(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも部分的に電解液で充填されており、少なくとも表面的に第一の電極材料を有する第一電極（１３）及び少なくとも表面的に第二の電極材料を有する第二電極（１３′）を有する少なくとも１つの小室（１７、１８、１９、１９′）を備えており、その際、電極（１３、１３′）の一方が陰極として接続されており、電極（１３、１３′）の他方が陽極として接続されており、エッチングボデー（１５）が、少なくとも部分的に電解液と接触している、少なくとも表面的に珪素からなるエッチングボデー（１５）のエッチングのための電気化学的エッチングセルにおいて、第一電極材料及び第二電極材料が、珪素、炭素、窒素、酸素、チタン、アルミニウム、ホウ素、アンチモン、タングステン、コバルト、テルル、ゲルマニウム、モリブデン、ガリウム、ヒ素及びセレンの元素の導電性の化合物又は珪素、チタン、タングステン又はモリブデンの元素のグループから選択されており、その際、電極（１３、１３′）は、エッチングボデー（１５）よりも厚く、
第一電極（１３）及び第二電極（１３′）及びエッチングボデー（１５）が、平面的に形成されており、
第一電極（１３）及び第二電極（１３′）が、それぞれ専ら、前記電極の、エッチングボデー（１５）に向けられた表面で、エッチングボデーと接触している電解液と少なくとも部分的に接触しており、
第一小室（１９）及び第二小室（１９′）が設けられており、該小室は、それぞれ少なくとも部分的に電解液で充填されており、かつ第一の分離装置（３１）により空間的に互いに分離されているが、この場合、第一小室（１９）は、第二電極（１３′）と導電的に接続しており、第二小室（１９′）は、第一電極（１３）と導電的に接続しており、エッチングボデー（１５）は、少なくとも部分的に第一の分離装置（３１）を形成しており
第一電極（１３）及び第二電極（１３′）が交換可能であってそれぞれの電極ホルダー（１０）にはめ込まれており、かつ、エッチングボデー（１５）が交換可能であってエッチングボデーホルダー（１１）にはめ込まれている
ことを特徴とする、電気化学的エッチングセル。
【請求項２】
珪素、炭素、窒素、酸素、チタン、アルミニウム、ホウ素、アンチモン、タングステン、コバルト、テルル、ゲルマニウム、モリブデン、ガリウム、ヒ素及びセレンの元素の導電性の化合物が、ＳｉＣ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＭｏＳｉ２又はＧａＡｓである、請求項１に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項３】
第一の電極材料、第二の電極材料及びエッチング材料が珪素である、請求項１又は２記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項４】
エッチング材料が導電性である、請求項１から３までのいずれか１項記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項５】
エッチング材料がシリコンであるか、又はエッチングボデー（１５）がシリコンウェーハである、請求項１から４までのいずれか１項記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項６】
第一の電極材料及び／又は第二の電極材料が、珪素、炭素、窒素、酸素、チタン、アルミニウム、ホウ素、アンチモン、タングステン、コバルト、テルル、ゲルマニウム、モリブデン、ガリウム、ヒ素及びセレンの元素の導電性の化合物又は珪素、チタン、タングステン、モリブデン及び炭素の元素のグループから選択されている、請求項１に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項７】
第三小室（１７）が設けられており、該小室は、少なくとも部分的に電解液で充填されており、かつ第二の分離装置（３２）により第一小室（１９）から空間的に分離されているが、この場合、第三小室（１７）は、第二電極（１３′）と導電的に接続しており、第二電極（１３′）は、少なくとも部分的に第二の分離装置（３２）を形成している、請求項１に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項８】
