(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも磁性層と、潤滑層と、が形成された磁気ディスクの媒体表面に対向して設けられた磁気記録ヘッドが、前記媒体表面上を浮上走行したときに前記磁気ディスクから前記磁気記録ヘッドの表面に移着した潤滑剤の膜厚を測定することにより前記磁気ディスクの良否を判定する磁気ディスクの管理方法であって、
前記磁気記録ヘッドの前記磁気ディスクに対向する側の最表面全体を多分割し、Ｘ線光電子分光法を用いて、各分割点における前記磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤の膜厚を算出する工程と、
算出した前記磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤の膜厚から２次元の分布図を作成して、前記磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤の平均膜厚及び分布状態を測定する工程と、を有する磁気ディスクの管理方法。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ディスクの管理方法において、
前記磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤の平均膜厚及び分布状態を測定する工程の後、前記磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤の平均膜厚が磁気記録ヘッド浮上量(ＦＨ)の５％以下であったとき前記磁気ディスクは良品であると判定する工程をさらに有する磁気ディスクの管理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法及び磁気ディスクの潤滑剤評価方法及び磁気ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
停止状態の磁気記録媒体上に磁気記録ヘッドを搭載しておき、磁気記録媒体が高速回転することによって、磁気記録ヘッドを一定間隔で浮上させ、この状態でデータの記録再生を行う、コンタクト・スタート・ストップ方式（以下ＣＳＳ方式という）の磁気ディスク装置が知られている。このＣＳＳ方式の磁気ディスク装置は、磁気記録ヘッドの浮上及び着陸の際、磁気記録ヘッド及び磁気記録媒体の接触による破損を防止する必要がある一方、停止状態における磁気記録媒体（以下ディスクという）とヘッドとが潤滑剤等によって粘着することに起因する起動時の破損を防止する必要があった。
【０００３】
このため、ディスクには、接触破損を防止するために磁性層表面にカーボン等の保護膜を形成し、かつ保護膜上にフッ素系の潤滑剤を塗布していた。
ここで、磁気ディスク装置のＣＳＳ動作、シーク動作等により、ディスク上に塗布してある潤滑剤が磁気記録ヘッドの摺動によりかき集められ、磁気記録ヘッドのスライダ部等に移着され、記録再生に障害を起こす事が知られている。この磁気記録ヘッドに移着した付着物量に対し、従来は、官能的な目視検査又は光学顕微鏡における観察による、限度見本等でのレベル判定検査を行うに留まっており、付着物量の定量化及び分布状態について、規格化された管理方法は示されていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年、このＣＳＳ方式に代わり、ロード・アンロード方式（以下Ｌ／ＵＬ方式という）が採用されるようになってきている。
このＬ／ＵＬ方式は、磁気ディスク装置が停止状態において、磁気記録ヘッドがディスクの外側のランプと呼ばれる傾斜台に退避しており、起動時に磁気記録ヘッドがランプから滑り出し、磁気記録ヘッドを一定間隔で浮上させ、この状態でデータの記録再生を行う。このＬ／ＵＬ方式では、従来のＣＳＳ方式と比べ、起動時にディスクと磁気記録ヘッドとがＣＳＳ領域で摺動状態になることによるディスク表面の磨耗、潤滑性不足による吸着を回避できるという利点を持っている。
【０００５】
ところで、磁気ディスク装置内では、使用されている各種の接着剤やプラスチック材料等の有機材料から、硫黄系有機化合物、塩素系有機化合物、フタル酸ジオクチル、アクリル酸、シロキサン等の揮発性有機系ガスが、ある程度の割合で放出されているため、高温高湿下でこれらの有機系ガスがディスクに吸着されると、ディスクの潤滑層の潤滑剤と相互作用を起こす。その結果、低浮上量（例えば２０ｎｍ以下）で浮上走行状態の磁気記録ヘッドが、ある確率でディスク表面と微少接触を起こし、磁気記録ヘッドのスライダ部等に潤滑剤、有機化合物等を転写し、移着する。この現象をフライスティクションと呼ぶ。
