(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［I］を有するイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩：
【化１】
0004465133.tif 000178
式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル基を示すか、或いはＲ1とＲ2とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、
Ｒ3及びＲ4は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を示すか、或いはＲ3とＲ4とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、さらにＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はこれらの結合した炭素原子と共に５〜８員環を形成することもでき、
Ｒ5及びＲ6は、同一又は相異なって、水素原子又はＣ1〜Ｃ10アルキル基を示し、
Ｙは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族ヘテロ環基又は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、これらのヘテロ環基は置換基群αより選択される、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよく、又、隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよく、又、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよく、
ｎは０〜２の整数を示し、
以下の置換基群中の「置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基」における「置換されていてもよい」は、当該置換基がハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、又はアミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、又はＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）で置換されていてもよいことを示す。
「置換基群α」
水酸基、チオール基、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ6アシルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
「置換基群β」
水酸基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群γ」
Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい。）
【請求項２】
０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αが水酸基、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）であるか、或いは隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよい請求項１記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項３】
０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αがハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシＣ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってＣ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）である請求項２記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項４】
Ｒ1及びＲ2が、同一又は異なってメチル基もしくはエチル基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子である請求項１、２又は３記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項５】
Ｙが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５員環又は６員環の芳香族ヘテロ環基である請求項１、２、３又は４記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項６】
Ｙがチエニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、ピリジル基又はピリミジニル基である請求項５記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項７】
Ｙがチオフェン−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基、イソオキサゾール−４−イル基、イソチアゾール−４−イル基、ピリジン−３−イル基又はピリミジン−５−イル基である請求項６記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項８】
Ｙがチオフェン−３−イル基で、置換基群αがチオフェン環の２及び４位に必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項９】
Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αがピラゾール環の３及び５位に、さらに１位に水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１０】
Ｙがピラゾール−５−イル基で、置換基群αがピラゾール環の４位に、さらに１位に水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１１】
Ｙがイソオキサゾール−４−イル基で、置換基群αがイソオキサゾール環の３位及び５位に必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１２】
Ｙがイソチアゾール−４−イル基で、置換基群αがイソチアゾール環の３位及び５位に必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１３】
Ｙがピリジン−３−イル基で、置換基群αがピリジン環の２位及び４位に必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１４】
Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αがピリミジン環の４位及び６位に必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１５】
ｎが２の整数である請求項１〜１４のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１６】
ｎが１の整数である請求項１〜１４のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１７】
ｎが０の整数である請求項１〜１４のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体又は薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。
【請求項１９】
請求項１６及び請求項１７に記載のイソオキサゾリン誘導体又は、請求項１５に記載のイソオキサゾリン誘導体の製造中間体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は新規なイソオキサゾリン誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
イソオキサゾリン誘導体が除草活性を有することは、例えば、特開平8−22558号公報明細書、特開平9−328477号公報明細書及び特開平9−328483号公報明細書等に報告されている。しかしながら本発明化合物はこれらの文献に記載されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
有用作物に対して使用される除草剤は、土壌または茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間に高い選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。これらの点で、当該の公報明細書に記載の化合物は必ずしも満足すべきものとは言い難い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはこの様な状況に鑑み、除草効果と作物・雑草間の選択性を検討した結果、新規なイソオキサゾリン誘導体が、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００５】
即ち、本発明は
（１）一般式［I］を有するイソオキサゾリン誘導体又はその薬理上許容される塩：
【０００６】
【化２】
0004465133.tif 000002
【０００７】
式中、
Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル基を示すか、或いはＲ1とＲ2とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、
Ｒ3及びＲ4は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を示すか、或いはＲ3とＲ4とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、さらにＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はこれらの結合した炭素原子と共に５〜８員環を形成することもでき、
Ｒ5及びＲ6は、同一又は相異なって、水素原子又はＣ1〜Ｃ10アルキル基を示し、
Ｙは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族ヘテロ環基又は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、これらのヘテロ環基は置換基群αより選択される、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよく、又、隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよく、又、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよく、
ｎは０〜２の整数を示し、
以下の置換基群中の置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基における「置換されていてもよい」は、当該置換基がハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、又はアミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、又はＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）で置換されていてもよいことを示す。
「置換基群α」
水酸基、チオール基、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ6アシルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
「置換基群β」
水酸基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群γ」
Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい。）
（２）０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αが水酸基、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）であるか或いは隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよい（１）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（３）０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αがハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシＣ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってＣ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）である（２）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（４）Ｒ1及びＲ2が、同一又は異なってメチル基もしくはエチル基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子である（１）、（２）又は（３）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（５）Ｙが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５員環又は６員環の芳香族ヘテロ環基である（１）、（２）、（３）又は（４）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（６）Ｙがチエニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、ピリジル基又はピリミジニル基である（５）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（７）Ｙがチオフェン−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基、イソオキサゾール−４−イル基、イソチアゾール−４−イル基、ピリジン−３−イル基又はピリミジン−５−イル基である（６）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（８）Ｙがチオフェン−３−イル基で、置換基群αがチオフェン環の２及び４位に必ず置換した（７）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（９）Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αがピラゾール環の３及び５位に、さらに１位に水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した（７）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１０）Ｙがピラゾール−５−イル基で、置換基群αがピラゾール環の４位に、さらに１位に水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した（７）に記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１１）Ｙがイソオキサゾール−４−イル基で、置換基群αがイソオキサゾール環の３位及び５位に必ず置換した（７）記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１２）Ｙがイソチアゾール−４−イル基で、置換基群αがイソチアゾール環の３位及び５位に必ず置換した（７）記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１３）Ｙがピリジン−３−イル基で、置換基群αがピリジン環の２位及び４位に必ず置換した（７）記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１４）Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αがピリミジン環の４位及び６位に必ず置換した（７）記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１５）ｎが２の整数である（１）〜（１４）のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１６）ｎが１の整数である（１）〜（１４）のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１７）ｎが０の整数である（１）〜（１４）のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
（１８）（１）〜（１７）のいずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体又は薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。
（１９）（１６）及び（１７）に記載のイソオキサゾリン誘導体又は、（１５）に記載のイソオキサゾリン誘導体の製造中間体。
【０００８】
尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。
【０００９】
Ｃ1〜Ｃ10等の表記は、この場合ではこれに続く置換基の炭素数が、１〜１０であることを示している。
【００１０】
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
【００１１】
Ｃ1〜Ｃ10アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３,３−ジメチルブチル基、ヘプチル基、又はオクチル基等を挙げることができる。
【００１２】
Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００１３】
Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）とは、特に限定しない限り同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４又はＣ1〜Ｃ3アルキル基で置換されてもよいＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基により置換されたＣ1〜Ｃ3アルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、1−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、1−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基２−クロロシクロプロピルメチル基、２,２−ジクロロシクロプロピルメチル基、２−フルオロシクロプロピルメチル基、２,２−ジフルオロシクロプロピルメチル基、２−メチルシクロプロピルメチル基、２,２−ジメチルシクロプロピルメチル基、又は２−メチルシクロプロピルエチル基等を挙げることができる。
【００１４】
Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基により置換された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、又はシクロヘキシルメチル基等を挙げることができる。
【００１５】
Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２,２−ジフルオロエチル基、２,２,２−トリフルオロエチル基、又はペンタフルオロエチル基等を挙げることができる。
【００１６】
Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、又は２−ペンテニル基等を挙げることができる。
【００１７】
Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、又は２−メチル−３−ブチニル基等を挙げることができる。
【００１８】
Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４で置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば３−クロロ−２−プロぺニル基、又は２−クロロ−２−プロぺニル基等を挙げることができる。
【００１９】
Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、又はイソブトキシ基等を挙げることができる。
【００２０】
Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２,２−ジフルオロエトキシ基、又は２，２,２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【００２１】
Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
【００２２】
Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基とは、シクロアルキルアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキルアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ基、１−シクロプロピルエトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、１−シクロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、３−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、又はシクロヘキシルメトキシ基等を挙げることができる。
【００２３】
Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基及びＣ2〜Ｃ6アルキニルオキシ基とは、アルケニル又はアルキニル部分が上記の意味である（アルケニル）−Ｏ−基、（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ基、又は２−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。
【００２４】
Ｃ1〜Ｃ10アルコキシイミノ基とは、アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−Ｎ＝基を示し、例えばメトキシイミノ基又はエトキシイミノ基等を挙げることができる。
【００２５】
Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基及びＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−ＳＯ2−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、又はイソプロピルスルホニル基等を挙げることができる。
【００２６】
Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキルスルホニル部分が上記の意味である（アルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ基又はエチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。
【００２７】
Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基とは、アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−ＣＯ−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、又はイソプロポキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００２８】
Ｃ1〜Ｃ6アシル基とは、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基、又はピバロイル基等を挙げることができる。
【００２９】
Ｃ1〜Ｃ10アシルオキシ基とは、アシル部分が上記の意味である（アシル）−Ｏ−基、を示し、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基、又はピバロイルオキシ基等を挙げることができる。
【００３０】
Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ基及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−ＣＯ−基、（ハロアルキル）−Ｓ−基、（ハロアルキル）−ＳＯ2−基を示し、例えばクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基、又はトリフルオロメチルスルホニル基等を挙げることができる。
