【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンが形成された原版を露光光で照明し、照明された前記パターンの像を感光性基板に投影する光学素子を備えた投影露光装置の光学素子光洗浄方法において、
前記露光光の進行方向と反対の方向から入射する洗浄光で前記光学素子を光洗浄することを特徴とする光学素子光洗浄方法。
【請求項２】
請求項１の光洗浄方法において、前記洗浄光は前記露光光を分岐して生成した光であることを特徴とする光学素子光洗浄方法。
【請求項３】
請求項１の光洗浄方法において、前記洗浄光は露光用光源とは別に設けられた洗浄用光源で生成するようにしたことを特徴とする光学素子光洗浄方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の光洗浄方法において、前記光学素子の汚染状態を検出し、その汚染状態に応じて前記洗浄光で前記光学素子の表面を走査することを特徴とする光学素子光洗浄方法。
【請求項５】
所定のパターンが形成された原版を露光光で照明し、照明された前記パターンの像を感光性基板に投影する光学素子を備えた投影露光装置において、
前記露光光の進行方向と反対の方向から洗浄光を前記光学素子に射出する光洗浄光学系を備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項６】
請求項５の露光装置において、前記露光用光源から射出されている照明光を前記光洗浄光学系へ前記洗浄光として導くための分岐光学素子を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項７】
請求項５の露光装置において、前記洗浄光を生成するための前記露光用光源とは別の光洗浄用光源を備え、その光洗浄用光源からの光を前記光洗浄用光学系に導くようにしたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれかに記載の投影露光装置において、前記光学素子の汚染状態を検出する汚染状態検出手段を備え、検出された汚染状態に応じて前記洗浄光学系を制御して前記洗浄光で前記光学素子の表面を走査することを特徴とする投影露光装置。
【請求項９】
所定のパターンが形成された原版を露光光で照明し、照明された前記パターンの像を感光性基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系を通過した前記露光光の照度を検出するセンサを備えるステージとを備えた露光装置に用いられる光洗浄方法において、
前記ステージから射出された洗浄光を前記投影光学系側に向けて照射することを特徴とする光洗浄方法。
【請求項１０】
請求項９の光洗浄方法において、前記洗浄光は露光用光源とは別に設けられた洗浄用光源で生成するようにしたことを特徴とする光洗浄方法。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の光洗浄方法において、前記洗浄光は、前記ステージに設けられた開口パターンを介して射出されることを特徴とする光洗浄方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光洗浄方法において、前記投影光学系に前記洗浄光を照射する時、前記ステージの前記開口パターンを前記投影光学系の照射領域内に配置することを特徴とする光洗浄方法。
【請求項１３】
所定のパターンが形成された原版を露光光で照明し、照明された前記パターンの像を感光性基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系を通過した前記露光光の照度を検出するセンサを備えるステージとを備えた投影露光装置において、
前記ステージに設けられ、前記投影光学系側に洗浄光を射出する光洗浄光学系を備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項１４】
請求項１３の露光装置において、前記洗浄光を生成するための前記露光用光源とは別の光洗浄用光源を備え、その光洗浄用光源からの光を前記光洗浄用光学系に導くようにしたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項１５】
請求項１２または１３の露光装置において、
前記ステージは、前記光洗浄用光学系を介した前記洗浄光を射出する開口パターンを有することを特徴とする投影露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
実施の形態を示す図１〜図４に対応づけて説明する。
（１）請求項１の発明は、所定のパターンが形成された原版Ｒを露光光で照明し、照明されたパターンの像を感光性基板Ｗに投影する光学素子を備えた投影露光装置の光学素子光洗浄方法に適用される。そして、上述した目的は、露光光の進行方向と反対の方向から洗浄光を入射して光学素子を光洗浄することにより達成される。
