(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアセテートフィルムを延伸する光学補償フィルムの製造方法において、セルロースアセテートが酢化度５７．０％乃至６２．５％であり、延伸するセルロースアセテートフィルムの含水率を２．０質量％以上２０．０質量％以下にすることを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【請求項２】
延伸により、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５５０）を２０ｎｍ≦Ｒｅ５５０≦２０００ｎｍとすることを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項３】
延伸により、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであり、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍとすることを特徴とする請求項１または２に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項４】
延伸直後のセルロースアセテートフィルムの含水率が２．０質量％以上２０．０質量％以下であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
延伸時にフィルムを固定する固定部材間の距離をＬとし、その固定部材間と垂直な方向をＷとし、延伸時のフィルム形状のアスペクト比をＬ／Ｗとしたときのアスペクト比Ｌ／Ｗが０．１≦Ｌ／Ｗ≦２であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
該延伸が水中で実施されることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
該延伸が空気中で実施されることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
該延伸が相対湿度６０％以上１００％以下の水蒸気中で実施されることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
該延伸が５０℃以上１５０℃以下で実施されることを特徴とする請求項１〜８いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
該延伸が１．１倍以上２．０倍以下で実施されることを特徴とする請求項１〜９いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
該延伸が１秒以上３０秒以下で実施されることを特徴とする請求項１〜１０いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚが、１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦３の関係を満足する光学補償フィルムの請求項１〜１１いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
該フィルムのヘイズ値が０％以上２％以下であることを特徴とする請求項１〜１２いずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
該セルロースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含むことを特徴とする請求項１〜１３いずれか１項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セルロースアセテートからなる光学補償フィルム（特にλ／４板）の製造方法に関する。さらにこの製造方法で作製した光学補償フィルムおよびそれを適用した画像表示装置（反射型または半透過型液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（EL）素子を用いた表示装置）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、一般に、液晶セル、偏光板および光学補償シート（位相差板）からなり、透過型液晶表示装置では、二枚の偏光板を液晶セルの両側に取り付け、一枚または二枚の光学補償シートを液晶セルと偏光板との間に配置し、反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚の光学補償シート、そして一枚の偏光板の順に配置する。
【０００３】
液晶セルは、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基盤および棒状液晶性部分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）、反射型については、ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。
偏光板は、一般に、偏光膜と透明保護膜とからなっており、この偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料の水溶液を含浸させ、さらにこのフィルムを一軸延伸することにより得られる。この偏光膜の両側に二枚の透明保護膜を貼りつけた構成を有する。
【０００４】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。
その中でλ／４板は、液晶表示装置用の光学補償フィルムや、有機ＥＬ表示用の反射防止膜など多くの用途を有しており、既に実際に使用されている。しかし、λ／４板と称していても、ある特定波長でλ／４やλ／２を達成しているものが大部分であった。
【０００５】
特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各公報には、レターデーションが大きい複屈折性フイルムと、レターデーションが小さい複屈折率フイルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた光学補償フィルムが開示されている。二枚のフイルムのレターデーションの差が可視光域の全体にわたりλ／４であれば、光学補償フィルムは理論的には、可視光域の全体にわたりλ／４板として機能する。特開平１０−６８８１６号公報に、特定波長においてλ／４となっているポリマーフイルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２となっているポリマーフイルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる光学補償フィルムが開示されている。  特開平１０−９０５２１号公報にも、二枚のポリマーフイルムを積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる光学補償フィルムが開示されている。しかしながら、二枚の光学補償フィルムの貼り合せは膜厚が厚くなる、コストが高いなどの課題があり、一枚で広い波長領域にわたりλ／４を実現する光学補償フィルムが望まれていた。
【０００６】
これに対し、特開平２０００−１３７１１６号公報、およびＷＯ００／６５３８４には、一枚のポリマーフィルムで測定波長が短いほど位相差が小さくなる光学補償フィルム、円偏光板、および反射型液晶表示装置への適用に関しての記載がある。上述のλ／４板の視野角特性を制御するパラメータとして（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義される数値が採用されている（以後NZファクターと記載する。またｎｘ、ｎｙ、ｎｚはそれぞれ面内の遅相軸方向の屈折率、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、厚み方向の屈折率を表す）。ＷＯ００／６５３８４では好ましい範囲として１≦ＮＺ≦２であることを記載している。
【０００７】
このＮＺファクターは制御できることが好ましい。なぜなら、画像表示装置が液晶表示装置である場合、液晶パネルによって液晶セルの複屈折（Δｎ）が異なり、Δｎの角度依存性が液晶パネルによって異なるために、ＮＺファクターが制御できれば、光学補償フィルムのＲｅを変えることなく視野角特性を最適化できるからである。
しかしながら、NZファクターは三方向の屈折率で定義された値であるため延伸倍率と関連しており、縦延伸倍率が大きくなり一軸延伸に近づくにつれて大きい値から１に近づく。ＷＯ００／６５３８４公報の実施例に記載された自由幅一軸延伸方法でλ／４板を作製すると、λ／４のレターデーションを実現する延伸倍率が破断伸度の関係から決まるため、NZファクターも一義的に決まってしまう。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ＮＺファクターを制御でき、視野角特性に優れた光学補償フィルム（特に、広い波長領域で位相差がλ／４であるλ／４板）を製造する方法、特にレターデーションを変化させずにＮＺファクターを制御し、視野角特性を改良することができる光学補償フィルムを製造する方法を確立することにあり、それにより、視野角特性に優れたλ／４板、円偏光板、およびそれを用いた画像表示装置、特に反射型または半透過型液晶表示装置、および有機エレクトロルミネッセンス等を用いる画像表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記（１）〜（１７）により達成された。
（１）セルロースアセテートフィルムを延伸する光学補償フィルムの製造方法において、セルロースアセテートが酢化度５７．０％乃至６２．５％であり、延伸するセルロースアセテートフィルムの含水率を２．０質量％以上２０．０質量％以下にすることを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
（２）延伸により、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５５０）を２０ｎｍ≦Ｒｅ５５０≦２０００ｎｍとすることを特徴とする（１）に記載の光学補償フィルムの製造方法。
（３）延伸により、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであり、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍとすることを特徴とする（１）または（２）に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【００１０】
