Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ダイ・アセンブリを作成する方法であって、
互いに重なる関係で配列されている第１のウェハ及び第２のウェハを有し、この第１のウェハの第１の部分が第１の構成要素を支持し、当該第１のウェハの第２の部分が第２の構成要素を支持し、該第１の構成要素及び該第２の構成要素が前記第１のウェハと前記第２のウェハの間に配置されているウェハ・スタックを設け、
前記第２のウェハの部分を除去することによって、前記第１のウェハの前記第１の部分及び前記第２の部分を露出させ、
前記第１の構成要素と前記第２の構成要素の間で前記第１のウェハをダイシングして第１のダイ・アセンブリ及び第２のダイ・アセンブリを形成し、該第１のダイ・アセンブリが前記第２のウェハの第１の部分の周囲を超えて外側に延伸する前記第１のウェハの前記第１の部分を含み、該第２のダイ・アセンブリが前記第２のウェハの第２の部分の周囲を超えて外側に延伸する前記第１のウェハの前記第２の部分を含み、それによって前記第１の構成要素も前記第２の構成要素も前記第１のウェハと前記第２のウェハの間に配置されることがないことを含み、
前記ウェハ・スタックが第３のウェハを含み、前記第２のウェハが前記第１のウェハと該第３のウェハの間に少なくとも部分的に配列され、
前記第１のウェハの部分を露出させることが、前記第３のウェハの部分と前記第２のウェハの部分を除去することによって、前記第１ウェハの前記第１の部分及び前記第２の部分を露出させることを含む方法。
【請求項２】  前記第１の構成要素が、前記ウェハ・スタックの外部の構成要素と電気的に通信するように構成されている請求項１に記載の方法。
【請求項３】  前記第１の構成要素と前記第２の構成要素の間で前記第１のウェハをダイシングすることが、
前記ウェハ・スタックのスルーカットを行って前記ウェハ・スタックから前記第１のダイ・アセンブリを少なくとも部分的に分離することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】  前記第１のウェハの前記第１の部分及び前記第２の部分を露出させることが、
前記第３のウェハの部分を除去することによって、前記第２のウェハの部分を露出させることを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】  前記第１の構成要素が、前記ウェハ・スタックの外部の構成要素と電気的に通信するように構成され、
前記第２のウェハが凹部を画定し、この凹部が、前記第１の構成要素と重なる関係で配置され、該凹部が、当該凹部の近くで前記第２のウェハの部分的なスルーカットを可能とするように構成され、それによってその部分的なスルーカットの形成中に、前記第１の構成要素が破損せず、
前記第１のウェハの前記第１の部分及び前記第２の部分を露出させることが、前記凹部の近くで、前記第２のウェハの部分的なスルーカットを行い、それによって前記第１の構成要素が部分的なスルーカットによって破損しないことを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】  前記第１のウェハの前記第１の部分及び前記第２の部分を露出させることが、
前記ウェハ・スタックから前記第２のウェハの前記部分を分離できるように前記第２のウェハをダイシングし、
前記ウェハ・スタックから前記第２のウェハの前記部分を除去することを含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】  前記第２のウェハをダイシングすることが、
前記ウェハ・スタックの第１の部分的なスルーカット及び第２の部分的なスルーカットを行い、前記ウェハ・スタックから前記第２のウェハの部分を少なくとも部分的に分離し、分離されるべき前記第２のウェハの部分が、前記第１の部分的なスルーカットと前記第２の部分的なスルーカットの間に配列されていることを含む請求項６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
いくつかの半導体装置製造技術は、ウェハ・スタックを形成するために互いに結合された多数の半導体ウェハを使用する必要がある。そのような１つの技術において、例えば第１のウェハの上側面と第２のウェハの上側面に構成要素および／または回路（「加工部分（ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）」）が設けられる。次に、第１のウェハがひっくり返され、ウェハの対応する加工部分の位置が互いに合うように第２のウェハと位置合わせされる。ウェハは、対応する加工部分が適切に互いに係合するように互いに係合され結合される。例えば、係合された加工部分は、互いに電気的に通信しかつ／または機械的に係合する。図１と図２は、この技術を概略的に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図１５に、複数ウェハのダイ・アセンブリ１５００を示す。この実施形態において、構成要素１５０２がウェハ１５０４上に設けられ、構成要素１５０６がウェハ１５０８上に設けられている。構成要素１５０２を露出させるために、ウェハ１５１０の材料に部分的スルーカットＰＹ１が行われる。これにより、順番にウェハ１５０４の材料に部分的スルーカットＰＹ２を行うことができる。第１と第２の部分的スルーカットの組み合せによって、ダイ・アセンブリを分離するスルーカットＴＹ１が可能になる。様々な他の構成も利用することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2003234311.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2003234311.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体集積回路装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）半導体ウエハのチップ領域に、第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有する第１配線を形成し、前記半導体ウエハのスクライブ領域に第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有するテスト用パターンを形成する工程と、
（ｂ）前記第１配線上に、絶縁膜を介して第２配線を形成する工程と、
（ｃ）前記第２配線の一部であるパッド領域を、前記テスト用パターンの表面の第２導電性膜が露出した状態で、洗浄する工程と、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２】  前記第１導電性膜は、Ａｌ（アルミニウム）もしくはＣｕ（銅）を主成分とすることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項３】  前記第２導電性膜は、ＴｉＮ（窒化チタン）膜、Ｔａ（タンタル）膜、ＴａＮ（窒化タンタル）膜、Ｗ（タングステン）膜もしくはＷＮ（窒化タングステン）膜の単層膜、もしくはこれらの膜の積層膜よりなることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項４】  前記洗浄は、酸性の洗浄液を用いて行われることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項５】  前記半導体集積回路装置の製造方法は、
