【事件の表示】
　平成　４年特許願第　３７２３０号「投影光学系の特性計測方法、並びに露光方法及び装置」において、平成１１年７月６日付けでした手続補正に対してされた補正の却下の決定に対する審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成４年１月２８日の出願であって、その明細書について、平成１１年１月２２日の出願人以外の者からの出願審査請求に関する通知に対する指定期間内である平成１１年７月６日に手続補正書が提出されたが、当該手続補正（以下、本件補正という）が明細書の要旨を変更する旨をもって、平成１３年２月６日付で決定により却下された。本件は、審判請求人（出願人）が当該決定に不服である旨により、平成１３年３月１４日付で請求されたものである。
　
２．原決定の理由
　原決定の理由は、以下の通りのものである。
「補正後の明細書における、請求項１、２、７、８及び１０、並びに発明の詳細な説明【００１１】及び【００１２】段落には、「所定面」なる記載があるが、願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「当初明細書」という）には「被露光基板」と記載されているのみであり、かつ「所定面」は当初明細書の記載からみて自明のこととも認められない。（「所定面」は、「被露光基板」のみならず、様々な物を指す上位概念である。）
　補正後の明細書における、請求項３には、「前記照度分布の計測は、前記マスクを照明する照明条件を変更したとき、又は前記マスクに形成されたパターンの種類を変更したときに行われる」なる記載があるが、当初明細書には、照度分布の計測を「斜入射照明光の入射角度を変えた」場合、または「位相レチクル等を用いて投影光学系の瞳面上での照射分布が変化」した場合に行うと記載されているのみであると認められ、「照明条件」及び「パターンの種類」という事項は当初明細書の記載からみて自明のこととも認められない。（「照明条件」は入射角度のみならず、露光量など様々な概念を含むものである。「パターンの種類」は位相レチクルのみならず、設計ルールを変えるなど様々な概念を含むものである。）
　補正後の明細書における請求項８及び９には、特定の開口絞りを備えた露光装置が記載されているが、当初明細書には、請求項１記載の特性計測方法をより正確になすための付加的手段として、上記開口絞りを用いる旨記載されているのみであり、上記開口絞りのみを備えた露光装置の発明は記載されていない。
　したがって、この補正は、明細書の要旨を変更するものと認められ、特許法第５３条第１項の規定により、上記結論の通り決定する。」
　
３．当審の判断
（１）本願の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下「原明細書」という。）には、以下の事項が記載されている。
・「この場合、その投影光学系（１２）の瞳面上に開口径及び開口位置が可変の開口絞り（１３）を配置しておき、その投影光学系（１２）の瞳面上での照度分布を計測する際に、この開口絞り（１３）の開口位置及び開口径を変化させながらその被露光基板（１７）の配置面上での照度分布を計測し、この計測結果よりその投影光学系（１２）の瞳面上での照度分布を求めるようにしてもよい。」（【００１２】）
・「【実施例】以下、本発明による投影光学系の特性計測方法の一実施例につき図１〜３を参照して説明する。本例はステップ・アンド・リピート方式の縮小投影型露光装置（ステッパー）に使用される投影光学系の結像特性を計測する場合に本発明を適用したものである。図１は、本実施例の縮小投影型露光装置を簡略化して示し、この図１において、１は高圧水銀灯であり、この高圧水銀灯１からの露光光は、・・照明光学系を経て、図示省略したレチクルホルダーに支持されたレチクル１１を照明する。・・そのレチクル１１のパターンの像は投影光学系１２により、ウェハステージ１６上のウェハホルダー上に載置されたウェハ１７上に結像され、これによりレチクル１１のパターンのウェハ（被露光基板）１７上への転写が行われる。」（【００１５】〜【００１６】）
