Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月8日(2006.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示光学系、画像表示装置および画像表示システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源と、
前記光源からの光により照明され、原画を形成する反射型画像形成素子と、
前記画像形成素子からの光を観察者の眼に導く光学系とを有し、
前記光学系は、
少なくとも反射作用を有し、中心画角主光線に対して偏心した第１の面およびこの第１面で反射した光線を再度前記第１の面に向けて反射する第２の面を含み、前記第１の面は、前記第２の面から該第１の面に再度入射した前記中心画角主光線を、該第１の面における該中心画角主光線のヒットポイント上での法線に対して前回とは反対側に反射する第１の光学系と、
少なくとも１つの面が前記中心画角主光線に対して偏心した曲面形状を有する第２の光学系とを有し、
前記第１の光学系は、入射した光を観察者の眼に向かわせ、
前記第２の光学系は、前期光源からの光を前記画像形成素子に向かわせるとともに、該画像形成素子で反射および変調された光を前記第１の光学系に向かわせ、
前記第２の光学系の少なくとも１つの面を、前記画像形成素子への照明光および前記画像形成素子からの表示光のうち一方を透過させ、他方を反射させる面としたことを特徴とする表示光学系。
【請求項２】  光源と、
前記光源からの光により照明され、原画を形成する反射型画像形成素子と、
前記画像形成素子からの光を観察者の眼に導く光学系とを有し、
前記光学系は、
光路に対して偏心した反射面を有し、該反射面で光が複数回反射するとともに、該複数回の反射におけるそれぞれの入射光と反射光のベクトルの外積間の内積が負になる場合を含む第１の光学系と、
少なくとも１つの面が光路に対して偏心した曲面形状を有する第２の光学系とを有し、
前記第１の光学系は、入射した光を前記観察者の眼に向かわせ、
前記第２の光学系は、前記光源から光を前記画像形成素子に向かわせるとともに、該画像形成素子で反射および変調された光を前記第１の光学系に向かわせることを特徴とする表示光学系。
【請求項３】  前記第２の光学系は、該第２の光学系の少なくとも１つの面を、前記画像形成素子への照明光および前記画像形成素子からの表示光のうち一方を透過させ、他方を反射させる面としたことを特徴とする請求項２に記載の表示光学系。
【請求項４】  前記第２の光学系の反射面に入射する光は、該反射面に対して内部全反射条件を満たすことを特徴とする請求項３に記載の表示光学系。
【請求項５】  前記光源から前記第２の光学系に向かう光に対して集光作用を及ぼす第３の光学系をさらに有することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の表示光学系。
【請求項６】  この表示光学系を構成する面のうち複数の面が非回転対称面であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の表示光学系。
【請求項７】  この表示光学系内に、前記原画の中間像が形成されることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の表示光学系。
【請求項８】  前記第３の光学系が、非回転対称面を有することを特徴とする請求項５に記載の表示光学系。
【請求項９】  前記第２の光学系は、前記光源から前記画像形成素子に向かう光および前記画像形成素子から前記第１の光学系に向かう光が透過する透過面を含み、
該透過面における前記光源から前記画像形成素子に向かう光の入射角度および透過領域と、前記画像形成素子から前記第１の光学系に向かう光の入射角度および透過領域とが異なることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の表示光学系。
【請求項１０】  請求項１から９のいずれかに記載の表示光学系と、
入力された画像情報に応じて前記画像形成素子を駆動する駆動回路とを有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項１１】  請求項１０に記載の画像表示装置と、
前記画像表示装置に画像情報を入力する画像情報供給装置とを有することを特徴とする画像表示システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した特許文献５にて提案の画像表示装置では、一方の自由曲面プリズムのみを照明光学系としているため、照明光学系若しくは表示光学系の設計の自由度が不足し、光源のサイズが大きくなり易いという問題がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
次に、第２光学素子２での照明光路を説明する。光源５を発し、第３光学素子３を透過した光の一部は、ハーフミラー面である面２３から第２光学素子２に入射し、更にハーフミラー面２２から第２光学素子２を射出した光が反射型ＬＣＤ４を照明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
これにより、リレー光学系としての第１および第２光学素子１，２の結像倍率の自由度が増えることや、接眼光学系としての第１および第２光学素子１，２に対する反射型ＬＣＤ４の位置の制約条件が解消されること等により、反射型ＬＣＤ４に対して画角を広くすることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月20日(2006.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  結着樹脂、着色剤及びワックスを少なくとも含有するトナーにおいて、
該トナーの周波数６．２８ｒａｄ／ｓで測定した粘弾性特性において、
（ａ）貯蔵弾性率の６０℃における値（Ｇ’60）と７０℃における値（Ｇ’70）との比（Ｇ’60／Ｇ’70）が２０以上であり、
（ｂ）貯蔵弾性率の１３０℃における値（Ｇ’130）と１８０℃における値（Ｇ’180）との比（Ｇ’130／Ｇ’180）が５以下であり、
（ｃ）損失正接の１３０℃における値（ｔａｎδ130）と１８０℃における値（ｔａｎδ180）との比（ｔａｎδ130／ｔａｎδ180）が２以上であり、
該トナーの示差走査熱量計（ＤＳＣ）により昇温時に測定される吸熱メインピーク温度が８０〜１３０℃であることを特徴とするトナー。
【請求項２】  上記（ａ）の比（Ｇ’60／Ｇ’70）が２５〜１００である請求項１に記載のトナー。
【請求項３】  上記（ａ）の比（Ｇ’60／Ｇ’70）が３０〜５０である請求項１に記載のトナー。
【請求項４】  上記（ｂ）の比（Ｇ’130／Ｇ’180）が１〜３である請求項１乃至３のいずれかに記載のトナー。
