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【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
多くの場合、ラビリンス型シールが、タービンにおいて固定構成部品と回転構成部品との間を密封するために用いられる。ラビリンス歯状突起を回転構成部品から間隔を置いて配置する必要があるために、ラビリンス型シールは、適正とは言えない漏れ性能を示し、同時に万一ラビリンスシール歯状突起がロータと摩擦することになれば、ロータに対して熱に起因する損傷を与える可能性がある。ハニカムシールもまた、時として、タービンにおいて固定構成部品と回転構成部品との間を密封するのに用いられる。ハニカムシールは一般的に、ラビリンス型シールと比較して熱に起因するロータへの損傷を生じる問題を無くすが、ハニカムシールは、ラビリンスシールと比較すると漏れ性能における改善には限界がある。更に、タービンにおいて高圧領域と低圧領域との間に大きな圧力差が存在する場合には、軸方向に間隔を置いて配置されたブラシシールは、圧力差を分担するようには機能せず、これらの高圧領域と低圧領域との間の密封要件に適合しないことになる。
【特許文献１】米国特許 ５３０８０８８号明細書
【特許文献２】米国特許 ５３１８３０９号明細書
【特許文献３】米国特許 ５９６７７４６号明細書
【特許文献４】米国特許 ６０７７０３８号明細書
【特許文献５】米国特許 ６１３１９１０号明細書
【特許文献６】米国特許 ６２５１４９４号明細書
【特許文献７】米国特許 ６４９９７４２号明細書
【特許文献８】米国特許 ６４０２１５７号明細書
【特許文献９】米国特許 ６４６４４６１号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンエンジン用ディスク（１０）のダブテールスロット（１２）を検査する装置（３４）であって、
（ａ）静止位置に固定された第１ピン部材（３８）と、
（ｂ）第１位置と第２位置との間で移動することができ、前記第１ピン部材（３８）に対して実質的に平行に配向された第２ピン部材（４０）と、
（ｃ）第１位置と第２位置との間で作動可能であり、前記第２部材位置にあるときに前記第１及び第２ピン部材（３８、４０）を前記ダブテールスロット（１２）内の予め定められた位置に自動的に位置付けるように機能する部材（４２）と、
（ｄ）前記予め定められたダブテールスロット位置にあるときに前記第１ピン部材と第２ピン部材（３８、４０）間の距離を計測するための第１プローブ（５４）と、
（ｅ）前記第１ピン部材（３８）、前記第２ピン部材（４０）、前記作動可能部材（４２）、及び前記第１プローブ（５４）が予め定められた方法で組みつけられるベースを形成する少なくとも１つのプレート部材（５８）と、
を備える装置（３４）。
【請求項２】
前記部材（４２）を前記第１部材位置と前記第２部材位置との間で作動させる機構（４４）を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の装置（３４）。
【請求項３】
前記作動機構（４４）が更に、
（ａ）共に組み込まれたシャフト（４９）を有する空気圧シリンダ（４６）と、
（ｂ）取付具（５２）によって前記空気圧シリンダ（４６）に連結された空気供給部（３６）と、
（ｃ）前記空気圧シリンダ（４６）を作動及び非作動状態にする滑り弁（４７）と、
を備えることを特徴とする請求項２に記載の装置（３４）。
【請求項４】
前記計測された距離を示す信号を前記第１プローブ（５４）から受け取り、これを表す結果を表示する装置（８２）を更に備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置（３４）。
【請求項５】
ガスタービンエンジン用ディスク（１０）のダブテールスロット（１２）を検査する方法であって、
（ａ）静止ピン部材（３８）と移動可能ピン部材（４０）を前記ダブテールスロット（１２）内に位置付ける段階と、
（ｂ）前記静止ピン部材及び移動可能ピン部材（３８、４０）が前記ダブテールスロット（１２）内の一対の実質的に平行なスロット内に自動的に着座されるまで、前記移動可能ピン部材（４０）に適合するように、部材（４２）を第１位置から第２位置まで作動させる段階と、
（ｃ）前記着座位置にあるときに前記静止ピン部材と移動可能ピン部材（３８、４０）間の距離（３０）を計測する段階と、
を含む方法。
【請求項６】
（ａ）前記ダブテールスロット（１２）の基準距離を確立する段階と、
（ｂ）前記静止ピン部材と移動可能ピン部材（３８、４０）間の計測された距離を前記基準距離と比較する段階と、
を更に含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記部材（４２）を前記第２位置から前記第１位置に格納する段階を更に含む請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記静止ピン部材及び移動可能ピン部材（３８、４０）を前記ダブテールスロット（１２）から取り外す段階を更に含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ガスタービンエンジンブレード（９０）のダブテール（８８）を検査するための装置（８７）であって、
（ａ）静止位置に固定された第１ピン部材（９６）と、
（ｂ）第１位置と第２位置との間で移動することができ、前記第１ピン部材（９６）に対して実質的に平行に配向された第２ピン部材（９４）と、
（ｃ）第１位置と前記第２位置との間で作動可能であり、前記第２部材位置の間に前記第１及び第２ピン部材（９６、９４）を前記ダブテール（８８）の両側の予め定められた位置に自動的に位置付けるように機能する部材（９２）と、
（ｄ）前記予め定められた位置にあるときに前記第１ピン部材と第２ピン部材（９６、９４）間の距離を計測するための第１プローブ（５４）と、
（ｅ）前記第１ピン部材（９６）、前記第２ピン部材（９４）、前記作動可能部材（９２）、及び前記第１プローブとが予め定められた方法で組みつけられるベースを形成する少なくとも１つのプレート部材（５８）と、
を備える装置（８７）。
【請求項１０】
前記部材（９２）を前記第１部材位置と第２部材位置間で作動させるための機構（４４）を更に含む請求項９に記載の装置（８７）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
スロット部分のそれぞれの支持面は、ブレードをダブテールスロット内に維持し且つ最大量の応力を受けるために不可欠なものであることから、ダブテールスロット幅のパラメータは重要である。ダブテールスロットは一般に、該ダブテールスロットが対応する装置によって所望の形状及び寸法に徐々に形成されるブローチ加工法によって形成される。ブローチ加工装置が磨耗すると、ダブテールスロットは正確な形で形成されなくなる。従って、ダブテールスロットのスロット幅の検査及び監視はブローチの磨耗を認識することを可能にし、これにより装置を修理又は交換することができるようにするものである。
