Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  所定の解析工程を含む半導体装置の製造方法であって、前記解析工程は、
（ａ）解析を行う配線の一端部またはその端部に設けられたパッドに第１プローブを接触させ、前記配線の他の端部またはその端部に設けられたパッドに第２プローブを接触させる工程、
（ｂ）前記第１プローブと電流値を増幅する増幅手段とを電気的に接続し、前記第２プローブを接地する工程、
（ｃ）前記配線に荷電ビームを照射および走査し、前記配線に前記荷電ビームを吸収させる工程、
（ｄ）前記第１プローブにより前記配線が吸収した前記荷電ビームを検出し、検出した前記荷電ビームの電流値を前記増幅手段にて増幅する工程、
（ｅ）前記（ｄ）工程にて増幅された前記電流値をもとに、前記配線を表示する第１画像を形成する工程、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】  所定の解析工程を含む半導体装置の製造方法であって、前記解析工程は、
（ａ）解析を行う配線の一端部またはその端部に設けられたパッドに第１プローブを接触させ、前記配線の他の端部またはその端部に設けられたパッドに第２プローブを接触させる工程、
（ｂ）前記第１プローブと電流値を増幅する増幅手段とを電気的に接続し、前記第２プローブを可変抵抗を介して接地する工程、
（ｃ）前記配線に荷電ビームを照射および走査し、前記配線に前記荷電ビームを吸収させる工程、
（ｄ）前記第１プローブにより前記配線が吸収した前記荷電ビームを検出し、検出した前記荷電ビームの電流値を前記増幅手段にて増幅する工程、
（ｅ）前記（ｄ）工程にて増幅された前記電流値をもとに、前記配線を表示する第１画像を形成する工程、
（ｆ）前記第１画像より前記配線中の欠陥箇所の位置を確認する工程、
（ｇ）前記配線の所定の第１位置に所定の強度の荷電ビームを照射し、前記第１プローブが検出する電流値を測定する工程、
（ｈ）前記配線の所定の第２位置に所定の強度の荷電ビームを照射し、前記可変抵抗を調節し、前記第１プローブが検出する電流値を測定することで、所定の計算式に基づき、前記欠陥箇所の抵抗値を算出する工程、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】  所定の解析工程を含む半導体装置の製造方法であって、前記解析工程は、
（ａ）解析を行う配線の一端部またはその端部に設けられたパッドに第１プローブを接触させ、前記配線の他の端部またはその端部に設けられたパッドに第２プローブを接触させる工程、
（ｂ）前記第１プローブと電流値を増幅する増幅手段とを電気的に接続する工程、
（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記配線に荷電ビームを照射および走査し、前記配線に前記荷電ビームを吸収させる工程、
（ｄ）前記第１プローブにより前記配線が吸収した前記荷電ビームを検出し、検出した前記荷電ビームの電流値を前記増幅手段にて増幅する工程、
（ｅ）前記（ｄ）工程にて増幅された前記電流値をもとに、前記配線を表示する第１画像を形成する工程、
（ｆ）前記第２プローブと前記増幅手段とを電気的に接続する工程、
（ｇ）前記（ｆ）工程後、前記配線に荷電ビームを照射および走査し、前記配線に前記荷電ビームを吸収させる工程、
（ｈ）前記第２プローブにより前記配線が吸収した前記荷電ビームを検出し、検出した前記荷電ビームの電流値を前記増幅手段にて増幅する工程、
（ｉ）前記（ｈ）工程にて増幅された前記電流値をもとに、前記配線を表示する第２画像を形成する工程、
（ｊ）前記第１画像および前記第２画像に対して所定の画像処理および画像計算を行うことにより、前記第１画像および前記第２画像より相対的に欠陥部前後または欠陥部のコントラストが強調された第３画像を形成する工程、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】  解析を行う配線へ荷電ビームの照射および走査を行う荷電ビーム機構と、
前記配線に接触させる少なくとも２本のプローブと、
前記プローブのうちの第１プローブと電気的に接続され電流値を増幅する増幅手段と、
前記増幅手段と電気的に接続された画像処理手段と、
前記配線における欠陥箇所近傍の所定の位置にマークを形成するマーク形成手段とを有し、
前記第１プローブは前記荷電ビームの前記配線への照射により前記配線に流れる電流を検出し、
前記画像処理手段は前記第１プローブが検出した前記電流をもとに前記配線を表示する第１画像を形成し、
前記第１画像より前記配線における欠陥箇所の位置または欠陥起因で明示される前記配線に短絡している別配線を検出することを特徴とする半導体検査装置。
【請求項５】  所定の解析工程を含む半導体装置の製造方法であって、前記解析工程は、
（ａ）解析を行う配線の一端部またはその端部に設けられたパッドに第１プローブを接触させ、前記配線の他の端部またはその端部に設けられたパッドに第２プローブを接触させる工程、
（ｂ）前記第１プローブと電流値を増幅する増幅手段とを電気的に接続し、前記第２プローブを接地する工程、
（ｃ）前記配線に荷電ビームを照射および走査し、前記配線に前記荷電ビームを吸収させる工程、
（ｄ）前記第１プローブにより前記配線が吸収した前記荷電ビームを検出し、検出した前記荷電ビームの電流値を前記増幅手段にて増幅する工程、
（ｅ）前記（ｄ）工程にて増幅された前記電流値をもとに、前記配線を表示する第１画像を形成する工程、
（ｆ）前記第１画像より前記配線中の欠陥箇所の位置を確認する工程、
（ｇ）前記（ｆ）工程にて確認した前記欠陥箇所の位置の近傍に、上記工程での状態に比較して高いガス圧力雰囲気を形成し、前記荷電ビームを照射し、前記ガスを分解して析出物を形成せしめる工程、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月17日(2006.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を符号化して記録媒体へ記録する記録再生装置において、
記録媒体に設けられたＦＡＴ（Ｆｉｌｅ Ａｌｌｏｃａｔｉｏｎ Ｔａｂｌｅ）領域における少なくとも１つのＦＡＴエントリに、情報を符号化した時の時間情報、記録単位に付与可能なインデックス情報、及び記録単位を逆方向に連結する逆方向ポインタを含む管理情報を記録する記録再生装置。
【請求項２】
情報を符号化して記録媒体へ記録する記録再生装置において、
記録媒体に設けられた、ＦＡＴ（Ｆｉｌｅ Ａｌｌｏｃａｔｉｏｎ Ｔａｂｌｅ）領域とは別個の所定の管理領域に、情報を符号化した時の時間情報、記録単位に付与可能なインデックス情報、及び記録単位を逆方向に連結する逆方向ポインタを含む管理情報を記録する記録再生装置。
【請求項３】
