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【手続補正書】
【提出日】平成18年7月28日(2006.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
これらの構成によれば、一対のクランプ片を柄棒の側方から押し込むようにするだけで、簡単に一対のクランプ片による柄棒の挟持状態、すなわち、柄棒に対するこの清掃具の装着状態が得られるし、逆に、この清掃具を柄棒から引き離すようにするだけで、容易にこの清掃具を柄棒から取り外すこともできる。さらには、柄棒の軸方向の位置を選択してこの清掃具を装着することもできるし、装着状態において、この清掃具を柄棒の軸方向にスライド移動させることもできる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
このような構成によれば、本体部を軽量化することができるし、また、この清掃具を柄棒に装着した状態で上記のように柄棒に沿ってスライド移動させることにより、モップヘッドの適部を係止してこれを柄棒に沿って保持させる操作をより容易に行なうことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
この清掃具１０はまた、柄棒ａから取り外し、モップヘッドｂの払拭部材に付着したゴミ、塵埃等をブラシ部１２で掻き落とすのに用いる。清掃具１０を柄棒ａから取り外すには、この清掃具１０を柄棒ａから引き剥がすようにするだけでよい。実施形態では、本体部１０の一端部を手に馴染みやすいグリップ１１ａとしてあるので、上記のようなモップヘッドｂの清掃操作が非常に行ない易い。また、実施形態では、ブラシ部１２は、複数のゴム片１２ａを設けることによって形成しているので、繰り返し使用しても、へたりがなく、吸着性能を有するゴムを採用することにより、モップヘッドｂの払拭部材に付着した細かな塵埃を都合よく掻き落とすことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図５ないし図８は、本願発明に係るモップヘッド等の清掃具１０の第２の実施形態を示している。この第２の実施形態の上記第１の実施形態との相違は、モップヘッドの適部を保持するための係止部１５が、グリップ１１ａ側に形成されている点である。その余の点は、図２ないし図４に示した第１の実施形態と同様であるので、同一の部分または部材に第１の実施形態のものと同一の符号を付すことによって説明は省略する。この第２の実施形態に係る清掃具１０においても、第１の実施形態について上述したのと同様の利点を享受することができることは、明らかである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
上記したように、本体部１１の具体的形状は、種々変更可能であるし、また、ブラシ部１２は、ゴム片以外のものを用いることができる。また、この清掃具１０を装着する対象としてのモップＡ、あるいはモップヘッドｂは、図１に示したように、第２の軸線Ｌ2を中心として回動可能に柄棒ａに対して取り付けられており、柄棒ａに沿う回動位置をとり得るのであれば、その具体的形状は、問われない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンを注入表面に衝突させるイオン注入装置において、
(a)内部に１つまたは複数の加工物を挿入してイオンの処理が可能な室内部を形成する処理室と、
(b)この処理室内にイオンプラズマを形成するエネルギー源と、
(c) イオンプラズマを監視して光学的データを与える光学式センサと、
(d)この光学式センサから得られた光学的分析を前記イオンプラズマの成分と相関する蓄積データと、
(e)１つまたは複数の加工物を前記処理室の内部領域内に配置して、前記１つまたは複数の加工物の注入表面が前記イオンプラズマ内に配置されるようにする加工物支持体と、
(f)前記イオンプラズマからのイオンを前記加工物の注入表面に衝突させる電界を発生させる導電部材と、
(g)この導電部材と電気接続され、電気パルスを加えて前記加工物の注入表面内にイオンを打ち込むためのパルス発生器と、
(h) バイアスされた前記注入表面に対して平行なイオン収集表面を含み、前記電気パルス間の時間中、イオンが浮遊されないように、電気的にバイアスされた１つ以上のドーズ測定カップと、
(i)このドーズ測定カップのデータから前記加工物のイオンドーズ量特性を計算するための計算手段と、を含むことを特徴とするイオン注入装置。
【請求項２】
前記蓄積データは、さらに光学的分析データを質量分析データに相関させることを特徴とする請求項１記載のイオン注入装置。
【請求項３】
前記計算手段は、ニューラルネットワークであることを特徴とする請求項１記載のイオン注入装置。
【請求項４】
注入パラメータを制御するための計算手段と連絡する制御装置をさらに含むことを特徴とする請求項１記載のイオン注入装置。
【請求項５】
制御されるパラメータは、注入工程の持続時間であることを特徴とする請求項４記載のイオン注入装置。
【請求項６】
前記１つ以上のドーズ測定カップは、
(a)前記イオン収集表面から二次電子および前記プラズマから電子をそれぞれ反発させるための負にバイアスされた電極と、
(b)プラズマイオンを反発させるために正にバイアスされた前記イオン収集表面と、
を含んでいることを特徴とする請求項１記載のイオン注入装置。
【請求項７】
前記導電部材は、加工物支持体であることを特徴とする請求項１記載のイオン注入装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】記録媒体再生装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  記録媒体をモータによって回転駆動し、記録媒体の記録内容を読取り手段によって読取り動作を行って再生する記録媒体再生装置において、読取り手段の出力に応答し、記録媒体の読取り異常が生じたことを検出する異常検出手段と、異常検出手段の出力に応答し、読取り異常が生じたとき、モータの回転速度が低下するための動作を行い、その後、再度、読取り動作を行わせる回転速度抑制手段とを含むことを特徴とする記録媒体再生装置。
【請求項２】  回転速度抑制手段は、モータに読取り時とは逆回転方向の電圧を出力する逆回転方向電圧発生手段と、異常検出手段の出力に応答し、異常が生じたとき、逆回転方向電圧発生手段によって、モータに読取り時とは逆回転方向の電圧を、予め定める時間だけ印加し、その後、再度、読取り動作を行わせる制御手段とを含むことを特徴とする請求項１記載の記録媒体再生装置。