【特許文献１】米国特許 ５０６５６３５号明細書
【特許文献２】米国特許 ５３１５２３４号明細書
【特許文献３】米国特許 ５３４５５１４号明細書
【特許文献４】米国特許 ５４４２２８６号明細書
【特許文献５】米国特許６２５０１６６  号明細書
【特許文献６】米国特許 ６３３９３２６号明細書
【特許文献７】米国特許 ６４６９５０３号明細書
【特許文献８】米国特許 ６５４５４６７号明細書
【特許文献９】米国特許６５６３３０７ 号明細書
【特許文献１０】米国特許 ６６０８４７８号明細書
【特許文献１１】米国特許出願公開第 ２００２／０１３５３６３号明細書
【特許文献１２】米国特許出願公開第 ２００３／００２５４９６号明細書
【特許文献１３】米国特許出願公開第 ２００３／００４４２８４号明細書
【特許文献１４】米国特許出願公開第 ２００３／０１２９０６０号明細書
【特許文献１５】米国特許出願公開第 ２００３／０２２１４９７号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
例えば蒸気タービン等のタービン内には、軸方向に間隔を置いたノズルの円周方向列の支持体が設けられる。支持体は、典型的には円弧状に１８０°に延びる２つの支持体半部分を含み、該支持体半部分は、水平接合面において互いに固定されて、各軸方向段位置において３６０°のノズル列を形成する。支持体溝内にノズルを保持するために、様々な技術が使用されてきたが、典型的にはノズルは、支持体内のほぼ対応するダブテール型溝内に受けるための半径方向外側のダブテール型基部を有する翼形部を含む。各ノズル基部の対向する側面は、一般にタービンの軸線に対して或る角度を有し、これにより基部を翼形部の角度に適応させることができる。各支持体の半部分溝内にノズルが装着されると、ノズル基部は、溝内で順次積み重ねられてノズルの半円形配列を形成する。２つの支持体半部分が互いに固定される前には、各水平接合面の末端ノズルは、この接合面から外へ突出している。また、各ノズルに対して、半径方向装荷ピンが設けられる。各ピンは、ノズル基部と溝の基部との間に配置され、ノズルを半径方向内側に付勢する。支持体の上半部分と下半部分との水平接合面にわたる隣接する末端ノズル間の間隙は、支持体半部分が互いに固定される時に必要である。
【特許文献１】米国特許  ９０５４３７号明細書
【特許文献２】米国特許 ５２５９７２７号明細書
【特許文献３】米国特許 ５９６１２８６号明細書
【特許文献４】米国特許  ５９８４６３３号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
根元半径に沿ったタービンを通る流路の一部は、ノズルの内側バンド又はリングとロータ上のバケットの根元におけるプラットフォームに沿った流れ表面により形成される。根元半径に沿った流路から流出するあらゆる流体流れの漏洩は、バケットをバイパスし直接的にタービン段の出力を低下させる。例えば蒸気タービンの低圧セクションのような典型的なノズル及びバケット設計では、ノズル根元直径がバケット根元直径と等しく、その結果、定常状態の流れ条件では流路における流体流れの流線型特性を妨害する上流に面した段差の影響が生じる可能性が大きくなる。大型のホイールスペースもまた、漏洩流のロータポンピング作用を増大させ、その結果、更なる空力損失を引き起こす半径方向の貫入流を増加させる。より具体的には、ロータポンピング作用によって引き起こされる半径方向の再流入流れは、流路に沿った流体流れのはく離を引き起こし、その結果、空力効率の損失を発生させる。
【特許文献１】米国特許 ２８５７１３２号明細書
【特許文献２】米国特許 ４４５７６６８号明細書
【特許文献３】米国特許 ６０３６４３７号明細書
【特許文献４】米国特許 ６１３１９１０号明細書
【特許文献５】米国特許 ６１６８３７７号明細書
【特許文献６】米国特許 ６４３１８２７号明細書
【特許文献７】米国特許 ６５８９０１２号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンエンジンの固定シュラウド（２４）を修理する方法であって、
既に実用に供された、ベースメタルで作られた前記固定シュラウド（２４）を準備する段階と、
前記固定シュラウド（２４）の流路領域（４０）から初期露出母材流路表面（７０）を残してあらゆる損傷した材料を除去する段階と、
前記初期露出流路表面（７０）上に位置させて母材修復材（７２）を施す段階と、
を含み、前記施す段階が、
前記ベースメタルと相容性がある構造材料源を供給する段階と、
プラズマ移行性アーク溶接によって前記固定シュラウド（２４）の前記初期露出母材流路表面（７０）上に位置させて前記構造材料源を溶着して、修理された母材流路表面（７６）を形成する段階と、
を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記固定シュラウド（２４）を準備する前記段階が、
高圧タービン固定シュラウド（２４）を準備する段階、
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記固定シュラウド（２４）を準備する前記段階が、
ニッケル基合金又はコバルト基合金で作られた固定シュラウド（２４）を準備する段階、
を含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
構造材料源を供給する前記段階が、
前記ベースメタルと実質的に同一の組成を有する構造材料源を供給する段階、
を含むことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
構造材料源を供給する前記段階が、
前記ベースメタルとは異なる組成を有する構造材料源を供給する段階、
を含むことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
構造材料源を供給する前記段階が、
粉体として該構造材料源を供給する段階、
を含むことを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記溶着する段階が、
プラズマ移行性アーク溶接機ビーム（８２）を前記初期露出流路表面（７０）の方向に向ける段階と、同時に、
前記粉体が溶融されて溶着するように、該粉体を前記プラズマ移行性アーク溶接機ビーム（８２）中へ噴射する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
構造材料源を供給する前記段階が、
ワイヤ（８８）として該構造材料源を供給する段階と、その後、
プラズマ移行性アーク溶接機ビーム（８２）を使用して前記ワイヤ（８８）を溶解する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
母材修復材（７２）を施す前記段階の後に、
前記母材修復材（７２）を覆って耐環境性摩擦皮膜（７８）を施す付加的段階、
を含むことを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
