(57)【要約】【課題】上蓋の金型の費用を低減でき、材料のコストも低下でき、製造時間を節約できる電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造を提供する。【解決手段】当該上蓋が遮蔽マスクに覆われることにより、遮蔽マスクの蓋板が、持ち上げられた後、遮蔽状態に回復でき、当該上蓋は、板体であり、当該上蓋と当該遮蔽マスク上部との間に、結合装置が設けられ、当該上蓋は、当該結合装置により、当該遮蔽マスクの上部に結合される。【選択図】図２
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
当該上蓋は、遮蔽マスクに覆われ、当該上蓋は、板体で、当該上蓋と当該遮蔽マスクの上部との間に、結合装置が設けられ、当該上蓋は、当該結合装置により、当該遮蔽マスクの上部に結合される、ことを特徴とする電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項２】
当該上蓋は、金属部品であることを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項３】
当該結合装置は、複数の上蓋に設置される定位穴と当該遮蔽マスクの上部に設置される定位突出が含有され、当該定位突出と当該定位穴が互いに係合することを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項４】
当該結合装置は、複数の上蓋に設置される定位突出と当該遮蔽マスクの上部に設置される定位穴が含有され、当該定位突出と当該定位穴が互いに係合することを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項５】
当該上蓋の底部と当該遮蔽マスクの上部との間に、ビスコース層が設けられ、当該上蓋と当該遮蔽マスクとの間において、当該ビスコース層により粘着されることを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項６】
当該結合装置は、複数の遮蔽マスクの上部に設置される係合フックが含有され、当該係合フックは、当該上蓋の周縁に係合されることを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項７】
当該係合フックは、傾斜状に上へ伸ばして当該遮蔽マスクの上部から突出することを特徴とする請求項６記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項８】
当該結合装置は、複数の上蓋に設置される係合部と複数の当該遮蔽マスクの上部に設置される係合穴が含有され、当該係合部と当該係合穴が互いに係合することを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項９】
当該結合装置は、複数の上蓋に設置される係合穴と複数の当該遮蔽マスクの上部に設置される係合部が含有され、当該係合部と当該係合穴が互いに係合することを特徴とする請求項１に記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項１０】
当該結合装置は、当該上蓋の両側の縁をガイドするための複数の遮蔽マスクの上部に設置されるガイドが含有され、当該遮蔽マスクの上部に、至少二つの定位突出が設けられ、当該上蓋の両端が、当該二つの定位突出に抵当することを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【請求項１１】
当該遮蔽マスクは、マスク体があり、当該マスク体は、上板と当該上板の四つの周辺から下へ伸ばす側板が含有され、当該マスク体の上部に開口が形成され、当該上蓋の面積が、当該開口の面積より大きく、当該上蓋により当該開口が遮蔽されて、当該マスク体を遮蔽状態に回復することを特徴とする請求項１記載の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造に関し、特に、遮蔽マスクの上部に覆われ、遮蔽マスクの蓋板が、持ち上げられた後、遮蔽状態に回復できる上蓋構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
電磁波干渉（ＥＭＩ）がチップや中央処理装置等の電子素子の作動に影響することを防止するため、本考案に関する電磁妨害を防止する遮蔽マスク（図１のように）があり、当該遮蔽マスク７は、マスク体７１が含有され、当該マスク体７１は、内部に、電子素子８を容納するための収納空間が形成され、当該マスク体７１の上部において、四つの周辺の近くに予断線７２が設けられ、これにより、当該マスク体７１の上部に、１枚の上へ持ち上げられる蓋板７３が形成される。当該遮蔽マスク７が、回路板９の上に実装される電子素子８の外部に覆われることにより、当該遮蔽マスク７により、電磁波遮蔽効果が提供される。
【０００３】
