(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面及び該第１の表面とは反対側の第２の表面を有し、該第１の表面内に、回折格子パターン配置領域と、その周囲の回折格子パターン非配置領域とが画定されており、露光光を透過させる基板と、
前記基板の第１の表面の、前記回折格子パターン非配置領域上に形成された遮光膜と、
前記基板の第１の表面上に、前記遮光膜を埋め込むように形成され、露光光を透過させる第１の膜と、
前記第１の膜の表面のうち、前記回折格子パターン配置領域に対応する領域に設けられ、前記第１の膜を貫通しない複数の溝によって画定された回折格子パターンと
を有する回折格子マスク。
【請求項２】
前記回折格子パターンの尾根部の先端の高さと、前記回折格子パターン非配置領域上の前記第１の膜の表面の高さが等しいか、またはその差が前記遮光膜の厚さよりも小さい請求項１に記載の回折格子マスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回折格子マスクに関し、特に分布帰還型半導体レーザ（ＤＦＢレーザ）装置用の回折格子の形成に適した回折格子マスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の回折格子マスクにおいては、特許第２５３７５９６号に示されているように、マスク基板全面に回折格子パターンが形成されていた。この回折格子パターンの周期が基板面内で均一である回折格子マスクは、例えば二光束干渉露光法を用いて簡便に作製することが可能である。
【０００３】
ところが、回折格子パターンの周期が基板面内で変調されている場合、例えば回折格子パターンのほぼ中央で位相がπだけずれている場合、二光束干渉露光法を用いることは困難である。この場合には、電子ビーム露光法が用いられる。ところが、電子ビーム露光法を用いると、描画に膨大な時間が必要とされる。描画時間を短縮するために、基板表面のうち必要な領域にのみ回折格子パターンが形成される。例えば、ＤＦＢレーザ装置を作製するためには、基板の表面のうち約１／１０の領域にのみ回折格子パターンを形成すれば十分である。
【０００４】
図１０は、従来の自己干渉露光法に用いられる回折格子マスク及び露光すべき半導体基板の断面図を示す。ガラス基板１００の表面の一部の領域上に、複数の溝が周期的に配列した回折格子パターン１０２が形成されている。回折格子パターンの配列の周期は、そのほぼ中央１０３において位相がπだけずれている。回折格子パターンが形成された領域を取り囲むように、クロム膜１０１が形成されている。
【０００５】
ガラス基板１００の、回折格子パターン１０２が形成された面に対向するように、露光すべき半導体基板１１０が配置される。半導体基板１１０の、回折格子パターン１０２に対向する面上にはフォトレジスト膜が形成されている。回折格子パターン１０２を通して半導体基板１１０の表面を露光することにより、半導体基板１１０の表面に形成されたフォトレジスト膜に回折格子パターンが転写される。クロム膜１０１は、回折格子パターン１０２が形成されていない領域に入射する露光光の影響を軽減し、露光されるパターンの乱れを防止する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
回折格子マスクの対向面上にクロム膜１０１が形成されているため、回折格子パターン１０２と半導体基板１１０の表面との間に、クロム膜１０１の厚さ以上の間隙が形成される。このように両者の間に間隙が形成されていると、回折格子パターン１０２の位相シフト部１０３に対応するパターンが回折によりぼけてしまう。
【０００７】
本発明の目的は、位相がシフトした回折格子パターンの転写にも適用可能な回折格子マスクを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
発明の一観点によると、
第１の表面及び該第１の表面とは反対側の第２の表面を有し、該第１の表面内に、回折格子パターン配置領域と、その周囲の回折格子パターン非配置領域とが画定されており、露光光を透過させる基板と、
前記基板の第１の表面の、前記回折格子パターン非配置領域上に形成された遮光膜と、
