Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
耕耘用のロータリ（６）と、該ロータリ（６）への駆動力を出力するギヤケース（１２）と、該ギヤケース（１２）から左右側方に向かって突出するパイプフレーム（１３），（１４）とを備え、一方のパイプフレーム（１３）の外端部分に、ロータリ軸（１９）の一端側を回転自在に支持するとともにロータリ軸（１９）に駆動力を伝動する伝動ケース（１６）を設け、他方のパイプフレーム（１４）の外端部分に、ロータリ軸（１９）の他端側を回転自在に支持する支持フレーム（１７）を設けたロータリ耕耘作業機において、上記パイプフレーム（１３），（１４）を、一端側がラッパ状に拡径し、ギヤケース（１２）との取付部（４７）をなすブラケット部（４８）と、一端側においてブラケット部（４８）の端部に固定され、他端側に伝動ケース（１６）又は支持フレーム（１７）が取り付けられる延長部（４９）とから構成し、上記パイプフレーム（１３），（１４）に走行車両（２）側との連結部（２６）を設けたロータリ耕耘装置のフレーム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記課題を解決するための本発明のロータリ耕耘装置のフレームは、耕耘用のロータリ６と、該ロータリ６への駆動力を出力するギヤケース１２と、該ギヤケース１２から左右側方に向かって突出するパイプフレーム１３，１４とを備え、一方のパイプフレーム１３の外端部分に、ロータリ軸１９の一端側を回転自在に支持するとともにロータリ軸１９に駆動力を伝動する伝動ケース１６を設け、他方のパイプフレーム１４の外端部分に、ロータリ軸１９の他端側を回転自在に支持する支持フレーム１７を設けたロータリ耕耘作業機において、上記パイプフレーム１３，１４を、一端側がラッパ状に拡径し、ギヤケース１２との取付部４７をなすブラケット部４８と、一端側においてブラケット部４８の端部に固定され、他端側に伝動ケース１６又は支持フレーム１７が取り付けられる延長部４９とから構成し、上記パイプフレーム１３，１４に走行車両２側との連結部２６を設けたことを第１の特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
灰や吸い殻を入れる容器本体に蓋部を開閉自在に設けて成る灰皿に於いて、前記容器本体と前記蓋部との間に、中程に灰や吸い殻の投入口を有する中蓋を開閉自在に設けて成ることを特徴とする、携帯用灰皿。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
蓋部が中蓋の前記投入口を閉塞し得るように設けられている、請求項１に記載の携帯用灰皿。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】  この発明は、煙草の灰や吸い殻の処理に特徴を有して、煙草の火先をこそぎ落としたりもみ消したりするのに都合が良く、風でも灰が舞いづらく、また溜まった灰や吸い殻を綺麗に処分することが出来るような携帯用灰皿に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】  当発明者は、鋭意研究を行なった結果、新たに火消し用のパーツを取り付けると煙草の火先をこそぎ落としたりもみ消したりするのに都合が良いと言う知見を得た。またそれによって灰が舞ったり、吸い殻の廃棄の際に口に灰を付けてしまうようなことが起こりにくくなると言う知見を得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】  次に蓋部が中蓋の前記投入口を閉塞し得るように設けられているものとすることが出来る。蓋部と中蓋とが閉じられている状態では蓋部が中蓋の前記投入口を閉塞することで、灰が中蓋の外へ漏れ出さなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
遊技者にとっての利益に関係する遊技利益部材を有する遊技機において、
前記遊技利益部材の特定箇所が裏面側に突出した状態あるいは前記遊技利益部材の前記特定箇所が裏面側から見える状態で、前記遊技利益部材が所定位置に取り付けられる取付部材と、
前記取付部材の裏面側であって、前記遊技利益部材の存する箇所に配設される、遊技に関する他の部材と、
前記遊技利益部材の前記特定箇所の周縁部を覆うあるいは略覆うように、前記他の部材から前記遊技利益部材に向けて突出した突出囲い部と
を備え、
前記突出囲い部は、前記遊技利益部材の前記特定箇所と前記他の部材との間に形成される空間の少なくとも一部を囲うような大きさとした
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】  
遊技者にとっての利益に関係する遊技利益部材を有する遊技機において、
前記遊技利益部材の特定箇所が裏面側に突出した状態あるいは前記遊技利益部材の前記特定箇所が裏面側から見える状態で、前記遊技利益部材が所定位置に取り付けられる取付部材と、
前記取付部材の裏面側であって、前記遊技利益部材の存する箇所に配設される、遊技に関する他の部材と、
前記遊技利益部材の前記特定箇所の周縁部を覆うあるいは略覆うように、前記遊技利益部材から前記他の部材に向けて突出した突出囲い部と
を備え、
前記突出囲い部は、前記遊技利益部材の前記特定箇所と前記他の部材との間に形成される空間の少なくとも一部を囲うような大きさとした
ことを特徴とする遊技機。
【請求項３】  
入賞を検出する検出センサと、入賞口を開閉する駆動装置とを備え、遊技球が入賞可能な入賞装置を有する遊技機において、
前記入賞装置の特定箇所が裏面側に突出した状態あるいは前記入賞装置の前記特定箇所が裏面側から見える状態で、前記入賞装置が所定位置に取り付けられる遊技盤と、
前記遊技盤の裏面側であって、前記入賞装置が存する箇所に配設される、遊技に関する制御を行うための制御手段を有するユニットと、
を備え、
前記入賞装置の前記特定箇所には、前記制御手段と接続するためのコネクタを有する接続手段を備えるとともに、
前記入賞装置の前記特定箇所と前記ユニットとの間に形成される空間を覆い、かつ、前記特定箇所の周縁部を覆うあるいは略覆う突出囲い部を備えた
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月1日(2006.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項６において、
前記加圧熱水による前記植物の可溶性物質の流去する時間は、前記常温〜１４０℃未満では１０〜３０分間であり、前記１４０〜２３０℃では０．５〜３０分である
ことを特徴とするラジカル消去活性を有する糖質系食品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明７のラジカル消去活性を有する糖質系食品の製造方法は、本発明６において、前記加圧熱水による前記植物の可溶性物質の流去する時間は、前記常温〜１４０℃未満では１０〜３０分間であり、前記１４０〜２３０℃では０．５〜３０分であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
