【事件の表示】
　平成６年特許願第１８１１８５号「エッチング用材料の前処理方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成８年２月１３日出願公開、特開平８−４１６５６、請求項の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯及び本願発明
　本願は平成６年８月２日の出願であって、平成１２年１月１１日付けで拒絶理由の通知がなされ、これに対して、平成１２年３月３１日に請求人（出願人）より手続補正書が提出されて明細書が補正され、その後、平成１２年５月８日付けで、先の拒絶の理由により拒絶査定され、これに対して、平成１２年６月２９日に審判請求がなされると共に、同日付けで手続補正書が提出されて明細書が補正されたものである。
　そして、その請求項１及び２に係る発明は、上記平成１２年６月２９日提出の手続補正書によって補正された明細書（以下、単に「明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載されたとおりの、次のものと認める。
「【請求項１】リードフレーム用材料に感光性レジストを塗布する前に、クロム酸とリン酸との混合液を用いて酸化皮膜を形成することを特徴とするリードフレーム用材料の前処理方法において、上記クロム酸とリン酸との混合液の組成が、クロム酸濃度１０〜８０ｇ／ｌ、リン酸濃度４０〜１００ｇ／ｌであることを特徴とするリードフレーム用材料の前処理方法。
【請求項２】上記クロム酸とリン酸との混合液を、常温〜５０℃、処理時間３０〜１２０秒で用いることを特徴とする請求項１に記載のリードフレーム用材料の前処理方法。」
　　
II．通知した拒絶理由、及び拒絶査定の概要
　本願の審査においては、上記の平成１２年１月１１日付けの拒絶理由通知において、刊行物１〜６を提示して、
「この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。」と、拒絶の理由が通知され、続いて、
「この出願については、平成１２年１月１１日付け拒絶理由通知書に記載した理由によって、拒絶査定する。なお、意見書及び手続補正書の内容を検討したが、拒絶理由を覆すに足りる根拠が見いだせない。」として、上記の拒絶の査定がなされたものである。
　　
III．引用例の記載事実
　上記原査定の拒絶の理由において、刊行物１〜６として引用された下記引用例１〜６（上記刊行物１〜６に対応する。）には、以下の記載がなされている。
引用例１（特開平３−２０４８３号公報）
(1-1)「（１）チタン板のフォトレジスト処理に際して、予めチタン板の表面にクロメート水溶液を塗布してから水洗することなく乾燥して皮膜を形成させた後に、フォトレジスト塗料を塗布して焼き付けることを特徴とするエッチング加工性の優れたチタンのフォトレジスト処理方法。
（２）クロメート水溶液は、６価クロムイオン、３価クロムイオンを含有し、さらにシリカまたは有機高分子樹脂の少なくとも一方を含有する組成であることを特徴とする請求項１記載のエッチング加工性の優れたチタンのフォトレジスト処理方法。」（特許請求の範囲）
(1-2)「かかるクロメート水溶液は６価クロムイオン、３価クロムイオンを含有し、さらにシリカまたは有機高分子樹脂の少なくとも一方を含有する組成とする。」（第２頁右下欄第４〜７行）
(1-3)「３価クロムイオン／６価クロムイオンの重量比及びシリカ／全クロムイオンの重量比が、１／１００未満、又有機高分子樹脂／全クロムイオンの重量比が１／２０未満になると・・・・フッ化水素酸のエッチングでレジスト塗料が剥離してしまう。」（第３頁左上欄第１３〜１９行）
　　
引用例２（特開平２−１４３５８５号公報）
