Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月17日(2006.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー回折散乱法により測定した体積基準の平均粒径が１〜９μｍであって、粉体層の水銀圧入法による細孔分布において、細孔直径１〜１０μｍの範囲の細孔容積が０．４ｃｍ３／ｇ以上である炭酸水素ナトリウムを含む酸性成分除去剤。
【請求項２】
炭酸水素ナトリウムは、炭酸水素ナトリウムを２００℃で１時間焼成したときに得られる炭酸ナトリウムの粉体層の水銀圧入法による細孔分布において、細孔直径１〜１０μｍの範囲の細孔容積が０．４ｃｍ３／ｇ以上である請求項１に記載の酸性成分除去剤。
【請求項３】
レーザー回折散乱法により測定した体積基準の平均粒径分布において、１〜９μｍの範囲及び５０〜２００μｍの範囲の２箇所にピークを有し、かつふるい分けによる分析において目開き４５μｍのふるいを通過しない粒子の質量が全体の１０〜３０％である炭酸水素ナトリウムを含む酸性成分除去剤。
【請求項４】
固結防止剤を含有する請求項１、２又は３に記載の酸性成分除去剤。
【請求項５】
固結防止剤がシリカである請求項４に記載の酸性成分除去剤。
【請求項６】
固結防止剤が疎水性シリカである請求項５に記載の酸性成分除去剤。
【請求項７】
固結防止剤が親水性シリカである請求項５に記載の酸性成分除去剤。
【請求項８】
除去される酸性成分が、塩化水素である請求項１、２、３、４、５、６又は７に記載の酸性成分除去剤。
【請求項９】
請求項１又は２に記載の酸性成分除去剤の製造方法であって、風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機を用い、粉砕機から排出される粒子を分級して粗粒子は再度粉砕機に戻しながら、炭酸水素ナトリウムを粉砕することを特徴とする酸性成分除去剤の製造方法。
【請求項１０】
請求項１又は２に記載の酸性成分除去剤の製造方法であって、ジェットミルを用いて炭酸水素ナトリウムを粉砕することを特徴とする酸性成分除去剤の製造方法。
【請求項１１】
請求項１又は２に記載の酸性成分除去剤の製造方法であって、炭酸水素ナトリウムを実質的に溶解しない液体中に炭酸水素ナトリウムを分散させてスラリーとなし、該スラリーを媒体撹拌ミル又はボールミルで湿式粉砕し、得られた炭酸水素ナトリウムを分離して乾燥することを特徴とする酸性成分除去剤の製造方法。
【請求項１２】
請求項１、２、３、４、５、６、７又は８に記載の酸性成分除去剤を、処理すべき気体中に分散し、バグフィルターで捕集することを特徴とする気体中の酸性成分除去方法。
【請求項１３】
請求項６に記載の酸性成分除去剤を処理すべき気体中に添加することを特徴とするゴミ焼却場の排ガスの酸性成分除去方法。
【請求項１４】
請求項７に記載の酸性成分除去剤を処理すべき気体中に添加することを特徴とするボイラーの排ガスの酸性成分除去方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、レーザー回折散乱法により測定した体積基準の平均粒径が１〜９μｍであって、粉体層の水銀圧入法による細孔分布において、細孔直径１〜１０μｍの範囲の細孔容積が０．４ｃｍ３／ｇ以上である炭酸水素ナトリウムを含む酸性成分除去剤及びその製造方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
次に、例２〜７で得られた炭酸水素ナトリウムについて、例１と同様に２００℃の恒温乾燥器内で放置し、得られた炭酸ナトリウムについて例１と同様に細孔分布を測定した。そのうち、細孔容積Ａ及び細孔容積Ｂについてのみ表４に示す。表４においては、例１の炭酸水素ナトリウムから得られた炭酸ナトリウムの数値を含め平均粒径の小さい順に並べ換えてある。また、これらの炭酸ナトリウムは、細孔直径が０．１μｍ未満には実質的に細孔を有しない点が、水銀法細孔容積及び窒素法細孔容積の両方から確認できた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
流した塩化水素の総量は、試料の炭酸水素ナトリウムが全量炭酸ナトリウムとなったときの、その炭酸ナトリウムに対する塩化水素の理論反応量の２倍とした。空気の流速は炭酸水素ナトリウム充填層の断面積に対して１ｍ／ｓとした。パイプから取り出した炭酸ナトリウムを、１モル／リットルの塩酸で中和滴定して未反応量を求めることにより、塩化水素の吸収率を求めた。その結果を表５に示す。なお、表５においては、炭酸水素ナトリウムの平均粒径の小さい順に並べ換えてある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【表５】
2000218128.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
例１の酸性成分除去剤では、９１％という高い除去率（塩化水素の吸収率）が達成されたのに対し、例２及び例３では、低い除去率（塩化水素の吸収率）しか得られなかった。例２及び例３においては、例１に比べて、細孔直径０．１〜１．０μｍの細孔が残り、細孔直径１〜１０μｍの細孔容積の発達が不十分なために塩化水素ガスの拡散律速となり、塩化水素の吸収率が低かったと推定される。実際、例２及び例３の粒子では、電子顕微鏡による観察で、粒子表面がスポンジ状に０．１〜１．０μｍの穴が空いていることが確認できた。また、例７で塩化水素の吸収率が低い原因は、酸性成分除去剤が微粉のために凝集しやすく、パイプに充填時に充填構造の不均一が発生し、炭酸水素ナトリウムの充填層内で塩化水素が偏流したためと推測される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被乾燥物を一段もしくは複数段に配置して収納する乾燥庫と、
乾燥庫内に設けられた被乾燥物を吊り下げるハンガーポールと、
温風もしくは空気の水分を除湿して乾燥空気を発生する乾燥空気発生手段と、
前記乾燥庫に前記乾燥空気を吹き出す吹き出し口と、
前記乾燥空気を乾燥庫外に排気する排気口と、
前記乾燥庫内に収納した被乾燥物の上方に位置し、中央部が開口するように前記乾燥空気の通路面積を絞った整風板とを備えた衣類乾燥機。
【請求項２】  前記整風板の中央部の開口は、前記ハンガーポールのある位置に沿って設けられ、その両側の整風板部は前記開口から下方へ傾斜した状態で設けられている請求項１記載の衣類乾燥機。
【請求項３】  前記乾燥庫は被乾燥物を複数段に配置して収納できるものであり、
前記ハンガーポールは最上段を除き収納自在であり、
前記整風板は、回動自在にして所定の角度位置で固定できるようになっている請求項１または２記載の衣類乾燥機。
