Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月25日(2006.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の荷電粒子線を用いて基板を露光するマルチビーム方式の露光装置において、
前記複数の荷電粒子線の各々を偏向して、前記複数の荷電粒子線の各々の前記基板に対する入射位置を調整する偏向器アレイと、
前記基板に露光すべきパターンデータを生成する生成手段と、を備え、
前記偏向器アレイ及び前記生成手段を用いて、前記複数の荷電粒子線の各々の位置ずれを補正することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記複数の荷電粒子線を偏向する主偏向器と、を更に備え、
前記主偏向器による偏向位置に依存しない静的な位置ずれは前記偏向器アレイを用いて補正され、前記主偏向器による偏向位置に依存する動的な位置ずれは前記生成手段を用いて補正されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  請求項１又は２に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、を有するデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［態様１］
複数の荷電粒子線を用いて基板を露光するマルチビーム方式の露光装置において、前記複数の荷電粒子線の各々を偏向して、前記複数の荷電粒子線の各々の前記基板に対する入射位置を調整する偏向器アレイと、前記基板に露光すべきパターンデータを生成する生成手段と、を備え、前記偏向器アレイ及び前記生成手段を用いて、前記複数の荷電粒子線の各々の位置ずれを補正する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［態様２］
上記態様１において、前記複数の荷電粒子線を偏向する主偏向器と、を更に備え、前記主偏向器による偏向位置に依存しない静的な位置ずれは前記偏向器アレイを用いて補正され、前記主偏向器による偏向位置に依存する動的な位置ずれは前記生成手段を用いて補正される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［態様３］
上記態様１又は２に記載の露光装置は基板を露光する工程と、露光された前記基板を現像する工程と、を有するデバイス製造方法に用いられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月28日(2006.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ＥＵＶ光源から発散されるＥＵＶ光束内の強度分布を測定するＥＵＶ光強度分布測定装置において、
ＥＵＶ反射ミラーと光電変換素子を有する複数のＥＵＶ光強度検出ユニットが、前記ＥＵＶ反射ミラーに入射するＥＵＶ光の入射角度が等しい角度になるように配置されることで前記強度分布を測定することを特徴とするＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項２】  前記光電変換素子は、前記ＥＵＶ光強度検出ユニットから前記集光点を見込む立体角が０．０２４ステラジアン以下の範囲のＥＵＶ光強度を測定することを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項３】  前記ＥＵＶ光源は発光点で発光したＥＵＶ光を集光点で集光してある発散角で発散されるＥＵＶ光源であって、前記ＥＵＶ光強度検出ユニットは、前記集光点を中心とする球面上に配置されることを特徴とする請求項１乃至２に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項４】  前記ＥＵＶ光強度検出ユニットは、前記ＥＵＶ光束内に設置された平面上に配置されることを特徴とする請求項１乃至２に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項５】  前記ＥＵＶ光強度検出ユニットが配置される面は、前記ＥＵＶ光束の光軸を回転軸として回転することを特徴とする請求項３乃至４に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項６】  前記ＥＵＶ光強度検出ユニットにおいて、前記ＥＵＶ反射ミラーに入射するＥＵＶ光の入射角度が２０度以下であることを特徴とする請求項１乃至５に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項７】  前記ＥＵＶ光強度検出ユニットは、そのＥＵＶ反射ミラーに入射するＥＵＶ光の入射角度を略一定に保ちながら略９０度回転可能であることを特徴とする請求項６に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置。
【請求項８】  請求項１乃至７に記載のＥＵＶ光強度分布測定装置を用いることを特徴とするＥＵＶ光強度分布測定方法。
【請求項９】  ＥＵＶ光源から発散されるＥＵＶ光束内の強度分布を測定するＥＵＶ光強度分布測定方法において、
ＥＵＶ反射ミラーに入射するＥＵＶ光の入射角度が当該ＥＵＶ光に関するブリュスター角と略等しい角度となるように設置されたＥＵＶ反射ミラーと光電変換素子を有するＥＵＶ光強度検出ユニットを用いて、前記ＥＵＶ光束内の略同一の位置において前記ＥＵＶ反射ミラーにより反射されたＥＵＶ光の射出方向がそれぞれ略９０度異なる状態で前記ＥＵＶ反射ミラーにより反射されたＥＵＶ光の強度を測定するＥＵＶ光強度分布測定方法。
【請求項１０】  請求項９に記載のＥＵＶ光強度分布測定方法によるＥＵＶ光の測定を、前記ＥＵＶ光束内において測定位置を変えながら繰り返し行うＥＵＶ光強度分布測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月14日(2006.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】少なくとも隔壁を形成した基板の隔壁間の溝に蛍光体ペーストを塗布する工程を有するプラズマディスプレイ用基板の製造方法において、蛍光体ペースト塗布前における溝の底面の高さＨａと蛍光体ペースト塗布後レベリングによって安定した後の蛍光体ペースト表面の高さＨｂを、一台の高さ検知器を隔壁と平行方向に往復させることにより測定し、高さＨｂと高さＨａとの差から蛍光体ペーストの塗布厚みを求めることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項２】高さＨａと高さＨｂを測定する際に、溝の幅方向中心から溝幅の±２５％の範囲内の位置で測定することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項３】少なくとも蛍光体ペーストを収容するための隔壁間の溝を設けてなるプラズマディスプレイ用基板を載置するテーブルと、溝内に蛍光体ペーストを吐出するノズルと、テーブルとノズルとを相対的に移動させる手段と、テーブルとノズルとを相対的に移動させて基板の傾きを補正する手段と、テーブル上に載置される基板の蛍光体ペースト塗布前における溝の底面高さＨａおよび蛍光体ペースト塗布後における蛍光体ペーストの表面高さＨｂを測定する手段と、蛍光体ペースト塗布後から高さＨｂを測定するまでの時間を計測する計測手段と、高さＨｂと高さＨａとの差から蛍光体ペーストの塗布厚みを演算する手段とを備えていることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板の製造装置。
