Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月2日(2006.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の放電管を有する面光源システムにおいて、放電管を並列点灯するモジュールを有し、該モジュールの入力端子と該放電管のモジュールが接続された側とは反対側の電極は１８０度位相の異なる電圧波形によって駆動され、該面光源システムの逆位相の入力端子は一つの分流トランスを介して逆位相の出力を有するインバータ回路に接続されることにより、該分流トランスのそれぞれの巻線に流れる電流により発生する磁束が相殺されるように接続されてなることを特徴とする面光源用放電管並列点灯システム。
【請求項２】
前記モジュールを、互いに隣り合う前記放電管の電極を一本置きに逆位相に駆動される構成に置き換えた面光源用放電管並列点灯システムにおいて、該モジュールは二群の分流モジュールに分けられ、それぞれの分流モジュールは同位相で駆動される電極同士を並列駆動するように接続された結果得られる逆位相の分流モジュールの入力端子をそれぞれに有し、該分流モジュールに接続された放電管の電極とは異なる端の電極は、同位相で駆動される電極同士を一つに束ねられる構成としたもう一方の入力端子を有し、該入力端子同士は同位相になるもの同士がさらに別の分流トランスを介して接続され、該分流トランスに発生する磁束はそれぞれの巻線に流れる電流により相殺されるように接続されてなる請求項１記載の面光源用放電管並列点灯システム。
【請求項３】
前記逆位相の出力を有するインバータ回路を接続する分流トランスを、昇圧トランスのGND側端子とGNDとの間に介することによって、該分流トランスのそれぞれの巻線に流れる電流により発生する磁束が相殺されるように接続されてなる請求項１又は２記載の面光源用放電管並列点灯システム。
【請求項４】
前記分流トランスのインバータ回路側及び面光源側にそれぞれ共振用コンデンサを分散配置し、該共振用コンデンサの値を適宜な値に調整することにより、該分流トランスに流れる電流の不均衡を補正し、該分流トランスの寸法形状を小型にすることを可能にした請求項１乃至３のいずれかに記載の面光源用放電管並列点灯システム。
【請求項５】
前記逆位相の出力を有するインバータ回路と、複数の二群に分けられた偶数の放電管を有し、該放電管は互いに逆位相に駆動される一対の関係に配置され、該一対の放電管の低圧側の一端は該分流トランス一方のコイルを介して互いに接続され、他の一端は該逆位相の出力を有するインバータ回路のそれぞれの位相の出力に接続されるインバータ回路において、該分流トランスの該放電管の低圧側に接続される方のコイルを斜め巻き、またはセクション巻きとし、該分流トランスの他方のコイルは他の一群と互いに直列に接続されることにより、該各放電管の管電流を均衡させるとともに管電流の検出を行う請求項１乃至４のいずれかに記載の面光源用放電管並列点灯システム。
【請求項６】
請求項５において、該分流トランスの他方のコイルは他の一対の放電管の低圧側に接続される、４灯用の面光源用放電管並列点灯システム。
【請求項７】
請求項６において、該分流トランスを３分流、または、Ｎ分流の分流トランスに置き換えることによって６灯または２Ｎ灯用を並列点灯する面光源用放電管並列点灯システム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月15日(2005.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放熱モジュールの製造方法であり、その製造工程は、
（Ａ）複数のアルミニウム製放熱フィン上に間隔を設けて同軸の貫通孔を設け、前記貫通孔の片側には凸出した環縁を形成し、
（Ｂ）複数の放熱フィンを平行に配列し、フィンとフィンの間には環縁の幅を持たせ、さらに前記複数の放熱フィンの貫通孔は通道を形成し、
（Ｃ）ヒートパイプは前記貫通孔を経由し、前記通道内に貫通させ、前記複数の放熱フィンとヒートパイプを固定し、
（Ｄ）銅製ベース板を前記ヒートパイプに接合させ、さらに複数の放熱フィンで構成される表面部分に接触させる、
工程からなることを特徴とする放熱モジュールの製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ｄ）におけるベース板とヒートパイプ間は、半田、金、或いは銀などの材料からなる接合物質によって接続することを特徴とする請求項１に記載の放熱モジュールの製造方法。
【請求項３】
放熱モジュールの構造であり、少なくとも、
複数のアルミニウム製放熱フィンと、複数の銅製ヒートパイプと、複数の銅製ベース板とから構成され、
前記放熱フィンには、貫通孔が設けられており、
前記ヒートパイプは、複数の放熱フィンに設けられた貫通孔に貫通しており、
前記ベース板は、ヒートパイプと接合しており、さらに前記複数の放熱フィンで構成される表面部分に接触しており、
ベース板とヒートパイプの結合によって、熱をすばやくヒートパイプに移動させ、さらに前記複数の放熱フィンによって放熱させるようにしてなることを特徴とする放熱モジュールの構造。
【請求項４】
前記ベース板の面積は、複数の放熱フィンで構成される表面部分よりも小さいことを特徴とする請求項３に記載の放熱モジュールの構造。
【請求項５】
前記複数の放熱フィンで構成される表面部分には下部凹部が設けられてベース板を嵌入する箇所を構成しており、また、前記ヒートパイプには、少なくとも一つの湾曲部が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の放熱モジュールの構造。
【請求項６】
前記ベース板とヒートパイプ間は、半田、金、或いは銀などの材料からなる接合物質によって接続されていることを特徴とする請求項３に記載の放熱モジュールの構造。
【請求項７】
放熱モジュールの構造であり、少なくとも、
複数のアルミニウム製放熱フィンと、複数の銅製ヒートパイプと、複数の銅製ベース板とから構成され、
前記放熱フィンには、貫通孔が設けられており、さらに表面には凹溝が設けられており、
前記ヒートパイプは、複数の放熱フィンに設けられた貫通孔に貫通しており、一部分は、前記複数の放熱フィンの凹溝に嵌合されており、
前記ベース板は、ヒートパイプと接合しており、さらに前記複数の放熱フィンで構成される表面部分に接触しており、
