【手続補正書】
【提出日】平成17年11月14日(2005.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】  前記マスクレス露光手段によって露光パターンが両面に形成されたテスト用の基板を用いて、該露光パターンの鏡像関係からのズレを検出する検出手段と、
前記マスクレス露光手段が露光用データに基づいてマスクレス露光したときに基板の両面に形成される露光パターンの鏡像関係が維持されるように、前記検出手段によって検出されたズレを用いて該露光用データを補正する補正手段と、をさらに備える請求項１に記載のパターン描画装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】  前記検出手段は、
前記テスト用の基板を一方の面から撮像する撮像手段と、
前記露光手段による露光時は光を遮断し、前記撮像手段による撮像時は光を透過するよう前記テスト用の基板を制御する制御手段と、を備える請求項４に記載のパターン描画装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】  前記検出手段は、前記テスト用の基板を一方の面から撮像する撮像手段を備え、
前記テスト用の基板は、前記露光手段による露光時は光を遮断し、前記撮像手段による撮像時は光を透過する請求項４に記載のパターン描画装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】  前記インクジェットパターニング手段によってレジストパターンが両面に形成されたテスト用の基板を用いて、該レジストパターンの鏡像関係からのズレを検出する検出手段と、
前記インクジェットパターニング手段がレジストパターン用データに基づいてインクジェットで描画したときに基板の両面に形成されるレジストパターンの鏡像関係が維持されるように、前記検出手段によって検出されたズレを用いて該レジストパターン用データを補正する補正手段と、をさらに備える請求項９に記載のパターン描画装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】  前記検出手段は、前記テスト用の基板を一方の面から撮像する撮像手段を備え、
前記テスト用の基板は、光を透過するパネルを含んでなる請求項１１に記載のパターン描画装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】  基板に関して鏡像関係となる露光パターンを該基板の両面に形成するパターン描画方法であって、
テスト用の基板の両面をマスクレス露光手段でマスクレス露光することでテスト露光パターンを該テスト用の基板の両面に形成するテスト露光ステップと、
前記マスクレス露光手段によって前記テスト露光パターンが両面に形成された前記テスト用の基板を用いて、該テスト露光パターンの鏡像関係からのズレを検出する検出ステップと、
前記マスクレス露光手段が露光用データに基づいてマスクレス露光したときに基板の両面に形成される露光パターンの鏡像関係が維持されるように、前記検出ステップにおいて検出されたズレを用いて該露光用データを補正する補正ステップと、
前記マスクレス露光手段を用いて、前記補正ステップにおいて得られた補正された露光用データに基づいてマスクレス露光することで露光パターンを基板の両面に形成する本露光ステップと、を備えることを特徴とするパターン描画方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】  前記検出ステップは、
前記テスト用の基板を一方の面から撮像する撮像ステップと、
前記テスト露光ステップにおける露光時は光を遮断し、前記撮像ステップにおける撮像時は光を透過するよう前記テスト用の基板を制御する制御ステップと、を備える請求項１７に記載のパターン描画方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】  前記検出ステップは、前記テスト用の基板を一方の面から撮像する撮像ステップを備え、
前記テスト用の基板は、前記テスト露光ステップにおける露光時は光を遮断し、前記撮像ステップにおける撮像時は光を透過する請求項１７に記載のパターン描画方法。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】  前記テスト用の基板は、前記テスト露光ステップにおける露光時は露光光源からの照射光の透過を防ぎ、前記撮像ステップにおける撮像時は検査光に対する透過率が高くなる構造を有する液晶パネルを含んでなる請求項１８または１９に記載のパターン描画方法。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】  基板に関して鏡像関係となるレジストパターンを該基板の両面に形成するパターン描画方法であって、
テスト用の基板の両面をインクジェットパターニング手段で描画することでテストレジストパターンを該テスト用の基板の両面に形成するテストパターニングステップと、
前記インクジェットパターニング手段によって前記テストレジストパターンが両面に形成された前記テスト用の基板を用いて、該テストレジストパターンの鏡像関係からのズレを検出する検出ステップと、
前記インクジェットパターニング手段がレジストパターン用データに基づいてインクジェットで描画したときに基板の両面に形成されるレジストパターンの鏡像関係が維持されるように、前記検出ステップによって検出されたズレを用いて該レジストパターン用データを補正する補正ステップと、
