Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年8月21日(2006.8.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
好ましい実施例ではキー支持部材は、ランプベース胴体とかみ合い、製造中、ランプベース胴体の中心軸に関して回転できる割型リングから成る。キー支持部材は２つ以上の不連続な位置の間を回転できる。ランプベース胴体、及びキー支持部材は、不連続な位置を定めるための相互にかみ合うラチェット部材を有する。可動キーが所望の位置にある時、キー支持部材は、例えば接着剤、熱によるかしめ、若しくは超音波溶接により、ランプベース胴体に取り付けられる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
キー支持部材４０がランプベース胴体２０にスナップ嵌めされ、もし必要ならば、所望の角度位置まで回転された後、接着剤、熱によるかしめ、超音波溶接、若しくは他の適当な部品結合技術により、キー支持部材４０はその位置に固定される。例えば、上記技術の１つにより、可動キー１４の表面６０（図５）は開口部５２に隣接するランプベース胴体２０の表面６２（図４）に結合できる。それによってランプ装置は恒久的にキー付けされ、ランプベースのキー付けに適合するキー形状を有する反射板、若しくは他のランプ固定具の中のみに設置されることができる。製造完了後、固定キーの形状を定めるために、可動キー１４は固定されたままであることは理解されるであろう。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料ガスがアノード極に、酸化剤ガスがカソード極に供給されて発電を行う燃料電池と、
前記アノード極から排出されるアノードオフガス中に含まれる水分を分離する気液分離器と、
この気液分離器に設けられ、分離された前記水分を溜める貯水部と、
前記貯水部に近接して配置されるとともに、前記燃料電池からの流体または燃料電池に導入される酸化剤ガスを通流する通路と、を備えることを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
燃料ガスがアノード極に、酸化剤ガスがカソード極に供給されて発電を行う燃料電池と、
前記アノード極から排出されるアノードオフガス中に含まれる水分を分離する気液分離器と、
この気液分離器に設けられ、分離された前記水分を溜める貯水部と、
この貯水部から延出して設けられ、溜まった前記水分を排出するドレン配管と、
このドレン配管に近接して配置されるとともに、前記燃料電池からの流体を通流する通路と、を備えることを特徴とする燃料電池システム。
【請求項３】
前記通路は、前記ドレン配管を内側に含む構造をとることを特徴とする請求項２に記載の燃料電池システム。
【請求項４】
前記流体とは、前記アノードオフガス、前記カソード極から排出されるカソードオフガス、前記燃料電池を循環して冷却する冷却媒体、のいずれかであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の燃料電池システム。
【請求項５】
前記流体は前記燃料電池を循環して冷却する冷却媒体の一部で、この冷却媒体は前記ドレン配管の周囲に沿ってドレン弁から前記気液分離器の前記貯水部に向けて流れ、その後、冷却媒体の循環する通路に戻る冷媒通路を備えることを特徴とする請求項４に記載の燃料電池システム。
【請求項６】
前記冷媒通路に供給される冷媒は前記燃料電池が冷えている起動時や氷点下の温度条件に基づいて供給されることを特徴とする請求項５に記載の燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決すべく、請求項１に記載の燃料電池システムは、燃料ガスがアノード極に、酸化剤ガスがカソード極に供給されて発電を行う燃料電池と、前記アノード極から排出されるアノードオフガス中に含まれる水分を分離する気液分離器と、この気液分離器に設けられ、分離された前記水分を溜める貯水部と、前記貯水部に近接して配置されるとともに、前記燃料電池からの流体または燃料電池に導入される酸化剤ガスを通流する通路と、を備えることを特徴とする。
係る構成により、ドレン配管等において凍結しても迅速に解凍できるので、燃料電池の低温起動時に生成水を迅速に排出することができる。なお、本発明における近接とは貯水部の氷を解凍できる熱量を与えられる程度の距離である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２に記載の燃料電池システムは、燃料ガスがアノード極に、酸化剤ガスがカソード極に供給されて発電を行う燃料電池と、前記アノード極から排出されるアノードオフガス中に含まれる水分を分離する気液分離器と、この気液分離器に設けられ、分離された前記水分を溜める貯水部と、この貯水部から延出して設けられ、溜まった前記水分を排出するドレン配管と、このドレン配管に近接して配置されるとともに、前記燃料電池からの流体を通流する通路と、を備えることを特徴とする。
係る構成により、ドレン配管等において凍結しても迅速に解凍できるので、燃料電池の低温起動時に生成水を迅速に排出することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項４に記載の燃料電池システムは、請求項１から請求項３のいずれか1項に記載の燃料電池システムにおいて、前記流体とは、前記アノードオフガス、前記カソード極から排出されるカソードオフガス、前記燃料電池を循環して冷却する冷却媒体、のいずれかであることを特徴とする。
好ましくは、前記流体は前記燃料電池を循環して冷却する冷却媒体の一部で、この冷却媒体は前記ドレン配管の周囲に沿ってドレン弁から前記気液分離器の前記貯水部に向けて流れ、その後、冷却媒体の循環する通路に戻る冷媒通路を備えることを特徴とする（請求項５）。さらに好ましくは、前記冷媒通路に供給される冷媒は前記燃料電池が冷えている起動時や氷点下の温度条件に基づいて供給されることを特徴とする（請求項６）。
係る構成により、ドレン配管等において凍結しても迅速に解凍できるので、燃料電池の低温起動時に生成水を迅速に排出することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月25日(2006.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
