Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月11日(2006.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ記憶デバイスであって、
行および列を有する抵抗性メモリセルのアレイと、
前記アレイ内の複数の抵抗性メモリセルに電気的に直列に接続される１組のダイオードと、
前記アレイの前記行に沿って延在する複数のワード線と、
前記アレイの前記列に沿って延在する複数のビット線と、
前記アレイ内の第１の選択された抵抗性メモリセルであって、前記複数のワード線のうちの第１のワード線と前記複数のビット線のうちの第１のビット線との間に配置される、第１の選択された抵抗性メモリセルと、
前記アレイに電気的に接続され、前記第１のワード線に第１の電圧を印加し、前記第１のビット線に第２の電圧を印加し、及び、前記複数のワード線のうちの第２のワード線と前記複数のビット線のうちの第２のビット線との少なくとも一方に第３の電圧を印加することができる回路
とを含む、データ記憶デバイス。
【請求項２】  
抵抗性メモリセルの前記アレイは、磁気ランダムアクセスメモリ（ＭＲＡＭ）セルを含む、請求項１のデバイス。
【請求項３】
前記ＭＲＡＭセルはトンネル接合を含む、請求項２のデバイス。
【請求項４】
前記１組のダイオードは薄膜ダイオードから構成される、請求項１のデバイス。
【請求項５】  
前記アレイ内に第２の抵抗性メモリセルをさらに含み、前記第２の抵抗性メモリセルは前記第１の選択された抵抗性メモリセル上に積重される、請求項１のデバイス。
【請求項６】
前記回路は、前記第１のワード線および前記第１のビット線に対して、前記第１の選択された抵抗性メモリセルを第１の抵抗状態から第２の抵抗状態に変化させるだけの十分なエネルギーを加えることにより、前記第１の選択された抵抗性メモリセルに書込みを行うことができる、請求項１のデバイス。
【請求項７】
前記回路が、前記第１の選択された抵抗性メモリセルを流れる電流を読み取ることができる、請求項１のデバイス。
【請求項８】
前記第１の電圧の値と前記第３の電圧の値はほぼ等しい、請求項１のデバイス。
【請求項９】
前記回路は、前記第２のワード線と前記第２のビット線の少なくとも一方を接地することができる、請求項１のデバイス。
【請求項１０】
データ記憶デバイスが、
抵抗性メモリセルのアレイと、
前記アレイの行に沿って延在する複数のワード線と、
前記アレイの列に沿って延在する複数のビット線と、
前記アレイ内の第１の選択された抵抗性メモリセルであって、前記複数のワード線のうちの第１のワード線と前記複数のビット線のうちの第１のビット線との間に配置される、第１の選択された抵抗性メモリセルと、
前記アレイに電気的に接続される回路
とを含み、前記データ記憶デバイス内の前記第１の選択された抵抗性メモリセルの抵抗状態を読み取る方法であって、
前記アレイ内の複数の抵抗性メモリセルに電気的に接続される１組のダイオードを設けるステップと、
前記第１のワード線に第１の電圧を印加し、前記第１のビット線に第２の電圧を印加し、前記複数のワード線のうちの第２のワード線と前記複数のビット線のうちの第２のビット線との少なくとも一方に第３の電圧を印加するステップと、
前記第１の選択された抵抗性メモリセルに流れる信号電流を読み取るステップ
を含む、方法。
【請求項１１】
前記信号電流を基準電流値と比較することにより、前記第１の選択された抵抗性メモリセルの特定の抵抗状態を判定するステップをさらに含む、請求項１０の方法。
【請求項１２】
前記設けるステップが、１組の薄膜ダイオードを設けるステップを含む、請求項１０の方法。
【請求項１３】  
前記読み取るステップは、磁気ランダムアクセスメモリ（ＭＲＡＭ）セルを流れる信号電流を読み取るステップを含む、請求項１０の方法。
【請求項１４】
前記印加するステップが、前記第３の電圧を前記第１のワード線以外の複数のワード線に印加するステップを含む、請求項１０の方法。
【請求項１５】
前記印加するステップが、前記第３の電圧を前記第１のビット線以外の複数のビット線に印加するステップを含む、請求項１０の方法。
【請求項１６】
前記第１の選択された抵抗性メモリセルに対して積重された構成をなすように配置された第２の抵抗性メモリセルを流れる信号電流を読み取るステップをさらに含む、請求項１０の方法。
【請求項１７】
前記印加するステップは、ほぼ等しい値を有する前記第１の電圧と前記第３の電圧とを印加するステップを含む、請求項１０の方法。
【請求項１８】
前記印加するステップが、前記第２のワード線と前記第２のビット線の少なくとも一方を接地するステップを含む、請求項１０の方法。
【請求項１９】  
前記第１の電圧および前記第２の電圧が前記第１の選択された抵抗性メモリセルを第１の抵抗状態から第２の抵抗状態に変更するように前記第１の電圧および前記第２の電圧を選択することにより、前記第１の選択された抵抗性メモリセルにデータを書き込むステップをさらに含む、請求項１０の方法。
【請求項２０】
前記設けるステップが、前記１組のダイオードが前記複数の抵抗性メモリセルに電気的に直列に接続されるようにするステップを含む、請求項１０の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月14日(2006.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成されておりかつその移動極が高周波入力端子である第１の単極双投型の液体金属マイクロスイッチと、
前記基板上に形成されておりかつその移動極が高周波出力端子である第２の単極双投型の液体金属マイクロスイッチとを含み、
前記第１及び第２の液体金属マイクロスイッチが、一致して動作するように連結されており、第１の動作状態のときには、それぞれの液体金属マイクロスイッチが、第１の投入部と接触し、かつ、第２の動作状態のときには、それぞれの液体金属マイクロスイッチの前記移動極が、第２の投入部と接触し、さらに、
前記基板上に形成され、前記第１の液体金属マイクロスイッチの前記第１の投入部と、前記第２の液体金属マイクロスイッチの前記第１の投入部との間に結合された第１の高周波回路と、
前記基板上に形成され、記第１の液体金属マイクロスイッチの前記第２の投入部と、前記第２の液体金属マイクロスイッチの前記第２の投入部との間に結合された第２の高周波回路を含む高周波リレー。
【請求項２】
前記第１及び第２の高周波回路のうちの１つが、減衰器であることを特徴とする、請求項１に記載の高周波リレー。
【請求項３】
前記第１及び第２の高周波回路のうちの１つが、所定の長さに制御されたインピーダンスの伝送線であることを特徴とする、請求項１に記載の高周波リレー。
【請求項４】
前記第１の高周波回路が減衰器であり、かつ前記第２の高周波回路が所定の長さに制御されたインピーダンスの伝送線であることを特徴とする、請求項１に記載の高周波リレー。
【請求項５】
前記第１及び第２の高周波回路両方が、減衰器であることを特徴とする、請求項１に記載の高周波リレー。
【請求項６】
