Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に非晶質半導体膜を形成し、
前記非晶質半導体膜をエッチングして、マーカーと、輪郭の一部が山形の形状が複数個連なっている形状または鋸刃形状である第１の島状半導体層とを形成し、
前記マーカーを位置基準として、光強度のピーク位置から、強度が５０％になるまでの減衰領域巾が１０μｍ以下であるレーザー光を、前記第１の島状半導体層に選択的に照射して前記第１の島状半導体層を結晶化し、
前記結晶化された第１の島状半導体層の一部をエッチングして、第２の島状半導体層を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
基板上に非晶質半導体膜を形成し、
前記非晶質半導体膜をエッチングして、マーカーと、輪郭の一部が山形の形状が複数個連なっている形状または鋸刃形状である第１の島状半導体層とを形成し、
前記マーカーを位置基準として、光強度のピーク位置から、強度が５０％になるまでの減衰領域巾が１０μｍ以下であるレーザー光を、前記第１の島状半導体層に選択的に照射して前記第１の島状半導体層を結晶化し、
前記結晶化された第１の島状半導体層の一部をエッチングして、トランジスタのチャネル領域、ソース領域およびドレイン領域となる第２の島状半導体層を形成し、
前記第２の島状半導体層を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記レーザー光は、パルス発振の固体レーザー発振装置を光源として用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１又は請求項２において、
前記レーザー光は、ＹＡＧレーザー発振装置、ＹＶＯ４レーザー発振装置、ＹＬＦレーザー発振装置、ＹＡｌＯ３レーザー発振装置、ガラスレーザー発振装置、ルビーレーザー発振装置、Ｔｉ：サファイアレーザー発振装置、フォルステライトレーザー発振装置またはＮｄ：  ＹＬＦレーザー発振装置から選ばれた一種または複数種を光源とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２において、
前記レーザー光の照射面における断面形状を線形状または矩形状に成形し、前記線形状または前記矩形状における短尺方向のエネルギー分布がガウシアン形状またはフラットトップ形状にすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項３又は請求項４において、
前記レーザー光は、半導体レーザー励起固体レーザー発振装置を光源とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項３又は請求項４において、
前記レーザー光は、第２高調波、第３高調波または第４高調波であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項３又は請求項４において、
前記レーザー光は、発振するレーザー光パルスの繰り返し周波数が０．５ＫＨｚ以上である発振装置を光源とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項１又は請求項２において、
前記レーザー光は、パルス発振のレーザー発振装置を光源とし、
前記レーザー光がパルス発振するごとに、前記レーザー光のビームスポット位置が０．３μｍ以上かつ５μｍ以下の距離を移動することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項９において、
前記ビームスポットの長尺方向の中心軸と、前記ビームスポットの移動方向との角度が、直角であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項９において、
前記ビームスポットの移動方向は、前記薄膜トランジスタのチャネル長方向に対して、水平方向であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項９において、
前記ビームスポットの移動方向は、前記薄膜トランジスタのソース領域とドレイン領域を結ぶ直線に対して、水平方向であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項９において、
前記ビームスポット形状は、前記短尺方向の長さが５０μｍ以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、基板処理効率を高めるために、ＳＬＳ法に最適な、繰り返し周波数と送りピッチにすることが望ましく、以下にその条件について説明する。送りピッチとは、レーザー光の１パルス毎の基板ステージ移動距離のことである。ＳＬＳ法では１ショット毎のスーパーラテラル成長距離に限度があるため、前記送りピッチを大きくするだけでは、基板処理効率を高めることにならない。送りピッチを高くするならばレーザー光の繰り返し周波数もそれにあわせて高くする必要がある。従来のＳＬＳ法で使用されているＸｅＣｌエキシマレーザーは最大３００Ｈｚである。一方、パルス発振の固体レーザー発振装置は、繰り返し周波数を、最大で数ＭＨｚにすることができる。従って、パルス発振の固体レーザー発振装置を高繰り返し周波数（０．５ＫＨｚ以上）で照射することによって、従来のＳＬＳ法と比較して、大幅に処理能力を向上できる。繰り返し周波数の上限は、レーザー光ショット毎にスーパーラテラル成長に必要なエネルギー密度が確保できる範囲で決定すればよく、これはパルス発振固体レーザー発振装置本体の最大出力で決定される。（他の条件が同じならば、周波数を高くすると、レーザー光ショット毎のエネルギー密度は減少するため）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、レーザー照射装置１００は、レーザー発振装置１０２から発振されるレーザー光の被処理物におけるビームスポットを加工することができる、第３の手段に相当する光学系１０３を有している。レーザー発振装置１０２から射出されたレーザー光の形状は、ロッド形状が円筒形であれば円状となり、スラブ型であれば矩形状となる。このようなレーザー光を光学系により、さらに成形することにより、レーザー光の被処理物１０７の表面におけるビームスポットを所望の形状にすることができる。好適には、レーザー光の被処理物における断面形状を線形状または矩形状に成形し、その短尺方向のエネルギー分布がガウシアン形状またはフラットトップ形状にする。また、短尺方向の長さを５０μｍ以下とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月20日(2005.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に非単結晶半導体膜を形成し、前記非単結晶半導体膜に３５０ｎｍよりも長い波長を有するレーザービームを照射して前記非単結晶半導体膜を結晶化する、レーザービーム照射方法であって、
