【事件の表示】
　平成　７年特許願第３２５４６４号「金ミラー及びその製造方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成　８年１０月１８日出願公開、特開平　８−２７１７０７、請求項の数（２０）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
（手続の経緯及び本願発明）
　本願は、平成７年１２月１４日（パリ条約による優先権主張１９９４年１２月１５日、米国）の出願であって、その特許請求の範囲の請求項１ないし２０に係る発明（以下、「本願発明１ないし２０」という。）は、補正された明細書および図面の記載からみて、その請求項１ないし２０に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　「【請求項１】シリカ製品の表面上の金属薄膜と、
　前記金属薄膜上の金層とを有する金ミラーにおいて、
　前記金層は前記金ミラーの最外層であり、
　前記金属は、シリカ表面と金層との両方に接着するニッケルを含むことにより、前記金層を前記シリカ表面に接着させ、前記金属は、前記金層を通る赤外線に対してほとんど透明であるような、赤外線に対する吸光度を有することを特徴とするシリカ上の金ミラー。
【請求項２】前記金属は、ニッケルとリンとの（Ｎｉ−Ｐ）合金からなることを特徴とする請求項１に記載の金ミラー。
【請求項３】前記Ｎｉ−Ｐ合金はＰｄ活性化シリカ表面上に鍍着され、前記金属はＰｄ／Ｎｉ−Ｐ層からなることを特徴とする請求項２に記載の金ミラー。
【請求項４】前記Ｐｄ／Ｎｉ−Ｐ層は、分光光度計で測定して、５５０ｎｍにおける吸光度が０．００８から０．０３０の範囲となるような厚さであることを特徴とする請求項３に記載の金ミラー。
【請求項５】前記シリカ表面は光ファイバの端面であることを特徴とする請求項１に記載の金ミラー。
【請求項６】前記端面は、水平面に対して約４５°傾斜していることを特徴とする請求項５に記載の金ミラー。
【請求項７】前記金属は、分光光度計による５５０ｎｍでの測定で０．０１１ないし０．０１３の範囲の吸光度を有することを特徴とする請求項１に記載の金ミラー。
【請求項８】前記金ミラーは、ほぼ前記金属および前記金層のみからなることを特徴とする請求項１に記載の金ミラー。
【請求項９】前記金属は、分光光度計による８５０ｎｍでの測定で０．００４ないし０．００５の範囲の吸光度を有することを特徴とする請求項１に記載の金ミラー。
【請求項１０】シリカ製品の表面を、ＳｎＦ２の増感水溶液に浸漬するステップと、
　増感された表面を脱イオン水中で濯ぐステップと、
　前記表面を、ＰｄＣｌ２およびＨＣｌの活性水溶液に浸漬するステップと、
　前記活性水溶液を脱イオン水中で濯ぐステップと、
　活性化された表面を無電解ニッケルめっき液に浸漬して該活性化された表面上にニッケルを含む金属薄膜を鍍着することにより、金を前記シリカ製品の表面に接着させることを可能にするステップと、
　金属めっき表面を脱イオン水中で濯ぎ、乾燥させるステップと、
　前記金属めっき表面上に金層を蒸着させるステップとを有する、シリカ製品の表面に金ミラーを製造する方法において、
　前記金属は、前記金層を通る赤外線に対してほとんど透明であるような、赤外線に対する吸光度を有し、
　前記金層は、前記金層の表面に入射する輻射線を反射するのに十分な厚さで蒸着され、
　前記金層は前記金ミラーの最外層であることを特徴とする、シリカ製品の表面に金ミラーを製造する方法。
【請求項１１】前記ニッケルを含む金属薄膜は、Ｐｄ／Ｎｉ−Ｐ金属層を形成するＮｉ−Ｐ合金として、Ｐｄで活性化された表面に鍍着されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】前記Ｐｄ／Ｎｉ−Ｐ層は、分光光度計で測定して、５５０ｎｍにおける吸光度が０．００８から０．０３０の範囲となるような厚さで鍍着されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】前記金層は、１００から１５０ｎｍの範囲の厚さで蒸着されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】前記金層の厚さは１２０ｎｍであることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】前記金層は粒子蒸着によって形成されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】前記粒子蒸着は、電子ビーム蒸着であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】前記粒子蒸着は、スパッタリングであることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】前記金属は、分光光度計による５５０ｎｍでの測定で０．