Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月10日(2006.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】ヒート・シンクであって、
開口部を有する少なくとも１つのヒート・シンク・フィンを備え、
前記開口部が、熱装置が第１の温度で、前記少なくとも１つのフィンが第２の温度の場合に、前記熱装置をはめることができるように構成されていることと、
前記第２の温度が前記第１の温度より高いことを特徴とする、ヒート・シンク。
【請求項２】ヒート・シンクを構成するための方法であって、
ａ）少なくとも１つのヒート・シンク・フィンを作るステップと、
ｂ）前記少なくとも１つのヒート・シンク・フィンのそれぞれに開口部を形成するステップと、
ｃ）前記少なくとも１つのヒート・シンク・フィンを加熱して、第１の温度から第２の温度にするステップと、
ｄ）熱装置に少なくとも１つのヒート・シンク・フィンを配置するステップと、
ｅ）前記少なくとも１つのヒート・シンク・フィンを冷却して、前記第２の温度から第３の温度にするステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】ヒート・シンクであって、
少なくとも１つの開口部を含むヒート・シンク本体が含まれており、
前記少なくとも１つの開口部が、熱装置が第１の温度で、前記ヒート・シンク本体が第２の温度の場合に、前記熱装置をはめることができるように構成されていることと、
前記第２の温度が前記第１の温度より高いことを特徴とする、ヒート・シンク。
【請求項４】熱装置にヒート・シンクを取り付ける方法であって、
ａ）前記熱装置よりわずかに小さいサイズの開口部を前記ヒート・シンクに形成するステップと、
ｂ）前記ヒート・シンクを加熱して、第１の温度から第２の温度にするステップと、
ｃ）前記熱装置に前記ヒート・シンクを配置するステップと、
ｄ）前記ヒート・シンクを冷却して、前記第２の温度から第３の温度にするステップと、を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  吸引口および吐出口を形成している外殻と、
前記吸引口から流体を受け取り且つ前記流体を吸引圧力から吐出圧力まで圧搾する前記外殻内に配置した圧縮機と、
前記吐出口と前記吸引口との間に配設する冷凍回路であって、前記吸引口と連絡する吸引流体ラインを含む冷凍回路と、
液体冷媒を前記吸引流体ラインに注入するために前記冷凍回路の付設点と前記吸引流体ラインとの間に配設する液体注入回路と、
前記吐出圧力で前記吐出口に供給されるガスの温度を監視するための温度センサと、
前記吸引流体ラインまでの前記液体冷媒の流れを調整するための制御可能バルブと、
前記温度センサと前記制御可能バルブとを連絡する電子制御部材であって、前記温度センサの温度読み取りに基づいたパルス幅変調によって前記制御可能バルブを調整する電子制御部材と
を備える圧縮機設備。
【請求項２】  前記液体注入回路が、前記外殻の外側の場所で前記吸引流体ラインと連結する請求項１記載の圧縮機設備。
【請求項３】  前記制御可能バルブが電子膨張バルブである請求項１記載の圧縮機設備。
【請求項４】  前記制御可能バルブがソレノイドバルブである請求項１記載の圧縮機設備。
【請求項５】  吸引口および吐出口を形成している外殻と、
前記外殻内に配置され且つ第１端板部から延設する第１スクロールラップ部を有する第１スクロール部材と、
前記外殻内に配置され且つ第２端板部から延設する第２スクロールラップ部を有する第２スクロール部材であって、前記第２スクロールラップ部が複数の閉鎖ポケットを規定するために前記第１スクロールラップ部とかみ合う第２スクロール部材と、
前記第２スクロール部材を前記第１スクロール部材に対して旋回させるための駆動機構であって、複数の前記ポケットが前記吸引口と連通する放射方向で外側の位置から吐出口と連通する中央位置まで移動する駆動機構と、
前記吐出口と前記吸引口との間に配設する冷凍回路であって、前記吸引口と連通する吸引流体ラインを含む冷凍回路と、
液体冷媒を前記吸引流体ラインに注入するために前記冷凍回路の付設点と吸引流体ラインとの間に配設する液体注入回路と、
前記吐出圧力で前記吐出口に供給されるガスの温度を監視するための温度センサと、
前記吸引流体ラインまでの前記液体冷媒の流れを調整するための制御可能バルブと、
前記温度センサと前記制御可能バルブとを連絡する電子制御部材であって、前記温度センサの温度読み取りに基づいたパルス幅変調によって前記制御可能バルブを調整する電子制御部材と
を備えるスクロール式圧縮機設備。
【請求項６】  前記液体注入回路が、前記外殻の外側の場所で前記吸引流体ラインと連結する請求項５記載の圧縮機設備。
【請求項７】  前記制御可能バルブが電子膨張バルブである請求項５記載の圧縮機設備。
【請求項８】  前記制御可能バルブがソレノイドバルブである請求項５記載の圧縮機設備。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月3日(2006.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉システムにおける振動ノイズの低減方法であって、
前記干渉システムの第１と第２の経路（５０及び５２；８０及び８２；１１２及び１１４；及び、１３４及び１３６）を通して光を伝搬させるステップと、
前記第１と第２の経路からの前記光を結合して干渉信号を生じさせるステップ（４７）であって、前記干渉信号から前記第１の経路に接続されたコンポーネント（４４）の光学特性が識別される、ステップと、
前記光のパターンをモニタすることによって、前記第１の経路に沿った振動を検出するステップ（４９、５１、及び、５３）と、
前記振動の検出に基づいて、前記光学特性を識別する際の前記振動の影響を少なくとも部分的に相殺する補正を施すステップ（６３）
とを含む、方法。
【請求項２】
