【手続補正書】
【提出日】平成18年5月26日(2006.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  
添加剤消費を抑制するアルデヒドと、銅、金、銀、パラジウム、白金、コバルト、カドミウム、クロム、ビスマス、インジウム、ロジウム、ルテニウム、およびイリジウムからなる金属から選択される金属の塩とを含む金属メッキ浴。
【請求項２】
アルデヒドが芳香族アルデヒドまたは非芳香族アルデヒドを含む、請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項３】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、以下の式：
Ｒ１−ＣＨＯ
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分岐、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分岐または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分岐アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；またはフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；Ｘは１−５００の整数、Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルであり；前記（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルは置換されていても置換されていなくてもよい）
を有する、請求項２記載の金属メッキ浴。
【請求項４】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルが、ハロゲン、アリール、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、シリル、シラン、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＮＯ２、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ）２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、ＣＯＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキル、−ＣＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルまたはＮＲ３Ｒ４、（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、アリールまたは（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルであり；Ｍは水素またはアルカリ金属であり、Ｒは水素またはハロゲンである）の１またはそれ以上の置換基で置換されている請求項３記載の金属メッキ浴。
【請求項５】
添加剤消費を抑制する化合物が、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−メトキシシンナムアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒドモノハイドレート、シリンジアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−カルボキシベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド、またはベンズアルデヒドを含む、請求項４記載の金属メッキ浴。
【請求項６】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項１の金属メッキ浴。
【請求項７】
光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、または抑制物質を含む添加剤をさらに含む、請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項８】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもよいし、あるいは置換されていなくてもよい請求項７記載の金属メッキ浴。
【請求項９】
光沢剤が、３−メルカプト−プロピルスルホン酸ナトリウム塩、２−メルカプト−エタンスルホン酸ナトリウム塩、ビススルホプロピルジスルフィド、またはその混合物を含む請求項７記載の金属メッキ浴。
【請求項１０】
レベラーが、アルキル化ポリアルキレンイミン、オルガノスルホスルホン、フェナジンクラスの染料、フェナジンアゾ染料、またはその混合物を含む請求項７記載の金属メッキ浴。
【請求項１１】
さらに、添加剤３−（ベンズチアゾリル−２−チオ）−プロピルスルホン酸ナトリウム塩、３−メルカプトプロパン−１−スルホン酸ナトリウム塩、エチレンジチオジプロピルスルホン酸ナトリウム塩、ビス−（ｐ−スルホフェニル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホブチル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホヒドロキシプロピル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホプロピル）−ジスルフィド二ナトリウム塩、ビス−（ω−スルホプロピル）−スルフィド二ナトリウム塩、メチル−（ω−スルホプロピル）ナトリウム塩、メチル−（ω−スルホプロピル）−トリスルフィド二ナトリウム塩、Ｏ−エチル−ジチオカルボン酸−Ｓ−（ω−スルホプロピル）−エステル、カリウム塩チオグリコール酸、チオリン酸−Ｏ−エチル−ビス−（ω−スルホプロピル）−エステル二ナトリウム塩、チオリン酸−トリ（ω−スルホプロピル）−エステル三ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカルバミン酸（３−スルホプロピル）エステルナトリウム塩、（Ｏ−エチルジチオカルボナト）−Ｓ−（３−スルホプロピル）エステルカリウム塩、３−［（アミノ−イミノメチル）−チオ］−１−プロパンスルホン酸、３−（２−ベンズチアゾリルチオ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム塩、またはその混合物を含む請求項７記載の金属メッキ浴。
【請求項１２】
さらに、添加剤カルボキシメチルセルロース、ノニルフェノールポリグリコールエーテル、オクタンジオールビス−（ポリアルキレングリコールエーテル）、オクタノールポリアルキレングリコールエーテル、オレイン酸ポリグリコールエステル、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリオキシプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、ステアリン酸ポリグリコールエステル、ステアリルアルコールポリグリコールエーテル、またはその混合物を含む請求項７記載の金属メッキ浴。
【請求項１３】
浴のｐＨが０〜約８．０の範囲である請求項１記載の金属メッキ浴。
【請求項１４】
銅金属塩、および添加剤消費を抑制するアルデヒドを含む銅金属メッキ浴。
【請求項１５】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが芳香族アルデヒドまたは非芳香族アルデヒドを含む、請求項１４記載の銅金属メッキ浴。
【請求項１６】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、以下の式：
Ｒ１−ＣＨＯ
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分岐、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分岐または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分岐アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；またはフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；Ｘは１−５００の整数、Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルであり；前記（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルは置換されていても置換されていなくてもよい）
を有する、請求項１５記載の銅金属メッキ浴。