第四小室（１８）が設けられており、該小室は、少なくとも部分的に電解液で充填されており、かつ第三分離装置（３３）により第二小室（１９′）から空間的に分離されているが、この場合、第四小室（１８）は、第一電極（１３）と導電的に接続しており、第一電極（１３）は、少なくとも部分的に第三の分離装置（３３）を形成している、請求項１又は７に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項９】
第一小室（１９）及び第二小室（１９′）が、専ら、エッチングボデー（１５）を介して導電的に互いに接続している、請求項１に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１０】
第一小室（１９）及び第三小室（１７）が、専ら、第二電極（１３′）を介して導電的に互いに接続しており、及び／又は第二小室（１９′）及び第四小室（１８）が、専ら、第一電極（１３）を介して導電的に互いに接続している、請求項７又は８に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１１】
第一電極（１３）及び／又は第二電極（１３′）の、第一小室又は第二小室（１９、１９′）の電解液とは反対の面が、少なくとも部分的に、表面的に金属被覆（２０）又はドーピングが施されているか又は金属からなる、請求項１に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１２】
第一電極（１３）が、第三小室（１７）中の電解液を介して浴電極（３４）と接続しており、及び／又は第二電極（１３′）は、第四小室（１８）中の電解液を介して、浴電極（３４′）と接続している、請求項７から１１までのいずれか１項に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１３】
小室（１７、１８、１９、１９′）が、種々の電解液で充填されている、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１４】
エッチングボデー（１５）のエッチングの均質化のために、非導電性材料からなるトンネル（３０）が設けられている、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１５】
小室（１７、１８、１９、１９′）が、別個に充填可能であり、かつ放出可能である、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１６】
第一電極（１３）及び第二電極（１３′）に、それぞれ、エッチングボデー（１５）とは反対の面で、金属被覆（２０）が設けられているか、又は、前記の面に極めて多くのドーピングが行われており、良好な導電性が保証されている、請求項１から１５までのいずれか１項に記載の電気化学的エッチングセル。
【請求項１７】
ＣＭＯＳ−適合性製造ラインにおけるシリコンウェーハのエッチングのための請求項１から１６までのいずれか１項に記載のエッチングセルの使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、電気化学的エッチング装置、殊にシリコンウェーハのエッチングのためのＣＭＯＳ−適合性エッチング装置並びに独立請求項の概念によるエッチングボデーのエッチングのための方法に関するものである。
【０００２】
公知技術水準
例えば多孔質珪素の製造又は珪素の表面的な多孔質化のための電気化学的エッチング装置は、通常、２室系からなるが、この２室の間には、エッチングすべきシリコンウェーハが、隔壁として用いられており、２つの小室は、ウェーハによってのみ、互いに電気的に結合もしくは接続されている。更に、通常、この２つの小室中には、通常、白金からなる電極が給電のために設置されている。この種のエッチング装置は、例えばフジヤマ他により、米国特許第５４５８７５５号明細書中に詳細かつその本質的な細部が既に記載されている。