（４）  延伸直後のセルロースアセテートフィルムの含水率が２．０質量％以上２０．０質量％以下であることを特徴とする（１）〜（３）に記載の製造方法。
（５）  延伸時にフィルムを固定する固定部材間の距離をＬとし、その固定部材間と垂直な方向をＷとし、延伸時のフィルム形状のアスペクト比をＬ／Ｗとしたときのアスペクト比Ｌ／Ｗが０．１≦Ｌ／Ｗ≦２であることを特徴とする（１）〜（４）に記載の製造方法。
（６）  該延伸が水中で実施されることを特徴とする（１）〜（５）に記載の製造方法。
（７）  該延伸が空気中で実施されることを特徴とする（１）〜（５）に記載の製造方法。
（８）  該延伸が相対湿度６０％以上１００％以下の水蒸気中で実施されることを特徴とする（１）〜（５）に記載の製造方法。
（９）  該延伸が５０℃以上１５０℃以下で実施されることを特徴とする（１）〜（８）に記載の製造方法。
（１０）  該延伸が１．１倍以上２．０倍以下で実施されることを特徴とする（１）〜（９）に記載の製造方法。
【００１１】
（１１）  該延伸が１秒以上３０秒以下で実施されることを特徴とする（１）〜（１０）に記載の製造方法。
（１２）  面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚが、１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦３の関係を満足する光学補償フィルムの（１）〜（１１）に記載の製造方法。
（１３）  該フィルムのヘイズ値が０％以上２％以下であることを特徴とする（１）〜（１２）に記載の製造方法。
【００１２】
（１４）  該セルロースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含むことを特徴とする（１）〜（１３）に記載の光学補償フィルムの製造方法。
（１５）  （１）〜（１４）に記載の製造方法により製造した光学補償フィルム。
（１６）  （１）〜（１４）に記載の製造方法により製造したいずれかの１枚の光学補償フィルムと偏光膜又は偏光板を積層したことを特徴とする円偏光板。
（１７）  （１）〜（１４）に記載の製造方法により製造した光学補償フィルムまたは、（１６）に記載の円偏光板を少なくとも１枚以上用いたことを特徴とする画像表示装置。
なお、本発明は上記（１）〜（１４）に関するものであるが、参考のためその他の事項、例えば上記（１５）〜（１７）に記載の事項等についても記載した。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明は、酢化度５７．０％〜６２．５％のセルロースアセテートフイルムに水分を積極的に含水させ、延伸処理を行うことで、ＮＺファクターを制御できることを見いだし、本発明の光学物性を達成するものである。以下に実施方法の詳細について記述する。
【００１４】
［含水率］
セルロースアセテートフィルムは室温で含水率が１．８％である。通常、このようなセルロースアセテートフィルム（原反）に対してガラス転移点（Ｔｇ）程度に昇温させることで延伸可能な状態とし、延伸を行う。このようなＴｇ程度、例えば１３０℃にすると含水率は更に低下し、０．４質量％となる。本発明はこのようなセルロースアセテートフィルム（原反）を延伸前に含水させることで、セルロースアセテートフィルムの含水率を２．０質量％以上２０．０質量％以下、より好ましくは２．５質量％以上１８．０質量％以下、さらに好ましくは３．０質量％以上１６．０質量％以下とすることを特徴としている。
【００１５】
含水率はフィルム中に含まれる水の質量分率（％）であり、実際には水分計の示した水分量（μｇ）をＷとし、秤量したサンプル量をＦ(ｍｇ)とすると、含水率(質量％)＝０．１×（Ｗ／Ｆ）で表される。
延伸時のセルロースアセテートフィルムの含水率を２．０質量％以上２０．０質量％以下にすることは、セルロースアセテートフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）を１３０℃（含水率０．４質量％）から７５℃（含水率５．５質量％）へ低下させることになり、通常の延伸温度（１３０℃）より低い温度で均一な延伸が可能となる。なお、含水率５．５質量％のセルロースアセテートフィルムのＴｇは、銀製密封パン（70μｌ）中に水を入れセルロースアセテートフィルムを浸漬させて、温度変調型ＤＳＣ（ＴＡインスツルメント社製ＤＳＣ２９１０）を用いて測定したものである。
【００１６】
［セルロースアセテートフィルム］
本発明のセルロースアセテートフィルムとしては、酢化度が５７．０％乃至６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５８．０％乃至６２．０％であることが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
【００１７】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。
光透過率が８０％以上であるセルロースアセテートフィルムを用いる事が好ましい。
【００１８】
[延伸方法]
延伸時におけるフィルムの含水率を制御するため、延伸前に該フィルムを水中に浸漬してもよいし、或いは恒温高湿にて調湿してもよいし、またこれら２つを併用して用いてもよい。水槽へ浸漬する場合、水の温度は５０℃以上１００℃以下が好ましく、６０℃以上９５℃以下が更に好ましく、７０℃以上９０℃以下が特に好ましい。浸漬時間は５秒以上１０分以内が好ましく、１０秒以上８分以内が更に好ましく、２０秒以上６分以内が特に好ましい。恒温高湿で調湿する場合、温度は５０℃以上１５０℃以下が好ましく、６０℃以上１４０℃以下が更に好ましく、７０℃以上１２０℃以下が特に好ましい。相対湿度は６０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下が好ましい。
【００１９】
これらの浸漬、水蒸気曝気に用いる水は実質的に水であれば良い。実質的に水とは６０質量％以上が水からなるものを指し、水以外に下述の有機溶剤、可塑剤、界面活性剤等を含んでも良い。好ましい有機溶剤として炭素数が１から１０の水溶性有機溶剤が挙げられる。但し、より好ましくは９０質量％以上が水であり、更に好ましくは９５％質量％以上が水であり、最も好ましいのは、純水を用いたものである。以下に記述で用いられる水についても実質的に水であればよい。
【００２０】
延伸時の雰囲気は空気中、水蒸気中、水中のいずれであってもよい。
延伸時の雰囲気が空気中とは、温度を制御し湿度は制御していない雰囲気中での延伸を指している。延伸時温度は５０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、６０℃以上１３０℃であることがさらに好ましく、６５℃以上１１０℃以下であることが特に好ましい。
延伸時の雰囲気が水蒸気中とは、恒温高湿であること又は、水蒸気をフィルムにあてることを指している。延伸時温度は５０℃以上１５０℃以下が好ましく、６０℃以上１４０℃以下が更に好ましく、７０℃以上１３０℃以下が特に好ましい。相対湿度は６０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下が好ましい。このようにすることでセルロースアセテート中の含水率は２．０質量％以上２０．０質量％以下に保持される。含水率が２．０質量％より小さくなると延伸時において破断伸度は小さく、切れ易くなり、波長５５０nｍで測定した時のレターデーションＲｅ５５０はλ／４に到達しない。
【００２１】
延伸時の雰囲気が水中とは、フィルムを水槽へ浸漬させながら延伸することを指している。水の温度は５０℃以上１００℃以下が好ましく、６０℃以上９８℃以下が更に好ましく、６５℃以上９５℃以下が特に好ましい。浸漬時間は０．５秒以上１０分以内が好ましく、１秒以上８分以内が更に好ましく、１秒以上７分以内が特に好ましい。
【００２２】
延伸時にフィルムを固定する固定部材間の距離をＬとし、その固定部材間と垂直な方向をＷとし、延伸時のフィルム形状のアスペクト比をＬ／Ｗとすると、アスペクト比は０．０５以上４以下が好ましく、０．１以上３以下が更に好ましく、０．１以上２以下が特に好ましい。
【００２３】
延伸直後の含水率を２．０質量％以上２０．０質量％以下に保つことは、フィルムが均一に延伸なされるためには必須である。延伸直前のゾーンでフィルムの含水率を２．０質量％以上、２０．０質量％以下に制御しているため、含水率が２．０質量％以下だと破断伸度は小さくなり、所望の厚みで正面レターデーションをλ／４領域まで出すことができない。
ここで、延伸直後の含水率とは、延伸工程を終えた直後のフィルムの含水率を指している。
また、延伸工程を経た後、巻き取り部位に至るまでにフィルムに付着している水分を除去してもよい。エアナイフ方式、ブレード方式など公知の方法を用いることができる。
【００２４】
延伸は、縦、横いずれの方向に行っても良く、これらを組み合わせても良い。
縦とはフィルム製造時の流延方向を、横とはその流延方向に対して垂直の方向を指している。なかでも好ましいのが縦あるいは横の１軸延伸であり、さらに好ましいのが縦の１軸延伸である。
延伸方法はゾーン法、ロール法、テンター法、など公知の方法で行なうことが出来る。クリップ間延伸法で行なっても良い。クリップ間延伸法とは、長方形のフィルムの両端をクリップのような固定部材で滑らないように固定し、フィルムを延伸する方法である。また、ロール法延伸も好ましい。ロール延伸は１段でも多段でも良い。パラレル配置でもよいしクロス配置でもよい。ロールは特に制限は無いが、ジャケットロール、エキスパンダロールが好ましく用いられる。
【００２５】
好ましい延伸倍率は１．１倍以上２．０倍以下、より好ましくは１．１５倍以上１．９倍以下、さらに好ましくは１．２倍以上１．８倍以下である。延伸は１段で行っても良く、多段で行っても良い。多段で行なう場合は各延伸倍率の積がこの範囲にはいるようにすれば良い。
延伸速度は１０％／分以上１０００％／分以下、より好ましくは２０％／分以上８００％／分以下、さらに好ましくは３０％／分以上７００％／分以下である。
延伸している時間は１〜３０秒、より好ましくは２〜２５秒、さらに好ましくは３〜２０秒である。
【００２６】
本発明のフィルムの延伸前の厚みは４０μm以上３００μm以下が好ましく、より好ましくは４５μm以上２８０μm以下、さらに好ましくは５０μm以上２５０μm以下である。延伸前の好ましいフィルム幅は５ｃｍ以上３ｍ以下であり、より好ましくは８ｃｍ以上２．５ｍ以下、さらに好ましくは１０ｃｍ以上２ｍ以下である。