前記第１及び第２の高周波回路のうちの１つが、フィルタであることを特徴とする、請求項１に記載の高周波リレー。
【請求項７】
基板と、
前記基板上に形成されておりかつその移動極が高周波入力端子である第１の単極双投型の液体金属マイクロスイッチと、
前記基板上に形成されておりかつその移動極が高周波出力端子である第２の単極双投型の液体金属マイクロスイッチとを含み、
前記第１及び第２の液体金属マイクロスイッチが、一致して動作するように連結されており、第１の動作状態のときには、それぞれの液体金属マイクロスイッチの移動極が、第１の投入部と接触し、かつ、第２の動作状態のときには、それぞれの液体金属マイクロスイッチの前記移動極が、第２の投入部と接触し、さらに、
前記基板上に形成され、前記第１の液体金属マイクロスイッチの前記第１の投入部と、前記第２の液体金属マイクロスイッチの前記第１の投入部との間に結合された高周波回路と、
前記基板上に形成され、移動極が前記第１の液体金属マイクロスイッチの前記第２の投入部に結合された第３の液体金属マイクロスイッチと、
前記基板上に形成され、かつ、移動極が前記第２の液体金属マイクロスイッチの前記第２の投入部に結合された第４の液体金属マイクロスイッチとを含み、
前記第３及び第４の液体金属マイクロスイッチが、一致して動作するように連結されており、前記第１の動作状態のときには、それぞれの前記移動極が第１の投入部と接触し、かつ、前記第２の動作状態のときには、それぞれの前記移動極が前記各第１の投入部と接触しないようになっており、さらに、
前記第３の液体金属マイクロスイッチの前記移動極と、前記第４の液体金属マイクロスイッチの前記移動極との間に結合された所定の長さの制御されたインピーダンスの伝送線と、
高周波アースと前記第３の液体金属マイクロスイッチの前記第１の投入部との間に結合された第１の終端抵抗と、
高周波アースと前記第４の液体金属マイクロスイッチの前記第１の投入部との間に結合された第２の終端抵抗とを含む高周波リレー。
【請求項８】
前記高周波回路が、減衰器であることを特徴とする、請求項７に記載の高周波リレー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月31日(2006.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１  凹部
２  減圧吸収パネル
３  横リブ
４  段差
５  減圧吸収用のパネル
Ｇ  グリップ部
ｍ  溝
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月24日(2006.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】ステビア乾燥葉を水で抽出し、合成吸着樹脂に吸着させてからメタノールで溶離させ、得られた成分をメタノールから再結晶して得られる結晶化ステビア抽出物。
【請求項２】アセスルファムＫ１部、請求項１に記載の結晶化ステビア抽出物約０.０４部〜約１３部、および糖アルコール約２０部〜約３,０００部を含む、甘味料組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月11日(2006.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】斜面である左右の座面は互いに前内面側を向いていることを特徴とした椅子。
【請求項２】斜面である左右の座面は互いに前内面側を向いている座骨接触部材を有し、該座骨背触面部材１を有する椅子は踏み台を有する事を特徴とした椅子。
【請求項３】フラットな座面に左右の斜面を有することを特徴とした、請求項１に記載の椅子。
【請求項４】斜面である座面は駆動装置を有し、該斜面である座面の角度を駆動することを特徴とした椅子。
【請求項５】椅子は斜面である座面９を有し、該椅子は椅子の脚１０の高さを調節する駆動装置を有することを特徴とした、請求項１に記載の椅子。
【請求項６】椅子は座面として三角柱を左右に二つ有することを特徴とした請求項１に記載の椅子。
【請求項７】斜面である左右の座面は、滑り止めを有する事を特徴とした請求項１に記載の椅子。
【請求項８】２つの座面を有する椅子は、各々角度を可動出来る事を特徴とした椅子。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
熱源３２としては上述した電気ヒータの代わりに、ガスヒータやＩＨ（Ｉnduction Ｈeating）などの誘導加熱手段を使用することもできる。
熱源３２として電気ヒータを使用する場合、電源３１の電圧は熱源コントローラ３３を介して熱源３２に印加されると共に、この熱源コントローラ３３は上述した温度検出センサ３５の温度検出出力によって制御される。そのため、温度検出センサ３５は熱伝導手段２４の始端部と接触するように基台本体３０ａの上面側に取り付け固定される。検出出力がリード線３９を介して熱源コントローラ３３に供給される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この実施形態では外筒３６ａと内筒３６ｂとが内部に設けられたスプリング３８によって摺動自在となるように構成され、外筒３６ａの頭部内側に温度検出素子３７が貼着固定されている。素子３７のリード線３９は内筒３６ｂから外部に導出される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
温度検出センサ３５はその内筒３６ｂの部分が基台本体３０ａの上部４１に固定される。このとき図４からも明らかなように外筒３６ａの頭部が上部４１の面よりもΔＬだけ突出するように取り付けられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、基台３０の上部４１とおでん鍋本体２０ａの底面２３との間に多少の隙間がないときには、図３に示すスプリング３８の作用によって外筒３６ａが下がり、ヒートパイプ２４と外筒３６ａの突出分をそれぞれ吸収できるから、何れの場合にもヒートパイプ２４と温度検出センサ３５とを確実に接触させることができる。ΔＬだけ突出させることによって、本体２０ａからの熱伝導によるヒートパイプ２４の伝導温度への影響を少なくすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
このようにおでん鍋１０を構成する場合、ヒートパイプ２４はおでんのスープの温度を常時検出することになる。図２のような位置にヒートパイプ２４を配置する場合には、おでん容器２０ａのほぼ中心部の液体温度を検出できる。検出されたスープの温度はヒートパイプ２４を伝導して殆どロスなくおでん容器２０ａの外部まで導かれる。外部に導かれた検出温度は温度検出センサ３５によって検出され、これが熱源コントローラ３３に導かれておでんのスープの温度が所定の温度となるように、熱源３２に対する駆動時間などがコントロールされる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
