(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の基板搬送方向へ基板を搬送する基板用搬送除塵装置であって、
少なくとも各１個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させ、かつエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向が略平行であって基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置され、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する手段であって、傾斜した配列方向に並べて配置された複数の円板状の搬送ローラを含み、円板状の搬送ローラの配列方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であって、基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置される搬送手段と、
を備え、
略四角状の基板の搬送先端の一辺が基板搬送方向に対して略垂直であり、かつ基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板用搬送除塵装置において、
前記搬送手段は、棒状の搬送ローラを含み、
棒状の搬送ローラの軸方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であり、かつそれぞれ搬送方向に対して略垂直となるように配置することを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項４】
請求項３記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットへの吸引圧力と上側除塵ユニットへの吸引圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットからの噴出圧力を上側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項５】
請求項３記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットからの噴出圧力と上側除塵ユニットからの噴出圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットへの吸引圧力を上側除塵ユニットへの吸引圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項６】
請求項３記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットから基板面までの間隔を、上側除塵ユニットから基板面までの間隔よりも下回る長さとするように調整することで、 下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項７】
請求項４に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットおよび上側除塵ユニットからの噴出圧力を計測して、上側除塵ユニットからの噴出圧力が下側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きい場合に基板を除塵ユニットへの搬送を停止するように制御することを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項７の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットは、搬送される基板に当接して回動する補助ローラを備えることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットの搬入側の外側部に配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項１０】
請求項８または請求項９に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットのエア吸引室の吸引スリット内に配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記下側除塵ユニットおよび前記上側除塵ユニットは、エア噴出室とこれを挟む二個のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス板、合成樹脂板、または、金属板などの基板を搬送し、その基板表面に付着する塵や埃等（以下、これらを総称して塵埃という）を単なる清浄エアや超音波周波数で振動する超音波エア（以下、これらを総称して洗浄エアという）により塵埃を飛散させて吸引除去するための基板用搬送除塵装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板を対象とする基板用搬送除塵装置について図を参照しつつ説明する。図１８，図１９は、従来技術の基板用搬送除塵装置の説明図である。図２０は、基板のたわみを説明する説明図であり、図２０（ａ）は基板の先端のたわみを説明する説明図、図２０（ｂ）は基板の中間箇所のたわみを説明する説明図である。
【０００３】
基板Ｇは、図１８，図１９で示すように、搬送ローラ１００上を基板搬送方向（矢印ａ方向）に搬送され、除塵ユニット２００により除塵される。除塵ユニット２００は下側除塵ユニット２１０および上側除塵ユニット２２０を備え、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０により基板Ｇの表裏面で除塵される。
下側除塵ユニット２１０は、基板搬送方向（矢印ａ方向）に沿って、エア吸引室２１１、エア噴出室２１２、エア吸引室２１３が並べられて構成されており、搬送ローラ１００側（下側）に配置されている。エア吸引室２１１，２１３は、図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室２１２は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。エア吸引室２１１、エア噴出室２１２、エア吸引室２１３はそれぞれ吸引スリット２１４、噴出スリット２１５’、吸引スリット２１６を備える。
【０００４】
同様に、上側除塵ユニット２２０は、基板搬送方向（矢印ａ方向）に向かって、エア吸引室２２１、エア噴出室２２２、エア吸引室２２３となるように並べられて構成されており、搬送ローラ１００のない側（上側）に配置されている。エア吸引室２２１，２２３は図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室２２２は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。エア吸引室２２１、エア噴出室２２２、エア吸引室２２３はそれぞれ吸引スリット２２４、噴出スリット２２５’、吸引スリット２２６を備える。
【０００５】
下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０は、図１８でも明らかなように、上下で対向して配置されており、これら下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間を基板Ｇが搬送される。基板Ｇが下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間で挟まれるとき、基板Ｇの裏面から下側除塵ユニット２１０までの間隔と、基板Ｇの表面から上側除塵ユニット２２０までの間隔と、は略等しくなるように配置される。
