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【手続補正書】
【提出日】平成18年8月29日(2006.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体モジュールと、
接地導体に形成されたスロット線路と、
前記接地導体に形成されており一端が電気的に開放され他端が前記スロット線路のスリット部側に設けられた中心導体からなるコプレーナ線路とを備え、
前記半導体モジュールは、前記中心導体の他端と前記スリット部を介した前記スロット線路の接地導体とを接続していることを特徴とする無線装置。
【請求項２】
半導体モジュールと、
接地導体に形成されたスロット線路と、
前記接地導体に形成されており一端が電気的に開放され他端が前記スロット線路のスリット部側に設けた中心導体を該スリット部の両側に複数設けたコプレーナ線路とを備え、
前記半導体モジュールは、前記スリット部の両側に設けられた中心導体の他端同士を接続していることを特徴とする無線装置。
【請求項３】
前記スロット線路が、当該スロット線路の管内波長λｇの略λｇ／２の整数倍の線路長を有する両端短絡のスロット線路であることを特徴とする請求項１または２記載の無線装置。
【請求項４】
前記コプレーナ線路が、当該コプレーナ線路の管内波長λｇ′の略λｇ′／４の奇数倍の線路長を有する一端開放のコプレーナ線路であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の無線装置。
【請求項５】
前記スロット線路が、当該スロット線路の管内波長λｇの略λｇ／２のｎ倍（ｎ＝２以上の正の整数）の線路長を有する両端短絡のスロット線路であり、そのスロット線路が、略λｇ／２の長さを有する複数の単位スロット線路を折り返した形状に形成されているとともに、それら複数の単位スロット線路が互い平行に配置されていることを特徴とする請求項３または４記載の無線装置。
【請求項６】
前記スロット線路が、当該スロット線路の管内波長λｇの略λｇ／２のｎ倍（ｎ＝２以上の正の整数）の線路長を有する両端短絡のスロット線路であり、そのスロット線路は、略λｇ／２の長さを有する第１のスロット線路の両端に、それぞれ、略λｇ／２長さの第２のスロット線路と第３のスロット線路が、前記第１のスロット線路に対して略直角に折り曲げた状態で接続されていることを特徴とする請求項３または４記載の無線装置。
【請求項７】
前記スロット線路がメアンダー状に形成されていることを特徴とする請求項３または４記載の無線装置。
【請求項８】
前記スロット線路またはコプレーナ線路の少なくとも一方の線路が、直線以外の形状であることを特徴とする請求項１または２記載の無線装置。
【請求項９】
前記半導体モジュールが接続されたコプレーナ線路または接地導体に、前記半導体モジュールとの整合をとるための整合回路が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の無線装置。
【請求項１０】
前記半導体モジュールとして、入力端に高周波電力を入力したときに直流的に開放した信号入力端間に直流電圧を発生する素子が用いられていることを特徴とする請求項１または２記載の無線装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の無線装置を備えていることを特徴とする物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の無線装置は、例えば無線タグであって、半導体モジュール（例えばタグＩＣ）と、接地導体に形成されたスロット線路と、前記接地導体に形成されており一端が電気的に開放され他端が前記スロット線路のスリット部側に設けられた中心導体からなるコプレーナ線路とを備え、前記半導体モジュールは、前記中心導体の他端と前記スリット部を介した前記スロット線路の接地導体とを接続していることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の無線装置は、例えば無線タグであって、半導体モジュール（例えばタグＩＣ）と、接地導体に形成されたスロット線路と、前記接地導体に形成されており一端が電気的に開放され他端が前記スロット線路のスリット部側に設けた中心導体を該スリット部の両側に複数設けたコプレーナ線路とを備え、前記半導体モジュールは、前記スリット部の両側に設けられた中心導体の他端同士を接続していることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2005079832.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月21日(2005.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
洗浄液を散布しながら不織布で形成された洗浄部材で基板を洗浄する基板洗浄装置の、新たに設置した前記洗浄部材の初期化方法において；
新たに設置した洗浄部材を清浄にするための初期化用基板の表面を前記洗浄部材に接触させて、接触面に初期化用液体を供給しながら相対運動をさせることにより、前記洗浄部材を初期化する；
洗浄部材の初期化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するため、請求項１に記載の発明に係る、洗浄液を散布しながら不織布で形成された洗浄部材２１で基板を洗浄する基板洗浄装置の、新たに設置した洗浄部材２１の初期化方法は、例えば図３に示すように、新たに設置した洗浄部材を清浄にするための初期化用基板１の表面１ａを洗浄部材２１に接触させて、接触面に初期化用液体を供給しながら、相対運動をさせることにより、洗浄部材２１を初期化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このように構成すると、不織布で形成された洗浄部材について、初期化用液体を供給しながら初期化用基板の表面を相対運動させて初期化を行うので、洗浄部材は十分に清浄となり、初期化される。なおここで、基板の表面とは、電気回路が形成されている若しくは電気回路が形成される（以下、単に「電気回路が形成されている」という）面をいい、その反対の面を裏面という。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
このように構成すると、裏面を洗浄する不織布で形成された洗浄部材について、初期化用液体を供給しながら初期化用基板の表面を相対運動させることにより初期化を行うので、洗浄部材は十分に清浄となり、初期化される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このように構成すると、十分に初期化された洗浄部材により、回転する基板に洗浄液を散布しながら相対運動させることにより、基板を清浄度よく洗浄する基板洗浄装置となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このように構成すると、基板研磨装置で化学機械研磨された基板を、基板洗浄装置で、十分に初期化された洗浄部材により洗浄液を散布しながら相対運動させるので、基板を、平坦化且つ鏡面化した上で、清浄度よく洗浄する基板研磨及び洗浄システムとなる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
