Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月7日(2006.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下を有するプラネタリウム。
・第１投映装置
・第２投映装置
・前記第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させるための制御指令
を出力する共通の制御部
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第１投映装置に前記所定の投影オブジェ
クトを投映させる第１コントローラ
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第２投映装置に前記所定の投映オブジェ
クトを投映させる第２コントローラ
【請求項２】
以下を有するプラネタリウム。
・第１投映装置
・第２投映装置
・前記第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させるための制御指令
を出力する共通の制御部
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第１投映装置に前記所定の投映オブジェ
クトを投映させる第１投映手段
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第２投映装置に前記所定の投映オブジェ
クトを投映させる第２投映手段
【請求項３】  前記第１投映影手段は恒星投影機で、前記第２投映手段はコンピュータグラフィック投映機である。
【請求項４】
以下を有するプラネタリウム。
・第１投映装置
・第２投映装置
・前記第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させるための制御指令
を出力する共通の制御部
・前記制御部からの制御指令を前記第１および第２投映装置に同時に与えて、第１およ
び第２投映手段に前記所定の投映オブジェクトを投映させるか、前記制御部からの制
御指令を第１投映装置のみに与えて、第１投映手段のみに前記所定の投映オブジェク
トを投映させるかを制御する制御手段
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記のような目的を達成するために、本発明のプラネタリウムは以下を有することを特徴としている。
・第１投映装置
・第２投映装置
・前記第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させるための制御指令
を出力する共通の制御部
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第１投映装置に前記所定の投影オブジェ
クトを投映させる第１コントローラ
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第２投映装置に前記所定の投映オブジェ
クトを投映させる第２コントローラ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような構成では、第１、第２投映装置に共通した制御部が出力する第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させる制御指令に基づき、第１および第２コントローラにより第１および第２投映装置につき前記所定の投映オブジェクトを同時に投映し、複数の投映像を重ねる特異な演出を行うか、あるいは選択した投映装置のみにつき投映し、演出に最適な投映像が得られるようにするので、いずれの場合もその時々の演出に最適な投映ができ、演出効果が向上する。また、投映装置が異なる他のプラネタリウム施設への流用が前記選択投映機能により問題なくできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明のプラネタリウムは、また、以下を有することを別の特徴としている。
・第１投映装置
・第２投映装置
・前記第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させるための制御指令
を出力する共通の制御部
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第１投映装置に前記所定の投映オブジェ
クトを投映させる第１投映手段
・前記制御部からの制御指令に基づいて、前記第２投映装置に前記所定の投映オブジェ
クトを投映させる第２投映手段
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このような構成では、第１、第２投映装置に共通した制御部が出力する第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させる制御指令に基づき、第１および第２投映手段により第１および第２投映装置につき前記所定の投映オブジェクトを同時に投映し、複数の投映像を重ねる特異な演出を行うか、あるいは選択した投映装置のみにつき投映し、演出に最適な投映像が得られるようにするので、いずれの場合もその時々の演出に最適な投映ができ、演出効果が向上する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この場合、前記第１投映影手段は恒星投影機で、前記第２投映手段はコンピュータグラフィック投映機であるのが好適である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明のプラネタリウムは、さらに、以下を有することを今１つの特徴としている。
・第１投映装置
・第２投映装置
・前記第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させるための制御指令
を出力する共通の制御部
・前記制御部からの制御指令を前記第１および第２投映装置に同時に与えて、第１およ
び第２投映手段に前記所定の投映オブジェクトを投映させるか、前記制御部からの制
御指令を第１投映装置のみに与えて、第１投映手段のみに前記所定の投映オブジェク
トを投映させるかを制御する制御手段
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
このような構成では、第１、第２投映装置に共通した制御部が出力する第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させる制御指令を、制御手段により、第１および第２投映装置に同時に与えてそれらの第１および第２投映手段に前記所定の投映オブジェクトを同時に投映させて、複数の投映像を重ねる特異な演出を行うか、あるいは第１投映装置のみに与えて第１投映手段に前記所定の投映オブジェクトを投映させるかして、演出に最適な投映像が得られるようにするので、いずれの場合もその時々の演出に最適な投映ができ、演出効果が向上する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【発明の効果】
