【手続補正書】
【提出日】平成18年7月6日(2006.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液を表面に塗布し、露光した後の基板を現像する現像装置において、
前記基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部に保持された基板の表面に現像液を供給する現像液ノズルと、
前記現像液に対して親水性を有する基板と同じか又は基板よりも大きいメッシュ部材を含み、前記現像液ノズルからの現像液をその裏面側に通過させて基板の表面に現像液を供給するための液流抑制板と、
前記液流抑制板を、前記基板の表面と対向し且つ基板の表面に供給される現像液の液膜の表面と接する位置又は液膜中に浸水する位置である処理位置に設定し、処理位置の高さを調整できる昇降機構を含む液流抑制板移動機構と、
前記塗布液の種類に応じて前記基板上の現像液の液膜の高さを調整するために前記昇降機構を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記制御部には、塗布液の種類に対応付けた前記液流抑制板の高さの設定値が記憶されていることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
前記液流抑制板のメッシュ部材に対する現像液の接触角は３０度未満であることを特徴とする請求項１又は２記載の現像装置。
【請求項４】
現像液が供給される基板の表面に塗布された塗布液は現像液に対して撥水性を有しており、さらに、基板の表面に形成する現像液の厚みは０．５ｍｍ〜３ｍｍであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項５】
前記メッシュ部材は現像液に対して親水性を有する第１のメッシュ部と、この第１のメッシュ部よりも上方側に設けられ、第１のメッシュ部よりも親水性の小さい第２のメッシュ部と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項６】
前記第２のメッシュ部に対する現像液の接触角は７０度以上であることを特徴とする請求項５記載の現像装置。
【請求項７】
前記メッシュ部材は、一の方向に間隔をおいて並べられた線状部材と、これに交差する他の方向に間隔をおいて並べられた線状部材により網目状に形成されており、一の方向に並べられた線状部材の線径を他の方向に並べられた線状部材の線径よりも大きくしたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項８】
前記現像液供給ノズルは基板の有効領域の幅とほぼ同じ長さに亘って吐出口を有し、また、この現像液ノズルを基板の一端側から他端側に亘って移動させるノズル移動機構と、を備え、
前記現像液ノズルの移動方向に伸びる線状部材の線径を他の方向に伸びる線状部材の線径よりも大きくしたことを特徴とする請求項７記載の現像装置。
【請求項９】
前記メッシュ部材は、一の方向に間隔をおいて並べられた線状部材と、これに交差する他の方向に間隔をおいて並べられた線状部材により網目状に形成されており、いずれか一方又は両方の配列方向に並ぶ線状部材のなかに所定の本数毎に間隔をおいて線径の大きい線状部材を配置したことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項１０】
前記液流抑制板のメッシュ部材は、基板の表面と対向する部位の目開きよりも基板の外側にある部位の目開きを大きくしたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項１１】
前記メッシュ部材は、樹脂で形成された線状部材の内部に抵抗発熱体を有し、前記基板に供給された現像液を所定の温度に加熱することを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項１２】
前記メッシュ部材は導電性のある部材を含み、この部材に所定の電圧を印加して電界を形成することを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項１３】
基板保持部に保持された基板の外周面を隙間を介して囲むように設けられ、少なくとも前記メッシュ部材よりも現像液に対する親水性の小さい液受け板を設けたことを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項１４】
前記液受け板の表面に対する現像液の接触角は４０度〜７０度であることを特徴とする請求項１３記載の現像装置。
【請求項１５】