【請求項５】  上記（ｂ）の比（Ｇ’130／Ｇ’180）が１．２〜２である請求項１乃至３のいずれかに記載のトナー。
【請求項６】  上記（ｃ）の比（ｔａｎδ130／ｔａｎδ180）が２．５〜１０である請求項１乃至５のいずれかに記載のトナー。
【請求項７】上記（ｃ）の比（ｔａｎδ130／ｔａｎδ180）が２〜５である請求項１乃至５のいずれかに記載のトナー。
【請求項８】  上記トナーの融点が９０〜１１０℃である請求項１乃至７のいずれかに記載のトナー。
【請求項９】  上記トナーの１５０℃、周波数６．２８ｒａｄ／ｓで測定した貯蔵弾性率が歪み５０％〜２００％の範囲に極小値（Ｇ’min）を有する請求項１乃至８のいずれかに記載のトナー。
【請求項１０】  歪み１０％における貯蔵弾性率（Ｇ’10%）と上記極小値（Ｇ’min）の差（Ｇ’10%−Ｇ’min）が５００〜２０００Ｐａである請求項１乃至９のいずれかに記載のトナー。
【請求項１１】  歪み１０％における貯蔵弾性率（Ｇ’10%）と上記極小値（Ｇ’min）の差（Ｇ’10%−Ｇ’min）が７００〜１５００Ｐａである請求項１乃至９のいずれかに記載のトナー。
【請求項１２】  上記結着樹脂がポリエステルまたはポリエステルとビニル系重合体ユニットを有するハイブリッド樹脂成分を含有する請求項１乃至１１のいずれかに記載のトナー。
【請求項１３】  上記トナーのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶分が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定によるクロマトグラムにおいて、分子量３０００〜１７０００の領域にメインピークを有する請求項１乃至１２のいずれかに記載のトナー。
【請求項１４】上記トナーのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶分が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定によるクロマトグラムにおいて、分子量１００００〜１４０００の領域にメインピークを有する請求項１乃至１２のいずれかに記載のトナー。
【請求項１５】  上記結着樹脂が、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）不溶分を１０〜５０質量％含有する請求項１乃至１４のいずれかに記載のトナー。
【請求項１６】  上記結着樹脂が、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）不溶分を２０〜３５質量％含有する請求項１乃至１４のいずれかに記載のトナー。
【請求項１７】  上記トナーの酸価が１０〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１乃至１６のいずれかに記載のトナー。
【請求項１８】  上記トナーの酸価が１５〜２５ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１乃至１６のいずれかに記載のトナー。
【請求項１９】  上記ワックスが、分子量５００〜５０００にメインピークを有し、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜３．０である請求項１乃至１８のいずれかに記載のトナー。
【請求項２０】  上記ワックスが、分子量６００〜３０００にメインピークを有し、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．２〜１．５である請求項１乃至１８のいずれかに記載のトナー。
【請求項２１】  上記ワックスが、ポリエチレンワックスである請求項１乃至２０のいずれかに記載のトナー。
【請求項２２】  上記ワックスが、ビニル系モノマーで変性されたポリエチレンワックスである請求項２１に記載のトナー。
【請求項２３】  上記ワックスが、カルボキシル基を含有するビニル系モノマーで変性されたポリエチレンワックスである請求項２２に記載のトナー。
【請求項２４】  上記ビニル系モノマーが、マレイン酸、無水マレイン酸またはマレイン酸ハーフエステルのいずれかである請求項２３に記載のトナー。
【請求項２５】  （Ｉ）静電荷像を担持するための像担持体に担持されている静電荷像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像工程：
（ＩＩ）該像担持体上に形成されたトナー像を中間転写体を介して、または介さずに記録材に転写する転写工程：
（ＩＩＩ）該記録材に転写されたトナー像を該記録材に加熱定着する定着工程：を有する画像形成方法において、
該トナーは、請求項１乃至２４のいずれかに記載のトナーであることを特徴とする画像形成方法。
【請求項２６】  感光体上に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成し、該トナー像を記録材に転写させることにより画像を形成する画像形成装置に用いられ、同装置から着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、
感光体と、前記感光体を帯電させる帯電手段と、前記感光体上に静電潜像を形成する潜像形成手段と、前記トナー像を記録材に転写する転写手段と、前記記録材にトナー像が転写された後に前記感光体上に残留したトナーを除去するクリーニング手段と、から選ばれる少なくとも１つの手段が、前記感光体上に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と一体に支持され、
該トナーが、請求項１乃至２４のいずれかに記載のトナーであることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月27日(2006.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  所定間隙を開けた状態に配置された第１基板及び第２基板と、前記第１基板及び第２基板の間隙に配置された絶縁性液体及び複数の帯電粒子と、少なくとも一方が前記第２基板上に設けられた第１電極及び第２電極と、を備え、前記第１電極と第２電極の間に電圧を印加して帯電粒子を移動させることに基づき表示を行う電気泳動表示装置であって、
入射された光を散乱する散乱層が前記第２基板上に設けられ、前記散乱層は、前記第２基板上に配置された前記第１電極または第２電極に対して、前記絶縁性液体の側に配置された第１層と、前記第２基板の側に配置された第２層とからなる、ことを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項２】  前記第１層の厚さは０．１μｍ以上２０μｍ以下の範囲であり、前記第２層の厚さは１００μｍ以上１０００μｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の電気泳動表示装置。
