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【手続補正書】
【提出日】平成18年2月27日(2006.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  機体に上下回動自在に設けられ、その回動に応じて脱穀部上方を開閉する扱室ケースと、該扱室ケース内に回転自在に設けられる扱胴と、脱穀済みの排藁を搬送する排藁搬送装置とを備えると共に、前記扱胴および排藁搬送装置を、前記扱室ケースと一体的に上下動させるコンバインにおいて、
前記扱室ケースの回動支点となる支点フレームと、前記扱室ケースの先端側に沿う先端フレームと、前記扱胴を支持する扱室フレームと、前記排藁搬送装置が設けられる排藁フレームとを一体的に連結して枠体を構成すると共に、
前記排藁フレームは、その右端部が支点フレームの後端部に一体的に連結される一方、その左端部が連結プレートを介して先端フレームに連結されることを特徴とするコンバイン。
【請求項２】  請求項１において、前記先端フレームに、脱穀フィードチェンとの間で茎稈を挟持する挟持レールを連結したことを特徴とするコンバイン。
【請求項３】  請求項１または２において、前記先端フレームに、扱室ケースを開閉操作する開閉レバーを連結したことを特徴とするコンバイン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の如き実情に鑑みこれらの課題を解決することを目的として創作されたものであって、機体に上下回動自在に設けられ、その回動に応じて脱穀部上方を開閉する扱室ケースと、該扱室ケース内に回転自在に設けられる扱胴と、脱穀済みの排藁を搬送する排藁搬送装置とを備えると共に、前記扱胴および排藁搬送装置を、前記扱室ケースと一体的に上下動させるコンバインにおいて、前記扱室ケースの回動支点となる支点フレームと、前記扱室ケースの先端側に沿う先端フレームと、前記扱胴を支持する扱室フレームと、前記排藁搬送装置が設けられる排藁フレームとを一体的に連結して枠体を構成すると共に、前記排藁フレームは、その右端部が支点フレームの後端部に一体的に連結される一方、その左端部が連結プレートを介して先端フレームに連結されることを特徴とする。つまり、フレーム部材で枠体を構成することにより、扱室ケースの強度を高めるため、ステー等の補強部材を不要にして部品点数の削減や構造の簡略化を図ることができる。
また、前記先端フレームに、脱穀フィードチェンとの間で茎稈を挟持する挟持レールを連結したことを特徴とする。この場合においては、枠体を構成する先端フレームに挟持レールを連結することにより、挟持レールの支持強度を高めることができる。
また、前記先端フレームに、扱室ケースを開閉操作する開閉レバーを連結したことを特徴とする。この場合においては、枠体を構成する先端フレームに開閉レバーを連結することにより、開閉レバーの支持強度を高めることができ、換言すれば、開閉レバーを支持する先端フレーム（レバーフレーム）を利用して枠体を構成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月20日(2006.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面を樹脂層で被覆した樹脂被覆紙の少なくとも一方の面にインク受容層を設けたインクジェット記録材料に於いて、該樹脂層がポリオレフィン及び粘着付与剤を必須要素とする混合物からなり、該インク受容層が二次粒子径５００ｎｍ以下に粉砕された多孔質無機微粒子とポリビニルアルコールを含むことを特徴とするインクジェット記録材料。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月24日(2005.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
各図において、符号の8a、8bはプレスモールド成形用の金型で、この金型8a、8b内には熱水が循環して金型8a、8bを加熱するために熱交換器9a、9bが組み込まれていると共に金型8b側には、金型8aと8bを密閉したときにシールを担保するシール材10が取り付けられている。金型温度の調整は、温度調整機6により、温度調整ライン7a、7bを通り行われる。温度調整機6は自社製で、ポンプ2a、2b、加熱機3、冷却機5、電磁弁4a、4b、4c、4d、4e、4fで構成される。装置の動作は、水源1の水を、ポンプ2aで流し加熱機3で熱水にし、または、ポンプ2bで流し冷却機5で冷水にし、これらを電磁弁4a、4b、4c、4d、4e、4fにより切り替えながら、金型8a、8bの熱交換器9a、9b内を循環させる。金型8a、8bに熱水を流す際は、電磁弁4a、4cを開き、金型8a、8bに冷水を流す際は、電磁弁4b、4dを開く。金型8a、8b内への二酸化炭素の注入は、二酸化炭素発生注入装置21により、二酸化炭素供給ライン11を通り行われる。二酸化炭素発生注入装置21は自社製で、電磁弁12a、12b、圧力センサー13、背圧弁14、安全弁15、温度センサー16、蓄圧タンク17、加温機18、減圧弁19、逆止弁20で構成される。装置の動作は、二酸化炭素発生源22より発生した二酸化炭素を、減圧弁19で圧力の調整を行い、加温機18で温度調整を行い、蓄圧タンク17に蓄圧する。次に背圧弁14で圧力の微調整を行い、電磁弁12a、12bにより、二酸化炭素の注入排出を行う。二酸化炭素の注入時には電磁弁12bが開き、二酸化炭素排出時には電磁弁12aが開く。成形動作中、金型8a、8bが閉じている場合、金型8a、8b内に注入された二酸化炭素はシール材10により圧力を保持することが出来る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
実施例1と同様の装置、および、樹脂を用い、図５に示す工程で実施した。始めに、（A）に示すように、140℃に加熱したPMMA予備成形体X-1を、温度調整機6および温度調整ライン7a、7bにより140℃に加熱した金型8a、8bの間に置く。次に、（B）に示すように、金型8aを予備成形体X-1の表面に接触する寸前の状態まで閉じ、二酸化炭素発生注入装置21より、二酸化炭素注入ライン11を通して、金型8aと予備成形体X-1の間に、圧力8MPa、温度40℃の二酸化炭素を1sec注入する。これにより、樹脂における表面の固化温度は、PMMAの約100℃から、約60℃低下して、約40℃になる。次に、（C）に示すように、金型8aを50MPaの圧力で締め、5秒間保持する。次に、（D）に示すように、二酸化炭素注入ライン11中の二酸化炭素を排出し、温度調整機6および温度調整ライン7a、7bにより、金型8aを80℃まで冷却する。次に、（E）に示すように、金型8aを開き、成形品X-2を取り出す。成形の条件を表１に、これにより得られた成形品の評価を表２に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
