Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月8日(2005.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
制御弁５１は、ステッピングモータ５２により軸方向（図９において左右方向）に変位させられるスリーブ５３と、このスリーブ５３の内径側に軸方向に変位自在に嵌装されたスプール５４とを備えている。また、図９において左側のトラニオン１４の駆動ロッド４２の端部には、プリセスカム５５が固定されており、このプリセスカム５５とリンクアーム５６とを介して、駆動ロッド４２の動きをスプール５４に伝達するフィードバック機構を構成している。
変速状態を切り換える際には、ステッピングモータ５２によりスリーブ５３を所定量だけ変位させて、制御弁５１の流路を開く。この結果、各駆動ピストン４３，４３に圧油が所定方向に送り込まれて、これらの各駆動ピストン４３，４３が各トラニオン１４，１４を所定方向に変位させるようになっている。すなわち、上記圧油の送り込みに伴って各トラニオン１４，１４が各枢軸１６，１６の軸方向に変位しつつ、これらの各枢軸１６，１６を中心に揺動する。そして、図９において左側のトラニオン１４の動き（軸方向および揺動変位）が、駆動ロッド４２の端部に固定されたプリセスカム５５とリンクアーム５６とを介してスプール５４に伝達され、このスプール５４を軸方向に変位させる。この結果、トラニオン１４が所定量変位した状態で、制御弁５１の流路が閉じられ、各駆動ピストン４３，４３への圧油の給排が停止される。したがって、各トラニオン１４，１４の軸方向および揺動方向への変位量は、ステッピングモータ５２によるスリーブ５３の変位量に応じただけのものとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月7日(2006.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
躯体の一方側面に固定する取付片を外周側に有し且つ一方側から開口部に取り付ける一方側枠体と、躯体の他方側面に固定する取付片を外周側に有し且つ他方側から開口部に取り付ける他方側枠体と、一方側枠体の他方側端に取り付ける目板と、被覆部材又はパネル体とを備え、一方側枠体は、躯体の一方側面に配置する外壁を見切る一方側見切部と、躯体の他方側面に配置する外壁を見切る他方側見切部と、一方側見切部と他方側見切部との間に位置して躯体開口部の内周側を被覆する基板部とを有し、他方側見切部の内周側の少なくとも左右側面又は上下側面には段部が設けてあり、他方側枠体は一方側枠体の基板部の他方側外周側面と対向する対向部を有し、対向部と基板部との間には見込み方向及び見付け方向の隙間を設けてあり且つ対向部はシール受け部を有し、対向部と一方側枠体との間にはシールが設けてあり、目板は他方側見切部の見付け面に取り付けてあり、被覆部材又はパネル体は段部に係止してあり、一方側見切部の内周側面と、一方側枠体の基板部の内周側面と、被覆部材の内周側面又はパネル体の係止部の内周側面と、目板の内周側面とが略同一面にあることを特徴とする開口部枠。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、躯体の一方側面に固定する取付片を外周側に有し且つ一方側から開口部に取り付ける一方側枠体と、躯体の他方側面に固定する取付片を外周側に有し且つ他方側から開口部に取り付ける他方側枠体と、一方側枠体の他方側端に取り付ける目板と、被覆部材又はパネル体とを備え、一方側枠体は、躯体の一方側面に配置する外壁を見切る一方側見切部と、躯体の他方側面に配置する外壁を見切る他方側見切部と、一方側見切部と他方側見切部との間に位置して躯体開口部の内周側を被覆する基板部とを有し、他方側見切部の内周側の少なくとも左右側面又は上下側面には段部が設けてあり、他方側枠体は一方側枠体の基板部の他方側外周側面と対向する対向部を有し、対向部と基板部との間には見込み方向及び見付け方向の隙間を設けてあり且つ対向部はシール受け部を有し、対向部と一方側枠体との間にはシールが設けてあり、目板は他方側見切部の見付け面に取り付けてあり、被覆部材又はパネル体は段部に係止してあり、一方側見切部の内周側面と、一方側枠体の基板部の内周側面と、被覆部材の内周側面又はパネル体の係止部の内周側面と、目板の内周側面とが略同一面にあることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月10日(2006.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】  樹脂層を少なくとも１層有する透光性板状体の縁部が金属製の脱落防止アタッチメントで覆われてなるアタッチメント付透光性板状体であって、前記脱落防止アタッチメントは透光性板状体の縁部が嵌入される溝を有する挟持部とサッシ枠の溝に嵌入される脚部とを有し、挟持部の溝が透光性板状体の縁部を覆う呑み込みしろは１０〜１００ｍｍであり、かつ、挟持部の溝の内幅は脚部の外幅よりも大きいことを特徴とするアタッチメント付透光性板状体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月28日(2006.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類元素−鉄系合金からなる超磁歪材薄片であって、該薄片の断面の組織が主として、主相であるＲＴ2相（Ｒは希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅを含む遷移元素の１種以上）とＲＴ2相よりもＲリッチな相からなり、Ｒリッチな相の間隔が２〜２０μｍであり、薄片の厚さが０．１〜２ｍｍである超磁歪材薄片。
【請求項２】
希土類元素−鉄系合金の組成をＲＴｘ（Ｒは希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅを含む遷移元素の１種以上、ｘは原子比）で表すとき、１．５≦ｘ≦２．０である請求項１に記載の超磁歪材薄片。
【請求項３】
Ｒリッチな相の厚さが１０μｍ以下である請求項１乃至２のいずれかに記載の超磁歪材薄片。
【請求項４】
ＲがＴｂ及び／又はＤｙである請求項１乃至３のいずれかに記載の超磁歪材薄片。
【請求項５】
薄片が単ロールまたは双ロールによるストリップキャスト法で得られたものである請求項１乃至４のいずれかに記載の超磁歪材薄片。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の超磁歪材薄片を粉砕した平均粒度３００μｍ以下の粉体。
【請求項７】
請求項６に記載の粉体を成形、焼結し、必要に応じ熱処理した超磁歪焼結体。
【請求項８】
