(57)【要約】【課題】コレクタ電極の汚染の可能性を極力低減するＥＣＤを提供する。【解決手段】セル室２３に被検ガスを導入するガス導入孔２４の中心軸の延長線がセル室２３内に向けて突設されたコレクタ電極２２と交わることのない関係位置にガス導入孔２４とコレクタ電極２２とを配設する。このように構成することにより、底部のガス導入孔２４からセル室２３内に流入するガスの流れがコレクタ電極２２に直接接触することが避けられるので、電極の汚染が少なく、長期にわたって安定した性能を維持することが可能となり、洗浄や交換に要する保守コストを削減できる。【選択図】          図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
内部に放射線源を有するセル室の頂部から前記セル室内に向けて棒状のコレクタ電極が突設されると共に、ガスクロマトグラフカラムから流出するガスを前記セル室に導入するガス導入孔が前記セル室の底部に穿設されて成るエレクトロンキャプチャ検出器において、前記ガス導入孔の中心軸の延長線が前記コレクタ電極と交わることのない関係位置に前記ガス導入孔と前記コレクタ電極とが配設されていることを特徴とするエレクトロンキャプチャ検出器。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案はガスクロマトグラフ用のエレクトロンキャプチャ検出器（以下、ＥＣＤと略記する）に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスクロマトグラフ用検出器の一種であるＥＣＤは、電子親和性物質（ハロゲン化合物やニトロ化合物等）の選択的検出に適している検出器であって、放射性同位元素の線源を陰極とし棒状のコレクタ電極を陽極として封入した小容積のセル室内を試料ガスが貫流するように構成したものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図３に、従来のＥＣＤの構造例を断面図で示す。
同図に示すように、ＥＣＤは円筒状のセル筒２５の内部にセル室２３が形成され、このセル室２３の側壁内面に63Ｎｉなどの放射線源２１が塗着または蒸着され、棒状のコレクタ電極２２は頂部からセル室２３内に向けて突設されている。セル筒２５の下端にはガスクロマトグラフのカラム２９の末端を接続する接続部２６が設けられ、カラム２９から流出する試料成分を含むキャリアガスと側方のメイクアップガス流路２７から供給される窒素ガスとの混合ガス（以下、被検ガスと記す）が、セル室２３の底部に穿設されたガス導入孔２４からセル室２３内に送給され、セル室２３を通過して上部の排気口２８から排出される。
【０００４】
上記のように構成された従来のＥＣＤの動作については特許文献１にも記載されているところであり、ここでは説明を省略する。
【特許文献１】特開平１１−１５３５７９号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
図３に示すような従来構造のＥＣＤにおいては、コレクタ電極２２とガス導入孔２４とがセル筒２５の中心軸上に同軸に配置されているので、ガス導入孔２４から流入する被検ガスは直接コレクタ電極２２に接触しながら上方に向かって流れるので、コレクタ電極２２は被検ガス中の重質試料成分が付着することにより汚染されやすい。コレクタ電極２２が汚染されると、感度低下、ノイズ増加、ピーク異常等の障害が生じるので、適時に洗浄等のメンテナンスを行う必要があった。しかし、放射線源２１を内蔵するＥＣＤの洗浄には法規制もあり、その作業は時間、手間、費用の掛かるものであった。このため、コレクタ電極２２が汚染されにくい構造のＥＣＤが要望されており、例えば前掲の特許文献１では、コレクタ電極を中空円筒状として、被検ガスが直接電極面に接触することなくセル室内を通過するように工夫したＥＣＤが提唱されている。
【０００６】
本考案はこのような事情に鑑みてなされたものであり、従来のＥＣＤの基本構造を大きく変更することなく、コレクタ電極の汚染の可能性を極力低減するＥＣＤを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本考案は、上記課題を解決するために、従来と同様の棒状コレクタ電極を用いて、セル室へのガス導入孔とコレクタ電極とを適切な関係位置に配置することにより、コレクタ電極の汚染の可能性を極力低減するようにしたものである。即ち、本考案装置は、セル室に被検ガスを導入するガス導入孔の中心軸の延長線がセル室内に向けて突設されたコレクタ電極と交わることのない関係位置に前記ガス導入孔と前記コレクタ電極とを配設することを特徴とするＥＣＤである。
