(57)【要約】【課題】光ディスク基板の品質を向上させ、製造コストを大幅に削減できる光ディスク製造装置を提供する。【解決手段】塗布機構３は、光ディスク基板に粘稠な液体を噴出可能な塗布ノズル３１を少なくとも一つ有する。接着結合機構５は、回転と移転動作を行う第一作動盤５１と第二作動盤５２とを有し、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板と別の光ディスク基板を結合接着し、一枚の光ディスクを形成可能である。振動機構４は、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板または二枚の光ディスク基板の接着結合により形成された光ディスクを振動させることにより、粘稠な液体を光ディスク基板の塗布面に均質に分布させる。粘稠な液体が塗布された光ディスク基板と別の光ディスク基板とを結合させて一枚の光ディスクを形成することが必要であれば、接着結合機構が接着結合動作を始める。【選択図】図１
0003128160.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクの製造に適用される光ディスク製造装置であって、
光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を噴出可能な塗布ノズルを少なくとも一つ有する塗布機構と、
回転と移転動作を行う第一作動盤と第二作動盤とを有し、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板と別の光ディスク基板を結合させるように接着し、一枚の光ディスクを形成可能である接着結合機構と、
粘稠な液体が塗布された光ディスク基板または二枚の光ディスク基板の接着結合により形成された光ディスクを振動させることにより、粘稠な液体を光ディスク基板の塗布面に均質に分布させる振動機構と、を備え、
粘稠な液体が塗布された光ディスク基板と別の光ディスク基板とを結合させて一枚の光ディスクを形成するように接着するとき、接着結合機構が接着結合動作を始め、単一の光ディスク基板のみが必要なとき、接着結合機構が接着結合動作を停止することを特徴とする光ディスク製造装置。
【請求項２】
一つの回転盤と、回転盤に配置されている数多くの孔座とを有することにより、少なくとも一つの光ディスク基板を回転および昇降させ、一回ごとに少なくとも一つの孔座の位置を移動可能である回転基板を含むことを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【請求項３】
光ディスク基板を取り出し、回転盤機構の対応する所定の位置の少なくとも一つの孔座上に置かれて回転可能な取出機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【請求項４】
振動機構は、機械式振動装置と超音波振動装置のいずれか一つであることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【請求項５】
接着結合機構は、接着結合動作を行う際、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板に対し、別の一枚の光ディスク基板を斜めに導入し、これらを接触させ、そののち、両者の間の斜度を少しずつ縮小し、この二枚の光ディスク基板を徐々に平行させて一体に結合させることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【請求項６】
光ディスクは、読み取りのみまたは読み取りと書き込みが可能なＣＤ、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＢＤからなる光ディスクを含むことを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【請求項７】
振動機構は、左向き、右向き、上向き、下向きに振動するか、或いは、弧状を呈するように振動することが可能であることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、光ディスク製造装置、詳しく言えば、基板を振動させることにより、粘稠な液体を均質に分布させる光ディスク製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現今、ＣＤ、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＢＤなどのシリ−ズの光ディスクに適用される製造方法は、光ディスク基板に塗布、回転塗布などの工程を施すことである。二つの光ディスク基板を有する光ディスクを製造する場合、二つの光ディスク基板を結合させるように接着する必要がある。そののち、紫外線を照射することにより、粘稠な液体を凝固させれば、光ディス製造が完成する。上述の製造方法による光ディスクは、光ディスク基板の粘稠な液体塗布層、なお且つ少なくとも一つの光ディスク基板の表面に記録可能な積層を有する。
