Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光反射膜を施したスライドガラスまたはカバーガラスと、これらスライドガラスとカバーガラスとの間に封入された観察体を載置するステージと、このステージに載置された観察体と対峙するように配置された対物レンズと、測距光または投影光を投光し、前記スライドガラスまたはカバーガラスに施した反射膜および前記観察体に関する光学像を発生させる投光手段と、前記ステージと前記対物レンズの少なくとも一方を上下動させる駆動手段をもった顕微鏡において、
前記対物レンズを介して得られる前記反射膜に関する光学像を受光するアクティブオートフォーカス受光系と、
前記対物レンズを介して得られる前記観察体に関する光学像であるコントラスト情報を受光するパッシブオートフォーカス受光系と、
前記アクティブオートフォーカス受光系の出力に基づいて前記駆動手段を駆動し、前記反射膜に対する合焦制御を行うアクティブオートフォーカス制御手段と、  
前記パッシブオートフォーカス受光系の出力に基づいて前記駆動手段を駆動し、前記観察体に対する合焦制御を行うパッシブオートフォーカス制御手段と、
前記アクティブオートフォーカス受光系の出力および前記パッシブオートフォーカス受光系の出力に基づき、前記アクティブオートフォーカス制御手段と前記パッシブオートフォーカス制御手段の何れかに切換えるオートフォーカス制御切換手段とを備えたことを特徴とする顕微鏡用オートフォーカスシステム。
【請求項２】
前記オートフォーカス制御切換手段は、前記パッシブオートフォーカス制御手段の合焦制御による前記反射膜に対するピント合わせ完了後、前記対物レンズの倍率および前記アクティブオートフォーカス制御手段による合焦制御中の前記ステージの駆動方向の何れか１つを合焦切換条件としたことを特徴とする請求項１記載の顕微鏡用オートフォーカスシステム。
【請求項３】
前記オートフォーカス制御切換手段は、オートフォーカス追従時、前記観察体に関する光学像であるコントラスト情報を合焦切換条件として、前記アクティブオートフォーカス制御手段と前記パッシブオートフォーカス制御手段との切換えを行うことを特徴とする請求項１記載の顕微鏡用オートフォーカスシステム。
【請求項４】
観察体を載置するステージと、このステージに載置された観察体と対峙するように配置された対物レンズと、測距光または投影光を投光し、前記観察体に関する光学像を発生させる投光手段と、前記ステージと前記対物レンズの少なくとも一方を上下動させる駆動手段をもった顕微鏡において、
前記測距光による前記観察体からの反射光を前記対物レンズを介して受光するアクティブオートフォーカス受光系と、
前記観察体に関する光学像であるコントラスト情報を前記対物レンズを介して受光するパッシブオートフォーカス受光系と、
前記アクティブオートフォーカス受光系の出力に基づいて前記駆動手段を駆動し、前記観察体に対する合焦制御を行うアクティブオートフォーカス制御手段と、
前記パッシブオートフォーカス受光系の出力に基づいて前記駆動手段を駆動し、前記観察体に対する合焦制御を行うパッシブオートフォーカス制御手段と、
前記アクティブオートフォーカス受光系の出力および前記パッシブオートフォーカス受光系の出力に基づき、前記アクティブオートフォーカス制御手段と前記パッシブオートフォーカス制御手段の何れかに切換えるオートフォーカス制御切換手段と
を備えたことを特徴とする顕微鏡用オートフォーカスシステム。
【請求項５】
前記オートフォーカス切換手段は、前記アクティブオートフォーカス制御手段によって前記アクティブオートフォーカス受光系の出力が所定量に達したことを検出することで、前記パッシブオートフォーカス制御手段に切換えることを特徴とする請求項４記載の顕微鏡用オートフォーカスシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係る顕微鏡用オートフォーカスシステムは、観察体を載置するステージと、このステージに載置された観察体と対峙するように配置された対物レンズと、測距光または投影光を投光し、観察体に関する光学像を発生させる投光手段と、ステージと対物レンズの少なくとも一方を上下動させる駆動手段をもった顕微鏡に、測距光による観察体からの反射光を対物レンズを介して受光するアクティブオートフォーカス受光系と、観察体に関する光学像であるコントラスト情報を対物レンズを介して受光するパッシブオートフォーカス受光系と、アクティブオートフォーカス受光系の出力に基づいて駆動手段を駆動し、観察体に対する合焦制御を行うアクティブオートフォーカス制御手段と、パッシブオートフォーカス受光系の出力に基づいて駆動手段を駆動し、観察体に対する合焦制御を行うパッシブオートフォーカス制御手段と、アクティブオートフォーカス受光系の出力およびパッシブオートフォーカス受光系の出力に基づき、アクティブオートフォーカス制御手段とパッシブオートフォーカス制御手段の何れかに切換えるオートフォーカス制御切換手段とを備えた構成である。  
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明は、以上のような構成としたことにより、アクティブＡＦ制御手段では、アクティブＡＦ受光系にて取込んだ観察体からの反射光の受光出力から高速度に観察体にピント合わせ可能であり、一方、パッシブＡＦ制御手段では、パッシブＡＦ受光系にて取込んだ標本に関するコントラスト情報から精度良く標本にピント合わせ可能であるので、ＡＦ制御切換手段では、適宜な合焦切換条件のもとにアクティブＡＦ制御手段とパッシブＡＦ制御手段とを切換えてＡＦ制御を行えば、高速度、かつ、高精度に標本にピント合わせ可能である。  
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１） アクティブＡＦ制御手段の合焦制御による前記反射膜に対するピント合わせ完了。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月21日(2006.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】   被検査体収納手段から取り出された被検査体の表面を撮像手段で撮像し欠陥を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段により欠陥検出された被検査体を顕微鏡観察可能にする顕微鏡観察手段とを備え、
