【事件の表示】
　平成１０年特許願第２７４６７５号「レプリカ回折格子の保護被膜」拒絶査定に対する審判事件［平成１１年　６月１８日出願公開、特開平１１−１６０５１３］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１.本願は、平成１０年９月２９日に特許出願（パリ条約による優先権主張１９９７年９月２９日、米国）したものであって、その請求項９に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項９に特定された次のとおりのものである。
「【請求項９】各溝が反射面をもった多数の平行溝を有する保護被膜で保護されている回折格子において、
Ａ.剛性基板と、
Ｂ.非常に多くの平行溝を備えたアルミニウム格子層と、
Ｃ.該アルミニウム格子層を前記剛性基板に取り付ける接着層と、
Ｄ.前記アルミニウム格子層を覆う薄いアルミニウム保護被膜層とを有し、該アルミニウム保護被膜層は前記反射面上に２００ｎｍ以下の厚さを有し、
Ｅ.前記アルミニウム保護被膜層を覆う薄いＭｇＦ２保護層を更に有し、該ＭｇＦ２保護層は前記反射面上に５０ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする回折格子。（以下、「本願発明」という。）」
　なお、平成１３年１月１６日付け手続補正は、同日付けで補正却下された。
２.これに対して、原査定の拒絶の理由に引用した特開平７−１４０３１０号公報（以下、第１引用例という。）には、「イオンビーム・エッチングによりブレーズ角４度の溝断面形状が鋸歯状になるようにし、その上にアルミニウム薄膜（厚さ０.２μｍ）２を真空蒸着し、マスター回折格子を製作する。この状態が図１（ａ）である。」（第３欄第７〜１１行）、「次にレプリカ基板（石英ガラス：６０ｍｍ×６０ｍｍ×１１.３ｍｍ）６を用意し、その表面をフレオンなどで洗浄した後、接着剤（耐熱性エポキシ樹脂）５を塗布する。そして、レプリカ基板６と前述のマスター回折格子を接着させる。」（第３欄第１６〜２０行）、「接着硬化後、離形剤３を境にしてレプリカ基板６を剥離すると、アルミニウム薄膜４はレプリカ基板６に移りレプリカ回折格子が作製される。このときの状態が図１（ｅ）である。」（第３欄第２３〜２６行）、「そこで、本発明では、更に、レプリカ回折格子の表面及び側面にアルミニウム薄膜（厚さ０.２μｍ）を真空蒸着する。真空蒸着は、レプリカ回折子を真空ベルジャ内に収容し、真空度５×１０−６Ｔｏｒｒ、温度２４℃で、アルミニウムを蒸発させて行う。このときの状態が図１（ｆ）である。」（第４欄第１〜６行）及び「７：アルミニウム薄膜」（第４欄第３１行）との記載があり、図１（ｆ）の（５）及び（６）の引き出し線は、図１（ｅ）の（５）及び（６）の引き出し線からみて、誤りであることは明らかであるから、結局、各溝が反射面をもった多数の平行溝を有する保護被膜で保護されている回折格子において、
Ａ.レプリカ基板６と、
Ｂ.非常に多くの平行溝を備えたアルミニウム薄膜４と、
Ｃ.該アルミニウム薄膜４を前記レプリカ基板６に取り付ける耐熱性エポキシ樹脂５と、
Ｄ.前記アルミニウム薄膜４を覆う薄いアルミニウム薄膜７とを有し、該アルミニウム薄膜７は前記反射面上に０.２μｍの厚さを有することを特徴とする回折格子が記載されている。
　同じく引用した特開平２−２７８２０３号公報（以下、「第２引用例」という。）には、「単結晶基板上にＡｌ薄膜をエピタキシャル形成し、該Ａｌ薄膜を光吸収の少ない防護透過膜にて被覆してなる光学反射板にある。」（第２頁右上欄第１〜３行）及び「シリコン基板上のＡｌ単結晶またはバイクリスタル膜は平滑な表面性状を有し、それ自体で、所期の性能を有するが、実用上その単結晶またはバイクリスタル膜上を防護するために表面コートを施す必要がある。これは単結晶表面を機械的に保護したり、表面酸化によるレーザー耐力の低下、経年変化を防止するためである。この表面コート膜厚は入射光の吸収を極力起こさないように設定する必要があるが、通常数百〜数千オングストロームが適当である。特に、光学反射板がＵＶレーザー用反射板である場合は、表面コート防護膜はＭｇＦ２、ＣａＦ２またはＮａ３ＡｌＦ２であるのが好ましい。ＵＶレーザーの吸収が少ないからである。」（第２頁左下欄第１６行〜右下欄第９行）との記載がある。
