【手続補正書】
【提出日】平成18年8月18日(2006.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】処理装置およびそれに用いられる耐食性部材および耐食性部材の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被処理基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構と
を具備する処理装置であって、
前記処理容器は、基材と、その内壁に形成された周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜とを具備することを特徴とする処理装置。
【請求項２】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、周期律表第３ａ族元素化合物とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、Ｙ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜におけるＡｌ２Ｏ３／Ｙ２Ｏ３重量比が０．５以上であることを特徴とする請求項３に記載の処理装置。
【請求項５】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、溶射膜であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項６】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、プラズマによる削れ量がＡｌ２Ｏ３部材の削れ量よりも小さいことを特徴とする請求項５に記載の処理装置。
【請求項７】  前記処理機構は、被処理基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理機構であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項８】  前記プラズマ処理機構は、誘導結合型であることを特徴とする請求項７に記載の処理装置。
【請求項９】  前記プラズマ処理機構は、平行平板型であることを特徴とする請求項７に記載の処理装置。
【請求項１０】  被処理基板にＣＶＤ処理を施すことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１１】  被処理基板にエッチング処理を施すことを特徴とする請求項９に記載の処理装置。
【請求項１２】  前記処理機構は、処理容器内に腐食性ガスを供給して処理を施すことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１３】  前記処理機構は、被処理基板に加熱処理を施すことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１４】  被処理基板を収容するチャンバーと、
チャンバーの上方に設けられたベルジャーと、
ベルジャー内に誘導電磁界を形成するためのアンテナ手段と、
前記アンテナ手段に高周波電力を印加する高周波印加手段と、
処理ガスを供給するガス供給手段と
を具備し、ベルジャー内に形成された誘導電磁界によりプラズマを形成して処理を行う処理装置であって、
前記ベルジャーは、その内壁が周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜からなることを特徴とする処理装置。
【請求項１５】  プラズマにより被処理基板にＣＶＤ処理することを特徴とする請求項１４に記載の処理装置。
【請求項１６】  被処理基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられた上部電極と、
前記チャンバー内に前記上部電極と対向して設けられ、被処理基板を載置する下部電極と、
前記上部電極および下部電極の間に高周波電界を形成するための高周波電源と、
前記チャンバー内に処理ガスを供給するガス供給手段と
前記チャンバー内を排気する排気手段と
を具備し、前記高周波電界によりプラズマを形成して処理を行う処理装置であって、
前記チャンバーの内壁およびチャンバー内に配置された部材の少なくとも一部が周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜でコーティングされていることを特徴とする処理装置。
【請求項１７】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、周期律表第３ａ族元素化合物とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項１４から請求項１６のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１８】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、Ｙ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項１７に記載の処理装置。
【請求項１９】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜におけるＡｌ２Ｏ３／Ｙ２Ｏ３重量比が０．５以上であることを特徴とする請求項１８に記載の処理装置。
【請求項２０】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、溶射膜であることを特徴とする請求項１４から請求項１９のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項２１】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、プラズマによる削れ量がＡｌ２Ｏ３部材の削れ量よりも小さいことを特徴とする請求項２０に記載の処理装置。
【請求項２２】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜の厚さは５０μｍ以上であることを特徴とする請求項１４から請求項２１のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項２３】  被処理基板を処理する処理装置に用いられる耐食性部材であって、基材と、その上に形成された周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜とを具備することを特徴とする耐食性部材。
【請求項２４】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、周期律表第３ａ族元素化合物とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項２３に記載の耐食性部材。
【請求項２５】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、Ｙ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項２４に記載の耐食性部材。
【請求項２６】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜におけるＡｌ２Ｏ３／Ｙ２Ｏ３重量比が０．５以上であることを特徴とする請求項２５に記載の耐食性部材。
【請求項２７】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、溶射膜であることを特徴とする請求項２３から請求項２６のいずれか１項に記載の耐食性部材。
【請求項２８】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、プラズマによる削れ量がＡｌ２Ｏ３部材の削れ量よりも小さいことを特徴とする請求項２７に記載の耐食性部材。
【請求項２９】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜の厚さは５０μｍ以上であることを特徴とする請求項２３から請求項２８のいずれか１項に記載の耐食性部材。
【請求項３０】  被処理基板を処理する処理装置に用いられる耐食性部材の製造方法であって、
