Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［Ｉ］で示されることを特徴とする２，１−ベンゾイソチアゾール化合物。
【化１】
2005170866.tif 000001
（式中、Ｒ１乃至Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、置換あるいは無置換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基，置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基を表わし、少なくとも１つは、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基を表わす。Ｒ１乃至Ｒ５は同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項２】
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５の少なくとも１つは置換アミノ基であることを特徴とする請求項１に記載の２，１−ベンゾイソチアゾール化合物。
【請求項３】
下記一般式［ＩＩ］で示されることを特徴とする２，１−ベンゾイソチアゾール化合物。
【化２】
2005170866.tif 000002
（式中、Ｒ６乃至Ｒ８は、水素原子、ハロゲン原子、置換あるいは無置換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基，置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基を表わす。異なるベンゾイソチアゾール環に結合するＲ６同士、Ｒ７同士、Ｒ８同士は、同じであっても異なっていてもよく、同じベンゾイソチアゾール環に結合するＲ６乃至Ｒ８は、同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ９、Ｒ１０は、置換あるいは無置換のアリール基，置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基を表わし、同じであっても異なっていてもよい。
ｎは２以上の整数である。）
【請求項４】
下記一般式［ＩＩＩ］で示されることを特徴とする２，１−ベンゾイソチアゾール化合物。
【化３】
2005170866.tif 000003
（式中、Ｒ１１乃至Ｒ１４は、水素原子、ハロゲン原子、置換あるいは無置換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基，置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基を表わす。異なるベンゾイソチアゾール環に結合するＲ１１同士、Ｒ１２同士、Ｒ１３同士、Ｒ１４同士は、同じであっても異なっていてもよく、同じベンゾイソチアゾール環に結合するＲ１１乃至Ｒ１４は、同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ１５は、置換または無置換の芳香族基、置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基のいずれかを表わす。
ｍは２から６の整数を表わす。）
【請求項５】
下記一般式［ＩＶ］で示されることを特徴とする２，１−ベンゾイソチアゾール化合物。
【化４】
2005170866.tif 000004
（式中、Ｒ１７乃至Ｒ２０は、水素原子、ハロゲン原子、置換あるいは無置換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基，置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基を表わす。異なるベンゾイソチアゾール環に結合するＲ１７同士、Ｒ１８同士、Ｒ１９同士、Ｒ２０同士は、同じであっても異なっていてもよく、同じベンゾイソチアゾール環に結合するＲ１７乃至Ｒ２０は、同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ１６は、置換または無置換の芳香族基、置換あるいは無置換の複素環基、置換あるいは無置換の縮合多環芳香族基、置換あるいは無置換の縮合多環複素環基、置換アミノ基のいずれかを表わす。
Ｌは２から６の整数を表わす。）
【請求項６】
陽極及び陰極からなる一対の電極と、該一対の電極間に挟持された一または複数の有機化合物を含む層を少なくとも有する有機発光素子において、前記有機化合物を含む層の少なくとも一層が請求項１乃至５のいずれかに記載の２，１−ベンゾチアゾール化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする有機発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩化ビニル系樹脂１００質量部に対し、（ａ）有機リン酸エステル化合物及びその金属塩からなる群から選択される少なくとも一種０．００１〜１０質量部並びに（ｂ）粉砕助剤０．００１〜１０質量部の共粉砕物を含有する塩化ビニル系樹脂組成物。
【請求項２】
上記有機リン酸エステル化合物及びその金属塩が、下記一般式（Ｉ）で表される請求項１記載の塩化ビニル系樹脂組成物。
【化１】
2005170966.tif 000001
【請求項３】
上記一般式（Ｉ）において、Ｍがアルカリ金属原子又は亜鉛原子である請求項２記載の塩化ビニル系樹脂組成物。
【請求項４】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 及びＲ2 が第三ブチルであり、Ｒ3 及びＲ4 が水素原子である請求項２又は３記載の塩化ビニル系樹脂組成物。
【請求項５】
上記粉砕助剤が、脂肪族有機酸金属塩、ハイドロタルサイト、粉末珪酸及び塩化ビニル系樹脂からなる群より選択される少なくとも一種である請求項１〜４のいずれかに記載の塩化ビニル系樹脂組成物。
【請求項６】
上記脂肪族有機酸金属塩が、ステアリン酸のリチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩又は亜鉛塩である請求項５記載の塩化ビニル系樹脂組成物。
【請求項７】
上記共粉砕物の平均粒径が、０．１〜１００μｍである請求項１〜６のいずれかに記載の塩化ビニル系樹脂組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月11日(2006.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４４】
100重量部を基準として、
約25乃至35重量％のポリプロピレンまたはその共重合体、
約25乃至45重量％のスチレン系エラストマー、