このような基板Ｇの先端の一辺は、図１８，図１９で示すように、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の吸引スリット２１４，２１６，２２４，２２６および噴出スリット２１５’，２２５’の長手方向に対して略平行、つまり基板搬送方向ａに対して略垂直な状態で搬送される。
【０００６】
下側除塵ユニット２１０では、エア噴出室２１２から洗浄エアが噴出され、洗浄エアによって剥離した塵埃をエア吸引室２１１，２１３で吸引除去する。下側除塵ユニット２１０による基板Ｇの除塵対象面は、下側除塵ユニット２１０と対向している基板面（図１８では裏面）となる。
同様に上側除塵ユニット２２０では、エア噴出室２２２から洗浄エアが噴出され、洗浄エアによって剥離した塵埃をエア吸引室２２１，２２３で吸引除去する。上側除塵ユニット２２０による基板Ｇの除塵対象面は、上側除塵ユニット２２０と対向している基板面（図１８では表面）となる。
【０００７】
この基板用搬送除塵装置１０００では、基板Ｇの上面（上側除塵ユニット２２０側）を流れるエアによりベンチュリ効果による上側への吸引力が発生し、さらに基板Ｇの下面（下側除塵ユニット２１０側）を流れるエアによりベンチュリ効果による下側への吸引力が発生するが、下側への吸引力を大きくするようなベンチュリ効果のバランスとなるように調整することで基板Ｇが安定して搬送されるものであった。
【０００８】
なお、このような基板用搬送除塵装置の先行技術としては、本出願人による前の出願が出願公開されており、例えば、特許文献１（特開２００３−３３２４０１号公報）に開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−３３２４０１号公報      （段落番号００２７〜００３６，図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
基板Ｇとして近年では、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）、または、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等に用いられるガラス基板の需要が増している。
このようなガラス基板では破損を防ぐためガラス基板に柔軟性を持たせることで対処している。この柔軟性を確保するためガラス基板の厚みが薄くなる傾向にある。ガラス基板が薄くなるにともないガラス基板の重量も減少しつつある。このようにガラス基板が薄くなるにつれて、新たな問題が生じていた。以下、この点について説明する。
【００１１】
（１）空転の問題
図１８で示す基板用搬送除塵装置１０００では、基板Ｇの重量の減少に伴い、搬送ローラ１００と基板Ｇとの間の摩擦力が減少し、基板Ｇを搬送する搬送ローラ１００は空転し易いという事象が散見されるようになった。そこで、安定した搬送を実現するため、ベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増大したいという要請がある。
【００１２】
（２）除塵能力の増大
除塵能力の増大も求められている。除塵能力を増大させるためには、エア噴出室２１２，２２２からの噴出量を多くし、それに伴い基板Ｇに働かせるエア吸引室２１１，２２１やエア吸引室２１３，２２３の吸引力も多くする必要がある。こうすればベンチュリ効果のバランスを維持したまま、噴出圧力の増大により塵埃を確実に除去できるようになる。上記の（１）の事情も考慮すると、噴出圧力・吸引圧力を大きくしつつベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増大することが考えられる。
【００１３】
（３）振動の問題
特に、図２０（ａ）のような撓みの発生から、基板Ｇに振動が生じるという問題があった。この振動について説明する。なお、ここでは説明の簡略化のため、吸引スリット２１４，２２４をＶ１スリットと、噴出スリット２１５’，２２５’をＰスリットと、吸引スリット２１６，２２６をＶ２スリットと、として説明する。
下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間に基板Ｇがない場合、図１８で示すように噴出スリット２１５’，２２５’は上下方向に伸びるものであるため、上下のＰスリットから出た洗浄エアはぶつかり合い、エアが乱れた状態となっている。このような状況下、基板Ｇが進行して、図１８，図１９で示すようにエア吸引室２１１，２２１の直下まで来ると、図１９の基板Ｇの先端の斜線部が上下のＶ１スリットの間に介在して上下のＶ１スリットへエアが流入しにくくなって、反対側の上下のＰスリット−Ｖ２スリット間のエア流量が増加し、Ｐスリット−Ｖ２スリット間とＰスリット−Ｖ１スリット間に圧力差が生じる（Ｐスリット−Ｖ２スリット間の圧力がＰスリット−Ｖ１スリット間に比較し低くなる。）。このため、ベンチュリ効果のバランスが乱れることとなる。
【００１４】
本来ならば基板Ｇの上面と下面とを流れる洗浄エアにより両面でベンチュリ効果による吸引力が発生し、さらにベンチュリ効果のバランスにより基板Ｇが安定して搬送されるものであるが、図１８，図１９の状況では下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０ともにＰスリット−Ｖ１スリットの流量が少ないためベンチュリ効果のバランスが狂っている。このような状況下で搬送がさらに進んで図２０（ａ）のようにＰスリットまで先端が到達すると、基板Ｇが上下のＰスリットから出たエアを表裏面で受け、基板Ｇの先端（図１９の基板Ｇの先端の斜線部を参照）で線状の噴射力が上下から加わって、その基板Ｇの先端が上下方向に振動する。そして、基板Ｇは柔軟性が増したために振動量は大きくなっている。
【００１５】
基板Ｇの先端が下方向に動く場合、搬送ローラ１００により抗力が働くが、基板Ｇの先端が上方向に働く場合、拘束するものがないため基板Ｇは上方向に持ち上げられる力が加わる。ここでも、基板Ｇの重量の減少に伴い、実際に持ち上がりやすいというおそれがあった。そこで、このような振動を影響したいという要請がある。
【００１６】
（４）撓みの問題
薄くなった基板Ｇは、柔軟性を持つようになったことから撓みやすくなっている。例えば、図２０（ａ）で示すように、基板Ｇの先端が吸引されて撓むと、下側除塵ユニット２１０の直近の搬送ローラ１００に加わる力が大きくなって制動力となる車輪抵抗が大きくなり、さらに外側の搬送ローラ１００では逆に基板Ｇが浮いてしまって回転力が伝わりにくくなり、これら作用が相乗的に相俟って空転に繋がるという問題があった。
なお、図２０（ｂ）で示すように、撓みは搬送途中でも常に起こりうる問題であるが、この場合は両側の搬送ローラ１００で基板Ｇを支持していることから撓み量は少なくなっており、図２０（ａ）のように先端の撓みのみ考慮すればよい。先に（１）〜（３）の課題解決のためベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増加することを検討していたが、下側への吸引力を増加する場合は、逆に撓みが増大するという問題もあった。 そこで、撓みの抑制も実現したいという要請がある。
【００１７】
そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板の先端が除塵ユニットに導入される際の撓みや振動が生じないようにするとともに、ベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増加するようにして、薄く柔軟性を有する基板であっても安定した搬送や、塵埃等の吸引の増加を実現するような基板用搬送除塵装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の請求項１に係る基板用搬送除塵装置は、
所定の基板搬送方向へ基板を搬送する基板用搬送除塵装置であって、
少なくとも各１個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させ、かつエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向が略平行であって基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置され、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する手段であって、傾斜した配列方向に並べて配置された複数の円板状の搬送ローラを含み、円板状の搬送ローラの配列方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であって、基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置される搬送手段と、
を備え、
略四角状の基板の搬送先端の一辺が基板搬送方向に対して略垂直であり、かつ基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の請求項２に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項１記載の基板用搬送除塵装置において、
前記搬送手段は、棒状の搬送ローラを含み、
棒状の搬送ローラの軸方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であり、かつそれぞれ搬送方向に対して略垂直となるように配置することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の請求項３に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項１または請求項２に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の請求項４に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項３記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットへの吸引圧力と上側除塵ユニットへの吸引圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットからの噴出圧力を上側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
【００２２】
また、本発明の請求項５に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項３記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットからの噴出圧力と上側除塵ユニットからの噴出圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットへの吸引圧力を上側除塵ユニットへの吸引圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
【００２３】
また、本発明の請求項６に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項３記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットから基板面までの間隔を、上側除塵ユニットから基板面までの間隔よりも下回る長さとするように調整することで、 下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の請求項７に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項４に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットおよび上側除塵ユニットからの噴出圧力を計測して、上側除塵ユニットからの噴出圧力が下側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きい場合に基板を除塵ユニットへの搬送を停止するように制御することを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の請求項８に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項１〜請求項７の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットは、搬送される基板に当接して回動する補助ローラを備えることを特徴とする。
【００２６】
また、本発明の請求項９に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項８に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットの搬入側の外側部に配置されることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明の請求項１０に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項８または請求項９に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットのエア吸引室の吸引スリット内に配置されることを特徴とする。
【００２８】
また、本発明の請求項１１に係る基板用搬送除塵装置は、
請求項１〜請求項１０の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記下側除塵ユニットおよび前記上側除塵ユニットは、エア噴出室とこれを挟む二個のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３４】
以上のような本発明によれば、基板の先端が除塵ユニットに導入される際の撓みや振動が生じないようにするとともに、ベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増加するようにして、薄く柔軟性を有する基板であっても安定した搬送や、塵埃等の吸引の増加を実現するような基板用搬送除塵装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
続いて、第１形態の基板用搬送除塵装置およびその使用方法について図を参照しつつ説明する。図１は基板用搬送除塵装置およびその使用方法について説明する説明図である。図２は基板用搬送除塵装置の構造図である。図３は基板搬送方向から見た搬送ローラの構造図であり、図３（ａ）は第１構造図、図３（ｂ）は第２構造図である。図４は除塵ユニットの断面図である。図５は基板搬送の説明図であり、図５（ａ）は突端が手前の吸引スリットに到達した状態の説明図、図５（ｂ）は突端が噴出スリットに到達した状態の説明図、図５（ｃ）は突端が奥の吸引スリットに到達した状態の説明図である。