前記基板の第１の表面上に、前記遮光膜を埋め込むように形成され、露光光を透過させる第１の膜と、
前記第１の膜の表面のうち、前記回折格子パターン配置領域に対応する領域に設けられ、前記第１の膜を貫通しない複数の溝によって画定された回折格子パターンと
を有する回折格子マスクが提供される。
【００１１】
基板の第１の膜に、露光すべき露光面を対向させる。基板の第２の表面側から露光光を入射させ、回折格子マスクを介して露光面を露光する。回折格子パターンの配置されていない領域に入射した露光光は、遮光膜で遮光されるため、露光面まで到達しない。遮光膜が第１の膜によって埋め込まれているため、第１の膜を露光面に密着させることができる。このため、回折格子パターンと露光面との間の間隙を無くすかまたは狭くすることが可能になる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１〜図３を参照して、本発明の第１の実施例による回折格子マスクについて説明する。
【００１５】
図１は、第１の実施例による回折格子マスクの断面図を示す。溶融石英からなる透明基板１の一方の表面上に、入側反射防止膜２が形成され、他方の表面上に出側反射防止膜３が形成されている。入側反射防止膜２及び出側反射防止膜３は、厚さ１２０ｎｍの酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）膜と厚さ２０７ｎｍの酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜との２層で構成される。
【００１６】
出側反射防止膜３の表面の一部分に、回折格子パターン４が形成されている。回折格子パターン４は、周期２００ｎｍで配列した深さ１２０ｎｍの複数の溝で構成される。相互に隣り合う溝の間には、尾根部が形成される。溝部と尾根部との幅の比は、５０：５０である。このような構成の回折格子マスクに、入側反射防止膜２側から波長３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ光１０を入射する。入射面は、回折格子パターン４を構成する各溝が延在する方向と直交し、入射角は５４°である。このとき、回折光と透過光との強度がほぼ等しくなり、良好な干渉縞が現れる。なお、溝部と尾根部との幅の比が４０：６０である場合には、溝の深さを１４０ｎｍとすることにより、回折光と透過光との強度を等しくすることができる。
【００１７】
回折格子パターン４のほぼ中央の位相シフト部５において、パターンの配列が位相πだけずれている。
【００１８】
実際に、表面上にポジレジスト膜を形成したＩｎＰ基板のポジレジスト膜の表面に、第１の実施例による回折格子マスクの回折格子パターンが形成された面を密着させて、上述の条件で露光した。ポジレジスト膜を現像したところ、二光束干渉露光法により形成した場合と遜色のない良好な回折格子パターンが得られた。
【００１９】
第１の実施例による回折格子マスクを用いると、回折格子パターン４が形成されていない領域の入側反射防止膜２、透明基板１、及び出側反射防止膜３を透過し、露光すべき基板の表面で反射した光が、出側反射防止膜３、透明基板１、及び入側反射防止膜２を透過する。このため、回折格子マスクと露光すべき基板との間で露光光が多重反射することによる回折像のぼけを防止できる。
【００２０】
次に、図２を参照して、第１の実施例による回折格子マスクの製造方法について説明する。
【００２１】
図２（Ａ）に示すように、溶融石英からなる透明基板１の両面に、それぞれ反射防止膜２及び３を形成する。反射防止膜２及び３は、厚さ１２０ｎｍの酸化ジルコニウム膜と厚さ２０７ｎｍの酸化シリコン膜との２層構造を有する。酸化ジルコニウム膜及び酸化シリコン膜は、スパッタリングにより形成される。
【００２２】
一方の反射防止膜３の表面上に厚さ７０ｎｍのポジ型フォトレジスト膜１５を形成する。ポジ型フォトレジスト膜１５は、レジスト材料をスピン塗布した後、２００℃で焼結させることにより形成される。ポジ型フォトレジスト膜１５として、例えば東京応化製のＯＦＰＲ８００を用いることができる。ポジ型フォトレジスト膜１５の上に、厚さ１５ｎｍのニッケル膜１６をスパッタリングにより形成する。ニッケル膜１６の上に、厚さ１２０ｎｍの電子ビーム用レジスト膜１７を形成する。電子ビーム用レジスト膜１７として、例えば日本ゼオン製のＺＥＰ５２０を用いることができる。
