(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子ビームにより、ウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズ部と
を備え、
前記電子レンズ部は、
前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１主磁性導体部と、
前記第１主磁性導体部に対して平行に配置され、前記複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を含む第２主磁性導体部と、
前記第１主磁性導体部において、前記第１開口部の周囲に、前記電子ビームの照射方向に平行な方向に突出するように設けられた複数の第１副磁性導体部と
を有することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項２】
前記電子レンズ部は、前記第２主磁性導体部との間隔が異なる前記複数の第１副磁性導体部を有することを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項３】
前記電子レンズ部は、前記第１主磁性導体部及び前記第２主磁性導体部の周囲に設けられ、磁界を発生させるコイル部をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項４】
所定の前記第１副磁性導体部と前記第２主磁性導体部との間隔は、前記所定の第１副磁性導体部より前記コイル部から遠い位置に配置された他の前記第１副磁性導体部と前記第２主磁性導体部との間隔より大きいことを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項５】
前記電子レンズ部は、前記第２主磁性導体部において、前記第２開口部の周囲に、前記電子ビームの照射方向に平行な方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体部をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項６】
所定の前記第１副磁性導体部と、当該所定の前記第１副磁性導体部に対向する所定の前記第２副磁性導体部との間隔は、他の前記第１副磁性導体部と、当該他の前記第１磁性導体部と対向する他の前記第２副磁性導体部との間隔と異なることを特徴とする請求項５に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項７】
前記所定の第１副磁性導体部と前記所定の第２副磁性導体部との間隔は、前記所定の第１副磁性導体部より前記コイル部から遠い位置に配置された前記他の第１副磁性導体部と前記他の第２副磁性導体部との間隔より大きいことを特徴とする請求項６に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項８】
前記電子レンズ部は、前記第１副磁性導体部と、前記第１副磁性導体部と同一軸上に設けられた前記第２副磁性導体部との周囲に設けられた非磁性導体部をさらに有することを特徴とする請求項５に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項９】
前記非磁性導体部は、前記第１副磁性導体部と前記第２副磁性導体部とに挟まれることを特徴とする請求項８に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１０】
複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズであって、
前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１主磁性導体部と、
前記第１主磁性導体部に対して平行に配置され、前記複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を含む第２主磁性導体部と、
前記第１主磁性導体部において、前記第１開口部の周囲に、前記電子ビームの照射方向に平行な方向に突出するように設けられた複数の第１副磁性導体部と
を備えることを特徴とする電子レンズ。
【請求項１１】
前記第２主磁性導体部との間隔が異なる前記複数の第１副磁性導体部を備えることを特徴とする請求項１０に記載の電子レンズ。
【請求項１２】
前記第２主磁性導体部において、前記第２開口部の周囲に、前記電子ビームの照射方向に平行な方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体部
をさらに備えることを特徴とする請求項１０に記載の電子レンズ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム露光装置及び電子レンズに関する。特に本発明は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させることができる電子ビーム露光装置及び電子レンズに関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１は、従来の電子ビーム露光装置における多軸電子レンズ３００の断面図である。多軸電子レンズ３００では、１つのレンズコイル３１０と、複数の開口部３２０を有する２つの磁性導体部材３３０とを用いることにより、当該複数の開口部３２０のそれぞれにおいて複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、１つのレンズコイル３１０によって複数の開口部３２０に生じる磁界３４０は、開口部３２０の中心軸に対して対称とならないため、それぞれの開口部３２０を通過する複数の電子ビームを同じ位置で結像させることが困難であった。
【０００４】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第１の形態によると、複数の電子ビームにより、ウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズ部とを備え、電子レンズ部は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を含む第２主磁性導体部と、第１主磁性導体部において、第１開口部の周囲に、電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１副磁性導体部とを有する。
【０００６】
