(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体の製造方法であって、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）前記磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）前記保護層を外気に触れさせることなく、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）前記汚染防止層上に潤滑剤溶液を塗布することにより該汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれた潤滑層を形成する工程
を具えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
磁気記録媒体の製造方法であって、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）前記磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）前記保護層を外気に触れさせることなく、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）前記汚染防止層を構成する溶媒と同一の溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液、または、前記汚染防止層を構成する材料を溶解する溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液を、汚染防止層上に塗布することにより潤滑層を形成する工程
を具えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記工程３）は、有機溶媒を不活性ガス中で気化させて得られた混合ガスを真空装置内に導入することにより保護層上に汚染防止層を形成する工程であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
磁気記録媒体の製造方法であって、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）前記磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）前記保護層が大気中に曝されてから１０分以内に、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）前記汚染防止層上に潤滑剤溶液を塗布することにより該汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれた潤滑層を形成する工程
を具えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
磁気記録媒体の製造方法であって、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）前記磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）前記保護層が大気中に曝されてから１０分以内に、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）前記汚染防止層を構成する溶媒と同一の溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液、または、前記汚染防止層を構成する材料を溶解する溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液を、汚染防止層上に塗布することにより潤滑層を形成する工程
を具えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記工程３）は、保護層が大気中に曝されてから１０分以内に、保護層を有機溶媒に浸漬することにより保護層上に汚染防止層を形成する工程であることを特徴とする請求項４または５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、現在、コンピュータの外部記録装置として主流となっている磁性層を具えたハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に用いられる磁気記録媒体に関し、詳しくは、磁性層と保護層と潤滑層とを具えた磁気記録媒体に関する。さらに詳しくは、保護層表面の汚染を防止するための暫定的な被覆層、すなわち汚染防止層が設けられ、その被覆層の上に潤滑剤溶液が塗布されることにより、被覆層が潤滑剤溶液に取り込まれて形成された潤滑層を具えた磁気記録媒体、およびそのような磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体は、固定磁気記録媒体装置などにおいてコンピュータなどのデータ記録媒体として汎用的に利用されている。固定磁気記録媒体装置は、磁気記録媒体駆動機構、磁気ヘッド駆動機構、磁気ヘッド停止機構、およびデータ転送制御機構とともに、単数もしくは複数の磁気記録媒体を組み込んだ装置である。
