Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  生ゴミをカッタで裁断し微細化しながら処理する生ゴミ処理装置において、
略有底円筒状の処理槽と、前記処理槽の底床板中央から起立する回転軸と、この回転軸を前記処理槽の下方から回転駆動するモータと、前記回転軸を中心として径方向外側へ延びる羽根部を持ち前記回転軸に軸方向に相互に間隔をおいて固定された複数の回転刃と、前記回転軸が回転自在に貫通しかつ前記回転刃と共に主カッタを形成する複数の固定刃と、前記固定刃の前記回転軸を中心とする径方向外側の端部を保持する縦板を持ち上端が処理槽の上部に固定された支持フレームと、を備えることを特徴とする生ゴミ処理装置。
【請求項２】  回転軸は処理槽の底床板中央に着脱可能であり、その上部は支持フレームに固定された上板によって保持されている請求項１の生ゴミ処理装置。
【請求項３】  請求項１または２において、さらに、処理槽の底床板に近接して回転軸に固定されその外周の少なくとも一部が支持フレームの縦板よりも径方向外側へ突出した回転ベースと、この回転ベースに固定され支持フレームの縦板より径方向外側でその反回転方向に向かって次第に高く傾斜した上下撹拌用の傾斜板と、を備える生ゴミ処理装置。
【請求項４】  請求項３において、さらに、回転ベースの上面に固定され平面視でその反回転方向に向かって次第に支持フレームの縦板側に接近するように略円弧状に形成されたアーム部材を備える生ゴミ処理装置。
【請求項５】  請求項３または４において、さらに、回転ベースの下面に近接して底床板側に固定され前記回転ベースと共に底部カッタを形成する外径方向の突起を有する固定ベースを備える生ゴミ処理装置。
【請求項６】  回転軸の上端には回転軸から径方向外側へ伸びる上部回転刃が固定され、この上部回転刃は支持フレームに保持した上部固定刃および支持フレームと共に上部カッタを形成する請求項３〜６のいずれかの生ゴミ処理装置。
【請求項７】  請求項１〜６のいずれかにおいて、さらに、処理槽の底床部および円筒部下部の少なくとも一方に設けた電気ヒータを備える生ゴミ処理装置。
【請求項８】  処理槽には排気ファンが取付けられている請求項１〜７のいずれかの生ゴミ処理装置。
【請求項９】  生ゴミを裁断し微細化するための生ゴミ処理用カッタにおいて、縦に配設され電動モータにより回転駆動される回転軸と、この回転軸を中心として径方向外側に延びる羽根部を持ち前記回転軸に軸方向に相互に間隔をおいて固定された複数の回転刃と、前記回転刃の前記回転軸を中心とする径方向外側の端部を保持する縦板を有する支持フレームと、径方向外側へ延びその先端が前記縦板に保持された羽根部を持ち前記回転軸が回転自在に貫通する複数の固定刃と、を備え、生ゴミを前記回転刃および固定刃の羽根部間を落下させつつ多段階にカットすることを特徴とする生ゴミ処理用カッタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ここに回転軸は底床板中央に着脱可能とすれば、回転軸に主カッタや支持フレームなどを予め組付け、この予備組立体を処理槽の中に組込むことが可能になり、組立性が良好になる。この場合回転軸の上部は支持フレームで回転可能に保持するのが望ましい。例えば複数の固定刃を保持する縦板の上部を上板でつなぎ、この上板に回転軸（の上部）を保持する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
しかしこの発明は回転軸をその上部が振れないように下部においてしっかりと底床板に保持したものを含み、この場合には支持フレームは回転軸の上部を保持しなくてもよい。固定刃は１枚の羽根部を有するものであってもよい。この場合、縦板は１枚で足り、従って支持フレームも１つにすることが可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
回転軸３２には、軸受３４から上方に抜き取った状態で、ここに支持フレーム３８や後記する回転刃５８、固定刃６０などが組付けられ、この予備組立体を処理槽１０内に入れて組付けるものである。支持フレーム３８は図２、３から明らかなように、平面視でほぼ六角形の隣接しない３辺に位置する３枚の縦板４０と、これら縦板４０の下端および上端を固定するための放射状の３つの支持腕を持つ下板４２および上板４４と、縦板４０の上端から拡径して斜上方へ延出する連結腕部４６とを備える。回転軸３２は下板４２および上板４４を回転自在に貫通している。連結腕部４６の上端は予備組立後に処理槽１０の上部内壁にビス止めされるものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
支持フレーム３８の組立てとは別に、底床板１０Ｂの中央には固定ベース５０がビスで固定される。この上に回転ベース５２が組付けられるが、回転軸３２の下端に組付けておいてもよい。固定ベース５０は、図２、５に示すように、３枚の前記縦壁４０に内接する円と略同径の円板であり、等間隔に３つの突起５０Ａが外径方向に突出している。回転ベース５２は固定ベース５０と同径の円板からほぼ対角位置で周方向に突出した突出部５２Ａ、５２Ｂを持つ。回転ベース５２は回転軸３２に係合して回転する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
またこの回転ベース５２には、上下に間隔を保って保持された上下２枚のアーム部材５６が取付けられている。このアーム部材５６は、突出部５２Ａに前端が保持されその反回転方向に向かって次第に内側（支持フレーム３８の縦板４０側）に接近するように平面視で略円弧状に形成され、後端がもう一方の突出部５２Ｂに保持されている。このアーム部材５６はその回転に伴い、生ゴミを内側方向へ移動させる径方向の撹拌作用を持つ。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
なお少なくとも一方の突出部５２Ａの回転方向の前縁５２Ｃは、固定ベース５０の突起５０Ａに密着しながら通過する際に生ゴミを切断することになる。この結果突出部５２Ａと突起５０Ａとで底部カッタＢが形成される（図５）。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