約10乃至35重量％の線状低密度ポリエチレン、
約5乃至15重量％の炭化水素系プロセス油、
約40重量％までのエチレン共重合体、
約5重量％までの高分子表面改質剤、
約10重量％までの粉末流れ添加剤、
約4重量％までの熱安定剤または光安定剤またはその組合せ及び
約2重量％までの着色顔料
のブレンドから実質的になり、180℃乃至260℃の加工温度範囲にわたり約300乃至900Pa.sのゼロずり粘度と加工温度215℃で約450乃至600Pa.sのゼロずり粘度を有するスラッシュ成形加工に適した熱可塑性ポリオレフィン組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月25日(2006.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に適用され、光触媒性金属酸化物粒子の光励起に応じた表面親水化作用を生じる表面を形成するために用いられる、光触媒性親水性エアゾールスプレー組成物であって、
ａ）光触媒性金属酸化物粒子と、前記光触媒性金属酸化物粒子同士を接着させかつ前記光触媒性金属酸化物粒子を基材に接着させる結着剤と、溶媒と、フッ素系界面活性剤とを含有してなり、前記光触媒性金属酸化物粒子および前記結着剤の含有量が、合計量で０．０１〜５重量％であるコーティング組成物と、
ｂ）噴射剤と
を含んでなる、エアゾールスプレー組成物。
【請求項２】
前記溶媒が水および／または水溶性溶媒である、請求項１に記載のエアゾールスプレー組成物。
【請求項３】
前記金属酸化物がアナタース型二酸化チタンである、請求項１または２に記載のエアゾールスプレー組成物。
【請求項４】
前記結着剤がシリコン系結着剤である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のエアゾールスプレー組成物。
【請求項５】
前記フッ素系界面活性剤を０．０００５〜２重量％含有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のエアゾールスプレー組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のエアゾールスプレー組成物を部材表面に適用する工程と、該組成物を乾燥または硬化させる工程とを含んでなる、親水化可能な表面層を有する部材の製造方法。
【請求項７】
前記部材が自動車ボディー、塗装面、樹脂製品、ガラス、石材のいずれかである、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月6日(2006.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運搬する商品の種類と量とを決定する商品運搬形態決定方法であって、
コンピュータが、所定期間に出荷される予定商品の種類と数量を第４運搬形態メモリ３３ａへ記憶するステップと、
コンピュータが、前記第４運搬形態メモリ３３ａからの出荷当日の予定出荷量及び、出荷前日の在庫量に基づき、出荷当日における出荷商品種類および数量を仮決定するステップと、
コンピュータが、前記仮決定された出荷商品種類および数量に基づいて、出荷当日の運搬車両の種類および台数を仮決定し、第２運搬形態メモリ７７へ記憶するステップと、
コンピュータが、出荷当日の確定した出荷先の在庫量を第３運搬形態メモリ７９へ記憶するステップと、
コンピュータが、前記第２運搬形態メモリからの車両の種類および台数並びに、第３運搬形態メモリからの確定した出荷先の在庫量に基づいて、前記車両の空き容量を計算し、車両空き容量メモリ８８へ記憶するステップと、
コンピュータが、当該空き容量に積載する商品の種類と量を、前記車両空き容量メモリ８８からの前記車両の空き容量と、前記第４運搬形態メモリ３３ａからの所定期間に出荷予定される商品の種類及び数量とに基づいて決定するステップと、
を有する商品運搬形態の決定方法。
【請求項２】
請求項１に記載の商品運搬形態の決定方法であって、
前記当該空き容量に積載する商品の種類と量を決定するステップは、コンピュータが、積載すべき商品のブロックを順次選択したのちに、積載すべき商品のパレットを順次選択するステップを含む商品運搬形態の決定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月23日(2006.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
近年、各種産業機器類の高性能化に伴い、機器の摺動部に使用されるシール材の使用環境は、高温、高圧、高速といった過酷な条件下となっている。そのため、シール材としても、耐熱性、耐圧性、長寿命化といった耐久性が求められており、長期間シール性能を維持し、かつ発揮させるためには、耐摩耗性の向上が不可欠である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
水素化ニトリルゴムとしては、ムーニー粘度ML1+4(100℃)(JIS K6395準拠；中心値)が100以下、好ましくは50〜85、AN含量が30〜50％。ヨウ素価(中心値)が0〜28g/100gのものが用いられる。ムーニー粘度がこれ以上のものを用いると、炭素繊維を多量に混練することが困難となって成形が難しくなり、仮に混練できた場合でも成形時に流れ不良が生じ、所望形状の製品が成形できなくなる。AN含量については、シール対象に応じて種々のものが用いられるが、30％未満のものを用いるとガス透過性が著しく増大し、気体遮蔽材料としては機能しなくなり、またヨウ素価が28以上のものを用いると、耐熱性が損われるようになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
実施例３
実施例1において、トリメチロールプロパントリメタクリレートの代りに、同量のトリエチレングリコールジメタクリレート(アクリエステル3ED)が用いられた。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月10日(2006.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 コンピュータと携帯端末との通信が可能なコンピュータシステムにおいて、前記コンピュータが、動作電力の供給源であるバッテリと、前記携帯端末より発行されたウェイクアップ命令に応じて、前記コンピュータを少なくとも前記携帯端末との通信機能を有効にしたまま前記バッテリの電力供給先を制限したスタンバイ状態から前記バッテリの電力供給先の制限を解除した制限解除状態にウェイクアップさせる手段とを有することを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項２】 前記コンピュータが、前記コンピュータをウェイクアップさせるための設定を行う時、前記コンピュータが前記制限解除状態から前記スタンバイ状態に移行したあとの動作可能時間を前記バッテリの残量を基に取得する取得手段と、前記取得手段により取得された動作可能時間を表示する表示手段とをさらに有することを特徴とする請求項１記載のコンピュータシステム。
