(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスを吸入するための吸入口および排気するための排気口が形成された円筒状のハウジングと、このハウジング内部に収容され外周部に回転翼を複数段設け、回転自在に少なくとも動圧ガス軸受であるスラスト軸受で軸支されてなるロータと、このロータを回転駆動するためのモータを具備し、前記ロータの回転による回転翼とハウジング内周部との協働により、前記吸入口から前記ガスを吸入し、前記ロータに沿ってこのガスを移動させて排気口から排気する真空排気装置において、前記ロータの前記吸入口側と反対の他端部に、前記ガスを圧縮する回転翼とは別の回転翼からなる逆向円周流ポンプを設けるとともに、この回転翼をハウジングに別個に穿設されたガス導入口から導入されモータを冷却する冷却ガスの流路に介設し、前記冷却ガスの流路が大気圧よりも負圧になるようガス導入口からモータを冷却するガスを吸気し、前記スラスト軸受に供給してから前記排気口に排出するよう構成したことを特徴とする真空排気装置。
【請求項２】
上記冷却ガス導入口に配設した冷却ガスの流路となる管路に、圧力調整弁を介設したことを特徴とする請求項１記載の真空排気装置。
【請求項３】
上記冷却ガス導入口に配設した冷却ガスの流路となる管路に、圧力調整弁、フィルタおよび除湿機構を具備したことを特徴とする請求項１記載の真空排気装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アルミエッチングプロセス等を行う半導体製造装置に主として用いられる真空排気装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
真空排気装置、特に高速回転時に非接触で回転体を軸支し得る動圧ガス軸受を用いた従来の真空排気装置の例を図６に示す。
真空排気装置９０は、図６に示すように、ケーシング７０と、外周に複数の回転翼である円周流ポンプ８１を周設してなるロータ６１と、このロータ６１に螺着した支持軸６２と、この支持軸６２を回動自在に支承する非接触形のガス軸受たるジャーナル軸受８５、スラスト軸受８４と、この支持軸６２を回転駆動する電動のモータ６３とを具備してなり、ロータ６１を起立させて使用するものである。
【０００３】
ロータ６１は円筒状のものである。具体的には、ロータ下半部６１ａは外周に円盤状の円周流ポンプ８１が複数段設けられたものであり、上半部６１ｂは外周面に凹凸のない円筒状のものである。しかして、中間には竹の節のように間を仕切る円盤状の支持部材６０が一体に形成されており、この支持部材６０に支持軸６２を取着できるように挿通孔８２が穿設されている。円周流ポンプ８１は、図７に示すように、その外周部８１ａの上面に間欠的にかつ放射状に複数の切欠き溝８１ｂを設けることにより、切欠き溝８１ｂと隣接する切欠き溝８１ｂとの間に、複数の羽根８１ｃを形成するようにしたものである。
ケーシング７０は、前記ロータ６１を収容するロータ保持室７１と、このロータ保持室７１の下方に連続して設けられ、支持軸６２を収容する軸受保持室７２とを備えてなる。
【０００４】
ロータ保持室７１は、ロータ６１の上方に開口する吸入口７３と、ロータ６１の側方に開口する排気口７４とを具備する。またその内周部であるステータ部７５には、ロータ６１の上半部６１ｂに対応する部位に、ねじ溝７５ａが形成されており、ロータ６１の下半部６１ａに対応する部位に、円周流ポンプ８１の外周部８１ａを遊嵌させうる固定溝７５ｂが周回して設けられている。この固定溝７５ｂは、上向き面にＵ字状に形成してある。一方、上方の逆Ｕ字状溝７５ｃは、逆向きにＵ字状に形成してあり、図８に示すように周回するものではなく、一部には設けられていない。しかして、この逆Ｕ字状溝７５ｃにおけるロータ６１の回転方向の始端部７５ｄには、上段の固定溝７５ｃへ貫通する貫通口７５ｅが穿設されており、この貫通口７５ｅからロータ６１の回転により、被圧縮ガスを吸入圧縮し、次段に通じる終端部７５ｆに導く。同様の吸入圧縮が複数段の円周流ポンプ部８０で行われる。
【０００５】
軸受保持室７２には、その下端部に後述するモータ６３を配設するためのモータ配設部７７と、このモータ配設部７７の上方に後述するスラスト軸受８４を配設するためのスラスト軸受配設部７６とを設けている。さらに、下端からは外部接続経路６６を延出し、ケーシング７０の外面に開口し、冷却ガスを導入する外部ポート６７に連通させている。支持軸６２は、その一端側である上部６２ａにおねじ部６４を一体に突出させたもので、このおねじ部６４を支持部材６０に貫通させた挿通孔８２に貫通させ、突出部分にナット６５を螺着することによりロータ６１に取着している。一方他端側である下部６２ｂ近傍には円板体８３を一体に固設している。