水熱分解時の温度条件は、まず、１３０℃まで昇温後約１０分間の通水を行い原料中の可溶性物質を流去し（第１画分）、その後２００℃に昇温する２段階昇温とした。この時、昇温に要する所要時間は約１０分である。２００℃に到達後流出する分解液を約２５分間（７．５Ｌ）回収し、第２画分とした。ヘミセルロースは１３０℃以下では加水分解しないこと、また、セルロースは２４０℃以上でなければ加水分解しないことをこれまでの実験で確認済みであり、目的とするヘミセルロース由来の物質のほとんどはこの第２画分として回収される。なお、装置内圧力は、１３０℃のとき２ＭＰａ、２００℃では３ＭＰａとなるように保圧弁２３でコントロールした。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月15日(2006.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源からＸ線を照射し、Ｘ線源に対向して配置された検出器によって被検者を撮影するＸ線撮影手段と、前記Ｘ線源と前記検出器を被検者の周囲に回転させるスキャナ回転手段と、被検者を移動可能な被検者移動手段と、Ｘ線の照射範囲を可変的に制限するコリメータ手段とを有し、前記Ｘ線撮影手段で撮影した投影像から再構成演算手段によってＸ線３次元再構成画像の生成を行う画像処理装置を有するＸ線断層診断装置において、前記回転手段に載置し前記被検者を撮影する可視光撮影手段をさらに有し、前記画像処理装置では上記可視光撮影手段の撮影結果から可視光３次元画像を再構成することを特徴とするＸ線断層撮影装置。
【請求項２】
前記画像処理装置は、前記可視光撮影手段と前記スキャナ回転手段を使用し、前記被検者が撮影範囲に存在しない時に撮影したマスク画像と、前記被検者が撮影範囲に存在する時に撮影したライブ画像とから、前記被検者の輪郭を抽出した回転撮影画像を生成し、さらにこの輪郭抽出回転撮影画像を基に前記可視光３次元再構成画像を生成することを特徴とする請求項１に記載のＸ線断層撮影装置。
【請求項３】
前記画像処理装置は、前記可視光３次元再構成画像を基に作成した可視光３次元投影画像に、Ｘ線３次元再構成画像の領域又は骨格を含む解剖学的モデルの一方を重ねて表示することを特徴とする請求項２に記載のＸ線断層撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月26日(2006.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を有する遊技盤と、前記遊技領域を覆うガラス扉及び前記ガラス扉が軸着されるガラス扉受け部を有し、前記遊技盤が取り付けられる遊技盤取付部が前記ガラス扉受け部の前面側に形成されたガラス枠と、前記ガラス枠が前面側に取り付けられる本体ユニットとを備えた遊技機において、
弾性を有する板を屈曲させた位置決め案内保持部材を前記遊技盤取付部内に設け、
前記遊技盤を前記遊技盤取付部内に取り付ける際に、前記位置決め案内保持部材と前記遊技盤取付部内に設けられた遊技盤受け部との間に前記遊技盤の端部が差し込まれ、
前記遊技盤を前記遊技盤取付部に取り付けると、前記位置決め案内保持部材の一端が前記遊技盤を背面側から押圧して前記遊技盤が前記遊技盤受け部に押しつけられることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記遊技領域を画定し、前記遊技領域に打ち出される遊技媒体を遊技領域内にガイドする遊技領域画定部材と、遊技に基づいて作動する作動装置を作動制御する制御装置を支持する支持部材を有する制御装置ユニットとの間で前記遊技盤が狭持されていることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記本体ユニット及び前記ガラス枠の一方に係合突起を形成するとともに、他方に前記係合突起が係合する係合突起受け部を形成し、前記本体ユニットに前記ガラス枠を取り付けた状態で前記係合突起が前記係合突起受け部に係合することを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記制御装置に用いられる情報が格納された情報記憶媒体を、少なくとも前記ガラス枠を含む前記本体ユニットから交換な部品に設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
遊技機の一つであるパチンコ機はパチンコ店などの遊技場に設置されている。一般にパチンコ機を含む遊技機は、遊技に基づいて作動する装置を遊技状態に応じて作動制御する制御装置などが設けられた本体ユニット、本体ユニットの前面側に取り付けられ、遊技者にゲーム上の特典を付与するための入賞口が前面側の遊技領域に少なくとも設けられた遊技盤、本体ユニットの前面側に開閉自在に取り付けられ、本体ユニットの前面側の少なくとも遊技領域を覆うガラス枠が設けられている。遊技盤に設けられた遊技領域はガラス枠によって可視可能なように覆われており、外部から遊技盤に触れることができないようになっている。遊技性の異なる遊技機の機種の入れ替えが少なくとも行われる際には、遊技場で新たな機種の遊技機と設置中の古い機種の遊技機とが前記本体ユニットごと全て交換される。
【特許文献１】特開平８−１７３６１０号公報
【特許文献２】特開平６−４７１５７号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の遊技機は、遊技領域を有する遊技盤と、前記遊技領域を覆うガラス扉及び前記ガラス扉が軸着されるガラス扉受け部を有し、前記遊技盤が取り付けられる遊技盤取付部が前記ガラス扉受け部の前面側に形成されたガラス枠と、前記ガラス枠が前面側に取り付けられる本体ユニットとを備えた遊技機において、弾性を有する板を屈曲させた位置決め案内保持部材を前記遊技盤取付部内に設け、前記遊技盤を前記遊技盤取付部内に取り付ける際に、前記位置決め案内保持部材と前記遊技盤取付部内に設けられた遊技盤受け部との間に前記遊技盤の端部が差し込まれ、前記遊技盤を前記遊技盤取付部に取り付けると、前記位置決め案内保持部材の一端が前記遊技盤を背面側から押圧して前記遊技盤が前記遊技盤受け部に押しつけられるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記遊技領域を画定し、前記遊技領域に打ち出される遊技媒体を遊技領域内にガイドする遊技領域画定部材と、遊技に基づいて作動する作動装置を作動制御する制御装置を支持する支持部材を有する制御装置ユニットとの間で前記遊技盤が狭持されていることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記本体ユニット及び前記ガラス枠の一方に係合突起を形成するとともに、他方に前記係合突起が係合する係合突起受け部を形成し、前記本体ユニットに前記ガラス枠を取り付けた状態で前記係合突起が前記係合突起受け部に係合することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
