Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  物品移送コンベヤ上に線列をなして配置された物品をコンベヤの横方向に移送するための物品移送装置用プッシャーバー組立体であって、
物品移送コンベヤから物品移送コンベヤの横方向に一斉に移送されるべき全ての物品に係合する程の長さを有する横方向に延びた、ポケットを有するポケットバーと、
互いに長手方向に端と端を合わせて配置され、隣接した端が互いに間隔を隔てている第1及び第2の枢動可能なプッシャーバーと、
前記ポケットバーを平行して前記第1及び第2のプッシャーバーの各々に解放自在に固着するための手段と、
前記第1のプッシャーバーを支持するための第1の支持手段と、
前記第2のプッシャーバーを支持するための第2の支持ビームと、
を含む、物品移送装置用プッシャーバー組立体。
【請求項２】  前記ポケットバーの前記ポケットは、前記ポケットバーに取り外し自在に固着された複数の歯によって構成され、前記ポケットバーに解放自在に固着するための前記手段が更に設けられ、該手段は、前記ポケットバー及び前記歯の１つに設けられた整合した孔を貫通する間隔を隔てた複数のほぼ垂直に延びたピンと、前記ほぼ垂直に延びたピンの上自由端に固着されたプルリングとを含む、請求項１によるプッシャーバー組立体。
【請求項３】  前記第1の支持手段は線列の横方向に延びる垂直平面において前記第1のプッシャーバーの向きを調整するための手段と、
線列の横方向に延びる垂直平面において前記第２のプッシャーバーの向きを調整するための手段と、を含み、
それによって、移送中物品のトッピングを回避するために、前記プッシャーバー組立体によって移送される物品に僅かな傾きを与えることができる、請求項１によるプッシャーバー組立体。
【請求項４】  前記ポケットバーがその長さにそって撓み、
前記支持手段のほぼ横方向に延びる水平平面において前記第1のプッシャーバーの向きを調整するための手段と、
第２の支持手段のほぼ横方向に延びる水平平面において前記第２のプッシャーバーの向きを調整するための手段と、を含み、
それによって、水平平面において前記第1のプッシャーバーを調整するための前記手段の調整及び水平平面において前記第２のプッシャーバーを調整するための前記手段の調整によって前記ポケットバーに湾曲を与えることができる、請求項１によるプッシャーバー組立体。
【請求項５】  前記第1の支持手段に対する前記第1のプッシャーバーの高さを調整するための手段と、
前記第２の支持手段に対する前記第２1のプッシャーバーの高さを調整するための手段と、を更に含む、請求項１によるプッシャーバー組立体。
【請求項６】  前記ポケットバーを前記第1及び第2のプッシャーバーに解放自在に固着するための手段により、前記ポケットバーの位置を前記第1及び第2のプッシャーバーの位置に対してその長手方向軸線に沿って調整することができる、請求項１によるプッシャーバー組立体。
【請求項７】  前記物品移送装置が新たに形成された高温のカラス容器を焼きなまし炉の中へ装填するための焼きなまし炉ローダである、請求項１によるプッシャーバー組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
例えば、容器Ｃの直径が時々変わるとき、ポケットバー２２の歯２４の間隔を互いに変えることが望ましいので、ポケットバー２２をプッシャーバー２６、２８に固着するための急速外しの特徴が設けられ、所定のポケットバー２２の歯２４の間隔を変えるのではなく、異なる間隔の歯２４の付いた、異なるポケットバー２２を使用することができる。そのために、歯２４及びプッシャーバー２６、２８の整合した孔に差し込むことによって歯２４をプッシャーバー２６に取り外し自在に固着するために各々上自由端にプルリング１３２をもった間隔を隔てた複数のピン２２が設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  主結晶相として固溶体スピネルを含有し、２５〜３００℃の温度範囲にわたり２２〜３２×１０−７／℃の範囲の線熱膨張係数を示す透明ガラスセラミックスにおいて、前記ガラスセラミックスが、酸化物基準の重量％で計算して：６０〜７５％のＳｉＯ２  ，８〜２０％のＡｌ２Ｏ３，２〜１０％のＺｎＯ，１〜６％のＭｇＯ，１〜１０％のＴｉＯ２，０〜６％のＺｒＯ２，０〜３％のＢａＯ、並びにＺｎＯ＋ＭｇＯは合わせて約５．５％以上、及びＴｉＯ２＋ＺｒＯ２は合わせれば約４％以上の組成を含むことを特徴とするガラスセラミックス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  前記ガラスセラミックスが、重量％で表わして：６５〜７５％のＳｉＯ２，１０〜１５％のＡｌ２Ｏ３，３〜７％のＺｎＯ，２〜５％のＭｇＯ，４〜８％のＴｉＯ２，０〜４％のＺｒＯ２，０〜２％のＢａＯ、並びにＺｎＯ＋ＭｇＯは合わせて約６％以上、及びＴｉＯ２＋ＺｒＯ２は合わせて約４％以上を含む組成を有することを特徴とする請求項１記載のガラスセラミックス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料を製造するための方法であって、
主として0.60〜0.80dL／ｇの範囲内にあるが、0.90dL／ｇの高さにも及ぶ固有粘度（ＩＶ）値の広い分布を有し、前記ＩＶ値の差が少なくとも0.05dL／ｇである多様なＰＥＴ材料を収集し、
前記収集されたＰＥＴ材料を混合し、前記混合されたＰＥＴ材料を二次成形して、複数の不均一なフレーク状およびチャンク状の切片から実質的になるＰＥＴ材料のＩＶが不均質な混合物とし、そして
前記ＰＥＴ材料のＩＶが不均質な混合物を固相重合（ＳＳＰ）に直接付して、平均ＩＶ値が少なくとも0.85dL／ｇの不均質なＰＥＴ材料を形成させる、
工程を含む方法。
【請求項２】  前記収集されたＰＥＴ材料の前記ＩＶ値の前記差が少なくとも0.10dL／ｇである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記形成された不均質なＰＥＴ材料の平均ＩＶ値が少なくとも 0.9dL／ｇである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記形成された不均質なＰＥＴ材料のＩＶ値の範囲が0.90dL／ｇ〜 1.5dL／ｇである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記混合されたフレーク状切片およびチャンク状切片のＩＶが不均質な混合物を、前記チャンク状切片を精製してフレーク状切片とすることによって、さらに二次成形する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記混合されたＩＶが不均質な混合物をさらに二次成形する工程が、
