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【手続補正書】
【提出日】平成18年8月21日(2006.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異形断面を有し、かつ中空構造を有する繊維を含有することを特徴とする、メークアップ化粧料。
【請求項２】
前記繊維の長さが、１００〜１０００μｍであることを特徴とする、請求項１に記載のメークアップ化粧料。
【請求項３】
前記繊維に於ける断面の形状が井型であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のメークアップ化粧料。
【請求項４】
前記繊維が、赤に着色されているものであることを特徴とする、請求項１〜３何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
【請求項５】
前記繊維が、ナイロン繊維であることを特徴とする、請求項１〜４何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
【請求項６】
前記繊維の含有量が、０．１〜１０質量％であることを特徴とする、請求項１〜５何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
【請求項７】
下地化粧料、ファンデーション又は白粉であることを特徴とする、請求項１〜６何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
【請求項８】
長さ１００〜１０００μｍの中空繊維であって、井型断面を有する、化粧料用の繊維。
【請求項９】
色が赤であることを特徴とする請求項８に記載の化粧料用の繊維。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、メークアップ化粧料は、シミなどの皮膚の好ましくない部分を隠蔽し、見た印象が均一で美しく見えるように装う化粧料であった。この観点からは隠蔽性の高い粉体の開発が望まれ、微粒子二酸化チタンなどの素材が開発されてきた。その一方、かかる高隠蔽効果による、素肌感の喪失が次の開発すべき課題としてあげられ、半透明球状粉体によるソフトフォーカス技術が開発された。そして現在において、当面の課題となっていることは、生き生きとした表情感、若々しさの付与であり、この目的から、この様な効果を有する素材として長さ２００〜５００μｍのナイロン繊維を含有する化粧料が開発されている。（例えば、特許文献１を参照）この様な技術により、確かに前記生き生きとした表情感、若々しさの付与が可能になったが、この技術においては、繊維を秩序立てて塗布する必要があり、その為のテクニックが必要であるという、欠点が存した。これは、かかる光学効果に方向性が存するため、かかる効果を奏するためにはその適切な方向に化粧料中の繊維をならべることが必要であるためである。即ち、塗布時に繊維の方向性を考慮せずに前記生き生きとした表情感、若々しさの付与が可能な化粧料の開発が望まれていた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明者らは、塗布時に繊維の方向性を考慮せずに前記生き生きとした表情感、若々しさの付与が可能な化粧料を求めて、鋭意研究努力を重ねた結果、異形断面を有する繊維を含有する化粧料にその様な特徴が備わっていることを見出し、発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、以下に示す技術に関するものである。
（１）異形断面を有し、かつ中空構造を有する繊維を含有することを特徴とする、メークアップ化粧料。
（２）前記繊維の長さが、１００〜１０００μｍであることを特徴とする、（１）に記載のメークアップ化粧料。
（３）前記繊維に於ける断面の形状が井型であることを特徴とする、（１）又は（２）に記載のメークアップ化粧料。
（４）前記繊維が、赤に着色されているものであることを特徴とする、（１）〜（３）何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
（５）前記繊維が、ナイロン繊維であることを特徴とする、（１）〜（４）何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
（６）前記繊維の含有量が、０．１〜１０質量％であることを特徴とする、（１）〜（５）何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
（７）下地化粧料、ファンデーション又は白粉であることを特徴とする、（１）〜（６）何れか１項に記載のメークアップ化粧料。
（８）長さ１００〜１０００μｍの中空繊維であって、井型断面を有する、化粧料用の繊維。
（９）色が赤であることを特徴とする（８）に記載の化粧料用の繊維。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
一般式（ｚ）または（ｚ’）において、シロキサニル基（Ａ）が下記式（ｂ）で表される置換基である請求項３または４記載のシリコーン化合物の製造方法。
【化１】
2005132751.tif 000001
［式（ｂ）中、Ａ１〜Ａ１１はそれぞれが互いに独立に水素、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを表す。ｎは０〜２００の整数を表し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０〜２０の整数を表す。ただしｎ＝ａ＝ｂ＝ｃ＝０の場合は除く。］
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
【化２】
2005132751.tif 000002
［式（ｂ）中、Ａ１〜Ａ１１はそれぞれが互いに独立に水素、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを表す。ｎは０〜２００の整数を表し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０〜２０の整数を表す。ただしｎ＝ａ＝ｂ＝ｃ＝０の場合は除く。］
（６） 一般式（ｚ）または（ｚ’）において、シロキサニル基（Ａ）がトリス（トリメチルシロキシ）シリル基、ビス（トリメチルシロキシ）メチルシリル基、トリメチルシロキシジメチルシリル基から選ばれた置換基であることを特徴とする前記（３）または（４）記載のシリコーン化合物の製造方法。」
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【化３】
