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【手続補正書】
【提出日】平成18年1月30日(2006.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスの製造方法であって、配線パターンを形成した基板の表面に絶縁膜を形成し、該絶縁膜に径が０．２μｍ以下でアスペクト比が４以上で底面に前記配線パターンの一部を露出させる微細穴を含むパターンを形成し、該微細穴を含むパターンが形成された基板上に有機金属錯体を溶液に溶かした有機金属錯体溶液を塗布し、該有機金属錯体溶液を塗布した基板を加熱して前記有機金属錯体溶液の溶媒を気化させると共に前記有機金属錯体を熱分解して前記基板の微細穴の内部に前記配線パターンと電気的に接続する金属を残留させることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【請求項２】
前記微細穴の内部に残留させた金属と接続するパターンを前記絶縁膜上に形成することを特徴とする請求項１記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項３】
前記微細穴の内部に残留させた金属と接続するパターンを、スパッタリングにより形成することを特徴とする請求項２記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項４】
前記絶縁膜上に形成したパターンが、前記微細穴の内部に残留させた金属を介して前記絶縁膜で覆われた配線パターンと電気的に接続していることを特徴とする請求項２記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項５】
前記微細穴の内部に金属を残留させた後に、前記絶縁膜の表面を加工し、該表面を加工した絶縁膜上に前記微細穴の内部に残留させた金属に接続するパターンを形成することを特徴とする請求項２記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項６】
半導体デバイスの製造方法であって、基板上にフォトレジストプロセスにより配線パターンを形成し、該配線パターンを形成した基板の表面に絶縁膜を形成し、該絶縁膜に径が０．２μｍ以下でアスペクト比が４以上で底面に前記配線パターンの一部を露出させる微細穴を含むパターンを形成し、該微細穴を含むパターンが形成された基板上に有機金属錯体を溶液に溶かした有機金属錯体溶液を塗布し、該有機金属錯体溶液を塗布した基板を加熱して前記有機金属錯体溶液の溶媒を気化させると共に前記有機金属錯体を熱分解して前記基板の微細穴の内部を含む前記基板の表面に金属膜を残留させ、前記基板の微細穴の内部に残留した金属膜を残して前記基板の表面に残留した金属膜を除去加工することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【請求項７】
前記微細穴の内部に残留させた金属を介して前記絶縁膜で覆われた配線パターンと電気的に接続する配線パターンを前記絶縁膜上に形成することを特徴とする請求項６記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項８】
前記基板の微細穴の内部に残留した金属膜を残して前記基板の表面に残留した金属膜を除去加工することが、前記基板の表面を平坦化する加工であることを特徴とする請求項６記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項９】
基板上に形成した絶縁膜に深溝パターンまたは深穴パターンをフォトレジストプロセスにより形成し、該形成した深溝パターンまたは深穴パターンの内部に金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを含む溶液を塗布し、前記基板を加熱して前記溶液の溶媒を気化すると共に熱分解により金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを主とした合金の何れかを形成することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【請求項１０】
前記深溝パターンまたは深穴パターンが、半導体デバイスのメモリ部のキャパシタであることを特徴とする請求項９記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項１１】
前記深溝パターンまたは深穴パターンが、半導体デバイスのトランジスタ部のゲート電極であることを特徴とする請求項９記載の半導体デバイスの製造方法。
【請求項１２】
第１の配線パターンの層と、該第１の配線パターン層の上に形成された絶縁膜層と、該絶縁膜層の上に形成された第２の配線パターン層とを有する半導体デバイスであって、前記絶縁膜層には、内部に有機金属錯体の熱分解により形成された金属膜が充填された穴パターンが形成され、該穴パターンに充填された金属により前記第１の配線パターン層と前記第２の配線パターン層とが電気的に接続されていることを特徴とする半導体デバイス。
【請求項１３】
絶縁膜を挟んで複数の配線パターン層を形成した半導体デバイスであって、前記絶縁膜に穴パターンを有し、該穴パターンの内部には液体状で供給されて形成された金属膜が充填されており、該穴パターンの内部に充填された金属膜により前記絶縁膜の上下にある配線パターンを電気的に接続していることを特徴とする半導体デバイス。
【請求項１４】
前記穴パターンに充填された金属は、前記配線パターン層の材料とは異なる材料で形成されていることを特徴とする請求項１２または１３に記載の半導体デバイス。
【請求項１５】
絶縁膜を挟んで複数の配線パターン層を形成した半導体デバイスであって、前記絶縁膜に穴パターンを有し、該穴パターンの内部には溶液の状態で供給されて熱分解反応により形成された金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを主とした合金の何れかが形成されており、該穴パターンの内部に充填された前記金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを主とした合金の何れかにより前記絶縁膜の上下にある配線パターンを電気的に接続していることを特徴とする半導体デバイス。
【請求項１６】
絶縁膜を挟んで形成された複数の配線パターン層とキャパシタとトランジスタとを備えた半導体デバイスであって、前記キャパシタは深溝又は深穴の構造を有し、該深溝又は深穴の内部に、金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを主とした合金の何れかが形成されていることを特徴とする半導体デバイス。
【請求項１７】
絶縁膜を挟んで形成された複数の配線パターン層とキャパシタとトランジスタとを備えた半導体デバイスであって、前記トランジスタのゲート電極は深溝又は深穴の構造を有し、該深溝又は深穴の内部に、金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを主とした合金の何れかが形成されていることを特徴とする半導体デバイス。
【請求項１８】
