【手続補正書】
【提出日】平成18年5月24日(2006.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、
ケーシングと、
該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、
該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、
該シール部材は、各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも一対の邪魔板を含み、
該一対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、一対の先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成する
ことを特徴とするシール装置。
【請求項２】
前記薄膜材料経路は、薄膜材料１枚の厚みをtとしたとき、薄膜材料１枚当たり１．５０ｔ以下に相当する離間距離を有するように、前記一対の邪魔板の先端部を位置づけることにより形成されることを特徴とする、請求項１に記載のシール装置。
【請求項３】
さらに、前記ケーシング内で薄膜材料の移動経路を案内する薄膜材料案内手段を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のシール装置。
【請求項４】
前記一対の邪魔板は、直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する２枚の平板からなり、
前記薄膜材料経路は、各平板の水平先端部を互いに平行に重ね合わせることにより形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のシール装置。
【請求項５】
前記一対の邪魔板は、前記平板を中心層とし、該平板よりも剛性である外層を有する多層構造体であることを特徴とする請求項４に記載のシール装置。
【請求項６】
前記外層は、少なくとも前記水平先端部を露出させるように、前記中心層よりも短い長さを有することを特徴とする請求項５に記載のシール装置。
【請求項７】
薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、
ケーシングと、
該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、
該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、
該シール部材は、各々が該薄膜材料と接触する平滑面を含む一対のローラを含み、
該一対のローラの間に、該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成する
ことを特徴とするシール装置。
【請求項８】
前記ローラの平滑面は、弾性材料から構成されている、請求項７に記載のシール装置。
【請求項９】
さらに、前記ケーシング内で薄膜材料の移動経路を案内する薄膜材料案内手段を含むことを特徴とする請求項７又は８に記載のシール装置。
【請求項１０】
薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、
ケーシングと、
該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、
該ケーシング内で薄膜材料の移動経路を案内する薄膜材料案内機構と、
該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止する液体を含み且つ該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を構成する液溜と、
を備えるシール装置。
【請求項１１】
さらに、前記液体と接触した後の薄膜材料を圧搾する圧搾用ローラを具備することを特徴とする請求項１０に記載のシール装置。
【請求項１２】
前記液溜は、前記ケーシング内上部での気体の流通を阻害し且つ前記ケーシング内下部での液体の流通を可能とする隔壁を含むことを特徴とする請求項１０又は１１に記載のシール装置。
【請求項１３】
薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、
ケーシングと、
該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、
該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、
該シール部材は、（１）各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも一対の邪魔板を含み、該一対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、両先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材、及び（２）各々が該薄膜材料と接触する平滑面を含む一対のローラを含み、該一対のローラの間に、該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材の組み合わせを含むことを特徴とするシール装置。
【請求項１４】
薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、
ケーシングと、
該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、
該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、
該シール部材は、各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも二対の邪魔板を含み、該二対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、両先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成し、
該二対の邪魔板は、（ａ）平板の先端部をほぼＵ字形に曲面加工した邪魔板の対、（ｂ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する２枚の平板からなる邪魔板の対、（ｃ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性である外層と、を有する多層構造体からなる邪魔板の対、（ｄ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性であり且つ少なくとも該水平先端部を露出させるように該中心層よりも短い長さを有する外層を有する多層構造体からなる邪魔板の対、及び（ａ）〜（ｄ）の任意の組み合わせから選択されることを特徴とするシール装置。
【請求項１５】
薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、
ケーシングと、
該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、
該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、
該シール部材は、（１）各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも一対の邪魔板を含み、該一対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、両先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材、及び（２）各々が該薄膜材料と接触する平滑面を含む一対のローラを含み、該一対のローラの間に、該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材の組み合わせを含み、
該少なくとも一対の邪魔板は、（ａ）平板の先端部をほぼＵ字形に曲面加工した邪魔板の対、（ｂ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する２枚の平板からなる邪魔板の対、（ｃ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性である外層と、を有する多層構造体からなる邪魔板の対、（ｄ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性であり且つ少なくとも該水平先端部を露出させるように該中心層よりも短い長さを有する外層を有する多層構造体からなる邪魔板の対、及び（ａ）〜（ｄ）の任意の組み合わせから選択される、
ことを特徴とするシール装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のシール装置を単独又は任意の組み合わせで、薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に具備してなる、薄膜材料化学反応処理装置。
【請求項１７】
前記薄膜材料の化学反応を行うための処理容器が、グラフト重合反応容器である、請求項１６に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明のまた別の側面によれば、上述の本発明のシール装置を単独又は任意の組み合わせで薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に具備してなる、薄膜材料化学反応処理装置が提供される。本発明を実施するに際して、薄膜材料の化学反応を行うための処理容器が、グラフト重合反応容器であることが好ましい。
本発明の代表的な実施態様は以下の通りである。
