【事件の表示】
　平成１１年特許願第２０１１３２号「液晶ディスプレイ装置の製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１２年　２月２５日出願公開、特開２０００−　５６３０６］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明の要旨
　本願は、優先権主張を伴う平成１１年７月１５日（第一国：米国、優先日：平成１０年８月４日）の出願であって、その発明は、平成１３年１月１９日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲に記載されたとおりのものであり、そのうち請求項１に係る発明は次のとおりである。
「【請求項１】液晶ディスプレイ装置の製造方法であって、第一の基板と第二の基板とを設ける工程と、前記第一の基板の第一の面に第一の電極層を堆積する工程と、前記第二の基板の第一の面に第二の電極層を堆積する工程と、前記第一の電極層に第一の配向層を堆積し、該第一の配向層の厚さを１００Å以下とする工程と、前記第二の電極層に第二の配向層を堆積する工程と、前記第一の基板の前記第一の面が前記第二の基板の前記第一の面に対向し、かつ前記第一の基板と前記第二の基板との間に隙間が生ずるように、前記第一の基板と前記第二の基板とを配置する工程と、前記第一の基板と前記第二の基板との間の前記隙間に液晶材料を堆積する工程と、を含み、前記堆積した配向層の原子構造が、中性粒子ビーム・ボンバードメント、イオン・ビーム・ボンバードメント、レーザ照射、ＵＶ照射、マイクロリソグラフィ、および機械的摩擦からなる群から選択される少なくとも一つの手段によって配向されることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法。」（以下、「本願発明１」という。）
　
２．引用刊行物
　これに対し、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された特開昭６１−１７７４４０号公報（以下、「刊行物」という。）には、
「１．対向配置された２枚の電極基板の各対向面上に有機配向膜を設け、該電極基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子において、前記有機配向膜として膜厚が２０〜１００Åの範囲のポリイミド膜を用いたことを特徴とする液晶表示素子。」（特許請求の範囲第１項）、
「液晶表示装置は、薄形、低消費電力という特徴を有することから、時計、電卓等をはじめとしてカメラ、計測器および自動車等の情報表示装置さらには将来は壁掛けテレビジョン等に到るまでその利用範囲が拡大されつつあるが・・・・」（１頁右下欄２行〜６行）、
「透光性ガラス板からなる上、下基板１，２の各対向面上には透明導電膜からなるドット電極３、コモン電極４がそれぞれ所定のパターン寸法を有して被着形成され、さらにこれらの電極３，４上には、ポリイミド、例えばポリイミドイソインドロキナゾリンジオン、（１例として日立化成商品名ＰＩＱ）を被着形成した後、その表面にラビング処理を施した有機配向膜５が形成されている。そして、これらの上、下基板１，２の相互間を所定距離離間してその周辺部を、スペーサを含有したシール材６で封着して液晶セルを形成し、その内部に例えばロシュ社製のＲＯ−ＴＮ−１３２（商品名）液晶７が封入されて構成されている。
　一方、従来の有機配向膜として、例えばポリイミドイソインドロキナゾリンジオンを数百Å程度の厚さに塗布した後、その表面にラビング処理を施して形成した液晶セル内に、下記表１に示すような通常用いられる各種の液晶材料を封入した場合、・・・・」（３頁左上欄１７行〜右上欄１６行）、
「有機配向膜５の膜厚を約１００Å以下の厚さに形成しなければならないことが明らかとなった。」（３頁左下欄最後から２行〜右上欄１行）、及び、
「前述した実施例において、有機配向膜１５の膜厚を約１００Åとした場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、この膜厚を２０Å未満とすると、液晶の配向劣化を起し易くなり、また膜厚を１００Å以上とすると、周波数領域が拡大して表示むらが発生し易くなる。したがって、この膜厚は２０〜１００Åの範囲が好ましく、さらにその範囲を２０〜５０Åとすることにより、安定度の高い効果が得られる。」（３頁右下欄１０行〜１８行）と記載され、
