Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月6日(2006.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  供給される出力データに基づいて記録媒体上に画像形成処理を行って出力する画像出力装置であって、
前記画像形成処理を行って出力する画像出力手段と、
前記画像出力装置を構成する構成要素への電源供給のオン／オフを切り替える電源制御手段と、
を備え、
前記電源制御手段は、
前記画像出力手段による前記画像形成処理中に発生したエラーを検出する検出手段と、
前記検出手段により検出されたエラー状態が予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行するモード制御手段と、
を有することを特徴とする画像出力装置。
【請求項２】  前記モード制御手段は、
前記検出手段により検出されたエラー状態が前記予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行し、前記省電源モードによる動作中に前記エラー状態が解除されると、前記構成要素への電源供給をオンにする通常モードに移行することを特徴とする請求項１に記載の画像出力装置。
【請求項３】  前記電源制御手段は、
前記検出手段で検出するエラーの種類を予め設定する手段を更に備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像出力装置。
【請求項４】  供給される出力データに基づいて記録媒体上に画像形成処理を行って出力する画像出力装置の制御方法であって、
前記画像形成処理を行って出力する画像出力工程と、
前記画像出力装置を構成する構成要素への電源供給のオン／オフを切り替える電源制御工程と、
を備え、
前記電源制御工程は、
前記画像出力工程での前記画像形成処理中に発生したエラーを検出する検出工程と、
前記検出工程により検出されたエラー状態が予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行するモード制御工程と、
を有することを特徴とする画像出力装置の制御方法。
【請求項５】  前記モード制御工程は、
前記検出工程により検出されたエラー状態が前記予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行し、前記省電源モードによる動作中に前記エラー状態が解除されると、前記構成要素への電源供給をオンにする通常モードに移行することを特徴とする請求項４に記載の画像出力装置の制御方法。
【請求項６】  前記電源制御工程は、
前記検出工程で検出するエラーの種類を予め設定する工程を更に備えることを特徴とする請求項４又は５に記載の画像出力装置の制御方法。
【請求項７】  出力データを供給するコンピュータ装置と、前記コンピュータ装置から供給される出力データに基づいて記録媒体上に画像形成処理を行って出力する画像出力装置とを接続した画像出力システムであって、
前記画像出力装置は、
前記画像形成処理を行って出力する画像出力手段と、
前記画像出力装置を構成する構成要素への電源供給のオン／オフを切り替える電源制御手段と、
を備え、
前記電源制御手段は、
前記画像出力手段による前記画像形成処理中に発生したエラーを検出する検出手段と、
前記検出手段により検出されたエラー状態が予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行するモード制御手段と、
を有することを特徴とする画像出力システム。
【請求項８】  前記モード制御手段は、
前記検出手段により検出されたエラー状態が前記予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行し、前記省電源モードによる動作中に前記エラー状態が解除されると、前記構成要素への電源供給をオンにする通常モードに移行することを特徴とする請求項７に記載の画像出力システム。
【請求項９】  前記電源制御手段は、
前記検出手段で検出するエラーの種類を予め設定する手段を更に備えることを特徴とする請求項７又は８に記載の画像出力システム。
【請求項１０】  供給される出力データに基づいて記録媒体上に画像形成処理を行って出力する画像出力装置の制御の制御プログラムを格納した、コンピュータ装置が読み取り可能な記憶媒体であって、
前記画像形成処理を行って出力する画像出力工程のプログラムコードと、
前記画像出力装置を構成する構成要素への電源供給のオン／オフを切り替える電源制御工程のプログラムコードと、
を備え、
前記電源制御工程のプログラムコードは、
前記画像出力工程での前記画像形成処理中に発生したエラーを検出する検出工程のプログラムコードと、
前記検出工程により検出されたエラー状態が予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行するモード制御工程のプログラムコードと、
を有することを特徴とする記憶媒体。
【請求項１１】  前記モード制御工程のプログラムコードは、
前記検出工程により検出されたエラー状態が前記予め定められた時間継続すると、前記構成要素への電源供給をオフにする省電源モードに移行し、前記省電源モードによる動作中に前記エラー状態が解除されると、前記構成要素への電源供給をオンにする通常モードに移行することを特徴とする請求項１０に記載の記憶媒体。
【請求項１２】  前記電源制御工程のプログラムコードは、
前記検出工程で検出するエラーの種類を予め設定する工程のプログラムコードを更に備えることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙送りモータを駆動制御する第１の駆動制御部と、
記録ヘッドが搭載されたキャリッジを駆動するキャリッジモータを駆動制御する第２の駆動制御部と、
前記紙送りモータの停止直後に印字開始するタイミングとなるように前記キャリッジモータを起動するように構成された重ね合わせ最適化制御部と、
を備え、
前記重ね合わせ最適化制御部は、前記紙送りモータが定速走行しているときに前記キャリッジの現在位置と印字情報に含まれる印字開始位置とに基づいて前記キャリッジが起動してから印字開始するまでの時間を演算し、更に前記演算された時間と同じ時間だけかかると仮定したときの前記紙送りモータによって紙送りされる紙送り量を演算し、この演算された紙送り量と紙送り残量とを比較し、前記演算された紙送り量が前記紙送り残量以上となったときに前記キャリッジモータの起動指令を前記第２の駆動制御部に出力し、
前記第２の駆動制御部は、前記起動指令に基づいて前記キャリッジモータを起動することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記重ね合わせ最適化制御部は、前記キャリッジが起動してから定速走行領域に到達するまでの加速時間を計測する加速時間計測部を更に備え、