幼児のかかとに背面から当てる立壁と、
前記立壁の下部から直交する方向に延び、前記幼児の足の裏に当てる足裏板とを含み、
前記足裏板には、前記幼児の足の大きさを段階的に示す表示を含む、幼児の足寸法測定装置。
【請求項２】
前記幼児の足の大きさを段階的に示す表示は、複数の幼児の足の形状である、請求項１に記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項３】
前記複数の幼児の足の形状は相互に異なる色で表示される、請求項２に記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項４】
前記立壁には前記幼児の足の高さ方向の寸法を段階的に示す表示が設けられる、請求項１から３のいずれかに記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項５】
前記高さ方向の寸法を段階的に示す表示は、前記立壁において前記幼児の足の高さ方向に間隔をあけて設けられた複数の線を含む、請求項４に記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項６】
前記複数の線で囲まれた領域は相互に色が異なる、請求項５に記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項７】
前記立壁に保持され、前記足裏板を前記幼児のかかとに当てたとき、前記幼児の足の両側面に当接するよう設けられた一対の側面当接部材を含む、請求項１から６のいずれかに記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項８】
前記側面当接部材は、幼児の足の側面に沿う所定の形状を有し、前記幼児の足の長さ方向に個別に移動可能である、請求項７に記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項９】
前記足裏板に設けられ、前記立壁を前記幼児のかかとに当てたとき、前記幼児の足の甲部分の寸法を段階的に表示するための帯を有する、請求項１から８のいずれかに記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項１０】
前記幼児の足を載置する透明の足載置台を含み、
前記足寸法測定装置の前記立壁は、前記足載置台の上部に位置し、前記足裏板は前記足載置台の下部に位置するよう設けられる、請求項１から９のいずれかに記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項１１】
前記立壁は靴のかかと部の形状であり、
前記足裏板は前記靴の足を載置する部分の形状である、請求項１から３のいずれかに記載の幼児の足寸法測定装置。
【請求項１２】
足寸法測定装置は、かかと部と、足を載置する部分とを有し、足の甲を覆う部分が設けられない、通常の靴の形状を有している、請求項１から３のいずれかに記載の幼児の足寸法測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月21日(2006.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ個（Ｎは少なくとも１を超える整数）の打撃面と、前記打撃面が打撃されたことを検出する打撃検出手段と、を含むコントローラと、
前記Ｎ個の打撃面に対応し各々が対応する前記打撃面が打撃されたことが前記打撃検出手段により検出されたことに応答するＮ個の応答オブジェクト画像、及び、プレイヤに打撃のタイミングを指示するための第１指示オブジェクト画像及び第２指示オブジェクト画像、をスクリーンに表示する表示制御手段と、
音楽を自動演奏する演奏制御手段と、を備え、
前記表示制御手段は、前記第１指示オブジェクト画像を表示するときは、前記第１指示オブジェクト画像を前記応答オブジェクト画像に延びる第１移動経路に沿って移動させ、前記第２指示オブジェクト画像を表示するときは、前記第１移動経路を挟むように前記応答オブジェクト画像に延びる第２移動経路及び第３移動経路に沿って、かつ、前記第２移動経路を移動する前記第２指示オブジェクト画像と前記第３移動経路を移動する前記第２指示オブジェクト画像とが異なるタイミングで前記応答オブジェクト画像に到達するように、複数の前記第２指示オブジェクト画像を移動させる、音楽ゲーム装置。
【請求項２】
前記表示制御手段は、プレイヤに打撃のタイミングを指示するための第３指示オブジェクト画像及び第４指示オブジェクト画像を前記スクリーンに表示し、
前記第３指示オブジェクト画像は、前記第１指示オブジェクト画像が指示するタイミングでの打撃より強く打撃することをプレイヤに指示するものであり、
前記第４指示オブジェクト画像は、連打することをプレイヤに指示するものであり、
前記表示制御手段は、前記第３指示オブジェクト画像を表示するときは、前記第１移動経路に沿って移動させ、前記第４指示オブジェクト画像を表示するときは、前記第１移動経路に沿って移動させる、請求項１記載の音楽ゲーム装置。
【請求項３】
前記打撃検出手段による打撃の検出に応答した発音のための楽音を指示する楽音指示情報に従って、打撃の検出に応答して、楽音を発生する打撃音制御手段をさらに備え、
前記楽音指示情報は、音色若しくは音量のいずれか、又は、双方、を指示する、請求項１又は２記載の音楽ゲーム装置。
【請求項４】
Ｎ＝２である、請求項１から３記載の音楽ゲーム装置。
【請求項５】
プレイヤからの入力を受け付ける入力手段を含むコントローラと、
前記入力手段がプレイヤからの入力を受け付けたことに応答する応答オブジェクト画像、及び、プレイヤに入力のタイミングを指示するための第１指示オブジェクト画像及び第２指示オブジェクト画像、をスクリーンに表示する表示制御手段と、
音楽を自動演奏する演奏制御手段と、を備え、
前記表示制御手段は、前記第１指示オブジェクト画像を表示するときは、前記第１指示オブジェクト画像を前記応答オブジェクト画像に延びる第１移動経路に沿って移動させ、前記第２指示オブジェクト画像を表示するときは、前記第１移動経路を挟むように前記応答オブジェクト画像に延びる第２移動経路及び第３移動経路に沿って、かつ、前記第２移動経路を移動する前記第２指示オブジェクト画像と前記第３移動経路を移動する前記第２指示オブジェクト画像とが異なるタイミングで前記応答オブジェクト画像に到達するように、複数の前記第２指示オブジェクト画像を移動させる、音楽ゲーム装置。
【請求項６】
前記入力手段はＮ個（Ｎは少なくとも１を超える整数）設けられ、
前記応答オブジェクト画像は、前記Ｎ個の入力手段に対応してＮ個設けられる、請求項５記載の音楽ゲーム装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体収容部に導入された加圧液体の吐出および吐出停止を行う液体定量吐出装置用のノズルであって、
上記液体収容部に通じるノズル本体の先端部に液体吐出口を設け、そのノズル本体内に移動可能に設けた弁体と、液体吐出口近傍に設けた弁座とからなるバルブ機構を備え、
前記液体吐出口の近傍は、