前記管理情報を記録する所定の管理領域は、前記時間情報、インデックス情報及び逆方向ポインタ毎に設けられている請求項２記載の記録再生装置。
【請求項４】
外部から指定された時間と前記時間情報を比較することで、指定された時間に対応する記録単位から再生動作を開始させる制御部を有する請求項１又は２記載の記録再生装置。
【請求項５】
外部から指定された指定時間間隔と前記時間情報を比較することで、指定された時間間隔に対応する記録単位を含む再生動作を行なわせる制御部を有する請求項１又は２記載の記録再生装置。
【請求項６】
外部から指定されたインデックス情報と記録されている前記インデックス情報とを比較することで、指定されたインデックス情報に対応する記録単位を含む再生動作を行わせる制御部を有する請求項１又は２記載の記録再生装置。
【請求項７】
外部から指定された逆方向ポインタと前記記録されている逆方向ポインタとを比較することで、指定された逆方向ポインタで指示される記録単位から再生動作を行わせる制御部を有する請求項１又は２記載の記録再生装置。
【請求項８】
情報を符号化して記録媒体へ記録する記録再生装置における記録再生方法であって、
記録媒体に設けられたＦＡＴ（Ｆｉｌｅ Ａｌｌｏｃａｔｉｏｎ Ｔａｂｌｅ）領域における少なくとも１つのＦＡＴエントリに格納されている管理情報であって、情報を符号化した時の時間情報、記録単位に付与可能なインデックス情報、及び記録単位を逆方向に連結する逆方向ポインタを含む管理情報に従い再生動作を行う記録再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月5日(2006.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】【請求項１】  基層と該基層の表面に施された化粧層とを備え、該化粧層は、スラリー状にせしめられた硬化性組成物の混練物の上に、所定の像が形成された片面を有する保護シートが、該片面が密着して配置された状態で、該混練物を固化せしめて生成された固化体からなり、該化粧層の表面には、該保護シートの該片面に形成された像が転写せしめられている、ことを特徴とする建築用ボード。【請求項２】  転写せしめられた該像は側縁部に沿って延在する、目地化粧部材を貼着するときの位置決め用の直線である、請求項１記載の建築用ボード。【請求項３】  基層と該基層の表面に施された化粧層とを備えた建築用ボードを製造する方法において、所定方向に移動させられる該基層と同期してかつ該基層の該表面に対し一定の間隔をおいて移動しうるよう連続的に送給される保護シートの、該基層の該表面に対向する片面の所要部位に所定の像を形成した後、該像が形成された該所要部位を含む該片面にスラリー状にせしめられた硬化性組成物の混練物を付着させることにより、該基層、該基層上に配置された該混練物、及び該混練物上に配置された該保護シートとからなる積層体を形成し、次いで該混練物を固化せしめ、該保護シートの該片面に形成された像が表面に転写せしめられた該化粧層を形成する、ことを特徴とする建築用ボードの製造方法。【請求項４】  転写せしめられた該像は側縁部に沿って延在する、目地化粧部材を貼着するときの位置決め用の直線である、請求項３記載の建築用ボードの製造方法。【請求項５】  該像の形成は筆記具を該保護シートの該片面に接触させることにより遂行される、請求項３又は請求項４記載の建築用ボードの製造方法。【請求項６】  該像の形成は像形成材料を該保護シートの該片面に噴射することにより遂行される、請求項３又は請求項４記載の建築用ボードの製造方法。【請求項７】  該像の形成は該保護シートの該片面に印刷を施すことにより遂行される、請求項３又は請求項４記載の建築用ボードの製造方法。【請求項８】  基層と、該基層の表面に形成された漆喰からなる化粧層とからなり、該化粧層の表面には、転写画像が浸透して固定されていることを特徴とする意匠体。【請求項９】  保護シートの表面に画像を印刷し、基層の表面に設けられている水酸化カルシウムと水との混練物からなる硬化性スラリー層の表面に、前記保護シートの画像形成面を重ね合わせ、次いで、前記硬化性スラリー層を硬化せしめて漆喰層を形成した後、保護シートを引き剥がすことを特徴とする画像の転写方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  作業機械に対し用具を回転させる方法であって、
前記作業機械は、少なくとも第１及び第２の対向する方向に回転可能な用具と、前記用具が前記第１方向に第１角度位置に回転したときに、前記用具と接触する、前記用具に取り付けられた機械的停止部材と、前記用具と前記作業機械との間に取り付けられた、前記用具を回転させる油圧流体シリンダと、油圧流体を前記油圧流体シリンダへ供給するためのバルブと、を備え、
前記用具の回転を命令するオペレータ入力を受信し、
前記オペレータ入力に応答してバルブ信号を生成し、
前記バルブ信号を受信し、これに応答して前記バルブを開いて、油圧流体を前記油圧流体シリンダへ供給し、
前記油圧流体の力で前記用具を前記第第１方向に、前記第１の角度位置より小さい角度位置に前記用具を回転させ、
バルブ信号を発することにより、前記用具を前記第１方向へ連続して回転させる命令をするオペレータ入力を無効にして、前記バルブを閉じて、前記用具の回転を停止させる、
段階からなる方法。
【請求項２】  前記作業機械が、さらにフレームに回転可能に取り付けられたブームを備え、前記機械的停止部材は前記ブームに取り付けられ、前記用具が前記ブームに回転可能に取り付けられており、前記フレームに対し前記ブームの位置を測定する第１のセンサーと、前記フレームに対し前記用具の位置を測定する第２のセンサーと、を備えるようになった、請求項１に記載した方法であって、
前記第１センサーから前記フレームに対する前記ブームの位置を受け取り、
前記第２センサーから前期フレームに対する前記用具の位置を受け取り、
前記用具が、前記フレームに対する前記ブームの位置と前記フレームに対する前記用具の位置とを分析することによって、前記第１角度位置以下の角度位置に回転したことを検出する、段階からなる方法。
【請求項３】  前記フレームに対する前記ブームの位置と、前記フレームに対する前記用具の位置と、スケーリング値を求めるルックアップ表と、を使用し、
前記スケーリング値に応答して前記オペレータ入力コマンドを修正する、段階をさらに備え、
前記スケーリング値は、ブームの位置と、前記第１角度位置を超えた角度位置に前記用具が回転されたことに応答する用具の位置との組み合わせに関して、ほぼゼロであることを特徴とする方法。
【請求項４】  フレームと、
該フレームに対し回転可能な第１部材と、
該第１部材に対し回転可能な第２部材と、
延びて、引き込むように作動し、前記フレームと前記第２部材との間に延びて前記第１部材に対する前記第２部材の回転を行わせる、第１油圧シリンダと、
