【手続補正書】
【提出日】平成18年1月18日(2006.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】投影露光用マスク、投影露光用マスクの製造方法、投影露光装置および投影露光方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被露光部材のみを走査駆動して、前記被露光部材の表面に、連続パターン及び不連続パターンを含む露光パターンを露光する投影露光装置に用いられる投影露光用マスクであって、
前記被露光部材に対して、該被露光部材の走査方向で前記連続パターンを露光するための第１のマスクパターンと、前記被露光部材に対して、前記走査方向で前記不連続パターンを露光するための第２のマスクパターンとを有し、
前記第１および第２のマスクパターンのうち一方のマスクパターンが反射型マスクパターンであり、他方のマスクパターンが透過型マスクパターンであることを特徴とする投影露光用マスク。
【請求項２】  走査駆動される被露光部材に対して、該被露光部材の走査方向で連続パターンを露光するための第１のマスクパターンと、前記被露光部材に対して、前記走査方向で不連続パターンを露光するための第２のマスクパターンとを有し、前記第１および第２のマスクパターンのうち一方のマスクパターンが反射型マスクパターンであり、他方のマスクパターンが透過型マスクパターンである投影露光用マスクの製造方法であって、
表面に反射膜が形成された透明基板を用意する第１の工程と、
前記反射膜上にレジストを塗布し、該レジストに対する前記反射型マスクパターンを形成するためのベース部および前記透過型マスクパターンの形状の露光および現像を行う第２の工程と、
前記第２の工程により現像された、前記ベース部および前記透過型マスクパターンの形状を有する反射膜上にレジストを塗布して、前記ベース部上のレジストに前記反射型マスクパターンの形状を露光し、現像を行う第３の工程と、
前記第３の工程によりレジストが除去された部分の反射膜上に反射防止膜を形成する第４の工程と、
前記第３の工程により現像され残存した前記反射型マスクパターンの形状のレジストを除去する第５の工程とを有することを特徴とする投影露光用マスクの製造方法。
【請求項３】  被露光部材のみを走査駆動して、前記被露光部材の表面に、連続パターン及び不連続パターンを含む露光パターンを露光する投影露光装置であって、
前記被露光部材に対して、該被露光部材の走査方向で前記連続パターンを露光するための第１のマスクパターンと、前記被露光部材に対して、前記走査方向で前記不連続パターンを露光するための第２のマスクパターンとを有し、前記第１および第２のマスクパターンのうち一方のマスクパターンが反射型マスクパターンであり、他方のマスクパターンが透過型マスクパターンである投影露光用マスクと、
前記反射型マスクパターンおよび前記透過型マスクパターンからの光を前記被露光部材に投射する投影系と、
前記反射型マスクパターンに、前記投影系の側から光を照射する第１の照明系と、
前記透過型マスクパターンに、前記マスクを挟んで前記投影系とは反対側から光を照射する第２の照明系と、
前記被露光部材を前記投影系の投射光軸に対し略垂直な方向に走査移動させる基板ステージとを有し、
前記第１および第２の照明系のうち、一方の照明系が連続照明型の照明系であり、他方の照明系が間欠照明型の照明系であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項４】  前記投影系は、前記反射型マスクパターンからの光と前記透過型マスクパターンからの光とを合成して前記被露光部材に投射することを特徴とする請求項３に記載の投影露光装置。
【請求項５】  前記第１および第２の照明系のうち少なくとも一方の照明系から前記投影露光用マスクに対して、直線状又は円弧状のスリット形状に光を照射することを特徴とする請求項３に記載の投影露光装置。
【請求項６】  前記第１の照明系からの光は、前記投影系を介して前記反射型マスクパターンに照射されることを特徴とする請求項３から５のいずれかに記載の投影露光装置。
【請求項７】  前記投影系は、光分離素子を有し、
該光分離素子は、前記第１の照明系から前記反射型マスクパターンに照射される光の光路と、該反射型マスクパターンで反射して前記被露光部材に投射される光の光路とを分離し、かつ前記反射型マスクパターンからの光と前記透過型マスクパターンからの光とを合成することを特徴とする請求項３から６のいずれかに記載の投影露光装置。
【請求項８】  前記光分離素子は偏光ビームスプリッタであり、
