【手続補正書】
【提出日】平成18年2月22日(2006.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源と、
第１の複数の光学要素と、
レチクルマスキング系と、
第１レンズ群を画定する第２の複数の光学要素と、
瞳孔平面と、
第２レンズ群を画定する第３の複数の光学要素と、
第３レンズ群を画定する第４の複数の光学要素と、
レチクル平面と、をリスト化された順序で含む、マイクロリソグラフィ投影装置の照明系であって、
前記第１の複数の光学要素は、前記光源の光を収集し、かつ前記レチクルマスキング系を照明し、
前記第１、第２及び第３レンズ群、並びに前記瞳孔平面は、ＲＥＭＡ対物レンズを画定し、
前記ＲＥＭＡ対物レンズは、前記レチクル平面上に前記レチクルマスキング系の像を形成し、
前記像は、ゆがみを有し、かつ
前記第３レンズ群の前記光学要素の２つの間の第１光路は、前記ゆがみを調整するために、調整自在である照明系。
【請求項２】  前記像は、均質性を伴う光強度分布を有し、かつ前記均質性は、前記ゆがみを調整することによって変化させられる請求項１に記載の照明系。
【請求項３】  前記光強度分布は、前記ゆがみを調整することによって前記像の縁部に向かって増加又は減少する請求項２に記載の照明系。
【請求項４】  前記ＲＥＭＡ対物レンズは、レンズを含む請求項１に記載の照明系。
【請求項５】  前記第１光路は、連続変位によって調整自在である請求項１に記載の照明系。
【請求項６】  前記第１光路は、数ミリメートル変位自在である請求項５に記載の照明系。
【請求項７】  前記像は、縁部しゅん度を有し、かつ前記第１レンズ群の前記光学要素の２つの間の第２光路は、前記ゆがみを調整する際に、前記縁部しゅん度の悪化を補正するために、調整自在である請求項１に記載の照明系。
【請求項８】  前記像は、前記ゆがみを調整することによって前記像の縁部に向かって増加又は減少する光強度分布を有し、
かつ前記縁部しゅん度は、前記光強度分布が前記像の前記縁部に向かって０．５％増加する際に、０．１ｍｍ未満悪化する請求項７に記載の照明系。
【請求項９】  光源と、
第１の複数の光学要素と、
レチクルマスキング系と、
第２の複数の光学要素と、
レチクル平面と、をリスト化された順序で含む、マイクロリソグラフィ投影装置の照明系であって、
前記第１の複数の光学要素は、前記光源の光を収集し、かつ前記レチクルマスキング系を照明し、
前記第２の複数の光学要素は、ＲＥＭＡ対物レンズを画定し、
前記ＲＥＭＡ対物レンズは、前記レチクル平面上に前記レチクルマスキング系の像を形成し、
前記像は、開口を有し、かつ前記開口は、前記第１の複数の光学要素の１つ以上の光学要素を調整、変更、又は交換することによって種類又は規模を変えられ、かつ
前記像は、ゆがみを有し、かつ前記ゆがみは、前記第２の複数の光学要素の、前記光学  要素の２つの間の第１可変光路を調整することによって調整され、
かつ前記ゆがみは、前記開口に従って調整される照明系。
【請求項１０】  前記像は、光強度分布を有し、かつ前記前記光強度分布は、前記第１可変光路を調整することによって前記像の縁部に向かって増加又は減少する請求項９に記載の照明系。
【請求項１１】  前記第１可変光路は、連続変位によって調整自在である請求項９に記載の照明系。
【請求項１２】  前記第１の複数のレンズは、調整自在なズーム及び調整自在なアキシコンを有するズームアキシコン対物レンズを含む請求項９に記載の照明系。
【請求項１３】  前記開口は、前記アキシコンを調整することによって種類を変えられ、かつ前記ズームを調整することによって規模を変えられる請求項１２に記載の照明系。
【請求項１４】  前記ゆがみ及び前記開口は、前記ズームアキシコン対物レンズ及び前記ＲＥＭＡ対物レンズ内での光学要素の連続変位によって調整される請求項１３に記載の照明系。
