Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
請求項１に記載の光偏向器において、固定部と第一可動板と第二可動板と第一弾性部材と第二弾性部材は同一のシリコン基板から形成され、第一弾性部材と第二弾性部材は略同一の厚みを有し、固定部と第一可動板と第二可動板は略同一の厚みを有し、第一弾性部材と第二弾性部材の厚みは固定部と第一可動板と第二可動板の厚みよりも薄く、第一弾性部材の長さ（第一可動板と第二可動板の間の寸法）は第二弾性部材の長さ（第二可動板と固定部の間の寸法）よりも短い、光偏向器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
４．  第１項に記載の光偏向器において、固定部と第一可動板と第二可動板と第一弾性部材と第二弾性部材は同一のシリコン基板から形成され、第一弾性部材と第二弾性部材は略同一の厚みを有し、固定部と第一可動板と第二可動板は略同一の厚みを有し、第一弾性部材と第二弾性部材の厚みは固定部と第一可動板と第二可動板の厚みよりも薄く、第一弾性部材の長さ（第一可動板と第二可動板の間の寸法）は第二弾性部材の長さ（第二可動板と固定部の間の寸法）よりも短い、光偏向器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月25日(2006.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼管の肉厚を熱間で超音波により測定するに当り、鋼管温度分布モデルから肉厚方向の平均温度と外面温度との温度差を演算し、該温度差を鋼管の外面温度測定値に加算して鋼管の肉厚方向の平均温度を推定し、推定した平均温度から肉厚方向の平均超音波速度を補正して肉厚を演算することを特徴とする鋼管の熱間肉厚測定方法。
【請求項２】
測定位置を変更して鋼管の円周方向の任意の点の肉厚を測定することを特徴とする請求項１記載の鋼管の熱間肉厚測定方法。
【請求項３】
前記測定位置の変更は測定手段を鋼管の円周方向に旋回させることであることを特徴とする請求項２記載の鋼管の熱間肉厚測定方法。
【請求項４】
鋼管の肉厚を熱間で超音波により測定する装置において、鋼管の外面温度測定値および鋼管寸法と圧延機操業条件で分類された情報記憶テーブルにより鋼管肉厚方向の温度分布から肉厚方向の平均温度と外面温度の差を検索する手段と、鋼管の外面温度測定値に、この肉厚方向平均温度と外面温度の差検索値を加算して肉厚方向の平均温度を求める手段と、この平均温度から肉厚方向の平均超音波速度を補正して、肉厚を演算する手段とを備えたことを特徴とする鋼管の熱間肉厚測定装置。
【請求項５】
肉厚計を鋼管の円周方向に旋回させる手段を備え、鋼管円周の任意の点に関して鋼管肉厚を測定する機能を備えたことを特徴とする請求項４記載の鋼管の熱間肉厚測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記本発明方法を好適に実施することができる本発明の装置は、鋼管の肉厚を熱間で超音波により測定する装置において、鋼管の外面温度測定値および鋼管寸法と圧延機操業条件で分類された情報記憶テーブルにより鋼管肉厚方向の温度分布から肉厚方向の平均温度と外面温度の差を検索する手段と、鋼管の外面温度測定値に、この肉厚方向平均温度と外面温度の差検索値を加算して肉厚方向の平均温度を求める手段と、この平均温度から肉厚方向の平均超音波速度を補正して、肉厚を演算する手段とを備えたことを特徴とする鋼管の熱間肉厚測定装置である。また肉厚計を鋼管の円周方向に旋回させる手段を備え、鋼管円周の任意の点に関して鋼管肉厚を測定する機能を備えると好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月29日(2006.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧ローラにニップを介して対向し、前記加圧ローラの回転に従動して回転するように配置された、弾性層を有する無端状の定着フィルムと、前記定着フィルムの非定着面に作用するように設けた発熱手段とを有する定着装置において、
前記定着フィルムの温度を検出する第１温度検出手段と、
前記発熱手段の温度を検出する第２温度検出手段と、
前記発熱手段への供給電力を制御することにより、該定着フィルムの温度を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記第１温度検出手段の検出温度が目標温度になるように前記発熱手段への供給電力を制御するモードを有するとともに、プリント信号の受信に応答して当該定着装置を立ち上げる時又は前記定着フィルムの回転異常時に、一時的に、前記第２温度検出手段の検出温度の上昇が抑制されるように、前記発熱手段への供給電力を制御する所定のモードを有することを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記所定のモードでは、前記第１及び第２温度検出手段の検出温度に基づいて前記発熱手段への供給電力を制御することを特徴とする請求項１記載の定着装置。
【請求項３】
当該定着装置の立ち上げ前の前記第１温度検出手段の検出温度に基づいて、当該定着装置の立ち上げ時に、前記所定のモードを実行するか否かを判断する手段を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の定着装置。
【請求項４】
前記発熱手段は、セラミック基板と、前記セラミック基板上に設けられる抵抗発熱体とを有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の定着装置。
【請求項５】
記録媒体上に未定着画像を形成する画像形成手段と、請求項１ないし請求項４の何れかに記載の定着装置であって、前記が像形成手段によって記録媒体上に形成された未定着画像を定着する定着装置とを有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
上記目的を達成するために、本発明に従う定着装置は、
加圧ローラ対向してニップを形成するように配置され、弾性層を有する無端状の定着フィルムと、前記定着フィルムの非定着面に作用するように設けた発熱手段とを有する定着装置において、
前記定着フィルムの温度を検出する第１温度検出手段と、
前記発熱手段の温度を検出する第２温度検出手段と、
前記発熱手段への供給電力を制御することにより、該定着フィルムの温度を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記第１温度検出手段の検出温度が目標温度になるように前記発熱手段への供給電力を制御するモードを有するとともに、プリント信号の受信に応答して当該定着装置を立ち上げる時に、一時的に、前記第２温度検出手段の検出温度の上昇が抑制されるように、前記発熱手段への供給電力を制御する所定のモードを有することを特徴とする。
好適には、前記所定のモードでは、前記第１及び第２温度検出手段の検出温度に基づいて前記発熱手段への供給電力を制御する。
