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【手続補正書】
【提出日】平成17年11月18日(2005.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を発生させるレーザ光源と、
被加工物を保持する保持部と、
前記被加工物と前記保持部とを液中に浸漬させる容器と、
レーザ光を前記レーザ光源から前記被加工物まで導くレーザ導波手段と、
前記レーザ導波手段のレーザ光出射部と前記被加工物との間に配置された保護部材とを備え、
前記保護部材はレーザ光を透過させる材料から構成されることを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項２】
被加工物を保持部により保持して前記被加工物を液中に浸漬させ、
レーザ導波手段のレーザ光出射部を前記被加工物に対向するように液中に配置し、
レーザ光を透過させる材料から構成された保護部材を前記レーザ光出射部と前記被加工物との間に配置し、
レーザ光源で発生させたレーザ光を前記レーザ導波手段を介して前記レーザ光出射部から液中の前記被加工物に照射することを特徴とするレーザ加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
レーザ光を横切る方向に前記保護部材を移動させる移動機構を更に備えてもよい。
本発明によれば、保護部材に付着した加工屑を保護部材と共にレーザ光の光路から移動させることができ、保護部材の透過性を良好に維持することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記被加工物と前記保護部材との間に液体の流れを発生させる液流れ発生機構を更に備えてもよい。
本発明によれば、加工屑を液体の流れによって下流側に移送することができるので、保護部材に付着する加工屑の量を少なくすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記保護部材の前記被加工物に面した表面を清浄にする清浄化手段を更に備え、前記清浄化手段は、レーザ光の照射及び前記液流れ発生機構により発生した液体の流れを妨げないような位置に配置されていてもよい。
本発明によれば、清浄化手段により保護部材に付着した加工屑を除去することができるので、レーザ加工を継続して行うことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記保護部材の前記被加工物を向いた表面をレーザ光の光軸に垂直な面に対して所定角度だけ傾けてもよい。
本発明によれば、レーザ導波手段のレーザ光出射部から照射されたレーザ光が保護部材に反射してレーザ光源に戻ることを防止することができ、反射光によるレーザ光源の損傷を防ぐことができる。また、被加工物の表面で反射した反射光が保護部材でさらに反射して再び被加工物に照射されることを防止することができ、被加工物の被加工部が多重加工されることを防止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の他の態様は、被加工物を保持部により保持して前記被加工物を液中に浸漬させ、レーザ導波手段のレーザ光出射部を前記被加工物に対向するように液中に配置し、レーザ光を透過させる材料から構成された保護部材を前記レーザ光出射部と前記被加工物との間に配置し、レーザ光源で発生させたレーザ光を前記レーザ導波手段を介して前記レーザ光出射部から液中の前記被加工物に照射することを特徴とするレーザ加工方法である。
レーザ光を横切る方向に前記保護部材を移動させてもよい。
前記被加工物と前記保護部材との間に液体の流れを発生させてもよい。
前記保護部材の前記被加工物に面した表面を清浄にしてもよい。
前記保護部材の前記被加工物を向いた表面をレーザ光の光軸に垂直な面に対して所定角度だけ傾けてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月12日(2006.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂材を溶融混練するシリンダを備え、溶融された樹脂材をカッタ部で切断してペレットを再生するペレット再生装置において、
前記シリンダより射出される樹脂材を前記カッタ部へ空気流動により誘導する誘導手段
を設けたことを特徴とするペレット再生装置。
【請求項２】
樹脂材を溶融混練するシリンダを備え、溶融された樹脂材をカッタ部で切断してペレットを再生するペレット再生装置において、
前記シリンダを倒立方向へ回転させる回転手段を設け、
前記回転手段によるシリンダを倒立させて、シリンダから射出される溶融された樹脂材
を該樹脂材の自重で前記カッタ部へ誘導させてなることを特徴とするペレット再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月25日(2005.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
振りローラと対接し、この振りローラの軸線方向への移動に追従して軸線方向に往復動する着けローラを備えた印刷機の着けローラ装置において、
前記着けローラは被係合部を有し、この着けローラを回転自在かつ軸線方向に往復動自在に支持する支持部材を備え、
前記被係合部に係合することにより前記着けローラの軸線方向への往復動を規制するとともに、前記被係合部から退避することにより前記着けローラの軸線方向への往復動を可能とする係合部材を備えたことを特徴とする印刷機の着けローラ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的を達成するために、請求項１に係る発明は、振りローラと対接し、この振りローラの軸線方向への移動に追従して軸線方向に往復動する着けローラを備えた印刷機の着けローラ装置において、前記着けローラは被係合部を有し、この着けローラを回転自在かつ軸線方向に往復動自在に支持する支持部材を備え、前記被係合部に係合することにより前記着けローラの軸線方向への往復動を規制するとともに、前記被係合部から退避することにより前記着けローラの軸線方向への往復動を可能とする係合部材を備えたものである。
また、請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記係合部材は、前記着けローラの軸線方向と直交する方向に移動自在に支持されているものである。
また、請求項３に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記係合部材は、前記被係合部と係合する係合面と、前記被係合部との係合を回避する切欠部とを有する板状部材である
また、請求項４に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記係合部材は、版胴に対して移動可能に支持され、かつ前記版胴に対する前記着けローラの着脱に追従して移動するものである。
また、請求項５に係る発明は、請求項４に係る発明において、前記係合部材は、前記支持部材に支持されたピンが挿入される長孔を有し、前記着けローラの版胴に対しての移動にともない、前記係合部材は前記ピンおよび前記長孔を介して移動するものである。
