(57)【要約】【課題】オートサンプラまたはリキッドハンドラにおいて、ニードルを効果的に洗浄すると共に、洗浄後にニードル表面に残る洗浄液量を減少させ、以てクロスコンタミネーションを抑制する。【解決手段】洗浄対象となるニードル２が挿入される洗浄筒３と、この洗浄筒３内を上から下へ流れる気流を生起する送気手段４と、この気流中に洗浄液を噴霧する洗浄液噴霧手段５とを備える。このように構成することにより、洗浄筒３内に噴霧された霧（液滴）によってニードル２表面の汚染物が洗い流され、洗浄後は噴霧を止めて気流のみを流すことによりニードル２表面に付着した洗浄液も払拭される。【選択図】          図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
容器から他の容器または装置へニードルを介して液体が移注できると共に前記ニードルを洗浄する洗浄手段を備えるオートサンプラまたはリキッドハンドラにおいて、前記洗浄手段が、前記ニードルを挿入するニードル挿入口が上端に開口し排出口が下端に開口する洗浄筒と、前記洗浄筒の上部から前記排出口に向けて前記洗浄筒内に気流を生起する送気手段と、前記気流中に洗浄液を噴霧する洗浄液噴霧手段とを備えていることを特徴とするオートサンプラまたはリキッドハンドラ。
【請求項２】
洗浄筒の上部に拡径部を有し、前記拡径部内に、上端が前記ニードル挿入口に連通し下端は前記洗浄筒内空間に開口する内管を前記洗浄筒の中心軸と同軸に設けたことを特徴とする請求項１に記載のオートサンプラまたはリキッドハンドラ。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、液体クロマトグラフを始めとする各種分析装置に液体試料を導入するオートサンプラや分析用試料を調製するリキッドハンドラに関し、特にこれらの装置で用いられるニードルを洗浄する洗浄手段に関する。
【背景技術】
【０００２】
以下、液体クロマトグラフ用のオートサンプラを例として説明する。
液体クロマトグラフ分析におけるオートサンプラを用いた試料の導入は、まず、試料を収めた試料容器にニードルを挿入し、所定量の試料を吸引してニードル内およびニードルに連結されたサンプルループ等内に保持する。次に、このニードルをインジェクションポートに移動し、保持していた試料を注入する。この過程で、前回注入した試料の残渣がニードルに付着しているとクロスコンタミネーションにより測定が妨害を受けるので、注入操作の前にニードルを洗浄する。洗浄は、特許文献１に従来技術として記載されているように、洗浄液を洗浄槽（洗浄ポートとも呼ばれる）に貯留して、この洗浄液にニードルを浸漬することにより行われる。洗浄槽内の洗浄液は、手動操作により適宜入れ換えるもの、或いは、１回の注入操作ごとにポンプにより自動的に入れ換えるようにしたもの等がある。
【０００３】
従来のオートサンプラにおける洗浄槽の一例を図３に示す。
これは洗浄液自動入れ換え式の例であって、同図において、１は洗浄槽であり、頂部には洗浄されるニードル２を挿入するためのニードル挿入口１１を有し、底部には洗浄液を導入するための洗浄液導入口１２が設けられる。また、上部の側面から横下方向に向けて洗浄液をオーバフローさせて排出させる洗浄液排出口１３が設けられ、これにより槽内の液面はほぼ一定レベルに保たれる。
【０００４】
この洗浄槽１によるニードル２の洗浄は特許文献１に詳述されているが、大略以下の如くである。
まず、バルブその他の流路部品を介して洗浄液導入口１２に接続されているポンプ（いずれも図示せず）を作動させて洗浄液導入口１２から洗浄液を洗浄槽１に送り込む。これにより洗浄槽１内の使用済み洗浄液は洗浄液排出口１３から排出され、槽内は新しい洗浄液に置換される。
次に、ニードル２を移動させて頂部のニードル挿入口１１から洗浄槽１内に挿入し、槽内の洗浄液に浸漬させることでニードル２の外側が洗浄される。ニードル２の内側は、別途に内側に洗浄液を流して洗浄されるが、本発明には直接関係しないので、内部の洗浄に関してはここでは説明を省略する。
洗浄後、洗浄液からニードル２を引き上げ、以後は前述の通り、ニードル２を移動させて、試料容器から試料を吸引し、インジェクションポートに注入することでサンプリングが行われる。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１２７０７８号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
上記従来の洗浄手段でニードルを洗浄した場合、洗浄後のニードルの外側に洗浄液が付着して残る。この洗浄液は、相当に希釈されているとはいえ汚染物質（前回、またはそれ以前にサンプリングした試料）を含んでいるので、これが次回にサンプリングされる試料に混入することによりクロスコンタミネーションを起こし、分析の定量性と再現性に悪影響を及ぼす可能性がある。また、一旦洗浄液に溶解した汚染物質がニードル外表面に再付着する場合もあり、これもクロスコンタミネーションの要因となる。
【０００７】
本考案はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ニードルを効果的に洗浄すると共に、洗浄後にニードル表面に残る洗浄液量を減少させ、以てクロスコンタミネーションを抑えた洗浄手段を有するオートサンプラまたはリキッドハンドラを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本考案装置は上記課題を解決するために、洗浄対象となるニードルが挿入される洗浄筒と、この洗浄筒内を上から下へ流れる気流を生起する送気手段と、この気流中に洗浄液を噴霧する洗浄液噴霧手段とを有する洗浄手段を備える。
このように構成することにより、洗浄筒内に噴霧された霧（液滴）によってニードル表面の汚染物が洗い流され、洗浄後は噴霧を止めて気流のみを流すことによりニードル表面に付着した洗浄液も払拭される。
【考案の効果】
【０００９】