【請求項４】  前記ハンガーポールの一部と、それに対応する位置にある前記整風板の一部とは、固定式であり、収納不可、回動不可となっている請求項３記載の衣類乾燥機。
【請求項５】  前記乾燥庫の壁面を流れる前記乾燥空気を被乾燥物側に向けるための複数枚の整風羽根とをさらに備えた請求項１〜４のいずれかに記載の衣類乾燥機。
【請求項６】  前記吹き出し口は、第１および第２の２列の吹き出し口であり、
前記第１の吹き出し口と第２の吹き出し口は、前記ハンガーポールに対して平行で、互いに所定の間隔を有する請求項１〜５のいずれかに記載の衣類乾燥機。
【請求項７】  被乾燥物を複数段に配置して収納する乾燥庫と、
乾燥庫内に設けられた被乾燥物を吊り下げるハンガーポールと、
温風もしくは空気の水分を除湿して乾燥空気を発生する乾燥空気発生手段と、
前記乾燥庫に前記乾燥空気を吹き出す吹き出し口と、
前記乾燥空気を乾燥庫外に排気する排気口と、
前記乾燥庫内に収納した被乾燥物の上方に位置し、前記乾燥空気の通路面積を絞った整風板とを備え、
前記吹き出し口は、第１および第２の２列の吹き出し口であり、前記第１の吹き出し口と前記第２の吹き出し口は、前記ハンガーポールに対して平行で、互いに所定の間隔を有し、
前記整風板は、前記第１および第２の吹き出し口と対面する位置に、第１、第２の吹き出し部が開けられたものである衣類乾燥機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
第１の本発明（請求項１に対応）は、被乾燥物を一段もしくは複数段に配置して収納する乾燥庫と、
乾燥庫内に設けられた被乾燥物を吊り下げるハンガーポールと、
温風もしくは空気の水分を除湿して乾燥空気を発生する乾燥空気発生手段と、
前記乾燥庫に前記乾燥空気を吹き出す吹き出し口と、
前記乾燥空気を乾燥庫外に排気する排気口と、
前記乾燥庫内に収納した被乾燥物の上方に位置し、中央部が開口するように前記乾燥空気の通路面積を絞った整風板とを備えた衣類乾燥機である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の本発明（請求項７に対応）は、被乾燥物を複数段に配置して収納する乾燥庫と、
乾燥庫内に設けられた被乾燥物を吊り下げるハンガーポールと、
温風もしくは空気の水分を除湿して乾燥空気を発生する乾燥空気発生手段と、
前記乾燥庫に前記乾燥空気を吹き出す吹き出し口と、
前記乾燥空気を乾燥庫外に排気する排気口と、
前記乾燥庫内に収納した被乾燥物の上方に位置し、前記乾燥空気の通路面積を絞った整風板とを備え、
前記吹き出し口は、第１および第２の２列の吹き出し口であり、前記第１の吹き出し口と前記第２の吹き出し口は、前記ハンガーポールに対して平行で、互いに所定の間隔を有し、
前記整風板は、前記第１および第２の吹き出し口と対面する位置に、第１、第２の吹き出し部が開けられたものである衣類乾燥機である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
１５は衣類である被乾燥物1a、1bを収納する乾燥庫であり、衣類は乾燥庫１５内に上下二段に配置したハンガーポール16a、16bに掛けて吊り下げられている。１７は乾燥空気発生手段で内部には送風手段１８と加熱手段１９を装備している。２０は吸気口で乾燥空気発生手段１７の動作により吸気口２０より吸気した空気は、加熱手段１９により加熱されて風路２１を流れ、吹き出し口２２より乾燥庫１５に乾燥空気として吹き出す。風路２１はハンガーポール16a、16bと平行して構成され、吹き出し口２２は被乾燥物1aの下方で中央に設けられている。乾燥空気は被乾燥物1a、1bと接触して乾燥を促進する。乾燥の促進により多湿になった乾燥空気は排気口２３から被乾燥庫１５外に排出する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
乾燥空気発生手段１７で発生した乾燥空気は第１の吹き出し口４０、第２の吹き出し口４１より乾燥庫１５に供給される。乾燥空気は袖部に向けて吹き出すので効率の良い乾燥が行われる。乾燥空気の上昇に伴って乾燥空気は、流路抵抗の小さい乾燥庫１５の壁面と被乾燥物1a間を流れやすくなる。整風板４２付近に達すると偏って流れている乾燥空気は、吹き出し部４４で整流され風速を増して被乾燥物1bの袖部に向けて吹き出す。更に上昇した乾燥空気は整風板２７a、２７bの効果により襟部を流れて排気口２３より乾燥庫１５外に排出される。従って、乾燥空気と被乾燥物との接触が効果的に行われ、被乾燥物1a、1bを短時間に、効率よく乾燥することが出来る。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月26日(2006.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】 請求項１または２に記載の開封検出装置において、
前記相対移動検出手段が、
前記第１取付部および前記第２取付部の内の一方に設けられた発光手段と、
該発光手段の光を検出する受光手段と、
前記発光手段の光を、前記第１取付部および前記第２取付部の内の他方に誘導し、更に前記受光手段に誘導する光路と、
前記第１取付部および前記第２取付部を前記筐体に取り付けた状態においてのみ該光路を導通させる遮断手段と、
を備えたことを特徴とする開封検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に記載の本発明は、請求項１記載の開封検出装置において、前記第１取付部と前記第２取付部とは弾性部材で互いに連結されていることを特徴とする。請求項３に記載の本発明は、請求項１または２に記載の開封検出装置において、前記相対移動検出手段が、前記第１取付部および前記第２取付部の内の一方に設けられた発光手段と、該発光手段の光を検出する受光手段と、前記発光手段の光を、前記第１取付部および前記第２取付部の内の他方に誘導し、更に前記受光手段に誘導する光路と、前記第１取付部および前記第２取付部を前記筐体に取り付けた状態においてのみ該光路を導通させる遮断手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項３に記載の本発明は、相対移動検出手段が、発光手段と、この発光手段の光を検出する受光手段と、発光手段の光を受光手段に誘導する光路と、遮断手段とを備えたものとしている。発光手段は、第１取付部および第２取付部の内の一方に設けられている。ここから発せられた光は、第１取付部および第２取付部を筐体に取り付けた状態においては、光路によって第１取付部および第２取付部の内の他方に誘導されて、受光手段に達する。そして第１取付部および第２取付部の少なくとも一方が、正しく筐体に取り付けられた状態からずれると、発光手段の光は遮断手段によって遮断される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このように相対移動検出手段を構成すれば、第１取付部および第２取付部の相対移動を検出することができる。