【手続補正書】
【提出日】平成18年3月2日(2006.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を集光する照明系と、
当該照明系により照明されるスリット状パターンを有する第１のマスクと、
当該第１のマスクを経た光束を結像する被検光学系と、
当該被検光学系の像点に置かれたスリット状パターンと窓を有する第２のマスクと、
前記第１及び第２のマスクの間に配置され、光線を分割する光線分割手段と、
前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部と、
当該検出部が撮像した前記干渉縞から第１の位相情報と、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段が前記被検光学系の光軸に対して９０°回転した状態、または、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段に９０°回転して配されたパターンを使用した状態で撮像された干渉縞から第２の位相情報とを計算すると共に、前記第１及び第２の位相情報を使用して前記被検光学系の収差を計算する計算手段とを有することを特徴とする収差測定装置。
【請求項２】
前記第１のマスクのスリットの幅ｔは、前記被検光学系の物体側開口数をＮＡｏ、前記光源の波長λとして、ｔ＝０．５・λ／ＮＡｏ以下であり、
前記第１のマスクのスリットの長さは、前記検出部で観察されるに充分な光量を得られ、かつ、前記被検光学系のアイソプラナティック領域以下であることを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項３】
前記第２のマスクのスリットの幅ｔは、前記被検光学系の像側開口数をＮＡｉ、前記光源の波長λとして、ｔ＝０．５・λ／ＮＡｉ以下であり、
前記第２のマスクのスリットの長さは、前記検出部で観察されるに充分な光量を得られ、かつ、前記被検光学系のアイソプラナティック領域以下であり、前記第２のマスクは前記投影光学系の回折限界よりも充分に大きい窓を更に有することを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項４】
前記第１のマスクは、互いに９０°の角度に配されている２つの前記スリットを有することを特徴とする請求項２記載の収差測定装置。
【請求項５】
前記第２のマスクは、互いに９０°の角度に配されている前記スリットと窓のペアを有することを特徴とする請求項３記載の収差測定装置。
【請求項６】
前記第１のマスクを光軸回りに９０°回転する第１の回転機構と、
前記第２のマスクを光軸回りに９０°回転する第２の回転機構と、
前記光線分割手段を９０°回転する第３の回転機構とを更に有することを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項７】
前記第１のマスクのスリットは、透過型スリットであることを特徴とする請求項２又は４記載の収差測定装置。
【請求項８】
前記第２のマスクのスリット及び窓は、透過型スリットであることを特徴とする請求項３又は５収差測定装置。
【請求項９】
前記第１のマスクのスリットは、反射型スリットであることを特徴とする請求項２又は４記載の収差測定装置。
【請求項１０】
前記第２のマスクのスリット及び窓は、反射型スリットであることを特徴とする請求項３又は５収差測定装置。
【請求項１１】
前記光線分割手段は、回折格子であることを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項１２】
前記光線分割手段を光軸に垂直方向に走査する機構を更に有することを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項１３】
前記光線分割手段は回折格子であり、当該回折格子から射出する光のうち０次光と１次光、または、０次光と−１次光の干渉を利用し、前記第２のマスクのスリットに０次光を入射させ、前記第２のマスクの窓に１次光又は−１次光を入射させることを特徴とする請求項３記載の収差測定装置。
【請求項１４】
前記光源は、レーザー励起プラズマ、または、ディスチャージドランプであることを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項１５】
前記検出部は、背面照射型ＣＣＤであることを特徴とする請求項１記載の収差測定装置。
【請求項１６】
光源からの光を集光する照明系と、当該照明系により照明されるスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれたスリット状のパターンと窓を有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、光線を分割する光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部とにより干渉縞を計測する第１の工程と、
前記検出部で撮像された干渉縞から位相を計算する第２の工程と、
前記第１及び第２のマスクと前記光線分割手段とを、前記被検光学系の光軸回りに９０°回転した状態で、干渉縞計測を行う第３の工程と、
当該工程３の干渉縞を基に位相を計算する第４の工程と、
前記第２及び第４の工程の２つの位相情報から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程とからなることを特徴とする収差測定方法。
【請求項１７】
光源からの光を集光する照明系と、照明系で照明される、互いに直交する第１及び第２のスリット状パターンを有する第１のマスクと、前記当該第１のマスクを結像する被検光学系と、前記被検光学系の像点に置かれ、第１及び第２のパターンからなり、第１のパターンは第１のスリットと第１の窓を有し、第２のパターンは第１のスリットと直交方向に配された第２のスリットと第２の窓を有する第２のマスクと、第１及び第２のマスクの間に配された互いに直交する方向に光を分割する第１及び第２のパターンからなる光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部とを有する収差測定装置を利用する収差測定方法であって、
前記光源からの光を前記第１のマスクの前記第１のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第１パターンを通過した前記第１のマスクの前記第１のスリットの像面に置かれた第２のマスクの第１のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第１の工程と、
