【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】（ａ）一般式（１）で表される構造を有する樹脂と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒とを含有し、かつ、（ｃ）成分の含有量が有機溶媒全量に対して７０重量％以上１００重量％以下である感光性樹脂組成物。
【化１】
2004054254.tif 000001
（式中Ｒ１は２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ２は２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１から２０までの有機基を示す。ｎは５から１０００００までの範囲、ｐおよびｑは、それぞれ０から４までの範囲、ｒおよびｓは、それぞれ０から２までの範囲である。ｐ＋ｑ＞０である。）
【請求項２】（ａ）一般式（２）〜（５）のいずれかで表される構造を有する樹脂から選ばれた１種以上の樹脂と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒とを含有し、かつ、（ｃ）成分の含有量が有機溶媒全量に対して５０重量％以上１００重量％以下である感光性樹脂組成物。
【化２】
2004054254.tif 000002
（式中Ｒ１は２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ２は２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１から２０までの有機基、Ｒ５は２価の有機基、ＸおよびＹはそれぞれカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基より選ばれた一つ以上の置換基を有する有機基を示す。ｎは５から１０００００までの範囲、ｍは０から１０までの範囲、ｐおよびｑは、それぞれ０から４までの範囲、ｒおよびｓは、それぞれ０から２までの範囲である。ｐ＋ｑ＞０である。）
【請求項３】（ｂ）成分がキノンジアジド化合物である請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布し感光性樹脂膜を形成する工程、該感光性樹脂膜を乾燥する工程、該感光性樹脂膜を露光する工程、露光された感光性樹脂膜を現像する工程、および、加熱処理をする工程を含む耐熱性樹脂膜の製造方法。
【請求項５】感光性樹脂組成物の塗布をスリットダイコート法を用いて行う請求項４記載の耐熱性樹脂膜の製造方法。
【請求項６】感光性樹脂膜の現像をアルカリ現像液を用いて行う請求項４記載の耐熱性樹脂膜の製造方法。
【請求項７】請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物を、第一電極が形成された基板上に塗布し感光性樹脂膜を形成する工程、該感光性樹脂膜を乾燥、露光、現像および加熱処理して絶縁層を形成する工程、発光層を形成する工程、および、第二電極を形成する工程を少なくとも含む有機電界発光装置の製造方法。
【請求項８】絶縁層を第一電極のエッジを覆うように形成する請求項７に記載の有機電界発光装置の製造方法。
【請求項９】請求項４記載の製造方法により得られた耐熱性樹脂膜を有する有機電界発光装置。
【請求項１０】請求項４記載の製造方法により得られた耐熱性樹脂膜を表面保護膜または層間絶縁膜として有する電子部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】  本発明は、（ａ）一般式（１）で表される構造を有する樹脂と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒とを含有し、かつ、（ｃ）成分の含有量が有機溶媒全量に対して７０重量％以上１００重量％以下である感光性樹脂組成物である。また、本発明は、（ａ）一般式（２）〜（５）のいずれかで表される構造を有する樹脂から選ばれた１種以上の樹脂と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒とを含有し、かつ、（ｃ）成分の含有量が有機溶媒全量に対して５０重量％以上１００重量％以下である感光性樹脂組成物である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【化３】
2004054254.tif 000003
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（式（１）中Ｒ１は２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ２は２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１から２０までの有機基を示す。ｎは５から１０００００までの範囲、ｐおよびｑは、それぞれ０から４までの範囲、ｒおよびｓは、それぞれ０から２までの範囲である。ｐ＋ｑ＞０である。
式（２）〜（５）中Ｒ１は２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ２は２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１から２０までの有機基、Ｒ５は２価の有機基、ＸおよびＹはそれぞれカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基、不飽和炭化水素基を１つ以上含有する炭素数１から１０までの炭化水素基、ニトロ基、メチロール基、エステル基、ヒドロキシアルキニル基より選ばれた一つ以上の置換基を有する有機基を示す。ｎは５から１０００００までの範囲、ｍは０から１０までの範囲、ｐおよびｑは、それぞれ０から４までの範囲、ｒおよびｓは、それぞれ０から２までの範囲である。ｐ＋ｑ＞０である。）
また、本発明は、上記の感光性樹脂組成物を基板上に塗布し感光性樹脂膜を形成する工程、該感光性樹脂膜を乾燥する工程、該感光性樹脂膜を露光する工程、露光された感光性樹脂膜を現像する工程、および、加熱処理をする工程を含む耐熱性樹脂膜の製造方法である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
参考例１
乾燥窒素気流下、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）１２．０１ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｇに溶解させた。ここに合成例２で得られた水酸基含有ジアミン（ｂ）７．２ｇ（０．０１２モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。末端封止剤は添加しなかった。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ１０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ａ）をろ過で集めた。樹脂Ａを８０℃の真空乾燥機で４０時間乾燥した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