次にこの発明に係る他の実施形態を説明する。ヒートパイプ２４の取り付け位置は図５のように本体２０ａのほぼ中央位置でもよい。ヒートパイプ２４の取り付け個数は１本に限らず、数本、例えば図６のように３本のヒートパイプ２４（２４ａ〜２４ｃ）を図のような位置に配置することもできる。この場合には個々の温度を参照して熱源３２をコントロールしたり、その平均値で熱源３２をコントロールしたりすることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
一方、基台本体７１側にはヒートパイプ８１と対峙するように温度検出センサ８２が取り付けられるが、この温度検出センサ８２の構成も図３に示したものと同一の構成のものを使用することができ、この場合においても外筒８４ａの頭部が基台本体７１よりも僅かに突出するように位置決めされて取り付け固定される。温度検出センサ８２の出力は熱源コントローラ７７に供給される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１０  おでん鍋
２０  おでん鍋本体
２０ａ  金属鍋（おでん容器）
２４  熱伝導手段（ヒートパイプ）
３０  基台
３２  熱源
３３  熱源コントローラ
５０  蒸し器
６０  蒸し器本体
７０  基台
７１  基台本体
７２  蒸気発生器
７３  蒸発部
７４  熱源
７７  熱源コントローラ
８１  熱伝導手段（ヒートパイプ）
８２  温度検出センサ
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2001161556.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2001161556.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2001161556.tif 000003
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2001161556.tif 000004
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2001161556.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月29日(2006.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
そして積層された断熱シート７の最上層側には、透気性を有した紙布、不繊布、繊布又は合成樹脂フィルム等の収容袋９が被覆され、収容袋９の端部にはスリット９ａが各摘み片７ａを外部に突出させる幅で形成されている。スリット９ａを介して外部に突出した夫々の摘み片７ａにより夫々の断熱シート7を選択的に引っ張り出すことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
先ず、包装袋の一部を破袋して使い捨てカイロ１を取り出した後、使い捨てカイロ１を取り付ける場所等の使用環境や所望の温度に応じて収容袋９内から断熱シート７を選択的に引き出し、断熱シート７による断熱度を調整する。即ち、比較的低温で長時間使用する用途にあっては、そのままの状態又は収容袋９内から１枚程の断熱シート７を引き出して各断熱シート７による断熱度を高くする。反対に、比較的高温で使用しようとする場合には収容袋９内から、断熱シート７を１枚残した状態で他の断熱シート７を引き出し、断熱シート７による断熱層の厚さを薄くする。この使用態様にあっても、少なくとも一枚の断熱シート７を残すことにより火傷を防止することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記説明は、１個の使い捨てカイロ２１をレッグウォーマーやアームウォーマーとして使用したが、複数の使い捨てカイロ２１を、中空部が連続するように接合して長尺化し、腕や足を全体に亘って被覆するようにした構造であってもよい。この場合にあっては取り付けられる腕や足の各部位に応じて使い捨てカイロ２１の温度を調整することができる。又、使い捨てカイロ２１相互を接合する際に、使い捨てカイロ２１相互を伸縮性筒体により接合した構造であってもよい。これにより肘や膝の屈曲を容易化することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
実施形態１に係る使い捨てカイロ１の使用態様としては、例えば手袋内や靴内に中敷として直接取り付けてもよく、又、収容袋９の外面に接着テープを貼着し、被服や身体に直接貼り付け可能にしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
変更実施形態を示す斜視図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明においては、請求項２に記載したように前記板部材がチタン製あるいはチタン合金製であることが好ましく、あるいは請求項３に記載したように前記板部材が全くニッケルを含まないか、あるいはニッケル含有率が１％以下、より好ましくは、ニッケル含有率が０．０５％以下のステンレス製であることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
そして、本発明によれば、請求項２に記載したように板部材がチタン製またはチタン合金製、あるいは請求項３に記載したように板部材がニッケル含有率が１％以下、より好ましくは、ニッケル含有率が０．０５％以下のステンレス製であれば、同種のブラケットやチューブ等の歯列矯正部材のボンディングベースとして使用した場合にニッケルアレルギーの問題が生じない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長い袋状のエアセルを複数本並列して配設し、該並列配設したエアセルそれぞれに空気圧の給気或いは排気がなされて、膨張と収縮が行なえるようになしたエアマットであって、該エアセルは柔軟な上面シートと柔軟な下面シートから構成され、該エアセルの中心線より上の部分又は下の部分でそれぞれのシートが連結されていることを特徴とする床ずれ防止エアマット。
【請求項２】
エアセルがシリンダー状であって、ケース部材に挿し込まれ、該ケース部材がエアセルの中心線よりも上の部分又は下の部分でそれぞれのシートが連結されていることを特徴とする床ずれ防止エアマット。
【請求項３】
上記シートの連結部、或いはケース部材の連結部に細孔を設けた空気噴出用管を直接或いは差し込んで構成した請求項１又は請求項２に記載の床ずれ防止エアマット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【実施例２】
この実施例は、実施例１の連結部５を利用したもので、図３に示すように下面シート３を下方に膨らませて空気噴出用管１１を構成したものである。この連結部５は図６（ハ）に示すように空気噴出用管１１をＵ字管１６で蛇行して接続され、前記エアセルの給気系列９、１０とは全く別に配管１７されて給気されるようになっている。空気噴用管１１には細孔１２を設けてエアマット１上に空気を噴出させ、身体の汗や湿気を排除するようになしたものである。