また、好適には、当該定着装置の立ち上げ前の前記第１温度検出手段の検出温度に基づいて、当該定着装置の立ち上げ時に、前記所定のモードを実行するか否かを判断する手段を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また本発明の画像形成装置は、記録媒体上に未定着画像を形成する画像形成手段と、上記の何れかに記載の定着装置であって、前記が像形成手段によって記録媒体上に形成された未定着画像を定着する定着装置とを有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2005134748.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月13日(2006.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクのパターンおよび複数の模擬欠陥を含む模擬欠陥パターンに関し、前記パターンの所望のパターン密度および前記模擬欠陥の所望の欠陥サイズに対する前記模擬欠陥パターンにおけるキラー欠陥率を表す、キラー欠陥率関数を算出する工程と、
前記フォトマスクの検査対象領域内のキラー欠陥数を、前記検査対象領域の面積と、前記検査対象領域のパターン密度と、前記キラー欠陥率関数と、フォトマスク製造工程から取得した欠陥サイズ範囲に対する単位面積当たりの欠陥数を示す欠陥サイズ分布とに基づいて算出する工程と、
前記算出されたキラー欠陥数に基づいて、前記フォトマスクを評価する工程と
を有することを特徴とするマスク評価方法。
【請求項２】
前記算出された前記フォトマスクのキラー欠陥数に基づいて、フォトマスクの歩留を評価することを特徴とする請求項１に記載のマスク評価方法。
【請求項３】
前記キラー欠陥率関数を算出する工程は、
パターンおよび複数の模擬欠陥を含み、前記パターンのパターン密度および前記模擬欠陥の欠陥サイズの少なくとも一方に関して互いに異なっている、複数の模擬欠陥パターンを作成する工程と、
前記複数の模擬欠陥パターンのそれぞれのキラー欠陥率を算出する工程と、
前記複数の模擬欠陥パターンのそれぞれのキラー欠陥率を用い、外挿により、前記パターンの所望のパターン密度および前記模擬欠陥の所望の欠陥サイズに対する前記模擬欠陥パターンのキラー欠陥率関数を算出する工程と
を有することを特徴とする請求項１または２に記載のマスク評価方法。
【請求項４】
前記複数の模擬欠陥パターンを作成する工程は、
所定のパターン密度を有するフォトマスクのパターンイメージ上に、所定の欠陥サイズを有する複数の欠陥を模擬的にランダムに発生させる工程を、前記所定のパターン密度および前記所定の欠陥サイズの少なくとも一方を変えて、複数回行う工程を含むことを特徴とする請求項３に記載のマスク評価方法。
【請求項５】
前記キラー欠陥率関数を算出する工程は、
前記複数の模擬欠陥パターンのそれぞれについて、修正可能な欠陥の個数と、修正不可な欠陥の個数とを取得する工程と、
前記複数の模擬欠陥パターンのそれぞれのキラー欠陥率を、前記修正可能な欠陥の個数、前記修正不可な欠陥の個数および前記複数の欠陥の個数に基づいて算出する工程と
を有することを特徴とする請求項３または４に記載のマスク評価方法。
【請求項６】
前記パターンは、繰り返しパターンを含むことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のマスク評価方法。
【請求項７】
前記複数の模擬欠陥パターンのそれぞれのキラー欠陥率は、
（前記修正可能な欠陥の個数×修正失敗確率＋前記修正不可な欠陥の個数）／前記複数の欠陥の個数
に基づいて算出されることを特徴とする請求項６に記載のマスク評価方法。
【請求項８】
前記フォトマスクの検査対象領域内のキラー欠陥数は、
λ＝∫R Ａ・Ｋ（Ｒ，d）・Ｄ（Ｒ）ｄＲ
λ：キラー欠陥数
Ａ：検査対象領域の面積
Ｋ（Ｒ，ｄ）：キラー欠陥率関数
Ｒ：欠陥のサイズ
ｄ：パターン密度
Ｄ（Ｒ）：欠陥サイズ分布
に基づいて算出されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載のマスク評価方法。
【請求項９】
前記欠陥サイズ分布は、互いに欠陥サイズ範囲が異なる複数の欠陥サイズ分布で構成されていることを特徴とする１ないし８のいずれか１項に記載のマスク評価方法。
【請求項１０】
前記キラー欠陥数を算出する工程は、
黒欠陥のキラー欠陥数と白欠陥のキラー欠陥数とを各々算出する工程と、
前記黒欠陥のキラー欠陥数と前記白欠陥のキラー欠陥数との和を算出する工程と
を含むことを特徴とする請求項１ないし7または９のいずれか１項に記載のマスク評価方法。
【請求項１１】
前記フォトマスクを評価する工程は、
前記フォトマスクのパターン密度およびパターン面積をパラメータとするフォトマスク歩留まり分布を一定期間毎に作成する工程と、
前記一定期間毎に作成した前記フォトマスク歩留まり分布を比較して、歩留まり変動を評価する工程と
を含むことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のマスク評価方法。
【請求項１２】
前記フォトマスク歩留まり分布に基づいて、フォトマスク製造プロセスにおける欠陥サイズ分布を算出し、前記フォトマスク製造プロセスの工程能力を推定する工程を有することを特徴とする請求項１１に記載のマスク評価方法。
【請求項１３】
所定枚数の良品のフォトマスクを製造する工程を有するマスク製造方法であって、
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載のマスク評価方法を用いて、前記フォトマスクを評価する工程と、
前記フォトマスクを評価する工程の結果に基づいて、前記所定枚数以上の良品のフォトマスクが得られるために必要な、前記フォトマスクの製造枚数を決定する工程と、
前記製造枚数以上の前記フォトマスクを製造する工程と
を有することを特徴とするマスク製造方法。
【請求項１４】
フォトマスクのパターンおよび複数の模擬欠陥を含む模擬欠陥パターンに関し、前記パターンの所望のパターン密度および前記模擬欠陥の所望の欠陥サイズに対する前記模擬欠陥パターンにおけるキラー欠陥率を表す、キラー欠陥率関数を算出する記キラー欠陥率関数算出部と、
前記フォトマスクの検査対象領域内のキラー欠陥数を、前記検査対象領域の面積と、前記検査対象領域のパターン密度と、前記キラー欠陥率関数と、フォトマスク製造工程から取得した欠陥サイズ範囲に対する単位面積当たりの欠陥数を示す欠陥サイズ分布とに基づいて算出するキラー欠陥数算出部と、
前記算出されたキラー欠陥数に基づいて、前記フォトマスクを評価する評価部と
を具備してなることを特徴とするマスク評価システム。
【請求項１５】
前記算出された前記フォトマスクのキラー欠陥数に基づいて、フォトマスクの歩留を評価する歩留評価部をさらに有することを特徴とする請求項１４に記載のマスク評価システム。
【請求項１６】
コンピュータに、パターンおよび複数の模擬欠陥を含む模擬欠陥パターンに関し、前記パターンの所望のパターン密度および前記模擬欠陥の所望のサイズに対する前記模擬欠陥パターンのキラー欠陥率を表す、キラー欠陥率関数を算出させる手順と、
前記フォトマスクの検査対象領域内のキラー欠陥数を、前記検査対象領域の面積と、前記検査対象領域のパターン密度と、前記キラー欠陥率関数と、フォトマスク製造工程から取得した欠陥サイズ範囲に対する単位面積当たりの欠陥数を示す欠陥サイズ分布とに基づいて算出させる手順と、
前記算出されたキラー欠陥数に基づいて、前記フォトマスクを評価させる手順と
を実行させるためのプログラム。
【請求項１７】