【０００３】
従来型の固定記録媒体装置は、磁気記録媒体の回転時に磁気ヘッドが浮上し、磁気記録媒体を回転させる回転駆動モータの停止時に磁気ヘッドが磁気記録媒体表面と接触するコンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式が採用されている。この方法では、磁気記録媒体の回転開始時および停止時にヘッドが磁気記録媒体表面と摺動し、ヘッドと記録媒体表面との間に摩擦が生じる。このような摩擦等から磁性層を保護するために保護層が設けられており、さらに保護層の表面潤滑特性を改善するために潤滑層が積層されている。潤滑層は、保護層表面に均一な膜厚で安定に形成されることが必要であり、保護層との密着性・結合性が高いことが重要である。
【０００４】
近年、固定磁気記録媒体装置においては、高記録密度化、大容量化、およびデータ転送速度高速化などの進歩が著しい。そして、このような高記録密度化、大容量化、およびデータ転送速度高速化に対応するために、潤滑層が、保護層表面に均一な膜厚で密着して安定に形成されることが益々重要になっている。
【０００５】
高密度化に対応するために、磁気記録媒体の上に直接あるいは保護層を介して脂肪族炭化水素アルコキシシランが被覆され、さらにこの上に潤滑剤が被覆された構造とすることにより、磁性層あるいは保護層と潤滑層との密着性を高めた磁気記録媒体が開発されている（特開昭６０−３８７２９号公報）。
【０００６】
また、保護層と潤滑剤層との間の密着性を高めることを目的とした層を設けることなく、保護層と潤滑層との密着性を高めるために水酸基やピペロニル基などの末端基を持ったパーフルオロポリエーテル系潤滑剤が使用されている。このような潤滑剤は、例えばアウジモント社から商品名「Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｚ  ＤＯＬ」や「ＡＭ２００１」で市販されている。慣用のパーフルオロポリエーテル潤滑剤の多くは、分子量が低すぎると潤滑特性が悪化し、耐熱性にも劣り、一方、分子量が高すぎると吸着傾向になるため、数平均分子量（Ｍｎ）が１５００〜５５００のものが使用されている。さらに密着性を高めるために、潤滑層に加熱処理や紫外線照射などの処理が施されることも多い。
【０００７】
しかしながら、保護層表面は大気中に曝露された瞬間からガス吸着や表面汚染が進行するために表面エネルギーが低下し始め、大気中に曝露される時間が長くなるほど、加熱処理や紫外線照射を施しても密着性・結合性が向上し難くなる傾向がある。
【０００８】
そこで、潤滑層形成まで大気中に曝露することなく、保護層形成に続いて蒸着により潤滑層を形成させる試みがなされている。例えば、特開平９−１２０５２４号公報には、密閉環境中で昇温された温度において蒸着された潤滑層を有する磁気記録媒体が開示されている。また、特開平８−３２１０３６号公報には、真空条件下、気相重合により合成した潤滑剤を保護層上に吸着させて形成された磁気記録媒体が開示されている。
【０００９】
しかしながら、蒸着により潤滑層を形成する方法では、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤は分子量分布を有するために、低分子量成分が優先的に保護層に吸着してしまい、蒸着後の媒体表面の平均分子量が、蒸着される前の潤滑剤よりも低分子量化しやすい。低分子量成分は、磁気記録媒体回転時の固定磁気記録媒体装置内の昇温で蒸発してしまうため潤滑膜としての機能が低下する。さらに、潤滑膜の膜厚を制御するための機構を有した蒸着専用設備が必要である。
【００１０】
また、気相重合により潤滑層を形成する方法では、平均分子量を制御するのが困難である。
【００１１】
保護層へのガス吸着や表面汚染は保護層と潤滑層との密着性を低下させるだけでなく、酸化などによる潤滑層の劣化を促進させ、劣化した潤滑層はヘッドに付着してヘッド汚れを生じさせることになる。ヘッドに汚れが生じると、安定した低浮上飛行ができず、書き込み読み取りの出力が不安定になり、最悪の場合にはヘッドの墜落による傷の発生、さらにはヘッドクラッシュという重大な障害を引き起こす。
