【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  回転弁を含む処理装置において、
実質的に円板状の弁板と、該円板状の弁板の一側部における開口部を有する面と、該面の開口部から前記板内に伸長する複数の通路とを備え、該通路の少なくとも幾つかが、前記弁板の厚さを貫通して伸長し、該面と反対側の前記板の側部と連通し、前記円板状の弁板が、前記面に対して相当な角度にて伸長する軸線の周りで回転可能であり、
前記弁板に隣接する１つの面を有する弁ハウジングであって、複数の通路を有し、前記弁ハウジングの面に対して開口する弁ハウジングを備え、該弁ハウジングの少なくとも一つの前記通路の第一のものが供給流体と連通し、前記弁ハウジングの少なくとも一つの前記通路の第二のものが前記弁ハウジングからの前記流体の排出口と連通し、少なくとも一つの前記通路の第三のものが前記弁ハウジングからの排液口と連通し、
前記弁板は、流体が弁ハウジング内の前記第一の通路から弁板を貫通する通路の１つまで供給されかつ弁板を貫通する別の通路から前記弁ハウジングからの排出口と連通する前記弁ハウジング内の前記第二の通路まで供給される第一の位置と、流体が弁ハウジング内の前記通路の別のものから弁板を貫通する別の通路まで供給されかつ弁板を貫通する別の通路から前記弁ハウジングからの排液口と連通する前記弁ハウジング内の前記第三の通路まで供給される第二の位置との間にて、前記弁板の軸線の周りで回転可能であり、
前記弁板は、流体が流体供給部から迂回位置まで流れる水洗い位置を含む少なくとも一つ以上の追加的な位置まで回転可能であり、前記迂回位置にて、流体が流体供給部から前記弁板を通りかつ前記弁ハウジングから排出口まで流れる、処理装置。
【請求項２】  請求項１に記載の処理装置において、前記面が実質的に平坦で且つ互いに対して平行であり、弁板の軸線が、平坦面に対して実質的に垂直である、処理装置。
【請求項３】  請求項２に記載の処理装置において、前記弁板が回転されたとき、面の他方が前記面の少なくとも１つに対して回転する際、該面の他方を通じて開放する通路の１つと選択的に整合可能である面の少なくとも１つにおける複数のシールを備える、処理装置。
【請求項４】  請求項３に記載の処理装置において、前記シールがＯリングを備える、処理装置。
【請求項５】  請求項３に記載の処理装置において、前記シールがばね負荷式ガスケットを備える、処理装置。
【請求項６】  請求項１に記載の処理装置において、前記弁板が回転されたとき、前記面の他方が前記面の少なくとも１つに対して回転する際、該面の他方を通じて開放する通路の１つと選択的に整合可能である面の少なくとも１つにおける複数のシールを備える、処理装置。
【請求項７】  請求項６に記載の処理装置において、前記シールがＯリングを備える、処理装置。
【請求項８】  請求項６に記載の処理装置において、前記シールがばね負荷式ガスケットを備える、処理装置。
【請求項９】  請求項１に記載の処理装置において、回転可能な弁と組み合わせて、少なくとも１つの流体処理媒質を保持するハウジングも備え、前記弁板が前記第一の位置にあるとき、流体が弁ハウジング内の供給流体から第一の通路を通じて弁板を貫通する通路の１つに供給され、また、流体処理媒質に供給され、更に、前記流体処理媒質から弁板を貫通する通路の別のものに供給され、弁ハウジングからの排出口と連通する前記弁ハウジング内の前記第二の通路に達し、排出口を通る前記流体処理媒質により処理された流体を提供し、弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が弁ハウジング内の前記通路の別のものから弁板を貫通する別の通路に供給され、また、前記流体処理媒質に供給され、更に、前記流体処理媒質から弁板を貫通する通路の別のものに供給され、前記弁ハウジングからの排液口と連通する弁ハウジング内の前記第三の通路に供給され、流体処理媒質を逆洗いする、処理装置。