前記算出された前記フォトマスクのキラー欠陥数に基づいて、フォトマスクの歩留を評価させる手順をさらに有することを特徴とする請求項１６に記載のプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月2日(2006.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に、負の屈折力の第１レンズ群、正の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群より成り、各レンズ群の間隔を変化させてズーミングを行うズームレンズにおいて、
該第１レンズ群は、負の屈折力の第１１レンズと正の屈折力の第１２レンズより成り、該第１１レンズは１面以上の非球面を有しており、該第１１レンズの材料の屈折率をＮｇ１とするとき、
１．８３＜Ｎｇ１
の条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第１１レンズは、物体側に比べ像側の面の屈折力の絶対値が大きい形状より成り、前記第１２レンズは、物体側の面が凸でメニスカス形状より成ることを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項３】
前記第２レンズ群の物体側に絞りを有し、該第２レンズ群は、物体側から像側へ順に、正の屈折力の第２１レンズ、負の屈折力の第２２レンズより成り、
無限遠物体に合焦しているときの広角端と望遠端のズーム位置における該第２レンズ群と前記第３レンズ群の間隔を各々ｄ２３ｗ、ｄ２３ｔ、広角端と望遠端のズーム位置における全系の焦点距離を各々ｆｗ、ｆｔとするとき、
０．２＜ｄ２３ｗ／ｆｗ＜０．６
０．２＜ｄ２３ｔ／ｆｔ＜０．６
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１又は２のズームレンズ。
【請求項４】
前記第２レンズ群は２つのレンズから構成され、このうちの２つのレンズは、非球面を有することを特徴とする請求項１、２又は３のズームレンズ。
【請求項５】
前記第３レンズ群は、球面より成る正の屈折力の第３１レンズから成ることを特徴とする請求項１、２、３又は４のズームレンズ。
【請求項６】
前記第３レンズ群を移動させてフォーカスを行うことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
前記第１１レンズの像側の面の近軸曲率半径をＲ２、該第１１レンズと前記第１２レンズとの間隔をＤａ、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、広角端のズーム位置における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
−０．４０＜Ｄａ／ｆ１＜−０．３５
０．６５＜Ｒ２／ｆｗ＜０．７５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項８】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、広角端のズーム位置における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
−２．１５＜ｆ１／ｆｗ＜−１．８５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項９】
前記第２レンズ群は、物体側から像側へ順に、正の屈折力の第２１レンズ、負の屈折力の第２２レンズより成り、
該第２１レンズの材料のアッベ数をν２１、該第２２レンズの材料のアッベ数をν２２とするとき、
１５＜ν２１−ν２２
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１０】
固体撮像素子の感光面上に像を形成することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項のズームレンズと該ズームレンズによって形成される像を受光する固体撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月31日(2006.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
図１０の模式図でさらに詳しく説明すると、転写部における記録材と像担持体（または中間転写体、以下同じ）との間（転写部における記録材と像担持体との接触領域部かつ、トナー像の転写工程中での、トナー層が挟まれた状態）のトナー像の端部（トナー画像とトナーの乗っていない白地部との境界、たとえば、１×１ｃｍの濃い画像があれば、その四角い境界の全てを指す）では僅かな隙間αがあり、強い振動を与えるとその隙間αの方向にトナー像が飛んでしまう。この隙間を減らすために記録材と像担持体との圧力を上げるとトナーが強く抑えられて超音波振動が付与できなくなり、振動による転写の効果が得られない。一般にトナーは粒径５〜８μｍの物が使われる。そして、画像濃度が濃くなると、トナーが３〜５層くらい山積みとなる。この山積みになったところと、白地部との境界（２．の境界のこと）では、像担持体と記録材とを押し付けても、トナー層の形状に追従しないので、トナー層の厚み分の高さの空隙が空く。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月6日(2006.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
さらに前記現像剤担持体の前記樹脂被覆層は、少なくとも結着樹脂、黒鉛化度（ｐ（００２））が０．２０以上０．９５以下である黒鉛化粒子を含有することから、樹脂被覆層の表面で黒鉛化粒子が磨耗や脱離を起こしにくくなり、現像剤担持体の表面の樹脂被覆層の粗さや均一な表面形状及び表面の材料組成が、多数枚の画出しにおいても変化しづらくなる効果がある。更に異なる環境下においてもトナー汚染や磁性現像剤のチャージアップを発生させること無く磁性現像剤へ均一で高い帯電を付与する効果がある。その結果耐磨耗性に優れ、スリーブゴースト、カブリ、画像濃度等の画質劣化の無い画像を得ることができる現像方法を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月20日(2006.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明者らの検討では、トナーの、１００ｋＨｚ、４０℃における誘電率は１５〜４５ｐＦ/ｍであることが好ましいことがわかった。この範囲を外れると、外添剤との誘電率
の差が小さくなってしまうため、電場内での静電凝集の抑制、及び帯電の安定性が発揮できないからである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
スチレン；o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-フェニルスチレン、p-エチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、p-n-ブチルスチレン、p-tert-ブチル