【００３１】
Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニルオキシ基及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキルカルボニル部分及びハロアルキルスルホニル部分が上記の意味である（ハロアルキルカルボニル）−Ｏ−基、（ハロアルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばクロロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、クロロメチルスルホニルオキシ基、又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。
【００３２】
置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基又は置換されていてもよいフェノキシカルボニル基における「置換されていてもよい」とは、例えばハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、又はアミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、又はＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）等で置換されていてもよいことを示す。
【００３３】
窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を有する５員から６員の芳香族ヘテロ環基とは、例えばヘテロ原子を１から３個有するフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることができる。
【００３４】
芳香族ヘテロ縮合環基とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する基を示し、例えばベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、フサラジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基又はベンゾトリアゾリル基を挙げることができる。
【００３５】
置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基又は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基の芳香族ヘテロ環とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する５〜６員の基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることができる。
【００３６】
薬理上許容される塩とは、一般式［I］を有する化合物において、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等がその構造中に存在する場合に、これらと金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩であり、金属としてはナトリウム又はカリウム等のアルカリ金属或いはマグネシウム又はカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げることができ、鉱酸としては塩酸又は硫酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸又はｐ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
【００３７】
上記した一般式［I］の中で好ましくは、Ｒ1及びＲ2が、同一又は異なってメチル基又はエチル基であり、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子であり、
ｎ が２の整数であり、
Ｙがチオフェン−３−イル基（ここで該基の２位及び４位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
ピラゾール−４−イル基（ここで該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、シクロアルキルアルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が、さらに１位に水素原子、アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
ピラゾール−５−イル基（ここで該基の４位はハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が、さらに１位は水素原子、アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は置換されていてもよいフェニル基が必ず置換する。）、
イソオキサゾール−４−イル基（該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
イソチアゾール−４−イル基（該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
ピリジン−３−イル基（該基の２位及び４位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、或いは
ピリミジン−５−イル基（該基の４位および６位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）であるイソオキサゾリン誘導体。
【００３８】
【発明の実施の形態】
次に、一般式［I］を有する本発明化合物の代表的な化合物例を表１〜表１３０に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
【００３９】
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
【００４０】
Ｍｅ    ：メチル基            Ｅｔ      ：エチル基、
Ｐｒ    ：ｎ−プロピル基      Ｐｒ−ｉ  ：イソプロピル基
Ｐｒ−ｃ：シクロプロピル基    Ｂｕ      ：ｎ−ブチル基
Ｂｕ−ｉ：ｉｓｏ−ブチル基    Ｂｕ−ｓ  ：ｓｅｃ−ブチル基
Ｂｕ−ｔ：ｔｅｒｔ−ブチル基  Ｂｕ−ｃ  ：シクロブチル基
Ｐｅｎ  ：ｎ−ペンチル基      Ｐｅｎ−ｃ：シクロペンチル基
Ｈｅｘ  ：ｎ−ヘキシル基      Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基
Ｐｈ    ：フェニル基
また，例えば（４−Ｃｌ）Ｐｈの表記は４−クロロフェニル基、３−Ｈｅｘは３−ヘキシル基を表す。
【００４１】
尚、本発明化合物は置換基として水酸基を含む場合、ケト−エノール互変異性体を有する化合物があるが、何れの異性体もその混合物も本発明化合物に含まれる。
【００４２】
【表１】
0004465133.tif 000003
【００４３】
【表２】
0004465133.tif 000004
【００４４】
【表３】
0004465133.tif 000005
【００４５】
【表４】
0004465133.tif 000006
【００４６】
【表５】
0004465133.tif 000007
【００４７】
【表６】
0004465133.tif 000008
【００４８】
【表７】
0004465133.tif 000009
【００４９】
【表８】
0004465133.tif 000010
【００５０】
【表９】
0004465133.tif 000011
【００５１】
【表１０】
0004465133.tif 000012
【００５２】
【表１１】
0004465133.tif 000013
【００５３】
【表１２】
0004465133.tif 000014
【００５４】
【表１３】
0004465133.tif 000015
【００５５】
【表１４】
0004465133.tif 000016
【００５６】
【表１５】
0004465133.tif 000017
【００５７】
【表１６】
0004465133.tif 000018
【００５８】
【表１７】
0004465133.tif 000019
【００５９】
【表１８】
0004465133.tif 000020
【００６０】
【表１９】
0004465133.tif 000021
【００６１】
【表２０】
0004465133.tif 000022
【００６２】
【表２１】
0004465133.tif 000023
【００６３】
【表２２】
0004465133.tif 000024
【００６４】
【表２３】
0004465133.tif 000025
【００６５】
【表２４】
0004465133.tif 000026
【００６６】
【表２５】
0004465133.tif 000027
【００６７】
【表２６】
0004465133.tif 000028
【００６８】
【表２７】
0004465133.tif 000029
【００６９】
【表２８】
0004465133.tif 000030
【００７０】
【表２９】
0004465133.tif 000031
【００７１】
【表３０】
0004465133.tif 000032
【００７２】
【表３１】
0004465133.tif 000033
【００７３】
【表３２】
0004465133.tif 000034
【００７４】
【表３３】
0004465133.tif 000035
【００７５】
【表３４】
0004465133.tif 000036
【００７６】
【表３５】
0004465133.tif 000037
【００７７】
【表３６】
0004465133.tif 000038
【００７８】
【表３７】
0004465133.tif 000039
【００７９】
【表３８】
0004465133.tif 000040
【００８０】
【表３９】
0004465133.tif 000041
【００８１】
【表４０】
0004465133.tif 000042
【００８２】
【表４１】
0004465133.tif 000043
【００８３】
【表４２】
0004465133.tif 000044
【００８４】
【表４３】
0004465133.tif 000045
【００８５】
【表４４】
0004465133.tif 000046
【００８６】
【表４５】
0004465133.tif 000047
【００８７】
【表４６】
0004465133.tif 000048
【００８８】
【表４７】
0004465133.tif 000049
【００８９】
【表４８】
0004465133.tif 000050
【００９０】
【表４９】
0004465133.tif 000051
【００９１】
【表５０】
0004465133.tif 000052
【００９２】
【表５１】
0004465133.tif 000053
【００９３】
【表５２】
0004465133.tif 000054
【００９４】
【表５３】
0004465133.tif 000055
【００９５】
【表５４】
0004465133.tif 000056
【００９６】
【表５５】
0004465133.tif 000057
【００９７】
【表５６】
0004465133.tif 000058
【００９８】
【表５７】
0004465133.tif 000059
【００９９】
【表５８】
0004465133.tif 000060
【０１００】
【表５９】
0004465133.tif 000061
【０１０１】
【表６０】
0004465133.tif 000062
【０１０２】
【表６１】
0004465133.tif 000063
【０１０３】
【表６２】
0004465133.tif 000064
【０１０４】
【表６３】
0004465133.tif 000065
【０１０５】
【表６４】
0004465133.tif 000066
【０１０６】
【表６５】
0004465133.tif 000067
【０１０７】
【表６６】
0004465133.tif 000068
【０１０８】
【表６７】
0004465133.tif 000069
【０１０９】
【表６８】
0004465133.tif 000070
【０１１０】
【表６９】
0004465133.tif 000071
【０１１１】
【表７０】
0004465133.tif 000072
【０１１２】
【表７１】
0004465133.tif 000073
【０１１３】
【表７２】
0004465133.tif 000074
【０１１４】
【表７３】
0004465133.tif 000075
【０１１５】
【表７４】
0004465133.tif 000076
【０１１６】
【表７５】
0004465133.tif 000077
【０１１７】
【表７６】
0004465133.tif 000078
【０１１８】
【表７７】
0004465133.tif 000079
【０１１９】
【表７８】
0004465133.tif 000080
【０１２０】
【表７９】
0004465133.tif 000081
【０１２１】
【表８０】
0004465133.tif 000082
【０１２２】
【表８１】
0004465133.tif 000083
【０１２３】
【表８２】
0004465133.tif 000084
【０１２４】
【表８３】
0004465133.tif 000085
【０１２５】
【表８４】
0004465133.tif 000086
【０１２６】
【表８５】
0004465133.tif 000087
【０１２７】
【表８６】
0004465133.tif 000088
【０１２８】
【表８７】
0004465133.tif 000089
【０１２９】
【表８８】
0004465133.tif 000090
【０１３０】
【表８９】
0004465133.tif 000091
【０１３１】
【表９０】
0004465133.tif 000092
【０１３２】
【表９１】
0004465133.tif 000093
【０１３３】
【表９２】
0004465133.tif 000094
【０１３４】
【表９３】
0004465133.tif 000095
【０１３５】
【表９４】
0004465133.tif 000096
【０１３６】
【表９５】
0004465133.tif 000097
【０１３７】
【表９６】
0004465133.tif 000098
【０１３８】
【表９７】
0004465133.tif 000099
【０１３９】
【表９８】
0004465133.tif 000100
【０１４０】
【表９９】
0004465133.tif 000101
【０１４１】
【表１００】
0004465133.tif 000102
【０１４２】
【表１０１】
0004465133.tif 000103
【０１４３】
【表１０２】
0004465133.tif 000104
【０１４４】
【表１０３】
0004465133.tif 000105
【０１４５】
【表１０４】
0004465133.tif 000106
【０１４６】
【表１０５】
0004465133.tif 000107
【０１４７】
【表１０６】
0004465133.tif 000108
【０１４８】
【表１０７】
0004465133.tif 000109
【０１４９】
【表１０８】
0004465133.tif 000110
【０１５０】
【表１０９】
0004465133.tif 000111
【０１５１】
【表１１０】
0004465133.tif 000112
【０１５２】
【表１１１】
0004465133.tif 000113
【０１５３】
【表１１２】
0004465133.tif 000114
【０１５４】
【表１１３】
0004465133.tif 000115
【０１５５】
【表１１４】
0004465133.tif 000116
【０１５６】
【表１１５】
0004465133.tif 000117
【０１５７】
【表１１６】
0004465133.tif 000118
【０１５８】
【表１１７】
0004465133.tif 000119
【０１５９】
【表１１８】
0004465133.tif 000120
【０１６０】
【表１１９】
0004465133.tif 000121
【０１６１】
【表１２０】
0004465133.tif 000122
【０１６２】
【表１２１】
0004465133.tif 000123
【０１６３】
【表１２２】
0004465133.tif 000124
【０１６４】
【表１２３】
0004465133.tif 000125
【０１６５】
【表１２４】
0004465133.tif 000126
【０１６６】
【表１２５】
0004465133.tif 000127
【０１６７】
【表１２６】
0004465133.tif 000128
【０１６８】
【表１２７】
0004465133.tif 000129
【０１６９】
【表１２８】
0004465133.tif 000130
【０１７０】
【表１２９】
0004465133.tif 000131
【０１７１】
【表１３０】
0004465133.tif 000132
【０１７２】
一般式［I］を有する本発明化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。
【０１７３】
＜製造法１＞  工程１〜工程５
【０１７４】
【化３】
0004465133.tif 000133
【０１７５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＹは前記と同じ意味を表し、Ｘ1はハロゲン原子を表し、Ｒ7はＣ1〜Ｃ4アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｌはハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基又は置換されていてもよいベンジルスルホニル基等の脱離基を表し、xは１以上の整数を表す。）
以下、上記製造方法を各工程毎に詳説する。
【０１７６】
（工程１）
一般式［５］で表されるスルフィド誘導体は、一般式［１］で表される化合物と、一般式［２］で示される水硫化ナトリウム水和物とを、溶媒中又は溶媒の非存在下で（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下反応させることにより一般式［３］で表されるメルカプタンの塩を反応系内で製造した後、メルカプタンの塩［３］を単離することなく一般式［４］で表されるハロゲン誘導体とを反応させること（場合によってはラジカル発生剤（例えばロンガリット(商品名)：ＣＨ2（ＯＨ）ＳＯ2Ｎａ・２Ｈ2Ｏ等）を添加することができる）によって製造することができる。
【０１７７】
反応温度はいずれの反応も０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０.５時間〜２４時間で終了する。
【０１７８】
反応に供される試剤の量は一般式［１］で表される化合物１当量に対して、一般式［２］で表される化合物又は一般式［４］で表される化合物は１〜３当量、塩基を使用する場合は、塩基０．５〜３当量である。
【０１７９】
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１８０】
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩或いはナトリウムメトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラートが挙げられる。
【０１８１】
（工程２）
一般式［６］で表されるスルホキシド誘導体は、一般式［５］で表されるスルフィド誘導体と酸化剤とを、適当な溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０１８２】
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜７２時間で終了する。
【０１８３】
反応に供される試剤の量は一般式［５］で表される化合物１当量に対して酸化剤は１〜３当量である。
【０１８４】
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン又はジエチルエーテル等のエーテル類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１８５】
酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、過酸化水素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物が挙げられる。
【０１８６】
（工程３）
一般式［７］で表されるスルホン誘導体は、一般式［６］で表されるスルホキシド誘導体と酸化剤とを、適当な溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０１８７】
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜７２時間で終了する。
【０１８８】
反応に供される試剤の量は一般式［６］で表される化合物１当量に対して酸化剤は１〜３当量である。
【０１８９】
溶媒及び酸化剤としては、工程２と同様なものが挙げられる。
【０１９０】
（工程４）
一般式［７］で表されるスルホン誘導体は、適当な溶媒中、一般式［５］で表されるスルフィド誘導体と好適な酸化剤の量により一般式［６］で表されるスルホキシド誘導体を単離することなく製造することもできる。
【０１９１】
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜７２時間で終了する。
【０１９２】
反応に供される試剤の量は一般式［５］で表される化合物１当量に対して酸化剤は１〜３当量である。
【０１９３】
溶媒及び酸化剤としては、工程２と同様なものが挙げられる。
【０１９４】
（工程５）
一般式［５］で示されるスルフィド誘導体は、一般式［８］で表される化合物と、一般式［９］で示されるメルカプタン誘導体とを、溶媒中又は溶媒の非存在下で（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
【０１９５】
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０.５時間〜２４時間で終了する。
【０１９６】
反応に供される試剤の量は一般式［８］で表される化合物１当量に対して、一般式［９］で表される化合物は１〜３当量、塩基は０．５〜３当量である。
【０１９７】
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１９８】
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、ピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩或いはナトリウムメトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラートが挙げられる。
【０１９９】
一般式［８］で示される化合物のうちＬがハロゲン原子で表される化合物［１２］は工程６で示される方法により製造することができ、必要に応じ［１２］と［１３］を分離精製して化合物［１２］を得る。
【０２００】
（工程６）
【０２０１】
【化４】
0004465133.tif 000134
【０２０２】
（式中、Ｘ1、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3及びＲ4は前記と同じ意味を表す。）
一般式［１２］及び［１３］で表されるイソオキサゾリン化合物は、一般式［１０］で表されるオレフィン誘導体と、一般式［１１］で示されるオキシム誘導体とを、溶媒中又は溶媒の非存在下で（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。但し、Ｒ3，Ｒ4の両者が水素原子の場合には一般式［１２］で表されるイソオキサゾリン化合物が優先的に得られる。
【０２０３】
反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは１０℃〜８０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０.５時間〜２週間で終了する。
【０２０４】
反応に供される試剤の量は一般式［１１］で表される化合物１当量に対して、一般式［１０］で表される化合物は１〜３当量である。
【０２０５】
溶媒としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル又は酢酸ブチル等の酢酸エステル類、水或いはこれらの混合物等が挙げられる。
【０２０６】
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、酢酸ナトリウム又は酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩、フッ化ナトリウム又はフッ化カリウム等のアルカリ金属のフッ素化塩或いはピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基等が挙げられる。
【０２０７】