【０００３】
しかしながら、公知のエッチング装置の場合、少なくとも、陽極接続された電極が、作動の際に、少なくともごく僅かに攻撃され、溶解するので、溶解した電極材料によって、まず、電解液、更に、エッチングすべきウェーハが、エッチング処理の過程で汚染されてしまうという問題が常に生じている。しかしながら、例えば珪素仕上げにおける白金によるこの種の汚染は、認容できるものではないことが多いし、エッチングされたウェーハ又はエッチングボデーを、その電気的性質又は触媒的性質において著しく損なってしまう。
【０００４】
従って、殊に、電気化学的エッチング法において、多孔質珪素からなる層がシリコンウェーハの上もしくは中に製造され、その際、白金で汚染されるシリコンウェーハは、ＣＭＯＳ−仕上げ（ＣＭＯＳ＝相補形金属酸化膜半導体）における使用に適していない。
【０００５】
ウェーハ裏面の片面の金属被覆及び専ら片面のエッチング装置の使用に基づき、エッチングすべきウェーハの裏面が、金属接点を形成し、専ら、前面が、エッチング媒体もしくは電解液、その上更に白金電極と接続している前記課題の解決案は、その際施与すべき、かつ必要とされる裏面金属被覆及びウェーハの加工の際の必要な次の工程（酸化、層分離等）の結果、前記金属被覆が支障となり、不適当である。
【０００６】
本発明の利点、
エッチングボデーのエッチングのための本発明による電気化学的エッチング装置及び独立請求項の特徴を備え、該エッチング装置を用いて実施された本発明による方法には、公知技術水準に比して、この方法を用いて、エッチングボデーの汚染されない電気化学的エッチングが可能になり、その際、該エッチングボデーは、少なくとも表面的に、エッチングすべきエッチング材料を有するか又は該エッチング材料からなるという利点がある。これは、殊に、シリコンウェーハからの多孔質珪素の製造の際に該当する。従って、エッチングボデーは、前記エッチングによって、殊にその電気的もしくは電子的又は触媒的性質において損なわれることがない。
【０００７】
この場合、汚染の回避及び／又はエッチングにより得られたエッチングボデーの電気的又は触媒的性質の少なくとも部分的に汚染と結び付いた支障は、エッチング装置中で電解液によりエッチングボデーと直接接続している電極の材料が、それぞれエッチングボデーの材料に対応して選択されていることによって極めて有利に達成される。この場合、この種のエッチングセルを用いる本発明によるエッチング法の際に、少なくともエッチングボデーに向けられた該電極の面を有する前記電極の少なくとも１つが、犠牲電極として使用される。
【０００８】
本発明の他の有利な態様は、従属請求項において挙げた手段から明らかである。
【０００９】
従って、陰極もしくは陽極として接続されており、適当な電解液を介してエッチングボデーと電気的に接続している第一電極の材料及び／又は第二電極の材料が、エッチングすべきエッチングボデーのエッチング材料と同じ材料である場合に、特に有利である。その際、エッチングボデーが、少なくとも表面的に、エッチングすべきエッチング材料を有しているか又は表面的に、該エッチング材料からなり、第一電極及び／又は第二電極が、少なくとも表面的に、対応する電極材料を有しているが又は前記電極材料からなるのであれば十分である。
【００１０】
更に、エッチングボデーのエッチング材料が、少なくとも弱い導電性であり、その際、エッチング材料として、有利に珪素が使用されるか又はエッチングボデーとしてシリコンウェーハが使用されるのであれば極めて有利である。更に、第一電極もしくは第二電極の第一の電極材料及び第二の電極材料が、ＣＭＯＳ−適合性材料であり、殊に、白金、金、イリジウム、ロジウム、パラジウム、銀または銅のグループから選択された元素ではない場合に有利である。従って、本発明によるエッチング装置は、シリコンウェーハ上での多孔質珪素の製造に特に適しているが、この場合、例えば珪素電極の使用によって、珪素以外の物質、例えば白金又はパラジウムによるウェーハの汚染が阻止される。
【００１１】
