Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサ・アレイのナビゲーション位置を取得する方法であって、
前記センサ・アレイを介して基準フレームを取得するステップと、
前記センサ・アレイを介してサンプル・フレームを取得するステップと、
前記サンプル・フレームおよび前記基準フレーム両方の基準特徴の間の関係を表す相関データを生成するステップと、
前記相関データに基づいて前記基準フレームに対する前記サンプル・フレームの基準特徴の相対的変位を決定するステップと、
を含み、
前記相対的変位を決定するため、一般的２次元テーラー級数展開式としてモデル化される相関データの相関表面の大域極値が使用される、ナビゲーション位置取得方法。
【請求項２】
前記一般的２次元テーラー級数展開式が２次式である、請求項１に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項３】
前記相関データが、更に、相関関数を使用して生成される複数の相関係数を含む、請求項１に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項４】
前記相関係数と前記２次元テーラー級数展開式の間の線形マッピングを適用するステップを更に含む、請求項３に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項５】
前記相関関数が１次関数である、請求項３に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項６】
前記相関関数が２次関数である、請求項３に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項７】
前記相関関数が３次関数である、請求項３に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項８】
基準特徴の相対的変位を決定する前記ステップが、前記２次元テーラー級数展開式の係数の値を決定するステップを含む、請求項１に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項９】
前記２次元テーラー級数展開式の係数を取得するため、相関データの統計的適合を計算するステップを含む、請求項８に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項１０】
前記２次元テーラー級数展開式の係数の少なくとも１つが前記基準フレームを前記サンプル・フレームとして使用することによって生成される、請求項８に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項１１】
基準特徴の相対的変位を決定する前記ステップが、２次元のテーラー級数展開式の係数の値に基づく変位のコンポーネントを決定するステップを含む、請求項１に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項１２】
基準特徴の変位の精度推定が予測値の定義済みセットの範囲内にあるか否かを判断するステップを更に含む、請求項１０に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項１３】
サンプル・フレームと基準フレームの間の変位の生成された値に補正関数を適用するステップを更に含む、請求項１０に記載のナビゲーション位置取得方法。
【請求項１４】
少なくとも１つのセンサ・アレイと、プロセッサと、該プロセッサを制御するコンピュータ・プログラムと、を備えるスキャナであって、
該コンピュータ・プログラムが、前記センサ・アレイを介して基準フレームを取得するステップと、前記センサ・アレイを介してサンプル・フレームを取得するステップと、前記サンプル・フレームならびに前記基準フレーム両方の基準特徴の間の関係を表す相関データを生成するステップと、前記相関データに基づいて前記基準フレームに対する前記サンプル・フレームの基準特徴の相対的変位を決定するステップとを実行する複数の命令を含み、
前記相対的変位を決定するため、一般的２次元テーラー級数展開式としてモデル化される相関データの相関表面の大域極値が使用される、スキャナ。
【請求項１５】
前記一般的２次元テーラー級数展開式が２次式である、請求項１４に記載のスキャナ。
【請求項１６】
前記相関データが、更に、相関関数を使用して生成される複数の相関係数を含む、請求項１４に記載のスキャナ。
【請求項１７】
前記コンピュータ・プログラムが、前記相関係数と前記２次元テーラー級数展開式の間の線形マッピングを適用するステップを実行する命令を更に含む、請求項１６に記載のスキャナ。
【請求項１８】
前記相関関数が１次関数である、請求項１６に記載のスキャナ。
【請求項１９】
前記相関関数が２次関数である、請求項１６に記載のスキャナ。
【請求項２０】
前記相関関数が３次関数である、請求項１６に記載のスキャナ。
【請求項２１】
基準特徴の相対的変位を決定する前記ステップが、前記２次元テーラー級数展開式の係数の値を決定するステップを含む、請求項１４に記載のスキャナ。
【請求項２２】
前記２次元テーラー級数展開式の係数を取得するため、相関データの統計的適合を計算するステップを実行する命令を前記コンピュータ・プログラムが更に含む、請求項２１に記載のスキャナ。
【請求項２３】
前記２次元テーラー級数展開式の係数の少なくとも１つが前記基準フレームを前記サンプル・フレームとして使用することによって生成される、請求項２１に記載のスキャナ。
【請求項２４】
基準特徴の相対的変位を決定する前記ステップが、２次元のテーラー級数展開式の係数の値に基づく変位のコンポーネントを決定するステップを含む、請求項１４に記載のスキャナ。
【請求項２５】
基準特徴の変位の精度推定が予測値の定義済みセットの範囲内にあるか否かを判断するステップを実行する命令を前記コンピュータ・プログラムが更に含む、請求項２４に記載のスキャナ。
【請求項２６】
サンプル・フレームと基準フレームの間の変位の生成された値に補正関数を適用するステップを実行する命令を前記コンピュータ・プログラムが更に含む、請求項２４に記載のスキャナ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
傾転軸受１５０の外輪１５０ａの外面とヨーク２３の保持穴２３ａとの接触面が摩耗す
ると、それに伴って生じる摩耗粉がパワーローラ６やディスク２，４のトラクション面を
はじめとする各軸受の軌道面に圧痕を形成する。これは、パワーローラ６やディスク２，
４の寿命低下を引き起こす原因となるだけでなく、トラニオン６とヨーク２３との間のガ
タを大きくして、トラニオン６の保持性を低下させ、傾転同期不良等の不具合を生じさせ