【請求項３】  前記第２層と前記第２基板の間に反射層が形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の電気泳動表示装置。
【請求項４】  前記第２基板上に配置された前記第１電極または第２電極が透光性材料にて形成されたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記事情を考慮してなされたものであり、所定間隙を開けた状態に配置された第１基板及び第２基板と、前記第１基板及び第２基板の間隙に配置された絶縁性液体及び複数の帯電粒子と、少なくとも一方が前記第２基板上に設けられた第１電極及び第２電極と、を備え、前記第１電極と第２電極の間に電圧を印加して帯電粒子を移動させることに基づき表示を行う電気泳動表示装置であって、
入射された光を散乱する散乱層が前記第２基板上に設けられ、前記散乱層は、前記第２基板上に配置された前記第１電極または第２電極に対して、前記絶縁性液体の側に配置された第１層と、前記第２基板の側に配置された第２層とからなる、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
すなわち、第２基板１ｂは用いずに散乱層２２ａ，２２ｂによって電極２５ｂ等を支持させることとした。また、第２電極２５ｂは画素の周縁部に配置し、第１電極２５ａは第１基板１ａの側に配置した。なお、第１電極２５ａはＩＴＯにて形成した。さらに、散乱層２２ｂの厚みは１ｍｍとし、散乱層２２ａの厚みは３μｍとした。また、絶縁性液体３は透明とし、帯電粒子４は赤色とした。第１電極２５ａの下面は絶縁層７にて被覆し、第１電極２５ａが絶縁性液体３に接触しないようにした。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月14日(2006.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも磁性体、バインダーを含有する磁性キャリアにおいて、
該磁性キャリア粒子の個数平均粒径が１５乃至６０μｍであり、
該磁性キャリア粒子の比抵抗が６０００Ｖ／ｃｍ２印加時に５．０×１０１３Ωｃｍ乃至１．０×１０１６Ωｃｍであり、
該磁性キャリア粒子の飽和磁化が３０乃至８０ｅｍｕ／ｇであり、
該磁性キャリア粒子の真比重が３．０乃至４．５ｇ／ｃｍ３であり、該磁性キャリア粒子の断面においてキャリア表面の樹脂リッチ層の層厚Ｒｓがキャリア粒径Ｒに対して下記式を満足することを特徴とする磁性キャリア。
（式１）    Ｒｓ（μｍ）＝０．１×Ｒ±０．２
【請求項２】  該磁性キャリア粒子の断面におけるキャリア表面のバインダーリッチ層がヘマタイト、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化カルシウムのいずれかまたは複数を含有し、その粒径Ｒｐが下記式を満足する樹脂層であることを特徴とする請求項１に記載の磁性キャリア。
（式２）    ０．５×Ｒｓ≦Ｒｐ（μｍ）≦１．５×Ｒｓ
【請求項３】  磁性キャリア粒子がバインダー、表面を親油化処理した磁性体及びヘマタイト粒子を有し、かつ、該キャリア粒子中の該磁性体及びヘマタイト粒子の総量が５０乃至９９重量％であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁性キャリア。
【請求項４】  磁性キャリア粒子を構成するバインダーが硬化型フェノール樹脂であり、磁性体がマグネタイトであり、重合法により得られた磁性キャリア粒子であり、該磁性キャリアの形状係数ＳＦ−１が１００乃至１３０であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の磁性キャリア。
【請求項５】  トナー及び磁性キャリアを含む二成分系現像剤であって、
該トナーは、重量平均粒径が５乃至１０μｍであり、
０．６μｍ乃至２０μｍの範囲における個数基準のＣＶ値が７５乃至９０％であり、
３．０μｍ乃至２０μｍの範囲における個数基準のＣＶ値が０乃至３０％であり、
該トナーは無機微粒子、または有機微粒子またはそれらの混合物を含有し、
該磁性キャリアは、少なくとも磁性体、バインダーを含有する磁性キャリアにおいて、
該磁性キャリア粒子の個数平均粒径が１５乃至６０μｍであり、
該磁性キャリア粒子の比抵抗が６０００Ｖ／ｃｍ２印加時に５．０×１０１３Ωｃｍ乃至１．０×１０１６Ωｃｍであり、
該磁性キャリア粒子の飽和磁化が３０乃至８０ｅｍｕ／ｇであり、
該磁性キャリア粒子の真比重が３．０乃至４．５ｇ／ｃｍ３であり、該磁性キャリア粒子の断面においてキャリア表面の樹脂リッチ層の層厚Ｒｓがキャリア粒径Ｒに対して下記式を満足することを特徴とする二成分系現像剤。
（式１）    Ｒｓ（μｍ）＝０．１×Ｒ±０．２
【請求項６】 該磁性キャリアが請求項２乃至４のいずれかに記載の磁性キャリアであることを特徴とする請求項５に記載の二成分系現像剤。
【手続補正書】
【提出日】平成18年3月27日(2006.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】  少なくとも結着樹脂、着色剤、離型剤、及び下記式（Ｉ）で示されるヒドロキシカルボン酸と２価又は３価の金属との化合物を含有するトナーであって、該着色剤がＣ．Ｉ．ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４２，６４，２０１，および２１１からなるグループから選択されるイエロー着色剤であり、該トナーのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の可溶成分のゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー（ＧＰＣ）における重量平均分子量が１００００乃至６０００００であり、フロー式粒子像測定装置で計測される該トナーの平均円形度が０．９２０乃至０．９９５で、円形度標準偏差が０．０４０未満であるを有することを特徴とするイエロートナー。
【外１】
2004333825.tif 000001
式中、Ｒ１とＲ２は、同一であっても異なっていても良く、各々、水素原子、直鎖又は分岐したアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基及び水酸基からなるグループから選ばれる置換基を示し、ｍ及びｎは０乃至５の整数を示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】  少なくとも結着樹脂、着色剤、離型剤、及び下記式（Ｉ）で示されるヒドロキシカルボン酸と２価又は３価の金属との化合物を含有するトナーからなるフルカラー画像形成方法において、該トナーのうち、イエロートナー中のイエロー着色剤がＣ．Ｉ．ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４２，６４，２０１，および２１１からなるグループから選択されるイエロー着色剤であり、該トナーのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の可溶成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）における重量平均分子量が１００００乃至６０００００であり、フロー式粒子像測定装置で計測される該トナーの平均円形度が０．９２０乃至０．９９５で、円形度標準偏差が０．０４０未満であるを有することを特徴とするフルカラー画像形成方法。