本発明のプラネタリウムによれば、上記から明らかなように、第１および第２投映装置に所定の投映オブジェクトを投映させる制御指令を、第１および第２投映装置につき同時に適用して投映し、複数の投映像を重ねる特異な演出を行うか、あるいは選択した投映装置につき適用して投映し、演出に最適な投映像が得られるようにして、その時々の演出に最適な投映ができ演出効果が向上する。また、前記選択投映機能により投映装置が異なる他のプラネタリウム施設への流用が問題なくできる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月16日(2005.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される繰り返し構造単位および下記一般式（II）で示される繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
（Ｃ）下記溶剤Ａ群から選択される少なくとも１種と下記溶剤Ｂ群から選択される少なくとも１種、もしくは溶剤Ａ群から選択される少なくとも１種と下記溶剤Ｃ群から選択される少なくとも１種とを含有する混合溶剤
Ａ群：プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート
Ｂ群：プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、鎖状ケトン及びアルコキシアルキルプロピオネート
Ｃ群：γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート
を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
【化１】
2001356478.tif 000001
【化２】
2001356478.tif 000002
一般式（Ｉ）中、Ｒ11〜Ｒ14は、各々独立に水素原子又は置換基を有しても良いアルキル基を表す。ａは０または１である。
一般式（II）中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表す。Ａは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基よりなる群から選択される単独あるいは２つ以上の基の組み合わせを表す。
Ｗは、−Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）（Ｒｃ）で表される基あるいは−ＣＨ（Ｒｄ）−Ｏ−Ｒｅで表される基を表す。ここで、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃは、各々、置換基としてハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基あるいはアシロキシ基を有していてもよい、炭素数１個〜２０個の直鎖状あるいは分岐状アルキル基又は炭素数３〜２０個のシクロアルキル基を表す。ただし、ＲａとＲｂは、互いに結合して脂環式単環を形成してもよい。Ｒｄとしては、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒｅとしては、置換基としてハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基あるいはアシロキシ基を有していてもよい、炭素数１個〜２０個の直鎖状あるいは分岐状アルキル基又は炭素数３〜２０個のシクロアルキル基を表す。
【請求項２】  （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される繰り返し構造単位および下記一般式（II）で示される繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
（Ｃ）下記溶剤Ａ群から選択される少なくとも１種、下記溶剤Ｂ群から選択される少なくとも１種、及び下記溶剤Ｃ群から選択される少なくとも１種とを含有する混合溶剤
Ａ群：プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート
Ｂ群：プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、鎖状ケトン及びアルコキシアルキルプロピオネート
Ｃ群：γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート
を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
【化３】
2001356478.tif 000003
【化４】
2001356478.tif 000004
一般式（Ｉ）中、Ｒ11〜Ｒ14は、各々独立に水素原子又は置換基を有しても良いアルキル基を表す。ａは０または１である。
一般式（II）中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表す。Ａは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基よりなる群から選択される単独あるいは２つ以上の基の組み合わせを表す。
Ｗは、−Ｃ（Ｒａ）（Ｒｂ）（Ｒｃ）で表される基あるいは−ＣＨ（Ｒｄ）−Ｏ−Ｒｅで表される基を表す。ここで、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃは、各々、置換基としてハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基あるいはアシロキシ基を有していてもよい、炭素数１個〜２０個の直鎖状あるいは分岐状アルキル基又は炭素数３〜２０個のシクロアルキル基を表す。ただし、ＲａとＲｂは、互いに結合して脂環式単環を形成してもよい。Ｒｄとしては、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒｅとしては、置換基としてハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基あるいはアシロキシ基を有していてもよい、炭素数１個〜２０個の直鎖状あるいは分岐状アルキル基又は炭素数３〜２０個のシクロアルキル基を表す。
【請求項３】  上記（Ａ）樹脂が更に下記一般式（III）で示される繰り返し構造単位を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【化５】
2001356478.tif 000005
式（III）中：
Ｚ2は、−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ3）−を表す。ここでＲ3は、水素原子、水酸基又は−ＯＳＯ2−Ｒ4を表す。Ｒ4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。
【請求項４】  更に（Ｄ）有機塩基性化合物、（Ｅ）フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月16日(2005.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上に第１レジスト層を有し、この上に第２レジスト層を有するポジ型レジスト積層物において、
