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【手続補正書】
【提出日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  銅含有構造と低ｋ誘電体膜との間に配置されたバリア層を備え、前記バリア層は、前記銅含有構造との境界を形成する窒素含有で実質的に酸素がない第１の膜と、前記低ｋ誘電体膜との境界を形成する酸素含有で実質的に窒素がない第２の膜とを含む複合膜構造を備える半導体製品。
【請求項２】  前記第１の膜は窒素ドープされた炭化ケイ素を含み、前記第２の膜は酸素ドープされた炭化ケイ素を含む請求項１に記載の半導体製品。
【請求項３】  第１の膜は窒化ケイ素を含み、前記第２の膜は二酸化ケイ素を含む請求項１に記載の半導体製品。
【請求項４】  前記低ｋ誘電体膜はＳｉＯＣ−Ｈから形成される請求項１に記載の半導体製品。
【請求項５】  前記バリア層は前記銅含有構造上に形成され、前記低ｋ誘電体膜は前記バリア層上に形成され、
前記低ｋ誘電体膜上に形成された酸素ドープされた炭化ケイ素膜と、前記酸素ドープされた炭化ケイ素膜上に形成されたさらなる低ｋ誘電体膜と、前記さらなる低ｋ誘電体膜上に形成された酸素ドープされた炭化ケイ素ハードマスクとをさらに含み、
２段の開口部が、前記酸素ドープされた炭化ケイ素ハードマスクの最上面から下方に延び、前記２段の開口部は、前記酸素ドープされた炭化ケイ素ハードマスク、前記さらなる低ｋ誘電体膜、および前記酸素ドープされた炭化ケイ素膜を通って延びる広い上部部分と、前記低ｋ誘電体膜、前記第２の膜、および前記第１の膜を通って延びる狭い下部部分とを含む、請求項１に記載の半導体製品。
【請求項６】  下部の低ｋ誘電体層と、
前記低ｋ誘電体膜層上に形成されたエッチ・ストップ層と、
前記エッチ・ストップ層上に形成された上部の低ｋ誘電体層と
前記上部低ｋ誘電体層上に形成されたハードマスク層と、を含む積層膜を備え、
前記エッチ・ストップ層および前記ハードマスク層はそれぞれ、酸素ドープされた炭化ケイ素から形成される半導体製品。
【請求項７】  表面をアンモニア含有化学反応によって処理することと、
前記表面上に、窒素を含有し実質的に酸素がない第１のバリア層を形成することと、
前記第１のバリア層上に、酸素を含有し実質的に窒素がない第２のバリア層を形成することと、
前記第２のバリア層上に低ｋ誘電体膜を形成することと、を含む半導体製品の製造方法。
【請求項８】  前記処理することの前に前記表面に有機腐食防止剤をコーティングすることをさらに含み、前記処理することには、前記アンモニア含有化学反応が前記腐食防止剤を除去し金属酸化物を除去可能であることが含まれる請求項７に記載の方法。
【請求項９】  前記低ｋ誘電体膜上に、酸素ドープされた炭化ケイ素エッチ・ストップ層を形成し、前記エッチ・ストップ層上にさらなる低ｋ誘電体膜を形成し、前記さらなる低ｋ誘電体膜上に、酸素ドープされた炭化ケイ素ハードマスク層を形成することと、
前記ハードマスク層、前記さらなる低ｋ誘電体膜、前記エッチ・ストップ層、および前記低ｋ誘電体膜を通る第１の幅を有する第１の開口部をエッチングして、前記第２のバリア層で終了させることと、
前記第１の幅よりも大きい幅を有し、少なくとも前記ハードマスク層と前記さらなる低ｋ誘電体膜とを通って延びる第２の開口部をパターニングして形成することであって、前記パターニングには、前記ハードマスク層上および前記第１の開口部内に深紫外フォトレジスト膜を形成することが含まれ、前記深紫外フォトレジストは酸触媒を含有する、パターニングして形成することと、をさらに含む請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  銅表面を用意することと、
前記銅表面をアンモニア・プラズマで処理することと、
前記銅表面上に、窒素を含有し実質的に酸素がない第１のバリア層を形成することと、
前記第１のバリア層上に、酸素ドープされた炭化ケイ素からなる第２のバリア層を形成することと、
前記第２のバリア層上に多孔性の低ｋ誘電体膜を形成することと、を含む半導体製品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月12日(2006.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伝熱インターフェースであって、
複数の通路が形成される伝熱体と、
前記伝熱体に連結されたばね素子と、
前記通路用の、熱伝導性を有する複数のピンとを備えており、
前記複数のピンのそれぞれは、ヘッド部と、前記ばね素子と共に移動する軸部とを有し、
前記軸部の少なくとも一部分が前記通路の内部にあって、前記通路の内表面との間に空隙を形成しており、
前記ヘッド部のそれぞれは、連結される対象物の面形状に倣うように追従し、熱を前記対象物から、前記伝熱体と前記複数のピンのそれぞれとの間に形成された空隙を経て、前記伝熱体に伝達するように構成されることを特徴とする伝熱インターフェース。
【請求項２】
伝熱インターフェースであって、
対象物の表面に巨視的に追従するための、熱伝導性を有する複数のピンを備えており、
前記複数のピンのそれぞれは、ヘッド部と軸部とを有し、
前記ヘッド部は、前記対象物の凹凸面に、巨視的に略一致して、熱を前記対象物から、前記ピンを経てヒートシンクに伝達できるように構成されることを特徴とする伝熱インターフェース。
【請求項３】
熱エネルギを対象物からヒートシンクに伝達する伝熱方法であって、
複数のピンが前記対象物の表面と巨視的に接触して前記表面に略一致するように、前記複数のピンを前記対象物の表面に押しつける付勢手順と、
熱エネルギを前記対象物から前記ピンを経て、前記複数のピンとの間に複数の空隙を形成している伝熱体に伝達する手順と
を含むことを特徴とする伝熱方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月9日(2006.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  定着機構加熱要素を備えた印刷機構と、  前記印刷機構および前記定着機構加熱要素と通信するプロセッサと、  前記プロセッサと通信し、定着機構加熱ルーチンおよび画像密度値を備えたメモリとを備えており、  前記プロセッサは、印刷ジョブの複数の時間順の画像密度値を決定し、前記画像密度値にしたがって定着機構加熱要素の温度を制御するために、前記印刷ジョブに含まれるディジタル画像データの画像解析を定期的に実行するように構成されている、印刷装置。    【請求項２】  前記印刷ジョブを記憶するための印刷ジョブ記憶域をさらに備えている、請求項１に記載の印刷装置。    【請求項３】  前記印刷ジョブを生成するためのスキャナをさらに備えている、請求項１に記載の印刷装置。    【請求項４】  外部ソースから前記印刷ジョブを受け取るように設けられた通信インタフェースをさらに備えている、請求項１に記載の印刷装置。    