【手続補正書】
【提出日】平成18年2月2日(2006.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  ギャップ層を介して互いに対向すると共に記録媒体に面するように配置される２つの磁極、を有する、互いに磁気的に連結された２つの磁性層と、第１の階層パターンおよび第２の階層パターンを含んで構成された薄膜コイルと、前記薄膜コイルを前記２つの磁性層から絶縁する絶縁層とを有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記第１の階層パターンの前準備層としての第１の前駆層を形成する第１の工程と、
前記第１の前駆層上に、絶縁性材料を用いて分離前駆層を形成する第２の工程と、
前記分離前駆層上に、前記第２の階層パターンの前準備層としての第２の前駆層を形成する第３の工程と、
前記第２の前駆層、前記分離前駆層および前記第１の前駆層を連続してパターニングすることにより、前記第２の階層パターン、前記第１の階層パターンと前記第２の階層パターンとの間を電気的に分離するための分離層および前記第１の階層パターンを一括して選択的に形成する第４の工程と
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】  前記第４の工程は、
前記第２の前駆層上に、前記薄膜コイルの平面形状に対応する形状を有するマスクを形成する工程と、
このマスクを用いて、前記第２の前駆層、前記分離前駆層および前記第１の前駆層を連続的にエッチングするエッチング工程と
を含むことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  ギャップ層を介して互いに対向すると共に記録媒体に面するように配置される２つの磁極、を有する、互いに磁気的に連結された２つの磁性層と、前記２つの磁性層の間にそれらの延在方向に沿って延在し、前記２つの磁性層が互いに連結された位置を中心とした渦巻状の巻線構造を有する薄膜コイルと、前記薄膜コイルを前記２つの磁性層から絶縁する絶縁層とを有する薄膜磁気ヘッドであって、
前記薄膜コイルの一部をなす第１の階層パターンと、
絶縁性材料よりなる分離層と、
前記第１の階層パターンと連結され、前記薄膜コイルの他の一部をなす第２の階層パターンと
がこの順に積層され、
前記第１の階層パターン、前記分離層および前記第２の階層パターンが、互いに完全に重なり合う位置に配置されると共に互いに同一の平面形状を有する
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】  ギャップ層を介して互いに対向すると共に記録媒体に面するように配置される２つの磁極、を有する、互いに磁気的に連結された２つの磁性層と、前記２つの磁性層のうちの一方の磁性層を中心として巻回する第１の巻回部およびこの第１の巻回部と連結され前記２つの磁性層のうちの他方の磁性層を中心として巻回する第２の巻回部とを含んで構成された薄膜コイルと、前記薄膜コイルを前記２つの磁性層から絶縁する絶縁層とを有する薄膜磁気ヘッドであって、
前記薄膜コイルのうちの前記第１の巻回部の一部をなす第１の階層パターンと、
絶縁性材料よりなる分離層と、
前記第１の階層パターンと連結され、前記薄膜コイルのうちの前記第２の巻回部の一部をなす第２の階層パターンと
がこの順に積層され、
前記第１の階層パターン、前記分離層および前記第２の階層パターンが、互いに完全に重なり合う位置に配置されると共に互いに同一の平面形状を有する
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、ギャップ層を介して互いに対向すると共に記録媒体に面するように配置される２つの磁極を有する互いに磁気的に連結された２つの磁性層と、第１の階層パターンおよび第２の階層パターンを含んで構成された薄膜コイルと、薄膜コイルを２つの磁性層から絶縁する絶縁層とを有する薄膜磁気ヘッドを製造する方法であり、第１の階層パターンの前準備層としての第１の前駆層を形成する第１の工程と、第１の前駆層上に、絶縁性材料を用いて分離前駆層を形成する第２の工程と、分離前駆層上に、第２の階層パターンの前準備層としての第２の前駆層を形成する第３の工程と、第２の前駆層、分離前駆層および第１の前駆層を連続してパターニングすることにより、第２の階層パターン、第１の階層パターンと第２の階層パターンとの間を電気的に分離するための分離層および第１の階層パターンを選択的に一括して形成する第４の工程とを含むようにしたものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドは、ギャップ層を介して互いに対向すると共に記録媒体に面するように配置される２つの磁極を有する互いに磁気的に連結された２つの磁性層と、２つの磁性層の間にそれらの延在方向に沿って延在し、２つの磁性層が互いに連結された位置を中心とした渦巻状の巻線構造を有する薄膜コイルと、薄膜コイルを２つの磁性層から絶縁する絶縁層とを有するものであり、薄膜コイルの一部をなす第１の階層パターンと、絶縁性材料よりなる分離層と、第１の階層パターンと連結され、薄膜コイルの他の一部をなす第２の階層パターンとがこの順に積層され、第１の階層パターン、分離層および第２の階層パターンが、互いに完全に重なり合う位置に配置されると共に互いに同一の平面形状を有するようにしたものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッドは、ギャップ層を介して互いに対向すると共に記録媒体に面するように配置される２つの磁極を有する互いに磁気的に連結された２つの磁性層と、２つの磁性層のうちの一方の磁性層を中心として巻回する第１の巻回部およびこの第１の巻回部と連結され２つの磁性層のうちの他方の磁性層を中心として巻回する第２の巻回部とを含んで構成された薄膜コイルと、薄膜コイルを２つの磁性層から絶縁する絶縁層とを有するものであり、薄膜コイルのうちの第１の巻回部の一部をなす第１の階層パターンと、絶縁性材料よりなる分離層と、第１の階層パターンと連結され、薄膜コイルのうちの第２の巻回部の一部をなす第２の階層パターンとがこの順に積層され、第１の階層パターン、分離層および第２の階層パターンが、互いに完全に重なり合う位置に配置されると共に互いに同一の平面形状を有するようにしたものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、第４の工程が、第２の前駆層上に、薄膜コイルの平面形状に対応する形状を有するマスクを形成する工程と、このマスクを用いて第２の前駆層、分離前駆層および第１の前駆層を連続的にエッチングするエッチング工程とを含むようにしてもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図１〜図１２において、（Ａ）はエアベアリング面に垂直な断面構成を示し、（Ｂ）は磁極先端部分のエアベアリング面に平行な断面構成を示している。図１３〜図１９は主要な製造工程に対する平面構造を表している。ここで、図１３〜図１９において、図１３は図１，図１４は図２，図１５は図３，図１６は図４，図１７は図７，図１８は図８，図１９は図９に示した状態にそれぞれ対応している。上記した図１〜図４および図７〜図９における（Ａ）は、図１３〜図１９におけるＡ−Ａ線に沿った矢視断面に相当する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
次に、図９および図１９に示したように、後工程においてエアベアリング面２０となる側（図中の左側）における記録ギャップ層９上から開口９ＫＡにおける下部磁極７Ａの露出面上にかけて、絶縁層１２を覆うように、例えばめっき処理により、例えばパーマロイよりなる上部磁極１３を約２．０μｍ〜３．０μｍの厚みで選択的に形成する。上部磁極１３を形成する際には、同時に、例えば、開口１２ＫＡにおけるコイル端子１０ＢＵの露出面上から図示しない外部回路にかけて、幅方向に延在する接続端子１３Ｃを選択的に形成すると共に、開口１２ＫＢにおける接続端子７Ｂの露出面上から開口１２ＫＣにおける接続端子７Ｃの露出面上にかけて、幅方向に延在する接続端子１３Ｄを選択的に形成する。これにより、コイルパターン１０Ａとコイルパターン１０Ｂとが接続端子７Ｂ，１３Ｄを介して電気的に接続され、薄膜コイル１０が形成される。薄膜コイル１０の詳細な接続状態については後述する（図２１参照）。上部磁極１３を形成する際には、例えば、後工程においてエアベアリング面２０となる側から順に先端部１３Ａおよびヨーク部１３Ｂを含むようにすると共に、先端部１３Ａが記録トラック幅を規定する極微小な一定幅（例えば約０．３μｍ）を有するようにする。上部磁極１３は、開口９ＫＡにおいて下部磁極７Ａと磁気的に連結され、下部磁極７Ａおよび上部磁極１３により磁束の伝播経路、すなわち磁路が形成される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
＜薄膜磁気ヘッドの構成＞
次に、図１２、図２０および図２１を参照して、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成について説明する。図２０は本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法により製造された薄膜磁気ヘッドの平面構成を表し、図２１は薄膜コイル１０の接続状態を模式的に表している。図１２は、図２０におけるＸＩＩＡ−ＸＩＩＡ線に沿った矢視断面に相当する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