前記非単結晶半導体膜は面内において膜厚分布を有しており、
前記非単結晶半導体膜の膜厚に対する前記レーザービームの吸収率の微分係数は正であることを特徴とする、レーザービーム照射方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  各々が一対の電極と該一対の電極間を接続するように配置された高分子膜とからなる複数のユニットと、該複数のユニットに電気的に接続する配線と、が配置された基板を用意する工程と、
前記複数のユニットの高分子膜にエネルギーを供給して前記高分子膜を低抵抗化する工程と、
前記高分子膜が低抵抗化された膜に間隙を形成する工程と、
を少なくとも含み、
前記高分子膜を低抵抗化する工程においては、前記複数のユニットの数よりも少ない数のユニットの高分子膜にエネルギービームをスポット照射し、該スポット照射の位置を移動させながら前記エネルギービームを複数回走査照射することにより前記複数のユニットの各々の高分子膜に対して複数回に分けてエネルギーを供給することを特徴とする電子源の製造方法。
【請求項２】  前記複数のユニットを複数のブロックに分け、各ブロック毎に前記複数回の走査照射を行うことを特徴とする請求項１に記載の電子源の製造方法。
【請求項３】  前記エネルギービームは、レーザー光であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子源の製造方法。
【請求項４】  前記エネルギービームは、キセノン光源又はハロゲン光源から放出された光を収束させたものであることを特徴とする請求項１または２に記載の電子源の製造方法。
【請求項５】  前記エネルギービームは、電子ビーム又はイオンビ−ムであることを特徴とする請求項１または２に記載の電子源の製造方法。
【請求項６】  前記高分子膜は、芳香族ポリイミド、ポリフェニレンオキサジアゾール又はポリフェニレンビニレンのいずれかからなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電子源の製造方法。
【請求項７】  前記間隙を形成する工程においては、前記高分子膜が低抵抗化された膜に前記配線を介して通電することにより前記間隙を形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の電子源の製造方法。
【請求項８】  前記配線は、複数の行方向配線と、該行方向配線と絶縁層を間に挟んで交差する複数の列方向配線とからなり、
複数の前記一対の電極の各々は、前記複数の行方向配線の１つと、前記複数の列方向配線の１つとに夫々接続されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電子源の製造方法。
【請求項９】  電子源と、該電子源から放出された電子の照射により発光する発光部材とを少なくとも有する画像形成装置の製造方法であって、前記電子源が請求項１乃至８のいずれかに記載の方法にて製造されることを特徴とする画像形成装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一対の電極と該電極間を接続する高分子膜とからなるユニットが複数設けられた基板を用意する工程と、
前記複数のユニットのうち、２以上のユニットの各々を構成する一対の電極間に電位差を与え始めてから、該電位差が与えられている状態のユニットの数よりも少ない数のユニットの各々を構成する高分子膜に順次光又は粒子ビームを照射し、前記電位差が与えられている状態のユニットの各々を構成する高分子膜を低抵抗化させて間隙を形成する工程と、
を少なくとも含むことを特徴とする電子源の製造方法。
【請求項２】  前記光は、レーザー光、或いはキセノン光源又はハロゲン光源から放出された光であること特徴とする請求項１に記載の電子源の製造方法。
【請求項３】  前記粒子ビームは、電子ビーム又はイオンビームであることを特徴とする請求項１に記載の電子源の製造方法。
【請求項４】  前記高分子膜は、芳香族ポリイミド、ポリフェニレンオキサジアゾール又はポリフェニレンビニレンのいずれかからなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電子源の製造方法。
【請求項５】  電子源と、該電子源から放出された電子の照射により発光する発光部材とを少なくとも有する画像形成装置の製造方法であって、前記電子源が請求項１乃至４のいずれかに記載の方法にて製造されることを特徴とする画像形成装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基体上に、各々が一対の電極と該電極間を接続する高分子膜とからなる複数のユニットと、該各ユニットの電極に接続された配線とを配置する工程と、前記ユニットから選択された複数のユニットに同時に光照射することで、前記高分子膜を低抵抗化し、炭素を主成分とする導電性膜にせしめる工程と、前記炭素を主成分とする導電性膜に電流を流すことにより、間隙を形成する工程とを有し、前記光が、赤外光から紫外光の波長域にある光であって、前記光に対する、前記配線の吸収率が、前記一対の電極の吸収率よりも、低いことを特徴とする電子源の製造方法。
【請求項２】  前記光照射は、順次走査しながら全ての前記ユニットに行われることを特徴とする請求項１に記載の電子源の製造方法。
【請求項３】  前記配線の吸収率が、前記一対の電極の光吸収率よりも、１５％以上低いことを特徴とする請求項１または２に記載の電子源の製造方法。
【請求項４】  前記配線の光吸収率が、２０％以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子源の製造方法。
【請求項５】  前記配線にコーティングを施すことにより、配線の吸収率を電極の吸収率より低くする工程を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電子源の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月16日(2006.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 外囲器（１２）と、前記外囲器の内側に密封された放電維持充填気体（２６）と、放電を発生させる第１及び第２の電極（２２、２４）とを具備し、少なくとも前記第１の電極は電流搬送ワイヤ（４０）と、コイル（３０）とを含み、前記コイルは、第１の円筒形部材（４５）の周囲に重ね巻きワイヤ（４２）を巻き付けることにより形成される第１のコイル構造（４４）と、第２の円筒形部材（４６）の周囲に前記第１のコイル構造を巻き付けることにより形成される第２のコイル構造（４７）と、少なくとも１.０ｍｍの直径を有する第３の円筒形部材（５０）の周囲に前記第２のコイル構造を巻き付けることにより形成される第３のコイル構造と、前記コイル上に付着される電子放出物質（３２）とを含む放電ランプ（１０）。