前記第２部材の回転に関するオペレータ入力コマンドを受け取り、前記オペレータ入力コマンドに応答してバルブ信号を発する電子コントロールモジュール（ＥＣＭ）と、
前記バルブ信号を受信し、前記油圧シリンダと流体連通し、前記第１油圧シリンダの伸長と引き込みを行なわせるように油圧流体を供給するバルブと、
前記第１部材に配置された機械的停止部材と、を備え、前記第２部材が第１方向に回転するとき、前記第２部材は第１角度位置で前記機械的停止部材と接触し、
前記ＥＣＭがオペレター入力により、前記第１角度位置に対し第１方向に前記第２部材を動かし、前記第２部材を前記第１方向に回転させるバルブ信号を発することによって、前記第１角度位置を超えて前記第２部材を回転させ、
前記ＥＣＭは、前記第２部材を前記第１方向へ動かすオペレータ入力を無効にして、前記第２部材が前記第１方向に前記第１角度位置を超えた第２角度位置へ動いた後に、バルブ信号を発することによって、前記第２部材の前記第１方向への連続した回転を停止させることを特徴とする方法。
【請求項５】  前記第２部材は、前記第１方向に動きつづけ、前記第１角度位置に近づきつつあるとき、前記ＥＣＭは、バルブ信号を発することにより前記オペレータ入力を修正し、前記オペレータ入力コマンドによって求められたものより遅い押し独活で前記第２部材を回転させることを特徴とする請求項４に記載の作業機械。
【請求項６】  前記作業機械は、
前記フレームと前記第１部材との間を延びる第２油圧シリンダと、
前記第１油圧シリンダの前記伸長長さを検出する第１センサーと、
前記第２油圧シリンダの前記伸長長さを検出する第２センサーと、
からなり、
前記ＥＣＭは、前記第１センサーから第１センサー信号を受信し、前記第２センサーから第２センサー信号を受信することを特徴とする請求項５に記載の作業機械。
【請求項７】  前記ＥＣＭは、前記第１センサー信号と、前記第２センサー信号と、スケーリング値を求めるルックアップ表とを使用し、個々のスケーリング値は、第１のセンサー信号値と第２センサー信号値との可能な組み合わせと前記ルックアップ表で関連づけられるようになっており、
前記ＥＣＭは前記スケーリング値を通して前記オペレータ入力を修正してバルブ信号を発するようになっていることを特徴とする請求項６に記載の作業機械。
【請求項８】  前記作業機械は、
前記フレームと前記第１部材との間を延びる第２油圧シリンダと、
前記第１油圧シリンダの伸長長さを検出する第１センサーと、
前記第２油圧シリンダの前記伸長長さを検出する第２センサーと、
からなり、
前記ＥＣＭは、第１センサー信号を前記第１センサーから受信し、第２センサー信号を前記第２センサーから受信することを特徴とする請求項４に記載の作業機械。
【請求項９】  前記ＥＣＭは前記第１センサー信号、前記第２センサー信号及びスケーリング値を求めるルックアップ表を使用し、個々のスケーリング値は、第１のセンサー信号値と第２センサー信号値との可能な組み合わせと前記ルックアップ表で関連づけられるようになっており、
前記ＥＣＭは、ほぼゼロのスケーリング値を介し前記オペレータ入力を無効にし、前記バルブ信号を発して、前記第２部材の連続した回転を停止させるようになっていることを特徴とする請求項８に記載の作業機械。
【請求項１０】  作業機械のブームに対してバケットを回転させる方法であって、前記バケットは、少なくとも第１及び第２の対向する方向に回転可能であり、前記作業機械は、前記バケットが前記第１方向に第１角度位置にまで回転したときに、前記バケットと接触するブームに取り付けられた機械的停止部材と、前記ブームに関連し前記バケットを回転させるように前記バケットに取り付けられ作動できるようになった油圧流体シリンダと、油圧流体を前記油圧流体シリンダへ供給するバルブと、
からなり、前記方法は、
前記ブームに対し前記バケットの回転を指令するオペレータ入力を受信し、
該オペレータ入力に対応したバルブ信号を発し、
前記バルブ信号を前記バルブで受け取り、前記バルブは、前記信号に応答して開き、油圧流体を前記油圧流体シリンダへ供給し、前記油圧流体の力のもとで前記第１方向に前記バケットを前記第１角度位置を越えた第２角度位置へ回転させ、
バルブ信号を発することで、前記バケットの連続した回転を指令するオペレータ入力を無効にし、前記バルブを閉じて、前記バスケットの前記回転を停止させる、
段階からなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画素アレイ部とＣＭＯＳロジック部が一つのチップに集積化されるイメージセンサーにおいて、基板上に金属配線及び絶縁膜と最上金属層を蒸着する段階と、
前記最上金属層を画素アレイの周辺にだけ残して、前記最上金属層上に保護膜を蒸着する段階と、
前記保護膜を蒸着してカラーフィルター工程を進行した後、パッド金属端子をオープンするマスク工程を進行して、保護膜の両端間へ最上金属層を露出させる段階と、
前記最上金属層の上にチタニウム膜及び金属膜を蒸着する段階と、
前記金属膜上に金属凸が形成される部分をオープンした後、電気メッキ方式を利用して金属凸を成長させる段階と、
前記電気メッキにより成長した前記金属凸の下部の金属膜及びチタニウム膜を除去する段階と、
前記画素アレイと整列するレンズを形成する段階と、
整列マークを利用して前記素子と前記レンズを連結する段階と、を含むことを特徴とするレンズ内蔵型イメージセンサーの製造方法。
【請求項２】  前記チタニウム及び金属膜は、スパッタリングまたは電気メッキ方式により蒸着することを特徴とする請求項１に記載のレンズ内蔵型イメージセンサーの製造方法。
【請求項３】  前記金属膜及び金属凸は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕから選択されたいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のレンズ内蔵型イメージセンサーの製造方法。
【請求項４】  前記電気メッキ方式による金属凸の成長工程で利用する電解液は、亜硫酸塩溶液であることを特徴とする請求項１に記載のレンズ内蔵型イメージセンサーの製造方法。
【請求項５】  前記画素アレイの周辺にだけ残る最上金属層は、閉鎖型、流線型、一字状のうちいずれかでの形態で形成することを特徴とする請求項１に記載のレンズ内蔵型イメージセンサーの製造方法。
【請求項６】  前記レンズは、金属凸と一体化させるように凹状の整列マークを形成することを特徴とする請求項１に記載のレンズ内蔵型イメージセンサーの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