前記移動時間演算部は、前記加速時間と、前記キャリッジが前記定速走行領域に到達してから印字開始するまでの時間との和として前記移動時間を演算し、前記キャリッジの前回の起動時の加速時間の計測値を今回の起動時の加速時間として用いることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
紙送りモータと、記録ヘッドが搭載されたキャリッジを駆動するキャリッジモータと、を備えた印刷装置において、
前記紙送りモータの停止直後に印字開始するタイミングとなるように前記キャリッジモータを起動するように構成された重ね合わせ最適化制御部と、
前記記録ヘッドがオーバライド領域に入り、かつ前記キャリッジモータが前記重ね合わせ最適化制御部によって起動される条件を満たす場合に、前記記録ヘッドによって印字可能な前記オーバライド領域の残量を演算するとともに前記紙送りモータによって紙送りされる紙の紙送り残量を演算し、前記オーバライド領域の残量が前記紙送り残量以下の場合に印字不許可指令を発生する印字不許可指令発生部と、を備えたことを特徴とする印刷装置。
【請求項４】
紙送りモータの停止直後に印字開始するタイミングとなるように、記録ヘッドが搭載されたキャリッジを駆動するキャリッジモータを起動するステップを備え、
前記キャリッジモータを起動するステップは、
紙送りモータが定速走行しているときに前記キャリッジの現在位置と印字情報に含まれる印字開始位置とに基づいて前記キャリッジが起動してから印字開始するまでの時間を演算するステップと、
前記演算された時間と同じ時間だけかかると仮定したときの前記紙送りモータによって紙送りされる紙送り量を演算するステップと、
この演算された紙送り量と紙送り残量とを比較し、前記演算された紙送り量が前記紙送り残量以上となったときに前記キャリッジモータの起動指令を出力するステップと、
前記起動指令に基づいて前記キャリッジモータを起動するステップと、
を備えたことを特徴とする印刷方法。
【請求項５】
紙送りモータの停止直後に印字開始するタイミングとなるように、記録ヘッドが搭載されたキャリッジを駆動するキャリッジモータを起動するステップを備え、
前記キャリッジモータを起動するステップは、
前記記録ヘッドがオーバライド領域に入り、かつ前記キャリッジモータが前記重ね合わせ最適化制御部によって起動される条件を満たす場合に、前記記録ヘッドによって印字可能な前記オーバライド領域の残量を演算するとともに前記紙送りモータによって紙送りされる紙の紙送り残量を演算するステップと、
前記オーバライド領域の残量が前記紙送り残量以下の場合に印字不許可指令を発生するステップと、
を備えたことを特徴とする印刷方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】記録ヘッドの機能維持装置及びそれを使用した画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の記録ヘッドに個別で連結してインクを噴射するノズル面を覆う複数の保護吸引部と、各保護吸引部に吸引チューブを介して連結された１台の吸引ポンプと、各保護吸引部に設けられ吸引ポンプとの連通を切り換える切替手段と、切替手段を駆動するアクチュエータを有することを特徴とする記録ヘッドの機能維持装置。
【請求項２】  上記切替手段は保護吸引部に連結された吸引チューブの押圧部を有し、回動自在な開放レバーと、開放レバーの押圧部を吸引チューブに押圧して吸引チューブを押しつぶす押圧部材とを有する請求項１記載の記録ヘッドの機能維持装置。
【請求項３】  複数の記録ヘッドを搭載したキャリッジの移動により各保護吸引部の切替手段の開放レバーをアクチュエータに逐次係合させて各保護吸引部と吸引ポンプとの連通を切り換える請求項２記載の記録ヘッドの機能維持装置。
【請求項４】  請求項１乃至３のいずれかの記録ヘッドの機能維持装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、キャリッジに搭載され、インク滴を噴射させて記録する記録ヘッドの機能維持装置及びそれを使用した画像形成装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
近年、インクジェット噴射式のプリンタやファクシミリ，複写機等の画像形成装置のインク供給機構は、メインタンクに貯蔵したインクを可撓性を有するインク供給チューブを介してキャリッジに搭載したヘッドユニットに供給し、ヘッドユニットの各記録ヘッドのノズルからインク滴を噴射して印字するものが多く使用されている。このインクジェット記録装置で印字をしていないときは、記録ヘッドをホームポジションに待機させ、キャップをかぶせてノズル部分を密閉し、インクが乾燥したりごみが付着してノズルに目詰りが生じることを防いでいる。また、ノズルを常に正常な状態にして印字しているときにドット抜け等が生じないようにするため、キャップに吸引ポンプを接続し、印字動作を開始するときや印字中の一定の周期毎に吸引ポンプによりノズルからインクを吸引してノズルを正常な状態に維持するようにしている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この発明はかかる短所を改善し、複数の記録ヘッドのノズルをそれぞれ密閉するキャップと吸引ポンプの連通を簡単な構成で確実に行なうことができる記録ヘッドの機能維持装置及びそれを使用した画像形成装置を提供することを目的とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明に係る画像形成装置は、上記記録ヘッドの機能維持装置を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月3日(2006.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子炉内において前記原子炉の壁（３０）にライザ・ブレース組立体（４０）を接続するブロック（４３）を有する前記ライザブレース組立体（４０）を修理するためのクランプ装置（５０）であって、
前記ブロック（４３）上の第１の溝（４５ａ）と嵌合するようにされた第１プレート（５１）と、
前記ブロック（４３）上の第２の溝（４５ｂ）と嵌合するようにされた第２プレート（５２）と、を備え、
前記第１及び第２プレート（５１、５２）が前記ライザ・ブレース組立体（４０）に固定的に取り付けられた、ことを特徴とするクランプ装置（５０）。
【請求項２】
前記第１及び第２プレート（５１、５２）の間に設けられたウェッジ組立体（６０）を更に備える請求項１に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項３】
前記ライザ・ブレース組立体（４０）が、前記第１プレート（５１）と係合する上面（４６）を有する上方板ばね（４１）と、前記第２プレート（５２）と係合する底面（４７）を有する底部板ばね（４２）とを含み、
前記第１及び第２プレート（５１、５２）の間の前記ウェッジ組立体（６０）が、前記上方板ばね（４１）の底面（４７）と前記底部板ばね（４２）の上面（４６）とに係合することを特徴とする請求項２に記載のクランプ装置（５０）
【請求項４】