前記振動を検出するステップが、前記第１の経路（５０；８０；１１２；及び、１３４）に沿った、前記コンポーネント（４４）に隣接する位置における光学的イベントをモニタするステップを含み、前記光学的イベントが、前記位置における振動応答を表すものと判定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記振動を検出するステップが、前記コンポーネントに隣接する前記位置に沿ったレイリー後方散乱（１０２）をモニタするステップを含み、前記コンポーネントが被測定物（ＤＵＴ）（４４）である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記補正を施すステップ（６３）が、前記位置における振動ノイズを測定するステップと、前記振動ノイズの計算に基づいて前記干渉信号を調整するステップを含み、前記計算に、前記レイリー後方散乱（１０２）が利用される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記光学的イベントをモニタするステップが、前記コンポーネント（４４）に隣接する前記位置に部分リフレクタ（５４）を設けるステップと、前記部分リフレクタによる前記光の反射をモニタするステップを含み、前記部分リフレクタに隣接する前記コンポーネントが、被測定物（ＤＵＴ）である、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
振動の影響を少なくとも部分的に相殺する補正（６３）を施す前記ステップが、前記干渉信号の位相（５５）と、前記部分リフレクタによる反射を表す第２の干渉信号の位相（５７）との差を求めるステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記振動を検出するステップが、前記コンポーネント（４４）の両端間に分岐経路（６４）を形成ステップと、前記分岐経路に沿った光学的イベントをモニタするステップを含み、振動の影響を少なくとも部分的に相殺する補正（６３）を施す前記ステップが、前記光学的イベントに対する補正にバイアスを加えるステップを含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記光を伝搬させるステップが、ある掃引周波数を有する第１のビーム（４６）と、固定周波数を有する第２のビーム（１０８）を同時に導入するステップを含み、振動の影響を少なくとも部分的に相殺する補正（６３）を施す前記ステップが、前記第１と第２の経路（１１２及び１１４；１３４及び１３６）への伝搬に続く、前記第２のビームの部分の結合中における光干渉に基づくものであり、前記光干渉が振動イベントを表すことからなる、請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
振動の影響を少なくとも部分的に相殺する補正（６３）を施す前記ステップが、前記光干渉に関連した計算をベースとして使用して、前記コンポーネント（４４）の前記光学特性を識別するために用いられる前記干渉信号から前記振動ノイズを動的に相殺するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
補正を施す前記ステップ（６３）が、前記光干渉の計算に基づいて前記第１または前記第２の経路（１１２及び１１４）の長さを動的に変更する（１４０）ステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
干渉システムであって、
コヒーレント光ビームの周波数を変更するように構成される前記ビームの発生源（４６）と、
前記発生源に結合されて、前記ビームの第１の部分を受け入れる第１の光路（５０；８０；１１２；及び、１３４）であって、被測定物（４４）を含む、第１の光路と、
前記発生源に結合されて、前記ビームの第２の部分を受け入れる第２の光路（５２；８２；１１４；及び、１３６）と、
前記第１及び第２の光路に接続されて、前記ビームの前記第１の部分と第２の部分を結合し、それによって、干渉信号が得られるようにするカプラ（４８；７０；７８；１１６；及び、１３２）と、
前記カプラに接続されて、前記干渉信号を受信するプロセッサ（６０；９４；及び、１２６）であって、前記被測定物に起因する前記干渉信号の変動に基づいて、前記被測定物の光学特性を検出するように構成され、及び、前記被測定物に隣接する前記第１の光路に沿った光学活性をモニタすることによって前記干渉信号に対する振動の影響を検出するように構成されるプロセッサ
を備える、干渉システム。
【請求項１２】
前記第１の光路（５０）に部分リフレクタ（５４）が含まれ、前記プロセッサ（６０）が、前記部分リフレクタによる反射を識別可能であり、これにより、前記振動の影響を検出することが可能である、請求項１１に記載の干渉システム。
【請求項１３】
前記プロセッサ（６０）が、前記被測定物（４４）に基づく干渉信号成分の位相と前記部分リフレクタ（５４）に基づく干渉信号成分の位相との位相差を求めるように構成される、請求項１２に記載の干渉システム。
【請求項１４】
前記第１の光路（５０）に、前記被測定物（４４）に対して並列の分岐経路（６４）が含まれ、前記プロセッサ（６０）が、分岐経路の干渉信号成分における変動に応答し、前記変動に基づいて、前記振動の影響を相殺することが可能である、請求項１１に記載の干渉システム。
【請求項１５】
前記プロセッサ（９４）が、前記第１の光路（８０）に沿った、前記被測定物（４４）に隣接する位置におけるレイリー後方散乱（１０２）を識別可能である、請求項１１乃至１４のいずれかに記載の干渉システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月16日(2005.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  電気−機械エネルギー変換により振動が励起される振動体と該振動体に接触する接触体を相対駆動する振動型モータの制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出温度に応じて前記振動型モータの最高駆動速度を制御する制御手段を有することを特徴とする制御装置。
【請求項２】  前記温度検出手段の検出温度に応じた前記振動型モータの最高駆動速度を記憶する記憶手段を有することを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】  前記制御手段は、前記温度検出手段の検出温度に基づいて前記振動型モータの最高駆動速度を演算することを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項４】  振動体に設けられた電気−機械エネルギー変換素子部に周波信号を印加して駆動力を得る振動型モータの制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出温度に応じた駆動速度情報を設定する駆動速度情報設定手段と、前記駆動速度情報設定手段にて設定された駆動速度情報に基づいて、前記振動型モータの最高駆動速度を制御する制御手段を設けたことを特徴とする制御装置。