超磁歪材用の希土類元素−鉄系合金の原料溶湯を単ロールまたは双ロールによるストリップキャスティング法により鋳造することを特徴とする超磁歪材薄片の製造方法。
【請求項９】
希土類元素−鉄系合金の組成をＲＴｘ（Ｒは希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅを含む遷移元素の１種以上、ｘは原子比）で表すとき、１．５≦ｘ≦２．０である請求項８に記載の超磁歪材薄片の製造方法。
【請求項１０】
ＲがＴｂ及び／又はＤｙである請求項８乃至９のいずれかに記載の超磁歪材薄片の製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至５のいずれかに記載の超磁歪材薄片より得られた磁歪材を使用した超音波振動子。
【請求項１２】
請求項１乃至５のいずれかに記載の超磁歪材薄片より得られた磁歪材を使用したスピーカー。
【請求項１３】
請求項１乃至５のいずれかに記載の超磁歪材薄片より得られた磁歪材を使用したアクチュエーター。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月31日(2006.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  【請求項１】  ゲルマニウム含有成型体に表層めっきを施す前に、シアン化銅浴法、ピロりん酸銅浴法、無電解銅浴法、硫酸銅浴法及びほうふっ化銅浴法のうちの１種類以上の方法により銅めっき処理を施して銅めっき層を形成することを特徴とするゲルマニウム含有成型体のめっき処理方法。  【請求項２】  前記５種のめっき法のうちの２種類以上の方法により２層以上の銅めっき層を形成することを特徴とする請求項１に記載のゲルマニウム含有成型体のめっき処理方法。  【請求項３】  前記２層以上の銅めっき層のうち、最もゲルマニウム含有成型体に近い層にシアン化銅浴法、ピロりん酸銅浴法及び無電解銅浴法のうちのいずれかの方法を使用し、最も表層めっきに近い層に硫酸銅浴法、ほうふっ化銅浴法、光沢剤を添加したシアン化銅浴法、光沢剤を添加したピロりん酸銅浴法及び光沢剤を添加した無電解銅浴法のうちのいずれかの方法を使用することを特徴とする請求項２に記載のゲルマニウム含有成型体のめっき処理方法。  【請求項４】  上記最も表層めっきに近い層を形成した後、化学的研磨法若しくは機械的研磨法のいずれか又はそれら双方により該層の表面を研磨することを特徴とする請求項２又は３に記載のゲルマニウム含有成型体のめっき処理方法。 【請求項５】  請求項１〜４のいずれかに記載のめっき処理方法によるめっき工程を有することを特徴とするゲルマニウム含有成型体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月20日(2006.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体による浸食を受ける機器を処理する方法において、浸食防止被覆膜の層を形成するために前記機器の表面にコバルト系合金を塗布することから成り、前記コバルト系合金は、
２８から３２重量％のクロムと、
５から７重量％のタングステンと、
０．１から２重量％の珪素と、
１．２から１．７重量％の炭素と、
０．５から３重量％のニッケルと、
０．０１から１重量％の鉄と、
０．０１から１重量％のマンガンと、
０．２から１重量％のモリブデンと、
その残部を補充するためのコバルトとを含む方法。
【請求項２】
前記塗布はレーザーめっき（レーザークラッディング）によって実行されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記機器は蒸気タービンの部品から成ることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記部品は蒸気タービンブレードであることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記レーザーめっきはＣＯ2又はＹＡＧレーザーによって実行されることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項６】
液体による浸食を受ける機器の被覆のためのコバルト系合金において、前記コバルト系合金は、
２８から３２重量％のクロムと、
５から７重量％のタングステンと、
０．１から２重量％の珪素と、
１．２から１．７重量％の炭素と、
０．５から３重量％のニッケルと、
０．０１から１重量％の鉄と、
０．０１から１重量％のマンガンと、
０．２から１重量％のモリブデンと、
１００％に至るための補充分としてのコバルトとを含むことを特徴とするコバルト系合金。
【請求項７】
前記コバルト系合金が次の組成：
【表１】
2004270023.tif 000001
を有することを特徴とする請求項６記載のコバルト系合金。
【請求項８】
前記コバルト系合金が次の組成：
【表２】
2004270023.tif 000002
を有することを特徴とする請求項６記載のコバルト系合金。
【請求項９】
前記コバルト系合金が次の組成：
【表３】
2004270023.tif 000003
を有することを特徴とする請求項６記載のコバルト系合金。
【請求項１０】
前記コバルト系合金が次の組成：
【表４】
2004270023.tif 000004
を有することを特徴とする請求項６記載のコバルト系合金。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
従って、目下のところ、ガスタービン部品などの浸食を受ける機器の、液体との衝突による分離に起因する金属浸食速度を有効に低下させることが可能である新たな種類の被覆膜又は処理を提供する必要性が痛感されている。
【特許文献１】米国特許３９６６４２２号明細書
【特許文献２】特開平１１−３３６５０２号
【非特許文献１】M. Lesser、「Wear」（１９９５年）、２８〜３４ページ
【非特許文献２】F. J. Heymann、「ASM Handbook Vol. 18」、２２１ページ
【非特許文献３】「Erosion−resistant Coating for Low−Pressure Steam Turbine Blades」（Euromat "99"）
【非特許文献４】“Material Safety Data Sheet - Stellite  Tips”, Deloro Setellite Inc., Belleville, Ontario, Canada; Prepared by L. L. Palmateer - Quality Manager; 6 sheets; January 1998;インターネットサイト - http:www.armstrongblue.com/Publications/msds_satellite_tips.htm.
