(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、表面層が形成されている感光体において、
前記表面層は、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する組成物を光硬化することにより形成されており、
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーの光吸収スペクトルの長波長側の吸収端波長より２５ｎｍ長い波長の光が前記表面層を透過する透過率が６５％以上であることを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性官能基数が１であることを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
前記電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性官能基数が３以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の感光体。
【請求項４】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び前記電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項５】
前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、トリアリールアミン構造を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項６】
前記導電性支持体上に、電荷発生層、電荷輸送層及び前記表面層が順次積層されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項７】
導電性支持体上に、表面層が形成されている感光体を製造する方法において、
前記導電性支持体上に、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する塗布液を塗布する工程と、
該塗布液が塗布された導電性支持体に光を照射して、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び前記電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する組成物を硬化することにより、前記表面層を形成する工程を有し、
前記光を発生する光源は、光源室内に設けられており、
前記塗布液が塗布された導電性支持体は、光照射室内で該光が照射され、
前記光源室及び前記光照射室は、光透過性部材を介して設けられていることを特徴とする感光体の製造方法。
【請求項８】
前記光透過性部材は、石英ガラスであることを特徴とする請求項７に記載の感光体の製造方法。
【請求項９】
前記塗布液が塗布された導電性支持体の前記光が照射される部分に不活性ガスを噴き付けながら、前記塗布液が塗布された導電性支持体に前記光を照射することを特徴とする請求項７又は８に記載の感光体の製造方法。
【請求項１０】
前記光透過性部材は、一部又は全体がコールドフィルタであることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項に記載の感光体の製造方法。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の感光体の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする感光体。
【請求項１２】
請求項１乃至６及び１１のいずれか一項に記載の感光体を帯電させる工程と、
該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する工程と、
該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する工程と、
該感光体に形成されたトナー像を転写体に転写する工程を有することを特徴とする画像形成方法。
【請求項１３】
請求項１乃至６及び１１のいずれか一項に記載の感光体を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
請求項１乃至６及び１１のいずれか一項に記載の感光体と、前記感光体を帯電させる帯電手段、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する現像手段、該感光体に形成されたトナー像を転写体に転写する転写手段、該トナー像が転写された感光体をクリーニングするクリーニング手段及び該クリーニングされた感光体を除電する除電手段からなる群より選択される少なくとも一つの手段とを有し、
画像形成装置の本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、感光体の製造方法、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機感光体（ＯＰＣ）は、良好な性能及び様々な利点から、無機感光体に代わり、複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば、光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、材料の選択範囲の広さ、製造の容易さ、低コスト、無毒性等が挙げられる。
【０００３】
一方、最近、画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり、感光体の高耐久化が切望されている。しかしながら、有機感光体は、表面層が低分子電荷輸送材料と不活性高分子を主成分としているため、一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという問題がある。加えて、高画質化の要求から、トナー粒子の小粒径化に伴い、クリーニング性を向上させる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の増大及び当接圧力の増大が余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。このような感光体の摩耗は、感度、帯電性等の電気特性を劣化させ、画像濃度の低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また、摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れをもたらす。現状では、感光体の寿命は、この摩耗や傷が律速となり、交換に至っている。
【０００４】
したがって、有機感光体の高耐久化においては、摩耗量を低減することが不可欠であり、これが当分野で最も解決が迫られている課題である。感光層の耐摩耗性を改良する技術としては、（１）表面層に硬化性バインダーを用いたもの（例えば、特許文献１参照）、（２）高分子型電荷輸送物質を用いたもの（例えば、特許文献２参照）、（３）表面層に無機フィラーを分散させたもの（例えば、特許文献３参照）等が挙げられる。
【０００５】
（１）は、電荷輸送物質との相溶性が低いことや重合開始剤、未反応残基等の不純物により、残留電位が上昇し、画像濃度が低下しやすい傾向にある。また、（２）及び（３）は、耐摩耗性を向上させることが可能であるものの、有機感光体に求められている耐久性を十分に満足させるまでには至っていない。さらに、（３）は、無機フィラーの表面に存在するトラップにより、残留電位が上昇し、画像濃度が低下しやすい傾向にある。（１）〜（３）の技術では、有機感光体に求められる電気的及び機械的な耐久性を含む総合的な耐久性を十分に満足するには至っていない。
【０００６】
一方、（１）の耐摩耗性と耐傷性を改良するために、多官能のアクリレートモノマーの硬化物を含有する感光体が知られている（特許文献４参照）。しかしながら、この感光体においては、感光層上に設けられた保護層は、上記硬化物を含有する旨の記載があるものの、保護層は、電荷輸送物質を含有してもよいことが記載されているのみで具体的な記載はない。しかも、単に表面層に低分子の電荷輸送物質を含有する場合には、上記硬化物との相溶性の問題があり、これにより、低分子電荷輸送物質の析出、白濁現象が起こり、機械強度も低下することがある。
【０００７】
さらに、この感光体は、具体的には、高分子バインダーを含有した状態でモノマーを反応させるため、硬化が充分に進行しないことや、硬化物とバインダー樹脂との相溶性の問題があり、硬化時に相分離による凹凸が発生し、クリーニング不良を引き起こす傾向が見られる。
【０００８】
これらに換わる感光層の耐摩耗技術として、炭素−炭素二重結合を有するモノマーと、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送物質及びバインダー樹脂からなる塗布液を用いて、電荷輸送層を設ける方法が知られているが（例えば、特許文献５参照）、バインダー樹脂には、炭素−炭素二重結合を有し、電荷輸送物質に対して反応性を有するものと、二重結合を有さず、反応性を有さないものが含まれる。この感光体は、耐摩耗性と良好な電気特性を両立しており注目される。しかしながら、バインダー樹脂として、反応性を有さないものを使用した場合においては、バインダー樹脂と、モノマーと電荷輸送物質との反応により生成した硬化物との相溶性が低いため、架橋時に相分離して凹凸が発生し、クリーニング不良を引き起こす傾向が見られる。また、バインダー樹脂がモノマーの硬化を妨げる他、モノマーとして具体的に記載されているものは、２官能性モノマーであるため、充分な架橋密度が得られず、耐摩耗性の点では、未だ満足するには至っていない。また、反応性を有するバインダーを使用した場合においても、モノマー及びバインダー樹脂が有する官能基数の低さから、電荷輸送物質の結合量と架橋密度との両立が困難であり、電気特性及び耐摩耗性も充分とは言えない。
【０００９】
また、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を硬化した化合物を含有する感光層も知られている（例えば、特許文献６参照）。
【００１０】
しかし、この感光層は、嵩高い正孔輸送性化合物が二つ以上の連鎖重合性官能基を有するため、硬化物中に歪みが発生して内部応力が大きくなり、表面層の荒れや経時におけるクラックが発生しやすい場合があり、充分な耐久性を有していない。
【００１１】
これら従来技術における電荷輸送性構造を化学結合させた架橋感光層を有する感光体においても、現状では、十分な総合特性を有しているとは言えない。
