【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】投影露光装置および方法ならびにデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明するための照明光学系と、前記パターンの像を基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を搭載して移動する基板ステージとを有する投影露光装置であって、
前記基板ステージに設けられた、前記投影光学系からの光束を吸収するための遮光板と、前記基板ステージと前記遮光板との間に設けられた断熱層とを有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】 前記遮光板は、前記投影光学系からの光束に対する反射率が１％以下であることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
【請求項３】 前記遮光板と前記断熱層との間に設けられた、前記遮光板の熱を放出するための放熱手段をさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の投影露光装置。
【請求項４】 前記遮光板と前記断熱層との間に設けられた、前記遮光板を冷却するための冷却手段をさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の投影露光装置。
【請求項５】 前記遮光板と前記断熱層との間に設けられた、前記遮光板の熱を放出するための放熱手段と、前記放熱手段と前記断熱層との間に設けられた、前記放熱手段を冷却するための冷却手段とをさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の投影露光装置。
【請求項６】 前記投影露光装置が有する光学系の少なくとも一部を光洗浄するための前記光源とは別の第二の光源をさらに有することを特徴とする請求項１乃至５いずれかに記載の投影露光装置。
【請求項７】 前記遮光板は、前記第二の光源より発せられる光に対する反射率が１％以下であることを特徴とする請求項６に記載の投影露光装置。
【請求項８】 光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明するための照明光学系と、前記パターンの像を基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を搭載して移動する基板ステージとを有する投影露光装置であって、
前記投影光学系からの光束が前記基板ステージを透過するように前記基板ステージに設けられた窓を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項９】 前記窓は、前記基板ステージに設けられた貫通穴、または前記基板ステージの端部に設けられた切り欠きであることを特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項１０】 前記投影光学系からの光束が前記窓を通過するように該光束を成形するための成形光学系をさらに有することを特徴とする請求項８又は９記載の投影露光装置。
【請求項１１】 前記窓を透過した光束を吸収するための受光板をさらに有することを特徴とする請求項８乃至１０いずれかに記載の投影露光装置。
【請求項１２】 前記受光板の熱を放出するための放熱手段をさらに有することを特徴とする請求項１１記載の投影露光装置。
【請求項１３】 前記受光板を冷却するための冷却手段をさらに有することを特徴とする請求項１１又は１２記載の投影露光装置。
【請求項１４】 前記投影露光装置が有する光学系の少なくとも一部を光洗浄するための前記光源とは別の第二の光源をさらに有することを特徴とする請求項８乃至１３いずれかに記載の投影露光装置。
【請求項１５】 前記窓を透過した光束を吸収するための受光板をさらに有し、該受光板は、前記第二の光源より発せられる光に対する反射率が１％以下であることを特徴とする請求項１４に記載の投影露光装置。
【請求項１６】 請求項１乃至１５いずれかに記載の投影露光装置を用いて基板を露光する工程を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１７】 光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明し、投影光学系を用いて前記パターンの像を基板上に投影する工程を有する投影露光方法であって、
前記基板を搭載して移動する基板ステージに断熱層を介して設けられた、前記投影光学系からの光束を吸収するための遮光板に対し、前記投影光学系を介して光を照射する工程をさらに有することを特徴とする投影露光方法。
【請求項１８】 光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明し、投影光学系を用いて前記パターンの像を基板上に投影する工程を有する投影露光方法であって、
前記基板を搭載して移動する基板ステージを前記投影光学系からの光束が透過するように前記基板ステージに設けられた窓に対し、前記投影光学系を介して光を照射する工程をさらに有することを特徴とする投影露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、投影露光装置に関し、更に具体的には、投影光学系を介して原板上のパターンを基板上に投影するための投影露光装置に好適なものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本出願に係る発明は、上述のような熱の影響を低減した投影露光装置及び投影露光方法の実現を目的としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本出願に係る投影露光装置は、光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明するための照明光学系と、前記パターンの像を基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を搭載して移動する基板ステージとを有する投影露光装置であって、前記基板ステージに設けられた、前記投影光学系からの光束を吸収するための遮光板と、前記基板ステージと前記遮光板との間に設けられた断熱層とを有することを特徴とする投影露光装置である。
また、本出願に係る別の投影露光装置は、光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明するための照明光学系と、前記パターンの像を基板上に投影するための投影光学系と、前記基板を搭載して移動する基板ステージとを有する投影露光装置であって、前記投影光学系からの光束が前記基板ステージを透過するように前記基板ステージに設けられた窓を有することを特徴とする投影露光装置である。
また、本出願に係る投影露光方法は、光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明し、投影光学系を用いて前記パターンの像を基板上に投影する工程を有する投影露光方法であって、前記基板を搭載して移動する基板ステージに断熱層を介して設けられた、前記投影光学系からの光束を吸収するための遮光板に対し、前記投影光学系を介して光を照射する工程をさらに有することを特徴とする投影露光方法である。
さらに、本出願に係る別の投影露光方法は、光源からの光束を用いて原板上のパターンを照明し、投影光学系を用いて前記パターンの像を基板上に投影する工程を有する投影露光方法であって、前記基板を搭載して移動する基板ステージを前記投影光学系からの光束が透過するように前記基板ステージに設けられた窓に対し、前記投影光学系を介して光を照射する工程をさらに有することを特徴とする投影露光方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、熱の影響を軽減し、高精度な投影露光を実施することができる。