【事件の表示】
　平成　８年特許願第２１６９９８号「磁気ヘッド・アセンブリ」拒絶査定に対する審判事件［平成　９年　５月　６日出願公開、特開平　９−１２０５０７］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　経緯
　本件特許出願は、平成８年８月１９日に、特願平４−９９１４４号（出願日　平成４年４月２０日　優先権主張　米国　１９９１年５月２日）から分割されたものであり、原出願と同じ優先権主張されている。
　そして、平成１２年８月２３日に拒絶査定され、平成１２年１１月２７日に審判請求に至ったものである。
　
２　本願発明
　補正された明細書及び図面の記載から見て、本件出願の特許請求の範囲請求項１〜４に係る発明は、それぞれ請求項１〜４に記載されたとおりのものであり、そのうち請求項１に係るものはつぎのとおりである。
「　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、磁性材料からなる支持基板と、
　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、前記支持基板とともに磁気ヘッド・アセンブリの第１の磁極片を形成し、前記支持基盤上に配置され、軟磁性材料からなる第１の薄膜層と、
　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、前記第１の薄膜層及び前記支持基板を覆う磁気変換ギャップ形成絶縁層と、
　前記ギャップ形成絶縁層の接触記録のベアリング面となる縁から離隔して前記磁気変換ギャップ形成絶縁層（層絶縁は誤記）上に配置された導体コイルと、
　前記導体コイルを覆い、前記導体コイルから前記ギャップ形成絶縁層のベアリング面となる縁までの一部分を延びるコイル絶縁層と、
　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、磁気ヘッド・アセンブリの第２の磁極片を形成し、前記導体コイルから絶縁されており、バック・ギャップで前記支持基板に接続される、軟磁性材料からなる第２の薄膜層と、
　前記第２の磁極片を覆い、記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、絶縁材料からなる高さ調整層と、
　前記高さ調整層に結合され、非磁性セラミックからなり、記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有するクロージャ・ブロックとを含み、
　前記第１の薄膜層、前記磁気変換ギャップ形成絶縁層、及び前記第２の薄膜層の縁が、前記記録媒体との接触記録のベアリング面において磁気変換ギャップを形成し、前記第１の薄膜層は、前記ベアリング面から前記導体コイルに向かって、前記ベアリング面に最も近接している導体コイルのすぐ近くであって、かつ、前記ギャップ形成層で絶縁できる位置まで延びることを特徴とする磁気ヘッド・アセンブリ。」（以下、本願発明という。）
　
３　引用例記載の発明
（１）　特開昭５９−２４４２２号公報
　１）本件優先権主張日前公知の刊行物である特開昭５９−２４４２２号公報（以下、引用例１という。）には次の記載がある。
　特許請求の範囲
「磁性体基板上に所定膜厚にギャップ形成膜と、巻線パターン導体と、この巻線パターン導体との間に絶縁膜を介在させた上部磁性体コアとを順次積層してなる磁気ヘッドにおいて、前記磁性体基板の上記上部磁性体コアに対向する位置に前記磁性体基板より大なる飽和磁束密度を有する磁性体層を埋設形成してなることを特徴とする磁気ヘッド」
　
　２）第２頁右上欄第１４行〜第３頁右上欄第１行
「［発明の実施例］
　以下、図面を参照して本発明の一実施例について説明する。
　第１図は実施例に係る磁気ヘッドの概略構成図である。図中１は磁性基板であり、検索・砥粒加工等の容易な例えばフェライト材料等からなる。この磁性基板１の一面の一端部の部分領域には、例えば第２図に示す如き５角形上の溝（凹部）が設けられ、この溝に上記磁性体基板１よりも飽和磁束密度の大きい例えばセンダストや磁性合金等からなる磁性体層２が埋設形成される。この磁性体層２は、例えばスパッタリングや蒸着・メッキ等によって埋設形成される。尚、この磁性体層２の形状は前記溝の形状寸法によって定まり、例えばその横幅は、記録トラック幅Ｔｗまたはこれより僅かに大きい幅ｔｗに設定され、また端部からの溝深さｄは、ヘッドのデプスＤと等しく定められる。そしてその下部は先絞り状に形成されている。