表面に導電性領域を有する下地と、前記下地の表面を覆う絶縁性エッチストッパ膜と、前記絶縁性エッチストッパ膜上に形成された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜表面から第１の深さで形成された配線用溝と、前記配線用溝底面から、前記層間絶縁膜の残りの厚さおよび前記絶縁性エッチストッパ膜を貫通し、前記導電性領域に達する接続用孔と、前記配線用溝および前記接続用孔を埋め込んで形成されたデュアルダマシン配線と、を有し、前記層間絶縁膜が前記配線用溝の側面および底面を包む第１種の絶縁層と、前記第１種の絶縁層よりも下に配置され、第１種の絶縁層とエッチング特性の異なる第２種の絶縁層とを含む半導体装置。
【請求項２】 
前記接続孔は、前記第１種の絶縁層内で上方に向って次第に断面積が増大する部分を有する請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】 
前記層間絶縁層が、さらに前記第２種の絶縁層の下に配置され、第２種の絶縁層とエッチング特性の異なる第３種の絶縁層を含む請求項１または２記載の半導体装置。
【請求項４】 
前記接続孔は、前記第２種の絶縁層の途中から上方に向って次第に断面積が増大する部分を有する請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】 
前記第２種の絶縁層が、前記第１種の絶縁層のエッチング時にエッチストッパとして機能し得る層であり、前記接続用孔は前記第２種の絶縁層下部から前記導電性領域表面まで実質的に同一の断面形状を有する請求項３または４記載の半導体装置。
【請求項６】 
前記第３種の絶縁層が、前記第１の深さより小さい厚さを有する請求項３〜５のいずれか１項記載の半導体装置。
【請求項７】 
前記第２種の絶縁層が前記絶縁性エッチストッパ膜上に配置されており、前記第１の深さより小さい厚さを有する請求項１または２記載の半導体装置。
【請求項８】 
表面に導電性領域を有する下地上に絶縁性エッチストッパ膜を形成する工程と、
前記絶縁性エッチストッパ膜上に、第１種の絶縁膜とその下に配置され、第１種の絶縁膜とエッチング特性の異なる第２種の絶縁膜とを含む層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の表面から、前記層間絶縁膜を貫通し、前記絶縁性エッチストッパ膜に達する接続用孔を形成する工程と、
前記接続孔内に、前記第２種の絶縁膜の表面より下の高さまで有機物の保護詰物を形成する工程と、
前記接続孔と重複させ、前記層間絶縁膜表面から第１種の絶縁膜中第１の深さまで配線用溝を形成する工程と、
前記保護詰物を除去する工程と、
前記絶縁性エッチストッパ膜を除去し、導電性領域を有する下地までの接続用孔を貫通させる工程と、
前記配線用溝および前記接続用孔を埋め込んでデュアルダマシン配線を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項９】 
表面に導電性領域を有する下地上に絶縁性エッチストッパ膜を形成する工程と、
前記絶縁性エッチストッパ膜上に、第１種の絶縁膜とその下に配置され、第１種の絶縁膜とエッチング特性の異なる第２種の絶縁膜とを含む層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の表面から、前記第１種の絶縁膜を貫通し、前記第２種の絶縁膜に達する接続用孔を形成する第１エッチング工程と、
前記接続孔と重複させ、前記層間絶縁膜表面から第１種の絶縁膜中第１の深さまで配線用溝を形成するとともに、前記接続孔下の残りの層間絶縁膜を除去する第２エッチング工程と、
前記絶縁性エッチストッパ膜を除去し、導電性領域を有する下地までの接続用孔を貫通させる工程と、
前記配線用溝および前記接続用孔を埋め込んでデュアルダマシン配線を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項１０】 
表面に導電性領域を有する下地上に絶縁性エッチストッパ膜を形成する工程と、
前記絶縁性エッチストッパ膜上に、下から第１種の絶縁膜と第２種の絶縁膜と第３種の絶縁膜とを含み、第２種の絶縁膜は、第１種および第３種の絶縁膜とエッチング特性の異なる層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間膜表面から、前記第３種絶縁膜、第２種絶縁膜、第１種絶縁膜を貫通し、前記絶縁性エッチストッパ膜に達する接続用孔を形成する第１エッチング工程と、
前記接続孔内に前記第１種の絶縁膜表面より高く、前記第２種の絶縁膜表面より低い高さまで有機物の保護詰物を形成する工程と、
前記接続孔と重複させ、前記層間絶縁膜表面から第３種の絶縁膜中第１の深さまで配線用溝を形成する第２エッチング工程と、
前記保護詰物を除去し、前記接続用孔内に前記絶縁性エッチストッパ膜を露出させる工程と、
露出した前記エッチストッパ膜をエッチングする第３エッチング工程と、
前記配線用溝および前記接続孔を埋め込んでデュアルダマシン配線を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項１１】 
表面に導電性領域を有する下地上に絶縁性エッチストッパ膜を形成する工程と、
前記絶縁性エッチストッパ膜上に、下から第１種の絶縁膜と第２種の絶縁膜と第３種の絶縁膜とを含み、第２種の絶縁膜は第１種および第３種の絶縁膜とエッチング特性の異なる層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の表面から、前記第３種の絶縁膜を貫通し、前記第２種の絶縁膜に達する接続用孔を形成する第１エッチング工程と、
前記接続孔底面に露出した第２種の絶縁膜をエッチングする第２エッチング工程と、
前記接続孔と重複させ、前記層間絶縁膜表面から第３種の絶縁膜中第１の深さで配線用溝を形成するとともに、前記接続孔下の第１種の絶縁膜をエッチングして前記エッチストッパ膜を露出する第３エッチング工程と、
露出した前記エッチストッパ膜をエッチングする第４エッチング工程と、
前記配線用溝および前記接続用孔を埋め込んでデュアルダマシン配線を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図７は急速充放電回路を有する従来の差動増幅回路を示す回路図である。同図において、交流信号源ＳＩＧ１から入力信号を受ける端子Ｐ０は、キャパシタＣ２を介して端子Ｐ１に接続される。端子Ｐ１は抵抗Ｒ２４の一端に接続される。抵抗Ｒ２４の他端はキャパシタＣ３の一方電極、抵抗Ｒ２５の一端及びバッファＢＦ１の入力に接続される。抵抗Ｒ２５の他端は抵抗Ｒ２６の一端及び基準電圧源３１の正極に接続され、抵抗Ｒ２６の他端はバッファＢＦ２の入力に接続され、キャパシタＣ３の他方電極は接地される。基準電圧源３１は正極から基準電圧ＶＲＥＦ１を付与し、負極は接地される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