該偏光ビームスプリッタと前記投影露光用マスクとの間に、λ／４板が配置されていることを特徴とする請求項７に記載の投影露光装置。
【請求項９】  前記第１の照明系は、前記投影系の外から前記投影露光用マスクに光を照射し、前記反射型マスクパターンで反射した前記光が前記投影系により前記被露光部材に照射されることを特徴とする請求項３から８のいずれかに記載の投影露光装置。
【請求項１０】  前記投影系に設けられて、前記被露光部材に投影される光を透過するとともに、往復揺動する平行平面板を有し、
前記平行平面板の揺動の往路又は復路において、前記第２のマスクパターンに光が照射されることを特徴とする請求項３から９のいずれかに記載の投影露光装置。
【請求項１１】  前記平行平面板の揺動中に前記第１のマスクパターンに光を照射することを特徴とする請求項１０に記載の投影露光装置。
【請求項１２】  被露光部材に連続パターンを露光するための第１のマスクパターンと、前記被露光部材に不連続パターンを露光するための第２のマスクパターンとを有し、前記第１および第２のマスクパターンのうち一方のマスクパターンが反射型マスクパターンであり、他方のマスクパターンが透過型マスクパターンである投影露光用マスクと、前記反射型マスクパターンおよび前記透過型マスクパターンからの光を前記被露光部材に投射する投影系とを使用し、
前記反射型マスクパターンに前記投影系の側から光を照射し、かつ前記透過型マスクパターンに前記マスクを挟んで前記投影系とは反対側から光を照射して、さらに前記被露光部材を前記投影系の投射光軸に対し略垂直な方向に移動させ、
前記第１のマスクパターンを連続的に照明するとともに、前記第２のマスクパターンを間欠的に照明することを特徴とする投影露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被露光部材に対してパターンを露光転写するフォトマスク、レチクル等の投射露光用マスク（原版）、このマスクの製造方法、このマスクを用いる投影露光装置および投影露光方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この場合、被露光基板５５上に形成するマスクパターン像の大きさおよび投影系の投影倍率を加味した大きさのマスク５１と被露光基板５５とを、露光光量を制御しつつ一定スピードで図中の白抜き矢印方向に移動させてスキャン露光を行う。図１８に示した露光装置の場合、マスク５１および被露光基板５５はそれぞれ、マスクステージ５７および基板ステージ５６上に搭載されており、これらステージ５７，５６が白抜き矢印方向に駆動されることによってマスク５１における露光光Ｌの照射領域および被露光基板５５上の露光領域がスキャンされる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
なお、図１８に示したような、透過型のマスクを用いる投影露光装置は多く製品化されており、また、マスクパターンで反射した露光光を被露光基板に導き、これを露光するための反射型マスクを用いた投影露光装置としては、特許文献１にて提案されているものがある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図２に示すように、第１のマスクパターン２と第２のマスクパターン３とは、照明領域の長手方向にて交互に配置されている。言い換えれば、第１のマスクパターン２の各ラインの間に第２のマスクパターン３が配置されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
その後、残存していたフォトレジスト７ａを除去する（第５の工程）。以上により、図３（ｅ）に示すように、反射膜で構成される第１のマスクパターン２のみが露出し、第２のマスクパターン３を含む他の部分が反射防止膜８でコーティングされたマスク１を、マスク基板１ａの片側の面上での工程のみで容易に製造することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
上記製造工程で製造されたマスク１では、図３（ｅ）での上方（裏面側）から照射された光のうち、反射防止膜８が形成されていない（露出した）第１のマスクパターン２に入射した光のみが高い反射率で上方に反射する。また、図３（ｅ）での下方（表面側）からマスク基板１ａに照射されてマスク基板１ａを透過した光のうち、マスク基板１ａに接している反射防止膜８の部分（反射膜５ａと５ｂの間の部分）を透過した光のみが上方に進む。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