更に、画素アレイの周辺にだけ残る最上金属層は、閉鎖型、流線型、一字状のうちいずれかの形態で形成することが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この時、図２を参照すると、ボンディングパッド金属端子部１０５は金属パターンが残るようにする。尚且つ、画素アレイ部Ａの外周縁に幅６０μｍ以上の金属が残るようにパターニングする。この時、金属帯は閉鎖型で全て連結しても良く、中途で絶えてもいい。更には、凹状の整列マークが生じるようにパターニングしなければならない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ここで、前記画素アレイの周辺にだけ残る最上金属層は、閉鎖型のみならず、流線型、一字状の中でいずれかの形態で形成することもできる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
続いて、一般的な工程により保護膜を蒸着し、カラーセンサーを具現するためにカラーフィルター形成工程を進行した後、集光能力を高めるためにマイクロレンズを素子上部の個別画素に形成する。その次に、パッド金属端子１０５をオープンするマスク工程を進行する。この時、保護膜１０４の両端間に最上金属層１０３が露出するようにマスク工程を行なわなければならないが、最上金属層１０３と最上金属オープン部との距離が２０μｍ以上になるようにする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
次に、図４に示すように、金属凸を形成する部分だけをオープンさせるためのフォトレジストパターン１０８を形成するが、オープン部は３０μｍ以上になるようにする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極紫外（ＥＵＶ；ｅｘｔｒｅｍｅ  ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）線源であって、
初期経路に沿って液滴の流れを発生する液滴発生器と、
該液滴を該初期経路から標的経路に偏向させるかじ取り装置と、
該液滴の流れの位置を検出するセンサと、
該センサからの信号に応答し、該かじ取り板の向きを変えて、該液滴が該標的経路上の標的場所へと偏向されるようにするアクチュエータとを備える、線源。
【請求項２】
請求項１による線源において、該かじ取り装置が固体表面板を含む、線源。
【請求項３】
請求項１による線源において、該アクチュエータがガルバノメータ、ボイスコイル、圧電駆動体及びＭＥＭＳ装置から成る群より選ばれたアクチュエータである、線源。
【請求項４】
請求項１による線源において、該液滴が該かじ取り装置によって偏向される前に該センサを該初期経路に対し位置決めする、線源。
【請求項５】
請求項１による線源において、該液滴が該かじ取り装置によって偏向された後に該センサを該標的経路に対し位置決めする、線源。
【請求項６】
請求項１による線源において、該液滴が該かじ取り装置によって偏向されるときに該液滴が凍っている、線源。
【請求項７】
請求項６による線源において、該液滴がキセノンである、線源。
【請求項８】
請求項１による線源において、該初期経路と該標的経路とが互いに約９０°である、線源。
【請求項９】
請求項１による線源において、一次光学素子をさらに備え、前記標的場所が該一次光学素子の焦点にある、線源。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月26日(2006.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
常誘電性半導体デバイス（１０）を形成するための方法であって、
常誘電性材料前駆物質を用いて酸化物電極（３４、４４）上にシード層（４５）を堆積し（３００）、及び
前記常誘電性材料前駆物質を用いて前記シード層（４５）上に常誘電体層（３６、４６）を堆積する（３０２）ことを含む方法。
【請求項２】
前記常誘電体層（３６、４６）を堆積することが、亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）を堆積工程（３００、３０２）において使用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記常誘電体層（３６、４６）を堆積することが、１３．３ｋｐａ〜１３３ｋｐａ（１トル〜１０トル）の圧力を使用することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記シード層（４５）を堆積することが、１３．３ｋｐａ〜１３３ｋｐａ（１トル〜１０トル）の圧力で前記シード層（４５）を堆積することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記シード層（４５）を堆積することが、６００℃未満の温度で前記シード層（４５）を前記酸化物電極（３４、４４）上に堆積することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記シード層（４５）を堆積することが、酸化シード層（４５）を設けるために酸化剤のガスを用いることを含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記シード層（４５）を堆積することが、（１１１）結晶配向を有するシード粒子を備えるシード層（４５）を堆積することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記シード層（４５）を堆積することが、３ｎｍの平方自乗平均未満の表面粗さを有するシード層（４５）を堆積することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記シード層（４５）及び前記常誘電体層（３６，４６）を堆積することが、前記シード層（４５）及び前記常誘電体層（３６、４６）を５０ｎｍ未満の厚さに堆積することを含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記シード層（４５）を堆積することが、化学蒸着法、物理蒸着法、スピンオン堆積法及びこれらの組み合わせを含むグループから選択された工程（３００、３０２）により前記シード層（４５）を堆積することを含む請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月15日(2006.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部を有するセラミックパッケージと、前記凹部内に配置された発光素子と、前記凹部の側壁に設けられ前記発光素子の光を反射させる光反射部と、前記凹部内を封止するモールド部材と、を備えた発光装置であって、
前記セラミックパッケージは、その上面方向から見て、前記光反射部の周囲に露出している第一のセラミック素地部と、を備えており、
