【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射板を備えた反射型表示素子
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  透明性を有する対向基板と、
前記対向基板に対向する反射板であって、複数の凹凸を有する凹凸構造体を基本単位とし、当該凹凸構造体が複数設けられた基板と、前記凹凸構造体の上に設けられた光反射性薄膜とを含んでなる反射板と、
前記対向基板と反射板との間に挟持された液晶層と、
を有していることを特徴とする反射型表示素子。
【請求項２】  前記反射板が、複数の前記凹凸構造体が前記基板上に周期的に設けられた、光を反射回折させる回折型反射板である
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型表示素子。
【請求項３】  前記凹凸構造体に於ける凹凸の頂部の高さ位置、または底部の深さ位置が相互に異なる
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型表示素子。
【請求項４】  前記凹凸構造体は、相互に高さの異なる複数の微小な柱状部が各々独立して、または少なくとも一部が結合して構成された柱状部集合体である
ことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項５】  前記凹凸構造体は、階段状の段部を複数有する階段状構造体である
ことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項６】  前記凹凸構造体の高さ分布は、ピークが中心部分から特定方向にずれた位置にあり、かつそのピークから周縁に向かって減少傾向を示す分布状態を示し、前記凹凸構造体を覆う前記光反射性薄膜の表面は、前記特定方向に於ける曲率が、前記特定方向とは反対の方向に於ける曲率よりも大きい曲面である
ことを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項７】  前記凹凸構造体と光反射性薄膜との間には、少なくとも１層の高分子樹脂層が設けられている
ことを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項８】  前記凹凸構造体の平面形状に於ける大きさが、１μｍ以上、１００μｍ以下の範囲内にある
ことを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項９】  前記複数の凹凸構造体がそれぞれ光を反射回折させる周期構造を有しており、該凹凸構造体はその位置および／または周期の方向がランダムになる様に設けられている
ことを特徴とする請求項１〜請求項８の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項１０】  非線形素子が設けられた基板と、
前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、
前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極と、
を備え、
前記コンタクトホールの底部には、光反射性膜が設けられている
ことを特徴とする反射型表示素子。
【請求項１１】  前記感光性樹脂層に於けるコンタクトホールの内壁近傍の架橋度は、他の部分と比較して大きい
ことを特徴とする請求項１０に記載の反射型表示素子。
【請求項１２】  非線形素子が設けられた基板と、
前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、
前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極と、
を備え、
前記コンタクトホールの底部には前記感光性樹脂層よりも表面エネルギーの大きい薄膜が設けられている
ことを特徴とする反射型表示素子。
【請求項１３】  前記感光性樹脂層に於けるコンタクトホールの内壁近傍の架橋度は、他の部分と比較して大きい
ことを特徴とする請求項１２に記載の反射型表示素子。
【請求項１４】  非線形素子が設けられた基板と、
前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、
前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極と、
を備え、
前記コンタクトホールは、その内壁近傍の架橋度が他の部分よりも大きくなるように設けられている
ことを特徴とする反射型表示素子。
【請求項１５】  非線形素子および複数の凹凸が設けられた基板と、前記凹凸上に設けられた光反射性を有する画素電極と、を備える反射型表示素子であって、
前記凹凸が、前記非線形素子を構成する層のうち、任意に選択した１層または複数の層を積層したものからなる
ことを特徴とする反射型表示素子。
【請求項１６】  一対の基板間に液晶層が設けられた反射型表示素子であって、
前記一対の基板のうち一方の基板には、金属膜に覆われた凹凸と、他方の基板を支持する支持部とが一体的に成形されて設けられている
ことを特徴とする反射型表示素子。
【請求項１７】  前記凹凸が角錘状または円錐状である
ことを特徴とする請求項１６に記載の反射型表示素子。
【請求項１８】  前記角錐状の凹凸に於ける傾斜面または円錐状の凹凸に於ける母線と、水平面とのなす角を傾斜角とした場合、上記凹凸は種々異なる傾斜角で分散配置されており、上記傾斜角が４°〜１６°の範囲内である
ことを特徴とする請求項１６または請求項１７に記載の反射型表示素子。
【請求項１９】  前記一方の基板上には、前記凹凸および他方の基板を支持する支持部が一体的に成形された高分子樹脂層が設けられている