る可能性がある。また、傾転軸受１５０の外輪１５０ａの外面とヨーク２３の保持穴２３ａとの間には、通常、ケース２００の内側で飛散した油が自然に侵入する程度の量でしか供給されない。この程度の潤滑油量では、摩耗を効果的に抑制することはできない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
そのため、従来にあっては、例えば、ヨーク２３の保持穴２３ａに傾転ストッパを形成
したり、傾転軸受１５０の外輪１５０ａとヨークとをピンで支持するなどして、ヨーク２３と傾転軸受１５０との相対的な回転を規制し、結果的に、摩耗の低減を図っている（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月13日(2006.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
かかるサスペンションブッシュにおいて、車輪が路面の凹凸を乗り越える際の車体後ろ向きの乗り越え荷重や、車輪を制動した際の車体後ろ向きの制動荷重が弾性体に作用すると、その弾性体の中心を挟んで両側に形成された一対のすぐりの一方が圧縮されて他方が引き伸ばされることで、前記荷重の作用方向に対応する弾性体のばね定数を低下させて車輪の前後コンプライアンスを高めることができる。また前記乗り越え荷重や制動荷重で変形した弾性体が復元する荷重で前記他方のすぐりが圧縮されるが、そのすぐりの内周に突設したストッパ突起をあてることで、サスペンションアームの前後振動を減衰させる減衰力を発生させることができる。
【特許文献１】特開２００２−３３７５２７号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ところで、すぐりのストッパ突起により弾性体の減衰力を増加させるために、すぐりの円周方向中心位置のストッパ突起を大型化するとばね定数が増加してしまい、サスペンションアームの前後振動を充分に吸収することができない。このため、すぐりの中心線の両側に一対のストッパ突起を対称的に形成したものが従来より知られているが、サスペンションアームに入力する荷重の増加によりサスペンションブッシュに加わる荷重の入力方向が変化し、前記一対のストッパ突起の一方の突出方向に一致すると、そのストッパ突起が倒れるように変形せずに圧縮されるように変形してしまい、弾性体のばね定数だけが高くなって振動吸収効果が阻害される可能性があった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【図１】（ａ）配設鉄塔の斜視図、（ｂ）は本発明を適用して嵩上げした状態の斜視図である。
【図２】本発明の鉄塔嵩上げ方法において、嵩上げ装置をセットした段階の正面図である。
【図３】鉄塔を嵩上げリフトした段階の正面図である。
【図４】第１の割り入れ材を介装した段階の正面図である。
【図５】第１の割り入れが完了し、ジャッキを下降させた段階の正面図である。
【図６】第２回目の嵩上げリフト状態を示す正面図である。
【図７】第２の割り入れ材を介装した状態の正面図である。
【図８】図２の拡大図である。
【図９】図３の拡大図である。
【図１０】第１の割り入れが終わった状態の鉄塔を示す部分的正面図である。
【図１１】第２の割り入れが終わった状態の鉄塔を示す部分的正面図である。
【図１２】（ａ）は本発明装置における下部架台構成部材を示す斜視図、（ｂ）は連結状態の部分的断面図である。
【図１３】本発明装置におけるジャッキ据付架台部の一例を示す平面図である。
【図１４】（ａ）は接続架台部の一例を示す平面図、（ｂ）は側面図である。
【図１５】支持架台部の平面図である。
【図１６】（ａ）は本発明における把持金具の一例を示す平面図、（ｂ）は使用状態を示す平面図である。
【図１７】本発明装置の別な実施例を使用状態で示す正面図である。
【図１８】（ａ）は第２実施例の把持金具の側面図、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
【図１９】第２実施例の把持金具を使用状態で示す平面図である。
【図２０】第２実施例の下部架台用把持金具の側面図である。
【図２１】第２実施例の下部架台用把持金具の平面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月10日(2006.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
両端を有し、一端が底部によって閉鎖され、他端が開放された筒状の枠体と、
前記底部内面に配設されたターゲットと、
前記枠体の壁部を貫通するように形成されたポートと、を有し、
前記枠体の他端の端面には、金型に残置された基材の周囲の金型接合面に接合可能な接合面が構成されている、成膜装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明に係る成膜装置は、両端を有し、一端が底部によって閉鎖され、他端が開放された筒状の枠体と、前記底部内面に配設されたターゲットと、前記枠体の壁部を貫通するように形成されたポートと、を有し、前記枠体の他端の端面には、金型に残置された基材の周囲の金型接合面に接合可能な接合面が構成されている（請求項１）。かかる構成とすると、金型に装着されたままの基材に成膜加工を行うことができるので、製品の加工工程の削減、ひいては製品の加工時間及び加工コストを低減することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月5日(2006.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  容積が変化するように付勢されると共に、流入する流体の流量又は流出する流体の流量が規制されることにより容積変化速度が規制される可変容積室の容積変化により時を刻むタイマーと、給水手段と、吐水手段と、給水手段と吐水手段との間に配設され前記タイマーによって作動が規制されるバルブ手段とを備えた水廻り装置であって、前記タイマーは、シリンダーと、シリンダー内を摺動可能なピストンと、ピストンを所定方向へ付勢する付勢手段と、付勢手段の付勢方向へのピストンの移動に応じてシリンダーへ流入する流体の流量を規制し又は付勢手段の付勢方向へのピストンの移動に応じてシリンダーから流出する流体の流量を規制するオリフィスと、ピストンの変位を外部へ伝達する変位伝達手段と、前記変位に応じてピストンの変位速度を変化させる変速手段とを有することを特徴とする水廻り装置。