入力バッファ部６におけるキャパシタＣ３とバランス抵抗Ｒ２４とによりＬＰＦ（ローパスフィルタ）が構成され、キャパシタＣ２とバランス抵抗Ｒ２４及び抵抗Ｒ２５の合成抵抗によりＨＰＦ（ハイパスフィルタ）が構成される。すなわち、上記ＬＰＦと上記ＨＰＦとの組合せによって一種のＢＰＦ（バンドパスフィルタ）となる。また、抵抗Ｒ２６は抵抗Ｒ２５によるバッファＢＦ１の入力部のバイアス電流分の誤差を補償するために設けられており、抵抗Ｒ２５の抵抗値と同値に設定される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
さらに、実施の形態２の急速充放電回路２は、バランス抵抗Ｒ３，Ｒ４によって、ＮＰＮバイポーラトランジスタＱ１，Ｑ２のうち逆状態でオン動作するバイポーラトランジスタに流れるベース電流を、ベース電流がバランス抵抗Ｒ３，Ｒ４を流れることによる電圧降下によって効果的に抑制することにより、逆状態でオン動作を行うバイポーラトランジスタに関する上述した不具合を解消することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
その結果、逆状態でオン動作するバイポーラトランジスタより大きな電流増幅率を有する、正常状態でオン動作するバイポーラトランジスタに、より多くのベース電流を供給することにより、ベース電流を有効に活用することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2002043872.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月7日(2006.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被検出物体の検出量に応じて出力する検出手段と、被検出物体の有無に基づき前記検出手段により得られる検出量を演算して複数のしきい値を求める演算手段と、前記演算手段で求めた複数のしきい値をそれぞれ設定する設定手段と、前記設定手段に設定されたしきい値のうちのひとつに切り換え選択するチャンネル選択手段と、前記チャンネル選択手段によって選択したしきい値と前記検出手段によって得られた検出量とを比較し、その比較の結果を出力する比較手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段の検出量との比である相対値を算出する相対値算出手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段によって得られた検出量および前記算出手段によって算出された前記相対値を数値として切り換え表示する表示手段と、前記表示手段の表示を検出量、前記しきい値および前記相対値のいずれか一つに切り換える表示モード切り換えスイッチと、前記表示モード切り換えスイッチにより切り換え表示した前記表示手段の前記しきい値を調整してそのしきい値に対応する前記設定手段のしきい値を再設定するしきい値調整手段を設けてなることを特徴とする検出スイッチ。
【請求項２】  被検出物体の検出量に応じて出力する検出手段と、被検出物体の有無に基づき前記検出手段により得られる検出量を演算して複数のしきい値を求める演算手段と、前記演算手段で求めた複数のしきい値をそれぞれ設定する設定手段と、前記設定手段に設定されたしきい値のうちのひとつに切り換え選択するチャンネル選択手段と、前記チャンネル選択手段によって選択したチャンネルを表示するチャンネル表示手段と、前記チャンネル選択手段によって選択したしきい値と前記検出手段によって得られた検出量とを比較し、その比較の結果を出力する比較手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段の検出量との比である相対値を算出する相対値算出手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段によって得られた検出量および前記算出手段によって算出された前記相対値を数値として切り換え表示する表示手段と、前記表示手段の表示を検出量、前記しきい値および前記相対値のいずれか一つに切り換える表示モード切り換えスイッチと、前記表示モード切り換えスイッチにより切り換え表示した前記表示手段の前記しきい値を調整してそのしきい値に対応する前記設定手段のしきい値を再設定するしきい値調整手段を設けてなることを特徴とする検出スイッチ。
【請求項３】  複数のしきい値は２つのしきい値であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の検出スイッチ。
【請求項４】  チャンネル表示手段と検出量、しきい値および相対値を切り換え表示する表示手段とは一つの表示部に設けてなる請求項２記載の検出スイッチ。
【請求項５】  表示手段に数値表示したしきい値を調整するアップ・ダウンスイッチを設けてなることを特徴とする請求項１又は請求項２又は請求項３記載の検出スイッチ。
【請求項６】  表示モード切り換えスイッチは、表示手段の表示を、検出量と相対値との間で切り換える第１の表示モード切り換えスイッチと、前記表示手段の表示を、検出量としきい値との間、または相対値との間で切り換える第２の表示モード切り換えスイッチを有する請求項１又は請求項２又は請求項３記載の検出スイッチ。
【請求項７】  設定手段は、設定時に検出手段により得られる検出量に基づいてしきい値を設定する自動設定手段を有するとともに、前記自動設定手段によってしきい値が設定されたされた際、表示手段は設定されたしきい値を表示してなる請求項１又は請求項２又は請求項３記載の検出スイッチ。
【請求項８】  被検出物体の検出量に応じて出力する検出手段と、被検出物体の有無に基づき前記検出手段により得られる検出量を演算して複数のしきい値を求める演算手段と、前記演算手段で求めた複数のしきい値をそれぞれ設定する設定手段と、前記設定手段で定められた複数のしきい値と前記検出手段によって得られた検出量とをそれぞれ比較し、各々の比較結果に対応する複数の出力を行なう比較手段と、前記設定手段に設定されたしきい値のうちのひとつに切り換え選択するチャンネル選択手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段の検出量との比である相対値を算出する相対値算出手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段によって得られた検出量および前記算出手段によって算出された前記相対値を数値として切り換え表示する表示手段と、前記表示手段の表示を検出量、前記しきい値および前記相対値のいずれか一つに切り換える表示モード切り換えスイッチと、前記表示モード切り換えスイッチにより切り換え表示した前記表示手段の前記しきい値を調整してそのしきい値に対応する前記設定手段のしきい値を再設定するしきい値調整手段を設けてなることを特徴とする検出スイッチ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