【請求項５】  前記振動型モータの駆動速度を検出する駆動速度検出手段を有し、前記制御手段は、前記駆動速度検出手段の検出速度と前記駆動速度情報を比較して、前記周波信号の周波数を制御することを特徴とする請求項４に記載の制御装置。
【請求項６】  前記駆動速度情報設定手段は、前記周波信号の周波数が前記振動型モータの共振周波数よりも高周波数であるときの駆動速度情報を設定することを特徴とする請求項４または５に記載の制御装置。
【請求項７】  前記温度検出手段の検出温度に応じて、前記振動型モータの起動時における前記周波信号の周波数を設定する起動周波数設定手段を有することを特徴とする請求項４乃至６に記載の制御装置。
【請求項８】  振動体に設けられた電気ー機械エネルギー変換素子部に対して周波信号を印加して駆動力を得る振動型モータの制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、該温度検出手段の検出温度に応じて前記振動型モータの起動時における前記周波信号の周波数を制御する制御手段を有することを特徴とする振動型モータの制御装置。
【請求項９】  前記温度検出手段の検出温度に応じた、前記振動型モータの起動時における前記周波信号の周波数を記憶する記憶手段を有することを特徴とする請求項８に記載の制御装置。
【請求項１０】  前記制御手段は、前記温度検出手段の検出温度に基づいて、前記振動型モータの起動時における前記周波信号の周波数を演算することを特徴とする請求項８に記載の制御装置。
【請求項１１】  振動体に配された電気ー機械エネルギー変換素子部に周波信号を印加することで駆動力を発生する複数の振動型モータを制御する制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出結果に応じて前記複数の振動型モータに共通の最高駆動速度を制御する制御手段を有することを特徴とする制御装置。
【請求項１２】  前記複数の振動型モータに共通の最高駆動速度は、各振動型モータの最高駆動速度のうち最も低い駆動速度であることを特徴とする請求項１１に記載の制御装置。
【請求項１３】  前記振動型モータの駆動速度を検出する駆動速度検出手段を有し、前記制御手段は、前記駆動速度検出手段の検出結果と前記最高駆動速度を比較して、前記周波信号の周波数を制御することを特徴とする請求項１１または１２に記載の制御装置。
【請求項１４】  請求項１乃至１３のいずれかに記載の制御装置と前記振動型モータを有することを特徴とする駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、請求項１の制御装置は、電気−機械エネルギー変換により振動が励起される振動体と該振動体に接触する接触体を相対駆動する振動型モータの制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出温度に応じて前記振動型モータの最高駆動速度を制御する制御手段を有することを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項４の制御装置は、振動体に設けられた電気−機械エネルギー変換素子部に周波信号を印加して駆動力を得る振動型モータの制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出温度に応じた駆動速度情報を設定する駆動速度情報設定手段と、前記駆動速度情報設定手段にて設定された駆動速度情報に基づいて、前記振動型モータの最高駆動速度を制御する制御手段を設けたことを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項８の制御装置は、振動体に設けられた電気−機械エネルギー変換素子部に対して周波信号を印加して駆動力を得る振動型モータの制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、該温度検出手段の検出温度に応じて前記振動型モータの起動時における前記周波信号の周波数を制御する制御手段を有することを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項１１の制御装置は、振動体に配された電気−機械エネルギー変換素子部に周波信号を印加することで駆動力を発生する複数の振動型モータを制御する制御装置において、前記振動型モータの温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出結果に応じて前記複数の振動型モータに共通の最高駆動速度を制御する制御手段を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１２】
前記操作釦の下面には、傾斜面が形成されていることを特徴とする請求項３記載のディスプレイ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記操作釦の裏面側表面の所定部分に前記光源からの光を反射する鏡面部を設け、該鏡面部により該操作釦表面の照明輝度分布が調整されていることを特徴とする。また、前記操作釦の前面と下面に付された記号に、照射される前記光源からの光を選択的に遮断する遮断手段を有することを特徴とする。
また、前記操作釦の下面には、傾斜面が形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性表面を有する平版印刷ベース上に、スチレンのホモポリマーもしくはコポリマーの熱可塑性粒子及びカルボキシル基を含有する親水性ポリマーを含む画像形成層を含んでなる感熱性画像形成要素であって、該画像形成要素がさらに該画像形成層又はそれに隣接する層に存在するアニオン性ＩＲ−シアニン色素を含有することを特徴とする感熱性画像形成要素。
【請求項２】
カルボキシル基を含有する親水性ポリマーがアクリル酸又はメタクリル酸のポリマーである請求項１に記載の感熱性画像形成要素。
【請求項３】
アニオン性ＩＲ−シアニン色素が少なくとも２つのスルホン基を有するＩＲ−シアニン色素である請求項１に記載の感熱性画像形成要素。
【請求項４】
アニオン性ＩＲ−シアニン色素が２つのインドレニン及び少なくとも２つのスルホン酸基を有するＩＲ−シアニン色素である請求項３に記載の感熱性画像形成要素。
【請求項５】