このフライスティクションが発生すると、磁気記録ヘッドの出力特性を低下させると共に、ヘッド浮上特性の不安定化を招き磁気ディスク装置において重大な障害を引き起こす。
【０００６】
ＣＳＳ方式では、ディスクと磁気記録ヘッドとの摺動により、磁気記録ヘッドに僅かに移着した潤滑剤、有機化合物等をクリーニングする作用がある程度あるが、Ｌ／ＵＬ方式ではディスクと磁気記録ヘッドとの摺動が無いために、ヘッドに移着した潤滑剤、有機化合物等をクリーニングする機能がない。そのため、Ｌ／ＵＬ方式では、磁気記録ヘッドに潤滑剤、有機化合物等が堆積し、フライスティクションが発生し易く、さらにこの蓄積が進むと、堆積物としてディスク表面に落下し、ディスクの保護膜に損傷を与え記録再生が不可能となる。
【０００７】
そこで、磁気記録ヘッドによるディスク表面の潤滑剤、有機化合物等の移着量を低減させるため、種々の潤滑剤種類の検討や、保護膜の表面処理等の技術により、保護膜と潤滑膜との付着力を高めるなどの研究が行なわれている。しかし、様々な環境下で使用される磁気ディスク装置において、各磁気記録ヘッド毎に移着する潤滑剤の量及びその分布状態を定量的に求め、管理する手法は現在のところ存在していない。
【０００８】
上記問題点に鑑み、本発明の第１の課題は、磁気記録ヘッドに移着した分解生成物の移着量の測定管理方法を提供することにある。本発明の第２の課題は、この測定管理方法に基づき良品ディスクで判定する磁気ディスクの管理方法を提供することにある。本発明の第３の課題を、上記第２の課題によって得られた良品と判定された磁気ディスクを提供することにある。
なお、本明細書中においては、上述した潤滑剤及び有機化合物等を総称して潤滑剤と呼ぶことにする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題を解決するために以下の構成を必要とする。
（構成１）
基板上に少なくとも磁性層と、潤滑層と、が形成された磁気ディスクの媒体表面に対向して設けられた磁気記録ヘッドが、前記表面上を走行したとき、磁気ディスクから磁気記録ヘッド表面に移着された潤滑剤の移着量を測定する磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法であって、前記磁気ディスク側の磁気記録ヘッド表面上のある特定領域において、前記潤滑剤を構成する少なくとも１種の元素の量を測定することによって、潤滑剤の移着量を測定する磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法。
【００１０】
（構成２）
前記磁気記録ヘッド表面を複数の領域に分割し、該分割した領域における前記元素の量を測定することによって、潤滑剤の移着量を測定する前記構成１記載の磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法。
（構成３）
前記分割した領域は、磁気記録ヘッド表面の少なくともＡＢＳ（エアーベアリングサーフェース）面を含むことを特徴とする前記構成２記載の磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法。
（構成４）
前記元素は、弗素又は炭素の何れかであって、前記潤滑剤の移着量は、Ｘ線光電子分光法による前記元素のスペクトル強度を測定することによって求めることを特徴とする前記構成１〜３に記載の磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法。
【００１１】
（構成５）
前記元素のスペクトル強度から算出した潤滑剤平均膜厚を用いて、前記磁気記録ヘッド表面における前記潤滑剤の分布状態を算出することを特徴とする前記構成１〜４に記載の磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法。
（構成６）
前記構成１〜５に記載の磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法によって、磁気ディスクに形成されている潤滑層を評価する磁気ディスクの潤滑層評価方法。
（構成７）
