【手続補正書】
【提出日】平成18年4月5日(2006.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造と、対イオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂及び
（Ｃ）酸の作用により（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂と付加反応をする架橋剤を含有し、
且つ（Ａ）成分の化合物のレジスト組成物中の含量が、組成物の固形分を基準として、３．６〜１５質量％であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
【化１】
2004086188.tif 000001
一般式（１）中、
Ｘは、硫黄原子又は沃素原子を表す。複数個のＸは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ1が複数個ある場合に、複数個のＲ1は、同一であっても異なってもよい。複数個のＲ2は、同一であっても異なってもよい。また、Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
Ａ及びＢは、各々独立に、Ｘ間を連結する炭化水素構造を表す。但し、Ｂに連結されたｎ＋１個のＸ間の少なくとも１つは同一共役中にある構造を示す。Ａが複数個ある場合に、複数個のＡは、同一であっても異なってもよい。
ｌは、０又は１を表す。但し、Ｘが硫黄原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは１を表し、Ｘが沃素原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは０を表す。
ｍは、０〜１０の整数を表す。
ｎは、１〜５の整数を表す。
【請求項２】  （Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造と、対イオンとを有する
、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｄ）酸の作用によりアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有し、
且つ（Ａ）成分の化合物のレジスト組成物中の含量が、組成物の固形分を基準
として、３．６〜１５質量％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化２】
2004086188.tif 000002
一般式（１）中、
Ｘは、硫黄原子又は沃素原子を表す。複数個のＸは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ1が複数個ある場合に、複数個のＲ1は、同一であっても異なってもよい。複数個のＲ2は、同一であっても異なってもよい。また、Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
Ａ及びＢは、各々独立に、Ｘ間を連結する炭化水素構造を表す。但し、Ｂに連結されたｎ＋１個のＸ間の少なくとも１つは同一共役中にある構造を示す。Ａが複数個ある場合に、複数個のＡは、同一であっても異なってもよい。
ｌは、０又は１を表す。但し、Ｘが硫黄原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは１を表し、Ｘが沃素原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは０を表す。
ｍは、０〜１０の整数を表す。
ｎは、１〜５の整数を表す。
【請求項３】  （Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造と、対イオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｄ１）下記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位及び一般式（Ｖ）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化３】
2004086188.tif 000003
一般式（１）中、
Ｘは、硫黄原子又は沃素原子を表す。複数個のＸは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ1が複数個ある場合に、複数個のＲ1は、同一であっても異なってもよい。複数個のＲ2は、同一であっても異なってもよい。また、Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
Ａ及びＢは、各々独立に、Ｘ間を連結する炭化水素構造を表す。但し、Ｂに連結されたｎ＋１個のＸ間の少なくとも１つは同一共役中にある構造を示す。Ａが複数個ある場合に、複数個のＡは、同一であっても異なってもよい。
ｌは、０又は１を表す。但し、Ｘが硫黄原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは１を表し、Ｘが沃素原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは０を表す。
ｍは、０〜１０の整数を表す。
ｎは、１〜５の整数を表す。
【化４】
2004086188.tif 000004
一般式（ＩＶ）中、
Ｌは、水素原子、置換されてもよい、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は置換されていてもよいアラルキル基を表す。
Ｚは、置換されてもよい、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は置換されていてもよいアラルキル基を表す。
また、ＺとＬが結合して５又は６員環を形成してもよい。
【請求項４】  一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位と、一般式（Ｖ）で表される繰り返し単位とのモル比が、一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位／一般式（Ｖ）で表される繰り返し単位＝１０／９０〜４０／６０であることを特徴とする請求項３に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項５】  （Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造と、対イオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｃ）酸の作用により（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂と付加反応をする架橋剤
及び
（Ｆ）含窒素塩基性化合物
を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
【化５】
2004086188.tif 000005
一般式（１）中、
Ｘは、硫黄原子又は沃素原子を表す。複数個のＸは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ1が複数個ある場合に、複数個のＲ1は、同一であっても異なってもよい。複数個のＲ2は、同一であっても異なってもよい。また、Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
Ａ及びＢは、各々独立に、Ｘ間を連結する炭化水素構造を表す。但し、Ｂに連結されたｎ＋１個のＸ間の少なくとも１つは同一共役中にある構造を示す。Ａが複数個ある場合に、複数個のＡは、同一であっても異なってもよい。
ｌは、０又は１を表す。但し、Ｘが硫黄原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは１を表し、Ｘが沃素原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは０を表す。
ｍは、０〜１０の整数を表す。
ｎは、１〜５の整数を表す。
【請求項６】  （Ａ）下記一般式（１）で表される部分構造と、対イオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｄ）酸の作用によりアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び
（Ｆ）含窒素塩基性化合物
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化６】
2004086188.tif 000006
一般式（１）中、
Ｘは、硫黄原子又は沃素原子を表す。複数個のＸは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ1が複数個ある場合に、複数個のＲ1は、同一であっても異なってもよい。複数個のＲ2は、同一であっても異なってもよい。また、Ｒ1とＲ2とが結合して環を形成してもよい。
Ａ及びＢは、各々独立に、Ｘ間を連結する炭化水素構造を表す。但し、Ｂに連結されたｎ＋１個のＸ間の少なくとも１つは同一共役中にある構造を示す。Ａが複数個ある場合に、複数個のＡは、同一であっても異なってもよい。
ｌは、０又は１を表す。但し、Ｘが硫黄原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは１を表し、Ｘが沃素原子の場合にＸに結合しているＲ1を括るｌは０を表す。
ｍは、０〜１０の整数を表す。
ｎは、１〜５の整数を表す。
【請求項７】  （Ａ）成分に於いて、対イオンが、脂肪族スルホン酸アニオン又は芳香族スルホン酸アニオンであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のレジスト組成物。
【請求項８】  一般式（１）に於いて、Ｂがベンゼン環であり、且つｎ＝１で、ｍ＝０であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のレジスト組成物。
【請求項９】  請求項１〜８のいずれかに記載のレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。