【００１２】
以上の状況に対して、本発明者らは、表面層を形成する際に、少なくとも電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーと、電荷輸送性構造を有する単官能のラジカル重合性モノマーを硬化することにより、上記課題が大幅に改善されることを開示した（特許文献７参照）。しかしながら、光エネルギー照射手段を用いて硬化することにより、表面層を形成するため、光エネルギーの照射手段により、感光体の特性が変化しやすいという問題がある。
【特許文献１】特開昭５６−４８６３７号公報
【特許文献２】特開昭６４−１７２８号公報
【特許文献３】特開平４−２８１４６１号公報
【特許文献４】特許第３２６２４８８号公報
【特許文献５】特許第３１９４３９２号公報
【特許文献６】特開２０００−６６４２５号公報
【特許文献７】特開２００４−３０２４５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体及び該感光体の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
請求項１に記載の発明は、導電性支持体上に、表面層が形成されている感光体において、前記表面層は、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する組成物を光硬化することにより形成されており、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーの光吸収スペクトルの長波長側の吸収端波長より２５ｎｍ長い波長の光が前記表面層を透過する透過率が６５％以上であることを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体を提供することができる。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の感光体において、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性官能基数が１であることを特徴とする。これにより、電気特性を向上させることができる。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の感光体において、前記電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性官能基数が３以上であることを特徴とする。これにより、耐摩耗性を向上させることができる。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の感光体において、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び前記電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有することを特徴とする。これにより、耐摩耗性及び電気特性を向上させることができる。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の感光体において、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、トリアリールアミン構造を有することを特徴とする。これにより、電気特性を向上させることができる。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の感光体において、前記導電性支持体上に、電荷発生層、電荷輸送層及び前記表面層が順次積層されていることを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体を得ることができる。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、導電性支持体上に、表面層が形成されている感光体を製造する方法において、前記導電性支持体上に、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する塗布液を塗布する工程と、該塗布液が塗布された導電性支持体に光を照射して、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び前記電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する組成物を硬化することにより、前記表面層を形成する工程を有し、前記光を発生する光源は、光源室内に設けられており、前記塗布液が塗布された導電性支持体は、光照射室内で該光が照射され、前記光源室及び前記光照射室は、光透過性部材を介して設けられていることを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体の製造方法を提供することができる。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の感光体の製造方法において、前記光透過性部材は、石英ガラスであることを特徴とする。これにより、ＵＶ光の透過性を向上させることができる。
【００２２】
請求項９に記載の発明は、請求項７又は８に記載の感光体の製造方法において、前記塗布液が塗布された導電性支持体の前記光が照射される部分に不活性ガスを噴き付けながら、前記塗布液が塗布された導電性支持体に前記光を照射することを特徴とする。これにより、硬化反応速度の低下及び架橋密度の低下を抑制することができる。
【００２３】
請求項１０に記載の発明は、請求項７乃至９のいずれか一項に記載の感光体の製造方法において、前記光透過性部材は、一部又は全体がコールドフィルタであることを特徴とする。これにより、硬化反応に不要な光エネルギーが照射されることを抑制することができる。
【００２４】
請求項１１に記載の発明は、感光体において、請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の感光体の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体を提供することができる。
【００２５】
請求項１２に記載の発明は、画像形成方法において、請求項１乃至６及び１１のいずれか一項に記載の感光体を帯電させる工程と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する工程と、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する工程と、該感光体に形成されたトナー像を転写体に転写する工程を有することを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な画像形成方法を提供することができる。
【００２６】
請求項１３に記載の発明は、画像形成装置において、請求項１乃至６及び１１のいずれか一項に記載の感光体を有することを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な画像形成装置を提供することができる。
【００２７】
請求項１４に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、請求項１乃至６及び１１のいずれか一項に記載の感光体と、前記感光体を帯電させる帯電手段、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する現像手段、該感光体に形成されたトナー像を転写体に転写する転写手段、該トナー像が転写された感光体をクリーニングするクリーニング手段及び該クリーニングされた感光体を除電する除電手段からなる群より選択される少なくとも一つの手段とを有し、画像形成装置の本体に着脱可能であることを特徴とする。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能なプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体及び該感光体の製造方法を提供することができる。また、本発明は、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
次に、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００３０】
本発明の感光体は、導電性支持体上に少なくとも表面層を有し、表面層は、少なくとも電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを光硬化することにより形成されており、光硬化する前の表面層の光吸収スペクトルの吸収端波長より２５ｎｍ長い波長の光が表面層を透過する透過率は、６５％以上であり、７０％以上が好ましい。なお、表面層を透過する透過率は、表面層の膜厚を８μｍに換算することにより、算出することができる。これにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることができる。
【００３１】
この理由としては、以下の要因が挙げられる。
【００３２】
通常、光硬化により表面層を形成する場合に、熱線、熱又は熱エネルギーによって、副反応、酸素による重合阻害、酸化等が起こる。熱線（熱）によって副反応が起こると、表面層又は感光層の内部において、電荷トラップサイトの生成、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーの変性等が起こると考えられる。この結果、感光体の電気特性が低下する。また、副反応が起こると、硬化反応が十分に進行しないため、耐摩耗性が低下する。例えば、光硬化前の表面層の光吸収スペクトルの吸収端波長が３８０ｎｍである場合に、上記の現象を表面層の光透過率で追跡すると、波長が約３７０〜５００ｎｍの光が表面層を透過する透過率が低下する。これは、図８に示すように、光硬化前の表面層の光吸収スペクトルは、その吸収端波長より２５ｎｍ以上長い波長の光の吸収が殆ど無く、透過率が高いが、光硬化後の表面層の光吸収スペクトルは、上記吸収端波長より２５ｎｍ以上長い波長の光の吸収が裾を引いたように大きくなるためである。
【００３３】
そこで、本発明においては、光硬化前の表面層の光吸収スペクトルの吸収端波長より２５ｎｍ長い波長の光が表面層を透過する透過率を６５％以上とすることにより、長期に亘って安定した耐磨耗性と静電特性を両立させることが可能な感光体が得られることがわかった。
【００３４】