【００２３】
図２（Ｂ）に示すように、電子ビーム露光装置を用いて、電子ビーム用レジスト膜１７に回折格子パターンを描画し、現像して、電子ビーム用レジスト膜１７に回折格子パターン２０を形成する。
【００２４】
図２（Ｃ）に示すように、回折格子パターン２０をマスクとして、ニッケル膜１６をエッチングする。ニッケル膜１６のエッチングは、Ａｒイオンビームを基板表面に照射することにより行われる。これにより、ニッケル膜１６に、回折格子パターン２１が形成される。その後、レジスト膜１７を除去する。
【００２５】
図２（Ｄ）に示すように、ニッケルの回折格子パターン２１をマスクとして、ポジ型フォトレジスト膜１５をエッチングする。ポジ型フォトレジスト膜１５に、回折格子パターン２２が形成される。
【００２６】
図２（Ｅ）に示すように、回折格子パターン２１及び２２をマスクとして、反射防止膜３をエッチングする。反射防止膜３のエッチングは、ＣＨＦ3を用いた反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）により行うことができる。反射防止膜３のエッチングの深さは、図１で説明したように、透過光と回折光との強度が等しくなるような深さとする。ポジ型フォトレジスト膜１５及びニッケル膜１６を除去することにより、図１に示す回折格子マスクが得られる。
【００２７】
なお、図２（Ａ）に示す工程において、透明基板１の両面に、それぞれ反射防止膜２及び３を形成したが、回折格子パターン４を形成した後、反射防止膜２を形成してもよい。
【００２８】
次に、図３を参照して、第２の実施例による回折格子マスクの構成について説明する。
【００２９】
図３は、第２の実施例による回折格子マスクの断面図を示す。第２の実施例の回折格子マスクに使用されている出側反射防止膜３ａは、厚さ４０ｎｍの酸化ジルコニウム膜と厚さ６９ｎｍの酸化シリコン膜との２層構造を有する。すなわち、図１に示す第１の実施例の出側反射防止膜３よりも薄い。このため、回折格子パターン４の溝が透明基板１の表面層にまで達している。
【００３０】
例えば、回折格子の周期が２００ｎｍ、溝の幅と尾根の幅との比が５０：５０である場合、溝の深さを１４０ｎｍとすればよい。また、溝の幅と尾根の幅との比が４０：６０である場合には、溝の深さを１６０ｎｍとすればよい。
【００３１】
次に、図４及び図５を参照して、第３の実施例による回折格子マスクについて説明する。
【００３２】
図４は、第３の実施例による回折格子マスクの断面図を示す。溶融石英からなる透明基板１の一方の表面上に入側反射防止膜２が形成されている。これは、図１に示す第１の実施例で用いられている入側反射防止膜２と同様の２層構造を有する。
【００３３】
透明基板１の他方の表面に、回折格子パターンが配置される回折格子パターン配置領域２７と、それを取り囲む回折格子パターン非配置領域２８が画定されている。透明基板１の、回折格子パターン非配置領域２８の上に、クロムからなる厚さ８０ｎｍの遮光膜２２が形成されている。遮光膜２２を埋め込むように、透明基板１の表面上に厚さ３００〜５００ｎｍの酸化シリコン膜２３が形成されている。酸化シリコン膜２３の表面の、回折格子パターン配置領域２７上の領域に回折格子パターン２４が形成されている。
【００３４】
回折格子パターン２４の格子ピッチは２００ｎｍであり、溝の幅と尾根の幅との比は５０：５０であり、溝の深さは１６０ｎｍである。波長３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ光を入射角５４°の条件で入側反射防止膜２から入射させたとき、透過光と回折光との強度がほぼ等しくなる。また、回折格子パターン２４のほぼ中央の位相シフト部２５において、パターン配列の位相がπだけずれている。なお、溝の幅と尾根の幅との比が４０：６０である場合には、溝の深さを１８０ｎｍとすればよい。
【００３５】
