【手続補正書】
【提出日】平成17年12月5日(2005.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ポリエステル５０〜９０重量％、
ポリエーテルイミド８〜４８重量％、
ゴム含有量４０重量％以上の高ゴムグラフト耐衝撃性改良剤２〜２５重量％（ただし、ポリエステル、ポリエーテルイミド及び耐衝撃性改良剤の量は全体の重量を基準とする）、及び
任意成分として組成物全体の重量を基準にして１５重量％以下の充填材
を含んでなる熱可塑性成形用組成物。
【請求項２】  結晶化ポリエステルとドライブレンドするための樹脂組成物であって、当該樹脂組成物が１１０℃以上のＴｇを有しており、３０重量％以上のポリエーテルイミドと、結晶化ポリエステルとのドライブレンド後に請求項１記載の成形用組成物を与えるのに十分な量のポリエステル及び高ゴムグラフト耐衝撃性改良剤とを含んでなる組成物。
【請求項３】  前記ポリエステルが、次の一般式（Ｉ）の繰返し単位を有する、請求項１又は請求項２記載の組成物。
【化１】
2003206395.tif 000001
式中、Ｒ1は炭素原子数２〜１２のアルキル基又は環式脂肪族基であり、Ｒ2は炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【請求項４】  前記ポリエーテルイミドが下記の式（II）の構造単位を含んでおり、２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物、４，４′−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４，４′−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４′−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４，４′−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物、４，４′−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４，４′−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４′−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４，４′−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４′−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニル−２，２−プロパン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４′−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４′−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４′−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４′−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、又はこれらのいずれか１種以上を含む混合物と、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、１，１２−ドデカンジアミン、１，１８−オクタデカンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、４−メチルノナメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、Ｎ−メチル−ビス（３−アミノプロピル）アミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン、ビス（３−アミノプロピル）スルフィド、１，４−シクロヘキサンジアミン、ビス−（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２−メチル−４，６−ジエチル−１，３−フェニレンジアミン、５−メチル−４，６−ジエチル−１，３−フェニレン−ジアミン、ベンジジン、３，３′−ジメチルベンジジン、３，３′−ジメトキシベンジジン、１，５−ジアミノナフタレン、ビス（４−アミノフェニル）メタン、ビス（２−クロロ−４−アミノ−３，５−ジエチルフェニル）メタン、ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，４−ビス（ｂ−アミ��−ｔ−ブチル）トルエン、ビス（ｐ−ｂ−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−ｂ−メチル−ｏ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス（ｐ−ｂ−メチル−ｏ−アミノペンチル）ベンゼン、１，３−ジアミノ−４−イソプロピルベンゼン、ビス（４−アミノフェニル）スルフィド、ビス（４−アミノフェニル）スルホン、ビス（４−アミノフェニル）エーテル、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、又はこれらのいずれか１種類以上を含む混合物との反応で製造したものである、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の組成物。
【化２】
2003206395.tif 000002
式中、−Ｏ−Ｚ−Ｏ−基の二価結合は３，３′位、３，４′位、４，３′位又は４，４′位にあり、Ｚは以下の式（III）又は式（IV）の二価基であり、式（II）におけるＲは炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基及びそのハロゲン化誘導体、炭素原子数２〜２０の直鎖又は枝分れアルキレン基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキレン基、又は一般式（IV）の二価基である。
【化３】
2003206395.tif 000003
【化４】
2003206395.tif 000004
式中、Ｑは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＣyＨ2y−（ただし、ｙは１〜５の整数である）及びこれらのハロゲン化誘導体からなる群から選択される二価基である。
【請求項５】  前記ポリエーテルイミド樹脂が式（II）の構造単位を含んでおり、式中の各Ｒは独立にｐ−フェニレンもしくはｍ−フェニレン又はこれらの組合せであり、Ｚは以下の式（VII）の二価基であり、さらに前記ポリエステルがポリエチレンテレフタレートからなる、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の組成物。
【化５】
2003206395.tif 000005
【請求項６】  前記耐衝撃性改良剤がコア−シェル型耐衝撃性改良剤であって、当該組成物の２〜１０重量％をなす、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】  前記無機充填材がアルミナ、非晶質シリカ、無水ケイ酸アルミニウム、雲母、長石、粘土、タルク、ガラスフレーク、ガラス繊維、ガラス微小球、ウォラストナイト、金属酸化物、酸化亜鉛、硫酸バリウム及びファイバーグラス並びにこれらのいずれか１種類以上を含む混合物からなる群から選択される、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】  成形用組成物の製造方法であって、
ポリエステル、ポリエーテルイミド及び高ゴムグラフト耐衝撃性改良剤を予備溶融混練して１１０℃以上のＴｇを有する予備混練ブレンドを形成し、
結晶化ポリエステルを上記予備混練ブレンドとドライブレンドして、
ポリエステルとポリエーテルイミドと耐衝撃性改良剤の合計重量を基準として、
ポリエステル５０〜９０重量％、
ポリエーテルイミド１０〜４８重量％、及び
高ゴムグラフト耐衝撃性改良剤２〜２５重量％
を含む成形用組成物を形成する
ことを含んでなる方法。
【請求項９】  さらに、予備混練ブレンドのＴｇ以下の温度で予備混練ブレンドを乾燥することを含む、請求項８記載の方法。
【請求項１０】  さらに、予備混練ブレンドのＴｇ以下の温度で成形用組成物を乾燥することを含む、請求項８又は請求項９記載の方法。
【請求項１１】  前記予備混練ブレンドのＴｇが１２０℃を上回る、請求項１０記載の方法。