【手続補正書】
【提出日】平成18年2月3日(2006.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】位置検出方法及び装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数パターンを繰返し配置してなる位置合わせ用マークに基づいて位置検出をする位置検出方法であって、
前記位置合わせ用マークの前記複数パターンの繰返しに応じた信号波形を生成する生成工程と、
前記信号波形を直交変換して空間周波数領域信号を生成する変換工程と、
前記空間周波数領域信号におけるピーク位置に基づいて、異なる基本空間周波数に対応する複数のピークを検出する検出工程と、
前記検出工程で検出した複数のピークの各々に対応する基本空間周波数について、それぞれ位相を求め、求めた位相に基づいて前記位置合わせ用マークの位置を算出する算出工程とを備えることを特徴とする位置検出方法。
【請求項２】  前記生成工程は、第１の物体面に設けられた位置合わせ用マークと第２の物体面に設けられた位置合わせ用マークを合成するように観察して得られる位置合わせ用マークに対応した信号波形を生成し、
前記算出工程は、前記第１の物体面に設けられた位置合わせ用マークの位置と前記第２の物体面に設けられた位置合わせ用マークの位置を算出することを特徴とすることを特徴とする請求項１に記載の位置検出方法。
【請求項３】  前記異なる複数の基本空間周波数は、いずれも他の整数倍とならないことを特徴とする請求項１に記載の位置検出方法。
【請求項４】  前記算出工程は、低い基本周波数について算出された位相に基づいて前記位置合わせ用マークの粗位置を求め、高い基本周波数について算出された位相に基づいて前記粗位置を補正し精密な位置を算出することを特徴とする請求項１に記載の位置検出方法。
【請求項５】  複数パターンを間隔ＰＲで繰返し配置してなる位置合わせ用マークを有する第１基板と、複数パターンを間隔ＰＷで繰り返し配置してなる位置合わせ用マークを有する第２基板とを供給する供給工程と、ここで、ＰＲ≠ｍＰＷ（ｍは整数）であり、
前記第１基板及び第２基板上の位置合わせ用マークを同時に観察して得られる合成された位置合わせ用マークから、複数パターンの並びに対応した信号を生成する生成工程と、
前記生成工程で生成された信号を直交変換して空間周波数領域信号を生成する変換工程と、
前記空間周波数領域信号におけるピーク位置に基づいて、間隔ＰＲ及び間隔ＰＷに対応した基本空間周波数に対応する２つのピークを検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された２つのピークに対応した基本空間周波数についてそれぞれ位相を求め、求めた位相に基づいて前記第１及び第２基板のそれぞれの位置合わせ用マークの位置を算出する算出工程とを備えることを特徴とする位置検出方法。
【請求項６】  前記第１基板上の位置合わせ用マークは、間隔ＰＲで繰返されるパターンの並びの中に、間隔ＳＲ＝ｎＰＲ（ｎは整数）でパターンが配置される部分を有し、
前記合成される位置合わせマークは、前記間隔ＳＲのパターン間に前記第２基板上の複数パターンが配置されていることを特徴とする請求項５に記載の位置検出方法。
【請求項７】  前記第１基板上の位置合わせ用マークは間隔ＳＲ＝ｎＰＲ（ｎは整数）でパターンが配置される部分を有し、該間隔ＳＲの部分で直交するように該位置合わせ用マークが２つ設けられ、
前記第２基板上の位置合わせ用マークが間隔ＳＷ＝ｋＰＷ（kは整数）でパターンが配置される部分を有し、該間隔ＳＷの部分で直交するように該位置合わせ用マークが２つ設けられ、
前記合成される位置合わせマークは、前記第１基板の位置合わせ用マークの前記間隔ＳＲを有する部分によって形成される空間に、前記第２基板の位置合わせ用マークが配置されることを特徴とする請求項５に記載の位置検出方法。
【請求項８】  複数パターンを繰返し配置してなる位置合わせ用マークに基づいて位置検出をする位置検出装置であって、
前記位置合わせ用マークの前記複数パターンの繰返しに応じた信号波形を生成する生成手段と、