ことを特徴とする請求項１６〜請求項１８の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項２０】  前記一方の基板上に複数の非線形素子が設けられると共に、前記高分子樹脂層に前記非線形素子と、前記金属膜とを電気的に接続させるコンタクトホールが設けられている
ことを特徴とする請求項１９に記載の反射型表示素子。
【請求項２１】  前記一方の基板上に、前記凹凸および他方の基板を支持する支持部が一体的に成形された樹脂フィルムがラミネートされている
ことを特徴とする請求項１６〜請求項１８の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項２２】  前記樹脂フィルムが感光性樹脂からなる
ことを特徴とする請求項２１に記載の反射型表示素子。
【請求項２３】  前記一方の基板が、表面に前記凹凸および他方の基板を支持する支持部が成形されたプラスティック基板である
ことを特徴とする請求項１６〜請求項１８の何れか１項に記載の反射型表示素子。
【請求項２４】  基板上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた金属膜とを有する反射型表示素子に於いて、
上記感光性樹脂層は、上記基板上に塗布された感光性樹脂に、フォトマスクを介して露光し現像されることにより形成されたものであって、前記露光で使用する露光機および前記感光性樹脂の解像限界よりも微小な網点群からなる遮光パターンを有し、かつ面内に於ける遮光パターンの光の平均透過率が不均一なフォトマスクを介して露光することにより、表面が凹凸状に形成されたものである
ことを特徴とする反射型表示素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＯＡ機器、パーソナルコンピュータ、携帯電話、携帯情報端末などに用いられる表示素子であって、外光を反射することにより画像を表示する反射型表示素子に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、コントラスト特性、ペーパーホワイト性等の反射特性に優れた反射板を案出し、この反射板を用いることによりコントラスト特性等に優れた反射型表示素子を提供することを第１の目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、セルギャップを均一に保持し得た、反射特性に優れた反射型表示素子を提供することを第２の目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、上記のような反射板を備えた場合にも、画素電極とスイッチング素子とを電気的に接続するためのコンタクトホールの開口の大きさを十分に確保し得た反射型表示素子を提供することを第３の目的とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
以下の説明に於いては、本発明に密接に関連する第１の発明関連技術群と第２の発明群とに大別して説明する。第１の発明関連技術群は、本発明の主要構成要素である反射板に関する技術群であり、複数の凹凸を有する凹凸構造体を基本単位として、この凹凸構造体が複数設けられた反射板に関する。また第２の発明群は、金属膜に覆われた凹凸と、スペーサーとしての役割を果たす支持部とが一体的に成形された反射板を備えた反射型表示素子に関する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
[第１の発明関連技術群]
上記の課題を解決するために、本発明関連技術に係る反射板は、複数の凹凸を有する凹凸構造体を基本単位とし、当該凹凸構造体が複数設けられた基板と、前記凹凸構造体の上に設けられた光反射性薄膜とを備えることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極と、を備え、前記コンタクトホールの底部には、光反射性膜が設けられていることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極とを備え、前記コンタクトホールの底部には前記感光性樹脂層よりも表面エネルギーの大きい薄膜が設けられていることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極とを備え、前記コンタクトホールは、その内壁近傍の架橋度が他の部分よりも大きくなるように設けられていることを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
上記の課題を解決するための本発明反射型表示素子は、透明性を有する対向基板と、前記対向基板に対向する反射板であって、複数の凹凸を有する凹凸構造体を基本単位とし、当該凹凸構造体が複数設けられた基板と、前記凹凸構造体の上に設けられた光反射性薄膜とを含んでなる反射板と、前記対向基板と反射板との間に挟持された液晶層とを有していることを特徴とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