前記ウェッジ組立体（６０）が、応力を前記ライザ・ブレース組立体（４０）の表面上に均等に配分するための複数のウェッジ構成部品（６１、６４、６９、７０）を更に含む請求項２に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項５】
前記ウェッジ構成部品（６１）の１つが、前記第１又は第２プレート（５１、５２）のスロット（１６２ａ、１６２ｂ）と係合するキー（６２）を含む請求項４に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項６】
前記ブロック（４３）が前記第１及び第２プレート（５１、５２）と係合するための上面（４６）上に設けられた第１の溝（４５ａ）と下面（４７）上に設けられた第２の溝（４５ｂ）とを含む請求項１に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項７】
前記第１及び第２プレート（５１、５２）が、前記第１及び第２の溝（４５ａ、４５ｂ）と係合する舌部分（９８、９９）を含む請求項１または６に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項８】
前記舌部分（９８、９９）が先細である請求項７に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項９】
前記第１及び第２プレート（５１、５２）が、クランプ力を与えるように適合された機械式ファスナ（５３、５５）により、前記ライザ・ブレース（４０）に固定的に取り付けられている請求項１に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項１０】
前記第１及び第２プレート（５１、５２）が、舌部と溝の界面（５８ａ、５８ｂ、５９ａ、５９ｂ）を介して互いに係合する請求項１に記載のクランプ装置。
【請求項１１】
原子炉の壁と前記原子炉内のジェットポンプ組立体を支持するライザ・ブレースとの間にクランプ装置を取り付けるための方法であって、
前記ライザ・ブレースの上面及び底面に溝を機械加工する工程と、
前記クランプ装置の部分を前記溝の中に挿入する工程と、
クランプ力を加えて、前記クランプ装置を界面において前記ライザ・ブレースに固定する工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記クランプ装置が第１及び第２プレートを含み、
該第１及び第２プレートの間にウェッジ組立体を挿入する工程を更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ウェッジ組立体を挿入する前記工程が、
前記ウェッジ組立体の上面を前記ライザ・ブレースの表面に係合する工程と、
前記ウェッジ組立体の底面を前記ライザ・ブレースの別の表面に係合する工程と、
を更に含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記クランプ装置の部分を挿入する工程が、前記クランプ装置の舌部分を前記機械加工された溝に係合させる工程を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記舌部分が先細である請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記クランプ力を加える工程が、前記第１及び第２プレートを機械式ファスナにより前記ライザ・ブレースに締め付ける工程を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
上方及び下方ライザ・ブレース板ばねを有するライザ・ブレース組立体を原子炉の壁に取り付けるために用いられる溶接部を構造的に交換する方法であって、
前記ライザ・ブレース組立体のブロック部分に溝を機械加工して、前記ライザ・ブレースの一部を取り除く工程と、
ウェッジ組立体を前記ライザ・ブレース板ばねの間に取り付ける工程と、
前記ライザ・ブレース板ばねの両面に、前記ブロック部分に機械加工された前記溝と嵌合する舌部分をそれぞれ有する上部及び底部プレートを取り付ける工程と、
クランプ力を加えて前記上部及び底部プレートを前記ライザ・ブレース板ばねに固定する工程を含む方法。
【請求項１８】
上方及び下方ライザ・ブレース板ばね（４１、４２）を有し、且つ原子炉内でライザ・ブレース組立体（４０）を取り付ける溶接部（１４０）に欠陥がある場合に、該溶接部を構造的に交換するためのクランプ装置（５０）であって、
前記上方ライザ・ブレース板ばね（４１）上の第１の溝（４５ａ）と嵌合するようにされた上部プレート（５１）と、
前記下方ライザ・ブレース板ばね（４２）上の第２の溝（４５ｂ）と嵌合するようにされた支持プレート（５２）と、
前記上部プレート（５１）と支持プレート（５２）との間に設けられ、前記第１及び第２の溝（４５ａ、４５ｂ）の反対側にある前記上方及び下方ライザ・ブレース板ばね（４１、４２）の表面に対して力を加えるウェッジ組立体（６０）と、
を含むクランプ装置（５０）。
【請求項１９】
クランプ力をかけて、前記上部プレート（５１）及び支持プレート（５２）を前記ライザ・ブレース板ばね（４１、４２）に固定的に取り付けるための複数のファスナ（５３、５５）を更に備える請求項１８に記載のクランプ装置（５０）。
【請求項２０】
前記上部及び支持プレート（５１、５２）が、舌部と溝の界面（５８ａ、５８ｂ、５９ａ、５９ｂ）を介して互いに係合するようになった請求項１８に記載のクランプ装置（５０）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
図２のライザ・ブレース組立体４０において、溶接部は、ブレースプレート４９をライザ管３８に取り付ける溶接部、ライザ・ブレースブロック４３を支持パッド１３０に取り付ける溶接部、及び板ばね４１及び４２を該ブレースプレート４９に取り付ける溶接部を含む。これらの溶接部は、現場溶接である（現場で作られる）。ライザ・ブレース・ブロック４３を上方及び下方ライザ・ブレース板ばね４１及び４２に連結する溶接部は、工場溶接である（例えば、工場内で予め製造される）。
【特許文献１】米国特許出願公開２００３―００９５８３１  ２００３年５月発行
【特許文献２】米国特許３８６５０９５  １９７５年２月発行
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月3日(2006.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属構成部品の表面から試料を得るための水中で作動可能な放電加工式試料採取装置（７０）において、
ベースプレート（７２）と、
それを貫通して延びる少なくとも１つの電極穴（８０）を備える放電電極（７６）と電極ホルダ（７８）とを含み、前記ベースプレートに移動可能に結合された電極組立体（７４）と、
前記電極に作動的に結合された粒子収集組立体（８２）とを具備し、
さらに、この装置は、