前記欠陥検出手段と前記顕微鏡観察手段を同一ステーションに配置したことを特徴とする欠陥検査システム。
【請求項２】  欠陥検出手段により欠陥検出された被検査体を目視観察可能にする目視観察手段を前記同一ステーションに備えたことを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査システム。
【請求項３】  被検査体収納手段が、前記同一ステーションに配置に配置され、前記被検査体収納手段、前記欠陥検出手段、前記目視観察手段および前記顕微鏡観察手段の各手段の間で前記被検査体を搬送する搬送手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の欠陥検査システム。
【請求項４】  前記搬送手段の搬送経路に配置され、前記被検査体の位置や方向を検出する位置検出手段と、
この位置検出手段の検出出力に基づいて、少なくとも前記欠陥検出手段に対する前記被検査体の位置決めを行なう制御手段とを具備したことを特徴とする請求項３に記載の欠陥検査システム。
【請求項５】   前記撮像手段により撮像した被検査体の特徴部分をあらかじめ記憶する特徴記憶手段と、
前記撮像手段により撮像した前記被検査体の画像と前記特徴記憶手段に記憶された特徴部分を比較するとともに、この比較結果に応じて前記被検査体の画像位置を補正する画像位置補正手段とを具備したことを特徴とする請求項１記載の欠陥検査システム。
【請求項６】  前記同一ステーションに配置された各手段の間で前記被検査体を搬送する搬送手段を備え、この搬送手段は、前記顕微鏡観察手段のステージであることを特徴とする請求項１または２に記載の欠陥検査システム。
【請求項７】  前記同一ステーションに配置された各手段の間で前記被検査体を搬送する搬送手段を備え、この搬送手段は、前記欠陥検出手段と一体に構成されたロボットであることを特徴とする請求項１または２に記載の欠陥検査システム。
【請求項８】  前記撮像手段はラインセンサカメラであり、前記被検査体全体を二次元画像として取り込むため前記被検査体を前記搬送手段により移動させながら撮像することを特徴とする請求項６または７に記載の欠陥検査システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の欠陥検査システムは、被検査体収納手段から取り出された被検査体の表面を撮像手段で撮像し欠陥を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段により欠陥検出された被検査体を顕微鏡観察可能にする顕微鏡観察手段と、を備え、
前記欠陥検出手段と前記顕微鏡観察手段を同一ステーションに配置したことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この結果、本発明によれば、欠陥検出手段で欠陥検出が行なわれると、顕微鏡により再確認することができるので、欠陥発生原因の究明を手際よく行なうことができ、欠陥原因の早期解明を図ることができる。  
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、ロボット３５が搬送する経路上、好ましくは欠陥検出部Ａ、目視検出部Ｂ、顕微鏡観察部Ｃの各搬入路上には位置センサ３４を配置する。この位置センサ３４は、ロボット３５が被検査体５を搬送する途中で、被検査体５の位置や方向により基準位置に対するずれ量を検出できるようにしている。そして、この位置センサ３４からの情報は、図２の試料方向合わせ検出部２５から駆動制御部１３に伝えられ、試料搬送駆動部２２を通してロボット３５を制御するようにしている。これによって被検査体５が載置されるステージまでの移動量および被検査体５のずれ量を調整し、常に被検査体５を各ステージの基準位置に置くように制御している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
従って、このようにすれば、欠陥検出部Ａでの撮像により欠陥検出が行なわれると、ロボット３５により、速やかに目視観察部Ｂまたは顕微鏡観察部Ｃに搬送され、同一ステーション上で欠陥部を目視や顕微鏡により再確認することができるので、欠陥発生原因の究明を手際よく行なうことができ、欠陥原因の早期解明を図ることができる。しかも、欠陥検出部Ａ、目視観察部Ｂおよび顕微鏡観察部Ｃを同一ステーションに配置することで、カセットとロボットを共用できるので、欠陥検査システムを従来の別体タイプと比べて非常にコンパクト化でき、効果なクリーンルーム内での省スペース化を容易に図ることができるとともに、カセットとロボットで構成されるオートローダ１つで済むのでシステム全体のコストダウンを図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月28日(2006.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ベース上面に取付けられたＸＹステージと、上記ベース上面に対し垂直に取付けられた支柱と、上記ＸＹステージの上方に取付けられた観察部を上記支柱に沿って上下方向に移動自在に設けたＺステージとを有する測定顕微鏡装置に於いて、
上記ＸＹステージ及びＺステージの移動量を検出する検出部と、上記検出部からの信号を演算する信号演算部と、この信号演算部の演算結果を表示する表示部と、上記信号演算部を内蔵する支持部とを有し、
上記支持部は、上記支柱若しくは上記ベースの少なくとも何れか一方に設けられたことを特徴とする測定顕微鏡装置。
【請求項２】  上記支持部は、断熱部材を介して上記支柱若しくは上記ベースに取付けられることを特徴とする請求項１に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項３】  上記支持部は、熱伝導率の小さい部材を介して上記支柱若しくは上記ベースに取付けられることを特徴とする請求項１に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項４】  上記支持部は、更に、上記信号演算部からの演算結果を表示する表示部を内蔵することを特徴とする請求項１に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項５】  上記支持部の上部と下部には、放熱用の複数の通気孔が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項６】  上記支持部には、放熱用の冷却ファンを設けていることを特徴とする請求項１に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項７】  ベース上面に取付けられたＸＹステージと、上記ベース上面に対し垂直に取付けられた支柱と、上記ＸＹステージの上方に取付けられた観察部を上記支柱に沿って上下方向に移動自在に設けたＺステージとを有する測定顕微鏡装置に於いて、