なお、遮断手段としては、穴が形成されたドグを第２取付部に設けることなどが考えられる。第１取付部および第２取付部が筐体に正しく取り付けられた状態で発光手段から発せられた光がドグの穴を通って受光手段に達するようにしておけば、第１取付部および第２取付部が剥がされたときにドグにて遮断されるので、前述の作用を発揮する。なお、遮断手段に関しては請求項６にて、これとは異なる態様を示す。また、この記載とは論理が逆になるが、第１取付部および第２取付部が筐体に正しく取り付けられた状態では光が受光手段に到達せず、第１取付部および第２取付部が相対移動を起こすと光が受光手段に到達する、いわば光導通手段に代えても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】携帯用電子データ機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ソフトウェアを内蔵した携帯用電子データ機器において、
変更データを格納した非接触メモリを内蔵した非接触メモリ内蔵タグと、
前記変更データを非接触で読み取る読み取り手段と、
前記変更データによって、前記ソフトウェアを書き換える書き換え手段と、を有する携帯用電子データ機器本体と、
からなる携帯用電子データ機器。
【請求項２】  前記非接触メモリ内蔵タグは、紙媒体に刷り込む構成としたことを特徴とする請求項１記載の携帯用電子データ機器。
【請求項３】  前記変更データはゲーム用ソフトウェアの全部を書き換えるデータであることを特徴とする請求項１記載の携帯用電子データ機器。
【請求項４】  前記変更データはゲーム用ソフトウェアの一部を書き換えるデータであることを特徴とする請求項１記載の携帯用電子データ機器。
【請求項５】  前記変更データはゲーム用ソフトウェアにデータを追加するデータであることを特徴とする請求項１記載の携帯用電子データ機器。
【請求項６】  前記変更データが読み取られた後に、前記非接触メモリ内蔵タグの変更データを消去するデータ消去手段を前記携帯用電子データ機器本体側に有することを特徴とする請求項１記載の携帯用電子データ機器。
【請求項７】  前記変更データが読み取られた後に、前記非接触メモリ内蔵タグの変更データを消去するデータ消去手段を非接触メモリ内蔵タグ側に有することを特徴とする請求項１記載の携帯用電子データ機器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はソフトウェアを有する携帯用電子データ機器に関し、特に非接触でソフトウェアの書き換えを行う携帯用電子データ機器に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明はこのような点に鑑みなされたものであり、携帯用電子データ機器において、非接触メモリ内蔵タグを用い、データの一部書き換えが可能な携帯用電子データ機器を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、ソフトウェアを内蔵した携帯用電子データ機器において、変更データを格納した非接触メモリを内蔵した非接触メモリ内蔵タグと、前記変更データを非接触で読み取る読み取り手段と、前記変更データによって、前記ソフトウェアを書き換える書き換え手段と、を有する携帯用電子データ機器本体と、からなる携帯用電子データ機器が提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
ここで、非接触メモリ内蔵タグは変更データを格納し、携帯用電子データ機器本体は、読み取り手段により非接触メモリ内蔵タグから変更データを読みとり、書き換え手段によってソフトウェアを書き換える。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、変更データを格納した非接触メモリを内蔵した非接触メモリ内蔵タグと、携帯用電子データ機器本体と、変更データを非接触で読み取る読み取り手段とを有する携帯用電子データ機器によって、データの書き換えを行うこととしたため、一部データのみを書き換えたり追加したりすることができ、またケーブルで接続するようなわずらわしさもない。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パチンコ機シュミレータであり、
遊技盤の基本形状に関するデータを記憶する遊技盤基本データ記憶手段と、
遊技盤上に配置される遊技装置の形状及び属性を記憶する遊技装置記憶手段と、
前記遊技盤基本データ記憶手段に記憶されている遊技盤と、前記遊技装置記憶手段に記憶されている遊技装置とを、画面上に表示する表示手段と、
前記画面上に表示された遊技装置を選択する選択手段と、
その選択手段で選択した遊技装置を配置する遊技盤上の位置を指定する位置指定手段と、
遊技盤上に打ち込まれるパチンコ球の初期データと、前記選択手段で選択した遊技装置の属性と、前記位置指定手段により指定した遊技装置の形状と位置とに基づいて、パチンコ球の軌道計算を行う球軌道計算手段と、
その球軌道計算手段で計算したパチンコ球の軌道と、前記選択手段で選択された遊技装置とを、前記画面上に表示されている遊技盤上に重ねて表示する追加表示手段とを備えたパチンコ機シュミレータ。
【請求項２】
請求項１記載のパチンコ機シュミレータであり、更に前記遊技装置記憶手段に記憶されている遊技装置の形状及び属性を設計変更することができる設計変更手段を備えているパチンコ機シュミレータ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のパチンコ機シュミレータであり、少なくとも前記位置指定手段により遊技装置の位置を指定する際に、遊技盤上に常時パチンコ球が打ち込まれ、パチンコ球と遊技装置の両者が画面上に表示されるように設定可能なパチンコ機シュミレータ。
【請求項４】
遊技盤の基本形状に関する遊技盤基本データと、遊技盤上に配置される遊技装置の形状及び属性に関する遊技装置データとを記憶し、
その記憶した遊技盤基本データ及び遊技装置データに基づいて遊技盤と遊技装置とをそれぞれ画面上に表示し、
画面上に表示された遊技装置が選択され、その選択された遊技装置を配置する遊技盤上の位置が指定されると、遊技盤上に打ち込まれるパチンコ球の初期データと、遊技盤上に配置された遊技装置の属性と、遊技装置の形状と位置と、に基づいてパチンコ球の軌道計算を行い、
その軌道計算されたパチンコ球と遊技盤上に配置される遊技装置とを、前記画面上に表示されている遊技盤上に重ねて表示するシュミレート機能をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を出力する情報出力手段と、
感情ラベルと感情強度に応じた制御情報を生成する制御情報生成手段とを備え、