尚この際、シート２と２の間は噴出空気が通過できる隙間を設けることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【実施例４】
この実施例は図５及び図７に示し、実施例１と実施例２のエアセルをシリンダー状エアセル１８として、膨張したときのエアセル４の中心線６より下の位置で連結されているケース部材１９の中に挿入されるように構成されている。そしてシリンダー状のエアセル１８は、図７に示すようにＡ系列は９に配管され、Ｂ系列は１０にそれぞれ接続配管される。この場合空気噴出用管１１はケース部材１９によって作製され又はケース部材の中に挿入され、夫々Ｕ字管１６で別途配管１７されている。図５は図７のＡ−Ａ線断面図である。また図７中（イ）は平面図、（ロ）は底面図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（５）中心線より上又は下の位置で連結されることによって、エアセルの連結接合部に空気噴出機能を設けることができ、使用材料の節減と工数の節減が大きくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月3日(2006.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検知する磁化を含む被検体に高周波パルスを照射し横磁化を発生する手段と、横磁化が付与された被検体に位相エンコード傾斜磁場パルスを印加する手段と、読み出し傾斜磁場パルスを印加する手段と、前記読み出し傾斜磁場の印加中に発生するエコー信号を検出する手段と、前記各手段を制御する制御手段と、エコー信号から画像を再構成する画像再構成手段を含む核磁気共鳴撮影装置において、
前記エコー信号を検出する手段は、互いに空間的に異なる検出感度分布を有する複数の受信コイルを備え、
前記制御手段は、前記位相エンコード傾斜磁場及び読み出し傾斜磁場によって規定される計測空間（ｋ空間）の低空間周波数領域が高空間周波数領域より高密度となるように計測データを収集する制御を行い、
前記画像再構成手段は、低空間周波数領域の計測データを用いて前記複数の受信コイルの各感度分布を計算し、計算された各感度分布及び上記計測データを用いて、画像を取得すること
を特徴とした核磁気共鳴撮影装置。
【請求項２】
検知する磁化を含む被検体に高周波パルスを照射し横磁化を発生する手段と、横磁化が付与された被検体に位相エンコード傾斜磁場パルスを印加する手段と、読み出し傾斜磁場パルスを印加する手段と、前記読み出し傾斜磁場の印加中に発生するエコー信号を検出する手段と、前記各手段を制御する制御手段と、エコー信号から画像を再構成する画像再構成手段を含む核磁気共鳴撮影装置において、
前記エコー信号を検出する手段は、互いに空間的に異なる検出感度分布を有する複数の受信コイルを備え、
前記制御手段は、前記位相エンコード傾斜磁場及び読み出し傾斜磁場によって規定される計測空間（ｋ空間）の高空間周波数領域について規定のエンコード数を所定の割合で減じて（間引いて）計測データを収集する制御を行い、
前記画像再構成手段は、低空間周波数領域の計測データを用いて前記複数の受信コイルの各感度分布を計算し、計算された各感度分布及び上記計測データを用いて、画像を取得すること
を特徴とした核磁気共鳴撮影装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の核磁気共鳴撮影装置であって、
前記制御手段は、前記ｋ空間の位相エンコード方向において前記計測を行うことを特徴とする核磁気共鳴撮影装置。
【請求項４】
検知する磁化を含む被検体に高周波パルスを照射し横磁化を発生する手段と、横磁化が付与された被検体に位相エンコード傾斜磁場パルスを印加する手段と、読み出し傾斜磁場パルスを印加する手段と、前記読み出し傾斜磁場の印加中に発生するエコー信号を検出する手段と、前記各手段を制御する制御手段と、エコー信号から画像を再構成する画像再構成手段を含む核磁気共鳴撮影装置において、
前記エコー信号を検出する手段は、互いに空間的に異なる検出感度分布を有する複数の受信コイルを備え、
前記制御手段は、前記位相エンコード傾斜磁場及び読み出し傾斜磁場によって規定される計測空間（ｋ空間）における計測密度が異なるように計測データを収集する制御を行い、
前記画像再構成手段は、前記計測空間の一部の計測データを用いて前記複数の受信コイルの各感度分布を計算し、計算された各感度分布及び上記計測データを用いて、画像を取得すること
を特徴とした核磁気共鳴撮影装置。
【請求項５】
請求項１ないし４いずれか１項記載の核磁気共鳴撮影装置であって、
前記制御手段は、前記受信コイルの感度分布の空間的変化に対応して、密度の異なる計測領域の範囲を変更すること
を特徴とする核磁気共鳴撮影装置。
【請求項６】
核磁気共鳴撮影装置であって、
被検体を収容する空間内に一様な静磁場を発生させる磁石と、
前記被検体から発生するＮＭＲ信号を検出する複数の小型のコイルから構成されるマルチプルコイルと、
被検体をＮＭＲ撮影するためのパルスシーケンスを実行する手段と、
前記パルスシーケンスが実行された場合、ｋ空間の低空間周波数領域のデータを密に、高空間周波数領域のデータを粗く計測する手段と、
前記複数の小型のコイルそれぞれについて少なくとも低空間周波数領域のデータを用いて各小型コイルの感度分布を計算する手段と、
前記感度分布と前記複数の小型コイルそれぞれで検出した各ＮＭＲ信号とから画像を構成する手段と、を備えること
を特徴とする核磁気共鳴装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月14日(2006.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】  別の態様の本発明みつばち巣箱の保管・輸送時の通気扉と巣門の関係を示す図面
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】  別の態様の本発明みつばち巣箱の使用時の通気扉と巣門の関係を示す図面
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月21日(2005.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
3-アミノピペリジン・二塩酸塩（200ｍｇ）のメタノール（１ｍＬ）懸濁液を−２０℃に冷却し、28%ナトリウムメチラート／メタノール水溶液（216.2ｍｇ）、二炭酸ジ−t−ブチル（277ｍｇ）のメタノール溶液を−20〜−15℃で順次滴下した。反応液を同温で２時間攪拌した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残査に１Ｎ塩酸水（0.2ｍＬ）、水（1ｍｌ）、塩化メチレン（2ｍｌ）を加えて抽出した。水層を分離し、炭酸カリウム（192ｍｇ）添加後、塩化メチレン５ｍＬで２回抽出した。抽出液を合わせて塩化メチレンを減圧下で留去し、標記化合物を油状物として195.6ｍｇ（収率84.5％）得た。