実施例１
乾燥窒素気流下、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）１２．０１ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｇに溶解させた。ここに合成例２で得られた水酸基含有ジアミン（ｂ）９．６ｇ（０．０１６モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に４−アミノフェノール０．８７ｇ（０．００８モル）を加え５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ１０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｂ）をろ過で集めた。樹脂Ｂを８０℃の真空乾燥機で４０時間乾燥した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
実施例２
乾燥窒素気流下、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）１２．０１ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｇに溶解させた。ここに合成例３で得られた水酸基含有ジアミン（ｃ）４．８４ｇ（０．００８モル）と合成例４で得られた水酸基含有ジアミン（ｄ）１．９４ｇ（０．００８モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に４−エチニルアニリン０．９４ｇ（０．００８モル）を加え５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｃ）をろ過で集めた。樹脂Ｃを８０℃の真
空乾燥機で４０時間乾燥した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
実施例３
乾燥窒素気流下、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）１２．０１ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｇに溶解させた。ここに合成例２で得られた水酸基含有ジアミン（ｂ）９．６ｇ（０．０１６モル）をＮＭＰ２５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に４−アミノフェノール０．４４ｇ（０．００４モル）および４−エチニルアニリン０．４７ｇ（０．００４モル）を加え５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ１０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｄ）をろ過で集めた。樹脂Ｄを８０℃の真空乾燥機で４０時間乾燥した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
実施例４
乾燥窒素気流下、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル９．０８ｇ（０．０４５モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１．２４ｇ（０．００５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）２０ｇに溶解させた。ここに合成例１で得られた水酸基含有酸二無水物（ａ）２４．０２ｇ（０．０４モル）をＮＭＰ１５ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。反応後、末端封止剤として無水マレイン酸１．９６ｇ（０．０２モル）を加えさらに５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール１５．１９ｇ（０．１２７モル）をＮＭＰ４ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｅ）をろ過で集めた。樹脂Ｅを７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
実施例５
乾燥窒素気流下、合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）９．６７（０．０１６モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン０．５０ｇ（０．００２モル）、末端封止剤として３−アミノフェノール０．４４ｇ（０．００４モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここにビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物６．２ｇ（０．０２モル）をＮＭＰ１４ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で４時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７．１５ｇ（０．０６モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｆ）をろ過で集めた。樹脂Ｆを７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
実施例６
乾燥窒素気流下、合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）９．６７（０．０１６モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン０．５０ｇ（０．００２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここにビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物６．２ｇ（０．０２モル）をＮＭＰ１４ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。次に末端封止剤として４−エチニルアニリン０．４７ｇ（０．００４モル）を加えさらに５０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール４．７７ｇ（０．０４モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｇ）をろ過で集めた。樹脂Ｇを７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
実施例７
