(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させたパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、パタン各位置（ｘ、ｙ）に対応した補正値の補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法であって、
全ての補正指定点についての（ｘi 、ｙi 、ｚi ）値から、
曲面ｈ（ｘ、ｙ）を（１）式で表す多項式として、
0004531274.tif 000014
下記（２）式で表される二乗誤差の評価関数Ｅ１を求め、
【数１】
0004531274.tif 000015
評価関数Ｅ１と、ｈxx、ｈyyをそれぞれｈ（ｘ、ｙ）のｘでの２階偏微分、ｙでの２階偏微分として曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する下記（３）式で表される関数Ｆと、曲がり具合の重み定数λとを用い、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表される評価関数Ｅ２を求め、
【数２】
0004531274.tif 000016
Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、
∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め、
これらの係数からなるＥ２を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）として求め、
更に、パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を新たに決めるものであることを特徴とする
パタン補正方法。
【請求項２】
請求項１において、パタン版が、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版であることを特徴とするパタン補正方法。
【請求項３】
請求項２において、補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）の式、パタン径式、ピッチ式から、各位置におけるパタン仕様を新たに決めるものであることを特徴とするパタン補正方法。
【請求項４】
請求項２ないし３において、補正により得られたパタンの面積率を更に求め、表示を行ない、補正の可否の確認を行ない、必要に応じ、曲がり具合の重み定数λの値を変え、再度補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を得ることを特徴とするパタン補正方法。
【請求項５】
パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させたパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、パタン各位置（ｘ、ｙ）に対応した補正値の補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法を実施するためのパタン補正装置であって、
全ての補正指定点について、その補正指定点の座標（ｘi 、ｙi ）と、該座標に対応する補正値ｚi を入力する入力部と、
全ての補正指定点についての（ｘi 、ｙi 、ｚi ）値から、
曲面ｈ（ｘ、ｙ）を（１）式で表す多項式として、
0004531274.tif 000017
下記（２）式で表される二乗誤差の評価関数Ｅ１を求め、
【数３】
0004531274.tif 000018
評価関数Ｅ１と、ｈxx、ｈyyをそれぞれｈ（ｘ、ｙ）のｘでの２階偏微分、ｙでの２階偏微分として、曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する下記（３）式で表される関数Ｆと、曲がり具合の重み定数λとを用い、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表される評価関数Ｅ２を求め、
【数４】
0004531274.tif 000019
Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、
∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め、
これらの係数からなるＥ２を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）として求める、補正面把握処理部と、
パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を新たに決めた補正仕様を得る、パタン仕様作成処理部とを備えていることを特徴とする
パタン補正装置。
【請求項６】
請求項５において、パタン版が、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版であることを特徴とするパタン補正装置。
【請求項７】
請求項５ないし６において、パタン仕様作成処理部により得られた補正仕様での、パタンの面積率を更に求める面積率計算部と、計算された面積率の表示を行なう面積率表示部とを備えていることを特徴とするパタン補正装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させたパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法と、これを実施するための補正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、カラーＴＶ（ブラウン管）用のシャドウマスクは、使用量の増大に伴い量産化が進み、且つ、その使用目的によっては、ファイン化、大型化等が求められている。
