【事件の表示】
　平成１１年特許願第１２８０２７号「洗浄装置」拒絶査定に対する審判事件［平成１２年１月７日出願公開、特開２０００−３８９４］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件発明
　本件出願は、平成３年５月７日に特許出願された特願平３−１３１９９１号の一部を同１１年５月１０日に新たな特許出願としたものであって、その請求項１乃至請求項８に係る発明は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至請求項８に記載されたとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明１」という。）は、次のとおりである　
「【請求項１】複数の基板を縦に並列に収納したキャリアがその手前側から搬入され、その手前側から奥側を見てキャリア内の基板が前後に並ぶようにかつ２個のキャリアが互いに左右に隣接して載置される搬入ステージと、
　前記キャリアから洗浄前の基板を取り出し、また洗浄済みの基板を縦に並列にキャリアに収納するためのステーションＳＴ２と、
　洗浄済みの基板を収納したキャリアを外部に搬出するための搬出ステージと、
　前記搬入ステージからキャリアを前記ステーションＳＴ２に移載し、また前記ステーションＳＴ２からキャリアを前記搬出ステージに移載するための移載手段と、
　前記搬入ステージに外部から２個のキャリアが搬入された後、当該２個のキャリアを、基板の向きがステーションＳＴ２により基板を取り出すときの向きとなるように夫々回動させ、また前記搬出ステージから搬出される前のキャリアを、基板の向きが搬入されたときの向きとなるように回動させる手段と、を備えたことを特徴とする洗浄装置。」
第２　引用例
１　引用例１
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である実願昭６２−１７６８０９号（実開平１−８０９３４号）のマイクロフィルム（以下「引用例１」という。）には、「ウエハの表面処理装置」に関して以下の事項が記載されている。
(1) 第２頁第８行〜第３頁第２行
「〔産業上の利用分野〕
　この考案は、半導体、セラミック、ガラス等の薄板状基板（以下、「ウエハ」という）を複数枚収納容器（以下、「カセット」という）に収容して、カセットに収容したままの状態でウエハに対し各種の表面処理を施す形式のウエハの浸漬式の表面処理装置に関し、特にウエハの移し替え並びにカセットの収納、搬送及び移送の技術に係るものである。
〔従来の技術〕
　例えば、半導体素子は、半導体ウエハに対し、・・・・・・、洗浄、・・
・・・といった・・表面処理を施して製造される。」
(2) 第１１頁第２行〜第１３頁第１６行
「第１図はこの考案の１実施例を示し、ウエハの表面処理装置の全体を表した斜視図である。
　このウエハの表面処理装置は、ウエハ移し替え部１、その上方に設けられたカセット収納棚２、一端部においてウエハ移し替え部１に連接した表面処理部３、この表面処理部３の一側に沿って、表面処理部３の他端部とウエハ移し替え部１との間を連絡するカセット搬送部４、並びに表面処理部３の他側に配設され、ウエハ移し替え部１とカセット収納棚２、ウエハ移し替え部１とカセット搬送部４、カセット搬送部４と表面処理部３、及び表面処理部３とウエハ移し替え部１の各間において、また表面処理部３においてそれぞれカセットを移送するカセット移送装置５とから構成されている。尚、第１図では制御盤は図示を省略している。
