(57)【要約】      （修正有）【課題】従来の保守作業における、狭隘な見通しのきかない空間の下での不安定且つ不自然な姿勢での手探り状態の作業に起因する作業効率および作業安全性の低下を防止し、作業時間を短縮するとともに保守作業の信頼性を向上する。【解決手段】プロセス室５を架台１１上のレール２１、キャスタ２２から成る移動手段上に載架し、保守時にはゲート弁２とプロセス室５の結合を解除しプロセス室５を搬送室３から右方に退避させ、保守に必要な保守用扉８の開き角度を確保し作業者を保守用扉８の開口部に障害物無く対面させる。保守後はゲート弁２に固定された位置決めピン２３をプロセス室５の前面へ再挿入し、搬送室３とプロセス室５の位置関係を移動前の状態に復元する。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
架台上に架設された搬送室を中心としてクラスタ型に配設された複数のプロセス室を備えたクラスタ型装置において、プロセス室を搬送室に対して退避可能に往復移動できる移動手段を設けたことを特徴とするクラスタ型装置。
【請求項２】
プロセス室に複数の開閉扉を設けたことを特徴とする請求項１記載のクラスタ型装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は半導体、ハードディスク、ハードディスクヘッドなどの電子部品の表面処理または電子部品用薄膜製造などに使用されるクラスタ型真空処理装置および真空を利用しない一般のクラスタ型装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、架台上に架設された搬送室を中心にクラスタ型に配設された複数のプロセス室（真空プロセスチャンバ）を備え、電子部品用薄膜製造または薄膜表面処理などに使用されるクラスタ型装置が多用されている（たとえば特許文献１、特許文献２参照）。クラスタ型装置においては、中央部の搬送室を介して被成膜部品または被成膜部品などを積載した移動カート（以下、両者を含めワークと記載する）のプロセス室間移動が行われる。プロセス室にはたとえば加熱室、単数または複数のスパッタリング室などが目的に応じて使用されるが、加熱やスパッタリングはすべてプロセスの１例であるので、以下プロセス室の各々は単にプロセス室と記載する。搬送室および各プロセス室は前記のように架台上に架設されており、架台内部にはたとえば当該プロセス室専用の真空排気系などが収納されている。
【０００３】
以下、クラスタ型真空成膜装置を例として、図３によって従来のクラスタ型装置の構成と作動の１例を説明する。１はワーク（図示せず）を搬入・搬出するためのロード・アンロード室である。装置の中央にはワークの予備排気および受け渡しのための搬送室３が配設され、周囲にはプロセス室４、５、６、７が配設されている。搬送室３とロード・アンロード室１および前記各プロセス室４〜７は、搬送室３側面に配設された複数個のゲート弁２を介して固着されている。各プロセス室４〜７の側面には、プロセス室内部壁の汚染除去や消耗部品または汚染部品の交換などの保守作業を実施するための保守用扉８および、各プロセス室４〜７の作動および作動状況の監視に必要な部品、たとえば真空計電源やワーク駆動装置電源などを収納するための計器箱９が取り付けられている。
【０００４】
ロード・アンロード室１の所定の位置に搬入されたワークは最初にロード・アンロード室１で粗引き排気された後ゲート弁２を介して搬送室３の所定の位置に移動し、搬送室３が所定の真空状態まで排気された後にたとえばプロセス室４に移送され必要な処理を受ける。次いでワークは再び搬送室３を経由してたとえばプロセス室５に移動し、次段の処理を受ける。このような過程を経て複数の処理が完了した後、ワークは搬送室３を介してロード・アンロード室１に移送され大気圧に戻されて外方に取り出される。なお上記各プロセス室の真空排気系（図示せず）は各プロセス室の処理内容に応じて、適切な真空ポンプ、真空バルブおよび配管系から構成され、前記のように通常各プロセス室毎にプロセス室の下部架台内に配設されている。ワークは各プロセス室における処理に先立ちプロセス内容に応じて真空排気されるが、排気の詳細については本考案の内容と直接の関連はないので記載を省略する。
【０００５】
【特許文献１】特表２００１−５０９６４６号公報
【特許文献２】特開平０７−１５３６９３号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
従来のクラスタ型装置の構造は以上のとおりであるが、この構造では各プロセス室の保守作業効率および作業安全性が低下し、また保守可能な内容も限定され保守作業の信頼性が低下する。すなわち、各プロセス室はいずれも図３に示されるように搬送室３直近に配設されており相互に密接しているので、保守に当たっては狭隘な空間で体を捻って行う不安定且つ不自然な姿勢での作業が必要であり、また保守用扉８の開き角度が限定されているので、作業者は狭い開口からの見通しのきかない手探り状態の作業を行う必要があった。
【０００７】
したがって作業効率および作業安全性は低下（怪我の発生など）し作業時間が増大し、また目視不能箇所や分解不能箇所が多く発生するためそれらの箇所に対する汚染除去や保守完了確認なども限定され、保守作業の信頼性が低下していた。本考案はこのような問題点を解決する手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本考案が提供するクラスタ型装置は上記課題を解決するために、プロセス室を搬送室に対して退避可能に往復移動できる移動手段を設け、またプロセス室に複数の開閉扉を設け、作業性を改善する。
