【手続補正書】
【提出日】平成18年8月17日(2006.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジストであって、
ａ）下式：
−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
の少なくとも１種のヒドロキシエステル官能基で官能化されたポリマーと、
［式中、
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｂ）光活性成分と
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
【請求項２】
前記ポリマーはフルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基をさらに含み、前記フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基は、構造−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ−［式中、ＲｆおよびＲｆ’は、炭素原子１個から約１０個の同じまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいはＲｆとＲｆ’は合一して（ＣＦ２）ｎであり、但し、ｎは２から１０である］を有するフルオロアルコール基を含む少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導されることを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト。
【請求項３】
ＲｆおよびＲｆ’はＣＦ３であることを特徴とする請求項２に記載のフォトレジスト。
【請求項４】
前記ヒドロキシエステル官能基はＰｉｎＡｃまたはＰｉｎＭＡｃであることを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト。
【請求項５】
フォトレジストであって、
ａ）下式：
Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
から誘導される少なくとも１種の反復単位を含むポリマーと、
［式中、
Ｘ＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｆ、またはＦ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキルであり；
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｂ）光活性成分と
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
【請求項６】
前記ポリマーは、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合した少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のフォトレジスト。
【請求項７】
前記エチレン性不飽和化合物は、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ペルフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ペルフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（但し、ｔは１または２である）、およびＲｆＯＣＦ＝ＣＦ２（但し、Ｒｆは、炭素原子１個から約１０個の飽和フルオロアルキル基である）からなる群から選択されることを特徴とする請求項６に記載のフォトレジスト。
【請求項８】
前記ポリマーは、多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位を含み、前記多環式エチレン性不飽和化合物は、
【化１】
2004280049.tif 000001
からなる群から選択されることを特徴とする請求項５に記載のフォトレジスト。
【請求項９】
前記ポリマーは、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−メチル−２−ノルボルニルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、および２，２，２−トリフルオロエチルアクリレートからなる群から選択されるモノマー、ならびに対応するメタクリレートモノマーから誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のフォトレジスト。
【請求項１０】
前記ポリマーはＮＢ−Ｆ−ＯＨから誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のフォトレジスト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
本発明を、その好ましい実施形態に関して詳細に示し説明したが、当分野の技術者なら、特許請求の範囲に規定した本発明の精神および範囲を逸脱することなく、形態および詳細の様々な変更を行うことができることを理解するであろう。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  フォトレジストであって、
ａ）下式：
−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
の少なくとも１種のヒドロキシエステル官能基で官能化されたポリマーと、
［式中、
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｂ）光活性成分と
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
［２］  前記ポリマーは、フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基をさらに含むことを特徴とする［１］に記載のフォトレジスト。
［３］  前記フルオロアルコール基または保護されたフルオロアルコール基は、構造−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨ−［式中、ＲｆおよびＲｆ’は、炭素原子１個から約１０個の同じまたは異なるフルオロアルキル基であるか、あるいはＲｆとＲｆ’は合一して（ＣＦ２）ｎであり、但し、ｎは２から１０である］を有するフルオロアルコール基を含む少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物から誘導されることを特徴とする［２］に記載のフォトレジスト。
［４］  ＲｆおよびＲｆ’はＣＦ３であることを特徴とする［３］に記載のフォトレジスト。
［５］  前記ヒドロキシエステル官能基はＰｉｎＡｃまたはＰｉｎＭＡｃであることを特徴とする［１］に記載のフォトレジスト。
［６］  フォトレジストであって、
ａ）下式：
Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
から誘導される少なくとも１種の反復単位を含むポリマーと、
［式中、
Ｘ＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｆ、またはＦ置換Ｃ１〜Ｃ６アルキルであり；
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｂ）光活性成分と
を含むことを特徴とするフォトレジスト。
［７］  前記ポリマーは、エチレン性不飽和炭素原子に共有結合した少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする［６］に記載のフォトレジスト。