【請求項４】高さＨａおよび高さＨｂを測定する手段の高さを検知する位置を溝の幅方向中心から溝幅の±２５％の範囲内の位置に位置合わせする手段を有することを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイ用基板の製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明のプラズマディスプレイ用基板の製造方法は、少なくとも隔壁を形成した基板の隔壁間の溝に蛍光体ペーストを塗布する工程を有するプラズマディスプレイ用基板の製造方法において、蛍光体ペースト塗布前における溝の底面の高さＨａと蛍光体ペースト塗布後レベリングによって安定した後の蛍光体ペースト表面の高さＨｂを、一台の高さ検知器を隔壁と平行方向に往復させることにより測定し、高さＨｂと高さＨａとの差から蛍光体ペーストの塗布厚みを求めることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板の製造方法からなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明のプラズマディスプレイ部材の製造装置は、少なくとも蛍光体ペーストを収容するための隔壁間の溝を設けてなるプラズマディスプレイ用基板を載置するテーブルと、溝内に蛍光体ペーストを吐出するノズルと、テーブルとノズルとを相対的に移動させる手段と、テーブルとノズルとを相対的に移動させて基板の傾きを補正する手段と、テーブル上に載置される基板の蛍光体ペースト塗布前における溝の底面高さＨａおよび蛍光体ペースト塗布後における蛍光体ペーストの表面高さＨｂを測定する手段と、蛍光体ペースト塗布後から高さＨｂを測定するまでの時間を計測する計測手段と、高さＨｂと高さＨａとの差から蛍光体ペーストの塗布厚みを演算する手段とを備えていることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板の製造装置からなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
測定位置１の高さＨｂ１とＨａ１、測定基準位置の高さＨｂ０とＨａ０、測定位置２の高さＨｂ２とＨａ２、それぞれの差から、その位置における塗布厚みを求めた。結果は、測定位置１の塗布厚みは１０３．６μｍ、測定基準位置の塗布厚みは１０２．６μｍ、測定位置２の塗布厚みは１０２．８μｍであつた。その後、基板をテーブルから排出して、１００℃で２０分乾燥した。つづいて、同様にして４枚の基板に塗布を行い塗布厚みを測定した。結果から、基板の走行方向および溝の幅方向の同一位置における測定バラツキＲは、例えば測定位置２で２．７μｍであった。結果を表１に示す。また、乾燥後の蛍光体層の塗布厚みを破壊検査によって測定したところ、許容値である１９μｍ±１μｍの範囲に収まっていた。また、ウェット状態での塗布厚み測定を行うことで、塗布条件確認のための塗布厚みチェックに要する時間を、通常の破壊検査に比べて約６０分削減できた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
実施例２
次に、高さ検知器（変位計）の検知点を溝幅方向中心の位置から溝幅の２５％の位置で高さを測定するように調整した。それ以外は実施例１と同様にして５枚の基板に塗布した。結果から、基板の走行方向および溝の幅方向の同一位置における測定バラツキＲは、例えば測定位置１で３．３μｍであった。結果を表１に示す。また、実施例１と同様にして乾燥後の蛍光体層の塗布厚みを破壊検査によって測定したところ、許容値である１９μｍ±１μｍの範囲に収まっていた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
実施例３
次に、高さ検知器（変位計）の検知点を溝の幅方向中心の位置から溝幅の３７％の位置で高さを測定するように調整した。それ以外は実施例１と同様にして５枚の基板に塗布した。結果から、基板の走行方向および溝の幅方向の同一位置における測定バラツキＲは、例えば測定位置２で９．５μｍであった。また、実施例１と同様にして乾燥後の蛍光体層の塗布厚みを破壊検査によって測定したところ、許容値である１９μｍ±１μｍの範囲を逸脱していた。溝の幅方向中心から溝幅の±２５％の範囲内の位置で高さを測定することで精度のよい測定が行えた。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月28日(2006.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に対して電子ビームを走査する電子光学系を備えた走査電子顕微鏡において、
該電子光学系は、
前記電子ビームを発生する電子銃と、前記電子ビームを前記試料表面に収束させる対物レンズと、該対物レンズに入射する電子ビームの収差を相殺する収差補正器とを備え、
更に、前記電子光学系を制御するコンピュータを備え、
当該コンピュータは、前記収差補正器を動作させて前記電子ビームを走査させる第１の走査モードと、前記収差補正器を動作させずに前記電子ビームを走査させる第２の走査モードの両方で、前記電子光学系を制御できることを特徴とする走査電子顕微鏡。
【請求項２】
試料に対して電子ビームを走査する電子光学系を備えた走査電子顕微鏡において、
該電子光学系は、
電子銃と、対物レンズと、前記電子銃と対物レンズの間に配置されるコンデンサーレンズと、前記対物レンズとコンデンサーレンズの間に配置される収差補正器とを備え、
前記各レンズおよび収差補正器を制御するコンピュータとを備え、
該コンピュータは、
前記収差補正器を動作させる走査モードと、収差補正器を動作させない走査モードとの２つのモードで前記収差補正器を動作させることを特徴とする走査電子顕微鏡。
【請求項３】
請求項２に記載の走査電子顕微鏡において、
前記コンデンサーレンズの励磁の強さの切替と前記収差補正器のＯＮ／ＯＦＦとを連動させることにより、いずれのモードでも対物レンズの物点位置が実質的に変わらないように、前記各レンズおよび収差補正器を制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。
【請求項４】
請求項１または２に記載の走査電子顕微鏡において、
前記コンピュータは、前記いずれの走査モードでも、前記対物レンズの物点位置が実質的に変わらないように、前記収差補正器を制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。
【請求項５】
請求項１または２に記載の走査電子顕微鏡において、
前記電子銃を動作させる電子銃電源と、前記収差補正器を動作させる収差補正器電源と、前記対物レンズを動作させる対物レンズ電源とを備え、
