【手続補正書】
【提出日】平成17年11月18日(2005.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】（Ａ）ポリマー骨格の主鎖及び／又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つシリコン基を有する繰り返し構造単位を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
【請求項２】（Ａ）成分の樹脂が、一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で示される繰り返し単位の少なくとも一つ、一般式（ＶII）及び（ＶIII）で示される繰り返し単位の少なくとも一つ、及び一般式（ＩＸ）及び（Ｘ）で示される繰り返し単位の少なくとも一つを有する樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【化１】
2002169287.tif 000001
一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中、Ｒ0及びＲ1は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基を表す。Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基を表す。また、Ｒ0とＲ1、Ｒ0とＲ2、Ｒ3とＲ4とは結合し環を形成しても良い。Ｒ5は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、単環又は多環のシクロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基を表す。Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、アルコキシ基を表す。Ｒ9は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ａ1及びＡ2は、各々独立に、単結合、置換基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基もしくはアリーレン基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ15−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ16−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−を表す。Ｒ15、Ｒ16 及びＲ18は、各々独立に、単結合、又はエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基もしくはウレイド基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｒ17は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を表す。式（Ｖ）において、ｎは０又は１を表す。
一般式（ＶII）及び（ＶIII）中、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は、同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良いアルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、トリアルキルシリル基、トリアルキルシリルオキシ基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。一般式（ＶIII）中、Ｒ13及びＲ14は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良い、アルキル基又はアルコキシ基を表す。また、Ｒ13とＲ14とは、結合して、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−の中のひとつ、または、二つ以上の組み合わせからなる二価の基を形成しても良い。
一般式（ＩＸ）中、Ｚは−Ｏ−又は−Ｎ（ＲZ1）−を表す。ＲZ1は、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｘ1及びＸ2は、各々独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、もしくは−ＮＨＳＯ2−を表す。Ａ3及びＡ4は、各々独立に、単結合、置換基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基もしくはアリーレン基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ15−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ16−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−を表す。Ｒ15、Ｒ16及びＲ18は、各々独立に、単結合、又はエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基もしくはウレイド基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｒ17は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を表す。Ｙ1は、水素原子、シアノ基、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲy1、−ＣＯＮＨ−Ｒy2、置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、−Ｑ、−ＣＯＯ−Ｑを表す。
Ｒy1及びＲy2は、各々独立に、置換基を有していても良いアルキル基を表す。
Ｙ2は、−Ｑ、−ＣＯＯ−Ｑを表す。但しＸ2が−Ｏ−で、Ａ4が単結合の場合には、Ｙ2は−Ｑを表す。Ｑは酸で分解し得る基を表す。
【請求項３】（Ａ）の樹脂が、更に一般式（ＸＩ）〜（ＸIII）で示される繰り返し単位を少なくとも一つ有することを特徴とする請求項２に記載のポジ型レジスト組成物。
【化２】
2002169287.tif 000002
式（ＸＩ）中、Ｒ20及びＲ21は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ａ5は、単結合、置換基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基もしくはアリーレン基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ15−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ16−、又は−ＣＯ−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−を表す。Ｒ15、Ｒ16及びＲ18は、各々独立に、単結合、又はエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基もしくはウレイド基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｒ17は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を表す。
式（ＸII）中、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、アルコキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ22を表す。ｎは０又は１を表す。
一般式（ＸIII）中、Ｒ26は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ａ6は、単結合、置換基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基もしくはアリーレン基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ15−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ16−、又は−ＣＯ−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−を表す。Ｒ15、Ｒ16及びＲ18は、各々独立に、単結合、又はエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基もしくはウレイド基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｒ17は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を表す。Ｒ28及びＲ29は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシル基、又は置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。
一般式（ＸＩ）〜（ＸIII）中、Ｒ22及びＲ27は、各々独立に、−Ｃ（Ｒ30）（Ｒ31）（Ｒ32）、−Ｃ（Ｒ30）（Ｒ31）（ＯＲ33）、又は式（ＸＩＶ）で表される基を表す。
【化３】
2002169287.tif 000003
Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、及びＲ33は、同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。Ｒ30、Ｒ31、及びＲ32の内の２つ、又はＲ30、Ｒ31、及びＲ33の内の２つが結合して環を形成しても良い。Ｒ34は置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。Ｂは炭素原子とともに単環又は多環の脂環式基を構成する原子団を表す。
【請求項４】（Ａ）の樹脂が、更に一般式（ＸＶ）で示される繰り返し単位を少なくとも一つ有することを特徴とする請求項２または３に記載のポジ型レジスト組成物。
【化４】
2002169287.tif 000004
式中、Ｒ35は置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。
【請求項５】  更に（Ｃ）シリコン系及び／又はフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項６】  更に（Ｄ）酸拡散抑制剤として、塩基性窒素原子を有する化合物を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項７】（Ｂ）成分の化合物が、活性光線又は放射線の照射により、炭素原子数２以上のパーフルオロアルキルスルホン酸、パーフルオロアリールスルホン酸、もしくはパーフルオロアルキル基が置換したアルールスルホン酸を発生するスルホニウム塩、又はヨードニウム塩の化合物から選択されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項８】  露光光源として、１６０ｎｍ以下の真空紫外光を使用することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項９】  請求項１〜８のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。