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【手続補正書】
【提出日】平成18年2月10日(2006.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】被洗浄面に付着した汚れ等を洗浄するためのブラシ片を有する洗浄ブラシにおいて、該ブラシ片は、ポリプロピレンの長繊維からなる不織布、または、該ポリプロピレンの長繊維にナイロン繊維、ポリエチレン繊維、ポリエステル繊維、アクリル繊維、ウレタン繊維の１種類以上を配合した不織布の少なくともいずれか一方からなり、かつ、該ブラシ片の表面に複数の概波形凹凸形状あるいは概半球凹凸形状を形成したことを特徴とする洗浄ブラシ。
【請求項２】前記ブラシ片は、撥水性あるいは保水性を有するコーティング処理を施したことを特徴とする請求項１記載の洗浄ブラシ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の洗車ブラシは、上記の目的を達成するため次の手段を採った。すなわち、被洗浄面に付着した汚れ等を洗浄するためのブラシ片を有する洗浄ブラシにおいて、該ブラシ片は、ポリプロピレンの長繊維からなる不織布、または、該ポリプロピレンの長繊維にナイロン繊維、ポリエチレン繊維、ポリエステル繊維、アクリル繊維、ウレタン繊維の１種類以上を配合した不織布の少なくともいずれか一方からなり、かつ、該ブラシ片の表面に複数の概波形凹凸形状あるいは概半球凹凸形状を形成したことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、前記ブラシ片は、請求項２に示すように、撥水性あるいは保水性を有するコーティング処理を施すのが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の洗浄ブラシのブラシ片は、ポリプロピレンの長繊維からなる不織布、または、該ポリプロピレンの長繊維にナイロン繊維、ポリエチレン繊維、ポリエステル繊維、アクリル繊維、ウレタン繊維の１種類以上を配合した不織布の少なくともいずれか一方からなり、かつ、該ブラシ片の表面に複数の概波形凹凸形状あるいは概半球凹凸形状を形成したので、以下に示すような効果がある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
ブラシ片の使用時には、複数の凸部及び凹部を、被洗浄面にたいして直交して接触させることができる。その為、ブラシ片の腰を、強く保持することができ、高い洗浄力を発揮できる。また、ブラシ片は、複数の凸部及び凹部を有する概波形凹凸形状に形成されてある為、被洗浄面にたいして、柔らかく、かつ分散させて接触させることができる。その為、高い耐久力を発揮できる。また、ブラシ片は、ポリプロピレンの長繊維よりなる不織布が使用されてある為、吸水する事無く、高い洗浄力を発揮できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
一方、ブラシ片の材質に、ポリプロピレンの長繊維にたいして、ナイロン繊維を所定重量％配合した場合には、ブラシ片の耐摩耗性を向上させることができる。また、ポリプロピレンの長繊維にたいして、ポリエチレン繊維を所定重量％配合した場合には、ブラシ片の耐候性を向上させることができる。また、ポリプロピレンの長繊維にたいして、ポリエステル繊維を所定重量％配合した場合には、ブラシ片の耐熱性を向上させることができる。また、ポリプロピレンの長繊維にたいして、アクリル繊維を所定重量％配合した場合には、ブラシ片の耐熱性及び耐候性を向上させることができる。また、ポリプロピレンの長繊維にたいして、ウレタン繊維を所定重量％配合した場合には、ブラシ片の耐摩耗性を向上させることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
請求項２に示すように、ブラシ片に、撥水性あるいは保水性を有するコーティング処理を施した場合は、次のような効果がある。
ブラシ片にウレタン樹脂を使用したコーティング処理をした場合には、ブラシ片の耐摩耗性を向上させることができる。また、ブラシ片にポリエチレン樹脂あるいはアクリル樹脂を使用したコーティング処理をした場合には、ブラシ片の耐候性を向上させることができる。また、ブラシ片にポリエステル樹脂あるいはアクリル樹脂を使用したコーティング処理をした場合には、ブラシ片の耐熱性を向上させることができる。また、ブラシ片にフッ素樹脂あるいはシリコーン樹脂を使用したコーティング処理をした場合には、ブラシ片の撥水性を向上させることができる。さらに、保水性を有する樹脂を使用したコーティング処理をした場合には、ブラシ片の水濡れ性及び保水性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 
出力電流を検出する電流検出器と出力電圧を検出する電圧検出器とを備え、予め設定された溶接電圧値に基づいて溶接を行うアーク溶接機の制御方法において、
アーク期間中に前記電流検出器で検出した出力電流値に基づいて電流変化率を計算し、
前記電流変化率に基づいて前記電流変化率が小さくなるように溶接電圧指令値を補正し、
前記溶接電圧指令値に基づいてアーク溶接機を制御することを特徴とするアーク溶接機の制御方法。
【請求項２】
短絡解放後の所定の時間は前記電流変化率に基づいて前記溶接電圧指令値の補正を行わないことを特徴とする請求項１記載のアーク溶接機の制御方法。
【請求項３】
出力電流を検出する電流検出器と出力電圧を検出する電圧検出器とを備え、予め設定された溶接電圧値に基づいて溶接を行うアーク溶接機の制御方法において、
アーク期間中の出力電圧を設定する溶接電圧指令値として、指数関数カーブで変化する溶接電圧指令値を作成し、
前記溶接電圧指令値に基づいて溶接を行うことを特徴とするアーク溶接機の制御方法。
【請求項４】
アーク発生前の短絡期間の長さ、溶接材料、ワークの種類、板厚、シールドガスの種類に応じて、前記指数関数カーブの定数を変化させることを特徴とする請求項３記載のアーク溶接機の制御方法。
【請求項５】
出力電流を検出する電流検出器と出力電圧を検出する電圧検出器とを備え、予め設定された溶接電圧値に基づいて溶接を行うアーク溶接機の制御方法において、
アーク期間中の出力電圧を逐次ＰＩＤ制御でフィードバック制御することを特徴とするアーク溶接機の制御方法。
【請求項６】
前記ＰＩＤ制御は、出力電圧を増大させる時の制御速度を速く、出力電圧を減少させる時の制御速度を遅くすることを特徴とする請求項５記載のアーク溶接機の制御方法。
【請求項７】
前記指数関数カーブの定数と前記出力電圧とに基づいて短絡またはアークの期間を判定することを特徴とする請求項５乃至６記載のアーク溶接機の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように制御したのである。