【０００６】
軸受は、つぎに記述する２種類の動圧ガス軸受からなる。ジャーナル方向に作用する負荷に対して支持軸６２を軸支するジャーナル軸受８５と、スラスト方向に作用する負荷に対して支持軸６２を支承するスラスト軸受８４とから構成している。ジャーナル軸受８５は、支持軸６２の上方よりおよび下方よりの２ケ所に配設したもので、たとえば、矩形状の薄板を丸めて形成するとともにその一端を軸受保持室７２の内壁面に支持させ、支持軸６２の周囲に配置したジャーナル支持板８６と、このジャーナル支持板８６の外方に周設され、その一端を軸受保持室７２の内壁面に支持させ、ジャーナル支持板８６を内方に弾性付勢して支持軸６２に押接させる複数の板ばね８７とから構成したものである。スラスト軸受８４は、円板体８３の上下にそれぞれ配設したリング状のスラスト支持板８８と、スラスト支持板８８を弾性付勢して円板体８３に押接させるリング状の板ばね８９とから構成している。そして、支持軸６２が静止もしくは一定回転数以下の場合には、ジャーナル支持板８６とスラスト支持板８８とを前記板ばね８７、８９の弾性付勢力により支持軸６２に近接もしくは密着させ、支持軸６２を支承するとともに、一定回転数以上になると支持軸６２の回転により支持軸６２の回りのガスが、支持軸６２とジャーナル支持板８６とスラスト支持板８８の間に巻き込まれることにより、支持軸６２の周囲および円板体８３の上下面にくさび状勾配を持つ動圧を発生させ、この動圧によりジャーナル支持板８６およびスラスト支持板８８を後退させて気体膜を形成し、この気体膜を介して支持軸６２を非接触に支持する機能を有するものである。なお、この動圧ガス軸受であるスラスト軸受８４、ジャーナル軸受８５に供給する冷却ガス（たとえば窒素ガス）は、外部ポート６７から外部接続経路６６を介して供給している。
【０００７】
モータ６３は、支持軸６２と、その外径を略等しく設定され、支持軸６２の外周面６２ｃより突出しないように内蔵させた回転子６３ａと、回転子６３ａの周囲においてモータ配設部７７に配設した固定子６３ｂとを有してなる例えばＤＣブラッシレス式のものであり、直接的に支持軸６２を駆動させるものである。本実施例ではモータ６３の駆動源として図示しないインバータを用いており、このインバータによって、モータ６３を、任意の回転数で回転させるように構成している。
このように構成した真空排気装置９０は、ロータ６１をモータ６３により回転させることにより、例えば半導体製造装置のチャンバー内におけるエッチングガス等を、吸入口７３から吸入し、ねじ溝７５ａに沿って下方に移動させる。しかしてこの作用は、分子流領域から遷移流領域で行われるものであり、このねじ溝７５ａの設けられたねじ形ポンプ部は遠心圧縮ポンプとして機能する。そして、このねじ形ポンプ部６９で圧縮され、ねじ溝７５ａの最下段まで導かれたエッチングガス等を、次に、流路７５ｇを経由して、円周流ポンプ８１の回転で前記固定溝７５ｂに導き、具体的には固定溝７５ｂに設けられた前記逆Ｕ字状溝７５ｃに沿って移動させる。円周流ポンプ８１の回転方向に沿って移動し圧縮されたエッチングガス等は、この逆Ｕ字状溝７５ｃの始端部７５ｄの貫通孔７５ｅから吸入して、回転方向の終端部７５ｆから下段に通じる貫通孔を介して次段（下段）の固定溝７５ｂに流入し、再び同様の動作で各段において圧縮されつつ次々下段の固定溝７５ｂに移動されることになる。そして、最終段の固定溝７５ｂから排気口７４を介してケーシング７０の外部に排出される。しかしてこの作用は粘性流領域で行われるものであり、この円周流ポンプ８１の設けられた部分は円周圧縮ポンプとして機能する。
【０００８】
一方、前記モータ６３および２種類の動圧ガス軸受８４、８５は作動中発熱を伴うので十分安全に運転可能とするため、冷却手段が必要となる。このため、外部ポート６７を図示してない冷却ガス源（たとえば窒素ガスタンク）に管路で接続し、外部ポート６７から冷却ガスを導入し、その冷却ガスを、モータ配設部７７、スラスト軸受配設部７６、軸受保持室７２、冷却ガス流路６８を経て排気口７４からケーシング７０の外部に排出するようにしている。しかして、この冷却ガスにより、前記の発熱部を冷却し、安全に運転できるようにするためには、十分に冷却可能な流量を確保する必要があり、冷却ガスは加圧されたガス源から供給する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
