(57)【要約】      （修正有）【課題】高解像度の金属蒸着マスクを提供する。【解決手段】金属蒸着マスクは金属材質で製造され、両端の溶接領域及び両端の間にあるパターン領域で構成される。パターン領域には複数のパターン部３が設けられ、パターン部３には刳り貫き形状を呈する複数の蒸着空間３１が設けられ、蒸着空間３１は矩形アレイ方式で設けられ、これによりパターン部３に複数の第１接続リブ３２及び複数の第２接続リブ３３が形成される。第１接続リブ３２の高さは第２接続リブ３３の高さより高く、蒸着空間３１が更に緊密に配列され、マスクの解像度が高まる。また、第１接続リブ３２の高さにより一定の厚さ強度が提供され、マスクが精密に引っ張られて位置決めされる際に損壊しなくなる。【選択図】図２
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
金属材質で製造され、細長い片状体を呈し、表面及び底面を有し、且つ両端の溶接領域及び両端の間にあるパターン領域で構成され、また、パターン領域には複数のパターン部が設けられ、複数のパターン部は溶接部に向けて間隔を空けて配列される高解像度の金属蒸着マスクであって、
前記パターン部には刳り貫き形状を呈する複数の蒸着空間が設けられ、蒸着空間は表面の開口部が底面の開口部よりも大きく、蒸着空間に錐形状が形成され、蒸着空間は矩形アレイ方式で設けられ、これによりパターン部に複数の第１接続リブ及び複数の第２接続リブが形成され、第１接続リブは間隔を空けて並列され、第２接続リブの両端は隣接する２つの第１接続リブの間にそれぞれ連接され、且つ第２接続リブは隣接する２つの第１接続リブの間に間隔を空けて並列され、第１接続リブの底部及び第２接続リブの底部がマスクの底面と平坦になると共に上に向けて延伸されつつ漸縮して錐形状に形成され、第１接続リブの高さは第２接続リブの高さより高いことを特徴とする高解像度の金属蒸着マスク。
【請求項２】
前記パターン部の第１接続リブは溶接領域に向けて延伸され、第２接続リブは第１接続リブに垂直になる方向に向けて延伸されることを特徴とする請求項１に記載の高解像度の金属蒸着マスク。
【請求項３】
金属材質で製造され、細長い片状体を呈し、表面及び底面を有し、且つ両端の溶接領域及び両端の間にあるパターン領域で構成され、また、パターン領域には複数のパターン部が設けられ、複数のパターン部は溶接部に向けて間隔を空けて配列される高解像度の金属蒸着マスクであって、
前記パターン部には刳り貫き形状を呈する複数の蒸着空間が設けられ、蒸着空間は表面の開口部が底面の開口部よりも大きく、蒸着空間に錐形状が形成され、蒸着空間は矩形アレイ方式で設けられ、これによりパターン部は蒸着空間周縁に間隔を空けて設けられる複数の本体部、及び隣接する２つの本体部の間に連接される接続部が形成され、本体部の底部及び接続部の底部はマスクの底面と平坦になると共に上に向けて延伸されつつ漸縮して錐形状に形成され、本体部の高さは接続部の高さより高いことを特徴とする高解像度の金属蒸着マスク。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、高解像度の金属蒸着マスクに関し、更に詳しくは、発光フィルムの高解像度蒸着の量産化プロセスに必要なマスクを提供する。
【背景技術】
【０００２】
ＯＬＥＤパネルは基板上にＲＧＢ発光体有機物が真空蒸着されることで形成され、マスクはこれら有機物が選択された領域内にのみ蒸着されるように作用する。マスクの蒸着開口部の空間形状が微細になるほど、開口部の間隔が狭くなり、蒸着源の蒸着角を上が大きく下が小さい形状を保つことにより、更に高い解像度のパネルが実現する。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、前述した従来の技術では、高解像度のマスクの厚さは２５ｕｍ未満であることが多く、蒸着空間が微細になればなるほど、マスクを精密に引っ張って位置決めする際に損壊しやすくなった。蒸着の開口部の空間を更に微細にしつつ、蒸着源の角度の形状を６０度未満に保ち、マスクの解像度を高め、薄型化し、これにより起こる引っ張り位置決めする際の損壊を改善することが関連業者にとっての課題であった。
【０００４】
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に至った。
【０００５】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、高解像度の金属蒸着マスクを提供することを目的とする。
【０００６】
マスクの蒸着空間の側方部分の側壁の高さを減らし、蒸着空間を更に緊密に配列し、マスクの解像度を高め、且つマスクを精密に引っ張って位置決めする際に損壊しないようにする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本考案のある態様の高解像度の金属蒸着マスクは、金属材質で製造され、細長い片状体を呈し、表面及び底面を有する。マスクは両端の溶接領域及び両端の間にあるパターン領域で構成される。パターン領域には複数のパターン部が設けられ、複数のパターン部は溶接部に向けて間隔を空けて配列される。パターン部には刳り貫き形状を呈する複数の蒸着空間が設けられる。蒸着空間は表面の開口部が底面の開口部よりも大きく、蒸着空間に錐形状が形成され、蒸着空間は矩形アレイ方式で設けられ、これによりパターン部に複数の第１接続リブ及び複数の第２接続リブが形成される。第１接続リブは間隔を空けて並列され、第２接続リブの両端は隣接する２つの第１接続リブの間にそれぞれ連接され、且つ第２接続リブは隣接する２つの第１接続リブの間に間隔を空けて並列され、第１接続リブの底部及び第２接続リブの底部がマスクの底面と平坦になると共に上に向けて延伸されつつ漸縮して錐形状に形成される。第１接続リブの高さは第２接続リブの高さより高い。
