【手続補正書】
【提出日】平成18年7月24日(2006.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図３に本発明の実施例を概略的に示す。フレーム２８は上部支持体３０と下部支持体３２を有する。上部支持体３０は内部に上部孔３６を有する。下部支持体３２は内部に下部孔３８を有する。それぞれの孔３６、３８内にはプッシュロッド３４が配設されている。孔３６と３８は、内部でプッシュロッド３４を摺動可能な直径を有する。個々のプッシュロッド３４の一端はねじ切りされ、フレーム２８のフレーム孔４０内を貫通する。下部支持体３２とフレーム２８の一部と間にはナット３９が配置され、該ナットはプッシュロッド３４のネジ切り部３５に螺装されている。プッシュロッド３４の他端はリンクピボットピン４２により結合リンク４４に取り付けられている。結合リンク４４の他端はブレードピボットピン４６によりブレード４８の一端に取り付けられている。よって、終端のブレード５０以外は、ブレード４８それぞれの一端にプッシュロッド３４が１つ結合されている。終端ブレード５０は一端がプッシュロッド３４に結合され、他端は終端ピボットピン５１によりフレーム２８に結合されている。終端ブレード５０には内部にスロット５３を設けることができる。ブレード４８は概して、または実質的に矩形であるが、２隅にアールが付けられている。このアールは実質的にピボットピン４６とブレード４８のエッジ間の距離に等しい。延長支持体５２はフレーム２８の側面に沿って摺動するように取り付けられている。延長支持体５２は図示しない固定支持体に取り付けることもできる。セットねじ５４は摺動延長支持体５２を固定するのに使用される。延長支持体５２は、ブレード４８の列を含むフレーム２８全体を一斉に、すなわち全て同時に移動または持ち上げるために使用される。これにより、ブレード４８を個別に移動することなくブレード４８の列を所定の位置に上げたり下げたりできる。これは最初の位置合わせ時や、大きな調節量が必要な場合にブレードを素早く移動させるために行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図６は本発明の組立済みすなわちリソグラフィ装置内に搭載可能な状態を示す斜視図である。フレーム２２８はマウント２７４に取り付けられている。複数、すなわち本実施例では１５本のプッシュロッド２３４がフレーム２２８により所定位置に固定されている。複数のプッシュロッド２３４の一端には複数のプッシュロッドねじ込み延長部２３７が螺合している。プッシュロッド延長部２３７はそれぞれブレードピボットピン２４６により２枚のブレード２４８に結合されている。ブレードピボットピン２４６によりまた、図示しないリンクの一端がプッシュロッドねじ込み延長部２３７とブレード２４８に結合する。このリンクは固定リンクでも可撓性部材による可撓性リンクでも良い。リンクピボットピン２４２は該図示しないリンクの他端をプッシュロッドねじ込み延長部材２４６に取り付ける。その構造は図５Ａと図５Ｂに示したものと非常に似ている。結合されたブレード２４８の列端はそれぞれ延長支持体２５２に取り付けられている。延長支持体２５２はフレーム２２８内で摺動可能で、固定ネジ２５４により所定の位置に固定される。延長支持体２５２により、結合されたブレード２４８の列をまとめて同時に持ち上げることができる。これにより、結合されたブレード２４８の列の初期位置合わせが可能となる。それぞれのプッシュロッド２３４にはスプリング２６２が配設される。プッシュロッド２３４の他端にはノブ２６６が設けられる。ノブ２６６はプッシュロッド２３４を個別に回転させて個々のブレード２４８を上下、すなわち図示しない矩形照明フィールド内に出し入れするために使用される。固定シールド２７２はブレード２４８の列の近くに配設される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図１５に図示するのは感光性基板に照射される照明エネルギーであり、これには本発明による調節可能照明フィールドが用いられている。通常または理想的な状況では、照明強度または露光線量は均一である。しかし、照明エネルギー５２１は種々の局部において調節され、それにより複写またはプリントされるイメージの質が改善する。例えば場所５１５では照明エネルギーまたは露光線量を増加させるが、これはポジ形レジストを用いている場合ならば、感光性基板上の線幅を細くするためである。同様に、場所５１９は別の局部における照明エネルギーまたは強度の増加を表す。場所５１７は別の局部における照明強度またはエネルギーの減少を表す。本発明による調節可能スリットを走査動作中に動的に用いることにより任意の局部の照明エネルギーまたは露光線量が調節されて、イメージの質、パターンの複写またはプリントが改善される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図１６はポジ型フォトレジストに対する感光性レジストまたはフォトレジストの露光、転写、または応答の関数５３２を示すグラフである。ポジ型フォトレジストについては露光または線量を増加させると、得られる処理済みフォトレジスト被覆基板の線幅、すなわちレチクル上の不透明な線が縮小される。また露光または線量を減少させると、得られる処理済みフォトレジスト被覆基板の線幅が増加する。波形５３４はこの関係を表す；つまり、露光または線量を増加すると得られる処理済みフォトレジスト被覆基板の線幅が縮小し、露光または線量を減少すると得られる処理済みフォトレジスト被覆基板の線幅が拡大する。公称中心点５３８は、特定のフォトレジストに対して幅Ｗが得られる線量ｄを示す。点５３６は拡大した線幅Ｗ＋が得られる減少した線量ｄ−を表す。点５４０は縮小または減少した線幅Ｗ−が得られる増加した線量ｄ＋を表す。従って、レチクル上の所定の線幅Ｗを感光性基板上に転写したとしても、得られる処理された線幅は線量または露光線量の関数として変動する。結果的に、フォトリソグラフィ装置のシグネチャ、およびレジスト応答関数に基づいて補正された局部的な露出線量を決定することができて、局部における線幅変動が大幅に低減される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図１８に、感光性基板に照射する露光線量を局部的に調節できるフォトリソグラフィシステムまたは装置を示す。光源５６２は、レチクルステージ５３５に支えられたレチクル５３７のイメージを感光性基板５６０に投影する。レチクル５３７のイメージは、投影光学系５４９により感光性基板５６０上に投影される。投影光学系５４９の倍率は１より小さい。感光性基板５６０はウェハステージ５５８上に配置されている。レチクル５３７はレチクルステージ５３５に配置されている。レチクルステージ５３５およびウェハステージ５５８は平行な平面内を動き、それにより照明フィールド５１０の平行な走査を矢印５１８が示す方向に提供する。レチクルステージ５３５およびウェハステージ５５８はステージ制御部５３９により同期または制御される。投影光学系とレチクル５３７との間には、照明アジャスタ５２０が配置され、所望の照明フィールドを提供する。照明アジャスタ５２０は照明アジャスタ制御部５３３により調節される。従って、実質的に矩形である照明フィールド５１０の幅は制御される。これは図１３に示すとおりである。データ記憶装置５４７は、投影光学系、フォトレジスト、レチクル、そしてその他任意の情報に関する、イメージの質またはパターンの複写に影響するデータを記憶する。データ記憶装置５４７内のデータは露光計算器５４３に供給される。露光計算器は図１６に示すフォトレジスト応答関数を含む、公知の技法に基づいて最適な露光を計算する。露光計算器５４３は有利な、または最適化された露光線量についての計算された情報を調節可能スリット制御部５４１に供給する。調節可能スリット制御部５４１は照明アジャスタ制御部５３３に指示して照明アジャスタ５２０を駆動させ、その結果レチクル５３７および感光性基板５６０を矢印５１８が示す方向に走査するのに伴い、照明フィールド５１０の幅は動的に修正される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
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