【手続補正書】
【提出日】平成18年5月25日(2006.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式を有する添加剤消費抑制有機化合物：
【化１】
2003147572.tif 000001
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立して、水素；ハロゲン；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；−ＣＮ；ＳＣＮ；−Ｃ＝ＮＳ；−ＳＨ；−ＮＯ２；ＳＯ２Ｈ；−ＳＯ３Ｍ；−ＰＯ３Ｍ；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，−フェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，式中ｘは１から５００の整数であり、Ｒ６は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルである；−Ｐ（Ｒ４）２、式中Ｒ４は水素またはハロゲンである；シラン；シリル；−Ｓｉ（ＯＨ）３；スルホニルハライド；アシルハライド；アミニル；アミニルハライド；−ＣＯＲ５、式中Ｒ５はＯＨまたは（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルコキシ；またはカルボキシが化合物の置換基として存在する場合には−ＯＨであることができる；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル基は置換されていても置換されていなくてもよい；Ｍは水素またはアルカリ金属である；または
Ｒ１およびＲ２は一緒になって化学結合を形成するか；またはＲ１およびＲ２はこれらが結合している原子と一緒になって５〜７員環を形成する；または酸素または窒素が環内の複素原子である５〜７員環の複素環を形成する；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上のカルボニル基を含んでもよい；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上の５〜６員環と縮合してもよく、該１以上の５〜６員環は１以上の酸素または窒素原子を含んでも良く、縮合環は環内にカルボニルを含んでも良い；５〜７員環、１以上の５〜６員縮合環および複素環は非置換であってもよいし、あるいは置換されていてもよい）；
および、銅、金、銀、パラジウム、白金、コバルト、カドミウム、クロム、ビスマス、インジウム、イリジウム、ルテニウム、およびロジウムからなる金属群から選択される金属の塩を含む金属メッキ浴。
【請求項２】  
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ、５〜７員環、５〜６員縮合環、または複素環が、ハロゲン、シラン、シリル、アリール、アルコキシ、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、−ＳＨ、−ＮＯ２、−ＳＯ２Ｈ、スルホニルハライド、アシルハライド、アミニル、ヒドロキシアミニル、アミニルハライド、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ４）２、カルボキシル、ケト、エステル含有基、または−ＯＨを含む１以上の置換基で置換されている、ただし−ＯＨが置換基の場合にはカルボキシル置換基が化合物に存在する；
請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項３】
添加剤消費抑制化合物が、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸レゾルシノール、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，３，４−トリヒドロキシ安息香酸、メチル−３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート、メチル−２，４−ジヒドロキシベンゾエート、４−ヒドロキシマンデル酸１水和物、３−（フェニルチオ）酢酸、没食子酸、４−ビニル安息香酸、３，４−ジヒドロキシ桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸、２−ヒドロキシ桂皮酸、フタル酸、トランス−３−フランアクリル酸、スルファニル酸、またはそれらの混合物を含む、請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項４】
添加剤消費を抑制する化合物が、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項１の金属メッキ浴。
【請求項５】
さらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、または抑制物質を含む請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項６】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもよいし、あるいは置換されていなくてもよい請求項５記載の金属メッキ浴。
【請求項７】
光沢剤が、３−メルカプト−プロピルスルホン酸ナトリウム塩、２−メルカプト−エタンスルホン酸ナトリウム塩、ビススルホプロピルジスルフィド、またはその混合物を含む請求項５記載の金属メッキ浴。
【請求項８】
レベラーが、アルキル化ポリアルキレンイミン、オルガノスルホスルホン、フェナジンクラスの染料、フェナジンアゾ染料、またはその混合物を含む請求項５記載のメッキ浴。