また、請求項６に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記係合部材の移動により、この係合部材が複数の前記着けローラの被係合部と係合するものである。
また、請求項７に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記被係合部は、前記着けローラに嵌合されたベアリングである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
したがって、係合部材３５はこれらガイドピン３９，３９を介してローラアーム１１Ａ，１１Ｂに、図１中矢印Ａ−Ｂ方向、すなわち、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂの軸線方向と直交する方向に移動自在に支持されており、４個のインキ着けローラ６Ａ，６Ｂのボールベアリング９と４個のハウジング３０のフランジ３０ａとの間に介在するように位置付けられている。この係合部材３５が矢印Ａ方向へ移動すると、この係合部材３５の係合面３５ａがボールベアリング９に係合し、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂの軸線方向への往復動が規制される。また、この係合部材３５が矢印Ｂ方向へ移動すると、ボールベアリング９に切欠部３６が対応し、ボールベアリング９との係合が回避されるとともに、係合部材３５の後端３５ｂと、振りローラ４Ｂのインキ着けローラ６Ｂのボールベアリング９との係合が回避され、４個のインキ着けローラ６Ａ，６Ｂの軸線方向への往復動が可能になる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このような構成において、印刷中に振りローラ４Ａ，４Ｂの軸線方向への移動に追従させて、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂを軸線方向へ往復動させる場合には、固定用ナット４５を緩め、調整用ナット４４を正方向に回動操作し、圧縮コイルばね４７の弾発力に抗して調整ねじ４３を矢印Ｂ方向へ移動させることにより、係合部材３５も矢印Ｂ方向へ移動させる。この移動により、係合部材３５の切欠部３６がボールベアリング９に対応し、ボールベアリング９との係合が回避されるとともに、係合部材３５の後端３５ｂと、振りローラ４Ｂのインキ着けローラ６Ｂのボールベアリング９との係合が回避され、インキ着けローラ６が振りローラ４の軸線方向への移動に追従して軸線方向へ往復動する。このインキ着けローラ６の軸線方向への往復動作時に、ハウジング３０のフランジ３０ａにボールベアリング９が当たるためフランジ３０ａとの衝突をボールベアリング９によって緩和することができる。同時に、フランジ部３０ａにボールベアリング９の外輪のみが当接することにより、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂは回転が可能になっているため、回転が停止するようなことがなく、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂからの版胴７への適切なインキの供給が可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
一方、振りローラ４Ａ，４Ｂの軸線方向への移動にもかかわらず、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂの軸線方向への往復動を規制する場合には、固定用ナット４５を緩め、調整用ナット４４を逆方向に回動操作し、圧縮コイルばね４７の弾発力によって調整ねじ４３を矢印Ａ方向へ移動させることにより、係合部材３５も矢印Ａ方向へ移動させる。この移動により、係合部材３５の係合面３５ａがボールベアリング９に係合するため、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂの軸線方向への往復動が規制される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
このように、１回の操作で移動する一つの係合部材３５によって、複数のインキ着けローラ６Ａ，６Ｂの軸線方向への往復動の規制を同時に行うことができるため操作性が向上する。また、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂの端軸８を支持するローラ支持部１０Ａ，１０Ｂを軸線方向へ移動させる必要がないため、構造が簡素化するだけではなく部品点数も低減されるので製造コストも低減できる。また、ローラ支持部１０Ａ，１０Ｂを軸線方向へ移動させる必要がないため、クリアランスはインキ着けローラ６Ａ，６Ｂの端軸８ａとニードルベアリング３１との間にのみに設ければよく、必要最小限のクリアランスを設ければよいから、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂの支持部に遊動する部分を多く設ける必要がなくなり、インキ着けローラ６Ａ，６Ｂから版胴４の表面に供給するインキ量が安定するため印刷品質が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月13日(2006.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
画像を用紙に印刷する印刷手段と、ジョブリセット指示に基づいて前記印刷手段の印刷動作を停止させる印刷停止手段と、前記印刷動作を停止させた後にユーザ認証を行う認証手段と、前記ユーザ認証が失敗したとき、前記ジョブリセット指示を無視して前記印刷動作を再開させる制御手段とを備えたことを特徴とする印刷処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ユーザ認証を行う際、所定時間内に認証情報の入力がない場合は認証失敗とすることを特徴とする請求項１記載の印刷処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記認証失敗回数を計測する計測手段と、前記ユーザ認証を行う際、前記計測された認証失敗回数が所定回数以上の場合はジョブリセットを禁止する禁止手段とを設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の印刷処理装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
ユーザ認証を行う際、予め設定された内容によって、装置に設定されたユーザかジョブのユーザかを選択する選択手段を設け、前記認証手段は、その選択されたユーザで認証を行うことを特徴とする請求項１、２又は３記載の印刷処理装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
ユーザ認証を行う際、前記装置に設定されたユーザで認証を行う場合に、ユーザを識別する情報をエラー履歴情報として記録することを特徴とする請求項４記載の印刷処理装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