上記ＸＹステージ及びＺステージの移動量を検出する検出部と、上記検出部からの信号を演算する信号演算部と、この信号演算部の演算結果を表示する表示部と、上記信号演算部を内蔵する第１の支持部と、上記表示部を内蔵する第２の支持部とを有し、
上記第１の支持部および上記第２の支持部は、上記支柱に設けられたことを特徴とする測定顕微鏡装置。
【請求項８】  上記第１の支持部は、断熱部材を介して上記支柱に取付けられることを特徴とする請求項７に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項９】  上記第１の支持部は、熱伝導率の小さい部材を介して上記支柱に取付けられることを特徴とする請求項１に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項１０】  上記第１の支持部の上部と下部には、放熱用の複数の通気孔が形成されていることを特徴とする請求項７に記載の測定顕微鏡装置。
【請求項１１】  上記第１の支持部には、放熱用の冷却ファンを設けていることを特徴とする請求項７に記載の測定顕微鏡装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】  すなわちこの発明は、ベース上面に取付けられたＸＹステージと、上記ベース上面に対し垂直に取付けられた支柱と、上記ＸＹステージの上方に取付けられた観察部を上記支柱に沿って上下方向に移動自在に設けたＺステージとを有する測定顕微鏡装置に於いて、上記ＸＹステージ及びＺステージの移動量を検出する検出部と、上記検出部からの信号を演算する信号演算部と、この信号演算部の演算結果を表示する表示部と、上記信号演算部を内蔵する支持部とを有し、上記支持部は、上記支柱若しくは上記ベースの少なくとも何れか一方に設けられたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この発明は、ベース上面に取付けられたＸＹステージと、上記ベース上面に対し垂直に取付けられた支柱と、上記ＸＹステージの上方に取付けられた観察部を上記支柱に沿って上下方向に移動自在に設けたＺステージとを有する測定顕微鏡装置に於いて、上記ＸＹステージ及びＺステージの移動量を検出する検出部と、上記検出部からの信号を演算する信号演算部と、この信号演算部の演算結果を表示する表示部と、上記信号演算部を内蔵する第１の支持部と、上記表示部を内蔵する第２の支持部とを有し、上記第１の支持部および上記第２の支持部は、上記支柱に設けられたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月7日(2006.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
【図１】本発明の一実施形態に係る画像伝送システムの概略構成を示すブロック図。
【図２】タイミングコントローラ２とソースドライバ５の内部構成の一例を示すブロック図。
【図３】剰余縮約データとチャネル符号との対応関係の一例を示す図。
【図４】グループ０におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図５】グループ１におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図６】グループ２におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図７】グループ３におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図８】グループ４におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図９】グループ５におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１０】グループ６におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１１】グループ７におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１２】グループ８におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１３】グループ９におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１４】グループ１０におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１５】グループ１１におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１６】グループ１２におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図１７】剰余縮約データ、チャネル符号、チャネル符号の平均振幅、および出現確率の対応関係を示す図。
【図１８】最終的に得られる剰余縮約データとチャネル符号との対応関係を示す図。
【図１９】タイミングコントローラ２から伝送線３に供給されるチャネル符号の伝送タイミングの一例を示す図。
【図２０】1V予測を利用した場合のOAC4の平均電流分布を示す図。
【図２１】1V予測を利用した場合の従来符号化MVIEC4の平均電流分布を示す図。
【図２２】1V予測を利用した場合のMVIEC4−OAC4の分布を示す図。
【図２３】1H予測を利用した場合のOAC4の平均電流分布を示す図。
【図２４】1H予測を利用した場合の従来符号化MVIEC4の平均電流分布を示す図。
【図２５】1H予測を利用した場合のMVIEC4−OAC4の分布を示す図。
