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　平成１０年特許願第　６１５４２号「浸漬式基板処理装置」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年　８月２１日出願公開、特開平１０−２２３５９９］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成６年６月２７日に出願した特願平６−１６８７１２号の一部を平成１０年３月１２日に新たな特許出願としたものであって、本願の請求項１に係る発明は、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものであり、請求項１に係る発明は次のとおりのものである。
「【請求項１】　
　薬液と純水とを所要比率で混合した処理液に基板を浸漬して表面処理を施す浸漬式基板処理装置であって、
　前記処理液を収容し、基板を浸漬するための処理槽と、
　前記処理槽へ純水を供給する処理液供給配管と、
　前記処理液供給配管へ供給する純水の流量を調節する純水流量調整手段と、複数個の薬液タンクと、
　前記各薬液タンクの薬液を前記処理液供給配管へ供給するために前記各薬液タンクごとに個別に設けられた薬液配管と、
　前記各薬液配管に介在し、前記各薬液タンクごとの薬液供給量を調節する薬液流量調整手段と、
　前記処理液供給配管に配設され、流通している純水あるいは処理液の透過光強度を測定する透過光強度測定手段と、
　前記純水流量調整手段および前記各薬液流量調整手段の選択状況に応じた流体情報と、前記透過光強度測定手段によって測定された透過光強度とに基づいて処理液の濃度を算出する処理液濃度算出手段と、
　前記処理液濃度算出手段により算出された濃度と前記流体情報とに応じて、前記純水流量調整手段または／および前記各薬液流量調整手段を制御する制御手段
とを備えていることを特徴とする浸漬式基板処理装置。」
　
２．引用刊行物
　原査定の拒絶理由に引用された、引用文献２〔実願平３−１０９９６３号（実開平５−５３２４１号）のＣＤーＲＯＭ〕には、次の事項が記載されている。
（あ）「【請求項１】 洗浄液中に基板を浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽と、
純水の主要通路をなし、その通路内で純水と複数種の薬液とを調合して複数種の洗浄液を洗浄槽内へ供給する洗浄液供給管と、
各薬液供給管及び各薬液導入手段を介して洗浄液供給管に連通された複数種の薬液貯溜容器と、
各薬液導入手段を制御する薬液供給量制御手段とを具備して成り、
前記複数種の薬液貯溜容器は、過酸化水素水を貯溜した容器と、少なくともアンモニア水を貯溜した容器又は塩酸を貯溜した容器とから成り、
前記洗浄液供給管には純水を流通させ、この純水に前記過酸化水素水及びアンモニア水を供給してアンモニア過水洗浄液を調合し、又は前記純水に前記過酸化水素水及び塩酸を供給して塩酸過水洗浄液を調合するように構成し、
前記薬液供給量制御手段は、洗浄液供給管に付設された透過光測定手段を備え、前記透過光測定手段によって紫外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中の過酸化水素水の濃度を検出するとともに、赤外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出するように構成したことを特徴とする基板洗浄装置。」（第２頁【実用新案登録請求の範囲】）
　
（い）「【実施例】
　以下本考案の実施例を図面に基づいてさらに詳しく説明する。図１は本考案の実施例に係る基板洗浄装置の概要図である。
　この実施例は、洗浄液２中に基板Ｗを浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽１と、純水ＤWの主要通路をなし、その通路内で純水ＤWと複数種の薬液ＱA〜ＱCとを調合して複数種の洗浄液２を洗浄槽１内へ供給する洗浄液供給管３と、各薬液供給管６A〜６C及び各薬液導入手段７A〜７Cを介して洗浄液供給管３に連通された複数種の薬液貯溜容器５A〜５Cと、各薬液導入手段７A〜７Cを制御する薬液供給量制御手段１０とを具備して成る。
【００１６】
　上記洗浄槽１は石英ガラスで形成され、その下部に純水供給管３を接続して成る。そして槽内は整流多孔板１ａで上下に仕切り、洗浄槽１の上部側壁を外側へ向けて広がり形状をなすように形成して渦流の発生を防止し、かつ整流多孔板１ａで処理液２を均一に上昇させてオーバーフローさせ、その上昇流でキャリア１７に収容した基板Ｗの表面を洗浄し、槽内の洗浄液２を迅速に交換し得るように構成されている。なお、上記洗浄槽１は排液槽２０内に設けられ、オーバーフローした洗浄液２は排液管２１を介して排液ドレン２２へ流下するように構成されている。
