Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
白色光源と、
該白色光源から放射される可視光束を赤、緑及び青の３色の光束に分光する分光手段と、
入力された映像信号の振幅により前記３色の光束の光強度を変調する手段を有する画素をマトリックス状に配置した赤色表示素子、緑色表示素子及び青色表示素子と、
該赤色、緑色及び青色表示素子において各々変調された前記三色の光束を合成する光合成手段と、
前記合成手段により合成された合成光をスクリーン上に拡大投影する投写レンズと、
少なくとも前記赤色表示素子と前記緑色表示素子の何れか一方と前記白色光源の間に配置した、前記分光手段との組合せにより所定波長領域の光束成分を選択的に反射する第１の反射手段と、
前記緑色表示素子と前記白色光源の間に配置した緑色光成分の所定量を反射する第２の反射手段と、
前記緑色表示素子と前記第２の反射手段の間に配置した光学位相差補償手段を有することを特徴とする投写型表示装置。
【請求項２】
白色光源と、
該白色光源から放射される可視光束を赤、緑及び青の３色の光束に分光する分光手段と、
入力された映像信号の振幅により前記３色の光束の光強度を変調する手段を有する画素をマトリックス状に配置した赤色表示素子、緑色表示素子及び青色表示素子と、該赤色、緑色及び青色表示素子において各々変調された前記三色の光束を合成する光合成手段と、
光路折返しミラーと、
スクリーンと、前記光合成手段により合成された合成光を前記光路折返しミラーを介してスクリーン上に拡大投影する前記投写レンズと、
少なくとも前記赤色表示素子と前記緑色表示素子の何れか一方と前記白色光源の間に配置した、前記分光手段との組合せにより所定波長領域の光束成分を選択的に反射する第１の反射手段と、
前記緑色表示素子と前記白色光源の間に配置した緑色光成分の所定量を反射する第２の反射手段と、
前記緑色表示素子と前記第２の反射手段の間に配置した光学位相差補償手段を有することを特徴とする投写型表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の投射型表示装置において、
前記所定波長領域は、２７５ｎｍ以上で２８５ｎｍ以下の波長の黄色光領域を含むことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の投射型表示装置において、
前記白色光源として、赤色光領域の光エネルギーが緑色光、青色光領域の光エネルギーに対して少ないことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の投射型表示装置において、
前記白色光源は、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハロイドランプの何れか１つであることを特徴とする投写型表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の投射型表示装置において、
前記第２の反射手段における５４５ｎｍ近傍の反射率が３５％以上であることを特徴とする投写型表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の投射型表示装置において、
前記白色光源と前記分光手段の間に配設された光学部品であって、半値波長が略４３０ｎｍの反射型ＵＶカットフィルタを複数箇所設けた光学部品と、
前記青色表示素子と前記分光手段の間に半値波長が略４３０ｎｍの吸収型ＵＶカットフィルタを有することを特徴とする投写型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月30日(2006.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記画素および前記走査線駆動回路は前記基板上に一体形成されており、
前記画素はチャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体であるＴＦＴを有し、
前記走査線駆動回路はレベルシフタと、第１の電源端子と、第２の電源端子とを有し、
前記レベルシフタは、チャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体である第１のＴＦＴおよび第２のＴＦＴと、容量素子とを有し、
前記第１のＴＦＴのゲートは前記第１の電源端子に接続され、前記第１のＴＦＴのソースには信号が入力され、
前記第２のＴＦＴのゲートは前記第１のＴＦＴのドレインに接続され、前記第２のＴＦＴのドレインは前記第２の電源端子に接続され、
前記容量素子の一方の端子は前記第２のＴＦＴのゲートに接続され、前記容量素子の他方の端子は前記第２のＴＦＴのソースに接続され、
前記第１の電源端子の電位は前記第２の電源端子の電位より低いことを特徴とした表示装置。
【請求項２】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記画素および前記走査線駆動回路は前記基板上に一体形成されており、
前記画素はチャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体であるＴＦＴを有し、
前記走査線駆動回路はシフトレジスタと、レベルシフタと、第１の電源端子と、第２の電源端子とを有し、
前記シフトレジスタは前記第１の電源端子に接続され、
前記レベルシフタは、チャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体である第１のＴＦＴおよび第２のＴＦＴと、容量素子とを有し、
前記第１のＴＦＴのゲートは前記第１の電源端子に接続され、前記第１のＴＦＴのソースには信号が入力され、
前記第２のＴＦＴのゲートは前記第１のＴＦＴのドレインに接続され、前記第２のＴＦＴのドレインは前記第２の電源端子に接続され、
前記容量素子の一方の端子は前記第２のＴＦＴのゲートに接続され、前記容量素子の他方の端子は前記第２のＴＦＴのソースに接続され、
前記第１の電源端子の電位は前記第２の電源端子の電位より低いことを特徴とした表示装置。
【請求項３】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記画素および前記走査線駆動回路は前記基板上に一体形成されており、
前記画素はチャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体であるＴＦＴを有し、
前記走査線駆動回路はレベルシフタと、第１の電源端子と、第２の電源端子と、第３の電源端子とを有し、
前記レベルシフタは、チャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体である第１のＴＦＴ、第２のＴＦＴおよび第３のＴＦＴと、容量素子とを有し、