【外２】
2004333825.tif 000002
式中、Ｒ１とＲ２は、同一であっても異なっていても良く、各々、水素原子、直鎖又は分岐したアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基及び水酸基からなるグループから選ばれる置換基を示し、ｍ及びｎは０乃至５の整数を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月21日(2006.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】形状測定装置および方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物にスリット状の光を照射する照射手段と、
前記被測定物で反射した反射光を複数に分岐するビームスプリッタと、
前記分岐された光の光軸に対して互いに異なる角度で配置された複数のミラーと、
前記複数のミラーで反射した光を撮像する撮像手段と
を備えたことを特徴とする形状測定装置。
【請求項２】
被測定物にスリット状の光を照射する照射手段と、
前記被測定物で反射した反射光を複数に分岐させ、互いにシフトした状態の複数の光を形成するレンズアレイと、
前記複数の光を撮像する撮像手段と
を備えたことを特徴とする形状測定装置。
【請求項３】
被測定物にスリット状の光を照射する照射手段と、
前記被測定物で反射した反射光を、直進透過する透過光及び複数の回折光に分割する回折格子と、
前記透過光及び複数の回折光を撮像する撮像手段と
を備えたことを特徴とする形状測定装置。
【請求項４】
直交する２方向にそれぞれシフトさせた状態の複数の光を形成し、撮像面に入射させること
を特徴とする請求項１から３のいずれか記載の形状測定装置。
【請求項５】
被測定物で反射したスリット状の光を複数に分岐させ、
前記分岐の前後いずれかに複数の光の光軸の相対的な角度を変化させ、
前記相対的な角度を変化させたまま前記複数の光を撮像し、
前記撮像した像より前記被測定物の形状を測定すること
を特徴とする形状測定方法。
【請求項６】
複数の光の光軸の相対的な角度を、直交する２方向にそれぞれ変化させること
を特徴とする請求項５記載の形状測定方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学的に被測定物の形状計測を行う形状測定装置に係り、特に光切断法により被測定物の形状を測定する形状測定装置および方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明は、上記した事情に鑑み、簡便な構成により、一括して広い視野での測定が可能な形状測定装置および方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の形状測定装置は、被測定物にスリット状の光を照射する照射手段と、前記被測定物で反射した反射光を複数に分岐するビームスプリッタと、前記分岐された光の光軸に対して互いに異なる角度で配置された複数のミラーと、前記複数のミラーで反射した光を撮像する撮像手段とを備えたことを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の形状測定装置は、被測定物にスリット状の光を照射する照射手段と、前記被測定物で反射した反射光を複数に分岐させ、互いにシフトした状態の複数の光を形成するレンズアレイと、前記複数の光を撮像する撮像手段とを備えたことを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の形状測定装置は、被測定物にスリット状の光を照射する照射手段と、前記被測定物で反射した反射光を、直進透過する透過光及び複数の回折光に分割する回折格子と、前記透過光及び複数の回折光を撮像する撮像手段とを備えたことを特徴としている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、簡便な構成により、光切断法で一括して広い視野での形状測定が高速で実現可能な形状測定装置および方法を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月14日(2006.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  潜像担持体と、現像剤を担持搬送する現像剤担持体と、該現像剤担持体上の現像剤層厚を規制する現像剤層厚規制部材を有し、該層厚規制部材と該現像剤担持体間を通過し形成された該現像剤薄層を該潜像担持体に対向する現像領域へと担持搬送し、該現像剤担持体上の該現像剤により該潜像担持体上に形成された潜像を現像し可視像化する現像方法において、該現像剤は、少なくとも結着樹脂、着色剤を有し、且つ、該現像剤の円相当径による粒度分布において、粒径０．６μｍ以上１．０μｍ未満の粒子の占める割合が個数基準で全体の５．０％未満であり、且つ、該現像剤担持体は基体および該基体上に形成された樹脂被覆層からなり、該樹脂被覆層は、少なくとも鉄粉に対して正帯電性である第４級アンモニウム塩化合物を含有することを特徴とする現像方法。
【請求項２】  前記樹脂被覆層は、結着樹脂の一部又は全てが、少なくともその分子構造中に、−ＮＨ２基、＝ＮＨ基、もしくは−ＮＨ−結合のいずれかを有することを特徴とする請求項１に記載の現像方法。
【請求項３】  前記樹脂層に少なくともフェノール樹脂が含有されることを特徴とする請求項１または２に記載の現像方法。
【請求項４】  フェノール樹脂が、含窒素化合物を触媒として用いて製造されたフェノール樹脂であり、その構造中に−ＮＨ２基、＝ＮＨ基、もしくは−ＮＨ−結合のいずれかを有するフェノール樹脂である請求項３記載の現像方法。
【請求項５】  前記現像剤担持体の樹脂層に更に導電性微粉末が分散含有され、導電性被覆層とされている請求項１〜４のいずれかに記載の現像方法。
【請求項６】  該現像剤が、円相当直径１．０μｍ未満の粒子を減少させる処理が行われたものである請求項１〜５のいずれかに記載の現像方法。
【請求項７】  円相当径１．０μｍ未満の粒子を減少させる処理が、機械的衝撃力を加える処理によって行われる請求項６に記載の現像方法。