上記制御情報に基づいて上記感情ラベルと感情強度に応じた情報を出力するように上記情報出力手段を制御することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
上記情報出力手段は、可動機構を有する可動手段からなり、
上記制御手段は、感情ラベルと感情強度に応じて上記可動機構を制御することを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
上記情報出力手段は、発光する発光手段からなり、
上記制御手段は、感情ラベルと感情強度に応じて上記発光手段の発光を制御することを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項４】 
上記情報出力手段は、音声を出力する音声出力手段からなり、
上記制御手段は、感情ラベルと感情強度に応じて上記音声出力手段の音声出力を制御することを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項５】
自己の感情ラベルと感情強度から、その感情ラベルと感情強度に対応した自己の情報提示パターンを生成する情報提示パターン生成手段と、
入力される他のロボット装置の情報提示パターンに対して、当該情報パターンを上記情報提示パターン生成手段によって生成するときの自己の感情ラベルと感情強度を逆計算して感情ラベルと感情強度を推定する感情ラベルと感情強度推定手段とを備え、
上記制御情報生成手段は、上記感情ラベルと感情強度推定手段によって推定された感情ラベルと感情強度を上記他の情報処理装置の感情ラベルと感情強度と認識して、当該感情ラベルと感情強度に応じた制御情報を生成することを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項６】
上記制御情報生成手段は、上記感情ラベルと感情強度推定手段が複数の入力される情報提示パターンから複数の感情ラベルと感情強度を推定したときは、これらの感情ラベルと感情強度を関連付けて上記他の情報処理装置に関する追加情報を生成することを特徴とする請求項５記載の情報処理装置。
【請求項７】
感情ラベルと感情強度に応じた制御情報を生成し、生成された制御情報に基づいて、感情ラベルと感情強度に応じた情報を出力することを特徴とする情報処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために、本発明に係る情報処理装置は、情報を出力する情報出力手段と、感情ラベルと感情強度に応じた制御情報を生成する制御情報生成手段とを備え、上記制御情報に基づいて上記感情ラベルと感情強度に応じた情報を出力するように上記情報出力手段を制御することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る情報処理方法は、感情ラベルと感情強度に応じた制御情報を生成し、生成された制御情報に基づいて、感情ラベルと感情強度に応じた情報を出力することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係る情報処理装置及び情報処理方法によれば、感情ラベルと感情強度に応じた制御情報を生成し、生成された制御情報に基づいて、感情ラベルと感情強度に応じた情報を出力することにより、直感的で従来よりも親しみ易く、感性豊かなヒューマンインターフェースを提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月1日(2006.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】石膏板の表面に板紙が積層された石膏ボードの表面に、前記石膏ボードに対する塗布面積率が３０％以下で、間欠状に塗布された接着剤により表面板が接着されている複合ボード。
【請求項２】前記間欠状は、線状、または、点状、もしくは、メッシュ状である請求項１に記載の複合ボード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
接着剤を間欠的に塗布する塗布方法としてロールコーター、ノズルコータ、スプレー等の間欠的に塗布できるものであればどんな方法であつても構わないが、塗布面積率は３０％以下が好ましい。３０％より大きいと剥離作業する際に剥離しにくく作業の効率が低下して好ましくない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
接着剤を塗布後の圧締はピンチロール又はプレスにより数ｋｇ／ｃｍ２の圧力で行われる。
圧締時間は接着剤の種類により適宜選定されればよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【表１】
2000218724.tif 000001
注 ） Ｔ型剥離強度及び耐熱Ｔ型剥離強度 単位［ｋｇｆ／50ｍｍ］
ｂｆ： 材料破壊 ｃｆ：凝集破壊
再剥離性 〇：剥離容易 △：やや剥離容易 ×：剥離難
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月17日(2006.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放電加工機
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  導電性の加工ツールと、
前記加工ツールを回転駆動するスピンドルと、
前記加工ツール及び前記加工ツールに対して放電液体空間内で近接配置された導電性被加工物体に所定時間幅を有する電圧パルスを所定時間間隔で印加して放電させる電圧印加手段と、
前記スピンドルをスラスト方向に音波ないし超音波振動周波数で往復駆動する往復駆動手段と、
を有することを特徴とする放電加工機。
【請求項２】  請求項１記載の放電加工機において、
前記往復駆動手段は、
前記スピンドルを非接触で磁気浮上させ、かつスラスト方向位置を制御するフィードバック制御回路と、
前記フィードバック制御回路に超音波キャリア信号を重畳する重畳回路と、
を有することを特徴とする放電加工機。
【請求項３】  請求項２記載の放電加工機において、
前記フィードバック制御回路は、
前記スピンドルをスラスト方向に駆動する磁気アクチュエータと、
前記スピンドルのスラスト方向位置を検出する検出手段と、
前記検出手段からの検出信号に基づいて前記磁気アクチュエータに駆動信号を供給する位置制御手段と、
を有することを特徴とする放電加工機。
【請求項４】  請求項２、３のいずれかに記載の放電加工機において、
前記往復駆動手段は、前記フィードバック制御回路にさらに音波キャリア信号を重畳する音波キャリア信号重畳回路を有することを特徴とする放電加工機。