本発明の請求項１記載のアーク溶接機の制御方法は、出力電流を検出する電流検出器と出力電圧を検出する電圧検出器とを備え、予め設定された溶接電圧値に基づいて溶接を行うアーク溶接機の制御方法において、アーク期間中に前記電流検出器で検出した出力電流値に基づいて電流変化率を計算し、前記電流変化率に基づいて前記電流変化率が小さくなるように溶接電圧指令値を補正し、前記溶接電圧指令値に基づいてアーク溶接機を制御することを特徴とするものである。
本発明の請求項２記載のアーク溶接機の制御方法は、短絡解放後の所定の時間は前記電流変化率に基づいて前記溶接電圧指令値の補正を行わないことを特徴とするものである。
本発明の請求項３記載のアーク溶接機の制御方法は、出力電流を検出する電流検出器と出力電圧を検出する電圧検出器とを備え、予め設定された溶接電圧値に基づいて溶接を行うアーク溶接機の制御方法において、アーク期間中の出力電圧を設定する溶接電圧指令値として、指数関数カーブで変化する溶接電圧指令値を作成し、前記溶接電圧指令値に基づいて溶接を行うことを特徴とするものである。
本発明の請求項４記載のアーク溶接機の制御方法は、アーク発生前の短絡期間の長さ、溶接材料、ワークの種類、板厚、シールドガスの種類に応じて、前記指数関数カーブの定数を変化させることを特徴とするものである。
本発明の請求項５記載のアーク溶接機の制御方法は、アーク期間中の出力電圧を逐次ＰＩＤ制御でフィードバック制御することを特徴とするものである。
本発明の請求項６記載のアーク溶接機の制御方法は、前記ＰＩＤ制御は、出力電圧を増大させる時の制御速度を速く、出力電圧を減少させる時の制御速度を遅くすることを特徴とするものである。
本発明の請求項７記載のアーク溶接機の制御方法は、前記指数関数カーブの定数と前記出力電圧とに基づいて短絡またはアークの期間を判定することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット用記録媒体において、該インク受容層表面のＪＩＳ  Ｂ０６０１で定められた算術平均粗さ（Ｒａ）が１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、かつ２０点平均粗さ（Ｒｚ）が９５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることを特徴とするインクジェット用記録媒体。
【請求項２】
前記インク受容層が非晶質シリカと結着剤を含み、該非晶質シリカのＢＥＴ法による比表面積が５０ｍ2／ｇ以上１５０ｍ2／ｇ以下である請求項１に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項３】
前記インク受容層における非晶質シリカの含有量が６５質量％以上である請求項１または２に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項４】
前記インク受容層における結着剤が、少なくともポリビニルアルコールを含有している請求項１乃至３のいずれかに記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項５】
前記ポリビニルアルコールのけん化度が、９０ｍｏｌ％以上である請求項４に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項６】
前記インク受容層にイオン性の樹脂を含有する請求項１乃至５のいずれかに記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項７】
前記非晶質シリカが気相法によって合成されたものである請求項２乃至６のいずれかに記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項８】
色材として顔料を含有するインク用の記録媒体である請求項１乃至７のいずれかに記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項９】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット用記録媒体の製造方法であって、
ＢＥＴ法による比表面積が５０ｍ2／ｇ以上１５０ｍ2／ｇ以下の非晶質シリカを、９０％体積累積粒子径が０．２ミクロン（μｍ）以上０．４ミクロン（μｍ）以下となるように分散処理した分散液を調製する工程と、
少なくとも該分散液と結着剤とを含有する塗工液を調製する工程と、
該塗工液を支持体上に塗工してインク受容層を形成する工程と、
を有することを特徴とするインクジェット用記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記非晶質シリカが気相法によって合成されたものである請求項９に記載のインクジェット用記録媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  拡張可能な保持部材の表面に固定されたウェハ状の加工対象物の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射し、前記加工対象物の内部に改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記加工対象物のレーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、
前記切断起点領域を形成する工程後、前記加工対象物の非改質領域に対して透過性を有するレーザ光を前記改質領域に照射することで、前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物を切断する工程と、
前記加工対象物を切断する工程後、前記保持部材を拡張させることで、切断された前記加工対象物のそれぞれの部分を離間させる工程とを備えることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】  前記加工対象物を切断する工程では、前記加工対象物の非改質領域に対して透過性を有するレーザ光を前記改質領域に照射することで、前記切断起点領域を、前記切断起点領域に比べ割れを発生させ易いものに変化させて、前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物を切断することを特徴とする請求項１記載のレーザ加工方法。
【請求項３】  前記加工対象物を切断する工程では、前記改質領域に集光点を合わせて、前記切断起点領域を形成する工程と同じレーザ光照射を行うことを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ加工方法。
【請求項４】  前記切断起点領域を形成する工程において照射されるレーザ光と、前記加工対象物を切断する工程において照射されるレーザ光とは、同一のレーザ光源により発生させられることを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ加工方法。
