Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月23日(2006.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第２の問題点は、その差が大きな動作時および非動作時のそれぞれにおける要求スペック値を満たせる衝撃緩衝効果を発揮できる材料は無いか、或いは実用化されておらず、入手できない。そのために、動作時用と非動作時用に、それぞれ弾性係数の異なる材料を複数使用する必要がある。そのために、衝撃緩衝構造体の構造が複雑になる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
最内周ヘッドポジションからの緊急アンロード動作（最外周ゾーンからの緊急アンロード時）に要する緊急待避時間計算において、上述の最内周ヘッドポジションからの緊急退避時間計算と異なる計算要素は以下の部分である。つまり、内部転送レートは１６０Ｍｂ／ｓｅｃから２９０Ｍｂ／ｓｅｃに変更され、１トラック当たりのセクタ数は４００から７２０に変更され、そして処理Ｐ２に要する時間は５０ｍｓｅｃから３０ｍｓｅｃに変更されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月18日(2006.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機用集積回路素子の各リードが挿通される各挿通孔の周りにそれぞれ電極パッドを一方の面に形成してなる遊技機用集積回路素子の実装領域を設けた遊技機用制御基板であって、
前記実装領域に半田ディップを施して前記素子を半田付け実装する際に半田ブリッジの発生を抑制する半田ブリッジ抑制部を設けたことを特徴とする遊技機用制御基板。
【請求項２】
前記半田ブリッジ抑制部は、前記実装領域に対して半田ディップ時の基板搬送方向後方側に設けられた捨て半田用パッドを含むことを特徴とする請求項１に記載の遊技機用制御基板。
【請求項３】
前記半田ブリッジ抑制部は、前記実装領域に対して半田ディップ時の基板搬送方向後方側に設けられた穴を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機用制御基板。
【請求項４】
前記半田ブリッジ抑制部は、前記実装領域における隣接する各電極パッド間に形成された非導電性のシルク印刷パターンを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機用制御基板。
【請求項５】
前記半田ブリッジ抑制部は、前記実装領域に対して半田ディップ時の基板搬送方向後方側に設けられた部品実装禁止領域を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の遊技機用制御基板。
【請求項６】
前記半田ブリッジ抑制部は、各々が矩形状パターンをなす前記各電極パッドを含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の遊技機用制御基板。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体の表面に薄膜を堆積させるために真空雰囲気中の処理空間に対して成膜用の原料ガスと前記原料ガス以外のガスである支援ガスとを供給するシャワーヘッド構造において、
ガス噴射面を有するシャワーヘッド本体と、
前記シャワーヘッド本体内に形成されて前記原料ガスを拡散させる第１の拡散室と、
前記シャワーヘッド本体内に形成されて前記支援ガスを拡散させる第２の拡散室と、
前記第１の拡散室に連通されると共に、前記ガス噴射面に形成された複数の原料ガス噴射口と、
前記第２の拡散室に連通されると共に、前記原料ガス噴射口に接近して該原料ガス噴射口を囲むようにして前記ガス噴射面に形成された複数の第１支援ガス噴射口と、
前記第２の拡散室に連通されると共に、隣り合う２つの前記原料ガス噴射口の間に位置するように前記ガス噴射面に形成された第２支援ガス噴射口と、
を備えたことを特徴とするシャワーヘッド構造。
【請求項２】
前記第１支援ガス噴射口は、前記原料ガス噴射口を囲むようにしてリング状に形成されていることを特徴とする請求項１記載のシャワーヘッド構造。
【請求項３】
前記第１支援ガス噴射口は、前記原料ガス噴射口の周囲を囲むようにして複数個配列されて全体で１つの噴射口ユニットとして形成されていることを特徴とする請求項１記載のシャワーヘッド構造。
【請求項４】
前記原料ガスは、高融点金属を含有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のシャワーヘッド構造。
【請求項５】
前記原料ガスは、有機金属材料ガスであることを特徴とする請求項４記載のシャワーヘッド構造。
【請求項６】
前記支援ガスはＯ２ ガスであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のシャワーヘッド構造。
【請求項７】
前記支援ガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のシャワーヘッド構造。
【請求項８】
被処理体の表面に所定の薄膜を堆積させる成膜装置において、
真空引き可能になされて内部に処理空間を形成する処理容器と、
前記処理容器内に設けられてその上に前記被処理体を載置する載置台と、
前記被処理体を加熱する加熱手段と、
前記処理容器の天井部に設けられた請求項１乃至７のいずれかに記載のシャワーヘッド構造と、