　ウエハ移し替え部１には、例えば、搬送専用カセットＣ１を載置する第１テーブル１０及び処理専用カセットＣ２を載置する第２テーブル１２が、それぞれ各矢印で示した水平方向に往復動自在に配設されている。これら第１テーブル１０及び第２テーブル１２の中央部には、それぞれ矩形の貫通穴１４、１６が形成されており、また第１テーブル１０と第２テーブル１２との中間位置には、その貫通穴１４、１６より若干小さい外形を有する昇降板１８が、矢印で示した上下方向に昇降自在に配設されている。この昇降板１８の上面には、ウエハＷの下端部分が緩挿されウエハＷを保持する保持溝が複数本切設されている。尚、昇降板１８の保持溝は搬送専用カセットＣ１及び処理専用カセットＣ２の各長手側内側面のウエハ収容溝と同一ピッチの溝がそれぞれ切設されているとともに、各底部は、昇降板１８が貫入することができるよう開口している。図中の符号２４は、図示していない外部のカセット搬送手段により前段の処理装置から搬送され搬入された搬送専用カセットＣ１を載置するカセット搬出入台である。
　また、昇降板１８の上方には一対の挟持腕２０が配置されており、この一対の挟持腕２０は、支持駆動手段２２により、互いに対向する側面間の間隔を拡狭自在に支持されて、移動又は回動させられる。昇降板１８の位置に移動してきた第１テーブル１０又は第２テーブル１２上に載置されたカセットに収容されたウエハＷは、昇降板１８の昇降動作によってカセットから上昇移動させられ、その上昇移動したウエハＷを、この一対の挟持腕２０により挟持する。また、これら一対の挟持腕２０の対向側面にも、カセットＣ１，Ｃ２の収容溝や昇降板１８の保持溝と同一ピッチのウエハ挟持溝がそれぞれ切設されている。
　尚、ウエハ移し替え部の構成としては、例えば特公昭５６−４４５６６号公報に記載されているように、１個のテーブル上に２個のカセットを載置できるようにしてもよい。」
(3) 第１６頁第１４行〜第１７頁第１１行
「カセット移送装置５は、開閉自在の一対のカセット挟持フィンガ４６、このカセット挟持フィンガ４６を開閉駆動させる挟持駆動手段４８、この挟持駆動手段４８を上下動させる上下動駆動手段５０、この上下動駆動手段５０を前後方向に移動させる前後方向移動手段５２、並びにこの前後方向移動手段５２を左右方向に移動させる左右方向移動手段５４から構成されている。
　このカセット移送装置５により、カセット搬出入台２４とウエハ移し替え部１の第１テーブル１０との間で搬送専用カセットＣ１を、ウエハ移し替え部１とカセット収納棚２との間で搬送専用カセットＣ１又は処理専用カセットＣ２を、またウエハ移し替え部１とカセット搬送部４との間、カセット搬送部４と表面処理部３との間及び表面処理部３とウエハ移し替え部１との間で処理専用カセットＣ２をそれぞれ移送することができる。」
(4) 第１７頁第１５行〜第１９頁第１３行
「次に、上記装置の動作について説明する。
　まず、図示していない外部のカセット搬送手段により前段の処理装置からウエハＷを収容した搬送専用カセットＣ１が搬送され、カセット搬出入台２４に載置されると、その搬送専用カセットＣ１は、カセット搬出入台２４からカセット移送装置５によりカセット搬出入台２４からウエハ移し替え部１の第１テーブル１０上へ移送される。また、必要により、搬送専用カセットＣ１は、カセット収納棚２内に一時保管することもできる。この際、第２テーブル１２上には、ウエハを収容していない処理専用カセットＣ２が載置されていることが必要で、載置されていない場合には、カセット収納棚２からカセット移送装置により第２テーブル１２上に載置される。
　次に、搬送専用カセットＣ１を載置した第１テーブル１０を昇降板１８の直上位置へ移動させてから、図示していないエアシリンダ等の昇降手段により昇降板１８を上昇させて、第１テーブル１０の貫通穴１４及び搬送専用カセットＣ１底部の開口を貫通させ、処理専用カセットＣ１内の複数枚のウエハＷを処理専用カセットＣ１から浮かせて昇降板１８に保持する。そして、昇降板１８をさらに挟持腕２０の高さ位置まで上昇させ、ウエハＷを一対の挟持腕２０によって挟持する。