【請求項９】
さらに、添加剤３−（ベンズチアゾリル−２−チオ）−プロピルスルホン酸ナトリウム塩、３−メルカプトプロパン−１−スルホン酸ナトリウム塩、エチレンジチオジプロピルスルホン酸ナトリウム塩、ビス−（ｐ−スルホフェニル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホブチル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホヒドロキシプロピル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホプロピル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホプロピル）−スルフィド二ナトリウム塩、メチル−（ω−スルホプロピル）ナトリウム塩、メチル−（ω−スルホプロピル）−トリスルフィド二ナトリウム塩、Ｏ−エチル−ジチオカルボン酸−Ｓ−（ω−スルホプロピル）−エステル、カリウム塩チオグリコール酸、チオリン酸−Ｏ−エチル−ビス−（ω−スルホプロピル）−エステル二ナトリウム塩、チオリン酸−トリ（ω−スルホプロピル）−エステル三ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカルバミン酸（３−スルホプロピル）エステルナトリウム塩、（Ｏ−エチルジチオカルボナト）−Ｓ−（３−スルホプロピル）エステルカリウム塩、３−［（アミノ−イミノメチル）−チオ］−１−プロパンスルホン酸、３−（２−ベンズチアゾリルチオ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム塩、またはその混合物を含む請求項１記載のメッキ浴。
【請求項１０】
さらに、添加剤カルボキシメチルセルロース、ノニルフェノールポリグリコールエーテル、オクタンジオールビス−（ポリアルキレングリコールエーテル）、オクタノールポリアルキレングリコールエーテル、オレイン酸ポリグリコールエステル、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリオキシプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、ステアリン酸ポリグリコールエステル、ステアリルアルコールポリグリコールエーテル、またはその混合物を含む請求項１記載のメッキ浴。
【請求項１１】
浴のｐＨが０〜約４．０の範囲である請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項１２】
銅塩、および以下の式を有する添加剤消費抑制化合物：
【化２】
2003147572.tif 000002
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立して、水素；ハロゲン；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；スルホニルハライド；シラン；シリル；−Ｓｉ（ＯＨ）３；−ＣＮ；ＳＣＮ；−Ｃ＝ＮＳ；−ＳＨ；−ＮＯ２；ＳＯ２Ｈ；−ＳＯ３Ｍ；−ＰＯ３Ｍ；アミニル；アミニルハライド；ヒドロキシアミニル；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，−フェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，式中ｘは１から５００の整数であり、Ｒ６は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルである；−Ｐ（Ｒ４）２、式中Ｒ４は水素またはハロゲンである；アシルハライド；−ＣＯＲ５、式中Ｒ５はＯＨまたは（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルコキシ；またはカルボキシルが化合物の置換基として存在する場合には−ＯＨであることができる；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、および（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシは置換されていても置換されていなくてもよい；Ｍは水素またはアルカリ金属である；または
Ｒ１およびＲ２は一緒になって化学結合を形成するか；またはＲ１およびＲ２はこれらが結合している原子と一緒になって５〜７員環を形成する；または酸素または窒素が環内の複素原子である５〜７員環の複素環を形成する；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上のカルボニル基を含んでもよい；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上の５〜６員環と縮合してもよく、該１以上の５〜６員環は１以上の酸素または窒素原子を含んでも良く、縮合環は環内にカルボニルを含んでも良い；５〜７員環、１以上の５〜６員縮合環および複素環は非置換であってもよいし、あるいは置換されていてもよい）
を含む金属銅メッキ浴。
【請求項１３】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ、５〜７員環、５〜６員縮合環、または複素環が、ハロゲン、アリール、シラン、シリル、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、−ＳＨ、−ＮＯ２、−ＳＯ２Ｈ、スルホニルハライド、アシルハライド、アミニル、アミニルハライド、ヒドロキシアミニル、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ４）２、ケト、アルコキシ、エステル含有基、カルボキシル、または−ＯＨを含む１以上の置換基で置換されている、ただし−ＯＨが置換基の場合にはカルボキシル置換基が化合物に存在する、請求項１２記載の金属銅メッキ浴。