（Ｉ）第１レジスト層が、（ａ−１）下記一般式（１）で表される繰返し単位と下記一般式（２）で表される繰返し単位とを含むポリマーを含有し、且つ熱により硬化する層であり、
（II）第２レジスト層が、（ｂ）側鎖にシリコン原子を有し、かつ水不溶性で酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマーと、（ｃ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している、
ことを特徴とするポジ型レジスト積層物。
【化１】
2001356484.tif 000001
式中：
Ｙ1は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン原子を表す。
Ｌ1は、置換基を有していてもよい２価の連結基を表す。
Ｊは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。
ａ１は、０又は１を表す。
Ｙ2は、Ｙ1と同義である。
Ｌ2は、Ｌ1と同義である。
Ｋは、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
ａ２及びａ３は、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【請求項２】  第１レジスト層に用いられる（ａ−１）成分のポリマーが、その構造中に、ヒドロキシル基、１級アミノ基、及び２級アミノ基から選ばれるいずれかの基を含有し、かつ第１レジスト層が、（ａ−２）酸により活性化され、（ａ−１）成分のポリマーと反応して架橋構造を形成することができる架橋剤、及び（ａ−3）熱により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト積層物。
【請求項３】  第２レジスト層に含まれる（ｂ）成分のポリマーが、
（ｂ−１）下記一般式（４）で表される繰返し単位と、下記一般式（５ａ）及び（５ｂ）で表される繰り返し単位の少なくともいずれかとを有するポリマー、
または
（ｂ−２）下記一般式（４）で表される繰返し単位と、下記一般式（５ａ）及び（５ｂ）で表される繰り返し単位の少なくともいずれかと、下記一般式（６）で表される繰返し単位とを有するポリマー、
であることを特徴とする請求項１または２に記載のポジ型レジスト積層物。
【化２】
2001356484.tif 000002
式中：
Ｙ4は、Ｙ1と同義である。
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ独立に、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、トリアルキルシリル基、トリアルキルシリルオキシ基を表す。
Ｌは、置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。
ｎは、０又は１を表す。
【化３】
2001356484.tif 000003
式中：
Ｙ5は、Ｙ1と同義である。
Ｌ3は、単結合もしくは２価の連結基を表す。
Ｑは、酸で分解してカルボン酸を発生させることが可能な基を表す。
【化４】
2001356484.tif 000004
式中：
Ｘ1とＸ2は、それぞれ独立に、酸素原子、イオウ原子、−ＮＨ−、及び−ＮＨＳＯ2−から選ばれた基を表す。
Ｌ11とＬ12は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。
Ａ1、Ａ2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ5、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ6、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、または−ＣＯＯＱを表す。ここで、Ｒ5とＲ6は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
Ｑは、酸で分解してカルボン酸を発生させることが可能な基を表す。
【化５】
2001356484.tif 000005
式中：
Ｚは、酸素原子、またはＮ−Ｒ7を表す。ここで、Ｒ7は水素原子、水酸基、直鎖または分岐を有するアルキル基、あるいは−Ｏ−ＳＯ2−Ｒ8を表す。ここで、Ｒ8はアルキル基、トリハロメチル基を表す。
【請求項４】  第２レジスト層に含まれる（ｂ）成分のポリマーが、
（ｂ−３）下記一般式（７）で表される繰り返し単位を含有するポリマー、または
（ｂ−４）下記一般式（７）で表される繰り返し単位と、上記一般式（５ａ）及び上記一般式（５ｂ）で表される繰り返し単位のうち少なくともいずれかとを含有するポリマー、
であることを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型レジスト積層物。
【化６】
2001356484.tif 000006
式中：
Ｙ6は、Ｙ1と同義である。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、各々前記と同義である。
Ｌ21は、２〜４価の連結基を表す。
Ｍは、１〜３の整数である。
【請求項５】  第２レジスト層が、（ｄ）含窒素塩基性化合物と（ｅ）フッ素系及び／又はシリコン系活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型レジスト積層物。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型レジスト積層物を露光、現像、エッチングすることを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月20日(2006.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ本体と、
ディスプレイと、
連結機構と、
前記コンピュータ本体、前記ディスプレイおよび前記連結機構に設けられた複数の機械コネクタとを備え、
前記複数の機械コネクタは、前記ディスプレイおよび前記コンピュータ本体を、第１の形態においては直接的に相互接続でき、第２の形態においては前記連結機構を介して間接的に相互接続できる大きさおよび形状を有することを特徴とするコンピュータ。
【請求項２】
前記複数の機械コネクタは、前記コンピュータ本体および前記ディスプレイにそれぞれ設けられ、互いに嵌まり合う第１の一対の機械コネクタおよび第２の一対の機械コネクタを含み、
前記複数の機械コネクタは、前記連結機構の互いに反対側の端部に設けられる第３の一対の機械コネクタおよび第４の一対の機械コネクタを含み、
前記第３の一対の機械コネクタおよび前記第４の一対の機械コネクタは、前記第２の形態においては、前記第１の一対の機械コネクタおよび前記第２の一対の機械コネクタにそれぞれ嵌まり合うことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項３】
前記第１の一対の機械コネクタは前記コンピュータ本体の後端の近くに設けられており、
前記第２の一対の機械コネクタは前記ディスプレイの底端近くに設けられていることを特徴とする請求項２に記載のコンピュータ。