前記構成５に記載の潤滑剤移着量測定方法によって得られる磁気記録ヘッドへの移着潤滑剤の平均膜厚と、磁気ディスクのリード・ライト試験とに相関があり、前記平均膜厚がリード・ライト試験においてエラーが起きない基準設定値以下であるときに磁気ディスクを良品とする磁気ディスクの管理方法。
【００１２】
（構成８）
前記基準設定値は、磁気ディスク表面に対する磁気記録ヘッド浮上量によって定めることを特徴とする前記構成７記載の磁気ディスクの管理方法。
（構成９）
前記基準設定値は、磁気ディスク表面に対する磁気記録ヘッド浮上量の５％以下であることを特徴とする前記構成８記載の磁気ディスクの管理方法。
（構成１０）
基板上に少なくとも磁性層と、潤滑層とが形成された磁気ディスクであって、前記潤滑層は、前記構成９記載の基準設定値を満足することを特徴とする磁気ディスク。
【００１３】
磁気ディスクを主体に考えた場合、さまざまな環境下での試験前後での磁気ディスク表面の潤滑剤膜厚変化量を測定するのが直接的な測定方法で良い場合はあるが、近年の磁気ディスクに対する高い信頼性、耐久性を確保するために、潤滑剤に対し各種の処理を行い、その変化量を少なくするようにしているため、潤滑剤の膜厚変化量は殆ど変化はなく測定できないレベルになっている。実際にドライブでの障害は、磁気記録ヘッドのＲ／Ｗ素子部に潤滑剤等が磁気ディスクから移着することにより、Ｒ／Ｗできなくなるというもので、Ｒ／Ｗに直接障害となる磁気記録ヘッドに移着する潤滑剤の移着量を測定することにより、定量的にＲ／Ｗ試験における評価基準が設定でき、敷いては高い信頼性、耐久性の磁気ディスクを提供することができるのが本発明である。
【００１４】
構成１は、磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量を定量的に測定する方法を提供するもので、磁気ディスク側の磁気記録ヘッド表面上のある特定領域において、潤滑剤を構成する少なくとも１種の元素の量を測定することによって、潤滑剤移着量を測定することに特徴があります。潤滑剤を構成する元素としては、弗素、炭素、酸素、窒素等が挙げられる。また、これらの元素の量を測定する方法としては、例えば、Ｘ線光電子分光法、オージエ電子分光法、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）等の分析方法によって測定することができる。
上記の分析方法では、測定領域が限られているので、磁気記録ヘッドの測定は、構成２のようにヘッド表面を複数の領域に分割し、この分割した領域における弗素や炭素などの量を測定することによって行われる。分割する数については、磁気記録ヘッドの面積や、測定条件によって適宜調整する。
【００１５】
また、磁気記録ヘッドが磁気ディスクに対し、ＡＢＳ面がより磁気ディスク表面に近づいて走行していることから、磁気記録ヘッドに潤滑剤が移着する場合、ＡＢＳ面に多く移着する傾向があるので、構成３のように測定領域は、少なくともＡＢＳ面を含むように測定することが望ましい。
また、構成４のように、上記測定方法においてＸ線電子分光法を選定することで容易に潤滑剤の量を測定できるので好ましい。測定する強度は、Ｃｌｓ，Ｆｌｓなどである。Ｃｌｓの場合、潤滑剤のＣＦ結合と、保護層のカーボンのＣｌｓの強度比から膜厚を算出するので、装置状態（特にＸ線強度）に、データは左右されにくいが、Ｆｌｓの場合、装置状態が変化すると絶対値が異なる可能性があるので、その場合、キャリブレーションが必要となる。
【００１６】
また、構成５のように、前記元素のスペクトル強度から算出した潤滑剤平均膜厚を用いて、磁気記録ヘッド表面における潤滑剤の分布状態を算出することによって、ヘッドに移着する潤滑剤の存在状態を定量的かつ２次元マップにより視覚的に捉えることができるので、容易に潤滑剤移着量を測定することができる。
また、構成６のように、上記構成１〜５の磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量測定方法によって、磁気ディスクに形成されている潤滑層を評価することで、磁気記録ヘッドによって磁気ディスクの潤滑剤が減った量を定量的に評価することができる。
【００１７】
また、磁気記録ヘッドへの移着潤滑剤膜厚と、リードライト試験結果とに相関があることを本発明は見出し、構成７にあるように、潤滑剤移着量の平均膜厚が、磁気ディスクのリードライト試験においてエラーが起きない基準設定値以下とすることにより、信頼性の高い磁気ディスクが得られる。その基準設定値は、磁気ディスク表面に対する磁気記録ヘッド浮上量によって定められ（構成８）、磁気記録ヘッド浮上量の５％以下（構成９）とすることが好ましい。好ましくは、３％以下、さらに好ましくは１％以下が望ましい。
