【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスのための電気接点であって、該電気接点は以下（ａ）から（ｃ）を含むことを特徴とする電気接点、
（ａ）p-形窒化ガリウム材料の層と、
（ｂ）金属層と；
（ｃ）前記窒化ガリウム材料及び前記金属とは異なる材料から成っている中間層であって、該中間層は、前記p-形窒化ガリウム材料と前記金属層の間に挟まれている。
【請求項２】
請求項１記載の電気接点であって、前記p-形窒化ガリウム材料はバンドギャップエネルギーを有し、前記中間層の材料は、前記p-形窒化ガリウム材料のバンドギャップエネルギーより低い、高バンドギャップエネルギーを有するIII-V族の半導体であることを特徴とする電気接点。
【請求項３】
請求項２記載の電気接点であって、前記窒化ガリウム材料が第一の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープされ、前記中間層のIII-V族半導体が第一の濃度より大きい第二の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープされることを特徴とする電気接点。
【請求項４】
請求項２記載の電気接点であって、前記中間層の材料がガリウムリン(GaP)を含むことを特徴とする電気接点。
【請求項５】
請求項２記載の電気接点であって、前記中間層のIII-V族半導体は別の窒化ガリウム材料であることを特徴とする電気接点。
【請求項６】
請求項１記載の電気接点であって、前記中間層は、それぞれがバンドギャップエネルギーを有する種々のIII-V族半導体の層を包含し、前記種々のIII-V族半導体の層は、それらのバンドギャップエネルギーの順に配置され、最高のバンドギャップエネルギーを有するIII-V族半導体をp-形窒化ガリウム材料の層の隣りに、そして最低のバンドギャップエネルギーを有するIII-V族半導体を金属層の隣りにくるように配置したことを特徴とする電気接点。
【請求項７】
請求項６記載の電気接点であって、前記p-形窒化ガリウム材料を第一の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープし、前記種々の半導体は前記第一の濃度より大きい第二の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープすることを特徴とする電気接点。
【請求項８】
請求項６記載の電気接点であって、前記最高のバンドギャップエネルギーを有する前記III-V族半導体がガリウムリンであることを特徴とする電気接点。
【請求項９】
請求項６記載の電気接点であって、前記種々の半導体の層が以下（ａ）から（ｃ）を含むことを特徴とする電気接点、
（ａ）前記p-形窒化ガリウム材料の層の隣りに配置されるガリウムリン(GaP)の層、
（ｂ）前記GaPの層の隣りに配置されるアルミニウム・インジウム・ガリウム・リン(AlInGaP)の層、
（ｃ）前記AlInGaPの層と前記金属層間に挟まれたインジウム・ガリウム・リンの層。
【請求項１０】
請求項６記載の電気接点であって、前記種々の半導体の層が、前記窒化ガリウム材料の層の隣りに別の窒化ガリウムの層を包含することを特徴とする電気接点。
【請求項１１】
請求項６記載の電気接点であって、前記種々の半導体の層が、前記金属層の隣りに窒化ガリウムひ素の層を包含することを特徴とする電気接点。
【請求項１２】
請求項１記載の電気接点であって、前記中間層の材料が窒化金属であることを特徴とする電気接点。
【請求項１３】
請求項１２記載の電気接点であって、前記窒化金属が窒化チタンを含むことを特徴とする電気接点。
【請求項１４】
半導体デバイスのための電気接点であって、以下（ａ）から（ｃ）を含むことを特徴とする電気接点、
（ａ）ドープされた窒化ガリウム材料の層、
（ｂ）金属層、
（ｃ）前記ドープされた窒化ガリウム材料の層と前記金属層の間に挟まれた中間層、前記中間層は、窒素原子のモル比(1-x)が少なくとも１つの他のV族元素の原子のモル比xで置き換えられ、前記中間層における前記モル比xがドープされた窒化ガリウム材料の隣でゼロに近く、かつ金属層の隣で実質的にゼロより大きい窒化ガリウム材料である。
【請求項１５】
請求項１４記載の電気接点であって、前記金属層の隣の前記中間層におけるモル比xが、前記金属層の隣の前記中間層に、金属の電導特性と同様の電導特性を付与する値を有することを特徴とする電気接点。
【請求項１６】
請求項１４記載の電気接点であって、前記金属層の隣の前記中間層におけるモル比xが、前記金属層の隣の前記中間層の材料のバンドギャップエネルギーを1エレクトロンボルト未満に設定する値を有することを特徴とする電気接点。