前記コンピュータは、前記各電源を制御することにより、前記第１の走査モードと第２の走査モードとを実現させることを特徴とする走査電子顕微鏡。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の走査電子顕微鏡において、
前記電子ビームの走査により発生する２次電子または反射電子を検出して、画像表示する機構を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の走査電子顕微鏡を備えたことを特徴とする測長ＳＥＭ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月1日(2006.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（実施例６〜１０、比較例３〜４）
実施例６〜１０としては、異種元素としてフッ素（Ｆ）を使用し、まず、実施例１〜５における異種元素としてのジルコニウム（Ｚｒ）に換えてＬｉＦを使用し、フッ素（Ｆ）量が３５０ｐｐｍとなるように使用した以外は実施例１〜５と同様に合成した異種元素添加ＬｉＣｏＯ２を用い、実施例６〜１０に係る電池を作製した。比較例３〜４としては、ＬｉＦを添加しなかった以外は実施例６〜１０と同様にして作成した異種元素無添加のＬｉＣｏＯ２を作成し、比較例３〜４の電池を作製した。それぞれの電池について負荷特性、低温充電後容量復帰率及び４５℃でのサイクル容量維持率を測定した。結果を表２及び図２にまとめて示す。なお、負荷特性及び４５℃サイクル特性は比較例３に係る電池の値を１００とした場合の相対値であり、また、低温充電後の容量復帰率特性は比較例４に係る電池の値を１００とした場合の相対値である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
（実施例１１〜１５、比較例５〜６）
実施例１１〜１５としては、異種元素としてチタン（Ｔｉ）及びフッ素（Ｆ）を同時に用い、まず、実施例１〜５における異種元素としてのジルコニウム（Ｚｒ）に換えてＬｉ
Ｆをフッ素（Ｆ）の量が３５０ｐｐｍとなり、また、チタン（Ｔｉ）の量が８００ｐｐｍとなるようにＴｉＯ２を使用した以外は実施例１〜５と同様に合成した異種元素添加ＬｉＣｏＯ２を用い、実施例１１〜１５に係る電池を作製した。比較例５〜６としては、ＴｉＯ２やＬｉＦを添加しなかった以外は実施例１１〜１５と同様にして異種元素無添加のＬｉＣｏＯ２を作成し、比較例５〜６の電池を作製した。それぞれの電池について負荷特性、低温充電後容量復帰率及び２５℃でのサイクル容量維持率を測定した。結果を表３及び図３にまとめて示す。なお、負荷特性及び２５℃サイクル特性は比較例５に係る電池の値を１００とした場合の相対値であり、また、低温充電後の容量復帰率特性は比較例６に係る電池の値を１００とした場合の相対値である。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月7日(2005.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次工程では、上下部弁体２、４に接続部を形成した。図４（ｂ）に示すように、絶縁ガスケット３及び上部弁体２を金属ケース５に順次挿入して、上下部弁体２、４の各々の周縁部分を、絶縁ガスケット３を介在させて重ね合わせた。次に、絶縁ガスケット３を介在して重ね合わされた上下部弁体２、４の各々の周縁部分を、上下の固定治具２１、２２により金属ケース５を介在して挟み付け固定した。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月26日(2006.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
雑音確率分布推定部２００は、雑音確率分布をフレームごとに逐次推定し、雑音確率分布を表すパラメータ２０６を出力する機能を持つ。ここに、雑音１２２の成分ベクトルＮ0，…，Ｎtからなる系列をベクトルＮ0:t＝｛Ｎ0，…，Ｎt｝とする。ベクトルＮ0:tの事後確率分布ｐ（Ｎ0:t｜Ｘ0:t）は、１次マルコフ連鎖を用いて、次の式（５）のように表される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
クリーン音声ＨＭＭサンプリング部２２６は、クリーン音声ＨＭＭ１３０から、出力パラメータベクトルＳ(j)st(j),kt(j),tのサンプリングを行なう。図１０に、出力パラメータベクトルＳ(j)st(j),kt(j),tのサンプリングの概要を模式的に示す。例えば、ｊ番目のパーティクルにおいて、時刻ｔ−１に対応する状態ｓt-1(j)から、遷移確率にしたがって状態遷移を行なうことにより時刻ｔにおけるｊ番目のパーティクルに関する状態４００を抽出する。次にクリーン音声ＨＭＭサンプリング部２２６は、状態ｓt(j)の混合正規分布の中から、混合重みにしたがった確率で単一正規分布ｋt(j)（４０２）をサンプリングする。クリーン音声ＨＭＭサンプリング部２２６はさらに、分布ｋt(j)（４０２）により表される出力確率の分布にしたがい、出力パラメータベクトルＳ(j)st(j),kt(j),t（４０４）をサンプリングする。クリーン音声ＨＭＭサンプリング部２２６は、総数Ｊの各パーティクルにおける出力パラメータベクトルＳ(j)st(j),kt(j),t（４０４）をそれぞれ、以上の手順でサンプリングし、図５に示す更新部２３０に与える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
１００  音声認識システム
１０２  音源
１０４  前処理部
１０６  音響モデル部
１０８  言語モデル部
１１０  探索部
１１２  計測部
１１４  雑音抑圧部
１１６  話者
１１８  雑音源
１２０  クリーン音声
１２２  雑音
１２４  特徴量
１３０  クリーン音声ＨＭＭ
１３２  学習データ記憶部
１３４  モデル学習部
１３６  クリーン音声ＨＭＭ記憶部
１６０  状態空間モデル
２００  雑音確率分布推定部
２０２  パラメータ生成部
２０４  クリーン音声推定部
２２０  フレーム選択部
２２２  雑音初期分布推定部
２２４  逐次計算部
２２６  クリーン音声ＨＭＭサンプリング部
２３０  更新部
２３２  重み算出部
２３４  再サンプリング部
２３６  推定雑音分布生成部
２６２  再更新部
２６４  重み再計算部
２６６  許容確率算出部
２６８  乱数発生部
２７０  パラメータ選択部
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置に対して車両に設けられた撮影装置で得られる映像を画面上に割り当てられた映像表示領域で表示させる表示制御装置であって、
