(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｍｏｌ％で、
ＳｉＯ2：５５．０〜７５．０％、
Ｂ2Ｏ3： １．０〜５．１％、
Ａｌ2Ｏ3：３．０〜１６．０％、
Ｌｉ2Ｏ：５．０〜１５．０％、
Ｎａ2Ｏ：１４．０％以下、
Ｋ2Ｏ：１２．０％以下、
Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１６．０〜２５．０％、
Ｔａ2Ｏ5：０．００１〜２．０％、
のガラス組成を有し、
Ｐ２Ｏ５、ＲＯ（ＲはＣａ、 Ｍｇ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｐｂから選ばれる金属）を含有せず、
Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｔｅ、Ｅｒ、Ｎｄ及びＰｂの金属成分を含有せず、
線熱膨張係数が８０〜１２０×１０-7／℃の範囲であり、表面を♯６００の研磨材で研磨した試料ガラスを８０℃の逆浸透膜水５０ｍｌ中に２４時間浸漬した後、ＩＣＰ発光分光分析装置で溶出液を分析し算出したアルカリ溶出量が０．７〜１．５μｇ／ｃｍ2の範囲で、表面および内部の組成が均質であるガラス基板。
【請求項２】
請求項１に記載のガラス基板の表面に、直接又は他の層を介して情報記録層を形成したことを特徴とする情報記録用媒体。
【請求項３】
請求項１に記載のガラス基板を基板として用いたことを特徴とする光通信用素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はガラス基板に関し、より詳細には情報記録用媒体や光通信用素子などの基板として用いるガラス基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気ディスク用基板としてアルミニウム合金が広く用いられていたが、アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。また、ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板の開発が進められている。
【０００３】
ガラス基板としては、基板表面のアルカリ元素を他のアルカリ元素と置換することにより機械的強度を向上させた化学強化ガラスと、非晶質のガラス中に微細な結晶質粒子を析出させた結晶化ガラスが開発されている。しかし、化学強化ガラスでは基板表面のアルカリイオンが、磁性膜を成膜する際の加熱工程時に表面に移動して溶出したり、あるいは磁性膜を侵食したり、磁性膜の付着強度を劣化させたりする問題があった。また、結晶化ガラスでは、生成した微結晶粒子と非晶質ガラスとの摩耗性の違いから、基板表面の研磨後の凹凸が大きく平滑性が十分とは言えなかった。また、上記のいずれのガラスも、化学強化処理工程または結晶化工程といった後処理プロセスが必要となるため低コスト化が難しい。
【０００４】
一方、化学強化や結晶化の強化処理を行わないガラス基板では、低コスト化は図れるものの、線熱膨張係数が一般に６０〜７０×１０-7／℃程度であるため、SUS鋼などでできたクランプやスピンドルモータ部材の線熱膨張係数（１００〜１２０×１０-7／℃程度）との差が大きく、記録媒体の記録装置への取付け時や情報記録時に不具合が生じることがあった。
【０００５】
また光フィルタや光スイッチなどの光通信用素子でも基板としてガラス基板が用いられているが、ガラス基板から溶出したアルカリ成分によって前記素子が劣化することがあった。また、ガラス基板上に形成される膜の密度が大きくなるほど、温度・湿度の変化による波長シフトが抑制されるところ、従来広く用いられている真空蒸着法では形成できる膜の密度に限界があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような従来の問題に鑑みてなされたものであり、線熱膨張係数がモータ部材のそれに近く、しかもアルカリ成分の溶出が少なく、低コストであるガラス基板を提供することをその目的とするものである。
【０００７】
また本発明の目的は、耐久性に優れ、高い記録密度を有する情報記録用媒体を提供することにある。
【０００８】
さらに本発明の他の目的は、経時変化が少なく、温度・湿度の変化による波長シフトが抑制された光通信用素子を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため本発明のガラス基板では、線熱膨張係数が８０〜１２０×１０-7／℃の範囲であり、アルカリ溶出量が０．７〜１．５μｇ／ｃｍ2の範囲で、表面および内部の組成が均質である構成とした。なお、表面および内部の組成が均質とは、強化処理を行っていないとの意味である。また、以下「％」は特に断りのない限り「ｍｏｌ％」を意味するものとする。
