Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月9日(2006.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮機と、圧縮機に接続され冷媒の流れ方向を切り換える複数の四方弁と、複数の室外
熱交換器と、室外熱交換器のそれぞれに接続された室外電子膨張弁と、を有した室外ユニ
ットと、該室外ユニットとガス配管及び液配管で接続され室内電子膨張弁を介して室内熱
交換器及び開閉弁を有する複数の室内ユニットと、を備え、各室内ユニットで冷房と暖房
の運転がそれぞれ可能となるように冷凍サイクルが構成され、暖房負荷に対し冷房負荷が
大きい場合は、室外熱交換器を凝縮器とする冷房主体モードに、冷房負荷に対し暖房負荷
が大きい場合は、室外熱交換器を蒸発器とする暖房主体モードに切り換えて制御される空
気調和機において、
前記冷房主体モードで運転中、所定外気温度以下でかつ前記冷房負荷から前記暖房負荷
との差が所定値以下の場合、前記暖房主体モードへ切り換えることを特徴とする空気調和
機。
【請求項２】
請求項１に記載のものにおいて、前記冷房主体モードで運転中、冷房運転している前記
室内ユニットの室内の吸い込み温度と吹き出し温度の差をΔＴｃ、暖房運転している前記
室内ユニットの吹き出し温度と吸い込み温度の差をΔＴｈとし、前記室内ユニットのうち
ΔＴｃの最小値が所定値ａより大きく、ΔＴｈの最大値が所定値ｂより小さい場合、前記
暖房主体モードへ切り換えることを特徴とする空気調和機。
【請求項３】
請求項１に記載のものにおいて、前記冷房主体モードで運転中、前記室内ユニットのう
ち冷房運転しているものは蒸発圧力を、暖房運転しているものは凝縮圧力を検知し、前記
蒸発圧力が目標蒸発圧力から所定値γを引いたものより小さく、前記凝縮圧力が目標凝縮
圧力から所定値ξを引いたものより小さい場合、前記暖房主体モードへ切り換えることを
特徴とする空気調和機。
【請求項４】
請求項１に記載のものにおいて、前記冷房主体モードで運転中、冷房運転している前記
室内ユニットの室内の吸い込み温度と吹き出し温度の差をΔＴｃ、暖房運転している前記
室内ユニットの吹き出し温度と吸い込み温度の差をΔＴｈとし、前記室内ユニットのうち
ΔＴｃの最小値をΔＴcmin、ΔＴｈの最大値をΔＴhmaxとしたとき、ΔＴcmin／ΔＴhmax
の値が所定値よりも大きい場合、前記暖房主体モードへ切り換えることを特徴とする空気
調和機。
【請求項５】
請求項４に記載のものにおいて、前記暖房主体モードへ切り換えは前記冷房主体モード
となってから所定時間後とすることを特徴とする空気調和機。
【請求項６】
請求項１に記載のものにおいて、前記四方弁については四方弁コイルの電流値によりON
/OFF状態を、前記室外熱交換器については当該室外熱交換器入り口に取り付けられた温度サーミスタにより流れる冷媒温度を測定し高温であれば凝縮器、低温であれば蒸発器として使用されている状態を、それぞれ識別することを特徴とする空気調和機。
【請求項７】
請求項１に記載のものにおいて、前記四方弁については四方弁コイルの電流値によりON
/OFF状態を、前記室外熱交換器については室外熱交換器入り口に取り付けられた温度サー
ミスタにより流れる冷媒温度を測定し、高温であれば凝縮器、低温であれば蒸発器として
使用されている状態を、それぞれ識別し、その結果を空気調和機の運転制御を行うリモコ
ン又は室外ユニットに表示することを特徴とする空気調和機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、上記のものにおいて、前記四方弁については四方弁コイルの電流値によりON/O
FF状態を、前記室外熱交換器については当該室外熱交換器入り口に取り付けられた温度サーミスタにより流れる冷媒温度を測定し高温であれば凝縮器、低温であれば蒸発器として使用されている状態を、それぞれ識別することが望ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
条件（Ｃ７−２）  
Ps≦Pso−γ  (γ＝0.17)  かつ  Pd≦Pdo−ξ  (ξ＝0.15)  （かつ  Pd/(Ps＋0.13) 
≦ε  (ε＝2.4)の条件を加えても良い）が望ましい。  
Ps：低圧側冷媒圧力（蒸発圧力）、Pd：高圧側冷媒圧力（凝縮圧力）、Pso：冷房目標
蒸発圧力、Pdo：暖房目標凝縮圧力である。つまり、少なくとも冷房主体モードで運転中
、室内ユニットのうち冷房運転しているものは蒸発圧力を、暖房運転しているものは凝縮
圧力を検知し、蒸発圧力が目標蒸発圧力から所定値γを引いたものより小さく、凝縮圧力
が目標凝縮圧力から所定値ξを引いたものより小さい場合、暖房主体モードへ切り換える
。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
条件（Ｃ７−３）  
ΔＴcmin／ΔＴhmax＞C（C＝２．３が望ましい。また、熱交切換後4分後の条件を加えても良い）  
以上により、冷房能力過剰、暖房能力不足状態となっている場合、熱交モード移行、冷
房主体モードから暖房主体モードへ切り換えることにより能力不足、快適性、運転効率を
向上させる事ができる。逆に、暖房主体モードから冷房主体モードへは、冷房能力が不足
であり暖房能力が過剰となる場合に移行する条件を追加すれば良い。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月2日(2006.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素領域にバックライト光を透過させる透過領域と外部から入射した周囲光を反射させる反射領域とを液晶を駆動させる薄膜トランジスタとともに絶縁性基板上に配して構成される半透過型液晶表示装置において、
前記絶縁性基板上に形成された第１の導電膜からなるゲート電極を備えた複数のゲート配線と補助容量電極を備えた補助容量配線、
前記第１の導電膜上に第１の絶縁膜を介して形成され、前記ゲート配線と交差する第２の導電膜からなるソース電極を備えた複数のソース配線およびドレイン電極、
前記ドレイン電極から延びて形成され、前記反射領域を形成する反射画素電極、
前記第２の導電膜上に第２の絶縁膜を介して形成された、前記透過領域を形成する透過画素電極を備えたＴＦＴアレイ基板と、
前記ＴＦＴアレイ基板と対向して配された対向電極とブラックマトリクスを有する対向基板と、を備え、
前記ソース配線と前記反射画素電極とは、所定の間隔を保持して配置され、
