(57)【要約】      （修正有）【課題】シースヒータの金属管の亀裂に起因するチャンバ内の真空度の低下を防止する。【解決手段】上面に吸着したウエハを加熱して化学蒸着処理を行う円盤状ウエハ加熱装置の円盤状部分に挿入されるシースヒータの端部において、金属管２３３と電熱線２３１との中間に長さ20〜30ｍｍにわたって耐熱ゴム２３５を充填して密封性を向上させる。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
上面に吸着したウエハ（Ｗ）を加熱して化学蒸着処理を行なう円盤状ウエハ加熱装置（２）の円盤状部分に挿入されるシースヒータの端部において、シースヒータの金属管（２３３）と電熱線（２３１）との中間に長さ20〜30ｍｍにわたって耐熱ゴム（２３５）を充填したことを特徴とする円盤状ウエハ加熱装置用シースヒータ端部の密封構造。
【請求項２】
シースヒータの耐熱ゴム（２３５）の充填部分よりも奥の金属管（２３３）と電熱線（２３１）との中間にセラミックス（２３６）を挿入してなる請求項1に記載の円盤状ウエハ加熱装置用シースヒータ端部の密封構造。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、シリコンウエハ等の半導体ウエハの製造工程において、上面に吸着したウエハを加熱して化学蒸着処理（ＣＶＤ）を行なう円盤状のウエハ加熱装置の円盤状部分に挿入されるシースヒータ端部の密封構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウエハ等の製造工程において、真空チャンバ内の円盤状のウエハ加熱装置（サセプタともいう）の上面に素材であるウエハを吸着させ、ウエハを加熱して化学蒸着処理することが行なわれている。
特許文献１に「従来の技術」として記載されている化学蒸着処理装置を、図面により簡単に説明する。
【０００３】
図３は化学蒸着処理装置の一例を示す断面図で、１は真空チャンバ、11は真空チャンバ内にガスを供給するガス供給孔、12は排気孔、２は円盤状ウエハ加熱装置、21は円盤状の板状体、22はこれを支持する筒状体、23は抵抗発熱体、24はその給電端子、25はリード線、26は熱電対等の温度検出手段、27はそのリード線、Ｗはウエハである。
この化学蒸着処理装置においては図示しない真空ポンプにより真空チャンバ内を減圧する一方、この真空チャンバ内に被膜成分の反応ガスを供給し、板状体21上に吸着させたウエハＷの表面に所望の被膜を形成させる。プラズマ化学蒸着法の場合はさらに真空チャンバ内に電圧を印加してプラズマ放電を行わせる。板状体21と筒状体22はステンレス、アルミ合金等の金属、あるいはセラミックである。
【０００４】
抵抗発熱体として、シースヒータがよく用いられる。シースヒータは、抵抗発熱線を金属シース（パイプ）の中に入れ、隙間にマグネシア（酸化マグネシウム）等の絶縁物を高密度に充填した後、圧延して製造される管状のヒータである。絶縁物の充填後に全体を圧延することにより、絶縁物の熱伝導を高め、発熱線と金属との温度差を少なくした超寿命のヒ−タである。金属シースの外径は例えば12ｍｍ、管厚は１ｍｍである。
【特許文献１】特開２００１−２３７０５１号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
図４は円盤状ウエハ加熱装置２が金属製で、抵抗発熱体としてシースヒータを使用した従来の化学蒸着処理装置の要部を示す断面図である。板状体21は２枚の金属板21a、21bを符号Ａで示す端面位置で全周溶接してあり、２枚の金属板21a、21bの合わせ面にシースヒータ23が埋設されている。ところで円盤状ウエハ加熱装置２は操業サイクルにおいて室温からおよそ300度の高温までの高速昇温、高速降温を繰り返すが、この間で各部分の温度は必ずしも均一ではないから、熱膨張の差によって各部に亀裂が発生しやすい。発生する箇所の筆頭は符号Ａで示す溶接部分である。多少の亀裂が発生しても直ちに化学蒸着処理ができなくなるわけではないが、ここから亀裂が発生し、さらにシースヒータにも亀裂が発生すると、真空チャンバ内の気密性が損なわれ、シースヒータを通して真空チャンバ内に大気が侵入して化学蒸着の品質を低下させるという問題点があった。ちなみに従来のシースヒータ端部の構造を図５に示す。231は抵抗発熱線、232はマグネシア、233は金属シースである。端面のマグネシアの剥離を抑制するため、シール用の樹脂234を塗布してあるものの、十分な気密構造とはなっていない。