（１）  請求項１〜４のいずれかに記載の感熱性画像形成要素をＩＲ−光に画像通りに露出し；
（２）  かくして得られる画像通りに露出された画像形成要素を印刷機の印刷シリンダー上に搭載し、そして該印刷シリンダーを回転させながら水性湿し液及び／又はインキを該画像形成層に供給することにより画像形成要素を現像する
段階を含んでなる平版印刷版の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月17日(2006.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂結合剤と、光活性成分と、アントラセン基を含み、かつ分子量が約２３０〜２，０００ダルトンである非ポリマー性色素化合物とを含む、感光性耐食膜組成物。
【請求項２】
色素化合物の分子量が、約１５００ダルトン未満、好ましくは分子量が約１０００ダルトン以下、より好ましくは分子量が約８００ダルトン以下、さらにより好ましくは分子量が約４００ダルトン以下である、請求項１記載の感光性耐食膜組成物。
【請求項３】
色素化合物がアントラセン化合物と他の芳香族化合物との反応産物である請求項１または２記載の感光性耐食膜組成物。
【請求項４】
色素化合物がフェノール化合物とアントラセン化合物との反応産物である、請求項１〜３のいずれか一項記載の感光性耐食膜組成物。
【請求項５】
色素化合物が以下の構造式（Ｉ）で示される、請求項１〜４のいずれか一項記載の感光性耐食膜組成物：
Ｒ−（Ｗ−アントラセン）ｎ  （Ｉ）
式中、Ｒは任意に置換された芳香族基であり；
各Ｗはリンカーであり、同一であっても異なっていてもよく；
各アントラセンは同一または異なる任意に置換されたアントラセン基であり；かつ
ｎは１〜約６以上の整数である。
【請求項６】
色素化合物が以下の構造式（ＩＩ）で示される、請求項１〜４のいずれか一項記載の感光性耐食膜組成物：
【化１】
1999265061.tif 000001
式中、各Ｗはリンカーであり、同一であってもまたは異なっていてもよく；
各アントラセンが同一または異なる任意に置換されたアントラセン基であり；
各Ｒ１が独立して、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、任意に置換されたアルキル、任意に置換されたアルコキシ、任意に置換された炭素環アリール、任意に置換されたアリールアルキル、または任意にヘテロ芳香族もしくはヘテロ脂環式基であり；
ｍは０〜５までの整数であり；ｎは１〜６までの整数であり；かつｎとｍの合計が６を超えない。
【請求項７】
色素がアントラセン基の他に少なくとも２つの芳香族基を含む請求項１〜４のいずれか一項記載の感光性耐食膜組成物。
【請求項８】
光活性成分が３００ｎｍ未満の波長の放射線による露光により光活性化される感光性酸生成剤を含む、請求項１記載の感光性耐食膜組成物。
【請求項９】
（ａ）請求項１〜８のいずれか一項記載の感光性耐食膜のコーティング層を基板上に適用する段階；
（ｂ）パターン形成された深部Ｕ．Ｖ．放射線に基板上の感光性耐食膜コーティング層を露光し、コーティング層に潜像を形成させる段階；および
（ｃ）露光した感光性耐食膜コーティング層を現像して感光性耐食膜起伏影像を提供する段階を含む感光性耐食膜起伏影像の形成法。
【請求項１０】
その上に請求項１〜９のいずれか一項記載の感光性耐食膜組成物がコーティングされた工業製品。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月21日(2005.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに平行に配置され、１．１より大きい倍率を有する複数の対物レンズと、
前記対物レンズのそれぞれに対応した複数の固有のレチクルを具備することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】  対物レンズは１：１．５より大きい倍率を有することを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
【請求項３】  対物レンズは走査方向に対し垂直に２つ以上の列を成して、位置ずれを伴って配列され、且つ走査時の個々の像視野が継ぎ目なく隣接するか又は互いに重なり合うように構成されていることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
【請求項４】  像視野は、走査時に各像点の重なり合い領域においてもほぼ同じ総光量が得られるように形成されていることを特徴とする請求項３記載の投影露光装置。
【請求項５】  各対物レンズの像視野は多角形であることを特徴とする請求項３記載の投影露光装置。
【請求項６】  各対物レンズは多角形にカットされている少くとも１つのフレームを有する請求項５記載の投影露光装置。
【請求項７】  各対物レンズは多角形にカットされている少くとも１つのレンズを有する請求項５記載の投影露光装置。
【請求項８】  各対物レンズに対応している複数の照明手段が更に設けられたことを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
【請求項９】  各露光手段に別々の光源を有することを特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項１０】  対物レンズは純粋な屈折性対物レンズであることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
【請求項１１】  対物レンズは中間像を伴う対物レンズであることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
【請求項１２】  面の広い構造体をマイクロリソグラフィックに露光する方法であって、
走査列を有効に結像する複数の対物レンズと、これら対物レンズに設けた複数のレチクルとで上記構造体を走査するステップと、
構造体原型は１：１．１を越える倍率で拡大して結像するステップとを具備することを特徴とする方法。
【請求項１３】  構造体原型は１：１．５を越える倍率で拡大して結像されることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  構造体はフラットスクリーン構造であることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１５】
前記大面積構造が基板であり、