【請求項２】 前記第３の円筒形部材（５０）は少なくとも１.２ｍｍの直径を有する請求項１記載の放電ランプ（１０）。
【請求項３】 前記第２のコイル構造（４７）は１インチ当たり少なくとも８０の巻き数を有する請求項１記載の放電ランプ（１０）。
【請求項４】 前記第３のコイル構造（３０）は少なくとも１０ｍｍの長さである請求項１記載の放電ランプ（１０）。
【請求項５】 前記電子放出物質（３２）はバリウム、ストロンチウム、カルシウム、ジルコニウム及びその組み合わせから成る群から選択される酸化物から形成される請求項１記載の放電ランプ（１０）。
【請求項６】 外囲器（１２）と、前記外囲器の内側に密封された放電維持充填気体（２６）と、放電を発生させる第１及び第２の電極（２２、２４）とを具備し、少なくとも前記第１の電極はコイル（３０）を含み、前記コイルは、第１の円筒形部材（４５）の周囲にワイヤを巻き付けることにより形成される第１のコイル構造（４４）と、第２の円筒形部材（４６）の周囲に前記第１のコイル構造を巻き付けることにより形成され、１インチ当たり少なくとも８０の巻き数（ＴＰＩ）を示すように互いに離間して配置された（４８）複数のコイルを有する第２のコイル構造（４７）と、第３の円筒形部材（５０）の周囲に前記第２のコイル構造を巻き付けることにより形成される第３のコイル構造と、前記コイル上に付着される電子放出物質（３２）とを含む放電ランプ（１０）。
【請求項７】 蛍光灯（１０）のコイル（３０）を形成する方法において、第１の円筒形部材（４５）及び電流搬送ワイヤ（４０）の周囲にワイヤ（４２）を巻き付けて第１のコイル構造（４４）を形成することと、第２の円筒形部材（４６）の周囲に前記第１のコイル構造を巻き付けて第２のコイル構造（４７）を形成することと、少なくとも１ｍｍの直径を有する第３の円筒形部材（５０）の周囲に前記第２のコイル構造を巻き付けて第３のコイル構造を形成することと、加熱されたとき、活性化されると電子を放出する電子放出物質（３２）で前記第３のコイル構造を被覆することとから成る方法。
【請求項８】 第２の円筒形部材（４６）に第１のコイル構造（４４）を巻き付けて第２のコイル構造（４７）を形成する工程は、前記第１のコイル構造を１インチ当たり少なくとも８０の巻き数を与える間隔（４８）で巻き付けることを含む請求項７記載の方法。
【請求項９】 前記第１、第２及び第３の円筒形部材（４５、４６、５０）を酸の浴内で溶解させることを更に含む請求項７記載の方法。
【請求項１０】 第３のコイル構造を電子放出物質（３２）で被覆する工程は、少なくとも９グラムの１つ以上の炭酸塩を含む混合物で前記第３のコイル構造を被覆することを含む請求項７記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
一般に、瞬時始動安定器は急速始動安定器より製造するのが容易である。従って、ＧＥのＦ３２Ｔ８Ultra Watt Miser及びUltra Watt Miser XLなどのいくつかの最新のデザインの蛍光灯は瞬時始動安定器と組み合わせて使用するように設計されている。瞬時始動安定器と共に動作するが、急速始動安定器に匹敵する又はそれを越える寿命を有する蛍光灯が依然として必要とされている。
【特許文献１】米国特許第５６２９５８６号
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月14日(2005.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に有機化合物層を有する複数の発光素子を有し、
前記複数の発光素子には、第１の有機化合物層を有する第１の発光素子と、第２の有機化合物層を有する第２の発光素子とが隣接して配置されており、
前記第１の発光素子は、一対の電極間に前記第１の有機化合物層を有する第１の発光領域と、一対の電極間に前記第１の有機化合物層と前記第２の有機化合物層との積層部を有する第２の発光領域と、を有していることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
一対の電極間に有機化合物層を有する複数の発光素子と、
前記複数の発光素子上に設けられた酸化珪素または窒化珪素を主成分とする第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に設けられた窒化珪素を主成分とする第２の絶縁膜と、を有し、
前記複数の発光素子には、第１の有機化合物層を有する第１の発光素子と、第２の有機化合物層を有する第２の発光素子とが隣接して配置されており、
前記第１の発光素子は、一対の電極間に前記第１の有機化合物層を有する第１の発光領域と、一対の電極間に前記第１の有機化合物層と前記第２の有機化合物層との積層部を有する第２の発光領域と、を有していることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の有機化合物層及び前記第２の有機化合物層は、異なる発光色の有機化合物層であることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
一対の電極間に有機化合物層を有する複数の発光素子を有し、
前記複数の発光素子には、第１の有機化合物層を有する第１の発光素子と、第２の有機化合物層を有する第２の発光素子と、第３の有機化合物層を有する第３の発光素子とが配置されており、
前記第１の発光素子において、前記第１の有機化合物層と前記第２の有機化合物層とが一部重なっており、
前記第２の発光素子において、前記第２の有機化合物層と前記第３の有機化合物層とが一部重なっていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
一対の電極間に有機化合物層を有する複数の発光素子と、前記複数の発光素子上に設けられた酸化珪素または窒化珪素を主成分とする第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上に設けられた窒化珪素を主成分とする第２の絶縁膜と、を有し、
前記複数の発光素子には、第１の有機化合物層を有する第１の発光素子と、第２の有機化合物層を有する第２の発光素子と、第３の有機化合物層を有する第３の発光素子とが配置されており、
前記第１の発光素子において、前記第１の有機化合物層と前記第２の有機化合物層とが一部重なっており、
前記第２の発光素子において、前記第２の有機化合物層と前記第３の有機化合物層とが一部重なっていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５において、