前記（ｃ）工程の後に、
（ｄ）前記テスト用パターンを用いて、前記テスト用パターンもしくは前記テスト用パターンと電気的に接続されている部分の評価を行う工程、
を有することを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項６】  前記第１配線と前記テスト用パターンとは電気的に接続されていることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項７】  （ａ）半導体ウエハのチップ領域に、第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有する第１配線を形成し、前記半導体ウエハのスクライブ領域に第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有するテスト用パターンを形成する工程と、
（ｂ）前記第１配線およびテスト用パターン上に、第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第１配線およびテスト用パターン上の前記第１絶縁膜を除去することにより第１パッド領域を露出させる工程と、
（ｄ）前記第１配線上の第１パッド領域から第２パッド領域まで延在する第２配線を形成する工程と、
（ｅ）前記第２配線およびテスト用パターン上に、第２絶縁膜を形成する工程と、
（ｆ）前記第２配線の第２パッド領域上およびスクライブ領域の第２絶縁膜を除去する工程と、
（ｇ）前記（ｆ）工程の後、前記半導体ウエハを洗浄する工程と、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項８】  前記第２絶縁膜は、ポリイミド膜であることを特徴とする請求項７記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項９】  （ａ）半導体ウエハのチップ領域に、第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有する第１配線を形成し、前記半導体ウエハのスクライブ領域に第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有するテスト用パターンを形成する工程と、
（ｂ）前記第１配線上に、絶縁膜を介して第２配線を形成する工程と、
（ｃ）前記第２配線の一部であるパッド領域上に、前記テスト用パターンの表面の第２導電性膜が露出した状態で、メッキ膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１０】  前記第１導電性膜は、Ａｌ（アルミニウム）もしくはＣｕ（銅）を主成分とすることを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１１】  前記第２導電性膜は、ＴｉＮ（窒化チタン）膜、Ｔａ（タンタル）膜、ＴａＮ（窒化タンタル）膜、Ｗ（タングステン）膜もしくはＷＮ（窒化タングステン）膜の単層膜、もしくはこれらの膜の積層膜よりなることを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１２】  前記メッキ膜は、置換メッキ法を用いて形成されることを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１３】  前記半導体集積回路装置の製造方法は、
前記（ｃ）工程の後に、
（ｄ）前記テスト用パターンを用いて、前記テスト用パターンもしくは前記テスト用パターンと電気的に接続されている部分の評価を行う工程、
を有することを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１４】  前記半導体集積回路装置の製造方法は、
（ｄ）前記（ｃ）工程の前に、前記第２配線の一部であるパッド領域を、前記テスト用パターンの表面の第２導電性膜が露出した状態で、洗浄する工程、
を有することを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１５】  前記第１配線と前記テスト用パターンとは電気的に接続されていることを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１６】  （ａ）半導体ウエハのチップ領域に、第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有する第１配線を形成し、前記半導体ウエハのスクライブ領域に第１導電性膜とその上部の第２導電性膜とを有するテスト用パターンを形成する工程と、
（ｂ）前記第１配線およびテスト用パターン上に、第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第１配線およびテスト用パターン上の前記第１絶縁膜を除去することにより第１パッド領域を露出させる工程と、
（ｄ）前記第１配線上の第１パッド領域から第２パッド領域まで延在する第２配線を形成する工程と、
（ｅ）前記第２配線およびテスト用パターン上に、第２絶縁膜を形成する工程と、
（ｆ）前記第２配線の第２パッド領域上およびスクライブ領域の第２絶縁膜を除去する工程と、
（ｇ）前記（ｆ）工程の後、前記第２配線の一部であるパッド領域上にメッキ膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１７】  前記第２絶縁膜は、ポリイミド膜であることを特徴とする請求項１６記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の色分離層を有する連続階調画像から中間階調画像を生成するための方法であって、
複数の色分離層の第１番目を中間階調にして、第１色中間階調分離層を形成し、
前記第１色分離層と前記第１色中間階調分離層とに基づいて第１色誤差分離層を生成し、
複数の色分離層の第２番目を修正して、少なくとも前記第１色誤差分離層に基づく修正された第２色分離層を形成し、
前記修正された第２色分離層を中間階調にして、第２色中間階調分離層を形成する、
段階を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】  複数の色分離層を有する連続階調画像から中間階調画像を生成するために使用可能な中間階調生成システムであって、
前記色分離層、或いは、前記色分離層の修正されたもののいずれか１つから中間階調分離層を生成する中間階調生成回路又はルーチンと、