【請求項３】 前記コンピュータが、前記通信機能のパラメータを設定する設定手段をさらに有し、前記取得手段が、少なくとも前記バッテリの残量と前記設定手段により設定されたパラメータに対して最適な前記動作可能時間を取得することを特徴とする請求項２記載のコンピュータシステム。
【請求項４】 前記コンピュータが、前記取得手段により取得された前記動作可能時間から、前記通信機能の最適なパラメータを設定する手段をさらに有することを特徴とする請求項２記載のコンピュータシステム。
【請求項５】 前記コンピュータが、前記取得手段により取得された前記動作可能時間を基に、前記携帯端末から受け取ったウェイクアップ命令を有効とするかどうかを決定する手段をさらに有することを特徴とする請求項２記載のコンピュータシステム。
【請求項６】 コンピュータと携帯端末との通信が可能なコンピュータシステムにおいて、前記コンピュータが、動作電力の供給源であるバッテリと、前記携帯端末より発行されたウェイクアップ命令に応じて、前記コンピュータを少なくとも前記携帯端末との通信機能を有効にしたまま前記バッテリの電力供給先を制限したスタンバイ状態から前記バッテリの電力供給先の制限を解除した制限解除状態にウェイクアップさせる手段と、前記コンピュータがウェイクアップしてからの動作可能時間を前記バッテリの残量を基に取得する取得手段と、前記取得手段により取得された動作可能時間を前記携帯端末に通知する手段とを有することを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項７】 コンピュータと携帯端末との通信が可能なコンピュータシステムにおいて、前記コンピュータが、動作電力の供給源であるバッテリと、前記携帯端末より発行されたウェイクアップ命令に応じて、前記コンピュータを少なくとも前記携帯端末との通信機能を有効にしたまま前記バッテリの電力供給先を制限したスタンバイ状態から前記バッテリの電力供給先の制限を解除した制限解除状態にウェイクアップさせる手段と、前記コンピュータがウェイクアップしてからの動作可能時間を前記バッテリの残量を基に取得する取得手段と、前記取得手段により取得された動作可能時間を前記携帯端末に通知する動作可能時間通知手段と、前記携帯端末から要求された転送データ量から予想転送時間を求める予想転送時間算出手段と、前記予想転送時間算出手段により算出された予想転送時間を前記携帯端末に通知する予想転送時間通知手段とを有することを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項８】 コンピュータと携帯端末との通信が可能なコンピュータシステムにおいて、動作電力の供給源であるバッテリと、前記携帯端末より発行されたウェイクアップ命令に応じて、前記コンピュータを少なくとも前記携帯端末との通信機能を有効にしたまま前記バッテリの電力供給先を制限したスタンバイ状態から前記バッテリの電力供給先の制限を解除した制限解除状態にウェイクアップさせる手段と、前記コンピュータがウェイクアップしてからの動作可能時間を前記バッテリの残量を基に取得する取得手段と、前記携帯端末から要求された転送データ量から予想転送時間を求める予想転送時間算出手段と、前記予想転送時間算出手段により算出された予想転送時間と前記取得手段により取得された動作可能時間とを比較して前記携帯端末へのデータ転送を有効にするか無効にするかを判定する判定手段とを有することを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項９】 コンピュータと携帯端末との間で通信可能なコンピュータシステムのウェイクアップ方法において、前記携帯端末より発行されたウェイクアップ命令に応じて、前記コンピュータを少なくとも前記携帯端末との通信機能を有効にしたまま前記バッテリの電力供給先を制限したスタンバイ状態から前記バッテリの電力供給先の制限を解除した制限解除状態にウェイクアップさせることを特徴とするコンピュータシステムのウェイクアップ方法。
【請求項１０】 コンピュータと携帯端末との間で通信可能なコンピュータシステムのウェイクアップ方法において、少なくとも前記携帯端末との通信機能を有効にしつつ内蔵バッテリの電力供給先を制限したスタンバイ状態から前記電力供給先の制限を解除した制限解除状態へ前記コンピュータをウェイクアップさせるための設定を行う際、前記コンピュータのバッテリ残量を基に、前記コンピュータが前記制限解除状態から前記スタンバイ状態に切り替わってからの動作可能時間を取得し、この取得した動作可能時間を表示することを特徴とするコンピュータシステムのウェイクアップ方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月6日(2006.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１    ガラスパネル
２    床部
３    支持チャンネル
４    支持枠
５    支持柱
６    結合梁
７    揺動ブラケット
８、８ａ  パネル側結合ブラケット
９    ピン
１０    挿入孔
１１    円孔
１２    ボルト
１３    ナット
１４    取付板部
１５    係止筒部
１６    円孔
１７    滑り板
１８、１８ａ  ピン支持部
１９    パネル保持部
２０、２０ａ  支持腕部
２１    支持孔
２２    保持凹溝
２３    シール材
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンが形成された基板面に電子線を照射し、走査する工程と、該電子線により該基板から二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された該信号を操作画面上に画像化する工程と、該画像より該基板面の形状、凹凸、電位コントラストに関する情報を認識し、区別する工程を含むことを特徴とするパターン検査方法。
【請求項２】
回路パターンが形成された基板面に電子線を照射し、走査する工程と、該電子線により該基板から二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された該信号を操作画面上に画像化する工程と、該画像より該基板面の形状、凹凸、電位コントラストに基づく異物・欠陥に関する情報を認識し、区別する工程とを含んでなることを特徴とするパターン検査方法。
【請求項３】
前記電子線を照射し走査する工程において、検査条件に応じて前記電子線のビーム電流および走査速度を設定することを特徴とする請求項１又は２に記載のパターン検査方法。