前記第２の絶縁膜上に、少なくとも前記ソース配線と対向して形成される前記反射画素電極の端部から、前記ブラックマトリクスが配設される境界に対応する位置まで形成されたコントラスト低下防止電極を備えたことを特徴とする半透過型液晶表示装置。
【請求項２】
画素領域にバックライト光を透過させる透過領域と外部から入射した周囲光を反射させる反射領域とを液晶を駆動させる薄膜トランジスタとともに絶縁性基板上に配して構成される半透過型液晶表示装置において、
前記絶縁性基板上に形成された第１の導電膜からなるゲート電極を備えた複数のゲート配線と補助容量電極を備えた補助容量配線、
前記第１の導電膜上に第１の絶縁膜を介して形成され、前記ゲート配線と交差する第２の導電膜からなるソース電極を備えた複数のソース配線およびドレイン電極、
前記ドレイン電極から延びて形成され、前記反射領域を形成する反射画素電極、
前記第２の導電膜上に第２の絶縁膜を介して形成された、前記透過領域を形成する透過画素電極を備えたＴＦＴアレイ基板と、
前記ＴＦＴアレイ基板と対向して配された対向電極を有する対向基板と、を備え、
前記ソース配線と前記反射画素電極とは、所定の間隔を保持して配置され、
前記第２の絶縁膜上の前記間隔に、前記透過画素電極と同じ材料で形成されたコントラスト低下防止電極を備えたことを特徴とする半透過型液晶表示装置。
【請求項３】
前記コントラスト低下防止電極は前記透過画素電極と同じ材料で形成されたことを特徴とする請求項１記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項４】
前記コントラスト低下防止電極は前記透過画素電極から延在させて形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項５】
画素領域にバックライト光を透過させる透過領域と外部から入射した周囲光を反射させる反射領域とを液晶を駆動させる薄膜トランジスタとともに絶縁性基板上に配して構成される半透過型液晶表示装置の製造方法において、
前記絶縁性基板上に第１の導電膜からなるゲート電極を備えた複数のゲート配線と補助容量電極を備えた補助容量配線を形成する工程、
前記第１の導電膜上に第１の絶縁膜を介して、前記ゲート配線と交差する第２の導電膜からなるソース電極を備えた複数のソース配線およびドレイン電極と、前記ドレイン電極から延びて、前記反射領域に反射画素電極を形成する工程と、
前記第２の導電膜上に第２の絶縁膜を介して、前記透過領域に透過画素電極を形成する工程を含み、
前記ソース配線と前記反射画素電極とが所定の間隔を保持して配置され、前記第２の絶縁膜上の前記間隔にコントラスト低下防止電極を形成する工程を含むことを特徴とする半透過型液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記コントラスト低下防止電極を形成する工程は、透過画素電極を形成する工程と同一工程であることを特徴とする請求項５記載の半透過型液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の半透過型液晶駆動装置は、絶縁性基板上に形成された第１の導電膜からなるゲート電極を備えた複数のゲート配線と補助容量電極を備えた補助容量配線、前記第１の導電膜上に第１の絶縁膜を介して形成され、前記ゲート配線と交差する第２の導電膜からなるソース電極を備えた複数のソース配線およびドレイン電極、前記ドレイン電極から延びて形成され、反射領域を形成する反射画素電極、前記第２の導電膜上に第２の絶縁膜を介して形成された、透過領域を形成する透過画素電極を備えたＴＦＴアレイ基板と、前記ＴＦＴアレイ基板と対向して配された、対向電極とブラックマトリクスを有する対向基板とを備え、前記ソース配線と前記反射画素電極とは、所定の間隔を保持して配置され、前記第２の絶縁膜上に、少なくとも前記ソース配線と対向して形成される前記反射画素電極の端部から、前記ブラックマトリクスが配設される境界に対応する位置まで形成されたコントラスト低下防止電極を備えたことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月27日(2006.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板の間に液晶層を挟持してなり、
前記基板と前記液晶層との間には、前記液晶層に電圧を印加する導電体が形成され、
前記液晶層は、誘電率異方性が負の液晶分子で構成されるとともに、
表示単位となるドット領域内に、反射表示領域および透過表示領域が設けられ、
前記一対の基板のうち一方の基板と前記液晶層との間には、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層が設けられ、
前記反射表示領域から前記透過表示領域にかけて、前記液晶層厚調整層の傾斜領域が形成された液晶表示装置であって、
前記ドット領域の略中央部に前記反射表示領域が設けられるとともに、前記ドット領域の周辺部に前記透過表示領域が設けられ、
前記反射表示領域における前記液晶層厚調整層の表面には、選択電圧印加により前記液晶分子を放射状に傾倒させる配向制御手段が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
一対の基板の間に液晶層を挟持してなり、
前記基板と前記液晶層との間には、前記液晶層に電圧を印加する導電体が形成され、
前記液晶層は、誘電率異方性が負の液晶分子で構成されるとともに、
表示単位となる１つのドット領域内に、透過表示領域と反射表示領域とが設けられ、
前記一対の基板のうち一方の基板と前記液晶層との間には、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層が設けられ、
前記透過表示領域と前記反射表示領域との間には、前記液晶層厚調整層の傾斜領域が形成された液晶表示装置であって、
前記ドット領域の周縁部から中央部にかけて前記導電体に形成された切り欠き部により、前記ドット領域における前記導電体が複数のサブドットに分割され、