前記液体収容部に連通し、かつ同一径で形成された第１の内周面と、
前記第１の内周面に連接し、かつその内周面から径が漸減するように形成された第２の内周面と、
前記第２の内周面に連接し、かつその内周面から同一径で形成されると共に、その先端に前記液体吐出口を有する第３の内周面と、
から構成されることを特徴とするノズル。
【請求項２】
前記弁体は、同一径で形成された第１の領域と、前記第１の領域と連接して形成され、かつ先端に向かって漸減するような径を有する第２の領域とを有することを特徴とする請求項１に記載のノズル。
【請求項３】
前記弁体は、前記第２の内周面およびまたは前記第３の内周面に着座するように形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のノズル。
【請求項４】
前記弁体はその第２の領域の外周面が、前記第２の内周面およびまたは前記第３の内周面に対して、ほぼ円形の接触線上で密着するように形成されていることを特徴とする請求項２に記載のノズル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、ニードルバルブの優れた特性を最大限に生かすためには、ノズルそれ自身にニードルバルブとしての機能を付与させれば、従来の液体定量吐出装置のように、吐出端口にノズル（極細管）を装着する必要がなくなり、液体の液切れ性や洩出等に伴う問題を解決するとの知見を得、以下の内容を要旨構成とする本発明に想到した。
すなわち、本発明は、液体収容部に導入された加圧液体の吐出および吐出停止を行う液体定量吐出装置用のノズルであって、
上記液体収容部に通じるノズル本体の先端部に液体吐出口を設け、そのノズル本体内に移動可能に設けた弁体と、液体吐出口近傍に設けた弁座とからなるバルブ機構を備え、
前記液体吐出口の近傍は、
前記液体収容部に連通し、かつ同一径で形成された第１の内周面と、
前記第１の内周面に連接し、かつその内周面から径が漸減するように形成された第２の内周面と、
前記第２の内周面に連接し、かつその内周面から同一径で形成されると共に、その先端に前記液体吐出口を有する第３の内周面と、
から構成されることを特徴とするノズルである。
このような構成によれば、従来のような液ダレや糸引きといった問題を完全になくすることができ、すぐれた液切れ性をもたらすとともに、その後の液体の不測の洩出を完全に防止することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記ノズルにおいて、前記弁体は、同一径で形成された第１の領域と、前記第１の領域と連接して形成され、かつ先端に向かって漸減するような径を有する第２の領域とを有することが好ましい。
また、前記弁体は、前記第２の内周面およびまたは前記第３の内周面に着座するように形成されていることが好ましい。
さらに、上記弁体はその第２の領域の外周面が、前記第２の内周面およびまたは前記第３の内周面に対して、ほぼ円形の接触線上で密着するように形成されていることが好ましい。
このような構成によれば、バルブの開閉位置と、液体の吐出端口の位置とを、実質的に同じ位置に形成することができるとともに、吐出端口を直接的にかつ物理的に開閉することができるので、液体を所望の形状に、高速かつ高精度で定量吐出することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記弁体１４は、その上部においては外径ｄがほぼ等しい細長い円柱形をなすが、その先端部に近づくにつれて、外径ｄが単調に減少するようなニードル状をなす。即ち、前記弁体１４は、同一径ｄで形成された第１の領域（円柱形領域）と、その第１の領域と連接して形成され、かつ先端に向かって径が漸減するような第２の領域（ニードル状領域）とを有している。また、ノズル１０の内壁面は、その中央部付近までは管状に形成されているが、そこから管径が単調に減少するすり鉢形に形成され、吐出孔近傍の内壁面は弁座１６として機能するように形成されている。即ち、液体吐出孔近傍は、液体収容部に連通し、かつ同一径で形成された管状の第１の内周面と、その第１の内周面に連接し、かつその内周面から径が漸減するように形成されたすり鉢状の第２の内周面と、その第２の内周面に連接し、かつその内周面から同一径で形成されると共に、その先端に液体吐出口を有する第３の内周面とから構成される。
さらに具体的には、このような弁体１４およびノズル１０の内壁面が弁機能を有するためには、吐出孔１２近傍のノズル１０の軸方向に平行な断面において、弁体１４の先端部とノズル１０の内壁面とが、それぞれ軸方向に対してなす角度が異なって形成される必要があり、この実施形態では、弁体１４の先端部が軸方向に対してなす角度が、ノズル１０の内壁面が軸方向に対してなす角度θよりも小さく形成され、バルブ閉の状態においては、弁体１４の第２の領域の外周面とノズル内壁面の前記第２の内周面または第３の内周面とが、ノズル軸方向と垂直な平面内で、ほぼ円形の接触線または接触面上で密着するようになっている。また、このような弁体１４の外周面およびノズル１０の内壁面の軸方向に対する角度を変化させることによって、吐出孔１２からバルブ開閉位置としての接触面までの距離を調節することが可能であり、実質的には、同じ位置に形成することができる。
なお、ノズルを構成するノズル本体１０およびニードル状の弁体１４の材料は、弁機能を果たすような材料であれば良いが、シール性、加工精度、耐久性等の観点から適切なものが選ばれることが望ましく、たとえば、樹脂や黄銅のような軟質材料でノズル１０または弁体１４のいずれか一方を形成し、硬質の金属材料で他方を形成することによって、シール性を高めることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このように、本発明のノズルを構成するノズル本体およびニードル状の弁体は、非常に小さな寸法と体積を備えており、液体圧力の大小にかかわらず、常に円滑に、かつ迅速に後退（上昇）および進出（下降）して吐出孔１２の開閉を行なうので、バルブ開閉の確実性と併せて、すぐれた応答性を実現する。
また、図示のノズルにおいて、吐出孔１２の閉止時の液切れ性をより高めるためには、吐出孔１２の、ニードル弁体１４の着座位置より下方への突出長さを極力短くする、即ち、ニードル弁体１４が弁座１６に当接しているとき、ニードル弁体１４の先端は、着座位置よりも吐出孔１２寄りに位置させることによって、吐出孔１２の閉止後においてなお、その吐出孔内に残留することが予想されるわずかの液体を実質的に零とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月21日(2006.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記の如き第１斜面８，下側斜面９は、高い平坦性を有し且つ適度な剛性を持った研削材を用いることで形成することが可能である。このような研削材としては、砥石や、裏面を高い剛性を持ったフレームによって支持されたベルト状の砥石等があり、これらを選択的に利用することが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月28日(2006.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気共鳴イメージング装置用コイル及び磁気共鳴イメージング装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