前記第１の有機化合物層、前記第２の有機化合物層、及び前記第３の有機化合物層は、互いに異なる色を発光する有機化合物層であることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記第１の有機化合物層は、赤色、緑色、または青色のうち、いずれか一色を発光する有機化合物層であることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記発光素子に対向して設けられたカラーフィルタを有していることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一に記載の発光装置を組み込んだことを特徴とするビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータまたは携帯情報端末。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
衛星からの電波を受信して現在地を測位する測位手段と、
公衆通信に基づいてその発信位置を示す情報またはその発信位置を特定するための情報を取得する通信手段と、
前記通信手段により取得された情報に基づいて前記測位に用いられる初期位置を設定する初期位置設定手段とを備えることを特徴とする測位装置。
【請求項２】
前記初期位置設定手段は、
前記通信手段により取得された情報を記憶する第１記憶部と、
前記測位手段により測位された測位結果を記憶する第２記憶部と、
前回の測位時に前記通信手段により取得された情報と、今回の測位時に前記通信手段により取得された情報とを比較する比較手段と、
前記比較結果に基づいて、今回の測位位置と前回の測位位置との距離を推定する推定手段とを備え、
今回の測位位置と前回の測位位置との距離が所定範囲内の場合、今回の測位に用いられる初期位置として前回の測位結果を用いることを特徴とする請求項１記載の測位装置。
【請求項３】
前記推定手段は、今回の測位位置と前回の測位位置との距離を推定する際に、受信可能な放送局のＩＤの種類、受信可能な放送局の数、受信された電波の電界強度または受信周波数のいずれか少なくとも１個を用いることを特徴とする請求項２記載の測位装置。
【請求項４】
前記公衆通信は、アナログラジオ放送、デジタルラジオ放送、アナログテレビ放送、デジタルテレビ放送あるいは道路交通情報通信であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の測位装置。
【請求項５】
前記デジタルテレビ放送は地上波デジタル放送であることを特徴とする請求項４記載の測位装置。
【請求項６】
前記公衆通信の発信位置を特定するための情報は、放送局の放送周波数または放送局のＩＤ情報であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の測位装置。
【請求項７】
放送局の放送周波数または放送局のＩＤ情報と、その放送局またはその放送局の中継基地の位置情報とを対応させた対応テーブルを備えることを特徴とする請求項６記載の測位装置。
【請求項８】
前記初期位置設定手段は、前記対応テーブルの参照結果に基づいて前記測位に用いられる初期位置を設定することを特徴とする請求項７記載の測位装置。
【請求項９】
衛星からの電波を受信して現在地を測位する測位手段と、
公衆通信に基づいてその発信位置を示す情報またはその発信位置を特定するための情報を取得する通信手段と、
前記通信手段により取得された情報に基づいて前記測位に用いられる初期位置を設定する初期位置設定手段と、
前記測位手段による測位結果を提示する提示手段とを備えることを特徴とする移動端末。
【請求項１０】
公衆通信に基づいてその発信位置を示す情報またはその発信位置を特定するための情報を取得するステップと、
前記取得された情報に基づいて初期位置を設定するステップと、
前記設定された初期位置を用いることにより、衛星からの電波を受信して現在地を測位するステップとを備えることを特徴とする測位方法。
【請求項１１】
公衆通信に基づいてその発信位置を示す情報またはその発信位置を特定するための情報を取得するステップと、
前記取得された情報に基づいて初期位置を設定するステップと、
前記設定された初期位置を用いることにより、衛星からの電波を受信して現在地を測位するステップとをコンピュータに実行させることを特徴とする測位プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る測位装置によれば、衛星からの電波を受信して現在地を測位する測位手段と、公衆通信に基づいてその発信位置を示す情報またはその発信位置を特定するための情報を取得する通信手段と、前記通信手段により取得された情報に基づいて前記測位に用いられる初期位置を設定する初期位置設定手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本発明の一態様に係る移動端末によれば、衛星からの電波を受信して現在地を測位する測位手段と、公衆通信に基づいてその発信位置を示す情報またはその発信位置を特定するための情報を取得する通信手段と、前記通信手段により取得された情報に基づいて前記測位に用いられる初期位置を設定する初期位置設定手段と、前記測位手段による測位結果を提示する提示手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
そして、選局部３２にて選択された放送信号はＯＦＤＭ（ｏｒｔｈｏｇｏｎａｌ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  ｄｉｖｉｓｉｏｎ  ｍｕｌｔｉｐｌｅｘ）復調部３３に入力され、ＯＦＤＭ復調部３３は、選局部３２にて選択された放送信号を復調することにより、ＴＳ（トランスポート）信号を生成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月4日(2006.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図１に本発明を実施するための最良の形態を示す。このＡＬＣパネル１においては、本硬化したパネル素材２の表面に、転写ローラ３の凸部４が押し付けられることで、不規則な形状の意匠凹部５が多数個分散状に形成されている。意匠凹部５の深さは５〜１０ｍｍに設定され、幅は５〜１２ｍｍに設定されている。パネル素材２の横断線上に位置する意匠凹部５の幅寸法の合計値はパネル素材２の幅の１／２以下に収められている。意匠凹部５の底は、角が生じないように曲面６（図４参照）とされている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図３，図４に示すように、意匠凹部５の深さは個々別々であるが、５〜１０ｍｍの範囲内に設定されている。意匠凹部５の幅は不統一であるが、５〜１２ｍｍの範囲内に収められている。意匠凹部５の断面形状は不規則であるが、各意匠凹部５の底は曲面６とされている。また、パネル素材２の横断線上に位置する意匠凹部５（図４に示す１０個の凹部５）の幅寸法の合計値は、パネル素材２の幅（６００ｍｍ）の１／２以下に設定されている。なお、パネル素材２と転写ローラ３との間のクリアランス２０（図２参照）は、ボルト１６で３〜５ｍｍ程度に調整されている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄道敷地上に設けられた鉄道レールをまたいで構築された高架状の駅舎と、