尚、上記製造方法で用いる製造中間体である一般式［１０］で表される化合物は、市販のものを用いるか、又はウィッティヒ（Wittig）反応等の公知の反応により製造することができる。また、一般式［１１］で示される化合物は、例えば、Liebigs Annalen der Chemie，985（1989）に記載の方法に準じて製造することができる。
【０２０８】
一般式［１］で表される化合物は、前記に示した一般式［１２］で表される化合物から以下の方法により製造することができる。
【０２０９】
【化５】
0004465133.tif 000135
【０２１０】
（式中、Ｘ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ7は前記と同じ意味を表す。）
一般式［１５］で表される化合物は前記記載の工程５、一般式［１６］で表される化合物は前記記載の工程２、一般式［１］で表される化合物は化合物［１５］から前記記載の工程４又は化合物［１６］から工程３で示した方法に準じ製造することができる。
【０２１１】
溶媒、塩基及び酸化剤としては工程２、工程３、工程４又は工程５で記載したものと同じものが挙げられる。
【０２１２】
一般式［４］で表される化合物中、一般式［２１］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２１３】
【化６】
0004465133.tif 000136
【０２１４】
（式中、Ｒ5、Ｘ1及びＹは前記と同じ意味を表し、Ｒ8はアルキル基を表す。）
（工程１１）
一般式［２０］で表される化合物は、化合物［１７］、［１８］又は［１９］と還元剤とを溶媒中で反応することにより製造することができる。
【０２１５】
この反応は通常、反応温度−６０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２１６】
反応に供される試剤の量は、化合物［１７］、［１８］又は［１９］１当量に対して、還元剤０．５〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２１７】
還元剤としては、［１７］から［２０］の製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物、或いは水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物が、［１８］又は［１９］から［２０］の製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物、或いはジボランが挙げられる。
【０２１８】
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類、メタノール又はエタノール等のアルコール類が挙げられる。
【０２１９】
（工程１２）
一般式［２１］で表される化合物は、化合物［２０］とハロゲン化剤とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０２２０】
この反応は通常、反応温度−５０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２２１】
反応に供される試剤の量は化合物［２０］１当量に対して、ハロゲン化剤１〜３当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２２２】
ハロゲン化剤としては、例えば塩化水素、臭化水素、三塩化リン、三臭化リン又は塩化チオニル等が挙げられる。
【０２２３】
溶媒としては、例えばジクロロエタン又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸等の酸類或いはテトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。
【０２２４】
一般式［４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２２５】
【化７】
0004465133.tif 000137
【０２２６】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｘ1及びＹは前記と同じ意味を表す。）
一般式［４］で表される化合物は、化合物［２２］とハロゲン化剤とを溶媒中、触媒の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる。
【０２２７】
この反応は通常、反応温度３０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２２８】
反応に供される試剤の量は化合物［２２］１当量に対して、ハロゲン化剤１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。触媒は０.０１〜０.５当量である。
【０２２９】
ハロゲン化剤としては、例えば臭素又は塩素等のハロゲン、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等のＮ−ハロコハク酸イミド、或いは過臭化ピリジニウム等のピリジン塩等が挙げられる。
【０２３０】
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ギ酸、又は酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。
【０２３１】
触媒としては、例えば過酸化ベンゾイル、α,α−アゾビスイソブチロニトリル又はこれらの混合物が挙げられる。
【０２３２】
一般式［４］で表される化合物中、一般式［２４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２３３】
【化８】
0004465133.tif 000138
【０２３４】
（式中、Ｘ1及びＹは前記と同じ意味を表す。）
一般式［２４］で表される化合物は、（Org.Synth.,III,557(1955)）又は（J.Am.Chem.Soc.,72,2216(1950)）に記載の方法に準じて、化合物［２３］とハロゲン化水素とホルムアルデヒド又はパラホルムアルデヒドとを溶媒中、ルイス酸存在下もしくは非存在下で反応させるか、或いは（J.Am.Chem.Soc.,97,6155(1975)）に記載の方法に準じて、化合物［２３］とハロゲノメチルエーテルとを溶媒中、ルイス酸存在下、反応させる方法により製造することができる。
【０２３５】
この反応は通常、反応温度−４０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２３６】
反応に供される試剤の量は化合物［２３］１当量に対して、ハロゲン化水素、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ルイス酸又はハロゲノメチルエーテル１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２３７】
ルイス酸としては、例えば四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化アルミニウム又は臭化亜鉛等が挙げられる。
【０２３８】
ハロゲン化水素としては、塩化水素、臭化水素又はヨウ化水素が挙げられる。
【０２３９】
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸等のカルボン酸類、二硫化炭素或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２４０】
一般式［１９］で表される化合物中、一般式［２５］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２４１】
【化９】
0004465133.tif 000139
【０２４２】
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表す。）
一般式［２５］で表される化合物は、（Org.Synth.,IV,831(1963)）に記載のビルスマイヤー（Vilsmeier）法に準じて、化合物［２３］とＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドとを塩化ホスホリル、ホスゲン又は塩化チオニル存在下、溶媒中又は溶媒の非存在下で反応させるか、或いは（Chem.Ber.,93,88(1960)）に記載の方法に準じて、化合物［２３］とジハロゲノメチルエーテルとを溶媒中、ルイス酸存在下、反応させた後、加水分解させる方法により製造することができる。
【０２４３】
この反応は通常、反応温度−４０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２４４】
反応に供される試剤の量は化合物［２３］１当量に対して、塩化ホスホリル、ホスゲン、塩化チオニル、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ルイス酸又はジハロゲノメチルエーテル１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２４５】
ルイス酸としては、例えば四塩化チタン、四塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミニウム又は臭化亜鉛等が挙げられる。
【０２４６】
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸等のカルボン酸類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、二硫化炭素或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２４７】
一般式［１７］、［１８］、［１９］及び［２０］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２４８】
【化１０】
0004465133.tif 000140
【０２４９】
（式中、Ｒ5,Ｒ8及びＹは前記と同じ意味を表し、Ｘ2は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
一般式［１７］、［１８］、［１９］又は［２０］で表される化合物は、(J. Org. Chem., 65, 4618(2000))に記載方法に準じて、化合物［２６］とマグネシウム試薬とを溶媒中又は溶媒の非存在下、反応させて化合物［２7］を得た後、求電子試薬と反応させるか、或いは(Synth. Commun., 24(2), 253(1994))に記載方法に準じて、化合物［２６］とｎ−ブチルリチウムとを溶媒中で反応させて化合物［２８］を得た後、求電子試薬と反応させる方法により製造することができる。
【０２５０】
この反応は通常、反応温度−１００〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２５１】
反応に供される試剤の量は化合物［２６］１当量に対して、マグネシウム試薬又はリチウム試薬１〜５当量、求電子試薬１〜５当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２５２】
マグネシウム試薬としては、例えば金属マグネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム又はジイソプロピルマグネシウム等が挙げられる。
【０２５３】
リチウム試薬としては、例えばｎ−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム又はtert−ブチルリチウム等が挙げられる。
【０２５４】
求電子試薬としては、例えばギ酸エチル、シアノギ酸エチル又は酢酸エチル等のエステル類、アセチルクロリド又はクロロギ酸メチル等の酸ハライド類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、パラホルムアルデヒド等のアルデヒド類、或いは二酸化炭素が挙げられる。
【０２５５】
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ヘキサン又はペンタン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２５６】
一般式［３１］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２５７】
【化１１】
0004465133.tif 000141
【０２５８】
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｒ9はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されていてもよいベンジル基、置換されていてもよいヘテロ環アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基又は置換されていてもよいベンゾイル基を表し、Ｌ1はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホナ−ト基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホナ−ト基又は置換されていてもよいベンジルスルホナ−ト基等の脱離基を表す。但し、Ｒ9がハロアルキル基の場合は、Ｌ1はハロアルキル化して残ったハロゲン原子より反応性の高い脱離基を表す。例えばＣＨＦ2基の場合は塩素原子又は臭素原子を表し、ＣＨ2ＣＦ3基の場合は塩素原子、臭素原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はメチルスルホニルオキシ基等を表す。）
一般式［３１］で表される化合物は、化合物［２９］と化合物［３０］とを溶媒中、塩基存在下で反応させることにより製造することができる。
【０２５９】
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２６０】
反応に供される試剤の量は化合物［２９］１当量に対して化合物［３０］は１〜２０当量、塩基は１〜３当量である。
【０２６１】
塩基としては、例えば炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化カリウム又は水素化ナトリウム等アルカリ金属水素化物、ナトリウムエトキシド又はナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコラート、或いは１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
【０２６２】
溶媒としては例えばジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル又は酢酸メチル等のエステル類、Ｎ−メチルピロリドン又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、アセトニトリル等のニトリル類、或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２６３】
一般式［３４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
【０２６４】
【化１２】
0004465133.tif 000142
【０２６５】
（式中、Ｌ1は前記と同じ意味を表し、Ｒ10はアルキル基、前記と同じ意味の置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、前記と同じ意味の置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）を表す。この場合、ピラゾール環の炭素原子は、前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［３４］で表される化合物は、化合物［３２］と化合物［３３］とを溶媒中、塩基存在下で反応させることにより製造することができる。
【０２６６】
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物［３２］１当量に対して化合物［３３］は１〜２０当量、塩基は１〜３当量である。
【０２６７】
塩基及び溶媒としては、例えば一般式［２９］から一般式［３１］の製造と同様なものが挙げられる。
【０２６８】
Ｙにトリフルオロメチル基を導入する方法として、J.Chem. Soc. Perkin Trans.1,8, 2293-2299 (1990)、J.Fluorine Chem., 50(3), 411-426 (1990)、J.Chem.Soc. Chem. Commun., 18, 1389-1391 (1993)、J. Chem. Soc. Chem. Commun., 1, 53-54 (1992)、Chem .Lett.,  1719-1720 (1981)、Chem. Pharm. Bull., 38(9), 2446-2458 (1990)、J. Chem. Soc. Perkin Trans.1, 921-926 (1988)、Heterocycles,  37(2),775-782 (1994)、Tetrahedron Lett., 30(16), 2133-2136 (1989)、J. Chem. Soc. Perkin Trans.1, 2755-2761 (1980)、Heterocycles, 22(1),117-124 (1984)、Eur. J. Med. Chem. Chim. Ther.,  24, 249-258 (1989)、Acta Chem. Scand. Ser. B, 38(6),505-508 (1984)、J. Fluorine Chem.,21,495-514 (1982)、J. Chem. Soc. Chem. Commun., 10, 638-639 (1988)、J. Fluorine Chem.,67(1),5-6 (1994)、J. Heterocycl. Chem., 31(6), 1413-1416 (1994)、Chem. Heterocycl. Compd.,  30(5), 576-578 (1994)、J. Fluorine Chem., 78(2),177-182 (1996)、J. Heterocycl. Chem., 34(2), 551-556 (1997)、Tetrahedron, 55(52),15067-15070 (1999)、Synthesis, 11,932-933 (1980)に記載の方法又は準じた方法等が挙げられる
また、一般式［４］、［１７］、［１８］、［１９］、［２０］、［２１］、［２２］、［２３］、［２４］、［２５］、［２６］、［２９］及び［３１］は、
Ｙがフリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E6a,16-185  (1994)）、Ｙがチエニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E6ａ,186−555(1994)）、Ｙがピロリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E6ａ,556−798(1994)）、Ｙがピラゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8ｂ,399−763(1994)）、特開平2000−219679号公報明細書、Ｙがイソキサゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8a,45−225(1993)）、Ｙがイソチアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8a,668−798(1993)）、Ｙがオキサゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8a,891−1019  1993）、Ｙがチアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8ｂ,1−398(1994)）、Ｙがイミダゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8ｃ,1−215(1994)）、Ｙがピリジル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E7a,286−686  (1992)）、Ｙがピリダジニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9a,557−682(1997)）、Ｙがピリミジニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9ｂ/１,１−249(1998)）、Ｙがピラジニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9ｂ/１,250−372(1998)）、Ｙがトリアジニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9c,530−796(1998)）、Ｙがトリアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8d,305−405、479−598  (1994)）、Ｙがオキサジアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8c,397−818(1994)）、Ｙがチアジアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8d,59−304(1994)）、Ｙがベンゾフリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E6b1,33−216 (1994)）、国際特許出願公開公報WO-1997/29105号明細書、Ｙがベンゾチエニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie E6b1,217−322 (1994)）、Ｙがインドリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie, E6b1, 546−848 (1994)）、（Methoden der Organischen Chemie,E6b2,849−1336 (1994)）、国際特許出願公開公報WO-1997/42188-A1号明細書、Ｙがベンゾオキサゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8a,1020−1194 (1993)）、Ｙがベンゾチアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie, E8b,865−1062 (1994)）、Ｙがベンゾイミダゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8c,216−391(1994)）、Ｙがベンゾイソキサゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie, E8a, 226−348 (1993)）、Ｙがベンゾイソチアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8a,799−852 (1993)）、Ｙがインダゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8b,764−864(1994)）、Ｙがキノリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E7a,290−570(1991)）、Ｙがイソキノリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E7a,571−758(1991)）、Ｙがフサラジニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9a,744−789(1997)）、Ｙがキノキサリニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9b/2,93−265 (1998)）、Ｙがキナゾリニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie, E9b/2,1−192 (1998)）、Ｙがシンノリニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9a,683−743(1997)）又はＹがベンゾトリアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8d,406−478(1994)）記載の方法又は準じた方法等で製造することができる。
【０２６９】
＜製造法２＞
【０２７０】
【化１３】
0004465133.tif 000143
【０２７１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を表す。この場合、ピラゾール環の炭素原子は、前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［３６］で表される本発明化合物は、製造法１により製造することができる本発明化合物［３５］と酸とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０２７２】
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２７３】