【請求項５】  前記切断起点領域を形成する工程において照射されるレーザ光と、前記加工対象物を切断する工程において照射されるレーザ光とは、パルスレーザ光であり、同一のレーザ光源により発生させられることを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ加工方法。
【請求項６】  拡張可能な保持部材の表面に固定されたウェハ状の加工対象物の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射し、前記加工対象物の内部に改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記加工対象物のレーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、
前記切断起点領域を形成する工程後、前記加工対象物の非改質領域に対して透過性を有するレーザ光を前記改質領域に照射する工程と、
前記改質領域に照射する工程後、前記保持部材を拡張させることで、前記加工対象物を切断し、かつ切断された前記加工対象物のそれぞれの部分を離間させる工程とを備えることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項７】  前記改質領域に照射する工程では、前記加工対象物の非改質領域に対して透過性を有するレーザ光を前記改質領域に照射することで、前記切断起点領域を、前記切断起点領域に比べ割れを発生させ易いものに変化させることを特徴とする請求項６記載のレーザ加工方法。
【請求項８】  前記改質領域に照射する工程では、前記改質領域に集光点を合わせて、前記切断起点領域を形成する工程と同じレーザ光照射を行うことを特徴とする請求項６又は７記載のレーザ加工方法。
【請求項９】  前記切断起点領域を形成する工程において照射されるレーザ光と、前記改質領域に照射する工程において照射されるレーザ光とは、同一のレーザ光源により発生させられることを特徴とする請求項６又は７記載のレーザ加工方法。
【請求項１０】  前記切断起点領域を形成する工程において照射されるレーザ光と、前記改質領域に照射する工程において照射されるレーザ光とは、パルスレーザ光であり、同一のレーザ光源により発生させられることを特徴とする請求項６又は７記載のレーザ加工方法。
【請求項１１】  前記加工対象物は半導体材料により形成され、前記改質領域は溶融処理領域であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項記載のレーザ加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月9日(2006.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  拡張可能な保持部材の表面に固定されたウェハ状の加工対象物の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射し、前記加工対象物の内部に改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記加工対象物のレーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、
前記切断起点領域を形成する工程後、前記加工対象物に対して吸収性を有するレーザ光を前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物に照射することで、前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物を切断する工程と、
前記加工対象物を切断する工程後、前記保持部材を拡張させることで、切断された前記加工対象物のそれぞれの部分を離間させる工程とを備えることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】  前記加工対象物を切断する工程では、前記加工対象物に対して吸収性を有するレーザ光を前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物に照射することで、前記切断起点領域を、前記切断起点領域に比べ割れを発生させ易いものに変化させて、前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物を切断することを特徴とする請求項１記載のレーザ加工方法。
【請求項３】  拡張可能な保持部材の表面に固定されたウェハ状の加工対象物の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射し、前記加工対象物の内部に改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記加工対象物のレーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成する工程と、
前記切断起点領域を形成する工程後、前記加工対象物に対して吸収性を有するレーザ光を前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物に照射する工程と、
前記加工対象物に照射する工程後、前記保持部材を拡張させることで、前記加工対象物を切断し、かつ切断された前記加工対象物のそれぞれの部分を離間させる工程とを備えることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項４】  前記加工対象物に照射する工程では、前記加工対象物に対して吸収性を有するレーザ光を前記切断予定ラインに沿って前記加工対象物に照射することで、前記切断起点領域を、前記切断起点領域に比べ割れを発生させ易いものに変化させることを特徴とする請求項３記載のレーザ加工方法。
【請求項５】  前記加工対象物は半導体材料により形成され、前記改質領域は溶融処理領域であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載のレーザ加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月6日(2006.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンテンツデータの評価を示す評価情報または当該コンテンツデータの再生・記録を管理するための管理情報の少なくとも何れか一方を有する参照データを用いることによって記録されているコンテンツデータを提供する情報提供装置であって、
前記コンテンツデータと当該コンテンツデータの属性を示す属性データとが記録可能な記録手段と、
複数のコンテンツデータを選択する選択手段と、
前記選択されたコンテンツデータにおける前記参照データを取得する取得手段と、
前記記録手段におけるコンテンツデータの記録の有無、前記参照データおよび前記属性データに基づいて、当該コンテンツデータの再生制御または当該コンテンツデータにおける評価情報の提供の少なくとも一方を行う再生・提供手段と、