前記中間階調生成回路により生成された中間階調分離層と、前記中間階調分離層を生成するために使用された対応する色分離層とから中間階調誤差層を生成する、中間階調誤差層生成回路又はルーチンと、
少なくとも１つの中間階調誤差層に基づく次の色分離層から修正色分離層を生成する、修正色分離層生成回路又はルーチンと、
を備え、
前記次の色分離層は、この修正色分離層を生成するために前記修正色分離層生成回路又はルーチンが用いる、前記少なくとも１つの中間階調層の少なくとも１つを生成するために前記中間階調誤差層生成回路又はルーチンによって使用されたものではない、
ことを特徴とするシステム。
【請求項３】  複数の色分離層を有する連続階調画像から中間階調画像を生成するために使用可能な中間階調生成システムであって、
第１色分離層から第１中間階調分離層を出力する第１中間階調化部と、
前記第１色分離層から前記第１中間階調分離層を引き、第１誤差拡散層を形成する第１加算器と、
前記第１誤差拡散層と第１重み係数を掛け、第１重みづけ誤差分離層を形成する第１乗算器と、
第２色分離層と前記第１重みづけ誤差分離層を加算し、修正された第２色分離層を形成する第２加算器と、
前記修正された第２色分離層から第２中間階調分離層を出力する第２中間階調化部と、
を備えることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  ＣｕＫα線におけるＸ線回析においてブラッグ角（２θ±０．２）２７．３°に明瞭な回析ピークを示すオキシチタニウムフタロシアニンを含有する電荷発生層と、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含むポリカーボネート樹脂を含有する電荷移動層が積層した感光層を有する感光体に対し、デジタル像露光を行い、この像露光で形成された静電潜像の現像に於いて、体積平均粒径（ＤＶ）が３〜８μｍであるトナーを用いることを特徴とする画像形成方法。
【化１】
2002040704.tif 000001
（Ｚは置換基を有していても良い炭素数５以上１０以下の飽和炭化水素環を表す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】  少なくとも感光体、帯電装置、及びトナーを備えた画像形成装置であって、該感光体がＣｕＫα線によるＸ線回折において、ブラッグ角（２θ±０．２）２７．３゜に明瞭な回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有する電荷発生層と、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含むポリカーボネート樹脂を含有する電荷移動層が積層した感光層を有し、該露光装置がデジタル像露光を行うものであり、該トナーの体積平均粒径（ＤＶ）が３〜８μｍであることを特徴とする画像形成装置。
【化２】
2002040704.tif 000002
（Ｚは置換基を有していても良い炭素数５以上１０以下の飽和炭化水素環を表す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化３】
2002040704.tif 000003
（Ｚは置換基を有しても良い炭素数５以上１０以下の飽和炭化水素環を表す。）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【化４】
2002040704.tif 000004
（Ｚは置換基を有しても良い炭素数５以上１０以下の飽和炭化水素環を表す。）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
【化１５】
2002040704.tif 000005
（Ｚは置換基を有していても良い炭素数５以上１０以下の飽和炭化水素環を表す。）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５２】
【化１８】
2002040704.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月10日(2006.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】盗難防止装置、及び盗難防止方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  エンジン始動を指示するための遠隔操作または使用者による
所定の操作を受けると、警戒モードをセットするための所定の条件が成立してい
るか否かを判断する判断手段と、
該判断手段により前記所定の条件が成立していると判断されると、警戒モード
をセットするセット手段とを備えた盗難防止装置であって、
前記遠隔操作によりセットされる警戒モードと、前記所定の操作によりセット
される警戒モードとが異なることを特徴とする盗難防止装置。
【請求項２】  エンジン始動を指示するための遠隔操作または使用者による
所定の操作を受けると、警戒モードをセットするための所定の条件が成立してい
るか否かを判断する判断手段と、
該判断手段により前記所定の条件が成立していると判断されると、警戒モード
をセットするセット手段とを備えた盗難防止装置であって、
前記遠隔操作により警戒モードをセットするための所定の条件に、前記遠隔操
作を受けた後、第１の所定時間が経過することが含まれ、
前記所定の操作により警戒モードをセットするための所定の条件に、前記所定
の操作を受けた後、第２の所定時間が経過することが含まれ、
前記第１の所定時間が前記第２の所定時間よりも短いことを特徴とする盗難防
止装置。
【請求項３】  前記遠隔操作により警戒モードをセットするための所定の条
件に、トランクリッドが閉じていることが含まれていないのに対し、
前記所定の操作により警戒モードをセットするための所定の条件に、トランク
リッドが閉じていることが含まれていることを特徴とする請求項１又は請求項２
記載の盗難防止装置。
【請求項４】  エンジン始動を指示するための遠隔操作または使用者による
所定の操作を受けると、警戒モードをセットするための所定の条件が成立してい
るか否かを判断する判断手段と、
該判断手段により前記所定の条件が成立していると判断されると、警戒モード
をセットするセット手段とを備えた盗難防止装置であって、
前記遠隔操作によりセットされる警戒モードでの警戒態勢と、前記所定の操作
によりセットされる警戒モードでの警戒態勢とが異なっていることを特徴とする
盗難防止装置。
【請求項５】  前記遠隔操作によりセットされる警戒モードでの不正行為を
検出する対象が、
前記所定の操作によりセットされる警戒モードでの不正行為を検出する対象よ
りも制限されていることを特徴とする請求項４記載の盗難防止装置。
【請求項６】  前記遠隔操作によりセットされる警戒モードでは、トランク
リッドの開放が検出対象から外れていることを特徴とする請求項５記載の盗難防
止装置。
【請求項７】  前記遠隔操作によりセットされる警戒モードでの不正行為を
検出する検出感度が、
前記所定の操作によりセットされる警戒モードでの不正行為を検出する検出感
