Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  １点対多点音声通信システムにおける複数の通信装置間で伝達される音声情報をアーカイブする方法であって：
上記複数の通信装置のうちの１つまたはそれ以上の通信装置から送信された音声情報を記録する段階；
上記記録された音声情報内に存在する１つまたはそれ以上の会話部分を決定する段階であって、上記１つまたはそれ以上の会話部分は第１会話部分を含み、上記１つまたはそれ以上の会話部分の各々は上記複数の通信装置のうちの１つまたはそれ以上の通信装置が送信した音声情報から構成されるところの段階；および
上記第１会話部分を保存する段階；から構成されることを特徴とする方法。
【請求項２】  上記記録された音声情報内に存在する上記１つまたはそれ以上の会話部分を決定する上記段階は：
上記記録された音声情報内の１セットを構成する１つまたはそれ以上の発言部分を識別する段階であって、上記１つまたはそれ以上の発言部分の各々は開始点と終了点によって決定され、上記記録された音声情報の振幅は上記１つまたはそれ以上の発言部分の各々の上記開始点と上記終了点を決定するのに使用されるところの段階；および
上記１セットを構成する１つまたはそれ以上の発言部分に含まれる発言部分の位置に基づいて上記１つまたはそれ以上の会話部分決定する段階；から構成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】  上記音声情報の上記振幅の平均が、第１期間の間、第１閾値より大きい場合に、発言部分の上記開始点が起こり、
上記開始点の後、上記音声情報の上記振幅の上記平均が、少なくとも第２期間の間、第２閾値よりも小さい場合に、発言部分の上記終了点が起こることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】  上記１セットを構成する発言部分に含まれる１つまたはそれ以上の発言部分の位置に基づいて上記１つまたはそれ以上の会話部分を決定する上記段階が、
隣接する発言部分間の時間の隔たりに基づいて上記１セットを構成する発言部分に含まれる発言部分を１つまたはそれ以上のグループに分類する段階であり、上記１つまたはそれ以上のグループの各々は上記１セットを構成する発言部分のうちの１つまたはそれ以上の発言部分を含み、上記１つまたはそれ以上のグループの各々において存在する発言部分に関して隣接する発言部分の上記時間の隔たりが第３期間より小さく、上記１つまたはそれ以上のグループの各々は１つの会話部分に対応するところの段階から構成されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】  １点対多点音声通信システムにおける複数の通信装置間で伝達される音声情報をアーカイブするシステムあって：
メモリー；
上記複数の通信装置のうちの１つまたはそれ以上の通信装置によって送信された音声情報を記録するように構成された通信モジュール；および
上記記録された音声情報内に存在する１つまたはそれ以上の会話部分を決定するように構成されたプロセッサモジュールであり、上記１つまたはそれ以上の会話部分は第１会話部分を含み、上記１つまたはそれ以上の会話部分の各々は上記複数の通信装置のうちの１つまたはそれ以上の通信装置が送信した音声情報を含み、当該プロセッサモジュールは上記メモリーに上記第１会話部分を保存するところのプロセッサモジュール；を有することを特徴とするシステム。
【請求項６】  上記記録された音声情報内に存在する上記１つまたはそれ以上の会話部分を決定するために、上記プロセッサモジュールは、
上記記録された音声情報内に存在する１セットを構成する１つまたはそれ以上の発言部分を識別し、
上記１セットを構成する発言部分に含まれる発言部分の位置に基づいて上記１つまたはそれ以上の会話部分を決定するように構成され、
上記１セットを構成する発言部分の各々は開始点と終了点によって決定され、上記記録された音声情報の振幅は上記１セットを構成する発言部分の各々の上記開始点と終了点を決定するのに使用されることを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項７】  上記記録された音声情報の上記振幅の平均値が、第１期間の間、第１閾値よりも大きい場合に、上記発言部分の上記開始点が起こり、
上記開始点の後、上記記録された音声情報の上記振幅の平均値が、少なくとも第２期間の間、第２閾値より小さい場合に、上記終了点が起こることを特徴とする請求項６に記載のシステム。
【請求項８】  上記１セットを構成する発言部分に含まれる上記１つまたはそれ以上の発言部分の位置に基づいて上記１つまたはそれ以上の会話部分を決定するために、上記プロセッサモジュールは、
隣接する発言部分間の時間の隔たりに基づいて、上記１セットを構成する発言部分に含まれる発言部分を１つまたはそれ以上のグループに分類するように構成され、
上記分類されたグループの各々は上記１セットを構成する発言部分のうちの１つまたはそれ以上の発言部分を含み、上記１つまたはそれ以上のグループの１つにおいて隣接する発言部分の上記時間の隔たりが第３期間より小さく、上記１つまたはそれ以上のグループの各々は１つの会話部分に対応することを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】  上記プロセッサモジュールは、上記第１会話部分に含まれる音声情報を送信した１セットを構成する１つまたはそれ以上の通信装置を決定するように構成されることを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項１０】  上記１セットを構成する通信装置の各々に関して、上記第１会話部分に含まれる音声情報の１部分を決定するように上記プロセッサモジュールが構成され、当該１部分は当該上記１セットを構成する通信装置のうちの１の通信装置が送信した音声情報であることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】  上記第１会話部分に含まれる上記音声情報を送信した上記１セットを構成する通信装置を決定するために、上記プロセッサモジュールは、
上記第１会話部分に含まれる上記音声情報から１つまたはそれ以上の装置識別子を決定し、
上記１つまたはそれ以上の装置識別子の各々に対応する通信装置を決定するように構成されることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】  １点対多点音声通信システムにおいて複数の通信装置間で伝達される音声情報をアーカイブするためにコンピュータ読み取り可能記憶媒体であって、
上記複数の通信装置のうちの１つまたはそれ以上の通信装置に送信された音声情報を記録するステップ、
上記音声情報内に存在する１つまたはそれ以上の会話部分を決定するステップであり、上記１つまたはそれ以上の会話部分は第１会話部分を含み、上記１つまたはそれ以上の会話部分の各々は上記複数の通信装置のうちの１つまたはそれ以上の通信装置によって送信された音声情報から構成されるステップ、