【００１０】
ここで線熱膨張係数は、示差膨張測定装置を用いて、荷重：５ｇ、温度範囲：２５〜１００℃、昇温速度：５℃／ｍｉｎの条件で測定した値である。またアルカリ溶出量は、８０℃の逆浸透膜水５０ｍｌ中に試料ガラスを２４ｈ浸漬した後、ＩＣＰ発光分光分析装置で溶出液を分析し算出した値である。なお加速試験とするため、測定する試料ガラスは、表面を＃６００の研磨材で研磨し、予め表面を荒れた状態とした。この測定方法によるアルカリ溶出量とＪＩＳ Ｒ ３５０２のアルカリ溶出試験によるアルカリ溶出量とは相関関係があり、この測定方法による溶出量０．７〜１．５μｇ／ｃｍ2は、ＪＩＳ Ｒ ３５０２のアルカリ溶出試験によるアルカリ溶出量０．２〜０．３ｍｇにおおよそ相当する。
【００１１】
また前記目的を達成するため本発明のガラス基板では、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ2：５５．０〜７５．０％、Ｂ2Ｏ3：１．０〜５．１％、Ａｌ2Ｏ3：３．０〜１６．０％、Ｌｉ2Ｏ：５．０〜１５．０％、Ｎａ2Ｏ：１４．０％以下、Ｋ2Ｏ：１２．０％以下、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１６．０〜２５．０％、Ｔａ2Ｏ5：０．００１〜２．０％のガラス組成を有し、Ｐ２Ｏ５、ＲＯ（ＲはＣａ、 Ｍｇ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｐｂから選ばれる金属）を含有せず、更にＦｅ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｔｅ、Ｅｒ、Ｎｄ及びＰｂの金属成分を含有しない構成とした。
【００１３】
また本発明によれば、前記のいずれかに記載のガラス基板の表面に、直接又は他の層を介して情報記録層を形成したことを特徴とする情報記録用媒体が提供される。また前記のいずれかに記載のガラス基板を基板として用いたことを特徴とする光通信用素子が提供される。
【００１４】
【発明の実施の形態】
ガラスにアルカリ成分を多く含有させると線熱膨張係数は大きくなるものの、アルカリ溶出量も同時に増えるため、線熱膨張係数を大きくし且つアルカリ溶出量を少なくすることはこれまで困難とされていた。ところが本発明者等が種々検討を重ねた結果、特定のアルカリ金属酸化物の各含有量および総含有量を特定の範囲にすると、線熱膨張係数を高くできると同時に、アルカリ溶出量を抑えられるという新たな知見を得、さらにＡｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3及びＴａ2Ｏ5を特定量含有させると、化学的耐久性が向上しアルカリ溶出量がさらに抑制されるという知見を得て本発明をなすに至った。
【００１５】
以下、本発明のガラス基板の成分についてその限定した理由について説明する。まず、ＳｉＯ2はガラスを形成する必須成分である。含有量が５５．０％未満であるとガラスの構造が軟弱となりアルカリ溶出量が増加する。他方、含有量が７５．０％を超えるとガラスの溶融性が悪く。また、化学的耐久性を向上させるガラス成分の含有量が相対的に少なくなるのでアルカリ溶出量が増加する。そこで含有量を５５．０〜７５．０％の範囲と定めた。より好ましい範囲としては６０．０〜６８．０％の範囲である。
【００１６】
Ｂ2Ｏ3はガラスの溶融性を改善し、化学的耐久性を向上させる作用を奏する。含有量が１．０％未満であるとこのような作用が得られず、アルカリ溶出量が増加する。他方、含有量が１０．０％を超えても化学的耐久性が低下し、アルカリ溶出量が増加する。そこで含有量を１．０〜１０．０％の範囲と定めた。より好ましい範囲としては４．０〜５．１％の範囲である。
【００１７】
Ａｌ2Ｏ3はガラスの化学的耐久性を向上させる作用を奏する。含有量が３．０％未満であるとこのような作用が得られずアルカリ溶出量が増加する。他方、含有量が１６．０％を超えるとガラスの溶融性が悪くなる。そこで含有量を３．０〜１６．０％の範囲と定めた。より好ましい範囲としては５．０〜１１．０％の範囲である。
【００１８】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏのアルカリ金属酸化物は、いずれもガラスの溶融性を向上させ、線熱膨張係数を大きくする作用を奏する。Ｌｉ2Ｏを他のアルカリ金属酸化物と共存させるとアルカリ溶出量を大幅に低減できるので、Ｌｉ2Ｏは必須成分とし、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏは少なくとも一方を含有させることにした。そして、ここで重要なことは、アルカリ金属酸化物の含有量を増やすとアルカリ溶出量も通常は増えるのであるが、アルカリ金属酸化物を本発明で規定する含有量の範囲とするとアルカリ溶出量の増加が抑えられるのである（いわゆるアルカリ混合効果）。以下、各アルカリ金属酸化物の含有量について説明する。