【請求項４】
前記信号を検出する工程において、複数の検出器を用い、検査条件に応じて該複数の検出器のうち一つもしくは複数の検出器を選択することを特徴とする請求項１又は２に記載のパターン検査方法。
【請求項５】
複数の条件で検査するための検査条件をファイル化して予め記憶しておき、該条件ファイルを操作画面に表示する工程を含んでなることを特徴とする請求項１又は２に記載のパターン検査方法。
【請求項６】
所望する検査条件に基づき、前記操作画面に配置された各種パラメータのメニューより選択して入力することにより該所望する検査条件に関するファイルを作成し、登録する工程を備えたことを特徴する請求項１又は２に記載のパターン検査方法。
【請求項７】
他の検査装置で検査された前記基板面に関する検査結果を授受する工程を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のパターン検査方法。
【請求項８】
前記基板面に関する前記検査結果が、異物・欠陥およびその位置情報データを含み、該情報データをとり入れ、前記画像より前記情報を認識し区別するよう構成してなることを特徴とする請求項７記載のパターン検査方法。
【請求項９】
前記基板面に関する前記検査結果をもとに、前記操作画面に前記基板面のパターン配列を示すデータおよび異物・欠陥のデータを画像化して表示する工程を含むことを特徴とする請求項７記載のパターン検査方法。
【請求項１０】
所定のパターンが形成された基板面に電子線を照射し、走査する工程と、該基板から二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された該信号を操作画面上に画像化する工程と、他の検査装置で検査された該基板面に関する検査結果をとりいれ、該画像より該基板面の形状、凹凸、電位コントラストに関する情報を認識し、区別する工程を含んでなることを特徴とするパターン検査方法。
【請求項１１】
回路パターンが形成された基板面に電子線を所定のビーム電流と走査速度で照射し走査する工程と、該基板面から二次的に発生する信号を複数の検出器により検出する工程と、検出された該信号を操作画面上に画像化する工程と、他の検査装置で検査された該基板面に関する異物・欠陥およびその位置情報を含むデータを受けとり、該画像より該基板面の形状、凹凸、電位コントラストに関する情報を認識し、区別する工程とを含んでなることを特徴とするパターン検査方法。
【請求項１２】
前記画像より前記基板面の形状、凹凸、電位コントラストに基づく異物・欠陥に関する情報を認識し、区別する工程において、当該基板の電気的欠陥及び形状欠陥を区別することを特徴とするパターン検査方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月15日(2006.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】管状成形体の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一方向引き揃え強化繊維束に樹脂を含浸させたプリプレグであって、繊維引き揃え方向に対して直角方向の凹凸係数Ｒｚが１５μ／ｍ以下であり、かつ、強化繊維目付が１２５ｇ／ｍ２以下であるプリプレグ（ア）と、
一方向引き揃え強化繊維束に樹脂を含浸させたプリプレグであって、強化繊維目付が１５０〜２５０ｇ／ｍ２であるプリプレグ（イ）と、
を繊維軸方向が直行するように貼り合せて積層プリプレグを得、プリプレグ（イ）を内側とし、かつ最終的に製造される管状成形体の周方向を補強するように前記積層プリプレグをマンドレルに巻きつけ、次いで樹脂を硬化して管状成形体とした後、マンドレルを抜き取る、管状成形体の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、強化繊維と樹脂からなるプリプレグを用いた管状成形体の製造方法に関する。特に成形後の外観と強度に優れた管状成形体に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、成形後の外観表面が均一で良好であり、成形体の強度を安定発現させることのできるプリプレグを用いた管状成形体の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の管状成形体の製造方法は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、一方向引き揃え強化繊維束に樹脂を含浸させたプリプレグであって、繊維引き揃え方向に対して直角方向の凹凸係数Ｒｚが１５μ／ｍ以下であり、かつ、強化繊維目付が１２５ｇ／ｍ２以下であるプリプレグ（ア）と、一方向引き揃え強化繊維束に樹脂を含浸させたプリプレグであって、強化繊維目付が１５０〜２５０ｇ／ｍ２であるプリプレグ（イ）と、を繊維軸方向が直行するように貼り合せて積層プリプレグを得、プリプレグ（イ）を内側とし、かつ最終的に製造される管状成形体の周方向を補強するように前記積層プリプレグをマンドレルに巻きつけ、次いで樹脂を硬化して管状成形体とした後、マンドレルを抜き取る、管状成形体の製造方法にある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月11日(2006.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  加熱コイルにより多結晶棒を溶融し、その溶融部の下方で凝固させて単結晶棒を成長させるフローティングゾーン法の半導体単結晶製造装置において、
単結晶棒の成長域を囲繞する冷却手段を設けたことを特徴とする半導体単結晶製造装置。
【請求項２】  請求項１記載の半導体単結晶製造装置において、
冷却手段は、単結晶棒の成長域を囲繞し、冷却流体を流す配管が付設された冷却板からなることを特徴とする半導体単結晶製造装置。
【請求項３】  請求項１あるいは請求項２記載の半導体単結晶製造装置において、冷却手段は、その上端が溶融部と単結晶棒の界面域以下に配置されていることを特徴とする半導体単結晶製造装置。
【請求項４】  請求項２又は３記載の半導体単結晶製造装置において、前記冷却流体を単結晶棒の界面域側から導入し、順次下方に流すように配管してなることを特徴とする半導体単結晶製造装置。
【請求項５】  請求項２又は３記載の半導体単結晶製造装置において、前記冷却流体の少なくとも入口側配管が前記加熱コイルの給電部の下側に配置されていることを特徴とする半導体単結晶製造装置。
【請求項６】  加熱コイルにより多結晶棒を溶融し、その溶融部の下方で凝固させて単結晶棒を成長させるフローティングゾーン法の半導体単結晶製造方法において、
単結晶棒成長域の周囲を強制的に冷却することにより熱放射量を制御して、溶融部表面の温度勾配を制御して単結晶棒を成長させることを特徴とする半導体単結晶製造方法。