【００１８】
また、構成９においては、磁気ディスクにおける潤滑剤は、上記の基準設定値を満足するものであるので、高い信頼性、耐久性となる磁気ディスクが得られる。
磁気ディスクは、基板上に少なくとも磁性層と潤滑層とが形成される。それ以外に、基板と磁性層との間に、シード層や下地層、中間層を形成しても良い。また、磁性層と潤滑層との間に保護層を形成しても良い。基板や各種層の材料は特に限定されない。
【００１９】
基板は、ガラス、ガラスセラミック、カーボン、シリコン、アルミ等が挙げられる。
磁性層は、Ｃｏ合金が一般的に使用され、Ｃｏ以外にＰｔ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｂ，Ｎｂ，Ｗ等の元素を添加した材料が使用される。
下地層は、主に、磁性層の磁気特性の向上の役割があり、ＣｒやＣｒ合金などの材料が使用される。Ｃｒ合金としては、ＣｒＶ，ＣｒＭｏ，ＣｒＷ，ＣｒＴｉなどが挙げられ、単層、複数層設けても良い。
シード層は、下地層、磁性層の結晶粒径を制御する役割があり、ＮｉＡｌ，ＣｒＴｉ，ＣｒＮｉ，ＮｉＰなどが挙げられる。
中間層は、主に磁性層の結晶配向を制御する役割があり、ＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＮｂなどが挙げられる。
保護層は、磁性層に対する耐食性、機械的耐久性のために設けられ、カーボン、水素化カーボン、窒化カーボン、ＳｉＣ，ＳｉＯ2，ＺｒＯ2などが挙げられる。
潤滑層は、磁気記録ヘッドとの吸着防止、摩擦低減の役割があり、一般にパーフルオロポリエーテル潤滑剤が使用される。
これらの各膜の膜厚については、所望な磁気特性、耐久性等が得られるように適宜調整して成膜される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明では、様々な環境下で動作させた磁気ディスク装置より取り出した磁気記録ヘッドの磁気ディスクに対向する側の最表面全体を多分割（少なくとも１３×１６＝２０８分割以上が望ましい）し、各分割点をＸ線光電子分光法（以下、ＥＳＣＡと称す）を用いて測定する。その後、潤滑剤に起因するＦ（フッ素）１ｓスペクトル強度又はＣ（炭素）１ｓスペクトル強度から算出した潤滑剤平均膜厚により２次元の分布図を作成する事により、磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤量及び分布状態を測定する。また上記測定にて、磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤平均膜厚がヘッド浮上量（ＦＨ）の５％以下であったとき磁気ディスクは良品と判定する。
【００２１】
＜実施例＞
（磁気ディスク装置による試験）
▲１▼磁気ディスク装置に、磁気ディスク（ガラス基板上にＮｉＡｌシード層、ＣｒＶ下地層、ＣｏＰｔＣｒＢ磁性層、カーボン保護層、潤滑層が成膜されている。）及び磁気記録ヘッドを装着し、６０℃／５％ＲＨ、６０℃／８０％ＲＨ環境下で３０日間、磁気記録媒体のある所定位置（例えばｒ＝１５ｍｍ又は３０ｍｍ）で、定点浮上させる。
▲２▼磁気ディスク装置に、磁気ディスク及び磁気記録ヘッドを装着し、６０℃／５％ＲＨ、６０℃／８０％ＲＨ環境下で４０００００回、ロード・アンロードを繰り返し行う。
【００２２】
（磁気ディスク及び磁気記録ヘッドの外観検査）
▲１▼上記、磁気ディスク装置による試験後、磁気ディスク及び磁気記録ヘッドを脱着し、磁気ディスクは、目視による外観検査、磁気記録ヘッドは光学顕微鏡による外観検査を行う。
▲２▼磁気ディスク及び磁気記録ヘッドの目視、及び光学顕微鏡による外観検査で、コンタミ等の付着物、キズ等の外観上、ダメージが無い事を確認する。
【００２３】
（Ｘ線光電子分光法(ＥＳＣＡ)による磁気記録ヘッドへの潤滑剤移着量の測定）
上記、光学顕微鏡観察において、付着物等のコンタミが無い事を確認した磁気記録ヘッドをＥＳＣＡにて測定する。以下にＥＳＣＡ測定条件を示す。
装置                Physical Electronics社製 Quantum2000
Ｘ線励起源          Ａｌ−Ｋα線（１４８６．６ｅＶ）
Ｘ線源              ２０Ｗ
分析室真空度        ＜２×１０-9Ｔｏｒｒ
パスエネルギー      １１７．５ｅＶ