樹脂溶解性ガスを、二酸化炭素と窒素の比率３：１の混合体とした以外は、実施例２と同様である。これにより得られた成形品の評価を表２に示す。二酸化炭素と窒素の比率を変えることで、成形品の転写性のみをコントロールすることが出来る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本実施例は、請求項４に対応するもので、この実施例の装置を図６に示し、予備成形体X-1を図７（a）（b）に、成形品X-2を図８（a）（b）に示し、工程を図９（a）に、樹脂
の固化温度とスタンパー温度の変化を（b）に示す。符号の8a、8bがエンボス加工用の金型、8cがスタンパーで、スタンパー温度の調整は、温度調整機6により、温度調整ライン7a、7bを介してスタンパー8c内の熱交換器9a内に熱媒を循環させることにより行われる。温度調整機6は自社製で、ポンプ2a、2b、加熱機3、冷却機5、電磁弁4a、4b、4c、4d、4e、4fで構成される。装置の動作は、水源1の水を、ポンプ2aで流し加熱機3で熱水にし、または、ポンプ2bで流し冷却機5で冷水にし、これらを電磁弁4a、4b、4c、4d、4e、4fにより切り替えながら、スタンパー8cの熱交換器9a内を循環させる。スタンパー8cに熱水を流す際は、電磁弁4a、4c、4eを開き、スタンパー8cに冷水を流す際は電磁弁4b、4d、4fを開く。金型内への二酸化炭素の注入は、二酸化炭素発生注入装置21により、二酸化炭素供給ライン11を通り行われる。二酸化炭素発生注入装置21は自社製で、電磁弁12a、12b、圧力センサー13、背圧弁14、安全弁15、温度センサー16、蓄圧タンク17、加温機18、減圧弁19、逆止弁20で構成される。装置の動作は、二酸化炭素発生源22より発生した二酸化炭素を、減圧弁19で圧力の調整を行い、加温機18で温度調整を行い、蓄圧タンク17に蓄圧する。次に背圧弁14で圧力の微調整を行い、電磁弁12a、12bにより、二酸化炭素の注入排出を行う。二酸化炭素の注入時には電磁弁12bが開き、二酸化炭素排出時には電磁弁12aが開く。成形動作中、金型8a、8bが閉じている場合、金型内に注入された二酸化炭素はシール材10により圧力を保持することが出来る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
実施例７と同様の装置、および、樹脂を用い、図10（a）（b）に示す工程で実施した。始めに、（A）に示すように、常温のPMMA予備成形体X-1を、温度調整機6および温度調整ライン7a、7bにより120℃に加熱したスタンパー8cと、80℃に保った金型8bの間に置く。次に、（B）に示すように、スタンパー8cを予備成形体X-1の表面に接触する寸前の状態まで閉じ、二酸化炭素発生注入装置21より、二酸化炭素注入ライン11を通して、スタンパー8cと予備成形体X-1の間に、圧力8MPa、温度40℃の二酸化炭素を1sec注入する。これにより、樹脂の固化温度は、PMMAの約100℃から、約60℃低下して、約40℃になる。次に、（C）に示すように、金型8aを50MPaの圧力で締め、5秒間保持する。次に、（D）に示すように、二酸化炭素注入ライン11中の二酸化炭素を排出し、温度調整機6および温度調整ライン7a、7bにより、スタンパー8cを80℃まで冷却する。次に、（E）に示すように、金型8aを開き、成形品X-2を取り出す。成形の条件を表３に、これにより得られた成形品の評価を表４に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月5日(2006.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
フルオロアシッド水溶液は反応型化成処理液であり、水に溶解したフルオロアシッドによりエッチングされ、活性化されためっき表面にＴｉを始めとするフルオロアシッドの金属成分が析出し、フッ素，フルオロアシッドの金属成分からなるフルオロアシッド皮膜が形成される。
フルオロアシッド皮膜は、従来のクロメート処理で形成されるクロメート皮膜に匹敵する塗膜密着性を示し、緻密皮膜であるため環境遮断能にも優れている。フルオロアシッド皮膜の金属成分はプライマ塗膜の水酸基と反応し、プライマ層の密着性を向上させる。更に、プライマ層のリン酸系防錆顔料からリン酸イオンが溶出し、下地めっき層のＺｎ、Ａｌ等と反応して不溶性リン酸塩として再析出し、フルオロアシッド皮膜の欠陥部を自己修復する。また、プライマ層中のリン酸系防錆顔料からリン酸イオンが解離する際に雰囲気が若干酸性化するため、チタン化合物の加水分解，ひいては難溶性チタン酸化物又は水酸化物の生成が促進され、化成皮膜／プライマ層の界面に不溶性化合物を形成する。不溶性化合物層は、緻密な化成皮膜と相俊って瑚塊遮断性を高め、プライマ層を透過してきた腐食性成分が塗装原板のめっき層に到達することを防止する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
熱溶融性フッ素樹脂としては、耐熱非粘着性の観点から融点２７０℃以上のフッ素樹脂が好ましく、テトラフルオロエチレン，ヘキサフルオロエチレン，パーフルオロアルキルビニルエーテル，クロロトリフルオロエチレン等の単量体の少なくとも一種からなる重合体又は共重合体を使用できる。特に非粘着性が持続することから、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（PFA），テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル-ヘキサフルオロプロピレン共重合体（FEP）が好ましく、更に耐熱性の観点からPFAが最適である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また、上記実施形態では、可逆性感熱記録印刷か感熱方式のインク転写印刷かを、利用者がキー入力で指示するものを示したが、装置が自動的に判別するようにしても良い。例えば、印刷起動キーが操作された際に、インクリボンカセットが装填されていれば感熱方式のインク転写印刷、インクリボンカセットが装填されていなければ可逆性感熱記録印刷と判別するようにしても良い。また例えば、記録媒体面用貼付シール４３の一部にそのことを表すバーコード等のコードを印刷しておき、そのようなコードが読み取れれば可逆性感熱記録印刷、読み取れなければ感熱方式のインク転写印刷と判別するようにしても良い。さらに例えば、可逆性感熱記録表示層４３ｃが存在するであろう位置に光線を照射し、その反射光の所定特性を分析して、可逆性感熱記録表示層４３ｃの有無を判別して印刷モードを判別するようにしても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
