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【手続補正書】
【提出日】平成17年12月15日(2005.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光シャッタアレイを有するプリントヘッドを光記録媒体に対して相対的に一方向にスキャンして印字を行い、上記一方向に対して垂直な方向に順次印字を進めるシリアルプリンタにおいて、
光源と光シャッタアレイとの間の光路に介在した、色を切り替え可能なカラーフィルタ部を備え、
上記一方向に関して上記プリントヘッドのスキャンの幅を上記光記録媒体上の露光領域の幅よりも広く設定し、上記光記録媒体とプリントヘッドとの上記垂直な方向の相対的位置を維持して、上記プリントヘッドが上記露光領域の幅を越えた位置に存する期間内に上記カラーフィルタ部の色を切り替えながら、上記カラーフィルタ部の色数に対応する複数回のスキャンを実行する制御を行う制御手段を備えたことを特徴とするシリアルプリンタ。
【請求項２】  請求項１に記載のシリアルプリンタにおいて、
上記カラーフィルタ部は、円板の中心軸の周りにそれぞれ固有の色を透過させる複数のフィルタを有し、上記フィルタ同士の間が所定の面積をもつ遮光部で仕切られており、
上記制御手段は、上記プリントヘッドのスキャンの向きが上記一方向に関して反転される時、上記遮光部によって上記カラーフィルタ部を遮光状態に切り替える制御を行うことを特徴とするシリアルプリンタ。
【請求項３】  請求項１に記載のシリアルプリンタにおいて、
上記プリントヘッドを上記一方向に駆動するためのパルスモータを備え、上記制御手段は上記制御を上記パルスモータに対するパルス数に基づいて行うことを特徴とするシリアルプリンタ。
【請求項４】  請求項１に記載のシリアルプリンタにおいて、
上記プリントヘッドが上記一方向に関して露光の開始位置、終了位置に存することを検出する位置センサを備え、
上記制御手段は上記制御を上記位置センサの出力に基づいて行うことを特徴とするシリアルプリンタ。
【請求項５】  請求項１に記載のシリアルプリンタにおいて、
上記プリントヘッドが上記一方向に関して露光の開始位置、終了位置に存することを検出するリニアスケールを備え、
上記制御手段は上記制御を上記リニアスケールに基づいて行うことを特徴とするシリアルプリンタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項５に記載のシリアルプリンタは、請求項１に記載のシリアルプリンタにおいて、上記プリントヘッドが上記一方向に関して露光の開始位置、終了位置に存することを検出するリニアスケールを備え、上記制御手段は上記制御を上記リニアスケールに基づいて行うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月14日(2006.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕分け情報を有する仕分け対象物を一定方向に順次供給するとともに、前記仕分け情報を読み取る供給装置と、
それぞれ一定方向に移送され、前記供給装置によって順次供給される仕分け対象物を個別に収容し、前記仕分け情報に基く所定の仕分け位置に移動すると底部が開動作し、仕分け対象物を落下させる複数のキャリアボックスと、
このキャリアボックスの移送経路下方の対応する仕分け位置に配置された上段の集積箱、及びこの上段の集積箱の下段に配置され、対応する仕分け位置に受入れ口を配置したシュートを有する下段の集積箱とを備え、
前記シュートは、上段集積箱の側方に縦方向に設置され、その下端には、下段集積箱の上面開口に向って傾斜した案内部を設け、この傾斜案内部の、仕分け対象物と接触する摺動面を、摩擦抵抗の低い構成としたことを特徴とする仕分け装置。
【請求項２】
摺動面の摩擦抵抗を低くする構成として、仕分け対象物の移動方向に沿って形成された横断面が波形を成す複数条の直線状突部を設けたことを特徴とする請求項１に記載の仕分け装置。
【請求項３】
仕分け情報を有する仕分け対象物を一定方向に順次供給するとともに、前記仕分け情報を読み取る供給装置と、
それぞれ一定方向に移送され、前記供給装置によって順次供給される仕分け対象物を個別に収容し、前記仕分け情報に基く所定の仕分け位置に移動すると底部が開動作し、仕分け対象物を落下させる複数のキャリアボックスと、
このキャリアボックスの移送経路下方の対応する仕分け位置に配置された上段の集積箱、及びこの上段の集積箱の下段に配置され、対応する仕分け位置に受入れ口を配置したシュートを有する下段の集積箱とを備え、
前記シュートは、上段集積箱の側方に縦方向に設置され、その下端には、下段集積箱の上面開口に向って傾斜した案内部を設け、この傾斜案内部は、その案内方向に直交する方向の一対のローラと、この一対のローラ間に掛け渡された無端状のシート材とで構成され、前記ローラの回転に伴うシート材の回転移動により仕分け対象物を集積箱の上面開口に向かって移動させることを特徴とする仕分け装置。
【請求項４】
傾斜案内部は、その上辺側がシュート本体に対し回動可能に枢支され、下辺側はばね体により可動的に支持されており、仕分け対象物の重量により下方に回動可能としたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の仕分け装置。
【請求項５】
シュートの内側には、キャリアボックスから落下した仕分け対象物の落下速度を減速させる減速手段を設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか1項に記載の仕分け装置。
【請求項６】
減速手段は、上辺部がシュート内側の反案内面側に回動可能に枢支され、減速面がシュート内側の案内面側に向う下方への傾斜角度を維持するように弾性材により支持された可動板であることを特徴とする請求項５に記載の仕分け装置。
【請求項７】
可動板の下辺部に弾性材によるブラシ部材を設けたことを特徴とする請求項６に記載の仕分け装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月7日(2006.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断面形状が連続的に変化する複数のエレメントを直列に接続した第１及び第２混合用通路を有し、この第１及び第２混合用通路内に複数種類の被混合材料を通過させ、通過過程において被混合材料に分割、集合を繰り返し作用させるミキシングチューブであって、
前記第１及び第２混合用通路は、前記ミキシングチューブをその被混合材料の通過方向で縦に分割した第１及び第２外枠部材とその間の１枚の仕切り部材を介して形成されており、
前記仕切り部材には、前記被混合材料の混合方向の一定間隔毎に各エレメントの半分の長さの穴部が設けられ、この穴部により第１混合用通路と第２混合用通路とが分割及び集合を繰り返し、通過する被混合材料に分割及び集合を繰り返し作用させることを特徴とするミキシングチューブ。