スチレン、p-n-ヘキシルスチレン、p-n-オクチルスチレン、p-n-ノニルスチレン、p-n-デシルスチレン、p-n-ドデシルスチレン、p-メトキシスチレン、p-クロルスチレン、3,4-ジクロルスチレン、m-ニトロスチレン、o-ニトロスチレン、p-ニトロスチレンの如きスチレン誘導体；エチレン、プロビレン、ブチレン、イソブチレンの如き不飽和モノオレフィン類；ブタジエン、イソプレンの如き不飽和ポリエン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、フッ化ビニルの如きハロゲン化ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニルの如きビニルエステル類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ-オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸ス
テアリル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチルの如きα-メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類：アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ-ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸ｎ-オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸2-エチルヘキシル、
アクリル酸ステアリル、アクリル酸2-クロルエチル、アクリル酸フェニルの如きアクリル酸エステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルイソブチルエーテルの如きビニルエーテル類：ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプロヘニルケトンの如きビニルケトン類；Ｎ-ビニルピロール、Ｎ-ビニルカルバゾール、Ｎ-ビニルインドール、Ｎ-ビニルピロリドンの如きＮ-ビニル化合物；ビニルナフタリン類
；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミドの如きアクリル酸もしくはメタクリル酸誘導体等が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月14日(2006.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、コントローラ６と、ヒーターマット３とコントローラ６とを電気的に接続するケーブル７，８とを備えている。コントローラ６からは電源コード９が引き出され、電源コード９の先端にはプラグ１０が設けられる。コントローラ６は、ヒーターマット３のオン・オフ、暖房の強弱、加熱箇所の選択、電気ヒーター線２の過熱防止などの制御を行う。電源コード９およびプラグ１０はコントローラ６に接続したままであってもよいが、コントローラ６に設けたスクリューレス端子（図示せず）に抜き差し可能に接続することによりヒーターマット３の通電試験用として仮設的に使用し、通電試験が終了したときにはこれら電源コード９およびプラグ１０を取り外して、コントローラ６を電源に本接続するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月10日(2006.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ところで、気象現象と電力需要について考えるとき、急激な都市化によるヒートアイランド現象を無視することはできない。ヒートアイランド現象は、市街地の蒸発抑制効果（塗装などのため蒸発・蒸散が少なく、気化熱による冷却が抑制される）と人為的な熱排出が主な原因と考えられている。気象モデルには、前者の蒸発抑制効果を計算に取り入れているものもあるが、後者の人為的な熱排出を推定し、気象現象の予測に反映させる試みはなされていない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、現実には気温が高くなればエアコンの消費電力が増え、その熱排出により気温の上昇が起こり、さらなる電力需要を呼び起こすという高温化への循環が発生していると考えられる。このような循環を考慮しないとすれば、急激な温度上昇を小さく見積もる可能性がある。急激な温度上昇は集中豪雨を発生させる可能性が高いことから、集中豪雨の予測にも悪影響を与え、水害の危険性の予測をも困難にさせる。さらには、気象現象をもとに算出される電力需要予測の精度悪化にもつながる可能性がある。
【非特許文献１】「気象科学事典」、日本気象学会編、東京出版、p.445
【特許文献１】特開２００３−１８００３２号公報
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月3日(2006.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の(a) 〜(c) を備えた、車両用走行状態安定化装置。
(a) 車輪と共に回転する回転部材に、この回転部材と同心に設けられた、被検出面の特性を円周方向に関して交互に変化させたエンコーダ。
(b) それぞれが上記被検出面に対向する１対の検出部を、上記エンコーダの円周方向に離隔させた状態で設け、上記回転部材の近傍に配置された固定部材に支持された回転速度検出センサ。
(c) 上記１対の検出部の検出信号発生の時間差に基づいて上記回転部材の回転速度を算出し、求めた回転速度の変動に応じて走行安定化の為の制御を行なわせる為の指令信号を発する走行制御部を備えた制御器。
【請求項２】
回転速度検出センサに設けた１対の検出部のピッチが、エンコーダの被検出面の特性変化のピッチのうちの最小のピッチ未満である、請求項１に記載した車両用走行状態安定化装置。
【請求項３】
エンコーダの被検出面の特性変化のピッチの相互差が、±２％以内である、請求項１〜２の何れかに記載した車両用走行状態安定化装置。
【請求項４】
エンコーダの被検出面の特性変化のピッチ数が、５０〜１００である、請求項１〜３の何れかに記載した車両用走行状態安定化装置。
【請求項５】
制御器が、１対の検出素子の検出信号が変化する順序に基づいて、エンコーダの回転方向を判定する回転方向判定処理部を備えている、請求項１〜４の何れかに記載した走行状態安定化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の車両用走行状態安定化装置は、次の(a) 〜(c) を備える。
(a) 車輪と共に回転する回転部材に、この回転部材と同心に設けられた、被検出面の特性を円周方向に関して交互に変化させたエンコーダ。
(b) それぞれが上記被検出面に対向する１対の検出部を、上記エンコーダの円周方向に離隔させた状態で設け、上記回転部材の近傍に配置された固定部材に支持された回転速度検出センサ。
(c) 上記１対の検出部の検出信号発生の時間差に基づいて上記回転部材の回転速度を算出し、求めた回転速度の変動に応じて走行安定化の為の制御を行なわせる為の指令信号を発する走行制御部を備えた制御器。
具体的には、この制御器は、上記走行制御部の他に時間差データ処理部を備える。そして、この時間差データ処理部は、上記エンコーダの被検出面に存在する、特性が変化する境界部が上記１対の検出部のうちの一方の検出部の直前位置を通過する瞬間と、同じく他方の検出部の直前位置を通過する瞬間との間の時間差を、特性変化の方向が一致する境界部毎に求める。そして、上記走行制御部は、上記車輪の回転速度変動に伴う、これら各境界部毎の時間差のデータの変動に応じて、走行安定化の為の制御を行なわせる為の指令信号を発する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