2005132751.tif 000003
［式（ｂ）中、Ａ１〜Ａ１１はそれぞれが互いに独立に水素、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを表す。ｎは０〜２００の整数を表し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれが互いに独立に０〜２０の整数を表す。ただしｎ＝ａ＝ｂ＝ｃ＝０の場合は除く。］
式（ｂ）中、Ａ１からＡ１１はそれぞれが独立に水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基などを挙げることができる。これらの中で最も好ましいのはメチル基である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月16日(2006.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フェノール樹脂（Ａ）、リン原子上に芳香族基を有するホスフィン化合物（Ｂ）及び耐火性骨材（Ｃ）を含有する耐火物用組成物。
【請求項２】
リン原子上に芳香族基を有するホスフィン化合物（Ｂ）が下記一般式（１）
【化１】
2005132695.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。）で表されるものである請求項１記載の耐火物用組成物。
【請求項３】
前記フェノール樹脂（Ａ）が、〔ホルムアルデヒド〕／〔フェノール類〕＝０．３〜１．０〔モル比〕で反応して得られるノボラック型フェノール樹脂、または、〔ホルムアルデヒド〕／〔フェノール類〕＝１．０〜２．５〔モル比〕で反応して得られるレゾール型フェノール樹脂である請求項２に記載の耐火物用組成物。
【請求項４】
前記フェノール樹脂（Ａ）とリン原子上に芳香族基を有するホスフィン化合物（Ｂ）との配合比率〔（Ａ）／（Ｂ）〕が１００／０．５〜１００／７（重量比）である請求項２記載の耐火物用組成物。
【請求項５】
前記耐火性骨材（Ｃ）がアルミナ、マグネシア、炭化珪素、ドロマイト鱗状黒紛及び土状黒鉛からなる群から選ばれる１種以上の骨材である請求項１〜４の何れか１つに記載の耐火物用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月30日(2006.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図６（ａ）に示すように、まず、チャンバー１５で覆われ、雰囲気ガス導入口１８からＮ2 ガスを導入した成形機の上ヘッド５に、上記した無反射構造成形用レプリカ金型２２を上型６として固定し、当該上型６をプレスステージ８と共に所定の温度（ここでは、５９０℃）まで昇温した。また、予熱ステージ７も５９０℃まで昇温した。そして、上記した下金型４を下型１０として用い、１５ｍｍ×１５ｍｍ×１．０ｍｍのクラウン系の硼珪酸ガラス（転移点（Ｔｇ）：５０１℃、屈伏点（Ａｔ）：５４９℃）を、光学材料１１として下型１０の上に載せ、光学材料１１が載せられた下型１０を、チャンバー１５の金型投入口１２から成形機内に投入して、５９０℃に設定された予熱ステージ７で３分間加熱した。ここで、光学材料１１の表面には、離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤２１が塗布されている（図７（ａ）参照）。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月6日(2005.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内部にガラス板を載置する台座を収容し、該台座上に複数枚のガラス板をシートを挟んで収納する箱体からなるガラス板梱包箱であって、
前記台座のガラス板を載置する面が傾斜しており、
前記箱体を構成する前板及び側板は、相互に及び天板に対し着脱可能であり、かつ、底板に対し着脱可能であることを特徴とするガラス板梱包箱。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
以下、本発明に係るガラス板梱包箱を用いたガラス板の梱包を順番に説明する。
図６はガラス板を載置する前の状態を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側面図、（Ｃ）は上面図である。また、図７は図６の底片及び縦片に底受け板及び背受け板を取付けたときの（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側面図である。
図示したように、底板３の上には底片１２と縦片１３が備わる。縦片１３の上部には前述した板材２７が備わり、後板６とビス２８により固定される。底片１２上には底受け板１４が載置され、縦片１３には背受け板１５が立て掛けられて、台座２を構成する。底片１２の上面は後板６側が下がる傾斜面であり、その傾斜角度は５〜２５°が好ましく、１０〜２０°がより好ましく、特に約１８°が好ましい。縦片１３はこの傾斜角度に合わせて底片３の上面と約９０°になるように斜め後方に傾斜している。なお、底片１２の上面傾斜角度を調整可能な構成としてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月30日(2006.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
底壁と該底壁の内面周縁から立設された側壁とを備え、前記側壁が前記底壁から遠ざかるほど外方へ拡がるテーパ形状とされた有底筒状の容器本体から構成され、前記側壁の底壁側端部には該底壁側端部以外の部分よりも厚肉とした厚肉部を形成するとともに、当該厚肉部の内面又は外面のいずれか一方を他方に対して前記底壁へ近づくに従い離間するように傾斜させたことを特徴とする包装用容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記容器本体は、前記底壁の外面周縁から突設された脚部を備えるものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の包装用容器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記脚部は、前記底壁から遠ざかるほど前記容器本体の外方へ拡がるテーパ形状となっていることを特徴とする請求項４に記載の包装用容器。