【手続補正書】
【提出日】平成18年2月1日(2006.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された透光性膜と、前記透光性膜上に形成され一対の電極を有する発光素子と、を有する発光装置であって、
前記一対の電極のうち一方の電極は、前記透光性膜上に形成され、
前記透光性膜の屈折率は、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記一方の電極側の界面まで連続的に変化していることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成され一対の電極を有する発光素子と、前記一対の電極のうち一方の電極上に形成された透光性膜と、を有する発光装置であって、
前記透光性膜の屈折率は、前記一方の電極側の界面から膜厚方向に連続的に変化していることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された透光性膜と、前記透光性膜上に形成され一対の電極を有する発光素子と、を有する発光装置であって、
前記一対の電極のうち一方の電極は、前記透光性膜上に形成され、
前記透光性膜は少なくとも第一の物質と第二の物質を含む複数の物質を有し、前記第一の物質に対する第二の物質の組成比は、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記一方の電極側の界面まで連続的に変化することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成され一対の電極を有する発光素子と、前記一対の電極のうち一方の電極上に形成された透光性膜と、を有する発光装置であって、
前記透光性膜は少なくとも第一の物質と第二の物質を含む複数の物質を有し、前記第一の物質と第二の物質との組成比は、前記一方の電極側の界面から膜厚方向に連続的に変化することを特徴とする発光装置。
【請求項５】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された透光性膜と、前記透光性膜上に形成され一対の電極を有する発光素子と、を有する発光装置であって、
前記一対の電極のうち一方の電極は、前記透光性膜上に形成され、
前記透光性膜は、前記絶縁表面を有する基板側から、第一の物質を有する膜と、第一の物質と第二の物質とを有する膜と、第二の物質を有する膜とが順次積層しており、
前記絶縁表面を有する基板の屈折率と前記第一の物質を有する膜の屈折率とは同程度であり、前記一方の電極の屈折率と前記第二の物質を有する膜の屈折率とは同程度であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成され一対の電極を有する発光素子と、前記一対の電極のうち一方の電極上に形成された透光性膜と、を有する発光装置であって、
前記透光性膜は、前記一方の電極側から、第一の物質を有する膜と、第一の物質と第二の物質とを有する膜と、第二の物質を有する膜とが順次積層しており、
前記一方の電極の屈折率と前記第一の物質を有する膜の屈折率とは同程度であり、前記透光性膜において前記一方の電極とは反対側の界面に接する物質の屈折率と前記第二の物質を有する膜の屈折率とは同程度であることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された透光性膜と、前記透光性膜上に形成された第一電極と、前記第一電極上に形成された有機化合物を含む層と、前記有機化合物を含む層上に形成された第二電極を有する発光装置であって、
前記透光性膜の屈折率は前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に変化していることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された第一電極と、前記第一電極上に形成された有機化合物を含む層と、前記有機化合物を含む層上に形成された第二電極と、前記第二電極上に形成された透光性膜と、を有する発光装置であって、
前記透光性膜の屈折率は前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に変化していることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された透光性膜と、前記透光性膜上に形成された第一電極と、前記第一電極上に形成された有機化合物を含む層と、前記有機化合物を含む層上に形成された第二電極を有する発光装置であって、
前記透光性膜は少なくとも第一の物質と第二の物質を含む複数の物質を有し、前記第一の物質に対する第二の物質の組成比は、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に変化することを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
絶縁表面を有する基板と、前記絶縁表面を有する基板上に形成された第一電極と、前記第一電極上に形成された有機化合物を含む層と、前記有機化合物を含む層上に形成された第二電極と、前記第二電極上に形成された透光性膜と、を有する発光装置であって、
前記透光性膜は少なくとも第一の物質と第二の物質を含む複数の物質を有し、前記第一の物質と第二の物質との組成比は、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に変化することを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項９において、前記透光性膜中の第一の物質に対する第二の物質の組成比は、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に増加することを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項７または請求項９において、前記透光性膜の屈折率は、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に増加していることを特徴とする発光装置。
【請求項１３】
請求項１０において、前記透光性膜中の第一の物質に対する第二の物質の組成比は、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に増加することを特徴とする発光装置。
【請求項１４】
請求項８または請求項１０において、前記透光性膜の屈折率は、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に減少していることを特徴とする発光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至４または請求項７乃至１４のいずれか一において、前記透光性膜は酸化窒化珪素膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項１６】
