【事件の表示】
　平成　５年特許願第２９８８１４号「磁気ディスク媒体用基板」拒絶査定に対する審判事件［平成　７年　６月１６日出願公開、特開平　７−１５３０６８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成５年１１月３０日に出願されたものであって、平成１２年１２月２８日付け手続補正で補正された明細書および図面の記載からみて、本願請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。」）は、明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
　【請求項１】「磁気ヘッドの浮上量が０．０５μｍ以下で磁気記録再生する磁気ディスク媒体用基板であって、テクスチャー加工前の基板の表面粗さがＲａ≦２０Åであり、テクスチャー加工後の基板の円周方向の粗さがＲａ≦２０Åで半径方向の粗さＲａより小さいことを特徴とする磁気ディクス媒体用基板。」
　
ＩＩ．引用例
  これに対して、原査定の拒絶の理由で引用された特開平５−２３４０５４号公報（以下、「引用例」という。）には、
　（i）「【請求項１】　表面に磁性層を形成して磁気ディスク媒体とするＮｉ−Ｐ被膜を形成したアルミニウム合金基板よりなる磁気ディスク媒体用基板において、前記Ｎｉ−Ｐ被膜の表面にテクスチャ加工を施した後の基板表面における中心線平均粗さが、２Å≦Ｒａ≦２０Åであることを特徴とする磁気ディスク媒体用基板。」（許請求の範囲参照）、および、
　（ii）「【０００１】　【産業上の利用分野】　本発明は、高記録密度磁気ディスク装置に用いる磁気ヘッドスライダが、磁気ディスク媒体との相対運動による空気の動圧力で媒体上に浮上する方式において使用する磁気ディスク媒体に用いる磁気ディスク媒体用基板に関する。」（段落【０００１】参照）こと、
　（iii）「【０００５】　従来の記録媒体とスライダとの駆動状態を図５ａに、図５ａのＡ部の拡大図を図５ｂに示す。実際の記録再生は、スライダ１に設けられたヘッドギャップ２によって、スライダ１と記録媒体との間につくられる浮上量４（０．２μｍ−０．３μｍ）が記録媒体の移動方向に発生するスライダ１との間の空気流５により保持されて、磁気ディスク媒体用基板（以下基板という）３の表面に形成されている磁性層６において行われる。通常のＣＳＳ（コンタクト，スタート，ストップ）方式においては、スライダと記録媒体との吸着防止効果をもたせ、かつ媒体の円周方向での十分な磁気異方性を実現することを目的にして、基板表面には図５ｂにその断面の拡大図として示されるような凹凸を含む所定形状のテクスチャが形成されている。このテクスチャの断面方向の表面形状の測定例を図６に示す。この測定例では、最大粗さ（Ｒｍａｘ）は８００Å，中心線平均粗さ（Ｒａ）は９０Åであった。」（段落【０００５】参照）こと、
　（iv）「【００１０】　【発明が解決しようとする課題】　高密度記録を達成するために低浮上化を行う場合、浮上量の減少に伴ってスライダと記録媒体との接触が起こりやすくなるという問題がある。従来のＲａの大きいテクスチャ加工を施した従来の基板では、図５ｂのような極めて大きな粗さをもつため、磁性層６を形成した後の記録媒体の表面には平均より高い突起（Ｐ部）が存在しやすく、前記高い突起とスライダとの接触によるダストの発生が、最終的にはヘッドクラッシュという致命的な問題の原因になる可能性が高い。」（段落【００１０】参照）こと、
　（v）「【００１１】　また、従来のテクスチャをもつ従来の基板では、粗さの絶対量が大きい分だけ浮上量も大きく、ヘッドの記録能力が情報信号の検出に対して不足する場合も起こる。すなわち、図５ｂのようにテクスチャ溝の深い場所（Ｑ部）では、ヘッドと磁性層６との距離が大きく、低周波数で記録した信号に高周波信号を重ね書きするときに、Ｑ部でのヘッド磁界が弱すぎて低周波信号を完全に消去できず、いわゆるオーバーライト特性が低下する現象が発生し、その傾向は記録媒体の高保持力化にともなって顕著になり、高密度記録の障害となる。」（段落【００１１】参照）こと、