上記の遮蔽マスクは、有効に、電磁波干渉が電子素子の作動に影響することを防止でき、また、製造のコストが低く、そして、大幅に原料のコストが低減されるため、従来の技術より良い効果が得られるが、設計において、完璧ではないため、更に、改良することが必要である。即ち、当該遮蔽マスクは、別に設置された上蓋（図に未表示）により、遮蔽状態に回復する時、当該上蓋が、全マスク式の設計であるため、金型の費用が高く、また、材料のコストも高く、製造時間が掛かるから、有効に産出高を向上することが出来ない。
【０００４】
本考案者は、上記の問題点を解消するため、慎重に研究し、また、学理の運用に合わせて、設計が合理的で、有効に上記の問題点を改善できる本考案を提案する。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
本考案の主な目的は、当該上蓋が、遮蔽マスクの上部に覆われ、結合装置により、当該上蓋が、遮蔽マスクの上部に結合され、これにより、遮蔽マスクの蓋板が、持ち上げられた後、遮蔽状態に回復でき、また、上蓋が、板体の設計により、金型の費用が、大幅に低減され、材料のコストも低下され、製造時間を節約でき、有効に産出高が向上される電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本考案は、上記の目的を達成するため、当該上蓋が、遮蔽マスクに覆われ、当該上蓋が、板体であり、当該上蓋と当該遮蔽マスクの上部との間に、結合装置が設けられ、当該上蓋が、当該結合装置により、当該遮蔽マスクの上部に結合される電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造である。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、図面を参照しながら、本考案の特徴や技術内容を詳しく説明するが、図面は、ただ、参考や説明に供し、本考案は、其れによって制限されない。
【０００８】
本考案は、図２と図３及び図４を参照しながら、電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造であり、当該上蓋１は、遮蔽マスク２の上部に覆われ、当該遮蔽マスク２の蓋板（図に未表示）が持ち上げられても、遮蔽状態に回復できる。
【０００９】
当該遮蔽マスク２は、金属部品であり、電子素子の外部を覆うマスク体２１があり、当該マスク体２１は、四角形や他の形状である中空体であり、当該マスク体２１は、上板２１１と、当該上板２１１の周辺から下へ伸ばす側板２１２とが含有され、当該上板２１１と側板２１２との間に、電子素子を容納するための収納空間２１３が形成され、当該マスク体２１は、電子素子の外部を覆う。
【００１０】
当該マスク体２１の上板２１１の中央に、予めに上へ持ち上げられる蓋板（図に未表示）が設けられ、当該蓋板の外縁に、切断機能を有する予断線２１４が設けられ、当該予断線２１４は、当該マスク体２１の上板２１１において、四つの周縁の近くに設けられ、当該予断線２１４は、枠形である。当該遮蔽マスク２は、回路板に実装される電子素子の外部に覆われ、当該遮蔽マスク２は、適当に回路板の上に固定され、これにより、当該遮蔽マスク２により、電磁波遮蔽効果が提供され、電子素子の作動から電磁波干渉の影響を防止できる。
【００１１】
電子素子をメンテナンスする時、先が鋭いもの（例えば、ドライバー）を予めに設けられる穴（図に未表示）に挿入し、蓋板が、予断線２１４に沿って持ち上げられて、予断線全体が断切され、これにより、当該マスク体２１の上部に、大きい面積を有する開口２１５が形成されて、メンテナンスに供される。メンテナンスした後、当該上蓋１が、遮蔽マスク２の上部に覆われ、当該開口２１５を遮蔽して、当該マスク体２１を遮蔽状態に回復する。
【００１２】
当該上蓋１は、金属部品であり、当該上蓋１は、四角形や他の形状の板体、当該上蓋１は、面積が開口２１５の面積より大きいため、当該上蓋１が確実に開口２１５を遮蔽することができ、当該マスク体２１を遮蔽状態に回復することができる。当該上蓋１と当該遮蔽マスク２の上部（上板２１１）との間に、結合装置３が設けられ、これにより、当該上蓋１が、結合装置３により、遮蔽マスク２の上部に結合される。
【００１３】
本実施例において、結合装置３は、上蓋１に設置される二つの定位穴１１と、当該遮蔽マスク２の上部に設置される二つの定位突出２２とが含有され、当該二つの定位穴１１は、上蓋１において対向する両側に設けられ、当該二つの定位突出２２は、遮蔽マスク２の上板２１１において対向する両側に設けられ、当該二つの定位突出２２と二つの定位穴１１が、対応し、当該二つの定位突出２２と二つの定位穴１１が、互いに係合し、これにより、当該上蓋１が正確に当該遮蔽マスク２の上部に定位される。当該定位穴１１と定位突出２２の設置数は、制限無しであり、また、当該定位穴１１と定位突出２２が上蓋１と遮蔽マスク２の上部に設置される位置は、制限無しであり、実用に応じて、適当に変更することができる。
【００１４】