１Ｈ-核磁気共鳴スペクトル（400MHz、CDCl3）δppm：1.03-1.43（m,6H），1.39(s,9H),1.57-1.68（m,1H），1.82-1.93（m,1H），2.50（br.s,1H），2.65-2.80（m,2H），3.70-3.80（m,1H）,3.85(br.s.,1h)
１３Ｃ-核磁気共鳴スペクトル（100MHz、CDCl3）δppm：23.62,38.57,33.83,43.31,47.50,52.07,79.30,154.76。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月30日(2005.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 （ａ）フェノール系ポリマー、
（ｂ）１００℃以上の温度でスルホン酸を発生する化合物、
（ｃ）２個以上のベンゼン環を有し、酸の作用により上記ポリマーと架橋しうるフェノール系酸架橋剤及び
（ｄ）溶剤
を含むことを特徴とするシリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物。
【請求項２】 フェノール系ポリマーがノボラック樹脂、又はポリビニルフェノール部位を有する単独ポリマー又は共重合ポリマーから選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載のシリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物。
【請求項３】 スルホン酸を発生する化合物が、スルホン酸の２級又は３級アルコールエステル及びスルホン酸のヨードニウム塩から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１または２に記載のシリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物。
【請求項４】 さらに含窒素化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のシリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物。
【請求項５】 さらに界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のシリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれかに記載のシリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、更にその上に上層レジスト膜を形成し、露光、現像、エッチングすることを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月15日(2006.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置及び支持機構
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表示部と、該表示部を支持するベース部とを備え、該ベース部は、該表示部を第１の軸線のまわりで回転可能に取り付けるためのチルトユニットと、該チルトユニットを直接的又は間接的に支持するための第１の部材と、該第１の部材と対面して配置された第２の部材と、該第１の部材及び該第２の部材の一方に設けられ、該第１の部材及び該第２の部材を第１の軸線とは異なる第２の軸線のまわりで相対的に回転可能に案内するためのガイド部と、該第１の部材と該第２の部材との間に配置された少なくとも１つの低摩擦部材とからなることを特徴とする表示装置。
【請求項２】  さらに開口部を有するカバー部材を備え、該チルトユニットは該カバー部材の開口部を通って該第１の部材に固定され、該第１の部材は該カバー部材と該第２の部材との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】  さらにカバー部材を備え、該チルトユニットは該カバー部材に固定され、該カバー部材は直接的又は間接的に該第１の部材に固定され、該第１の部材は該カバー部材と該第２の部材との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】  該少なくとも１つの低摩擦部材は複数の低摩擦部材からなり、該複数の低摩擦部材は該第１の部材及び該第２の部材の一方に保持され、該第１の部材及び該第２の部材の他方に対して摺動可能であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】  該低摩擦部材はボール状の部材又はきのこ状の部材からなることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】  表示装置における表示部の支持機構において、該表示部を第１の軸線のまわりで回転可能に取り付けるためのチルトユニットと、該チルトユニットを直接的又は間接的に支持するための第１の部材と、該第１の部材と対面して配置された第２の部材と、該第１の部材及び該第２の部材の一方に設けられ、該第１の部材及び該第２の部材を第１の軸線とは異なる第２の軸線のまわりで相対的に回転可能に案内するためのガイド部と、該第１の部材と該第２の部材との間に配置された少なくとも１つの低摩擦部材とからなることを特徴とする支持機構。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＣＲＴやＬＣＤ等の表示器単体の他、ＣＲＴやＬＣＤ等の表示器が一体化された情報処理装置に代表される表示装置及び支持機構に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
パソコン等の情報処理装置とともに、ＣＲＴやＬＣＤ（液晶表示装置）等の表示器が使用される。表示器はケーブルを介してパソコンへ接続され、あるいは表示器はパソコン本体に組み込まれていることもある。例えば、特開平１１−１９０９７８号公報は磁気ディスク装置及び光学ディスク装置を組み込んだ液晶表示モニタを開示している。特開平１１−１５４０３６号公報は表示器を一体的に含み、水平な軸線のまわりで回転可能に支持されたデスクトップ型のコンピュータを開示している。特開平１０−２７５０２５号公報は表示器を一体的に含み、取り外し可能に支持装置に支持されたコンピュータを開示している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、比較的に簡単な構成で表示器を第１の軸線のまわり及び第２の軸線のまわりで回転させることができる表示装置及び支持機構を提供することである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明による表示装置は、表示部と、該表示部を支持するベース部とを備え、該ベース部は、該表示部を第１の軸線のまわりで回転可能に取り付けるためのチルトユニットと、該チルトユニットを直接的又は間接的に支持するための第１の部材と、該第１の部材と対面して配置された第２の部材と、該第１の部材及び該第２の部材の一方に設けられ、該第１の部材及び該第２の部材を第１の軸線とは異なる第２の軸線のまわりで相対的に回転可能に案内するためのガイド部と、該第１の部材と該第２の部材との間に配置された少なくとも１つの低摩擦部材とからなることを特徴とするものである。
