【事件の表示】
　平成　４年特許願第２５３５４４号「レチクルマスク形状欠陥検査装置およびレチクルマスク形状欠陥検査方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　６年　３月２５日出願公開、特開平　６−　８３０３７］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成４年８月３１日出願の特願平４−２５３５４４号であって、その請求項１に係る発明は、平成１３年３月２８日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という）
「レチクルマスクに形成された被検査パターンに対応する第１の信号と、レチクルマスクパターンを形成する際の設計データを基に得られる第２の信号とを比較してレチクルマスクの形状或いは欠陥を検査する装置であって、前記被検査パターンに対応する第１の信号をスタイラスプロファイロメーターを用いて求めたことを特徴とするレチクルマスク形状欠陥検査装置において、レチクルマスクが載置された試料台をラスター移動或いはステップアンドリピート移動させながら、スタイラスプロファイロメーターをラスター走査させ、かつ前記被検査パターンの測定断面プロファイル曲線の中のエッジ信号を用いてレチクルマスクの形状或いは欠陥を検査することを特徴とするレチクルマスク形状欠陥検査装置。」
　
２．引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前の昭和５９年５月１９日に頒布された特開昭５９−８７３４５号公報（以下、「引用例１」という）には、次の事項が記載されている。
（１）この装置では、マスターマスクやレチクル等の試料をテーブル上に載置し、試料を位置合わせした状態で、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較照合して欠陥の有無を判定している。なお、測定パターンデータとは、試料上の被検査パターンにスポット状の光を照射すると共に試料を載置したテーブルをＸ−Ｙ方向に移動し、このときの試料からの反射光若しくは透過光を検出して得られるデータである。また、基準パターンデータとは、上記被検査パターンを形成する際に用いられる設計パターンデータを元に測定パターンデータの位置に対応して作成されるデータである。（公報第２頁左上欄）
（２）本発明は、・・・パターン検査装置において、上記測定パターンデータと基準パターンデータとの各立上りの差及び各立下りの差を検出し、これらの差を基にずれ補正量を決定し、このずれ補正量に従って上記測定パターンデータ或いは基準パターンデータの位置を補正するようにしたものである。（公報第２頁左下欄から右下欄）　　
（３）マスクパターン２ａの測定は、テーブル１をＸ方向に連続移動すると共に、Ｘ方向の一定距離移動毎にテーブル１をＹ方向にステップ移動すると云う方法で行われる。（公報第３頁左上欄）
　
　したがって、引用例１には、マスターマスクやレチクル等に形成された被検査パターンに対応する測定パターンデータと、被検査パターンを形成する際に用いられる設計パターンデータを基に得られる基準パターンデータとを比較照合して欠陥の有無を判定する装置であって、被検査パターンに対応する測定パターンデータを、スポット状の光を照射し、このときの試料からの反射光若しくは透過光を検出して得ることを特徴とするパターン検査装置において、試料を載置したテーブルをＸ−Ｙ方向に、Ｘ方向の一定距離移動毎にテーブル１をＹ方向にステップ移動させながらスポット状の光をラスター走査させ、上記測定パターンデータと基準パターンデータとの各立上りの差及び各立下りの差を検出し、これらの差を基にずれ補正量を決定し、このずれ補正量に従って上記測定パターンデータ或いは基準パターンデータの位置を補正するようにしたパターン検査装置が記載されている。
　
　また、同じく昭和６２年６月１２日に頒布された特開昭６２−１３０３０２号公報（以下、「引用例２」という）には、次の事項が記載されている。
（１）本発明の原子間力顕微鏡はその通常の動作において表面の大部分、例えば半導体ウェハもしくは回路板の表面の大部分を写像するために使用される。（公報第４頁左上欄）
（２）原子力顕微鏡の主な構成は例えばアルミニウム・ブロックより成る剛体ベース１より成る。ベース１のアーム２はｘｙｚ駆動装置３に取付けられていて、これによってサンプル４は定置尖点５に関してｘ、ｙ及びｚ方向に変位出来る様になっている。尖点５はベース１から突出し、片持ちばり７を支持するアーム６上に支持されている。好ましい実施例で、片持ちばり７は板ばねの形をなし、尖点５は板ばね７の上端に固定されている。（公報第３頁右上欄）
（３）サンプル４がｘｙｚ駆動装置３上に支持され、ｚ部がサンプル４と尖点５（「点５」は誤記と認める。）間の距離を微調節するのに使用される。ｘｙｚ駆動装置３のｘｙ部は尖点５（「点５」は誤記と認める。）に関してｘｙ平面でサンプル４を移動させるのに使用される。移動は尖点５がサンプル４の表面をラスタ走査する様に制御される。（公報第５頁右上欄）
　
３．対比                     
　本願発明と、引用例１に記載された発明とを対比すると、引用例１の「マスターマスクやレチクル等」、「測定パターンデータ」、「設計パターンデータ」、「基準パターンデータ」、「比較照合して」、「欠陥の有無を判定する装置」、「パターン検査装置」、「テーブル」及び「Ｘ−Ｙ方向に、Ｘ方向の一定距離移動毎にテーブル１をＹ方向にステップ移動させながら」が、本願発明の「レチクルマスク」、「第１の信号」、「設計データ」、「第２の信号」、「比較して」、「形状或いは欠陥を検査する装置」、「レチクルマスク形状欠陥検査装置」、「試料台」及び「ラスター移動或いはステップアンドリピート移動させながら」に相当する。また、引用例１で、測定パターンデータと基準パターンデータとの各立上りの差及び各立下りの差を検出しているが、「各立上り」、「各立下り」は本願発明の「測定断面プロファイル曲線の中のエッジ信号」に相当し、引用例１のものは測定パターンデータと基準パターンデータとのずれ補正量を決定し、位置を補正するためのものであるが、引用例１の第３図、第４図も参照すれば、欠陥の有無を判定するのに用いていることは明らかである。
　したがって、両者は「レチクルマスクに形成された被検査パターンに対応する第１の信号と、レチクルマスクパターンを形成する際の設計データを基に得られる第２の信号とを比較してレチクルマスクの形状或いは欠陥を検査する装置であって、前記被検査パターンに対応する第１の信号を求めたことを特徴とするレチクルマスク形状欠陥検査装置において、レチクルマスクが載置された試料台をラスター移動或いはステップアンドリピート移動させながら、第１の信号を求める部材をラスター走査させ、かつ前記被検査パターンの測定断面プロファイル曲線の中のエッジ信号を用いてレチクルマスクの形状或いは欠陥を検査することを特徴とするレチクルマスク形状欠陥検査装置。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
相違点；本願発明は、第１の信号をスタイラスプロファイロメーターを用いて求めたのに対し、引用例１では、スポット状の光を照射して求めている点。
　
４．当審の判断
　上記相違点について検討する。
　本願明細書の段落【００１１】には、スタイラスプロファイロメーターが、具体的には、原子間力顕微鏡をスタイラスプロファイロメーターを支持するハウジング上に取り付けたものであると記載している。
　ここで、原子間力顕微鏡が引用例２に記載され、引用例１と同様に表面像を検出するものであるので、引用例１のスポット状の光を照射するのに変えて、原子間力顕微鏡を用いて第１の信号を求めることは、当業者にとって容易なことである。その際、ハウジングに取り付けてスタイラスプロファイロメーターとすることも、技術の具体的適用に伴う設計的事項である。
　
　また、本願発明の効果も各引用例の記載から予測される程度のものにすぎない。
  
５．むすび
　したがって、本願発明は、上記引用例１、２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。