前記複数のレチクルが複数の単一レチクルであり、
前記単一レチクルのそれぞれが少なくとも一つのレチクルストリップで構成され、
前記単一レチクルの内の二つの互いに隣接するもののそれぞれが調整可能な間隔により分離され、
前記方法が、
前記対物レンズを利用して前記レチクルストリップの内の対応するものを前記基板上に結像し、それによりその上に所望のパターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
互いに平行に配列され、それぞれが１：１．１より大きい倍率で拡大するように構成された複数の個々の対物レンズと、
それぞれが少なくとも一つのレチクルストリップで構成された複数の単一レチクルにより定められるレチクルと
を備える基板上に所望のパターンを生成する走査型投影露光装置であって、
前記対物レンズが、前記レチクルストリップの内の対応するものを前記基板上に結像し、それによりその上に前記所望のパターンを形成するように機能し、
前記対物レンズがそれぞれ像反転を行うように構成され、
前記走査型投影露光装置が所定の走査方向に走査するように出来ており、
前記対物レンズが、各列の対物レンズがその次の隣接する列の対物レンズに対してずらされた少なくとも二つの列を成して前記走査方向と直角に配列され、
前記対物レンズが、各像点が実質的に同じ総露光量を達成するように形成されたそれぞれの個々の像視野を有する
ことを特徴とする走査型投影露光装置。
【請求項１７】
前記レチクルストリップのそれぞれが個々の構造を有し、前記個々の構造のそれぞれが前記所望のパターンに対して鏡像であることを特徴とする請求項１６に記載の投影露光装置。
【請求項１８】
二つの互いに隣接するレチクルストリップのそれぞれが同一構造を有するそれぞれの縦エッジを有することを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記単一レチクルの内の二つの互いに隣接するもののそれぞれが調整可能な間隔により分離されることを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記対物レンズのそれぞれが純屈折型対物レンズであることを特徴とする請求項１６に記載の投影露光装置。
【請求項２１】
前記対物レンズのそれぞれが直線的な光軸に芯合わせされるように組み立てられることを特徴とする請求項１６に記載の投影露光装置。
【請求項２２】
互いに平行に配列された複数の対物レンズを備える投影露光装置であって、
前記対物レンズが１：１．１より大きい倍率で拡大するように構成され、
前記対物レンズのそれぞれがレチクル側視野と像視野を有し、前記対物レンズのそれぞれが一組の偏向用光学系を組み入れて前記レチクル側視野に対する前記像視野の横ずらしを行う
ことを特徴とする投影露光装置。
【請求項２３】
前記対物レンズのそれぞれが中間像を有する対物レンズであることを特徴とする請求項２２に記載の投影露光装置。
【請求項２４】
前記偏向用光学系の組がそれに対応する対物レンズに取り付けられた二つの偏向用ミラーを含むことを特徴とする請求項２３に記載の投影露光装置。
【請求項２５】
互いに平行に配列され、それぞれが像反転を行うように構成された複数の個々の対物レンズと、
それぞれの個々の構造を定める複数の個々のレチクルストリップを含むレチクルと
を備える基板上に所望のパターンを生成する走査型投影装置であって、
前記レチクルがいくつかの単一レチクルを含み、前記単一レチクルのそれぞれが少なくとも一つのレチクルストリップを有するように構成され、
前記個々の対物レンズが前記個々のレチクルストリップのそれぞれを前記基板上に結像して前記所望のパターンを形成し、
前記走査型投影露光装置が所定の走査方向に走査するように出来ており、
前記対物レンズが、各列の対物レンズがその次の隣接する列の対物レンズに対してずらされた少なくとも二つの列を成して前記走査方向と直角に配列され、
前記対物レンズが、各像点が実質的に同じ総露光量に達するように形成されたそれぞれの個々の像視野を有する
ことを特徴とする走査型投影装置。
【請求項２６】
前記レチクルストリップのそれぞれが個々の構造を有し、前記個々の構造のそれぞれが前記所望のパターンに対して鏡像であることを特徴とする請求項２５に記載の投影露光装置。
【請求項２７】
互いに平行に配列され、それぞれが１：１．１より大きい倍率で拡大するように構成された複数の個々の対物レンズと、
それぞれが少なくとも一つのレチクルストリップで構成された複数の単一レチクルにより定められるレチクルと
を備える基板上に所望のパターンを生成する投影露光装置であって、
前記単一レチクルの内の二つの互いに隣接するもののそれぞれが調整可能な間隔により分離され、
前記対物レンズが、前記レチクルストリップの内の対応するものを前記基板上に結像し、それによりその上に前記所望のパターンを形成するように機能する
ことを特徴とする投影露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ドナーを含む膜と、アクセプターを含む膜とを有し、
前記ドナーを含む膜および前記アクセプターを含む膜の少なくとも一方は、物質を自発的に集合させ、化学吸着させることにより形成された自己組織化膜を有する、強誘電体膜。
【請求項２】  請求項１において、
前記ドナーを含む膜と、前記アクセプターを含む膜とは、互いに接触して形成されている、強誘電体膜。
【請求項３】  請求項１または２において、
前記ドナーから前記アクセプターに電子が移動するとともに、正の電荷が、前記ドナーを含む膜から前記アクセプターを含む膜へ移動する、強誘電体膜。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれかにおいて、
前記ドナーを含む膜は、自己組織化膜を有し、
前記ドナーを含む膜の自己組織化膜の物質は、下地の表面と化学結合し得る官能基を有する化合物であって、ドナー分子が結合されている、強誘電体膜。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれかにおいて、
前記アクセプターを含む膜は、自己組織化膜を有し、
前記アクセプターを含む膜の自己組織化膜の物質は、下地の表面と化学結合し得る官能基を有する化合物であって、アクセプター分子が結合されている、強誘電体膜。
【請求項６】  請求項４または５において、
前記下地の表面と化学結合し得る官能基を有する化合物は、シラン化合物、チオール化合物またはジスルフィド化合物である、強誘電体膜。