前記表示装置に対してナビゲーション情報のうち利用者に関連する関連情報を前記映像とともに前記映像表示領域で表示させる制御手段を備える表示制御装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記関連情報と前記映像とを重ねることによって合成することを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記関連情報と前記映像とを透過合成することを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記映像に含まれる接近物が表示される領域と前記関連情報が表示される領域とが重複する場合、前記ナビゲーション情報に対して重複を解消するための加工を行うことを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記加工として、前記ナビゲーション情報に係る表示位置を変化させることを特徴とする請求項４に記載の表示制御装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記加工として、前記ナビゲーション情報に係る縮尺を変化させることを特徴とする請求項４に記載の表示制御装置。
【請求項７】
前記関連情報は、利用者の走行履歴に関連することを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の表示制御装置。
【請求項８】
前記関連情報は、利用者による経路探索結果に関連することを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の表示制御装置。
【請求項９】
前記関連情報は、利用者による経路探索の履歴に関連することを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の表示制御装置。
【請求項１０】
前記関連情報は、利用者の現在位置に関連することを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の表示制御装置。
【請求項１１】
前記関連情報は、現在時刻に関連することを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の表示制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月14日(2006.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスを製造する際の欠陥を低減するための方法であって、
基材を用意する工程、及び
当該基材を次の式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【化１】
2006201809.tif 000001
（式中のＲ1とＲ4は炭素原子数３〜１０の直鎖又は枝分かれしたアルキル鎖であり、Ｒ2とＲ3はＨかあるいは炭素原子数１〜５のアルキル鎖であり、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは０〜２０の範囲の数である）
を有する少なくとも１種の界面活性剤を約１０ｐｐｍ〜約１０，０００ｐｐｍ含む処理溶液と接触させる工程、
を含む、半導体デバイス製造の際の欠陥低減方法。
【請求項２】
前記処理溶液が約１０〜約１０，０００ｐｐｍの少なくとも１種の分散剤を更に含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１種の分散剤が非イオン性化合物、イオン性化合物及び界面活性剤のうちの少なくとも１つを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
（ｎ＋ｍ）の値の範囲が０〜３０である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
（ｎ＋ｍ）の値の範囲が１．３〜１５である、請求項４記載の方法。
【請求項６】
（ｐ＋ｑ）の値の範囲が０〜３０である、請求項１記載の方法。
【請求項７】
（ｐ＋ｑ）の値の範囲が１〜１０である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
接触角が３０秒で約６０°以下である、請求項１記載の方法。
【請求項９】
接触角が３０秒で約５０°以下である、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
接触角が３０秒で約４０°以下である、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記接触工程が動的なリンスを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記処理溶液が、２３℃及び最大気泡圧力法による１気泡／秒において約４５ｄｙｎ／ｃｍの動的表面張力を示す、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記処理溶液が６０秒を超える時点において実質的のゼロの発泡を示す、請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
半導体デバイスを製造する際の欠陥を低減するための方法であって、
基材を用意する工程、及び
当該基材を下式
【化２】
2006201809.tif 000002
（式中のＲ1とＲ4は炭素原子数３〜１０の直鎖又は枝分かれしたアルキル鎖であり、Ｒ2とＲ3はＨかあるいは炭素原子数１〜５のアルキル鎖であり、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは０〜２０の範囲の数である）
を有する少なくとも１種の界面活性剤を約１０ｐｐｍ〜約１０，０００ｐｐｍ含む処理溶液と接触させる工程、
を含む、半導体デバイス製造の際の欠陥低減方法。
【請求項１５】
次の式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【化３】
2006201809.tif 000003
（式中のＲ1とＲ4は炭素原子数３〜１０の直鎖又は枝分かれしたアルキル鎖であり、Ｒ2とＲ3はＨかあるいは炭素原子数１〜５のアルキル鎖であり、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは０〜２０の範囲の数である）
を有する少なくとも１種の界面活性剤を約１０〜約１０，０００ｐｐｍ含む処理溶液。
【請求項１６】
約１０〜約１０，０００ｐｐｍの少なくとも１種の分散剤を更に含む、請求項１５記載の処理溶液。
【請求項１７】
前記少なくとも１種の分散剤が非イオン化合物を含む、請求項１６記載の処理溶液。
【請求項１８】
前記少なくとも１種の分散剤がイオン性化合物を含む、請求項１６記載の処理溶液。
【請求項１９】
（ｎ＋ｍ）の値の範囲が０〜３０である、請求項１５記載の処理溶液。
【請求項２０】
（ｎ＋ｍ）の値の範囲が１．３〜１５である、請求項１９記載の処理溶液。
【請求項２１】
（ｐ＋ｑ）の値の範囲が０〜３０である、請求項１５記載の処理溶液。
【請求項２２】
（ｐ＋ｑ）の値の範囲が１〜１０である、請求項２１記載の処理溶液。
【請求項２３】
光活性化合物、溶媒、ポリマー、塩基及び酸のうちの少なくとも１つを更に含む、請求項１５記載の処理溶液。
【請求項２４】
下式
【化４】
2006201809.tif 000004