前記光源からの光を第１のマスクの第２のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第２パターンを通過した前記第１のマスクの第２のスリットの像面に置かれた第２のマスクの第２のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第２の工程と、
前記第１の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第３の工程と、
前記第２の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第４の工程と、
前記第３及び第４の工程で計算された２つの位相から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程とからなることを特徴とする収差測定方法。
【請求項１８】
前記第３及び第４の工程は、モアレ法又はフーリエ法を利用して前記位相を計算することを特徴とする請求項１６又は１７記載の収差測定方法。
【請求項１９】
前記第３及び第４の工程は、位相シフトを利用して前記位相を計算し、
前記第１及び第２の工程は、更に、前記光線分割手段を前記被検光学系の光軸に垂直な方向に走査することによって前記干渉縞を計測する工程を含むことを特徴とする請求項１６又は１７記載の収差測定方法。
【請求項２０】
レチクル面近傍に置かれたスリット状パターンを有する第１のマスクと、
光源からでた光を前記第１のマスクに集光する照明系と、
前記第１のマスクを結像する被検光学系と、
被露光体の近傍に配置されたスリット状パターンと窓を有する第２のマスクと、
前記第１及び第２のマスクの間に配され、光線を分割する光線分割手段と、
前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部と、
当該検出部が撮像した前記干渉縞から第１の位相情報と、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段が前記被検光学系の光軸に対して９０°回転した状態、または、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段に９０°回転して配されたパターンを使用した状態で撮像された干渉縞から第２の位相情報とを計算すると共に、前記第１及び第２の位相情報を使用して前記被検光学系の収差を計算する計算手段とを特徴とする投影露光装置。
【請求項２１】
投影光学系を有する投影露光装置を利用して被露光体にパターンを転写する露光方法であって、
光源からの光を集光する照明系と、当該照明系で照明されるスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれたスリット状のパターンと窓を有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、光線を分割する光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部を利用して干渉縞を計測する第１の工程と、
前記第１の工程で前記検出部が撮像した前記干渉縞に基づいて位相を計算する工程２と、
前記第１及び第２のマスクと前記光線分割手段とを、前記被検光学系の光軸回りに９０°回転した状態で、前記検出部を利用して干渉縞を計測する第３の工程と、
前記第３の工程で前記検出部が撮像した前記干渉縞に基づいて位相を計算する第４の工程と、
前記第２及び第４の工程で得られた２つの位相情報から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程と、
前記第５の工程で得られた収差情報に基づいて前記投影光学系を調整する第６の工程と、
前記第６の工程で調整された前記投影光学系を有する前記投影露光装置を利用して被露光体にパターンを転写する第７の工程とを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２２】
収差測定装置を利用して投影光学系を調整し、当該調整された投影光学系を有する投影露光装置を利用して基板にパターンを転写する露光方法であって、
前記収差測定装置は、光源からでた光を集光する照明系と、照明系により照明され、互いに直交する第１及び第２のスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれ、第１のスリットと第１の窓からなる第１のパターンと、第１のスリットと直交方向に配された第２のスリットと第２の窓からなる第２のパターンを有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、互いに直交する方向に光を分割する第１及び第２のパターンからなる光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部とを有し、
前記露光方法は、
前記光源からの光を第１のマスクの第１のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第１パターンを通過した前記第１のマスクの第１のスリットの像点に置かれた第２のマスクの第１のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第１の工程と、
前記光源からの光を第１のマスクの第２のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第２パターンを通過した前記第１のマスクの第２のスリットの像点に置かれた第２のマスクの第２のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第２の工程と、
前記第１の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第３の工程と、
前記第２の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第４の工程と、
前記第３及び第４の工程で計算された２つの位相から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程と、
前記第５の工程で得られた収差に基づいて前記投影光学系を調整する第６の工程と、