　このような形状の磁性体層２を埋設してなる磁性体基板１の上記埋設面を平坦形成し、次にその面に所望厚みＧのギャップ形成膜３を薄膜形成技術を用いて形成する。その後、上記ギャップ形成膜３を、前記磁性体層２の埋設形成部位外の位置で部分的に除去し、前記基板１の表面を露出させる。このような状態で、前記ギャップ形成膜３上に巻線パターン導体４をヘッドコアに交差するようにして形成し、この交差部分に絶縁膜５を形成した後、前記磁性体膜２に対向して上部磁性体コア６を集積形成する。この上部磁性体コア６はセンダストや磁性アモルファス合金等からなり、スパッタリングや蒸着等の薄膜形成技術を用いて形成される。そして上記上部磁性体コア６の一端側は前記露出された基板１の表面に接続されるものとなっている。またこの上部磁性体コア６の幅はトラック幅Ｔｗに規制されている。
　これによって、上部磁性体コア６、磁性体基板１および磁性体層２とにより、トラック幅Ｔｗのリング形コアが形成され、そのギャップは前記ギャップ形成膜３により所定のギャップ幅Ｇに設定される（。）そして、このリング形コアを通して巻線パターン導体４が設けられ、励磁コイルとして作用することになる。そして、その先端部断面構造は、第３図に示す如くになる。
　かくしてこのような構造の磁気ヘッドによれば、ヘッド先端部の基板１に埋設された磁性体層２、および上部磁性体コア６が磁性体基板１より大なる飽和磁束密度を有するので、トラック幅ＴおよびディプスＤで規定されるヘッド先端部に集束される磁束は、上記磁性体層２の飽和磁束密度まで大きくなる。つまり基板１の飽和磁束密度を終えた大きさまで、大きくなる。これ故、記録媒体が高抗磁力を有する場合であっても、残留磁化を形成するに十分な磁束を得ることが可能となる。また埋設形成された磁性体層２の透磁率が磁性体層１より小さくても、上記磁性体層２に伝搬された磁束は透磁率の大きな基板１に速やかに伝搬される。つまり磁性体基板１と磁性体層２とは、その材料が有する欠点を相互に補って下部コアとして機能することになる。
　また上記構造によれば、磁性体基板１として加工性が良好で、しかも耐摩耗性に優れた磁性材料を容易に選ぶことができる。従って、ヘッド面の磁気記録媒体に対する耐摩耗性を十分確保することができる。更には、その製作加工も容易に行い得る。」
　
　３）引用例１のヘッドも、「ヘッド面の磁気記録媒体に対する耐摩耗性を十分確保することができる。」との記載から見ても、磁気記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有することは明らかである。
　そして、巻線パターン導体４は、第３図を見ても、接触記録のベアリング面となる縁から離隔している。
　即ち、引用例１には次のことが示されている。
「磁気記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、フェライト材料等からなる磁性基板１
　磁気記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、センダスト（軟磁性材料）とからなる磁性体層２を埋設し、磁性体基板１と磁性体層２が下部コアとして機能するものであり、
　磁気記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、所望厚みＧのギャップ形成膜３、
　ギャップ形成膜３上にヘッドコアに交差するようにして形成され、接触記録のベアリング面となる縁から離隔した巻線パターン導体４、
　交差部分に形成された絶縁膜５、
　磁気記録媒体体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、上部磁性体コア６であり、上部磁性体コア６はセンダストや磁性アモルファス合金等からなり、軟磁性材料からなり、上部磁性体コア６の一端側は前記露出された基板１の表面に接続され、
　磁性体層２、ギャップ形成層３、上部磁性体コア６が、磁気記録媒体体との接触記録のベアリング面において磁気変換ギャップを形成している磁気ヘッド・アセンブリ。」
　
（２）　実願昭５６−１６２６６０号（実開昭５８−６９３２９号）のマイクロフィルム
　１）　本件優先権主張日前公知の刊行物である実願昭５６−１６２６６０号（実開昭５８−６９３２９号）のマイクロフィルム（以下、引用例２という。）には次のことが記載されている。
　実用新案登録請求の範囲