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ところで、この種の包装用容器は、搬送時、保管時等において、減容化を目的とし、一方の包装用容器の内部に他方の包装用容器の底部を挿入することにより、複数が上下に積み重ねられた状態とされる。しかし、上記従来の包装用容器は、複数が上下に積み重ねられた状態とされたとき、必ず何れかの箇所で互いの周壁同士が重なった部分全体で接触し合う。例えば、増肉部と薄肉部とを周方向へ交互に形成させた包装用容器の場合は、増肉部同士が重なった部分全体で互いの周壁同士が接触している。また、凹溝状の薄肉部を形成した包装用容器の場合、薄肉部以外の箇所全体で互いの周壁同士が接触している。このように互いの周壁同士を広い範囲で接触させる包装用容器は、周壁同士の間に生じる摺動抵抗が大きく、積み重ねられた状態から１つ又は複数を引き抜くことが難しくなる。特に、周壁が薄肉化された包装用容器は、他方の包装用容器が一方の包装用容器の奥深くまで入り込んでしまうため、引き抜き時に大きな力を必要としていた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の包装用容器の発明は、底壁と該底壁の内面周縁から立設された側壁とを備え、前記側壁が前記底壁から遠ざかるほど外方へ拡がるテーパ形状とされた有底筒状の容器本体から構成され、前記側壁の底壁側端部には該底壁側端部以外の部分よりも厚肉とした厚肉部を形成するとともに、当該厚肉部の内面又は外面のいずれか一方を他方に対して前記底壁へ近づくに従い離間するように傾斜させたことを要旨とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項４に記載の包装用容器の発明は、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記容器本体は、前記底壁の外面周縁から突設された脚部を備えるものであることを要旨とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項５に記載の包装用容器の発明は、請求項４に記載の発明において、前記脚部は、前記底壁から遠ざかるほど前記容器本体の外方へ拡がるテーパ形状となっていることを要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月19日(2006.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一般式［１］
【化１】
2000034265.tif 000001
（式中、Ｒ1、Ｒ2は夫々独立して低級アルキル基又はシアノ基を表し、Ｒ3は低級アルキル基を表し、Ｘは低級アルキレン基を表す。）で示される化合物。
【請求項２】Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が夫々独立して炭素数１〜５のアルキル基である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】Ｘが炭素数１〜５のアルキレン基である請求項１に記載の化合物。
【請求項４】Ｒ1とＲ2が共にメチル基である請求項１に記載の化合物。
【請求項５】Ｒ3がメチル基、エチル基又はイソプロピル基である請求項１に記載の化合物。
【請求項６】Ｘがメチレン基又はエチレン基である請求項１に記載の化合物。
【請求項７】請求項１に記載の化合物を含んで成る重合開始剤。
【請求項８】請求項１に記載の化合物を重合開始剤として用いることを特徴とするα，β−エチレン性不飽和モノマーの重合方法。
【請求項９】Ｒ1及びＲ2がメチル基であり、Ｒ3がエチル基であり、Ｘがメチレン基である、請求項１に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月17日(2006.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 重合装置中で静置水溶液重合を行い、内部架橋剤と、重合により吸水性樹脂となる不飽和単量体成分または不飽和単量体成分の塩とから、架橋構造を有する含水ゲル状重合体を得る過程において、
前記重合装置中の含水ゲル状重合体がピーク温度を示した後、前記含水ゲル状重合体を前記ピーク温度より少なくとも１０℃低い温度で少なくとも３０分保持し、乾燥すること、
前記内部架橋剤は、２個以上の重合性不飽和基あるいは２個以上の反応性基を有すること、ならびに、
前記不飽和単量体成分は、アニオン性不飽和単量体、ノニオン性の親水基含有不飽和単量体、およびカチオン性不飽和単量体からなる群より選択される少なくとも１種であり、前記不飽和単量体成分の塩はアニオン性不飽和単量体の塩であること、
を特徴とする吸水性樹脂の製造方法。
【請求項２】  さらに、該含水ゲル状重合体に重合開始剤を添加することを特徴とする請求項１に記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項３】 前記静置水溶液重合は、重合開始剤と還元剤とを併用したレドックス系により行われることを特徴とする請求項１または２に記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項４】
前記含水ゲル重合体は、前記ピーク温度を示した後に、
前記重合装置から熟成用の装置に移されて前記保持されるか、または
前記重合装置から移されずに前記保持されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項５】  前記保持の後、含水ゲル状重合体を粉砕および乾燥することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項６】  前記ピーク温度は８０℃以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項７】 前記保持の際の相対湿度は、５０％ＲＨ以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項８】 前記アニオン性不飽和単量体としてアクリル酸を含むか、または
前記アニオン性不飽和単量体の塩としてアクリル酸の塩を含み、
前記不飽和単量体成分または前記不飽和単量体成分の塩の含有量は１５〜４５重量％であり、
前記内部架橋剤の含有量は、前記不飽和単量体成分または前記不飽和単量体成分の塩に対して０．００５〜３モル％であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【請求項９】 前記静置水溶液重合を開始する際の温度は０〜３０℃であり、