度よりも低く設定されていることを特徴とする請求項４〜６のいずれかの項に記
載の盗難防止装置。
【請求項８】  前記判断手段が、前記遠隔操作によりセットされる警戒モー
ドがセットされている場合、前記所定の条件とは別の所定条件が成立しているか
否かを判断し、
前記別の所定条件に、エンジンが停止することが含まれていることを特徴とす
る請求項４〜７のいずれかの項に記載の盗難防止装置。
【請求項９】  エンジン始動を指示するための遠隔操作を受けると警戒モー
ドをセットするための条件と、使用者による所定の操作を受けると警戒モードを
セットするための条件とが異なっていることを特徴とする請求項４〜８のいずれ
かの項に記載の盗難防止装置。
【請求項１０】 エンジン始動を指示するための遠隔操作または使用者によ
る所定の操作を受けると、所定の条件が成立しているか否かを判断するステップ
と、
前記所定の条件が成立していると判断されると、警戒モードをセットするステ
ップとを含み、
前記遠隔操作によりセットされる警戒モードと、前記所定の操作によりセット
される警戒モードとが異なることを特徴とする、盗難防止装置における盗難防止
方法。
【請求項１１】 エンジン始動を指示するための遠隔操作または使用者によ
る所定の操作を受けると、所定の条件が成立しているか否かを判断するステップ
と、
前記所定の条件が成立していると判断されると、警戒モードをセットするステ
ップとを含み、
前記所定の条件は、前記操作を受けた後の経過時間を含み、
前記所定の操作により警戒モードが設定されるための所定の条件における経過
時間よりも、前記遠隔操作により警戒モードが設定されるための所定の条件にお
ける経過時間の方が短いことを特徴とする、盗難防止装置における盗難防止方法
。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は盗難防止装置、及び盗難防止方法に関し、より詳細には、車両盗難、
車上荒しなどの事件を防止するための盗難防止装置、及び盗難防止方法に関する
。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【特許文献１】特開平１０−４４９３７号公報
【特許文献２】実開平５−３５５１８号公報
【特許文献３】特開２００２−７９９１１号公報
【特許文献４】特開平９−２５６９３２号公報
【特許文献５】特開平９−３２９０７５号公報
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであって、エンジン始動を指示するため
の遠隔操作が行われた場合に、警戒モードを適切にセットしたり、また、警戒モ
ードがセットされた場合の警戒態勢を適切なものにすることのできる盗難防止装
置、及び盗難防止方法を提供することを目的としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る盗難防止装置、及び盗難防止方法の実施の形態を図面に基
づいて説明する。図１は、実施の形態（１）に係る盗難防止装置を含んで構成さ
れる盗難防止システムの要部を概略的に示したブロック図である。但し、図６に
示した盗難防止システムと同様の構成部分については同符号を付し、ここではそ
の説明を省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
【表２】
2005028912.tif 000001
表２に示すように、実施例１のシミュレーションによると、目的関数の最適解での設計値に基づいて製造したタイヤが、コントロールタイヤと比較して旋回性能の実測値に改善が見られた。これに対して、比較例１のシミュレーションでは、目的関数が実施例１の値より小さくなっているにも係わらず、得られた設計値に基づいて製造したタイヤの実測値（旋回性能）には、コントロールタイヤからの改善が見られなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】塗膜構造
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗物の表面に形成されたガラスもしくはプラスチック製の微細なビーズが並列配置されてなるビーズ層を有することを特徴とする塗膜構造。
【請求項２】
前記ビーズ層が透光性機能を持つことを特徴とする請求項１に記載の塗膜構造。
【請求項３】
前記被塗物が透光性機能を持つプラスチック板あるいはガラス板であることを特徴とする請求項１または２に記載の塗膜構造。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題解決のための請求項１に記載の発明は、被塗物の表面に形成されたガラスもしくはプラスチック製の微細なビーズが並列配置されてなるビーズ層を有する塗膜構造である。請求項２に記載の発明は、ビーズ層が透光性機能を持つ請求項１に記載の塗膜構造である。請求項３に記載の発明は、被塗物が透光性機能を持つプラスチック板あるいはガラス板である請求項１または２に記載の塗膜構造である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ベース塗料中に配合する消泡剤にはシリコン系化合物、エーテル系化合物、脂肪酸エステル系化合物等が使用され、塗膜中の泡を効果的に解消することができる。成膜助剤にはテキサノール、ベンジルアルコール、ブチルセロソルブ等が使用され塗膜の形成を容易にすることが可能となる。塗装に適合した粘度とするためにはメチルセルロース、ヒドロキシエチル／メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等を適量使用して調整することができる。また配合材料の分散確保のためノニオン系界面活性剤、ポリリン酸塩等の分散剤を使用すれば良好な分散効果が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【実施例】
下地としてアクリルボードを使用し、シーラーとしてアクリル樹脂系エマルジョン｛アイカ工業製（株）、ＪＳ−５００｝を塗布して乾燥したのち、下塗り材としてアクリル・スチレン系樹脂エマルジョン５０部、消泡剤（エーテル系化合物）０．１部、成膜助剤（テキサノール）３．１部、分散剤（ポリリン酸塩）０．２部、増粘剤（メチルセルロース）１．５部、水５０部を加えてベース塗料｛アイカ工業（株）製、ＪＰＸ−７｝とした。このベース塗料に寒水石を添加したものを使用して下塗り層を形成し、該下塗り層に上記配合のベース塗料１００部に平均粒子径０．３〜０．５ｍｍのガラスビーズ４００部を配合して調整した中塗り塗料、上塗り塗料を各々１．８Ｋｇ／ｍ２コテ塗り仕上げして、実施例の塗装仕上げとした。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【比較例】
実施例のガラスビーズを２５０部使用した以外は実施例と同一にしてコテ塗り仕上げして比較例１の塗装仕上げとした。また、実施例のガラスビーズを６００部使用した以外は実施例と同一にしてコテ塗り仕上げして比較例２の塗装仕上げとした。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