【請求項８】  現像剤が、３μｍ以上の粒子において、下記式（１）より求められる円形度ａが０．９０以上の粒子を個数基準で９０％乃至１００％有し、且つ、円形度ａが０．９８以上の粒子を個数基準で３０％未満有している請求項１〜７のいずれかに記載の現像方法。
ａ＝Ｌ０／Ｌ          （数１）
Ｌ０；粒子像と同じ投影面積を持つ円の周囲長
Ｌ；粒子像の周囲長
【請求項９】  潜像担持体と、現像剤を担持搬送する現像剤担持体と、該現像剤担持体上の現像剤層厚を規制する現像剤層厚規制部材を有し、該層厚規制部材と該現像剤担持体間を通過し形成された該現像剤薄層を該潜像担持体に対向する現像領域へと担持搬送し、該現像剤担持体上の該現像剤により該潜像担持体上に形成された潜像を現像し可視像化する現像装置において、該現像剤は、少なくとも結着樹脂、着色剤を有し、且つ、該現像剤の円相当径による粒度分布において、粒径０．６μｍ以上１．０μｍ未満の粒子の占める割合が個数基準で全体の５．０％未満であり、且つ、該現像剤担持体は基体および該基体上に形成された樹脂被覆層からなり、該樹脂被覆層は、少なくとも鉄粉に対して正帯電性である第４級アンモニウム塩化合物を含有することを特徴とする現像装置。
【請求項１０】  前記樹脂被覆層は、結着樹脂の一部又は全てが、少なくともその分子構造中に、−ＮＨ２基、＝ＮＨ基、もしくは−ＮＨ−結合のいずれかを有することを特徴とする請求項９に記載の現像装置。
【請求項１１】  前記樹脂層に少なくともフェノール樹脂が含有されていることを特徴とする請求項９または１０に記載の現像装置。
【請求項１２】  フェノール樹脂が、含窒素化合物を触媒として用いて製造されたフェノール樹脂であり、その構造中に−ＮＨ２基、＝ＮＨ基、もしくは−ＮＨ−結合のいずれかを有するフェノール樹脂である請求項１１記載の現像装置。
【請求項１３】  前記現像剤担持体の樹脂層に更に導電性微粉末が分散含有され、導電性被覆層とされている請求項９〜１２のいずれかに記載の現像装置。
【請求項１４】  該現像剤が、円相当直径１．０μｍ未満の粒子を減少させる処理が行われたものである請求項９〜１３のいずれかに記載の現像装置。
【請求項１５】  円相当径１．０μｍ未満の粒子を減少させる処理が、機械的衝撃力を加える処理によって行われる請求項１４に記載の現像装置。
【請求項１６】  現像剤が、３μｍ以上の粒子において、下記式（１）より求められる円形度ａが０．９０以上の粒子を個数基準で９０％乃至１００％有し、且つ、円形度ａが０．９８以上の粒子を個数基準で３０％未満有している請求項９〜１５のいずれかに記載の現像装置。
【請求項１７】  外部より電圧を印可した帯電装置により帯電を行う工程；帯電した潜像担持体に静電潜像を形成する工程；
現像容器内に収容されている現像剤を現像剤担持体で担持する工程；
該現像剤担持体に担持されている該現像剤を現像剤層厚規制部材により規制する工程；
該現像剤担持体に担持されている該現像剤を該現像剤担持体と静電潜像保持体とが対向する現像領域へ搬送する工程；
潜像担持体上に形成されている静電潜像を現像する工程；
現像された現像画像を転写手段により転写材に移行させて転写させる転写工程；
転写体上に転写された転写画像を加熱・定着する定着工程を、
少なくとも有する画像形成方法において、
請求項９〜１６のいずれかに記載の現像装置を用いる画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月26日(2006.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板上面側に形成された信号線と、この信号線の端子部の形成領域を回避して、該端子部の形成領域を間にした一方側の前記信号線と他方側の前記信号線とを電気的に接続させて形成された配線層と、前記端子部の形成領域に孔開けされて前記信号線と配線層を被って形成された絶縁膜とを備えることを特徴とする表示装置。
【請求項２】  基板の上面側に形成された信号線と、前記信号線をその端子部を除くように被って形成される絶縁膜と、前記端子部を横切るようにして前記信号線の延在方向に延在される導電層とからなり、
前記導電層の延在方向と平行な各辺のそれぞれと前記絶縁膜との間に隙間を有し、この隙間に相当する部分の前記信号線にその延在方向に沿った孔が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】  表示領域にゲート信号線とドレイン信号線とを備え、前記信号線の材料は該ゲート信号線と同一で、前記導電層の材料は該ドレイン信号線と同一であることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】  表示領域にゲート信号線とドレイン信号線とこれら各信号の間に形成される層間絶縁膜とを備え、前記絶縁膜の材料は該層間絶縁膜と同一であることを特徴とする請求項１あるいは２のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】  基板の上面側に形成された信号線と、この信号線の端子部において、該信号線の下層に第１絶縁膜を介して該信号線を横切るようにして形成された半導体層と、前記信号線をも被って前記基板上に形成され、前記半導体層の形成領域に孔開けがなされた第２絶縁膜と、前記信号線の延在方向の各辺は該信号線の両脇に配置される前記各半導体層と接続される導電層とを備え、
前記半導体層は前記信号線をマスクとして不純物が導入されることによって低抵抗化されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】  表示領域にゲート信号線とドレイン信号線とを備え、前記信号線の材料は該ゲート信号線と同一で、前記導電層の材料は該ドレイン信号線と同一であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】  表示領域に薄膜トランジスタを備え、前記半導体層の材料は該薄膜トランジスタの半導体層と同一であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項８】  表示領域に薄膜トランジスタを備え、前記第１絶縁膜の材料は該薄膜トランジスタのゲート絶縁膜と同一であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項９】  表示領域にゲート信号線とドレイン信号線とこれら各信号の間に形成される層間絶縁膜とを備え、前記第２絶縁膜の材料は該層間絶縁膜と同一であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月20日(2006.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像形成装置に着脱可能な現像剤補給容器であって、
現像剤を収容する容器本体と、
前記容器本体内の現像剤を排出する排出口と、
前記容器本体に設けられたシャッターガイドに対してスライド可能に係合し、前記排出口を開閉するシャッターと、