画像を用紙に印刷する印刷処理と、ジョブリセット指示に基づいて前記印刷手段の印刷動作を停止させる印刷停止処理と、前記印刷動作を停止させた後にユーザ認証を行う認証処理と、前記ユーザ認証が失敗したとき、前記ジョブリセット指示を無視して前記印刷動作を再開させる制御処理とをコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記認証失敗回数を計測する計測処理と、前記ユーザ認証を行う時に、前記計測された認証失敗回数が所定回数以上の場合はジョブリセットを禁止する禁止処理とをコンピュータに実行させることを特徴とする請求項６又は７記載のプログラム。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷処理装置、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、印刷処理装置、この印刷処理装置で用いられるプログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関するものである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
請求項１記載の発明による印刷処理装置は、画像を用紙に印刷する印刷手段と、ジョブリセット指示に基づいて前記印刷手段の印刷動作を停止させる印刷停止手段と、前記印刷動作を停止させた後にユーザ認証を行う認証手段と、前記ユーザ認証が失敗したとき、前記ジョブリセット指示を無視して前記印刷動作を再開させる制御手段とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の印刷処理装置において、前記ユーザ認証を行う際、所定時間内に認証情報の入力がない場合は認証失敗とすることを特徴とするものである。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の印刷処理装置において、前記認証失敗回数を計測する計測手段と、前記ユーザ認証を行う際、前記計測された認証失敗回数が所定回数以上の場合はジョブリセットを禁止する禁止手段とを設けたことを特徴とするものである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載の印刷処理装置において、ユーザ認証を行う際、予め設定された内容によって、装置に設定されたユーザかジョブのユーザかを選択する選択手段を設け、前記認証手段は、その選択されたユーザで認証を行うことを特徴とするものである。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項５記載の発明は、請求項４記載の印刷処理装置において、ユーザ認証を行う際、前記装置に設定されたユーザで認証を行う場合に、ユーザを識別する情報をエラー履歴情報として記録することを特徴とするものである。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項６記載の発明によるプログラムは、画像を用紙に印刷する印刷処理と、ジョブリセット指示に基づいて前記印刷手段の印刷動作を停止させる印刷停止処理と、前記印刷動作を停止させた後にユーザ認証を行う認証処理と、前記ユーザ認証が失敗したとき、前記ジョブリセット指示を無視して前記印刷動作を再開させる制御処理とをコンピュータに実行させるものである。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項８記載の発明は、請求項６又は７記載のプログラムにおいて、前記認証失敗回数を計測する計測処理と、前記ユーザ認証を行う時に、前記計測された認証失敗回数が所定回数以上の場合はジョブリセットを禁止する禁止処理とをコンピュータに実行させることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月31日(2006.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  曇り度４％未満の防火・安全グレージング用積層物であって、
複数の高弾性率層（Ａ）と、少なくとも１種のフッ素重合体樹脂層（Ｂ）とが積層されており、
（Ｂ）が（Ａ）の間に設けられ、
前記高弾性率層がガラス、ポリカーボネートあるいはポリウレタンを含み、前記高弾性率層がポリウレタンを含む場合には、前記高弾性率層のショアD硬度が約７０より大きく、
前記フッ素重合体樹脂層は、マット仕上げ面、エンボス仕上げ面、あるいはそれらの組み合わせた面を備えた前駆体樹脂ウェブであり、前記マット仕上げ面及びエンボス仕上げ面は約１０〜５００μｍの範囲の高さを有する突起を含み、
前記フッ素重合体前駆体樹脂ウェブは、有機ガス雰囲気中でコロナ処理を受け、前記高弾性率層が、圧力と熱により前記高弾性率層を前記前駆体樹脂ウェブに積層することにより該フッ素重合体樹脂層に接着していることを特徴とする防火・安全グレージング用積層物。
【請求項２】 フッ素重合体樹脂層が、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴＦＥ、ＥＣＴＦＥ、ＰＣＴＦＥ、ＰＶｄＦ、ＴＨＶ、並びに、これらの混合物及びアロイの内少なくとも一種を含む請求項１に記載の積層物。
【請求項３】  フッ素重合体樹脂層の厚さが５〜１５０ミル（ｍｉｌ）である、請求項１に記載の積層物。
【請求項４】 （Ａ）が２層及び（Ｂ）が２層存在し、２層の（Ｂ）は、相互に隣接し、共に（Ａ）層の間に存在する請求項１に記載の積層物。
【請求項５】  隣り合う層（Ａ）の各々と層（Ｂ）との間には接着層が存在しないことを特徴とする請求項１に記載の防火・安全グレージング用積層物。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月23日(2006.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体集積回路装置の製造方法であって、
（ａ）前記半導体基板上に、第１絶縁膜を形成する工程、
（ｂ）前記第１絶縁膜上に多結晶シリコン膜を形成する工程、
（ｃ）前記多結晶シリコン膜の両側の半導体基板に不純物を注入することにより、第１半導体領域を形成する工程、
（ｄ）前記多結晶シリコン膜の側壁に第２絶縁膜を形成する工程、
（ｅ）前記第２絶縁膜の両側の半導体基板に不純物を注入することにより、前記第１半導体領域よりも不純物濃度の高い第２半導体領域を形成する工程、
（ｆ）スパッタエッチングによって、前記第２半導体領域の表面から２．５ｎｍ以下の領域をエッチングする工程、
（ｇ）前記第２半導体領域上に金属膜を形成する工程、
（ｈ）前記金属膜に熱処理を施し、金属シリサイド層を形成する工程、