このように回転刃５８、固定刃６０、支持フレーム３８などを予備組立てした後、あるいは予備組立てと並行して、回転軸３２の上端に上部カッタＣを組付ける。上部カッタＣは、図１、２、７に示すように、回転軸３２の上端に固定された上部回転刃６４と、支持フレーム３８の一部を形成する上部固定刃である上板４４と、連結腕部４６とで形成される。ここに上部回転刃６４は、その中心から上板４４の上面に沿って径方向外側へ延び、その先端部分が連結腕部４６の上面に沿うように斜上方へ折曲されている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2004298773.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月15日(2006.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】直線加速度刺激装置及び刺激方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線加速度を加えることによって代償性眼球運動を生じさせる直線加速度刺激装置において、
（ａ）直線加速度刺激装置を往復動させるための直線加速度源１９を有するベースセクションＡと、
（ｂ）ベースセクションＡにより支持された旋回セクションＢと、旋回セクションＢはベースセクションＡにスライド可能に取り付けられ、かつ、直線加速度源により往復動できるように直線加速度源１９に連結されており、
（ｃ）Reid stereotaxic coordinate systemによる頭部の水平面から傾斜するように、旋回セクションＢにより支持された傾斜セクションＣと、傾斜セクションＣは主軸４９と、歯車取付板５１を介して、主軸４９と協働する一対の歯車伝達機構５４、６０、６３、６６と、歯車伝達機構を動作させるハンドル６７と、主軸４９をハンドル６７を用いて歯車伝達機構により、所望の角度だけ回転させて、ロックまたはアンロックする手段５８とを有し、
（ｄ）傾斜セクションＣにより支持された着座セクションＤと、
（ｅ）被検者を、着座セクションＤに対し、上下方向及び前後方向に調節可能な後頭固定部９６及び側頭固定部９７を有する、着座セクションＤに配置された固定セクションＥとを備えている、直線加速度刺激装置。
【請求項２】
直線加速度を加えることによって代償性眼球運動を生じさせる刺激方法であって、
（ａ）請求項１記載の直線加速度刺激装置の着座セクションＤに被検者を固定し、
（ｂ）更に被検者の後頭部および側頭部を固定し、
（ｃ）傾斜セクションＣにより被検者をReid stereotaxic coordinate systemによる頭部の水平面から所望の角度傾斜させ、ロックして、
（ｄ）直線加速度刺激装置を往復動させて被検者の左右の耳石器に異なった直線加速度刺激を付与する、
ことからなる直線加速度刺激方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は特にヒトの耳石器の左右卵形嚢に異なった刺激を与え、その刺激に伴う耳石器−眼反射による代償性眼球運動を測定することにより左右個別に卵形嚢の機能を測定することができる新規な直線加速度刺激装置及び刺激方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
この状態で、左右方向に直線加速度を頭部に加えると左耳の卵形嚢斑に比して右耳の卵形嚢斑を主に刺激することができ、このときに計測された眼球運動は主に右耳の卵形嚢に由来した代償性眼球運動ということになり、この眼球運動を解析することにより、結果的に右耳の卵形嚢の機能を測定することができる。即ち、左右方向に直線加速度を頭部に加えると卵形嚢斑の耳石膜の接線（面）方向に加えられる加速度が左右耳で異なるように頭部に直線加速度を加えることができる。従って、左右の卵形嚢斑に対して異なった刺激を加えることができる。右耳下１０°傾斜させた時と、左耳下１０°傾斜させた時、また傾斜させない時、それぞれの代償性眼球運動を正確に測定することにより、左右各々の卵形嚢機能を測定することができる。従って、本発明は、従来の刺激方法及び装置とは全く異なり、この種の臨床分野における画期的な刺激法と位置ずけることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、直線加速度を加えることによって眼球に代償性眼球運動を生じさせる刺激法であって、被検者の頭部を傾斜させ、左右の耳石器に異なった直線加速度刺激が主に加えられるようにした方法である。この刺激方法は、当該装置を傾斜手段により所望の角度傾斜させることによって達成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
上記の振幅結果から明らかなように、刺激方法（１）では耳石器の両側の卵形嚢刺激であり、刺激方法（２）、（３）では左右の卵形嚢に対して異なった直線加速度刺激を加えているが、（２）と（３）との間で代償性眼球運動の振幅に有意に差が認められ、左右の卵形嚢機能に差が存在するという結果が得られた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
【発明の効果】
本発明は以上説明したように、直線加速度を加えることによって眼球に代償性眼球運動を生じさせる刺激装置及び方法であって、被検者の左右の耳石器に異なった直線加速度刺激が加えられる。耳石器への異なった直線加速度刺激は当該装置の傾斜のみの簡単な操作で、左右個別に耳石器機能測定が行え、広範な臨床検査が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月28日(2006.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被検体に関するスキャノグラムを再構成範囲とともに含むスキャン計画画面を構築する手段と、
前記スキャン計画画面を表示する表示手段と、
前記再構成範囲を設定するために、前記再構成範囲を再構成範囲の中心線が傾斜するようにに変形操作するための操作手段と、
前記設定された再構成範囲に対応するスキャン範囲をスキャンするスキャン手段と、
前記設定された再構成範囲に含まれる複数の画像データを前記スキャンにより収集された投影データに基づいて再構成する手段とを具備することを特徴とするＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項２】  被検体に関するスキャノグラムを再構成範囲を表す四角形の枠線とともに含むスキャン計画画面を構築する手段と、
前記スキャン計画画面を表示する表示手段と、
前記再構成範囲を設定するために、前記再構成範囲を表す枠線を平行四辺形に変形操作し、又は回転操作するための操作手段と、
前記設定された再構成範囲に対応するスキャン範囲をスキャンするスキャン手段と、