前記第１のＴＦＴのゲートは前記第１の電源端子に接続され、前記第１のＴＦＴのソースには信号が入力され、
前記第２のＴＦＴのゲートは前記第１のＴＦＴのドレインに接続され、前記第２のＴＦＴのドレインは前記第２の電源端子に接続され、
前記第３のＴＦＴのゲートには第２の信号が入力され、前記第３のＴＦＴのドレインは前記第２のＴＦＴのソースに接続され、前記第３のＴＦＴのソースは前記第３の電源端子に接続され、
前記容量素子の一方の端子は前記第２のＴＦＴのゲートに接続され、前記容量素子の他方の端子は前記第２のＴＦＴのソースに接続され、
前記第１の電源端子の電位は前記第２の電源端子の電位より低いことを特徴とした表示装置。
【請求項４】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記画素および前記走査線駆動回路は前記基板上に一体形成されており、
前記画素はチャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体であるＴＦＴを有し、
前記走査線駆動回路はシフトレジスタと、レベルシフタと、第１の電源端子と、第２の電源端子と、第３の電源端子とを有し、
前記シフトレジスタは前記第１の電源端子に接続され、
前記レベルシフタは、チャネル部を形成する半導体がセミアモルファス半導体である第１のＴＦＴ、第２のＴＦＴおよび第３のＴＦＴと、容量素子とを有し、
前記第１のＴＦＴのゲートは前記第１の電源端子に接続され、前記第１のＴＦＴのソースには信号が入力され、
前記第２のＴＦＴのゲートは前記第１のＴＦＴのドレインに接続され、前記第２のＴＦＴのドレインは前記第２の電源端子に接続され、
前記第３のＴＦＴのゲートには第２の信号が入力され、前記第３のＴＦＴのドレインは前記第２のＴＦＴのソースに接続され、前記第３のＴＦＴのソースは前記第３の電源端子に接続され、
前記容量素子の一方の端子は前記第２のＴＦＴのゲートに接続され、前記容量素子の他方の端子は前記第２のＴＦＴのソースに接続され、
前記第１の電源端子の電位は前記第２の電源端子の電位より低いことを特徴とした表示装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載の表示装置において、前記画素のＴＦＴおよび前記走査線駆動回路の第１および第２のＴＦＴはいずれもＮ型であることを特徴とした表示装置。
【請求項６】
請求項３または請求項４に記載の表示装置において、前記画素のＴＦＴおよび前記走査線駆動回路の第１乃至第３のＴＦＴはいずれもＮ型であることを特徴とした表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の表示装置において、前記表示装置は液晶表示装置であることを特徴とした表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の表示装置において、前記表示装置は自発光表示装置であることを特徴とした表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置において、前記表示装置はＥＬ材料を用いた表示装置であることを特徴とした表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の表示装置を備える電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月19日(2006.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記走査線駆動回路は、各走査線ごとに駆動の有無を記憶するラッチ回路と、走査線を駆動するバッファ回路を有し、前記ラッチ回路によって、前記バッファ回路を制御する手段を有することを特徴とした表示装置。
【請求項２】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記走査線駆動回路はシフトレジスタと、第１のスイッチ回路と、第２のスイッチ回路と、ラッチ回路と、バッファ回路を有し、
前記第１のスイッチ回路は第１の切り換え信号によって制御され、前記シフトレジスタの出力を前記ラッチ回路または第２のスイッチ回路に出力し、
前記第２のスイッチ回路は前記ラッチ回路の出力によって制御され、前記第１のスイッチ回路の出力または接地電位を前記バッファ回路のインバータに出力し、
前記ラッチ回路はラッチパルスによって制御され、前記第１のスイッチ回路の出力を記憶することを特徴とした表示装置。
【請求項３】
基板上に複数の走査線と、複数の画素と、走査線駆動回路を有する表示装置において、
前記走査線駆動回路は、シフトレジスタと、各走査線ごとに、駆動の有無を記憶するラッチ回路と、第１のスイッチ回路と、第２のスイッチ回路と、走査線を駆動するバッファ回路を有し、
前記第１のスイッチ回路は第１の切り換え信号によって制御され、前記シフトレジスタの出力を前記ラッチ回路または第２のスイッチ回路に出力し、
前記第２のスイッチ回路は前記ラッチ回路の出力によって制御され、前記第１のスイッチ回路の出力または接地電位を前記バッファ回路のインバータに出力し、
前記ラッチ回路はラッチパルスによって制御され、前記第１のスイッチ回路の出力を記憶することを特徴とした表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の表示装置において、前記表示装置は、セミアモルファスＴＦＴによって、画素部と走査線駆動回路を基板上に一体形成していることを特徴とした表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の表示装置において、セミアモルファスＴＦＴは相補型ＴＦＴであることを特徴とした表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の表示装置において、前記表示装置は液晶表示装置であることを特徴とした表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の表示装置において、前記表示装置は自発光表示装置であることを特徴とした表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の表示装置において、前記表示装置はＥＬ材料を用いた表示装置であることを特徴とした表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の表示装置を備える電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月29日(2006.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から第１検査信号を受信する検査ラインと、下部基板に形成され前記検査ラインを通じて提供される前記第１検査信号に応答して第２検査信号を出力する駆動部と、前記第２検査信号に応答して駆動する画素部とを含む下部基板と、