請求項３、請求項５、請求項９または請求項１１において、前記第一の物質は酸素であり、前記第二の物質は窒素であることを特徴とする発光装置。
【請求項１７】
請求項４、請求項６、請求項１０または請求項１３において、前記第一の物質は窒素であり、前記第二の物質は酸素であることを特徴とする発光装置。
【請求項１８】
請求項５において、前記第一の物質を有する膜は酸化珪素膜であり、前記第一の物質と第二の物質とを有する膜は酸化窒化珪素膜であり、前記第二の物質を有する膜は窒化珪素膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項１９】
請求項６において、前記第一の物質を有する膜は窒化珪素膜であり、前記第一の物質と第二の物質とを有する膜は酸化窒化珪素膜であり、前記第二の物質を有する膜は酸化珪素膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項２０】
絶縁表面を有する基板上に透光性膜を形成し、前記透光性膜上に第一電極を形成し、前記第一電極上に有機化合物を含む層を形成し、前記有機化合物を含む層上に第二電極を形成する発光装置の作製方法であって、
前記透光性膜の屈折率が前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に変化するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２１】
絶縁表面を有する基板上に第一電極を形成し、前記第一電極上に有機化合物を含む層を形成し、前記有機化合物を含む層上に第二電極を形成し、前記第二電極上に透光性膜を形成する発光装置であって、
前記透光性膜の屈折率が、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に変化するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２２】
絶縁表面を有する基板上に透光性膜を形成し、前記透光性膜上に第一電極を形成し、前記第一電極上に有機化合物を含む層を形成し、前記有機化合物を含む層上に第二電極を形成する発光装置の作製方法であって、
前記透光性膜は少なくとも第一の物質と第二の物質とを含む複数の物質から形成し、前記透光性膜中の前記第一の物質に対する第二の物質の組成比が、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に変化するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２３】
絶縁表面を有する基板上に第一電極を形成し、前記第一電極上に有機化合物を含む層を形成し、前記有機化合物を含む層上に第二電極を形成し、前記第二電極上に透光性膜を形成する発光装置であって、
前記透光性膜は少なくとも第一の物質と第二の物質とを含む複数の物質から形成し、前記第一の物質と第二の物質との組成比が、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に変化するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２４】
請求項２２において、前記透光性膜中の第一の物質に対する第二の物質の組成比が、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に増加するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２５】
請求項２０または請求項２２において、前記透光性膜の屈折率が、前記絶縁表面を有する基板側の界面から前記第一電極側の界面まで連続的に増加するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２６】
請求項２３において、前記透光性膜中の第一の物質に対する第二の物質の組成比が、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に増加するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２７】
請求項２１または請求項２３において、前記透光性膜の屈折率が、前記第二電極側の界面から膜厚方向に連続的に減少するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２８】
請求項２０乃至２７のいずれか一において、前記透光性膜は酸化窒化珪素膜を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２９】
請求項２２または請求項２４において、前記第一の物質は酸素を、前記第二の物質は窒素を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３０】
請求項２３または請求項２６において、前記第一の物質は窒素を、前記第二の物質は酸素を用いることを特徴とする発光装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
例えば、前記透光性膜として酸化窒化珪素膜を用い、第一の物質を酸素、第二の物質を窒素、または第一の物質を窒素、第二の物質を酸素として、それらの組成比を変化させ、前記透光性膜内で屈折率を変化させてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
例えば、前記透光性膜として酸化窒化珪素膜を用い、第一の物質を酸素、第二の物質を窒素、または第一の物質を窒素、第二の物質を酸素として、それらの組成比を変化させ、前記透光性膜内で屈折率を変化させてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
【実施例】
［実施例１］
本発明の発光装置の構成を図３に示す。スパッタ装置により、絶縁表面を有する基板３０１上に透光性膜３０２として、膜厚方向に屈折率が変化した膜を形成する。本実施例では透光性膜３０２として、窒素、酸素及び珪素からなる酸化窒化珪素膜を形成する。また、本実施例では第一の物質として酸素を、第二の物質として窒素を用いて、それらの組成比の変化により透光性膜内の屈折率を変化させる。なお、透光性膜３０２、第一の物質、第二の物質は、本実施例に限定されず、基板３０１、第一電極３０３の屈折率に応じて実施者が適宜決定すれば良い。基板３０１としては、通常基板として用いられるガラス（アルカリガラス、石英ガラス等の酸素及び珪素の化合物を主成分とするガラス）基板、その他ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）、ＰＶＦ（ポリビニルフロライド）、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板などを用いれば良い。本実施例では、ガラス基板を用いる。