前記モールド部材が、少なくとも前記光反射部と前記第一のセラミック素地部とを被覆することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記発光素子の少なくとも一部を包囲するとともに、前記光反射部の内側に設けられる第二のセラミック素地部をさらに備え、前記モールド部材がさらに前記第二のセラミック素地部を被覆する請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第一のセラミック素地部と前記第二のセラミック素地部とが、少なくとも一対の互いに略平行な面を備えており、その面を前記モールド部材が被覆する請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記セラミックパッケージは、前記凹部の開口部に階段状のセラミック素地部を有する請求項１から３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
凹部を有するセラミックパッケージと、前記凹部内に配置された発光素子と、前記凹部の内壁面からセラミックパッケージの上面にかけて連続して設けられた光反射部と、前記凹部内を封止するモールド部材と、を備えており、
前記モールド部材が、前記凹部の内壁面の一部と、前記凹部の底面と、に露出されたセラミック素地部を被覆することを特徴とする発光装置。
【請求項６】
前記凹部は、その底面に載置された発光素子に対し互いにほぼ対称な形状を含み、かつ前記モールド部材に被覆された複数のセラミック素地部を有する請求項１から５のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項７】
前記発光素子は、ユウロピウムで付活されたアルカリ土類金属珪酸塩を備える請求項１から６のいずれか一項に記載の発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以上の目的を達成するために本発明に係る発光装置は、凹部を有するセラミックパッケージと、上記凹部内に配置された発光素子と、上記凹部の側壁に設けられ上記発光素子の光を反射させる光反射部と、上記凹部内を封止するモールド部材と、を備えた発光装置であって、上記セラミックパッケージは、その上面方向から見て、上記光反射部の周囲に露出している第一のセラミック素地部と、を備えており、上記モールド部材が、少なくとも上記光反射部と上記第一のセラミック素地部とを被覆することを特徴とする。このように構成すると、モールド部材とセラミックパッケージとの間に生じる応力が緩和されるため、モールド部材とパッケージとの剥離が生じることがなくなる。さらに、光反射部に入射する光は発光観測面方向に反射されるため、高輝度、高放熱、かつ信頼性の高い発光装置とすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記セラミックパッケージは、上記発光素子の少なくとも一部を包囲するとともに、上記光反射部の内側に設けられる第二のセラミック素地部をさらに備え、上記モールド部材がさらに上記第二のセラミック素地部を被覆する。また、上記第一のセラミック素地部と上記第二のセラミック素地部とが、少なくとも一対の互いに略平行な面を備えており、その面を上記モールド部材が被覆することが好ましい。上記セラミックパッケージは、上記凹部の開口部に階段状のセラミック素地部を有することが好ましい。また、本発明は、凹部を有するセラミックパッケージと、上記凹部内に配置された発光素子と、上記凹部の内壁面からセラミックパッケージの上面にかけて連続して設けられた光反射部と、上記凹部内を封止するモールド部材と、を備えており、上記モールド部材が、上記凹部の内壁面の一部と、上記凹部の底面と、に露出されたセラミック素地部を被覆することを特徴とする。上記凹部は、その底面に載置された発光素子に対し互いにほぼ対称な形状を含み、かつ上記モールド部材に被覆された複数のセラミック素地部を有することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このように構成すると、モールド部材とセラミックパッケージとの間に生じる応力が相殺しあうことにより緩和され、モールド部材とパッケージの剥離を生じさせることなく、さらに信頼性の高い発光装置とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記発光素子は、ユウロピウムで付活されたアルカリ土類金属珪酸塩を備えることができる。このように構成することによって、発光素子からの光の一部が蛍光体に吸収され異なる波長を有する光を発光可能な発光装置とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月1日(2006.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記少なくとも１つのヒートパイプが、前記熱発生部品と実質的に平行な第１の部分と、前記熱発生部品と実質的に垂直な第２の部分とを長さ方向に備えることを特徴とする請求項１に記載のヒートシンク。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのヒートパイプと、
発熱部品と接続する実質的に平坦な領域を有し、前記少なくとも１つのヒートパイプに取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプが実質的に垂直となっている基部と、
前記基部に直接取り付けられた第１のフィンの組であって、少なくとも前記第１のフィンの組の１つは、前記少なくとも１つのヒートパイプの一部に直接取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプの一部と平行である第１のフィンの組と、
を備えることを特徴とするヒートシンク。
【請求項２】
前記少なくとも１つのヒートパイプは、前記基部の前記平坦な領域に対して実質的に平行な第１の領域と、前記基部の前記平坦な領域に対して０°〜１８０°で配置された第２の領域とを長さ方向に有することを特徴とする請求項１に記載のヒートシンク。
【請求項３】
少なくとも１つのヒートパイプと、
発熱部品と接続する実質的に平坦な領域を有し、前記少なくとも１つのヒートパイプに取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプが実質的に垂直となっている基部と、
前記基部に直接取り付けられた第１のフィンの組であって、少なくとも前記第１のフィンの組の１つは、前記少なくとも１つのヒートパイプの一部に直接取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプの一部と平行である第１のフィンの組と、
を備え、
前記少なくとも１つのヒートパイプは、前記基部の前記平坦な領域に対して実質的に平行な第１の領域と、前記基部の前記平坦な領域に対して０°〜１８０°で配置された第２の領域とを長さ方向に有し、