前記下部基板と結合する上部基板と、
を含むことを特徴とする表示パネル用基板。
【請求項２】
前記検査ラインは、
互いに所定の間隔に離隔した多数の入力ラインと、
前記入力ラインを電気的に連結する連結ラインと、で構成されることを特徴とする請求項１記載の表示パネル用基板。
【請求項３】
前記下部基板の端部には前記入力ラインの端部が配置され、前記入力ラインの端部の間に電気的に連結された連結ラインが前記下部基板のエッジに配置されることを特徴とする請求項２記載の表示パネル用基板。
【請求項４】
前記下部基板は部分的にグラインドされ、前記下部基板がグラインドされる時、前記エッジ部に配置される前記入力ラインの端部と前記連結ラインの端部は除去されることを特徴とする請求項３記載の表示パネル用基板。
【請求項５】
前記複数の入力ラインは開始信号入力ラインと、クロック入力ラインと、駆動電圧入力ラインと、を含むことを特徴とする請求項２記載の表示パネル用基板。
【請求項６】
前記駆動電圧入力ラインは前記開始信号入力ラインとクロック入力ラインより大きい幅を有することを特徴とする請求項５記載の表示パネル用基板。
【請求項７】
前記駆動電圧入力ラインは外部から前記第１検査信号を受信し、受信された前記第１検査信号を前記検査ラインに提供することを特徴とする請求項６記載の表示パネル用基板。
【請求項８】
前記下部基板と上部基板との間に介在される液晶層をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示パネル用基板。
【請求項９】
外部から第１検査信号を受信する検査ラインと、下部基板に形成され前記検査ラインから提供される前記第１検査信号に応答して第２検査信号を出力する駆動部と、前記第２検査信号に応答して駆動する画素部とを含む下部基板及び、前記下部基板と結合する上部基板で構成される表示パネル用基板を製造する段階と、
前記検査ラインに前記第１検査信号を提供して前記駆動部及び画素部を検査する段階と、
前記検査ラインと前記入力ラインとを絶縁させて表示パネルを完成する段階と、
を含むことを特徴とする表示パネル製造方法。
【請求項１０】
前記表示パネル用基板を製造する段階以前には、
前記検査ラインから延長された検査パッド部を具備する下部基板用母基板を製造する段階と、
前記検査パッド部に前記第１検査信号を提供して前記下部基板用母基板を検査する段階と、
上部基板用母基板を製造する段階と、
前記下部基板用母基板と前記上部基板用母基板とを結合する段階と、
結合された基板を表示パネル単位で切断して前記表示パネル用基板を完成する段階と、
を含むことを特徴とする請求項９記載の表示パネル製造方法。
【請求項１１】
前記表示パネル用基板の端部をグラインディング処理することで前記検査ラインをとり除くことを特徴とする請求項９記載の表示パネル製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピーク出力が２．２ＭＷ以上のレーザ光をビームエクスパンダーにより拡大するとともに平行光線化し、前記拡大平行光線化されたレーザ光を集光レンズにより集光し、さらに、前記集光されたレーザ光の焦点位置近傍に設置した非線形光学材料により前記集光されたレーザ光を回折限界以下に集光し、前記回折限界以下に集光されたレーザ光と被加工物とを相対的に移動させて加工を行うことを特徴とするレーザパターニング方法。
【請求項２】
前記非線形光学材料は石英であることを特徴とする請求項１に記載のレーザパターニング方法。
【請求項３】
前記拡大平行光線化されたレーザ光を複数本に分割し、前記集光レンズの代わりにエフシータレンズを用いることにより前記複数本に分割されたレーザ光をそれぞれ集光させることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザパターニング方法。
【請求項４】
前記拡大平行光線化されたレーザ光を複数本に分割し、前記複数本に分割されたレーザ光を集光レンズで再度集光し、前記再度集光されたレーザ光を非線形光学材料内で干渉させることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザパターニング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザパターニング方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この課題を解決するために、本発明ではピーク出力が２．２ＭＷ以上のレーザ光をビームエクスパンダーにより拡大するとともに平行光線化し、前記拡大平行光線化されたレーザ光を集光レンズにより集光し、さらに、前記集光されたレーザ光の焦点位置近傍に設置した非線形光学材料により前記集光されたレーザ光を回折限界以下に集光し、前記回折限界以下に集光されたレーザ光と被加工物とを相対的に移動させて加工を行うことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この方式によれば非線形光学材料内であって集光位置近傍の高エネルギ領域では、非線形光学材料の非線形効果によりビームは自己集束を起こし、回折と自己集束がつりあうことによる自己束縛でビームは一定の微小径で非線形光学材料内を伝播し、非線形材料の終端またはその付近にて微小径で被加工物を加工する。本発明の第２の請求項にあるように、非線形光学材料を石英とし、２．２ＭＷ以上のピーク出力にとり、石英は非線形光学効果を起こす。これにより、微小径により被加工物を加工する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
一方、パターン形成をする場合は、１光束を被加工物と相対的移動により加工する場合と、多光束に分割し相対的移動によりパターン形成する場合がある。後者の場合、拡大平行光線化されたレーザ光を複数本に分割し、前記集光レンズの代わりにエフシータレンズを用いることにより前記複数本に分割されたレーザ光をそれぞれ集光させることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、拡大平行光線化されたレーザ光を複数本に分割し、前記複数本に分割されたレーザ光を集光レンズで再度集光し、前記再度集光されたレーザ光を非線形光学材料内で干渉させることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