母材修復材（７２）を施す前記段階の後に、
前記母材修復材（７２）を覆って耐環境性摩擦皮膜（７８）を施す段階と、
前記摩擦皮膜（７８）を機械加工する段階と、
の付加的段階を含むことを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
固定シュラウド材料は高価なので、固定シュラウドを廃棄するのではなくて、エンジンの大きさによって決まる所定の許容範囲に従ってそれらの原寸法に固定シュラウドを修復すると同時に流路表面に対して耐食性能を修復することによって、該固定シュラウドを修理することが望ましい。過去においては、この修復は、減圧プラズマ溶射（ＬＰＰＳ）法、熱高密度化被覆（ＴＤＣ）法、高速フレーム溶射（ＨＶＯＦ）法、又は活性拡散修復（ＡＤＨ）法によって行われてきた。初めの３つの解決策は、耐摩擦性皮膜材料を使用して固定シュラウド寸法を修復するが、下にあるシュラウドベースメタルの構造的強度は修復しない。第４番目の解決策は、耐摩擦性皮膜材料の再施行に先立ち、シュラウドベースメタル中の穴及び亀裂を修理している。
【特許文献１】米国特許 ４８２２２４８号明細書
【特許文献２】米国特許 ５５８４６６３号明細書
【特許文献３】米国特許 ５６２２６３８号明細書
【特許文献４】米国特許 ５７５６９６６号明細書
【特許文献５】米国特許 ６０２０５７１号明細書
【特許文献６】米国特許 ５９３８９４４号明細書
【特許文献７】米国特許 ６０８４１９６号明細書
【特許文献８】米国特許 ６２３３８２２号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
蒸気タービンの反動式バケットを半径方向に付勢（荷重付加）するための現在の常法は、蒸気タービンロータ内の保持溝の中に各バケットを挿入し、バケットの底面とロータ溝との間の厳密に管理された半径方向間隙に付勢ピンを挿入し、次いでピンがロータ半径方向に塑性変形してバケットを保持溝のフックに対して半径方向に付勢するように、ピンを打ち込むことを含む。各バケットについて、付勢ピンがあり、また各付勢ピンは、バケットがロータ溝内で動かなくなるまで人手で打ち込まなければならない。しかしながら、この打ち込み作業は、バケット及びロータに損傷を与える機会を持ち込む。
【特許文献１】米国特許 ３０７０３５１号明細書
【特許文献２】米国特許 ３３２６５２３号明細書
【特許文献３】米国特許 ３９３６２２７号明細書
【特許文献４】米国特許 ４０２２５４５号明細書
【特許文献５】米国特許 ５７１３７２１号明細書
【特許文献６】米国特許 ６３９８５００号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月21日(2005.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  フォーカス光学系と、
前記フォーカス光学系を光軸方向に移動させフォーカス距離の調整を行うフォーカシング機構と、
前記フォーカス光学系の光軸方向への移動を阻止するロック機構とを備えたことを特徴とする照準望遠鏡。
【請求項２】  請求項１に記載の照準望遠鏡において、
回転操作により前記フォーカシング機構による調整を行わせるフォーカス調整用操作部材を有し、前記ロック機構はフォーカス調整用操作部材の回転を阻止することを特徴とする照準望遠鏡。
【請求項３】  請求項１または２に記載の照準望遠鏡において、
変倍光学系と、
前記変倍光学系の光軸を、前記フォーカス光学系が収納される照準望遠鏡本体に対して傾斜させる弾着補正機構とを備えたことを特徴とする照準望遠鏡。
【請求項４】  請求項３に記載の照準望遠鏡において、
前記弾着補正機構による傾斜動作を行わせるための補正操作部材を備え、
前記補正操作部材と前記フォーカス調整用操作部材とを近接して配設したことを特徴とする照準望遠鏡。
【請求項５】  請求項４に記載の照準望遠鏡において、
前記補正操作部材と前記フォーカス調整用操作部材とを、前記照準望遠鏡本体の外周面の軸方向ほぼ同一位置に並設したことを特徴とする照準望遠鏡。
【請求項６】  請求項５に記載の照準望遠鏡において、
前記補正操作部材は回転自在に設けられた回転操作部材であって、その回転操作部材を回転操作することにより前記傾斜動作を行わせることを特徴とする照準望遠鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
（１）請求項１の発明による照準望遠鏡は、フォーカス光学系と、フォーカス光学系を光軸方向に移動させフォーカス距離の調整を行うフォーカシング機構と、フォーカス光学系の光軸方向への移動を阻止するロック機構とを備えたことを特徴とする。
（２）請求項２の発明は、請求項１に記載の照準望遠鏡において、回転操作によりフォーカシング機構による調整を行わせるフォーカス調整用操作部材を有し、ロック機構はフォーカス調整用操作部材の回転を阻止するものである。
（３）請求項３の発明による照準望遠鏡は、請求項１または２に記載の照準望遠鏡において、変倍光学系と、変倍光学系の光軸を、フォーカス光学系が収納される照準望遠鏡本体に対して傾斜させる弾着補正機構とを備えたものである。
（４）請求項４の発明は、請求項３に記載の照準望遠鏡において、弾着補正機構による傾斜動作を行わせるための補正操作部材を備え、補正操作部材とフォーカス調整用操作部材とを近接して配設したものである。
（５）請求項５の発明は、請求項４に記載の照準望遠鏡において、補正操作部材とフォーカス調整用操作部材とを、照準望遠鏡本体の外周面の軸方向ほぼ同一位置に並設したものである。
（６）請求項６の発明は、請求項５に記載の照準望遠鏡において、補正操作部材は回転自在に設けられた回転操作部材であって、その回転操作部材を回転操作することにより傾斜動作を行わせる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮機、水冷媒熱交換器、減圧装置、空気と熱交換を行なう蒸発器を冷媒配管を介して順次接続したヒートポンプ回路と、
貯湯タンク、前記水冷媒熱交換器、切換弁、給湯弁を水配管を介して接続した貯給湯回路と、
前記圧縮機、前記切換弁、前記給湯弁の動作を制御する運転制御手段とを備え、
前記貯給湯回路は、前記切換弁の切換えによって、前記貯湯タンク、前記水冷媒熱交換器に水を循環させて前記貯湯タンクに貯湯する貯湯回路と、前記貯湯タンクから前記給湯弁を通して給湯する第１給湯回路と、前記水冷媒熱交換器から前記給湯弁を通して給湯する第２給湯回路とを形成するように構成され、
前記運転制御手段は、使用端末側に前記貯湯タンクからの給湯が可能な状態で前記ヒートポンプ回路の運転を停止する運転停止機能を有する
ことを特徴とするヒートポンプ式給湯機。
【請求項２】
前記切換弁は前記第１給湯回路における水冷媒熱交換器の出口側および前記第２給湯回路における貯湯タンクの出口側に位置して設けられ、前記貯湯タンクと前記給湯弁との間を連通すると共に前記切換弁と前記使用端末との間の給湯弁を開放状態にするようにしたことを特徴とする請求項１に記載のヒートポンプ式給湯機。
【請求項３】