（ｉ）未反応の前記金属膜を除去する工程、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２】  前記金属シリサイド層は、前記多結晶シリコン膜上および前記第２半導体領域上に形成されることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項３】  前記金属シリサイド層は、前記第１半導体領域から離れて形成されていることを特徴とする請求項２記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項４】  前記金属シリサイド層と、前記第１半導体領域と前記半導体基板の接合面との間のリーク電流を防止することを特徴とする請求項３記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項５】  前記第２半導体領域と前記半導体基板の接合面は、前記第１半導体領域と前記半導体基板の接合面よりも深い位置に形成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項６】  前記（ｅ）工程と前記（ｆ）工程の間に、
（ｊ）フッ酸を含む洗浄液を用いて、前記第２半導体領域上を洗浄する工程、
を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項７】  前記スパッタエッチングはアルゴンスパッタエッチングであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項８】  前記金属膜はＣｏ膜であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項９】  前記金属シリサイド層はＣｏＳｉ２層であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１０】  前記金属シリサイド層の膜厚は２０ｎｍ以上で４０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１１】  前記金属シリサイド層のシート抵抗は５Ω／□以上で１２Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１２】  前記第１絶縁膜、第２絶縁膜、多結晶シリコン膜、第１半導体領域および第２半導体領域によってＭＩＳＦＥＴが構成され、
前記ＭＩＳＦＥＴは、ＳＲＡＭメモリセルを構成することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１３】  前記（ｆ）および（ｇ）工程は、同一装置内において行われることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１４】  半導体基板主表面に形成されたＭＩＳＦＥＴを有する半導体集積回路装置の製造方法であって、
（ａ）前記半導体基板上に、前記ＭＩＳＦＥＴのゲート絶縁膜を形成する工程、
（ｂ）前記ゲート絶縁膜上に前記ＭＩＳＦＥＴのゲート電極を形成する工程、
（ｃ）前記ゲート電極の両側の半導体基板に不純物を注入することによって、前記ＭＩＳＦＥＴのソースまたはドレイン領域の一部を構成する第１半導体領域を形成する工程、
（ｄ）前記ゲート電極の側壁にサイドウォールスペーサを形成する工程、
（ｅ）前記サイドウォールスペーサの両側の半導体基板に不純物を注入することによって、前記ＭＩＳＦＥＴのソースまたはドレイン領域の一部を構成し、かつ、前記第１半導体領域よりも不純物濃度の高い第２半導体領域を形成する工程、
（ｆ）前記第２半導体領域の表面から２．５ｎｍ以下の深さの窪みを形成する工程、
（ｇ）前記窪みを含む前記第２半導体領域上に金属膜を形成する工程、
（ｈ）前記金属膜に熱処理を施し、金属シリサイド層を形成する工程、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１５】  前記金属シリサイド層は、前記ゲート電極上および前記窪みを含む前記第２半導体領域上に形成されることを特徴とする請求項１４記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１６】  前記金属シリサイド層は、前記第１半導体領域から離れて形成されていることを特徴とする請求項１５記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１７】  前記金属シリサイド層と、前記第１半導体領域と前記半導体基板の接合面との間のリーク電流を防止することを特徴とする請求項１５記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１８】  前記第２半導体領域と前記半導体基板の接合面は、前記第１半導体領域と前記半導体基板の接合面よりも深い位置に形成することを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１９】  前記（ｅ）工程と前記（ｆ）工程の間に、
（ｊ）フッ酸を含む洗浄液を用いて、前記第２半導体領域上を洗浄する工程、
を有することを特徴とする請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２０】  前記（ｆ）工程で、前記窪みはスパッタエッチングによって行われることを特徴とする請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２１】  前記（ｆ）工程で、前記スパッタエッチングはアルゴンスパッタエッチングであることを特徴とする請求項２０記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２２】  前記金属膜はＣｏ膜であることを特徴とする請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２３】  前記金属シリサイド層はＣｏＳｉ２膜であることを特徴とする請求項１４〜２２のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２４】  前記金属シリサイド層の膜厚は２０ｎｍ以上で４０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１４〜２３のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２５】  前記金属シリサイド層のシート抵抗は５Ω／□以上で１２Ω／□以下であることを特徴とする請求項１４〜２４のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２６】  前記ＭＩＳＦＥＴは、ＳＲＡＭメモリセルを構成することを特徴とする請求項１４〜２５のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２７】  前記（ｆ）および（ｇ）工程は、同一装置内において行われることを特徴とする請求項１４〜２６のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年9月22日(2006.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のコネクタと適合する第２のコネクタとの結合を固定するよう構成された固定装置であって、
前記第１のコネクタおよび前記第２のコネクタが切離されるのを防止する第１の位置から、前記第１のコネクタおよび前記第２のコネクタが切離されるのを可能にする第２の位置まで移動するよう構成された移動可能な固定部材と、
