに隣接すると共に前記長手軸に平行なピボット軸を有する第１のピボットに取り付けられ、前記長手軸と前記主横軸を含む平面内又はそれに近接して配置されるアームを備え、前記平行リボンビームの電流密度を制御し、この密度を前記第１のピボットの軸からの距離に比例させる手段を備え、インプラントされるべきワークピースのための前記チャックが前記第１のピボットに対して傾斜された軸を有する第２のピボットによって前記アームに取り付けられ、そこで、インプラントされるべきワークピースが、前記チャックに支えられ、前記第２のピボットを調節してビーム方向に対して望ましい角度にワークピースのプレーナ表面を傾斜させるための手段を備え、前記アームをある角度を通過するように回転するための手段を備え、それによって、望ましい角速度で、アーク形状パス上で前記リボンイオンビームを通過するようにワークピースを移動し、ワークピースのプレーナ表面に望ましい実質的に均一な線量のイオンをインプラントするのに有効である、イオンインプラント装置。
【請求項２】
イオンビームをコリメートするための前記手段は、前記リボンイオンビームの電流密度プロファイルを変更するように入口及び出口ポールエッジと磁界プロファイルが成形される磁石であり、それによって、ビームがワークピースに衝突する異なる位置での電流密度が、第１のピボット軸からの各位置の距離に比例する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記イオンビームをコリメートするための前記手段と電流密度を制御するための前記手段は、二つのレンズ又は電界又は磁界の領域よりなり、各々は、六極の電界又は磁界のコンポーネントを有し、前記コンポーネントは、前記イオンビームをコリメートすることと前記イオンビームがワークピースに衝突する位置でイオンビームの主横軸に沿って電流密度の線形変化を提供することの両方に有効である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第２のピボットの傾斜は、イオンビームがない位置で、ワークピースをチャックからロードし且つそれからアンロードするためにチャックを望ましい便利な向きに回転させるように選択され、この向きは、任意的に水平面である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
ワークピースのプレーナ表面に対して垂直な軸回りに前記チャックを回転するための手段が設けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記チャックは、望ましい線量の５０％がワークピースにインプラントされた時に、１８０°回転され、それによって、そうでない場合、リボンイオンビームの電流密度プロファイルから起こる線量の不均一なシステム的エラーを実質的に相殺する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
一定のイオンビームを介してラスターパターンで２次元ワークピースを走査するための装置であって、当該装置は、ビーム軸に沿って移動する一定のイオンビームを発生するための手段を備え、ビーム軸に平行であり前記ビームに隣接する前記ピボット軸を有する第１のピボットに取り付けられたアームを備え、前記アームを前記第一ピボット軸回りにある角度を通過するように回転する手段を備え、前記角度は、第１と第２の角度制限によって画定され、第１のピボットを前記ビーム軸に垂直な方向へ平行移動するため且つ前記第１と第２の角度制限間の前記角度を略二等分する手段を備え、第１のビポットに対して傾斜された軸を有する第２のピボットによって前記アームに取り付けられたインプラントされるべきプレーナ表面のワークピース用前記の支持体を備え、インプラントされるべきプレーナ表面のワークピースは、前記支持体に取り付けられ、前記第２のピボットは、前記ビーム方向に対して望ましき角度にワークピースのプレーナ表面を傾斜するように調節され、次に固定され、ワークピースをある角度を通過するように回転して、それによって望ましい速度でアーク形状パス上を前記固定されたリボンイオンビームが通過するようにワークピースを移動すると共に、略直交する方向にピボットをゆっくりと平行移動し、それによって前記固定されたイオンビームを通過するようにアーク形状ラスターパターン中にワークピースを移動させることによって、望ましい均一な線量のイオンでワークピースのプレーナ表面がインプラントされる装置。
【請求項８】
第１のピボットの前記平行移動は、固定されたイオンビームの外側の前記アームによるワークピースの平行移動中のみの移動によって、有限インクリメントで達成される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
リボンイオンビームをワークピースにインプラントする方法であって、前記方法は、アームに取り付けられたチャックへ単一のワークピースを取り付けるステップを備え、前記アームは、ワークピースがアーク形状パス中を移動され得るように第１ピボット軸をもつ第１のピボットへ取り付けられ、前記第１のピボット軸に対して傾斜された第２の軸の回りに、ワークピースが、前記第１のピボット軸に対して望ましい角度にその露出平面が保持される迄前記チャックを回転するステップを備え、リボンイオンビームを静電又は磁気レンズを通過させるステップを備え、静電界又は磁界は、イオン軌道を前記第１のピボット軸と略平行にするように成形され、一定の角速度でリボンイオンビーム中を通過するようにワークピースを移動するように前記第１のピボット回りに前記チャックがとりつけられたアームを回転して、それによって、均一な線量のイオンを望ましい角度でワークピースにインプラントする方法。
【請求項１０】
磁界又は電界の異なる形状の領域をもつ少なくとも二つのレンズでリボンイオンビームを通過させるステップと、前記レンズの少なくとも一つを調節してその主軸に沿ってリボンイオンビームの電流密度を変更するステップと、同時にイオンビーム軌跡を前記第１のピボット軸に実質的に平行に維持するステップとを更に備え、それによって、イオンビームがワークピース表面に異なる位置で衝突すると、各位置の電流密度が、前記第１のピボット軸からの距離に比例する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
スキャンされたイオンビームでワークピースにインプラントする方法であって、単一のワークピースをアームに取り付けられたチャックに取り付けるステップを備え、ワークピースが、アーク形状のパスを移動され得るように前記アームが、第１のピボット軸をもつ第１ピボットに取り付けられ、第１のピボット軸に対して傾斜した第２の軸回りに、ワークピースの露出平面が前記第１のピボット軸に対して望ましい角度であるようにワークピースが保持されるまで、前記チャックを回転するステップを備え、前記アームを前記第１のピボット回りに回転して一定の角速度でアーク状のパスで走査されたイオンビームを通るようにワークピースを移動するステップを備え、イオンビームに対して垂直な方向で、ワークピースのアーク状運動の中間点に対して略垂直な方向に第１のピボットを平行移動するステップを備え、それによって、望ましい角度で均一な線量のイオンをワークピースにインプラントする方法。