【考案の効果】
【０００９】
本考案によれば保守用扉の開き角度が大きくなり、作業者がプロセス室開閉扉の開口部に障害物無く対面することが可能になり不安定かつ不自然な姿勢での手探り状態の作業が解消され、この結果作業効率および作業安全性が改善され作業時間が短縮される。また保守内容およびその確認精度も改善され、保守作業の信頼性が増大する。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１０】
本考案が提供するクラスタ型装置はつぎのような特徴を有している。第１の特徴は架台上に架設された搬送室を中心としてクラスタ型に配設された複数のプロセス室を備えたクラスタ型装置において、プロセス室を搬送室に対して退避可能に往復移動できる移動手段を設けた点である。第２の特徴はプロセス室に複数の開閉扉を設けた点であり、これらの特徴を備えた形態が最良の形態である。
【実施例１】
【００１１】
以下図示例にしたがって説明する。図１において図３と同一符号の部品の構造および作動は図３と同じである。図１（Ａ）は実施例の平面図、図１（Ｂ）は側面図である。以下、プロセス室５を例として説明する。図１（Ｂ）において搬送室３は架台１０上に載架されている。またプロセス室５は架台１１上に設けたレール２１、キャスタ２２から成る移動手段に載架されている。プロセス室５は図の点線で示すように常時はゲート弁２を介して搬送室３にフランジ部螺設などの方法で固定されているが、保守など必要の場合は固定を解除し、レール２１上を右方に退避させる。
【００１２】
この際ゲート弁２に固着された位置決めピン２３はプロセス室５の前面から引き抜かれる。右方の退避位置においては図１（Ａ）に示されるように保守用扉８を保守に必要な開度に自由に開くことが可能であるので、プロセス室５内を外方から直接見通せる箇所の割合は従来の装置より格段に大きくなり、装置の性能維持に十分な保守作業を迅速に行うことが可能になる。保守後はフランジ部の再螺設などによりゲート弁２を介して搬送室３とプロセス室５を元の位置に戻し固着する。この時、ゲート弁２に固定された複数の位置決めピン２３がプロセス室５の前面へ再挿入されるので、搬送室３とプロセス室５の位置関係はプロセス室５の移動前の状態に復元する。
【実施例２】
【００１３】
図２は第２の実施例を示す平面図である。図２において図３と同一符号の部品の構造および作動は図３と同じである。プロセス室５Ａの背面には保守用扉２４が設けられており、実施例１に比較してプロセス室５Ａ内を外部から直接見通せる割合はさらに増加し、保守作業の作業性はさらに改善される。
【００１４】
本考案は上記の実施例に限定されるものではなく、さらに種々の変形実施例を挙げることができる。たとえば図１の実施例では搬送室３は架台１０により、プロセス室５は架台１１により支持されているが、搬送室３とプロセス室５が一体化された架台で支持されていても良い。また図１の移動手段であるレール２１、キャスタ２２および、プロセス室５の位置決め手段である位置決めピン２３などは１例であり、たとえばリニアベアリングやクロスローラなどを使用した移動手段（スライド手段）や、ゲート弁２およびプロセス室５の結合フランジの外周の位置合わせジグによる位置決め手段など、他の要素部品を使用した手段を使用しても良い。位置決めピン２３の数量も任意である。
【００１５】
また実施例１および２はプロセス室５または５Ａを例として説明しているが、本考案が任意の単数または複数のプロセス室に対しても適用できることは自明である。また本考案が真空を利用しない一般のクラスタ型装置に対しても適用できることも自明である。本考案はこれらをすべて包含する。
【産業上の利用可能性】
【００１６】
本考案は半導体、ハードディスク、ハードディスクヘッドなどの電子部品の表面処理または電子部品用薄膜製造などに使用されるクラスタ型真空処理装置および、真空を利用しない一般のクラスタ型装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本考案の第１の実施例である。（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側面図である。
【図２】本考案の第２の実施例を示す平面図である。
【図３】従来のクラスタ型装置の構成の１例を示す図である。
【符号の説明】
【００１８】
１  ロード・アンロード室
２  ゲート弁
３  搬送室
４  プロセス室
５  プロセス室
５Ａ  プロセス室
６  プロセス室
７  プロセス室
８  保守用扉
９  計器箱
１０  架台
１１  架台
２１  レール
２２  キャスタ
２３  位置決めピン
２４  保守用扉
【図１】
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【図２】
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【図３】
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