前記ベースプレート（７２）に結合された位置決め組立体（１１６）であって、前記ベースプレート（７２）に結合された支持ブラケット（１１８）と該試料採取装置を構成部品に結合するための手段（１２０）を有する位置決め組立体（１１６）とを含み、
前記少なくとも１つの電極穴（８０）が、前記粒子収集組立体と流体連通している、ことを特徴とする装置。
【請求項２】
モータ（９２）と、該モータ及び前記電極組立体（７４）に作動的に結合された電極駆動機構（９０）とを更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記電極駆動機構（９０）が、前記電極組立体（７４）を構成部品の表面に対してほぼ垂直な平面に沿って移動させるように構成されていることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記ベースプレート（７２）に結合された位置合わせブラケット（１１０）を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記位置合わせブラケット（１１０）が、少なくとも３つの整準スタッド（１１２）を含むことを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記試料採取装置を構成部品に結合するための前記手段（１２０）が、前記支持ブラケット（１１８）に結合された少なくとも２つの吸盤（１２２）を含むことを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項７】
前記粒子収集組立体（８２）が、フィルタハウジング（８６）内に配置されたフィルタ要素（８４）を含み、前記フィルタハウジングが真空源に作動的に結合されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
金属構成部品の表面から試料を得るための水中で作動可能な放電加工式試料採取装置（７０）において、
ベースプレート（７２）と、
前記ベースプレートに移動可能に結合され、それを貫通して延びる少なくとも１つの電極穴（８０）を有する放電電極（７６）と電極ホルダ（７８）とを備える電極組立体（７４）と、
前記ベースプレート（７２）に結合され、少なくとも３つの整準スタッド（１１２）を含む位置合わせブラケット（１１０）と、
前記電極（７６）に作動的に結合され、前記少なくとも１つの電極穴（８０）と流体連通する粒子収集組立体（８２）と、
を具備する放電加工式試料採取装置（７０）であって、
前記粒子収集組立体（８２）が、真空源に作動的に結合されたフィルタハウジング（８６）内に配置されたフィルタ要素（８４）を含ことを特徴とする装置。
【請求項９】
モータ（９２）と、該モータ及び前記電極組立体（７４）に作動的に結合された電極駆動機構（９０）とを更に有し、前記電極駆動機構（９０）が、前記電極組立体（７４）を構成部品の表面に対してほぼ垂直な平面に沿って移動させるように構成されていることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記ベースプレート（７２）に結合された位置決め組立体（１１６）を更に含み、前記位置決め組立体（１１６）が、前記ベースプレート（７２）に結合された支持ブラケット（１１８）と該試料採取装置を構成部品に結合するための手段（１２０）とを含むことを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記試料採取装置を構成部品に結合するための前記手段（１２０）が、前記支持ブラケット（１１８）に結合された少なくとも２つの吸盤（１２２）を含むことを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放電加工式試料採取装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
材料表面酸化物の試料を得るのに用いられる１つの方法は、小型の砥石車又は研削砥石と研削屑又は残滓を収集するための組み合わされた真空装置とを使用するものである。この方法は一般的に、測定に必要とされる適切な試料の大きさが得られない。材料表面酸化物の試料を得る別の方法は、表面酸化物を含む表面金属のチップを取り去るためのバリ取り機又は類似の工具を使用するものである。この方法は、大きな表面陥凹を生じさせ、また金属チップを取り去ることができないうちに関心のある酸化物を破壊又は散乱させる可能性がある。材料表面酸化物の試料を得る更に別の方法は、機械加工又は類似の方法により原子炉構成部品から材料の大きな試料を取り去るものである。大きな試料を取り去ることは、原子炉構成部品の表面を著しく変えるので、原子炉構成部品の修理、特別な分析、又は原子炉構成部品の将来的な使用中の監視が必要になる可能性がある。
【特許文献１】米国特許３３９０２４７  １９６８／６／１発行
【特許文献２】米国特許４０７１７２９  １９７８／１／１発行
【特許文献３】特開昭６１−００３０９２  １９８６／１／９公開（米国特許４６７２１６２）
【特許文献４】米国特許４９４８９３３  １９９０／８／１発行
【特許文献５】米国特許５０８９６８１  １９９２／２／１発行
【特許文献６】米国特許５２２５６４５  １９９３／７／１発行
【特許文献７】米国特許５２６８５５０  １９９３／１２／１発行
【特許文献８】米国特許５３１７６０７  １９９４／５／１発行
【特許文献９】米国特許５４０８８８３  １９９５／４／１発行
【特許文献１０】米国特許５５４３５９９  １９９６／８／１発行
【特許文献１１】米国特許５６８７２０５  １９９７／１１／１発行
【特許文献１２】米国特許５８０２１２６  １９９８／９／１発行
【特許文献１３】特開平１０−７６４２７  １９９８／３／２４
【特許文献１４】米国特許５８９７７９３  １９９９／４／１発行
【特許文献１５】特開２０００１−０６２３７５  ２０００／６／１６公開（米国特許６２３３３０１）
【特許文献１６】米国特許６１９７１８８  ２００１／３／１発行
【特許文献１７】特開２００１−２１９３１７ ２００１／８／１４公開
【特許文献１８】米国特許６３０９１４７  ２００１／１０／１発行
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月17日(2006.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
例えば、デジタルＸ線撮影（ＤＲ）又はコンピュータ断層撮影（ＣＴ）を使用して、Ｘ線によって工業用部品を検査することは知られている。それらの方法に使用されるＸ線源は、緻密な（一般にタングステン）ターゲットに向かって電子を加速することによりＸ線を発生する。発生されるＸ線の数は、主に、電子が入射するターゲット上の領域を冷却する能力により限定される。検査時間はＸ線出力に正比例する関係にあり、Ｘ線出力は焦点サイズに正比例する関係にある。しかし、焦点サイズは画像分解能とは反比例の関係にある。従って、検査速度と画質との間で何らかの妥協点を見出さなければならない。また、Ｘ線検出装置は、すぐれた散乱拒絶を示し、コンピュータ断層撮影に非常に適している線形Ｘ線検出器を含む。しかし、Ｘ線ビームは線形スライスにコリメートされるため、利用可能な円錐形Ｘ線源出力を最大限には利用していない。その結果、検査時間が長くなり、コストも増加する。