また、本発明による支持機構は、表示装置における表示部の支持機構において、該表示部を第１の軸線のまわりで回転可能に取り付けるためのチルトユニットと、該チルトユニットを直接的又は間接的に支持するための第１の部材と、該第１の部材と対面して配置された第２の部材と、該第１の部材及び該第２の部材の一方に設けられ、該第１の部材及び該第２の部材を第１の軸線とは異なる第２の軸線のまわりで相対的に回転可能に案内するためのガイド部と、該第１の部材と該第２の部材との間に配置された少なくとも１つの低摩擦部材とからなることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月8日(2005.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光強度検知器を有する基体ユニットと、
外側ハウジングを有するランプ組立体と、
少なくとも部分的に上記ハウジング内に配置された電球組立体及び明色パイプであって、上記電球組立体が軸線を有すると共に上記ランプ組立体が励勢された時にＵＶ光線と可視光線とを発し、上記明色パイプがＵＶ光線を可視光線に変換する蛍光染料を収容すると共に互いに対して角度を付けられて上記可視光線の焦点を上記光強度検地器上に合わせる連続した複数の内側面を有する、電球組立体及び明色パイプとを具備し、
上記光強度検知器が明色パイプから発せられた可視光線を検知して上記電球組立体によって発生されたＵＶ光線の相対強度を測定する、使用時水処理システム。
【請求項２】
上記明色パイプから発せられた可視光線の強度が上記電球組立体によって発せられたＵＶ光線の強度にほぼ正比例する、請求項１に記載の使用時水処理システム。
【請求項３】
上記明色パイプが蛍光を発すると共に緑色光を発生させる、請求項２に記載の使用時水処理システム。
【請求項４】
上記電球組立体が第一のフィラメントと第二のフィラメントとこれらの間に延びる中間部分とを有する電球を有し、
上記明色パイプが上記電球組立体の第一のフィラメントに実質的に対向するフィラメント面と上記電球の中間部分にほぼ垂直な電球面とを有し、
上記可視光検知器によって検知された可視光線は、最初に上記電球面に入射するＵＶ光線に応じて上記明色パイプが蛍光を発することより発生せしめられる、請求項３に記載の使用時水処理システム。
【請求項５】
上記電球組立体がほぼＵ字形であり、上記第一のフィラメント及び第二のフィラメントが上記明色パイプのフィラメント面に対向する、請求項４に記載の使用時水処理システム。
【請求項６】
第二の電球面が上記電球の中央部分にほぼ焦点が合うような形状である、請求項５に記載の使用時水処理システム。
【請求項７】
上記蛍光染料がほぼ緑である、請求項２に記載の使用時水処理システム。
【請求項８】
上記明色パイプが上記可視光検知器と並べて配置された発光面を有し、
上記明色パイプが、該明色パイプの電球面に入射する光を反射し該光の焦点が上記可視光検出器上に合わせられるよう構成される、請求項４に記載の使用時水処理システム。
【請求項９】
上記ランプ組立体が上記ハウジング内に配置された反射器組立体を更に有し、該反射器組立体が上記電球組立体からの光を上記ランプ組立体を通過する水上へと反射させる、請求項１に記載の使用時水処理システム。
【請求項１０】
上記明色パイプがプラスチックで作られる、請求項１に記載の使用時水処理システム。
【請求項１１】
上記プラスチックがアクリルである、請求項１０に記載の使用時水処理システム。
【請求項１２】
上記明色パイプが電球面を有し、上記ランプ組立体が反射器組立体を有し、該電球面が反射器組立体からの光を受取るように構成され且つ配置される、請求項１に記載の使用時水処理システム。
【請求項１３】
水処理システムの光監視システムにおいて、
光検出器と、
紫外光源と、
上記紫外光源と光検出器との間に配置された明色パイプであって、上記紫外光源から発せられて上記明色パイプに作用する紫外光を上記光検出器によって検出される可視光線に変換するのに適する蛍光染料を収容し、光受容面と、発光面と、互いに対して角度が付けられると共に上記光受容面に入射して発光面に向かう光を焦点合わせする連続した複数の内側面とを有する、明色パイプとを具備する、光監視システム。
【請求項１４】
上記光検出器は、可視光線に基づいて、上記紫外光源により発せられた紫外光の相対強度を測定する、請求項１３に記載の光監視システム。
【請求項１５】
上記紫外光は、可視光線に正比例する、請求項１３に記載の光監視システム。
【請求項１６】
上記明色パイプはプラスチックで構成され、上記蛍光染料は上記プラスチックに混入される、請求項１３に記載の光監視システム。
【請求項１７】
使用時水処理システムの光検出器において、
可視放射線を検知するのに適するセンサと、
プロセッサと、
紫外放射線を発するのに適する放射源と、
蛍光染料と、上記放射源に近接して配置された第一の面と、互いに対して角度が付けられた連続した複数の内側面とを有する光伝送器であって、上記第一の面を介して上記放射源からの紫外放射線を受取ると共に上記連続した複数の内側面によって上記センサに向かって可視放射線を焦点合わせするのに適する、光伝送器とを具備し、
上記プロセッサは伝送された上記可視放射線に基づいて紫外放射線の相対強度を測定する、光検出器。
【請求項１８】
上記蛍光染料は上記光伝送器に混入せしめられる、請求項１７に記載の光検出器。
【請求項１９】
上記明色パイプは、多面状プラスチック構造体である、請求項１７に記載の光検出器。
【請求項２０】
上記放射源は、フィラメントを有する紫外電球であり、上記面は該フィラメントに直ぐ近接して配置される、請求項１７に記載の光検出器。
【請求項２１】
電球組立体によって発生されたＵＶ光線の強度を検知する方法であって、
第一の端部と第二の端部とこれら端部間に延びる中間部分とを有する電球組立体であって上記第一の端部及び第二の端部がそれぞれフィラメントを有する電球組立体を設ける工程と、
蛍光染料を有する明色パイプであって電球面とフィラメント面と発光面とを有すると共に上記電球面に入射する光を上記発光面に向ける明色パイプを設ける工程と、
上記電球面を最初に上記電球組立体の中間部分から光を受取るように位置させる工程と、
上記電球組立体を励起してＵＶ光線と可視光線とを発生させる工程と、
上記電球組立体の中間部分からのＵＶ光線を電球面に衝突するように案内し、それにより上記明色パイプが蛍光を発し、上記第一のフィラメント及び第二のフィラメントの少なくとも一方からの光がフィラメント面に衝突する間に可視光線が明色パイプの発光面から発生されるようにする工程と、
上記明色パイプの発光面から発せられた可溶光線の相対強度を検知する工程とを具備する、ＵＶ光線の強度を検知する方法。
【請求項２２】
上記電球面と上記発光面の少なくとも一方が光の透過率を高めるように磨かれている、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