前記サブドットの略中央部に前記反射表示領域が設けられるとともに、前記サブドットの周辺部に前記透過表示領域が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記反射表示領域における前記液晶層厚調整層の表面には、前記液晶分子を放射状に傾倒させるための配向制御手段が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶層厚調整層が配置された前記一方の基板に対向する他方の前記基板と前記液晶層との間に設けられた前記導電体の周縁部は、前記液晶層厚調整層の前記傾斜領域の周縁部に対して略相似形状に形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記傾斜領域の傾斜角度は、５°以上６０°以下であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層を挟持してなり、前記基板と前記液晶層との間には、前記液晶層に電圧を印加する導電体が形成され、前記液晶層は、誘電率異方性が負の液晶分子で構成されるとともに、表示単位となるドット領域内に、反射表示領域および透過表示領域が設けられ、前記一対の基板のうち一方の基板と前記液晶層との間には、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層が設けられ、前記反射表示領域から前記透過表示領域にかけて、前記液晶層厚調整層の傾斜領域が形成された液晶表示装置であって、前記ドット領域の略中央部に前記反射表示領域が設けられるとともに、前記ドット領域の周辺部に前記透過表示領域が設けられ、前記反射表示領域における前記液晶層厚調整層の表面には、選択電圧印加により前記液晶分子を放射状に傾倒させる配向制御手段が設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の他の液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層を挟持してなり、前記基板と前記液晶層との間には、前記液晶層に電圧を印加する導電体が形成され、前記液晶層は、誘電率異方性が負の液晶分子で構成されるとともに、表示単位となる１つのドット領域内に、透過表示領域と反射表示領域とが設けられ、前記一対の基板のうち一方の基板と前記液晶層との間には、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層が設けられ、前記透過表示領域と前記反射表示領域との間には、前記液晶層厚調整層の傾斜領域が形成された液晶表示装置であって、前記ドット領域の周縁部から中央部にかけて前記導電体に形成された切り欠き部により、前記ドット領域における前記導電体が複数のサブドットに分割され、前記サブドットの略中央部に前記反射表示領域が設けられるとともに、前記サブドットの周辺部に前記透過表示領域が設けられていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記反射表示領域における前記液晶層厚調整層の表面には、前記液晶分子を放射状に傾倒させるための配向制御手段が設けられていることが望ましい。
この構成によれば、選択電圧印加時に、液晶層厚が小さい反射表示領域の液晶分子を最初に配向制御することができるので、反射表示領域から透過表示領域にかけて全ての液晶分子を迅速かつ確実に配向制御することが可能になる。これにより、配向制御性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月17日(2006.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集水タンクと、前記集水タンク内を減圧及び加圧する真空ポンプと、前記集水タンクに接続される汚水流入管及び汚水圧送管と、前記真空ポンプを運転制御する運転制御手段とを具備し、前記真空ポンプによって前記集水タンク内を減圧することで汚水流入管から集水タンク内に汚水を集水し、前記真空ポンプによって集水タンク内を加圧することで前記集水タンク内の汚水を前記汚水圧送管から排水する構成の真空ステーションにおいて、
前記真空ポンプとして正転逆転運転可能なルーツ型真空ポンプを複数台設置し、
前記運転制御手段は、少なくとも何れか一台の真空ポンプを正転運転させることで前記集水タンク内を減圧して集水タンク内に汚水を集水させ、集水タンク内の汚水が一定の水位に達したら少なくとも何れか一台の真空ポンプを逆転運転させることで前記集水タンク内を加圧して集水タンクから汚水を排水させることを特徴とする真空ステーション。
【請求項２】
前記運転制御手段を内蔵する動力制御盤と前記複数台の真空ポンプとを一体のユニット構造にするとともに、前記集水タンクをマンホール内に組み込むことでユニット構造としたことを特徴とする請求項１に記載の真空ステーション。
【請求項３】
前記運転制御手段は、真空ポンプの運転速度を必要に応じて増速制御する運転速度制御手段を具備していることを特徴とする請求項１又は２に記載の真空ステーション。
【請求項４】
集水タンクと、正転及び逆転することで前記集水タンク内を減圧及び加圧する複数台の真空ポンプと、前記集水タンクに接続される汚水流入管及び汚水圧送管とを具備する真空ステーションの運転方法であって、
少なくとも何れか一台の真空ポンプを正転運転させることで集水タンク内を減圧して汚水流入管から集水タンク内へ汚水を集水する汚水収集運転モードと、少なくとも何れか一台の真空ポンプを逆転運転させることで集水タンク内を加圧して集水タンク内の汚水を汚水圧送管から排水する汚水排水運転モードとを、交互に行わせることを特徴とする真空ステーションの運転方法。
【請求項５】
前記汚水収集運転モードの際は、運転する真空ポンプを交互に切り換えることを特徴とする請求項４に記載の真空ステーションの運転方法。
【請求項６】
一方の真空ポンプの運転が所定時間経過しても集水タンク内の真空度が所定の値に達しない場合は、他方の真空ポンプも同時に運転することを特徴とする請求項４又は５に記載の真空ステーションの運転方法。
【請求項７】
汚水収集運転モードと汚水排水運転モードとを切り代える際に何れかの真空ポンプを運転していた場合は、その運転していた真空ポンプをそのまま反転運転して次のモードの運転に用いることを特徴とする請求項４又は５又は６に記載の真空ステーションの運転方法。
【請求項８】
前記汚水収集運転モードにおいては、真空ポンプを集水タンク内の真空度が所定の運転開始真空度に達した場合に運転を開始し、
且つ時間帯によって前記運転開始真空度の設定を変動させることを特徴とする請求項４に記載の真空ステーションの運転方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本願の請求項７に記載の発明は、汚水収集運転モードと汚水排水運転モードとを切り代える際に何れかの真空ポンプを運転していた場合は、その運転していた真空ポンプをそのまま反転運転して次のモードの運転に用いることを特徴とする請求項４又は５又は６に記載の真空ステーションの運転方法である。
本願の請求項８に記載の発明は、前記汚水収集運転モードにおいては、真空ポンプを集水タンク内の真空度が所定の運転開始真空度に達した場合に運転を開始し、且つ時間帯によって前記運転開始真空度の設定を変動させることを特徴とする請求項４に記載の真空ステーションの運転方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項７に記載の発明によれば、モード切換時の圧力変動に要する時間を短縮できる。
