【手続補正書】
【提出日】平成18年5月19日(2006.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リソグラフィのための照明システム及び投影露光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  リソグラフィのための照明システムであって、
少なくとも１つの光源（１）を有し、
少なくとも１つの第１のミラーを有し、該少なくとも１つの第１のミラーは多数の第１のラスタエレメントに分割されており、
１つ又は複数の光学エレメントを有し、該１つ又は複数の光学エレメントは、多数の第１のラスタエレメント（５）に分割されている少なくとも１つの第１のミラーとレチクル面（１４、３１６、４０６）との間に配置されている、リソグラフィのための照明システムにおいて、
第１のミラーの多数の第１のラスタエレメント（５）又は第１のミラーに入射するビームペンシルが多数の部分ペンシルに分解され、第１の偏向角度で偏向され、第１の偏向角度は少なくとも２つの部分ペンシルとは異なっており、第１のラスタエレメントはミラーであり、それぞれの第１のラスタエレメントの第１の偏向角度はそれぞれの第１のラスタエレメントの傾斜角度によって決定される、リソグラフィのための照明システム。
【請求項２】  各第１のラスタエレメントは２次光源を発生し、
第１のラスタエレメントに割り当てられる部分光ペンシルは２次光源の方向に偏向されることを特徴とする請求項１記載の照明システム。
【請求項３】  照明システムは集光ミラー（３００、４０２）を含むことを特徴とする請求項１又は２記載の照明システム。
【請求項４】  集光ミラーは集光作用を有することを特徴とする請求項３記載の照明システム。
【請求項５】  第１のラスタエレメントはプレート（１００）上に行列状に配置されていることを特徴とする請求項１〜４までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項６】  隣接する行に配置されたラスタエレメントは互いにシフトされていることを特徴とする請求項５記載の照明システム。
【請求項７】  １つの光学エレメント又は複数の光学エレメントは多数の第２のラスタエレメント（９）を有する第２のミラーを含むことを特徴とする請求項１〜６までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項８】  各第１のラスタエレメント（５）は各第２のラスタエレメント（９）に対応し、第１のラスタエレメントにより偏向された部分光ペンシルは対応する第２のラスタエレメントの方向に偏向され、この結果、光路は第１と第２のラスタエレメントの間に形成されることを特徴とする請求項７記載の照明システム。
【請求項９】  ラスタエレメントの像は不鮮明にレチクル面に結像されることを特徴とする請求項１から８までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項１０】  第１のラスタエレメント（５）はこれらが互いに交差しないように第１のミラーに配置されることを特徴とする請求項１〜９までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項１１】  ２次光源の像が照明システムの射出瞳を所定のパターンによって照明するように、第２のラスタエレメント（９）は第２のミラーに配置されることを特徴とする請求項１〜１０までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項１２】  第１及び第２のラスタエレメントを互いに傾斜させることによって、第１のラスタエレメントと対応する第２のラスタエレメントの間に光路が構成されることを特徴とする請求項１〜１１までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項１３】  第１のラスタエレメントがレチクル面に結像され、第１のラスタエレメントの像が大きく重畳することを特徴とする請求項１〜１２までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項１４】  第２のラスタエレメントは第１のラスタエレメントから入射する部分光ペンシルを第２の偏向角度によって偏向し、この結果、レチクル面に結像される第１のラスタエレメントの像は大きく重畳することを特徴とする請求項１〜１３までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項１５】  リソグラフィのための照明システムであって、
少なくとも１つの光源（１）を有し、
少なくとも１つの第１のミラーを有し、該少なくとも１つの第１のミラーは多数の第１のラスタエレメントに分割されており、
１つ又は複数の光学エレメントを有し、該１つ又は複数の光学エレメントは、多数の第１のラスタエレメント（５）に分割されている少なくとも１つのミラーとレチクル面（１４、３１６、４０６）との間に配置されている、リソグラフィのための照明システムにおいて、