ベース板とヒートパイプの接合によって、熱をすばやくヒートパイプに移動させ、さらに前記複数の放熱フィンによって放熱させるようにしてなることを特徴とする放熱モジュールの構造。
【請求項８】
前記ベース板の面積は、複数の放熱フィンで構成される表面部分よりも小さいことを特徴とする請求項７に記載の放熱モジュールの構造。
【請求項９】
前記ヒートパイプには、少なくとも一つの湾曲部が設けられていることを特徴とする請求項７に記載の放熱モジュールの構造。
【請求項１０】
前記ベース板とヒートパイプ間は、半田、金、或いは銀などの材料からなる接合物質によって接続されていることを特徴とする請求項７に記載の放熱モジュールの構造。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記第８ステップは、前記入力されたデジタル信号の振幅成分と位相成分とを分離し；
前記第１ステップは、前記振幅成分をアナログ信号に変換すると共に、前記位相成分をアナログ信号に変換し；
前記第２ステップは、前記アナログ信号に変換された振幅成分と、前記アナログ信号に変換された位相成分とを増幅回路にて合成し；
前記第５ステップは、前記フィードバック信号の振幅成分と位相成分とを分離し；
前記第６ステップは、
前記第８ステップで分離された入力信号の振幅成分と、前記第５ステップで分離されたフィードバック信号の振幅成分とを比較し、両信号のタイミング差を判定すると共に、
前記第８ステップで分離された入力信号の位相成分と、前記第５ステップで分離されたフィードバック信号の位相成分とを比較し、両信号のタイミング差を判定し；
前記第７ステップは、
前記第６ステップの振幅成分の比較結果に基づいて、前記第２ステップにおける前記振幅成分をアナログ信号に変換する際に用いられるクロック信号を制御し、
前記第６ステップの位相成分の比較結果に基づいて、前記第４ステップにおけるフィードバック信号をデジタル信号に変換する際に用いられるクロック信号を制御することによって、前記増幅回路に入力される振幅成分と位相成分とのタイミングを整合させることを特徴とする請求項９に記載の送信回路のタイミング調整方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
なお、第１の実施の形態と同様に、ｒ信号の経路とθ信号の経路の遅延差が１クロック以上ある場合、その整数部分（図５の例では、Δｄｒ＞Δｄθと仮定し、Δｄｒ−Δｄθをクロック周期で除算したときの商に相当）はシフトレジスタ回路５１５で調整し、上記ＶＣＯ５１３及び８０１を制御してΔｄｒ−Δｄθの余剰部分を調整する。このため、ＶＣＯ５１３及び８０１の位相（周波数）の制御範囲を広げる必要がなく、ＶＣＯの出力信号特性（例えば、Ｃ／Ｎ）を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月8日(2006.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周囲に枠体を有し被加熱物を載置する天板と、
該天板が天面に取り付けられた本体ケースと、
該本体ケース内部に設けられた誘導コイルや電気抵抗体により加熱する複数の加熱体と、
前記天板の下面側から前記被加熱物の底面温度を測定する温度センサーと、
前記枠体の前側に形成され、前記被加熱物の高さの中央より下方側の温度を測定する測温体と、
前記温度センサー及び前記測温体の出力に基づいて前記加熱体の出力を制御をする制御体と
を備えたことを特徴とする電気加熱調理器。
【請求項２】
前記測温体による被加熱物の測定が被加熱物の所定時間における温度上昇幅が所定値以下の時は、表示若しくは警告音などで告知する告知手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の電気加熱調理器。
【請求項３】
前記測温体は、
前記被加熱物の上部側を測定する上側温体と、
前記被加熱物の下部側を測定する下測温体と
を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の電気加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明にかかる電気加熱調理器は、周囲に枠体を有し被加熱物を載置する天板と、該天板が天面に取り付けられた本体ケースと、該本体ケース内部に設けられた誘導コイルや電気抵抗体により加熱する複数の加熱体と、前記天板の下面側から前記被加熱物の底面温度を測定する温度センサーと、前記枠体の前側に形成され、前記被加熱物の高さの中央より下方側の温度を測定する測温体と、前記温度センサー及び前記測温体の出力に基づいて前記加熱体の出力を制御をする制御体とを備えたものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の電気加熱調理器は、周囲に枠体を有し被加熱物を載置する天板と、該天板が天面に取り付けられた本体ケースと、該本体ケース内部に設けられた誘導コイルや電気抵抗体により加熱する複数の加熱体と、前記天板の下面側から前記被加熱物の底面温度を測定する温度センサーと、前記枠体の前側に形成され、前記被加熱物の高さの中央より下方側の温度を測定する測温体と、前記温度センサー及び前記測温体の出力に基づいて前記加熱体の出力を制御をする制御体とを備えているので、例えば被加熱物の温度が正確に検知できない場合などに、被加熱物の温度が異常に上昇してしまう危険性を未然に防止することができる。これにより、電気加熱調理器の安全性を極めて向上することができるようになるものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
そして、被加熱物３６内の調理物、例えば天ぷらなどをあげているとき、加熱を続けて天ぷら油が蒸発してしまい、内部の油が少なくなってくると、被加熱物３６の上方が異常高温となり、蒸気化した油に引火することが考えられるが、本実施形態では測温体２７が、上測温体２７Ａと下測温体２７Ｂにて被加熱物３６の上部側と下部側を同時に測定可能なので、このような場合でも発火が起こる前に異常高温を検知して、加熱を停止させることができ、電気加熱調理器１の安全性をさらに向上できる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを生成し、高周波電圧を印加することによりウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理方法において、