【００２７】
［フイルムのレターデーション］
レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、光学補償フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、光学補償フィルムの面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、光学補償フィルムの厚さ（ｎｍ）である。
本発明の光学補償フィルムの波長５５０ｎｍで測定したレターデーションＲｅ５５０は２０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であり、４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以上３００ｎｍがより好ましい。
【００２８】
特に、本発明のセルロースアセテートをλ／４板として使用する場合は、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が６０乃至１３５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１００乃至１７０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍの関係を満足する。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
【００２９】
また、本発明のセルロースアセテートをλ／２板として使用する場合は、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が１２０乃至２７０ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が２００乃至３４０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧４ｎｍの関係を満足する。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２０ｎｍであることが最も好ましい。
【００３０】
[ＮＺファクター]
本発明に用いられるセルロースアセテートフィルムは１枚で下記式を満足することができる。
１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦３
式中、ｎｘは、光学補償フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、光学補償フィルムの面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｎｚは、厚み方向の屈折率である。好ましくは１．１以上２．８以下、より好ましくは１．２以上２．７以下であり、特に１．５以上２．５以下のとき本発明の方法は有効である。
【００３１】
[ヘイズ]
光学補償フィルムのヘイズは下記の式にしたがって算出され、ヘイズは２．０％以下が好ましく、１．０％以下がさらに好ましく、０．６％以下が最も好ましい。
ヘイズ（ＨＺ）＝拡散（Ｄ）／全透過率（Ｔ）×１００  （％）
【００３２】
以上のような光学的性質を有するセルロースアセテートフィルムは、以下に述べる材料により製造することができる。
【００３３】
［レターデーション制御剤］
各波長におけるレターデーション値を調整するため、レターデーション制御剤をセルロースアセテートに添加するのが好ましい。
レターデーション制御剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜２５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜２０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上のレターデーション制御剤を併用してもよい。
【００３４】
レターデーション制御剤は、２１０〜３６０ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有することが好ましい。また、レターデーション制御剤は、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
レターデーション制御剤は、少なくとも二つの「芳香族環」を有する化合物を用いることが好ましい。この「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて芳香族性ヘテロ環を含む。
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
【００３５】
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環であり、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
【００３６】
芳香族環の具体例として、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましい。
これらの芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
このようなレターデーション制御剤は、下記（イ）板状化合物、（ロ）棒状化合物のいずれを用いても良い。これらは単独で用いても、混合して用いても良い。
【００３７】
（イ）板状化合物
この化合物には２対上の芳香族環を含むが、これらの二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）が、結合関係は（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【００３８】
（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。
【００３９】
（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
【００４０】
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
【００４１】
芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。
【００４２】
アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセニルが含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブチニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。
【００４３】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシが含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含まれる。
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。
アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノおよびエトキシカルボニルアミノが含まれる。
【００４４】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドおよびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。
【００４５】
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノが含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチルカルバモイルが含まれる。
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノおよびモルホリノが含まれる。
レターデーション制御剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ましい。このような板状のレターデーション制御剤の具体例は国際特許出願公開ＷＯ００／６５３８４号等に記載されている。
【００４６】
（ロ）棒状化合物
本発明では、２５０ｎｍよりも短波長側に吸収極大を有する棒状化合物をレターデーション制御剤として用いることも好ましい。
レターデーション制御剤の機能の観点では、棒状化合物は、少なくとも一つの芳香族環を有することが好ましく、少なくとも二つの芳香族環を有することがさらに好ましい。
【００４７】
棒状化合物は、直線的な分子構造を有することが好ましい。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト（例、WinMOPAC  2000、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造の角度が１４０度以上であることを意味する。
【００４８】
棒状化合物としては、下記式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
（Ｉ）Ａｒ1 −Ｌ1 −Ａｒ2
式（Ｉ）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、芳香族基である。
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。芳香族性へテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【００４９】
