(57)【要約】      （修正有）【課題】多真空チャンバ溶接炉を提供する。【解決手段】部品の溶接に用いられる多真空チャンバ溶接炉であって、対向する両端はそれぞれ材料供給端１１と材料排出端１２であるプラットフォーム１０と、プラットフォームに選択的に被せられる上蓋２０と、プラットフォームに設けられるとともに、材料供給端と材料排出端との接続線の方向に配列される複数の加熱台３０と、上蓋に設けられる複数の真空フード４１とを備え、上蓋をプラットフォームに被せると、各真空フード４１の位置が加熱台の１つと対応し、各真空フードは、上蓋に対して上下に移動することができ、且つ対応する加熱台を密封するように覆うとともに、真空チャンバを形成する。【選択図】図１
0003225915.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
部品の溶接に用いられる多真空チャンバ溶接炉であり、
前記多真空チャンバ溶接炉は、プラットフォーム、上蓋、複数の加熱台、複数の真空フード、複数の駆動機構、複数の真空配管、及び少なくとも一つの伝達機構を備え、
前記プラットフォームの対向する両端は、それぞれ材料供給端と材料排出端であり、該プラットフォームは、対向する第１側辺と第２側辺を備え、該第１側辺と第２側辺は、該材料供給端と材料排出端との接続線と平行であり、
前記上蓋は、前記プラットフォームに選択的に被せられ、
前記複数の加熱台は、前記プラットフォームに設けられるとともに、前記材料供給端と材料排出端との接続線の方向に配列され、
前記複数の真空フードは、前記上蓋に設けられ、該上蓋を前記プラットフォームに被せると、該各真空フードの位置が前記加熱台の１つと対応し、該各真空フードは、該上蓋に対して上下に移動することができ、且つ対応する該加熱台を密封するように覆うとともに、真空チャンバを形成し、
前記複数の駆動機構は、前記上蓋の内部に設けられるとともに、それぞれ前記複数の真空フードに接続され、該複数の真空フードを該上蓋に対して移動させることができ、
前記複数の真空配管は、それぞれ前記複数の真空フードが形成する前記複数の真空チャンバと連通するとともに、該真空チャンバを真空にすることができ、
前記少なくとも一つの伝達機構は、前記プラットフォームに接続されるとともに、前記部品を、前記各加熱台において、前記材料供給端から材料排出端に至る方向に順に送る、ことを特徴とする、多真空チャンバ溶接炉。
【請求項２】
前記各駆動機構は、複数の移動ロッド、移動台及び駆動装置を備え、
前記複数の移動ロッドは、互いに平行であり、且つ該各移動ロッドの一端が、該各移動ロッドが接続されている前記真空フードに固設され、
前記移動台は、前記複数の移動ロッドの、前記真空フードに対する他端に接続され、さらに、該各移動ロッドと移動台は、該各移動ロッドの軸方向に互いに固定されるとともに、該各移動ロッドの径方向に相対的に移動することができ、
前記駆動装置は、前記上蓋に固設されるとともに、前記移動台に接続され、さらに、該移動台と前記複数の移動ロッドを、該上蓋に対して、該複数の移動ロッドの軸方向に移動させることで、前記複数の真空フードを該上蓋に対して移動させる、ことを特徴とする、請求項１に記載の多真空チャンバ溶接炉。
【請求項３】
前記上蓋は、２つのエアカーテンユニットを備え、該２つのエアカーテンユニットは、それぞれ前記プラットフォームの前記材料供給端と材料排出端に隣接するとともに、それぞれ複数の通気孔を備え、該複数の通気孔は、該上蓋における、該プラットフォームに向いた面に貫通して形成されるとともに、該上蓋を該プラットフォームに被せて閉じたときに、該複数の通気孔の配列を結ぶ接続線が、前記第１側辺から第２側辺まで延伸する、ことを特徴とする、請求項１または２に記載の多真空チャンバ溶接炉。
【請求項４】