前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハ裏面冷却ガス種を２種類以上使用し、それぞれの流量を変化させることによりウエハ温度を制御し、エッチング中に前記ウエハ温度を、前記被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
プラズマを生成し、高周波電圧を印加することによりウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理方法において、
前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハに印加するバイアス出力を変化させることによりウエハ温度を制御し、エッチング中に前記ウエハ温度を、前記被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項３】
プラズマを生成する手段と、高周波電圧を印加する手段とを備え、ウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理装置において、
前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハ裏面冷却ガス種を２種類以上使用し、それぞれの流量を変化させることによりウエハ温度を制御する手段と、エッチング中に前記ウエハ温度を、前記被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングする手段とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
プラズマを生成する手段と、高周波電圧を印加する手段とを備え、ウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理装置において、
前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハに印加するバイアス出力を変化させることによりウエハ温度を制御し、エッチング中に前記ウエハ温度を、被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングする手段を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
すなわち、本発明は、プラズマを生成し、高周波電圧を印加することによりウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理方法において、前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハ裏面冷却ガス種を２種類以上使用し、それぞれの流量を変化させることによりウエハ温度を制御し、エッチング中に前記ウエハ温度を、前記被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングするプラズマ処理方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、本発明は、プラズマを生成し、高周波電圧を印加することによりウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理方法において、前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハに印加するバイアス出力を変化させることによりウエハ温度を制御し、エッチング中に前記ウエハ温度を、前記被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングするプラズマ処理方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
更に、本発明は、プラズマを生成する手段と、高周波電圧を印加する手段とを備え、ウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理装置において、前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハ裏面冷却ガス種を２種類以上使用し、それぞれの流量を変化させることによりウエハ温度を制御する手段と、エッチング中に前記ウエハ温度を、前記被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングする手段とを備えるプラズマ処理装置である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明は、プラズマを生成する手段と、高周波電圧を印加する手段とを備え、ウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理装置において、前記被処理材は下地膜と被処理膜の多層構造を有しており、前記ウエハに印加するバイアス出力を変化させることによりウエハ温度を制御し、エッチング中に前記ウエハ温度を、被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させるとともに、メインエッチング中は低温で、オーバーエッチング中は高温で、それぞれエッチングする手段を備えるプラズマ処理装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のガスと前記第１のガスを還元する第２のガスとを用いて第１のバリアメタル薄膜を基体に形成する第１のバリアメタル薄膜形成工程と、
前記基体を大気に暴露することなく、前記第１のバリアメタル薄膜形成工程により形成された第１のバリアメタル薄膜の上に、第３のガスと前記第３のガスを還元する第４のガスとを用いて第２のバリアメタル薄膜を形成する第２のバリアメタル薄膜形成工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１のバリアメタル薄膜形成工程は、
前記基体に、前記第１のガスを供給する第１のガス供給工程と、