を備えたことを特徴とする成膜装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に係る発明は、被処理体の表面に薄膜を堆積させるために真空雰囲気中の処理空間に対して成膜用の原料ガスと前記原料ガス以外のガスである支援ガスとを供給するシャワーヘッド構造において、ガス噴射面を有するシャワーヘッド本体と、前記シャワーヘッド本体内に形成されて前記原料ガスを拡散させる第１の拡散室と、前記シャワーヘッド本体内に形成されて前記支援ガスを拡散させる第２の拡散室と、前記第１の拡散室に連通されると共に、前記ガス噴射面に形成された複数の原料ガス噴射口と、前記第２の拡散室に連通されると共に、前記原料ガス噴射口に接近して該原料ガス噴射口を囲むようにして前記ガス噴射面に形成された複数の第１支援ガス噴射口と、前記第２の拡散室に連通されると共に、隣り合う２つの前記原料ガス噴射口の間に位置するように前記ガス噴射面に形成された第２支援ガス噴射口と、を備えたことを特徴とするシャワーヘッド構造である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この場合、例えば請求項２に規定するように、前記第１支援ガス噴射口は、前記原料ガス噴射口を囲むようにしてリング状に形成されている。
また請求項３に規定するように、前記第１支援ガス噴射口は、前記原料ガス噴射口の周囲を囲むようにして複数個配列されて全体で１つの噴射口ユニットとして形成されている。
また例えば請求項４に規定するように、前記原料ガスは、高融点金属を含有する。
また例えば請求項５に規定するように、前記原料ガスは、有機金属材料ガスである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また例えば請求項６に規定するように、前記支援ガスはＯ２ ガスである。
また例えば請求項７に規定するように、前記支援ガスは不活性ガスである。
請求項８に係る発明は、被処理体の表面に所定の薄膜を堆積させる成膜装置において、真空引き可能になされて内部に処理空間を形成する処理容器と、前記処理容器内に設けられてその上に前記被処理体を載置する載置台と、前記被処理体を加熱する加熱手段と、前記処理容器の天井部に設けられた請求項１乃至７のいずれかに記載のシャワーヘッド構造と、を備えたことを特徴とする成膜装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
炭化珪素表面を局所的に加熱しながら、該局所的に加熱した部分に三フッ化塩素ガスを接触させて微細加工することを特徴とする炭化珪素の加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明者等は、上記目的を達成すべく種々検討した結果、三フッ化塩素ガスはプラズマ励起を必要とせず、熱励起だけで実用的な炭化珪素のエッチング速度が得られ、炭化珪素を容易に且つ効率良くエッチングできることを知見した。
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、三フッ化塩素ガスを炭化珪素表面に接触させることを特徴とする炭化珪素表面のエッチング方法を提供するものである。
また、本発明は、雰囲気温度が４００〜７００℃下で、濃度５０〜１００体積％の三フッ化塩素ガスを炭化珪素表面に接触させることにより、炭化珪素表面を平滑化することを特徴とする炭化珪素表面の研磨方法を提供するものである。
また、本発明は、炭化珪素表面を局所的に加熱しながら、該局所的に加熱した部分に三フッ化塩素ガスを接触させて微細加工することを特徴とする炭化珪素の加工方法を提供するものである。
また、本発明は、化学反応装置の反応容器の内壁に付着した炭化珪素を三フッ化塩素ガスにより除去することを特徴とする炭化珪素の除去方法を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月2日(2006.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を通流する液体で発熱素子の熱を吸熱する受熱ジャケットと、熱を吸熱した前記液体をラジエータまでポンプで輸送して、前記液体を前記ラジエータの金属配管部を通流して放熱する液冷システムにおいて、
前記ラジエータは、金属配管部の両端部に設けられた吐出配管及び吸入配管を備え、タンクは内部を仕切り板により分割し、各々に独立して液体を貯留する空間を構成し、前記タンクの各々の貯留空間を前記ラジエータの金属配管に接続し、前記ポンプは吸入ポート及び吐出ポートを有し、この吸入ポート及び吐出ポートにより前記ラジエータに取り付けられたタンクに直接接続したことを特徴とする液冷システム。
【請求項２】
請求項１記載の液冷システムにおいて、
前記ラジエータに備えた吐出配管及び吸入配管が前記タンクの各々の貯留空間内部と連通していることを特徴とする液冷システム。
【請求項３】
請求項１記載の液冷システムにおいて、
前記タンクは前記ポンプの吸入ポート及び吐出ポートを差し込むポート挿入孔を設けたことを特徴とする液冷システム。
【請求項４】
請求項１記載の液冷システムにおいて、
前記タンクの各々の貯留空間と前記ラジエータの金属配管を対向させて取付けたことを特徴とする液冷システム。
【請求項５】
請求項１記載の液冷システムにおいて、
前記タンクの内部を二分割に分離する仕切り板を略Ｓ字形状にしたことを特徴とする液冷システム。
【請求項６】
請求項１記載の液冷システムにおいて、
前記タンクの各々の貯留空間に液溜まり部を設けたことを特徴とする液冷システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的は、内部を通流する液体で発熱素子の熱を吸熱する受熱ジャケットと、熱を吸熱した前記液体をラジエータまでポンプで輸送して、前記液体を前記ラジエータの金属配管部を通流して放熱する液冷システムにおいて、前記ラジエータは、金属配管部の両端部に設けられた吐出配管及び吸入配管を備え、タンクは内部を仕切り板により分割し、各々に独立して液体を貯留する空間を構成し、前記タンクの各々の貯留空間を前記ラジエータの金属配管に接続し、前記ポンプは吸入ポート及び吐出ポートを有し、この吸入ポート及び吐出ポートにより前記ラジエータに取り付けられたタンクに直接接続したことにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記目的は、前記ラジエータに備えた吐出配管及び吸入配管が前記タンクの各々の貯留空間内部と連通していることにより達成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上記目的は、前記タンクは前記ポンプの吸入ポート及び吐出ポートを差し込むポート挿入孔を設けたことにより達成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、上記目的は、前記タンクの各々の貯留空間と前記ラジエータの金属配管を対向させて取付けたことにより達成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、上記目的は、前記タンクの内部を二分割に分離する仕切り板を略Ｓ字形状にしたことにより達成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、上記目的は、前記タンクの各々の貯留空間に液溜まり部を設けたことにより達成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月6日(2006.