【請求項２】  変速手段は、ピストンの変位に応じてオリフィスの数を変化させることを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項３】  変速手段は、ピストンの変位に応じてオリフィス穴の断面積を変化させることを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項４】  変速手段は、ピストンの変位に応じてシリンダーの断面積を変化させることを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項５】  変速手段は、ピストンの変位に応じてピストンに印加される抵抗力を変化させることを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項６】  変速手段は、ピストンの変位に応じて付勢手段の付勢力を変化させることを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項７】  付勢手段の付勢方向とは逆方向へピストンが移動する際にピストンに印加される抵抗力を低減させる抵抗力低減手段を備えることを特徴とする請求項２乃至６の何れか１項に記載の水廻り装置。
【請求項８】  抵抗力低減手段は、シリンダーへ流入する流体の流量を増加させ又はシリンダーから流出する流体の流量を増加させることを特徴とする請求項７に記載の水廻り装置。
【請求項９】  抵抗力低減手段は、ピストンヘッドにより仕切られたシリンダーの一方の区画から他方の区画への流体の移動を許容することを特徴とする請求項７に記載の水廻り装置。
【請求項１０】  タイマーに使用される流体は空気であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の水廻り装置。
【請求項１１】  可変容積室が大気開放されていることを特徴とする請求項１０に記載の水廻り装置。
【請求項１２】  オリフィスは金属製であることを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項１３】  変位伝達手段は、バルブの開度を調整することを特徴とする請求項１に記載の水廻り装置。
【請求項１４】  複数の吐水手段を備えることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載の水廻り装置。
【請求項１５】  複数の給水手段を備えることを特徴とする請求項１乃至１４の何れか１項に記載の水廻り装置。
【請求項１６】  バルブ手段は複数種類の流体の流れを制御することを特徴とする請求項１乃至１５の何れか１項に記載の水廻り装置。
【請求項１７】  タイマーはバルブ機能を有することを特徴とする請求項１乃至１６の何れか１項に記載の水廻り装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、上記課題を解決するために、容積が変化するように付勢されると共に、流入する流体の流量又は流出する流体の流量が規制されることにより容積変化速度が規制される可変容積室の容積変化により時を刻むタイマーと、給水手段と、吐水手段と、給水手段と吐水手段との間に配設され前記タイマーによって作動が規制されるバルブ手段とを備えた水廻り装置であって、前記タイマーは、シリンダーと、シリンダー内を摺動可能なピストンと、ピストンを所定方向へ付勢する付勢手段と、付勢手段の付勢方向へのピストンの移動に応じてシリンダーへ流入する流体の流量を規制し又は付勢手段の付勢方向へのピストンの移動に応じてシリンダーから流出する流体の流量を規制するオリフィスと、ピストンの変位を外部へ伝達する変位伝達手段と、前記変位に応じてピストンの変位速度を変化させる変速手段とを有することを特徴とする水廻り装置を提供する。本発明に係る水廻り装置においては、可変容積室の容積変化により時を刻むタイマーによりバルブの作動を制御するので、停電時でもバルブ制御は不可能にならない。従って、本発明に係る水廻り装置は、停電時でも作動が停止しない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、タイマーは、シリンダーと、シリンダー内を摺動可能なピストンと、ピストンを所定方向へ付勢する付勢手段と、付勢手段の付勢方向へのピストンの移動に応じてシリンダーへ流入する流体の流量を規制し又は付勢手段の付勢方向へのピストンの移動に応じてシリンダーから流出する流体の流量を規制するオリフィスと、ピストンの変位を外部へ伝達する変位伝達手段と、前記変位に応じてピストンの変位速度を変化させる変速手段とを有している。そのため可変容積室の容積変化により時を刻むタイマーを構成することができ、付勢体と歯車等により構成されるタイマーに比べて構造が簡単であり、製造コストが低い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、ピストンの変位を外部へ伝達する変位伝達手段を介して外部に伝達することにより、バルブの作動が制御される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、変速手段でピストンの変位に応じてピストンの変位速度を変化させることにより、バルブの制御を多様化させることができ、ひいては水廻り装置の作動を多様化させて水廻り装置の利便性を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月13日(2006.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】スクリーン紗用ポリエステルモノフィラメントを製造するに際して、ホットロールを２セット以上有する多段延伸工程により延伸を行い、かつ多段延伸工程の延伸倍率が下記（１）、（２）式であることを特徴とするスクリーン紗用ポリエステルモノフィラメントの製造方法。
Ｒｔ≧３．５０ ・・・ 式（１）
Ｒｆ＜１．００ ・・・ 式（２）
（ここでＲｔは多段延伸工程のトータル延伸倍率を、Ｒｆは多段延伸工程の最終段の延伸倍率をそれぞれ表す。）
【請求項２】スクリーン紗用ポリエステルモノフィラメントを製造するに際して、延伸糸をボビン巻とし、かつその形状が下記（３）式であることを特徴とする請求項１記載のスクリーン紗用ポリエステルモノフィラメントの製造方法。
０．１Ｌ≦Ｌｔ≦０．４Ｌ ・・・ 式（３）
（ここでＬはボビンにおいて糸が巻き取られている部分の長さを、Ｌｔは巻き取られている糸形状におけるテーパー部分の面長さをそれぞれ表す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
Ｒｔ≧３．５０ ・・・ 式（１）
Ｒｆ＜１．００ ・・・ 式（２）
（ここでＲｔは多段延伸工程のトータル延伸倍率を、Ｒｆは多段延伸工程の最終段の延伸倍率をそれぞれ表す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
Ｒｔ≧３．５０ ・・・ 式（１）
Ｒｆ＜１．００ ・・・ 式（２）
（ここでＲｔは多段延伸工程のトータル延伸倍率を、Ｒｆは多段延伸工程の最終段の延伸倍率をそれぞれ表す。）
多段延伸工程のトータル倍率Ｒｔが３．５０倍未満の場合は、強度、モジュラスが目的とするものより低くなるため、高強度、高モジュラスで寸法安定性の優れたスクリーン紗用のモノフィラメントを得ることができない。なおＲｔを４．００倍以上とすることにより、より高強度、高モジュラス化となすことができ、細繊度化によるハイメッシュ化にも対応できる高性能なモノフィラメントを得ることが可能となるためより好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