【請求項２】
前記第１外枠部材と第２外枠部材には、第１混合用通路と第２混合用通路をそれぞれ分割する中仕切り部が形成されており、
前記仕切り部材の穴部において、第１外枠部材の中仕切り部と第２外枠部材の中仕切り部が溶着していることを特徴とする請求項１に記載のミキシングチューブ。
【請求項３】
前記第１外枠部材と第２外枠部材には、第１混合用通路と第２混合用通路をそれぞれ分割する中仕切り部が形成されており、
この第１外枠部材の中仕切り部と第２外枠部材の中仕切り部は、それぞれ前記仕切り部材と溶着していることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のミキシングチューブ。
【請求項４】
前記仕切り部材の穴部には、前記第１外枠部材と第２外枠部材の中仕切り部と当接する係合部が形成されており、この係合部は、前記第１外枠部材と第２外枠部材の中仕切り部と溶着していることを特徴とする請求項３に記載のミキシングチューブ。
【請求項５】
前記第１外枠部材、第２外枠部材、及び、前記仕切り部材の各々が接合する接合部には、前記第１及び第２混合用通路に沿ってその外側につば部が各々設けられており、
前記仕切り部材のつば部が前記第１外枠部材と第２外枠部材のつば部に狭持されていることにより、前記第１外枠部材、第２外枠部材、及び、仕切り部材は一体化し、前記第１及び第２混合用通路を形成していることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のミキシングチューブ。
【請求項６】
請求項５に記載のミキシングチューブの製造方法であって、
熱可塑性樹脂製の前記第１及び第２外枠部材を各々成型するとともに、熱可塑性樹脂製の前記仕切り部材に穴部を形成した後に、前記仕切り部材のつば部を前記第１及び第２外枠部材のつば部で挟みつつ、このつば部の端部を溶着し、前記第１外枠部材、第２外枠部材、及び、前記仕切り部材を一体化させ、第１及び第２混合用通路を形成することを特徴とするミキシングチューブの製造方法。
【請求項７】
前記第１混合用通路と第２混合用通路をそれぞれ分割する中仕切り部を設けつつ第１外枠部材と第２外枠部材を各々成型し、前記中仕切り部と仕切り部材あるいは中仕切り部同士を溶着することを特徴とする請求項６に記載のミキシングチューブの製造方法。
【請求項８】
前記第１混合用通路と第２混合用通路をそれぞれ分割する中仕切り部を設けつつ熱可塑性樹脂製の前記第１外枠部材と第２外枠部材を各々成型するとともに、熱可塑性樹脂製の前記仕切り部材に前記第１外枠部材と第２外枠部材の中仕切り部と当接する係合部を設けつつ穴部を形成した後に、
前記第１外枠部材のつば部と前記仕切り部材のつば部を溶着する第１の工程と、
前記第２外枠部材のつば部と前記仕切り部材のつば部を溶着する第２の工程と、
前記第１の工程と第２の工程で製造された部材のつば部同士を溶着する第３の工程と、を備えることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のミキシングチューブの製造方法。
【請求項９】
前記第１混合用通路と第２混合用通路をそれぞれ分割する中仕切り部を設けつつ熱可塑性樹脂製の前記第１外枠部材と第２外枠部材を各々成型するとともに、熱可塑性樹脂製の前記仕切り部材に前記第１外枠部材と第２外枠部材の中仕切り部と当接する係合部を設けつつ穴部を形成した後に、
前記第１外枠部材のつば部と前記仕切り部材のつば部を溶着するとともに、第１外枠部材の中仕切り部と仕切り部材の係合部を溶着する第１の工程と、
前記第２外枠部材のつば部と前記仕切り部材のつば部を溶着するとともに、第２外枠部材の中仕切り部と仕切り部材の係合部を溶着する第２の工程と、
前記第１の工程と第２の工程で製造された部材のつば部同士を溶着する第３の工程と、を備えることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれかに記載のミキシングチューブの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月1日(2006.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球を盤面上に発射する遊技球発射手段と、
前記盤面上に配置された画面と、
前記画面上に所定の画像を表示する画面制御手段と、
前記遊技球発射手段により発射された盤面上の遊技球が特定の入球口に入球又は特定の通過口を通過することに起因して前記画面上に表示される画像を変化させ、予め定められた特定の表示態様となることに起因して遊技者に有利な特別遊技状態とする遊技制御手段と、を少なくとも備えた弾球遊技機であって、
遊技者に操作させる画面操作手段と、
該画面操作手段の操作に従って前記画面上の少なくとも一部の画像を変化させる画面操作制御手段と、
前記遊技球発射手段の発射力を調整する発射力調整手段と、
前記画面操作手段に遊技者が触れていることを検出するタッチ検出手段と、
該タッチ検出手段により遊技者が触れていることが検出されている場合に、前記発射力調整手段に遊技者が触れていなくても、前記発射力調整手段により調整された発射力に応じて前記遊技球発射手段を駆動する発射制御手段と、
を備えたことを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
前記画面操作手段及び発射力調整手段が皿部材等の同一部材上に設けられて構成されたことを特徴とする請求項１に記載の弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明の弾球遊技機は、
遊技球を盤面上に発射する遊技球発射手段と、
前記盤面上に配置された画面と、
前記画面上に所定の画像を表示する画面制御手段と、
前記遊技球発射手段により発射された盤面上の遊技球が特定の入球口に入球又は特定の通過口を通過することに起因して前記画面上に表示される画像を変化させ、予め定められた特定の表示態様となることに起因して遊技者に有利な特別遊技状態とする遊技制御手段と、を少なくとも備えた弾球遊技機であって、
遊技者に操作させる画面操作手段と、
該画面操作手段の操作に従って前記画面上の少なくとも一部の画像を変化させる画面操作制御手段と、
前記遊技球発射手段の発射力を調整する発射力調整手段と、
前記画面操作手段に遊技者が触れていることを検出するタッチ検出手段と、
該タッチ検出手段により遊技者が触れていることが検出されている場合に、前記発射力調整手段に遊技者が触れていなくても、前記発射力調整手段により調整された発射力に応じて前記遊技球発射手段を駆動する発射制御手段と、
を備えたことを特徴とする。
請求項２に記載の弾球遊技機は、
前記画面操作手段及び発射力調整手段が皿部材等の同一部材上に設けられて構成されたことを特徴とする。