基板洗浄装置において、初期化用基板の表面を用いて、不織布で形成された洗浄部材と相対運動させることにより、十分な初期化を行うことができる。また、前記の初期化方法で初期化した洗浄部材を備える基板洗浄装置では、基板を清浄度よく洗浄することができる。更に、前記の基板洗浄装置を備える基板研磨及び洗浄システムでは、基板を平坦化且つ鏡面化した上で、基板を清浄度よく洗浄することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月27日(2006.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
このブースター電源装置１１は、室内で使用される製品であるため、意匠性を要求される社名ロゴマークや品名等は上ケース１２Ａに印刷にて表示している。意匠性を必要とされない品番、ロットＮＯ．、製造年月日等の製品表示部１３Ａはプリント基板１３に、プリントパターン（電気回路部）と共にシルク印刷されており、そのプリント基板１３に設けられた表示部１３Ａが外観に現れるようなした装置ケース１２には窓部１２Ｂａが設けられ、不要な部分が見えたり、通電部分に指が触れたりしないよう、窓部１２Ｂａの周囲には壁が設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を介して基板を露光する露光装置において、前記原版を支持して該原版を搬送する搬送手段と、前記搬送手段に設けられ、前記原版に帯電した電荷を逃がすためのアースとを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記アースと前記原版との接触部は、前記搬送手段に含まれる、前記原版を支持する支持部材と前記原版との接触部の近傍に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
ペリクル付原版を介して基板を露光する露光装置において、前記ペリクル付原版のペリクル支持枠に設けられた通気孔に密着し、ペリクル空間へガスを供給するガス供給ノズルと、前記ガス供給ノズルに設けられ、前記ペリクル支持枠に帯電した電荷を逃がすためのアースとを有することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
ペリクル付原版を介して基板を露光する露光装置において、前記ペリクル付原版のペリクル支持枠に設けられた通気孔に密着し、ペリクル空間からガスを排出するガス排出ノズルと、前記ガス排出ノズルに設けられ、前記ペリクル支持枠に帯電した電荷を逃がすためのアースとを有することを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記アースは、電気抵抗を介して接地されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記アースの表面抵抗値は、１０−７〜１０−１３Ωｃｍであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】
前記アースは、少なくとも一部が弾性部材で構成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置を用いて原版を介し基板を露光するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ＬＳＩ等を製造するための露光装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであって、原版またはペリクルの帯電量を抑制することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
上記の目的を達成するために、本発明に係る第１の露光装置は、原版を介して基板を露光する露光装置において、前記原版を支持して該原版を搬送する搬送手段と、前記搬送手段に設けられ、前記原版に帯電した電荷を逃がすためのアースとを有することを特徴とする。そうすることによって、原版と搬送手段との接触剥離と連動して、アースを接触させることができるので、原版と搬送用のレチクルハンド、レチクルチャックなどの支持部材との接触剥離によって発生した静電気を効率的に逃がすことができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、接触剥離によって発生した静電気が回路パターン内又はその付近を経由して漏洩してしまった場合、回路パターン周辺の電位変化によって、回路パターンが静電破壊する可能性が有る。そこで、前記アースは、電気抵抗を介して接地するか、または支持部材と原版との接触部近傍に接触するように設けるのが好ましい。また、アースの表面抵抗値は、１０−７〜１０−１３Ωｃｍであることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明に係る第２の露光装置は、ペリクル付原版を介して基板を露光する露光装置において、前記ペリクル付原版のペリクル支持枠に設けられた通気孔に密着し、ペリクル空間へガスを供給するガス供給ノズルと、前記ガス供給ノズルに設けられ、前記ペリクル支持枠に帯電した電荷を逃がすためのアースとを有することを特徴とする。この構成によれば、ペリクル支持枠とガス供給ノズルとの接触剥離によって発生した静電気を効率的に逃がすことができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明に係る第３の露光装置は、ペリクル付原版を介して基板を露光する露光装置において、前記ペリクル付原版のペリクル支持枠に設けられた通気孔に密着し、ペリクル空間からガスを排出するガス排出ノズルと、前記ガス排出ノズルに設けられ、前記ペリクル支持枠に帯電した電荷を逃がすためのアースとを有することを特徴とする。この構成によれば、ペリクル支持枠とガス排出ノズルとの接触剥離によって発生した静電気を効率的に逃がすことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