（式中のＲ1とＲ4は炭素原子数３〜１０の直鎖又は枝分かれしたアルキル鎖であり、Ｒ2とＲ3はＨかあるいは炭素原子数１〜５のアルキル鎖であり、ｍ、ｎ、ｐ及びｑは０〜２０の範囲の数である）
を有する少なくとも１種の界面活性剤を約１０〜約１０，０００ｐｐｍ含む処理溶液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【化１】
2006201809.tif 000005
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【化２】
2006201809.tif 000006
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【化３】
2006201809.tif 000007
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【化４】
2006201809.tif 000008
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【化７】
2006201809.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月3日(2006.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この場合、発明の好適な態様により、プランジャ４に対して溶融樹脂Ｒの圧力に対する所定の背圧を付与することができる。この際、背圧は、予め設定した変化特性、例えば、所定の金型を用いて実成形した際における実測データを利用し、これに基づき変化するように可変制御することもできる。なお、物理量には、少なくとも、樹脂温度Ｔｓ，溶融圧Ｐｓ，プランジャ位置Ｘｓの一又は二以上を含ませることができる。一方、計量工程及び射出工程を行う際に、第一開閉バルブ１１及び／又は制御バルブにより樹脂路２を開き、かつ第二開閉バルブ１３によりドレン路１２を閉じることができる。また、射出工程が終了したなら、第一開閉バルブ１１及び／又は制御バルブにより樹脂路２を閉じ、かつ第二開閉バルブ１３によりドレン路１２を開くとともに、この後、プランジャ４を前進させて最前進位置にセットすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2006116921.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月8日(2006.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を収容する液体収容容器において、
液体収容容器の一部を形成する部材であって、当該液体収容容器の所定の部位で外部から受けた光を他の部位に導くための光路を形成する光路形成部材、
を具え、前記光路の途中に当該光路を接続または遮断する光学スイッチ素子が設けられており、前記光路によって前記他の部位に導かれた光によって当該液体収容容器の一部を発光させることを特徴とする液体収容容器。
【請求項２】
前記光学スイッチ素子は、当該液体収容容器内の液体量が所定量未満のとき前記光路を接続し、前記所定量以上のとき前記光路を遮断することを特徴とする請求項１に記載の液体収容容器。
【請求項３】
前記光学スイッチ素子は、前記光路を通る光とは別の光を受け、当該液体収容容器内の液体量が所定量未満のとき前記受けた光を外部に戻し、前記所定量以上のとき前記受けた光を当該液体収容容器内に通すことを特徴とする請求項２に記載の液体収容容器。
【請求項４】
前記光学スイッチ素子は液体収容容器内面に設けられ、前記液体収納室内の液体との界面が前記光の進行方向に対して所定の角度を有する複数の反射面を有するプリズムであることを特徴とした請求項１ないし３のいずれかに記載の液体収容容器。
【請求項５】
前記反射面は、前記外部から受けた光を前記液体と前記反射面を構成する材料との屈折率により決定される全反射の臨界角と、前記反射面を構成する材料と空気との屈折率により決定される全反射の臨界角との間の角度で反射し、
前記液体と空気との置換によって前記反射面への光の全反射と透過が切り替わることを特徴とする請求項４に記載の液体収容容器。
【請求項６】
前記発光する一部は、ユーザーが操作するための操作部であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液体収容容器。
【請求項７】
前記光路は屈折率の異なる材料で構成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の液体収容容器。
【請求項８】
前記液体はインクであることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液体収容容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液体収容容器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、インクタンクなどの液体収容容器に関し、詳しくは、インク残量が少なくなった液体収容容器など、所定状態にある液体収容容器をユーザーに知らせるための表示を行う構成に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ユーザーが表示によってインクタンクなど液体収容容器の特定をする際に、特定を直接その液体収容容器に対応付けて行うことができるともに、その表示を簡易な構成で実現できる液体収容容器を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そのために本発明では、液体を収容する液体収容容器において、液体収容容器の一部を形成する部材であって、当該液体収容容器の所定の部位で外部から受けた光を他の部位に導くための光路を形成する光路形成部材、を具え、前記光路の途中に当該光路を接続または遮断する光学スイッチ素子が設けられており、前記光路によって前記他の部位に導かれた光によって当該液体収容容器の一部を発光させることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月24日(2006.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が入賞しうる入賞口が設けられてなる遊技盤を備えた遊技機において、
前記遊技球の入賞口への入賞を検出する入賞球検出手段と、
景品球を払い出すために駆動制御されるモータを備えた景品球払い出し手段と、
前記入賞球検出手段により入賞が検出された場合に、景品球の払い出し個数を書き込む書き込み手段と、
前記書き込まれている払い出し個数に基づき、前記景品球払い出し手段のモータを所定速度で駆動させて払い出し処理を実行する駆動制御手段と、
前記モータが駆動されている最中に、払い出すべき残数が所定数に達したか否かを判定する残数判定手段と、
前記残数判定手段により払い出すべき残数が所定数に達したと判定された場合に、前記景品球払い出し手段のモータを前記所定速度よりも低速で駆動させて払い出し処理を実行する低速駆動制御手段と、
