【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームを収束する電子レンズと、該電子ビームを偏向する偏向器とを少なくとも有する電子光学鏡筒と、試料室と、試料を載置する試料ステージとを少なくとも有する電子ビーム描画装置において、
前記試料ステージの姿勢を保持する磁力拘束手段と、
前記磁力拘束手段から前記試料室の内部空間への漏洩磁場をシールドするための磁場シールド手段とを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電子ビーム描画装置において、
前記磁力拘束手段は、永久磁石の発生磁力を利用して前記試料ステージの姿勢を保持することを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電子ビーム描画装置において、
前記試料ステージ下面に対向して配置された定盤を備え、
前記試料ステージを前記定盤より浮上させる浮力発生手段を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
電子ビームを収束する電子レンズと、該電子ビームを偏向する偏向器とを少なくとも有する電子光学鏡筒と、試料室と、試料を載置する試料ステージとを少なくとも有する電子ビーム描画装置において、
前記試料ステージを電磁駆動するための電磁駆動手段と、
前記電磁駆動手段から前記試料室の内部空間への漏洩磁場をシールドするための磁場シールド手段とを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項５】
請求項４に記載の電子ビーム描画装置において、
前記電磁駆動手段は、
前記磁場シールド手段の内部に配置された少なくとも１つの永久磁石と、
駆動手段とを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項６】
請求項５に記載の電子ビーム描画装置において、
前記駆動手段は、少なくとも１つの駆動コイルを備え、該駆動コイルは前記永久磁石に対向して配置されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項７】
請求項４から６のいずれかに記載の電子ビーム描画装置において、
前記駆動手段は前記ステージに連結されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項８】
請求項４または５に記載の電子ビーム描画装置において、
前記磁場シールド手段は前記ステージに連結されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項９】
請求項４から８のいずれかに記載の電子ビーム描画装置において、
前記電磁駆動手段は前記駆動手段に通電することにより、前記ステージを駆動させることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１０】
請求項４から６及び８のいずれかに記載の電子ビーム描画装置において、
前記電磁駆動手段は前記駆動手段に通電することにより、前記磁場シールド手段または前記永久磁石を駆動させることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１１】
請求項４に記載の電子ビーム描画装置において、
定盤と、
前記試料ステージに予圧を付勢する磁力手段と、
前記試料ステージを前記定盤上で浮上させる浮力発生手段と、
前記磁力手段を内部に有し、前記磁力手段からの漏洩磁場をシールドするための第二の磁場シールド手段とを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１２】
請求項１または４に記載の電子ビーム描画装置において、
前記試料室内は真空状態であることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１３】
請求項１または４に記載の電子ビーム描画装置において、
前記電子光学鏡筒から前記試料室内部空間への漏洩磁場をシールドするための第三の磁場シールド手段を備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１４】
電子ビームを収束する電子レンズと、
該電子ビームを偏向する偏向器と、
試料室と、
試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージを駆動するステージ駆動手段とを有し、
該ステージ駆動手段は、駆動コイルと、該駆動コイルを固定する第一固定手段と、
前記駆動コイルに対向して配置された磁力手段と、
該磁力手段を固定し、前記駆動コイルと対向する面以外を覆う第二固定手段と、
前記試料ステージは前記第一固定手段または第二固定手段に連結されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電子ビーム描画装置において、
前記第一固定手段は固定ヨークであることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の電子ビーム描画装置において、
前記第二固定手段は可動ヨークであることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１７】