【特許文献１】米国特許出願公開第２００２／００９７８３６Ａ１号明細書
【特許文献２】米国特許５４６７３７７号明細書
【特許文献３】米国特許５７１２８８９号明細書
【特許文献４】独国特許出願公開第３０２１７５７Ａ１号明細書
【特許文献５】欧州特許出願公開第１００５２５７Ａ２号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月16日(2006.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電波を受信する電波受信用アンテナと、
時刻表示部を駆動する１つ以上の電磁モータと、
１つ以上の電池と、
を有する電子時計であって、
前記時刻表示部を視認する方向から前記電波受信用アンテナ、前記電磁モータおよび前記電池を投影した投影像は互いに離間しており、
前記電磁モータは、ステータと、コイルコアに巻かれたモータ用コイルとを有し、
少なくとも１つの前記電磁モータの前記モータ用コイルは、前記電波受信用アンテナと前記ステータとの間に配置されていることを特徴とする電子時計。
【請求項２】
請求項１に記載の電子時計において、
前記時刻表示部は輪列を介して駆動され、
前記電磁モータは、前記電波受信用アンテナと前記輪列の間に配置されていることを特徴とする電子時計。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子時計において、
前記モータ用コイルが巻かれたコイルコアの長さ寸法は、前記電波受信用アンテナが巻かれたアンテナコアの長さ寸法よりも短いことを特徴とする電子時計。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の電子時計において、
前記電波受信用アンテナで受信を行っている間は、前記電磁モータの駆動を停止させることを特徴とする電子時計。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の電子時計において、
非導電性材料からなる基枠を備え、
前記電波受信用アンテナ、前記電磁モータおよび前記電池は、前記基枠に配置されていることを特徴とする電子時計。
【請求項６】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の電子時計において、
前記電波受信用アンテナは、時計の地板の外周に沿って配置されていることを特徴とする電子時計。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月21日(2005.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光学素子および基板に波長が相異なる複数の光を照射する照射工程と、
前記光学素子で反射した光と前記基板で反射した光とを干渉させて光強度を測定する測定工程と、
前記光学素子に照射された光の光軸方向に前記光学素子を移動させる移動工程と、
前記測定工程により得られた光強度を平均化して移動平均データを求める平均化工程と、
前記移動平均データに隣接するデータの差分を差分を求める差分工程と、
少なくとも２波長の差分を用いて前記光学素子と前記基板との相対位置を算出する算出工程とを備え、
前記差分データのばらつきが閾値以下となるまで前記測定工程と前記移動工程と前記平均化工程とを繰り返すこと
を特徴とする、光学素子位置計測方法。
【請求項２】  前記照射工程では、波長の異なる複数の光を同一の光軸で光学素子および基板に対して照射すること
を特徴とする、請求項１記載の光学素子位置計測方法。
【請求項３】  前記相対位置が、光学素子と基板との相対距離であること
を特徴とする、請求項１または２記載の光学素子位置計測方法。
【請求項４】  前記相対位置が、光学素子と基板との相対傾き角であること
を特徴とする、請求項１または２記載の光学素子位置計測方法。
【請求項５】  前記基板が、Ｓｉウエハーのような反射率の高い基板であること
を特徴とする、請求項１から４いずれか記載の光学素子位置計測方法。
【請求項６】  前記光学素子が、ガラスやＬＮ素子の反射率が低い光学素子であること
を特徴とする、請求項１から５いずれか記載の光学素子位置計測方法。
【請求項７】  前記光学素子の反射面は前記基板と対向する面であり、前記基板の反射面は前記光学素子と対向する面であること
を特徴とする、請求項１から６いずれか記載の光学素子位置計測方法。
【請求項８】  請求項１記載の光学素子位置計測方法によって算出される光学素子と基板間の相対位置に基づいて、基板に実装された光源の光出射位置と光学素子中の導波路との相対位置、または基板と光学素子中の導波路との相対位置を調整すること
を特徴とする、導波路調整方法。
【請求項９】  前記基板に光源を実装する工程と、
基板に実装された光源の光出射位置と光学素子中の導波路位置とを請求項８記載の導波路調整方法によって調整する工程と、
調整された位置に光学素子を実装する工程と
を備えることを特徴とする、光モジュール製造方法。
【請求項１０】  光学素子および基板に波長λ１の光を照射する第１の光源と、
前記波長λ１の光と同一の光軸で前記光学素子及び前記基板に波長λ２の光を照射する第２の光源と、
前記光学素子で反射した前記波長λ１の光と前記基板で反射した前記波長λ１の光とが干渉した光を受光する第１の受光素子と、
前記光学素子で反射した前記波長λ２の光と前記基板で反射した前記波長λ２の光とが干渉した光を受光する第２の受光素子と、
前記光学素子を前記光軸方向に移動させる移動手段と、
前記第１の受光素子および前記第２の受光素子からのデータを用いて前記光学素子と前記基板間の相対位置を算出する位置算出器とを備えること
を特徴とする、光学素子位置計測装置。
【請求項１１】  請求項１０記載の光学素子位置計測装置に加えて、前記位置算出器の算出結果に基づいて前記基板と前記光学素子中の導波路との相対位置を調整するための制御信号を出力するコントローラと、前記制御信号に基づいて前記光学素子を回転させる回転手段とをさらに備えること
を特徴とする、導波路調整装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の構成を採用した。