一方、この多段延伸工程において最終段の延伸倍率Ｒｆは１．００未満とすることが必要である。高強度、高モジュラスとなすために高倍率延伸を実施すると繊維内に力学的な歪み、すなわち応力が発生することは先にも述べたが、この応力は多段延伸工程において、巻き取り直前の延伸倍率を低倍率とすることで応力緩和を進めることができ、スクリーン紗用途モノフィラメントに対する要求特性を充分に有したまま、パーン引けの発生を抑制できることを種々の検討の結果本願発明において見いだすことができたものである。なおこの効果は巻き取り前に糸に積極的にリラックスを与えることにより、より応力緩和が進むことが認められる。これにより繊維内部に発生した応力を、巻き取り前に充分緩和させることができるためパーン引けの発生を抑制することができるのである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
以下にその製法の一例を挙げる。芯成分用ポリマーとしてポリエチレンテレフタレートを、鞘成分用ポリマーとしてポリエチレングリコールを５〜９重量％共重合した共重合ポリエチレンテレフタレートを用い、これらを融点以上に加熱し、溶融させて、紡糸温度２９０〜３００℃で同一口金より芯成分が鞘成分により完全に覆われるように複合させ、吐出させる。これを冷却、固化した後、９００〜１２００ｍ／ｍｉｎ．で巻き取りして未延伸糸を得る。これを第一ホットロール温度を９０℃、第二ホットロール温度を１５０℃に加熱した２段延伸工程系の延伸機を用いて、トータル延伸倍率３．５０倍以上、最終延伸倍率１．００未満で延伸するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
実験Ｎｏ．９、１０、１１については本発明であり、いずれの水準においても目的としている高強度のものが得られており、スカム発生量も問題ないレベルであり、パーン引け抑制効果、ハレーション抑制効果も有し、製糸性も良好であった。また、実験Ｎｏ．４については、強度レベルがやや低め傾向であった。また、実験Ｎｏ．１１についてはスカム発生量レベルと製糸性がやや不良な傾向が見られた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
実験Ｎｏ．１、２についてはトータル延伸倍率が３．５０倍より低いため、目的とする高強度のものが得られず、実験Ｎｏ．３、４、５、６、７、８については最終段の延伸倍率が１．００倍以上のため、ハレーション抑制効果が得られずスクリーン紗の製品品位や印刷精度に問題があった。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【表１】
2001279526.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
実験Ｎｏ．２１〜２４については実施例であるが、この中で特に実験Ｎｏ．２３、２４については、他の水準と比較していずれもパーン引け抑制効果やハレーション抑制効果が良好で、型くずれもなく高次加工での解舒性も良好で高い印刷精度と良好な高次加工性が得られた。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【表２】
2001279526.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エクスターナル・カソード電極を搭載したスパッタ装置であって、真空槽及び該真空槽内部に設けたカソード電極からなり、該カソード電極は蒸着対象に向けられる前面及びその反対側の背面からなり、
該背面が該真空槽で画定される空間の内側にあり、該背面側に気密されたスペースを設けて、該気密スペースを所定の気圧まで減圧する構造を備えたことを特徴とするスパッタ装置。
【請求項２】  請求項１に記載のスパッタ装置において、
該所定の気圧を、該真空槽内部の気圧と外部の気圧の中間の値に設定するようにしたスパッタ装置。
【請求項３】  請求項１又は２に記載のスパッタ装置において、
該気密スペースが、該カソード電極が取り付けられ開口を有する本体及びこの本体の開口を閉じる気密プレートから構成される単一の筐体から成るものであるスパッタ装置。
【請求項４】  請求項１又は２に記載のスパッタ装置において、
該気密スペースが、該カソード電極が取り付けられるように形成された真空槽外壁の凹部及びこの凹部の開口部を閉じる気密プレートから成るものであるスパッタ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月24日(2006.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  Ｔi粉末とＡl粉末またはＡl合金粉末を混合し、この混合粉末を型内に充填した後、パンチ間で圧粉しつつ混合粉末に通電し、その際に発生する熱により焼結せしめてＴi−Ａl金属間化合物を作製し、次いで焼結の際の熱を利用し連続してＴi−Ａl金属間化合物に恒温鍛造を施すＴi−Ａl金属間化合物部材の製造方法において、前記焼結温度を９００〜１１００℃で行うと共に、前記恒温鋳造時の型温度を９００〜１１００℃としたことを特徴とするＴi−Ａl金属間化合物部材の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月15日(2006.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着脱自在のメモリユニットが装着されるコネクタと、
出力するビデオ信号を第１のビデオ信号および第２のビデオ信号の一方から他方へ次第に変更するフェード処理を行うフェーダ回路と
を有し、
メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号を、上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給するとともに、別の入力ビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第２のビデオ信号として供給することにより、上記フェーダ回路から上記メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号と、上記別の入力ビデオ信号との間でフェード処理したビデオ信号を取り出す
ようにしたフェーダ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のフェーダ装置において、
さらに変換回路を有し、
上記メモリユニットには、上記画像のビデオ信号がデータ圧縮された画像データの状態で保存され、