また、第５図には、上基板と下基板との間に液晶を充填した液晶表示素子が示されている。
　これらによると、上記刊行物には、「液晶表示素子の製造方法であって、上基板と下基板とを設ける工程と、上基板の第一の面にドット電極を被着形成する工程と、下基板の第一の面にコモン電極を被着形成する工程と、ドット電極に有機配向膜を堆積し、該有機配向膜の厚さを２０〜１００Åとする工程と、コモン電極に有機配向膜を堆積する工程と、上基板の第一の面と下基板の第一の面との間を所定距離離間して、上基板と下基板とを配置する工程と、上基板と下基板との間に液晶材料を封入する工程と、を含み、有機配向層がラビング処理が施された液晶表示素子の製造方法」（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
３．対比・判断
　引用発明における「上基板」、「下基板」、「第一の電極層」、「第二の電極層」、上基板に形成された「有機配向膜」、下基板に形成された「有機配向膜」は、本願発明における「第一の基板」、「第二の基板」、「ドット電極」、「コモン電極」、「第一の配向膜」、「第二の配向膜」に、相当することは明らかである。
　また、引用発明の製造方法で製造される液晶表示素子は、壁掛けテレビジョンに利用されることが示唆されているから、引用発明は、本願発明と同様に、液晶ディスプレイ装置の製造方法であるということができる。
　さらに、引用発明において、上基板の第一の面と下基板の第一の面との間を所定距離離間することは、本願発明において、第一の基板と第二の基板との間に隙間を生じさせることと同等である。
　また、上記刊行物に記載された「ラビング処理」とは、一般に、「ポリイミドなどの高分子膜を塗布しそれをナイロンやポリエステルなどの繊維で一方向にこするラビング法」（「液晶辞典」第１７５頁　１９９４年１２月１０日初版第３刷　株式会社培風館発行）により行う配向処理であるから、本願発明における「機械的摩擦」であるということができる。
　さらに、本願明細書及び図１の記載によると、液晶１９は封止樹脂１５，１６で封止されていること、言うまでもなく液晶は液体であること、及び、本願請求項１の「第一の基板と前記第二の基板との間の前記隙間に液晶材料を堆積する」との記載を考慮すると、本願発明における「液晶材料を堆積する」点は、液晶材料を封入することを意味していると解される。
　よって、本願発明と引用発明とを比較すると、両者は、液晶ディスプレイ装置の製造方法であって、第一の基板と第二の基板とを設ける工程と、前記第一の基板の第一の面に第一の電極層を堆積する工程と、前記第二の基板の第一の面に第二の電極層を堆積する工程と、前記第一の電極層に第一の配向層を堆積する工程と、前記第二の電極層に第二の配向層を堆積する工程と、前記第一の基板の前記第一の面が前記第二の基板の前記第一の面に対向し、かつ前記第一の基板と前記第二の基板との間に隙間が生ずるように、前記第一の基板と前記第二の基板とを配置する工程と、前記第一の基板と前記第二の基板との間の前記隙間に液晶材料を堆積する工程と、を含み、前記堆積した配向層の原子構造が、中性粒子ビーム・ボンバードメント、イオン・ビーム・ボンバードメント、レーザ照射、ＵＶ照射、マイクロリソグラフィ、および機械的摩擦からなる群から選択される少なくとも一つの手段によって配向されることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法である点で一致し、次の点で相違している。
（相違点）
　第一の配向膜の厚さを、本願発明は、１００Å以下としているのに対し、引用発明は、２０〜１００Åとしている点
　
　上記相違点について検討すると、引用発明における第一の配向膜の厚さの数値範囲は、本願発明における第一の配向膜の厚さの数値範囲を全て包含するものであり、引用発明のものはこのうち０〜２０Åの望ましくない部分を排除したにすぎないものであるから、この点に両者の実質的な相違は認められない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。