【事件の表示】
　平成８年特許願第３１４２９７号「ピストンリング」拒絶査定に対する審判事件〔平成１０年５月１９日出願公開、特開平１０−１３０８９２、請求項の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は平成８年１１月１１日（優先権主張　平成８年９月５日；日本）の出願であって、平成１２年８月１日付けで拒絶の理由が通知され、これに対して、平成１２年１０月３日に請求人（出願人）より手続補正書が提出され、平成１２年１２月１４日付けで先の拒絶の理由により拒絶査定され、その後、平成１３年１月２４日に審判請求されるとともに、平成１３年２月１４日付けで手続補正書が提出されたものである。
　　
II．補正について
(II-1)補正の内容
　上記平成１３年２月１４日付け手続補正書による明細書の補正は、以下の特許請求の範囲についての補正を含むものである。
　特許請求の範囲を、以下のとおりに補正する。
「【請求項１】硬質Ｃｒめっき皮膜に形成されている網目状のクラックにアルミナからなる硬質粒子が含有されている複合Ｃｒめっき皮膜を外周面に被覆したピストンリングにおいて、
前記アルミナ粒子が球状粒子であり、
前記アルミナ粒子の平均粒径が０．７〜１０μｍであり、
前記アルミナ粒子の複合比率が体積比率で３〜１５％である
ことを特徴とするピストンリング。
【請求項２】上下面に窒化層が形成されていることを特徴とする請求項１記載のピストンリング。」
（以下、「補正後の発明１」及び「補正後の発明２」という。）
　　
(II-2)補正の適否
独立特許要件について
(A)引用例の記載事実
　上記の拒絶の理由は特許法第２９条第２項の規定に基づくものであり、そして、提示された引用例は、下記のとおりである。
引用例１（特開昭６２−５６６００号公報）
(1-1)「（１）全層厚を通して延びる亀裂ネットワークを有する電解メッキ硬質クロム層において、それらの亀裂の中に固体物質粒子が含まれていることを特徴とする、上記硬質クロム層。
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
（４）亀裂内に含まれている固体物質粒子の粒度が０．０００５ｍｍと０．０１５ｍｍとの間である、特許請求の範囲第１ないし第３項のいずれか一つに記載の硬質クロム層。
（５）耐摩耗性を高めるために亀裂の中に固体物質粒子として硬質材料の粒子が含まれている、特許請求の範囲第１ないし第４項のいずれか一つに記載の硬質クロム層。
（６）硬質材料粒子がタングステンカーバイト、クロムカーバイト、酸化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素、炭化硼素及び／又はダイヤモンドよりなる、特許請求の範囲第５項記載の硬質クロム層。」
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
（１６）全層厚を通して延びる亀裂ネットワークを有してそれらの亀裂の中に固体物質粒子が含まれている電解メッキ硬質クロム層を形成する方法において、そのクロムメッキを微細亀裂形成性のクロムメッキ電解液を用いて行ない、この電解液中に固体物質粒子を撹拌及び／又は空気次込みによって懸濁状態に保っておき、そしてクロムメッキの間にそのクロムメッキされるべき材料を一回以上アノード性に接続することを特徴とする、上記硬質クロム層の形成方法。
（１７）メッキされるべき材料をカソードとして接続する時間がこの材料をアソードとして接続するよりも何倍も大きい、特許請求の範囲第１６項記載の方法。」（特許請求の範囲）
(1-2)「本発明は全層厚を通じて延びる亀裂ネットワークを有する電解メッキされた硬質クロム層およびその形成方法に関する。」（第２頁左下欄第５〜７行）
(1-3)「電解的に屈折された硬質クロム層は・・・・良好な抵抗性を有する。従って特別な耐摩耗性を得るために例えば内燃機関等におけるピストンリングやシリンダーの摩擦面のような種々の機械部材の摩擦面を硬質クロム層で被覆することが行われ」（第２頁左下欄第９〜１９行）