このように構成することにより、底部のガス導入孔からセル室内に流入するガスの流れがコレクタ電極に直接接触することが避けられる。
【考案の効果】
【０００８】
本考案は上記のように構成されているので、電極の汚染が少なく、長期にわたって安定した性能を維持することが可能となり、洗浄や交換に要する保守コストを削減できる。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００９】
本考案が提供するＥＣＤの特徴は、セル室に被検ガスを導入するガス導入孔の中心軸の延長線がセル室内に向けて突設されたコレクタ電極と交わることのない関係位置に前記ガス導入孔と前記コレクタ電極とを配設するように構成した点にある。
従って、最良の形態の基本的な構成は、このような構成を備えるＥＣＤである。
【００１０】
図１に本考案の一実施例を示す。同図においては構成要素は図３と同一であるから同符号を付すことで再度の説明を省く。
本実施例が図３に示す従来例と相違する点は、コレクタ電極２２がセル筒２５の中心軸ｃに対して偏心した位置に設けられていることである。一方、底部のガス導入孔２４は中心軸ｃ上にあるから、セル室２３に流入する被検ガスはコレクタ電極２２に直接接触することはない。ガスの流れは乱流や拡散を伴うから、被検ガスの一部はコレクタ電極２２に接触するが、従来のようにコレクタ電極２２が直接的に被検ガスの流れに曝される場合に比べて汚染の程度は少ない。
本実施例は従来のＥＣＤと同一の部品を用いて、コレクタ電極２２の位置を少し変えるだけで実施できることが利点である。
【００１１】
図２に本考案の他の２つの実施例を示す。
図２（Ａ）は、コレクタ電極２２を従来同様にセル筒２５の中心軸ｃ上に設け、その代わりに複数個のガス導入孔２４を中心軸ｃから偏心させて設けた例である。このような構成により、ガス導入孔２４から流入する被検ガスはガス導入孔２４の中心軸の延長線ａに沿って上方に流れるから、直接的にコレクタ電極２２に接触することがなく、図１の場合と同様の効果が得られる。しかも、図１の場合に比べて、コレクタ電極２２がセル室２３の中心に位置するため、セル室２３内の電位分布に歪みを生じない利点がある。
【００１２】
図２（Ｂ）は、コレクタ電極２２を従来同様にセル筒２５の中心軸ｃ上に設け、傾斜させた複数個のガス導入孔２４を中心軸ｃに近い位置に設けた例である。この場合、ガス導入孔２４の中心軸の延長線ａがコレクタ電極２２と交わらないように傾斜角度を定める。
このように構成することで、ガス導入孔２４から流入する被検ガスは、ガス導入孔２４の中心軸の延長線ａに沿ってコレクタ電極２２を避けて斜め上方に流れ、コレクタ電極２２に直接接触することはないから、図１または図２（Ａ）の場合と同様の効果が得られ、且つ、図２（Ａ）の場合と同様にセル室２３内の電位分布に歪みを生じない利点を有する。本実施例は、セル室２３の底部に十分なスペースが無い場合に有効である。
【００１３】
なお、図２（Ａ）、（Ｂ）に示す実施例は、いずれも複数個のガス導入孔２４を設けるものとしたが、コレクタ電極２２の周りのガスの流れを均等化することを特に重視する必要がない場合は、ガス導入孔２４は１つだけでもよい。
【産業上の利用可能性】
【００１４】
本考案はガスクロマトグラフ用のＥＣＤに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本考案の一実施例を示す図である。
【図２】本考案の他の実施例を示す図である。
【図３】従来の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００１６】
２１  放射線源
２２  コレクタ電極
２３  セル室
２４  ガス導入孔
２５  セル筒
２６  接続部
２７  メイクアップガス流路
２８  排気口
２９  カラム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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