本発明の感光体の製造方法は、導電性支持体上に、少なくとも電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを含有する塗布液を塗布する工程及び塗布液が塗布された導電性支持体に光を照射することにより、少なくとも電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーを硬化する工程を有する。このとき、光を発生する光源を有する光源室及び表面層の塗布液が塗布された導電性支持体に光を照射する光照射室を光透過性部材によって隔離することにより、表面層の光透過率の低下を抑制することができる。これは、光を照射した時に生じる光源室の熱が光照射室内の表面層の塗布液が塗布された導電性支持体を熱汚染することを抑制し、硬化反応時における副反応の進行を抑制することができるためである。また、表面層の塗布液が塗布された導電性支持体に光照射することにより揮発する物質が光源を汚染することを抑制することもできる。光源が汚染されると、照射される光の強度が低下して表面層の光硬化反応が不十分になり、表面層の強度が低下することがある。また、光源室と光照射室を隔離していない場合、表面層の表面平滑性が低下することがある。
【００３５】
本発明において、光透過性部材として、コールドフィルタを使用することが好ましい。これにより、硬化反応に不要な光が、表面層の塗布液が塗布された導電性支持体に照射されることを抑制することができる。この結果、感光体材料の劣化を抑制することができ、光透過率の低下をさらに抑制することができる。
【００３６】
また、不活性ガス雰囲気下で表面層を硬化させることが好ましい。これにより、大気下よりも酸素濃度が低下するため、反応末端のラジカルを酸素が捕捉して、ジオキシラジカルが生成することによる硬化反応速度の低下及び架橋密度の低下を抑制することができる。例えば、光照射室に不活性ガスを充填する方法があり、これは、光源室と光照射室が隔離されていることによって可能となる。
【００３７】
さらに、本発明においては、表面層の塗布液が塗布された導電性支持体の光照射部に不活性ガスを噴き付けながら、光を照射して硬化することにより、光照射室を不活性ガスで充填することによる効果とほぼ同等の効果が得られる。これは、主に光硬化反応が行われている光照射部に不活性ガスを噴き付けることにより、反応場付近の酸素濃度を大幅に低下させることができるためである。これにより、光照射室に不活性ガスを充填する時間及び不活性ガスの使用量を低減することができる。
【００３８】
本発明において、光吸収スペクトルの吸収端波長とは、材料に固有なＨＯＭＯ−ＬＵＭＯの遷移エネルギーの波長換算値に相当するものとする。
【００３９】
本発明の感光体のように、主として有機化合物からなる電荷輸送物質が樹脂に分散されたような系においてバンド理論が適用できるかどうかは議論の対象となるところであるが、例えば、「表面科学、第１５巻、第９号、第５６５〜５７２項」（１９９４年）等の論文に見られるように、一般に多く有機化合物において、そのエネルギー状態をバンド構造で説明することは慣用となっており、また、ほとんどの場合で妥当な結果が得られることが知られている。
【００４０】
本発明においても、半導体におけるバンドギャップエネルギーに相当する有機化合物のＨＯＭＯ−ＬＵＭＯ間の遷移エネルギーに下記関係式を適応した結果、満足すべき結果が得られている。
【００４１】
すなわち、一般に、長波長側の光学吸収端近傍の比較的吸収の大きい領域において、吸収係数αと光エネルギーｈν（但し、ｈ及びνは、それぞれプランク常数及び波数を示す）及びバンドキャップエネルギーＥ０の間には、式
αｈν＝Ｂ（ｈν−Ｅ０）２（但し、Ｂは定数を示す）。
が成り立つと考えられている。したがって、吸収スペクトルを測定し、（αｈν）１／２に対してｈνをプロットし、直線区間を外挿したα＝０におけるｈνの値が遷移エネルギーＥ０となり、その波長換算値
λ０＝ｈｃ／Ｅ０（但し、ｃは光速を示す）
が光吸収スペクトルの吸収端波長となる。
【００４２】
本発明において、表面層の光透過率は、感光体から剥離した表面層を、分光光度計ＵＶ３１００（島津製作所社製）を用いて測定することができるが、これに類似する装置であれば、特に限定されない。感光体から表面層を剥離する具体的な方法としては、表面層とその下層を同時に剥がし、下層を溶解させる方法、下層を研磨する方法等が挙げられる。
【００４３】
次に、本発明で用いられるラジカル重合性モノマーについて説明する。
【００４４】
本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとしては、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造又は縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環等の電子輸送性構造を有すると共に、ラジカル重合性官能基を有する化合物が挙げられる。ラジカル重合性官能基は、炭素−炭素２重結合を有し、ラジカル重合が可能な官能基であればよい。
【００４５】
ラジカル重合性官能基としては、例えば、ビニル系官能基、１−置換ビニル系官能基等が挙げられる。
【００４６】
ビニル系官能基としては、一般式
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ１−
で表される化合物を用いることができる。式中、Ｘ１は、置換基を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有してもよいアルケニレン基、カルボニル基、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮ（Ｒ１０）−（Ｒ１０は、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。）又はチオ基を表す。これらの官能基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオ基等が挙げられる。
【００４７】
１−置換ビニル系官能基としては、一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ２−
で表される化合物を用いることができる。式中、Ｙは、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、−ＣＯＯＲ１１（Ｒ１１は、水素原子、置換基を有してもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３（Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。）、また、Ｘ２は、上記一般式のＸ１と同一の官能基、単結合又はアルキレン基を表す。ただし、Ｙ及びＸ２の少なくとも一方は、−ＣＯＯ−、シアノ基、アルケニレン基又は芳香族環である。これらの官能基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノビニル基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノビニルフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
【００４８】
なお、これらＸ１、Ｘ２及びＹが有する置換基としては、例えば、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００４９】
これらのラジカル重合性官能基の中では、特に、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が有用である。また、電荷輸送性構造としては、トリアリールアミン構造を用いることが好ましい。
【００５０】
本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして、一般式（１）
【００５１】
【化１】
0004579151.tif 000002
及び（２）
【００５２】
【化２】
0004579151.tif 000003
で示される化合物の少なくとも一方を用いることが好ましい。これにより、感度、残留電位等の電気的特性を良好に持続することができる。式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−ＣＯＯＲ７（Ｒ７は、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。）、−ＣＯＹ（Ｙは、ハロゲン基を表す。）又はＣＯＮＲ８Ｒ９（Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。）を表し、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換又は無置換のアリーレン基を表す。Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、置換又は無置換のアリール基を表す。Ｘは、単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のオキシアルキレン基、オキシ基、チオ基又はビニレン基を表す。Ｚは、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のオキシアルキレン基又はオキシアルキレン基及びカルボニル基を組み合わせた官能基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
【００５３】
以下に、一般式（１）又は（２）で示される化合物における置換基の具体例を示す。
【００５４】
Ｒ１の中で、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていてもよい。中でも、水素原子又はメチル基が好ましい。
【００５５】
Ａｒ３及びＡｒ４のアリール基としては、縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基、複素環基等が挙げられる。
【００５６】
縮合多環式炭化水素基は、環を形成する炭素数が１８以下であることが好ましく、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等が挙げられる。
【００５７】
非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル、ジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の１価基、ビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、ポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基又は９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の１価基が挙げられる。