ここで、画面操作手段とは、遊技者に操作させるものであって、所定の方向に操作されることにより所定の信号を出力するものであれば良く、弾球遊技機の上皿等に設けられるのが好ましく、遊技者の操作に従って四方に動く所謂ＴＶゲーム機等に使用されている所謂ジョイスティック等が好適である。
画面操作制御手段とは、画面操作手段の操作に従って前記画面上の少なくとも一部の画像を変化させるものであれば良く、画面操作手段の操作された方向に画像の一部を所定距離移動させる構成とすることや、画面操作手段の操作に応じて少なくとも一部の画像が消えたり拡大させたりする構成も含まれる。尚、画面操作制御手段により画面上の少なくとも一部の画像を変化させた場合、該変化が特別遊技状態となることに関係する構成としても良く、あるいは関係しない構成としても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように請求項１に記載の発明である弾球遊技機によると、画面に表示される画像に遊技者は画面操作手段により自分の意志で変化を与えることができると共に、遊技者は発射力調整手段で遊技球の発射力を自己の好みで一旦決定すれば、画面操作手段に触れるだけで遊技球を発射力調整手段により調整された力で遊技盤面上に発射することができるという極めて優れた効果を有する。これにより、１台弾発遊技機で簡単な操作によりパチンコの射幸心とＴＶゲームの高いゲーム性とを共に満足させることができるという極めて優れた効果を奏する。
また、請求項２に記載の発明である弾球遊技機では、請求項１の発明が奏する操作性の簡便性を一層高める効果を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月9日(2006.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｎ型ウエル中に形成されるＰＭＯＳトランジスタと、Ｐ型ウエル中に形成されるＮＭＯＳトランジスタから形成され、上記ＰＭＯＳトランジスタと上記ＮＭＯＳトランジスタのゲート及び拡散層と、第一層目の金属配線層を結ぶコンタクトホールがあり、上記コンタクトホールには導電体が埋め込まれている半導体集積回路装置であって、上記コンタクトホールの平面形状がすくなくとも二種類以上存在することを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項２】  上記半導体集積回路装置上にある複数のコンタクトホールのすくなくとも一辺の長さが同一であることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項３】  上記ゲート電極と上記拡散層を接続する少なくとも一つのコンタクト手段が、上記コンタクトホールに埋め込まれた導電層のみによって行われていることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項４】  すくなくとも上記コンタクトホールに埋め込まれた導電層を用いて、上記トランジスタのソース又はドレインへの配線を行うことを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項５】  上記トランジスタのソースの拡散層に接続されるコンタクトホールの面積が、ドレインの拡散層に接続されるコンタクトホールの面積よりも大きいことを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項６】  すくなくとも上記コンタクトホールに埋め込まれた導電層を用いて、上記ウエルの配線を行うことを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置。
【請求項７】  Ｎ型ウエル中に形成されるＰＭＯＳトランジスタと、Ｐ型ウエル中に形成されるＮＭＯＳトランジスタから形成され、少なくとも、第一層目の金属配線層と、第二層目の金属配線層とにより配線され、上記ＰＭＯＳトランジスタと上記ＮＭＯＳトランジスタのゲート及び拡散層と、上記第一層目の金属配線層を結ぶコンタクトホールと、上記第一層目の金属配線層と上記第二層目の金属配線層を結ぶスルーホールがあり、上記Ｎ型ウエルの電位と上記Ｐ型ウエルの電位がそれぞれ独立に制御される半導体集積回路装置であって、上記Ｎ型ウエルの電位と上記Ｐ型ウエルの電位をとるための配線が上記第一層目の金属配線層または、上記コンタクトホール中に形成される導電体、又は上記コンタクトホール中に形成される導電体と上記第一の金属配線層により構成され、上記電源電位と接地電位が上記第二層目の金属配線層により配線されることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項８】  上記トランジスタのチャネル方向と上記Ｎ型ウエルの電位と上記Ｐ型ウエルを制御する配線と、上記電源電位と接地電位の配線が平行であることを特徴とする請求項７記載の半導体集積回路装置。
【請求項９】  上記コンタクトホール中に形成される導電体と第一層目の金属配線層がタングステンを主成分として構成され、上記第二層目の金属配線層が銅を主成分として構成されることを特徴とする請求項７記載の半導体集積回路装置。
【請求項１０】  上記第一層目の金属配線層が上記第二層目の金属配線層よりも薄いことを特徴とする請求項７記載の半導体集積回路装置。
【請求項１１】  上記半導体集積回路装置がＰ型基板上に形成され、上記Ｐ型ウエルが上記Ｐ型基板上に形成された深いＮ型ウエル中に形成されていることを特徴とする請求項７記載の半導体集積回路装置。
【請求項１２】  さらに１つの容量素子と１つのトランジスタから構成されるメモリセルを用いたダイナミック型の半導体記憶装置を同一チップ上に集積する半導体集積回路装置において、上記第一層目の金属配線層により上記ダイナミック型の半導体記憶装置のビット線を形成することを特徴とする請求項９記載の半導体集積回路装置。
【請求項１３】  上記容量素子が第一層目の金属配線層と第二層目の金属配線層の間の高さの範囲内に形成されることを特徴とする請求項１２記載の半導体集積回路装置。
【請求項１４】  基板に形成されるMISトランジスタと、
データを格納するためのメモリセルと、
上記基板上に形成される第１金属配線層と、
上記第１金属配線層上に形成される第２金属配線層と、
を有し、
上記MISトランジスタのソース・ドレイン経路に接続される電源配線の少なくとも一部が上記第２金属配線層で構成され、
上記MISトランジスタの基板電位を制御する基板電位配線の少なくとも一部が上記第１金属配線層で構成され、
上記メモリセルへの入力または出力データ信号を伝送するビット線の少なくとも一部が上記第１金属配線層で構成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項１５】  基板に形成されるMISトランジスタと、
データを格納するためのメモリセルと、