前記基部に取り付けられた前記フィンは、前記基部から実質的に垂直方向に突出し、少なくとも前記２つの領域の間の屈曲部半径と同じ長さを有することを特徴とするヒートシンク。
【請求項４】
少なくとも１つのヒートパイプと、
発熱部品と接続する実質的に平坦な領域を有し、前記少なくとも１つのヒートパイプに取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプが実質的に垂直となっている基部と、
前記基部に直接取り付けられた第１のフィンの組であって、少なくとも前記第１のフィンの組の１つは、前記少なくとも１つのヒートパイプの一部に直接取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプの一部と平行である第１のフィンの組と、
を備え、
前記少なくとも１つのヒートパイプは、前記基部の前記平坦な領域に対して実質的に平行な第１の領域と、前記基部の前記平坦な領域に対して０°〜１８０°で配置された第２の領域とを長さ方向に有し、
前記少なくとも１つのヒートパイプは、前記第１の領域と前記第２の領域の間に位置し、前記第２の領域と異なる傾きで前記基部の前記平坦な領域に対して０°〜１８０°で配置された第３の領域の領域をさらに有することを特徴とするヒートシンク。
【請求項５】
少なくとも１つのヒートパイプと、
発熱部品と接続する実質的に平坦な領域を有し、前記少なくとも１つのヒートパイプに取り付けられた基部と、
前記基部および前記少なくとも１つのヒートパイプに直接取り付けられた第１のフィンの組と、
前記ヒートパイプに取り付け可能に構成された第２のフィンの組と、
を備えることを特徴とするヒートシンク。
【請求項６】
前記基部は、前記少なくとも１つのヒートパイプと前記発熱部品が直接接触できるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のヒートシンク。
【請求項７】
発熱部品と、
前記発熱部品に取り付けられたヒートシンクと、
を備え、
前記ヒートシンクは、
複数のヒートパイプと、
発熱部品と接続する実質的に平坦な領域を有し、前記複数のヒートパイプのうちの少なくとも１つに取り付けられ、前記少なくとも１つのヒートパイプが実質的に垂直となっている基部と、
前記基部に直接取り付けられた複数のフィンであって、前記複数のフィンのうちの少なくとも１つは、前記複数のヒートパイプのうちの少なくとも１つの一部に直接取り付けられ、前記複数のヒートパイプのうちの少なくとも１つの一部と平行である複数のフィンと、
を有することを特徴とする熱伝導システム。
【請求項８】
前記基部は、前記複数のヒートパイプのうちの少なくとも１つと前記発熱部品が直接接触できるように構成されていることを特徴とする請求項７に記載の熱伝導システム。
【請求項９】
前記複数のヒートパイプのうち少なくとも１つは、前記基部の前記平坦な領域に対して実質的に平行な第１の領域と、前記基部の前記平坦な領域に対して０°〜１８０°で配置された第２の領域とを長さ方向に有することを特徴とする請求項７に記載の熱伝導システム。
【請求項１０】
発熱部品と、
前記発熱部品に取り付けられたヒートシンクと、
を備え、
前記ヒートシンクは、
複数のヒートパイプと、
発熱部品と接続する実質的に平坦な領域を有し、前記複数のヒートパイプのうちの少なくとも１つに取り付けられた基部と、
前記基部および前記複数のヒートパイプのうちの少なくとも１つに取り付けられた複数のフィンと、
を有し、
前記複数のヒートパイプのうち少なくとも１つは、前記基部の前記平坦な領域に対して実質的に平行な第１の領域と、前記基部の前記平坦な領域に対して０°〜１８０°で配置された第２の領域とを長さ方向に有し、
前記基部に取り付けられた前記複数のフィンは、前記基部から実質的に垂直方向に突出し、少なくとも前記２つの領域の間の屈曲部半径と同じ長さを有することを特徴とする熱伝導システム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月14日(2006.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１の基板および第２の基板の間に外部よりも圧力の低い空間を有する気密容器の製造方法であって、
電極が設けられた第１の基板と、前記電極に電位を供給するための導電性の構造体と、貫通孔を有し前記電極に対向する第２の基板と、を備える容器の内外に圧力差を与える工程を有しており、
前記工程前の前記容器において、前記構造体が、前記容器の外部に対して開口し、前記貫通孔の周囲で前記第２の基板と接合する部分と前記第１の基板側が閉じた部分とを有しており、
前記工程において圧力差を与えることで前記第１の基板と前記第２の基板の対向方向の長さが伸張した前記構造体を、前記電極に電気的に接触させることを特徴とする気密容器の製造方法。
【請求項２】
前記構造体が、曲がり形状を有する伸張部を有し、
前記工程で圧力差を与えることで、前記曲がり形状を変形させることを特徴とする請求項１に記載の気密容器の製造方法。
【請求項３】
前記構造体の前記第２の基板と接合する面が、前記容器の外部の圧力が印加される面の裏側の面であることを特徴とする請求項１または２に記載の気密容器の製造方法。
【請求項４】
内部に画像表示素子を有する気密容器の製造方法として請求項１乃至３のいずれかに記載の気密容器の製造方法を行うことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月25日(2006.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】製造装置および有機化合物を含む層の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロード室、該ロード室に連結された搬送室、及び該搬送室に連結された複数の成膜室と、該成膜室に連結された設置室を有し、
前記成膜室は、前記成膜室内を真空にする第１の真空排気処理室と連結され、マスクと基板の位置あわせを行うアライメント手段と、基板保持手段と、蒸着源ホルダと、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、を有し、
前記蒸着源ホルダは、蒸着材料が封入された容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターと、を有し、
前記設置室は、前記設置室内を真空にする第２の真空排気処理室と連結され、前記設置室には前記容器を加熱する手段と、前記成膜室内の前記蒸着源ホルダに前記容器を搬送する手段とを有することを特徴とする製造装置。
【請求項２】
ロード室、該ロード室に連結された搬送室、及び該搬送室に連結された複数の成膜室と、該成膜室に連結された設置室を有し、