実施例の塗装仕上げにおいて、コテはガラスビーズの表面間を滑らかに且つ同一レベルを容易に移動できるため、塗工作業が極めて容易であり、しかも均一な厚みの塗工が可能であった。またガラスビーズの一部表面が露出して塗膜内部が透視される特徴のある外観の仕上げが得られた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
比較例１の塗装仕上げにおいてはカラスビーズの配合量が少ないため塗材が垂れやすい、コテの同一レベルでの移動がしにくく均一な塗膜の確保が困難であった。また歩減りも目立ち仕上がり外観が良くなかった。比較例２の塗装仕上げにおいてはガラスビーズの配合量が多くコテ作業がしにくく、下塗り層への付着性が不十分であった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】ヒ素を含有する溶液を塩酸飽和の状態にすることで、ヒ素を塩化物にした後、塩化ヒ素を揮発させることを特徴とするヒ素の除去方法。
【請求項２】ヒ素を含有する溶液が水溶液又は酸性溶液である請求項１に記載のヒ素の除去方法。
【請求項３】酸性溶液が硫酸を含有する請求項２に記載のヒ素の除去方法。
【請求項４】ヒ素を含有する溶液中のヒ素濃度が０．００１ｐｐｍ〜１００ｐｐｍである請求項１〜３のいずれか一項に記載のヒ素の除去方法。
【請求項５】塩化ヒ素を揮発させる際に、常圧または減圧下で加熱揮発させる請求項１〜４のいずれか一項に記載のヒ素の除去方法。
【請求項６】塩化ヒ素を揮発させる際の温度が３０〜２００℃である請求項５に記載のヒ素の除去方法。
【請求項７】塩化ヒ素を揮発させる際の圧力が５００Ｐａ〜常圧である請求項５または６に記載のヒ素の除去方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
溶液中のヒ素を塩化物にする方法としては、溶液を塩酸飽和の状態にして溶液中のヒ素を塩化物とする必要があり、溶液に塩酸ガスを吹き込む、若しくは溶液に塩酸を加えることで、溶液を塩酸飽和の状態にして溶液中のヒ素を塩化物とする方法が好ましい。塩酸ガス若しくは塩酸を添加する際に撹拌・加熱を行っても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【発明の効果】
本発明によれば、ヒ素を含む溶液を塩酸飽和の状態にして、溶液中のヒ素を塩化物にすることでヒ素を揮発しやすい形に変換した後、減圧・加熱などの方法で揮発させることにより、溶液中のヒ素を簡便に除去できるという効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
例えば、図示例の結晶缶２のように、缶内の径方向中央にドラフトチューブ型間接冷却手段ｃ１が配置されており、その内空に攪拌機２ｍの攪拌翼が配置され、攪拌翼を回転させるとドラフトチューブｃ１内側のスラリーが下向きに、およびドラフトチューブｃ１外側のスラリーが上向きに流れるタイプのものにおいては、ドラフトチューブｃ１の上面に、逆さ裁頭円錐形の筒状邪魔板（すなわち中心部に貫通孔を有し、外周に向かうにつれて中心部よりも高さが高くなる形状の邪魔板）２ｂを液面下となる位置に設け、この邪魔板２ｂと液面との間の周壁にスラリー抜出口２ｚを設けるのが好ましい。この場合、邪魔板２ｂは、スラリーの流れが下向きとなる中心部は遮らず、液の出入り及び攪拌機２ｍを設ける場合にはその攪拌軸の取り回しを可能にするが、スラリーが上向きとなるドラフトチューブｃ１外側にあっては、スラリー抜出口１ｚをスラリーの流れから遮ることができる。かくして、邪魔板２ｂの上側にあるスラリーは攪拌機２ｍによる攪拌の影響を殆ど受けなくなり、清澄化するようになる。なお、図示形態では、結晶缶２から抜き出された清澄液は清澄液回収タンク７に供給されるように構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
他方、結晶缶２の下部には、成長結晶を含む結晶スラリーを排出するためのスラリー排出口２ｘが設けられており、本実施形態ではこのスラリー排出口２ｘが供給路３を介して固液分離機４の被分離液供給口４ｉに対し接続されるとともに、この供給路３を介して結晶缶２内のスラリーを固液分離機４の被分離液供給口４ｉへ圧送するポンプ装置Ｐが設けられている。固液分離機４としては、遠心分離機およびウェットスクリーン等、公知のものを用いることができる。特に、図示のようにポンプ装置Ｐを供給路３に介在させる場合には、供給路３におけるポンプ装置Ｐと固液分離機４の被分離液供給口４ｉとの間（特に被分離液供給口４ｉの近傍が好ましい）から循環路５を分岐し、この循環路５を結晶缶２内に対して連通させるとともに、その分岐点に三方切替弁６等の切替手段を介在させる等により、結晶缶２から排出される成長結晶スラリーを固液分離機４に供給する状態と結晶缶２に循環返送する状態とを切替可能にするのが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
特徴的には、原液スラリーＳＬを結晶缶２内の濃縮スラリーに補充すると、原液スラリーＳＬの溶質の殆どが結晶缶２内に存在している結晶の成長に使用されるため、微細な偽晶の発生が少なくなり、反対に結晶缶２内の結晶の粒径は従来よりも大きくなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
他方、上述のとおり、結晶缶２から固液分離機４へのスラリー供給を断続的に行う場合、その供給路３にスラリーが付着していたり、静止状態で残存していたりすると、それが装置や管内壁に付着し、閉塞に至るおそれがある。このため、本実施形態のように、ポンプ装置Ｐが供給路３に介在されている場合には、前述のように循環路５および切替弁６を設け、結晶缶２内のスラリー濃度が抜出濃度に達していないときでも、所定の間隔であるいは連続的に、切替弁６を循環路５に連通するように切り替え、ポンプ装置Ｐにより結晶缶２からスラリーを抜き出し、供給路３を介して再び結晶缶２に戻す循環操作を行うようにすると、供給路３内は常にスラリーにより洗浄されることになるため、閉塞を効果的に防止できる。なお、固液分離機４に対して成長結晶スラリーを供給する場合には、切替弁６により供給路３を固液分離機４に連通させるように切り替える。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゼオライトとこのゼオライトより大きな粒径の粒度調整材を混合した吸着剤を備えた濾過層に重金属含有排水を通過させ、前記ゼオライトと重金属含有排水を接触させることを特徴とする重金属含有排水の処理方法。
【請求項２】
前記吸着剤のｐＨ値を測定しつつ、前記重金属含有排水を前記濾過層に通過させることを特徴とする請求項１に記載の重金属含有排水の処理方法。
【請求項３】
前記粒度調整材の粒径及び前記ゼオライトと混合する割合を調整することにより、前記濾過層の透水性を調整することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の重金属含有排水の処理方法。
