Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電離性放射線を照射する照射部と；
薄膜材料を所定雰囲気中に保持する処理部と；
前記処理部に形成され、前記薄膜材料を連続的に前記処理部に送り込む導入部と；
前記処理部に形成され、前記薄膜材料を連続的に前記処理部から導出する導出部と；
前記導入部または前記導出部に配設され、前記薄膜材料の両面に接し前記所定雰囲気を保持する気密機構とを備え；
前記照射部には、前記電離性放射線を前記処理部に取り出して、前記処理部内で前記薄膜材料に前記電離性放射線を照射する照射窓が形成されている；
電離性放射線照射装置。
【請求項２】
前記気密機構は、前記薄膜材料の両面のそれぞれに接してシールするシール材を有する、請求項１に記載の電離性放射線照射装置。
【請求項３】
前記気密機構は、前記シール材を機械的に補強保持する補強材を有する、請求項２に記載の電離性放射線照射装置。
【請求項４】
前記シール材は、天然ゴム、合成ゴム、天然樹脂、合成樹脂、無機材料からなる群より選択された少なくとも一つの材料であり、前記補強材は金属板である、請求項３に記載の電離性放射線照射装置。
【請求項５】
前記処理部内に不活性気体を供給して前記所定雰囲気を不活性雰囲気とする不活性気体供給部を備える；
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の電離性放射線照射装置。
【請求項６】
薄膜材料を連続的に所定雰囲気中に送り込む導入工程と；
前記薄膜材料を前記所定雰囲気中に保持する保持工程と；
電離性放射線を前記所定雰囲気中に取り出して、前記所定雰囲気中で前記薄膜材料に照射する照射工程と；
前記薄膜材料を連続的に前記所定雰囲気中から導出する導出工程と；
前記導入工程または前記導出工程の際に、前記薄膜材料の両面のそれぞれに接してシールするシール材と前記薄膜材料とを接触させて、前記所定雰囲気を保持する気密工程とを備える；
電離性放射線照射方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、請求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載の電離性放射線照射装置では、シール材６１、６２、７１、７２は、ブタジエン系ゴム、スチレン系ゴム、ブチル系ゴム、エチレン・プロピレン系ゴム、ニトリル系ゴム、アクリル系ゴム、ウレタン系ゴム、シリコーン系ゴム、フッ素系ゴムからなる群から選択された少なくとも一つの合成ゴム、又は、ブタジエン樹脂、スチレン樹脂、ブチル樹脂、エチレン・プロピレン樹脂、ニトリル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂からなる群から選択された少なくとも一つの合成樹脂であるとしてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、請求項４に記載の電離性放射線照射装置では、金属板は、アルミニウム、チタン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ステンレス鋼からなる群から選択された少なくとも一つの金属又はその合金製であるとしてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また請求項５に記載のように、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の電離性放射線照射装置では、処理部３内に不活性気体を供給して前記所定雰囲気を不活性雰囲気とする不活性気体供給部９１、９２、９３、９４、９５、９６を備えるよう構成してもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、請求項５に記載の電離性放射線照射装置では、不活性気体は、窒素ガス、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガスからなる群から選択された少なくとも一つのガスを含むものとしてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
上記目的を達成するために、請求項６に係る発明による電離性放射線照射方法は、例えば図１又は図４に示すように、薄膜材料１０を連続的に所定雰囲気中に送り込む導入工程（Ｓ１０２）と；薄膜材料１０を所定雰囲気中に保持する保持工程（Ｓ１０６）と；電離性放射線を所定雰囲気中に取り出して、所定雰囲気中で薄膜材料１０に照射する照射工程（Ｓ１０８）と；薄膜材料１０を連続的に所定雰囲気中から導出する導出工程（Ｓ１１２）と；導入工程（Ｓ１０２）または導出工程（Ｓ１１２）の際に、薄膜材料１０の両面のそれぞれに接してシールするシール材６１、６２、７１、７２と薄膜材料１０とを接触させて、所定雰囲気を保持する気密工程（Ｓ１０４、Ｓ１１０）とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の波長のパルス光を発生する光源部と、
該光源部からの光を試料に照射することにより試料分子をイオン化するイオン化部と、
イオン化部において生成されたイオンを電荷質量比に応じて分離する質量分析部と、
を備えることを特徴とする生体試料分析用質量分析装置。
【請求項２】
上記光源部が、互いに異なる波長の超短光パルスレーザ光を発する複数の超短光パルスレーザ光源を含むことを特徴とする請求項１に記載の生体試料分析用質量分析装置。
【請求項３】
上記光源部が、超短光パルスをターゲット物質に照射することにより生成される白色連続スペクトル光を分光し、所定の波長のパルス光のみを取り出すものであることを特徴とする請求項１に記載の生体試料分析用質量分析装置。
【請求項４】
上記光源部が、超短光パルスをフォトニック結晶ファイバーに通すことにより生成される白色連続スペクトル光を分光し、所定の波長のパルス光のみを取り出すものであることを特徴とする請求項１に記載の生体試料分析用質量分析装置。
【請求項５】
複数のパルス光を取り出す際、それらを波長毎に時間的にずらせる波長パルス分離機構を有することを特徴とする請求項３又は４に記載の生体試料分析用質量分析装置。
【請求項６】
異なる波長の超短光パルスの組を複数設け、分析のシーケンスに応じて該組のうちのいずれかを照射することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の生体試料分析用質量分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月12日(2006.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