前記容器本体の前記排出口の周囲に設けられ前記シャッターとの間で圧縮されることでシールする弾性部材と、
前記シャッターに設けられ、前記画像形成装置のギア部材と係合して前記シャッターを開閉するための駆動力を受けるギア部と、
前記容器本体又は前記シャッターの互いに対向する面のいずれかの一部に設けられ、前記シャッターの開閉時に、前記ギア部が前記ギア部材と外れてしまうのを防止する凸部と、
を有することを特徴とする現像剤補給容器。
【請求項２】  前記凸部を前記シャッターの前記ギア部の裏側に相当する位置に前記ギア部の配設方向に沿って設けたことを特徴とする請求項１の現像剤補給容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば上記課題を解決することができる。画像形成装置に着脱可能な現像剤補給容器であって、現像剤を収容する容器本体と、前記容器本体内の現像剤を排出する排出口と、前記容器本体に設けられたシャッターガイドに対してスライド可能に係合し、前記排出口を開閉するシャッターと、前記容器本体の前記排出口の周囲に設けられ前記シャッターとの間で圧縮されることでシールする弾性部材と、前記シャッターに設けられ、前記画像形成装置のギア部材と係合して前記シャッターを開閉するための駆動力を受けるギア部と、前記容器本体又は前記シャッターの互いに対向する面のいずれかの一部に設けられ、前記シャッターの開閉時に、前記ギア部が前記ギア部材と外れてしまうのを防止する凸部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月28日(2006.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  第１の液体と該第１の液体と混合することのない第２の液体とを容器内に収容し、前記２種類の液体への印加電圧の変化に応じて、前記第１の液体と前記第２の液体の界面形状を変化させることにより光学特性を変化させる可変光学素子であって、
前記可変光学素子は、所定の基準に対して、前記可変光学素子を位置決めするための指標を有し、
前記指標は、所定の基準に対して前記可変光学素子が位置決めされた状態において、前記可変光学素子の波面収差が所定値以下あるいは最小となることを示すものであることを特徴とする可変光学素子。
【請求項２】  第１の液体と該第１の液体と混合することのない第２の液体とを容器内に収容し、前記２種類の液体への印加電圧の変化に応じて、前記第１の液体と前記第２の液体の界面形状を変化させることにより光学特性を変化させる可変光学素子と、少なくとも一つの他の光学素子を有する光学ユニットであって、
前記可変光学素子は、所定の基準に対して、前記可変光学素子を位置決めするための指標を有し、
前記指標は、所定の基準に対して前記可変光学素子が位置決めされた状態において、前記光学ユニットの波面収差が所定値以下あるいは最小となることを示すものであることを特徴とする光学ユニット。
【請求項３】  前記他の光学素子は、前記可変光学素子の光軸を該光軸と交差する方向に曲げる反射部材であり、
前記可変光学素子は、前記光軸が略鉛直となるように配置されていることを特徴とする請求項２に記載の光学ユニット。
【請求項４】  請求項１に記載の可変光学素子を備える撮像装置。
【請求項５】  請求項２または請求項３に記載の光学ユニットを備える撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、第１の液体と該第１の液体と混合することのない第２の液体とを容器内に収容し、前記２種類の液体への印加電圧の変化に応じて、前記第１の液体と前記第２の液体の界面形状を変化させることにより光学特性を変化させる可変光学素子と、少なくとも一つの他の光学素子を有する光学ユニットであって、前記可変光学素子は、所定の基準に対して、前記可変光学素子を位置決めするための指標を有し、前記指標は、所定の基準に対して前記可変光学素子が位置決めされた状態において、前記光学ユニットの波面収差が所定値以下あるいは最小となることを示すものであることを特徴とする。
また、上記において、前記他の光学素子は、前記可変光学素子の光軸を該光軸と交差する方向に曲げる反射部材であり、前記可変光学素子は、前記光軸が略鉛直となるように配置されているものとしても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１，２，３，４，５  マーク（指標）１０  可変光学素子１１  第１の液体１２  界面１３  第２の液体３０，５０  光学ユニット４０，４２  撮像装置７０  プリズム（反射部材）
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2004333640.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2004333640.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成18年5月9日(2006.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体が置かれる空間に高周波磁場、傾斜磁場を印加する各磁場発生手段と、被検体が発生する核磁気共鳴信号をエコー信号として計測する受信手段と、高周波磁場及び傾斜磁場の印加ならびにエコー信号の取得を制御する制御手段と、エコー信号を用いて被検体の画像を再構成する信号処理手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御手段は、周期的に発生する生体モニター信号に同期して、各周期内にエコー信号を計測する計測ウィンドウを設定する手段と、前記計測ウィンドウ内で計測する複数のエコー信号を２以上のグループに分割し、各グループの信号計測時間に応じてｋ空間の所定領域を占めるように位相エンコードを制御する手段とを備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
被検体が置かれる空間に高周波磁場、傾斜磁場を印加する各磁場発生手段と、被検体が発生する核磁気共鳴信号をエコー信号として計測する受信手段と、高周波磁場及び傾斜磁場の印加ならびにエコー信号の取得を制御する制御手段と、エコー信号を用いて被検体の画像を再構成する信号処理手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御手段は、周期的に発生する生体モニター信号に同期して、各周期内にエコー信号を計測する計測ウィンドウを設定する手段と、前記計測ウィンドウ内で計測する複数のエコー信号のうち、第１の期間で取得されるエコー信号はｋ空間の低周波領域を占め、前記第１の期間より遅い第２の期間で取得されるエコー信号はｋ空間の高周波領域を占めるように位相エンコードを制御する手段とを備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記制御手段は、前記計測ウィンドウで計測する複数のエコー信号のうち、前記第１の期間で取得されるエコー信号は、ｋ空間の中心から高周波領域に順に向かうように位相エンコードを制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項記載の磁気共鳴イメージング装置であって、前記制御手段は、前記計測ウィンドウの前段に、特定の組織からの信号を抑制するためのプリパレーションパルスを印加する工程を設けることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