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に、第１導電型の第１クラッド層と、活性層と、第２導電型の第２クラッド層とを少なくとも有し、
上記第２クラッド層側に、主たる電流通路を構成するストライプ状のリッジを形成する相対向する対の第１の凹部と、該第１の凹部の少なくとも一方の外側に形成された第２の凹部とが設けられ、
該第１および第２の凹部は、それぞれ上記活性層に達することがない深さとされ、
上記第１および第２の凹部内に差し渡って形成された第１導電型の電流ブロック層と、
該電流ブロック層上に形成された第２導電型のコンタクト層とを有し、
上記主たる電流通路を通ずる電流による発光部と、
上記第２の凹部における上記第２導電型のコンタクト層、上記第１導電型の電流ブロック層、上記第２導電型のクラッド層、上記活性層、上記第１導電型の第１クラッド層との積層によるサイリスタ構造部とが形成され、
少なくとも上記第２の凹部の深さの選定によって上記サイリスタ構造部のオン電圧の設定がなされることを特徴とする半導体発光装置。
【請求項２】
上記活性層が、多重量井戸構造による活性層であることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項３】
上記第１の凹部と上記第２の凹部間に、上記ストライプ状リッジに沿って延在するストライプ状の境界リッジが形成されて成ることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項４】
上記サイリスタのオン電圧が、上記半導体発光素子の動作に干渉しない程度の低い電圧であることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項５】
上記サイリスタのオンの後の動作電圧が、上記半導体発光素子の動作電圧より低いか、または同程度であることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項６】
上記サイリスタ構造部の面積が、上記リッジ部における主たる電流通路部の面積より充分大に選定されて成ることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項７】
基体上に、半導体発光素子を構成する第１導電型の第１クラッド層と、活性層と、第２導電型の第２クラッド層とを少なくともエピタキシャル成長する工程と、
上記第２クラッド層側に、主たる電流通路を構成するストライプ状のリッジを形成する相対向する対の第１の凹部を形成する工程と、
その後、またはその前に上記第１の凹部の少なくとも一方の外側に第２の凹部を形成する工程と、
上記第１および第２の凹部内に差し渡って第１導電型の電流ブロック層と、第２導電型のコンタクト層とをエピタキシャル成長する工程と、
上記リッジ上の上記コンタクト層と上記電流ブロック層に渡る深さの凹部を形成して肉薄部を形成する工程と、
上記コンタクト層上から第２導電型の不純物を導入して上記肉薄部において、上記リッジの上記第２クラッド層に達するコンタクト部を形成する工程とを有し、
上記主たる電流通路を通ずる電流による発光部と、
上記第２の凹部における上記第２導電型のコンタクト層、上記第１導電型の電流ブロック層、上記第２導電型のクラッド層、上記活性層、上記第１導電型の第１クラッド層との積層によるサイリスタ構造部とが形成され、
少なくとも上記第２の凹部の深さの選定によって上記サイリスタ構造部のオン電圧の設定がなされることを特徴とする半導体発光装置の製造方法。
【請求項８】
上記活性層が、多重量井戸構造による活性層であることを特徴とする請求項８に記載の半導体発光装置の製造方法。
【請求項９】
上記第１の凹部と上記第２の凹部間に、上記ストライプ状リッジに沿って延在するストライプ状の境界リッジが形成されて成ることを特徴とする請求項８に記載の半導体発光装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の工程を含むことを特徴とする化合物半導体基板の製造方法。
（ア）元基板上に化合物半導体機能層をエピタキシャル成長させて得られた化合物半導体層基板のエピタキシャル成長面に支持基板を仮接着する工程。
（イ）該元基板の全部および該元基板近傍の該化合物半導体機能層の一部を研磨により除去する工程。
（ウ）工程（イ）により露出した化合物半導体機能層に、熱伝導度が該元基板より大きい物質からなる高熱伝導基板を接着する工程。
（エ）エピタキシャル成長面に仮接着された該支持基板を分離除去する工程。
【請求項２】
次の工程を含むことを特徴とする化合物半導体基板の製造方法。
（カ）元基板上に化合物半導体機能層をエピタキシャル成長させて得られた化合物半導体層基板のエピタキシャル成長面に、熱伝導度が該元基板より大きい物質からなる高熱伝導基板を接着する工程。
（キ）該元基板の全部および該元基板近傍の該化合物半導体機能層の一部を研磨により除去する工程。
【請求項３】
化合物半導体機能層が、Ｉｎ、ＧａおよびＡｌからなる群より選ばれる１種以上を含み、かつＮ、Ｐ、ＡｓおよびＳｂからなる群より選ばれる１種以上を含み、少なくとも２層からなる化合物半導体機能層である請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