【請求項５】  請求項１〜４のいずれかに記載の放電加工機において、
前記加工ツールと前記被加工物体との間に超音波キャビテーションを生ぜしめることを特徴とする放電加工機。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれかに記載の放電加工機において、
前記加工ツールは中空パイプ状であることを特徴とする放電加工機。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記従来技術の有する課題に鑑みなされたものであり、その目的は、ワークに形成された穴が深い場合でも放電加工の加工効率を徒に低下させることなく確実に溶解屑を排出することができる放電加工機を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第１の発明は、導電性の加工ツールと、前記加工ツールを回転駆動するスピンドルと、前記加工ツール及び前記加工ツールに対して放電液体空間内で近接配置された導電性被加工物体に所定時間幅を有する電圧パルスを所定時間間隔で印加して放電させる電圧印加手段と、前記スピンドルをスラスト方向に音波ないし超音波振動周波数で往復駆動する往復駆動手段とを有することを特徴とする。スラスト方向に往復駆動することで、加工穴に存在する溶解屑を放電液体とともに確実に排出することができる。より具体的には、超音波により発生する気泡の移動あるいはその気泡が割れることによる洗浄効果により溶解屑が排出される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、第４の発明は、前記往復駆動手段は、前記フィードバック制御回路にさらに音波キャリア信号を重畳する音波キャリア信号重畳回路を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、第５の発明は、前記加工ツールと前記被加工物体との間に超音波キャビテーションを生ぜしめることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、第６の発明は、前記加工ツールは中空パイプ状であることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月20日(2006.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
７００ｎｍ〜９００ｎｍの間の波長領域に感度を付与する増感色素と、この波長領域に吸収を有し感度を減少させる減感色素を含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項２】
該感光性性組成物中に有機ホウ素塩化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
該感光性組成物が、多官能性モノマーと側鎖に重合性二重結合を有するポリマーを含有する請求項１または２に記載の感光性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】感光性組成物
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
なお、この投影露光装置１００は、全体方向に同一の補正倍率を変化させる方式の装置と異なり、縦横の伸縮率が一様でないワークに対して特に有効となるものである。
【特許文献１】特開２００３−２２３００３号公報（全文）
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月31日(2006.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンが形成された試料表面の領域を一次荷電粒子ビームで走査する工程と、
該一次荷電粒子ビームの照射により該領域から発生する二次電子の信号を検出する工程と、
検出した信号から該領域の画像を形成する工程と、
該画像からヒストグラムを形成する工程と、
これら全ての工程を荷電粒子ビームの照射条件を変化させる度に行い、前記ヒストグラムで２つ以上のピークが分離した時を検査条件と決定し、その条件で取得した画像をもとに検査を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項２】
所定のパターンが形成された試料表面の領域を一次荷電粒子ビームで走査する工程と、
該一次荷電粒子ビームの照射により該領域から発生する二次電子の信号を検出する工程と、
検出した信号から該領域の画像を形成する工程と、該画像からヒストグラムを形成する工程と、
これら全ての工程を荷電粒子ビームの照射条件を変化させる度に行い、前記ヒストグラムで２つ以上のピークが分離し、前記ピーク間の差と前記ピークの幅の相対比があらかじめ決めた最大値と最小値の間になる時を検査条件と決定し、その条件で取得した画像をもとに検査を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の試料検査方法において、
前記試料が半導体ウエハであって、
前記荷電粒子ビームの照射条件を変化させる為に、ビーム電流、ビームエネルギー、照射面積、ウエハとウエハ周りの電極間の電位分布の内、一つ以上変化させることを特徴とする試料検査方法。
【請求項４】
請求項１又は３に記載の試料検査方法において、
前記ピークの分離判定をするために、複数のガウス関数またはローレンツ関数の和でフィッティングする工程と、
各ガウス関数またはローレンツ関数の平均値および標準偏差を算出する工程と、
隣り合うガウス関数またはローレンツ関数における平均値の差の絶対値と標準偏差の和との商を算出する工程を含み、
当該商を用いて設定された検査条件を用いて前記検査を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項５】
請求項４に記載の試料検査方法において、
前記商があらかじめ決めた最小値と最大値の間となるように前記検査条件を設定することを特徴とする試料検査方法。
【請求項６】
請求項１又は３に記載の試料検査方法において、
前記ピークの分離判定をするために、複数のガウス関数の和でフィッティングする工程と、各ガウス関数の平均値および標準偏差を算出する工程と、
隣り合うガウス関数における平均値の差の絶対値と標準偏差の和との商を算出する工程を含み、
該商が１より大きく３より小さくなるように検査条件を設定し、その条件で
検査を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項７】
請求項１又は３に記載の試料検査方法において、
前記ピークの分離判定をするために、複数のローレンツ関数の和でフィッティングする工程と、
各ローレンツ関数の平均値および半値幅を算出する工程と、