３.そこで、本願発明と第１引用例記載のものとを対比すると、本願発明の「剛性基板」、「アルミニウム格子層」、「接着層」、「アルミニウム保護被膜層」は、夫々第１引用例記載のものの「レプリカ基板６」、「アルミニウム薄膜４」、「耐熱性エポキシ樹脂５」、「アルミニウム薄膜７」に相当するから、両者は、各溝が反射面をもった多数の平行溝を有する保護被膜で保護されている回折格子において、
Ａ.剛性基板と、
Ｂ.非常に多くの平行溝を備えたアルミニウム格子層と、
Ｃ.該アルミニウム格子層を前記剛性基板に取り付ける接着層と、
Ｄ.前記アルミニウム格子層を覆う薄いアルミニウム保護被膜層とを有し、該アルミニウム保護被膜層は前記反射面上に所定の厚さを有することを特徴とする回折格子で一致し、
イ、本願発明は、前記アルミニウム保護被膜層を覆う薄いＭｇＦ２保護層を更に有し、該ＭｇＦ２保護層は前記反射面上に５０ｎｍ以下の厚さを有するのに対して、第１引用例記載のものは、そのような記載が無い点、
ロ、アルミニウム保護被膜層の厚さが、本願発明は２００ｎｍ以下であるのに対して、第１引用例記載のものは、０.２μｍである点で相違する。
４.そこで、先ず上記相違点イ、について検討すると、Ａｌ膜をＭｇＦ２膜で覆うことは、従来周知（例えば、上記第２引用例に記載があり、小瀬　輝次外４名編『光工学ハンドブック』１９８６年２月２０日初版第１刷、株式会社　朝倉書店発行、第５２８頁第１〜２行には、「表面はＡｌコートが標準で、ＭｇＦ２をオーバーコートしたものでは真空紫外領域（〜１１０ｎｍ）まで使える。」との記載があり、小倉　繁太郎外３名訳『光学薄膜』１９８９年１１月３０日初版１刷、日刊工業新聞社発行、第１７０頁第２４〜２６頁には、「アルミニウムの酸化に対する保護材料として種々検討が行なわれた中で、フッ化マグネシウム（非常に強いコーティング）とフッ化リチウム（耐久力が弱い）において非常に良い結果が得られた。」との記載があり、『ＡＰＰＬＩＥＤ　ＯＰＴＩＣＳ』Ｊａｎｕａｒｙ　１９６６、Ｖｏｌ．５、Ｎｏ．１、“Ｆｕｒｔｈｅｒ　Ｓｔｕｄｉｅｓ　ｏｎ　ＭｇＦ２−Ｏｖｅｒｃｏａｔｅｄ　Ａｌｕｍｉｎｕｍ　Ｍｉｒｒｏｒｓ　ｗｉｔｈ　Ｈｉｇｈｅｓｔ　Ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ　ｉｎ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ”第４６頁第３図には、「ＭｇＦ２を被覆したＡｌフィルム」との記載がある。）の技術手段に過ぎず、また、ＭｇＦ２膜の厚さを、どのぐらいにするかというようなことは、当業者が適宜決定できる設計的な事項に過ぎず、５０ｎｍ以下の厚さとすることは、従来周知（上記第２引用例第２頁右下欄第４〜５行には、「通常数百〜数千オングストローム＜数十〜数百ｎｍに相当する。＞が適当である。」との記載があり、上記『光学薄膜』第１７２頁第４〜５行には、「１０ｎｍ以上の膜厚」との記載があり、上記『ＡＰＰＬＩＥＤ　ＯＰＴＩＣＳ』第４６頁第３図には、「２５０Å＜２５ｎｍに相当する。＞」との記載がある。）でもある。
　次に、上記相違点ロ、について検討すると、一般に、被膜層の厚さを、どのぐらいにするかというようなことは、当業者が適宜決定できる設計的な事項に過ぎない。
　そして、第１引用例記載の０.２μｍは、１μｍ＝１０３ｎｍであるから、２００ｎｍに相当し、２００ｎｍ以下とは、２００ｎｍを含むものであるから、相違点ロ、は、第１引用例に記載されている。
５.したがって、本願請求項９ に係る発明は、第 １引用例、第２引用例及び従来周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるので、本願請求項９に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。