本発明の光学素子位置計測方法は、光学素子および基板に波長が相異なる複数の光を照射する照射工程と、照射した光のうち光学素子で反射したものと基板で反射したものとを干渉させて光強度を測定する測定工程と、光学素子に照射された光の光軸方向に光学素子を移動させる移動工程と、測定工程により得られた光強度を平均化して移動平均データを求める平均化工程と、移動平均データに隣接するデータの差分を差分を求める差分工程と、少なくとも２波長の差分を用いて光学素子と基板との相対位置を算出する算出工程とを備え、差分データのばらつきが閾値以下となるまで測定工程と移動工程と平均化工程とを繰り返すことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また本発明の導波路調整方法は、上記の光学素子位置計測方法によって算出される光学素子と基板間の相対位置に基づいて、基板に実装された光源の光出射位置と光学素子中の導波路との相対位置、または基板と光学素子中の導波路との相対位置を調整することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また本発明の光学素子位置計測装置は、光学素子および基板に波長λ１の光を照射する第１の光源と、波長λ１の光と同一の光軸で光学素子及び基板に波長λ２の光を照射する第２の光源と、波長λ１の光のうち光学素子で反射したものと基板で反射したものとが干渉した光を受光する第１の受光素子と、波長λ２の光のうち光学素子で反射したものと基板で反射したものとが干渉した光を受光する第２の受光素子と、光学素子を光軸方向に移動させる移動手段と、第１の受光素子および第２の受光素子からのデータを用いて光学素子と基板間の相対位置を算出する位置算出器とを備えることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また本発明の他の光学素子位置計測装置は、上記光学素子位置計測装置に加えて、位置算出器の算出結果に基づいて基板と光学素子中の導波路との相対位置を調整するための制御信号を出力するコントローラと、制御信号に基づいて光学素子を回転させる回転手段とをさらに備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月7日(2006.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】    ポリグリセリンベヘニン酸エステルがデカグリセリルヘプタベヘネートである請求項２記載の徐放性坐剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは先に、テトラ低級アルコキシチタンを加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを基材表面に付着させ、これを加熱焼成して得られる酸化チタン薄膜であって、これを光触媒として水中有機物質の分解、除去などに用いた場合、分解効率を高め得るものの製造するために、テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することによって酸化チタン薄膜を製造する方法を提案している(特開平11-199230号公報)。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
チタン含有加水分解ゾルにポリビニルピロリドンを添加した酸化チタン膜形成用加水分解ゾルを、浸漬法、噴霧法、スピンコーティング法などによって、板状、棒状、管状、ビーズ状等の耐熱性基材表面に付着させてゲル膜を形成させ、これを約300〜700℃、好ましくは約400〜700℃の温度で約10分間乃至約3時間程度加熱処理すると、耐熱性基材表面に酸化チタン薄膜が形成される。このようにして形成された酸化チタン薄膜は、耐熱性基材である石英ガラス、ソーダガラス、セラミックス等との密着性も良好で、テープ剥離試験法でも剥離しない程であり、またそれの結晶構造は、ポリビニルピロリドンを添加しないゾルから形成されたものがアナターゼ相、ルチル相またはこれらの混合相であるのに対し、結晶配向性、即ちｃ軸配向性を有している。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月17日(2006.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリビニルアセタール樹脂（ａ）と可塑剤（ａ）とからなる樹脂層（Ａ）と、ポリビニルアセタール樹脂（ｂ）と可塑剤（ｂ）とからなる樹脂層（Ｂ）との交互積層体であって、上記ポリビニルアセタール樹脂（ａ）と可塑剤（ｂ）との混合溶液の曇り点（Ｔａｂ）と上記ポリビニルアセタール樹脂（ｂ）と可塑剤（ａ）との混合溶液の曇り点（Ｔｂａ）との差の絶対値（｜Ｔａｂ−Ｔｂａ｜）が５０℃以上であり、且つ、上記ポリビニルアセタール樹脂（ａ）と可塑剤（ａ）との混合溶液の曇り点（Ｔａａ）及び／又は上記ポリビニルアセタール樹脂（ｂ）と可塑剤（ｂ）との混合溶液の曇り点（Ｔｂｂ）が５０℃以下であることを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
又、本発明の合わせガラス用中間膜は、上記請求項１に記載の合わせガラス用中間膜において、ポリビニルアセタール樹脂がポリビニルブチラール樹脂であり、可塑剤がトリエチレングリコールジ２−エチルブチレート（３ＧＨ）、トリエチレングリコールジ２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）及びトリエチレングリコールジｎ−ヘプタノエート（３Ｇ７）からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の合わせガラスは、少なくとも一対のガラス間に上記請求項１に記載の合わせガラス用中間膜を介在させ、一体化させてなることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月29日(2005.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  主たる繰り返し単位を、エチレンテレフタレート、エチレンナフタレート、プロピレンテレフタレート、プロピレンナフタレート、ブチレンテレフタレート、ブチレンナフタレートからなる群から選ばれた少なくとも１種類の繰り返し単位とするポリエステルポリマーと、下記一般式（１）で表されるビスオキサゾリン化合物を含んでなり、下記（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の各要件を同時に満足する、ビスオキサゾリン化合物含有ポリエステル組成物。
（Ｉ）固有粘度が０．４０〜１．００であること。
（ＩＩ）ポリエステル組成物中における未反応のオキサゾリン官能基量が１０〜１４００ｅｑ／ｔｏｎであること。
（ＩＩＩ）ビスオキサゾリン化合物添加後の組成物の融点が、該化合物添加前のポリマーの融点よりも４℃以上低いこと。
【化１】
2001048965.tif 000001
【請求項２】  ビスオキサゾリン化合物添加後の組成物の融点が、該化合物添加前のポリマーの融点よりも５〜２０℃低い、請求項１記載の組成物。
【請求項３】  ビスオキサゾリン化合物が下記構造式（２）で表される化合物である、請求項１記載の組成物。
【化２】
2001048965.tif 000002
【請求項４】  末端カルボキシル基含有量が３０ｅｑ／ｔｏｎ以下、固有粘度が０．２０〜０．８０であり、主たる繰り返し単位を、エチレンテレフタレート、エチレンナフタレート、プロピレンテレフタレート、プロピレンナフタレート、ブチレンテレフタレート、ブチレンナフタレートからなる群から選ばれた少なくとも１種類の繰り返し単位とするポリエステルポリマーと、上記一般式（１）で表されるビスオキサゾリン化合物を溶融混練するビスオキサゾリン化合物含有ポリエステル組成物の製造方法。