【請求項７】  単結晶棒成長域の周囲を強制的に冷却するとともに誘導加熱コイルへの入力電力量を増加させて溶融部表面の温度勾配を大きくし、溶融部内の対流を活性化することを特徴とする請求項６記載の半導体単結晶製造方法。
【請求項８】  単結晶棒の回転速度を制御することにより単結晶面内の微小領域での抵抗変動を制御することを特徴とする請求項６記載の半導体単結晶製造方法。
【請求項９】  冷却流体を単結晶棒の界面側から周回させながら下方に順次流すようにしてなることを特徴とする請求項６記載の半導体単結晶製造方法。
【請求項１０】  前記加熱コイルによる単結晶棒周方向の加熱温度分布における高温領域の下部にて冷却流体を導入するようにしてなることを特徴とする請求項６記載の半導体単結晶製造方法。
【請求項１１】  冷却流体の導入温度を調節して単結晶棒の温度勾配を制御することを特徴とする請求項６記載の半導体単結晶製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図７は、他の実施例の冷却手段２１を示す平面図である。
図７において、冷却手段２１がコイル３５と同芯軸上で、コイル３５から一定間隔離間した下側の位置に配設されている。冷却手段２１は、凝固した単結晶棒４３ＡをスキマＴａを介して内部に収容する熱放射率の高い材質よりなる冷却板５と、冷却板５の外周の半分にそれぞれ当接されて巻回付設され、冷却板５を保持する熱伝達率の高い第１配管２３と第２配管２５とから構成されている。冷却板５は、その外周に付設された第１配管２３と第２配管２５により挟持されて保持されている。第１配管２３および第２配管２５は、それぞれ冷却板５の外周に沿って上下方向に複数個配設されている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年6月14日(2006.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】下記一般式（１）（式中、Ｒは、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルシリル基を表わす。）で表されるオキシスチレン誘導体の蒸留において、重合禁止剤としてニトロソ化合物及び／又はニトロ化合物を添加することを特徴とするオキシスチレン誘導体の蒸留方法。
【化１】
2000327617.tif 000001
【請求項２】オキシスチレン誘導体が、下記一般式（２）で表される第三級−ブトキシスチレンであることを特徴とする請求項１に記載の蒸留方法。
【化２】
2000327617.tif 000002
【請求項３】オキシスチレン誘導体が、下記一般式（３）で表されるアセトキシスチレンであることを特徴とする請求項１に記載の蒸留方法。
【化３】
2000327617.tif 000003
【請求項４】ニトロソ化合物が、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン及び／又はその塩であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の蒸留方法。
【請求項５】ニトロ化合物が、ジニトロフェノールであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の蒸留方法。
【請求項６】請求項１に記載のオキシスチレン誘導体の蒸留方法により得られる、下記一般式（１）（式中、Ｒは、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルシリル基を表わす。）
で表されるオキシスチレン誘導体。
【化４】
2000327617.tif 000004
【請求項７】オキシスチレン誘導体が、下記一般式（２）で表される第三級−ブトキシスチレンであることを特徴とする請求項６に記載のオキシスチレン誘導体。
【化５】
2000327617.tif 000005
【請求項８】オキシスチレン誘導体が、下記一般式（３）で表されるアセトキシスチレンであることを特徴とする請求項６に記載のオキシスチレン誘導体。
【化６】
2000327617.tif 000006
【請求項９】ニトロソ化合物としてＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン及び／又はその塩を用いることを特徴とする請求項６に記載のオキシスチレン誘導体。
【請求項１０】ニトロ化合物としてジニトロフェノールを用いることを特徴とする請求項６に記載のオキシスチレン誘導体。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ジイソプロピルベンゼンをスチームおよび固体触媒の存在下に高温気相で脱水素し、イソプロペニルクメンおよびジイソプロペニルベンゼンを製造する方法において、固体触媒が、クロム化合物を含まないものであって、鉄化合物およびカリウム化合物を主成分とするもの、または鉄化合物、カリウム化合物およびマグネシウム化合物を主成分とするものであることを特徴とするジイソプロピルベンゼンの脱水素方法。
【請求項２】  ジイソプロピルベンゼンが、メタ−ジイソプロピルベンゼンであり、イソプロペニルクメンおよびジイソプロペニルベンゼンが、それぞれメタ−イソプロペニルクメンおよびメタ−ジイソプロペニルベンゼンである請求項１記載の方法。
【請求項３】  ジイソプロピルベンゼンが、パラ−ジイソプロピルベンゼンであり、イソプロペニルクメンおよびジイソプロペニルベンゼンが、それぞれパラ−イソプロペニルクメンおよびパラ−ジイソプロペニルベンゼンである請求項１記載の方法。
【請求項４】  固体触媒が、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、希土類金属化合物、モリブデン化合物、ジルコニウム化合物、亜鉛化合物、マンガン化合物、銅化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明は、ジイソプロピルベンゼンをスチームおよび固体触媒の存在下に高温気相で脱水素し、イソプロペニルクメンおよびジイソプロペニルベンゼンを製造する方法において、固体触媒が、クロム化合物を含まないものであって、鉄化合物およびカリウム化合物を主成分とするもの、または鉄化合物、カリウム化合物およびマグネシウム化合物を主成分とするものであるジイソプロピルベンゼンの脱水素方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
比較例３
ｍ−ＤＩＰＢの液空間速度（ｍ−ＤＩＰＢ／水の流量比は一定）を１．５とした以外は実施例２と同様に反応を行った。その結果、ｍ−ＤＩＰＢ転化率は１５％、ｍ−ＩＰＩＰｅＢ収率は１３％、ｍ−ＤＩＰｅＢ収率は１％であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