【０００３】
周知の二つの光ディスクを結合させるように接着する製造方法は、そのうちの一つの光ディスク基板の結合表面に粘稠な液体を一回りに塗布し、垂直方向に沿って光ディスクを別の光ディスク基板の所定の粘稠な液体塗布面に対応させ、それらを結合させることである。しかし、使用する粘稠な液体は、透明の光ディスク基板または積層を有する光ディスク基板の材質と異なる紫外線硬化性組成物である。また、粘稠な液体が二つの光ディスク基板の間に分布するように圧迫された場合、粘稠な液体の表面張力が原因で粘稠な液体の流動方向が不安定であるため、粘稠な液体の分布が均質にならないか、或いは、気泡の発生に伴って欠陥が生じ、良品の歩合を低下させるという問題が発生する。
【０００４】
また、別の光ディスク製造装置とその方法は下記の通りである。
中華民国実用新案公報第２２６６３３号により掲示された光ディスク製造装置と製造方法の考案要点は、光ディスク基板成形機、冷却機構、第一搬送機構、第一転移機構、第二搬送機構、第二転移機構、膜成形装置、重畳機構および硬化装置から構成される装置により、成形機から取り出した光ディスク基板に冷却、搬送、移転などの工程を施した後、回転製造工程において、上述の回転過程で回転させられた光ディスク基板の下面に液状の粘着剤を供給し、かつ上述の回転させられた光ディスク基板を上述の光ディスク基板の上方に搬送するか、或いは、上述の回転していない光ディスク基板を上述の回転させられた光ディスク基板の下方に搬送し、これらを積み重ねて一つの光ディスクを形成することである。しかし、上述の製造方法と装置は、構造が複雑なだけでなく、周知の技術のようにそのうちの一面のみに塗布工程を施し、光ディスクを垂直に結合させるように接着する工程の欠点が存在している。
【０００５】
また、中華民国実用新案公報第５８７８２５号により掲示された光ディスク製造機は、本考案者が上述の欠点に対して改良を加えて考案したものである。この考案重点は、接着結合機構が光ディスク基板を斜めに導入し、二つの光ディスク基板を結合させるように接着させることにより、粘稠な液体内の気泡を減少させることである。
しかし、前述の光ディスク製造機は、粘稠な液体内の気泡が発生するという欠点を改善できるが、粘稠な液体は回転方法により光ディスク基板の表面に塗布され、かつ遠心力により光ディスク基板の外縁へ流動させられるため、光ディスク基板の軸心に近い部分に塗布された粘稠な液体は比較的薄く、光ディスク基板の軸心から遠く離れた部分に塗布された粘稠な液体は比較的厚くなり、光ディスク基板表面の内外縁に塗布された粘稠な液体が均質にならないという問題が発生する。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
本考案の主な目的は、周知の光ディスク製造の欠点を解決するために、光ディスク製造方法と装置を提供することである。本考案は、光ディスク基板に塗布工程を施した後、振動手段により光ディスク基板に塗布された粘稠な液体を均質に分布させ、また、二つの光ディスク基板を結合させるように接着する必要がある場合、光ディスク基板を斜めに導入し、対応する別の光ディスク基板に貼り付けることにより、気泡の発生を抑制し、二つの光ディスク基板を結合させる良品の歩合を向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的を達成するために、本考案による光ディスク製造装置は、光ディスクの製造に適用され、回転機構、回転可能な取出機構、塗布機構、接着結合機構、振動機構および受取機構を備える。塗布機構は、光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を噴出可能な塗布ノズルを二つ有する。接着結合機構は、回転と移転動作を行う第一作動盤と第二作動盤を有し、かつ粘稠な液体が塗布された光ディスク基板と別の光ディスク基板を結合させるように接着し、一枚の光ディスクを形成可能である。振動機構は、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板または二枚の光ディスク基板の結合により形成された光ディスクを振動させることにより、光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を均質に塗布する。
【０００８】