、被検出物体の検出量に応じて出力する検出手段と、被検出物体の有無に基づき前記検出手段により得られる検出量を演算して複数のしきい値を求める演算手段と、前記演算手段で求めた複数のしきい値をそれぞれ設定する設定手段と、前記設定手段に設定されたしきい値のうちのひとつに切り換え選択するチャンネル選択手段と、前記チャンネル選択手段によって選択したしきい値と前記検出手段によって得られた検出量とを比較し、その比較の結果を出力する比較手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段の検出量との比である相対値を算出する相対値算出手段と、前記チャンネル選択手段によって選択した前記しきい値と前記検出手段によって得られた検出量および前記算出手段によって算出された前記相対値を数値として切り換え表示する表示手段と、前記表示手段の表示を検出量、前記しきい値および前記相対値のいずれか一つに切り替える表示モード切り替えスイッチと、前記表示モード切り替えスイッチにより切り替え表示した前記表示手段の前記しきい値を調整してそのしきい値に対応する前記設定手段のしきい値を再設定するしきい値調整手段を設けてなることを主な特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カロチノイド又はレチノイドと、イソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油とを含有することを特徴とする皮膚外用剤。
【請求項２】
カロチノイド又はレチノイドを安定に含有するものである請求項第１項記載の皮膚外用剤。
【請求項３】
皮膚老化防止作用を有するものである請求項第１項記載の皮膚外用剤。
【請求項４】
イソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油において、その酸化エチレン付加モル数が４０〜６０である請求項第１項乃至第３項のいずれかに記載の皮膚外用剤。
【請求項５】
カロチノイド又はレチノイドが、アスタキサンチン、リコピン、β―カロチン、ゼアキサンチン、ルテイン、カンタキサンチン、クリプトキサンチン、ビオラキサンチン、カプサンチン、フコキサンチン、レチノール、パルミチン酸レチノール、酢酸レチノール、デヒドロレチナール及びそれらの誘導体の１種または２種以上から選ばれたものである請求項第１項乃至第４項のいずれかに記載の皮膚外用剤。
【請求項６】
カロチノイド又はレチノイドが、アスタキサンチン及びその誘導体である請求項第１項乃至第５項のいずれかに記載の皮膚外用剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月19日(2006.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量％で、Ｃ：０．０１５〜０．１８％、Ｓｉ：１％以下、Ｍｎ：０．３〜２．５％、Ｐ：０．０５％以下、Ｓ：０．００７％以下 、Ａｌ：０．００２〜０．０２％、Ｔｉ：０．００３〜０．０２％、Ｎ：０．００１〜０．００８％を含有し、残部がＦｅ及び不純物からなり、さらに下記式（１）および（２）を満足していることを特徴とする溶接熱影響部特性に優れた鋼材。
【数１】
2000345287.tif 000001
Ｏ（酸素）／Ａｌ≦０．８９  ・・・・・（２）
ここで、ｔ＝板厚（ｍｍ）
Ｐcm＝C+Si/30+Mn/20+Cu/20+Ni/60+Cr/20+Mo/15+V/10+5B
各式中の元素記号は元素の含有量（重量％）を示す。
【請求項２】
重量％で、Ｆｅの一部に代えて、さらに、Ｚｒ：０．０２％以下、Ｃｒ：１．５％以下、Ｂ：０．００２％以下、Ｃａ：０．０１％以下、Ｃｕ：１．５％以下、Ｎｉ：４％以下、Ｎｂ：０．１％以下、Ｖ：０．１５％以下及びＭｏ：０．５％以下のうちの１種又は２種以上を含有することを特徴とする、請求項１に記載の鋼材。
【請求項３】
請求項１又は２記載の化学組成を有する鋳片を連続鋳造法にて鋳造するに際して、下記の（ａ）および（ｂ）のうちの一方、または双方の操作を加えて鋳造し、しかる後に熱間圧延することを特徴とする溶接熱影響部特性に優れた鋼材の製造方法。
（ａ）鋳型から引き抜かれた鋳片にバルジングを生じさせ、鋳片の凝固完了前にバルジング量相当の圧下を加える。
（ｂ）鋳型から引き抜いた鋳片の未凝固部を、電磁撹拌装置を用いて撹拌する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の要旨は、下記の（１）〜（３）に示す通りである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（１）重量％で、Ｃ：０．０１５〜０．１８％、Ｓｉ：１％以下、Ｍｎ：０．３〜２．５％、Ｐ：０．０５％以下、Ｓ：０．００７％以下 、Ａｌ：０．００２〜０．０２％、Ｔｉ：０．００３〜０．０２％、Ｎ：０．００１〜０．００８％を含有し、残部がＦｅ及び不純物からなり、さらに下記式（１）および（２）を満足していることを特徴とする溶接熱影響部特性に優れた鋼材。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【数１】
2000345287.tif 000002
Ｏ（酸素）／Ａｌ≦０．８９  ・・・・・ （２）
ここで、ｔ＝板厚（ｍｍ）
Ｐcm＝C+Si/30+Mn/20+Cu/20+Ni/60+Cr/20+Mo/15+V/10+5B
各式中の元素記号は元素の含有量（重量％）を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
重量％で、Ｆｅの一部に代えて、さらに、Ｚｒ：０．０２％以下、Ｃｒ：１．５％以下、Ｂ：０．００２％以下、Ｃａ：０．０１％以下、Ｃｕ：１．５％以下、Ｎｉ：４％以下、Ｎｂ：０．１％以下、Ｖ：０．１５％以下及びＭｏ：０．５％以下のうちの１種又は２種以上を含有することを特徴とする、上記（１）に記載の鋼材。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（３）上記（１）又は（２）に記載の化学組成を有する鋳片を連続鋳造法にて鋳造するに際して、下記の（ａ）および（ｂ）のうちの一方、または双方の操作を加えて鋳造し、しかる後に熱間圧延する溶接熱影響部特性に優れた鋼材の製造方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
【数２】
2000345287.tif 000003
である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
Ｂ
Ｂは、焼入れ性を向上させる元素で、含有させる場合は、０．０００２％以上とするのが好ましく、０．００２％を超えると靱性の劣化をもたらす。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