【００３６】
本形態の基板用搬送除塵装置１は、図１，図２で示すように、搬送ローラ１００，除塵ユニット２００を備える。この除塵ユニット２００はさらに下側除塵ユニット２１０および上側除塵ユニット２２０を備え、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０により基板Ｇの表裏面が除塵される。
【００３７】
搬送ローラ１００は、搬送手段の一具体例であり、基板Ｇを支持・搬送するローラである。搬送ローラ１００は、基板Ｇを搬送する駆動力を与えるように構成されるか、または、他の駆動源により搬送される基板Ｇに従動するように回動自在に構成されている。
搬送ローラ１００は、図３（ａ）で示すように、基板Ｇの両側を渡される長いロッド状の搬送ローラ１００とする場合と、図３（ｂ）で示すように基板Ｇの一部のみ当接する複数個（図３（ｂ）では四個）の短い棒状の搬送ローラ１００とする場合と、二通りの態様がある。このような態様は適宜選択される。本形態の搬送ローラ１００は、図３（ａ）で示すような長尺の搬送ローラ１００であるものとして以下、説明する。
【００３８】
下側除塵ユニット２１０は、図４で示すように、基板搬送方向（矢印ａ方向）に沿って、エア吸引室２１１、エア噴出室２１２、エア吸引室２１３が並べられて構成されており、搬送ローラ１００側（下側）に配置されている。エア吸引室２１１，２１３は、図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室２１２は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。エア吸引室２１１、エア噴出室２１２、エア吸引室２１３はそれぞれ吸引スリット２１４、噴出スリット２１５、吸引スリット２１６を備える。
【００３９】
同様に、上側除塵ユニット２２０は、基板搬送方向（矢印ａ方向）に向かって、エア吸引室２２１、エア噴出室２２２、エア吸引室２２３となるように並べられて構成されており、搬送ローラ１００のない側（上側）に配置されている。エア吸引室２２１，２２３は図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室２２２は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。エア吸引室２２１、エア噴出室２２２、エア吸引室２２３はそれぞれ吸引スリット２２４、噴出スリット２２５、吸引スリット２２６を備える。
【００４０】
下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０は、図２でも明らかなように、上下で対向して配置されており、さらに、吸引スリット２１４、噴出スリット２１５、吸引スリット２１６、吸引スリット２２４、噴出スリット２２５、吸引スリット２２６の長手方向は略平行である。特に吸引スリット２１４，２２４、噴出スリット２１５，２２５、吸引スリット２１６，２２６は真上から見ると一本の線に見えるように形成される。これら下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間を基板Ｇが搬送される。基板Ｇが下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間で挟まれるとき、基板Ｇの裏面から下側除塵ユニット２１０までの間隔と、基板Ｇの表面から上側除塵ユニット２２０までの間隔と、は略等しくなるように配置される。さらに本形態では下側除塵ユニット２１０のエア噴出室２１２からの噴出圧力は、上側除塵ユニット２２０のエア噴出室２２２からの噴出圧力よりも大きくして、ベンチュリ効果によるバランスを取って下側へ吸引されるようにしている。
【００４１】
このベンチュリ効果によるバランスについて説明する。まず、ベンチュリ効果による吸引現象について説明する。まず、上側除塵ユニット２２０単体のみを考える。エア噴出室２２２から噴出された洗浄エアは、例えば、光のように反射してエア吸引室２２１，２２３へ向かうというものではなく、基板Ｇの表面に沿って流れるという特性がある。さらに、上側除塵ユニット２２０の直下では流路が狭く、上側除塵ユニット２２０の両外側では流路が広い構造となっている。
【００４２】
このような状況下では、ベンチュリ効果により、流路が狭い上側除塵ユニット２２０の直下では圧力が低い状態になろうとするため、上側除塵ユニット２２０と基板Ｇとが吸引されるという吸引現象が発生する。
この場合、上側除塵ユニット２２０は機械的に固定されているが、基板Ｇは搬送ローラ１００上に載置されているのみであるため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離れて上昇する。
このようにベンチュリ効果により、基板Ｇが上側除塵ユニット２２０へ吸引される。
【００４３】
そこで、下側除塵ユニット２１０でも同様に噴出圧力を加えて、下側へ吸引するベンチュリ効果を加える。この際、先に説明したように、下側除塵ユニット２１０のエア吸引室２１１、エア吸引室２１３への吸引圧力と、上側除塵ユニット２２０のエア吸引室２２１、エア吸引室２２３への吸引圧力と、を同じにするとともに、下側除塵ユニット２１０のエア噴出室２１２からの噴出圧力は、上側除塵ユニット２２０のエア噴出室２２２からの噴出圧力よりも大きくして、ベンチュリ効果によるバランスを取って下側へ吸引されるようにしている。
これにより下側除塵ユニット２１０のベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニット２２０のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板Ｇを搬送ローラ１００に当接させる。
【００４４】
基板Ｇは、例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）またはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等に用いられるガラス基板である。図１〜図５で示す基板Ｇは長尺な基板Ｇの一部のみが図示されている。本明細書において、基板Ｇの上面を表面と、下面を裏面として定義する。
特に、本実施形態では薄くして柔軟性を有するようになった、ＴＦＴ液晶パネル用のガラス基板を対象としている。
【００４５】
続いて、本形態による除塵について説明する。
複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて設けられた搬送ローラ１００上を順次搬送されるものとする。
この際、基板Ｇは、図１，図２で示すように、搬送ローラ１００により支持されて搬送平面上を移動するものであり、さらに略四角形の基板Ｇの一辺方向と、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０のエア吸引室２１１，２１３，２２１，２２３の吸引スリット２１４，２１６，２２４，２２６およびエア噴出室２１２，２２２の噴出スリット２１５，２２５の長手方向と、が所定の交差角で傾斜して交差しつつ搬送される。基板搬送方向ａを基準に取れば、吸引スリット２１４，２１６，２２４，２２６および噴出スリット２１５，２２５の長手方向が基板搬送方向ａに対して略垂直であるとともに、略四角形の基板の一辺方向が基板搬送方向ａの略垂直方向に対して所定の交差角αで傾斜する。この交差角は図１（ａ）で示すように、角度αをなすように配置される。この交差角αについては後述する。