綴じ部を有する媒体に印刷を行う印刷機器の媒体搬送方法であって、
前記綴じ部を有する媒体を所定の圧力で挟持する媒体搬送手段によって前記綴じ部が該一対の媒体搬送手段に当接するまで搬送する媒体予備搬送手順と、
該媒体予備搬送手順が完了すると、続けて、前記媒体搬送手段に前記所定の圧力を越える圧力を印加し、前記綴じ部を有する媒体を印刷開始位置まで逆搬送して前記複数枚の媒体の弛みを除去する媒体弛み除去手順とを備えることを特徴とする、印刷機器の媒体搬送方法。
【請求項２】
綴じ部を有する媒体に印刷を行う印刷機器の媒体搬送方法であって、
媒体の搬送を不可能にする媒体停止部材を閉鎖し、前記綴じ部を有する媒体を所定の圧力で挟持する媒体搬送手段を前記媒体の搬送方向に回転させて、前記複数枚の媒体を前記媒体停止部材に突きあてるとともに媒体の弛みを除去する媒体弛み除去手順を備えることを特徴とする、印刷機器の媒体搬送方法。
【請求項３】
綴じ部を有する媒体に印刷を行う印刷機器の媒体搬送方法であって、
前記綴じ部を有する媒体を所定の圧力で挟持する第一の媒体搬送手段によって、該第一の媒体搬送手段の下流に配置される第二の媒体搬送手段に前記媒体の端部が当接するまで搬送する第一の媒体予備搬送手順と、
該第一の媒体予備搬送手順が完了すると、続けて、前記第一の媒体搬送手段の前記所定の圧力を解除すると共に前記第二の媒体搬送手段に前記所定の圧力を越える圧力を印加して前記第一の媒体搬送手段に前記綴じ部が当接するまで前記綴じ部を有する媒体を搬送する第二の媒体予備搬送手順と、
該第二の媒体予備搬送手順が完了すると、続けて、前記第一の媒体搬送手段に前記所定の圧力を越える圧力を印加し、前記第二の媒体搬送手段の前記所定の圧力を越える圧力を解除し、前記綴じ部を有する媒体を印刷開始位置まで逆搬送する媒体弛み除去手順とを備えることを特徴とする、印刷機器の媒体搬送方法。
【請求項４】
綴じ部を有する媒体に印刷を行う印刷機器の媒体搬送装置であって、
前記綴じ部を有する媒体を所定の押圧力で挟持して正方向に搬送する媒体搬送手段と、
該媒体搬送手段の押圧力を変更する押圧力変更手段と、
前記媒体搬送手段及び前記押圧力変更手段の動作制御を行う制御部とを備え、
前記媒体搬送手段は、前記制御部の制御で前記所定の押圧力を超える押圧力で前記綴じ部を有する媒体を挟持してから逆方向に搬送することを特徴とする印刷機器の媒体搬送装置。
【請求項５】
綴じ部を有する媒体に印刷を行う印刷機器の媒体搬送装置であって、
前記綴じ部を有する媒体を搬送する搬送部材を含む媒体搬送手段と、
媒体搬送方向への進行を停止させる媒体停止部材とを備え、
前記媒体停止部材により媒体の進行を停止させて、前記媒体搬送手段の前記搬送部材を搬送方向に回転させることを特徴とする媒体搬送装置。
【請求項６】
綴じ部を中心として開いた状態の媒体を該媒体に印刷を行うための印刷部まで搬送する媒体搬送装置であって、
前記媒体を押圧力を付与して挟持し前記印刷部に向けて搬送する搬送部材を含む媒体搬送手段と、
前記印刷部を通過する前記媒体の先端側を挟持する一対の後方支持部材と、
前記媒体搬送手段を制御して少なくとも前記綴じ部を前記搬送部材が挟持する位置まで前記媒体を正方向に搬送させる正方向搬送制御部と、
前記媒体搬送手段を制御して前記正方向に搬送された媒体をその印刷ページの弛みを除去すべく前記搬送部材により押圧力を付与して挟持させ逆方向に搬送させる逆方向搬送制御部と、
を含むことを特徴とする媒体搬送装置。
【請求項７】
前記搬送部材と前記後方支持部材との間隔は、前記媒体の前記綴じ部から前記先端までの長さ寸法よりも小さく設定されていることを特徴とする請求項６記載の媒体搬送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明では、媒体を、所定の押圧力が付与されている一対の搬送ローラ等の搬送部材によって挟持して搬送し、綴じ部が一対の搬送部材に挟持される位置まで搬送する。続けて、一対の搬送部材により押圧力を付与しながら媒体を逆搬送する。この逆搬送によって、印字ページに発生している弛みを、押し潰して取り除くことを最も主要な特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記書込制御手段は、前記タグへの書込み情報量が前記タグの最大書込み容量を超えるときには、前記記録媒体の表面への画像記録と前記タグへの情報書込みとを抑止するよう制御し、
前記タグへの書込み情報量が前記タグの最大書込み容量を超えることをメッセージとしてユーザに通知する通知手段をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
なお、上記書込み制御手段の具体的な構成として、前記書込制御手段は、前記タグへの書込み情報量が前記タグの最大書込み容量以下であるときに、前記記録媒体の表面への画像記録と前記タグへの情報書込みとを実行するよう制御しても良いし、或いは、前記タグへの書込み情報量が前記タグの最大書込み容量を超えるときには、前記記録媒体の表面への画像記録と前記タグへの情報書込みとを抑止するよう制御し、前記タグへの書込み情報量が前記タグの最大書込み容量を超えることをメッセージとしてユーザに通知するようにしても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月12日(2006.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
シート状物を保持するシート状物保持手段を有し、回転自在に支持された第１の胴と、
回転自在に支持され、前記第１の胴と対向し、搬送される前記シート状物に対して、前記第１の胴と前記第２の胴との間で印刷またはコーティングを行う第２の胴と、
前記第１の胴と前記第２の胴との対向部近傍に設けられ、前記シート保持手段に保持されたシート状物を案内する案内面を有する案内部材とを備えたシート状物の案内装置において、
前記案内部材は、固定部材に、前記案内部材を揺動自在に支持するブラケットを介して着脱自在に支持され、