隣り合うローレンツ関数における平均値の差の絶対値と半値幅の和との商を算出する工程を含み、該商が１より大きく３より小さくなるように検査条件を設定し、その条件で検査を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項８】
請求項１から７に記載の試料検査方法において、
前記ヒストグラムを算出する際、前処理として画像のパターン部と、パターン以外からの信号を抽出し、該信号のヒストグラムを算出する工程を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項９】
請求項１から７に記載の試料検査方法において、
上記ヒストグラムを算出する際、画像像にシェーディングが有る場合は、前処理として該シェーディングを除去する画像処理の工程を行うことを特徴とする試料検査方法。
【請求項１０】
請求項１から９に記載の試料検査方法において、
決定した検査条件をデーターベース化し、
検査の際は、既存の検査条件データベースの中から検査ウエハに近いものを選択し、それを検査条件として用いることを特徴とする試料検査方法。
【請求項１１】
試料を載置する試料台と、
一次荷電粒子ビームを前記試料台上の試料に照射するための対物レンズと、
荷電粒子ビームの照射条件の変更を行う制御部と、
前記試料から発生する二次電子を検出する検出器と、
前記検出器からの信号を用いて、検査されるべき領域の画像の信号を記憶するための画像記憶部と、
前記画像のヒストグラムを算出し、検査条件を決定するための演算部と、
を具備してなることを特徴とする試料検査装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の試料検査装置において、
前記試料台が半導体ウエハを載置する試料台であって、
前記荷電粒子ビームの照射条件を変化させる前記制御部において、ビーム電流、ビームエネルギー、照射面積、ウエハとウエハ周りの電極間の電位分布の内、一つ以上変化させることを特徴とする試料検査装置。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の試料検査装置において、
前記演算部は、前記ヒストグラムにおいてピークを分離判定するために、孤立したピークを持つ関数の複数個の和で前記ヒストグラムをフィッティングし、
各関数の平均値および標準偏差を算出し、
隣り合う関数における平均値の差の絶対値と標準偏差の和との商を算出し、
当該商を用いて検査条件を決定することを特徴とする試料検査装置。
【請求項１４】
請求項１１又は１２に記載の試料検査装置において、
前記演算部は、前記ヒストグラムにおいてピークを分離判定するために、複数のガウス関数またはローレンツ関数の和でフィッティングし、
各ガウス関数またはローレンツ関数の平均値および標準偏差を算出し、
隣り合うガウス関数またはローレンツ関数における平均値の差の絶対値と標準偏差の和との商を算出し、
当該商を用いて検査条件を決定することを特徴とする試料検査装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の試料検査装置において、
前記演算部は、前記商があらかじめ定められた最小値と最大値の間となるように前記検査条件を決定することを特徴とする試料検査装置。
【請求項１６】
請求項１１から１５に記載の試料検査装置において、
前記検出部からの信号に基づき画像を形成し、検査されるべき該画像を基準画像と比較するための第１の演算回路と、
該比較演算回路での比較結果から前記試料の回路パターン上の欠陥部を判別するための第２の演算回路とを具備することを特徴とする試料検査装置。
【請求項１７】
請求項１１から１５に記載の試料検査装置において、
前記検出部からの信号に基づき画像を形成し、検査されるべき該画像を他の同一回路パターンの画像と比較するための比較演算回路と、
該比較演算回路での比較結果から前記試料の回路パターン上の欠陥部を判別するための演算回路とを具備することを特徴とする試料検査装置。
【請求項１８】
請求項１１から１５に記載の試料検査装置において、
前記検出部からの信号に基づき画像を形成し、欠陥種ごとに分類する計算機部を具備することを特徴とする試料検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、入力導波路と出力導波路間に２本の分岐導波路を有するマッハツェンダ型光導波路を形成し、一方の分岐導波路上方に形成された薄膜ヒータの通電により信号光の利得減衰を調整する導波路型可変光減衰器において、一方の分岐導波路上方に、上記信号光の利得減衰を粗調整する１つ以上の粗調整用薄膜ヒータと、その粗調整用薄膜ヒータよりも大きい抵抗値を有し上記信号光の利得減衰を微調整する１つ以上の微調整用薄膜ヒータとを設け、上記粗調整用薄膜ヒータ及び上記微調整用薄膜ヒータに電源を個別に接続したことを特徴とする導波路型可変光減衰器。
【請求項２】
基板上に、入力導波路と出力導波路間に２本の分岐導波路を有するマッハツェンダ型光導波路を形成し、一方の分岐導波路上方に形成された薄膜ヒータの通電により信号光の利得減衰を調整する導波路型可変光減衰器において、一方の分岐導波路上方に、上記信号光の利得減衰を粗調整する粗調整用薄膜ヒータと、その粗調整用薄膜ヒータよりも大きい抵抗値を有し上記信号光の利得減衰を微調整する微調整用薄膜ヒータとを設け、上記粗調整用薄膜ヒータ及び上記微調整用薄膜ヒータを電源に並列に接続し、上記粗調整用薄膜ヒータ及び上記微調整用薄膜ヒータにそれぞれ可変抵抗を直列接続したことを特徴とする導波路型可変光減衰器。
【請求項３】
上記粗調整用薄膜ヒータと上記微調整用薄膜ヒータとが同じ材料で形成され、形状が異なる請求項１または２に記載の導波路型可変光減衰器。
【請求項４】
上記１つ以上の粗調整用薄膜ヒータ及び上記１つ以上の微調整用薄膜ヒータの各抵抗値は、粗調整用薄膜ヒータの最も小さい抵抗値をＲとしたとき、他の薄膜ヒータの抵抗値がＲ×Ｃn（Ｃは定数）である請求項１から３いずれかに記載の導波路型可変光減衰器。
【請求項５】
基板上に、入力導波路と出力導波路間に２本の分岐導波路を有するマッハツェンダ型光導波路を形成し、一方の分岐導波路上方に形成された薄膜ヒータに通電し、信号光の減衰利得を調整する導波路型可変光減衰器の制御方法において、