前記景品球払い出し手段により払い出された景品球の数と、前記書き込み手段により書き込まれた払い出し個数とが一致する場合に前記景品球払い出し手段による払い出しを停止する停止手段と、
前記モータが駆動されている最中に、前記入賞球検出手段により入賞が検出されたか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段により、前記モータが駆動されている最中に前記入賞球検出手段により入賞が検出されたと判定された場合に、新たに払い出すべき払い出し個数を再設定する払い出し個数再設定手段とを設け、
払い出すべき残数が所定数に達する前に前記払い出し個数再設定手段により新たに払い出すべき払い出し個数が再設定された場合には、前記駆動制御手段は、再設定された新たに払い出すべき払い出し個数に基づき、前記景品球払い出し手段のモータを低速に切り替えることなく前記所定速度での駆動を継続させて払い出し処理を実行するものであり、
さらに停電時においても記憶内容を保持可能なメモリを備え、そのメモリに払い出すべき払い出し個数を記憶することを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記の目的を達成するため、請求項１に記載の発明においては、遊技球が入賞しうる入賞口が設けられてなる遊技盤を備えた遊技機において、
前記遊技球の入賞口への入賞を検出する入賞球検出手段と、
景品球を払い出すために駆動制御されるモータを備えた景品球払い出し手段と、
前記入賞球検出手段により入賞が検出された場合に、景品球の払い出し個数を書き込む書き込み手段と、
前記書き込まれている払い出し個数に基づき、前記景品球払い出し手段のモータを所定速度で駆動させて払い出し処理を実行する駆動制御手段と、
前記モータが駆動されている最中に、払い出すべき残数が所定数に達したか否かを判定する残数判定手段と、
前記残数判定手段により払い出すべき残数が所定数に達したと判定された場合に、前記景品球払い出し手段のモータを前記所定速度よりも低速で駆動させて払い出し処理を実行する低速駆動制御手段と、
前記景品球払い出し手段により払い出された景品球の数と、前記書き込み手段により書き込まれた払い出し個数とが一致する場合に前記景品球払い出し手段による払い出しを停止する停止手段と、
前記モータが駆動されている最中に、前記入賞球検出手段により入賞が検出されたか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段により、前記モータが駆動されている最中に前記入賞球検出手段により入賞が検出されたと判定された場合に、新たに払い出すべき払い出し個数を再設定する払い出し個数再設定手段とを設け、
払い出すべき残数が所定数に達する前に前記払い出し個数再設定手段により新たに払い出すべき払い出し個数が再設定された場合には、前記駆動制御手段は、再設定された新たに払い出すべき払い出し個数に基づき、前記景品球払い出し手段のモータを低速に切り替えることなく前記所定速度での駆動を継続させて払い出し処理を実行するものであり、
さらに停電時においても記憶内容を保持可能なメモリを備え、そのメモリに払い出すべき払い出し個数を記憶することをその要旨としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明では、入賞球検出手段により、遊技球の入賞口への入賞が検出される。そして、入賞球検出手段により遊技球の前記入賞口への入賞が検出された場合に、書き込み手段によって景品球の払い出し個数が書き込まれる。書き込まれている払い出し個数に基づき、駆動制御手段によって、景品球払い出し手段のモータが所定速度で駆動されて払い出し処理が実行される。さらに、前記モータが駆動されている最中に、払い出すべき残数が所定数に達したか否かが残数判定手段によって判定され、残数判定手段により払い出すべき残数が所定数に達したと判定された場合に、低速駆動制御手段によって、前記景品球払い出し手段のモータが前記所定速度よりも低速で駆動させられて払い出し処理が実行される。そして、景品球払い出し手段により払い出された景品球の数と、前記書き込み手段により書き込まれた払い出し個数とが一致する場合に、停止手段により前記景品球払い出し手段による払い出しが停止される。モータが駆動されている最中に、入賞球検出手段により入賞が検出されたか否かが判定手段によって判定される。判定手段により、モータが駆動されている最中に入賞球検出手段により入賞が検出されたと判定された場合に、払い出し個数再設定手段によって、新たに払い出すべき払い出し個数が再設定される。そして、払い出すべき残数が所定数に達する前に払い出し個数再設定手段により新たに払い出すべき払い出し個数が再設定された場合には、駆動制御手段は、再設定された新たに払い出すべき払い出し個数に基づき、景品球払い出し手段のモータを低速に切り替えることなく前記所定速度での駆動を継続させて払い出し処理を実行する。
さらに停電時においても記憶内容を保持可能なメモリに、払い出すべき払い出し個数が記憶される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月4日(2006.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯科用橋脚歯を構築する方法であって、該方法は、
移植部位に近接する歯の測定の結果を受け取る工程であって、該測定によって、置換される歯のサイズ、位置、方向および傾斜が規定される、工程；
その顎に位置から置換される歯のタイプを決定する工程であって、該タイプは、中歯、横歯、犬歯、第一小臼歯、第二小臼歯、第一大臼歯、第二大臼歯および第三大臼歯からなる群から選択される、工程；
置き換えられる歯の、歯肉の表れるサイズおよび形状に従うよう橋脚歯の輪郭を描く工程、さらに、置き換えられる歯の形状輪郭に合わせるために橋脚歯の輪郭を描く工程
を包含する、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
該測定をコンピュータに入力する工程；
該測定から置き換えられる歯のサイズ、方位、傾斜および形状を決定するためのプログラムをコンピュータにおいて実行する工程；
該コンピュータから情報を出力して、橋脚歯の表面および橋脚歯の寸法の輪郭をガイドして制御する工程
によってさらに特徴付けられる、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、該方法は、
コンピュータのガイダンスのもとで、置き換えられる歯の歯肉の表れるプロフィルに合わせるために橋脚歯を製造する工程、および、
置き換えられる歯の形状、大きさおよび傾斜および方位に合致するようにクラウンを製造する工程、
をさらに包含する、方法。
【請求項４】
請求項2に記載の方法であって、
コンピュータのガイダンスのもとで、前記橋脚歯の表面および前記橋脚歯の寸法の輪郭どりを行うためにコンピュータ駆動式機械加工システムを操作する工程をさらに包含する、方法。
【請求項５】
歯科用橋脚歯を構築するシステムであって、該システムは、
移植部位に近接する歯の測定を結果を受け取る手段であって、該測定によって、置換される歯のサイズ、位置、方向および傾斜が規定される、手段；