上記の構成によれば、コントラスト特性およびペーパーホワイト性に優れた反射板を備える反射型液晶表示素子である反射型表示素子を提供することができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造方法は、基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層に、所定の形状にパターニングされた遮光部を有するフォトマスクを介して光を照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂層を現像して、複数のレジスト柱を形成する現像工程と、前記複数のレジスト柱を形成した基板に熱処理を施すことにより、相互に高さの異なる複数の微小な柱状部が各々独立して、または少なくとも一部が結合して構成された柱状部集合体を形成する熱処理工程と、前記柱状部集合体上に光反射性薄膜を形成する工程とを備え、前記フォトマスクとして、相互に大きさの異なる微小な遮光部が複数集合して１つの構成単位をなし、該構成単位が複数形成されたマスクを使用することを特徴とする。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層に、光の遮蔽率が段階的に変化した遮光部を有するフォトマスクを介して光を照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂層を現像して、階段状のレジスト柱を複数形成する現像工程と、前記複数のレジスト柱を形成した基板に、熱処理を施して該レジスト柱の角を丸めることにより、階段状の段部を複数有する階段状構造体を形成する熱処理工程と、前記階段状構造体上に光反射性薄膜を形成する工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、所定の形状にパターニングされた遮光部を有する複数のフォトマスクであって、上記遮光部の遮光範囲の大きさがフォトマスク毎に相互に異なっており、且つ何れのフォトマスクにおいても、そのフォトマスクの遮光部と、次に小さい遮光範囲を有する遮光部との間には、当該遮光部の遮光範囲内に当該小さい遮光範囲が内包された関係を有する、そのような複数のフォトマスクを準備し、遮光部の遮光範囲が大きいフォトマスクから順次使用して前記感光性樹脂層に光を照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂層を現像して、階段状のレジスト柱を複数形成する現像工程と、前記階段状のレジスト柱を形成した基板に、熱処理を施して該レジスト柱の角を丸めることにより、階段状の段部を複数有する階段状構造体を形成する熱処理工程と、前記階段状構造体上に光反射性薄膜を形成する工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極とを有する反射板の製造方法に於いて、前記基板上に非線形素子を形成する工程と、前記コンタクトホールの形成位置に、所定の形状にパターニングされた光反射膜を形成する光反射膜形成工程と、前記基板および光反射膜上に、感光性樹脂材料を塗布する塗布工程と、前記感光性樹脂材料に、所定の形状にパターニングされた遮光部を有するフォトマスクを介して光照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂材料を現像して、前記コンタクトホールと所定の領域に形成された複数のレジスト柱とを備えた感光性樹脂層を形成する現像工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより、複数の前記レジスト柱の縁部を熱変形させて丸める熱処理工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより硬化させるポストベーク工程と、前記感光性樹脂層上に、光反射性を有する画素電極を形成する画素電極形成工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極とを有する反射板の製造方法に於いて、前記基板上に非線形素子を形成する工程と、前記コンタクトホールの形成位置に、前記感光性樹脂層よりも表面エネルギーの大きい枠状の薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記基板および薄膜上に、感光性樹脂材料を塗布する塗布工程と、前記感光性樹脂材料に、所定の形状にパターニングされた遮光部を有するフォトマスクを介して光照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂材料を現像して、前記コンタクトホールと所定の領域に形成された複数のレジスト柱とを備えた感光性樹脂層を形成する現像工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより、複数の前記レジスト柱の縁部を熱変形させて丸める熱処理工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより硬化させるポストベーク工程と、前記感光性樹脂層上に、光反射性を有する画素電極を形成する画素電極形成工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極とを有する反射板の製造方法に於いて、前記基板上に非線形素子を形成する工程と、前記非線形素子に於けるドレイン電極上に、前記感光性樹脂層よりも表面エネルギーの大きい薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記基板および薄膜上に、感光性樹脂材料を塗布する塗布工程と、前記感光性樹脂材料に、所定の形状にパターニングされた遮光部を有するフォトマスクを介して光照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂材料を現像して、前記コンタクトホールと所定の領域に形成された複数のレジスト柱とを備えた感光性樹脂層を形成する現像工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより、複数の前記レジスト柱の縁部を熱変形させて丸める熱処理工程と、前記薄膜をアッシングにより除去する除去工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより硬化させるポストベーク工程と、前記感光性樹脂層上に、光反射性を有する画素電極を形成する画素電極形成工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、非線形