【請求項５】  前記定着機構加熱ルーチンが、画像密度値を調べて、それに応じて温度制御信号を生成する参照表をさらに備えている、請求項１に記載の印刷装置。    【請求項６】  前記定着機構加熱ルーチンが、画像密度値を調べて、それに応じて温度制御信号を生成する変換式をさらに備えている、請求項１に記載の印刷装置。    【請求項７】  前記メモリが、前記印刷ジョブから前記画像密度値を生成する画像密度ルーチンをさらに備えている、請求項１に記載の印刷装置。    【請求項８】  印刷ジョブのディジタル画像データの画像解析を行い、前記印刷ジョブの複数の時間順の画像密度値を生成する画像密度ルーチンを、前記印刷ジョブの前記ディジタル画像データに定期的に適用することにより、前記印刷ジョブの少なくとも一部分の画像密度を決定する段階と、  前記画像密度に従って、定着機構加熱要素の温度を制御する段階と  を含む、印刷装置の定着機構の温度制御方法。    【請求項９】  文書を走査して前記印刷ジョブを作成する予備の段階をさらに含む、請求項８に記載の印刷装置の定着機構の温度制御方法。    【請求項１０】  外部ソースから前記印刷ジョブを受け取る予備の段階をさらに含む、請求項８に記載の印刷装置の定着機構の温度制御方法。    【請求項１１】  前記定着機構加熱要素の温度を制御する段階が、画像密度値を参照表に入力し、対応する温度制御信号を得る段階をさらに含み、前記温度制御信号が前記定着機構加熱要素の温度を制御するために使用される、請求項８に記載の印刷装置の定着機構の温度制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月5日(2006.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光信号を伝搬する光学システムであって、
光学媒体及び格子サイトのアレイを有する光変調器を含み、前記光学媒体は光信号を伝搬する働きを持ち、前記格子サイトのアレイは前記光学媒体に配置され、前記格子サイトの少なくとも一部が前記光学媒体の屈折率とは異なる屈折率を有し、前記格子サイトのうちの第１の格子サイトは前記光学媒体に対して相対的に移動可能な第１の光学構成要素を有し、前記光学媒体に対して前記第１の光学構成要素を移動させることにより、前記光学媒体の中を通る光信号の伝搬が変化するように構成される、光学システム。
【請求項２】
前記格子サイトのアレイによって、前記光学媒体の少なくとも一部を通る第１の光路が規定され、
前記第１の光学構成要素は、第１の位置と第２の位置の間を移動可能であり、
前記第１の光学構成要素は、前記第１の位置において、前記光信号の少なくとも一部が前記第１の光路の全体を通って伝搬することを防止するように構成される、請求項１に記載の光学システム。
【請求項３】
前記第１の光学構成要素は、前記第１の位置において前記光信号をフィルタリングし、前記光信号のうちの少なくとも選択された周波数の光が、前記第１の光路の全体を通って伝搬することを防止するように構成される、請求項２に記載の光学システム。
【請求項４】
前記格子サイトのアレイによって、前記光学媒体の少なくとも一部を通る第２の光路が規定され、
前記第１の光学構成要素は、前記第１の位置において、前記光信号のうちの少なくとも前記部分を方向転換させ、前記第２の光路に沿って伝搬させるように構成される、請求項２に記載の光学システム。
【請求項５】
前記第１の光学構成要素は、前記第２の位置において、前記光信号を前記第１の光路の全体を通して伝搬させるように構成される、請求項２に記載の光学システム。
【請求項６】
前記第１の光学構成要素の屈折率は、前記光学媒体に対する前記第１の光学構成要素の移動方向によって異なる、請求項１に記載の光学システム。
【請求項７】
前記第１の光学構成要素は、第１の位置と第２の位置の間で移動可能であり、
前記第１の光学構成要素は、第１の屈折率を有する第１の部分と、前記第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する第２の部分とを少なくとも有し、前記第１の部分のサイズ及び形は、前記第１の光学構成要素が前記第１の位置に移動したときに、前記第２の屈折率が、前記光学媒体の中を通る光信号の伝搬に影響を与えないようなサイズ及び形である、請求項６に記載の光学システム。
【請求項８】
前記第１の光学構成要素を前記光学媒体に対して相対的に移動させるように構成されたアクチュエータを更に含む、請求項１に記載の光学システム。
【請求項９】
前記光学媒体は、実質的に平坦な形である、請求項１に記載の光学システム。
【請求項１０】
前記光変調器に光信号を伝送するように構成された第１の光伝送媒体を更に含む、請求項１に記載の光学システム。
【請求項１１】
前記光変調器に光信号を伝送するように構成された第２の光伝送媒体を更に含む、請求項１０に記載の光学システム。
【請求項１２】
前記第１の光学構成要素によって軸が規定され、
前記光学媒体を通る光信号の伝搬は、前記第１の光学構成要素を前記軸に沿って移動させることにより影響を受ける、請求項１に記載の光学システム。
【請求項１３】
光信号を変調する方法であって、
光信号を伝搬する働きを持つ光学媒体であって、格子サイトのアレイを有し、前記格子サイトの少なくとも一部が、該光学媒体の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記格子サイトのうちの第１の格子サイトが、該光学媒体の中を通る光信号の伝搬に影響を与える第１の光学構成要素を有する、光学媒体を提供するステップと、
前記第１の光学構成要素と前記光学媒体を相対的に移動させ、前記光学媒体の中を通る光信号の伝搬を変化させるステップと
からなる方法。
【請求項１４】
前記第１の光学構成要素と前記光学媒体を移動させるステップは、前記第１の光学構成要素を移動させることからなる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の光学構成要素と前記光学媒体を移動させるステップは、前記光学媒体を移動させることからなる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記光学媒体において光信号を受信するステップを更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
受信した光信号を選択的に方向転換させるステップを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上面側にレンズを搭載し、該レンズで撮像される像を受光する撮像素子を基板下面側に取り付けて構成される小形モジュールカメラにおいて、
前記基板に貫通孔を設け、該貫通孔上部側を光学フィルタおよびレンズを収容する光学系収容部、貫通孔下部側を撮像素子を収容する撮像素子収容部とし、
前記光学系収容部と撮像素子収容部の間に前記光学フィルタを支持する支持部を撮像素子収容部側に突出するように設け、
前記撮像素子収容部の前記支持部の外側の部分で撮像素子と基板のランド部分を樹脂封止することを特徴とする小形モジュールカメラ。