(2-1)「（１）電解処理、または無電解処理により銅めっきを施し銅箔を備えた樹脂板又は銅箔張積層板の銅箔表面に化成処理皮膜を形成させてからレジスト膜を形成させることを特徴とするプリント配線基板の製造方法。
（２）化成処理皮膜がリン酸塩皮膜もしくはクロメート皮膜又は酸化銅皮膜である請求項（１）記載のプリント配線基板の製造方法。」（特許請求の範囲第１、２項）
(2-2)「前記クロメート皮膜は・・・クロム酸を主成分とし、フッ酸又はその複合塩を含む処理液に銅被覆板を浸漬又はスプレー処理して、その表面にクロメ−トの皮膜を形成させるものである。」（第４頁右下欄第８〜１３行）
　　
引用例３（特開昭５５−１２２８７６号公報）
(3-1)「１鋼材の表面に化学薬品より成るエッチング液でエッチング処理を施す前に、鋼材を酸化液に浸漬して鋼材の表面に酸化被膜を形成させた後、この酸化皮膜の上にレジストインキを所定の模様に塗布、乾燥してレジストインキの皮膜を形成させる前処理を施すことを特徴とするエッチング前処理方法。
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５　酸化液に酸性酸化液を使用する特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか１項に記載のエッチング前処理方法。
６　酸性酸化液にクロム酸と硫酸との混合液を使用する特許請求の範囲第５項に記載のエッチング前処理方法。」（特許請求の範囲第１、５、６項）
(3-2)「本発明方法においては・・・・鋼材２の表面に酸化皮膜６を形成させるのであるが、その方法はステンレス鋼の表面を着色するのに通常行なわれている化学着色法によって行なうのであり、この化学着色法にはアルカリ酸化法、酸性酸化法なとがあり、酸化液より成る着色液中にステンレス鋼を浸漬すると表面に酸化皮膜が形成されこの酸化皮膜は皮膜の厚さによって色調が異なるので形成される酸化皮膜の厚みを調整することによって種々の色調に着色することができ、この方法はステンレス鋼を含めて鉄系合金鋼を着色するのに実施されており、最も一般的に行なわれているのが着色液にクロム酸と硫酸との混合水溶液を使用して酸化皮膜を形成させる方法である。」（第３頁左上欄第１７行〜右上欄第１０行）
　　
引用例４（特開平４−１９１３９６号公報）
(4-1)「（１）電着塗装下地皮膜として、アルミニウム又はアルミニウム合金の表面に反応型クロメート皮膜を・・・形成させ、更にその皮膜表面にシリカゾルが有機高分子樹脂１重量部に対し０.２〜１.２重量部含有するシリカゾル有機高分子樹脂混合物を乾燥皮膜として・・・形成させたことを特徴とする電着塗装下地皮膜形成方法。
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（３）クロメート皮膜を形成させる処理液がクロム酸・・・、リン酸・・・及びフッ化水素酸・・・を主成分とする水溶液である請求項（１）または（２）の電着塗装下地皮膜形成方法。」（特許請求の範囲１、３項）
(4-2)「本発明は・・・・プレス成型等により加工される前に、あらかじめアルミ板材の表面をクロム酸、リン酸または硝酸、フッ化水素酸の３種類の酸を必須成分として含む水溶液にてクロメート処理を行ったのち・・・により複合皮膜を形成させる方法に関するものである。」（第２頁右下欄第４〜２０行）
(4-3)「本クロメート皮膜形成のために使用されるクロメート処理剤について具体的に説明すると、例えばクロム酸として０.４〜１０ｇ／ｌ、リン酸として１.５〜５０ｇ／ｌ、フッ化水素酸として０.０５〜５ｇ／ｌの３種類の酸又はこれに更に硝酸０.１〜１０ｇ／ｌを含む水溶液もしくは、クロム酸として０.４〜１０g／ｌ、硝酸として０.１〜１０g／ｌ、フッ化水素酸として０.０５〜５g／ｌの３種類の酸を含む水溶液等が挙げられる。」（第３頁左上欄第１３行〜右上欄第１行）
