Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月1日(2006.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
シートクッション側に設けられたロアプレートと、
該ロアプレートに取り付けられたヒンジピンと、
該ヒンジピンに回転可能に設けられ、前記ヒンジピンを中心に円弧状の内歯が形成され、背もたれ側に設けられるアッパプレートと、
前記ロアプレート側に設けられ、前記内歯に噛合可能な歯が形成されたポールと、
該ポールを前記ヒンジピンを中心に半径方向に案内するガイドと、
前記ヒンジピンを中心に回転可能に設けられ、前記ポールの歯が形成された面と反対側の背面に当接可能なカム，該カムを前記ポールの背面に対して当接/離反させるレバーからなる遮断手段と、
前記ロアプレートと前記アッパプレートとの間に設けられ、前記カムを介して前記ポールの歯が前記アッパプレートの内歯に噛合する方向に付勢する一つのスプリングと、
前記ポールを前記アッパプレートの内歯より離れる方向に移動させる離反手段と、
を設けたことを特徴とするリクライニング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する第１の発明は、シートクッション側に設けられたロアプレートと、該ロアプレートに取り付けられたヒンジピンと、該ヒンジピンに回転可能に設けられ、前記ヒンジピンを中心に円弧状の内歯が形成され、背もたれ側に設けられるアッパプレートと、前記ロアプレート側に設けられ、前記内歯に噛合可能な歯が形成されたポールと、該ポールを前記ヒンジピンを中心に半径方向に案内するガイドと、前記ヒンジピンを中心に回転可能に設けられ、前記ポールの歯が形成された面と反対側の背面に当接可能なカム，該カムを前記ポールの背面に対して当接/離反させるレバーからなる遮断手段と、前記ロアプレートと前記アッパプレートとの間に設けられ、前記カムを介して前記ポールの歯が前記アッパプレートの内歯に噛合する方向に付勢する一つのスプリングと、前記ポールを前記アッパプレートの内歯より離れる方向に移動させる離反手段とを設けたことを特徴とするリクライニング装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月30日(2006.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  用紙を反転させて画像形成手段側に搬送する両面機を備えた画像形成装置において、
前記両面機内に少なくとも１枚の用紙を停止させる手段と、
両面機構内に用紙を停止させた状態で当該両面機を開閉したとき、両面機内の用紙を有効として制御を行う手段と、
を備えていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】  前記制御を行う手段は、前記両面機を筐体に対して開放した状態において両面機内の用紙が取り除かれたことを検出した場合に両面機内の用紙を無効とすることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】  用紙が取り除かれたことの検出が、用紙搬送に使用するセンサによって行われることを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】  前記両面機が画像形成装置本体の外面に着脱自在に取り付けられていることを特徴とする請求項１または２記載の画像形成装置。
【請求項５】  各種アプリケーションを連結することによって機能拡張が可能な請求項１ないし４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】  前記機能拡張が、コピー機能、ファクシミリ機能、プリンタ機能の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項５記載の画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、両面機を備え、入力された画像データに応じて画像を形成するデジタル複写機などの画像形成装置に係り、例えば、コピー機能、ファクシミリ機能、プリンタ機能などの複数のアプリケーション機能を備え、アプリケーションに応じて画像を形成するのに好適な画像形成装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
他の目的は、同様の形態の画像形成装置において両面通紙時に両面機に関わらないジャムが発生したときのジャム除去後の再印刷動作を行う場合の生産性を上げると同時に、確実に両面機内の用紙情報を認識できるようにすることにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明は、用紙を反転させて画像形成手段側に搬送する両面機を備えた画像形成装置において、両面機内に１枚ないし複数枚の用紙を停止させる手段と、両面機構内に用紙を停止させた状態で当該両面機を開閉したとき、両面機内の用紙を有効として制御を行う手段とを備えた構成とした。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
なお、この手段の画像形成装置は、各種アプリケーションを連結することによって機能拡張を図ることが可能であって、前記各種アプリケーションによる機能拡張には、コピー機能、ファクシミリ機能、プリンタ機能の少なくとも１つが含まれる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図１は本発明の実施形態に係る複数のアプリケーション機能を有する画像形成装置としてのデジタル複写機の外観を示す斜視図である。このデジタル複写機１００は画像形成装置１１０、画像形成装置１１０の下部にあって多段の給紙部を備えた給紙装置１２０、画像形成部１１０の上部にあって原稿などの画像を読み取る画像読み取り装置１３０、片面に画像が形成された用紙を反転させて画像形成装置１１０に送り込み両面に画像を形成させる両面機１４０、および原稿を画像読み取り装置１３０に自動的に送り込んで読み取らせる原稿仕送り装置１５０から構成されている。画像形成装置１１０の上面には図２にも示すような操作部２００が設けられ、画像形成装置１１０に接続された給紙装置１２０、画像読み取り装置１３０、両面機１４０および原稿仕送り装置１５０に対してオペレータが各種指示の入力を行えるようになっている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