請求項１４または１６に記載の電子ビーム描画装置において、
前記第二固定手段と、前記前記磁力手段の前記駆動コイルと対向する面以外の面とを覆う磁場シールドを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１８】
請求項１４に記載の電子ビーム描画装置において、
前記磁力手段は少なくとも対面配置された第一の永久磁石と第二の永久磁石とを備え、
前記駆動コイルは前記第一の永久磁石と第二の永久磁石の間に配置されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１９】
電子ビームを収束する電子レンズと、
該電子ビームを偏向する偏向器と、
試料室と、
試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージを駆動するステージ駆動手段とを有し、
該ステージ駆動手段は、第一の方向に沿って配置された複数の第一駆動コイルと、該第一駆動コイルを固定する第一固定手段と、
前記第一駆動コイルに対向して配置された第一磁力手段と、
該第一磁力手段を固定し、前記第一駆動コイルと対向する面以外を覆う可動な第二固定手段と、
前記第一の方向と垂直に交わる第二の方向に沿って配置された複数の第二駆動コイルと、該第二駆動コイルを固定する第三固定手段と、
前記第二の駆動コイルに対向して配置された第二磁力手段と、
該第二磁力手段を固定し、前記第二駆動コイルと対向する面以外を覆う可動な第四固定手段とを備え、
前記試料ステージは前記可動な第二及び第四固定手段に連結されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の電子ビーム描画装置において、
前記第二固定手段と、前記第一磁力手段の前記第一駆動コイルと対向する面以外の面とを覆う第一磁場シールドと、
前記第四固定手段と、前記第二磁力手段の前記第二駆動コイルと対向する面以外の面とを覆う第二磁場シールドとを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項２１】
電子ビームを収束する電子レンズと該電子ビームを偏向する偏向器とを具備する電子光学鏡筒と、定盤と、定盤上を移動可能なステージと、試料ステージに予圧を付勢する磁力手段と、上記磁力手段からの漏洩磁場をシールドするための漏洩磁場シールド手段とを備えた電子ビーム描画装置によって、
上記試料ステージに試料を載置し、試料を電子ビームによりパターニングすることを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項２２】
電子ビーム描画装置に用いられるステージ装置であって、試料を載置する試料ステージと、試料ステージに予圧を付勢する磁力手段と、上記磁力手段からの漏洩磁場をシールドするための漏洩磁場シールド手段とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載のステージ装置において、前記試料ステージは、エアにより定盤上に浮上していることを特徴とするステージ装置。
【請求項２４】
請求項２２または２３に記載のステージ装置において、前記漏洩磁場シールド手段は、前記磁力手段の外側に設けられていることを特徴とするステージ装置。
【請求項２５】
請求項２２〜２４のいずれかに記載のステージ装置において、前記磁力手段と前記定盤との間の距離をｔ１、前記漏洩磁場シールド手段と前記定盤との間の距離をｔ２としたとき、
ｔ１＞ｔ２
の関係であることを特徴とするステージ装置。
【請求項２６】
電子ビーム描画装置に用いられるステージ装置であって、
試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージに予圧を付勢する磁力手段と、
該磁力手段を試料ステージ内部に有し、該磁力手段からの漏洩磁場をシールドするための第一磁場シールド手段と、
前記試料ステージを電磁駆動するための電磁駆動手段とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２７】
電子ビーム描画装置に用いられるステージ装置であって、
試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージを電磁駆動するための電磁駆動手段と、
前記電磁駆動手段からの漏洩磁場をシールドする第一磁場シールド手段と、
試料ステージに予圧を付勢する磁力手段と、
前記磁力手段を試料ステージ内部に有し、前記磁力手段からの漏洩磁場をシールドするための第二磁場シールド手段とを備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２８】
請求項２６または２７に記載のステージ装置において、前記試料ステージを浮上させる浮力発生手段を備えることを特徴とするステージ装置
【請求項２９】
請求項２６または２７に記載のステージ装置において、
前記電磁駆動手段は、
前記第一磁場シールド手段の内部に配置された少なくとも１つの永久磁石と、
駆動手段とを備えることを特徴とする請求項２６または２７に記載のステージ装置。
【請求項３０】
請求項２９に記載のステージ装置において、
前記駆動手段は、少なくとも１つの駆動コイルを備え、
該駆動コイルは前記永久磁石に対向して配置されていることを特徴とするステージ装置。