請求項８に記載の発明によれば、時間帯によって発生汚水量の変動が激しい場合でも、経済的な運転が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月25日(2006.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
バルブプレート３には、それぞれのシリンダボア１３に対応して吸入孔２５と吐出孔２６とが形成され、また、リアヘッド４には、圧縮室２４に供給する作動流体を収容する吸入室２７と、圧縮室２４から吐出された作動流体を収容する吐出室２８とが画設されている。吸入室２７は、吐出室２８の周囲に連続して形成されており、バルブプレート３の吸入孔２５を介して圧縮室２４と連通し、また、吐出室２８は、バルブプレート３の吐出孔２６を介して圧縮室２４と連通するようになっている。また、吸入孔２５は、バルブプレート３のフロント側端面に設けられた吸入弁２９によって開閉され、更に、吐出孔２６は、バルブプレート３のリア側端面に設けられた吐出弁３０によって開閉されるようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月11日(2006.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
シャフト１３４には、その一端において、スロットルプーリ１４０がベアリング１３８を介して回転自在に取付けられていると共に、その内側において、本発明に係るスロットルプーリ１３５が固定されている。スロットルプーリ１３５には、そのスロットルプーリ１４０側端面外周部においてスロットルプーリ１４０に向かって突出部１３６が形成されており、スロットルプーリ１４０には、そのスロットルプーリ１３５側端面外周部においてスロットルプーリ１３５に向かって突出部１３７が形成され、スロットルプーリ１３５の突出部１３６と回転方向に係合可能に配されている。スロットルプーリ１３５は、図示しないバネによってスロットルバルブ１３３の開方向（シャフト１３４の前記一端側から見て時計方向）に付勢されており、スロットルプーリ１４０は、図示しないバネによってスロットルバルブ１３３の閉方向（シャフト１３４の前記一端側から見て反時計方向）に付勢されている。これにより、突出部１３６と突出部１３７は通常当接している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
規制プーリ１４５には、その規制カム１４２側端面外周部において規制カム１４２に向かって２つの板状のストッパ部１４５ａ，１４５ｂが突出形成されている（図４（ｂ））。これらのストッパ部１４５ａ，１４５ｂは、規制カム１４２の開き角の配向方向と反対の角度で配され、ほぼ１８０度対称の位置に配されると共にシャフト１３４に沿って延出している。また、ストッパ部１４５ａ，１４５ｂは、夫々、規制カム１４２の２つの当接面と当接する当接面を有する。これにより、規制カム１４２が各図５において時計方向に回転したときは、規制カム１４２の一方の当接面がストッパ部１４５ａの当接面に当接し、反時計方向に回転したときは、規制カム１４２の他方の当接面がストッパ部１４５ｂの当接面に当接する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、規制プーリ１４５に隣接して規制プーリポジションセンサ１４８が配されており、この規制プーリポジションセンサ１４８は規制プーリ１４５の回動位置を検出し、それに応じた電圧値を出力する。上述のスロットルプーリポジションセンサ１４１はシャフト１３４の一端部に配され、また、規制プーリポジションセンサ１４８はシャフト１３４の他端部に配される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
さらに、規制プーリ１４５には、中間歯車１４６を介してモータ１４７の出力軸に取付けられた歯車が噛合しており、モータ１４７の出力軸の回動により、規制プーリ１４５が回動する。モータ１４７は、シャフト１３４の軸方向と並列に且つシャフト１３４の両端の間であって、シャフト１３４に関してエンジン６１に取付けられた燃料噴射装置９０の反対側に配設される。これにより、シャフト１３４の軸方向への延出を最小限に抑えることができ、もってスロットルバルブ装置１００の重量やサイズの増加を更に防止することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
本実施の形態によれば、スロットルプーリ１３５を、従来のスロットルケーブル１３９を介して駆動されるスロットルプーリ１４０に加えてこれと当接可能に追加すると共に、規制プーリ１４５と規制カム１４２とを互いに当接可能に設けたので、エンジン６１の低回転領域でのスロットル全開操作時等の適切な吸気流速を確保しつつ、且つ電子制御スロットルバルブ装置に比較してモータ駆動に対するスロットルバルブの動きの遅れがなく、より敏速なスロットルの応答性を実現することができる。更に、単にスロットルプーリ１３５等を追加するのみであるので、デュアルスロットルバルブ装置におけるようなスロットルバルブ装置１００の重量やサイズの増加を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月13日(2006.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
又、上記図１５に示した構造の場合は、各ばね１２を構成する基部２４、各押圧片２５、２５並びに各連結部２９、２９の各側面と各中央側支持板部２２ａ〜２２ｃの側面との当接部に作用する摩擦力並びにこれら各当接部分の係合強度以上の遠心力が加わると、上記各ばね１２が径方向外方に変位する可能性がある。更に、上記図１６に示す構造の場合も、各ばね１２ａを構成する基部２４ａに設けた１対の係合突部３０、３０とクラッチ用保持器１１ｂの各柱部１７ｂ、１７ｂに設けた係合段部３１、３１との係合強度以上の遠心力が加わると、上記各ばね１２ａ、１２ａが径方向外方に変位する可能性がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
又、上記第二の抱持板部４０は、周方向に関して上記基板部３８の他端縁（図１〜２の右端縁）からこの他端縁の全幅に亙り、径方向外方に折り曲げ形成して成り、上記基部３６と上記押圧部３７とを連結すると共に、組み付け状態で上記各柱部３３の他側面（図１の右側面）に対向する。そして、図１に示す様に、上記第二の抱持板部４０の内径側半部と上記第一の抱持板部３９とにより上記各柱部３３を挟持すると共に、上記基板部３８がこれら各柱部３３の内周面に当接した状態で、上記各ばね３４の基部３６が上記クラッチ用保持器３２の内周面にがたつきなく係止される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