前記深溝又は深穴の内部に形成された金、白金、パラジウム、銀、またはこれらのいずれかを主とした合金は、溶液の状態で供給され、熱分解反応により形成されたものであることを特徴とする請求項１６または１７に記載された半導体デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月28日(2006.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
走査手段３からのレーザ光は、前後方向に平行に対向する第１ミラー４と第２ミラー５との間で反射し、より幅広に拡げた扇状の走査光とする。すなわち、第１ミラー４での反射光が第２ミラー５に入射され、第２ミラー５において前方に出射する。出射光は、フレネルレンズ６を通ることにより、平行スキャナビーム光Ｌ１として空気中に出射される。フレネルレンズとしてプラスチックレンズのものを使用すれば、コスト的に有利である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明において、走査手段として、ガルバノミラー、レゾナンドミラー、ポリゴンミラーなどを使用できる。走査手段３による振れ角θは適宜選定または調整できる。その結果、平行スキャナビーム光Ｌ１の幅の調整が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月14日(2005.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
前面に開口部を形成して内部を作業空間と成している本体と、前記作業空間内の空気を吸引除去する排気手段と、本体の開口縁部から内部に向けて空気を噴出させる送気手段とを備えているドラフトチャンバーであって、
前記送気手段から噴出させる空気の全部又は一部に、本体内の空気又は排気手段で本体から排出された空気を使用している、
ドラフトチャンバー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記課題を達成するため請求項１の発明では、前面に開口部を形成して内部を作業空間と成している本体と、前記作業空間内の空気を吸引除去する排気手段と、本体の開口縁部から内部に向けて空気を噴出させる送気手段とを備えているドラフトチャンバーにおいて、前記送気手段から噴出させる空気の全部又は一部に、本体内の空気又は排気手段で本体から排出された空気を使用する点を特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
従来、活水装置として、流入口と流出口とを有する導電性の筐体と、該筐体の外周側を絶縁材により覆い、かつ通水管と絶縁した導電性の被覆体と、鉱物を主成分として小塊状に成形した活水材と、から成り、該活水材を前記筐体の内部空間の流れ方向に沿って互いに触れることなくかつ多重に配置した活水装置が提案されている（例えば、下記の特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００４−７３９０１号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月1日(2006.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の流路に超音波を照射して細菌、微生物などを殺菌・分解する超音波殺菌分解装置において、上記流路の外周部に配設された超音波振動子と、該超音波振動子から照射される超音波を流路内に集束させる集束手段とを備えた超音波殺菌分解装置。
【請求項２】
上記超音波振動子と超音波が照射される上記液体の流路との間は、該液体の有する音響インピーダンスとほぼ同程度の音響インピーダンスを有する材質で構成することを特徴とする請求項１記載の超音波殺菌分解装置。
【請求項３】
上記集束手段は、上記超音波振動子の振動面に密着して配された凹面レンズで構成され、該凹面レンズは表面が楕円形状の非球面レンズであることを特徴とする請求項１または２記載の超音波殺菌分解装置。
【請求項４】
超音波振動子の裏面側に反射板を配設し、該超音波振動子と該反射板との間を、上記液体の有する音響インピーダンスとほぼ同程度の音響インピーダンスを有する材質で構成して、上記超音波振動子の裏面側から放出される超音波を上記反射板により反射させて上記流路内に集束させることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の超音波殺菌分解装置。
【請求項５】
上記流路の外周部で上記超音波振動子と対向する位置に第２の反射板を配設し、該流路と該第２の反射板との間を、上記液体の有する音響インピーダンスとほぼ同程度の音響インピーダンスを有する材質で構成して、上記超音波振動子から照射された超音波を一旦集束させた後、上記第２の反射板により反射させて上記流路内に再度集束させることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の超音波殺菌分解装置。
【請求項６】
液体の流路に超音波を照射して細菌、微生物などを殺菌・分解する超音波殺菌分解装置において、上記液体はポンプにて吸い上げられ、該液体の吸い上げ口近傍に配設された超音波振動子と、該超音波振動子から照射される超音波を上記吸い上げ口の流路内に集束させる集束手段とを備えた超音波殺菌分解装置。
【請求項７】
上記集束手段にて集束される集束超音波の焦点距離、集束径、あるいは照射角度を変化させることで集束位置を調整可能としたことを特徴とする請求項６記載の超音波殺菌分解装置。
【請求項８】
液体の流路に超音波を照射して細菌、微生物などを殺菌・分解する超音波殺菌分解装置において、上記流路を形成する配管を先細り形状とし、該配管内で上記液体の流路の周囲を、所定の圧力で該液体と同方向に流れる気体流で覆い、該流路の上流から下流方向に超音波を照射する超音波振動子を備えて、該超音波振動子から照射された超音波を上記配管内の上記気体流により反射させて上記配管の先端部近傍で集束するように導き、該集束超音波を上記液体と共に上記先端部から放出することを特徴とする超音波殺菌分解装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月16日(2006.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柄の先端を擦磨体とする口腔内擦磨具において、上記擦磨体の芯として、柄の先端部に可撓性を有する軟質樹脂板体を固定し、上記軟質樹脂板体の表面は弾力性を有する吸水体で被覆し、さらに、上記吸水体の表面は布で被覆したことを特徴とする口腔内擦磨具。
【請求項２】
柄の先端を擦磨体とする口腔内擦磨具において、上記擦磨体の芯として、柄の先端部に可撓性を有する軟質樹脂板体を固定し、上記軟質樹脂板体の表面は弾力性を有する吸水体で被覆したことを特徴とする口腔内擦磨具。
【請求項３】
擦磨体を上にして本体を側面から見た場合、柄の中等を下方に約２０〜４５度曲折させ、かつ、その先を上方に約２０〜４５度曲折させたことを特徴とする請求項１又は２の口腔内擦磨具。
【手続補正書】
【提出日】平成17年10月31日(2005.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製の芯と、樹脂製の外殻球からなるグラウンドゴルフ又はパークゴルフのボールにおいて、
