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【手続補正書】
【提出日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  画像が形成されたシートが載置される読取ガラスと、
前記読取ガラスの読取位置に送り込まれた前記シートを前記読取位置から送り出す搬送回転体及び前記読取ガラスに載置された前記シートを前記搬送回転体とともに前記読取ガラスに押圧可能な弾性を有する押さえ部材を有して前記読取ガラスに対して開閉可能なシート送り部と、
前記読取ガラスに載置された前記シートを前記読取ガラスの下方で移動して読み取り、前記読取位置に送り込まれた前記シートを前記読取位置で停止して読み取る読取手段と、
前記シート送り部で前記読取ガラスを閉じて前記押さえ部材で前記シートを前記読取ガラスに押圧した後、前記搬送回転体を押圧して前記搬送回転体が前記シートを前記読取ガラスに押圧するようにする押圧手段と、
を備えたことを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】 画像が形成されたシートが載置される読取ガラスと、
前記読取ガラスの読取位置に送り込まれた前記シートを前記読取位置から送り出す搬送回転体及び前記読取ガラスに載置された前記シートを前記搬送回転体とともに前記読取ガラスに押圧可能な弾性を有する押さえ部材を有して前記読取ガラスに対して開閉可能なシート送り部と、
前記読取ガラスに載置された前記シートを前記読取ガラスの下方で移動して読み取り、前記読取位置に送り込まれた前記シートを前記読取位置で停止して読み取る読取手段と、 前記シート送り部で前記読取ガラスを閉じて前記押さえ部材で前記シートを前記読取ガラスに押圧した後、前記搬送回転体が前記シートを前記読取ガラスに押圧できる位置に前記搬送回転体を位置決めする位置決め手段と、
を備えたことを特徴とする画像読取装置。
【請求項３】 前記押圧手段は、前記搬送回転体を前記読取ガラスに圧接する方向に付勢する付勢部材と、前記付勢部材に抗して前記搬送回転体を前記読取ガラスから離間する方向に牽引するプランジャとを有していることを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項４】 前記位置決め手段は、固定部材に設けられて前記搬送回転体を受け止める突部と、前記搬送回転体を前記突部に圧接させる付勢部材とを有していることを特徴とする請求項２に記載の画像読取装置。
【請求項５】 前記搬送回転体は、前記押さえ部材の一端側に配設され、前記押さえ部材の他端側でかつ前記読取ガラス側に、前記読取ガラスに載置された前記シートの端部を受け止めて位置を決める受け止め手段を配設したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項６】 前記搬送回転体は、前記シートが送り込まれてくる方向に対して交差する方向を向いたローラであり、前記ローラの両端は前記シート送り部に回転自在に設けられた１対の回動片に支持されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【請求項７】 シートに形成された画像を読み取る画像読取装置と、
前記画像読取装置によって読み取られた画像を被記録材に形成する画像形成手段と、を備え、
前記画像読取装置は、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像読取装置であることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
実施形態１の画像読取装置Ｋは、フレーム４９４で、読取ガラスである例えば原稿台ガラス８４を閉じて押さえ部材である例えば圧板５５でシートである例えば原稿を原稿台ガラス８４に押圧した後、搬送回転体である例えばプラテンローラ８を押圧してプラテンローラ８が原稿を原稿台ガラス８４に押圧するようにする押圧手段である例えばプランジャ５６を備えているので、プラテンローラ８が原稿を押圧するときの原稿の位置ずれを防止して、原稿の画像を確実に読み取ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
［実施態様２］  画像が形成されたシートが載置される読取ガラスと、前記読取ガラスの読取位置に送り込まれた前記シートを前記読取位置から送り出す搬送回転体及び前記読取ガラスに載置された前記シートを前記搬送回転体とともに前記読取ガラスに押圧可能な弾性を有する押さえ部材を有して前記読取ガラスに対して開閉可能なシート送り部と、前記読取ガラスに載置された前記シートを前記読取ガラスの下方で移動して読み取り、前記読取位置に送り込まれた前記シートを前記読取位置で停止して読み取る読取手段と、前記シート送り部で前記読取ガラスを閉じて前記押さえ部材で前記シートを前記読取ガラスに押圧した後、前記搬送回転体が前記シートを前記読取ガラスに押圧できる位置に前記搬送回転体を位置決めする位置決め手段と、を備えたことを特徴とする画像読取装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
実施態様２の画像読取装置Ｍは、フレーム４９４で読取ガラスである例えば原稿台ガラス４８４を閉じて押さえ部材である例えば圧板４５５で原稿を原稿台ガラス４８４に押圧した後、搬送回転体である例えばプラテンローラ４０８が原稿を原稿台ガラスに押圧できる位置にプラテンローラ４０８を位置決めする位置決め手段である例えば突き当て部４４８ｄ及びストッパ部４４８ｅを備えているので、プラテンローラ４０８が原稿を押圧するときの原稿の位置ずれを防止して、原稿の画像を確実に読み取ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
［実施態様５］  前記搬送回転体は、前記押さえ部材の一端側に配設され、前記押さえ部材の他端側でかつ前記読取ガラス側に、前記読取ガラスに載置された前記シートの端部を受け止めて位置を決める受け止め手段を配設したことを特徴とする実施態様１乃至４のいずれか１項に記載の画像読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月6日(2006.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮影装置、撮影方法およびプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る第１の撮影モードと、１回の撮影により前記合成画像に相当する画像を得る第２の撮影モードでの撮影が可能な撮影装置であって、
撮影時の撮影条件に応じて前記第１の撮影モードおよび前記第２の撮影モードのうち一方の撮影モードに設定可能な制御手段を有することを特徴とする撮影装置。
【請求項２】  撮影に関する情報を表示する表示手段を有し、
前記制御手段は、撮影時の撮影条件に応じて前記第１の撮影モードおよび前記第２の撮影モードのうち一方の撮影モードを選択し、この選択された撮影モードに関する情報を前記表示手段に表示させることを特徴とする請求項１に記載の撮影装置。