【請求項１７】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルが、ハロゲン、アリール、シリル、シラン、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＮＯ２、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ）２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、ＣＯＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキル、−ＣＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルまたはＮＲ３Ｒ４、（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、アリールまたは（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルであり；Ｍは水素またはアルカリ金属であり、Ｒは水素またはハロゲンである）の１またはそれ以上の置換基で置換されている請求項１６記載の銅金属メッキ浴。
【請求項１８】
添加剤消費を抑制する化合物が、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−メトキシシンナムアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒドモノハイドレート、シリンジアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−カルボキシベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−フルアルデヒド、またはベンズアルデヒドを含む、請求項１７記載の銅金属メッキ浴。
【請求項１９】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項１４記載の銅金属メッキ浴。
【請求項２０】
光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、抑制物質またはそれらの混合物を含む添加剤をさらに含む、請求項１４記載の銅金属メッキ浴。
【請求項２１】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもよいし、あるいは置換されていなくてもよい請求項２０記載の銅金属メッキ浴。
【請求項２２】
銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、アルカンスルホン酸銅、アルカノールスルホン酸銅、またはその混合物を含む請求項１４記載の銅金属メッキ浴。
【請求項２３】
電解メッキ浴のｐＨが０〜約８．０である請求項１４記載の銅金属メッキ浴。
【請求項２４】
基体を金属メッキ浴と接触させ；十分な電流密度を金属メッキ浴にかけて、金属を基体上に堆積させることを含み；メッキ浴が、添加剤消費を抑制するアルデヒドを含み、およびメッキ浴が、銅、金、銀、パラジウム、白金、コバルト、カドミウム、クロム、ビスマス、インジウム、ロジウム、ルテニウム、およびイリジウムからなる金属から選択される金属の塩を含む、基体上に金属をメッキする方法。
【請求項２５】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが芳香族アルデヒドまたは非芳香族アルデヒドを含む、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、以下の式：
Ｒ１−ＣＨＯ
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分岐、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分岐または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分岐アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；またはフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；Ｘは１−５００の整数、Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルであり；前記（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルは置換されていても置換されていなくてもよい）
を有する化合物である請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルが、ハロゲン、アリール、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、シリル、シラン、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＮＯ２、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ）２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、ＣＯＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキル、−ＣＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルまたはＮＲ３Ｒ４、（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、アリールまたは（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルであり；Ｍは水素またはアルカリ金属であり、Ｒは水素またはハロゲンである）の１またはそれ以上の置換基で置換されている請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
添加剤消費を抑制する化合物が、２’，４’，６’−トリヒドロキシアセトフェノンモノハイドレート、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−メトキシシンナムアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒドモノハイドレート、シリンジアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−カルボキシベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−フルアルデヒドまたはベンズアルデヒドを含む、請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項２４の方法。
【請求項３０】
さらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、抑制物質またはそれらの混合物を含む請求項２４記載の方法。
【請求項３１】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもよいし、あるいは置換されていなくてもよい請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
基体が、プリント配線板、集積回路、電気接触面、コネクター、電解ホイル、シリコンウェハ、半導体、リードフレーム、オプトエレクトロニクス部品、ソルダーバンプ、装飾品、衛生用品などを含む請求項２４記載の方法。
【請求項３３】
基体を銅メッキ浴と接触させる段階；および十分な電流密度を銅メッキ浴にかけて、銅を基体上に堆積させる段階を含み；銅メッキ浴が銅金属塩と、添加剤消費を抑制するアルデヒドとを含む、基体上に銅をメッキする方法。
【請求項３４】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが芳香族アルデヒドまたは非芳香族アルデヒドを含む、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、以下の式：
Ｒ１−ＣＨＯ
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分岐、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分岐または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分岐アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；またはフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；Ｘは１−５００の整数、Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルであり；前記（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルは置換されていても置換されていなくてもよい）
を有する化合物である請求項３４記載の方法。