タングステンを主成分とする第１配線層と、
銅を主成分とする第２配線層と、
を有し、
上記MISトランジスタのソース・ドレイン経路に接続される電源配線の少なくとも一部が上記第２配線層で構成され、
上記MISトランジスタの基板電位を制御する基板電位配線の少なくとも一部が上記第１配線層で構成され、
上記メモリセルへの入力または出力データ信号を伝送するビット線の少なくとも一部が上記第１配線層で構成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項１６】  基板に形成されるMISトランジスタと、
データを格納するためのメモリセルと、
上記基板上に形成されるタングステンを主成分とする第１金属配線層と、
上記第１金属配線層上に形成される銅を主成分とする第２金属配線層と、
を有し、
上記MISトランジスタのソース・ドレイン経路に接続される電源配線の少なくとも一部が上記第２金属配線層で構成され、
上記メモリセルへの入力または出力データ信号を伝送するビット線の少なくとも一部が上記第１金属配線層で構成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項１７】  上記MISトランジスタの基板電位を制御する基板電位配線の少なくとも一部が上記第１金属配線層で構成されることを特徴とする請求項１６記載の半導体集積回路装置。
【請求項１８】  上記メモリセルはDRAMセルであり、該DRAMセルの容量が上記第１金属配線層と第２金属配線層の間に配置されていることを特徴とする請求項１６または１７記載の半導体集積回路装置。
【請求項１９】  上記基板と第１金属配線層の間にゲート電極層が配置されていることを特徴とする請求項１６乃至１８のうちのいずれかに記載の半導体集積回路装置。
【請求項２０】  上記基板、第１金属配線層、第２金属配線層、およびゲート電極層のうち２つを第１接続対象及び第２接続対象として選択し、これらを接続するコンタクトホールを有し、
上記基板平面上にＸＹ平面を想定した場合、
該コンタクトホールと上記第１接続対象の接触面の上記ＸＹ平面への射影が、上記コンタクトホールと上記第２接続対象の接触面の上記ＸＹ平面への写像と重ならない部分を有することを特徴とする請求項１６乃至１９のうちのいずれかに記載の半導体集積回路装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３相陽極回転機構を持つＸ線管の前記陽極回転機構には３相交流電圧を、２相陽極回転機構を持つＸ線管の前記陽極回転機構には２相交流電圧を供給して前記３相陽極回転機構を持つＸ線管及び２相陽極回転機構を持つＸ線管の陽極を回転させるＸ線管の陽極回転駆動装置において、直流電源と、この直流電源を３相若しくは２相の交流電圧に変換するインバータ回路と、このインバータ回路を構成する複数のスイッチング素子をオン，オフ制御して前記３相若しくは２相の交流電圧を発生するための３相交流信号若しくは２相交流信号を生成するベクトル変換手段と、このベクトル変換手段より発生する信号を３相交流信号にするか２相交流信号にするかの切り挽えにより前記Ｘ線管が３相陽極回転機構を持つ場合は前記ベクトル変換手段から３相交流信号を出力し、この信号で前記インバータ回路より３相交流電圧を発生してこれを前記３相陽極回転機構を持つＸ線管の陽極画転機構に供給し、前記Ｘ線管が２相陽極回転機構を持つ場合は前記ベクトル変換手段から２相交流信号を出力し、この信号で前記インバータ回路より２相交流電圧を発生してこれを２相陽極回転機構を持つＸ線管の陽極回転機構に供給することを選択する３相／２相選択手段とを備えたことを特徴とするＸ線管の陽極回転駆動装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
上記板バネ２０の先端は端子本体１０の前半部の内部を前方に延びて高さ方向に撓むようになっており、雄型端子ＴＴが挿入されたときに、これに下から接触するようになっている。上記板バネ２０は、後部内上壁１８ｃを後端を残して側壁１７から分離することにより形成されている。この板バネ２０は、内上壁１８の幅方向一杯に設定してもよいし、幅方向の一部の幅で設定してもよい。この板バネ２０には、曲げ剛性を上げるように断面が湾曲したビード部２２が形成されている。上記ビード部２２の断面形状としては、図に示すような略Ｕ字形のほか、略Ｖ字形、略Ｗ字形、又はこれらの上下を逆にしたものなどが例示されるが、要は板バネ２０を前後方向に向く面で断面したときに、板バネ２０の厚さ方向の中間部を左右に通る中立軸まわりの断面二次モーメントが、単なる平板であるときより増加しておればよい。ビード部２２は、図に示すように板バネ２０の一部に形成してもよいし、ほぼ全長にわたって形成してもよい。また、図に示すようにくぼみ形（ディンプル形）に形成してもよいし、溝形に形成してもよく、これらを組み合わせてもよい。また、板バネ２０の基端が、他の壁に係止されている。すなわち、板バネ２０の基端を構成する内上壁１８の後部における側端には突入片１８ａが形成され、この突入片１８ａが、対向する側壁１７に開口する受入孔１７ａに嵌入している。また、板バネ２０の先端の左右両端には突起２４が形成され、この突起２４が側壁１７に形成された係止孔１７ｂに、板バネ２０が少なくとも下方へ所定量だけ変形できるように隙間を残して嵌入しており、板バネ２０が大きく変形すると、板バネ２０が突起２４を介して側壁１７に受け止められるので、板バネ２０の過変形が防止される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
上記ハウジングは、第１実施形態で説明したものと同様の構造であり、前後方向に貫通する収容室が形成されたハウジング本体と、このハウジング本体に嵌合して収容室に突入するリテーナとを備えている。上記ハウジング本体は、収容室から高さ方向に刻設され且つ前後方向に延び、スタビライザ３０が嵌入する溝と、この溝内で収容室の幅方向に撓むように設けられ、前側でスタビライザ３０を係止するランスと、ランスの前側の溝を前方に開放するテスト用窓部とを備えている。このランスの変形例としては、スタビライザ３０を切り起こすことで端子本体１０の底壁１６に形成される開口に嵌合するものがある。上記溝は収容室から下方に刻設されている。収容室は幅方向に１列だけ並列にしてもよいし、更にこれを高さ方向に数列並列にしてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
