Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月7日(2006.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
人体から排泄されたカプセル型医療装置を検知する検知手段を設けたことを特徴とするカプセル型医療装置回収装置。
【請求項２】
人体から排泄されたカプセル型医療装置を係止する係止手段を設けたことを特徴とするカプセル型医療装置回収装置。
【請求項３】
人体から排泄されたカプセル型医療装置を検知する検知手段と、係止する係止手段とを設けたことを特徴とするカプセル型医療装置回収装置。
【請求項４】
上記係止手段がカプセル型医療装置内に設けた磁性体或いは磁石と回収装置側に設けた磁石からなることを特徴とする請求項２又は３に記載のカプセル型医療装置回収装置。
【請求項５】
上記係止手段が回収用ないし係止用の網であることを特徴とする請求項２又は３に記載のカプセル型医療装置回収装置。
【請求項６】
前記検知手段が、カプセル型医療装置内に設けた電池などの金属体を検知する金属探知センサであることを特徴とする請求項１、３〜５のいずれか一つに記載のカプセル型医療装置回収装置。 
【請求項７】
前記検知手段が、カプセル型医療装置の発する無線信号を受信する受信手段であることを特徴とする請求項１、３〜５のいずれか一つに記載のカプセル型医療装置回収装置。 
【請求項８】
前記検知手段が、前記受信手段と前記受信手段が受信する信号強度の変化量からカプセル型医療装置の排泄を判断する判断手段と、からなることを特徴とする請求項7に記載のカプセル型医療装置回収装置。
【請求項９】
前記カプセル型医療装置およびカプセル型医療装置回収装置を一体に密閉可能な袋を備えることを特徴とする請求項１、２及び３のいずれか一つに記載のカプセル型医療装置回収装置。
【請求項１０】
前記検知手段により検知したことを通知する通知手段を設けたことを特徴とする請求項１、３、４及び５のいずれか一つに記載のカプセル型医療装置回収装置。
【請求項１１】
前記カプセル型医療装置回収装置が便器に装着できることを特徴とする請求項１、２、３及び１０のいずれか一つに記載のカプセル型医療装置回収装置。
【請求項１２】
カプセル型医療装置内にセンサが反応するための金属・磁石などの被反応部材を予め具備させて、専用便器または便器に装着可能なカプセル回収装置に、被反応部材の有無の自動認識手段と自動洗浄手段または通知手段を設けたことを特徴とするカプセル型医療装置回収装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の一態様によるカプセル型医療装置回収装置は、人体から排泄されたカプセル型医療装置を検知する検知手段を設けたことを特徴とする。
本発明の他の態様によるカプセル型医療装置回収装置は、人体から排泄されたカプセル型医療装置を係止する係止手段を設けたことを特徴とする。
本発明の他の態様によるカプセル型医療装置回収装置は、人体から排泄されたカプセル型医療装置を検知する検知手段と、係止する係止手段とを設けたことを特徴とする。
本発明の他の態様によるカプセル型医療装置回収装置は、カプセル型医療装置内にセンサが反応するための金属・磁石などの被反応部材を予め具備させて、専用便器または便器に装着可能なカプセル回収装置に、被反応部材の有無の自動認識手段と自動洗浄手段または通知手段を設けたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月28日(2006.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
米糖の粉末に、水分を加え粒子状に加工する第一の工程と、該粒子状にした米糖を、蒸気をあて蒸す第二の工程と、該蒸した米糖に種麹を接種し、むろに於いて培養する第三の工程と、培養された麹と培養中に産出された酵素とを含む玄米麹を乾燥する第４の工程とからなる米糖を基質とした麹培養方法
【請求項２】
前記第一の工程に於いて、酢酸を加え必要に応じてにんにくを加え雑菌繁殖を抑え、前記第三の工程の麹の培養を助成するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第一項に示した米糖を基質として麹培養方法
【請求項３】
前記第三の工程に於いて、前記種菌を接種した前記米糖を、前記むろに於いてそのまま静置し、該米糖の温度が３７〜３８℃になった時点で所定時間空気を送風し、該米糖の表面が麹菌によって白くなるまで培養することを特徴とする特許請求の範囲第一項に示した米糖を基質とした麹培養方法
【請求項４】
前記むろに於いて、培養床を設け、該培養床は、複数の仕切り部材を配置し、該仕切り部材は、固定金具とそれを包むメッシュの布からでき、該仕切り部材に静置された前記米糠に、ファンから送風される空気が、流れるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第３項に示した米糖を基質とした麹培養方法
【請求項５】
前記第１から第４の請求項に示した培養方法によって培養した生きた麹菌と該麹菌から産出された酵素とからなる玄米麹。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】  バルサミコ酢ソース及びその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】バルサミコ酢と、香りのあるアルコール飲料と、糖とを合わせ、これを煮詰めて成る、バルサミコ酢ソース。
【請求項２】  バルサミコ酢と、香りのあるアルコール飲料と、糖とを合わせる工程と、これを煮詰める工程とからなる、バルサミコ酢ソースの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】
上記課題は、バルサミコ酢と、香りのあるアルコール飲料と、糖とを合わせ、これを煮詰めることにより達成される。すなわちこの発明のバルサミコ酢ソースは、バルサミコ酢と、香りのあるアルコール飲料と、糖とが合わさり煮詰まった状態にあるものである。これにより前記バルサミコ酢には低価格の数年しか熟成していないものを利用することができるようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
【発明の効果】
本発明のバニリンの製造方法によれば、高濃度のフェルラ酸の存在下に、バニリンへの変換を行なうことができ、高収量でバニリンを生産し、バニリンの生産時における工程及びコストを低減させること等を可能にしうるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は、連続反応槽型の製造装置の概略を示す図である。
