【事件の表示】
　平成１０年特許願第２１０９４２号「基板保持カセット」拒絶査定に対する審判事件［平成１２年２月１８日出願公開、特開２０００−４９２１９］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件発明
　本件出願は、平成１０年７月２７日の特許出願であって、その請求項１乃至請求項５に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１乃至請求項５に記載されたとおりのものであると認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本件発明１」という。）は、次のとおりである　
「【請求項１】　複数枚の基板を処理槽の処理液中に浸漬して洗浄処理する装置で使用されて、複数枚の前記基板の主面同士を平行に整列して保持する基板保持カセットであって、
　長手方向に沿って等しいピッチでなる複数の支持凸部を有し、前記基板の整列方向に伸長して前記基板の外周に沿うように互いに平行に、かつ、離間して配置されて前記基板の外周部が係合する長手状の第１の基板支持部材、第２の基板支持部材、第３の基板支持部材及び第４の基板支持部材と、
　前記各基板支持部材の端部同士を相互に結合する側部材とを有し、
　前記側部材は、前記基板の主面に平行な方向における上端部の幅が前記基板の外径寸法よりも小であり、前記側部材の上端部は前記基板の外径中心よりも下方に位置し、
　前記第１の基板支持部材と前記第３の基板支持部材及び前記第２の基板支持部材と前記第４の基板支持部材は、それぞれ互いに前記長手方向において同一位置に前記支持凸部を有し、かつ前記第１の基板支持部材と前記第２の基板支持部材、前記第２の基板支持部材と前記第３の基板支持部材及び前記第３の基板支持部材と前記第４の基板支持部材同士は、前記長手方向において互いに前記ピッチの１／２ずつずれた位置に前記支持凸部を有すること
　を特徴とする基板保持カセット。」
第２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平７−２７３０５６号公報（以下「引用例１」という。）及び実願平３−２３８９５号（実開平４−９７３４６号）のマイクロフィルム（以下「引用例２」という。）には夫々以下の事項乃至発明が記載されていると認める。
１　引用例１
　引用例１には、以下の事項が記載されている。
(1) 段落【０００１】
「【産業上の利用分野】本発明は、熱処理炉内にて半導体ウエーハを保持するための半導体ウエーハ保持装置に関する。さらに詳しくは、複数の半導体ウエーハを熱処理炉内にて熱処理を行うに際し、熱処理炉内に半導体ウエーハを整列保持する半導体ウエーハ保持装置に関する。」
(2) 段落【０００４】
「図５及び図６は、従来のウエーハボートの一例を示し、図５はその側面図、図６は平面図である。各図において、ウエーハボート１０は、相互に平行に設けられた４本の支持棒１１、１２、１３及び１４を有し、両端部において連結棒１６、１７及び１８により相互に固定されている。そして、これら４本の支持棒の軸線と垂直な面での相互位置は、支持する半導体ウエーハ（以下「ウエーハ」という。）Ａのほぼ周縁上に沿う４点上に設けられる。また、各支持棒には、ウエーハ挿入溝１５が支持棒の軸と垂直な面に沿って設けられ、且つこのようなウエーハ挿入溝１５が一定間隔を置いて軸方向に複数個設けられている。」
(3) 段落【０００５】
「ウエーハＡは、４本の支持棒の同一平面上にある４つのウエーハ挿入溝１５によりその周縁上でほぼ垂直に保持され、ウエーハＡは、その中心寄りの半導体素子が形成される領域には支持棒が接触しないように保持される。このようにして複数のウエーハＡが一定間隔を置いて複数枚保持され、熱処理炉内にてバッチ処理がなされる。」
(4) 段落【０００７】
「また、図７は４本の支持棒を有する従来のウエーハボートの他の例を示す。図７のウエーハボートの基本構造は図５のウエーハボートと同じであるが、４本の支持棒の相対位置が比較的近くなっている。従って、ウエーハＡはその周縁部の比較的接近した４点で支持される。」
