【手続補正書】
【提出日】平成18年4月24日(2006.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する周辺露光装置において、露光用の光束を前記感光性基板へ導く照明光学系と、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする光学手段とを有することを特徴とする周辺露光装置。
【請求項２】前記光学手段は、前記感光性基板の端部側へ行くに従って照度が段階的にまたは連続的に高くすることを特徴とする請求項１に記載の周辺露光装置。
【請求項３】前記光学手段は、前記光束の少なくとも一部を偏向させる光学部材を含むこと特徴とする請求項１または請求項２に記載の周辺露光装置。
【請求項４】前記光学手段は、前記照明光学系内に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３記載のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項５】前記光学手段は、周辺露光に際して、所定の方向へ移動することを特徴とする請求項１乃至４記載のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項６】前記感光性基板を載置する基板ステージを配置し、前記光学手段は、前記基板ステージに固設されていることを特徴とする請求項１乃至３記載のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項７】前記光学手段は、前記複数のレンズエレメントのそれぞれに形成された偏向面を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項８】前記光学手段は、光軸に対して対称とならない外径を持つ複数のレンズエレメントを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項９】前記光学手段は、シリンドリカルレンズ作用を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項１０】前記光学手段は、プリズム作用を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項１１】前記光学手段は、前記感光性基板の非転写領域でのレジストが厚くなる位置での照度を高くすることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の周辺露光装置。
【請求項１２】請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の周辺露光装置を用いて前記感光性基板の非転写領域を露光することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】請求項１乃至請求項１１のいずれか１項に記載の周辺露光装置を用いて、前記感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する第１露光工程と、前記感光性基板上の前記パターン転写領域に前記所定の転写パターンを露光する第２露光工程とを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１４】前記第１露光工程は、第２露光工程の前または後に実行されることを特徴とする請求項１３に記載の露光方法。
【請求項１５】感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記角型基板上の非転写領域を露光する第１露光工程と、前記角型基板上の前記パターン転写領域に前記所定の転写パターンを露光する第２露光工程とを含み、前記第１露光工程は、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くすることを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１６】前記第１露光工程は、前記感光性基板の非転写領域でのレジストが厚くなる位置での照度を高くすることを含むことを特徴とする請求項１５に記載の露光方法。
【請求項１７】感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する第１露光工程と、前記感光性基板上の前記パターン転写領域に前記所定の転写パターンを露光する第２露光工程とを含み、前記第１露光工程は、前記非転写領域へ導かれる所定の露光用の光に基づいて、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする照度分布調整工程と、該照度調整工程によって所望の照度分布に調整された前記露光用の光と前記非転写領域とを所定の方向に沿って相対的に移動させる相対移動工程とを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１８】前記照度分布調整工程は、前記感光性基板の非転写領域でのレジストが厚くなる位置での照度を高くすることを含むことを特徴とする請求項１７に記載の露光方法。
【請求項１９】前記相対移動工程は、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする光学手段を前記所定の方向に移動させながら露光を行うことを含むことを特徴とする請求項１７または１８に記載の露光方法。
【請求項２０】前記第１露光工程は、前記非転写領域内に帯状露光領域を形成するために前記非転写領域へ前記露光用を導く照明工程をさらに含み、前記相対移動工程は、前記帯状露光領域の長手方向を横切る方向を前記所定の方向として前記光学手段を移動させることを含むことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２１】前記照度分布調整工程は、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする光学手段を所定の光路中に設定する工程を含み、前記相対移動工程は、前記光学手段によって所望の照度分布に調整された前記露光用の光と前記非転写領域とを前記所定の方向に沿って相対的に移動させるために、走査部材を用いることを含むことを特徴とする請求項１７または１８に記載の露光方法。
【請求項２２】前記走査部材は、走査型の反射鏡を含むことを特徴とする請求項２１に記載の露光方法。
【請求項２３】レジストが塗布された感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する周辺露光装置において、
露光用の光束を前記感光性基板へ導く照明光学系と、前記非転写領域における前記レジストが厚くなる位置での光強度を強くする光学手段とを有することを特徴とする周辺露光装置。
【請求項２４】前記光学手段は、前記光束の一部を偏向させる光学部材を有することを特徴とする請求項２３に記載の周辺露光装置。
【請求項２５】前記光学手段は、複数のレンズエレメントのそれぞれに形成された偏向面を有することを特徴とする請求項２３に記載の周辺露光装置。
【請求項２６】前記光学手段は、光軸に対して対称とならない外径を持つ複数のレンズエレメントを含むことを特徴とする請求項２３に記載の周辺露光装置。
【請求項２７】前記光学手段は、シリンドリカルレンズ作用を有することを特徴とする請求項２３に記載の周辺露光装置。