反応に供される試剤の量は化合物［３５］１当量に対して、酸１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２７４】
酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。
【０２７５】
溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ギ酸又は酢酸等のカルボン酸類或いは水が挙げられる。
【０２７６】
＜製造法３＞
【０２７７】
【化１４】
0004465133.tif 000144
【０２７８】
（式中、ｎ、Ｌ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ10は前記と同じ意味を表す。この場合、ピラゾール環の炭素原子は、前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［３７］で表される本発明化合物は、本発明化合物［３６］と一般式［３３］で表される化合物とを溶媒中、塩基存在下、反応させることにより製造することができる。
【０２７９】
反応に供される試剤の量は一般式［３６］で表される化合物１当量に対して、一般式［３３］で表される化合物は１〜３当量であり、塩基は、１〜３当量である。
【０２８０】
溶媒としては、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０２８１】
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、或いはナトリウムメトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラート等が挙げられる。
【０２８２】
＜製造法４＞
【０２８３】
【化１５】
0004465133.tif 000145
【０２８４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ11はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基を表し、Ｘ3は塩素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ12はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されていてもよいヘテロ環アルキル基、又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｒ13はアルキル基、ハロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、アルコキシカルボニルアルキル基又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｒ14及びＲ15は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基を表し、Ｚは酸素原子、イオウ原子又はＮ−Ｒ16を表し、Ｒ16は水素原子又は前記と同じ意味のＲ10を表す。）
一般式［４０］、一般式［４２］又は一般式［４４］で表される本発明化合物は、一般式［３８］で表される本発明化合物とそれぞれ化合物［３９］、化合物［４１］又は化合物［４３］とを無溶媒又は溶媒中、必要に応じ塩基存在下、反応させることにより製造することができる。
【０２８５】
この反応は通常、反応温度２０〜２００℃、好ましくは３０〜１８０℃で１０分〜４８時間、必要に応じ加圧下で反応させる。
【０２８６】
反応に供される試剤の量は化合物［３８］１当量に対して、化合物［３９］、化合物［４１］又は化合物［４３］は１〜２０当量である。必要に応じて使用される塩基としては、例えば炭酸カリウム又は水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化カリウム又は水素化ナトリウム等アルカリ金属水素化物、ナトリウムエトキシド又はナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコラート、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
【０２８７】
溶媒としては例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ−メチルピロリドン又はＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、アセトニトリル或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２８８】
＜製造法５＞
【０２８９】
【化１６】
0004465133.tif 000146
【０２９０】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、Ｒ11及びＺは前記と同じ意味を表す。）
一般式［４６］で表される本発明化合物は、本発明化合物［４５］と酸とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０２９１】
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物［４５］１当量に対して、酸１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２９２】
酸及び溶媒としては、製造法２と同様なものが挙げられる。
＜製造法６＞
【０２９３】
【化１７】
0004465133.tif 000147
【０２９４】
（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ9及びＬ1は前記と同じ意味を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［４８］で表される本発明化合物は、本発明化合物［４７］と化合物［３０］とを溶媒中、塩基存在下、反応させることにより製造することができる。
【０２９５】
この反応は通常、反応温度０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物［４７］１当量に対して、酸１〜１.２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２９６】
塩基及び溶媒としては、製造法３と同様なものが挙げられる。
【０２９７】
＜製造法７＞
【０２９８】
【化１８】
0004465133.tif 000148
【０２９９】
（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ17はアルキル基、置換されていてもよいベンジル基又は置換されていてもよいフェニル基を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［５０］で表される本発明化合物は、本発明化合物［４９］を水又は水と混合した溶媒中、塩基存在下又は非存在下、加水分解させることにより製造することができる。
【０３００】
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３０１】
反応に供される試剤の量は化合物［４９］１当量に対して、塩基を使用する場合１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０３０２】
塩基としては、例えば炭酸カリウム、水素化ナトリウム又は水酸化ナトリウム等の無機塩基、１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
【０３０３】
水と混合する溶媒としては、例えばメタノール又はエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、アセトニトリル或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０３０４】
＜製造法８＞
【０３０５】
【化１９】
0004465133.tif 000149
【０３０６】
（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ8は前記と同じ意味を表し、Ｒ18はアルキル基を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［５３］で表される本発明化合物は、本発明化合物［５１］と化合物［５２］とを溶媒中、塩基存在下、反応させることにより製造することができる。この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３０７】
反応に供される試剤の量は化合物［５１］１当量に対して、化合物［５２］の塩酸塩又は硫酸塩は１〜５当量、塩基は１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０３０８】
塩基としては、例えば炭酸カリウム又は炭酸ナトリウム等の金属炭酸塩類、酢酸カリウム又は酢酸ナトリウム等の金属酢酸塩類、トリエチルアミン、ジメチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
【０３０９】
溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、水或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０３１０】
＜製造法９＞
【０３１１】
【化２０】
0004465133.tif 000150
【０３１２】
（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ19及びＲ20は、各々、水素原子又はアルキル基を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［５７］で表される本発明化合物は、本発明化合物［５０］と塩化チオニル［５４］とを溶媒中又は無溶媒中で反応させて化合物［５５］を製造した後、化合物［５５］と化合物［５６］とを溶媒中又は無溶媒中、反応させることにより製造することができる。
【０３１３】
［５０］から［５５］の反応は、通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３１４】
反応に供される試剤の量は化合物［５０］１当量に対して、塩化チオニル［５４］１〜１００当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。溶媒としては例えばジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。
【０３１５】
［５５］から［５７］の反応は、通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３１６】
反応に供される試剤の量は化合物［５５］１当量に対して、化合物［５６］１〜１００当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。溶媒としては例えば［５０］から［５５］の反応と同様なものが挙げられる。
【０３１７】
＜製造法１０＞
【０３１８】
【化２１】
0004465133.tif 000151
【０３１９】
（式中、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11及びＸ3は前記と同じ意味を表す。）
一般式［５９］で表される本発明化合物は、本発明化合物［３８］と化合物［５８］とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０３２０】
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３２１】
反応に供される試剤の量は化合物［３８］１当量に対して、化合物［５８］１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。溶媒としては、、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０３２２】
＜製造法１１＞
【０３２３】
【化２２】
0004465133.tif 000152
【０３２４】
（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ21はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されていてもよいヘテロアルキル基、又は置換されていてもよいベンジル基を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよい。）
一般式［６１］で表される本発明化合物は、本発明化合物［４７］と化合物［６０］とをアゾ化合物とトリフェニルホスフィンの存在下、溶媒中で反応させる公知の方法（Synthesis,1-28(1981)）に準じて製造することができる。
【０３２５】
この反応は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３２６】
反応に供される試剤の量は化合物［４７］１当量に対して、化合物［６０］１〜１.５当量、アゾ化合物１〜１.５当量、トリフェニルホスフィン１〜１.５当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０３２７】
溶媒としては、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル或いはこれらの混合物等が挙げられる。
【０３２８】
アゾ化合物としては、例えばアゾジカルボン酸ジエチル又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられる。
【０３２９】
＜製造法１２＞
【０３３０】
【化２３】
0004465133.tif 000153
【０３３１】
（式中、Ｘ3、ｎ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＺは前記と同じ意味を表し、ｍは１〜４の整数を表す。この場合、ピラゾール環の３位の炭素原子は、前記と同じ意味の置換基群αより選択される基で置換されていてもよい。）
一般式［６３］で表される本発明化合物は、本発明化合物［６２］を塩基存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【０３３２】
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３３３】
反応に供される試剤の量は一般式［６２］で表される化合物１当量に対して、塩基１〜３当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０３３４】
塩基及び溶媒としては、製造法３と同様なものが挙げられる。
【０３３５】
尚、製造法２及び製造法４〜１２記載のスルフィド化合物は、製造法１記載の方法で酸化することによりスルホキシド体及びスルホン化合物を製造することができる。
【０３３６】
【実施例】
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化合物の製造中間体の製造法も併せて記載する。
【０３３７】
＜実施例１＞
３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００１）の製造
３−メチルスルホニル−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２.３ｇ(１３.１ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物２.１ｇ(純度７０％、２６.２ミリモル)を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１.８ｇ(１３.１ミリモル)、ロンガリット２.０ｇ(１３.１ミリモル) 及び４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３.６ｇ(１０.５ミリモル)を加え、さらに室温で１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶（融点８９〜９０℃）の３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２.７ｇ（収率６５.５％）を得た。
1H-NMR(CDCl3/TMS,δ(ppm)) : 7.55-7.50(5H, m), 4.33(2H, s), 2.83(2H, s), 1.45(6H, s)
【０３３８】
＜実施例２＞
３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００２）の製造
３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１H−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(１.０ミリモル)のクロロホルム１５ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.６３ｇ(純度７０％、２.６ミリモル)を加え、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１３２〜１３３℃）の３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１H−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４ｇ（収率８３.２％）を得た。
1H-NMR(CDCl3/TMS,δ(ppm)): 7.60-7.51(5H, m), 4.73(2H, s), 3.14(2H,s), 1.53(6H, s)
【０３３９】
＜実施例３＞
３−(５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルフィニル) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００３）の製造
３−(５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.８５ｇ(２.５３ミリモル)のクロロホルム３０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.８７ｇ(純度７０％、３.５４ミリモル)を加え、室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、透明アメ状物質の３−(５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルフィニル) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４８ｇ（収率５３.９％）を得た。
1H-NMR(CDCl3/TMS,δ(ppm)): 7.63-7.60 (2H, m) , 7.48-7.37(3H, m), 4.29(2H, q), 3.91(3H, s), 3.12(1H, d), 2.79(1H, d), 1.41(3H, s), 1.35(3H, s)
【０３４０】
＜実施例４＞
５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)− ２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２１）の製造
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２−１）１８.７ｇ(１０５.７ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物９.３ｇ(純度７０％、１１６.３ミリモル)を加え２時間攪拌した。反応系を氷冷し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３０.３ｇ(９３.８ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液を加え、さらに０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物質の５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン１３.１１ｇ（収率３７.４％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.65-7.39(5H, m), 4.24(2H, s), 2.81(2H, s), 1.43(6H, s)
【０３４１】
＜実施例５＞
５,５−ジメチル−３−(５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２２）の製造
エタンチオール０.２５ｇ(４.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水酸化ナトリウム０.２ｇ（４.０ミリモル）、水１ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌した。５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．４ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液を加え、さらに１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５,５−ジメチル−３−(５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.６ｇ（収率１００％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.62-7.47(5H, m), 4.44(2H, s), 2.83(2H, s), 2.50(2H, q), 1.45(6H, s), 1.02(3H, t)
【０３４２】
＜実施例６＞
５,５−ジメチル−３−(５−エチルスルホニル−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００４）の製造
５,５−ジメチル−３−(５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.６ｇ(１.３ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.７ｇ(純度７０％、６.７ミリモル)を加え、室温で１６時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、淡黄色結晶（融点１５８〜１６０℃）の５,５−ジメチル−３−(５−エチルスルホニル−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン０.６ｇ（収率９３.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.58-7.54(5H, m), 5.16(2H, s), 3.18(2H, s), 3.15(2H, q),1.55(6H, s),1.24(3H, t)
【０３４３】
＜実施例７＞
５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２３）の製造
５,５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ） −２−イソオキサゾリン０.５ｇ（１.３ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、ジメチルアミン４０％水溶液０.８ｇ（６.７ミリモル）を加え、封管で１００℃で９時間攪拌した。ジメチルアミン４０％水溶液３.０ｇ（２６.６ミリモル）を加え、さらに９時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.４ｇ（収率８０.６％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.58-7.38(5H, m), 4.35(2H, s), 2.82(2H, s), 2.77(6H, s), 1.45(6H, s)
【０３４４】
＜実施例８＞
５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００５）の製造
５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.４ｇ(１.１ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.７ｇ(純度７０％、２.７ミリモル)を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点１５０〜１５１℃）の５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン０.２ｇ（収率５２.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.61-7.38(5H, m), 4.75(2H, s), 3.13(2H, s), 2.76(6H, s), 1.53(6H, s)
【０３４５】
＜実施例９＞
３−(１−t−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００６）の製造