この場合、ＣＭＯＳ−適合性材料とは、半導体技術における一般的語法の範囲に対応して、該材料を用いて製造した回路の電気的性質がマイナスには損なわれない材料のことである。
【００１２】
相応して、エッチングボデーを汚染する材料とは、殊にＣＭＯＳ−毒のことであるか又は貯蔵の際に深い損傷部位をエッチングボデーに形成させ、即ち、損傷部位は、そのエネルギー水準が、エッチングすべき材料の伝導帯と価電子帯との間の間隙の中央に存在し、これにより、エッチングボデーにおける電子とホールとの再組合せのための高い推移行列素子（Ｕｅｂｅｒｇａｎｇｓｍａｔｒｉｘｅｌｅｍｅｎｔ）を引き起こすのである（「再組合せ種晶」）。
【００１３】
第一電極もしくは第二電極のための電極材料としては、特に有利に、珪素、炭素、窒素、酸素、チタン、アルミニウム、ホウ素、アンチモン、タングステン、コバルト、テルル、ゲルマニウム、モリブデン、ガリウム、ヒ素及びセレンの元素の少なくとも弱導電性の化合物、殊にＳｉＣ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＭｏＳｉ2及びＧａＡｓのグループからなる化合物並びに珪素、チタン、タングステン、モリブデン及び炭素、殊にグラファイトの元素からなる純粋な電極材料が該当する。
【００１４】
一般に、電極材料としては、半導体技術において一般に接点材料として用いられる材料も、エッチングボデーの上への衝突の際、ひいてはエッチングの間に、エッチングボデーの中に深く拡散侵入するのではなく、表面的に、例えば珪化物の形成下に、エッチングボデーと反応もしくは局所的に結合させられ、それによって、エッチングボデーの表面に制限されたままであるので適している。従って、この意味では、該電極材料は、エッチングボデーを汚染するのではなく、該エッチングボデーを、その電気的性質、殊にその使用に関して、殊にＣＭＯＳ−適合性製造ラインとの適合性において損なうものではない。
【００１５】
それぞれの電極材料の具体的な選択は、有利に、それぞれ、エッチングボデー及び使用した電解液の材料を顧慮して行われる。
【００１６】
これ以外にも、第一電極及び／又は第二電極及び／又はエッチングボデーは、有利に平面的、殊にウェーハの形で形成されているが、この場合、犠牲電極としての使用のための電極は、極めて有利に、本来のエッチングボデーよりも一層本質的に厚いので、場合により加工し、汚染を除き、再使用することができる。従って、電極の交換周期の延長が有利に達成される。
【００１７】
電気化学的エッチングセルは、有利に、第一小室及び第二小室を備え、これらが、それぞれ、少なくとも部分的に電解液で充填されており、分離装置により空間的に互いに分離されているように構成されている。この場合、２つの小室のそれぞれは、それぞれ１つの電極で、電解液を介して導電的に接続されているが、その際、エッチングボデーは、少なくともその領域において分離装置であり、極めて有利に、同時に、２つの小室及び陰極もしくは陽極として接続された電極との間の少なくとも弱導電性の唯一の結合でもある。
【００１８】
本発明のもう１つの極めて有利な態様は、電気化学的エッチングセルが、既に記載した２つの小室以外に、更に第三小室又は更に第四小室を備えており、それらが、それぞれ、少なくとも部分的に電解液で充填され、それぞれ、他の分離装置により第一小室もしくは第二小室から空間的に分離されているよう設計してある。この場合、電解液は、第三小室もしくは第四小室中で極めて有利に、専ら、第二電極もしくは第一電極と導電的に接続しており、これらは再度同時に少なくともその領域において、第三小室もしくは第四小室と、それぞれ、第一小室もしくは第二小室との間で分離装置として用いられている。
【００１９】
これに関連して、殊に平面的に形成された第一電極及び／又は第二電極は、それぞれ、エッチングボデーに向けられたその表面のみが、エッチングボデーと接触する電解液と接触しているので、第三小室もしくは第四小室中の電解液と、第一小室もしくは第二小室中の電解液との混合が回避される場合に、特に有利である。従って、第一電極及び／又は第二電極の第一小室又は第二小室の電解液に向けられた面は、電極のより単純な電気的接続のために、少なくともその領域において、表面的に金属被覆又はドーピングを施されていてもよいかあるいは例えば複数の層からの電極の構成の場合には、金属からなっていてもよいが、これは、エッチングセルの簡単な構造上の構成の利点を、接触の問題又は汚染の問題を生じることなく、それぞれのエッチング材料への電極材料の意図的な適合と結びつける。