湯を貯湯する貯湯タンクと、
前記貯湯タンクから使用端末への湯の供給量を、その開度によって調整する切換弁とを有し、
水冷媒熱交換器で焚き上げた湯を直接前記使用端末に供給するヒートポンプ式給湯機であって、当該ヒートポンプ式給湯機の運転停止に際し、前記貯湯タンクに貯湯された湯を前記使用端末に供給できるよう、前記切換弁を開放制御する運転制御手段を有する
ことを特徴とするヒートポンプ式給湯機。
【請求項４】
湯を貯湯する貯湯タンクと、
前記貯湯タンクから使用端末への湯の供給量を、その開度によって調整する切換弁と、
導入した冷水を前記使用端末へと導くバイパス水配管と、
前記バイパス水配管から前記使用端末への冷水の供給量を、その開度によって調整する水比例弁とを有し、
水冷媒熱交換器で焚き上げた湯を直接前記使用端末に供給するヒートポンプ式給湯機であって、当該ヒートポンプ式給湯機の運転停止に際し、前記貯湯タンクに貯湯された湯を前記使用端末に供給できるよう、前記切換弁の開度を制御する運転制御手段を有する
ことを特徴とするヒートポンプ式給湯機。
【請求項５】
前記運転制御手段は、前記使用端末へ供給される混合水が通常使用温度４２℃付近になるよう前記水比例弁の開度を制御することを特徴とする請求項４に記載のヒートポンプ式給湯機。
【請求項６】
前記運転制御手段はヒートポンプ式給湯機の運転中に異常が発生した場合にその異常発生を報知する異常報知機能を有することを特徴とする請求項１から４の何れかに記載のヒートボンプ式給湯機。
【請求項７】
前記運転制御手段はヒートポンプ式給湯機の運転中に異常が発生した場合に異常現象の重要度を判別して運転停止可否を決める異常重要度判別機能を有することを特徴とする請求項１から５の何れかに記載のヒートボンプ式給湯機。
【請求項８】
前記ヒートポンプ式給湯機の運転開始直後は、前記貯湯タンクから前記使用端末に湯を供給するよう前記切換弁を制御することを特徴とする請求項３から６の何れかに記載のヒートポンプ式給湯機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
蒸気タービンは、一般的に水平中心線接合部においてフランジを有する上部及び下部ダイアフラムを有し、これらフランジは、水平中心線接合部位置においてダイアフラム間をシールするためのシールを備える。従来は、棒状のキーを水平中心線接合面において使用して、該接合面間のシールを行う。これらの形式の金属シールは、一般的に上部及び下部ダイアフラムの中心線フランジ内の整合したスロットと該スロット内で延びてダイアフラム間をシールする１つ又はそれ以上のキーとを含む。棒状のキーは、金属で形成された剛性のある細長い要素であり、この要素は、上部及び下部ダイアフラムのスロット内に締まり嵌めされることによってシーリング効果を生じる。これらの締まり嵌めにおいて、棒状のキーは、しばしばダイアフラムの組立ての間に互いに絡まって、ダイアフラム接合面における水平接合部を僅かに開いた状態にし、蒸気漏洩通路を生じる場合がある。ボルト止めされていない状態でのダイアフラム組立体において、これらの間隙を測定すると、５ミルから１０ミルもの大きさであった。キーにおける締まり嵌めはまた、上部と下部との軸方向蒸気面の不整合を引き起こし、更にその蒸気接合面において円周方向の漏洩通路を形成する可能性もある。棒状のキーは直線状の要素であるために、非直線状の漏洩通路をシールするには、キー間に間隙を備えた一連の個別のキーを必要とし、付加的な漏洩通路を形成することになる。一般に、製造のばらつきを含む多数の異なる原因から生じるキーとスロットとの間の不整合は、ダイアフラム接合面において著しい蒸気漏洩を招き、機械性能を低下させていた。
【特許文献１】米国特許 ３７８８７６７号明細書
【特許文献２】米国特許 ５３０１５９５号明細書
【特許文献３】米国特許 ５６５７９９８号明細書
【特許文献４】米国特許 ５７７２４０１号明細書
【特許文献５】米国特許 ６０３９３２５号明細書
【特許文献６】米国特許 ６６５５９１３号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月10日(2006.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】可動体を電極に吸着または離すことにより信号の伝搬経路を切り替えるスイッチであって、
信号を入力する入力ポートと、この入力ポートに接続された可動体と、前記信号を伝搬する第1の電極と、この第１の電極に接続され制御信号を発生する第1の制御電源と、前記信号を遮断する第２の電極と、この第２の電極に接続され制御信号を発生する第２の制御電源とを備え、
前記第1の制御電源により第1の電極に制御信号を与え、前記可動体と第１の電極に与えられた電位差、および前記可動体と第２の電極に与えられた電位差で発生する駆動力によって可動体を変位させ、前記第１の電極または第２の電極に吸着させるスイッチ。
【請求項２】前記可動体を常時励振させる請求項１記載のスイッチ。
【請求項３】前記可動体は第１の電極および第２の電極に交互に変位する請求項１記載のスイッチ。
【請求項４】前記可動体は、前記第１の電極および第２の電極から離れた所定の位置から励振させる請求項１記載のスイッチ。
【請求項５】前記可動体は、前記第１の電極または第２の電極に吸着された状態から励振させる請求項１記載のスイッチ。
【請求項６】前記可動体を励振させる制御信号の周波数は、前記可動体の自己共振周波数である請求項１記載のスイッチ。
【請求項７】前記可動体を励振させる制御信号の周波数は、所望の応答速度より速い速度に対応した周波数である請求項１記載のスイッチ。
【請求項８】前記自己共振周波数は、所望の応答速度より速い速度に対応した周波数をもつようにした請求項６記載のスイッチ。
【請求項９】前記可動体を前記第１の電極または第２の電極に吸着された状態から励振させることに
より、前記可動体を前記第１の電極または第２の電極から解放する請求項１記載のスイッチ。
【請求項１０】前記可動体を前記第１の電極または第２の電極に吸着された状態で前記制御信号をゼロにして前記可動体を前記第１の電極または第２の電極から解放した後、前記制御信号を所定の時間印加する請求項９記載のスイッチ。
【請求項１１】請求項１から１０のいずれかに記載のスイッチを複数個接続して一つのスイッチとするスイッチ。
【請求項１２】可動体を電極に吸着または離すことにより、信号の伝搬経路を切り替えるスイッチであって、
信号を入力する入力ポートと、入力ポートに接続された可動体と、信号を伝搬する電極と、この電極に接続され制御信号を発生する制御電源とを備え、
前記制御電源により可動体と電極に電流を流すことにより生じる引力または斥力のローレンツ力を駆動力として信号の伝搬経路を切り換えるスイッチ。
【請求項１３】可動体および電極のいずれか一方を高抵抗とし、前記可動体と前記電極が引力で吸着している状態のとき、前記可動体または前記電極の極性を反転させた瞬間に、前記可動体と前記電極が同極性となり生ずる斥力を駆動力とする請求項１または１２記載のスイッチ。