液流抑制板の退避位置には、この液流抑制板を洗浄する洗浄手段が設けられていることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項１６】
塗布液を表面に塗布し、露光した後の基板に現像液を供給して現像する現像方法において、
前記基板を水平に保持する工程と、
現像液に対して親水性を有するメッシュ部材を含む液流抑制板を、前記基板の表面と対向しかつ基板の表面に供給される現像液の液膜の表面と接する位置又は液膜中に浸水する位置である処理位置であって、塗布液の種類に応じた高さ位置に調整する工程と、
この液流抑制板の表面にその液膜が塗布液の種類に応じた厚さとなるように現像液を供給し、その裏面側に現像液を通過させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を含むことを特徴とする現像方法。
【請求項１７】
前記メッシュ部材に対する現像液の接触角は３０度未満であることを特徴とする請求項１６記載の現像方法。
【請求項１８】
現像液が供給される基板の表面に塗布された塗布液は現像液に対して撥水性を有しており、また基板の表面に形成する現像液の厚みは０．５ｍｍ〜３ｍｍであることを特徴とする請求項１６又は１７記載の現像方法。
【請求項１９】
基板の現像を行った後、液流抑制板を洗浄手段に移動させて洗浄を行なう工程を更に含むことを特徴とする請求項１６ないし１８のいずれか一つに記載の現像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、塗布液を表面に塗布し、露光した後の基板を現像する現像装置において、
前記基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部に保持された基板の表面に現像液を供給する現像液ノズルと、
前記現像液に対して親水性を有する基板と同じか又は基板よりも大きいメッシュ部材を含み、前記現像液ノズルからの現像液をその裏面側に通過させて基板の表面に現像液を供給するための液流抑制板と、
前記液流抑制板を、前記基板の表面と対向し且つ基板の表面に供給される現像液の液膜の表面と接する位置又は液膜中に浸水する位置である処理位置に設定し、処理位置の高さを調整できる昇降機構を含む液流抑制板移動機構と、
前記塗布液の種類に応じて前記基板上の現像液の液膜の高さを調整するために前記昇降機構を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
前記制御部には、例えば塗布液の種類に対応付けた前記液流抑制板の高さの設定値が記憶されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記メッシュ部材は、一の方向に間隔をおいて並べられた線状部材と、これに交差する他の方向に間隔をおいて並べられた線状部材により網目状に形成されており、一の方向に並べられた線状部材の線径を他の方向に並べられた線状部材の線径よりも大きくした構成であってもよく、この場合、例えば前記現像液供給ノズルは基板の有効領域の幅とほぼ同じ長さに亘って吐出口を有し、また、この現像液ノズルを基板の一端側から他端側に亘って移動させるノズル移動機構と、を備え、ノズルの移動方向に伸びる線状部材の線径を他の方向に伸びる線状部材の線径よりも大きくした構成であってもよい。あるいは前記メッシュ部材は、一の方向に間隔をおいて並べられた線状部材と、これに交差する方向に間隔をおいて並べられた線状部材により網目状に形成されており、いずれか一方又は両方の配列方向に並ぶ線状部材のなかに所定の本数毎に間隔おいて線径の大きい線状部材を配置した構成であってもよい。また前記液流抑制板のメッシュ部材は、基板の表面と対向する部位の目開きよりも基板の外側にある部位の目開きを大きくした構成であってもよい。また前記メッシュ部材は、樹脂で形成された線状部材の内部に抵抗発熱体を有し、前記基板に供給された現像液を所定の温度に加熱する構成であってもよいし、前記メッシュ部材は導電性のある部材を含み、この部材に所定の電圧を印加して電界を形成する構成であってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また本発明は、塗布液を表面に塗布し、露光した後の基板に現像液を供給して現像する現像方法において、
前記基板を水平に保持する工程と、
現像液に対して親水性を有するメッシュ部材を含む液流抑制板を、前記基板の表面と対向しかつ基板の表面に供給される現像液の液膜の表面と接する位置又は液膜中に浸水する位置である処理位置であって、塗布液の種類に応じた高さ位置に調整する工程と、
この液流抑制板の表面にその液膜が塗布液の種類に応じた厚さとなるように現像液を供給し、その裏面側に現像液を通過させて基板の表面に現像液を供給する工程と、を含むことを特徴とする。