【請求項３】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る撮影装置であって、
撮影時の撮影条件に応じて、各画像の撮影時間又は撮影数を変更する制御手段を有することを特徴とする撮影装置。
【請求項４】  前記撮影条件が、撮影光学系の焦点距離、撮像素子の感度、絞り又は被写体輝度であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の撮影装置。
【請求項５】  前記複数の画像のうち各画像における特定点を抽出し、基準画像上での特定点に対する他の画像上での特定点の変位量を検出する変位量検出手段と、
この変位量検出手段の検出結果に基づいて、前記他の画像の座標変換を行う座標変換手段と、
前記基準画像および前記座標変換手段で座標変換された他の画像を合成する合成手段とを有することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の撮影装置。
【請求項６】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る第１の撮影モードと、１回の撮影により前記合成画像に相当する画像を得る第２の撮影モードでの撮影が可能な撮影装置であって、
音を発する発音手段を有し、
前記発音手段は、前記第１の撮影モードでの撮影における最初の撮影および最後の撮影のときに音を発し、前記第２の撮影モードでの撮影における撮影開始および撮影完了のときに音を発することを特徴とする撮影装置。
【請求項７】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る撮影装置であって、
複数の画像のうち各画像における特定点を抽出し、基準画像上での特定点に対する他の画像上での特定点の変位量を検出する変位量検出手段と、
この変位量検出手段の検出結果に基づいて、前記他の画像の座標変換を行う座標変換手段と、
前記基準画像および前記座標変換手段で座標変換された他の画像を合成する合成手段と、
装置本体に加わる振動を検出する振動検出手段と、
装置動作を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記振動検出手段の検出結果および撮影時の撮影条件に応じて、一旦撮影を終了してから撮影を再開させることを特徴とする撮影装置。
【請求項８】  前記撮影条件が、撮影光学系の焦点距離であることを特徴とする請求項７に記載の撮影装置。
【請求項９】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る第１の撮影モードと、１回の撮影により前記合成画像に相当する画像を得る第２の撮影モードでの撮影を可能とする撮影方法であって、
撮影時の撮影条件に応じて前記第１の撮影モードおよび前記第２の撮影モードのうち一方の撮影モードに設定可能な制御ステップを有することを特徴とする撮影方法。
【請求項１０】  撮影に関する情報を表示する表示ステップを有し、
前記制御ステップにおいて、撮影時の撮影条件に応じて前記第１の撮影モードおよび前記第２の撮影モードのうち一方の撮影モードを選択し、
前記表示ステップにおいて、この選択された撮影モードに関する情報を表示させることを特徴とする請求項９に記載の撮影方法。
【請求項１１】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得るための撮影方法であって、
撮影時の撮影条件に応じて、各画像の撮影時間又は撮影数を変更する制御ステップを有することを特徴とする撮影方法。
【請求項１２】  前記複数の画像のうち各画像における特定点を抽出し、基準画像上での特定点に対する他の画像上での特定点の変位量を検出する変位量検出ステップと、
この変位量検出ステップの検出結果に基づいて、前記他の画像の座標変換を行う座標変換ステップと、
前記基準画像および前記座標変換ステップで座標変換された他の画像を合成する合成ステップとを有することを特徴とする請求項９から１１のいずれかに記載の撮影方法。
【請求項１３】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る第１の撮影モードと、１回の撮影により前記合成画像に相当する画像を得る第２の撮影モードでの撮影を可能とする撮影方法であって、
音を発する発音ステップを有し、
前記発音ステップにおいて、前記第１の撮影モードでの撮影における最初の撮影および最後の撮影のときに音を発し、前記第２の撮影モードでの撮影における撮影開始および撮影完了のときに音を発することを特徴とする撮影方法。
【請求項１４】  順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得るための撮影方法であって、
複数の画像のうち各画像における特定点を抽出し、基準画像上での特定点に対する他の画像上での特定点の変位量を検出する変位量検出ステップと、
この変位量検出ステップの検出結果に基づいて、前記他の画像の座標変換を行う座標変換ステップと、
前記基準画像および前記座標変換ステップで座標変換された他の画像を合成する合成ステップと、
撮影装置に加わる振動を検出する振動検出ステップと、
撮影装置の動作を制御する制御ステップとを有し、
前記制御ステップにおいて、前記振動検出ステップの検出結果および撮影時の撮影条件に応じて、一旦撮影を終了してから撮影を再開させることを特徴とする撮影方法。
【請求項１５】  請求項９から１４のいずれかに記載の撮影方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本願第２の発明は、順次撮影して得られた複数の画像を合成することにより、露出補正された合成画像を得る第１の撮影モードと、１回の撮影により合成画像に相当する画像を得る第２の撮影モードでの撮影を可能とする撮影方法又は、この撮影方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、撮影時の撮影条件に応じて第１の撮影モードおよび第２の撮影モードのうち一方の撮影モードに設定可能な制御ステップを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月11日(2006.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  光源からの光束を利用してマスク又はレチクル上のパターンを被露光体に転写する露光装置であって、
所定のガスでパージされたパージ空間に配置され、前記光束を所定の形状に整形する光束整形手段と、
前記パージ空間外に配置され、前記光束整形手段が前記光束を整形するための条件を切り換えるよう前記光束整形手段の駆動を行うモーターとを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記光束整形手段は、コヒーレンスファクターが異なる複数種類の開口絞りを搭載するターレットからなり、
前記モーターは、前記ターレットを回転させることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】  前記光束整形手段は、開口径が可変の開口絞りからなり、