【請求項２】  前記撮像素子はその下面が前記基板の下面より内側になるように前記撮像素子収容部に収容し、
前記基板の周辺に半田ランドを設けたことを特徴とする請求項１記載の小形モジュールカメラ。
【請求項３】  前記基板はその内部に電気受動素子を形成できる層を有することを特徴とする請求項１または２記載の小形モジュールカメラ。
【請求項４】  基板上面側にレンズを搭載し、該レンズで撮像される像を受光する撮像素子を基板下面側に取り付けて構成される小形モジュールカメラにおいて、
前記基板に貫通孔を設け、該貫通孔を光学フィルタおよびレンズを収容する光学系収容部とし、
前記基板の貫通孔下面側に前記光学フィルタを支持する支持部を前記基板の下面より突出するように設け、
前記基板の下面側に前記撮像素子を配置し、前記支持部の外側の部分で撮像素子と基板のランド部分を樹脂封止することを特徴とする小形モジュールカメラ。
【請求項５】  前記光学系収容部の内壁には内面反射防止加工を施したことを特徴とする請求項１または４記載の小形モジュールカメラ。
【請求項６】  前記レンズの周面と前記光学系収容部の内壁にネジを形成し、前記レンズは螺合により前記光学系収容部に取り付けることを特徴とする請求項１または４記載の小形モジュールカメラ。
【請求項７】  基板上面側にレンズを搭載し、該レンズで撮像される像を受光する撮像素子を基板下面側に取り付けて構成される小形モジュールカメラにおいて、
前記基板に貫通孔を設け、該貫通孔の上面側に光学フィルタを支持する位置決め溝を設けるとともに前記貫通孔の下面側に流れ防止突起を設け、
該流れ防止突起の外側部分で撮像素子と基板のランド部分を樹脂封止することを特徴とする小形モジュールカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために本発明による請求項１の小形モジュールカメラは、基板上面側にレンズを搭載し、該レンズで撮像される像を受光する撮像素子を基板下面側に取り付けて構成される小形モジュールカメラにおいて、前記基板に貫通孔を設け、該貫通孔上部側を光学フィルタおよびレンズを収容する光学系収容部、貫通孔下部側を撮像素子を収容する撮像素子収容部とし、前記光学系収容部と撮像素子収容部の間に前記光学フィルタを支持する支持部を撮像素子収容部側に突出するように設け、前記撮像素子収容部の前記支持部の外側の部分で撮像素子と基板のランド部分を樹脂封止するように構成されている。
本発明による請求項２の小形モジュールカメラは、請求項１において前記撮像素子はその下面が前記基板の貫通孔下面より内側になるように前記撮像素子収容部に収容し、前記基板の周辺に半田ランドを設けて構成されている。
本発明による請求項３の小形モジュールカメラは、請求項１または２において前記基板はその内部に電気受動素子を形成できる層を有している。
本発明による請求項４の小形モジュールカメラは、基板上面側にレンズを搭載し、該レンズで撮像される像を受光する撮像素子を基板下面側に取り付けて構成される小形モジュールカメラにおいて、前記基板に貫通孔を設け、該貫通孔を光学フィルタおよびレンズを収容する光学系収容部とし、前記基板の貫通孔下面側に前記光学フィルタを支持する支持部を前記基板の下面より突出するように設け、前記基板の下面側に前記撮像素子を配置し、前記支持部の外側の部分で撮像素子と基板のランド部分を樹脂封止するように構成されている。
本発明による請求項５の小形モジュールカメラは、請求項１または４において前記光学系収容部の内壁には内面反射防止加工が施されている。
本発明による請求項６の小形モジュールカメラは、前記レンズの周面と前記光学系収容部の内壁にネジを形成し、前記レンズは螺合により前記光学系収容部に取り付けるように構成されている。
本発明による請求項７の小形モジュールカメラは、基板上面側にレンズを搭載し、該レンズで撮像される像を受光する撮像素子を基板下面側に取り付けて構成される小形モジュールカメラにおいて、前記基板に貫通孔を設け、該貫通孔の上面側に光学フィルタを支持する位置決め溝を設けるとともに前記貫通孔の下面側に流れ防止突起を設け、該流れ防止突起の外側部分で撮像素子と基板のランド部分を樹脂封止するように構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月22日(2006.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  前記矩形の開口の前記側面は、前記第１のタイプのウェブとアライメントされ、前記矩形の開口の前記縁端部は、前記第２のタイプのウェブとアライメントされる、請求項７に記載のトルクセンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
好ましい実施例において、上述の内側本体の、上述の中央取付手段は、側面と縁端部とを有する矩形の開口を有するハブを含む。上述の矩形の開口の上述の側面が、上述の第１のタイプのウェブとアライメントされ、かつ、上述の矩形の開口の上述の縁端部が、上述の第２のタイプのウェブとアライメントされると、最適な測定結果が得られることが分かっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図５は、図１および図２において一般に２６として示される測定要素の回路を示す。各測定要素２６は、第１のタイプのウェブ１８上において平行にかつ実質的に半径方向に配置された歪みゲージの対５０，５２と、５４，５６と、５８，６０と、６２，６４とを含む。各対の歪みゲージは、図５において、第１の端部、すなわち、半径方向に外側の端部において相互接続される。各歪みゲージの第２の端部、すなわち、図５における内側の端部は、隣接する対の歪みゲージの第２の端部と接続される。すなわち、歪みゲージ５２の第２の端部は、歪みゲージ５０，５２と直交する対の一方、すなわち、図５における左側の水平な対５４，５６の歪みゲージ５４の第２の端部に接続され、歪みゲージ５０の第２の端部は、歪みゲージ５０，５２と直交する対の他方、すなわち、図５における右側の水平な対６２，６４の第２の端部と接続される。対５０，５２の歪みゲージ５６の第２の端
部は、対５４，５６と実質的にアライメントされる対５８，６０の歪みゲージ６０の第２の端部に接続される。対５８，６０の歪みゲージ５８の第２の端部は、対６２，６４の歪みゲージ６２の第２の端部に接続される。歪みゲージ５０，５２および５８，６０は、図２において垂直に配置された、直径方向に対向するウェブ１８に取付けられる。歪みゲージ５４，５６および６２，６４は、図２において水平に配置された、直径方向に対向するウェブ１８に取付けられる。歪みゲージはブリッジ回路を形成する。歪みゲージ５０，５２の第１の端部間に接続された端子６６と、歪みゲージ５８，６０の第１の端部間に接続された端子６８との間に、ブリッジ電圧が印加される。歪みゲージ５４，５６間に接続された端子７０と、歪みゲージ６２，６４間に接続された端子７２との間で、測定信号が捕捉される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月31日(2006.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