【００５８】
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、チアジアゾール等の１価基が挙げられる。
【００５９】
また、Ａｒ３及びＡｒ４の置換若しくは無置換のアリール基は、以下に示すような置換基を有してもよい。
（１）ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基等。
（２）アルキル基；Ｃ１〜Ｃ１２、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ８、さらに好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、さらに、フルオロ基、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
（３）アルコキシ基（−ＯＲ２）；Ｒ２は、（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基；アリール基としては、フェニル基、ナフチル基が挙げられ、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン基を有していてもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
（５）アルキルメルカプト基又はアリールメルカプト基；具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）−ＮＲ３Ｒ４で表される置換基；Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、（２）で定義したアルキル基又はアリール基を表す。アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン基を有してもよい。また、Ｒ１及びＲ２は、共同で環を形成してもよい。具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリールアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
（７）メチレンジオキシ基又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等。
（８）置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
【００６０】
Ａｒ１及びＡｒ２のアリーレン基としては、Ａｒ３及びＡｒ４のアリール基から誘導される２価基が挙げられる。
【００６１】
Ｘのアルキレン基は、Ｃ１〜Ｃ１２、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ８、さらに好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、さらに、フルオロ基、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有してもよい。具体的には、メチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、イソプロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
【００６２】
Ｘのシクロアルキレン基は、Ｃ５〜Ｃ７の環状アルキレン基であり、フルオロ基、水酸基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基を有してもよい。具体的には、シクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
【００６３】
Ｘのオキシアルキレン基としては、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等のオキシアルキレン基、エチレングリコール、プロピレングリコール等から誘導されるアルキレンジオキシ基、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導されるジ（オキシアルキレン）オキシ基又はポリ（オキシアルキレン）オキシ基等が挙げられる。オキシアルキレン基のアルキレン基は、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基等を有してもよい。
【００６４】
Ｘのビニレン基としては、一般式
【００６５】
【化３】
0004579151.tif 000004
で表される置換基が挙げられる。式中、Ｒ５は、水素原子、アルキル基（（２）で定義されるアルキル基と同じ）又はアリール基（Ａｒ３及びＡｒ４のアリール基と同じ）であり、ａは、１又は２であり、ｂは、１〜３の整数を表す。
【００６６】
Ｚのアルキレン基及びオキシアルキレン基としては、Ｘと同様のものが挙げられる。また、Ｚのオキシアルキレン基及びカルボニル基を組み合わせた官能基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。
【００６７】
本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、一般式（３）
【００６８】
【化４】
0004579151.tif 000005
で表される化合物であることがさらに好ましい。式中、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１であり、Ｒａは、水素原子又はメチル基を表し、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基であり、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。なお、ｓ又はｔが２又は３である場合は、複数のＲｂ又はＲｃは、異なってもよい。Ｚａは、単結合、メチレン基、エチレン基、
【００６９】
【化５】
0004579151.tif 000006
を表す。
【００７０】
一般式（３）で表される化合物の中でも、Ｒｂ及びＲｃが、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基である化合物が特に好ましい。
【００７１】
また、本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、一般式（４）
Ｂ１−Ａｒ５−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ６−Ｂ２
で示される化合物であることが好ましい。式中、Ａｒ５は、置換又は無置換の芳香族炭化水素の一価基又は二価基を表す。芳香族炭化水素としては、ベンゼン、ナフタレン、フェナントレン、ビフェニル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン等が挙げられる。
【００７２】
置換基としては、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ベンジル基、ハロゲン基が挙げられる。また、アルキル基及びアルコキシ基は、ハロゲン基、フェニル基で置換されていてもよい。
【００７３】
Ａｒ６は、少なくとも１個の３級アミノ基を有する芳香族炭化水素の二価基又は少なくとも１個の３級アミノ基を有する複素環式化合物の一価基又は二価基を表す。ここで、３級アミノ基を有する芳香族炭化水素は、一般式（Ａ）
【００７４】
【化６】
0004579151.tif 000007
で表される。式中、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立に、アシル基、置換若しくは無置換のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ａｒ７は、アリール基を表す。ｗは、１〜３の整数を表す。
【００７５】
Ｒ１３及びＲ１４のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。Ｒ１３及びＲ１４の置換若しくは無置換のアルキル基としては、Ａｒ５の置換基で述べたアルキル基と同様である。Ｒ１３及びＲ１４の置換若しくは無置換のアリール基は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基又は一般式（Ｂ）
【００７６】
【化７】
0004579151.tif 000008
で表される官能基が挙げられる。式中、Ｂは、オキシ基、チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、カルボニル基、
【００７７】
【化８】
0004579151.tif 000009
（Ｒ２２は、水素原子、Ａｒ５で定義された置換若しくは無置換のアルキル基又はＲ１３で定義された置換若しくは無置換のアリール基を表し、ｉは、１〜１２の整数、ｊは、１〜３の整数を表す。）で表し、Ｒ２１は、水素原子、Ａｒ５で定義された置換若しくは無置換のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、Ｒ１３で定義された置換若しくは無置換のアリール基、アミノ基、ニトロ基又はシアノ基を表す。
【００７８】
Ｒ２１のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。Ｒ２１のハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられる。Ｒ２１のアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。
【００７９】
Ａｒ７のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基が挙げられる。
【００８０】
なお、Ａｒ７、Ｒ１３及びＲ１４は、Ａｒ５で定義されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基で置換されていてもよい。
【００８１】