給電点を備えた２つの要素コイルを直交して配置することによって該２つの要素コイル間に結合容量が生じた磁気共鳴イメージング装置用ＱＤコイルにおいて、
前記各給電点に接続された給電ライン上にバランをそれぞれ備え、前記給電点と前記バランとの間で前記２つの給電ラインのグランド線間が、並列関係となる前記結合容量との間で所望の周波数で並列共振するように調整されたインダクタで接続されたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置用ＱＤコイル。
【請求項２】  
互いに同心円状の複数のリングと、前記各リングを放射状に結ぶ複数のエレメントと、前記各リングにおいて前記エレメントとの接続点間に共振用コンデンサを配置した磁気共鳴イメージング装置用マルチエレメントコイルにおいて、
互いに直交する２つの給電点を備え、前記各給電点に接続された給電ライン上にバランをそれぞれ備え、前記給電点と前記バランとの間で前記２つの給電ラインのグランド線間が、並列関係となる前記共振用コンデンサとの間で所望の周波数で並列共振するように調整されたインダクタで接続されたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置用マルチエレメントコイル。
【請求項３】
請求項１の磁気共鳴イメージング装置用ＱＤコイル又は請求項２の磁気共鳴イメージング装置用マルチエレメントコイルを備えた磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月28日(2006.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体に静磁場および傾斜磁場を与える磁場発生手段と、前記被検体の生体組織を構成する原子核に核磁気共鳴を起こさせるための高周波磁場を照射する送信手段と、この核磁気共鳴により放出される核磁気共鳴信号を受信する受信手段と、前記核磁気共鳴信号を計測するパルスシーケンスを制御するパルスシーケンス制御手段と、前記受信系で受信された核磁気共鳴信号を用いて画像再構成演算を行う信号処理手段と、装置全体の動作を制御する制御手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
擬似核磁気共鳴信号を発生させる手段と、
前記核磁気共鳴信号と前記擬似核磁気共鳴信号の入力を切り換える信号切換手段と、
装置の動作をリモート制御するための制御信号を受け付けるリモート制御受付手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記制御信号に基づいて、前記核磁気共鳴信号によるイメージングモードと前記擬似核磁気共鳴信号による診断モードとを切り換えることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記擬似核磁気共鳴信号が所望の周波数を持つ単色のサイン波、コサイン波、あるいは異なる周波数を持つ複数のサイン波とコサイン波を異なる重み付けで重ね合わせた波形を持つ信号であることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記擬似核磁気共鳴信号を発生させる手段は周波数を変更できる周波数変更手段を備え、
前記制御手段が、前記周波数変更手段を制御して前記擬似核磁気共鳴信号の周波数を変更することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記診断モード時に再構成された診断画像を装置の外部に転送するための画像転送手段を備え、前記制御手段が、前記画像転送手段を制御して前記診断画像を外部に転送することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明は以下の様に構成される。
（1）被検体に静磁場および傾斜磁場を与える磁場発生手段と、前記被検体の生体組織を構成する原子核に核磁気共鳴を起こさせるための高周波磁場を照射する送信手段と、この核磁気共鳴により放出される核磁気共鳴信号を受信する受信手段と、前記核磁気共鳴信号を計測するパルスシーケンスを制御するパルスシーケンス制御手段と、前記受信系で受信された核磁気共鳴信号を用いて画像再構成演算を行う信号処理手段と、装置全体の動作を制御する制御手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
擬似核磁気共鳴信号を発生させる手段と、
前記核磁気共鳴信号と前記擬似核磁気共鳴信号の入力を切り換える信号切換手段と、
装置の動作をリモート制御するための制御信号を受け付けるリモート制御受付手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記制御信号に基づいて、前記核磁気共鳴信号によるイメージングモードと前記擬似核磁気共鳴信号による診断モードとを切り換える。
これにより、被検体を装置にセッティングせずに、受信系の一部まで含めてリモート診断することができるようになり、装置のより多くの部分をリモート制御により容易に診断することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（2）また、好ましくは、前記（1）に於いて、前記擬似核磁気共鳴信号が所望の周波数を持つ単色のサイン波、コサイン波、あるいは異なる周波数を持つ複数のサイン波とコサイン波を異なる重み付けで重ね合わせた波形を持つ信号とする。
これにより、診断目的に応じた診断画像に対応する擬似NMR信号を生成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（3）また、好ましくは、前記（1）又は（2）に於いて、前記擬似核磁気共鳴信号を発生させる手段は周波数を変更できる周波数変更手段を備え、
前記制御手段が、前記周波数変更手段を制御して前記擬似核磁気共鳴信号の周波数を変更する。
これにより、色々な周波数で受信系の一部まで含めてリモート診断することができるようになり、周波数に依存する部分の動作と故障の有無を診断することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（4）好ましくは、前記（1）乃至（3）に於いて、前記診断モード時に再構成された診断画像を装置の外部に転送するための画像転送手段を備え、前記制御手段が、前記画像転送手段を制御して前記診断画像を外部に転送する。
これにより、装置から遠く離れた外部に於いて、受信系の一部まで含めて装置の動作と故障の有無の診断を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