更に、好ましくは、請求項５に記載した様に、制御器に、回転方向判定処理部を備えさせる。この回転方向判定処理部は、１対の検出素子の検出信号が変化する順序に基づいて、エンコーダの回転方向を判定する。具体的には、境界部が一方の検出部の直前位置を通過する瞬間と、同じく他方の検出部の直前位置を通過する瞬間との前後に基づいて、エンコーダの回転方向を判定する。
この様に構成すれば、車両が前進する場合に於ける走行安定性確保だけでなく、後退する場合に於ける走行安定性確保も図れる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月11日(2006.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素がマトリクス状に配置された画像表示部と、前記画素と電圧信号をアクセスするために前記画像表示部内に配置された複数の信号線と、前記信号線の電圧を制御する駆動回路とからなり、前記画素が発光素子と前記発光素子の発光強度を制御する画素回路とで構成される画像表示装置であって、複数の前記画素がそれぞれ有する前記画素回路の内部電圧を選択的に前記信号線へ発生する画素回路電圧検出手段を具備し、前記駆動回路は前記信号線の電圧と表示画像に対応した信号電圧を加算して再度前記信号線に電圧を出力する電圧加算手段を具備し、前記画素回路電圧検出手段は、複数ある前記画素がそれぞれ具備する複数の前記画素回路と前記信号線との間を、遮断状態と、接続状態と、前記接続状態より十分高い抵抗値で接続された抵抗接続状態との３状態をとり得る回路で構成されることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の画像表示装置において、
前記画素回路電圧検出手段は、抵抗器と、該抵抗器に並列接続されたスイッチングトランジスタとから構成されることを特徴とする画像表示装置。
【請求項３】
請求項１記載の画像表示装置において、
前記画素回路は、前記発光素子に定電流を供給する電流記憶回路を具備することを特徴とする画像表示装置。
【請求項４】
請求項１記載の画像表示装置において、
前記駆動回路は、前記信号線の電圧を記憶するサンプリング回路と、前記記憶された電圧と画像信号の電圧を加算する加算回路とを含むことを特徴とする画像表示装置。
【請求項５】
請求項１記載の画像表示装置において、
前記駆動回路は、アナログ電圧を出力するドライバＩＣと、前記ドライバＩＣと前記信号線の間に接続されたキャパシタとから構成されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項６】
請求項１記載の画像表示装置において、
前記発光素子は、発光ダイオード素子であることを特徴とする画像表示装置。
【請求項７】
請求項１記載の画像表示装置において、
前記画素回路と、前記画素回路電圧検出手段とは、薄膜トランジスタを用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項８】
請求項７記載の画像表示装置において、
前記画素回路は、ｎチャネルまたはｐチャネル薄膜トランジスタのいずれか一方のチャネルの薄膜トランジスタで構成されたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項９】
複数の画素がマトリクス状に配置された画像表示部と、前記画素と電圧信号をアクセスするために前記画像表示部内に配置された複数の信号線と、前記信号線のアナログ電圧を制御する駆動回路とからなり、前記画素が発光素子と前記発光素子の発光強度を制御する画素回路とで構成される画像表示装置であって、前記信号線よりも高い抵抗値を持つ複数の抵抗配線が前記信号線と平行に配置され、前記信号線と前記抵抗配線の間に複数の第１のスイッチング手段が設けられ、前記抵抗配線と前記画素回路の間に複数の第２のスイッチング手段が設けられたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
請求項９記載の画像表示装置において、
前記駆動回路は前記信号線の電圧と表示画像に対応した信号電圧を加算して再度信号線に電圧を出力する電圧加算手段を具備することを特徴とする画像表示装置。
【請求項１１】
請求項９記載の画像表示装置において、
前記第１および第２のスイッチング手段を制御して前記信号線と前記画素回路間の抵抗値を少なくとも２段階に変化させる制御回路を具備することを特徴とする画像表示装置。
【請求項１２】
請求項９記載の画像表示装置において、
前記信号線と前記抵抗配線は、絶縁膜を挟んでオーバーラップして設けられたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１３】
請求項９記載の画像表示装置において、
前記抵抗配線は多結晶シリコン薄膜抵抗であることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１４】
請求項９記載の画像表示装置において、
前記発光素子は、発光ダイオード素子であることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１５】
請求項９記載の画像表示装置において、
前記画素回路と、前記第１および第２のスイッチング手段とは、薄膜トランジスタを用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の画像表示装置において、
前記画素回路はｎチャネルまたはｐチャネル薄膜トランジスタのいずれか一方のチャネルの薄膜トランジスタで構成されたことを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月24日(2006.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図１１はチャンネルボックス１１に囲まれた燃料棒群内に標準燃料棒１２を７２本、燃料棒９本分の面積に相当する角管状水ロッド１３を１本配置した９×９燃料集合体である。本例では燃料棒９本分の面積に相当する角管状水ロッドを採用することにより減速材対ウラン比を改善しボイド係数の絶対値を低減させることにより、炉心安定性、領域安定性を向上させることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図７は、図６で規定される１０×１０燃料集合体の例として、チャンネルボックス１に囲まれた燃料棒群内に標準燃料棒２を８１本、燃料棒９本分の面積に相当する35.0mmの角管状水ロッド３、部分長燃料棒４を１０本配した１０×１０燃料集合体の横断面図を示したものである。この場合、水ロッドの全横断面積は1217mm2、標準燃料棒の全横断面積は6490mm2である。同図においては部分長燃料棒を１０本配置しているが、その配置場所に関しては核特性、熱水力特性の更なる向上を目的として最適化しても、前述のとおり、核熱水力安定性が悪くなる方向には作用し得ない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【表２】
2005134179.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【図１】被覆管肉厚に対するウラン重量と炉心安定性と領域安定性との関係を示す特性図である。
