【手続補正書】
【提出日】平成18年9月19日(2006.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１電極、発光層を含む層および第２電極を有する表示素子を備えた表示装置であって、
前記第１電極が前記発光層で発生した光に対して半透過性の半透過性電極を有すると共に、前記発光層で発生した光を前記半透過性電極と前記第２電極との間で共振させる共振器構造が構成されており、
前記半透過性電極の前記発光層を含む層側の面に接して、第１の保護層を有し、
前記半透過性電極の前記基板側の面に接して、第２の保護層を有している
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記半透過性電極と前記第２電極との間の光学的距離Ｌは数１を満たす
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
（数１）
（２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
（式中、Ｌは半透過性電極と第２電極との間の光学的距離、Φは半透過性電極で生じる反射光の位相シフトΦ1 と第２電極で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬが正となる整数をそれぞれ表す。）
【請求項３】
前記半透過性電極は、アルミニウム（Ａｌ），モリブデン（Ｍｏ），チタン（Ｔｉ）およびクロム（Ｃｒ）からなる群のうちの少なくとも１種を含む金属または合金により構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記半透過性電極は、パラジウム（Ｐｄ），ネオジウム（Ｎｄ），サマリウム（Ｓｍ），イットリウム（Ｙ），セリウム（Ｃｅ），ユウロピウム（Ｅｕ），ガドリニウム（Ｇｄ），テルビウム（Ｔｂ），ジスプロシウム（Ｄｙ），エルビウム（Ｅｒ），イッテルビウム（Ｙｂ），スカンジウム（Ｓｃ），ルテニウム（Ｒｕ），銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）からなる群のうちの少なくとも１種の元素と、銀（Ａｇ）とを含む合金により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１の保護層は、前記半透過性電極よりも仕事関数の高い材料よりなる
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１の保護層は、インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），ガリウム（Ｇａ），アルミニウム（Ａｌ）およびモリブデン（Ｍｏ）からなる群のうちの少なくとも一種を含む酸化物または窒化物により構成された
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項７】
前記第２の保護層は、インジウム（Ｉｎ），スズ（Ｓｎ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），ガリウム（Ｇａ），アルミニウム（Ａｌ）およびモリブデン（Ｍｏ）からなる群のうちの少なくとも１種を含む酸化物または窒化物により構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項８】
基板上に第１電極、発光層を含む層および第２電極を有する表示素子を備えた表示装置の製造方法であって、
基板上にＴＦＴおよび平坦化層を形成する工程と、
前記平坦化層上に第２の保護層、第１電極および第１の保護層を順に連続して成膜する工程と、
前記第２の保護層、前記第１電極および前記第１の保護層を一括してエッチングによりパターニングする工程と、
前記第１の保護層上に発光層を含む層を形成する工程と、
前記発光層を含む層上に前記第２電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記半透過性電極と前記第２電極との間の光学的距離Ｌは数２を満たす
ことを特徴とする請求項８記載の表示装置の製造方法。
（数２）
（２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
（式中、Ｌは半透過性電極と第２電極との間の光学的距離、Φは半透過性電極で生じる反射光の位相シフトΦ1 と第２電極で生じる反射光の位相シフトΦ2 との和（Φ＝Φ1 ＋Φ2 ）（ｒａｄ）、λは取り出したい光のスペクトルのピーク波長、ｍはＬが正となる整数をそれぞれ表す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置およびその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示装置およびその製造方法に係り、特に、有機発光素子のような自発光素子を備えた表示装置およびその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、単純な構成で、色再現性を向上させることができる表示装置およびその製造方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、第１電極の劣化や剥離を抑えることができる表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明による表示装置は、基板上に第１電極、発光層を含む層および第２電極を有する表示素子を備えたものであって、第１電極が発光層で発生した光に対して半透過性の半透過性電極を有すると共に、発光層で発生した光を半透過性電極と第２電極との間で共振させる共振器構造が構成されており、半透過性電極の発光層を含む層側の面に接して、第１の保護層を有し、半透過性電極の基板側の面に接して、第２の保護層を有しているものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明による表示装置の製造方法は、基板上に第１電極、発光層を含む層および第２電極を有する表示素子を備えた表示装置を製造するものであって、基板上にＴＦＴおよび平坦化層を形成する工程と、平坦化層上に第２の保護層、第１電極および第１の保護層を順に連続して成膜する工程と、第２の保護層、第１電極および第１の保護層を一括してエッチングによりパターニングする工程と、第１の保護層上に発光層を含む層を形成する工程と、発光層を含む層上に第２電極を形成する工程とを含むものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明による表示装置では、第１電極が発光層で発生した光に対して半透過性の半透過性電極を有すると共に、発光層で発生した光を半透過性電極と第２電極との間で共振させる共振器構造が構成されているので、発光層で発生した光が半透過性電極と第２電極との間で多重干渉を起こし、共振波長の光だけが増幅されて第１電極の側から取り出される。