前記第１の位置および前記第２の位置の間で前記固定部材を移動させるよう構成され、許可コマンドに応答するアクチュエータとを備え、
前記第１のコネクタは、前記固定部材を受入れるよう構成された第１の受入スロットを画定し、前記第２のコネクタは、前記固定部材を受入れるよう構成された第２の受入スロットを画定し、前記コネクタが結合されると、前記第１、第２の受入スロットは一列に並ぶようになっていることを特徴とする固定装置。
【請求項２】
第１のコネクタを第２のコネクタに固定する方法であって、
前記第１のコネクタに加えられる力によって接触すると、前記第１のコネクタの移動が抑制されるように構成された抑止面を付与するステップと、
許可コマンドに応じて第１の位置と第２の位置との間で移動するように構成された移動可能な固定部材を付与するステップと、
前記固定部材を、前記コネクタ間の相対移動を可能にする前記第１の位置に移動させるステップと、
前記コネクタの一方を他方のコネクタに対し移動させることにより、前記コネクタを嵌合接触させるステップと、
前記第１の位置から前記第２の位置に前記固定部材を移動させる許可コマンドを付与するステップと、
前記許可コマンドに応じて、前記固定部材を前記抑止面に近接する前記第２の位置に移動させることにより、前記第１のコネクタおよび第２のコネクタ間の相対移動を抑制するステップとを備えることを特徴とする方法。
【請求項３】
前記固定部材の前記位置を検出するステップと、前記固定部材の位置をコントローラに報告するステップとをさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月26日(2005.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ベース部とキャップ部とが接合され、それらの間にセンサ部が封止された加速度センサであって、
ａ）  半導体基板と、
該半導体基板上に堆積された不純物がドーピングされた多結晶シリコン層から形成された、センサ部と該センサ部の周囲を囲む枠部と、
該枠部上に順次積層された拡散防止層とノンドープ多結晶シリコン層とを含むベース部と、
ｂ）  基体と、
該ベース部の該ノンドープ多結晶シリコン層に接するように該基体上に設けられたニッケル層とを含むキャップ部とを含み、
該ベース部の該ノンドープ多結晶シリコン層と該キャップ部の該ニッケル層とが共晶接合されて、該ベース部と該キャップ部との間に該センサ部が封止されたことを特徴とする加速度センサ。
【請求項２】  上記拡散防止層が、酸化シリコン層及び窒化シリコン層の群から選択される１の層であることを特徴とする請求項１に記載の加速度センサ。
【請求項３】  ベース部とキャップ部とが接合され、それらの間にセンサ部が封止された加速度センサであって、
ａ）  半導体基板と、
該半導体基板上に堆積された不純物がドーピングされた多結晶シリコン層から形成された、センサ部と該センサ部の周囲を囲む枠部と、
該枠部上に積層された、所定の膜厚のノンドープ多結晶シリコンとを含むベース部と、
ｂ）  基体と、
該ベース部の該ノンドープ多結晶シリコン層に接するように該基体上に設けられたニッケル層とを含むキャップ部とを含み、
該ベース部の該ノンドープ多結晶シリコンと該キャップ部の該ニッケル層とが共晶接合されて、該ベース部と該キャップ部との間に該センサ部が封止され、
該ノンドープ多結晶シリコン層の該膜厚が、該枠部に含まれる不純物が該ノンドープ多結晶シリコン中を拡散した距離より大きいことを特徴とする加速度センサ。
【請求項４】  上記ノンドープ多結晶シリコン層の膜厚が、１μｍから５μｍの範囲内であることを特徴とする請求項３に記載の加速度センサ。
【請求項５】  上記不純物が、リンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の加速度センサ。
【請求項６】  上記キャップ部が、上記基体と上記ニッケル層の間にチタン層を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の加速度センサ。
【請求項７】  ベース部とキャップ部とを接合し、それらの間にセンサ部を封止する加速度センサの製造工程であって、
半導体基板上に、不純物がドープされた多結晶シリコン層を堆積する工程と、
該多結晶シリコンを加工して、センサ部と、該センサ部の周囲を囲む枠部とを形成する工程と、
該枠部上に、拡散防止層と、ノンドープ多結晶シリコン層とを、順次積層し、ベース部とする工程と、
該ベース部の該ノンドープ多結晶シリコン層に接する領域に、ニッケル層が設けられた基体からなるキャップ部を準備する工程と、
該ノンドープ多結晶シリコン層に該ニッケル層が接するように、該ベース部上に該キャップ部を載置する工程と、
該ベース部と該キャップ部とを加熱して、該ノンドープ多結晶シリコン層と該ニッケル層とを共晶接合させ、該ベース部と該キャップ部との間に該センサ部を封止する工程とを含むことを特徴とする加速度センサの製造方法。
【請求項８】  上記拡散防止層が、酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜の群から選択される１の膜から形成されることを特徴とする請求７に記載の製造方法。
【請求項９】  ベース部とキャップ部とを接合し、それらの間にセンサ部を封止する加速度センサの製造工程であって、
半導体基板上に、不純物がドープされた多結晶シリコン層を堆積する工程と、
該多結晶シリコンを加工して、センサ部と、該センサ部の周囲を囲む枠部とを形成する工程と、
該枠部上に、所定の膜厚のノンドープ多結晶シリコン層を積層し、ベース部とする工程と、
該ベース部の該ノンドープ多結晶シリコン層に接する領域に、ニッケル層が設けられた基体からなるキャップ部を準備する工程と、
該ノンドープ多結晶シリコン層に該ニッケル層が接するように、該ベース部上に該キャップ部を載置する工程と、
該ベース部と該キャップ部とを加熱して、該ノンドープ多結晶シリコン層と該ニッケル層とを共晶接合させ、該ベース部と該キャップ部との間に該センサ部を封止する接合工程とを含み、
該接合工程において該枠部に含まれる該不純物が該ノンドープ多結晶シリコン層中を拡散する距離よりも、該ノンドープ多結晶シリコン層の膜厚を大きくすることを特徴とする加速度センサの製造方法。
【請求項１０】  上記ノンドープ多結晶シリコンの膜厚が、１μｍから５μｍの範囲内であることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】  上記不純物が、リンであることを特徴とする請求項７〜１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】  上記ベース部が、上記基体と上記ニッケル層の間にチタン層を含むことを特徴とする請求項７〜１０いずれかに記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記キャップ部は、上記基体と上記ニッケル層の間にチタン層を含むものであっても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月7日(2006.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】送り装置及びそれを具備する光ディスク原盤記録装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  移動ステージと、
