【手続補正書】
【提出日】平成18年9月20日(2006.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属鞘および充填組成物からなるガス遮蔽した電気アーク溶接法においてガストラッキングが低下した溶接ビードを形成する芯つき電極であって、該充填組成物は、１５−８０重量％の金属酸化物スラグ形成剤、０．５−２０重量％の少なくとも１つのフッ素含有化合物、および１−７０重量％の金属脱酸素剤および／または金属合金化剤を含み、該金属酸化物スラグ形成剤の該重量％が該フッ素含有化合物のその重量％より大きく、該フッ素含有化合物が該充填組成物の重量％に基づいて少なくとも０．２重量％のフッ素をもたらし、そして該金属酸化物スラグ形成剤は酸化アルミニウム、酸化硼素、酸化カルシウム、酸化クロム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化カリウム、二酸化珪素、酸化ナトリウム、酸化錫、酸化バナジウム及び酸化ジルコンからなる群から選ばれることを特徴とする芯つき電極。
【請求項２】
該金属酸化物の大部分が酸化チタンである請求項１の芯つき電極。
【請求項３】
該フッ素含有化合物が、ＡｌＦ３、ＢａＦ２、ＣａＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｋ３ＡｌＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｋ２ＳｉＦ６、ＭｎＦ３、ＳｒＦ２またはこれらの混合物を含む請求項１または２の芯つき電極。
【請求項４】
該金属酸化物スラグ形成剤：該フッ素含有化合物の重量％比が１．１−１２：１である請求項１〜３の何れか1つの項の芯つき電極。
【請求項５】
該金属酸化物スラグ形成剤：該フッ素含有化合物の重量％比が５−１２：１である請求項１〜４の何れか1つの項の芯つき電極。
【請求項６】
該金属鞘が少なくとも８０重量％の鉄を含む請求項１〜５の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項７】
該充填組成物が、該芯つき電極の全重量の８−６０重量％をしめる請求項１〜６の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項８】
該充填組成物が、ＴｉＯ２３０−６５％、ＴｉＯ２以外のスラグ形成剤０−１５％、フッ素含有化合物１−１２％、鉄粉末０−１２％、鋳鉄粉末０−８％、金属合金化剤（鉄粉末を除く）０−１８％、金属脱酸素剤０−２０％を含む請求項１〜７の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項９】
該充填組成物が、ＴｉＯ２１０−３５％、ＴｉＯ２以外の金属酸化物１５−４５％、Ａｌ２Ｏ３０−１０％、シリカ及び／又はシリカ化合物０−１０％、フッ素含有化合物１．５−８％、ＦｅＢ０−１％、ＦｅＭｎ０−１５％、ＦｅＳｉ０−１５％、ＦｅＴｉ０−１５％、Ｍｇ０−６％、鋳鉄粉末０−５％、Ｆｅ粉末０−１５％を含む請求項１〜８の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項１０】
該充填組成物が、ルチル１２−３０％、珪チタン酸カリウムおよび／または珪チタン酸ナトリウム２４−３５％、Ａｌ２Ｏ３２−８％、シリカおよび／またはシリカ化合物１−８％、Ｋ２ＳｉＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｋ３ＡｌＦ６、ＮａＦ、ＫＦおよび／またはＭｎＦ１．５−６％、ＦｅＢ０．０５−１％、ＦｅＭｎ１−１０％、ＦｅＳｉ１−１０％、ＦｅＴｉ１−１０％、Ｍｇ１−５％、鋳鉄粉末０−４％、Ｆｅ粉末２−１０％を含む請求項１〜９の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項１１】
該充填組成物が、ルチル１４−３０％、珪チタン酸カリウムおよび／または珪チタン酸ナトリウム２５−３２％、Ａｌ２Ｏ３４−８％、シリカおよび／またはシリカ化合物２−８％、Ｋ２ＳｉＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｎａ３ＡｌＦ６および／またはＫ３ＡｌＦ６１．５−６％、ＦｅＢ０．０５-０．６％、ＦｅＭｎ５−１０％、ＦｅＳｉ５−１０％、ＦｅＴｉ２−８％、Ｍｇ１−４％、鋳鉄粉末０−４％、Ｆｅ粉末４−１０％を含む請求項１〜１０の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項１２】
該充填組成物が、ルチル１６−２８％、珪チタン酸カリウムおよび／または珪チタン酸ナトリウム２６−３２％、Ａｌ２Ｏ３４−８％、シリカ２−６％、Ｋ２ＳｉＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｎａ３ＡｌＦ６および／またはＫ３ＡｌＦ６１．５−５％、ＦｅＢ０．２−０．６％、ＦｅＭｎ５−１０％、ＦｅＳｉ５−８％、ＦｅＴｉ２−６％、Ｍｇ１−３％、鋳鉄粉末１−４％、Ｆｅ粉末４−８％を含む請求項１〜１１の何れか１つの項の芯つき電極。