従来の真空排気装置は以上のように構成されているが、発熱するモータや動圧ガス軸受けを冷却するために冷却ガス（例えば窒素ガス）を外部から導入して冷却を行い排気口から排出していた。ロータを駆動するモータは、作動時、固定子と回転子それぞれに損失が生じ発熱する。固定子の損失による発熱は、ハウジングに水冷ジャケットなどの冷却手段を配設することにより温度上昇を押さえる対策が取られるが、回転子の損失による発熱は、回転子の温度上昇による破損を避けるため、冷却ガスを導入して積極的に冷却する必要がある。また動圧ガス軸受けも導入された冷却ガスに対して圧縮仕事をして発生した動圧を用いて支持軸を軸支するため仕事をして発熱する。発熱部を冷却して排気口から排出されるガスの圧力は大気圧であり、冷却に必要な流量を確保するためには、外部ポートから導入される冷却ガスは、大気圧よりガス流路の圧損をまかなうだけ加圧する必要がある。吸入口が真空であるため、加圧された冷却ガスはロータや支持軸からなる回転体を約１気圧で上方に押し上げるためスラスト軸受の負荷が増大し、スラスト軸受はそのスラストに耐える容量を確保する必要がある。大きなスラストに対抗する軸受けは、大きな駆動動力を必要とするため、出力の大きなモータを必要とし、軸受けの損失および発熱も大きくなるため冷却負荷が増大し、冷却に必要となる冷却ガスの流量も増大し、排気口７４までの圧損も増大して軸受けにかかるスラスト力も増大する。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、冷却ガス流路が、大気圧より負圧になるようにしてスラスト軸受にかかるスラストを軽減することができる真空排気装置を提供することを目的とする。
【００１１】
さらに、上記真空排気装置において、モータの負荷を適正に抑えるため、冷却ガスの吸引・排気用の円周流ポンプの仕事を適正化する必要があり、適正な冷却流量を確保するため調整ができるようにした真空排気装置を提供することを目的とする。
【００１２】
さらに、上記真空排気装置において、導入する冷却ガスとして空気が使用できるようにした真空排気装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【問題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明の真空排気装置は、ガスを吸入するための吸入口および排気するための排気口が形成された円筒状のハウジングと、このハウジング内部に収容され外周部に回転翼を複数段設け、回転自在に少なくとも動圧ガス軸受であるスラスト軸受で軸支されてなるロータと、このロータを回転駆動するためのモータを具備し、前記ロータの回転による回転翼とハウジング内周部との協働により、前記吸入口から前記ガスを吸入し、前記ロータに沿ってこのガスを移動させて排気口から排気する真空排気装置において、前記ロータの前記吸入口側と反対の他端部に、前記ガスを圧縮する回転翼とは別の回転翼からなる逆向円周流ポンプを設けるとともに、この回転翼をハウジングに別個に穿設されたガス導入口から導入されモータを冷却する冷却ガスの流路に介設し、このガス導入口からモータを冷却するガスを吸気し、前記スラスト軸受に供給してから前記排気口に排出することで、冷却ガス流路が、大気圧より負圧になるようにして、スラスト軸受にかかるスラストを軽減できることを特徴とする。
【００１４】
さらに、上記冷却ガス導入口に配設する管路に、圧力調整弁を具備し、被冷却室内を調圧し、適正な冷却流量を確保し、かつ冷却ガスの吸引・排気用の円周流ポンプの仕事を適正化し、モータの負荷を適正に抑えることができるようにしたことを特徴とする。
さらに、上記冷却ガス導入口に配設する管路に、圧力調整弁、フィルタおよび除湿機構を具備したことにより、導入する冷却ガスとして空気が使用できるようにしたことを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明が提供する真空排気装置の実施例を示す構成図である。真空排気装置５０は、図１に示すように、ケーシング４と、外周に複数の回転翼である円周流ポンプ１１を周設してなるロータ１と、このロータ１に螺着した支持軸２と、この支持軸２を回動自在に支承する非接触形のガス軸受たるジャーナル軸受１５とスラスト軸受１６、この支持軸２を回転駆動するモータ３とを具備してなり、ロータ１を起立させて使用するものである。