(5) 【図７】      
　４本の支持棒１１、１２、１３及び１４の端部同士を相互に固定する連結棒１６、１７及び１８において、その最上部に位置する連結棒１６は、ウエーハＡの面に平行な方向における長さが前記ウエーハＡの外径寸法よりも小であり、前記連結棒１６の上端部は前記ウエーハＡの外径中心よりも下方に位置していること。
　これらの記載事項を本件発明１に照らして整理すると、引用例１には次の発明が記載されていると認める。
　複数枚のウエーハＡを熱処理炉で熱処理する装置で使用されて、複数枚の前記ウエーハＡの面同士を平行に整列して保持するウエーハボートであって、
　軸方向に沿って一定間隔を置いて設けられている複数個のウエーハ挿入溝１５を有し、前記ウエーハＡの整列方向に伸長して前記ウエーハＡの外周に沿うように互いに平行に、かつ、離間して配置されて前記ウエーハＡの外周部が係合する４本の支持棒１１、１２、１３及び１４と、
　前記各支持棒１１、１２、１３及び１４の端部同士を相互に固定する連結棒１６、１７及び１８とを有し、
　前記連結棒１６、１７及び１８において、その最上部に位置する連結棒１６は、前記ウエーハＡの面に平行な方向における長さが前記ウエーハＡの外径寸法よりも小であり、前記連結棒１６の上端部は前記ウエーハＡの外径中心よりも下方に位置するウエーハボート。
２　引用例２
　引用例２には、以下の事項が記載されている。
(1) 段落【０００１】
「【産業上の利用分野】
　本考案は、半導体ウエハ、ガラス製マスク、レティクル、コンパクトディスク等に使用する薄板を多数並列状に収納し、この収納された薄板に対して洗浄やエッチングおよび乾燥等の処理を行う薄板処理用バスケツトに関するものである。」
(2) 段落【０００９】
「【実施例】
　以下に本考案を図１乃至図６で図示の実施例に基づいて説明する。バスケツト３１は、従来例と同様に耐熱性や耐薬品性等に優れたプラスチック、例えば弗素樹脂材で一体成形され、平行状に対向する各側壁３２，３３の両側端部間を各端壁３４，３５で各々連結した方形状をしている。
　側壁３２，３３の下側には、処理液や空気の流動を良くするための連通孔としてバスケツト３１の長手方向に沿って方形状の窓孔３６，３７が各々穿設されており、更にその下側には収容される薄板３８が脱落しないように内側へ屈曲して縮径状態にした台部３９，４０が各々形成されている。また前記各側壁３２，３３には、処理液や空気の流動を良くするための連通孔として縦長形状をした多数の並列するスリット４１，４２が、バスケツト３１の長手方向に沿って所定間隔で穿設されていると共に、各スリット４１，４２間の側壁面には薄板３８を並列に一定のピッチで整合させて隔置するための間隔保持部材として、多数の棒状突起４３，４４が内向き対向状に突設されている。」
(3) 段落【００１０】
「前記棒状突起４３，４４は、薄板３８の挿入方向に沿って複数個が間隔をおいて点在状態に配列されて一組の棒状突起群を構成し、該棒状突起群はバスケツト３１の長手方向に一定のピッチで隣接する他の棒状突起群と協動して薄板３８の挿入空間４５，４６が形成される。
　前記の棒状突起４３，４４は各種の形状と配列を採り得るものである。例えば基端部と先端部の径を一定にした断面方形状でも良いが、薄板３８との接触面積を少なくして処理液や空気の流動を良くするするためには断面を円形又は楕円形にした円柱状の方が望ましく、更には本実施例で図示したように先端側が次第に縮径した円錐形状の方がより望ましい。
　また前記棒状突起群を、基部側の径が一定で且つ高さを等しくした同形の各棒状突起によって構成しても良いが、更に処理液や空気の流動を良くし且つ薄板の挿入や位置決めの精度を向上するために、前記棒状突起群を構成する各棒状突起の形状と配列を任意に設定することができる。（以下略）」
(4) 段落【００１１】