前記固定部材に、前記第１の胴の外周面と前記案内面との間隔を調整する案内部材調整手段を備えたことを特徴とするシート状物の案内装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この目的を達成するために、請求項１に係る発明は、シート状物を保持するシート状物保持手段を有し、回転自在に支持された第１の胴と、
回転自在に支持され、前記第１の胴と対向し、搬送される前記シート状物に対して、前記第１の胴と前記第２の胴との間で印刷またはコーティングを行う第２の胴と、
前記第１の胴と前記第２の胴との対向部近傍に設けられ、前記シート保持手段に保持されたシート状物を案内する案内面を有する案内部材とを備えたものである。
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記案内部材は、前記案内部材と前記ブラケットとの間に弾装された弾性部材によって付勢され、前記弾性部材によって付勢された前記案内部材の係合部は、前記案内部材調整手段と対接するものである。
請求項３に係る発明は、請求項２に係る発明において、前記案内部材を前記ブラケットにピンを介して揺動自在に支持し、前記弾性部材を圧縮コイルばねとし、この圧縮コイルばねを前記ブラケットの非貫通孔の底部と前記案内部材に固定したばね受け部材との間に弾装し、前記案内部材調整手段を前記固定部材に螺合させ、前記圧縮コイルばねの弾発力に抗して前記案内部材の係合部を押圧する調整用ボルトとしたものである。
請求項４に係る発明は、請求項２に係る発明において、前記第１の胴の軸線と平行となるように左右のフレーム間に横架され前記固定部材が固定される支持軸と、前記固定部材に第１の固定用ボルトによる締結を緩めることにより移動可能な調整用ホルダーとを備え、この調整用ホルダーに前記ブラケットを第２の固定用ボルトを介して着脱自在に取り付けたものである。
請求項５に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記第２の胴に、この第２の胴の軸方向よりも狭い凸部を有しているものである。
請求項６に係る発明は、請求項５に係る発明において、前記凸部は軸方向に複数設けられ、前記凸部との間に前記案内部材があるものである。
請求項７に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記第２の胴に、この第２の胴の円周方向の長さよりも短い凸部を有しているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月5日(2006.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】セラミックス素子およびその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミックス素子およびセラミックス素子の製造方法に関する。詳しくは、例えば抵抗体、非直線抵抗体、半導体コンデンサ、ＩＣ基板、着火素子、圧電フィルタ、表面波デバイス、圧電トランス、圧電振動子、サーミスタ、ガス吸着形半導体等として適用されるセラミックス、および同セラミックス素子の製造方法に関する。また、セラミックス素子を用いたケーブルシース用避雷器、配電用柱上内蔵用避雷器またはポリマー型配電用避雷器等の避雷器に関する。さらに詳しくは、特に酸化アルミニウムを主成分とする抵抗体、酸化チタン、チタン酸ストロンチウムを主成分とするコンデンサ、窒化アルミ、窒化ケイ素を主成分とする基板、および酸化亜鉛を主成分とする非直線抵抗体などに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された絶縁膜と、
この絶縁膜上に形成された第１の半導体層と、
前記第１の半導体層と前記絶縁膜を貫通して前記半導体基板に達する複数個の開口部と、
これら開口部内に選択的成長によって充填され、前記半導体基板に接続された第２の半導体層とを備え、
前記複数個の開口部の面積がほぼ等しく、前記複数個の開口部の面積は、最大のものと最小のものとの差が最小のものの面積に対し、１０％以内に収まっていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記複数個の開口部に充填された前記第２の半導体層が前記半導体基板に形成された拡散層と接続され、前記開口部の少なくとも一つが前記拡散層の電位取り出し用に用いられていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第２の半導体層にはＤＲＡＭセル、ＤＲＡＭマクロ、ＤＲＡＭセンスアンプ、ＳＲＡＭセンスアンプ、アナログ回路用トランジスタ、Ｉ／Ｏ用トランジスタの少なくともいずれかが形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された絶縁膜と、
この絶縁膜上に形成された第１の半導体層と、
前記第１の半導体層と前記絶縁膜を貫通して前記半導体基板に達する開口部とを備え、
この開口部内に露出した前記半導体基板表面に標識部が形成されたことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された絶縁膜と、
この絶縁膜上に形成された第１の半導体層と、
前記第１の半導体層と前記絶縁膜を貫通して前記半導体基板に達する開口部と、
この開口部内に選択的成長によって充填され、前記半導体基板に接続された第２の半導体層とを備え、
前記開口部内の第２の半導体層の表面に標識部が形成されたことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
前記標識部は、認識用の番号、マスク合わせ用のマーク、品質管理用データ取得パターンの少なくともいずれか一つであることを特徴とする請求項４または５に記載の半導体装置。
【請求項７】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された絶縁膜と、
この絶縁膜上に形成された第１の半導体層と、
前記第１の半導体層と前記絶縁膜を貫通して前記半導体基板に達する複数個の開口部と、
これら開口部内に選択的成長によって充填され、前記半導体基板に接続された第２の半導体層とを備え、
前記複数個の開口部の一部の第２の半導体層の表面に標識部が形成され、残部の開口部の第２の半導体層の表面にＤＲＡＭセル、ＤＲＡＭマクロ、ＤＲＡＭセンスアンプ、ＳＲＡＭセンスアンプ、アナログ回路用トランジスタ、Ｉ／Ｏ用トランジスタの少なくともいずれかが形成され、
前記複数個の開口部の面積がほぼ等しいことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