【図２】
図２は、マイクロコッカス・スピーシーズ  ＴＡ１株について、フェルラ酸を炭素源とした菌体増殖に対する初期培養ｐＨの影響を調べた結果を示す図である。図中、×印は、ｐＨ、白丸は、フェルラ酸濃度、白四角は、濁度を示す。
【図３】
図３は、マイクロコッカス・スピーシーズ  ＴＡ１株について、フェルラ酸からのバニリン生産に対する初期フェルラ酸濃度の影響を調べた結果を示す図である。図中、黒四角は、バニリン濃度、白丸は、フェルラ酸濃度、黒三角は、濁度を示す。
【図４】
図４は、マイクロコッカス・スピーシーズ  ＴＡ１株について、フェルラ酸からのバニリン生産に対するグルコースの影響を調べた結果を示す図である。図中、黒四角は、バニリン濃度、白丸は、フェルラ酸濃度、黒三角は、濁度を示す。
【符号の説明】
１  フェルラ酸製造プラント
２  基質リザーバー
３  レベルゲージ
４  菌体保持膜
５  反応槽
６  バニリン／フェルラ酸分離槽
７  水リザーバー
８  エアフィルター
９  エアコンプレッサー
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004267131.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2004267131.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両端に開口を有し、基端の開口から腹腔鏡を挿入するように構成された筒状体と、
該筒状体の先端の開口あるいは開口に近接した部位に位置して設けられ、外側表面と内側表面とを有し、少なくとも該外側表面には親水性のコーティングが形成されている透光部材と、
該筒状体の長さ方向に延出するライドガイドであって、該ライトガイドの基端は該筒状体基端側に設けた光供給口に連結されており、該ライトガイドの先端は該筒状体の先端に達しており、該ライトガイドからの光軸が該透光部材を通過することなく該筒状体の先端から光を照射するライトガイドと、
該透光部材に水分を供給するための水分供給路と、
を備えた腹腔鏡防曇装置。
【請求項２】
請求項１において、該装置は、さらにエアー供給路を備えており、該透光部材の外側表面にエアーを送気可能に構成されていることを特徴とする腹腔鏡防曇装置。
【請求項３】
請求項１，２いずれかにおいて、該装置は、該腹腔鏡が該筒状体の中空部に挿入された状態において、該腹腔鏡と該筒状体とを固定する固定機構を備えていることを特徴とする腹腔鏡防曇装置。
【請求項４】
両端に開口を有する長尺筒状体を有し、該筒状体の先端には中空部に面して突出する縁部が形成されており、該筒状体の基端側には光供給口、水分供給口がそれぞれ形成されており、該筒状体の壁には長さ方向に延出するライトガイドが設けてあり、該ライトガイドの基端は該光供給口に連結されており、該ライトガイドの先端は該筒状体の先端に達しており、該筒状体の先端の開口内には、外側表面と内側表面とを有し、少なくとも該外側表面に親水性のコーティングが形成されている透光部材が配設可能であり、該筒状体の基端の開口から腹腔鏡を挿入するように構成されていることを特徴とする腹腔鏡防曇用部材。
【請求項５】
請求項４において、該筒状体の壁内には長さ方向に延出する水分供給路が形成されており、該水分供給路の基端は該水分供給口に連結されており、該水分供給路の先端は該縁部の周面に形成された一つ又は複数の開口であることを特徴とする腹腔鏡防曇用部材。
【請求項６】
請求項４，５いずれにおいて、該筒状体の基端側にはエアー供給口が形成されており、該筒状体の壁内には長さ方向に延出するエアー供給路が形成されており、該エアー供給路の基端が該エアー供給口に連結されており、該エアー供給路の先端は該縁部の周面に形成された一つ又は複数の開口であることを特徴とする腹腔鏡防曇用部材。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤上に遊技領域が形成された遊技機において、
表示プレートを上記遊技領域内の上記遊技盤面に取り付けたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
上記遊技盤に上記表示プレートと略同形状の凹部を形成するとともに、
同凹部に上記表示プレートの前面が上記遊技盤面と面一となるように同表示プレートを配設することを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
上記表示プレートの遊技盤に接する縁部は、テーパー形状となっており、
上記遊技盤には、同テーパー形状に対応した面取りがなされること特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
上記表示プレートは、透光性を有しているとともに、上記遊技盤の上記表示プレートの背面側に設けられた埋設穴に照明ユニットが埋設されること特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】
上記表示プレートは、遊技領域の上部に配設されるとともに、上記遊技領域の上部を同遊技領域の外部と区画する遊技球レールに沿って上記遊技盤の盤面を覆うように配設された透光性を有する透明板により蓋覆されること特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球の流下が行われる遊技領域を区画する遊技レールの付近に装飾ユニットが配設される遊技機において、
上記装飾ユニットは、上記遊技レールと予め一体化させられるベース部と、
上記ベース部に取り付けられる付加部とを具備することを特徴とする遊技機。
【請求項２】 上記遊技レールと予め一体化させられた上記ベース部に上記付加部を予め組み付けてから、当該組み付けられた一体化部材を遊技盤に取り付けることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】 上記ベース部と予め一体化させられた遊技レールを上記遊技盤に組み付けたとき、上記ベース部が、予め上記遊技盤に組み付けられた上記付加部を押さえつけるように同付加部と接合すること特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載の遊技機。
【請求項４】 上記ベース部と上記付加部には、少なくとも対応し合う固定機構が設けられること特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】 上記固定機構は、上記ベース部の広範囲にわたって複数設けられること特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
