【手続補正書】
【提出日】平成18年8月22日(2006.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の表面に処理液を塗布し膜を形成する塗布膜形成装置において、
並べて配置され、被処理基板を夫々載置する第一のステージおよび第二のステージと、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口を有する一つの処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルを移動するノズル移動手段と、前記処理液供給ノズルに対して処理液を供給する処理液供給手段と、前記吐出口からの処理液を回転自在に形成されたローラの周面に吐出させ、前記ローラを回転させることによって前記吐出口に付着する処理液を均一化処理するプライミング処理手段とを備え、
前記処理液供給ノズルによって、第一のステージおよび第二のステージに載置された被処理基板の表面に処理液を塗布することを特徴とする塗布膜形成装置。
【請求項２】
前記プライミング処理手段は、前記第一のステージと第二のステージとの間に設置されることを特徴とする請求項１に記載された塗布膜形成装置。
【請求項３】
前記被処理基板に対する塗布処理の前に、前記ノズル移動手段が、前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラの周面に近接させ、前記吐出口に付着する処理液を均一化処理することを特徴とする請求項１または請求項２に記載された塗布膜形成装置。
【請求項４】
前記プライミング処理手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、
前記吐出口に付着する処理液を均一化処理する際に、前記ローラ回転制御手段は、該均一化処理後の塗布処理が前記第一のステージまたは前記第二のステージのいずれで行われるかにより前記ローラの回転方向を決定することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載された塗布膜形成装置。
【請求項５】
前記プライミング処理手段には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された塗布膜形成装置。
【請求項６】
前記プライミング手段として、第一のプライミング処理手段および第二のプライミング処理手段とを備え、
前記第一のプライミング処理手段および第二のプライミング処理手段は、それぞれ前記第一のステージおよび第二のステージの右側または左側に配置されることを特徴とする請求項１に記載された塗布膜形成装置。
【請求項７】
前記第一のステージに載置される被処理基板に対する塗布処理の前に、前記ノズル移動手段が前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラの周面に近接させ、前記第一のプライミング処理手段が前記吐出口に付着する処理液を均一化処理し、
且つ、前記第二のステージに載置される被処理基板に対する塗布処理の前に、前記ノズル移動手段が前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラの周面に近接させ、前記第二のプライミング処理手段が前記吐出口に付着する処理液を均一化処理することを特徴とする請求項６に記載された塗布膜形成装置。
【請求項８】
前記第一および第二のプライミング手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、前記第一のプライミング処理手段のローラと、前記第二のプライミング処理手段のローラの回転方向が同一方向であることを特徴とする請求項６または請求項７に記載された塗布膜形成装置。
【請求項９】
前記第一のプライミング処理手段または前記第二のプライミング処理手段には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられていることを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれかに記載された塗布膜形成装置。
【請求項１０】
被処理基板の表面に処理液を塗布し膜を形成する塗布膜形成装置において、
並べて配置され、被処理基板を夫々載置する第一のステージおよび第二のステージと、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口を有し、被処理基板に処理液を供給する一つの処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルを移動するノズル移動手段と、前記ノズル移動手段により前記処理液供給ノズルの吐出口を回転自在に形成されたローラの周面に近接させると共に、前記吐出口から前記ローラの周面に対し処理液を吐出させ、且つ前記ローラを一方向に回転させることにより、前記ノズル先端の前後方向の一方の側に前記ローラの回転方向に沿って他方よりも多くの処理液が付着した状態とするプライミング処理手段とを備え、
前記プライミング処理手段による処理の後、前記ノズル移動手段により、前記ノズル先端の前後方向の処理液が少なく付着した側を進行方向として前記処理液供給ノズルを移動させ、被処理基板に対する塗布処理を行うことを特徴とする塗布膜形成装置。