また、定位穴１１と定位突出２２の設置位置を交換しても良く、即ち、当該定位穴１１を、当該遮蔽マスク２の上部に設置し、また、当該定位突出２２を、上蓋１の上（図に未表示）に設置する。また、当該上蓋１の底部と遮蔽マスク２の上部との間に、枠形であるビスコース層２３が設けられ、当該上蓋１と遮蔽マスク２とは、ビスコース層２３により粘着されて安定的に結合され、上記の構造により、本考案の電磁妨害防止遮蔽マスクの上蓋構造が構成される。
【００１５】
また、図５と図６のように、本実施例において、当該結合装置３は、遮蔽マスク２の上部に設置される複数の係合フック２４が含有され、当該係合フック２４は、遮蔽マスク２の上板２１１において、開口２１５の近くに設けられ、当該係合フック２４は、遮蔽マスク２の上板２１１をプレスすることにより形成され、当該係合フック２４は、傾斜状に上へ伸ばして上板２１１の上部から突出し、当該係合フック２４は、上板２１１の開口２１５に向かって斜めに伸ばし、当該係合フック２４が、当該上蓋１の四つの周辺に係合されることにより、当該上蓋１と遮蔽マスク２とは、当該係合フック２４により、安定的に結合される。当該係合フック２４の設置数や位置は、制限無しで、実用に応じて、適当に変更することができる。
【００１６】
また、図７のように、本実施例において、当該結合装置３は、上蓋１に設置される複数の係合部１２と、当該遮蔽マスク２の上部に設置される複数の係合穴２５とが含有され、当該係合部１２は、プレス方式により、上蓋１の４隅に形成され、当該係合穴２５は、プリング方式により、遮蔽マスク２の上板２１１の４隅に形成され、当該係合部１２と当該係合穴２５とが、互いに対応し、当該係合部１２と当該係合穴２５とが互いに係合されることにより、当該上蓋１と遮蔽マスク２は、当該係合部１２と係合穴２５との係合により、結合される。当該係合部１２と当該係合穴２５の設置数は、制限無しで、また、当該係合部１２と係合穴２５が上蓋１と遮蔽マスク２の上部に設置される位置は、制限無しであり、実用に応じて、適当に変更することができる。また、係合部１２と係合穴２５の設置位置を交換しても良く、即ち、当該係合部１２を、当該遮蔽マスク２の上部に設置し、また、当該係合穴２５を上蓋１の上に設置する。
【００１７】
また、図８のように、本実施例において、当該結合装置３は、遮蔽マスク２の上部に設置される複数のガイド２６が含有され、当該ガイド２６は、遮蔽マスク２の上板２１１の開口２１５において、対向する両側の位置に、当該ガイド２６は、遮蔽マスク２の上板２１１をプレスすることにより形成され、当該ガイド２６は、Ｌ形状である板体で、上板２１１の開口２１５において、対向する両側から突出し、当該ガイド２６により、上蓋１の両側の縁がガイドされ、これにより、上蓋１がスムーズに遮蔽マスク２の上部を覆うようになり、当該開口２１５を遮蔽し、また、当該遮蔽マスク２の上部に、二つの定位突出２７が設けられ、当該二つの定位突出２７は、遮蔽マスク２の上板２１１において、対向する両側に設けられ、当該上蓋１の両端が、当該二つの定位突出２７に抵当することにより、当該上蓋１が、正確に当該遮蔽マスク２の上部に定位される。当該ガイド２６と定位突出２７の設置数と位置は、制限無しであり、実用に応じて、適当に変更することができる。
【００１８】
本考案は、別に設置された上蓋１により、遮蔽マスク２の遮蔽状態を回復し、また、結合装置３により、上蓋１を当該遮蔽マスク２の上部に結合して固定し、当該上蓋１が、板状設計で、金型の費用を大幅に低減でき、また、材料のコストも低下でき、製造時間を節約でき、有効的に産出高が向上される。
【００１９】
以上は、ただ、本考案のより良い実施例であり、本考案の実用新案登録請求の範囲は、それにより制限されず、本考案の明細書や図面及び内容に従って、等価の構造変更は、全てが、本考案の実用新案登録請求の範囲に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本考案に相関する遮蔽マスクの使用状態の立体図である。
【図２】本考案の第１の実施例の立体分解図である。
【図３】本考案の第１の実施例の立体組合せ図である。
【図４】本考案の第１の実施例の断面図である。
【図５】本考案の第２の実施例の立体分解図である。
【図６】本考案の第２の実施例の断面図である。
【図７】本考案の第３の実施例の断面図である。
【図８】本考案の第４の実施例の立体分解図である。
【符号の説明】
【００２１】
１         上蓋
１１       定位穴
１２       係合部
２         遮蔽マスク
２１       マスク体
２１１     上板
２１２     側板
２１３     収納空間
２１４     予断線
２１５     開口
２２       定位突出
２３       ビスコース層
２４       係合フック
２５       係合穴
２６       ガイド
２７       定位突出
３         結合装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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