前記モーターは、前記開口径を変化させることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】  前記所定のガスは、不活性ガス又はクリーンドライエアーであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】  前記不活性ガスは、窒素又はヘリウムであることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】  請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月19日(2006.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ側電極を有する窒化物半導体からなるｎ型コンタクト層と、ｐ側電極を有する窒化物半導体からなるｐ型コンタクト層との間に、窒化物半導体からなる活性層を有する半導体積層構造を備える発光ダイオードであって、
前記発光ダイオードは、前記ｎ側電極と前記ｐ側電極を同一面側に備えると共に、前記ｎ型コンタクト層は、電極形成面側からみて、ｐ側電極を有する半導体積層構造が設けられた第１の領域と、前記第１の領域と異なる第２の領域からなり、
前記第２の領域には、複数の凹凸が設けられ、
前記凹凸の頂部は、前記発光ダイオード断面において、前記活性層よりもｐ型コンタクト層側に位置することを特徴とする発光ダイオード。
【請求項２】
前記凹凸の頂部は、前記ｐ型コンタクト層と実質的に同じ高さであることを特徴とする請求項１に記載の発光ダイオード。
【請求項３】
前記凹凸断面において、前記凹凸を形成する凸部は、前記ｎ型コンタクト層側から前記ｐ型コンタクト層側に向かって徐々に細くなるように傾斜した台形であることを特徴とする請求項１または２に記載の発光ダイオード。
【請求項４】
前記複数の凹凸を形成する各凸部が、前記第１の領域の周囲を囲んでいることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の発光ダイオード。
【請求項５】
電極形成面側から見て、少なくとも前記第１の領域と前記ｎ側電極の間に、前記複数の凹凸が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の発光ダイオード。
【請求項６】
前記ｐ側電極は、前記ｐ型コンタクト層上に設けられ且つ供給された電流を拡散する電流拡散部と、前記電流拡散部上の少なくとも一部に設けられ且つ前記ｐ側電流拡散部に電流を供給するパッド部とから構成され、
電極配置面側からみて、前記ｎ側電極と前記ｐ側電極のパッド部との間に位置する第１の領域に設けられた半導体積層構造が、前記ｎ側電極と前記ｐ側電極のパッド部を結ぶ直線に垂直をなす方向において、前記第１の領域の両側がくびれ部分を有すると共に、前記くびれ部分に前記複数の凹凸を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の発光ダイオード。
【請求項７】
前記ｐ側電極は、前記ｐ型コンタクト層上に設けられ且つ供給された電流を拡散する電流拡散部と、前記電流拡散部上の少なくとも一部に設けられ且つ前記ｐ側電流拡散部に電流を供給するパッド部とから構成され、
電極配置面側からみて、前記ｎ側電極と前記ｐ側電極のパッド部との間に位置する第１の領域に設けられた半導体積層構造が、前記ｎ側電極と前記ｐ側電極のパッド部を結ぶ直線上において、前記ｎ側電極側からくびれ部分を有すると共に、前記くびれ部分に前記複数の凹凸を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の発光ダイオード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、凹凸断面において、凹凸を形成する凸部は、ｎ型コンタクト層側からｐ型コンタクト層側に向かって徐々に細くなるように傾斜した台形であることを特徴とする。また、  複数の凹凸を形成する各凸部が、第１の領域の周囲を囲んでいることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成18年8月4日(2006.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の電磁波シールド壁紙は、壁紙基材と、金属を含む樹脂成分からなる金属含有樹脂被膜層とを有するものである。
ここで、壁紙基材としては、壁紙に一般的に使用されている坪量（ｍ２ 当たり）５０ｇ〜２００ｇの不燃紙、難燃紙、あるいは普通紙を使用することができる。また、この壁紙基材には、必要に応じて、防水加工等の目的で樹脂膜や薬剤を付与することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
次に実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。
（実施例１）
鱗片状の銀粒子（平均長径６μｍ 、平均短径２μｍ）３６質量％と、ポリウレタン樹脂４質量％と、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）／トルエン（ＴＯＬ）からなる混合溶媒（ＤＭＦ３０質量％／ＴＯＬ７０質量％）６０質量％とを含む銀含有ポリウレタン樹脂液を調製した。次いで、この銀含有ポリウレタン樹脂液を、乾燥後の金属含有樹脂被膜層の厚さが１０μｍになるように離型紙上にコンマコーターで塗布し、１２０℃で３分間乾燥して金属含有樹脂被膜層を設けた。この金属含有樹脂被膜層中の銀含有率は９０．０質量％であった。
次いで、２液ポリウレタン樹脂３０質量％と、架橋剤イソシアネート１２質量％と、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶剤５８質量％とからなる接着剤を調製した。次いで、この接着剤を、乾燥後の金属含有樹脂被膜層と接着剤層との合計の厚さが１５μｍになるように金属含有樹脂被膜層の上にコンマコーターで塗布し、１２０℃で３分間乾燥して接着剤層を設けた。そして、接着剤層上に、壁紙基材として坪量（ｍ２ 当たり）１５０ｇの不燃紙を貼り合わせ、次いで、温度１２０℃、圧力０．４ＭＰａで熱圧着してラミネート加工品を得た。このラミネート加工品を６０℃の雰囲気に２４時間放置して接着剤を十分に硬化させた後、離型紙からラミネート加工品を剥離して、電磁波シールド壁紙を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月29日(2005.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】  前記コンタクト層と前記半導体層との間にＩｎ組成ｘが０．５以上であるＩｎＧａＡｓ層が設けられており、該ＩｎＧａＡｓ層の層厚ｄ（Å）がｄ≧−１０００ｘ＋９００となっている請求項７記載の半導体材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項８の発明によれば、請求項７の発明において、前記コンタクト層と前記半導体層との間にＩｎ組成ｘが０．