これら第２及び第３の露光装置の場合も、前記第１の露光装置の場合と同様に、前記アースは、電気抵抗を介して接地されていることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明によれば、原版またはペリクルの帯電量を抑制することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月21日(2006.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原盤面に描かれたパターンを真空環境下で投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原盤と基板のうちの少なくとも基板をステージ装置により相対的に移動させることにより、原盤のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、原盤ステージ空間領域と投影光学系空間領域との間に、該両空間領域及び周囲真空環境領域の少なくともいずれかの領域に対し、圧力が高い陽圧空間領域が設けられたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記陽圧空間領域から流出する少なくとも一部の気体を回収する排気経路及び排気手段を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記陽圧空間領域と前記両空間領域の少なくとも一方との間に、これらの空間領域間を遮蔽する遮蔽手段を持つことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記陽圧空間領域と前記両空間領域との少なくとも一方との間に、これらの空間領域間を遮蔽するのと、該露光光を一部遮光成形するための遮光成形とを兼ねる遮蔽兼遮光成形手段を設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記陽圧空間領域と前記両空間領域の少なくとも一方との間に、これらの空間領域間を遮蔽するのと、原盤、該原盤のステージ部材、及び前記投影光学系の部材のうちのいずれかの輻射温調するのとを兼ねる遮蔽兼輻射手段を設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記陽圧空間領域と前記原盤のステージ空間領域との境界に、原盤のパターン面と、該パターン面に対向して近接離間した平板状部材とが構成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】
前記平板状部材で仕切られた前記陽圧空間領域側に気体を排気する手段を設けたことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記陽圧空間領域を仕切る境界を成す部材に、ステージ位置計測及び原盤位置計測のいずれかのための計測光光路用の光透過手段を設けることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
前記陽圧空間領域は、前記原盤のステージ空間領域と投影光学系空間領域との間の陽圧部分に気体を送り込み、周囲の真空空間領域に対して陽圧化したことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。  
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は、前記陽圧空間領域から流出する少なくとも一部の気体を回収する排気経路及び排気手段を有することを特徴とし、前記陽圧空間領域と前記両空間領域の少なくとも一方との間に、これらの空間領域間を遮蔽する遮蔽手段を持つことが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明に係る露光装置は、前記陽圧空間領域と前記両空間領域との少なくとも一方との間に、これらの空間領域間を遮蔽するのと、該露光光を一部遮光成形するための遮光成形とを兼ねる遮蔽兼遮光成形手段を設けてもよく、前記陽圧空間領域と前記両空間領域の少なくとも一方との間に、これらの空間領域間を遮蔽するのと、原盤、該原盤のステージ部材、及び前記投影光学系の部材のうちのいずれかの輻射温調するのとを兼ねる遮蔽兼輻射手段を設けてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明に係る露光装置は、前記陽圧空間領域と前記原盤のステージ空間領域との境界に、原盤のパターン面と、該パターン面に対向して近接離間した平板状部材とが構成されていてもよく、前記平板状部材で仕切られた前記陽圧空間領域側に気体を排気する手段を設けることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係る露光装置は、前記陽圧空間領域を仕切る境界を成す部材に、ステージ位置計測及び原盤位置計測のいずれかのための計測光光路用の光透過手段を設けることが好ましく、例えば、前記陽圧空間領域は、前記原盤のステージ空間領域と投影光学系空間領域との間の陽圧部分に気体を送り込み、周囲の真空空間領域に対して陽圧化したことを特徴としてもよい。また、本発明に係るデバイス製造方法は、上記いずれかの露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月28日(2006.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に下地絶縁膜を形成し、
前記下地絶縁膜上に半導体領域を形成し、
前記半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する溶液を吐出し、
前記半導体領域の全体にレーザ光を照射して、不純物領域を形成し、
前記半導体領域上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する第１の溶液を吐出し、
前記半導体領域の全体にレーザ光を照射して、低濃度不純物領域または高濃度不純物領域の一方を形成し、
前記半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する第２の溶液を吐出し、
前記半導体領域の全体にレーザ光を照射して、低濃度不純物領域または高濃度不純物領域の他方を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
基板上に下地絶縁膜を形成し、
前記下地絶縁膜上に半導体領域を形成し、
前記半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する第１の溶液を吐出し、
前記半導体領域の全体にレーザ光を照射して、低濃度不純物領域または高濃度不純物領域の一方を形成し、
前記半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する第２の溶液を吐出し、
前記半導体領域の全体にレーザ光を照射して、低濃度不純物領域または高濃度不純物領域の他方を形成し、
前記半導体領域上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項３において、前記ゲート電極の一部は前記低濃度不純物領域を覆うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