【請求項１４】
添加剤消費抑制化合物が、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸レゾルシノール、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，３，４−トリヒドロキシ安息香酸、メチル−３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート、メチル−２，４−ジヒドロキシベンゾエート、４−ヒドロキシマンデル酸１水和物、３−（フェニルチオ）酢酸、没食子酸、４−ビニル安息香酸、３，４−ジヒドロキシ桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸、２−ヒドロキシ桂皮酸、フタル酸、３−フランアクリル酸、スルファニル酸、またはそれらの混合物を含む、請求項１２記載の金属銅メッキ浴。
【請求項１５】
添加剤消費抑制化合物が、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項１２の金属銅メッキ浴。
【請求項１６】
銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、アルカンスルホン酸銅、アルカノールスルホン酸銅、またはその混合物を含む請求項１２記載の銅金属メッキ浴。
【請求項１７】
浴のｐＨが０〜約４．０の範囲である請求項１２記載の金属銅メッキ浴。
【請求項１８】
さらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、抑制物質またはそれらの混合物を含む請求項１２記載の金属銅メッキ浴。
【請求項１９】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもよいし、あるいは置換されていなくてもよい請求項１８記載の金属銅メッキ浴。
【請求項２０】
光沢剤が、３−メルカプト−プロピルスルホン酸ナトリウム塩、２−メルカプト−エタンスルホン酸ナトリウム塩、ビススルホプロピルジスルフィド、またはその混合物を含む請求項１８記載の金属銅メッキ浴。
【請求項２１】
レベラーが、アルキル化ポリアルキレンイミン、オルガノスルホスルホン、フェナジンクラスの染料、フェナジンアゾ染料、またはその混合物を含む請求項１８記載の金属銅メッキ浴。
【請求項２２】
光沢剤が３−（ベンズチアゾリル−２−チオ）−プロピルスルホン酸ナトリウム塩、３−メルカプトプロパン−１−スルホン酸ナトリウム塩、エチレンジチオジプロピルスルホン酸ナトリウム塩、ビス−（ｐ−スルホフェニル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホブチル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホヒドロキシプロピル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホプロピル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホプロピル）−スルフィド二ナトリウム塩、メチル−（ω−スルホプロピル）ナトリウム塩、メチル−（ω−スルホプロピル）−トリスルフィド二ナトリウム塩、Ｏ−エチル−ジチオカルボン酸−Ｓ−（ω−スルホプロピル）−エステル、カリウム塩チオグリコール酸、チオリン酸−Ｏ−エチル−ビス−（ω−スルホプロピル）−エステル二ナトリウム塩、チオリン酸−トリ（ω−スルホプロピル）−エステル三ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカルバミン酸（３−スルホプロピル）エステルナトリウム塩、（Ｏ−エチルジチオカルボナト）−Ｓ−（３−スルホプロピル）エステルカリウム塩、３−［（アミノ−イミノメチル）−チオ］−１−プロパンスルホン酸、３−（２−ベンズチアゾリルチオ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム塩、またはその混合物を含む請求項１８記載の金属銅メッキ浴。
【請求項２３】
レベラーがカルボキシメチルセルロース、ノニルフェノールポリグリコールエーテル、オクタンジオールビス−（ポリアルキレングリコールエーテル）、オクタノールポリアルキレングリコールエーテル、オレイン酸ポリグリコールエステル、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリオキシプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、ステアリン酸ポリグリコールエステル、ステアリルアルコールポリグリコールエーテル、またはその混合物を含む請求項１８記載の金属銅メッキ浴。
【請求項２４】
基体を金属メッキ浴と接触させ；十分な電流密度を金属メッキ浴にかけて、金属を基体上に堆積させることを含み；金属メッキ浴が、銅、金、銀、パラジウム、白金、コバルト、カドミウム、クロム、ビスマス、インジウム、ロジウム、ルテニウム、およびイリジウムからなる金属から選択される金属の塩、および以下の式を有する添加剤消費抑制化合物：
【化３】
2003147572.tif 000003