【請求項３】  回転速度抑制手段は、モータの両端子間を短絡する短絡手段と、異常検出手段の出力に応答し、異常が生じたとき、短絡手段によって、モータの両端子間を、予め定める時間だけ短絡し、その後、再度、読取り動作を行わせる制御手段とを含むことを特徴とする請求項１記載の記録媒体再生装置。
【請求項４】  記録媒体をターンテーブル上で保持する保持手段を有し、回転速度抑制手段は、異常検出手段の出力に応答し、異常が生じたとき、保持手段を、一旦、保持解除状態に強制し、その後、再度、保持状態にする保持解除強制手段を含むことを特徴とする請求項１記載の記録媒体再生装置。
【請求項５】  異常検出手段による読取り異常が生じたとき、再度、読取り動作を行うリトライ制御手段と、リトライ制御手段による読取り動作の繰返し回数ｎを計数する計数手段と、計数手段の出力に応答し、その計数値ｎが予め定める値ｎ１を超えたとき、回転速度抑制手段を動作させる手段とを含むことを特徴とする請求項１〜４のうちの１つに記載の記録媒体再生装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、光ディスクなどの記録媒体の回転速度が、異常な高速度になることを防いで、再生に適した回転速度に自動的に復帰することができるようにした記録媒体再生装置を提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、記録媒体をモータによって回転駆動し、記録媒体の記録内容を読取り手段によって読取り動作を行って再生する記録媒体再生装置において、読取り手段の出力に応答し、記録媒体の読取り異常が生じたことを検出する異常検出手段と、異常検出手段の出力に応答し、読取り異常が生じたとき、モータの回転速度が低下するための動作を行い、その後、再度、読取り動作を行わせる回転速度抑制手段とを含むことを特徴とする記録媒体再生装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月12日(2006.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体工程装備で高誘電体膜を形成する方法において、
前記工程装備の反応器内に半導体基板を位置させる段階と、
前記半導体基板の上部にタンタル成分含有膜を形成する段階と、
前記タンタル成分含有膜を反応気体内で処理してタンタル窒化酸化膜に変換させる段階と、
を備え、
前記タンタル成分含有膜の形成段階でタンタルの原料として、ＴａＣｌ５、Ｔａ［Ｎ（ＣＨＯ）２］５、Ｔａ［Ｎ（Ｃ２Ｏ５）２］５、Ｔａ［Ｎ（ＣＯＲ）２］５、Ｔａ［ＮＲ２］５、Ｔａ（ＯＣ２Ｈ５）５−ｎ（ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲ）ｎ及びＴａ（ＯＣ２Ｈ５）５（但し、１≦ｎ≦５、ｎは整数、Ｒはアルキル基）からなるタンタル成分含有化合物群から選択されたいずれか一つを使用し、
前記タンタル成分含有膜をタンタル窒化酸化膜に変換させる段階は熱処理またはプラズマ処理で行われることを特徴とする高誘電体膜形成方法。
【請求項２】  前記タンタル成分含有膜がタンタル酸化膜であり、前記反応気体が、少なくとも、Ｎ２、ＮＨ３及びＮ２Ｏからなる窒素成分含有気体群から選択されたいずれか一つであることを特徴とする請求項１記載の高誘電体膜形成方法。
【請求項３】  前記タンタル成分含有膜がタンタル窒化膜であり、前記反応気体が、少なくとも、Ｏ２、Ｏ３及びＮ２Ｏからなる酸素成分含有気体群から選択されたいずれか一つであることを特徴とする請求項１記載の高誘電体膜形成方法。
【請求項４】  前記タンタル窒化酸化膜内で窒素対酸素の化学量論的組成比が１：９〜３：２の範囲内にあることを特徴とする請求項２または３記載の高誘電体膜形成方法。
【請求項５】  前記タンタル窒化酸化膜の形成後に前記タンタル窒化酸化膜を非活性気体雰囲気内で熱処理する段階をさらに備えたことを特徴とする請求項２または３記載の高誘電体膜形成方法。
【請求項６】  前記タンタル窒化酸化膜の形成後に前記タンタル窒化酸化膜を酸素成分含有化合物気体、窒素成分含有化合物気体及び水素成分含有化合物気体からなる気体群から選択されたいずれか一つのプラズマを用いてプラズマ処理する段階をさらに備えることを特徴とする請求項２または３記載の高誘電体膜形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月16日(2005.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施の形態に限定されるものではなく、例えば、下記するような実施の形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、その他にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
（１）上記実施形態では、囲壁６にオゾン流下許容部を設けたが、これは必須ではなく、例えば図７に示すように囲壁６を全周にわたり同一高さで構成しても良い。この場合、前述実施形態の処理ステージ３と同一条件でワーク表面のオゾン処理濃度（ｐｐｍ）を測定すると、図８（Ｂ）に示すようになったが、囲壁６がない従来の処理ステージを使用した場合（図８（Ａ））と比較しても、オゾン濃度の絶対値及び均一性が高まることが確認される。尚、（１）式にて計算したオゾンの濃度分布は±２２．３％で、従来値の±３５．８％よりも向上した。
（２）上記実施形態では、ステージ３の上面に囲壁６を立設する構成としたが、ステージの上面を、ワークを収容できる広さだけ陥没させることにより、ワークを取り囲む囲壁を形成するようにしてもよい。また、囲壁は一定の角度で傾斜していても良く、或いは囲壁６を矩形状に限らず多角形や曲線を含む形状としても良い。
（３）囲壁のオゾン流下許容部は、隅部の中央に形成するに限らず、オゾン供給パイプの配置や紫外線ランプの配置等を考慮してオゾン濃度が均一化される所要位置に形成すればよい。
（４）上記実施形態ではオゾン発生装置１６から処理室１内にオゾンを供給すると共に同処理室１内に紫外線ランプ９を配置する構成としたが、オゾン発生装置１６と紫外線ランプ９の双方を必須とするものではない。例えば紫外線ランプ９を省略してオゾン発生装置１６のみからオゾンを処理室１内に供給してもよく、逆にオゾン発生装置１６を省略して紫外線ランプからの紫外線の照射によってのみ処理室１内にオゾンを生成させるようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性を有する複数の磁性領域と、
アーマチュアの高さ方向において隣接した前記磁性領域間に存在し、絶縁性を有する絶縁領域と
を有することを特徴とする電磁アクチュエータ用のアーマチュア。
【請求項２】
磁性を有する複数の磁性領域と、