前記芯は、樹脂成形により二十面体以上の多面体に成形され、
前記外殻球は、前記芯の表面に樹脂成形されていることを特徴とする樹脂製ボール。
【請求項２】
前記芯は、正二十面体、八十面体又は百八十面体に成形されていることを特徴とする請求項１記載の樹脂製ボール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】樹脂製ゴルフボール
【技術分野】
【０００１】
本発明は樹脂製の芯と外殻球からなるグラウンドゴルフやパークゴルフボールのこれまでにない芯の形状を決定する理論に関する。
【背景技術】
【０００２】
グラウンドゴルフやパークゴルフのボールはそれぞれの協会の規則によって直径が６０ミリで、重さ、反発性能等も定められている。これ等の要件を満たすため及び生産性、等の理由で芯は樹脂製の球体、外殻球は芯の外側に樹脂を成形したものが知られている。
【特許文献１】特開２００２−７８８２９号公報
【特許文献２】特開２００３−２６６４７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ボールの芯と外殻球の溶着強度を増すと共に外観も良い構造を追究する。外殻球の成形に際し芯がインサートされるが、両樹脂を強固に結合するためには芯を予熱し溶着を促進する方法が知られている。しかし予熱は管理すべき項目が多いので量産性が阻害されやすい。之に代わる方法として芯の表面を溶着し易くする為に、芯を多面体にする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
芯を多面体にすると接合面積が増す。又頂点や稜は加熱されやすいので外殻球成形時に溶融プラスティックと溶着しやすい。但し外殻球の肉厚差が極端なのは冷却速度差が発生して良くない。即ち正二十面体以上の多面体が望ましい。
【発明の効果】
【０００５】
芯を正二十面体にすると、三十本の稜と十二個の頂点が得られる。この頂点と稜は外殻球を成形するときに溶融プラスティックの熱で溶着し易く結合強度が得やすい。更に外殻を透明又は透明に近いものにすると芯の形が観察できてこれまでに無いデザインになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
ボールの芯を正二十面体にする。稜及び頂点の頂角が小さく温度が上昇し易いのがメリットである。又は八十面体にする。八十面体は稜が１２０本あって結合強さを得やすい。また正二十面体よりも外殻球の肉厚差が少なく成形時に樹脂の流れが良い。この表面に外殻球を成形する。
【実施例】
【０００７】
本発明は従来無かったボール造り理論に基づいて芯が設計されている。形状追究の結果生まれた芯の形を開示すると、図１は芯が正二十面体のボールである。
図２は芯が八十面体のボールである。芯は正二十面体を構成する正三角面の3稜の中点を法線方向に正二十面体の外接球に接するまで移動して頂点とし３個の頂点と稜で結び20個の正三角面と３×20＝60個の二等辺三角面を作り、八十面体とした。
図３は芯が百八十面体のボールである。芯は２０個の正六角面と１２個の正五角面からなる三十二面体において、２０個の正六角面の中点を法線方向へ三十二面体の外接球に接するまで移動した点を頂点とし６個の頂点と稜で結び６×20＝120個の二等辺三角面を作り、１２個の正五角面についても同様の処理を行い５×12＝60個の二等辺三角面を作り、百八十面体とした。
【産業上の利用可能性】
【０００８】
この発明で開示された芯は従来の材料、型、成形方法で製造でき、外殻球も従来の材料、型、で前記芯をインサートして成形出来るから利用可能性は高い。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、正二十面体の芯を内蔵するボール。
【図２】図２は、八十面体の芯を内蔵するボール。
【図３】図３は、百八十面体の芯を内蔵するボール。
【符号の説明】
【００１０】
１    正二十面体の芯
２    外殻球
３    稜
４    頂点
５    八十面体の芯
６    外殻球
７    百八十面体の芯
８    外殻球
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月6日(2006.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印字装置に着脱可能に装着されるテープカセットであって、インクリボンと、長尺の台紙上の長さ方向に沿って台紙の幅内に所定形状の複数のラベルが配置されてなるテープ部材とがカセットケースの内部に収納され、このカセットケースの外方に前記インクリボン及び前記テープ部材が繰り出されて前記印字装置の印字機構に供給され、その印字機構により前記インクリボンを介して前記各ラベルに印字が行なわれるテープカセットにおいて、
前記インクリボンの幅寸法を、前記台紙の幅寸法より小さく、かつ前記ラベルの幅内に設定される有効印字領域の幅寸法と同等以上としたことを特徴とするテープカセット。
【請求項２】
前記複数のラベルは、前記台紙上に剥離可能に貼着された粘着剤付の印字用テープが所定形状に切断されることにより形成されていることを特徴する請求項１に記載のテープカセット。
【請求項３】
前記複数のラベルは、所定の外形形状に形成されて前記台紙上に剥離可能に貼着された粘着剤付のラベル片によって構成されていることを特徴する請求項１に記載のテープカセット。
【請求項４】
前記複数のラベルは、その中心位置が前記台紙の幅方向の中心に配置されており、前記カセットケースには、前記テープ部材と前記インクリボンとの各長手方向の中心線を合わせて前記印字装置の印字機構に繰り出す案内部を備えていることを特徴とする請求項１に記載のテープカセット。
【請求項５】
前記印字装置の印字機構により印字に使用された前記インクリボンを前記ケース内に回収するためのリボン戻し口を備え、このリボン戻し口の幅寸法を、前記インクリボンの幅寸法と同等以上で、かつ前記テープ部材の幅寸法より小さくしたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のテープカセット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１の発明は、印字装置に着脱可能に装着されるテープカセットであって、インクリボンと、長尺の台紙上の長さ方向に沿って台紙の幅内に所定形状の複数のラベルが配置されてなるテープ部材とがカセットケースの内部に収納され、このカセットケースの外方に前記インクリボン及び前記テープ部材が繰り出されて前記印字装置の印字機構に供給され、その印字機構により前記インクリボンを介して前記各ラベルに印字が行なわれるテープカセットにおいて、前記インクリボンの幅寸法を、前記台紙の幅寸法より小さく、かつ前記ラベルの幅内に設定される有効印字領域の幅寸法と同等以上としたことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月15日(2005.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