前記各加熱台の上面に複数の溝が凹設して形成され、該各加熱台における該複数の溝は、互いに平行に間隔を置いて設けられるとともに、前記プラットフォームの材料供給端と材料排出端との接続線の方向に延伸し、且つ該加熱台の側面を貫通し、さらに、任意の２つの該加熱台に形成された複数の溝の位置は同じであり、
前記少なくとも１つの伝達機構は、複数の牽引ロッド、水平駆動ユニット及び垂直駆動ユニットを備え、
前記複数の牽引ロッドは、前記プラットフォームの材料供給端と材料排出端との接続線の方向に直線的に延びるとともに、それぞれ、前記各加熱台の複数の溝内に穿設され、
前記水平駆動ユニットは、前記複数の牽引ロッドに接続されるとともに、該複数の牽引ロッドを前記プラットフォームの材料供給端と材料排出端との接続線の方向に往復移動させることができ、
前記垂直駆動ユニットは、前記水平駆動ユニットに接続されるとともに、該水平駆動ユニットを上下に往復移動させることができ、さらにそれによって、該複数の牽引ロッドを前記複数の溝から選択的に上方に突出させる、又は、前記各加熱台の上面よりも低くすることができる、ことを特徴とする、請求項１または２に記載の多真空チャンバ溶接炉。
【請求項５】
前記上蓋は、前記第１側辺に枢設され、
前記プラットフォームの第２側辺に設けられ、前記上蓋を該プラットフォームに被せて閉じたときに、該上蓋を押圧且つ固定する蓋押圧機構をさらに備える、ことを特徴とする、請求項１または２に記載の多真空チャンバ溶接炉。
【請求項６】
前記プラットフォームに設けられるとともに、それぞれが環状壁を有する、複数の真空ホルダをさらに備え、
前記複数の真空フードに対応する位置にある前記複数の加熱台は、それぞれ前記複数の真空ホルダの環状壁内に設けられ、
該複数の真空フードが、それぞれ前記複数の真空ホルダの環状壁と密着するとともに、前記複数の真空チャンバを形成し、
前記複数の真空配管は、前記プラットフォームを貫通するとともに、それぞれ前記複数の真空ホルダの底面を貫通する、ことを特徴とする、請求項１または２に記載の多真空チャンバ溶接炉。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、溶接炉に関するものであり、特に内部に真空チャンバを形成することができる真空溶接炉に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の溶接技術においては、スズペーストのフラックスにより、溶接の品質に影響が出るなどの様々な問題が発生していることから、溶接技術の分野では、従来のフラックスの代わりにギ酸ガスを用いる溶接技術が開発された。
【０００３】
この技術のポイントは、溶接のプロセスでギ酸ガスを導入し、溶接半製品（溶接される金属及び溶接用のスズ粉末を含む）を、徐々に加熱するプロセスの全てにおいてギ酸ガスに曝露するとともに、ギ酸ガスで金属表面の酸化物を還元し、さらに、溶接の品質を向上させるという点にある。しかしながら、金属は、特定の温度に達しなければ還元反応が起こらないため、前記プロセスの全てにおいてギ酸ガスを導入するという方法では、ギ酸の利用率が低く且つ消費量が多いという欠点があり、さらに、コストの上昇も招いている。また、この技術は開放式酸供給法を用いているため、溶接のプロセスにおいて、ギ酸ガスが空気中に漏れやすく、環境と人体に害をもたらすものである。
【０００４】
上記の欠点を解決するために、従来技術としてさらに真空溶接炉が開発された。図１０に示すように、真空溶接炉９０は、複数の加熱台９１及び真空フード９２を有する。使用時に、前記複数の加熱台９１は、低温から高温へ順に配列され、溶接の半製品は該各加熱台９１の上を順に移動して徐々に加熱される。前記真空フード９２は、前記加熱台９１の１つを覆い、真空チャンバを形成する。これにより、前記真空溶接炉９０は、特定の温度で前記真空チャンバ内にギ酸ガスを導入することができ、それによってスズ粉末及び被溶接金属に対して表面酸化物の還元を行う。そして、前記真空溶接炉９０は、ギ酸の利用率を向上させることでコストを削減し、同時に、残ったギ酸ガスの処理も行いやすくして、環境と人体への被害を解決するものである。