前記投影光学系が調整された前記投影露光装置を利用して基板にパターンを転写する第７の工程とを有することを特徴とする露光方法。
【請求項２３】
請求項２１又は２２記載の投影露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、
露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２４】
光線を分割する光線分割手段によって分割された一方の光線から参照光としての回折光を発生させる回折手段とを有し、前記回折光と前記光線分割手段によって分割された被検光としての他方の光線とを干渉させることによって干渉縞を形成し、当該干渉縞を利用して被検光学系の収差を計算する収差測定装置において、
前記回折手段は、第１の平面に平行な断面においてはピンホールとして機能すると共に前記第１の平面とは直交する第２の方向には光量を増加させる機能を有する第１のスリットパターンと、前記第１の平面とは直交する第２の平面に平行な断面おいてはピンホールとして機能すると共に前記第２の平面に平行な第１の方向には光量を増加させる機能を有する第２のスリットパターンを含み、
前記第１のスリットパターンの前記第１の平面に平行な断面に関する第１の干渉縞から得られる第１の位相情報と、前記第２のスリットパターンの前記第２の平面に平行な断面に関する第２の干渉縞から得られる第２の位相情報を接続することによって前記被検光学系の収差を計算することを特徴とする収差測定装置。
【請求項２５】
請求項２４記載の収差測定装置として機能することができる投影露光装置であって、
前記被検光学系は、投影光学系であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項２６】
分割された一方の光線から参照光としての回折光を発生させ、前記回折光と分割された被検光としての他方の光線とを干渉させることによって干渉縞を形成し、当該干渉縞を利用して被検光学系の収差を計算する収差測定方法において、
第１の平面に平行な断面においてはピンホールとして機能すると共に前記第１の平面とは直交する第２の方向には光量を増加させる機能を有する第１のスリットパターンの前記第１の平面に平行な断面に関する第１の干渉縞から第１の位相情報を取得するステップと、
前記第１の平面とは直交する第２の平面に平行な断面おいてはピンホールとして機能すると共に前記第２の平面に平行な第１の方向には光量を増加させる機能を有する第２のスリットパターンの前記第２の平面に平行な断面に関する第２の干渉縞から第２の位相情報を取得するステップと、
前記第１及び第２の位相情報から前記被検光学系の収差を計算することを特徴とする収差測定方法。
【請求項２７】
マスク又はレチクル上の所定のパターンを投影光学系を用いて被露光体に転写する露光方法であって、
請求項２６記載の収差測定方法を利用して前記投影光学系の収差を取得するステップと、
前記収差取得ステップが取得した収差に基づいて前記投影光学系を調整するステップと、
前記調整された投影光学系を使用して前記所定のパターンを前記被露光体に転写するステップとを有することを特徴とする露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面としての収差測定装置は、光源からの光を集光する照明系と、当該照明系により照明されるスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを経た光束を結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれたスリット状パターンと窓を有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配置され、光線を分割する光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部と、当該検出部が撮像した前記干渉縞から第１の位相情報と、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段が前記被検光学系の光軸に対して９０°回転した状態、または、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段に９０°回転して配されたパターンを使用した状態で撮像された干渉縞から第２の位相情報とを計算すると共に、前記第１及び第２の位相情報を使用して前記被検光学系の収差を計算する計算手段とを有することを特徴とする。
本発明の別の側面としての収差測定方法は、光源からの光を集光する照明系と、当該照明系により照明されるスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれたスリット状のパターンと窓を有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、光線を分割する光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部とにより干渉縞を計測する第１の工程と、前記検出部で撮像された干渉縞から位相を計算する第２の工程と、前記第１及び第２のマスクと前記光線分割手段とを、前記被検光学系の光軸回りに９０°回転した状態で、干渉縞計測を行う第３の工程と、当該工程３の干渉縞を基に位相を計算する第４の工程と、前記第２及び第４の工程の２つの位相情報から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程とからなることを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての収差測定方法は、光源からの光を集光する照明系と、照明系で照明される、互いに直交する第１及び第２のスリット状パターンを有する第１のマスクと、前記当該第１のマスクを結像する被検光学系と、前記被検光学系の像点に置かれ、第１及び第２のパターンからなり、第１のパターンは第１のスリットと第１の窓を有し、第２のパターンは第１のスリットと直交方向に配された第２のスリットと第２の窓を有する第２のマスクと、第１及び第２のマスクの間に配された互いに直交する方向に光を分割する第１及び第２のパターンからなる光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部とを有する収差測定装置を利用する収差測定方法であって、前記光源からの光を前記第１のマスクの前記第１のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第１パターンを通過した前記第１のマスクの前記第１のスリットの像面に置かれた第２のマスクの第１のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第１の工程と、前記光源からの光を第１のマスクの第２のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第２パターンを通過した前記第１のマスクの第２のスリットの像面に置かれた第２のマスクの第２のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第２の工程と、前記第１の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第３の工程と、前記第２の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第４の工程と、前記第３及び第４の工程で計算された２つの位相から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程とからなることを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての投影露光装置は、レチクル面近傍に置かれたスリット状パターンを有する第１のマスクと、光源からでた光を前記第１のマスクに集光する照明系と、前記第１のマスクを結像する被検光学系と、被露光体の近傍に配置されたスリット状パターンと窓を有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、光線を分割する光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部と、当該検出部が撮像した前記干渉縞から第１の位相情報と、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段が前記被検光学系の光軸に対して９０°回転した状態、または、前記第１及び第２のマスクと前記光分割手段に９０°回転して配されたパターンを使用した状態で撮像された干渉縞から第２の位相情報とを計算すると共に、前記第１及び第２の位相情報を使用して前記被検光学系の収差を計算する計算手段とを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての露光方法は、投影光学系を有する投影露光装置を利用して被露光体にパターンを転写する露光方法であって、光源からの光を集光する照明系と、当該照明系で照明されるスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれたスリット状のパターンと窓を有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、光線を分割する光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部を利用して干渉縞を計測する第１の工程と、前記第１の工程で前記検出部が撮像した前記干渉縞に基づいて位相を計算する工程２と、前記第１及び第２のマスクと前記光線分割手段とを、前記被検光学系の光軸回りに９０°回転した状態で、前記検出部を利用して干渉縞を計測する第３の工程と、前記第３の工程で前記検出部が撮像した前記干渉縞に基づいて位相を計算する第４の工程と、前記第２及び第４の工程で得られた２つの位相情報から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程と、前記第５の工程で得られた収差情報に基づいて前記投影光学系を調整する第６の工程と、前記第６の工程で調整された前記投影光学系を有する前記投影露光装置を利用して被露光体にパターンを転写する第７の工程とを含むことを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての露光方法は、収差測定装置を利用して投影光学系を調整し、当該調整された投影光学系を有する投影露光装置を利用して基板にパターンを転写する露光方法であって、前記収差測定装置は、光源からでた光を集光する照明系と、照明系により照明され、互いに直交する第１及び第２のスリット状パターンを有する第１のマスクと、当該第１のマスクを結像する被検光学系と、当該被検光学系の像点に置かれ、第１のスリットと第１の窓からなる第１のパターンと、第１のスリットと直交方向に配された第２のスリットと第２の窓からなる第２のパターンを有する第２のマスクと、前記第１及び第２のマスクの間に配され、互いに直交する方向に光を分割する第１及び第２のパターンからなる光線分割手段と、前記第２のマスクで発生した干渉縞を撮像する検出部とを有し、前記露光方法は、前記光源からの光を第１のマスクの第１のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第１パターンを通過した前記第１のマスクの第１のスリットの像点に置かれた第２のマスクの第１のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第１の工程と、前記光源からの光を第１のマスクの第２のスリットに集光し、前記被検光学系と前記光線分割手段の第２パターンを通過した前記第１のマスクの第２のスリットの像点に置かれた第２のマスクの第２のパターンを通過した光による干渉縞を前記検出部で計測する第２の工程と、前記第１の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第３の工程と、前記第２の工程で撮像された干渉縞から位相を計算する第４の工程と、前記第３及び第４の工程で計算された２つの位相から前記投影光学系の収差情報を計算する第５の工程と、前記第５の工程で得られた収差に基づいて前記投影光学系を調整する第６の工程と、前記投影光学系が調整された前記投影露光装置を利用して基板にパターンを転写する第７の工程とを有することを特徴とする。