被検体が置かれる空間に高周波磁場、傾斜磁場を印加する各磁場発生手段と、被検体が発生する核磁気共鳴信号をエコー信号として計測する受信手段と、高周波磁場及び傾斜磁場の印加ならびにエコー信号の取得を制御する制御手段と、エコー信号を用いて被検体の画像を再構成する信号処理手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記制御手段は、特定の組織からの信号を抑制するためのプリパレーションパルスの印加後に複数のエコー信号を取得する制御を行い、その際、取得されるエコー信号のｋ空間への充填を前記プリパレーションパルス印加からの経過時間に応じて制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月14日(2006.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
このような多数の受信ランドパターンが、プリント基板上に有益に形成されている。この場合、本発明の好適な構成では、それぞれより長い部分が、１つの平面ないし同一の平面内に存在する。より長い部分がそれぞれ、同じ間隔の目盛要素から離れているので、個々の受信トラックの振幅エラー又は振幅の違いが、この構造によって最小限に低減される。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月7日(2006.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】吊下げアームとフランジと割りバンドとリンク機構とリンク作動機構を備えた吊下げ装置であって、該吊下げアームが上面に吊手を備え両端から下方に延びる一対の縦ビームを有し、前記フランジが吊下げ対象物の側面を覆い下端に前記割りバンドの上辺を抑える抑えエッジを形成してかつ側面に前記縦ビームを上下に案内する案内溝を形成した円筒体を垂下し、前記割りバンドが周方向に２分割されて前記抑えエッジに沿って径が変化するようになっていて、前記リンク機構が一端を前記縦ビームに他端を前記割りバンドの端部に連結され、前記リンク作動機構が前記縦ビームと前記フランジの間を連結して両者の間隔を拡縮して前記割りバンドを押し差ししてその径を縮小・拡大せしめ、該割りバンドが前記吊下げ対象物の胴部に巻き付いて把持し巻き付きを緩めて該吊下げ対象物を解放することを特徴とする溶融固化体吊下装置。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】    【従来の技術】  原子力発電所や放射性物質取扱施設などで発生する放射性レベルの低い各種の固体廃棄物は、高周波溶解炉で溶解・固化させて減容した上、ドラム缶に詰めて埋設処分される。通常は、キャニスタと呼ばれるセラミックス製の坩堝型容器内で溶解し、そのまま固化させた溶融固化体を２００リットルのドラム缶に収納し、溶融固化体とドラム缶との間隙にモルタルを充填して、例えば地下埋設設備など所定の場所に埋設処分される。【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】  本発明の溶融固化体吊下装置によれば、対象物の胴部を大きな接触面積を有する緊縛帯で締め付けて吊り上げ吊り下げるので、高温処理され構造的に脆弱な溶融固化体であっても遠隔操作によって安全に搬送してドラム缶など内壁と溶融固化体との間隙が小さい収納容器に納めることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】    【発明の実施の形態】  以下、本発明の溶融固化体吊下装置を実施の形態に基づき図面を用いて詳細に説明する。  図１は、本発明の実施例である溶融固化体吊下装置の構成を示す斜視図である。この装置は吊下げアーム１、フランジ２、割りバンド３、リンク機構４及びリンク作動機構等から構成され、リンク機構４の動作により割りバンド３で溶融固化体５の胴部を締め付けて、図示していないクレーン等によりその吊上げ、吊下しを行うものである。【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】  フランジ２は、天板部１０とその周縁から下方に延びる円筒部１１からなる。天板部１０は、横ビーム６の下方にこれと平行に取り付けられ、天板部１０の径は、横ビーム６の長さと同程度又はこれよりやや大きく形成されている。円筒部１１の下縁端は水平に切断され、割りバンド３の上縁を抑える抑えエッジになっている。また、円筒部１１の側面の対向する位置に、案内溝が設けられ、この溝の中を縦ビーム７が上下に移動し得るように構成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】  割りバンド３は円周方向に２分割されてなり、その両端がそれぞれリンク機構４を介して、１対の縦ビーム７に取り付けられている。図２は、図１のＡ部の拡大図で、割りバンドの取付部の構造を示す斜視図である。１対の割りバンド３ａ，３ｂの各両端部には、取付部材１４が取り付けられ、各取付部材１４に１対の平行な連結部材１５がピン１６により取り付けられ、連結部材１５の他端は、同じくピン１６により縦ビーム７の下方の所定の位置に取り付けられている。１対の連結部材１５はともに、両側のピン１６の周りに自在に回転可能で、平行リンクを形成している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】  なお、この状態で、割りバンド３の外径がフランジ２の外径とほぼ同じになるように、弾性板の長さが調整されている。そのため、割りバンド３の内面と溶融固化体５との間には数ｍｍの間隙が確保され、この吊上装置を溶融固化体の周りに自由に昇降させることができる。このとき、縦ビーム７に取り付けられたリンク機構４の割りバンド３に接続された自由端は割りバンド３に引き上げられて、連結部材１５が略水平になっている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】  本発明の溶融固化体吊下装置は上記のように構成されているため、リンク機構の動作のみによって、割りバンドによる締付けとその解除を行うことができる。したがって、縦ビームが溶融固化体とドラム缶との間隙に入りさえすれば、割りバンドによる玉掛けとその解除を行うことができるため、縦ビームとリンク機構の連結部材の厚みと同程度の間隙があればよく、この間隙は１０ｍｍ以下にすることは比較的容易である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】  さらに、リンク機構は、必ずしも一対の平行リンクでなくともよいが、割りバンドの幅方向でなるべく均等に力を作用させるという目的からは、複数の連結部材を用いた平行リンクであることが好ましい。リンク作動機構も油圧シリンダに限定する必要はなく、他の流体圧作動のものやモーター等の機械力によるものであってもよい。ただし、リンク作動機構の構造や取付けを簡単にするという目的から、流体圧とくに油圧の直動シリンダを用いることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月7日(2006.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