一方、上記押圧部３７は、上記第二の抱持板部４０の外径側端縁から内径側に向け折れ曲がっている。従って、これら押圧部３７と第二の抱持板部４０との連続部であり、この押圧部４０の変位中心となる折れ曲がり部４１の稜線は、上記クラッチ用保持器３２の中心軸に対し実質的に平行に配置された状態となる。又、この様な押圧部３７は、上記第二の抱持板部４０の連続部である上記折れ曲がり部４１の角度を大きくする方向の弾力を付与されて、その先端部で前記ローラ１０を、円筒状空間２８のうちで直径方向に関する幅が狭くなった部分に弾性的に押圧している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１    ローラクラッチ内蔵型プーリ装置
２    スリーブ
３    従動プーリ
４    サポート軸受
５、５ａ、５ｂ  ローラクラッチ
６    ねじ孔部
７    大径部
８    クラッチ用内輪
９    クラッチ用外輪
１０    ローラ
１１、１１ａ、１１ｂ  クラッチ用保持器
１２、１２ａ  ばね
１３    円筒面
１４    カム面
１５    凹部
１６    リム部
１７、１７ａ、１７ｂ  柱部
１８    突片
１９    凸部
２０    鍔部
２１    両端側支持板部
２２、２２ａ、２２ｂ、２２ｃ  中央側支持板部
２３    ポケット
２４、２４ａ  基部
２５    押圧片
２６    突部
２７    係止突片
２８    円筒状空間
２９    連結部
３０    係合突部
３１    係合段部
３２、３２ａ〜３２ｆ  クラッチ用保持器
３３、３３′、３３ａ〜３３ｆ  板部
３４、３４′、３４ａ〜３４ｆ  ばね
３５    リム部
３６、３６ａ〜３６ｆ  基部
３７    押圧部
３８    基板部
３９    第一の抱持板部
４０    第二の抱持板部
４１    折れ曲がり板部
４２、４２ａ  傾斜面
４３    厚肉部
４４    凸部
４５    等厚部
４６    凹部
４７    曲面部
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005042792.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
２    素管
３    一方フィン
４    他方フィン
５    折曲部
６    一方片
７    他方片
１８    螺旋溝
３１    密着面
３２    突条
３３    接触片
３４    ストッパー
３５    突起
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造用流体貯蔵および供給装置（１０、１１０、３００）であって、
加圧された流体を保持するための内部容積（２２、１３３、３２４）を規定し出口ポートを有する流体貯蔵および供給容器（１２、１１２、３０２）と、
前記ポートと流通状態にて前記容器の内部容積（１５、３２８）内に取付けられるバルブ（２６、３３２）とを含み、
前記バルブ（２６、３３２）は、前記バルブがガスを準大気圧にて前記容器（１２、１１２、３０２）の外側から受取るまで流体が前記容器から前記ポートを介して供給されるのを妨げるよう閉じられた状態で保持され、前記準大気圧のガスを受取ったことに応答して開き；および
前記準大気圧ガス圧力は予め定められた大きさしか有さない、半導体製造用流体貯蔵および供給装置。
【請求項２】
前記バルブはその下流においてガスにおける圧力を感知するための手段、および感知された圧力が予め設定されたレベル以下である場合には前記バルブを開き、感知された圧力が前記予め設定されたレベルより上である場合には前記バルブを閉じるための手段を有して、前記下流ガスの圧力を調整し、前記ガスの望ましくない逃げを予防する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記バルブは前記容器から供給されるガスの圧力を調整するための圧力レギュレータ（２６、３３２）の部分を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記レギュレータは前記流体が供給されるレートを決定することにおいて特徴付けられる、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
容器は水素化物ガス、ハロゲン化物ガスおよびガス状の有機金属からなる群から選択される流体を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
容器は、アルシン、ホスフィン、スチビン、ジボラン、フッ化水素、三塩化ホウ素、三
フッ化ホウ素、塩化水素、ハロゲン化されたシランおよびジシランからなる群から選択される流体を含む、請求項１〜４のいずれか１つに記載の装置。
【請求項７】
容器は、半導体製造用設備と、選択的な流体流通状態にて結合される、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
バルブ（２８、３３２）は、前記ポートと流体流通状態においてチャンバを規定するハウジングと、チャンバ内に位置する圧力感知アセンブリとを含み、圧力感知アセンブリはバルブと作動的に接続され、チャンバにおける流体圧力に応答してバルブを開くかまたは閉じるように動くようにされる、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
容器に含まれる流体の一部（１７）は液化され、前記流体の前記容器からの流出を防ぐ相分離器装置（２８）を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
容器は、半導体製造用プロセスのための、イオン注入のための流体および化学蒸着のための流体からなる群から選択される流体を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
容器は、ホスフィン、シラン、アルシンおよびＢＦ3からなる群から選択される流体を含み、化学蒸着半導体製造用プロセスのために流体を供給することに対して適合される、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