前記複数個の開口部の面積は最大のものと最小のものとの差が最小のものの面積に対し、１０％以内に収まっていることを特徴とする請求項７に記載の半導体装置。
【請求項９】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された絶縁膜と、
この絶縁膜上に形成された第１の半導体層と、
前記第１の半導体層の近傍から前記半導体基板に達する複数の第２の半導体層と、
前記第２の半導体層の面積は最大のものと最小のものとの差が最小のものの面積に対し、１０％以内に収まっていることを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明にかかる半導体装置によれば、半導体基板と、この半導体基板上に形成された絶縁膜と、この絶縁膜上に形成された第１の半導体層と、前記第１の半導体層と前記絶縁膜を貫通して前記半導体基板に達する複数個の開口部と、これら開口部内に選択的成長によって充填され、前記半導体基板に接続された第２の半導体層とを備え、前記複数個の開口部の面積がほぼ等しく、前記複数個の開口部の面積は、最大のものと最小のものとの差が最小のものの面積に対し、１０％以内に収まっていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月22日(2006.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面内に第１の領域と第２の領域とが画定された半導体基板と、
前記半導体基板の主面の前記第１の領域の一部の上に形成され、基板側から順番に第１の導電膜と第１の絶縁膜とが積層された第１の積層構造と、
前記半導体基板の主面の前記第２の領域上に形成され、第２の導電膜、第２の絶縁膜、第３の導電膜、及び第３の絶縁膜が、前記半導体基板側からこの順番に積層された第２の積層構造と
を有し、
前記第１の積層構造の第１の絶縁膜と前記第２の積層構造の第３の絶縁膜とが同一材料で形成され、かつ相互に異なる厚さを有し、前記半導体基板の主面から前記第２の積層構造の上面までの高さが、前記半導体基板の主面から前記第１の積層構造の上面までの高さと等しいかまたはそれよりも低い前記第２の積層構造と
を有する半導体装置。
【請求項２】
さらに、前記半導体基板の主面上に形成された層間絶縁膜であって、該層間絶縁膜の上面が前記第１の積層構造の上面と同一の平面を画定している前記層間絶縁膜と、
前記第１の領域上の前記層間絶縁膜に形成された複数のコンタクトホールと、
前記コンタクトホール内に埋め込まれた導電性プラグであって、該導電性プラグの上面が前記平面に整合している前記導電性プラグと
を有する請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
さらに、前記第１の積層構造と前記第２の積層構造との側壁に形成されたサイドウォールスペーサを有する請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第２の導電膜、前記第２の絶縁膜、及び前記第３の導電膜がキャパシタを構成する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項５】
（ａ）第１の領域と第２の領域とが画定された半導体基板を準備する工程と、
（ｂ）前記半導体基板の前記第２の領域上に、第１の下地膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第１の領域上及び前記第１の下地膜の上に、第１の導電膜を形成する工程と、
（ｄ）前記第１の導電膜の上に、第１の絶縁膜を形成する工程と、
（ｅ）少なくとも前記第１の導電膜と第１の絶縁膜との２層をパターニングし、前記第１の領域上においては、前記半導体基板の上に、前記第１の導電膜の一部と前記第１の絶縁膜の一部とが積層された第１の積層構造を残し、前記第２の領域上においては前記第１の下地膜の上に、前記第１の導電膜の一部と前記第１の絶縁膜の一部とが積層された第２の積層構造を残す工程と、
（ｆ）前記第２の積層構造の上面が前記第１の積層構造の上面と等しい高さ、もしくは該第１の積層構造の上面よりも低くなるように、前記第２の積層構造を薄くする工程と
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項６】
（ａ）第１の領域と第２の領域とが画定された半導体基板を準備する工程と、
（ｂ）前記半導体基板の主面の前記第２の領域上に、第１の下地膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第１の領域上及び前記第１の下地膜の上に、第１の導電膜を形成する工程と、
（ｄ）前記第１の導電膜の上に、第１の絶縁膜を形成する工程と、
（ｅ）前記第２の領域上の前記第１の絶縁膜の上面が、前記第１の領域上の前記第１の絶縁膜の上面と等しい高さ、もしくは該第１の絶縁膜の上面よりも低くなるように、前記第２の領域上の前記第１の絶縁膜を薄くする工程と、
（ｆ）少なくとも前記第１の導電膜と第１の絶縁膜との２層をパターニングし、前記第１の領域上においては、前記半導体基板の上に、前記第１の導電膜の一部と前記第１の絶縁膜の一部とが積層された第１の積層構造を残し、前記第２の領域上においては前記第１の下地膜の上に、前記第１の導電膜の一部と前記第１の絶縁膜の一部とが積層された第２の積層構造を残す工程と
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項７】
（ａ）第１の領域と第２の領域とが画定された半導体基板を準備する工程と、
（ｂ）前記半導体基板の前記第２の領域上に、第１の下地膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第１の領域上及び前記第１の下地膜の上に、第１の導電膜を形成する工程と、
（ｄ）前記第１の導電膜の上に、第１の絶縁膜を形成する工程と、
（ｅ）少なくとも前記第１の導電膜と第１の絶縁膜との２層をパターニングし、前記第１の領域上においては、前記半導体基板の上に、前記第１の導電膜の一部と前記第１の絶縁膜の一部とが積層された第１の積層構造を残し、前記第２の領域上においては前記第１の下地膜の上に、前記第１の導電膜の一部と前記第１の絶縁膜の一部とが積層された第２の積層構造を残す工程と、
（ｆ）前記第１の積層構造及び第２の積層構造を覆う層間絶縁膜を形成する工程と、
（ｇ）前記第１の絶縁膜の研削速度に対する前記層間絶縁膜の研削速度の比が１よりも大きい第１の研削条件で、前記第２の積層構造の上面が露出するまで前記層間絶縁膜を削る工程と、
