【手続補正書】
【提出日】平成18年10月20日(2006.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】    【請求項１】  内部が減圧又は真空環境に維持され、被処理体に所定の処理を行う容器と、第１及び第２の仕切り弁を有する雰囲気置換室とを有し、当該雰囲気置換室は、前記容器と前記第１の仕切り弁を介して連通され、前記第２の仕切り弁を介して前記容器とは異なる空間に連通される処理システムを利用した処理方法であって、  所定の湿度以下の乾燥した第１の気体を前記雰囲気置換室に導入しながら当該雰囲気置換室を排気するステップと、  当該排気ステップ後に前記第１の気体の導入を停止して、前記雰囲気置換室を真空に排気するステップとを有することを特徴とする方法。    【請求項２】 前記容器は第２の気体を含み、 前記方法は、 所定の湿度以下の乾燥した前記第２の気体を前記雰囲気置換室に、当該雰囲気置換室が前記容器と同一の減圧環境になるまで導入するステップと、 前記第１の仕切り弁を開口するステップとを更に有することを特徴とする請求項１に記載の方法。    【請求項３】 所定の湿度以下の乾燥した第３の気体を前記雰囲気置換室に、当該雰囲気置換室が大気圧になるまで導入するステップと、 前記第２の仕切り弁を開口するステップとを更に有することを特徴とする請求項１に記載の方法。    【請求項４】 前記第１の気体は、窒素又は精製された空気であることを特徴とする請求項１に記載の方法。    【請求項５】 前記第２の気体は、不活性ガスであることを特徴とする請求項２に記載の方法。    【請求項６】 前記第３の気体は、窒素又は精製された空気であることを特徴とする請求項３に記載の方法。    【請求項７】 前記所定の処理は露光処理であることを特徴とする請求項１に記載の方法。    【請求項８】 前記第１の気体は前記第２の気体と同一であることを特徴とする請求項２に記載の方法。    【請求項９】 前記第１の仕切り弁を開口するステップを更に有することを特徴とする請求項１に記載の方法。    【請求項１０】 前記雰囲気置換室内の湿度が規定の湿度以下になったかどうかを判断するステップと、 当該判断ステップが、前記規定の湿度以下になったと判断した場合に、前記真空廃棄ステップを行うことを特徴とする請求項１に記載の方法。    【請求項１１】 請求項１乃至１０いずれかの処理方法を用いて前記容器内に配置された前記被処理体を、光源からの光を用いて露光することを特徴とする露光方法。    【請求項１２】 請求項１乃至１０いずれかの処理方法を用いて前記容器内に配置された前記被処理体を露光する露光ステップと、露光された前記被処理体を現像する現像ステップとを有することを特徴とするデバイスの製造方法。    【請求項１３】 請求項１乃至１０いずれかの処理方法を用いて前記容器内に配置された前記被処理体を、光源からの光を用いて露光することを特徴とする露光装置。    【請求項１４】 内部が減圧又は真空環境に維持され、被処理体に所定の処理を行う容器と、 第１及び第２の仕切り弁を有し、前記容器と前記第１の仕切り弁を介して連通され、前記第２の仕切り弁を介して大気に連通される雰囲気置換室と、 前記雰囲気置換室に所定の湿度以下の乾燥した第１の気体を供給する第１の気体供給手段と、 前記雰囲気置換室を排気する排気手段と、 前記第１の気体供給手段を介して前記第１の気体を供給しながら前記排気手段を介して前記雰囲気置換室を排気し、前記雰囲気置換室が所定以下の湿度になったかどうかを判断し、前記雰囲気置換室が所定以下の湿度になったと判断した場合に、前記第１の気体供給手段による前記第１の気体の供給を停止して前記排気手段を通じて前記雰囲気置換室を真空排気する制御手段とを有することを特徴とする処理システム。    【請求項１５】 前記容器は第２の気体を含み、 前記処理システムは、前記雰囲気置換室に所定の湿度以下の乾燥した前記第２の気体を供給する第２の気体供給手段を更に有し、 前記制御手段は、前記第１の仕切り弁を開口する前に、前記第２の気体供給手段を介して前記所定の湿度以下の乾燥した前記第２の気体を前記雰囲気置換室に、当該雰囲気置換室が前記容器と同一の減圧環境になるまで導入することを特徴とする請求項１４に記載の処理システム。    【請求項１６】 第１の気体を含んで減圧環境に維持され、被処理体に所定の処理を行う容器と、 第１及び第２の仕切り弁を有し、前記容器と前記第１の仕切り弁を介して連通され、前記第２の仕切り弁を介して大気に連通され、前記容器から被処理体を回収する雰囲気置換室と、 前記被処理体を回収した前記雰囲気置換室内の雰囲気を回収する回収手段と、 当該回収手段によって回収された雰囲気から所定の湿度以下の乾燥した第１の気体を再生する再生手段と、 当該再生手段によって再生された前記第１の気体を前記雰囲気置換室に供給する第１の気体供給手段と、 前記雰囲気置換室を排気する排気手段と、 前記第１の気体供給手段を介して前記第１の気体を供給しながら前記排気手段を介して前記雰囲気置換室を排気し、前記雰囲気置換室が所定以下の湿度になったかどうかを判断し、前記雰囲気置換室が所定以下の湿度になったと判断した場合に、前記第１の気体供給手段による前記第１の気体の供給を停止して前記排気手段を通じて前記雰囲気置換室を真空排気する制御手段とを有することを特徴とする処理システム。    