前記設定された再構成範囲に含まれる複数の平行なスライス各々に関する画像データを前記スキャンにより収集された投影データに基づいて再構成する手段とを具備することを特徴とするＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項３】  前記変形操作又は回転操作された再構成範囲の中心線は、前記スキャン範囲の中心線に対して傾斜することを特徴とする請求項２記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項４】  前記スキャン範囲の中心線から前記複数のスライス各々の中心までの距離は、前記スライスごとに相違することを特徴とする請求項３記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項５】  前記スライスは、前記変形操作された再構成範囲の中心線に対して傾斜することを特徴とする請求項３記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項６】  前記スライスは、前記スキャン範囲の中心線に対して直交することを特徴とする請求項５記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項７】  前記スライスは、前記回転操作された再構成範囲の中心線に対して直交することを特徴とする請求項３記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項８】  前記スライスは、前記スキャン範囲の中心線に対して傾斜することを特徴とする請求項７記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項９】  前記再構成範囲を表す枠線の近傍には、前記変形操作又は回転操作に対応するアイコンが表示されることを特徴とする請求項２記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の局面において、Ｘ線コンピュータ断層撮影装置は、被検体に関するスキャノグラムを再構成範囲とともに含むスキャン計画画面を構築する手段と、前記スキャン計画画面を表示する表示手段と、前記再構成範囲を設定するために、前記再構成範囲を再構成範囲の中心線が傾斜するようにに変形操作するための操作手段と、前記設定された再構成範囲に対応するスキャン範囲をスキャンするスキャン手段と、前記設定された再構成範囲に含まれる複数の画像データを前記スキャンにより収集された投影データに基づいて再構成する手段とを具備する。 
本発明の第２の局面において、Ｘ線コンピュータ断層撮影装置は、被検体に関するスキャノグラムを再構成範囲を表す四角形の枠線とともに含むスキャン計画画面を構築する手段と、前記スキャン計画画面を表示する表示手段と、前記再構成範囲を設定するために、前記再構成範囲を表す枠線を平行四辺形に変形操作し、又は回転操作するための操作手段と、前記設定された再構成範囲に対応するスキャン範囲をスキャンするスキャン手段と、前記設定された再構成範囲に含まれる複数の平行なスライス各々に関する画像データを前記スキャンにより収集された投影データに基づいて再構成する手段とを具備する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、ハフニアからなる第２層は、耐環境性皮膜材料の説明において述べたとおり、実質的に不純物を含まない１００％のハフニアで形成しても良いが、製造過程で必然的に含まれる不純物あるいは意図的に添加される成分を含んだものでも良く、例えばジルコニア（ZiO2）を含む（１００％を除く）ものであることが原材料の入手の容易性や製造コストの点において好ましい。市販のハフニアの場合、ジルコニアを不純物として必ず含むため、希土類酸化物及びシリカよりなる群から選ばれた１つまたは２つ以上によって立方晶系或いは正方晶系の高温安定相として安定化することが好ましい。中でも、基材として窒化珪素や炭化珪素などのシリコンを含むセラミック基材の耐減肉性を上げるための皮膜として用いる場合には、仮に基材が酸化してシリカを生成してもそのシリカを吸収して安定なハフノンあるいはジルコンを形成されることが望ましく、基材に近い部分では安定化剤としてシリカを使用することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月14日(2006.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ＡＣＦは熱硬化性樹脂を有するバインダー中に導電性粒子が分散された異方導電性接着剤が、フィルム状に成形されて構成されており、電気部品同士でＡＣＦを挟みこみ、加熱押圧すると、ＡＣＦが加熱により軟化し、押圧によって電気部品の接続端子が軟化したＡＣＦを押し退け、導電性粒子が互いに対向する接続端子で挟みこまれた状態になる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図５（ｄ）の符号１は半導体素子５０が回路基板４０に固定された状態の電気装置を示している。この電気装置１は硬化した接着フィルム４によって回路基板４０と半導体素子５０が機械的に接続されているだけではなく、第一、第二の接続端子４２、５２間に挟みこまれた導電性粒子１２によって電気的にも接続されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
これら評価試験の結果を上記表１に記載した。上記表１から明らかなように、第一の樹脂層の最低粘度が１０００Ｐａ・ｓ以上３０００００Ｐａ・ｓ以下であり、第二の樹脂層の膜厚が第一、第三の樹脂層の膜厚よりも大きかった実施例１〜９の電気装置１では導電性粒子がバンプに補足される数が多く、導通信頼性、絶縁信頼性共に高い評価結果が得られた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
第一、第二の被着体は回路基板４０や半導体素子５０に限定されるものではなく、被着体としては、樹脂フィルム上に配線膜が形成されたフレキシブル配線板や、抵抗素子、液晶表示素子等種々のものを用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月29日(2006.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
なお、上述した各実施の形態では、容器を四角形の箱形に形成した例を開示したが、容器の形状は五角形その他の多角形、或いは円筒形等の形状に変更可能なこと勿論である。また、実施の形態１〜３及び５の多用途容器において、前記間隙４の巾を広く形成（例えば約５ミリ程度）し、間隙４により形成される周回線４ａの部分に位置させて、容器本体に広告等の事項を印刷等で表示し、前記広告等を間隙４から見えるように構成することもできる。さらにまた、上記各実施の形態では、容器の外面に世界地図を表示した例が開示されているが、容器の外面に他の任意の図形や模様等を表示することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月30日(2006.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積載されたシートを給送するシート給送手段と、給送されたシートを1枚毎に分離する分離手段を有するシート給送装置において、