システム制御層３００では、図１のディジタル複写機においてアプリケーション層とシステム制御層の関係を示す図５に示すようにアプリケーション層３１０から見た場合、全てのアプリケーション３１１，３１２，３１３個別に仮想リソースが存在するような機能を提供する。この機能によってアプリケーション層３１０では特にシステム状態を管理する必要がなく、システム制御層３００では全てのアプリケーション３１１，３１２，３１３を同一条件で管理することが可能となる。すなわちアプリケーション３１１，３１２，３１３は使用したいリソースが発生した時点で、システム制御層３００に使用要求を送る。システム制御層３００ではその時点でのリソース使用状況から判断して要求元アプリケーションに結果を送る。要求元アプリケーションでは結果により実行可能の是非を判断し、可能であれば実行する。基本的には同等の手順で実行権管理を行う。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
このように本実施形態に係るデジタル複写機によれば、コピーアプリケーション３１１、プリンタアプリケーション３１２，ＦＡＸアプリケーション３１３などの拡張機能をシステム制御層３００によって制御することによって同時に動作させることが可能となるばかりでなく、これらの機能を両面機１４０を使用して実行していときに用紙ジャムが生じた場合、ジャム処理終了後に両面機１４０内に一面に画像形成された用紙が残っている場合には、その用紙を供給して他面に画像形成を行わせることが可能となり、画像形成の生産性を向上させることができる。したがって、これらの処理はシステム制御層３００内のシステムコントローラによって行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月16日(2005.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  脱水スリットを有する二軸押出機に水を含むポリマーを供給し、該押出機内において上記ポリマーを供給側から押出側に移動させつつ加圧しかつ加熱し、その後、該押出機の押出側端部において該ポリマーを高圧領域から低圧領域に押し出すことにより該ポリマー中の水分を瞬時に気化させて該ポリマーを乾燥させることを特徴とするポリマーの回収方法。
【請求項２】  上記押出機は上記脱水スリットが形成された位置よりも押出側にベントをもたず、かつ、上記低圧領域に押し出される直前において上記ポリマーの含水率は５〜４０重量％である請求項１記載のポリマーの回収方法。
【請求項３】  上記二軸押出機のスクリュウは、長さ（Ｌ）と径（Ｄ）との比（Ｌ／Ｄ）が５〜２５である請求項１または２記載のポリマーの回収方法。
【請求項４】  上記押出機の先端内部の圧力が０．５〜１０ＭＰａＧである請求項１乃至３のいずれかに記載のポリマーの回収方法。
【請求項５】  下記式により表される上記低圧領域への押し出し時におけるダイス孔通過時のポリマー線速は０．０３〜１ｍ／ｓである１乃至４のいずれかに請求項記載のポリマーの回収方法。
（ダイス孔通過時のポリマー線速）
＝（ポリマー押し出し容積流量）／（ダイス孔全開孔面積）
【請求項６】  上記低圧領域の圧力は０〜０．１ＭＰａＧである請求項１乃至５のいずれかに記載のポリマーの回収方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月6日(2006.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】縦方向と横方向に周期的な配列を有する格子状パターンを光で照射し、前記格子状パターンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて格子状パターン像を投影する像投影方法であって、
前記光の波長をλ、前記投影光学系の前記格子状パターン側の開口数をＮＡとしたときに、前記格子状パターンのピッチは２ｋ１（λ／ＮＡ）（但し、０．５≦２ｋ１≦１．０）であり、
前記瞳の円と重ねたときに一部が前記瞳の円からはみ出る矩形の環と前記瞳の円とを重ねた際の交わる領域に対応する有効光源を前記瞳に形成する前記光で、前記格子状パターンを照射することを特徴とする像投影方法。
【請求項２】前記有効光源が、０次回折光と１次回折光のペアを同時に瞳に入射する有効光源形状とされていることを特徴とする請求項１に記載の像投影方法。
【請求項３】前記矩形環状の環の中心位置ｓ１が、前記瞳の半径を１としたとき、
ｓ１＝１／２×（２ｋ１）とされていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の像投影方法。
【請求項４】前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長さをｓ２としたとき、
ｓ２≦０．２とされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の像投影方法。
【請求項５】前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長さをｓ２としたとき、
ｓ２≦０．１とされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の像投影方法。
【請求項６】瞳の軸上、２ｓ１の点を中心とする円弧と矩形環状と有効光源の範囲（最大σ値を半径とする瞳上の円）の交わる領域をとり、瞳のｘ軸、ｙ軸に対して対称とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の像投影方法。
【請求項７】前記瞳のｘ軸とｙ軸を、前記微細な格子状パターン列の並びの方向のｘ軸とｙ軸の方向と一致させたことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の像投影方法。
【請求項８】縦横に周期的に配列された２次元周期的コンタクトホール列からなるパターンによって露光するコンタクトホールの露光方法において、
前記２次元周期的コンタクトホール列に対して、請求項１〜６のいずれか１項に記載の像投影方法を用いてその矩形環状の有効光源を形成する光で照射し、コンタクトホールを露光することを特徴とするコンタクトホールの露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を達成するため、像投影方法、および該方法を用いたコンタクトホールの露光方法を、つぎのように構成したことを特徴とするものである。
すなわち、本発明の像投影方法は、縦方向と横方向に周期的な配列を有する格子状パターンを光で照射し、前記格子状パターンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて格子状パターン像を投影する像投影方法であって、
前記光の波長をλ、前記投影光学系の前記格子状パターン側の開口数をＮＡとしたときに、前記格子状パターンのピッチは２ｋ１（λ／ＮＡ）（但し、０．５≦２ｋ１≦１．０）であり、
前記瞳の円と重ねたときに一部が前記瞳の円からはみ出る矩形の環と前記瞳の円とを重ねた際の交わる領域に対応する有効光源を前記瞳に形成する前記光で、前記格子状パターンを照射することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の像投影方法は、前記有効光源が、０次回折光と１次回折光のペアを同時に瞳に入射する有効光源形状とされていることを特徴としている。