【０００５】
しかしながら、真空溶接炉９０には、以下の欠点がある。
【０００６】
まず、図１１に示すように、スズ粉末が還元後溶融するまでに再び酸化するのを防ぐため、真空チャンバ内はスズ粉末Ｂが溶融する温度に達しており、ギ酸ガスが真空チャンバ内に導入されると、該ギ酸ガスは拡散によってスズ粉末Ｂの縁部からスズ粉末Ｂの中央部に進入する。このため、縁部のスズ粉末Ｂは、ギ酸ガスに触れると還元を開始すると同時に溶融し、さらに液状の被覆層を形成して中央部のスズ粉末Ｂとその外部とを隔絶する。そして、縁部のスズ粉末Ｂが完全に溶融すると、ギ酸ガスは、拡散によるスズ粉末Ｂ中央部への進入ができなくなり、最終的に中央部のスズ粉末Ｂが完全に還元されなくなり、ひいては溶接強度と品質の不良を招いてしまう。
【０００７】
次に、溶接のプロセスにおいては、複数種の金属を溶接する場合があるが、例えば、銅を鉄に溶接する場合、金属ごとに必要とされる適切な還元温度が異なるため、１つの特定の温度のみで真空チャンバが形成され、ギ酸ガスが導入されると、金属が部分的に還元されなくなるか、又は、還元に非常に時間がかかり、最終的に金属表面の酸化物によって溶接強度や溶接効率が低下するという虞がある。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００８】
本考案は、上記の従来技術における欠点と不足点に鑑み、多真空チャンバ溶接炉を提供することを主な目的とする。該多真空チャンバ溶接炉は、ギ酸ガスを導入するための複数の真空チャンバを形成することによって、ギ酸ガスをスズ粉末の中央部に進入させることができるとともに、金属ごとに必要とされる適切な還元温度を提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の考案の目的を達成するため、本考案が採用する技術手段は、部品の溶接に用いられる多真空チャンバ溶接炉であり、
前記多真空チャンバ溶接炉は、プラットフォーム、上蓋、複数の加熱台、複数の真空フード、複数の駆動機構、複数の真空配管、及び少なくとも一つの伝達機構を備え、
前記プラットフォームの対向する両端は、それぞれ材料供給端と材料排出端であり、該プラットフォームは、対向する第１側辺と第２側辺を備え、該第１側辺と第２側辺は、該材料供給端と材料排出端との接続線と平行であり、
前記上蓋は、前記プラットフォームに選択的に被せられ、
前記複数の加熱台は、前記プラットフォームに設けられるとともに、前記材料供給端と材料排出端との接続線の方向に配列され、
前記複数の真空フードは、前記上蓋に設けられ、該上蓋を前記プラットフォームに被せると、該各真空フードの位置が前記加熱台の１つと対応し、該各真空フードは、該上蓋に対して上下に移動することができ、且つ対応する該加熱台を密封するように覆うとともに、真空チャンバを形成し、
前記複数の駆動機構は、前記上蓋の内部に設けられるとともに、それぞれ前記複数の真空フードに接続され、該複数の真空フードを該上蓋に対して移動させることができ、
前記複数の真空配管は、それぞれ前記複数の真空フードが形成する前記複数の真空チャンバと連通するとともに、該真空チャンバを真空にすることができ、
前記少なくとも一つの伝達機構は、前記プラットフォームに接続されるとともに、前記部品を、前記各加熱台において、前記材料供給端から材料排出端に至る方向に順に送る。
【００１０】