高熱伝導基板が、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｏ、Ｗ、ダイヤモンド、ＳｉＣ、ＡｌＮ、ＢＮまたはＳｉのいずれか１種以上を含む高熱伝導基板である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４に記載の製造方法により製造された化合物半導体基板を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月17日(2006.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光活性成分と、シアノ部分を含む感光性酸不安定単位を有するポリマーを含む樹脂結合剤とを含む感光性耐食膜組成物。
【請求項２】
酸不安定単位が以下の構造式Ｉに相当する、請求項１記載の感光性耐食膜：
【化１】
1999258809.tif 000001
式中、Ｗがリンカー基であり；
Ｘは任意に置換されたアルキレン；任意に置換されたアルケニレン；または任意に置換されたアルキニレンであり；かつ
Ｚがポリマー単位間の架橋基である。
【請求項３】
ポリマーがシアノ部分を含まない感光性酸不安定基を含む、請求項１記載の感光性耐食膜。
【請求項４】
光活性成分と、シアノ部分および無水イタコン酸部分の両部分を有するポリマーを含む樹脂結合剤とを含む感光性耐食膜組成物。
【請求項５】
ポリマーが以下の構造式ＩＩに相当する単位を含む、請求項４記載の感光性耐食膜：
【化２】
1999258809.tif 000002
式中、Ｗがリンカーであり；
Ｚ基は同一であっても異なっていてもよく、それぞれがポリマー架橋基であり；
ｐはポリマー中のシアノ単位のモル％であり、ｑはポリマー中の無水イタコン酸単位のモル％である。
【請求項６】
ポリマーが、シアノ部分を有する感光性酸不安定基を含む、請求項５記載の感光性耐食膜。
【請求項７】
ポリマーが、シアノ部分を含まない感光性酸不安定基を含む、請求項５記載の感光性耐食膜。
【請求項８】
ポリマーが感光性酸不安定基を含み、ポリマーの全ての感光性酸不安定基がシアノ部分を含まない、請求項５記載の感光性耐食膜。
【請求項９】
ポリマーが感光性耐食膜の水性現像性に寄与する単位を含む、請求項１〜８のいずれか一項記載の感光性耐食膜。
【請求項１０】
感光性耐食膜の芳香族基含量が約１モル％未満である、好ましくは感光性耐食膜は芳香族基を完全に含まない、請求項１〜９のいずれか一項記載の感光性耐食膜。
【請求項１１】
（ａ）請求項１〜１０のいずれか一項記載の感光性耐食膜のコーティング層を基板に適用する段階と、
（ｂ）感光性耐食膜層を露光および現像して起伏影像を生成させる段階とを含む、陽画型感光性耐食膜起伏影像を形成する方法。
【請求項１２】
その上に請求項１〜１１のいずれか一項記載の感光性耐食膜組成物の層をコーティングしたマイクロエレクトロニクスウェーハ基板を含む製品。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の直流電圧成分と第２の直流電圧成分とを有する交流電圧により作動される電極と、前記第２の直流電圧成分により変化する第３の直流電圧により作動される制御表面とを備えたコロナ帯電デバイスにおいて、実質的一定の電圧対電流の関係を維持するための方法であって、
（ａ）前記交流電圧の一部をモニターするステップを有し、
（ｂ）前記第１の直流電圧を前記ステップ（ａ）によりモニターされた電圧に重畳して、交流成分と前記第１の直流電圧成分とを有する制御電圧を生成するステップを有し、
（ｃ）前記第２の直流電圧成分を前記ステップ（ｂ）により生成された制御電圧に重畳して、前記第２の直流電圧成分の変化に応答して制御電圧を変化させるステップを有し、
（ｄ）前記ステップ（ｃ）において生成された制御電圧をコロナ帯電デバイスの前記電極に供給するステップと、を有する、
実質上一定の電圧対電流の関係を維持する方法。
【請求項２】
請求項１記載の各ステップに加え、
（ｅ）前記第１の直流電圧をステップ（ａ）でモニターされた電圧に重畳する前に前記ステップ（ｂ）において、前記第１の直流電圧成分を較正するステップを有し、
（ｆ）前記第２の直流電圧成分を前記ステップ（ｂ）で生成された前記制御電圧に重畳する前に前記ステップ（ｃ）において、前記第２の直流電圧成分を較正するステップを有する、請求項１記載の実質上一定の電圧対電流の関係を維持するための方法。
【請求項３】
第１の直流電圧及び第２の直流電圧を有する交流電圧により作動される電極と、第２の直流電圧により変化する第３の直流電圧により作動される制御表面とを備えたコロナ帯電デバイスにおいて、実質上一定の電圧対電流の関係を維持するための加算回路であって、
前記交流電圧の一部をモニターするための抵抗要素を含み、
前記第１の直流電圧をモニターされた電圧に重畳して、交流成分と直流成分とを有する制御電圧を生成するための第１の抵抗要素を含み、
前記第２の直流電圧を前記制御電圧に重畳して、前記第２の直流電圧の変化に応答して制御電圧を変化させるための第２の抵抗要素を含み、
前記制御電圧をコロナ帯電デバイスの電極に供給するための導体を含む、
加算回路。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  着色剤と、スチレン、ブタジエン、アクリロニトリル及びアクリル酸の付加重合体樹脂とを有してなる、トナー組成物。
【請求項２】
（ｉ）イオン性界面活性剤の存在下、及び非イオン性界面活性剤の任意の存在下で、スチレン約５５〜約８５重量％、ブタジエン約１〜約２５重量％、アクリロニトリル約１〜約２０重量％、及びアクリル酸約0.5 〜約５重量％の混合物の乳化重合から生成したラテックス乳濁液を調製する工程、
（ii）前記ラテックス乳濁液を、該ラテックス乳濁液中に存在するイオン性界面活性剤とは逆の極性のイオン性界面活性剤を含む水性着色剤分散液と混合する工程、
（iii)得られた混合物を、ラテックス樹脂のＴｇよりも約３０℃〜約１℃低いか、又はラテックス樹脂のＴｇにほぼ等しい温度で加熱して、凝集体を形成する工程、
（iv）次に、前記凝集体を、ラテックス樹脂のＴｇよりも約１０℃〜約６０℃高いか、又はラテックス樹脂のＴｇにほぼ等しい温度で加熱する工程を有し、かつ任意に、