【００２０】
更に、第三小室もしくは第四小室中で、そこに存在する電解液中で、それぞれ、付加的な浸漬浴電極、殊に白金電極又はパラジウム電極が、それぞれの電解液を介する第一電極もしくは第二電極の簡単な電気的接触のために設けられていてもよい。
【００２１】
その他の点で、電解液は、本発明によるエッチング装置の個々の小室中で、有利に互いに異なっていてもよいが、その際、エッチングボデーの本来のエッチングが実施される第一小室及び第二小室は、有利にフッ酸又はフッ酸とエタノールとからなる混合物で充填されており、第三小室及び第四小室は、例えば接触電解液としての希硫酸で充填されている。
【００２２】
個々の小室は、更に、極めて有利に別個に電解液で充填可能であり、別個に排出可能であるので、いつでも、例えば汚染された電解液の問題のない交換が、各小室において可能である。従って、更にいつでも、犠牲電極として用いる消費されたか又は汚染された第一電極もしくは第二電極の簡単な交換も問題なく迅速に行うことが可能になる。
【００２３】
第一電極及び／又は第二電極は、その他の点では、第三小室もしくは第四小室中に充填された電解液を介して、そこに存在する浴電極と電気的に接続し、ひいては、作動の際にエッチング装置に電流を印加する外部の電圧供給と接続させられる。
【００２４】
犠牲電極、即ち、第一電極及び／又は第二電極の問題のない交換可能性は、これ以外にも、簡単な方法で、エッチングボデーのエッチングの際の種々の電極材料、例えばグラファイトの適性を試験できるようにし、その際、電極材料をエッチングボデーのそれぞれの材料に基づいて最適化できるようにする。
【００２５】
本発明によるエッチング装置中でのエッチングボデーのエッチングの均一化のために、更に有利に、自体公知の方法で、非導電性材料、殊にポリプロピレンからなるトンネルを設けることができる。
【００２６】
図面
本発明を図面に基づき、以下の説明において詳細に説明する。
【００２７】
実施例
図１は、第一の実施例として、それぞれ少なくとも部分的に電解液で充填されている４つの小室、第一小室１９、第二小室１９′、第三小室１７及び第四小室１８を有する本発明による電気化学的エッチングセル１を示している。この場合、第一小室及び第二小室１９、１９′は、エッチングボデー１５の本来のエッチングのために、例えばフッ酸とエタノールとからなる混合物で充填されており、他方で、第三室及び第四室１７、１８は、例えば接触電解液としての希硫酸で充填されている。従って、この４つの小室１７、１８、１９、１９′は、互いに分離装置により空間的に分離されている、小室１７、１８、１９、１９′に対応する４つの電解液領域、第一電解液領域２９、第二電解液領域２９′、第三電解液領域２７及び第四電解液領域２８を定義するが、しかし、これらは、同時に小室１７、１８、１９、１９′の電気的結合を可能にしている。
【００２８】
詳細には、第一小室１９は、第二小室１９′から、第一の分離装置３１により空間的に分離されており、第一小室１９は、第三小室１７から、第二の分離装置３２により空間的に分離されており、第二小室１９′は、第四領域１８から、第三の分離装置３３により空間的に分離されているので、小室１７、１８、１９、１９′の間での電解液の交換は行われない。
【００２９】
この場合、第一分離装置は、自体公知の方法で、テフロン又はポリプロピレンからなるエッチングボデーホルダー１１によって形成されており、その領域においてエッチングボデー１５は、適合又は調節されているので、これは、表面的に一方では第一小室１９の電解液と接触しており、他方で第二小室１′の電解液と接触している。エッチングボデー１５は、前記実施例において、自体公知の平面的シリコンウェーハである。第二の分離装置３２及び分離装置３３は、それぞれ、テフロンからなる電極ホルダー１０によって形成されており、その領域において、それぞれ、第二電極１３′もしくは第一電極１３が使用されているので、これらは、表面的には少なくとも領域において、一方では第三小室もしくは第一小室１９の電解液と接触しており、他方では第二小室もしくは第四小室１９′、１８の電解液と接触している。