【００１２】
そこで、純水または低級アルコールを含む純水によるスクラブ洗浄、低級アルコールを含む純水による浸漬・引き上げ洗浄、低級アルコールを含む有機溶媒によるヴェーパー洗浄のうちのいずれかの方法で保護膜表面を洗浄した後に潤滑層を形成することにより、磁気ヘッドへの汚れ転写が少なくてヘッド浮上し易く、かつ、磁気ヘッド浮上量を低減できる磁気記録媒体が提案されている（特開２０００−２３５７０８号公報）。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、保護層表面への汚染物質の吸着を防ぐことにより保護層と潤滑層との密着性・結合性を向上させるとともに、潤滑層の劣化を防止することにより長期間にわたり使用されても安定性に優れた磁気記録媒体を提供し、また、そのような磁気記録媒体を高価な設備投資を行うことなく簡単に製造することができる製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、このような課題を解決するために、磁気記録媒体を製造する際に、保護層表面への汚染物質の吸着を防止するために保護層表面に一時的に被覆層を設け、ついで、その被覆層の上に潤滑剤溶液を塗布することによって被覆層が潤滑剤溶液に取り込まれた潤滑層を形成することにより、結果的に、磁性層、保護層、および潤滑層が順次積層された長期使用安定性に優れた磁気記録媒体を提供できることを見出した。
【００１７】
また、本発明の第１の形態は、磁気記録媒体の製造方法であって、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）その磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）その保護層を外気に触れさせることなく、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）その汚染防止層上に潤滑剤溶液を塗布することにより汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれた潤滑層を形成する工程、を具えることを特徴とする。
【００１８】
さらにまた、本発明の第２の形態である磁気記録媒体の製造方法は、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）その磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）その保護層を外気に触れさせることなく、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）その汚染防止層を構成する溶媒と同一の溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液、または、その汚染防止層を構成する材料を溶解する溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液を、汚染防止層上に塗布することにより潤滑層を形成する工程、
を具えることを特徴とする。
【００１９】
上記第１または第２の形態において、工程３）は、有機溶媒を不活性ガス中で気化させて得られた混合ガスを真空装置内に導入することにより保護層上に汚染防止層を形成する工程であることが好ましい。
【００２０】
さらにまた、本発明の第３の形態である磁気記録媒体の製造方法は、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）その磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）その保護層が大気中に曝されてから１０分以内に、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）その汚染防止層上に潤滑剤溶液を塗布することにより汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれて潤滑層を形成する工程を具えることを特徴とする。
【００２１】
さらにまた、本発明の第４の形態である磁気記録媒体の製造方法は、
１）非磁性基板上に少なくとも１層の磁性層を形成する工程、
２）その磁性層上に少なくとも１層の保護層を真空成膜する工程、
３）その保護層が大気中に曝されてから１０分以内に、保護層上に汚染防止層を形成する工程、および