以上の直角プリズム９から反射ミラー１４までの光学素子は相互に接合されて一体的に構成されている。また、これらの光学素子と凸面鏡２３および凹面鏡２４により投影系が構成されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
偏光分離膜で反射された第２のマスクパターン３からの露光光束は、補正プリズム１１の透過面１１ｃ、凹面鏡２４の上部、凸面鏡２３、凹面鏡２４の下部および反射ミラー１４の反射面１４ａを介して、該光束の焦点位置に配置された被露光基板２５の表面上に投射される。これにより、被露光基板２５の表面に第２のマスクパターン３の像が間欠的に投影され、被露光基板２５上に、第２のマスクパターン３と等倍（又は相似形状）の不連続周期パターンが露光される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
図６には、上記マスクの変形例を示す。図６に示したマスク１’では、図１に示したマスク１における第１のマスクパターン２のみが形成されている領域（図の左側の部分）で、導光プリズム１３によって第１の照明系１５からの照明光が照射される領域に、投影系の解像力限界に近い高周波数の（言い換えれば、第１のマスクパターン２の最小パターン幅よりも小さい最小パターン幅を有する微細パターン露光用の）反射型の第３のマスクパターン２ａを構成している。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
これにより、従来の多重露光工程が２段階の露光工程を必要としていたものを、１連（１つ）の露光工程で完結させることができる。しかも、このようにマスク１’上で微細パターンを露光するためのマスクパターンと不連続周期パターンを露光するためのマスクパターンとを反射型と透過型とに分けることで、不連続周期パターンの露光プロファイルを改善でき、液晶ディスプレスパネル用基板の高画素化対応や歩留まり向上等に有効である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
２２はマスク１”からの露光光を凹面鏡２４の上部に向けて反射する反射面２２ａと、凹面鏡２４の上部から凸面鏡２３および凹面鏡２４の下部を介して入射した露光光を反射して被露光基板２５に投射する反射面２２ｂとを有する反射部材である。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
本実施形態では、従来用いられているミラー反射型のスリットスキャン露光装置とほぼ同様の投影系を有するが、マスク１”は、投影系の入射・投射光軸に一致した第２の照明系１５ｂの照射光軸に直交する面に対して角度θをなすように設置されている。これにより、第１の照明系１５ａからの照明光を無理なく投影系外からマスク１”に照射することが可能となり、投影系の構成を簡単化することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
ここで、第１の照明系１５ａの照明光軸は、物点位置で投影系の光軸と所定の角度２θで交差している。そして、マスク１”の傾斜角θは、第１の照明系１５ａの照明光軸と投影系の入射光軸とのなす角度２θの１／２に設定されている。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
これらの図において、被露光基板２５上の露光済みの複数の不連続周期パターンを２５ｂで示しており、この複数の露光済みの不連続周期パターン２５ｂから図１３中の右側（被露光基板２５のスキャン駆動方向とは反対方向）に延出した、露光済みの連続パターン２５ａは、ステップ１８〜ステップ２０における平行平面板３２の復路揺動中に露光されたものである。そして、この延出した連続パターン２５ａにつながるように、平行平面板３２の往路揺動中での露光が行われることにより、連続パターン２５ａの連続性が確保される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
したがって、第１の照明系４１に設けられたコンデンサレンズ４４は、不必要な部分を二方取りしたいわゆる小判型形状を有する。この第１の照明系４１の光源１６から発せられる照明光は、楕円ミラー１７により反射して２次光源を形成するよう一旦結像した後、インテグレータレンズ４３によってその照明強度の分布が均一化される。コンデンサレンズ４４には、直線スリット状に光束が入射し、集光されて偏光ビームスプリッタ４５に入射する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
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