【図２６】１６値のチャネル符号を生成する場合の剰余縮約データとチャネル符号との対応関係の一例を示す図。
【図２７】図２６に続く図。
【図２８】グループ１５におけるチャネル符号の各成分の値と平均振幅とを示す図。
【図２９】剰余縮約データ、チャネル符号、チャネル符号の平均振幅、おおび出現確率の対応関係を示す図。
【図３０】最終的に得られる剰余縮約データとチャネル符号との対応関係を示す図。
【図３１】タイミングコントローラ２から伝送線３に供給されるチャネル符号の伝送タイミングの一例を示す図。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月11日(2006.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上方に形成された第１の電極の端部を覆って選択的に形成されたＥＬ膜の成膜面の傾きが連続的に変化する形状の絶縁層及び前記第１の電極に、前記ＥＬ膜が接して設けられており、前記ＥＬ膜上には第２の電極が設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
基板上方に形成された第１の電極の端部を覆って選択的に形成された側面と上面の境界部の傾きが連続的に変化する形状の絶縁層及び前記第１の電極に、前記ＥＬ膜が接して設けられており、前記ＥＬ膜上には第２の電極が設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
基板上方に形成された第１の電極の端部を覆って選択的に形成された側面の傾きが連続的に変化する形状の絶縁層及び前記第１の電極に、前記ＥＬ膜が接して設けられており、前記ＥＬ膜上には第２の電極が設けられていることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記第２電極上に前記基板に対向してカバー材を設け、
前記基板の一部を除いた側面と前記カバー材の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記基板との間を前記基板の前記一部の表面に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付けることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記第２電極上に前記基板に対向してカバー材を設け、
前記基板の一部を除いた側面と前記カバー材の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記基板との間を前記基板の前記一部の表面に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１電極の間には、前記ＥＬ層及び前記第２電極は形成されていないことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
第１ガラス基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記第２電極上に前記第１ガラス基板に対向して第２ガラス基板を設け、
前記第１ガラス基板の一部を除いた側面と前記第２ガラス基板の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１ガラス基板との間を前記第１ガラス基板の前記一部の表面に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付けることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
第１ガラス基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記第２電極上に前記第１ガラス基板に対向して第２ガラス基板を設け、
前記第１ガラス基板の一部を除いた側面と前記第２ガラス基板の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１ガラス基板との間を前記第１ガラス基板の前記一部の表面に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１電極の間には、前記ＥＬ層及び前記第２電極は形成されていないことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記基板に充填材を介してカバー材を貼り合わせ、
前記充填材及び前記カバー材の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記基板との間を前記基板に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付けることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項６】
基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記基板に充填材を介してカバー材を貼り合わせ、
前記充填材及び前記カバー材の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記基板との間を前記基板に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１電極の間には、前記ＥＬ層及び前記第２電極は形成されていないことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項７】
第１ガラス基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記第１ガラス基板に充填材を介して第２ガラス基板を貼り合わせ、
前記充填材及び前記第２ガラス基板の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１ガラス基板との間を前記第１ガラス基板に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付けることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項８】
第１ガラス基板上にストライプ状の第１電極を形成し、
