【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、
前記被検出体を光学的にフーリエ変換した面及び前記フーリエ変換した面と共役な面のうち光線有効径が最も大きい面以外の面の近傍に、圧力の異なる２つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
前記光学素子は、前記光線有効径が最も大きい面以外の面の前記被検出体側で最も近接した光学部材と、前記光線有効径が最も大きい面以外の面の前記被検出体側と反対側で最も近接した光学部材との間に配置されていることを特徴とする請求項１記載の位置検出装置。
【請求項３】
前記光学素子は、前記光線有効径が最も大きい面以外の面に配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の位置検出装置。
【請求項４】
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、
前記被検出体を光学的にフーリエ変換した面及び前記フーリエ変換した面と共役な面のうち光線有効径が最も小さい面の近傍に、圧力の異なる２つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置。
【請求項５】
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、
前記被検出体を光学的にフーリエ変換した第１の面及び前記フーリエ変換した面と共役な第２の面のうち光線有効径が最も小さい面の近傍に、圧力の異なる２つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置。
【請求項６】
前記光学素子は、前記光線有効径が最も小さい面の前記被検出体側で最も近接した光学部材と、前記光線有効径が最も小さい面の前記被検出体側と反対側で最も近接した光学部材との間に配置されていることを特徴とする請求項４又は５記載の位置検出装置。
【請求項７】
前記光学素子は、前記光線有効径が最も小さい面に配置されていることを特徴とする請求項４乃至６のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項８】
前記被検出体と実質的に共役な位置に配置された検出部を有することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項９】
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、
前記被検出体からの光を受光する検出部を有し、
前記検出部の前記被検出体側で最も近接した光学部材と前記検出部との間に、圧力の異なる２つの空間を隔離する光学素子を配置したことを特徴とする位置検出装置。
【請求項１０】
被検出体の位置を光を用いて検出する位置検出装置であって、
圧力の異なる２つの空間を隔てる光学素子を備え、前記圧力の違う２つの空間を隔てる光学素子から発生する光学的変化を補正する補正手段を備えることを特徴とする位置検出装置。
【請求項１１】
前記光学素子は、前記光を透過することを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項１２】
前記光学素子は、平行平板であることを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項１３】
前記光学素子は、屈折力を有するレンズであることを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項１４】
前記光学素子の変形に起因する光学的変化を補正する補正手段を更に有することを特徴とする請求項１１乃至１３のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項１５】
前記補正手段は、前記光の波長に対する位置ずれを補正する断面楔形状の光学素子であることを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項１６】
前記補正手段は、前記被検出体の像面において光軸と垂直な面内での位置ずれを補正する平行平板であることを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項１７】
前記補正手段は、前記被検出体の像面に配置された前記検出部を駆動し、前記像面において光軸と垂直な面内での位置ずれを補正することを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項１８】
前記補正手段は、前記光学素子の変形に起因する光学的変化を同等の敏感度で生じる位置に配置されると共にコマ収差を補正する補正部材であることを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項１９】
前記補正手段は、前記光学素子の変形に起因する光学的変化を同等の敏感度で生じる位置に配置されると共に球面収差を補正する補正部材であることを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項２０】
前記補正手段は、光学的な倍率を演算処理によって補正する処理部であることを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項２１】
前記補正手段は、前記被検出体の像面に配置された前記検出部を駆動し、フォーカス位置のずれを補正することを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項２２】
前記補正手段は、前記被検出体を駆動し、フォーカスの位置ずれを補正することを特徴とする請求項１４記載の位置検出装置。
【請求項２３】
第１の空間と前記第１の空間の圧力とは異なる圧力を有する第２の空間とに跨いで配置され、前記第１の空間に配置された被検出体の位置を光を用いて前記第２の空間に配置された検出部を用いて検出する位置検出装置であって、
前記光の偏光方向を規定する偏光部材を有し、
前記光を透過すると共に前記第１の空間と前記第２の空間とを隔離する光学素子を前記偏光部材より前記検出部側に配置することを特徴とする位置検出装置。
【請求項２４】
第１の空間と前記第１の空間の圧力とは異なる圧力を有する第２の空間とに跨いで配置され、前記第１の空間に配置された被検出体の位置を光を用いて前記第２の空間に配置された検出部を用いて検出する位置検出装置であって、
光路中に前記光を透過すると共に前記第１の空間と前記第２の空間とを隔離する光学素子が配置され、
収差を補正する補正手段を有することを特徴とする位置検出装置。
【請求項２５】
前記補正手段が、前記光学素子に起因する光学特性の変化を補正することを特徴とする請求項２４記載の位置検出装置。
【請求項２６】
前記補正手段が、前記光学素子の変形に起因する光学特性の変化を補正することを特徴とする請求項２４又は２５記載の位置検出装置。
【請求項２７】
前記光学素子は、前記第１の空間と前記第２の空間の圧力差によって生じる力に対して、変形量が所定の閾値よりも小さいことを特徴と請求項１乃至２６のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項２８】
前記光学素子は、前記第１の空間と前記第２の空間の圧力差によって生じる力に対して、変形量が所定の閾値よりも小さくなる厚さを有することを特徴とする請求項１乃至２６のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項２９】
前記光学素子は、前記第１の空間と前記第２の空間の圧力差によって生じる力に対して、変形量が所定の閾値よりも小さい材料からなることを特徴とする請求項１乃至２６のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項３０】
前記光学素子で隔離された２つの空間のうち一方は真空（或いは高真空）であることを特徴とする請求項１乃至２９のうちいずれか１項記載の位置検出装置。
【請求項３１】
請求項１乃至３０のうちいずれか１項記載の位置検出装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項３２】
前記露光装置は、電子ビームを用いて基板を露光することを特徴とする請求項３１記載の露光装置。
【請求項３３】
前記露光装置は、ＥＵＶ光を用いて基板を露光することを特徴とする請求項３１記載の露光装置。
【請求項３４】
請求項３１乃至３３のうちいずれか１項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。