現在大型形状の氷の製造方法として、アイス缶を使い、アイス缶の中に水を入れて、冷媒で冷却する製氷方式が一般的であるが、塩分濃度をもった原水をこの方法で製氷すると、製氷行程が緩慢凍結であるため、製氷中に凍結濃縮現象が生じ、製氷時に塩分が排除されながら製氷が進行するため、できた氷は、氷側は塩分濃度が薄く、残原水側の塩分濃度が製氷行程の進行に伴い、濃度が上がっていくため、製氷が完了したとき氷全体の塩分濃度に大きなばらつきが生じてしまうという問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図４は、従来のアイス缶０１を示し、アイス缶０１の内面から中心方向に向って（製氷方向ｐ）結氷化が進み氷ｉが生成され、中心部に残原水ｗが残る。図５は、図４中のａ−ａ断面における塩分濃度を示す。
図５に示されるように、結氷化が遅い中央部ほど塩分濃度が徐々に大きくなる。
また塩分を含んだ氷は塩分が不純物として存在するために、氷結晶が小さく、脆い氷となり、氷の取り扱い時に割れやすく、氷鋏みの爪が掛からないなど作業性が悪いという問題があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の前記氷構造体は、図１に示すように、製氷容器であるアイス缶１の中で、表層すべてを真水氷ｐｗで被覆され、内部に塩分氷ｓが存在する構造体である。強度のある真水氷で被覆することにより、塩水氷の欠点である脆さを補うことができ、輸送、保管等に十分な強度をもたせることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006003038.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2006003038.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月15日(2006.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子源と、前記電子源から放射された電子線を開口パターンを含むパターンが形成された試料に照射するための対物レンズと、前記試料を載置する試料台と、前記電子線を前記試料の所望の領域に走査または照射させる偏向器と、前記電子線を前記試料に照射して発生する二次電子を検出する検出器とを少なくとも備えた電子線装置において、
前記電子源より放射された第一の電子線を前記試料の第一の領域に走査して前記試料の正極性に帯電させる手段と、
前記正極性に帯電した前記試料の第一の領域内の第二の領域に前記電子源より放射された、前記第一の電子線よりもビーム径の小さい第二の電子線を走査して発生した二次電子を前記検出器で検出し、
該検出した結果から前記試料の開口パターンの欠陥を検出する手段とを備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項２】
電子源と、前記電子源から放射された電子線を開口パターンを含むパターンが形成された試料に照射するための対物レンズと、前記試料を載置する試料台と、前記電子線を前記試料の所望の領域に走査または照射させる偏向器と、前記電子線を前記試料に照射して発生する二次電子を検出する検出器とを少なくとも備えた電子線装置において、
前記電子源より放射された第一の電子線を前記試料の第一の領域に走査して前記試料の開口部と開口欠陥部の孔底において電位差が発生するように正極性に帯電させる手段と、
前記正極性に帯電した前記試料の第一の領域内の第二の領域に前記電子源より放射された、前記第一の電子線よりもビーム径の小さい第二の電子線を走査して発生した二次電子を前記検出器で検出し、
該検出器からの信号に基づいて電位コントラスト及び前記開口部の寸法を算出する手段と、該電位コントラスト及び前記開口部の寸法から前記試料における欠陥の種類を判定する手段とを備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電子線装置において、
前記電子線の照射エネルギーまたはビーム径を少なくとも制御する制御手段を備えること
を特徴とする電子線装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の電子線装置において、
前記試料表面の帯電電圧を制御する手段を備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項５】
請求項１に記載の電子線装置において、
前記検出器で検出された結果を画像化する画像処理手段と、
前記画像化された検出結果を表示する表示手段とを備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項６】
請求項１に記載の電子線装置において、
前記検出された結果を基に前記欠陥の種類を判定し、分類する手段を備えることを特徴と
する電子線装置。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の電子線装置において、
前記第一及び第二の電子線を走査または照射して発生した二次電子を弁別するエネルギーフィルターを備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項８】
請求項１又は２に記載の電子線装置において、
前記検出した欠陥の情報から欠陥発生プロセスを特定する手段を備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項９】
請求項１又は２に記載の電子線装置において、
前記開口欠陥部の孔底における膜厚を測定する手段を備えることを特徴とする電子線装置。
【請求項１０】
請求項１又は２に記載の検査方法において、
前記第一の電子線の照射エネルギーは１００エレクトロンボルトから１０００エレクトロンボルトの間であることを特徴とする電子線装置。
【請求項１１】
請求項１又は２に記載の電子線装置において、
前記試料の帯電電圧は５ボルト以上５０ボルト以下であることを特徴とする電子線装置。
【請求項１２】
請求項２に記載の電子線装置において、
前記試料における前記欠陥の面内分布または前記欠陥の種類を判定した結果を表示する手段を備えることを特徴とする電子線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月31日(2006.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図６（ａ）〜（ｃ）からわかるように、スリップ角αによって凝着域とすべり域の割合が大きく変化する。このような凝着域およびすべり域の横方向摩擦力、すなわち横力成分をタイヤ幅方向に沿って積分することによって横力Ｆｙ’を算出することができ、さらにタイヤ中心Ｏ周りのモーメントを算出することによってトルクＭｚ’を算出することができる。
同様に、前後方向剪断力についても、凝着域および滑り域の前後方向摩擦力、すなわち前後力成分をタイヤ幅方向に沿って積分することによって前後力Ｆx’を算出することができる。
式（６）〜（８）では、上述の凝着域および滑り域に分けて、実効スリップ角αｅを用いて前後力Ｆx’、横力Ｆｙ’およびトルクＭｚ’を算出する。