素子が設けられた基板と、前記基板上に設けられ、所定の領域に凹凸構造体を有する感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層上に設けられた光反射性を有する画素電極であって、該感光性樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記非線形素子と電気的に接続された該画素電極とを有する反射板の製造方法に於いて、前記基板上に非線形素子を形成する工程と、前記基板上に、感光性樹脂材料を塗布する塗布工程と、前記感光性樹脂材料に、所定の形状にパターニングされた遮光部を有するフォトマスクを介して光照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂材料を現像して、前記コンタクトホールと所定の領域に形成された複数のレジスト柱とを備えた感光性樹脂層を形成する現像工程と、前記コンタクトホール近傍に短波長領域の光を照射する光照射工程と、前記感光性樹脂層を熱処理することにより、複数の前記レジスト柱の縁部を熱変形させて丸める熱処理工程と、前記感光性樹脂層を熱処理するポストベーク工程と、前記感光性樹脂層上に光反射性を有する画素電極を形成する画素電極形成工程とを備え、前記コンタクトホールの内壁近傍は、他の部分よりも架橋度が高いことを特徴とする。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
上記の課題を解決するための本発明関連技術に係る反射板の製造の方法は、基板上に、感光性樹脂材料を形成する工程と、前記感光性樹脂材料に、所定の形状にパターニングされた遮光部を有する第１フォトマスクを介して光照射する露光工程と、光照射された前記感光性樹脂材料を現像して、複数のレジスト柱を形成する現像工程と、複数の前記レジスト柱に於ける所定の領域に、所定の形状にパターニングされた開口部を有する第２フォトマスクを介して短波長領域の光を照射する照射工程と、前記レジスト柱を熱処理することにより、複数の前記レジスト柱の縁部を熱変形させて断面形状が非対称の凹凸構造体を複数形成する熱処理工程と、前記感光性樹脂層を熱処理するポストベーク工程と、前記感光性樹脂層上に光反射性を有する画素電極を形成する画素電極形成工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
[第２の発明群]
上記の課題を解決する為に、本発明に係る反射型表示素子は、一対の基板間に液晶層が設けられた反射型表示素子であって、前記一対の基板のうち一方の基板には、金属膜に覆われた凹凸と、前記対向基板を支持する支持部とが一体的に成形されて設けられていることを特徴とする。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
上記の課題を解決するための本発明反射型表示素子を製造する方法は、一対の基板間に光変調層を備えた反射型表示素子の製造方法であって、上記一対の基板のうち、一方の基板上に高分子樹脂層を形成し、微細な凹凸状パターン群、および孔が配置されてなる凹凸パターンが設けられた定盤を、前記高分子樹脂層にプレスし、前記高分子樹脂層を硬化させた後、前記定盤を該高分子樹脂層から離型し、前記高分子樹脂層上に金属膜を形成することにより、前記凹凸パターンを前記高分子樹脂層に賦型して、当該高分子樹脂層表面に微細な凹凸と、前記一対の基板のうち他方の基板を支持する支持部とを一体的に成形することを特徴とする。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
上記の課題を解決するための本発明反射型表示素子を製造する方法は、一対の基板間に光変調層を備えた反射型表示素子の製造方法であって、前記一対の基板のうち一方の基板に、微細な凹凸状パターン群および孔が配置されてなる凹凸パターンが設けられた定盤をプレスし、前記一方の基板を硬化させた後、前記定盤を一方の基板から離型し、前記一方の基板上に金属膜を形成することにより、前記凹凸パターンを前記一方の基板に賦型して、一方の基板表面に微細な凹凸と、他方の基板を支持する支持部とを一体的に成形することを特徴とする。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
上記の課題を解決するための本発明反射型表示素子を製造する方法は、一対の基板間に光変調層を備えた反射型表示素子の製造方法であって、微細な凹凸状パターン群が配置されてなる凹凸パターンが設けられた成形型上に、高分子樹脂層を形成し、前記一対の基板のうち一方の基板と、前記成形型とを、前記高分子樹脂層が該基板側となる様に貼り合わせた後、該成形型を該高分子樹脂層から離型して該基板上に高分子樹脂層をラミネートし、前記高分子樹脂層上に金属膜を形成することにより、前記凹凸パターンを前記高分子樹脂層に賦型して、当該高分子樹脂層表面に微細な凹凸を形成することを特徴とする。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
また、上記の課題を解決するための本発明反射型表示素子を製造する方法は、基板上に感光性樹脂層を形成した後、フォトマスクを介して露光、現像をすることにより当該感光性樹脂層に凹凸を形成し、さらに前記凹凸表面に反射膜を成膜する反射板の製造方法であって、前記フォトマスクは、前記露光で使用する露光機および前記感光性樹脂層の解像限界よりも微小な網点からなる遮光パターンを有し、かつ、面内に於ける遮光パターンの光の平均透過率が不均一であることを特徴とする。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
（実施の形態１）