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立して、水素；ハロゲン；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；シラン；シリル；−Ｓｉ（ＯＨ）３；−ＣＮ；ＳＣＮ；−Ｃ＝ＮＳ；−ＳＨ；−ＮＯ２；ＳＯ２Ｈ；−ＳＯ３Ｍ；−ＰＯ３Ｍ；アミニル；アミニルハライド；ヒドロキシアミニル；スルホニルハライド；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，−フェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，式中ｘは１から５００の整数であり、Ｒ６は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルである；−Ｐ（Ｒ４）２、式中Ｒ４は水素またはハロゲンである；アシルハライド；−ＣＯＲ５、式中Ｒ５はＯＨまたは（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルコキシ；またはカルボキシルが化合物の置換基として存在する場合には−ＯＨであることができる；Ｍは水素またはアルカリ金属である；または
Ｒ１およびＲ２は一緒になって化学結合を形成するか；またはＲ１およびＲ２はこれらが結合している原子と一緒になって５〜７員環を形成する；または酸素または窒素が環内の複素原子である５〜７員環の複素環を形成する；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上のカルボニル基を含んでもよい；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上の５〜６員環と縮合してもよく、該１以上の５〜６員環は１以上の酸素または窒素複素原子を含んでも良く、縮合環は環内にカルボニルを含んでも良い；５〜７員環、５〜６員縮合環および複素環は非置換であってもよいし、あるいは置換されていてもよい）
を含む、基体上に金属をメッキする方法。
【請求項２５】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ、５〜７員環、５〜６員縮合環、または複素環が、ハロゲン、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、アリール、−ＳＨ、−ＮＯ２、−ＳＯ２Ｈ、スルホニルハライド、アシルハライド、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＰＲ５、アミニル、アミニルハライド、ヒドロキシアミニル、シラン、シリル、−Ｓｉ（ＯＨ）３、ケト、アルコキシ、エステル含有基、カルボキシル、または−ＯＨを含む１以上の置換基で置換されている、ただし−ＯＨが置換基の場合にはカルボキシル置換基が化合物に存在する、
請求項２４記載の金属メッキ方法。
【請求項２６】
添加剤消費抑制化合物が、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸レゾルシノール、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，３，４−トリヒドロキシ安息香酸、メチル−３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート、メチル−２，４−ジヒドロキシベンゾエート、４−ヒドロキシマンデル酸１水和物、３−（フェニルチオ）酢酸、没食子酸、４−ビニル安息香酸、３，４−ジヒドロキシ桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸、２−ヒドロキシ桂皮酸、フタル酸、トランス−３−フランアクリル酸、スルファニル酸、またはそれらの混合物を含む、請求項２４記載の金属メッキ方法。
【請求項２７】
添加剤消費抑制化合物が、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項２４記載の方法。
【請求項２８】
浴が０〜約８．０のｐＨを有する請求項２４記載の方法。
【請求項２９】
さらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、抑制物質、またはその混合物を含む請求項２４記載の方法。
【請求項３０】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）、該アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロ、またはアルコキシ基で置換されていても、置換されていなくてもよい、を有する化合物を含む請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
基体が、プリント配線板、集積回路、電気接触面、コネクター、電解ホイル、シリコンウェハ、半導体、リードフレーム、オプトエレクトロニクス部品、ソルダーバンプ、装飾品、衛生用品などを含む請求項２４記載の方法。
【請求項３２】
基体を銅メッキ浴と接触させる段階；および十分な電流密度を銅メッキ浴にかけて、金属銅を基体上に堆積させる段階を含み；銅金属メッキ浴が銅塩および以下の式を有する添加剤消費抑制化合物：
【化４】
2003147572.tif 000004