よって、取り出される光のスペクトルのピーク幅が狭くなるとともに発光強度が高くなり、表示装置における色再現範囲が拡大される。また、第１の保護層および第２の保護層により、半透過性電極が保護されると共に半透過性電極の剥離が防止される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の表示装置によれば、第１電極が発光層で発生した光に対して半透過性の半透過性電極を有するようにし、発光層で発生した光を半透過性電極と第２電極との間で共振させる共振器構造を構成するようにしたので、第１電極の他に多層反射膜などを設ける必要がなく、共振器の構成を単純にすることができる。よって、単純な構成で、取り出される光のスペクトルのピーク幅を狭くすると共に発光強度を高め、表示装置における色再現性を高めることができる。また、コストを低減し、歩留りを向上させることができる。
これらの効果に加えて、更に、半透過性電極の発光層を含む層側の面に接して第１の保護層を備えるようにしたので、空気中の酸素あるいは硫黄成分により半透過性電極が劣化したり自然酸化膜が生成されたりすることを防止することができると共に、半透過性電極を形成した後の製造工程において使用される薬液などから半透過性電極を保護することができる。
また、半透過性電極の基板側の面に接して第２の保護層を備えるようにしたので、半透過性電極の基板側の面を保護することができ、半透過性電極を形成する前の製造工程において下地の層に吸着した空気中の水分，酸素あるいは硫黄成分により半透過性電極の基板側の面が劣化したり自然酸化膜が生成されないようにすることができる。また、半透過性電極が剥離するのを防止することができる。特に、半透過性電極を銀または銀を含む合金により構成した場合には、第２の保護層により半透過性電極の密着性の低さを補うことができる。
本発明の表示装置の製造方法によれば、第２の保護層、第１電極および第１の保護層を連続して成膜するようにしたので、第１電極に自然酸化膜が生成されるのを防止することができる。特に、第１電極が銀を含む場合には、第１電極を構成する銀または銀を含む合金が空気中の酸素または硫黄成分と反応することを防止することができる。また、第１電極を形成した後の製造工程においても第１電極に対するダメージを緩和し、第２の保護層と第１電極との界面および第１電極と第１の保護層との界面を清浄に保つことができる。
更に、第２の保護層、第１電極および第１の保護層を連続して成膜したのち一括してエッチングによりパターニングするようにしたので、一層ずつ成膜およびパターニングする場合に比べて、第１電極の劣化を防止することができる。よって、特に第１電極を銀または銀を含む合金のような反応性の高い材料により構成する場合に好適である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
〔第１の実施の形態〕
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る表示装置の断面構造を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、ガラスなどの絶縁材料よりなる透明な基板１１の上に、ＴＦＴ１２、カラーフィルタ１３および平坦化層１４を介して、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に設けられている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図１に示した封止用基板２１は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第２電極１８の側に位置しており、接着層２０と共に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止している。封止用基板２１は、例えば、ガラスなどの絶縁材料により構成されている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
次に、図９に示したように、第２電極１８の上に、例えばＣＶＤ法により、上述した膜厚および材料よりなる保護膜１９を形成する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
保護膜１９を形成したのち、図１０に示したように、基板１１の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを形成した側に、熱硬化型樹脂よりなる接着層２０を塗布形成する。塗布は、例えば、スリットノズル型ディスペンサーから樹脂を吐出させて行うようにしてもよく、ロールコートあるいはスクリーン印刷などにより行うようにしてもよい。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
次いで、図１に示したように、基板１１と封止用基板２１とを接着層２０を介して貼り合わせる。その際、接着層２０に気泡などが混入しないようにすることが好ましい。そののち、加熱処理または紫外線照射により接着層２０を硬化させる。以上により、図１および図２に示した表示装置が完成する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
そののち、図５（Ｂ）ないし図１０に示したように、第１の実施の形態と同様にして、絶縁膜１６，有機層１７，第２電極１８および保護膜１９を形成し、基板１１と封止用基板２１とを接着層２０を介して貼り合わせる。以上により、図１１に示した表示装置が完成する。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
そののち、図５（Ｂ）ないし図１０に示したように、第１の実施の形態と同様にして、絶縁膜１６，有機層１７，第２電極１８および保護膜１９を形成し、基板１１と封止用基板２１とを接着層２０を介して貼り合わせる。以上により、図１４に示した表示装置が完成する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
更にまた、例えば、上記実施の形態および上記実施例では、第１電極１５を陽極、第２電極１８を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１５を陰極、第２電極１８を陽極としてもよい。