【００１７】
　洗浄液給液管３には、上流側に向けて順次ラインミキサー４と複数の薬液導入弁９が付設され、純水ＤＷを供給する純水の主要通路として構成され、かつ純水ＤWと各薬液ＱA〜ＱCとを調合して洗浄槽１に供給するように構成されている。
　上記ラインミキサー４は、純水ＤＷと薬液ＱＡ〜ＱCとを均一に混合するためのもので、このラインミキサー４に代えて他の混合器を用いても良く、管路が十分に長ければかかる混合器を省くことも出来る。
【００１８】
　各薬液導入手段７A〜７Cは、薬液ＱＡ〜ＱCを洗浄液給液管３へ圧送する圧送ポンプ８と、各薬液給液管６Ａ〜６Cを開閉する薬液導入弁９とから成り、薬液供給量制御手段１０により、圧送ポンプ８及び薬液導入弁９を選択的に開閉制御して、所定の薬液ＱＡ〜ＱCを洗浄液給液管３へ圧送するように構成されている。 
　なお、各薬液導入手段７A〜７Cは、圧送ポンプ８と薬液導入弁９の少なくとも一方のみで構成することもできる。
　ここで、薬液貯溜容器６Ａ〜６C内の薬液は、ＱＡ＝ＮＨ4ＯＨ、ＱB＝Ｈ2Ｏ２、ＱＣ＝Ｈｃｌである。
【００１９】
　薬液供給量制御手段１０は、例えば図１に示すように、複数種の洗浄処理毎の薬液供給量を設定入力する設定入力部１１と、洗浄液供給管３の透過光測定部３ａに付設された紫外光検出部１３及び赤外光検出部１４とから構成される透過光測定手段１００と、紫外光検出部１３及び赤外光検出部１４からの吸光度信号を受けて薬液濃度を演算し、各圧送ポンプ８及び各薬液導入弁９に向けて制御信号ＩＡ〜ＩCを出力する制御部１２とから成る。
【００２０】
　ちなみに、本実施例では次のような洗浄プログラムを実行することができる。
ステップ１：純水＋ＱＡ＋ＱB 
ステップ２：純水
ステップ３：純水＋ＱＢ＋ＱＣ 
ステップ４：純水（終了）
【００２１】
　上記紫外光検出部１３は、紫外光を多く発光する光源１３ａと、紫外光のうち３００nm近傍の光を感度領域とする受光素子１３ｂとを備え、また赤外光検出部１４は、赤外光を多く発光する光源１４ａと、赤外光のうち２２００nm近傍の光を感度領域とする受光素子１４ｂとを備える。
　この紫外光検出部１３は、上記洗浄液供給管３の透過光測定部３ａ内を流れる複数種の洗浄液２中の過酸化水素水の吸光度を検出し、赤外光検出部１４は、上記洗浄液供給管３の透過光測定部３ａ内を流れる複数種の洗浄液２中のアンモニア水及び塩酸の吸光度を検出する。
【００２２】
　上記制御部１２は、紫外光検出部１３及び赤外光検出部１４で検出した吸光度に対応する各薬液濃度を演算し、あらかじめ入力された洗浄処理プログラム及び設定入力された薬液濃度とを対比して過不足無く薬液を供給するため、各圧送ポンプ８及び各薬液導入弁９を駆動制御するように構成されている。」（第１０頁第２０行〜第１２頁第２２行）
　
　前記（あ）〜（い）の記載事項と第１図の記載からみて、引用文献２には、「薬液と純水とを所要比率で混合した洗浄液に基板を浸漬して表面処理を施す浸漬式基板処理装置であって、
　前記洗浄液を収容し、基板を浸漬するための洗浄槽と、
　前記洗浄槽へ純水を供給する洗浄液供給管と、
　複数個の薬液貯溜容器と、
　前記各薬液貯溜容器の薬液を前記洗浄液供給管へ供給するために前記各薬液貯溜容器ごとに個別に設けられた薬液供給管と、
　前記各薬液供給管に介在し、前記各薬液貯溜容器ごとの薬液供給量を調節する薬液導入手段と、
　前記洗浄液供給管に配設され、流通している純水あるいは洗浄液の吸光度を測定する透過光測定手段と、
　複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力と、前記透過光測定手段によって測定された吸光度とに基づいて洗浄液の濃度を算出する洗浄液濃度算出手段と、
　前記洗浄液濃度算出手段により算出された濃度と洗浄処理プログラムとに応じて、前記各薬液導入手段を制御する薬液供給量制御手段
とを備えていることを特徴とする浸漬式基板処理装置。」が記載されている。
　同引用文献１（特開昭６１−２８１５３２号公報）には、次の事項が記載されている。
（う）「本発明は、例えばＳｉウエハなどの洗浄に使用される洗浄液の成分濃度の調整方法及びその装置に関する。」（第２頁左上欄第５〜７行）
　
（え）「第５図において、２は洗浄槽１に溜められた洗浄液である。３は洗浄液２を昇温するためのモータである。４は洗浄されるＳｉウエハである。」（第３頁右下欄第２〜４行）
　