【請求項１４】可動体と電極間の電極上に形成する絶縁層として極性反転速度の比較的遅い高誘電体絶縁材料を使用し、前記可動体と前記電極が引力で吸着している状態のとき、前記可動体の極性を反転させた瞬間に前記可動体と前記絶縁層表面が同極性となり生ずる斥力を駆動力とする請求項１または１２記載のスイッチ。
【請求項１５】可動体と電極の接触界面が波型または矩形型である請求項１から１４のいずれかに記載のスイッチ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明のスイッチは、可動体を電極に吸着または離すことにより、外部からの信号の伝搬経路を切り替えるスイッチであって、外部からの信号を入力する入力ポートと、この入力ポートに接続された可動体と、外部からの信号を伝搬するための第１の電極と、この第１の電極に接続され制御信号を発生する第1の制御電源と、外部からの信号を遮断するための第２の電極と、この第２の電極に接続され制御信号を発生する第２の制御電源とを備え、第1の制御電源により第1の電極に制御信号を与え、可動体と第１の電極に与えられた電位差、および前記可動体と第２の電極に与えられた電位差で発生する駆動力によって可動体を変位させて第１の電極または第２の電極に吸着させることにより、信号伝搬特性の向上、高速応答、低消費電力、低駆動電圧が可能なスイッチを実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月7日(2006.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
これまで、電池の製造には陽極支持、陰極支持又は電解質支持の方法が使用されていた。これらの構成要素はそれぞれ薄いのが望ましいが、通常、陽極、陰極及び電解質は全てもろいセラミックから製造されている。必然的に、従来の燃料電池においては、セル製造時の支持を行うために、これらの構成要素の少なくとも１つを厚くしなければならない。
従って、燃料電池製造に際して支持方法を改善する必要がある。
【特許文献１】欧州特許公開第ＥＰ１３７２２０４Ａ号
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月7日(2006.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかし、公称制御戦略は燃料電池が正常に動作していることを前提としている。燃料電池の部分的な障害（「故障」とも呼ばれる）が起こると、システムの性能は一般に劣化する傾向を示す。そのような性能の劣化は、燃料電池の能力の低下、及び公称制御戦略と部分的に障害を起こした燃料電池の動的挙動との不一致という少なくとも２つの原因の組み合わせから起こる。第２の原因が重大な要因になっている場合、その故障を検出し、分類することが可能であれば、部分的に障害を起こした燃料電池の動的挙動に適合する、公称制御戦略に代わる制御戦略を採用し、それにより、失われた性能の一部を回復することも可能になるであろう。従って、燃料電池システムの故障を検出することにより、部分的に障害を起こしたいくつかの燃料電池の性能を改善する見込みはある。
【特許文献１】特開平０６−１５３４０３号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に接合された第１接地プレーンと、
前記第１接地プレーンに接合された第１誘電体レイヤと、
前記第１誘電体レイヤに接合され、第１マイクロスイッチ接点を有する第１信号導電体、第２マイクロスイッチ接点を有する第２信号導電体、及び第３マイクロスイッチ接点を有する第３信号導電体を定義するべくパターニングされた導電性信号レイヤと、
前記信号レイヤの導電体及び前記第１誘電体レイヤに接合された第２誘電体レイヤと、
前記第２誘電体レイヤに接合された第２接地プレーンと、
前記第２誘電体レイヤに接合され、空洞を有する第２基板と、
前記第２基板に接合された第３接地プレーンと、
前記空洞で囲繞される部分に配置されたヒーターと、
前記第１、第２、及び第３マイクロスイッチ接点を囲繞するように設けられ、液体金属が部分的に充填されたメインチャネルと、
前記空洞と前記メインチャネルとを連通するサブチャネルと、を有し、
前記空洞と前記サブチャネルにはガスが充填されており、前記ヒーターの作動により、前記第１及び第２マイクロスイッチ接点間が開路され、前記第２及び第３マイクロスイッチ接点間が閉路されることを特徴とする液体金属マイクロスイッチ。
【請求項２】
追加して設けられる空洞で囲繞される部分に追加配置されるヒーターと、
前記追加して設けられる空洞と前記メインチャネルとを連通する追加サブチャネルと、を更に有し、
前記追加して設けられる空洞と前記追加サブチャネルにはガスが追加充填されており、前記追加配置されるヒーターの作動により、前記第２及び第３マイクロスイッチ接点間が開路され、前記第１及び第２マイクロスイッチ接点間が閉路される事を特徴とする請求項１に記載の液体金属マイクロスイッチ。
【請求項３】
前記第１誘電体レイヤの素材は、ＫＱ−１２０及びＫＱ−ＣＬ９０７４０６からなる群から選択されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液体金属マイクロスイッチ。
【請求項４】
前記第２誘電体レイヤの素材は、ＫＱ−１２０及びＫＱ−ＣＬ９０７４０６からなる群から選択されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液体金属マイクロスイッチ。
【請求項５】
第１基板と、
前記第１基板に接合された第１接地プレーンと、
前記第１接地プレーンに接合された第１誘電体レイヤと、
前記第１誘電体レイヤに接合され、第１マイクロスイッチ接点を有する第１信号導電体、第２マイクロスイッチ接点を有する第２信号導電体、及び第３マイクロスイッチ接点を有する第３信号導電体を定義するべくパターニングされた導電性信号レイヤと、
第２基板と、
前記第２基板に接合された第２接地プレーンと、
前記第２基板に接合され、空洞を有し、前記第１誘電体レイヤにも接合される第２誘電体レイヤと、
前記空洞で囲繞される部分に配置されたヒーターと、
前記第１、第２、及び第３マイクロスイッチ接点を囲繞するように設けられ、液体金属が部分的に充填されたメインチャネルと、
前記空洞と前記メインチャネルとを連通するサブチャネルと、を有し、
前記空洞と前記サブチャネルにはガスが充填されており、前記ヒーターの作動により、前記第１及び第２マイクロスイッチ接点間が開路され、前記第２及び第３マイクロスイッチ接点間が閉路されることを特徴とする液体金属マイクロスイッチ。
【請求項６】
追加して設けられる空洞で囲繞される部分に追加配置されるヒーターと、
前記追加して設けられる空洞と前記メインチャネルとを連通する追加サブチャネルと、を更に有し、
前記追加して設けられる空洞と前記追加サブチャネルにはガスが追加充填されており、前記追加配置されるヒーターの作動により、前記第２及び第３マイクロスイッチ接点間が開路され、前記第１及び第２マイクロスイッチ接点間が閉路されることを特徴とする請求項５に記載の液体金属マイクロスイッチ。