【請求項５】  請求項１記載のビスオキサゾリン化合物含有ポリエステル組成物と、末端カルボキシル基含有量が５〜８０ｅｑ／ｔｏｎ、固有粘度が０．３０〜０．９０の範囲にあるポリエステルポリマーとを溶融混練し、該混練後のポリエステル組成物中における未反応のオキサゾリン官能基量を１０ｅｑ／ｔｏｎ未満となるようにする、高重合度ポリエステルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明の目的は、
主たる繰り返し単位を、エチレンテレフタレート、エチレンナフタレート、プロピレンテレフタレート、プロピレンナフタレート、ブチレンテレフタレート、ブチレンナフタレートからなる群から選ばれた少なくとも１種類の繰り返し単位とするポリエステルポリマーと、下記一般式（１）で表されるビスオキサゾリン化合物を含んでなり、下記（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の各要件を同時に満足する、ビスオキサゾリン化合物含有ポリエステル組成物及びその製造方法により達成することができる。
（Ｉ）固有粘度が０．４０〜１．００であること。
（ＩＩ）ポリエステル組成物中における未反応のオキサゾリン官能基量が１０〜１４００ｅｑ／ｔｏｎであること。
（ＩＩＩ）ビスオキサゾリン化合物添加後の組成物の融点が、該化合物添加前のポリマーの融点よりも４℃以上低いこと。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この溶融混練時の溶融温度についても特に制限は無いが、ポリエステルポリマーの融点以上〜３１０℃以下、更に好ましくはポリエステルポリマーの融点以上〜３００℃以下で行えばよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
［比較例１］
実施例１において、ポリエチレンテレフタレートチップとして、末端カルボキシル基量５０ｅｑ／ｔｏｎ、固有粘度０．６０、融点２５８℃のポリエチレンテレフタレートチップを用いたこと以外は同様の操作を行ったが、ポリマーの溶融粘度が高すぎてチップ化できなかった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
［比較例４］
実施例３において、２，２’−ビス（２−オキサゾリン）の添加量を０．０５重量％となるようにしたこと以外は同様の操作を行ってチップ化した。得られたチップの特性を表１に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】（ａ）紫外線吸光度計を用いて濃度が１０ｐｐｍのテトラヒドロフラン溶液で吸光度を測定した場合、２６０ｎｍにおける紫外線の吸光度が０．４〜０．８の範囲にあり、かつエポキシ当量が２５０〜２８０ｇ／ｅｑの範囲にあるエポキシ樹脂及び（ｂ）硬化剤を含有してなるエポキシ樹脂組成物。
【請求項２】（ａ）成分の軟化点が５０〜８０℃の範囲内にある請求項１記載のエポキシ樹脂組成物。
【請求項３】（ａ）成分が下記式（１）
2001048951.tif 000001
（式中、ｎは正数であり平均値を表す。）
で表されるエポキシ樹脂である請求項１または２記載のエポキシ樹脂組成物。
【請求項４】請求項１、２または３記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月20日(2006.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このように、本発明を走行車輪に適用した場合、スリット溝縁部によって油膜を削り取りながら、クレーンの特性を利用した圧力差により油をスリット溝から走行車輪の外方へと排出するので、スリット溝の延在方向はできるだけ走行車輪の転動方向に直交する方向が好ましい。通常、走行車輪は前後進するため、スリット溝は走行車輪の転動方向に対して直行する方向に延在する構成を最良とする。しかし、内外の圧力差を利用できる範囲であるなら、スリット溝の延在方向は、走行車輪の転動方向に対して傾斜する方向であってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
スリット溝の延在態様も自由であり、若干の蛇行をしていてもよいが、本発明の目的であるランウェイガーダ９上の油の回収、排出といった目的からは、直線状のスリット溝８が好ましい。また、本例のように直線状のスリット溝８にすることで、予め一体成形した外輪３に後加工にて容易にスリット溝８を刻設できる利点がある。本例のほか、例えば図４に見られるように、走行車輪１の転動方向に対して傾斜したスリット溝10であってもよい。図４の例では、スリット溝10の幅、深さは図１以下の例と同じである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の走行車輪１は、スリット溝８(10)が直接的にランウェイガーダ９に対する摩擦力を増加させるだけでなく、図２に見られるように、ランウェイガーダ９上に堆積する油をスリット溝８(10)で削り取りながらスリット溝８(10)内へ溜め込み、外輪３の変形に伴う内外の圧力差によりスリット溝８内の油を外方へ排出することで、スリップを誘発するランウェイガーダ９上の油膜を除去する。これにより、クレーン起動時のスリップだけでなく、クレーンの危険な蛇行を防止でき、安全性を高めると共にランウェイガーダ上の油膜の清掃頻度と清掃の手間を低減する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  一般式（１）〔化1〕
【化１】
2001048283.tif 000001
で表される繰り返し構造単位を有するポリイミド樹脂から成形されたポリイミド樹脂製ディスクキャリア。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  ディスクキャリアが、ハードディスクを収納するためのものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂製ディスクキャリア。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】  請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂製ディスクキャリアの製造方法であって、金型が装着された射出成形機を用いて、シリンダー温度４００〜４５０℃、金型温度２００〜２５０℃において、一般式（１）〔化２〕
【化２】
2001048283.tif 000002
