【手続補正書】
【提出日】平成18年5月30日(2006.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１５７nm乃至１５８nmの波長範囲の複数の僅かに離間するスペクトル線を含むスペクトル帯を発生させる１対の離間した電極と、レーザー活性ガスとを包含する放電チャンバと；
光共振器と；
前記複数の僅かに離間するスペクトル線のうちの１本以上を前記F２ レーザー装置の出力ビームとして選択する波長選択光学機器と；
前記光共振器に配設され前記波長選択光学機器を内蔵する減圧可能な光学ブロックであって、前記光共振器内の所定の減圧された圧力より低い圧力であって前記スペクトル帯が前記光学ブロック内に存在する光吸収種による実質的な減衰を生じることなく前記光学ブロック内で伝播するのに十分な圧力の雰囲気に前記波長選択光学機器を維持する光学ブロックと；
を含むF２レーザー装置。
【請求項２】  
１５７nm乃至１５８nmの波長範囲の複数の僅かに離間するスペクトル線を含むスペクトル帯を発生させる１対の離間した電極と、レーザー活性ガスとを包含する放電チャンバと；
レーザービーム径路を画定する光共振器と；
前記複数の僅かに離間するスペクトル線のうちの１本以上を前記F２ レーザー装置の出力ビームとして選択する波長選択光学機器と；
前記波長選択光学機器を内蔵する光学モジュールと；
前記放電チャンバと前記光学モジュールの間において前記光共振器内の前記レーザービーム径路の周りに位置する包囲体であって、前記光共振器内の所定の減圧された圧力より低い圧力であって前記スペクトル帯が前記レーザービーム径路における光吸収種の存在により実質的に減衰することなく前記光共振器内の前記レーザービーム径路で伝播するのに十分な圧力に前記光吸収種の前記レーザービーム径路における分圧を維持する包囲体と；
を含むF２レーザー装置。
【請求項 ３】
１５７nm乃至１５８nmの波長範囲の複数の僅かに離間するスペクトル線を含むスペクトル帯を発生させる１対の離間した電極と、レーザー活性ガスとを包含する放電チャンバと；
レーザービーム径路を画定する光共振器と；
前記光共振器内で前記レーザービーム径路の周りに配設された包囲体であって、該包囲体内をそのガス圧よりも高い圧力の不活性ガス源に接続して該不活性ガスを前記光共振器内に位置する前記包囲体に流して前記光共振器内の所定圧力より低い圧力であって前記スペクトル帯が前記レーザービーム径路における光吸収種の存在による実質的な減衰を生じることなく前記レーザービーム径路において伝播するのに十分な圧力に前記光吸収種の前記レーザービーム径路における分圧を維持する追出し流ポートを含む包囲体と；
前記複数の僅かに離間するスペクトル線のうちの１本以上を前記F２ レーザー装置の出力ビームとして選択する波長選択光学機器と；
を含むF２レーザー装置。
【請求項４】
１５７nm乃至１５８nmの波長範囲の複数の僅かに離間するスペクトル線を含むスペクトル帯を発生させる１対の離間した電極と、レーザー活性ガスとを包含する放電チャンバと；
レーザービーム径路を画定する光共振器と；
前記光共振器内で前記レーザービーム径路の周りに位置する包囲体であって、前記光共振器内に位置する前記包囲体内の圧力を下げると共に前記包囲体から光吸収ガス種を取り除くためのポンプを前記包囲体に接続するため、かつ、不活性ガス源を前記包囲体に連結して該不活性ガスを前記光共振器内に位置する前記包囲体内に流して前記レーザービーム径路に実質的に光吸収種が存在しなくなるように前記レーザービーム径路を維持するための少なくとも１つのポートを含む包囲体と；
前記複数の僅かに離間するスペクトル線のうちの１本以上を前記F２ レーザー装置の出力ビームとして選択する波長選択光学機器と；
を含むF２レーザー装置。
【請求項５】
１５７nm乃至１５８nmの波長範囲の複数の僅かに離間するスペクトル線を含むスペクトル帯を発生させる１対の離間した電極と、レーザー活性ガスとを包含する放電チャンバと；
レーザービーム径路を画定する光共振器と；
前記複数の僅かに離間するスペクトル線のうちの１本以上を前記F２ レーザー装置の出力ビームとして選択する波長選択光学機器と；
前記波長選択光学機器を内蔵する包囲体であって、該包囲体から光吸収種を取り除きかつ前記スペクトル帯が前記包囲体内の光吸収種の存在による実質的な減衰を生じることなく前記包囲体内で伝播するように前記包囲体内の圧力を減じるポンプに連結された包囲体と；
前記光共振器内で前記レーザービーム径路の周りに位置する追加の包囲体であって、前記スペクトル帯が前記レーザービーム径路における光吸収種の存在による実質的な減衰を生じることなく前記包囲体内で伝播するように前記レーザービーム径路に光吸収種が実質的に存在しないように維持する追加の包囲体と；
を含むF２レーザー装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は前記スペクトル帯をエタロニングするエタロンを含むF２レーザー装置。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は前記スペクトルバンドを拡大しエタロニングするビーム拡大器とエタロンを含むF２レーザー装置。
【請求項８】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は前記スペクトル帯を拡大し分散させるビーム拡大器と分散素子を含むF２レーザー装置。