前記フレーク状切片およびチャンク状切片のＩＶが不均質な混合物を圧力下で圧延して、前記チャンク状切片を扁平化してフレーク状切片とする、
工程を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記収集工程、混合工程、および二次成形工程の間に形成される前記ＰＥＴ材料のＩＶが不均質な混合物中に見出されるあらゆるＰＶＣ粒子を識別し、そして
前記識別されたＰＶＣ粒子を前記固相重合の前に取り除く、
工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】  前記ＰＶＣ粒子を識別し、そして取り除く工程が、
前記二次成形されたＩＶが不均質な混合物を前記ＰＶＣ粒子が茶色に変わる温度まで加熱し、そして
前記二次成形されたＩＶが不均質な混合物から実質的にすべての前記茶色に着色した粒子を取り除く、
工程を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記固相重合工程が、
前記固相重合内に窒素サイクルを導入し、そして
前記窒素サイクルに窒素を通し、そして塩基性材料の保護床を通してＨＣｌ汚染物質を包含させることによって、前記固相重合工程の前記窒素サイクルにおいて形成される前記ＨＣｌ汚染物質の大部分を取り除く、
工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  前記形成された不均質なＰＥＴ材料が、高性能プラスチックストラップの製造に使用するのに好適な材料である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化合物（Ｉ）：
【化１】
2000143955.tif 000001
［式中、ｐ＝０、１又は２であり、少なくとも１個のＲ４基は下記式αからなる群から選択され、他のＲ４は有機アミノ又はヒドロキシ化合物の残基を表す、
【化２】
2000143955.tif 000002
（ここで、各α構造のＲ’は水素、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−４アルコキシ又は−ＣＯ−Ｃ１−４アルキルである）］を、ポリエステル１００重量部当たり０．１〜５．０重量部の量で均質に混合したポリエステルポリマー。
【請求項２】  化合物（Ｉ）が、式（Ｉ’）： 
【化３】
2000143955.tif 000003
［式中、ｎ＝２であり、Ｒ４は下記式αからなる群から選択される、
【化４】
2000143955.tif 000004
（ここで、各α構造のＲ’は水素、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−４アルコキシ又は−ＣＯ−Ｃ１−４アルキルである）］に対応する、請求項１に記載のポリエステルポリマー。
【請求項３】  化合物（Ｉ）が、
【化５】
2000143955.tif 000005
［式中、Ｒ４は請求項２に定義した通りである］からなる群から選択される、請求項１に記載のポリエステルポリマー。
【請求項４】  化合物（Ｉ）が、式（ＩＩ’’）：
【化６】
2000143955.tif 000006
［式中、Ｒ’は水素である］のものである、請求項３に記載のポリエステルポリマー。
【請求項５】  ポリエステルポリマーの重縮合の前、その間又はその後に、請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物を、ポリエステル１００重量部当たり０．１〜５．０重量部の量で加えることを特徴とする、ポリエステルポリマーの改質方法。
【請求項６】  請求項１に記載のポリエステルポリマーを染料又は顔料と混合することによる、合成ポリエステルの内部着色を改善する方法。
【請求項７】  ポリエステルポリマー又はポリエステルポリマーに対して少なくとも混和性のポリマーキャリヤーと、請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物とを含むマスターバッチ組成物。
【請求項８】  繊維形態の請求項１に記載のポリエステルポリマー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月20日(2006.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  架橋シリコーンエラストマーと低分子量シリコーン流体を含んでなるシリコーン相、及び
有機液体を含んでなる有機相であって、該有機相１００重量部当たり水を５０重量部未満しか含まない有機相
を含んでなる非水性シリコーンエマルジョン。
【請求項２】  前記シリコーン相が連続相であり、前記有機相が不連続相であって、不連続有機相が連続シリコーン相中に分散している、請求項１記載のエマルジョン。
【請求項３】  前記架橋シリコーンエラストマーがアルケニルシリコーン前駆体とハイドロジェンシリコーン前駆体とのヒドロシリル化反応の反応生成物である、請求項１記載のエマルジョン。
【請求項４】  前記アルケニルシリコーン前駆体が１分子当たり平均２以上のアルケニル基を有するオルガノシロキサン又はオルガノポリシロキサンである、請求項３記載のエマルジョン。
【請求項５】  前記アルケニルシリコーン前駆体が次式の線状アルケニル停止ポリオルガノシロキサンである、請求項４記載のエマルジョン。
ＭviaＤxＤviyＭ2-a
式中、符号ｘは５００を上回る数であり、ａ＋ｙが１〜２０の範囲内にあるという限定条件の下で、符号ｙは０〜２０の数であり、符号ａは０〜２の数であり、Ｍviは
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ1/2
（Ｒ1は炭素原子数２〜１０の一価不飽和炭化水素基であり、Ｒ2及びＲ3は各々独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義され、Ｄは
Ｒ4Ｒ5ＳｉＯ2/2
（Ｒ4及びＲ5は各々独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義され、Ｄviは
Ｄvi＝Ｒ6Ｒ7ＳｉＯ2/2
（Ｒ6は炭素原子数２〜１０の一価不飽和炭化水素基であり、Ｒ7は独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義され、Ｍは
Ｍ＝Ｒ8Ｒ9Ｒ10ＳｉＯ1/2