電子レンズ部は、第２主磁性導体部との間隔が異なる複数の第１副磁性導体部を有してもよい。電子レンズ部は、第１主磁性導体部及び第２主磁性導体部の周囲に設けられ、磁界を発生させるコイル部をさらに有してもよい。所定の第１副磁性導体部と第２主磁性導体部との間隔は、所定の第１副磁性導体部よりコイル部から遠い位置に配置された他の第１副磁性導体部と第２主磁性導体部との間隔より大きくてもよい。
【０００７】
複数の第１副磁性導体部のそれぞれと、第２主磁性導体部との間隔は、第２主磁性導体部における複数の第２開口部が設けられた領域の中心軸に対して略対称であってもよい。電子レンズ部は、第２主磁性導体部において、第２開口部の周囲に、電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体部をさらに有してもよい。
【０００８】
所定の第１副磁性導体部と、当該所定の第１副磁性導体部に対向する所定の第２副磁性導体部との間隔は、他の第１副磁性導体部と、当該他の第１磁性導体部と対向する他の第２副磁性導体部との間隔と異なっていてもよい。所定の第１副磁性導体部と所定の第２副磁性導体部との間隔は、所定の第１副磁性導体部よりコイル部から遠い位置に配置された他の第１副磁性導体部と他の第２副磁性導体部との間隔より大きくてもよい。
【０００９】
複数の第１副磁性導体部のそれぞれと、複数の第２副磁性導体部のそれぞれとの間隔は、第２主磁性導体部における複数の第２開口部が設けられた領域の中心軸に対して略対称であってもよい。
【００１０】
電子レンズ部は、第１副磁性導体部と、第１副磁性導体部と略同一軸上に設けられた第２副磁性導体部との周囲に設けられた非磁性導体部をさらに有してもよい。非磁性導体部は、第１副磁性導体部と第２副磁性導体部とに挟まれてもよい。
【００１１】
本発明の他の形態によると、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズ部であって、電子レンズ部は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を含む第２主磁性導体部と、第１主磁性導体部において、第１開口部の周囲に、電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１副磁性導体部とを備える。
【００１２】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００１４】
図２は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置１００は、電子ビームによりウェハ４４に所定の露光処理を施す露光部１５０と、露光部１５０に含まれる各構成の動作を制御する制御系１４０を備える。
【００１５】
露光部１５０は、筐体８内部において複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビームをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替える照射切替手段１１２と、ウェハ４４に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系を備える。また、露光部１５０は、パターンを露光すべきウェハ４４を載置するウェハステージ４６と、ウェハステージ４６を駆動するウェハステージ駆動部４８とを含むステージ系を備える。さらに、露光部１５０は、ウェハ４４又はウェハステージ４６に設けられるマーク部に照射された電子ビームにより、マーク部から放射された２次電子や反射電子等を検出する電子検出部４０を備える。電子検出部４０は、検出した反射電子の量に対応した検出信号を反射電子処理部９４に出力する。
【００１６】
電子ビーム成形手段１１０は、複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生部１０と、電子ビームを通過させることにより、照射された電子ビームの断面形状を成形する複数の開口部を有する第１成形部材１４および第２成形部材２２と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第１多軸電子レンズ１６と、第１成形部材１４を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第１成形偏向部１８および第２成形偏向部２０とを有する。
【００１７】
第１多軸電子レンズ１６は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を含む第１主磁性導体部２１０ａと、当該第１主磁性導体部２１０ａに略平行して配置され、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を含む第２主磁性導体部２１０ｂと、第１主磁性導体部２１０ａ及び第２主磁性導体部２１０ｂの開口部の周囲に、電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の副磁性導体部２０６を有する。なお、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ５２も、上述した第１多軸電子レンズと同様の構成を有してもよい。
【００１８】
電子ビーム発生部１０は、複数の電子銃１０４と、電子銃１０４が形成される基材１０６とを有する。電子銃１０４は、熱電子を発生させるカソード１２と、カソード１２を囲むように形成され、カソード１２で発生した熱電子を安定させるグリッド１０２とを有する。カソード１２とグリッド１０２とは、電気的に絶縁されるのが望ましい。本実施例において、電子ビーム発生部１０は、基材１０６に、複数の電子銃１０４を、所定の間隔に有することにより、電子銃アレイを形成する。
【００１９】
照射切替手段１１２は、複数の電子ビームを独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第２多軸電子レンズ２４と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替えるブランキング電極アレイ２６と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ２６で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材２８とを有する。他の例においてブランキング電極アレイ２６は、ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【００２０】