Ｃａ
Ｃａは、硫化物系介在物の形態を制御して耐ＨＩＣ性、耐ＳＳＣ性を改善する作用を有している。このような効果を得るために含有量は、０．００１％以上とするのが好ましい。しかし、０．０１％を超えると、過剰のＣａ酸化物の凝集体
を形成して、逆に耐ＨＩＣ性および耐ＳＳＣ性が損なわれるようになる。望ましくは、０．００５％以下である。また、Ｃａをこの範囲内で含有していたとしても、鋼が多量のＳを含んでいる場合には、過剰のＳがＭｎＳを形成し、またＣａ硫化物自体が凝集体を形成して、耐ＨＩＣ性および耐ＳＳＣ性を損なう。したがって、Ｃａを積極的に含有させる場合には、Ｓ含有量は０．００２％以下とする必要がある。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
Ｃｕ
Ｃｕは必要により含有させる元素で、強度および耐食性をより向上させる場合に含有させる。特に、ｐＨの高い環境では鋼中への水素侵入を抑制して母材およびＨＡＺ部の耐ＨＩＣ性および耐ＳＳＣ性を向上させる。このような耐食性向上効果は、Ｓ含有量が０．００５％程度の比較的高い場合でも得ることができるが、０．００２％以下とすることで耐食性はさらに高まる。一方、強度向上に利用する場合、０．５％以下でも効果があるが、それ以上含有させると、焼入れ−焼戻し処理をおこなった場合にＣｕ時効効果が得られ、一層強度が高まる。しかし、１．５％を超えて含有させても、コスト上昇に見合った性能の改善が見られない。
Ｎｉ
Ｎｉは固溶状態において鋼のマトリックス（生地）の靭性を高める効果があるので、より優れた靭性を安定して得る必要がある場合に含有させるのがよい。含有量を０．０５％以上とすると焼入性向上効果も得られるので、０．０５％以上とすることが望ましい。特に、Ｃｕを添加する場合は圧延時のひび割れ（Ｃｕチェッキング）を防止するために、０．１％以上のＮｉを含有させる必要がある。しかし、４％を超えると合金コストの上昇に見合った特性の向上が得られないので、上限は４％とするのがよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
【実施例】
表１に示す１７種の化学組成の鋼を溶製し、連続鋳造設備による鋳片または真空溶解炉による１５０ｋｇインゴットとした。鋳片の寸法は、厚さ２００ｍｍ、長さ２０００ｍｍで、インゴットは真空溶解炉で溶解して１５０ｋｇインゴットとした。連続鋳造では、表２に示すように、鋳型から引き抜かれた後鋳片内部が凝固する前に鋳片をバルジングさせて圧下および／または電磁撹拌をおこなった。バルジングさせた場合の圧下は一対のロールによりおこなった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
【表１】
2000345286.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【表２】
2000345286.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【表３】
2000345286.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
鋼番号２〜９は、本発明例の鋼である。鋼番号１０〜１８の鋼は、本発明の鋼に対応する比較例であり、主要な強化元素の含有量は同一であるが、Ａｌ、ＴｉおよびＯ（酸素）の含有量が異なっており、本発明で規定する範囲外になっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
鋼板番号３ａおよび７ａ、８ａおよび９ａは、本発明の方法により製造されたものである。これに対して、鋼板番号４ａ、５ａおよび６ａは１５０ｋｇインゴットから鋼板にしたものであり、インゴットのサイズが比較的小さくＭｎ、Ｓの偏析が小さいため母材特性は良好である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
【表４】
2000345286.tif 000004
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
鋼板２a〜９aは、本発明例の鋼板であるが、いずれの溶接方法にて溶接した場合でも優れたＨＡＺ靱性を示す。これに対し、比較例の１０a〜１８aの鋼板のＨＡＺ靱性は、軒並み好ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月21日(2006.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
次に、引戸障子を閉鎖状態にまで移動し、気密保持を図るべく、この引戸障子を屋内側に平行移動させる際の作用に就いて説明する。この場合には、施錠操作に伴って上記引戸障子に、屋内側（図５〜８の右側）に向く強い力が加わる。この力によってこの引戸障子の下辺を構成する前記下框１５が、図７〜８に示す様に、上記戸車４を傾斜させつつ屋内側に平行移動する。この状態ではこの戸車４が、その下端部である、上記凹溝２６と上記下部案内レール２５との係合部を支点として、その上端部を屋内側に変位させる方向に揺動する。そして、上記戸車４をその中間部に支持した上記枢軸２２が、その屋外側端部の上面と屋外側の長孔２１の上端部との当接部を支点として、その屋内側端部を屋内側の長孔２１の下方に移動させる方向に揺動する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月8日(2006.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  車体フレーム（Ｆ）に揺動可能に支承されるパワーユニット（Ｐ）の上部に、エアクリーナ（８２）のクリーナケース（８４）が取付けられ、クリーナケース（８４）内に外部から空気を導入すべくクリーナケース（８４）から下方に延びる吸入ダクト（９３）の下端が、前記パワーユニット（Ｐ）の後方側で開口される自動二輪車において、前記吸入ダクト（９３）は、前記クリーナケース（８４）内に上端を通じさせる小径管（９４）と、該小径管（９４）よりも大径に形成されて小径管（９４）の下端に上端を通じさせる大径管（９５）とで構成され、前記大径管（９５）の後部開放端から前記小径管（９４）の下部開口端までの距離（Ｌ１）が、前記大径管（９５）の下部開放端において前記後部を除く部位から前記小径管（９４）の下部開口端までの距離（Ｌ２）よりも短く設定されることを特徴とする自動二輪車におけるエアクリーナの吸気構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
