【事件の表示】
　平成　４年特許願第　５６３３２号「パウダービーム加工装置」拒絶査定に対する審判事件〔平成　５年　８月３１日出願公開、特開平　５−２２０６６５、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本件出願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件発明
　本件出願は、平成４年２月６日の出願であって、その請求項１〜３に係る発明（以下「本件発明１〜３」という。）は、平成１２年１０月１６日付け手続補正書、平成１３年５月３０日付け手続補正書により補正された明細書及び願書に添付された図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された以下のとおりのものであると認める。
「【請求項１】　パウダーと圧縮搬送ガスとを混合室で混合した後加工室に導いて、パウダービームとして被加工物に噴射し所望の加工を行うパウダービーム加工装置において、前記パウダービームは、非酸化物からなるパウダーと非酸化雰囲気形成用不活性搬送ガスとを用いる事を特徴とするパウダービーム加工装置。
【請求項２】　被加工物表面に対して還元性ガスを供給する事を特徴とする請求項１に記載のパウダービーム加工装置。
【請求項３】　被加工物表面に対して冷却ガスを供給する事を特徴とする請求項１に記載のパウダービーム加工装置。」
　
第２　原査定の拒絶の理由の概要
　原査定の拒絶の理由の概要は以下のとおりである。
　引用例１：実願平１−６６９１９号（実開平０１−１７０５６３号）のマイクロフィルム
　引用例２：特開平２−１０６８３１号公報
　引用例１には、不活性ガスを用いる点が記載されており、引用例２には、非酸化物の研磨材を用いる点が記載されている。また、引用例１の発明は、図１、第９頁第７行目〜第１０頁第３行目等の記載からみて、処理室が不活性ガス雰囲気であり、被加工物表面も冷却されるものである。
　したがって、本件発明１、３は、その出願前日本国内において頒布された刊行物である引用例１、２に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
第３　引用例記載の技術的事項
１　引用例１記載の技術的事項
　引用例１には、以下のとおり記載されている。
（１）実用新案登録請求の範囲
「１）バリ取り製品が収納される処理室が形成された筐体と、この筐体の処理室内に収納されたバリ取り製品に投射材を投射してバリを除去する前記筐体に取付けられた投射機と、この投射機に供給される投射材が収納された投射材貯槽と、一端が前記投射機の吸引側に接続され、他端が前記投射材貯槽内に位置するように取付けられた投射機の駆動によって投射材貯槽内の投射材を該投射機へ吸引供給可能にする投射材輸送管と、この投射材輸送管の投射材貯槽内の開口部寄りの部位に備えられた投射材輸送管での投射材の吸引輸送を容易にする不活性ガス等の供給装置とを備えたことを特徴とするショットブラスト装置。
２）投射材貯槽は投射材を収納することのできる投射材貯槽本体と、この投射材貯槽本体内に収納された投射材に振動を付与する該投射材貯槽本体に取付けられた振動モーターとからなることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のショットブラスト装置。
３）投射材輸送管は一端が前記投射材貯槽内に開口し、他端が投射機の吸引側に接続された投射材輸送管本体と、一端が投射機側の投射材輸送管本体に連通され、他端が筐体の処理室内に開口された吸引圧力を調整する調節弁を介装したバイパス管とからなることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項または第２項記載のショットブラスト装置。」
（２）明細書第５頁第１１行〜第９頁第６行
「第１図ないし第３図の実施例において、１は気密に保持された筐体である。・・・
　前記投射材貯槽２２は投射材が収納される投射材貯槽本体２８と、この投射材貯槽本体２８の側面に取付けられた該投射材貯槽本体２８内に収納された投射材に振動を与える振動モーター２９と、前記投射材貯槽本体２８の前記排出管２３の下部に位置し、該排出管２３からの投射材をほぼ中央部へ導くように投射材貯槽本体２８に取付けられたシュート３０とから構成されている。
　３１は前記筐体１の天板１ｂ部位にインペラー３２部分を覆体３３で覆った投射材を前記バスケット８内に収納されたバリ取り製品へ投射することのできる投射機である。