基材を準備し、その上に周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜を形成することを特徴とする耐食性部材の製造方法。
【請求項３１】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、周期律表第３ａ族元素化合物とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項３０に記載の耐食性部材の製造方法。
【請求項３２】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、Ｙ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３とから実質的になることを特徴とする請求項３１に記載の耐食性部材の製造方法。
【請求項３３】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜におけるＡｌ２Ｏ３／Ｙ２Ｏ３重量比が０．５以上であることを特徴とする請求項３２に記載の耐食性部材の製造方法。
【請求項３４】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、溶射によって形成されることを特徴とする請求項３０から請求項３３のいずれか１項に記載の耐食性部材の製造方法。
【請求項３５】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜は、プラズマによる削れ量がＡｌ２Ｏ３部材の削れ量よりも小さいことを特徴とする請求項３４に記載の耐食性部材の製造方法。
【請求項３６】  前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜の厚さは５０μｍ以上であることを特徴とする請求項３０から請求項３５のいずれか１項に記載の耐食性部材の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、処理装置およびそれに用いられる耐食性部材および耐食性部材の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、処理容器内壁の腐食の問題が生じ難い処理装置を提供することを目的とする。また、耐プラズマ性および耐腐食ガス性に優れた、処理装置に用いられる耐食性部材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点によれば、被処理基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構と
を具備する処理装置であって、
前記処理容器は、基材と、その内壁に形成された周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜とを具備することを特徴とする処理装置が提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記第１の観点の処理装置において、前記処理機構は、被処理基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理機構である場合に、前記プラズマ処理機構は、誘導結合型とすることができる。また、前記プラズマ処理機構は、平行平板型とすいることができる。誘導結合型の場合に、被処理基板にＣＶＤ処理を施すものであることが好ましい。また、平行平板型の場合に、エッチング処理を施すものであることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第２の観点によれば、被処理基板を収容するチャンバーと、
チャンバーの上方に設けられたベルジャーと、
ベルジャー内に誘導電磁界を形成するためのアンテナ手段と、
前記アンテナ手段に高周波電力を印加する高周波印加手段と、
処理ガスを供給するガス供給手段と
を具備し、ベルジャー内に形成された誘導電磁界によりプラズマを形成して処理を行う処理装置であって、
前記ベルジャーは、その内壁が周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜からなることを特徴とする処理装置が提供される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このように上記本発明の第２の観点においては、周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜をベルジャーの内壁に形成するが、このような膜は耐食性が高いので、プラズマやクリーニングガスによって腐食され難く、したがってＩＣＰ−ＣＶＤ等のベルジャーを用いたプラズマＣＶＤ方式を採用しつつ、ベルジャーの腐食の問題が生じ難い処理装置が実現される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記本発明の第２の観点の処理装置は、プラズマにより被処理基板にＣＶＤ処理するものとすることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の第３の観点によれば、被処理基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられた上部電極と、
前記チャンバー内に前記上部電極と対向して設けられ、被処理基板を載置する下部電極と、
前記上部電極および下部電極の間に高周波電界を形成するための高周波電源と、
前記チャンバー内に処理ガスを供給するガス供給手段と
前記チャンバー内を排気する排気手段と
を具備し、前記高周波電界によりプラズマを形成して処理を行う処理装置であって、
前記チャンバーの内壁およびチャンバー内に配置された部材の少なくとも一部が周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜でコーティングされていることを特徴とする処理装置が提供される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の第４の観点によれば、被処理基板を処理する処理装置に用いられる耐食性部材であって、基材と、その上に形成された周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜とを具備することを特徴とする耐食性部材が提供される。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
このように上記本発明の第４の観点においては、周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜を基材上に形成するので、腐食の問題が生じ難い耐食性部材が実現される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の第５の観点によれば、被処理基板を処理する処理装置に用いられる耐食性部材の製造方法であって、
基材を準備し、その上に周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜を形成することを特徴とする耐食性部材の製造方法が提供される。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
上記いずれの発明においても、前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜としては、周期律表第３ａ族元素化合物単独であっても他の物質と複合されていてもよく、他の物質と複合されたものとしては周期律表第３ａ族元素化合物とＡｌ２Ｏ３とから実質的になるものとすることができる。このような膜としてはＹ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３とから実質的になるものが例示され、この場合にはＡｌ２Ｏ３／Ｙ２Ｏ３重量比を０．５以上とすることが好ましい。このような膜としては溶射膜が好適である。前記周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜としては、プラズマによる削れ量がＡｌ２Ｏ３部材の削れ量よりも小さいものが好ましい。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】削除
【補正の内容】