前記保持されている含水ゲル状重合体の比表面積は１０ｃｍ２／ｇ以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の吸水性樹脂の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本願発明者等は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、重合装置中で静置水溶液重合を行い、内部架橋剤と、重合により吸水性樹脂となる不飽和単量体成分または不飽和単量体成分の塩とから、架橋構造を有する含水ゲル状重合体を得る過程において、前記重合装置中の含水ゲル状重合体がピーク温度を示した後、前記含水ゲル状重合体を前記ピーク温度より少なくとも１０℃低い温度で少なくとも３０分保持し、乾燥すること、前記内部架橋剤は、２個以上の重合性不飽和基あるいは２個以上の反応性基を有すること、ならびに、前記不飽和単量体成分は、アニオン性不飽和単量体、ノニオン性の親水基含有不飽和単量体、およびカチオン性不飽和単量体からなる群より選択される少なくとも１種であり、前記不飽和単量体成分の塩はアニオン性不飽和単量体の塩であること、により、吸収倍率が高く、水可溶成分量および残存モノマー量が従来よりも低減されている吸水性樹脂を安定して得ることができることを見出した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、該含水ゲル状重合体に重合開始剤を添加することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記静置水溶液重合は重合開始剤と還元剤とを併用したレドックス系により、行われることが好ましい、
また、前記含水ゲル重合体は、前記ピーク温度を示した後に、前記重合装置から熟成用の装置に移されて前記保持されるか、または前記重合装置から移されずに前記保持されることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記保持の後、含水ゲル状重合体を粉砕および乾燥することが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記ピーク温度は８０℃以上であることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、前記保持の際の相対湿度は、５０％ＲＨ以上であることが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記アニオン性不飽和単量体としてアクリル酸を含むか、または前記アニオン性不飽和単量体の塩としてアクリル酸の塩を含むことが好ましく、
また、前記不飽和単量体成分または前記不飽和単量体成分の塩の含有量は１５〜４５重量％であることが好ましく、
また、前記内部架橋剤の含有量は、前記不飽和単量体成分または前記不飽和単量体成分の塩に対して０．００５〜３モル％であることが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、前記静置水溶液重合を開始する際の温度は０〜３０℃であることが好ましく、
前記保持されている含水ゲル状重合体の比表面積は１０ｃｍ２／ｇ以下であることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、前記において、重合開始剤に過硫酸塩、アゾ系反応開始剤、酸化剤および還元剤、を用いることを特徴とする方法を採用する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月16日(2006.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  熱可塑性加硫ゴム組成物であって、
ゴムを約２０乃至約８５重量部、及び、半結晶性ポリプロピレン及びランダムプロピレンコポリマーを合わせて約１５乃至約８０重量部含み、前記重量部は前記ゴム、前記ランダムプロピレンコポリマー、及び前記ポリプロピレンの１００重量部に基づいており、
前記ポリプロピレンの前記ランダムプロピレンコポリマーに対する重量比は、約１００：２乃至１００：４００であり、前記ランダムプロピレンコポリマーは、前記ランダムプロピレンコポリマーの重量に基づき、約８０乃至約９５重量％のプロピレンに由来する繰り返し単位及び約５乃至約２０重量％の一つ以上の２又は４乃至１２の炭素原子を有する他の不飽和オレフィンモノマーに由来する繰り返し単位を含み、
前記ゴムは、エチレンプロピレンジエンゴム、天然ゴム、ブチルゴム、ハロブチルゴム、ｐ−アルキルスチレンと４乃至７の炭素原子を有する少なくとも一つのイソモノオレフィンとのハロゲン化されたゴムコポリマー、イソブチレンとジビニルベンゼンとのコポリマー、４乃至８の炭素原子を有する共役ジエンのゴムホモポリマー、又は４乃至８の炭素原子を有する少なくとも一つ以上の共役ジエンに由来する繰り返し単位を少なくとも５０重量％有するゴムコポリマー、又はこれらの組み合わせを含む、組成物。
【請求項２】  前記ランダムプロピレンコポリマーが、７５Ｊ／ｇ未満の融解熱を有する、請求項1記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  印刷画像の耐光性と耐久性を改善する、インクジェットプリンタ又はレーザジェットプリンタ用のインクの添加剤としてあるいはインクジェットプリンタ又はレーザジェットプリンタで使用される紙又はプラスチック基体上のコーティングとして使用される組成物であって、
(A)少なくとも１つの紫外線吸収剤と、
(B)少なくとも１つの遊離基抑制剤と、
(C)少なくとも１つの酸化防止剤と、
(D)任意に、水、有機液体又はその組合せからなる群から選択される少なくとも１つの液体キャリヤーとを含んでなることを特徴とする組成物。
【請求項２】  インクジェットプリンタ又はレーザジェットプリンタに使われる紙又はプラスチック基体上のコーティングとして使用される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】  前記部分(D)に水が存在する、請求項１に記載の添加剤組成物。
【請求項４】  前記部分(D)における有機液体が、グリコールエーテル、アルキルアルコール、ポリアルキレングリコール、ピロリドン及びそれらの組合せからなる群から選択され、かつ
前記部分(D)においてキャリヤーが、水、グリコールメチルエーテル、グリコールエチルエーテル、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、ピロリドン及びこれらの組合せからなる群から選択される、請求項１に記載の添加剤。