本発明の実施の一形態について、FIGS.１〜８に基づいて説明する。FIG.１は、本実施の形態で用いる反射板を示す断面図である。同図に示すように、反射板１０は、基板１１上に、順に複数の柱状部集合体（凹凸構造体）１２…と、高分子樹脂層１４と、光反射性薄膜１５とが積層されて構成されている。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
以上のように構成される反射板１０は、FIG.４に示すように、曲率の緩やかな曲面が上方向に向くように配置することにより、広範囲に於いて反射率が高く、ペーパーホワイト性に優れた散乱・反射特性を有している。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
次に、上記反射板１０の製造方法について説明する。FIG.５は、該反射板１０の製造工程を説明するための断面図である。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
（本発明関連技術２）
本発明関連技術２に係る反射板は、上記実施の形態１で作製した反射板に比して、複数の微小な柱状部が集合して形成された柱状部集合体を、一体的に形成された階段状構造体に替えた点が相違する。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
FIG.９は、本発明関連技術２に係る反射板の構成を示す説明図であって、FIG.９Ａは該反射板の断面形状を示し、FIG.９Ｂは該反射板に於ける階段状構造体の平面形状を示している。同図に示すように、反射板３０は、基板１１上に、順に複数の階段状構造体３１ａ…と、高分子樹脂層１４と、光反射性薄膜１５とが積層されて構成されている。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
上記階段状構造体３１ａは、本発明関連技術２に係る反射板３０の反射特性を決定する基本単位をなし、FIG.９Ｂに示すように、該階段状構造体３１ａ…は、基板１１上に各々の方向に相互に平行移動した状態で、かつ、各々の位置を不規則にして設けられている。すなわち、基本単位としての階段状構造体３１ａ…が一定の周期で繰り返し現れない、規則性の小さな構造となっている。これにより、階段状構造体３１ａの繰り返しパターンによる光の干渉の発生を抑制し、例えば反射光の色づき現象の発生を抑制することができる。なお、階段状構造体３１ａ…同士が、一部または複数箇所に於いて、所定の離間距離を有さず隣接していてもよい。一方、離間距離が大きすぎると、基板面に平行な平坦面が形成され、正反射方向へ反射する光を増大させるので好ましくない。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
また、上記階段状構造体３１ａは、例えば感光性樹脂からなり、該感光性樹脂としては、ポジ型レジスト、電子線レジストなどが挙げられる。本発明関連技術２に於いては、ポジ型レジストとしての低γポジ型レジスト（商品名；ＰＣ４０９、ＪＳＲ社製）を使用している。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
以上のようにして構成される本発明関連技術２に係る反射板３０は、曲率の緩やかな曲面が上方に向くにように配置することにより、広範囲に於いて反射率が高く、ペーパーホワイト性に優れた散乱・反射特性を有している。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
次に、上記反射板３０の製造方法について説明する。FIG.１０は、該反射板３０の製造工程を説明するための断面図である。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３９】
以上により、本発明関連技術２に係る反射板３０を形成することができる。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
また、本発明関連技術２に係る反射板３０の他の作製方法としては、露光工程を複数回行うことにより、階段状構造体３１ａを形成することも可能である。より詳細には以下の通りである。FIG.１２は、該反射板３０の他の製造工程を説明するための断面図である。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
更に、上記したのと同様にして階段状構造体３１ａおよび残膜３１ｂ上に、低γポジ型レジストＰＣ４０９をスピンコート方式により塗布し、塗布膜を加熱して硬化させることにより、高分子樹脂層１４を形成する。続いて、前記高分子樹脂層１４上に、アルミニウムを蒸着することにより、光反射性薄膜１５を形成する。
以上により、本発明関連技術２に係る反射板３０を形成することができる。
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
（本発明関連技術３）
本発明関連技術３は、非対称な断面形状を有する凹凸構造体を備えた反射板を、ディープＵＶ法により作製する態様である。FIG.１４は、前記製造方法を説明するための断面図である。
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
続いて、凸部４４…中に含有されている未反応物の反応を終了させ、後述する光反射性薄膜１５の形成工程などに於いて、不純物や汚染物質の発生を抑制するために、ポストベーク工程を行う。さらに、上記凸部４４および基板１１上に、感光性樹脂材料をスピンコート方式により塗布し、塗布膜を加熱して硬化させ、高分子樹脂層１４を形成する。続いて、前記高分子樹脂層１４上にアルミニウムを蒸着することにより、光反射性薄膜１５を形成する。これにより、本発明関連技術３に係る反射板を形成することができる。
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５５】