遊技球が打ち込まれる遊技領域を有する遊技盤を備えた遊技機において、
前記遊技盤は、その遊技領域の所定箇所に配設された、遊技球の入賞可能な始動口と、前記遊技領域での前記始動口の上方位置に配設された、前記始動口への入賞に基づいて識別情報を変動表示する識別情報変動表示手段と、前記遊技領域での前記始動口の下方位置に配設された、遊技球が入賞可能に開いた入賞口の開状態と、遊技球が入賞できない又は入賞し難い前記入賞口の閉状態とに可変する可変入賞手段とを備え、
前記可変入賞手段は、前記入賞口に入賞した遊技球を前記遊技盤の裏面側に案内する第１誘導路と、前記第１誘導路とは別な誘導路であって、前記始動口に入賞した遊技球を前記遊技盤の裏面側で前記可変入賞手段の方に誘導する第２誘導路とを備え、
前記可変入賞手段は、前記第１誘導路により誘導された遊技球の通過を検出する第１検出手段を備え、さらに、前記第２誘導路により誘導された遊技球の通過を検出する第２検出手段を備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】  
請求項１に記載の遊技機において、
前記始動口に入賞して前記遊技盤の裏面側に案内されて落下誘導された遊技球を受ける受け部を備え、
前記受け部は、その受けた遊技球を前記第２誘導路に誘導することを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】洗濯機
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗濯水を溜める外槽内に設置した攪拌翼と、洗濯機兼脱水槽及び攪拌翼を回転駆動する駆動装置と、前記駆動装置を制御する制御手段とを備え、前記駆動装置は電動機と遊星歯車減速機構とクラッチ機構とを備え、選択的に前記洗濯機兼脱水槽と前記攪拌翼、前記攪拌翼のみ又は前記脱水槽のみを回転させるようにした洗濯機において、
前記攪拌翼及び前記洗濯兼脱水槽を駆動するモータにＤＣブラシレスモータを使用して正弦波駆動電流で制御し、直流回路側に電流センサーを１個またはモータ側に複数個使用することにより磁極検知用センサーを廃止し、回転子に使用している永久磁石の長さを固定子の積厚と同等としたことを特徴とする洗濯機。
【請求項２】
前記駆動用ＤＣブラシレスモータは回転子を構成する永久磁石を表面磁石方式で構成し、且つ正弦波誘起電圧となるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の洗濯機。
【請求項３】
前記駆動用ＤＣブラシレスモータは回転子を構成する永久磁石を埋込み磁石方式で構成し、且つ正弦波誘起電圧となるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の洗濯機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月3日(2006.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(1) 繊維布と、
(2) この繊維布の少なくとも表面に、カチオン性アクリル系樹脂、造膜性を有するアクリル系樹脂、吸水性多孔質体および可塑剤を含有するインク受容組成物にて形成されたインク受容層と
を備えるとともに、難燃剤によって難燃化処理されたことを特徴とするインク受容繊維布。
【請求項２】
造膜性を有するアクリル系樹脂が、ポリアクリルアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリスチレン−２−アクリロニトリル、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、およびアクリロニトリル−アクリル酸ブチル共重合体からなる群より選ばれた少なくとも１種である請求項１記載のインク受容繊維布。
【請求項３】
造膜性を有するアクリル系樹脂が、熱硬化性を有するアクリル系樹脂、またはアクリル系樹脂のポリマー中またはその末端に自己架橋性の反応基を有する自己架橋型のアクリル系樹脂である請求項１または２記載のインク受容繊維布。
【請求項４】
インク受容層が、繊維布に、インク受容組成物の液を含浸させて形成されている請求項１記載のインク受容繊維布。
【請求項５】
インク受容層が形成された繊維布に、難燃剤を含む液を含浸させて難燃化処理されている請求項１記載のインク受容繊維布。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
このものは柔軟性を有し、含浸前の元の綿織布とほぼ同様な自然の風合いを有していた。
〈難燃剤を含む液〉
（成  分）                （重量部）
・難燃剤：リン窒素化合物      ８０．０
［大京化学（株）製のビゴールＴＳＣ］
・純水                        ２０．０
比較例１
実施例１でインク受容層が形成された綿織布を、難燃化処理せずに比較例１のインク受容繊維布とした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
表１より、実施例１のインク受容繊維布はインクが速やかに定着し、印刷品位や耐水性に優れた印刷を得ることができる上、綿織布の本来の風合いが残り、かつ柔軟性を有するとともに、インク受容組成物の、綿織布との接着性にも優れており、しかも高い難燃性をも有していることが判った。
また、綿織布に代えて綿不織布を用いて、上記実施例１、比較例１、２と同様の試験を行ったところ、やはり上記と同様の結果が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月10日(2006.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ポリエステル布帛
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の要件（１）及び（２）を満足することを特徴とするポリエステル布帛。
（１）布帛の少なくとも一部を構成する糸が、芯糸に鞘糸が３重に巻き付いたスラブ部と鞘糸が１重に巻き付いた道中部とが交互に形成されたスラブ糸である
（２）スラブ糸を形成する芯糸及び鞘糸が、太細斑を有する単繊維繊度１デシテックス以上のカチオン染料可染性ポリエステルフィラメント群（ａ）と太細斑を有する単繊維繊度１デシテックス以上のカチオン染料不染性ポリエステルフィラメント群（ｂ）とからなり、フィラメント群（ａ）とフィラメント群（ｂ）はそれぞれ３〜１００ケ／ｍの交絡部を有し、それぞれのフィラメント群の各交絡部ではフィラメント太部が６０％以上占め、それぞれのフィラメント群の各非交絡部ではフィラメント細部が６０％以上占めてなる糸である
【請求項２】  フィラメント群（ａ）がカチオン染料及び分散染料にて染色され、フィラメント群（ｂ）が分散染料にて染色されてなる請求項１に記載の布帛。
【請求項３】  布帛が織物であって、スラブ糸が織物の経糸と緯糸の少なくとも一方或いは経糸又は緯糸の一部に配されてなる請求項１又は請求項２に記載の布帛。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下の要件（１）及び（２）を満足することを特徴とするポリエステル布帛、にある。
