【手続補正書】
【提出日】平成18年8月4日(2006.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ａ）で表される脂環式エポキシ化合物と、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤及びアニオン重合型の触媒型硬化剤から選ばれる少なくとも１種の顕在型硬化剤を含有することを特徴とする硬化組成物。
【化１】
2005060520.tif 000001
〔式中、Ｒ100は置換基を表し、ｍ０は０〜２の整数を表す。ｒ０は１〜３の整数を表す。Ｌ0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。〕
【請求項２】
前記一般式（Ａ）で表される脂環式エポキシ化合物と、分散型硬化剤、熱分解型硬化剤、湿気硬化型硬化剤、モレキュラーシーブ封入型硬化剤及びマイクロカプセル化硬化剤から選ばれる少なくとも１種の潜在型硬化剤を含有することを特徴とする硬化組成物。
【請求項３】
前記一般式（Ａ）で表される脂環式エポキシ化合物と、硬化剤として塩基増殖剤組成物を含有することを特徴とする硬化組成物。
【請求項４】
オキセタン環を有する化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の硬化組成物。
【請求項５】
前記オキセタン環を有する化合物の少なくとも１種が、下記一般式（Ｅ）で表される化合物であることを特徴とする請求項４に記載の硬化組成物。
【化２】
2005060520.tif 000002
〔式中、Ｒ1〜Ｒ6はそれぞれ水素原子、または置換基を表す。ただし、Ｒ3〜Ｒ6で表される基の少なくとも１つは置換基である。〕
【請求項６】
前記一般式（Ａ）で表される脂環式エポキシ化合物の分子量が、２５０〜６００であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の硬化組成物。
【請求項７】
前記一般式（Ａ）で表される脂環式エポキシ化合物が、下記一般式（Ｉ）または（II）で表される脂環式エポキシド化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の硬化組成物。
【化３】
2005060520.tif 000003
〔式中、Ｒ101は置換基を表し、ｍ１は０〜２の整数を表す。ｒ１は１〜３の整数を表す。Ｌ1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。〕
【化４】
2005060520.tif 000004
〔式中、Ｒ102は置換基を表し、ｍ２は０〜２の整数を表す。ｒ２は１〜３の整数を表す。Ｌ2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。〕
【請求項８】
オキセタン環を有する化合物及びエステル結合を２つ以上有する脂環式エポキシ化合物を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の硬化組成物。
【請求項９】
前記エステル結合を２つ以上有する脂環式エポキシ化合物が、下記一般式（III）または（IV）で表されることを特徴とする請求項８記載の硬化組成物。
【化５】
2005060520.tif 000005
〔式中、Ｒ200はオキシラン環のα、β位以外の脂肪族基を表し、ｍ３は０〜２の整数を表す。Ｘ1は−（ＣＨ2）n0−または−（Ｏ）n0−を表し、ｎ０は０または１を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表し、同時に０をとることはない。ｒ３は１〜３の整数を表す。Ｌ3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ３＋１価の分岐構造を有する連結基または単結合を表す。〕
【化６】
2005060520.tif 000006
〔式中、Ｒ201はオキシラン環のα、β位以外の脂肪族基を表し、ｍ４は０〜２の整数を表す。Ｘ2は−（ＣＨ2）n1−または−（Ｏ）n1−を表し、ｎ１は０または１を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表し、同時に０をとることはない。ｒ４は１〜３の整数を表す。Ｌ4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ４＋１価の分岐構造を有する連結基または単結合を表す。〕
【請求項１０】
２５℃における粘度が７〜５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の硬化組成物。
【請求項１１】
顔料を含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の硬化組成物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布した後、加熱処理して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク。
【請求項１５】
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に印字した後、加熱処理して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に印字した後、活性エネルギー線を照射して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
【請求項１７】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布し、その後加熱処理して硬化物を形成することを特徴とする硬化物形成装置。
【請求項１８】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布し、その後、活性エネルギー線を照射して硬化物を形成することを特徴とする硬化物形成装置。
【請求項１９】
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に吐出し、該基材上に吐出されたインクに対し、加熱処理して硬化物を形成することを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２０】
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に吐出し、基材上に吐出されたインクに対し、活性エネルギー線を照射して硬化物を形成することを特徴とするインクジェット記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】硬化組成物とそれを用いたインクジェット用インク、硬化物形成方法、硬化物形成装置及びインクジェット記録装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
〔式中、Ｒ201はオキシラン環のα、β位以外の脂肪族基を表し、ｍ４は０〜２の整数を表す。Ｘ2は−（ＣＨ2）n1−または−（Ｏ）n1−を表し、ｎ１は０または１を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表し、同時に０をとることはない。ｒ４は１〜３の整数を表す。Ｌ4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ４＋１価の分岐構造を有する連結基または単結合を表す。〕
（請求項１０）
２５℃における粘度が７〜５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の硬化組成物。
（請求項１１）
顔料を含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の硬化組成物。
（請求項１２）
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布した後、加熱処理して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
（請求項１３）
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
（請求項１４）
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク。
（請求項１５）
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に印字した後、加熱処理して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
（請求項１６）
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に印字した後、活性エネルギー線を照射して硬化物を得ることを特徴とする硬化物形成方法。
（請求項１７）
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布し、その後加熱処理して硬化物を形成することを特徴とする硬化物形成装置。
（請求項１８）
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化組成物を基材に塗布し、その後、活性エネルギー線を照射して硬化物を形成することを特徴とする硬化物形成装置。
（請求項１９）
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に吐出し、該基材上に吐出されたインクに対し、加熱処理して硬化物を形成することを特徴とするインクジェット記録装置。
（請求項２０）
請求項１４に記載のインクジェット用インクを基材上に吐出し、基材上に吐出されたインクに対し、活性エネルギー線を照射して硬化物を形成することを特徴とするインクジェット記録装置。