前記分離手段は、給送されたシートに押圧されて傾斜し、分離斜面を形成するシート分離板と、前記シート分離板をシート送り出し方向と逆方向に付勢し、シートを一定の傾斜で当接するようにシート分離板を保持する付勢手段と、
前記シート分離板を通過するシートに押圧されて撓みながらシートを捌く第1の摩擦部材と、
前記第１の摩擦部材下流側に位置し、前記第１の摩擦部材を乗り越えたシート表面を擦りながら捌く第２の摩擦部材と、
前記第２の摩擦部材下流側に位置し、傾斜形状と該傾斜形状に連続する湾曲形状と該湾曲形状に連続する直線形状を有する、前記第1、第２の摩擦部材を乗り越えたシートを捌く第３の摩擦部材とを設けたことを特徴とするシート給送装置。
【請求項２】
前記分離手段は、前記第３の摩擦部材の傾斜形状と連続する上流側傾斜部に第４の摩擦部材を更に設けたことを特徴とする請求項１に記載のシート給送装置。
【請求項３】
前記第１、第２、第３、及び第４の摩擦部材は、シートとの摩擦力がシート相互間の摩擦力よりも大きくなるように設定されており、
前記第２の摩擦部材は前記第１の摩擦部材よりも摩擦係数が高く、前記第３の摩擦部材は、前記第４の摩擦部材よりも摩擦係数が高いことを特徴とする請求項２に記載のシート給送装置。
【請求項４】
送り出されたシートを前記第３、第４の摩擦部材に案内するガイド手段と、該ガイド手段によりシートを前記第３、第４の摩擦部材の方向に押圧させる押圧手段を設けたことを特徴とする請求項２又は３に記載のシート給送装置。
【請求項５】
前記第１、第２の摩擦部材は、前記シート分離板の分離斜面に対し所定角度をもって弾性変位可能に支持されていることを特徴とする請求項１に記載のシート給送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（１） 積載されたシートを給送するシート給送手段と、給送されたシートを1枚毎に分離する分離手段を有するシート給送装置において、
前記分離手段は、給送されたシートに押圧されて傾斜し、分離斜面を形成するシート分離板と、前記シート分離板をシート送り出し方向と逆方向に付勢し、シートを一定の傾斜で当接するようにシート分離板を保持する付勢手段と、
前記シート分離板を通過するシートに押圧されて撓みながらシートを捌く第1の摩擦部材と、
前記第１の摩擦部材下流側に位置し、前記第１の摩擦部材を乗り越えたシート表面を擦りながら捌く第２の摩擦部材と、
前記第２の摩擦部材下流側に位置し、傾斜形状と該傾斜形状に連続する湾曲形状と該湾曲形状に連続する直線形状を有する、前記第1、第２の摩擦部材を乗り越えたシートを捌く第３の摩擦部材とを設けたことを特徴とする。
（２）前記分離手段は、前記第３の摩擦部材の傾斜形状と連続する上流側傾斜部に第４の摩擦部材を更に設けたことを特徴とする。
（３）前記第１、第２、第３、及び第４の摩擦部材は、シートとの摩擦力がシート相互間の摩擦力よりも大きくなるように設定されており、
前記第２の摩擦部材は前記第１の摩擦部材よりも摩擦係数が高く、前記第３の摩擦部材は、前記第４の摩擦部材よりも摩擦係数が高いことを特徴とする。
（４）送り出されたシートを前記第３、第４の摩擦部材に案内するガイド手段と、該ガイド手段によりシートを前記第３、第４の摩擦部材の方向に押圧させる押圧手段を設けたことを特徴とする。
（５）前記第１、第２の摩擦部材は、前記シート分離板の分離斜面に対し所定角度をもって弾性変位可能に支持されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月6日(2006.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
螺子山を開口部外周に設けた容器本体と、この容器本体の開口端を覆うように載置され根元にストッパが形成された管状の注ぎ口とこの注ぎ口の近傍に形成された管状の空気抜き孔とを備えた弾性力のある樹脂からなる注ぎ口部材と、前記容器本体の螺子山に螺合する螺子溝を内周側面に形成し、前記注ぎ口部材の上面に載置され前記ストッパを含む前記注ぎ口および前記空気抜き孔が突出するように開口孔が形成されている押さえ部材と、この押さえ部材から突出した前記注ぎ口の開口および前記空気抜き孔の開口を押さえる内底面を形成し前記押さえ部材の外周側面と嵌合する内周側面を備えた蓋部材を具備することを特徴とする液体調味料容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
実開昭６２−２７５４７号公報には、ドレッシング等のように使用前に容器内の液体を撹拌する容器を液密とした蓋材が開示されている。この蓋材は第３図に示すように、容器本体２０１側に周設した蓋受け部２０２と、該蓋受け部２０２に取外し可能に嵌着係止される蓋本体２０３からなり、蓋受け部２０２の上面開口周囲に、先端部が略Ｒ状に拡径された筒状ガイド部２２２を管状に形成し、一方蓋本体２０３下面側の筒状ガイド部２２２に対応する位置に、該ガイド部内周面に嵌合可能に筒状封止部２３１を形成し、前記筒状ガイド部２２２と筒状封止部２３１間の面接触により容器本体内に封入した調味液の液封止を図った調味液封入容器の蓋構造において、蓋本体下面側に、筒状封止部と同心状に環状突起２３２を突設し、該突起２３２が蓋受け部２０２側に形成した筒状ガイド部２２２の先端拡径部２２３上面を圧接し、線接触にてシールを行う第２の液封止部を形成したものである。そして、前記筒状ガイド部２２２と筒状封止部２３１との間の毛細管現象による液漏れも防ぐようにしたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１に対応する発明は、液体調味料容器において、螺子山を開口部外周に設けた容器本体と、この容器本体の開口端を覆うように載置され根元にストッパが形成された管状の注ぎ口とこの注ぎ口の近傍に形成された管状の空気抜き孔とを備えた弾性力のある樹脂からなる注ぎ口部材と、前記容器本体の螺子山に螺合する螺子溝を内周側面に形成し、前記注ぎ口部材の上面に載置され前記ストッパを含む前記注ぎ口および前記空気抜き孔が突出するように開口孔が形成されている押さえ部材と、この押さえ部材から突出した前記注ぎ口の開口および前記空気抜き孔の開口を押さえる内底面を形成し前記押さえ部材の外周側面と嵌合する内周側面を備えた蓋部材を具備するものとした。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このように、弾性力のある樹脂からなる注ぎ口部材を介して容器本体と押さえ部材とを螺合することによって、押さえ部材の押圧力が注ぎ口部材に伝わり、容器本体の開口端と注ぎ口部材とを密着させることができる。注ぎ口部材に形成した管状の注ぎ口と管状の空気抜き孔とを押さえ部材から突出させるようにし、かつこれら注ぎ口と空気抜き孔との開口端を蓋部材で塞ぐようにしたので、両開口端を密着させることができる。また、注ぎ口の根元にストッパを形成したので、蓋部材を閉めたときに注ぎ口が容器本体側に落ち込まないので、注ぎ口部材の変形による空気抜き孔と蓋部材との隙間の形成を防ぐことができる。さらに、蓋部材の内周側面と押さえ部材の外周側面とを嵌合させているので、本発明の液体調味料容器を誤って横倒ししても蓋部材が外れることなく、密閉構造を維持することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