上記画像データを上記メモリユニットから読み出して上記変換回路によりビデオ信号に変換し、
この変換したビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給する
ようにしたフェーダ装置。
【請求項３】
撮像部と、
着脱自在のメモリユニットが装着されるコネクタと、
出力するビデオ信号を第１のビデオ信号および第２のビデオ信号の一方から他方へ次第に変更するフェード処理を行うフェーダ回路と
を有し、
メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号を、上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給するとともに、上記撮像部により得られるビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第２のビデオ信号として供給することにより、上記フェーダ回路から上記メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号と、上記撮像部により得られるビデオ信号との間でフェード処理したビデオ信号を取り出す
ようにした撮像装置。
【請求項４】
請求項３に記載の撮像装置において、
さらに変換回路を有し、
上記メモリユニットには、上記画像のビデオ信号がデータ圧縮された画像データの状態で保存され、
上記画像データを上記メモリユニットから読み出して上記変換回路によりビデオ信号に変換し、
この変換したビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給する
ようにした撮像装置。
【請求項５】
着脱自在のメモリユニットが装着されるコネクタと、
出力するビデオ信号を第１のビデオ信号および第２のビデオ信号の一方から他方へ次第に変更するフェード処理を行うフェーダ回路と、
記録回路と
を有し、
メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号を、上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給するとともに、入力ビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第２のビデオ信号として供給することにより、上記フェーダ回路から上記メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号と、上記入力ビデオ信号との間でフェード処理したビデオ信号を取り出し、
この取り出したビデオ信号を上記記録回路に供給して所定の媒体に記録する
ようにした記録装置。
【請求項６】
請求項５に記載の記録装置において、
さらに変換回路を有し、
上記メモリユニットには、上記画像のビデオ信号がデータ圧縮された画像データの状態で保存され、
上記画像データを上記メモリユニットから読み出して上記変換回路によりビデオ信号に変換し、
この変換したビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給する
ようにした記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明においては、
着脱自在のメモリユニットが装着されるコネクタと、
出力するビデオ信号を第１のビデオ信号および第２のビデオ信号の一方から他方へ次第に変更するフェード処理を行うフェーダ回路と
を有し、
メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号を、上記フェーダ回路に上記第１のビデオ信号として供給するとともに、別の入力ビデオ信号を上記フェーダ回路に上記第２のビデオ信号として供給することにより、上記フェーダ回路から上記メモリユニットに保存されている画像のビデオ信号と、上記別の入力ビデオ信号との間でフェード処理したビデオ信号を取り出す
ようにしたフェーダ装置
とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】固体撮像装置およびそれを用いたカメラ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  異なる複数のカラー情報を検出する所定の配列のカラーフィルタが形成されている光電変換素子が二次元状に配置されてなる固体撮像装置であって、
第１のカラーフィルタによるカラー情報に対して画素相関をとり、該画素相関の結果に基づいて、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して画素補間を行うための補間処理方法を決定すると共に、前記画素相関の結果に基づいて、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報とは異なる複数のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して、垂直方向または水平方向への画素補間を行うことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】  異なる複数のカラー情報を検出する所定の配列のカラーフィルタが形成されている光電変換素子が二次元状に配置されてなる固体撮像装置であって、
第１のカラーフィルタによるカラー情報に対して画素相関をとり、該画素相関の結果に基づいて、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して画素補間を行うための補間処理方法を決定すると共に、前記画素相関の二次元的な座標内での分布に基づいて画素補間処理領域を細分化し、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報とは異なる複数のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して、前記画素補間処理領域に応じて垂直方向および水平方向への画素補間のいずれを行うかを選択することを特徴とする固体撮像装置。
【請求項３】  前記第１のカラーフィルタによるカラー情報は、該カラー情報とは異なる前記複数のカラーフィルタによるカラー情報よりも情報量が多い請求項１または２記載の固体撮像装置。
【請求項４】  前記カラーフィルタの所定の配列は原色ベイヤー配列であり、前記第１のカラーフィルタはグリーンフィルタである請求項１から３のいずれか一項記載の固体撮像装置。