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立して、水素；ハロゲン；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；スルホニルハライド；−ＣＮ；ＳＣＮ；−Ｃ＝ＮＳ；−ＳＨ；−ＮＯ２；ＳＯ２Ｈ；−ＳＯ３Ｍ；−ＰＯ３Ｍ；−Ｐ（Ｒ４）２、式中Ｒ４は水素またはハロゲンである；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，−フェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，式中ｘは１から５００の整数であり、Ｒ６は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルである；−Ｓｉ（ＯＨ）３；シリル；シラン；アミニル；アミニルハライド；ヒドロキシアニミル；アシルハライド；−ＣＯＲ５、式中Ｒ５はＯＨまたは（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルコキシ；またはカルボキシルが化合物の置換基として存在する場合には−ＯＨであることができる；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルおよび（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ基は置換されていても置換されていなくてもよい；Ｍは水素またはアルカリ金属である；または
Ｒ１およびＲ２は一緒になって化学結合を形成するか；またはＲ１およびＲ２はこれらが結合している原子と一緒になって５〜７員環を形成する；または酸素または窒素が環内の複素原子である５〜７員環の複素環を形成する；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上のカルボニル基を含んでもよい；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上の５〜６員環と縮合してもよく、該１以上の５〜６員環は１以上の酸素または窒素原子を含んでも良く、縮合環は環内にカルボニルを含んでも良い；５〜７員環、５〜６員縮合環および複素環は非置換であってもよいし、あるいは置換されていてもよい）
を含む、基体上に金属銅をメッキする方法。
【請求項３３】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ、５〜７員環、５〜６員縮合環、または複素環が、ハロゲン、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、スルホニルハライド、アリール、−ＳＨ、−ＮＯ２、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ４）２、−Ｓｉ（ＯＨ）３、シリル、シラン、アミニル、アミニルハライド、ヒドロキシアミニル、アシルハライド、カルボキシル、−ＣＯＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキル、または−ＯＨを含む１以上の置換基で置換されている、ただし−ＯＨが置換基の場合にはカルボキシル置換基が化合物に存在する、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
添加剤消費抑制化合物が、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸レゾルシノール、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，３，４−トリヒドロキシ安息香酸、メチル−３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート、メチル−２，４−ジヒドロキシベンゾエート、４−ヒドロキシマンデル酸１水和物、３−（フェニルチオ）酢酸、没食子酸、４−ビニル安息香酸、３，４−ジヒドロキシ桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸、２−ヒドロキシ桂皮酸、フタル酸、トランス−３−フランアクリル酸、スルファニル酸、またはそれらの混合物を含む、請求項３２記載の方法。
【請求項３５】
添加剤消費抑制化合物が、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項３２記載の方法。
【請求項３６】
浴が０〜約８．０のｐＨを有する請求項３２記載の方法。
【請求項３７】
さらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、抑制物質またはそれらの混合物を含む請求項３２記載の方法。
【請求項３８】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、アルキルおよびアリール基がアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもまたは置換されていなくてもよい請求項３７記載の方法。
【請求項３９】
プリント配線板、集積回路、電気接触面、コネクター、電解ホイル、シリコンウェハ、半導体、リードフレーム、オプトエレクトロニクス部品、ソルダーバンプ、装飾品、衛生用品などの製造において基体にメッキするために電気メッキ法が用いられ得る請求項３２記載の方法。
【請求項４０】
電流が不溶性陽極および陰極に流れるように、不溶性陽極および陰極と電気的に連結された電源を含み、該不溶性陽極および陰極が、銅、金、銀、パラジウム、白金、コバルト、カドミウム、クロム、ビスマス、インジウム、ロジウム、イリジウム、およびルテニウムからなる群から選択される金属の塩、および以下の式を有する添加剤消費抑制化合物：
【化５】
2003147572.tif 000005