燃焼反応を監視することは、燃焼器への燃料流量及びガスタービンの作動状態を制御する上で有用である。燃焼反応を監視するために、温度及び圧力センサがガスタービンの燃焼区域及びタービン区域内に配置される。これらのセンサは、燃焼過程及び燃焼ガスを監視する。センサは、燃焼ガスの温度又は圧力を示す信号を発生する。センサからの信号は、ガスタービン用のコンピュータ制御装置によって使用されて、燃料流量及び圧縮機入口ベーン位置を含む、ガスタービンの作動条件を設定する。更に、センサの測定値は、燃焼器区域及びタービン区域内の温度及び圧力が、閾値圧力条件及び閾値温度条件を超えないこと保証するために使用される。
【特許文献１】米国特許第５９０２９２５号
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月1日(2006.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】デジタル通信信号のジッタを計測する方法であって、
前記デジタル通信信号のジッタを表す複数の連続したサンプルを生成するステップと、
前記連続したサンプルを、複数のハイパスフィルタ機能に並列に供給して、フィルタ処理済みサンプルを生成するステップと、
前記複数のハイパスフィルタ機能のそれぞれから、複数の計測機能のうちの対応する計測機能に、前記フィルタ処理済みサンプルを供給して、該ハイパスフィルタ機能からの該フィルタ処理済みサンプルのパラメータを計測するステップであって、該パラメータは、ジッタピーク振幅及びジッタＲＭＳ振幅を有する、ステップと、
前記計測機能から供給されるパラメータの計測値を選択し、該選択したパラメータ計測値から、前記通信信号におけるジッタ計測値を導出するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】前記計測されるパラメータは、所定の時間間隔におけるジッタピーク発生の計数を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記計測されるパラメータは、前記所定の時間間隔におけるジッタのポジティブなピーク発生およびネガティブなピーク発生の計数を含む、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】前記計測されるパラメータは、ポジティブ及およびネガティブのジッタピーク振幅を含む、
請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】前記複数のハイパスフィルタ機能に対するすべてのジッタ計測値は、表示のために同時に利用可能である、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】前記ハイパスフィルタ機能の１つは、スルーパスフィルタ機能である、
請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】デジタル通信信号のジッタを計測するための装置であって、
前記デジタル通信信号におけるジッタを表す複数の連続したサンプルを生成する生成器と、
前記連続したサンプルを並列に受け取って、フィルタ済みサンプル生成する複数のハイパスフィルタと、
前記複数のハイパスフィルタのそれぞれに対応して設けられ、該ハイパスフィルタからフィルタ処理済みサンプルを受け取って該フィルタ済みサンプルのパラメータを計測する複数の計測回路であって、該パラメータは、ジッタピーク振幅およびジッタＲＭＳ振幅を有する、計測回路と、
前記計測回路から供給されたパラメータの計測値を選択し、該選択したパラメータ計測値から、前記通信信号におけるジッタ計測値を導出する選択器と、
を備える、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月19日(2006.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元変位を感知するための光学位置感知装置であって、
第１の軸に対して平行に配置された少なくとも４つの光検出器からなり、該少なくとも４つの光検出器が、光検出器の第１の対及び光検出器の第２の対を形成するように構成される、第１の光センサと、
第２の軸に対して平行に配置された少なくとも４つの光検出器からなり、該少なくとも４つの光検出器が、光検出器の第３の対及び光検出器の第４の対を形成するように構成される、第２の光センサと、
光と影からなるパターンが前記光センサに投影されるように、前記光センサに入射する光の経路に干渉するエンコード手段と
を含み、前記エンコード手段と前記光センサは互いに相対的に移動させることができ、その結果、前記光センサによって受信される光が変調され、
前記エンコード手段及び前記光センサは、前記エンコード手段が前記第１の軸に対して平行な方向に相対的に移動する場合、前記第２の光センサによって受信される光の変調が、前記第１の光センサによって受信される光の変調よりも大きくなり、前記エンコード手段が前記第２の軸に対して平行な方向に相対的に移動する場合、前記第１の光センサによって受信される光の変調が、前記第２の光センサによって受信される光の変調よりも大きくなるように配置され、
前記エンコード手段及び前記光検出器対は、光検出器の各対によって受信される光の総量が実質的に変化せず、前記エンコード手段の移動によって或る光検出器対の一方の光検出器によって受信される光が増加するときに、その光検出器対の他方の光検出器によって受信される光がそれを補償する態様で減少するように配置される、光学位置感知装置。
【請求項２】
前記第１の軸に対して平行な光検出器の前記第１の対及び前記第２の対に属する光検出器は、互いに隣接して交互に配置される、請求項１に記載の光学位置感知装置。
【請求項３】
前記第２の軸に対して平行な光検出器の前記第３の対及び前記第４の対に属する光検出器は、互いに隣接して交互に配置される、請求項１に記載の光学位置感知装置。
【請求項４】
前記エンコード手段は、前記第１の軸に対して平行に配置された第１の平行なバーのセットと、前記第２の軸に対して平行に配置された第２の平行なバーのセットとを含み、前記第２の平行なバーのセットは前記第１の平行なバーのセットに交差し、十字形構造を形成する、請求項１に記載の光学位置感知装置。
【請求項５】
前記第１の平行なバーのセットは同じ幅を有し、前記幅に等しい距離だけ互いに均等に間隔を空けて配置され、前記第２の平行なバーのセットは同じ幅を有し、前記幅に等しい距離だけ互いに均等に間隔を空けて配置される、請求項４に記載の光学位置感知装置。
【請求項６】
前記第１の平行なバーのセットの幅と前記第２の平行なバーのセットの幅は同じである、請求項５に記載の光学位置感知装置。
【請求項７】
前記エンコード手段は、板の形で設けられる、請求項１に記載の光学位置感知装置。
【請求項８】