このようなシャドウマスクは、一般には、帯状の金属板材を素材として用い、フォトエッチング法によりエッチング加工を行なう生産ラインで生産されている。
簡単には、帯状の金属板材を連続ないし間欠的に移動させながら、通常は、その両面に製版工程を施し、耐エッチング性のレジスト像を形成し、これをエッチングマスクとして、帯状の金属板材をエッチングするエッチング工程を行い、各シャドウマスクの製品部の外周部が帯状の金属板材に保持されるようにして、且つ、帯状の金属板材にシャドウマスクを面付けした状態にして、外形加工されていた。
そして、その後、各シャドウマスク毎に分離するトリミング工程を施して、目的とする製品であるシャドウマスクを得ていた。
【０００３】
上記シャドウマスク製造ラインの製版工程は、感光性のレジスト膜が形成された帯状の金属板材を、ほぼ張った状態で間欠的に移動させながら、停止の際に、帯状の金属板材の両面のレジスト膜に、それぞれ、対応した大サイズのガラス乾板にて形成されたパタン版（フォトマスクとも言う）を密着して、露光し、現像して、乾燥（硬化）処理等を施し、耐エッチング性のレジスト像を前記帯状の金属板の両面に形成していた。
尚、パタン版としては、通常、銀塩感光材を配設したガラス乾板を素材とし、銀塩感光材を選択露光して絵柄を形成したものを用いる。
【０００４】
ここで用いられるパタン版（フォトマスクとも言う）は、通常、得意先から指定された透過率を満たすシャドウマスクを作製するために、そのパタンに補正が加えられる。
パタンの補正方法は、従来、予め決定されているパタン面（ｘ−ｙ面とする）の数点（これを、以下、補正指定点とも言う）から、それらの点での補正値（ｚ値とする）をすべて通る曲面の式（ｘ、ｙ、ｚの関数）を試行錯誤で決定していた。
このため、作業効率が悪く、求める式も不正確であった。
そして、前記曲面の式を、最小２乗近似で求める方法では、補正指定点の中間部分で近似曲線が大きく波うつために、実使用に耐えないという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このように、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられる、パタン版については、その補正が容易で、且つ補正を正確に行なえる、実使用に耐える補正方法が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版のパタンの補正方法で、補正が容易で、且つ補正を正確に行なえる、実使用に耐えるパタン補正方法と、これを実施するためのパタン補正装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のパタン補正方法は、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させたパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、パタン各位置（ｘ、ｙ）に対応した補正値の補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法であって、全ての補正指定点についての（ｘi 、ｙi 、ｚi ）値から、曲面ｈ（ｘ、ｙ）を（１）式で表す多項式として、
0004531274.tif 000002
下記（２）式で表される二乗誤差の評価関数Ｅ１を求め、
【数５】
0004531274.tif 000003
評価関数Ｅ１と、ｈxx、ｈyyをそれぞれｈ（ｘ、ｙ）のｘでの２階偏微分、ｙでの２階偏微分として曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する下記（３）式で表される関数Ｆと、曲がり具合の重み定数λとを用い、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表される評価関数Ｅ２を求め、
【数６】
0004531274.tif 000004
Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め、これらの係数からなるＥ２を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）として求め、更に、パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を新たに決めるものであることを特徴とするものである。
そして、上記において、パタン版が、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版であることを特徴とするものであり、補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）の式、パタン径式、ピッチ式から、各位置におけるパタン仕様を新たに決めるものであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記において、補正により得られたパタンの面積率を更に求め、表示を行ない、補正の可否の確認を行ない、必要に応じ、曲がり具合の重み定数λの値を変え、再度補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を得ることを特徴とするものである。
【０００７】
本発明のパタン補正装置は、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させたパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、パタン各位置（ｘ、ｙ）に対応した補正値の補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法を実施するためのパタン補正装置であって、全ての補正指定点について、その補正指定点の座標（ｘi 、ｙi ）と、該座標に対応する補正値ｚi を入力する入力部と、全ての補正指定点についての（ｘi 、ｙi 、ｚi ）値から、曲面ｈ（ｘ、ｙ）を（１）式で表す多項式として、
