【手続補正書】
【提出日】平成18年5月11日(2006.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】干渉計、露光装置、露光方法及びステージ装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を測定光と参照光とに分割して、該測定光を互いに直交する少なくとも２面の反射面を有する移動鏡により反射させ、前記参照光を固定鏡により反射させ、前記移動鏡を介した前記測定光と前記固定鏡を介した前記参照光とを検出する干渉計において、
入射する前記測定光を入射方向に対して逆進させ、かつ前記入射する測定光に対して位置をずらせて射出させ、更に前記移動鏡の位置ずれに起因して前記測定光の入射位置がずれた際に、該入射位置のずれの方向及び量を保存した状態で射出させる光学部材を備えることを特徴とする干渉計。
【請求項２】
前記移動鏡からの前記測定光は前記光学部材によって戻されて、再び前記移動鏡へ向けて進行することを特徴とする請求項１記載の干渉計。
【請求項３】 
前記光学部材は、入射した前記測定光を奇数回反射させて射出することを特徴とする請求項１又は２記載の干渉計。
【請求項４】 
前記光学部材は、ペンタプリズム及び直角プリズムを備えることを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか一項記載の干渉計。
【請求項５】 
前記光学部材は、前記固定鏡の機能を有することを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の干渉計。
【請求項６】 
前記固定鏡は、前記光学部材とは独立して設けられていることを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の干渉計。
【請求項７】 
レチクルに形成された転写パターンを基板に転写する露光装置において、
前記レチクルを載置するレチクルステージと、
前記基板を載置する基板ステージと、
前記レチクルステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の位置を計測する請求項１〜請求項６の何れか一項に記載の干渉計と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項８】 
請求項７記載の露光装置を用いた露光方法であって、
請求項１〜請求項６の何れか一項に記載の干渉計により前記レチクルステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の位置を計測する工程と、
照明光学系により前記レチクルの転写パターンを照明する照明工程と、
投影光学系を介して前記レチクルに形成された前記転写パターンの像を前記基板上に投影する投影工程と
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項９】
物品を載置するステージ装置であって、
前記ステージの位置を測定するために請求項１〜６の何れか一項記載の干渉計を備え、
前記移動鏡は前記ステージに設けられていることを特徴とするステージ装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、レーザ干渉計等の干渉計、この干渉計を用いた露光装置、この露光装置を用いた露光方法及び物品を載置するステージ装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明の課題は、測定光及び参照光の横ずれを招くことなく、かつ計測誤差の極めて小さい干渉計、この干渉計を用いた露光装置、この露光装置を用いた露光方法及びこの干渉計を用いたステージ装置を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明を解決するための手段】
請求項１記載の干渉計は、光源からの光を測定光と参照光とに分割して、該測定光を互いに直交する少なくとも２面の反射面を有する移動鏡により反射させ、前記参照光を固定鏡により反射させ、前記移動鏡を介した前記測定光と前記固定鏡を介した前記参照光とを検出する干渉計において、入射する前記測定光を入射方向に対して逆進させ、かつ前記入射する測定光に対して位置をずらせて射出させ、更に前記移動鏡の位置ずれに起因して前記測定光の入射位置がずれた際に、該入射位置のずれの方向及び量を保存した状態で射出させる光学部材を備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、請求項２記載の干渉計は前記移動鏡からの前記測定光は前記光学部材によって戻されて、再び前記移動鏡へ向けて進行することを特徴とする。
また、請求項３記載の干渉計は、前記光学部材が、入射した前記測定光を奇数回反射させて射出することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この請求項１〜請求項３記載の干渉計によれば、光学部材が傾いた状態で移動鏡の位置がずれた場合においても、測定光と参照光をこの光学部材を透過させて検出器に導くことにより、測定光と参照光を同一の光路を介して、即ち測定光及び参照光の横ずれを招くことなく検出器に導くことができるため測定誤差を極めて小さくすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、請求項４記載の干渉計は、前記光学部材が、ペンタプリズム及び直角プリズムを備えることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、請求項５記載の干渉計は、前記光学部材が、前記固定鏡の機能を有することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この請求項４及び請求項５記載の干渉計によれば、固定鏡としての機能を有する光学部材をペンタプリズム及び直角プリズムにより構成しているため、光学部材に入射する測定光の横ずれの許容量を大きくすることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、請求項６記載の干渉計は、前記固定鏡が、前記光学部材とは独立して設けられていることを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この請求項６記載の干渉計によれば、測長の基準位置となる固定鏡の位置を任意に設定することが可能であるため、例えば投影露光装置に適用する場合には、干渉計に対するステージの位置ではなく、投影光学系に対するステージの位置の計測が可能になり設計上の自由度を大きくすることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、請求項７記載の露光装置は、レチクルに形成された転写パターンを基板に転写する露光装置において、前記レチクルを載置するレチクルステージと、前記基板を載置する基板ステージと、前記レチクルステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の位置を計測する請求項１〜請求項６の何れか一項に記載の干渉計とを備えることを特徴とする。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この請求項７記載の露光装置によれば、レチクルステージ及び基板ステージの少なくとも一方の位置の計測を極めて正確に行うことができるため、レチクルに形成された転写パターンの像を基板に極めて正確に重ね合わせ露光することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、請求項８記載の露光方法は、請求項７記載の露光装置を用いた露光方法であって、請求項１〜請求項６の何れか一項に記載の干渉計により前記レチクルステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の位置を計測する工程と、照明光学系により前記レチクルの転写パターンを照明する照明工程と、投影光学系を介して前記レチクルに形成された前記転写パターンの像を前記基板上に投影する投影工程とを含むことを特徴とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この請求項８記載の露光方法によれば、レチクルに形成された転写パターンの像を基板上に忠実に結像させることができるためスループット良くマイクロデバイス等の製造を行うことができる。
また、請求項９記載のステージ装置は物品を載置するステージ装置であって、前記ステージの位置を測定するために請求項１〜６の何れか一項記載の干渉計を備え、前記移動鏡は前記ステージに設けられていることを特徴とする。