（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義される。
【請求項６】  前記ハイドロジェンシロキサン前駆体が１分子当たり平均２以上の水素化ケイ素基を有するオルガノハイドロジェンシロキサン、請求項３記載のエマルジョン。
【請求項７】  前記ハイドロジェンシリコーン前駆体が次式の樹脂である、請求項６記載のエマルジョン。
(ＭHwＱz)j
式中、Ｑは式ＳｉＯ4/2を有するものであり、ＭHはＨbＲ113-bＳｉＯ1/2を有するもので、符号ｂは１〜３の数であり、Ｒ11は炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基であり、符号ｗとｚは０．５〜４．０の比を有し、符号ｊは２．０〜１００の数である。
【請求項８】  前記低分子量シリコーンが２５℃で１０００センチストークス未満の粘度を有する、請求項１記載のエマルジョン。
【請求項９】  前記低分子量シリコーンが、Ｄ3、Ｄ4、Ｄ5、Ｄ6及びＭ′Ｄ′iＭ′及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項８記載のエマルジョン。
ただし、Ｄは
Ｒ4Ｒ5ＳｉＯ2/2
（Ｒ4 及びＲ5 は各々独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義され、Ｄ′は独立に
Ｒ4Ｒ5ＳｉＯ2/2
（Ｒ4 及びＲ5 は各々独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義され、Ｍ′は独立に
Ｒ12Ｒ13Ｒ14ＳｉＯ1/2
（Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々独立に炭素原子数１〜４０の一価炭化水素基である）として定義され、符号ｉは０〜３００である。
【請求項１０】  前記有機液体が、エチレングリコール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチレングリコール、イソブチレングリコール、メチルプロパンジオール、グリセリン、ソルビトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリオキシアルキレン共重合体及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載のエマルジョン。
【請求項１１】  請求項１乃至請求項１０のいずれか１項記載のエマルジョンを含んでなるパーソナルケア組成物。
【請求項１２】  低分子量シリコーンの第一部分とシリコーンエラストマーとを含んでなるシリコーンゲルを形成し、該ゲルを低分子量シリコーンの第二部分と共にスラリーとして所望の粒度を有する混合物を形成し、該混合物を有機溶媒と混ぜてエマルジョンとすることを含んでなる、非水性エマルジョンの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の回転速度検出装置付転がり軸受ユニットは、上述した不都合を解消すべく考えたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月10日(2006.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
［実施例３］
洗浄したＩＴＯ基板を蒸着装置に入れ、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン）を５０ｎｍ蒸着し、その上に化合物例Ｋ−１および上記化合物Ｄを（質量比１：１７）の比率で３６ｎｍ共蒸着し、さらにその上に、次に示す化合物Ｇを３６ｎｍ蒸着し、有機薄膜を形成した。この有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でフッ化リチウムを３ｎｍ蒸着した後、アルミニウムを４０ｎｍ蒸着し、有機ＥＬ素子を作製した。その結果、発光極大波長λｍａｘが４８５ｎｍ、ＣＩＥ色度値（ｘ，ｙ）＝（０．１９，０．５１）である青色発光が得られ、外部量子効率は１９．１％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月19日(2006.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置において、
ビットライン（ＢＬ）とソースライン（ＣＳＬ）の間で直列に接続された多数のメモリセルで各々構成され、ストリング選択ライン（ＳＳＬ）、接地選択ライン（ＧＳＬ）及び複数のワードライン（ＷＬ）を各々有する多数のメモリストリング（ＣＳ）を、各々有する多数の単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ０〜ＭＣＵｊ）と、
前記単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）に分割配置され、前記単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）の前記メモリストリング（ＣＳ）に接続する多数のソースライン（ＣＳＬ）と、
固有の単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）の前記ストリング選択ライン（ＳＳＬ）、接地選択ライン（ＧＳＬ）、ソースライン（ＣＳＬ）及びワードライン（ＷＬ）に信号を駆動させるために各々設けた多数のドライバ（ＷＬＤ）と、を含み、前記ＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置は、さらに
アドレス情報を含む信号に応答して、電圧信号を前記ストリング選択ライン（ＳＳＬ）、接地選択ライン（ＧＳＬ）及びワードライン（ＷＬ）に接続するスイッチング用のトランジスタ（ＳＮ、ＷＮ、ＧＮ）を制御する第１ゲーティング電圧（ＶＧＰｔ）を、前記ドライバ（ＷＬＤ）のグループに供給する第１高電圧制御回路（ＨＶＣｔ）と、
アドレス情報を含む信号に応答して、電圧信号（ＶＣＳＬ）を前記ソースライン（ＣＳＬ０）に接続するスイッチング用のトランジスタ（ＣＮ３）を制御する第２ゲーティング電圧（ＶＣＳＬｐ）を、前記ドライバ（ＷＬＤ）のグループに供給する第２高電圧制御回路（ＨＶＣｃ）と、を含むことを特徴とするＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置。
【請求項２】  ＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置において、
