【手続補正書】
【提出日】平成18年5月24日(2006.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  以下の工程：
a)フッ素化溶剤に非晶質ポリマーを溶解し、
b)0.05〜0.5μmの範囲の平均孔サイズを有する半透過膜で前記ポリマーを含む溶液を精密ろ過し、懸濁状態の汚染物から精製したポリマー溶液の透過物を形成し、
c)b)の透過物を、10〜500kDaの範囲の平均孔サイズを有する膜で限外ろ過／ナノろ過し、溶液状態の汚染物から精製したポリマー溶液で形成される保持物を回収する
ことからなる非晶質ポリマーの精製方法。
【請求項２】  非晶質ポリマーがフッ素化溶剤に0.1〜15％w/wの濃度で溶解される請求項１に記載の精製方法。
【請求項３】  非晶質ポリマーがフッ素化溶剤に0.3〜５％w/wの濃度で溶解される請求項２に記載の精製方法。
【請求項４】  精密ろ過処理に用いられる膜の平均孔サイズが、0.1〜0.3μmの範囲である請求項１〜３のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項５】  限外ろ過／ナノろ過処理に用いられる膜の平均孔サイズが、20〜300kDaの範囲である請求項１〜４のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項６】  限外ろ過／ナノろ過処理に用いられる膜の平均孔サイズが、20〜80kDaの範囲である請求項５に記載の精製方法。
【請求項７】  精密ろ過、限外ろ過／ナノろ過処理に用いられる膜が、重合物又は無機物である請求項１〜６のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項８】  重合物タイプの膜が、平坦、管状、らせん又は中空繊維のモジュールに組み立てられた厚膜、非対称膜、複合膜である請求項７に記載の精製方法。
【請求項９】  重合物タイプの膜が、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ビニルエーテルとのTFEコポリマーベースのフルオロポリマー、又は水素化ポリマーにより形成される請求項７又は８に記載の精製方法。
【請求項１０】  無機物のタイプの膜が、セラミック又は炭素ベースである請求項７に記載の精製方法。
【請求項１１】  精製されるべき非晶質ポリマーが（パー）フルオロポリマーである請求項１〜１０のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項１２】  （パー）フルオロポリマーがジオキソールベースである請求項１１に記載の精製方法。
【請求項１３】  ジオキソールが、パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール(PDD)、パーフルオロ-2,2-フルオロ-1,3-ジオキソール(PD)、一般式(Ｉ)：
【化１】
2000034317.tif 000001
[RFは、１〜５の炭素原子を有する線状又は可能である際には分枝状のパーフルオロアルキル基であり、X1及びX2は、等しいか互いに異なってF又はCF3である]のジオキソールである請求項１２に記載の精製方法。
【請求項１４】  一般式(Ｉ)のジオキソールがRF＝CF3、X1＝X2＝Fのジオキソール(TTD)である請求項１３に記載の精製方法。
【請求項１５】  （パー）フルオロポリマーが、CF2=CFOCF2CF2CF=CF2、CFX1=CX2OCX3X4OCX2=CX1F[X1及びX2は等しいか互いに異なってF、Cl又はHであり、X3及びX4は等しいか互いに異なってF又はCF3である]のタイプの非共役ジエンが用いられる請求項１１に記載の精製方法。
【請求項１６】  非晶質ポリマーが、パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール(PDD)のホモポリマー又はTFEとのPDDコポリマー、PDD-ベースのホモポリマー又はコポリマー中の官能性モノマーを用いて得られる官能性フルオロポリマー、TTDジオキソールのホモポリマー又はTFEとのその非晶質コポリマーから選択される請求項１１〜１５のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項１７】  TFEの代わりに、又はTFEに加えて、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、ヘキサフルオロプロペン(HFP)、式CF2=CFOR'F[R'Fは、１〜３の炭素原子のパーフルオロアルキル基]のパーフルオロアルキルビニルエーテル(PAVE)、CF2=CFOR''FSO2F[R''Fは、１〜３の炭素原子のパーフルオロアルキレン基]から選択される１以上のモノマーが用いられる請求項１６に記載の精製方法。
【請求項１８】  R''FがCF2-CF2、(CF(CF3)CF2O)n[ｎは０〜３の整数]から選択される請求項１７に記載の精製方法。
【請求項１９】  工程a)の溶液の製造に使用可能な溶剤が、分子中にエーテル酸素又は他のヘテロ原子を任意に含むパーフルオル化溶剤、ことにパーフルオロオキシアルキレン構成単位を含み、パーフルオル化末端基を有し、該末端基が１以上の水素原子を任意に含むパーフルオロポリエーテルである請求項１〜１８のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項２０】  パーフルオロポリエーテル溶剤の沸点が60〜300℃である請求項１９に記載の精製方法。
【請求項２１】  パーフルオロポリエーテル溶剤の沸点が80〜160℃である請求項２０に記載の精製方法。
【請求項２２】  溶剤が、パーフルオロ(n-ブチル-テトラヒドロフラン)、パーフルオル化末端基を有するパーフルオロポリエーテル、及び少なくともパーフルオル化末端基が水素原子を含むパーフルオロポリエーテルからなる群より選択される請求項１９〜２１のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項２３】  パーフルオロポリエーテルが、鎖に沿って統計的に分布する以下：(C3F6O)、(C2F4O)、(CFXO)[XはF又はCF3に等しい]、(CR1R2CF2CF2O)[R1及びR2は、互いに等しいか又は異なり、H、F、C1-C3パーフルオロアルキル]から選択される構成単位を含む請求項２２に記載の精製方法。
【請求項２４】  パーフルオロポリエーテルが、
a1)-O(C3F6O)m'(CFXO)n'-
[(C3F6O)及び(CFXO)構成単位は、鎖に沿って統計的に分布されるパーフルオロオキシアルキレン構成単位であり、m'及びn'は、60〜300℃の沸点を有する生成物を生じるような整数であり、m'/n'は、n'が０とは異なる際に５〜40の範囲であり、XはF又はCF3に等しく、n'は０であってもよい]；
b1)-O(C2F4O)p'(CFXO)q'-(C3F6O)t'
[p'、q'及びt'は、a1)に示した沸点を有する生成物を生じるような整数であり、p'/q'は５〜0.3の範囲であり、t'は０でもあり得、q'/(q'＋p'＋t')は1/10より低いか、又は等しく、t'/p'比は0.2〜６である]；
c1)-(CR1R2CF2CF2O)n-
[R1及びR2は上記の意味を有し、nはa1)に示した沸点を有する生成物を生じるような整数である]
から選択され、末端基は、-CF3、-C2F5、-C3F7、-CF2H、-CFHCF3から選択される請求項１９〜２３のいずれか１つに記載の精製方法。
【請求項２５】  b1)において、p'/q'が2.7〜0.5の範囲である請求項２４に記載の精製方法。
【請求項２６】  光ファイバの製造のための、請求項１〜２５のいずれか１つに記載の精製方法により精製されたポリマーの、溶液それ自体として、又は後の処理で溶剤から分離しての使用。
【請求項２７】  薄膜コーティングするための請求項１〜２５のいずれか１つに記載の精製方法により精製されたポリマーの使用。
【請求項２８】  半透過膜を製造するための請求項１〜２５のいずれか１つに記載の精製方法により精製されたポリマーの使用。