５以上であるＩｎＧａＡｓ層が設けられており、該ＩｎＧａＡｓ層の層厚ｄがｄ≧−１０００ｘ＋９００となっている半導体材料が提案される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月2日(2005.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  外部接続用のリードが接続された陽極箔と陰極箔をその間にセパレータを介在させて巻回し、これに駆動用電解液を含浸することにより構成されたコンデンサ素子と、このコンデンサ素子を収納する有底筒状の金属ケースと、この金属ケースの開口部を封止する封口板とを備えたアルミ電解コンデンサにおいて、上記セパレータ内に、リン系官能基を有するアクリル系誘導体と、アクリル系誘導体で末端に水酸基を有し重合性の不飽和二重結合を１つ有する単官能モノマー群の中の少なくとも１つからなる第１モノマーと、アクリル系誘導体で重合性の不飽和二重結合を複数有する多官能モノマー群の中の少なくとも１つからなる第２モノマーとの重合体を含有し、この重合体は、上記セパレータに上記駆動用電解液を含浸する前に上記アクリル系誘導体と第１モノマーと第２モノマーとの共重合体溶液を上記セパレータに塗布し加熱乾燥し上記セパレータに含有されたものであるアルミ電解コンデンサ。
【請求項２】  リン系官能基を有するアクリル系誘導体が以下の（化１）、（化２）で表される請求項１に記載のアルミ電解コンデンサ。
【化１】
2004221180.tif 000001
【化２】
2004221180.tif 000002
【請求項３】  駆動用電解液が極性溶媒と無機酸もしくは有機酸またはこれらの塩からなる請求項１に記載のアルミ電解コンデンサ。
【請求項４】  無機酸もしくは有機酸またはこれらの塩が、アンモニウム塩、アミン塩またはアミジン塩から選ばれる１種以上の溶質である請求項３に記載のアルミ電解コンデンサ。
【請求項５】  セパレータの秤量が０．０１〜５５ｇ／ｍ2の範囲である請求項１に記載のアルミ電解コンデンサ。
【請求項６】  セパレータが空孔率１０〜９０％の多孔質樹脂フィルムまたは不織布を用いたものである請求項１に記載のアルミ電解コンデンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月12日(2005.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  観察者の視線上に相前後して配置されており且つ表示対象物に係る複数の画像を前記視線上において重ねて表示するための複数の表示手段と、
前記複数の画像のうち少なくとも一つの画像を前記視線と交差する方向に移動させることが可能な位置調整手段と
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項２】  前記視線の方向に応じて前記少なくとも一つの画像を移動させることで、前記少なくとも一つの画像と前記複数の画像のうち他の画像とが前記視線上において重ねて表示されるように前記位置調整手段を制御する制御手段を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】  前記観察者の位置を検出する位置検出手段を更に備えており、
前記制御手段は、前記検出された位置に応じて前記少なくとも一つの画像を移動させることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】  前記位置検出手段は、前記観察者の位置を検出するセンサを含むことを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】  前記視線の方向を検出する視線検出手段を更に備えており、
前記制御手段は、前記検出された視線の方向に応じて前記少なくとも一つの画像を移動させることを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】  前記位置調整手段は、前記複数の表示手段のうち前記少なくとも一つの画像を表示する一つの表示手段を前記視線と交差する方向に移動可能であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】  前記位置調整手段は、駆動力を発生する動力源を含み、該駆動力によって前記一つの表示手段を移動可能であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】  前記位置調整手段は、前記少なくとも一つの画像を表示する表示手段の画面内で、前記少なくとも一つの画像を前記視線と交差する方向に移動可能であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】  前記位置調整手段は、前記複数の表示手段に供給される画像信号に対して信号処理を施すことにより前記少なくとも一つの画像を前記視線と交差する方向に移動可能であることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】  前記位置調整手段は、前記複数の表示手段を夫々構成する画素単位で前記少なくとも一つの画像と前記複数の画像のうち他の画像とが重なるように前記少なくとも一つの画像を移動させることを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１１】  前記位置調整手段は、外部から入力される前記一つの画像を移動させる指示に基づいて、前記少なくとも一つの画像を移動させることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１２】  前記複数の表示手段のうち一の表示手段の画面の大きさが、前記観察者の側から見て前記一の表示手段の前方に配置された他の表示手段の画面の大きさよりも大きいことを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１３】  前記位置調整手段は、前記複数の画像のうち一の画像を固定し、前記複数の画像のうち他の画像を移動させることを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１４】  前記複数の表示手段のうち、少なくとも観察者の側から見て最も後方に配置された表示手段を除く表示手段は、光透過性を有する表示デバイスからなることを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１５】  前記複数の表示手段は、ハーフミラーにより合成される少なくとも一つの表示手段を含むことを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１６】  観察者の視線上に相前後して配置されており且つ表示対象物に係る複数の画像を前記視線上において重ねて表示するための複数の表示手段と、前記複数の画像のうち少なくとも一つの画像を前記視線と交差する方向に移動させることが可能な位置調整手段とを備えた表示装置における表示方法であって、
前記複数の表示手段に前記複数の画像を表示する表示工程と、
前記視線の方向に応じて前記少なくとも一つの画像を移動させることにより、