前記成膜室は、前記成膜室内を真空にする第１の真空排気処理室と連結され、マスクと基板の位置あわせを行うアライメント手段と、基板保持手段と、蒸着源ホルダと、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、を有し、
前記蒸着源ホルダは、蒸着材料が封入された容器を加熱する手段と、前記容器を前記蒸着源ホルダから浮かすことで冷却する手段と、を有し、
前記設置室は、前記設置室内を真空にする第２の真空排気処理室と連結され、前記設置室には前記容器を加熱する手段と、前記成膜室内の前記蒸着源ホルダに前記容器を搬送する手段とを有することを特徴とする製造装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記搬送室には、平板ヒーターが間隔を開けて複数重ねて配置でき、且つ、複数の基板を真空加熱することができる処理室が連結されていることを特徴とする製造装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、前記蒸着源ホルダを移動させる手段は、前記蒸着源ホルダをあるピッチでＸ軸方向に移動させ、且つ、あるピッチでＹ軸方向に移動させる機能を有していることを特徴とする製造装置。
【請求項５】
請求項１において、前記蒸着源ホルダには、蒸着材料が封入された前記容器が複数備えられ、
前記複数の容器には、それぞれ傾き調節ネジが設けられていることを特徴とする製造装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記成膜室には、蒸着マスクが設置され、
前記蒸着マスクは、タングステン、タンタル、クロム、ニッケル、モリブデンもしくはこれらの元素を含む合金、ステンレス、インコネル又はハステロイからなることを特徴とする製造装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記成膜室は、プラズマ発生手段を有することを特徴とする製造装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、前記成膜室は、蒸着マスクをプラズマクリーニングする手段を有することを特徴とする製造装置。
【請求項９】
有機化合物を含む層の作製方法であって、
有機化合物を含む材料が充填された容器を設置室に設置し、
前記設置室を真空排気し、
前記設置室で前記容器を所定の温度まで加熱し、
予め前記容器と同じ温度まで加熱された蒸着源ホルダに加熱された前記容器を搬送し、
基板を成膜室に搬入し、
前記容器を前記所定の温度に維持したまま前記設置室よりも前記成膜室内の真空度を上げて前記基板に蒸着を行うことを特徴とする有機化合物を含む層の作製方法。
【請求項１０】
有機化合物を含む層の作製方法であって、
有機化合物を含む材料が充填された容器を設置室に設置し、
前記設置室を真空排気し、
前記設置室で前記容器を所定の温度まで加熱し、
予め前記容器と同じ温度まで加熱された蒸着源ホルダに加熱された前記容器を搬送し、
基板を成膜室に搬入し、
前記容器を前記所定の温度に維持したまま前記設置室よりも前記成膜室内の真空度を上げて前記基板に蒸着を行い、
前記容器を前記蒸着源ホルダから浮かすことにより蒸着を止めることを特徴とする有機化合物を含む層の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  互いに一定の間隔で配置された第１、第２、第３の梁と、前記第１、第２、第３の梁の各々に直流電位を与えて前記第１、第２、第３の梁に駆動力を印加させる電圧印加手段とを備えたスイッチ。
【請求項２】  スイッチをオンする場合は、前記電圧印加手段によって前記第１の梁および第２の梁の間に駆動力を発生させて第１の梁と第２の梁を接触させて電気的に結合させ、スイッチをオフする場合は、前記第２の梁および第３の梁の間に駆動力を発生させて第１の梁と第２の梁を離間させる請求項１記載のスイッチ。
【請求項３】  前記第１、第２、第３の梁の間隔が所定のアイソレーションを満たす間隔で配置されている請求項１記載のスイッチ。
【請求項４】  前記電圧印加手段は、前記第１、第２、第３の梁に直流電位を一定時間印加する請求項２記載のスイッチ。
【請求項５】  前記第１の梁と第２の梁が電気的に結合してから、前記第３の梁を可動させる請求項２記載のスイッチ。
【請求項６】  前記第２の梁の形状を前記第１、第３の梁と比較して小さくした請求項１記載のスイッチ。
【請求項７】  前記第２の梁の形状を前記第１、第３の梁と比較して小さくし、第１と第２の梁が電気的に結合した状態において、第３の梁に第１の梁からの駆動力が印加され、第３の梁が第１、第２の梁側に可動する請求項２記載のスイッチ。
【請求項８】  前記第１と第２の梁が電気的に結合した際に、第１の梁の電位と第２の梁の電位を入れ替えて、前記第３の梁に駆動力を発生させることなく第３の梁を可動させる請求項２記載のスイッチ。
【請求項９】  前記第２の梁と第３の梁間で高いアイソレーションが必要な場合は、第３の梁に駆動力を発生させず、第３の梁を可動させない請求項２記載のスイッチ。
【請求項１０】  スイッチをオフする場合、前記第２の梁および第３の梁を結合させる請求項２記載のスイッチ。
【請求項１１】  第１の梁をアンテナ端に接続し、第２の梁を入力端子に接続し、第３の梁を所定の抵抗値で終端する請求項１記載のスイッチ。
【請求項１２】  前記第1、第２、第３の梁が水平方向に配列され、前記第1、第２、第３の梁のいずれかの梁が水平方向に可動する請求項１記載のスイッチ。
【請求項１３】  前記第1、第２、第３の梁が垂直方向に配列され、前記第1、第２、第３の梁のいずれかの梁が垂直方向に可動する請求項１記載のスイッチ。
【請求項１４】  前記第１、第２、第３の梁のうち、隣接する２つまたは３つの梁を同じ形状に湾曲させた請求項１記載のスイッチ。
【請求項１５】  前記第１、第２、第３の梁のいずれかの梁の湾曲形状をＳ字形とした請求項１４記載のスイッチ。
【請求項１６】  前記第１、第２、第３の梁のいずれかの梁の厚みが隣接する梁の厚みと異なる請求項１４記載のスイッチ。
【請求項１７】  前記駆動力が静電力である請求項１から１６のいずれかに記載のスイッチ。
【請求項１８】  基板上に設置された電極と、前記電極に対して接離可能であり、印加される電圧によって内部応力が変化する可動体を構成要素とする可動電極と、前記電極と可動電極間に静電力を発生させる第１の電圧印加手段と、前記可動体に電圧を印加する第２の電圧印加手段とを有するスイッチ。