【請求項４】
ゼオライトとこのゼオライトより大きな粒径の粒度調整材を混合した吸着剤を備えた濾過層を有し、この濾過層に重金属含有排水を通過させる重金属含有排水の処理装置であって、
前記重金属含有排水を流入及び流出させる前記濾過層の流入口及び流出口には、各々フィルター層が設けられており、
前記フィルター層は、ゼオライトより小さな粒径の粒子のみ通過させることを特徴とする重金属含有排水の処理装置。
【請求項５】
前記重金属は、陽イオンとして前記排水中に存在する重金属であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の重金属含有排水の処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月31日(2006.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融半田を収容する半田槽本体と、該半田槽本体内に設置された半田送り室とから構成され、半田送り室は入口と出口とを備え、前記入口は半田槽本体の半田液面レベルより下方に配置され、出口は半田液面レベルより突き出て配置されている噴流半田槽において、前記入口に多条スクリューポンプを設け、該多条スクリューポンプを構成する螺旋羽根の数を４枚以上とし、該入口から前記半田送り室に溶融半田を押し込むとともに前記出口から溶融半田を放出することを特徴とする噴流半田槽。
【請求項２】
４枚の前記螺旋羽根を、回転軸および該回転軸の円周方向に等間隔で該回転軸に取付け、各螺旋羽根が、軸線方向から見た場合、隣接する螺旋羽根と重なるようになっていることを特徴とする請求項１記載の噴流半田槽。
【請求項３】
前記螺旋羽根を４枚とし、それぞれ等間隔に設け、回転軸を取り巻くその回転角度を９０度以上とする請求項１記載の噴流半田槽。
【請求項４】
前記多条スクリューポンプを構成する螺旋羽根の傾斜角度が水平方向から４５度以下とする請求項１記載の噴流半田槽。
【請求項５】
前記半田送り室が、半田槽本体を上下に仕切る水平仕切り板から構成され、該仕切り板に設けた穴により前記入口を構成し、前記ポンプが該入口に配置され前記螺旋羽根を取り囲む円筒状ケーシングを備え、前回螺旋羽根ケーシング内で回転して溶融半田をケーシングの軸方向に送り出すことを特徴とする請求項１記載の噴流半田槽。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本願発明は次の通りである。
（請求項１）
溶融半田を収容する半田槽本体と、該半田槽本体内に設置された半田送り室とから構成され、半田送り室は入口と出口とを備え、前記入口は半田槽本体の半田液面レベルより下方に配置され、出口は半田液面レベルより突き出て配置されている噴流半田槽において、前記入口に多条スクリューポンプを設け、該多条スクリューポンプを構成する螺旋羽根の数を４枚以上とし、該入口から前記半田送り室に溶融半田を押し込むとともに前記出口から溶融半田を放出することを特徴とする噴流半田槽。
（請求項２）
４枚の前記螺旋羽根を、回転軸および該回転軸の円周方向に等間隔で該回転軸に取付け、各螺旋羽根が、軸線方向から見た場合、隣接する螺旋羽根と重なるようになっていることを特徴とする請求項１記載の噴流半田槽。
（請求項３）
前記螺旋羽根を４枚とし、それぞれ等間隔に設け、回転軸を取り巻くその回転角度を９０度以上とする請求項１記載の噴流半田槽。
（請求項４）
前記多条スクリューポンプを構成する螺旋羽根の傾斜角度が水平方向から４５度以下とする請求項１記載の噴流半田槽。
（請求項５）
前記半田送り室が、半田槽本体を上下に仕切る水平仕切り板から構成され、該仕切り板に設けた穴により前記入口を構成し、前記ポンプが該入口に配置され前記螺旋羽根を取り囲む円筒状ケーシングを備え、前回螺旋羽根ケーシング内で回転して溶融半田をケーシングの軸方向に送り出すことを特徴とする請求項１記載の噴流半田槽。
本発明のうち請求項１の発明は半田槽用ポンプに関するもので、ケーシングの貫通する内部空間にスクリューを回転可能に設け、スクリューは、回転軸の外側に複数枚の螺旋羽根を円周方向に等間隔で突出すると共に、螺旋方向から視た場合に全ての螺旋羽根で回転軸の全周を囲んでいることを特徴とする。なお、回転軸は、筒状でも、むくのシャフト状であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月14日(2005.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  有底筒状のプリフォームを１次ブロー金型内で２軸延伸ブロー成形したのち、ヒートセットして加熱収縮させ、次いで２次ブロー金型内でブロー成形して耐熱性ボトルを成形するに際し、  前記ヒートセットの加熱時に前記２軸延伸ブロー成形された中間成形品の肩部の温度を他の部分と同等とするように加熱して成形するようにしたことを特徴とする耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項２】  有底筒状のプリフォームを１次ブロー金型内で２軸延伸ブロー成形したのち、ヒートセットして加熱収縮させ、次いで２次ブロー金型内でブロー成形して耐熱性ボトルを成形するに際し、  前記ヒートセット後、前記２次ブロー成形前に中間体の温度低下を防止するよう保温して成形するようにしたことを特徴とする耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項３】  前記ヒートセット後、前記２次ブロー成形前に中間体の温度低下を防止するよう保温して成形するようにしたことを特徴とする請求項１記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項４】  前記中間成形品の肩部を、他の部分より接近して配置したヒートセットヒータにより加熱するようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項５】  前記中間成形品の肩部の形状に沿わせて配置したヒートセットヒータで加熱して成形するようにしたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項６】  前記中間体の保温を、搬送経路をカバーで覆うとともに、内部を加熱して行うようにしたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項７】  前記中間体の保温を、４０〜８０℃に加熱して行うようにしたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。    【請求項８】 前記２次ブロー成形後、金型温度を１００〜１２０℃に冷却し、クーリングエアを用いずに製品を取り出すようにしたことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】  さらに、この発明の請求項７記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法は、請求項１〜６のいずれかに記載の構成に加え、前記中間体の保温を、４０〜８０℃に加熱して行うようにしたことを特徴とするものである。  