また、３級アミノ基を有する複素環式化合物としては、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、ジオキサゾール、インドール、イソインドール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサジン、カルバゾール、フェノキサジン等のアミン構造を有する複素環化合物が挙げられる。これらは、Ａｒ５で定義されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基で置換基されていてもよい。
【００８２】
Ｂ１及びＢ２は、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基又はアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基若しくはビニル基を有するアルキル基若しくはアルコキシ基を表す。アルキル基及びアルコキシ基は、Ａｒ５で述べたものが同様に適用される。なお、Ｂ１及びＢ２は、どちらか一方のみが存在し、両方が存在することは無い。
【００８３】
本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、一般式（５）
【００８４】
【化９】
0004579151.tif 000010
で示される化合物であることがさらに好ましい。式中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基又はハロゲン基を表し、Ａｒ７及びＡｒ８は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアリール基若しくはアリーレン基又は置換若しくは無置換のベンジル基を表す。
【００８５】
Ｒ８及びＲ９のアルキル基、アルコキシ基及びハロゲン基は、Ａｒ５で述べたものが同様に適用される。Ａｒ７及びＡｒ８のアリール基は、Ｒ１３及びＲ１４で定義されたアリール基と同様であり、アリーレン基は、そのアリール基から誘導される二価基である。
【００８６】
Ｂ１〜Ｂ４は、一般式（４）におけるＢ１及びＢ２と同様であり、Ｂ１〜Ｂ４の内、どれか一つだけが存在し、二つ以上存在することはない。ｕ及びｖは、それぞれ０〜５の整数及び０〜４の整数を表す。
【００８７】
一般式（４）又は（５）で表される化合物は、スチルベン型共役構造を有する三級アミン化合物である。このような共役構造を有する電荷輸送性物質を用いることにより、表面層の界面部分での電荷注入性が非常に良好となり、さらに、架橋結合間に固定化された場合でも分子間相互作用が阻害されにくく、電荷移動度に関しても良好な特性を有する。また、ラジカル重合性の高いアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を分子中に１個有しており、ラジカル重合時に速やかにゲル化すると共に過度な架橋歪みを生じない。また、スチルベン構造の二重結合が部分的に重合されるが、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基よりも重合性が低いため、硬化反応に時間差が生じることにより、歪みを抑制しすることができる。さらに、分子中の二重結合を使用するために、架橋密度を向上させることができ、耐摩耗性のさらなる向上が可能となる。また、この二重結合は、硬化条件により重合度を調整することができ、最適な硬化膜を簡便に形成することができる。なお、このようなラジカル重合は、前述したようなα−フェニルスチルベン型の構造では起こらない。
【００８８】
以上のことから、一般式（４）、特に、一般式（５）で示される化合物を用いることにより、良好な電気特性を維持すると共に、クラック等の発生を抑制する架橋密度の高い膜を形成することができる。これにより、感光体の諸特性を満足すると共に、シリカ微粒子等が感光体に刺さることを抑制し、白斑点等の画像欠陥を削減することができる。
【００８９】
一般式（１）、（２）、（３）又は（４）、特に、一般式（３）又は（５）で示される化合物は、３官能以上のラジカル重合性モノマーと重合することにより得られる硬化樹脂中では、主鎖又は主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在する。なお、架橋鎖には、１つの高分子と他の高分子の間を架橋する分子間架橋鎖と、１つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と他の部位の間を架橋する分子内架橋鎖がある。このとき、上記化合物が主鎖中に存在する場合であっても、架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも３つのアリール基を有するため、嵩高いが、鎖部分に直接結合しておらず、鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため、立体的位置取りに融通性のある状態で固定されている。このように、トリアリールアミン構造は、硬化樹脂中で相互に程よく隣接する空間配置とすることが可能であるため、分子内の構造的歪みが少ない。このため、表面層中で、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造とすることができると推測される。
【００９０】
以下に、電荷輸送性構造として、トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性モノマーの具体例を示すが、これらの化合物に限定されるものではなく、２官能のラジカル重合性モノマーも使用することができる。
【００９１】
【化１０】
0004579151.tif 000011
【００９２】
【化１１】
0004579151.tif 000012
【００９３】
【化１２】
0004579151.tif 000013
【００９４】
【化１３】
0004579151.tif 000014
【００９５】
【化１４】
0004579151.tif 000015
【００９６】
【化１５】
0004579151.tif 000016
【００９７】
【化１６】
0004579151.tif 000017
【００９８】
【化１７】
0004579151.tif 000018
【００９９】
【化１８】
0004579151.tif 000019
【０１００】
【化１９】
0004579151.tif 000020
【０１０１】
【化２０】
0004579151.tif 000021
【０１０２】
【化２１】
0004579151.tif 000022
【０１０３】
【化２２】
0004579151.tif 000023
【０１０４】
【化２３】
0004579151.tif 000024
【０１０５】
【化２４】
0004579151.tif 000025
【０１０６】
【化２５】
0004579151.tif 000026
【０１０７】
【化２６】
0004579151.tif 000027
【０１０８】
【化２７】
0004579151.tif 000028
【０１０９】
【化２８】
0004579151.tif 000029
【０１１０】
【化２９】
0004579151.tif 000030
本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、表面層の電荷輸送性能を付与するために重要で、表面層中の含有量は、通常、２０〜８０重量％であり、３０〜７０重量％が好ましい。含有量が２０重量％未満では、表面層の電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用により、感度の低下、残留電位の上昇等の電気特性が劣化することがある。また、含有量が８０重量％を超えると、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーの含有量が低下し、架橋密度が低下して耐摩耗性が不十分となることがある。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なるため、一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると、上記含有量は、３０〜７０重量％が好ましい。
【０１１１】
本発明において、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーのラジカル重合性官能基としては、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーと同様のものを用いることができる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。また、耐摩耗性を向上させることができることから、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーは、３官能以上であることが好ましい。
【０１１２】
３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば、水酸基を３個以上有する化合物と、アクリル酸（塩）、アクリル酸ハロゲン化物又はアクリル酸エステルを用い、エステル化反応又はエステル交換反応させることにより得ることができる。また、３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。なお、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーのラジカル重合性官能基は、同一でも異なってもよい。
【０１１３】
電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、アルキレン変性（以下、ＨＰＡ変性という）トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシ変性（以下、ＥＯ変性という）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシ変性（以下、ＰＯ変性という）トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、エピクロロヒドリン変性（以下、ＥＣＨ変性という）グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート等が挙げられ、これらは、単独又は２種類以上を併用しても差し支えない。
【０１１４】
また、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーは、表面層中に緻密な架橋結合を形成するために、ラジカル重合性官能基数に対する分子量の比は、２５０以下であることが望ましい。この比が２５０より大きい場合、表面層は、柔らかくなり、耐摩耗性が不十分となることがある。このため、上記例示したモノマー中、ＨＰＡ、ＥＯ、ＰＯ等の変性基を有するモノマーにおいては、極端に長い変性基を有するものを単独で使用することは好ましくはない。