前記駅舎前に面して構築された自由通路である連絡橋と、
前記鉄道レールと交叉する一般道路と、
が配置された区画に、駅前交通広場を構築する方法であって、
一端が前記連絡橋に接続し、他端が前記一般道路に接続する連絡道路を構築し、
前記連絡道路の前記一端及び前記連絡橋と同一レベルの高架デッキを前記鉄道敷地上に構築して、
前記高架状の駅舎の前に駅前交通広場を設けることを特徴とする、駅前交通広場を構築する方法。
【請求項２】
鉄道敷地をまたいで構築される高架状の駅舎を備えた鉄道駅の駅前交通広場であって、前記鉄道敷地上にあって前記駅舎と連設する人工地盤からなる駅前広場と、前記駅前広場と地上の一般道路とを連通する連絡道路とを備えたことを特徴とする駅前交通広場。
【請求項３】
前記連絡道路は、スロープ状であることを特徴とする請求項２に記載の駅前交通広場。
【請求項４】
前記鉄道敷地の両側または片側から前記駅舎に到達する階段またはエスカレータないしはエレベータ等の昇降機構を設けたことを特徴とする請求項２または３に記載の駅前交通広場。
【請求項５】
前記駅前広場は、前記駅舎と平面的に連接し同一の床レベルであることを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の駅前交通広場。
【請求項６】
前記駅前広場は、前記駅舎側の歩行者用通路と、車両用通路とに区画されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載の駅前交通広場。
【請求項７】
前記駅前広場または前記連絡道路の下方空間を駐輪場または防災備蓄庫とすることを特徴とする請求項２〜６のいずれかに記載の駅前交通広場。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】駅前交通広場を構築する方法、及び、駅前交通広場
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、以上の課題を解決するもので、駅前交通広場を新設する上で、鉄道敷地の上部空間を有効に活用することにより、用地買収を最小にできるようにした駅前交通広場を構築する方法、及び、駅前交通広場を提供するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る駅前交通広場を構築する方法は、鉄道敷地上に設けられた鉄道レールをまたいで構築された高架状の駅舎と、前記駅舎前に面して構築された自由通路である連絡橋と、前記鉄道レールと交叉する一般道路と、が配置された区画に、駅前交通広場を構築する方法であって、一端が前記連絡橋に接続し、他端が前記一般道路に接続する連絡道路を構築し、前記連絡道路の前記一端及び前記連絡橋と同一レベルの高架デッキを前記鉄道敷地上に構築して、前記高架状の駅舎の前に駅前交通広場を設けることを特徴とする（請求項１）。また、本発明は、鉄道敷地をまたいで構築される高架状の駅舎を備えた鉄道駅の駅前交通広場であって、前記鉄道敷地上にあって前記駅舎と連設する人工地盤からなる駅前広場と、前記駅前広場と地上の一般道路とを連通する連絡道路とを備えたことを特徴とする（請求項２）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明においては、前記連絡道路はスロープ状であることが好ましく（請求項３）、前記鉄道敷地の両側または片側から前記駅舎に到達する階段またはエスカレータないしはエレベータ等の昇降機構を設けることが好ましい（請求項４）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、前記駅前広場は、前記駅舎と平面的に連接し同一レベルである方がよく（請求項５）、前記駅前広場は、前記駅舎側の歩行者用通路と、車両用通路とに区画されていることが好ましく（請求項６）、さらに、前記駅前広場または前記連絡道路の下方空間を駐輪場とすることが好ましい（請求項７）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月1日(2006.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源に対して相対的に移動可能な光学的周期構造を有するスケールと、前記光源から出射され前記スケールを経由した検出光により生成される周期的な明暗パターンを検出する光検出器とを有する光学式エンコーダに用いられる光検出器において、
前記光検出器は、前記明暗パターンにおける互いに位相の異なる少なくとも３つ以上の位相部分を検出する複数のホトディテクタ要素からなる１次元ホトディテクタアレイを含み、
前記１次元ホトディテクタアレイの一端に配置されるホトディテクタ要素の検出する位相部分と、前記１次元ホトディテクタアレイのもう一端に配置されるホトディテクタ要素の検出する位相部分とは、互いに１８０度位相が異なっていることを特徴とする光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項２】
前記１次元ホトディテクタアレイを構成する複数のホトディテクタ要素はそれぞれ、前記少なくとも３つ以上の位相部分を検出する少なくとも３つ以上のホトディテクタグループの何れか１つのグループに属しており、前記少なくとも３つ以上のホトディテクタグループのうち、あるホトディテクタグループに属するホトディテクタ要素の数が、他のホトディテクタグループに属するホトディテククタ要素の数と異なるような組合せが少なくとも１組存在することを特徴とする請求項１に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項３】
前記ホトディテクタグループの数は４つであり、前記４つのホトディテクタグループは前記明暗パターンにおける互いに９０度位相の異なる４つの位相部分を検出し、前記ホトディテクタグループにおける互いに１８０度位相の異なる２つのグループの出力は、これら２つの出力の差分を演算する演算回路に接続されていることを特徴とする請求項２に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項４】