列状に配された複数の吐出口からインクを吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置において、
前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる移動手段と、
前記記録媒体を前記主走査方向と交差する副走査方向に搬送する搬送手段と、
前記吐出口からインクを吐出させつつ前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる記録走査と、前記記録媒体を副走査方向に搬送する搬送動作と、を交互に繰り返すように、前記移動手段と前記搬送手段を制御する制御手段と、
前記記録媒体に記録する画像の濃度に応じて、前記搬送手段による前記記録媒体の搬送量を設定する搬送量設定手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記搬送量設定手段は、前記記録媒体上の特定の記録領域内における記録デューティーに基づいて前記搬送量を設定し、
前記記録領域は、前記吐出口の列の端部に位置する吐出口から吐出されるインクを用いて記録可能な記録領域を含む
ことを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記搬送量設定手段は、前記記録デューティーが低いほど前記搬送量を小さく設定することを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項４】
列状に配された複数の吐出口からインクを吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置において、
前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる移動手段と、
前記記録媒体を前記主走査方向と交差する副走査方向に搬送する搬送手段と、
前記吐出口からインクを吐出させつつ前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる記録走査と、前記記録媒体を副走査方向に搬送する搬送動作と、を交互に繰り返すように、前記移動手段と前記搬送手段を制御する制御手段と、
前記記録媒体の種類に応じて、前記搬送手段による前記記録媒体の搬送量を設定する搬送量設定手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項５】
前記搬送量設定手段は、前記記録媒体に着弾したインクがにじみやすいほど前記搬送量を大きく設定することを特徴とする請求項４に記載のインクジェット記録装置。
【請求項６】
列状に配された複数の吐出口からインクを吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置において、
前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる移動手段と、
前記記録媒体を前記主走査方向と交差する副走査方向に搬送する搬送手段と、
前記吐出口からインクを吐出させつつ前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる記録走査と、前記記録媒体を副走査方向に搬送する搬送動作と、を交互に繰り返すように、前記移動手段と前記搬送手段を制御する制御手段と、
前記吐出口の列の端部に位置する吐出口から吐出されるインクの着弾位置のずれ量に応じて、前記搬送手段による前記記録媒体の搬送量を設定する搬送量設定手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項７】
前記搬送量設定手段は、前記着弾位置が前記吐出口の列の中央に大きくずれるほど前記搬送量を大きく設定することを特徴とする請求項６に記載のインクジェット記録装置。
【請求項８】
前記搬送量制御手段は、前記搬送動作毎に前記搬送量を設定することを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のインクジェット記録装置。
【請求項９】
前記吐出口の列の端部に位置する吐出口から吐出されるインクを用いて記録可能な記録領域に対して、インクによって被覆される被覆面積の増減が可能な被覆面積制御手段を備える
ことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のインクジェット記録装置。
【請求項１０】
前記被覆面積制御手段は、前記記録領域に着弾させるインク滴の数を追加または間引くように、記録データを補正することを特徴とする請求項９に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１１】
前記搬送量設定手段は、設定された搬送量に従って搬送を行う前の記録走査で記録された領域と、設定された搬送量に従った搬送動作以降の記録走査で記録された領域との境界の、搬送方向における位置を変更するよう、搬送量を設定することを特徴とする請求項１から１０のいずれに記載のインクジェット記録装置。
【請求項１２】
列状に配された複数の吐出口からインクを吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体に画像を記録するインクジェット記録方法において、
前記吐出口からインクを吐出させつつ前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる記録走査と、前記記録媒体を副走査方向に搬送する搬送動作と、を交互に繰り返すことにより、前記記録媒体上に順次画像を記録し、
前記記録媒体に記録する画像の濃度に応じて前記記録媒体の搬送量を設定する
ことを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項１３】
列状に配された複数の吐出口からインクを吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体に画像を記録するインクジェット記録方法において、
前記吐出口からインクを吐出させつつ前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる記録走査と、前記記録媒体を副走査方向に搬送する搬送動作と、を交互に繰り返すことにより、前記記録媒体上に順次画像を記録し、
前記記録媒体の種類に応じて前記記録媒体の搬送量を設定する
ことを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項１４】
列状に配された複数の吐出口からインクを吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体に画像を記録するインクジェット記録方法において、
前記吐出口からインクを吐出させつつ前記記録ヘッドを主走査方向に移動させる記録走査と、前記記録媒体を副走査方向に搬送する搬送動作と、を交互に繰り返すことにより、前記記録媒体上に順次画像を記録し、
前記吐出口の列の端部に位置する吐出口から吐出されるインクの着弾位置のずれ量に応じて、前記記録媒体の搬送量を設定する
ことを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項１５】