光ディスクは、必ずしも二枚の光ディスク基板を結合させるように接着する必要があるとは限らない。例えば、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＢＤなどのシリ−ズの光ディスクは一枚の光ディスク基板のみが必要である。従って、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板と別の光ディスク基板とを結合させて一枚の光ディスクを形成するように接着することが必要であれば、接着結合機構が接着結合動作を始める。逆に、単一の光ディスク基板のみが必要であれば、接着結合機構が接着結合動作をしない。また、振動機構は、光ディスク基板に粘稠な液体を塗布した後、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を振動させる。
【０００９】
回転機構は、複数の回転盤と、回転盤に配置される数多くの孔座とを有することにより、光ディスク基板を回転および昇降させ、かつ一回ごとに少なくとも一つの孔座の位置を移動可能である。回転可能な取出機構は、少なくとも一つの光ディスク基板を取り出し、回転盤機構の対応する所定の位置の少なくとも一つの孔座上に置く。受取機構は、振動、粘稠な液体の乾燥と検査などの工程が完了した光ディスクを収集および保存する。
【００１０】
本考案の実施例において、上述の振動機構は、機械式振動装置または超音波振動装置である。
本考案の実施例において、上述の接着結合機構は、接着結合動作を行う際、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板に対し、別の一枚の光ディスク基板を斜めに導入し、この二枚の光ディスク基板を接触させ、両者の間の斜度を少しずつ縮小し、二枚の光ディスク基板を平行させて一体に結合させることにより、気泡の発生を抑制することが可能である。
本考案の実施例において、上述の光ディスクは、読み取りのみまたは読み取りと書き込みが可能なＣＤ、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＢＤなどのシリ−ズの光ディスクを含む。
【００１１】
本考案の実施例において、上述の振動機構は、左向き、右向き、上向、下向に振動するか、或いは、弧状を呈するように振動することが可能である。
上述をまとめてみると、本考案による光ディスク製造方法と装置は、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を振動させることにより、粘稠な液体を光ディスク基板上に均質に分布させるため、製造工程を改善し、粘稠な液体の分布が均質にならないことが原因で接着結合工程の欠陥が発生するという問題を解決することが可能なだけでなく、光ディスク基板の品質を向上させ、製造工程の良品の歩合を高め、欠陥を減少させることが可能である。また、未来の光ディスク技術規格に対応し、製造にかかるコストを大幅に削減し、効率的に品質を向上させることも可能である。従って、本考案は産業上の利用性を満たすと考えられる。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１は、本考案の一実施例による光ディスク製造装置の機構の配置を示す模式図である。図１に示すように、本実施例による光ディスク製造装置は、回転機構１、回転可能な取出機構２、塗布機構３、振動機構４、接着結合機構５および受取機構６から構成され、良品の歩合と生産機能が高く、かつ粘稠な液体の分布が均質にならないことが原因で接着結合工程の欠陥が発生する問題を解決することを可能にする製造装置である。図２は、本考案の一実施例による光ディスク製造装置における振動機構を配置した状態の側面図である。振動機構４は、高速回転盤６５の下方に配置される。
【００１３】
本実施例の精神は、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を高速回転盤６５に移動させた後、高速回転方法により、粘稠な液体を光ディスク基板に分布させ、そののち、振動機構４を起動し、左右、上下の振動と弧形の振動を生じることにより、粘稠な液体をよりいっそう光ディスク基板に均質に分布させることである。そのうち、二枚の光ディスク基板を有する光ディスク（例えば、ＤＶＤ）を製作する場合、接着結合動作が必要であるため、接着結合機構５により接着結合動作を行った後、粘稠な液体が塗布され、かつ二枚の光ディスク基板の接着結合により形成された光ディスクを高速回転盤６５に搬送し、回転塗布と振動動作を行うことにより、粘稠な液体を光ディスク基板に均質に分布させる。また、単一の光ディスク基板のみを必要とする光ディスク（例えば、ＣＤ−Ｒ）を製作する場合、接着結合動作が必要でないため、接着結合機構５は接着結合動作をしない。単一の光ディスク基板に粘稠な液体を塗布した後、粘稠な液体が塗布された単一の光ディスク基板を高速回転盤６５に搬送し、回転塗布と振動動作を行い、粘稠な液体を光ディスク基板に均質に分布させる。