【図２】燃料棒直径に対するウラン重量と炉心安定性と領域安定性との関係を示す特性図である。
【図３】部分長燃料棒本数に対するウラン重量と炉心安定性と領域安定性との関係を示す特性図である。
【図４】部分長燃料棒長さに対するウラン重量と炉心安定性と領域安定性との関係を示す特性図である。
【図５】水ロッド横断面積に対するウラン重量と炉心安定性と領域安定性との関係を示す特性図である。
【図６】水ロッド横断面積、部分長燃料棒本数、燃料被覆管肉厚と (1)式〜 (3)式の関係を示す特性図である。
【図７】図６で規定される１０×１０燃料集合体実施例を示す横断面図である。
【図８】水ロッド横断面積、部分長燃料棒本数、燃料棒全本数と (1)式〜 (3)式の関係を示す特性図である。
【図９】図８で規定される１０×１０燃料集合体実施例を示す横断面図である。
【図１０】部分長燃料棒を有する９×９燃料集合体従来例を示す横断面図である。
【図１１】角管状水ロッドを有する９×９燃料集合体の従来例を示す横断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月19日(2006.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
一端がデータラインに接続され、ゲートがゲートラインに接続された選択トランジスタと、
この選択トランジスタの他端に接続された容量と、
この容量の他端がゲートに接続され、一端が電源ラインに接続された駆動トランジスタと、
この駆動トランジスタに流れる電流によって発光する発光素子と、
前記駆動トランジスタの他端と、発光素子との間に挿入配置された電流制御トランジスタと、
前記駆動トランジスタのゲートに一端が接続され、他端が前記駆動トランジスタと、前記電流制御トランジスタの間に接続されたリセットトランジスタと、
を有し、
前記電流制御トランジスタと、前記リセットトランジスタとは逆極性のトランジスタであって、両トランジスタのゲートはリセットラインに共通接続されており、
データラインを一定の基準電圧にセットした状態で、選択トランジスタをオンし、その状態でリセットラインの電圧設定によって、リセットトランジスタをオン、電流制御トランジスタをオフすることで、前記駆動トランジスタのゲートに駆動トランジスタのしきい値電圧に対応した電圧をセットし、
その後、リセットラインの電圧設定を変更することでリセットトランジスタをオフ、電流制御トランジスタをオンし、かつデータラインにデータ電圧をセットすることで、駆動トランジスタのゲート電圧をデータ電圧に応じてシフトさせ、データ電圧に応じた電流を駆動トランジスタおよび電流制御トランジスタを介し、発光素子に供給することを特徴とする画素回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、一端がデータラインに接続され、ゲートがゲートラインに接続された選択トランジスタと、この選択トランジスタの他端に接続された容量と、この容量の他端がゲートに接続され、一端が電源ラインに接続された駆動トランジスタと、この駆動トランジスタに流れる電流によって発光する発光素子と、前記駆動トランジスタの他端と、発光素子との間に挿入配置された電流制御トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲートに一端が接続され、他端が前記駆動トランジスタと、前記電流制御トランジスタの間に接続されたリセットトランジスタと、を有し、前記電流制御トランジスタと、前記リセットトランジスタとは逆極性のトランジスタであって、両トランジスタのゲートはリセットラインに共通接続されており、データラインを一定の基準電圧にセットした状態で、選択トランジスタをオンし、その状態でリセットラインの電圧設定によって、リセットトランジスタをオン、電流制御トランジスタをオフすることで、前記駆動トランジスタのゲートに駆動トランジスタのしきい値電圧に対応した電圧をセットし、その後、リセットラインの電圧設定を変更することでリセットトランジスタをオフ、電流制御トランジスタをオンし、かつデータラインにデータ電圧をセットすることで、駆動トランジスタのゲート電圧をデータ電圧に応じてシフトさせ、データ電圧に応じた電流を駆動トランジスタおよび電流制御トランジスタを介し、発光素子に供給することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月25日(2006.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像が形成される複数の像担持体と、前記複数の像担持体上に形成された画像が転写される中間転写体と、装置本体に対して開閉可能な開閉部材と、を有し、前記開閉部材が前記中間転写体を保持する画像形成装置において、
前記開閉部材はその下端に回動中心を有し、前記中間転写体は前記開閉部材の開放動作と共に移動することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記複数の像担持体は、鉛直方向に並列して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記開閉部材の開閉状態によって、前記中間転写体と前記開閉部材の相対位置が異なる
ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１４は第二のアクセスドア１１ｄを開け、中間転写ユニット５を途中まで脱着したところを示している。同様に装置フレームの剛性を確保するために、例えば、転写材のジャム処理は第二のドア１１ｄとはちょうど反対側の第三のドア（不図示）から行なわなければならない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上記目的は本発明に係る画像形成装置にて達成される。要約すれば、本発明は、画像が形成される複数の像担持体と、前記複数の像担持体上に形成された画像が転写される中間転写体と、装置本体に対して開閉可能な開閉部材と、を有し、前記開閉部材が前記中間転写体を保持する画像形成装置において、
前記開閉部材はその下端に回動中心を有し、前記中間転写体は前記開閉部材の開放動作と共に移動することを特徴とする画像形成装置を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
尚、このアクセスドア１１の開動作を行う時、画像形成時における中間転写体５ａから転写材Ｐへ画像転写される箇所の前後での転写材移動軌跡方向で形成される面と略平行で同じ方向に開閉部材が回動するのがよい。なぜなら、まず画像形成装置において中間転写体５ａは転写材搬送路に接していなければならない。使用者の装置内メンテナンスとして、転写材搬送路中の転写材ジャム処理がある。従って、搬送路に近接配置している中間転写体５ａを移動させる必要がある。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月23日(2006.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