比較例４
スチームとｍ−ＤＩＰＢの供給比（ｗｔ／ｗｔ）を１とした以外は、実施例３と同様に反応を行った。その結果、ｍ−ＤＩＰＢ転化率は５０％、ｍ−ＩＰＩＰｅＢ収率は２０％、ｍ−ＤＩＰｅＢ収率は３％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】（１）本発明の皮膚外用組成物の必須成分である吸水性ポリマー及び／又はその塩
本発明の皮膚外用組成物は、カルボキシビニルポリマー及び／又はその塩を含有した皮膚外用組成物であって、吸水性ポリマー及び／又はその塩を必須成分として含有することを特徴とする。本発明で使用できる吸水性ポリマーとしては、アクリル酸構造をポリマーの主体として、自重の２倍以上の水分を包含できるもので有れば特段の限定はされず使用することが可能であり、好ましい具体例としては、例えば、架橋型ポリアクリル酸及び／又はその塩、ポリアクリル酸・デンプングラフト重合体及び／又はその塩等が例示でき、これらのものは既に市販されている。この様な市販品の内、好ましいものは架橋型ポリアクリル酸及び／又は塩である、サンフレッシュＳＴ５００ＤＣ、ＳＴ５００ＭＰＳ、ポリアクリル酸・デンプングラフト重合体及び／又は塩である、サンフレッシュＳＴ１００、ＳＴ１００ＭＰＳ、ＳＴ１００ＳＰ等が例示できる。これらは何れも三洋化成工業株式会社より市販されている。これらは、使用時に塩としたり、酸等により遊離体として使用することができる。この時、塩としては生理的に許容されるもので有れば特段の限定を受けずに適用することが可能であり、例えば、ナトリウムやカリウムのようなアルカリ金属塩、マグネシウムなどのアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、有機アミン塩、塩基性アミノ酸塩等が好ましく例示できる。又、唯一種を含有させることもできるし、二種以上を組み合わせて含有させることも可能である。本発明の皮膚外用組成物に於けるこれら吸水性ポリマーの好ましい含有量は、総量で０．０１重量％〜５重量％が好ましく、更に好ましくは０．０５〜１重量％である。これらは、この含有量に於いて、カルボキシビニルポリマー類の安定化作用を損なうことなく、該カルボキシビニルポリマー類の持つぬめり感を著しく改善することができる。即ち、これら吸水性ポリマーの含有量が少なすぎると効果を発揮することができず、ぬめり感を感じる場合があり、多すぎるとカルボキシビニルポリマーによる安定性を阻害してしまう場合があるからである。これらの吸水性ポリマーが本発明のぬめり感抑制剤である。このものは他の増粘剤、乳化剤、乳化安定剤等のぬめり感をも抑制・改善する事ができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月24日(2006.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
また、本発明のエアゾール容器(１)及び内袋(２)は、前述の如き透明または半透明の素材で形成しているので、内袋(２)内のエアゾール内容物(３)の充填量を、エアゾール容器(１)の外面から明確に目視できる。そして、エアゾール内容物(３)が透明な場合は、使用者に涼しげで清潔な印象を与える。また、エアゾール容器(１)及び内袋(２)が無色透明で、エアゾール内容物(３)が染毛剤や塗料等の場合には、使用者がその色を明確に判別できる。そのため、使用者は使用目的に応じた製品を容易に選択する事ができるとともに、エアゾール内容物(３)の明確な目視が可能となる。また、エアゾール内容物(３)がパール状の光沢を有したり、機能とは関係なく装飾的に着色されている場合は、透明な容器を通して色や光沢を使用者にアピールする事ができ、デザインや色彩感に優れたものとなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
そして、エアゾール内容物(３)を噴射する際は、押釦(１４)を押圧して、ステム(１１)を押し下げる。この押し下げにより、オリフィス(１２)が開口するとともに、内袋(２)の外周面全体に加えられる噴射剤の圧力により、ステム(１１)を介して、エアゾール内容物(３)がノズル(１６)から外部に噴射される。また、内袋(２)は、プリーツ形状であるから、噴射剤によって加圧される事により、エアゾール内容物(３)の減少に伴う収縮が、図５に示す如く、均等に行われる。従って、噴射の終期まで均一な噴射が持続するとともに、エアゾール内容物(３)を無駄なく噴射し得るものとなる。尚、図５に於いて、外周に実線で表示されたプリーツは、エアゾール内容物(３)の充填後及び噴射開始前の大きさを示すものであり、内周に表示されたものは、エアゾール内容物(３)の噴射後の大きさを示すものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
また、上記実施例では、エアゾール容器(１)は、PETで形成しているが、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアリレート(PAr)、ポリカーボネイト(PC)、アクリロニトリル・スチレン共重合体等から一種類を選択して形成しても良い。また、これらの素材を複数ブレンドした一層の素材や、これらの素材を複数積層した多層素材を用いて形成しても良い。また、ガラスを用いて形成しても良い。このような素材で形成しても、透明または半透明光のエアゾール容器(１)を得る事ができ、エアゾール内容物(３)の充填量を容易に確認する事ができる。そして、一層の場合は、容易な製造方法で廉価にエアゾール容器(１)を形成する事ができる。一方、多層の場合は、各層での光の干渉により色彩の変化を複雑とし、エアゾール内容物(３)の目視を容易としたり、意匠的趣味感を向上できるものとなる。また、複数素材をブレンドした素材や、多層素材で形成する場合は、噴射剤の成分への耐久性に優れた素材、耐圧力性に優れた素材、外的刺激に対する耐久性に優れた素材等を、ブレンドや積層により組み合わせる事によって、より丈夫で安全性に優れたエアゾール容器(１)を得る事が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  アルミ押出し材のハイドロフォーム加工方法において、加工前のアルミ押出し材の断面外周に対して金型内周が１００．５％以上１０２％以下になるように設定し、コーナーを有する断面形状に加工する際に、加工前のアルミ押出し材のコーナー外側の曲率半径は金型の曲率半径と同一にし、前記アルミ押出し材のコーナー内側の曲率半径は前記コーナー外側の曲率半径から断面各辺の板厚を引いた値よりも大きくすることを特徴とするアルミ押出し材のハイドロフォーム加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記に述べたアルミ押出し材のハイドロフォーム内圧負荷時のバーストを防止し、しかも最終的に外面コーナーの曲率半径をシャープに形成するためのハイドロフォーム加工方法を本発明者らは発明した。