アーマチュアの周方向において隣接した前記磁性領域間に存在すると共に、前記アーマチュアの高さ方向において隣接した前記磁性領域間に存在する、絶縁性を有する絶縁領域と
を有することを特徴とする電磁アクチュエータ用のアーマチュア。
【請求項３】
前記絶縁領域の少なくとも一部は、前記アーマチュアの一方の面と他方の面とが貫通した領域であることを特徴とする請求項２に記載されたアーマチュア。
【請求項４】
前記絶縁領域は、前記アーマチュアの径方向に延在した絶縁領域を含むことを特徴とする請求項２に記載された電磁アクチュエータ用のアーマチュア。
【請求項５】
前記アーマチュアの径方向に延在した絶縁領域は、スリットであることを特徴とする請求項４に記載された電磁アクチュエータ用のアーマチュア。
【請求項６】
磁性を有する複数の磁性領域を有し、与えられた電磁力によって変位するアーマチュアを有し、前記アーマチュアの変位と連係して可動体を移動させる電磁アクチュエータにおいて、
前記アーマチュアの一方の端面側に設けられた第１の電磁コイルと、
前記第１の電磁コイルを収納する第１のステータコアと、
前記アーマチュアの他方の端面側に設けられた第２の電磁コイルと、
前記第２の電磁コイルを収納する第２のステータコアとを有し、
前記アーマチュアは、前記アーマチュアの周方向または前記アーマチュアの高さ方向の少なくとも一方において隣接した前記磁性領域間に、絶縁性を有する絶縁領域が存在する
ことを特徴とする電磁アクチュエータ。
【請求項７】
前記絶縁領域の少なくとも一部は、前記アーマチュアの一方の端面と他方の端面とを貫通した領域であることを特徴とする請求項６に記載された電磁アクチュエータ。
【請求項８】
前記アーマチュアの周方向において隣接した磁性領域間に存在する絶縁領域は、前記第１のステータコアまたは前記第２のステータコアと位置的に対応した前記アーマチュアの端面の領域内において、少なくとも存在することを特徴とする請求項６に記載された電磁アクチュエータ。
【請求項９】
前記アーマチュアの周方向において隣接した磁性領域間に存在する絶縁領域は、当該絶縁領域から前記アーマチュアの中心軸までの距離が、前記第１のステータコアまたは前記第２のステータコアから前記中心軸までの距離以下となるように存在していることを特徴とする請求項８に記載された電磁アクチュエータ。
【請求項１０】
前記可動体は、内燃機関における吸気バルブまたは排気バルブの少なくとも一方であることを特徴とする請求項６，７，８または９に記載された電磁アクチュエータ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月28日(2006.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ほぼ対称に形成されガスを充填したハウジング（１Ｒ，１Ｓ，１Ｔ）と、対称平面（２）に沿ってハウジング内を延びる電流導体（３）と、電流導体の損失熱を放出する循環流を発生するための冷却手段を備えた、電気的な高圧設備、特にジェネレータ開閉器の区間において、冷却手段が少なくとも１個の流れ源（４，５）を備え、設備の運転時に対称平面によって画成された鏡像対称的な２つの循環部分流（６，７）が形成されるように、少なくとも１個の流れ源（４，５）がハウジングの内部に配置および形成され、この循環部分流がそれぞれ第１のハウジング壁（８，９）に沿って再循環しないように、対称平面（２）と交叉する第２のハウジング壁（１０，１１）から、対称平面と交叉する第３のハウジング壁（１０，１１）へ案内されることを特徴とする設備区間。
【請求項２】  ２個の流れ源が設けられ、この流れ源（４，５）がそれぞれ、両循環部分流（６，７）の各々１つに割り当てられていることを特徴とする請求項１記載の設備区間。
【請求項３】  対称平面がほぼ垂直に向いており、第１のハウジング壁がハウジングの側壁（８，９）であり、第２のハウジング壁が天井（１０）であり、第３のハウジング壁が底（１１）であることを特徴とする請求項２記載の設備区間。
【請求項４】  両流れ源（４，５）がハウジング底（１１）の両端部に固定され、この両端部から始まるハウジング側壁（８，９）に、流れ案内面（１２，１３）が設けられていることを特徴とする請求項３記載の設備区間。
【請求項５】  流れ源（４，５）がハウジング天井（１０）の両端部またはハウジング底（１１）の両端部に固定されていることを特徴とする請求項３記載の設備区間。
【請求項６】  電流導体を収容する少なくとも３個のハウジング（１Ｒ，１Ｓ，１Ｔ）を備え、このハウジングがハウジング側壁（８，９）に並べて配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の設備区間において、ハウジング（１Ｒ，１Ｓ，１Ｔ）が垂直に向いた通路（ＲＳ，ＳＴ）を形成しながら互いに間隔をおいて配置され、３個のハウジングの中央のハウジング（１Ｓ）内に流れ源が設けられていることを特徴とする設備区間。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月21日(2005.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気接点開閉装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のチャネルと該第１のチャネルに連通する形態変形手段とを有するキャビティと、
それぞれが、前記キャビティ内に伸びて少なくとも前記第１のチャネルにのみ露出する部分を有する、一対の電極部と、
前記第１のチャネルに収容されて、前記電極部を、一体形態では"閉"状態とし、非一体形態では"開"状態とする接点として機能する導電性流体とを備え、
前記形態変形手段は、第２のチャネルに収容された非導電性流体を前記第１のチャネルに供給し制御するのに応じて前記一体形態と前記非一体形態間での形態変形を生じさせるとともに、
前記第１のチャネルに露出する、前記一対の電極部の前記部分は、前記一対の電極部が前記"閉"状態と前記"開"状態のいずれにあるかに関わらず常に前記導電性流体に完全に浸漬されていることを特徴とする電気接点開閉装置。
【請求項２】
前記形態変形手段は前記第２のチャネルの内圧を変更するためのチャネル内圧制御手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の電気接点開閉装置。
【請求項３】
前記チャネル内圧制御手段がヒータを有し、該ヒータにより前記第２のチャネルの内圧を変化させることを特徴とする請求項２に記載の電気接点開閉装置。
【請求項４】
前記チャネル内圧制御手段は２つ一組のチャンバーを有し、各チャンバーは前記導電性流体を供給するための前記第１のチャネルと前記非導電性流体を供給するための前記第２のチャネルのいずれかにそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項２に記載の電気接点開閉装置。