一方の分岐導波路上方には抵抗値の異なる複数の薄膜ヒータを設け、該薄膜ヒータにそれぞれ電源を接続し、抵抗値の小さい薄膜ヒータに通電して信号光の減衰利得を粗調整すると共に、抵抗値の大きい薄膜ヒータに通電して信号光の減衰利得を微調整することを特徴とする導波路型可変光減衰器の減衰利得制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、基板上に、入力導波路と出力導波路間に２本の分岐導波路を有するマッハツェンダ型光導波路を形成し、一方の分岐導波路上方に形成された薄膜ヒータの通電により信号光の利得減衰を調整する導波路型可変光減衰器において、一方の分岐導波路上方に、上記信号光の利得減衰を粗調整する粗調整用薄膜ヒータと、その粗調整用薄膜ヒータよりも大きい抵抗値を有し上記信号光の利得減衰を微調整する微調整用薄膜ヒータとを設け、上記粗調整用薄膜ヒータ及び上記微調整用薄膜ヒータに電源を個別に接続した導波路型可変光減衰器である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項２の発明は、基板上に、入力導波路と出力導波路間に２本の分岐導波路を有するマッハツェンダ型光導波路を形成し、一方の分岐導波路上方に形成された薄膜ヒータの通電により信号光の利得減衰を調整する導波路型可変光減衰器において、一方の分岐導波路上方に、上記信号光の利得減衰を粗調整する粗調整用薄膜ヒータと、その粗調整用薄膜ヒータよりも大きい抵抗値を有し上記信号光の利得減衰を微調整する微調整用薄膜ヒータとを設け、上記粗調整用薄膜ヒータ及び上記微調整用薄膜ヒータを電源に並列に接続し、上記粗調整用薄膜ヒータ及び上記微調整用薄膜ヒータにそれぞれ可変抵抗を直列接続した導波路型可変光減衰器である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３の発明は、上記粗調整用薄膜ヒータと上記微調整用薄膜ヒータとが同じ材料で形成され、形状が異なる導波路型可変光減衰器である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４の発明は、上記１つ以上の粗調整用薄膜ヒータ及び上記１つ以上の微調整用薄膜ヒータの各抵抗値は、粗調整用薄膜ヒータの最も小さい抵抗値をＲとしたとき、他の薄膜ヒータの抵抗値がＲ×Ｃn （Ｃは定数）である導波路型可変光減衰器である。。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接合部から少なくとも第一の光導波路と第二の光導波路の二つに分岐された光導波路部を有する光分岐結合器において、
前記第一の光導波路と前記第二の光導波路との間にクラッド層を有し、
前記第一の光導波路の端面と前記第二の光導波路の端面は、前記接合部の端面に合わせて結合され、
前記第一の光導波路及び前記第二の光導波路は射出形成で生成され、前記第一の光導波路の断面積が、前記接合部から分岐方向に向けて減少するテーパ形状をなしている光分岐結合器。
【請求項２】
請求項１の光分岐結合器において、
前記第二の光導波路は反射面を有する光分岐結合器。
【請求項３】
請求項１の光分岐結合部において、
前記接合部において、前記第二の光導波路の断面積が、前記第一の光導波路の断面積よりも小さい光分岐結合器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記の目的を達成するために、本発明は、接合部から少なくとも第一の光導波路と第二の光導波路の二つに分岐された光導波路部を有する光分岐結合器において、第一の光導波路と第二の光導波路との間にクラッド層を有し、第一の光導波路の端面と第二の光導波路の端面は、接合部の端面に合わせて結合され、第一の光導波路及び第二の光導波路は射出形成で生成され、第一の光導波路の断面積が、接合部から分岐方向に向けて減少するテーパ形状をなしている光分岐結合器の構成とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性を有する被除去物が含まれる前処理水中の前記被除去物が通過できない目開きを有し、この前処理水を濾過する膜による濾過手段と、
この濾過手段に堆積した前記被除去物を前記濾過手段の表面から流体力で剥離させる洗浄手段と、
前記濾過手段から剥離された前記被除去物に磁場を作用させる磁場発生手段側に移送するための移送手段と、
移送されて磁性を有する前記被除去物を捕捉し、磁場発生手段による磁場強度の大きい部分から磁場強度の小さい部分に前記捕捉された前記被除去物を移動するための捕捉移動手段と、
磁場強度が小さい部分に移動された前記捕捉移動手段上の磁性を有する前記被除去物を掻き取るための掻き取り手段と、
掻き取られた前記被除去物を回収する回収手段とを備えることを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項２】
請求項１記載の膜磁気分離装置において、
前記濾過手段は前記前処理水を外周面及び側面で濾過するドラム状に形成されていることを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項３】
請求項１記載の膜磁気分離装置において、
前記濾過手段は前処理水を外周面及び側面で濾過するドラム状に形成した濾過ユニットを回転可能に複数段に設けたものであることを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項４】
請求項１記載の膜磁気分離装置において、
前記洗浄手段は前記被除去物を大気部で前記膜による濾過手段から剥離するものであり、前記移送手段は、前記濾過手段の側方で被処理水液面上方に位置し、被処理水液面上方で前記濾過手段を洗浄した洗浄水及び剥離された被除去物を前記濾過手段の外周部に導くように傾斜した樋を有していることを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の膜磁気分離装置において、
前記樋は前記濾過手段と一体化されて前記濾過手段と共に回転することを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項６】
請求項１記載の膜磁気分離装置において、
前記膜による濾過手段は、前処理水中の異なる大きさの被除去物が通過できない大きさの目開きを有する膜を隙間を空けて複数層に配置し、前記前処理水を濾過する順に大きな目開きの膜から小さな目開きの膜となるように設けられていることを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項７】
請求項１記載の膜磁気分離装置において、
前記磁場発生手段近傍の前記捕捉手段外周部位に整流手段を設けたことを特徴とする膜磁気分離装置。
【請求項８】
請求項１記載の膜磁気分離装置において、
前記磁場発生手段を前記濾過手段の濾過幅または前記洗浄手段の洗浄水の流出幅より小さい長さで形成し、前記膜による濾過手段から剥離された被除去物を前記磁場発生手段の方向に案内するためのガイド手段を設けたことを特徴とする膜磁気分離装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月10日(2005.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