４）その汚染防止層を構成する溶媒と同一の溶媒と、潤滑剤とから成るか、または、その汚染防止層を構成する材料を溶解する溶媒と、潤滑剤とから成る潤滑剤溶液を、その汚染防止層上に塗布することにより潤滑層を形成する工程、を具えることを特徴とする。
【００２２】
上記第３または第４の形態において、工程３）は、保護層が大気中に曝されてから１０分以内に、保護層を有機溶媒に浸漬することにより保護層上に汚染防止層を形成する工程であることが好ましい。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上にそれぞれ少なくとも１層の順次積層された磁性層、保護層、および潤滑層を有する。
【００２４】
本発明で使用される非磁性基板は、アルミ合金、ガラス、プラスチック基板など慣用のいかなる非磁性基板でもよい。具体的なプラスチック基板としては、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミドなどから成る基板を挙げることができる。基板は、どのような大きさのディスク基板であってもよく、またその形態も、ディスク状に限られず、カード状、帯状などいかなる形態でもよい。
【００２５】
本発明で使用される磁性層は、記録層として使用できる強磁性金属を含み、具体的には、ＣｏＣｒＴａＰｔ、ＣｏＣｒＴａＰｔ−Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＣｒＴａＰｔ−ＳｉＯ2、ＣｏＣｒＴａＰｔ−ＺｒＯ2、ＣｏＣｒＴａＰｔ−ＴｉＯ2、ＣｏＣｒＴａＰｔ−Ａｌ2Ｏ3などを成分とする磁性層である。
【００２６】
磁性層の厚さは、２０ｎｍ以下であり、好ましくは１０〜２０ｎｍである。磁性層を複数用いて多層構造の記録層としてもよい。
【００２７】
保護層は、記録層を形成する磁性層をヘッドの衝撃、外界の腐蝕性物質などの腐蝕から保護する機能を有する。保護層は、保護層を形成する慣用のいかなる成分から形成されてもよく、特に限定されない。具体的には、炭素、窒素含有炭素、水素含有炭素などから成る。
【００２８】
保護層の厚さは８ｎｍ以下であり、好ましくは３〜８ｎｍである。保護層は１層でも多層でもよい。
【００２９】
各層の形成方法は特に限定されるものではないが、通常、各方式スパッタ法により成膜される。スパッタ法の中でも、マグネトロン・スパッタリング法による連続成膜が好ましい。保護層は、スパッタ法の他に、ＣＶＤ法によっても形成される。さらに、３ｎｍ以下の保護層の形成には、ＦＣＡ（Filtered Cathodic Arc）法を使用してもよい。
【００３０】
本発明の磁気記録媒体においては、磁性層と保護層とが順次積層されていればよいが、さらに、必要な機能を有する層を非磁性基板と磁性層との間に設けることができる。通常、基板上には下地層が設けられる。下地層は、下地層を形成する慣用のいかなる成分から形成されてもよく、特に限定されない。具体的には、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｗ、Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｍｏ、Ｃｒ−Ｓｉ、Ｎｉ−Ａｌ、Ｃｏ67Ｃｒ33、Ｍｏ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｌ2Ｏ3などから成る。
【００３１】
非磁性基板がプラスチック基板である場合には、シード層と、下地層とを順次積層してもよく、また、緩衝層と、シード層と、下地層とを順次積層してもよい。シード層とは、磁気記録媒体の表面の平坦性を向上させ、且つ保磁力も向上せしめることができる層である。このような機能を有する層は、具体的には、Ｔｉを主成分として含有する金属膜から成る。緩衝層は、シード層の成膜にあたり成膜粒子が衝突してプラスチック基板表面に及ぼすダメージを緩和することができるか、および／または、昇温降温にともなうプラスチック基板とシード層との膨張収縮の差を緩和することができる層である。
【００３２】
好ましい磁気記録媒体は、非磁性基板を真空中に導入してスパッタ法によりＣｒ下地層、Ｃｏ合金磁性層をこの順に形成し、ついで、スパッタ法またはＣＶＤ法によりカーボン保護層を形成する。
【００３３】
保護層への汚染物質の吸着を防ぐことにより保護層と潤滑層との密着性・結合性は高められる。本発明では、保護層を形成してから潤滑層を形成するまでの間、保護層を被覆する層を設けることにより、保護層表面の汚染、およびガス吸着による潤滑剤分子の吸着部位減少を防止し、保護層と潤滑層との密着性・結合性を高める。本明細書中では、このような機能を有する被覆層を汚染防止層と称する。汚染防止層は、最終的に得られた磁気記録媒体において保護層と潤滑層との間に残っていてもよいが、製造プロセスでの保護層表面の汚染、およびガス吸着による潤滑剤分子の吸着部位減少を防ぐことが目的であるため、得られた磁気記録媒体においては、実質的に残存しないことが好ましい。