（ｖ) 前記トナーを冷却し、単離し、その後、洗浄及び乾燥する工程を有する、
トナーの調製方法。
【請求項３】
前記樹脂が、スチレン標準に対して、重量平均分子量（Ｍw）約１５，０００〜約３５，０００と数平均分子量（Ｍn）約３，０００〜約１２，０００を有する請求項１に記載のトナー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 界面活性剤の非存在下、乳濁液ラテックス、着色剤、及び有機錯化剤の混合物を加熱する工程を含む、トナーの製造方法。
【請求項２】 前記乳濁液ラテックスがスルホン化ポリエステル樹脂を含み、且つ、前記有機錯化剤と加熱により、前記乳濁液ラテックス中に含まれる樹脂粒子及び着色剤を凝集及び凝結し、その後形成されたトナーを冷却及び分離する請求項１に記載のトナーの製造方法。
【請求項３】 前記有機錯化剤が１，４−ジアミノブタン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，２−ジアミノ−２−メチルプロパン、１，９−ジアミノノナン、１，８−ジアミノオクタン、１，５−ジアミノペンタン、１，２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパン、エタノールアミン、トリエチルアミン、又はトリプロピルアミンである請求項１又は２に記載のトナーの製造方法。
【請求項４】前記樹脂を水中でその樹脂のガラス転移温度よりも約５〜３０℃高い温度で加熱することにより、粒径が約０．１μｍ未満のナトリウムスルホン化ポリエステル樹脂粒子を含む乳濁液ラテックスを調製し、
着色剤分散液を前記ラテックス混合物に添加し、次いで水中の約１〜５重量％の量の有機錯化剤を添加し、
得られた混合物を約３５〜６０℃で加熱して凝集及び凝結させることによりトナー粒子を生成し、
前記生成混合物を冷却し、次に濾過して乾燥させる、
請求項２に記載のトナーの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月5日(2006.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミン、スルホン化ポリエステル樹脂を含有する乳濁液ラテックス、及び着色剤分散液を混合することを含み、得られた混合物を加熱することを含み、必要に応じて冷却することを含む、トナー調製のためのプロセス。
【請求項２】
前記樹脂がポリ（１，２−プロピレン−ナトリウム  ５−スルホイソフタレート）又はポリ（ネオペンチレン−ナトリウム  ５−スルホイソフタレート）のうちの１つのポリエステルである、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
ナトリウムスルホン化ポリエステル樹脂粒子を含有する乳濁液ラテックスを着色剤分散液と混合することを含み、該着色剤がサブミクロンサイズであり、該着色剤がサブミクロン樹脂粒子により安定化されており、更にアミンを添加することを含み、得られた混合物を加熱することにより凝集及び凝結を行うことを含む、トナー調製のためのプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月15日(2005.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  対物光学ユニットによって形成された像を光の反射作用を用いて反転する像反転光学ユニットと、該像反転光学ユニットからの光が入射する接眼光学ユニットとを備えるファインダ光学系であって、前記接眼光学ユニットが回折光学面を有することを特徴とするファインダ光学系。
【請求項２】  前記接眼光学ユニットは単レンズより成り、前記回折光学面を前記単レンズ上に形成したことを特徴とする請求項１に記載のファインダ光学系。
【請求項３】  前記接眼光学ユニットは２つのレンズエレメントより成り、前記回折光学面をこれら２つのレンズの少なくとも一方に形成したことを特徴とする請求項２に記載のファインダ光学系。
【請求項４】  前記２つのレンズは、正レンズと負レンズであることを特徴とする請求項３に記載のファインダ光学系。
【請求項５】  前記２つのレンズのアッベ数をν1、ν2とするとき、
０．８＜ν1／ν2＜１．２５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項４に記載のファインダ光学系。
【請求項６】  前記接眼光学ユニットの光学的パワーをψE、第ｉ番目の回折光学面の近軸的な光学的パワーをψBiとするとき、
０．００５＜ΣψBi／ψE＜０．０４０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項２〜５の何れか１つの請求項に記載のファインダ光学系。
【請求項７】  前記回折光学面は曲面上に形成し、前記回折光学面の回折作用による光学的パワーをψd、前記回折光学面の屈折作用による光学的パワーをψrとするとき、
０．０２＜｜ψd／ψr｜＜０．６０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項２〜５の何れか１つの請求項に記載のファインダ光学系。
【請求項８】  前記接眼光学ユニットの光学的パワーをψe 、前記回折光学面の光学的パワーをψdとするとき、
０．０２＜｜ψd／ψe｜＜０．１５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項２〜５の何れか１つの請求項に記載のファインダ光学系。
【請求項９】  前記接眼光学ユニットは平行平板を有し、前記回折光学面を該平行平板上に形成したことを特徴とする請求項１に記載のファインダ光学系。
【請求項１０】  前記回折光学面は倍率色収差を補正するようにしたことを特徴とする請求項２〜９の何れか１つの請求項に記載のファインダ光学系。
【請求項１１】  前記回折光学面を有する前記対物光学ユニットを備えることを特徴とする請求項１に記載のファインダ光学系。
【請求項１２】  前記接眼光学ユニットは前記回折光学面を有し、前記対物光学ユニットの回折光学面の光学的パワーをψo、前記接眼光学ユニットの回折光学面の光学的パワーをψdとするとき、