なお、滑り摩擦係数μdは、式（５）に示すように、滑り速度依存性を有するように規定されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2006232011.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
第１トロイダル変速機構６の第１入力ディスク１０ａの外側には、入力軸２にセレーション結合されて一体に回転するカムフランジ２２が配置されており、このカムフランジ２２と第１入力ディスク１０ａとの間にはローディングカム２４が配置され、入力軸２のトルクがカムフランジ２２、ローディングカム２４を介して第１入力ディスク１０ａに入力するようになっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において、図５および図６に示した構成と同一構成部分には、同一符号を付してその説明を簡略化する。
図１は、本発明に係る第１の実施の形態を示す図である。
本実施の形態では、第１、第２出力ディスク１２ａ，１２ｂ間に配置した出力ギヤ１８が、ハウジング内に設けた中間壁３２ａ，３２ｂの内周と、ボス部１８ａの外周との間に配置した一対のアンギュラ玉軸受４０ａ，４０ｂに支持されながら主軸４の軸線Ｐ回りに回転自在とされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2002276752.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月21日(2006.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
そして、エンジン稼働に伴って入力軸２２にトルクが伝達されると、このトルクはカムフランジ４０、ローディングカム４２を介して第１入力ディスク３０ａに伝達されるとともに、主軸２４を介して第２入力ディスク３０ｂに伝達され、これら第１、第２入力ディスク３０ａ，３０ｂが回転する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
第１、第２入力ディスク３０ａ，３０ｂに入力したトルクは、第１、第２パワーローラ３４ａ，３４ｂを介して第１、第２出力ディスク３２ａ，３２ｂに伝達され、このとき、第１、第２パワーローラ３４ａ，３４ｂが第１、第２支持機構により傾転制御されることで、第１、第２パワーローラ３４ａ，３４ｂの傾転角に応じた変速比が、第１入力ディスク３０ａおよび第１出力ディスク３２ｂ間、第２入力ディスク３０ｂおよび第２出力ディスク３２ｂ間に無段階に発生する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、第２入力ディスク３０ｂとのスプライン結合部分５０の主軸２４は縮径されておらず、しかも、スプライン結合部分５０を充分に長い寸法とすることができるので、安定したトルク伝達を行うことができる。
また、主軸２４の軸穴５８に通じる油穴６０は、段差５２の近くに存在しないので、その油穴６０の周囲に応力が集中することがなく、主軸２４が破損するおそれがない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2002276753.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月10日(2006.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の電子放出素子が配される電子源形成用基板であって、基板上にＳｉＯ2を主成分とする層を有し、該ＳｉＯ2層の室温における０．４ｗｔ％フッ化水素アンモニウム水溶液（ＮＨ4−ＨＦ2）でのエッチングレートが１５０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする電子源形成用基板。
【請求項２】  前記エッチングレートが１００ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする請求項１に記載の電子源形成用基板。
【請求項３】  前記エッチングレートが３０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする請求項１に記載の電子源形成用基板。
【請求項４】  前記ＳｉＯ2を主成分とする層の下に、第１の層として酸化スズ（ＳｎＯ2）の微粒子を主成分とする層を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電子源形成用基板。
【請求項５】  前記第１の層の主成分である酸化スズ（ＳｎＯ2）の微粒子のメジアン値で表される平均粒子径が１５ｎｍ乃至３０ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載の電子源形成用基板。
【請求項６】  前記第１の層の主成分が酸化スズ（ＳｎＯ2）の微粒子であり、かつその層中にリン（Ｐ）を０．５乃至１０重量部含有することを特徴とする請求項４または５に記載の電子源形成用基板。
【請求項７】  請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電子源形成用基板と、該ＳｉＯ２を主成分とする層上に配置された複数の電子放出素子と、該複数の電子放出素子をマトリクス配線した複数の行方向配線及び複数の列方向配線とを備えることを特徴とする電子源。
【請求項８】  請求項７に記載の電子源と、該電子源から放出される電子の照射により画像を形成する画像形成部材とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】  前記ＳｉＯ2を主成分とする層を、シリコンアルコキシドを加水分解することによって得られたシリカゾルを焼成することによって形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電子源形成用基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月7日(2006.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】記録媒体、再生装置、プログラム格納媒体、および再生方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数のディジタルデータと、前記複数のディジタルデータの再生順序を定義する複数の再生経路情報とが記録された記録媒体であって、
前記複数の再生経路情報は、
前記記録媒体に記録されている前記複数のディジタルデータ全ての再生順序を定義する第１の再生経路情報と、
前記記録媒体に記録されている前記複数のディジタルデータの少なくとも１つの再生順序を定義する第２の再生経路情報とを含む、記録媒体。