ウェハ用投影系１１４は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小する第３多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第４多軸電子レンズ３６と、複数の電子ビームをウェハ４４の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して独立に偏向する偏向部３８と、ウェハ４４に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束する第５多軸電子レンズ５２とを有する。
【００２１】
制御系１４０は、統括制御部１３０及び個別制御部１２０を備える。個別制御部１２０は、電子ビーム制御部８０と、多軸電子レンズ制御部８２と、成形偏向制御部８４と、ブランキング電極アレイ制御部８６と、偏向制御部９２と、反射電子処理部９４と、ウェハステージ制御部９６とを有する。統括制御部１３０は、例えばワークステーションであって、個別制御部１２０に含まれる各制御部を統括制御する。電子ビーム制御部８０は、電子ビーム発生部１０を制御する。多軸電子レンズ制御部８２は、第１多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６および第５多軸電子レンズ５２に供給する電流を制御する。
【００２２】
成形偏向制御部８４は、第１成形偏向部１８および第２成形偏向部２０を制御する。ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。反射電子処理部９４は、電子検出部４０から出力された検出信号に基づいて反射電子の量を検出し、統括制御部１３０に通知する。ウェハステージ制御部９６は、ウェハステージ駆動部４８を制御し、ウェハステージ４６を所定の位置に移動させる。
【００２３】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部１０は、複数の電子ビームを生成する。第１成形部材１４は、電子ビーム発生部１０により発生し、第１成形部材１４に照射された複数の電子ビームを、第１成形部材１４に設けられた複数の開口部を通過させることにより成形する。他の例においては、電子ビーム発生部１０において発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成してもよい。
【００２４】
第１多軸電子レンズ１６は、矩形に成形された複数の電子ビームを独立に集束し、第２成形部材２２に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に調整する。第１成形偏向部１８は、第１成形部材１４において矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第２成形部材における所望の位置に照射するように、それぞれ独立に偏向する。
【００２５】
第２成形偏向部２０は、第１成形偏向部１８で偏向された複数の電子ビームを、第２成形部材２２に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第２成形部材２２に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部を含む第２成形部材２２は、第２成形部材２２に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ４４に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。
【００２６】
第２多軸電子レンズ２４は、複数の電子ビームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ２６に対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。そして、第２多軸電子レンズ２４により焦点がそれぞれ調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレイ２６に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【００２７】
ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６における各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ２６は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ４４に照射させるか否かを切替える。
【００２８】
ブランキング電極アレイに２６により偏向されない電子ビームは、第３多軸電子レンズ３４を通過する。そして第３多軸電子レンズ３４は、第３多軸電子レンズ３４を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材２８に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽部材２８は、ブランキング電極アレイ２６により偏向された電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材２８を通過した電子ビームは、第４多軸電子レンズ３６に入射される。そして第４多軸電子レンズ３６は、入射された電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部３８に対する電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。第４多軸電子レンズ３６により焦点が調整された電子ビームは、偏向部３８に入射される。
【００２９】
偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器を制御し、偏向部３８に入射されたそれぞれの電子ビームを、ウェハ４４に対して照射すべき位置にそれぞれ独立に偏向する。第５多軸電子レンズ５２は、第５多軸電子レンズ５２を通過するそれぞれの電子ビームのウェハ４４に対する焦点を調整する。そしてウェハ４４に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子ビームは、ウェハ４４に対して照射すべき所望の位置に照射される。
【００３０】
露光処理中、ウェハステージ駆動部４８は、ウェハステージ制御部９６からの指示に基づき、一定方向にウェハステージ４６を連続移動させるのが好ましい。そして、ウェハ４４の移動に合わせて、電子ビームの断面形状をウェハ４４に照射すべき形状に成形し、ウェハ４４に照射すべき電子ビームを通過させるアパーチャを定め、さらに偏向部３８によりそれぞれの電子ビームをウェハ４４に対して照射すべき位置に偏向させることにより、ウェハ４４に所望の回路パターンを露光することができる。