【請求項７】
前記第１誘電体レイヤの素材は、ＫＱ−１２０及びＫＱ−ＣＬ９０７４０６からなる群から選択されたものであることを特徴とする請求項５に記載の液体金属マイクロスイッチ。
【請求項８】
前記第２誘電体レイヤの素材は、ＫＱ−１２０及びＫＱ−ＣＬ９０７４０６からなる群から選択されたものであることを特徴とする請求項５に記載の液体金属マイクロスイッチ。
【請求項９】
第１基板上に第１接地プレーンを形成する段階と、
前記第１接地プレーン上に第１誘電体レイヤを形成する段階と、
前記第１誘電体レイヤ上に導電性信号レイヤを形成する段階と、
第１マイクロスイッチ接点を有する第１信号導電体、第２マイクロスイッチ接点を有する第２信号導電体、及び第３マイクロスイッチ接点を有する第３信号導電体を定義するべく前記導電性信号レイヤをパターニングする段階と、
前記第１、第２、及び第３信号導電体と、前記第１誘電体レイヤとの上に、第２誘電体レイヤを形成する段階と、
少なくとも１つのサブチャネルと、メインチャネルとを定義するべく前記第２誘電体レイヤをパターニングする段階と、
前記第２誘電体レイヤ上に第２接地プレーンを形成する段階と、
第２基板内に空洞を形成する段階と、
前記第２基板上に第３接地プレーンを形成する段階と、
前記空洞で囲繞される部分にヒーターを設置する段階と、
前記第１、第２、及び第３マイクロスイッチ接点を囲繞する前記メインチャネルに液体金属を部分的に充填する段階と、
前記第２接地プレーン及び前記第２誘電体レイヤと、前記第２基板及び前記第３接地プレーンとを接合する段階と
を有することを特徴とする、液体金属マイクロスイッチを製造する方法。
【請求項１０】
第１基板上に第１接地プレーンを形成する段階と、
前記第１接地プレーン上に第１誘電体レイヤを形成する段階と、
前記第１誘電体レイヤ上に導電性信号レイヤを形成する段階と、
第１マイクロスイッチ接点を有する第１信号導電体、第２マイクロスイッチ接点を有する第２信号導電体、及び第３マイクロスイッチ接点を有する第３信号導電体を定義するべく前記導電性信号レイヤをパターニングする段階と、
第２基板上に第２接地プレーンを形成する段階と、
前記第２基板上に第２誘電体レイヤを形成する段階と、
空洞と、少なくとも１つのサブチャネルと、メインチャネルとを定義するべく前記第２誘電体レイヤをパターニングする段階と、
前記空洞で囲繞される部分にヒーターを設置する段階と、
前記第１、第２、及び第３マイクロスイッチ接点を囲繞する前記メインチャネルに液体金属を部分的に充填する段階と、
前記導電性信号レイヤ及び前記第１誘電体レイヤと、前記第２誘電体レイヤとを接合する段階と、を有することを特徴とする液体金属マイクロスイッチを製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法：
（ａ）基板を準備する工程；
（ｂ）前記基板に半導体チップを搭載する工程；
（ｃ）前記半導体チップが搭載された基板を樹脂成形用の成形金型の金型面に配置した後、前記成形金型を閉じる工程；
（ｄ）前記成形金型のキャビティに通じるエアーベントの深さを一定にして前記キャビティ内に封止用樹脂を充填する工程。
【請求項２】  請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法であって、前記基板は、多層配線基板であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項３】  請求項２記載の半導体集積回路装置の製造方法であって、前記（ａ）工程において複数の前記多層配線基板を準備し、前記（ｃ）工程で１つの前記成形金型の金型面に複数枚の前記多層配線基板を配置して前記成形金型を閉じることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項４】  請求項２記載の半導体集積回路装置の製造方法であって、前記多層配線基板のコア材が樹脂で形成されていることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項５】  以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法：
（ａ）基板を準備する工程；
（ｂ）前記基板に半導体チップを搭載する工程；
（ｃ）前記半導体チップが搭載された基板を樹脂成形用の成形金型の金型面に配置した後、前記成形金型を閉じる工程；
（ｄ）前記基板の厚さに係わらず、前記成形金型のキャビティに通じるエアーベントの深さを一定にして前記キャビティ内に封止用樹脂を充填する工程。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月7日(2006.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理するための固体先駆物質から蒸気を生成する方法であって、
固体の先駆物質群を容器内に入れるステップと、
熱伝導材料に先駆物質群を散在させ、熱伝導材料と固体の先駆物質群の両方に熱エネルギーを加えることによって蒸気を形成するステップと、
前記容器から反応チャンバに蒸気を通すステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記蒸気を反応させて前記基板上に層を堆積するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記熱伝導材料に前記固体の先駆物質群を散在させるステップが、混合物中に前記熱伝導材料を約１０体積％〜８０体積％有する固体混合物を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記熱伝導材料に前記固体の先駆物質群を散在させるステップが、混合物中に前記熱伝導材料を約３０体積％〜６０体積％有する固体混合物を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
先駆物質に熱を分布させることによって固体先駆物質から蒸気を形成するための基板処理システムであって、
固体の先駆物質群を保持するように構成された容器と、
前記固体の先駆物質群を散在させた複数の熱伝導要素とを含み、
前記熱伝導要素は、前記容器内に挿入された複数のロッドであり、前記各ロッドがロッドの主軸に沿って熱を伝達するように構成されている、システム。
【請求項６】
前記容器が熱伝導容器である、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記容器に流体連結された反応チャンバをさらに含み、当該チャンバが、基板上に層を堆積するため容器から生じる蒸気の反応に適した環境を提供するように構成されている、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
前記反応チャンバが化学気相成長チャンバ（ＣＶＤ）である、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記反応チャンバが原子層堆積チャンバ（ＡＬＤ）である、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