乾燥窒素気流下、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物６．２ｇ（０．０２モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに末端封止剤として３−アミノフェノール１．０９ｇ（０．０１モル）を加えて、４０℃で１時間反応させた。次いで合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）６．０４ｇ（０．０１モル）、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル１ｇ（０．００５モル）をＮＭＰ１０ｇと加えてさらに４０℃で２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール５．９６ｇ（０．０５モル）をＮＭＰ５ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、溶液を水１ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｈ）をろ過で集めた。樹脂Ｈを７０℃の真空乾燥機で６０時間乾燥した。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
実施例８
乾燥窒素気流下、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン２７．４７ｇ（０．０７５モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１．２４ｇ（０．００５モル）、末端封止剤として活性エステル化合物（ｊ）５．６６ｇ（０．０２モル）ピリジン１１．９３ｇ（０．１５１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸ジｎ−ブチルエステルジクロリド溶液（ｅ）２３９．６ｇ（０．０８モル）を、系内が１０℃以上にならないように滴下した。滴下後、室温で６時間攪拌した。反応終了後、溶液を水２ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｉ）をろ過で集めた。樹脂Ｉを８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥した。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
実施例９
乾燥窒素気流下、３，５−ジアミノ安息香酸７．７５ｇ（０．０５１モル）、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル４ｇ（０．０２モル）、末端封止剤として３−アミノフェノール１．９６ｇ（０．０１８モル）、ピリジン１２．６６ｇ（０．１６モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに、合成例１で得られた水酸基含有酸無水物（ａ）４８．０４ｇ（０．０８モル）をＮＭＰ５０ｇとともに加えて４０℃で２時間反応させた。その後Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール１１．９２ｇ（０．１モル）をＮＭＰ１０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間撹拌した。反応終了後、溶液を水２ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｊ）をろ過で集めた。樹脂Ｊを８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥した。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
実施例１０
乾燥窒素気流下、３，５−ジアミノ安息香酸７．７５ｇ（０．０５１モル）、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン７．３ｇ（０．０２モル）、末端封止剤として３−アミノフェノール１．９６ｇ（０．０１８モル）、ピリジン１２．６６ｇ（０．１６モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５０ｇに溶解させた。ここに、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸ジｎ−ブチルエステルジクロリド溶液（ｅ）２３９．６ｇ（０．０８モル）を、系内が１０℃以上にならないように滴下した。滴下後、室温で６時間攪拌した。反応終了後、溶液を水２ｌに投入して、沈殿した樹脂（樹脂Ｋ）をろ過で集めた。樹脂Ｋを８０℃の真空乾燥機で２０時間乾
燥した。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
実施例１１
乾燥窒素流下、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物１２４ｇ（０．４モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５２ｇ（０．４モル）、エタノール１８．４ｇ（０．４モル）、γ−ＢＬ３２０ｇを入れ、氷冷下、かきまぜながらピリジン６４．２ｇを加えた。発熱終了後室温まで放冷し１６時間放置した後、ジシクロヘキシルカルボジイミド１６６ｇをγ−ＢＬ１２０ｇに溶かした溶液を氷冷下、かきまぜながら４０分間で加え、続いて合成例３で得られた水酸基含有ジアミン化合物（ｃ）１８１ｇ（０．３モル）をγ−ＢＬ１５０ｇに懸濁したものを氷冷下、かきまぜながら６０分間で加えた。室温で２時間かきまぜた後、エタノール３０ｇを加えて１時間かきまぜ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）２５０ｇとテトラヒドロフラン４００ｇを加えた後、沈殿を濾過により除いて得られた反応液を１５リットルのエタノールに加え、生成した沈殿（樹脂Ｌ）を濾別した後、真空乾燥した。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４３】
参考例２
参考例１で得られたワニスＷ１を、前記の感光性樹脂膜の作製方法にしたがって、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上にスピンコートコート法により塗布した。回転数は１０００ｒｐｍで１０秒間行った。次いでホットプレートを用いて乾燥し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４４】
実施例１２
実施例６で得られたワニスＷ７を、前記の感光性樹脂膜の作製方法にしたがって、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上にスリットダイコート法により塗布し、続けてスピンコート法により回転させた。回転数は１２００ｒｐｍで６秒間行った。次いでホットプレートを用いて乾燥し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４５】
参考例３
参考例１で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を、第一電極のエッジを覆う形状のフォトマスクを介してＵＶ露光した。露光後、２．３８％ＴＭＡＨ水溶液で露光部分のみを溶解させることで現像し、純水でリンスした。つづいて、クリーンオーブン中の窒素雰囲気下で２３０℃で３０分間加熱して、感光性ポリイミド前駆体樹脂膜をキュアし、ポリイミド絶縁層を得た。絶縁層の厚さは約１μｍであった。絶縁層は、第一電極のエッジを覆うように形成され、中央部には幅７０μｍ、長さ２５０μｍの開口部が設けられて第一電極が露出している。絶縁層の断面は、なだらかな順テーパーになっていた。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