「更に、隣接する各棒状突起群の棒状突起４３又は棒状突起４４の配列を交互にずらせた位置に千鳥状に配設するのが望ましい。これにより、同じ配列にして挿入された薄板３８の表裏から同じ位置を挾持する従来の配列の場合に比べて、棒状突起群を構成する棒状突起の数を半分に減らしても薄板３８の挿入性や挿入後の整合性は低下しないと共に、薄板３８との接触面積が少なくなって処理液の流動や液切れあるいは乾燥空気の流通をより良好にすることができる。
　また、薄板３８の挿入性と挿入後の整合性を良好にするためには、側壁３２側の棒状突起群に対する側壁３３側の棒状突起群の配列も図４のように交互にずらせた位置で千鳥状に対向するように配設すると良い。これにより、同じ配列にして挿入された薄板３８の両端部を同じ高さ位置で挾持する従来の配列の場合に比べて、薄板３８に対する間隔保持部材による拘束力が軽減されて僅かな揺動が可能となって処理液の流動や液切れあるいは乾燥空気の流通をより良好にすることができる。」
(5) 段落【００１２】
「前記した薄板３８が挿入される入口側の各側壁３２，３３には、前記棒状突起４３，４４と同様の棒状突起４７，４８を並設して案内空間４９，５０を各々形成し、この案内空間４９，５０を介して挿入された各薄板３８を前記棒状突起群が形成する各挿入空間４５，４６へ案内させるようにしている。尚、前記棒状突起４７，４８の代わりに・・・・（中略）・・・・、前記したように千鳥状に配設した棒状突起４３，４４による棒状突起群を、薄板３８が挿入される各側壁３２，３３の入口側まで延長させて配列する態様もある。（以下略）」
(6) 段落【００１４】
「【考案の効果】
　本考案の請求項１に対応する薄板処理用バスケットでは、側壁面に間隔をおいた点在状態で配列させた各棒状突起群は、同一側壁面側で隣接する各棒状突起群の相互間の配列と両側壁面間で対向する各棒状突起群の相互間の配列うちの一方または双方を千鳥状にずらせて交互配置し、この棒状突起群による間隔保持部材間に形成された挿入空間へ薄板を挿入するようにしたので、処理液の澱み現象や気泡の発生が少なくなって処理液の流動を良好にすることができると共に、処理後の液切れも良くて均一な処理が得られる構造である。（以下略）」
(7) 【図２】
　挿入口に設けられたものを除き、バスケットの各スリット４１間の側壁３２内面の同じ高さに長手方向に一定のピッチで設けられた棒状突起４３の各横の列において、上下に一列隔てられた列同士は、それぞれ互いに前記長手方向において同一位置に前記棒状突起４３を有し、かつ上下に隣接する列同士は、前記長手方向において互いに前記ピッチの１／２ずつずれた位置に前記棒状突起４３を有すること。
(8) 【図４】
　バスケットの両側壁面に内向き対向状に突設された棒状突起４３と棒状突起４４も互いに前記ピッチの１／２ずつずれて位置していること。
第３　対比
　本件発明１と引用例１記載の発明とを対比すると、引用例１記載の発明の「ウエーハＡ」及び「ウエーハＡの面」は、夫々本件発明１の「基板」及び「基板の主面」に相当することが明らかである。       
　また、引用例１記載の発明の「ウエーハボート」は、複数枚の基板を処理する装置で使用されて、複数枚の前記基板の主面同士を平行に整列して保持するものであるという限りで、本件発明１と同様に「基板保持カセット」と称しうるものである。
　また、引用例１記載の発明の「４本の支持棒１１、１２、１３及び１４」は、軸方向に沿って一定間隔を置いて設けられている複数個のウエーハ挿入溝１５、すなわち、長手方向に沿って等しいピッチでなる複数の基板支持部、を有し、基板の整列方向に伸長して前記基板の外周に沿うように互いに平行に、かつ、離間して配置されて前記基板の外周部が係合するという限りで、本件発明１の「第１の基板支持部材、第２の基板支持部材、第３の基板支持部材及び第４の基板支持部材」に対応している。
　さらに、引用例１記載の発明の「連結棒１６、１７及び１８」は、全体として本件発明１の「側部材」に相当することが明らかであり、その最上部に位置する連結棒１６の長さが側部材としての上端部の幅に対応している。
　したがって、本件発明１と引用例１記載の発明とは、　