　　
引用例５（特開昭６０−２２８６８４号公報）
(5-1)「非晶質磁性鋼帯にリン酸塩処理および／またはクロム酸塩処理の表面処理を行い、・・・・絶縁皮膜を付着させたのち、酸化性雰囲気中にて焼鈍することを特徴とする非晶質磁性鋼帯の焼鈍方法。」（特許請求の範囲）
(5-2)「本発明は、トランス用鉄心やモーター用鉄心などに用いられる磁性材料としての非晶質磁性鋼帯の焼鈍方法に関するもので、特に、絶縁皮膜処理を施した非晶質磁性鋼帯の焼鈍方法に関するものである。」（第１頁左下欄第１１〜１５行）
(5-3)「クロム酸塩処理液は無水クロム酸又はクロム酸塩を主成分とした水溶液で、亜鉛、アルミニューム等の金属イオン、有機還元剤、フッ素化合物を若干含むことも可能である。さらにリン酸塩−クロム酸塩処理液は、無水クロム酸又はクロム酸塩及びリン酸及びリン酸の金属化合物を主成分とし、有機環元剤及びフッ素化合物を若干含む処理液で、水溶性の金属塩、ＳｉＯ２ゾル、Ａｌ２Ｏ３ゾルの添加も可能である。なお、本発明に分けるリン酸塩−クロム酸塩処理とは、リン酸塩処理とクロム酸塩処理を同時に行うものであり、得られる皮膜はリン酸塩皮膜とクロム酸塩皮膜の混合被膜である。」（第２頁左下欄第１３行〜右下欄第５行）
　　
引用例６（特開昭５９−２０４７５号公報）
(6-1)「冷延鋼板の表面に平均表面粗度Ｒzが５〜２５μである凹凸を形成して表面を粗化した後クロメ−ト処理を施してクロメート系皮膜を形成し、その皮膜中の全クロム量を１０〜１００mg／m２にすることを特徴とする冷延鋼板の塗装前処理方法。」（特許請求の範囲）
(6-2)具体例における「塗装前処理条件」において、「処理の種類」として、「クロム酸」、「塗布型クロメート」、「電解クロメート」、「リン酸亜鉛＋クロム酸シーリング」が用いられたこと。（第３頁第１表）
　　
IV．対比、判断
（１）請求項１に係る発明について
　請求項１に係る発明（以下「本願発明１」という。）と、引用例１に記載された発明とを対比すると、引用例１には、「チタン板のフォトレジスト処理に際して、予めチタン板の表面にクロメート水溶液を塗布して・・・皮膜を形成させた後に、フォトレジスト塗料を塗布して焼き付ける・・・エッチング加工性の優れたチタンのフォトレジスト処理方法」（摘記1-1）に係る発明が記載されており、上記の「フォトレジスト」は、本願発明１で言う「感光性レジスト」と一致していると認められる。一方、本願発明１では、レジストの適用対象がリードフレーム用材料であるのに対して、引用例１の記載では「チタン板」（摘記1-1）であって、リードフレームに係る記載は見当たらず、本願発明１における混合液は「クロム酸とリン酸との混合液」であるのに対して、引用例１の記載では「クロメート水溶液」（摘記1-1）であって、クロム酸を含有したものと認めることができるものの、「クロム酸とリン酸との混合液」であることの記載は見当たらず、なおかつ、当該混合液の濃度組成について、「クロム酸濃度１０〜８０ｇ／ｌ、リン酸濃度４０〜１００ｇ／ｌ」とすることの記載は見当たらず、また、引用例１には、本願発明１の構成である「酸化皮膜を形成する」ことの記載は見当たらない。
　してみれば、本願発明１は、引用例１に記載された発明と、「材料に感光性レジストを塗布する前に、クロム酸を含有する水溶液を用いて処理することを特徴とする材料の前処理方法」の点で一致し、そして、（イ）：本願発明１では、レジストの適用対象が「リードフレーム用材料」であるのに対して、引用例１に記載された発明では、「チタン板」である点、（ロ）：本願発明１における処理液は「クロム酸とリン酸との混合液」であるのに対して、甲第１号証の記載では「クロメート処理液」である点、（ハ）：前記（ロ）の点に関して、本願発明１では、前記「クロム酸とリン酸との混合液」における濃度組成について、「クロム酸濃度１０〜８０ｇ／ｌ、リン酸濃度４０〜１００ｇ／ｌ」と規定されているのに対して、引用例１にはその記載がない点、及び（ニ）：本願発明１では、「酸化皮膜を形成する」としているのに対して、引用例１にはその記載がない点、の各点で、本願発明１は、引用例１に記載された発明と相違している。