【請求項４】
前記ディスプレイに設けられた第１のピボット軸を有する第１のピボット機構と、
前記連結機構に設けられた第２のピボット軸を有する第２のピボット機構とをさらに備え、
前記ディスプレイは前記第１または第２の形態のいずれにおいても前記第１のピボット軸を中心に回転し、
前記連結機構は前記第２の形態において前記第２のピボット軸を中心に回転することを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ
【請求項５】
前端と後端とを有し、キーボードが前端から使用される向きに設けられたコンピュータ本体と、
表示面を有するディスプレイと、
前記ディスプレイに設けられたピボット機構と、
互いに接続された第１のアーム部材と第２のアーム部材とを少なくとも有する連結機構と、
前記第１のアーム部材を前記コンピュータ本体の後端に、前記第２のアーム部材を前記ピボット機構および前記ディスプレイにそれぞれ相互接続する手段とを備え、
前記連結機構は、前記ディスプレイを、前記前端に近づけまたは遠ざけたり、前記コンピュータ本体に対して昇降させるように動かせられることを特徴とするコンピュータ。
【請求項６】
前記ピボット機構は第１のピボット軸を有する第１のピボット機構であり、
第２のピボット軸を備える第２のピボット機構が前記第１のアーム部材と相互接続され、
前記ディスプレイは、前記第１のピボット軸を中心に回転可能であり、かつ前記連結機構は前記第２のピボット軸を中心に回転可能であることを特徴とする請求項５に記載のコンピュータ。
【請求項７】
前記第２のアーム部材に相互接続された第３のピボット軸を備える第３のピボット機構であって、前記第２のアーム部材は前記第３のピボット軸を中心に回転可能である第３のピボット機構と、
前記第１のアーム部材および前記第２のアーム部材を選択された第１および第２の角度位置にそれぞれ安定させるとともに、前記ディスプレイを選択された角度方向に安定させるスタビライザ機構とをさらに備えることを特徴とする請求項６に記載のコンピュータ。
【請求項８】
前記スタビライザ機構は、前記第１のアーム部材を前記第１の選択された角度位置で、前記ディスプレイを前記選択された角度方向で、そして前記第２のアーム部材を前記第２の選択された角度位置でそれぞれロックする第１、第２および第３のロック装置を含むことを特徴とする請求項７に記載のコンピュータ。
【請求項９】
前記スタビライザ機構は、前記第１および第３のピボット軸のそれぞれを中心にした前記第１および第２のアーム部材の回転を約１８０°に制限する手段を含むことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータ。
【請求項１０】
前記スタビライザ機構は、
前記第１のピボット機構に相互接続されて前記ディスプレイの回転を制御する第１のクラッチと、
前記第２のピボット機構に相互接続されて前記第１のアーム部材の回転を制御する第２のクラッチと、
前記第３のピボット機構に相互接続されて前記第２のアーム部材の回転を制御する第３のクラッチとを含むことを特徴とする請求項９に記載のコンピュータ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月13日(2006.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】サーバのコンソールに個別にアクセスできるようにするシステムであって、
それぞれが個別のサーバエンティティである複数のパーティションと、
それぞれが前記複数のパーティションの１つに関連付けられる複数のデータソースと、
コンソール・アクセスおよびリモート追跡ロジックを備えるユーティリティ・プロセッサと、
前記ユーティリティ・プロセッサと通信する複数のユーザと、を有し、
前記ユーティリティ・プロセッサは、前記複数のユーザのそれぞれが、前記データソースのうちの任意のデータソースに個別かつ選択的にアクセスできるように構成されており、
第１のユーザは追跡ミラーを用いて第１のデータソースにアクセスし、リモートで接続される第２のユーザは、該第２のユーザが前記第１のデータソースに接続される前記第１のユーザをモニタするように、前記追跡ミラーにアクセスする、
システム。
【請求項２】前記ユーティリティ・プロセッサは、前記複数のデータソースのうちの任意のデータソースが、前記複数のユーザのうちの任意のユーザによって同時にアクセスされるように、前記コンソール・アクセスおよびリモート追跡ロジックを実行するよう構成されたオペレーティングシステムをさらに有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】前記ユーティリティ・プロセッサは、前記複数のデータソースを前記複数のユーザのうちの１つに同時に指定するように、前記コンソール・アクセスおよびリモート追跡ロジックを実行するよう構成されたオペレーティングシステムをさらに有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】前記第1のユーザは、前記サーバのローカルユーザである、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】前記第１のユーザは、前記サーバのリモートユーザである、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】前記第２のユーザは、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）を介して、前記追跡ミラーにアクセスする、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 扇風機のモータ部の出力シャフトに固着された回転羽根を外方から被うとともに、多数本の線材を有する羽根ガードの背面部を被覆可能で、長辺と短辺とを有して略矩形状の不織布と、この不織布の長辺側の両縁部にそれぞれ取り付けられた伸縮自在な１対の弾性バンドとを備えた扇風機用フィルタ。
【請求項２】 扇風機のモータ部の出力シャフトに固着された回転羽根を外方から被うとともに、多数本の線材を有する羽根ガードの背面部を被覆可能な略矩形状の不織布と、該不織布の長辺側の両縁部にそれぞれ取り付けられた伸縮自在な１対の弾性バンドと、前記不織布による羽根ガードの背面部の被覆状態を保持する係止部材とを備えた扇風機用フィルタであって、該不織布の長辺側の両縁部に、略全長にわたって各弾性バンドを遊挿する１対の管状のバンド通し部を配設し、両弾性バンドの長さを前記不織布の長辺より短くするとともに、前記モータ部側のバンド通し部に遊挿される弾性バンドの長さを、前記羽根ガードの前面部側の弾性バンドよりも短くし、各弾性バンドの両端部に、前記係止部材をそれぞれ配設した扇風機用フィルタ。
【請求項３】 不織布ロールから導出された帯状の不織布の端部を、その導出方向に直交する方向から該帯状の不織布の幅の全長にわたって裁断することで、扇風機の回転羽根を外方から被う羽根ガードの背面部を被覆可能な略矩形状の不織布を形成する工程と、
この略矩形状の不織布の長辺側の両縁部に、長さの異なる１対の弾性バンドをそれぞれ取り付ける工程とを備えた扇風機用フィルタの製造方法。