これはいわゆる干渉露光方式によるパターニングである。これによれば、干渉縞を形成しこの縞と被加工物との相対移動によりパターニングする方式となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナーとキャリアを含有する現像剤をその表面に磁力により担持し、所定の線速で回転移動する現像剤担持体を有し、この現像剤担持体で担持した現像剤を、潜像を担持する潜像担持体との対向位置に搬送して、前記潜像担持体上の潜像を現像する現像装置において、
前記トナーはワックスを含有する非磁性トナーであり、トナーの形状係数ＳＦ−２が１３０〜１８０であることを特徴とする現像装置。
【請求項２】
請求項１記載の現像装置において、
前記現像剤担持体の線速が３００ｍｍ／ｓｅｃ以上であることを特長とする現像装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の現像装置において、
前記現像剤担持体の主極の磁束密度減衰率が４０％以上であることを特徴とする現像装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載の現像装置において、
前記現像剤担持体の主極の半値幅が１６°〜２２°であることを特徴とする現像装置。
【請求項５】
請求項１又は２記載の現像装置において、
前記現像剤担持体の主極の磁束密度減衰率が４０％以上、半値幅が１６°〜２２°であることを特徴とする現像装置。
【請求項６】
少なくとも、プレポリマー、着色剤、離型剤からなるトナー組成物を、水系媒体中で樹脂微粒子の存在下で分散せしめ、該トナー組成物を重付加反応させ得られたことを特徴とするトナー。
【請求項７】
潜像担持体、帯電手段、現像装置、クリ−ニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジにおいて、
前記現像装置が、請求項１乃至５の何れかに記載の現像装置であることを特徴とするプロセスカ−トリッジ。
【請求項８】
潜像を担持する潜像担持体に対して現像剤を供給してトナー画像を形成し、このトナー画像を記録材に転写手段で転写するとともに、転写されたトナー画像を、定着装置を用いて定着することで画像を得る画像形成装置において、
請求項１乃至７の何れかに記載の現像装置またはプロセスカ−トリッジを有することを特長とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明は、トナーとキャリアを含有する現像剤をその表面に磁力により担持し、所定の線速で回転移動する現像剤担持体を有し、この現像剤担持体で担持した現像剤を、潜像を担持する潜像担持体との対向位置に搬送して潜像担持体上の潜像を現像する現像装置において、トナーがワックスを含有する非磁性トナーであり、トナーの形状係数ＳＦ−２を１３０〜１８０としてことを特徴とする。請求項２の発明は、請求項１記載の現像装置において、現像剤担持体の線速が３００ｍｍ／ｓｅｃ以上であることを特長とする。請求項３の発明は、請求項１又は２記載の現像装置において、現像剤担持体の主極の磁束密度減衰率が４０％以上であることを特徴とし、請求項４の発明は、請求項１又は２記載の現像装置において、現像剤担持体の主極の半値幅が１６°〜２２°であることを特徴とし、請求項５の発明は、請求項１又は２記載の現像装置において、現像剤担持体の主極の磁束密度減衰率が４０％以上、半値幅が１６°〜２２°であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項６の発明は、トナーに関するもので、少なくとも、プレポリマー、着色剤、離型剤からなるトナー組成物を、水系媒体中で樹脂微粒子の存在下で分散せしめ、該トナー組成物を重付加反応させ得られたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項７の発明は、潜像担持体、帯電手段、現像装置、クリ−ニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジにおいて、請求項１乃至５の何れかに記載の現像装置を有することを特長とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項８の発明は、潜像を担持する潜像担持体に対して現像剤を供給してトナー画像を形成し、このトナー画像を記録材に転写手段で転写するとともに、転写されたトナー画像を、定着装置を用いて定着することで画像を得る画像形成装置において、請求項１乃至７の何れかに記載の現像装置またはプロセスカ−トリッジを有することを特長とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月6日(2006.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを搬送して像担持体に形成した像を転写形成する画像形成装置において、
前記像担持体に形成した像をシートに転写するための転写回転体と、
前記転写回転体を前記像担持体に当接離隔するための接離手段と、
を有し、
シートを前記転写回転体に突き当ててセットするよう構成したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記転写回転体は、回転する像担持体に当接した後に回転することでシートを搬送することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記接離手段は、前記像担持体に像を形成するタイミングに応じて前記転写回転体を前記像担持体に当接させることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記接離手段は、前記転写回転体を前記像担持体に当接させるタイミングを調整可能であることを特徴とする請求項３記載の画像形成装置。
【請求項５】
シートを搬送して像担持体に形成した像を転写形成する画像形成装置において、
前記像担持体に形成した像をシートに転写するための転写回転体と、
前記転写回転体へシートが自重落下し得る傾斜をもったシート給送路と、
前記シート給送路にあるシートの自重落下を規制し、又は規制解除するためにシート給送路を開閉可能なシャッタと、
を有し、
シートを前記シャッタに突き当ててセットするよう構成したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
前記シャッタは、前記像担持体に像を形成するタイミングに応じて前記シート給送路を開放することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記シャッタによる前記シート給送路の開放タイミングを調整可能であることを特徴とする請求項６記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記転写回転体を前記像担持体に当接離隔するための接離手段を有することを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項９】