（ｈ）前記第１の絶縁膜の研削速度に対する前記層間絶縁膜の研削速度の比が、前記第１の研削条件における当該比よりも小さく、かつ１以上である第２の研削条件で、前記第１の積層構造の上面が露出するまで、前記層間絶縁膜及び前記第２の積層構造を削る工程と
を有する半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によると、主面内に第１の領域と第２の領域とが画定された半導体基板と、前記半導体基板の主面の前記第１の領域の一部の上に形成され、基板側から順番に第１の導電膜と第１の絶縁膜とが積層された第１の積層構造と、前記半導体基板の主面の前記第２の領域上に形成され、第２の導電膜、第２の絶縁膜、第３の導電膜、及び第３の絶縁膜が、前記半導体基板側からこの順番に積層された第２の積層構造とを有し、前記第１の積層構造の第１の絶縁膜と前記第２の積層構造の第３の絶縁膜とが同一材料で形成され、かつ相互に異なる厚さを有し、前記半導体基板の主面から前記第２の積層構造の上面までの高さが、前記半導体基板の主面から前記第１の積層構造の上面までの高さと等しいかまたはそれよりも低い前記第２の積層構造とを有する半導体装置が提供される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成17年10月24日(2005.10.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
第四に、第三段階で得られた値で100を割り、Ｒ２と呼ばれる純フードインデックス数を得る。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
Ｒ２＝100 fpm/平均フェース速度fpm                  (1)
第五に、頂上部および前面のそれぞれの中間部において、渦室の高さＡと深さＢとをそれぞれ測定し、次式によってＡとＢとの直交点に原点Ｏを有する半径Ｃを計算するのに測定値を使用する。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月7日(2005.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  送信しようとするデータの宛先を指定する指定手段と、
前記データの受信者の顔写真画像を取得する取得手段と、
前記データおよび前記取得手段により取得された受信者の顔写真画像を前記宛先に送信する送信手段と
を有することを特徴とするデータ送信装置。
【請求項２】  前記送信手段は、前記データおよび前記取得手段により取得された受信者の顔写真画像を、電子メールに添付して前記宛先に送信することを特徴とする請求項１に記載のデータ送信装置。
【請求項３】  複数の顔写真画像を記憶する記憶手段をさらに有し、
前記取得手段は、前記記憶手段に記憶されている複数の顔写真画像の中から、前記受信者の顔写真画像を取得することを特徴とする請求項１または２に記載のデータ送信装置。
【請求項４】  前記取得手段は、外部の所定機器にデータベースとして記憶されている複数の顔写真画像の中から、前記受信者の顔写真画像を入力することを特徴とする請求項１または２に記載のデータ送信装置。
【請求項５】  所定のデータを受信する受信手段と、
前記受信手段により受信されたデータの受信者を検出する検出手段と、
前記データの受信者の顔写真画像を取得する取得手段と、
前記データおよび前記取得手段により取得された受信者の顔写真画像を出力する出力手段と
を有することを特徴とするデータ受信装置。
【請求項６】  前記受信手段は、電子メールに添付された前記データを受信することを特徴とする請求項５に記載のデータ受信装置。
【請求項７】  前記検出手段は、前記電子メールの中から、前記データの受信者を検出することを特徴とする請求項６に記載のデータ受信装置。
【請求項８】  送信しようとするデータの宛先を指定する段階と、
前記データの受信者の顔写真画像を取得する段階と、
前記データおよび取得された受信者の顔写真画像を前記宛先に送信する段階と
を有することを特徴とするデータ送信方法。
【請求項９】  送信しようとするデータの宛先を指定する手順と、
前記データの受信者の顔写真画像を取得する手順と、
前記データおよび取得された受信者の顔写真画像を前記宛先に送信する手順と
をコンピュータに実行させるためのデータ送信プログラム。
【請求項１０】  請求項９に記載のデータ送信プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１１】  複数の顔写真画像を記憶する記憶手段をさらに有し、
前記取得手段は、前記記憶手段に記憶されている複数の顔写真画像の中から、前記受信者の顔写真画像を取得することを特徴とする請求項５〜７のいずれか１つに記載のデータ受信装置。
【請求項１２】  前記取得手段は、外部の所定機器にデータベースとして記憶されている複数の顔写真画像の中から、前記受信者の顔写真画像を入力することを特徴とする請求項５〜７のいずれか１つに記載のデータ受信装置。
【請求項１３】  所定のデータを受信する段階と、
受信されたデータの受信者を検出する段階と、
前記データの受信者の顔写真画像を取得する段階と、
前記データおよび前記取得手段により取得された受信者の顔写真画像を出力する段階と
を有することを特徴とするデータ受信方法。
【請求項１４】  データを受信する手順と、
受信されたデータの受信者を検出する手順と、
前記データの受信者の顔写真画像を取得する手順と、
前記データおよび前記取得手段により取得された受信者の顔写真画像を出力する手順と
をコンピュータに実行させるためのデータ受信プログラム。
【請求項１５】  請求項１４に記載のデータ受信プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月31日(2006.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上に形成された光導波路と、
該光導波路の一部に形成された導波路グレーティングと、
上記基板が配置されたケースと、
上記導波路グレーティングの両側で、上記基板の第１の主面に接して上記基板を滑動可能に上記ケース内で支持する基板支持体と、
上記ケースに設けられ、上記第１の主面の反対側の上記基板の第２の主面に接し、上記基板と直交する方向に移動可能な基板押圧手段と、
を備えたことを特徴とする導波路グレーティングデバイス。