基板上に下地絶縁膜を形成し、
前記下地絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する溶液を吐出し、
前記半導体膜の全体にレーザ光を照射して不純物領域を形成し、
前記不純物領域を有する半導体膜をエッチングして、前記不純物領域を有する半導体領域を形成し、
前記半導体領域上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
絶縁表面を有する基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に第１の半導体領域を形成し、
前記第１の半導体領域上に保護膜を形成し、
前記第１の半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する溶液を吐出し、
前記保護膜に覆われていない第１の半導体領域の全体にレーザ光を照射してソース領域及びドレイン領域を形成し、
前記ソース領域及び前記ドレイン領域上に、ソース電極及びドレイン電極をそれぞれ形成し、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極をマスクとして前記第１の半導体領域をエッチングして、第２の半導体領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
絶縁表面を有する基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に第１の半導体領域を形成し、
前記第１の半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する溶液を吐出し、
前記第１の半導体領域の全体にレーザ光を照射してソース領域及びドレイン領域を形成し、
前記ソース領域及び前記ドレイン領域上に第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜をマスクとして前記第１の半導体領域をエッチングして、第２の半導体領域を形成し、
前記第１の導電膜上に第２の導電膜を形成し、
前記第２の導電膜をマスクとして前記第１の導電膜及び前記第２の半導体領域の上部の一部をエッチングして、ソース電極及びドレイン電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、前記ｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する溶液として水溶液を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
請求項８において、前記半導体領域、前記半導体膜、または前記第１の半導体領域の一部にｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を有する溶液を吐出する前に、前記半導体領域、前記半導体膜、または前記第１の半導体領域の表面に酸化膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一において、前記ｎ型を付与する不純物元素は、リンまたはヒ素であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか一において、前記ｐ型を付与する不純物元素は、ボロンであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月20日(2006.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜に開口部を形成し、
前記開口部の底面に結晶化を促進する金属元素を形成し、
前記開口部及び前記絶縁膜を覆って、非晶質半導体膜を形成し、
前記非晶質半導体膜を加熱することにより、前記開口部から結晶成長した結晶性半導体膜を形成し、
前記結晶性半導体膜上にゲッタリングシンクを形成し、加熱することにより前記金属元素の濃度を低減することを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法。
【請求項２】
第１の絶縁膜を形成し、
エッチング法を用いて、前記第１の絶縁膜に第１の開口部を形成し、
ＣＶＤ法を用いて、前記第１の開口部の直径を狭めるように第２の絶縁膜を形成することにより第２の開口部を形成し、
前記第２の開口部の底面に結晶化を促進する金属元素を形成し、
前記第２の開口部及び前記第２の絶縁膜を覆って、非晶質半導体膜を形成し、
前記非晶質半導体膜を加熱することにより、前記第２の開口部から結晶成長した結晶性半導体膜を形成し、
前記結晶性半導体膜上にゲッタリングシンクを形成し、加熱することにより前記金属元素の濃度を低減することを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記開口部の底面又は前記第２の開口部の底面に酸化膜を形成することにより前記金属元素に対する濡れ性を高めさせ、前記絶縁膜又は前記第２の絶縁膜の上面に珪素膜を形成することにより前記金属元素に対する濡れ性を低めさせることを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
加熱炉、レーザ、ランプアニール、又はそれらを組み合わせて前記非晶質半導体膜を加熱することを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記結晶化を促進する金属元素は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれた一種又は複数種であることを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
スピンコーティング法、ディップ法、イオン注入法、又はスパッタリング法により前記開口部の底面に前記金属元素を形成することを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の結晶性半導体膜を用いた薄膜トランジスタの作製方法であって、
前記金属元素が形成された領域を除去するように前記結晶性半導体膜をパターニングし、
前記パターニングされた結晶性半導体膜上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして前記パターニングされた結晶性半導体膜に不純物元素を添加して不純物領域を形成し、
前記不純物領域に接続される導電膜を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記結晶成長した結晶性半導体膜の結晶粒界を除去するように前記結晶性半導体膜をパターニングすることを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法であって、
スイッチング用薄膜トランジスタと駆動用薄膜トランジスタを有する画素部において、