原子力発電所や放射性物質取扱施設などで発生する放射能レベルの低い各種の固体廃棄物は、高周波溶解炉で溶解・固化させて減容した上、ドラム缶に詰めて埋設処分される。通常は、キャニスタと呼ばれるセラミックス製の坩堝型容器内で溶解し、そのまま固化させた溶融固化体を２００リットルのドラム缶に収納し、溶融固化体とドラム缶との間隙にモルタルを充填して、所定の処分場所（例えば地下埋設設備）に埋設される。その際に、ドラム缶等の資材の利用効率を高めるという要請及び埋設場所の空間の利用効率を高めるという要請から、溶融固化体とドラム缶との間隙をできるだけ小さく、例えば１０ｍｍ程度以下にすることが強く望まれている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の溶融固化体吊下装置は、吊手が設けられたフランジと、フランジの周方向にほぼ等間隔に吊り下げられ少なくともその下部を内側に曲げることができる複数の等長の縦索と、それら縦索のそれぞれの下端を繋いで円環状に引き絞る引綱と、この引綱を引いたり緩めたりする駆動装置を備えて、溶融固化体の周囲に縦索を垂れ降ろして縦索の先端を円環状に引き絞り溶融固化体を支持して吊り上げるようにしたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、本発明の装置は、縦索の中間に、隣接する縦索相互を環状に連結する横索を配したものであってもよい。この横索は、縦索を溶融固化体の周囲に吊り下ろす時に、縦索が振れたり捩れたりするのを防止するのに有用である。
本発明の装置は、キャニスタ内で溶融固化された低レベル放射性廃棄物の溶融固化体をドラム缶内に収納するのに、好適に用いることができる。
なお、縦索は強度さえあれば材質を選ばず、形状も棒状の索、帯状の板、鎖など各種のものが利用できる。また筒状に編んだ金属やプラスチックなどの網であってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
縦索２の下端には、止め具３がそれぞれ取り付けられている。本実施例では、角形の金属性の止め具３を用い、銅製のワイヤーロープからなる縦索２の下端に接合している。また、縦索２の中間に、それぞれの縦索２を横方向に環状に繋ぐ横索９が接合されており、この横索９は、縦索２の間隔を一定に保つ機能を有し、本装置を溶融固化体７に被せるときに、縦索２が振れたり、捩れたりするのを防止するのに有用である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
止め具３の側面を繋ぐようにばね４が取り付けられていて、このばね４は、引綱５を弛めた時に縦索２を押し拡げ、縦索をほぼ垂直に垂下させる機能を有する。止め具３には、外側に開口する切欠き溝１０が設けられ、この切欠き溝１０内に引綱５を嵌め込んで引綱が緩んでも外れないように係止している。なお、前記と同じく溶融固化体と容器の間隙を狭くするという目的から、止め具３の厚み（半径方向の寸法）、ばね４の径や横索９の太さも、縦索２の太さと同程度又はそれ以下にすることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図２は、本装置に用いられるばねの種類を示す概念図である。本実施例では、図２（ａ）に示すようなコイルばねを用いているが、図２（ｂ）に示すような帯板状の板ばねであってもよく、あるいは図２（ｃ）に示すような波形の板ばねであってもよい。コイルばねや波形板ばねでは、ばねのピッチの伸縮でばねの長さが変わるため、引綱５を引き絞ってもばねが外側に張り出すことはない。帯板バネの場合は、引綱５を引き絞るとばねが外側に撓むことになるが、溶融固化体７の下端部は丸みを帯びた形状で、円筒容器との間に空間があるため、帯板ばねが撓んで外側に張り出しても、とくに問題になることはない。ばねの材質はとくに限定を要しないが、通常は高弾性金属が用いられ、コイルばねの径や波形板ばねの波高又は幅は１０ｍｍ以下のものを用いることが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月11日(2006.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断熱材により形成される断熱筐体及び断熱扉と、前記断熱筐体の内部に収納し
た物品を低温側及び高温側サイクルをカスケード接続した２元冷凍装置で冷却す
る超低温フリーザにおいて、
前記断熱筐体を断熱壁により区切り、それぞれ独立した断熱扉が設けられた複
数の収納庫と、それぞれの前記収納庫に取り付けられる冷却器と、を備え、
前記冷却器の一方を前記低温側サイクルに、他方を前記高温側サイクルに接続したことを特徴とする超低温フリーザ。
【請求項２】
請求項１に記載のものにおいて、前記低温側サイクルと前記高温側サイクルは
カスケードコンデンサを介して接続された二元冷凍サイクルを構成し、前記高温
側サイクルに接続された前記冷却器は前記カスケードコンデンサと並列に接続さ
れることを特徴とする超低温フリーザ。
【請求項３】
請求項１に記載のものにおいて、前記低温側サイクルと前記高温側サイクルは
カスケードコンデンサを介して接続された二元冷凍サイクルを構成し、前記高温
側サイクルに接続された前記冷却器は前記カスケードコンデンサと並列に接続さ
れ、前記冷却器及び前記カスケードコンデンサの上流側にそれぞれ電磁弁を設け
、該電磁弁の開閉により前記冷却器及び前記カスケードコンデンサへの冷媒の流
れを切換えることを特徴とする超低温フリーザ。
【請求項４】
請求項１に記載のものにおいて、前記高温側サイクルに用いられる圧縮機はイ
ンバータにより容量制御が可能とされたことを特徴とする超低温フリーザ。
【請求項５】
請求項１に記載のものにおいて、前記収納庫を３室とし、２室の前記冷却器を前記低温側サイクルに並列に接続し、それぞれの上流側に電磁弁を設け、該電
磁弁の開閉により冷媒の流れを切換えることを特徴とする超低温フリーザ。