上記第１会話部分を記憶するステップとを有することを特徴とするコンピュータ読取可能記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  非受取応答（ＮＡＫ）を管理する方法であって、
受信機（２０）に割り当てられたチャネルについてステータス識別子を該受信機（２０）に送信するステップであって、該ステータス識別子が、該チャネルを介して送信されるデータ・パケットについてサブパケット送信が最大数になったかどうかを示す、送信ステップ
からなる方法。
【請求項２】  請求項１記載の方法において、前記送信ステップが前記ステータス識別子と共に前記受信機（２０）の識別子を送信する方法。
【請求項３】  請求項１記載の方法において、前記送信ステップが、前記受信機に割り当てられた各チャネルに対するステータス識別子をステータス識別子シーケンスとして合わせて送信する方法。
【請求項４】  非受取応答（ＮＡＫ）を管理する方法であって、
チャネルを介して受信機（２０）に送信されるデータ・パケットについて、サブパケット送信数をカウントするステップ、及び
該カウント数が、許容されるサブパケット送信の最大数に達した場合に、該チャネルを識別するチャネル識別子を該受信機（２０）に送信するステップ
からなる方法。
【請求項５】  請求項４記載の方法において、前記送信するステップが、前記受信機を識別する受信機識別子をチャネル識別子と共に送信する方法。
【請求項６】  請求項４記載の方法であって、さらに、
少なくとも１つの新しいデータ・パケットが前記チャネルを介して送信され、許容されるサブパケット送信の最大数になった場合に、前記カウント数をリセットするステップ
からなる方法。
【請求項７】   非受取応答（ＮＡＫ）を管理する方法であって、
受信機（２０）に割り当てられたチャネルについてステータス識別子およびサービス識別子を該受信機（２０）に送信するステップであって、該サービス識別子が、該チャネルを介して送信されるデータ・パケットに関連付けられたサービスのタイプを識別し、該ステータス識別子が、該データ・パケットについてサブパケット送信が最大数になったかどうかを示す、送信ステップ
からなる方法。
【請求項８】  請求項７に記載の方法において、前記送信ステップが、前記受信機（２０）に割り当てられた複数のチャネルに対するステータス識別子およびサービス識別子の交互のシーケンスを送信する方法。
【請求項９】  請求項８に記載の方法において、前記シーケンス内のステータス識別子の位置によって、前記ステータス識別子が関連付けられるチャネルを識別する方法。
【請求項１０】  非受取応答（ＮＡＫ）を管理する方法であって、
チャネルを介して受信機（２０）に送信されるデータ・パケットについて、サブパケット送信数をカウントするステップ、及び
該カウント数が、許容されるサブパケット送信の最大数に達した場合に、該チャネルを介して送信されるデータ・パケットに関連付けられたサービスを識別するサービス識別子を該受信機（２０）に送信するステップ
からなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
この第４の場合の処理を行うために、デジタル放送受信装置２００には、あらかじめ時間情報メモリ２２７内に、所定の時間として、変更反映時間ｔ２を記憶している。一般にデジタル放送では、放送局でサービス情報が変更された後、ａｃｔｕａｌ  Ｐ／Ｆ  ＥＩＴが変更されてから、ｏｔｈｅｒ  Ｐ／Ｆ  ＥＩＴが変更されるまでに最大３０秒程度かかる。従って、変更反映時間ｔ２は、３０秒より長い時間とするのがよく、例えばシステム設計上の余裕を見込んで、６０秒程度とするのがよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月2日(2006.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディジタル・オーディオ／ビデオ信号を受信する入力と、
該入力された信号をテレビ受信機へ供給可能な出力信号へ復調及びデコードする手段と、
デコーダがいわゆる「ライブ」作動モードに設定されているときに復調された前記入力信号を記憶する第一のバッファ・メモリとを有し、
前記第一のバッファ・メモリに記録された信号がデコーダからの出力信号を構成するいわゆる「再生」作動モードを有する、テレビ受信機用のディジタル・デコーダであって、
デコーダが前記「再生」モードに設定されている間、復調された前記入力信号を記憶する第二のバッファ・メモリを更に有し、
前記第二のバッファ・メモリに記録された信号は、前記入力信号の時間的に圧縮されたバージョンであり、デコーダが前記「再生」モードから別のいわゆる「ライブへ戻る」作動モードへ切り替えられたときに前記出力信号を構成する、ことを特徴とするデコーダ。
【請求項２】  請求項１記載のデコーダであって、
前記第二のバッファ・メモリの上流に配置され、前記復調された入力信号を該復調された入力信号が前記第二のバッファ・メモリに記録される前に時間的に圧縮するフィルタを更に有する、ことを特徴とするデコーダ。
【請求項３】  請求項２記載のデコーダであって、
前記フィルタは、前記復調された入力信号における完全な画像を表すデータのみを前記第二のバッファ・メモリへ通すように設計される、ことを特徴とするデコーダ。
【請求項４】  請求項３記載のデコーダであって、
前記デコーダは、前記「ライブへ戻る」モードから前記「ライブ」モードへ自動的に切り替わり、前記第二のバッファ・メモリの読み出しスキャンが完了するとすぐに前記２つのバッファ・メモリのコンテンツを消去するように設計される、ことを特徴とするデコーダ。
【請求項５】  請求項１記載のデコーダであって、
前記第一のバッファ・メモリの上流に配置され、前記復調された入力信号を該復調された入力信号が前記第一のバッファ・メモリに記録される前に時間的に圧縮するフィルタを有する、ことを特徴とするデコーダ。
【請求項６】  請求項２又は５記載のデコーダであって、
分析モジュールは、前記圧縮における圧縮率がデコーダにおいて利用可能なリソースに対して適合するように前記フィルタをパラメータ化するように設計される、ことを特徴とするデコーダ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月10日(2006.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イメージ・キャプチャ・デバイスの暗電流を補償するためのシステム（２００）であって、
ダーク・イメージ（２３４）を取り込むためのイメージ・センサ（２０４）と、
前記ダーク・イメージ（２３４）を記憶するためのメモリ要素（２３２）と、
数学的関数（２３７）をダーク・イメージ（２３４）に割り当てるためのロジック（２５０）であって、前記数学的関数の唯一の変数が時間であり、前記数学的関数はメモリ（２３６）に記憶されることからなる、ロジック