【請求項４】 不織布ロールから導出された帯状の不織布の端部を、その導出方向に直交する方向から該帯状の不織布の幅の全長にわたって裁断することで、扇風機の回転羽根を外方から被う羽根ガードの背面部を被覆可能な略矩形状の不織布を形成する工程と、
該略矩形状の不織布の長辺側の両縁部に、略全長にわたって弾性バンドが遊挿される管状のバンド通し部をそれぞれ形成する工程と、
一方の前記バンド通し部に、前記不織布の長辺より短い弾性バンドを遊挿する工程と、
他方の前記バンド通し部に、前記不織布の長辺および前記一方の弾性バンドよりも短い別の弾性バンドを遊挿する工程と、
各弾性バンドの両端部に、前記不織布による羽根ガードの背面部の被覆状態を保持する係止部材をそれぞれ設ける工程とを備えた扇風機用フィルタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、扇風機のモータ部の出力シャフトに固着された回転羽根を外方から被うとともに、多数本の線材を有する羽根ガードの背面部を被覆可能で、長辺と短辺とを有して略矩形状の不織布と、この不織布の長辺側の両縁部にそれぞれ取り付けられた伸縮自在な１対の弾性バンドとを備えた扇風機用フィルタである。
請求項２に記載の発明は、扇風機のモータ部の出力シャフトに固着された回転羽根を外方から被うとともに、多数本の線材を有する羽根ガードの背面部を被覆可能な略矩形状の不織布と、該不織布の両縁部にそれぞれ取り付けられた伸縮自在な１対の弾性バンドと、前記不織布による羽根ガードの背面部の被覆状態を保持する係止部材とを備えた扇風機用フィルタであって、該不織布の長辺側の両縁部に、略全長にわたって各弾性バンドを遊挿する１対の管状のバンド通し部を配設し、両弾性バンドの長さを前記不織布の長辺より短くするとともに、前記モータ部側のバンド通し部に遊挿される弾性バンドの長さを、前記羽根ガードの前面部側の弾性バンドよりも短くし、各弾性バンドの両端部に、前記係止部材をそれぞれ配設した扇風機用フィルタである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記係止部材が、前記線材に掛脱自在なフックである。フックの形状は限定されない。要は、線材に掛止したり外したりすることができる形状であればよい。請求項３に記載の発明は、不織布ロールから導出された帯状の不織布の端部を、その導出方向に直交する方向から該帯状の不織布の幅の全長にわたって裁断することで、扇風機の回転羽根を外方から被う羽根ガードの背面部を被覆可能な略矩形状の不織布を形成する工程と、この略矩形状の不織布の長辺側の両縁部に、長さの異なる１対の弾性バンドをそれぞれ取り付ける工程とを備えた扇風機用フィルタの製造方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記弾性バンドがゴムバンドである。ゴムバンドの種類は限定されない。平ゴムでもよいし、丸ゴムでもよい。平ゴムの場合、通常、その伸び率は２．５倍である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【作用】
請求項１〜請求項４の発明によれば、不織布を矩形状としたので、不織布の裁断時には、例えば反物状の不織布ロールを用意し、ロールから導出された帯状の不織布を所定長さずつ切断すれば、矩形状の不織布を簡単かつ高い歩留りで製造することができる（請求項４）。これにより、扇風機用フィルタのコスト低減が図れる。フィルタ使用時には、対応するバンド通し部に遊挿された短尺な弾性バンドと長尺な弾性バンドとの両端部をそれぞれ握って引き延ばし、次いで各係止部材を不織布または扇風機の一部分にそれぞれ係止し、不織布によって羽根ガードを外方から被覆する。このとき、１対の弾性バンドは、羽根ガードの小径な内周部と、大径な外周部とに合わせて長さが異なっている。しかも、これらの弾性バンドは各対応するバンド通し部内で長さ方向へ移動自在に遊挿しているので、従来の不織布と弾性バンドとが一体化した扇風機用フィルタのように、フィルタ装着時、不織布（フィルタ材）の長さに弾性バンドの伸長が制約されることがない。そのため、羽根ガードのサイズ（直径など）にかかわらず、羽根ガードの全体を良好に被覆することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
例えば係止部材を線材に掛脱自在なフックとした場合、使用時には、対応するバンド通し部に遊挿された短尺な弾性バンドと長尺な弾性バンドとをそれぞれ引き延ばし、各係止部材を扇風機の線材にそれぞれ係止する。その結果、係止部材の反復使用回数の増大を図ることができるとともに、羽根ガードの線材を利用して不織布をしっかりと羽根ガードに固定することができる。ただし、フックは必ずしも線材に掛止する必要はない。例えば、１本の弾性バンドの一方の端部に設けられたフックと、他端の端部に設けられたフックとを掛止してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月1日(2006.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、ストロボ撮影時では、レリーズボタンを１回押圧操作して撮影される１つの撮影画面に対して、後述する色温度変換フィルタを撮影光路外に退避させた状態でのストロボ光による露光と、色温度変換フィルタを撮影光路内に挿入した状態で、ストロボ非発光での露光すなわち照明光等のアベイラブル光による露光とを行うことにより、ストロボ光で照明された主要被写体と、色温度の低い照明光で照明された背景部分との両方を適切なカラーバランスで写真フイルムに露光する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
ストロボ装置は、調光窓９の奥に配された調光センサ１４，ストロボ発光部８内に配されたストロボ放電管１６の他、充放電回路３３，調光回路３４から構成されている。充放電回路３３は、カメラのメインスイッチがオンのときにメインコンデンサ（図示省略）を所定のレベルまで充電する。この充放電回路３３には、ストロボ発光を行なう場合にシャッタ装置２７からのシンクロ信号がマイクロコンピュータ２０を介して入力される。シンクロ信号が入力されると、充放電回路３３は、ストロボ放電管１６にトリガ電圧を印加することにより、メインコンデンサの電荷をストロボ放電管１６で放電させてストロボ発光を開始する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
なお、上記のような問題は、シャッタ羽根がシャッタ開口を完全に閉じた位置から全開した絞り値Ｆ1の位置にまで５ｍｓｅｃ以下で到達するよう高速なシャッタ装置では、ほとんど発生せず、色温度変換フィルタ自身の色温度変換能力を発現できると考えてよい。この実施例で用いたシャッタ装置２７は、シャッタ羽根がシャッタ開口を完全に閉じた位置から全開した絞り値Ｆ1の位置に到達する時間が４ｍｓｅｃであり、ほぼ色温度変換フィルタ４１の公称の変換能力と実際の変換能力とはほぼ同じになる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