本考案の優れた点は、複数の真空フードがそれぞれ一部の加熱台を覆って密封し、複数の真空チャンバを形成することによって、該複数の真空チャンバにのみギ酸ガスが導入されることであり、それにより、本考案の、比較的早期に全てのプロセスにおいてギ酸ガスを導入するという方法は、ギ酸の利用率を向上させ、ギ酸の消費量を減らし、また、環境と人体に害を及ぼすこともない。しかも、前記複数の真空チャンバにそれぞれギ酸ガスを導入することができるため、各種金属に最適な還元条件を整えて、金属ごとに異なる温度で還元反応させることができ、反応のサイクルタイムを短縮して生産能力を向上させ、また、全ての金属の表面酸化物を確実に還元することで、溶接後の強度を高めることもできる。さらに、本考案は、前記複数の真空チャンバを有するため、スズ溶融温度に達していない該真空チャンバ内にギ酸ガスを導入することができ、それによって、ギ酸ガスは、縁部のスズ粉末の溶融によって阻害されることなく、拡散して確実にスズ粉末の中央部に進入することができ、中央部のスズ粉末を確実に還元して、溶接の強度を高めることができる。
【００１１】
さらには、前記多真空チャンバ溶接炉のうち、前記各駆動機構は、複数の移動ロッド、移動台及び駆動装置を備え、前記複数の移動ロッドは、互いに平行であり、且つ該各移動ロッドの一端が、該各移動ロッドが接続されている前記真空フードに固設され、前記移動台は、前記複数の移動ロッドの、前記真空フード対する他端に接続され、さらに、該各移動ロッドと移動台は、該各移動ロッドの軸方向に互いに固定されるとともに、該各移動ロッドの径方向に相対的に移動することができ、前記駆動装置は、前記上蓋に固設されるとともに、前記移動台に接続され、さらに、該移動台と前記複数の移動ロッドを、該上蓋に対して、該複数の移動ロッドの軸方向に移動させることで、前記複数の真空フードを該上蓋に対して移動させる。
【００１２】
さらには、前記多真空チャンバ溶接炉のうち、前記上蓋は、２つのエアカーテンユニットを備え、該２つのエアカーテンユニットは、それぞれ前記プラットフォームの前記材料供給端と材料排出端に隣接するとともに、それぞれ複数の通気孔を備え、該複数の通気孔は、該上蓋における、該プラットフォームに向いた面に貫通して形成されるとともに、該上蓋を該プラットフォームに被せて閉じたときに、該複数の通気孔の配列を結ぶ接続線が、前記第１側辺から第２側辺まで延伸する。
【００１３】
さらには、前記多真空チャンバ溶接炉のうち、前記各加熱台の上面に複数の溝が凹設して形成され、該各加熱台における該複数の溝は、互いに平行に間隔を置いて設けられるとともに、前記プラットフォームの材料供給端と材料排出端との接続線の方向に延伸し、且つ該加熱台の側面を貫通し、さらに、任意の２つの該加熱台に形成された複数の溝の位置は同じであり、前記少なくとも１つの伝達機構は、複数の牽引ロッド、水平駆動ユニット及び垂直駆動ユニットを備え、前記複数の牽引ロッドは、前記プラットフォームの材料供給端と材料排出端との接続線の方向に直線的に延びるとともに、それぞれ、前記各加熱台の複数の溝内に穿設され、前記水平駆動ユニットは、前記複数の牽引ロッドに接続されるとともに、該複数の牽引ロッドを前記プラットフォームの材料供給端と材料排出端との接続線の方向に往復移動させることができ、前記垂直駆動ユニットは、前記水平駆動ユニットに接続されるとともに、該水平駆動ユニットを上下に往復移動させることができ、さらにそれによって、該複数の牽引ロッドを前記複数の溝から選択的に上方に突出させる、又は、前記各加熱台の上面よりも低くすることができる。
【００１４】
さらには、前記多真空チャンバ溶接炉のうち、前記上蓋は、前記第１側辺に枢設され、前記プラットフォームの第２側辺に設けられ、前記上蓋を該プラットフォームに被せて閉じたときに、該上蓋を押圧且つ固定する蓋押圧機構をさらに備える。
【００１５】