前記固体の先駆物質群が粉末形態である、請求項５に記載のシステム。
【請求項１１】
前記熱伝導要素が、前記容器内の反応に対して実質的に不活性な物質から形成される、請求項５に記載のシステム。
【請求項１２】
前記熱伝導要素が、前記容器内の反応に対して実質的に不活性な被覆を有する、請求項５に記載のシステム。
【請求項１３】
前記容器を取り囲む真空チャンバをさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項１４】
前記ロッドが、前記容器に挿入されるように構成されたベースプレートに取付けられた、請求項５に記載のシステム。
【請求項１５】
前記熱伝導要素が金属炭化物を含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項１６】
前記熱伝導要素が炭化ケイ素（ＳｉＣ）を含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記熱伝導要素の熱伝導率が、室温で少なくとも約５０Ｗ／ｍ・Ｋである、請求項５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記熱伝導要素と前記先駆物質の両方に熱エネルギーを伝達するように構成されているヒータをさらに含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項１９】
固体先駆物質から蒸気を形成するための基板処理システムであって、
固体の先駆物質群を保持するように構成された容器と、
前記容器に隣接したマイクロ波発振器であって、マイクロ波エネルギーの形をとる熱エネルギーを伝達して前記先駆物質の加熱を行うように構成された発振器と
を含むシステム。
【請求項２０】
基板処理に使用される蒸気を生成するための混合物であって、
基板処理蒸気を生成するためのバッチ処理分の先駆物質と、
バッチ処理分の先駆物質に散在させた複数の熱伝達固体物であって、これらが一括して前記バッチ処理分の先駆物質の熱伝導率を増大させる熱伝達固体物とを含み、
前記複数の熱伝達固体物が、粉末、球体、およびファイバからなる群から選択される、混合物。
【請求項２１】
前記複数の熱伝達固体物が、スクリーン、ふるい、コイル、およびプレートからなる群から選択される、請求項２０に記載の混合物。
【請求項２２】
前記複数の熱伝達固体物が、金属炭化物、遷移金属炭化物、炭化ホウ素、および炭化ケイ素からなる群から選択された材料から形成される、請求項２０に記載の混合物。
【請求項２３】
前記複数の熱伝達固体物が、前記基板処理で使用される所望の反応に対して実質的に不活性である、請求項２０に記載の混合物。
【請求項２４】
前記複数の熱伝達固体物が、前記基板処理で使用される所望の反応に対して実質的に不活性な材料で被覆される、請求項２０に記載の混合物。
【請求項２５】
前記複数の熱伝達固体物が、前記先駆物質バッチ処理分の縁部に近接した前記先駆物質から前記先駆物質バッチ処理分の実質上中央に位置する先駆物質に、熱を伝導するように構成された、請求項２０に記載の混合物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成するセンサと、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように制御する手段と、を有することを特徴とするレーザ装置。
【請求項２】
レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成し、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように制御することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項３】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングする光学系と、
前記一部のレーザ光を用いて、前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成するセンサと、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように制御する手段と、を有することを特徴とするレーザ装置。
【請求項４】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングする光学系と、
前記一部のレーザ光を用いて、前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成するセンサと、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように、前記被処理物の位置を制御する手段と、を有することを特徴とするレーザ装置。
【請求項５】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングする光学系と、
前記一部のレーザ光を用いて、前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成するセンサと、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように、前記ビームスポットの位置を制御する手段と、を有することを特徴とするレーザ装置。
【請求項６】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングし、
前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成し、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように制御することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項７】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングし、
前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成し、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように、前記被処理物の位置を制御することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項８】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングし、