図７において、エアクリーナ８２の後方側下部には、第１未浄化室９１に外部から空気を導入するための吸入ダクト９３が設けられる。この吸入ダクト９３は、後上がりに傾斜して第１未浄化室内９１内に配置されるとともに下端部が第１ケース部材８５における大ケース部８５ａに支持される小径管９４と、該小径管９４よりも大径にして前記大ケース部８５ａに一体に形成される大径管９５とから成るものであり、小径管９４の下端は大径管９５の上端に開口され、大径管９５の下端はパワーユニットＰの後方で下方に向けて開口している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
一方のリンク１２４1 において、揺動支軸１３１およびボルト１３４の中心を結ぶ直線よりも前方側にはボックス状のラバー支持部１３５が設けられ、このラバー支持部１３５に装着されるストッパラバー１２６を当接させる当接面１３６が、後部フレーム１２の下面に形成される。また前記リンク１２４1 において、揺動支軸１３１およびボルト１３４の中心を結ぶ直線よりも後方側にはボックス状のラバー支持部１３７が設けられ、このラバー支持部１３７に装着されるストッパラバー１２７を当接させる当接面１３８が、後部フレーム１２の下面に形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月28日(2006.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、本発明によれば、ナノ結晶性金属酸化物の電気泳動析出のための溶液の調製法によって解決されるが、この方法は、３５〜６５容量％の金属酸化物及び分散剤を含有する溶剤含有濃厚液を混練機中で混練し、調製の後に該濃厚液をエタノール及び／又はブタノールで２〜２５容量％の金属酸化物含量になるまで希釈することによって特徴付けられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
分散剤としては、殊にトリオキサデカン酸（ＴＯＤＳ）が適している。これは濃厚液の固体分を有利に０.５〜１０質量％、殊に３〜５質量％と一緒に使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月24日(2006.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  前記隣接する部分の周囲に設けられた伝熱部材をさらに備え、
前記冷却手段は前記伝熱部材に接触するように設けられている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のＣＶＤ装置用気化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】  前記高分子膜はポリテトラフルオロエチレン膜とポリイミド膜との少なくともいずれか一方を含む、請求項１２に記載のＣＶＤ装置用気化装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月8日(2006.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、
前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、
前記部品の表面には、プラズマエッチング処理が施されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】  真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、
前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、
前記部品は、前記載置台であり、
前記載置台の材料は、アモルファスカーボンであり、
前記表面粗さは３．０〜１０．０μｍの範囲内であることを特徴とする成膜装置。
【請求項３】  真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、
前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、
前記部品は、前記載置台の周囲を囲むようにして設けられたシールドリングであり、
前記シールドリングの材料は、アモルファスカーボンであり、
前記表面粗さは３．０〜１０．０μｍの範囲内であることを特徴とする成膜装置。
【請求項４】  真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、
前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、
前記部品は、前記載置台、前記載置台の周囲を囲むようにして設けられたシールドリング、或いは前記載置台に対向させて設けられたシャワーヘッド部のいずれかであり、
前記部品はＡｌよりなり、その表面粗さは０．７〜２．４μｍの範囲内であることを特徴とする成膜装置。
【請求項５】  前記部品が標準的に用いられていた時の表面粗さＲａは、０．４μｍであることを特徴とする請求項４記載の成膜装置。
【請求項６】  前記部品の表面粗さを、その部品が標準的に用いられていた時の表面粗さの１．７６〜５．８８倍の範囲内の値に設定したことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の成膜装置。
【請求項７】  前記部品が標準的に用いられていた時の表面粗さの大きさは、前記部品の表面からパーティクルが発生することを抑制する観点、或いは高真空度を維持する観点、或いは製造コストが低減する観点から設定される表面粗さの大きさであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の成膜装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に規定する発明は、真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、前記部品の表面には、プラズマエッチング処理が施されていることを特徴とする成膜装置である。
このように表面粗さを大きくすることにより、単位面積当たりの不要な膜の成膜量が少なくなって、クリーニング時にその部分の発熱量が少なくなり、或いは表面温度が低くなり、この結果、耐腐食性を向上させることが可能となる。
このような部品は、例えば載置台やシールドリングやシャワーヘッド部である。
