【手続補正書】
【提出日】平成18年5月22日(2006.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  分子汚染物モニタリングシステム（１０、１２０、１３０、１５０、１６０、１７０、１８０、１９０、６００、７００、８００）であって、以下：
拡散チャンバ（１９）を形成する、ハウジング（１１）；
該ハウジングを通って延在する、拡散チャンバ入口通路（３２）；
該ハウジングを通って延在する、拡散チャンバ出口通路（２４、４６）；
該拡散チャンバの内部に曝される、検出表面（６１）；および
センサ（８１）であって、該検出表面をモニタリングし、そして該検出表面上の分子汚染物に特徴的なセンサ出力シグナルを提供する、センサ、
を備え、
分子汚染物および粒子を含む流体が所定の流速よりも上で該入口通路を通って流れる場合、該入口通路を通る粒子の大部分が、該出口通路内に向けられ、一方、該入口通路を通る分子汚染物の部分が、該拡散チャンバ内に拡散するように、該拡散チャンバ入口通路および該拡散チャンバ出口通路が適合されそして配置され、該分子汚染物の部分が、該センサによって検知されるほど十分に大きい、
システム。
【請求項２】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、該センサが、表面弾性波（ＳＡＷ）デバイス（５６）を備える、システム。
【請求項３】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、さらに、以下：
密閉参照チャンバ（６２）；
参照表面（７１）であって、前記検出表面と実質的に同一であり、該密閉参照チャンバの内部に曝される、参照表面、
を備え、そしてここで、該検出表面が、以下：
検出器回路（５６、８４）であって、該検出表面と関連し、そして該検出表面の状態を反映する検出シグナルを生成する、検出器回路；
参照回路（５８、８４）であって、該参照表面と関連し、そして該参照表面の状態を反映する参照シグナルを生成する、参照回路；および
比較回路（８４）であって、該検出シグナルおよび該参照シグナルを受信し、そして該検出シグナルと該参照シグナルとの間の違いを反映する前記センサ出力シグナルを生成する、比較回路、
を備える、システム。
【請求項４】  請求項３に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記検出器回路が、前記検出表面に接続された振動性回路をさらに備え、その結果、その振動シグナル周波数が、該検出表面上の分子汚染に従って変化し、そして前記参照回路が、前記参照表面の条件を反映する振動周波数を有する参照シグナルを生成する参照振動性回路を備える、システム。
【請求項５】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、さらに、以下：
拡散チャンバ内に流れる外的に生成された流体の温度および湿度の少なくとも１つを検出し、応答して環境シグナル（１０３）を生成するための、環境センサ（１０２）；および
該環境シグナルおよび該センサ出力シグナルを受信し、修正したセンサ出力シグナルを生成する、補償器プロセッサ（８６）、
を備える、システム。
【請求項６】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記拡散チャンバ入口通路が、拡散チャンバ入口ポート（３８Ｂ）および該チャンバ入口ポートを取り囲むノズル（３８Ａ）を備え、そして該拡散チャンバ出口通路が、拡散チャンパ出口ポート（２２）および該チャンバ出口ポートを取り囲むファンネル（２２Ａ）を備える、システム。
【請求項７】  請求項６に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記ノズルが、テーパーＴを有し、そして前記ファンネルがまた、同じテーパーＴを有し、ここで、該ノズルおよびファンネルが、共通軸上で実質的に整列している、システム。
【請求項８】  請求項７に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記ノズルおよびファンネルが、互いに対して間隔を有しており、そして前記テーパーＴおよび該間隔が、前記流体の流速の所定範囲内において、該入口通路を通過する実質的に全ての該粒子が、前記出口通路に向けられる、システム。
【請求項９】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記出口ポートに接続された粒子計数器（４００）をさらに備える、システム。
【請求項１０】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記拡散チャンバ出口通路に接続された減圧供給源（３０６、４０２、７１０）をさらに備える、システム。
【請求項１１】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記流体を加熱するための加熱器（８１２）をさらに備える、システム。
【請求項１２】  請求項１１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記加熱器が、加熱チャンバ（８１２）、加熱チャンバ受容ポート（８１１）、および加熱チャンバ出口ポート（８１３）を備え、該加熱チャンバ出口ポートが、前記拡散チャンバ入口通路に接続されている、システム。
【請求項１３】  請求項１２に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、さらに、以下：
前記加熱流体出口ポートに接続された第１受容ポート（８０８Ｂ）を有する、バルブ（８０２）、
外部サンプル流体供給源に接続された第２受容ポート（８０８Ａ）、
バルブ出力ポート（８０２Ａ）、
を備え、そして該バルブが、外的に生成されたバルブコントロールシグナルに応答して、該バルブ出力ポートに、該第１受容ポートおよび該第２受容ポートから選択された１つを接続するために適合されている、システム。
【請求項１４】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、該拡散チャンバ入口通路に接続された、複数の流体入口ポート（３００Ａ、３００Ｂ、５０２）をさらに備える、システム。
【請求項１５】  請求項１４に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、アンサンブルマニホルド（５００）をさらに備え、該アンサンブルマニホルドが、前記複数の入口ポート（５０２）と前記拡散チャンバ入口通路との間に接続される、システム。
【請求項１６】  請求項１５に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記出口ポートに接続された粒子計数器（４００）をさらに備える、システム。
【請求項１７】  請求項１４に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記複数の流体入口ポートが、第１入口ポート（３００Ａ）および第２入口ポート（３００Ｂ）を備え、そして該システムが、該第１入口ポートに接続された第１流体流れレギュレータ（３０２）および該第２入口ポートに接続された第２流体流れレギュレータ（３０４）をさらに備える、システム。
【請求項１８】  請求項１７に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記第１流体流れレギュレータおよび第２流体流れレギュレータが、調節可能な計量デバイスを備える、システム。
【請求項１９】  請求項１８に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記調節可能計量デバイスが、調節可能オリフィスを備える、システム。
【請求項２０】  請求項１７に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記汚染物を実質的に含まない流体の供給源（３０８）をさらに備え、該供給源が、前記第１入口ポートに接続されている、システム。