容器は、ホスフィンおよびアルシンからなる群から選択される流体を含み、化学蒸着半導体製造用プロセスのために流体を供給することに対して適合される、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
容器は、ホスフィン、アルシンおよびＢＦ3からなる群から選択される流体を含み、イオン製造用プロセスのために流体を供給することに対して適合される、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
半導体プロセス流体を含む内部容積（１５、３２８）を有する加圧された容器（１２、１１２、３２４）に含まれる前記流体を利用して半導体製品を製造する方法であって、
前記流体は前記内部容積内において圧力レギュレータ（２８、３３２）によって封じ込められ、前記圧力レギュレータは前記内部容積内の流体流路（３３４、３３６、３３２、３３０、３２０）にあり、前記流体流路は前記圧力レギュレータによって前記圧力レギュレータの下流側への流体の流れを遮断され、
封じ込められた流体を、流体流路を開くことによって、前記圧力レギュレータを通して前記圧力レギュレータから下流に選択的に供給し、流体を、流体圧力レギュレータによって決定されたレートで供給するステップ、および
前記流体を半導体製造設備（２００）に導くステップ、
前記供給ステップはガスを前記圧力レギュレータに或る特定された準大気圧以下で供給することを含み、前記圧力レギュレータは供給される流体の圧力を前記準大気圧に調整するよう設定される、方法。
【請求項１５】
前記流体はイオン注入または化学蒸着のプロセスにおいて用いられる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記流体は、液化された水素化物ガス、液化された酸性ガス、アルシン、ホスフィン、スチビン、シラン、ジボラン、塩化水素、ハロゲン化されたシランおよびジシランからなる群から選択される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記供給するステップはガスを準大気圧で前記圧力レギュレータの出口に前記容器の外側から適用してその中のバルブを交互に開閉して前記流体を前記容器から供給する、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料、酸性基を有する樹脂および沸点１５０℃以上の有機溶剤を含有する顔料インク組成物であって、上記の有機溶剤は、（ポリ）アルキレングリコールのモノアルキルエーテルモノアルキルエステル化合物またはジアルキルエステル化合物であり、この有機溶剤がインク組成物全体の５０〜９５重量％を占め、かつ上記の酸性基を有する樹脂がカルボキシル基を有するアクリル系樹脂であることを特徴とする顔料インク組成物。
【請求項２】
顔料がインク組成物全体の０．１〜２０重量％を占め、酸性基を有する樹脂がインク組成物全体の０．５〜３０重量％を占める請求項１に記載の顔料インク組成物。
【請求項３】
酸性基を有する樹脂は、重量平均分子量が１×１０4 〜３×１０5 の範囲、分子量分布が１．５〜１０の範囲にある請求項１または２に記載の顔料インク組成物。
【請求項４】
沸点１５０℃以上の有機溶剤は、エチレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、エチレングリコールジアルキルエステル、ジエチレングリコールジアルキルエステル、トリエチレングリコールジアルキルエステル、プロピレングリコールジアルキルエステル、ジプロピレングリコールジアルキルエステル、トリプロピレングリコールジアルキルエステルのうちの少なくとも１種またはこれらの混合物からなる請求項１〜３のいずれかに記載の顔料インク組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、このような知見をもとにして、完成されたものである。
すなわち、本発明は、顔料、酸性基を有する樹脂および沸点１５０℃以上の有機溶剤を含有する顔料インク組成物であって、上記の有機溶剤は、（ポリ）アルキレングリコールのモノアルキルエーテルモノアルキルエステル化合物またはジアルキルエステル化合物であり、この有機溶剤がインク組成物全体の５０〜９５重量％を占め、かつ上記の酸性基を有する樹脂がカルボキシル基を有するアクリル系樹脂であることを特徴とする顔料インク組成物に係るものである。
また、本発明は、顔料がインク組成物全体の０．１〜２０重量％を占め、酸性基を有する樹脂がインク組成物全体の０．５〜３０重量％を占める上記構成の顔料インク組成物、酸性基を有する樹脂が、重量平均分子量が１×１０4 〜３×１０5 の範囲、分子量分布が１．５〜１０の範囲にある上記構成の顔料インク組成物に係るものである。
さらに、本発明は、沸点１５０℃以上の有機溶剤が、エチレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテルモノアルキルエステル、エチレングリコールジアルキルエステル、ジエチレングリコールジアルキルエステル、トリエチレングリコールジアルキルエステル、プロピレングリコールジアルキルエステル、ジプロピレングリコールジアルキルエステル、トリプロピレングリコールジアルキルエステルのうちの少なくとも１種またはこれらの混合物からなる上記構成の顔料インク組成物に係るものである。
このような顔料インク組成物によると、たとえば、塗膜摺動試験として、カチオン処理を施した記録媒体に＃０４バーコーター（東洋精機製）で塗布し乾燥した塗膜を５０ｇの分銅をのせた布で摺動させたときに、上記塗膜の擦れがみられないという、すぐれた耐擦れ性を発揮する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月25日(2006.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図７は上記糸配列の構成よりなる実施例の一つとして編成されたブラジャーのカップ用素材としての経編地の平面図であり、図８はこの経編地の基布の変化例を示す編組織図であり、図９は編機ゲージに対応した糸本数分導糸ガイドに通糸した場合のジャカード筬の編組織図であり、図１０は、編機ゲージに対して半分のゲージ分の本数を導糸ガイドに通糸し、互いに１ゲージずらした位置に設けた、いわゆるオフセットによるジャカード筬の編組織図である。図１３は、２色の柄糸を前部基布において交互に図柄構成し、図柄構成しない時は基布間に遊離させてなる経編地の断面図であり、図１２は、後部基布でオーバラップさせることで柄糸を隠蔽してなる例の断面図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【図１】本発明の経編地編成のために使用してなるダブルニードル列経編機の筬配列図である。