【０１１５】
また、表面層中の電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーの含有量は、表面層に対して、通常、２０〜８０重量％であり、３０〜７０重量％が好ましい。含有量が２０重量％未満では、表面層の架橋密度が小さくなり、耐摩耗性が不十分となることがある。また、含有量が８０重量％を超えると、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーの含有量が低下し、電気特性が劣化することがある。なお、使用されるプロセスによって要求される耐摩耗性や電気特性が異なるため、一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると、上記含有量は、３０〜７０重量％が好ましい。
【０１１６】
本発明において、表面層の塗布液は、塗布時の粘度調整、表面層の応力緩和、表面エネルギーの低下、摩擦係数の低減等の機能を付与する目的で、電荷輸送性構造を有さない単官能又は２官能のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、ラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらとしては公知のものが利用できる。
【０１１７】
電荷輸送性構造を有さない単官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、アクリル酸３−メトキシブチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸イソブチル、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、アクリル酸セチル、アクリル酸イソステアリル、アクリル酸ステアリル、スチレン等が挙げられる。
【０１１８】
電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ−ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦ−ＥＯ変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。
【０１１９】
電荷輸送性構造を有さない機能性モノマーとしては、例えば、アクリル酸オクタフルオロペンチル、アクリル酸２−パーフルオロオクチルエチル、メタクリル酸２−パーフルオロオクチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロイソノニルエチル等のフルオロ基で置換したもの、特公平５−６０５０３号公報及び特公平６−４５７７０号公報に記載されているシロキサン繰り返し単位数が２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチル等のポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。
【０１２０】
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
【０１２１】
ただし、電荷輸送性構造を有さない単官能又は２官能のラジカル重合性モノマー、ラジカル重合性オリゴマーを多量に含有させると、表面層の架橋密度が実質的に低下し、耐摩耗性が低下することがある。このため、これらのモノマーやオリゴマーの含有量は、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー１００重量部に対して、通常、５０重量部以下であり、３０重量部以下が好ましい。
【０１２２】
また、本発明において、表面層を形成する際に、硬化反応を効率よく進行させるために、必要に応じて、重合開始剤を用いてもよい。
【０１２３】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物が挙げられる。また、光重合促進効果を有する化合物を単独又は光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１２４】
これらの重合開始剤は１種又は２種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の添加量は、ラジカル重合性を有する化合物の総重量１００重量部に対して、通常、０．５〜４０重量部であり、１〜２０重量部が好ましい。
【０１２５】
さらに、表面層の塗布液は、必要に応じて、各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤等の添加剤を含有することができる。添加剤は、公知のものが使用可能である。
【０１２６】
可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等の一般の樹脂に使用されているものを利用することができる。可塑剤の添加量は、表面層の塗布液の全固形分に対して、通常、２０重量％以下であり、１０重量％以下が好ましい。
【０１２７】
また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマーを利用することができる。レベリング剤の添加量は、表面層の塗布液の全固形分に対して、通常、３重量％以下である。
【０１２８】
表面層の塗布液の溶剤として、蒸発速度の遅い溶剤を用いると、溶剤が残留して硬化を妨げたり、下層成分の混入量を増加させたりすることがあり、不均一硬化や硬化密度の低下をもたらすことがある。その結果、耐溶剤性が低下することがある。このため、溶剤としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン及びメタノールの混合溶剤、酢酸エチル、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ等が有用であるが、塗布方法に応じて適宜選択することができる。
【０１２９】
また、表面層の塗布液の固形分濃度は、１０〜５０重量％であることが好ましい。固形分濃度が１０重量％未満では、耐溶剤性が低下することがある。また、膜厚及び粘度の制限から、固形分濃度は、５０重量％以下であることが好ましい。
【０１３０】
表面層の塗布方法は、塗膜形成時の溶剤の含有量及び溶剤との接触時間が少ない方法が好ましく、具体的には、スプレーコート法、塗布量を規制したリングコート法が挙げられる。また、下層成分の混入を抑制するためには、感光層に高分子電荷輸送物質を用いること及び表面層の塗布液の溶剤に対して、不溶性の中間層を感光層上に設けることも有効である。
【０１３１】
本発明において、表面層の塗布液を導電性支持体上に塗布した後に、光を照射する光源としては、主に紫外領域に発光波長を有する高圧水銀灯、メタルハライドランプ等のＵＶ照射光源を利用することができるが、ラジカル重合性モノマーや光重合開始剤の吸収波長に応じて可視光光源を選択することも可能である。照射光量は、通常、５０ｍＷ／ｃｍ２以上であり、５００ｍＷ／ｃｍ２以上が好ましく、１０００ｍＷ／ｃｍ２以上がさらに好ましい。これにより、硬化反応速度が大きくなり、均一性の高い表面層を形成することが可能となる。さらに、光透過性部材を用いて、光源室と光照射室を隔離することにより、主に光照射中に発生する表面層の塗布液の溶剤又はラジカル重合性モノマーの揮発物質が光源を汚染することを抑制し、長期に亘り、安定して良好な感光体を作製することができる。
【０１３２】
また、光源室と光照射室を隔離することにより、光照射室の雰囲気を調節することが可能となる。光照射室の雰囲気は、大気中、不活性ガス中、真空中のいずれでも構わないが、硬化反応のメカニズムがラジカル重合であることを考慮すると、酸素による反応活性点の失活を極力避ける意味でも、不活性ガス中又は真空中であることが好ましい。また、不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等を使用することが可能であるが、コストの面から、窒素を使用することが好ましい。不活性ガスを光照射室に充填する場合、不活性ガスの純度は、高いことが好ましいが、要求される特性、コスト及び装置面から、弊害のない範囲の純度の不活性ガスを使用することが可能である。また、不活性ガスを表面層の塗布液が塗布された導電性支持体の光エネルギー照射部に噴き付ける場合は、少量の不活性ガスで酸素濃度を低下させることが可能である。不活性ガスの噴き付け量は、１〜２００ｍ３／時であることが好ましい。噴き付け量が２００ｍ３／時より多いと、表面層の表面が乱れることがある。
【０１３３】
本発明において、光透過性部材としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、パイレックス（登録商標）等を用いることができるが、中でも、ＵＶ光の透過性の点から、石英ガラスが好ましい。
【０１３４】
さらに、本発明において、光透過性部材として、コールドフィルタを使用することが有効である。コールドフィルタは、光照射処理に必要な約２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長の紫外〜可視領域の光を透過して、熱的影響を与える約４５０ｎｍ〜２０００ｎｍの波長の光の透過を抑える機能を有するものである。コールドフィルタは、例えば、厚さ２ｍｍ程度のパイレックス（登録商標）、石英ガラス等の光透過性部材に金属酸化物等の誘電物質の蒸着膜を数〜数十層形成したものであり、多層膜蒸着反射鏡と呼ばれるものを用いることができる。
【０１３５】
本発明において、表面層の膜厚は、感光体の層構造によって異なるため、以下の層構造に従い、説明する。
【０１３６】
図１に、本発明の感光体の一例を示す。本感光体は、導電性支持体１１上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する単層構造の感光層が形成されている。図１（ａ）は、感光層として、表面層１３が形成されており、図１（ｂ）は、感光層１２の表面に、表面層１３が形成されている。
【０１３７】
図２に、本発明の感光体の他の例を示す。本感光体は、導電性支持体２１上に、電荷発生機能を有する電荷発生層２２と、電荷輸送機能を有する電荷輸送層とが積層されている積層構造の感光層が形成されている。図２（ａ）は、電荷輸送層として、表面層２４が形成されており、図２（ｂ）は、電荷輸送層２３の表面に、表面層２４が形成されている。
【０１３８】