ロータ１は円筒状のものである。具体的には、下半部１ａは外周に円盤状の円周流ポンプ１１が複数段設けられたものであり、上半部１ｂは外周面に凹凸のない円筒状のものである。しかして、中間には竹の節のように間を仕切る円盤状の支持部材１２が一体に形成されており、この支持部材１２に支持軸２を取着できるように挿通孔１３が穿設されている。円周流ポンプ１１は、図２に示すように、その外周部１１ａの上面に間欠的にかつ放射状に複数の切欠き溝１１ｂを設けることにより、切欠き溝１１ｂと隣接する切欠き溝１１ｂとの間に、複数の羽根１１ｃを形成するようにしたものである。
【００１６】
ケーシング４は、前記ロータ１を収容するロータ保持室４１と、このロータ保持室４１の下方に連続して設けられ、支持軸２を収容する軸受保持室４２とを備えてなる。
ロータ保持室４１は、ロータ１の上方に開口する吸入口４３と、ロータ１の側方に開口する排気口４４とを具備する。またその内周部であるステータ部４５には、ロータ１の上半部１ｂに対応する部位に、ねじ溝４５ａが形成されており、ロータ１の下半部１ａに対応する部位に、円周流ポンプ１１の外周部１１ａを遊嵌させうる固定溝４５ｂが周回して設けられている。この固定溝４５ｂは、上向き面にＵ字状に形成してある。一方、上方の逆Ｕ字状溝４５ｃは、逆向きにＵ字状に形成してあり、図３に示すように周回するものではなく、一部には設けられていない。しかして、この逆Ｕ字状溝４５ｃにおけるロータ１の回転方向の始端部４５ｄには、上段の固定溝４５ｃへ貫通する貫通口４５ｅが穿設されており、この貫通口４５ｅからロータ１の回転により、被圧縮ガスを吸入圧縮し、次段に通じる終端部４５ｆに導く。同様の吸入圧縮が複数段の円周流ポンプ部２１で行われる。
【００１７】
軸受保持室４２には、その下端部に後述するモータ３を配設するためのモータ配設部４７と、このモータ配設部４７の上方に後述するスラスト軸受１６を配設するためのスラスト軸受配設部４６とを設けている。さらに、下端からは外部接続経路６を延出し、ケーシング４の外面に開口し、冷却ガスを導入する外部ポート７に連通させている。支持軸２は、その一端側である上部２ａにおねじ部９を一体に突出させたもので、このおねじ部９を支持部材１２に貫通させた挿通孔１３に貫通させ、突出部分にナット１０を螺着することによりロータ１に取着している。一方他端側である下部２ｂ近傍には円板体１４を一体に固設している。
【００１８】
軸受は、つぎに記述する２種類の動圧ガス軸受からなる。ジャーナル方向に作用する負荷に対して支持軸２を軸支するジャーナル軸受１５と、スラスト方向に作用する負荷に対して支持軸２を支承するスラスト軸受１６とから構成している。ジャーナル軸受１５は、支持軸２の上方よりおよび下方よりの２ケ所に配設したもので、たとえば、矩形状の薄板を丸めて形成するとともにその一端を軸受保持室４２の内壁面に支持させ、支持軸２の周囲に配置したジャーナル支持板１７と、このジャーナル支持板１７の外方に周設され、その一端を軸受保持室４２の内壁面に支持させ、ジャーナル支持板１７を内方に弾性付勢して支持軸２に押接させる複数の板ばね１８とから構成したものである。スラスト軸受１６は、円板体１４の上下にそれぞれ配設したリング状のスラスト支持板１９と、スラスト支持板１９を弾性付勢して円板体１４に押接させるリング状の板ばね２０とから構成している。そして、支持軸２が静止もしくは一定回転数以下の場合には、ジャーナル支持板１７とスラスト支持板１９とを前記板ばね１８、２０の弾性付勢力により支持軸２と円板体１４に近接もしくは密着させ、支持軸２を支承するとともに、一定回転数以上になると支持軸２の回転により支持軸２の回りのガスが、支持軸２とジャーナル支持板１７とスラスト支持板１９の間に巻き込まれることにより、支持軸２の周囲および円板体１４の上下面にくさび状勾配を持つ動圧を発生させ、この動圧によりジャーナル支持板１７およびスラスト支持板１９を後退させて気体膜を形成し、この気体膜を介して支持軸２を非接触に支持する機能を有するものである。なお、この動圧ガス軸受であるジャーナル軸受１５、スラスト軸受１６に供給する冷却ガス（たとえば窒素ガス）は、図示しない冷却ガス源から外部ポート７まで管路を介設し、外部接続経路６を介して供給している。
【００１９】