画像形成に際し、前記転写回転体が前記像担持体に当接するタイミングを、前記シャッタがシート給送路を開放するタイミングよりも遅くなるよう構成したことを特徴とする請求項８記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  クリーナ部材で回収された廃トナーを移動させるトナー搬送経路を設けた画像形成装置において、
該トナー搬送経路は回転軸にスクリュ羽根を設けた搬送スクリュが回転して廃トナーを移動させる構成となっていて、該トナー搬送経路同士の接続部には前記スクリュ羽根と係合し前記搬送スクリュの回転に伴い振動して前記搬送スクリュに付着した廃トナーの掻き落としと撹拌とを行うトナー撹拌部材を、該攪拌部材の板面が一方のトナー搬送経路から落下する廃トナーの落下方向と略平行になるように設けたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】  前記トナー撹拌部材は、前記スクリュ羽根に当接する弾性を有する薄板であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１記載の発明は、「クリーナ部材で回収された廃トナーを移動させるトナー搬送経路を設けた画像形成装置において、
該トナー搬送経路は回転軸にスクリュ羽根を設けた搬送スクリュが回転して廃トナーを移動させる構成となっていて、該トナー搬送経路同士の接続部には前記スクリュ羽根と係合し前記搬送スクリュの回転に伴い振動して前記搬送スクリュに付着した廃トナーの掻き落としと撹拌とを行うトナー撹拌部材を、該攪拌部材の板面が一方のトナー搬送経路から落下する廃トナーの落下方向と略平行になるように設けたことを特徴とする画像形成装置。」である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この請求項１記載の発明によれば、廃トナーを移動させるトナー搬送経路の搬送スクリュへのトナー付着と廃トナーの凝固を防止するとともに、トナー撹拌部材は落下してきた廃トナーの移動に対して邪魔する位置関係とはなっていないので、先のトナー搬送経路から排出された廃トナーは無理なく次の搬送経路上に移動するので、良好な廃トナーの搬送性を保持するようにした画像形成装置が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、廃トナーを移動させるトナー搬送経路の搬送スクリュへのトナー付着と廃トナーの凝固を防止して、廃トナーの良好な搬送性を保持するようにした画像形成装置が提供されることとなる。
また、トナー撹拌部材は落下してきた廃トナーの移動に対して邪魔する位置関係とはなっていないので、先のトナー搬送経路からは排出された廃トナーは無理なく次の搬送経路上に移動する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月2日(2006.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、第１のトランジスタ乃至第４のトランジスタとを画素に有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、第１の走査線に接続され、前記第１のトランジスタのソースとドレインは、一方が信号線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインは、一方が電源線に接続され、他方が前記第３のトランジスタのソースとドレインの一方に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、第２の走査線に接続され、前記第３のトランジスタのソースとドレインは、他方が前記発光素子に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第２の走査線に接続され、前記第４のトランジスタのソースとドレインは、一方が前記電源線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタを線形領域で動作させ、前記第３のトランジスタを飽和領域で駆動させることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
発光素子と、第１のトランジスタ乃至第４のトランジスタとを画素に有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、第１の走査線に接続され、前記第１のトランジスタのソースとドレインは、一方が信号線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインは、一方が電源線に接続され、他方が前記第３のトランジスタのソースとドレインの一方に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、前記第１の走査線に接続され、前記第３のトランジスタのソースとドレインは、他方が前記発光素子に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、第２の走査線に接続され、前記第４のトランジスタのソースとドレインは、一方が前記電源線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタを線形領域で動作させ、前記第３のトランジスタを飽和領域で駆動させることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記第３のトランジスタ及び前記第４のトランジスタは、異なる極性を有することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記第１のトランジスタ及び前記第３のトランジスタは、異なる極性を有することを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項において、
前記第２のトランジスタ及び前記第３のトランジスタは、同じ極性を有することを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記第２のトランジスタ及び前記第３のトランジスタの極性が共にＰ型であり、
前記第３のトランジスタのソースとドレインの他方は前記発光素子の陽極と接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項５において、
前記第２のトランジスタ及び前記第３のトランジスタの極性が共にＮ型であり、
前記第３のトランジスタのソースとドレインの他方は前記発光素子の陰極と接続されていることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項において、