(1-4)「本発明によれば、なかでも高い亀裂密度において固体物質粒子の諸特性に対応して、電解メッキされた分解層の場合のように、その硬質クロム層の種々の性質を所望の態様で改善するような固体物質粒子が亀裂のネットワ−クの中に含まれている硬質クロム層が提供される。従って固体物質粒子としては種々の電解メッキされた分散層の形成に際して用いられる種々の物質を単一で、又は組合わせて用いるが、いずれにしても、それらはそのミクロ亀裂形成性のクロム酸溶液中に溶解してはならず、その粒度はクロム層の亀裂の裂け目幅よりも小さく、即ち好ましくは約０．５μm　と１５μmとの間であって、またそのクロム層の厚さはこの粒度よりも何倍も大きくなければならない。」（第３頁左下欄第１４行〜右下欄第８行）
(1-5)「耐摩耗性を改善するための固体物質粒子としては中でも酸化アルミニウム、炭化硼素、窒化硼素、クロムカーバイド、二酸化珪素、チタンカーバイド、ダイヤモンド及び／又はタングステンカーバイドよりなる硬質材料の粒子が挙げられる。このような固体粒子を含んだクロム層は中でも内燃機関におけるピストンリングやシリンダーの摺動面の被覆に適している。」（第３頁右下欄第９〜１７行）
　　
引用例２（特開昭６４−４１６５０号公報）
(2-1)「１　・・・鋼製ピストンリングの表面に窒化層が形成され、該ピストンリングの外周摺動面に、ニッケル基地中に粒径０．２〜ｌ０μｍの金属の窒化物、金属の炭化物又は金属の酸化物である硬質粒子を５〜３０容積％分散している２〜２０μｍの厚さの複合分散ニッケルストライクめっき層を有し、更に該ストライクめっき層の上にコバルトをｌ０〜５０重量％、燐を２〜１０重量％含有するニッケル基合金でなる基地中に粒径０．２〜１０μｍの金属の窒化物、金属の炭化物又は金属の酸化物である硬質粒子を５〜３０容積％分散している複合分散ニッケルめっき層を有するピストンリング。」（特許請求の範囲）
(2-2)「本発明は、改良されたピストンリングに係り、更に詳しくは苛酷な条件においても複合分散めっき層の良好な密着性と摺動特性を示し、且つピストンリングの側面摩耗を改善したピストンリングに関する。」（第１頁右下欄第１５〜１９行）
(2-3)「硬質粒子の分散量及び粒径は形成するストライクめっき層ｂの厚さと関係するが、これが過度に多い場合や大きい場合にはめっき層が脆くなると共に、摺動相手材の摩耗を増大させるので本発明では分散量については、３０容積％以下に、粒径については１０μｍ以下とすることが望ましい。分散量が５容積％未満、粒径が０．２μｍ未満では耐焼付性及び耐摩耗性において効果が充分に発揮されない。」（第３頁右上欄第３〜１１行）
(2-4)「硬質粒子としては、金属の窒化物例えばＴｉＮ、Ｓｉ３Ｎ４、Ｃｒ２Ｎ、金属の炭化物例えばＴｉＣ、ＳｉＣ、Ｃｒ３Ｃ２、金属の酸化物例えばＡｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３等である。」（第３頁右上欄第１１〜１４行）
　　
引用例３（特開昭５８−１０７４９７号公報）
(3-1)「１．めっきの耐摩耗性、潤滑性及び耐酸化性の強化用の分散材を、クロムめっき中に分散させ、且つ、共析固着させる第１の電流密度域と、クロムめっきを通常の電着速度にて行なう第２の電流密度域との両域で、繰り返し電解させるパルス電解による複合電解を行うことで分散めっきを施すことを特徴とする複合クロムめっき法。」（特許請求の範囲）
(3-2)「従来、クロムめっき法により自動車用エンジンのシリンダーの内面めっきとして通常使用され耐摩耗性の向上等を図っている。」（第１頁右下欄第１２〜１４行）
(3-3)「実施例２　クロムの電解浴組成は、無水クロム酸２００ｇ／ｌ、硫酸２．０ｇ／ｌに分散材としてＡｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）０．５μｍ（粒度）の粉末を１００ｇ／ｌ添加し、浴温を２０℃に保持して、機械的な攪拌によってそのＡｌ２Ｏ３を浴中に均一に混合させておく。一方・・・・陰極に対して電流密度３Ａ／ｄｍ2、周期幅２０ｍsec、電流密度２０Ａ／ｄｍ2、周期幅２０ｍsecを３０分間の条件でのパルス電解による複合クロムめっきを行なった。」（第３頁右下欄第３〜１５行）
　　
引用例４（特開昭６１−１４９４９９号公報）
(4-1)「(1)マトリックス中に分散材を共析させてなる分散めっき被膜において、上記分散材がβ−ＳｉＣ粒子からなることを特徴とする分散めっき被膜。」（特許請求の範囲）