モータ３は、支持軸２と、その外径を略等しく設定され支持軸２の外周面２ｃより突出しないように内蔵させた回転子３ａと、回転子３ａの周囲においてモータ配設部４７に配設した固定子３ｂとを有してなる例えばＤＣブラシレス式のものであり、直接的に支持軸２を駆動させるものである。本実施例ではモータ３の駆動源として図示しないインバータを用いており、このインバータによって、モータ３を、任意の回転数で回転させるように構成している。
【００２０】
このように構成した真空排気装置５０は、ロータ１をモータ３により回転させることにより、例えば半導体製造装置のチャンバー内におけるエッチングガス等を、吸入口４３から吸入し、ねじ溝４５ａに沿って下方に移動させる。しかしてこの作用は、分子流領域から遷移流領域で行われるものであり、このねじ溝４５ａの設けられたねじ形ポンプ部２２は遠心圧縮ポンプとして機能する。そして、このねじ形ポンプ部２２で圧縮され、ねじ溝４５ａの最下段まで導かれたエッチングガス等を、次に、流路４５ｇを経由して、円周流ポンプ１１の回転で前記固定溝４５ｂに導き、具体的には固定溝４５ｂに設けられた前記逆Ｕ字状溝４５ｃに沿って移動させる。円周流ポンプ１１の回転方向に沿って移動し圧縮されたエッチングガス等は、この逆Ｕ字状溝４５ｃの始端部４５ｄの貫通孔４５ｅから吸入して、回転方向の終端部４５ｆから下段に通じる貫通孔を介して次段（下段）の固定溝４５ｂに流入し、再び同様の動作で各段において圧縮されつつ次々下段の固定溝４５ｂに移動されることになる。そして、最終段の固定溝４５ｂから排気口４４を介してハウジング４の外部に排出される。しかしてこの作用は粘性流領域で行われるものであり、この円周流ポンプ１１の設けられた部分は円周圧縮ポンプとして機能する。
【００２１】
上記の円周流ポンプ１１の最下段には、最下段の円周流ポンプ１１と背中合わせに逆向円周流ポンプ３０の翼車が形成されており、この逆向円周流ポンプ３０は外部ポート７から導入された冷却ガスの流路に配設されている。逆向円周流ポンプ３０の回転により冷却ガスは、外部ポート７から吸引により導入され、支持軸２を支承する動圧ガス軸受であるジャーナル軸受１５と、スラスト軸受１６との動圧生成源のガスとなり、かつモータ３とジャーナル軸受１５とスラスト軸受１６の発熱部を冷却して逆向円周流ポンプ３０で大気圧まで圧縮されて排気口４４から排気される。
このような円周流ポンプ３０により冷却ガスを導入、排気する構成により、冷却ガスは加圧する必要がないばかりか、軸受保持室４２や冷却ガス流路８は負圧となる。かくして冷却ガス圧によりロータ１を上方に押し上げるスラスト力は、加圧する場合に比べ軽減されスラスト軸受１６の負荷が軽減される。これによりモータ３の負荷が軽減されることとなり、モータの小形化が図れ、かつ発熱も軽減されるので、省エネルギー化も実現する真空排気装置が実現できる。
図４は、上記真空排気装置５０の外部ポート７に、冷却ガス源５２から冷却ガスを導入する管路を接続し、その管路にに圧力調整弁５１を介設してなる真空排気装置の構成の例を示す。図４では、真空排気装置５０のガスの入り口、すなわち吸入口４３と外部ポート７および出口、すなわち排気口４４以外は省略して示している。冷却ガスの導入管路に配設した圧力調整弁５１を、発熱部の冷却に必要な適正な流量の冷却ガス及び圧力損失が確保できるように調整することにより、軸受保持室４２等は負圧となり、冷却ガスの吸引・排気用の逆向き円周流ポンプ３０の仕事を適正化することができ、モータの負荷を適正に抑えることができる。
【００２２】
図５は、上記真空排気装置５０の外部ポート７に、冷却ガスの代わりに大気をを導入する管路を接続し、その管路にフィルタ５３、除湿機構５４、圧力調整弁５１を配設してなる真空排気装置の構成の例を示す。図５では、真空排気装置５０のガスの入り口、すなわち吸入口４３と外部ポート７および出口、すなわち排気口４４以外は省略して示している。このような構成により、大気を導入し、空気中の塵埃をフィルタ５３で除去し、さらに、除湿機構５３により空気中の水分を除き、前記したように圧力調整弁５１で適正な流量となるよう調圧することにより、冷却ガスとして空気を使用できるようになり、（たとえば窒素ガスなどの）特別な冷却ガスを必要としない真空排気装置を提供することができる。
