(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体製造工程で発生する廃棄ガスを移動速度を早く排出させた廃棄ガス排出装置の提供。【解決手段】流入部材２の案内環鍔部と拡管部との間に、吸気口と通じる噴出溝が形成され、拡管部の外周面と流入部材の内周面との間に噴出溝と通じる高圧ガス室が形成されるように、流入部材に結合される排出部材と、上記排出部材の上部に嵌め込まれて結合され、内周面に10〜12個の案内溝が9〜11゜の傾斜度を有するように縦方向で傾くように形成された延長部材６と、上記排出部材の外部に離間されるように設置されて加熱室を形成する外部カバーと、上記加熱室内に設置される電熱装置と、上記電熱装置の温度を制御する温度感知部と、上記加熱室の外部カバーの外部に設置され、複数個の打孔９０を持つ保護カバー９と、上記保護カバー及び外部カバーの上、下部を閉塞するように設置される上、下部閉塞板を含んで成る。【選択図】図1
0003127647.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
両端部が開口され、側面に複数個の吸気口が形成され、内周面に固定鍔と案内環鍔部が形成された流入部材と、
両端部が開口され、外周面に上記固定鍔に支持される支持鍔が形成され、下端には外側に向かう拡管部が形成されることで、上記流入部材の案内環鍔部と上記拡管部との間に、上記吸気口と通じる噴出溝が形成され、上記拡管部の外周面と流入部材の内周面との間に噴出溝と通じる高圧ガス室が形成されるように流入部材に結合される排出部材と、
上記排出部材の上部に嵌め込まれて結合され、内周面に10〜12個の案内溝が9゜〜11゜の傾斜度を有するように縦方向で傾くように形成された延長部材と、
上記排出部材の外部に離間して設置されて加熱室を形成する外部カバーと、
上記加熱室内に設置されて内側に加熱コイルがグォンフェドエン収納筒体で構成された電熱装置と、
上記電熱装置の温度を制御する温度感知部と、
上記加熱室の外部カバーの外部に設置されて複数個の打孔を有する保護カバーと、
上記保護カバー及び外部カバーの上、下部を閉塞するように設置される上、下部閉塞板と、を含んでなることを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項２】
第1項において、
上記流入部材は、内周面に10〜12個の案内溝が9゜〜11゜の傾斜度を有するように縦方向に傾くように形成されたことを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項３】
第1項または第2項において、
上記流入部材の下端開口部と隣接された内周面には内側に向けた隆起部が形成され、上記隆起部からつながって上記案内環鍔部まで急に外側に向かうようにした傾斜部が形成されたことを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項４】
第3項において、
上記電熱装置の収納筒体は上、下部が開口され、下端には端鍔が形成されたことを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項５】
第4項において、
上記流入部材の案内溝は、直線形であることを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項６】
第4項において、
上記流入部材の案内溝は、湾曲形であることを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項７】
第4項において、
上記延長部材の案内溝は直線形であることを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【請求項８】
第4項において、
上記延長部材の案内溝は湾曲形であることを特徴とする廃棄ガス排出装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は廃棄ガス排出装置に関し、半導体またはLCD製造装置から発生する非反応副産物による真空配管及び排気配管内部の未反応副産物累積を最小化することができる廃棄ガス排出装置に関する。
【０００２】
一般的に、LCD製造及び半導体製造工程は大きく前工程(Fabrication工程)と後工程(Assembly工程)からなり、前工程とは、各種プロセスチェンバー(Chamber)内で基板上に薄膜を蒸着し、蒸着された薄膜を選択的に蝕刻する過程を繰り返して遂行し、特定のパターンを加工することにより、いわゆる、チップ(Chip)を製造する工程を言い、後工程とは、上記の前工程で製造されたチップを個別的に分離した後、リードフレームと結合して完製品で組立てる工程を言う。
【背景技術】
【０００３】