置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ）、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基（例、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、スルファモイル、アルキルスルファモイル基（例、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル）、ウレイド、アルキルウレイド基（例、Ｎ−メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチルウレイド）、アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、オクチル、イソプロピル、ｓ−ブチル、ｔ−アミル、シクロヘキシル、シクロペンチル）、アルケニル基（例、ビニル、アリル、ヘキセニル）、アルキニル基（例、エチニル、ブチニル）、アシル基（例、ホルミル、アセチル、ブチリル、ヘキサノイル、ラウリル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ラウリルオキシ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ）、アリールオキシ基（例、フェノキシ）、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニルアミノ基（例、ブトキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ）、アリールチオ基（例、フェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル）、アミド基（例、アセトアミド、ブチルアミド基、ヘキシルアミド、ラウリルアミド）および非芳香族性複素環基（例、モルホリル、ピラジニル）が含まれる。
【００５０】
置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。
【００５１】
式（Ｉ）において、Ｌ1 は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１５であることがより好ましく、１乃至１０であることがさらに好ましく、１乃至８であることがさらにまた好ましく、１乃至６であることが最も好ましい。
【００５２】
アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましく、２乃至８であることがより好ましく、２乃至６であることがさらに好ましく、２乃至４であることがさらにまた好ましく、２（ビニレンまたはエチニレン）であることが最も好ましい。
【００５３】
組み合わせからなる二価の連結基の例を示す。
Ｌ−１：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−アルキレン基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−アルケニレン基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−５：−Ｏ−ＣＯ−アルキニレン基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−アルキニレン基−Ｏ−ＣＯ−
【００５４】
式（Ｉ）の分子構造において、Ｌ1 を挟んで、Ａｒ1 とＡｒ2 とが形成する角度は、１４０度以上であることが好ましい。
棒状化合物としては、下記式（II）で表される化合物がさらに好ましい。
（II）Ａｒ1 −Ｌ2 −Ｘ−Ｌ3 −Ａｒ2
式（II）において、Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義および例は、式（Ｉ）のＡｒ1 およびＡｒ2 と同様である。
【００５５】
式（II）において、Ｌ2 およびＬ3 は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましく、１乃至８であることがより好ましく、１乃至６であることがさらに好ましく、１乃至４であることがさらにまた好ましく、１または２（メチレンまたはエチレン）であることが最も好ましい。
Ｌ2 およびＬ3 は、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。
【００５６】
式（II）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレンまたはエチニレンである。
以下に、式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示す。
【００５７】
【化１】
0004547115.tif 000002
【００５８】
【化２】
0004547115.tif 000003
【００５９】
【化３】
0004547115.tif 000004
【００６０】
【化４】
0004547115.tif 000005
【００６１】
【化５】
0004547115.tif 000006
【００６２】
【化６】
0004547115.tif 000007
【００６３】
【化７】
0004547115.tif 000008
【００６４】
【化８】
0004547115.tif 000009
【００６５】
【化９】
0004547115.tif 000010
【００６６】
具体例（１）〜（３４）、（４１）、（４２）は、シクロヘキサン環の１位と４位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例（１）、（４）〜（３４）、（４１）、（４２）は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体（光学活性）はなく、幾何異性体（トランス型とシス型）のみ存在する。具体例（１）のトランス型（１-trans）とシス型（１-cis）とを、以下に示す。
【００６７】
【化１０】
0004547115.tif 000011
【００６８】
前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
具体例（２）および（３）は、幾何異性体に加えて光学異性体（合計４種の異性体）を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、Ｄ、Ｌあるいはラセミ体のいずれでもよい。
具体例（４３）〜（４５）では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
【００６９】
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長（λmax）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。
棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 53巻、229ページ（１９７９年）、同89巻、93ページ（１９８２年）、同145巻、111ページ（１９８７年）、同170巻、43ページ（１９８９年）、J. Am. Chem. Soc., 113巻、1349ページ（１９９１年）、同118巻、5346ページ（１９９６年）、同92巻、1582ページ（１９７０年）、J. Org. Chem., 40巻、420ページ（１９７５年）、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ（１９９２年）を挙げることができる。
【００７０】
（具体例のスペクトル測定）
前記のレターデーション制御剤（１０-trans）の紫外・可視領域（ＵＶ−ｖｉｓ）スペクトルを測定した。レターデーション制御剤（１０-trans）を、テトラヒドロフラン（安定剤（ＢＨＴ）なし）に溶解し、濃度が１０-5ｍｏｌ／ｄｍ3 になるように調整した。このように調整した溶液を、測定機（日立製作所（株）製）で測定したところ、吸収極大を与える波長（λmax ）は２２０ｎｍであり、そのときの吸光係数（ε）は１５０００であった。同様に、レターデーション制御剤（２９-trans）では、吸収極大を与える波長（λmax ）は２４０ｎｍであり、そのときの吸光係数（ε）は２００００であった。同様に、レターデーション制御剤（４１-trans）では、吸収極大を与える波長（λmax ）は２３０ｎｍであり、そのときの吸光係数（ε）は１６０００であった。
【００７１】
本発明のレターデーション制御剤は、単独で用いても、2種類上の化合物を混合して用いてもよい。
【００７２】
［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
本発明のセルロースアセテートフィルムの製造を、セルロースアセテートを例に具体的に説明する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００７３】
炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
【００７４】
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００７５】
一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。
【００７６】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
【００７７】
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００７８】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。セルロースアセテートの有機溶媒として、メチレンクロリドを用いるのが一般的である。しかしながら、メチレンクロリドは地球環境、作業環境上有害なため、使用しないことが望まれている。メチレンクロリドを用いない有機溶媒系では通常の溶解法では溶解させることが困難であり、その場合、冷却溶解法が有効である。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００７９】
次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００８０】
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００８１】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
【００８２】
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００８３】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【００８４】
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００８５】
また、調整したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて１または２層以上の流延でフィルム化すべく、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを作製してもよい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【００８６】