手段２
手段２にかかる発明は、請求項１に記載の発明において、上記ベース部と予め一体化させられた遊技レールを上記遊技盤に組み付けたとき、上記ベース部が、予め上記遊技盤に組み付けられた上記付加部を押さえつけるように接合する構成としてある。
上記のように構成した手段２の発明において、予め上記遊技盤に組み付けられた上記付加部は、予め上記ベース部と一体化した上記遊技レールを上記遊技盤に組み付けたとき、上記ベース部に押さえつけられるように接合される。すなわち、予め上記遊技盤に組み付けられた上記付加部の固定が、上記ベース部が押さえつけることにより補強される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影空間を間に挟んで対向配置された一対の静磁場発生源を有して該撮影空間に静磁場を発生する静磁場発生手段であって、前記一対の静磁場発生源の各々の前記撮影空間側に、平坦部と該平坦部の内側に略円錐形状の窪みを有する静磁場発生手段と、
前記撮影空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生手段であって、その少なくとも一部が 前記略円錐形状の窪み部内に配置されている傾斜磁場発生手段と、
を備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場発生手段との間に、前記平坦部に沿った平坦部と、前記略円錐形状の窪みに沿った窪み部とを備えた導電部材を有して、前記静磁場発生源が発生する磁場強度の変動成分を、前記変動成分に対応した渦電流を誘起することによって打ち消す変動磁場除去手段を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、撮影空間を間に挟んで対向配置された一対の静磁場発生源を有して該撮影空間に静磁場を発生する静磁場発生手段であって、前記一対の静磁場発生源の各々の前記撮影空間側に、平坦部と該平坦部の内側に略円錐形状の窪みを有する静磁場発生手段と、
前記撮影空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生手段であって、その少なくとも一部が前記略円錐形状の窪み部内に配置されている傾斜磁場発生手段と、前記静磁場発生手段と前記傾斜磁場発生手段との間に、前記平坦部に沿った平坦部と、前記略円錐形状の窪みに沿った窪み部とを備えた導電部材を有して、前記静磁場発生源が発生する磁場強度の変動成分を、前記変動成分に対応した渦電流を誘起することによって打ち消す変動磁場除去手段を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置によって達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】 体内組織に穿刺可能に構成された細管からなり、内部に供給された所定の薬液を先端から吐出する針状管体と、  該針状管体に設けられ、該針状管体が前記体内組織に穿刺せしめられた状態下で、該体内組織において発生する電気信号を、該体内組織から導出する導出手段と、  前記針状管体に設けられた前記導出手段に対して電気的に接続されて、該導出手段にて導出された前記電気信号を検出する検出手段とを、含み、前記針状管体を前記体内組織に穿刺せしめることにより、該体内組織において発生する前記電気信号を検出すると共に、該針状管体を介して、前記薬液を該体内組織に注入し得るように構成したことを特徴とする、体内電気信号検出機能を備えた薬液注入装置。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】  そして、本発明にあっては、薬液注入装置に係る技術的課題を解決するために、（ａ）体内組織に穿刺可能に構成された細管からなり、内部に供給された所定の薬液を先端から吐出する針状管体と、（ｂ）該針状管体に設けられ、該針状管体が前記体内組織に穿刺せしめられた状態下で、該体内組織において発生する電気信号を、該体内組織から導出する導出手段と、（ｃ）前記針状管体に設けられた前記導出手段に対して電気的に接続されて、該導出手段にて導出された前記電気信号を検出する検出手段とを含み、前記針状管体を前記体内組織に穿刺せしめることにより、該体内組織において発生する前記電気信号を検出すると共に、該針状管体を介して、前記薬液を該体内組織に注入し得るように構成したことを特徴とする、体内電気信号検出機能を備えた薬液注入装置をも、また、その要旨としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】  しかも、かかる本発明装置においては、針状管体を体内組織に穿刺せしめた後、そのままの状態で、続けて針状管体を通じて所定の薬液を体内組織に注入し得るようになっている。それ故に、体内組織の病巣部のうち、未だ死滅していないと判定された部位に対して、薬液を確実に注入することが出来る。よって、迅速な作業が可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】  なお、このように、Ｓ５においてＮＯと判断される心筋３４の状態は、主に、次の二通りが考えられる。即ち、先ず、一つは、図６に示されるように、針部１８が、心筋３４の所望の深さ位置にまで穿刺されてはいるものの、心筋３４の内部に、壊死していない正常部分３４ａと実質的に壊死している部分３４ｂが存在しており、そのために、その実質的な壊死部分３４ｂに位置せしめられる電極２２の導出部２６にて、かかる実質的な壊死部分３４ｂから、前記基準値：ｋ以上の大きさの電圧を有する電気信号が導出されない場合が、考えられる。なお、この場合には、一般的に、心筋３４の壊死が内側部分から進行するところから、導出部２４の先端から針部１８の先端縁までの距離：Ｌn が０か若しくは小さな値とされた電極２２、例えば、電極２２ａや電極２２ｂ等に接続された電圧計３０ａや電圧計３０ｂ等の測定値：Ｖ0 や測定値：Ｖ1 等が、基準値：ｋを下回ることとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】  一方、検出器２４にて測定される全ての測定値：Ｖn が基準値：ｋ以上となっており、ＹＥＳと判断されれば、針部１８の先端部分が、心筋３４の壊死していない正常部分３４ａ内に位置せしめられていると判定されて、Ｓ６が実行される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】  しかしながら、このような針状管体１２に代えて、例えば、尖鋭な先端部を有する中実構造をもって構成された針体、或いは管体構造を有するものの、薬液の流通機能を何等有しない針体を、カテーテル本体１２内に、その長手方向に移動可能に収容配置せしめることで、体内電気信号検出装置を構成することも、可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】本体ケースに回転ロータを内装した掃除機用床ノズルにおいて、基布に毛腰の強さの異なる複数種類のブラシ繊維を互いに隣接するよう並列して形成した清掃体を、該床ノズルの底面に回転ロータの軸方向と平行に付設したことを特徴とする掃除機用床ノズル。