この耐熱性ボトルの２段ブロー成形法によれば、前記中間体の保温を、４０〜８０℃に加熱して行うようにしており、このような温度範囲とすることで搬送中の温度低下を５℃程度とし、２次ブロー成形前の中間体の温度を高く保つことで、耐熱性を向上でき、特に風きり方向の温度分布を小さくしてボトル全体の耐熱性を向上できるようになる。 また、この発明の請求項８記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法は、請求項１〜７のいずれかに記載の構成に加え、前記２次ブロー成形後、金型温度を１００〜１２０℃に冷却し、クーリングエアを用いずに製品を取り出すようにしたことを特徴とするものである。 この耐熱性ボトルの２段ブロー成形法によれば、前記２次ブロー成形後、金型温度を１００〜１２０℃に冷却し、クーリングエアを用いずに製品を取り出すようにしており、２次ブロー金型を冷却することで成品をそのまま取り出すことができるようになるとともに、成形性および一般耐熱性を確保できるようにしている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】  さらに、この発明の請求項７記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法によれば、前記中間体の保温を、４０〜８０℃に加熱して行うようにしたので、このような温度範囲とすることで搬送中の温度低下を５℃程度にでき、２次ブロー成形前の中間体の温度を高く保つことで、耐熱性を向上することができるとともに、特に風きり方向の温度分布を小さくしてボトル全体の耐熱性を向上することができる。 また、この発明の請求項８記載の耐熱性ボトルの２段ブロー成形法によれば、前記２次ブロー成形後、金型温度を１００〜１２０℃に冷却し、クーリングエアを用いずに製品を取り出すようにしたので、２次ブロー金型を冷却することで成品をそのまま取り出すことができるとともに、２次ブロー成形での成形性および最終製品としての一般耐熱性を確保することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月7日(2006.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  着色材を含む少なくとも１種類の有色インクと、印刷物の品質を改善するための改善インクとを印刷媒体上に吐出することによってドットを形成することが可能な印刷部を用いて印刷を行うために、前記印刷部に供給すべき印刷データを生成する印刷制御装置であって、  与えられた画像データによって表される画像を、前記印刷部で利用可能な前記有色インクと前記改善インクとを用いて各画素にドットを形成することによって表現するために、前記各画素に形成されるべきドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成部とを備え、  前記ドットデータ生成部は、前記与えられた画像データの印刷媒体の端部側に位置する周辺領域に属する画素における前記改善インクのドットの記録率である改善インクドット記録率を、前記与えられた画像データの印刷媒体の中央部側に位置する中央領域における前記改善インクドット記録率よりも小さくする処理モードを有することを特徴とする、印刷制御装置。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】  印刷媒体上にドットを形成することによって印刷を行う印刷装置であって、  着色材を含む少なくとも１種類の有色インクと、印刷物の品質を改善するための改善インクとを印刷媒体上に吐出することによってドットを形成することが可能な印刷部と、  与えられた画像データによって表される画像を、前記印刷部で利用可能な前記有色インクと前記改善インクとを用いて各画素にドットを形成することによって表現するために、前記各画素に形成されるべきドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成部と、を備え、  前記印刷部は、前記与えられた画像データの印刷媒体の端部側に位置する周辺領域に属する画素における前記改善インクの吐出を制限する作動モードを有することを特徴とする、印刷装置。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】  着色材を含む少なくとも１種類の有色インクと、印刷物の品質を改善するための改善インクとを印刷媒体上に吐出することによってドットを形成することが可能な印刷部を用いて印刷を行うために、前記印刷部に供給すべき印刷データを生成する印刷制御方法であって、  与えられた画像データによって表される画像を、前記印刷部で利用可能な前記有色インクと前記改善インクとを用いて各画素にドットを形成することによって表現するために、前記各画素に形成されるべきドットの形成状態を表すドットデータを生成する工程を備え、  前記工程は、前記与えられた画像データの印刷媒体の端部側に位置する周辺領域に属する画素における前記改善インクのドットの記録率である改善インクドット記録率を、前記与えられた画像データの印刷媒体の中央部側に位置する中央領域に属する画素における前記改善インクドット記録率よりも小さくする処理モードを有することを特徴とする、印刷制御方法。【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】  着色材を含む少なくとも１種類の有色インクと、印刷物の品質を改善するための改善インクとを印刷媒体上に吐出することによってドットを形成することが可能な印刷部を用いて印刷を行うために、前記印刷部に供給すべき印刷データを生成するための処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムであって、  与えられた画像データによって表される画像を、前記印刷部で利用可能な前記有色インクと前記改善インクとを用いて各画素にドットを形成することによって表現するために、前記各画素に形成されるべきドットの形成状態を表すドットデータを生成する機能を前記コンピュータに実現させるプログラムを有し、  前記機能は、前記与えられた画像データの印刷媒体の端部側に位置する周辺領域に属する画素における前記改善インクのドットの記録率である改善インクドット記録率を、前記与えられた画像データの印刷媒体の中央部側に位置する中央領域に属する画素における前記改善インクドット記録率よりも小さくする処理モードを有することを特徴とする、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月10日(2006.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルが直線上に配列されたラインヘッドの前記複数のノズルを複数のブロックに分割し、前記複数のブロックに対応して設けた複数のシフトレジスタに並列に記録データを転送する記録データ転送方法であって、
