【事件の表示】
　平成　９年特許願第　７４８４０号「電子線描画装置」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年１０月　９日出願公開、特開平１０−２７０３２８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成９年３月２７日の出願であって、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。（以下、「本願発明」という。）
「一括図形データに対応する一括図形を有する複数の一括図形マスク中の一つを予め定められた位置に位置づけて、その位置づけられた一括図形マスクが有する一括図形中の一つを電子線で選択的に照射するように前記電子線を偏向し、そして前記電子線照射された一括図形を試料上に転写して描画を行うようにし、前記一括図形マスクの各々の有する一括図形は複数の図形ブロックからなり、その図形ブロックの各々においては前記電子線の偏向が可能な範囲内にある複数の一括図形が存在し、その中から選択して図形描画をおこなう電子線描画装置であって、複数の一括図形ブロックから構成された複数の一括図形マスクに付された図形管理ＩＤと、電子線の偏向範囲にある前記複数の図形ブロックの夫々に付された一括図形ブロック番号と、前記各ブロック内の一括図形に付されたブロック内一括図形番号との対応関係から描画に必要な一括図形マスクを一括図形マスク交換機構からマスクステージへ自動装着し、それぞれの複数一括図形の中から一つの一括図形を特定する制御計算機を備えたことを特徴とする電子線描画装置。」
２．当審が通知した拒絶の理由
　当審で平成１３年１１月１日付で通知した拒絶の理由の概要は、
「本件請求項１に係る発明は、その出願前に国内において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が、容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
                    記
　引用例１．特開平４−４３６２９号公　　　　　　報
　引用例２．特開平５−１４４６９５号　　　　　　公報」
というものである。
３．引用例１について
３．１　引用例１に記載された事項
３．１．１　記載１
　引用例１には、第２頁左上欄第１１行〜同欄第１６行に、「本発明は、…荷電ビーム描画装置に関する。」と記載されている。
３．１．２　記載２
　引用例１には、第３頁左上欄第１９行〜第３頁左下欄第２行に、「本発明の骨子は、キャラクタ・プロジェクション方式で繰り返しを有するパターンを描画すること…にある。…
　より具体的には本発明は、荷電ビーム光学鏡筒内に、ビーム成形用アパーチャが形成された第１のビーム成形用アパーチャマスクと、ビーム成形用アパーチャと繰り返しパターン用アパーチャが形成された第２のアパーチャマスクとを配置し、これらのマスクの各アパーチャの光学的重なりにより…繰り返しの基本パターンに相当するビームを成形して、資料上に所望パターンを描画する」と記載されている。
３．１．３　記載３
　キャラクタ・プロジェクション方式の定義として、上記引用例１には、第２頁右上欄第８行〜同欄第１６行に、「最近では…繰り返しパターン用アパーチャを用いてパターンの繰り返し部を描画する方式（キャラクタ・プロジェクション方式）が提案されている。この方式では、繰り返しの基本パターンを１回のショットで描画することができる」と記載されている。
３．１．４　記載４
　引用例１には、第５頁左上欄第３行〜同欄第１３行に、「パターンを描画する際に使用するビーム成形用アパーチャマスク３５（第１のアパーチャ）には、…矩形状のアパーチャ３５ａが形成されている。また、ビーム成形用アパーチャマスク（第２のアパーチャ）３６は、第３図（ｂ）に示すように区画化され、それぞれの区画に繰り返しパターン用のアパーチャ…が形成されている。即ち、区画Ｂ〜Ｉには、…繰り返しパターン用アパーチャ３６ｂ〜３６ｉが形成されている。」と記載されている。
３．１．５　記載５
　引用例１には、第４頁左上欄第８行〜同欄第９行に、「第１図は本発明の一実施例に係わる電子ビーム描画装置を示す」と記載されている。
３．１．６　記載６
　引用例１には、第５頁右上欄第１７行〜第５頁左下欄第１１行に、「ＬＳＩパターンは…、１枚のアパーチャマスク３６に全ての繰り返しパターン用アパーチャを形成するのは困難である。…
　第４図に示すように、複数のアパーチャマスク３６（３６１〜３６４）が保持された円板状のマスク保持板５０を回転させることにより、必要なアパーチャマスク３６を電子光学鏡筒２０内にセットして…描画処理に供する。」と記載されている。
３．１．７　記載７
 引用例１には、第５頁左下欄第１８行〜第５頁右下欄第６行に、「第４図に示す交換方法のみではアパーチャマスク３６の保持数に制限があるため、第６図に示すようにマスク保持板５０（５０１〜５０Ｎ）を複数枚用意し、マスク保持板５０を…選択し、…電子光学鏡筒２０内にセットし描画処理に供する。」と記載されている。
３．１．８　記載８
　引用例１には、第４頁左下欄第７行〜第４頁右下欄第１４行に、「制御計算機４０には磁気ディスク（記憶媒体）４１が接続されており、このディスク４１にＬＳＩチップの描画パターンデータが格納されている。…描画パターンデータに定義された描画図形データ…に基づいて…所望のパターンを描画処理する。」と記載されている。
３．２　本願発明と引用例１に記載された発明との対比、判断