芝病害の発生をみたとき、通常では複数の病害が同時に発生することが多く、これらの同時期に発生する複数の病害を防除する芝用病害防除剤が求められている。例えば、現在最も広く使用されているペンシクロンは、春散布でブラウンパッチには優れた効果を示すものの、同時期に発生するダラースポット、炭そ病には必ずしも充分な効果を得ることができない場合がある。また、プロピコナゾールは、ダラースポットには優れた効力を示すもののブラウンパッチには必ずしも充分な効果を得ることができない場合がある。このように現在広く利用されている薬剤の多くは、その防除可能な芝病害の種類が必ずしも充分でなく、その結果多くの施用量を必要としていた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明防除剤を茎葉散布処理のために使用することによって、トルクロホスメチルが有
する優れた効果を維持しつつ、ベノミル又はチオファネートメチルが有する優れた効果
を発揮させることにより、防除可能な芝病害の種類を多くするとともに、その施用量を減
少させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
以上の結果より、コルビーの理論値（Ｅ）と比較して顕著に高い防除価を示したことか
ら、本発明組成物は優れた相乗作用を有することが示された。従って本発明により、単に
混合した時に得られる相加効果以上の相乗効果を得ることができ、防除可能な病害の種類
が多くなるとともに、その施用量を減少させることを可能とした。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月6日(2006.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性導電性ポリマー（ａ）、溶媒（ｂ）、およびカーボンナノチューブ（ｃ）を含有することを特徴とするカーボンナノチューブ含有組成物。
【請求項２】
さらに、高分子化合物（ｄ）を含有することを特徴とする請求項１記載のカーボンナノチューブ含有組成物。
【請求項３】
さらに、塩基性化合物（ｅ）を含有することを特徴とする請求項１または請求項２記載のカーボンナノチューブ含有組成物。
【請求項４】
さらに、界面活性剤（ｆ）を含有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載のカーボンナノチューブ含有組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明の第１は、水溶性導電性ポリマー（ａ）、溶媒（ｂ）、およびカーボンナノチューブ（ｃ）を含有することを特徴とするカーボンナノチューブ含有組成物である。
本発明のカーボンナノチューブ含有組成物は、さらに高分子化合物（ｄ）、塩基性化合物（ｅ）、界面活性剤（ｆ）、シランカップリング剤（ｇ）及び／またはコロイダルシリカ（ｈ）を含有することで、その性能の向上をはかることができる。
また、水溶性導電性ポリマー（ａ）は、スルホン酸基及び／またはカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマーであることが望ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第２は、水溶性導電性ポリマー（ａ）、溶媒（ｂ）、およびカーボンナノチューブ（ｃ）を混合し、超音波を照射することを特徴とするカーボンナノチューブ含有組成物の製造方法である。この超音波の処理によって効率よくカーボンナノチューブが溶媒に分散化あるいは可溶化することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
摺動部を有する部材における該摺動部の表面の少なくとも一部に、（Ｓｉ−Ｏ）結合を含むポリオキシシリル化合物がシロキサン結合によって化学結合していることを特徴とする摺動被膜。
【請求項２】
前記化学結合が、前記摺動部の表面に存在する活性水素と、ポリオキシシリル化合物の分子中に存在する−Ｓｉ−Ｘ（Ｘは加水分解性基を表わす）、−Ｓｉ−ＯＲ（Ｒはアルキル基を表わす）または−Ｓｉ−ＯＨとの反応によって形成されたものである請求項１に記載の摺動被膜。
【請求項３】
前記摺動部の表面の少なくとも一部にシロキサン結合によって化学結合している前記ポリオキシシリル化合物が、Ａ−（ＳｉＡ２−Ｏ）ｎ−（シロキサン結合）−（摺動部の表面）［式中、Ａは同一もしくは異なるＯＨ基、加水分解性基、アルキル基、−ＯＳｉＯＨ基または−ＯＳｉＯＲ基（Ｒはアルキル基を表わす）、ｎは１以上の整数を表わす］の構造を有するものである請求項１または２に記載の摺動被膜。
【請求項４】
前記加水分解性基が塩素、臭素、ヨウ素またはイソシアネート基である請求項２または３に記載の摺動被膜。
【請求項５】
前記摺動部の表面に化学結合したポリオキシシリル化合物が、ポリジアルコキシシリル化合物である請求項３または４に記載の摺動被膜。
【請求項６】
前記摺動部の主たる材質が、金属、ガラス、セラミックスまたはプラスチックである請求項１〜５のいずれかに記載の摺動被膜。
【請求項７】
前記摺動部の表面の少なくとも一部にシロキサン結合によって化学結合している前記ポリオキシシリル化合物が、
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＢ２Ｏ−（摺動部の表面），
ＨＯ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（摺動部の表面），
ＨＯ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（摺動部の表面），
ＨＯ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（摺動部の表面），
ＨＯ｛Ｓｉ［ＣＨ（ＣＨ３）２Ｏ］２｝Ｓｉ［ＣＨ（ＣＨ３）２］２Ｏ−（摺動部の表面），
Ｃ２Ｈ５［Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｏ］４ＳｉＢ２Ｏ−（摺動部の表面），
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４Ｓｉ（ＣＨ３）ＢＯ−（摺動部の表面），
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（摺動部の表面），
ＣＨ３［Ｓｉ（ＯＳｉＯＨ）２Ｏ］４ＳｉＢ２Ｏ−（摺動部の表面），
ＣＨ３［Ｓｉ（ＯＳｉＯＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＢ２Ｏ−（摺動部の表面），
ＨＯ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＢ２Ｏ−（摺動部の表面），
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（摺動部の表面），
（摺動部の表面）−Ｏ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＢ２Ｏ−（摺動部の表面），
（摺動部の表面）−Ｏ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−（摺動部の表面）
［式中、Ｂは同一もしくは異なるＯＨ基、Ｏ−（隣接するポリオキシシリル化合物のＳｉ原子），もしくはＯ−（摺動部の表面）を表す］のいずれかもしくは複数の形態を有する複合体である請求項１に記載の摺動被膜。
【請求項８】
