【手続補正書】
【提出日】平成18年6月8日(2006.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体基板の一主面上に形成された矩形状のマクロセル領域と、このマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端から少なくとも最小拡散間距離をおいて形成されるとともに、上記マクロセル領域の上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、ウェルコンタクトが形成される第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第１拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とからなるマクロセル構造を備え、
上記第１拡散領域と上記第２拡散領域とが電気接続することを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項２】  半導体基板の一主面上に形成された矩形状のマクロセル領域と、このマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、上記マクロセル領域の上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、ウェルコンタクトが形成される第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第１拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とからなるマクロセル構造を備え、
上記第１拡散領域と上記第２拡散領域とが電気接続することを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項３】  半導体基板の一主面上に形成された矩形状のマクロセル領域と、このマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、上記マクロセル領域の上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、上記第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第３拡散領域とからなり、ウエルコンタクトは持たない他のマクロセル構造をさらに備え、
前記マクロセル構造を上記他のマクロセル構造の少なくとも左右いずれか一方に配置した場合に、マクロセル領域の上辺および／または下辺において第１拡散領域と上記第３拡散領域とが電気接続することを特徴とする請求項２記載の半導体集積回路装置。
【請求項４】  半導体基板の一主面上に形成された矩形状のマクロセル領域と、このマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、上記マクロセル領域の上下両端から形成され最小許容幅の２分の１以上の幅を持つ第４拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とからなるマクロセル構造を備え、
上記第４拡散領域と上記第２拡散領域とが電気接続することを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項５】  マクロセル領域の上下で第４拡散領域同士が電気接続することにより形成した第５拡散領域の幅が第２拡散領域の幅よりも小さくなるように構成した複数のマクロセル構造からなる請求項４記載の半導体集積回路装置。
【請求項６】  マクロセル領域の左右で第５拡散領域同士が電気接続することを特徴とする請求項５記載の半導体集積回路装置。
【請求項７】  複数のマクロセル構造にはウエルコンタクトを持たないものが含まれることを特徴とする請求項５または請求項６記載の半導体集積回路装置。
【請求項８】  第１拡散領域から第５拡散領域のうち少なくとも１つが表層部の電気抵抗を減少させる高融点金属サリサイド構造からなることを特徴とする請求項１から請求項７のうちのいずれか１項記載の半導体集積回路装置。
【請求項９】  第１拡散領域、第３拡散領域、第４拡散領域および第５拡散領域の幅はウエルコンタクトの配置が不可な幅であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項記載の半導体集積回路装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体集積回路装置は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端から少なくとも最小拡散間距離をおいて形成されるとともに、その上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、ウェルコンタクトが形成される第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第１拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とからなるマクロセル構造を備え、第１拡散領域と第２拡散領域とが電気接続するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明に係る半導体集積回路装置は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、その上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、ウェルコンタクトが形成される第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第１拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とからなるマクロセル構造を備え、第１拡散領域と第２拡散領域とが電気接続するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明に係る半導体集積回路装置は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、その上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、上記第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第３拡散領域とからなり、ウエルコンタクトは持たない他のマクロセル構造をさらに備え、マクロセル構造を上記他のマクロセル構造の少なくとも左右いずれか一方に配置した場合に、マクロセル領域の上辺および／または下辺において第１拡散領域と上記第３拡散領域とが電気接続するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この発明に係る半導体集積回路装置は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、その上下両端から形成され最小許容幅の２分の１以上の幅を持つ第４拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とからなるマクロセル構造を備え、第４拡散領域と第２拡散領域とが電気接続するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この発明に係る半導体集積回路装置は、マクロセル領域の上下で第４拡散領域同士が電気接続することにより形成した第５拡散領域の幅が第２拡散領域の幅よりも小さくなるように構成した複数のマクロセル構造からなるものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この発明に係る半導体集積回路装置は、第１拡散領域、第３拡散領域、第４拡散領域および第５拡散領域の幅はウエルコンタクトの配置が不可な幅であるものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、マクロセル構造は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端から少なくとも最小拡散間距離をおいて形成されるとともに、その上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、ウェルコンタクトが形成される第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第１拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とが電気接続するように構成したので、第２拡散領域に与えられるウエルコンタクト効果が電気接続した第１拡散領域にも行き渡り、マクロセルのより広範囲にわたってラッチアップ耐性が向上する効果がある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
この発明によれば、マクロセル構造は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、その上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、ウェルコンタクトが形成される第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第１拡散領域と、ウエルコンタクトが形成される第２拡散領域とが電気接続するように構成したので、左右に隣接したマクロセルがウエルコンタクトを有しない場合であっても、隣接する第１拡散領域同士が当接して電気接続することによりウエルコンタクト効果を受けることができる。したがって、ウエルコンタクトを有するマクロセルだけでなくこれを有しないマクロセルにも同様にウエルコンタクト効果を供与できるので、上記効果に加えて半導体集積回路装置全体のラッチアップ耐性が向上する効果がある。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
この発明によれば、他のマクロセル構造は、矩形状のマクロセル領域の上辺および下辺において左右両端の少なくとも一方から形成されるとともに、その上下両端近傍に形成されてマクロセル領域の左右方向に延在し、上記第２拡散領域よりも小さな幅を持つ第３拡散領域とからなり、ウエルコンタクトは有しておらず、上述のマクロセル構造を他のマクロセル構造の左右に配置した場合にマクロセル領域の上辺および／または下辺において第１拡散領域と第３拡散領域とが電気接続するように構成したので、ウエルコンタクトを有しないマクロセルに対してもウエルコンタクト効果を供与できるので、半導体集積回路装置全体のラッチアップ耐性が向上する効果がある。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
この発明によれば、マクロセル領域の上下で第４拡散領域同士が電気接続することにより形成した第５拡散領域の幅が第２拡散領域の幅よりも小さくなるように構成した複数のマクロセル構造からなるように構成したので、上記のラッチアップ耐性向上と装置の高密度化をもたらす効果がある。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
この発明によれば、第１拡散領域、第３拡散領域、第４拡散領域および第５拡散領域の幅はウエルコンタクトの配置が不可な幅であるように構成したので、マクロセル内のポリ配線領域を広げることで装置の高密度化に寄与する効果がある。