前記第３のトランジスタはディプリーション型であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項において、
前記第３のトランジスタはチャネル長がチャネル幅より長く、
前記第２のトランジスタはチャネル長がチャネル幅と同じかチャネル幅より短いことを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第３のトランジスタはチャネル幅に対するチャネル長の比が５以上であることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
画素電極と、第１のトランジスタ乃至第４のトランジスタとを画素に有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、第１の走査線に接続され、前記第１のトランジスタのソースとドレインは、一方が信号線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインは、一方が電源線に接続され、他方が前記第３のトランジスタのソースとドレインの一方に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、第２の走査線に接続され、前記第３のトランジスタのソースとドレインは、他方が前記画素電極に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第２の走査線に接続され、前記第４のトランジスタのソースとドレインは、一方が前記電源線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタを線形領域で動作させ、前記第３のトランジスタを飽和領域で駆動させることを特徴とする素子基板。
【請求項１２】
画素電極と、第１のトランジスタ乃至第４のトランジスタとを画素に有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、第１の走査線に接続され、前記第１のトランジスタのソースとドレインは、一方が信号線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインは、一方が電源線に接続され、他方が前記第３のトランジスタのソースとドレインの一方に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、前記第１の走査線に接続され、前記第３のトランジスタのソースとドレインは、他方が前記画素電極に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、第２の走査線に接続され、前記第４のトランジスタのソースとドレインは、一方が前記電源線に接続され、他方が前記第２のトランジスタのゲートに接続され、
前記第２のトランジスタを線形領域で動作させ、前記第３のトランジスタを飽和領域で駆動させることを特徴とする素子基板。
【請求項１３】
請求項１１において、
前記第３のトランジスタ及び前記第４のトランジスタは、異なる極性を有することを特徴とする素子基板。
【請求項１４】
請求項１２において、
前記第１のトランジスタ及び前記第３のトランジスタは、異なる極性を有することを特徴とする素子基板。
【請求項１５】
請求項１１乃至請求項１４のいずれか１項において、
前記第２のトランジスタ及び前記第３のトランジスタは、同じ極性を有することを特徴とする素子基板。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記第２のトランジスタ及び前記第３のトランジスタの極性が共にＰ型であり、
前記画素電極は発光素子の陽極であることを特徴とする素子基板。
【請求項１７】
請求項１５において、
前記第２のトランジスタ及び前記第３のトランジスタの極性が共にＮ型であり、
前記画素電極は発光素子の陰極であることを特徴とする素子基板。
【請求項１８】
請求項１１乃至請求項１７のいずれか１項において、
前記第３のトランジスタはディプリーション型であることを特徴とする素子基板。
【請求項１９】
請求項１１乃至請求項１８のいずれか１項において、
前記第３のトランジスタはチャネル長がチャネル幅より長く、
前記第２のトランジスタはチャネル長がチャネル幅と同じかチャネル幅より短いことを特徴とする素子基板。
【請求項２０】
請求項１９において、
前記第３のトランジスタはチャネル幅に対するチャネル長の比が５以上であることを特徴とする素子基板。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月21日(2006.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  所定の間隔を以て対向配置された一対の側板の内の一方の側板に対して端部を締結するとともに、他方の側板に設けた嵌合穴を貫通して突出する位置決めピンを有し、かつ、前記嵌合穴に対応する位置決めピンの周面上に設けた段差部に対して、弾性部材により他方の側板を押圧せしめて、前記位置決めピンの位置移動を抑制するように構成したことを特徴とする位置決めユニット。
【請求項２】  前記弾性部材は皿バネであることを特徴とする請求項１に記載の位置決めユニット。
【請求項３】  駆動源であるモータを有し、かつ、前記一対の側板間に設けたギヤトレインを介して、当該一対の側板により支持された駆動軸を駆動できることを特徴とする請求項１に記載の位置決めユニット。
【請求項４】  装置本体に対して抜き差し可能なユニットを含む画像形成装置において、
前記ユニットの位置決めをする位置決め手段として、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の位置決めユニットを有し、かつ、前記ユニットの一方の側板には、前記位置決めユニットの位置決めピンと嵌合する嵌合穴が設けてあることを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】  前記ユニットは中間転写体ユニットであることを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項６】  前記ユニットは駆動ローラを含むローラ群に懸架された転写ベルトを有し、また、前記駆動ローラは、位置決めユニット側に設けてある駆動軸と連結手段を介して連結することを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項７】  前記ユニットは、ガイドレールを介して装置本体に抜き差し自在に連結してあることを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項８】  前記ユニットは、像担持体を含むことを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項９】  前記像担持体は複数あることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（２）前記弾性部材は皿バネであることを特徴とする前記（１）に記載の位置決めユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月30日(2006.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  放射線画像変換プレートを、前記放射線画像変換プレートに接する導電性布を用いて清掃する清掃手段と、