【０００６】
本考案は、このシースヒータ端部の気密性を向上させることにより、化学蒸着処理の品質低下を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本考案は、上面に吸着したウエハを加熱して化学蒸着処理を行なう円盤状のウエハ加熱装置の円盤状部分に挿入されるシースヒータの端部において、シースヒータの金属管と電熱線との中間に長さ20〜30ｍｍにわたって耐熱ゴムを充填したことを特徴とする円盤状ウエハ加熱装置用シースヒータ端部の密封構造であって、好ましくはシースヒータの耐熱ゴムの充填部分よりも奥の金属管と電熱線との中間にセラミックスを挿入してなる前記の円盤状ウエハ加熱装置用シースヒータ端部の密封構造である。
【考案の効果】
【０００８】
本考案によれば、板状体21の溶接部分や、シースヒータの金属管233部分に亀裂が発生しても、これが直ちに真空チャンバ内の気密性を損ねるということがなく、化学蒸着処理の品質低下を抑制することができるという、すぐれた効果を奏する。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００９】
本考案によれば、シースヒータ端部に充填されている粉末状のマグネシアを所定長さにわたって除去し、この部分に耐熱ゴムを充填することにより密封性を向上させることができる。耐熱ゴムは充填する段階ではペースト状であるから隙間なく充填することができ、充填後に硬化して一体となる。
【実施例】
【００１０】
本考案の実施例を図面により説明する。図１は第１の実施例の円盤状ウエハ加熱装置用シースヒータ端部の密封構造を示す断面図で、231は抵抗発熱線、232はマグネシア、233は金属シース、234は樹脂、235は耐熱ゴムである。すなわち、端部の長さ20〜30ｍｍにわたって金属シース内のマグネシア232を除去し、代わりに金属管と電熱線との中間に耐熱ゴムを充填してある。表面にはこれまでどおり樹脂234を塗っておくことが望ましい。耐熱ゴムは上記の20〜30ｍｍが必要にして十分な長さである。
【００１１】
図２は変形実施例のシースヒータ端部の密封構造を示す断面図で、236はセラミックスである。マグネシア232を除去したあとに固形のセラミックス236を挿入すれば、ペースト状の耐熱ゴムを充填する際に底部が安定するとともに、抵抗発熱線231が偏心したりすることがない。その他の各部については図１と同様である。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本考案実施例のシースヒータ端部の密封構造を示す断面図である。
【図２】本考案変形実施例のシースヒータ端部の密封構造を示す断面図である。
【図３】本考案に係わる公知の化学蒸着処理装置の一例を示す断面図である。
【図４】従来の技術における化学蒸着処理装置の要部を示す断面図である。
【図５】従来の技術におけるシースヒータ端部の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１３】
１    真空チャンバ
２    円盤状ウエハ加熱装置
１１    ガス供給孔
１２    排気孔
２１    板状体
２２    筒状体
２３    抵抗発熱体
２４    給電端子
２５    （給電用）リード線
２６    温度検出手段
２７    （温度検出用）リード線
２３１  抵抗発熱線（電熱線）
２３２  マグネシア
２３３  金属シース（金属管）
２３４  樹脂
２３５  耐熱ゴム
２３６  セラミックス
Ｗ    ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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