【請求項５】
前記電極部は、タングステン、モリブデン、クロム、チタン、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、またはプラチナ、あるいはこれらの何れかを含むことを特徴とする請求項２に記載の電気接点開閉装置。
【請求項６】
前記導電性流体が、水銀、ガリウム、またはナトリウムカリウム合金のいずれかを含むことを特徴とする請求項１に記載の電気接点開閉装置。
【請求項７】
前記第１のチャネルが複数枚の基板を貼り合わせることにより形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気接点開閉装置。
【請求項８】
前記複数枚の基板のすべてが半導体基板、セラミック基板、ガラス基板、あるいはそれらの組み合わせであることを特徴とする請求項７に記載の電気接点開閉装置。
【請求項９】
前記電気接点開閉装置は２枚の前記基板を貼り合わせることにより形成され、前記第１のチャネルは少なくとも該２枚の基板の一方に形成されていることを特徴とする請求項７あるいは請求項８に記載の電気接点開閉装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月19日(2006.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が入光する入光面と、光が出光する出光面と、を有し、
前記入光面は前記光の入光方向から見て凹型形状の面であり、
前記出光面は前記光の入光方向と反対方向から見て凹型形状の面であるとともに、
前記入光面の曲率半径は、前記出光面の曲率半径よりも大きいことを特徴とする電子機器の受光部材。
【請求項２】
前記受光部材は、射出成形により製造されることを特徴とする請求項１に記載の電子機器の受光部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、光が入光する入光面と、光が出光する出光面と、を有し、前記入光面は前記光の入光方向から見て凹型形状の面であり、前記出光面は前記光の入光方向と反対方向から見て凹型形状の面であるとともに、前記入光面の曲率半径は、前記出光面の曲率半径よりも大きいことを特徴とする電子機器の受光部材である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月2日(2006.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状の断熱体及び該断熱体の内周面に配設された発熱線から構成される発熱部と、該発熱部に対して円筒空間を形成する様に第１の断熱材が設けられたヒータケースと、該ヒータケースと前記発熱部の上端に設けられた天井部とから構成された加熱装置を有する基板処理装置に於いて、前記発熱線を囲繞する様に前記第１の断熱材の下方側に設けられた冷却ガス導入部の内周面が、前記円筒空間の内周面より外側に設けられることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記冷却ガス導入部と前記第１の断熱材との間に管状の第２の断熱材が設けられ、該第２の断熱材には、前記冷却ガス導入部と前記円筒空間とを連通させる導通孔が円周方向に所定間隔で設けられる請求項１の基板処理装置。
【請求項３】
前記冷却ガス導入部が円周方向に空間を有する請求項１の基板処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１つの基板処理装置に於ける半導体装置の製造方法。
【請求項５】
筒状の断熱体及び該断熱体の内周面に配設された発熱線から構成される発熱部と、該発熱部に対して円筒空間を形成する様に第１の断熱材が設けられたヒータケースと、該ヒータケースと前記発熱部の上端に設けられた天井部とから構成された加熱装置に於いて、前記発熱線を囲繞する様に前記第１の断熱体の下方側に設けられた冷却ガス導入部の内周面が、前記円筒空間の内周面より外側に設けられたことを特徴とする加熱装置。
【請求項６】
前記冷却ガス導入部と前記第１の断熱材との間に管状の第２の断熱材が設けられ、該第２の断熱材には、前記冷却ガス導入部と前記円筒空間とを連通させる導通孔が円周方向に所定間隔で設けられた請求項５の加熱装置。
【請求項７】
前記冷却ガス導入部が円周方向に空間を有する請求項５の加熱装置。
【請求項８】
請求項２に記載の基板処理装置に設けられている第２の断熱材。
【請求項９】
請求項６に記載の加熱装置に設けられている第２の断熱材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置及び半導体装置の製造方法及び加熱装置及び断熱材
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明は、筒状の断熱体及び該断熱体の内周面に配設された発熱線から構成される発熱部と、該発熱部に対して円筒空間を形成する様に第１の断熱材が設けられたヒータケースと、該ヒータケースと前記発熱部の上端に設けられた天井部とから構成された加熱装置を有する基板処理装置に於いて、前記発熱線を囲繞する様に前記第１の断熱材の下方側に設けられた冷却ガス導入部の内周面が、前記円筒空間の内周面より外側に設けられる基板処理装置に係り、又前記冷却ガス導入部と前記第１の断熱材との間に管状の第２の断熱材が設けられ、該第２の断熱材には、前記冷却ガス導入部と前記円筒空間とを連通させる導通孔が円周方向に所定間隔で設けられる基板処理装置に係り、又前記冷却ガス導入部が円周方向に空間を有する基板処理装置に係るものである。
又本発明は、前記基板処理装置に於ける半導体装置の製造方法に係るものである。
又本発明は、筒状の断熱体及び該断熱体の内周面に配設された発熱線から構成される発熱部と、該発熱部に対して円筒空間を形成する様に第１の断熱材が設けられたヒータケースと、該ヒータケースと前記発熱部の上端に設けられた天井部とから構成された加熱装置に於いて、前記発熱線を囲繞する様に前記第１の断熱体の下方側に設けられた冷却ガス導入部の内周面が、前記円筒空間の内周面より外側に設けられた加熱装置に係り、又前記冷却ガス導入部と前記第１の断熱材との間に管状の第２の断熱材が設けられ、該第２の断熱材には、冷却ガス導入部と前記円筒空間とを連通させる導通孔が円周方向に所定間隔で設けられた加熱装置に係り、又前記冷却ガス導入部が円周方向に空間を有する加熱装置に係るものである。
