【手続補正書】
【提出日】平成18年7月5日(2006.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板を保持する基板ステージと、
前記基板ステージで保持した基板の被めっき面の周縁部に当接して該周縁部を水密的にシールするシール材と、該基板と接触して通電させるカソード電極とを備えたカソード部と、
前記基板の被めっき面に対向し、該被めっき面に接離自在に配置され、アノードと保水性を有する多孔質体を上下に備えた電極ヘッドと、
前記多孔質体を前記基板ステージで保持した基板の被めっき面に任意の力で押圧する押圧機構と、
前記多孔質体と前記基板ステージで保持した基板の被めっき面とを互いに接触させつつ、該多孔質体と基板とを相対運動させる駆動機構を有することを特徴とするめっき装置。
【請求項２】  基板を保持する基板ステージと、
前記基板ステージで保持した基板の被めっき面の周縁部に当接して該周縁部を水密的にシールするシール材と、該基板と接触して通電させるカソード電極とを備えたカソード部と、
前記基板の被めっき面に対向し、該被めっき面に接離自在に配置され、アノードと保水性を有する多孔質体を上下に備えた電極ヘッドと、
前記多孔質体を前記基板ステージで保持した基板の被めっき面に任意の力で押圧する押圧機構と、
前記多孔質体と基板の被めっき面とが接触と非接触を繰り返すよう該多孔質体と前記基板ステージで保持した基板とを相対運動させる駆動機構を有することを特徴とするめっき装置。
【請求項３】  基板とアノードとの間に保水性を有する多孔質体を介在させ、
前記基板と前記アノードとの間にめっき液を満たし、
前記多孔質体と前記基板の被めっき面とを互いに接触させつつ相対運動させた後、
前記基板と前記アノードとの間に通電してめっきを行うことを特徴とするめっき方法。
【請求項４】  前記相対運動の後、２秒以内に通電を開始してめっきを行うことを特徴とする請求項３記載のめっき方法。
【請求項５】  基板とアノードとの間に保水性を有する多孔質体を介在させ、
前記基板と前記アノードとの間にめっき液を満たし、
前記多孔質体と前記基板の被めっき面とが接触と非接触を繰り返すよう該多孔質体と基板を相対運動させた後、
前記基板と前記アノードとの間に通電してめっきを行うことを特徴とするめっき方法。
【請求項６】  前記相対運動の後、２秒以内に通電を開始してめっきを行うことを特徴とする請求項５に記載のめっき方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板を保持する基板ステージと、前記基板ステージで保持した基板の被めっき面の周縁部に当接して該周縁部を水密的にシールするシール材と、該基板と接触して通電させるカソード電極とを備えたカソード部と、前記基板の被めっき面に対向し、該被めっき面に接離自在に配置され、アノードと保水性を有する多孔質体を上下に備えた電極ヘッドと、前記多孔質体を前記基板ステージで保持した基板の被めっき面に任意の力で押圧する押圧機構と、前記多孔質体と前記基板ステージで保持した基板の被めっき面とを互いに接触させつつ、該多孔質体と基板とを相対運動させる駆動機構を有することを特徴とするめっき装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記相対運動は、回転運動であることが好ましい。多孔質体と基板ステージに保持した基板の少なくとも一方を回転させることで、回転運動による相対運動を行わせることができる。
前記相対運動は、スクロール運動であってもよい。多孔質体と基板ステージで保持した基板の少なくとも一方をスクロール運動、つまり自転を行わない公転運動（並進回転運動）させることで、スクロール運動による相対運動を行わせることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記相対運動は、含浸体の中心と基板ステージで保持した基板の中心とを互いに変位させてそれぞれの中心周りに自転を行わせる公自転運動であってもよい。
前記相対運動は、直線運動であってもよい。この直線運動からなる相対運動は、例えば多孔質体と基板ステージで保持した基板の一方を固定して、他方を直線運動させて行ってもよく、双方を互いに逆方向に直線運動させて行ってもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項２に記載の発明は、基板を保持する基板ステージと、前記基板ステージで保持した基板の被めっき面の周縁部に当接して該周縁部を水密的にシールするシール材と、該基板と接触して通電させるカソード電極とを備えたカソード部と、前記基板の被めっき面に対向し、該被めっき面に接離自在に配置され、アノードと保水性を有する多孔質体を上下に備えた電極ヘッドと、前記多孔質体を前記基板ステージで保持した基板の被めっき面に任意の力で押圧する押圧機構と、前記多孔質体と基板の被めっき面とが接触と非接触を繰り返すよう該多孔質体と前記基板ステージで保持した基板とを相対運動させる駆動機構を有することを特徴とするめっき装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項３に記載の発明は、基板とアノードとの間に保水性を有する多孔質体を介在させ、前記基板と前記アノードとの間にめっき液を満たし、前記多孔質体と前記基板とを互いに接触させつつ相対運動させた後、前記基板と前記アノードとの間に通電してめっきを行うことを特徴とするめっき方法である。
請求項４に記載の発明は、前記相対運動の後、２秒以内に通電を開始してめっきを行うことを特徴とする請求項３に記載のめっき方法である。このように、多孔質体と基板とを互いに接触させつつ相対運動させた後、２秒以下に通電を介してめっきを行うことで、配線パターン内部のめっき速度と配線パターン上部のめっき速度の比（配線パターン内部のめっき速度／配線パターン上部のめっき速度）を、例えば２倍以上にすることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記相対運動は、回転運動であることが好ましい。
前記相対運動は、スクロール運動であってもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記相対運動は、自転運動と公転運動を組み合わせた自公転運動であってもよい。
前記相対運動は、直線運動であってもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項５に記載の発明は、基板とアノードとの間に保水性を有する多孔質体を介在させ、前記基板と前記アノードとの間にめっき液を満たし、前記多孔質体と前記基板とが接触と非接触を繰り返すよう該多孔質体と基板を相対運動させた後、前記基板と前記アノードとの間に通電してめっきを行うことを特徴とするめっき方法である。
請求項６に記載の発明は、前記相対運動の後、２秒以内に通電を開始することを特徴とする請求項５に記載のめっき方法である。