次に、本実施の形態において採用するエントロピー基準による判別ツリー法についてより詳細に説明する。これについては、たとえば、「Ｃ４．５：Ｐｒｏｇｒａｍｓ  ｆｏｒ  Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｌｅａｒｎｉｎｇ（１９９３年、Ｊ．  Ｒｏｓｓ  Ｑｕｉｎｌａｎ著  Ｍｏｒｇａｎ  Ｋａｕｆｍａｎｎ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ,  Ｉｎｃ．発行）」に詳細に述べられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【数１】
2004164155.tif 000001
ただし、ここで、｜Ｓ｜は集合Ｓの事例数を表す。
このときクラスＣｊが生起したことによって得られる情報量Info(Ｃｊ)は、数２により表される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【数２】
2004164155.tif 000002
このように情報量を定義すると、起こりやすい事象（Prob(Ｃｊ)が大）に関しては情報量が小さく、めったに起こらない事象（Prob(Ｃｊ)が小）に関しては情報量が大きくなる。情報量をクラスの選ばれやすさで平均をとった、数３で表されるものを、集合Ｓのエントロピー（Entropy(Ｓ)）と称する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【数３】
2004164155.tif 000003
Ｘを、集合ＳをＴ１，・・・，Ｔｋに分割する方法の１つとする。ここで、ｋは、２からＸのカテゴリ数までの可能性がある。このとき、分割後の部分集合Ｔｉのエントロピーの期待値Entropyｘ(Ｓ)は、数４に示すように、Entropy(Ｔｉ)の重み付き平均で与えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月30日(2006.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２のパッシブ領域ならびに上記第１及び第２パッシブ領域間に横断的に配置された中央トラックの幅領域を有するスピンバルブ（ＳＶ）センサであって、
ピン固定層と、
強磁性自由層と、
該ピン固定層と該自由層の間に挟まれたスペーサ層と、
上記第１及び第２パッシブ領域内にある強磁性バイアス層と、
上記中央トラックの領域内にあり、第１及び第２パッシブ領域内の強磁性バイアス層の間に横断的に配置されている非磁性酸化物層と、
上記自由層と上記強磁性バイアス層の間に挟まれた、第１及び第２のパッシブ領域内で該バイアス層と該自由層の間の強力な逆平行結合を生ずるための逆平行結合層と、
上記強磁性バイアス層上に形成された第１のキャップ層と、
上記非磁性酸化物層上に形成された第２のキャップ層と、
を含むことを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項２】
請求項１に記載のスピンバルブセンサにおいて、スピンバルブセンサに接続されている第１及び第２の導線層が、それぞれ第１及び第２のパッシブ領域内のバイアス層に重なっていることを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項３】
請求項２に記載のスピンバルブセンサにおいて、第１及び第２パッシブ領域の間のトラック幅領域が、第１及び第２導線層の間隔によって決定されることを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項４】
請求項１に記載のスピンバルブセンサにおいて、自由層が：
第２の副自由層（ｆｒｅｅ ｓｕｂｌａｙｅｒ）；及び
該第２副自由層とスペーサ層の間に挟まれた第１の副自由層を構成要素として含むことを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項５】
請求項４に記載のスピンバルブセンサにおいて、第１の副自由層がＣｏ―Ｆｅ合金で、第２の副自由層がＮｉ―Ｆｅ合金で作られていることを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項６】
請求項１に記載のスピンバルブセンサにおいて、バイアス層が：
第２の副バイアス層（ｂｉａｓ ｓｕｂｌａｙｅｒ）；及び
該第２副バイアス層と逆平行結合層の間に挟まれた第１副バイアス層を構成要素として含むことを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項７】
請求項６に記載のスピンバルブセンサにおいて、第１の副バイアス層がＣｏ―Ｆｅ合金で、第２の副バイアス層がＮｉ―Ｆｅ合金で作られていることを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項８】
請求項１に記載のスピンバルブセンサにおいて、上記第１のキャップ層は、ＴａとＲｕとからなることを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項９】
請求項１に記載のスピンバルブセンサにおいて、上記第２のキャップ層は、ＲｈとＲｕとからなる群から選ばれた材料によって形成されることを特徴とするスピンバルブセンサ。
【請求項１０】
第１及び第２のパッシブ領域、ならびに上記第１及び第２パッシブ領域間に横断的に配置された中央トラック幅領域を有するスピンバルブセンサを製作する方法において、
ピン固定層、スペーサ層、及び自由層を順次被着堆積する工程と、
自由層と逆平行結合された強磁性バイアス層を被着する工程（逆平行結合は、自由層と該バイアス層の間に挟まれた１個の逆平行結合層による）と、
バイアス層の上にキャップ層を被着する工程と、
キャップ層の上に第１及び第２の導線層を被着する工程（上記第１及び第２導線層は、それぞれ第１及び第２パッシブ領域に重なっており、この場合、第１及び第２パッシブ領域間のトラック幅領域は、第１及び第２の導線層の間隔によって決定される）と、
第１及び第２導線層の間にあるトラック幅領域内のキャップ層を除去する工程と、トラック幅領域内のバイアス層の強磁性材料を、非磁性の酸化物層に転化せしめる工程と、
を含むスピンバルブセンサの製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、トラック幅領域内のキャップ層を除去する工程に、スパッタエッチング及び反応性イオンエッチングプロセスを使用することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法において、トラック幅領域内のバイアス層の強磁性材料を非磁性の酸化物層に転化させる工程に、酸素含有ガスを用いたスパッタエッチングを使用することを特徴とする方法。