前記第１のガス供給工程の後に、前記第２のガスを前記基体に供給する第２のガス供給工程と
を有し、
前記第１のバリアメタル薄膜形成工程において、前記第１のガス供給工程と第２のガス供給工程とを繰り返すことにより、所定の膜厚の第１のバリアメタル薄膜を形成し、
前記第２のバリアメタル薄膜形成工程は、
前記第２のガス供給工程の後に、前記第３のガスを前記基体に供給する第３のガス供給工程と、
前記第３のガス供給工程の後に、前記第４のガスを前記基体に供給する第４のガス供給工程と、
を有し、
前記第２のバリアメタル薄膜形成工程において、前記第３のガス供給工程と第４のガス供給工程とを繰り返すことにより、前記所定の膜厚の第１のバリアメタル薄膜よりも大きい膜厚の第２のバリアメタル薄膜を形成することを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１のバリアメタル薄膜形成工程において、原子層気相成長法を用いて前記第１のバリアメタル薄膜を形成し、
前記第２のバリアメタル薄膜形成工程において、原子層気相成長法を用いて前記２のバリアメタル薄膜を形成することを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第２のバリアメタル薄膜形成工程において、前記第４のガス供給工程により供給された第４のガスのプラズマ雰囲気に前記基体を晒すことを特徴とする請求項２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記基体には、多孔質の絶縁性材料を用いた絶縁膜が設けられ、
前記第１のバリアメタル薄膜形成工程は、前記絶縁膜の表面に前記第１のバリアメタル薄膜を形成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１のバリアメタル薄膜形成工程において、前記第１のバリアメタル薄膜として金属窒化膜を形成し、
前記第２のバリアメタル薄膜形成工程において、前記第２のバリアメタル薄膜として、前記第１のバリアメタル薄膜よりも窒素濃度が低い金属膜を形成することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
基体の上に配置された絶縁性材料を用いた絶縁層と、
前記絶縁層に配置された配線材料を用いた配線部と、
前記配線部と前記絶縁性材料との間に配置された、各膜厚の最小寸法が１０ｎｍよりも小さく形成された第１と第２のバリアメタル薄膜部と、
を備えたことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
前記プラズマがヘリウム、水素、アルゴン、窒素の何れか少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項４記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記プラズマが水素を含み、他のガスとしてヘリウム、アルゴン、窒素の何れか少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項４記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月19日(2006.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長の異なる３つのレーザー光源と、前記レーザー光源から出射された光束を略平行光束にする少なくとも１つのコリメートレンズと、前記レーザー光源から出射された光束を光ディスク上に集光する１つの対物レンズと、前記対物レンズを保持するアクチュエータと、前記光ディスクからの反射光を検出する少なくとも１つの光検出器を有すると共に、前記アクチュエータに、２つの波長選択性偏光ホログラムを搭載した光ヘッドであって、  第１の波長選択性偏光ホログラムは、前記３つのレーザー光源の内、１番目に波長の長いレーザー光源から出射され、前記コリメートレンズにより略平行光束にされた光束を回折し、第２の波長選択性偏光ホログラムは、２番目に波長の長いレーザー光源から出射され、前記コリメートレンズにより略平行光束にされた光束を回折することを特徴とする光ヘッド。
【請求項２】
前記１番目に波長の長いレーザー光源から出射され前記第１の波長選択性偏光ホログラムより回折された光束、および、前記２番目に波長の長いレーザー光源から出射され前記第２の波長選択性偏光ホログラムより回折された光束は、発散光であり、前記第１の波長選択性偏光ホログラムより出射される発散光束は、前記第２の波長選択性偏光ホログラムより出射される発散光束よりも強発散光となっていることを特徴とする請求項1記載の光ヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月27日(2006.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  クランクシャフト、カムシャフト及び各々が電子制御燃料噴射器を備えた複数のシリンダを有する内燃機関のタイミングを定める装置であって、
エンジンクランクシャフトの回転をモニタして、クランクシャフトパルス列を生成するクランクシャフトセンサ手段と、
クランクシャフトパルス列を受け取り、それに応答してパルスの周期を求め、クランクシャフトパルス列によりどの半エンジンサイクルが表されているかを判断してクランクシャフトの回転位置を求め、燃料噴射を開始するために、クランクシャフトパルス列に関する噴射信号を生成し燃料噴射器に送るエンジン制御手段とを備える装置。
【請求項２】  前記クランクシャフトセンサ手段が、
クランクシャフトに連結される、複数の離間した歯を有したクランクシャフトセンサホイールと、
クランクシャフトセンサホイールに隣接する第１磁気ピックアップ装置とを備え、
前記第１磁気ピックアップ装置が、クランクシャフトセンサホイールの通過する各々の歯を検知し、それに応答して、各パルスがクランクシャフトセンサホイールの歯を表すクランクシャフトパルス列を生成することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】 さらに、エンジンカムシャフトの回転をモニタして、カムシャフトパルス列を生成するカムシャフトセンサ手段を有する請求項２に記載の装置。
【請求項４】  前記カムシャフトセンサ手段が、