【００１４】
続いて、本実施例により二枚の光ディスク基板の接着結合により光ディスクを製造する際の実施手段について説明する。図１から図６に示すように、回転盤機構１は数多くの孔座１２を有し、かつ機台に装着される回転盤１１（図中未表示）を有し、孔座１２は偶数で配置され、回転盤１１は心軸１３により制御され、回転と昇降動作を順に行う。また、孔座１２の直径は光ディスク基板７より小さく、孔座１２の周縁には光ディスク基板７を支持可能な区域を構成する数多くの突出点１４を有する。
【００１５】
回転可能な取出機構２は、光ディスク基板７を取り出し、回転盤機構１の対応する孔座１２上に置く。回転可能な取出機構２は、ツインア−ム２１を有し、隣り合う基板送込み区２０から第一ディスク基板７１と第二ディスク基板７２を吸い取ると同時に、位置を回転盤１１の上方に回転させることが可能である。そののち、ツインア−ム２１は、第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２を回転盤１１の数多くの孔座１２のうちの第一孔座１２１、第二孔座１２２の位置に置く。第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２のうちの一つは透光性のある光ディスク基板で、もう一つは表面に記録可能な積層を有する光ディスク基板である。
【００１６】
図３は、本考案の一実施例による光ディスク製造装置における塗布機構の配置を示す模式図である。塗布機構３は、二つの塗布ノズル３１、塗布ノズル３２と、二つの回転可能な上昇ユニット３３、上昇ユニット３４とを有する。塗布ノズル３１と塗布ノズル３２は、回転盤１２の上方へ延伸するように配置され、第三孔座１２３、第四孔座１２４に対応する。二つの上昇ユニット３３、上昇ユニット３４は、回転盤１１の第三孔座１２３、第四孔座１２４の下方に配置され、かつ回転動作を行いながら、第三孔座１２３、第四孔座１２４上に置かれた第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２を所定の高さまで上昇させる。また、塗布ノズル３１、塗布ノズル３２は、第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２の所定の塗布面に粘稠な液体を一回りに塗布する。続いて、図４は、本考案の一実施例による光ディスク製造装置における塗布機構により粘稠な液体を塗布する状態を示す模式図であり、図５は本考案の一実施例による光ディスク製造装置における塗布機構により粘稠な液体を塗布する状態を示す一部分の断面図である。
【００１７】
続いて、図６は、本考案の一実施例による光ディスク製造装置における接着結合機構の配置を示す模式図である。接着結合機構５は、別々に回転盤１の第五孔座１２５、第六孔座１２６の下方に位置付けられる固定吸盤５１（第一作動盤）と回転吸盤５２（第二動作盤）を有する。第五孔座１２５、第六孔座１２６は、塗布機構３に対応する第三孔座１２３、第四孔座１２４の後の二つの孔座１２に位置付けられる。回転吸盤５２は回転ア−ム５３の末端に固定され、回転ア−ム５３は一端が動力設備５４に固定され、動力設備５４は回転ア−ム５３と回転吸盤５２を駆動し、固定吸盤５１の位置に対して回転動作を行うことにより、粘稠な液体が塗布された第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２の塗布面を斜度で結合させるように接着する。接着結合工程において、固定吸盤５１の下方に装着される回転装置５０は回転動作を行い、第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２に圧力を施すことにより、第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２を緊密に結合させて光ディスクを形成する。また、回転ア−ム５３は末端に調整可能な固定板５５を有し、調整可能な固定板５５は表面に数多くのねじ５６を有し、ねじ５６は頂部から回転吸盤５２を締め付ける。
【００１８】
受取装置６は、回転可能であるように回転軸６０に支持される四爪式ア−ム６１、紫外線乾燥域６２、光ディスク検査区６３および光ディスク収集区６４を有する。四爪式ア−ム６１は、隣り合うように回転盤１１の第七孔座１２７、第八孔座１２８の位置に配置され、回転軸の回転により制御されるため、第一爪ア−ム６１１により接着結合工程が完了した光ディスク７０を高速回転盤６５に移転させ、そののち、回転速度により余分の粘稠な液体を飛ばし、厚さを制御することが可能である。