【０００８】
また、本考案に係る高解像度の金属蒸着マスクにおいて、前記パターン部の第１接続リブは溶接領域に向けて延伸され、第２接続リブは第１接続リブに垂直になる方向に向けて延伸される。
【０００９】
また、本考案に係る高解像度の金属蒸着マスクにおいて、前記パターン部は蒸着空間周縁に間隔を空けて設けられる複数の本体部、及び隣接する２つの本体部の間に連接される接続部が形成される。本体部の底部及び接続部の底部はマスクの底面と平坦になると共に上に向けて延伸されつつ漸縮して錐形状に形成される。本体部の高さは接続部の高さより高い。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本考案に係る高解像度の金属蒸着マスクを示す外観斜視図である。
【図２】本考案のパターン部の第１実施形態を示す斜視概略図である。
【図３】本考案のパターン部の第２実施形態を示す斜視概略図である。
【図４】本考案のパターン部の第２実施形態を示す上面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図６】図４のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１１】
以下に図面を参照して、本考案を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
【実施例１】
【００１２】
以下、図１〜６を参照しながら、本考案をさらに詳しく説明する。まず、図１及び図２に示されるように、本考案の第１実施形態に係るマスク１０は金属材質で製造され、細長い片状体を呈し、表面Ａ及び底面Ｂを有する。マスク１０は両端の溶接領域１及び両端の間にあるパターン領域２で構成される。パターン領域２には複数のパターン部３が設けられ、複数のパターン部３は溶接領域１に向けて間隔を空けて配列され、パターン部３には刳り貫き形状を呈する複数の蒸着空間３１が設けられる。蒸着空間３１は表面Ａの開口部が底面Ｂの開口部より大きく、蒸着空間３１に錐形状が形成される。蒸着空間３１が矩形アレイ方式で設けられることにより、パターン部３に複数の第１接続リブ３２及び複数の第２接続リブ３３が形成される。第１接続リブ３２は間隔を空けて並列され、且つ第１接続リブ３２は溶接領域１の方向に向けて延伸され、第２接続リブ３３は第１接続リブ３２に垂直になる方向に向けて延伸され、その両端が隣接する２つの第１接続リブ３２の間にそれぞれ連接される。第２接続リブ３３は隣接する２つの第１接続リブ３２の間に間隔を空けて並列され、第１接続リブ３２の底部及び第２接続リブ３３の底部がマスク１０の底面Ｂと平坦になると共に上に向けて延伸されつつ漸縮して錐形状に形成される。第１接続リブ３２の高さは第２接続リブ３３の高さより高い。よって、本考案の第１実施形態では、蒸着空間３１が同一の方向に向けて近接し、第２接続リブ３３の高さが第１接続リブ３２の高さより低く、即ち第２接続リブ３３の高さを犠牲にするのみで蒸着空間３１を更に近接させ、マスク１０の解像度を高める。マスク１０は精密に引っ張って位置決めする際に、高さが高い第１接続リブ３２が溶接領域１に向けて延伸されるため、引っ張って位置決めする際にパターン部３が損壊しにくくなる。
【実施例２】
【００１３】
次は、図１及び図４乃至図６に示されるように、本考案に係る第２実施形態の前述の第１実施形態との差異は、前記パターン部４の蒸着空間４１が矩形アレイ方式で設けられた後、パターン部４には蒸着空間４１の周縁に間隔を空けて設けられる複数の本体部４２、及び隣接する２つの本体部４２の間に連接される接続部４３が形成され、且つ本体部４２の底部及び接続部４３の底部がマスク１０の底面Ｂと平坦になると共に上に向けて延伸されつつ漸縮して錐形状に形成され、本体部４２の高さが接続部４３の高さよりも高い点である。よって、本考案の第２実施形態では、蒸着空間４１が複数の方向に向けて近接され、蒸着空間４１は間隔を空けて設けられる複数の本体部４２、及び隣接する２つの本体部４２の間に連接される接続部４３が形成されるため、即ち接続部４３の高さを犠牲にするのみで蒸着空間４１が更に近接する。
【００１４】
上述の実施形態は本考案の技術思想及び特徴を説明するためのものにすぎず、当該技術分野を熟知する者に本考案の内容を理解させると共にこれをもって実施させることを目的とし、本考案の実用新案登録請求の範囲を限定するものではない。従って、本考案の精神を逸脱せずに行う各種の同様の効果をもつ改良又は変更は、実用新案登録請求の範囲に含まれるものとする。
【符号の説明】
【００１５】
１０  マスク
Ａ  表面
Ｂ  底面
１  溶接領域
２  パターン領域
３  パターン部
３１  蒸着空間
３２  第１接続リブ
３３  第２接続リブ
４  パターン部
４１  蒸着空間
４２  本体部
４３  接続部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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