【請求項１０】  請求項９に記載の処理装置において、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が供給流体から前記流体処理媒質に供給されて、該流体処理媒質を逆洗いする、処理装置。
【請求項１１】  請求項９に記載の処理装置において、前記弁ハウジングが、流体処理媒質を再生するブライン供給源と連通する通路を備え、前記弁板が第二の位置にあるとき、流体が前記通路を通じてブライン供給源から前記流体処理媒質まで供給されて、流体処理媒質を再生する、処理装置。
【請求項１２】  請求項９に記載の処理装置において、媒質が保持された前記ハウジングが前記弁板に固定され、これにより、前記弁板が、ハウジングの回転により、前記第一の位置と、前記第二の位置と、前記水洗い位置との間にて回転される、処理装置。
【請求項１３】  請求項１２に記載の処理装置において、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が供給流体から前記流体処理媒質に供給されて、該流体処理媒質を逆洗いする、処理装置。
【請求項１４】  請求項１２に記載の処理装置において、前記弁ハウジングが、流体処理媒質を再生させるためブライン供給源と連通する通路を備え、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が前記通路を通じてブライン供給源から前記流体処理媒質まで供給され、前記流体処理媒質を再生する、処理装置。
【請求項１５】  流体処理装置において、
所定の容積のチャンバを内部に有するハウジングと、
該チャンバ内の微細に粉砕されたルーズな流体処理媒質であって、処理すべき流体が前記媒質を通じて流れないとき、チャンバの所定の容積よりも実質的に小さい容積を占める流体処理媒質と、
チャンバ内の流体処理媒質の下方に設けられ、処理すべき流体をチャンバに導入するためのチャンバへの入口と、
チャンバから処理された流体を排出すべく流体処理媒質の下流に設けられたチャンバへの出口とを備え、
前記入口から処理すべき流体の流れが開始したとき、前記ルーズな流体処理媒質を制御された方法にて持ち上げ、流体処理媒質を持ち上げる速さを制限しながら、流体が連続的に流れる間、前記媒質から前記媒質に蓄積している全ての汚染物質を分離し、洗い流し且つ除去して、前記媒質を懸濁し、流体の流れが停止したとき、前記媒質がチャンバの底部に沈澱することを許容し得るような構造及び配置とされた、流体処理装置。
【請求項１６】  請求項１５に記載の流体処理装置において、前記チャンバが、その最大幅よりも高い高さを有し、前記チャンバが、その高さの中間の少なくとも一部分を備え、該部分が、流体の流れが開始されるとき、チャンバ内にて媒質が持ち上げられる速度を遅くし得るようにその最大の幅よりも実質的に狭い幅を有する、流体処理装置。
【請求項１７】  請求項１６に記載の流体処理装置において、チャンバの長さに沿って互いに隔てられた前記部分を複数、備える、流体処理装置。
【請求項１８】  請求項１６に記載の流体処理装置において、前記部分の断面積が、その前記最大幅における前記チャンバの断面積の約５乃至５０％である、流体処理装置。
【請求項１９】  請求項１６に記載の流体処理装置において、前記部分の断面積が、その前記最大幅における前記チャンバの断面積の約１０％である、流体処理装置。
【請求項２０】  請求項１６に記載の流体処理装置において、前記チャンバの長さの中間にある追加的な入口であって、狭小幅の前記部分に隣接するチャンバに対し処理すべき追加的な流体を導入すべく、狭小幅の前記部分と関係付けられた追加的な入口を備える、流体処理装置。
【請求項２１】  請求項２０に記載の流体処理装置において、前記部分の断面積が、その前記最大幅における前記チャンバの断面積の約５乃至２０％である、流体処理装置。
【請求項２２】  請求項２０に記載の流体処理装置において、前記部分の断面積が、その最大幅における前記チャンバの断面積の約１０％である、流体処理装置。
【請求項２３】  請求項１６に記載の流体処理装置において、狭小な幅の前記部分が、チャンバ内に配置されたスリーブを備える、流体処理装置。