とを備え、
前記イメージ・センサ（２０４）が、取込み時間インジケータ（２０６）を含む画像（３１６）を取り込み、前記取込み時間インジケータ（２０６）が、前記数学的関数（２３７）に割り当てられ、前記ロジック（２５０）が、画像取込み時における暗電流値（３１７）を計算し、
前記ロジック（２５０）が、前記取り込まれた画像（３１６）から前記暗電流値（３１７）を減算することからなる、システム（２００）。
【請求項２】
前記イメージ・センサ（２０４）が、電荷結合素子（ＣＣＤ）である、請求項１記載のシステム（２００）。
【請求項３】
前記数学的関数（２３７）が多項式である、請求項１記載のシステム（２００）。
【請求項４】
前記多項式が、前記イメージ・センサ（２０４）内の複数の画素のそれぞれの暗電流（３１７）を表わす、請求項３記載のシステム（２００）。
【請求項５】
数学的関数（２３７）を、前記ダーク・イメージ（２３４）および前記取込み時間インジケータ（２０６）に割り当てるための前記ロジック（２５０）を格納する特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）（２０２）をさらに備える、請求項１記載のシステム（２００）。
【請求項６】
イメージ・キャプチャ・デバイスの暗電流を補償するための方法（６００）であって、
イメージ・センサ（２０４）を用いて、ダーク・イメージ（２３４）を取り込むステップと、
唯一の変数が時間である数学的関数（２３７）を、ダーク・イメージ（２３４）に割り当てるステップと、
前記数学的関数（２３７）をメモリ（２３２）に記憶するステップと、
前記イメージ・センサ（２０４）を用いて、画像（３１６）を取り込むステップと、
画像取込みの時間（２０６）を記録するステップと、
前記画像取込みの時間（２０６）を、前記数学的関数（２３７）に割り当てるステップと、
前記画像取込みの時間における暗電流値（３１７）を計算するステップと、
前記取り込まれた画像（３１６）から、前記暗電流値（３１７）を減算するステップ
を含む、方法。
【請求項７】
前記イメージ・キャプチャ・デバイス（２０４）が電荷結合素子（ＣＣＤ）である、請求項６記載の方法（６００）。
【請求項８】
前記数学的関数（２３７）が多項式である、請求項６記載の方法（６００）。
【請求項９】
前記多項式をコンパクト・フラッシュメモリ（２３６）に記憶するステップをさらに含む、請求項８記載の方法（６００）。
【請求項１０】
前記多項式が、前記イメージ・センサ（２０４）内の複数の画素のそれぞれの暗電流（３１７）を表わす、請求項８記載の方法（６００）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月24日(2005.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に第１の領域と第２の領域と第３の領域を有する半導体膜を形成し、
前記第１の領域の前記半導体膜を、連続発振レーザーを用いて結晶化し、
第２の領域の前記半導体膜、及び第３の領域の前記半導体膜を、パルスレーザーを用いて結晶化し、
前記結晶化された第１の領域の半導体膜を用いて、信号線駆動回路を形成し、
前記結晶化された第２の領域の半導体膜を用いて、走査線駆動回路を形成し、
前記結晶化された第３の領域の半導体膜を用いて、画素回路を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記パルスレーザーは、エキシマレーザー、ＹＡＧレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ＹＬＦレーザー、ＹＡｌＯ３レーザー、ガラスレーザー、ルビーレーザー、又は、Ｔｉ：サファイアレーザーであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
基板上に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に第１の領域と第２の領域と第３の領域を有する半導体膜を形成し、
第１の領域の前記半導体膜を、連続発振レーザーを用いて結晶化し、
第２の領域の前記半導体膜、及び第３の領域の前記半導体膜を、熱結晶化し、
前記結晶化された第１の領域の半導体膜を用いて、信号線駆動回路を形成し、
前記結晶化された第２の領域の半導体膜を用いて、走査線駆動回路を形成し、
前記結晶化された第３の領域の半導体膜を用いて、画素回路を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項３において、前記熱結晶化はＲＴＡ又はファーネスアニール炉を用いた熱アニールであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
基板上に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上に第１の領域と第２の領域と第３の領域を有する半導体膜を形成し、
前記半導体膜を、金属触媒を用いて熱結晶化し、
第１の領域の前記半導体膜を、連続発振レーザーを用いて結晶化し、
前記結晶化された第１の領域の半導体膜を用いて、信号線駆動回路を形成し、
前記結晶化された第２の領域の半導体膜を用いて、走査線駆動回路を形成し、
前記結晶化された第３の領域の半導体膜を用いて、画素回路を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記第２の領域の半導体膜を、連続発振レーザーを用いて結晶化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記第３の領域の半導体膜を、連続発振レーザーを用いて結晶化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、前記連続発振レーザーは、ＹＶＯ４レーザー、ＹＬＦレーザー、又はＹＡＧレーザーであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、前記結晶化された第１の領域の半導体膜を用いて、回路ブロックを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項９において、前記回路ブロックは、トランジスタ、容量素子、抵抗素子によって構成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項９において、前記回路ブロックは、レジスタ、デコーダ、カウンタ、分周回路、メモリ、ＣＰＵ、又はＤＳＰであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１１において、前記メモリはＳＲＡＭ、ＤＲＡＭ、マスクＲＯＭ、又はＥＰＲＯＭであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一において、前記結晶化された第１の領域の半導体膜を用いて、制御回路を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１３において、前記制御回路はインターフェース回路、タイミング生成回路、フォーマット変換部、又は、画像処理回路であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれか一において、前記基板は、石英基板、シリコン基板、金属基板、ステンレス基板、プラスチック基板、又はガラス基板であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月16日(2005.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に、チャネル形成領域と、ソース領域と、ドレイン領域と、から構成された島状半導体層を有する薄膜トランジスタが設けられた半導体装置の作製方法であって、
