(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ＩＩ）：
【化１】
0004599165.tif 000004
（式中、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘはハロゲン原子であり、各Ｙは同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、ハロゲノアルキル、アルコキシカルボニル及びアルキルスルホニルからなる群から選択される。）
を有する２−シアノピリジン誘導体またはその塩を酢酸中ラネーニッケルを用いて３０から７０℃の温度及び１から５０バールの水素圧下で水素化することによる一般式（Ｉ）：
【化２】
0004599165.tif 000005
（式中、ｎ、Ｘ及びＹは上記と同義である。）
を有する２−アミノメチルピリジン誘導体またはその塩の製造方法。
【請求項２】
Ｘが塩素である請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項３】
ｎが１である請求の範囲第１項または第２項に記載の方法。
【請求項４】
Ｙがハロアルキルである請求の範囲第１項から第３項のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
Ｙがトリフルオロメチルである請求の範囲第４項に記載の方法。
【請求項６】
Ｘが塩素であり、ｎが１であり、Ｙがトリフルオロメチルである請求の範囲第１項に記載の方法。
【請求項７】
一般式（Ｉ）を有する化合物が２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジンである請求の範囲第６項に記載の方法。
【請求項８】
温度を３５から５０℃から選択する請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
水素圧を２から３０バールから選択する請求の範囲第１項〜第８項のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
水素圧を１０から２０バールから選択する請求の範囲第９項に記載の方法。
【請求項１１】
ラネーニッケルを一般式（ＩＩ）の化合物に対して１から２０％の重量比で導入する請求の範囲第１項〜第１０項のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
温度を３５から５０℃から選択し、水素圧を１０から２０バールから選択し、ラネーニッケルを一般式（ＩＩ）の化合物に対して１から２０％の重量比で導入する請求の範囲第７項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、農薬の製造のための中間体として有用な２−アミノメチルピリジン誘導体を２−シアノピリジン誘導体を接触水素化することにより製造する新規方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アミノメチルピリジンを得るためのシアノピリジンの接触水素化反応は幾つか開示されている。シアノピリジンをハロゲン原子で置換したときには、Ｐ．Ｎ．Ｒｙｌａｎｄｅｒ，「水素化方法(Hydrogenation Methods)」，最良合成シリーズ(Best Syntheic Series)，ｐ．１４８，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ（１９８５年）発行に記述されているように脱ハロゲン化競合反応が生ずる恐れがあるので別の困難が生ずる。
【０００３】
欧州特許出願公開第０４０９７１６号明細書は、ヨウ化物の存在下でラネーニッケルと触媒抑制剤を併用することを開示している。この方法には触媒抑制剤を使用するという欠点がある。前記抑制剤は工業的規模では避けなければならない。
【０００４】
国際特許出願公開第０２／１６３２２号パンフレットは、この反応を実施するためにアルコール溶媒中に金属触媒（特に、パラジウム）を使用することを開示している。しかしながら、この方法にはパラジウムの高活性のために脱ハロゲン化反応が生ずるという欠点がある。更に、パラジウムは、非常に高価であり且つ２−シアノピリジンを得るための方法中に形成される硫黄化合物のような触媒毒に対して非常に感受性である触媒である。このハロゲン化方法は工業的規模では使用できない。
【発明の開示】
【０００５】
今回、本発明者らは、上記した欠点がなく、工業的規模で適用し得る２−アミノメチルピリジン誘導体の製造方法を知見した。
【０００６】
従って、本発明は、一般式（ＩＩ）：
【０００７】
【化３】
0004599165.tif 000002
（式中、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘはハロゲン原子であり、各Ｙは同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、ハロゲノアルキル、アルコキシカルボニルまたはアルキルスルホニルであり得る。）