　挟持腕２０でウエハＷを挟持している間に、昇降板１８は下降し、それが下降し終わった時、第１テーブル１０が右方へ移動し、それと入れ替わって第２テーブル１２が左方から昇降板１８の直上位置へ移動する。処理専用カセットＣ２が昇降板１８の直上位置に停止したところで、昇降板１８を再び上昇させて、第２テーブル１２の貫通穴１６及び処理専用カセットＣ２底部の開口を貫通させ、挟持腕２０によって挟持されているウエハＷの下端部分を昇降板１８の保持溝に挿入する。そして、一対の挟持腕２０を拡開し、複数枚のウエハＷを一括して昇降板１８上面の保持溝で保持し、次いで昇降板１８を下降させ、処理専用カセットＣ２内にウエハＷを挿入して収容する。」
(5) 第２１頁第３〜１６行
「表面処理部３において所要の表面処理が施されたウエハを収容した処理専用カセットＣ２は、表面処理部３のアンローダ３３に移送されて載置される。次いで、処理専用カセットＣ２は、カセット移送装萱５によって表面処理部３のアンローダ３３からウエハ移し替え部１の第２テーブル１２上へ移送され、ウエハ移し替え部１において、上記したのと同様の動作により、処理済みのウエハが処理専用カセットＣ２から搬送専用カセットＣ１へ移し替えられる。その後に、搬送専用カセットＣ１は、カセット移送装置５により、ウエハ移し替え部１からカセット搬出入台２４へ移送され、図示していない外部のカセット搬送手段により搬出される。」
(6) 第２５頁第６〜９行
「また、上記実施例では、表面処理部やウエハ移し替え部にはそれぞれ１個のカセットを載置しているが、カセットを２個直列に配置できるように構成した装置であってもよい。」
(7) 第１〜４図
　搬送専用カセットＣ１は、複数の基板を縦に並列に収納していること。
　これらの記載事項を本件発明１に照らして整理すると、引用例１には以下の発明が記載されていると認める。
　外部のカセット搬送手段により前段の処理装置から搬送される複数の基板を縦に並列に収納した２個の搬送専用カセットＣ１が直列に載置されると共に表面処理済みの基板を収納した搬送専用カセットＣ１を外部に搬出するためのカセット搬出入台２４と、
　前記搬送専用カセットＣ１から表面処理前の基板を取り出し、また表面処理済みの基板を縦に並列に搬送専用カセットＣ１に収納するためのウエハ移し替え部１と、
　前記カセット搬出入台２４から搬送専用カセットＣ１を前記ウエハ移し替え部１に移載し、また前記ウエハ移し替え部１から搬送専用カセットＣ１を前記カセット搬出入台２４に移載するためのカセット移送装置５と、を備えたウエハの表面処理装置。
２　引用例２
　同じく上記拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である実願昭６３−１２６００９号（実開平２−４７０４５号）のマイクロフィルム（以下「引用例２」という。）には、「半導体ウエハ用移送ロボット」に関して以下の事項が記載されている。
(1) 第３頁第１９行〜第４頁第２行
「本考案は、半導体ウエハ用移動ロボットをさらに発展させたものであり、様々なウエハカセットの置き方が可能となる半導体ウエハ用移動ロボットの提供を目的としている。」
(2) 第４頁第１１行〜第５頁第１６行
「第１図ないし第３図は、本実施例の半導体ウエハ用移送ロボットの外形を示すものであり、該半導体ウエハ用移送ロボット（以下、単に「移送ロボット」と略称する）Ｒは、半導体製造装置Ｍが設置されたクリーンルーム内の床Ｆを該半導体製造装置Ｍに沿って走行する走行部Ａと、該走行部Ａの上部に取り付けられたロボット本体Ｂとからなり、該ロボット本体Ｂはウエハカセットを半導体製造装置Ｍに着脱するためのアーム部Ｃと、該アーム部Ｃの駆動状態や走行部Ａの走行、停止状態等を制御する制御部Ｄと、該制御部Ｄの上部に固定されて、アーム部Ｃによって半導体製造装置Ｍから取り出したウエハカセット１０等を載置して他の場所へ搬送するための載置部Ｅとからなっている。