シャッタ羽根が開き方向に移動して、絞り開口が絞り値Ｆ2 に相当する開口径に達した瞬間に、シャッタ装置２７からのシンクロ信号がマイクロコンピュータ２０を介してストロボ装置の充放電回路３３に送られる。これにより、ストロボ放電管１６が発光を開始し、ストロボ発光部８から被写体に向けて色温度５５００Ｋのストロボ光が照射される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月15日(2006.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  入力側ディスクと、この入力側ディスクと同心に配置されてこの入力側ディスクとは独立した回転を自在とされた出力側ディスクと、これら入力側ディスクと出力側ディスクとの間に設けられ、これら各ディスクの中心軸に対し捩れの位置にある枢軸を中心として揺動する複数個のトラニオンと、これら各トラニオンの内側面から突出した、これら各トラニオン毎に１本ずつの変位軸と、これら各変位軸に回転自在に支持された状態で、上記入力側ディスクと出力側ディスクとの内側面同士の間に挟持された、上記各トラニオン毎に１個ずつのパワーローラと、上記入力側ディスクと出力側ディスクとのうちの一方のディスクを油密に嵌合させたシリンダを有し、このシリンダ内の油圧室内への油圧の導入に伴って上記一方のディスクを他方のディスクに向け押圧する油圧式の押圧装置と、軸方向一端部を上記シリンダの内面に、同じく他端部を上記一方のディスクの外側面に、それぞれ突き当てた状態で上記油圧室内に設置され、上記一方のディスクを上記他方のディスクに向け押圧する方向の弾力を有する皿板ばねとを備えたトロイダル型無段変速機に於いて、この皿板ばねの軸方向一端部で上記シリンダの内面に突き当たる部分が、この皿板ばねの内径寄り部分である事を特徴とするトロイダル型無段変速機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この図１０に示した押圧装置１９は、断面略コ字形で全体を円環状としたシリンダ２０を有する。このシリンダ２０内には、図示しない制御弁により圧力調整された圧油を送り込み自在である。又、上記押圧装置１９により軸方向に押圧される入力側ディスク２の外端部（図１０の左端部）は上記シリンダ２０に、油密に、且つ軸方向（図１０の左右方向）の変位自在に嵌合している。又、上記シリンダ２０の底部と上記入力側ディスク２の外側面との間には皿板ばね２１を設けて、このシリンダ２０内に圧油を送り込まない状態でも、上記入力側ディスク２に、図１０には記載していない出力側ディスクに向く弾力を付与している。この様に構成する押圧装置１９によれば、上記シリンダ２０内に送り込む油圧を制御する事により、入力側ディスク２の内側面２ａ及び出力側ディスクの内側面と各パワーローラ９の周面９ａとの当接部の面圧を、運転状況に応じて最適な値に調整する事が可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明のトロイダル型無段変速機は、前述した従来から知られているトロイダル型無段変速機と同様に、入力側ディスクと、出力側ディスクと、複数個のトラニオンと、変位軸と、パワーローラと、押圧装置と、皿板ばねとを備える。
上記出力側ディスクは、上記入力側ディスクと同心に配置されて、この入力側ディスクとは独立した回転を自在とされている。
又、上記各トラニオンは、上記入力側ディスクと出力側ディスクとの間に設けられ、これら各ディスクの中心軸に対し捩れの位置にある枢軸を中心として揺動する。
又、上記変位軸は、上記各トラニオンの内側面から突出したもので、これら各トラニオン毎に１本ずつ設けられている。
又、上記パワーローラは、上記各変位軸に回転自在に支持された状態で、上記入力側ディスクと出力側ディスクとの内側面同士の間に挟持されたもので、上記各トラニオン毎に１個ずつ設けられている。
又、上記押圧装置は、上記入力側ディスクと出力側ディスクとのうちの一方のディスクを油密に嵌合させたシリンダを有し、このシリンダ内の油圧室内への油圧の導入に伴って上記一方のディスクを他方のディスクに向け押圧する、油圧式のものである。
更に、上記皿板ばねは、軸方向一端部を上記シリンダの内面に、同じく他端部を上記一方のディスクの外側面に、それぞれ突き当てた状態で上記油圧室内に設置され、上記一方のディスクを上記他方のディスクに向け押圧する方向の弾力を有する。
特に、本発明のトロイダル型無段変速機に於いては、上記皿板ばねの軸方向一端部で上記シリンダの内面に突き当たる部分が、この皿板ばねの内径寄り部分である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
そして、上記シリンダ２０と入力側ディスク２Ａとにより囲まれた油圧室３１内に、圧油を給排自在としている。この為に、上記入力側回転軸１１ｂの基端部に設けた中心孔３２と上記油圧室３１とを、この入力側回転軸１１ｂに形成した分岐孔３３、３３と上記内２側円筒部２２に形成した通孔３４、３４とを介して互いに連通させている。この内径側円筒部２２の内周面でこれら各通孔３４、３４の開口部に整合する部分には、全周に亙る凹部を形成すると共に、この凹部を軸方向両側から挟む２個所位置にシールリングを装着して、上記各分岐孔３３、３３と上記各通孔３４、３４とを確実に、且つ、外部との間の油密を確保した状態で連通させている。上記中心孔３２は、図示しない通油路を介して、やはり図示しない油圧制御弁に通じさせている。そして、トロイダル型無段変速機の運転時には上記油圧室３１内に、運転状況に応じて適切な油圧を導入する様にしている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月31日(2006.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）砥粒、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、（Ｅ）酸化剤、および（Ｆ）水を含み、
前記（Ａ）砥粒の配合量が２〜１０質量％であり、
前記（Ｂ）有機酸が、キノリンカルボン酸、キノリン酸、２価の有機酸（ただしキノリン酸を除く）、およびヒドロキシル酸からなる群から選択される少なくとも１種であり、その配合量が０．０１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項２】
請求項１において、
前記（Ａ）砥粒が、無機粒子、有機粒子、および有機無機複合粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項３】
請求項２において、
前記（Ａ）砥粒の平均粒径が５〜１０００ｎｍである、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項４】
請求項２において、
前記無機粒子がシリカである、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記（Ｂ）有機酸が、キノリンカルボン酸、キノリン酸、マレイン酸、マロン酸、クエン酸、およびリンゴ酸からなる群から選択される少なくとも１種であり、その配合量が０．０５〜２質量％である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体が、ベンゾトリアゾールであり、その配合量が０．０１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかにおいて、