(4-2)「β−ＳｉＣ粒子は、立方晶系の結晶構造を有しており、その硬度は２９００ｋｇ／ｍｍ2前後である。一方、前記α−ＳｉＣ粒子は、六方晶系の結晶構造を有し、３５００ｋｇ／ｍｍ2の硬度を示す。すなわち、β−ＳｉＣ粒子は、前記α−ＳｉＣ粒子よりも低い硬度を有する。・・・β−ＳｉＣ粒子の形状は、前記α−粒子と異なり、丸みをおび、時には球状をなしている。以上の特徴を有するβ−ＳｉＣ粒子を分散材としたＮｉ−β−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｐ−β−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｃｏ−β−ＳｉＣ等の分散めっき被膜は、β−ＳｉＣ粒子がマトリックス中に共析されているため、α−ＳｉＣ粒子の場合と同様に耐摩耗性等に優れているとともに、β−ＳｉＣ粒子が丸い形状の粒子であり、しかもβ−ＳｉＣ粒子自体の硬度がα−ＳｉＣ粒子よりも低いため、該分散めっき被膜が摺接する相手部材に損傷を与えることがない。」（第２頁右上欄第１２行〜左下欄第１０行）
　　
引用例５（特開平４−３３３５９９号公報）
(5-1)「【請求項１】機器本体の表面に、ナノメータあるいはオングストローム単位の超微細な粒径で丸みを帯びた形状のダイヤモンド粒子クラスターが分散された金属マトリックスからなる共析被膜を施したことを特徴とする超微粒子ダイヤモンド共析被膜を施した機器。」（特許請求の範囲）
(5-2)「従来のこの種のメッキに用いられるダイヤモンド粒子は、粒子と言っても、その粒径は小さくても数ミクロンであり、ダイヤモンド粒子が接触する相手側部品に微細な傷を付けるという欠点がある。また、従来は単結晶のダイヤモンド粒子が使われており、この単結晶ダイヤモンドは１２面体、８面体または６面体の形状をなし、鋭利な角があるので、摺動時に相手側にいっそう傷をつけやすいという問題がある。」（段落【0008】）
(5-3)「ダイヤモンド粒子は好ましくは多結晶のものを用いる。多結晶ダイヤモンドは、単結晶のものと異なって鋭利な角がなく、丸みを帯びた形状であるため、摺動時に相手部品に傷を付けるおそれがない。」（段落【0015】）
　　
(B)対比・判断
(B-1)補正後の発明１について
　補正後の発明１と引用例１に記載されたものとを対比すると、引用例１には、全層厚を通して延びる亀裂ネットワークを有する電解メッキ硬質クロム層において、それらの亀裂の中に固体物質粒子が含まれている硬質クロム層（摘記1-1）に係る発明が記載され、併せて、固体物質粒子の粒度が０．０００５ｍｍと０．０１５ｍｍとの間であること（摘記1-1、1-4）、耐摩耗性を改善するための固体物質粒子としては中でも酸化アルミニウム、炭化硼素、窒化硼素、クロムカーバイド、二酸化珪素、チタンカーバイド、ダイヤモンド及び／又はタングステンカーバイドよりなる硬質材料の粒子が挙げられる。このような固体粒子を含んだクロム層は中でも内燃機関におけるピストンリングやシリンダーの摺動面の被覆に適していること（摘記1-5）が記載されている。
　してみれば、補正後の発明１は、引用例１に記載された発明と、
「硬質Ｃｒめっき皮膜に形成されている網目状のクラックにアルミナからなる硬質粒子が含有されている複合Ｃｒめっき皮膜を外周面に被覆したピストンリングにおいて、
前記アルミナ粒子の平均粒径が０．７〜１０μｍであり、
とを特徴とするピストンリング。」の点で一致し、そして、
（イ）補正後の発明１では、アルミナ粒子が球状粒子であると規定されているのに対して、引用例１にはその記載が見あたらない点、及び、
（ロ）補正後の発明１では、アルミナ粒子の複合比率が体積比率で３〜１５％であると規定されているのに対して、引用例１にはその記載が見あたらない点、で補正後の発明１は、引用例１に記載された発明と相違している。
　　　
　そこでこれら相違点（イ）及び（ロ）について、以下検討する。
相違点（イ）について