この際、上記基板上に薄膜を蒸着するか、基板上に蒸着された薄膜を蝕刻する工程は、プロセスチェンバー内で、シラン(Silane)、アルシン(Arsine)及び塩化ホウ素などの有害ガスと水素などのプロセスガスを用いて高温で遂行され、上記工程が進行される間、プロセスチェンバー内部には各種発火性ガスと腐食性異物及び有毒成分を含んだ有害ガス(以下‘廃棄ガス’という)などが多量発生するようになる。
【０００４】
従って、LCD及び半導体製造装備には、プロセスチェンバーを真空状態にする真空ポンプの後端に、上記プロセスチェンバーから排出される廃棄ガスを浄化させた後、大気に放出するスクラバー(Scrubber)を設置する。
【０００５】
しかし、上記プロセスチェンバーから排出される廃棄ガスすなわち、未反応副産物は大気と接触するか周辺の温度が低ければ固形化されてパウダーに変わることになるが、上記パウダーは排気ラインに固着されて、排気圧力を上昇させると共に真空ポンプに流入される場合、真空ポンプの故障を誘発し、廃棄ガスの逆流をもたらしてプロセスチェンバー内にある基板を汚染させるとの問題点があった。
【０００６】
このような問題を解決するための方案であって、廃棄ガスを迅速に排出させるための多様な形態の廃棄ガス排出装置が提案されている。
上述した廃棄ガス排出装置の先行技術として大韓民国登録実用新案20-0275417号が開始されている。
【０００７】
しかし、上述した従来廃棄ガス排出装置は、廃棄ガスの排出力が弱くて比較的短い距離までしか廃棄ガスの排出駆動力が作用しないので、真空ポンプからガススクラバーまでの距離が遠い場合、一定距離毎に、このような排出装置をいくつも設置しなければならないし、これに比例してシステム設備に所要される費用が増加されるとの問題点があった。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００８】
本考案は上述した従来技術の問題点を解決するため案出されたもので、半導体製造工程で発生される廃棄ガスを捕集して排出させるが、移動速度を早く増加させることで、もっと遠い距離まで排出することができ、これによって、より少ない排出装置にでも十分な排出効果を発現することができるので、廃棄ガス排出システムを構築するに所要の設置費用を減らすことができるようにした廃棄ガス排出装置を提供するにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した目的を果たすため、本考案は、
両端部が開口され、側面に複数個の吸気口が形成され、内周面に固定鍔と案内環鍔部が形成された流入部材と、両端部が開口され、外周面に上記固定鍔に支持される支持鍔が形成され、下端には外側に向かう拡管部が形成されることで、上記流入部材の案内環鍔部と上記拡管部との間に、上記吸気口と通じる噴出溝が形成され、上記拡管部の外周面と流入部材の内周面との間に噴出溝と通じる高圧ガス室が形成されるように、流入部材に結合される排出部材と、上記排出部材の上部に嵌め込まれて結合され、内周面に10〜12個の案内溝が9゜〜11゜の傾斜度を有するように縦方向に傾斜して形成された延長部材と、上記排出部材の外部に離間して設置されて加熱室を形成する外部カバーと、上記加熱室内に設置される電熱装置と、上記電熱装置の温度を制御する温度感知部と、上記加熱室の外部カバーの外部に設置され、複数個の打孔を有する保護カバー及び上記保護カバー及び外部カバーの上、下部を閉塞するように設置される上、下部閉塞板を含んでなることを特徴とする。
【００１０】
また、本考案の廃棄ガス排出装置において、上記流入部材は内周面に10〜12個の案内溝が9゜〜11゜の傾斜度を有するように、縦方向に傾くように形成されることを特徴とする。
【００１１】
また、本考案の廃棄ガス排出装置において、上記流入部材の下端開口部と隣接された内周面には内側に向けた隆起部が形成され、上記隆起部からつながって、上記案内環鍔部まで急に外側に向かうようにした傾斜部が形成されることを特徴とする。
【００１２】
また、本考案の廃棄ガス排出装置において、上記流入部材の案内溝は直線形であることを特徴とする。
【００１３】
また、本考案の廃棄ガス排出装置において、上記流入部材の案内溝は湾曲形であることを特徴とする。
【００１４】
また、本考案の廃棄ガス排出装置において、上記延長部材の案内溝は直線形であることを特徴とする。
【００１５】
また、本考案の廃棄ガス排出装置において、上記延長部材の案内溝は湾曲形であることを特徴とする。
【考案の効果】
【００１６】
上述したように、本考案の廃棄ガス排出装置によると、廃棄ガスを捕集して排出させるが、移動速度を早く増加させることで、もっと遠い距離まで排出することができて、より少ない装置にでも十分な排出効果を発現することができるので、廃棄ガス排出システムを構築するに所要される設置費用を減らすことができる効果を発現する。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本考案の望ましい実施の形態を添付した図面に基づいて詳細に説明すれば次のようである。