０．０８＜｜ψd／ψo｜＜０．４
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１１に記載のファインダ光学系。
【請求項１３】  請求項１〜１２の何れか１つの請求項に記載のファインダ光学系を備えることを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明に係るファインダ光学系は、対物光学ユニットによって形成された像を光の反射作用を用いて反転する像反転光学ユニットと、該像反転光学ユニットからの光が入射する接眼光学ユニットとを備えるファインダ光学系であって、前記接眼光学ユニットが回折光学面を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月30日(2006.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
従って、停電の場合にＭＲＩスキャナのＰＴＲを動作させ続ける、すなわち、停電のライドスルー（ride-through；緊急保全機能）を備えたパルス管冷凍システム（ＰＴＲＳ）を提供する必要性が存在する。
【特許文献１】米国特許第６４１２２９０号
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【本発明の実施の形態】本発明の典型的な例を図１に示す。ロータアッシー１からの回転軸１−１に、スリーブ軸受２、２’を取り付け、Ｏリングを介したポンプケーシングＢ３の中心部から突き出た回転軸１−１の先端部にインペラ４を装着する。一方、ロータを回転させるステータ組立８は、水が進入しないように、ホールセンサ組立７を介して鍔付ハウジング６と鍔付キャンシール９で作られる外周水密空間に密閉される。鍔付キャンシール９の内部空間には、ロータアッシー１が収納さる。そして、鍔付ハウジング６とポンプケーシングＢ３と鍔付ポンプケーシングＡ５を、Ｏリングを介して、鍔付キャンシール９を挟む形で各鍔付ポンプケーシングＢ３と鍔付ハウジング６をビスやボルトナット等の固着手段で取り付けて、水中ポンプを組み立てることができる。図２に水中ポンプの断面図を示す。ステータに通電すると、ロータが回転し回転軸１−１を回転させ、インペラ４を回転させることにより、水を取り込みエンジンの冷却部に送り込む。スリーブ軸受２は、軸１−１とスリーブ２−２からなる。ＲＢＣ又はＣＲＢＣの微粉末を合成樹脂中に均一に分散した合成樹脂組成物を成型して、軸またはスリーブを作製する。スリーブ軸受２の形状は、図３及び図４に示したもののほか、鍔付きスリーブなど周知の形状のスリーブであっても良い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
実施例５〜１０の水中ポンプのスリーブ軸受に用いたＲＢＣまたはＣＲＢＣ微粉末と合成樹脂の組成物は、実施例１〜４で製造したと同様にして、表１に示すような条件でＲＢＣ又はＣＲＢＣの微粉末を合成樹脂中に均一に分散して作製した。また、比較のために、市販の水中ポンプ用ＰＰＳ樹脂（出光石油化学株式会社製）および窒化珪素を用いた。
【表１】
2003336592.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記号及び絵文字情報が予め記憶されている第１のメモリと、
第１のメモリに記憶された記号または絵文字の一覧を表示する表示部と、
前記表示部に表示された記号または絵文字を選択するための操作部と、
前記表示部に表示された記号または絵文字の一覧から記号または絵文字を操作部によって選択されると、該選択された記号または絵文字の情報を第２のメモリに記憶する記憶制御手段と、
文字入力の際に前記操作部による所定の操作がなされると、第２のメモリに記憶された情報に基づいて記号または絵文字を前記表示部に表示する表示制御手段と、
表示制御手段によって表示された記号または絵文字を操作部によって選択されると、該操作された記号または絵文字の入力として受け付ける入力制御手段と
を有することを特徴とする携帯情報端末。
【請求項２】
前記第１のメモリに記憶された記号または絵文字の一覧を前記表示部に表示する際は、複数頁から構成されていることを特徴とする請求項１に記載の携帯情報端末。
【請求項３】
記号及び絵文字が予め記憶されている第１のメモリと、
第１のメモリに記憶された記号または絵文字の一覧を表示する表示部と、
前記表示部に表示された記号及び絵文字を選択するための操作部と、
記号及び絵文字の情報と表示される位置の情報とを関連付けて記憶される第２のメモリと、
前記表示部に表示された記号または絵文字の一覧から記号または絵文字を操作部によって選択されると、該選択された記号または絵文字の情報を第２のメモリに記憶する記憶制御手段と、
文字入力の際に前記操作部による所定の操作がなされると、第２のメモリに記憶された記号または絵文字の情報と前記位置の情報とに基づいて前記表示部に表示する表示制御手段と、
表示制御手段によって表示された記号または絵文字を操作部によって選択されると、該操作された記号または絵文字の入力として受け付ける入力制御手段と
を有することを特徴とする携帯情報端末。
【請求項４】
前記表示制御手段は、
更に第２のメモリに記憶された記号または絵文字を表示する際、前記操作部によって過去に選択された記号または絵文字の履歴を表示するように制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の携帯情報端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の携帯情報端末は、記号及び絵文字情報が予め記憶されている第１のメモリと、第１のメモリに記憶された記号または絵文字の一覧を表示する表示部と、前記表示部に表示された記号または絵文字を選択するための操作部と、前記表示部に表示された記号または絵文字の一覧から記号または絵文字を操作部によって選択されると、該選択された記号または絵文字の情報を第２のメモリに記憶する記憶制御手段と、文字入力の際に前記操作部による所定の操作がなされると、第２のメモリに記憶された情報に基づいて記号または絵文字を前記表示部に表示する表示制御手段と、表示制御手段によって表示された記号または絵文字を操作部によって選択されると、該操作された記号または絵文字の入力として受け付ける入力制御手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