前記第１電極上に、前記第１電極と直交するように、ストライプ状のスペーサーを形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記第１電極及び前記スペーサー上にＥＬ層を形成し、
シャドーマスクを用いて蒸着することで、前記ＥＬ層上に第２電極を形成し、
前記第１ガラス基板に充填材を介して第２ガラス基板を貼り合わせ、
前記充填材及び前記第２ガラス基板の側面に、シール材を用いてフレーム材を取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１ガラス基板との間を前記第１ガラス基板に沿って延びる前記第１電極にフレキシブルプリントサーキットを取り付け、
前記シール材及び前記フレーム材と前記第１電極の間には、前記ＥＬ層及び前記第２電極は形成されていないことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項５乃至請求項８のいずれか一項において、
前記充填材には乾燥剤が添加されていることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記シール材には乾燥剤が添加されていることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記フレーム材としてステンレス材を用いることを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
半導体集積回路が実装された第１の表層と、バイパスコンデンサが実装された前記第１の表層と反対面の第２の表層と、第１、第２の表層の内部に基幹電源配線層と基幹グラウンド層とを有する多層プリント回路板において、
前記基幹電源配層から前記半導体集積回路の電源端子への配線経路の途中に前記バイパスコンデンサの一方の電源端子が接続されており、前記基幹電源配線層から前記バイパスコンデンサの電源端子までの第１の配線経路のインピーダンスが、前記バイパスコンデンサの電源端子から前記ＩＣの電源端子までの第２の配線経路のインピーダンスよりも大きいことを特徴とする多層プリント回路板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
半導体集積回路が実装された第１の表層と、バイパスコンデンサが実装された前記第１の表層と反対面の第２の表層と、第１、第２の表層の内部に基幹電源配線層と基幹グラウンド層とを有する多層プリント回路板において、
前記基幹電源配線層から前記半導体集積回路の電源端子への配線経路の途中に前記バイパスコンデンサの一方の電源端子が接続されており、前記基幹電源配線層から前記バイパスコンデンサの電源端子までの第１の配線経路のインダクタンスが、前記バイパスコンデンサの内部の寄生インダクタンスよりも大きいことを特徴とする多層プリント回路板。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
半導体集積回路が実装された第１の表層と、バイパスコンデンサが実装された前記第１の表層と反対面の第２の表層と、第１、第２の表層の内部に基幹電源配線層と基幹グラウンド層とを有する多層プリント回路板において、
前記第１の表層から第２の表層を貫き、前記基幹電源配線層とは電気的に接続されない第１の電源ヴィアと、前記第１の表層に配置され前記半導体集積回路の電源端子と前記第１の電源ヴィアを接続する第１の導体パターンと、前記第２の表層から第１の表層を貫き、前記基幹電源配線層と電気的に接続される第２の電源ヴィアと、前記第２の表層に配置され、前記第１の電源ヴィアと前記第２の電源ヴィアとを接続する第２の導体パターンと、前記第２の表層から第１の表層を貫き、前記グラウンド層と電気的に接続されるグラウンドヴィアとを具備し、前記第２の導体パターンと、グラウンドヴィアとが前記バイパスコンデンサの一方の端子と接続されていることを特徴とする多層プリント回路板。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記課題を解決するために本発明は、半導体集積回路が実装された第１の表層と、バイパスコンデンサが実装された前記第１の表層と反対面の第２の表層と、第１、第２の表層の内部に基幹電源配線層と基幹グラウンド層とを有する多層プリント回路板において、
前記基幹電源配層から前記半導体集積回路の電源端子への配線経路の途中に前記バイパスコンデンサの一方の電源端子が接続されており、前記基幹電源配線層から前記バイパスコンデンサの電源端子までの第１の配線経路のインピーダンスが、前記バイパスコンデンサの電源端子から前記ＩＣの電源端子までの第２の配線経路のインピーダンスよりも大きい多層プリント回路板を提供している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また本発明は、半導体集積回路が実装された第１の表層と、バイパスコンデンサが実装された前記第１の表層と反対面の第２の表層と、第１、第２の表層の内部に基幹電源配線層と基幹グラウンド層とを有する多層プリント回路板において、前記基幹電源配線層から前記半導体集積回路の電源端子への配線経路の途中に前記バイパスコンデンサの一方の電源端子が接続されており、前記基幹電源配線層から前記バイパスコンデンサの電源端子までの第１の配線経路のインダクタンスが、前記バイパスコンデンサの内部の寄生インダクタンスよりも大きい多層プリント回路板を提供している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また本発明は、半導体集積回路が実装された第１の表層と、バイパスコンデンサが実装された前記第１の表層と反対面の第２の表層と、第１、第２の表層の内部に基幹電源配線層と基幹グラウンド層とを有する多層プリント回路板において、前記第１の表層から第２の表層を貫き、前記基幹電源配線層とは電気的に接続されない第１の電源ヴィアと、前記第１の表層に配置され前記半導体集積回路の電源端子と前記第１の電源ヴィアを接続する第１の導体パターンと、前記第２の表層から第１の表層を貫き、前記基幹電源配線層と電気的に接続される第２の電源ヴィアと、前記第２の表層に配置され、前記第１の電源ヴィアと前記第２の電源ヴィアとを接続する第２の導体パターンと、前記第２の表層から第１の表層を貫き、前記グラウンド層と電気的に接続されるグラウンドヴィアとを具備し、前記第２の導体パターンと、グラウンドヴィアとが前記バイパスコンデンサの一方の端子と接続されている多層プリント回路板を提供している。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月23日(2006.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