前記島状半導体層は、
前記絶縁表面上に非晶質半導体膜を形成し、
前記非晶質半導体膜にマーカーを形成し、
パルス発振のレーザー光の走査方向が、前記チャネル形成領域においてキャリアが移動する方向が平行となるように、前記パルス発振のレーザー光を走査し、
前記マーカーを基準として、前記島状半導体層となる領域の前記非晶質半導体膜を、前記パルス発振のレーザー光を照射することにより、厚さ全体にわたって溶融させることで結晶化する、
ことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記レーザー光は、固体レーザー発振装置をレーザー発振装置とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記レーザー光は、ＹＡＧレーザー発振装置、ＹＶＯ４レーザー発振装置、ＹＬＦレーザー発振装置、ＹＡｌＯ３レーザー発振装置、ガラスレーザー発振装置、ルビーレーザー発振装置、アレキサンドライドレーザー発振装置、サファイアレーザー発振装置、またはフォルステライトレーザー発振装置から選ばれた一種または複数種をレーザー発振装置であること、
を特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項２または請求項３において、
前記レーザー発振装置は、半導体レーザーにより励起を行うレーザー発振装置であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記レーザー光は、第２高調波、第３高調波、または第４高調波であること、
を特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記レーザー光は、シリンドリカルレンズによって前記非晶質半導体膜面上に集光されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記レーザー光は、前記非晶質半導体膜面上における前記レーザー光のビームスポット位置が、１パルス発振するごとに、０．３μｍ以上５μｍ以下の一定の距離を基板に対して相対的に移動することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記レーザー光のビームスポットの形状は、矩形状であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記レーザー光のビームスポットの形状は、楕円形状であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記レーザー光のビームスポットの形状は、線形状であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項８乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記非晶質半導体膜面上の前記ビームスポットの相対的な移動方向は、前記ビームスポットの長尺方向に対して垂直であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の作製方法を用いて作製された半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月24日(2005.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】乗物および乗物に搭載される表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸状または凹状に湾曲した曲面を有する基材上に、薄膜トランジスタ及び有機化合物を含む層を発光層とする発光素子を有する表示装置が計器または照明装置として搭載された乗物。
【請求項２】
凸状または凹状に湾曲した曲面を有する基材上に、薄膜トランジスタ及び有機化合物を含む層を発光層とする発光素子を有する表示装置が曲面を有するダッシュボード部に搭載された乗物。
【請求項３】
凸状または凹状に湾曲した曲面を有する基材上に、薄膜トランジスタ及び有機化合物を含む層を発光層とする発光素子を有する表示装置が曲面を有するフロントガラスに搭載された乗物。
【請求項４】
凸状または凹状に湾曲した曲面を有する基材上に、薄膜トランジスタ及び有機化合物を含む層を発光層とする発光素子を有する表示装置が曲面を有するリアウインドウに搭載された乗物。
【請求項５】
凸状または凹状に湾曲した曲面を有する基材上に、薄膜トランジスタ及び有機化合物を含む層を発光層とする発光素子を有する表示装置が曲面を有するシートに搭載された乗物。
【請求項６】
請求項２乃至請求項５のいずれか一において、
前記表示装置が計器として搭載された乗物。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記表示装置と車外に取りつけられたカメラとを接続することを特徴とする乗物。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、前記曲面の曲率半径は、５０ｃｍ〜２００ｃｍであることを特徴とする乗物。
【請求項９】
第１の基板上に半導体素子を含む被剥離層を形成する第１工程と、
前記被剥離層に第２の基板を第１の接着材で接着させて、前記被剥離層を前記第１の基板と前記第２の基板とで挟む第２工程と、
前記被剥離層と前記第１の基板とを分離する第３工程と、
前記被剥離層に第３の基板を第２の接着材で接着させて、前記被剥離層を前記第２の基板と前記第３の基板とで挟む第４工程と、
前記被剥離層と前記第２の基板とを分離して、前記第２の接着材及び前記第３の基板を支持体とする前記被剥離層を形成する第５工程と、
前記第３の基板を凸状または凹状に湾曲させる第６工程とを有することを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の前記第５工程において、前記第１の接着材は溶媒溶液で溶かして除去し、前記被剥離層と前記第２の基板とを分離することを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項９において、前記第１の接着材は感光性を有する接着材であり、前記第５工程において、光を照射して前記被剥離層と前記第２の基板とを分離することを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【請求項１２】
