【事件の表示】
　平成　３年特許願第１５５８７６号「光記録ディスクの製造方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成　４年１２月　８日出願公開、特開平　４−３５３６３６、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯・本件発明
　本件は、平成３年５月３０日の出願であって、その請求項１〜３に係る発明は、平成１２年９月２２日付け手続補正で補正された明細書及び図面の記載からからみて、特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された次のとおりのものと認める。
　「【請求項１】　回転する基板上に、色素を含有する塗布液をスピンコートして記録層を形成するに際し、前記基板が、前記記録層の内周縁を規制する溝を有し、さらに、記録層形成領域内にグルーブを有し、このグルーブ内の記録層厚が２０００〜３０００Åであり、このグルーブ形成領域内周側に平坦部と前記溝とを有し、前記溝が、深さ５００〜３０００Åで、幅０．３〜１．２μｍであり、基板の内周部と外周部の中間の位置で塗布液射出用ノズルから塗布液を射出し、塗布液を射出しながら塗布液射出用ノズルを基板の内周部に向かって移動させ、次いで再び外周方向に移動させる光記録ディスクの製造方法。」
　「【請求項２】　前記記録層上に反射層および保護膜を積層する請求項１に記載の光記録ディスクの製造方法。」
　「【請求項３】　前記溝は、複数本の同心円またはスパイラル状の溝である請求項１または請求項２に記載の光記録ディスクの製造方法。」
　
ＩＩ．原査定の拒絶の理由の概要
　これに対して、本件請求項１〜３にかかる発明は、原審において平成１２年７月１４日付け拒絶理由通知書に記載した特許法２９条第２項及び特許法第３６条第４項〜第６項の規定に基づく理由によって拒絶の査定がされたものであって、原査定の拒絶の理由の概要は、次のとおりである。
　理由１：請求項１に係る発明において、「グルーブ内の記録層厚」、「グルーブ形成領域内周側に設けた溝の深さ及び幅」、「塗布液射出用ノズルの移動方向の操作」の３つの要件の組合わせる構成を採用することにより、当業者が予測できないほどの優れた効果が発揮されるに至っているとは認められないから、請求項１に係る発明は、引用例１（特開平３−３２８８２号公報）、引用例２（特開昭６３−４２０５２号公報）及び引用例３（特開昭６３−２００８６５号公報）に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、また、請求項２，３に係る発明も請求項１に係る発明に単に周知の技術的事項を付加したものに過ぎず同じく当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１〜３に係る発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　理由２：（イ）明細書本文中には、塗布液射出用ノズルの軌跡に関しては、「塗布液射出用ノズルを内周部と外周部の中間位置から内周部に向かって移動させ、次いで内周部（溝２５付近）で一旦停止させ、再び元の出発位置に移動させてからさらに外周方向に移動させてさらに元の位置に戻す」ことが記載されているだけで、請求項１における塗布液射出用ノズルの移動方向の操作ならびにその効果の記載がない点、また、（ロ）「記録膜厚」及び「溝の深さ及び幅」の各上限値及び下限値で実施できるとする根拠が実施例をもって具体的に立証されていない点で、本件明細書には記載不備があるから、本願は特許法第３６条第４項〜第６項の規定に違反する。
　
ＩＩＩ．各引用例の記載
　引用例１には、「ピンホールのない均一な厚さの記録層を形成する光情報記録媒体の製造方法に関し、プリグルーブを形成した基板上に、色素含有塗布液をノズルより供給して記録層をスピンコートにより形成するに際に、気流抑制手段を設けたり、ノズルの先端部を特定方向に傾斜させたり（ノズルの先端部は基板の内周部から外周部に向かって適宜揺動できるようになっていてもよい。）、基板の記録領域全域の信号パターン凹部内に塗布液を充填した後基板を高速回転したりする光情報記録媒体の製造方法」が記載されている。　なお、該引用例１には、基板上に回転塗布法により膜を形成する方法の従来技術として、基板の中心部付近にに塗布液を滴下した後基板を高速回転して塗布膜を得る方法、基板を回転させながら塗布液を滴下する位置を基板の中心から外周へ又は外周から中心へ移動させ塗布膜を形成する方法、中間部にドーナツ状に滴下したのち高速で振り切り塗布膜を形成する方法があることも記載されている。