【請求項５】  前記部分(A)において紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン及びアセトフェノンからなる群から選択され、
前記部分(B)において遊離基抑制剤が、ヒンダードアミン、トリエチルアミン及びトリブチルアミンからなる群から選択され、かつ
前記部分(C)において酸化防止剤が、フェノール、置換フェノール、亜リン酸ナトリウム及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１に記載の添加剤組成物。
【請求項６】  前記部分(A)において紫外線吸収剤が重量で0.5〜50％の間で存在し、
前記部分(B)において遊離基抑制剤が重量で0.5〜25％の間で存在し、
前記部分(C)において酸化防止剤が重量で0.5〜25％の間で存在し、かつ
前記部分(D)において液体キャリヤーが、全添加剤組成物の重量で１〜99％の間で存在する、請求項４又は５に記載の添加剤組成物。
【請求項７】  インクジェット又はレーザジェットプリンタ用の改善されたインクであって、：
(A)少なくとも１つの顔料又は少なくとも１つの染料が重量で0.5〜20％の間で存在し、
(B)少なくとも１つの紫外線吸収剤が重量で0.5〜20％の間で存在し、
(C)少なくとも１つの遊離基抑制剤が重量で0.5〜25％の間で存在し、
(D)少なくとも１つの酸化防止剤が重量で0.5〜25％の間で存在し、
(E)少なくとも１つの高分子が重量で０〜90％の間で存在し、かつ
(F)任意に、少なくとも１つの液体キャリヤーが、水、有機液体又はその組合せからなる群から選択され、その液体キャリヤーが、インクの重量で０〜90％の間で存在し、前記改善インクによって生成されたプリントが、従来のプリントと比較して改善された耐色性と耐久性を示すことを特徴とするインク。
【請求項８】  前記紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、アセトフェノン及びそれらの組合せからなる群から選択され、
前記遊離基抑制剤が、ヒンダードアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン及びそれらの組合せからなる群から選択され、かつ
前記酸化防止剤が、フェノール、置換フェノール、亜リン酸ナトリウム及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項７に記載のインク。
【請求項９】  インクジェット又はレーザジェットプリンタ用の基体をコーティングするための組成物であって：
(A)少なくとも１つの紫外線吸収剤が重量で0.5〜50％の間で存在し、
(B)少なくとも１つの遊離基抑制剤が重量で0.5〜25％の間で存在し、
(C)少なくとも１つの酸化防止剤が重量で0.5〜25％の間で存在し、
(D)少なくとも１つの高分子バインダーが重量で0.5〜30％の間で存在し、かつ
(E)少なくとも１つの液体キャリヤーが、水、有機液体又はその組合せからなる群から選択され、その液体キャリヤーが、インクの重量で0.5〜50％の間で存在することを特徴とする組成物。
【請求項１０】  前記紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、アセトフェノン及びそれらの組合せからなる群から選択され、
前記遊離基抑制剤が、ヒンダードアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン及びそれらの組合せからなる群から選択され、かつ
前記酸化防止剤が、フェノール、置換フェノール、亜リン酸ナトリウム及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】  インクジェットプリンタ又はレーザジェットプリンタで使用される紙のコーティングとして用いられる組成物であって：
(a)少なくとも１つの紫外線吸収剤と、
(b)少なくとも１つの遊離基抑制剤と、
(c)少なくとも１つの酸化防止剤と、
(d)少なくとも１つのバインダーと、さらに
(e)水、有機液体又はその組合せからなる群から選択される少なくとも１つの液体キャリヤーとを含んでなることを特徴とする組成物。
【請求項１２】  前記紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、アセトフェノン及びそれらの組合せからなる群から選択され、
前記遊離基抑制剤が、ヒンダードアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン及びそれらの組合せからなる群から選択され、かつ
前記酸化防止剤が、フェノール、置換フェノール、亜リン酸ナトリウム及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月7日(2006.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に形成された複数の薄膜トランジスタで構成した回路を有する半導体装置であって、
前記複数の薄膜トランジスタのチャネル形成領域はポリシリコン膜からなり、
前記ポリシリコン膜は、  １×１０１４〜  ５×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３の濃度で１４族から選ばれた元素を含んでいることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、前記１４族から選ばれた元素とはゲルマニウムであることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記ポリシリコン膜の膜厚は５〜５０ｎｍであることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
基板上にアモルファスシリコン膜を形成し、
前記アモルファスシリコン膜に対して１４族から選ばれた元素を添加し、
第１の加熱処理により前記アモルファスシリコン膜を結晶化させ、ポリシリコン膜に変成させ、
前記ポリシリコン膜に対して第２の加熱処理を行い、
前記第２の加熱処理は前記第１の加熱処理よりも高い温度で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
基板上にアモルファスシリコン膜を形成し、
前記アモルファスシリコン膜上に開口部を有する絶縁膜を形成し、
前記開口部で露出した前記アモルファスシリコン膜に対して１４族から選ばれた元素を添加し、
第１の加熱処理により前記アモルファスシリコン膜の一部を結晶化させ、ポリシリコン膜に変成させ、