また、本発明の像投影方法は、前記矩形環状の環の中心位置ｓ１が、前記瞳の半径を１としたとき、
ｓ１＝１／２×（２ｋ１）とされていることを特徴としている。
また、本発明の像投影方法は、前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長さをｓ２としたとき、
ｓ２≦０．２とされていることを特徴としている。
また、本発明の像投影方法は、前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長さをｓ２としたとき、
ｓ２≦０．１とされていることを特徴としている。
また、本発明の像投影方法は、瞳の軸上、２ｓ１の点を中心とする円弧と矩形環状と有効光源の範囲（最大σ値を半径とする瞳上の円）の交わる領域をとり、瞳のｘ軸、ｙ軸に対して対称とすることを特徴としている。
また、本発明のコンタクトホールの露光方法は、前記瞳のｘ軸とｙ軸を、前記微細な格子状パターン列の並びの方向のｘ軸とｙ軸の方向と一致させたことを特徴としている。
また、本発明の像投影方法は、縦横に周期的に配列された２次元周期的コンタクトホール列からなるパターンによって露光するコンタクトホールの露光方法において、
前記２次元周期的コンタクトホール列に対して、上記した本発明のいずれかの像投影方法を用いてその矩形環状の有効光源を形成する光で照射し、コンタクトホールを露光することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
各ユニット１００nのフォトダイオードＰＤは、アノード端子が接地され、カソード端子が積分回路１０の入力端子に接続されている。フォトダイオードＰＤは、受光した光の光量に応じた電流信号を、カソード端子から積分回路１０の入力端子へ出力する。各ユニット１００nのフォトダイオードＰＤは、１次元状または２次元状に配置されており、１次元像または２次元像を受光する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図６は本実施形態に係る光検出装置の最大値検出回路２００の回路図である。最大値検出回路２００は、ＮＭＯＳトランジスタＴ1〜ＴN、抵抗器Ｒ201〜Ｒ203および差動アンプＡ201を備える。各トランジスタＴnのソース端子は接地され、各トランジスタＴnのドレイン端子は、抵抗器Ｒ203を介して電源電圧Ｖddに接続されるとともに、抵抗器Ｒ201を介して差動アンプＡ201の反転入力端子に接続されている。各トランジスタＴnのゲート端子は、ユニット１００nのホールド回路４０の出力端子と接続されており、ホールド回路４０から出力される電圧信号Ｖn3が入力する。また、差動アンプＡ201の反転入力端子と出力端子との間には帰還抵抗器Ｒ202が設けられ、差動アンプＡ201の非反転入力端子は接地されている。この最大値検出回路２００では、各ユニット１００nのホールド回路４０から出力された電圧信号Ｖn3がトランジスタＴnのゲート端子に入力され、各電圧信号Ｖn3のうちの最大値に応じた電位がトランジスタＴnのドレイン端子に現れる。そして、そのドレイン端子の電位は、抵抗器Ｒ201およびＲ202それぞれの抵抗値の比に応じた増幅率で差動アンプＡ201により増幅され、その増幅された電圧の値が最大電圧値Ｖmaxとして出力端子からＡ／Ｄ変換回路４００へ出力される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
そして、時刻ｔ11以降の或る時刻に、Ａ／Ｄ変換回路４００のスイッチ素子ＳＷ401が開かれ、第１番目のユニット１００1のスイッチ素子ＳＷ5が閉じられる。ユニット１００1のホールド回路４０から出力された電圧信号V13は、スイッチ素子ＳＷ5を介して、Ａ／Ｄ変換回路４００の可変容量積分回路４１０に入力する。可変容量積分回路４１０の容量素子Ｃ401に電圧信号Ｖ13が入力すると、その電圧信号Ｖ13の値と可変容量部Ｃ400の容量値Ｃ0とに応じた電荷Ｑが可変容量部Ｃ400に流入する（図１０（ａ）参照）。このとき、可変容量積分回路４１０から出力される積分信号の値Ｖsaは、
Ｖsa＝Ｖ13＝Ｑ／Ｃ0  …(3)
なる式で表される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
引き続き、容量制御部４２０は、可変容量部Ｃ400のスイッチ素子ＳＷ412〜ＳＷ414を開いた後、スイッチ素子ＳＷ422〜ＳＷ424を閉じる（図１０（ｂ）参照）。この結果、可変容量部Ｃ400の容量値はＣ411となり、可変容量積分回路４１０から出力される積分信号の値Ｖsbは、
Ｖsb＝Ｑ／Ｃ411  …(4)
となる。この積分信号は、比較回路Ａ402に入力し、その値が最大電圧値Ｖmaxと大小比較される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
もし、Ｖsb＞Ｖmaxであれば、この比較結果を受けて容量制御部４２０は、さらに、可変容量部Ｃ400のスイッチ素子ＳＷ422を開いた後に、スイッチ素子ＳＷ412を閉じる（図１０（ｃ）参照）。この結果、可変容量部Ｃ400の容量値はＣ411＋Ｃ412となり、可変容量積分回路４１０から出力される積分信号の値Ｖscは、
Ｖsc＝Ｑ／（Ｃ411＋Ｃ412）    …(5)
となる。この積分信号は、比較回路Ａ402に入力し、その値が最大電圧値Ｖmaxと大小比較される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
また、Ｖsb＜Ｖmaxであれば、この比較結果を受けて容量制御部４２０は、さらに、可変容量部Ｃ400のスイッチ素子ＳＷ411およびＳＷ422を開いた後に、スイッチ素子ＳＷ412およびＳＷ421を閉じる（図１０（ｄ）参照）。この結果、可変容量部Ｃ400の容量値はＣ412となり、可変容量積分回路４１０から出力される積分信号の値Ｖsdは、
Ｖsd＝Ｑ／Ｃ412  …(6)
となる。この積分信号は、比較回路Ａ402に入力し、その値が最大電圧値Ｖmaxと大小比較される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
可変容量積分回路４１０に入力する各電圧信号Ｖn3の最大値が最大電圧値Ｖmaxであり、可変容量部Ｃ400の容量値の最大値がＣ0であることから、上記(3)式より、可変容量部Ｃ400に流入する電荷Ｑの最大値はＶmax・Ｃ0である。そして、或る第ｎ番目の電圧信号Ｖn3が最大電圧値Ｖmaxであるときには、可変容量部Ｃ400のスイッチ素子ＳＷ411〜ＳＷ414の全てが閉じられて可変容量部Ｃ400の容量値はＣ0となる。一方、他の或る第ｎ番目の電圧信号Ｖn3が最大電圧値Ｖmaxより小さい値であるときには、可変容量部Ｃ400に流入する電荷ＱはＶmax・Ｃ0より小さいので、可変容量部Ｃ400のスイッチ素子ＳＷ411〜ＳＷ414のうち何れかが開くことにより、可変容量積分回路４１０から出力される積分信号は最大電圧値Ｖmaxと等しくなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、Ａ／Ｄ変換回路４００を設けることなく、各ユニット１００nのホールド回路４０から電圧信号Ｖn3を光検出装置の出力信号として順次に出力してもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