　（vi）「【００１４】　本発明は上記従来の問題を解決するもので、テクスチャ加工後の基板の表面粗度を可能な限り小さくすることにより、低浮上状態での信頼性向上と高保磁力媒体に対するオーバーライト特性を同時に向上させ、高密度記録を可能とした磁気ディスク媒体用基板を提供することを目的とする。」（段落【００１４】参照）こと、
　（vii）「【００１５】　上記目的を達成するために本願発明では、基板の磁気異方性を保持しつつ、表面粗度Ｒａとして、２Å≦Ｒａ≦２０Åのテクスチャ加工を基板表面に施すことを特徴とする。」（段落【００１５】参照）こと、
　（viii）「【００１７】　【作用】上記の構成によって磁気的には十分な磁気異方性が得られ、かつ必然的に粗さの中心線から突起部までの高さが極めて小さくなるため、０．１μｍ以下の低浮上においてもスライダと記録媒体表面の接触が防止され、ヘッドクラッシュの直接原因であるダストの発生をほぼ完全には制御でき、信頼性が向上する。　【００１８】　低浮上の実現によって、スペーシング・ロスは減少し、出力は増加する。また、高密度記録に要請される高周波信号による高保磁力媒体への記録が可能となり、高保磁力媒体に対する低周波信号での書き込み後、高周波信号で重ね書きするオーバーライト特性の数ｄＢ以上の向上が可能となる。」（段落【００１７】，【００１８】参照）こと、
　（ix）「【００１９】　【実施例】　本発明は、アルミニウム合金基板の表面に表面硬度向上の目的でＮｉ−Ｐ被膜をめっきした基板を、酸化アルミニウムなどの微細砥粒を付着させたテープを用いて研磨することによるものであり、テクスチャは同心円状に加工される。　テクスチャ形成方法は簡明であるが、表面硬度が高いためテクスチャ表面の形状は安定かつ均一であった。　また、使用する微細砥粒の粒度を変えることにより、表面粗度Ｒａが１Å程度の基板を再現性よく作製できた。」（段落【００１９】参照）こと、
　（x）「【００２３】　（前略）・・・、浮上量を０．１μｍ以下とした場合において基板とスライダが接触しない状態を安定に保つには、基板のＲａが２０Å以下であることの必要性が確認できた。」（段落【００２３】参照）こと、が記載され、
　（xi）図５（ａ）（ｂ）と図６には、段落【０００５】，【００１０】，【００１１】で説明されているとおりの図が示されている。
　
　これらの記載からすると、引用例には、低浮上状態でもスライダと記録媒体表面の接触が防止されヘッドクラッシュの直接原因であるダストの発生をほぼ完全に抑制でき、信頼性を向上させ、磁気異方性が十分に得られた磁気ディスク媒体用基板に関し、「磁気ヘッドの浮上量が０．１μｍ以下で磁気記録再生する、表面に磁性層を形成して磁気ディスク媒体とするＮｉ−Ｐ被膜を形成したアルミニウム合金基板よりなる磁気ディスク媒体用基板において、前記Ｎｉ−Ｐ被膜の表面に同心円状にテクスチャ加工を施した後の基板表面における中心線平均粗さが、２Å≦Ｒａ≦２０Åである磁気ディスク媒体用基板。」の発明が記載されているものと認められる。
　
ＩＩＩ．対比、判断
　本願発明と引用例に記載された発明と対比する。　　なお、両発明では「中心線平均粗さ」と「表面粗さ」と「粗さ」と「表面粗度」の用語は、いずれも中心線平均粗さＲａと同義で用いられている（以下、いずれの表現でも同じ意味で用いる。）。
　両発明は、磁気異方性に優れ、低浮上化と高密度化を可能とし、高信頼性のものとした「磁気ヘッドの低浮上量で磁気記録再生する磁気ディスク媒体用基板であって、テクスチャー加工後の基板の中心線平均粗さがＲａ≦２０Åである磁気ディクス媒体用基板。」の発明である点で一致し、他方、両発明は次の（１）〜（３）の点で一応相違している。
　（１）磁気ヘッドの浮上量に関して、引用例記載の発明では０．１μｍ以下としているのに対して、本願発明では０．０５μｍ以下としている点、
　（２）テクスチャー加工前の基板として、引用例記載の発明ではその表面粗さについて言及がないのに対して、本願発明ではその表面粗さがＲａ≦２０Åであるとしている点、
　（３）テクスチャー加工後の基板表面における中心線平均粗さに関して、方向について特定していないのに対して、本願発明ではテクスチャー加工後の基板の円周方向の粗さがＲａ≦２０Åで半径方向の粗さＲａより小さいとしている点。
　
　以下、これらの相違点について（３）（２）（１）の順に検討する。　
　（３）の点について
　（3-i）引用例記載の発明では同心円状にテクスチャー加工を施しているのであるから、円周方向の表面粗さは半径方向の表面粗さよりも小さくなるものと認められる。