第３の実施例による回折格子マスクにおいては、回折格子パターン２４の尾根の頂上と、回折格子パターン非配置領域２８上の酸化シリコン膜２３の表面との高さがほぼ等しい。このため、回折格子パターン２４を、露光すべき半導体基板のレジスト膜の表面に密着させることができる。これにより、位相シフト部２５の近傍においても、良好な回折像を得ることが可能になる。なお、回折格子パターン２４の尾根の頂上の高さと、回折格子パターン非配置領域２８上の酸化シリコン膜２３の表面の高さとの差が、遮光膜２２の厚さよりも少ない場合には、遮光膜２２の厚さによる影響を軽減することができる。
【００３６】
また、回折格子パターン非配置領域２８内に入射した露光光は遮光膜２２で遮光され、露光すべき半導体基板の表面まで到達しない。このため、回折格子パターンの形成されていない領域に入射した露光光による悪影響を軽減することができる。
【００３７】
回折格子パターン２４の溝が、酸化シリコン膜２３を貫通しないようにすることが好ましい。溝が酸化シリコン膜２３を貫通しない構成の場合には、回折格子パターン２４の尾根の部分が酸化シリコン膜２３により連絡されるため、十分な機械的強度を確保することができる。また、透明基板１と酸化シリコン膜２３とが、同質の材料で形成されているため、信頼性の高い回折格子マスクが得られる。
【００３８】
次に、図５を参照して、第３の実施例による回折格子マスクの製造方法について説明する。
【００３９】
図５（Ａ）に示すように、透明基板の表面上に遮光膜２２を形成する。遮光膜２２の形成は、クロム膜をスパッタリングにより堆積した後、このクロム膜をパターニングすることにより形成する。遮光膜２２を埋め込むように、透明基板１の表面上に、厚さ３００〜５００ｎｍの酸化シリコン膜２３をスパッタリングにより形成する。
【００４０】
酸化シリコン膜２３の上に、ポジ型フォトレジスト膜３０、ニッケル膜３１、及び電子ビーム用レジスト膜３２を形成する。これらの膜は、第１の実施例の図２（Ａ）に示したポジ型フォトレジスト膜１５、ニッケル膜１６、及び電子ビーム用レジスト膜１７の形成と同様の方法で形成される。
【００４１】
図５（Ｂ）に示すように、ニッケル膜３１及びポジ型フォトレジスト膜３０に、それぞれ回折格子パターン３３及び３４を形成する。ここまでの工程は、第１の実施例の図２（Ａ）の状態から図２（Ｄ）の状態までの工程と同様である。
【００４２】
図５（Ｅ）に示すように、回折格子パターン３３及び３４をマスクとして、酸化シリコン膜２３をエッチングする。このエッチングは、ＣＨＦ3を用いたＲＩＥにより行う。その後、ニッケル膜３１及びポジ型フォトレジスト膜３０を除去する。さらに、透明基板１の反対側の面上に入側反射防止膜２を形成することにより、図４に示す回折格子マスクが得られる。
【００４３】
次に、図６〜図８を参照して、第４の実施例による回折格子マスクについて説明する。
【００４４】
図６（Ａ）は、第４の実施例による回折格子マスクの断面図を示す。溶融石英からなる透明基板１の一方の表面の一部の領域上に、厚さ２２０ｎｍの酸化ジルコニウム膜４０が形成されている。酸化ジルコニウム膜４０の上面は、酸化ジルコニム膜４０の形成されていない領域の透明基板１の上面とほぼ同一の高さである。すなわち、透明基板１の上面と酸化ジルコニム膜４０の上面とが、ほぼ平坦な平面を画定する。酸化ジルコニウム膜４０が形成されている領域と、形成されていない領域との境界線４３は、ほぼ直線である。
【００４５】
酸化ジルコニウム膜４０及び透明基板１の表面上に、厚さ２００ｎｍの酸化シリコン膜４１が形成されている。酸化シリコン膜４１に、回折格子パターン４２が形成されている。第１〜第３の実施例では、回折格子パターンが基板の一部分にのみ配置され、そのほぼ中央部に位相シフト部を有していた。これに対し、第４の実施例の場合には、回折格子パターン４２が基板の全面に配置され、均一な格子ピッチを有する。また、回折格子パターン４２の各溝は、境界線４３とほぼ平行な方向に延在する。
【００４６】
回折格子パターン４２の格子ピッチは２００ｎｍであり、溝部の幅と尾根部の幅との比は５０：５０であり、溝の深さは１６０ｎｍである。なお、溝部の幅と尾根部の幅との比が４０：６０の場合には、溝の深さを１８０ｎｍにする。このような構成とすると、波長３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ光を、入射角５４°の条件で入射したときに、透過光と回折光との強度がほぼ等しくなる。
【００４７】