以上のように、本発明関連技術３に係る反射板の製造方法によれば、ディープＵＶ法を行うことによって、断面形状が非対称な凹凸構造体としての凸部を簡便に形成することができる。
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
また、本発明関連技術３に係る反射板の製造方法に於いては、短波長域の紫外線や短波長域の電子線の照射工程を複数回行い、かつ各照射工程においてそれぞれ露光量を変化させることにより、傾斜角分布の制御性も向上させることができる。
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
また、本発明関連技術３に於いては、熱処理工程の後、凸部４４…を一層硬化させるためのディープＵＶ照射工程を行ってもよい。具体的には、凸部４４…に対応する領域が開口したマスクを介して、短波長域（２５０ｎｍ〜ｉ線３６５ｎｍ）の紫外線や短波長域の電子線を、凸部４４…に照射する。これにより、紫外線などが照射された部分では架橋が一層進行する結果、硬化度が大きくなる。よって、凸部４４…を加熱するポストベーク工程を行っても、該凸部４４…の熱変形を防止でき、制御された傾斜角分布を保持させることができる。
【手続補正４４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７４】
以上のように、本実施の形態に係る反射型液晶表示素子を製造する方法によれば、光反射性薄膜１５とＴＦＴ５１との間に於けるコンタクト抵抗の増大を抑制できるので、動画表示に於いて特に良好な表示品位を有する反射型液晶表示素子を製造することができる。
【手続補正４５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８７】
以上のように、本実施の形態に係る反射型液晶表示素子を製造する方法によれば、光反射性薄膜１５とＴＦＴ５１との間に於けるコンタクト抵抗の増大を抑制できるので、動画表示に於いて特に良好な表示品位を有する反射型液晶表示素子を製造することができる。
【手続補正４６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９０】
（実施の形態６）
本実施の形態６に係る反射型液晶表示素子を製造する方法は、ディープＵＶ法により所望の形状のコンタクトホールが形成された反射型液晶表示素子を作製する態様である。FIG.２１は、前記製造方法を説明するためのフローチャートである。
【手続補正４７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９８】
以上のように、本実施の形態に係る反射型液晶表示素子を製造する方法によれば、光反射性薄膜１５とＴＦＴ５１との間に於けるコンタクト抵抗の増大を抑制できるので、動画表示に於いて特に良好な表示品位を有する反射型液晶表示素子を製造することができる。
【手続補正４８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２００】
（その他の事項）
前記各実施の形態及び本発明関連技術で説明した、本発明の主要構成要素である凹凸構造体（柱状部集合体または階段状構造体）については、寸法、材質、形状、その相対配置等は、特に限定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる説明例に過ぎない。
【手続補正４９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０１】
例えば、柱状部集合体の存在形態は、前記各実施の形態及び本発明関連技術に記載したものに限定されるものではなく、残膜１３ｂが存在せず、柱状部１３ａが個々に独立した態様としてもよい。また、熱処理工程における加熱温度を高めに設定することにより、FIG.２２に示すように、柱状部１３ａ…が相互に結合し、凹凸差の小さい態様であってもよい。これらの場合であっても、上記各実施の形態及び本発明関連技術と同様の作用・効果を奏することができる。
【手続補正５０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０２】
また、上記各実施の形態及び本発明関連技術に於いては、複数の柱状部集合体または複数の階段状構造体が、各々の方向に相互に平行移動した状態で、かつ、各々位置を不規則にして設けられている場合について述べたが、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、以下のような態様であってもよい。すなわち、FIG.２３に示すように、光反射性薄膜１５の表面形状が表示画面を上下に２分割する境界線Ｐに向かって傾斜した凹凸面となるように、複数の柱状部集合体１２を配置してもよい。また、FIG.２４に示すように、光反射性薄膜１５の表面形状が表示画面の中心部分に向かって傾斜した凹凸面となるように、複数の柱状部集合体１２を配置してもよい。
【手続補正５１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０３】
また、上記各実施の形態及び本発明関連技術に於いては、複数の凹凸構造体が不規則に配置された構造の反射板の場合について述べたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、FIG.２５に示すように、同心円状となるように凹凸構造体を規則的に配列した回折反射板としてもよい。本発明に於いては、傾斜角の大きさ、傾斜角分布および分布密度を制御することができるので、色再現範囲の回折型反射板を作製することができる。
【手続補正５２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０４】
また、前記各実施の形態及び本発明関連技術に於いては、一種類の凹凸構造体が設けられた反射板について述べたが、相互に異なる形状の凹凸構造体が複数種設けられた構成であっても、上記各実施の形態及び本発明関連技術と同様の作用・効果を奏することができる。