【請求項２８】前記光学手段は、プリズム作用を有することを特徴とする請求項２３に記載の周辺露光装置。
【請求項２９】前記照明光学系は、複数のレンズエレメントで構成されるオプティカルインテグレータを有することを特徴とする請求項２３に記載の周辺露光装置。
【請求項３０】前記光学手段は、前記オプティカルインテグレータと前記感光性基板との間の光路に配置されることを特徴とする請求項２９に記載の周辺露光装置。
【請求項３１】前記光学手段は、プリズム作用を有することを特徴とする請求項３０に記載の周辺露光装置。
【請求項３２】前記光学手段は、シリンドリカルレンズ作用を有することを特徴とする請求項３０に記載の周辺露光装置。
【請求項３３】請求項２３乃至３２のいずれか１項に記載の周辺露光装置を用いて前記感光性基板上の前記非転写領域を露光することを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、請求項７に記載しているように、前記光学手段は、複数のレンズエレメントのそれぞれに形成された偏向面を有する構成としても良く、また、請求項８に記載しているように、前記光学手段は、光軸に対して対称とならない外径を持つ複数のレンズエレメントを含むようにしても良い。また、請求項９に記載しているように、前記光学手段は、シリンドリカルレンズ作用を有しても良く、さらに、請求項１０に記載しているように、前記光学手段は、プリズム作用を有する構成としても良い。さらには、請求項１１に記載しているように、前記光学手段は、前記感光性基板の非転写領域でのレジストが厚くなる位置での照度を高くするようにしても良い。また、請求項１２に記載しているように、以上の周辺露光装置を用いて前記感光性基板の非転写領域を露光するようにしても良い。
また、さらに、請求項１３に記載しているように、以上の周辺露光装置を用いた露光方法において、前記感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する第１露光工程と、前記感光性基板上の前記パターン転写領域に前記所定の転写パターンを露光する第２露光工程とを含むようにしても良い。これにより、良好なるデバイス（半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この場合、請求項１４に記載しているように、前記第１露光工程は、第２露光工程の前または後に実行されても良い。また、請求項１５の露光方法に係る発明では、感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記角型基板上の非転写領域を露光する第１露光工程と、前記角型基板上の前記パターン転写領域に前記所定の転写パターンを露光する第２露光工程とを含み、前記第１露光工程は、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くすることを含むようにしたものである。
また、請求項１６に記載しているように、前記第１露光工程は、前記感光性基板の非転写領域でのレジストが厚くなる位置での照度を高くすることを含むようにしても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、請求項１７の露光方法に係る発明では、感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する第１露光工程と、前記感光性基板上の前記パターン転写領域に前記所定の転写パターンを露光する第２露光工程とを含み、前記第１露光工程は、前記非転写領域へ導かれる所定の露光用の光に基づいて、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする照度分布調整工程と、該照度調整工程によって所望の照度分布に調整された前記露光用の光と前記非転写領域とを所定の方向に沿って相対的に移動させる相対移動工程とを含むようにしたものである。
また、請求項１８に記載しているように、前記照度分布調整工程は、前記感光性基板の非転写領域でのレジストが厚くなる位置での照度を高くすることを含むようにしても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この場合、請求項１９に記載しているように、前記相対移動工程は、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする光学手段を前記所定の方向に移動させながら露光を行うことを含むことが好ましい。特に、請求項２０に記載しているように、前記第１露光工程は、前記非転写領域内に帯状露光領域を形成するために前記非転写領域へ前記露光用を導く照明工程をさらに含み、前記相対移動工程は、前記帯状露光領域の長手方向を横切る方向を前記所定の方向として前記光学手段を移動させることを含むことがより好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、請求項２１に記載しているように、前記照度分布調整工程は、前記非転写領域における前記感光性基板の端部側での照度を高くする光学手段を所定の光路中に設定する工程を含み、前記相対移動工程は、前記光学手段によって所望の照度分布に調整された前記露光用の光と前記非転写領域とを前記所定の方向に沿って相対的に移動させるために、走査部材を用いることを含むようにすることも可能である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この場合、請求項２２に記載しているように、前記走査部材は、走査型の反射鏡を含むことが好ましい。
また、請求項２３に係る発明では、レジストが塗布された感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する周辺露光装置において、露光用の光束を前記感光性基板へ導く照明光学系と、前記非転写領域における前記レジストが厚くなる位置での光強度を強くする光学手段とを有する構成としてものである。
この場合、請求項２４に記載しているように、前記光学手段は、前記光束の一部を偏向させる光学部材を有することが好ましく、また、請求項２５の記載しているように、前記光学手段は、複数のレンズエレメントのそれぞれに形成された偏向面を有する構成とすることが好ましい。
また、請求項２６に記載しているように、前記光学手段は、光軸に対して対称とならない外径を持つ複数のレンズエレメントを含むことが好ましく、請求項２７に記載しているように、前記光学手段は、シリンドリカルレンズ作用を有するようにしても良い。さらには、請求項２８に記載しているように、前記光学手段は、プリズム作用を有するようにしても良い。
また、請求項２９に記載しているように、前記照明光学系は、複数のレンズエレメントで構成されるオプティカルインテグレータを有することが好ましく、また、請求項３０に記載のように、前記光学手段は、前記オプティカルインテグレータと前記感光性基板との間の光路に配置されることがより好ましい。
この場合、請求項３１に記載しているように、前記光学手段は、プリズム作用を有することが好ましく、また、請求項３２に記載のように、前記光学手段は、シリンドリカルレンズ作用を有するようにしても良い。
また、請求項３３に記載しているように、以上の周辺露光装置を用いて前記感光性基板上の前記非転写領域を露光するようにしても良い。