　複数枚の基板を処理する装置で使用されて、複数枚の前記基板の主面同士を平行に整列して保持する基板保持カセットであって、
　長手方向に沿って等しいピッチでなる複数の基板支持部を有し、前記基板の整列方向に伸長して前記基板の外周に沿うように互いに平行に、かつ、離間して配置されて前記基板の外周部が係合する長手状の第１の基板支持部材、第２の基板支持部材、第３の基板支持部材及び第４の基板支持部材と、
　前記各基板支持部材の端部同士を相互に結合する側部材とを有し、
　前記側部材は、前記基板の主面に平行な方向における上端部の幅が前記基板の外径寸法よりも小であり、前記側部材の上端部は前記基板の外径中心よりも下方に位置する基板保持カセット
である点で一致し、以下の２点で相違している。
相違点１：
　基板保持カセットが、本件発明１では、基板を処理槽の処理液中に浸漬して洗浄処理する装置で使用されるものであるのに対して、引用例１記載の発明では、基板を熱処理炉で熱処理する装置で使用されるものである点。
相違点２：
　本件発明１では、各基板支持部材が長手方向に沿って等しいピッチでなる複数の支持凸部を有し、第１の基板支持部材と第３の基板支持部材及び第２の基板支持部材と第４の基板支持部材は、それぞれ互いに前記長手方向において同一位置に前記支持凸部を有し、かつ前記第１の基板支持部材と前記第２の基板支持部材、前記第２の基板支持部材と前記第３の基板支持部材及び前記第３の基板支持部材と前記第４の基板支持部材同士は、前記長手方向において互いに前記ピッチの１／２ずつずれた位置に前記支持凸部を有しているのに対して、引用例１記載の発明では、そのようになっていない点。
第４　判断
１　相違点１について
　引用例１記載の発明と同じタイプの基板保持カセットを、基板を処理槽の処理液中に浸漬して洗浄処理する装置で使用することは、例えば、原査定の際に挙げられた実開平３−６８３２号公報、特開平６−２８６８６９号号公報、実開平７−７７８９号公報等に示されているように従来周知であり、引用例１記載の発明の基板保持カセットを、基板を処理槽の処理液中に浸漬して洗浄処理する装置で使用するものとすることに格別の困難性はない。
２　相違点２について
　引用例２記載の事項における「薄板」、「薄板処理用バスケツト」及び「棒状突起４３，４４」は、夫々本件発明１の「基板」、「基板保持カセット」及び「支持凸部」に対応することが明らかである。
　したがって、結局、引用例２には、基板保持カセットの同じ高さに長手方向に一定のピッチで設けられた支持凸部の各横の列において、上下に一列隔てられた列同士は、それぞれ互いに前記長手方向において同一位置に前記支持凸部を有し、かつ上下に隣接する列同士は、長手方向において互いに前記ピッチの１／２ずつずれた位置に前記支持凸部を有しており、また、基板保持カセットの両側壁に内向き対向状に突設された各支持凸部も互いに前記ピッチの１／２ずつずれて位置していることが記載されていることになる。
　そして、引用例１記載の発明及び引用例２記載の事項は、いずれも基板保持カセットに関するものであることから、引用例２記載の事項を引用例１記載の発明に適用することにより、その基板支持部材である４本の支持棒について、基板支持部として挿入溝に代えて支持凸部を採用すると共に各支持棒における支持凸部の配置を相違点２における本件発明１のように構成する点に格別の困難性はない。
３　本件発明１の効果について
　そして、本件発明１の採用する構成によって齎される効果も、引用例１記載の発明、引用例２の、特に、段落【００１４】【考案の効果】に記載の事項及び上記従来周知の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
第５　むすび
　したがって、本件発明１は、引用例１記載の発明、引用例２記載の事項及び上記従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許をすることができない。
　よって、本件出願の請求項２乃至請求項５に係る発明について検討するまでもなく結論のとおり審決する。