【００１９】
Ｌｉ2Ｏの含有量は５．０〜１５．０％の範囲とした。含有量が５．０％よりも少ないと線熱膨張係数を大きくすることができず、またガラスの溶融性が改善できない。他方、含有量が１５．０％を超えるとアルカリ溶出量が増加する。より好ましい含有量は９．０〜１３．５％の範囲である。
【００２０】
Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏの含有量はそれぞれ１４．０％及び１２．０％以下とした。Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏの含有量が１４．０％及び１２．０％をそれぞれ超えると、アルカリ溶出量が増加する。より好ましい含有量は、Ｎａ2Ｏは４．０〜９．０％の範囲、Ｋ2Ｏは３．０〜７．０％の範囲である。
【００２１】
そしてＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏの総含有量は１６．０〜２５．０％の範囲とした。この総含有量が１６．０％より少ないと、線熱膨張係数を高くしながらアルカリ溶出量を抑えるアルカリ混合効果が得られない。他方、総含有量が２５．０％を超えるとアルカリ溶出量が増加する。
【００２２】
また、本発明のガラス基板では必要によりＣａＯを６％以下の範囲でさらに含有させてもよい。ＣａＯはガラスの溶融性を向上させる作用を奏し、含有量が６％を超えるとアルカリ溶出量が増加する。より好ましい含有量は５．５％以下である。
【００２３】
Ｔａ2Ｏ5は化学的耐久性を向上させる作用を奏する。この作用はこれまで知られていなかったＴａ2Ｏ5の作用である。この作用は、０．００１％といった極微の含有であっても得られるが、含有量が２％を超えるとガラスの溶融性が悪くなる。より好ましい含有量は０．１〜１．５％の範囲である。
【００２４】
本発明のガラス基板には必要により、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3などの清澄剤、あるいは耐候性を向上させるためにＴｉＯ2、ＣａＯ以外のアルカリ土類金属酸化物といった従来公知のガラス成分及び添加剤を本発明の効果を害しない範囲で添加しても構わない。
【００２５】
本発明のガラス基板の製造方法に特に限定はなく、これまで公知の製造方法を用いることができる。例えば、各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を使用し、所望の割合に秤量し、粉末で十分に混合して調合原料とする。これを例えば１，３００〜１，５５０℃に加熱された電気炉中の白金坩堝などに投入し、溶融清澄後、撹拌均質化して予め加熱された鋳型に鋳込み、徐冷してガラスブロックにする。次に、ガラス転移点付近まで再加熱し、徐冷して歪み取りを行う。そして得られたガラスブロックを円盤形状にスライスして、内周および外周を同心円としてコアドリルを用いて切り出す。さらに、両面を粗研磨した後ポリッシングを行ってガラス基板とする。
【００２６】
本発明のガラス基板を情報記録用媒体の基板として用いる場合には、線熱膨張係数は８０〜１２０×１０-7／℃の範囲が好ましい。線熱膨張係数がこの範囲から外れると、情報記録用媒体を取り付ける駆動部の材料のそれとの差が大きくなり、情報記録用媒体の固定が緩み、記録の読み書きができなくなるおそれがあるからである。
【００２７】
また本発明のガラス基板を情報記録用媒体の基板として用いる場合には、アルカリ溶出量は１．５μｇ／ｃｍ2以下とするのが好ましい。アルカリ溶出量が１．５μｇ／ｃｍ2を超えると基板表面に形成された磁性膜などの記録膜が劣化するおそれがあるからである。
【００２８】
本発明のガラス基板は、その大きさに限定はなく３．５，２．５，１．８インチ、あるいはそれ以下の小径ディスクとすることもでき、またその厚さは２ｍｍや１ｍｍ、０．６３ｍｍ、あるいはそれ以下といった薄型とすることもできる。
【００２９】
次に、本発明の情報記録用媒体について説明する。本発明の情報記録用媒体の大きな特徴は、基板として前記のガラス基板を用いたことにある。このような構成により優れた耐久性および高記録密度が実現される。以下、図面に基づき本発明の情報記録用媒体について説明する。
【００３０】