【請求項２１】  請求項２０に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記汚染物を実質的に含まない流体の供給源が、ケミカルフィルタを備える、システム。
【請求項２２】  請求項２１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記拡散チャンバ出口通路に接続された減圧供給源（３０６、４０２）をさらに備える、システム。
【請求項２３】  請求項１４に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記複数の流体入口ポートが、第１入口ポート（８０８Ａ）および第２入口ポート（８０８Ｂ）を備え、該システムが、該第１入口ポートおよび第２入口ポートと前記拡散チャンバ入口通路との間に接続されるポート選択バルブ（８０２）をさらに備える、システム。
【請求項２４】  請求項２３に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記汚染物を実質的に含まない流体の供給源（８１０）をさらに備え、該供給源が、前記第１入口ポートおよび第２入口ポートのうちの１つに接続され、これによって、該ポート選択バルブを操作することにより、ユーザが、入口通路に対する通過のための、周囲流体および汚染物を含まない流体を二者択一的に選択し得る、システム。
【請求項２５】  請求項２４に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記汚染物を実質的に含まない流体の供給源と前記ポート選択バルブとの間で接続される流体加熱器（８１２）をさらに備える、システム。
【請求項２６】  請求項２４に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記拡散チャンバ出口通路に接続された、第１減圧供給源（８１６）をさらに備える、システム。
【請求項２７】  請求項２６に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記減圧供給源と前記拡散チャンバ出口通路との間に接続された、流体流れレギュレータ（８１８）をさらに備える、システム。
【請求項２８】  請求項２６に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記ポート選択バルブに接続された第２減圧供給源（８０６）をさらに備え、前記第１減圧供給源が前記第１入口ポートおよび第２入口ポートのうちの１方に接続される場合、該第２減圧供給源が、該第１入口ポートおよび第２入口ポートのうちの他方に接続されるように、該ポート選択バルブが配置される、システム。
【請求項２９】  請求項２８に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記第１減圧供給源と第２拡散チャンバ出口通路との間に接続された第１流体流れレギュレータ（８１８）、および前記第２減圧供給源と前記ポート選択バルブとの間に接続された第２流体流れレギュレータ（８０４）をさらに備える、システム。
【請求項３０】  請求項２９に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記汚染物を実質的に含まない流体の供給源と前記ポート選択バルブとの間に接続された流体加熱器（８１２）をさらに備える、システム。
【請求項３１】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、さらに、以下：
第１受容ポート（８０８Ａ）、第２受容ポート（８０８Ｂ）、混合流体出口ポート（８０２Ａ）を有する、分配バルブ（８０２）、
を備え、該分配バルブが、外的に生成された分配シグナルに接続され、そして該混合流体出力ポートから出る流体が、該分配シグナルによって決定される比を含み、該比が該第１受容ポートに入る流体および該第２受容ポートに入る流体の比であるように、該第１受容ポートと該第２受容ポートと該混合流体出力ポートとの間の流れ経路を確立する、システム。
【請求項３２】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記拡散チャンバ出口通路に接続された収集アセンブリ（７０５）をさらに備える、システム。
【請求項３３】  請求項３２に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記収集アセンブリが、以下：吸収剤材料、インピンジャー、ＣＯＴＳサンプラー、およびバイパス可能ポンプ送り経路のうちの１つ以上を備える、システム。
【請求項３４】  請求項３３に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、第１出口ポート（７０６Ａ）および第２出口ポート（７０６Ｃ）をさらに備え、そして前記収集アセンブリが、前記拡散チャンバ出口通路と前記出口ポートとの間に配置される出口ポート選択バルブ（７０２）、および該第２出口ポートに接続されるコレクター（７１４）を備える、システム。
【請求項３５】  請求項３４に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記センサ出力シグナルに応答して、選択バルブコントロールシグナルを生成するためのサンプラーコントローラー（８６）をさらに備える、システム。
【請求項３６】  請求項３５に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記サンプラーコントローラーが、所定の出力シグナル閾値を越える前記センサ出力シグナル、または所定の変化速度の閾値を越える該センサ出力シグナルの変化速度に応答して、該コレクターに流体を向けるための選択バルブを制御する、システム。
【請求項３７】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記拡散チャンバ入口通路に接続されたガス加圧器（６０２）をさらに備える、システム。
【請求項３８】  請求項３７に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記拡散チャンバ出口通路に接続された流体流れレギュレータ（６０４）をさらに備える、システム。
【請求項３９】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記分子汚染物を収集するために適合され、そして前記検出表面と同じ流体をサンプリングするために配置された、試験表面（１５２）をさらに備える、システム。
【請求項４０】  請求項３９に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、さらに、以下：
前記試験表面を通過するために前記ハウジングを通る、ポータル（１５３）；および
該試験表面を囲うための、該ポータル上の除去可能カバー（１５４）、
を備える、システム。
【請求項４１】  請求項３９に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記試験表面および前記検出表面が、同じ表面材料を含む、システム。
【請求項４２】  請求項３９に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記試験表面および前記検出表面が、異なる表面材料を含む、システム。
【請求項４３】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、ここで、前記検出表面が、圧電結晶の表面である、システム。
【請求項４４】  請求項１に記載の分子汚染物モニタリングシステムであって、前記検出チャンバ入口通路と前記検出表面との間に配置された、化学選択性膜（１２２）をさらに備える、システム。