セルロースアセテート溶液は、２層以上の複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号に記載の高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、その高，低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルム流延方法でもよい。
【００８７】
或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号に記載されている方法である。
流延するセルロースアセテート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアセテート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアセテート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアセテート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
さらにこのセルロースアセテート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【００８８】
単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアセテート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアセテート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多い。この解決として、複数のセルロースアセテート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアセテート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【００８９】
セルロースアセテートフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【００９０】
セルロースアセテートフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００９１】
セルロースアセテートフィルムには、製造時のハンドリング性向上のために、片面または両面にマット剤とポリマーを含有するマット層を設けてもよい。マット剤およびポリマーについては特開平１０−４４３２７に記載されている素材を好適に用いることができる。マット剤はドープに混合して用いてもよい。
【００９２】
また、セルロースアセテート溶液には、必要に応じて更に種々の添加剤を溶液の調製前から調製後のいずれの段階で添加してもよい。添加剤としては、紫外線吸収剤、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などである。
【００９３】
さらに、剥離時の荷重を小さくするために剥離促進剤を添加してもよい。それらは、界面活性剤が有効でありリン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。これらは、例えば特開昭６１−２４３８３７号などに記載されている。
【００９４】
［セルロースアセテートフィルムの表面処理］
セルロースアセテートフィルムには、表面処理を施してもよい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理を実施する。
フイルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ以下とすることが好ましい。
【００９５】
偏光板の透明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理を実施することが特に好ましく、さらに好ましくはアルカリ処理である。
アルカリ処理では、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
【００９６】
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好ましく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。これらのアルカリ溶液は水溶液でも良く、有機溶剤でも良い。有機溶剤の場合、低級アルコールが好ましく、より好ましくは炭素数が１から５のアルコールあるいはグリコールであり、より好ましくはエタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールである。さらに好ましくはiso-プロパノール、プロピレングリコールである。これらは混合して使用しても良い。さらに水や界面活性剤を添加しても良い。
好ましい例として下記溶液にアルカリを溶解したものを挙げることができる。
iso-プロパノール/プロピレングリコール/水（70/15/15：体積比）
iso-プロパノール/水（85/15：体積比）
iso-プロパノール/プロピレングリコール（85/15：体積比）
iso-プロパノール
これらのアルカリ溶液に浸漬しても良く、塗布（バー塗布、カーテン塗布等）しても良い。
【００９７】
本発明では、セルロースアセテートフイルムとその上に設けられる層（接着層、配向膜、あるいは光学異方性層）との接着を改善するために、特開平７−３３３４３３号公報に記載のような接着層（下塗り層）を設けてもよい。接着層の厚みは０．１乃至２μであることが好ましく、０．２μ乃至１μであることがさらに好ましい。
【００９８】
［偏光板］
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、上記のセルロースアセテートフィルムを用いることができるし、本発明の光学補償フィルムを用いてもよい。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。また、両側とも通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。
【００９９】
このような偏光膜として用いるポリマーフィルムは、その一方端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡Ｌ１及びポリマーフィルムのもう一端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡Ｌ２と、二つの実質的な保持解除点の距離Ｗが、下記式（１）を満たし、かつポリマーフィルムの支持性を保ち、揮発分率が５％以上の状態を存在させて延伸したのち、収縮させながら揮発分率を低下させることで製造することができる。
式（１）  ｜Ｌ２−Ｌ１｜＞０．４Ｗ
【０１００】
図１に斜め延伸により４５°に配向が傾斜した偏光膜を作製する装置の概略平面図を示す。（ａ）が原反フィルムを矢印（イ）方向に導入する工程、（ｂ）が幅方向延伸工程、（ｃ）が延伸フィルムを次工程に（ハ）方向に送る工程である。フィルムは（イ）の方向から連続的に導入され、上流側から見て左側の保持手段にＢ１点で初めて保持される。この時点ではいま一方のフィルム端は保持されておらず、幅方向に張力は発生しない。つまり、Ｂ１点は実質保持開始点にはあたらない。実質保持開始点はフィルム両端が初めて保持される点で定義し、これはより下流側の保持開始点Ａ１と、Ａ１から導入側フィルムの中心線２１に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の軌跡２３と交わる点Ｃ１の２点で示される。この点を起点とし、両端の保持手段を実質的に等速度で搬送すると、単位時間ごとにＡ１はＡ２，Ａ３…Ａｎと移動し、Ｃ１は同様にＣ２，Ｃ３…Ｃｎに移動する。つまり同時点に基準となる保持手段が通過する点ＡｎとＣｎを結ぶ直線が、その時点での延伸方向となる。図２のようにＡｎはＣｎに対し次第に遅れてゆくため、延伸方向は、搬送方向垂直から徐々に傾斜していく。実質保持解除点は、より上流で保持手段から離脱するＣｘ点と、Ｃｘから次工程へ送られるフィルムの中心線２２に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の軌跡１４または２４と交わる点Ａｙの２点で定義される。最終的な延伸方向の角度は、実質的な延伸工程の終点での左右保持手段の行程差Ａｙ−Ａｘ（すなわち｜Ｌ１−Ｌ２｜）と、実質出口幅Ａｙ−Ｃｘ（すなわちＷ）の比率で決まる。ここで、延伸方向が次工程への搬送方向に対しなす傾斜角θは
ｔａｎθ＝（Ａｙ−Ｃｘ）／（ Ａｙ−Ａｘ）
すなわち  ｔａｎθ＝｜Ｌ１−Ｌ２｜ ／Ｗ
で表される。 図の上側のフィルム端は、Ａｙ点の後も２８まで保持されるが、もう一端が保持されていないため新たな幅方向延伸は発生せず、２８は実質保持解除点ではない。
【０１０１】
以上のように、実質保持開始点とは左右各々の保持手段への単純な噛み込み点ではなく、より下流側の噛み込み点を一点とし、いま一点は左右の実質保持開始点を結ぶ直線が、保持工程に導入されるフィルムの中心線と略直交するものとして定義されるものである。同様に実質保持解除点とは、より上流側の離脱点を一点とし、いま一点は左右の実質保持解除点を結ぶ直線が、次工程に送り出されるフィルムの中心線と略直交するものとして定義されるものである。略直交とは、フィルムの中心線と左右の実質保持開始点、あるいは実質保持解除点を結ぶ直線が、９０±０．５゜であることを表す。
【０１０２】
テンター方式の延伸機を用いて左右の行程差を付けようとする場合、レール長などの機械的制約により、しばしば導入側からみて左右保持手段に初めて保持される位置、あるいは次工程側から見て左右保持手段から離脱する位置に前後差が生ずるが、上で定義する実質保持開始点〜実質保持解除点間の行程が上記式（１）の関係を満たしていれば、任意の前後差を付けることができる。
【０１０３】
上記において、得られる延伸フィルムにおける配向軸の傾斜角度は、（ｃ）工程の出口幅Ｗと、実質的左右保持手段の行程差｜Ｌ１−Ｌ２｜の比率で制御、調整することができる。偏光板、位相差膜ではしばしば長手方向に対し４５゜配向したフィルムが求められるが、４５゜に近い配向角を得るためには、０．９Ｗ＜｜Ｌ１−Ｌ２｜＜１．１Ｗで有ることが望ましく、０．９７Ｗ＜｜Ｌ１−Ｌ２｜＜１．０３Ｗであることがさらに好ましい。
【０１０４】
セルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸の関係を適用される液晶表示装置の種類により異なるが、反射型または半透過型液晶表示装置の場合は、実質的に４５度となるように配置することが好ましい。
【０１０５】
［液晶表示装置］
上記のセルロースアセテートフィルムからなる光学補償フィルム、または上記のセルロースアセテートフィルムを用いた偏光板（円偏光板）は、液晶表示装置に有利に用いられる。液晶表示装置としては、透過型、反射型、半透過型のいずれで用いても構わないが、特に反射型、半透過型が好ましい。
【０１０６】
図２は、本発明の反射型液晶表示装置の基本的な構成を示す模式図である。
図２に示す反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板（１）、反射電極（２）、下配向膜（３）、液晶層（４）、上配向膜（５）、透明電極（６）、上基板（７）、λ／４板（８）、そして偏光膜（９）からなる。
下基板（１）と反射電極（２）が反射板を構成する。下配向膜（３）〜上配向膜（５）が液晶セルを構成する。λ／４板（８）は、反射板と偏光膜（９）との間の任意の位置に配置することができる。
カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を設ける。カラーフィルター層は、反射電極（２）と下配向膜（３）との間、または上配向膜（５）と透明電極（６）との間に設けることが好ましい。
【０１０７】
図２に示す反射電極（２）の代わりに透明電極を用いて、別に反射板を取り付けてもよい。透明電極と組み合わせて用いる反射板としては、金属板が好ましい。反射板の表面が平滑であると、正反射成分のみが反射されて視野角が狭くなる場合がある。そのため、反射板の表面に凹凸構造（特許２７５６２０号公報記載）を導入することが好ましい。反射板の表面が平坦である場合は（表面に凹凸構造を導入する代わりに）、偏光膜の片側（セル側あるいは外側）に光拡散フイルムを取り付けてもよい。
【０１０８】
液晶セルは特に限定されない。用いられる液晶表示モードは何を用いても構わないが、好ましくはＴＮ（twisted nematic ）型、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）型またはＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）型、ＶＡ(Vertically Allignment)型、ＥＣＢ型（Electricaly Controlled Birefrigence） 、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）型であることが好ましい。
【０１０９】
ＴＮ型液晶セルのツイスト角は、４０乃至１００゜であることが好ましく、５０乃至９０゜であることがさらに好ましく、６０乃至８０゜であることが最も好ましい。液晶層の屈折率異方性（Δｎ）と液晶層の厚み（ｄ）との積（Δｎｄ）の値は、０．１乃至０．５μｍであることが好ましく、０．２乃至０．４μｍであることがさらに好ましい。
ＳＴＮ型液晶セルのツイスト角は、１８０乃至３６０゜であることが好ましく、２２０乃至２７０゜であることがさらに好ましい。液晶層の屈折率異方性（Δｎ）と液晶層の厚み（ｄ）との積（Δｎｄ）の値は、０．３乃至１．２μｍであることが好ましく、０．５乃至１．０μｍであることがさらに好ましい。
【０１１０】
ＨＡＮ型液晶セルは、片方の基板上では液晶が実質的に垂直に配向しており、他方の基板上のプレチルト角が０乃至４５゜であることが好ましい。液晶層の屈折率異方性（Δｎ）と液晶層の厚み（ｄ）との積（Δｎｄ）の値は、０．１乃至１．０μｍであることが好ましく、０．３乃至０．８μｍであることがさらに好ましい。液晶を垂直配向させる側の基板は、反射板側の基板であってもよいし、透明電極側の基板であってもよい。
【０１１１】
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５および特公平７−６９５３６号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した液晶セルが含まれる。具体的には、ＭＶＡ（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５、ＳＩＤ９９、Digest of tech. Papers（予稿集）３０（１９９９）２０６及び特開平１１−２５８６０５号公報記載）、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ（月刊ディスプレイ、第６巻、第３号（１９９９）１４記載）、ＰＶＡ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ９８、Proc.of the 18th Inter. Display res. Conf.(予稿集)（１９９８）３８３記載）、Ｐａｒａ-A（ＬＣＤ／ＰＤＰ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ‘９９で発表）、ＤＤＶＡ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２９（１９９８）８３８記載）、ＥＯＣ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２９（１９９８）３１９記載）、ＰＳＨＡ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２９（１９９８）１０８１記載）、ＲＦＦＭＨ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ９８、Proc.of the 18th Inter. Display res. Conf.(予稿集)（１９９８）３７５記載）、ＨＭＤ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２９（１９９８）７０２記載）が含まれる。その他に（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（ＩＷＤ’９８、Proc.of the ５th Inter. Display Workshop.(予稿集)（１９９８）１４３記載））も含まれる。
【０１１２】
ＯＣＢモードでは棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させる配向モードの液晶セルを用いたものである。この結果自己光学補償能を有する。詳細は米国特許４５８３８２５，同５４１０４２２号に記載されている。
ＥＣＢモードでは水平に液晶を配向させていることが特徴であり、特開平５−２０３９４６号に詳細が記載されている。
反射型および半透過型液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも、用いることができる。ノーマリーホワイトモードの方が好ましい。
【０１１３】
［タッチパネル・有機ＥＬ表示装置への応用］
タッチパネルは、特開平５−１２７８２２号、特願２０００−２３６７９７号等に記載のものに応用することができる。また、有機ＥＬ表示素子には、特開平１１−３０５７２９号、同１１−３０７２５０号、特開２０００ー２６７０９７号に記載のもの等に応用することができる。
【０１１４】
【実施例】
以下に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１１５】
（ヘイズの測定）
作製したセルロースアセテートフィルム（光学補償フィルム）について、ヘイズ計（ＮＤＨ  １００１−ＤＰ、日本電色工業（株）製）を用いて、ヘイズを測定した。ヘイズは任意の５点の測定値の平均値を採用した。
【０１１６】
（含水率の測定）
含水率はカールフィッシャー法にて、下記のように測定した。
▲１▼サンプル（０．９ｍ×４．５ｃｍを２枚）秤量する。
・サンプルが濡れている場合は、表面の水分を速やかに拭う。
・サンプリング後、直ちに磨り栓の付いたガラス瓶に入れ水分計のところまで運び、サンプリング後３分以内に測定する。
▲２▼下記水分型を用い、測定する。
・気化器：三菱化学製ＶＡ−０５型を用い、１５０℃にてサンプル中の水分揮発させ水分計に導入する。
・水分計：カールフィッシャー水分計（三菱化学製ＣＡ−０３型）を用い、測定する。
▲３▼含水率の計算
水分計の示した水分量（μｇ）をＷとし、秤量したサンプル量をＦ(ｍｇ)とすると、含水率(%)＝０．１×（Ｗ／Ｆ）
【０１１７】
（レターデーション、ＮＺファクターの測定）
光学補償フィルムのレターデーション、ＮＺファクターは下記のように測定した。
▲１▼Re450、Re550、Re590
自動複屈折計（KOBRA-21ADH/PR：王子計測器（株）製）を用いて、サンプルフィルム表面に対し垂直方向から波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した。
▲２▼ＮＺファクター(（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）)
自動複屈折計（KOBRA-21ADH/PR：王子計測器（株）製）を用い、フィルム面に対し垂直方向、４０度、−４０度傾斜した方向から波長５５０ｎｍでレターデーションを測定し、各々Re(0)、Re(40)、Re(-40)を求めた。これから、遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を計算した。
【０１１８】
（セルロースアセテートフィルム１の作製）
下記の組成でセルロースアセテート溶液を調製した。
【０１１９】
【表１】
0004547115.tif 000012
【０１２０】
【化１１】
0004547115.tif 000013
【０１２１】
このレターデーション制御剤の紫外・可視領域（ＵＶ−ｖｉｓ）スペクトルを前述の測定に準じて行ったところ、吸収極大を与える波長（λmax ）は２３０ｎｍであり、そのときの吸光係数（ε）は１６０００であった。
【０１２２】
得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアセテートフイルムをバンドから剥離し、１００℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で２０分間乾燥し、セルロースアセテートフィルム１を得た。溶剤残留量は０．１質量％であった。膜厚は１３０μｍであった。
【０１２３】
（セルロースアセテートフィルム２の作製）