前記吐出口の列の端部に位置する吐出口から吐出されるインクを用いて記録可能な記録領域に対して、インクによって被覆される被覆面積を増減させる
ことを特徴とする請求項１２から１４のいずれかに記載のインクジェット記録方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月15日(2006.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
実施例１
［ポリオレフィン被覆紙の作製］
坪量１７０ｇ／ｍ2の基紙に表面にルチル型酸化チタンを含有する低密度ポリエチレン（密度０．９２ｇ／ｃｍ3）を２７ｇ／ｍ2になるように溶融押し出しコーティングした。次に、基紙の裏面に低密度ポリエチレン２０％と高密度ポリエチレン（密度０．９４ｇ／ｃｍ3）８０％の比率で混合したポリエチレン混合物を３２ｇ／ｍ2になるように溶融押し出しコーティングし、実施例１に用いられるポリオレフィン被覆紙を得た。
［可逆性感熱記録層作製］
青発色ロイコ染料（山本化成（株）製、ＢＬＵＥ−６３）２０部、Ｎ−［３−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピオノ］−Ｎ′−ｎ−ドコサノヒドラジド１００部、ポリエステルポリオール（大日本インキ化学工業（株）製、バーノックＤ−２９３−７０）５０部、硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＨＬ）４０部、硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）１０部、メチルエチルケトン３００部、トルエン３００部をそれぞれ添加し、ガラスビーズと共にペイントシェーカーで５時間粉砕し分散液を得た。上記の分散液をポリエチレンテレフタレート（２４μｍ白色透明）シートに固形分６μｍとなる様に塗工し、乾燥して可逆性感熱記録層を設けた。次に、２，２′−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２−ヒドロキシメチル）フェノール］１０部、ポリエステルポリオール（大日本インキ化学工業（株）製、バーノックＤ−２９３−７０）５０部、硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＨＬ）５０部、メチルエチルケトン３００部、トルエン３００部をガラスビーズと共にペイントシェーカーで５時間粉砕し紫外線吸収剤の分散液を得た。この液を、可逆性感熱記録層の上に固形分１μｍとなる様に塗工し、紫外線吸収層を得た。更に、アクリレート系紫外線硬化樹脂の２０％イソプロピルアルコール溶液を２μｍとなる様に塗工し、紫外線で硬化させて保護層を塗工した。次に、上記ポリオレフィン被覆紙の表面に可逆性感熱フィルムをプレス機（１００℃、２８ｋｇ／ｃｍ2、１０分間）で貼り合わせ、実施例１の可逆性感熱記録材料を得た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
実施例２
坪量１４０ｇ／ｍ2の基紙に表面に低密度ポリエチレン（密度０．９２ｇ／ｃｍ3）を１２ｇ／ｍ２になるように溶融押し出しコーティングした。次に、基紙の裏面に低密度ポリエチレン７０％と高密度ポリエチレン（密度０．９４ｇ／ｃｍ3）３０％の比率で混合したポリエチレン混合物を２０ｇ／ｍ2になるように溶融押し出しコーティングし、実施例２に用いられるポリオレフィン被覆紙を得た。次に実施例１の可逆性感熱フィルムを表面に、３６μｍの白色ＰＥＴを裏面にプレス機（１２０℃、１４ｋｇ／ｃｍ2、１０分間）で貼り合わせ、実施例２の可逆性感熱記録材料を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を行った結果、支持体上に、通常無色ないし淡色の電子供与性染料前駆体、加熱溶融により該染料前駆体に色調変化を生じせしめる電子受容性化合物を含む感熱記録層と保護層を設けた感熱記録材料において、該保護層にポリシロキサンをグラフト状またはブロック状に共重合した樹脂とジルコニウム化合物を含む感熱記録材料によって上記課題を解決した。前記ジルコニウム化合物の量をポリシロキサンをグラフト状またはブロック状に共重合した樹脂の固形分量に対して０．０１〜１００％が好ましく、さらには０．０５〜３０％が望ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
これらポリシロキサンをグラフト状またはブロック状に共重合した樹脂はポリシロキサンの有する特性により耐熱性が高く、しかも良好な滑り性を有している。そのため、本樹脂を保護層に用いた場合、耐熱性、ヘッド走行性、離型性、印字部の傷に対する強度など、保護層に求められる多くの機能を網羅でき、保護層バインダーとして非常に有効である。このような利点がある一方で、ポリシロキサンを有した樹脂はガラス転移温度（以下、Ｔｇともいう）が高く、ポリシロキサンを表面に配向させた滑り性の高い膜を得るためには、高い乾燥温度を必要とする。しかし、乾燥温度を高くすると、感熱記録層が高温条件下にさらされるため地肌が悪くなってしまう。このため、地肌白色度と高い滑り性を同時に満たすことが難しかった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月17日(2006.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内燃機関の排気中の酸素濃度が還元剤濃度より高い状態において前記排気中のＮＯｘを浄化するＮＯｘ浄化手段が、排気系に設けられた内燃機関の排気浄化装置において、
前記ＮＯｘ浄化手段は、流入する排気中の酸素濃度が還元剤濃度より高いときに排気中のＮＯｘを吸着し、流入する排気中の還元剤濃度が酸素濃度より高いときに、吸着したＮＯｘからアンモニアを生成するとともに、該生成したアンモニアを保持し、前記流入する排気中の還元剤濃度が酸素濃度より低いときに、前記保持したアンモニアにより排気中のＮＯｘを浄化するものであり、
前記ＮＯｘ浄化手段に保持されたアンモニアの残存量を推定する残存量推定手段と、
該残存量推定手段により推定された残存量に応じて、前記ＮＯｘ浄化手段に流入する排気中の還元剤濃度を、酸素濃度より低い側から高い側へ、または高い側から低い側へ切り換える排気制御手段とを備えることを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため請求項１に記載の発明は、内燃機関（１）の排気中の酸素濃度が還元剤濃度より高い状態において前記排気中のＮＯｘを浄化するＮＯｘ浄化手段（１１）が、排気系（４）に設けられた内燃機関（１）の排気浄化装置において、前記ＮＯｘ浄化手段（１１）は、流入する排気中の酸素濃度が還元剤濃度より高いときに排気中のＮＯｘを吸着し、流入する排気中の還元剤濃度が酸素濃度より高いときに、吸着したＮＯｘからアンモニアを生成するとともに、該生成したアンモニアを保持し、前記流入する排気中の還元剤濃度が酸素濃度より低いときに、前記保持したアンモニアにより排気中のＮＯｘを浄化するものであり、前記ＮＯｘ浄化手段（１１）に保持されたアンモニアの残存量（ΣＮＨ３）を推定する残存量推定手段（２０、Ｓ１３〜Ｓ１５、Ｓ１８、Ｓ２２〜Ｓ２４、Ｓ２６）と、該残存量推定手段（２０、Ｓ１３〜Ｓ１５、Ｓ１８、Ｓ２２〜Ｓ２４、Ｓ２６）により推定された残存量（ΣＮＨ３）に応じて、前記ＮＯｘ浄化手段（１１）に流入する排気中の還元剤濃度を、酸素濃度より低い側から高い側へ、または高い側から低い側へ切り換える排気制御手段（１２、１３、２０、Ｓ１９、Ｓ２０、Ｓ２７、Ｓ２８）とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月9日(2005.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
