【事件の表示】
　平成　４年特許願第２３４４０３号「磁気記録媒体」拒絶査定に対する審判事件［平成　６年　３月２５日出願公開、特開平　６−　８４１６８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
I．手続の経緯及び本願発明
　本願は平成４年９月２日の出願で、その請求項１に係る発明（以後、「本願発明」という）は、平成１３年８月２日付け手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載される以下のとおりにものである。
「非磁性基板と、前記非磁性基板上に設けられた中間層と、前記中間層の上に設けられた磁性層と、前記磁性層の上に密着して設けられた窒素含有の第１の炭素膜と、前記第１の炭素膜の上に設けられた水素含有の第２の炭素膜
を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。」
II．刊行物に記載の発明
　これに対し、
（１）　原審で拒絶の理由として引用した特開平２−１６１６１２号公報（以後、「刊行物１」という）には、外部記憶装置として使用される磁気デイスク装置に使用される磁気デイスク媒体に関し、
（１−１）「非磁性の基板（１）上に直接もしくは下地層を介して磁性膜（３）が形成されており、該磁性膜（３）より上側に、カーボンから成る保護膜を有する層構成において、該カーボンから成る保護膜は、磁性膜（３）側が耐久性に優れた膜質（７）と成り、その上に潤滑性に優れた膜質（８）を積層した２層構成であることを特徴とする磁気ディスク媒体。」（特許請求の範囲参照）、
（１−２）「〔従来の技術〕第６図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図である。１は例えばアルミニウムなどのような非磁性体からなる基板（円板）であり、その上に直接に、あるいは下地層２を介して、磁性層３，保護層４の順に積層されている。・・・一般に、保護膜４としては、カーボンやＳｉＯ２が適しており、スパッタリングで形成される。」（公報第２頁左上欄第１〜１５行参照）、
（１−３）「本発明の技術的課題は、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に接触しても、ヘッドクラッシュが起きにくく、磁性膜まで到達するような傷の発生を防止できるようにすることにある。」（公報第２頁右下欄第１〜４行参照）、
（１−４）「第１図は本発明による磁気ディスク媒体の基本原理を説明する図である。非磁性の基板１上に、直接もしくは下地層を介して磁性膜３が形成されている。そして、該磁性膜３より上側に、カーボン膜７，８を有している。このカーボン膜は、磁性膜３側が、耐久性に優れた膜質７となり、表面側が、潤滑性に優れた膜質８と成っている。なお、磁性膜３と耐久性カーボン膜７との間に、接着用保護膜を介在させてもよく、また自己潤滑性カーボン膜８の上に潤滑剤を塗布してもよい。」（公報第２頁右下欄第６〜１６行参照）、
（１−５）「そのため、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に接触して、潤滑膜の剥離やそれに準ずる現象が生じた場合でも、表面側のカーボン膜である自己潤滑性カーボン膜８の自己潤滑作用により、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面との衝撃が緩和され、かつ
磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面との吸着が起きにくくなる
ヘッドクラッシュが起きにくくなり
深い傷の発生が抑制され
（１−６）「この磁気ディスク媒体は、アルミニウム基板１上に、下地層２としてＡｌ２０３を被覆し、この上に、γ−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性膜３をスパッタリング法により形成する。そしてこの磁性膜３の上に，ＳｉＯ２ からなる接着用の保護膜４をスパッタリング法で形成し、その上に、まず耐久性に優れた膜質のカーボン膜７をスパッタリング法で形成し、その上に自己潤滑性に優れた膜質のカーボン膜８をスパッタリング法で形成する。最後にこの保護膜８上に潤滑剤６を塗布する。」（公報第３頁右上欄第６〜１５行参照）、