【請求項７】  ドナーを含む膜と、アクセプターを含む膜とを有する、強誘電体膜の製造方法であって、
（ａ）前記ドナーを含む膜を形成する工程、
（ｂ）前記アクセプターを含む膜を形成する工程を含み、
前記工程（ａ）は、物質を自発的に集合させ、化学吸着させることにより、前記ドナーを含む膜の少なくとも一部を構成する自己組織化膜を形成する工程を含む、強誘電体膜の製造方法。
【請求項８】  ドナーを含む膜と、アクセプターを含む膜とを有する、強誘電体膜の製造方法であって、
（ａ）前記ドナーを含む膜を形成する工程、
（ｂ）前記アクセプターを含む膜を形成する工程を含み、
前記工程（ｂ）は、物質を自発的に集合させ、化学吸着させることにより、前記アクセプターを含む膜の少なくとも一部を構成する自己組織化膜を形成する工程を含む、強誘電体膜の製造方法。
【請求項９】  請求項７において、
前記工程（ｂ）は、物質を自発的に集合させ、化学吸着させることにより、前記アクセプターを含む膜の少なくとも一部を構成する自己組織化膜を形成する工程を含む、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１０】  請求項７または９において、
前記ドナーを含む膜は、自己組織化膜を有し、
前記ドナーを含む膜の自己組織化膜の物質は、下地の表面と化学結合し得る官能基を有する化合物であって、ドナー分子が結合されている、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１１】  請求項８または９において、
前記アクセプターを含む膜は、自己組織化膜を有し、
前記アクセプターを含む膜の自己組織化膜の物質は、下地の表面と化学結合し得る官能基を有する化合物であって、アクセプター分子が結合されている、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１２】  請求項１０または１１において、
前記下地の表面と化学結合し得る官能基を有する化合物は、シラン化合物、チオール化合物またはジスルフィド化合物である、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１３】  請求項７、９または１０において、
前記ドナーを含む膜の自己組織化膜は、その物質をインクジェット法により供給することにより形成される、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１４】  請求項７、９または１０において、
前記ドナーを含む膜の自己組織化膜は、その物質をミスト化して供給することにより形成される、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１５】  請求項８、９または１１において、
前記アクセプターを含む膜の自己組織化膜は、その物質をインクジェット法により供給することにより形成される、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１６】  請求項８、９または１１において、
前記アクセプターを含む膜の自己組織化膜は、その物質をミスト化して供給することにより形成される、強誘電体膜の製造方法。
【請求項１７】  請求項１〜６のいずれかに記載の強誘電体膜と、第１電極と、第２電極とを含み、
前記強誘電体膜は、少なくとも、前記第１電極と前記第２電極との間において、設けられている、強誘電体キャパシタ。
【請求項１８】  請求項７〜１６のいずれかに記載の強誘電体膜の製造方法を含む、強誘電体キャパシタの製造方法。
【請求項１９】  請求項１７に記載の強誘電体キャパシタを含む、強誘電体メモリ装置。
【請求項２０】  請求項１８に記載の強誘電体キャパシタの製造方法を含む、強誘電体メモリ装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月14日(2006.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体基板上に形成され、前記半導体基板の表面に沿って光を放出する発光素子と、
前記半導体基板上に形成され、前記発光素子と光学的に結合する光導波路層と、
前記半導体基板上に形成され、前記光導波路層と光学的に結合する複数の受光素子とを有し、
前記光導波路層は、前記半導体基板上にエピタキシャル成長されたＳｉＧｅＣ層を有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】  半導体基板上に形成され、前記半導体基板の表面に沿って光を放射する発光素子と、
前記半導体基板上に形成され、前記発光素子と光学的に結合する絶縁膜より成る光導波路層と、
前記光導波路層上に形成された単結晶半導体層と、
前記単結晶半導体層に形成され、前記光導波路層と光学的に結合する複数の受光素子と
を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】  請求項１又は２記載の半導体装置において、
前記発光素子は、前記半導体基板の表面に沿って光を放射状に放出する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】  請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記発光素子は、前記半導体基板上にエピタキシャル成長された直接遷移型のＳｉＧｅＣより成る活性層を有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】  請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記発光素子は、前記半導体基板上にエピタキシャル成長された直接遷移型のＳｉＣより成る活性層を有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】  請求項３記載の半導体装置において、
前記発光素子は、前記半導体基板上にエピタキシャル成長されたＩｎＧａＮより成る活性層を有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】  請求項１乃至６のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記受光素子に接続され、前記受光素子により受信された信号に基づいて所定の演算処理を行う演算処理部を更に有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】  請求項１乃至７のいずれか１項に記載の半導体装置において、