前記第１の軸と前記第２の軸は互いに垂直である、請求項１に記載の光学位置感知装置。
【請求項９】
前記光検出器は、Ｌ字形を形成するように配置される、請求項８に記載の光学位置感知装置。
【請求項１０】
前記光検出器は、細長いフォトダイオードストリップである、請求項１に記載の光学位置感知装置。
【請求項１１】
前記光検出器のそれぞれの長手方向軸は、前記第１の軸又は前記第２の軸に対して実質的に平行に配置される、請求項１０に記載の光学位置感知装置。
【請求項１２】
前記光検出器のそれぞれの長手方向軸に沿った長さは、前記エンコード手段を形成する平行なバーのセットの幅の少なくとも２倍である、請求項１１に記載の光学位置感知装置。
【請求項１３】
前記光検出器のそれぞれの長手方向軸に沿った長さは、前記平行なバーのセットの幅よりも偶数倍だけ長い、請求項１２に記載の光学位置感知装置。
【請求項１４】
前記光検出器のそれぞれの長手方向軸に対して垂直な幅は、前記エンコード手段を形成する平行なバーのセットの幅の２倍よりも短い、請求項１１に記載の光学位置感知装置。
【請求項１５】
前記光検出器のそれぞれの幅は、前記エンコード手段を形成する平行なバーのセットの幅よりも短い、請求項１４に記載の光学位置感知装置。
【請求項１６】
前記光検出器のそれぞれの幅は、前記エンコード手段を形成する平行なバーのセットの幅の半分である、請求項１５に記載の光学位置感知装置。
【請求項１７】
２次元変位を感知するための光学位置感知装置であって、
第１の軸に対して平行に配置された複数の光検出器からなり、該複数の光検出器が、少なくとも光検出器の第１の対及び光検出器の第２の対を形成し、前記第１の対の光検出器と前記第２の対の光検出器が、互いに隣接して交互に配置されるように構成される、第１の光センサと、
第２の軸に対して平行に配置された複数の光検出器からなり、該複数の光検出器が、少なくとも光検出器の第３の対及び光検出器の第４の対を形成し、前記第３の対の光検出器と前記第４の対の光検出器が、互いに隣接して交互に配置され、前記第１の軸と前記第２の軸が互いに或る角度をなすように構成される、第２の光センサと、
光と影からなるパターンが前記光センサに投影されるように、前記光センサに入射する光の経路に干渉するエンコード手段と
を含み、前記エンコード手段と前記光センサは互いに相対的に移動させることができ、その結果、前記光センサによって受信される光が変調され、
前記エンコード手段及び前記光センサは、前記エンコード手段が前記第１の軸に対して平行な方向に相対的に移動する場合、前記第２の光センサによって受信される光の変調が、前記第１の光センサによって受信される光の変調よりも大きくなり、前記エンコード手段が前記第２の軸に対して平行な方向に相対的に移動する場合、前記第１の光センサによって受信される光の変調が、前記第２の光センサによって受信される光の変調よりも大きくなるように配置され、
前記エンコード手段及び前記光検出器対は、光検出器の各対によって受信される光の総量が実質的に変化せず、前記エンコード手段の移動によって或る光検出器対の一方の光検出器によって受信される光が増加するときに、その光検出器対の他方の光検出器によって受信される光がそれを補償する態様で減少するように配置される、光学位置感知装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
これらのシステム及び他のＢＷＲ制御システムの作動は、ＢＷＲの種々の監視パラメータを用いて制御される。幾つかの監視パラメータには、ＲＦＣＳの影響を受ける炉心の流量及び流速、圧力容器からタービンに放出される蒸気の圧力であって原子炉ドーム又はタービン入口で測定されることができる原子炉システム圧力、中性子束又は炉心出力、給水温度及び流量、タービンに供給される蒸気の流量、及びＢＷＲシステムの種々の状態表示値が含まれる。多くの監視パラメータは直接測定されるが、その他の、炉心熱出力のようなものは測定されたパラメータを用いて算出される。各センサからの出力及び算出されたパラメータは、プラントの安全停止を保証する緊急保護システムに入力され、必要な場合には外部環境から原子炉を隔離し、どのような緊急的事象の際でも炉心の過熱を防止する。
【特許文献１】欧州特許公開ＥＰ０４１１８７３Ａ号
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月25日(2006.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦な上面を有する支持体（２６）を準備する段階と、
該支持体（２６）の上面上に配置され、円弧状バーセクション（２８）を備え、該バーセクション（２８）がＸ線不透過性材料を含みかつ円弧状内側エッジと、円弧状外側エッジと、平坦な下面から間隔をおいた上面とを有し、前記内側エッジ及び外側エッジの各々が、その中に形成され前記上面から前記下面まで延びる複数の平行な溝を含む円弧状ベース（２７）を準備する段階と、
各々がほぼ直方形でありかつその下側エッジから下向きに延びる第１及び第２の位置合わせタブを有する複数のＸ線不透過性のコリメータプレート（３０）を準備する段階と、
前記第１の位置合わせタブの各々が前記円弧状ベース（２７）の内側エッジの前記溝の１つの中に嵌め込まれかつ前記第２の位置合わせタブの各々が前記円弧状ベース（２７）の外側エッジの前記溝の１つの中に嵌め込まれ、それにより前記コリメータプレート（３０）が前記円弧状ベース（２７）に対して放射状配列で位置決めされ、各コリメータプレート（３０）の前記下側エッジが前記円弧状ベース（２７）の上面に接触した状態になるように、該円弧状ベース（２７）上に前記複数のコリメータプレート（３０）を配置する段階と、
前記複数のコリメータプレート（３０）を前記円弧状ベース（２７）の上面に対して垂直に位置合わせする段階と、
前記コリメータプレート（３０）を前記円弧状ベース（２７）に固定する段階と、
を含むことを特徴とするＸ線コリメータ組立体を製作する方法。
【請求項２】
円弧状ベース（２７）上に放射状配列で配置された複数のコリメータプレート（３０）を含むＸ線コリメータを組立てるための位置合わせ冶具であって、
前記複数のコリメータプレート（３０）を係合させるためにその下面に配設され、該コリメータプレート（３０）の所望の位置決めに対応するパターンに配列された複数のリブを備える本体と、
該位置合わせ冶具を前記円弧状ベース（２７）に対して円周方向に位置合わせするための手段と、
を含むことを特徴とする位置合わせ冶具。
【請求項３】
該位置合わせ冶具を前記円弧状ベース（２７）に対して垂直方向に位置決めするための手段を更に含むことを特徴とする、請求項２に記載の位置合わせ冶具。
【請求項４】
該位置合わせ冶具を垂直方向に位置決めするための前記手段が、
該位置合わせ冶具の内側エッジに配置され、前記本体の下面から所定の距離に配設された下面を有する第１のエンドキャップと、
該位置合わせ冶具の外側エッジに配置され、前記本体の下面から所定の距離に配設された下面を有する第２のエンドキャップと、
を含むことを特徴とする、請求項３に記載の位置合わせ冶具。