光電子検出角        ４５゜
測定対象ピーク      Ｃ１ｓ、Ｆ１ｓ
分析領域            １００μｍφ
積算回数            １０回
【００２４】
▲１▼分析領域が１００μｍのため、磁気記録ヘッド（３０％スライダ：１．００ｍｍ×１．２５ｍｍ）全体を１００μｍ毎に縦横に多点分割する。即ち、１０ポイント×１３ポイント以上に分割し、測定ポイントを定める。なお、実測定は、磁気記録ヘッドの切片が十分入るように、１３×１６＝２０８ポイントに分割した。
現在、ほとんどの磁気記録ヘッドは３０％スライダであるが、５０％、７０％、１００％スライダの場合にも、同様に、ヘッド全体を１００μｍで分割し、磁気記録ヘッド全体が測定対象エリアに十分入るように設定する。
また、分析領域を１００μｍ以下（例えば、５０μｍ、１０μｍ等）で行う場合、同様に、スライダ全体が網羅されるよう、分析ポイントを設定するのが望ましい。
【００２５】
▲２▼測定終了後、Ｃ１ｓピークより、Ｘ線光電子分光法を用いた潤滑剤平均膜厚測定方法に基づき、磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤の平均膜厚を算出する。なお、Ｘ線光電子分光法を用いた潤滑剤平均膜厚測定方法（特開平７−１９２２５５）を以下に示す。
まず、磁気記録媒体を構成する潤滑層およびその下の保護層が均一な膜として存在しているという仮定をおくと、潤滑剤の平均膜厚（ｔ）は、潤滑剤に含有される元素ｉからの光電子放出強度（ＩLFi）、保護層に含有される元素ｊからの光電子放出強度（ＩPFj）、そして各定数より次のように算出される。
【００２６】
ｔ＝λLFiｓｉｎθ１ｎ｛１＋（Ａ・ＩLFi／ＩPFj）｝          （１）
ここで、
Ａ＝ＳjｎjσjλPFj／ＳiｎiσiλLFi                          （２）
ｉ：潤滑層に含まれる元素
ｊ：保護層に含まれる元素
Ｓi：潤滑層中の元素ｉの分光器検出効率
Ｓj：保護層中の元素ｊの分光器検出効率
ｎi：潤滑層中の元素ｉの原子密度
ｎj：保護層中の元素ｊの原子密度
σi：潤滑層中の元素ｉのイオン化断面積
σj：保護層中の元素ｊのイオン化断面積
λLFi：元素ｉから放出された光電子の潤滑層中での減衰長さ
λPFj：元素ｊから放出された光電子の保護層中での減衰長さ
θ：光電子検出角（測定物表面と光電子検出器のなす角度）
【００２７】
ここで、（１）式を潤滑層／保護層の光電子放出強度比および光電子検出角（θ）の関係式として書き直すと次式のようになる。
１ｎ｛１＋（Ａ・ＩLFi／ＩPFj）｝＝ｔ／（λLFiｓｉｎθ）    （３）
（３）式より、１／ｓｉｎθを横軸に、そして１ｎ｛１＋（Ａ・ＩLFi／ＩPFj）｝を縦軸とすると、潤滑剤が均一な膜として保護層上に存在している場合、この両者の関係は、正比例関係となる。すなわち、（１）式から算出される潤滑剤の平均膜厚ｔはθに依存せず一定値を取ることとなる。
【００２８】
次に、潤滑剤が保護層上で均一な膜ではなく、非連続的な島（クラスター）として存在しているモデルを考え、その場合前記１／ｓｉｎθと１ｎ｛１＋（Ａ・ＩLFi／ＩPFj）｝の関係がどのようになるかを検討してみる。まず、単位面積あたり島状（クラスター状）の潤滑剤が保護層を覆っている割合（表面被覆率）をβ、そして潤滑剤の平均高さをｔcと規定すると、保護層を構成する各元素からの光電子放出強度ＩLFiおよびＩPFjは各々次式で表される。
0004407998.tif 000002
【００２９】
ここで、
Ｉo：入射Ｘ線強度
またｔcは、θ＝９０°の時、次のように定義される。
0004407998.tif 000003
【００３０】
ここで、潤滑層および保護層に含有されている同一元素に着目した場合、（４）、（５）式の比をとると次式が得られる。
【数１】
0004407998.tif 000004
【００３１】
▲３▼上記方法で算出した、各測定ポイントでの磁気記録ヘッドに移着した潤滑剤平均膜厚を、２次元の平面図にプロットし、潤滑剤の移着状態分布を２次元マップで表示する。
▲４▼その後、使用した磁気記録ヘッドの浮上量（ＦＨ）より、例えば、ＦＨ＝２０ｎｍのヘッドの場合、その５％の潤滑剤膜厚（即ち、１ｎｍ）以下の移着量の場合、そのディスクを良品と判断する。
【００３２】