その顎に位置から置換される歯のタイプを決定する手段であって、該タイプは、中歯、横歯、犬歯、第一小臼歯、第二小臼歯、第一大臼歯、第二大臼歯および第三大臼歯からなる群から選択される、手段；
置き換えられる歯の、歯肉の表れるサイズおよび形状に従うよう橋脚歯の輪郭を描く手段、さらに、置き換えられる歯の形状輪郭に合わせるために橋脚歯の輪郭を描く手段
を包含する、システム。
【請求項６】
請求項５に記載のシステムであって、
該測定をコンピュータに入力する手段；
該測定から置き換えられる歯のサイズ、方位、傾斜および形状を決定するためのプログラムをコンピュータにおいて実行する手段；
該コンピュータから情報を出力して、橋脚歯の表面および橋脚歯の寸法の輪郭をガイドして制御する手段
によってさらに特徴付けられる、システム。
【請求項７】
請求項６に記載のシステムであって、該システムは、
コンピュータのガイダンスのもとで、置き換えられる歯の歯肉の表れるプロフィルに合わせるために橋脚歯を製造する手段、および、
置き換えられる歯の形状、大きさおよび傾斜および方位に合致するようにクラウンを製造する手段、
をさらに包含する、システム。
【請求項８】
請求項６に記載のシステムであって、
コンピュータのガイダンスのもとで、前記橋脚歯の表面および前記橋脚歯の寸法の輪郭どりを行うためにコンピュータ駆動式機械加工システムを操作する手段をさらに包含する、システム。
【請求項９】
本願明書などに記載されるような、歯科用橋脚歯を構築するシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
現在、実施されるように、インプラントされた基礎又は取付具の外科的置換は、通常２，３の合併症を伴っている。骨による固定物の定着は、オセオインテグレーション（osseointegration）と呼ばれている。現在の技術において、これらの固定物は、元の歯と比較すると小さい円筒形である。この円筒形の形状は、その形が容易に生産されるので、おそらく選択されている。骨および軟組織は、治癒して該固定物の円柱形の形に従うようになる。しかし、クラウンは元の歯を模写しており、移植された基礎と比較すると、形状がより幅広く、且つ変えられ得る。インプラントをクラウンに接続する経粘膜的な橋脚歯は、橋脚歯が従わなければならない比率及び形状の相違に起因する問題を有している。特に、現在入手し得る橋脚歯と自然歯との間に大きな差が存在する。これらの入手し得る橋脚歯のサイズ、方位および歯肉出現角度におけるこれらの相違は、不快感、感染および構造上の問題を引き起こす。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の目的は、自然の歯の経粘膜的な輪郭、寸法および、出現する角度を複製する橋脚歯を提供することである。関連する本発明の目的は、表面形状が露出する自然歯に橋脚歯を適合させることである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
まだ図１Aを参照すると、経粘膜的な輪郭６は、それが部分的に下方にあって、且つ目に見える歯肉（歯肉）ライン回りに延びる橋脚歯の部分である。この輪郭６は、見える歯肉ラインにある表面８で終わる。その表面８は、橋脚歯を囲む歯肉ラインに一致するよう輪郭が描かれる。顔側のおよび頬側の側面は、押し下げられた又は谷の輪郭１２を形成し、近心のおよび遠心面は上がる丘の輪郭１０を形成する。これらの形状は、自然および置換歯のまわりの歯肉ラインに従う。最終のクラウンは、この表面８上につくられる。本明細書中で、”置換歯”はインプラント、橋脚歯およびクラウンの組合せをいう。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月27日(2006.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】超音波撮像装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  マイクロバルーン造影剤を注入した被検体に超音波を送波しエコーに基づいて造影撮像を行なう超音波撮像装置であって、
前記エコーを受信するときの周波数を調節する周波数調節手段、を具備することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項２】  請求項１に記載の超音波撮像装置において、
前記周波数調節手段は、前記エコーの信号を受信してＢモード処理するときのフィルタの周波数通過帯域を変化させることにより前記周波数を調節することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項３】  請求項２に記載の超音波撮像装置において、
前記フィルタの周波数通過帯域は、送波超音波の基本周波数ｆ０の１／２の周波数ｆ０／２から２倍の周波数２ｆ０を超える周波数範囲まで可変であることを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項４】  請求項１又は請求項２に記載の超音波撮像装置において、
前記フィルタの周波数通過帯域を連続的に変化させることを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項５】  請求項２に記載の超音波撮像装置において、
前記周波数調節手段は、中心周波数に対する帯域幅の比を調節することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項６】  請求項１に記載の超音波撮像装置において、
前記周波数調節手段は、前記周波数の調節をインタラクティブに行なうことを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項７】  請求項６に記載の超音波撮像装置において、
操作ツマミの操作により、前記周波数の調節をインタラクティブに行なうことを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項８】  請求項１に記載の超音波撮像装置において、
前記エコーの信号を受信しＢモード処理して、前記被検体における組織のＢモード画像と造影剤のＢモード画像とを合成した合成画像を生成し表示することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項９】  請求項１に記載の超音波撮像装置において、
前記周波数調節手段は、表示画面上に設定した所望の関心領域について前記周波数を調節することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項１０】  請求項８に記載の超音波撮像装置において、
前記合成画像に加えて第２高調波エコー画像も生成し表示することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項１１】  請求項１０に記載の超音波撮像装置において、
前記合成画像及び前記被検体における組織のＢモード画像と前記第２高調波エコー画像とを合成した画像を並べて表示することを特徴とする超音波撮像装置。
【請求項１２】  請求項１に記載の超音波撮像装置において、