前記空気抜き孔７の開口端は、押さえ部材４を容器本体２に螺合させたとき押さえ部材４の上面から突出するような長さであり、蓋部材５の内底面により前記開口端は塞がれ密着状態となる。空気抜き孔７には注ぎ口６に形成したような環状ストッパ８を形成しなくても、注ぎ口６の環状ストッパ８により落ち込み量が低減されているので、満足できる密着状態を得ることができる。しかし、空気抜き孔７にも同様な環状ストッパ８を形成すれば、好ましいことはなおさらである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】膜形成材料層、転写シート、誘電体層形成基板の製造方法、および誘電体層形成基板
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月2日(2006.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下枠の上面に窪入形成され下枠シール部材が装着される下枠シール装着溝の縦枠側外端部と、
縦枠の内面に突出形成され縦枠シール部材が装置される縦枠シール取付片にあって、前記縦枠側外端部に呑み込ませた下枠側下端部と、の間をシールする建具枠体のシール構造において、
前記下枠シール装着溝の縦枠側外端部と前記縦枠シール取付片の下枠側下端部との間に介設した溝内シール部と、前記下枠の上面を越えて前記溝内シール部の上側に延在する溝外シール部とを有するシールピースと、
前記溝外シール部を前記下枠側下端部に押圧するシール押さえと、を備えたことを特徴とする建具枠体のシール構造。
【請求項２】
前記下枠シール装着溝の縦枠側外端部は、前記下枠シール部材の抜止め片が切除され、
前記溝内シール部は、前記縦枠側外端部の底面に添う底面添設部位と、前記縦枠側外端部の側面に添う側面添設部位とから成ることを特徴とする請求項１に記載の建具枠体のシール構造。
【請求項３】
前記下枠と前記縦枠とは、縦枠通しで且つシーラーを介設した状態で枠組みされ、且つ前記シーラーは、前記溝外シール部の端面に対応する第１延設部を有し、
前記シールピースは、見付け方向の一方の端面が前記下枠シール部材の端面に密接し、他方の端面が前記シーラーに密接していることを特徴とする請求項１または２に記載の建具枠体のシール構造。
【請求項４】
前記シーラーは、前記シール押さえの端面に対応する第２延設部を有し、
前記シール押さえの縦枠側端面は、前記シーラーに密接していることを特徴とする請求項３に記載の建具枠体のシール構造。
【請求項５】
前記シール押さえは、前記下枠の小口から略「Ｕ」字状に切り込んだ切欠き部に、見付け方向外側からスライド装着されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の建具枠体のシール構造。
【請求項６】
下枠の上面に窪入形成され下枠シール部材が装着される下枠シール装着溝の縦枠側外端部と、
縦枠の内面に突出形成され縦枠シール部材が装置される縦枠シール取付片にあって、前記縦枠側外端部に呑み込ませた下枠側下端部と、の間をシールする建具枠体のシール構造において、
縦枠通しで枠組みした前記下枠と前記縦枠との間に介設したシーラーと、
前記縦枠側外端部と前記下枠側下端部との間に介設され、前記縦枠側外端部の底面に添う底面添設部位を有するシールピースと、を備え、
前記シールピースは、見付け方向の一方の端面が前記下枠シール部材の端面に密接し、他方の端面が前記シーラーに密接し、
且つ前記底面添設部位が、前記縦枠側外端部と前記下枠側下端部とにより圧縮されていることを特徴とする建具枠体のシール構造。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の建具枠体のシール構造を有する建具枠体と、
前記建具枠体に開閉自在に装着した建具本体と、を備えたことを特徴とする浴室建具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この場合、シール押さえは、下枠の小口から略「Ｕ」字状に切り込んだ切欠き部に、見付け方向外側からスライド装着されていることが、好ましい。
この構成によれば、シール押さえを、その機能を損なうことなく、下枠に簡単に固定することができる。また、シール押さえを下枠に固定するためのビス等が露出することがなく、意匠上も好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の他の建具枠体のシール構造は、下枠の上面に窪入形成され下枠シール部材が装着される下枠シール装着溝の縦枠側外端部と、縦枠の内面に突出形成され縦枠シール部材が装置される縦枠シール取付片にあって、縦枠側外端部に呑み込ませた下枠側下端部と、の間をシールする建具枠体のシール構造において、縦枠通しで枠組みした下枠と縦枠との間に介設したシーラーと、縦枠側外端部と下枠側下端部との間に介設され、縦枠側外端部の底面に添う底面添設部位を有するシールピースと、を備え、シールピースは、見付け方向の一方の端面が下枠シール部材の端面に密接し、他方の端面がシーラーに密接し、且つ底面添設部位が、縦枠側外端部と下枠側下端部とにより圧縮されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を反射型レチクルに導く光学系と、
該反射型レチクルを保持する保持部材と、
該保持部材に設けられた基準面を利用して該保持部材の位置を測定する装置とを有し、
前記基準面は、前記保持部材に保持された前記反射型レチクルの範囲内に相当する位置に設けられていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基準面は、前記保持部材に保持された前記反射型レチクルの中央に相当する位置に設けられていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記反射型レチクルの中央に相当する位置は、前記保持部材の中央に相当する位置に固定されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記保持部材は、静電吸着により前記反射型レチクルを保持することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光を物体に導く光学系と、該物体を保持する保持部材と、該保持部材に設けられた基準面を利用して該保持部材の位置を測定する装置とを有し、前記基準面は、前記保持部材に保持された前記物体の範囲内に相当する位置に設けられていることを特徴とする。