対応する多数のワードライン（ＷＬ）、さらに、対応するストリング選択ライン（ＳＳＬ）、及び対応する接地選択ライン（ＧＳＬ）に各々接続されて選択される多数のメモリストリング（ＣＳ）を各々含む多数の単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ０〜ＭＣＵｊ）と、
前記多数の単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）の１つに各々対応し、互いに独立的に駆動可能な多数のソースライン（ＣＳＬ）と、
前記多数の単位メモリセルアレイの１つに各々対応し、前記対応する単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）の前記ストリング選択ライン、接地選択ライン（ＧＳＬ）及びワードラインに各々接続され、これらを駆動する多数のドライバ（ＷＬＤ）と、を含み、
前記ドライバ（ＷＬＤ）は、さらに、前記対応する単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）の多数のメモリストリングの１つに各々対応し、前記対応するメモリストリング（ＣＳ）の前記ストリング選択ライン（ＳＳＬ）、前記接地ライン及び前記複数のワードライン（ＷＬ）に各々接続し、これらを駆動する多数のドライバ部を各々含み、
前記ドライバ（ＷＬＤ）は、対応する前記単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）に接続されたソースラインに各々接続し、これらを駆動し、
前記ドライバ（ＷＬＤ）は、ソース電圧を各々受信し、ソースラインイネーブル信号を受信し、これに応答して前記ソースライン電圧（ＶＣＳＬ）を前記対応する単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）に接続する前記ソースラインへ接続するためのソースゲーティング電圧（ＶＣＳＬｐ）を発生させるソースライン用の高電圧制御回路（ＨＶＣｃ）を各々含む、ことを特徴とするＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置。
【請求項３】  前記ドライバ部は、さらに、イネーブル信号（ＥＮ０）、高電圧信号（ＨＶ）、及びポンピングクロック（ＣＬＫ）を受信し、これらに応答して、前記対応するメモリストリング（ＣＳ）に接続する前記ストリング選択ライン（ＳＳＬ）、接地ライン、及び多数のワードライン（ＷＬ）を制御するための少なくとも１つのゲーティング電圧（ＶＧＰｔ）を発生させる高電圧制御回路（ＨＶＣｔ）を各々含むことを特徴とする請求項２に記載のＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置。
【請求項４】  前記ドライバ（ＷＬＤ）は、対応する前記単位メモリセルアレイ（ＭＣＵ）に接続する前記ソースラインに各々接続し、これを駆動することを特徴とする請求項３に記載のＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置。
【請求項５】  前記ドライバ（ＷＬＤ）は、各々、ソース電圧を受信し、前記イネーブル信号（ＥＮ０）、高電圧信号（ＨＶ）、及びポンピングクロック（ＣＬＫ）に応答して、ソースライン電圧を前記接続されたソースライン（ＣＳＬ０）へ供給することを特徴とする請求項４に記載のＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置。
【請求項６】  前記ドライバ（ＷＬＤ）は、さらに、ソースライン活性化信号（ＣＳＬＥＮ０）を受信し、これに応答して、前記ソースライン電圧（ＶＣＳＬ）を前記接続されたソースライン（ＣＳＬ０）へ接続するためのソースラインゲーティング電圧（ＶＣＳＬｐ）を供給するソースライン用の高電圧制御回路（ＨＶＣｃ）を各々含むことを特徴とする請求項４に記載のＮＡＮＤ型フラッシュメモリ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
押圧金具には、
上面部と、
上面部の二辺を折り下げた側壁部とが形成されており、
上面部において棟側となる側の端縁が折り下げられた棟側折り下げ部と、
棟側折り下げ部の下縁が外側方向に折り曲げられたボルト貫通部とが形成され、
ボルト貫通部には穴があけられており、
側壁部において軒側となる側には穴があけられており、
その穴よりも下方の側壁部端縁には押圧部が形成されており、
ベース金具には、
底部と、
底部の二辺を立ち上げた立面部とが形成されており、
立面部の上端縁を内側方向に折り曲げて折り曲げ部が形成されており、
底部において軒側となる側の端縁は折り下げられてから内側方向に折り曲げられており、
軒側の折り下げ箇所よりも内側の底部には被押圧片が形成されており、
棟側となる側は折り下げられてから外側方向に折り曲げられており、
立面部において軒側となる側には前穴が、
棟側となる側には後ろ穴があけられており、
回動体には、
回動体底部と、
その二辺を立ち上げた回動体側壁部とが形成されており、
回動体底部には、ボルト貫通部の穴に通すことができるボルトが上向きに突出して取り付けられており、
回動体側壁部には穴があけられており、
ベース金具の立面部の間に押圧金具が組み合わせられており、
ベース金具の前穴と押圧金具の穴とが合わせられて、
それぞれの穴に貫通された固定具を介して回動可能に組み合わせられており、
前記立面部の後ろ穴と前記回動体側壁部の穴とが合わせられて、
それぞれの穴に貫通された固定具を介して回動可能に組み合わせられており、
前記ベース金具の折り曲げ部と押圧金具の上面部との間には、
上向きに突出しているボルトが取り付けられている摺動体が摺動可能に組み合わせられて
成る屋根上取り付け金具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項ごとに取り付け方法を示しながら、効果を説明する。
請求項１に記載した屋根上取り付け金具の取り付け方法について説明すると、まず屋根材に対して次のように取り付ける。
ベース金具において、底部の両端縁からそれぞれ折り下げられてから、さらに折り曲げられた箇所を二段の屋根材の軒側ハゼ部に挿入する。次に、押圧金具を回動させて、そのボルト貫通部に形成された穴を、回動体から突出している回動体のボルトに通す。このとき、押圧金具の押圧部が屋根材の面板部を押圧して食い込ませるために上面部の棟側を押す。さらに、ボルト貫通部の穴から突出している回動体のボルトを、ナットで締め付ける。このようにして、二段の屋根材の軒側を押圧させることで屋根上取り付け金具が固定される。このとき、二段の屋根材の軒側を挟むため、強固な固定ができる。