【請求項２４】  請求項１５に記載の流体処理装置において、前記媒質が、基本的に、銅、亜鉛及びその混合体から成る群から選択された微粒子金属である、流体処理装置。
【請求項２５】  請求項２４に記載の流体処理装置において、前記金属が銅及び亜鉛の合金である、流体処理装置。
【請求項２６】  回転可能な弁を備える、請求項１５に記載の流体処理装置において、該回転可能な弁が、
実質的に円板状の弁板と、該円板状の弁板の１側部における１つの面と、該面の前記開口部から前記板内に伸長する複数の通路とを備え、前記通路の少なくとも幾つかが前記弁板の厚さを貫通して伸長し前記面と反対側の前記板の側と連通し、前記円板状の弁板が、前記面に対して相当な角度にて伸長する軸線の周りで回転可能であり、
前記弁板の面に隣接する面を有する弁ハウジングであって、複数の通路を有し、前記弁ハウジングの面に対して開放する弁ハウジングを備え、前記弁ハウジングの通路の第一のものが、供給流体と連通し、前記弁ハウジングの通路の第二のものが、前記弁ハウジングからの前記流体の排出口と連通し、前記通路の第三のものが、前記弁ハウジングからの廃液口と連通し、
流体が前記弁ハウジング内の前記第一の通路から弁板を貫通する通路の１つに及び流体処理媒質に供給され、流体処理媒質から弁板を貫通する別の通路から前記弁ハウジングからの排出口と連通する前記弁ハウジング内の前記第二の通路まで供給される第一の位置と、流体が前記弁ハウジング内の前記通路の別のものからから弁板を貫通する通路の別のものに及び流体処理媒質に供給され、流体処理媒質から弁板を貫通する別の通路から前記弁ハウジングからの排出口と連通する前記弁ハウジング内の前記第三の通路まで供給される第二の位置との間にて、前記弁板がその前記軸線の周りで回転可能である、流体処理装置。
【請求項２７】  請求項２６に記載の流体処理装置において、前記面が、実質的に平坦であり且つ互いに対して平行であり、前記軸線が、前記平坦面に対して実質的に垂直であり、前記弁板が回転したとき、前記面の他方が前記面の少なくとも１つに対して回転するようにされた際、前記面の他方を通じて開放する通路の１つと選択的に整合可能である、前記面の少なくとも１つに複数のシールが形成される、流体処理装置。
【請求項２８】  請求項２６に記載の流体処理装置において、前記シールがＯ−リングを備える、流体処理装置。
【請求項２９】  請求項２６に記載の流体処理装置において、前記シールがばね負荷式のガスケットを備える、流体処理装置。
【請求項３０】  請求項２６に記載の流体処理装置において、流体が流体処理媒質を通じて供給流体から流れ、該媒質を水洗いし且つ排液口まで流れる水洗い位置と、装置を通る流体の流れが遮断される遮断位置と、又は流体が弁板を通じて供給流体から流体処理媒質の周りで迂回され且つ弁ハウジングからの流体排出口へ迂回される迂回位置とを含む少なくとも１つ以上の追加的な位置まで、前記弁板が、回転可能である、流体処理装置。
【請求項３１】  請求項２６に記載の流体処理装置において、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が供給流体から前記流体処理媒質まで供給されて、前記流体処理媒質を逆洗いする、流体処理装置。
【請求項３２】  請求項２６に記載の流体処理装置において、前記弁ハウジングが、流体処理媒質を再生すべくブライン供給源と連通する通路を備え、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が前記流体処理媒質を再生すべくブライン供給源から前記通路を通じて前記流体処理媒質まで供給される、流体処理媒質。
【請求項３３】  請求項２６に記載の流体処理装置において、媒質が内部に保持された前記ハウジングが前記弁板に対して固定され、これにより、前記弁板が、前記ハウジングの回転により、前記第一の位置と前記第二の位置との間にて回転されるようにした、流体処理装置。