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月28日(2006.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１導電型の半導体基板上に絶縁層を介して形成された転送トランジスタのゲート電極と、
前記ゲート電極の片側の前記半導体基板の所定領域と、前記所定領域上に形成された第２導電型不純物領域と、前記第２導電型不純物領域の表面に形成された第１導電型不純物領域とを有するフォトダイオードと、
前記転送トランジスタのゲート電極を挟んで前記フォトダイオードと反対側の前記半導体基板に形成された第２導電型のフローティングディフュージョン領域とを備えた固体撮像装置であって、
前記転送トランジスタのゲート電極の下の前記半導体基板の表面に形成され、かつ前記フォトダイオードの第２導電型不純物領域と連続した第２導電型のしきい値制御イオン注入層を設けたことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】  転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合は半導体基板よりも仕事関数が大きい材料で形成し、第２導電型がｐ型の場合は前記半導体基板よりも仕事関数の小さい材料で形成したことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】  転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合はｐ型ポリシリコンで形成し、第２導電型がｐ型の場合はｎ型ポリシリコンで形成したことを特徴とする請求項１または２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】  第１導電型の半導体基板上に絶縁層を介して形成された転送トランジスタのゲート電極と、
前記ゲート電極の片側の前記半導体基板の所定領域と、前記所定領域上に形成された第２導電型不純物領域と、前記第２導電型不純物領域の表面に形成された第１導電型不純物領域とを有するフォトダイオードと、
前記転送トランジスタのゲート電極を挟んで前記フォトダイオードと反対側の前記半導体基板に形成された第２導電型のフローティングディフュージョン領域とを備えた固体撮像装置の製造方法であって、
前記転送トランジスタのゲート電極を形成した後に、前記フォトダイオードの第２導電型不純物領域をイオン注入により形成し、かつ前記イオン注入により同時に、前記転送トランジスタのゲート電極の下の前記半導体基板の表面に形成され、かつ前記フォトダイオードの第２導電型不純物領域と連続した第２導電型のしきい値制御イオン注入層を形成することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項５】  転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合は半導体基板よりも仕事関数が大きい材料で形成し、第２導電型がｐ型の場合は前記半導体基板よりも仕事関数の小さい材料で形成することを特徴とする請求項４に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項６】  転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合はｐ型ポリシリコンで形成し、第２導電型がｐ型の場合はｎ型ポリシリコンで形成したことを特徴とする請求項４または５に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項７】  転送トランジスタのゲート電極の不純物ドーピングは、デュアルゲート形成プロセスと同時に行われることを特徴とする請求項４または５に記載の固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、請求項３に記載の固体撮像装置は、請求項１または２に記載の固体撮像装置において、転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合はｐ型ポリシリコンで形成し、第２導電型がｐ型の場合はｎ型ポリシリコンで形成したことを特徴とする。
本発明の請求項４に記載の固体撮像装置は、第１導電型の半導体基板上に絶縁層を介して形成された転送トランジスタのゲート電極と、ゲート電極の片側の半導体基板の所定領域と、所定領域上に形成された第２導電型不純物領域と、第２導電型不純物領域の表面に形成された第１導電型不純物領域とを有するフォトダイオードと、転送トランジスタのゲート電極を挟んでフォトダイオードと反対側の半導体基板に形成された第２導電型のフローティングディフュージョン領域とを備えた固体撮像装置の製造方法であって、転送トランジスタのゲート電極を形成した後に、フォトダイオードの第２導電型不純物領域をイオン注入により形成し、かつイオン注入により同時に、転送トランジスタのゲート電極の下の半導体基板の表面に形成され、かつフォトダイオードの第２導電型不純物領域と連続した第２導電型のしきい値制御イオン注入層を形成することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、請求項５に記載の固体撮像装置の製造方法は、請求項４に記載の固体撮像装置の製造方法において、転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合は半導体基板よりも仕事関数が大きい材料で形成し、第２導電型がｐ型の場合は半導体基板よりも仕事関数の小さい材料で形成することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この製造方法により、半導体基板より大きい仕事関数のゲート電極を形成した後に、半導体基板とは異なる導電型のしきい値制御イオン種が転送トランジスタのチャネルに導入される場合に、半導体基板と転送トランジスタのゲート電極の仕事関数差を利用して、転送トランジスタのしきい値が低下することを防ぐことができ、転送トランジスタのオフ特性悪化の弊害を防止することができる。