薄膜コイル１０は、上記したように、互いに同一の平面形状を有するコイルパターン１０Ａおよびコイルパターン１０Ｂと、これらのコイルパターン１０Ａとコイルパターン１０Ｂとの間を接続する接続端子７Ｂ，１３Ｄとにより構成されている。図１２，図２０および図２１に示したように、コイルパターン１０Ａのコイル端子１０ＡＳは接続端子７Ｃの一端と接続されており、コイル端子１０ＡＵは接続端子７Ｂの一端と接続されている。一方、コイルパターン１０Ｂのコイル端子１０ＢＵは接続端子１３Ｃの一端と接続されており、コイル端子１０ＢＳは接続端子１３Ｄの一端と接続されている。接続端子７Ｂの他端は接続端子１３Ｄの他端と接続されており、これにより、コイルパターン１０Ａおよびコイルパターン１０Ｂが接続端子７Ｂ，７Ｃ，１３Ｃ，１３Ｄと共に電流の流路を構成している。接続端子７Ｃ，１３Ｃのそれぞれの他端と接続された図示しない外部回路により、薄膜コイル１０（コイルパターン１０Ａ，１０Ｂ，接続端子７Ｂ，１３Ｄ）が通電可能になっている。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
また、本実施の形態では、分離層１１の形成材料としてアルミナなどの無機絶縁性材料を用い、その形成方法としてスパッタリングを用いるようにしたので、絶縁層１１２Ａの形成材料としてフォトレジストを用い、その形成方法として熱処理を用いた上記比較例（図２２，図２３参照）の場合（約１．０〜１．５μｍ）とは異なり、コイルパターン１０Ａとコイルパターン１０Ｂとの間を電気的に分離するための分離層１１の厚みをより厳密に制御し、分離層１１をより薄く（約１０ｎｍ〜５０ｎｍ）形成することが可能となる。このような場合には、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド（図１２参照）において薄膜コイル１０を埋設する絶縁層１２の高さＨ１は、比較例としての薄膜磁気ヘッド（図２２参照）において薄膜コイル１１０を埋設する絶縁層１１２（１１２Ａ，１１２Ｂ）の高さＨ２よりも小さくなる。したがって、本実施の形態では、高さＨ１の減少に応じて磁路長がより短くなるため、薄膜磁気ヘッドの高周波応答特性を向上させることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
また、本実施の形態では、絶縁層１２の高さＨ１が小さくなるため、以下のような理由により、極微小な一定幅を有するように磁極先端部分１００を高精度に形成することができる。すなわち、絶縁層１２により構成された丘陵部（エイペックス部）を含む下地上にめっき処理を用いて上部磁極１３を形成する場合には、上部磁極１３の形成精度は、エイペックス部の高さＨ１に依存することとなる。なぜなら、上部磁極１３を形成するためのフレームパターンの形成工程において、エイペックス部を含む下地上に形成されたフォトレジスト膜に対して露光処理を施すと、主に、エイペックス部の前側の斜面部に形成された電極膜の表面から斜め方向または横方向へ反射する反射光が生じ、この反射光の影響によりフォトレジスト膜中の露光領域が拡大または縮小し、フレームパターンの形成精度が低下してしまうからである。本実施の形態では、絶縁層１２の高さＨ１が小さくなることによりエイペックス部の傾斜が緩やかになり、フレームパターンの形成精度に悪影響を及ぼす反射光の発生量が減少するため、フレームパターンのうち、上部磁極１３の先端部１３Ａに対応する部分が高精度に形成される。これにより、極微小な一定幅を有するように上部磁極１３（先端部１３Ａ）を高精度に形成可能となり、磁極先端部分１００も同様に高精度に形成可能となる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
このことは、図２４に示した上部磁極１３（先端部１３Ａ）の形成精度に関する実験結果からも明らかである。図２４は、絶縁層１２の高さＨ１と先端部１３Ａの形成精度との相関を表すものであり、図中の「横軸」は高さＨ１（μｍ）を表し，「縦軸」は先端部１３Ａの目標形成幅（０．３μｍ）に対する誤差（目標形成幅からのずれ量）の絶対値（μｍ）を表している。図２４に示したように、高さＨ１が小さくなるほど誤差の絶対値が小さくなり、先端部１３Ａの形成精度が向上する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
次に、図２６および図３３に示したように、絶縁層３５のうち、接続ホール３５Ｈ群により囲まれた領域上に、例えばめっき処理により、コイルパターン３３Ａ１〜３３Ａ３を横断するように、例えばパーマロイよりなる下部磁極３７を約２．０μｍ〜３．０μｍの厚みで選択的に形成する。下部磁極３７を形成する際には、図３３に示したように、例えば、上記第１の実施の形態における上部磁極１３の先端部１３Ａおよびヨーク部１３Ｂにそれぞれ対応した先端部３７Ａおよび後端部３７Ｂを含むようにする。ここで、下部磁極３７が本発明における「２つの磁性層のうちの一方の磁性層」の一具体例に対応する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
次に、図３０および図３７に示したように、コイルパターン３３Ｃ（３３Ｃ１〜３３Ｃ４）に対応する領域を覆うように、例えば絶縁層４０を形成した場合と同様の形成方法および形成材料により絶縁層４２を選択的に形成する。この絶縁層４２は、上部磁極４１と後工程において形成されるコイルパターン３３Ｄとの間を電気的に絶縁するものである。ここで、絶縁層３２，３５，３６，４０，４２が本発明における「絶縁層」の一具体例に対応する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