【００３４】
保護層を形成した後、形成された保護層を外気に触れさせる前に有機溶媒を保護層表面に蒸着させて汚染防止層を形成した後に、大気圧下に戻す。好ましくは、保護層を真空蒸着により形成し、ついで、有機溶媒を不活性ガス中で気化させて得られた混合ガスを真空装置内に導入することにより保護層上に汚染防止層を形成した後に、大気圧下に戻す。
【００３５】
有機溶媒としては、フッ素系潤滑剤溶媒が挙げられ、住友スリーエム製「ＰＦ−５０６０」、「ＦＣ−７７」、および「Ｎｏｖｅｃ  ＨＦＥ」シリーズ、三井デュポンフロロケミカル製「Ｖｅｒｔｒｅｌ」シリーズ、日本ゼオン製「ゼオローラ」シリーズ、並びにアウジモント製「Ｈガルデン」シリーズなどが市販されている。不活性ガスとしては、好ましくは窒素ガスおよびアルゴンガスが使用される。混合ガス中の有機溶媒の濃度は、常温における飽和蒸気圧近傍であればよく、使用する溶媒により変化する。蒸着効率を考慮すると、有機溶媒の濃度は高い程好ましい。
【００３６】
保護層を形成した後に、大気圧下に戻してもよいが、その場合は、大気圧下に戻してから汚染防止層が形成されるまでの時間が短いほど好ましい。表面エネルギーに関係ある指標として潤滑層の形成されていない保護膜表面における水の接触角の値があるが、大気中に曝露されてから１０分後には接触角の値が変化しており、表面エネルギーの低下が確認されている。したがって、外気に触れてから１０分以内に汚染防止層が形成されなければならない。好ましくは５分以内である。形成された保護層を外気に曝した後に汚染防止層を形成する場合には、汚染防止層は、大気圧下に戻してから１０分以内に有機溶媒に浸漬させることにより形成されることが好ましい。使用される有機溶媒は上述のとおりである。保護層が形成された媒体は、上記列挙の市販の有機溶媒に、通常、常温で数秒から数十秒の間浸漬される。
【００３７】
また、汚染防止層は、潤滑剤溶液中で酸化還元することにより、潤滑剤溶液に溶解するか、または昇華あるいは蒸発により消失する分子を保護層表面に吸着することにより形成されてもよい。
【００３８】
さらにまた、汚染防止層の形成は、大気圧下に戻してから１０分以内に有機溶媒蒸気中に曝すことにより形成されてもよい。有機溶媒蒸気への曝露は、有機溶媒沸点近傍の温度に制御された密閉空間内で行われる。
【００３９】
形成された汚染防止層の上に潤滑剤溶液を塗布して、潤滑層を形成する。潤滑剤溶液は、公知のディップコート法やスピンコート法などにより塗布される。したがって、潤滑膜の膜厚を制御するための機構を有した蒸着専用設備などが不要であり、特別な分子量制御も必要とされない。
【００４０】
汚染防止層は、保護層表面の汚染を防止し、かつガス吸着による潤滑剤分子の吸着部位の減少を防止できるものであれば、特に限定されるものではないが、汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれて潤滑層を形成できるものであることが好ましい。
【００４１】
本明細書において使用される「汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれて形成された潤滑層」は、保護層表面に吸着した汚染防止層を構成する材料（分子）が、潤滑剤溶液中に拡散・吸収される態様、潤滑剤溶液中で消失する態様、潤滑剤溶液中の吸着力の強い潤滑剤分子と置換される態様のすべてを含み、最終的に得られた磁気記録媒体において汚染防止層が独立して存在していないことを意味する。
【００４２】
したがって、汚染防止層を構成する材料は、具体的には、酸化還元などの化学反応後に溶解などで最終的に潤滑剤溶液中に拡散・吸収され得るか、あるいは、蒸発、昇華などで最終的に消失し得るか、または潤滑剤溶液中の吸着力の強い潤滑剤分子と置換され得るものである。汚染防止層を構成する材料は、潤滑剤溶液中の吸着力の強い潤滑剤分子と置換する分子であることが好ましく、したがって、汚染防止層を構成する材料と保護層との結合が、潤滑層と保護層との結合より弱くなるように選択されることが好ましい。
【００４３】
潤滑剤溶液は、潤滑剤を、汚染防止層を構成する溶媒と同一の溶媒と混合して調製されるか、または汚染防止層を構成する材料を溶解する溶媒と混合して調製されることが好ましい。
【００４４】