　引用例４には、分散材がβ−ＳｉＣ粒子からなる分散めっき被膜（摘記4-1）が記載され、また、β−ＳｉＣ粒子は立方晶系の結晶構造を有しており、六方晶系であるα−ＳｉＣ粒子よりも低い硬度を有すること、β−ＳｉＣ粒子の形状は、α−粒子と異なり、丸みをおび、時には球状をなしていること、及び、β−ＳｉＣ粒子を分散材としたＮｉ−β−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｐ−β−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｃｏ−β−ＳｉＣ等の分散めっき被膜は、β−ＳｉＣ粒子がマトリックス中に共析されているため、α−ＳｉＣ粒子の場合と同様に耐摩耗性等に優れているとともに、β−ＳｉＣ粒子が丸い形状の粒子であり、しかもβ−ＳｉＣ粒子自体の硬度がα−ＳｉＣ粒子よりも低いため、分散めっき被膜が摺接する相手部材に損傷を与えることがないこと（摘記4-2）が記載され、また、引用例５には、ナノメータあるいはオングストローム単位の超微細な粒径で丸みを帯びた形状のダイヤモンド粒子クラスターが分散された金属マトリックスからなる共析被膜を施した超微粒子ダイヤモンド共析被膜を施した機器の発明が記載され（摘記5-1）、併せて、従来のダイヤモンド粒子の粒径は小さくても数ミクロンであり、ダイヤモンド粒子が接触する相手側部品に微細な傷を付けるという欠点があり、また、従来の単結晶ダイヤモンド粒子は鋭利な角があるので、摺動時に相手側に傷をつけやすいという問題があったこと（摘記5-2）、及び、多結晶ダイヤモンドは鋭利な角がなく、丸みを帯びた形状であるため、摺動時に相手部品に傷を付けるおそれがないこと（摘記5-3）が記載されている。
　しかし、これら引用例４及び５には、硬質Ｃｒめっき皮膜の網目状クラックに、アルミナの球状粒子を含有させるという、上記相違点（イ）に係る事項の記載はなく、また、他の引用例である引用例２〜３にも、当該事項の記載は見あたらない。
　そして、補正後の発明１は、当該相違点（イ）に係る特定事項を含む、前記認定のとおりの特定事項を具備することにより、耐摩耗性、耐焼き付き性に優れ、しかも摺動相手材への攻撃性が小さいピストンリングが得られる（段落【0053】）という、明細書記載の効果を奏したものと認めることができる。
　してみれば、上記相違点（ロ）について検討するまでもなく、補正後の発明１は、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできない。
　また、他に、補正後の発明１について、特許出願の際独立して特許を受けることができない発明とすべき理由は見あたらない。
　　  
(B-2)補正後の発明２について
　補正後の発明２は、請求項１を引用して、補正後の発明１に係るピストンリングの発明について、更に特定の窒化層を形成して限定した発明であるから、上記の「(B-1)補正後の発明１について」の欄で補正後の発明１について記載したと同様、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできず、また、他に、特許出願の際独立して特許を受けることができない発明とすべき理由は見あたらない。
　　
　以上のとおりであるから、補正後の発明１及び２については、特許出願の際独立して特許を受けることができないものとすることはできない。
　また、他に、上記補正を認めないとすべき理由は見あたらない。
　したがって、上記補正を認める。
　　　
III．本願発明
　本願発明は、上記補正の結果、以下のとおりのものと認める。
「【請求項１】硬質Ｃｒめっき皮膜に形成されている網目状のクラックにアルミナからなる硬質粒子が含有されている複合Ｃｒめっき皮膜を外周面に被覆したピストンリングにおいて、
前記アルミナ粒子が球状粒子であり、
前記アルミナ粒子の平均粒径が０．７〜１０μｍであり、
前記アルミナ粒子の複合比率が体積比率で３〜１５％である
ことを特徴とするピストンリング。
【請求項２】上下面に窒化層が形成されていることを特徴とする請求項１記載のピストンリング。」
（これを、改めて「補正後の発明１」及び「補正後の発明２」という。）
　　
IV．対比・判断
　補正後の発明１及び２と、引用例１〜５に記載された発明とを対比すると、上記の「 (II-2)補正の適否　独立特許要件について」の欄に記載したとおり、補正後の発明１及び２については、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできない。
　　
Ｖ．むすび
　以上のとおりであるから、補正後の発明１及び２については、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明ということはできず、したがって、原査定の理由によって本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。