【請求項２】  上記基板支持体の間隔Ｌ１が、基板の厚さをｔ１とした時に、不等式：ｔ１／Ｌ１＜０．２を満足するように設定されている請求項１に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項３】  上記基板押圧手段は、一点を中心とする円弧形状の先端部分を有する請求項１又は２に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項４】  上記基板押圧手段は、上記基板と平行な一つの直線を中心とする円弧形状の先端部分を有する請求項１又は２に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項５】  上記基板押圧手段は、印加される電圧に応答して伸縮するアクチュエーターを含む請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項６】  上記基板において、上記導波路グレーティングが形成されている第１部分が他の部分に比較して薄い請求項１〜５のうちのいずれか１項に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項７】  上記導波路グレーティングは、グレーティング周期が順次変化するように形成されている請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項８】  上記基板支持体は、上記基板に平行な軸を中心とする円弧形状の先端表面を有し、その先端表面において上記基板と上記軸と平行な線で接するようにした請求項１〜７のうちのいずれか１項に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項９】  ブラッグ波長を有する導波路グレーティングを有する基板と、
上記導波路グレーティングに接続された光導波路と、
ケースと、
上記基板の第１の主面に接して上記基板を滑動可能に上記ケース内で支持する基板支持体と、
上記ケース内に設けられ、上記第１の主面とは反対側の上記基板の第２の主面に接し、上記基板と直交する方向に移動可能、又は固定された基板押圧手段と、を備え、
上記基板支持体もしくは基板押圧手段、又は上記基板支持体及び上記基板押圧手段の両方が、温度の変化に対応して変化する該導波路グレーティングの反射中心波長の変化を打ち消す熱膨張係数を有することを特徴とする導波路グレーティングデバイス。
【請求項１０】  上記基板支持体は、上記基板に平行な一直線を中心軸とする円弧形状の先端表面を有し、その先端表面において上記中心軸と平行な線で接するようにした請求項９に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１１】  上記基板押圧手段は、１点を中心とする円弧形状の先端部分を有する請求項９又は１０に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１２】  上記基板押圧手段は、上記基板と平行な一つの直線を中心軸とする円弧形状の先端部分を有する請求項９又は１０に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１３】  上記基板押圧手段を複数備えた請求項９〜１２のうちの１つに記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１４】  上記基板押圧手段は、それぞれ基板に接する第１と第２の先端表面を有し、かつ該第１と第２の先端表面が上記導波路グレーティングを跨ぐように設けられた荷重分割部を先端部に有する請求項９又は１０に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１５】  上記基板押圧手段は、互いに平行な上面と下面とを有する平板を先端部に有する請求項９又は１０に記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１６】  上記導波路グレーティングが形成された基板の表面に有機材料を有する請求項９〜１５のうちのいずれか１つに記載の導波路グレーティングデバイス。
【請求項１７】  上記ケース内に上記基板が気密封止された請求項９〜１６のうちのいずれか１つに記載の導波路グレーティングデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月21日(2005.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【請求項２】  （Ｄ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液への溶解性が増大する分子量３０００以下の化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項３】  （Ｂ）活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物、
（Ｄ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液への溶解性が増大する分子量３０００以下の化合物、及び
（Ｅ）アルカリ可溶性樹脂
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【請求項４】  （Ｃ）活性光線または放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項５】  （Ｆ）含窒素塩基性化合物、及び、（Ｇ）フッ素系またはシリコン系界面活性剤をさらに含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月22日(2005.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 水を用いた処理液によって感光材料を処理する感光材料処理装置であって、
所定角度に傾斜されて配置された樋部と、
前記樋部の所定の位置から薬剤を流下させる薬剤投入手段と、
前記樋部の前記薬剤の投入位置よりも上方から前記水を流下させる給水手段と、
を含むことを特徴とする感光材料処理装置。
【請求項２】  前記薬剤が流下する前記樋部の表面に、薬剤が流下方向と交わる樋部の幅方向に拡散される拡散手段を形成していることを特徴とする請求項１に記載の感光材料処理装置。