前記ホトディテクタアレイは、前記明暗パターンを、少なくとも１５周期以上に渡って検出するように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項５】
前記４つのホトディテクタグループに属するホトディテクタ要素の数は、互いに１８０度異なる位相部分を検出するホトディテクタグループ毎に等しいことを特徴とする請求項３又は４に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項６】
前記４つのホトディテクタグループのうち、前記ホトディテクタアレイの端部に配置されるホトディテクタ要素が属するホトディテクタグループのホトディテクタ要素の数は、前記端部に配置されるホトディテクタ要素が属さないホトディテクタグループのホトディテクタ要素の数よりも１だけ多いことを特徴とする請求項３乃至５の何れか１つに記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項７】
前記ホトディテクタグループからの出力を演算して出力する際に、前記各ホトディテクタグループに属するホトディテクタ要素の数の違いによる出力の違いを補整する信号処理回路を更に有することを特徴とする前記請求項２乃至６の何れか１つに記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項８】
前記１次元ホトディテクタアレイの両端部および／または各ホトディテクタ要素間に、ホトディテクタアレイを構成するホトディテクタ要素と略同形の、ノイズ的キャリアを吸収するダミーホトディテクタを更に１つずつ配置することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１つに記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項９】
前記１次元ホトディテクタアレイの、同じ位相部分を検出するホトディテクタグループに属するホトディテクタ要素の数が等しく構成されており、前記１次元ホトディクタアレイの両端部および／または隙間に、ホトディテクタアレイを構成するホトディテクタ要素と略同形の、ノイズ的キャリアを吸収するダミーホトディテクタを更に配置することを特徴とする請求項１に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項１０】
前記１次元ホトディテクタアレイの、同じ位相部分を検出するホトディテクタグループの有するホトディテクタ要素の個数が、互いに等しく構成されていることを特徴とする請求項１又は８に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項１１】
前記ホトディテクタアレイは、ホトディテクタ要素が配置されていない領域が設けられていることを特徴とする請求項１乃至７及び１０の何れか１つに記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【請求項１２】
前記ホトディテクタアレイの、ホトディテクタ要素が配置されていない領域に、前記ホトディテクタ要素と同形の、信号検出に用いないダミーのホトディテクタが設けられていることを特徴とする請求項１１に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
（７）前記ホトディテクタグループからの出力を演算して出力する際に、前記各ホトディテクタグループに属するホトディテクタ要素の数の違いによる出力の違いを補整する信号処理回路を更に有することを特徴とする（２）乃至（６）の何れか１つに記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
これら（８）及び（９）の態様によれば、ダミーホトディテクタの効果により、１次元ホトディテクタの各ホトディテクタ要素へのノイズ的キャリアの流入を、より確実に抑えることが出来る。
（１０）前記１次元ホトディテクタアレイの、同じ位相部分を検出するホトディテクタグループの有するホトディテクタ要素の個数が、互いに等しく構成されていることを特徴とする（１）又は（８）に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
（１１）前記ホトディテクタアレイは、ホトディテクタ要素が配置されていない領域が設けられていることを特徴とする（１）乃至（７）及び（１０）の何れか１つに記載の光学式エンコーダ用光検出器。
（１２）前記ホトディテクタアレイの、ホトディテクタ要素が配置されていない領域に、前記ホトディテクタ要素と同形の、信号検出に用いないダミーのホトディテクタが設けられていることを特徴とする（１１）に記載の光学式エンコーダ用光検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月16日(2006.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮機本体、この圧縮機本体を駆動するモータ、及び補器類を有する複数台数の圧縮機と、負荷に応じて前記圧縮機の運転台数を制御する制御手段とを備えた圧縮機ユニットにおいて、
前記補器類のうちの吸気フィルタ、オイルセパレータ、オイルフィルタ及びオイルタンクを前記圧縮機ユニットの正面側に配置し、前記補器類のうちの圧縮空気及びオイルの冷却機器を前記モータの上方に配置し、前記制御手段を前記圧縮機ユニット側面側に配置したことを特徴とする圧縮機ユニット。
【請求項２】
前記制御手段は、負荷に応じて、前記複数台数の圧縮機のうちの１台のモータの回転数をインバータにより可変に制御するものであり、
この制御手段を前記圧縮機ユニットの一方の側面側に配置すると共に、前記インバータ制御を行う圧縮機を前記圧縮機ユニットの他方の側面側に配置したことを特徴とする請求項１記載の圧縮機ユニット。
【請求項３】
前記インバータによりモータの回転数を可変に制御する圧縮機と、前記複数台数の圧縮機のうちモータを一定回転数で運転する圧縮機とを１つにパッケージ化し、
前記インバータによりモータの回転数を可変に制御する圧縮機を前記圧縮機ユニット正面側及び側面側からメンテナンス可能な構成としたことを特徴とする請求項２記載の圧縮機ユニット。
【請求項４】
停止状態にある前記複数台数の圧縮機の少なくとも１つのモータを一定時間毎に強制的に起動する強制起動手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の圧縮機ユニット。
【請求項５】
停止状態にある前記複数台数の圧縮機の少なくとも１つのモータを一定時間毎に軸受損傷防止運転すると共に、この運転をスター結線による駆動のみで行う軸受損傷防止運転手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の圧縮機ユニット。
【請求項６】
