【手続補正書】
【提出日】平成17年12月16日(2005.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カラーフィルタ基板、電気光学装置、電子機器、およびカラーフィルタ基板の製造方法、ならびに電気光学装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  遮光領域によって囲まれたドット部分を有するカラーフィルタ基板において、
前記ドット部分において、液滴材料で形成される着色層が形成される領域と、
前記着色層が形成される領域と前記着色層が形成されない領域とを区画する実質的に透明な区画層が形成される領域と、を有し、
前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さは、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低いことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】  前記区画層は、前記遮光領域より広い面積を有し、かつ、前記遮光領域を覆うように設けられていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項３】  実質的に光が透過可能な透過領域と光を反射する反射層を有する反射領域とを有するカラーフィルタ基板において、
着色層が形成される領域と着色層が形成されない領域とを区画する実質的に透明な区画層が形成される領域と、
前記区画層によって区画された領域内における、液滴材料の吐出による成膜方式により液滴材料からなる前記着色層が形成される領域と、を有し、
前記透過領域においては、前記着色層が設けられ、
前記反射領域においては、前記着色層と前記反射層とが平面的に重なる領域、及び前記区画層と前記反射層とが平面的に重なる領域を有し、
前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さは、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低いことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項４】  前記着色層が設けられている領域の面積は、前記透過領域及び前記反射領域の合計面積よりも小さいことを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項５】  前記反射層は遮光機能を有することを特徴とする請求項３又は４に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項６】  前記区画層は、前記透過領域と前記反射領域とを含むドット部分の周辺領域上に設けられていることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項７】  前記区画層は、前記周辺領域の内部にも設けられていることを特徴とする請求項６に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項８】  前記区画層は、前記周辺領域の周囲４辺のうち少なくとも対向する２辺における前記周辺領域の内部に設けられていることを特徴とする請求項６に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項９】  前記反射層は、金属層を含んで形成されていることを特徴とする請求項３乃至８のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１０】  前記区画層上の少なくとも一部に透明導電性膜が設けられていることを特徴とする請求項３乃至９のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１１】  請求項３乃至１０のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板と、少なくとも前記透過領域及び前記反射領域に平面的に重なるように設けられた第１の表示用電極と、前記第１の表示用電極に対向するように設けられた第２の表示用電極と、を有し、
前記透過領域と前記反射領域とを含むドット部分が、前記第１及び第２の表示用電極の重なる位置に対応して規定されてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】  実質的に光が透過可能な透過領域と光を反射する反射層を有する反射領域とを有する電気光学装置において、
相互に対向する一対の基板を備え、
前記反射層は、前記一対の基板のうちの一方の基板上に配置され、
前記一対の基板のうちの他方の基板は、
着色層が形成される領域と着色層が形成されない領域とを区画する実質的に透明な区画層が形成される領域と、
前記区画層によって区画された領域内における、液滴材料の吐出による成膜方式により液滴材料からなる前記着色層が形成される領域と、を有し、
前記透過領域においては、前記着色層が設けられ、
前記反射領域においては、前記着色層と前記反射層とが平面的に重なる領域、及び前記区画層と前記反射層とが平面的に重なる領域を有し、
前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さは、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低いことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】  請求項１１又は１２に記載の電気光学装置を表示部として備えた電子機器。
【請求項１４】  基板上に反射層を形成する工程と、
前記反射層上の遮光領域に対応する領域にブラックマスクを形成する工程と、
前記ブラックマスクより広い面積で、前記ブラックマスクを覆うように透明な区画層を形成する工程と、
前記区画層により区画された複数の領域に着色層を形成する工程と、を有し、
前記着色層を形成する工程では、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さが、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低くなるように、前記着色層を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１５】  実質的に光が透過可能な透過領域と光を反射する反射層を有する反
射領域とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、
着色層が形成される領域と着色層が形成されない領域とを区画する透明な区画層を形成する工程と、
前記区画層により区画された複数の領域に、液滴材料の吐出による成膜方式により液滴材料からなる着色層を形成する工程と、
前記区画層上の少なくとも一部に透明導電性膜を形成する工程と、を有し、