【図２】本発明の一実施例経編地を編むための編組織図である。
【図３】スポーツシューズ用として編成された靴胛被地の一例を示す平面図である。
【図４】靴胛被地の概略断面模式図である。
【図５】ジャカード筬ＰＪＢ５（ＰＪＢ５−１とＰＪＢ５−２の１組を代表して示す）とジャカード筬ＰＪＢ６（ＰＪＢ６−１とＰＪＢ６−２の１組を代表して示す）の変化編組織図である。
【図６】編機ゲージに対して半分のゲージ分の本数を設けた導糸ガイドに通糸したオフセットによるジャカード筬ＰＪＢ５−１，５−２、ジャカード筬ＰＪＢ６−１，６−２の編組織図である。
【図７】ブラジャーのカップ用素材としての経編地の平面図である。
【図８】図７の経編地の基布の変化例を示す編組織図である。
【図９】編機ゲージに対応した糸本数分導糸ガイドに通糸した場合のジャカード筬の編組織図である。
【図１０】編機ゲージに対して半分のゲージ分の本数を設けた導糸ガイドに通糸したオフセットによるジャカード筬の編組織図である。
【図１１】前部基布に柄糸をオーバラップさせてニードルループ部分を形成した経編地の断面図である。
【図１２】後部基布でオーバラップさせることで柄糸を隠蔽してなる経編地の断面図である。
【図１３】２色の柄糸を前部基布において交互に図柄構成し、図柄構成しない時は基布間に遊離させている経編地の断面図である。
【図１４】２色の柄糸で両面に所望の異なる別図柄を構成してなる経編地の断面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
Ｆ  前部ニードル列
Ｂ  後部ニードル列
１、２、３、５、７、９、１０  地糸
６、５０、５１、５２、６０、６１、６２  柄糸
７  連結糸
２０、２００  前部基布
３０、３００  後部基布
ＧＢ１、ＧＢ２、ＧＢ３  前部の地筬
ＧＢ７、ＧＢ９、ＧＢ１０  後部の地筬
ＰＪＢ５（ＰＪＢ５−１とＰＪＢ５−２）  ジャカード筬
ＰＪＢ６（ＰＪＢ６−１とＰＪＢ６−２）  ジャカード筬
Ｍ  メッシュ部分
Ｌ  切断線
Ｐ  プレーン部分
D、D1、D2  図柄
Ｃ  編成方向
Ｗ  編幅方向
Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３  編成部分
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月17日(2006.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）主として１，２挿入により特徴付けられるアイソタクチックポリマー構造における無秩序性を有し、２〜１２モル％の範囲内のエチレン含有率を有するエチレンとアイソタクチックポリプロピレンのランダムコポリマーを用意し、
（ｂ）該コポリマーを溶融状態に加熱しそして該溶融したコポリマーを押出して繊維予備成形物を形成させ、そして
（ｃ）該繊維予備成形物を紡糸し、次いで該繊維予備成形物を１〜６の範囲内の延伸比で延伸して連続的エチレンプロピレンコポリマー繊維を製造する、
ことを含んでなるエチレンプロピレンコポリマーから形成された繊維の製造方法。
【請求項２】  該エチレン−プロピレンランダムコポリマーが４〜１０モル％の範囲内のエチレン含有率を有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】  該コポリマーが、担持された不均一チーグラー−ナッタ触媒の存在下にプロピレンとエチレンの重合により製造される請求項２に記載の方法。
【請求項４】  該エチレン−プロピレンコポリマーが６〜８モル％の範囲内のエチレン含有率を有する請求項１に記載の方法。
【請求項５】  該コポリマーが担持された不均一アイソ特異的チーグラー−ナッタ触媒の存在下にプロピレンとエチレンの重合により製造される請求項１に記載の方法。
【請求項６】  該担持されたチーグラー−ナッタ触媒が、ジエトキシマグネシウム、マグネシウムエトキシクロリド、二塩化マグネシウム及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる支持体上に担持された四塩化チタンである請求項５に記載の方法。
【請求項７】  エチレン−プロピレンコポリマーがアイソ特異的メタロセン触媒の存在下にエチレンとプロピレンの共重合により製造される請求項１に記載の方法。
【請求項８】  該エチレンプロピレンコポリマーのプロピレン含有率が少なくとも９０％メソダイアドのアイソタクチシティにより特徴付けられる請求項１に記載の方法。
【請求項９】  該コポリマーを１４０〜１８０℃の範囲内の温度に加熱し、次いで押出して該繊維予備成形物を形成させる請求項１に記載の方法。
【請求項１０】  該繊維が少なくとも２グラム／デニールの靭性を有する請求項１に記載の方法。
【請求項１１】  該繊維予備成形物を０．５〜１５デニール／繊維の範囲内の繊維を製造するのに有効な延伸比で延伸する請求項１に記載の方法。
【請求項１２】  該繊維を１〜８デニール／繊維の範囲内の繊度に延伸する請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月21日(2006.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】（Ｂ）成分が、一般式（１）〜（３）で表される臭素化エポキシ系難燃剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の難燃剤である請求項１または２記載の難燃性ポリエステル系人工毛髪用繊維。    【化１】2005042234.tif 000001
（式中、ｍは０〜１００を示す）    【化２】2005042234.tif 000002
（式中、ｎは０〜１００、ｘは３を示す）    【化３】2005042234.tif 000003
（式中、ｐは０〜１００、ｙは０〜５を示す）【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【化５】
2005042234.tif 000004
（式中、ｎは０〜１００、ｘは３を示す）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【化６】
2005042234.tif 000005
（式中、ｐは０〜１００、ｙは０〜５を示す）
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁室内の弁座に弁軸によって離接する弁体で冷媒の通過流量を調整する弁本体と、該弁本体に固着され前記弁体を前記弁座に離接させるロータを内蔵するキャンと、該キャンに外嵌され前記ロータを回転駆動するステータと、前記弁軸に対して摺動可能に配置されたプッシュナット及び平座金とを備えた電動弁であって、