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月14日(2006.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図３と図４に示される二通りの施工状態のいずれにおいても、笠木化粧部材１０の外周部１４は階段壁ａの角部から突出しているが、断面略円弧状の曲面形状を有しているので、階段歩行時の安全性が確保されるとともに、階段壁ａの形状、特にその上面が略水平面ｂであっても傾斜面ｃであっても違和感のない外観を与えるので、いずれの場合にも共用できる笠木化粧部材１０として製造することができ、コストメリットが大である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図７および図８は本発明のさらに別の実施形態による笠木化粧部材４０を示す。この実施形態による笠木化粧部材４０は、先述の笠木化粧部材１０と概ね同様に構成されているが、外周部１４および両端縁１６，１７が底面部１３にまで回り込むように延長して底面フランジ部４１，４２を形成している点において相違している。他の構成については先述の笠木化粧部材１０と同様であるので、同一の構成要素には同一の符号を付して、それらの説明を省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月21日(2006.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以前実用に供されたガスタービンブレード（２０）を保護する方法であって、
翼形部（２２）と、ダブテール（２６）と、該翼形部と該ダブテールとの間に配置され、上部表面（３０）及び底部表面（３２）を備えたプラットホーム（２８）とを有する、以前実用に供されたガスタービンブレード（２０）を準備する段階と、
前記ガスタービンブレード（２０）を清浄化する段階と、
貴金属第１層（６０）の第１の付着を、前記翼形部（２２）の少なくとも翼形部第１層領域（６２）上に施して第１層（６４）の翼形部分を形成し、かつ前記プラットホーム（２８）の少なくともプラットホーム第１層領域（６６）上に施して第１層（６８）のプラットホーム部分を形成する段階と、
前記第１層（６８）のプラットホーム部分の少なくとも１部を覆うが、前記第１層（６４）の翼形部分を覆わない状態で、貴金属第２層（７０）の第２の付着を施して第２層（７２）のプラットホーム部分を形成する段階と、
少なくとも前記第１層（６４）の翼形部分と前記第２層（７２）のプラットホーム部分とを覆った状態で、アルミニウム含有層（８０）の第３の付着を施す段階と、
前記ガスタービンブレード（２０）を加熱して前記アルミニウム及び前記貴金属を相互拡散させる段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
準備する前記段階は、前記プラットホーム（２８）の前記底部表面（３２）上に保護皮膜を持たない前記ガスタービンブレード（２０）を準備する段階を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
清浄化する前記段階は、
前記翼形部（２２）から表面の塵埃、酸化物及び腐食生成物を除去する段階と、
前記プラットホーム（２８）から表面の塵埃、酸化物及び腐食生成物を除去する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
清浄化する前記段階は、
前記ガスタービンブレード（２０）を弱酸性浴に接触させる段階と、その後、
前記ガスタービンブレード（２０）をグリットブラストする段階と、
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
第１の付着を施す前記段階は、電着により前記貴金属第１層（６０）の第１の付着を施す段階を含むことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
以前実用に供されたガスタービンブレード（２０）を保護する方法であって、
翼形部（２２）と、ダブテール（２６）と、該翼形部と該ダブテールとの間に配置され、上部表面（３０）及びその上に保護皮膜を持たない底部表面（３２）を備えたプラットホーム（２８）とを有する、以前実用に供されたガスタービンブレード（２０）を準備する段階と、
前記ガスタービンブレード（２０）を清浄化する段階と、
白金第１層の第１の付着を、前記翼形部（２２）の少なくとも翼形部第１層領域（６２）上に施して第１層（６４）の翼形部分を形成し、かつ前記プラットホーム（２８）の少なくともプラットホーム第１層領域（６６）上に施して第１層（６８）のプラットホーム部分を形成する段階と、
前記第１層（６８）のプラットホーム部分の少なくとも１部を覆うが、前記第１層（６４）の翼形部分を覆わない状態で、白金第２層の第２の付着を施して第２層（７２）のプラットホーム部分を形成する段階と、
少なくとも前記第１層（６４）の翼形部分と前記第２層（７２）のプラットホーム部分とを覆った状態で、気相蒸着によりアルミニウム含有層（８０）の第３の付着を施すことより、白金アルミニド保護皮膜（９０、９２）を形成する段階と、同時に、
前記ガスタービンブレード（２０）を加熱して前記アルミニウム及び前記白金を相互拡散させる段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
第１の付着を施す前記段階は、0.000203ｃｍから0.000318ｃｍまでの厚さに前記白金第１層（６０）の第１の付着を施す段階を含むことを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
第2の付着を施す前記段階は、前記白金第１層（６０）と前記白金第２層（７０）との合計厚さが、0.000457ｃｍから0.000813ｃｍまでになるように、該白金第２層（７０）の第2の付着を施す段階を含むことを特徴とする、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
加熱する前記段階の終了時における前記翼形部（２２）上の翼形部白金アルミニド皮膜厚さは、清浄化する前記段階の終了時における翼形部白金アルミニド皮膜厚さよりも0.00254ｃｍ大きいことを特徴とする、請求項６乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
以前実用に供されたガスタービンブレード（２０）を保護する方法であって、
翼形部（２２）と、ダブテール（２６）と、該翼形部と該ダブテールとの間に配置され、上部表面（３０）及び底部表面（３２）を備えたプラットホーム（２８）とを有する、以前実用に供されたガスタービンブレード（２０）を準備する段階と、
前記ガスタービンブレード（２０）を清浄化する段階と、
前記翼形部（２２）の翼形部第１層領域（６２）上に貴金属第１層（６０）を付着させる段階と、