請求項２に係る発明は、真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、前記部品は、前記載置台であり、前記載置台の材料は、アモルファスカーボンであり、前記表面粗さは３．０〜１０．０μｍの範囲内であることを特徴とする成膜装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項３に係る発明は、真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、前記部品は、前記載置台の周囲を囲むようにして設けられたシールドリングであり、前記シールドリングの材料は、アモルファスカーボンであり、前記表面粗さは３．０〜１０．０μｍの範囲内であることを特徴とする成膜装置である。
請求項４に係る発明は、真空引き可能になされた収納容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記収納容器内に成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、前記収納容器内に設けた部品の表面粗さを、この部品が標準的に用いられていた時の表面粗さよりも大きく設定し、前記部品は、前記載置台、前記載置台の周囲を囲むようにして設けられたシールドリング、或いは前記載置台に対向させて設けられたシャワーヘッド部のいずれかであり、前記部品はＡｌよりなり、その表面粗さは０．７〜２．４μｍの範囲内であることを特徴とする成膜装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月7日(2006.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】下記の一般式（１）で表される化合物(Ｉ)と、下記の一般式（２）で表される化合物(ＩＩ)と、光学活性な部位を有する低分子化合物とで構成され、化合物(Ｉ)：化合物(ＩＩ)の重量比が９９：１〜５０：５０の範囲にあり、前記の低分子化合物の含有量が化合物(Ｉ)と化合物(ＩＩ)の合計量１００重量部当り、０．０１〜６０重量部の範囲にある液晶性組成物。
【化１】
2000345160.tif 000001
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ１，Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素又はメチル基を示し、Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基及びニトロ基からなる群から選ばれる一つを示し、ａ，ｂ，ｃはそれぞれ２〜１２の整数を示す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明に係る液晶性組成物は、下記の一般式（１）で表される化合物(Ｉ)と、下記の一般式（２）で表される化合物(ＩＩ)と、光学活性な部位を有する低分子化合物とで構成され、化合物(Ｉ)：化合物(ＩＩ)の重量比が９９：１〜５０：５０の範囲にあり、前記の低分子化合物の含有量が化合物(Ｉ)と化合物(ＩＩ)の合計量１００重量部当り、０．１〜６０重量部の範囲にある。
【化５】
2000345160.tif 000002
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ１，Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素又はメチル基を示し、Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基及びニトロ基からなる群から選ばれる一つを示し、ａ，ｂ，ｃはそれぞれ２〜１２の整数を示す。）
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  研磨材として酸化チタニウム微粒子を含むことを特徴とするガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項２】  さらにマグネシウム化合物の少なくとも１種以上を含有することを特徴とする請求項１記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項３】  マグネシウム化合物が、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウムから選ばれる少なくとも１種以上であることを特徴とする請求項２記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項４】  酸化チタニウム微粒子の二次粒子の平均粒子径が０．１〜１．０μｍであることを特徴とする請求項１または２記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項５】  酸化チタニウム微粒子に対するマグネシウム化合物中のマグネシウムが０．１〜６０wt.％である請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれか１項に記載の粒子を分散媒に分散させてスラリーとしたガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項７】  ガラスが磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項８】  酸化セリウム、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素の少なくとも１種を主成分とする研磨材あるいはこれらを少なくとも１種を含有する固定砥粒により研磨されたガラスを、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラス研磨用研磨材組成物を用いて研磨を行うことを特徴とするガラスの研磨方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月18日(2006.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  カーボンブラックを次亜ハロゲン酸および／またはその塩を用いて湿式酸化して得られる表面改質カーボンブラックを含有し、そのハロゲンイオン濃度が５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする水性顔料分散液。
【請求項２】  前記表面改質カーボンブラックの含有量が水性顔料分散液全量に対して、１〜３０重量％である請求項１記載の水性顔料分散液。
【請求項３】  前記表面改質カーボンブラックの平均粒子径が３００ｎｍ以下である請求項１記載の水性顔料分散液。
【請求項４】  カーボンブラックを水中に微分散する工程；該カーボンブラックを次亜ハロゲン酸および／またはその塩を用いて酸化する工程；及び、酸化する工程において発生したハロゲンイオンを５００ｐｐｍ以下まで除去する工程；を包含する水性顔料分散液の製造方法。