潤滑剤としては、パーフルオロポリエーテルが使用される。その中でもパーフルオロポリエーテルの末端に保護層との結合性を高めるような誘導体が導入されているものが好ましく、市販されているものとして、水酸基が導入されたＺ−ｄｏｌ（商品名、アウジモント社製）およびＺ−Ｔｅｔｒａｏｌ（商品名、アウジモント社製）、ピペロニル基が導入されたＡＭ２００１（商品名、アウジモント社製）およびＡＭ３００１（商品名、アウジモント社製）などを挙げることができる。また、パーフルオロポリエーテルに添加剤を加えて潤滑剤として使用してもよい。添加剤としては、シクロフォスファゼン化合物（ダウ・ケミカル社製Ｘ１Ｐ（商品名））などを挙げることができる。
【００４５】
汚染防止層が潤滑剤溶液に組み込まれる具体的なメカニズムの具体例として次のものを挙げることができる。
【００４６】
ａ）保護層表面にフルオロカーボン系溶媒を吸着させ、その後、潤滑剤溶液塗布時に潤滑剤溶液中にフルオロカーボン系溶媒が拡散して、フルオロカーボンと潤滑剤溶液中の潤滑剤分子とが置換することにより汚染防止層が消失する。
【００４７】
ｂ）保護層表面に一酸化炭素ガスを吸着させ、その後、潤滑剤溶液塗布時に潤滑剤溶液中で一酸化炭素ガスが酸化して二酸化炭素ガスになることにより汚染防止層が消失する。
【００４８】
ｃ）保護層表面にヨウ素を吸着させ、ついで潤滑剤溶液に浸漬させた後、磁気記録媒体を電極としてカソードに掃引し、水素発生とともにヨウ素を脱離させることにより汚染防止層が消失する。
【００４９】
カーボン保護層上に形成された汚染防止層が潤滑剤溶液に取り込まれた潤滑層を形成した後、加熱または紫外線照射を施すことにより、カーボン保護層と強固に結合する結合性パーフルオロポリエーテル系潤滑剤と、保護層と弱く結合する移動性パーフルオロポリエーテル系潤滑剤との比率の調整を行ってもよい。
【００５０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は本実施例にのみ限定されるものではない。
【００５１】
ＡｌＭｇ合金の非磁性基板に無電解メッキによりＮｉ−Ｐメッキを施して非磁性層を形成し、その表面をポリッシュで研磨した。ついで、ダイヤモンドスラリーを使用したテクスチュアーにより、表面粗さがＲａ＝１ｎｍとなるようにほぼ同心円状に溝を形成した。得られた基板を洗浄後、スパッタ装置内で層厚５０ｎｍのＣｒ非磁性金属下地層を形成し、連続して下地層の上に層厚３０ｎｍのＣｏＣｒＰｔを含む磁性層を形成した。ついで、真空装置内で磁性層の上に層厚７ｎｍの窒素添加されたカーボン保護層をＣＶＤ法により形成した。得られた媒体を用いて以下の例に示す磁気記録媒体を作製した。
【００５２】
（実施例１）
真空装置内で保護層を形成した後、その装置内に、室温にて窒素ガス中でフロン系溶剤（住友スリーエム製ＰＦ５０６０（商品名））を飽和蒸気圧に達するまで気化させた混合ガスを導入して、大気圧に戻し、保護層表面をフロン系溶剤で被覆した。約１時間後、同一のフロン系溶剤にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤（アウジモント社製Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｚ−Ｄｏｌ（商品名））を０．０５重量％溶解させて潤滑剤溶液を調製し、その潤滑剤溶液を公知のディップコート法により液面引き下げ速度を任意に調節することで膜厚が２．０ｎｍ（ＥＳＣＡを用いて測定）になるように塗布して潤滑層を形成した。
【００５３】
（実施例２）
真空装置内で保護層を形成した後、その装置内に、窒素ガスを導入して大気圧に戻した後５分以内に、常圧常温下で、その媒体をフロン系溶剤（住友スリーエム製ＰＦ５０６０（商品名））に浸漬して１０秒間静置した後、２ｍｍ／秒で液面を引き下げることにより保護層表面をフロン系溶剤で被覆した。約１時間後、実施例１と同様に、同一のフロン系溶剤にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤（アウジモント社製Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｚ−Ｄｏｌ（商品名））を０．０５重量％溶解させて潤滑剤溶液を調製し、その潤滑剤溶液を公知のディップコート法により液面引き下げ速度を任意に調節することで膜厚が２．０ｎｍ（ＥＳＣＡを用いて測定）になるように塗布して潤滑層を形成した。
【００５４】
（実施例３）
保護層表面を被覆するフロン系溶剤および潤滑剤溶液の溶媒として住友スリーエム製ＦＣ−７７（商品名）を使用した以外は、実施例１と同様に潤滑層を形成した。
【００５５】
（比較例１）