（１−７）「前記のような最適条件で、２つのカーボン膜７，８を成膜した場合、
耐久性カーボン膜７は、摩擦係数が０．４８、耐久性が３９分であり、強度が高い
自己潤滑性カーボン膜８は
、非晶質の膜質
自己潤滑性は向上するが、摩擦係数が０．１２，耐久性が２分であり、耐久性が劣る
、耐久性測定は、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に密着するように真空中において、磁気ディスク媒体を高速回転させることで行う。そして、ヘッドクラッシュにより、磁気ディスク媒体の磁性膜に達するような深い傷が発生するまでの、経過時間（分）を測定した。
（１−８）「磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に接触したときに、表面側の自己潤滑性カーボン膜８の自己潤滑作用によって、磁気ヘッドの吸着が軽減され、衝撃が緩和される。また、自己潤滑性カーボン膜８の下には、
強度の強い耐久性カーボン膜７
ヘッドクラッシュの発生が防止され
の記載がある。
　これらの記載を総合すると，刊行物１には、
「非磁性の基板１上に下地層２を介して磁性膜３が形成され、該磁性膜３の上側に耐久性に優れた耐久性カーボン膜７が、表面側で前記耐久性カーボン膜７の上に潤滑性に優れた自己潤滑性カーボン膜８が積層された２層構成の磁気ディスク媒体。」（以後「刊行物１に記載の発明」と称す）
が記載されていると認められる。
　そして、このような構成により磁気ヘッドと磁気ディスク媒体面との吸着を防止し、ヘッドクラッシュを起きにくくして、従来のカーボン保護膜で生じた磁性膜にまで達するような深い傷の発生を防止しようとするものである。
（２）　同様に原審で拒絶の理由として引用した特開昭６０−２５３０２１号公報（以後、「刊行物２」という）には、金属薄膜型の磁気ディスクのような磁気記録媒体に関し、
（２−１）「金属薄膜型磁気記録媒体の磁性薄膜層表面が硬質の磁気ヘッド、ドラム、ガイド等と接触しながら走行していると、摩擦抵抗が大きく、かつ薄膜であるが故に、磁性薄膜層が傷つき、ひどい場合には磁性薄膜層の剥離が起きたり、又、耐蝕性に劣っているといった欠点もある。」（公報第１頁右下欄第３〜９行参照）、
（２−２）「〔問題点を解決するための手段〕
非磁性支持体上の金属磁性薄膜表面に保護膜としての窒化炭素膜を設ける。
（２−３）「第１図は、本発明に係る磁気記録媒体の断面説明図である。同図中、１は非磁性支持体であり、この非磁性支持体１の基板は例えばアルミニウム合金よりなり、そのアルミニウム合金板表面に下地層としてＮｉ−Ｐメッキ薄膜層が設けられたものである。
　２は、前記非磁性支持体１表面、すなわちＮｉ−Ｐメッキ薄膜層上に設けられた約０．０６μｍ厚の金属磁性薄膜層であり、この金属磁性薄膜層２は例えばＮｉ−Ｃｏ−Ｐがメッキ手段で構成されたものである。
　３は、前記金属磁性薄膜層２上に設けられた約０．０２〜０．１５μｍ、例えば約０．０５μｍ厚の窒化炭素膜であり、この窒化炭素膜３は、例えばＲＦマグネトロンスパッタ装置を用い、約１０ｍＴｏｒｒの窒素ガス中で炭素ターゲットにＲＦパワーを印加すると共に約１００℃に加熱することによって形成され得る。
　なお、この
窒化炭素膜３
原子比でＣ：Ｎ＝１：３
（２−４）「
窒化炭素膜未形成の磁気ディスク
ヘッドクラッシュ
（２−５）「上記実施例の窒化炭素膜の代りにカーボン膜を同様に形成した磁気ディスクと上記実施例の磁気ディスクとを、常温、湿度９０％の条件下で２昼夜放置していると、本実施例のものでは第２図に光学顕微鏡による写真（倍率１０００倍）を示す通り凹凸はほとんど認められないのに対し、
窒化炭素膜の代わりにカーボン膜の形成された磁気ディスクでは
カーボン膜の脱離が起きて凹凸が生じる
窒化炭素膜の形成された磁気ディスクは、耐久性に著しく富んだもの
（２−６）「〔効果〕
耐摩耗性、耐スチル性及び耐蝕性
耐久性