【００３１】
図３は、本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６の上面図を示す。なお、電子ビーム露光装置１００に含まれる第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ５２も、第１多軸電子レンズ１６と同様の構成を有してよく、以下において、多軸電子レンズの構成に関して、代表して第１多軸電子レンズ１６の構成に基づいて説明する。
【００３２】
第１多軸電子レンズ１６は、レンズ部２０２およびレンズ部２０２の周囲に設けられ磁界を発生するコイル部２００を備える。レンズ部２０２は、電子ビームが通過するレンズ開口部２０４、およびレンズ開口部２０４に設けられた副磁性導体部２０６を有する。各電子ビームが通過するレンズ開口部２０４は、ブランキング電極アレイ２６に含まれる複数のアパーチャ、及び偏向部３８に含まれる複数の偏向器の位置に対応して配置されるのが好ましい。本例において、レンズ開口部２０４、アパーチャ、及び偏向器は、実質的に同一軸上に配置される。
【００３３】
図４は、本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６の断面図を示す。第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ５２も、第１多軸電子レンズ１６と同様の構成を有してよく、以下において、多軸電子レンズの構成に関して、代表して第１多軸電子レンズ１６の構成に基づいて説明する。
【００３４】
図４（ａ）に示すように、コイル部２００は、磁性導体部材であるコイル部磁性導体部材２１２、および磁界を発生するコイル２１４を有する。また、レンズ部２０２は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部２０４ａを含む第１主磁性導体部２１０ａ、及び第１主磁性導体部２１０ａに対して略平行に配置され複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部２０４ｂを含む第２主磁性導体部２１０ｂを有する主磁性導体部材２１０と、第１開口部２０４ａの周囲に電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１副磁性導体部２０６ａと、第２開口部２０４ｂの周囲に電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体部２０６ｂとを有する。
【００３５】
第１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとは、実質的に等しい形状及び大きさであることが好ましい。また、第１副磁性導体部２０６ａ及び第２副磁性導体部２０６ｂは、円筒形状であることが好ましい。本例においては、第１開口部２０４ａの内側に第１副磁性導体部２０６ａが設けられ、また、第２開口部２０４ｂの内側に第２副磁性導体部２０６ｂが設けられる。第１副磁性導体部２０６の開口部及び第２副磁性導体部２０６ｂの開口部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部２０４を形成する。レンズ開口部２０４において、第１副磁性導体部２０６ａ及び第２副磁性導体部２０６ｂにより磁界が形成される。レンズ開口部２０４に入射した電子ビームは、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとの間において発生する磁界の影響を受けて、それぞれ独立に集束される。
【００３６】
所定の第１副磁性導体部２０６ａと、当該所定の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔は、他の第１副磁性導体部２０６ａと、当該他の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔と異なってもよい。図４（ｂ）に示すように、主磁性導体部２１０は、間隔が異なる第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとを有することにより、各レンズ開口部２０４に形成される磁界２２０の強度を調整することができる。即ち、各レンズ開口部２０４に形成される磁界２００の強度を均一にすることができる。また、各レンズ開口部２０４に形成されるレンズ軸を、電子ビームの照射方向に略平行な方向に向けることができる。さらに、各レンズ開口部２０４を通過する複数の電子ビームを略等しい面で集束させることができる。
【００３７】
例えば、レンズ開口部２０４に形成される磁界強度が、主磁性導体部２１０の中心部より外周部の方が強い場合には、所定の第１副磁性導体部２０６ａと、当該所定の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔は、当該所定の第１副磁性導体部２０６ａよりコイル部２００から遠い位置に設けられた他の第１副磁性導体部２０６ａと、当該他の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔より大きいことが好ましい。さらに、第１副磁性導体部２０６ａのそれぞれと、第２副磁性導体部２０６ｂのそれぞれとの間隔は、第２主磁性導体部２１０ｂにおける複数の第２開口部２０４ｂが設けられた領域の中心軸に対して略対称であることが好ましい
【００３８】
図５は、本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６の他の例の断面図を示す。図５（ａ）に示すように、第１多軸電子レンズ１６は、第１副磁性導体部２０６ａと、当該第１副磁性導体部２０６ａと略同一軸上に設けられた第２副磁性導体部２０６ｂとの周囲に設けられた非磁性導体部２０８を有してもよい。非磁性導体部２０８を第１副磁性導体部２０６ａ及び第２副磁性導体部２０６ｂの周囲に設けることにより、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとの同軸度を精度よく制御することができる。また、非磁性導体部２０８は、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとに挟まれるように設けられることが望ましい。非磁性導体部２０８を第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとに挟まれるように設けることにより、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔を精度よく制御することができる。また、非磁性導体部２０８は、第１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとに挟まれるように設けられてもよい。非磁性導体部２０８を第１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとに挟まれるように設けることにより、非磁性導体部２０８は、第１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとのスペーサとしての機能を有する。