互いに異なる波長の光を放出する前記発光素子を複数有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項９】  請求項１乃至８のいずれか１項に記載の半導体装置において、
前記演算処理部は、一の前記受光素子と一の前記発光素子に接続されており、前記演算処理部は、他の前記発光素子からの信号を前記一の受光素子を介して受信し、前記一の発光素子を介して他の前記受光素子に信号を送信する
ことを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、半導体基板上に形成され、前記半導体基板の表面に沿って光を放出する発光素子と、前記半導体基板上に形成され、前記発光素子と光学的に結合する光導波路層と、前記半導体基板上に形成され、前記光導波路層と光学的に結合する複数の受光素子とを有し、前記光導波路層は、前記半導体基板上にエピタキシャル成長されたＳｉＧｅＣ層を有することを特徴とする半導体装置により達成される。これにより、発光素子と、光導波路層と、受光素子とが、同一の半導体基板上に形成されているので、光信号を用いることができ、電気信号を用いる場合に比べて、信号の遅延時間を大幅に短縮することができる。従って、高速動作が可能な半導体装置を提供することができる。また、光導波路層が平面状に形成されているので、発光素子と受光素子とを光学的に結合する光配線をそれぞれ別個に形成することを要しない。従って、設計の自由度を向上することができる。また、光導波路層が平面状に形成されているので、迂回することなく、発光素子から受光素子に光を伝搬することができる。従って、信号の遅延時間の均一化を図ることが容易となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月11日(2006.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被加熱物から放射される赤外線を検出する赤外線センサと、該被加熱物と熱的に接触した感熱素子と、前記赤外線センサにより検出された赤外線量と前記感熱素子により検出された温度により、前記被加熱物から放射される赤外線の放射率を推定する推定手段と、該推定手段により推定された前記被加熱物の放射率と前記赤外線センサにより検出された赤外線量から前記被加熱物の放射温度を算出する放射温度算出手段とを備えたことを特徴とする誘導加熱調理器。
【請求項２】  前記推定手段による前記被加熱物に対する放射率の推定は、前記感熱素子により検出された温度と前記赤外線センサにより検出された赤外線量の変動が、所定時間以上続いて所定範囲内に収まっている場合に実行されることを特徴とする請求項１記載の誘導加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月30日(2006.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数のコアを組合わせ、対向配置して閉磁路を形成するようにしたリーケージトランスにおいて、
前記対向配置された少なくとも一方側のコア内壁面で四辺形の四頂点となる位置に、他方側のコア内壁面方向へ突出した柱脚を設け、
前記四頂点に位置する全柱脚を囲繞するように第１の一次巻線を巻回すると共に、前記頂点の対向する頂点に位置する一対の柱脚を囲繞するように第２の一次巻線を巻回し、
前記一対の柱脚とは異なる一対の柱脚における一方に、第１の二次巻線を巻回し、
前記一対の柱脚とは異なる一対の柱脚における他方に、第２の二次巻線を巻回したことを特徴とするリーケージトランス。
【請求項２】  第１の一次巻線と第２の一次巻線の巻数比を変えることにより一次巻線と各二次巻線との結合度を調整し得るようにしたことを特徴とする請求項１に記載のリーケージトランス。
【請求項３】  １つの柱脚に複数の巻線を巻回する場合には、巻回部分を柱脚の長さ方向に分けて巻回することを特徴とする請求項１に記載のリーケージトランス。
【請求項４】  前記各柱脚の高さが所望に形成されており、複数のコアを組合わせ、対向配置して閉磁路を形成した場合のギャップ長が所望になることを特徴とする請求項１に記載のリーケージトランス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本願の請求項１に係るリーケージトランスは、複数のコアを組合わせ、対向配置して閉磁路を形成するようにしたリーケージトランスにおいて、前記対向配置された少なくとも一方側のコア内壁面で四辺形の四頂点となる位置に、他方側のコア内壁面方向へ突出した柱脚を設け、前記四頂点に位置する全柱脚を囲繞するように第１の一次巻線を巻回すると共に、前記頂点の対向する頂点に位置する一対の柱脚を囲繞するように第２の一次巻線を巻回し、前記一対の柱脚とは異なる一対の柱脚における一方に、第１の二次巻線を巻回し、前記一対の柱脚とは異なる一対の柱脚における他方に、第２の二次巻線を巻回したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のリーケージトランスは、対向配置されたコアの少なくとも一方側のコア内壁面で四辺形の四頂点となる位置に、他方側のコア内壁面方向に突出した柱脚を設け、これらの柱脚の軸方向に複数の一次巻線と複数の二次巻線を巻いて構成するとともに、前記二次巻線の間の隔壁部をなくしたので、コアの作成が容易で、かつ、小型化することができ、更に、一次巻線側と二次巻線側の結合をより精密に調整することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月21日(2006.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】以下のステップ(a)から(c)を設け、電子写真式プリンタまたはコピー機（ＥＰＣ）の使用量を正確に計測する方法。
(a) 前記ＥＰＣに結像される各ページに使用されるトナーの量に関係するトナーパラメータ値を決定する。
(b) 前記ＥＰＣの出力容器に排出されたページの数を計数する。
(c) 前記ページがステップ(b)で前記出力容器に排出された場合にかぎりページに対するユーザ課金値を増加させる。
【請求項２】ページ毎の前記ユーザ課金値は、少なくとも部分的に、前記ページに対する前記トナーパラメータ値に基づく請求項１に記載の方法。