（ｂ）前記ゾル−ゲル溶液を第２導電層とする金属箔の表面に塗工し、酸素含有雰囲気中で１２０℃〜２５０℃×１分〜１０分の条件で乾燥し、酸素含有雰囲気中で２９０℃〜３９０℃×５分〜３０分の条件で熱分解を行う工程を複数回繰り返し膜厚調整を行う塗工工程。この工程が、従来のゾル−ゲル法での製造方法と異なり、製造方法上の特徴を備えるものとなる。ここで、ゾル−ゲル溶液を第２導電層とする金属箔の表面に塗工する際の塗工手段に関しては、特に限定を要さない。しかしながら、膜厚の均一性及びゾル−ゲル溶液の特質等を考慮する限り、スピンコータを用いることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月13日(2006.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄いステンレス鋼板からなる可撓性平板状の金属基板に、パターニングされた金属層を形成した電着フレームを形成する工程と、
前記電着フレームのパターニングされた前記金属層に複数の半導体素子を隣接して搭載する工程と、
前記パターニングされた金属層に搭載される各半導体素子間に形成された外部導出用の金属層に、前記隣接する各半導体素子の電極パッドをワイヤで所定間隔を設けて電気的に共通接続するワイヤボンディング工程と、
前記電着フレームに搭載されて配線がなされた半導体素子を樹脂封止する樹脂封止工程と、
樹脂封止体から前記金属基板を剥離する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
金や金の合金からなる金属膜を成膜した後、金属層を形成してあって、金属膜により金属層及び切断マークをマトリックス状に形成し、且つ切断マークは金属層に近接形成していることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
切断マークの間により切断部位が設定され、切断部位を切断することによって金属層８ａの中央部が切断されることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
金属基板を一方の金型として樹脂封止することを特徴とする請求項１ないし３に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月30日(2006.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板に光電変換領域と、
前記半導体基板の上に絶縁膜と、
前記半導体基板の上に前記絶縁膜を介して前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、
前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、
前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、
前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、
前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、
前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成した固体撮像装置。
【請求項２】
半導体基板に光電変換領域と、
前記半導体基板の上に絶縁膜と、
前記半導体基板の上に前記光電変換領域の一部を覆うように前記絶縁膜を介して設けた、前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、
前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、
前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、
前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、
前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、
前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成した固体撮像装置。
【請求項３】
前記シリコン窒化膜はバーズビーズ形状を備えていない膜である請求項１または２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記第２の膜厚となる前記絶縁膜はシリコン酸化物とシリコン窒化物である請求項１〜３の何れかに記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記第２の絶縁膜はシリコン窒化膜である請求項１〜４の何れかに記載の固体撮像装置。
【請求項６】
半導体基板に光電変換領域と、前記半導体基板の上に絶縁膜と、前記半導体基板の上に前記絶縁膜を介して前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成した固体撮像装置の製造方法であって、
前記シリコン酸化膜の再酸化を行うことなく前記第２の膜厚を有する前記絶縁膜を形成した固体撮像装置の製造方法。
【請求項７】
半導体基板に光電変換領域と、前記半導体基板の上に絶縁膜と、前記半導体基板の上に前記光電変換領域の一部を覆うように前記絶縁膜を介して設けた、前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成した固体撮像装置の製造方法であって、
前記シリコン酸化膜の再酸化を行うことなく前記第２の膜厚を有する前記絶縁膜を形成した固体撮像装置の製造方法。
【請求項８】
前記シリコン窒化膜はバーズビーズを生じることなく形成した請求項６または７に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項９】