【請求項１７】 前記処理システムは、前記雰囲気置換室に所定の湿度以下の乾燥した前記第２の気体を供給する第２の気体供給手段を更に有し、 前記制御手段は、前記第２の仕切り弁を開口する前に、前記第２の気体供給手段を介して前記所定の湿度以下の乾燥した前記第２の気体を前記雰囲気置換室に、当該雰囲気置換室が大気圧になるまで導入することを特徴とする請求項１６に記載の処理システム。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】  図１を参照するに、１は、ステージ、シャッタなどが搭載された露光装置の基幹部分２９やウエハ搬送用ロボット２８をその内部に有するチャンバである。本実施形態では、露光装置はシンクロトロン放射光を露光光とするＸ線露光装置である。但し、後述するように、本発明は露光装置の種類を限定するものではない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】  ロードロック室２、ウエハ搬送用ロボット２７及び２８は枚葉式でウエハを搬送するように構成され、ロードロック室２の内容積は排気時間を最小にするために最小限のサイズになっている。本実施形態では、ウエハは３００ｍｍφの径を有し、内外側ゲートバルブ３及び４は開口高さ５０ミリメートルを有し、ロードロック室２は内容積８リットル＝４００ｍｍ×４００ｍｍ×５０ｍｍを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】  図２は、この露光装置において大気に連通されたロードロックの雰囲気をヘリウムに置換する場合に使用される処理を示すフローチャートである。この処理における装置各部の動作は不図示の制御装置により行われる。かかる制御装置は、圧力センサ５の検出結果や図示しないタイマの計測時間などに基づいて、バルブ３、４、７、９、１０、１７、２１及び２４の開閉やウエハ搬送用ロボット２７及び２８の動作を制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】  処理開始時は、内側ゲートバルブ３は閉口し、外側ゲートバルブ４は開口し、ロードロック室２の内部は大気に連通され、大気雰囲気にある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】  最初に、ウエハ搬送用ロボット２７により、ウエハキャリヤ２６からロードロック室２にウエハが搬入される。続いて図２に示す処理を開始する。まず、外側ゲートバルブ４を閉口する（ステップＳ１）。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】  次に、ロードロック用ヘリウム導入バルブ１７を開口する（ステップＳ８）。ロードロック用ヘリウム導入バルブ１７から導入されるヘリウムは所定の湿度（例えば、１０％）以下の乾燥したヘリウムである。ここで供給される気体は、チャンバ１で使用される気体である。従って、チャンバ１がアルゴンやキセノンなど他の不活性ガスを使用すれば、かかる気体がステップＳ８で導入される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】  次に、制御装置は、圧力センサ５の出力をチェックして、チャンバ１の圧力までロードロック室２にヘリウムを導入する。チャンバ１の圧力までロードロック室２の圧力が低下したらロードロック用ヘリウム導入バルブ１７を閉口する（ステップＳ１０）。最後に、内側ゲートバルブ３を開口して、ロードロック室２をチャンバ１に連通させる（ステップＳ１１）。この一連の処理が終ると、ロードロック室２内のウエハはウエハ搬送用ロボット２８により露光装置の基幹部分２９へと搬送される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】  その後、露光装置基幹部分２９でウエハには露光処理が行われる。従来の処理方法で本発明と同様のスループット又は歩留りを確保しようとすれば、真空引きの際に結露が発生してパーティクルと共にウエハに落下して不純物になり、高品位な露光処理を行えない惧れがあったが、本実施形態では、上述のように、ウエハには不純物は付着しないので高品位な露光処理を施すことができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】  図３は、本処理システムにおいてヘリウム雰囲気のチャンバ１に連通されたロードロック室２の雰囲気を大気に置換する場合に使用される処理を示すフローチャートである。露光が終ると、ウエハ搬送用ロボット２８により、露光装置の基幹部分２９からロードロック室２に露光済みのウエハが搬送される。続いて図３に示す処理を開始する。まず、内側ゲートバルブ３を閉口する（ステップＳ２１）閉じる。次に、窒素導入バルブ２１を開口してロードロック室２内に窒素の導入を開始する（ステップＳ２２）。置換時間を短縮するためにロードロック内の圧力がチャンバ内圧力より大きく上昇しないうちに、真空排気バルブ７を開口する（ステップＳ２３）。この時、ヘリウム回収用バルブ１０は閉口し、大気中排気用バルブ９は開口しているものとする（ステップＳ２３）。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】  レチクルステージ８３とウエハステージ９３は縮小倍率に比例した速度比で同期して走査する機構をもつ。ここでレチクルＭ又はウエハＷ面内で走査方向をＸ、それに垂直な方向をＹ、レチクルＭ又はウエハＷ面に垂直な方向をＺとする。