前記放射線画像変換プレートに蓄積された放射線画像情報を、励起光の走査により読み取る読み取り手段と、
前記放射線画像変換プレートを、前記読み取り手段に搬送する搬送手段と、
を備えることを特徴とする放射線画像読取装置。
【請求項２】  前記清掃手段は、前記搬送の経路に沿った、前記読み取り手段の手前に配設されることを特徴とする請求項１に記載の放射線画像読取装置。
【請求項３】  前記清掃手段は、前記走査の位置に近接して配設されることを特徴とする請求項２に記載の放射線画像読取装置。
【請求項４】  放射線画像変換プレートを、清掃部材を用いて清掃する清掃手段と、
前記放射線画像変換プレートに蓄積された放射線画像情報を、励起光の走査により読み取る読み取り手段と、
前記放射線画像変換プレートを、前記読み取り手段に搬送する搬送手段と、
を備えることを特徴とする放射線画像読取装置であって、
前記清掃手段は、前記放射線画像変換プレートの、前記搬送の方向と直交する主走査方向を被う長さの前記清掃部材と、前記清掃部材を保持し、前記主走査方向に着脱可能な保持手段を備えることを特徴とする放射線画像読取装置。
【請求項５】  前記清掃手段は、導電性不織布と、前記導電性不織布を挟み込む、接地された保持部材とを有することを特徴とする請求項１及至４のいずれか１項に記載の放射線画像読取装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この請求項４に記載の発明によれば、清掃手段は、放射線画像変換プレートの、搬送の方向と直交する主走査方向を被う長さの清掃部材と、保持手段により、この清掃部材を保持し、主走査方向に着脱可能なこととしているので、放射線画像変換プレートの搬送方向である副走査方向の移動のみで、隈無く放射線画像変換プレートの塵埃を除去し、さらに塵埃が付着した清掃部材の交換を、配設位置の近傍で容易に行うことができる。
請求項５に記載の発明にかかる放射線画像読取装置は、前記清掃手段は、導電性不織布と、前記導電性不織布を挟み込む、接地された保持部材とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  サブミクロンＣＭＯＳプロセスで形成された、少なくとも１つのＰＭＯＳインプラントおよび少なくとも１つのＮＭＯＳインプラントを含む表面を有する第１伝導型の基板と、
第１伝導型と反対の第２伝導型のインプラントで上記表面に構成された第１深さの光検出器と、
光検出器付近において上記表面上に設けられ、光検出器を形成するために用いられたインプラントと少なくとも部分的に重なるように形成されたゲートとを含み、
ここにおいて、該光検出器は、少なくとも実質的に１ミクロンの深さのものであり、かつ、１ｃｍ３当たり実質的に１０１５から１０１６までのドーパント不純物濃度にドープされている第２伝導型のインプラントによって構成されているＣＭＯＳイメージセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
（ｂ）成分の融点が７０〜８５℃、（ｃ）成分のポリエチレンワックスの融点が８０〜１０５℃、セレシンの融点が７０〜８０℃、（ｄ）成分の水酸基価が５０〜１８５、（ｅ）成分の粘度が１０〜１８０（ｍＰａ・ｓ、２５℃）である請求項１に記載の油性固形化粧料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（ｃ）成分のセレシンは、融点が７０〜８０℃であるものが好ましい。セレシンＳＰ１０２０（伊那貿易商会）、セレシンＢ（日興リカ（株））があげられる。
（ｃ）成分のポリエチレンワックスは、融点が８５〜１０５℃のものがより好ましい。ポリワックス５００（東洋ペトロライト）、ポリワックス６５５（東洋ペトロライト）、ポリワックス７２５（東洋ペトロライト）が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月15日(2006.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式を有するアルミニウム-ジルコニウム-グリシン塩
（Ｉ）ＡｌnＺｒ(ＯＨ)(3n+4-x)Ｙx(ＡＡ)q(Ｒ)p
（式中、“ｎ”は２．０〜１０．０であり、好ましくは３〜８であり、
“ｘ”は１．４〜１２．３であり、０．９：１〜２．１：１の金属：陰イオン比から計算され、
“Ｙ”はＣｌ、Ｂｒ、Ｉ及び／又はＮＯ3であり、
“ｑ”は０．５〜３．０であり、ＡＡはアミノ酸であり、“Ｒ”は少なくとも２個の炭素原子及び少なくとも１個のヒドロキシ基を有する有機溶媒であり、“ｐ”は０〜１．５の値を有する。）
及び下記式を有する塩基性塩化アルミニウム
（II）Ａｌ2(ＯＨ)6-x1Ｙx1(Ｒ)p
（式中、ＹはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ及び／又はＮＯ3であり、ｘ１は０よりも大きく６以下（すなわち、０＜ｘ１≦６）であり、“Ｒ”は少なくとも２個の炭素原子及び少なくとも１個のヒドロキシ基を有する有機溶媒であり、“ｐ”は０〜１．５の値を有する。）
及び（III）亜鉛及び／又は錫と組み合わせたアルミニウム及びアルミニウム-ジルコニウム塩から選択される約７０重量％〜約９８重量％の発汗抑制活性剤、
及び少なくとも３個〜約１２個の炭素原子及び少なくとも３個のヒドロキシ基を有する約２重量％〜約３０重量％の多価アルコールを含み、約２％〜約７０％の多価アルコールが発汗抑制剤塩中に存在する金属と複合体を形成する皮膚に優しい発汗抑制剤組成物。
【請求項２】
発汗抑制活性剤が式（Ｉ）のものから選択され、多価アルコールがグリセリン、ジグリセロール及びそれらの混合物から選択される請求項１に記載の発汗抑制剤組成物。
【請求項３】
多価アルコールがグリセリンである請求項１に記載の発汗抑制剤組成物。
【請求項４】
発汗抑制活性剤が式IIのものであり、多価アルコールがグリセリン、ジグリセロール及びそれらの混合物から選択される請求項１に記載の発汗抑制剤組成物。
【請求項５】