カムシャフトに連結される、複数の離間した歯を有したカムシャフトセンサホイールと、
カムシャフトセンサホイールに隣接する第２磁気ピックアップ装置とを備え、
前記第２ピックアップ装置が、カムシャフトセンサホイールの通過する各々の歯を検知し、それに応答して、各パルスがカムシャフトセンサホイールの歯を表すカムシャフトパルス列を生成することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】  クランクシャフトパルス列とカムシャフトパルス列を受け取るディジタルロジック回路と、
燃料噴射の基準としてクランクシャフトパルス列とカムシャフトパルス列のいずれを用いるかを定め、ディジタルロジック回路に選択信号を送るマイクロプロセッサとを備え、
該ディジタルロジック回路が、選択されたパルス列に等しい周波数を有するクロック信号を生成し、
更に、クランクシャフトパルス列及びカムシャフトパルス列とクロック信号を受け取り、クロック信号により与えられるサンプリング速度で各パルス列の各パルスをサンプリングし、各パルスの周期を示す測定された周期信号を生成するプログラマブルタイマ回路を備えることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】  マイクロプロセッサが、プログラマブルタイマ回路からクランクシャフトパルス列及びカムシャフトパルス列の各パルスの測定された周期を受け取り、受け取った各パルスをカウントし、クランクシャフトセンサホイール及びカムシャフトセンサホイールの回転位置を求め、噴射要求信号をプログラマブルタイマ回路に送り、
プログラマブルタイマ回路が、燃料噴射をそれぞれのシリンダ内で開始するために、噴射信号を適切な噴射器に送ることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】  クランクシャフトセンサホイール及びカムシャフトセンサホイールの各々が、３６個の等しく離間した歯を有し、カムシャフトセンサホイールの歯と歯の間隔が２０エンジン度で、クランクシャフトセンサホイールの歯と歯の間隔が１０エンジン度であって、
カムシャフトセンサホイールが、３６個の歯の回りに所定のパターンの３つの基準歯を付加的に備え、クランクシャフトセンサホイールが、３６個の歯の回りの所定位置に３つの付加的なスロットを備えることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項８】  クランクシャフト、カムシャフト、及び各々が電子制御燃料噴射器を備えた複数のシリンダを有する内燃機関のタイミングを定める方法であって、
エンジンクランクシャフトの回転をモニタし、クランクシャフトパルス列を生成し、
クランクシャフトパルス列を受け取り、それに応答してパルスの周期を求め、クランクシャフトパルス列によりどの半エンジンサイクルが表されているかを判断してクランクシャフトの回転位置を求め、燃料噴射を開始するために、クランクシャフトパルス列に関する噴射信号を生成し燃料噴射器に送るステップを有する方法。
【請求項９】 エンジンカムシャフトの回転をモニタし、カムシャフトパルス列を生成するステップを有することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】  クランクシャフトパルス列とカムシャフトパルス列の１つに対応するエンジン速度を求め、
燃料噴射を開始する時期を定める基準としてカムシャフトパルス列を選択し、
次いで、燃料噴射を開始する時期を定める基準としてクランクシャフトパルス列を選択するステップを有することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】  カムシャフトパルス列を選択するステップが、
カムシャフトパルス列が、信頼性の高い情報であるかどうかを判断し、
カムシャフトパルス列が信頼できないときには、クランクシャフトパルス列を選択するステップを有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】  クランクシャフトパルス列を選択するステップが、
クランクシャフトパルス列が、信頼性の高い情報であるかどうかを判断し、
クランクシャフトパルス列が信頼できないときには、カムシャフトパルス列を選択するステップを有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】  エンジン始動時に、カムシャフトパルス列が信頼できないことに応答して、クランクシャフトパルス列を選択するステップが、
該クランクシャフトパルス列によってどの半エンジンサイクルが表されているかを判断するステップを有することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】  クランクシャフトパルス列によってどの半エンジンサイクルが表されているかを判断するステップが、
シリンダの半分を、２サイクルモードで作動させることを要求し、
各噴射要求中にクランクシャフトパルス列を用いてエンジン速度を求め、各噴射要求に対応するエンジン加速度を計算し、クランクシャフトパルス列が、どの半分のエンジンシリンダの動作を表しているかを判断し、
全てのエンジンシリンダを４サイクルモードで動作させることを要求するステップを有することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月3日(2006.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の情報処理装置上で実行されるプロセスと第２の情報処理装置上で実行されるプロセスが互いのユーザ空間同士の直接転送により通信を行う機能を有する情報処理システムにおいて、
前記第１の情報処理装置上の第１のプロセスと前記第２の情報処理装置上の第２のプロセスとの間の第１の接続による通信を、前記第１の情報処理装置上の第３のプロセスと前記第２のプロセスとの間の第２の接続によって引き継いで通信を継続する通信処理方法であって、
前記第１のプロセスに前記第２のプロセスからのデータ受信があった場合に、それを示すフラグを設定し、
前記第１のプロセスから第２のプロセスに対してデータ転送の中断要求を送信し、