さらには、前記多真空チャンバ溶接炉のうち、前記プラットフォームに設けられるとともに、それぞれが環状壁を有する、複数の真空ホルダをさらに備え、前記複数の真空フードに対応する位置にある前記複数の加熱台は、それぞれ前記複数の真空ホルダの環状壁内に設けられ、該複数の真空フードが、それぞれ前記複数の真空ホルダの環状壁と密着するとともに、前記複数の真空チャンバを形成し、前記複数の真空配管は、前記プラットフォームを貫通するとともに、それぞれ前記複数の真空ホルダの底面を貫通する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本考案の外観斜視図である。
【図２】本考案の部分拡大図である。
【図３】本考案の側面断面図である。
【図４】本考案の真空フード、真空ホルダ及び加熱台の関係を示す概略図である。
【図５】本考案のプラットフォームの平面図である。
【図６】本考案の伝達機構の動作を示す概略図である。
【図７】本考案の伝達機構の動作を示す概略図である。
【図８】本考案の伝達機構の動作を示す概略図である。
【図９】本考案の伝達機構の動作を示す概略図である。
【図１０】従来技術の真空溶接炉の外観斜視図である。
【図１１】従来技術の真空溶接炉の溶接結果を示す概略図である。
【考案を実施するための形態】
【００１７】
以下、図及び本考案の好ましい実施形態と合わせて、本考案が所期の目的を達成するために講ずる技術手段についてさらに説明する。
【００１８】
図１〜図３に示すように、本考案の多真空チャンバ溶接炉は、部品Ａを溶接するためのものであり、本実施形態において、多真空チャンバ溶接炉はプラットフォーム１０、上蓋２０、複数の加熱台３０、複数の真空フード４１、複数の駆動機構５０、複数の真空配管６０及び少なくとも１つの伝達機構７０を備える。
【００１９】
前記プラットフォーム１０の対向する両端は、それぞれ材料供給端１１と材料排出端１２であり、本実施形態において、該プラットフォーム１０は、対向する第１側辺１３と第２側辺１４をさらに備え、該第１側辺１３と第２側辺１４は、該材料供給端１１と材料排出端１２との接続線と平行である、つまり、該第１側辺１３と第２側辺１４は、該プラットフォーム１０において、該材料入口給端１１と材料排出端１２とは異なる２つの辺である。
【００２０】
前記上蓋２０は、前記プラットフォーム１０に選択的に被せられるとともに、該プラットフォーム１０の上方に開くことができるように設けられている。具体的には、前記上蓋２０は、前記プラットフォーム１０の第１側辺１３に枢設され、さらに、本実施形態においては、前記プラットフォーム１０の第２側辺１４に設けられる蓋押圧機構８０をさらに備える。前記蓋押圧機構８０は、前記上蓋２０を前記プラットフォーム１０に被せて閉じたときに、該上蓋２０を押圧且つ固定することによって、後に真空チャンバの密閉度を確保する働きをする。また、前記上蓋２０は、本実施形態において、２つのエアカーテンユニット２１を備え、該２つのエアカーテンユニット２１は、それぞれ前記プラットフォーム１０の材料供給端１１と材料排出端１２に隣接するとともに、それぞれ複数の通気孔２１１を備え、該複数の通気孔２１１は、該上蓋２０における、該プラットフォーム１０に向いた面に貫通して形成されるとともに、該上蓋２０を該プラットフォーム１０に被せて閉じたときに、該複数の通気孔２１１の配列を結ぶ接続線が、前記第１側辺１３から第２側辺１４まで延伸する。換言すると、該通気孔２１１を結ぶ接続線は必ずしも前記材料供給端１１から材料排出端１２に至る方向に垂直である必要はなく、該第１側辺１３から第２側辺１４まで延伸していれば、互いに傾斜しても、曲線を呈してもよい。これにより、前記複数の通気孔２１１を介して窒素ガス供給装置に接続することができ、それによって前記材料供給端１１と材料排出端１２に、それぞれ窒素ガスのカーテンを形成することができ、さらに、溶接時に前記上蓋２０とプラットフォーム１０との間の酸素含有量を低減させることにより、部品Ａが酸素に触れて酸化するのを防ぐ。
【００２１】