前記プラットホーム（２８）の少なくとも１部の上に、前記貴金属第１層（６０）よりも厚い貴金属第２層（７０）を付着させる段階と、
少なくとも前記貴金属第１層（６０）と前記貴金属第２層（７２）とを覆った状態で、アルミニウム含有層（８０）を付着させる段階と、
前記ガスタービンブレード（２０）を加熱して前記アルミニウム及び前記貴金属を相互拡散させる段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ガスタービンブレードの異なる部分は、異なるタイプ及び厚さの保護皮膜を必要とし、またその上に皮膜が全くないことを必要とする部分もある。コスト効率の最も高い被覆技術を用いながらも、一部の領域において異なるタイプ及び厚さの保護皮膜を施しかつ他の領域において皮膜の付着を防止することは、以前実用に供されていて現在修理を受けているガスタービンブレードの場合には難しい問題を生じる可能性がある。多くの場合、保護皮膜と剥き出しの表面との所望の組み合わせを得ることは難しい。
【特許文献１】米国特許５８２４２０５号明細書
【特許文献２】米国特許６２７０３１８号明細書
【特許文献３】米国特許６２８３７１５号明細書
【特許文献４】米国特許６２９６４４７号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月28日(2006.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】真空排気装置及び減圧処理装置及び減圧処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  真空室内のガスを排気する真空排気用の高真空ポンプとあら引き用の低真空ポンプとを備え、真空室からの排気ラインは少なくとも真空室からバルブを介してあら引きポンプで直接排気する第１の排気ラインと、真空室からバルブを介して高真空ポンプにつながり、高真空ポンプからあら引きポンプに至る第２の排気ラインとを備え、第１の排気ラインと第２の排気ラインとを選択的に切り替えて使用する真空排気装置において、
上記第２の排気ラインには、真空室が高真空状態の定常時に使用する主排気ラインとしての第１のラインと、この第１のラインと並列に配設した第２のラインを備えたことを特徴とする真空排気装置。
【請求項２】  上記第２のラインには少なくとも真空室から高真空ポンプヘ流入するガス流量を絞るバルブを備えたことを特徴とする請求項１に記載の真空排気装置。
【請求項３】  上記第２のラインには、少なくとも流量を絞る要素とラインの開閉用のバルブ、または絞り要素と開閉バルブを一体化したバルブを備えたことを特徴とする請求項１に記載の真空排気装置。
【請求項４】  上記第１のラインと第２のラインとを選択的に切り替えて使用する切替装置を設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の真空排気装置。
【請求項５】  真空室内のガスを真空排気用の高真空ポンプとあら引き用の低真空ポンプとを備え、真空室からの排気ラインは少なくとも真空室からバルブを介してあら引きポンプで直接排気する第１の排気ラインと、真空室からバルブを介して高真空ポンプにつながり、高真空ポンプからあら引きポンプに至る第２の排気ラインとを備え、第１の排気ラインと第２の排気ラインとを選択的に切り替えて使用する真空排気装置おいて、
上記第１の排気ラインは、真空室の圧力を大気圧から約１ｋＰａに真空排気するスロー排気の際に使用するようにしたことを特徴とする真空排気装置。
【請求項６】  真空室内のガスを排気する真空排気用の高真空ポンプとあら引き用の低真空ポンプとを備え、真空室からの排気ラインは少なくとも真空室からバルブを介してあら引きポンプで直接排気する第１の排気ラインと、真空室からバルブを介して高真空ポンプにつながり、高真空ポンプからあら引きポンプに至る第２の排気ラインとを備え、第１の排気ラインと第２の排気ラインとを選択的に切り替えて使用する真空排気装置において、
上記第２の排気ラインには、真空室が高真空状態の定常時に使用する主排気ラインとしての第１のラインと、この第１のラインと並列に配設しガス流量を調整することができる第２のラインを備えた真空排気装置を用い、
上記第２の排気ラインで真空引きする際に、第２のラインにより真空引きし、真空度が任意の圧力値まで低下した時に、上記第２のラインと第１のラインを切り替え、その後第１のラインで真空引きするようにしたことを特徴とする真空排気方法。
【請求項７】  所定の減圧値と大気圧値に設定自在に構成された真空室を備えた減圧処理装置において、前記真空室に設けられた第一の排気ラインと第二の排気ラインと、これら第一の排気ラインと第二の排気ラインの各排気ラインに接続され第一の排気ラインと第二の排気ラインから前記真空室内を排気する第一の排気機構と第二の排気機構と、前記第一の排気ラインと第二の排気ラインの各排気ラインに設けられ排気ラインの開閉を行う第一の開閉機構と第二の開閉機構と、これら第一の開閉機構と第二の開閉機構を各々独立して制御する第一の制御機構と第二の制御機構と、を具備したことを特徴とする減圧処理装置。
【請求項８】  前記第一の排気ラインに接続され第一の排気ライン内の圧力を計測する第一の圧力計測機構と、前記真空室に接続され前記真空室内の圧力を計測する第二の圧力計測機構と、を具備したことを特徴とする請求項７に記載の減圧処理装置。
【請求項９】  前記第一の制御機構と第二の制御機構は、前記第一の圧力計測機構と第二の圧力計測機構からの圧力測定情報を受信可能に構成されていることを特徴とする請求項８に記載の減圧処理装置。
【請求項１０】  前記第二の制御機構は、前記第一の制御機構からの指示情報に基づいて前記第二の開閉機構の開閉制御を行うように構成されていることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の減圧処理装置。
【請求項１１】  前記真空室に接続される第一の排気ラインは、前記真空室に接続される他の真空室の配置側に接続され、前記真空室に接続される第二の排気ラインは、前記真空室に物品を大気雰囲気から出し入れする側に接続されていることを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の減圧処理装置。
【請求項１２】  前記真空室に接続される第二の圧力計測機構は、前記真空室に接続される他の真空室の配置側に配置され、前記真空室に所定の気体を供給する気体供給ラインは、前記真空室に物品を大気雰囲気から出し入れする側に接続されていることを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載の減圧処理装置。
【請求項１３】  請求項７〜１２のいずれか１項に記載の減圧処理装置を用いて物品に所定の処理する減圧処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