【００１８】
添付した図1は、本考案に係る廃棄ガス排出装置に対する結合された斜視図であり、図2は、本考案に係る廃棄ガス排出装置に対する分解斜視図であり、図3は、本考案に係る廃棄ガス排出装置に対する断面図である。
【００１９】
本考案を説明するにおいて、同一の構成に対しては、同一符号を付けて、重複される説明は省略することにし、廃棄ガスの移動方向を基準として流入側を下部とし、排出側を上部とする。
【００２０】
図1ないし図3に示したように、本考案に係る廃棄ガス排出装置Aは、廃棄ガスが流入される流入部材2と、上記流入部材2の上部に結合されて、廃棄ガスの排出を案内する排出部材4と、上記排出部材4の上部に結合され、廃棄ガスを排出させる延長部材6と、上記排出部材4の外側に設置された外部と、上記外部カバー8の内側に設けられた電熱装置5と、上記外部カバー8の外側に設けられた保護カバー9と、から構成される。
【００２１】
上記流入部材2は、図2及び図3に示したように、上下部が開口された管体形態であって、下端には所定の環鍔が形成されていて、上部の外面には後述される下部閉塞板14が結合される所定の支持鍔231が形成され、上記支持鍔231の上部側壁には吸気孔27が複数形成される。
【００２２】
また、上記流入部材2の内側には、上記支持鍔231が対応される内周面に案内環鍔部25が形成され、下端開口部と隣接した内周面には内側に向けた隆起部23が形成され、上記隆起部23からつながって、上記案内環鍔部25まで急に外側に向かうようにした傾斜部24が形成される。
【００２３】
また、図3に示したように、上記案内環鍔部25の下部は、内側上方に向かうように緩慢な傾斜面256が形成される。
【００２４】
上記案内環鍔部25の内周面の上部には、後述される排出部材4が支持されるように所定の固定鍔26が形成され、上記固定鍔26の周辺には、密閉のためのO-リング42が介在されることで、排出部材4の外面と密着されるようにする。
【００２５】
また、上記流入部材2の内周面には、10〜12個の直線形の案内溝22が9゜〜11゜の傾斜度を有するように、縦方向に傾くように形成される。
【００２６】
上記排出部材4は、上下部が開口された管体形状であって、上記流入部材2の上部側内部に嵌め込まれて結合されるように、外周面に上記流入部材2の固定鍔26に支持される支持鍔(不図示)が形成される。
【００２７】
上記排出部材4の下端には外側に拡開された拡管部44が更に形成されることで、流入部材2と排出部材4が結合された時、上記拡管部44の先端と上記流入部材2の案内環鍔部25との間に、所定の噴出溝16が形成されることができ、上記噴出溝16に通じる高圧ガス室18が形成されることができる。
【００２８】
上記延長部材6は上、下部が開口された筒体形状であって、前述した排出部材4の上部に嵌め込まれて結合され廃棄ガスを遠い距離まで排出させる役目をする。
【００２９】
すなわち、上記延長部材6は、下部に上記排出部材4の上端外側に結合される結合部62が形成され、内周面には10〜12個の直線形になった案内溝64が9゜〜11゜の傾斜度を有するように、縦方向に傾くように形成される。
【００３０】
上記外部カバー8は上、下部が開口された円筒形状であって、前述した排出部材4の外側に挿入されて離間して設置される。
【００３１】
従って、上記外部カバー8と排出部材4との間に形成された空間すなわち、加熱室82に電熱装置5が更に設置されることで、上記加熱室82に流入された窒素ガスN2に対する加熱作業を遂行することができる。
【００３２】
上記電熱装置5は、図3に示したように、熱効率がすぐれた銅パイプ52の内に熱線(不図示)を挿入して、電源の印加により発熱される加熱コイル54が適当であり、以外にも発熱のための装置であれば、いずれのものを使っても構わない。
【００３３】
上記加熱コイル54は、収納筒体56の内に設置されるが、上記収納筒体56は上、下部が開口された円筒体であり、上記収納筒体56の下端には、所定の端鍔562が形成されることで、上記収納筒体56の内壁に加熱コイル54が巻かれて配置される時、上記端鍔562によって加熱コイル54が支持されるようにすることで垂れる現状を防止することができる。
【００３４】
上記加熱室82には、電熱装置5の温度を感知して適正な温度に維持するための温度感知部7が更に設置されるが、望ましくは後述される保護カバー9の通孔94を介して挿入されて設置される。
【００３５】
上記外部カバー8の外側には、やけど事故を防止するため、保護カバー9が設置されるが、上記保護カバー9は上、下部が開口された円筒形状であり、上記外部カバー8より直径がもっと大きく形成されることで、外部カバー8と離間するように設置される。