を備えることを特徴とする情報提供装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報提供装置において、
前記再生・提供手段が、
前記記録手段に記録される属性データに基づいて前記記録手段におけるコンテンツデータの記録の有無を判断する判断手段と、
前記判断手段によって前記コンテンツデータが前記記録手段に記録されていると判断された場合に、前記参照データに含まれる管理情報に基づいて、前記コンテンツデータを再生させる制御手段と、
を更に備えたことを特徴とする情報提供装置。
【請求項３】
請求項１に記載の情報提供装置において、
前記再生・提供手段が、
前記記録手段に記録される属性データに基づいて前記記録手段におけるコンテンツデータの記録の有無を判断する判断手段を更に備え、
前記判断手段によって前記コンテンツデータが前記記録手段に記録されていると判断された場合に、当該コンテンツデータとともに当該コンテンツデータにおける評価情報を提供することを特徴とする情報提供装置。
【請求項４】
請求項１に記載の情報提供装置において、
前記再生・提供手段が、
前記記録手段に記録される属性データに基づいて前記記録手段におけるコンテンツデータの記録の有無を判断する判断手段を更に備え、
前記判断手段によって前記コンテンツデータが前記記録手段に記録されていないと判断された場合に、前記選択されたコンテンツデータの評価情報のみを提供することを特徴とする情報提供装置。
【請求項５】
請求項１に記載の情報提供装置において、
前記参照データは、放送コンテンツのメタデータへのアクセス回数をしめすカウンタを含む評価／統計情報を有することを特徴とする情報提供装置。
【請求項６】
請求項１に記載の情報提供装置において、
前記参照データは、編集されたコンテンツデータの再生回数を含む再生制御情報を有することを特徴とする情報提供装置。
【請求項７】
請求項１に記載の情報提供装置において、
前記参照データは、放送コンテンツのメタデータの編集又は評価を行ったユーザ情報であって、当該ユーザの年齢又は性別を含む属性情報を有することを特徴とする情報提供装置。
【請求項８】
コンテンツデータの評価を示す評価情報または当該コンテンツデータの再生・記録を管理するための管理情報の少なくとも何れか一方を有する参照データを用いることによって記録されているコンテンツデータを提供する情報提供方法であって、
前記コンテンツデータと当該コンテンツデータの属性を示す属性データとが記録可能な記録工程と、
複数のコンテンツデータを選択する選択工程と、
前記選択されたコンテンツデータにおける前記参照データを取得する取得工程と、
前記記録工程におけるコンテンツデータの記録の有無、前記参照データおよび前記属性データに基づいて、当該コンテンツデータの再生制御または当該コンテンツデータにおける評価情報の提供の少なくとも一方を行う再生・提供工程と、
を備えることを特徴とする情報提供方法。
【請求項９】
コンテンツデータの評価を示す評価情報または当該コンテンツデータの再生・記録を管理するための管理情報の少なくとも何れか一方を有する参照データを用いることによって記録されているコンテンツデータを提供する情報提供用プログラムであって、
コンピュータを、
前記コンテンツデータと当該コンテンツデータの属性を示す属性データとが記録可能な記録手段、
複数のコンテンツデータを選択する選択手段、
前記選択されたコンテンツデータにおける前記参照データを取得する取得手段、
前記記録手段におけるコンテンツデータの記録の有無、前記参照データおよび前記属性データに基づいて、当該コンテンツデータの再生制御または当該コンテンツデータにおける評価情報の提供の少なくとも一方を行う再生・提供手段、
として機能させることを特徴とする情報提供用プログラム。
【請求項１０】
請求項６に記載の情報提供用プログラムが前記コンピュータにより読取可能に記録されていることを特徴とする情報記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月8日(2005.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
（実験例１）
基本例において調製したディスクに、線速度を１０倍速としＥＦＭ＋ランダムデータを１０回オーバーライト記録した後、記録データのデータ・ツー・クロック・ジッタ（Ｄａｔａ  ｔｏ  ｃｌｏｃｋ  ｊｉｔｔｅｒ、以下では、基準クロック周期Ｔで規格化し％値で表したものを単にジッタ、ｊｉｔｔｅｒ、と称する。）の記録パワーＰｗ依存性を測定した。各マーク長記録用のパルス列の設定を表１に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
（実験例２）
基本例において作製したディスクに、線速度を４倍速としＥＦＭ＋ランダムデータを１０回オーバーライト記録した後、記録データのデータ・ツー・クロック・ジッタの記録パワーＰｗ依存性を測定した。各マーク長記録用のパルス列の設定を表２に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
（実験例３）
実験例２において、冷却速度は速くなっていると思われるにもかかわらず、５Ｔと３Ｔのジッタはあまり改善されない原因は、α１を小さくしたことによりマーク形成部の温度が充分に上がらないためと考えられる。そこで、この仮説を裏付けるため以下の測定を行った。表４に示すパルス列の設定に従い、Ｐｗ＝２２ｍＷ、Ｐｅ＝６ｍＷ、Ｐｂ＝０．５ｍＷで、線速度を４倍速としＥＦＭ＋ランダムデータを１０回オーバーライト記録した部分に、さらに５Ｔのトーン信号（マーク長、マーク間長ともに５Ｔ狙いの信号）を、表４の５Ｔのパルス列で記録パワーＰｗを変えて（２０〜２８ｍＷ）１回オーバーライトし、マーク長ジッタを測定した。最後の記録において、オーバーライトする信号をトーン信号とした理由は、記録パワーを変えることによって他の長さのマークが変化する効果を除くためである。マーク長ジッタの測定を３Ｔについても同様に行った。測定結果を図２に示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
【図１】実験例１及び実験例２のデータ・ツー・クロック・ジッタの記録パワーＰｗ依存性の測定結果を示す図である。
【図２】実験例３のマーク長ジッタの記録パワーＰｗ依存性の測定結果を示す図である。
【図３】一般的な光記録方法におけるパルス分割方法を説明する図である。図３（ａ）は、形成するｎＴの記録長の記録マークのタイミングチャートを示す。図３（ｂ）は、ｎＴの記録長の記録マークを形成するための記録パルス分割方法のタイミングチャートを示す。
【図４】本実施の形態が適用される、長さの異なる複数のｎＴマークを同一の分割数ｍのパルス列で記録する光記録方法を説明するための図である。図４（ａ）は、８Ｔマークを形成するための記録パルス分割方法のタイミングチャートを示す。図４（ｂ）は、９Ｔマークを形成するための記録パルス分割方法のタイミングチャートを示す。そして、図４（ｃ）は、１０Ｔマークを形成するための記録パルス分割方法のタイミングチャートを示す。