前記中断要求に応じて前期第２のプロセスが前記第１のプロセスへのデータ転送を中断するとともに、前期第１のプロセスに対してデータ転送中断完了報告を送信し、
前記データ転送中断完了報告を受けると、前記第１のプロセスは前記フラグにより既受信データの有無をチェックし、
既受信データがあった場合に該既受信データを前記第１のプロセスから前記第３のプロセスにコピーし、
前記コピーの後に、前記第１のプロセスからの張替え要求を発することにより前記第２のプロセスと前記第３のプロセスとの間の前記第２の接続を新たに確立し、
前記第２のプロセスのデータ転送中断を解除し、もって前記第３のプロセスが前記第２のプロセスとの通信を引き継ぐ、
との手順を有する通信処理方法。
【請求項２】
前記第１のプロセスは、前記第３のプロセスへの既受信データのコピーが完了したこと、若しくは既受信データが無いことを確認した後に前記張替え要求を発することを特徴とする請求項１記載の通信処理方法。
【請求項３】
前記第３のプロセスは、前記第２のプロセスから接続要求があったことをトリガにプロセス生成機能により生成されることを特徴とする請求項１記載の通信方法。
【請求項４】
生成された前記第３のプロセスがトリガを発生したのを受けて、前記第１のプロセスからの前記データ転送の中断要求の送信から始まる張替え手順が開始することを特徴とする請求項１記載の通信処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の一つの態様によれば、第１の情報処理装置上で実行されるプロセスと第２の情報処理装置上で実行されるプロセスが互いにユーザ空間直接転送により通信を行う機能を有する情報処理システムにおいて、前記第１の情報処理装置上の第１のプロセスと前記第２の情報処理装置上の第２のプロセスとの間の第１の接続による通信を、前記第１の情報処理装置上の第３のプロセスと前記第２のプロセスとの間の第２の接続によって引き継いで通信を継続する。その特徴は、前記第１のプロセスが第２のプロセスに対してデータ転送の中断要求を発し、第２プロセスはそれに応じてデータ転送を中断すると中断完了報告を返し、第１プロセスはその報告を受けると、それまで第２プロセスから受信していた既受信データが有る場合にはそれを新たに生成した第３プロセスのコピーし、その後に第３プロセスと第２プロセスの間の第２の接続を確立するよう張替え要求を発し、もって前記第２の接続が前記第１の接続による通信を引き継いで通信を継続する通信処理方法にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
ステップＳ１０では、親プロセス１１２はコピー発生フラグ１４０を立てて子プロセス１１５にデータコピーの発生を通知する。続いて親プロセス１１２と子プロセス１１５が協調して親プロセス１１２のアドレス空間を子プロセス１１５にコピーし、親プロセス１１２が既に受信しているデータを子プロセス１１５に漏れなく引き継がせる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
ステップＳ１５では親プロセス１１２の通常の処理において、プロセス１６２からのデータを受信したか否かをチェックする。この処理はＲＥＣＶ（）をエミュレートした関数ＥＭＵ＿ＲＥＤＶ（）において実行される。ステップＳ１５においてデータ受信が発生した場合はステップＳ１６に進む。データ受信が発生していない場合はステップＳ１７へ進む。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１レーザビームを発する第１発光部と前記第１レーザビームとは異なる波長の第２レーザビームを発する第２発光部とを有し、前記第１及び第２発光部のいずれか１の発光部からレーザビームを選択的に出射する発光手段と、
前記発光手段から出射されたレーザビームを記録媒体に向けて導く照射光路と、前記記録媒体によって反射されたレーザビームを光検出手段に向けて導く反射光路とを形成した光学系と、を備えた光ピックアップ装置であって、
前記照射光路には、前記第１レーザビームを透過させ、前記第２レーザビームを回折させて、前記記録媒体から各々反射される前記第２レーザビームの第１回折光と第１レーザビームの０次光とを前記光検出手段の表面で各々重ね合わせる光軸補正素子を有し、
前記光軸補正素子は、前記光検出手段の受光面において前記第１及び第２レーザビームのスポットの光量分布重心が一致するように前記第２レーザビームを回折させることを特徴とする光ピックアップ装置。
【請求項２】  前記光検出手段の受光面は十字４分割受光面であり、前記第１レーザビームの０次光の光量分布重心と前記第２レーザビームの回折光の光量分布重心とは前記４分割受光面の分割交差点に位置することを特徴とする請求項１記載の光ピックアップ装置。
【請求項３】  前記第１レーザビームの０次光の光軸は前記４分割受光面の分割交差点と一致し、前記第２レーザビームの回折光の光軸は前記４分割受光面の分割交差点から若干離れることを特徴とする請求項２記載の光ピックアップ装置。
【請求項４】  前記４分割受光面における受光出力に応じて非点収差法によるフォーカスエラー信号又は位相差法によるトラッキングエラー信号を生成することを特徴とする請求項２記載の光ピックアップ装置。
【請求項５】  前記光軸補正素子は、ブレイズドホログラムからなることを特徴とする請求項１記載の光ピックアップ装置。
【請求項６】  前記光軸補正素子は、前記発光部の直後に配置されていることを特徴とする請求項１記載の光ピックアップ装置。