本発明の要旨は、アルミ押出し材のハイドロフォーム加工方法において、加工前のアルミ押出し材の断面外周に対して金型内周が１００．５％以上１０２％以下になるように設定し、コーナーを有する断面形状に加工する際に、加工前のアルミ押出し材のコーナー外側の曲率半径は金型の曲率半径と同一にし、前記アルミ押出し材のコーナー内側の曲率半径は前記コーナー外側の曲率半径から断面各辺の板厚を引いた値よりも大きくすることを特徴とするアルミ押出し材のハイドロフォーム加工方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明においては、アルミ押出し材３の全体の形状は金型と同じ正方形とし、但し、１辺の長さはハイドロフォーム加工中のバースト防止のため１００ａ／１０２以上とし、全体を塑性変形させて形状凍結させるため１００ａ／１００．５以下とする。この拡管率の範囲に設定すると、ほぼ全種類のアルミ押出し材に対して、塑性変形を十分に行い、かつ、バーストも起こさずハイドロフォーム加工ができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、本発明のコーナー形状に関して説明する。加工前の押出し材のコーナー外側５の曲率半径は金型の曲率半径ｂと同一に設定する。押出し材のコーナー内側６の曲率半径は、各辺の板厚をｔとした時にｂ−ｔより大きい値に設定する。前記のようなコーナー形状にすることにより、ハイドロフォーム加工時にコーナーに多大な歪が集中せず、高圧まで負荷でき形状凍結も良好に達成され、かつ、外面のコーナーもシャープに加工できる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクジェットプリントヘッド及びインクジェットプリンタ並びにインクジェットプリントヘッドの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、個別電極層、圧電素子層、振動板を順次形成してインク吐出エネルギー発生部を構成するインクジェットプリントヘッドにおいて、隣接する圧力室間に圧力室補強用部材を設けることを特徴とするインクジェットプリントヘッド。
【請求項２】
前記基板は、少なくとも隣接する圧力室を隔てる圧力室隔壁上において前記圧力室補強部材として機能することを特徴とする請求項１記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項３】
前記圧力室補強用部材を、前記基板の残存部によって構成することを特徴とする請求項１又は２記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項４】
前記基板には（１００）面を主面とするＭｇＯ基板が用いられ、
前記基板上に形成される圧電体層は、（１００）面を主面とするＰＺＴ単結晶となることを特徴とする請求項１、２又は３記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項５】
前記基板には表面が絶縁化されたＳｉ基板が用いられることを特徴とする請求項１、２又は３記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項６】
前記基板の一部にはインク噴出駆動源を駆動する駆動回路が形成されることを特徴とする請求項５記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項７】
前記基板は、個別電極に接続する埋込配線が形成されることを特徴とする請求項１乃至６のうち何れか１項に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項８】
請求項１乃至７のうち何れか１項に記載のインクジェットプリントヘッドを搭載したインクジェットプリンタ。
【請求項９】
基板上に個別電極層を形成する工程と、
前記個別電極層の上に圧電体層を形成する工程と、
前記個別電極層及び前記圧電体層に個別圧電素子パターンに対応する個別圧電素子層及び個別電極を形成する工程と、
前記基板上に、前記個別圧電素子層の表面が除去された感光ポリイミド層を形成する工程と、
前記個別圧電素子層及び前記感光ポリイミド層の上に振動板を形成する工程と、
前記振動板の上に圧力室及び共通路、インク供給路が形成される構造体を形成する工程と、
ノズルを設けたノズル板と前記構造体を対向させ、前記基板から前記ノズル板までを一体化する工程と、
前記基板の前記個別電極に対応する形状を除去し、前期個別電極を露出させる工程と、を含むことを特徴とするインクジェットプリントヘッドの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
なお、基板１としては、圧電素子層３を構成する圧電体との相性から、ＭｇＯ基板、或いは、Ｓｉ単結晶が好適である。特に、（１００）面を主面とするＭｇＯ単結晶基板を用いた場合には、その上に形成するＰＺＴ（ＰｂＺｒx Ｔｉ1-x Ｏ3 ）等の圧電素子層３を（１００）面を主面とする単結晶とすることができ、それによって、圧電特性の優れた圧電素子層３とすることができるので、低電圧駆動が可能になる。また、表面が絶縁されたＳｉ基板を基板１に用いると、通常のデバイス形成プロセスを用いてインク噴出源を駆動する駆動回路を構成でき、該駆動回路の実装工程が不要になり好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月5日(2006.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリウレタンからなり、その骨格の平均太さが２０μｍ以下で、骨格の８０％以上が２〜２０μｍの範囲の太さである３次元網目状の気孔構造を有し、見掛け密度が０．２〜０．４ｇ／ｃｍ３であり、かつＨＬＢ値が８以上の界面活性剤を含有することを特徴とする連続気孔弾性体。
【請求項２】
界面活性剤のＨＬＢ値が８〜１９であることを特徴とする請求項１に記載の連続気孔弾性体。
【請求項３】
ポリウレタン、溶剤及び水溶性でかつ溶剤と分子化合物を形成する気孔生成剤を、主原料として、含有する組成物を混練して粘土状相溶物にする工程、当該組成物を脱泡、成形する工程、得られた成形物を水中あるいは水溶液中に投入して凝固する工程、及び、凝固された成形物から前記気孔生成剤を水抽出して除去しその後乾燥する工程を有することを特徴とする連続気孔弾性体の製造方法。
【請求項４】
前記気孔生成剤が、塩化カルシウムであることを特徴とする請求項３に記載の連続気孔弾性体の製造方法。
【請求項５】
前記組成物が、さらに、ＨＬＢ値が８以上の界面活性剤を含有することを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の連続気孔弾性体の製造方法。