「磁性体基板を一方の磁性体とした電磁誘導型の薄膜磁気ヘッドにおいて、他方の磁性体薄膜と対向してギャップ部分を形成する磁性体基板上に、断面形状が台形状または三角形状であってかつ前記磁性体基板の飽和磁束密度より高飽和磁束密度特性を有する磁性体薄膜を、ギャップ深さ方向の終端側において前記他方の磁性体薄膜内面から離れるように一体に形成してなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」
　
　２）第３頁第６行〜第４頁第１７行
「以下、本考案を実施例により説明する。
　第２図は本考案の一実施例における薄膜磁気ヘッドの断面図である。
　第２図においては第１図に示した従来の薄膜磁気ヘッドと同一構成要素には同一の符号を付してある。
　本実施例においてはたとえばフェライトからなり下部磁性体を兼用する磁性体基板１上に磁性体基板１とともに断面Ｃ字を形成するパーマロイからなる上部磁性体薄膜２を導体膜３および絶縁膜４を介して蒸着または電気メッキ等により一体に形成して構成してある。さらに上部磁性体薄膜２と共にギャップ部を形成する磁性体基板１上に、磁性体基板１よりも高飽和磁束密度特性を有するたとえばパーマロイからなる磁性体薄膜５を蒸着または電気メッキ等により一体に形成する。また、磁性体薄膜５の断面形状はたとえばギャップの深さ方向の終端側において上部磁性体薄膜２の内面から離れるように形成された台形状に形成してある。
　そこで上記の如く構成した本実施例の薄膜磁気ヘッドのイオいて導体膜３に通電したときの記録磁界は、磁性体薄膜５の飽和磁束密度は磁性体基板１のそれよりも大きいため、第２図において波線で示した如く鋭くなる。
　また、ギャップの深さ方向の終端において、上部磁性体薄膜２と磁性体薄膜５との間隙はＡ’に示す如く、第１図のおける場合よりも長くなり、この部分における漏洩磁束を減少させることが出来て、効率低下が軽減されることになる。」
　
（３）特開昭６３−７４１１２号公報
　１）本件優先権主張日前公知の刊行物である特開昭６３−７４１１２号公報（以下、引用例３という。）には次のことが記載されている。
  第２頁左下欄第１４行〜第３頁左上欄第１１行
「［実施例］
　以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する。
　第１図は本発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する断面図である。
　第１図（ａ）に示すように、フェライト、セラミック等の基板１上には、先ずパーマロイ、センダスト、アモルファス合金等の磁性材料がスパッタリング等により成膜された下部磁性層２が形成されている。次にこの下部磁性層２上にＳｉＯ２あるいはＡｌ２Ｏ３等の絶縁材料およびＣｕ、Ａｌ等のコイル材料が公知の方法により適宜成膜され、エッチング等により触刻されることにより図示のような絶縁層３およびコイル導体４が形成される。次いでこれらの積層体の上に、前記下部磁性層２と同様の磁性材料がスパッタリング等によりさらに成膜されて上部磁性層５が形成される。本実施例においてはこれらの下部磁性層２、絶縁層３、コイル導体４、および上部磁性層５により磁気ヘッド素子１０が構成される。なお、磁気ヘッド素子１０の具体的な形状、構成は上記のものに限られるものではなく、たとえば基板１２を強磁性体からなるものとし、この基板１に旗部磁性層としての機能を併せ持たせてもよい。
　上記磁気ヘッド素子１０上には続いて一例としてＳｉＯ２が、第１図（ｂ）に矢印で示す方向から後に詳述する条件によるスパッタリングにより磁気ヘッド素子１０の高さ以上の厚さに構成されて保護層６が形成される。このようにスパッタリングにより構成された保護層６はその上面が第１図（ｂ）に示すように段差を有するものとなるのでこれを研磨して第１図（ｃ）に示すように平坦化する。次いで平坦化された保護膜６の上面には第１図（ｄ）に示すようにエポキシ樹脂等の接着剤７が薄く塗布され、この上にフェライト、セラミック等からなる保護板が載置されて上記接着剤７により保護層６上に保護板８が接合され、薄膜磁気ヘッドが得られる。」
　
４　本願発明と引用例記載の発明との対比
（１）　引用例１との一致点、相違点
　引用例１の「フェライト材料等からなる磁性基板１」、「センダスト（軟磁性材料）とからなる磁性体層２」、「ギャップ形成膜３」、「巻線パターン導体４」、「絶縁膜５」、「上部磁性体コア６」は、
本願発明の「磁性材料からなる支持基板」、「軟磁性材料からなる第１の薄膜層」、「磁気変換ギャップ形成絶縁層」、「導体コイル」、「コイル絶縁層」、「軟磁性材料からなる第２の薄膜層」にそれぞれ相当するから、
両者は次の点で一致する。
（一致点）