を有する２−シアノピリジン誘導体またはその塩を酢酸中ラネーニッケルを用いて３０〜７０℃の温度及び１〜５０バールの水素圧下で水素化することによる一般式（Ｉ）：
【０００８】
【化４】
0004599165.tif 000003
（式中、ｎ、Ｘ及びＹは上記と同義である。）
を有する２−アミノメチルピリジン誘導体またはその塩の製造方法に関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明において、
ハロアルキルは１個以上のハロゲン原子で置換されたＣ１−６アルキル部分を意味する；
アルコキシカルボニルはＣ１−６アルコキシカルボニルを意味し、好適例はメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル及びｉ−プロポキシカルボニルであり得る；
アルキルスルホニルはＣ１−６アルキルスルホニルを意味する；
ハロゲン原子は臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子またはフッ素原子であり得る。
【００１０】
以下の説明において、ラネーニッケルをＮｉ−Ｒａと称する。
【００１１】
本発明の方法により得られる生成物は、酢酸中に十分に溶解し得る一般式（Ｉ）を有する化合物の酢酸塩である。その後、触媒は濾過により再利用され得、一般式（Ｉ）を有する化合物の酢酸塩の溶液は当業者に公知の方法に従ってアッセイされる。一般式（ＩＩ）を有する２−シアノピリジン誘導体に対する一般式（Ｉ）を有する化合物の酢酸塩の収率は通常９５％以上である。４５℃では、Ｎｉ−Ｒａを水で湿らしても、通常パラジウム触媒と一緒に使用される脱ハロゲン化抑制剤（例えば、ＫＩまたはＫＢｒ）の非存在下では脱ハロゲン化生成物の収率は通常０．１％以下である。
【００１２】
本発明は、一般式（Ｉ）を有する化合物の製造方法に関する。好ましくは、式（Ｉ）を有する化合物の各種変数は、相互に独立して、
Ｘに関してＸは塩素である；
ｎに関してｎは１である；
Ｙに関してＹはハロアルキル、より好ましくはトリフルオロメチルである；
として選択される。
【００１３】
より好ましくは、本発明は、Ｘは塩素であり、ｎは１であり、Ｙはトリフルオロメチルである、一般式（Ｉ）を有する化合物の製造方法に関する。
【００１４】
本発明の方法は、２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジンの製造のために特に適している。
【００１５】
本発明の方法は３０〜７０℃、好ましくは３５〜５０℃の温度で実施される。
【００１６】
本発明の方法は１〜５０バール、好ましくは２〜３０バール、より好ましくは１０〜２０バールの水素圧下で実施される。
【００１７】
本発明の方法はＮｉ−Ｒａの存在下で実施される。好ましくは、Ｎｉ−Ｒａは一般式（ＩＩ）の２−シアノピリジン誘導体に対して１〜２０％の重量比で導入される。
【００１８】
本発明の方法は、３−クロロ−２−シアノ−５−トリフルオロメチルピリジンを酢酸中、一般式（ＩＩ）の２−シアノピリジン誘導体に対して１〜２０％の重量比で導入したＮｉ−Ｒａを用いて４０〜５０℃の温度及び１５〜２０バールの水素圧下で水素化することによる２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジンの製造のために特に適している。
【００１９】
触媒は当業者に公知の方法に従って再利用され得る。特に、触媒は濾過することにより容易に再利用され得る。
【００２０】
本発明を下記実施例を参照して説明する。
【実施例】
【００２１】
２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジンの製造
１Ｌ容量のステンレススチール反応容器に酢酸（４００ｇ）及び（予め洗浄液がｐＨ７となるまで水で洗浄した）Ｎｉ−Ｒａ（６ｇ）を装入した。反応器に窒素をパージし、次いで水素をパージした。４０℃まで昇温させるために反応器に熱を加え、反応器圧力を水素で１８バールまで上昇させた。
【００２２】
３−クロロ−２−シアノ−５−トリフルオロメチルピリジン（１２０ｇ，０．５７１モル）をポンプを用いて２時間かけて添加した。反応は発熱性であり、温度は４５℃に上昇した。水素消費をモニターした。２時間後、水素がもう消費されなくなり、反応が終了した。混合物を２０℃に冷却した後、ガス抜きし、窒素をパージした。
【００２３】
触媒を濾過した。２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジン酢酸塩の溶液を液体クロマトグラフィーによりアッセイした。０．５５８モルの２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジンが形成され、３−クロロ−２−シアノ−５−トリフルオロメチルピリジンに対する２−アミノメチル−３−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジンの収率は９７％であった。脱塩素化アナログの収率は０．０５％に過ぎなかった。