【請求項５】  請求項１から４のいずれか一項記載の固体撮像装置を用いたことを特徴とするカメラ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第１の固体撮像装置は、異なる複数のカラー情報を検出する所定の配列のカラーフィルタが形成されている光電変換素子が二次元状に配置されてなる固体撮像装置であって、第１のカラーフィルタによるカラー情報に対して画素相関をとり、該画素相関の結果に基づいて、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して画素補間を行うための補間処理方法を決定すると共に、前記画素相関の結果に基づいて、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報とは異なる複数のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して、垂直方向または水平方向への画素補間を行うことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
前記の目的を達成するため、本発明に係る第２の固体撮像装置は、異なる複数のカラー情報を検出する所定の配列のカラーフィルタが形成されている光電変換素子が二次元状に配置されてなる固体撮像装置であって、第１のカラーフィルタによるカラー情報に対して画素相関をとり、該画素相関の結果に基づいて、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して画素補間を行うための補間処理方法を決定すると共に、前記画素相関の二次元的な座標内での分布に基づいて画素補間処理領域を細分化し、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報とは異なる複数のカラーフィルタによるカラー情報が欠落する二次元的な座標に対して、前記画素補間処理領域に応じて垂直方向および水平方向への画素補間のいずれを行うかを選択することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
前記第１および第２の固体撮像装置において、前記第１のカラーフィルタによるカラー情報は、該カラー情報とは異なる前記複数のカラーフィルタによるカラー情報よりも情報量が多いことが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
また、前記第１および第２の固体撮像装置において、前記カラーフィルタの所定の配列は原色ベイヤー配列であり、前記第１のカラーフィルタはグリーンフィルタであることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
前記の目的を達成するため、本発明に係るカメラは、前記第１および第２の固体撮像素子出力信号処理方法を用いたことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
よって、着目画素Ｂ（２３）に補間するＢデータＢｄ（２３）として、垂直方向に隣接する画素Ｂ（２２）とＢ（２４）の補間されたデータＢｄ（２２）とＢｄ（２４）との和の１／２の値をあてはめる。参考として、以下の式１１に条件および演算式を示す。
（数１１）
ｇ（２３）＞ＫｇかつＧｄ（２２−２４）＜Ｇｄ（１３−３３）またはｇ（２３）＜Ｋｇの場合、                                                            Ｂｄ（２３）＝｛Ｂｄ（２２）＋Ｂｄ（２４）｝／２      …（１１）
ここで、Ｂｄ（２２）＝｛Ｂｄ（１２）＋Ｂｄ（３２）｝／２、Ｂｄ（２４）＝｛Ｂｄ（１４）＋Ｂｄ（３４）｝／２である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  額縁状の外枠（１）と、前記外枠にその前面側に向かって片開き可能に軸支手段を介して支持させた本体枠（２）と、その本体枠の上方寄りに係止させた遊技盤（４）と、前記遊技盤の下方で前記本体枠に設置された発射手段（７）と、同じく前記本体枠にその前面側に向かって片開き可能に軸支手段を介して支持させた皿部材（８）と、その皿部材の前面に取付けた遊技球供給皿（９）とからなる遊技機において、前記発射手段（７）と、その発射手段により発射された遊技球（５）が遊技領域（Ａ）に打ち込まれることなくファールになって回収されるファール球（５ｂ）の回収口（１３）とを相互に近づけて前記本体枠の下隅部寄りに偏在させたことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  額縁状の外枠(１)と、前記外枠にその前面側に向かって片開き可能に軸支手段を介して支持させた本体枠(２)と、その本体枠の上方寄りに係止させた遊技盤(４)と、前記遊技盤の下方で前記本体枠に設置された発射手段(７)と、同じく前記本体枠にその前面側に向かって片開き可能に軸支手段を介して支持させた皿部材(８)と、その皿部材の前面に取付けた遊技球供給皿(９)とからなる遊技機において、前記発射手段(７)を前記本体枠の下辺部でかつ本体枠の仮想中心線より左側に配設したことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月15日(2006.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  放射線を電荷に変換する変換部と、
前記変換部によって変換された電荷を収集するための画素電極と、
前記画素電極とは別に、前記変換部の端部から発生した電荷を収集し、前記変換部の端部に設けられた端部電極と
を有することを特徴とする放射線変換基板。
【請求項２】  前記変換部は、砒素化ガリウムを用いたダイオードで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の放射線変換基板。
【請求項３】  請求項１に記載された放射線変換基板と、
前記画素電極と接続され、前記変換部で変換された電荷を蓄積するキャパシタと、前記キャパシタに蓄積された電荷を転送するスイッチング素子とを有する電荷転送基板と
を有することを特徴とする放射線検出装置。
【請求項４】  前記電荷転送基板は、少なくとも絶縁性基板上に下部電極層、絶縁層、半導体層及び上部電極層をこの順で設けた構成を有することを特徴とする請求項３に記載の放射線検出装置。
【請求項５】  前記画素電極がマトリクス状に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の放射線検出装置。
【請求項６】  前記放射線変換基板が複数に分割されていることを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の放射線検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明の放射線変換基板は、放射線を電荷に変換する変換部と、前記変換部によって変換された電荷を収集するための画素電極と、前記画素電極とは別に、前記変換部の端部から発生した電荷を収集し、前記変換部の端部に設けられた端部電極とを有することを特徴としている。