【００３６】
上記保護カバー9には、複数個の打孔90が形成されることで、発熱を図り、空気による冷却が可能である。
【００３７】
また、上記保護カバー9には、前述した電熱装置5の銅パイプ52が挿入される通孔92と、上記温度感知部7が設置される通孔94と、窒素ガスが流入される通孔96が更に形成されている。
【００３８】
上記上部閉塞板12は、図2及び図3に示したように、中心部に前述した延長部材6が貫通されるように通孔120が形成され、複数個のボルト締結孔122が形成された円板であって、上記延長部材6の外側に嵌め込まれて結合された後、前述した排出部材4及び外部カバー8、保護カバー9の上端部に結合される。
【００３９】
上記下部閉塞板14は、前述した上部閉塞板12と同一の直径を有し、中心部に流入部材2が貫通される通孔140が形成され、複数個のボルト締付け孔142が形成された円板状であって、上記流入部材2の外側に嵌め込まれて結合された後、前述した排出部材4及び外部カバー8、保護カバー9の下端部に結合される。
【００４０】
従って、所定長さを有するボルト100を上部閉塞板12のボルト締結孔122に挿入した後、上記ボルト100の末端が下部閉塞板14のボルト締付け孔142に締結することで、上記上部閉塞板12と下部閉塞板14が固定設置されることができる。
【００４１】
このように構成された本考案の作動関係を説明すると次のようである。
本考案の廃棄ガス排出装置Aは、真空ポンプ(不図示)とガススクラバー(不図示)との間に設置されるが、これに対しては、公知された技術事項であるので詳細な説明は省略する。
【００４２】
窒素ガス(N2)が前述した流入部材2の吸気孔27を通じて加熱室82に流入されると、上記電熱装置5によって加熱される。このように加熱された窒素ガスは更に上記流入部材2の吸気孔27を通じて上記高圧ガス室18と噴出溝16を順次に通過して上記排出部材4に流入される。
【００４３】
この際、上記排出部材4に流入された窒素ガスは、前述した拡管部44によって案内されて排出されるが、上記拡管部44を通しながら、流速が早くなるので、これによって、流入部材2内部の圧力が外部の圧力より低くなり、吸入力が発生される。
【００４４】
従って、上記排出部材4に噴出された窒素ガスの流れによって発生された吸入力によって、上記流入部材2から廃棄ガスが流入されて窒素ガスと混合するようになる。
【００４５】
この際、上記流入された廃棄ガスは、前述した高温の窒素ガスによって冷却されず、一定の温度に維持されるので、埃の積もり又は固形化が防止されて、パウダーが形成される弊害を防止することができる。
【００４６】
特に、上記流入部材2の内周面に形成された案内溝22が多数傾斜しているので、流入された廃棄ガスは、上記案内溝22に乗って移動しながら回転力が得られて、早い速度で上記排出部材4に移動されることができる。
【００４７】
以後、上記排出部材4に移送された窒素ガスと廃棄ガスは、前述した延長部材6を通過して外部に排出されるが、上記延長部材6の内周面に傾くように形成された多数の案内溝64を通過しながら回転力が発生されて、更に早い速度で噴出されることができて、従来よりずっと遠い距離まで噴出されることができる。
【００４８】
従って、前述したように、廃棄ガスは流入部材2を通過しながら発生された回転力によって、瞬間移動速度が早くなり、上記排出部材4を通過した後、延長部材6を通しながら、移動速度が更に早くなる。
【００４９】
以上本考案者によってなされた考案を、上記の実施の形態によって具体的に説明したが、本考案は上記実施の形態に限定されるのではなく、その要旨を外れない範囲で様々に変更可能なことは勿論である。
【００５０】
すなわち、前述した実施の形態では、流入部材2及び延長部材6に形成された案内溝(22、64)は直線形で説明したが、必ずこれに限定されず、上記案内溝(22、64)の他の実施の形態として湾曲した形状で形成することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本考案に係る廃棄ガス排出装置に対する結合された斜視図である。
【図２】本考案に係る廃棄ガス排出装置に対する分解斜視図である。
【図３】本考案に係る廃棄ガス排出装置に対する断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
2：流入部材
4：排出部材
6：延長部材
7：温度感知部
8：外部カバー
9：保護カバー
22：案内溝
23：隆起部
24：傾斜部
25：案内環鍔部
44：拡管部
64：案内溝
【図１】
0003127647.tif 000003
【図２】
0003127647.tif 000004
【図３】
0003127647.tif 000005