【手続補正書】
【提出日】平成18年10月4日(2006.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも軟磁性層、中間層、磁気記録層及び保護層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体において、
前記磁気記録層は多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記グラニュラー構造は前記柱状粒子が前記中間層との界面から前記保護層との界面まで連続した柱状の形状となっており、前記柱状粒子は当該柱状粒子を膜厚方向に２等分した場合の前記保護層側部分の直径が前記中間層側部分の直径より大きい形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
請求項１に記載の垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層は当該磁気記録層を膜厚方向に２等分した場合の前記保護層側部分の酸素含有率が前記中間層側部分の酸素含有率より低い酸素含有率分布を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項１に記載の垂直磁気記録媒体において、前記中間層が複数の層からなり、複数の中間層のなかで前記磁気記録層の直下に位置する中間層がＲｕまたはＲｕ合金からなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項３に記載の垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層の直下に位置する中間層を構成する粒子の直径が５ｎｍ以上８ｎｍ未満であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
基板上に少なくとも軟磁性層、中間層、磁気記録層及び保護層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体において、
前記磁気記録層が多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記グラニュラー構造は前記柱状粒子が前記中間層との界面から前記保護層との界面まで連続した柱状の形状となっており、前記中間層は複数の層からなり、前記複数の層のなかで前記磁気記録層の直下に位置する層は多数の粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記磁気記録層を構成する柱状粒子の直径が前記磁気記録層の直下に位置する層を構成する粒子の直径より大きいことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項６】
請求項５に記載の垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層の酸素含有率が前記中間層の酸素含有率より低いことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項７】
請求項５に記載の垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層の直下に位置する中間層を構成する多数の粒子がＲｕからなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項８】
請求項７に記載の垂直磁気記録媒体において、前記中間層を構成する粒子の直径が５ｎｍ以上８ｎｍ未満であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項９】
磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体を駆動する媒体駆動部と、
前記磁気記録媒体に対して記録再生を行う磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して駆動する磁気ヘッド駆動部とを含み、
前記磁気記録媒体は、基板上に少なくとも軟磁性層、中間層、磁気記録層及び保護層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であり、前記磁気記録層は柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記グラニュラー構造は前記柱状粒子が前記中間層との界面から前記保護層との界面まで連続した柱状の形状となっており、前記柱状粒子は当該柱状粒子を膜厚方向に２等分した場合の前記保護層側部分の直径が前記中間層側部分の直径より大きい形状を有することを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１０】
磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体を駆動する媒体駆動部と、
前記磁気記録媒体に対して記録再生を行う磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して駆動する磁気ヘッド駆動部とを含み、
前記磁気記録媒体は、基板上に少なくとも軟磁性層、中間層、磁気記録層及び保護層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であり、前記磁気記録層は多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記グラニュラー構造は前記柱状粒子が前記中間層との界面から前記保護層との界面まで連続した柱状の形状となっており、前記中間層は複数の層からなり、前記複数の層のなかで前記磁気記録層の直下に位置する層は多数の粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記磁気記録層を構成する柱状粒子の直径が前記磁気記録層の直下に位置する層を構成する粒子の直径より大きいことを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１１】
基板上に少なくとも軟磁性層、中間層、磁気記録層及び保護層が順次積層されてなり、前記磁気記録層が多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記グラニュラー構造は前記柱状粒子が前記中間層との界面から前記保護層との界面まで連続した柱状の形状となっている垂直磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁気記録層は少なくとも２つの連続したステップからなるスパッタリングプロセスにより形成され、最初に実行されるステップにおけるスパッタリングの投入電力がその後に実行されるステップにおけるスパッタリングの投入電力より小さいことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
基板上に少なくとも軟磁性層、中間層、磁気記録層及び保護層が順次積層されてなり、前記磁気記録層が多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、前記グラニュラー構造は前記柱状粒子が前記中間層との界面から前記保護層との界面まで連続した柱状の形状となっている垂直磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁気記録層は少なくとも２つの連続したステップからなるスパッタリングプロセスにより形成され、最初に実行されるステップに使用される酸素ガス流量がその後に実行されるステップに使用される酸素ガス流量より大きいことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
基板上に軟磁性層を形成するステップと、
前記軟磁性層上に中間層を形成するステップと、
前記中間層上に多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成され、前記柱状粒子が前記中間層との界面から磁気記録層内で連続した柱状の形状となっているグラニュラー構造を有する磁気記録層を形成するステップとを有し、
前記磁気記録層を形成するステップは、
投入電力をＰ１としたスパッタリングプロセスにて磁気記録層の初層を形成する第１のステップと、
投入電力をＰ１から連続的に増加させたＰ２としてスパッタリングプロセスにて磁気記録層の後層を形成する第２のステップとからなることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記磁気記録層の後層における酸素含有率が前記磁気記録層の初層における酸素含有率より低いことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
基板上に軟磁性層を形成するステップと、
前記軟磁性層上に中間層を形成するステップと、
前記中間層上に多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成され、前記柱状粒子が前記中間層との界面から磁気記録層内で連続した柱状の形状となっているグラニュラー構造を有する磁気記録層を形成するステップとを有し、
前記磁気記録層を形成するステップは、
プロセスガス中の酸素ガス流量をＦ１としたスパッタリングプロセスにて前記磁気記録層の初層を形成する第１のステップと、
前記プロセスガス中の酸素ガス流量をＦ１から連続的に増加させたＦ２としたスパッタリングプロセスにて前記磁気記録層の後層を形成する第２のステップとからなることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記磁気記録層の後層における酸素含有率が、前記磁気記録層の初層における酸素含有率より低いことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。