前記ポリシリコン膜に対して第２の加熱処理を行い、
前記第２の加熱処理は前記第１の加熱処理よりも高い温度で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
基板上にアモルファスシリコン膜を形成し、
１４族から選ばれた元素を含む溶液を塗布し、当該溶液をスピン乾燥して前記アモルファスシリコン膜上に１４族から選ばれた元素を含む層を形成し、
第１の加熱処理により前記アモルファスシリコン膜を結晶化させ、ポリシリコン膜に変成させ、
前記ポリシリコン膜に対して第２の加熱処理を行い、
前記第２の加熱処理は前記第１の加熱処理よりも高い温度で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
基板上にアモルファスシリコン膜を形成し、
前記アモルファスシリコン膜上に開口部を有する絶縁膜を形成し、
１４族から選ばれた元素を含む溶液を塗布し、当該溶液をスピン乾燥して前記開口部で露出した前記アモルファスシリコン膜上に１４族から選ばれた元素を含む層を形成し、
第１の加熱処理により前記アモルファスシリコン膜の一部を結晶化させ、ポリシリコン膜に変成させ、
前記ポリシリコン膜に対して第２の加熱処理を行い、
前記第２の加熱処理は前記第１の加熱処理よりも高い温度で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項７のいずれか一において、前記第１の加熱処理は  ４５０〜６００  ℃で行われ、前記第２の加熱処理は  ８００〜１０５０℃で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項４乃至請求項８のいずれか一において、前記第２の加熱処理はハロゲン元素を含む雰囲気中において行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項４または５において、前記１４族から選ばれた元素は、イオンプランテーション、プラズマドーピングまたはレーザードーピングにより添加されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項４乃至請求項１０のいずれか一において、前記１４族から選ばれた元素とはゲルマニウムであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項６または７において、前記１４族から選ばれた元素を含む溶液とは、酸化ゲルマニウム、塩化ゲルマニウム、臭化ゲルマニウム、硫化ゲルマニウムまたは酢酸ゲルマニウムから選ばれた化合物の水溶液であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月15日(2006.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  親水性ポリマーと粘土粒子と油とグリセリンと水酸化カリウムを水に含有させてなることを特徴とする乳液。
【請求項２】  前記グリセリンの含有量が１．０〜５０．０質量％であり、前記水酸化カリウムの含有量が０．０１〜１．０質量％であることを特徴とする請求項１に記載の乳液。
【請求項３】  前記親水性ポリマーが０．０１〜２０．０質量％のアルギン酸塩であり、前記粘土粒子が０．０１〜２０．０質量％のベントナイトであり、前記油が０．１〜３０．０質量％であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の乳液。
【請求項４】  水酸化カリウムを含有することを特徴とする化粧品製剤。
【請求項５】  保湿剤を含有することを特徴とする請求項４に記載の化粧品製剤。
【請求項６】  メイクアップ剤、メイクアップ除去剤、毛髪手入れ用製剤、発汗抑制剤、身体の防臭剤、外部要因からの保護組成物、香料組成物、洗浄剤または浴用組成物の何れかであることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の化粧品製剤。
【請求項７】  水酸化カリウムを含有することを特徴とする皮膚洗浄用品。
【請求項８】  おしぼりであることを特徴とする請求項７に記載の皮膚洗浄用品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１の乳液の発明は、親水性ポリマーと粘土粒子と油とグリセリンと水酸化カリウムを水に含有させてなることに特徴を有する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成18年10月12日(2006.10.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  処理チャンバからのパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）の排出を低減するための装置であって、
内部チャンバを囲む電極壁を含む第１の電極であって、前記電極壁は、前記内部チャンバと連通する入口及び出口を画成している、第１の電極と、
前記内部チャンバの中に設けられた第２の電極であって、前記第１及び第２の電極は、互いに対向する表面を有し、該対向する表面の間に流体導管が画成されており、該流体導管は、前記入口を前記出口に連通させると共に、該入口と該出口との間に１以上の捕集チャンバを画成しており、該捕集チャンバは、前記流体導管を流通する粒状物質を捕集すると共に、該捕集チャンバから粒状物質が出て行くことを抑制するように構成され且つ配置されている、第２の電極と、
前記流体導管の前記入口に連結された流出ＰＦＣガスの発生源と、
前記流体導管内のＰＦＣ酸化剤と、
前記第１及び第２の電極に有効に接続され、前記第１及び第２の電極間に電圧を印加して、前記第１及び第２の電極の前記対向する表面に、帯電した粒状物質を捕集する手段と、
を含む装置。
【請求項２】  前記ＰＦＣ酸化剤が前記流体導管内に配置されたフィルタを含むものであり、前記フィルタがシリコン含有化合物を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】  前記シリコン含有化合物が固体多孔性酸化珪素含有材料を含むものである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】  前記導管チャンバに連通し、前記ＰＦＣ酸化剤を前記流体導管に供給するガス供給ラインを更に備える請求項１に記載の装置。
【請求項５】  処理チャンバからのパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）の排出を低減するための装置であって、