上記蛍光染料が緑色である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
上記ランプ組立体によって出力されたＵＶ光線の強度が、発光面によって発生された光線の強度にほぼ正比例する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
上記電球面が上記電球組立体の中心に向って焦点合わせされる、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
上記フィラメント面が円筒形の電球の周りに合致するよう湾曲している、請求項２４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月7日(2006.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
白金族金属微粒子を含む水素濃縮水の製造方法であって、以下の工程を含む方法：
１）白金族金属の塩を水溶液中で還元することにより白金族金属微粒子を生成させる工程、および
２）水溶液に水素ガスを注入する工程。
【請求項２】
還元反応開始前、還元反応中、または還元反応終了後の水溶液に水素ガスを注入する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
さらに、生成した白金族金属微粒子をろ過して白金族金属微粒子含有水溶液を得る工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
限外ろ過による濃縮液に水素ガスを注入する、請求項３記載の方法。
【請求項５】
得られた白金族金属微粒子含有水溶液に水素ガスを注入する、請求項３記載の方法。
【請求項６】
白金族金属微粒子含有水溶液に水素ガスを注入することを含む、水素濃縮水の製造方法。
【請求項７】
白金族金属微粒子含有水溶液を密閉容器に充填し、該容器内を高圧に維持しつつ水素ガスを注入する、請求項５または６記載の方法。
【請求項８】
圧力を２Ｋｇ／ｃｍ２に維持しつつ水素ガスを注入する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
水溶液量の１／１００〜１／１０量の水素ガスを注入する、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
白金族金属が白金またはパラジウムである、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の方法によって製造される水素濃縮水。
【請求項１２】
活性酸素種の消去または酸化防止に使用するための、請求項１１記載の水素濃縮水。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月1日(2006.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機酸化物担体上に触媒基準、酸化物換算で周期律表第６族金属から選ばれた少なくとも１種を１０〜３０質量％、周期律表第８族金属から選ばれた少なくとも１種を１〜１５質量％、リンを０．８〜８質量％、炭素を２〜１４質量％含み、さらにリチウムを０．1〜０．８質量％担持してなる、比表面積１１０〜３００ｍ２／ｇ、細孔容積０．３５〜０．６ｍ１／ｇ、平均細孔直径約６５〜１８０Åであることを特徴とする炭化水素油の水素化処理触媒。
【請求項２】
マイクロカロリメトリー法にて測定した１００〜２００ＫＪ/ｍｏｌのアンモニア吸着熱を発する酸点を、触媒１ｇ当り、２７０〜３８０μｍｏｌの範囲で有していることを特徴とする請求項１記載の炭化水素油の水素化処理触媒。
【請求項３】
触媒が、予備硫化後において、透過型電子顕微鏡により観察される二硫化モリブデン相の積層数の平均値が２．５〜５であることを特徴とする請求項１または２記載の炭化水素油の水素化処理触媒。
【請求項４】
比表面積１６０〜５００ｍ２／ｇ、細孔容積０．５５〜０．９ｍ１／ｇ、平均細孔直径６０〜１５０Åである無機酸化物担体上に、周期律表第８族金属から選ばれた少なくとも１種を含む化合物、周期律表第６族金属から選ばれた少なくとも１種を含む化合物、有機酸、リン酸、リチウムを含有する溶液を用い、触媒基準、酸化物換算で周期律第６族金属を１０〜３０質量％、周期律表第８族金属を１〜１５質量％、リンを０．８〜８質量％、リチウム０．1〜０．８質量％、炭素を２〜１４質量％となるように担持させ、２００℃以下で乾燥させることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の炭化水素油の水素化処理触媒の製造方法。
【請求項５】
比表面積１６０〜５００ｍ２／ｇ、細孔容積０．５５〜０．９ｍｌ／ｇ、平均細孔直径６０〜１５０Åである無機酸化物担体上に、リチウムを含有する溶液を用い、リチウムを担持後、乾燥、焼成し、リチウム担持無機酸化物担体を調整後、周期律表第８族金属から選ばれた少なくとも１種を含む化合物、周期律表第６族金属から選ばれた少なくとも１種を含む化合物、有機酸、およびリン酸を含有する溶液を用い、触媒基準、酸化物換算で周期律表第６族金属を１０〜３０質量％、周期律表第８族金属を１〜１５質量％、リンを０．８〜８質量％、リチウムを０．１〜０．８質量％、炭素を２〜１４質量％となるように担持させ、２００℃以下で乾燥させることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の炭化水素油の水素化処理触媒の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載の触媒の存在下、水素分圧３〜８ＭＰａ、温度３００〜４２０℃、液空間速度０．３〜５ｈｒ−１の条件で、炭化水素油留分の接触反応を行うことを特徴とする炭化水素油の水素化処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
脱硫活性については、以下の方法で解析した。
３６０℃で反応装置を運転し、２０日経過した時点で生成油を採取し、生成油中の硫黄分と原料油の硫黄分および液空間速度から、脱硫反応速度定数（Ｋｓ）を求めた。このＫｓ値の求め方を以下に示す。
生成油の硫黄分（Ｓｐ）の減少量に対して、１．５次の反応次数を得る反応速度式の定数を脱硫反応速度定数（Ｋｓ）とする。
なお、反応速度定数が高い程、触媒活性が優れていることを示している。
脱硫反応速度定数＝２×〔１／（Ｓｐ）０．５−１／（Ｓｆ）０．５〕×（ＬＨＳＶ）
式中、Ｓｆ：原料油中の硫黄分（質量％）
Ｓｐ：反応生成油中の硫黄分（質量％）
ＬＨＳＶ：液空間速度（ｈｒ−１）
脱硫比活性（％）＝各脱硫反応速度定数／比較触媒ｇの脱硫反応速度定数×１００
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛋白質原料を含まずアミノ酸又はその塩の１種以上を含有することを特徴とする食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【請求項２】