【請求項５】  前記酸化する工程において、発生したハロゲンイオンを５００ｐｐｍ以下まで除去する工程が、逆浸透膜や限外濾過膜を分離膜として用い、表面改質カーボンブラックを通過させない分離膜を隔てて、表面改質カーボンブラックに脱イオン水を流通させて水洗する方法で、発生したハロゲンイオンを５００ｐｐｍ以下まで除去する工程である請求項４記載の水性顔料分散液の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  さらに（Ｃ）成分として、金属石鹸または高級脂肪酸アミド類を添加配合してなる請求項１に記載の防振性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】  （Ｂ）成分の平均粒径が０．０１〜３００μｍの範囲内にある請求項１に記載の防振性組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  （Ｂ）成分がシリコーンレジン微粉末である請求項１に記載の防振性組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】  （Ｂ）成分が２種類以上の異なる固体微粉末の混合物である請求項１に記載の防振性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月11日(2006.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  針布を備えた回転体が相手側表面、たとえばカバー部材及び／又は針布を備えたフラットと協働し、少なくとも１つの固定配置のセンサが設けられ、かつ相手側部材には回転体の針布と相手側部材との間の半径方向の距離を変化させることができる調節手段が付設されている、カード、クリアラなどの紡績準備機械に設けられる対向表面間の距離を測定するための装置において、
センサ（１９、１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）が回転体（４）の針布（４ａ）に対向し、且つ相手側部材（２７’、２７”）に付設されており、かつ回転体の針布（４ａ）に対する距離（ａ）が検出可能であることを特徴とする装置。
【請求項２】  センサ（１９；１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）は、センサの測定面（１９’、１９”、１９’”）と回転体の針布（４ａ）の先端（２９）との間の距離（ａ）を検出することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】  センサ（１９、１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）は、相手側表面と回転体の針布の先端（２９）との間の距離（ｂ）を検出することを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】  センサ（１９；１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）の信号が、制御調節装置（３４）の入力量として、相手側部材（１７、１７”）と回転体の針布（４ａ）との間の距離制御（３５）に使用されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】  回転体の針布（４ａ）と相手側部材（２７’、２７”）との間の半径方向の距離（ａ）は、それぞれ相手側部材（２７’、２７”）と機械の固定配置の土台面（２５）との間に配置されたフレキシブルな載置層（２６）の位置及び／又は形状によって調節可能であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】  相手側部材が、シリンダカバー部材であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】  シリンダカバー部材が、押出し成形されたアルミニウムプロフィール材であることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】  相手側部材（２７’、２７”）のシリンダ（４）へ向いた面が、カード針布（２４ｂ）を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】  センサ（１９；１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）は、回転体の針布（４ａ）の損耗を検出することができることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】  センサ（１９；１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）は、熱膨張による相手側部材（１７’、１７”）の変位を検出することができることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】  センサ（１９；１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）は、回転体（４）の熱膨張及び／又は遠心力による回転体の針布（４ａ）の変位を検出することができることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】  電子的な制御調節装置（３４）に、センサ（１９；１９ａ、１９ｂ、１９ｃ）と調節手段（２５）が接続されていることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】  電子的な制御調節装置（３４）は、距離（ａ及び／又はｂ）の目標値を格納するメモリを有することを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】  目標値を上回った場合に、切換えプロセス、表示などが作動されることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】  距離（ａ及び／又はｂ）を調節する調節装置が、手動入力、たとえば押圧キーによって操作されることを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】  作業距離（ｂ）の変化と相関関係にある少なくとも１つのパラメータ、たとえば温度が、作業距離（ｂ）に関係する測定値を発生させるために測定されることを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】  予め定められた値における作業距離（ｂ）を維持するために、フラット針布（２４ｂ）の位置が、測定値に従って再調節されることを特徴とする請求項１から１６のいずれか１項に記載の装置。