デジタル放送の内容を蓄積するには、デジタル放送信号のデジタルデータいわゆるトランスポートストリームをそのまま蓄積装置に格納する必要があり、１時間分のデジタル放送の内容を蓄積するためには１４ＧＢ程度の容量の蓄積装置が必要となる（例えば、非特許文献１，２，３，４）。
【非特許文献１】デジタル放送におけるデータ放送符号化方式と伝送方式標準規格・第一分冊・(ARIB STD-B-24-1)・4.0版・平成16年2月5日発行
【非特許文献２】デジタル放送におけるデータ放送符号化方式と伝送方式標準規格・第二分冊(1/2)・(ARIB STD-B-24-1)・4.0版・平成16年2月5日発行
【非特許文献３】デジタル放送におけるデータ放送符号化方式と伝送方式標準規格・第二分冊(2/2)・(ARIB STD-B-24-1)・4.0版・平成16年2月5日発行
【非特許文献４】デジタル放送におけるデータ放送符号化方式と伝送方式標準規格・第三分冊・(ARIB STD-B-24-1)・4.0版・平成16年2月5日発行
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月30日(2005.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】熱交換器、冷蔵庫および冷凍ショーケース
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一枚の板をコルゲート状に折り曲げることによって山部、谷部及びこれらを連結する連結部を備えたフィン体を形成し、このフィン体の連結部の側縁にチューブ嵌込み用の開口溝を形成し、この開口溝に開口側から冷媒チューブを嵌込んで製造したことを特徴とする熱交換器。
【請求項２】  一枚の板をコルゲート状に折り曲げることによって山部、谷部及びこれらを連結する連結部を備えたフィン体を形成し、このフィン体の連結部の両側縁に前記山部或いは谷部の頂点から溝中心までの距離を異ならせてチューブ嵌込み用の開口溝を夫々形成し、この両側縁の開口溝に開口側から冷媒チューブを嵌込んで製造したことを特徴とする熱交換器。
【請求項３】  前記フィン体を複数形成すると共に、各フィン体の山部又は谷部を対向させて、或いは位相をずらせて連設し、前記複数のフィン体の開口溝間に跨るように開口側から蛇行状に曲げた冷媒チューブを嵌込んで製造したことを特徴とする請求項１または２記載の熱交換器。
【請求項４】  前記フィン体の両側縁に開口溝を二個ずつ設け、一つのフィン体に前記冷媒チューブを２回に亘って蛇行させることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の熱交換器。
【請求項５】  請求項１ないし４のいずれか一項に記載の熱交換器を備えたことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項６】  請求項１ないし４のいずれか一項に記載の熱交換器を備えたことを特徴とする冷凍ショーケース。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、本発明の目的は、製造コストの低減が図れ、Ｕベントの溶接等を行うことなく製造することができる熱交換器、冷蔵庫および冷凍ショーケースを提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載のものにおいて、前記フィン体を複数形成すると共に、各フィン体の山部又は谷部を対向させて、或いは位相をずらせて連設し、前記複数のフィン体の開口溝間に跨るように開口側から蛇行状に曲げた冷媒チューブを嵌込んで製造したことを特徴とするものである。
前記フィン体の両側縁に開口溝を二個ずつ設け、一つのフィン体に前記冷媒チューブを２回に亘って蛇行させてもよく、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の熱交換器を備えた冷蔵庫でもよく、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の熱交換器を備えた冷凍ショーケースでもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】  上記の目的を達成するために、本発明は、エンジンを所定の停車条件に応答して停止し、停止後は所定の発進操作に応答して再始動するエンジン停止始動制御装置を搭載した車両において、以下の手段を講じた点に特徴がある。
(1) バッテリから給電されて点灯する前照灯と、停車時にエンジンの点火制御を禁止してアイドリングを不能にする第１の動作パターン、および停車時にエンジンの点火制御を許可してアイドリングを可能にする第２の動作パターンを有するエンジン停止始動制御手段と、前記第１の動作パターンにおいて、前記前照灯が点灯したままでの停車時間を計時する計時手段と、前記エンジン停止始動制御手段の動作パターンを、前記所定の停車条件に応答して第１の動作パターンに切換え、前記計時手段による計時時間が所定時間に達すると第２の動作パターンに切換える動作パターン切換手段とを設けた。
(2) 前記計時手段による計時時間が所定時間に達すると、運転者に警告を発して注意を促す警告手段をさらに設けた。
(3) エンジンを外部から駆動するエンジンスタータと、前記エンジンスタータを付勢するスタータスイッチとをさらに設け、前記第２の動作パターン中にスタータスイッチが投入されるとアイドリング状態となるようにした。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
可動側プーリ半体２１０Ｒの右側ではカムプレート２１５がクランク軸２０１に固着されており、その外周端に設けたスライドピース２１５ａが、可動側プーリ半体２１０Ｒの外周端で軸方向に形成したカムプレート摺動ボス部２１０Ｒａに摺動自在に係合している。カムプレート２１５は、外周寄りが可動側プーリ半体２１０Ｒ側に傾斜したテーパ面を有しており、該テーパ面と可動プーリ半体２１０Ｒとの間の空所にドライウェイトポール２１６が収容されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