　３４は前記投射機３１の駆動によって前記投射材貯槽２２内の投射材を吸引供給する投射材輸送管で、この投射材輸送管３４は一端が前記投射材貯槽２２内に開口し、他端が前記投射機３１の吸引側に接続された投射材輸送管本体３５と、一端が前記投射機３１側の投射材輸送管本体３５に連通され、他端が前記筐体１の上部処理室３内に開口された吸引圧力を調整する調節弁３６を介装したバイパス管３７とから構成されている。
　３８は前記投射材輸送管３４での投射材の輸送を効率良く行なわせるための不活性ガス等の供給装置で、この不活性ガス等の供給装置３８は一端が前記下部処理室４内に開口され、他端が前記投射材輸送管本体３５のラッパ状の開口部３５ａに位置するように前記投射材貯槽２２に取付けられた吸気管３９と、この吸気管３９の排出口側の部位に接続された不活性ガスを調節弁４０を介して供給するガス供給管４１とから構成されている。」
２　引用例２記載の技術的事項
　引用例２には、以下のとおり記載されている。
（１）特許請求の範囲（１）
「研磨材に酸化物を含まないで且つ粒径が１００メッシュ以下の金属粉末を用いたウォータ・ジェット法にて電極材料に貫通溝を形成することを特徴とする真空インタラプタ用電極の製造方法。」
（２）第３頁右上欄第１０行〜左下欄第２行
「そこで発明者は、実験を繰り返した結果、研磨材の条件として、
１（当審注：引用例２中では、丸付き数字１として記載されている。）酸化物を含まない金属。
２（当審注：引用例２中では、丸付き数字２として記載されている。）しかも、粒径が１００メッシュ以下の粉末。
であれば、電極材料の表面に残存しにくく、また残存していても、電極の耐電圧特性に悪影響を及ぼさず、しかも電極材料に影響されることなく安定した精度で加工できることを見い出した。」　
　
第４　当審の判断
１　本件発明１について
　本件発明１は、加工の際の被加工物表面の熱酸化を防止するために、非酸化物からなるパウダーと非酸化雰囲気形成用不活性搬送ガスとを用いて、パウダービームを形成することを、その構成に欠くことができない事項とするものである。
　一方、引用例１には、「投射材」（本件発明１における「パウダー」に相当する。）を、投射機による吸引により、不活性ガスで輸送し、「バリ取り製品」（本件発明１における「被加工物」に相当する。）に向けて投射する装置は記載されているが、「投射材」として非酸化物からなるものを使用することは記載されていないし、当該装置で使用された不活性ガスは「投射材」の投射機による吸引輸送を容易にするためのものであって、加工の際の被加工物表面の熱酸化を防止するためのものではなく、さらに、本件発明１のようにパウダービームを形成するものでもない。
　また、引用例２には、「研磨材」（本件発明１における「パウダー」に相当する。）として「酸化物を含まない金属粉末」を用いたウォータ・ジェット法は記載されていいるが、「酸化物を含まない金属粉末」は、加工の際の被加工物表面の熱酸化を防ぐためのものではなく、また、「研磨材」を搬送する流体は「ウォータ」即ち「水」であって、「不活性ガス」ではない。
　結局、引用例１、２何れにも、非酸化物からなるパウダーと非酸化雰囲気形成用不活性搬送ガスとを用いて、パウダービームを形成するという構成について記載されていないし、加工の際の被加工物表面の熱酸化を防止するという技術的課題も記載されていない。
　そして、本件発明１は、上記構成を有することにより、「加工点から酸素を遮断する事ができ、従来問題となっていた被加工物の熱酸化を有効に防止あるいは抑制する事ができる」という引用例１、２記載のものにない格別の効果を奏するものである。
　
　したがって、本件発明１が、引用例１、２記載の技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
２　本件発明２、３について
　本件発明２、３は、本件発明１に従属し、本件発明１にさらに技術的限定を加えたものであるから、本件発明１が、引用例１、２記載の技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない以上、本件発明２、３も、引用例１、２記載の技術的事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
第５　むすび
　以上のとおりであるから、本件出願については、原査定の拒絶の理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。