図１は磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスクＤは、円形のガラス基板１の表面に磁性膜２を直接形成したものである。磁性膜２の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５〜０．１μｍ程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。
【００３１】
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割しノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。
【００３２】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００３３】
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００３４】
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ2)層を形成してもよい。
【００３５】
以上、本発明の情報記録用媒体の一実施態様として磁気ディスクについて説明したが、本発明の情報記録用媒体はこれに限定されるものではなく、前記ガラス基板を用いた光磁気ディスクや光ディスクなども本発明の情報記録用媒体にもちろん含まれる。
【００３６】
次に本発明の光通信用素子について説明する。本発明の光通信用素子の大きな特徴は、その基板として前記のガラス基板を用いたことにある。すなわち、前記ガラス基板では、アルカリ溶出量が１．５μｇ／ｃｍ2以下と少なく基板から溶出したアルカリ成分によって基板上の膜が劣化することがない。また、従来のガラス基板（約６０〜７０×１０-7／℃程度）に比べて線熱膨張係数が８０〜１２０×１０-7／℃の範囲と大きいので、蒸着工程で加熱されたガラス基板が冷却されて縮む量が大きくなり、このガラス基板の収縮により基板表面に形成された膜が圧縮されてその密度が大きくなる。この結果、温度・湿度の変化による波長シフトが抑制されるのである。
【００３７】
以下、波長多重分割（「ＤＷＤＭ」；Dense Wavelength Division Multiplexing）用の光フィルタを例に本発明の光通信用素子について説明する。誘電体多層膜を用いた光フィルタは高屈折率層と低屈折率層とを有し、これらの層を積層した構造を有している。これらの層を形成する方法としては、特に限定はなく従来公知の方法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法などを用いることができる。この中でも生産性が高いことから真空蒸着法が推奨される。真空蒸着は、真空中で蒸着材料を加熱し、発生した蒸気を基体上に凝縮・付着させて薄膜を形成する方法である。蒸着材料の加熱方法には、抵抗加熱、外熱ルツボ、電子ビーム、高周波、レーザーなどの各種方法がある。具体的な蒸着条件として、真空度は１×１０-3〜５×１０-3Ｐａ程度である。蒸着中は真空度が一定となるように電磁弁を制御して導入酸素量を調整する。そして層厚モニターにより所定層厚となったところでシャターを閉じて蒸着を終了する。
【００３８】
各膜厚としては特に限定はないが、光学的膜厚が波長の１／４とするのが基本であって、一般的に１μｍ程度までである。また、総層数は一般的に１００層を超える。用いる膜材料としては例えば、誘電体や半導体、金属であって、この中でも誘電体が特に好ましい。
【００３９】
以上、本発明の光通信用素子の一実施態様としてＤＷＤＭ用の光フィルタについて説明したが、本発明の光通信用素子はこれに限定されるものではなく、前記ガラス基板を用いた光スイッチ、合分波素子なども本発明の光通信用素子にもちろん含まれる。
【００４０】
【実施例】
実施例１〜９，比較例１〜２６
定められた量の原料粉末をるつぼに秤量して入れ、混合したのち、電気炉中で１，５５０℃で溶解した。原料が充分に溶解したのち、撹拌羽をガラス融液に挿入し、約１時間撹拌した。その後、撹拌羽を取り出し、３０分間静置したのち、治具に融液を流しこむことによってガラスブロックを得た。その後各ガラスのガラス転移点付近までガラスブロックを再加熱し、徐冷して歪取りを行った。得られたガラスブロックを約１.５ｍｍの厚さの円盤形状にスライスし、内周，外周を同心円としてカッターを用いて切り出した。そして、両面を粗研磨及びポリッシングを行って実施例及び比較例のガラス基板を作製した。作製したガラス基板について下記特性評価を行った。なお比較例１５のガラス基板については化学強化処理を行った。結果を合わせて表１、表２、表３に示す。
【００４１】
（比重）
エタノールを浸液とするアルキメデス法により測定した。
【００４２】