図６（Ｂ）は、図６（Ａ）に示す回折格子マスクに露光光を照射したときの露光光の等位相面を模式的に示す。露光光が図６（Ｂ）に示すように矢印４５の方向に伝搬する。露光光のうち一部は酸化ジルコニウム膜４０を透過して回折格子パターン４２まで到達し、他の一部は直接回折格子パターン４２に到達する。酸化ジルコニウムの屈折率は、溶融石英の屈折率よりも大きいため、酸化ジルコニウム膜４０を透過した露光光は、酸化ジルコニウム膜４０を透過しない露光光よりも位相が遅れる。
【００４８】
酸化ジルコニウム膜４０を透過しなかった露光光により回折縞４６ａが形成され、酸化ジルコニウム膜４０を透過した露光光により回折縞４６ｂが形成される。回折縞４７は、回折縞４６ａを、酸化ジルコニウム膜４０の形成された領域下まで延ばしたものである。回折縞４６ｂを回折縞４７と比較すると、位相がπだけずれていることがわかる。
【００４９】
第４の実施例のように回折格子パターンの形成されている領域の一部に、露光光の位相をシフトさせる膜を挿入することにより、位相の異なる２種類の回折縞を形成することができる。位相をシフトさせる膜の屈折率や膜厚を適当に設定することにより、２種類の回折縞の位相差をπにすることができる。なお、干渉縞４６ａが現れる領域と干渉縞４６ｂが現れる領域との境界部分に、明確な干渉縞の現れない遷移領域４６ｃが現れる。遷移領域４６ｃは、酸化シリコン膜４０の端面を、露光光に平行な方向に投影した領域に対応する。
【００５０】
次に、図７及び図８を参照して、第４の実施例による回折格子マスクの製造方法について説明する。
【００５１】
図７（Ａ）に示すように、溶融石英からなる透明基板１の表面の一部の領域をエッチングし、表面の高さの低い領域１Ａを形成する。元の表面が残っている領域（高い領域）１Ｂと低い領域１Ａとの境界線は、ほぼ直線になり、両者の高さの差は２２０ｎｍである。図７（Ｂ）に示すように、基板表面を覆うように厚さ２２０ｎｍの酸化ジルコニウム膜４０をスパッタリングにより形成する。
【００５２】
図７（Ｃ）に示すように、低い領域１Ａの上に形成されている酸化ジルコニウム膜４０の表面をレジストパターン４８で覆う。レジストパターン４８をマスクとして、高い領域１Ｂの上に形成されている酸化ジルコニウム膜４０を除去する。酸化ジルコニウム膜４０の除去は、例えばＣＨＦ3を用いたＲＩＥ、またはＡｒイオンビームを用いたミリングにより行うことができる。酸化ジルコニウム膜４０を除去した後、レジストパターン４８を除去する。
【００５３】
図７（Ｄ）に示すように、酸化ジルコニウム膜４０及び高い領域１Ｂの表面上に、厚さ２００ｎｍの酸化シリコン膜４１、厚さ７０ｎｍのポジ型フォトレジスト膜５０、厚さ７０ｎｍのニッケル膜５１、厚さ１５０ｎｍのポジ型フォトレジスト膜５２を形成する。酸化シリコン膜４１の形成は、例えばスパッタリングにより行う。ポジ型フォトレジスト膜５０及び５２として、例えば東京応化製のＯＦＰＲ８００を用いることができる。
【００５４】
図８（Ｅ）に示すように、ポジ型フォトレジスト膜５２に、回折格子パターン５２ａを形成する。回折格子パターン５２ａの形成は、従来の二光束干渉露光法を用いて行うことができる。図８（Ｆ）に示すように、回折格子パターン５２ａをマスクとしてニッケル膜５１をエッチングし、回折格子パターン５１ａを形成する。その後、回折格子パターン５２ａを除去する。
【００５５】
図８（Ｇ）に示すように、回折格子パターン５１ａをマスクとして、ポジ型フォトレジスト膜５０をエッチングし、回折格子パターン５０ａを形成する。図８（Ｈ）に示すように、回折格子パターン５１ａ及び５０ａをマスクとして、酸化シリコン膜４１をエッチングし、回折格子パターン４２を形成する。酸化シリコン膜４１のエッチングの最適な深さは、酸化シリコン膜４１に形成される回折格子パターンの溝部と尾根部との幅の比により決定される。回折格子パターン５１ａ及び５０ａを除去することにより、図６（Ａ）に示す回折格子マスクが得られる。
【００５６】
第４の実施例による回折格子マスクは、従来の二光束干渉露光法を用いて作製される。電子ビーム露光を行う必要がないため、露光時間を短縮することできる。
【００５７】
次に、図９を参照して、第５の実施例による回折格子マスクの構成及び製造方法について説明する。