前記（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩の平均分子量が１，０００〜１００，０００であり、その配合量が０．００１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項８】
請求項７において、
前記（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩が、ポリアクリル酸のアンモニウム塩であり、その配合量が０．０１〜２質量％である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記（Ｅ）酸化剤が過酸化水素であり、その配合量が０．０１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
ｐＨが１〜５である、化学機械研磨用水系分散体。
【請求項１１】
液（I）および液（II）を混合して、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットであって、
前記液（I）は、（Ａ）砥粒、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、および（Ｆ）水を含み、該（Ａ）砥粒の配合量が２〜１０質量％である水系分散体であり、
前記液（II）は、（Ｅ）酸化剤および（Ｆ）水を含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。
【請求項１２】
液（I）および液（II）を混合して、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットであって、
前記液（I）は、（Ａ）砥粒および（Ｆ）水を含む水系分散体であり、
前記液（II）は、（Ｂ）有機酸および（Ｆ）水を含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。
【請求項１３】
液（I）、液（II）、および液（III）を混合して、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットであって、
前記液（I）は、（Ａ）砥粒および（Ｆ）水を含む水系分散体であり、
前記液（II）は、（Ｂ）有機酸および（Ｆ）水を含み、
前記液（III）は、（Ｅ）酸化剤および（Ｆ）水を含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。
【請求項１４】
請求項１２または１３において、
前記液（I）は、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、および（Ｅ）酸化剤から選ばれる１種類以上の成分をさらに含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。
【請求項１５】
請求項１２ないし１４のいずれかにおいて、
前記液（II）は、（Ａ）砥粒、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、および（Ｅ）酸化剤から選ばれる１種類以上の成分をさらに含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。
【請求項１６】
銅膜、バリアメタル膜および絶縁膜を、同一の条件においてそれぞれ化学機械研磨した場合に、銅膜の研磨速度ＲＣｕとバリアメタル膜の研磨速度ＲＢＭの比ＲＣｕ／ＲＢＭが５０以上であり、かつ、銅膜の研磨速度ＲＣｕと絶縁膜の研磨速度ＲＩｎの比ＲＣｕ／ＲＩｎが５０以上である化学機械研磨用水系分散体を使用して被研磨体を化学機械研磨した後、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を使用して該被研磨体を化学機械研磨することを含む、化学機械研磨方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月11日(2006.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版と基板とを相対的に移動させながら原版に描かれたパターンを介して基板を露光する露光装置であって、
光源から発した光を前記基板に導くための光学部材と、
前記光学部材の位置及び／又は形状を変更する変更手段と、
前記光学部材により導光された光を受けて該光学部材の波面収差を計測する波面収差計測手段と、
前記光学部材の波面収差の計測結果から、前記光学部材の波面収差を補正するための補正量を算出し、該算出された補正量に基づいて前記変更手段を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記光学部材の位置を計測する光学部材位置計測手段を更に備え、
前記制御手段は前記計測された波面収差と該光学部材の位置情報とから該光学部材の位置及び／又は形状を変更することにより該光学部材の波面収差を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージ上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージ上に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記光源は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられ、
前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項６】
前記光源は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられ、
前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項７】
前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージが移動する際の基準となる基台に移動可能に設けられていることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記波面収差計測手段を、互いに直交する３軸方向及び該各軸まわりの回転方向のいずれかの方向に移動可能に保持する駆動手段を更に備えることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージ上に前記導光された光の光軸を偏向する部材を設け、
