【手続補正書】
【提出日】平成18年2月17日(2006.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  冷却対象に冷媒を供給する冷媒供給装置であって、
前記冷却対象に冷媒としての純水を供給する冷媒供給経路と、
前記冷媒供給経路と別の経路である不純物除去経路に配置された不純物除去ユニットと、
を備えることを特徴とする冷媒供給装置。
【請求項２】  純水を貯留する純水タンクを更に備え、
前記冷媒供給経路の上流側は、前記純水タンクに接続されており、
前記不純物除去経路は、前記純水タンクを通して純水を循環させることを特徴とする請求項１に記載の冷媒供給装置。
【請求項３】  前記純水タンクの下部は、テーパ形状を有することを特徴とする請求項２に記載の冷媒供給装置。
【請求項４】  前記純水タンク内に不活性ガスを供給することにより純水中の溶存酸素を除去する酸素除去機構を更に備えることを特徴とする請求項２又は請求項３のいずれか１項に記載の冷媒供給装置。
【請求項５】  前記酸素除去機構は、前記純水タンク内の純水中に不活性ガスを供給するように構成されていることを特徴とする請求項４に記載の冷媒供給装置。
【請求項６】  前記不純物除去ユニットは、イオン交換樹脂、活性炭、ろ過膜、逆浸透膜、蒸留装置、脱気膜の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の冷媒供給装置。
【請求項７】  純水を殺菌する殺菌灯を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の冷媒供給装置。
【請求項８】  純水の純度を測定するセンサと、
純水の純度が所定基準を満たさない場合に前記冷却対象に対する純水の供給を停止するためのバブルと、
を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の冷媒供給装置。
【請求項９】  前記冷媒供給経路に設けられた第１ポンプと、
前記不純物除去経路に設けられた第２ポンプと、
を更に備え、前記第１ポンプ及び前記第２ポンプは、独立して制御され、前記第１ポンプは、純水の純度が所定基準を満たさない場合に停止され、前記第２ポンプは、純水の純度が所定の基準を満たした場合に停止されること
を特徴とする請求項８に記載の冷媒供給装置。
【請求項１０】  前記センサは、比抵抗センサを含むことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の冷媒供給装置。
【請求項１１】  前記センサは、溶存酸素センサを含むことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の冷媒供給装置。
【請求項１２】  純水の温度を調整する温調ユニットを更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか１項に記載の冷媒供給装置。
【請求項１３】  請求項１乃至請求項１２のいずれか１項に記載の冷媒供給装置を冷却装置の一部として備えることを特徴とするデバイス製造装置。
【請求項１４】  請求項１乃至請求項１２のいずれか１項に記載の冷媒供給装置を冷却装置の一部として備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１５】  デバイス製造装置であって、
発熱する駆動部と、
前記駆動部を冷却する冷却部に冷媒としての純水を供給するための冷媒供給経路と、
前記冷媒供給経路に配置された純水の純度を測定するセンサと、
前記センサで測定された純水の純度に基づいて前記冷却部に対する純水の供給を制御するコントローラと、
を備えることを特徴とするデバイス製造装置。
【請求項１６】  前記コントローラは、純水の純度が所定の基準を満たさない場合に前記冷却部に対する純水の供給を停止するように構成されていることを特徴とする請求項１５に記載のデバイス製造装置。
【請求項１７】  前記センサは、比抵抗センサを含むことを特徴とする請求項１５又は請求項１６に記載のデバイス製造装置。
【請求項１８】  前記センサは、溶存酸素センサを含むことを特徴とする請求項１５乃至請求項１７のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項１９】  純水中の不純物を除去する不純物除去ユニットを更に備えることを特徴とする請求項１５乃至請求項１８のいずれか１項にデバイス製造装置。
【請求項２０】  前記不純物除去ユニットは、前記冷媒供給経路と別の経路である不純物除去経路に配置されていることを特徴とする請求項１９に記載のデバイス製造装置。
【請求項２１】  前記冷媒供給経路に設けられた第１ポンプと、
前記不純物除去経路に設けられた第２ポンプと、