【請求項１９】  スイッチをオンする場合は、第１の電圧印加手段により可動電極と電極間に静電力を発生させ、第２の電圧印加手段により可動体のばね定数が最小になるように可動体に制御電圧を印加し、スイッチをオフする場合は、第２の電圧印加手段により可動体のばね定数が最大になるように可動体に制御電圧を印加し、第１の電圧印加手段による静電力をオフにする請求項１８記載のスイッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  略点状の一次光源からの光を入射する光入射端面と入射光を出射する光出射面とを有する矩形状の導光体において、前記光入射端面の少なくとも一部に前記光出射面からその反対側の面の方向に延び、その断面が非対称形状であり、少なくとも一部が曲線であるレンズ列が略平行に複数形成されていることを特徴とする面光源装置用導光体。
【請求項２】  前記レンズ列は、少なくとも前記光入射端面の前記一次光源と対向する箇所に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項３】  前記入射端面の中央付近に断面が対称形状であるレンズ列が形成され、前記入射端面の両端付近に断面が非対称形状であるレンズ列が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の面光源装置用導光体。
【請求項４】  隣接する前記レンズ列の間に該レンズ列単位の幅より狭い平面部分または曲面部分が形成されていることを特徴とする請求項1〜３のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項５】  前記光入射端面が導光体のコーナー部に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の面光源装置用導光体。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれかに記載の導光体と、該導光体の光出射面側に配置された光偏向素子とからなることを特徴とする面光源装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極（２０）、陰極（３０）及びそれらの間に配置された電解質（４０）を備える少なくとも１つの燃料電池（５０）と、
前記燃料電池（５０）に流体を送るために前記少なくとも１つの燃料電池（５０）の内部に配置された少なくとも１つの流体流路（９５）と、
前記陽極（２０）、前記陰極（３０）又は前記電解質（４０）に接触し、前記流体が前記流体流路（９５）に導入されると前記流体の流れを分断し且つ前記流体と燃料電池構体（１０）との間の熱伝達率を向上させるように前記流体流路（９５）の中へ突出する流れ分断器（２５）の少なくとも１つのアレイとを具備する燃料電池構体（１０）。
【請求項２】
前記流れ分断器（２５）のアレイは、前記電解質（４０）から前記陰極（３０）又は前記陽極（２０）に延出する流れ分断器（３２）の第２のアレイを更に具備する請求項１記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項３】
前記燃料電池（５０）は、通常、固体酸化物燃料電池、プロトン交換膜燃料電池、溶融炭酸塩燃料電池、リン酸燃料電池、アルカリ燃料電池、ダイレクトメタノール燃料電池、再生燃料電池、亜鉛空気燃料電池及びプロトニックセラミック燃料電池より成る群から選択される請求項１又は２記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項４】
前記燃料電池（５０）は、平面構造を有する少なくとも１つの燃料電池（５０）を具備する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項５】
前記燃料電池（５０）は、管状構造を有する少なくとも１つの燃料電池（５０）を具備する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項６】
陽極（２０）、陰極（３０）及びそれらの間に配置された電解質（４０）を備える少なくとも１つの燃料電池（５０）と、
前記燃料電池（５０）に流体を送るために前記少なくとも１つの燃料電池（５０）の内部に配置された少なくとも１つの流体流路（９５）と、
前記陽極（２０）、前記陰極（３０）又は前記電解質（４０）を介して前記電解質（４０）から延出する流れ分断器（２５、３２）の第１のアレイと、
前記電解質（４０）から前記陰極（３０）又は前記陽極（２０）に延出して、前記流体が前記流体流路（９５）に導入されると前記流体の流れを分断し且つ前記流体と前記燃料電池構体（１０）との間の熱伝達率を向上させるように前記流体流路（９５）の中へ突出する流れ分断器（２５、３２）の第２のアレイと
を含む燃料電池構体（１０）。
【請求項７】
前記流れ分断器（２５、３２）は、通常、個別のピン、トリップ断片及びバッフル乱流装置より成る群から選択される請求項６記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項８】
前記流れ分断器（２５、３２）は、ほぼ一定の横断面面積を有する請求項６又は８記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項９】
前記流れ分断器（２５、３２）は、正方形、長方形、円、楕円、環及び変則的な形状より成る群から選択される横断面形状を有する請求項６乃至８のいずれか１項に記載の燃料電池構体（１０）。
【請求項１０】
前記流れ分断器（２５、３２）は、約０．０２０インチから約０．２５インチの範囲の幅を有する請求項６乃至９のいずれか１項に記載の燃料電池構体（１０）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
固体酸化物燃料電池等の燃料電池は発電に関して効率が良く、汚染が少ないという潜在能力を持つことが実証されているが、温度管理に関連する問題、特に燃料電池構成要素の熱勾配を調整する場合の問題が残されている。燃料電池における動作温度を維持するためには、燃料とオキシダントの反応によって燃料電池で発生する熱エネルギーを除去するか、又は内部で使用することが必要である。燃料電池における冷却流路は、スタック温度を規定の限界以下に維持し且つ所定の熱勾配を維持するように廃熱を燃料電池からオキシダントへ伝達又は除去するのを助けるために、通常は空気等のオキシダントを使用する。燃料電池構体とオキシダント等の流体との温度差は、流体流路を通過して流れる流体と燃料電池構体で発生する熱流束との熱伝達特性として機能する。しかしながら、従来の燃料電池に適用するときに使用されるそのような流体流路の場合、流体流路とそこを流れる流体との間の対流熱伝達係数は低い。
【特許文献１】米国特許４９７７０４１号明細書
【特許文献２】米国特許出願１０／２１２５４１号明細書
【特許文献３】米国特許５９９３９８５号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開２００４／０１９７６３３号明細書