【請求項５】
前記リブが、間隔をおいた複数の列で配設されていることを特徴とする、請求項７に記載の位置合わせ冶具。
【請求項６】
少なくとも１つのアクセス用スロットが、前記本体を貫通して形成されていることを特徴とする、請求項２に記載の位置合わせ冶具。
【請求項７】
前記第１のエンドキャップが水平部分及び垂直部分を有し、該垂直部分が、その上に位置合わせリブが形成されている放射方向に向いた内部表面を備えていることを特徴とする、請求項４に記載の位置合わせ冶具。
【請求項８】
平坦な上面を有する支持体（２６）と、
該支持体（２６）上に配置され、少なくとも１つのＸ線不透過性の円弧状バーセクション（２８）を備え、該バーセクション（２８）が、円弧状内側エッジと、円弧状外側エッジと、平坦な下面から間隔をおいた平坦な上面とを有し、前記内側エッジ及び外側エッジの各々が、前記上面から前記下面まで延びる複数の平行な溝を含む、円弧状ベース（２７）と、
その各々の下側エッジが前記ベースのプレートの上面に接触した状態になるように該ベースプレート上に放射状配列で配置された複数のＸ線不透過性のコリメータプレート（３０）と、
を含み、
該コリメータプレート（３０）の各々が、その下側エッジから突出する第１及び第２の位置合わせタブを含み、前記第１の位置合わせタブが前記ベースプレートの内側エッジの前記溝の１つに受け入れられ、前記第２の位置合わせタブが前記ベースプレートの外側エッジの前記溝の１つに受け入れられている、
ことを特徴とするＸ線コリメータ組立体。
【請求項９】
前記複数のコリメータプレート（３０）に跨る円周方向に延びるワイヤを更に含み、該ワイヤが、前記コリメータプレート（３０）の各々の上側エッジに形成されたノッチ内に受け入れられていることを特徴とする、請求項８に記載のＸ線コリメータ組立体。
【請求項１０】
各バーセクション（２８）が第１及び第２の円周方向エッジを有し、隣り合うバーセクションの隣接する前記円周方向エッジが、前記円弧状ベース（２７）の半径を定める直線に平行でない方向に延びていることを特徴とする、請求項８に記載のＸ線コリメータ組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来技術】
工業用部品のＸ線検査システムにリニア検出器を使用することは公知である。リニア検出器は改良されたコントラスト解像度を提供でき、従ってデジタルＸ線撮影法（ＤＲ）及びコンピュータ断層撮影法（ＣＴ）に適している。改良されたコントラスト解像度は、得られる画像への散乱Ｘ線の分散を減少させるＸ線コリメーションの使用により得られる。理想的には、Ｘ線検出器は、面内散乱の排除をもたらすように水平方向にコリメートされる。通常、この水平方向コリメーションは、Ｘ線検出素子の前面に置かれた、Ｘ線焦点の周りに放射方向に位置合わせされたタングステンプレートの配列の形態をとる。このコリメーションは、各検出素子に対して水平方向開口を与える。その構造の精度及び均一性は、画像品質に大きく影響する。大きいあるいは密集した部品を検査するためには大型の（長さ及び深さの両方で）コリメーション配列が要求される。従来技術の製造及び組立方法の限界のため、高精度かつ高均一性のコリメーション配列の製作の困難さ従ってコストは、該配列の物理的寸法が大きくなるのに従って増大する。
【特許文献１】米国特許第５９６５８９３号
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月1日(2006.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁界検出センサであって、
第１のセンス層及び第１の基準層を含む第１の磁気センサと、
第２のセンス層及び第２の基準層を含む第２の磁気センサと、
磁界検出センサによって検出された外部磁界により、前記第１の基準層に対する前記第１のセンス層の相対的な磁気の向きが、前記第２の基準層に対する前記第２のセンス層の相対的な磁気の向きとは反対になるように、前記第１の磁気センサが前記第２の磁気センサに対して物理的に配置されることと、
前記第１の磁気センサと前記第２の磁気センサの相対的な磁気の向きを検知するための差動増幅器と
からなる磁界検出センサ。
【請求項２】
前記第１の磁気センサと前記第２の磁気センサはそれぞれ、磁気トンネル接合センサである、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項３】
前記第１の磁気センサの抵抗値は、前記第１の基準層に対する前記第１のセンス層の磁気の向きによって決まる、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項４】
前記第２の磁気センサの抵抗値は、前記第２の基準層に対する前記第２のセンス層の磁気の向きによって決まる、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項５】
前記第１の基準層と前記第２の基準層の磁気の向きが同じ方向に固定されている、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項６】
前記第１のセンス層は第１の合成強磁性構造センス層からなり、前記第２のセンス層は第２の合成強磁性構造センス層からなる、請求項５に記載の磁界検出センサ。
【請求項７】
前記合成強磁性構造センス層のそれぞれが、非磁性スペーサ材料によって分離された第１の強磁性層及び第２の強磁性層からなり、各強磁性層の厚み及び材料タイプは、前記第１の強磁性層と前記第２の強磁性層が反強磁性結合されるような厚み及び材料タイプからなる、請求項６に記載の磁界検出センサ。
【請求項８】
前記第１の強磁性層の厚みが前記第２の強磁性層の厚みとは異なり、それにより、前記第１の強磁性層の第１の磁化は、前記第２の強磁性層の第２の磁化の一部のみを相殺する、請求項７に記載の磁界検出センサ。
【請求項９】
各強磁性層は軟磁性材料からなる、請求項７に記載の磁界検出センサ。
【請求項１０】
前記第１の基準層と前記第２の基準層の磁気の向きが反対の向きに固定されている、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項１１】
前記第１の磁気センサと前記第２の磁気センサの相対的な磁気の向きを検知するための差動増幅器は、前記第１の磁気センサの抵抗値と前記第２の磁気センサの抵抗値のどちらが大きいかを検出するための、交差結合されたトランジスタの差動対からなる、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項１２】
前記第１の磁気センサと前記第２の磁気センサの相対的な磁気の向きを検知するための差動増幅器は、前記第１の磁気センサと前記第２の磁気センサの間の抵抗値の差の相対的な度合いを検出する差動増幅器からなる、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項１３】