さらに、発光ダイオード等の投光手段の発光タイミングの都合により、積分回路への電荷の蓄積の順序を変更しなければならない場合、すなわち、上記第１の期間および上記第２の期間を変更しなければならない場合、従来技術では、積分回路に続く回路系が固定されて片極性しか動作が許されないことから、このような変更は不可能であった。しかし、本発明によれば、ＣＤＳ回路の第２および第３の容量素子は互いに独立に制御可能であるので、これらに蓄積された情報も互いに独立に取り出すことができる。すなわち、本発明によれば、上記第１の期間および上記第２の期間を容易に変更することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月27日(2006.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  トイレ内での用便行為により得られた使用者の排泄物を測定し、該測定に基づいて該使用者の健康管理に関与する情報を提供する測定・提供動作を行う健康管理装置であって、
便器に備えられ、前記排泄物を取得する取得手段と、
該取得手段によって取得された排泄物を搬送する搬送路を有し、その搬送路より搬送された排泄物に関わる物理量を測定する測定手段と、
不純物の残留した前記搬送路を洗浄する洗浄手段と、
を備え、
前記不純物は、カビ、バクテリアであり、
前記洗浄手段は、カビ、バクテリアの繁殖抑制溶液を前記搬送路に送り込むことを特徴とする健康管理装置。
【請求項２】  請求項１に記載の健康管理装置であって、
前記排泄物は尿であり、
前記測定は、尿糖、蛋白、潜血、ナトリウムイオン、尿酸のうち、少なくとも一つの成分に関するものであることを特徴とする健康管理装置。
【請求項３】  請求項１又は２に記載の健康管理装置であって、
前記測定の結果を逐次記憶する第一の記憶手段と、
前記測定・提供動作には、前記第一の記憶手段に記憶された複数の測定結果を用いた統計処理が含まれることを特徴とする健康管理装置。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれかに記載の健康管理装置であって、
前記複数の健康管理装置間で前記測定の結果をやりとり可能なデータ授受手段を備える健康管理装置。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれかに記載の健康管理装置であって、
複数の使用者を識別する識別手段と、
該識別された使用者との相関を確保した態様で、前記測定の結果を記憶する第二の記憶手段を備えたことを特徴とする健康管理装置。
【請求項６】  排泄物の成分を測定するセンサと、
排泄物を前記センサへ搬送するための搬送路と、
前記センサまたは前記搬送路に対して、制菌または防カビ効果を有する成分を含有する液体を供給する液体供給手段と、を備えたことを特徴とする排泄物測定装置。
【請求項７】  前記センサに対して排泄物を供給し、センサ検出値を出力する測定モードを有する制御手段を備えるとともに、
前記制御手段は、前記液体供給手段を作動させ、前記測定モードが完了してから次回の測定モードが開始するまでの間、前記センサまたは前記搬送路に前記液体を滞留させることを特徴とする請求項６記載の排泄物測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記不純物は、カビ、バクテリアであり、前記洗浄手段は、カビ、バクテリアの繁殖抑制溶液を前記搬送路に送り込むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、請求項２では、前記排泄物は尿であり、前記測定は、尿糖、蛋白、潜血、ナトリウムイオン、尿酸のうち、少なくとも一つの成分に関するものであることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、請求項３では、前記測定の結果を逐次記憶する第一の記憶手段と、前記測定・提供動作には、前記第一の記憶手段に記憶された複数の測定結果を用いた統計処理が含まれることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
測定データは使用者の日常生活行為に起因する種々の誤差を含んでいるが、通常、これらの誤差は所定の範囲内のばらつきに収まる。請求項３では、測定データを逐次記憶可能とし、記憶された測定の結果に基づいて統計処理を施すことにより、健康管理に活用可能な程度に誤差の影響を低減することができる。したがって、請求項３によれば、測定項目を増やしたり、測定データ自体に複雑な補正処理を施すことなく、健康管理に活用可能なデータを取得することができる。また、請求項３によれば、意義ある測定データを得るために、排泄物を取得する際の条件を調整する煩雑さを回避することができる他、取得条件を入力するなどの煩雑さをも回避することができる。もちろん、取得条件を入力可能とし、これを考慮した上で統計処理を施すことも可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、請求項４では、前記複数の健康管理装置間で前記測定の結果をやりとり可能なデータ授受手段を備える。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、請求項５では、複数の使用者を識別する識別手段と、該識別された使用者との相関を確保した態様で、前記測定の結果を記憶する第二の記憶手段を備えたことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
なお、請求項５では、さらに使用者に応じて測定データを異なるものとしてもよい。こうすれば、各人が必要とする測定データのみを取得することができるため、測定に要する費用および測定データを記憶する記憶手段の容量を節約することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月17日(2006.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また本発明は、スプロケットに最も近接する前記ボギー装置及びアイドラに最も近接する前記ボギー装置はそれぞれ、第１アームの揺動支持点が第２アームの揺動支持点よりもトラックフレームの中央寄りに位置するようにした方が好ましい。
この構成によると、スプロケットに最も近いボギー装置及びアイドラに最も近いボギー装置では、第２アームに支持された下転輪が第１アームの揺動支持点よりもスプロケット及びアイドラにそれぞれ近くなる。通常、大きな起伏部に乗り上げた時には、前進では走行装置の前端部（例えばアイドラ側）の近傍、後進では後端部（例えばスプロケット側）の近傍で履帯が撓み易いが、スプロケット及びアイドラの近くに配置された下転輪はこの撓みに早く追従するので、後続の下転輪の追従が容易となる。この結果、上述の効果に加えて、履帯への追従性をさらに向上でき、履帯外れの防止、及び乗り心地と耐久性の向上が確実にできる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ここで、ダブルボギー式下転輪ユニット１０の詳細構成を図４，５により説明する。図４は図２のＡ−Ａ断面図であり、図５は図２のＢ−Ｂ断面図である。