接合される一対の管状部品(1,7)と、各管状部品に取り付けられる締め付けフランジ(2,9)と、締め付けフランジ(2,9)と協働して管状部品(1,7)を接合状態に維持する手段(10,11)とを有し、管状部品(1)の外周に設けた係止溝(4)と、締め付けフランジの一つ(2)に設けた対向溝(5)とで形成される空所に、これに適合する係止リング(3)を収容して締め付けフランジの少なくとも一方を、管状部品に回転可能に取り付けたフランジ継手において、管状部品に設けられた係止溝(4)の断面が底の浅い円弧状に成形され、締め付けフランジに設けられた対向溝(5)がフランジの軸方向にフランジの前面(14)まで延び、かつ接合される管状部品の接合点まで拡張され、さらに、係止リング(3)が対向溝(5)の拡張長部分に適合する一体型支持片(13)を有し、その支持片(13)が接合される管状部品の外周面(15)で支持されていることを特徴とするフランジ継手。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この様な打ち抜き加工時に上記素板１７の一部で上記パンチ２１の先端面により押圧される部分には、このパンチ２１により打ち抜かれた窓孔１８の内側に倒れ込む方向の力が加わる。隣り合う窓孔１８、１８同士の間に存在する各柱部１２、１２に関して見た場合に、この力は、前後して２回ずつ加わる。但し、初めに加わる状態では、図８でパンチ２１の左側に隣接する部分の様に、上記力が加わる部分に対して素板１７が連続している。従って、当該部分の変形は限られたものとなる。これに対して、後から加わる状態では、図８でパンチ２１の右側に隣接する部分の様に、上記力が加わる部分が、幅寸法が小さい柱部１２となっている。この状態では、この力によってこの柱部１２が、上記パンチ２１の側に倒れ込む様に変形し易い。この結果、図８に誇張して示す様に、上記各柱部１２、１２が、後から打ち抜かれた窓孔１８、１８の側に倒れ込む様に、捩れ変形した状態となり易い。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月16日(2006.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの弾性素子（２０）を有して成る、身体の一部に着用される衣服であって、
前記少なくとも１つの弾性素子（２０）が、少なくとも第１部分に配され、前記身体の一部において前記第１部分に対向する第２部分は基本的に弾性素子を有さず、
前記身体の一部の第１の方向に向けた第１の動作による弾性伸びによりエネルギーを蓄積し、前記身体の一部の反対方向に向けた第２の動作において、前記エネルギーを放出することにより、前記身体の一部の第２の動作を支援することを特徴とする衣服（１０）。
【請求項２】
着用時、前記少なくとも１つの弾性素子（２０）が実質的に大腿部（２５）の背面に配され、該大腿部（２５）の前面領域には実質的に配されないことを特徴とする請求項１記載の衣服（１０）。
【請求項３】
前記少なくとも１つの弾性素子（２０）が前記大腿部に略並行に延びていることを特徴とする請求項２記載の衣服（１０）。
【請求項４】
前記少なくとも１つの弾性素子（２０）が前記大腿部の背面において略対角線状に延びて成ることを特徴とする請求項２記載の衣服（１０）。
【請求項５】
幾つかの弾性素子（２０）が前記大腿部の背面において交差して成ることを特徴とする請求項４記載の衣服（１０）。
【請求項６】
前記弾性素子（２０）が下端部に膝の直上部において脚を包囲する下部締結部（２４）を有して成ることを特徴とする請求項２〜５いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項７】
前記弾性素子（２０）が上端部に前記大腿部の上部において前記身体の少なくとも一部を包囲する上部締結部（２６）を有して成ることを特徴とする請求項２〜６いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項８】
前記少なくとも１つの弾性素子（２０）が、弾性バンド（２０）から成っていることを特徴とする請求項１〜７いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項９】
前記弾性バンド（２０）が繊維材料（１５）の上に配されて成ることを特徴とする請求項８記載の衣服（１０）。
【請求項１０】
前記弾性バンド（２０）が前記繊維材料（１５）に接着および/または縫着および/または注入されて成ることを特徴とする請求項９記載の衣服（１０）。
【請求項１１】
前記弾性バンド（２０）が１ｍｍ未満の厚さを有して成ることを特徴とする請求項８〜１０いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項１２】
前記弾性バンド（２０）が１ｃｍ〜５ｃｍの幅を有して成ることを特徴とする請求項８〜１１いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項１３】
前記弾性バンド（２０）の前記厚さおよび幅が長手方向に沿って変化していることを特徴とする請求項８〜１２いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項１４】
前記弾性バンド（２０）が最大１００％伸張可能であることを特徴とする請求項８〜１３いずれか１項記載の衣服（１０）。
【請求項１５】
前記弾性バンド（２０）により、標準伸張試験における１００％伸張時に５Ｎ〜５０Ｎの復元力が得られることを特徴とする請求項１４記載の衣服（１０）。
【請求項１６】
前記弾性バンド（２０）が熱可塑性ポリマーから成っていることを特徴とする請求項８〜１５いずれか１項記載の衣服（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月5日(2006.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
トロイダル型無段変速機１の運転時において、入力側ディスク３と出力側ディスク４には、各パワーローラ５との押し付け合いに基づいて複雑且つ大きな力が繰り返し加わるため、各ディスク３，４の所定の部位には引張り応力がかかる。例えば、トロイダル型無段変速機１の運転時には、パワーローラ５から出力側ディスク４の内側面４ａにＦなるスラスト荷重が加わる（図６のＡ点参照。）。そして出力側ディスク４は、この様なスラスト荷重に基づいて弾性変形し、その結果、図６のＢ、Ｃ部に、大きな引っ張り応力が集中して加わる。これら引っ張り応力の加わる部位は、トロイダル型無段変速機の運転に伴う出力側ディスク４の回転に基づき、円周方向に移動する。従って、円周方向に関して或る一部分に注目した場合、当該部分には大きな引っ張り応力が繰り返し加わる事になる。この様な引っ張り応力が繰り返し加わる事は、入力側ディスク３に関しても、ほぼ同様である。この様にして入力側、出力側両ディスク３、４に繰り返し加わる引っ張り応力は、これら入力側、出力側ディスク３、４に割れ等の損傷を発生させる原因となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月25日(2006.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