（ヤング率）および（比弾性率）
ＪＩＳ Ｒ １６０２ ファインセラミックスの弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて測定した。また比弾性率はヤング率を比重で割ることにより算出した。
【００４３】
（線熱膨張係数）
示差膨張測定装置を用いて、荷重：５ｇ、温度範囲：２５〜１００℃、昇温速度：５℃／ｍｉｎの条件で測定した。
【００４４】
（溶融性）
溶融させたガラスを１，５５０℃で２ｈ保持した後、熱した鉄板上に流し出し、溶融ガラスの粘性の度合いを目視により観察し、粘性の低いものから順に「◎」、「○」、「×」で評価した。なお、「×」は生産上支障が生じると考えられるものについてのみ付した。
【００４５】
（アルカリ溶出量）
ガラス表面を＃６００の研磨材で研磨し、予め表面を荒れた状態とした後、８０℃の逆浸透膜水５０ｍｌ中に試料ガラスを２４ｈ浸漬した後、ＩＣＰ発光分光分析装置で溶出液を分析しアルカリ溶出量を算出した。
【００４６】
【表１】
0004442051.tif 000002
【００４７】
【表２】
0004442051.tif 000003
【００４８】
表１によれば、実施例１〜９のガラス基板では、ヤング率及び、値が高いほど振動に強いとされる比弾性率は、いずれも実用上まったく問題のないレベルであった。また、線熱膨張係数は８０〜９１×１０-7／℃の範囲と、従来のガラス基板に比べ大きい値となった。さらに、アルカリ溶出量は１．５μｇ／ｃｍ2以下と従来のガラス基板に比べ少なかった。一方、ガラスの溶融性についても問題のないレベルであった。
【００４９】
【表３】
0004442051.tif 000004
【００５０】
表２によれば、比較例１のガラス基板では、ＳｉＯ2の含有量が５３．２％と少ないためガラスの構造が軟弱となりアルカリ溶出量が増加した。一方、ＳｉＯ2の含有量が７７．１％と多い比較例２のガラス基板では、ガラスの溶融性が悪くなると共に、化学的耐久性を向上させるガラス成分の含有量が相対的に少なくなるのでアルカリ溶出量が増加した。比較例３のガラス基板では、ガラスの溶融性を改善し、化学的耐久性を向上させるＢ2Ｏ3を含有しないので、アルカリ溶出量が多かった。またＢ2Ｏ3を１１．３％と多く含有する比較例４のガラス基板でも、同様にアルカリ溶出量が多かった。Ａｌ2Ｏ3の含有量が０．８％と少ない比較例５のガラス基板ではアルカリ溶出量が多かった。逆にＡｌ2Ｏ3の含有量が１７．８％と多い比較例６のガラス基板では、アルカリ溶出量は他の比較例のものに比べて少なかったものの、ガラスの溶融性が悪かった。
【００５１】
Ｌｉ2Ｏを含有しない比較例７のガラス基板ではアルカリ溶出量が多くなる一方、Ｌｉ2Ｏを１５．５％と多量に含有した比較例８のガラス基板では、線熱膨張係数が充分には大きくならず、しかもアルカリ溶出量が多かった。また、Ｌｉ2Ｏを含有せず、且つＮａ2Ｏを１７．０％と多量に含有した比較例９のガラス基板では、アルカリ溶出量が多かった。さらにＫ2Ｏを１３．４％と多量に含有した比較例１０ガラス基板では線熱膨張係数が小さく、またアルカリ溶出量も多かった。Ｌｉ2Ｏを含有せず、且つアルカリ金属酸化物の総含有量が１４．０％と少ない比較例１１のガラス基板では、アルカリ溶出量が少なかったものの線熱膨張係数が充分ではなく、またガラスの溶融性も悪かった。逆に、アルカリ金属酸化物の総含有量が２５．５％と多かった比較例１２のガラス基板では、アルカリ溶出量が多かった。
【００５２】
ＣａＯの含有量が６．４％と多い比較例１３のガラス基板では、線熱膨張係数が小さく、またアルカリ溶出量が多かった。Ｔａ2Ｏ5の含有量が３．０％と多い比較例１４のガラス基板では、ガラスの溶融性が悪くなるとともに、アルカリ溶出量が多かった。化学強化した比較例１５のガラス基板ではアルカリ溶出量が多かった。
【００５３】
【発明の効果】
本発明に係るガラス基板では、特定のガラス組成を有する構成としたので、線熱膨張係数が高く且つアルカリ成分の溶出は少なく、加えて作製コストを抑えることができる。
【００５５】
本発明に係る情報記録用媒体では、基板として前記ガラス基板を用いる構成としたので、耐久性に優れ、高い記録密度が得られる。
【００５６】
また本発明に係る光通信用素子では、基板として前記ガラス基板を用いる構成としたので、経時変化が少なく、温度・湿度の変化による波長シフトを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の情報記録用媒体の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１  ガラス基板
２  磁性膜
Ｄ  磁気ディスク
【図１】
0004442051.tif 000005