【００３０】
第一電極もしくは第二電極１３、１３′の接触のための金属性の接触電極としては、第三小室もしくは第四小室１７、１８において、それぞれ１つの白金電極又はパラジウム電極が、浴電極３４、３４′として設けられており、これは、それぞれ、そこに存在する電解液中に浸漬している。この浴電極３４、３４′は、更に、自体公知の方法でエッチングセル１に電流を印加する図示されていない電圧源と接続している。この場合、上記実施例において、エッチングボデー１５に関して、第一電極１３もしくはエッチングボデー１５に向けられた第一電極の面は、陽極として接続されており、第二電極１３′もしくはエッチングボデー１５に向けられた第二電極の面は陰極として接続されている。
【００３１】
第一電極１３及び第二電極１３′は、前記実施例において、有利に本質的にエッチングボデー１５として使用したシリコンウェーハよりも厚い平面状のシリコンウェーハ又はシリコンディスクからなる。一般に、電極１３、１３′は、それぞれ使用した電極材料に関して、該電極が、少なくとも表面的に、エッチングボデー１５のそれぞれの表面と同じ材料からなるよう選択される。これにより、第一電極１３の材料及び第二電極３′の材料はエッチングセル１の作動の際にエッチングボデー１５を汚染せず、ひいてはエッチング後に、その電気的又は触媒的性質を損なわないことを保証する。
【００３２】
エッチングセル１の作動時に、外側で印加された電流は、浴電極３４、３４′、電解液、第一電極及び第二電極１３、１３′及びエッチングボデー１５を介して流れるが、その際、該エッチングボデーは、少なくとも表面的に、ボデーエッチング領域１４′をエッチングする。しかしながら同時に、電極１３、１３′の電極材料の選択に応じて、第一電極及び第二電極１３、１３′も、少なくとも表面的には、エッチングされる、即ち、該電極は、エッチングボデー１５のエッチングの際に、犠牲電極として用いられる。しかしながらこの場合、エッチングボデー１５に比して明らかに大きな厚みに基づいて、エッチングされつくすのではなく、専ら、表面的に攻撃され、エッチング除去されるかもしくは削り取られるか又は例えば多孔質化されるのである。従って、例えば複数のエッチングボデー１５のエッチングによる損耗の場合、これらは、交換され、再度処理されるか又は必要な場合には規則的に、付着している汚染物をおとしてもよい。
【００３３】
詳細には、前記実施例において、陽極側でのシリコンウェーハのエッチングの際に、即ち、ボデーエッチング領域１４′における前記極性化の場合に、多孔質珪素が生じ、他方で、同時に、エッチングボデーに向けられた第一電極１３の陽極側に、同様に、少なくとも僅かなエッチングが、相応する電極エッチング領域１４に生じる、即ち、具体的な例では、多孔質珪素の表面的形成が生じる。これは、その他の点では、第三小室１７における陽極の役割を担う第二電極１３′のエッチングボデー１５に向けられた側にも当てはまる。同時に、エッチングセル１の作動時に、第四小室１８中で陽極的に接続された金属性浴電極３４も僅かに溶解するが、しかしこの場合、専ら、第一電極１３のエッチングボデー１５に向けられた側は、例えば白金で汚染されている。しかしながら、専ら、電極１３、１３′及びエッチングボデー１５を介する電気的結合が存在しているが、しかし、電解液交換は不可能である各小室１７、１８、１９、１９′の空間的な分離に基づき、前記の汚染は、エッチングボデー１５から離れている。従って、汚染は、電極１３、１３′の加工の際に、相応する面から再度除去することができる。
【００３４】
例えば第一小室又は第二小室１９、１９′中の電解液中での電極１３、１３′の一方の珪素の、エッチングの間に生じる溶解は、同じ材料からなり、従って汚染されていないので、エッチングボデー１５にとって重要ではない。