以上の説明においては、回転体を構成するロータ１と一体になった支持軸２を支承する軸受に動圧ガス軸受１５、１６を用いた例をあげて説明したが、転がり軸受を用いた真空排気装置であっても、上記と同様にエッチングガス等の排気用の翼車の背面を負圧にするための翼車をロータの一部に介設し、軸受室内のガスを排気することにより、軸受に負荷されるスラスト力を軽減でき、軸受の寿命を延ばすことができる。また、回転体の終端に介設する翼車を円周流ポンプの例で示したが、遠心ポンプなど他の翼車を用いてもよい。さらに、冷却ガスの排気口と真空圧縮ガスの排気口を共通にしているがシールを行うことにより分離しても良い。
【００２３】
【発明の効果】
本発明の真空排気装置は上記のように構成されており、円周流ポンプの最終段に続いて翼車を連設し、該翼車により冷却ガスを真空排気装置内に吸入し、発熱部を冷却した後、排気口に排出することにより、回転体の下面の空間を大気圧より負圧にして運転可能となり、回転体を上方に押し上げるスラスト力を軽減でき、スラスト軸受にかかる荷重が軽減でき、スラスト軸受の小形化と、モータの小形化が図れ、省エネルギー形の真空排気装置が実現できる。
さらに、冷却ガス導入路の管路に圧力調整弁を配設し、冷却ガスの流量を適正な値に調整することにより、省エネルギ運転ができる。
さらに、冷却ガスの流路に、圧力調整弁に加えて、フィルタと除湿機構を追加することにより、特別な冷却ガスを必要とせず、大気を取り込んで冷却することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる真空排気装置の一実施例の構成を示す図である。
【図２】図１におけるロータのＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１におけるケーシングのＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】本発明の請求項２に係わる真空排気装置の構成を示す図である。
【図５】本発明の請求項３に係わる真空排気装置の構成を示す図である。
【図６】従来の真空排気装置の構成を示す図である。
【図７】図６におけるロータのＡ−Ａ線断面図である。
【図８】図６におけるケーシングのＢ−Ｂ線断面図である。
【符号の説明】
１・・・・ロータ                      １ａ・・・・下半部
１ｂ・・・・上半部                    １ｃ・・・・内周面
２・・・・支持軸                      ２ａ・・・・上部
２ｂ・・・・下部                      ２ｃ・・・・外周面
３・・・・モータ                      ３ａ・・・・回転子
３ｂ・・・・固定子                    ４・・・・ケーシング
６・・・・外部接続経路                ７・・・・外部ポート
８・・・・冷却ガス流路                ９・・・・おねじ部
１０・・・・ナット                    １１・・・・円周流ポンプ
１１ａ・・・・外周部                  １１ｂ・・・・切欠き溝
１１ｃ・・・・羽根                    １２・・・・支持部材
１３・・・・挿通孔                    １４・・・・円板体
１５・・・・ジャーナル軸受            １６・・・・スラスト軸受
１７・・・・ジャーナル支持板          １８、２０・・・・板ばね
１９・・・・スラスト支持板            ２１・・・・円周流ポンプ部
２２・・・・ねじ形ポンプ部            ３０・・・・逆向円周流ポンプ
４１・・・・ロータ保持室              ４２・・・・軸受保持室
４３・・・・吸入口                    ４４・・・・排気口
４５・・・・ステータ部                ４５ａ・・・・ねじ溝
４５ｂ・・・・固定溝                  ４５ｃ・・・・逆Ｕ字状溝
４５ｄ・・・・端部                    ４５ｅ・・・・貫通孔
４５ｆ・・・・終端部                  ４５ｇ・・・・流路
４６・・・・スラスト軸受配設部        ４７・・・・モータ配設部
５０・・・・真空排気装置
【図１】
0004579356.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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