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン２４.１ｇ(１３６.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム２１.８ｇ(純度７０％、２７２.５ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１８.８ｇ(１３６.２ミリモル)，ロンガリット２１.０ｇ(１３６.２ミリモル)を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４０ｇ(１２５ミリモル)を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、淡桃色結晶(融点７９.０〜８１.０℃)の３−(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２３.０ｇ(収率５７.１％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.24(2H, s),2.80(2H,s),1.71(9H, s), 1.43(6H, s)
【０３４６】
＜実施例１０＞
３−(５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００７）の製造
３−(１−t−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１９.８ｇ(５３.４ミリモル)を２５％臭化水素−酢酸溶液１７０ｍｌに加え、４０〜５０℃で，２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色結晶(融点１２０.０〜１２２.０℃)の３−(５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１２.０ｇ(収率６０.６％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.26(2H, s),2.81(2H,s),1.44(6H, s)
【０３４７】
＜実施例１１＞
３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００８）及び３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００９）の製造
３−(５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２.３ｇ (７.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム３.１ｇ(２２.５ミリモル)を加え、クロロジフルオロメタンを反応溶液に吹き込み、１３０〜１４０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、淡黄色結晶(融点４１.０〜４２.０℃)の３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６９ｇ(収率２５.８％)および白色粉末(融点８９.０〜９０.０℃)の３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５４ｇ(収率２０.２％)を得た。
【０３４８】
３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.22(1H,t),4.25(2H, s), 2.80(2H,s), .44(6H, s)
３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）7.19(1H,t),4.28(2H, s), 2.80(2H,s), 1.44(6H, s)
【０３４９】
＜実施例１２＞
３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン （本発明化合物番号３−００１０）の製造
３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６９ｇ(１.９ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.４ｇ（純度７０％，８.１ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１２６.０〜１２７.０℃)の３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(収率５３.３％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.26(1H,t),4.68(2H, s),3.11(2H,s),1.53(6H, s)
【０３５０】
＜実施例１３＞
３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン （本発明化合物番号３−００１１）の製造
３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５４ｇ(１.５ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.１ｇ（純度７０％，６.４ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１３６.０〜１３７.０℃)の３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４７ｇ(収率７９.７％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.23(1H,t),4.71(2H, s),3.11(2H,s),1.53(6H, s)
【０３５１】
＜実施例１４＞
５,５−ジメチル−３−(３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２４）の製造
５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン３.３ｇ(１７.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物３.１ｇ(純度７０％、２２.０ミリモル)を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム３.１ｇ(２２.０ミリモル)、ロンガリット２.７ｇ(１７.５ミリモル) 及び４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４.０ｇ(１７.５ミリモル)を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５,５−ジメチル−３−(３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン２.８ｇ（収率５２.０％）を得た。
【０３５２】
＜実施例１５＞
５,５−ジメチル−３−(３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２５）の製造
２５％臭化水素酸酢酸溶液２０ｍｌに５,５−ジメチル−３−(３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン３.３ｇ(１０.６ミリモル)を加え、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を水中に注いだ。  析出した結晶を濾取し水洗後乾燥し、目的とする５,５−ジメチル−３−(３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン３.１ｇ（収率９６.０％）を得た。
【０３５３】
＜実施例１６＞
５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２６）の製造
５,５−ジメチル−３−(３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.３０ｇ(１.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に無水炭酸カリウム０.２０ｇ(１.３ミリモル)及びヨウ化エチル０.２０ｇ(１.５ミリモル)を加え、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、目的とする５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.３０ｇ（収率９２.０％）を得た。
【０３５４】
＜実施例１７＞
５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１２）の製造
５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.３０ｇ(０.９２ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.６８ｇ(純度７０％、２.７６ミリモル)を加え、室温で５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１２４〜１２５℃）の５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン０.２４ｇ（収率７３.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.50(2H,s), 4.27(2H,q), 3.86(3H,s), 3.04(2H,s),1.49(6H,s),1.39(3H,t)
【０３５５】
＜実施例１８＞
５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２７）の製造
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン２１.３ｇ(１２０.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム１９.３ｇ(純度７０％、３４４.６ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１６.７ｇ(１２１.０ミリモル)，ロンガリット１８.６ｇ(１２０.７ミリモル)を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３１.４ｇ (１２０.３ミリモル)を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン２９.０ｇ(収率９０.３％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.24(2H, s), 3.90(3H,s), 2.78(2H,s), 1.42(6H, s)
【０３５６】
＜実施例１９＞
５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２８）の製造
５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.６ミリモル)のメタノール２０ｍｌ溶液に、ナトリウムメトキシド０.７７ｇ(４.０ミリモル，２８％メタノール溶液)を加え，還流下，４時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(収率９６.７％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:4.26(2H,s), 4.07(3H,s), 3.72(3H, s), 2.80(2H,s),1.43(6H, s)
【０３５７】
＜実施例２０＞
５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) ２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１３）の製造
５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.５ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.３ｇ（純度７０％，７.５ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１１３.０〜１１４.０℃)の５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン０.３１ｇ(収率５８.２％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.60(2H,s),4.11(3H,s),3.79(3H, s),3.10(2H,s),1.51(6H, s)
【０３５８】
＜実施例２１＞
３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２９）の製造
２−クロロフェノール０.４４ｇ(３.４ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水素化ナトリウム０.２ｇ(８.３ミリモル，純度６０％)を氷冷下で加え、１時間攪拌した後、更に５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン０.７ｇ(２.２ミリモル)を加え、１２０〜１３０℃で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６３ｇ(収率６６.７％)を得た。
【０３５９】
＜実施例２２＞
３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１４）の製造
３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６３ｇ(１.５ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.０ｇ（純度７０％，５.８ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点６７.０〜７０.０℃)の３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.３１ｇ(収率４５.７％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.50-6.91(4H,m), 4.45(2H,s), 3.71(3H,s), 3.03(2H, s), 1.47(6H, s)
【０３６０】
＜実施例２３＞
３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００３０）の製造
トリフェニルホスフィン０.４３ｇ(１.６ミリモル)のベンゼン１０ｍｌ溶液にシクロペンタノール０.１４ｇ(１.６ミリモル)，５,５−ジメチル−３−(５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.６ミリモル)，及びアゾジカルボン酸ジエチルエステル ０.７ｇ(４０％トルエン溶液，１.６ミリモル)を加え、室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色透明油状物の３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５２ｇ(収率８５.２％)を得た。
【０３６１】
＜実施例２４＞
３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１５）の製造
３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５２ｇ(１.４ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.８５ｇ（純度７０％，４.９ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１１３.０〜１１４.０℃)の３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.２ｇ(収率３５.５％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 5.03(1H,br), 4.60(2H,s), 3.73(3H,s), 3.05(2H, s), 1.88-1.70(8H,m), 1.50(6H, s)
【０３６２】
＜実施例２５＞
３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００３１）の製造
５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.６ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液にシアン化ナトリウム０.２ｇ(４.０ミリモル)を加え、４０℃で１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの粗化合物０.９ｇを得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.30(2H,s),4.08(3H,s),2.81(2H, s),1.43(6H, s)
【０３６３】
＜実施例２６＞
３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１６）の製造
３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.９ｇ(粗化合物)のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸２.１ｇ（純度７０％，１２.２ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１０５.０〜１０８.０℃)の３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４３ｇ(収率７６.４％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.73(2H,s),4.16(3H,s),3.14(2H, s),1.53(6H, s)
【０３６４】
＜実施例２７＞
３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００３２）の製造
５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０.７ｇ(３.７ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム０.６ｇ(純度７０％、１０.７ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム０.５１ｇ(３.７ミリモル)，ロンガリット０.５６ｇ(３.６ミリモル)を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール０.９ｇ(３.５ミリモル)を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色透明油状物の３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.８ｇ(収率７０.８％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.14(2H, s), 4.14(2H, q),2.81(2H,s),1.43(6H, s),1.42(3H, t)
【０３６５】
＜実施例２８＞
３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１７）の製造
３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.８ｇ (２.６ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸２.０ｇ（純度７０％，１１.６ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１０５.０〜１０７.０℃)の３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４１ｇ(収率４６.６％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.48(2H,s), 4.19(2H, q), 3.05(2H,s), 1.51(6H, s), 1.45(3H,t)
【０３６６】
＜実施例２９＞
３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００２０）の製造
５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン１.９ｇ(１０.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物１.２ｇ(純度７０％、１５.０ミリモル)を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム２.１ｇ(１５.０ミリモル)、ロンガリット２.３ｇ(１５.０ミリモル) 及び４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール２.６ｇ(１０.０ミリモル)を加え、さらに室温で１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色粘稠性液体（▲ｎD20▼＝１.５１８３）の３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２.１ｇ（収率６８.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:6.70(1H,t,J=54.2Hz), 4.24(2H,s), 3.86(3H,s),2.80(2H,s),1.42(6H,s)
【０３６７】
＜実施例３０＞
３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１８）の製造
３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.８ｇ(５.８ミリモル)のクロロホルム１５ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸３.６ｇ(純度７０％、１４.５ミリモル)を加え、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点７８〜７９℃）の３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.７ｇ（収率８５.９％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）6.80(1H,t,J=54.8Hz), 4.60(2H,s), 3.91(3H,s), 3.08(2H,s), 1.51(6H,s)
【０３６８】
＜実施例３１＞
５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号４−０００３）の製造
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(２.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物０.４ｇ(純度７０％、４.６ミリモル)を加え２時間攪拌した。その後、炭酸カリウム０.３ｇ(２.３ミリモル)、ロンガリット０.４ｇ(２.３ミリモル) 及び４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール０.５ｇ(１.８ミリモル)を加え、さらに室温で１４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.４ｇ（収率７０.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.11(2H, s), 2.77(2H, s), 2.54(3H, s), 1.42(6H, s)
【０３６９】
＜実施例３２＞
５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号４−０００１）の製造
５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.４ｇ(１.３ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.８ｇ(純度７０％、３.２ミリモル)を加え、室温で４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１３５〜１３６℃）の５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン０.４ｇ（収率９５.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.54(2H, s), 3.11(2H, s), 2.61(3H, s), 1.52(6H, s)
【０３７０】
＜実施例３３＞
[(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メチルチオ]−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号４−０００４）の製造