【図５】本実施の形態が適用される光記録方法を実施するための光記録装置の一例を示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月19日(2006.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１データまたは演算結果と第２データを入力として、所定の演算処理を行う演算部と、
上記第１データまたは上記演算部の出力演算結果を、上記演算部に入力させるセレクタと、を有し、
上記演算部は、
複数の部分演算器と各部分演算器の演算結果を収納する複数の記憶手段を含み、
全体の演算を部分演算に分割し、一つの部分演算器と記憶手段からなるパイプライン段を当該記憶手段の収納演算結果が次段の部分演算器に供給されるようにパイプライン状に接続し、それぞれの部分演算をパイプライン１段で行い、一つの演算を完了させるために複数のクロックサイクルを要するパイプライン演算器をもって演算を行う
演算装置。
【請求項２】
第１データまたは演算結果と第２データを入力として、所定の演算処理を行う演算部であって、複数の部分演算器と各部分演算器の演算結果を収納する複数の記憶手段を含み、全体の演算を部分演算に分割し、一つの部分演算器と記憶手段からなるパイプライン段を当該記憶手段の収納演算結果が次段の部分演算器に供給されるようにパイプライン状に接続し、それぞれの部分演算をパイプライン１段で行い、一つの演算を完了させるために複数のクロックサイクルを要するパイプライン演算器をもって演算を行う演算部と、
入力された上記第１データを少なくとも１段シフトさせて遅延させ、第１選択信号に応じて入力した第１データ、遅延させた第１データ、演算部の出力演算結果のいずれかを選択して上記演算部の初段の部分演算器に入力させる第１データシフト選択回路と、
入力された上記第２データを複数段だけ順次にシフトさせて遅延させ、第２選択信号に応じて入力した第２データ、遅延させた複数の第２データのいずれかを選択して上記演算部の初段の部分演算器に入力させる第２データシフト選択回路と
を有する演算装置。
【請求項３】
上記第１データシフト選択回路は、入力された上記第１データを遅延させる少なくとも一つのシフトレジスタを含み、
上記第２データシフト選択回路は、入力された上記第２データを順次に遅延させる複数のシフトレジスタを含む
請求項４記載の演算装置。
【請求項４】
スループットをＴＨ、パイプライン演算器のレイテンシをＬＴとした場合に、上記第１データシフト選択回路のシフトレジスタ数B  SREGおよび上記第２データシフト選択回路のシフトレジスタ数A  SREGは、次式に基づいて設定される
請求項５記載の演算装置。
A ＿SREG  =  2x(LT-1)x(TH-1) 
B ＿SREG  =  (LT-1)x(TH-1) 
【請求項５】
ピクセルデータとテクセルデータの基づいてテクスチャマッピング処理を行う画像処理装置であって、
上記ピクセルデータまたは演算結果と上記テクセルデータを入力として、所定の演算処理を行う演算部と、
上記ピクセルデータまたは上記演算部の出力演算結果を、上記演算部に入力させるセレクタと、を有し、
上記演算部は、
複数の部分演算器と各部分演算器の演算結果を収納する複数の記憶手段を含み、
全体の演算を部分演算に分割し、一つの部分演算器と記憶手段からなるパイプライン段を当該記憶手段の収納演算結果が次段の部分演算器に供給されるようにパイプライン状に接続し、それぞれの部分演算をパイプライン１段で行い、一つの演算を完了させるために複数のクロックサイクルを要するパイプライン演算器をもって演算を行う
画像処理装置。
【請求項６】
上記演算部は、１つの上記第１データと当該第１データに対応する複数の上記テクセルデータとの演算を順次に行うマルチテクスチャ処理を行う
請求項９記載の画像処理装置。
【請求項７】
ピクセルデータとテクセルデータの基づいてテクスチャマッピング処理を行う画像処理装置であって、
ピクセルデータまたは演算結果とテクセルデータを入力として、所定の演算処理を行う演算部であって、複数の部分演算器と各部分演算器の演算結果を収納する複数の記憶手段を含み、全体の演算を部分演算に分割し、一つの部分演算器と記憶手段からなるパイプライン段を当該記憶手段の収納演算結果が次段の部分演算器に供給されるようにパイプライン状に接続し、それぞれの部分演算をパイプライン１段で行い、一つの演算を完了させるために複数のクロックサイクルを要するパイプライン演算器をもって演算を行う演算部と、
入力された上記ピクセルデータを少なくとも１段シフトさせて遅延させ、第１選択信号に応じて入力したピクセルデータ、遅延させたピクセルデータ、演算部の出力演算結果のいずれかを選択して上記演算部の初段の部分演算器に入力させるピクセルデータシフト選択回路と、
入力された上記テクセルデータを複数段だけ順次にシフトさせて遅延させ、第２選択信号に応じて入力したテクセルデータ、遅延させた複数のテクセルデータのいずれかを選択して上記演算部の初段の部分演算器に入力させるテクセルデータシフト選択回路と
を有する画像処理装置。
【請求項８】
上記ピクセルデータシフト選択回路は、入力された上記ピクセルデータを遅延させる少なくとも一つのシフトレジスタを含み、
上記テクセルデータシフト選択回路は、入力された上記テクセルデータを順次に遅延させる複数のシフトレジスタを含む
請求項１１記載の画像処理装置。
【請求項９】
スループットをＴＨ、パイプライン演算器のレイテンシをＬＴとした場合に、上記ピクセルデータシフト選択回路のシフトレジスタ数B  SREGおよび上記テクセルデータシフト選択回路のシフトレジスタ数A  SREGは、次式に基づいて設定される
請求項１２記載の画像処理装置。
A ＿SREG  =  2x(LT-1)x(TH-1) 
B ＿SREG  =  (LT-1)x(TH-1)
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月26日(2006.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体が設定された距離範囲内にあることを検出する検出手段と、該検出手段での物体の検出及び非検出のパタンに対応する信号を作成する信号作成部と、該信号作成部で作成した信号を電気的に接続された機器に送信する送信部とを備え、前記検出手段を複数備え、前記信号作成部は、異なる前記検出手段での検出及び非検出を組み合わせたパタンに対応する信号を作成することを特徴とする非接触入力インターフェース装置。
【請求項２】
前記検出手段を複数備え、前記検出手段は、複数の前記検出手段の検出方向が２以上の異なる方向に向いた状態で設置されていることを特徴とする請求項１に記載の非接触入力インターフェース装置。
【請求項３】