前記移動ステージを含む可動部と固定部との間の荷重を支持する軸受と、
前記可動部を移動させる駆動部と、
前記移動ステージ及び軸受を含む部分と、前記駆動部とを連結する連結部と、
前記連結部及び前記駆動部の少なくともいずれか一方と接し又は少なくともいずれか一方に含まれる、流体を供給する配管と、
を有することを特徴とする送り装置。
【請求項２】  前記軸受が流体を用いた軸受であって、且つ、
前記配管により供給される流体が、前記軸受に使用される流体である、
ことを特徴とする請求項１に記載の送り装置。
【請求項３】  移動ステージを含む可動部と、
前記可動部を移動させる駆動部と、
一端を前記可動部に接続され且つ他端を固定部に接続され、前記可動部の底面より鉛直方向に引き出された流体配管又は電気接続線と、
を有することを特徴とする送り装置。
【請求項４】  前記流体配管又は前記電気接続線が、前記可動部の底面より測定して、前記移動ステージの移動距離の５倍以上の長さに渡って前記固定部と接触しない構成を有することを特徴とする請求項３に記載の送り装置。
【請求項５】  前記流体配管又は前記電気接続線が、前記可動部の底面より前記固定部と接触するまでの少なくとも一部において、螺旋形状を有することを特徴とする請求項３に記載の送り装置。
【請求項６】  前記請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の送り装置と、
レーザ光を出力するレーザ発振器と、
原盤を回転させるスピンドルと、
変調されたレーザ光を集光し前記原盤に前記レーザ光を照射するフォーカスアクチュエータと、
を有することを特徴とする光ディスク原盤記録装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は精密送り装置及びそれを具備する光ディスク原盤記録装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従来例においては、配管及び電気接続線を図５に示すように可動部の横から引き出していた。
しかし、移動ステージの移動時の振動幅（実施例においては、移動方向と平行方向の振動幅を特に小さくする必要がある。）が数ｎｍ以下（例えば５ｎｍ以下）の超精密移動ステージを実現しようとすると、固定部と可動部とを接続する当該配管及び電気接続線のねじり抵抗及び引きずり抵抗が問題になることを本発明の発明者は発見した。
本発明は、配管及び電気接続線の引きずり抵抗が小さく、移動ステージの精密な移動及び位置決めを実現する送り装置及びそれを具備する光ディスク原盤記録装置を実現することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
又従来例の送り装置は、駆動部（例えばコイルアセンブリ３）の発熱が軸受又は移動ステージに伝達しやすい構造を有していた。例えば、図５においてコイルアセンブリ３を含むリニアモータの可動部と、軸受１８を構成する部材とが直接接している故に、リニアモータの可動部で発生した熱により軸受１８を構成する部材が熱膨張し、移動ステージの精密送り及び位置決めを妨げていた。
それ故に、移動ステージの移動時の振動幅が数ｎｍ以下の超精密移動ステージを実現することが困難であった。
本発明は、駆動部の発熱が軸受及び移動ステージに伝達しにくい構造を有し、移動ステージの精密な移動及び位置決めを実現する送り装置及びそれを具備する光ディスク原盤記録装置を実現することを他の目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
配管及び電気接続線に螺旋形状部分を設けることにより、移動ステージの移動距離の両端の位置（移動開始点及び移動終着点）での流体配管又は電気接続線の長さの変化を当該螺旋部分が伸び縮みして吸収する。
それ故、流体配管及び電気接続線のねじり抵抗及び引きずり抵抗又はそれらの変化を十分に小さくすることが出来る。
本発明は、流体配管及び電気接続線のねじり抵抗及び引きずり抵抗又はそれらの変化が小さく、移動ステージの精密な移動及び位置決めを行う送り装置を実現出来るという作用を有する。
本発明の請求項６に記載の発明は、
前記請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の送り装置と、
レーザ光を出力するレーザ発振器と、
原盤を回転させるスピンドルと、
変調されたレーザ光を集光し前記原盤に前記レーザ光を照射するフォーカスアクチュエータと、
を有することを特徴とする光ディスク原盤記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月11日(2005.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  舗装用アスファルトにおいて、溶剤脱れきアスファルトを含み、かつ２５℃における針入度が２０〜１２０、１５℃における複素弾性率（Ｇ*）と損失正接（ｔａｎδ）との関係が２．０６ｅ-0.042G*≦ｔａｎδを満足することを特徴とする舗装用アスファルト。
【請求項２】  溶剤脱れきアスファルトの平均分子量が２０００〜３０００であり、該溶剤脱れきアスファルトの含有割合が２０〜８０重量％である請求項１記載の舗装用アスファルト。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、アスファルトの伸度は動的粘弾性試験で求められる損失正接（ｔａｎδ）と相関が高く、同一針入度のアスファルトで比較した場合、例えば、１５℃における損失正接（ｔａｎδ）が大きなアスファルトほど、繰り返し再生後に、大きな１５℃伸度の回復が見られることを見出した。さらにこの損失正接（ｔａｎδ）が大きなアスファルトを得るには、従来は利用価値が少ないとされていた溶剤脱れきアスファルト、中でも平均分子量が２０００〜３０００の溶剤脱れきアスファルトを特定割合で配合することが有効であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明によれば、舗装用アスファルトにおいて、溶剤脱れきアスファルトを含み、かつ２５℃における針入度が２０〜１２０、１５℃における複素弾性率（Ｇ*）と損失正接（ｔａｎδ）との関係が２．０６ｅ-0.042G*≦ｔａｎδを満足することを特徴とする舗装用アスファルトが提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月20日(2005.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （Ａ）ポリアミド樹脂，（Ｂ）無機充填材、（Ｃ）銅化合物、及び、（Ｄ）ハロゲン化アルカリからなり、溶融混練前のポリアミド樹脂ペレットの水分率が０．１〜１．０重量％であって、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び、（Ｄ）の量をそれぞれＡ重量％，Ｂ重量％、Ｃ重量％、及び、Ｄ重量％とした時、Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＝１００、３５≦Ａ，１０≦Ｂ≦６０、０．００３≦Ｃ≦０．２、０．０３≦Ｄ≦６を満足することを特徴とするポリアミド樹脂組成物。
