【事件の表示】
　平成１０年特許願第　７４９０６号「現像処理装置」拒絶査定に対する審判事件［平成１１年　９月２４日出願公開、特開平１１−２６０７０７］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願は、平成１０年３月９日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１３年１２月２５日付けの特許法第１７条の２第１項第３号の規定による補正は、却下されたので、平成１３年９月２８日付け手続補正書によって補正された明細書の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
　請求項１
「基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う方法において
　前記基板の表面に純水のみを供給する第1の工程と,
　前記基板の表面に現像液と純水とを個別に供給し,徐々に現像液の混合比率を高くしながら,現像液と純水とを基板の表面で混合させる第2の工程と,
　前記基板の表面に現像液のみを供給する第3の工程と,
　前記基板の表面に現像液と純水とを個別に供給し,徐々に現像液の混合比率を低くしながら,現像液と純水とを基板の表面で混合させる第4の工程と,
　前記基板の表面に純水のみを供給する第5の工程とを有することを特徴とする,現像処理方法。」
２．原査定の拒絶の理由に引用した引用例
２．１　特開平７−２７３０１５号公報（以下、「引用例１」という。）の記載内容
２．１．１　引用例１の記載Ａ
　引用例１の【００１６】段落には、「【００１６】上記現像装置８は、図２の概略構成図に示すように、ウエハＷを図示しない真空装置によって吸着保持しこれを水平回転させるスピンチャック２０と、このスピンチャック２０のウエハ保持部を取囲むように配設される処理カップ２１と、ウエハＷ上に処理液例えば現像液と洗浄液例えば純水等のリンス液を供給する供給ノズル２２を具備してなる。この場合、スピンチャック２０は回転軸２３に連結される図示しない昇降シリンダの駆動によって上下方向に移動し得るように構成されている。また、処理カップ２１も図示しない昇降シリンダによって上下方向に移動し得るように構成されている。」と記載されている。
２．１．２　引用例１の記載Ｂ
　引用例１には、【００２４】及び【００２５】段落に、「【００２４】上記のように構成される第２実施例の現像装置を用いて、ポリイミド系レジスト膜に回路パターンが転写されたウエハＷを現像処理する場合、リンス液Ｒの供給の終りの前に現像液Ｄの供給を開始する際、開閉弁５０，５１を操作して現像液Ｄを漸次増大（例えば１〜２秒間で０から１３０ｃｃ／ｍｉｎに増大）させてリンス液Ｒと現像液Ｄをオーバーラップ（混合供給）することができる（図５（ｂ）参照）。
【００２５】また、現像液Ｄの供給が終了する前の約３秒前からリンス液Ｒを供給する際（第１の後処理工程の際）、開閉弁５０，５１を操作して現像液Ｄの供給量を漸次減少（例えば３秒間で１３０ｃｃ／ｍｉｎから０に減少）するか（図６（ａ）参照）、リンス液Ｒを漸次増大（例えば３秒間で０から１３０ｃｃ／ｍｉｎに増大）するか（図６（ｂ）参照）、あるいは、現像液Ｄを漸次減少（例えば１３０ｃｃ／ｍｉｎから０）すると共にリンス液Ｒを漸次増大（例えば０から１３０ｃｃ／ｍｉｎ）することができる（図６（ｃ）参照）。」と記載されている。
２．１．３　引用例１の記載Ｃ
　引用例１の【００２６】段落には、「【００２６】このように、現像液Ｄとリンス液Ｒとを漸次濃度を変えながら混合・置換することによって異種液体である現像液Ｄとリンス液Ｒの違和感をなくして混合供給することができる。また、特にリンス液Ｒの供給の終りの前に現像液Ｄの供給を開始する際、現像液Ｄを漸次増大（例えば０から１３０ｃｃ／ｍｉｎに増大）させることにより、現像液Ｄの濃度を漸次濃くすることができるので、現像の均一化を図ることができる。」と記載されている。
２．１．４　引用例１の記載Ｄ
　引用例１の【００２７】段落には、「【００２７】上記実施例では、現像液Ｄとリンス液Ｒを合流管２４を介して共通の供給ノズル２２からウエハＷ表面に供給する場合について説明したが、必しも現像液Ｄとリンス液Ｒは共通の供給ノズル２２から供給する必要はなく、例えば、同一噴射パターンが得られるような同一形状の現像液用供給ノズルとリンス液用供給ノズルを近接させて配設してもよい。」と記載されている。