筐体の異なる方向にむいた２以上の面に前記検出手段が設置されていることを特徴とする請求項１または２のいずれか一に記載の非接触入力インターフェース装置。
【請求項４】
前記検出手段は、発光部から光を出し、設定された距離以内の範囲にある物体に反射して戻ってきた光を受光部で受光する光学式センサであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一に記載の非接触入力インターフェース装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月27日(2006.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光で被照明面を照明する照明光学系において、
ミラーと、
前記ミラーの反射面に対して垂直に開口面が配置される絞りと、
前記絞りの開口面のミラーの反射面に対する角度を調整する機構と、
を有することを特徴とする照明光学系。
【請求項２】
前記ミラーは、前記光源からの光で複数の２次光源を形成する反射型インテグレータであることを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
【請求項３】
前記光源からの光を平行にして前記反射型インテグレータに入射させる第１の光学ユニットと、
前記複数の２次光源からの光を前記被照明面の照明領域に重ねる第２の光学ユニットと、を更に有することを特徴とする請求項２記載の照明光学系。
【請求項４】
前記反射型インテグレータの反射面は、前記第２の光学ユニットの共軸に沿って配置されることを特徴とする請求項３記載の照明光学系。
【請求項５】
マスクを照明する請求項１〜４のいずれか一項記載の照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項５記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一側面としての照明光学系は、光源からの光で被照明面を照明する照明光学系において、ミラーと、前記ミラーの反射面に対して垂直に開口面が配置される絞りと、前記絞りの開口面のミラーの反射面に対する角度を調整する機構と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直交座標系で記載される地図データの記憶部と、
２地点の情報に基づいて経路探索を行う経路探索部と、
該２地点間の経路にそった領域を定める領域生成部と、
該領域の上記地図データを検索して出力する地図検索部とを有し、
上記領域生成部は、上記経路の幅を所定の幅に該経路上の緯度値に基づいた補正を加えて決定し、上記領域を定めることを特徴とする地図データ検索装置。
【請求項２】
地図データの記憶部と、
２点間の経路を探索する経路探索部と、
該２地点間の経路にそった領域を定める領域生成部と、
上記領域の図形を簡略化する要約処理部と、
上記簡略化された領域の上記地図データを検索して出力する地図検索部とを有し、
上記要約処理部は、上記経路中の構成点のうち、隣接する該構成点の変化量が所定値以下の構成点以外の上記構成点を接続することによって上記領域を決定することを特徴とする地図データ検索装置。
【請求項３】
上記端末からの２地点の情報に基づいて経路探索を行う経路探索部と、
上記経路周辺で経由地点を予測する経由地予測部と、
上記経路に沿った領域を定める領域生成部と、
上記領域の上記地図データを検索して出力する地図検索部とを有し、
上記領域生成部は、上記経由地点周辺については上記経路に沿って定められる領域を拡張した範囲を上記領域として決定することを特徴とする地図データ提供装置。
【請求項４】
上記経由地予測部は、上記経由地点を、上記経路上の予想通過時刻に基づいて決定することを特徴とする請求項３記載の地図データ検索装置。
【請求項５】
上記経由地予測部は、上記経由地点を、上記端末からの燃料残量値に基づいて決定することを特徴とする請求項３記載の地図データ検索装置。
【請求項６】
上記経由地予測部は、上記経由地点を、ユーザからの連続運転時間、または休憩時間帯の指定に基づいて決定することを特徴とする請求項４記載の地図データ検索装置。
【請求項７】
上記２地点間の経路にそった領域を定める領域生成部と、
該領域の上記地図データを検索して出力する地図検索部と
図形を簡略化する要約処理部とを更に有し、
上記要約処理部は、上記経路中の構成点のうち、隣接する該構成点の変化量が所定値以下の構成点以外の上記構成点を接続することによって上記領域を決定することを特徴とする請求項３乃至６の何れかに記載の地図データ検索装置。
【請求項８】
上記地図検索部は、該領域の上記地図データを検索する際に、
該領域を複数の部分領域に分割し、該部分領域単位に地図データの交差及び交差判定を行うことを特徴とする請求項２又は７に記載の地図データ検索装置。
【請求項９】
上記地図データは直交座標に基づくものであって、
上記領域生成部は、上記経路の幅を、該経路上の緯度値に基づいた補正を加えて決定することを特徴とする請求項２又は７に記載の地図データ検索装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機成分と無機微粒子を含有する感光性ペーストであって、該有機成分が下記一般式（１）で表される脂肪族多環状化合物を含有することを特徴とする感光性ペースト。
【化１】
2005141128.tif 000001
（式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、単結合またはアルキレン基を表し、ｘは１または２を表し、ｙは０または１を表す。）
【請求項２】
該有機成分が、さらにエチレン性不飽和基を有するウレタン化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の感光性ペースト。
【請求項３】
該有機成分が、さらにエチレン性不飽和基を有するアミン化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の感光性ペースト。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の感光性ペーストを用いたことを特徴とするディスプレイ用部材。
【請求項５】
請求項４記載のディスプレイ用部材を用いたことを特徴とするプラズマディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月26日(2006.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に中間層を介して感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が下記式（１）の構造単位を有する高分子化合物からなり、且つ、該高分子化合物の電子移動度が１×１０−８乃至１×１０−５ｃｍ／Ｖ  ｓｅｃの範囲であること特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2005141029.tif 000001