前記スイッチング用薄膜トランジスタ、及び前記駆動用薄膜トランジスタのチャネル形成領域における電流の流れる方向と、前記結晶性半導体膜の結晶成長の方向とを沿うように前記結晶性半導体膜をパターニングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項７又は８に記載の薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法であって、
スイッチング用薄膜トランジスタと駆動用薄膜トランジスタを有する画素部において、
前記金属元素が形成された開口部を線状に形成し、前記線状の開口部から結晶成長した結晶性半導体膜を、前記スイッチング用薄膜トランジスタ、及び前記駆動用薄膜トランジスタのチャネル形成領域における電流の流れる方向と、前記結晶性半導体膜の結晶成長の方向とを沿うように、パターニングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項７又は８に記載の薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法であって、
スイッチング用薄膜トランジスタと駆動用薄膜トランジスタを有する画素部において、
前記金属元素が形成された開口部を点状に形成し、前記点状の開口部を中心として複数のスイッチング用薄膜トランジスタと駆動用薄膜トランジスタを点対称に配置し、
前記スイッチング用薄膜トランジスタ、及び前記駆動用薄膜トランジスタのチャネル形成領域における電流の流れる方向と、前記結晶性半導体膜の結晶成長の方向とを沿うように前記結晶性半導体膜をパターニングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項９乃至１１のいずれか一において、
前記スイッチング用薄膜トランジスタ、及び前記駆動用薄膜トランジスタのチャネル形成領域における電流の流れる方向と、前記結晶性半導体膜の双晶粒界とを沿うように前記結晶性半導体膜をパターニングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項７又は８に記載の薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法であって、
複数のｎチャネル型薄膜トランジスタと、複数のｐチャネル型薄膜トランジスタを有するアナログスイッチを含む駆動回路部において、
前記複数のｎチャネル型薄膜トランジスタは前記結晶性半導体膜の同一の結晶粒から形成し、
前記複数のｐチャネル型薄膜トランジスタは前記結晶性半導体膜の同一の結晶粒から形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月26日(2006.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】合成樹脂製上框と合成樹脂製下框と合成樹脂製戸当り框と合成樹脂製召合せ框を方形状に連結し、その内部にガラス等を取付けた合成樹脂製障子において、
前記合成樹脂製召合せ框を、他の框とほぼ同一の見込み寸法の合成樹脂製の框本体と、この框本体の見込み方向一側面に取付けた金属製の補強縦材と、この補強縦材をカバーする補強材カバーで構成し、
前記補強材カバーは基板と両側板で横断面ほぼコ字状で、かつ前記補強縦材にスナップ式に係合して取付けてあることを特徴とする合成樹脂製障子。
【請求項２】前記合成樹脂製召合せ框の框本体は中空部を有し、この中空部に補強芯材が嵌合して取付けられ、
前記補強縦材は、前記補強芯材に螺合したビスで框本体の見込み方向一側面に固定してあることを特徴とする請求項１記載の合成樹脂製障子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、合成樹脂製上框と合成樹脂製下框と合成樹脂製戸当り框と合成樹脂製召合せ框を方形状に連結し、その内部にガラス等を取付けた合成樹脂製障子において、
前記合成樹脂製召合せ框を、他の框とほぼ同一の見込み寸法の合成樹脂製の框本体と、この框本体の見込み方向一側面に取付けた金属製の補強縦材と、この補強縦材をカバーする補強材カバーで構成し、
前記補強材カバーは基板と両側板で横断面ほぼコ字状で、かつ前記補強縦材にスナップ式に係合して取付けてあることを特徴とする合成樹脂製障子である。
本発明においては、前記合成樹脂製召合せ框の框本体は中空部を有し、この中空部に補強芯材が嵌合して取付けられ、
前記補強縦材は、前記補強芯材に螺合したビスで框本体の見込み方向一側面に固定することが好ましく、このようにすれば、合成樹脂製召合せ框の框本体に金属製の補強縦材をビスで固定できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、補強縦材は補強材カバーで覆われて見えので、見栄えが良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
さらに、補強縦材は補強材カバーで覆われて見えので、見栄えが良い。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示手段と、近距離無線通信手段と、制御手段とを備えた映像再生装置であって、
表示手段は、制御手段の制御に従い映像を表示し、
近距離無線通信手段は、主局として動作し、近辺に存在する不特定の携帯電話機の近距離無線通信手段を従局としてデータ通信を可能とし、
制御手段は、デジタルメディアからの映像データを表示手段に表示させる際、第１処理と第２処理を行い、
第１処理は、表示される映像データにＵＲＬ通知データが多重化されているか否かを随時チェックし、ＵＲＬ通知データが現れたら当該データを抽出し、
第２処理は、第１処理で抽出したＵＲＬ通知データに基づいて情報サイト通知電文を作成して近距離無線通信手段により送信させ、
情報サイト通知電文は、ＵＲＬと説明記述を含み、携帯電話網を介してインターネットに接続可能な主通信手段を備えたブラウザ付き携帯電話機が近距離無線通信手段により当該電文を受信した際、当該携帯電話機に、当該説明記述を表示器により表示させて通信指示の操作入力を受け付ける処理と、通信指示の操作入力に応答して主通信手段により当該ＵＲＬにリクエストを発信させる処理を可能とさせるデータ構成である
映像再生装置。
【請求項２】
デジタルメディアは、蓄積メディアであり、
制御手段には、蓄積メディアから映像データを読み出す読出手段が付属する
請求項１に記載の映像再生装置。
【請求項３】
デジタルメディアは、通信メディアであり、
制御手段には、通信メディアから映像データを受信する通信手段が付属する
請求項１に記載の映像再生装置。
【請求項４】
デジタルメディアは、放送メディアであり、
制御手段には、放送メディアから映像データを受信する受信手段が付属する