トラックフレーム１の下部で、かつ車両左右方向の両端部には、下方に延設された１対のプレート１ａ，１ａが設けられており、この１対のプレート１ａ，１ａ間に第１アーム３１の基端部が左右１対の第１ピン３３，３３により揺動自在に取着されている。第１アーム３１の先端部は、左右方向の断面形状が下方に開口したコの字状を成しており、このコの字状の左右端部には下方に延びた左右１対の支持部３１ａ，３１ａを有している。また第２アーム３２は、同様に左右１対のアーム部材３２ａ，３２ａを有している。そして、前記左右１対の支持部３１ａ，３１ａにそれぞれ左右１対のアーム部材３２ａ，３２ａが挿入され、左右１対のアーム部材３２ａ，３２ａの略中央部が第２ピン３５，３５により揺動自在に取着されている。また、第２アーム３２の両先端部で、かつ左右１対のアーム部材３２ａ，３２ａ間に、それぞれ下転輪１１，１２が回転自在に取着されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月31日(2006.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  水中に含まれるホルモン様活性作用を有する化学物質を、その活性作用を失なった状態となるようにオゾンを接触させ酸化処理する工程及び不活化された処理水中の残留オゾンを、オゾン分解触媒処理、曝気処理およびｐＨ調整処理の少なくとも１つの処理により低減させる工程を有することを特徴とするホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化方法。
【請求項２】  オゾン分解触媒が活性炭であることを特徴とする請求項１に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化方法。
【請求項３】  ｐＨ調整処理が、ｐＨ調整剤により処理水のｐＨを８〜１２に調整することを特徴とする請求項１に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化方法。
【請求項４】  前記ｐＨ調整剤が水酸化ナトリウムであることを特徴とする請求項３に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化方法。
【請求項５】  前記ｐＨ調整処理を、処理水のｐＨに応じてｐＨ調整剤の注入量を制御することを特徴とする請求項１、３、４のいずれか１項に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化方法。
【請求項６】  水中に含まれるホルモン様活性を有する化学物質がその活性作用を失なった状態となるようにオゾン酸化処理するオゾン酸化手段及び不活化された処理水中の残留オゾンを、オゾン分解触媒処理手段、曝気処理手段およびｐＨ調整処理手段の少なくとも１つの手段により低減させるオゾン低減手段を有することを特徴とするホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化装置。
【請求項７】  オゾン分解触媒が活性炭であることを特徴とする請求項６に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化装置。
【請求項８】  ｐＨ調整処理手段が、ｐＨ調整剤により処理水のｐＨを８〜１２に調整する手段であることを特徴とする請求項６に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化装置。
【請求項９】  前記ｐＨ調整剤が水酸化ナトリウムであることを特徴とする請求項８に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化装置。
【請求項１０】  ｐＨ調整処理手段が、処理水のｐＨに応じてｐＨ調整剤の注入量を制御するｐＨ制御手段を備えたものであることを特徴とする請求項６、８、９のいずれか１項に記載のホルモン様活性作用を有する化学物質の不活化装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月5日(2006.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、金属含有ガスを用いたＣＶＤ法により、スパッタ法により形成された遮光膜上に、当該金属含有ガスに含まれる金属を主成分とする遮光膜を形成し、金属含有ガスと窒素ガスとを用いたＣＶＤ法により遮光膜を形成する際には、金属含有ガスを用いたＣＶＤ法により形成された遮光膜上に、遮光膜を形成し、開口部を形成する際には、スパッタ法により形成された遮光膜と、金属含有ガスを用いたＣＶＤ法により形成された遮光膜と、金属ガスと窒素ガスとを用いたＣＶＤ法により形成された遮光膜とを選択的に除去するようにしてもよい。このように、金属含有ガスと窒素ガスとの混合ガスを用いたＣＶＤ法で形成された遮光膜と、スパッタ法で形成された遮光膜との間に、金属含有ガスを用いたＣＶＤ法で形成した遮光膜を形成することにより、各遮光膜同士の密着性を向上させることができる。その結果、遮光膜全体の膜厚の均一性を向上させることが可能となる。また、金属含有ガスと窒素ガスとの混合ガスを用いたＣＶＤ法は、成膜レートが相対的に小さいので、相対的に成膜レートが大きい金属含有ガスを用いたＣＶＤ法と組み合わせることにより、固体撮像装置の製造を高速化することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月27日(2006.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状に形成されたガラス基板の端面を基準高さに規制するテーパ状の傾斜面を有する位置矯正用の溝が形成された位置決め部材と、
前記位置決め部材が先端部に取り付けられ、この位置決め部材を前記ガラス基板の端面に対して押付ける押し付け機構とを有し、
前記位置決め部材が前記ガラス基板の少なくとも対向する２つの側面に沿って複数配置
されることを特徴とする基板位置決め装置。
【請求項２】
前記位置決め部材は、耐摩耗性樹脂で形成されたローラを回転可能に設け、前記ローラの側面全周に亘って前記位置矯正用の溝が形成されることを特徴とする請求項１記載の基板位置決め装置。
【請求項３】
前記位置決め部材は、前記テーパ状の傾斜面を構成するように一対のローラを前記ガラス基板面に対して平行に配置し、これらローラの間に前記位置矯正用の溝が形成されることを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記位置決め部材は、前記位置矯正用の溝の底部となる前記テーパ状の交点が前記ガラス基板の中心に一致し、前記交点より前記前記ガラス基板の厚さの１／２に前記ガラス基板の表面が前記基準高さになるように高さ調整されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板位置決め装置。