【請求項３４】  請求項３３に記載の流体処理装置において、流体が流体処理媒質を通じて供給流体から流れ、該媒質を水洗いし且つ排液口まで流れる水洗い位置と、装置を通る流体の流れが遮断される遮断位置と、又は、流体が弁板を通じて供給流体から流体処理媒質の周りで迂回され且つ弁ハウジングから流体排出口へ迂回される迂回位置とを含む少なくとも１つ以上の追加的な位置まで、前記弁板が前記ハウジングの回転により回転可能である、流体処理装置。
【請求項３５】  流体の処理を開始したとき、微細に粉砕されたルーズな流体処理媒質を迅速に再生する方法において、
流体の流れを停止させ又は流体の流れを媒質を懸濁させるのに不十分な量まで減少させることにより、以前の流体の処理後に、微細に粉砕したルーズな流体処理媒質が床内に沈澱するのを許容することと、
微細に粉砕されたルーズな流体処理媒質の床の下方にて、処理すべき流体の流れを開始させることと、
開始された流れが、媒質に蓄積するであろう汚染物質を完全に分離し且つ洗い流し得るように、流体の処理媒質が持ち上げられる速度を制限する一方にて、微細に粉砕されたルーズな流体の処理媒質を床から持ち上げるのに十分な量であるようにすることと、
流体を処理する間に、ルーズな流体処理媒質が流れる流体内に懸濁された状態を保ち続けるのに十分な仕方にて処理すべき流体の流れを保つことを続けることとを備える、方法。
【請求項３６】  請求項３５に記載の方法において、流体の流れが開始する間に、流れ経路の上方の少なくとも１つの位置にて媒質が持ち上げられる速度を選択的に制限することを含む、方法。
【請求項３７】  請求項３６に記載の方法において、少なくとも２つの隔たった位置にて媒質が持ち上げられる速度が選択的に制限される、方法。
【請求項３８】  請求項３５に記載の方法において、前記床の最大断面積の約５乃至５０％の断面積を通じて持ち上げられた流体処理媒質を通すことにより、媒質が持ち上げられる速度が制限される、方法。
【請求項３９】  請求項３５に記載の方法において、前記床の最大断面積の約１０％の断面積を通じて持ち上げられた流体処理媒質を通すことにより、媒質が持ち上げられる速度が制限される、方法。
【請求項４０】  請求項３５に記載の方法において、流体の流れが開始する間に、流れ経路の上方の少なくとも１つの位置にて処理すべき追加的な流体を導入することを含む、方法。
【請求項４１】  請求項４０に記載の方法において、前記床の最大断面積の約５乃至５０％の断面積を通じて持ち上げられた流体処理媒質を通すことにより、媒質が持ち上げられる速度が制限される、方法。
【請求項４２】  請求項４０に記載の方法において、前記床の最大断面積の約１０％の断面積を通じて持ち上げられた流体処理媒質を通すことにより、媒質が持ち上げられる速度が制限される、方法。
【請求項４３】  請求項３５に記載の方法において、前記媒質が、基本的に、銅、亜鉛及びその混合体から成る群から選択された微粒子金属である、方法。
【請求項４４】  請求項４３に記載の方法において、前記金属が銅及び亜鉛の合金である、方法。
【請求項４５】  請求項３５に記載の方法において、前記流体が水である、方法。
【請求項４６】  請求項４５に記載の方法において、前記媒質が、基本的に、銅、亜鉛及びその混合体から成る群から選択された微粒子金属である、方法。
【請求項４７】  請求項４６に記載の方法において、前記金属が銅及び亜鉛の合金である、方法。
【請求項４８】  回転弁を含む処理装置において、
実質的に円板状の弁板と、該円板状の弁板の一側部における開口部を有する面と、該面の開口部から前記板内に伸長する複数の通路とを備え、該通路の少なくとも幾つかが、前記弁板の厚さを貫通して伸長し、該面と反対側の前記板の側部と連通し、前記円板状の弁板が、前記面に対して相当な角度にて伸長する軸線の周りで回転可能であり、
前記弁板に隣接する１つの面を有する弁ハウジングであって、複数の通路を有し、前記弁ハウジングの面に対して開口する弁ハウジングを備え、該弁ハウジングの少なくとも一つの前記通路の第一のものが供給流体と連通し、前記弁ハウジングの少なくとも一つの前記通路の第二のものが前記弁ハウジングからの前記流体の排出口と連通し、少なくとも一つの前記通路の第三のものが前記弁ハウジングからの排液口と連通し、
