【手続補正書】
【提出日】平成18年2月21日(2006.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の反射面を有し、物体面上のパターンからの光を前記複数の反射面で反射することによって像面上に縮小投影する反射型投影光学系であって、
前記反射型投影光学系の開口数が０．２以上であって、
前記物体面と前記像面の光路の間に前記パターンの中間像を形成し、
前記パターンからの光が最初に入射する第１反射面と該第１反射面の次に光が入射する面を第２反射面との間隔をＬ１２、前記物体面と前記物体面に最も近い反射面との間隔をＬＭＳ、前記反射型投影光学系の最終反射面と該最終反射面の裏面側で該最終反射面に最も近接している反射面との間隔をＬＷとしたとき、
ＬＳＭ／Ｌ１２＞１  及び  ＬＷ／Ｌ１２＞１
の関係を満足することを特徴とする反射型投影光学系。
【請求項２】
前記反射型投影光学系は、
ＬＳＭ／Ｌ１２＜３  及び  ＬＷ／Ｌ１２＜２
の関係を満足することを特徴とする請求項１記載の反射型投影光学系。
【請求項３】
前記反射型投影光学系は、
１．３＜ＬＳＭ／Ｌ１２＜３  及び  １．３＜ＬＷ／Ｌ１２＜２
の関係を満足することを特徴とする請求項１記載の反射型投影光学系。
【請求項４】
前記物体面から前記像面側にかけて、第１の反射面、第２の反射面、第３の反射面、第４の反射面、第５の反射面、第６の反射面の順に光を反射する６枚の反射面を有することを特徴とする請求項１記載の反射型投影光学系。
【請求項５】
前記第２の反射面の位置を開口絞り位置としたことを特徴とする請求項４記載の反射型投影光学系。
【請求項６】
前記６面の反射面は、基本的に共軸系をなすように配置したことを特徴とする請求項４記載の反射型投影光学系。
【請求項７】
前記６面の反射面のうち少なくとも１枚はＥＵＶ光を反射する多層膜を有する非球面反射面であることを特徴とする請求項４記載の反射型投影光学系。
【請求項８】
前記６面の反射面はすべてＥＵＶ光を反射する多層膜を有する非球面反射面であることを特徴とする請求項４記載の反射型投影光学系。
【請求項９】
主光線の各反射面における光軸からの高さ方向の位置を、前記第１の反射面から前記第２の反射面までの変位方向と、前記第３の反射面から前記第６の反射面までの変位方向とで逆方向としたことを特徴とする請求項４記載の反射型投影光学系。
【請求項１０】
前記光は、波長２０ｎｍ以下のＥＵＶ光であることを特徴とする請求項１記載の反射型投影光学系。
【請求項１１】
前記像面側がテレセントリックであることを特徴とする請求項１記載の反射型投影光学系。
【請求項１２】
前記物体面上に反射型マスクを配置することを特徴とする請求項１記載の反射型投影光学系。
【請求項１３】
前記パターンからの反射光を前記像面上に投影することを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか一項記載の反射型投影光学系。
【請求項１４】
前記物体面に最も近い反射面が前記第２の反射面であって、前記最終反射面の裏面側で該最終反射面に最も近接している反射面が第１の反射面であることを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか一項記載の反射型投影光学系。
【請求項１５】
前記反射型投影光学系は、前記物体面から前記像面側にかけて、第１の反射面、第２の反射面、第３の反射面、第４の反射面、第５の反射面、第６の反射面の順に光を反射する６枚の反射面から成ることを特徴とする請求項１乃至１４のうちいずれか一項記載の反射型投影光学系。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のうちいずれか一項記載の反射型投影光学系と、
前記物体面上にマスクのパターンを位置付けるべく当該マスクを保持するマスクステージと、
前記像面上に感光層を位置付けるべく被処理体を保持するウェハステージと、
前記ＥＵＶ光で前記マスクを照明する状態で前記マスクステージ及び前記ウェハステージを同期して走査する手段とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
光源からの光で前記パターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を像面上に投影する、請求項１乃至１５のうちいずれか一項記載の反射型投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
前記投影光学系は、前記パターンからの反射光を前記像面上に投影することを特徴とする請求項１７記載の露光装置。
【請求項１９】
請求項１６乃至１８のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての反射型投影光学系は、複数の反射面を有し、物体面上のパターンからの光を前記複数の反射面で反射することによって像面上に縮小投影する反射型投影光学系であって、前記反射型投影光学系の開口数が０．２以上であって、前記物体面と前記像面の光路の間に前記パターンの中間像を形成し、前記パターンからの光が最初に入射する第１反射面と該第１反射面の次に光が入射する面を第２反射面との間隔をＬ１２、前記物体面と前記物体面に最も近い反射面との間隔をＬＭＳ、前記反射型投影光学系の最終反射面と該最終反射面の裏面側で該最終反射面に最も近接している反射面との間隔をＬＷとしたとき、ＬＳＭ／Ｌ１２＞１  及び  ＬＷ／Ｌ１２＞１の関係を満足することを特徴とする。本発明の別の側面としての露光装置は、上述の反射型投影光学系と、前記物体面上にマスクのパターンを位置付けるべく当該マスクを保持するマスクステージと、前記像面上に感光層を位置付けるべく被処理体を保持するウェハステージと、前記ＥＵＶ光で前記マスクを照明する状態で前記マスクステージ及び前記ウェハステージを同期して走査する手段とを有することを特徴とする。本発明の更に別の側面としての露光装置は、光源からの光で前記パターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を像面上に投影する、上述の反射型投影光学系とを有することを特徴とする。本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】削除
【補正の内容】