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　平成８年特許願第３４７１０５号「真空処理方法及び装置」拒絶査定に対する審判事件〔平成９年７月２２日出願公開、特開平９−１９１００６、請求項の数（２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成２年１０月１１日に出願した特願平２−２７０４０５号の一部を平成８年１２月２６日に新たな特許出願としたものであって、その請求項１，２に係る発明は、平成１１年７月１９日付け及び平成１２年１月２５日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１，２に記載された次のとおりのものと認める。
【請求項１】減圧下に設置され冷却もしくは加温される試料台の試料配置面に試料を配置・固定し、該固定された試料の裏面と前記試料台の試料配置面との間に伝熱ガスを導入して前記試料の温度を制御し、前記試料を処理する真空処理方法において、前記伝熱ガスの初期導入時の流量を定常時の目標値より大きく設定し、前記定常時の前記伝熱ガスの供給を断続的に行ない、前記試料の温度を制御して前記試料を処理することを特徴とする真空処理方法。
【請求項２】減圧排気される真空容器と、該真空容器に設けられ該真空容器内で試料が配置・固定される試料配置面を有し該試料配置面が冷却もしくは加温される試料台と、前記試料の裏面と前記試料台の試料配置面との間に伝熱ガスを供給するガス供給手段とを具備する真空処理装置において、前記ガス供給手段による前記伝熱ガスの初期供給時の流量を定常時の目標値より大きく設定し、前記初期供給後の定常時の前記伝熱ガスの流量を断続的に供給制御する制御手段を設けたことを特徴とする真空処理装置。
（なお、請求項２には、「定常時の目標値より大き設定し」と記載されているが、それが「定常時の目標値より大きく設定し」の誤記であることは明らかであるので、前記のように認定した。また、請求項１，２に記載された発明を、本願発明１、２という。）
２．引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６３−１２４４１６号公報（以下、引用例１という。）には、
「ガス源から流量制御器を経て、処理室内に載置されたウエハの裏面に、ウエハの温度制御用のガスを供給するガス供給配管を設け、このガス供給配管に可変弁と圧力検出手段とを各別に接続し、前記可変弁をガス排出手段に接続し、前記圧力検出手段と流量制御器とを圧力制御部に接続するとともに、この圧力制御部を、ウエハの温度制御用のガスの圧力制御範囲を設定可能で、かつ圧力制御範囲を変更可能で、しかも前記圧力検出手段からの検出信号を入力し、設定された圧力制御範囲に納まるように、前記流量制御器に制御信号を出力するように構成したことを特徴とするガス制御装置。」（特許請求の範囲）、
「これらの図に示す実施例のガス制御装置では、その第１図に示すように、処理室１の内部に上部電極２と下部電極３とが対向させて配置されている。・・・処理室１内は第１の可変弁１１と、ガス排出配管１２と、ガス排出手段１３とを通じて、所定の圧力に調節されるようになっている。」（第２頁右下欄１２行〜第３頁左上欄６行参照）、
「前記実施例のガス制御装置は、次のように運転され、作用する。まず、処理室１内の圧力が所定の圧力になるように、予め第１の可変弁１１の開度を調節する。また、第２の可変弁２２を、第２の流量制御器１９を全閉した時に、・・・ガス配管２０内に漏出して来るガス量よりも多くのガス量を通過させ得る開度に、予め調節しておく。ついで、ウエハ搬送手段（・・・）により処理室１内にウエハ６を搬送し、そのウエハ６を下部電極３上に載置し、クランパ５により固定する。・・・プラズマ発生前は下部電極３とウエハ６とは冷えており、プラズマ発生時にはウエハ６はプラズマから大量の熱を受けるので、温度制御が必要となる。そこで、温度調節装置１４から水配管１５→下部電極３に形成された水通路１６→同じく下部電極３に設けられた水ジャケット１７に温水または冷水を通し、下部電極３の温度を一定値に保つ。さらに、ウエハ６を最適温度に制御するため、ガス源１８から第２の流量制御器１９→ガス配管２０→下部電極３に形成されたガス通路２１を通じて、ウエハ６の裏面に、温度制御用のガスを供給する。・・・圧力制御部２５はガス圧が予め設定された圧力制御範囲の第２図に示す上限値ＰＨに達すると、・・・第２の流量制御器１９を圧力制御範囲の下限値ＰＬに対応する流量制御範囲の下限値ＱＬ　の開度に制御する。その間、ウエハ６の温度制御用のガス配管２０内のガスが第２の可変弁２２→ガス排出管１２→ガス排出手段１３を通じて排出され・・・ウエハ６の裏面に供給されるガス圧が第２図に示すように下降する。前記ガス配管２０内のガス圧が設定された圧力制御範囲の下限値ＰＬに達すると、・・・第２の流量制御器１９を圧力制御範囲の上限値ＰＨに対応する流量制御範囲の上限値ＱＨの開度に制御する。その結果、前記第２の可変弁２２の作用により、ガス配管２０内のガス圧が上昇し、設定された圧力制御範囲の上限値ＰＨに達するように制御される。以下、ウエハ６の処理中、継続してウエハ６の裏面に供給される温度制御用のガスの圧力制御を繰り返して行う。」（第３頁左下欄７行〜第４頁右上欄８行参照）と記載され、第２図には、ガス流量を導入時より徐々に上げてガス圧力がＰＨとなりガス流量がＱＨとなったら、ガス流量を徐々に下げてＱＬとしガス圧力がＰＬとなったら、ガス圧力を再度徐々に上げてガス圧力がＰＨとなりガス流量がＱＨとなるようにし、この工程を繰り返すことによりガス圧力をＰＨとＰＬの間に制御することが示されている。