【請求項２】本体ケースに回転ロータを内装した掃除機用床ノズルにおいて、毛腰の強さの異なる複数種類のブラシ繊維を互いに隣接するよう並列して形成した清掃体を、該床ノズルの底に備えた車輪の外周に付設したことを特徴とする掃除機用床ノズル。
【請求項３】本体ケースに回転ロータを内装した掃除機用床ノズルにおいて、毛腰の強さの異なる複数種類のブラシ繊維を互いに隣接するよう並列して形成した清掃体を、本体ケースの側面外周にバンパーとして付設したことを特徴とする掃除機用床ノズル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を達成するため次の手段を採った。すなわち、請求項１の発明の掃除機用床ノズルは、本体ケースに回転ロータを内装した掃除機用床ノズルにおいて、基布に毛腰の強さの異なる複数種類のブラシ繊維を互いに隣接するよう並列して形成した清掃体を、該床ノズルの底面に回転ロータの軸方向と平行に付設したことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、請求項２の発明の掃除機用床ノズルは、本体ケースに回転ロータを内装した掃除機用床ノズルにおいて、毛腰の強さの異なる複数種類のブラシ繊維を互いに隣接するよう並列して形成した清掃体を、該床ノズルの底に備えた車輪の外周に付設したことを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、請求項３の発明の掃除機用床ノズルは、本体ケースに回転ロータを内装した掃除機用床ノズルにおいて、毛腰の強さの異なる複数種類のブラシ繊維を互いに隣接するよう並列して形成した清掃体を、本体ケースの側面外周にバンパーとして付設したことを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の実施の形態】
請求項１の発明の実施の形態を実施の形態１、請求項２の発明の実施の形態を実施の形態２、請求項３の発明の実施の形態を実施の形態３として以下に説明する。
実施の形態１
図３および図４に実施の形態１を示す。図３は、本発明の実施の形態１の掃除機用床ノズルの底面図である。図３において、１０は回転ロータ、１１は床ノズル、１２は本体ケース、１３、１４、２３、２４は清掃体、１６は開口である。図４は、図３に使用する清掃体を前面側から見た斜視図である。図４において、８は基布、９は段差、１３は清掃体、１８、１９はブラシ繊維である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の掃除機用床ノズル１１は、図３に示すように、回転ロータ１０、本体ケース１２、清掃体１３、１４、２３、２４及び開口１６より形成されてある。本体ケース１２は、開口１６を有し、回転ロータ１０が内蔵されてある。本体ケース１２の底面前側には、回転ロータの軸方向と平行に清掃体１３、１４が形成されてあり、底面後側には、清掃体２３、２４が形成されてある。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月6日(2005.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
またイオン伝導性セグメントにおける陽イオン交換基としては、例えばフェノール性水酸基、カルボン酸、ホスホン酸、ホウ酸等の弱酸類、スルホン酸、スルホニルイミド等の強
酸類、パーフルオロアルキレンスルホン酸、パーフルオロフェニレンスルホン酸、パーフルオロアルキレンスルホニルイミド等の超強酸類などの酸基いずれであることもできる。中でも強酸の基、超強酸の基が好ましく、例えば、スルホン酸、パーフルオロアルキレンスルホン酸、パーフルオロフェニレンスルホン酸などが好適に用いられる。
かかる陽イオン交換基は、本発明のイオン伝導性セグメントにおけるセグメントを構成するモノマー単位１個あたり平均０．５個以上である。
またイオン伝導性セグメントのモノマー単位の数は、通常１０〜１０００個程度であり、２０〜４００個程度であることが好ましい。モノマー単位の数が小さすぎると共重合体の膜強度が低下する傾向にあり、大きすぎるとキャスト溶媒への溶解性が低下する傾向にある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の高分子電解質膜は、上記のようなイオン伝導性セグメントの他に、疎水性セグメントとノニオン親水性セグメントとを有するものであるが、疎水性セグメントとしては、前記のイオン伝導性セグメント及び後記のノニオン親水性セグメントの何れにも該当せず、実質的にイオン交換基を有さず単一セグメントポリマーの形で水に溶解しないものが挙げられる。例えば下記一般式（１２）及び／又は（１３）で表されるモノマー単位を有するセグメントが挙げられる。中でも、化学的安定性および耐熱性の観点からは（１３）が好ましい。
2004235071.tif 000001