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の投影露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての収差測定装置は、光線を分割する光線分割手段によって分割された一方の光線から参照光としての回折光を発生させる回折手段とを有し、前記回折光と前記光線分割手段によって分割された被検光としての他方の光線とを干渉させることによって干渉縞を形成し、当該干渉縞を利用して被検光学系の収差を計算する収差測定装置において、前記回折手段は、第１の平面に平行な断面においてはピンホールとして機能すると共に前記第１の平面とは直交する第２の方向には光量を増加させる機能を有する第１のスリットパターンと、前記第１の平面とは直交する第２の平面に平行な断面おいてはピンホールとして機能すると共に前記第２の平面に平行な第１の方向には光量を増加させる機能を有する第２のスリットパターンを含み、前記第１のスリットパターンの前記第１の平面に平行な断面に関する第１の干渉縞から得られる第１の位相情報と、前記第２のスリットパターンの前記第２の平面に平行な断面に関する第２の干渉縞から得られる第２の位相情報を接続することによって前記被検光学系の収差を計算することを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての投影露光装置は、上述の収差測定装置として機能することができる投影露光装置であって、前記被検光学系は投影光学系であることを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての収差測定方法は、分割された一方の光線から参照光としての回折光を発生させ、前記回折光と分割された被検光としての他方の光線とを干渉させることによって干渉縞を形成し、当該干渉縞を利用して被検光学系の収差を計算する収差測定方法において、第１の平面に平行な断面においてはピンホールとして機能すると共に前記第１の平面とは直交する第２の方向には光量を増加させる機能を有する第１のスリットパターンの前記第１の平面に平行な断面に関する第１の干渉縞から第１の位相情報を取得するステップと、前記第１の平面とは直交する第２の平面に平行な断面おいてはピンホールとして機能すると共に前記第２の平面に平行な第１の方向には光量を増加させる機能を有する第２のスリットパターンの前記第２の平面に平行な断面に関する第２の干渉縞から第２の位相情報を取得するステップと、前記第１及び第２の位相情報から前記被検光学系の収差を計算することを特徴とする。
本発明の更に別の側面としての露光方法は、マスク又はレチクル上の所定のパターンを投影光学系を用いて被露光体に転写する露光方法であって、上述の収差測定方法を利用して前記投影光学系の収差を取得するステップと、前記収差取得ステップが取得した収差に基づいて前記投影光学系を調整するステップと、前記調整された投影光学系を使用して前記所定のパターンを前記被露光体に転写するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
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【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
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【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
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【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
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【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
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【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
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【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
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【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
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【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
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【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
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【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
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【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
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【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
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【補正の内容】
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
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【補正の内容】
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
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【補正の内容】
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
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【補正の内容】