導電性支持体としては、体積抵抗率が１０１０Ω・ｃｍ以下であるものを用いることができ、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらを押し出し、引き抜き等の工法で素管化した後、切削、超仕上げ、研磨等の表面処理を施した管等が挙げられる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。この他に、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に、導電性粉体が結着樹脂に分散されている導電性層を形成したものについても、導電性支持体として用いることができる。
【０１３９】
導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉；導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物粉体等が挙げられる。
【０１４０】
また、導電性粉体を分散させる結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。
【０１４１】
このような導電性層は、導電性粉体と結着樹脂を、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に分散して塗布することにより、形成することができる。
【０１４２】
さらに、導電性粉体を含有する熱収縮チューブを用いて、円筒基体上に導電性層を形成したものも、導電性支持体として用いることができる。熱収縮チューブの素材としては、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等が挙げられる。
【０１４３】
次に、感光層について説明する。感光層は、積層構造でも単層構造でもよい。
【０１４４】
積層構造の場合には、感光層は、電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である。
【０１４５】
以下、積層構造の感光層について説明する。
【０１４６】
電荷発生層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じて、バインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料及び有機系材料を用いることができる。
【０１４７】
無機系材料としては、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【０１４８】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１４９】
電荷発生層に用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリアクリルアミド等が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１５０】
また、電荷発生層のバインダー樹脂として、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格、ベンジジン骨格、ヒドラゾン骨格、カルバゾール骨格、スチルベン骨格、ピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料；ポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。
【０１５１】
前者の具体例としては、特開平０１−００１７２８号公報、特開平０１−００９９６４号公報、特開平０１−０１３０６１号公報、特開平０１−０１９０４９号公報、特開平０１−２４１５５９号公報、特開平０４−０１１６２７号公報、特開平０４−１７５３３７号公報、特開平０４−１８３７１９号公報、特開平０４−２２５０１４号公報、特開平０４−２３０７６７号公報、特開平０４−３２０４２０号公報、特開平０５−２３２７２７号公報、特開平０５−３１０９０４号公報、特開平０６−２３４８３６号公報、特開平０６−２３４８３７号公報、特開平０６−２３４８３８号公報、特開平０６−２３４８３９号公報、特開平０６−２３４８４０号公報、特開平０６−２３４８４１号公報、特開平０６−２３９０４９号公報、特開平０６−２３６０５０号公報、特開平０６−２３６０５１号公報、特開平０６−２９５０７７号公報、特開平０７−０５６３７４号公報、特開平０８−１７６２９３号公報、特開平０８−２０８８２０号公報、特開平０８−２１１６４０号公報、特開平０８−２５３５６８号公報、特開平０８−２６９１８３号公報、特開平０９−０６２０１９号公報、特開平０９−０４３８８３号公報、特開平０９−７１６４２号公報、特開平０９−８７３７６号公報、特開平０９−１０４７４６号公報、特開平０９−１１０９７４号公報、特開平０９−１１０９７６号公報、特開平０９−１５７３７８号公報、特開平０９−２２１５４４号公報、特開平０９−２２７６６９号公報、特開平０９−２３５３６７号公報、特開平０９−２４１３６９号公報、特開平０９−２６８２２６号公報、特開平０９−２７２７３５号公報、特開平０９−３０２０８４号公報、特開平０９−３０２０８５号公報、特開平０９−３２８５３９号公報等に記載されている高分子電荷輸送物質が挙げられる。
【０１５２】
また、後者の具体例としては、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平０５−１９４９７号公報、特開平０５−７０５９５号公報、特開平１０−７３９４４号公報等に記載されているポリシリレンが挙げられる。
【０１５３】
また、電荷発生層は、低分子電荷輸送物質を含有することができる。低分子電荷輸送物質としては、正孔輸送物質と電子輸送物質を用いることができる。
【０１５４】
電子輸送物質としては、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１５５】
正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１５６】
電荷発生層を形成する方法としては、真空薄膜作製法、溶液分散系からのキャスティング法を用いることができる。
【０１５７】
真空薄膜作製法としては、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が挙げられ、無機系材料及び有機系材料のいずれを用いても電荷発生層を形成することができる。
【０１５８】
また、キャスティング法を用いる場合は、必要に応じて、バインダー樹脂と共に、溶剤中で分散機を用いて、無機系材料又は有機系材料を分散することにより得られる分散液を適度に希釈して塗布することにより、電荷発生層を形成することができる。溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられ、分散機としては、ボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等が挙げられる。また、上記分散液には、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。また、上記塗布は、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法等を用いて行うことができる。
【０１５９】
本発明において、電荷発生層の膜厚は、通常、０．０１〜５μｍであり、０．０５〜２μｍが好ましい。
【０１６０】
電荷輸送層は、電荷輸送機能を有する層であり、本発明における表面層は、電荷輸送層として用いることができる。この場合、表面層は、前述したように、電荷発生層上に、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーを含有する表面層の塗布液を塗布し、必要に応じて、乾燥した後、光硬化することにより、形成することができる。このとき、表面層の膜厚は、通常、１０〜３０μｍであり、１０〜２５μｍが好ましい。膜厚が１０μｍより薄いと、帯電電位が不十分となることがあり、３０μｍより厚いと、硬化時の体積収縮により、下層と剥離しやすくなることがある。
【０１６１】
また、表面層が電荷輸送層の表面に形成される場合、電荷輸送層は、電荷輸送機能を有する電荷輸送物質及び結着樹脂を適当な溶剤に溶解又は分散させた塗布液を電荷発生層上に塗布、乾燥することにより、形成することができる。
【０１６２】
電荷輸送物質としては、電荷発生層で例示した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。前述したように、高分子電荷輸送物質を用いると、表面層を塗布した時の電荷輸送層の溶解を抑制することができる。
【０１６３】
結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。
【０１６４】
電荷輸送物質の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して、通常、２０〜３００重量部であり、４０〜１５０重量部が好ましい。ただし、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独で用いてもよいし、結着樹脂と併用してもよい。
【０１６５】
溶剤としては、電荷発生層と同様のものを使用することができるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。溶剤は、単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。
【０１６６】
電荷輸送層の塗布方法としては、電荷発生層と同様の塗布方法を用いることができる。
【０１６７】
また、電荷輸送層の塗布液には、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
【０１６８】
可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものを使用することができる。可塑剤の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して、通常、０〜３０重量部である。
【０１６９】
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマーを使用することができる。レベリング剤の添加量は、通常、結着樹脂１００重量部に対して、０〜１重量部である。
【０１７０】
電荷輸送層の膜厚は、通常、５〜４０μｍであり、１０〜３０μｍが好ましい。
【０１７１】