【請求項２】  前記記録媒体に記録されている複数のディジタルデータ全ては、それぞれ識別子と１対１で対応付けがなされており、
前記第１の再生経路情報は、さらに、前記複数のディジタルデータ全てについて、対応する前記識別子とともに再生順序を定義し、
前記第２の再生経路情報は、さらに、前記複数のディジタルデータの少なくとも１つについて、対応する前記識別子を用いて再生順序を定義する、請求項１記載の記録媒体。
【請求項３】  前記第１の再生経路情報は、さらに、管理情報を含み、
前記管理情報は前記複数のディジタルデータ全てについて、それぞれ１対１で対応付けがなされており、
前記第２の再生経路情報における前記識別子は、前記第１の再生経路情報における前記管理情報にアクセスするためのものであって、そのアクセスは、前記第１の再生経路情報における識別子と前記第２の再生経路情報における識別子の一致に基づいて行われるものである、請求項２記載の記録媒体。
【請求項４】  請求項１に記載の記録媒体を再生する再生装置であって、
前記記録媒体に記録された前記複数の再生経路情報のうち選択された再生経路情報を取り出す取り出し部と、
前記選択された再生経路情報に従って、前記複数のディジタルデータのうち１つのディジタルデータを特定する特定部と、
特定したディジタルデータを再生する再生部と、
を備える、再生装置。
【請求項５】 前記記録媒体に記録されている複数のディジタルデータ全ては、それぞれ識別子と１対１で対応付けがなされており、
前記第１の再生経路情報は、さらに、管理情報を含み、当該管理情報は前記複数のディジタルデータ全てについて、それぞれ１対１で対応付けがなされており、
前記第１の再生経路情報は、前記複数のディジタルデータ全てについて、対応する識別子とともに再生順序を定義し、
前記第２の再生経路情報は、前記複数のディジタルデータの少なくとも１つについて、対応する前記識別子を用いて再生順序を定義しており、
前記取り出し部によって特定の第２の再生経路情報が取り出された場合に、前記特定部は、再生すべきディジタルデータに対応する第２の再生経路情報中の前記識別子を特定し、特定した識別子に基づいて、第１再生経路情報中の識別子が一致するものを特定し、特定した識別子に対応する管理情報を取り出し、取り出した管理情報に基づき、再生すべきディジタルデータを特定する、請求項４記載の再生装置。
【請求項６】  請求項１に記載の記録媒体を再生する再生プログラムを格納したプログラム格納媒体であって、
前記記録媒体に記録された前記複数の再生経路情報のうち選択された再生経路情報を取り出す取り出しステップと、
前記選択された再生経路情報に従って、前記複数のディジタルデータのうち１つのディジタルデータを特定する特定ステップと、
特定したディジタルデータを再生する再生ステップと、
を含む、再生プログラムを格納したプログラム格納媒体。
【請求項７】  請求項１に記載の記録媒体を再生する再生方法であって、
前記記録媒体に記録された前記複数の再生経路情報のうち選択された再生経路情報を取り出す取り出しステップと、
前記選択された再生経路情報に従って、前記複数のディジタルデータのうち１つのディジタルデータを特定する特定ステップと、
特定したディジタルデータを再生する再生ステップと、
を含む、再生方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ここで、曲データ管理部２０３によって管理される情報は、ＭＤにおけるＴＯＣ（Ｔａｂｌｅ  ｏｆ  ｃｏｎｔｅｎｔｓ）に相当する。ＭＤでは、ＴＯＣによって、ＭＤに記録されているすべての曲の再生順序が定義される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月20日(2006.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】表面に配線パターンとなる導体膜が形成され、バインダ樹脂を含むセラミックグリーンシートを複数積層して成る積層体を準備する工程と、
前記積層体上の所定位置に、レーザ光を照射して前記照射位置に貫通孔前駆体を形成する工程と、
前記貫通孔前駆体を除去して、前記積層体の積層方向に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、
前記積層体を焼成する工程と、を有するコンデンサ素子の製造方法であって、
前記貫通孔の一方側の開口径と他方側の開口径を異ならせたことを特徴とするコンデンサ素子の製造方法。
【請求項２】  前記貫通孔の内面に露出する前記導体膜の露出部は、前記積層体の積層方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項１記載のコンデンサ素子の製造方法。
【請求項３】前記レーザ光の波長が４００ｎｍ以下に設定されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載のコンデンサ素子の製造方法。
【請求項４】前記バインダ樹脂は、内部の分子間結合がレーザ光の照射によって切断される有機化合物であることを特徴とする請求項３に記載のコンデンサ素子の製造方法。
【請求項５】前記レーザ光が照射される照射領域の径を漸次小さくするように前記レーザ光を照射したことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のコンデンサ素子の製造方法。
【請求項６】前記レーザ光の径は、前記貫通孔の径よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のコンデンサ素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために本発明は、表面に配線パターンとなる導体膜が形成され、バインダ樹脂を含むセラミックグリーンシートを複数積層して成る積層体を準備する工程と、前記積層体上の所定位置に、レーザ光を照射して前記照射位置に貫通孔前駆体を形成する工程と、前記貫通孔前駆体を除去して、前記積層体の積層方向に貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、前記積層体を焼成する工程と、を有するコンデンサ素子の製造方法であって、前記貫通孔の一方側の開口径と他方側の開口径を異ならせたことを特徴とするコンデンサ素子の製造方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記貫通孔の内面に露出する前記導体膜の露出部は、前記積層体の積層方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項１記載のコンデンサ素子の製造方法を提供する。
また、前記レーザ光の波長が４００ｎｍ以下に設定されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載のコンデンサ素子の製造方法を提供する。