前記圧縮空気及びオイルの冷却機器は前記圧縮機ユニット背面側にアフタークーラ及びオイルクーラを有しており、前記圧縮機ユニット背面側から取り込んだ冷却空気を前記アフタークーラ及びオイルクーラと熱交換させた後に前記圧縮機ユニット上方に排出することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の圧縮機ユニット。
【請求項７】
前記オイルタンクはオイル補給口を有しており、前記オイル補給口が前記圧縮機ユニット正面側を向くように配置されることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の圧縮機ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月18日(2005.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴孔を開閉するノズルニードルに閉弁方向の圧力を与える制御室と、弁体のシート位置に応じて上記制御室を低圧通路または高圧通路に選択的に導通させて上記制御室の圧力を増減する３方弁を備え、上記３方弁によって上記制御室の圧力を減ずることにより上記ノズルニードルを開弁させる燃料噴射弁において、
上記３方弁が、上記弁体が配設される弁室に、上記低圧通路および上記高圧通路にそれぞれ連通し上記弁体にて開閉される低圧ポートおよび高圧ポートを設けてなり、上記弁室と上記制御室とをメインオリフィスを介して連通させる一方、上記制御室と上記高圧通路とを上記３方弁を介さずに常時連通させるサブオリフィスを設け、
上記高圧通路は、上記サブオリフィスを介して上記制御室に連通するサブオリフィス流路と、上記高圧ポートに連通する流路とに分岐しており、
上記高圧ポートは、上記流路よりも絞られていることを特徴とする燃料噴射弁。
【請求項２】
上記サブオリフィスの径と上記メインオリフィスの径の比（サブオリフィス径／メインオリフィス径）を０．６〜１．２の範囲とした請求項１記載の燃料噴射弁。
【請求項３】
上記ノズルニードルを閉弁方向に付勢するスプリングを収容し上記高圧通路から高圧が導入されるスプリング室内に、上記ノズルニードルのヘッド部を配置して、該ヘッド部内に上記制御室を設け、上記制御室と上記３方弁を上記スプリング室を介さずに連通させる連通路を設けて、この連通路に上記メインオリフィスを形成するとともに、上記制御室と上記スプリング室を上記ヘッド部内に形成した上記サブオリフィスを介して連通させた請求項１または２記載の燃料噴射弁。
【請求項４】
上記ノズルニードルの上端部を上記制御室内に配置して、上記ノズルニードルの上端面に対向する上記制御室内壁に上記ノズルニードルのリフト量を規制するノズルニードルストッパを設けた請求項１または２記載の燃料噴射弁。
【請求項５】
上記ノズルニードルストッパのストッパ面に、上記弁室と上記制御室とを連通し途中に上記メインオリフィスを有する通路を開口させた請求項４記載の燃料噴射弁。
【請求項６】
上記通路の上記制御室への開口端部に上記メインオリフィスを形成した請求項５記載の燃料噴射弁。
【請求項７】
上記制御室と上記３方弁の弁室の間に、上記メインオリフィスが形成されるブロック状の流路形成部材を配置し、該流路形成部材を貫通して上記高圧通路を設けるとともに、上記サブオリフィスを含む流路および上記３方弁の高圧ポートを含む流路を設けて、上記流路形成部材内でこれら流路と上記高圧通路を連通路を介してそれぞれ接続し、かつ、これら流路と上記連通路および上記高圧通路と上記連通路とのなす角度をいずれも略直角ないしそれ以上の角度とした請求項１または２記載の燃料噴射弁。
【請求項８】
上記連通路が、上記流路形成部材の端面に形成した溝、または上記流路形成部材内に水平方向に形成した孔からなる請求項７記載の燃料噴射弁。
【請求項９】
上記流路形成部材の対向する端面にそれぞれ溝を形成して、その一方を、上記サブオリフィスを含む流路と上記高圧通路とを接続する連通路となすとともに、他方を、上記３方弁の高圧ポートを含む流路と上記高圧通路とを接続する連通路となし、かつこれら２つの連通路を上記高圧通路を挟んで互いに反対方向へ延びるように形成する請求項８記載の燃料噴射弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の請求項１の燃料噴射弁は、噴孔を開閉するノズルニードルに閉弁方向の圧力を与える制御室と、弁体のシート位置に応じて上記制御室を低圧通路または高圧通路に選択的に導通させて上記制御室の圧力を増減する３方弁を備えており、上記３方弁によって上記制御室の圧力を減ずると、上記ノズルニードルが開弁する。そして、上記３方弁を、上記弁体が配設される弁室に、上記低圧通路および上記高圧通路にそれぞれ連通する低圧ポートおよび高圧ポートを設けて、これらポートを上記弁体によって開閉する構成とし、上記弁室を、上記制御室とメインオリフィスを介して連通させるとともに、上記制御室を、上記高圧通路と上記３方弁を介さずに常時連通させるサブオリフィスを設け、上記高圧通路は、上記サブオリフィスを介して上記制御室に連通するサブオリフィス流路と、上記高圧ポートに連通する流路とに分岐しており、上記高圧ポートは、上記流路よりも絞られている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月14日(2006.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  密閉区画内で特定周波数の超音波エネルギーを発生する超音波発信機と、
密閉区画の外側に配置されたアーチに据え付けられた超音波受信機配列であって、前記特定周波数の超音波エネルギーを感知してそれに応じたアウトプット信号を発する複数個の超音波受信機配列と、
密閉区画がアーチを通過するにように、密閉区画とアーチとを相対的に動かす手段と、
密閉区画とアーチとが相対的に動いている間、超音波受信機のアウトプット信号を自動的にサンプリングし、且つサンプリングしたアウトプット信号を、密閉区画の密閉性が合格である時の超音波エネルギーレベルを基準とした閾値と対比して密閉区画の密閉性の合否を表示するところの信号処理装置、
を備えていることを特徴とするた密閉区画の密閉性の合否を自動的に表示する装置。
【請求項２】  前記した密閉区画とアーチとの相対的位置を検出する検出手段を備え、信号処理装置が、検出された相対的位置に調和させて超音波受信機のアウトプット信号をサンプリングする請求項１記載の装置。
【請求項３】  信号処理装置が、サンプリングした超音波受信機のアウトプット信号を蓄え、蓄えたアウトプット信号をデータアーカイブに送る手段を備えている請求項１又は請求項２記載の装置。
【請求項４】  サンプリングしたアウトプット信号がそれぞれの閾値の下位にある時は、信号処理装置が密閉区画の密閉性を合格と判定し、閾値の上位にある時は、信号処理装置が密閉区画の密閉性を不合格と判定する先行請求項のいずれかに記載の装置。