　そして、上記アーム部Ｃはウエハカセット１０をつかむ把持部１１と、該把持部１１を水平方向に伸縮自在とする水平アーム部１２と、この水平アーム部１２を水平回動自在にかつ上下動可能に保持する垂直アーム部１３と、上記水平アーム部１２と把持部１１との間に配設されて、把持部１１を鉛直軸１４ａ回りに回動（第２図中Ｑ→Ｒ方向）させる水平旋回部１４及び、該水平旋回部１４に取り付けられて把持部１１を垂直方向（第１図中Ｓ→Ｔ方向）に回動させる振り旋回部１５とから構成されている。」
(3) 第６頁第８行〜第８頁第９行
「第４図，部５図中符号Ｇは、移送ロボットＲの移動方向に沿って平行に設定された基準面であり、該基準面Ｇを挟んで移送ロボットＲと半導体製造装置とが対向している。この状態において、該移送ロボットＲは、つぎに示すような載置方法が可能である。第４図（ａ）〜（ｄ’）はウエハ１０ａが半導体製造装置に対して立設するような、即ちウエハ１０ａの取出口が上方に位置するようなウエハカセット１０の装着方法であり、第５図（ａ）〜（ｄ’）はウエハ１０ａが半導体製造装置に対して水平となるような、即ち、ウエハ１０ａの取出口が横方向に位置するようなウエハカセット１０の装着方法である。
（i）まず、第４図（ａ）に示す方法は、把持部１１によって載置台Ｅの上部からウエハカセット１０を挟持した後、水平アーム部１２を伸縮させつつ、半導体製造装置Ｍ側（第２図中Ｏ→Ｐ方向）へ回動させて該半導体製造装置の所定の場所に位置させ、ついで水平旋回部１４の鉛直軸１４ａを回動（第２図中Ｑ→Ｒ方向）させかつ振り旋回部１５を所定の方向に回動させることにより、ウエハカセット１０内のウエハ１０ａが基準面Ｇと直交するように半導体製造装置Ｍに装着する。
（ii）・・・・・・・・・・・・・（略）・・・・・・・・・・・・・・。
（iii）第４図（ｃ），（ｃ’）に示す方法は、把持部１１によってウエハカセット１０を挟持した後、半導体製造装置Ｍ側へ回動させて半導体製造装置の所定の場所に位置させ、ついで水平旋回部１４の鉛直軸１４ａを回動させかつ振り旋回部１５を所定の方向に回動させることによりウエハカセット１０内のウエハ１０ａが基準面Ｇと平行となるように半導体製造装置Ｍに装着する。」
(4) 第１〜４図
　ウエハカセット１０内には複数のウエハ１０ａが縦に並列に収納されていること。
第３　対比                         
　本件発明１と引用例１記載の発明とを対比すると、引用例１記載の発明の「搬送専用カセットＣ１」、「ウエハ移し替え部１」及び「カセット移送装置５」は、それぞれ本件発明１の「キャリア」、「ステーションＳＴ２」及び「移載手段」に相当することが明らかである。
　また、引用例１には、「表面処理」の例として「洗浄」が挙げられていることから、引用例１記載の発明の「表面処理」は、本件発明１の「洗浄」に相当することも明らかである。
　さらに、引用例１記載の発明の「カセット搬出入台２４」は、複数の基板を縦に並列に収納したキャリアが搬入され、２個のキャリアが直列、すなわち、互いに隣接して載置される搬入部であるという限りで、本件発明１の「搬入ステージ」に対応し、また、洗浄済みの基板を収納したキャリアを外部に搬出するための搬出部でもあるという限りで、本件発明１の「搬出ステージ」に対応している。
　したがって、本件発明１と引用例１記載の発明とは、
　複数の基板を縦に並列に収納したキャリアが搬入され、かつ２個のキャリアが互いに隣接して載置される搬入部と、
　前記キャリアから洗浄前の基板を取り出し、また洗浄済みの基板を縦に並列にキャリアに収納するためのステーションと、
　洗浄済みの基板を収納したキャリアを外部に搬出するための搬出部と、
　前記搬入部からキャリアを前記ステーションに移載し、また前記ステーションからキャリアを前記搬出部に移載するための移載手段と、を備えた洗浄装置、
である点で一致し、以下の３点で相違している。