前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成し、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、被処理物における前記レーザ光のビームスポットの、前記被処理物に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように、前記ビームスポットの位置を制御することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項９】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングし、
前記一部のレーザ光を用いて、前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成し、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動を解析し、半導体膜における前記レーザ光のビームスポットの、前記半導体膜に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように制御し、
前記レーザ光を前記半導体膜に対して照射することで、前記半導体膜の結晶性を高めることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
発振器から発振されるレーザ光の一部をサンプリングし、
前記一部のレーザ光を用いて、前記レーザ光のエネルギーの変動をデータとして含む電気信号を生成し、
前記電気信号に信号処理を施すことで、前記レーザ光のエネルギーの変動の周波数と、振幅と、位相とを算出し、前記発振器から発振されるレーザ光と前記一部のレーザ光とのエネルギーの比率、及び算出された前記周波数と、前記振幅と、前記位相とを用い、半導体膜における前記レーザ光のビームスポットの、前記半導体膜に対する相対的な速度を、前記変動と同じ位相でかつ同じ周波数で変化するように、かつ、単位時間あたりに前記半導体膜に照射される前記レーザ光のエネルギーの総和が一定になるように制御し、
前記レーザ光を前記半導体膜に対して照射することで、前記半導体膜の結晶性を高めることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１、及び請求項３乃至請求項５において、
前記信号処理は、高速フーリエ変換を用いることを特徴とするレーザ装置。
【請求項１２】
請求項２、及び請求項６乃至請求項８において、
前記信号処理は、高速フーリエ変換を用いることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１３】
請求項９及び請求項１０において、
前記信号処理は、高速フーリエ変換を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非単結晶珪素膜に線状レーザを走査しながら照射することにより、前記非単結晶珪素膜を結晶化する半導体装置の作製方法であって、
前記線状レーザは長辺と短辺とを有する長方形状であり、
前記走査の方向は、前記短辺の方向であり、
前記非単結晶珪素膜の被照射面における前記短辺の方向のエネルギー分布は、光導波路又はライトパイプによって均一化されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
非単結晶珪素膜に線状レーザを走査しながら照射することにより、前記非単結晶珪素膜を結晶化する半導体装置の作製方法であって、
前記線状レーザは、パルスレーザであり、
前記線状レーザは長辺と短辺とを有する長方形状であり、
前記走査の方向は、前記短辺の方向であり、
前記非単結晶珪素膜の被照射面における前記短辺の方向のエネルギー分布は、光導波路又はライトパイプによって均一化されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において
前記非単結晶珪素膜の被照射面における前記長辺の方向のエネルギー分布は、シリンドリカルレンズアレイによって均一化されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記線状レーザは、エキシマレーザ、ＹＡＧレーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、ＹＬＦレーザ、Ａｒレーザのいずれかであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記光導波路又はライトパイプは、向い合う２つの反射面を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記長方形状のアスペクト比は、１００以上であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
被照射面におけるビームスポットを長方形状にするためのビームホモジナイザであって、
前記長方形状は、長辺と短辺とを有し、
前記短辺の方向のエネルギー分布を前記被照射面において均一化する光導波路又はライトパイプを有することを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項８】
被照射面におけるビームスポットを長方形状に形成するためのビームホモジナイザであって、
前記長方形状は、長辺と短辺とを有し、
前記短辺の方向のエネルギー分布を前記被照射面において均一化する光導波路又はライトパイプと、
前記被照射面において、前記光導波路又は前記ライトパイプから射出される光を前記短辺の方向に集光させる一つもしくは複数のシリンドリカルレンズを有することを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項９】
請求項７又は請求項８において、
前記長辺の方向のエネルギー分布を前記被照射面において均一化するシリンドリカルレンズアレイを有することを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項１０】
請求項７乃至請求項９のいずれか一項において、
前記光導波路又はライトパイプは、向い合う２つの反射面を有することを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一項において、
前記長方形状のアスペクト比は、１００以上であることを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項１２】
請求項７乃至請求項１１に記載のビームホモジナイザと、レーザ発振器と、を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項１３】
請求項７乃至請求項１２に記載のビームホモジナイザと、パルスレーザ発振器と、を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項１４】
請求項１２又は請求項１３において、
前記レーザ発振器は、エキシマレーザ、ＹＡＧレーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、ＹＬＦレーザ、Ａｒレーザのいずれかを発振することを特徴とするレーザ照射装置。