「　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、磁性材料からなる支持基板と、
　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、前記支持基板とともに磁気ヘッド・アセンブリの第１の磁極片を形成し、前記支持基盤上に配置され、軟磁性材料からなる第１の薄膜層と、
　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、前記第１の薄膜層及び前記支持基板を覆う磁気変換ギャップ形成絶縁層と、
　前記ギャップ形成絶縁層の接触記録のベアリング面となる縁から離隔して前記磁気変換ギャップ形成層絶縁上に配置された導体コイルと、
　前記導体コイルを覆うコイル絶縁層と、
　記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、磁気ヘッド・アセンブリの第２の磁極片を形成し、前記導体コイルから絶縁されており、バック・ギャップで前記支持基板に接続される、軟磁性材料からなる第２の薄膜層と、
　前記第１の薄膜層、前記磁気変換ギャップ形成絶縁層、及び前記第２の薄膜層の縁が、前記記録媒体との接触記録のベアリング面において磁気変換ギャップを形成していることを特徴とする磁気ヘッド・アセンブリ。」
　
　そして、両者は次の点で相違する。
（相違点１）
　本願発明においては、コイル絶縁層が「前記導体コイルから前記ギャップ形成絶縁層のベアリング面となる縁までの一部分を延びる」のに対して、引用例１においては、ベアリング面に関する記載がない点、
（相違点２）
　本願発明においては、「前記第２の磁極片を覆い、記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有し、絶縁材料からなる高さ調整層と、
　前記高さ調整層に結合され、非磁性セラミックからなり、記録媒体との接触記録のベアリング面となる縁を有するクロージャ・ブロックとを含む」が、引用例１には高さ調整層と、クロージャ・ブロックの記載がない点、
（相違点３）
　本願発明においては、「前記第１の薄膜層は、前記ベアリング面から前記導体コイルに向かって、前記ベアリング面に最も近接している導体コイルのすぐ近くであって、かつ、前記ギャップ形成層で絶縁できる位置まで延びる」が、引用例１には、導体コイルとの位置関係についての記載がない点。
　
（２）　相違点の検討
　１）　相違点１について
　引用例１においても、第１図および第３図を参照すると、巻線パターン導体４を覆う絶縁膜５は、上部磁性体コア６を巻線パターン導体４から分離し、絶縁膜５の一部は、ギャップ形成膜３である絶縁体につながりベアリング面となる縁まで絶縁していることは明らかであるので、本願発明と表現は異なるが、相違点１は格別のことではない。
　
　２）　相違点２について
　引用例３における「保護層６」、「保護板８」が、本願発明の「高さ調整層」、「クロージャ・ブロック」に相当する。
　そして、再生用と記録用を積層した複合型の磁気抵抗型ヘッドは周知のものであり、引用例３に平坦化した保護層６、保護板８を設ける技術が示されており、これを適用することに格別の困難があるものとは認められないので、この相違点２も格別のことではない。
　
　３）　相違点３について
　引用例１においては、磁性体層２の飽和磁束密度を磁性体基板１より大きくして、上部磁性体コア６とギャップ形成膜３を介して形成する磁束を集中させている。引用例２においても、磁性体基板１よりも高飽和磁束密度特性を有するたとえばパーマロイからなる磁性体薄膜５を形成して、磁束を集中させている。磁束を集中させるのに、高飽和磁性領域が大きい方が、飽和しにくいことは明らかであり、その際に、コイル導体との絶縁性を確保することは当然の要求であるので、ギャップ形成層で絶縁できる位置まで延びるとすることは、当業者が容易に選択できた構成である。従ってこの相違点３も格別ではない。
　
　４）　まとめ
　相違点１〜３のいずれも格別のことではなく、相違点１〜３を総合的に見ても格別のことが認められないので、本願発明は、引用例１〜３記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。従って、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
５　まとめ
　本願発明が、特許を受けることができない以上、他の請求項に係る発明を検討するまでもなく、本件出願は拒絶を免れない。
　よって結論のとおり審決する。