請求項１に記載の映像再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】近辺に存在する不特定のブラウザ付き携帯電話機に向けて表示中の映像に連携したインターネット上の情報サイトの通知電文を無線送信する映像再生装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以上のような技術的背景のもとに創作されたこの発明に係る映像再生装置は、便宜的に分説すると、つぎの各事項（１）〜（７）により特定されるものである。
（１）表示手段と、近距離無線通信手段と、制御手段とを備えた映像再生装置であること
（２）表示手段は、制御手段の制御に従い映像を表示すること
（３）近距離無線通信手段は、主局として動作し、近辺に存在する不特定の携帯電話機の近距離無線通信手段を従局としてデータ通信を可能とすること
（４）制御手段は、デジタルメディアからの映像データを表示手段に表示させる際、第１処理と第２処理を行うこと
（５）第１処理は、表示される映像データにＵＲＬ通知データが多重化されているか否かを随時チェックし、ＵＲＬ通知データが現れたら当該データを抽出すること
（６）第２処理は、第１処理で抽出したＵＲＬ通知データに基づいて情報サイト通知電文を作成して近距離無線通信手段により送信させること
（７）情報サイト通知電文は、ＵＲＬと説明記述を含み、携帯電話網を介してインターネットに接続可能な主通信手段を備えたブラウザ付き携帯電話機が近距離無線通信手段により当該電文を受信した際、当該携帯電話機に、当該説明記述を表示器により表示させて通信指示の操作入力を受け付ける処理と、通信指示の操作入力に応答して主通信手段により当該ＵＲＬにリクエストを発信させる処理を可能とさせるデータ構成であること
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月8日(2006.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動子に磁石を持ち、固定子に電機子巻線を持つムービングマグネット型のリニアモータと、前記固定子側にスケールを持ち、可動子側に検出部を持つリニアエンコーダとから構成されるリニアモータシステムにおいて、
前記リニアモータの前記可動子側と前記固定子側で半二重の光通信により送受信を行うように前記可動子側と前記固定子側にそれぞれ１個および複数個に分配して設けられたトランシーバと、
前記固定子側の複数個のトランシーバが受信した受信信号の中で最も信号強度の大きい受信信号を選択する信号選択部と、
を備えたことを特徴とするリニアモータの位置検出システム。
【請求項２】
前記信号選択部は、前記複数の受信信号のＯＲ信号を生成するＯＲ回路で構成されることを特徴とする請求項１記載のリニアモータの位置検出システム。
【請求項３】
可動子に磁石を持ち、固定子に電機子巻線を持つムービングマグネット型のリニアモータと、前記固定子側にスケールを持ち、可動子側に検出部を持つリニアエンコーダとから構成されるリニアモータシステムにおいて、
前記リニアエンコーダは、前記リニアモータの前記可動子側と前記固定子側で半二重の光通信により送受信を行うように前記可動子側と前記固定子側にそれぞれ１個および複数個に分配して設けられたトランシーバと、
前記固定子側の複数個のトランシーバが受信した受信信号の中で最も信号強度の大きい受信信号を選択する信号選択部と、
を備えたことを特徴とするリニアモータシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リニアモータの位置検出システムおよびリニアモータシステム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１記載のリニアモータの位置検出システムに係わる発明は、可動子に磁石を持ち、固定子に電機子巻線を持つムービングマグネット型のリニアモータと、前記固定子側にスケールを持ち、可動子側に検出部を持つリニアエンコーダとから構成されるリニアモータシステムにおいて、前記リニアモータの前記可動子側と前記固定子側で半二重の光通信により送受信を行うように前記可動子側と前記固定子側にそれぞれ１個および複数個に分配して設けられたトランシーバと、前記固定子側のＮ個のトランシーバが受信した受信信号の中で最も信号強度の大きい受信信号を選択する信号選択部とを備えたことを特徴としている。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１記載のリニアモータの位置検出システムにおいて、前記信号選択部は、前記複数の受信信号のＯＲ信号を生成するＯＲ回路で構成されることを特徴としている。
また、請求項３に記載のリニアモータシステムに係わる発明は、可動子に磁石を持ち、固定子に電機子巻線を持つムービングマグネット型のリニアモータと、前記固定子側にスケールを持ち、可動子側に検出部を持つリニアエンコーダとから構成されるリニアモータシステムにおいて、前記リニアエンコーダは、前記リニアモータの前記可動子側と前記固定子側で半二重の光通信により送受信を行うように前記可動子側と前記固定子側にそれぞれ１個および複数個に分配して設けられたトランシーバと、前記固定子側の複数個のトランシーバが受信した受信信号の中で最も信号強度の大きい受信信号を選択する信号選択部と、を備えたことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月13日(2006.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
液晶表示部を含む表示部筐体とキー操作部を含むキー操作部筐体とが接続された携帯機器において、上記表示部筐体の上記液晶表示部の周囲に配置された第一筐体部分と、上記第一筐体部分の外側の少なくとも一部に配置された第二筐体部分とから構成されており、上記第二筐体部分は、上記第一筐体部分を形成する第一材料より剛性の低い第二材料にて形成されたことを特徴とする携帯機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の携帯機器は、液晶表示部を含む表示部筐体とキー操作部を含むキー操作部筐体とが接続された携帯機器において、上記表示部筐体の上記液晶表示部の周囲に配置された第一筐体部分と、上記第一筐体部分の外側の少なくとも一部に配置された第二筐体部分とから構成されており、上記第二筐体部分は、上記第一筐体部分を形成する第一材料より剛性の低い第二材料にて形成されたことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月19日(2006.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックアップ元記憶媒体に接続される第１インターフェース手段と、
バックアップ先記憶媒体に接続される第２インターフェース手段と、
前記各インターフェース手段のうち、いずれか１つのインターフェース手段のみを有効な読取り対象として設定するインターフェース制御手段と、