０１１ないし０．０１３の範囲の吸光度を有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１９】前記金ミラーは、ほぼ前記金属および前記金層のみからなることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２０】前記金属は、分光光度計による８５０ｎｍでの測定で０．００４ないし０．００５の範囲の吸光度を有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。」
（引用例）
　これに対して、原査定の拒絶理由に引用された特開昭５８−１４９００２号公報（以下、「引用例１」という。）、同じく特開平６−３３０３３７号公報（以下、「引用例２」という。）にはそれぞれ、次の発明が記載されている。
　引用例１；
　銅、シリコン等の鏡面研磨基板１上にニッケル等の密着性増強層４を、次いで金、銀等の高反射金属群から選ばれるレーザー光反射層２を順次形成した、レーザー全反射鏡、が記載される（第３図参照）。
　引用例２；
　ハーメチックパッケージ封入のための光ファイバの無電解メタライゼーションの方法に関するもので、請求項１には、
　「酸素が存在しない状態で、光ファイバの断面の露出された表面を、その上にSn2+イオンが堆積するよう、SnF2の希釈された増感水溶液で処理し、
　酸素が存在しない状態で、Sn2+増感処理した表面を、その上に触媒層が堆積するように、Pd2+イオンの活性化水溶液で処理し、
　ニッケルを含む層を堆積させるため、無電解メッキ液中に浸すことにより、活性化された表面を処理し、そして必要に応じて、
　堆積したニッケルを酸化から保護するのに十分な厚さに、金を含む層を堆積させるため、ニッケルメッキした表面を、金メッキ溶液で処理することを含むことを特徴とする光ファイバのメタライゼーションの方法。」
と記載される。
（対比・判断）
「本願発明１について」
　本願発明１と引用例１、２に記載された各発明とを比較検討する。
　引用例１は、銅、シリコン等の鏡面研磨基板１上にニッケル等の密着性増強層４を、次いで金等のレーザー光反射層２を順次形成するもので、本願発明１のように「シリカ製品の表面上のニッケルを含む金属は、金層を前記シリカ表面に接着させる」ものではない。また、引用例１は、本願発明１の「前記金属は、前記金層を通る赤外線に対してほとんど透明であるような、赤外線に対する吸光度を有すること」を示唆するものでもない。
　引用例２の金を含む層は堆積したニッケルを酸化から保護するもので、本願発明１のように、金をミラーとして使用するものではない。また、引用例２は、引用例１と同様、本願発明１の「ニッケルを含む金属は、前記金層を通る赤外線に対してほとんど透明であるような、赤外線に対する吸光度を有すること」を意図するものでもない。
　したがって、引用例１に記載された発明と引用例２に記載された発明とを組み合わせても、本願発明１の「ニッケルを含む金属は、金層を通る赤外線に対してほとんど透明であるような、赤外線に対する吸光度を有する」構成を導き出せない。
　よって、本願発明１は、引用例１、２に記載された各発明を組み合わせて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
「本願発明２ないし９について」
　本願発明２ないし９は、本願発明１の構成をさらに限定したものであるから、上記「本願発明１について」の項で述べたことと同様な理由により、引用例１、２に記載された各発明を組み合わせて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
「本願発明１０ないし２０について」
　本願発明１０ないし２０の「シリカ製品の表面に金ミラーを製造する方法」は、本願発明１の「シリカ上の金ミラー」の製造方法に関するものであるから、上記「本願発明１について」の項で述べたことと同様な理由により、引用例１、２に記載された各発明を組み合わせて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
（むすび）
　以上のとおり、本願発明１ないし２０は、引用例１、２に記載された各発明を組み合わせて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
  また、他に拒絶理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。