　したがって、引用例１には、ガス排出手段により所定の圧力に調節される処理室と、該処理室に設けられ該処理室内でウエハが配置・固定されるウエハ配置面を有し該ウエハ配置面が冷却される下部電極と、前記ウエハの裏面と前記下部電極のウエハ配置面との間にガスを供給するガス供給管とを具備する処理装置であり、ガス流量を、設定された圧力制御範囲に納まるように制御する装置に係る発明（以下、引用発明という。）が記載され、その実施例として、下部電極の温度を一定値に保つために、下部電極に設けられた水ジャケットに温水または冷水を通し、かつ、ガス圧力を設定された範囲に制御しウエハを最適温度に制御するために、ガス流量を制御し、ガス流量を導入時より徐々に増量してガス圧力がその上限値であるＰＨとなりガス流量がその上限値であるＱＨとなるようにし、ＱＨとなったらその後は、ガス圧力がＰＨとＰＬの間に納まるように、ガス流量をその下限値であるＱＬまで徐々に減量してガス圧力をその下限値であるＰＬとし、ＰＬとなったら、逆に、ガス流量をその上限値であるＱＨとなるまで徐々に増量してガス圧力をその上限値であるＰＨとなるようにし、この工程を繰り返して制御することが記載されていると認める。
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６３−２２９７１６号公報（以下、引用例２という。）には、
「温度調節が可能な支持台（１）上に載置した基板（２）をドライエッチングするに際に、該支持台（１）と基板（２）との間にガス（４）を送り、該基板の温度を測定し該ガスの圧力を変化させることにより該基板温度の制御を行うことを特徴とするドライエッチング方法。」（特許請求の範囲第１項）が記載されている。
３．本願発明と引用発明との対比・検討
３−１．本願発明２について
　本願発明２と引用発明とを比較すると、後者の「ウエハ」、「ガス」、「下部電極」および「ガス供給配管」は、前者の「試料」、「伝熱ガス」、「試料台」および「ガス供給手段」に相当し、後者の「ガス排出手段により所定の圧力に調節される処理室」と前者の「減圧排気される真空容器」とは、ともに「排気される容器」という点で共通するものであるから、
　両者は、「排気される容器と、該容器に設けられ該容器内で試料が配置・固定される試料配置面を有し該試料配置面が冷却される試料台と、前記試料の裏面と前記試料台の試料配置面との間に伝熱ガスを供給するガス供給手段とを具備する処理装置」である点において一致するが、
　以下の（１）、（２）の点で相違する。
（１）本願発明２は「ガス供給手段による前記伝熱ガスの初期供給時の流量を定常時の目標値より大きく設定し、前記初期供給後の定常時の前記伝熱ガスの流量を断続的に供給制御する制御手段を設けたことを特徴とする」とし、定常時の伝熱ガスの供給を断続的に行うとするとともに、それとは別に、定常時になる前の初期供給時におけるガス供給を、定常時の目標値より大きく設定するとしているのに対し、引用発明は、ガス圧力を設定された範囲に納まるように制御するのみで、初期供給時におけるガス供給および定常時のガス供給について特に限定していない点、
（２）本願発明２は、容器の排気の程度について、「減圧排気される真空」としているのに対し、引用発明は「ガス排出手段により調節される」所定の圧力とし、真空であるか否か不明である点。
　そこでまず、相違点（１）について検討する。
　引用例１には、引用発明の実施例として、プラズマ発生時の試料温度を最適温度に制御するべく、水ジャケットを用い、かつ、ガス流量を、導入時より徐々に増量してガス圧力がＰＨとなる上限値ＱＨとなるまで増量し、その後は、その上限値であるＱＨと下限値であるＱＬとの間に制御し、ガス圧力をＰＨとＰＬの間に納まるように制御することが記載され、ガス流量を導入時より徐々に増量してガス圧力の上限値ＱＨとすることが記載されているうえに、引用例１の全体の記載をみても、導入時のガス供給量を、ガス圧力をＰＨとＰＬの間に制御するのに必要な供給量の上限値であるＱＨよりも大きく設定することを示唆する記載はないから、引用例１の記載から、上記相違点（１）のうちの、初期供給時におけるガス供給を定常時の目標値より大きく設定するという構成を当業者が容易に想到できるとすることはできない。
　さらに、定常時においても、引用例１は、ＱＨとＱＬとの間となるように制御する実施例を示すにとどまり、その制御方法は、ガスを連続的に供給するものであり、ガスを断続的に供給するものでなく、引用例１の全体をみても、本願発明２におけるように、ガスを断続的に供給することを示唆する記載はない。
　そして、本願発明２は、上記相違点（１）に係る構成を採用することにより、処理開始時の試料の急激な温度上昇を抑制し、試料の温度を常に精度良く制御した状態で真空処理できるようにするという効果を有するものである（段落番号【００２８】、【００３９】参照）ところ、引用例１には、本願発明２における前記効果を予期させる記載もない。
　また、引用例２には、前記した内容が記載されているものの、本願発明２における前記した相違点（１）に係る構成およびその効果を示唆する記載はない。
　してみれば、相違点（２）について検討するまでもなく、本願発明２が引用例１および２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
３−２．本願発明１について
　本願発明１は真空処理方法に係る発明であり、本願発明２の真空処理装置に係る発明とはカテゴリーを異にするものであるが、本願発明１は、本願発明２の前記相違点（１）に係る構成を有するものである点において同じであるから、３−１に記載したのと同様の理由により、引用例１および２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、原査定の理由によっては本願を拒絶すべきものであるとすることはできない。
　また、他に、本願を拒絶すべきものであるとする理由を発見しない。
　よって、結論のとおり、審決する。