で表される繰り返し構造単位を有するポリイミド樹脂からディスクキャリアを射出成形し、金型内で結晶化させることを特徴とするポリイミド樹脂製ディスクキャリアの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決する為鋭意検討した結果、特定の構造を有する熱可塑性ポリイミド樹脂を用いて成形することにより金型内で結晶化させることが可能で、優れた寸法安定性、及び耐熱性を有するディスクキャリアが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、一般式（１）〔化３〕
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化３】
2001048283.tif 000003
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係わるポリイミド樹脂製ディスクキャリアは、上記一般式（１）で表される繰り返し構造単位を有するポリイミドを原料として使用することにより、射出成形品は射出成形機の金型内で結晶化するため、金型から取り出した後、次工程で加熱処理等をして結晶化させる必要がない。従って、工程が簡略化されるばかりでなく、寸法精度が極めて高く、高温における寸法変化率が小さいポリイミド樹脂製ディスクキャリアである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【発明の効果】
本発明に係わるポリイミド樹脂製ディスクキャリアは、優れた寸法精度、耐熱性を有する。本発明の製造方法によれば、射出成形機の金型内で結晶化させることが可能であり、金型から取り出した後、次工程で加熱処理等をして結晶化させる必要がない。従って、工程が簡略化されるばかりでなく、寸法精度が極めて高いポリイミド樹脂製ディスクキャリアが得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、 ポリエチレンナフタレンジカルボキシレート（以下、ＰＥＮと略記することがある）製容器について、回収したＰＥＮ製容器に、アルカリ洗浄、例えば５０〜１００℃に加温した、０．５〜１０％の水酸化ナトリウム水溶液でのアルカリ洗浄を実施していくと、透明性が低下する。この透明性低下は、市場から回収されたＰＥＮ製容器をアルカリにて洗浄し、再使用するというリサイクル回数が多いほど顕著になること、ＰＥＴ製容器に比べてＰＥＮ製容器では表面にキズが付きやすく、そのため外観不良（透明性低下を含む）を発生しやすいを知見した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
［参考例１］
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル１００重量部とエチレングリコール７０重量とを、酢酸コバルト、酢酸カルシウム及び酢酸マグネシウムをエステル交換触媒として用い、副生するメタノールを系外に留去させかつ２５０℃まで加熱昇温しながらエステル交換反応させ、メタノールの留去がほぼ終了した段階で重合触媒として酢酸ゲルマニウムを添加し、引き続き安定剤としてトリメチルフォスフェートを添加して、エステル交換反応を終了せしめた。次いで、反応生成物を高温高真空下で重縮合反応させて固有粘度（テトラクロロエタン２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．５０のプレポリマーを得た。このプレポリマーをストランド型のチップとした後、更に、加熱真空下で固相重合させて固有粘度（トリクロロフェノール２重量部とフェノール３重量部の
混合溶媒、３５℃）０．６５の固相重合ポリマーである熱可塑性ポリエステルを得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
［参考例２］
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル９３重量部とテレフタル酸ジメチル５．４重量部とエチレングリコール７０重量とを、酢酸コバルト及び酢酸マンガンをエステル交換触媒として用い、副生するメタノールを系外に留去させかつ２５０℃まで加熱昇温しながらエステル交換反応させ、メタノールの留去がほぼ終了した段階で重合触媒として三酸化アンチモンを添加し、引き続き安定剤として正リン酸を添加して、エステル交換反応を終了せしめた。次いで、反応生成物を高温高真空下で重縮合反応させて固有粘度（テトラクロロエタン２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．５０のプレポリマーを得た。このプレポリマーをストランド型のチップとした後、更に、加熱真空下で固相重合させて固有粘度（トリクロロフェノール２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．７０の固相重合ポリマーである熱可塑性ポリエステルを得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
［参考例３］
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル１０重量部とテレフタル酸ジメチル７１．７重量部とエチレングリコール７０重量とを、酢酸コバルト及び酢酸マンガンをエステル交換触媒として用い、副生するメタノールを系外に留去させかつ２５０℃まで加熱昇温しながらエステル交換反応させ、メタノールの留去がほぼ終了した段階で重合触媒として三酸化アンチモンを添加し、引き続き安定剤として正リン酸を添加して、エステル交換反応を終了せしめた。次いで、反応生成物を高温高真空下で重縮合反応させて固有粘度（テトラクロロエタン２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．５７のプレポリマーを得た。このプレポリマーをストランド型のチップとした後、更に、加熱真空下で固相重合させて固有粘度（テトラクロロエタン２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．８３の固相重合ポリマーである熱可塑性ポリエステルを得た。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
［参考例４，５］
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル８８重量部とテレフタル酸ジメチル９．６重量部とエチレングリコール７０重量とを、酢酸コバルト及び酢酸マンガンをエステル交換触媒として用い、副生するメタノールを系外に留去させかつ２５０℃まで加熱昇温しながらエステル交換反応させ、メタノールの留去がほぼ終了した段階で重合触媒として三酸化アンチモンを添加し、引き続き安定剤としてトリメチルホスフェートを添加して、エステル交換反応を終了せしめた。次いで、反応生成物を高温高真空下で重縮合反応させて固有粘度（テトラクロロエタン２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．４４のプレポリマーを得た。このプレポリマーをストランド型のチップとした後、更に、加熱真空下で処理し、固有粘度（トリクロロフェノール２重量部とフェノール３重量部の混合溶媒、３５℃）０．４５のポリマー（Ｃ）を得た。