（１）薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、ケーシングと、該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、該シール部材は、各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも一対の邪魔板を含み、該一対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、一対の先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成することを特徴とするシール装置。
（２）前記邪魔板先端部の平滑面は、０．１〜１００μｍの算術平均表面粗さを有することを特徴とする（１）に記載のシール装置。
（３）前記邪魔板先端部の平滑面は、１〜１００μｍの算術平均表面粗さを有することを特徴とする（１）に記載のシール装置。
（４）前記邪魔板先端部の平滑面は、１〜１０μｍの算術平均表面粗さを有することを特徴とする（１）に記載のシール装置。
（５）前記邪魔板先端部の平滑面は、０．１〜１０μｍの算術平均表面粗さを有することを特徴とする（１）に記載のシール装置。
（６）前記薄膜材料経路は、薄膜材料１枚の厚みをtとしたとき、薄膜材料１枚当たり１．５０ｔ以下に相当する離間距離を有するように、前記一対の邪魔板の先端部を位置づけることにより形成されることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１に記載のシール装置。
（７）前記一対の邪魔板は、２枚の同寸邪魔板からなることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１に記載の装置。
（８）前記一対の邪魔板は、短寸邪魔板と長寸邪魔板との組み合わせからなることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１に記載の装置。
（９）前記シール部材は、複数対の前記邪魔板から構成されるラビリンス機構であることを特徴とする（１）〜（８）のいずれか１に記載の装置。
（１０）前記シール部材は、一対以上の前記短寸邪魔板及び長寸邪魔板を含む一群の邪魔板対を互い違いに配置してなるラビリンス機構であることを特徴とする（８）に記載のシール装置。
（１１）前記邪魔板は、平板の先端部をほぼＵ字形に曲面加工したものであることを特徴とする（１）〜（１０）のいずれか１に記載の装置。
（１２）さらに、前記ケーシング内で薄膜材料の移動経路を案内する薄膜材料案内手段を含むことを特徴とする（１）〜（１１）のいずれか１に記載のシール装置。
（１３）前記一対の邪魔板は、直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する２枚の平板からなり、前記薄膜材料経路は、各平板の水平先端部を互いに平行に重ね合わせることにより形成されることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１に記載のシール装置。
（１４）前記一対の邪魔板は、前記平板を中心層とし、該平板よりも剛性である外層を有する多層構造体であることを特徴とする（１３）に記載のシール装置。
（１５）前記外層は、少なくとも前記水平先端部を露出させるように、前記中心層よりも短い長さを有することを特徴とする（１４）に記載のシール装置。
（１６）薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、ケーシングと、該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、該シール部材は、各々が該薄膜材料と接触する平滑面を含む一対のローラを含み、該一対のローラの間に、該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成することを特徴とするシール装置。
（１７）前記ローラの平滑面は、弾性材料から構成されている（１６）に記載のシール装置。
（１８）さらに、前記ケーシング内で薄膜材料の移動経路を案内する薄膜材料案内手段を含むことを特徴とする（１６）又は（１７）に記載のシール装置。
（１９）薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、ケーシングと、該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、該ケーシング内で薄膜材料の移動経路を案内する薄膜材料案内機構と、該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止する液体を含み且つ該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を構成する液溜と、を備えるシール装置。
（２０）さらに、前記液体と接触した後の薄膜材料を圧搾する圧搾用ローラを具備することを特徴とする（１９）に記載のシール装置。
（２１）前記液溜は、前記ケーシング内上部での気体の流通を阻害し且つ前記ケーシング内下部での液体の流通を可能とする隔壁を含むことを特徴とする（１９）又は（２０）に記載のシール装置。
（２２）薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、ケーシングと、該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、該シール部材は、（ｉ）各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも一対の邪魔板を含み、該一対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、両先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材、及び（ｉｉ）各々が該薄膜材料と接触する平滑面を含む一対のローラを含み、該一対のローラの間に、該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材の組み合わせを含むことを特徴とするシール装置。
（２３）薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、ケーシングと、該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、該シール部材は、各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも二対の邪魔板を含み、該二対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、両先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成し、該二対の邪魔板は、（ａ）平板の先端部をほぼＵ字形に曲面加工した邪魔板の対、（ｂ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する２枚の平板からなる邪魔板の対、（ｃ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性である外層と、を有する多層構造体からなる邪魔板の対、（ｄ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性であり且つ少なくとも該水平先端部を露出させるように該中心層よりも短い長さを有する外層を有する多層構造体からなる邪魔板の対、及び（ａ）〜（ｄ）の任意の組み合わせから選択されることを特徴とするシール装置。
（２４）薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に取り付けるシール装置であって、ケーシングと、該ケーシングへの薄膜材料の入口及びケーシングからの薄膜材料の出口と、該ケーシングに内包されている、該処理容器への気体の侵入及び／又は該処理容器からの気体の漏出を防止するシール部材と、を備え、該シール部材は、（１）各々が該薄膜材料側に面する平滑面を含む先端部を有する少なくとも一対の邪魔板を含み、該一対の邪魔板の先端部は互いに対向するように配置されて、両先端部間に該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材、及び（２）各々が該薄膜材料と接触する平滑面を含む一対のローラを含み、該一対のローラの間に、該薄膜材料を移動させる薄膜材料経路を形成するシール部材の組み合わせを含み、該少なくとも一対の邪魔板は、（ａ）平板の先端部をほぼＵ字形に曲面加工した邪魔板の対、（ｂ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する２枚の平板からなる邪魔板の対、（ｃ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性である外層と、を有する多層構造体からなる邪魔板の対、（ｄ）直立末端部と、該直立末端部から延びる傾斜本体部と、該傾斜本体部から延びる先端を含む水平先端部と、を有する平板からなる中心層と、該中心層よりも剛性であり且つ少なくとも該水平先端部を露出させるように該中心層よりも短い長さを有する外層を有する多層構造体からなる邪魔板の対、及び（ａ）〜（ｄ）の任意の組み合わせから選択される、ことを特徴とするシール装置。
（２５）上記（１）〜（２４）のいずれか１に記載のシール装置を単独又は任意の組み合わせで、薄膜材料の化学反応を行うための処理容器の薄膜材料入口及び／又は薄膜材料出口に具備してなる、薄膜材料化学反応処理装置。
（２６）前記薄膜材料の化学反応を行うための処理容器が、グラフト重合反応容器である（２５）に記載の装置。