前記少なくとも一つの画像と前記複数の画像のうち他の画像とが前記視線上において重ねて表示されるように前記位置調整手段を制御する制御工程と
を備えたことを特徴とする表示方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために請求項１６に記載の表示方法は、観察者の視線上に相前後して配置されており且つ表示対象物に係る複数の画像を前記視線上において重ねて表示するための複数の表示手段と、前記複数の画像のうち少なくとも一つの画像を前記視線と交差する方向に移動させることが可能な位置調整手段とを備えた表示装置における表示方法であって、前記複数の表示手段に前記複数の画像を表示する表示工程と、前記視線の方向に応じて前記少なくとも一つの画像を移動させることにより、前記少なくとも一つの画像と前記複数の画像のうち他の画像とが前記視線上において重ねて表示されるように前記位置調整手段を制御する制御工程とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月7日(2005.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散方法であって、
第１のアクセスポイントに対する端末装置の接続を識別するステップと、
前記第１のアクセスポイントの負荷を判定するステップと、
前記負荷の判定に基づいて、前記端末装置から接続可能な第２のアクセスポイントへの接続変更を該端末装置に指示するステップと
を、複数のアクセスポイントに関する情報を管理可能な装置で行うことを特徴とする負荷分散方法。
【請求項２】  前記指示するステップには、
前記端末装置から接続可能な第２のアクセスポイントを決定するステップと、
前記決定された第２のアクセスポイントに接続要求を送信するよう前記端末装置に指示するステップと
が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の負荷分散方法。
【請求項３】  前記判定のステップには、前記第１のアクセスポイントに接続している端末装置の台数と、前記負荷を判定するための基準台数とに基づいて前記第１のアクセスポイントの負荷を判定するステップが含まれることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の負荷分散方法。
【請求項４】  前記端末装置から接続可能な第２のアクセスポイントが存在しない場合には、前記端末装置にそのまま前記第１のアクセスポイントを利用させることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の負荷分散方法。
【請求項５】  前記複数のアクセスポイントに関する情報を管理可能な装置は、前記端末装置の認証を行う認証装置であり、
前記第１のアクセスポイントに対する端末装置の接続を識別するステップは、前記認証装置への認証要求時に実行されることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の負荷分散方法。
【請求項６】  無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散方法であって、
端末装置から送られた前記端末装置が接続可能な複数のアクセスポイントに関する情報に基づいて、該複数のアクセスポイントの各負荷情報を取得するステップと、
前記取得された負荷情報に基づいて、前記端末装置が接続するアクセスポイントの変更を前記端末装置に指示するステップと
を含むことを特徴とする負荷分散方法。
【請求項７】  無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散方法であって、
第１のアクセスポイントに少なくとも第１の端末装置と第２の端末装置とが接続されている場合において、該第２の端末装置が再認証のタイミングとなると、第２のアクセスポイントに該第２の端末装置が接続可能かを判定するステップと、
前記ステップにおいて前記第２の端末装置が前記第２のアクセスポイントに接続可能と判定された場合に、前記第２の端末装置に対して前記第２のアクセスポイントへの接続変更を指示するステップと
を含む負荷分散方法。
【請求項８】  無線システムにおける複数のアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散方法であって、
前記複数のアクセスポイントのそれぞれにおいて、自己の識別情報を端末装置に報知するステップと、
前記端末装置において、前記識別情報を受信し、該受信された識別情報に関する識別情報リストを作成し、該作成された識別情報リストを前記アクセスポイントのうち第１のアクセスポイントを経由して認証装置に送信するステップと、
前記認証装置において、前記識別情報リストを受信し、前記第１のアクセスポイントの負荷を判定し、該判定に応じて、前記受信された識別情報リストに含まれている他のアクセスポイントを選択し、該選択されたアクセスポイントへの接続変更を前記端末装置に指示するステップと
を含むことを特徴とする負荷分散方法。
【請求項９】  前記認証装置において、各無線アクセスポイントの管理下にある端末装置についての端末装置リストを作成して記憶するステップと、
前記アクセスポイントにおいて、該無線アクセスポイントに接続している端末装置に対して再認証を行なうよう予め定められた期間ごとに指示するステップと、
前記認証装置において、前記再認証を指示された端末装置からの応答の有無に基づいて該端末装置が接続状態にあるかを判定し、該判定結果に基づいて前記端末装置リストを更新するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の負荷分散方法。
【請求項１０】  無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散装置であって、
第１のアクセスポイントに対する端末装置の接続を識別する識別手段と、
前記第１のアクセスポイントの負荷を判定する判定手段と、
前記負荷の判定に基づいて、前記端末装置から接続可能な第２のアクセスポイントへの接続変更を該端末装置に指示する指示手段と
を含むことを特徴とする負荷分散装置。
【請求項１１】  無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散装置であって、
端末装置から送られた前記端末装置が接続可能な複数のアクセスポイントに関する情報に基づいて、該複数のアクセスポイントの各負荷情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された負荷情報に基づいて、前記端末装置が接続するアクセスポイントの変更を前記端末装置に指示する指示手段と
を含むことを特徴とする負荷分散装置。
【請求項１２】  無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散装置であって、
第１のアクセスポイントに少なくとも第１の端末装置と第２の端末装置とが接続されている場合において、該第２の端末装置が再認証のタイミングとなると、第２のアクセスポイントに該第２の端末装置が接続可能かを判定する判定手段と、