第１の基板上に有機化合物を含む層を発光層とする発光素子または半導体素子を含む被剥離層を形成する第１工程と、
感光性を有する接着材を両面または片面に有するテープが設けられた第２の基板を、前記被剥離層に第１の接着材で接着させて、前記被剥離層を前記第１の基板と前記第２の基板とで挟む第２工程と、
前記被剥離層と前記第１の基板とを分離する第３工程と、
前記被剥離層に第３の基板を第２の接着材で接着させて、前記被剥離層を前記第２の基板と前記第３の基板とで挟む第４工程と、
前記テープと前記第２の基板とを分離して、前記テープ、前記第２の接着材、及び前記第３の基板を支持体とする前記被剥離層を形成する第５工程と、
前記第３の基板を凸状または凹状に湾曲させる第６工程とを有することを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、前記第５工程において、光を照射して前記テープと前記第２の基板とを分離することを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項９乃至１３のいずれか一において、前記第１の基板及び前記第２の基板は、前記第３の基板よりも剛性が高い材料であることを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項９乃至１４のいずれか一において、前記第３の基板は、可撓性を有する基板であることを特徴とする乗物に搭載される表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月24日(2006.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  嫌気性消化を行なう有機性廃液の処理方法であって、
流入する有機性廃液、嫌気性消化を行なう工程から引き抜かれた消化汚泥、および該消化汚泥を固液分離したのちの固形物である濃縮汚泥の少なくともひとつ、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または当該濃縮汚泥の混合物中の固形物の少なくとも一部分を分散させる分散処理工程と、
該分散処理後の有機性廃液、消化汚泥または当該濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または当該濃縮汚泥の混合物中の有機物を改質する改質処理工程と、
該改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または当該濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または当該濃縮汚泥の混合物を溶液と固形物とに分離する分離工程と、
該分離工程後の固形物を嫌気性消化を行なう工程
とを含む方法。
【請求項２】  前記分離工程後の前記溶液からリンを回収するリン回収工程とをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記リン回収工程後の溶液の一部または全部を嫌気性消化を行う槽に導入して当該溶液の嫌気性消化を行う請求項２記載の方法。
【請求項４】  前記リン回収工程において、リンを固形状のリン酸カルシウムとして回収する請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】  前記嫌気性消化を行なう工程における消化汚泥の濃度、ｐＨ、嫌気度および消化汚泥の微生物活性のうち少なくとも１つを計測し、該計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御する請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】  前記流入する有機性廃液の固形物濃度、ｐＨおよび嫌気度のうち少なくとも１つを計測し、該計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御する請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】  前記分散処理または前記改質処理において、処理中または処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物について、有機物濃度、固形物濃度、ｐＨ、嫌気度および微生物活性のうち少なくとも１つを計測し、該計測結果に応じて、前記分散処理または前記改質処理を制御する請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】  前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物に対して、もしくは
前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物から分離した溶液中に対して
リン濃度を計測し、該計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御する請求項２〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】  前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物に対して、もしくは
前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物から分離した溶液中に対して
リン濃度を計測し、該計測結果に応じて前記リン回収工程を制御する請求項２〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】  嫌気性消化を行なう装置を備える有機性廃液の処理装置であって、
流入する有機性廃液、該嫌気性消化を行なう装置から引き抜かれた消化汚泥、および該消化汚泥を固液分離したのちの固形物である濃縮汚泥の少なくともひとつ、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または当該濃縮汚泥の混合物における固形物の少なくとも一部分を分散させる分散処理装置と、
該分散処理装置で処理されたのちの有機性廃液、消化汚泥および当該濃縮汚泥の少なくともひとつ、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または当該濃縮汚泥の混合物中の有機質を改質する改質処理装置と、
該改質処理装置で処理されたのちの有機性廃液、消化汚泥または当該濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または当該濃縮汚泥の混合物を溶液と固形物に分離する分離装置と、