【００５８】
図９は、第５の実施例による回折格子マスクの断面図及び露光光の等位相面を示す。第４の実施例では、酸化ジルコニウム膜４０の端面が、透明基板１の表面に対してほぼ垂直に配置されていたが、第５の実施例では、酸化ジルコニウム膜４０の端面が基板表面に対して斜めに配置されている。その他の構成は、第４の実施例の場合と同様である。
【００５９】
第５の実施例の場合には、酸化ジルコニウム膜４０の端面を、露光光の進行方向に沿って露光面上に投影したとき、その像の面積が、第４の実施例の場合の像の面積よりも小さくなる。このため、干渉縞４６ａが現れる領域と干渉縞４６ｂが現れる領域との間の遷移領域４６ｃを狭めることができる。
【００６０】
第５の実施例の酸化ジルコニウム膜４０のように、その端面を斜めにする方法について説明する。第４の実施例の図７（Ａ）に示す工程において、表面の高い領域１Ｂを覆うレジストパターンの端面を斜めにしておく。このレジストパターンをマスクとして透明基板１をエッチングすると、低い領域１Ａと高い領域１Ｂとの境界の段差面が斜めになる。斜めの段差面を有する基板上に酸化ジルコニウム膜４０を形成することにより、低い領域１Ａ上の酸化ジルコニウム膜４０の端面を斜めにすることができる。
【００６１】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、回折格子マスクのうち回折格子パターンの配置されていない領域に反射防止膜が形成されている。このため、回折格子パターンの配置されていない領域に入射する露光光による影響を軽減することができる。また、回折格子マスクの回折格子パターンの尾根部の頂上が、回折格子パターンの配置されていない領域の表面とほぼ等しい高さであるため、回折格子パターンを、露光すべき基板の表面に密着させることができる。回折格子パターンに位相シフト部が設けられている場合、位相シフト部の回折像のぼけを防止することができる。
【００６３】
また、回折格子パターンの配置されていない領域に遮光膜を埋め込むことにより、遮光膜に妨げられることなく、回折格子パターンを、露光すべき基板の表面に密着させることができる。
【００６４】
また、回折格子パターンの配置される領域の一部に、透明基板とは屈折率の異なる材料からなる層を配置することにより、この層の配置された領域の干渉縞の位相と、この層の配置されていない領域の干渉縞の位相とをずらせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例による回折格子マスクの断面図である。
【図２】第１の実施例による回折格子マスクの製造方法を説明するためのマスク基板の断面図である。
【図３】本発明の第２の実施例による回折格子マスクの断面図である。
【図４】本発明の第３の実施例による回折格子マスクの断面図である。
【図５】第３の実施例による回折格子マスクの製造方法を説明するためのマスク基板の断面図である。
【図６】本発明の第４の実施例による回折格子マスクの断面図、及び露光光の等位相面を模式的に示す図である。
【図７】第４の実施例による回折格子マスクの製造方法を説明するためのマスク基板の断面図（その１）である。
【図８】第４の実施例による回折格子マスクの製造方法を説明するためのマスク基板の断面図（その２）である。
【図９】本発明の第５の実施例による回折格子マスクの露光光の等位相面を模式的に示す図である。
【図１０】従来の回折格子マスクの断面図である。
【符号の説明】
１  透明基板
２  入側反射防止膜
３  出側反射防止膜
４  回折格子パターン
５、２５  位相シフト部
１０、４５  露光光
１５、３０、５０、５２  ポジ型フォトレジスト膜
１６、３１、５１  ニッケル膜
１７、３２  電子ビーム用レジスト膜
２０、２１、２２、２４、３３、３４、４２  回折格子パターン
２３、４１  酸化シリコン膜
２７  回折格子パターン配置領域
２８  回折格子パターン非配置領域
４６ａ、４６ｂ  干渉縞
４６ｃ  遷移領域
【図１】
0004535542.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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