また、前記バインダ樹脂は、内部の分子間結合がレーザ光の照射によって切断される有機化合物であることを特徴とする請求項３に記載のコンデンサ素子の製造方法を提供する。
また、前記レーザ光が照射される照射領域の径を漸次小さくするように前記レーザ光を照射したことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のコンデンサ素子の製造方法を提供する。
また、前記レーザ光の径は、前記貫通孔の径よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のコンデンサ素子の製造方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
【発明の効果】本発明の構成によれば、４００ｎｍ以下の波長のレーザ光によりセラミックグリーンシートのバインダ樹脂を構成する分子鎖を切断して貫通孔を形成したビアホール導体であるので、内部電極が貫通孔内に確実に露出され、内部電極とビアホール導体の電気的接続が良好にできる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元に配置された複数のセルの各々のセルの色彩又は濃度又は輝度によって、情報を符号化するカラー２次元コードであって、
色の組合せの各々が、予め定められた複数の色彩又は濃度又は輝度を含む、複数の前記色の組合せのうちから選択した一の色の組合せと、
前記一の色の組合せに含まれる前記色彩又は濃度又は輝度を使用して、前記情報を符号化する前記複数のセルとを有する、カラー２次元コード。
【請求項２】
前記一の色の組合せを識別する情報を、カラー２次元コード内に、更に配置することを特徴とする、請求項１に記載のカラー２次元コード。
【請求項３】
前記色の組合せの中の少なくとも１つは、その１つの色の組合せの中に含まれる各色の輝度成分又は濃度成分が、その１つの色の組合せの中に含まれる他の色の輝度成分又は濃度成分と異なる値を有することを特徴とする請求項１に記載のカラー２次元コード。
【請求項４】
前記色の組合せの中に含まれる各色は、前記各色の輝度成分又は濃度成分の間の差が略等しい輝度成分又は濃度成分を有するように選択されることを特徴とする、請求項３に記載のカラー２次元コード。
【請求項５】
前記一の色の組合せを示すパターンを、２次元コード内の１つ又はそれ以上の所定の領域に配置することを特徴とする請求項１に記載のカラー２次元コード。
【請求項６】
２次元に配置された複数のセルの各々のセルの色彩又は濃度又は輝度によって、情報を符号化するカラー２次元コードの作成方法であって、
色の組合せの各々が、予め定められた複数の色彩又は濃度又は輝度を含む、複数の前記色の組合せのうちから、前記２次元カラーコードを形成する画像形成手段の最小ドットにより表現可能な階調数に応じて、一の色の組合せを選択するステップと、
情報ビット列を、ｎビットごとのブロックに分割するステップと、
前記各ブロックを前記各セルに配置する配置ステップと、
前記各セルに対して、前記ブロックのｎビットの表す値に対応する色を前記一の色の組合せの中から選択して、印刷する画像を形成する画像形成ステップとを有する、カラー２次元コードの作成方法。
【請求項７】
前記分割するステップは、前記選択するステップで選択された前記一の色の組合せに含まれる色の数に応じて、分割するビット数ｎを決定することを特徴とする請求項６に記載のカラー２次元コードの作成方法。
【請求項８】
カラー２次元コードを読み取るための読み取り装置を指定するステップを更に有し、指定された前記読み取り装置がカラー読取装置でない場合には、請求項３或は４に記載のカラー２次元コードを作成することを特徴とする、請求項６或は７に記載のカラー２次元コードの作成方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のうち何れか一項に記載の印刷されたカラー２次元コードを復号する、カラー２次元コードの復号方法であって、
カラー２次元コードの読み取り画素位置を設定する読み取り画素位置設定ステップと、
前記読み取り画素位置設定ステップにより設定された読み取り画素位置で、セルの画素値を読み取る画像データ読み取りステップと、
一の色の組合せを読み取るリファレンスパターン読み取りステップと、
前記リファレンスパターン読み取りステップで読み取った前記一の色の組合せに基づいて、色補正パラメータを作成する色補正パラメータ作成ステップと、
前記リファレンスパターン読み取りステップで読み取った前記一の色の組合せに基づいて、前記画像データ読み取りステップで読み取った前記セルの画素値の補正を行う色補正ステップと、
前記色補正された色データを変換して第２のデータを作成するデータ変換ステップと、
前記データ変換ステップで作成された前記第２のデータの誤りを訂正する誤り訂正ステップとを有する、カラー２次元コードの復号方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のうち何れか一項に記載の印刷されたカラー２次元コードを復号する、カラー２次元コードの復号装置であって、
カラー２次元コードの読み取り画素位置を設定する読み取り画素位置設定器と、
前記読み取り画素位置設定器により設定された読み取り画素位置で、セルの画素値を読み取る画像データ読み取り器と、
一の色の組合せを読み取るリファレンスパターン読み取り器と、
前記リファレンスパターン読み取り器で読み取った前記一の色の組合せに基づいて、色補正パラメータを作成する色補正パラメータ作成器と、
前記リファレンスパターン読み取り器で読み取った前記一の色の組合せに基づいて、前記画像データ読み取りステップで読み取った前記セルの画素値の補正を行う色補正器と、
前記色補正された色データを変換して第２のデータを作成するデータ変換器と、
前記データ変換器で作成された前記第２のデータの誤りを訂正する誤り訂正器とを有する、カラー２次元コードの復号装置。
【請求項１１】
前記色補正パラメータ作成器は、前記リファレンスパターン読み取り器で読み取った前記一の色の組合せに含まれる色と、予め定められた色との間の対応関係を作成することを特徴とする請求項１０に記載のカラー２次元コードの復号装置。
【請求項１２】
前記色補正パラメータ作成器は、前記リファレンスパターン読み取り器で読み取った、１つ又はそれ以上の所定の領域に配置された各々の領域からの前記一の色の組合せに含まれる色の平均値と、予め定められた色との間の対応関係を作成することを特徴とする請求項１１に記載のカラー２次元コードの復号装置。
【請求項１３】
前記色補正パラメータ作成器は、前記リファレンスパターン読み取り器で読み取った、１つ又はそれ以上の所定の領域に配置された各々の領域からの前記一の色の組合せに含まれる色が属する色空間を複数の領域に分割し、孤立した領域に属する色を除外した残りの色の平均値と、予め定められた色との間の対応関係を作成することを特徴とする請求項１２に記載のカラー２次元コードの復号装置。
【請求項１４】