回動体は、ベース金具の後ろ穴を介してベース金具と組み合わせられている。そして、屋根上取り付け金具は、屋根材に取り付けられるとき、上の段の屋根材の面板部の上面に位置する回動体のボルトを締めることで固定される。このため、上面部の長さを比較的長くすることができる。
こうして屋根材上に取り付けられた屋根上取り付け金具の上面部に、太陽光発電装置やアンテナやクーラー用室外機等を取り付ける。それらの機器を直接取り付ける場合もあるし、それらの支持枠等を上面部に取り付ける場合もある。
このようにして屋根上取り付け金具が取り付けられたとき、ベース金具の底部や押圧金具の上面部は、下地材の面と平行になっている。
つまり、請求項１によれば、部材を取り付けるための面及び摺動体のボルトが、屋根材の面板部に対してではなく、下地材の面に対して平行となる。このため、ベース金具の上面に取り付ける部材に支障を来すことがなくなる。このように、上面に載置する装置を取り付けるためのボルトの高さを一定にすることができるものである。
また、二段の屋根材にわたって差し架けられるので、上面に載置する部材や装置の取り付け位置調整範囲が広くなり、上面に取り付けられる部材や装置にいっそう対応しやすくなった。しかも、二段の屋根材の軒側に食い込ませるようにして挟み込んで固定するため、図３２に示した屋根上取り付け金具よりも強く取り付けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月1日(2006.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、支柱７０の上端部には、挿通孔７４ａが上側のヨーク３４の挿通孔３４ａと一直線状になるように形成されており、これらの挿通孔７４ａおよび挿通孔３４ａに支持ピン５１が挿通されることにより、上側のヨーク３４が支柱７０の上端部に揺動自在に支持されている。
同様に、支柱７０の下端部には、挿通孔７４ｂが下側のヨーク３５の挿通孔３５ａと一直線状になるように形成されて、これらの挿通孔７４ｂおよび挿通孔３５ａに支持ピン５１が挿通されることにより、下側のヨーク３５が支柱７０の下端部に揺動自在に支持されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月28日(2006.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも内輪、外輪、合成樹脂製保持器及び転動体を備える転がり軸受において、前記合成樹脂製保持器がポリアミド樹脂をベース樹脂とする樹脂組成物からなり、かつ表面に防湿被膜が形成されていることを特徴とする転がり軸受。
【請求項２】  ポリアミド樹脂がポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミド６１２、ポリアミド６１０、ポリアミド４６、ポリアミド６Ｔ及びポリアミドＸＤ６から得らればれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載の転がり軸受。
【請求項３】  樹脂組成物がガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維、アルミナ繊維、チタン酸カリウムウィスカー、ホウ酸アルミニウムウィスカー、炭化ケイ素ウィスカー、窒化ケイ素ウィスカー、塩基性硫酸マグネシウムウィスカー、ウォラストナイト、ゾノライトから選ばれる少なくとも１種の補強材を含有することを特徴とする請求項１または２記載の転がり軸受。
【請求項４】  補強材の含有量が樹脂組成物全量の５〜４５質量％であることを特徴とする請求項３記載の転がり軸受。
【請求項５】  防湿被膜が非晶性フッ素樹脂被膜、硬化型ウレタン樹脂被膜、硬化型アクリル樹脂被膜、硬化型エポキシ樹脂被膜または金属蒸着被膜であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の転がり軸受。
【請求項６】  防湿被膜が非晶性フッ素樹脂被膜、硬化型ウレタン樹脂被膜、硬化型アクリル樹脂被膜または硬化型エポキシ樹脂被膜であり、かつ、膜厚が０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の転がり軸受。
【請求項７】  防湿被膜がアルミニウム、クロムまたはニッケルからなり、かつ、膜厚が０．００８〜０．２μｍであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の転がり軸受。
【請求項８】  防湿被膜が硬化型ウレタン樹脂、硬化型アクリル樹脂または硬化型エポキシ樹脂からなる膜厚０．１〜２０μｍの被膜を下地層の上に、アルミニウム、クロムまたはニッケルからなる膜厚０．００８から０．２μｍの被膜を積層してなることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の転がり軸受。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、鉄道、道路、水路等の各種用途に用いられるトンネルの覆工工法及びそれに用いるトンネル覆工用施工装置に関し、特に、トンネルの横断面の壁長と略等しい長さの筒状体を、トンネル坑壁の横断面に沿って配置し、該筒状体内に流動性固化材を注入して固化させることにより、固化材を充填した筒状体によりトンネル坑壁を支持するトンネルの覆工工法及びそれに用いるトンネル覆工用施工装置に関するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、本発明のトンネル覆工用施工装置は、無人化運転が可能となるように無線又はリモコンによる遠隔操作によって、覆工が終わった安全な場所から操作するように構成することができ、これにより、劣悪な環境下での施工作業の無人化を促進することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記支柱が、挟持される前後一対の円筒状の凸面と、平坦な側面とを備えた小判状の断面を有する請求項５記載の保持構造。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月31日(2006.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  鞘芯構造を有するアクリル繊維において、二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタンからなる光触媒を鞘部に１０質量％を超え、５０質量％以下含有し、かつ、繊維断面における鞘部の面積比率が５〜２５％であることを特徴とする光触媒含有アクリル繊維。
