【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、
マスク本体２の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とからなり、
マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａの上面と、枠体３の上面およびパターン形成領域４に臨む側面と、マスク本体２と枠体３との間隙部分に金属層を形成して、マスク本体２と枠体３とを接合していることを特徴とする蒸着マスク。
【請求項２】
前記金属層は、電鋳法により形成されたことを特徴とする請求項１記載の蒸着マスク。
【請求項３】
蒸着マスクは、複数個の独立形成したマスク本体２を備えており、
枠体３には、各マスク本体２に対応する開口３ａが複数個形成され、各開口３ａに、一個のマスク本体２がそれぞれ配置されるようにしてあり、
枠体３と、各マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａとを金属層を介して不離一体的に接合してある請求項１又は２記載の蒸着マスク。
【請求項４】
金属層が、マスク本体２を枠体３側に引き寄せる、引っ張り応力Ｆ１が作用するようなテンションを加えた状態で形成されている請求項１又は２又は３記載の蒸着マスク。
【請求項５】
マスク本体２が、それ自体に内方に収縮する方向の応力Ｆ２が作用するようなテンションを加えた状態で、金属層を介して枠体３に保持されている請求項１又は２又は３又は４記載の蒸着マスク。
【請求項６】
マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａには、多数個の通孔２１が設けられており、
マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａと枠体３とを、通孔２１を埋めるように形成された金属層を介して不離一体的に接合してある請求項1又は２又は３又は４又は５記載の蒸着マスク。
【請求項７】
マスク本体２は平面視で多角形状を呈しており、その角部を面取り状に形成してある請求項１又は２又は３又は４又は５又は６記載の蒸着マスク。
【請求項８】
多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、マスク本体２の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とを金属層を介して接合してなる蒸着マスク１の製造方法であって、
母型１０の表面に、レジスト体１４ａを有する一次パターンレジスト１４を設ける第１のパターンニング工程と、
一次パターンレジスト１４を用いて、母型１０上に電着金属を電鋳して、マスク本体２に対応する一次電着層１５を形成する第１の電鋳工程と、
一次電着層１５を囲むように、母型１０上に枠体３を配する枠体配設工程と、
枠体３の表面と、一次電着層１５の外周縁４ａ、すなわちマスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａ表面とを覆うように電鋳法より金属層を形成して、該金属層を介して一次電着層１５と枠体３とを不離一体的に接合する第２の電鋳工程と、
母型１０から一次電着層１５、枠体３および金属層を一体に剥離する剥離工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
【請求項９】
多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備える複数個のマスク本体２と、各マスク本体２に対応する複数個の開口３ａを備える、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とを金属層を介して接合してなる蒸着マスク１の製造方法であって、
母型１０の表面に、レジスト体１４ａを有する一次パターンレジスト１４を設ける第１のパターンニング工程と、
一次パターンレジスト１４を用いて母型１０上に電着金属を電鋳し、該母型１０上にマスク本体２に対応する一次電着層１５を所定位置に複数個形成する第１の電鋳工程と、
枠体３の各開口３ａ内に、該開口３ａに対応する一次電着層１５が位置するように位置合わせしながら、母型１０上に枠体３を配する枠体配設工程と、
枠体３の表面と、一次電着層１５の外周縁４ａ、すなわちマスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａ表面とを覆うように、電鋳法により金属層を形成して、該金属層を介して一次電着層１５と枠体３とを不離一体的に接合する第２の電鋳工程と、
母型１０から一次電着層１５、枠体３および金属層を一体に剥離する剥離工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
【請求項１０】
母型１０上に形成された一次電着層１５の表面に、パターン形成領域４を覆うレジスト体１８ａを形成する工程を含み、
前記第２の電鋳工程において、レジスト体１８ａを利用して金属層を電鋳法にて形成するようにしている請求項８又は９記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１１】
母型１０上に形成された一次電着層１５の表面に、パターン形成領域４を覆うレジスト体１８ａを形成するためのフォトレジスト層１６を形成する工程を含み、
前記枠体配設工程においては、未露光のフォトレジスト層１６ｂの粘着性を利用して、母型１０上に枠体３を仮止め固定しており、
かかる仮止め固定状態で、第２の電鋳工程を行うようにしてある請求項８又は９又は１０記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１２】
前記第１の電鋳工程において、マスク本体２に対応する一次電着層１５の外周縁４ａには、多数個の通孔２１が形成されるようにしてあり、
前記第２の電鋳工程において、通孔２１を埋めるように金属層が形成されるようにしてある請求項８又は９又は１０又は１１記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１３】
前記第２の電鋳工程に先立って、通孔２１の周辺の一次電着層１５に対して活性化処理を施す、又はストライクニッケルや無光沢ニッケル等の密着面形成を行うようにしてある請求項１２記載の蒸着マスクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る蒸着マスク１は、図１および図６に示すごとく、多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、マスク本体２の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とからなる。そして、マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａの上面と、枠体３の上面およびパターン形成領域４に臨む側面と、マスク本体２と枠体３との間隙部分に金属層を形成して、マスク本体２と枠体３とを接合していることを特徴とする。枠体３は、線膨張係数の小さなニッケル−鉄合金であるインバー材、あるいはニッケル−鉄−コバルト合金であるスーパーインバー材で形成することが好ましい。かかる材質を採用することで、初期寸法を確保できれば、熱影響によるマスク本体２の形状変化・寸法変化をよく抑えることができる。また、前記金属層は、電鋳法により形成されたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図４および図９に示すごとく、蒸着マスクは、複数個の独立したマスク本体２を備える形態を採ることができる。枠体３には、各マスク本体２に対応する開口３ａが複数個形成され、各開口３ａに、一個のマスク本体２がそれぞれ配置されている。そして、図１および図６に示すごとく、枠体３と、各マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａとを金属層を介して不離一体的に接合する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
