【事件の表示】
　平成　４年特許願第　２６０９９号「透明反射層形成方法及びホログラム形成体の製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年　８月　６日出願公開、特開平　５−１９７３２３］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【１】手続の経緯・本願発明
　本願は、平成４年１月１７日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１３年４月２５日付けの手続補正書により補正された明細書と出願当初の図面の記載からみて、その明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】
　基材樹脂表面に透明反射層と微細凹凸を形成する方法において、基材樹脂を真空中で酸素又は／及び窒素雰囲気下とした状態で蒸発源に金属を用い上記樹脂表面に蒸着を行い、該樹脂表面に上記金属の酸化物又は／及び窒化物からなる金属化合物の透明反射層を形成し、該透明反射層の形成前に樹脂表面に微細凹凸を設けることを特徴とする透明反射層形成方法。」（以下、「本願発明１」という。）
　
【２】引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された実願昭６１−１６９８４３号（実開昭６３−７４６７５号）のマイクロフィルム（以下、引用例１という。）には、「ホログラム転写箔」（考案の名称）が記載され、図面と共に以下の記載がある。
　
「第１図は本考案に係るホログラム箔の構成を示す断面図である。このホログラム転写箔は支持体フィルム１０と、前記支持体フィルム１０の片面上に形成された剥離層１２と、前記剥離層１２上に形成された保護層１４と、前記保護層１４上に形成された印刷層１６と、前記印刷層上に形成された表面にレリーフ型ホログラム１８が形成されたホログラム形成層２０上に蒸着により形成された透明反射層２２と、前記透明反射層２２上に形成された接着剤層２４とからなる。」（第６頁第１０行〜第１９行）、
　
「ホログラム形成層２０には、エンボス成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られ、保護層１４との密着性が良好で、さらに透明反射層２２との接着性優れた樹脂が要求される。・・・ホログラム１８をエンボス成形するには、第２図に示すようなプレス機を使用する。このプレス機は上部定盤３０、下部定盤３２と、上部定盤３０に取付けられたレリーフ型ホログラムスタンパ３４とからなる。レリーフ型ホログラムスタンパ３４をホログラム成形樹脂層２０に重ね合せ、９０〜１５０℃の条件にて加熱、加圧した後、冷却を行なうことにより、樹脂層２０の表面にホログラム１８を形成する。この状態は第３図に示されている。
　透明反射層２２としては、・・・具体的には酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウムないし硫化亜鉛のうちの一つの物質を利用することができる。透明反射層２２を作製するには、通常よく知られている真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の方法によって設けることができる。」（第８頁第５行〜第９頁第１７行）
　
　これらの記載及び図面等を参照すると、引用例１には、
「ホログラム形成層２０表面に透明反射層２２とホログラム１８を形成する方法において、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の方法によって、該ホログラム形成層２０表面に金属の酸化物からなる金属化合物（酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウムないし硫化亜鉛のうちの一つの物質）の透明反射層２２を形成し、該透明反射層２２の形成前にホログラム形成層２０表面にホログラム１８を設けることを特徴とする透明反射層２２形成方法。」
　
が記載されているものと認める。
　
　また、同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６３−２２３１６３号公報（以下、引用例２という。）には、「透明ガスバリアフィルムの製造方法」（発明の名称）が記載され、図面と共に以下の記載がある。
　
「透明プラスチックフィルム基体上に、金属アルミニウムを酸素ガスを導入した雰囲気中で加熱蒸発させて酸化アルミニウム薄膜を設けた後、該酸化アルミニウム薄膜に水分を吸着させ、次いで熱処理することを特徴とする透明ガスバリアフィルムの製造方法。」（特許請求の範囲）、
　
「酸化硅素や酸化アルミニウムなど金属酸化物の蒸着には、・・・金属酸化物自体を加熱蒸発させる方法が最も一般的であるが、金属酸化物は一般に蒸気圧が低く蒸発には高温を必要とすることや、蒸発速度が小さいという欠点がある。」（第１頁右下欄第３行〜第９行）、
　
「図は、酸化アルミニウム薄層を形成する反応性蒸着装置の一例を示す概略図である。・・・真空容器中の圧力は１×１０−５〜１×１０−２トール、酸素ガスの供給量は、蒸発器６からのアルミニウムの蒸発量に応じて調整される。」（第２頁左下欄第１２行〜同頁右下欄第６行）
  
【３】対比・判断
（１）まず、本願発明１と引用例１に記載のものとを対比すると、前者の「基材樹脂」、「透明反射層」、「微細凹凸」は、それぞれ後者の「ホログラム形成層２０」、「透明反射層２２」、「ホログラム１８」に相当するから、両者は「基材樹脂表面に透明反射層と微細凹凸を形成する方法において、該樹脂表面に金属の酸化物からなる金属化合物の透明反射層を形成し、該透明反射層の形成前に樹脂表面に微細凹凸を設ける」点で一致し、次の点で相違している。
　
相違点：本願発明１では、上記金属の酸化物からなる金属化合物の透明反射層を、真空中で酸素又は／及び窒素雰囲気下とした状態で蒸発源に金属を用い上記樹脂表面に蒸着を行っているのに対して、引用例１においては、記載されていない点。
　
（２）上記相違点について検討する。
　金属の酸化物からなる金属化合物層を真空中で酸素または／及び窒素雰囲気下とした状態で蒸発源に金属を用いて基板表面に蒸着を行うことは、本願出願前周知の技術である（例えば、引用例２、特開平２−１５１６２号公報第３頁左上欄第１１行〜同頁左下欄第１６行参照、特開平１−２６１２４２号公報第３頁左下欄第１２行〜同頁右下欄第１０行参照、実願昭６１−１１８５４４号（実開昭６３−２４２５９号）のマクロフィルム第２頁第１行〜第８行及び第８頁第１６行〜第１９行参照、薄膜工学ハンドブック第１版（株式会社オーム社、昭和３９年５月２５日発行、以下、参考図書という。）第Ｉ−１４９頁第１行〜第５行参照）。
　このような周知技術を引用例１に記載されたものに適用することが困難とは言えず、また、引用例１に記載されたものに、このような周知技術を適用することについて阻害する特段の事由も存在しない。また、当該適用によって、格別顕著な作用効果を奏するものでもない。
　
（３）請求人は、本願発明１は、「透明反射層形成時のエネルギーが大きいと樹脂自体に与えるダメージが大きくなり、」、「透明反射層形成時に微細凹凸が消失したり、微細凹凸の形状が変化したりする」等の問題点を解決するものであるのに対して、引用例１及び周知技術にはこのような課題を全く示唆するものではない旨主張する。
　
　しかしながら、課題の共通性のみが発明の進歩性を否定する論理付けとなり得るものではなく、共通する技術分野の周知技術を適用することは通常困難ではなく、本願発明１の構成は、前説示の通り、上記引用例１に記載されたものに周知技術を適用して容易に構成できたものといえる。
　
（４）なお、一般に金属が金属化合物より融点が低いことは、たとえば、引用例２，特開昭５５−１１１２７号公報第２頁左下欄第１９行〜同頁右下欄第１行や、上記参考図書の第１・３８表のＴｉの欄及び第１・４２表のＴｉＯ２の欄及び第１・５１表のＴｉＮの欄等を見る限り、当業者にとっては周知事項に過ぎないものと認められる。
　
【４】むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１は、本願出願前に頒布された刊行物及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第29条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。