入口と出口を有する流体導管を画成する導管チャンバと、
前記流体導管内に存在するＰＦＣガスをプラズマ状態に励起し得るプラズマ発生システムであって、互いに対向する表面を有する第１の電極及び第２の電極を含み、該対向する表面は、前記導管チャンバの一部を成し、且つ、前記流体導管及び前記流体導管内において前記入口と前記出口との間に位置する捕集チャンバの双方を画成し、該捕集チャンバは、前記流体導管を流通するシリコン含有残留物及び粒状物質を含むＰＦＣ酸化剤を重力を用いて捕集すると共に、前記捕集チャンバから前記シリコン残留物及び前記粒状物質が出て行くことを抑制するように構成され且つ配置されている、プラズマ発生システムと、
前記第１の電極及び前記第２の電極に有効に接続され、前記第１及び第２の電極間に電圧を印加して、前記第１及び第２の電極の前記対向する表面に、帯電したシリコン含有残留物及び粒状物質を捕集する手段と、
を備える装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
さらに、ベルト本体ゴム層を黒色以外の色に着色し、処理歯布にベルト本体ゴム層と異なった色に着色することも可能であり、この場合は、処理歯布の摩耗状態を目視で判別することができる。また、ベルト本体ゴム層にエチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）を配合した場合には、歯付ベルトを高剛性能、耐水性能の優れたものとすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【表１】
2006084010.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
【表１６】
2006084010.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月10日(2006.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷蔵庫本体の上部に冷蔵室、下部に冷凍室、前記冷蔵室と前記冷凍室の間に野菜室を各々備え、
前記野菜室の前面に設けられた野菜室扉とともに引き出され、
底部に設けられた排水穴と、
この排水穴を閉塞する排水栓と、
を備えた野菜ケースを配設したことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
冷蔵庫が置かれる床面から前記野菜室扉の下端までの高さを４００ｍｍ以上としたことを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記野菜ケースの排水穴は前記野菜室扉側の底部に設けられ、
前記野菜ケースを引き出したときに、前記野菜ケースを下方へ傾斜させる引出機構を備えたことを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記野菜ケースの底部を前方に向けて低く傾斜させ、前記排水穴を前記野菜ケースの最も低い底部に設けたことを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項５】
前記冷蔵庫本体が置かれる床面から前記野菜ケースの野菜室扉の下端までの高さを４００ｍｍ以上としたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の冷蔵庫。
【請求項６】
前記野菜ケースの前記排水穴の周辺の下面にリブを設けたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明に係る冷蔵庫は、 冷蔵庫本体の上部に冷蔵室、下部に冷凍室、前記冷蔵室と前記冷凍室の間に野菜室を各々備え、前記野菜室の前面に設けられた野菜室扉とともに引き出され、底部に設けられた排水穴と、この排水穴を閉塞する排水栓と、を備えた野菜ケースを配設したものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明によれば、野菜室の前面に設けられた野菜室扉とともに引き出され、底部に設けられた排水穴と、この排水穴を閉塞する排水栓と、を備えた野菜ケースを配設したので、野菜ケースを冷蔵庫本体から取り外すことなくケースを洗浄し、容易に排水することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
広域を示す上位レベルから狭域を示す下位レベルまでの階層構造を有する地図データを
含むナビゲーションデータを記憶する記憶手段を備えたナビゲーション装置において、
必要又は不要な地図データの区域を選択させるための選択手段と、
該選択手段を介して選択された地図データの区域に対応する所定レベル以下の地図デー
タを整理して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成するデータ整理手段とを備えているこ
とを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項２】
地点又は経路を検索するために利用する検索用データを含むナビゲーションデータを記
憶する記憶手段を備えたナビゲーション装置において、
必要又は不要な検索メニューの内容を選択させるための選択手段と、
該選択手段を介して選択された前記検索メニューの内容に基づいて、該選択された検索
メニューに対応する検索用データを整理して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成するデ
ータ整理手段とを備えていることを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項３】
前記選択された検索メニューが、電話番号を用いた検索メニューである場合、
前記データ整理手段が、前記検索用データに含まれる電話帳データを整理するものであ
ることを特徴とする請求項２記載のナビゲーション装置。
【請求項４】
前記選択された検索メニューが、施設情報を用いた検索メニューである場合、
前記データ整理手段が、前記検索用データに含まれる施設情報に関するデータを整理す
るものであることを特徴とする請求項２記載のナビゲーション装置。
【請求項５】
地図データを含むナビゲーションデータを記憶する記憶手段を備えたナビゲーション装
置において、
経路案内機能の要否を選択させるための選択手段と、
該選択手段を介して選択された前記経路案内機能の要否に基づいて、前記ナビゲーショ
ンデータを整理して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成するデータ整理手段とを備えて
