【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置および方法ならびに原版製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源ユニットから出射される光束を原版へ導入するための照明手段を有する露光装置であって、
前記照明手段により前記原版を照明する露光照明領域を切り換える切換手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  露光画角を前記露光照明領域内の一部に画定する手段をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記照明手段は前記原版上の露光照度を均一化し露光照明領域を決定する、露光照明領域の異なる光学インテグレーションユニットを２つ以上有し、前記切換手段はこれらのインテグレーションユニットを切り換えることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】  スループットまたはＣ．Ｏ．Ｏ．を算出する手段を備え、前記切換手段は該算出結果に基づいて、スループットが最大であるかまたはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小となる前記露光照明領域が選択されるように前記光学インテグレーションユニットを切り換えることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】  前記算出手段は、露光チップサイズ、露光像面照度およびレジスト感度に基づいて前記スループットまたはＣ．Ｏ．Ｏ．を算出する請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】  選択可能な露光照明領域ごとに露光チップサイズ、露光像面照度およびレジスト感度と、スループットまたはＣ．Ｏ．Ｏ．との関係を示したデータベースを搭載し、前記データベースの中よりスループットが最大またはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小になる露光照明領域を選択することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項７】  前記光学インテグレーションユニットを選択、変更することで、原版上のチップ描画範囲に対して最大限に露光した場合の露光像面照度が最大となるように前記露光照明領域を選択、変更することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項８】  露光チップサイズ、露光像面照度、レジスト感度に応じて、スループットが最大になる、またはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小になるように選択した、光学インテグレーションユニット、ショットレイアウト、スループット、Ｃ．Ｏ．Ｏ．のうち一つ以上を表示することのできる表示手段を有することを特徴とする請求項３〜７のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項９】  前記光学インテグレーションユニットがハエの目レンズであることを特徴とする請求項３〜８のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項１０】  前記各光学インテグレーションユニット（番号ｎ、但し、ｎ＝１，２，‥‥）の露光照明領域における非スキャン方向の幅Ｌnは、露光照明領域における非スキャン方向幅の最大値をＬMAXとして、
ｎ＝１については
Ｌ１＝ＬMAX
ｎ＞１については
（ｎ−１）／ｎ×ＬMAX＜Ｌn＜ＬMAX
の関係を満たすように決定することを特徴とする請求項３〜９のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項１１】  選択・変更結果を表示する装置をさらに有し、この表示装置に、スループットが最大またはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小となるように選択した光学インテグレーションユニット、ショットレイアウト、スループット、Ｃ．Ｏ．Ｏ．のうち一つ以上を表示することを特徴とする請求項３〜１０のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項１２】  原版に描かれたパターンを投影露光するための光源ユニットと、前記光源を投影レンズまで導入するための照明手段を有する投影露光装置を用いて露光する露光方法において、
原版上の露光照度を均一化し、露光照明領域を決定する、露光照明領域の異なる光学インテグレーションユニットを少なくとも２つ以上設け、前記インテグレーションユニットを切り換えることによって、スループットが最大またはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小になる露光照明領域を選択することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】  前記各光学インテグレーションユニット（番号ｎ、但し、ｎ＝１，２，‥‥）の露光照明領域における非スキャン方向の幅Ｌnは、露光照明領域における非スキャン方向幅の最大値をＬMAXとして、
ｎ＝１については
Ｌ１＝ＬMAX
ｎ＞１については
（ｎ−１）／ｎ×ＬMAX＜Ｌn＜ＬMAX
の関係を満たすように決定することを特徴とする請求項１２に記載の露光方法。
【請求項１４】  選択・変更結果を表示する装置をさらに設け、この表示装置に、スループットが最大またはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小となるように選択した光学インテグレーションユニット、ショットレイアウト、スループット、Ｃ．Ｏ．Ｏ．のうち一つ以上を表示することを特徴とする請求項１２または１３に記載の露光方法。
【請求項１５】  請求項３〜１１のいずれか１つに記載の露光装置または請求項１２〜１４のいずれか１つに記載の露光方法を用いて露光を行う際に、露光像面照度およびレジスト感度に応じてスループットが最大になるかまたはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小になるように前記原版上に描画するチップ数およびチップ方向を決定することを特徴とする原版製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、設計パターンを基板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造するために用いられる露光装置および露光方法ならびにこれらの装置および方法において用いられる原版（マスク）に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、半導体デバイス等を製造するための露光装置および方法におけるスループットを向上させ、Ｃ．Ｏ．Ｏ．を低下させることを課題とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段および作用】
上記課題を解決するために、本発明の露光装置は、光源ユニットから出射される光束を原版へ導入するための照明手段を有する露光装置において、前記照明手段により前記原版を照明する露光照明領域を切り換える切換手段を設けたことを特徴とする。
また、本発明の露光方法は、原版に描かれたパターンを投影露光するための光源ユニットと、前記光源を投影レンズまで導入するための照明手段を有する投影露光装置を用いて露光する露光方法において、原版上の露光照度を均一化し、露光照明領域を決定する、露光照明領域の異なる光学インテグレーションユニットを少なくとも２つ以上設け、前記インテグレーションユニットを切り換えることによって、スループットが最大またはＣ．Ｏ．Ｏ．が最小になる露光照明領域を選択することを特徴とする。
この種の照明手段は、一般に、所定の露光照明領域に対して原版上の露光照度を均一化するべく、かつ光源ユニットから出射される光束を露光にできるだけ有効に利用すべく構成される。また、露光装置には、前記露光照明領域より小さな露光ショットサイズに対応するため、ブレード等の露光画角を画定する部分遮光手段が設けられる。本発明において露光照明領域とは、上述のような部分遮光手段により遮光しない場合に照明手段により露光照明される領域を意味する。