前記ラインヘッドの基準位置に対応する記録データと端部に対応する非記録データとをメモリに記憶する記憶工程と、
前記ラインヘッドの前記配列の方向の前記基準位置からの相対的なずれに関する位置補正量に基づいて、前記複数のシフトレジスタに転送する前記メモリに記憶されたデータの切り出し位置を設定するデータ切り出し位置設定工程と、を備える、ことを特徴とする記録データ転送方法。
【請求項２】
複数のノズルが直線上に配列されたラインヘッドの前記複数のノズルを複数のブロックに分割し、前記複数のブロックに対応して設けた複数のシフトレジスタに並列に記録データを転送し、前記ラインヘッドにより、記録媒体を搬送しながら記録を行なう記録装置であって、
前記ラインヘッドの基準位置に対応する記録データと端部に対応する非記録データとを記憶するメモリ手段と、
前記ラインヘッドの前記配列の方向の前記基準位置からの相対的なずれに関する位置補正量に基づいて、前記複数のシフトレジスタに転送する前記メモリ手段に記憶されたデータの切り出し位置を設定するデータ切り出し位置設定手段と、を備える、ことを特徴とする記録装置。
【請求項３】
前記データ切り出し位置設定工程は、
前記複数のラインヘッドの前記端部に対応する前記複数のシフトレジスタの端部に転送される前記非記録データの量を、前記位置補正量に従って増減する、ことを特徴とする請求項１に記載の記録データ転送方法。
【請求項４】
前記データ切り出し位置設定手段は、
前記複数のラインヘッドの前記端部に対応する前記複数のシフトレジスタの端部に転送される前記非記録データの量を、前記位置補正量に従って増減する、ことを特徴とする請求項２に記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明の記録データ転送方法は、複数のノズルが直線上に配列されたラインヘッドの前記複数のノズルを複数のブロックに分割し、前記複数のブロックに対応して設けた複数のシフトレジスタに並列に記録データを転送する記録データ転送方法であって、
前記ラインヘッドの基準位置に対応する記録データと端部に対応する非記録データとをメモリに記憶する記憶工程と、
前記ラインヘッドの前記配列の方向の前記基準位置からの相対的なずれに関する位置補正量に基づいて、前記複数のシフトレジスタに転送する前記メモリに記憶されたデータの切り出し位置を設定するデータ切り出し位置設定工程と、を備えている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記の目的を達成する本発明の記録装置は、複数のノズルが直線上に配列されたラインヘッドの前記複数のノズルを複数のブロックに分割し、前記複数のブロックに対応して設けた複数のシフトレジスタに並列に記録データを転送し、前記ラインヘッドにより、記録媒体を搬送しながら記録を行なう記録装置であって、
前記ラインヘッドの基準位置に対応する記録データと端部に対応する非記録データとを記憶するメモリ手段と、
前記ラインヘッドの前記配列の方向の前記基準位置からの相対的なずれに関する位置補正量に基づいて、前記複数のシフトレジスタに転送する前記メモリ手段に記憶されたデータの切り出し位置を設定するデータ切り出し位置設定手段と、を備えている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2005028662.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月29日(2006.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
アルミニウム板に、少なくとも、
アルカリ水溶液中でのエッチング処理、
１回目の塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、
アルカリ水溶液中でのエッチング処理、
２回目の塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、
アルカリ水溶液中でのエッチング処理、および
陽極酸化処理
をこの順に施し、
前記２回目の塩酸を含有する水溶液が３〜２０ｇ／Ｌの塩酸水溶液である平版印刷版用支持体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
即ち、本発明は、以下の（１）〜（４）を提供する。
（１）アルミニウム板に、少なくとも、
アルカリ水溶液中でのエッチング処理（第一）、
１回目の塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、
アルカリ水溶液中でのエッチング処理（第二）、
２回目の塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、
アルカリ水溶液中でのエッチング処理（第三）、および
陽極酸化処理
をこの順に施し、
上記２回目の塩酸を含有する水溶液が３〜２０ｇ／Ｌの塩酸水溶液である平版印刷版用支持体の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
第一塩酸電解の後に行う第二塩酸電解は、第一の塩酸電解で説明したのと基本的に同様である。
第二塩酸電解における塩酸を含有する水溶液は、第一塩酸電解と同様、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用できるが、３〜２０ｇ／Ｌ、好ましくは６〜１５ｇ／Ｌの塩酸水溶液を用いる。
また、第二塩酸電解における塩酸を含有する水溶液中での電気化学的な粗面化でアルミニウム板が陽極反応にあずかる電気量の総和は、電気化学的な粗面化処理が終了した時点で、１０〜２００Ｃ／ｄｍ2の範囲から選択でき、１０〜１００Ｃ／ｄｍ2が好ましく、５０〜８０Ｃ／ｄｍ2が特に好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３２】
第１表から明らかなように、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法（実施例１〜２５）により得られた平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、いずれも耐刷性および耐汚れ性に優れていた。
これに対して、所定の塩酸濃度の第二塩酸電解を施していない平版印刷版用支持体の製造方法（比較例１および２）により得られた平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、耐汚れ性が十分ではなかった。
また、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法（実施例１〜２５）により得られた平版印刷版用支持体、特に、第二塩酸電解の塩酸濃度を高くした実施例９、１０、１３〜１６、１８、１９および２３〜２５で得られた平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、いずれも耐クリーナ性に優れていることが分かった。