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立して、水素；ハロゲン；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；スルホニルハライド；−ＣＮ；ＳＣＮ；−Ｃ＝ＮＳ；−ＳＨ；−ＮＯ２；ＳＯ２Ｈ；−ＳＯ３Ｍ；−ＰＯ３Ｍ；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，−フェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ６，式中ｘは１から５００の整数であり、Ｒ６は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルである；−Ｐ（Ｒ４）２、式中Ｒ４は水素またはハロゲンである；シラン；シリル；−Ｓｉ（ＯＨ）３；アミニル；アミニルハライド；ヒドロキシアミニル；アシルハライド；−ＣＯＲ５、式中Ｒ５はＯＨまたは（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分枝、または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、または分枝アルコキシ；またはカルボキシル基が化合物の置換基として存在する場合には−ＯＨであることができる；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、および（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ基は置換されていても置換されていなくてもよい；Ｍは水素またはアルカリ金属である；または
Ｒ１およびＲ２は一緒になって化学結合を形成するか；またはＲ１およびＲ２はこれらが結合している原子と一緒になって５〜７員環を形成する；または酸素または窒素が環内の複素原子である５〜７員環の複素環を形成する；該５〜７員環は、１以上のカルボニル基を含んでもよい；該５〜７員環もしくは５〜７員の複素環は、１以上の５〜６員環と縮合してもよく、該１以上の５〜６員環は１以上の酸素または窒素原子を含んでも良く、縮合環は環内にカルボニル基を含んでも良い；５〜７員環、５〜６員縮合環および複素環は非置換であってもよいし、あるいは置換されていてもよい）
を含む金属メッキ浴と接触している、基体を電気メッキする装置。
【請求項４１】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニル、（Ｃ１−Ｃ２０）アルコキシ、ヒドロキシアリールが、ハロゲン、アリール、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、−ＳＨ、−ＮＯ２、−ＳＯ２Ｈ、スルホニルハライド、アシルハライド；シリル、シラン、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、アミニル、アミニルハライド、ヒドロキシアミニル、カルボキシル、ケト、エステル含有基、または−ＯＨを含む１以上の置換基で置換されている、ただし−ＯＨが置換基の場合にはカルボキシル置換基が化合物に存在する、請求項４０記載の装置。
【請求項４２】
添加剤消費抑制化合物が、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸レゾルシノール、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，３，４−トリヒドロキシ安息香酸、メチル−３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート、メチル−２，４−ジヒドロキシベンゾエート、４−ヒドロキシマンデル酸１水和物、３−（フェニルチオ）酢酸、没食子酸、４−ビニル安息香酸、３，４−ジヒドロキシ桂皮酸、４−メトキシ桂皮酸、２−ヒドロキシ桂皮酸、フタル酸、トランス−３−フランアクリル酸、スルファニル酸、またはそれらの混合物を含む、請求項４１記載の装置。
【請求項４３】
添加剤消費抑制化合物が浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００．０ｇである請求項４０記載の装置。
【請求項４４】
金属メッキ浴がさらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、または抑制物質を含む請求項４０記載の装置。
【請求項４５】
金属メッキ浴が、０〜約８．０のｐＨを有する請求項４０記載の装置。
【請求項４６】
金属塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、アルカンスルホン酸銅、アルカノールスルホン酸銅、またはその混合物を含む請求項４０記載の装置。
【請求項４７】
不溶性陽極が、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、または白金の金属を含む請求項４０記載の装置。
【請求項４８】
不溶性陽極が、さらにチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、またはタンタルの金属を含む請求項４７記載の装置。
【請求項４９】
不溶性陽極が、さらにベリリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、または希土類元素を含む請求項４８記載の装置。
【請求項５０】
不溶性陽極が、二酸化イリジウムを含む請求項４０記載の装置。
【請求項５１】
陰極が、配線板、集積回路、電気接触面、コネクター、電解ホイル、シリコンウェハ、半導体、リードフレーム、オプトエレクトロニクス部品、ソルダーバンプ、装飾品、衛生用品などを含む請求項４０記載の装置。
【請求項５２】
不溶性陽極および陰極が約１〜約１０００アンペア／ｆｔ２の電流密度を有する請求項４０記載の装置。