原子力プラントにおける配管は、オーステナイト系ステンレス鋼にて構成されている。オーステナイト系ステンレス鋼製の配管継手部の溶接においては、継手部内面に残留引張応力が残り、応力腐食割れ（Stress Corrosion Cracking−以下、ＳＣＣと称する）が発生することがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、従来、配管に用いられていたオーステナイト系ステンレス鋼は、例えばＳＵＳ３０４であり、その鋭敏化を防止するためには最高加熱温度を一律５５０℃以下にすることが決められている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ここで、数３により求めた配管の内外温度差ΔＴに基づいて、１．０ΔＴ、１．３ΔＴ、１．６ΔＴ、１．９ΔＴの四種それぞれに２．０√（Ｒｔ）、２．５√（Ｒｔ）、３．０√（Ｒｔ）、３．５√（Ｒｔ）、４．０√（Ｒｔ）の条件で、配管内面の溶接中心から１０ｍｍの位置の残留引張応力を解析して算出した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図２に示すように、上記従来の要求を満たすための基準は、内外面温度差が１．０ΔＴ以上で、コイル幅が２．７√（Ｒｔ）以上であることが導き出される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、例えばＳＵＳ３１６ＬＣ（ローカーボン）等の、ＳＣＣ対策材では、デポ部近傍でＳＣＣが発生する知見が得られた。これは、ＳＣＣ対策材では、溶接による熱影響部が発生せず、応力がデポ部と母材部との境界に集中するためであることを見出した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
そして、数３により求めた配管の内外温度差ΔＴに基づいて、１．０ΔＴ、１．３ΔＴ、１．６ΔＴ、１．９ΔＴの四種それぞれに２．０√（Ｒｔ）、２．５√（Ｒｔ）、３．０√（Ｒｔ）、３．５√（Ｒｔ）、４．０√（Ｒｔ）の条件で、デポ部と母材部との境界の残留引張応力を解析して算出した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
数５の式によれば、例えばＳＵＳ３０４製の厚さ４０ｍｍの配管では、加熱時間は、３１１ｓｅｃ（ｔ＝４０、ａ＝３．５９）であり、長くとも１０分以下であるので、最高加熱温度は、図４のＳＵＳ３１６及びＳＵＳ３１６Ｌでは、６５０℃とすることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
【図１】本発明に係る高周波誘導加熱残留応力改善法を説明するための配管及び高周波誘導コイルの一部破断斜視図である。
【図２】溶接中心より１０ｍｍの位置の残留応力とコイル長さとの関係を示したグラフである。
【図３】デポ部と母材部との境界の残留応力とコイル長さとの関係を示したグラフである。
【図４】ステンレス鋼の鋭敏化温度と鋭敏化時間との関係を示したグラフである。
【図５】本発明に係る高周波誘導コイル及び加熱した配管の温度分布を示した図である。
【図６】従来の高周波誘導コイル及び加熱した配管の温度分布を示した図である。
【図７】本発明の他の実施の形態に係る高周波誘導コイル及び加熱した配管の温度分布を示した図である。
【図８】配管が直交して接続される場合を示した断面図である。
【図９】配管の開先形状を示した側面図である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
１  配管
２  溶接継手部
３  高周波誘導コイル
５  外面
６  内面
７  溶接材部（デポ部）
８  母材部
１１  導線
１２  導線
１５  配管
１６  配管
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イミダゾール系化合物およびベンズイミダゾール系化合物からなる群より選ばれた一種以上の化合物と、レブリン酸またはメトキシ酢酸とを含有する水溶液からなることを特徴とする、金属の表面処理剤。
【請求項２】
前記有機酸の含有量が１重量％以上、４０重量％以下であることを特徴とする、請求項１記載の表面処理剤。
【請求項３】
前記イミダゾール系化合物および前記ベンズイミダゾール系化合物の含有量が合計で０．０１〜１０重量％であることを特徴とする、請求項１または２記載の表面処理剤。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一つの請求項に記載の表面処理剤を塗布することによって形成された防錆膜を備えていることを特徴とする、プリント回路基板。
【請求項５】
プリント回路基板の金属膜上に、請求項１〜３のいずれか一つの請求項に記載の表面処理剤を塗布することによって防錆膜を形成することを特徴とする、プリント回路基板の金属の表面処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、イミダゾール系化合あるいはベンズイミダゾール系化合物とレブリン酸またはメトキシ酢酸を必須成分とする水溶液で構成されるの金属の表面処理剤が、上記の課題を解決することを見出し、新規水溶性プリフラックスを提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明者は、イミダゾール化合物またはベンズイミダゾール化合物を金属表面処理剤の主成分として使用したときに、その可溶化剤をレブリン酸またはメトキシ酢酸とすることによって、有機酸の大気中への飛散を低減し、液の組成変動に伴う膜物性の変動を防止できるのと同時に、被膜の耐熱性、耐湿性を高く維持することができ、しかも部品実装時のはんだ付性に優れ、温度変化等により安定性を失なわないことを発見し、本発明に到達した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明で使用する有機酸は、レブリン酸またはメトキシ酢酸である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
メトキシ酢酸、レブリン酸は水酸基を有していない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の有機酸の表面処理剤中での含有量は限定されないが、１〜４０重量％が特に好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、この際に併用できる水溶性有機溶剤としては、メタノール、エタノール、アセトン等が挙げられる。表面処理剤中での水溶性有機溶剤の含有量は限定されないが、１〜１０重量％が特に好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１のトランジスタと第２のトランジスタとを含みこの第１のトランジスタと第２のトランジスタとの閾値電圧の差に依存して決定される第１電圧及び第１電流を発生する第１定電流発生回路と、