さらに、スタビライザ３０に幅方向に向く面を形成したときには、ハウジングのランスがスタビライザ３０に応じて幅方向に撓むので、ハウジングに高さ方向に撓みしろを設ける必要がなくなり、高さが低くなる。そのため、板バネ２０の１枚化と相俟ってコネクタＣが高さ方向に更にコンパクトになる。特に、収容室を高さ方向に並べたコネクタＣでは、高さ方向に数個の雌型端子Ｔが連なり、収容室の間の壁も増えるので、それぞれの雌型端子Ｔの高さが低くなり、且つ収容室の間の壁が薄型化されることにより、コネクタＣを高さ方向に大幅にコンパクト化することができる。このようなことから、このコネクタＣは例えばスペースユーティリティが厳しく求められる自動車で用いるコネクタとして好適である。なお、スタビライザ３０を端子本体１０の上側に設けると共に溝を収容室から上方に刻設し、ランスを溝内で収容室の幅方向に撓むように設けたときにも、上記第１実施形態と同様にコネクタＣを高さ方向にコンパクト化することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
さらに、図１５に示すような展開形状から曲げ加工して雌型端子Ｔを成形する場合、折線が縦方向に走るので、曲げ方向が殆ど同一方向となり、作業工程の簡略化に寄与している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2000150041.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月16日(2006.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主表面が｛１１０｝面である単結晶半導体基板中に水素含有層を形成し、
前記単結晶半導体基板と支持基板とを貼り合わせ、
第１熱処理により前記単結晶半導体基板を前記水素含有層に沿って分断し、
９００〜１２００℃の温度で第２熱処理を行い、
前記支持基板の上の主表面が｛１１０｝面である単結晶半導体層を研削し、
前記単結晶半導体層を活性層とする複数のＴＦＴを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
主表面が｛１１０｝面である単結晶半導体基板を陽極化成して多孔質半導体層を形成し、
前記多孔質半導体層に対して還元雰囲気中で第１熱処理を行い、
前記多孔質半導体層上に主表面が｛１１０｝面である単結晶半導体層をエピタキシャル成長させ、
前記単結晶半導体基板と支持基板とを貼り合わせ、
９００〜１２００℃の温度で第２熱処理を行い、
前記多孔質半導体層を露呈させ、
前記多孔質半導体層を除去し、前記単結晶半導体層を露呈させ、
前記支持基板の上に、前記単結晶半導体層を活性層とする複数のＴＦＴを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
主表面が｛１１０｝面である単結晶半導体基板中に酸素含有層を形成し、
前記酸素含有層を形成した単結晶半導体基板に対して８００〜１２００℃で熱処理を施し、
前記酸素含有層の上に形成された主表面が｛１１０｝面である単結晶半導体層を活性層とする複数のＴＦＴを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、前記単結晶半導体層とは単結晶シリコン層であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
主表面が｛１１０｝面である単結晶シリコン基板を陽極化成して第１多孔質シリコン層を形成し、
前記単結晶シリコン基板を陽極化成して前記第１多孔質シリコン層よりも孔の径が大きい第２多孔質シリコン層を形成し、
前記第１多孔質シリコン層及び第２多孔質シリコン層に対して還元雰囲気中で第１熱処理を行い、前記第１多孔質シリコン層上に主表面が｛１１０｝面である単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させ、
前記単結晶シリコン基板と支持基板とを貼り合わせ、第２熱処理を行い、
前記第１多孔質シリコン層と第２多孔質シリコン層との界面に沿って、前記単結晶シリコン基板と前記支持基板を分断し、
前記第１多孔質シリコン層を除去し、前記単結晶シリコン層を露呈させ、
前記支持基板の上に、前記単結晶シリコン層を活性層とする複数のＴＦＴを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記ＴＦＴのゲート配線に、銅又は銅合金を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一の半導体装置の作製方法を用いて作製されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一の半導体装置の作製方法を用いて作製されたことを特徴とする半導体回路。
【請求項９】
請求項７に記載の電気光学装置または請求項８に記載の半導体回路を用いたことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月28日(2006.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート配線が形成された基板上にゲート絶縁膜、半導体膜、絶縁膜を順次大気にふれることなく積層形成する第１工程と、
前記絶縁膜を介して赤外光または紫外光を照射することにより前記半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を得る第２工程と、
前記絶縁膜及び前記結晶性半導体膜をパターニングして、保護膜及び前記保護膜と端面が一致する活性層を形成する第３工程と、
前記活性層のチャネル形成領域となる領域をマスクで覆い、前記保護膜を介してＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第４工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項２】
ゲート配線が形成された基板上にゲート絶縁膜、半導体膜、絶縁膜を順次大気にふれることなく積層形成する第１工程と、
前記絶縁膜を介して赤外光または紫外光を照射することにより前記半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を得る第２工程と、
前記結晶性半導体膜のチャネル形成領域となる領域をマスクで覆い、前記絶縁膜を介してＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第３工程と、
前記絶縁膜をパターニングして保護膜を形成する第４工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングして、前記保護膜と端面が一致する活性層を形成する第５工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項３】
ゲート配線が形成された基板上にゲート絶縁膜、半導体膜、絶縁膜を順次大気にふれることなく積層形成する第１工程と、
前記絶縁膜を介して赤外光または紫外光を照射することにより前記半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を得る第２工程と、
