【手続補正書】
【提出日】平成17年12月16日(2005.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地紋画像を生成する画像処理装置であって、
潜像パターンと、背景パターンと、潜像部と背景部とを示す潜像背景領域指定画像とを夫々タイル状に配置する配置手段と、
前記配置手段でタイル状に配置された潜像パターンと、背景パターンと、潜像背景領域指定画像とに基づいて、地紋画像を生成する地紋画像生成手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記地紋画像生成手段は、
前記配置手段で配置された潜像パターンと、背景パターンと、潜像背景領域指定画像とに基づいて、処理対象の対象画素に画素値を書き込むか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段で対象画素に画素値を書き込むと判定された場合に、前記対象画素に画素値を書き込み、
前記判定手段で対象画素に画素値を書き込むと判定されなかった場合に、前記対象画素に画素値を書き込まないことで、地紋画像を生成する生成手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記判定手段は、
前記配置手段で配置された潜像パターンにおける対象画素の画素値と、背景パターンにおける対象画素の画素値と、潜像背景領域指定画像における対象画素の画素値とに基づいて、処理対象の対象画素に画素値を書き込むか否かを判定することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記判定手段は、
前記配置手段で配置された各潜像パターン内部に属する画素に対応する、前記配置手段で配置された潜像背景領域指定画像における画素の画素値を、前記各潜像パターン内部の特定位置の画素に対応する、前記配置手段で配置された前記潜像背景領域指定画像における画素の画素値と同一の値に設定し、
当該同一の値に設定された潜像背景領域指定画像における画素の画素値と、前記配置手段で配置された潜像パターンにおける対象画素の画素値と、背景パターンにおける対象画素の画素値とに基づいて、処理対象の対象画素に画素値を書き込むか否かを判定することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記潜像背景領域指定画像は、入力された第1の潜像背景領域指定画像を修正することで作成された画像であって、
前記入力された第１の潜像背景領域指定画像を修正することで前記潜像背景領域指定画像を作成する潜像背景領域指定画像作成手段をさらに有し、
前記潜像背景領域指定画像作成手段は、
前記入力された第１の潜像背景領域指定画像内に前記潜像パターンを繰り返し配置し、当該配置された潜像パターン内部の特定位置の画素に対応する、前記潜像背景領域指定画像内の画素の画素値に基づいて、前記配置された潜像パターン内部の各画素に対応する、前記潜像背景領域指定画像内の各画素の画素値を修正することで、前記潜像背景領域指定画像を作成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記配置手段は、さらにカモフラージュ画像を配置し、
前記地紋画像生成手段は、
前記地紋画像を生成するために、前記配置手段で配置されたカモフラージュ画像に基づくことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記配置手段でタイル状に配置される潜像パターンを、ドット集中型ディザマトリックスを用いて生成し、
前記配置手段でタイル状に配置される背景パターンを、ドット分散型ディザマトリックスを用いて生成するパターン生成手段をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記地紋画像生成手段は、
前記潜像パターンの辺の長さと、前記背景パターンの辺の長さと、前記潜像背景領域指定画像の辺の長さとの公倍数の長さを有する一部分地紋画像を生成し、
当該生成された一部分地紋画像をタイル状に配置することで地紋画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項９】
地紋画像を生成する画像処理方法であって、
潜像パターンと、背景パターンと、潜像部と背景部とを示す潜像背景領域指定画像とを夫々タイル状に配置する配置工程と、
前記配置工程でタイル状に配置された潜像パターンと、背景パターンと、潜像背景領域指定画像とに基づいて、地紋画像を生成する地紋画像生成工程とを有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１０】
前記地紋画像生成工程は、
前記配置工程で配置された潜像パターンと、背景パターンと、潜像背景領域指定画像とに基づいて、処理対象の対象画素に画素値を書き込むか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程で対象画素に画素値を書き込むと判定された場合に、前記対象画素に画素値を書き込み、
前記判定工程で対象画素に画素値を書き込むと判定されなかった場合に、前記対象画素に画素値を書き込まないことで、地紋画像を生成する生成工程とを有することを特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１１】
前記判定工程は、
前記配置工程で配置された潜像パターンにおける対象画素の画素値と、背景パターンにおける対象画素の画素値と、潜像背景領域指定画像における対象画素の画素値とに基づいて、処理対象の対象画素に画素値を書き込むか否かを判定することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
前記判定工程は、
前記配置工程で配置された各潜像パターン内部に属する画素に対応する、前記配置工程で配置された潜像背景領域指定画像における画素の画素値を、前記各潜像パターン内部の特定位置の画素に対応する、前記配置工程で配置された前記潜像背景領域指定画像における画素の画素値と同一の値に設定し、
当該同一の値に設定された潜像背景領域指定画像における画素の画素値と、前記配置工程で配置された潜像パターンにおける対象画素の画素値と、背景パターンにおける対象画素の画素値とに基づいて、処理対象の対象画素に画素値を書き込むか否かを判定することを特徴とする請求項１１に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
前記潜像背景領域指定画像は、入力された第1の潜像背景領域指定画像を修正することで作成された画像であって、
前記入力された第１の潜像背景領域指定画像を修正することで前記潜像背景領域指定画像を作成する潜像背景領域指定画像作成工程をさらに有し、
前記潜像背景領域指定画像作成工程は、
前記入力された第１の潜像背景領域指定画像内に前記潜像パターンを繰り返し配置し、当該配置された潜像パターン内部の特定位置の画素に対応する、前記潜像背景領域指定画像内の画素の画素値に基づいて、前記配置された潜像パターン内部の各画素に対応する、前記潜像背景領域指定画像内の各画素の画素値を修正することで、前記潜像背景領域指定画像を作成することを特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１４】
前記配置工程は、さらにカモフラージュ画像を配置し、
前記地紋画像生成工程は、
前記地紋画像を生成するために、前記配置工程で配置されたカモフラージュ画像に基づくことを特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１５】
前記配置工程でタイル状に配置される潜像パターンを、ドット集中型ディザマトリックスを用いて生成し、
前記配置工程でタイル状に配置される背景パターンを、ドット分散型ディザマトリックスを用いて生成するパターン生成工程をさらに有することを特徴とする請求項１４に記載の画像処理方法。
【請求項１６】
前記地紋画像生成工程は、
前記潜像パターンの辺の長さと、前記背景パターンの辺の長さと、前記潜像背景領域指定画像の辺の長さとの公倍数の長さを有する一部分地紋画像を生成し、
当該生成された一部分地紋画像をタイル状に配置することで地紋画像を生成することを特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１７】
請求項９乃至１６の何れか一項に記載の画像処理方法の各手順をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置及び画像処理方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明は、地紋画像を生成する画像処理装置であって、潜像パターンと、背景パターンと、潜像部と背景部とを示す潜像背景領域指定画像とを夫々タイル状に配置する配置手段と、前記配置手段でタイル状に配置された潜像パターンと、背景パターンと、潜像背景領域指定画像とに基づいて、地紋画像を生成する地紋画像生成手段とを有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
また、本発明は、地紋画像を生成する画像処理方法であって、潜像パターンと、背景パターンと、潜像部と背景部とを示す潜像背景領域指定画像とを夫々タイル状に配置する配置工程と、前記配置工程でタイル状に配置された潜像パターンと、背景パターンと、潜像背景領域指定画像とに基づいて、地紋画像を生成する地紋画像生成工程とを有することを特徴とする。