下記の組成でセルロースアセテート溶液を調製した。
【０１２４】
【表２】
0004547115.tif 000014
【０１２５】
得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアセテートフイルムをバンドから剥離し、１００℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で２０分間乾燥し、セルロースアセテートフィルム２を得た。溶剤残留量は０．１質量％であった。膜厚は１３０μｍであった。
【０１２６】
（セルロースアセテートフィルム３の作製）
下記の組成でセルロースアセテート溶液を調製した。
【０１２７】
【表３】
0004547115.tif 000015
【０１２８】
【化１２】
0004547115.tif 000016
【０１２９】
得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアセテートフイルムをバンドから剥離し、１００℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で２０分間乾燥し、セルロースアセテートフィルム３を得た。溶剤残留量は０．１質量％であった。膜厚は１３０μｍであった。
【０１３０】
（セルロースアセテートフィルム４の作製）
下記の組成でセルロースアセテート溶液を調製した。
【０１３１】
【表４】
0004547115.tif 000017
【０１３２】
レターデーション制御剤はセルロースアセテートフィルム１で使用の化合物と同じ化合物を用いた。上記セルロースアセテートは６位のアセチル基が２位、３位のアセチル基に比べて多く置換されていて、６位、２位、３位の酢化度はそれぞれ２０．５％、１９．９％、１９．９％であった。
【０１３３】
溶解方法は下記に従う（冷却溶解法）。すなわち溶媒中に、よく攪拌しつつ上記の化合物を徐々に添加し、室温（２５℃）にて３時間放置し膨潤させた。得られた膨潤混合物をゆっくり撹拌しながら、−８℃／分で−３０℃まで冷却、その後、−７０℃まで冷却し６時間経過した後、＋８℃／分で昇温し内容物のゾル化がある程度進んだ段階で、内容物の撹拌を開始した。５０℃まで加温しドープを得た。
【０１３４】
得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアセテートフイルムをバンドから剥離し、１００℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で２０分間乾燥し、セルロースアセテートフィルム４を得た。溶剤残留量は０．１質量％であった。膜厚は１３０μｍであった。
【０１３５】
（含水予備実験１）
上記で作製したセルロースアセテートフィルム１を８０℃の恒温水槽に浸漬し、浸漬時間とフィルムの含水率の関係を調べたところ、浸漬時間0分、１分、２分、４分、８分、２０分に対して含水率は１．８９質量％、３．７８質量％、４．２１質量％、４．５３質量％、４．７９質量％、４．８３質量％であった。作製したセルロースアセテートフィルム２〜４に対しても浸漬時間と含水率を調べたところ、同様な傾向がみられた。
【０１３６】
（含水予備実験２）
作製したセルロースアセテートフィルム１を８０℃９５％RHの恒温高湿槽に入れた後、調湿時間とフィルムの含水率の関係を調べたところ、調湿時間0分、１分、２分、４分、８分、２０分に対して含水率は１．８９質量％、２．９１質量％、３．２５質量％、３．５４質量％、３．５７質量％、３．５６質量％であった。作製したセルロースアセテートフィルム２〜４に対しても浸漬時間と含水率を調べたところ、同様な傾向がみられた。
【０１３７】
[実施例１]
（光学補償フィルム１の作製）
製膜して得たセルロースアセテートフィルム１を８０℃の恒温水槽に５分浸漬し、含水率を４．６３質量％とした後に、９０℃の空気恒温槽に入れ、すぐに４２．５％延伸した。延伸はクリップ間延伸法を用い、アスペクト比（Ｌ／Ｗ）は０．８、延伸時間は９秒であった。延伸直後の含水率は４．７質量％であった。
その後８０℃の恒温槽で３分乾燥し、２５℃６０％ＲＨで２時間以上調湿し、光学特性を測定した結果を表５に示す。延伸後膜厚は１１５μｍであった。
【０１３８】
[実施例２]
（光学補償フィルム２の作製）
製膜して得たセルロースアセテートフィルム１を８０℃の恒温水槽に５分浸漬し、含水率を４．６３質量％とした後に、７０℃９５％ＲＨの恒温高湿槽に入れ、すぐに３５％延伸した。延伸はクリップ間延伸法を用い、延伸のアスペクト比（Ｌ／Ｗ）は０．８、延伸時間は７秒であった。延伸直後のフィルムの含水率は４．８質量％であった。その後そこから取り出し、８０℃の恒温槽で３分乾燥した後に、２５℃６０％ＲＨ下で２時間以上調湿し、光学特性を測定した。結果を表５に示す。延伸後膜厚は１１７μｍであった。
【０１３９】
[実施例３]
（光学補償フィルム３の作製）
製膜して得たセルロースアセテートフィルム１を８０℃の恒温水槽に５分浸漬し、含水率を４．６３質量％とした後に、７０℃９５％ＲＨの恒温高湿槽に入れ、すぐに４２．５％延伸した。延伸はクリップ間延伸法を用い、延伸のアスペクト比（Ｌ／Ｗ）は１．０、延伸時間は９秒であった。延伸直後のフィルムの含水率は４．８質量％であった。その後そこから取り出し、８０℃の恒温槽で３分乾燥した後に、２５℃６０％ＲＨ下で２時間以上調湿し、光学特性を測定した。結果を表５に示す。延伸後膜厚は１１５μｍであった。
【０１４０】
[実施例４]
（光学補償フィルム４の作製）
製膜して得たセルロースアセテートフィルム１を８０℃９５％ＲＨの恒温高湿槽に５分入れて、含水率を３．５５質量％とした後に、４５．０％延伸した。延伸はクリップ間延伸法を用い、延伸のアスペクト比（Ｌ／Ｗ）は１．０、延伸時間は９秒であった。延伸直後のフィルムの含水率は４．８質量％であった。この間のフィルムの含水率は３．７質量％であった。その後そこから取り出し、８０℃の恒温槽で３分乾燥した後に、２５℃６０％ＲＨ下で２時間以上調湿し、光学特性を測定した。結果を表５に示す。延伸後膜厚は１１５μｍであった。
【０１４１】
[実施例５]
（光学補償フィルム５の作製）
製膜して得たセルロースアセテートフィルム１を８０℃９５％ＲＨの恒温高湿槽に５分入れて、含水率を３．５５質量％とした後に、１２０℃の高圧水蒸気に２秒曝しながら４５．０％延伸した。延伸はクリップ間延伸法を用い、延伸のアスペクト比（Ｌ／Ｗ）は１．０、延伸時間は９秒であった。延伸直後のフィルムの含水率は３．７質量％であった。その後そこから取り出し、８０℃の恒温槽で３分乾燥した後に、２５℃６０％ＲＨ下で２時間以上調湿し、光学特性を測定した。結果を表５に示す。延伸後膜厚は１１５μｍであった。
【０１４２】
[参考例１]
（光学補償フィルム６の作製）
製膜して得たセルロースアセテートフィルム１を１３０℃の恒温槽に５分入れ、含水率を０．４質量％とした後に３７％延伸した。延伸はクリップ間延伸法を用い、延伸のアスペクト比（Ｌ／Ｗ）は３．３であった。２５℃６０％ＲＨ下で２時間以上調湿し、光学特性を測定した。結果を表５に示す。延伸後膜厚は１１５μｍであった。
【０１４３】
【表５】
0004547115.tif 000018
【０１４４】
同様に製膜して得たセルロースアセテートフィルム２〜４に対しても上記実施例１〜５の方法と同様にして光学補償フィルムを得たが、上表と全く同じであった。
【０１４５】
[実施例６]
（円偏光板の作製）
ＰＶＡフィルムをヨウ素２．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて２４０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて６０秒浸漬後、図２の形態のテンター延伸機に導入し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し図２の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。８０℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、４６゜であった。ここで｜Ｌ１−Ｌ２｜は０．７ｍ、Ｗは０．７ｍであり、｜Ｌ１−Ｌ２｜＝Ｗの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ａｘ−Ｃｘは、次工程へ送られるフィルムの中心線２２に対し４５゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。さらに、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム（株）製フジタック（セルローストリアセテート、レターデーション値３．０ｎｍ）、同様に片側ケン化処理した実施例４の光学補償フィルム４をそれぞれ上記偏光膜に接着面を向け、ロールtoロールで積層して円偏光板を得た。同様に光学補償フィルム４を同様に片面ケン化処理した実施例５の光学補償フィルム５に変更した以外は同様にして円偏光板を得た。
得られた円偏光板の光学的性質を調べたところ、いずれも広い波長領域（４５０〜５９０ｎｍ）において、ほぼ完全な円偏光が達成されていた。
【０１４６】
[実施例７]
（ＴＮ型反射型液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極を設けたガラス基板と、微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極を設けたガラス基板とを用意した。二枚のガラス基板の電極側に、それぞれポリイミド配向膜（ＳＥ−７９９２、日産化学（株）製）を形成し、ラビング処理を行った。１．７μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、１１０゜の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、液晶（ＭＬＣ−６２５２、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。このようにして、ツイスト角が７０゜、Δｎｄの値が２６９ｎｍのＴＮ型液晶セルを作製した。
【０１４７】
ＩＴＯ透明電極を設けたガラス基板の側に、実施例６で作製した２種の円偏光板（表面がＡＲ処理された保護膜を積層した偏光膜）をそれぞれセルロースアセテートフイルム側から貼り付けた。
作製した反射型液晶表示装置に、１ｋＨｚの矩形波電圧を印加した。白表示１．５Ｖ、黒表示４．５Ｖとして目視で評価を行ったところ、白表示においても、黒表示においても、色味がなく、ニュートラルグレイが表示されていることが確認できた。