前記判定手段により前記第２の端末装置が前記第２のアクセスポイントに接続可能と判定された場合に、前記第２の端末装置に対して前記第２のアクセスポイントへの接続変更を指示する指示手段と
を含む負荷分散装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明では、ネットワーク側において、端末装置の接続可能なアクセスポイントを識別させるとともに、各アクセスポイントの負荷において、アクセスポイントの接続変更を指示することを１つの特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
例えば、無線システムにおけるアクセスポイントの負荷を分散させる負荷分散方法であって、第１のアクセスポイントに対する端末装置の接続を識別するステップと、前記第１のアクセスポイントの負荷を判定するステップと、前記負荷の判定に基づいて、前記端末装置から接続可能な第２のアクセスポイントへの接続変更を該端末装置に指示するステップとを複数のアクセスポイントに関する情報を管理可能な装置で行うことを特徴とする負荷分散方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程よりなることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法；
（ａ）半導体ウエハを酸化炉の熱処理チャンバへ導入する工程、
（ｂ）前記熱処理チャンバ内のガス雰囲気を窒素によって置換する工程、
（ｃ）第１の温度で、触媒を用いて酸素と水素から水分を合成する工程、
（ｄ）前記合成した水分を前記酸化炉の熱処理チャンバへ導入して、気体状態を維持したまま、前記熱処理チャンバ内の半導体ウエハの第１主面上に水分を含んだ酸化性雰囲気を形成する工程、
（ｅ）前記熱処理チャンバ内の前記水分を含んだ酸化性雰囲気において、前記第１の温度より高い第２の温度まで前記半導体ウエハの主面をランプ加熱して、前記半導体ウエハの第１主面上のシリコン表面を熱酸化処理して絶縁膜を形成する工程、
（ｆ）前記工程（ｅ）の後、前記熱処理チャンバ内の前記水分を含んだ酸化性雰囲気を窒素によって置換する工程。
【請求項２】
前記絶縁膜は、電界効果トランジスタのゲート絶縁膜であることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項３】
前記電界効果トランジスタのゲート絶縁膜の厚さが５ｎｍ以下であり、前記電界効果トランジスタのゲート長が０．２５μｍ以下であることを特徴とする請求項２記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項４】
前記電界効果トランジスタのゲート絶縁膜の厚さが３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項３記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の温度は、５００℃以下であり、前記第２の温度は、８００℃以上であることを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の半導体集積回路装置の製造方法は、以下の工程よりなる。
（ａ）半導体ウエハを酸化炉の熱処理チャンバへ導入する工程、
（ｂ）前記熱処理チャンバ内のガス雰囲気を窒素によって置換する工程、
（ｃ）第１の温度で、触媒を用いて酸素と水素から水分を合成する工程、
（ｄ）前記合成した水分を前記酸化炉の熱処理チャンバへ導入して、気体状態を維持したまま、前記熱処理チャンバ内の半導体ウエハの第１主面上に水分を含んだ酸化性雰囲気を形成する工程、
（ｅ）前記熱処理チャンバ内の前記水分を含んだ酸化性雰囲気において、前記第１の温度より高い第２の温度まで前記半導体ウエハの主面をランプ加熱して、前記半導体ウエハの第１主面上のシリコン表面を熱酸化処理して絶縁膜を形成する工程、
（ｆ）前記工程（ｅ）の後、前記熱処理チャンバ内の前記水分を含んだ酸化性雰囲気を窒素によって置換する工程。
【手続補正書】
【提出日】平成17年12月27日(2005.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  表面に半導体回路及び電極を有する基板本体に窪を形成する工程と、
前記窪に導電材を埋め込み貫通電極となる埋め込み電極を形成する工程と、
前記電極と前記埋め込み電極とを電気的に接続する接続工程と、
前記基板本体の表面に有機膜を形成する工程と、
前記有機膜上に前記基板本体の機械的剛性を補足する支持体を貼り付ける貼り付け工程と、
前記表面に対する前記基板本体の裏側を、前記埋め込み電極の底部が露出し、さらに突出するまで除去して前記貫通電極となし、かつ薄型化された半導体基板を形成する工程と、
前記突出部の表面にめっき皮膜を形成する被膜工程と、
前記支持体および前記有機膜を前記半導体基板から除去する除去工程を備え、  前記有機膜は、密着性を有するとともに、前記貼り付け工程後の各工程で用いられる薬材に対する耐薬材性を有し、また前記除去工程で用いられる薬材に対して少なくとも溶解、または剥離するものである半導体装置の製造方法。
【請求項２】  前記有機膜と前記支持体との間に接着層を形成する請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】  前記支持体および前記有機膜を前記半導体基板から同一工程で除去する請求項１または請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】  前記接続工程の後に、前記表面に突起電極を形成する請求項１ないし請求項３の何れかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】  前記被膜工程は、液相の選択成長である無電解めっき、または気相の選択成長で行われる請求項１ないし請求項４の何れかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】  前記有機膜は、フォトレジストで構成された有機絶縁膜である請求項１ないし請求項５の何れかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】  前記有機膜は、導電ペーストで構成された有機導電膜であり、前記電極を同電位に保つことで、前記被膜工程は、電解めっきもしくは無電解めっきで行われる請求項１ないし請求項５の何れかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】  前記有機膜は、スピン塗布法により形成される請求項１ないし請求項７の何れかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】  前記支持体は、紫外線透過材料で構成され、前記接着層は紫外線照射によって密着力を失う材料で構成され、