・「また、投影光学系１２の瞳面上には可変開口絞り１３を配置する。この可変絞り１３の開口径は付属の開口アクチュエータ１４により任意の値に設定することができ、その可変開口絞り１３の開口位置は開口位置移動用の２軸のアクチュエータ１５Ａ及び１５Ｂにより、投影光学系１２に瞳面上の任意の位置に設定することができる。また、ウェハステージ１６のウェハホルダーの近傍には、照度センサー１８が設けられている。この照度センサー１８の受光面の大きさは投影光学系１２のイメージフィールドよりもやや大きい程度である。」（【００１７】）
・「次に、本実施例で投影光学系の結像特性を計測する場合の動作につき説明する。先ず、レチクル１１を図示省略したレチクルホルダー上の所定の位置に載置した後に、レチクルブラインド７の形状を露光用データファイルに予め記憶させておいた形状にセットする。この後、開口アクチュエータ１４により可変開口絞り１３の開口径を絞り、投影光学系の開口数を所定の小さな値とする。そして、アクチュエータ１５Ａ及び１５Ｂにより可変開口絞り１３の開口位置を変化させながら、各開口位置での照度を照度センサー１８を用いて計測する。・・これにより、投影光学系１２の瞳面上での照度分布を求めることができる。」（【００１９】）
・「次に、実際の露光に用いる照明系及びレチクルでの照度を、可変開口絞り１３の開口位置の座標（Ｘ，Ｙ）を種々に変えて照度センサー１８により計測する。この場合、その計測位置の座標（Ｘ，Ｙ）の瞳面の中心座標（Ｘ０，Ｙ０）からの距離Ｒは計算により求められる。この計測結果から図２の（ｂ）に示すように、投影光学系１２の瞳面上での中心からの各距離ｒｉでの照度Ｐｉが求められる。」（【００２４】）
（２）本件補正により補正された請求項８（以下、補正後の請求項８という）について
　補正後の請求項８の、「マスクに形成されたパターンを通過した照明光を所定面上に導く投影光学系を備えた露光装置において、前記投影光学系の瞳面上に、開口の中心位置が変更可能な開口絞りを配置したことを特徴とする露光装置。」との記載は、マスクに形成されたパターンを通過した照明光を所定面上に導く投影光学系を備えた露光装置が、前記投影光学系の瞳面上に配置された開口の中心位置が変更可能な開口絞りのみを備える構成を含むことは明かである。
（３）原明細書に記載された事項と補正後の請求項８の記載を対比する。
　原明細書には、上記（１）に示した記載事項から、レチクル（マスク）を通過した照明光を被露光基板に導く投影光学系を備えた投影露光装置において、投影光学系の瞳面上の照度分布を求めるために、可変開口絞りの開口位置を変化させながら、被露光基板の配置面上での照度を、ウェハステージに設けられた照度センサーにより計測して、この計測結果により投影光学系の瞳面上での照度分布を求める構成が、記載されている。すなわち、可変開口絞りは、照度センサーと協同して、投影光学系の瞳面上での照度分布を求めるものとして記載されており、可変開口絞りが照度センサーとは別個に使用される構成は記載されておらず、また、示唆もされていない。
　してみると、原明細書には、露光装置が可変開口絞りと照度センサーの両方を備える構成が記載されていると認められ、露光装置が可変開口絞りは備えるが、照度センサーは備えない構成、つまり、露光装置が可変開口絞りのみを備える構成が記載されているとは認められない。
　したがって、上記（２）で記載したような、補正後の請求項８に含まれる、マスクに形成されたパターンを通過した照明光を所定面上に導く投影光学系を備えた露光装置が、前記投影光学系の瞳面上に配置された開口の中心位置が変更可能な開口絞りのみを備える構成は、原明細書に記載された事項ではない。
（４）審判請求人は、補正後の請求項８について、「特定の開口絞りを備えた露光装置」は、原明細書の【００１６】、【００１７】に記載されていると主張するが、上記（３）に記載したように、【００１６】、【００１７】を含む原明細書には、可変開口絞りのみを備えた露光装置は記載されていないから、審判請求人の主張は採用できない。
（５）したがって、上記手続補正は、特許請求の範囲を、原明細書に記載された事項の範囲を越えて拡張するものであるから、他の点を検討するまでもなく、明細書の要旨を変更するものであり、特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、原決定は取り消されるべきものではない。
　よって、結論のとおり審決する。