　引用例２には、「塗布ムラのない記録膜等の機能膜を形成する光記録媒体の製造方法に関し、機能膜形成用の塗布液を基板の記録有効部全面に同時に接触させた後、基板を回転させて所望の塗布厚みと塗布の均一性を得る光記録媒体の製造方法」が記載されている。　　なお、該引用例２には、基板上に回転塗布法により膜を形成する方法の従来技術として、基板の中心に塗布液を滴下した後、基板を高速回転して所望の塗布厚を得る方法、塗布液を滴下する位置を基板の中心から外周へ移動させ基板全面を塗布溶液でぬらした後、基板を高速回転し塗布膜を形成する方法があることも記載されている。
　引用例３には、「光ディスクの最内周部の塗布膜形状をきれいな同心円状とすると共に、塗布領域への樹脂のはね返りや気泡の発生を防止した光ディスク保護膜のコーティング方法に関し、保護膜を施すべき光ディスク基体を低速回転域で回転させた状態で光ディスク基体の外周部から内周部にかけての領域に連続的に樹脂吐出ノズルを移動させて樹脂を塗布すると共に、前記領域の最内周部で前記樹脂吐出ノズルを固定して樹脂を塗布し、その後、前記光ディスク基体を中速回転域を経て高速回転域で回転させて前記樹脂を前記光ディスク基体の保護膜形成領域表面全域に被着せしめる光ディスク保護膜のコーティング方法」が記載されている。
　
ＩＶ．当審の判断
（１）理由１に関して
　本件請求項１にかかる発明と引用例１〜３に記載された発明とを対比すると、いずれの引用例にも、本件請求項１にかかる発明の必須の構成である「基板の内周部と外周部の中間の位置で塗布液射出用ノズルから塗布液を射出し、塗布液を射出しながら塗布液射出用ノズルを基板の内周部に向かって移動させ、次いで再び外周方向に移動させる」との記載がない点で両発明は少なくとも相違する。
　該相違点である上記必須の構成は、引用例１〜３からは示唆されないし、引用例１〜３を組み合わせても示唆されない。
　そして、本件請求項１にかかる発明は、上記必須の構成と、「グルーブ内の記録層厚が２０００〜３０００Åであること」、「グルーブ形成領域内周側に設けた溝が、深さ５００〜３０００Åで、幅０．３〜１．２μｍであること」との組合わせにより、色素を主成分とする記録層を、基板の所定領域に、はみ出し部を生じることなく、正確かつ均一な厚さで設層することが可能になり、保護膜密着性が良好となり、外観上好ましいものとなるという本件明細書記載の効果を奏している（平成１３年７月５日付け手続補足書と平成１１年１１月２６日付け手続補足書の両実験証明書も参照）。
　よって、本件請求項１にかかる発明は、引用例１〜３記載の発明に基づいて当業者が容易に想到し得るということはできない。
　次に、本件請求項２，３にかかる発明は、本件請求項１にかかる発明に更に他の構成を付加したものであるから、上記で示した理由と同様な理由により、引用例１〜３記載の発明に基づいて当業者が容易に想到し得るということはできない。
（２）理由２に関して
　（イ）なるほど、本件明細書には、塗布液射出用ノズルを内周部と外周部の中間位置から内周部に向かって移動させ、次いで内周部（溝２５付近）で一旦停止させ、再び元の出発位置に向かって移動させる旨（段落【００２８】）、及び、それに加えて元の位置に移動させさらに外周方向へと移動させさらに元の位置に戻す旨（段落【００５５】の実施例）が記載されているけれども、この実施の態様を必須の構成要件であるとまでは言い切れない。
　（ロ）そして、平成１３年７月５日付け手続補足書と平成１１年１１月２６日付け手続補足書の両実験証明書によれば、請求項１に係る発明のノズルの移動方向の操作に一応の技術的意義があり、「記録膜厚」及び「溝の深さ及び幅」の各上限値及び下限値で実施できることが一応認められる。
　よって、上記摘示した記載不備に基づく原査定の理由は失当である。
　
Ｖ．まとめ
　以上のとおりであるから、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。