0004531274.tif 000005
下記（２）式で表される二乗誤差の評価関数Ｅ１を求め、
【数７】
0004531274.tif 000006
評価関数Ｅ１と、ｈxx、ｈyyをそれぞれｈ（ｘ、ｙ）のｘでの２階偏微分、ｙでの２階偏微分として、曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する下記（３）式で表される関数Ｆと、曲がり具合の重み定数λとを用い、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表される評価関数Ｅ２を求め、
【数８】
0004531274.tif 000007
Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め、
これらの係数からなるＥ２を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）として求める、補正面把握処理部と、パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を新たに決めた補正仕様を得る、パタン仕様作成処理部とを備えていることを特徴とするものである。
そして、上記において、パタン版が、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記において、パタン仕様作成処理部により得られた補正仕様での、パタンの面積率を更に求める面積率計算部と、計算された面積率の表示を行なう面積率表示部とを備えていることを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】
本発明のパタン補正方法は、このような構成にすることにより、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版の補正方法で、補正が容易で、且つ補正を正確に行なえる、実使用に耐える補正方法の提供を可能としている。
即ち、二乗誤差の評価関数Ｅ１と、曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する関数Ｆと、曲がり具合の重み定数λとを用い、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表される評価関数Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の各係数を求めており、曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を考慮に入れた評価を行なうことを可能にしている。
曲がり具合の重み定数λ変えることにより、曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合をかえた曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を得ることを可能としている。
そして、補正により得られたパタンの面積率を更に求め、表示を行ない、補正の可否の確認を行ない、必要に応じ、曲がり具合の重み定数λを変え、再度補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を得ることにより、適切な補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を得ることを可能にしている。
【０００９】
特に、パタン版が、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版である場合には有効であるが、シャドウマスク用のパタン版には限定されない。
パタン版が、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版である場合には、仕様として、パタン径式、ピッチ式を用いるのが一般的で、補正面ｈ０（ｘ、ｙ）の式、パタン径式、ピッチ式から、各位置におけるパタン仕様を新たに決めることができる。
【００１０】
本発明のパタン補正装置は、このような構成にすることにより、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版の補正方法で、補正が容易で、且つ補正を正確に行なえる、実使用に耐える補正方法を実施するための補正装置の提供を可能としている。
特に、本発明のパタン補正装置によれば、補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）の式を、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定するだけで、自動で求めることができ、更に、パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を自動的に新たに決めることができ、結果、補正パタンを得るまでの作業時間を従来の場合に比べ、大幅に削減できる。
また、曲がり具合の重み定数λをパラメータとして変化させることにより、容易に曲面の特徴を変化させることができ、面積率表示部を備えていることにより、適切な値の曲がり具合の重み定数λを簡単に得ることを可能にしている。
即ち、擬似的なパタンの面積率を表示できるため、急激なパタン径の変化が無いことを確認できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態の１例を図に基づいて説明する。