前記絶縁膜及び前記結晶性半導体膜をパターニングして、保護膜及び前記保護膜と端面が一致する活性層を形成する第３工程と、
前記活性層のチャネル形成領域となる領域を第１のマスクで覆い、前記保護膜を介してＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第４工程と、
第２のマスクを用いて前記活性層のソース領域またはドレイン領域となる領域にＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第５工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項４】
ゲート配線が形成された基板上にゲート絶縁膜、半導体膜、絶縁膜を順次大気にふれることなく積層形成する第１工程と、
前記絶縁膜を介して赤外光または紫外光を照射することにより前記半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を得る第２工程と、
前記絶縁膜及び前記結晶性半導体膜をパターニングして、保護膜及び前記保護膜と端面が一致する活性層を形成する第３工程と、
前記活性層のチャネル形成領域となる領域を第１のマスクで覆い、前記保護膜を介してＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第４工程と、
第２のマスクを用いて前記活性層のソース領域またはドレイン領域となる領域にＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第５工程と、
前記第１のマスクと前記第２のマスクとを同時に除去する第６工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項５】
ゲート配線が形成された基板上にゲート絶縁膜、半導体膜、絶縁膜を順次大気にふれることなく積層形成する第１工程と、
前記絶縁膜を介して赤外光または紫外光を照射することにより前記半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を得る第２工程と、
前記結晶性半導体膜のチャネル形成領域となる領域を第１のマスクで覆い、前記絶縁膜を介してＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第３工程と、
第２のマスクを用いて前記結晶性半導体膜のソース領域またはドレイン領域となる領域にＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第４工程と、
前記絶縁膜をパターニングして保護膜を形成する第５工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングして前記保護膜と端面が一致する活性層を形成する第６工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項６】
ゲート配線が形成された基板上にゲート絶縁膜、半導体膜、絶縁膜を順次大気にふれることなく積層形成する第１工程と、
前記絶縁膜を介して赤外光または紫外光を照射することにより前記半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を得る第２工程と、
前記結晶性半導体膜のチャネル形成領域となる領域を第１のマスクで覆い、前記絶縁膜を介してＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第３工程と、
第２のマスクを用いて前記結晶性半導体膜のソース領域またはドレイン領域となる領域にＮ型またはＰ型の導電型を付与する不純物元素の添加を行う第４工程と、
前記第１のマスクと前記第２のマスクとを同時に除去する第５工程と、
前記絶縁膜をパターニングして、保護膜を形成する第６工程と、
前記結晶性半導体膜をパターニングして、前記保護膜と端面が一致する活性層を形成する第７工程と、
を有する半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記赤外光は、赤外線レーザー光または赤外線ランプから発生する強光であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記紫外光は、エキシマレーザー光または紫外光ランプから発生する強光であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項８において、前記エキシマレーザー光は面状のビーム形状を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、前記第１のマスクは、前記基板の裏面から光を照射して形成されたレジストマスクであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一において、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、及び前記保護膜は、互いに異なるチャンバーを用いて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一において、前記ゲート絶縁膜及び前記保護膜は、第１のチャンバーを用いて形成し、前記半導体膜は、第２のチャンバーを用いて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一において、前記ゲート絶縁膜として窒化シリコン膜をいずれかの層に含む積層膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一において、前記ゲート絶縁膜としてＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）をいずれかの層に含む積層膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
次いで、上記のようにして得られた成形材料を押出成形法により加熱溶融成形加工して再生軟質シートを製造する。この押出成形法では、密閉系の状態で加熱時に十分に溶融させてより均一な状態での再生シート化が可能となることから、再生されるシート表面にブツ状等の凹凸が生じるのを防止できると共に、前記粉砕物の最大粉砕粒径を特定範囲に規定した効果とも相俟って軟質シートとして十分な伸び、柔軟性を確保することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  記録ヘッドのノズルからインクを吐出し、被記録材に当該インクによる画像を形成するインクジェット記録装置において、
気泡が混入したインクを前記ノズルから排出することを主目的として所定量のインクを前記記録ヘッドのフェイス面から吸引する第一のモードの吸引動作と、
前記第一のモードの吸引量よりも少ない量のインクを前記フェイス面から吸引し、かつ、吸引したインクで前記フェイス面を湿潤させた状態で所定時間待機する第二のモードの吸引動作と、