摺動部を有する部材における前記摺動部の少なくとも一部に、官能基としてＳｉ−Ｘ（Ｘは加水分解性基を表わす）、Ｓｉ−ＯＲ（Ｒはアルキル基を表わす）またはＳｉ−ＯＨを有するポリオキシシリル化合物を接触させることにより、該摺動部の表面にポリオキシシリル化合物を化学結合させることを特徴とする摺動被膜の製法。
【請求項９】
前記ポリオキシシリル化合物として、Ａ−（ＳｉＡ２−Ｏ）ｎ−Ａ［式中、Ａは同一もしくは異なるＯＨ基、加水分解性基、アルキル基、−ＯＳｉＯＨ基、または−ＯＳｉＯＲ基（Ｒはアルキル基を表わす）、ｎは１以上の整数を表わす］を有する化合物を使用する請求項８に記載の摺動被膜の製法。
【請求項１０】
前記加水分解性基が塩素、臭素、ヨウ素またはイソシアネート基である請求項８に記載の摺動被膜の製法。
【請求項１１】
前記ポリオキシシリル化合物は、
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＣｌ３，
Ｃｌ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ，
Ｃｌ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ，
Ｃｌ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ，
Ｃｌ｛Ｓｉ［ＣＨ（ＣＨ３）２Ｏ］２｝Ｓｉ［ＣＨ（ＣＨ３）２］２Ｃｌ，
Ｃ２Ｈ５［Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｏ］４ＳｉＣｌ３，
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２，
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ，
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３，
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＯＨ，
ＣＨ３［Ｓｉ（ＯＳｉＯＨ）２Ｏ］４ＳｉＣｌ３，
ＣＨ３［Ｓｉ（ＯＳｉＯＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＣｌ３，
ＨＯ［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］４ＳｉＯＨ，
（ＯＣＮ）［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＮＣＯ），及び
ＣＨ３［Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＮＣＯ）からなる群から選ばれる１種を使用する請求項８に記載の摺動被膜の製法。
【請求項１２】
シロキサン結合によって部材に化学結合する（Ｓｉ−Ｏ）結合を含むポリオキシシリル化合物よりなる摺動被膜。
【請求項１３】
摺動部を有する部材における該摺動部の少なくとも一部に、前記請求項１〜７のいずれかに記載の摺動被膜が形成されていることを特徴とする摺動部材。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月3日(2006.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脂肪族炭化水素溶剤及び／又は脂環族炭化水素溶剤を７０〜９５重量％含有し、炭素数９以上の芳香族炭化水素溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール溶剤、グリコールエステル系溶剤及びグリコールエーテル系溶剤からなる群より選ばれる少なくとも１種類を５重量％以上含有し、且つ、トルエン及びキシレンの合計の含有量が、１重量％未満である有機溶剤（Ａ）、
前記有機溶剤（Ａ）に溶解する分散安定剤（Ｂ）、及び
前記有機溶剤（Ａ）に溶解しないビニル系共重合体からなる分散樹脂粒子（Ｃ）を含有してなる非水分散型樹脂組成物であって、
前記分散安定剤（Ｂ）が、アルキル基の炭素数が１８〜２２の（メタ）アクリル酸アルキルエステル（Ｂ−１）２〜５０重量％及び水酸基含有ビニル系単量体（Ｂ−２）１〜４０重量％を含有してなる単量体混合物を共重合させて得られるビニル系共重合体であることを特徴とする非水分散型樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の非水分散型樹脂組成物及びポリイソシアネートを含有してなる塗料。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月2日(2006.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明によれば、ポリエチレンテレフタレート組成物およびポリエチレンテレフタレートフィルムを製造する際に、重縮合反応触媒であるチタン化合物に、特定量のアルカリ金属化合物を併用することによって、従来のチタン化合物によって製造されたものに比べ、極めて優れた色相が付与することができ、その工業的価値は極めて高い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
さらに、ポリエチレンテレフタレート組成物およびポリエチレンテレフタレートフィルムを製造する際に、重縮合反応触媒であるチタン化合物に、特定量のアルカリ金属化合物を併用し、かつ特定量または特定のリン化合物も併用することによって、さらに触媒金属に起因する析出異物の発生も極めて抑制でき、その工業的価値は極めて高い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
通常、エステル交換反応は、徐々に昇温しながら発生するアルコールを除去しつつ行われる。そして、その後反応生成物を減圧装置が設けられた重縮合反応器に移し替え、重縮合反応触媒としてチタン化合物を添加し、高温・高真空下での重縮合反応を行われる。なお、チタン化合物は重縮合反応が終了されるまでに添加されればよく、エステル交換反応がより速められることからエステル交換反応触媒として、すなわちアルカリ土類金属化合物と同時に添加されることが好ましい。また、エステル交換反応時の反応系内の圧力は、通常は常圧での反応が好ましく実施されるが、エステル交換反応をより速められることから、本発明のＰＥＴ組成物の製造方法では、０．２ＭＰａ以下の加圧下での反応を実施することが好ましい。加圧下でエステル交換反応を実施する場合、圧力が上限より高いと、副生成物として発生するジエチレングリコールのポリマー中の含有量が著しく増加し、ポリマーの熱安定性等の特性が低下することがある。エステル交換反応時の反応系内の圧力は、０．０６〜０．１０ＭＰａの範囲である。なお、本発明のＰＥＴ組成物の製造方法で用いるアルカリ土類金属およびチタン化合物は、上記本発明のＰＥＴ組成物で説明したのと同じことが言える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
最後に本発明のＰＥＴフィルムについて説明する。
本発明のＰＥＴフィルムは、上述の本発明のＰＥＴ組成物を原料とし、これを溶融状態でシート状に押出すことによって製造できる。好ましくは得られるＰＥＴフィルムに寸法安定性や強度を具備できることから、一軸方向に延伸した一軸配向ＰＥＴフィルム、さらには直交する二軸方向に延伸した二軸配向ＰＥＴフィルムが好ましい。二軸配向ＰＥＴフィルムを例にとって、さらに詳述する。