【手続補正書】
【提出日】平成18年5月16日(2006.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
閾値配列中、閾値の小さい方からある階調までの閾値の配置位置が決定しているときに、次階調の同値１つ以上の閾値の配置位置を決定する際、
前記次階調の同値１つ以上の閾値の配置位置の候補位置を１箇所以上決定するＡ過程と、
前記候補位置中、次階調の閾値の配置位置を決定するＢ過程とを有し、
前記Ｂ過程は、
前記ある階調までの閾値の配置位置が決定している閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出する第１の過程と、
前記１つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求める第２の過程と、
求めた低周波成分強度が最も弱い候補位置を前記次階調の閾値の配置位置として決定する第３の過程とを含み、
前記第１の過程から前記第３の過程を前記次階調の同値１つ以上の閾値の全ての配置位置が決定するまで繰り返し行う
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項２】
閾値配列中、閾値の大きい方からある階調までの閾値の配置位置が決定しているときに、次階調の同値１つ以上の閾値の配置位置を決定する際、
前記次階調の同値１つ以上の閾値の配置位置の候補位置を１箇所以上決定するＡ過程と、
前記候補位置中、次階調の閾値の配置位置を決定するＢ過程とを有し、
前記Ｂ過程は、
前記ある階調までの閾値の配置位置が決定している閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出する第１の過程と、
前記１つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求める第２の過程と、
求めた低周波成分強度が最も強い候補位置を前記次階調の閾値の配置位置として決定する第３の過程とを含み、
前記第１の過程から前記第３の過程を前記次階調の同値１つ以上の閾値の全ての配置位置が決定するまで繰り返し行う
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項３】
閾値配列中、閾値の小さい方からある階調までの閾値の配置位置が決定しているときに、次階調の閾値の配置位置を決定する際、
前記ある階調までの閾値の配置位置が決定している閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出する第１の過程と、
抽出した低周波成分強度が最も弱い位置を前記次階調の閾値の配置位置として決定する第２の過程とを含む
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項４】
閾値配列中、閾値の大きい方からある階調までの閾値の配置位置が決定しているときに、次階調の閾値の配置位置を決定する際、
前記ある階調までの閾値の配置位置が決定している閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出する第１の過程と、
抽出した低周波成分強度が最も強い位置を前記次階調の閾値の配置位置として決定する第２の過程とを含む
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項５】
階調画像データ作成用閾値配列が複数記憶された記憶媒体と、
前記記憶媒体から所望の閾値配列を選択する選択手段と、
前記選択手段により選択した閾値配列を用いて、階調画像データを作成する階調画像データ作成手段とを備え、
前記記憶媒体に記憶されている階調画像データ作成用閾値配列が、前記階調画像データ作成手段により閾値の小さい方からある階調までの閾値配列に基づいて作成される階調画像データの低周波成分を抽出した後、前記ある階調の次階調の閾値の配置位置が、前記抽出された低周波成分中、低周波成分が最も弱い位置と等しくされている閾値配列とされている
ことを特徴とする階調画像データ作成装置。
【請求項６】
階調画像データ作成用閾値配列が複数記憶された記憶媒体と、
前記記憶媒体から所望の閾値配列を選択する選択手段と、
選択した閾値配列を用いて、階調画像データを作成する階調画像データ作成手段とを備え、
前記記憶媒体に記憶されている階調画像データ作成用閾値配列が、前記階調画像データ作成手段により閾値の大きい方からある階調までの閾値配列に基づいて作成される階調画像データの低周波成分を抽出した後、前記ある階調の次階調の閾値の配置位置が、前記抽出された低周波成分中、低周波成分が最も強い位置と等しくされている閾値配列とされている
ことを特徴とする階調画像データ作成装置。
【請求項７】
閾値配列中、ある階調での閾値の配置位置が決定しているときに、前記ある階調よりも階調の高い方および低い方、全階調の閾値の配置位置を決定する階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記階調の高い方の全ての閾値の配置位置を決定する場合には、