図１および図９に示すごとく、金属層は、マスク本体２を枠体３側に引き寄せる、引っ張り応力Ｆ１が作用するようなテンションを加えた状態で形成することが好ましい。かかる引っ張り応力Ｆ１の付与は、金属層を作成する際の電鋳槽中に添加する第２種光沢剤中のカーボンの含有比率を調製することで実現できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
マスク本体２は、それ自体に内方に収縮する方向の応力Ｆ２が作用するようなテンションを加えた状態で、金属層を介して枠体３に保持されている形態を採ることが好ましい。かかる応力Ｆ２の付与は、マスク本体２となる一次電着層１５を作成する際の電鋳槽中に添加する第２種光沢剤中のカーボンの含有比率を調製することで実現できる。さらに、母型１０を４２アロイやインバー、ＳＵＳ４３０（ステンレス）その他の低熱線膨張係数の材質からなるものとしたうえで、一次電着層１５の形成時における電鋳槽内の温度が高くなることで、かかる温度差に起因して、母型１０と母型上に形成されるニッケルやニッケル合金等の電着金属との熱膨張係数の差によって、母型から剥離した一次電着層１５が常温時には内方側に収縮するように設定することによっても実現できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図６ないし図８に示すごとく、マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａに、多数個の通孔２１を設け、マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａと枠体３とを、通孔２１を埋めるように形成された金属層を介して不離一体的に接合することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また本発明は、図１に示すような多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、マスク本体２の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とを金属層を介して接合してなる蒸着マスク１の製造方法において、図２（ｃ）および図１０（ｃ）に示すごとく、母型１０の表面に、レジスト体１４ａを有する一次パターンレジスト１４を設ける第１のパターンニング工程と、図２（ｄ）および図１０（ｄ）に示すごとく、一次パターンレジスト１４を用いて、母型１０上に電着金属を電鋳して、マスク本体２に対応する一次電着層１５を形成する第１の電鋳工程と、図３（ｃ）および図１２（ｃ）に示すごとく、一次電着層１５を囲むように、母型１０上に枠体３を配する枠体配設工程と、図３（ｅ）および図１２（ｅ）に示すごとく、枠体３の表面と、一次電着層１５の外周縁４ａ、すなわちマスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａ表面とを覆うように電鋳法により金属層を形成して、該金属層を介して一次電着層１５と枠体３とを不離一体的に接合する第２の電鋳工程と、母型１０から一次電着層１５、枠体３および金属層を一体に剥離する剥離工程とを含む。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
これによれば、レジスト体１４ａの除去に伴い、一次電着層１５に蒸着通孔５が形成される。また、パターン形成領域４の外周縁４ａに電鋳形成された金属層によって、パターン形成領域４の外周縁４ａと枠体３とを不離一体的に接合することができる。パターンレジスト１４は、フォトレジスト等を使用したリソグラフィー法その他の任意の方法で形成でき、パターンレジスト１４の形成手段は問わない。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、図１、図４および図６、図９に示すごとく、多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備える複数個のマスク本体２と、各マスク本体２に対応する複数個の開口３ａを備える、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とを金属層を介して接合してなる蒸着マスク１の製造方法において、図２（ｃ）および図１０（ｃ）に示すごとく、母型１０の表面に、レジスト体１４ａを有する一次パターンレジスト１４を設ける第１のパターンニング工程と、図２（ｄ）および図１０（ｄ）に示すごとく、一次パターンレジスト１４を用いて母型１０上に電着金属を電鋳し、該母型１０上にマスク本体２に対応する一次電着層１５を所定位置に複数個形成する第１の電鋳工程と、図３（ｃ）および図１２（ｃ）に示すごとく、枠体３の各開口３ａ内に、該開口３ａに対応する一次電着層１５が位置するように位置合わせしながら、母型１０上に枠体３を配する枠体配設工程と、図３（ｅ）および図１２（ｅ）に示すごとく、枠体３の表面と、一次電着層１５の外周縁４ａ、すなわちマスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａ表面とを覆うように、電鋳法により金属層を形成して、該金属層を介して一次電着層１５と枠体３とを不離一体的に接合する第２の電鋳工程と、母型１０から一次電着層１５、枠体３および金属層を一体に剥離する剥離工程とを含む。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図３（ｄ）および図１２（ｄ）に示すごとく、第２の電鋳工程（図３（ｅ）又は図１２（ｅ））に先立って、母型１０上に形成された一次電着層１５の表面に、パターン形成領域４を覆うレジスト体１８ａを形成する工程を含み、前記第２の電鋳工程において、レジスト体１８ａを利用して金属層を電鋳法にて形成するようにしてもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図１０（ｅ）に示すごとく第１の電鋳工程において、マスク本体２に対応する一次電着層１５の外周縁４ａには、多数個の通孔２１が形成されるようにしてあり、図１２（ｅ）に示すごとく第２の電鋳工程においては、該通孔２１を埋めるように金属層が形成されるようにすることができる。