前記弁板の面及び前記弁ハウジングの面のうちの少なくとも一方に配置された複数の第一のシール及び第二のシールであって、前記弁板が回転するにつれて前記面の内の他方が前記一方の面に対して回転したとき、前記第一のシールが、前記他方の面を介して開放する前記通路の一つと選択的に整列し、前記第二のシールが、前記弁板が回転するにつれて前記通路の選択された一つを通る流れを閉鎖する盲シールであり、
前記弁板は、流体が弁ハウジング内の前記第一の通路から弁板を貫通する通路の１つまで供給されかつ弁板を貫通する別の通路から前記弁ハウジングからの排出口と連通する前記弁ハウジング内の前記第二の通路まで供給される第一の位置と、流体が弁ハウジング内の前記通路の別のものから弁板を貫通する別の通路まで供給されかつ弁板を貫通する別の通路から前記弁ハウジングからの排液口と連通する前記弁ハウジング内の前記第三の通路まで供給される第二の位置との間にて、前記弁板の軸線の周りで回転可能である、処理装置。
【請求項４９】  請求項４８に記載の処理装置において、前記シールがＯリングを備える、処理装置。
【請求項５０】  請求項４８に記載の処理装置において、前記シールがばね負荷式ガスケットを備える、処理装置。
【請求項５１】  請求項４８に記載の処理装置において、前記面が実質的に平坦で且つ互いに対して平行であり、弁板の軸線が、平坦面に対して実質的に垂直である、処理装置。
【請求項５２】  請求項４８に記載の処理装置において、回転可能な弁と組み合わせて、少なくとも１つの流体処理媒質を保持するハウジングも備え、前記弁板が前記第一の位置にあるとき、流体が弁ハウジング内の供給流体から第一の通路を通じて弁板を貫通する通路の１つに供給され、また、流体処理媒質に供給され、更に、前記流体処理媒質から弁板を貫通する通路の別のものに供給され、弁ハウジングからの排出口と連通する前記弁ハウジング内の前記第二の通路に達し、排出口を通る前記流体処理媒質により処理された流体を提供し、弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が弁ハウジング内の前記通路の別のものから弁板を貫通する別の通路に供給され、また、前記流体処理媒質に供給され、更に、前記流体処理媒質から弁板を貫通する通路の別のものに供給され、前記弁ハウジングからの排液口と連通する弁ハウジング内の前記第三の通路に供給され、流体処理媒質を逆洗いする、処理装置。
【請求項５３】  請求項５２に記載の処理装置において、流体が流体処理媒質を通じる供給流体から流れて該流体を水洗いし、排液口に排出する水洗い位置と、処理装置を通る流体の流れが遮断される不作動位置と、または、流体が弁板を通る供給流体から流体処理媒質の周りで迂回され、弁ハウジングからの流体排出口に達する迂回位置を含む少なくとも１つ以上の追加的な位置まで前記弁板が、回転可能である、処理装置。
【請求項５４】  請求項５２に記載の処理装置において、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が供給流体から前記流体処理媒質に供給されて、該流体処理媒質を逆洗いする、処理装置。
【請求項５５】  請求項５２に記載の処理装置において、前記弁ハウジングが、流体処理媒質を再生するブライン供給源と連通する通路を備え、前記弁板が第二の位置にあるとき、流体が前記通路を通じてブライン供給源から前記流体処理媒質まで供給されて、流体処理媒質を再生する、処理装置。
【請求項５６】  請求項５２に記載の処理装置において、媒質が保持された前記ハウジングが前記弁板に固定され、これにより、前記弁板が、ハウジングの回転により、第一の位置と第二の位置との間にて回転される、処理装置。
【請求項５７】  請求項５６に記載の処理装置において、該追加的な位置が、流体が流体処理媒質を通じて供給流体から流れ、該媒質を水洗いし且つ排液口まで流れる水洗い位置と、装置を貫通する流体の流れが遮断される遮断位置と、又は流体が弁板を通じて供給流体から流体処理媒質の周りを迂回され、弁ハウジングからの流体排出口に達する迂回位置とを含む、少なくとも１つ以上の追加的な位置まで前記弁板が前記ハウジングの回転により、回転可能である、処理装置。