このうちの保持器９ａは、全体を金属若しくは合成樹脂により造っており、それぞれが円環状で互いに同心に配置した１対のリム部１０、１０と、これら両リム部１０、１０同士を互いに連結する複数本の柱部１１、１１とを備える。これら各柱部１１、１１は、円周方向に関して等間隔に配置しており、それぞれの軸方向両端部を、上記各リム部１０、１０の内側縁に結合している。そして、これら各柱部１１、１１の円周方向両側縁と上記各リム部１０、１０の内側縁とにより四方を囲まれた部分を、それぞれ上記各ニードル８、８を転動自在に保持する為のポケット１２、１２としている。又、本例の場合、互いに対向する上記各リム部１０、１０の内面と上記各ニードル８、８の軸方向両端面とを、それぞれ単なる平坦面として、これら両面同士を凹凸係合させない構造としている。これにより、本例の場合には、これら両面に凹凸係合部を形成する必要をなくして（これら両面の構造を簡単にして）、製造コストが嵩まない様にしている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月28日(2006.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  給水源から供給される洗浄水を人体に噴出する衛生洗浄装置であって、
前記洗浄水を人体に噴出する人体洗浄ノズル装置と、
蒸気を噴出することにより前記人体洗浄ノズル装置を洗浄するノズル洗浄装置と、
前記人体洗浄ノズル装置および前記ノズル洗浄装置の動作を制御する制御装置と、
前記制御装置、前記人体洗浄ノズル装置および前記ノズル洗浄装置を少なくとも部分的に収容する本体部と、
前記本体部内の圧力を外部の圧力よりも高くする加圧手段とを備えたことを特徴とする衛生洗浄装置。
【請求項２】  前記加圧手段は、前記本体部内に空気を送り込む送風機を含むことを特徴とする請求項１記載の衛生洗浄装置。
【請求項３】  前記送風機により本体部内に送り込まれた空気を乾燥させる乾燥手段をさらに備えたことを特徴とする請求項２記載の衛生洗浄装置。
【請求項４】  前記乾燥手段は、前記送風機により前記本体部内に送り込まれた空気が通過する経路に設けられた加熱手段を含むことを特徴とする請求項３記載の衛生洗浄装置。
【請求項５】  前記乾燥手段は、前記送風機により前記本体部内に送り込まれた空気が通過する経路に設けられた乾燥剤を含むことを特徴とする請求項３または４記載の衛生洗浄装置。
【請求項６】  前記送風機により前記本体部内に送り込まれた空気を用いて人体の被洗浄部を乾燥させる乾燥装置をさらに備えたことを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載の衛生洗浄装置。
【請求項７】  前記加圧手段は、前記送風機により前記本体部内に送り込まれた空気を前記本体部内に排出する第１の経路を含み、
前記乾燥装置は、前記送風機により前記本体部内に送り込まれた空気を前記本体部外に排出する第２の経路を含むことを特徴とする請求項６記載の衛生洗浄装置。
【請求項８】  前記送風機により前記本体部内に送り込まれた空気を前記第１の経路および前記第２の経路のいずれか一方に選択的に導く経路切り替え手段をさらに備えたことを特徴とする請求項７記載の衛生洗浄装置。
【請求項９】  前記送風機により本体部内に送り込まれた空気の臭気を除去する脱臭装置をさらに備えたことを特徴とする請求項２記載の衛生洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
加圧手段は、送風機により本体部内に送り込まれた空気を本体部内に排出する第１の経路を含み、脱臭装置は、送風機により本体部内に送り込まれた空気を本体部外に排出する第２の経路と、送風機により本体部内に送り込まれた空気の臭気を除去する脱臭剤を収納する脱臭剤収納部とを含んでもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
送風機により本体部内に送り込まれた空気を第１の経路および第２の経路のいずれか一方に選択的に導く第１の経路切り替え手段をさらに備えてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本体部に設けられた便座部をさらに備え、脱臭装置は、便座部の側における本体部の部分に空気吸入口を有し、加圧手段は、脱臭装置の空気吸入口とは異なる本体部の位置に空気吸入口を有し、脱臭装置の空気吸入口および加圧手段の空気吸入口のいずれか一方から吸入された空気を送風機に導く第２の経路切り替え手段をさらに備えてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月20日(2005.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンクリートを圧送するためのホースや管路等の圧送経路を含むコンクリート圧送手段によって、コンクリートを打込む場所まで圧送してから打込みするのに用いるコンクリート打込み装置であって、
前記圧送経路の先端部あるいは途中に、その圧送経路内を流れるコンクリートを混練してから吐出させるための混練装置を備えており、
この混練装置は、前記圧送経路の端部と着脱自在に接続され、その圧送経路からコンクリートを流入する入口開口部と、
前記入口開口部より流入したコンクリートが流れる複数の変形通路と、
前記変形通路を流れたコンクリートを吐出する出口開口部と、を備え、
前記各変形通路は、通過するコンクリートに均等な圧力がかかるようその断面形状が入口から出口に向かって連続的に変化し、それら変形通路の入口と出口との間に、各変形通路を流れるコンクリートを合流させる合流手段と、合流したコンクリートを分割して各変形通路に流す分割手段とを設けており、
前記入口開口部と出口開口部のうち少なくとも入口開口部は、その断面形状が略円形に形成されていることを特徴とするコンクリート打込み装置。
【請求項２】
前記入口開口部と出口開口部のうち少なくともいずれか一方は、テーパー状の圧送経路と接続されていることを特徴とする請求項１に記載のコンクリート打込み装置。
【請求項３】
前記混練装置は、移動治具に載置されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のコンクリート打込み装置。
【請求項４】
コンクリートの搬送経路の途中又は端部に設けられるコンクリートの混練装置であって、前記搬送経路と着脱自在に接続され、その搬送経路からコンクリートを流入する入口開口部と、
前記入口開口部より流入したコンクリートが流れる複数の変形通路と、
前記変形通路を流れたコンクリートを吐出する出口開口部と、を備え、
前記各変形通路は、通過するコンクリートに均等な圧力がかかるようその断面形状が入口から出口に向かって連続的に変化し、それら変形通路の入口と出口との間に、各変形通路を流れるコンクリートを合流させる合流手段と、合流したコンクリートを分割して各変形通路に流す分割手段とを設けており、