（式中、Ｘ3、Ｘ4は互いに独立に直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または−ＳＯ2−を表し、Ｘ３、Ｘ４の結合の向きに特に制限はない。Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子、ニトリル基、−ＣＯＲ4、−ＣＯＯＲ4、−ＯＣＯＲ4、（Ｒ4は、水素原子または置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ４が複数ある場合は、これらは同一であっても異なっていても良い。）、置換されていても良い炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていても良い炭素数６〜１０のアリール基又は置換されていても良い炭素数６〜１０のアリールオキシ基を表し、Ｒ３が複数ある場合は、これらは同一でも異なっていてもよい。ｉは１〜１０の整数を、ｊは０〜１０の整数を表す。Ｒ３が複数ある場合は、これらは同一でも異なっていてもよい。式中、Ａｒ4、Ａｒ5は互いに独立に、下記式（１４）乃至（１８）の何れかの２価の芳香族系の基を表す。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月5日(2005.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】 樹脂ベースと一体成形した一対のリード部材間にヒューズエレメントを接合し、このヒューズエレメントを樹脂キャップでカバーして密閉シールする温度ヒューズであって、前記樹脂ベースには前記ヒューズエレメントを囲繞するメインリブとサブリブの突起状結合手段が設けられ、この結合手段により前記樹脂キャップを前記樹脂ベースに溶着してパッケージ化したチップ型温度ヒューズ。    【請求項２】 前記突起状結合手段はメインリブの外周に沿ってサブリブを形成し、前記樹脂キャップと超音波により溶着して密閉シールしたことを特徴とする請求項１に記載のチップ型温度ヒューズ。    【請求項３】 前記樹脂ベースおよび前記樹脂キャップは熱可塑性樹脂からなり、前記突起状結合手段のメインリブ突出長をサブリブ突出長と同等またはそれ以上の長さに形成したことを特徴とする請求項１に記載のチップ型温度ヒューズ。    【請求項４】 一対のリード部材をインサート成形により一体的に形成した熱可塑性樹脂ベースと、前記リード部材間に接合され、低融点可溶合金にフラックスを被着してなるヒューズエレメントと、前記熱可塑性樹脂ベース上の前記ヒューズエレメントをカバーし密閉シールした熱可塑性樹脂キャップとを具備し、前記熱可塑性樹脂ベースには前記熱可塑性樹脂キャップと熱溶着するメインリブおよびサブリブの突起状結合手段を設け、前記ヒューズエレメントを囲繞して前記メインリブを配置し、その外周部に前記サブリブを配置したことを特徴とするチップ型温度ヒューズ。    【請求項５】 前記熱可塑性樹脂ベースおよび前記熱可塑性キャップはポリアミドＭＸＤ６を含む樹脂材から成り、前記リード部材は前記熱可塑性樹脂ベースの銅めっき層で形成したことを特徴とする請求項４に記載のチップ型温度ヒューズ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板位置決め装置及び方法並びに露光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板ステージに基板を位置決め固定する基板位置決め装置であって、
基板を吸着固定するための、基板ステージ上に固定された吸着パットと、
前記基板ステージ上のマークと基板上のマークとを一致させるべく、前記基板ステージに対して該基板を移動する移動手段と、
前記移動手段による移動後の前記基板と、前記吸着パットとの相対位置を管理し、該吸着パットが該基板を正常に吸着できるかどうかを判断する判断手段とを備えることを特徴とする基板位置決め装置。
【請求項２】  前記移動手段は、
外形を基準として基板を位置決めする第１手段と、
前記基板上に描かれたマークを検出し、前記基板ステージ上のマークとのずれ量だけ該基板を移動する第２手段とを有し、
前記判断手段は、前記第２手段による移動量に基づいて前記相対位置を管理することを特徴とする請求項１に記載の基板位置決め装置。
【請求項３】  前記第１手段が前記基板ステージとは別個のステージ上に設けられ、前記第２手段が前記基板ステージ上に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の基板位置決め装置。
【請求項４】  前記第１手段及び前記第２手段が前記基板ステージとは別個のステージ上に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の基板位置決め装置。
【請求項５】  前記判断手段が、前記吸着パットが前記基板を正常に吸着できないと判断した場合、前記第２手段による移動量を、該吸着パットが該基板を正常に吸着できる範囲に制限することを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の基板位置決め装置。
【請求項６】  前記判断手段が、前記吸着パットが前記基板を正常に吸着できないと判断した場合、前記基板に対する位置決めを中止することを特徴とする請求項３に記載の基板位置決め装置。
【請求項７】  前記判断手段が、前記吸着パットが前記基板を正常に吸着できないと判断した場合、前記基板の前記基板ステージへの搬送を中止することを特徴とする請求項４に記載の基板位置決め装置。
【請求項８】  基板を吸着固定するための、基板ステージ上に固定された吸着パットを用いて、該基板ステージに基板を位置決め固定する基板位置決め方法であって、
前記基板ステージ上のマークと基板上のマークとを一致させるべく、前記基板ステージに対して該基板を移動する移動工程と、
前記移動工程による移動後の前記基板と、前記吸着パットとの相対位置を管理し、該吸着パットが該基板を正常に吸着できるかどうかを判断する判断工程とを備えることを特徴とする基板位置決め方法。
【請求項９】  前記移動工程は、
外形を基準として基板を位置決めする第１工程と、
前記基板上に描かれたマークを検出し、前記基板ステージ上のマークとのずれ量だけ該基板を移動する第２工程とを有し、
前記判断工程は、前記第２工程による移動量に基づいて前記相対位置を管理することを特徴とする請求項８に記載の基板位置決め方法。
【請求項１０】  前記第１工程が前記基板ステージとは別個のステージ上で実行され、前記第２工程が前記基板ステージ上で実行されることを特徴とする請求項９に記載の基板位置決め方法。
【請求項１１】  前記第１工程及び前記第２工程が前記基板ステージとは別個のステージ上で実行されることを特徴とする請求項９に記載の基板位置決め方法。
【請求項１２】  前記判断工程によって、前記吸着パットが前記基板を正常に吸着できないと判断された場合、前記第２工程による移動量が、該吸着パットが該基板を正常に吸着できる範囲に制限されることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれかに記載の基板位置決め方法。
【請求項１３】  前記判断工程が、前記吸着パットが前記基板を正常に吸着できないと判断した場合、前記基板に対する位置決めを中止することを特徴とする請求項１０に記載の基板位置決め方法。
【請求項１４】  前記判断工程が、前記吸着パットが前記基板を正常に吸着できないと判断した場合、前記基板の前記基板ステージへの搬送を中止することを特徴とする請求項１１に記載の基板位置決め方法。