請求項６乃至９に記載の方法における各ステップをコンピュータに実行させるプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項６に記載の発明は、２次元に配置された複数のセルの各々のセルの色彩又は濃度又は輝度によって、情報を符号化するカラー２次元コードの作成方法であって、
色の組合せの各々が、予め定められた複数の色彩又は濃度又は輝度を含む、複数の前記色の組合せのうちから、前記２次元カラーコードを形成する画像形成手段の最小ドットにより表現可能な階調数に応じて、一の色の組合せを選択するステップと、
情報ビット列を、ｎビットごとのブロックに分割するステップと、
前記各ブロックを前記各セルに配置する配置ステップと、
前記各セルに対して、前記ブロックのｎビットの表す値に対応する色を前記一の色の組合せの中から選択して、印刷する画像を形成する画像形成ステップとを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月31日(2006.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ランプ共振回路が結合された蛍光ランプに電力を供給するための半ブリッジ構造に接続してある第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタを駆動するための集積回路であって、前記第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタの半ブリッジ構造は、発振入力電圧を前記ランプ共振回路に供給し、前記発振入力電圧は位相を有し、前記共振回路は該共振回路を流れる電流を有し、前記共振回路を流れる電流は位相を有し、前記集積回路は、
前記集積回路の外部にある前記ランプ共振回路の検出抵抗と接続するための手段と、
前記検出抵抗の両端にかかる電圧を検出することにより、前記ランプ共振回路を流れる電流の位相を決定するための手段と、
前記発振入力電圧の位相と、前記ランプ共振回路の電流の位相との関係を実質的に一定に維持することにより、前記ランプの電力を調整するための手段と、
前記検出抵抗の両端にかかる電圧を基準電圧と比較するためのコンパレータを備え、その比較の結果を用いて、前記ランプ共振回路に過電流が流れることを防止する過電流保護回路と
を備えることを特徴とする集積回路。
【請求項２】  請求項１に記載の集積回路において、前記集積回路は、前記半ブリッジ回路を停止する前に前記ランプ共振回路を通って流れる電流をあらかじめ定められた時間にわたってあらかじめ定められたレベルに制限するための回路を含むことを特徴とする集積回路。
【請求項３】  ランプ共振回路が結合された蛍光ランプに電力を供給するための半ブリッジ構造に接続してある第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタを駆動するための集積回路であって、前記第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタの半ブリッジ構造は、発振入力電圧を前記ランプ共振回路に供給し、前記発振入力電圧は位相を有し、前記共振回路は該共振回路を流れる電流を有し、前記共振回路を流れる電流は位相を有し、前記集積回路は、
前記集積回路の外部にある前記ランプ共振回路の検出抵抗と接続するための手段と、
前記検出抵抗の両端にかかる電圧を検出することにより、前記ランプ共振回路を流れる電流の位相を決定するための手段と、
前記発振入力電圧の位相と、前記ランプ共振回路の電流の位相との関係を実質的に一定に維持することにより、前記ランプの電力を調整するための手段と、
前記検出抵抗の両端にかかる電圧を基準電圧と比較するためのコンパレータを備え、その比較の結果を用いて、ランプの存在を検出するランプ存在検出回路と
を備えることを特徴とする集積回路。
【請求項４】  請求項３に記載の集積回路において、前記ランプ存在検出回路は、駆動されているすべての蛍光ランプが、取り外されたか、または破損したカソードを有する場合に前記半ブリッジ駆動回路を停止するための手段を含むことを特徴とする集積回路。
【請求項５】  請求項３に記載の集積回路において、前記ランプ存在検出回路は、動作中の前記ランプ共振回路へのランプの挿入時に前記蛍光ランプの予熱シーケンスをリセットするための手段を含むことを特徴とする集積回路。
【請求項６】  請求項３に記載の集積回路において、前記ランプ存在検出回路は、調整されている蛍光ランプが取り外された場合に別の蛍光ランプを調整するための手段を含むことを特徴とする集積回路。
【請求項７】  ランプ共振回路が結合された蛍光ランプに電力を供給するための半ブリッジ構造に接続してある第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタを駆動するための集積回路であって、前記第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタの半ブリッジ構造は、発振入力電圧を前記ランプ共振回路に供給し、前記発振入力電圧は位相を有し、前記共振回路は該共振回路を流れる電流を有し、前記共振回路を流れる電流は位相を有し、前記集積回路は、
前記集積回路の外部にある前記ランプ共振回路の検出抵抗と接続するための手段と、
前記検出抵抗の両端にかかる電圧を検出することにより、前記ランプ共振回路を流れる電流の位相を決定するための手段と、
前記発振入力電圧の位相と、前記ランプ共振回路の電流の位相との関係を実質的に一定に維持することにより、前記ランプの電力を調整するための手段と、
前記検出抵抗の両端にかかる電圧を基準電圧と比較するためのコンパレータを備え、その比較の結果を用いて、前記ランプ共振回路を流れる予熱電流を制御する予熱電流制御回路と
を備えることを特徴とする集積回路。
【請求項８】  請求項１、３または７に記載の集積回路において、前記第１と第２のＭＯＳゲート・トランジスタは高位側と低位側トランジスタを備え、前記検出抵抗は前記低位側トランジスタとグランドとの間に配置されることを特徴とする集積回路。
【請求項９】  請求項１、３または７に記載の集積回路において、前記検出抵抗は前記蛍光ランプとグランドとの間に配置されることを特徴とする集積回路。
【請求項１０】  ランプ共振回路が結合された蛍光ランプに電力を供給するための半ブリッジ構造に接続してある第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタを駆動するための集積回路であって、前記第１と第２のＭＯＳゲート電力トランジスタの半ブリッジ構造は、発振入力電圧を前記ランプ共振回路に供給し、前記発振入力電圧は位相を有し、前記共振回路は該共振回路を流れる電流を有し、前記共振回路を流れる電流は位相を有し、前記集積回路は、
前記ランプ共振回路を流れる電流の位相を決定するための手段と、
前記発振入力電圧の位相と、前記ランプ共振回路の電流の位相との位相差を実質的に一定に維持することにより、前記ランプの電力を調整するための手段と、