上記ガバナー機構２３０を構成する外円筒部２３２の端縁部にクランク角検出用の円環板状のロータ２４０が、その内周縁を嵌着して一体に設けられており、ロータ２４０の外周縁に近接してパルサー２４１が所定位置に配設されている。クランク軸２０１とインナーロータ２５１を介して一体に回転するロータ２４０の外周縁に形成された刻みをパルサ２４１が検出してクランク角を判断する。円環板状のロータ２４０は、アウターステータ２７０の発電コイル２７２および始動コイル２７３を外側から覆っている。そして、ロータ２４０の軸方向外側に内燃機関強制空冷用のファン部材２８０が一体に設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
次に、前記リンク部材１００が揺動する際の第２のヒンジ軸１１０としての支点について図面を参照してさらに詳述する。図１４は第２のヒンジシ軸１１０に相当する支点部分の拡大図である。同図に示すように、リンク部材１００の、上方へ打ち出された部分１００ａの頂部Ｐはフレーム８ａの下面に当接し、下方へ打ち出された部分１００ｂの頂部Ｐ１はナット１１２に隣接配置されたゴムワッシャ１１２ａの上面に当接している。したがって、リンク部材１００は前記頂部ＰまたはＰ１においてフレーム８ａまたはゴムワッシャ１１２ａと摺接でき、シート８を矢印Ｂの方向に揺動可能にしている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
ラゲッジボックス９を開放するためにシート８を開いたときの状態を図１６に示す。シート８を開いた状態でもシート８は前記ボルト１１１およびナット１１２とで挟まれた第２のヒンジ軸１１０に相当する支点を中心として図中時計方向にコイルスプリング１０３で付勢され、リンク部材１００はセットプレート１０４を介してダボ８ｂに押しつけられている。したがって、シート８を開いた状態でも、シート８はリンク部材１００にしっかりと固定されていて、ぐらつくことはなく安定した状態に保持される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
フランジ付きのプランジャ１０７は一端がケース本体１０６ａの孔に貫通され、他端が蓋１０６ｂの孔に貫通されて支持されている。プランジャ１０７の蓋１０６ｂ側にはフランジ１０７ａが形成されていて、該フランジ１０７ａによりスプリングケース１０６からプランジャ１０７が脱出するのが規制されている。コイルスプリング１０３はケース本体１０６ａの底部と前記フランジ１０７ａとの間に介挿されていて、その反発力によってプランジャ１０７は蓋１０６ｂ側に付勢されている。スプリングケース１０６はプランジャ１０７の上方先端が、シート８のフレーム８ａに形成されたダボ８ｂの下面に対向するように位置決めされている。すなわち、シート８はコイルスプリング１０３で付勢されたプランジャ１０７によって上方に押し上げられている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2000199443.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
公称データ転送レート及び実際のデータ転送レートを備える、加えられるデータ信号の特性を明らかにするためのサンプリング・システムであって、
データ信号を受信し、前記データ信号のサンプルを採取し、データ信号のサンプルを提供するサンプラと、
前記サンプラに接続されて、前記データ信号とは無関係に、サンプルが採取されるデータ信号の公称データ転送レートより低いストローブ・レートを指定するオシレータと、
前記サンプラに接続されて、採取したサンプルをデジタル化し、標本点が得られるようにする変換器と、
前記標本点、ストローブ・レート、及び、公称データ転送レートを受信し、標本点間におけるタイミングの対応を決定する品質最適化器と
を有するサンプリング・システム。
【請求項２】
前記品質最適化器が、公称データ転送レートと加えられるデータ信号の実際のデータ転送レートとの静的転送レート偏差を補償することによって、標本点間におけるタイミングの対応を決定することを特徴とする、請求項１に記載のサンプリング・システム。
【請求項３】
前記変換器と前記品質最適化器の間に接続されて、変換器から標本点を受信し、標本点を品質最適化器に供給するメモリを含むことを特徴とする、請求項２に記載のサンプリング・システム。
【請求項４】
静的転送レート偏差の補償には、標本点内における順次信号事象間に生じる標本点数を決定することと、決定された標本点数、ストローブ・レート、及び、公称データ転送レートに基づいて実際のデータ転送レートを推定することと、推定された実際のデータ転送レート及びストローブ・レートに基づいて標本点の時間配置を設定することを含むことを特徴とする、請求項２に記載のサンプリング・システム。
【請求項５】
前記信号事象に、標本点内において検出される立ち上がりエッジの遷移、標本点内において検出される立ち下がりエッジの遷移、及び、標本点内において検出される所定の振幅レベルの少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項４に記載のサンプリング・システム。
【請求項６】
標本点の前記時間配置が、推定された実際のデータ転送レートとストローブ・レートの比の整倍数の小数剰余になることを特徴とする、請求項４に記載のサンプリング・システム。
【請求項７】
前記推定された実際のデータ転送レートに、順次信号事象間に生じる標本点数と、公称データ転送レート対ストローブ・レートの比の整数部分との積を、順次信号事象間に生じる標本点数と、公称データ転送レート対ストローブ・レートの比の小数剰余との積、及び、順次信号事象間に生じる標本点数対公称データ転送レートの比と、公称データ転送レート対ストローブ・レートの比の整数部分との積の合計で割った値を含むことを特徴とする、請求項６に記載のサンプリング・システム。