多価アルコールが酒石酸、リンゴ酸、２ヒドロキシオクタン酸、２ヒドロキシデカン酸、サリチル酸から選択されるαヒドロキシ酸と併用するグリセリンである請求項１に記載の発汗抑制剤組成物。
【請求項６】
以下の工程を含む、約７０〜約９８重量％の発汗抑制活性剤及び少なくとも３個の炭素原子及び少なくとも３個のヒドロキシ基を有する約２〜約３０重量％の多価アルコールを含む皮膚にやさしい発汗抑制剤組成物であって、約２〜約７０％の多価アルコールが発汗抑制活性剤と複合体を形成する前記組成物の調製方法：
・下記一般式を有する塩基性アルミニウム塩と、
Ａｌ2(ＯＨ)6-x1，Ｙx1，(Ｒ)p
（式中、ＹはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＮＯ3から選択され、
ｘ１は０よりも大きく６以下であり、
Ｒは少なくとも２個の炭素原子及び少なくとも１個のヒドロキシ基を有する多価アルコールであり、
ｐは約０〜約１．５の値を有する）
少なくとも３個の炭素原子及び少なくとも３個のヒドロキシ基を有する多価アルコールとを、
室温から約１０５℃の温度範囲で混合する工程と、
・反応混合物を室温に冷却する工程と、
・冷却した反応混合物と、室温から約還流温度の温度でアミノ酸及びその混合物から選択される反応物と混合した約２：１〜約０．８：１の塩化物：ジルコニウム比を有するジルコニウムヒドロキシクロリドグリシナート溶液とを混合する工程と、
・反応混合物を室温に冷却する工程。
【請求項７】
反応混合物が乾燥している請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記一般式のＹがクロリドである請求項６に記載の方法。
【請求項９】
アミノ酸反応物がグリシンである請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
反応混合物の還流の際に多価アルコールをジルコニウムヒドロキシクロリドグリシナート溶液に加える請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
易重合性物質含有物を蒸留塔を用いて精製する方法であって、蒸留塔の塔頂部または還流部よりアミン系重合防止剤を供給するとともに、得られるアミン系重合防止剤と易重合性物質とを含む留出液を酸と接触させる方法。
【請求項２】
アミン系重合防止剤を含む易重合性物質を活性白土と接触させることにより前記アミン系重合防止剤を低減する易重合性物質の取扱い方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第一の要旨は、易重合性物質含有物を蒸留塔を用いて精製する方法であって、蒸留塔の塔頂部または還流部よりアミン系重合防止剤を供給するとともに、得られるアミン系重合防止剤と易重合性物質とを含む留出液を酸と接触させる方法である。
また、本発明の第二の要旨は、アミン系重合防止剤を含む易重合性物質を活性白土と接触させることにより前記アミン系重合防止剤を低減する易重合性物質の取扱い方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の方法としては、易重合性物質含有物を蒸留または蒸発操作で精製する際に、アミン系重合防止剤を気相部に存在させ、得られる易重合性物質とアミン系重合防止剤とを含む留出液を酸と接触させる場合が代表的である。易重合性物質含有物を蒸留操作で精製する際には、蒸留塔の塔頂部または還流部よりアミン系重合防止剤を供給してアミン系重合防止剤を気相部に存在させる。使用するアミン系重合防止剤は蒸留または蒸発させようとする易重合性物質の蒸気圧より低い蒸気圧を持ったものが好ましい。アミン系重合防止剤としては式（１）で示される少なくとも１種のアミン化合物が好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
易重合性物質と酸との接触時間は、易重合性物質に含まれるアミン系重合防止剤の量や目標とするアミン系重合防止剤の低減の程度等により適宜選定することができ、好ましくは１０〜１２０分である。易重合性物質と酸との接触温度は特に限定されないが、好ましくは０〜２００℃、より好ましくは４０〜１２０℃である。接触の際の圧力も特に限定されず、加圧、常圧、減圧いずれでも可能である。ただし、水を含む固体酸を用いる場合は水を系外に除去するために減圧で行うことが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
［実施例１］
２０段オールダショウ型蒸留塔を備えた３Ｌの４つ口フラスコにメタクリル酸２−エチルヘキシル２５００ｇと重合防止剤としてＮ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン０．２５ｇを仕込み、６．７ｈＰａの減圧下、蒸留を行った。このとき重合防止剤であるＮ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミンを１質量％溶解したメタクリル酸２−エチルヘキシル溶液を還流部より５ｍｌ／ｈにて供給した。
蒸留時の塔頂温度は１０１℃であった。留出液としてＮ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミンを７．１質量ｐｐｍ含むメタクリル酸２−エチルヘキシル２４５５ｇを取得した。このメタクリル酸２−エチルヘキシルは黄色に着色しており品質の低いものであった。そこで、この留出液に活性白土（水澤化学工業社製ガレオンアースＧＳＦ）１．８ｇを仕込み、１３．３ｈＰａの減圧下、室温にて６０分間攪拌した。メンブレンフィルター（孔径０．５μｍ）で攪拌後の処理液から活性白土を濾別し、無色の精製メタクリル酸２−エチルヘキシル２４３３ｇを得た。
この精製メタクリル酸２−エチルヘキシルに含まれるＮ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミンは定量限界（０．１質量ｐｐｍ）以下であった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月28日(2006.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
載せ台マガジン（５′）が上方から装入可能であることを特徴とする、請求項７または８に記載の搬送装置。                                              
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
水平な冷却区間は長さが何メートルもあることがあり、それに応じて大きな場所を必要とする。冷却区間は必要な滞留時間を確保するために非常に長いものが多い。それゆえ、冷却区間は、水平な冷却区間より一層短い場所をとる塔としても構成される。冷却塔は次の２つの実施で知られている。