【請求項２】  二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタン中の二酸化ケイ素の含有比率が１質量％以上１０質量％以下である請求項１記載の光触媒含有アクリル繊維。
【請求項３】  芯鞘構造のアクリル繊維の製造にあたり、二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタンを分散した有機溶剤に、アクリロニトリル系重合体と有機溶剤からなる紡糸用の原液を添加混合してマスターバッチを調製し、引き続き、このマスターバッチに対して、アクリルニトリル系重合体と二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタンとの質量比が、９０未満：１０超から５０：５０となるようにアクリロニトリル系重合体と有機溶剤からなる紡糸用の原液を添加混合することにより鞘部原液を調製し、複合紡糸することを特徴とする光触媒含有アクリル繊維の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、鞘芯構造を有するアクリル繊維において、二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタンからなる光触媒を鞘部に１０質量％を超え、５０質量％以下含有し、かつ、繊維断面における鞘部の面積比率が５〜２５％であることを特徴とする光触媒含有アクリル繊維にある。
さらに本発明は、芯鞘構造のアクリル繊維の製造にあたり、二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタンを分散した有機溶剤に、アクリロニトリル系重合体と有機溶剤からなる紡糸用の原液を添加混合してマスターバッチを調製し、引き続き、このマスターバッチに対して、アクリルニトリル系重合体と二酸化ケイ素含有複合アナターゼ型酸化チタンとの質量比が９０未満：１０超から５０：５０となるようにアクリロニトリル系重合体と有機溶剤からなる紡糸用の原液を添加混合することにより鞘部原液を調製し、複合紡糸することを特徴とする光触媒含有アクリル繊維の製造方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月28日(2006.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
例として、呼び径がＭ２４（ｍｍ）の場合には、前記ＪＩＳ Ｂ ０２０７のメートル細目ねじではねじピッチＰを２ｍｍ又は１．５ｍｍ又は１ｍｍに形成するが、本発明では、ねじピッチＰを０．３ｍｍ〜０．８ｍｍ、望ましくは０．５ｍｍに設定する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月5日(2006.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記入力軸１と出力歯車４との回転速度を変える場合で、先ず入力軸１と出力歯車４との間で減速を行なう場合には、上記各アクチュエータ１０、１０により上記各トラニオン７、７を上記各枢軸９、９の軸方向に移動させ、これら各トラニオン７、７を図６に示す位置に揺動させる。そして、上記各パワーローラ６、６の周面をこの図６に示す様に、上記各入力側ディスク２、２の内側面の中心寄り部分と上記各出力側ディスク５、５の内側面の外周寄り部分とにそれぞれ当接させる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月12日(2006.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
次に、図２は、やはり請求項１、３、４に（一部、図２では省略しているが、前述の図８〜９に示した構造により、請求項２にも）対応する、本発明の実施の形態の第２例を示している。本例の場合には、シールリング２６ａを構成する円環状の芯金２７ａを、プーリ２の基端部に、締り嵌めで外嵌固定している。又、上記シールリング２６ａを構成するシールリップ２８ａの先端縁を、ハウジング２２の先端部に形成した円筒面３０に、全周に亙って弾性的に当接させている。その他の部分の構成及び作用は、上述した第１例の場合と同様であるから、同等部分には同一符号を付して、重複する説明を省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  スリーブの軸受穴に軸が回転自在に挿入され、軸外周面またはスリーブ内周面の少なくともいずれか一方に複数の浅溝からなるパターン状の動圧発生溝を有するラジアル軸受面を有し、軸の上端側にはロータ磁石を有するロータハブが取り付けられ、軸の他端側にはフランジ状の抜け止め部を有し、この抜け止め部は段部に収納されスリーブ側に固定された底板により密封され、スリーブの上端面とロータハブの当接する面はそのいずれか一方に複数の浅溝からなるパターン状の動圧発生溝を有するスラスト軸受面を構成し、スリーブはモータステータと共にベース板側に固定され、軸とスリーブの間の隙間およびロータハブとスリーブ上端面の間は潤滑剤で充満されており、ロータハブまたはスリーブ上端面上の前記パターン状の動圧発生溝の少なくとも一本は他の浅溝より２倍以上深い流体軸受装置。
【請求項２】  軸外周面またはスリーブ内周面に設けられたパターン状の浅溝からなる動圧発生溝は二組の魚骨パターン状であり、二組の動圧溝の間にはラジアル軸受面の隙間より広い部分を有し潤滑剤を保持した請求項１記載の流体軸受装置。
【請求項３】  請求項１又は２に記載する流体軸受装置のロータハブには記録再生用のディスクがクランパーにより押圧されて取り付けられ、回転する前記ディスク面に磁気ヘ  ッドまたは光学ヘッドを対向して設け、この磁気ヘッドまたは光学ヘッドは前記ディスク面に平行に移動自在に構成され、前記ディスクに対して信号の記録または再生を行なうディスク記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために本発明の流体軸受装置は、スリーブの軸受穴に軸が回転自在に挿入され、軸外周面またはスリーブ内周面の少なくともいずれか一方に複数の浅溝からなるパターン状の動圧発生溝を有するラジアル軸受面を有し、軸の上端側にはロータ磁石を有するロータハブが取り付けられ、軸の他端側にはフランジ状の抜け止め部を有し、この抜け止め部は段部に収納されスリーブ側に固定された底板により密封され、スリーブの上端面とロータハブの当接する面はそのいずれか一方に複数の浅溝からなるパターン状の動圧発生溝を有するスラスト軸受面を構成し、スリーブはモータステータと共にベース板側に固定され、軸とスリーブの間の隙間およびロータハブとスリーブ上端面の間は潤滑剤で充満されており、ロータハブまたはスリーブ上端面上の前記パターン状の動圧発生溝の少なくとも一本は他の浅溝より２倍以上深くなるよう構成したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月15日(2006.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