【請求項３６】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルが、ハロゲン、アリール、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、シリル、シラン、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＮＯ２、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ）２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、ＣＯＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキル、−ＣＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルまたはＮＲ３Ｒ４、（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、アリールまたは（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルであり；Ｍは水素またはアルカリ金属であり、Ｒは水素またはハロゲンである）の１またはそれ以上の置換基で置換されている請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
添加剤消費を抑制する化合物が、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−メトキシシンナムアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒドモノハイドレート、シリンジアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−カルボキシベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−フルアルデヒドまたはベンズアルデヒドを含む、請求項３６記載の方法。
【請求項３８】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項３４の方法。
【請求項３９】
さらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、抑制物質またはそれらの混合物を含む請求項３４記載の方法。
【請求項４０】
光沢剤が、式：ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−ＳＨ；ＨＯ３Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｓ−Ｒ１１−ＳＯ３Ｈ（式中、Ｒ１１はＣ１−Ｃ６アルキルまたはアリール基である）；あるいはＨＯ３Ｓ−Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ−ＳＯ３Ｈ（式中、Ａｒはフェニルまたはナフチルである）を有する化合物を含み、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルおよびアリール基はアルキル基、ハロまたはアルコキシ基で置換されていてもよいし、あるいは置換されていなくてもよい請求項３９記載の方法。
【請求項４１】
銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、アルカンスルホン酸銅、アルカノールスルホン酸銅、またはその混合物を含む請求項３４記載の方法。
【請求項４２】
浴のｐＨが０〜約８．０である請求項３４記載の方法。
【請求項４３】
基体が、プリント配線板、集積回路、電気接触面、コネクター、電解ホイル、シリコンウェハ、半導体、リードフレーム、オプトエレクトロニクス部品、ソルダーバンプ、装飾品、衛生用品などを含む請求項３４記載の方法。
【請求項４４】
銅、金、銀、パラジウム、白金、コバルト、カドミウム、クロム、ビスマス、インジウム、ロジウム、イリジウム、およびルテニウムからなる群から選択される金属の塩と添加剤消費を抑制するアルデヒドとを含む金属メッキ浴に接触する不溶性陽極および陰極を通って電流が流れることができるように、不溶性陽極および陰極と電気的に連結された電源を含む、基体を電気メッキする装置。
【請求項４５】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが芳香族アルデヒドまたは非芳香族アルデヒドを含む、請求項４４記載の装置。
【請求項４６】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、以下の式：
Ｒ１−ＣＨＯ
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）直鎖、分岐、または環状アルキル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、分岐または環状アルケニル；（Ｃ２−Ｃ２０）直鎖、または分岐アルキニル；（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；またはフェニル−Ｏ（Ｃ２−Ｃ３Ｏ）ｘＲ２；Ｘは１−５００の整数、Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたはフェニルであり；前記（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルは置換されていても置換されていなくてもよい）
を有する、請求項４５記載の装置。
【請求項４７】
（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ２−Ｃ２０）アルケニル、および（Ｃ２−Ｃ２０）アルキニルが、ハロゲン、アリール、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ＝ＮＳ、シリル、シラン、−Ｓｉ（ＯＨ）３、−ＮＯ２、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−Ｐ（Ｒ）２、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨＯ、ＣＯＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキル、−ＣＯ（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルまたはＮＲ３Ｒ４、（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、アリールまたは（Ｃ１−Ｃ１２）アルキルであり；Ｍは水素またはアルカリ金属であり、Ｒは水素またはハロゲンである）の１またはそれ以上の置換基で置換されている請求項４６記載の装置。
【請求項４８】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−メトキシシンナムアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒドモノハイドレート、シリンジアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−カルボキシベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−フルアルデヒドまたはベンズアルデヒドを含む、請求項４７記載の装置。
【請求項４９】
添加剤消費を抑制するアルデヒドが、浴１Ｌあたり約０．００１ｇ〜約１００ｇである請求項４４の装置。
【請求項５０】
金属メッキ浴がさらに、光沢剤、レベラー、硬化剤、湿潤剤、展性改良剤、延性改良剤、堆積改良剤、または抑制物質を含む請求項４４記載の装置。
【請求項５１】
金属メッキ浴のｐＨが０〜約８．０である請求項４４記載の装置。
【請求項５２】
金属塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、アルカンスルホン酸銅、アルカノールスルホン酸銅、またはその混合物を含む請求項４４記載の装置。
【請求項５３】
不溶性陽極が、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、または白金の金属を含む請求項４４記載の装置。
【請求項５４】
不溶性陽極が、さらにチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、またはタンタルの金属を含む請求項５３記載の装置。
【請求項５５】
不溶性陽極が、さらにベリリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、または希土類元素を含む請求項５４記載の装置。
【請求項５６】
不溶性陽極が、二酸化イリジウムを含む請求項４４記載の装置。
【請求項５７】
陰極が、配線板、集積回路、電気接触面、コネクター、電解ホイル、シリコンウェハ、半導体、リードフレーム、オプトエレクトロニクス部品、ソルダーバンプ、装飾品、衛生用品などを含む請求項４４記載の装置。
【請求項５８】
不溶性陽極および陰極が約１〜約１０００アンペア／ｆｔ２の電流密度を有する請求項４４記載の装置。