前記入口開口部と出口開口部のうち少なくとも入口開口部は、その断面形状が略円形に形成されていることを特徴とする混練装置。
【請求項５】
前記複数の変形通路は、並列する変形通路との間に仕切り部を介して形成されており、
前記仕切り部は、コンクリートの通過方向でその一部が切り欠きされており併設する変形通路と合流していることを特徴とする請求項４に記載の混練装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月28日(2006.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレドリルされたメーソンリーホールまたはコンクリートホールに包埋するための小型アンカーであって、該アンカーは、以下：
軸長を規定する、前方端部および反対の後方端部；
該メーソンリーホールまたはコンクリートホールをタッピングするための、外部らせん状切削ねじ山；
該アンカーの長さの少なくとも一部にわたって、ほぼ、該前方端部から該後方端部に向かって延びる、中実部分；
該アンカーの長さの少なくとも一部にわたって、該後方端部から該前方端部に向かって延びる、中空部分であって、該中空部分は、以下：
（ａ）該アンカーに構造体を固定するように構成および適合された、ねじ切りされた固定具取り付け部分、および
（ｂ）該固定具取り付け部分に隣接するツール係合部分であって、該ツール係合部分は、該アンカーに回転トルクを提供するためのアンカー挿入ツールを係合するように構成および適合されている、ツール係合部分
を備える、中空部分；
該アンカーを該プレドリルされたメーソンリーホールまたはコンクリートホール中に押入するための、放射状の高さを有し、かつ該らせん状切削ねじ山の連続した列間に配置された、軸方向に広い弧状ランドであって、該ランドは、該高さの少なくとも２倍の軸長を有し、かつ挿入されるときに該アンカーを該ホール中に押入するために、該ホールを擦り減らすように構成されている、ランド；ならびに
該ランドのいずれかの側の、平坦なシャンク部分
を備える、アンカー。
【請求項２】  
前記ツール係合部分が、メス型六角ソケットとして構成されている、請求項１に記載のアンカー。
【請求項３】  
前記固定具取り付け部分が、前記アンカーの前記後方端部に隣接して配置され、該後方端部を貫通する、請求項１に記載のアンカー。
【請求項４】  
前記切削ねじ山が、前記固定具取り付け部分の上に延びない、請求項３に記載のアンカー。
【請求項５】  
前記アンカーが、冷間押出しによって形成される、請求項１に記載のアンカー。
【請求項６】  
請求項１に記載のアンカーであって、谷底直径および長さを有するアンカーをさらに備え、該長さは、該アンカーの該直径の３分の１より小さい、アンカー。
【請求項７】  
請求項１に記載のアンカーであって、それぞれ直径を有する前記固定具取り付け部分およびツール係合部分をさらに備え、該固定具取り付け部分の該直径は、該ツール係合部分の該直径よりも大きい、アンカー。
【請求項８】  
前記アンカーの前記前方端部が、平坦な前方表面を有する鈍い形状を有する、請求項１に記載のアンカー。
【請求項９】  
前記切削ねじ山が、前記アンカーの周囲のまわりに２つ未満のらせん状回旋を作製する、請求項１に記載のアンカー。
【請求項１０】  
前記切削ねじ山が、前記中実部分およびツール係合部分の上に延びる、請求項１に記載のアンカー。
【請求項１１】  
前記切削ねじ山が、冷間ローリングにより形成される、請求項１に記載のアンカー。
【請求項１２】  
前記固定具取り付け部分が、いかなるねじ切りも有さない滑らかな外部表面を有する、請求項１に記載のアンカー。
【請求項１３】  
予備決定された直径を有する、プレドリルされたメーソンリーホールまたはコンクリートホールと組み合わせた小型アンカーであって、該組み合わせは、以下：
軸長を規定する、前方端部および反対の後方端部；
該メーソンリーホールまたはコンクリートホールをタッピングするための、外部らせん状切削ねじ山であって、該ねじ山は、該ホールの該直径よりも大きな直径を有する、切削ねじ山；
該アンカーの長さの少なくとも一部にわたって、ほぼ、該前方端部から該後方端部に向かって延びる、中実部分；
該アンカーの長さの少なくとも一部にわたって、該後方端部から該前方端部に向かって延びる、中空部分であって、該中空部分は、以下：
（ａ）該アンカーに構造体を固定するように構成および適合された、ねじ切りされた固定具取り付け部分、および
（ｂ）該固定具取り付け部分に隣接するツール係合部分であって、該ツール係合部分は、該アンカーに回転トルクを提供するためのアンカー挿入ツールを係合するように構成および適合されている、ツール係合部分
を備える、中空部分；
該アンカーを該プレドリルされたメーソンリーホールまたはコンクリートホール中に押入するための、該らせん状切削ねじ山の連続した列間に配置された、軸方向に広いランドであって、該ランドは、該ランドの高さの少なくとも２倍の軸長を有し、該メーソンリーホールまたはコンクリートホールの直径と少なくとも等しい直径を有する、ランド
を備える、アンカー。
【請求項１４】  
前記ランドのいずれかの側の上に平坦なシャンク部分をさらに備える、請求項１３に記載のアンカー。
【請求項１５】  
請求項１３に記載のアンカーであって、前記メーソンリーまたはコンクリート中のホールの入口とほぼ同一平面であるか、またはそれより下に凹む、該アンカーの後方端部をさらに備える、アンカー。
【請求項１６】  
前記ツール係合部分が、メス型六角ソケットとして構成されている、請求項１に記載のアンカー。
【請求項１７】  
前記固定具取り付け部分が、前記アンカーの前記後方端部に隣接して配置され、該後方端部を貫通する、請求項１３に記載のアンカー。
【請求項１８】  
請求項１３に記載のアンカーであって、谷底直径および長さを有するアンカーをさらに備え、該長さは、該アンカーの該直径の３分の１より小さい、アンカー。
【請求項１９】  
請求項１３に記載のアンカーであって、それぞれ直径を有する前記固定具取り付け部分およびツール係合部分をさらに備え、該固定具取り付け部分の該直径は、該ツール係合部分の該直径よりも大きい、アンカー。
【請求項２０】  
前記切削ねじ山が、前記アンカーの周囲のまわりに２つ未満のらせん状回旋を作製する、請求項１３に記載のアンカー。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月11日(2006.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
命令語を一時的に格納し、命令実行時に前記格納された命令語が読み出される記憶回路と、
前記命令語を入力とし、前記命令語の実効アドレスがＰＣ相対ディスプレースメントとして指定されているかどうかを判定するデコーダと、