本考案は、上記のように液滴で洗浄するので、少ない洗浄液量で効果的にニードルの洗浄を行うことができ、また、洗浄後にニードル表面に付着残留する洗浄液量を減少させることができるので、クロスコンタミネーションの防止効果が高い。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１０】
本考案装置が備えるニードル洗浄手段は次のような特徴を有する。即ち、第１の特徴は洗浄対象となるニードルが挿入される洗浄筒内に上から下へ流れる気流を生起するように構成した点にあり、第２の特徴はこの気流中に洗浄液を噴霧するように構成した点である。
従って、最良の形態の基本的な構成は、上記２件の特徴的構成を具備するニードル洗浄手段を備えたオートサンプラまたはリキッドハンドラである。
【実施例１】
【００１１】
図１に本考案の一実施例として基本的構成例を示す。
同図において、３はほぼ鉛直に設けられた円筒状の洗浄筒であって、上端にはニードル挿入口３１が、下端には排出口３２が開口し、上部側方には送気手段４（具体的には、エアコンプレッサ、ブロワー等）に連通する枝管３４が設けられる。枝管３４より下方の洗浄筒３の内壁に開口する噴霧口５１は、電磁弁５２を介して配管により洗浄液槽５３内に連通することで洗浄液噴霧手段５を構成している。ニードル挿入口３１の周縁には、軟質弾性材料から成るシール材３３が設けられる。
【００１２】
このように構成された本実施例装置によりニードル２は以下のように洗浄される。
（１）まず、ニードル２をニードル挿入口３１から洗浄筒３内に挿入し、その基端部（ステム２１）をシール材３３を介してニードル挿入口３１に押し当てることによりニードル挿入口３１を塞ぐ。
（２）送気手段４を作動させて、図中の矢印のように、洗浄筒３内に上から下へ向かう気流を生起する。
（３）気流により洗浄筒３内の圧力が下がるので、電磁弁５２を開けば洗浄液槽５３から洗浄液が吸い上げられ、噴霧口５１から噴霧される。
（４）噴霧された霧（液滴）の一部はニードル２の表面に付着して表面の汚染物を溶かして液滴中に取り込むが、液滴はすぐに気流に吹き払われてニードル２の表面から離れ、排出口３２から排出される。無数の液滴によりこのような過程が次々に繰り返されて、ニードル２の表面から汚染物が持ち去られることにより洗浄が行われる。
（５）上記の洗浄を所定時間行った後、電磁弁５２を閉じて噴霧を止め、暫時気流のみを流すことによりニードル２の表面に残る液滴を払拭する。
【実施例２】
【００１３】
図１に示す基本構成を実用的に改良した実施例を図２に示す。図２において、図１と同一符合を付したものは図１と同一物であるから、再度の説明は省く。
本実施例が実施例１と相違する点は、洗浄筒３の上部を拡径して拡径部３５を設け、その内部に内管３６を設けて二重管構成としたことである。
【００１４】
内管３６は洗浄筒３の中心軸と同軸に配置され、その上端はニードル挿入口３１に連通し、下端は噴霧口５１付近の洗浄筒３内空間に開口する。内管３６は、枝管３４から流入する高速の気流がニードル挿入口３１からシールを破って溢流することを防ぐ防壁として機能するが、その他にも以下のような効能を有する。即ち、拡径部３５の内径は、図に示すように下方に向かって次第に小さくなるので、枝管３４から導入された気流は下方に進むに従って次第に流速を増し、ベンチュリ効果によって気圧が下がる。流路が最も狭くなる内管３６の下端付近で気圧も最低となるから、この付近に開口する噴霧口５１から効率よく洗浄液が噴霧される。また、この付近の低い気圧は内管３６の内部全体に及ぶから、ステム２１で閉塞されているニードル挿入口３１から外へ漏れ出ようとする空気の圧力も小さくなり、この部分からの空気漏れを止めやすくなる。言い換えると、ニードル挿入口３１を閉塞するためにステム２１を押し当てる力が小さくて済む。
【００１５】
なお、本実施例において、ニードル２を洗浄する過程は、前記の実施例１の場合と同様である。
【００１６】
以上、液体クロマトグラフ用のオートサンプラを例示して説明したが、本考案は液体試料を扱うその他の分析装置用のオートサンプラやリキッドハンドラにも適用できる。
また、本考案は上記２つの実施例に限定されるものでなく、種々の変形が可能である。
例えば、図１または図２における電磁弁５２を適当なポンプに置き換えることにより、洗浄液を加圧噴霧するように構成することができる。これにより洗浄液の噴霧量を調節することが容易に可能となる。また、この部分に電磁弁もポンプも設けない構成も可能であり、その場合は、送気手段４において送気量を調節することにより噴霧量を調節し、或いは噴霧を止めるようにする。
さらにまた、送気手段４にヒータを組み込み、加熱気流を流すように構成することも考えられる。これにより、洗浄後にニードル表面に残る洗浄液を速やかに乾燥させることが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００１７】
本考案は各種分析装置用のオートサンプラやリキッドハンドラに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本考案の一実施例を示す図である。
【図２】本考案の他の実施例を示す図である。
【図３】従来の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００１９】
１  洗浄槽
２  ニードル
３  洗浄筒
４  送気手段
５  洗浄液噴霧手段
１１  ニードル挿入口
１２  洗浄液導入口
１３  洗浄液排出口
２１  ステム
３１  ニードル挿入口
３２  排出口
３３  シール材
３４  枝管
３５  拡径部
３６  内管
５１  噴霧口
５２  電磁弁
５３  洗浄液槽
【図１】
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【図２】
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【図３】
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