又、図示しないナックル等の懸架装置に、車輪の回転速度を検出する為のセンサ４ｃを支持している。そして、上記カバー１７ｃの一部でこのセンサ４ｃと整合する位置に、図１、３に示す様に、センサ用取付孔３４を形成し、このセンサ４ｃの検出部である外側面が、上記エンコーダ３ａの被検出面２８に対向する様にしている。尚、このセンサ４ｃを設置する構造は、前述の図１０の構造或は図１１の構造を採用しても良い。又、上記カバー１７ｃに、上述した様なセンサ用取付孔３４を形成せずに、このセンサ４ｃを上記円輪部３１よりも軸方向内方に配置し、このセンサ４ｃと上記エンコーダ３ａとの間にこの円輪部３１が存在する様にしても良い。この様な構造でも、上記カバー１７ｃは非磁性材製である為、回転速度検出が可能である。又、この構造で、上記センサ４ｃの検出部を上記円輪部３１の内側面に当接させれば、このセンサ４ｃの軸方向の位置決めが容易となる。又、上記円輪部３１の円周方向複数個所（図示の例では２個所）で、上記センサ用取付孔３４から円周方向に関して外れた位置に、図２、３に示す様に、水抜き孔２７、２７を形成している。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月1日(2006.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
入力側ディスク２Ａとカム板７との間には、ローディングカム式の押圧装置１２が設けられている。すなわち、カム板７には径方向に延びるローラ８が設けられ、入力側ディスクには傾斜カム面が形成され、これらの係合により、カム板７の回転が入力側ディスク２Ａに伝達されるとともに、入力側ディスク２Ａを出力側ディスク３Ａに押し付けるスラスト力を発生させる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005009529.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2005009529.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  軸受穴が形成されたスリーブと、
前記スリーブと相対的に回転可能に前記軸受穴に貫装される軸と、
前記スリーブの軸受穴の一端を密封して当該スリーブに固設されるスラスト板とを備え、
前記軸受穴の内周面および前記軸の外周面の少なくとも一方に、潤滑剤で満たされる少なくとも２組の第１の動圧溝と、
前記第１の動圧溝と開放された前記スリーブの軸受穴の他端との間の当該軸受穴の内周面にオイル溜まり部と、
前記スラスト板および前記軸の当該スラスト板と対向する端部の少なくとも一方に、潤滑剤で満たされる第２の動圧溝とが形成され、
前記潤滑剤の表面張力をγ、前記気液境界面と前記軸との接触角をθ１、前記気液境界面と前記オイル溜まり部内面との接触角をθ２、前記軸の直径をｄ、前記オイル溜まり部の内径をＤ、前記スリーブの軸受穴の他端側からの前記潤滑剤の流出防止を保証する衝撃をＧ、前記潤滑剤の密度をρ、前記気液境界面から前記スラスト板までの長さをｌとしたとき、
（Ｇ×ρ×ｌ）÷ｆ（Ｇ）＜π・γ・（ｄ・ｃｏｓθ１＋Ｄ・ｃｏｓθ２）
ここで、
ｆ（Ｇ）＝０．９５６９×Ｌｎ（Ｇ）−３．９７３７の関係式に基づいて、前記オイル溜まり部の内径と前記軸の外径とが設定されることを特徴とする、流体軸受装置。
【請求項２】  前記軸は、前記オイル溜まり部と対向する外周面に、前記軸受穴の他端側に向かって漸減的にその直径が細くなるテーパ部が形成されることを特徴とする、請求項１に記載の流体軸受装置。
【請求項３】  請求項１および２のいずれかに記載の流体軸受装置が組み込まれたスピンドルモータを備える、ディスク記録装置。
【請求項４】  前記軸の外径が３ｍｍであり、前記オイル溜まり部の内径と当該軸の外径との差が６０μｍ以下である請求項１に記載の流体軸受装置を備えた、２．５型ハードディスク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記直径および内径の設定のための関係式は、例えば、潤滑剤の表面張力をγ、気液境界面と軸との接触角をθ１、気液境界面とオイル溜まり部内面との接触角をθ２、軸の直径をｄ、オイル溜まり部の内径をＤ、スリーブの軸受穴の他端側からの潤滑剤の流出防止を保証する衝撃をＧ、潤滑剤の密度をρ、気液境界面からスラスト板までの長さをｌとしたとき、
（Ｇ×ρ×ｌ）÷ｆ（Ｇ）＜π・γ・（ｄ・ｃｏｓθ１＋Ｄ・ｃｏｓθ２）
ここで、
ｆ（Ｇ）＝０．９５６９×Ｌｎ（Ｇ）−３．９７３７である。この関係式を用いて、オイル溜まり部の内径と軸の外径とを設定することができる。これにより、振動および衝撃時に潤滑剤の飛散および流出を防止できる流体軸受装置を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
図１４（Ｂ）のアクセスポイント７１は、図１４（Ａ）の位置入力装置６１５を測位装置７１５に置換したものである。測位装置７１５は、例えば、ＧＰＳ受信機から構成される。アクセスポイント７１は、ＧＰＳ受信機のような測位装置７１５から得られる地理的位置データを、位置記憶部７１４に記憶させる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