前記命令語がＰＣ相対ディスプレースメントを有する場合には、ＰＣ相対ディスプレースメントと予め判定されたＰＣアドレスの下位ビット部分とを加算し、その計算結果を実効アドレス部分として出力する加算回路と、
前記命令語がＰＣ相対ディスプレースメントを有する場合には、命令語のディスプレースメントを、前記加算回路から出力された計算結果に置き換えて、前記置き換え結果を、命令語のｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントとして前記記憶回路に出力するセレクタと、
命令実行時にｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメント付き実効アドレスを計算する実効アドレス計算回路と、
前記加算回路の無効キャリービットを復帰させるキャリービット復帰手段と、を備え、
前記キャリービット復帰手段は、
ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントとＰＣアドレスの下位ビット部分とを比較する比較回路と、
前記比較結果と、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントの符号ビットと、ＰＣアドレスにおいてＰＣアドレスの下位ビット部分の最上位ビットよりも上位であるビットと、を入力とすることにより、予め判定された変換テーブルに基づいて、＋１、０、−１のいずれかを選択する選択信号を出力するデコーダと、
前記選択信号に基づいて、ＰＣアドレスの残りのビットに、＋１、０又は−１を加算し、それをＰＣアドレスの残りのビットと等しいビット数を有する実効アドレスの上位部分とすることにより、復帰させるキャリービットを決定する手段と、を有し、
前記実効アドレス計算回路は、前記加算回路で発生するキャリービットを利用せずに、前記実効アドレスを計算するプロセッサ。
【請求項２】
請求項１に記載のプロセッサであって、
前記記憶回路に格納された命令語の一部を入力とし、符号ビット拡張を実行し、命令実行時にｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを利用して、実効アドレスを計算する実効アドレス計算回路を更に備えるプロセッサ。
【請求項３】
請求項１に記載のプロセッサであって、
前記記憶回路は、命令語に対応する前記加算回路からのキャリービットを格納する領域を有するプロセッサ。
【請求項４】
請求項３に記載のプロセッサであって、
前記記憶回路に格納されている命令語の一部を入力とし、符号ビット拡張を実行し、命令実行時にｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメント付き実効アドレスを計算する実効アドレス計算回路を更に備え、
前記実効アドレス計算回路は、前記記憶回路に格納されたキャリービットを利用して、前記符号ビット拡張付き実効アドレスを計算するプロセッサ。
【請求項５】
請求項１に記載のプロセッサであって、
前記記憶回路は、命令キャッシュであるプロセッサ。
【請求項６】
ＰＣ相対ディスプレースメントを含む第１の命令語を、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを含む第２の命令語に変換する間に発生する無効キャリービットを復帰する方法であって、
予め判定されたＰＣアドレスの下位ビット部分とＰＣ相対ディスプレースメントを加算することにより、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを計算すること、
第１の命令語のＰＣ相対ディスプレースメントを、その計算結果に置き換えること、
ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを含む第２の命令語を、記憶回路に格納すること、
前記記憶回路に格納された命令語の一部を入力とすること、
加算結果から伝播されたキャリービットを利用せずに、符号ビット拡張を実行すること、
命令実行時にｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメント付き実効アドレスを計算すること、
ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントとＰＣアドレスの下位ビット部分を比較すること、
比較結果と、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントの符号ビットと、ＰＣアドレスにおいてＰＣアドレスの下位ビット部分の最上位ビットよりも上位であるビットと、を入力することにより、予め判定された変換テーブルに基づいて、＋１、０、−１のいずれかを選択する選択信号を出力すること、
前記選択信号に基づいて、ＰＣアドレスの残りのビットに、＋１、０又は−１を加算し、それをＰＣアドレスの残りのビットと等しいビット数を有する実効アドレスの上位部分とすることにより、加算ステップの最上位ビットから伝播されたキャリービットを復帰すること、を含み、
前記記憶回路に格納されたｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントは、命令実行時に実効アドレス部分として直ちに利用される方法。
【請求項７】
ＰＣ相対ディスプレースメントを含む第１の命令語を、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを含む第２の命令語に変換する間に発生する無効キャリービットを復帰する方法であって、
予め判定されたＰＣアドレスの下位ビット部分とＰＣ相対ディスプレースメントを加算することにより、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを計算すること、
第１の命令語のＰＣ相対ディスプレースメントを、その計算結果に置き換えること、
ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントを含む第２の命令語を、記憶回路に格納すること、
前記記憶回路に格納された命令語の一部を入力とすること、
加算結果から伝播されたキャリービットを利用せずに、符号ビット拡張を実行すること、
命令実行時にｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメント付き実効アドレスを計算すること、
加算ステップから伝播されたキャリービットを取得するために、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントとＰＣアドレスの下位ビット部分を比較すること、
キャリービットと、ｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントの符号ビットと、ＰＣアドレスにおいてＰＣアドレスの下位ビット部分の最上位ビットよりも上位であるビットと、の排他的論理和を取ることにより、第１の命令語のＰＣ相対ディスプレースメントの符号ビットを出力すること、