前記第２の膜厚となる前記絶縁膜はシリコン酸化物とシリコン窒化物である請求項６〜８の何れかに記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２の絶縁膜はシリコン窒化膜である請求項６〜９の何れかに記載の固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するため本発明の固体撮像装置は、半導体基板に光電変換領域と、前記半導体基板の上に絶縁膜と、前記半導体基板の上に前記絶縁膜を介して前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の固体撮像装置は、半導体基板に光電変換領域と、前記半導体基板の上に絶縁膜と、前記半導体基板の上に前記光電変換領域の一部を覆うように前記絶縁膜を介して設けた、前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の固体撮像装置の製造方法は、半導体基板に光電変換領域と、前記半導体基板の上に絶縁膜と、前記半導体基板の上に前記絶縁膜を介して前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成した固体撮像装置の製造方法であって、前記シリコン酸化膜の再酸化を行うことなく前記第２の膜厚を有する前記絶縁膜を形成したことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の固体撮像装置の製造方法は、半導体基板に光電変換領域と、前記半導体基板の上に絶縁膜と、前記半導体基板の上に前記光電変換領域の一部を覆うように前記絶縁膜を介して設けた、前記光電変換領域から信号電荷を読み出す電極と、前記電極の上に前記光電変換領域の一部を覆うように設けた金属遮光膜とを備え、前記電極の下にある前記絶縁膜は第２の膜厚であり、前記光電変換領域の上にある前記絶縁膜は第１の膜厚であり、前記第１の膜厚を形成する前記絶縁膜は少なくともシリコン酸化膜と前記シリコン酸化膜の上に設けた第２の絶縁膜からなり、前記第２の絶縁膜の膜厚は前記シリコン酸化膜の膜厚よりも厚く形成した固体撮像装置の製造方法であって、前記シリコン酸化膜の再酸化を行うことなく前記第２の膜厚を有する前記絶縁膜を形成したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月5日(2006.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
表面粗面化法としては、導体層に電気絶縁性樹脂からなる電気絶縁層を上述の塗工方法により塗布し、加熱硬化後、電気絶縁層表面をサンドブラスト法、ウエットブラスト法、ブラッシング処理、バフ研磨処理等により所望とする凹凸を形成してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月6日(2006.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ２極の永久磁石からなるロータと、該ロータが入るロータ穴付近に保持トルクを生ぜしめる構造を有し該ロータに磁気結合する板状のステータと、該ステータに固定されたコイルから成り、また、前記ステータは前記保持トルクを生ぜしめる構造を含む保持トルク部と該保持トルク部を除くヨーク部からなり、さらに、該保持トルク部の厚みはヨーク部のそれより薄いステップモータにおいて、該ステップモータの前記ステータは一体ステータであって、該保持トルク部の厚みは０ミクロンより大きく１００ミクロンより小さく、該ステップモータはチョッパー駆動されることを特徴とするステップモータ。
【請求項２】  前記保持トルク部の内周は前記ロータ穴の外周であり、該保持トルク部の外周は該ロータ穴の中心と同一の中心を持つ、前記ロータ穴の最大外周より大きい円であることを特徴とする請求項１に記載のステップモータ。
【請求項３】  前記保持トルクを生ぜしめる構造は偏心あるいはノッチ構造であることを特徴とする請求項１または２に記載のステップモータ。
【請求項４】  前記ステータは２極で形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステップモータ。
【請求項５】  前記ステータは１枚の単層板あるいは２枚以上の積層板で形成されたステータであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステップモータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の要旨は、２極の永久磁石からなるロータと、該ロータが入るロータ穴付近に保持トルクを生ぜしめる構造を有し該ロータに磁気結合する板状のステータと、該ステータに固定されたコイルから成り、また、前記ステータは前記保持トルクを生ぜしめる構造を含む保持トルク部と該保持トルク部を除くヨーク部からなり、さらに、該保持トルク部の厚みはヨーク部のそれより薄いステップモータにおいて、該ステップモータの前記ステータは一体ステータであって、該保持トルク部の厚みは０ミクロンより大きく１００ミクロンより小さく、該ステップモータはチョッパー駆動されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月25日(2006.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
〔実施例１〕
大豆分離蛋白（商品名「フジプロＡＬ」、蛋白質含有量９１％、フジプロティンテクノロジー社製）６０ｋｇ、クエン酸カルシウム２０ｋｇ及び果糖２０ｋｇからなる原料混合物１００ｋｇに水を１５０ｋｇ加え、攪拌混合して、板状（ブロック状）の中間原料組成物を得た。これをシート状に伸ばし、シート状物を５ｍｍ角前後の格子状に切断してペレット状にした。次いで、これらのペレット状物を乾燥機にて含水率１４重量％まで乾燥し、乾燥物を粉砕後、篩別して、９メッシュ以下の粒度の顆粒状の原料組成物を得た。
上記の顆粒状原料組成物をバッチ式膨化成形装置（商品名：ライスケーキマシーン、有限会社ウイポップ製）に１バッチ当たり２．５ｃｍ3 ずつ投入し、加熱温度２１０℃、加熱時間３秒、加圧圧力１４７０ｋPa（ゲージ圧力）の条件で膨化成形し、１個の重量が１．１０±０．１ｇ、幅２．８±０．２ｃｍ、長さ６．６±０．３ｃｍ、厚さ０．６５±０．１ｃｍの板状で嵩密度が０．１０５±０．０１５のカルシウム含有健康食品を得た。