アクセスポイント６１または７１から配信される電波を、車載装置１１の無線ＬＡＮ送受信部またはサーバ５１のネットワーク送受信部５１５で受信すると、図１６の処理がスタートする。ステップＳ４０で、車載装置１１の制御部１１１またはサーバ５１の制御部５１１は、その電波中にアクセスポイントの位置情報が含まれるか否かを判断し、含まれていると判断した場合（Ｓ４０：Ｙｅｓ）には、ステップＳ４１において、その位置情報がすでにアクセスポイントデータ格納部１１４またはアクセスポイントデータベース５１２に登録されているものであるか否かを判断する。登録されていない場合（Ｓ４１：Ｎｏ）には、ステップＳ４２において、その位置情報をアクセスポイントデータ格納部１１４またはアクセスポイントデータベース５１２に登録する。一方、ステップＳ４０において、アクセスポイント６１または７１からの電波中にアクセスポイントの位置情報が含まれていない場合（Ｓ４０：Ｎｏ）には、アクセスポイントデータ格納部（またはアクセスポイントデータベース）の位置情報の登録はせずに終了する。また、ステップＳ４０において、位置情報が含まれていると判断され（Ｓ４０：Ｙｅｓ）、かつ、ステップＳ４１でその位置情報がすでにアクセスポイントデータ格納部１１４またはアクセスポイントデータベース５１２に登録されていると判断された場合（Ｓ４１：Ｙｅｓ）、アクセスポイントデータベース（またはアクセスポイントデータ格納部）の位置情報の登録はせずに終了する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月7日(2006.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】    光学系の被測定面の偏心を測定する装置であって、
所定の光学距離よりも短いコヒーレンス長を有する光束を発する光源と、前記光束を、前記被測定面に向かう第１の光束及び該第１の光束とは別の第２の光束に分割する光束分割手段と、前記第１の光束を前記被測定面に照射する測定光学系と、前記被測定面で反射した前記第１の光束の光路長または前記第２の光束の光路長の少なくとも一方を調整する光路長調整手段と、前記被測定面で反射した前記第１の光束及び前記第２の光束を受光する受光手段とを有し、前記光路長調整手段によって前記２つの光路長の差を前記コヒーレンス長以内に調整することにより前記受光手段上で前記被測定面で反射した前記第１の光束及び前記第２の光束に干渉を生じせしめることにより、前記被測定面で反射した前記第１の光束を判別し、判別された前記受光手段上の前記第１の光束の基準位置に対する位置ずれに基づいて前記被測定面の偏心を求める偏心演算手段とを備える
ことを特徴とする光学系偏心測定装置。
【請求項２】    請求項１に記載の光学系偏心測定装置において、
前記受光手段上における前記第１の光束のスポット径または前記第２の光束のスポット径の何れか一方もしくは両方を調整するスポット径調整手段を備える
ことを特徴とする光学系偏心測定装置。
【請求項３】    請求項１又は請求項２に記載の光学系偏心測定装置において、
前記受光手段上で受光されるべき前記第１の光束のスポットと前記第２の光束のスポットとを内包する受光領域を拡大してから前記受光手段上に照射する受光領域拡大手段を備える
ことを特徴とする光学系偏心測定装置。
【請求項４】    光学系の被測定面の偏心を測定する方法であって、
所定の光学距離よりも短いコヒーレンス長を有する光束を、前記被測定面に向かう第１の光束及び該第１の光束とは別の第２の光束に分割する工程と、
前記被測定面で反射した前記第１の光束及び前記第２の光束を受光手段上で重ね合わせるように受光する工程と、
前記被測定面で反射した前記第１の光束及び前記第２の光束の光路長を前記コヒーレンス長以内で略一致させる工程と、
前記受光手段上の基準位置に対する前記第１の光束の位置ずれに基づいて前記被測定面の偏心を求める工程とを有する
ことを特徴とする光学系偏心測定方法。
【請求項５】    請求項４に記載の光学系偏心測定方法において、
前記受光手段上における前記第１の光束のスポット径または前記第２の光束のスポット径の何れか一方もしくは両方を調整する工程を有する
ことを特徴とする光学系偏心測定方法。
【請求項６】    請求項４又は請求項５に記載の光学系偏心測定方法において、
前記受光手段上で受光されるべき前記第１の光束のスポットと前記第２の光束のスポットとを内包する受光領域を拡大してから前記受光手段上に照射する工程を有する
ことを特徴とする光学系偏心測定方法。
【請求項７】    請求項１に記載の光学系偏心測定装置において、
前記光学距離が、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置とみかけの曲率中心位置が近い面との面間の光学距離、または、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置と面の位置が近い面との面間の光学距離である
ことを特徴とする光学系偏心測定装置。
【請求項８】    請求項４に記載の光学系偏心測定方法において、
前記光学距離が、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置とみかけの曲率中心位置が近い面との面間の光学距離、または、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置と面の位置が近い面との面間の光学距離である
ことを特徴とする光学系偏心測定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
上記請求項６に記載の光学系偏心測定方法によれば、例えば、受光手段上に照射される第１の光束のスポットと第２の光束のスポットとが干渉縞を観察するには小さく、なおかつ、これらが互いに近接位置に有るような場合には、単純に各像のスポット径のみを拡大させただけでは、受光手段上での各像の間の距離が略固定されたままであるため、各像が互いに重なり合って判別困難になる。これに対し、本発明では、受光領域を拡大させてから受光手段上に照射する工程を行うことで、各像のスポット径と、各像間の距離との双方を拡大することができるので、各像が判別不可能な状態に重なり合うのを防ぎながらも、干渉縞が観察可能な状態まで各像を拡大させることができる。
請求項７に記載の光学系偏心測定装置は、請求項１に記載の光学系偏心測定装置において、前記光学距離が、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置とみかけの曲率中心位置が近い面との面間の光学距離、または、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置と面の位置が近い面との面間の光学距離であることを特徴とする。
請求項８に記載の光学系偏心測定方法は、請求項４に記載の光学系偏心測定方法において、前記光学距離が、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置とみかけの曲率中心位置が近い面との面間の光学距離、または、前記被測定面と、該被測定面のみかけの曲率中心位置と面の位置が近い面との面間の光学距離である
ことを特徴とする。