【請求項２】  （Ｂ）無機充填材がガラス繊維であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項３】  （Ｃ）銅化合物が、ヨウ化銅、酢酸銅から選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項４】  （Ｄ）ハロゲン化アルカリが、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、塩化カリウム、塩化ナトリウムから選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項５】  ポリアミド樹脂組成物が、ポリアミド樹脂の融点に２０℃を加えた温度ないし３４０℃の温度で、溶融混練させて得られることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項６】  請求項１〜５のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物を成形してなる成形品。
【請求項７】  請求項１〜５のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物において、（Ｃ）及び（Ｄ）を溶融重合時に（Ａ）に添加することを特徴とするポリアミド樹脂組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  横方向に連続する帯状の表面要素を上下並列に配置し、上方の平面要素の下側縁で下方の平面要素の上側縁を覆う形態に重ね葺きしてなる屋根面と、この屋根面を覆う形態に屋根面に接着され熱媒体を含浸し流下させる吸水性シートと、吸水性シートの上方位置に配置された吸水性シート上に熱媒体を供給するための熱媒体供給手段とを有し、当該吸水性シートは、上方と下方の平面要素の段差位置に配置され段差に沿って横方向に形成された開口を有し、この開口が、上方の平面要素の下側縁に沿った上部輪郭縁および下方の平面要素の上方部分の表面上に位置する下部輪郭縁と、前記上部輪郭縁から下部輪郭縁の間に位置する間隔を置いて配置した導水路を形成する側部縁とを有し、前記開口に接して位置する平面要素の下側縁が吸水性シートに沿って流下してきた熱媒体の動きを緩衝し滴下させて下方の平面要素の上部に受け渡すと共に、この開口を通じて段差を露出させ段差付近の排水と通気を行えるように構成した熱交換装置。
【請求項２】  請求項１に記載された熱交換装置にして、前記吸水性シートは複数の平面要素を覆う素材からなる熱交換装置。
【請求項３】  請求項１に記載された熱交換装置にして、前記吸水性シートは単一の平面要素に沿って横方向に配置される帯状の素材からなる熱交換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】
横方向に連続する帯状の表面要素１を上下並列に配置し、上方の平面要素の下側縁２で下方の平面要素の上側縁３を覆う形態に重ね葺きしてなる屋根面が吸水性シートの支持面として使用される。吸水性シートはこの屋根面を覆う形態に据付け固定される。固定方法としては、接着による方法と要所を機械的に拘束する方法がある。機械的に固定する方法には、針金状の押さえ金具を使用する方法とクランプによる方法がある。
図１の吸水性シートは、１０列の平面要素に横貼りされる粘着シートの例を示している。図３と図５は、１列の平面要素に横貼りされる粘着テープ状の吸水性シートの例を示している。図６は、図５の吸水性シートの貼付けの形態を示している。縦貼りにするか横貼りにするかは、屋根の形態にあわせて選択することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
吸水性シートは熱媒体を含浸し流下させる働きをする。吸水性シートの上方位置には吸水性シート上に熱媒体を供給する熱媒体供給手段（図示せず）が設置される。吸水性シートは開口４を形成している。開口４は、上方と下方の平面要素の段差位置に配置され段差に沿って横方向に形成されている。この開口４には、例えば、図１から図５に示すような形態のものがある。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  軸方向一部に切欠き部を設けた円筒形の回転軸と、この切欠き部付きの回転軸と相似形状の内径形状を持つ回転子とを嵌め合い固定したことを特徴とする密閉型圧縮機。
【請求項２】  嵌め合い固定に焼嵌めを用いたことを特徴とする請求項１記載の密閉型圧縮機。
【請求項３】  切欠き形状はＤカットとしたことを特徴とする請求項１記載又は請求項２記載の密閉型圧縮機。
【請求項４】  切欠き軸方向位置は、回転軸端部に配置したことを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の密閉型圧縮機。
【請求項５】  回転子は薄板を積層して構成され、その積層固定はカシメによって成され、そのカシメの長辺を半径方向に一致させて設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項４記載の密閉型圧縮機。
【請求項６】  回転子に希土類磁石を配置することを特徴とする請求項１乃至請求項５記載の密閉型圧縮機。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月6日(2006.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  頭部の下側に支柱が垂設され、前記頭部の下側に、上下方向の途中の外側に膨出部を有する複数の弾性係止片が垂設されるとともに、前記複数の弾性係止片の下端部が前記支柱の下端部に接続された留め具において、
前記支柱の体積に対する前記頭部の体積を３倍以上５倍以下にし、
前記複数の弾性係止片の体積の総和に対する前記支柱の体積を１倍にするとともに、
前記支柱の下端にゲートを設けた、
ことを特徴とする留め具。
【請求項２】  請求項１に記載の留め具において、
前記複数の弾性係止片の最小横断面積の総和に対する前記支柱の最小横断面積を１倍以上４倍以下にした、
ことを特徴とする留め具。
【請求項３】  請求項１に記載の留め具において、
前記複数の弾性係止片の最小横断面積の総和に対する前記支柱の最小横断面積を３．５倍にした、
ことを特徴とする留め具。
【請求項４】  請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の留め具において、
前記支柱の横断面形状を、軸芯から突片が放射状に突出する十字状にした、
ことを特徴とする留め具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上記した実施形態では、支柱２１の横断面形状を十字状とし、その間に弾性係止片３１を位置させた例で説明したが、支柱の横断面形状を側面から１２０度分割で３つの弾性係止片が放射状に突出し、その間に弾性係止片を位置させたり、または、支柱を単なる円柱状とし、支柱の周囲に複数の弾性係止片を位置させた構成としても、同様な効果を得ることができる。