なお、この板状健康食品１個（１．１０ｇ）は、５１ｍｇのカルシウムを含有しており、カルシウム補給の目的で健康食品として利用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月7日(2005.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  患者眼にレーザ光を導光照射して治療を行う眼科用レーザ治療装置において、第１レーザ光源からのレーザ光を導光する第１光ファイバと該第１光ファイバの出射端面を眼底上で５０〜１０００μｍの第１スポットサイズにて結像させる第１導光光学系を持つと共に、前記第１スポットサイズで光凝固を引き起こす出力と照射時間のレーザ光を眼底に照射する第１レーザ照射手段と、第２レーザ光源からのレーザ光を導光する第２光ファイバと該第２光ファイバの出射端面を眼底上で５００〜７０００μｍの第２スポットサイズにて結像させる第２導光光学系を持つと共に、前記第２スポットサイズでＰＤＴ治療又はＴＴＴ治療を起こす出力と照射時間のレーザ光を眼底に照射する第２レーザ照射手段と、を備えることを特徴とする眼科用レーザ治療装置。
【請求項２】  請求項１の眼科用レーザ治療装置において、前記第１導光光学系及び第２導光光学系は両者で共用する変倍光学系を持ち、前記第１光ファイバは前記変倍光学系を介して前記第１スポットサイズにて結像される大きさの出射端面を持ち、前記第２光ファイバは前記変倍光学系を介して前記第２スポットサイズにて結像される大きさの出射端面を持つことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。
【請求項３】  請求項１の眼科用レーザ治療装置において、前記第１導光光学系及び第２導光光学系は両者で共用する変倍光学系を持ち、前記第１ファイバと変倍光学系との間、前記第２ファイバと変倍光学系との間、の少なくとも一方に各ファイバの出射端面を前記第１及び第２スポットサイズとするためのリレー光学系を設けたことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
（１）  患者眼にレーザ光を導光照射して治療を行う眼科用レーザ治療装置において、第１レーザ光源からのレーザ光を導光する第１光ファイバと該第１光ファイバの出射端面を眼底上で５０〜１０００μｍの第１スポットサイズにて結像させる第１導光光学系を持つと共に、前記第１スポットサイズで光凝固を引き起こす出力と照射時間のレーザ光を眼底に照射する第１レーザ照射手段と、第２レーザ光源からのレーザ光を導光する第２光ファイバと該第２光ファイバの出射端面を眼底上で５００〜７０００μｍの第２スポットサイズにて結像させる第２導光光学系を持つと共に、前記第２スポットサイズでＰＤＴ治療又はＴＴＴ治療を起こす出力と照射時間のレーザ光を眼底に照射する第２レーザ照射手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼科用レーザ治療装置において、前記第１導光光学系及び第２導光光学系は両者で共用する変倍光学系を持ち、前記第１光ファイバは前記変倍光学系を介して前記第１スポットサイズにて結像される大きさの出射端面を持ち、前記第２光ファイバは前記変倍光学系を介して前記第２スポットサイズにて結像される大きさの出射端面を持つことを特徴とする。
（３）  （１）の眼科用レーザ治療装置において、前記第１導光光学系及び第２導光光学系は両者で共用する変倍光学系を持ち、前記第１ファイバと変倍光学系との間、前記第２ファイバと変倍光学系との間、の少なくとも一方に各ファイバの出射端面を前記第１及び第２スポットサイズとするためのリレー光学系を設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月21日(2006.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置と、
始動条件の成立を検出する検出スイッチと、
その検出スイッチが前記始動条件の成立を検出したときに所定のカウンタの値を抽出する抽出手段と、
その抽出された所定のカウンタの値を記憶する記憶する記憶手段と、
その記憶手段に記憶された所定のカウンタの値が当り値である場合に当りパターンの変動表示を選択し、前記記憶手段に記憶された所定のカウンタの値が前記当り値以外である場合にはずれパターンの変動表示を選択する変動パターン選択手段と、
その変動パターン選択手段の選択した変動パターンに基いて前記表示装置を表示制御するとともに、該変動パターンに応じた停止図柄を変動停止時に表示する表示制御手段とを有し、
表示装置に複数の図柄列と、その図柄列とは異なる装飾画像とを含む表示画像を表示し、
前記表示制御手段によって前記複数の図柄列を順次停止させた場合に、前記複数の図柄列のうち１つの図柄列が変動中であって、その他の図柄列の組合せが前記予め定めた当り図柄の組合せの一部を構成する場合に、最後に停止する図柄列にリーチ変動させるとともに、
前記表示制御手段によって前記最後に停止する図柄列が停止して前記予め定めた当り図柄の組合せとなった場合に所定の入賞口を開放して前記当り遊技状態を発生させる遊技機において、
前記表示制御手段は、
複数のキャラクタの画像情報を記憶したキャラクタ画像記憶手段と、
前記装飾画像に前記複数の図柄列の変動開始から変動停止まで継続して前記複数のキャラクタのうち所定のキャラクタを表示するキャラクタ表示手段と、
前記リーチ変動において前記複数のキャラクタ毎に固有の演出表示を行うキャラクタ演出表示手段とを備え、
さらに、表示中の前記所定のキャラクタを、他のキャラクタに切り替えるか否かの判定を行う切り替え判定手段と、
前記切り替え判定手段に基いてキャラクタ画像を切り替える場合に、変動開始後にキャラクタの切替表示を行うことでそれまで表示されていたキャラクタを異なるキャラクタに切り替えるキャラクタ切替手段とを有することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記キャラクタの演出表示手段には、前記キャラクタ画像毎の固有の演出表示として大当たりの期待度の異なる複数の演出表示を設けたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。