前記ある階調の閾値（Ｔｆｉｘとする。）の高い方の次階調の同値１つ以上の閾値（Ｔｈ＝Ｔｆｉｘ＋１とする。）の配置位置の候補位置を１箇所以上決定するＡａ過程と、
前記候補位置中、次階調の閾値（Ｔｈ）の配置位置を決定するＢａ過程と、
前記Ｂａ過程は、
配置位置が決定しているある階調での閾値（Ｔｈ−１）の閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出するＢａ１過程と、
前記１つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求めるＢａ２過程と、
求めた低周波成分強度が最も弱い候補位置を前記次階調の閾値（Ｔｈ）の配置位置として決定するＢａ３過程とを含み、
前記Ｂａ１過程から前記Ｂａ３過程を前記次階調の同値１つ以上の閾値（Ｔｈ）の全ての配置位置が決定するまで繰り返し行い、
さらに、前記Ａａ過程およびＢａ過程における閾値（Ｔｈ）を閾値（Ｔｈ＋１）に更新するＣａ過程とを有し、
前記Ａａ過程からＣａ過程を、前記ある階調よりも階調の高い方の全ての閾値の配置位置を決定するまで繰り返し行い、
前記階調の低い方の全ての閾値の配置位置を決定する場合には、
前記ある階調の閾値（Ｔｆｉｘとする。）の低い方の次階調の同値１つ以上の閾値（Ｔｌ＝Ｔｆｉｘ−１とする。）の配置位置の候補位置を１箇所以上決定するＡｂ過程と、
前記候補位置中、次階調の閾値（Ｔｌ）の配置位置を決定するＢｂ過程と、
前記Ｂｂ過程は、
配置位置が決定しているある階調での閾値（Ｔｌ＋１）の閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出するＢｂ１過程と、
前記１つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求めるＢｂ２過程と、
求めた低周波成分強度が最も強い候補位置を前記次階調の閾値Ｔｌの配置位置として決定するＢｂ３過程とを含み、
前記Ｂｂ１過程から前記Ｂｂ３過程を前記次階調の同値１つ以上の閾値（Ｔｌ）の全ての配置位置が決定するまで繰り返し行い、
さらに、前記Ａｂ過程およびＢｂ過程における閾値（Ｔｌ）を閾値（Ｔｌ−１）に更新するＣｂ過程とを有し、
前記Ａｂ過程からＣｂ過程を、前記ある階調よりも階調の低い方の全ての閾値の配置位置を決定するまで繰り返し行う
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項８】
閾値配列中、異なる階調での閾値（Ｔｆｉｘ１、Ｔｆｉｘ２（Ｔｆｉｘ１＜Ｔｆｉｘ２））の配置位置が決定しているときに、前記異なる階調間の各閾値の配置位置を決定する階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記配置位置が決定している階調の低い方の閾値（Ｔｆｉｘ１）よりも高い方の次階調の同値１つ以上の閾値（Ｔｈ＝Ｔｆｉｘ１＋１とする。）の配置位置の候補位置を１箇所以上決定するＡｃ過程と、
前記Ａｃ過程で決定された候補位置中、次階調の閾値（Ｔｈ）の配置位置を決定するＢｃ過程とを有し、
前記Ｂｃ過程は、
配置位置が決定している階調での閾値（Ｔｈ−１）の閾値配置に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出するＢｃ１過程と、
前記１つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求めるＢｃ２過程と、
求めた低周波成分強度が最も弱い候補位置を前記次階調の閾値（Ｔｈ）の配置位置として決定するＢｃ３過程とを含み、
前記配置位置が決定している階調の高い方の閾値（Ｔｆｉｘ２）よりも低い方の次階調の同値１つ以上の閾値（Ｔｌ＝Ｔｆｉｘ２−１とする。）の配置位置の候補位置を１箇所以上決定するＡｄ過程と、
前記Ａｄ過程で決定された候補位置中、次階調の閾値（Ｔｌ）の配置位置を決定するＢｄ過程とを有し、
前記Ｂｄ過程は、
配置位置が決定している階調での閾値（Ｔｌ＋１）の閾値配置に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出するＢｄ１過程と、
前記１つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求めるＢｄ２過程と、
求めた低周波成分強度が最も強い候補位置を前記次階調の閾値（Ｔｌ）の配置位置として決定するＢｄ３過程とを含み、
さらに、前記Ａｃ過程、Ｂｃ過程、Ａｄ過程、Ｂｄ過程における閾値（Ｔｈ）、（Ｔｌ）を、それぞれ閾値（Ｔｈ＋１）、（Ｔｌ−１）に更新するＣｃ過程とを有し、
前記異なる階調の閾値（Ｔｆｉｘ１）、（Ｔｆｉｘ２）間の全ての閾値の配置位置を決定するまで、前記Ａｃ過程、Ｂｃ過程、Ａｄ過程、Ｂｄ過程、Ｃｃ過程を繰り返し行う
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項９】