【請求項５】
前記位置決め部材は、前記ガラス基板を一定の高さに浮上させる検査ステージに対し前記ガラス基板の表面が水平になるように高さ調整されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板位置決め装置。
【請求項６】
前記位置矯正用の溝は、Ｖ字形状又はＵ字形状に形成され、溝の開口幅を前記ガラス基板の反り量よりも大きく形成したることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板位置決め機構。
【請求項７】
前記位置矯正用の溝は、開口角を３０°〜８０°に形成され、好ましくは開口角を５０°〜７０°に形成されることを特徴とする請求項６記載の基板位置決め装置。
【請求項８】
前記位置決め部材は、前記ガラス基板の各コーナ部にそれぞれ２個ずつ配置され、前記押付け機構は、前記各位置決め部材を前記ガラス基板の全方向から押付けるように前記ガラス基板の端面に向けて移動可能に設けられることを特徴とする請求項１記載の基板位置決め装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、矩形状に形成されたガラス基板の端面を基準高さに規制するテーパ状の傾斜面を有する位置矯正用の溝が形成された位置決め部材と、前記位置決め部材が先端部に取り付けられ、この位置決め部材を前記ガラス基板の端面に対して押付ける押し付け機構とを有し、前記位置決め部材が前記ガラス基板の少なくとも対向する２つの側面に沿って複数配置される基板位置決め装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月5日(2006.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
LD励起固体レーザ装置のレーザ光の光軸を、全反射ミラーで折り曲げる時、例えば光軸に対して４５°の角度に全反射ミラーを配置して、レーザ光を９０°方向に曲げる時の反射率は、レーザ光の偏光面（Ｐ波、Ｓ波）によって変化するので、高出力のまま光軸を曲げるためには、偏光面の角度を調整する必要がある。図９（ａ）に示すように、光軸に対して４５°の角度に全反射ミラーを配置して、レーザ光の光軸を全反射ミラーで９０°曲げる時の反射率は、レーザ光の偏光面（Ｐ波、Ｓ波）によって、図９(ｂ)のように反射率が変化する。偏光面の角度を調整するためには、レーザ光の光軸に1/2波長板を挿入するという既知の技術があるが、光学部品が増えるのでスペースが大きくなり、コストもかかるという問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
この固体レーザ装置において、1/2波長板30の回転角度をθとし、共振器Ｒから出力されるレーザ光の強度を共振出力Ｆinとする。偏光子31を透過して出力されるレーザ光の強度を、現在出力Ｆoutとする。現在出力は、
Ｆout＝Ｆincos2(2θ)
となる。すなわち、この固体レーザ装置では、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、出力されるレーザ光の強度である現在出力Ｆoutが、1/2波長板30の回転角度θに依存して変化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
操作設定・表示装置76からの指令により、コントロール回路72とモータドライブ回路74を介してモータ32に駆動信号を与える。1/2波長板30を角度θだけ回転させると、1/2波長板30を透過したレーザ光は、偏光面の角度が２θの直線偏光となる。偏光子31を透過して出力されるレーザ光の強度である現在出力Ｆoutは、1/2波長板30の回転角度θに対応して連続的に変化する。このようにして、偏光子31から出射するレーザ光の強度（現在出力）を、連続的に変化させることができる。この偏光子の例としては、グランレーザプリズム、グランテーラープリズム、グラントムソンプリズム、偏光ビームスプリッターなどがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
最高出力値の設定後には、ビームスプリッター50から分岐した光を、光検出器36で検出する。光検出器36からの検出出力に応じて、コントロール回路72から出力される信号により、モータ32をパルス駆動して、1/2波長板30を回転させる。その回転角度に応じて、共振器Ｒからのレーザ光の偏光面が回転する。共振器Ｒからのレーザ光の強度が時間とともに減少したとしても、1/2波長板30の回転角度θを、共振器Ｒからのレーザ光の強度減少に応じて小さくすることにより、現在出力を一定に保つことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
例えば、1/2波長板30の回転角度θと光検出器36で検出した現在出力Ｆoutとから、
Ｆin＝Ｆout（1/cos2(2θ)）
で、共振器出力Ｆinを求める。共振器出力Ｆinから、現在出力Ｆoutが、最高出力Ｆmax×0.8となる1/2波長板30の回転角度θ’ を、
Ｆout＝Ｆincos2(2θ’ )＝Ｆmax×0.8
を解いて求める。1/2波長板30の回転角度をθ’にすれば、現在出力を一定に保つことができる。すなわち、コントロール回路への入力値が設定値に一致するように、1/2波長板の角度をフィードバック制御すればよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
第４に、図２と図５を参照しながら、表示部について説明する。第１演算信号処理回路80は、1/2波長板30の回転角度θに対する現在出力Ｆoutをグラフ表示させるための演算手段である。信号処理回路70を介して、光検出器36の出力とモータドライブ回路74から出力されたパルスが供給される。図５に示すように、1/2波長板30の回転角度θを横軸とする現在出力が、第１表示ドライブ回路84を介して角度対パワーグラフ表示部86に表示される。1/2波長板30の回転角度θが０°のときの最高出力Ｆmaxが記憶回路92に記憶される。最高出力Ｆmaxの時の1/2波長板30の回転位置が、０°として記憶回路に記憶される。最高出力Ｆmaxの値も、記憶回路92に記憶される。図５に示すように、その値が、第４表示ドライブ回路100を介して表示部102に表示される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
第２演算信号処理回路82は、共振器出力Ｆinを表示させるための演算手段である。信号処理回路70を介した光検出器36の出力（現在出力Ｆout）と、モータドライブ回路74から出力されたパルス（モータ32の角度θ）が入力される。演算式