浮上高さが２５ｎｍとなるような磁気記録ヘッドを用い、潤滑剤を末端基がことなるフォンブリン系潤滑剤（パーフルオロポリエーテル）を５種類（試料１〜５）と、内１種類（試料５）については、潤滑剤の成膜後加熱処理をしたものの潤滑層をそれぞれ形成して作製した磁気ディスクを、６０℃／５％ＲＨ環境下で３０日間、定点浮上させた磁気ディスク装置より取り出した磁気記録ヘッドの２次元マップを示す（図１〜図６）。
図において、色が明るくなるに従って潤滑剤が多く存在していることを示している。図から、どのような潤滑剤を用いた場合であっても、比較的ＡＢＳ面に潤滑剤が多く移着されていることがわかる。
【００３３】
次に、これらの潤滑剤が成膜された磁気ディスクのＲ／Ｗ評価した結果を表１，２に示す。表１は、浮上高さが２５ｎｍとなるような磁気記録ヘッドを用いた場合、表２は、浮上高さが１５ｎｍとなるような磁気記録ヘッドを用いた場合の結果を示している。磁気ディスクに塗布して形成した潤滑剤の平均膜厚は、いずれも０．９ｎｍとした。また、表に示す移着量は、磁気記録ヘッドのＡＢＳ面のうちTrailing（２箇所）とLeading（２箇所）の計４箇所で測定した膜厚の平均膜厚として示している。
【００３４】
【表１】
0004407998.tif 000005
【００３５】
【表２】
0004407998.tif 000006
【００３６】
これらの表の結果を見てわかるように、表２における試料１の潤滑剤を形成した磁気ディスクがＲ／Ｗ評価試験において、リードエラーが発生した。試料１における磁気記録ヘッドへの潤滑剤の移着量は０．９６３ｎｍであり、ＦＨ＝１５ｎｍの５％膜厚である０．７５ｎｍよりも大きくなっていることがわかった。従って、磁気ヘッドへの潤滑剤の移着量がＦＨの５％以下となる潤滑剤を形成した磁気ディスクは、Ｒ／Ｗ試験が良好となることがわかった。
【００３７】
表３は、試料５の潤滑剤を使用し、磁気ディスクの基板の表面粗さを変化させた場合の、潤滑剤の移着量とＲ／Ｗ評価結果を示す。尚、潤滑剤の移着量の測定方法は上述と同様である。また、基板の表面粗さは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）によって測定された値である。
【００３８】
【表３】
0004407998.tif 000007
【００３９】
表３の結果からわかるように、磁気ディスクの基板の表面粗さを変化させることで、磁気記録ヘッドへの潤滑剤の移着量を制御することができることがわかる。また、Ｒ／Ｗ評価結果では、ＦＨ＝２５ｎｍの５％の膜厚１．２５ｎｍより大きい磁気ディスクについて、リードエラーが発生し、上記と同様の結果が得られた。
【００４０】
【発明の効果】
本発明によれば、磁気記録ヘッドに移着する潤滑剤平均膜厚をヘッド浮上量の５％以下で規定する事により、耐久性の優れた磁気記録媒体が提供される。また、磁気記録ヘッドに移着する潤滑剤の存在状態を定量的かつ２次元マップにより視覚的に捉えることができる方法が提供される。さらに、従来の官能的な評価手法では、ＯＫ、ＮＧの判断が不明瞭だったが本発明により、定量的な管理方法を行うことで、磁気ディスク装置でのリード・ライトでの評価と相関ある判定基準を確立することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】試料１の潤滑剤を使った磁気ディスクに対し磁気ヘッドを定点浮上させた後、磁気ディスク装置より取り出したヘッドの２次元マッピングを示す。
【図２】試料２の潤滑剤を使った磁気ディスクに対し磁気ヘッドを定点浮上させた後、磁気ディスク装置より取り出したヘッドの２次元マッピングを示す。
【図３】試料３の潤滑剤を使った磁気ディスクに対し磁気ヘッドを定点浮上させた磁気ディスク装置より取り出したヘッドの２次元マッピングを示す。
【図４】試料４の潤滑剤を使った磁気ディスクに対し磁気ヘッドを定点浮上させた磁気ディスク装置より取り出したヘッドの２次元マッピングを示す。
【図５】試料５の潤滑剤を使った磁気ディスクに対し磁気ヘッドを定点浮上させた磁気ディスク装置より取り出したヘッドの２次元マッピングを示す。
【図６】加熱処理した試料５の潤滑剤を使った磁気ディスクに対し磁気ヘッドを定点浮上させた磁気ディスク装置より取り出したヘッドの２次元マッピングを示す。
【図１】
0004407998.tif 000008
【図２】
0004407998.tif 000009
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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