いることを特徴とするナビゲーション装置。
【請求項６】
前記データ整理手段が、前記記憶手段から不要なデータを削除、圧縮、又は転送手段に
より別の記憶手段へ転送して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成するものであることを
特徴とする請求項１〜５のいずれかの項に記載のナビゲーション装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また本発明に係るナビゲーション装置（１８）は、上記ナビゲーション装置（１）〜（
１５）のいずれかにおいて、前記データ整理手段が、不要なデータを別の記憶手段へ転送
して記憶可能領域を生成するものであることを特徴としている。
上記ナビゲーション装置（１８）によれば、前記データ整理手段が、不要なデータを別
の記憶手段へ転送して記憶領域を生成するように構成されているので、前記不要なデータ
の転送により前記記憶可能領域を生成することができる。また、前記別の記憶手段に転送
したデータを必要に応じて元に戻すこともできる。
また本発明に係るナビゲーション装置（１９）は、広域を示す上位レベルから狭域を示
す下位レベルまでの階層構造を有する地図データを含むナビゲーションデータを記憶する
記憶手段を備えたナビゲーション装置において、必要又は不要な地図データの区域を選択
させるための選択手段と、該選択手段を介して選択された地図データの区域に対応する所
定レベル以下の地図データを整理して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成するデータ整
理手段とを備えていることを特徴としている。
上記ナビゲーション装置（１９）によれば、必要又は不要な地図データの区域を選択す
るだけで、選択された地図データの区域に対応する所定レベル以下の地図データを整理す
ることができる。
また本発明に係るナビゲーション装置（２０）は、地点又は経路を検索するために利用
する検索用データを含むナビゲーションデータを記憶する記憶手段を備えたナビゲーショ
ン装置において、必要又は不要な検索メニューの内容を選択させるための選択手段と、該
選択手段を介して選択された前記検索メニューの内容に基づいて、該選択された検索メニ
ューに対応する検索用データを整理して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成するデータ
整理手段とを備えていることを特徴としている。
上記ナビゲーション装置（２０）によれば、必要又は不要な検索メニューの内容を選択
するだけで、検索メニューに対応する検索用データを整理することができる。
また本発明に係るナビゲーション装置（２１）は、地図データを含むナビゲーションデ
ータを記憶する記憶手段を備えたナビゲーション装置において、経路案内機能の要否を選
択させるための選択手段と、該選択手段を介して選択された前記経路案内機能の要否に基
づいて、前記ナビゲーションデータを整理して、前記記憶手段に記憶可能領域を生成する
データ整理手段とを備えていることを特徴としている。
上記ナビゲーション装置（２１）によれば、経路案内機能の要否を選択するだけで、ナ
ビゲーションデータを整理することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
この種の問題を解決するものとして、強度変調した光を対象空間に照射するとともに、対象空間の画像を撮像し、投光時と受光時との位相差を用いて対象空間内の対象物までの距離が得られる距離画像センサを先に提案した（たとえば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平９−２５７４１８号公報
【特許文献２】特開２００４−４５３０４号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板の酸素含有量を測定する工程と、
前記酸素含有量を測定した後、前記シリコン基板に対して熱処理を行う工程と、
前記熱処理の後、前記シリコン基板の酸素含有量を赤外線吸収法により測定する工程と、
前記熱処理の前に測定された前記酸素含有量と前記熱処理の後に測定された前記酸素含有量との差を、前記熱処理によって前記シリコン基板内に生成された酸素析出物の量として求める工程と、
予め求めておいたシリコン基板のゲッタリング能力と酸素析出物の量との相関関係とを利用することにより、前記求められた酸素析出物の量から前記シリコン基板のゲッタリング能力を評価する工程と、
を有することを特徴とするシリコン基板の評価方法。
【請求項２】
前記相関関係は、実験用シリコン基板の表面を汚染元素で汚染した後、該実験用シリコン基板に対して前記熱処理を行い、該熱処理後に前記実験用シリコン基板の表層に残留する前記汚染元素の量と、該熱処理によって前記実験用シリコン基板に生成された酸素析出物量とを対応付けることにより得られることを特徴とする請求項１に記載のシリコン基板の評価方法。
【請求項３】
前記熱処理として、前記シリコン基板の表面酸化工程、又は前記シリコン基板内に導入された不純物の拡散工程を採用することを特徴とする請求項１に記載のシリコン基板の評価方法。
【請求項４】
前記シリコン基板としてエピタキシャルシリコン基板を使用することを特徴とする請求項１に記載のシリコン基板の評価方法。
【請求項５】
シリコンインゴットから複数のシリコン基板を切り出す工程と、
前記複数のシリコン基板の中から評価用シリコン基板を一枚抽出する工程と、
請求項１に記載のシリコン基板の評価方法を用い、前記評価用シリコン基板のゲッタリング能力を評価する工程と、
前記評価されたゲッタリング能力が要求仕様を満たすか否かを判断する工程と、
前記ゲッタリング能力が要求仕様を満たすと判断された場合、前記複数のシリコン基板のそれぞれに前記半導体集積回路を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、シリコン基板の酸素含有量を測定する工程と、前記酸素含有量を測定した後、前記シリコン基板に対して熱処理を行う工程と、前記熱処理の後、前記シリコン基板の酸素含有量を赤外線吸収法により測定する工程と、前記熱処理の前に測定された前記酸素含有量と前記熱処理の後に測定された前記酸素含有量との差を、前記熱処理によって前記シリコン基板内に生成された酸素析出物の量として求める工程と、予め求めておいたシリコン基板のゲッタリング能力と酸素析出物の量との相関関係とを利用することにより、前記求められた酸素析出物の量から前記シリコン基板のゲッタリング能力を評価する工程と、を有することを特徴とするシリコン基板の評価方法が提供される。