【請求項５８】  請求項５６に記載の処理装置において、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が供給流体から前記流体処理媒質に供給されて、該流体処理媒質を逆洗いする、処理装置。
【請求項５９】  請求項５６に記載の処理装置において、前記弁ハウジングが、流体処理媒質を再生させるためブライン供給源と連通する通路を備え、前記弁板が前記第二の位置にあるとき、流体が前記通路を通じてブライン供給源から前記流体処理媒質まで供給され、前記流体処理媒質を再生する、処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
複数の垂直孔２８が側壁２２の頂部に配置されている。該孔２８は、側壁の肉厚に亘り且つ図２に最も良く図示するように、チャンバ１６に向けた通常の流体の作用流れ方向に向けて幅が縮小し、最小の孔の幅がチャンバ１４からチャンバ１６までの通常の作用作動の下、該孔の流れ排出口側にあるようにすることが好ましい。孔２８の最小幅は、チャンバ１４内の微細に粉砕した水処理媒質１８の最小寸法及びチャンバ１６内の媒質２０の最小寸法よりも僅かに狭小であるように選択する。このことは、作用作動中、媒質１８がチャンバ１４から流れるのを防止し、媒質が孔内に永久的に残存する可能性を最小にし、それは、逆洗い時、該孔内に固着する可能性のある全ての媒質１８は、チャンバ１４内に逆洗いされて戻るからである。このことは、逆洗い中、媒質２０がチャンバ１４及び媒質１８に失われることも防止する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
始動時のこの早期の摩損及び粒子の乱流を最大にするため、微粒子の上昇速度を遅くし且つ絞る。このことは、本発明において、チャンバ１４内に取り付けられる１つ以上のスリーブ９１、９２、９３により行われる。底部スリーブ９１は、簡単な円筒体であることが好ましく、この円筒体は、頂部にて多少なりとも鋸歯状であり、処理すべき入口流体をチャンバ１４内のより高い位置にて導入するため入口オリフィス９４を形成し、図３及び図４に矢印で示すように、水処理媒質１８に対する乱流効果を向上させることが好ましい。スリーブ９１の外径は、チャンバ１４の内側壁２２の内径よりも僅かに小さく、板２４の下方の流体入口からスリーブ９１の周りで上方に入口オリフィス９４に達する環状の通路９６を提供し得るようにすることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
スリーブ９２、９３の主たる目的は、チャンバの側壁２２から内方に伸長する１つ以上の隔たった棚状部分９９を提供することである。棚状部分９９は、図１、図３及び図４に図示するように、孔１００を通じてチャンバの高さに沿った隔たった位置にてチャンバ１４内に実質的に縮小した断面積を提供する。該孔は、チャンバ１４の最大の断面積よりも遥かに狭小である。これら孔１００が無ければ、微粒子媒質１８は、始動時、チャンバ１４の頂部にて急激に懸濁され、緊密に接触した状態にて互いに対して著しく摩損する最大の機能を有しないことになろう。しかしながら、遥かに小さい断面積の場合、孔１００は、微粒子媒質が上昇する速度を遅くし、また、始動時、微粒子の間にて遥かにより緊密な関係を生じさせることになる。こうした狭小な孔１００は、これらの孔に隣接して流体を噴射するオリフィス９４、９８と相俟って、図３に図示するように、実質的に乱流の流れを生じさせ且つ微粒子の水処理媒質１８を懸濁させることになる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
チャンバ１４の最大直径は著しく相違するが、典型的に、約２．５４センチ乃至約３０センチ（１インチないし１フィート）又はそれ以上の範囲内にある。重要なことは、孔１００の断面積とチャンバ１４の最大断面積との関係である。この孔の面積は、チャンバ１４の最大断面積の、約５乃至５０％である必要があり、所望の再生を実現するためには、約１０％であることが好ましい。