（２）請求項２の発明は、請求項１の光洗浄方法において、露光用光源１からの露光光を洗浄光として使用するものである。
（３）請求項３の発明は、請求項１の光洗浄方法において、洗浄光を露光用光源１とは別に設けられた洗浄用光源５１で生成するようにしたものである。
（４）請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の光洗浄方法において、光学素子の汚染状態を検出し、その汚染状態に応じて洗浄光で光学素子の表面を走査するようにしたものである。
（５）請求項５の発明は、所定のパターンが形成された原版Ｒを露光光で照明し、照明されたパターンの像を感光性基板Ｗに投影する光学素子を備えた投影露光装置に適用される。そして、露光光の進行方向と反対の方向から洗浄光を光学素子に射出する光洗浄光学系２１を備えることにより、上述の目的は達成される。
（６）請求項６の発明は、請求項５の露光装置において、露光用光源１から射出されている照明光を光洗浄光学系２１へ洗浄光として導くための分岐光学素子５を有するものである。
（７）請求項７の発明は、請求項５の露光装置において、洗浄光を生成するための露光用光源１とは別の光洗浄用光源５１を備え、その光洗浄用光源５１からの光を光洗浄用光学系２１に導くようにしたものである。
（８）請求項８の発明は、請求項５〜７のいずれかに記載の投影露光装置において、光学素子の汚染状態を検出する汚染状態検出手段を備え、検出された汚染状態に応じて洗浄光学系２１を制御して洗浄光で光学素子の表面を走査するものである。
（９）請求項９の発明による光洗浄方法は、所定のパターンが形成された原版Ｒを露光光で照明し、照明されたパターンの像を感光性基板Ｗに投影する投影光学系ＰＬと、投影光学系ＰＬを通過した露光光の照度を検出するセンサ２４を備えるステージＷＳとを備えた露光装置に用いられる光洗浄方法において、ステージＷＳから射出された洗浄光を投影光学系ＰＬ側に向けて照射することを特徴とする。
（１０）請求項１０の発明は、請求項９の光洗浄方法において、洗浄光は露光用光源１とは別に設けられた洗浄用光源５１で生成するようにしたことを特徴とする光洗浄方法。
（１１）請求項１１の発明は、請求項９または１０に記載の光洗浄方法において、洗浄光は、ステージＷＳに設けられた開口パターン２２ａを介して射出されることを特徴とする。
（１２）請求項１２の発明は、請求項１１に記載の光洗浄方法において、投影光学系ＰＬに洗浄光を照射する時、ステージＷＳの開口パターン２２ａを投影光学系ＰＬの照射領域内に配置することを特徴とする。
（１３）請求項１３の発明による投影露光装置は、所定のパターンが形成された原版Ｒを露光光で照明し、照明されたパターンの像を感光性基板Ｗに投影する投影光学系ＰＬと、投影光学系ＰＬを通過した露光光の照度を検出するセンサ２４を備えるステージＷＳとを備えた投影露光装置において、ステージＷＳに設けられ、投影光学系ＰＬ側に洗浄光を射出する光洗浄光学系２１を備えることを特徴とする。
（１４）請求項１４の発明は、請求項１３の露光装置において、洗浄光を生成するための露光用光源１とは別の光洗浄用光源５１を備え、その光洗浄用光源５１からの光を光洗浄用光学系に導くようにしたことを特徴とする。
（１５）請求項１５の発明は、請求項１２または１３の露光装置において、ステージＷＳは、光洗浄用光学系を介した洗浄光を射出する開口パターン２２ａを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
以上の実施の形態と請求項との対応において、レチクルＲが原版を、逆発光系２１が洗浄用光学系を、主制御ユニット１１が汚染状態検出手段をそれぞれ構成する。
以上のように本実施の形態によれば、
（１）露光光の進行方向と反対の方向から入射する洗浄光で光学素子を光洗浄するようにしたので、露光光では洗浄し切れない感光基板側の汚れを洗浄することができる。
（２）洗浄光を露光光を分岐して生成すれば、専用の光源が不要となる、低コスト化を図ることができる。
（３）洗浄光を露光用光源とは別に設けた洗浄用光源で生成することにより、露光光の光量を落とすことなく大きな光量で洗浄することができる。
（４）露光光の進行方向と反対の方向から入射する洗浄光で光学素子を光洗浄するのと並行して、露光光の進行方向から入射する露光光で光学素子を光洗浄することにより、短時間で所定の透過率まで洗浄することができ、スループットが向上する。
（５）光学素子の汚染状態を検出し、その汚染状態に応じて洗浄光を走査すれば、局部的な汚染状態を除去することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、露光光の進行方向と反対の方向から入射する洗浄光で光学素子を光洗浄するようにしたので、露光光では洗浄し切れない感光基板側の汚れを洗浄することができる。
また、ステージから射出された洗浄光を投影光学系側に向けて照射しているので、露光光では洗浄し切れない感光基板側の汚れを洗浄することができる。