第１のミラーの多数の第１のラスタエレメント（５）又はミラーに入射するビームペンシルが多数の部分ペンシルに分解され、それぞれ第１の偏向角度で偏向され、それぞれの第１の偏向角度は少なくとも２つの部分ペンシルとは異なっており、第１のラスタエレメントはミラーであり、第１のラスタエレメントのそれぞれの第１の偏向角度は第１のラスタエレメントの傾斜角度によって決定され、１つの光学エレメント又は複数の光学エレメントは多数の第２のラスタエレメント（９）を有する第２のミラーを含み、第２のラスタエレメントはミラーである、リソグラフィのための照明システム。
【請求項１６】  各第１のラスタエレメントは２次光源を発生し、
各第１のラスタエレメントに割り当てられる部分光ペンシルは２次光源の方向に偏向されることを特徴とする請求項１５記載の照明システム。
【請求項１７】  照明システムは集光ミラー（３００、４０２）を含むことを特徴とする請求項１５又は１６記載の照明システム。
【請求項１８】  集光ミラーは集光作用を有することを特徴とする請求項１〜１７のうちの１項記載の照明システム。
【請求項１９】  第１のラスタエレメントはプレート（１００）上に行列状に配置されていることを特徴とする請求項１５〜１８までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２０】  隣接する行に配置されたラスタエレメントは互いにシフトされていることを特徴とする請求項１９記載の照明システム。
【請求項２１】  各第１のラスタエレメント（５）は各第２のラスタエレメント（９）に対応し、第１のラスタエレメントにより偏向された部分光ペンシルは対応する第２のラスタエレメントの方向に偏向され、この結果、光路は第１と第２のラスタエレメントの間に形成されることを特徴とする請求項１５〜２０のうちの１項記載の照明システム。
【請求項２２】  ラスタエレメントの像は不鮮明にレチクル面に結像されることを特徴とする請求項１５から２１までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２３】  第１のラスタエレメント（５）はこれらが互いに交差しないように第１のミラーに配置されることを特徴とする請求項１５〜２２までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２４】  ２次光源の像が照明システムの射出瞳を所定のパターンによって照明するように、第２のラスタエレメント（９）は第２のミラーに配置されることを特徴とする請求項１５〜２３までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２５】  第１及び第２のラスタエレメントを互いに傾斜させることによって、第１のラスタエレメントと対応する第２のラスタエレメントの間に光路が構成されることを特徴とする請求項１５〜２４までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２６】  第１のラスタエレメントがレチクル面に結像され、第１のラスタエレメントの像が大きく重畳することを特徴とする請求項１５〜２５までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２７】  第２のラスタエレメントは第１のラスタエレメントから入射する部分光ペンシルを第２の偏向角度によって偏向し、この結果、レチクル面に結像される第１のラスタエレメントの像は大きく重畳することを特徴とする請求項１５〜２６までのうちの１項記載の照明システム。
【請求項２８】  リソグラフィのための照明システムにおいて、
該照明システムは少なくとも１つの第１の光源及び第２の光源を含み、該第２の光源は波長≦１９３ｎｍを有するビームを放射することを特徴とする、リソグラフィのための照明システム。
【請求項２９】  照明システムは光学エレメント（１００）を含み、第１の光源は光学エレメントの第１の領域（Ａ１）を照明し、第２の光源は光学エレメントの第２の領域（Ａ２）を照明することを特徴とする請求項２８記載の照明システム。
【請求項３０】  光学エレメント（１００）は第１のラスタエレメントを有する第１のミラーであることを特徴とする請求項２８又は２９記載の照明システム。
【請求項３１】  リソグラフィのための照明システムであって、
少なくとも１つの光源（１）を有し、
少なくとも１つの第１のミラー又は第１のレンズを有し、該少なくとも１つの第１のミラー又は第１のレンズは多数の第１のラスタエレメント（５）に分割されている、リソグラフィのための照明システムにおいて、
第１のラスタエレメントは形状を有し、第１のラスタエレメントの形状は実質的にレチクル面において照明されるフィールドの形状を決定し、第１のラスタエレメントはミラーであることを特徴とする、リソグラフィのための照明システム。
【請求項３２】  光源は波長≦１９３ｎｍ、とりわけＥＵＶ領域の波長を放射することを特徴とする請求項３１項記載の照明システム。
【請求項３３】  レチクル面のフィールドの形状は実質的に環状フィールドの形状であることを特徴とする請求項３１又は３２記載の照明システム。
【請求項３４】  第１のラスタエレメントの形状は実質的に矩形状であることを特徴とする請求項３１〜３３までのうちの少なくとも１項記載の照明システム。