該分離装置で処理されたのちの固形物を前記嫌気性消化を行なう装置に導入する導入装置
とを備える装置。
【請求項１１】  前記分離装置で処理されたのちの前記溶液からリンを回収するリン回収装置をさらに備える請求項１０記載の装置。
【請求項１２】  溶液からリンを回収する前記リン回収装置においてリン回収後の溶液の一部または全部を導入して、嫌気性消化を行うための槽をさらに備えてなる請求項１０〜１１のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】  前記リン回収装置において、リンを固形状のリン酸カルシウムとして回収する手段を備える請求項１１〜１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】  前記嫌気性消化を行なう装置内の消化汚泥の濃度、ｐＨ、嫌気度および消化汚泥の微生物活性のうち少なくとも１つを計測するための計測装置と、該計測装置の計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御するコントローラとを備える請求項１０〜１３のいずれかに記載の装置。
【請求項１５】  前記流入する有機性廃液の固形物濃度、ｐＨおよび嫌気度のうち少なくとも１つを計測するための計測装置と、該計測装置の計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御するコントローラとを備える請求項１０〜１４のいずれかに記載の装置。
【請求項１６】  前記分散処理または前記改質処理において、処理される有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物について、有機物濃度、固形物濃度、ｐＨ、嫌気度または活性のうち少なくとも１つを計測するための計測装置と、該計測装置の計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御するコントローラとを備える請求項１０〜１５のいずれかに記載の装置。
【請求項１７】  前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物に対して、もしくは
前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物から分離した溶液中に対して
リン濃度を計測するための計測手段と、該計測手段の計測結果に応じて前記分散処理または前記改質処理を制御するコントローラとを備える請求項１１〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】  前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物に対して、もしくは
前記改質処理後の有機性廃液、消化汚泥または前記濃縮汚泥、あるいは該有機汚泥、消化汚泥または前記濃縮汚泥の混合物から分離した溶液中に対して
リン濃度を計測する計測手段と、該計測手段の計測結果に応じてリン回収装置の運転を制御するコントローラとを備える請求項１１〜１７のいずれかに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図３は本発明の別の実施例の数遊び物差しの構成を示す平面図である。この数遊び物差しも図１と同様に、一方の辺部(31)に１ｃｍ間隔で目盛を付した３０ｃｍ物差し(30)であり、この物差し(30)の他方の辺部(32)に示されている整数の長さ間隔で１１個の目盛(33a) 〜(33k) が付されている。両端部(33x)(33y)も目盛として利用するため、端部と目盛及び目盛間には、目盛間の長さに対応する整数(34)が付されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図３に示した数遊び物差し(30)の目盛(33a) 〜(33k) も、図１の数遊び物差し(10)と同様に、連続して隣接する１つ以上の目盛間の長さを合計すると単位長さの整数倍の全てが表される。特に、数遊び物差し(30)では、加算の繰り上がり、減算の繰り下がりが理解しやすいように、５単位長さ毎、即ち５ｃｍ毎に目盛が配置され、尚且つ、その５ｃｍ毎の目盛(33b)(33c)(33d)(33g)(33h)は他の目盛(33a)(33e)(33f)(33i)(33j)(33k)よりも長くなっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図４は図３に示した数遊び物差しの使い方を示した説明図である。ａ図に示す通り、例えば、物差し(30)の一方の辺部(31)で長さ９ｃｍの直線を引いておき、生徒達には正解の長さを伏しておく。この長さを物差し(30)の１１個の目盛を付した辺部(32)で合致する目盛同士を探させる。但し、今回の場合には、直線の一方の端部を５ｃｍ毎の長い目盛に合わせることを条件とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004344473.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2004344473.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像情報を担持する放射線の照射を受けて前記画像情報を記録し、記録した前記画像情報を表す画像信号を出力する固体検出器と、該固体検出器から出力された前記画像信号を読み取る読取手段と、前記固体検出器を備えた撮影台と、該撮影台上に被験者の乳房を押圧する押圧板と、該押圧板を前記被験者の乳房を押圧する位置と押圧を解除する位置との間で移動させる移動手段と、該移動手段の動作を制御する制御手段とを備えた乳房用画像撮像装置において、
前記制御手段が、前記読取手段が前記画像信号の読取りを行っていないときに、前記押圧板の移動を行うように前記移動手段を制御するものであることを特徴とする乳房用画像撮像装置。
【請求項２】  前記固体検出器が、第１の導電層、少なくとも１つの光導電層、第２の導電層をこの順に積層してなり、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間に所定の電圧を印加している際に、画像情報を担持する放射線が照射されることにより前記画像情報を静電潜像として記録し、前記第１の導電層と前記第２の導電層とを短絡した後、読取光で走査されることにより前記静電潜像に応じた電流を画像信号として発生するものであることを特徴とする請求項１記載の乳房用画像撮像装置。
【請求項３】  前記制御手段が、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間に電圧が印加されていないときに、前記押圧板の移動を行うように前記移動手段を制御するものであることを特徴とする請求項２記載の乳房用画像撮像装置。
【請求項４】  前記読取光を前記固体検出器に対して照射する光源と、該光源が照射する前記読取光により前記固体検出器の所定範囲を走査するように前記光源を移動させる光源移動手段とを備えたことを特徴とする請求項２または３記載の乳房用画像撮像装置。