【請求項１１】
前記ローラは、少なくとも前記第一のステージと第二のステージとの間に設置されることを特徴とする請求項１０に記載された塗布膜形成装置。
【請求項１２】
前記プライミング処理手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、
前記ノズル先端に対する処理の際、前記ローラ回転制御手段は、被処理基板に対する塗布処理が前記第一のステージまたは前記第二のステージのいずれで行われるかにより、前記ローラの回転方向を決定することを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載された塗布膜形成装置。
【請求項１３】
前記プライミング手段は、二つの前記ローラを備え、
前記二つのローラは、それぞれ前記第一のステージおよび第二のステージの右側または左側に配置され、
前記二つのローラのいずれか一方の側方には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられることを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載された塗布膜形成装置。
【請求項１４】
前記プライミング手段は、前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラに近接させた際に、前記ノズルを挟んで前記ローラの左右に配置された二つのワイパを有し、
前記ローラ回転制御手段の制御により一方向に回転する前記ローラの回転方向上流側の前記ワイパのみをローラ周面に摺接させ、該周面上の不要な処理液を除去することを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載された塗布膜形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
なお、前記第一のプライミング処理手段または前記第二のプライミング処理手段には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられていることが望ましい。
このように保湿手段を設けることにより、待機時においてノズル先端の乾燥を抑制することができる。
また、前記した目的を達成するためになされた本発明に係る塗布膜形成装置は、被処理基板の表面に処理液を塗布し膜を形成する塗布膜形成装置において、並べて配置され、被処理基板を夫々載置する第一のステージおよび第二のステージと、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口を有し、被処理基板に処理液を供給する一つの処理液供給ノズルと、前記処理液供給ノズルを移動するノズル移動手段と、前記ノズル移動手段により前記処理液供給ノズルの吐出口を回転自在に形成されたローラの周面に近接させると共に、前記吐出口から前記ローラの周面に対し処理液を吐出させ、且つ前記ローラを一方向に回転させることにより、前記ノズル先端の前後方向の一方の側に前記ローラの回転方向に沿って他方よりも多くの処理液が付着した状態とするプライミング処理手段とを備え、前記プライミング処理手段による処理の後、前記ノズル移動手段により、前記ノズル先端の前後方向の処理液が少なく付着した側を進行方向として前記処理液供給ノズルを移動させ、被処理基板に対する塗布処理を行うことに特徴を有する。
このように２つのステージを有する構成とすることにより、従来の単一のステージの場合よりもスループットを向上することができる。
さらに、プライミング処理手段による処理の後、ノズル先端の処理液が少なく付着した側を進行方向としてノズルを移動し塗布処理を行うことにより、塗布開始時における箒スジ等の発生が抑制され、塗布膜がより均一となるようにすることができる。
また、前記ローラは、少なくとも前記第一のステージと第二のステージとの間に設置されることが望ましい。
さらに、前記プライミング処理手段は、前記ローラの回転を制御するローラ回転制御手段を備え、前記ノズル先端に対する処理の際、前記ローラ回転制御手段は、被処理基板に対する塗布処理が前記第一のステージまたは前記第二のステージのいずれで行われるかにより、前記ローラの回転方向を決定することが好ましい。
このように構成することにより、次に塗布処理を行うステージに合わせて、ノズル先端の処理液が少なく付着した側を進行方向とすることができる。
また、前記プライミング手段は、二つの前記ローラを備え、前記二つのローラは、それぞれ前記第一のステージおよび第二のステージの右側または左側に配置され、前記二つのローラのいずれか一方の側方には、前記処理液供給ノズルの先端の乾燥を抑制する保湿手段が設けられることが望ましい。
このように保湿手段を設けることにより、待機時においてノズル先端の乾燥を抑制することができる。
また、前記プライミング手段は、前記処理液供給ノズルの吐出口を前記ローラに近接させた際に、前記ノズルを挟んで前記ローラの左右に配置された二つのワイパを有し、前記ローラ回転制御手段の制御により一方向に回転する前記ローラの回転方向上流側の前記ワイパのみをローラ周面に摺接させ、該周面上の不要な処理液を除去することが望ましい。
このようにローラの回転方向に対応させたワイパを用いることにより、ローラ周面の不要な処理液等を効果的に除去することができる。