　そこで、これら相違点（イ）〜（ニ）について、以下、検討する。
　　
相違点（ロ）及び（ハ）について
　引用例１に記載された上記の「クロメート水溶液」について、引用例１の記載をさらに検討すると、引用例１には、このクロメート水溶液については、「６価クロムイオン、３価クロムイオンを含有し、さらにシリカまたは有機高分子樹脂の少なくとも一方を含有する組成」（摘記1-1、1-2）のものであり、また、引用例１におけるその他の記載を見ても、「クロム酸とリン酸との混合液」とすることの記載は見当たらず、そして、当該混合液を前提として、「クロム酸濃度１０〜８０ｇ／ｌ、リン酸濃度４０〜１００ｇ／ｌ」の濃度組成とすることの記載は見当たらない。
　引用例２には、銅めっきを施し銅箔を備えた樹脂板又は銅箔張積層板の銅箔表面に化成処理皮膜を形成させてからレジスト膜を形成させるプリント配線基板の製造方法に係る発明が記載され（摘記2-1）、併せて、化成処理皮膜がクロメート皮膜であること（摘記2-1）、及び、前記クロメート皮膜は、クロム酸を主成分とし、フッ酸又はその複合塩を含む処理液を用いて形成させるものであること（摘記2-2）が記載されており、また、引用例３には、鋼材の表面に化学薬品より成るエッチング液でエッチング処理を施す前に、鋼材を酸化液に浸漬して鋼材の表面に酸化被膜を形成させた後、この酸化皮膜の上にレジストインキを所定の模様に塗布、乾燥してレジストインキの皮膜を形成させる前処理を施すエッチング前処理方法の発明が記載されており、併せて、前記の酸化液として酸性酸化液を使用し、また、その酸性酸化液として、クロム酸と硫酸との混合液を使用することが記載されている（以上、摘記3-1）。これら引用例２及び３に記載のものは、いずれもレジスト形成の前処理である点で、本願発明１と軌を一にするものではあるが、これら引用例２及び３には、引用例１と同様、本願発明１の構成である「クロム酸とリン酸との混合液」を用いることの記載は見当たらず、また、その混合液について、「クロム酸濃度１０〜８０ｇ／ｌ、リン酸濃度４０〜１００ｇ／ｌ」の濃度組成とすることの記載は見当たらない。
　そこで、上記拒絶の理由（及び、同拒絶の理由を引用した原拒絶査定）において、「クロム酸とリン酸との混合液を用いることは、引用例４〜６・・・記載のように周知のクロメート処理方法である」として引用した、当該引用例４〜６について、以下検討する。
　引用例４には、電着塗装下地皮膜として、アルミニウム又はアルミニウム合金の表面に反応型クロメート皮膜を形成させ、更にその皮膜表面にシリカゾルが有機高分子樹脂１重量部に対し０.２〜１.２重量部含有するシリカゾル有機高分子樹脂混合物を乾燥皮膜として形成させる電着塗装下地皮膜形成方法に係る発明が記載され（摘記4-1）、併せて、クロメート皮膜を形成させる処理液がクロム酸、リン酸及びフッ化水素酸を主成分とする水溶液であることが記載されているが（摘記4-1〜4-3）、当該引用例４には、本願発明１の構成である「クロム酸とリン酸との混合液」の記載はなく、なおかつ、リードフレーム用材料及び感光性レジストに係る記載も見当たらない。
