【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から発せられた光束を、少なくとも１つの光学素子を有する露光光学系を介して第１のステージに載置された被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、
前記第１のステージが配置された第１の空間と、前記露光光学系の少なくとも１つの光学素子が配置された第２の空間とは、それぞれ減圧状態に維持された閉空間で構成され、
前記第１の空間と前記第２の空間とは、露光光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、
前記露光装置は、
前記第１の空間の減圧状態の圧力を管理する第１の管理手段と、
前記第２の空間の減圧状態の圧力を管理する第２の管理手段とを有し、
前記第１の空間の圧力は、前記第２の空間の圧力と同じ又はそれ以下になるように管理されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２の空間の圧力は、１００Ｐａ以下であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
光源から発せられた光束を、少なくとも１つの光学素子を有する露光光学系を介して第１のステージに載置された被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、
前記露光光学系は、レチクルと、前記レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルからの転写情報を前記被処理体に転写する投影光学系とを有し、
前記第１のステージが配置された第１の空間と、前記露光光学系の少なくとも１つの光学素子が配置された第３の空間と、前記レチクルが配置された第４の空間と、前記照明光学系を構成する少なくとも１つの光学素子が配置された第５の空間と、前記光源が配置された第６の空間とは、それぞれ減圧状態に維持された閉空間で構成され、
前記第１の空間と前記第３の空間とは、投影光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、
前記第３の空間と前記第４の空間とは、前記投影光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、
前記第４の空間と前記第５の空間とは、照明光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、
前記第５の空間と前記第６の空間とは、光束が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、
前記露光装置は、
前記第１の空間の減圧状態の圧力を管理する第１の管理手段と、
前記第３の空間の減圧状態の圧力を管理する第３の管理手段と、
前記第４の空間の減圧状態の圧力を管理する第４の管理手段と、
前記第５の空間の減圧状態の圧力を管理する第５の管理手段と、
前記第６の空間の減圧状態の圧力を管理する第６の管理手段とを有し、
前記第１の空間の圧力は、最も低くなるように管理されていることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
前記第３の空間の圧力は、１００Ｐａ以下であることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の空間の圧力は、１０Ｐａ以下であることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項６】
前記第４の空間の圧力は、前記第５の空間の圧力と同じ又はそれ以下になるように管理されていることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項７】
前記第４の空間の圧力は、前記第３の空間の圧力と同じ又はそれ以下になるように管理されていることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１及び前記第３乃至前記第６の管理手段は、前記第１及び前記第３乃至前記第６の空間をそれぞれに排気する排気部を有することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１及び前記第３乃至前記第６の管理手段は、
前記第１及び前記第３乃至前記第６の空間の１つ又は前記第１及び前記第３乃至前記第６の空間の全てにガスを供給する供給部と、
前記供給部によって供給される前記ガスの供給量を制御する供給制御部とを有することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項１０】
前記ガスは、不活性ガスであることを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記不活性ガスは、ヘリウムであることを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記光束は、ＥＵＶ光であることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項１３】
前記光束は、電子ビームであることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項１４】
光源から発せられた光束を用いてレチクルを照明し、当該レチクルのパターンを被処理体に露光する露光方法であって、
前記光源から前記被処理体までの前記光束の光路を、前記光束が通過可能に複数の空間に隔離するステップと、
前記隔離ステップで隔離された前記複数の空間の圧力を、前記光源側の空間の圧力が最も高く、前記被処理体が配置された空間の圧力が最も低くなるように制御するステップとを有することを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
前記制御ステップは、
前記隔離ステップで隔離された前記複数の空間の圧力を検出するステップと、
前記検出ステップで検出された前記複数の空間の圧力に基づいて、当該複数の空間を排気するステップとを有することを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【請求項１６】
前記制御ステップは、
前記隔離ステップで隔離された前記複数の空間の圧力を検出するステップと、
前記検出ステップで検出された前記複数の空間の圧力に基づいて、当該複数の空間にガスを供給するステップとを有することを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【請求項１７】
前記隔離ステップは、前記光源から前記被処理体までの前記光束の光路を３つ以上の空間に隔離することを特徴とする請求項１４記載の露光方法。
【請求項１８】
請求項１乃至１３のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、光源から発せられた光束を、少なくとも１つの光学素子を有する露光光学系を介して第１のステージに載置された被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、前記第１のステージが配置された第１の空間と、前記露光光学系の少なくとも１つの光学素子が配置された第２の空間とは、それぞれ減圧状態に維持された閉空間で構成され、前記第１の空間と前記第２の空間とは、露光光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、前記露光装置は、前記第１の空間の減圧状態の圧力を管理する第１の管理手段と、前記第２の空間の減圧状態の圧力を管理する第２の管理手段とを有し、前記第１の空間の圧力は、前記第２の空間の圧力と同じ又はそれ以下になるように管理されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の別の側面としての露光装置は、光源から発せられた光束を、少なくとも１つの光学素子を有する露光光学系を介して第１のステージに載置された被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、前記露光光学系は、レチクルと、前記レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルからの転写情報を前記被処理体に転写する投影光学系とを有し、前記第１のステージが配置された第１の空間と、前記露光光学系の少なくとも１つの光学素子が配置された第３の空間と、前記レチクルが配置された第４の空間と、前記照明光学系を構成する少なくとも１つの光学素子が配置された第５の空間と、前記光源が配置された第６の空間とは、それぞれ減圧状態に維持された閉空間で構成され、前記第１のステージが配置された第１の空間と、前記露光光学系の少なくとも１つの光学素子が配置された第３の空間と、前記レチクルが配置された第４の空間と、前記照明光学系を構成する少なくとも１つの光学素子が配置された第５の空間と、前記光源が配置された第６の空間とは、それぞれ減圧状態に維持された閉空間で構成され、前記第１の空間と前記第３の空間とは、投影光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、前記第３の空間と前記第４の空間とは、前記投影光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、前記第４の空間と前記第５の空間とは、照明光が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、前記第５の空間と前記第６の空間とは、光束が通過する開口部を除いて、隔壁によって隔絶されて隣接し、前記露光装置は、前記第１の空間の減圧状態の圧力を管理する第１の管理手段と、前記第３の空間の減圧状態の圧力を管理する第３の管理手段と、前記第４の空間の減圧状態の圧力を管理する第４の管理手段と、前記第５の空間の減圧状態の圧力を管理する第５の管理手段と、前記第６の空間の減圧状態の圧力を管理する第６の管理手段とを有し、前記第１の空間の圧力は、最も低くなるように管理されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の更に別の側面としての露光方法は、光源から発せられた光束を用いてレチクルを照明し、当該レチクルのパターンを被処理体に露光する露光方法であって、前記光源から前記被処理体までの前記光束の光路を、前記光束が通過可能に複数の空間に隔離するステップと、前記隔離ステップで隔離された前記複数の空間の圧力を、前記光源側の空間の圧力が最も高く、前記被処理体が配置された空間の圧力が最も低くなるように制御するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とする。