の記載があり、磁気ディスクの表面にカーボン膜の代わりに窒化炭素膜を形成したものは、耐摩耗性、耐スチル性等が高く、膜の脱離も少ないなど、著しく耐久性に富み，ＣＳＳ時にヘッドクラッシュが起きにくいことが示されている。
（３）　さらに同様に原審で引用された特開昭６３−３１３３１８号公報（以後、「刊行物３」という）には、磁気ヘッドとのステクションが少ない耐久性に優れた表面保護薄膜層を有する磁気ディスクに関し、
（３−１）「基板上に強磁性薄膜層が形成されている磁気ディスクにおいて、前記強磁性薄膜層の表面に、窒化クロムの硬質薄膜層と、
水素を含む炭素同素体からなる緻密薄膜層
（３−２）「コンタクト・スタート・ストップ（Ｃ．Ｓ．Ｓ）方式の磁気ディスク装置においては、運転スタート時とストップ時に磁気ヘッドが磁気ディスクと接触するので、磁気ディスクとしては磁気ヘッドとのステクション、
摩耗損失
（３−３）「窒化クロム薄膜層は、窒素を含む雰囲気中で金属クロムを・・スパッタリング・・・この窒化クロムの硬さは、ＨＶ＝８００〜１０００ｋｇ／ｍｍ２と硬くて緻密であり、良好な
耐摩耗性
水素を含む炭素同素体
非晶質水素カーボン
水素を含む炭素同素体は、水素を添加したアルゴン雰囲気中で炭素をターゲットとしてスパッタすることによって得られ
（３−４）「この水素を含む炭素同素体薄膜層を表面に形成することにより、大気中の水分の磁性薄膜層への浸透を防止し、磁性薄膜層の耐食性を向上させるとともに
潤滑剤との馴染みが良いため、磁気ディスク完成品は潤滑能に優れたものになる。
（３−５）「表Ｉに示す直流電力スパッタ条件で、磁性薄膜層３と、二層構造保護膜を形成する窒化クロム製の硬質薄膜層（第１保護層）４および水素を含む炭素同素体からなる緻密薄膜層（第２保護層）５を形成した。このようにして作製した保護膜５の評価を・・・・した結果、Ｃ：９１．０ｗｔ％、Ｈ：４．６ｗｔ％、Ｏ：３．６ｗｔ％からなる非晶質水素化カーボンと確認された。」（公報第３頁左上欄第１１行〜右上欄第１行参照）、
（３−６）「なお、比較のために
従来のスパッタ方法で作成した炭素保護膜一層だけの保護膜
従来品に比べ本発明品では、Ｃ．Ｓ．Ｓ．回数が大きく上昇し、動摩擦係数が大幅に低下
（３−７）「〔発明の効果〕・・・（ａ）保護膜の密着性が良く、繰り返し使用しても摩擦係数が極めて小さい。」（公報第４頁左下欄第１〜４行参照）
の記載があり、非晶質水素化カーボン等の水素を含む炭素同素体は、潤滑性が高く、動摩擦係数も小さいので、表面にこの水素を含む炭素同素体の薄膜層を形成した磁気ディスク、特に、耐摩耗性の高い窒化クロム等の硬質薄膜層との２層構造にしたものは、磁気ヘッドとのステクション、摩耗損失が少なく、ＣＳＳ回数も大きいものであり、また磁性薄膜等との馴染みが良いため密着性が高く剥離特性にも優れていることを示している。
III．対比・判断
　本願発明は、ＣＳＳ方式の磁気ディスクの耐摩耗性能を向上するために炭素系積層保護層を２層に分割し、耐摩耗性に優れた窒素含有の炭素膜の上に潤滑性能に優れた水素含有の炭素膜を積層したもので、摺動による損傷性、吸着性、保護膜の磁性膜からの剥離特性等にも優れるものである。
　本願発明を刊行物１に記載の発明と対比すると、刊行物１に記載の発明の
「非磁性の基板１」、「下地層２」、「磁性膜３」、「耐久性カーボン膜７」、「自己潤滑性カーボン膜８」、「磁気ディスク媒体」が、それぞれ、本願発明の「非磁性基板」、「中間層」、「磁性層」、「第１の炭素膜」、「第２の炭素膜」、「磁気記録媒体」に相当するのは明らかであり、刊行物１に記載の発明において「磁性膜３」、「耐久性カーボン膜７」、「自己潤滑性カーボン膜８」は「下地層２」の上に順次スパッタリング法で形成されるので、両者は、
「非磁性基板と、前記非磁性基板上に設けられた中間層と、前記中間層の上に設けられた磁性層と、前記磁性層の上に密着して設けられた第１の炭素膜と、前記第１の炭素膜の上に設けられた第２の炭素膜を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。」
である点で一致しているが、本願発明では「第１の炭素膜」が「窒素含有の炭素膜」で、「第２の炭素膜」が「水素含有の炭素膜」とそれぞれの材質で限定されているのに対し、刊行物１に記載の発明では、「第１の炭素膜」が