前記第１インターフェース手段を介して前記バックアップ元記憶媒体からバックアップデータを読み出し、このバックアップデータを前記第２インターフェース手段を介して前記バックアップ先記憶媒体に転送するバックアップ制御手段と、
前記バックアップ制御手段によるバックアップ処理が行われる場合に、前記バックアップデータを選択的に出力手段により出力させる出力制御手段と、
を備えた画像処理装置。
【請求項２】
前記インターフェース制御手段は、前記バックアップ制御手段による前記バックアップ処理が完了した後に、前記第２インターフェース手段を有効に設定し、
前記出力制御手段は、前記第２インターフェース手段を介して前記バックアップ先記憶媒体から前記バックアップデータを読出し、この読み出したバックアップデータを前記出力手段により出力させるものである請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記インターフェース制御手段は、前記バックアップデータが前記出力手段により出力された場合は、前記第１インターフェース手段を有効に設定する請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記バックアップ処理により前記バックアップ元記憶媒体から前記バックアップ先記憶媒体に転送されるファイルを特定するためのバックアップリストを記憶するバックアップリスト記憶手段を設け、
前記出力制御手段は、前記バックアップリストに基づいて、前記バックアップ元記憶媒体から前記バックアップデータを読み出し、この読み出したバックアップデータを前記出力手段により出力させるものである請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記出力制御手段は、
（１）前記バックアップ元記憶媒体から読み出されるときにキャッシュされた前記バックアップデータを前記出力手段により出力させる、
もしくは
（２）前記バックアップ先記憶媒体から前記バックアップデータを読み出し、この読み出したバックアップデータを前記出力手段により出力させる、請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
ユーザ指示に従って、前記バックアップ制御手段によるバックアップ処理が実行されるとともに、前記出力手段によるバックアップデータの選択的な出力が実行される請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記出力制御手段は、前記バックアップデータの全部または一部を前記出力手段により出力させるものである請求項１〜６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記バックアップデータは本画像データと見本画像データとを含んでおり、
前記出力制御手段は、前記バックアップデータのうち前記見本画像データを前記出力手段により出力させるものである請求項１〜７のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記出力制御手段は、前記バックアップ制御手段による前記バックアップ処理が完了する前に、前記出力手段による前記バックアップデータの出力を開始させる請求項１〜８のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記出力手段は、印刷出力を行う印刷出力手段であり、前記出力制御手段は、前記印刷出力手段に対して前記バックアップデータに基づくデータを出力して印刷させる請求項１〜９のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
画像処理装置と該画像処理装置に接続される外部記憶装置とを備えた画像処理システムであって、
前記画像処理装置は、
記憶媒体が着脱可能に装着されるスロット部と、
前記スロット部に装着された前記記憶媒体に接続される第１インターフェース部と、
前記外部記憶装置に接続される第２インターフェース部と、
前記第１、第２インターフェース部のうち、いずれか１つのインターフェース部のみを
有効な読取り対象として設定するインターフェース制御部と、
バックアップ対象として指定されたバックアップデータを、前記第１インターフェース部を介して前記記憶媒体から読み出し、この読み出したバックアップデータを前記第２インターフェース部を介して前記外部記憶装置に転送させるバックアップ制御部と、
前記バックアップデータの出力を指示するための指示部と、
前記指示部により前記バックアップデータの出力が指示された場合は、前記バックアップデータに基づいてデータを生成する画像処理部と、
前記生成されたデータに基づいて出力する出力部と、を備えた画像処理システム。
【請求項１２】
読取り対象となり得るインターフェース部を複数備えた画像処理装置を用いて、データのバックアップ及びバックアップされたデータの出力を行わせる制御方法であって、
前記複数のインターフェース部のうちいずれか一方のインターフェース部にはバックアップ元記憶媒体が接続され、
前記複数のインターフェース部のうちいずれか他方のインターフェース部にはバックアップ先記憶媒体が接続され、
前記バックアップ元記憶媒体に記憶されているデータの全部または一部を、前記バックアップ先記憶媒体に転送させるバックアップステップと、
前記バックアップステップによる前記データのバックアップが完了した場合には、前記バックアップ元記憶媒体または前記バックアップ先記憶媒体のいずれか一方から前記バックアップされたデータを取得するデータ取得ステップと、
前記取得されたデータを出力させるステップと、を含む画像処理装置の制御方法。  
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
例えば、バックアップ完了後に、バックアップ元記憶媒体またはバックアップ先記憶媒体のいずれか１つとプリンタとの接続が切れている場合は、残った方の記憶媒体からバックアップデータを読み出して印刷出力することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料液中に含まれる微生物の個数を上記微生物が有するβ−Ｄ−ガラクトシダーゼまたはβ−Ｄ−グルクロニダーゼを利用して測定する微生物数測定方法であって、
上記微生物以外のβ−Ｄ−ガラクトシダーゼ活性またはβ−Ｄ−グルクロニダーゼ活性を有する物質を上記試料液から除去する除去工程と、
上記除去工程によって得た上記試料液中の上記β−Ｄ−ガラクトシダーゼまたはβ−Ｄ−グルクロニダーゼを検出して上記微生物数を求める微生物数測定工程とを含むことを特徴とする微生物数測定方法。
【請求項２】
上記除去工程が、上記試料液中から上記微生物より大きい測定妨害物質を、上記微生物が通過でき、且つ、上記微生物より大きい物質が通過できないフィルタによって除去する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の微生物数測定方法。