【請求項３５】  照明システムはさらに第２のミラー又は第２のレンスを含み、該第２のミラー又は第２のレンズは第２のラスタエレメント（９）に分割されており、該第２のラスタエレメントはミラーであることを特徴とする請求項３１〜３４までのうちの少なくとも１項記載の照明システム。
【請求項３６】  照明システムは少なくとも１つのフィールドミラーを含み、該少なくとも１つのフィールドミラーはレチクル面において環状フィールドを形成することを特徴とする請求項３１〜３５までのうちの少なくとも１項記載の照明システム。
【請求項３７】  第１のラスタエレメントは第２のラスタエレメント及び少なくとも１つのフィールドミラーによってレチクル面に結像され、
第１のラスタエレメントの像はレチクル面において実質的に重畳することを特徴とする請求項３６記載の照明システム。
【請求項３８】  実質的に矩形の形状を有する第１のラスタエレメントは、アスペクト比を有することを特徴とする請求項３４〜３７までのうちの少なくとも１項記載の照明システム。
【請求項３９】  アスペクト比は１：１と１：２０との間にあることを特徴とする請求項３８記載の照明システム。
【請求項４０】  少なくとも１つのフィールドミラーはトロイド形状を有し、断面は円錐形状の及び非球面状の部分をも有しうることを特徴とする請求項３４〜３９までのうちの少なくとも１項記載の照明システム。
【請求項４１】  請求項１〜４０までのうちの少なくとも１項記載の照明システムを有し、
担体システムにマスクを有し、
投影対物レンズを有し、
前記担体システムに感光性のオブジェクトを有する、マイクロリソグラフィのための投影露光装置。
【請求項４２】  スキャニングシステムとして構成される請求項４１記載の投影露光装置。
【請求項４３】  感光性のオブジェクトにおける照明強度は、構造なしのマスクの場合には±５％より小さい、有利には±２％より小さい、位置に依存する差異を有することを特徴とする請求項４１又は４２記載の投影露光装置。
【請求項４４】  感光性のオブジェクトにおけるスキャンエネルギは、構造なしのマスクの場合には±５％より小さい、有利には±２％より小さい、位置に依存しない差異を有することを特徴とする請求項４１〜４３までのうちの１項記載の投影露光装置。
【請求項４５】  投影露光装置はＥＵＶ投影露光装置であり、該ＥＵＶ投影露光装置はＥＵＶ透過性バキュームウィンドウが光源からレチクル面までのビーム路に配置されていることを特徴とする請求項４１〜４４までのうちの１項記載の投影露光装置。
【請求項４６】  バキュームウィンドウが照明システムにおける光束の狭さく部（Einschnuerung）に配置されていることを特徴とする請求項４５記載の投影露光装置。
【請求項４７】  マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、該投影露光装置は光源を有し、
照明システムを有し、該照明システムは以下のものを含む、すなわち、
レチクル面を含み、
多数の第１のラスタエレメントを有するミラー装置を含み、前記多数の第１のラスタエレメントはミラーとして形成されており、光源から光を受け取り、
少なくとも１つのフィールドミラーを含み、該少なくとも１つのフィールドミラーは光を第１のラスタエレメントから受け取り、環状フィールドを形成し、
投影対物レンズを含む、マイクロリソグラフィのための投影露光装置において、
主ビームは投影対物レンズへと発散されてゆくことを特徴とする、マイクロリソグラフィのための投影露光装置。
【請求項４８】  レチクル面にはマスクが配置されていることを特徴とする、請求項４７記載の投影露光装置。
【請求項４９】  請求項４１〜４８までのうちの１項記載の投影露光装置を有するマイクロエレクトロニクス的な構成要素、とりわけ半導体チップを製造するための方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リソグラフィのための照明システムであって、少なくとも１つの光源を有し、少なくとも１つの第１のミラーを有し、この少なくとも１つの第１のミラーは多数の第１のラスタエレメントに分割されており、１つ又は複数の光学エレメントを有し、この１つ又は複数の光学エレメントは、多数の第１のラスタエレメントに分割されている少なくとも１つの第１のミラーとレチクル面との間に配置されている、リソグラフィのための照明システムに関し、さらにマイクロリソグラフィのための投影露光装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、上位概念記載のリソグラフィのための照明システムにおいて、第１のミラーの多数の第１のラスタエレメント又は第１のミラーに入射するビームペンシルが多数の部分ペンシルに分解され、第１の偏向角度で偏向され、第１の偏向角度は少なくとも２つの部分ペンシルとは異なっており、第１のラスタエレメントはミラーであり、それぞれの第１のラスタエレメントの第１の偏向角度はそれぞれの第１のラスタエレメントの傾斜角度によって決定されることによって解決され、
投影露光装置において、本発明の上記照明システムを有し、担体システムにマスクを有し、投影対物レンズを有し、担体システムに感光性のオブジェクトを有することによって解決される。