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０.８９ｇ(５.００ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、室温で水硫化ナトリウム０.８２ｇ(純度７０％,１０.００ミリモル)を加え２時間攪拌した。その後反応溶液中に無水炭酸カリウム０.７０ｇ(５.００ミリモル)、ロンガリット０.７８ｇ(５.００ミリモル)及び５−クロロ−４−クロロメチル−３−メチルイソチアゾール０.９１ｇ(５.００ミリモル)を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、[(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メチルチオ]−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.３８ｇ(収率定量的)を得た。
【０３７１】
＜実施例３４＞
[(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メチルスルホニル]−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号４−０００２）の製造
[(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メチルチオ]−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.３８ｇ(５.００ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸２.９６ｇ(純度７０％,１２.００ミリモル)を氷冷下で加え、１時間攪拌し、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末（融点１１３〜１１４℃）の[(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メチルスルホニル]−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６５ｇ(収率４７.０％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）8.89(1H,s), 4.67(2H,s), 3.05(2H,s), 2.59(3H,s), 1.51(6H,s)
【０３７２】
＜実施例３５＞
５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−4−(１−メトキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルチオ]−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２−０００２）の製造
３−(４−アセチル−２,５−ジメチルチオフェン−３−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.０ｇ(３.４ミリモル)のエタノール５０ｍｌ溶液にＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩０.５７ｇ(６.８ミリモル)と酢酸ナトリウム０.５６ｇ(６.８ミリモル)を加え、還流下，５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−４−(１−メトキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルチオ]−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(３６.４％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.21(2H, s),3.95(3H,s),2.76(2H, s),2.38(3H, s),2.34(3H,s),2.13(3H,s),1.42(6H, s)
【０３７３】
＜実施例３６＞
５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−４−(１−メトキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルスルホニル]−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２−０００１）の製造
５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−４−(１−メトキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルチオ]−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(１.２ミリモル)のクロロホルム３０ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸０.６１ｇ（純度７０％，３.５ミリモル）を氷冷下で加え１時間攪拌し、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶(融点９５.０〜９６.０℃)の５,５−ジメチル−３−(４−(１−メトキシイミノエチル−２,５−ジメチル−チオフェン−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン０.３５ｇ(８０％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.79(2H, s),3.95(3H,s),2.93(2H, s),2.42(3H, s),2.37(3H,s),2.17(3H,s),1.47(6H, s)
【０３７４】
＜実施例３７＞
５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号７−０００３）の製造
５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０.３ｇ(１.６ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム０.２６ｇ(純度７０％、４.６ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム０.２２ｇ(１.６ミリモル)，ロンガリット０.２５ｇ(１.６ミリモル)を加え、更に２時間攪拌後、３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチル−ピリジン０.３ｇ(１.３ミリモル)を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン ０.４５ｇ(収率９８.９％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:8.98(1H,s), 8.70(1H,d), 7.51(1H,d), 4.47(2H,s), 2.79(2H,s), 1.43(6H, s)
【０３７５】
＜実施例３８＞
５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号７−０００１） および５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−N−オキシド−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号７−０００２）の製造
５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン  ０.４５ｇ (１.６ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.７７ｇ（純度７０％，４.５ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、淡黄色結晶(融点７７.０〜８０.０℃)の５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン０.０６ｇ(収率１２.０％) および 白色結晶(融点１１４.０〜１１６.０℃)の５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−N−オキシド−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン０.１２ｇ(収率２３.１％)を得た。
５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.98(1H,s), 8.84(1H,d), 7.64(1H,d), 4.92(2H, s), 3.09(2H,s), 1.52(6H, s)
５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−N−オキシド−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:  8.50(1H,s), 8.25(1H,d), 7.59(1H,d), 4.81(2H, s), 3.12(2H,s), 1.53(6H, s)
【０３７６】
＜実施例３９＞
５,５−ジメチル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メチルチオ]−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号８−０００２）の製造
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０.３５ｇ(２.００ミリモル)のジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、室温で水硫化ナトリウム０.３２ｇ(純度７０％,４.００ミリモル)を加え２時間攪拌した。その後反応溶液中に無水炭酸カリウム０.２８ｇ(２.００ミリモル)、ロンガリット０.３１ｇ(２.００ミリモル)及び５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン０.４５ｇ(２.００ミリモル)を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５,５−ジメチル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メチルチオ]−２−イソオキサゾリン０.５５ｇ(収率８５.９％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.81(1H,s), 4.44(2H,d), 4.1２(3H,  s), 2.81(2H,s), 1.45(6H,s)
【０３７７】
＜実施例４０＞
５,５−ジメチル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メチルスルホニル]−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号８−０００１）の製造
５,５−ジメチル− [(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メチルチオ]−２−イソオキサゾリン０.５５ｇ(１.７１ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下でｍ−クロロ過安息香酸１.０５ｇ(純度７０％,４.２８ミリモル)を加え１時間攪拌し、さらに室温で４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色羽毛状結晶（融点１７５〜１７６℃）の５,５−ジメチル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メチルスルホニル]−２−イソオキサゾリン０.４５ｇ(収率７５.０％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.89(1H,s), 5.00(2H,d), 4.11(3H,s), 3.11(2H,s), 1.53(6H,s)
【０３７８】
＜実施例４１＞
３−（５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルチオメチル)−２−トリフルオロメチル−６，７ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサジン（本発明化合物番号３−００３３）の製造
水素化ナトリウム０.１１ｇ(２.８ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌ懸濁液に３−[５−クロロ−１−(３−ヒドロキシプロピル)−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル−メチルチオ]−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾール０.８２ｇ（２.３ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液を室温で滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で３０分攪拌し、その後１００℃に加熱し１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、３−（５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルチオメチル)−２−トリフルオロメチル−６，７ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサジン０.７７ｇ(収率１００％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.37(2H,t), 4.19(2H,t), 4.15(2H,s), 2.80(2H,s), 2.31(2H,m), 1.42(6H,s)
【０３７９】
＜実施例４２＞
３−(５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルスルホニルメチル）−２−トリフルオロメチル−６,７−ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサジン（本発明化合物番号３−００１９）の製造
３−(６,７−ジヒドロ−３−トリフルオロメチル−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−b][１,３]オキサジン−４−イル−メチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.７７ｇ（２.３ミリモル）のクロロホルム溶液２０ｍｌに、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.２５ｇ（純度７０％，５.１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色粉末（融点１５１.０−１５２.０℃）の３−(５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルスルホニルメチル）−２−トリフルオロメチル−６,７−ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサジン０.３６ｇ(収率４３％)を得た。（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:4.47(2H,s), 4.40(2H,t), 4.23(2H,t), 3.09(2H,s), 2.34(2H,m)，1.50(6H，s)
【０３８０】
【表１３１】
0004465133.tif 000154
【０３８１】
【表１３２】
0004465133.tif 000155
【０３８２】
【表１３３】
0004465133.tif 000156
【０３８３】
【表１３４】
0004465133.tif 000157
【０３８４】
【表１３５】
0004465133.tif 000158
【０３８５】
【表１３６】
0004465133.tif 000159
【０３８６】
【表１３７】
0004465133.tif 000160
【０３８７】
【表１３８】
0004465133.tif 000161
【０３８８】
【表１３９】
0004465133.tif 000162
【０３８９】
【表１４０】
0004465133.tif 000163
【０３９０】
【表１４１】
0004465133.tif 000164
【０３９１】
【表１４２】
0004465133.tif 000165
【０３９２】
【表１４３】
0004465133.tif 000166
【０３９３】
【表１４４】
0004465133.tif 000167
【０３９４】
（中間体の製造例）
＜参考例１＞
３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造
グリオキシル酸アルドオキシム１８２.７ｇ（２.０５モル）の１,２−ジメトキシエタン２ｌ溶液に、６５〜７０℃でＮ−クロロこはく酸イミド５３４.０ｇ（４.０モル）を徐々に加えた後、１時間加熱還流した。氷冷下、炭酸水素カリウム１４４０.０ｇ（１４.４モル）及び水１０ｍｌを加えた後、２−メチルプロペン３６０.０ｇ（６.４モル）を反応溶液に加え、室温で２４時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎジイソプロピルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色粘調性液体の３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１０７.７ｇ（収率４０.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:2.93(2H,s)、1.47(6H,s)
【０３９５】
＜参考例２＞
３−クロロ−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造
グリオキシル酸アルドオキシム２０.６ｇ（２３１.７ミリモル）の１,２−ジメトキシエタン５００ｍｌ溶液に、６０℃でＮ−クロロこはく酸イミド６１.９ｇ（４６３.４ミリモル）を徐々に加えた。加え終わった後、１０分間加熱還流した。次に、氷冷下、２−メチル−１−ブテン５０ｍｌ（４６３.４ミリモル）、炭酸水素カリウム９８.９ｇ（１６２２ミリモル）及び水１０ｍｌを加え１２時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎｎ−ヘキサンで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色粘調性液体の３−クロロ−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１３.９ｇ（収率４０.６％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:2.91(2H,ABq,J=17.0,Δν=46.1Hz), 1.73(2H,q)、1.42(3H,s)、0.96(3H,t)
【０３９６】
＜参考例３＞
３−ベンジルチオ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造
ベンジルメルカプタン２.８ｇ（２２.５ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、窒素気流下、無水炭酸カリウム３.２ｇ（２３.２ミリモル）及び３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン３.０ｇ（２２.５ミリモル）を加え１００℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色油状物質（屈折率▲ｎD20▼＝１.５５２１）の３−ベンジルチオ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン３.１ｇ（収率６２.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:7.24-7.39(5H,m)、4.26(2H,s)、2.77(2H,s)、1.40(6H,s)
【０３９７】
＜参考例４＞
３−（２,６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造
３−（２,６−ジフルオロベンジルチオ）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン４.１ｇ（１５.０ミリモル）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸４.６ｇ（純度７０％、１８.８ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色粉末（融点３０℃以下）の３−（２,６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１.５ｇ（収率３４.８％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:7.39-7.28(1H,m)、7.03-6.94(2H,m)、4.38(2H,s)、3.04(1H,ABq,J=17.2,Δν=85.7Hz)+3.12(1H,s)、1.75(2H,m)、1.44(3H,s)+1.41(3H,s)、0.97(3H,m)
【０３９８】
＜参考例５＞
３−（２,６−ジフルオロベンジルスルホニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造
３−（２,６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０.８ｇ（２.８ミリモル）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.０ｇ（純度７０％、４.１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色粉末（融点６４〜６５℃）の３−（２,６−ジフルオロベンジルスルホニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０.６ｇ（収率７５.０％）を得た。
（1H−NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:7.36-7.46(1H,m)、6.98-7.04(2H,m)、4.73(2H,s)、3.04(2H,ABq,J=17.2,Δν=51.1Hz)、1.77(2H,q)、1.46(3H,s)、0.97(3H,t)
【０３９９】
＜参考例６＞
５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１４３.０ｇ（１.０７モル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５００ｍｌ溶液に、氷冷下、メチルメルカプタンナトリウム水溶液１.０ｋｇ（含量１５％、２.１４モル）を滴下し、その後室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５,５−ジメチル−３−メチルチオ−２−イソオキサゾリンを１１５.０ｇ（収率７４.１％）得た。この抽出物（７４１.２ミリモル）をクロロホルム１ｌに溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸３９２.０ｇ（純度７０％、１.５９モル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了後、析出したｍ−クロロ安息香酸を濾別し、濾液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、白色粉末（融点８２〜８４℃）の５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン７７.６ｇ（収率５９.１％）を得た。
（1H−NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:3.26(3H,s)、3.12(2H,s)、1.51(6H,s)
＜参考例７＞
５,５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの製造
３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリンを含有した反応溶液に、エチルメルカプタン５６０.０ｇ(９.０モル)および水酸化ナトリウム３６０.０ｇ(９.０モル)の水溶液１５００ｍｌを加えた。その後、６０〜７０℃で１６時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、濃赤色油状の５,５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの粗化合物２７０.０ｇ得た。
【０４００】
＜参考例８＞
５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