図１は本発明のパタン補正方法の実施の形態の１例のフロー図で、図２は本発明のパタン補正装置の実施の形態の１例の概略構成図で、図３はシャドウマスクパタンを説明するための図である。
図１中、Ｓ１１〜Ｓ２２は処理ステップを示している。
図２中、１１は補正用データ、１２は補正前のパタン仕様、１３は新たなパタン仕様、１００はパタン補正装置、１１０は入力部、１２０は補正曲面把握処理部、１３０はパタン仕様作成処理部、１４０は面積率計算部、１５０は表示部であり、図３中、３１０はパタン版、３１１はパタン領域、３１２は枠パタン部、Ｓ１１〜Ｓ１４は分割領域、Ｐ０〜Ｐ６は補正指定点、ｚ０〜ｚ６は補正値である。
【００１２】
本発明のパタン補正方法の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例のパタン補正方法は、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させた、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、パタン各位置（ｘ、ｙ）に対応した補正値の補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法である。
先ず、全ての補正指定点Ｐｉについて、その座標（ｘi 、ｙi ）と補正値ｚi を決めておく。（Ｓ１１）
尚、シャドウマスク用のパタン版のパタン（孔パタン）は、一般には、図３（ａ）に示すように、その中心Ｐ０を原点として、長手方向をＸ軸、短かめ方向Ｙ軸としたＸ−Ｙ面からなるパタン面において、各軸に対し対称に配置されており、中心から離れるにしたがって、パタン径も漸次小となっている。
Ｓ１１〜Ｓ１４はＸ軸、Ｙ軸に分割されるパタン領域３１１の１／４分割領域である。
このため、パタン領域３１１の１／４分割領域であるＳ１１〜Ｓ１４のうちの１つにおいて、補正指定点Ｐｉについて、その座標（ｘi 、ｙi ）と補正値ｚi を決めておき、計算もこの領域のみで行ない、以下の各処理において、全領域に結果を対応させている。
勿論、全領域について、それぞれ、補正指定点を決めて、全領域について、以下の処理を行っても良いことは言うまでもない。
図３（ｂ）は、パタン領域３１１の１／４分割領域であるＳ１４について、補正点Ｐ０〜Ｐ６を指定し、各点における補正量を決めるｚ０〜ｚ６を決めたことを示している。
【００１３】
次いで、全ての補正指定点についての（ｘi 、ｙi 、ｚi ）値から、
曲面ｈ（ｘ、ｙ）を（１）式で表す多項式として、
0004531274.tif 000008
下記（２）式で表される二乗誤差の評価関数Ｅ１を求める。（Ｓ１２）
【数９】
0004531274.tif 000009
従来は、評価関数Ｅ１を最小にする、ｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め、これらの係数からなるＥ１を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ１（ｘ、ｙ）として求める、最小二乗法が採られていたが、これにより得られる補正曲面ｈ１（ｘ、ｙ）の、曲がり具合が急となり、実仕様に耐えるものがなかなか得られなかった。
【００１４】
本例では、これに対応し、ｈxx、ｈyyをそれぞれｈ（ｘ、ｙ）のｘでの２階偏微分、ｙでの２階偏微分として曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する下記（３）式で表される関数Ｆを用い、価関数Ｅ１と、Ｆ１と、曲がり具合の重み定数λ（Ｓ１３）とからなる、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表されるＥ２を評価関数とした。（Ｓ１４）
【数１０】
0004531274.tif 000010
次いで、Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め（Ｓ１５）、これらの係数からなるＥ２を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）として求める。（Ｓ１６）
これより、λの値に対応した曲がり具合を持つ補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を得ることができる。
【００１５】
次いで、得られた補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）と補正前の仕様（Ｓ１７）とから新たなパタン仕様を作成する。（Ｓ１８）
補正前の仕様としては、ｘ、ｙの関数の孔径式、ピッチ式が、一般には用いられ、スロットタイプの開口を設けるシャドウマスク用のパタン版の場合は、孔径Ｗ式、孔径Ｈ式、ピッチＷ式、ピッチＨ式が用いられる。
尚、ここでは、シャドウマスクの孔部に対応するパタンを孔パタンと呼び、このパタンの幅、高さを孔径Ｗ、孔径Ｈと言い、パタンの幅方向、高さ方向のパタンピッチをピッチＷ、ピッチＨと言う。
補正前の仕様の（ｘａ、ｙａ）位置における孔径Ｗａ、孔径Ｈａは、それぞれ補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）の（ｘａ、ｙａ）位置における補正量ｚａだけ、補正される。
【００１６】
次いで、得られた新たなパタン仕様で、面積率を計算する。（Ｓ１９））
面積率は、各位置におけるパタン占有率を数値で表したもので、パタン領域全域にわたり求める。
そして、得られた面積率データに基ずき、全領域にわたり面積率をディスプレイ等の表示部に表示し（Ｓ２０）、面積率分布状態を黙視により確認し、可否を判断する。
黙視判断にてＯＫとなった場合、この面積率計算を行なう際に用いた前記得られた新たなパタン仕様を、シャドウマスク作成用のパタン版のパタン仕様として決定する。