Ｆin＝Ｆout（1/cos2(2θ)）
に従って演算処理され、共振器出力Ｆinが得られる。図５に示すように、その演算結果が、第２表示ドライブ回路88を介して共振器出力表示部90に表示される。信号処理回路70および第５表示ドライブ回路104を経由して、光検出器36で検出した現在出力の値が供給され、図５に示すように、現在出力表示部106に現在出力Ｆoutが表示される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月6日(2006.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、ワイヤのアレイとを含むインダクタ素子であって、
前記配線基板は、間隔を隔てて配置された配線パターンのアレイ及びボンディングバンプを有しており、
前記ボンディングバンプは、前記配線パターンの長さ方向の端部に備えられ、  前記ワイヤは、前記配線基板の表面上で立ち上がる円弧状に形成され、両端が、隣接する前記配線パターンの前記ボンディングバンプにボンディングされ、前記配線パターンとともに、ヘリカルのコイルを構成している、
インダクタ素子。
【請求項２】
請求項１に記載されたインダクタ素子であって、
前記配線パターンは、前記配線基板の内部または裏面に備えられている、
インダクタ素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載されたインダクタ素子であって、前記ワイヤは、Ｃｕでなるインダクタ素子。
【請求項４】
請求項１乃至３に記載されたインダクタ素子であって、
外部端子は、前記配線基板の裏面上に構成されている、
インダクタ素子。
【請求項５】
請求項１乃至４に記載されたインダクタ素子であって、前記コイルは、電気めっき膜により、前記外部端子と接続されているインダクタ素子。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載されたインダクタ素子であって、前記コイルは、絶縁樹脂により封止されているインダクタ素子。
【請求項７】  
請求項１乃至６の何れかに記載されたインダクタ素子であって、前記配線基板は半導体基板であり、前記配線パターンは半導体プロセスによって構成されたものであるインダクタ素子。
【請求項８】  
インダクタ素子を含む電子部品であって、前記インダクタ素子は、請求項１乃至７の何れかに記載されたものでなる電子部品。
【請求項９】
請求項８に記載された電子部品であって、ＭＭＩＣを含むモジュールである電子部品。
【請求項１０】
インダクタ素子、またはインダクタ素子を含む電子部品を製造する方法であって、
配線パターンのアレイを、同一平面位置に、所定間隔で配列し、
次に、前記配線パターンの長さ方向の両端部に、ワイヤボンディングのためのボンディングバンプを形成し、
次に、前記ボンディングバンプにワイヤをボンディングし、前記配線パターンのアレイ及びワイヤのアレイにより、ヘリカルのコイルを構成する
工程を含む製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月17日(2006.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】請求項１又は２に記載の着磁方法において、前記被着磁素材は板状又は筒状の形状を有し、この厚み方向に着磁されるものであり、この厚みを定める一対の表面のうち、少なくとも一方には前記減衰体が配置され、該減衰体は板状若しくは筒状の形状を有し、前記被着磁素材表面に沿って配置されるものであり、なおかつ、前記減衰体の表面抵抗Ｒｓは、  ３．０×１０−５≦Ｒｓ≦１．０×１０−２ （Ω／ｓｑ．）（式１）を満足する、事を特徴とする着磁方法。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】【課題を解決するための手段】  請求項１に記載の着磁方法では、コイルを備えた鉄心との磁気的相互作用によって駆動力を発生させる為に用いられる永久磁石の着磁方法であって、その着磁作業に際して、被着磁素材の表面のうち、駆動力発生時に鉄心と対向する部分の少なくとも一部には、表面に接して或いは近接して導電性物質から成る減衰体が配置されている。そして、被着磁素材の着磁のために印加される磁場は、時間と共に急激に強まった後弱まるパルス状を成し、その磁力線の少なくとも一部は、減衰体とこれに接する或いは近接する被着磁素材表面を貫く形で印加される。なおかつ、被着磁素材は実質的に導電性を有さず、減衰体は弱磁性物質から成る。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】  請求項３に記載の着磁方法では、請求項１又は２に記載の着磁方法において、被着磁素材は板状又は筒状の形状を有し、この厚み方向に着磁されるものである。この厚みを定める一対の表面のうち、少なくとも一方には前記減衰体が配置され、減衰体は板状若しくは筒状の形状を有し、前記被着磁素材表面に沿って配置される。なおかつ、前記減衰体の表面抵抗Ｒｓは、３．０×１０−５≦Ｒｓ≦１．０×１０−２ （Ω／ｓｑ．）（式１）を満足する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】  この構成によれば、被着磁素材を、より適切な着磁条件によって着磁することができる。本願発明の方法は、磁場の変動に伴なう誘導電流を利用する為、着磁磁場が静磁場であっては効果は無い。一方で、着磁にパルス状の磁場を用いる限り、減衰体には誘導電流が生ずる為、本願発明の効果は得られる。しかし、放電の開始から電流値が最大に達するまでの時間Δｔが、２．０×１０−５≦Δｔ≦５．０×１０−３となる条件で着磁することで、より好ましい結果が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】  図３及び図４は、減衰体を被着磁素材にメッキして着磁した本発明方法の永久磁石と、減衰体を配置せずに着磁した従来方法の永久磁石について、着磁波形の成分を比較したもので、図４が従来方法、図3が本発明方法である。サイズ、表面抵抗、着磁条件等は上記した通りである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】  請求項１１に記載の発明によれば、永久磁石の耐食性が向上する。特に、高温高湿度条件での耐食性が要求される用途に適した、永久磁石が得られる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】請求項１２に記載の発明によれば、トルクが大きく、効率が高く、振動が少ないモータが得られる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】    【図１】被着磁素材への減衰体装着形態    【図２】着磁ヨーク形状    【図３】本発明による永久磁石の着磁波形    【図４】従来の永久磁石の着磁波形    【図５】Ｌ，ｗ，ｈと誘導電流の関係    【図６】表面抵抗と基本波成分の関係    【図７】表面抵抗と第３次高調波成分の関係    【図８】表面抵抗と第５次高調波成分の関係    【図９】減衰体の他の実施形態    【図１０】モータ【符号の説明】１，１ｂ 銅箔２ 減衰体３ 円筒形被着磁素材、又は、永久磁石４ 着磁ヨーク５ 着磁ヨーク突起部６ コイル７ 環状ヨーク１０ スピンドルモータ１１ ステータ１２ シャフト１３ 動圧軸受機構