【請求項５】  線状の前記読取光を前記固体検出器に対して照射する光源と、前記線状の読取光が延びる方向と直交する方向に前記光源を走査移動させる光源移動手段とを備えたことを特徴とする請求項２から４のいずれか１項記載の乳房用画像撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画面表示可能な表示手段を備えた遊技機であって、
遊技者によって撮影される撮影対象画像を前記表示手段にて画面表示させる撮影対象画像表示制御手段と、
前記撮影対象画像を個々に識別するための識別情報を前記表示手段にて前記撮影対象画像と共に表示する識別情報表示制御手段と、
を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】  前記識別情報は、機械読み取り可能なシンボルとして表示されることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】  前記識別情報は、一次元若しくは二次元のバーコードとして表示されることを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】  前記識別情報は、所定の規則に従って付与される固有情報を含んでいることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】  前記識別情報は、遊技機を識別するための遊技機識別情報を含んでいることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の遊技機。
【請求項６】  前記識別情報は、前記撮影対象画像上に表示されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【請求項７】  前記撮影対象画像表示制御手段は、前記撮影対象画像を画面上での移動を伴う態様で表示させると共に、
前記識別情報表示制御手段は、前記撮影対象画像の移動に合わせて前記識別情報を移動表示することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設される内枠と、
該内枠を取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記内枠は、少なくとも開状態において、支持端縁部を上下方向から支持されるよう構成されるとともに、
前記内枠は、中心位置よりも前記支持端縁部から離間する側に重心を有しており、
前記外枠には、前記取付部品を固定するための螺着手段が貫通する貫通孔が形成されており、当該貫通孔を、前記螺着手段の外径よりも大きくしたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技球の入賞を許容する入賞口を具備してなる複数の入賞手段、及び流下する遊技球に変化を与えるべく植設された複数の釘が配設された遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設された内枠と、
該内枠を支持端縁部にて取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記外枠には、前記取付部品を固定するための螺着手段が貫通する貫通孔を形成するとともに、当該貫通孔を、前記螺着手段の外径よりも大きく形成し、
前記内枠は、さらに、
前記遊技盤を着脱可能に係止するための係止手段と、
前記遊技領域を視認可能とするべく透明性を有する透視部材を有し、前記内枠に対し開閉可能に支持される扉枠と、
遊技内容全体の制御を司る主基板と、
遊技価値を付与するための払い出し基板と、
前記主基板及び前記払い出し基板を含めて各所へ電力の分配供給を行う電源基板と、
背面側に配置される機構盤に取り付けられ、遊技球案内部へ遊技球を案内するために前記支持端縁部から離れるにつれて下方へ傾斜する傾斜底面部を備えた遊技球貯蔵部と、
遊技機の前面側下部において前面側に突出するように配置され、遊技球を発射する発射ユニット側へ遊技球を案内するための傾斜した底面を有し、遊技球を貯留すると共に遊技球を前記発射ユニットへ案内可能な貯留手段とを備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
遊技球の入賞を許容する入賞口を具備してなる複数の入賞手段、及び流下する遊技球に変化を与えるべく植設された複数の釘が配設された遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設された内枠体と、
該内枠体を支持端縁部にて取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記外枠には、前記取付部品を固定するための螺着手段が貫通する貫通孔を形成するとともに、当該貫通孔を、前記螺着手段の外径よりも大きく形成し、
前記内枠体は、さらに、
背面側に配置される機構盤に取り付けられ、遊技球案内部へ遊技球を案内するために前記支持端縁部から離れるにつれて下方へ傾斜する傾斜底面部を備えた遊技球貯蔵部であって、当該傾斜底面部に連続し、最も下側に位置する最深部が、前記内枠体の左右方向における中心位置よりも、前記支持端縁部から離間する側に配置された遊技球貯蔵部と、
前記支持端縁部とは反対側の開閉端縁部近傍の前面側に配置され、遊技に際しては少なくとも遊技者の手からの荷重が加えられる遊技球発射用操作部と、
当該開閉端縁部近傍に配置され、前記遊技球発射用操作部の操作に合わせて遊技球を遊技領域へ発射するための発射用駆動手段と、
遊技機の前面側下部において前面側に突出するように配置され、前記発射用駆動手段側へ遊技球を案内するための傾斜した底面を有し、遊技球を貯留すると共に遊技球を前記発射駆動手段へ案内可能な貯留手段と、
前記支持端縁部とは反対側の開閉端縁部に沿って上下方向に配置され、前記外枠に対する前記内枠体の開放を規制するための、金属製で長尺状をなす鍵ユニットとを有して構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項４】
遊技球の入賞を許容する入賞口を具備してなる複数の入賞手段、及び流下する遊技球に変化を与えるべく植設された複数の釘が配設された遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設された内枠体と、
該内枠体を支持端縁部にて取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記外枠には、前記取付部品を固定するための螺着手段が貫通する貫通孔を形成するとともに、当該貫通孔を、前記螺着手段の外径よりも大きく形成し、
前記内枠体は、さらに、
前記遊技盤を着脱可能に係止するための係止手段と、
前記遊技領域を視認可能とするべく透明性を有する透視部材を有し、開閉可能に支持される扉枠と、
遊技内容全体の制御を司る主基板と、