【請求項１３】
ａ）金属鞘および充填組成物からなり、該充填組成物が、１５−８０重量％の金属酸化物スラグ形成剤、０．５−２０重量％の少なくとも１つのフッ素含有化合物、および１−７０重量％の金属脱酸素剤および／または金属合金化剤を含み、該金属酸化物スラグ形成剤の該重量％が該フッ素含有化合物のその重量％より大きく、該フッ素含有化合物が該充填組成物の重量％に基づいて少なくとも０．２重量％のフッ素をもたらし、そして該金属酸化物スラグ形成剤が、酸化アルミニウム、酸化硼素、酸化カルシウム、酸化クロム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化カリウム、二酸化珪素、酸化ナトリウム、酸化錫、酸化バナジウム及び酸化ジルコンからなる群から選ばれる少なくとも２つの化合物からなる芯つき電極を用意し、そして
ｂ）電流により該芯つき電極を少なくとも部分的に溶融して該芯つき電極の該溶融部分を素材上に溶着させる
ことを特徴とするガストラッキングが低下した溶融ビードを形成する方法。
【請求項１４】
遮蔽ガスを該素材に向かわせて素材上に溶着した該芯つき電極の該溶融部分を少なくとも部分的に遮蔽する請求項１３の方法。
【請求項１５】
該遮蔽ガスがアルゴン、二酸化炭素またはこれらの混合物を含む請求項１４の方法。
【請求項１６】
該金属酸化物の大部分が酸化チタンである請求項１３〜１５の何れか１つの項の方法。
【請求項１７】
該フッ素含有化合物が、ＡｌＦ３、ＢａＦ２、ＣａＦ２、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｋ３ＡｌＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｋ２ＳｉＦ６、ＭｎＦ３、ＳｒＦ２またはこれらの混合物を含む請求項１３〜１６の何れか１つの項の方法。
【請求項１８】
該金属酸化物スラグ形成剤：該フッ素含有化合物の重量％比が１．１−１２：１である請求項１３〜１７の何れか1つの項の方法。
【請求項１９】
該金属酸化物スラグ形成剤：該フッ素含有化合物の重量％比が５−１２：１である請求項１３〜１８の何れか1つの項の方法。
【請求項２０】
該金属鞘が少なくとも８０重量％の鉄を含む請求項１３〜１９の何れか１つの項の方法。
【請求項２１】
該充填組成物が、該芯つき電極の全重量の８-６０重量％をしめる請求項１３〜２０の何れか１つの項の方法。
【請求項２２】
該充填組成物が、ＴｉＯ２３０−６５％、、ＴｉＯ２以外のスラグ形成剤０−１５％、フッ素含有化合物１−１２％、鉄粉末０−１２％、鋳鉄粉末０−８％、金属合金化剤（鉄粉末を除く）０−１８％、金属脱酸素剤０−２０％を含む請求項１３〜２１の何れか１つの項の方法。
【請求項２３】
該充填組成物が、ＴｉＯ２１０−３５％、ＴｉＯ２以外の金属酸化物１５−４５％、Ａｌ２Ｏ３０−１０％、シリカ及び／又はシリカ化合物０−１０％、フッ素含有化合物１．５−８％、ＦｅＢ０−１％、ＦｅＭｎ０−１５％、ＦｅＳｉ０−１５％、ＦｅＴｉ０−１５％、Ｍｇ０−６％、鋳鉄粉末０−５％、Ｆｅ粉末０−１５％を含む請求項１３〜２２の何れか１つの項の方法。
【請求項２４】
該充填組成物が、ルチル１２−３０％、珪チタン酸カリウムおよび／または珪チタン酸ナトリウム２４−３５％、Ａｌ２Ｏ３２−８％、シリカおよび／またはシリカ化合物１−８％、Ｋ２ＳｉＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｎａ３ＡｌＦ６、Ｋ３ＡｌＦ６、ＮａＦ、ＫＦおよび／またはＭｎＦ１．５−６％、ＦｅＢ０．０５−１％、ＦｅＭｎ１−１０％、ＦｅＳｉ１−１０％、ＦｅＴｉ１−１０％、Ｍｇ１−５％、鋳鉄粉末０−４％、Ｆｅ粉末２−１０％を含む請求項１３〜２３の何れか１つの項の方法。
【請求項２５】
該充填組成物が、ルチル１４−３０％、珪チタン酸カリウムおよび／または珪チタン酸ナトリウム２５−３２％、Ａｌ２Ｏ３４−８％、シリカおよび／またはシリカ化合物２−８％、Ｋ２ＳｉＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｎａ３ＡｌＦ６および／またはＫ３ＡｌＦ６１．５−６％、ＦｅＢ０．０５−０．６％、ＦｅＭｎ５−１０％、ＦｅＳｉ５−１０％、ＦｅＴｉ２−８％、Ｍｇ１−４％、鋳鉄粉末０−４％、Ｆｅ粉末４−１０％を含む請求項１３〜２４の何れか１つの項の方法。
【請求項２６】
該充填組成物が、ルチル１６−２８％、珪チタン酸カリウムおよび／または珪チタン酸ナトリウム２６−３２％、Ａｌ２Ｏ３４−８％、シリカ２-６％、Ｋ２ＳｉＦ６、Ｎａ２ＳｉＦ６、Ｎａ３ＡｌＦ６および／またはＫ３ＡｌＦ６１．５−５％、ＦｅＢ０．２−０．６％、ＦｅＭｎ５−１０％、ＦｅＳｉ５−８％、ＦｅＴｉ２−６％、Ｍｇ１−３％、鋳鉄粉末１−４％、Ｆｅ粉末４−８％を含む請求項１３〜２５の何れか１つの項の方法。