更に又本発明は、前記基板処理装置、又は前記加熱装置に設けられている第２の断熱材に係るものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明によれば、前記発熱線を囲繞する様に前記第１の断熱材の下方側に設けられた冷却ガス導入部の内周面が、前記円筒空間の内周面より外側に設けられるので、炉口部の非加熱領域がなくなり、炉口部の温度低下が抑制され、均熱領域が増大し、製品ウェーハの品質の均一性の向上、歩留りの向上が図れるという優れた効果を発揮する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月22日(2006.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
続いて、素子形成領域１００の残存シリコン酸化膜２０ｂ上、及びマーク形成領域１５０のエピタキシャル層２２上に新たなレジスト層を同時に形成する（不図示）。その後、当該レジスト層に対して露光・現像を行って、素子形成領域１００の全面、及びマーク形成領域１５０内のマーク形成予定位置にレジスト層を残存させたマスクパターンを形成する（不図示）。この構成例では、マーク形成予定位置に残存させたレジスト層の形状を、例えば、枠状とする。尚、この枠の形状は設計に応じた任意好適な形状とすることができるが、例えば四角枠の形状とするのが好適である。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
ここで、素子形成領域１００側の開口の形成位置は、後工程において素子分離部が形成されるべき位置とする。一方、マーク形成領域１５０側の開口の形成位置は、後工程においてコントラスト向上部が形成されるべき位置とする。図３（Ａ）及び図３（Ｂ）を参照して詳細に説明するように、コントラスト向上部３４とは、マークである凸部２２ａとこれに隣接する領域との境界をさらに明瞭に検出できるようにするために、凸部２２ａに隣り合う位置に、当該凸部２２ａの表面領域を形成する材料、例えば凸部の表層を形成する材料とは異なる光学的特性を有する材料によって、形成された部分をいう。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
電極を有する圧電素子を複数積層して構成された積層圧電素子を備えた圧電デバイスにおいて、前記積層圧電素子は穴部と、前記電極の少なくとも一部であって前記穴部の内径部を含む位置に設けられた補強電極と、前記補強電極と他の電極を絶縁する絶縁部とを有することを特徴とする圧電デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月26日(2006.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図９と１０とに示すように、高閾値ＭＯＳトランジスタの閾値電圧と、低閾値ＭＯＳトランジスタの閾値電圧との差を大きくすることができない。これは、Ｎ型中濃度不純物層２７が存在するため、Ｂイオンを注入しても、Ｎ型中濃度不純物層２７の、高閾値ＭＯＳトランジスタゲート電極２５直下、左右両端部分Ｎ型不純物濃度を実効的に十分に下げることができないためである。このように、高閾値ＭＯＳトランジスタと低閾値ＭＯＳトランジスタとの間の閾値電圧の差が小さいと、本来、低閾値ＭＯＳトランジスタのみが動作すべき電圧を印加した場合に、高閾値ＭＯＳトランジスタが誤作動してしまうおそれがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明では、高閾値ＭＯＳトランジスタを形成すべき領域に、いわゆる中濃度不純物層に相当する第１の導電型不純物層が形成されない。そのため、高閾値ＭＯＳトランジスタが形成された場合において、当該中濃度不純物層が高閾値ＭＯＳトランジスタに存在することにより生ずる問題が解決可能となる。なお、半導体製造方法での第１の導電型不純物層および第２の導電型不純物層と、半導体装置の第１の導電型不純物層および第２の導電型不純物層とは、文言上は同一の文言が用いられているが、これらは必ずしも一致するものではない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
アイソレータ２の形成が完了すると、シリコン基板１のＭＯＳトランジスタを形成する領域以外の領域にイオン注入用マスク（図示せず）を施し、当該イオン注入用マスクを保護マスクとしてＢイオンの注入を行う。これにより、Ｐ型ウェル領域３とＰ型チャネル領域４とが形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月26日(2006.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１２または請求項１３に記載の半導体装置であって、
前記多段の逆接続ダイオードにおいて、前記幅方向に突出した部分の形状は、平面視で扇形である
ことを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
図２９は、逆接続ダイオード３１の幅が広い部分の、当該幅の方向に突出した部分の形状の例を示す図である。逆接続ダイオード３１の幅の方向に突出した部分の形状は、ガードリング３０ａとガードリング３０ｂの間の領域の形状に合わせて、図２９（ａ）のようにテーパー状にするとよい。あるいは、図２９（ｂ）のようにガードリング３０ａの形状に合わせた扇形にしてもよい。図２９（ａ）、図２９（ｂ）いずれの場合も、各ダイオードが平面視で前記ガードリングと略平行に配置されるので、フィールドプレートとして適切な電位分布が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来のデジタル複写機、ファクシミリ、複合装置では、定着装置の温度を予熱温度にした省エネ効果の少ない第１の節電モードと、定着をオフするなど高い省エネ効果の得られる第２の節電モードの２つの節電モードを有するものにおいて、印字や操作がされない状態が短い時間であれば第１の節電モードになり、さらに放置すると第２の節電モードになる。また節電キーを単押しした場合は第１の節電モードになり、長押しした場合は第２の節電モードになるものが提案されている（例えば特許文献１を参照。）。同様に、第１の節電モードと、この第１の節電モードより高い省エネ効果の得られる第２の節電モードの２つの節電モードを有するものにおいて、印字や操作がされない状態が短い時間であれば第１の節電モードになり、さらに放置すると第２の節電モードになる。また節電キーを第１の操作方法で行った場合は第１の節電モードになり、第２の操作方法で行った場合は第２の節電モードになるものが提案されている（例えば特許文献２を参照。）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月17日(2006.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