を実行することを特徴とするインクジェット記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明は、記録ヘッドのノズルからインクを吐出し、被記録材に当該インクによる画像を形成するインクジェット記録装置において、気泡が混入したインクを前記ノズルから排出することを主目的として所定量のインクを前記記録ヘッドのフェイス面から吸引する第一のモードの吸引動作と、前記第一のモードの吸引量よりも少ない量のインクを前記フェイス面から吸引し、かつ、吸引したインクで前記フェイス面を湿潤させた状態で所定時間待機する第二のモードの吸引動作とを実行することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月15日(2006.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ブレーキペダルに連結されて該ブレーキペダルにその操作に対する反力を与えるストロークシミュレータにおいて、
電動アクチュエータにより前記ブレーキペダルに反力を与えることを特徴とするストロークシミュレータ。
【請求項２】  前記電動アクチュエータは、前記ブレーキペダルが踏み込まれたとき、該ブレーキペダルをストロークさせつつ該ブレーキペダルに反力を与えることを特徴とする請求項１記載のストロークシミュレータ。
【請求項３】  前記電動アクチュエータにより前記ブレーキペダルの操作量を検出することを特徴とする請求項１または２記載のストロークシミュレータ。
【請求項４】  前記操作量として、操作力および操作ストロークの少なくともいずれか一方を検出することを特徴とする請求項３記載のストロークシミュレータ。
【請求項５】  前記ブレーキペダルと前記電動アクチュエータとの間に減速機を具備してなることを特徴とする請求項１記載のストロークシミュレータ。
【請求項６】  前記電動アクチュエータは、モータ軸を有する回転モータと、前記モータ軸の回転位置を検出するエンコーダとを有することを特徴とする請求項１乃至５記載のストロークシミュレータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の請求項１記載のストロークシミュレータは、ブレーキペダルに連結されて該ブレーキペダルにその操作に対する反力を与えるものであって、電動アクチュエータにより前記ブレーキペダルに反力を与えることを特徴としている。
このように、電動アクチュエータによりブレーキペダルに反力を与えるものであるため、液圧を必要とせず、また反力特性を細かく制御することが可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の請求項２記載のストロークシミュレータは、請求項１記載のものに関して、前記電動アクチュエータは、前記ブレーキペダルが踏み込まれたとき、該ブレーキペダルをストロークさせつつ該ブレーキペダルに反力を与えることを特徴としている。
このように、電動アクチュエータによりブレーキペダルへストロークに応じた反力を与えことができるため、ブレーキペダルのストローク特性をも細かく制御できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の請求項４記載のストロークシミュレータは、請求項３記載のものに関して、前記操作量として、操作力および操作ストロークの少なくともいずれか一方を検出することを特徴としている。
このように、電動アクチュエータが、ブレーキペダルの操作量として、操作力および操作ストロークの少なくともいずれか一方を検出することになるため、これを検出する別途のセンサが不要となる。
本発明の請求項５記載のストロークシミュレータは、請求項１記載のものに関して、前記ブレーキペダルと前記電動アクチュエータとの間に減速機を具備してなることを特徴としている。
本発明の請求項６記載のストロークシミュレータは、請求項１乃至５記載のものに関して、前記電動アクチュエータは、モータ軸を有する回転モータと、前記モータ軸の回転位置を検出するエンコーダとを有することを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の請求項１記載のストロークシミュレータによれば、電動アクチュエータによりブレーキペダルに反力を与えるものであるため、液圧を必要とせず、また反力特性を細かく制御することが可能となる。
したがって、液圧を用いないブレーキ装置にも適用できる上、運転者に良好な操作感を与えることが可能となり、さらに、関連機器と合わせたスペースを小さくできる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
本発明の請求項２記載のストロークシミュレータによれば、電動アクチュエータは、前記ブレーキペダルが踏み込まれたとき、該ブレーキペダルをストロークさせつつ該ブレーキペダルに反力を与えるため、ブレーキペダルのストローク特性をも細かく制御できる。
したがって、運転者にさらに良好な操作感を与えることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月31日(2006.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  センターピラーのない車体の側部に開閉可能に設けられるフロントドア及びリヤドアと、フロントドアの前端部を車体に連結する前ヒンジと、上記フロントドア及びリヤドア間に設けられたシール部材とを備えた車両のドア構造であって、
各ドアを車体にロックするためのロック機構を備え、該ロック機構が、各ドアの上端部及び下端部の少なくとも一方に設けられている車両のドア構造。
【請求項２】  各ドアは、アウターパネル及びインナーパネルと、両パネル間のスペースに上下方向に延在するように配置された上下補強部材とを備え、
該上下補強部材は、フロントドアの後縁部及びリヤドアの前縁部に沿って配置されている請求項１記載の車両のドア構造。
【請求項３】  ロック機構を解除するドアハンドルが、上下補強部材に対して車両の前後方向に偏倚した位置に配置されている請求項２記載の車両のドア構造。
【請求項４】  上下補強部材は、上端部及び下端部の少なくとも一方が、車体に車幅方向に設けられた左右補強部材に対応する位置に配置されている請求項２または３記載の車両のドア構造。
【請求項５】  アウターパネルとインナーパネルとの間のスペースに、ドアの前後方向に延在する前後補強部材が配設され、該前後補強部材と上下補強部材とが連結されている請求項２乃至４の何れか１記載の車両のドア構造。
【請求項６】  ドアハンドルとロック機構とを連結する連結部材が、アウターパネルとインナーパネルの間で上下補強部材に沿って配置されている請求項２乃至５の何れか１記載の車両のドア構造。