［８］  前記エチレン性不飽和化合物は、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ペルフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ペルフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（但し、ｔは１または２である）、およびＲｆＯＣＦ＝ＣＦ２（但し、Ｒｆは、炭素原子１個から約１０個の飽和フルオロアルキル基である）からなる群から選択されることを特徴とする［７］に記載のフォトレジスト。
［９］  前記ポリマーは、多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位を含むことを特徴とする［６］に記載のフォトレジスト。
［１０］  前記多環式エチレン性不飽和化合物は、
【化２】
2004280049.tif 000002
からなる群から選択されることを特徴とする［９］に記載のフォトレジスト。
［１１］  前記ポリマーは、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−メチル−２−ノルボルニルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、および２，２，２−トリフルオロエチルアクリレートからなる群から選択されるモノマー、ならびに対応するメタクリレートモノマーから誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする［６］に記載のフォトレジスト。
［１２］  前記モノマーは、ｔ−ブチルアクリレートおよび２−メチル−２−アダマンチルアクリレートからなる群から選択されることを特徴とする［６］に記載のフォトレジスト。
［１３］  前記ポリマーはＮＢ−Ｆ−ＯＨから誘導される反復単位をさらに含むことを特徴とする［６］に記載のフォトレジスト。
［１４］  コポリマーであって、
ａ）下式：
−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
の少なくとも１種のヒドロキシエステル官能基を含む反復単位と、
［式中、
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｂ）多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
ｃ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合した少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と
を含むことを特徴とするコポリマー。
［１５］前記ｃ）のエチレン性不飽和化合物は、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ペルフルオロ−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ペルフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン）、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｔＣＦ＝ＣＦ２（但し、ｔは１または２である）、およびＲｆ’ＯＣＦ＝ＣＦ２（但し、Ｒｆ’は、炭素原子１個から約１０個の飽和フルオロアルキル基である）からなる群から選択されることを特徴とする［１４］に記載のコポリマー。
［１６］  前記エチレン性不飽和化合物はテトラフルオロエチレンであることを特徴とする［１５］に記載のコポリマー。
［１７］  前記多環式エチレン性不飽和化合物は、
【化３】
2004280049.tif 000003
からなる群から選択されることを特徴とする［１４］に記載のコポリマー。
［１８］  フォトレジスト組成物であって、
ａ）ポリマーであって、
ｉ）下式：
−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
の少なくとも１種のヒドロキシエステル官能基で官能化された反復単位と、
［式中、
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｉｉ）多環式エチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、
ｉｉｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合した少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と
を含むポリマー、および
ｂ）光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
［１９］  前記光活性成分は光酸発生剤であることを特徴とする［１８］に記載のフォトレジスト組成物。
［２０］  溶解阻害剤をさらに含むことを特徴とする［１８］に記載のフォトレジスト組成物。
［２１］  溶剤をさらに含むことを特徴とする［１８］に記載のフォトレジスト組成物。
［２２］  前記溶剤は、エーテルエステル、ケトン、エステル、グリコールエーテル、非置換または置換炭化水素、芳香族炭化水素、フッ素化溶剤および超臨界ＣＯ２からなる群から選択されることを特徴とする［２１］に記載のフォトレジスト組成物。
［２３］  塩基、界面活性剤、解像度エンハンサー、定着剤、残渣抑制剤、塗布助剤、可塑剤、およびＴｇ（ガラス転移温度）調節剤からなる群から選択される少なくとも１種の添加剤をさらに含むことを特徴とする［１８］に記載のフォトレジスト組成物。
［２４］  基板上にフォトレジスト像を作製する方法であって、順に、
（Ｗ）基板にフォトレジスト組成物を塗布する工程であって、
ａ）下式：
−ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）−ＯＨ
の少なくとも１種のヒドロキシエステル官能基で官能化されたポリマーと、
［式中、
ｎ＝０、１、２、３、４または５であり；
Ｒ１、Ｒ２＝Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ１とＲ２は合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、エーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ３とＲ４は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；
Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、またはエーテル酸素で置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル；または、Ｒ５とＲ６は合一して、任意選択でエーテル酸素で置換された３から８員環を形成し；または、Ｒ１とＲ５は−［Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）］ｎ−と合一して、Ｒ１およびＲ２に結合している炭素が橋頭位にないという条件で、４から８員環を形成する］
ｂ）少なくとも１種の光活性成分と、
ｃ）溶剤と
を含むフォトレジスト組成物を塗布する工程と、
（Ｘ）塗布されたフォトレジスト組成物を乾燥して溶剤を実質的に除去し、これにより基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、
（Ｙ）フォトレジスト層を像様露光して像形成領域および非像形成領域を形成する工程と、
（Ｚ）像形成領域および非像形成領域を有する露光されたフォトレジスト層を現像して、基板上にレリーフ像を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
［２５］  ａ）基板と、
ｂ）［１８］に記載のフォトレジスト組成物と
を含むことを特徴とする被覆された基板。
［２６］  前記基板は、シリコン、酸化シリコン、酸窒化シリコン、および窒化シリコンからなる群から選択されることを特徴とする［２５］に記載の被覆された基板。