受信信号に基づいてセル選択処理を行うベースバンド処理部16について、図１を参照して説明すると、ベースバンド処理部16は、RF処理部14を接続するインタフェース(I/F)回路100と、接続線103を介してI/F回路100にそれぞれ接続されたレイク(Rake)受信機102およびセル選択処理部104と、レイク受信機102の出力に接続されたデコーダ106と、コントローラ108とを含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
I/F回路100の出力103は、セル選択処理部104内のサーチ部120に接続されている。サーチ部120は、それぞれセルを形成する基地局からの到来波を受信した受信信号をサーチする特定の期間(タイムスロット）をカウントするタイムスロットカウンタを備え、受信信号がどのセル(基地局）によるものであるかを認識する。サーチ部120は、受信信号を相関器122およびセル演算部124に出力する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ここで、セル選択処理部104内のとくに、サーチ部120、セル演算部124および接続セル選択部126における処理機能を詳しく説明する。図３に示したように、基地局30,34によりセル32,36が形成され、移動無線装置10はこれらセル32,36内にて一方の基地局34と通信リンクを形成している際に、たとえば、図４に示すように、基地局34と移動局10との間に電波伝搬を遮る障害物が発生し、基地局34と移動局10とのパスの電波伝搬状況が悪化する場合が考えられる。移動無線装置10では、サーチ部120にて受信信号をサーチすることにより、特定の区間長(L)で到来する受信信号のタイミングを検出する。図４では、サーチ部120にて生成したタイミングのタイムスロット(TS)により、タイムスロット(TS)に対応する時間の期間(L)にてセル(B) 36からの受信信号がセル(A)からのよりも先に到来する様子を示している。逆に図５は、期間(L)にてセル(A) 32からの受信信号が先に到来する様子を示している。これらのタイミングをさらに図６および図７にそれぞれ示し、最もパスの短いセルを選択する処理機能について説明する。なお、充分な受信電力を持つ基地局からの到来波が、上記特定の区間として期間(L)以上の伝搬遅延が発生しないものとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ｘ＝｜(セル(A))−(セル(B))｜      ・・・(3)
次に、最も早く到来したと定義したセル(A)をタイムスロット期間(L)に対応する特定の区間長(L)タイミングを遅らせて、次式(4)により、距離ｙを計算する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
このようにして受信タイミングにより、選択すべき短いパスのセルが判定されると、次に、選択したセルの受信信号から相関値を計測し、受信品質を満足する、ある一定以上の受信レベルであるか否かを判定し、一定レベル以上の良好な受信品質である場合には、接続セル選択部126は、先頭セルと判定したセルを接続セルとして選択する選択情報をコントローラ108に送出する。コントローラ108では、選択情報が現在通信チャネルを形成しているセルであるか否かを判定し、選択情報に応じたセルを形成している基地局との通信を制御する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005217835.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月17日(2005.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイオマスをガス化して有用ガスを製造する方法であって、
バイオマスを含む有機物系原料を、ガス化反応ゾーンにおいて、昇温条件下、ガス化剤の存在下において、触媒機能および／または熱媒体機能を有する粘土からなるガス化促進剤と流動接触させることによって、前記有機物系原料を有用ガスに転換する工程を含むことを特徴とする、バイオマスのガス化方法。
【請求項２】
前記ガス化の過程で生成するチャーなどの副生物が吸着されたガス化促進剤を、ガス化反応ゾーンから抜き出して再生ゾーンに導入し、前記再生ゾーンにおいてガス化促進剤に付着した吸着副生物を燃焼により、または部分燃焼と炭素質ガス化反応により除去し、このようにして再生された加熱状態のガス化促進剤を前記ガス化反応ゾーンに再循環させる工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記昇温条件が、４００〜８００℃、好ましくは４００〜７５０℃、より好ましくは４５０〜６００℃の範囲の比較的穏和な温度条件からなる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ガス化促進剤が、平均粒径１０〜５００μｍ、好ましくは６０〜１２０μｍの微粉砕化された粘土からなる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ガス化促進剤が、スメクタイト粘土、バーミキュライト粘土、カオリン−蛇紋石粘土、緑泥石粘土およびこれらの混合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ガス化促進剤が、鉱物、ケイソウ土、貝殻、シリカアルミナ系触媒、遷移金属担持無機材料系触媒、金属酸化物触媒およびこれらの混合物から選ばれた少なくとも１種をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ガス化剤が、水蒸気を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記再生ゾーンにおける発生熱および／または廃棄熱の少なくとも一部を回収し、これを有効利用する工程を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項９】
前記工程によって生成する有用ガスが、一酸化炭素および水素を含むガスからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記請求項１〜９のいずれか１項に記載のガス化方法の実施によって産出される廃触媒および灰を含む廃棄物の土壌改良材としての使用。
【請求項１１】