アミノ酸がアラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、メチオニン、シスチン、システイン、グルタミン酸、グルタミン、グリシン、スレオニン、ヒスチジン、バリン、ロイシン、イソロイシン、リジン、トリプトファン、フェニルアラニン、チロシン、プロリン、セリン又はタウリンの１種以上であることを特徴とする請求項１記載の食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【請求項３】
アレルゲン性の低い植物性蛋白質原料とアミノ酸又はその塩の1種以上を含有することを特徴とする食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【請求項４】
アレルゲン性の低い植物性蛋白質原料が馬鈴薯、甘藷、米、あわ、ひえ、こうりゃん、とうもろこし又はエンドウ豆であることを特徴とする請求項３記載の食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【請求項５】
馬鈴薯、甘藷、米、あわ、ひえ、こうりゃん、とうもろこし、エンドウ豆、ビール酵母、パン酵母から選らぶ１種又は２種以上とアミノ酸又はその塩の１種以上を含有することを特徴とする食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【請求項６】
アミノ酸がアラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、メチオニン、シスチン、システイン、グルタミン酸、グルタミン、グリシン、スレオニン、ヒスチジン、バリン、ロイシン、イソロイシン、リジン、トリプトファン、フェニルアラニン、チロシン、プロリン、セリン又はタウリンの１種以上であることを特徴とする請求項３記載の食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【請求項７】
アミノ酸がアラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、メチオニン、シスチン、システイン、グルタミン酸、グルタミン、グリシン、スレオニン、ヒスチジン、バリン、ロイシン、イソロイシン、リジン、トリプトファン、フェニルアラニン、チロシン、プロリン、セリン又はタウリンの１種以上であることを特徴とする請求項５記載の食物アレルギー反応低減用ペットフード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明は、蛋白質原料を含まず、アミノ酸又はその塩の１種以上を含有することを特徴とする食物アレルギー反応低減用ペットフードである。
さらに本発明は、アレルゲン性の低い植物性蛋白質原料とアミノ酸又はその塩の１種以上を含有することを特徴とする食物アレルギー反応低減用ペットフードである。
さらに本発明は、馬鈴薯、甘藷、米、あわ、ひえ、こうりゃん、とうもろこし、エンドウ豆、ビール酵母、パン酵母から選らぶ１種又は２種以上とアミノ酸又はその塩の１種以上を含有することを特徴とする食物アレルギー反応低減用ペットフードである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明者等は、食物アレルギーを有するペットに対して、蛋白質原料を含まず、アミノ酸を１種以上含有している、あるいは更に馬鈴薯、甘藷、米、あわ、ひえ、こうりゃん、とうもろこし、エンドウ豆、ビール酵母、パン酵母から選択した蛋白質を含む原料を１種又は２種以上を加えた組成のペットフードを給与することにより、食物アレルギー反応発生のリスクを低減し、かつ使用者が簡便に供することができペットの健康を維持できることを見出した。本発明の目的は、ペットフード食物において、蛋白質をアミノ酸に代えることにより、あるいはアミノ酸とアレルゲン性の低い蛋白質を併用することにより、アレルギーを有するもしくはその疑いのあるペットに対し食物アレルギー反応が発生するリスクを低減させる、使用の簡便なペットフードを提供することである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月11日(2006.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
図１は、本発明の１実施例を表す平面図である。１は熱源（図示せず）を内蔵した金型、２は製品形状部、３は製品外圧縮部、４はフェノール樹脂等のバインダー樹脂が付着したグラスウール原反である。
図２は、同じく本発明の断面図であり、該金型１が開いた状態を表し、５，５’は該金型１の成形面である。
該金型１の成形面５，５’内にすべての該グラスウール原反４を納め、製品形状部２と製品外圧縮部３に対して全面圧縮加工する。
図３は、同じく本発明の断面図であり、該金型１が閉じた状態を表わす。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の右前方における障害物の存否に対応するデータおよび車両の左前方における障害物の存否に対応するデータを用いて、車両の右前方に障害物が存在すれば車両の左前方の画像をモニタに表示させ、車両の左前方に障害物が存在すれば車両の右前方の画像をモニタに表示させる制御手段を備える表示制御装置。
【請求項２】
前記制御手段は、渋滞の有無に対応するデータを用いて、渋滞が発生しかつ車両の右前方に障害物が存在すれば車両の左前方の画像をモニタに表示させ、渋滞が発生しかつ車両の左前方に障害物が存在すれば車両の右前方の画像をモニタに表示させることを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
車両の右前方におけるカーブの存否に対応するデータおよび車両の左前方におけるカーブの存否に対応するデータならびに渋滞の有無に対応するデータを用いて、渋滞が発生しかつ車両の右前方にカーブが存在すれば車両の右前方の画像をモニタに表示させ、渋滞が発生しかつ車両の左前方にカーブが存在すれば車両の左前方の画像をモニタに表示させる制御手段を備える表示制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月31日(2006.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
車両用クッション体のようなポリウレタンモールドフォーム製品を粉砕品にしてリボンデットフォームとして再利用しようとした場合には、更に別な不具合が発生する。その理由は、モールドフォーム製品の表面にスキン層が形成されていてその部分は他の部分よりも接着力が弱くなるために、例えば裁断加工中に剥がれ落ちてしまう等の不具合が発生するからである。特に、ポリウレタンモールドフォームのうち、ホットキュアフォーム製品は、コールドキュアフォーム製品よりもスキンが厚く、リボンデットフォームには不向きとされ、再利用されずに廃棄処理されていた。
【特許文献１】特開２００１−１９１０６２号公報
【特許文献２】特開２００２−３２６２２４号公報
【特許文献３】特開平１１−４８２４５号公報