「耐久性カーボン膜」、「第２の炭素膜」が「自己潤滑性カーボン膜」と物理的特性で限定されている点で相違している。
　そこで更に詳細に検討を加える。
　明細書の発明の詳細な説明を参照すると、本願発明の窒素含有の炭素膜は耐摩耗性を向上させるためのもので、水素含有の炭素膜は、その上にあって、潤滑性の高さで窒素含有の炭素膜の欠点である磁気ヘッドとの吸着現象により摩擦係数が増加するのを防止するためのものであり（【０００４】〜【０００７】参照）、【００１５】〜【００２６】をみるに、本願発明の作用・効果は、ＣＳＳ特性に関連する摺動テストとして、磁気ディスク上に磁気ヘッドをのせ、１０００ｒｐｍで６０ｍｉｎ間回転させ、テスト後の、磁気ディスクとの摩擦による磁性層の傷の有無（ヘッドクラッシュ）で評価し、吸着特性については高湿下の摩擦係数を測定、剥離強度はダイヤモンド針によるスクラッチテストで測定している。これに対し、従来のカーボン保護膜を改良した刊行物１では、（１−７）に記載のように、耐久性測定として、磁気ヘッドを磁気ディスク媒体面に密着するように真空中において、磁気ディスク媒体を高速回転させ、ヘッドクラッシュにより、磁気ディスク媒体の磁性膜に達するような深い傷が発生するまでの、経過時間（分）を測定しているので、本願発明の「窒素含有の第１の炭素膜」に要求される物理特性のうちの摺動特性すなわち耐摩耗性は刊行物１に記載の発明の「耐久性」とは結局同じものであると認められる。また、本願発明の「水素含有の第２の炭素膜」は「窒素含有の第１の炭素膜」の欠点である磁気ヘッドとの吸着現象により摩擦係数が増加するのを防止するので、その摩擦係数は小さなもので無ければならないことも明らかである。そして、刊行物１に記載の発明の「自己潤滑性カーボン膜」の摩擦係数は０．１２と非常に小さく、この条件を満たすものである。
　一方、やはり磁気ディスクのＣＳＳ特性を向上させるための保護膜の材料として、刊行物２に示すように、耐摩耗性、耐スチル性、耐蝕性に優れ、膜の脱離の少ない、耐久性に富む窒化炭素膜すなわち「窒素含有の炭素膜」が従来の磁気ディスクの表面保護膜と用いられることが良く知られており、当業者が、この知見に基づいて、刊行物１に記載の発明の「耐久性カーボン膜」をこの窒化炭素膜すなわち「窒素含有の炭素膜」で置換することに想到するのは容易に可能である。
　また、刊行物３に示されるように、水素を含む炭素同素体が動摩擦係数が小さく磁性薄膜層との馴染みがよい潤滑剤として磁気ディスクの表面保護層として用いられており、
硬質保護層との２層構造とすることにより
　この点に関し、請求人は、意見書及び審判請求書において、
１．刊行物１に記載の発明の「耐久性に優れた膜質」は「耐摩耗性を有する炭素膜」とは等価ではない。
２．本願発明では第１，第２の炭素膜に含有させる元素によって膜の特性を変えているのに対し、刊行物１に記載の発明のものはスパッタガス圧で特性を変えている。
３．刊行物２に記載の窒素を含む炭素膜は、単独で充分な耐久性、耐蝕性が得られるので他のものとの組合せの必然性がない。
４．刊行物３に記載の窒化クロム上に水素を含む炭素同素体の膜を設けるものは窒素を含む炭素膜を備えておらず、またクロムと炭素で材質が大きく異なるため熱膨張率の差による剥離等も考慮しなければならない。
と主張している。
　しかし、すでに言及したように、本願発明、刊行物１に記載の発明はともに耐摩耗性、耐久性を表面保護膜と磁気ヘッドとの摺動テストによって評価しており、結局は同じ特性を測定しているので１．の２つの特性は同じものに過ぎない。
　また、２．の点は、刊行物１に記載の炭素膜を置換するので考慮する必要がなく、３．の点に関しても、より良い特性を得るための組合せを否定しなければならない理由にはならない。４．も硬質膜であれば窒化クロムである必要はなく、窒素含有の炭素膜と置換する障害にはならない。
　よって、これらの主張はいずれも説得性を欠いており、採用されない。
 IV．結び
　以上のとおり、本願発明は原審で引用した刊行物１〜３に記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。