【００３５】
電極１３、１３′の容易な交換のために、これらは、その他の点では有利に、パッキングを介して電極ホルダー１０と接続しており、閉鎖可能な窓１６を介して、エッチング装置１の側壁において該電極ホルダーで固定されている。エッチングボデー１５の簡単な交換のために、更に、自体公知の高速シャッターが設けられている。
【００３６】
使用した電解液及び電極１３、１３′の容易な交換のために、更に、小室１７、１８、１９、１９′もしくはこれに伴う電解液領域２７、２８、２９、２９′は、相応する自体公知の装置をによりそれぞれ別個に充填可能であり、放出可能である。
【００３７】
図２は、本発明によるエッチングセルの第二の実施例を説明するものである。このエッチングセルは、本質的な点で、図１によるエッチングセル１と完全に同じであるが、しかし、電極１３、１３′の接続の別の実施態様を有している。この実施例では、第三小室１７及び第四小室１８、浴電極３４、３４′及び前記小室１７、１８中に存在する電解液を不要にすることができる。これらの代わりに、第一電極１３及び第二電極１３′に、それぞれ、エッチングボデー１５とは反対の面で、自体公知の金属被覆２０が設けられている。
【００３８】
しかしながら、また、電極１３、１３′は、前記の面に極めて多くのドーピングが行われていてもよいので、良好な導電性が保証されている。最終的には、電極１３、１３′は、エッチングボデー１５とは反対の面に金属層を有しているか又は金属からなる積層体からなっていてもよい。電極１３、１３′の電気的接続の他の実施態様は、これらが、自体公知の方法でエッチングボデー１５とは反対の面に、ピン接点、ネット接点、平面接点が設けられているか又は電極材料に応じて、特に簡単に、電極１３、１３′が、第一小室もしくは第二小室１９、１９′中で部分的に直接電解液中に浸漬されており、浸漬されていない部位で電気的に直接接触させられている。従って、これらは、犠牲電極として、公知技術水準の白金電極の代わりに用いられる。
【００３９】
しかしながら、第一電極及び／又は第二電極１３、１３′のための電極材料としてのグラファイトの場合には、図１による第三小室もしくは第四小室１７、１８中の電解液を介する接続が有利である。
【００４０】
最後に、更に図３を用いて説明した本発明によるエッチング装置の第三の実施例を提示するが、この場合、図１とは異なり、付加的に専ら自体公知の非導電性材料、例えばポリプロピレンからなるトンネル３０が設けられている。このトンネル３０は、両側でエッチングボデーホルダー１１と接続しており、エッチングボデー１５としての例えば円形のウェーハを同心円的に包囲している。該トンネル３０は、エッチング装置１における流動線の均一化、ひいては、殊に珪素から多孔質珪素にするエッチングの際にエッチングボデー１５のエッチングの顕著な厚さの均一性を生じる。
【００４１】
例えば米国特許第５４５８７５５号明細書中に既に詳細に記載されている本発明の実施例の当業者には公知の他の詳細は不要である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  随１は、第一の電気化学的エッチング装置を示す図である。
【図２】  図２は、エッチング装置の選択的実施態様を示す図である。
【図３】  図３は、エッチング装置の第三の実施態様を示す図である。
【符号の説明】
１  エッチングセル、１０  電極ホルダー、１１  エッチングボデーホルダー、１２  金属電極、１３  第一電極、１３′  第二電極、１４  電極エッチング領域、１４′  ボデーエッチング領域、１５  エッチングボデー、１６  窓、１７  第三小室、１８  第四小室、１９  第一小室、１９′  第二小室、２０  金属被覆、２７  第三電解液領域、２８  第四電解液領域、２９  第一電解液領域、２９′  第二電解液領域、３０  トンネル、３１  第一の分離装置、３２  第二の分離装置、３３  第三の分離装置、３４、３４′  浴電極
【図１】
0004511741.tif 000002
【図２】
0004511741.tif 000003
【図３】
0004511741.tif 000004