本発明の放射線変換基板の他の態様は、前記変換部は、砒素化ガリウムを用いたダイオードで形成されていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
１０３はＭＯＣＶＤ法などで形成したＮ型ＧａＡｓ層であり、画素電極とのオーミックコンタクトおよびエレクトロンブロッキング層として働く。１０４は画素電極であり、後述する電荷転送基板と接続される。１０５は端部電極で、各放射線変換基板の端部に設けられて、端部１０６に発生した電荷を吸収する。放射線変換基板は、共通電極、Ｐ型半導体層１０１、高抵抗Ｎ型半導体層１０２、及びＮ型半導体層１０３を含む変換部と、画素電極１０４と、端部電極１０５から構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
３２３は放射線変換基板３２２の各画素電極にバンプメタル３０８を介して接続されている電荷転送基板であり、キャパシタ３２１、そのキャパシタ３２１に蓄積された電荷をリセットするリセットＴＦＴ３１９、その蓄積された電荷を転送する転送用ＴＦＴ（スイッチング素子）３２０から構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
まず、リセットＴＦＴ３１９については、リセットＴＦＴゲート電極（下部電極層）３１１上にアモルファス窒化シリコン膜で形成したＴＦＴの絶縁層３１４が形成されており、また、アモルファスシリコン膜で形成されたチャネル層（半導体層）と、そのチャネル層と金属電極とのオーミックコンタクト取るためＮ+型アモルファスシリコン膜で形成されたオーミックコンタクト層（半導体層）３１６と、アルミなどの金属をスパッタで堆積しリソグラフィーによって形成したリセットライン（上部電極層）３１８などで構成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
次に、転送用ＴＦＴ３２０については、転送用ＴＦＴゲート電極（下部電極層）３１３上に絶縁アモルファス窒化シリコン膜で形成した絶縁膜（絶縁層）と、チャネル層となるアモルファスシリコン膜で形成されたチャネル層（半導体層）３１５、金属電極とチャネル層をオーミックコンタクト取るためにＮ+型アモルファスシリコン膜のオーミックコンタクト層（半導体層）３１６、および、アルミなど金属をスパッタで堆積しリソグラフィーによって形成した、信号線（上部電極層）３１７などで構成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
さらに、キャパシタ３２１については、キャパシタ下部電極（下部電極層）３１２上に絶縁アモルファス窒化シリコン膜で形成した絶縁膜（絶縁層）と、また、金属電極とのオーミックコンタクト取るためＮ+型アモルファスシリコン膜で形成されたオーミックコンタクト層（半導体層）と、アルミなど金属をスパッタで堆積しリソグラフィーによって形成したキャパシタ上部電極（上部電極層）３２１などで構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月18日(2005.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柱状ハンダのグリッドアレイ（18）を利用して、ベースコンポーネント（22）に対して電気的接続をもたらす回路構成要素（10）の衝撃及び振動絶縁を改善するための装置であって、
（ａ）前記回路構成要素（10）及び前記ベースコンポーネント（22）に取り付けられ、前記ベースコンポーネント（22）上に前記回路構成要素（10）を支持する支持フレーム（26）と、
（ｂ）前記回路構成要素（10）と前記ベースコンポーネント（22）の間の所定の場所に配置されている絶縁材料（34）であって、前記ベースコンポーネント（22）に対する振動又は衝撃が、前記回路構成要素（10）に達する前に、当該絶縁材料（34）を通らなければならないように構成されている絶縁材料（34）とを含む装置。
【請求項２】
前記回路構成要素（10）と前記ベースコンポーネント（22）の間の前記所定の場所が、前記支持フレーム（26）と前記回路構成要素（10）の間、前記支持フレーム（26）と前記ベースコンポーネント（22）の間、及び前記支持フレーム（26）の２つの構成要素の間の少なくとも１つの場所である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記絶縁材料（34）が、ポリスチレン、粘弾性ポリマー及びポリエーテルベースの熱硬化ポリウレタンからなるグループから選択される請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
さらに前記支持フレーム（26）と追加の構成要素（140）の間に、絶縁材料（34）が設けられている請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記回路構成要素（10）がパッケージリッド（14）を含み、このパッケージリッド（14）又は前記支持フレーム（26）の一方が、該パッケージリッド（14）又は前記支持フレーム（26）のもう一方の対応する凹部（32）と共働する突出部（30）を含み、前記絶縁材料（34）が、前記突出部（30）と前記凹部（32）の間に配置されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
ベースコンポーネント（22）上に回路構成要素（10）を支持し、該ベースコンポーネント（22）に対する振動及び衝撃からの前記回路構成要素（10）の絶縁を改善する方法であって、
（ａ）前記回路構成要素（10）を支持し、前記回路構成要素（10）を前記ベースコンポーネント（22）に取り付ける支持フレーム（26）を設けるステップと、
（ｂ）前記回路構成要素（10）と前記ベースコンポーネント（22）の間の所定の場所に絶縁材料（34）を設け、前記ベースコンポーネント（22）に対する振動又は衝撃が、前記回路構成要素（10）に達する前に、前記絶縁材料（34）を通らなければならないように構成するステップとを含む方法。
【請求項７】
前記回路構成要素（10）と前記ベースコンポーネント（22）の間の所定の場所に絶縁材料（34）を設ける前記ステップが、前記支持フレーム（26）と前記回路構成要素（10）の間、前記支持フレーム（26）と前記ベースコンポーネント（22）の間、前記支持フレーム（26）の２つの構成要素の間の取り付け場所の１つ以上に前記絶縁材料（34）を設けるステップを含む請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記絶縁材料（34）を設ける前記ステップが、ポリスチレン、粘弾性ポリマー及びポリエーテルベースの熱硬化ポリウレタンからなるグループから選択された材料を設けるステップを含む請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