【請求項１５】  請求項１乃至７のいずれかに記載の基板位置決め装置を備え、
前記基板位置決め装置によりレチクルの位置決めをすることを特徴とする露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ところで、上記特許文献１に記載されているような構造の水晶発振器では、容器に搭載されるＩＣチップの回路面の保護と固着補強を目的として、ＩＣチップと容器との間に固着補強材として、いわゆるアンダーフィル材を充填する必要がある。このため、従来の容器は、ＩＣチップの周囲にアンダーフィル材を注入できるような構造にする必要があった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月11日(2006.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）半導体基板中に形成された第１および第２半導体領域と、
（ｂ）前記第１および第２半導体領域間で前記半導体基板の近くに配置された第１および第２ゲート電極と、
（ｃ）前記第１ゲート電極と前記半導体基板との間に形成された第１絶縁膜と、
（ｄ）前記第２ゲート電極と前記半導体基板との間に形成された第２絶縁膜と、を有し、
（ｅ）前記第２絶縁膜は、前記半導体基板上に形成された電位障壁膜と、その上部に形成された電荷保持膜よりなり、
前記電荷保持膜は、シリコン酸窒化膜と、第３絶縁膜とよりなり、真空準位から前記第３絶縁膜の伝導体までのエネルギーと、前記第３絶縁膜のバンドギャップとの和が、前記シリコン酸窒化膜より小さく、
前記シリコン酸窒化膜の電荷トラップ密度と膜厚の積は、前記第３絶縁膜の電荷トラップ密度と膜厚の積より大きいことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項２】  前記第３絶縁膜は、窒化シリコン膜であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項３】  前記第３絶縁膜は、前記シリコン酸窒化膜より酸素濃度の小さい他のシリコン酸窒化膜であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項４】  前記第３絶縁膜は、前記シリコン酸窒化膜と前記電位障壁膜との間に形成されていることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項５】  前記第３絶縁膜は、前記シリコン酸窒化膜の上部に形成されていることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項６】  前記電荷保持膜は、第４絶縁膜を有し、真空準位から前記第４絶縁膜の伝導体までのエネルギーと、前記第４絶縁膜のバンドギャップとの和が、前記シリコン酸窒化膜より小さく、
前記シリコン酸窒化膜は、前記第３および第４絶縁膜の間に形成されていることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項７】  前記不揮発性半導体記憶装置は、さらに、前記電荷保持膜上に形成された第４絶縁膜を有し、
前記真空準位から前記伝導体までの前記エネルギーが、前記第４絶縁膜より前記シリコン酸窒化膜の方が小さい場合は、前記第４絶縁膜の膜厚が１ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項８】  前記シリコン酸窒化膜は、電荷保持機能を有し、前記シリコン酸窒化膜に蓄積された電子は、前記第２ゲート電極に電位を印加することにより、前記第２ゲート電極中に引き抜かれることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項９】  前記シリコン酸窒化膜を、ＳｉｘＯｙＮｚ（ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）とした場合にｚ＝０．３１４以上であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１０】  前記シリコン酸窒化膜を、ＳｉｘＯｙＮｚ（ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）とした場合にｙ＝０．３以下であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１１】  前記シリコン酸窒化膜の膜厚は、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１２】  前記シリコン酸窒化膜の膜厚は、１２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１３】  前記シリコン酸窒化膜は、堆積膜であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１４】  前記シリコン酸窒化膜は、シリコン化合物、酸素化合物および窒素化合物もしくはシリコン化合物および酸素と窒素を含有する化合物を原料とする化学気相成長法で形成された膜であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１５】  前記シリコン酸窒化膜は、シリコンを酸化性および窒化性雰囲気下で堆積することにより形成された膜であることを特徴とする請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１６】  （ａ）半導体基板中に形成された第１および第２半導体領域と、
（ｂ）前記第１および第２半導体領域間で前記半導体基板の近くに配置された第１および第２ゲート電極と、
（ｃ）前記第１ゲート電極と前記半導体基板との間に形成された第１絶縁膜と、
（ｄ）前記第２ゲート電極と前記半導体基板との間に形成された第２絶縁膜と、を有し、
（ｅ）前記第２絶縁膜は、前記半導体基板上に配置された電位障壁膜と、その上部に配置されたシリコン酸窒化膜よりなり、前記シリコン酸窒化膜上には前記第２ゲート電極が位置決めされていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１７】  （ａ）半導体基板中に形成された第１および第２半導体領域と、
（ｂ）前記第１および第２半導体領域間で前記半導体基板の近くに配置された第１および第２ゲート電極と、
（ｃ）前記第１ゲート電極と前記半導体基板との間に形成された第１絶縁膜と、