を更に備え、前記第１ポンプ及び前記第２ポンプは、独立して制御され、前記第１ポンプは、純水の純度が所定基準を満たさない場合に停止され、前記第２ポンプは純水の純度が所定の基準を満たした場合に停止されること
を特徴とする請求項２０に記載のデバイス製造装置。
【請求項２２】  前記不純物除去ユニットは、前記冷媒除去経路の分路中に配置されていることを特徴とする請求項１９に記載のデバイス製造装置。
【請求項２３】  前記不純物除去ユニットは、イオン交換樹脂、活性炭、ろ過膜、逆浸透膜、蒸留装置、脱気膜の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１９乃至請求項２２のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項２４】  純水を殺菌する殺菌灯を更に備えることを特徴とする請求項１５乃至請求項２３のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項２５】  純水を貯留する純水タンクを更に備え、前記冷媒供給経路の上流側は、前記純水タンクに接続されていることを特徴とする請求項１５乃至請求項２４のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項２６】  前記純水タンクの下部は、テーパ形状を有することを特徴とする請求項２５に記載のデバイス製造装置。
【請求項２７】  前記純水タンク内に不活性ガスを供給することにより純水中の溶存酸素を除去する酸素除去機構を更に備えることを特徴とする請求項１５乃至請求項２６のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項２８】  前記酸素除去機構は、前記純水タンク内の純水中に不活性ガスを供給するように構成されていることを特徴とする請求項２７に記載のデバイス製造装置。
【請求項２９】  純水の温度を調整する温調ユニットを更に備えることを特徴とする請求項１５乃至請求項２８のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項３０】  露光装置として構成されていることを特徴とする請求項１５乃至請求項２９のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項３１】  請求項１５乃至請求項３０のいずれか１項に記載のデバイス製造装置を用いて基板を処理する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３２】  請求項３０に記載のデバイス製造装置により基板にパターンを転写する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
水は、長時間放置することにより腐敗し、金属などを腐食してしまう。また、電気絶縁性がない為、電子機器等の短絡(ショート)の原因となる。そこで、本発明の好適な実施の形態では、一般的な水道水や工業用水ではなく、純水を冷却媒体として使用する。純水の純度（水質）は、不純物除去ユニットにより高められうる。冷却対象（例えば、リニアモータ等の駆動部）に対する純水の供給は、純水が所定の純度を有しない場合にはコントローラ（例えば、バルブ及びその制御装置）により停止されうる。純水の純度は、例えば、比抵抗及び／又は溶存酸素量としてセンサにより測定されうる。ここで、純水の純度は、例えば、比抵抗で１ＭΩ・ｃｍ以上であること、及び／又は、溶存酸素量が１リットル当たり１ｍｇ以下であることが好ましい。純水の純度（水質）を管理することにより、金属などに対する腐食性を防ぎ、また、電気絶縁性を確保することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
このように、この純水供給装置１００では、溶存酸素値、比抵抗値のいずれかがそれぞれの規定値（例えば、容存酸素値が１リットル当たり１ｍｇ以下、比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上）を満たさない場合には、純水供給装置１００内で純水を循環させ、溶存酸素値、比抵抗値が規定値を満たすようになってから、露光装置に純水を供給する。ここで、純水供給装置１００内で純水を循環させることにより、純水の水温も管理することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
このように、この純水供給装置２００では、溶存酸素値、比抵抗値のいずれかがそれぞれの規定値（例えば、容存酸素値が１リットル当たり１ｍｇ以下、比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上）を満たさない場合には、純水供給装置２００内で純水を循環させ、溶存酸素値、比抵抗値が規定値を満たすようになってから、露光装置に純水を供給する。ここで、純水供給装置２００内で純水を循環させることにより、純水の水温も管理することができる。