（式（１）中のＲ１は電子輸送能を有する化学構造の側鎖基を示す。）
【請求項２】
前記式（１）中のＲ１が下記式（２）に示す化学構造である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化２】
2005141029.tif 000002
（式（２）中のＡｒはベンゼン環、ナフタレン環、ペリレン環、またはビフェニル環から水素原子を四個取った化学構造を示し、Ａ１は置換基を有してもよいアルキレン基またはアリレーン基を示し、Ａ２は置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基を示す。）
【請求項３】
前記式（１）中のＲ１が下記式（３）に示す化学構造である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化３】
2005141029.tif 000003
（式（３）中のＡ１は置換基を有してもよいアルキレン基またはアリレーン基を示し、Ａ２は置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基を示し、Ｒ２乃至Ｒ５は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基を示す。）
【請求項４】
前記式（１）中のＲ１が下記式（４）に示す化学構造である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化４】
2005141029.tif 000004
（式（４）中のＲ６及びＲ７は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、またはシアノ基を示し、Ｒ８及びＲ９は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、エステル基を示す。ｍ及びｎは０、１または２を示す。）
【請求項５】
前記式（１）中のＲ１が下記式（５）に示す化学構造である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化５】
2005141029.tif 000005
（式（５）中のＲ８及びＲ９は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、エステル基を示し、Ｒ１０は、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、またはシアノ基を示し、ｍ及びｎは０、１または２を示す。）
【請求項６】
前記式（１）中のＲ１が下記式（６）に示す化学構造である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化６】
2005141029.tif 000006
（式（６）中のＸは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ８及びＲ９は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、エステル基を示す。ｍ及びｎは０、１または２を示す。）
【請求項７】
前記式（１）中のＲ１が下記式（７）に示す化学構造である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化７】
2005141029.tif 000007
（式（７）中のＹは酸素原子、硫黄原子またはジシアノメチレン基（Ｃ（ＣＮ）２基）を示し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基を示す。ｍ及びｎは０、１または２を示す。）
【請求項８】
請求項１乃至請求項７に記載の電子写真感光体と、帯電手段、像露光手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一つの手段とを一体に支持し、且つ、電子写真装置本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項９】
請求項１乃至請求項７に記載の電子写真感光体、帯電手段、像露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ブロッキング機能及び適度な範囲の電気的抵抗特性を有する中間層として、例えば、有機高分子からなる中間層としては特開昭４６−４７３４４号公報（特許文献１）や特開昭５２−１００２４０号公報（特許文献２）、また、金属酸化物や金属窒化物を有機高分子中に分散した中間層としては特開昭５４−１５１８４３号公報（特許文献３）や特開平１−１１８８４８号公報（特許文献４）等が提案されている。
【特許文献１】特開昭４６−４７３４４号公報
【特許文献２】特開昭５２−１００２４０号公報
【特許文献３】特開昭５４−１５１８４３号公報
【特許文献４】特開平１−１１８８４８号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【化１】
2005141029.tif 000008
即ち、式（１）中のＲ１に電子輸送能を有する化学構造の側鎖基を導入することにより電子輸送性が発現する。
また、式（１）中のＲ１は、式（２）に示す化学構造であり、式（２）中のＡｒはベンゼン環、ナフタレン環、ペリレン環、またはビフェニル環から水素原子を四個取った化学構造を示し、Ａ１は置換基を有してもよいアルキレン基またはアリレーン基を示し、Ａ２は置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【化５】
2005141029.tif 000009
また、式（１）中のＲ１が式（６）に示す化学構造であり、式（６）中のＸは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ８及びＲ９は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、エステル基を示す。ｍ及びｎは０、１または２を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【化６】
2005141029.tif 000010
また、式（１）中のＲ１が式（７）に示す化学構造であり、式（７）中のＹは酸素原子、硫黄原子またはジシアノメチレン基Ｃ（ＣＮ）２基を示し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基を示す。ｍ及びｎは０、１または２を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月7日(2006.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機成分と有機成分を含有する無機材料ペーストであって、無機成分中に２種類以上のガラスフリットを含み、最も軟化点の高いガラスフリットＨの軟化点をＴｓ（Ｈ）、最も軟化点の低いガラスフリットＬの軟化点をＴｓ（Ｌ）、ガラスフリットＨの平均粒子径をＤ５０（Ｈ）、ガラスフリットＬの平均粒子径をＤ５０（Ｌ）としたときに、以下の２式を満足し、ガラスフリットＬとガラスフリットＨの重量比が２：９８〜２０：８０であることを特徴とする無機材料ペースト。