また、図３から図５に示すように、複数の加熱台３０がプラットフォーム１０に設けられ、該複数の加熱台３０は、前記材料供給端１１と材料排出端１２との接続線の方向に直線的に配列される。なお、本実施形態においては、前記各加熱台３０の上面に複数の溝３１が凹設して形成されている。前記各加熱台３０における複数の溝３１は、互いに平行に間隔を置いて設けられるとともに、前記プラットフォーム１０の材料供給端１１と材料排出端１２との接続線の方向に延伸し、且つ該加熱台３０の側面を貫通し、さらに、任意の２つの該加熱台３０に形成された複数の溝３１の位置は同じである。これにより、異なる前記加熱台３０の各溝３１は、前記材料供給端１１から材料排出端１２に至る方向に直線的に配列され且つ互いに連通する、つまり、該材料供給端１１に最も近い該加熱台３０のいずれの溝３１も、該材料排出端１２に最も近い該加熱台３０の対応する溝３１まで、直線的に貫通する。
【００２２】
また、図１及び図３〜図５に示すように、前記上蓋２０に複数の真空フード４１が設けられ、該上蓋２０を前記プラットフォーム１０に被せると、該各真空フード４１の位置が前記加熱台３０の１つと対応する。前記各真空フード４１は、前記上蓋２０に対して上下に移動することができ、且つ対応する前記加熱台３０を密封するように覆うとともに、真空チャンバ４２を形成する。具体的には、本実施形態においては、前記プラットフォーム１０に設けられるとともに、それぞれが環状壁４３１を有する、複数の真空ホルダ４３をさらに備える。前記複数の真空フード４１に対応する位置にある前記複数の加熱台３０は、それぞれ前記複数の真空ホルダ４３の環状壁４３１内に設けられるとともに、該複数の真空フード４１が、それぞれ該複数の真空ホルダ４３の環状壁４３１に密着するとともに、前記複数の真空チャンバ４２を形成する。但し、前記真空フード４１が前記真空チャンバ４２を形成する具体的な構造は上記に限定されるものではなく、例えば、他の実施形態において、前記真空ホルダ４３を備えていなくてもよく、その場合は、前記加熱台３０が前記プラットフォーム１０に直接設置され、且つ該真空フード４１が該プラットフォーム１０に直接密着することにより、十分に密閉された該真空チャンバ４２が形成されればよい。尚、本実施形態では、前記２つの真空フード４１を例に説明したが、本考案は、前記２つ以上の真空フード４１を有することができ、それによって金属ごとに適切な還元条件を整えることができる。
【００２３】
また、図２及び図３に示すように、前記複数の駆動機構５０は、前記上蓋２０の内部に設けられるとともに、それぞれ前記複数の真空フード４１に接続され、該真空フード４１を該上蓋２０に対して移動させることができる。具体的には、本実施形態において、前記各駆動機構５０は、複数の移動ロッド５１、移動台５２及び駆動装置５３を備える。前記複数の移動ロッド５１は、互いに平行であり、且つ該各移動ロッド５１の一端が、該各移動ロッド５１が接続されている前記真空フード４１に固設される。前記移動台５２は、前記複数の移動ロッド５１の、前記真空フード４１に対する他端に接続されている。さらに、前記各移動ロッド５１と移動台５２は、該各移動ロッド５１の軸方向に互いに固定されるとともに、該各移動ロッド５１の径方向に相対的に移動することができる。それにより、前記真空フード４１が熱膨張して該真空フード４１に固設された前記複数の移動ロッド５１間の距離が変化した場合、前記移動台５２の一端に接続された該各移動ロッド５１も、それに応じて位置を変えることができるため、該各移動ロッド５１は平行を保ちながら直線運動をすることができる。前記駆動装置５３は、前記上蓋２０に固設されるとともに、前記移動台５２に接続され、さらに、該移動台５２と前記複数の移動ロッド５１を、該上蓋２０に対して、該複数の移動ロッド５１の軸方向に移動させることで、前記複数の真空フード４１を該上蓋２０に対して移動させる。
【００２４】