【請求項９】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器はCaF２から成る少なくとも１つのプリズムを含むF２レーザー装置。
【請求項１０】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は前記スペクトル帯を分散させ絞るための分散素子と孔を含むF２レーザー装置。
【請求項１１】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は複数の光学構成素子を含み、該複数の光学構成素子は組み合わせにより前記複数の僅かに離間するスペクトル線を前記F２レーザー装置の前記出力ビームとして選択するF２レーザー装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器の前記複数の光学構成素子は少なくとも２つのプリズムを含むF２レーザー装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器の前記複数の光学構成素子はプリズムとエタロンを含むF２レーザー装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器の前記複数の光学構成素子はプリズムと孔を含むF２レーザー装置。
【請求項１５】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器の前記複数の光学構成素子はCaF２を含むF２レーザー装置。
【請求項１６】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は前記１つ以上の選択されたスペクトル線を狭めて前記F２レーザー装置の狭帯出力ビームを生成するF２レーザー装置。
【請求項１７】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２ レーザー装置であって、前記波長選択光学機器は前記複数の僅かに離間するスペクトル線のうちの単一スペクトル線を前記F２レーザー装置の前記出力ビームとして選択するF２ レーザー装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載のF２ レーザー装置であって、前記選択された単一スペクトル線の波長はほぼ１５７.６２９nmであるF２ レーザー装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載のF２ レーザー装置であって、前記複数の僅かに離間するスペクトル線の波長が１５７.５２３nmの第２スペクトル線は前記F２ レーザー装置の前記出力ビームに含まれていないF２レーザー装置。
【請求項２０】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器はプリズムを含むF２レーザー装置。
【請求項２１】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２レーザー装置であって、前記波長選択光学機器はエタロンを含むF２レーザー装置。
【請求項２２】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載のF２ レーザー装置であって、前記波長選択光学機器はグレーチングを含むF２レーザー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
板をブルースター角に配向することによって、光軸１４に沿って行進し板６に当たるΠ偏光（ＴΠ、すなわち、入射面に対して平行に偏光された光）の透過係数はほとんど１つである。なぜならば、理想的には反射損失がないからである。従って、光学装置２の光のΠ偏光成分の光の損失は好ましいことに最小であり、ほぼ排他的に小さい吸収損だけに限定される。光学装置２を含むレーザー装置の運転により意義のあるΠ偏光レーザー光が発せられるであろう。F２レーザー、エキシマーレーザー又は色素レーザー装置については、σ偏光成分は、光が板６を数百回通過するレーザー装置のためのものであり、あるいは、従来の偏光板が用いられるならば、板６の面のブルースター整合のためのものであるので、ゼロではなく、また無視することができないことに留意すべきである。板６の両面は各々、光学装置２の入射面に直角に偏光するσ成分に対する入射面内で偏光するΠ成分（ここではそういったΠ成分光は既に光軸１４に直角である）の比を少なくとも高める。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
第１の好ましい実施形態に関し要約すると、図２Aの装置２は、１５７nm付近のF２ レーザーの二重発光スペクトル線問題を解決するのに適した線選択を行う。装置２は、更にこの目的を達成すると共に、ブルースターの法則に基づき光の損失を最小にする。加えるに、放電チャンバのレーザーガス空間を閉鎖する窓の役をすることによって、追加の光学素子を使用しなくてもよくなる。さらに、板６の好ましい成分はMgF２であり、１５７nm付近での透過は高く、かつ、F２ガスによる腐食は最小である。第１代替装置１６は、好ましい実施形態の装置２よりも好ましい線選択と好ましい狭い線幅を成し遂げるが、装置１６は追加の板を使用しており、好ましい配置２より大きな空間を占領する。