前記インクジェットパターニング手段を用いて、前記補正ステップにおいて得られた補正されたレジストパターン用データに基づいて描画することでレジストパターンを基板の両面に形成する本パターニングステップと、を備えることを特徴とするパターン描画方法。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２５】  前記検出ステップは、前記テスト用の基板を一方の面から撮像する撮像ステップを備え、
前記テスト用の基板は、光を透過するパネルを含んでなる請求項２３に記載のパターン描画方法。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３０】  前記マスクレス露光手段が露光用データに基づいてマスクレス露光したときに基板の両面に形成される露光パターンの鏡像関係が維持されるように、前記検出手段によって検出されたズレを用いて該露光用データを補正する補正手段をさらに備える請求項２７に記載の検査装置。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３２】  前記インクジェットパターニング手段がレジストパターン用データに基づいて描画したときに基板の両面に形成されるレジストパターンの鏡像関係が維持されるように、前記検出手段によって検出されたズレを用いて該レジストパターン用データを補正する補正手段をさらに備える請求項３１に記載の検査装置。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の第１の態様によるパターン描画装置は、マスクレス露光手段によって露光パターンが両面に形成されたテスト用の基板を用いて、この露光パターンの鏡像関係からのズレを検出する検出手段と、マスクレス露光手段が露光用データに基づいてマスクレス露光したときに基板の両面に形成される露光パターンの鏡像関係が維持されるように、検出手段によって検出されたズレを用いてこの露光用データを補正する補正手段と、をさらに備えるのが好ましい。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本発明の第２の態様によるパターン描画装置は、インクジェットパターニング手段によって配線パターンが両面に形成されたテスト用の基板を用いて、配線パターンの鏡像関係からのズレを検出する検出手段と、インクジェットパターニング手段が配線用データに基づいてインクジェットで描画したときに基板の両面に形成される配線パターンの鏡像関係が維持されるように、検出手段によって検出されたズレを用いて配線用データを補正する補正手段と、をさらに備えるのが好ましい。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本実施例におけるマスクレス露光処理は、好ましくは基板５１の両面同時に実行されるが、これにより、基板の各面に別々にフォトマスクイメージを形成して各面別々に露光処理を行う従来例に比べて、製造に要する時間を大幅に短縮することができる。なお、本実施例の変形例として、マスクレス露光処理を基板の両面に同時に実行するのではなく各面ごとに時間的な差を設けて実行してもよい。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
本実施例においても、第１の実施例の場合と同様に、より効率的なパターニングを実現するためには、基板のＡ面およびＢ面の両面をインクジェットパターニングするために対面して設けられるインクジェットヘッドの組を、図２に示すように並列に複数個備えるのが好ましい。この場合、描画対象である基板の基板面上の描画すべき領域が、インクジェットヘッドの組ごとに割り当てられ、基板の相対的な動きに同期して、それぞれが並列にインクジェットパターニング処理を実行する。この並列処理のために、レイアウト設計データを、インクジェットヘッドごとに割り当てられるように空間的に分割してデータベースに保存するのが好ましい。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
テスト用エッチングレジストパターンデータ１１０は、基板のＡ面にエッチングレジストパターンを形成するための各種処理を実行するＡ面用データ処理システム１３０と基板のＢ面にエッチングレジストパターンを形成するための各種処理を実行するＢ面用データ処理システム１２０とにそれぞれ入力される。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
Ａ面用データ処理システム１３０のステップ１３１では、Ｇｅｒｂｅｒフォーマットのテスト用エッチングレジストパターンデータ１１０をＡ面用のベクトルデータのフォーマットに変換する。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
一方、Ｂ面用データ処理システム１２０のステップ１２１では、Ｇｅｒｂｅｒフォーマットのテスト用エッチングレジストパターンデータ１１０をＢ面用のベクトルデータに変換する。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
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