前記プッシュナット又は前記平座金の少なくとも一方の前記弁軸との摺接面に、ニッケルにポリテトラフルオロエチレンを含有した材料からなる鍍金層を形成したことを特徴とする電動弁。
【請求項２】
弁室内の弁座に弁軸によって離接する弁体で冷媒の通過流量を調整する弁本体と、該弁本体に固着され前記弁体を前記弁座に離接させるロータを内蔵するキャンと、該キャンに外嵌され前記ロータを回転駆動するステータと、前記弁軸に対して摺動可能に配置されたプッシュナット及び平座金とを備えた電動弁であって、
前記プッシュナットの前記弁軸との摺接面には、ニッケルにポリテトラフルオロエチレンを含有した材料からなる鍍金層を形成し、前記平座金の前記弁軸との摺接面には、フッ素樹脂からなるコーティング層を形成したことを特徴とする電動弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記目的を達成すべく、本発明に係る電動弁は、弁室内の弁座に弁軸によって離接する弁体で冷媒の通過流量を調整する弁本体と、該弁本体に固着され前記弁体を前記弁座に離接させるロータを内蔵するキャンと、該キャンに外嵌され前記ロータを回転駆動するステータと、前記弁軸に対して摺動可能に配置されたプッシュナット及び平座金とを備え、前記プッシュナット又は前記平座金の少なくとも一方の前記弁軸との摺接面に、ニッケルにポリテトラフルオロエチレンを含有した材料からなる鍍金層を形成したことを特徴とする。
そして、更に、本発明に係る電動弁は、弁室内の弁座に弁軸によって離接する弁体で冷媒の通過流量を調整する弁本体と、該弁本体に固着され前記弁体を前記弁座に離接させるロータを内蔵するキャンと、該キャンに外嵌され前記ロータを回転駆動するステータと、前記弁軸に対して摺動可能に配置されたプッシュナット及び平座金とを備え、前記プッシュナットの前記弁軸との摺接面には、ニッケルにポリテトラフルオロエチレンを含有した材料からなる鍍金層を形成し、前記平座金の前記弁軸との摺接面には、フッ素樹脂からなるコーティング層を形成したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月24日(2006.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸体の径方向外方に、一方向クラッチおよび転がり軸受を介して、プーリが設けてある一方向クラッチ内蔵型プーリ装置において、
前記軸体には、回転軸の雄ネジ部を螺合して固定するための雌ネジ部が形成してあり、
前記軸体の雌ネジ部と前記回転軸の雄ネジ部との間の摩擦係数と、前記軸体の前記回転軸側への当接端面と前記回転軸の前記軸体側への当接端面との間の摩擦係数との少なくとも一方の摩擦係数は、０．１〜０．５であることを特徴とする一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【請求項２】
前記軸体の雌ネジ部と、前記軸体の前記回転軸側への当接端面との少なくとも一方の表面粗さ（Ｒａ）は、０．３〜１２．５であることを特徴とする請求項１に記載の一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【請求項３】
前記軸体の前記回転軸側への当接端面の表面には、同心円状又は螺旋状の溝が形成してあることを特徴とする請求項１に記載の一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【請求項４】
前記プーリ装置は、自動車の補機に装着されることを特徴とする請求項１に記載の一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【請求項５】
前記補機は、スタータモータ、又はオルタネータであることを特徴とする請求項４項に記載の一方向クラッチ内蔵型プーリ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の請求項１に係る一方向クラッチ内蔵型プーリ装置は、軸体の径方向外方に、一方向クラッチおよび転がり軸受を介して、プーリが設けてある一方向クラッチ内蔵型プーリ装置において、
前記軸体には、回転軸の雄ネジ部を螺合して固定するための雌ネジ部が形成してあり、
前記軸体の雌ネジ部と前記回転軸の雄ネジ部との間の摩擦係数と、前記軸体の前記回転軸側への当接端面と前記回転軸の前記軸体側への当接端面との間の摩擦係数との少なくとも一方の摩擦係数は、０．１〜０．５であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月29日(2006.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性不飽和有機酸３〜５０質量％、下記一般式（３）
【化１】
2006265560.tif 000001
（式中、Ｚは、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、同一又は異なって、炭素数１〜２０の炭化水素残基を表す。）
で示されるトリオルガノシリル（メタ）アクリレート９０〜５質量％、及び、その他の共重合可能な不飽和単量体からなる単量体組成物に由来する骨格単位を有し、
前記重合性不飽和有機酸由来のカルボキシル基の少なくとも一部が下記一般式（２）
【化２】
2006265560.tif 000002
（式中、Ｘは、
【化３】
2006265560.tif 000003
で表される基、ｎは０又は１、Yは炭化水素、Ｍは２価金属、Ａは一塩基酸の有機酸残基を表す）
に置換され、
前記一塩基酸は、少なくとも一部が一塩基環状有機酸（但し、芳香族有機酸を除く）であることを特徴とするアクリル樹脂。
【請求項２】
一塩基環状有機酸は、酸価が１００〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１記載のアクリル樹脂。
【請求項３】
一塩基酸は、有機酸残基のうち、５〜１００モル％が一塩基環状有機酸である請求項１又は２記載のアクリル樹脂。
【請求項４】
一塩基環状有機酸が、ロジン類、水添ロジン類、不均化ロジン類、ナフテン酸、アビエチン酸、水素添加アビエチン酸及びデヒドロアビエチン酸からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２又は３記載のアクリル樹脂。
【請求項５】
一般式（３）におけるＲ４、Ｒ５及びＲ６が、すべてイソプロピル基である請求項１、２、３又は４記載のアクリル樹脂。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載のアクリル樹脂を含有することを特徴とする防汚塗料。