送波超音波の周波数を基本波エコーに対する非基本波エコーのレベル比が最大になるように変化させることを特徴とする超音波撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月11日(2006.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  化学反応に由来する多相流出物が、並行状に配置される少なくとも２つの異なるデカンテーション帯域内でデカンテーションされ、これらデカンテーション帯域の各々は、少なくとも１つのデカンタを含むことを特徴とする、少なくとも一部非混和性である少なくとも２つの液相の分離方法。
【請求項２】  デカンテーション工程は、
デカンテーション後に最も軽質な相が反応帯域に再循環される、少なくとも１つのデカンテーション帯域(A)内、および、
デカンテーション後に最も軽質な相が反応装置から排出される、帯域(A)に並行して配置される少なくとも１つのデカンテーション帯域(B)内
で行なわれることを特徴とする、請求項１記載の分離方法。
【請求項３】  少なくとも１つのデカンタの最も濃密な相の少なくとも一部が、反応帯域に搬送されることを特徴とする、請求項１または２記載の分離方法。
【請求項４】  各デカンテーション帯域が、単一のデカンタを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項５】  デカンテーション帯域(A)が、このデカンテーション帯域に入る混合物の流量が、約１０〜１００ｍ3 ／時であり、別の相中に容認される相の細かい滴状物の直径が、１００×１０-6〜１０-3ｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項６】  デカンテーション帯域(B) が、このデカンテーション帯域に入る混合物の流量が、約１〜３０ｍ3 ／時であり、別の相中に容認される相の細かい滴状物の直径が、約５０×１０-6〜２００×１０-6ｍであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項７】  相の１つが、少なくとも１つの液体触媒組成物を含むことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項８】  主として液体触媒組成物を含む少なくとも１つのデカンテーション帯域の濃密相が、前記デカンテーション帯域から抜き出され、ついで反応帯域に再導入される前に、この触媒組成物相の一部が排出され、かつ新品触媒組成物の同量と取り替えられることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項９】  反応が、オリゴマー化、水素化、水素化ホルミル化およびアルキル化の群から選ばれかつ液体触媒組成物を含む液・液２相反応であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項１０】  反応が、１分子当たり炭素原子数２〜８を含むオレフィンのオリゴマー化であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の分離方法。
【請求項１１】  反応の全時間中、反応器の重量変化を監視することにより、重質相の全体量を連続的に調節することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】  デカンタのうちの１つのデカンタに重質相の全体を導いて、ついで視覚によってこの相のレベルを調節することにより、重質相の全体量を不連続的に調節することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】  反応帯域への処理すべき仕込み原料の少なくとも１つの注入導管と、デカンテーション帯域の数と同じ数の導管に分けられる、反応帯域の流出物の少なくとも１つの排出導管と、各デカンタに含まれる各相の少なくとも１つの排出導管とを含むことを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項記載の方法を行なうための装置。
【請求項１４】  軽質相のうちの少なくとも１つの相が、反応帯域に再循環されることを特徴とする、請求項１３記載の装置。
【請求項１５】  濃密相のうちの少なくとも１つの相が排出導管により反応帯域に供給されることを特徴とする、請求項１３または１４記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
流出物が再循環されるデカンテーション帯域(A)の出口で、軽質相中において重質相の大きい滴状物が容認される。これら滴状物は、以下において改めて処理される。従って、多くの場合、滴状物の最大直径約１００μｍ〜１０−３ｍ、好ましくは２００μｍ〜５００μｍが選ばれる。この型のデカンタ内における処理すべき仕込み原料の入口流量は、約１０ｍ３／時〜１００ｍ３／時、好ましくは２５ｍ３／時〜５０ｍ３／時である。ついで、帯域(A)のこの軽質相が、新品仕込み原料の導管に供給される。帯域(A)の軽質相と新品仕込み原料とで構成される混合物は、反応器に導入される前に冷却手段、例えば熱交換器により冷却される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アルミニウム面を有する調理器具の製造方法であって、上記アルミニウム面に研摩処理を施した後に硬質陽極酸化処理を施し、更に、研磨処理を施すことを特徴とする調理器具の製造方法。
【請求項２】  上記硬質陽極酸化処理の前に行う上記研摩処理は、次第に細かい研摩布を用いる少なくとも第１および第２の研摩工程を含むことを特徴とする、請求項１記載の調理器具の製造方法。
【請求項３】  上記硬質陽極酸化処理の前に行う上記研摩処理は、上記調理器具の側壁外面について、２８０−３２０の範囲の粒度の研摩布を用いる前研摩を含むことを特徴とする、請求項１又は２記載の調理器具の製造方法。
【請求項４】  コットンバフに続いて、その後により細かいサイザルコットンバフを用いて上記調理器具を研摩することを特徴とする、請求項３記載の調理器具の製造方法。
【請求項５】  上記硬質陽極酸化処理の後に行う上記研摩処理は、細かいコットンバフを用いる単一研摩工程により行うことを特徴とする、請求項１〜４記載の調理器具の製造方法。
【請求項６】  請求項１〜５記載の製造方法により処理された面を有することを特徴とする調理器具。
【請求項７】  研摩処理を施した後に硬質陽極酸化処理を施し、更に、研磨処理を施してなるアルミニウム外面を少なくとも有することを特徴とする調理器具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段および作用・効果】
本発明の第１の観点によれば、本発明は、アルミニウム面を有する調理器具の製造方法であって、上記アルミニウム面に研摩処理を施した後に硬質陽極酸化処理を施し、更に、研磨処理を施す調理器具の製造方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
さらに別の観点から、本発明は、研摩処理を施した後に硬質陽極酸化処理を施し、更に、研磨処理を施してなるアルミニウム外面を少なくとも有する調理器具を提供する。