真空装置内で保護層を形成した後、その装置内に、窒素ガスを導入して大気圧に戻した。約１時間後に、フロン系溶剤（住友スリーエム製ＰＦ５０６０（商品名））にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤（アウジモント社製ＦｏｍｂｌｉｎＺ−Ｄｏｌ（商品名））を０．０５重量％溶解させて調製した潤滑剤溶液を公知のディップコート法により液面引き下げ速度を任意に調節することで膜厚が２．０ｎｍ（ＥＳＣＡを用いて測定）になるように塗布して潤滑層を形成した。
【００５６】
（比較例２）
真空装置内で保護層を形成した後、その装置内に、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤（アウジモント社製Ｆｏｍｂｌｉｎ  Ｚ−Ｄｏｌ（商品名））を１５０℃に加熱しながら曝露し、膜厚が２．０ｎｍ（ＥＳＣＡを用いて測定）になるように曝露時間を調節して蒸着により潤滑層を形成した。
【００５７】
実施例１〜３および比較例１〜２により得られた磁気記録媒体について、次のとおり被覆層（汚染防止層）の形成性、汚染物質吸着性、潤滑層の形成性、潤滑層の密着性、および潤滑層の低分子量成分を測定した。
【００５８】
１．被覆層（汚染防止層）の形成
各例の磁気記録媒体を作製する際に、潤滑剤溶液を塗布する直前の媒体表面に対して飛行時間型二次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を行い、媒体表面のフラグメントを分析した。
【００５９】
実施例１〜３の潤滑剤溶液を塗布する直前の媒体表面からは、フロン系溶剤の存在を示すフッ素フラグメントおよびＣＦn（ｎは１〜３の整数）フラグメントが検出された。一方、比較例１の潤滑剤溶液を塗布する直前の媒体表面からは、フッ素フラグメントも、ＣＦn（ｎは１〜３の整数）フラグメントも検出されなかった。これは、実施例の保護層表面にはフロン系溶剤の被覆層が形成されたことを示す。
【００６０】
２．汚染物質吸着性
各例の磁気記録媒体を作製する際に、潤滑剤溶液を塗布する直前の媒体表面に対して、酸、アルカリの代表的な吸着ガスであるアンモニアガスおよび二酸化硫黄ガスの吸着性をＴＯＦ−ＳＩＭＳによりそれぞれ評価した。各ガス吸着量（相対値）を表１に示す。
【００６１】
【表１】
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【００６２】
実施例１〜３は、保護層表面に被覆層（汚染防止層）を有していない比較例１と比べると、アンモニアガス、二酸化硫黄ガスともに吸着量が極めて少ないことがわかる。この結果から、汚染防止層が汚染物質の吸着を防止していることがわかる。
【００６３】
３．潤滑層の形成性
実施例２および比較例１において、潤滑剤溶液をディップコートする際の条件（潤滑剤溶液の濃度、引き上げ速度）を同一にしたところ、最終的に得られた磁気記録媒体において潤滑層が同一の層厚であった（誤差±０．１ｎｍ）。この結果から、実施例２の磁気記録媒体においては、潤滑剤溶液の塗布時に被覆層が潤滑剤溶液に取り込まれて、すなわち、被覆層を構成する分子が潤滑剤溶液に含有される潤滑剤分子と置換されて潤滑層が形成されたと推定される。
【００６４】
４．潤滑層の密着性
各例において得られた磁気記録媒体をフロン系溶媒ＰＦ５０６０に浸漬し、５分間の超音波洗浄を行った後に、潤滑層の層厚を測定した。これを結合性潤滑層層厚として、全層厚に対するパーセンテージを求めた（結合率＝結合性潤滑層層厚／全層厚）。結果を表２に示す。
【００６５】
【表２】
0004483076.tif 000003
【００６６】
実施例１〜３の磁気記録媒体の潤滑層は、比較例１に比べて密着性に優れていることがわかる。また、実施例１〜３の潤滑層は、真空蒸着により形成された潤滑層である比較例２とほぼ同等に優れた密着性を有することがわかる。
【００６７】
５．潤滑層の低分子量成分
各例において得られた磁気記録媒体を１５０℃で１時間加熱し、加熱前後で全層厚を測定し、層厚減少率を求めた。
【００６８】
【表３】
0004483076.tif 000004
【００６９】
この結果から、比較例２の真空蒸着により形成された潤滑層を有する磁気記録媒体は、加熱による層厚の減少率が大きく、したがって、低分子量成分が多いことがわかる。
【００７０】
【発明の効果】
本発明によると、保護層と潤滑層との密着性・結合性を向上させるとともに、潤滑層の劣化を防止して、長期間にわたり使用されても優れた安定性を維持することができる磁気記録媒体を提供することができる。
【００７１】
また、本発明の製造方法によると、低分子量成分が優先的に保護層に吸着するという問題もなく、潤滑膜の膜厚を制御するための機構を有した蒸着専用設備も必要なく、比較的簡単に長期安定性に優れた磁気記録媒体を製造することができる。