【請求項６】
凝固された成形物から前記気孔生成剤を水抽出した後、該成形物にＨＬＢ値が８以上の界面活性剤を添加する工程をさらに有することを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の連続気孔弾性体の製造方法。
【請求項７】
請求項１又は請求項２に記載の連続気孔弾性体を用いることを特徴とする吸水ローラー。
【請求項８】
請求項１又は請求項２に記載の連続気孔弾性体を用いることを特徴とするスワブ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月18日(2006.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機アミン、随意的な有機溶媒、及び少なくとも０．５質量％のタンニン酸もしくはその塩又はその両方、を含む、残留物を除去するための組成物。
【請求項２】
０．５〜２５質量％のタンニン酸もしくはその塩又はその両方を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
０．５〜１０質量％のタンニン酸もしくはその塩又はその両方を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
０．５〜５質量％のタンニン酸もしくはその塩又はその両方を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
有機溶媒を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
前記有機アミンがヒドロキシルアミンを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
前記有機アミンが、式ＮＲ1Ｒ2Ｒ3で表される少なくとも１種のアミン（式中、各Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は個々に、Ｈ、脂肪族基、エーテル基、アミノ基及びアリール基、そしてＮ複素環式基からなる群より選ばれ、当該Ｎ複素環式基は随意に、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群より選ばれる少なくとも１つの追加のヘテロ原子を環中に含有する）、あるいは式［ＮＲ4Ｒ5Ｒ6Ｒ7］ＯＨで表される少なくとも１種の第四アンモニウム化合物（式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7のおのおのは個々にアルキル基である）を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
前記有機アミンがアミノアルキルモルホリンを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項９】
前記有機アミンがアミノプロピルモルホリンを含む、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
ヒドロキシルアミンを更に含む、請求項７又は８記載の組成物。
【請求項１１】
前記有機溶媒がプロピレングリコールを含む、請求項５記載の組成物。
【請求項１２】
前記有機溶媒がアルカノールアミンを含む、請求項５記載の組成物。
【請求項１３】
前記有機溶媒がジメチルスルホキシドを含む、請求項５記載の組成物。
【請求項１４】
水を更に含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１５】
ｐＨが少なくとも７である、請求項１記載の組成物。
【請求項１６】
ｐＨが少なくとも９である、請求項１記載の組成物。
【請求項１７】
ｐＨが１０〜１２である、請求項１記載の組成物。
【請求項１８】
基材からホトレジストもしくはエッチング残留物又はその両方を除去するための方法であって、当該基材を、有機アミンと、随意的な有機溶媒と、そして少なくとも０．５質量％のタンニン酸もしくはその塩又はその両方とを含む組成物と接触させることを含む除去方法。
【請求項１９】
ホトレジストを基材上に塗布すること、
リソグラフィーにより当該ホトレジストにパターンを画定すること、
当該パターンを当該基材へ転写すること、
当該基材を、有機アミンと、随意的な有機溶媒と、そして少なくとも０．５質量％のタンニン酸もしくはその塩又はその両方とを含む組成物と接触させることにより、当該基材からホトレジストもしくはエッチング残留物又はその両方を除去すること、
を含むパターン画定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月1日(2005.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、請求項４記載の発明は、歯付ベルトの位置決め手段が、測定台の所定位置を第１の位置決めの基点とし、その上に嵌合される取外し可能なアダプター（１）の所定位置を第２の位置決めの基点とする手段であって、アダプター（１）はその下面において一方のコーナーに段付部が設けられ、このコーナーが測定台のコーナーに係止し、その上面においては、一方のコーナーに矩形状の段落部が設けられ、この段落部のコーナーに歯付ベルトのコーナーが係止する手段である請求項１記載の歯付ベルトの歯溝深さ測定器である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
移動台（１）５１は、前記支持部材５０と嵌合状態で上下に移動することができる。歯付ベルトのサイズに適した所定の高さ位置に移動台（１）５１は固定ノブ５１ｃにより固定される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この移動台（１）５１には、リニアモーションガイド５１ａが重力方向に設けられており、移動側のプレートには第２の移動台（２）５３が取付けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図６において、測定探子５４ａは、測定探子案内ロッド５４ａ４の図示しない上部がラック構造となっており、この直線移動をピニオン、ギヤーを介して回転角に変換するものである。この回転角は指針によって直読されるか、或いはロータリエンコーダーによりパルス変換されてディジタル表示される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
以上で説明したように本発明は、測定探子ヘッド部５４ａ１の移動量がそのまま目的とする歯溝深さを表示することから、計算誤差はなくなり、また、歯付ベルトを一定の荷重で押圧固定する機構であることから、これまでの人力による押圧力に起因する誤差はなくなる。