（お）「マイクロコンピュータ２２は、上記インターフェイス１７より入力された二つの検出値に基づいて、過酸化水素の濃度、アンモニアの濃度を演算する機能、この演算されたそれぞれの濃度と記憶されている所定の濃度（洗浄液として適性な過酸化水素とアンモニアの濃度）とを比較する機能及び、この比較によって得られた所定量の過酸化水素とアンモニアを供給するための電磁弁制御機能を有する。１８は電磁弁制御部である。１９，１９’はマイクロコンピュータ２２からの操作指令により、電磁弁制御部１８を介して制御される電磁弁である。２０は過酸化水素タンク、２１はアンモニア水タンクである。２３，２４は採取液の排出口、２５は純水２６を洗浄槽１内に供給するためのポンプである。」（第４頁左上欄第１〜１５行）
　
（か）「ステップＡでスタートすると、純水補給用ポンプ２５がＯＮされる（ステップＢ）。
　洗浄槽１内の水位は液面センサ２７で測定され（ステップＣ）、洗浄槽１内の水位が所定値であるかを判定（ステップＤ）される。
　所定水位になると純水補給用のポンプ２５が停止され（ステップＥ）、ヒータ３がＯＮ（ステップＦ）され、洗浄液循環用のポンプ２８がＯＮされ（ステップＧ）、次いで過酸化水素とアンモニア補給用電磁弁１９，１９’がｔ、ｔ’時間開かれる（ステップＨ）。・・・測定値に基づいて過酸化水素とアンモニア濃度が算出される（ステップＫ）。上記の算定濃度が目標濃度範囲内であるか否かが判定される（ステップＬ）。
　算出した過酸化水素とアンモニア濃度が目標値から外れている場合、濃度が低すぎれば電磁弁１９，１９’を開いて過酸化水素とアンモニアを注加すべき時間ｔ，ｔ’が算出され、濃度が高すぎればポンプ２５を作動させて純水を注加すべき時間ｔ”が算定され（ステップＭ，Ｎ）、実行される（ステップＱ）。このようにして、洗浄液中の過酸化水素とアンモニア濃度が制御され」（第４頁左下欄第１９行〜第５頁左上欄第４行）
　
（き）「マイクロコンピュータを用いて連続的にかつ自動的に洗浄水の成分濃度を調整するようにした」（第５頁右上欄第１〜３行）
　
　前記（う）〜（き）の記載事項と第５及び６図の記載からみて、引用文献１には、マイクロコンピュータで制御するものが、ポンプまたは／および電磁弁であること。及び、処理液供給配管へ供給する純水の流量を調節するポンプ、が記載されている。
　
３．対比
　引用文献２記載の発明の「複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力」は当然に何らかの情報を有するものであり、「洗浄処理プログラム」も当然に何らかの情報を有するものである。そして、引用文献２記載の発明における「洗浄液」、「洗浄槽」、「洗浄液供給管」、「薬液貯溜容器」、「薬液供給管」、「薬液導入手段」、及び「薬液供給量制御手段」は、本願特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）における「処理液」、「処理槽」、「処理液供給配管」、「薬液タンク」、「薬液配管」、「薬液流量調整手段」、及び「制御手段」にそれぞれ相当するものであるので、本願発明と引用文献２記載の発明とを対比すると、本願発明と引用文献２記載の発明は、
「薬液と純水とを所要比率で混合した処理液に基板を浸漬して表面処理を施す浸漬式基板処理装置であって、
　前記処理液を収容し、基板を浸漬するための処理槽と、
　前記処理槽へ純水を供給する処理液供給配管と、
　複数個の薬液タンクと、
　前記各薬液タンクの薬液を前記処理液供給配管へ供給するために前記各薬液タンクごとに個別に設けられた薬液配管と、
　前記各薬液配管に介在し、前記各薬液タンクごとの薬液供給量を調節する薬液流量調整手段と、
　前記処理液供給配管に配設され、流通している純水あるいは処理液を測定する透過光測定手段と、
　情報と、前記透過光測定手段によって測定された値とに基づいて処理液の濃度を算出する処理液濃度算出手段と、
　前記処理液濃度算出手段により算出された濃度と情報とに応じて、前記各薬液流量調整手段を制御する制御手段
とを備えていることを特徴とする浸漬式基板処理装置。」で両者の構成は一致し、次の点で両者の構成は相違する。
　
相違点（Ａ）
　本願発明は、処理液供給配管へ供給する純水の流量を調節する純水流量調整手段を有しているのに対して、引用文献２記載の発明は、処理液供給配管へ供給する純水の流量を調節する純水流量調整手段について明示が無い点。
　
相違点（Ｂ）
　制御手段で制御するものが、本願発明は、純水流量調整手段または／および各薬液流量調整手段であるのに対して、引用文献２記載の発明は、各薬液流量調整手段である点。
　
相違点（Ｃ）
　透過光測定手段で測定するものが、本願発明は、透過光強度であるのに対して、引用文献２記載の発明は、吸光度である点。
　
相違点（Ｄ）
　本願発明は、純水流量調整手段および各薬液流量調整手段の選択状況に応じた「流体情報」を有するのに対して、引用文献２記載の発明は、「複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力」、あるいは「洗浄処理プログラム」である点。