（１）布帛の少なくとも一部を構成する糸が、芯糸に鞘糸が３重に巻き付いたスラブ部と鞘糸が１重に巻き付いた道中部とが交互に形成されたスラブ糸である
（２）スラブ糸を形成する芯糸及び鞘糸が、太細斑を有する単繊維繊度１デシテックス以上のカチオン染料可染性ポリエステルフィラメント群（ａ）と太細斑を有する単繊維繊度１デシテックス以上のカチオン染料不染性ポリエステルフィラメント群（ｂ）とからなり、フィラメント群（ａ）とフィラメント群（ｂ）はそれぞれ３〜１００ケ／ｍの交絡部を有し、それぞれのフィラメント群の各交絡部ではフィラメント太部が６０％以上占め、それぞれのフィラメント群の各非交絡部ではフィラメント細部が６０％以上占めてなる糸である
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明のポリエステル布帛は、スラブ糸を形成する芯糸及び鞘糸のカチオン可染太細フィラメント群（ａ）がカチオン染料及び分散染料にて染色され、太細フィラメント群（ｂ）が分散染料にて同色、異色または混合色に染色されていることが好ましく、それぞれのフィラメント群のフィラメント太部が集中した交絡部及び融着部分が明瞭な濃色に、捲縮のあるフィラメント細部が集中した非交絡部が淡色に染色されていることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月3日(2006.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体基板上にアルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜を順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、
前記積層膜をドライエッチング法によりエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、
前記配線パターンを形成する工程は、前記金属膜を加工しないガス組成の第１のエッチングガスを用いて前記金属もしくは金属化合物薄膜をエッチング加工する第１の工程及び前記第１のエッチングガスとは異なるガス組成を有する第２のエッチングガスで前記アルミニウムを主成分とする金属膜をエッチング加工する第２の工程とを備えていることを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項２】  半導体基板上にアルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜と、反射防止膜とを順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、
前記積層膜をドライエッチング法により前記フォトレジストをマスクとしてエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、
前記配線パターンを形成する工程は、前記金属もしくは金属化合物薄膜及び前記アルミニウムを主成分とする金属膜を加工しない第１のガス組成の第１のエッチングガスで前記反射防止膜をエッチング加工する第１の工程と、前記第１のエッチングガスと異なるガス組成を有する第２のエッチングガスで前記金属もしくは金属化合物薄膜をエッチング加工する第２の工程と、前記第１及び第２のエッチングガスと異なるガス組成を有する第３のエッチングガスを用いて前記金属膜をエッチング加工する第３の工程からなり、前記第２の工程は前記第３の工程より対レジスト選択比が低いことを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項３】  半導体基板上にアルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜と、反射防止膜とを順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、
前記積層膜をドライエッチング法により前記フォトレジストをマスクとしてエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、
前記配線パターンを形成する工程は、前記アルミニウムを主成分とする金属膜を加工しない第１のガス組成の第１のエッチングガスで前記反射防止膜及び前記金属もしくは金属化合物薄膜をエッチング加工する第１の工程と、前記第１のエッチングガスと異なるガス組成を有する第２のエッチングガスを用いて前記金属膜をエッチング加工する第２の工程からなることを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項４】  半導体基板上にバリア層、アルミニウムを主成分とする金属膜を順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、
前記積層膜をドライエッチング法によりエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、
前記配線パターンを形成する工程は、酸素原子を含むエッチングガスを用いて前記積層膜をエッチング加工する工程を備えていることを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項５】  半導体基板上にバリア層、アルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜を順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、
前記積層膜をドライエッチング法によりエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、
前記配線パターンを形成する工程は、酸素原子を含むエッチングガスを用いて前記積層膜をエッチング加工する工程を備えていることを特徴とするドライエッチング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明のドライエッチング方法は、半導体基板上にアルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜と、反射防止膜とを順次形成してなる積層膜上にパタ−、ニングされたフォトレジストを形成する工程と、前記積層膜をドライエッチング法により前記フォトレジストをマスクとしてエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、前記配線パターンを形成する工程は、前記金属もしくは金属化合物薄膜及び前記アルミニウムを主成分とする金属膜を加工しない第１のガス組成の第１のエッチングガスで前記反射防止膜をエッチング加工する第１の工程と、前記第１のエッチングガスと異なるガス組成を有する第２のエッチングガスで前記金属もしくは金属化合物薄膜をエッチング加工する第２の工程と、前記第１及び第２のエッチングガスと異なるガス組成を有する第３のエッチングガスを用いて前記金属膜をエッチング加工する第３の工程からなり、前記第２の工程は前記第３の工程より対レジスト選択比が低いことを第２の特徴としている。