　引用例１記載の「繰り返しパターン用アパーチャ３６ｂ〜３６ｉ」は、上記記載１、３及び４を参照すると、本願発明の「ブロック内一括図形」に相当する。
　引用例１記載の「アパーチャマスク３６」は、上記記載４を参照すると、本願発明の「図形ブロック」に相当する。
　引用例１記載の「マスク保持板５０」は、上記記載６を参照すると、本願発明の「一括図形マスク」に相当し、上記記載７を参照すると、引用例１記載の「マスク保持板５０」は、複数設けられるものである。
　上記記載６を参照すると、アパーチャマスク３６は、「複数のアパーチャマスク３６（３６１〜３６４）が保持された円板状のマスク保持板５０を回転させることにより、必要なアパーチャマスク３６を電子光学鏡筒２０内にセットして…描画処理に供する」ものであり、さらに、上記記載４を参照すると、「ビーム成型用アパーチャマスク３６（第２のアパーチャ）は、第３図ｂに示すように区画化され、それぞれの区画に繰り返し用パターン用のアパーチャ…が形成されている。即ち、区画Ｂ〜Ｉには、…繰り返しパターン用アパーチャ３６ｂ〜ｉが形成されている」から、アパーチャマスク３６ｂ〜ｉのそれぞれは、「描画処理中に電子線の偏向が可能な範囲内にある複数の一括図形」の構成を有している。
　そうすると、本願発明と引用例１記載の発明は、「複数の一括図形マスク中の一つを予め定められた位置に位置づけて、その位置づけられた一括図形マスクが有する一括図形中の一つを電子線で選択的に照射するように前記電子線を偏向し、そして前記電子線照射された一括図形を試料上に転写して描画を行うようにし、前記一括図形マスクの各々の有する一括図形は複数の図形ブロックからなり、その図形ブロックの各々においては前記電子線の偏向が可能な範囲内にある複数の一括図形が存在し、その中から選択して図形描画をおこなう電子線描画装置」である点において一致する。
　また、引用例１記載の発明においても、「制御計算機に…描画パターンデータが格納され…描画パターンデータに定義された描画図形データ…に基づいて…所望のパターンを描画処理する」ものであるから、当該所望のパターンと、制御計算機に格納されたパターンデータとは、対応付けされていることは明らかであり、従って、本願発明と引用例１記載の発明は、「それぞれの複数一括図形の中から一つの一括図形を特定する制御計算機を備えた電子線描画装置」においても一致する。
　しかるに、本願発明が「複数の一括図形ブロックから構成された複数の一括図形マスクに付された図形管理ＩＤと、電子線の偏向範囲にある前記複数の図形ブロックの夫々に付された一括図形ブロック番号と、前記各ブロック内の一括図形に付されたブロック内一括図形番号との対応関係から描画に必要な一括図形マスクを一括図形マスク交換機構からマスクステージへ自動装着」する構成を有するのに対し、引用例１記載の発明は、図形管理ＩＤ、一括図形ブロック番号及びブロック内一括図形番号について記載がない点（以下、「相違点Ａ」という。）、及び描画に必要な一括図形マスクを一括図形マスク交換機構からマスクステージへ自動装着する記載がない点（以下、「相違点Ｂ」という。）で相違する。
　上記相違点Ａについて検討すると、引用例２には、レチクル（本願発明の「図形マスク」に相当する。）に、認識マークをつけること（引用例２の【０００９】段落参照。）、「所定のレチクル１を選択するレチクル選択手段、レチクル１を移送する手段、一連の動作を制御するコンピュータを含む制御手段」（引用例２の【００１０】段落参照。）、「データベースの露光条件記憶部１５には…すべてのレチクルの露光条件が記憶されている。レチクルライブラリー４から所定のレチクル１が取り出されてレチクルステージ１０へ移送されるときにデータ記憶部１３のデータと露光条件記憶部１５のデータとがデータ比較記１６で比較され、一致していれば露光条件記憶部１５から露光装置内の一時記憶装置１７へ露光条件が送られる。」（引用例２の【００１３】段落参照。）及び引用例２の【００１６】段落の記載からすると、引用例２には、図形データに予めバーコード即ち認識マーク（本発明の図形管理IDに相当する。）を付しておき、描画されるべき図形データに対応するレチクル（本願発明の図形マスクに相当する。）を自動的に選択し、前記選択された図形マスクを前記予め定められた位置に自動的に位置づけて描画を実行する計算機を備えた構成が記載されている。
　そうすると、本願発明の、図形管理ＩＤ、一括図形ブロック番号及びブロック内一括図形番号として図形マスク等に認識マークを付与しコンピュータ管理することは、引用例２に開示された、認識マーク（バーコード）をレチクルに付与し、コンピュータ管理する技術手段を、単に電子線描画装置の図形マスクのコンピュータ管理に転用した程度のものと認められる。
　従って、上記相違点Ａは、引用例１記載の発明と、引用例２の技術手段を単に寄せ集めた程度のものと認める。
　上記相違点Ｂについて検討すると、引用例１記載の発明は、マスク保持板がマスクステージを兼ねており、また露光位置に自動装着されるものであるところ、マスク保持板とマスクステージを別にすることに困難性は認められない。
　従って、上記相違点Ｂは、引用例１記載の発明に基づいて容易に相当できたものものと認める。
　また、上記本願発明の構成要件を総合的に考慮しても、相乗効果を認めることができない。
６．むすび
　従って、本願請求項１に係る発明は、その出願前に国内において頒布された引用例１及び２に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が、容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　よって、結論のとおり審決する。