【請求項７】  前記光軸補正素子は、前記レーザビームを０次光として変化させることなく透過させることを特徴とする請求項１記載の光ピックアップ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の光ピックアップ装置は、第１レーザビームを発する第１発光部と第１レーザビームとは異なる波長の第２レーザビームを発する第２発光部とを有し、第１及び第２発光部のいずれか１の発光部からレーザビームを選択的に出射する発光手段と、発光手段から出射されたレーザビームを記録媒体に向けて導く照射光路と、記録媒体によって反射されたレーザビームを光検出手段に向けて導く反射光路とを形成した光学系と、を備えた光ピックアップ装置であって、照射光路には、第１レーザビームを透過させ、第２レーザビームを回折させて、記録媒体から各々反射される第２レーザビームの第１回折光と第１レーザビームの０次光とを光検出手段の表面で各々重ね合わせる光軸補正素子を有し、光軸補正素子は、光検出手段の受光面において第１及び第２レーザビームのスポットの光量分布重心が一致するように第２レーザビームを回折させることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月2日(2006.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化ビニリデン系樹脂１００〜６０質量部、メタクリル酸エステル系樹脂０〜４０質量部からなるフッ化ビニリデン系樹脂とメタクリル酸エステル系樹脂の混合物１００質量部に対して、銀系無機抗菌剤を０．１〜５質量部を含有する表面層を有するフッ化ビニリデン系樹脂フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の表面層と裏面層を有する２層以上から構成され、裏面層がフッ化ビニリデン系樹脂４０〜０質量部及びメタクリル酸エステル系樹脂６０〜１００質量部からなるフッ化ビニリデン系樹脂とメタクリル酸エステル系樹脂の混合物１００質量部に対して、紫外線吸収剤０．１〜１５質量部を含有するフッ化ビニリデン系樹脂フィルム。
【請求項３】
銀系無機抗菌剤が平均粒径２μｍ以上であり、銀系無機抗菌剤中の銀含有量が１質量％以上である請求項１又は請求項２に記載のフッ化ビニリデン系樹脂フィルム。
【請求項４】
裏面層の表面に印刷が施された請求項１から請求項３の何れか一項に記載のフッ化ビニリデン系樹脂フィルム。
【請求項５】
請求項１から請求項４の何れか一項に記載のフッ化ビニリデン系樹脂フィルムを基材に積層してなる積層体。
【請求項６】
押出法を用いた請求項１から請求項４の何れか一項に記載のフッ化ビニリデン系樹脂フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月30日(2006.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、
前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、
前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、
前記第１の信号線及び第２の信号線のいずれかを選択する手段と、
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、
前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、
前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、
前記第１の信号線及び第２の信号線のいずれかを選択する手段と、を有し、
前記選択する手段により選択された信号線からのビデオ信号が前記液晶素子へ供給されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、
前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、
前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、
前記第１の信号線及び第２の信号線のいずれかを選択する情報を保持するメモリと、を有し、
前記メモリにより選択された信号線からのビデオ信号が前記液晶素子へ供給されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、
前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、
前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、
前記第１の信号線及び第２の信号線のいずれかを選択する手段と、
前記第１の走査線及び前記第２の走査線のいずれかを選択する手段と、
前記第１の走査線及び前記第２の走査線のいずれかを選択する手段へ信号を入力する第３の信号線と、前記第３の信号線と交差するように設けられた第３の走査線と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、
前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、
前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、
前記第１の信号線及び第２の信号線のいずれかを選択する手段と、
前記第１の走査線及び前記第２の走査線のいずれかを選択する手段と、
前記第１の走査線及び前記第２の走査線のいずれかを選択する手段を制御するメモリと、
前記メモリへ信号を入力する第３の信号線と、前記第３の信号線と交差するように設けられた第３の走査線と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、前記第１の信号線と前記第１の走査線とに接続された第１のトランジスタと、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、前記第２の信号線と前記第２の走査線に接続された第２のトランジスタと、
前記第１のトランジスタに接続された第３のトランジスタと、
前記第２のトランジスタに接続され、前記第３のトランジスタと極性の異なる第４のトランジスタと、
前記第３のトランジスタ及び前記第４のトランジスタのそれぞれのゲート電極に、スイッチを介して接続された第３の信号線と、
前記スイッチに接続された第３の走査線と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
液晶素子と、
第１のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第１の信号線と、前記第１の信号線と交差するように設けられた第１の走査線と、前記第１の信号線と前記第１の走査線とに接続された第１のトランジスタと、
第２のビデオ信号を前記液晶素子へ入力する第２の信号線と、前記第２の信号線と交差するように設けられた第２の走査線と、前記第２の信号線と前記第２の走査線に接続された第２のトランジスタと、