前記第１の磁気センサ及び前記第２の磁気センサは、前記第１の磁気センサ及び前記第２の磁気センサの機能が共通センス層によって提供されるように構成される、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項１４】
前記共通のセンス層は、共通合成強磁性構造センス層からなる、請求項１３に記載の磁界検出センサ。
【請求項１５】
前記共通合成強磁性構造センス層は、非磁性スペーサ材料によって分離された第１の共通強磁性層及び第２の共通合成強磁性層からなり、各強磁性層の厚み及び材料タイプは、前記第１の共通強磁性層と前記第２の強磁性層が反強磁性結合されるような厚み及び材料タイプからなる、請求項１４に記載の磁界検出センサ。
【請求項１６】
前記第１の共通強磁性層の第１の厚みが前記第２の共通強磁性層の厚みとは異なり、それにより、前記第１の共通強磁性層の第１の磁化は、前記第２の共通強磁性層の第２の磁化の一部のみを相殺する、請求項１４に記載の磁化検出センサ。
【請求項１７】
各強磁性層は軟強磁性材料からなる、請求項１４に記載の磁界検出センサ。
【請求項１８】
前記第１の強磁性センサ及び前記第２の強磁性センサは、前記第１の基準層及び前記第２の基準層の機能が共通基準層によって提供されるように構成される、請求項１に記載の磁界検出センサ。
【請求項１９】
磁界検出センサであって、
第１のセンス層及び第１の基準層を含む第１の磁気トンネル接合センサと、
第２のセンス層及び第２の基準層を含む第２の磁気トンネル接合センサと
からなり、
磁界検出センサによって検出された外部磁界により、前記第１の基準層に対する前記第１のセンス層の相対的な磁気の向きが、前記第２の基準層に対する前記第２のセンス層の相対的な磁気の向きとは反対になるように、前記第１の磁気トンネル接合センサが前記第２のトンネル接合センサに対して物理的に配置される、磁界検出センサ。
【請求項２０】
磁気ディスクドライブであって、
ディスクの表面に情報が記憶された磁気ディスクと、
前記ディスクの表面に記憶された情報を検出するための磁界検出センサと
からなり、前記磁界検出センサは、
第１のセンス層及び第１の基準層を含む第１の磁気センサと、
第２のセンス層及び第２の基準層を含む第２の磁気センサと
を含み、前記磁界センサによって検出された外部磁界により、前記第１の基準層に対する前記第１のセンス層の相対的な磁気の向きが、前記第２の基準層に対する前記第２の
センス層の相対的な磁気の向きとは反対になるように、前記第１の磁気センサが前記第２のい磁気センサに対して物理的に配置される、磁気ディスクドライブ。
【請求項２１】
磁界検出センサアレイであって、パターンに従って配置された複数の磁界検出センサを含み、各磁界検出センサは、
第１のセンス層及び第１の基準層を含む第１の磁気センサと、
第２のセンス層及び第２の基準層を含む第２の磁気センサと
を含み、磁界検出センサによって検出された外部磁界により、前記第１の基準層に対する前記第１のセンサ層の相対的な磁気の向きが、前記第２の基準層に対する前記第２のセンス層の相対的な磁気の向きとは反対になるように、前記第１の磁気センサが前記第２の磁気センサに対して物理的に配置される、磁界検出センサアレイ。
【請求項２２】
磁界検出センサを用いて磁界を検出する方法であって、該磁界検出センサが、第１のセンス層及び第１の基準層を含む第１の磁気センサと、第２のセンス層及び第２の基準層を含む第２の磁気センサとを含み、該磁界センサによって検出された外部磁界により、前記第１の基準層に対する前記第１のセンス層の相対的な磁気の向きが、前記第２の基準層に対する前記第２のセンス層の相対的な磁気の向きとは反対になるように、前記第１の磁気センサが前記第２の磁気センサに対して物理的に配置されるものにおいて、
前記磁界検出センサを磁界にさらすステップと、
前記第１の磁界センサの第１の抵抗値と前記第２の磁界センサの第２の抵抗値の差を検出するステップと
からなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月2日(2006.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの第１の入力ポート（Ｉ１）、第１の出力ポート（Ｏ１）及び第２の出力ポート（Ｏ２）を有する、集積化された光波長分割多重（ＷＤＭ）装置であって、
複数の波長の偏光成分からなる光を受信し、前記波長に基づいて、それぞれの偏光成分が関連する波長を有する前記偏光成分を空間的に分離する、分散要素と、
前記分散要素によって空間的に分離された偏光成分を受信するために複数の空間的に分離された偏光制御要素を有し、前記空間的に分離された偏光成分を反射する前記偏光制御要素の状態に依存する偏光の反射角において、前記空間的に分離された偏光成分を反射する偏光制御反射器と、
前記第１の入力ポート（Ｉ１）を介して前記光ＷＤＭ装置内へ加えられる偏光成分を受信し、かつ前記入力偏光成分を操作して偏光の特定の角度を有する前記入力偏光成分を供給する偏光依存光経路装置であって、前記入力偏光成分が前記分散要素によって受信された前記光の前記偏光成分に相当し、衝突する偏光成分が、前記偏光制御要素の前記状態に依存する偏光の角度によって反射され、前記偏光制御要素のいずれか１つが、前記複数の状態のうちの第１の状態にあるとき、そこでの衝突の結果として反射される偏光成分が、前記第１の出力ポート（Ｏ１）を介して出力され、かつ前記偏光制御要素のいずれか１つが、前記複数の状態のうちの第２の状態にあるとき、前記１以上の偏光制御要素での衝突の結果として反射される前記偏光成分の少なくとも一部が、前記第２の出力ポート（Ｏ２）を介して出力される、偏光依存光経路装置と
を備える、集積化された光波長分割多重（ＷＤＭ）装置。
【請求項２】
前記偏光依存光経路装置が、入力偏光依存経路分割要素を含み、前記入力偏光依存経路分割要素が、前記入力偏光成分を空間的に分離した入力偏光成分に変換することを特徴とする、請求項１に記載の光ＷＤＭ装置。
【請求項３】
前記偏光依存光経路装置が、出力偏光依存経路分割要素を含み、前記偏光依存光経路装置から偏光成分が出力される前に、前記偏光依存光経路装置が、前記反射された偏光成分を少なくとも一部が空間的に一致する出力偏光成分に変換することを特徴とする、請求項１又は２に記載の光ＷＤＭ装置。
【請求項４】
前記反射器の前記偏光制御要素のいずれか１つが、前記複数の状態のうち第３の状態にあるとき、前記反射される偏光成分の少なくとも一部が前記第１の出力ポート（Ｏ１）を介して出力され、かつ前記反射される偏光成分の少なくとも一部が、前記第２の出力ポート（Ｏ２）を介して出力されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の光ＷＤＭ装置。
【請求項５】
前記複数の状態が、前記光ＷＤＭ装置が、アナログ光ＷＤＭ装置として機能するように状態の連続体を構成し、かつ、前記第１の出力ポート（Ｏ１）を介して出力される偏光成分の前記それぞれの部分、及び前記第２の出力ポート（Ｏ２）を介して出力される偏光成分の前記それぞれの部分が、前記状態の連続体から、前記反射器の前記偏光制御要素の前記状態を選択することによって制御可能に変化することができることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の光ＷＤＭ装置。