加算ステップから伝播されたキャリービットを復帰するために、キャリービットと、符号ビットと、ＰＣアドレスにおいてＰＣアドレスの下位ビット部分の最上位ビットよりも上位であるビットと、を加算すること、を含み、
前記記憶回路に格納されたｓｅｍｉＡＢＳディスプレースメントは、命令実行時に実効アドレス部分として直ちに利用される方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月24日(2005.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 （ａ）エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル（Ａ）を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。
【請求項２】 （ｂ）エネルギー線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型化学増幅レジスト組成物。
【請求項３】 （ｅ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液に対する溶解性が酸の作用により増大する樹脂、又は（ｇ）水に不溶で、アルカリ現像液に可溶な樹脂
を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型化学増幅レジスト組成物。
【請求項４】 （ｆ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液に対する溶解性が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物
を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型化学増幅レジスト組成物。
【請求項５】 該ラジカル（Ａ）が（ａ）エネルギー線の照射により酸を発生する化合物（ａ）と反応して、酸を発生すること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型化学増幅レジスト組成物。
【請求項６】 該化合物（ａ）が次の群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型化学増幅レジスト組成物。
(１)フッ素以外のハロゲン化アルキル、
フッ素以外のハロゲン化アリール、
フッ素以外のハロゲン化アラルキル、
フッ素以外のハロゲン化アリル
（ただし、上記アルキル、アリール、アラルキル、アリル基は一部もしくは全部の水素がフッ素で置換されてよい）、
(２)チオール化合物、二級アルコール、置換基を有しても良いアリルアルコール、芳香環上に置換基を有してもよいベンジルアルコール、及びこれらのエステル、エーテル化合物
スルフィド化合物、ジスルフィド化合物
(３)含ハロゲン珪素化合物、アルコキシ珪素化合物
(４)直鎖状、分岐状、あるいは環状アセタール化合物
(５)Ｎ−ヒドロキシル化合物
【請求項７】  請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型化学増幅レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜にエネルギー線を照射し、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月12日(2006.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）赤外線吸収剤及び（Ｃ）有機４級アンモニウム塩を含み、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設けてなるポジ型平版印刷版原版。
【請求項２】  前記（Ｃ）有機４級アンモニウム塩が、分子内にアリール基及びカルボニル基より選択される少なくともひとつの基を有することを特徴とする請求項1に記載のポジ型平版印刷版原版。
【請求項３】  支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する第１の層と、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）赤外線吸収剤及び（Ｃ）有機４級アンモニウム塩を含む第２の層とを順次積層してなり、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する多層構造のポジ型記録層を設けてなるポジ型平版印刷版原版。
【請求項４】 支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）赤外線吸収剤を含有する第１の層と、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）赤外線吸収剤及び（Ｃ）有機４級アンモニウム塩を含む第２の層とを順次積層してなり、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する多層構造のポジ型記録層を設けてなるポジ型平版印刷版原版。
【請求項５】  請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のポジ型平版印刷版原版を赤外線レーザで像露光した後、二酸化ケイ素を含有しないアルカリ性現像液にて現像して露光部を除去し、画像形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）赤外線吸収剤及び、（Ｃ）有機４級アンモニウム塩を含み、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設けてなることを特徴とする。
ここで用いられる（Ｃ）有機４級アンモニウム塩として、分子内にアリール基及びカルボニル基より選択される少なくともひとつの基を有するものが、効果の観点から好ましい。
本発明の平版印刷版原版の第２の態様では、ポジ型記録層は、多層構造の記録層であり（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、所望によりさらに（Ｂ）赤外線吸収剤を含有する第１の層と、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）赤外線吸収剤及び（Ｃ）有機４級アンモニウム塩を含む第２の層とを順次積層してなり、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する多層構造のポジ型記録層であることを特徴とする。
また、本発明の請求項５に係る平版印刷版の作製方法は、前記本発明のポジ型平版印刷版原版を赤外線レーザで像露光した後、二酸化ケイ素を含有しないアルカリ性現像液にて現像して露光部を除去し、画像形成することを特徴とする。