次に、図３０および図３７に示したように、例えばコイルパターン３３Ａを形成した場合と同様の形成方法および形成材料により、コイルパターン３３Ａ（３３Ａ１〜３３Ａ３）と交差するように、短冊状のコイルパターン３３Ｄ（３３Ｄ１，３３Ｄ２，３３Ｄ３）を約１．０μｍ〜１．５μｍの厚みで選択的に形成する。コイルパターン３３Ｄを形成する際には、同時に、コイルパターン３３Ｃ１の一端部から図示しない外部回路にかけて接続端子３３ＤＴを選択的に形成する。コイルパターン３３Ｄおよび接続端子３３ＤＴは、接続ホール４２Ｈを通じてコイルパターン３３Ｃ，３３Ｂと接続されると共に、接続ホール３５Ｈを通じてコイルパターン３３Ａとも接続される。これにより、コイルパターン３３Ａ（３３Ａ１〜３３Ａ３），３３Ｂ（３３Ｂ１〜３３Ｂ４），３３Ｃ（３３Ｃ１〜３３Ｃ４）および３３Ｄ（３３Ｄ１〜３３Ｄ３）の集合体として薄膜コイル３３が形成される。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
薄膜コイル３３は、上記したように、別個に形成されたコイルパターン３３Ａ（３３Ａ１〜３３Ａ３），３３Ｂ（３３Ｂ１〜３３Ｂ４），３３Ｃ（３３Ｃ１〜３３Ｃ４）および３３Ｄ（３３Ｄ１〜３３Ｄ３）の集合体として構成されている。コイルパターン３３Ｂ１〜３３Ｂ３とコイルパターン３３Ｃ１〜３３Ｃ３とは、分離層３９により電気的に分離され、互いに同一の平面形状を有している。コイルパターン３３Ｂ１〜３３Ｂ３の一端はコイルパターン３３Ａ１〜３３Ａ３の一端とそれぞれ接続されている。また、コイルパターン３３Ｂ１の他端は接続端子３３ＡＴと接続され、コイルパターン３３Ｂ２，３３Ｂ３の他端はコイルパターン３３Ａ１，３３Ａ２の他端とそれぞれ接続され、コイルパターン３３Ｃ４と電気的に接続されたコイルパターン３３Ｂ４の他端はコイルパターン３３Ａ３の他端と接続されている。すなわち、下部磁極３７（後端部３７Ｂ）は、コイルパターン３３Ａ，３３Ｂにより巻回されている（第１の巻回部）。一方、コイルパターン３３Ｃ１の一端は接続端子３３ＤＴと接続され、コイルパターン３３Ｃ２〜３３Ｃ４の一端はコイルパターン３３Ｄ１〜３３Ｄ３の一端とそれぞれ接続されている。また、コイルパターン３３Ｄ１〜３３Ｄ３の他端はコイルパターン３３Ｃ１〜３３Ｃ３の他端とそれぞれ接続されている。すなわち、上部磁極４１（ヨーク部４１Ｂ）は、コイルパターン３３Ｃ，３３Ｄにより巻回されている（第２の巻回部）。薄膜コイル３３は、接続端子３３ＡＴ，３３ＤＴを通じて通電可能になっている。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、第１の前駆層，分離前駆層および第２の前駆層を形成したのち、これらの第２の前駆層、分離前駆層および第１の前駆層を連続してパターニングすることにより第２の階層パターン，分離層および第１の階層パターンを一括して形成するようにしたので、第１の階層パターンおよび第２の階層パターンを別工程で形成する場合よりも、薄膜コイルの製造工程数が少なくなる。したがって、薄膜コイルの製造時間が短縮することにより、薄膜磁気ヘッド全体の製造時間を短縮することができる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
また、請求項８または請求項９に記載の薄膜磁気ヘッドによれば、第１の階層パターン，分離層および第２の階層パターンがこの順に積層され、これらの第１の階層パターン，分離層および第２の階層パターンが互いに完全に重なり合うような位置に配置されると共に互いに同一の平面形状を有するようにしたので、このような構成を有する薄膜磁気ヘッドを製造するために本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を適用することができる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2002319109.tif 000001
【手続補正２３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2002319109.tif 000002
【手続補正２４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2002319109.tif 000003
【手続補正２５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2002319109.tif 000004
【手続補正２６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１９】
2002319109.tif 000005
【手続補正２７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２０】
2002319109.tif 000006