【００１９】
振動機構４は、機械式振動装置または超音波振動装置を採用することが可能である。また、振動機構４の装着位置が高速回転盤６５の下方であれば好ましい。高速回転盤６５は、回転速度により光ディスク７０内部の余分の粘稠な液体を飛ばし、そののち、光ディスク７０を振動させることにより、粘稠な液体を所定の塗布面に均質に分布させる。続いて、図７は本考案の一実施例による光ディスク製造装置における二つの光ディスク基板を結合させるように接着する動作を示す模式図であり、図８は本考案の一実施例による光ディスク製造装置における接着結合機構の動作を示す模式図である。
【００２０】
ここで強調すべきなのは、本考案の一実施例は振動機構を単独に設置することも可能であり、その構造は図２に示す実施例に類似していることである。これにより、機械ア−ムにより接着結合工程が完了した光ディスクを振動機構に移転させ、振動させることにより、粘稠な液体を均質に分布させ、そののち、乾燥、検査などの処理を行うことが可能である。また、図１から図８に示す実施例は本考案の一例に過ぎないため、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を振動させ、光ディスク基板の内部の粘稠な液体を均質に分布させる任意の方法は本考案の請求範囲に属するべきである。また、この技術を熟知している人は上述の方法に従って情況に応じて実施手段を調整することが可能である。
上述した内容は本考案を説明するための一例に過ぎず、本考案を限定することができないため、本考案の精神範疇を逸脱しない限り、別の特殊な形で実施例を表現するのは本考案の請求範囲に属するべきである。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の機構の配置を示す模式図である。
【図２】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の振動機構を配置した状態を示す側面図である。
【図３】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の塗布機構の配置を示す模式図である。
【図４】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の塗布機構により粘稠な液体を塗布する状態を示す模式図である。
【図５】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の塗布機構により粘稠な液体を塗布する状態を示す一部分の断面図である。
【図６】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の接着結合機構の配置を示す模式図である。
【図７】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の二つの光ディスク基板を接着する動作を示す模式図である。
【図８】本考案の一実施例による光ディスク製造装置の接着結合機構の動作を示す模式図である。
【符号の説明】
【００２２】
１  回転盤機構、２  回転可能な取出機構、３  塗布機構、４  振動機構、５  接着結合機構、６  受取機構、７  光ディスク基板、１１  回転盤、１２  孔座、１３  心軸、１４  突出点、２０  基板送込み区、２１  ツインア−ム、３１  塗布ノズル、３２  塗布ノズル、３３  上昇ユニット、３４  上昇ユニット、５０  回転装置、５１  固定吸盤、５２  回転吸盤、５３  回転ア−ム、５４  動力設備、５５  固定板、５６  ねじ、６０  回転軸、６１  四爪式ア−ム、６２  紫外線乾燥域、６３  光ディスク検査区、６４  光ディスク収集区、６５  高速回転盤、７０  光ディスク、７１  第一光ディスク基板、７２  第二光ディスク基板、１０１  回転盤機構、１２１  第一孔座、１２２  第二孔座、１２３  第三孔座、１２４  第四孔座、１２５  第五孔座、１２６  第六孔座、１２７  第七孔座、１２８  第八孔座、２０１  回転可能な取出機構、３０１  塗布機構、４０１  振動機構、５０１  接着結合機構、６０１  高速回転盤、６１１  第一ア−ム、７０１  光ディスク、７０２  光ディスク
【図１】
0003128160.tif 000003
【図２】
0003128160.tif 000004
【図３】
0003128160.tif 000005
【図４】
0003128160.tif 000006
【図５】
0003128160.tif 000007
【図６】
0003128160.tif 000008
【図７】
0003128160.tif 000009
【図８】
0003128160.tif 000010