【００３９】
図５（ｂ）に示すように、レンズ部２０２は、第１の主磁性導体部２１０ａ及び第２主磁性導体部２１０ｂの少なくとも一方に副磁性導体部２０６が設けられてもよい。本実施例においてレンズ部２０２は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部２０４ａを含む第１主磁性導体部２１０ａ、及び第１主磁性導体部２１０ａに対して略平行に配置され複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部２０４ｂを含む第２主磁性導体部２１０ｂを有する主磁性導体部材２１０と、第２開口部２０４ｂの周囲に電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体部２０６ｂとを有する。このとき、第１主磁性導体部２１０ａの第１開口部２０４ａ及び第２副磁性導体部２０６ｂの開口部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部２０４を形成する。また、第１主磁性導体部２１０ａの第１開口部２０４ａと第２副磁性導体部２０６ｂの開口部とは、略等しい大きさであることが好ましい。
【００４０】
また、レンズ部２０２は、第１主磁性導体部２１０ａとの間隔が異なる複数の第２副磁性導体部２０６ｂを有してもよい。第１主磁性導体部２１０ａとの間隔が異なる複数の第２副磁性導体部２０６ｂが、第２主磁性導体部２１０ｂに設けられることにより、各レンズ開口部２０４に形成される磁界の強度を調整することができる。即ち、各レンズ開口部２０４に形成される磁界の強度を均一にすることができる。また、各レンズ開口部２０４に形成される磁場を、レンズ開口部２０４の中心軸に対して略対称に分布させることができる。さらに、各レンズ開口部２０４を通過する複数の電子ビームを略等しい面で集束させることができる。
【００４１】
例えば、レンズ開口部２０４に形成される磁界強度が、主磁性導体部２１０の中心部より外周部の方が強い場合には、所定の第２副磁性導体部２０６ｂと、第２主磁性導体部２１０ａとの間隔は、当該所定の第２副磁性導体部２０６ｂよりコイル部２００から遠い位置に設けられた他の第２副磁性導体部２０６ｂと、第１主磁性導体部２１０ａとの間隔より大きいことが好ましい。さらに、第２副磁性導体部２０６ｂのそれぞれと、第１主磁性導体部２１０ａとの間隔は、第１主磁性導体部２１０ａにおける複数の第１開口部２０４ａが設けられた領域の中心軸に対して略対称であることが好ましい。
【００４２】
図５（ｃ）に示すように、第１副磁性導体部２０６ａは、第１主磁性導体部２１０ａにおける第２主磁性導体部２１０ｂと対向する面に設けられ、第２副磁性導体部２０６ｂは、第２主磁性導体部２１０ｂにおける第１主磁性導体部２１０ａと対向する面に設けられてもよい。このとき、第１副磁性導体部２０６ａ及び第２副磁性導体部２１０ｂの開口部は、第１主磁性導体部２１０ａの第１開口部２０４ａ及び第２主磁性導体部２１０ｂの第２開口部２０４ｂと略等しいことが好ましい。第１副磁性導体部２０６ａの開口部、第２副磁性導体部２０６ｂの開口部、及び非磁性導体部２０８の開口部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部２０４を形成する。
【００４３】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００４４】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば、複数の電子ビームをそれぞれ独立に精度よく集束させることができる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の電子ビーム露光装置における多軸電子レンズ３００の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６の上面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６の断面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６の他の例の断面図である。
【符号の説明】
８・・筐体、１０・・電子ビーム発生部、１４・・第１成形部材、１６・・第１多軸電子レンズ、１８・・第１成形偏向部、２０・・第２成形偏向部、２２・・第２成形部材、２４・・第２多軸電子レンズ、２６・・ブランキング電極アレイ、２８・・電子ビーム遮蔽部材、３４・・第３多軸電子レンズ、３６・・第４多軸電子レンズ、３８・・偏向部、４０・・電子検出部、４４・・ウェハ、４６・・ウェハステージ、４８・・ウェハステージ駆動部、５２・・第５多軸電子レンズ、８０・・電子ビーム制御部、８２・・多軸電子レンズ制御部、８４・・成形偏向制御部、８６・・ブランキング電極アレイ制御部、９２・・偏向制御部、９４・・反射電子処理部、９６・・ウェハステージ制御部、１００・・電子ビーム露光装置、１０４・・電子銃、１１０・・電子ビーム成形手段、１１２・・照射切替手段、１１４・・ウェハ用投影系、１２０・・個別制御系、１３０・・統括制御部、１４０・・制御系、１５０・・露光部、２００・・コイル部、２０２・・レンズ部、２０４・・レンズ開口部、２０４ａ・・第１開口部、２０４ｂ・・第２開口部、２０６・・副磁性導体部、２０６ａ・・第１副磁性導体部、２０６ｂ・・第２副磁性導体部、２０８・・非磁性導体部、２１０・・主磁性導体部、２１０ａ・・第１主磁性導体部、２１０ｂ・・第２主磁性導体部、２１２・・コイル部磁性導体部材、２１４・・コイル、２２０・・磁界
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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