【手続補正書】
【提出日】平成18年8月18日(2006.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１５００以上の分子量及び１０℃以上の軟化温度を有する固体ポリマー状ホスフェートの製造方法であって、
ａ．オキシハロゲン化リンをモノヒドロキシ芳香族化合物と反応させてモノアリールジハロホスフェートを形成する段階、
ｂ．残留オキシハロゲン化リンを実質的にすべて除去する段階、
ｃ．モノアリールジハロホスフェート生成物をジヒドロキシ芳香族化合物と反応させる段階、及び
ｄ．段階（ｃ）の生成物をモノヒドロキシ芳香族化合物と反応させる段階
を含んでなり、
かくして生成したポリマーが線状構造を有する固体であって、リン結合ハロゲンが１０ｐｐｍ未満である、方法。
【請求項２】
前記オキシハロゲン化リンがオキシ塩化リンである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記オキシ塩化リンとモノヒドロキシ芳香族化合物の反応の温度が１００〜２００℃である、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記モノヒドロキシ芳香族化合物が１種以上の置換又は非置換フェニル化合物である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記モノヒドロキシ芳香族化合物がフェノールである、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記ジヒドロキシ芳香族化合物が構造ＨＯ−Ｄ−ＯＨを有し、Ｄが次式の構造を有する二価芳香族基である、請求項１記載の方法。
【化１】
2004131715.tif 000001
式中、Ａ1は芳香族基であり、Ｅは１以上のアルキレン、アルキリデン、環式脂肪族基、含イオウ結合、含リン結合、エーテル結合、カルボニル基、第三窒素基又はケイ素含有結合であり、Ｒ1は水素又は一価炭化水素基であり、Ｙ1は水素、一価炭化水素基、アルケニル、アリル、ハロゲン、臭素、塩素、ニトロ及びＯＲからなる群から選択され、Ｒは一価炭化水素基であり、「ｍ」は零からＡ1上で置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｐ」は零からＥ上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｔ」は１以上の整数を表し、「ｓ」は０又は１であり、「ｕ」は０を含めた整数を表す。
【請求項７】
前記ジヒドロキシ芳香族化合物が、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ1-3アルキル−置換レゾルシノール、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ブタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−スルフィド、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−ブタン、３，３−ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス−（３，５−ジメチルフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−スルフィド、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、及び２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオールからなる群から選択される１種以上である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
ジヒドロキシ芳香族化合物がビスフェノールＡである、請求項７記載の方法。
【請求項９】
段階（ｃ）の反応を１種以上の酸受容体の存在下で実施する、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記酸受容体が１種以上の第三アミンである、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記第三アミンが、トリエチルアミン、ジメチルブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、アルカノールアミン、エタノールアミン及びジエタノールアミンから選択される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
段階（ｃ）の反応を溶媒中で実施する、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記溶媒が、エーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン、ケトン、アセトン、メチルエチルケトン、塩素化炭化水素、塩化メチレン、トリクロロエチレン、アルコール及びジオールからなる群から選択される、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
段階（ｃ）の反応を触媒の存在下で実施する、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記触媒が塩化アルミニウム及び塩化マグネシウムから選択される、請求項１２記載の方法。
【請求項１６】
段階（ｃ）の反応をメルト中で実施する、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
請求項１記載の方法で製造された固体ポリマー状ホスフェートを含む難燃性樹脂組成物。
【請求項１８】
前記樹脂が、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、縮合ポリマー及び付加ポリマーからなる群から選択される、請求項１７記載の樹脂組成物。
【請求項１９】
前記樹脂が熱可塑性樹脂である、請求項１８記載の樹脂組成物。
【請求項２０】
前記熱可塑性樹脂が、ポリエステル、ポリカーボネート、ビスフェノールＡポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレン、アクリロニトリル含有ポリマー、ポリアリーレンエーテル、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）及びこれらの組合せからなる群から選択され、固体ポリマー状ホスフェートが１〜３０重量％の量で当該樹脂組成物中に存在する、請求項１９記載の樹脂組成物。
【請求項２１】
前記固体ポリマー状ホスフェートが、樹脂組成物の加工温度で表面移行を示さない、請求項２０記載の樹脂組成物。
【請求項２２】
１５００以上の分子量及び１０℃以上の軟化温度を有するポリマー状ホスフェート系難燃剤の製造方法であって、
ａ．オキシ塩化リンを次式のモノヒドロキシ芳香族化合物と反応させる段階、
【化２】
2004131715.tif 000002
（式中、ＲはＣ1〜Ｃ30アルキル、塩素及び臭素から選択される。）
ｂ．残留オキシ塩化リンを実質的にすべて除去する段階、
ｃ．モノアリールジクロロホスフェート生成物をジヒドロキシ芳香族化合物と反応させる段階、及び
ｄ．段階（ｃ）の生成物をフェノールと反応させる段階
を含んでなり、
かくして生成したポリマーが線状構造を有する固体であって、リン結合ハロゲンが１０ｐｐｍ未満である、方法。
【請求項２３】
前記モノヒドロキシ芳香族化合物がフェノールである、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記オキシ塩化リンとフェノールの反応の温度が１００〜２００℃である、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
前記ジヒドロキシ芳香族化合物が次式の１種以上の化合物である、請求項２２記載の方法。
【化３】
2004131715.tif 000003
式中、各Ｒは独立に水素、塩素、臭素又はＣ1-30一価炭化水素もしくは炭化水素オキシ基であり、Ｒg及びＲhは独立に水素又はＣ1-30一価炭化水素基である。
【請求項２６】
段階（ｃ）の反応を、第三アミンである１種以上の酸受容体の存在下で実施する、請求項２２記載の方法。
【請求項２７】
前記第三アミンが、ジメチルブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、アルカノールアミン、エタノールアミン及びジエタノールアミンから選択される、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
段階（ｃ）の反応を溶媒中で実施する、請求項２２記載の方法。
【請求項２９】
前記溶媒が、エーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン、ケトン、アセトン、メチルエチルケトン、塩素化炭化水素、塩化メチレン、トリクロロエチレン、アルコール及びジオールからなる群から選択される、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
段階（ｃ）の反応を、塩化アルミニウム及び塩化マグネシウムから選択される触媒の存在下、メルト中で実施する、請求項２２記載の方法。
【請求項３１】
前記ポリマーが次式を有する、請求項２２記載の方法。
【化４】
2004131715.tif 000004
式中、ｎは２以上の整数であり、Ａｒはモノヒドロキシ芳香族化合物に由来する残基である。
【請求項３２】
前記モノヒドロキシ芳香族化合物がフェノールである、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
請求項２２記載の方法で製造された固体ポリマーを含んでなる難燃性熱可塑性樹脂組成物。
【請求項３４】
請求項３２記載の方法で製造された固体ポリマー状ホスフェートを含んでなる熱可塑性樹脂組成物であって、熱可塑性樹脂がポリエステル、ポリカーボネート、ビスフェノールＡポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレン、アクリロニトリル含有ポリマー、ポリアリーレンエーテル、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）及びこれらの組合せからなる群から選択され、上記固体ポリマー状ホスフェートが当該樹脂組成物中に１〜３０重量％の量で存在する組成物。
【請求項３５】
前記樹脂がポリ（エチレンテレフタレート）である、請求項３４記載の熱可塑性樹脂組成物。
【請求項３６】
前記固体ポリマー状ホスフェートが、樹脂組成物の加工温度で表面移行を示さない、請求項３５記載の樹脂組成物。