　引用例５には、非晶質磁性鋼帯にリン酸塩処理および／またはクロム酸塩処理の表面処理を行い、絶縁皮膜を付着させたのち、酸化性雰囲気中にて焼鈍する非晶質磁性鋼帯の焼鈍方法に係る発明が記載され（摘記5-1）、併せて、クロム酸塩処理液は無水クロム酸又はクロム酸塩を主成分とした水溶液で、亜鉛、アルミニューム等の金属イオン、有機還元剤、フッ素化合物を若干含むことも可能であること、リン酸塩−クロム酸塩処理液は、無水クロム酸又はクロム酸塩及びリン酸及びリン酸の金属化合物を主成分とし、有機環元剤及びフッ素化合物を若干含む処理液で、水溶性の金属塩、ＳｉＯ２ゾル、Ａｌ２Ｏ３ゾルの添加も可能であること、当該発明に分けるリン酸塩−クロム酸塩処理とは、リン酸塩処理とクロム酸塩処理を同時に行うものであり、得られる皮膜はリン酸塩皮膜とクロム酸塩皮膜の混合被膜であることが記載されている（摘記5-2）。この記載からすると、上記の「リン酸塩−クロム酸塩処理液」としては、無水クロム酸とリン酸とを主成分とする処理液が、文言上の組合せとして記載されていると言える。しかし、引用例５には、そのように特定の成分を選択して組合わせた処理液、その特定の組合せとすべき必然性、及び、当該「主成分」以外の上記他の第三成分を含まない処理液とした場合についての具体的な記載は見当たらず、したがって、この引用例５には、本願発明１に係る「クロム酸とリン酸との混合液」については、事実上記載されていると言うことはできない。なおかつ、当該引用例５に記載のものは、リードフレーム用材料の前処理方法に係る本願発明１とは、技術分野が相違する非晶質磁性鋼帯の焼鈍方法に係るものであり、感光性レジストとの相互関係についても開示するところはない。
　引用例６には、冷延鋼板の表面に平均表面粗度Ｒzが５〜２５μである凹凸を形成して表面を粗化した後クロメ−ト処理を施してクロメート系皮膜を形成し、その皮膜中の全クロム量を１０〜１００mg／m２にする冷延鋼板の塗装前処理方法に係る発明が記載されており（摘記6-1）、併せて、具体的処理において、「クロム酸」、「塗布型クロメート」、「電解クロメート」、「リン酸亜鉛＋クロム酸シーリング」が用いられたことが記載されている（摘記6-2）。しかし、引用例６のこの記載からは、引用例６に、本願発明１の構成である「クロム酸とリン酸との混合液」が記載されていると言うことはできず、なおかつ、その技術分野についても、本願発明１とは相違する冷延鋼板の塗装前処理方法に係るものであり、リードフレーム用材料及び感光性レジストに係る記載は見当たらない。
　そして、本願発明１は、当該相違点（ロ）及び（ハ）に係る構成要件を含む前記認定のとおりの構成を具備することにより、「表面に均一に薄い酸化皮膜を形成することができ、感光レジストの密着性が向上し、リードフレーム用材料の寸法精度を格段に向上することができる。」（段落【0024】）という、本願明細書に記載され、そして各引用例に記載のない効果を奏したものと認めることができる。
　以上のとおりであるから、上記相違点（イ）及び（ニ）について改めて検討するまでもなく、本願発明１は、引用例１〜６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明とすることはできない。
　　
（２）請求項２に係る発明について
　請求項２に係る発明（以下「本願発明２」という。）は、請求項１を引用してさらに温度及び処理時間に係る前処理条件を限定して特定した発明であるので、上記「（１）請求項１に係る発明について」の欄で本願発明１について記載したと同様、本願発明２は、引用例１〜６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明とすることはできない。
　　
Ｖ．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１及び２は、引用例１〜６に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできず、したがって、原査定の理由によっては本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。