【００４６】
このような傾斜した状態の基板Ｇが下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０に搬送されて除塵が行われるものとする。この場合、除塵ユニット２００は、エア噴出室２１２，２２２による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２１１，２１３，２２１，２２３による塵埃の吸引を常時行っているものとする。つまり、基板Ｇにおいて、表裏両面が除塵対象面となる。
【００４７】
まず、除塵される基板Ｇが、下側除塵ユニット２１０の直上を、矢印ａ方向に搬送される。
基板Ｇの突端Ｇ１は先端の一部であり、図５（ａ）で示すように突端Ｇ１がエア吸引室２１１，２２１の吸引スリット２１４，２１６の間に進入する。この場合、基板Ｇの突端Ｇ１の斜線部のみに吸引圧力が加わっているため吸引圧力は小さく、従来技術のような先端全体に吸引圧力が加わらないため（図１９参照）、撓みが発生するおそれを著しく低減している。
【００４８】
また、振動についても抑制される。この点について説明する。なお、ここでも説明の簡略化のため、吸引スリット２１４，２２４をＶ１スリットと、噴出スリット２１５，２２５をＰスリットと、吸引スリット２１６，２２６をＶ２スリットと、として説明する。図４で示すように、上下のＰスリットは、基板搬送方向ａと反対側に傾斜しており、基板Ｇは、これらＰスリットへ向かうように進行する。
【００４９】
このような状況下で図５（ａ）で示す状態になると、基板Ｇの進行によりＶ１スリットへのエアの流入は妨げられるが、その遮蔽領域は狭く、直ちに上下のＶ１スリットへ洗浄エアが流入しにくくなるという事態は回避され、洗浄エアの流れが乱れるような事態はおこらない。加えて、Ｐスリットの傾斜により洗浄エアは強制的にＰ−Ｖ１間の方向に送られるため、エアの多くは変わりなくＰ−Ｖ１間を流れる。
このため、Ｐスリット−Ｖ１スリット間のエア流量と、反対側のＰスリット−Ｖ２スリット間のエア流量とは均衡して、Ｐスリット−Ｖ１スリット間とＰスリット−Ｖ２スリット間に圧力差がほぼ０（Ｐスリット−Ｖ１スリット間の圧力がＰスリット−Ｖ２スリット間の圧力とほぼ同じである。）という状態を維持し、この点でも洗浄エアの流れが乱れるような事態はおこらない。したがってこれら作用が相俟ってベンチュリ効果のバランスが維持される。
【００５０】
続いて、図５（ｂ），図５（ｃ）で示すように、基板Ｇが基板搬送方向ａに沿って搬送される。
この際も吸引圧力・噴出圧力等が加わる。しかしながら、搬送ローラ１００から基板Ｇが突出する量（以下オーバハング量という）は基板Ｇの全長よりも充分小さいことに加え、先に説明した原理により、噴射・吸引により加わる圧力を斜線領域で示すように従来よりも少なくし、かつベンチュリ効果のバランスも維持されるため、撓み・振動等を抑制しつつそのまま搬入が続いて、下側除塵ユニット２１０の両側の搬送ローラ１００により支持される。その後は、基板Ｇは、吸引力と自重とが相俟って搬送ローラ１００へ強固に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離脱するという事態は発生しない。
【００５１】
続いて先に説明した交差角αについて説明する。この交差角αは、０°から４５°までの鋭角であり、好ましくは１°〜３０°程度が好ましい。このような交差角αの具体的な値であるが、基板Ｇにより適宜決定されるが、例えば、ガラス４００ｍｍ×５００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍである基板Ｇを用いて交差角αを変更させた場合の噴出圧力の上限（これ以上の噴出圧力では振動・撓みが生じる）を次表に示す。
【００５２】
【表１】
0004579071.tif 000002
【００５３】
このように交差角αを増加させるにつれて噴出圧力の上限が増大する傾向が見て取れる。これは、交差角αを増大させるにつれて、噴出圧力による面積（図５の斜線部）が低下して加わる力が減少するためと推察される。
【００５４】
以上、説明した基板用搬送除塵装置およびその使用方法によれば、基板Ｇの安定した搬送は基板Ｇ上面と下面を流れるエアにより発生するベンチュリ効果のバランスにより得られるが、下側除塵ユニット２１０、上側除塵ユニット２２０を基板Ｇが進入通過する最中でもベンチュリ効果のバランスが得られるようにしたため、安定した搬送を得ることができる。特に傾斜したＶ１スリット，Ｐスリット，Ｖ２スリットを採用することでエア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐからの噴出圧力を今まで程度とすることができ除塵能力を確保しつつ基板Ｇの撓みを少なくし、安定した搬送（基板Ｇが噴出スリットの近くで浮き上がらない、また、下側に引き付ける力が弱いため基板Ｇの撓みによる搬送トラブルが起こりづらい、という搬送。）が可能になる。さらに交差角αを最大限に大きくすれば噴出圧力も増加でき、ベンチュリ効果のバランスを維持しつつ吸引力や除塵能力の改善も見込める。
【００５５】
続いて、本発明の基板用搬送除塵装置およびその使用方法の第２形態について図を参照しつつ説明する。なお、先に説明した従来技術や第１形態と同じ構成については、同じ符号を付すとともに重複する説明を省略する。図６は第２形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
本形態の基板用搬送除塵装置は、図６で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユニット２００、搬送制御部３００を備えている。図２に示す第１形態の構成にさらに搬送制御部３００を追加した構成である。この基板用搬送除塵装置１では矢印ａ方向に基板Ｇが搬送される。
搬送ローラ１００、除塵ユニット２００は、第１形態と同じであり、その重複する説明を省略する。
搬送制御部３００は、図６で示す二個の圧力導入部３０１、差圧センサ３０２、駆動制御部３０３からなるものである。
【００５６】
圧力導入部３０１は、エア噴出室２１２，２２２の室内に設置され、エア噴出室２１２，２２２におけるエアを導入するようになされている。
差圧センサ３０２は、二個の圧力導入部３０１からのエアを入力し、これらエアの差圧を計測して差圧信号を出力する。
駆動制御部３０３は、差圧センサ３０２から出力される差圧信号に応じて、搬送ローラ１００の駆動制御を行う。
【００５７】
なお、搬送制御部３００は、上記した構成に限定されるというものではなく、例えば、図示しないが、エア噴出室２１２，２２２の室内にそれぞれ圧力検出センサ（トランスデューサ）が設置され、エア噴出室２１２，２２２における噴出圧力を計測してそれぞれが圧力信号を出力し、これら二箇所から送信される圧力信号に基づいて差圧信号を演算し、この差圧信号に応じて、駆動制御部３０３が搬送ローラ１００の駆動制御を行うようにしても良い。
これら構成は適宜選択されるが、例えば、小規模な装置では、図４で示すような差圧センサ３０２を用いる形態がコスト等の観点から好ましい。
【００５８】
続いて、本形態による除塵について説明する。
複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送され、除塵が行われるものとする。この場合下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０は、エア噴出室２１２，２２２による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２１１，２１３，２２１，２２３による塵埃の吸引が常時行われているものとする。