【請求項３】
上記測定妨害物質が、略１５μｍ以上の大きさである請求項２に記載の微生物数測定装置。
【請求項４】
試料液中に含まれる微生物の個数を上記微生物が有するβ−Ｄ−ガラクトシダーゼまたはβ−Ｄ−グルクロニダーゼを利用して測定する微生物数測定装置であって、
第１の表面と第２の表面とを有するフィルタと、
上記フィルタの上記第１の表面に、上記試料液を案内する第１の案内管と、
上記フィルタの上記第２の表面から流れ出た上記試料液を上記フィルタ処理部外に案内する第２の案内管とを含むフィルタ処理部と、
上記第２の案内管に接続され、上記フィルタ処理された試料液中の上記微生物数を上記微生物が有するβ−Ｄ−ガラクトシダーゼまたはβ−グルクロニダーゼを利用して測定する微生物数測定部とを含み、
上記フィルタ処理部の上記フィルタが、上記微生物が通過でき、且つ、上記微生物より大きい物質が通過できないろ過孔を有することを特徴とする微生物数測定装置。
【請求項５】
上記フィルタの上記ろ過孔径が、５〜２５μｍの範囲である請求項４に記載の微生物数測定装置。
【請求項６】
上記フィルタ処理部が、上記フィルタの第２の表面に洗浄液を案内する洗浄液案内管と、上記フィルタの第２の表面から流れ出る上記洗浄液を上記フィルタ処理部外に排出する排出管とを有することを特徴とする請求項４または５に記載の微生物数測定装置。
【請求項７】
上記フィルタ処理部が、
上記フィルタの上記第１の表面近傍に配置された第１の電極と、
上記フィルタの上記第２の表面近傍に配置された第２の電極と、
上記第１の電極と上記第２の電極との間に電圧を印加する電源とを含み、
上記フィルタの周りに液体を充満させ、上記電極間に電圧を印加して上記液体を電気分解することによって発生した物質を用いてフィルタを洗浄することを特徴とする請求項３〜６のいずれか一に記載の微生物数測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月8日(2006.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１または２に記載のデータ取り込みクロック補正回路において、前記タイミング制御手段は、復調信号に含まれる受信データが入力さる期間において１または複数回、前記複数のサンプリングクロックを生成して出力することを特徴とするデータ取り込みクロック補正回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
請求項１または２に記載のデータ取り込みクロック補正回路において、前記タイミング制御手段は、前記再生クロックとデータ取り込みクロックの位相差を検出し、位相差が予め定められた閾値を超えたとき前記複数のサンプリングクロックを生成して出力することを特徴とするデータ取り込みクロック補正回路。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、受信データの取り込み期間中にデータ取り込みクロックの位相を補正してデータの取り込み損じを回避しているので、装置内の基準発振器の周波数ドリフトなどにより受信データのデューティ幅が変動しても、受信データからデータを正確に取り込むことができるため受信性能の向上を図ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図４は、タイミング制御回路24の一構成例を示すブロック図である。このタイミング制御回路24は、位相検出カウンタ50、奇数判定回路52、位相カウンタ54、初期位相検出回路56、加算器58、データ取り込みクロック回路60および検出信号生成回路62から構成される。位相検出カウンタ50、初期位相検出回路56、加算器58、データ取り込みクロック回路60および検出信号生成回路62には、図１の比較器22から出力される位相検出信号116が入力され、位相カウンタ54には復調信号100から再生された再生クロック134が外部から供給される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
受信比較用レジスタ12では、クロック104-1〜104-6に従って各シフトレジスタ10-1〜10-6に格納されている８ビットの受信データをコピーし、これを復調信号106として比較器16へ出力する。比較器16では、受信対象レジスタ14の出力側に格納されている６ビットの受信対象108と復調信号106とをビット毎に比較する。例えば、受信対象レジスタ14にデータ（x,x,a0,a1,a2,a3,a4,a5）が保持され、復調信号106が（b0,b1,b2,b3,b4,b5,b6,b7）であるとき、受信データ（a0,a1,a2,a3,a4,a5）と復調信号（b2,b3,b4,b5,b6,b7）とがビット毎に比較される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月4日(2006.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
横臥式撮影か立位式撮影かのいずれかの撮影術式を選択しＸ線管のＸ線撮影条件を設定するＸ線制御装置と、高電圧発生装置から高電圧が印加されるＸ線管を天井走行式で吊設保持するＸ線管保持装置と、前記撮影術式を識別する制御部と、撮影のための操作条件を設定し操作信号を発生させる操作パネルと、前記Ｘ線管保持装置の作動によってＸ線管が撮影位置にセットされ撮影を行う複数の撮影台と、前記天井走行式で懸垂されプリセットされた撮影位置でＸ線管保持装置を一旦停止させるセンタファインドモード機構とを備え、撮影位置を確認して撮影するＸ線一般撮影用システムであって、前記Ｘ線制御装置と制御部との間で選択された撮影術式に関する信号の送受を行う通信手段を設け、Ｘ線制御装置で選択された撮影術式を前記制御部で識別し最後に選択された撮影位置のみで前記センタファインドモード機構を作動させることを特徴とするＸ線一般撮影用システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明のＸ線一般撮影用システムは、横臥式撮影か立位式撮影かのいずれかの撮影術式を選択しＸ線管のＸ線撮影条件を設定するＸ線制御装置と、高電圧発生装置から高電圧が印加されるＸ線管を天井走行式で吊設保持するＸ線管保持装置と、前記撮影術式を識別する制御部と、撮影のための操作条件を設定し操作信号を発生させる操作パネルと、前記Ｘ線管保持装置の作動によってＸ線管が撮影位置にセットされ撮影を行う複数の撮影台と、前記天井走行式で懸垂されプリセットされた撮影位置でＸ線管保持装置を一旦停止させるセンタファインドモード機構とを備え、撮影位置を確認して撮影するＸ線一般撮影用システムであって、前記Ｘ線制御装置と制御部との間で選択された撮影術式に関する信号の送受を行う通信手段を設け、Ｘ線制御装置で選択された撮影術式を前記制御部で識別し最後に選択された撮影位置のみで前記センタファインドモード機構を作動させるものである。