【請求項５】  信号処理装置が密閉区画の密閉性を不合格と判定した時に作動する視覚表示装置を備えた請求項４記載の装置。
【請求項６】  信号処理装置が、それぞれの閾値の上位にあるサンプリングアウトプット信号に対応する密閉区画のゾーンを同定し、密閉不良ゾーンが強調された同定ゾーン付きの密閉区画のイメージを提示するところの、信号処理装置によって作動される視覚表示装置を備えた請求項４又は請求項５記載の装置。
【請求項７】  アーチが装置に対して固定され、密閉区画とアーチを相対的に動かす装置が、固定アーチに対して密閉区画を動かす先行請求項のいずれかに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  入力信号を受信する信号入力（ＲＳＨＨ、ＲＳＨＬ、ＶＢＡＴ、ＥＴＳ、ＥＴＲ）と、チョッパ（４．１〜４．６）と、増幅器（５）と、ディジタル信号プロセッサ（９）と、出力信号を出力する信号出力（１０）とを具備し、
１つの入力信号をそれぞれ受信する複数の信号入力（ＲＳＨＨ、ＲＳＨＬ、ＶＢＡＴ、ＥＴＳ、ＥＴＲ）を有し、上記入力信号は共通基準電位（ＲＳＨＬ）を基準として測定され、その各信号入力（ＲＳＨＨ、ＲＳＨＬ、ＶＢＡＴ、ＥＴＳ、ＥＴＲ）の後段にそれぞれ１つのチョッパ（４．１〜４．５）が配置されていることを特徴とする、電流および電圧を測定する測定回路。
【請求項２】  測定される異なる２つの信号が上記増幅器（５）に交互に供給されるように２つの入力チャンネル（４．１、１１）間で自動的に切換える制御手段が設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の測定装置。
【請求項３】  上記増幅器（５）は電流信号（４．１）と電圧信号（１１）を交互に通過させるものであることを特徴とする、請求項２に記載の測定装置。
【請求項４】  温度を検出するための温度センサ（１４）が設けられており、この温度センサ（１４）の後段に上記チョッパ（４．６）が配置されていることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の測定回路。
【請求項５】  上記ディジタル信号プロセッサはディジタル復調器（９）を含み、上記増幅器（５）と復調器（９）の間にアナログ／ディジタル変換器（７，８）が配置されていることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載の測定装置。
【請求項６】  アナログ／ディジタル変換器（７、８）がプログラム可能な序数（８）を有するフィルタを含むことを特徴とする、請求項５に記載の測定回路。
【請求項７】  各別に付勢可能であり、少なくとも1つのマルチプレクサ手段（６、１３）によって上記増幅器（５）またはアナログ／ディジタル変換器（７、８）に接続可能である複数のチョッパ（４．１〜４．６）を有することを特徴とする、請求項１乃至６のいずれかに記載の測定回路。
【請求項８】  複数のチョッパ（４．２〜４．６）が電圧バス（１１）によって互いに接続されていることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれかに記載の測定回路。
【請求項９】  上記信号入力（ＲＳＨＨ−ＲＳＨＬ、ＶＢＡＴ−ＲＳＨＬ、ＥＴＳ−ＲＳＨＬ、ＥＴＲ−ＲＳＨＬ、ＶＢＡＴ−ＥＴＳ）とチョッパ（４．１〜４．６）の間、および／または上記チョッパ（４．１〜４．５）と上記増幅器（５）の間、および／または上記増幅器（５）と復調器（９）の間、および／または復調器（９）と信号出力の間に双極性配線ラインが設けられていることを特徴とする、請求項１乃至８のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１０】  上記増幅器（５）の後段にシグマ−デルタ変調器（７）が配置されていることを特徴とする、請求項１乃至９のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１１】  上記信号入力の中の少なくとも１つ（ＲＳＨＨ、ＲＳＨＬ）に接続可能である制御可能な第１の電流源（１５．１、１５．２）が設けられていることを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１２】  外部のセンサを付勢するために、出力（ＥＴＲ、ＥＴＳ、およびＶＢＡＴ）の中の少なくとも１つに切換え可能である制御可能な第２の電流源（１８）が設けられていることを特徴とする、請求項１乃至１１のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１３】  上記増幅器（５）の利得が調整可能であることを特徴とする、請求項１乃至１２のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１４】  上記チョッパ（４．１〜４．６）が５ｋＨｚ〜５０ｋＨｚの範囲の周波数で動作することを特徴とする、請求項１乃至１３のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１５】  上記チョッパ（４．１〜４．６）が２０ｋＨｚの周波数で動作することを特徴とする、請求項１４に記載の測定回路。
【請求項１６】  測定回路（１）の少なくとも１つの動作パラメータを調整するためのディジタル・インタフェース（１０）が設けられていることを特徴とする、請求項１乃至１５のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１７】  調整可能な動作パラメータが基準電圧の絶対値および／または温度係数であることを特徴とする、請求項１６に記載の測定回路。
【請求項１８】  クロック信号を内部で発生させるためのオシレータおよび／またはタイマが設けられていることを特徴とする、請求項１乃至１７のいずれかに記載の測定回路。
【請求項１９】  上記チョッパ（４．１〜４．６）、上記増幅器（５）、上記ディジタル信号プロセッサ（９）、マルチプレクサ（６、１３）、および／またはアナログ／ディジタル変換器（７、８）が、消費電力を低減させるために遮断可能であることを特徴とする、請求項１乃至９のいずれかに記載の測定回路。
【請求項２０】  測定回路が所定の時間間隔で測定を行い、所定の閾値を超えたか否かを検査し、超えたときに必要があれば外部の装置を付勢する動作モードを含むことを特徴とする、請求項１乃至１９のいずれかに記載の測定回路。
【請求項２１】  集積回路を含むことを特徴とする、請求項１乃至２０のいずれかに記載の測定回路。
【請求項２２】  上記信号入力の中の少なくとも１つ（ＲＳＨＨ）に接続された測定抵抗（Ｒｓｈ）を含み、上記集積回路が上記測定抵抗（Ｒｓｈ）上に設置されていることを特徴とする、請求項２１に記載の測定回路。