【００５９】
まず、除塵される基板Ｇが、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間を、矢印ａ方向に搬送される。この基板Ｇは表裏両面が除塵対象面となる。
この場合、下側除塵ユニット２１０のエア噴出室２１２（下側）から噴出される洗浄エアの噴出圧力は、上側除塵ユニット２２０のエア噴出室２０１Ｐ（上側）から噴出される洗浄エアの噴出圧力より大きい値としており、先に説明したように下側へ吸引されるように調整されている。
また、基板Ｇが下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間で挟まれている場合、基板Ｇの裏面から下側除塵ユニット２１０までの間隔と、基板Ｇの表面から上側除塵ユニット２２０までの間隔と、は略等しくなるように配置される。
【００６０】
そして、洗浄エアの噴出中では、二個の圧力導入部３０１を介してエアが差圧センサ３０２へ導入され、差圧センサ３０２から差圧信号を駆動制御部３０３へ出力している。
駆動制御部３０３は、上側から噴出される洗浄エアの噴出圧力が、下側から噴出される洗浄エアの噴出圧力より大きい値であるならば異常状態と、それ以外は正常状態と判定する。
駆動制御部３０３は、噴出圧力が正常状態であると判断したならば、搬送ローラ１００を回転するように制御して、基板Ｇを下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０の間に進入させる。一方、異常状態では搬送ローラ１００を停止するように制御する。
【００６１】
これにより、噴出圧力が変動して上側除塵ユニット２２０の吸引力が下側除塵ユニット２１０の吸引力よりも大きいという異常状態では基板Ｇを停止させ、その一方で、正常状態では基板Ｇは搬送ローラ１００に搬送されるように構成したため、基板Ｇが搬送ローラ１００から浮き上がって離脱するおそれをさらに小さくし、基板Ｇは搬送ローラ１００に確実に当接した状態で除塵される。
【００６２】
このため、基板Ｇが損傷するおそれを低減させるとともに、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００のみで済むため、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。特に、基板両面の洗浄が必要な場合には好適である。
【００６３】
続いて、本発明の基板用搬送除塵装置およびその使用方法の第３形態について図を参照しつつ説明する。なお、従来技術、第１，２形態と同じ構成については、同じ符号を付すとともに重複する説明を省略する。図７は本形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。図８は補助ローラの構成図であり、図８（ａ）は第１構造図、図８（ｂ）は第２構造図である。図９は改良形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
本形態の基板用搬送除塵装置は、図２で示す第１形態に対し、さらに補助ローラ１０２を設けた形態である。
【００６４】
搬送ローラ１００、除塵装置２００は第１形態と同じであるため、その重複する説明を省略し、相違点のみ説明する。
図７で示すように、下側除塵ユニット２１０の搬入側と搬出側との両外側部に補助ローラ１０２が配置される。補助ローラ１０２は、例えば、図８（ａ）で示すように側面から見て一輪の構成としたり、図８（ｂ）で示すように二輪（あるいは三以上の複数輪）の構成としてもよい。本形態では図８（ｂ）の複数輪であるものとして説明する。
【００６５】
続いて、本形態による除塵について、第１形態との相違点に重点をおいて説明する。
複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送され、除塵が行われるものとする。この場合除塵ユニット２００で、エア噴出室２１２，２２２による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２１１，２１３，２２１，２２３による塵埃の吸引が常時行われているものとする。
【００６６】
まず、除塵される基板Ｇが、除塵ユニット２００に向けて、矢印ａ方向に搬送される。
基板Ｇは、ベンチュリ効果により下側除塵ユニット２１０がある下側へ吸引される。しかしながら、搬送ローラ１００に加え補助ローラ１０２が基板Ｇを支持しているため、従来よりオーバハング量を減少させており、基板Ｇは補助ローラ１０２・搬送ローラ１００に当接したまま搬入され、下側除塵ユニット２１０の両側にある補助ローラ１０２・搬送ローラ１００に支持される。その後は、吸引力と相俟って基板Ｇが補助ローラ１０２・搬送ローラ１００に確実に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離脱するという事態は発生しない。
【００６７】
以上説明したように、本形態では、基板Ｇが搬送ローラ１００上を離れることなく搬送されるという効果に加え、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０への進入時に補助ローラ１０２によりオーバハング量を減少させることで基板Ｇの先端が吸引されるというおそれをさらに小さくしている。
このため、基板Ｇが損傷するおそれを除くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００・補助ローラ１０２のみで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。
【００６８】
なお、図９で示すように第２形態に補助ローラ１０２を加えた改良形態を採用しても、この第３形態と同様の効果も奏しうるようになる。
【００６９】
続いて、本発明の基板用搬送除塵装置およびその使用方法の第４形態について図を参照しつつ説明する。なお、従来技術、第１，２，３形態と同じ構成については、同じ符号を付すとともに重複する説明を省略する。図１０は本形態の基板用搬送除塵装置の構成図、図１１は補助ローラ構造の説明図である。図１２は改良形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。本形態の基板用搬送除塵装置は、第１形態に対し、さらに補助ローラを設けた形態であるが、第３形態とは異なる位置に補助ローラを配置した点が相違している。
【００７０】
本形態では、図１０で示すように、下側除塵ユニット２１０のエア吸引室２１１，２１３の上側に補助ローラ１０３が配置される。補助ローラ１０３は、例えば、図１１で示すように、エア吸引室２１１，２１３の吸引スリット２１４，２１６内に配置されている。なお、この補助ローラ１０３は、例えば、図８（ａ）で示すような基板搬送方向から見て一輪であったり、図８（ｂ）で示すような側面から見て複数輪（図８（ｂ）で示すように少なくとも二輪）の構成である。このような補助ローラ１０３の存在に拘わらず、塵埃の吸引には影響がないような充分大きい吸引スリット２１４，２１６を確保すれば、除塵能力に問題は生じない。
【００７１】
以上説明したように、本形態では、基板Ｇが搬送ローラ１００上を離れることなく搬送されるという効果に加え、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０への進入時に補助ローラ１０３によりオーバハング量を減少させることで基板Ｇの先端が吸引されるというおそれも小さくしている。
このため、基板Ｇが損傷するおそれを除くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００・補助ローラ１０３のみで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。
【００７２】
なお、図１２で示すように第２形態に補助ローラ１０３を加えた改良形態を採用しても、この第４形態と同様の効果も奏しうるようになる。
【００７３】
続いて、本発明の基板用搬送除塵装置およびその使用方法の第５形態について図を参照しつつ説明する。なお、従来技術、第１，２，３，４形態と同じ構成については、同じ符号を付すとともに重複する説明を省略する。図１３は本形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。図１４は本形態の基板用搬送除塵装置による基板搬送の説明図である。図１５は本形態の基板用搬送除塵装置による基板搬送の説明図であり、図１５（ａ）は突端が手前の吸引スリットに到達した状態の説明図、図１５（ｂ）は突端が噴出スリットに到達した状態の説明図、図１５（ｃ）は突端が奥の吸引スリットに到達した状態の説明図である。図１６は、搬送ローラの支軸の説明図である。図１７は、補助ローラの説明図である。
【００７４】
本形態の基板用搬送除塵装置１は、先に説明した第１，第２，第３，第４形態の何れかと同一の構成を有するものであるが、相違する点は、基板Ｇを傾斜させる代わりに下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０を傾斜させるようにした。この場合、下側除塵ユニット２１０の前段・後段に配列方向が傾斜した搬送ローラ１０４を配置している。この搬送ローラ１０４は、図１３で示すように、円板状であって複数個が斜め方向に並んで配置されている。これにより、下側除塵ユニット２１０を傾斜して配置することができる。
【００７５】
また、除塵ユニット２００が斜めになっても、吸引スリット２１４，２２４、噴出スリット２１５，２２５、吸引スリット２１６，２２６は真上から見ると一本の線に見えるように形成される。
そして、略四角形の基板Ｇの一辺方向に対して、下側除塵ユニット２１０および上側除塵ユニット２２０のエア吸引室２１２，２２２の線状の吸引スリット２１５，２２５の長手方向、および、エア噴出室２１１，２１３，２２１，２２３の線状の噴出スリット２１４，２１６，２２４，２２６の長手方向は所定の交差角で傾斜するように構成されている。なお、基板搬送方向ａを基準にとれば、略四角形の基板Ｇの一辺方向が基板搬送方向ａに対して略垂直であるとともに、吸引スリット２１５，２２５および噴出スリット２１４，２１６，２２４，２２６の長手方向が基板搬送方向ａの略垂直方向に対して所定の交差角αで傾斜する。このような基板Ｇの突端Ｇ１が先頭となるように除塵ユニット２００に搬送されつつ除塵を受ける。この交差角は図１４で示すように、角度αをなすように構成される。
【００７６】
続いて、本形態による除塵について説明する。
複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて設けられた搬送ローラ１００，１０４上を順次搬送されるものとする。
このような傾斜した状態の基板Ｇが下側除塵ユニット２１０および上側除塵ユニット２２０に入って、除塵が行われるものとする。この場合、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０は、エア噴出室２１２，２２２による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２１１，２１３，２２１，２２３による塵埃の吸引を常時行っているものとする。つまり基板Ｇにおいて、表裏両面が除塵対象面となる。
【００７７】
まず、除塵される基板Ｇが、下側除塵ユニット２１０の直上を、矢印ａ方向に搬送される。
基板Ｇの突端Ｇ１の一部は、図１５（ａ）で示すようにエア吸引室２１１，２２１の間に進入する。この場合、基板Ｇの斜線部のみに吸引圧力が加わっているため吸引圧力は小さく、従来技術のような先端全体に吸引圧力が加わらないため（図１９参照）、撓みが発生するおそれを著しく低減している。
【００７８】
また、振動についても図４を用いて説明したように、Ｐスリット−Ｖ１スリット間のエア流量と、反対側のＰスリット−Ｖ２スリット間のエア流量とは均衡して、Ｐスリット−Ｖ１スリット間とＰスリット−Ｖ２スリット間に圧力差がほぼ０（Ｐスリット−Ｖ１スリット間の圧力がＰスリット−Ｖ２スリット間の圧力とほぼ同じである。）という状態を維持する。したがってベンチュリ効果のバランスが維持される。
【００７９】
以下続いて、図１５（ｂ），図１５（ｃ）で示すように、基板Ｇが基板搬送方向へ搬送される。この際、斜線部のような吸引圧力・噴出圧力が加わるが、搬送ローラ１０４（または補助ローラ１０２や補助ローラ１０３）から基板Ｇが突出する量（以下オーバハング量という）は基板Ｇの全長よりも充分小さい一部のみであることに加え、先に説明した原理によりベンチュリ効果のバランスが維持されるため、撓み・振動等を抑制しつつそのまま搬入が続いて、下側除塵ユニット２１０の両側の搬送ローラ１０４（または補助ローラ１０２や補助ローラ１０３）により支持される。その後は、基板Ｇは、吸引力と自重とが相俟って搬送ローラ１００，１０４へ強固に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００，１０４から離脱するという事態は発生しない。
【００８０】
なお、搬送ローラ１０４は複数あるが、他と比較して高さが高い搬送ローラ１０４が一つある場合、その搬送ローラ１０４のみに基板Ｇが乗るため、その箇所に力が集中し、基板Ｇに歪み等悪影響を与えるおそれがある。そこで、図１６は、搬送ローラ１０４の支軸１０５に板バネ１０６を介在させて高さを調整できるようにしている。こうすれば、基板Ｇの一カ所で力が集中する事態を回避できる。また、位置決めの関係から搬送ローラの配列方向の最外では、板ばね１０６を外して支軸１０５のみとすれば位置決めが確保できる。
【００８１】
また、図１７で示すように、下側除塵ユニット２１０のエア吸引室２１１，２１３の吸引スリット２１５，２２５の上側に補助ローラ１０３が配置される（図１０，図１１で示すような構造となる）ようにしてもよい。円板状の補助ローラの配列方向は、下側除塵ユニットのエア吸引室２１１，２１３の吸引スリット２１５，２２５の長手方向と一致するものである。このような補助ローラ１０３の存在に拘わらず、塵埃の吸引には影響がないような充分大きい吸引口を確保すれば、除塵能力に問題は生じない。
【００８２】
このように、本形態では、上記した第１〜第４形態と同様の効果を得ることができる点に加え、基板Ｇを斜め方向にして搬送ローラ１００に載置する作業がなくなり、基板搬送方向ａに対して基板Ｇの一辺方向が垂直になるような通常の配置を行えば、交差角αも自動的に設定できるようになって、予め設計された吸引力を付与することができる。また、作業員に交差角αだけ斜めにする作業を不要として、作業性も高めることができる。
【００８３】
以上第１〜第５形態について説明したが、さらに各種の変形形態も可能である。第１〜第５形態において、下側除塵ユニット２１０，上側除塵ユニット２２０は２個のエア吸引室の間に１個のエア噴出室を配置した例（Ｖ−Ｐ−Ｖ構造）であるものとして説明したが、これ以外に２個のエア噴出室の間に１個のエア吸引室を配置した例（Ｐ−Ｖ−Ｐ構造）、１個のエア吸引室と１個のエア噴出室を並べて配置した例（Ｐ−Ｖ構造やＶ−Ｐ構造）としてもよい。これら構成が適宜選択される。