　なお、本願でも、円周方向の表面粗さが半径方向の表面粗さよりも小さくなることは、当初明細書に明示記載されていなかったのに補正によって加入された事項であるから、自明でなければ要旨変更となるものである。　ちなみに、本願明細書段落【００２０】に実例として半径方向の表面粗さがＲａ＝約６０Åと記載されていたけれども、この値が円周方向の表面粗さＲａ≦２０Åよりも大きいことは理解できても、それだけでは相対的な大小を抽出できる理由があるとはいえないところ、前記理由により当然のこととして補正の是非が問題視されていないにすぎない。
　（3-ii）引用例の図５（ａ）（ｂ）の記録再生時の磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの関係における基板表面のテクスチャーの凹凸（スライダの移動方向の凹凸が示されている。）と、図６のテクスチャーの断面方向の表面形状、およびそれらの説明（前記摘示（iii）〜（v））、そして磁気ヘッドスライダは記録再生時に円周方向に移動することから判断して、引用例記載の発明で着目されているテクスチャー加工を施した後の基板表面における中心線平均粗さは、円周方向の表面粗さであることは明らかと認められる。　　まして、半径方向の表面粗さよりも円周方向の表面粗さの方が小さくなることを勘案すると、引用例記載の発明の２Å≦Ｒａ≦２０Åとの規定がいずれの方向の表面粗さを意味するとしても、円周方向の表面粗さＲａは２０Åより小さくなることは明らかある。
　よって、（３）の点は実施的な相違点ではない。
　
　（２）の点について
　そもそも、テクスチャー加工前の表面粗さについてあえて言及するまでもなく、引用例記載の発明においてもテクスチャー加工後に本願発明と同程度の中心線表面粗さＲａのものが得られているのであるから、テクスチャー加工前の基板の表面粗さの規定はそれだけでは格別の技術的意義を持たない（仮に、テクスチャー加工前の表面粗さが本願発明の規定のＲａ≦２０Åを満たさないと加工後の表面粗さもテクスチャー加工では達成出来ないのであれば、引用例記載の発明においてもテクスチャー加工前の基板の表面粗さが本願発明と同じであったものというしかなくなる。）。　　まして、所望の小さい表面粗さを得るのに予めその表面粗さを小さくしておくことが効率的であると考えるのが自然の理であるから、当業者であれば、テクスチャー加工後の表面粗さＲａを所望の小さい値にするに当たって、加工前の表面粗さを小さくしておく程度のことは当然想い到ることであり、テクスチャー加工前の表面粗さをＲａ≦２０Åに設定することに格別の困難性は認められない。
　
　（１）の点について
　引用例記載の発明では、磁気ヘッドの浮上量を０．１μｍ以下にすると説明されているところ、その浮上量が小さいほどスペーシング・ロスが減少し出力が増加するのであるから、浮上量が小さいほど良いのである。　一方、低浮上を達成するための阻害となる磁気ヘッドスライダと記録表面の接触を防止するために表面粗さをＲａ≦２０Åと小さくしているところ、Ｒａとして１Å程度でも再現性よく基板を作成できることが明示されているのであるから、０．１μｍより遙かに小さい浮上量の場合も意図されていることが自ずと明らかである。
　してみれば、当業者であれば、引用例の浮上量の許容範囲を０．１μｍ以下において検討することを当然想起することいえるので、浮上量を０．０５μｍ以下になし得ることを見出すことに格別の困難性は認められない。
　
　なお、審判請求理由において請求人は、本願発明が、「うねりというパラメータに着目」していること、および、ポリシング加工の次にテクスチャー加工したものであることを主張しているけれども、いずれも本願発明の構成ではないから、これらの主張は失当である。
　
　以上の通りであるから、本願発明は、引用例に記載され発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認める。
　
ＩＶ．むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定による特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。