【請求項７】  ドアハンドルとロック機構とを連結する連結部材がケーブルである請求項６記載の車両のドア構造。
【請求項８】  上下補強部材は、ベルトラインよりも上方の第１上下補強部材と、該第１上下補強部材の下端に連結された第２上下補強部材とを備え、
第１上下補強部材がパイプ材で構成され、第２上下補強部材がプレス部材で構成されている請求項２乃至７の何れか１記載の車両のドア構造。
【請求項９】  フロントドアの後端部とリヤドアの前端部とを側突時に連結する一方、各ドアの開閉時には両ドアの分離が可能に構成された連結手段を備えている請求項２乃至８の何れか１記載の車両のドア構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、車両のドア構造に関し、特に、車体側部に設けられる観音開きタイプのドア構造に係るものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
具体的に、本発明が講じた第１の解決手段は、センターピラーのない車体の側部に開閉可能に設けられるフロントドア及びリヤドアと、フロントドアの前端部を車体に連結する前ヒンジと、上記フロントドア及びリヤドア間に設けられたシール部材とを備えた車両のドア構造を前提としている。そして、各ドアを車体にロックするためのロック機構を設け、該ロック機構を、各ドアの上端部及び下端部の少なくとも一方に設けている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月2日(2006.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロービーム用灯具およびハイビーム用灯具を車両の前部左右にそれぞれ１組ずつ配置してなる車両用前照灯装置において、
前記各組の灯具のうち車両中央寄りにはロービーム用灯具を配置し、車両側部寄りには前記ロービーム用灯具よりも高位置にハイビーム用灯具を配置するとともに、
前記ロービーム用灯具のリフレクタ面を前記ハイビーム用灯具のリフレクタ面よりも大きく設定し、
かつ、各組の灯具を覆うレンズ面は、前記各リフレクタ面に対応して、ロービーム用灯具側からハイビーム用灯具側へ漸次小さくなるように設定していることを特徴とする車両用前照灯装置。
【請求項２】 
前記ロービーム用灯具の光源が放電管であることを特徴とする請求項１記載の車両用前照灯装置。
【請求項３】
前記各組の灯具間にそれぞれの放電管用昇圧装置を配置したことを特徴とする請求項２記載の車両用前照灯装置。
【請求項４】
前記ロービーム用灯具および前記ハイビーム用灯具のリフレクタ面を一体で形成したリフレクタを有し、光軸調節のために該リフレクタを上下に回動させる調節手段を設けるとともに、
前記リフレクタの回動中心軸を前記ロービーム用灯具の光軸を所望に調節できるように該ロービーム用灯具のリフレクタ面に関して設定したことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の車両用前照灯装置。
【請求項５】
前記調節手段が、電動モータを含み、該電動モータによって前記リフレクタを上下に回動させることを特徴とする請求項４記載の車両用前照灯装置。
【請求項６】 
ロービーム用灯具およびハイビーム用灯具を車両の前部左右にそれぞれ１組ずつ配置してなる車両用前照灯装置において、
前記各組の灯具のうち車両中央寄りには放電ランプで構成されたロービーム用灯具を配置し、車両側部寄りには前記ロービーム用灯具よりも高位置にハイビーム用灯具を配置するとともに、
前記ロービーム用灯具は、前記ハイビーム用灯具よりも前方に配置され、
かつ、各組の灯具を覆うレンズ面は、前記ロービーム灯具および前記ハイビーム用灯具の位置に対応して、車両側部寄りで後方に退いた後傾配置になっていることを特徴とする車両用前照灯装置。
【請求項７】
前記ロービーム用灯具および前記ハイビーム用灯具のリフレクタ面の大きさが互いに異なり、
前記レンズ面のロービーム用灯具および前記ハイビーム用灯具に対応する部分は、前記リフレクタの大きさに対応して互いに大きさが異なっていることを特徴とする請求項６記載の車両用前照灯装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月22日(2006.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この物品収納ボックスＢは、金属板あるいは合成樹脂板により、前壁２３、左右側壁２４，２５、後壁２６および底壁２７とより前後に長い四角形状に形成されており、その上面に、この物品収納ボックスＢ内に物品を出し入れするための出入口２８が開口されている。物品収納ボックスＢ内には、その前部に一方のヘルメットＨ1 を収容可能な前部収納室Ｃｆが形成され、またその後部に他方のヘルメットＨ2 を収容可能な後部収納室Ｃｒが前後に縦列して形成されている。また物品収納ボックスＢの、前後方向の中間部には、前記前部収納室Ｃｆと後部収納室Ｃｒとを横切るように仕切る、仕切空間Ａｓが、底壁２７より物品収納ボックスＢ側に凹入して形成されている。この仕切空間Ａｓは、図４に最も明瞭に示すように、物品収納ボックスＢの前後中間部を横方向に貫通したトンネル状をなして、その前後方向に所定の幅を有して側面視逆Ｕ字状に形成されている。そしてこの仕切空間Ａｓは、前記前部収納室Ｃｆの後壁２９と、前記後部収納室Ｃｒの前壁３０と、それら両壁２９，３０の上端を相互に連結する略水平な上壁３１により画成されている。そしてこの仕切空間Ａｓの上壁３１は物品収納ボックスＢの出入口２８近くまで達している。仕切空間Ａｓの後面すなわち前記後部収納室Ｃｒの前壁３０の中間部には、この物品収納ボックスＢの底壁２７にまで及んでいて、仕切空間Ａｓを後部収納室Ｃｒ内に連通させる窓孔３３が開口され、この窓孔３３は、後部収納室Ｃｒの前壁３０の一部となるカバー壁３４により被覆される。このカバー壁３４は、図４，５に示すように、前記仕切空間Ａｓの容量を拡張すべく、後部収納室Ｃｒ側に進入するように縦断面段状に形成されており、このカバー壁３４の下縁に、物品収納ボックスＢの底壁２７に形成した差込溝３５内に着脱可能に差し込まれる差込片３４1 が一体に形成され、またその上縁には、上方にのびる取付フランジ３４2 が一体に形成されている。そしてカバー壁３４は、その下縁の差込片３４1 を前記差込溝３５に差し込んだのち、その取付フランジ３４2 を止めネジ３６により、後部収納室Ｃｒの前壁３０に固着することにより、前記窓孔３３が閉じられる。また前記カバー壁３４の上部には、これを着脱操作するための、後方に向かって山型に突出する把手３４3 が一体に形成されている。またこの把手３４3 は、前部収納室Ｃｆに収納された他のヘルメットＨ2 の顎部を受ける受面を兼ねている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2000280952.tif 000001