【００８４】
また、第１〜第５形態ではベンチュリ効果の調整として上下の噴出圧力を変更させたものであったが、他の調整も可能である。
例えば、下側除塵ユニット２１０からの噴出圧力と上側除塵ユニット２２０からの噴出圧力とを同じにするとともに、下側除塵ユニット２１０への吸引圧力を上側除塵ユニット２２０への吸引圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニット２１０のベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニット２２０のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板Ｇを搬送ローラ１００，１０４や補助ローラ１０２，１０３へ押圧する力を付与するようにしても良い。なお、この場合、図６，図９，図１２の形態の搬送制御部は採用できない。
【００８５】
また、下側除塵ユニット２１０から基板Ｇの裏面までの間隔を、上側除塵ユニット２２０から基板Ｇの表面までの間隔よりも下回る長さとするように調整することで、 下側除塵ユニット２１０のベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニット２２０のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板Ｇを搬送ローラ１００，１０４や補助ローラ１０２，１０３へ手段へ押圧する力を付与するようにしても良い。なお、この場合、図６，図９，図１２の形態の搬送制御部は採用できない。
【００８６】
また搬送手段として搬送ローラ１００，１０４や補助ローラ１０２，１０３を考慮した構成について説明したが、搬送手段の他の例として、例えば、高さ方向の位置決め手段を確保するとともに、エアが噴出する無数の噴出孔を形成した搬送面とし、この搬送面の上に基板Ｇを配置してエアにより搬送するような構成としても良い。この場合でも基板搬送方向と各スリットの長手方向とで所定の交差各αを確保しておけば上記のような効果を奏しうる。
また、図７の補助ローラ１０２と図１０の補助ローラ１０３とを共に備えるような搬送手段としても良い。
【００８７】
以上本形態の基板用搬送除塵装置およびその使用方法について説明した。このような基板用搬送除塵装置およびその使用方法によれば、上記した（１）空転の問題、（２）除塵能力の増大、（３）振動の問題、（４）撓みの問題問題が解決する。
まず、図４で示す傾斜スリットによりエアが乱れないようにしてベンチュリ効果のバランスが崩れないようにできるため（３）振動の問題、（４）撓みの問題が解消された。
また、図１，図１４で示すような略四角形の基板の一辺方向と、除塵ユニットのエア吸引室の吸引スリットおよびエア噴出室の噴出スリットの長手方向と、が所定の交差角で交差しつつ搬送・除塵されるようにしたため、オーバハングされる基板Ｇへの圧力を減少させて、この点でも（３）振動の問題、（４）撓みの問題が解消された。
そして、振動や撓みが起こりにくくなったため、噴出圧力や吸引圧力を増大させるとともにベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増大させることも可能となり、（１）空転の問題、（２）除塵能力の増大がそれぞれ解消された。
これらが相乗的に相俟って信頼性を高めた基板用搬送除塵装置およびその使用方法とすることができた。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】基板用搬送除塵装置およびその使用方法について説明する説明図である。
【図２】基板用搬送除塵装置の構造図である。
【図３】基板搬送方向から見た搬送ローラの構造図であり、図３（ａ）は第１構造図、図３（ｂ）は第２構造図である。
【図４】除塵ユニットの断面図である。
【図５】基板搬送の説明図であり、図５（ａ）は突端が手前の吸引スリットに到達した状態の説明図、図５（ｂ）は突端が噴出スリットに到達した状態の説明図、図５（ｃ）は突端が奥の吸引スリットに到達した状態の説明図である。
【図６】第２形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
【図７】第３形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
【図８】補助ローラの構成図であり、図８（ａ）は第１構造図、図８（ｂ）は第２構造図である。
【図９】改良形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
【図１０】第４形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
【図１１】補助ローラ構造の説明図である。
【図１２】改良形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
【図１３】第５形態の基板用搬送除塵装置の構成図である。
【図１４】第５形態の基用搬送除塵装置による基板搬送の説明図である。
【図１５】第５形態の基板用搬送除塵装置による基板搬送の説明図であり、図１５（ａ）は突端が手前の吸引スリットに到達した状態の説明図、図１５（ｂ）は突端が噴出スリットに到達した状態の説明図、図１５（ｃ）は突端が奥の吸引スリットに到達した状態の説明図である。
【図１６】搬送ローラの支軸の説明図である。
【図１７】補助ローラの説明図である。
【図１８】従来技術の基板用搬送除塵装置の説明図である。
【図１９】従来技術の基板用搬送除塵装置の説明図である。
【図２０】基板のたわみを説明する説明図であり、図２０（ａ）は基板の先端のたわみを説明する説明図、図２０（ｂ）は基板の中間箇所のたわみを説明する説明図である。
【符号の説明】
【００８９】
１：基板用搬送除塵装置
１００：搬送ローラ
１０１：支軸
１０２，１０３：補助ローラ
１０４：搬送ローラ
１０５：支軸
１０６：板バネ
２００：除塵ユニット
２１０：下側除塵ユニット
２１１，２１３：エア吸引室
２１２：エア噴出室
２１４，２１６：吸引スリット
２１５：噴出スリット
２２０：上側除塵ユニット
２２１，２２３：エア吸引室
２２２：エア噴出室
２２４，２２６：吸引スリット
２２５：噴出スリット
３００：搬送制御部
３０１：圧力導入部
３０２：差圧センサ
３０３：駆動制御部
Ｇ：基板
【図１】
0004579071.tif 000003
【図２】
0004579071.tif 000004
【図３】
0004579071.tif 000005
【図４】
0004579071.tif 000006
【図５】
0004579071.tif 000007
【図６】
0004579071.tif 000008
【図７】
0004579071.tif 000009
【図８】
0004579071.tif 000010
【図９】
0004579071.tif 000011
【図１０】
0004579071.tif 000012
【図１１】
0004579071.tif 000013
【図１２】
0004579071.tif 000014
【図１３】
0004579071.tif 000015
【図１４】
0004579071.tif 000016
【図１５】
0004579071.tif 000017
【図１６】
0004579071.tif 000018
【図１７】
0004579071.tif 000019
【図１８】
0004579071.tif 000020
【図１９】
0004579071.tif 000021
【図２０】
0004579071.tif 000022