３．対比、判断
　そこで本件請求項１に係る発明と、引用例１記載の発明を対比する。
　引用例１の記載Ｂには、「基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う方法において
　前記基板の表面にリンス液のみを供給する第1の工程と,
　前記基板の表面に現像液とリンス液とを供給し,徐々に現像液の混合比率を高くしながら,現像液とリンス液とを混合させる第2の工程と,
　前記基板の表面に現像液のみを供給する第3の工程と,
　前記基板の表面に現像液とリンス液とを供給し,徐々に現像液の混合比率を低くしながら,現像液とリンス液とを混合させる第4の工程と,
前記基板の表面にリンス液のみを供給する第５の工程とを有する現像処理方法。」が記載されていることは明らかである。
　また、引用例１の記載Ａには、「洗浄液例えば純水等のリンス液」と記載されているから、引用例記載の、「リンス液」は、本件請求項１に係る発明の「純水」に相当する。
　さらに、引用例１の記載Ｄには、「上記実施例では、現像液Ｄとリンス液Ｒを合流管２４を介して共通の供給ノズル２２からウエハＷ表面に供給する場合について説明したが、必しも現像液Ｄとリンス液Ｒは共通の供給ノズル２２から供給する必要はなく、例えば、同一噴射パターンが得られるような同一形状の現像液用供給ノズルとリンス液用供給ノズルを近接させて配設してもよい。」と記載されているから、引用例１には、引用例１の請求項１記載のように、「処理液の供給終了前に処理液と洗浄液とを混合して上記被処理体に供給する」ことのみでなく、処理液と洗浄液を個別にウエハ表面に供給することも示されている。
　引用例１の記載Ａ，Ｂ及びＤを総合してみると、引用例１には、「基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う方法において
　前記基板の表面に純水のみを供給する第1の工程と,
　前記基板の表面に現像液と純水とを個別に供給し,徐々に現像液の混合比率を高くしながら,現像液と純水とを混合させる第2の工程と,
　前記基板の表面に現像液のみを供給する第3の工程と,
　前記基板の表面に現像液と純水とを個別に供給し,徐々に現像液の混合比率を低くしながら,現像液と純水とを混合させる第4の工程と,
　前記基板の表面に純水のみを供給する第5の工程とを有することを特徴とする,現像処理方法。」なる発明が記載されている。
　そうすると、本件請求項１に係る発明と引用例１に記載の発明とは、「基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う方法において
　前記基板の表面に純水のみを供給する第1の工程と,
　前記基板の表面に現像液と純水とを個別に供給し,徐々に現像液の混合比率を高くしながら,現像液と純水とを混合させる第2の工程と,
　前記基板の表面に現像液のみを供給する第3の工程と,
　前記基板の表面に現像液と純水とを個別に供給し,徐々に現像液の混合比率を低くしながら,現像液と純水とを混合させる第4の工程と,
　前記基板の表面に純水のみを供給する第5の工程とを有することを特徴とする,現像処理方法。」において一致し、本件請求項１に係る発明が、「現像液と純水とを基板の表面で混合させる」構成を有するのに対し、引用例１の記載の発明ではこの構成の記載がない点で相違する。
　上記相違について検討すると、引用例１記載の発明においても、「現像液Ｄとリンス液Ｒは共通の供給ノズル２２から供給する必要はなく、例えば、同一噴射パターンが得られるような同一形状の現像液用供給ノズルとリンス液用供給ノズルを近接させて配設してもよい」と記載されているから、「現像液と純水とを基板の表面で混合させる」構成は、引用例１の記載の発明において当業者が容易に実施できる程度のものにすぎない。
　さらに、本件請求項１に係る発明の目的を考慮しても、引用例１の記載Ｃ等を考慮すると、引用例１に記載された発明に対し格別の作用、効果は認められない。
　そうすると、本件請求項１に係る発明は、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。