【請求項３】  前記樋部の下端に、周縁部から前記薬剤及び水が流れ落ちる受け皿が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の感光材料処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光材料の洗浄や処理液の希釈に水を用いる感光材料処理装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明のは、水を用いた処理液によって感光材料を処理する感光材料処理装置であって、所定角度に傾斜されて配置された樋部と、前記樋部の所定の位置から薬剤を流下させる薬剤投入手段と、前記樋部の前記薬剤の投入位置よりも上方から前記水を流下させる給水手段と、を含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明によれば、給水タンクなどに樋部を設け、給水手段によって樋部に水を供給することにより、この水が樋部を流下して給水タンク内などへ流れ落ちるようにしている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項２に係る発明は、前記薬剤が流下する前記樋部の表面に、薬剤が流下方向と交わる樋部の幅方向に拡散される拡散手段を形成していることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この発明によれば、樋部の流路の表面に薬剤が拡散する拡散手段を設け、この樋部を流れ落ちる薬剤が拡散手段によって拡散されるようにする。これにより、給水される水に薬剤が混入し易くなる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項３に係る発明は、前記樋部の下端に、周縁部から前記薬剤及び水が流れ落ちる受け皿が設けられていることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この発明によれば、樋部を流れ落ちた水が、受け皿の周縁部から溢れるようにして流れ落ちるようにする。これにより、薬剤は勿論、薬剤が混入している水を給水タンク内などの水に拡散させることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、薬剤と水を、所定角度に傾斜させた樋部によって流し落とすようにすることにより、薬剤が溶け易くなる状態で給水することができる。これにより、攪拌手段等を用いることなく、薬剤をタンク内などで水に容易にかつ均一に混和させることができると言う優れた効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月22日(2005.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  帯板状の基体の表面に毛材を設けた帯状部材をローラ本体の周面に一端側から他端側へ螺旋状に巻き付けて形成したブラシローラを回転させ、所定速度で搬送する感光材料の表面をブラッシング処理する感光材料処理装置であって、前記帯状部材の幅寸法Ｗ、前記帯状部材を前記ローラ本体に螺旋状に巻き付けた時の軸線方向に沿って隣接する前記帯状部材の間の隙間寸法ｈ、前記毛材を含めた前記ブラシローラの外径寸法Ｒ、前記ローラ本体の外径である軸径寸法ｒ、前記感光材料の搬送速度Ｖ、前記ブラシローラの回転数Ｎ、及び前記ブラシローラによって前記感光材料をブラッシングする時の前記毛材の押込み量Ｓ、をパラメータとした巻跡指数Ｌを、
【数１】
2001281881.tif 000001
と規定したときに、該巻跡指数Ｌを所定の範囲としていることを特徴とする感光材料処理装置。
【請求項２】  感光性平版印刷版のフォトポリマー版に適用する前記巻跡指数Ｌを、０＜Ｌ≦０．０１５、より好ましくは、０＜Ｌ≦０．０１としていることを特徴とする請求項１に記載の感光材料処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
画像露光した印刷版を現像処理する感光材料処理装置である自動現像装置では、印刷版を現像液に浸漬することにより、露光画像に応じて不要な感光層（例えば、フォトポリマー版では光重合層）を膨潤させて、支持体上から除去することにより画像を形成する。また、自動現像装置では、現像液に浸漬した印刷版の表面をブラシローラによってブラッシングすることにより、支持体上からの不要な感光層の除去を促進するようにしている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
印刷版の処理に用いられるブラシローラは、ローラ本体にチャンネルブラシを巻き付けたものやモルトンローラがある。しかし、チャンネルブラシを用いたブラシローラは、耐久性が高いが印刷版に擦りムラが生じ易い。また、モルトンローラは、擦りムラの点でチャンネルブラシを用いたブラシローラよりは優れているが、耐久性が低い。印刷版では、ブラシローラの擦りムラが仕上り品質に大きく影響する。例えば、フォトポリマー版は、他の印刷版に比べて強くブラッシングする必要があるので、擦りムラが目に付き易い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
すなわち、チャンネルブラシを用いたブラシローラは、毛材を均一な密度及び角度で植えることが難しく、また、チャンネル部材をローラ本体に巻き付けるときに基部となるチャンネルとチャンネルの間に隙間が生じる。このチャンネル吐チャンネルの間の隙間を埋めるためには毛材の毛先を長くする必要があるが、毛先を長くした場合、毛材の腰が弱くなり、強くブラッシングすることが困難となる。また、毛材の腰を強くするために毛材を太くすると、印刷版に擦り跡を生じさせてしまう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、帯板状の基体の表面に毛材を設けた帯状部材をローラ本体の周面に一端側から他端側へ螺旋状に巻き付けて形成したブラシローラを回転させ、所定速度で搬送する感光材料の表面をブラッシング処理する感光材料処理装置であって、前記帯状部材の幅寸法Ｗ、前記帯状部材を前記ローラ本体に螺旋状に巻き付けた時の軸線方向に沿って隣接する前記帯状部材の間の隙間寸法ｈ、前記毛材を含めた前記ブラシローラの外径寸法Ｒ、前記ローラ本体の外径である軸径寸法ｒ、前記感光材料の搬送速度Ｖ、前記ブラシローラの回転数Ｎ、及び前記ブラシローラによって前記感光材料をブラッシングする時の前記毛材の押込み量Ｓ、をパラメータとした巻跡指数Ｌを、
【数２】
2001281881.tif 000002
と規定したときに、該巻跡指数Ｌを所定の範囲としていることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【数３】
2001281881.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【数４】
2001281881.tif 000004