　
相違点（Ｅ）
　本願発明は、流体情報と透過光強度とに基づいて処理液の濃度を算出するのに対して、引用文献２記載の発明は、複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力と吸光度とに基づいて処理液の濃度を算出する点。
　
相違点（Ｆ）
　制御手段を、本願発明は、処理液濃度と流体情報とに応じて制御するのに対して、引用文献２記載の発明は、処理液濃度と洗浄処理プログラムとに応じて制御する点。
　
４．判断
相違点（Ａ）について
　引用文献１記載の発明における「ポンプ」は、本願発明における「純水流量調整手段」に相当するものであるので、引用文献１記載の発明には、処理液供給配管へ供給する純水の流量を調節する純水流量調整手段が記載されており、これを引用文献２記載の発明に採用して、本願発明の相違点（Ａ）のような構成にしたことに、何ら格別な困難性は認められない。
　
相違点（Ｂ）について
　引用文献１記載の発明における「マイクロコンピュータ」、「ポンプ」、及び、「電磁弁」は、本願発明における「制御手段」、「純水流量調整手段」、及び「薬液流量調整手段」にそれぞれ相当するものであるので、引用文献１記載の発明には、制御手段で制御するものが、純水流量調整手段または／および各薬液流量調整手段であることが記載されており、これを引用文献２記載の発明に採用して、本願発明の相違点（Ｂ）のような構成にしたことに、格別な困難性は認められない。
　
相違点（Ｃ）について
　本願発明のように透過光強度からでも、引用文献２記載の発明のように吸光度からでも、処理液の濃度が算出できることは周知であるので、本願発明の相違点（Ｃ）のように透過光強度を測定するようにした点は、引用文献２記載の発明と比べて何ら格別なものとは認められない。
　
相違点（Ｄ）について
　引用文献２記載の発明の「複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力」には、各洗浄処理毎に選択される純水および各薬液の情報は当然に含まれるものであるので、純水流量調整手段および各薬液流量調整手段の選択状況に応じた情報という点では、本願発明の「流体情報」と、引用文献２記載の発明の「複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力」とに格別の差異は無い。
　また、引用文献２の第１２頁第４〜８行には、「洗浄（処理）プログラム」として、ステップ毎に選択される純水および各薬液ＱＡ、ＱＢ、ＱＣが示されているが、「洗浄（処理）プログラム」には、各ステップ毎に選択される純水および各薬液の情報は当然に含まれるものであるので、純水流量調整手段および各薬液流量調整手段の選択状況に応じた情報という点では、本願発明の「流体情報」と、引用文献２記載の発明の「洗浄（処理）プログラム」とに格別の差異は無い。
　
相違点（Ｅ）について
　上記「相違点（Ｄ）について」に記載したように、純水流量調整手段および各薬液流量調整手段の選択状況に応じた情報という点では、本願発明の流体情報と、引用文献２記載の発明の複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力とに格別の差異は無い。
　また、上記「相違点（Ｃ）について」に記載したように、本願発明のように透過光強度からでも、引用文献２記載の発明のように吸光度からでも、処理液の濃度が算出できることは周知である。
　したがって、本願発明のように、流体情報と透過光強度とに基づいて処理液の濃度を算出するか、引用文献２記載の発明のように、複数種の洗浄処理毎の薬液供給量の設定入力と吸光度とに基づいて処理液の濃度を算出するかの相違による格別の差異は認められない。
　
相違点（Ｆ）について
　上記「相違点（Ｄ）について」に記載したように、本願発明の流体情報と、引用文献２記載の発明の洗浄処理プログラムとに、純水流量調整手段および各薬液流量調整手段の選択状況に応じた情報という点では、格別の差異は無い。
　したがって、本願発明のように処理液濃度と流体情報とに応じて制御するか、引用文献２記載の発明のように処理液濃度と洗浄処理プログラムとに応じて制御するかの相違による格別の差異は認められない。
　
　そして、前記相違点（Ａ）〜（Ｆ）における本願発明の構成による効果は、引用文献２及び１の記載から予測される範囲のものである。
　
５．むすび
　したがって、本願特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、本願出願前に国内で頒布された引用文献２及び１記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。