前記除去工程では、前記支持体側から前記接着層に前記紫外線を照射し、また前記薬材である薬液により少なくとも有機膜の周縁部を前記接着層に達する深さまで溶解、除去した後、前記半導体基板から前記支持体を剥離する請求項２ないし請求項８の何れかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】  前記支持体は石英ガラスである請求項９に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体装置の製造方法は、表面に半導体回路及び電極を有する基板本体に窪を形成する工程と、前記窪に導電材を埋め込み貫通電極となる埋め込み電極を形成する工程と、前記電極と前記埋め込み電極とを電気的に接続する接続工程と、前記基板本体の表面に有機膜を形成する工程と、前記有機膜上に前記基板本体の機械的剛性を補足する支持体を貼り付ける貼り付け工程と、前記表面に対する前記基板本体の裏側を、前記埋め込み電極の底部が露出し、さらに突出するまで除去して前記貫通電極となし、かつ薄型化された半導体基板を形成する工程と、前記突出部の表面にめっき皮膜を形成する被膜工程と、前記支持体および前記有機膜を前記半導体基板から除去する除去工程を備え、前記有機膜は、密着性を有するとともに、前記貼り付け工程後の各工程で用いられる薬材に対する耐薬材性を有し、また前記除去工程で用いられる薬材に対して少なくとも溶解、または剥離するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明の半導体装置の製造方法によれば、表面に半導体回路及び電極を有する基板本体に窪を形成する工程と、前記窪に導電材を埋め込み貫通電極となる埋め込み電極を形成する工程と、前記電極と前記埋め込み電極とを電気的に接続する接続工程と、前記基板本体の表面に有機膜を形成する工程と、前記有機膜上に前記基板本体の機械的剛性を補足する支持体を貼り付ける貼り付け工程と、前記表面に対する前記基板本体の裏側を、前記埋め込み電極の底部が露出し、さらに突出するまで除去して前記貫通電極となし、かつ薄型化された半導体基板を形成する工程と、前記突出部の表面に前記めっき皮膜を形成する被膜工程と、前記支持体および前記有機膜を前記半導体基板から除去する除去工程を備え、前記有機膜は、密着性を有するとともに、前記貼り付け工程後の各工程で用いられる薬材に対する耐薬材性を有し、また前記除去工程で用いられる薬材に対して少なくとも溶解、または剥離するものであるので、有機膜と基板本体との界面に薬材が浸透するようなことは無く、突出部の表面にめっきを行う際に、めっき液が有機膜と基板本体との間から浸透して基板本体の表面の電極、その他に部分に不要なめっきが不均一に施されたり、腐食の原因になったりすることはない。
また、この有機膜は、除去工程で用いられる薬材で簡単に除去される。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月28日(2005.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路とアンテナとを有する基板であって、
回路が形成された半導体層と、
アンテナが形成されたアンテナ基板と、
を備え、
前記半導体層と前記アンテナ基板は結合されており、前記半導体層は、分離層を含む基板を該分離層で分離して形成されていることを特徴とする基板。
【請求項２】
前記回路は前記アンテナと電気的に接続されており、前記アンテナを利用して電波を送受信することを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項３】
回路とアンテナとを有する基板の製造方法であって、
回路が形成された半導体層及び分離層を有し前記半導体層が前記分離層の上に配置された部材を準備する工程と、
アンテナが形成されたアンテナ基板を準備する工程と、
前記部材の前記半導体層側を前記基板に直接又は接合層を介して接合して接合基板を作製する工程と、
前記接合基板を前記分離層で分離する工程と、
を含むことを特徴とする基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成17年11月29日(2005.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  半導体素子とマイクロマシンとを有するデバイスであって、
半導体素子が形成された半導体層と、
マイクロマシンが形成された基板とを備え、
前記半導体層と前記基板とが積層されており、
前記半導体層は、前記半導体層の下に分離層を有する部材を前記分離層で分割して得られた半導体層であることを特徴とするデバイス。
【請求項２】  前記マイクロマシンは、スイッチ、可変コンデンサ及びインダクタの少なくとも１つを含む請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】  前記半導体層に半導体回路が形成され、前記半導体回路及び前記マイクロマシンが無線通信装置の少なくとも一部を構成する請求項１または２に記載のデバイス。
【請求項４】  半導体素子とマイクロマシンを有するデバイスの製造方法であって、
半導体素子が形成された半導体層及び分離層を有し前記半導体層が前記分離層の上に配置された部材を準備する工程と、
マイクロマシンが形成された基板を準備する工程と、
前記部材の前記半導体層側を前記基板に直接又は結合層を介して結合して結合基板を作製する工程と、
前記結合基板を前記分離層で分割する工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体集積回路装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  （ａ）その上部および下部にそれぞれ第１および第２半導体領域を有する柱状の積層体であって、
その平面パターンが略楕円形状の柱状の積層体と、
（ｂ）前記柱状の積層体の側壁に絶縁膜を介して形成された導電性膜と、
を有することを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項２】  （ａ１）その上部および下部にそれぞれ第１および第２半導体領域を有する柱状の積層体と、
（ａ２）前記柱状の積層体の側壁に第１絶縁膜を介して形成された導電性膜と、
を有する縦型ＭＩＳＦＥＴを複数有し、
前記複数の縦型ＭＩＳＦＥＴの前記柱状の積層体および前記導電性膜は、
（ｂ１）第１方向に第１距離離間して配置され、
（ｂ２）第２方向に前記第１距離より大きい第２距離離間して配置され、
（ｃ）前記柱状の積層体およびその側壁の前記導電性膜の平面パターンは略楕円形状であり、前記第１方向の第１径は、前記第２方向の第２径より小さいことを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項３】  請求項１または２において、
前記柱状の積層体は、ＳＲＡＭの縦型ＭＩＳＦＥＴを構成し、前記ＳＲＡＭの単一のメモリセルの形成領域は、略矩形状であり、前記略楕円形状の長径方向に長辺を有することを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項４】  請求項１または２において、
前記導電性膜は、前記柱状の積層体の周囲を囲むように形成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項５】  請求項１または２において、