前記波面収差計測手段は、前記ステージが移動する際の基準となる基台が設置される部位に設けられた支持部材により前記偏向された光軸上に位置するように移動可能に支持されていることを特徴とする請求項３乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージの粗動部に移動可能に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、原版と基板とを相対的に移動させながら原版に描かれたパターンを介して基板を露光する露光装置に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の露光装置は、原版と基板とを相対的に移動させながら原版に描かれたパターンを介して基板を露光する露光装置であって、光源から発した光を前記基板に導くための光学部材と、前記光学部材の位置及び／又は形状を変更する変更手段と、前記光学部材により導光された光を受けて該光学部材の波面収差を計測する波面収差計測手段と、前記光学部材の波面収差の計測結果から、前記光学部材の波面収差を補正するための補正量を算出し、該算出された補正量に基づいて前記変更手段を制御する制御手段とを具備する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、好ましくは、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージ上に前記導光された光の光軸を偏向する部材を設け、前記波面収差計測手段は、前記ステージが移動する際の基準となる基台が設置される部位に設けられた支持部材により前記偏向された光軸上に位置するように移動可能に支持されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、好ましくは、前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージの粗動部に移動可能に支持されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明によれば、露光装置の露光精度及びスループットの劣化を低減させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月7日(2006.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ステージを駆動するための複数のコイルを含むリニアモータと、
前記複数のコイルを選択的に通電させるコイルセレクタと、
を備え、前記ステージ、前記リニアモータ及び前記コイルセレクタは、真空チャンバー内に配置されるよう構成されていることを特徴とする位置決めステージ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の側面は、位置決めステージ装置に係り、ステージを駆動するための複数のコイルを含むリニアモータと、前記複数のコイルを選択的に通電させるコイルセレクタと、を備え、前記ステージ、前記リニアモータ及び前記コイルセレクタは、真空チャンバー内に配置されるよう構成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月21日(2006.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、前記半導体基板上に形成され、第１方向に長く、前記第１方向に交差する第２方向に短いフィン状の半導体層と、前記半導体層の前記第２方向の側面に形成されるゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層に隣接して配置されるゲート電極と、前記半導体層内の前記ゲート絶縁層に隣接する位置に形成されるチャネル領域と、前記半導体層内において前記チャネル領域に対し前記第１方向に隣接する位置に形成されるソース／ドレインエクステンション領域と、前記半導体層内において前記ソース／ドレインエクステンション領域に対し前記第１方向に隣接する位置に形成されるソース／ドレイン領域とを具備し、前記チャネル領域における前記半導体層の前記第２方向の幅は、前記ソース／ドレイン領域における前記半導体層の前記第２方向の幅よりも狭いことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記チャネル領域における前記半導体層の前記第２方向の幅は、前記ソース／ドレインエクステンション領域における前記半導体層の前記第２方向の幅よりも狭いことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
半導体基板と、前記半導体基板上に形成され、第１方向に長く、前記第１方向に交差する第２方向に短く、前記第２方向に並んで配置されるフィン状の複数の第１半導体層と、前記複数の第１半導体層の前記第１方向の端部で前記複数の第１半導体層を結合する第２半導体層と、前記複数の第１半導体層の前記第２方向の側面に形成されるゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層に隣接して配置されるゲート電極と、前記複数の第１半導体層内の前記ゲート絶縁層に隣接する位置に形成されるチャネル領域と、前記複数の第１半導体層内において前記チャネル領域に対し前記第１方向に隣接する位置に形成されるソース／ドレインエクステンション領域と、前記第２半導体層内において前記ソース／ドレインエクステンション領域に対し前記第１方向に隣接する位置に形成されるソース／ドレイン領域とを具備することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
半導体基板と、前記半導体基板上に形成され、第１方向に長く、前記第１方向に交差する第２方向に短いフィン状の半導体層と、前記半導体層の前記第２方向の側面に形成されるゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層に隣接して配置されるゲート電極と、前記半導体層内の前記ゲート絶縁層に隣接する位置に形成されるチャネル領域と、前記半導体層内において前記チャネル領域に対し前記第１方向に隣接する位置に形成されるソース／ドレインエクステンション領域と、前記半導体層内において前記ソース／ドレインエクステンション領域に対し前記第１方向に隣接する位置に形成されるソース／ドレイン領域と、前記ソース／ドレイン領域における前記半導体層の表面部に形成され、その内部の全体に形成されないシリサイド層とを具備することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
半導体基板上に、第１方向に長く、前記第１方向に交差する第２方向に短いフィン状の半導体層を形成する工程と、前記半導体層の前記第２方向の側面にダミーゲート絶縁層を形成する工程と、前記ダミーゲート絶縁層に隣接するダミーゲート電極を形成する工程と、前記半導体層内にソース／ドレインエクステンション領域及びソース／ドレイン領域を形成する工程と、前記半導体層を覆う絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層を研磨又はエッチングし、前記ダミーゲート絶縁層及び前記ダミーゲート電極の表面を露出させる工程と、前記ダミーゲート絶縁層及び前記ダミーゲート電極を除去する工程と、前記ダミーゲート絶縁層が存在していた部分の前記半導体層を酸化し、そこに酸化層を形成する工程と、前記酸化層を除去する工程と、前記ダミーゲート絶縁層が存在していた部分にゲート絶縁層を形成する工程と、前記ゲート絶縁層に隣接するゲート電極を形成する工程とを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。