前記第１電流に比例した第２電流を発生する第２定電流発生回路と、
ゲートとドレインが接続された第３のトランジスタを含みこの第３のトランジスタに前記第２電流を流すときに発生する第２電圧を発生する電圧発生回路とを備えたことを特徴とする定電圧発生回路。
【請求項２】  前記第３のトランジスタの閾値電圧が前記第１のトランジスタ及び前記第２のトランジスタの閾値電圧よりも高くされた請求項１に記載の定電圧発生回路。
【請求項３】  前記第３のトランジスタのトランスコンダクタンスは前記第１及び第２のトランジスタのトランスコンダクタンスよりも低くされた請求項１に記載の定電圧発生回路。
【請求項４】  前記第２電流が前記第１電流よりも大きくされた請求項１に記載の定電圧発生回路。
【請求項５】  第１の電流経路、第２の電流経路及び第３の電流経路を備え、
前記第１の電流経路は、ダイオード接続された第１導電型の第１ＭＩＳトランジスタと、低しきい電圧を有する第２導電型の第２ＭＩＳトランジスタと第１の抵抗とを直列に接続して構成され、
前記第２の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第３ＭＩＳトランジスタと、前記第２ＭＩＳトランジスタのしきい電圧よりも高いしきい電圧を有しかつダイオード接続された第２導電型の第４ＭＩＳトランジスタとを直列に接続して構成され、
前記第３の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第５ＭＩＳトランジスタにより構成され、
前記第２ＭＩＳトランジスタのゲート及び前記第４ＭＩＳトランジスタのゲートは互いに接続されているとともに、
前記第３の電流経路には、前記第４ＭＩＳトランジスタのしきい電圧よりも高いしきい電圧を有しかつダイオード接続された第２導電型の第６ＭＩＳトランジスタから構成される定電圧出力部が接続されたことを特徴とする定電圧発生回路。
【請求項６】  第１の電流経路、第２の電流経路及び第３の電流経路を備え、
前記第１の電流経路は、ダイオード接続された第１導電型の第１ＭＩＳトランジスタと、低しきい電圧を有する第２導電型の第２ＭＩＳトランジスタと第１の抵抗とを直列に接続して構成され、
前記第２の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第３ＭＩＳトランジスタと、前記第２ＭＩＳトランジスタのしきい電圧よりも高いしきい電圧を有しかつダイオード接続された第２導電型の第４ＭＩＳトランジスタとを直列に接続して構成され、
前記第３の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第５ＭＩＳトランジスタにより構成され、
前記第２ＭＩＳトランジスタのゲート及び前記第４ＭＩＳトランジスタのゲートは互いに接続されているとともに、
前記第３の電流経路には、ダイオード接続された第２導電型の第６ＭＩＳトランジスタと、該第６ＭＩＳトランジスタのオン抵抗値よりも大きな抵抗値を有する第２の抵抗とを接続して構成される定電圧出力部が接続されていることを特徴とする定電圧発生回路。
【請求項７】  第１の電流経路、第２の電流経路及び第３の電流経路を備え、
前記第１の電流経路は、ダイオード接続された第１導電型の第１ＭＩＳトランジスタと、低しきい電圧を有する第２導電型の第２ＭＩＳトランジスタと第１の抵抗とを直列に接続して構成され、
前記第２の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第３ＭＩＳトランジスタと、前記第２ＭＩＳトランジスタのしきい電圧よりも高いしきい電圧を有しかつダイオード接続された第２導電型の第４ＭＩＳトランジスタとを直列に接続して構成され、
前記第３の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第５ＭＩＳトランジスタにより構成され、
前記第２ＭＩＳトランジスタのゲート及び前記第４ＭＩＳトランジスタのゲートは互いに接続されているとともに、
前記第３の電流経路には、前記第４ＭＩＳトランジスタのトランスコンダクタンスよりも低いトランスコンダクタンスを有しかつダイオード接続された第２導電型の第６ＭＩＳトランジスタから構成される定電圧出力部が接続されていることを特徴とする定電圧発生回路。
【請求項８】  第１の電流経路、第２の電流経路及び第３の電流経路を備え、
前記第１の電流経路は、ダイオード接続された第１導電型の第１ＭＩＳトランジスタと、低しきい電圧を有する第２導電型の第２ＭＩＳトランジスタと第１の抵抗とを直列に接続して構成され、
前記第２の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第３ＭＩＳトランジスタと、前記第２ＭＩＳトランジスタのしきい電圧よりも高いしきい電圧を有しかつダイオード接続された第２導電型の第４ＭＩＳトランジスタとを直列に接続して構成され、
前記第３の電流経路は、前記第１ＭＩＳトランジスタとカレントミラー接続された第１導電型の第５ＭＩＳトランジスタにより構成され、
前記第２ＭＩＳトランジスタのゲート及び前記第４ＭＩＳトランジスタのゲートは互いに接続されているとともに、
前記第３の電流経路には、ダイオード接続された第２導電型の第６ＭＩＳトランジスタから構成される定電圧出力部が接続され、前記第３の電流径路を流れる第３電流は前記第２電流径路を流れる第２電流よりも大きくされたことを特徴とする定電圧発生回路。
【請求項９】  前記第１の抵抗の抵抗値は第２ＭＩＳトランジスタのオン抵抗よりも大である請求項５乃至８のいずれか１項に記載の定電圧発生回路。
【請求項１０】  前記第１ＭＩＳトランジスタ、前記第３ＭＩＳトランジスタ及び前記第５ＭＩＳトランジスタはｐＭＯＳトランジスタであってそのソースが電源電圧に接続されるものであり、前記第２ＭＩＳトランジスタ、前記第４ＭＩＳトランジスタ及び前記第６ＭＩＳトランジスタはｎＭＯＳトランジスタである請求項５乃至８のいずれか１項に記載の定電圧発生回路。
【請求項１１】  前記第６ＭＩＳトランジスタと並列に接続され、前記定電圧出力部の出力端子の電荷の放電を加速する加速回路を備えた請求項５乃至８のいずれか１項に記載の定電圧発生回路。
【請求項１２】  前記加速回路は、分圧抵抗と、その分圧抵抗からの出力電圧をゲートに入力させる第７ＭＩＳトランジスタとを並列に接続して構成される請求項１１に記載の定電圧発生回路。
【請求項１３】  ビット線をワード線を互いに交差するように配置するとともに、その交差部に電流読出し型のメモリセルが配置されたメモリセルアレイと、
前記ビット線からの電流を検知し増幅するセンスアンプと、
前記ビット線の電圧の上限を規定するクランプ用トランジスタとを備え、
請求項５乃至８のいずれか１項に記載の定電圧発生回路からの出力電圧を前記クランプ用トランジスタのゲートに入力させるように構成された半導体記憶装置。