【請求項６】
前記偏光依存光経路装置が、偏光依存結合器要素を含み、前記偏光依存結合器が、前記反射光偏光成分を少なくとも一部が空間的に一致する出力偏光成分に変換し、該変換が前記偏光成分を前記出力ポートのいずれか（Ｏ１又はＯ２）から出力する前に行なわれることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の光ＷＤＭ装置。
【請求項７】
前記光ＷＤＭ装置が、さらに第２の入力ポート（Ｉ２）を含み、かつ、前記偏光依存光経路装置が、前記第１の入力ポート（Ｉ１）を介しかつ前記第２の入力ポート（Ｉ２）を介して前記光ＷＤＭ装置内へ加えられる偏光成分を受信し、かつ偏光の特定の角度を有する前記入力偏光成分を供給するために前記入力偏光成分を操作し、前記入力偏光成分が前記分散要素によって受信された前記光の前記偏光成分に相当し、かつ、前記偏光制御要素のいずれか１つが、前記複数の状態のうち第１の状態にあるとき、前記反射器の偏光制御要素での衝突の結果として反射されかつ前記第１の入力ポート（Ｉ１）を介して前記ＷＤＭ装置内へ加えられる偏光成分が、前記第１の出力ポート（Ｏ１）を介して出力され、かつ前記反射器の偏光制御要素での衝突の結果として反射されかつ前記第２の入力ポート（Ｉ２）を介して前記ＷＤＭ装置内へ加えられる偏光成分が、前記第２の出力ポート（Ｏ２）を介して出力され、かつ、前記偏光制御要素のいずれか１つが前記複数の状態のうち第２の状態にあるとき、前記反射器の偏光制御要素での衝突の結果として反射されかつ前記第１の入力ポート（Ｉ１）を介して前記ＷＤＭ装置内へ加えられる偏光成分が、前記第２の出力ポート（Ｏ２）を介して出力され、かつ前記反射器の偏光制御要素での衝突の結果として反射されかつ前記第２の入力ポート（Ｉ２）を介して前記ＷＤＭ装置内へ加えられる偏光成分が、前記第１の出力ポート（Ｏ１）を介して出力されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の光ＷＤＭ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月2日(2006.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  反射層および複数の複合レンズを表面に有する透明ポリマーフィルムを含んでなる拡散反射体であって、
前記複合レンズが、ランダムに配分されている小レンズをその面上に有する大レンズを含み、
前記反射体が、３００μｍ未満の厚さを有する拡散反射体。
【請求項２】  前記反射層が異なる屈折率を有するポリマーの層を含む請求項１記載の拡散反射体。
【請求項３】  前記反射層厚が０．５〜５００ｎｍである請求項１記載の拡散反射体。
【請求項４】  前記反射層厚が０．５〜５０ｎｍである請求項１記載の拡散反射体。
【請求項５】  前記複合レンズが、任意の方向に５〜２５０個複合レンズ／ｍｍの平均周波数を有する請求項１記載の拡散反射体。
【請求項６】  前記複合レンズが、ｘおよびｙ方向に３〜６０μｍの平均幅を有する請求項１記載の拡散反射体。
【請求項７】  前記複合レンズが大レンズおよび小レンズを含み、より小さいレンズの直径が大レンズの直径の平均８０％未満である請求項１記載の拡散反射体。
【請求項８】  前記複合レンズが複数の小レンズを含み、当該小レンズがｘおよびｙ方向に２〜２０μｍの幅を有する請求項１記載の拡散反射体。
【請求項９】  前記複合レンズが、高さ／直径比が０．０３〜１．０である請求項１記載の拡散反射体。
【請求項１０】  大レンズ１つ当たりの小レンズの数が５〜１８である、請求項１記載の拡散反射体。
【請求項１１】  光源と、反射層および複数の複合レンズを表面に有する透明ポリマーフィルムを含んでなる拡散反射体とを含んでなる液晶装置であって、前記フィルムが前記光源と前記反射層との間に配置されている液晶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月5日(2006.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光を放射する光源と、
前記光源から放射された光の光学特性を整える光学系と、
前記光学系により前記光学特性が整えられた光をエバネッセント波に変換する変換手段と、
入射した前記エバネッセント波を伝播光に変換する複数の窓部が形成され、前記光源に対して相対的に移動する遮光マスクと、
前記窓部からの前記伝播光を受光する受光部と、を有することを特徴とする光学式変位センサ。
【請求項２】  前記窓部の開口幅が前記光源から放射された光の波長よりも短いことを特徴とする請求項１に記載の光学式変位センサ。
【請求項３】  前記遮光マスクの移動は略直線移動であり、前記複数の窓部は前記略直線移動の方向に対して平行に配列されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学式変位センサ。
【請求項４】  前記遮光マスクは回転ディスクであり、前記複数の窓部は前記回転ディスクの周上に配列されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学式変位センサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の光学式変位センサは、光を放射する光源と、光源から放射された光の光学特性を整える光学系と、光学系により光学特性が整えられた光をエバネッセント波に変換する変換手段と、入射したエバネッセント波を伝播光に変換する複数の窓部が形成され、光源に対して相対的に移動する遮光マスクと、窓部からの伝播光を受光する受光部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月5日(2006.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
２はコリメーターレンズであり、光源手段１から出射された複数の光束を略平行光束に変換している。３は開口絞りであり、通過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過した複数の光束を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向面（反射面）５ａにほぼ線像として結像させている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
即ち、同図においてＹは主走査方向、Ｚは副走査方向、５０は光源手段であり、５つの発光部５１ａ〜５１ｅが直線上に配列されたモノリシックな半導体レーザアレイより成っている。図５では光源手段５０を、入射光学系の光軸に対して、発光部５１ａ〜５１ｅの間隔が副走査方向（Ｚ方向）に対して等間隔となるように角度αだけ回転させた状態を示している。