前記請求項１〜１０のいずれか１項に記載のガス化方法の実施によって得られた有用ガスの気体燃料としての使用。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法によって得られた一酸化炭素および水素を含む原料ガスを、必要に応じてシフト反応装置によって成分調整して二酸化炭素を除去したのち、メタノール合成反応を行うことによってメタノールを得る工程を含む、液体燃料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  テトラフルオロエチレンと１．０重量％以下の割合の共重合可能な単量体との共重合体に、比表面積が１．０〜２．０ｍ２／ｇの炭素繊維を配合してなる変性ポリテトラフルオロエチレン組成物。
【請求項２】  炭素繊維が５〜２０重量％の割合で配合されてなる請求項１記載の変性ポリテトラフルオロエチレン組成物。
【請求項３】  熱溶融性フッ素樹脂を０．１〜２０重量％の割合で配合してなる請求項１又は２記載の変性ポリテトラフルオロエチレン組成物。
【請求項４】  請求項１〜３のいずれかに記載の変性ポリテトラフルオロエチレン組成物からなる摺動材。
【請求項５】  請求項１〜３のいずれかに記載の変性ポリテトラフルオロエチレン組成物からなるシール材。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月1日(2006.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続相が、加水分解性シリル基を有するシラン化合物をグラフトした非結晶性ポリオレフィンであり、分散相が熱可塑性樹脂および／またはエラストマーであり、透湿度が、２００ｇ／ｍ2 ・２４ｈ以下（３０μｍ厚さ）であり、
前記シラン化合物をグラフトした非結晶性ポリオレフィンと前記熱可塑性樹脂および／またはエラストマーとの重量比が、３０：７０〜７０：３０であるシーリング材組成物。  【請求項２】
前記分散相が、熱可塑性樹脂連続相中に、少なくとも一部が動的に架橋されたエラストマー組成物からなる分散相を有する熱可塑性エラストマー組成物である請求項１に記載のシーリング材組成物。
【請求項３】
前記シラン化合物をグラフトした非結晶性ポリオレフィンが、ポリオレフィンに対するシラン化合物のグラフト率が０．１〜１０重量％である請求項１または２に記載のシーリング材組成物。
【請求項４】
さらに吸湿剤を含む請求項１〜３のいずれかに記載のシーリング材組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のシーリング材組成物をシーリング材且つスペーサーとして用いた複層ガラス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
【表１】
2001354949.tif 000001
【表２】
2001354949.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
この電子銃構体では、カソードＫに約１５０Ｖの電圧が印加され、第１グリッドＧ１は、接地されている。第２グリッドＧ２は、管内で第４グリッドＧ４に接続され、約７００Ｖの電圧が印加される。第３グリッドＧ３は、管内で第５−１グリッドＧ５−１に接続され、約６ＫＶの電圧が印加される。第５−２グリッドＧ５−２には、約６ＫＶの電圧が印加される。第６グリッドＧ６には、約２６ＫＶの高電圧が印加される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、図６の（ｂ）に示すような偏向時においては、サブレンズ１０と主レンズ１１との間に、垂直方向Ｖに発散作用及び水平方向Ｈに集束作用を有する４極子レンズ１２を形成し、垂直方向Ｖに集束作用及び水平方向Ｈに発散作用を有する偏向収差１４の影響を補償しようとするため、αｉｈ＜αｉｖとなり、Ｍｖ＜Ｍｈとなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2000251757.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月17日(2006.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ディスクドライブ装置、アクセス方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  層構造となる複数の信号記録面を有するディスク状記録媒体に対して、その信号記録面にレーザ光を照射してデータの記録又は再生を行うディスクドライブ装置において、
少なくとも、レーザ光源、上記レーザ光の出力端となる対物レンズ、記録媒体からの反射光を検出する検出部を有するピックアップ手段と、
上記対物レンズを記録媒体に接離する方向に移動させることで、記録媒体の信号記録面に対する対物レンズのフォーカス状態を設定する対物レンズ移動手段と、
上記対物レンズが現在合焦しているとされる或る信号記録面から他の信号記録面に移るようにして合焦するためのフォーカスジャンプが行われるように上記対物レンズ移動手段を制御するフォーカスジャンプ制御手段と、
上記対物レンズと上記ディスク状記録媒体の半径方向との相対的位置関係を変位させるためのディスク半径方向移送手段と、
上記対物レンズが現在合焦しているとされる現在アドレス位置と、アクセス先であるターゲットアドレス位置とが同一信号記録面ではない場合に行うシーク動作として、
上記ターゲットアドレス位置が上記現在アドレス位置よりも内周にあることを判別した場合には、上記現在アドレス位置を含む信号記録面にて上記ターゲットアドレス位置に対応するディスク状記録媒体の半径位置まで対物レンズが位置するように上記ディスク半径方向移送手段に対する制御を実行し、この後、このディスク半径方向における移送完了位置から上記ターゲットアドレス位置を含む信号記録面に対してフォーカスジャンプが行われるように上記フォーカスジャンプ制御手段による制御を実行させる第１のシーク制御と、
上記ターゲットアドレス位置が上記現在アドレス位置よりも外周にあることを判別した場合には、上記現在アドレス位置から上記ターゲットアドレス位置を含む信号記録面に対してフォーカスジャンプが行われるように上記フォーカスジャンプ制御手段による制御を実行させ、この後、このフォーカスジャンプ完了位置から上記ターゲットアドレス位置に対応するディスク状記録媒体の半径位置まで対物レンズが位置するように上記ディスク半径方向移送手段に対する制御を実行させる第２のシーク制御とを実行可能なシーク動作制御手段と、
を備えていることを特徴とするディスクドライブ装置。
【請求項２】  層構造となる複数の信号記録面を有するディスク状記録媒体に対して、その信号記録面にレーザ光を照射してデータの記録又は再生を行うディスクドライブ装置のアクセス方法において、