前記第１方向に対しＨ字状のマスクを用いて、半導体膜を加工することにより前記第１方向と直交する第２方向に長径を有する略楕円柱状の積層体が形成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項６】  請求項５において、
前記Ｈ字状のマスクは、前記第１方向の幅が、前記第２方向の中央部においてその両端部よりも狭く構成された形状を構成していることを特徴とする半導体集積回路装置。
【手続補正書】
【提出日】平成18年2月6日(2006.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、信号線、走査線が格子状に配設され、単位格子毎にスイッチング素子と画素電極が形成されたアクティブマトリクス基板において、
上記信号線及び／又は走査線に、開口部が形成されていると共に、
上記アクティブマトリクス基板の上面に形成された半導体膜と、
上記半導体膜の上面に形成されたバイアス電極とを備えており、
上記アクティブマトリクス基板の上記半導体膜が形成された面とは反対の面側に、上記アクティブマトリクス基板を照射し得る光源を備えていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項２】
上記開口部は、上記信号線及び／又は上記走査線の延伸方向に沿って設けられたスリットであることを特徴とする請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項３】
上記信号線及び／又は上記走査線は、上記信号線と上記走査線との交差部において線幅が細くなるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項４】
上記信号線及び／又は走査線と上記画素電極との間には、層間絶縁膜が介在していることを特徴とする請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項５】
上記アクティブマトリクス基板と上記光源との間に、上記光源からの照射光を拡散光に変換する拡散手段を備えていることを特徴とする請求項１に記載の電磁波検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置およびデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  真空チャンバを有し、前記真空チャンバ内の真空雰囲気中で基板を露光する露光装置において、
前記真空チャンバ内に配された構造体と、
前記真空チャンバ内に配された金属ベローズを含み、前記金属ベローズの内側の空間における気体の圧力により前記構造体に力を加えて前記構造体の除振を行う除振機構と
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】  前記除振機構は、前記気体により気体バネを形成することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】  前記除振機構を支持する支持体と、前記金属ベローズの伸縮方向と交差する方向に関して前記構造体と前記支持体との間の相対移動を許容する連結機構とをさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】  前記連結機構は、ジンバルピストンを含むことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】  前記空間内に配置された、変位センサ、振動センサおよびアクチュエータの少なくとも一つをさらに有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】  前記構造体は、マスクステージ定盤、鏡筒定盤および基板ステージ定盤の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】  請求項１〜６のいずれかに記載の露光装置を用いて真空雰囲気中で基板を露光するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空雰囲気中で基板を露光する露光装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
そこで、本発明の課題は、真空雰囲気中で基板を露光する露光装置において、真空チャンバ内に配された構造体の除振を行うための新規な技術を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、真空チャンバを有し、前記真空チャンバ内の真空雰囲気中で基板を露光する露光装置において、
前記真空チャンバ内に配された構造体と、
前記真空チャンバ内に配された金属ベローズを含み、前記金属ベローズの内側の空間における気体の圧力により前記構造体に力を加えて前記構造体の除振を行う除振機構と
を有することを特徴とする露光装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、真空雰囲気中で基板を露光する露光装置において、真空チャンバ内に配された構造体の除振を行うための新規な技術を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成18年4月17日(2006.4.17)
【手続補正２】
【補正対象書類名】手続補正書
【補正対象項目名】手続補正１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】ミネラルを充分に摂取するためには農業政策を有機栽培にするか、化学肥料や農薬を使用することを止めるか、このことは世界の食糧不足のため出来ません。次の策があります地球が創世記に形成された雲母系の鉱物から直接ミネラルを利用するしかないのです。


【手続補正３】
【補正対象書類名】手続補正書
【補正対象項目名】手続補正２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】阿武隈山系の雲母系の鉱物を採掘して微粉砕機にかけて硫酸の溶液に入れて雲母系の鉱物を溶解し、イオン化した溶液を尚仁沢（地元）の名水で薄め濾過し、２リットル用のポリ容器に入れて機能性食品として使用してもらう。


【手続補正４】
【補正対象書類名】手続補正書
【補正対象項目名】手続補正３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】多種類の微量（金属元素）ミネラルを含むミネラル飲料水は人間・動物・魚介類・植物・果物の細胞を活性化できる機能性食品です。人間の成人病・生活習慣病・ウイルス病・免疫病・感染病・アレルギー症などの色々な病気は、人間の持つ自然治癒力を引き出すことのできる多種類の微量（金属元素）ミネラルを含むミネラル飲料水は病気を予防・治療・完治できる機能性食品です。これらのミネラル飲料水は免疫細胞・ＮＫ細胞を活性化できるのでエーズウイルス・サーズウイルス・鳥インフルエンザウイルスなどの感染病にも予防・治療・完治できる機能性食品である。ただし、ウイルスなどの感染病には、現代医療の抗生物質等の併用することが大切です。
【表１】
2006129850.tif 000001