【請求項１５】  前記第１の複数の光学要素は、均質化棒を更に含み、かつ前記レチクルマスキング系は、前記均質化棒に直接隣接する請求項９に記載の照明系。
【請求項１６】  光源と、
調整自在なズーム及び調整自在なアキシコンを有するズームアキシコン対物レンズを含む第１の複数の光学要素と、
均質化棒と、
前記均質化棒に直接隣接するレチクルマスキング系と、
第１レンズ群を画定する第２の複数の光学要素と、
瞳孔平面と、
第２レンズ群を画定する第３の複数の光学要素と、
第３レンズ群を画定する第４の複数の光学要素と、
レチクルと、
投影対物レンズと、
ウェハと、をリスト化された順序で含む、マイクロリソグラフィ投影装置であって、
前記第１の複数の光学要素は、前記光源の光を収集し、かつ前記均質化棒を照明し、
前記第１、第２及び第３レンズ群、並びに前記瞳孔平面は、ＲＥＭＡ対物レンズを画定し、
前記ＲＥＭＡ対物レンズは、前記レチクル平面上に前記レチクルマスキング系の第１像を形成し、
前記投影対物レンズは、前記ウェハ上に前記レチクルの第２像を形成し、前記第１像は、ゆがみを有し、かつ
前記第３レンズ群の前記光学要素の２つの間の第１光路は、前記ゆがみを調整するために、連続的に調整自在であり、かつ前記第１像は、照明開口を有し、かつ前記開口は、前記アキシコン又は前記ズームを調整することによって、種類又は規模を変えられ、かつ前記ゆがみは、前記開口に従って調整されるマイクロリソグラフィ投影装置。
【請求項１７】  前記第１レンズ群の前記光学要素の２つの間の第２光路は、前記ゆがみを調整する際に、前記縁部しゅん度の悪化を補正するために、調整自在である請求項１６に記載のマイクロリソグラフィ投影装置。
【請求項１８】  前記第３レンズ群は、濃淡値累進フィルタを含む請求項１６に記載のマイクロリソグラフィ投影装置。
【請求項１９】  光源と、
第１の複数の光学要素と、
レチクルマスキング系と、
第２の複数の光学要素と、
レチクル平面と、を有するマイクロリソグラフィ投影装置を操作する方法であって、
前記第１の複数の光学要素は、前記光源の光を収集し、かつ前記レチクルマスキング系を照明し、
前記第２の複数の光学要素は、ＲＥＭＡ対物レンズを画定し、
前記ＲＥＭＡ対物レンズは、前記レチクル平面上に前記レチクルマスキング系の像を形成し、
前記像は、ゆがみ、照明開口、光強度分布、及び縁部しゅん度を有し、
前記第１の複数の光学要素の１つ以上の前記光学要素を調整、変更、又は交換することによって、前記開口の種類又は規模を調整することと、
前記開口に従って、前記ＲＥＭＡ対物レンズの前記光学要素の２つの間の第１可変光路を変化させることによって、前記ゆがみを調整することとを含む方法。
【請求項２０】  前記ゆがみを調整することによって、前記第１像の縁部に向かって前記光分布を増加又は減少させることを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】  前記ＲＥＭＡ対物レンズの前記光学要素の少なくとも１つを連続変位することによって第１光路を変化させることを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】  前記第１の複数のレンズ内に配置される調整自在なアキシコン又は調整自在なズームを調整することによって、前記開口の種類又は規模を調整することを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】  前記ＲＥＭＡ対物レンズ内の第２光路を変化させることによって、前記ゆがみを調整する際に、前記縁部しゅん度の悪化を補正することを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】  制御装置によって、前記ゆがみ及び前記開口の前記調整を制御することを含む請求項１９に記載の方法。