前記複数の真空配管６０は、それぞれ前記複数の真空フード４１が形成する前記複数の真空チャンバ４２と連通するとともに、真空発生装置（図示せず）に接続されて、該真空チャンバ４２を真空にすることができる。具体的には、本実施形態において、前記複数の真空配管６０は、前記プラットフォーム１０を貫通するとともに、それぞれ前記複数の真空ホルダ４３の底面を貫通して、前記真空チャンバ４２と連通するが、これに限定されるものではなく、該真空配管６０は、前記真空フード４１を貫通して該真空チャンバ４２と連通してもよい。
【００２５】
また、図１及び図５に示すように、前記伝達機構７０は、前記プラットフォーム１０に接続されるとともに、前記部品Ａを、前記各加熱台３０において、前記材料供給端１１から材料排出端１２に至る方向に順に送る。
【００２６】
具体的には、図５〜図９に示すように、本実施形態において、前記伝達機構７０は、複数の牽引ロッド７１、水平駆動ユニット７２及び垂直駆動ユニット７３を備える。前記複数の牽引ロッド７１は、前記プラットフォーム１０の材料供給端１１と材料排出端１２との接続線の方向に直線的に延びるとともに、それぞれ、前記各加熱台３０の複数の溝３１内に穿設される。前記水平駆動ユニット７２は、前記複数の牽引ロッド７１に接続されるとともに、該複数の牽引ロッド７１を前記プラットフォーム１０の材料供給端１１と材料排出端１２との接続線の方向に往復移動させることができる。前記垂直駆動ユニット７３は、前記複数の牽引ロッド７１が接続される前記水平駆動ユニット７２に接続されるとともに、該水平駆動ユニット７２を上下に往復移動させることができ、それによって該牽引ロッド７１を前記溝３１から上方に突出させる、又は、前記各加熱台３０の上面よりも低くすることができる。これにより、上記部品Ａを相互に組み合わせることで、前記部品Ａを、前記各加熱台３０上において順に送ることができる。
【００２７】
具体的には、図６に示すように、運転時に、まず前記部品Ａを前記加熱台３０の上に置いて加熱し、前記牽引ロッド７１を前記溝３１内に位置させる。前記部品Ａを次の加熱台３０に搬送する必要がある場合、図７に示すように、まず前記垂直駆動ユニット７３が動作して、前記水平移動ユニットを牽引ロッド７１と一緒に上に押し上げることで、該牽引ロッド７１によって、該部品Ａを、前記加熱台３０の上面から離れるように押し上げる。次に、前記水平駆動ユニット７２が作動して、前記牽引ロッド７１を、前記材料供給端１１から材料排出端１２に至る方向に移動させることにより、図８に示すように、前記部品Ａを次の前記加熱台３０の上方に向かって水平に移動させる。最後に、図９に示すように、前記垂直駆動ユニット７３が再び作動し、前記水平移動ユニットを下方に戻すとともに、前記牽引ロッド７１を一緒に下向きに移動させて前記溝３１内に戻す。このとき、前記部品Ａは、前記加熱台３０の上面に載置されて、該部品Ａの伝達作業を完了する。その後、前記水平駆動ユニット７２が、前記材料排出端１２から材料供給端１１に至る方向に沿って元の位置に戻り、次の移送作業を待つが、この時、前記牽引ロッド７１は前記溝３１内を移動するため、前記加熱台３０の上面に載置された前記部品Ａに影響を与えない。
【００２８】
また、本実施形態においては、前記２つの伝達機構７０を備えており、該２つの伝達機構７０は、前記プラットフォーム１０の材料供給端１１と材料排出端１２にそれぞれ設置され且つ互いに協働して動作する。このような２つの伝達機構７０の牽引ロッド７１は、前記真空フード４１が下向きに前記真空ホルダ４３に密着するときには、該真空フード４１の両側に後退し、図５に示すように、前記部品Ａを送るときに、再び該真空ホルダ４３内の加熱台３０上に移動することで、前記各伝達機構７０の水平駆動ユニット７２の移動距離を短縮することができ、全体の大きさを小さくすることができる。また、前記伝達機構７０の具体的な構成及び動作方法は、上記に限定されるものではなく、例えば該伝達機構７０はロボットアームであってもよい。
【００２９】