【請求項１７】
請求項１４記載の電気接点であって、少なくとも１つの他のV族元素が、ヒ素及びリンのうちの１つであり、前記金属層の隣の前記中間層のモル比xが、0.2から0.7の範囲の値を有することを特徴とする電気接点。
【請求項１８】
請求項１４記載の電気接点であって、少なくとも１つの他のV族元素が、ヒ素及びリンのうちの１つであり、前記金属層の隣の前記中間層のモル比xが、0.5から0.6の範囲の値を有することを特徴とする電気接点。
【請求項１９】
請求項１４記載の電気接点であって、前記ドープされた窒化ガリウム材料の層と前記中間層が共にドナ不純物でドープされてn-接点を形成することを特徴とする電気接点。
【請求項２０】
請求項１４記載の電気接点であって、前記ドープされた窒化ガリウム材料の層と前記中間層が共にアクセプタ不純物でドープされてp-接点を形成することを特徴とする電気接点。
【請求項２１】
p-形窒化ガリウム材料に対する電気接点の抵抗率と、その両端の電圧降下を低減する方法であって、以下（ａ）及び（ｂ）のステップを含むことを特徴とする方法、
（ａ）前記p-形窒化ガリウム材料と金属層とを含むp-接点を設けるステップ、
（ｂ）前記p-形窒化ガリウム材料と前記金属層との間に前記窒化ガリウム材料及び前記金属とは異なる材料から成る中間層を挟み込むステップ。
【請求項２２】
請求項２１記載の方法であって、前記p-形窒化ガリウム材料はバンドギャップエネルギーを有し、前記中間層が、前記p-形窒化ガリウム材料のバンドギャップエネルギーより低い、高バンドギャップエネルギーを有するIII-V族の半導体を含むことを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項２２記載の方法であって、前記p-形窒化ガリウム材料を第一の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープし、さらに、前記中間層のIII-V族半導体を前記第一の濃度より大きい第二の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープするステップを包含することを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項２１記載の方法であって、前記中間層を挟み込むステップが、種々のIII-V族半導体の層を前記p-形窒化ガリウム材料と前記金属層の間に配置して中間層を形成するステップを包含し、前記種々のIII-V族半導体の層はバンドギャップエネルギーを有していて、それらのバンドギャップエネルギーの順に配置され、最高のバンドギャップエネルギーを有するIII-V族半導体を前記p-形窒化ガリウム材料の層の隣りに、そして最低のバンドギャップエネルギーを有するIII-V族半導体を前記金属層の隣りに配置することを特徴とする方法。
【請求項２５】
請求項２４記載の方法であって、前記p-形窒化ガリウム材料を第一の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープし、さらに、III-V族半導体群を前記第一の濃度より大きいそれぞれの第二の濃度の活性化アクセプタ不純物でドープするステップを包含することを特徴とする方法。
【請求項２６】
請求項２１記載の方法であって、前記中間層が窒化金属を含むことを特徴とする方法。
【請求項２７】
請求項２１記載の方法であって、前記中間層を挟み込むステップが以下（ａ）から（ｃ）のステップを含むことを特徴とする方法、
（ａ）窒素原子のモル比(1-x)が少なくとも１つの他のV族元素の原子のモル比xで置き換えられる窒化ガリウム材料の層を中間層として前記p-形窒化ガリウム材料上に成長させるステップ、
（ｂ）前記中間層が所望の厚さに向かって厚さを増すにつれモル比xを上げ、かつモル比(1-x)を下げるステップ、
（ｃ）前記中間層の上に前記金属層を堆積させるステップ。
【請求項２８】
請求項２７記載の方法であって、さらに、前記中間層のバンドギャップエネルギーを１エレクトロンボルト未満に下げるレベルまでモル比xを増やすステップを包含することを特徴とする方法。
【請求項２９】
請求項２７記載の方法であって、さらに、少なくとも１つの他のV族元素としてヒ素及びリンのうちの１つを付与するステップを包含し、かつ前記モル比xが0.2-0.7の範囲で最大値を有することを特徴とする方法。
【請求項３０】
請求項２７記載の方法であって、さらに、以下（ａ）及び（ｂ）のステップを含むことを特徴とする方法、
（ａ）前記中間層を高活性化濃度の不純物でドーピングするステップ、
（ｂ）前記中間層が所望の厚さに達する以前にドーピング量を減らすステップ。