Ｔｓ（Ｈ）−Ｔｓ（Ｌ）≦１００℃
Ｄ５０（Ｌ）＜Ｄ５０（Ｈ）
【請求項２】
Ｄ５０（Ｌ）とＤ５０（Ｈ）が以下の式を満足することを特徴とする請求項１に記載の無機材料ペースト。
Ｄ５０（Ｈ）−Ｄ５０（Ｌ）＞１．０μｍ
【請求項３】
ガラスフリットＬの平均粒子径が１．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の無機材料ペースト。
【請求項４】
さらに、焼成温度で溶融しないフィラーを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の無機材料ペースト。
【請求項５】
フィラーとガラスフリットの重量比が０．１：９９．９〜４０：６０であることを特徴とする請求項４に記載の無機材料ペースト。
【請求項６】
ガラスフリットＨとガラスフリットＬの比重の差が０．５ｇ／ｃｍ3以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の無機材料ペースト。
【請求項７】
プラズマディスプレイの隔壁パターンの形成に用いることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の無機材料ペースト。
【請求項８】
有機成分中に感光性成分を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の無機材料ペースト。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の無機材料ペーストを用いて作製したことを特徴とするプラズマディスプレイ部材。
【請求項１０】
請求項９に記載のプラズマディスプレイ部材を用いて作製したことを特徴とするプラズマディスプレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明は次の構成を有する。すなわち、本発明は、無機成分と有機成分からなる無機材料ペーストであって、無機成分中に２種類以上のガラスフリットを含み、最も軟化点の高いガラスフリットＨの軟化点をＴｓ（Ｈ）、最も軟化点の低いガラスフリットＬの軟化点をＴｓ（Ｌ）、ガラスフリットＨの平均粒子径をＤ５０（Ｈ）、ガラスフリットＬの平均粒子径をＤ５０（Ｌ）としたときに、以下の２式を満足し、ガラスフリットＬとガラスフリットＨの重量比が２：９８〜２０：８０であることを特徴とする無機材料ペーストである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
Ｔｓ（Ｈ）−Ｔｓ（Ｌ）≦１００℃
Ｄ５０（Ｌ）＜Ｄ５０（Ｈ）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【表１】
2005141059.tif 000001
次に画像検査装置を用いて隔壁欠陥を調べて、５０枚の隔壁欠陥総数を求めた。
欠陥の有無に関わらず、スクリーン印刷法でＲＧＢの蛍光体ペーストを塗布し、蛍光体層を形成した。隔壁欠陥が生じている部分を紫外線ランプで照射して調べたところ、混色が生じていた。隔壁欠陥が発生しなかった基板と予め作製しておいた前面板と張り合わせ、放電ガスを封入し、プラズマディスプレイを作製した。駆動回路を実装して表示させたところ、問題なかった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
（比較例１、実施例６）
まず、誘電体ペーストは、バインダー樹脂Ｂ１００重量部、ガラスフリット（ガラス転移点４７５℃、軟化点５１５℃、１００重量部）、フィラー（酸化ケイ素（日本アエロジル社製、“アエロジル２００”）、３０重量部）を添加して３本ローラー混練機で混練して作製した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
（実施例７〜９）
前面板透明誘電体ペーストを、バインダー樹脂Ｂ１００重量部、ガラスフリット１２０重量部（総量、種類は、配合比は表１の通りとした）を３本ロール混練機で作製し、実施例１と同様に背面板を作製した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
（比較例２〜４）
隔壁ペーストを表１のようにした以外は実施例１と同様に背面板を作製した。焼成後の隔壁形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、いずれの実施例も頂部幅３０μｍ、高さ１２０μｍの良好なストライプ状パターンであった。同様にそれぞれ５０枚の背面板基板を作製した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
（比較例５）
隔壁ペーストを表１のようにした以外は比較例１と同様に背面板を作製した。焼成後の隔壁形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、いずれの実施例も頂部幅３０μｍ、高さ１２０μｍの良好なストライプ状パターンであった。同様にそれぞれ５０枚の背面板基板を作製した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（比較例６）
誘電体突起用ペーストを表１のようにした以外は実施例７と同様に前面板を作製した。ストライプの形状は幅３０μｍ、高さ２０μｍで良好なパターンであった。同様にそれぞれ５０枚の前面板基板を作製した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
表１に実施例１〜９、比較例１〜６の欠陥の総数を示す。いずれの実施例も欠陥総数が比較例に比べて少なく、生産性が高い。これに対して、比較例は欠陥数が多く、生産性が低下することが予想される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月5日(2006.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性部材から構成され、耐熱性を有し、電磁誘導作用によって発熱し得る発熱体と、
前記発熱体を囲繞する絶縁性の耐火物と、
前記耐火物を介して前記発熱体の周囲に巻回され、前記発熱体を電磁誘導加熱するための誘導加熱コイルと、
前記誘導加熱コイルに電気的に接続され、当該誘導加熱コイルに電流を供給するための電源と、を有しており、
前記電源によって前記誘導加熱コイルに電力が供給された際には、電磁誘導作用によって、前記発熱体が自己発熱するようになっていることを特徴とする誘電磁気熱発生装置。