溶接を行う際に、前記部品Ａは、前記材料供給端１１から、温度が最も低い前記加熱台３０に載置されるとともに、前記伝達機構７０によって前記材料排出端１２に向かって順に送られ、次の温度の該加熱台３０において徐々に加熱される。前記部品Ａが１つめの前記真空ホルダ４３内の加熱台３０に送られると、前記伝達機構７０の牽引ロッド７１が両側に後退し、前記真空フード４１が下向きに移動して該真空ホルダ４３に密着し、前記真空チャンバ４２を形成する。続いて、前記真空配管６０が前記真空チャンバ４２に対して真空引きを開始し，該真空チャンバ４２が真空になると、ギ酸配管によってギ酸ガスが該真空チャンバ４２内に導入される。このとき、前記真空チャンバ４２内は、まだスズ溶融温度に達していないため、ギ酸ガスが確実に拡散してスズ粉末の中央部に進入して、還元を行うことができ、さらにこのとき、ギ酸ガスは、銅などの還元温度が低い金属に対する表面酸化物の還元をあわせて行う。続いて、前記真空フード４１は上方に向かって元の位置に戻り、前記部品Ａは、続いて次の前記加熱台３０に送られる。前記部品Ａが、スズ溶融温度に達した前記加熱台３０に送られると、前記真空フード４１、真空ホルダ４３、真空配管６０及びギ酸配管は、前と同様に順に協働して、真空を形成するとともに、ギ酸を導入する。このとき、還元と同時にスズ粉末が溶融する。最後に、前記部品Ａが高温の前記加熱台３０から取り出されて冷却されるとともに、溶融状態のスズが冷えて固まり、溶接が完了する。
【００３０】
本考案は、前記複数の真空チャンバ４２にそれぞれギ酸ガスを導入することができるため、各種金属に最適な還元条件を整えて、金属ごとに異なる温度で還元反応させることができ、反応のサイクルタイムを短縮して生産能力を向上させ、また、全ての金属の表面酸化物を確実に還元することで、溶接後の強度を高めることもできる。さらに、本考案は、前記複数の真空チャンバ４２を有するため、スズ溶融温度に達していない該真空チャンバ４２内にギ酸ガスを導入することができ、それによって、ギ酸ガスは、縁部のスズ粉末の溶融によって阻害されることなく、拡散して確実にスズ粉末の中央部に進入することができ、中央部のスズ粉末を確実に還元して、溶接の強度を高めることができる。
【００３１】
以上の説明は、本考案の好ましい実施形態に過ぎず、本考案に対して何ら形式上の限定を行うものではない。本考案は好ましい実施形態によって上記のように開示されているが、それは本考案を限定するためのものではなく、すべての当業者が、本考案の技術構想を逸脱しない範囲において、上記に開示する技術内容を用いて変更及び修飾を行った等価の実施形態で、且つ本考案の技術構想の内容を逸脱しないものは、本考案の技術的本質に基づいて上記の実施形態に対して行われたいかなる簡単な修正、等価の変更及び修飾も、依然としてすべて本考案の技術構想の範囲内にある。
【符号の説明】
【００３２】
Ａ      部品
Ｂ      スズ粉末
１０    プラットフォーム
１１    材料供給端
１２    材料排出端
１３    第１側辺
１４    第２側辺
２０    上蓋
２１    エアカーテンユニット
２１１  通気孔
３０    加熱台
３１    溝
４１    真空フード
４２    真空チャンバ
４３    真空ホルダ
４３１  環状壁
５０    駆動機構
５１    移動ロッド
５２    移動台
５３    駆動装置
６０    真空配管
７０    伝達機構
７１    牽引ロッド
７２    水平駆動ユニット
７３    垂直駆動ユニット
８０    蓋押圧機構
９０    真空溶接炉
９１    加熱台
９２    真空フード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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