前記第１のトランジスタに接続された第３のトランジスタと、
前記第２のトランジスタに接続された第４のトランジスタと、
前記第３のトランジスタ及び前記第４のトランジスタに接続されたラッチ回路と
前記ラッチ回路及びスイッチとを介して接続された第３の信号線と、
前記スイッチに接続された第３の走査線と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数色の夫々の色のトナー像を順に形成可能な画像形成部と、
前記画像形成部により形成されたトナー像を担持する回転担持体と、
前記担持体が１回転するごとに１色分の画像を形成して、前記担持体上に複数色分からなるカラー画像を担持させる様に前記画像形成部を制御する制御手段と、
前記担持体上に形成された濃度検知用パターン画像の濃度を検知する濃度検知手段とを有し、
前記濃度検知用パターン画像を形成する時には、前記制御手段が、前記担持体の１回転期間内において少なくとも２色分の濃度検知用パターン画像を形成する様に、前記画像形成部を制御することを特徴とするカラー画像形成装置。
【請求項２】  前記制御手段は、前記濃度検知用パターン画像を形成する時には、前記回転担持体の１回転期間内において２色分の前記濃度検知用パターン画像を形成する様に前記画像形成部を制御するとともに、前記担持体の２回転目においては、１回転目で濃度検知用パターン画像が形成された領域以外の領域に濃度検知用パターン画像を形成する様に前記画像形成部を制御することを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【請求項３】  前記濃度検出手段の検知に基づいて、電子写真プロセス要素を調整する第１調整手段を有することを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【請求項４】  前記濃度検知手段の検知に基づいて、画像データ変換条件を調整する第２調整手段を有することを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【請求項５】  前記担持体は中間転写体であり、
前記画像形成部は感光体上にトナー像を形成し、形成したトナー像を、前記中間転写体へ転写することを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【請求項６】  前記担持体は転写材保持体であり、
前記画像形成部は、通常画像を形成する時には、感光体上にトナー像を形成し、該感光体上のトナー像を前記転写材保持体に保持された転写材へ転写し、一方、濃度検知用パターン画像を形成する時には、前記感光体上にトナー像を形成し、該感光体上のトナー像を、前記転写材保持体上に転写することを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【請求項７】  前記担持体は感光体であり、
前記画像形成部は、複数色分の画像を重ねて前記感光体上に形成することを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来より、電子写真プロセスを用いたカラー画像形成装置として、ＹＭＣＫ４色の現像装置を回転させることにより、面順次に感光上にトナー像を形成し、形成されたトナー像を、転写材保持体や中間転写体等の担持体上に順次重ねて転写する技術が知られている。
【特許文献１】 特開平９−６１２３号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のカラー画像形成装置は、複数色の夫々の色のトナー像を順に形成可能な画像形成部と、前記画像形成部により形成されたトナー像を担持する回転担持体と、前記担持体が１回転するごとに１色分の画像を形成して、前記担持体上に複数色分からなるカラー画像を担持させる様に前記画像形成部を制御する制御手段と、前記担持体上に形成された濃度検知用パターン画像の濃度を検知する濃度検知手段とを有し、前記濃度検知用パターン画像を形成する時には、前記制御手段が、前記担持体の１回転期間内において少なくとも２色分の濃度検知用パターン画像を形成する様に、前記画像形成部を制御することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
次に、本実施例において最も特徴的である、濃度・階調制御用パターンを形成する際の、転写ベルト６１位置基準信号、画像露光、現像工程、支持体５の回転に関する画像形成シーケンスを図５に示す。図に沿って説明すると、転写ベルト６１の位置基準信号（図中Ｔｏｐ１）が検知されると１色目イエローの濃度・階調制御用画像露光（Ｙｅｘｐ）が行なわれ、Ｙｄ現像される（Ｙｄｅｖ）。ここで濃度測定用画像パターンは通常の画像の最大長より短く設定し、イエロー現像終了後支持体５を回転させ、２色目マゼンタ現像器に切り替え（Ｍｒ）、２色目マゼンタの濃度・階調制御用画像露光（Ｍｅｘｐ）を行い、現像する（Ｍｄｅｖ）。濃度測定用画像パターンについて詳述すると、１つの濃度測定用画像パターン像は、用いる濃度センサーにもよるが５ｍｍ×５ｍｍ〜１５ｍｍ×１５ｍｍ程度がよい。濃度制御に関して述べると、帯電電位、露光量、現像バイアス等の印字条件を変えた複数の濃度測定用画像パターンが必要となるが３から５つの各印字条件を変えた画像があれば十分である。また階調制御に関して述べると、画像印字率を変えた複数の濃度測定用画像パターンが必要となるが、５から８つの画像印字率を変えた画像があればよい。従って上述した画像サイズ、数の最大の組み合わせでも１５ｍｍ×８＝１２０ｍｍとなり、通常印字されるＡ４の長さ２９７ｍｍの半分以下が可能となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
この様に、２回転目（またはそれ以降）においては、すでにパターンが形成された領域以外の領域にパターンを形成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
転写ドラム１０には前実施例同様位置基準部材を設け、これにより得られる位置基準信号に従って画像形成シーケンスは制御され、１色画像を形成する一連の作像工程は、転写ドラム１０の１回転周期毎に行われる。位置基準信号、画像露光、現像工程、支持体５の回転に関する画像形成印字シーケンスは図２で示したものと同様である。