また、請求項６記載の固体撮像装置の製造方法は、請求項４または５に記載の固体撮像装置の製造方法において、転送トランジスタのゲート電極を、第２導電型がｎ型の場合はｐ型ポリシリコンで形成し、第２導電型がｐ型の場合はｎ型ポリシリコンで形成したことを特徴とする。
また、請求項７記載の固体撮像装置の製造方法は、請求項４または５に記載の固体撮像装置の製造方法において、転送トランジスタのゲート電極の不純物ドーピングは、デュアルゲート形成プロセスと同時に行われることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月14日(2005.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  気化システムと混合器と反応室と排気システムとを備えた膜製造装置において、該気化システムと混合器と反応室と排気システムとのそれぞれが配管で接続されて配置されており、該気化システムの気化部の内部に温度制御された気化部材を設けて、この気化部材により原料液を気化させる際の気化効率を上げると共に、該原料液が気化する際に発生するパーティクルを気化部内に留め置くように構成し、該混合器には、重量の異なる原料ガス及び反応ガスを導入するための二つの配管がそれぞれのガス導入口が互いに対向するように設けられ、また、その内部には下流側に向かって凸状になっている２次曲線形状を有する仕切り板が設けられ、この仕切り板により、混合器内部が容積に差が出るように該原料ガスと反応ガスとを攪拌・混合するための空間と攪拌・混合されて得られた混合ガスを拡散させる空間との２つの空間に仕切られ、該仕切り板には、該それぞれのガス導入口を結ぶ直線の鉛直方向の所定位置に所定の大きさの一つのガス吹き出し口を設け、該２つの空間の間に圧力差を生じせしめて、該ガス吹き出し口を介して該混合ガスを一方の空間から他方の空間へと拡散せしめ、均一に混合されて得られた混合ガスである成膜ガスが該混合器から該反応室のガスヘッドへと導入されるように構成し、さらに、該反応室と該排気システムとの間に圧力調整バルブを設けたことを特徴とする膜製造装置。
【請求項２】  請求項１において、該混合器におけるガス吹き出し口が、仕切り板の上流側の天井部分から下流側の底部までの鉛直距離の１／２に相当する位置に設けられていることを特徴とする膜製造装置。
【請求項３】  請求項１又は２において、該攪拌・混合するための空間と該混合ガスを拡散させる空間との容積の比を１／２以下にすることを特徴とする膜製造装置。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれかにおいて、該成膜ガスの反応室への導入／非導入時に反応室内の圧力が変動しないように、反応室と排気システムとの間に設けた圧力調整バルブによる常時の圧力制御と同時に、非成膜時にも成膜時と同量のガスを流せる構造とし、混合器の２次側には不活性ガス源と反応ガス源とを流量制御システムと共に接続し、不活性ガス又は反応ガス又は任意の比率の不活性ガスと反応ガスとの混合ガスを反応室に導入できるようにして、反応室内の圧力制御ができる構造としたことを特徴とする膜製造装置。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれかにおいて、該混合器の２次側及び反応室には、不活性ガス源と反応ガス源とを流量制御システムと共に接続し、不活性ガス又は反応ガス又は任意の比率の不活性ガスと反応ガスとの混合ガスを反応室へ導入し、不活性ガス又は反応ガス又は任意の比率の不活性ガスと反応ガスとの混合ガスにより基板の昇温ができるように構成したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれかにおいて、該混合器に接続された反応ガスの配管には、反応ガス源と不活性ガス源とを流量制御システムと共に接続し、不活性ガス又は反応ガス又は任意の比率の不活性ガスと反応ガスとの混合ガスを原料ガスと均一に混合できるように構成したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項７】  請求項１〜６のいずれかにおいて、該成膜ガスの反応室への導入／非導入のバルブを混合器の２次側に配置したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項８】  請求項１〜７のいずれかにおいて、該気化システムから混合器を経て反応室内に載置される基板に至るまでのガス経路において発生するパーティクルを捕獲するために、装置の所定の箇所にパーティクル捕獲器を配置したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項９】  請求項１〜８のいずれかにおいて、該気化部内で原料液が気化する際に発生するパーティクルを捕獲するために、該気化部内にパーティクル捕獲器を配置したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項１０】  請求項１〜９のいずれかにおいて、該気化部内で気化した原料ガスの一部が核となり発生／成長するパーティクルを捕獲するために、該気化システムと混合器との間の配管にパーティクル捕獲器を配置したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項１１】  請求項１〜１０のいずれかにおいて、該気化部内で気化した原料ガスと反応ガスとが混合器内で接触した際に発生するパーティクルを捕獲するために、該混合器内にパーティクル捕獲器を配置したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項１２】  請求項１〜１１のいずれかにおいて、該反応室の上部に設置したガスヘッド内にパーティクル捕獲器を配置したことを特徴とする膜製造装置。
【請求項１３】  請求項１〜１２のいずれかに記載の膜製造装置を用いて膜を製造する方法であって、原料ガスと反応ガスとを攪拌・混合する工程と、該攪拌・混合されて得られた原料ガス及び反応ガスからなる成膜ガスを拡散させる工程と、該拡散された成膜ガスを反応室へ導入して、真空中で成膜対象物上に膜を形成する工程とを有することを特徴とする膜製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】  前記第１の接続部としての導電体は、金属であることを特徴とする、請求項１４に記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