少なくとも、レーザ光源、上記レーザ光の出力端となる対物レンズ、記録媒体からの反射光を検出する検出部を有する上記ディスクドライブ装置のピックアップ手段における上記対物レンズを記録媒体に接離する方向に移動させることで、記録媒体の信号記録面に対する上記対物レンズのフォーカス状態を設定する上記ディスクドライブ装置の対物レンズ移動手段を制御するもので、上記対物レンズが現在合焦しているとされる或る信号記録面から他の信号記録面に移るようにして合焦するためのフォーカスジャンプが行われるように制御するフォーカスジャンプ制御手順と、
上記対物レンズが現在合焦しているとされる現在アドレス位置と、アクセス先であるターゲットアドレス位置とが同一信号記録面ではない場合に行うシーク動作として、
上記ターゲットアドレス位置が上記現在アドレス位置よりも内周にあることを判別した場合には、上記現在アドレス位置を含む信号記録面にて上記ターゲットアドレス位置に対応するディスク状記録媒体の半径位置まで対物レンズが位置するように、上記対物レンズと上記ディスク状記録媒体の半径方向との相対的位置関係を変位させるための上記ディスクドライブ装置のディスク半径方向移送手段に対する制御を実行し、この後、このディスク半径方向における移送完了位置から上記ターゲットアドレス位置を含む信号記録面に対してフォーカスジャンプが行われるように上記フォーカスジャンプ制御手順による制御を実行させる第１のシーク制御と、
上記ターゲットアドレス位置が上記現在アドレス位置よりも外周にあることを判別した場合には、上記現在アドレス位置から上記ターゲットアドレス位置を含む信号記録面に対してフォーカスジャンプが行われるように上記フォーカスジャンプ制御手順による制御を実行させ、この後、このフォーカスジャンプ完了位置から上記ターゲットアドレス位置に対応するディスク状記録媒体の半径位置まで対物レンズが位置するように上記ディスク半径方向移送手段に対する制御を実行させる第２のシーク制御とを実行可能なシーク動作制御手順と、
を実行することを特徴とするアクセス方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスク状記録媒体に対応して記録又は再生を行うディスクドライブ装置と、このようなディスクドライブ装置におけるアクセス方法に関するもので、特に、層構造となる複数の信号記録面を有するディスク状記録媒体に対応して目標位置にシークを行うための技術に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月23日(2006.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報記録および／または再生装置、情報記録および／または再生方法並びに伝送媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ディスクに対して情報を記録および／または再生する情報記録再生装置において、
支持部材により少なくとも上記ディスクの径方向に変位自在に支持されているヘッドと、
上記ヘッドを上記ディスクの径方向へ規定された距離にわたって移動する駆動手段と、
上記ヘッドを上記ディスクの径方向へ移動する距離を検出し、上記距離に応じて上記駆動手段による上記ヘッドの移動を制御する制御手段と
を有することを特徴とする情報記録および／または再生装置。
【請求項２】  上記ヘッドを上記ディスク上に形成された記録トラックを規定された本数にわたって移動することにより、上記ヘッドを上記ディスクの径方向へ移動する微動手段を有することを特徴とする請求項１記載の情報記録および／または再生装置。
【請求項３】  上記制御手段は、上記ヘッドが上記微動手段により上記ディスクの径方向へ移動される際に、上記ヘッドが上記記録トラックを横切った計数信号に基づいて、上記駆動手段にて上記ヘッドを移動する距離を検出することを特徴とする請求項２記載の情報記録および／または再生装置。
【請求項４】  上記制御手段は、上記ヘッドが目標トラック数まで到達する途中で上記微動手段による上記ヘッドの移動が中断した際に、上記駆動手段にて上記ヘッドを上記目標トラック数に到達するように相当する距離を移動することを特徴とする請求項３記載の情報記録および／または再生装置。
【請求項５】  上記計数信号に基づいて上記ヘッドが上記ディスクの径方向に移動する速度を検出する速度検出手段をさらに有し、上記制御手段は、上記速度検出手段で検出した速度が所定値より大きいと、上記ヘッドの速度を減少させるように制御することを特徴とする請求項３記載の情報記録および／または再生装置。
【請求項６】  上記駆動手段は、ステッピングモータを用い、上記ステッピングモータの回転ステップ数に基づいて、上記ヘッダを上記ディスクの径方向に移動する距離を規定し、上記距離にわたって上記ヘッドを移動することを特徴とする請求項１記載の情報記録および／または再生装置。
【請求項７】  支持部材により少なくともディスクの径方向に支持されているヘッドを用い、上記ディスクに対して情報を記録および／または再生する情報記録再生方法において、
上記ヘッドを上記ディスクの径方向へ規定された距離にわたって移動する駆動工程と、
上記ヘッドが上記ディスクの径方向へ移動した距離を検出し、上記距離に応じて上記駆動工程における上記ヘッドの移動を制御する制御工程と
を有することを特徴とする情報記録および／または再生方法。
【請求項８】  支持部材により少なくともディスクの径方向に支持されているヘッドを用い、上記ディスクに対して情報を記録および／または再生する情報記録再生処理プログラムが伝送される伝送媒体において、
上記情報記録再生処理プログラムは、
上記ヘッドを上記ディスクの径方向へ規定された距離にわたって移動する駆動処理と、
上記ヘッドが上記ディスクの径方向へ移動した距離を検出し、上記距離に応じて上記駆動処理における上記ヘッドの移動を制御する制御処理と
を有することを特徴とする伝送媒体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報記録および／または再生装置、情報記録および／または再生方法並びに伝送媒体に関し、特に、簡単な構成で、確実に、所望のトラックをサーチすることができるようにした情報記録および／または再生装置、情報記録および／または再生方法、並びに伝送媒体に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために、本発明は、ディスクに対して情報を記録および／または再生するものであって、支持部材により少なくともディスクの径方向に変位自在に支持されているヘッドを用い、ヘッドをディスクの径方向へ規定された距離にわたって移動し、ヘッドをディスクの径方向へ移動する距離を検出し、距離に応じて駆動手段によるヘッドの移動を制御するものである。