また、本発明のドライエッチング方法は、半導体基板上にアルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜と、反射防止膜とを順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、前記積層膜をドライエッチング法により前記フォトレジストをマスクとしてエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、前記配線パターンを形成する工程は、前記アルミニウムを主成分とする金属膜を加工しない第１のガス組成の第１のエッチングガスで前記反射防止膜及び前記金属もしくは金属化合物薄膜をエッチング加工する第１の工程と、前記第１のエッチングガスと異なるガス組成を有する第２のエッチングガスを用いて前記金属膜をエッチング加工する第２の工程からなることを第３の特徴としている。
また、本発明のドライエッチング方法は、半導体基板上にバリア層、アルミニウムを主成分とする金属膜を順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、前記積層膜をドライエッチング法によりエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、前記配線パターンを形成する工程は、酸素原子を含むエッチングガスを用いて前記積層膜をエッチング加工する工程を備えていることを第４の特徴としている。
また、本発明のドライエッチング方法は、半導体基板上にバリア層、アルミニウムを主成分とする金属膜と、金属もしくは金属化合物薄膜を順次形成してなる積層膜上にパタ−ニングされたフォトレジストを形成する工程と、前記積層膜をドライエッチング法によりエッチングして配線パタ−ンを形成する工程とを具備し、前記配線パターンを形成する工程は、酸素原子を含むエッチングガスを用いて前記積層膜をエッチング加工する工程を備えていることを第５の特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  絶縁基板の少なくとも一主面に配線層および接続端子がそれぞれ形成された配線基板と、この配線基板の前記主面にフェースダウンに搭載され、バンプを介して接続された半導体素子と、この半導体素子と前記配線基板との間隙に充填された樹脂封止層とを備えた半導体装置において、前記半導体素子と配線基板との平均間隙高さをＨ、前記バンプの配設ピッチをＰ、前記間隙高さのばらつき量をＤとしたとき、
Ｐ／４−Ｄ／２≦Ｈ≦Ｐ／４＋Ｄ／２となるような平均間隙高さＨを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】  前記バンプがエリア状に配設されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】  前記バンプの配設ピッチが、樹脂の充填方向に沿った平均配設ピッチであることを特徴とする請求項１または２記載の半導体装置。
【請求項４】  前記バンプがはんだバンプであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の半導体装置。
【請求項５】  前記バンプの配設ピッチＰが、 250μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体装置は、絶縁基板の少なくとも一主面に配線層および接続端子がそれぞれ形成された配線基板と、この配線基板の前記主面にフェースダウンに搭載され、バンプを介して接続された半導体素子と、この半導体素子と前記配線基板との間隙に充填された樹脂封止層とを備えた半導体装置において、前記半導体素子と配線基板との平均間隙高さをＨ、前記バンプの配設ピッチをＰ、前記間隙高さのばらつき量をＤとしたとき、
Ｐ／４−Ｄ／２≦Ｈ≦Ｐ／４＋Ｄ／２となるような平均間隙高さＨを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月7日(2006.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
７Ｐはアクチエーターであり、虹彩絞り７ａの開口径を変化させている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本実施形態では、虹彩絞り７ａを用いることにより、集光レンズ８に入射する光束を種々と変えて投影光学系１３の瞳面１４上の光強度分布、即ち有効光源分布を測定し、その測定結果が記憶手段１９に予め記憶されている所望の有効光源分布と等しくなるように、駆動機構２０を自動駆動させ、光源１の位置を常に最適な状態にする構成となっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
次に本実施形態において、絞り７、即ち投影光学系１３の瞳面１４での照度分布である有効光源分布を測定する方法について説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2000260698.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月3日(2006.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図２(a) は半導体露光装置の概略の構成を示したもので、本発明の実施形態1は図2(a)のオフアクシススコープ6によるプリアライメント検出に対して適用されたものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
次にフローに従った実際の処理について図３、図４を用いて説明する。S100のエッジ抽出において、マーク100の散乱光はCCDカメラ7で受光し光電変換された後、A/D変換装置71でA/D変換してメモリに記憶される。記憶した画像のある走査線で得られる信号をXiとする。暗視野照明のため信号はマークエッジ位置が光り、他の部分は黒い。信号Xiを微分した信号が信号Xidで、走査線を左から追っていくとエッジの立ち上がりで正、立ち下がりで負の信号となる。信号Xidの立ち上がり側にthlの閾値を設定し、thlよりも信号Xidが大きい場合とそうでない場合で二値化すると、信号Leが得られる。同様に信号Xidの立ち下がり側に閾値thrを設定しthrよりも信号Xidが小さい場合とそうでない場合で二値化すると信号Reが得られる。信号Leはマーク信号の左側エッジ位置を示し、信号Reはマーク信号の右側エッジ位置を示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
図2(b)は本発明の実施形態2で、本発明の位置検出を半導体露光装置においてレチクル1を通してウエハ5またはステージ３上のマークを検出するTTR検出系に適用したものである。