前記着色層を形成する工程では、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さが、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低くなるように、前記着色層を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１６】  請求項１５に記載のカラーフィルタ基板の製造方法を用いてカラーフィルタ基板を製造する工程を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの観点によれば、遮光領域によって囲まれたドット部分を有するカラーフィルタ基板において、前記ドット部分において、液滴材料で形成される着色層が形成される領域と、前記着色層が形成される領域と前記着色層が形成されない領域とを区画する実質的に透明な区画層が形成される領域と、を有し、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さは、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低いことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記のカラーフィルタ基板の一態様では、実質的に光が透過可能な透過領域と光を反射する反射層を有する反射領域とを有するカラーフィルタ基板において、着色層が形成される領域と着色層が形成されない領域とを区画する実質的に透明な区画層が形成される領域と、前記区画層によって区画された領域内における、液滴材料の吐出による成膜方式により液滴材料からなる前記着色層が形成される領域と、を有し、前記透過領域においては、前記着色層が設けられ、前記反射領域においては、前記着色層と前記反射層とが平面的に重なる領域、及び前記区画層と前記反射層とが平面的に重なる領域を有し、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さは、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低いことを特徴とする。また、前記着色層が設けられている領域の面積は、前記透過領域及び前記反射領域の合計面積よりも小さい。これにより、区画層と反射層の積層構造を有する領域が確保される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記のカラーフィルタ基板の他の一態様は、前記区画層は、前記遮光領域より広い面積を有し、かつ、前記遮光領域を覆うように設けられている。これにより、遮光領域よりも広い領域において、区画層と反射層の積層構造により無着色の明るい反射光を得ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記反射層は遮光機能を有することができる。また、前記区画層は、前記透過領域と前記反射領域とを含むドット部分の周辺領域上に設けることができる。さらに、前記区画層は、前記反射領域の前記ドット周辺領域の内部にも設けることができる。さらにまた、前記区画層は、前記ドット周辺領域の周囲４辺のうち少なくとも対向する２辺における前記ドット周辺領域の内部に設けることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記のいずれかに記載のカラーフィルタ基板と、少なくとも前記透過領域及び前記反射領域に平面的に重なるように設けられた第１の表示用電極と、前記第１の表示用電極に対向するように設けられた第２の表示用電極と、を有し、前記透過領域と前記反射領域とを含むドット部分が、前記第１及び第２の表示用電極の重なる位置に対応して規定されてなる電気光学装置を構成することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、実質的に光が透過可能な透過領域と光を反射する反射層を有する反射領域とを有する電気光学装置において、相互に対向する一対の基板を備え、前記反射層は、前記一対の基板のうちの一方の基板上に配置され、前記一対の基板のうちの他方の基板は、着色層が形成される領域と着色層が形成されない領域とを区画する実質的に透明な区画層が形成される領域と、前記区画層によって区画された領域内における、液滴材料の吐出による成膜方式により液滴材料からなる前記着色層が形成される領域と、を有し、前記透過領域においては、前記着色層が設けられ、前記反射領域においては、前記着色層と前記反射層とが平面的に重なる領域、及び前記区画層と前記反射層とが平面的に重なる領域を有し、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さは、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低いことを特徴とする。さらに、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の他の観点では、カラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に反射層を形成する工程と、前記反射層上の遮光領域に対応する領域にブラックマスクを形成する工程と、前記ブラックマスクより広い面積で、前記ブラックマスクを覆うように透明な区画層を形成する工程と、前記区画層により区画された複数の領域に着色層を形成する工程と、を有し、前記着色層を形成する工程では、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さが、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低くなるように、前記着色層を形成することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明のさらに他の観点では、カラーフィルタ基板の製造方法は、実質的に光が透過可能な透過領域と光を反射する反射層を有する反射領域とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、着色層が形成される領域と着色層が形成されない領域とを区画する透明な区画層を形成する工程と、前記区画層により区画された複数の領域に、液滴材料の吐出による成膜方式により液滴材料からなる着色層を形成する工程と、前記区画層上の少なくとも一部に透明導電性膜を形成する工程と、を有し、前記着色層を形成する工程では、前記着色層における前記区画層に接する部分の前記カラーフィルタ基板からの高さが、前記区画層の前記カラーフィルタ基板からの高さよりも低くなるように、前記着色層を形成することを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図９に示すようなマルチギャップタイプの液晶装置は、マルチギャップタイプ構造を採用することにより、透過表示領域と反射表示領域とで液晶層の膜厚を調整して、液晶表示の明るさおよび色調の向上を図っている。