前記発振入力電圧の位相と、前記ランプ共振回路の電流の位相との前記位相差を決定するための調光レベルを入力するための手段とを備えることを特徴とする集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月20日(2006.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
停電時に、停電発生時の遊技状態から遊技を再開するためのデータを待避する停電時処理と、
電源投入時に、ＲＡＭを初期化する初期化処理、前記待避したデータに従って設定処理を行うバックアップスタート設定処理のいずれかを実行する電源投入時処理と、
該電源投入時処理を実行した後、複数のスイッチの入力状態を監視する入力処理及び乱数更新処理を含む遊技の進行に係る処理を行う本処理と、
該本処理の終了後に前記乱数の更新処理を行う残余処理と、
を実行する手段を有する主制御基板を備えた遊技機であって、
前記主制御基板は、
前記電源投入時処理を終了した後、前記本処理及び前記残余処理から構成される通常時の処理を実行する通常時処理実行手段と、
強制割り込み端子に入力されるＮＭＩ制御信号が変化することで、ＮＭＩフラグを設定するバックアップ設定処理と、
時間の計時を行うタイマ手段と、
該タイマ手段により計時される前記通常時の処理の開始からの経過時間が設定時間を経過したことを示すＩＮＴフラグを設定するタイムアップ判定手段と、
該タイムアップ判定手段によりＩＮＴフラグが設定されている場合に、前記残余処理を強制的に打ち切り、打ち切り後の処理を前記通常時の処理の先頭へ回帰させる処理回帰手段と、
前記ＮＭＩフラグの有無を判断する処理を前記ＩＮＴフラグの有無を判定する処理よりも先に実行することにより、前記ＮＭＩフラグが設定されている場合には前記ＩＮＴフラグの有無に関わらず前記通常時の処理を強制的に停止させ、前記停電時処理に移行させる停電時処理移行手段と、
を備えたことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
即ち、前記課題を解決するため、ハードウェア的にユーザーリセットを所定時間毎にメインルーチンにかけて処理を回帰させていたのを、ソフトウェアでリセットを実行することを見出し本発明に到達したものである。即ち、請求項１記載の発明は、停電時に、停電発生時の遊技状態から遊技を再開するためのデータを待避する停電時処理と、電源投入時に、ＲＡＭを初期化する初期化処理、前記待避したデータに従って設定処理を行うバックアップスタート設定処理のいずれかを実行する電源投入時処理と、該電源投入時処理を実行した後、複数のスイッチの入力状態を監視する入力処理及び乱数更新処理を含む遊技の進行に係る処理を行う本処理と、該本処理の終了後に前記乱数の更新処理を行う残余処理と、を実行する手段を有する主制御基板を備えた遊技機であって、前記主制御基板は、前記電源投入時処理を終了した後、前記本処理及び前記残余処理から構成される通常時の処理を実行する通常時処理実行手段と、強制割り込み端子に入力されるＮＭＩ制御信号が変化することで、ＮＭＩフラグを設定するバックアップ設定処理と、時間の計時を行うタイマ手段と、該タイマ手段により計時される前記通常時の処理の開始からの経過時間が設定時間を経過したことを示すＩＮＴフラグを設定するタイムアップ判定手段と、該タイムアップ判定手段によりＩＮＴフラグが設定されている場合に、前記残余処理を強制的に打ち切り、打ち切り後の処理を前記通常時の処理の先頭へ回帰させる処理回帰手段と、前記ＮＭＩフラグの有無を判断する処理を前記ＩＮＴフラグの有無を判定する処理よりも先に実行することにより、前記ＮＭＩフラグが設定されている場合には前記ＩＮＴフラグの有無に関わらず前記通常時の処理を強制的に停止させ、前記停電時処理に移行させる停電時処理移行手段と、を備えたことを特徴とする遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
遊技盤に遊技領域を区画形成する区画部材を備えた遊技機において、
前記区画部材は、前記遊技領域に遊技球を誘導するための誘導手段を備え、
前記誘導手段は、遊技球が通過可能な間隔を空けて前記遊技盤上に並設された外レール及び内レールで構成される球案内通路を備え、前記外レールの少なくとも一部に、当該レール高さである、遊技球の通過幅を狭くするように規制する通過幅規制手段を備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】  
請求項１に記載の遊技機において、
前記通過幅規制手段は、前記外レールの所定領域においてその断面が遊技球の進行方向に進むに連れて徐々に湾曲していることを特徴とする遊技機。
【請求項３】  
請求項２に記載の遊技機において、
発射された遊技球の着地する箇所の前記外レールの断面は、平らであることを特徴とする遊技機。
【請求項４】  
請求項１から請求項３のいずれか一つに記載の遊技機において、
前記区画部材は、前記外レールと、前記内レールと、前記遊技盤に対する取付面を構成するフランジと、前記フランジの所定箇所に形成されて前記遊技盤に対する締結具が挿入される透孔と、を樹脂で一体成形したユニットであることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を貯留する貯留手段と、
前記貯留手段の底板に形成された透孔と、
前記透孔を開閉する開閉部材と、
外部操作可能な操作部とを具備し、
前記操作部の開操作に基づいて、前記開閉部材を動作させて前記透孔を開放させ、該透孔から遊技媒体を流下させる遊技機において、
前記貯留手段には案内部材を設け、少なくとも前記操作部の開操作に基づき、前記案内部材を動作させ、前記透孔から流下する前記遊技媒体を外周方向に拡散可能としたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記案内部材は、外周方向に延びる案内部を有していることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記案内部材は、回転可能となっており、その回転による遠心力によって前記遊技媒体を拡散可能としたことを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記操作部を直線運動させることにより前記開操作が行われ、かつ、
前記操作部を介して作用する操作荷重によって前記案内部材の回転が導出されるものであり、
前記操作部の直線運動を、前記案内部材の回転運動に変換する変換手段を備えていることを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月16日(2006.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１０〜１４のいずれかにおいて、