（ｄ）前記第２ゲート電極と前記半導体基板との間に形成された第２絶縁膜と、を有し、
（ｅ）前記第２絶縁膜は、前記半導体基板上に形成された第１電位障壁膜、その上部に形成されたシリコン酸窒化膜およびその上部に形成された第２電位障壁膜よりなり、前記第２電位障壁膜の膜厚は１ｎｍ以下であることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１８】  前記第２電位障壁膜の膜厚は０．５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１７記載の不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１９】  前記シリコン酸窒化膜は、電荷保持機能を有し、前記シリコン酸窒化膜に蓄積された電子は、前記第２ゲート電極に電位を印加することにより、前記第２ゲート電極中に引き抜かれることを特徴とする請求項１６または１７記載の不揮発性半導体記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月6日(2005.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法、プログラム及び記憶媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つの画像を、一又は複数の注目領域とそれ以外の領域とで異なる圧縮率を用いて圧縮して得られた圧縮データを保持する保持手段と、
前記一つの画像中の一又は複数の注目領域を視認可能な状態で、前記圧縮データに基づく前記一つの画像を含む複数の画像を表示手段に一覧表示させ、該表示手段に一覧表示された前記複数の画像のいずれか、又は、前記一又は複数の注目領域のいずれかを選択手段からの指示に基づいて選択させる表示制御手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記一つの画像をＪＰＥＧ２０００方式で圧縮することにより前記圧縮データを生成する圧縮手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記表示手段は、前記一つの画像に含まれる前記一又は複数の注目領域のそれぞれに枠表示を追加することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
一つの画像を、一又は複数の注目領域とそれ以外の領域とで異なる圧縮率を用いて圧縮して得られた圧縮データを保持手段に保持する保持工程と、
前記一つの画像中の一又は複数の注目領域を視認可能な状態で、前記圧縮データに基づく前記一つの画像を含む複数の画像を表示手段に一覧表示させ、該表示手段に一覧表示された前記複数の画像のいずれか、又は、前記一又は複数の注目領域のいずれかを選択手段からの指示に基づいて選択させる表示制御工程と
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項５】
コンピュータに、
一つの画像を、一又は複数の注目領域とそれ以外の領域とで異なる圧縮率を用いて圧縮して得られた圧縮データを保持手段に保持する保持手順と、
前記一つの画像中の一又は複数の注目領域を視認可能な状態で、前記圧縮データに基づく前記一つの画像を含む複数の画像を表示手段に一覧表示させ、該表示手段に一覧表示された前記複数の画像のいずれか、又は、前記一又は複数の注目領域のいずれかを選択手段からの指示に基づいて選択させる表示制御手順と
を実行させるためのプログラム。
【請求項６】
請求項５に記載のプログラムを格納したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような事情を考慮してなされたものであり、ＲＯＩ画像を表示する際に全体画像だけでなく、それに付随するＲＯＩ画像を識別性を向上させて全体画像に関連付けて同時に表示することができ、オペレータが画像選択時に所望の画像を確実かつ簡易に選択することができる画像処理装置、画像処理方法、プログラム及び記憶媒体を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る画像処理装置は、
一つの画像、を一又は複数の注目領域とそれ以外の領域とで異なる圧縮率を用いて圧縮して得られた圧縮データを保持する保持手段と、
前記一つの画像中の一又は複数の注目領域を視認可能な状態で、前記圧縮データに基づく前記一つの画像を含む複数の画像を表示手段に一覧表示させ、該表示手段に一覧表示された前記複数の画像のいずれか、又は、前記一又は複数の注目領域のいずれかを選択手段からの指示に基づいて選択させる表示制御手段と
を備えることを特徴とする。
また、上記課題を解決するため、本発明に係る画像処理方法は、
一つの画像を、一又は複数の注目領域とそれ以外の領域とで異なる圧縮率を用いて圧縮して得られた圧縮データを保持手段に保持する保持工程と、
前記一つの画像中の一又は複数の注目領域を視認可能な状態で、前記圧縮データに基づく前記一つの画像を含む複数の画像を表示手段に一覧表示させ、該表示手段に一覧表示された前記複数の画像のいずれか、又は、前記一又は複数の注目領域のいずれかを選択手段からの指示に基づいて選択させる表示制御工程と
を有することを特徴とする。
さらに、上記課題を解決するため、本発明に係るプログラムは、
コンピュータに、
一つの画像を、一又は複数の注目領域とそれ以外の領域とで異なる圧縮率を用いて圧縮して得られた圧縮データを保持手段に保持する保持手順と、
前記一つの画像中の一又は複数の注目領域を視認可能な状態で、前記圧縮データに基づく前記一つの画像を含む複数の画像を表示手段に一覧表示させ、該表示手段に一覧表示された前記複数の画像のいずれか、又は、前記一又は複数の注目領域のいずれかを選択手段からの指示に基づいて選択させる表示制御手順と
を実行させることを特徴とする。
さらにまた、上記課題を解決するため、本発明に係るコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は、上記プログラムを格納したことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図１２において、３０１は撮影された全体画像であり、図中の点線で示された矩形領域３０２ａ〜３０２ｃがそれぞれＲＯＩとして設定されているものとする。また、図１３には、図１２に示す画像のサムネイル画像を含む複数の画像データのサムネイル画像が一覧表示された表示画面が示されている。ここで、ＲＯＩが設定された画像３０１が表示される場合、サムネイル画像３０１’上にはＲＯＩ表示枠３０２ａ’〜３０２ｃ’が追加表示される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マルチ荷電ビームレンズであって、