相違点１：
　本件発明１では、キャリアの搬入部及び搬出部が、それぞれ搬入ステージ及び搬出ステージとして個別に設けられているのに対して、引用例１記載の発明では、カセット搬出入台が、キャリアの搬入部及び搬出部を兼用している点。
相違点２：
　本件発明１では、キャリアが搬入ステージの手前側から搬入され、その手前側から奥側を見てキャリア内の基板が前後に並ぶようにかつ２個のキャリアが互いに左右に隣接して搬入ステージに載置されるのに対して、引用例１記載の発明では、そのようになっていない点。
相違点３：
　本件発明１では、搬入ステージに外部から２個のキャリアが搬入された後、当該２個のキャリアを、基板の向きがステーションにより基板を取り出すときの向きとなるように夫々回動させ、また前記搬出ステージから搬出される前のキャリアを、基板の向きが搬入されたときの向きとなるように回動させる手段を備えているのに対して、引用例１記載の発明では、そのようになっていない点。
第４　判断
１　相違点１について
　基板に限らず、一般に、被処理物の処理装置において、処理前の被処理物の搬入部及び処理後の被処理物の搬出部をそれぞれ個別に設けることは、特に例示するまでもなく従来周知であり、本件発明１のように、キャリアの搬入部及び搬出部を、それぞれ搬入ステージ及び搬出ステージとして個別に設けるか、或いは、引用例１記載の発明のように、カセット搬出入台によってキャリアの搬入部及び搬出部を兼用させるかは、必要に応じて適宜選択すればよい単なる設計的事項にすぎない。
２　相違点２について
　基板の処理装置において、キャリアをどのような態様で搬入ステージに搬入し、載置するかは、当該搬入ステージの設けられている装置とその前段の処理装置との配置関係や前段の処理装置から搬入ステージにキャリアを搬入する搬送手段の種別等に応じて、適宜決定すればよい単なる設計的事項にすぎず、本件発明１において、キャリアが搬入ステージの手前側から搬入され、その手前側から奥側を見てキャリア内の基板が前後に並ぶようにかつ２個のキャリアが互いに左右に隣接して搬入ステージに載置されるようにした点に格別の困難性は見当たらない。
３　相違点３について
　引用例２記載の事項における「ウエハカセット１０」及び「ウエハ１０ａ」は、本件発明１の「キャリア」及び「基板」に相当することが明らかであり、引用例２には、複数の基板を縦に並列に収納したキャリアを、収納された基板の向きが基準面Ｇに対して直交、或いは、平行するように回動させる手段が記載されているということができる。
　ところで、搬入ステージに搬入されたキャリアの向きがキャリアのその後の処理に不適当な向きにある場合には、キャリアの向きを処理し易い向きに変更する必要があること、また、搬出ステージに移送されたキャリアの向きが後段の装置との配置関係等によりキャリアの搬出に不適当な向きにある場合には、キャリアの向きを搬出に都合の良い適宜の向きに変更する必要があることは、当該装置の設計・製作に携わる者がその設計・製作に当たって当然留意しなければならない事項である。
　そうしてみると、引用例１記載の発明に引用例２記載の事項を適用して本件発明１のように構成する点にも格別の困難性は見当たらない。
４　本件発明１の効果について
　本件発明１の採用する構成によって齎される効果も、引用例１記載の発明、引用例２記載の事項及び上記従来周知の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
第５　むすび
　したがって、本件発明１は、引用例１記載の発明、引用例２記載の事項及び上記従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許をすることができない。
　よって、本件出願の請求項２乃至請求項８に係る発明について検討するまでもなく、結論のとおり審決する。