面積率の変化が急の箇所があり、黙視判断にてＯＵＴと判断した場合には、λ値を前回用いた値とは別の値に決め（Ｓ１３）、再度上記ステップＳ１４〜Ｓ２１を繰り返す。
この繰り返し工程を黙視判断にてＯＫとなるまで行ない、ＯＫとなった際の、面積率計算に用いたパタン仕様を、シャドウマスク作成用のパタン版のパタン仕様として決定する。
このようにして、目的とするパタン版のパタン仕様を得ることができる。
【００１７】
次に、本発明のパタン補正装置の実施の形態の１例を、図２を基き、図１を参照にして簡単に説明する。
本例のパタン補正装置は、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面に、ほぼ同形状の所定の形状のパタンを配列させたシャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版に対し、そのパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定して、パタン各位置（ｘ、ｙ）に対応した補正値の補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）を近似的に求め、これより、補正されたパタン版を得るパタン補正方法を実施するためのパタン補正装置で、図１に示すパタン補正方法を、実施するための装置であり、入力部１１０、補正面把握処理部１２０と、パタン仕様作成処理部１３０と、面積率計算部１４０と、面積率表示部１５０とを備えている。
【００１８】
入力部１１０は、全ての補正指定点について、その補正指定点の座標（ｘi 、ｙi ）と、該座標に対応する補正値ｚi を入力を行なうためのものである。
入力部１１０は、図１におけるＳ１１の処理を行なう。
【００１９】
補正面把握処理部１２０は、全ての補正指定点についての（ｘi 、ｙi 、ｚi ）値から、曲面ｈ（ｘ、ｙ）を（１）式で表す多項式として、
0004531274.tif 000011
下記（２）式で表される二乗誤差の評価関数Ｅ１を求め、
【数１１】
0004531274.tif 000012
評価関数Ｅ１と、ｈxx、ｈyyをそれぞれｈ（ｘ、ｙ）のｘでの２階偏微分、ｙでの２階偏微分として、曲面ｈ（ｘ、ｙ）の曲がり具合を評価する下記（３）式で表される関数Ｆと、曲がり具合の重み定数λとを用い、Ｅ２＝Ｅ１＋λＦで表される評価関数Ｅ２を求め、
【数１２】
0004531274.tif 000013
Ｅ２を最小にするｈ（ｘ、ｙ）の係数、ａ00、ａ20、ａ40・・・、ａ02、ａ04・・・、ａ22、ａ44・・・を、∂Ｅ２／∂ａ00＝０、∂Ｅ２／∂ａ20＝０、∂Ｅ２／∂ａ40＝０・・・、∂Ｅ２／∂ａ02＝０、∂Ｅ２／∂ａ04＝０、・・・、∂Ｅ２／∂ａ22＝０Ｅ２／∂ａ44＝０・・・、の連立１次方程式の解として求め、
これらの係数からなるＥ２を最小にする曲面ｈ（ｘ、ｙ）を補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）として求める、処理部である。
この処理部では、λの値の決定も行なう。
即ち、この処理部では、図１におけるＳ１２〜Ｓ１６までの処理を行なう。
【００２０】
パタン仕様作成処理部１３０は、パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を新たに決めた補正仕様を得る、処理部である。
この処理部では、図１におけるＳ１７〜Ｓ１８までの処理を行なう。
【００２１】
面積率計算部１４０は、パタン仕様作成処理部１３０により得られた補正仕様での、パタンの面積率を更に求める計算部で、面積率表示部１５０は、計算された面積率の表示を行なう表示部である。
ここでは、図１におけるＳ１９〜Ｓ２１までの処理を行なう。
各部の各処理については、図１に示すパタン補正方法の説明に代え、ここでは、説明を省く。
本例のパタン補正装置によれば、補正曲面ｈ０（ｘ、ｙ）の式を、パタン面をＸ−Ｙ平面とし、Ｘ−Ｙ平面であるパタン面上の離散的な複数の補正指定点（ｘi 、ｙi ）における補正値ｚi を指定するだけで、自動で求めることができ、更に、パタン面の各位置において、補正前の仕様と、求められた補正面ｈ０（ｘ、ｙ）より、各位置におけるパタン仕様を自動的に新たに決めることができ、更にまた、得られた新たなパタン仕様の可否を面積率表示部１５０にて黙視判断でき、判断がＯＫでない場合には再度、λの値を変え繰り返し、対応する新たなパタン仕様を、容易に得て、その可否を確認できる。
【００２２】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、シャドウマスク製造ラインの製版工程に用いられるパタン版のパタンの補正方法で、補正が容易で、且つ補正を正確に行なえる、実使用に耐えるパタン補正方法と、これを実施するためのパタン補正装置の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のパタン補正方法の実施の形態の１例のフロー図
【図２】本発明のパタン補正装置の実施の形態の１例の概略構成図
【図３】シャドウマスクパタンを説明するための図
【符号の説明】
１１        補正用データ
１２        補正前のパタン仕様
１３        新たなパタン仕様
１００      パタン補正装置
１１０      入力部
１２０      補正曲面把握処理部
１３０      パタン仕様作成処理部
１４０      面積率計算部
１５０      表示部
３１０      パタン版
３１１      パタン領域
３１２      枠パタン部
Ｓ１１〜Ｓ１４    分割領域
Ｐ０〜Ｐ６        補正指定点
ｚ０〜ｚ６        補正値
【図１】
0004531274.tif 000020
【図２】
0004531274.tif 000021
【図３】
0004531274.tif 000022