【手続補正５３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０７】
以上の様に、第１の発明関連技術群に係る反射板は、複数の凹凸からなる凹凸構造体を基本単位とする、例えば頂部の高さ位置が相互に異なる少なくとも２つの凸部を有する凹凸構造体が設けられているので、断面形状を非対称にすることができ、傾斜角の分布を精密に制御できる。この結果、光反射性薄膜の表面は、正反射方向ではなく異方性を有する範囲の方向に光を散乱・反射させることが可能となり、所定の角度範囲内の方向に対して明るく反射させることができる。また、頂部の高さ位置が一定でも基本単位で回折格子としての機能を生じさせ、これにより正反射方向の光を減らしてパネル正面方向への散乱光を増やし明るい表示を得ることができる。よって、ペーパーホワイト性に優れるなど反射特性が良好で、かつ反射特性の制御性に優れた反射板を提供することができる。
【手続補正５４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３７】
【発明の効果】
以上の様に、第１の発明関連技術群に係る反射板は、複数の凹凸からなる凹凸構造体を基本単位とする、例えば頂部の高さ位置が相互に異なる少なくとも２つの凸部を有する凹凸構造体が設けられているので、断面形状を非対称にすることができ、傾斜角の分布を精密に制御できる。この結果、光反射性薄膜の表面は、正反射方向ではなく異方性を有する範囲の方向に光を散乱・反射させることが可能となり、所定の角度範囲内の方向に対して明るく反射させることができる。また、頂部の高さ位置が一定でも基本単位で回折格子としての機能を生じさせ、これにより正反射方向の光を減らしてパネル正面方向への散乱光を増やし明るい表示を得ることができる。よって、ペーパーホワイト性に優れるなど反射特性が良好で、かつ反射特性の制御性に優れた反射板を提供することができる。
【手続補正５５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３８】
また、第１の発明関連技術群に係る反射板を用いた反射型液晶表示素子は、上記した反射板を備えることにより、非常に明るい表示が可能となり、コントラスト特性の良好な表示品位とすることができる。さらに、スイッチング素子を備えたアクティブマトリクス駆動とする場合にも、スイッチング素子と画素電極とを電気的に接続するためのコンタクトホールが閉塞するのを防止し、コンタクト抵抗の増大を抑制するので、特に動画表示などにおいて優れた表示品位とすることができる。
【手続補正５６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３９】
以上の様に、第１の発明関連技術群によれば、反射板に於ける凹凸が賦型をして成型されたものであるので、形状を精密に制御した凹凸を形成できる。これにより、正反射方向への反射を低減させ、明るく、白色度の高い反射型表示素子が得られる。また、前記凹凸と、スペーサとしての支持部とが一体的に成型されていることからセルギャップを均一にでき、表示ムラの発生を低減させた反射型表示素子が提供できる。
【手続補正５７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
上記実施の形態１に係る反射型液晶表示素子の構成を示す断面図である。
【手続補正５８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
本発明関連技術２に係る反射板の構成を示す断面図であり、図９（ｂ）は該反射板に於ける階段状構造体を示す平面図である。
【手続補正５９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
本発明関連技術２に係る反射板の製造方法を説明するための断面図である。
【手続補正６０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
本発明関連技術２に係る反射板の他の製造方法を説明するための断面図である。
【手続補正６１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
本発明関連技術３に係る反射板の製造方法を説明するための断面図である。
【手続補正６２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２２】
本発明で使用する他の形態に係る反射板に於ける凹凸構造体を概略的に示す断面図である。
【手続補正６３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２３】
本発明で使用する他の形態に係る反射板に於ける凹凸構造体としての柱状部集合体の配置状態を示す平面図であり、図２３（ｂ）は図２３（ａ）に於けるＢ−Ｂ'線矢視断面図である。
【手続補正６４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２４】
本発明で使用する他の形態に係る反射板に於ける凹凸構造体としての柱状部集合体の配置状態を示す平面図であり、図２４（ｂ）は図２４（ａ）に於けるＣ−Ｃ'線矢視断面図である。
【手続補正６５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２５】
本発明で使用する回折型反射板の構成を示す説明図であって、図２５（ａ）は該回折型反射板を示す部分断面図であり、図２５（ｂ）は凹凸構造体の配置状態を示す平面図である。
【手続補正６６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２７】
本発明で使用する他の反射板の構成を概略的に示す断面図ある。