荷電ビームを通す複数の開口をそれぞれ有する少なくとも３枚の電極基板と、
前記少なくとも３枚の電極基板のうち共通電位が与えられる少なくとも２枚の電極基板を連結する連結部と、
を備え、前記連結部は、前記少なくとも３枚の電極基板のうち前記共通電位と異なる電位が与えられる電極基板に接触しないように配置されていることを特徴とするマルチ荷電ビームレンズ。
【請求項２】  前記少なくとも３枚の電極基板の各間に絶縁体が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のマルチ荷電ビームレンズ。
【請求項３】  請求項１又は２に記載のマルチ荷電ビームレンズを有することを特徴とするマルチ荷電ビーム露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月28日(2005.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被処理物の近傍に配置させたマイクロプラズマ源にガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源に設けられた電極または被処理物に電力を供給することにより、マイクロプラズマを発生させ、生成された活性粒子を被処理物に作用させ、被処理物の表面の微小部分を加工するプラズマ処理方法であって、
プラズマ処理の途中で、マイクロプラズマ源と被処理物のなす距離を変化させること
を特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】  被処理物の近傍に配置させたマイクロプラズマ源にガスを供給しつつ、マイクロプラズマ源に設けられた電極または被処理物に電力を供給することにより、マイクロプラズマを発生させ、生成された活性粒子を被処理物に作用させ、被処理物の表面の微小部分を加工するプラズマ処理方法であって、
第１のプラズマ処理と第２のプラズマ処理の間で、マイクロプラズマ源と被処理物のなす距離を変化させること
を特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項３】  マイクロプラズマ源は、内側ガス噴出口および外側ガス噴出口を有し、内側ガス噴出口より不活性ガスを主体とするガスを噴出させるとともに外側ガスより反応性ガスを主体とするガスを噴出させること
を特徴とする請求項１または２記載のプラズマ処理方法。
【請求項４】  マイクロプラズマ源と被処理物のなす距離を変化させるとともに、内側ガス噴出口より噴出するガス、もしくは外側ガス噴出口より噴出するガスの流量を変化させること
を特徴とする請求項３記載のプラズマ処理方法。
【請求項５】  マイクロプラズマ源と被処理物のなす距離を大きくするとともに、内側ガス噴出口より噴出するガスの流量に対する外側ガス噴出口より噴出するガスの流量比率を増加させること
を特徴とする請求項４記載のプラズマ処理方法。
【請求項６】  マイクロプラズマ源と被処理物のなす距離を小さくするとともに、内側ガス噴出口より噴出するガスの流量に対する外側ガス噴出口より噴出するガスの流量比率を減少させること
を特徴とする請求項４記載のプラズマ処理方法。
【請求項７】  マイクロプラズマ源は、１００００Ｐａから３気圧の範囲の圧力で動作すること
を特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載のプラズマ処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図３６を参照して、システムＬＳＩは、チップＣＨにロジック部ＬＧとＤＲＡＭ部ＭＥＭとを搭載している。ＤＲＡＭ部には、昇圧電位ＶＰＰを発生する電源発生回路ＶＧＥＮ１と、基板電位ＶＢＢを発生する電源発生回路ＶＧＥＮ２とを含んでいる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
ここでさらに、待機時にゲート−ソース間リーク電流を削減するためにインバータＩＶ１〜ＩＶ５において丸で囲んだ側のトランジスタのゲート絶縁膜厚を厚く形成する。具体的には、インバータＩＶ１では、主電源線３２１に接続されるＰチャネルＭＯＳトランジスタＰＴのゲート絶縁膜厚を厚く形成する。同様に、インバータＩＶ３，ＩＶ５においても主電源線３２１に接続されるＰチャネルＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜厚を厚く形成する。一方、インバータＩＶ２，ＩＶ４では主接地線３２２に接続されるＮチャネルＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜厚を厚く形成する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月13日(2005.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクに記録する第１のドライブと、光ディスクとは異なる記録媒体に記録する第２のドライブと、を有する撮像装置において、
前記第１のドライブ、前記第２のドライブ、又は、電源オフを選択する選択手段と、
前記選択手段により電源オフから第２のドライブへ選択が切り替えられた場合、前記第２のドライブにより記録媒体への記録を行える状態にするとともに、前記第１のドライブを電源オフとは異なる休止状態とするよう制御する制御部と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像装置において、
前記制御部は、前記第１のドライブ内の回路の初期化を行った後に前記第１のドライブを休止状態とするよう制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の撮像装置において、
前記休止状態の時には、少なくともモータの回転が停止していることを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の撮像装置において、
前記休止状態の時には、少なくとも情報の記録に関与する回路への電源あるいはクロックの供給が停止されていることを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の撮像装置において、
選択手段が、外部より操作可能な切替えスイッチで構成されていることを特徴とする撮像装置。