請求項１、２、７または８記載の階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記閾値配列が、網点階調画像作成用閾値配列である
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項１０】
閾値配列中、ある階調での閾値の配置位置が決定しているときに、前記ある階調よりも階調の高い方および階調の低い方、全階調の閾値の配置位置を決定する階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記ある階調よりも階調の高い方の全ての閾値の配置位置を決定する場合には、
決定しているある階調での閾値（Ｔｈ−１とする。）の配置位置に基づいて得られる画像データを、周波数空間上のデータに変換し低周波成分を抽出する第１の過程と、
抽出した低周波成分強度が最も弱い位置を前記階調の高い方の次階調の閾値（Ｔｈ）の配置位置として決定する第２の過程と、
前記第１および第２の過程における閾値（Ｔｈ）を閾値（Ｔｈ＋１）に更新する第３の過程と、
前記ある階調よりも階調の高い方の全ての閾値の配置位置を決定するまで、前記第１から第３の過程を繰り返し行い、
前記ある階調よりも階調の低い方の全ての閾値の配置位置を決定する場合には、
決定しているある階調での閾値（Ｔｌ＋１とする。）の配置位置に基づいて得られる画像データを、周波数空間上のデータに変換し低周波成分を抽出する第４の過程と、
抽出した低周波成分強度が最も強い位置を前記階調の低い方の次階調の閾値（Ｔｌ）の配置位置として決定する第５の過程と、
前記第１および第２の過程における閾値（Ｔｌ）を閾値（Ｔｌ−１）に更新する第６の過程と、
前記ある階調よりも階調の低い方の全ての閾値の配置位置を決定するまで、前記第４から第６の過程を繰り返し行う
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項１１】
閾値配列中、異なる階調での閾値（Ｔｆｉｘ１、Ｔｆｉｘ２（Ｔｆｉｘ１＜Ｔｆｉｘ２））の配置位置が決定しているときに、前記異なる階調間の各閾値の配置位置を決定する階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記配置位置が決定している閾値の中、階調の低い方の閾値（Ｔｆｉｘ１＝Ｔｈ−１とする。）の閾値配列に基づいて得られる画像データを、周波数空間上のデータに変換し、低周波成分を抽出する第１の過程と、
抽出した低周波成分強度が最も弱い位置を、前記階調の高い方の次階調の閾値（Ｔｈ）の配置位置として決定する第２の過程と、
前記配置位置が決定している閾値の中、階調の高い方の閾値（Ｔｆｉｘ２＝Ｔｌ−１とする。）の閾値配列に基づいて得られる画像データを、周波数空間上のデータに変換し、低周波成分を抽出する第３の過程と、
抽出した低周波成分強度が最も強い位置を、前記階調の低い方の次階調の閾値（Ｔｌ）の配置位置として決定する第４の過程と、
前記第１および第２の過程における閾値（Ｔｈ）を閾値（Ｔｈ＋１）に更新するとともに、前記第３および第４の過程における閾値（Ｔｌ）を閾値（Ｔｌ−１）に更新する第５の過程と、
前記異なる階調間の閾値の全ての配置位置が決定するまで上記第１から第５の過程を繰り返し行う
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項１２】
請求項３、４、１０または１１記載の階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記閾値配列が、ディザマトリクスである
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【請求項１３】
請求項１〜４または７〜１２のいずれか１項に記載の階調画像作成用閾値配列決定方法において、
前記低周波成分を抽出する過程では、
人間の視覚特性により重み付けをして低周波成分を抽出する
ことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
Ｄ（ｘ，ｙ）＝１−（|ｘ|＋|ｙ|）                        …（２）
この模式的に描いた図５において、中心Ｏを含む四角形５１の内側までの閾値配列が決まっていた場合に、次に、四角形５２の辺の付近の未処理画素までの距離値を距離関数Ｄ（ｘ，ｙ）により求めることになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
人間の視覚周波数特性のモデルについては、著者J.Sullivan, L.Ray,and R.Millerによる文献「Design of minimum visual modulation halftone patterns」IEEE Trans. Syst. Man Cybern., vol21,No.1,33-38(1991)にも詳しく述べられている。