次に、測定機（ＥＺcontrast160D、Ｅｌｄｉｍ社製）を用いて反射輝度のコントラスト比を測定したところ、正面からのコントラスト比が２５であり、コントラスト比１０となる視野角は、いずれも上下１２０゜以上、左右１２０゜以上であった。また、６０℃９０％ＲＨ  ５００時間の耐久テストでも表示上、何の問題も発生しなかった。
【０１４８】
[実施例８]
（ＳＴＮ型反射型液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極を設けたガラス板と、平坦なアルミニウム反射電極を設けたガラス基板とを用意した。二枚のガラス基板の電極側に、それぞれポリイミド配向膜（ＳＥ−１５０、日産化学（株）製）を形成し、ラビング処理を行った。６．０μｍのスペーサを介して二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、６０゜の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の隙間に、液晶（ＺＬＩ−２９７７、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。このようにしてツイスト角が２４０゜、Δｎｄの値が７９１ｎｍのＳＴＮ型液晶セルを作製した。
【０１４９】
ＩＴＯ透明電極を設けたガラス基板の側に、内部拡散シート（ＩＤＳ、大日本印刷（株）製）と、実施例６で作製した円偏光板を、この順序でそれぞれ粘着を介して、偏光板が最外層となるように貼り付けた。
作製した反射型液晶表示装置に、５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。黒表示２．０Ｖ、白表示２．５Ｖとして目視で評価を行ったところ、白表示においても黒表示においても、色味がなく、ニュートラルグレイが表示されていることが確認できた。
次に測定器（ＥＺcontrast160D、Ｅｌｄｉｍ社製）を用いて反射輝度のコントラスト比を測定したところ、正面からのコントラスト比が８であり、コントラスト比３となる視野角は、上下９０゜、左右１０５゜であった。
【０１５０】
[実施例９]
（ＶＡ型液晶表示装置）
図３は、ＶＡ型液晶表示装置の基本的構成を示す断面図である。図３に示すように、ＶＡ型液晶表示装置は下から順に、下側ガラス基板（３０）、絶縁膜（３９）、薄膜トランジスタ（３８）、反射板（３６）、下側配向膜（３５）、液晶（４０）、上側配向膜（３４）、ＩＴＯ透明電極（３３）、オーバーコート層（３２）、カラーフィルター（３１）、上側ガラス基板（４１）からなる。
【０１５１】
ＩＴＯ透明電極（３３）を設けたガラス基板（４１）と、微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極（３５）〜（３９）を設けたガラス基板（３０）とを用意した。上側配向膜（３４）、下側配向膜（３５）にはそれぞれ垂直配向膜（ＲＮ７８３、日産化学（株）製）を用意し、ラビング処理を行った。１．７μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、１１０゜の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、Δｎ＝０．０８、Δε＝−４の液晶（メルク社製）を真空注入法により注入し、液晶層（４０）を形成した。このようにして、ツイスト角が４５゜、Δｎｄの値が１３５ｎｍのＶＡ型液晶セルを作製した。
【０１５２】
ＩＴＯ透明電極を設けたガラス基板の側に、ガラス基板側から、実施例４で作製した光学補償フィルム、市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８ＨＣＳ、（株）サンリッツ製）をこの順で粘着剤を介して積層した。光学補償フィルムと偏光膜を貼り合わせる際、偏光膜の吸収軸と光学補償フィルムの遅相軸とが４５度になるように貼り合わせた。実施例４の光学補償フィルム４を用いたものは、全て上下視野角１６０度以上、左右視野角１６０度以上の良好な視野角を得た。また、実施例４で作製した光学補償フィルム４の代わりに実施例５の光学補償フィルム５を用いても同様に、上下視野角１６０度以上、左右視野角１６０度以上の良好な視野角を得た。しかし、参考例１で作製した光学補償フィルム６を用いた場合では、上下視野角、左右視野角いずれも１４０度以下であった。
【０１５３】
同様に、ＶＡ型液晶セルを作製し、ＩＴＯ透明電極を設けたガラス基板の側に、実施例６で作製した円偏光板を光学補償フィルムがガラス基板側になるように、粘着剤を介して貼り付けた。上下視野角１６０度以上、左右視野角１６０度以上の良好な視野角を得た。
このように、液晶セルの複屈折（Δｎ）の角度依存性が液晶パネルによって異なり、単に、Ｒｅを調整するだけでは視野角特性を最適化することができず、光学補償フィルムのＲｅを変えることなく、ＮＺファクターをも制御することが重要であることがわかる。
【０１５４】
[実施例１０]
（ＥＣＢ型液晶表示装置）
特開平１１−３１６３７８の実施例１に従い、第２透明支持体を実施例４、５で作製した光学補償フィルム４、５とした。但し、これと偏光膜を貼り合わせる際、偏光膜の吸収軸と光学補償フィルムの遅相軸とが４５度になるように貼り合わせた。これを用いて特開平１１−３１６３７８の実施例６に従いＥＣＢ型液晶表示素子を作成した。本発明を用いたものは、全て上下視野角１２０度以上、左右視野角１１５度以上の良好な視野角を得た。しかし、参考例１で作製した光学補償フィルム６を用いたものではいずれも１００度以下であった。
【０１５５】
[実施例１１]
（有機ELを用いた表示装置）
実施例４、５で作製した光学補償フィルム４、５を特開２０００−２６７０９７に従い、観察者側から順に保護タック（最表面に反射防止機能層付き）／偏光膜／光学補償フィルム／有機EL素子／反射電極の構成とした。偏光膜の透過軸と光学補償フィルムの遅相軸との角度は４５°となるように配置した。目視にてその色味の評価を実施したところ、特に黒表示時における着色が少なく、それによりコントラストが高く、視認性に優れることが確認できた。
【０１５６】
[実施例１２]
（反透過型製品への実装）
サイバーショット（Ｓｏｎｙ社製）の液晶表示部の液晶セルの上側部分の偏光板、λ／２板、λ／４板を剥がし、ガラス基板側から、実施例４、５で作製した光学補償フィルム４、５（λ／４板）、市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８ＨＣＳ、（株）サンリッツ製）をこの順で粘着剤を介して積層した。光学補償フィルムと偏光膜を貼り合わせる際、偏光膜の吸収軸と光学補償フィルムの遅相軸とが４５度になるように貼り合わせた。実施例４、５で作製した光学補償フィルム４、５を用いたものは、全て上下視野角１２０度以上、左右視野角１１５度以上の良好な視野角を得た。
【０１５７】
[参考例２]
上記実施例１２と同様にして、参考例１で作製した光学補償フィルム６を実装した。上下視野角１００度、左右視野角１００度と実施例１２に比べ視野角は劣っていた。
【０１５８】
[実施例１３]
（反射型液晶表示装置への実装）
タッチパネル付き反射型液晶表示装置（シャープ社製、ザウルス）でタッチパネル／偏光板／光学補償フィルム／液晶セルの偏光板と光学補償フィルム部分を剥がして、実施例４、５で作製した光学補償フィルム４、５、市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８ＨＣＳ、（株）サンリッツ製）に置き換えた。この際、偏光膜の吸収軸と光学補償フィルムの遅相軸とが４５度になるように貼り合わせ、コントラストが最大となるように貼り合わせた。作製した液晶表示装置にて、実施例４、５の光学補償フィルム４、５を用いたものは上下視野角１２０度以上、左右視野角１１５度以上の良好な視野角を得た。
【０１５９】
[参考例３]
上記実施例１３と同様にして、参考例１で作製した光学補償フィルム６を実装した。上下視野角１００度、左右視野角１００度と実施例１３に比べ視野角は劣っていた。
【０１６０】
【発明の効果】
本発明により視野角特性に優れた一枚型広帯域の光学補償フィルム（特にλ／４板）を製造することができる。また、該光学補償フィルムと偏光膜を用いて作製した円偏光板は、反射型または半透過型液晶表示装置、さらには有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表示装置に、特に有利に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施例６で使用のポリマーフィルムの斜め延伸装置を示す概略平面図である。
【図２】  本発明の反射型液晶表示装置の構成を示す模式図である。
【図３】  実施例９で使用のＶＡ型液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
（イ）  フィルム導入方向
（ロ）  次工程へのフィルム搬送方向
（ａ）  フィルムを導入する工程
（ｂ）  フィルムを延伸する工程
（ｃ）  延伸フィルムを次工程へ送る工程
Ａ１  フィルムの保持手段への噛み込み位置とフィルム延伸の起点位置（右）
Ｂ１  フィルムの保持手段への噛み込み位置（左）
Ｃ１  フィルム延伸の起点位置（左）
Ｃｘ  フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置（左）
Ａｙ  フィルム延伸の終点基準位置（右）
｜Ｌ１−Ｌ２｜  左右のフィルム保持手段の行程差
Ｗ    フィルムの延伸工程終端における実質幅
θ    延伸方向とフィルム進行方向のなす角
２１  導入側フィルムの中央線
２２  次工程に送られるフィルムの中央線
２３  フィルム保持手段の軌跡（左）
２４  フィルム保持手段の軌跡（右）
２５  導入側フィルム
２６  次工程に送られるフィルム
２７’、２７  左右のフィルム保持開始（噛み込み）点
１  下基板
２  反射電極
３  下配向膜
４  液晶層
５  上配向膜
６  透明電極
７  上基板
８  λ／４板
９  偏光膜
３０  ガラス
３１  カラーフィルター
３２  オーバーコート層
３３  透明電極（ＩＴＯ）
３４  上側配向膜
３５  下側配向膜
３６  反射板
３７  金属反射電極
３８  ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）
３９  絶縁膜（ＳＨＡ膜）
４０  液晶
【図１】
0004547115.tif 000019
【図２】
0004547115.tif 000020
【図３】
0004547115.tif 000021