遊技価値を付与するための払い出し基板と、
前記主基板及び前記払い出し基板を含めて各所へ電力の分配供給を行う電源基板と、
背面側に配置される機構盤に取り付けられ、遊技球案内部へ遊技球を案内するために前記支持端縁部から離れるにつれて下方へ傾斜する傾斜底面部を備えた遊技球貯蔵部であって、当該傾斜底面部に連続し、最も下側に位置する最深部が、前記内枠体の左右方向における中心位置よりも、前記支持端縁部から離間する側に配置された遊技球貯蔵部と、
前記支持端縁部とは反対側の開閉端縁部近傍の前面側に配置され、遊技に際しては少なくとも遊技者の手からの荷重が加えられる遊技球発射用操作部と、
当該開閉端縁部近傍に配置され、前記遊技球発射用操作部の操作に合わせて遊技球を遊技領域へ発射するための発射用駆動手段と、
遊技機の前面側下部において前面側に突出するように配置され、前記発射用駆動手段側へ遊技球を案内するための傾斜した底面を有し、遊技球を貯留すると共に遊技球を前記発射用駆動手段へ案内可能な貯留手段と、
前記支持端縁部とは反対側の開閉端縁部に沿って上下方向に配置され、前記外枠に対する前記内枠体の開放を規制するための、金属製で長尺状をなす鍵ユニットとを有して構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項５】
前記外枠は、上辺部、左辺部、右辺部、及び下辺部を有し、金属製材料を用いて一体成形されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設される内枠と、
該内枠を取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記取付部品の中には、破損を生じやすい破損予定部を有しているものが含まれていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記内枠は、少なくとも閉状態において、一側部の支持端縁部を上下方向からヒンジにて支持されるよう構成されており、
前記破損予定部を有している取付部品は、前記ヒンジであることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記支持端縁部とは反対側の開閉端縁部に沿って上下方向に配置され、少なくとも前記外枠に対する前記内枠の開放を規制するための、金属製で長尺状をなす鍵ユニットを備え、
前記破損予定部は、前記支持端縁部側の前記取付部品のみが有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記内枠の前記支持端縁部とは反対側の開閉端縁部に沿って上下方向に配置され、少なくとも前記外枠に対する前記内枠の開放を規制するための、金属製で長尺状をなす鍵ユニットを備えるとともに、前記外枠には、前記鍵ユニットに係合される鍵受け部を備え、
前記破損予定部は、前記鍵受け部には設けられておらず、前記支持端縁部側の前記取付部品に設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】
前記破損予定部は、前記取付部品に形成された線状の溝として構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の遊技機。
【請求項６】
前記外枠は、金属製材料を用いて一体成形されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設される内枠と、
該内枠を取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記外枠が前記遊技機設置場所に設置固定された状態において、前記取付部品が着脱可能に構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記取付部品は、前記外枠に対し、螺着手段にて固定されるようになっており、前記螺着手段が前記外枠の内側から外側へ向かう方向に締結されるよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記取付部品は、前記外枠に対し、螺着手段にて固定されるようになっており、前記螺着手段のうちで前後方向に用いられるものは、前記外枠の前面側から着脱可能となるよう構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記取付部品は、前記内枠を開閉可能に支持するためのヒンジであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】
遊技領域を有する遊技盤と、
該遊技盤が配設される内枠と、
該内枠を取付部品を介して開閉可能に支持し、遊技機設置場所に固定される略方形枠状の外枠とを備えた遊技機において、
前記外枠は、上壁部、左側壁部、右側壁部、下壁部、及び、下壁部の直上方に位置する幕板部を有し、
前記上壁部の上面に、載置面、左右規制面、前後規制面を有する第１取付部が形成され、一方、幕板部上面を載置面とし、左側壁部の内側面を左右規制面とし、さらに、前後規制面を有する第２取付部が形成されており、
前記内枠を開閉可能に支持するための取付部品が、前記第１取付部及び前記第２取付部に対し、前記外枠が遊技機設置場所に設置固定された状態において着脱可能に構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項６】
前記外枠は、金属製材料を用いて一体成形されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  導入された遊技球が移動する視認可能な遊技球通路が形成されたステージを備える遊技機であって、
前記遊技球通路の少なくとも１箇所の検出箇所における前記遊技球の通過を検出する遊技球通過検出手段と、
該遊技球通過検出手段により前記遊技球の前記検出箇所の通過が検出されたとき、所定の演出を行なう演出実行手段と、
を備える遊技機。
【請求項２】  請求項１記載の遊技機であって、
前記遊技球通過検出手段は、前記遊技球通路の複数の検出箇所における前記遊技球の通過を検出箇所毎に検出する手段であり、
前記演出実行手段は、前記検出箇所毎の前記遊技球の通過に対して異なる演出を実行する手段である、
遊技機。
【請求項３】  請求項１または２記載の遊技機であって、
前記遊技球通路は、通路途中の少なくとも１箇所に遊技球の通路からの逸脱を可能とする逸脱部が形成されてなり、
前記遊技球通過検出手段は、前記遊技球通路における前記逸脱部の前段側と後段側の所定箇所を前記検出箇所として前記遊技球の通過を検出する手段である、
遊技機。
【請求項４】  請求項１ないし３いずれか記載の遊技機であって、
前記遊技球通路は、入賞口に遊技球が入賞しやすい位置に通路出口が設けられてなると共につづら折り状に後段ほど高くなる傾向で形成されてなり、
前記ステージは、前記遊技球通路の通路入口と前記通路出口との位置エネルギの偏差より大きな運動エネルギをもった遊技球を該通路入口に導入する遊技球導入部が形成されてなる、
遊技機。