さらに前記支持フレーム（26）と追加の構成要素（140）の間に絶縁材料（34）を設けるステップを含む請求項６〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記回路構成要素（10）がパッケージリッド（14）を含み、このパッケージリッド（14）又は前記支持フレーム（26）が突出部（30）を含み、支持フレーム（26）を設ける前記ステップが、前記パッケージリッド（14）及び前記支持フレーム（26）のもう一方に、前記突出部（30）と共働する対応凹部（32）を設けるステップを含み、前記絶縁材料（34）を設ける前記ステップが、前記突出部（30）と前記凹部（32）の間に前記絶縁材料（34）を配置するステップを含む請求項６〜９のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路基板アセンブリ(8)であって、
a．回路基板(22)と、
b．基板(12)を有する集積回路パッケージ(10)であって、該集積回路パッケージ(10)が前記回路基板(22)に取り付けられる際に前記基板(12)の底面(20)から前記回路基板(22)へと延びるハンダカラム(18)のアレイ(16)を該基板(12)が有している、集積回路パッケージ(10)と、
c．前記基板(12)に固定されるリッド(14)であって、該基板(12)の外周(28)を越えて延びる部分(26)を有する、リッド(14)と、
d．前記基板(12)の前記外周(28)を越えて延びる前記リッド(14)の部分(26)と前記集積回路パッケージ(10)が取り付けられる前記回路基板(22)の部分との間に配置されて、前記集積回路パッケージ(10)を圧縮力に抗して支持する、少なくとも１つの支持シム(30)と
を含む、回路基板アセンブリ(8)。
【請求項２】
前記リッド(14)の外周(29)が前記基板(12)の外周(28)よりも大きくなるよう該リッド(14)が前記基板(12)よりも大きく形成され、前記基板(12)の前記外周(28)を越えて延びる前記リッド(14)の部分(29)が、前記基板(12)の前記外周(28)の周りに延びる、請求項１に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項３】
前記集積回路パッケージ(10)が、前記回路基板(22)に取り付けられ、前記リッド(14)及び前記基板(12)の少なくとも一方に接着剤(38)により固定された後、各支持シム(30)が、前記基板(12)の前記外周(28)を越えて延びる前記リッド(14)の前記部分(29)と前記回路基板(22)の一部との間に配置され、前記接着剤(38)が前記集積回路パッケージ(10)の高さの変動に適応する、請求項１又は２に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項４】
前記集積回路パッケージ(10)が、矩形の形状を有し、前記少なくとも１つの支持シム(30)が、前記集積回路パッケージ(10)の各隅に配置された支持シム(30)を含む、請求項１ないし３の何れか一項に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項５】
各支持シム(30)が、互いにほぼ直角をなす第１及び第２の脚部(32)を有するコーナシムである、請求項４に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項６】
各支持シム(30)が、内側に延びる上部フランジ(34)を有し、該上部フランジ(34)が、互いにほぼ直角をなす第１及び第２の部分(36)を有する、請求項４又は５に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項７】
前記接着剤(38)が、各支持シム(30)の上部フランジ(34)と前記基板(12)の外周(28)を越えて延びる前記リッド(14)の前記部分(29)との間に配置されて、前記支持シム(30)が前記集積回路パッケージ(10)に固定され、及び該支持シム(30)の前記上部フランジ(34)と前記基板(12)の前記外周(28)を越えて延びる前記リッド(14)の前記部分(29)との間のギャップが充填される、請求項６に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項８】
前記集積回路パッケージ(10)がカラムグリッドアレイ集積回路パッケージを含む、請求項１ないし８の何れか一項に記載の回路基板アセンブリ。
【請求項９】
回路基板(22)及び集積回路パッケージ(10)を有する回路基板アセンブリ(8)であって、該集積回路パッケージ(10)が基板(12)を有し、該基板(12)が、その底面(20)から前記回路基板(22)へと延びるハンダカラム(18)のアレイ(16)を有する、回路基板アセンブリ(8)において、前記集積回路パッケージ(10)を圧縮力に抗して支持する方法であって、
前記基板(12)の外周(28)を越えて延びる部分(29)を有する、該基板(12)よりも大きなリッド(14)を該基板(12)に固定し、前記集積回路パッケージ(10)が前記回路基板(22)に取り付けられた後に、前記基板(12)の前記外周(28)を越えて延びる前記リッド(14)の部分(29)と前記回路基板(22)との間に少なくとも１つの支持シム(30)を配設する、という各ステップを含む、方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの支持シム(30)を接着剤(38)により前記リッド(14)に固定するステップを更に含み、該接着剤(38)が前記集積回路パッケージ(10)の高さの変動に適応する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの支持シム(30)を前記接着剤(38)により前記リッド(14)に固定する前記ステップが、前記リッド(14)と前記少なくとも１つの支持シム(30)との間のギャップを前記接着剤(38)で充填するステップを含む、請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
前記集積回路パッケージ(10)が矩形の形状を有し、前記少なくとも１つの支持シム(30)を配設する前記ステップが、前記集積回路パッケージ(10)の各隅部に少なくとも１つの支持シム(30)を配設するステップを含む、請求項９ないし11の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記集積回路パッケージ(10)が矩形の形状を有し、前記少なくとも１つの支持シム(30)を配設する前記ステップが、前記集積回路パッケージ(10)の各側部に少なくとも１つの支持シム(30)を配設するステップを含む、請求項９ないし11の何れか一項に記載の方法。【請求項１４】
前記集積回路パッケージ(10)がカラムグリッドアレイ集積回路パッケージ(10)である、請求項９ないし13の何れか一項に記載の方法。