また、膨出部３３と、弾性シール部３４とでパネル６１を挟持する例で説明したが、弾性シール部４１を設けず、頭部１１（下側弾性鍔１４、または、単に下側鍔）と、膨出部３３とでパネル６１を挟持する構成としても、同様な効果を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
尚、サブタンク２０の気体室２７に封入された加圧気体は、ダンパシリンダ１１の作動油を加圧し、圧縮時に、油中に空気等が混入するキャビテーションの発生を防止し、また伸張時に続く圧縮時の減衰力発生の遅れ（さぼり）も回避する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月22日(2006.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  流路内に配設され回転軸が流路の延在方向へ差し向けられた回転体と、前記回転軸に対して周方向に傾斜した案内路を有し前記流路内に且つ前記流路内を流れる水流に関して前記回転体の上流に配設され、且つ前記水流によって回転しない予旋回発生部材と、前記流路内に配設され前記回転体により回転駆動されるマグネットと、前記流路外に且つ前記マグネットに対峙して配設されたコイルとを備えた屋内設備用発電ユニットにおいて、
前記予旋回発生部材は、前記流路内を流れる水流に関して下流側から計った前記案内路の傾斜角が、前記流路内を流れる水流に関して上流から下流へ向けて増加することを特徴とする屋内設備用発電ユニット。
【請求項２】  前記回転体は回転軸から放射状に延びる翼を有しており、翼全体が回転軸を含む平面内で延在していることを特徴とする請求項１に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項３】  前記予旋回発生部材が、前記回転体の回転軸を支持する軸受を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項４】  前記マグネットが、前記回転体の径方向外方に環状に配設され前記回転体の外周に固定されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項５】  前記マグネットの、前記流路内を流れる水流に関する上流端が、径方向内方へテーパーしていることを特徴とする請求項４に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項６】  前記マグネットが、変速機を介して前記回転体に係合していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項７】  水道管の一部を形成することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項８】  電磁弁への通電により水流をオンし所定時間経過後に自動的に水流をオフする屋内設備用水栓と組み合わされて、前記電磁弁の駆動電力の少なくとも一部を供給することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項９】  前記所定時間は１分以下であることを特徴とする請求項８に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項１０】  前記流路を流れる水流が前記回転体の下流で汚物搬送に必要な水圧を有していることを特徴とする請求項８又は９に記載の屋内設備用発電ユニット。
【請求項１１】  式（１）で与えられる弁容量係数Ｃｖが式（２）を満たすことを特徴とする請求項１０に記載の屋内設備用発電ユニット。
Ｃｖ＝（Ｎ×Ｑ）／√（△Ｐ）・・・・・（１）
Ｃｖ≧０．１２６７×Ｑ・・・・・・（２）
Ｎ：０．０２１９
Ｑ：屋内設備発電ユニットを流れる水流の流量（Ｌ／分）
△Ｐ：屋内設備用発電ユニットの圧損（ＭＰａ）
【請求項１２】  予旋回発生部材は着脱可能であることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の屋内設備用発電ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
更に、本発明においては、前記流路内を流れる水流に関して下流側から計った前記案内路の傾斜角が、前記流路内を流れる水流に関して上流から下流へ向けて増加する。
案内路の傾斜角の増加に伴って、軸流が徐々に旋回流に変換されるので、軸流を急激に旋回流に変換する場合に比べて、流れ方向変換に伴う圧力損失を抑制することができる。この結果、屋内設備用発電ユニットの発電効率が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月10日(2006.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図２は図１に示された全地形走行車に搭載される動力伝達装置を示す概略図であり、図３は図２におけるＡ−Ａ線に沿う方向の断面図である。図２に示すように、クランクケース６にはクランク軸７が回転自在に装着されている。クランクケース６はクランク軸７の一端部を軸受を介して回転自在に支持するケース体８と、クランク軸７の他端部を軸受を介して回転自在に支持するとともにケース体８に組み付けられるケース体９とを有し、これらのケース体８，９を相互に組み付けることで、クランク室１０が形成されている。このクランク室１０には潤滑オイルが収容されている。ケース体８にはオイルポンプ１２が設けられ、このオイルポンプ１２のロータはクランク軸７により駆動され、図示しない油路を介して動力伝達装置の各摺動部に潤滑オイルを圧送するようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月24日(2006.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記ノズル体８には給気管９によって気体が供給される。気体としては不活性ガスや清浄な空気などが用いられる。気体は常温で供給されるが、ヒータなどを用いて所定の温度に加熱したものを供給するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月18日(2006.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第１の被加熱流体導入口２から導入された被加熱流体３は、第１の連通部１１を介して各段の被加熱流体流通部６に導入されるようになっている。第１の連通部１１を介して各段の被加熱流体流通部６に導入された被加熱流体３は、蛇行通路４の途中において、第２の連通部１２において集められて、第１の被加熱流体導出口１６から一旦、外部に排出され、都市ガス等の燃料ガスを混合した状態で第２の被加熱流体導入口１７から再び被加熱流体流通部６に導入され、導入された被加熱流体３は、第３の連通部１３を介して各段の被加熱流体流通部６に導入され、蛇行通路４を蛇行して、第２の被加熱流体導出口５から外部に導出されるようになっている。被加熱流体流通部６は、縦長の偏平な方形の箱型状に作られている。