５,５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの粗油状物２７０.０ｇ(１.７モル)をクロロホルム１.０ｌに溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１０５０ｇ（純度７０％，６.１モル）を加え１時間攪拌し、その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、析出したｍ−クロロ安息香酸を濾別し、濾液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン１３３.６ｇ（収率６５.４％）を得た。
【０４０１】
＜参考例９＞
１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル３４.１ｇ(１８４.９ミリモル)のエタノール５００ｍｌ溶液にフェニルヒドラジン２０ｇ(１８４.９ミリモル)及び濃塩酸４ｍｌを加えた後、１時間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去し、残渣に水を加えて結晶を析出させた。ろ過し、得られた結晶をろ液が中性になるまで水で洗浄した後、乾燥して、黄土色結晶の１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３７.１ｇ(収率８７.９％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.68-7.41(5H, m), 5.86(1H, s), 3.71(1H,s)
【０４０２】
＜参考例１０＞
５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド７.７ｇ(１０５.２ミリモル)に、氷冷下、オキシ塩化リン３３.６ｇ(２１９.１ミリモル)を加えた。次に、室温で１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０ｇ(８７.７ミリモル)を加えた後、１時間加熱還流した。反応終了後、氷冷下、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶の５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１９.１ｇ（収率７９.１％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 10.06(1H, s), 7.57(5H, s)
【０４０３】
＜参考例１１＞
(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０.２１ｇ(５.５ミリモル)のＴＨＦ７０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３ｇ(１０.９ミリモル)のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液を徐々に加えた。さらに−３０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加えて攪拌した後、水を加え、しばらく攪拌した。この反応混合物を減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、白色結晶の(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３.０ｇ（収率９９.９％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.54-7.51(5H, m), 4.71(2H, d), 1.79(1H, b)
【０４０４】
＜参考例１２＞
４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３.０ｇ(１０.９ミリモル)のジエチルエーテル６０ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１.０ｇ(３.８ミリモル)を加え、さらに室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、白色結晶の４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３.６ｇ(収率９５.８％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.58-7.48(5H, m), 4.48(2H, s)
【０４０５】
＜参考例１３＞
５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３３.０ｇ(１２０.１ミリモル)のジメチルスルホキシド５００ｍｌ溶液に、ふっ化カリウム１０.５ｇ(１８０.２ミリモル)を加え、１００℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド２６.５ｇ（収率８５.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 9.96(1H, s), 7.68-7.51(5H, m)
【０４０６】
＜参考例１４＞
(５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム１.６ｇ（４１.０ミリモル）のメタノール３００ｍｌ溶液に、氷冷下、５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド２６.５ｇ（１０２.５ミリモル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加え、０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、 (５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール２８.５ｇ（収率１００％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.65-7.41(5H, m), 4.68(2H, d), 1.73(1H, t)
【０４０７】
＜参考例１５＞
４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
(５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール２７.５ｇ(１０５.７ミリモル)のジエチルエーテル３００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化りん１０.０ｇ(３７.０ミリモル)を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３０.３ｇ(収率８８.８％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.66-7.42(5H, m), 4.44(2H, s)
【０４０８】
＜参考例１６＞
１−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル５５２.３ｇ(３.０モル)のエタノール１５００ｍｌ溶液にtert−ブチルヒドラジン塩酸塩３７３.８ｇ(３.０モル)及び濃塩酸５０ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去し、残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の１−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３６９.０ｇ(収率５９.１％)を得た。
【０４０９】
＜参考例１７＞
１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド８７.７ｇ(１.２モル)に、氷冷下、オキシ塩化リン４６２.０ｇ(３.０モル)を加えた。次に、室温で１−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０８.２ｇ(１.０モル)を加えた後、１０時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶の１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１３１.５ｇ（収率２１.７％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 9.97(1H, d), 1.76(9H, s)
【０４１０】
＜参考例１８＞
(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造
１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３９.９ｇ(１５６.９ミリモル)のメタノール３００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム６.５ｇ(１７２.６ミリモル)を徐々に加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３７.７ｇ（収率９３.６％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.60(2H, d), 1.72(9H, s), 1.58(1H, t)
【０４１１】
＜参考例１９＞
４−ブロモメチル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール９.２ｇ(３５.７ミリモル)のジエチルエーテル１００ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１１.６ｇ(４２.９ミリモル)を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０.０ｇ(収率８７.３％)を得た。
【０４１２】
＜参考例２０＞
(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタンチオールの製造
水硫化ナトリウム水和物２１.８ｇ(純度７０％、２７２.２ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌ溶液に４−ブロモメチル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４３.５ｇ(１３６.１ミリモル)を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタンチオール３２.３ｇ(収率８７.０％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 3.65(2H, d), 1.90(1H, t), 1.70(9H, s)
【０４１３】
＜参考例２１＞
１−tert−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
１−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール１８.８ｇ（９０.３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液に、室温で無水炭酸カリウム１５.０ｇ（１０８.４ミリモル）及びヨウ化メチル１９.３ｇ（１３５.５ミリモル）を加え、さらに１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、１−tert−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２０.０ｇ(収率９９.８％)を得た。
【０４１４】
＜参考例２２＞
１−tert−ブチル−４−クロロメチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
１−tert−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２０.０ｇ(９０.１ミリモル)の酢酸９０ｍｌ溶液に、パラホルムアルデヒド５.４ｇ(ホルムアルデヒド換算１８０.２ミリモル)及び濃塩酸２０ｍｌを加え６０℃で３０分間加熱攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジイソプロピルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、１−tert−ブチル−４−クロロメチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２１.７ｇ（収率８９.０％）を得た。
【０４１５】
＜参考例２３＞
３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０.０ｇ（６０.２ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、室温で無水炭酸カリウム１０.０ｇ（７２.３ミリモル）及びヨウ化メチル１２.８ｇ（９０.３ミリモル）を加え、さらに１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール９.８ｇ(収率９０.７％)を得た。
【０４１６】
＜参考例２４＞
４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１.００ｇ(５.６ミリモル)の酢酸２５ｍｌ溶液に、パラホルムアルデヒド０.４５ｇ(ホルムアルデヒド換算１５.０ミリモル)及び濃塩酸５ｍｌを加え８０℃で２時間加熱攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ炭酸カリウムを用いて中和した後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール０.８３ｇ（収率６５.０％）を得た。
【０４１７】
＜参考例２５＞
５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド６０.４ｇ(２８２.７ミリモル)のジメチルスルホキシド７００ｍｌ溶液に、ふっ化カリウム４２.０ｇ(７１１.９ミリモル)を加え、１２０〜１４０℃で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−３６.８ｇ（収率６６.０％）を得た。
【０４１８】
＜参考例２６＞
(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム３.９ｇ（１０２.６ミリモル）のメタノール５００ｍｌに溶液、氷冷下、５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３６.８ｇ（１８７.６ミリモル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加えた。０℃で３０分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、 (５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３５.４ｇ（収率９５.４％）を得た。
【０４１９】
＜参考例２７＞
４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３５.４ｇ(１７８.７ミリモル)のジエチルエーテル５００ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化りん５４.０ｇ(１９９.５ミリモル)を加えた。室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３１.４ｇ(収率８０.８％)を得た。
【０４２０】
＜参考例２８＞
(エトキシカルボニル)マロンジアルデヒドの製造
水素化ナトリウム１２.６ｇ(純度６０％、５２５.０ミリモル) をジエチルエーテルで数回デカントした後、ジエチルエーテル５００ｍｌ溶液とした。そして、窒素気流下、０〜１０℃で、ギ酸エチル１９４ｇ(２.６モル)および３，３−ジエトキシ−プロピオン酸エチルエステル５０ｇ(２６２.０ミリモル)を加えた。その後、室温で１５時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、ジエチルエーテルで洗浄した。得られた水層を塩酸でｐＨ１とした後、ジクロロメタンで抽出した。更に、得られた有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、濃赤色油状の(エトキシカルボニル)マロンジアルデヒドの粗化合物３７.６ｇ(収率１００％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 9.09(2H, s),５.26(1H,s),4.27(2H, q),1.28(3H,t)
【０４２１】
＜参考例２９＞
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
(エトキシカルボニル)マロンジアルデヒド２７.６ｇ(１９２ミリモル)のエタノール１５０ｍｌ溶液に氷冷下、ヒドラジン６.２ｇ(１９３ミリモル)を加え、室温で１７時間攪拌した。その後、減圧下エタノールを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色結晶の１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１９.４ｇ(７２.４％)を得た
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.08(2H, s),5.30(1H,s),4.31(2H, q),1.36(3H,t)
【０４２２】
＜参考例３０＞
１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.５ｇ(１０.７ミリモル)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に無水炭酸カリウム３.７ｇ(２６.８ミリモル)，ヨウ化エチル４.２ｇ(２６.６ミリモル)を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.６ｇ(収率８８.９％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 7.90(2H, s),4.28(2H,q),4.18(2H, q),1.51(3H,t),1.35(3H,t)
【０４２３】
＜参考例３１＞
３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.６ｇ(９.５ミリモル)，Ｎ−クロロこはく酸イミド ５.１ｇ(３８.３ミリモル)をガラス封管に入れ、１６０℃で６時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、反応物を四塩化炭素およびクロロホルムで洗浄、減圧ろ過した。得られたろ液(有機層)を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.０ｇ(収率４４.２％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.36(2H,q),4.21(2H, q),1.44(3H,t),1.38(3H,t)
【０４２４】
＜参考例３２＞
(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０.１６ｇ(４.２ミリモル)のテトラヒドロフラン７０ｍｌ溶液を−５０℃に冷却し、３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.０ｇ(４.２ミリモル)のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液をゆっくり滴下し、更に−５０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、酢酸エチルを加えて、しばらく攪拌した後、更に水を加え、しばらく攪拌した。減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、茶色油状物の(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)メタノール０.８２ｇ(収率１００％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:  4.52(2H,s), 4.16(2H,q), 1.43(3H,t)
【０４２５】
＜参考例３３＞
４−ブロモメチル−３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)メタノール０.８２ｇ(４.２ミリモル)のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化リン１.３ｇ(４.８ミリモル)を加え、更に室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の４−ブロモメチル−３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール０.９ｇ(収率８１.８％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.33(2H,s), 4.13(2H,q), 1.43(3H,t)
【０４２６】
＜参考例３４＞
３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
ジフルオロアセト酢酸エチルエステル３０.０ｇ(１８０.６ミリモル)のエタノール２００ｍｌ溶液にメチルヒドラジン８.３ｇ(１８０.６ミリモル)及び濃塩酸５ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去した。残渣を水中に注ぎクエン酸でｐＨ４とした後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール８.９ｇ(収率３３.３％)を得た。
【０４２７】
＜参考例３５＞
５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７.９ｇ(１０８.０ミリモル)に、氷冷下、オキシ塩化リン４１.６ｇ(２７０.１ミリモル)を加えた。次に、室温で３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール８.０ｇ(５４.０ミリモル)を加えた後、４時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶の５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド７.７ｇ（収率７３.３％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:9.96(1H,s), 6.90(1H,t,J=53.6Hz), 3.93(3H,s)
【０４２８】
＜参考例３６＞
(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造
５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド７.２ｇ(３７.０ミリモル)のメタノール１００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２.１ｇ(５５.５ミリモル)を徐々に加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３.８ｇ（収率５２.１％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）:6.70(1H,t,J=40.8Hz), 4.63(2H,s), 3.86(3H,s), 1.79(1H,br)
【０４２９】
＜参考例３７＞
４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール２.０ｇ(１０.０ミリモル)のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１.０ｇ(３.５ミリモル)を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール２.６ｇ(収率１００.０％)を得た。
【０４３０】
＜参考例３８＞
トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレートの製造
トリフルオロアセトアルデヒドヘミエチルアセタール５０.０ｇ（３４７.０ミリモル）のメタノール８０ｍｌ溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩２４.１ｇ（３４７.０ミリモル）、水１６０ｍｌを加え、氷冷下、５０％水酸化ナトリウム水溶液８０.０ｇ（１.７モル）を滴下した。滴下終了後室温で６時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸を加えてｐＨ６とし、ジエチルエーテルで抽出した。減圧下溶媒を留去し、残渣を蒸留し、トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレート２４.７ｇ（収率３８.０％）を得た。
【０４３１】
＜参考例３９＞
トリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレートの製造
トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレート２４.７ｇ（１３１.７ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、氷冷下、Ｎ−ブロモこはく酸イミド３８.８ｇ（2１８.０ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１２５ｍｌ溶液を加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣を蒸留し、褐色油状物質のトリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレート３３.３ｇ（収率９５.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 9.30(1H, s)
【０４３２】
＜参考例４０＞
４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾールの製造
アセト酢酸エチル６.７ｇ（５１.３ミリモル）のメタノール８０ｍｌ溶液に、ナトリウムメトキシド２.８ｇ（５１.３ミリモル）を加え、氷冷下、トリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレート５.０ｇ（１８.８ミリモル）のメタノール２０ｍｌ溶液を加えた。室温で３時間攪拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色油状物質の４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール２.９ｇ（収率６９.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.36(2H, q), 2.77(3H, s), １.37(3H, t)
【０４３３】
＜参考例４１＞
(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イル)−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０.１６ｇ(４.２ミリモル)のＴＨＦ１５ｍｌ溶液を０℃に冷却し、４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール０.９３ｇ(４.２ミリモル)のＴＨＦ１５ｍｌ溶液を徐々に加えた。０℃で１時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加えてしばらく攪拌した後、水を加え、しばらく攪拌した。減圧ろ過し、ろ液をジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イル)−メタノール０.５ｇ（収率６０.０％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.60(2H, d), 2.54(3H, s), 1.66(1H, br)
【０４３４】
＜参考例４２＞
４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾールの製造
(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イル)−メタノール０.４５ｇ(２.５ミリモル)のジエチルエーテル１０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化りん０.２ｇ(８.９ミリモル)を加えた。室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール０.５ｇ(収率７４.０％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.31(2H, d), 2.51(3H, s)
【０４３５】
＜参考例４３＞
(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０.４２ｇ(１１.０ミリモル)のテＴＨＦ１０ｍｌ溶液に、−３０℃で５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−カルボン酸エチルエステル２.０６ｇ(１０.０ミリモル)のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を滴下し、さらに同温度で１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液に酢酸エチルを加えた後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メタノール１.５０ｇ（収率９１.５％）を得た。
【０４３６】
＜参考例４４＞
４−クロロメチル−５−クロロ−３−メチルイソチアゾールの製造
(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メタノール１.５０ｇ (９.１５ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、室温で塩化チオニル３.２６ｇ(２７.４４ミリモル)を加え３時間攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去し、４−クロロメチル−５−クロロ−３−メチルイソチアゾール１.６７ｇ（収率定量的）を得た。
【０４３７】
＜参考例４５＞
４−トリフルオロメチルニコチン酸メチルエステルの製造
４−トリフルオロメチルニコチン酸 ４.６ｇ(２４.１ミリモル)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム６.７ｇ(４８.６ミリモル)，ヨウ化メチル６.９ｇ(４８.６ミリモル)を加え、室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の４−トリフルオロメチルニコチン酸 メチルエステル２.７７ｇ(収率５６.１％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 9.11(1H,s),8.92(1H,d),7.６4(1H,d),3.99(3H,s)
【０４３８】
＜参考例４６＞
(４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル)−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０.３７ｇ(９.７ミリモル)のＴＨＦ１００ｍｌ溶液を−５０℃に冷却し、４−トリフルオロメチルニコチン酸メチルエステル２.０ｇ(９.８ミリモル)のＴＨＦ３０ｍｌ溶液をゆっくり滴下し、更に−５０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、酢酸エチルを加えて、しばらく攪拌した後、更に水を加え、再度しばらく攪拌した。反応混合物を減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の(４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル)メタノール０.６ｇ(収率３５.３％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 9.00(1H,s), 8.73(1H,d), 7.51(1H,d), 4.95(2H,s)
【０４３９】
＜参考例４７＞
３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチルピリジンの製造
(４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル)メタノール０.６ｇ (３.４ミリモル)のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化リン１.４ｇ(５.２ミリモル)を加え、更に室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチルピリジン０.６１ｇ(収率７５.３％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.88(1H,s), 8.73(1H,d), 7.54(1H,d), 4.63(2H,s)
【０４４０】
＜参考例４８＞
５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン４９.２ｇ(３００.０ミリモル)の酢酸６００ｍｌ溶液に、室温で無水酢酸ナトリウム７７.５ｇ(９４５.０ミリモル)を加えた。さらに４５℃で反応溶液中に臭素５０.３ｇ(３１５ミリモル)を徐々に加え、同温度で３時間攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン３８.９ｇ(収率５３.４％)を得た。
【０４４１】
＜参考例４９＞
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン２４.３ｇ(１００.０ミリモル)をオキシ塩化リン１８.５ｇ(１２０.０ミリモル)に懸濁させ、１００℃で２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を徐々に水にあけクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン２１.５ｇ（収率８２.４％）を得た。
【０４４２】
＜参考例５０＞
５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン２１.５ｇ(８２.２ミリモル)のメタノール１００ｍｌ溶液に、室温でナトリウムメトキシド１６.７ｍｌ(２８％メタノール溶液  ８６.４ミリモル)を加え攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン１９.２ｇ(収率９１.０％)を得た。
【０４４３】
＜参考例５１＞
５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン３.００ｇ(１１.４８ミリモル)のエタノール５０ｍｌ溶液に、室温でナトリウムエトキシド０.９４ｇ(１３.７７ミリモル)を加え攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン２.４４ｇ(収率８２.９％)を得た。
【０４４４】
＜参考例５２＞
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン１０.３ｇ(４０.０ミリモル)のテトラヒドロフラン１００ｍl溶液に、−６５〜−６０℃でｎ−ブチルリチウム３０.０ｍｌ(１.６ｍｏｌ/ｌ  ｎ−ヘキサン溶液４８.０ミリモル)を徐々に加えた後、３０分間攪拌した。さらに同温度で、ギ酸エチル３.６ｇ(４８.０ミリモル)を加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド１.３ｇ（収率１５.８％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 10.41(1H,q), 8.98(1H,s), 4.18(3H,s)
【０４４５】
＜参考例５３＞
４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン５.７６ｇ（２１.３ミリモル）のＴＨＦ２５０ｍｌ溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチム２２.６ｍｌ（１.６ｍｏｌ／ｌ  ｎ−ヘキサン溶液  ３６.１ミリモル）を滴下し、４０分間攪拌した。ギ酸メチル２.７ｇ（４５.１ミリモル）を加え、さらに１.５時間攪拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド３.８２ｇ（収率８１.６％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 10.41(1H, s), 8.95(1H, s), 4.63(2H, q), 1.48(3H, t)
【０４４６】
＜参考例５４＞
(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メタノールの製造
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド１.３ｇ(６.３ミリモル)のメタノール３０ｍｌ溶液に、室温で水素化ホウ素ナトリウム０.２４ｇ(６.３ミリモル)を徐々に加え３時間攪拌した。反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メタノール０.４２ｇ（収率３２.１％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.93(1H,s), 4.81(2H,s), 4.13(3H,s), 2.26(1H,br)
【０４４７】
＜参考例５５＞
（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム１.７ｇ（４５.７ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド３.８２ｇ（１７.２ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液を加え、さらに０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール３.７７ｇ（収率９７.８％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.80(1H, s), 4.81(2H, s), 4.59(2H, q), 2.28(1H, b), 1.48(3H, t)
【０４４８】
＜参考例５６＞
５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル)−メタノール０.４２ｇ(２.０２ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、室温で塩化チオニル１.１９ｇ(１０.１ミリモル)を加え３時間攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去し、５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン０.４５ｇ（収率：定量的）を得た。
【０４４９】
＜参考例５７＞
５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール３.７７ｇ(１７.０ミリモル)のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化りん２.０ｇ(７.２ミリモル)を加えた。室温で１時間攪拌した。生じた塩をメタノールで溶解し、さらに１時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの粗化合物を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.79(1H, s), 4.61(2H, q), 4.55(2H, s), 1.49(3H, t)
【０４５０】
＜参考例５８＞
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン１０.３ｇ(４０.０ミリモル)のテトラヒドロフラン１００ｍl溶液に、−６５〜−６０℃でｎ−ブチルリチウム(１.６ｍｏｌ/ｌ  ｎ−ヘキサン溶液)３０.０ｍｌ(４８.０ミリモル)を徐々に加えた後、３０分間攪拌した。さらに同温度で、ギ酸エチル３.６ｇ(４８.０ミリモル)を加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド１.３ｇ（収率１５.８％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 10.41(1H, q), 8.98(1H, s), 4.18(3H, s)
【０４５１】
＜参考例５９＞
(２−クロロ−４−メチルピリジン−３−イル)メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０.４ｇ(１０.０ミリモル)のテトラヒドロフラン３０ｍｌ懸濁液に、−６５〜−６０℃でメチル ２−クロロ−４−メチルニコチン酸１.９ｇ(１０.０ミリモル)のＴＨＦ５.０ｍｌ溶液を徐々に加えた後、３０分間攪拌した。さらに−２０℃で、１時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、(２−クロロ−４−メチルピリジン−３−イル)メタノール０.６ｇ（収率３８.２％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.19(1H, d), 7.08(1H, d), 4.85(2H, s) ,2.49(3H, s)
【０４５２】
＜参考例６０＞
３−アセチル−４−クロロメチル−２,５−ジクロロチオフェンの製造
３−アセチル−２,５−ジクロロチオフェン５.０ｇ(３２.４ミリモル)のクロロメチルメチルエーテル２６ｍｌ(３２３.０ミリモル)溶液に、氷冷下１０℃での四塩化チタン(２ｍｏｌ/ｌジクロロメタン溶液)３３ｍｌ(６６.０ミリモル)を滴下した。その後室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を重曹及び水、食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１)で精製し、黄色結晶の３−アセチル−４−クロロメチル−２,５−ジクロロチオフェン２.６ｇ（収率３９.７％）を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 4.70 (2H, s), 2.56 (3H,s), 2.54 (3H,s) 2.39(3H, s)
【０４５３】
＜参考例６１＞
３−ブロモ−２−ブロモメチルベンゾフランの製造
３−ブロモ−２−メチルベンゾフラン２.８ｇ(１３.３ミリモル)のモノクロロベンゼン３０ｍl溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド２.７ｇ(１５.３ミリモル)及びアゾビスイソブチロニトリル０.４ｇ(２.７ミリモル)を加えた後、８０℃で３０分間攪拌した。原料消失を確認した後、反応溶液を室温にまで冷却した。不溶物を濾別し、濾液を減圧下溶媒を留去した。残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、３−ブロモ−２−ブロモメチルベンゾフラン３.０ｇ（収率７９.０％）を得た。
【０４５４】
＜参考例６２＞
１−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル３.０ｇ (２１.４ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム６.０ｇ(４３.５ミリモル)を加え、クロロジフルオロメタンを反応溶液に吹き込み、１３０〜１４０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色透明油状物の１−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.６７ｇ(収率４１.０％)を得た。
（1H-NMR値（CDCl3/TMS  δ(ppm)）: 8.32(1H,s),8.04(1H,s),7.20(1H, t),4.32(2H,q),1.37(3H, t)
本発明の除草剤は、一般式［I］で示されるイソオキサゾリン誘導体及これを有効成分としてなる。
【０４５５】
本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤、微粒剤または粒剤等に製剤して使用することもできる。
【０４５６】
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
【０４５７】
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
【０４５８】
本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用または水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤または粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。また、フロアブル剤とする場合は１〜４０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
【０４５９】
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１ヘクタール当り１ｇ〜５０ｋｇ、好ましくは１０ｇ〜１０ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤、水和剤及びフロアブル剤とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
【０４６０】
また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。
【０４６１】
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
【０４６２】
〈製剤例１〉  水和剤
化合物（３−０００６）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得た。
【０４６３】
〈製剤例２〉  フロアブル剤
粗粉砕した化合物（３−０００６）２０部を水６９部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩４部、エチレングリコール７部を加えるとともにシリコーンAF-118N（旭化成工業株式会社製）を製剤に対し２００ｐｐｍ加え、高速攪拌機にて３０分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。
【０４６４】
〈製剤例３〉  乳剤
化合物（３−０００６）の３０部にキシレンとイソホロンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。
【０４６５】
〈製剤例４〉  粒剤
化合物（３−０００６）の１０部、タルクとベントナイトを１：３の割合で混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得た。
【０４６６】
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
【０４６７】
〈試験例１〉  水田土壌処理による除草効果試験
１００ｃｍ2プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギの種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、１ヘクタール当り１０００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表１４５の基準に従って除草効果を調査した。結果を表１４６〜表１４８に示す。
【０４６８】
【表１４５】
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【０４６９】
【表１４６】
0004465133.tif 000169
【０４７０】
【表１４７】
0004465133.tif 000170
【０４７１】
【表１４８】
0004465133.tif 000171
【０４７２】
〈試験例２〉  畑地土壌処理による除草効果試験
８０ｃｍ2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表１４５の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１４９〜表１５２に示す。
【０４７３】
【表１４９】
0004465133.tif 000172
【０４７４】
【表１５０】
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【０４７５】
【表１５１】
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【０４７６】
【表１５２】
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【０４７７】
〈試験例３〉  畑地茎葉処理による除草効果試験
８０ｃｍ2プラスチックポットに砂を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表１４５の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１５３〜表１５４に示す。
【０４７８】
【表１５３】
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【０４７９】
【表１５４】
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【０４８０】
【発明の効果】
一般式［I］で表される本発明の化合物は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
【０４８１】
一方、本発明の除草剤は作物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対して高い安全性を示す。