前記データは音データであることを特徴とするデータ再生方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
請求項１６〜２０のいずれかにおいて、
前記データは音データであることを特徴とするデータ再生プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球を発射する発射手段と、
発射された遊技球が案内される遊技領域を有する遊技盤と、
前記遊技盤面上において、遊技球が入賞可能な始動入賞手段と、基部が固定された状態で突設され遊技球を前記始動入賞手段へ案内可能な複数の釘部材とを備え、
前記始動入賞手段への遊技球の入賞に基づき、所定の遊技価値を付与するとともに、特定発生条件が成立した場合には特別遊技状態を発生させる遊技機であって、
前記複数の釘部材のうち少なくとも１つの釘部材の先端部の位置を固定する固定部材を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技球を発射する発射手段と、
発射された遊技球が案内される遊技領域を有する遊技盤と、
前記遊技盤面上において、遊技球が入賞可能な始動入賞手段とを備え、
前記始動入賞手段への遊技球の入賞に基づき、所定の遊技価値を付与するとともに、特定発生条件が成立した場合には特別遊技状態を発生させる遊技機であって、
前記始動入賞手段は、
前記遊技盤面に沿って配設される基片部と、
遊技球が入賞可能な入賞部と、
前記基片部に基部が固定された状態で突設され遊技球を前記入賞部へ案内可能な複数の釘部材と、
前記釘部材の先端部の位置を固定する固定部材とを備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
前記固定部材は、前記複数の釘部材のうちのいずれか２以上の釘部材の先端部又はその近傍をつなぎ、前記２以上の釘部材の先端部の相対位置関係を維持させる構成であることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記固定部材は、透明又は半透明部材であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】
前記釘部材の先端部の位置の違いに応じて、前記固定部材を取替可能であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤を支持する遊技機本体と、
前記遊技盤の前方において前後方向に所定間隔を隔てた一対の略板状の透明部材とを備え、前記透明部材を介して前記遊技盤を視認可能とする遊技機であって、
前記遊技盤の前面と、前記一対の透明部材のうち後側の透明部材との間に、遊技球の流下する遊技領域を備え、
前記一対の透明部材のうち後側の透明部材に、前方に膨出する少なくとも１つの膨出部を設けるとともに、前記膨出部を除く前記後側の透明部材を前記遊技盤と略平行となるよう構成し、前記膨出部の背面から前記遊技盤前面までの距離を、前記膨出部を除く部位の背面から前記遊技盤前面までの距離よりも長くしたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技球の少なくとも一部が前記膨出部の内側を通過可能としたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記遊技領域を流下する遊技球を前記膨出部の内側に向けて案内する案内部材を設けたことを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記遊技盤は遊技球の入球可能な入賞口を少なくとも１つ備え、少なくとも１つの前記入球口の前方に対応して前記膨出部を設けたことを特徴とする請求項２又は３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記遊技盤は遊技球の通過を検知する検知手段を少なくとも１つ備え、少なくとも１つの前記検知手段の前方に対応して前記膨出部を設けたことを特徴とする請求項２乃至４のいずれかの記載の遊技機。
【請求項６】
前記遊技盤は、当該遊技盤の前面から突出した位置と突出していない位置との間で変位可能な可動部を備え、前記可動部の前方に対応して前記膨出部を設け、前記可動部が前記遊技盤の前面から突出した位置にあっても当該可動部の前方を遊技球が流下可能としたことを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【請求項７】
前記遊技盤の前面から突出する突出部、又は、前記遊技盤の前面から突出した位置と突出していない位置との間で変位可能な可動部と、
前記突出部又は前記可動部の下方に設けられ、遊技球の入球可能な特定入賞口、又は、遊技球の通過を検知する特定検知手段とを備え、
前記突出部、又は、前記可動部の前方に対応して前記膨出部が設けられ、前記突出部の前方、又は、前記遊技盤の前面から突出した位置にある前記可動部の前方を遊技球が流下可能に構成されていることを特徴とする請求項２乃至６のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球を発射する発射手段と、
発射された遊技球が案内される遊技領域を前面側に有する遊技盤と、
前記遊技領域において、遊技球が入球可能な所定の入球手段とを備え、
前記入球手段への遊技球の入球に基づき、所定の遊技価値を付与する遊技機であって、
前記遊技盤の略前後方向を軸線として、当該軸線上に並んで配置された透光性を有する複数の透光部材と、当該複数の透光部材に対し前記遊技盤の背面側から光を照射する照射手段と、前記遊技領域内にて遊技球が接触可能な接触部材とを具備し、
前記複数の透光部材にそれぞれ透光率の異なる複数の部位が形成され、
前記接触部材が遊技球から受ける外力によって、前記複数の透光部材のうちの少なくとも１つが前記軸線を軸心にして回動又は回転し、
前記複数の透光部材のうちの少なくとも１つと、他の透光部材との相対位置が変化する特定遊技部材を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記複数の透光部材のうち前記遊技領域内に面した透光部材と、前記接触部材とが一体形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記特定遊技部材は、
前記接触部材が、前記軸線を軸心として回動又は回転可能に軸支され、
前記接触部材と前記複数の透光部材のうちの少なくとも１つとを連動させる連動手段と、
前記接触部材の回動量又は回転量と、当該接触部材に連動する透光部材の回動量又は回転量とを異ならせる調整手段とを備えていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項４】
前記複数の透光部材の透光面にそれぞれ凹凸を形成することにより各部位の透光率を異ならせたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。