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月28日(2006.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】窒化装置および半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波によりプラズマを生成し、前記プラズマを線状にする線状のプラズマ発生手段を有し、前記線状のプラズマ発生手段を用いて被処理基板を窒化処理する窒化装置であり、
チャンバーと、被処理基板を保持する手段と、前記線状のプラズマ発生手段と、分子中に窒素を含んだガスを導入する手段と、を有し、
前記プラズマの生成は、大気圧または大気圧近傍の圧力で分子中に窒素を含んだガスに前記マイクロ波を照射するこにより生成され、
前記被処理基板の窒化処理は、前記線状のプラズマ発生手段と、前記被処理基板を保持する手段のどちらか一方を移動することにより行われることを特徴とする窒化装置。
【請求項２】
マイクロ波によりプラズマを生成し、前記プラズマを線状にする線状のプラズマ発生手段を有し、前記線状のプラズマ発生手段を用いて被処理基板を窒化処理する窒化装置であり、
チャンバーと、被処理基板を保持する手段と、前記線状のプラズマ発生手段と、分子中に窒素を含んだガスを導入する手段と、を有し、
前記プラズマの生成は、大気圧または大気圧近傍の圧力で分子中に窒素を含んだガスに前記マイクロ波を照射するこにより生成され、
前記被処理基板の窒化処理は、前記線状のプラズマ発生手段と、前記被処理基板を保持する手段の双方を移動することにより行われることを特徴とする窒化装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記線状のプラズマ発生手段は線状の開口を有するノズル部を有し、前記線状の開口を有するノズル部から前記被処理基板に対して前記プラズマが照射されることを特徴とする窒化装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記線状のプラズマ発生手段は、複数のプラズマ発生手段が線状に配列されていることを特徴とする窒化装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記線状のプラズマ発生手段は、マイクロ波発振器、導波管および引き出し電極を有することを特徴とする窒化装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記被処理基板を保持する手段は、マッチングボックスを介して高周波電源と接続されることを特徴とする窒化装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記線状のプラズマ発生手段は、可動支持機構により支持されることを特徴とする窒化装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記マイクロ波は、周波数が５００ｋＨｚ〜５ＧＨｚの範囲であることを特徴とする窒化装置。
【請求項９】
絶縁表面を有する基板上に結晶構造を有する半導体層を形成し、
前記半導体層を覆う絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記半導体層の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を添加してソース領域またはドレイン領域を形成する半導体装置の作製方法であり、
前記絶縁膜を形成した後、大気圧または大気圧近傍の圧力において、分子中に窒素を含んだガスにマイクロ波を照射してプラズマを発生させ、前記プラズマを線状にする線状のプラズマ発生手段を用いて、前記基板上に線状のプラズマを照射し、
前記線状のプラズマ発生手段と、基板を保持する手段のどちらか一方を移動させることにより前記絶縁膜表面を窒化処理することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
絶縁表面を有する基板上に結晶構造を有する半導体層を形成し、
前記半導体層を覆う絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記半導体層の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を添加してソース領域またはドレイン領域を形成する半導体装置の作製方法であり、
前記絶縁膜を形成した後、大気圧または大気圧近傍の圧力において、分子中に窒素を含んだガスにマイクロ波を照射してプラズマを発生させ、前記プラズマを線状にする線状のプラズマ発生手段を用いて、前記基板上に線状のプラズマを照射し、
前記線状のプラズマ発生手段と、基板を保持する手段の双方を移動させることにより前記絶縁膜表面を窒化処理することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項９または請求項１０において、
前記線状のプラズマ発生手段として線状の開口を有するノズル部を用い、前記線状の開口を有するノズル部から前記基板に対して前記プラズマが照射されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項９または請求項１０において、
前記線状のプラズマ発生手段として、複数のプラズマ発生手段が線状に配列されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項９乃至請求項１２のいずれか一項において、
マイクロ波発振器から導波管を介して導入された前記マイクロ波をガス導入管から導入された分子中に窒素を含んだガスに照射することにより、前記プラズマを発生させ、引き出し電極により、前記基板上に前記プラズマを照射させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項９乃至請求項１３のいずれか一項において、
マッチングボックスを介して前記基板を保持する手段と接続された高周波電源を用いて、バイアス電圧を発生させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項９乃至請求項１４のいずれか一項において、
前記基板として、ガラス基板を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項９乃至１５のいずれか一において、
前記マイクロ波として、周波数が５００ｋＨｚ〜５ＧＨｚの範囲を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。