【手続補正書】
【提出日】平成18年10月10日(2006.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を保持して移動する原版ステージと、
基板を保持して移動する基板ステージと、
前記原版のパターンの一部を前記基板上に投影する投影光学系と、
前記原版のパターンおよび前記投影光学系を介して前記基板の露光領域がスキャン露光されるように、前記原版ステージの移動を制御し、さらに、前記露光領域が、アライメント計測が行われるアライメント計測位置に位置し、かつ該アライメント計測の結果に基づいてスキャン移動するように、前記基板ステージの移動を制御する制御手段と、
オフアクシスアライメントスコープを有し、前記オフアクシスアライメントスコープを用いて、前記アライメント計測位置に位置する前記露光領域に付随する複数のアライメントマークについて、前記アライメント計測を同時に行うアライメント計測手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記基板の各露光領域が、まず前記アライメント計測位置に位置し、次に前記アライメント計測の結果に基づいてスキャン移動するように、前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記スキャン露光が開始されるまでに前記露光領域が前記アライメント計測位置から移動する距離は、前記基板ステージが静止状態から前記スキャン移動の方向に加速を開始してから前記スキャン移動の速度に整定するのに要する距離に一致することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記アライメント計測手段は、前記露光領域に付随する複数のアライメントマークをそれぞれ撮像する複数のオフアクシスアライメントスコープを有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記オフアクシスアライメントスコープは、撮像素子と、前記露光領域に付随する複数のアライメントマークの像を前記撮像素子上に投影する手段とを備え、前記撮像素子により、前記複数のアライメントマークを同時に撮像することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記スキャン移動の方向において前記投影光学系に関し互いに反対側に存在する２組の前記アライメント計測位置および前記アライメント計測手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記露光領域の１つについて一方の前記アライメント計測位置を経てスキャン露光が完了した後、前記スキャン移動の方向に直交する方向において隣接する別の露光領域についてスキャン露光を行う場合、該完了の後、他方の前記アライメント計測位置に該別の露光領域が位置するように前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記オフアクシスアライメントスコープのベースライン補正量を計測する手段を具備することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の目的は、かかる従来技術の問題点に鑑み、スループットの低下を抑えつつ、各露光領域についてのアライメント計測を行うことができる露光装置およびデバイス製造方法を提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明の露光装置は、原版を保持して移動する原版ステージと、
基板を保持して移動する基板ステージと、
前記原版のパターンの一部を前記基板上に投影する投影光学系と、
前記原版のパターンおよび前記投影光学系を介して前記基板の露光領域がスキャン露光されるように、前記原版ステージの移動を制御し、さらに、前記露光領域が、アライメント計測が行われるアライメント計測位置に位置し、かつ該アライメント計測の結果に基づいてスキャン移動するように、前記基板ステージの移動を制御する制御手段と、
オフアクシスアライメントスコープを有し、前記オフアクシスアライメントスコープを用いて、前記アライメント計測位置に位置する前記露光領域に付随する複数のアライメントマークについて、前記アライメント計測を同時に行うアライメント計測手段とを具備することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
さらに、本発明の露光装置においては、前記制御手段は、前記基板の各露光領域が、まず前記アライメント計測位置に位置し、次に前記アライメント計測の結果に基づいてスキャン移動するように、前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに、本発明の露光装置においては、前記スキャン露光が開始されるまでに前記露光領域が前記アライメント計測位置から移動する距離は、前記基板ステージが静止状態から前記スキャン移動の方向に加速を開始してから前記スキャン移動の速度に整定するのに要する距離に一致することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
さらに、本発明の露光装置においては、前記アライメント計測手段は、前記露光領域に付随する複数のアライメントマークをそれぞれ撮像する複数のオフアクシスアライメントスコープを有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
さらに、本発明の露光装置においては、前記オフアクシスアライメントスコープは、撮像素子と、前記露光領域に付随する複数のアライメントマークの像を前記撮像素子上に投影する手段とを備え、前記撮像素子により、前記複数のアライメントマークを同時に撮像することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
さらに、本発明の露光装置においては、前記スキャン移動の方向において前記投影光学系に関し互いに反対側に存在する２組の前記アライメント計測位置および前記アライメント計測手段を有することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
さらに、本発明の露光装置においては、前記制御手段は、前記露光領域の１つについて一方の前記アライメント計測位置を経てスキャン露光が完了した後、前記スキャン移動の方向に直交する方向において隣接する別の露光領域についてスキャン露光を行う場合、該完了の後、他方の前記アライメント計測位置に該別の露光領域が位置するように前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
さらに、本発明の露光装置においては、前記オフアクシスアライメントスコープのベースライン補正量を計測する手段を具備することを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらに、本発明のデバイス製造方法は、前記露光装置を用いて基板を露光するステップを有することを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
以上のように、本発明によれば、スループットの低下を抑えつつ、各露光領域についてのアライメント計測を行うことができる露光装置およびデバイス製造方法を提供することができる。