実施例１３
実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を２３０℃で６０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
実施例１４
実施例２で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を２３０℃で３０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
実施例１５
実施例３で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を２５０℃で３０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５１】
実施例１６
実施例４で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を２３０℃で３０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５２】
実施例１７
実施例５で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を２００℃で６０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５３】
実施例１８
実施例６で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を３５０℃で３０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
実施例１９
実施例７で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を２００℃で３０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５５】
実施例２０
実施例８で得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を用い、キュア条件を３２０℃で３０分にした他は、参考例３と同様にして、単純マトリクス型カラー有機電界発光装置を作製した。本表示装置を線順次駆動したところ、輝度ムラも認められず良好な表示特性を得ることができた。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
比較例１
ワニスを作成する際の溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１１８−１１９℃）１５ｇとγ−ブチロラクトン（沸点２０４℃）３５ｇの混合溶液に変更した他は、参考例１と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
比較例２
ワニスを作成する際の溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１１８−１１９℃）１０ｇとγ−ブチロラクトン（沸点２０４℃）４０ｇの混合溶液に変更した他は、実施例１と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
比較例３
ワニスを作成する際の溶媒をエチレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３５℃）２０ｇとＮＭＰ（沸点２０２℃）３０ｇの混合溶液に変更した他は、実施例２と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５９】
比較例４
ワニスを作成する際の溶媒をブチルアセテート（沸点１２６℃）１５ｇとγ−ブチロラクトン（沸点２０４℃）３５ｇの混合溶媒に変更した他は、実施例４と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６０】
比較例５
ワニスを作成する際の溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１１８−１１９℃）１５ｇとγ−ブチロラクトン３０ｇと乳酸エチル（沸点１５４℃）５ｇの混合溶媒に変更した他は、実施例５と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６１】
比較例６
ワニスを作成する際の溶媒を乳酸ブチル（沸点１８５−１８７℃）１７ｇとγ−ブチロラクトン３３ｇの混合溶媒に変更した他は、実施例６と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６２】
比較例７
ワニスを作成する際の溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１１８−１１９℃）５ｇと乳酸エチル（沸点１５４℃）４５ｇの混合溶媒に変更した他は、実施例７と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６３】
比較例８
ワニスを作成する際の溶媒を乳酸エチル（沸点１５４℃）１０ｇとＮＭＰ（沸点２０２℃）４０ｇの混合溶媒に変更した他は、実施例８と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６４】
比較例９
ワニスを作成する際の溶媒をγ−ブチロラクトン（沸点２０４℃）５０ｇに変更した他は、実施例９と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
比較例１０
ワニスを作成する際の溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１１８−１１９℃）３０ｇとエチレングリコールジメチルエーテル（沸点８５℃）２０ｇの混合溶液に変更した他は、参考例１と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
比較例１１
ワニスを作成する際の溶媒をメチルエチルケトン（沸点８０℃）３５ｇとγ−ブチロラクトン（沸点２０４℃）１５ｇの混合溶媒に変更した他は、実施例４と同様に行い、ＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に感光性ポリイミド前駆体樹脂膜を形成し、転写痕の有無およびスジ引きの有無について評価した。
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
樹脂Ａ〜Ｌのモノマー組成については表１〜４に、実施例１〜１２、参考例１〜２、比較例１〜１１の評価結果については表５〜６に示した。表２、４において、複数の成分を用いているものについては、ｐ、ｑ、ｒ、ｓを平均値で示した。
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７２】
【表５】
2004054254.tif 000004