【請求項３】ステップ(a)は、前記トナーパラメータ値を、少なくとも部分的に、ページ上に結像されるピクセルの総数を計数することにより決定する請求項２に記載の方法。
【請求項４】ステップ(a)は更に、処理されているページの大きさに関係するページサイズパラメータに基づいて前記ユーザ課金値を決定する請求項１に記載の方法。
【請求項５】以下の(a)から(c)を設け、電子写真式プリンタまたはコピー機（ＥＰＣ）(10)を制御して前記ＥＰＣの使用量を計測するメモリ媒体。
(a) 前記ＥＰＣを制御して、前記ＥＰＣに結像される各ページに使用されるトナーの量に関係するトナーパラメータ値を決定するための手段。
(b) 前記ＥＰＣを制御して、前記ＥＰＣの出力容器に排出されるページの数を計数する手段。
(c) 前記ＥＰＣを制御して、前記ページが手段(b)により前記出力容器に排出される場合にかぎりページについてのユーザ課金値を増加させる手段。
【請求項６】ページについての前記ユーザ課金値は、少なくとも部分的に、前記ページについての前記トナーパラメータ値を基準にしている請求項５に記載のメモリ媒体。
【請求項７】手段(a)は、前記ＥＰＣを制御して、前記トナーパラメータ値を、少なくとも部分的に、ページ上に結像されるピクセルの総数を計数することにより決定する請求項６に記載のメモリ媒体。
【請求項８】手段(a)は、前記ＥＰＣを制御して、処理されているページの大きさに関係するページサイズパラメータに基づいて前記トナーパラメータ値を更に決定する請求項７に記載のメモリ媒体。
【請求項９】前記ユーザ課金値を、少なくとも部分的に、ページが一方の面にプリントされるかまたは両面にプリントされるかに基づいて決定する請求項６に記載のメモリ媒体。
【請求項１０】更に、以下の(d)から(g)を備えた請求項５に記載のメモリ媒体。
(d) 前記ＥＰＣを制御して、手段(c)から決定された結果に基づきユーザ課金値合計を得る手段。
(e) 前記ＥＰＣを制御して、前記ユーザ課金値合計をディスクメモリに書込む手段。
(f) 前記ＥＰＣを制御して、前記ユーザ課金値合計を前記ＥＰＣにある不揮発性メモリに書込む手段。
(g) 電源を投入したとき、前記ＥＰＣを制御して、前記不揮発性メモリにあるユーザ課金値合計と前記ディスクメモリからのユーザ課金値合計とを比較し、それらの間に値の相違があれば、矯正動作を開始する手段。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
Ａ＞ｎ＋ｎ′              ： ＮＧ（ＯＶＥＲ）
ｎ−ｎ′≦Ａ≦ｎ＋ｎ′    ： ＯＫ
Ａ＜ｎ−ｎ′              ： ＮＧ（ＵＮＤＥＲ）
なお、ｎは、基準移動距離Ｌ０に対応する値（理論送り数）であり、この基準移動距離Ｌ０を単位送り量ｄＬで除算することによって得られる。また、ｎ′は、所定の管理値（ｎのばらつきの許容値）である。そして、これら理論送り数ｎおよび管理値ｎ′によって、送り回数Ａの許容範囲が設定されている。この場合、管理値ｎ′をゼロ値（０）としてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
前記ステップＳ８において、Ａ＞ｎ＋ｎ′であり、判定結果がＮＧ（ＯＶＥＲ）であった場合には、続いて、ステップＳ９の処理が行われる。このステップＳ９において、制御装置６０は、ノズル４８から砥石４６に向けて、切削油を一定時間（例えば、５分以上）噴射させるとともに、図示しない表示器の画面上にエラーメッセージを表示させる処理を行う。そして、このステップＳ９の処理の後、前記ステップＳ５の処理に戻る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前記ステップＳ８において、Ａ＜ｎ−ｎ′であり、判定結果がＮＧ（ＵＮＤＥＲ）であった場合には、続いて、ステップＳ１０の処理が行われる。このステップＳ１０において、制御装置６０は、前記ステップＳ８でＮＧ（ＵＮＤＥＲ）と判定された回数Ｎを計数する（Ｎ＝Ｎ＋１）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
前記ステップＳ８において、ｎ−ｎ′≦Ａ≦ｎ＋ｎ′であり、判定結果がＯＫであった場合には、続いて、ステップＳ１３の処理が行われる。このステップＳ１３において、制御装置６０は、ドレス用モータ３２を介してドレッサ３６を高速度（ドレッシング作業用の速度）で回転させる。そして、次のステップＳ１４において、切削油供給装置５０をＯＮにし、ノズル４８から砥石４６に向けて、切削油を連続して噴射させる処理を開始する（図４および図５中、時点ｔ４）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月29日(2006.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
次にこの第１の実施の形態の作用を説明する。図１に示す状態は、両印刷ユニット４，４ａでの印刷開始状態であり、印刷ユニット４，４ａの回転に従って用紙８が走行し、上流側の印刷ユニット４では、これのブランケット胴６のブランケット部分に版胴５の刷版から転写された絵柄が圧胴７に押圧されて用紙８上に印刷される。また下流側の印刷ユニット４ａでは、これのブランケット胴６ａのブランケット部分に転写された絵柄が、１サイクル前に上記上流側の印刷ユニット４にて印刷された絵柄上に２色目として重ね刷りされる。このときのピン車９は印刷ユニット４，４ａと同周速で正回転される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図１に示す状態で版胴５，５ａの刷版にて天地寸法がａ（＝Ｌ）の絵柄が転写されたブランケット胴６，６ａが１／２回転することにより、用紙８上に天地寸法がブランケット胴の大径部の周長Ｌ分の絵柄が印刷される。その後用紙８はブランケット胴６，６ａが１／２回転する間にわたってこれの小径部に対向され、その後再び同じ絵柄が印刷される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図１に示す状態で版胴５，５ａの刷版にてブランケット部分に天地寸法がａ（＝１／２Ｌ）の絵柄が転写されたブランケット胴６，６ａが１／２回転することにより、用紙８上に天地寸法が１／２Ｌの絵柄が印刷されると共に、１／２Ｌの印刷白紙部ができる。その後用紙８はブランケット胴６，６ａの小径部に対向する。この間に大径部の周長Ｌから印刷白紙部（Ｌ−ａ）だけピン車９を逆回転して用紙８を逆走させる。