前記信号波形を直交変換して空間周波数領域信号を生成する変換手段と、
前記空間周波数領域信号におけるピーク位置に基づいて、異なる基本空間周波数に対応する複数のピークを検出する検出手段と、
前記検出手段で検出した複数のピークの各々に対応する基本空間周波数について、それぞれ位相を求め、求めた位相に基づいてパターンの位置を算出する算出手段とを備えることを特徴とする位置検出装置。
【請求項９】  前記生成手段は、第１の物体面に設けられた位置合わせ用マークと第２の物体面に設けられた位置合わせ用マークを合成するように観察して得られる位置合わせ用マークに対応した信号波形を生成し、
前記算出手段は、前記第１の物体面に設けられた位置合わせ用マークの位置と前記第２の物体面に設けられた位置合わせ用マークの位置を算出することを特徴とすることを特徴とする請求項８に記載の位置検出装置。
【請求項１０】  前記異なる複数の基本空間周波数は、いずれも他の整数倍とならないことを特徴とする請求項８に記載の位置検出装置。
【請求項１１】  前記算出手段は、低い基本周波数について算出された位相に基づいて前記位置合わせ用マークの粗位置を求め、高い基本周波数について算出された位相に基づいて前記粗位置を補正し精密な位置を算出することを特徴とする請求項８に記載の位置検出装置。
【請求項１２】  複数パターンを間隔ＰＲで繰返し配置してなる位置合わせ用マークを有する第１基板と、複数パターンを間隔ＰＷで繰り返し配置してなる位置合わせ用マークを有する第２基板とを供給する供給手段と、ここで、ＰＲ≠ｍＰＷ（ｍは整数）であり、
前記第１基板及び第２基板上の位置合わせ用マークを同時に観察して得られる合成された位置合わせ用マークから、複数パターンの並びに対応した信号を生成する生成手段と、
前記生成手段で生成された信号を直交変換して空間周波数領域信号を生成する変換手段と、
前記空間周波数領域信号におけるピーク位置に基づいて、間隔ＰＲ及び間隔ＰＷに対応した基本空間周波数に対応する２つのピークを検出する検出手段と、
前記検出手段で検出された２つのピークに対応した基本空間周波数についてそれぞれ位相を求め、求めた位相に基づいて前記第１及び第２基板のそれぞれの位置決め用パターンの位置を算出する算出手段とを備えることを特徴とする位置検出装置。
【請求項１３】  前記第１基板上の位置合わせ用マークは、間隔ＰＲで繰返されるパターンの並びの中に、間隔ＳＲ＝ｎＰＲ（ｎは整数）でパターンが配置される部分を有し、
前記合成される位置合わせマークは、前記間隔ＳＲのパターン間に前記第２基板上の複数パターンが配置されていることを特徴とする請求項１２に記載の位置検出装置。
【請求項１４】  前記第１基板上の位置合わせ用マークは間隔ＳＲ＝ｎＰＲ（ｎは整数）でパターンが配置される部分を有し、該間隔ＳＲの部分で直交するように該位置合わせ用マークが２つ設けられ、
前記第２基板上の位置合わせ用マークが間隔ＳＷ＝ｋＰＷ（kは整数）でパターンが配置される部分を有し、該間隔ＳＷの部分で直交するように該位置合わせ用マークが２つ設けられ、
前記合成される位置合わせマークは、前記第１基板の位置合わせ用マークの前記間隔ＳＲを有する部分によって形成される空間に、前記第２基板の位置合わせ用マークが配置されることを特徴とする請求項１２に記載の位置検出装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明による位置検出方法は、
複数パターンを繰返し配置してなる位置合わせ用マークに基づいて位置検出をする位置検出方法であって、
前記位置合わせ用マークの前記複数パターンの繰返しに応じた信号波形を生成する生成工程と、
前記信号波形を直交変換して空間周波数領域信号を生成する変換工程と、
前記空間周波数領域信号におけるピーク位置に基づいて、異なる基本空間周波数に対応する複数のピークを検出する検出工程と、
前記検出工程で検出した複数のピークの各々に対応する基本空間周波数について、それぞれ位相を求め、求めた位相に基づいて前記位置合わせ用マークの位置を算出する算出工程とを備える。