ダイパッド３０７は、第１の半導体チップ３０２および第２の半導体チップ３０３を載置するための非導電性のマウントである。当該ダイパッド３０７は、図６（ｂ）に示される様に第１の半導体チップ３０２および第２の半導体チップ３０３が載置されるマウント部３１１が第１の実施形態および第２の実施形態のマウント部よりも大きい。そして、当該マウント部３１１の端の近傍には、接続部３１０が設けられる。当該接続部３１０は、マウント部３１１の端の近傍に孔があけられて、当該孔に金属辺がはめこまれることにより形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
さらに、当該接続部４１０と第２の半導体チップ４０３の接続パッド４０９とがチップ間接続ワイヤー４０４ｂにより接続される。なお、チップ間接続ワイヤー４０４ｂは、接続部４１０の面の内、第２の半導体チップ４０３の回路面と同方向を向いている面に対して接続されることが好ましい。これにより、第１の半導体チップ４０２と第２の半導体チップ４０３とは、接続部４１０を介して内部接続される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７５】
（第９の実施形態）
それでは、以下に、本発明の第９の実施形態に係る半導体装置について、図１６および１７を用いて説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  円盤状の光ディスク情報記録媒体にレーザ発光手段からの所定の強度のレーザビームを照射して情報の記録／再生を行なう光ディスク記録／再生装置であって、少なくとも、前記レーザ発光手段を駆動するための指令信号を発生するための手段と、前記指令信号発生手段からの指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を決定するための特性値を記憶する手段と、前記記憶手段に記憶された特性値を基に、前記光ディスク媒体へ情報を記録する際の前記レーザ発光手段への指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を設定する手段とを備え、
前記記憶手段に記憶される特性値は、前記指令信号の所定の単位に対する前記レーザ発光手段の発光量の変化分を決定するものであることを特徴とする光ディスク記録／再生装置。
【請求項２】  前記請求項２に記載した光ディスク記録／再生装置において、前記記憶手段に記憶される特性値は、前記レーザ発光手段を駆動するため指令信号の傾きＤＡＣ値であることを特徴とする光ディスク記録／再生装置。
【請求項３】  前記請求項３に記載した光ディスク記録／再生装置において、前記レーザ発光手段を駆動するため指令信号の傾きＤＡＣ値は、前記光ディスク媒体に必要とされる最大パワーを許容できるように設定されることを特徴とする光ディスク記録／再生装置。
【請求項４】  円盤状の光ディスク情報記録媒体にレーザ発光手段からの所定の強度のレーザビームを照射して情報の記録／再生を行なう光ディスク記録／再生装置であって、少なくとも、前記レーザ発光手段を駆動するための指令信号を発生するための手段と、前記指令信号発生手段からの指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を決定するための特性値を記憶する手段と、前記記憶手段に記憶された特性値を基に、前記光ディスク媒体へ情報を記録する際の前記レーザ発光手段への指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を設定する手段とを備え、
前記記憶手段に記憶される特性値は、予め得られた値であることを特徴とする光ディスク記録／再生装置。
【請求項５】  円盤状の光ディスク情報記録媒体にレーザ発光手段からの所定の強度のレーザビームを照射して情報の記録／再生を行なう光ディスク記録／再生装置のためのレーザパワー制御方法であって、レーザ発光手段を駆動するために発生される指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を決定するための特性値を予め記憶し、前記装置が光ディスク媒体へ情報を記録する際、前記記憶手段にされた特性値を基に、前記レーザ発光手段への指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を設定し、
前記レーザ発光手段の発光特性の設定を、前記装置が光ディスク媒体へ情報を記録する前に実行することを特徴とするレーザパワー制御方法。
【請求項６】  円盤状の光ディスク情報記録媒体にレーザ発光手段からの所定の強度のレーザビームを照射して情報の記録／再生を行なう光ディスク記録／再生装置のためのレーザパワー制御方法であって、レーザ発光手段を駆動するために発生される指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を決定するための特性値を予め記憶し、前記装置が光ディスク媒体へ情報を記録する際、前記記憶手段にされた特性値を基に、前記レーザ発光手段への指令信号に対する前記レーザ発光手段の発光特性を設定し、
前記記憶される特性値は、前記指令信号の所定の単位に対する前記レーザ発光手段の発光量の変化分を決定するものであることを特徴とするレーザパワー制御方法。
【請求項７】  前記請求項６に記載したレーザパワー制御方法において、前記記憶手段に記憶される特性値は、前記レーザ発光手段を駆動するため指令信号の傾きＤＡＣ値であることを特徴とするレーザパワー制御方法。
【請求項８】  前記請求項７に記載したレーザパワー制御方法において、前記レーザ発光手段を駆動するため指令信号の傾きＤＡＣ値は、前記光ディスク媒体に必要とされる最大パワーを許容できるように設定されることを特徴とするレーザパワー制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月1日(2006.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
なお、必要に応じて、溝が形成された基板表面に、さらにＣＶＤ法などによりポリシリコン膜を形成させることができる。このポリシリコン膜は、（イ）硬化工程またはアニール工程（詳細後記）時に二酸化シリコン膜に転化させて、そのときに生じる体積膨張によって、ポリシラザンが二酸化シリコンに転換するときにトレンチ間に発生する応力を緩和させたり、（ロ）ポリシラザン膜と基板との密着性を改善する、という機能を有するものである。形成させるポリシリコン膜の厚さは、形成させる場合には通常１〜５０ｎｍ、好ましくは３〜２０ｎｍ、である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（Ｄ）硬化工程
プリベーク後、ポリシラザン塗膜を二酸化シリコン膜に転化させ、硬化させるために、ポリシラザン塗膜を加熱する。ポリシラザン塗膜を硬化させるためには、ポリシラザン塗膜のみを加熱すれば十分であるが、基板全体を硬化炉などに投入して加熱するのが一般的である。