表面層は、前述したように、電荷輸送層上に表面層の塗布液を塗布、必要に応じて、乾燥した後、光硬化することにより、形成することができる。このとき、表面層の膜厚は、通常、１〜２０μｍであり、２〜１０μｍが好ましい。膜厚が１μｍより薄いと、膜厚ムラによって耐久性がばらつくことがあり、２０μｍより厚いと電荷輸送層及び表面層の総膜厚が厚くなり、電荷の拡散から画像の再現性が低下することがある。
【０１７２】
以下、単層構造の感光層について、説明する。
【０１７３】
単層構造の感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層であり、本発明における表面層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質をさらに含有することにより、単層構造の感光層として、用いることができる。電荷発生層の塗布液と同様に、電荷発生物質を、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが分散されている液体と共に分散させた表面層の塗布液を電荷発生層上に塗布し、必要に応じて、乾燥した後、光硬化することにより、表面層を形成することができる。なお、電荷発生物質が分散されている液体を用いて、表面層の塗布液を調製してもよい。このとき、表面層の膜厚は、通常、１０〜３０μｍであり、１０〜２５μｍが好ましい。膜厚が１０μｍより薄いと、帯電電位が不十分と成ることがあり、３０μｍより厚いと、硬化時の体積収縮により、下層と剥離しやすくなることがある。
【０１７４】
また、表面層が感光層の表面に形成される場合、感光層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質と電荷輸送機能を有する電荷輸送物質と結着樹脂を適当な溶剤に溶解又は分散させた塗布液を塗布、乾燥することにより、形成することができる。なお、感光層の塗布液には、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤等を添加することもできる。電荷発生物質の分散方法、電荷発生物質、電荷輸送物質、可塑剤、レベリング剤は、電荷発生層及び電荷輸送層において述べたものと同様のものを使用することができる。結着樹脂としては、電荷輸送層で挙げた結着樹脂の他に、電荷発生層で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。また、前述の高分子電荷輸送物質も使用することができ、表面層への感光層組成物の混入を抑制することができる。感光層の膜厚は、通常、５〜３０μｍであり、１０〜２５μｍが好ましい。
【０１７５】
表面層は、前述のように、感光層上に、表面層の塗布液を塗布、必要に応じて、乾燥した後、光硬化することにより、形成することができる。このとき、表面層の膜厚は、通常、１〜２０μｍであり、２〜１０μｍが好ましい。膜厚が１μｍより薄いと、膜厚ムラによって耐久性がばらつくことがある。
【０１７６】
感光層中の電荷発生物質の含有量は、１〜３０重量％であることが好ましく、結着樹脂の含有量は、２０〜８０重量％であることが好ましく、電荷輸送物質の含有量は、１０〜７０重量％であることが好ましい。
【０１７７】
本発明の感光体においては、表面層が感光層の表面に形成される場合、表面層への感光層成分の混入を抑制する又は感光層との接着性を改善する目的で、中間層を設けることが可能である。中間層は、表面層に感光層成分が混入することによる、硬化反応の阻害や表面層の凹凸の発生を抑制することができる。また、感光層と表面層の接着性を向上させることも可能である。
【０１７８】
中間層には、一般に、バインダー樹脂を主成分として用いる。バインダー樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等が挙げられる。中間層の形成方法としては、前述のような一般に用いられる塗布方法を用いることができる。なお、中間層の膜厚は、通常、０．０５〜２μｍである。
【０１７９】
本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は、一般には、樹脂を主成分とする。このような樹脂は、その上に、溶剤を用いて感光層を形成する場合を考慮すると、一般の有機溶剤に対する耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層には、モアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を添加してもよい。
【０１８０】
下引き層は、前述の感光層と同様の溶剤及び塗布方法を用いて形成することができる。さらに、下引き層には、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他に、下引き層には、陽極酸化により形成されたＡｌ２Ｏ３、真空薄膜作成法により形成された、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物も使用することができる。下引き層の膜厚は、通常、０〜５μｍである。
【０１８１】
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度の低下、残留電位の上昇を抑制するために、表面層、感光層（電荷発生層、電荷輸送層）、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【０１８２】
本発明に用いることができる酸化防止剤として、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェロール類等のフェノール系化合物；Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（ｓｅｃ−ブチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｔ−ブチル）−ｐ−フェニレンジアミン等のパラフェニレンジアミン類；２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノン等のハイドロキノン類；３，３’−チオジプロピオン酸ジラウリル、３，３’−チオジプロピオン酸ジステアリル、３，３’−チオジプロピオン酸ジテトラデシル等の有機硫黄化合物類；トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィン等の有機リン化合物類が挙げられる。これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
【０１８３】
本発明において、酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して、通常、０．０１〜１０重量％である。
【０１８４】
次に、本発明の画像形成方法及び画像形成装置を説明する。
【０１８５】
本発明の画像形成方法及び画像形成装置においては、本発明の感光体を用い、例えば、少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び感光体の表面のクリーニングというプロセスを伴うが、静電潜像を直接転写体に転写し、現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
【０１８６】
図３に、本発明の画像形成装置の一例を示す。感光体を平均的に帯電させる帯電手段として、帯電チャージャ３３が用いられる。この他の帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等の公知の方式を使用することができる。
【０１８７】
特に、本発明の構成は、接触帯電方式又は非接触近接配置帯電方式のような帯電手段からの近接放電により、感光体組成物が分解するような帯電手段を用いた場合に有効である。接触帯電方式とは、感光体に帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電ブレード等が直接接触する帯電方式である。一方の近接帯電方式とは、例えば、帯電ローラが感光体の表面との間に２００μｍ以下の空隙を有するように非接触状態で近接配置したタイプのものである。この空隙は、通常、１０〜２００μｍであり、１０〜１００μｍが好ましい。空隙が２００μｍより大きい場合には、帯電が不安定になりやすく、また、１０μｍより小さい場合には、感光体に残留したトナーが存在する場合に、帯電部材の表面が汚染されることがある。
【０１８８】
次に、均一に帯電された感光体３１上に静電潜像を形成するために、画像露光部３５が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等の発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等の各種フィルターを用いることもできる。
【０１８９】
次に、感光体３１上に形成された静電潜像を可視化するために、現像ユニット３６が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体３１に正（負）帯電を施し、画像露光を行うと、感光体３１の表面には、正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られ、また、正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【０１９０】
次に、感光体３１上で可視化されたトナー像を転写体３９上に転写するために、転写チャージャ４０が用いられる。また、転写をより良好に行うために、転写前チャージャ３７を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、帯電手段と同様のものを用いることができる。
【０１９１】
次に、転写体３９を感光体３１から分離する手段として、分離チャージャ４１、分離爪４２が用いられる。その他の分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等を用いることができる。分離チャージャ４１としては、帯電手段と同様のものを利用することができる。
【０１９２】
次に、転写後、感光体３１上に残されたトナーをクリーニングするために、ファーブラシ４４、クリーニングブレード４５が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行うために、クリーニング前チャージャ４３を用いてもよい。その他のクリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、クリーニング手段は、単独又は複数の方式を同時に用いることができる。
【０１９３】
次に、必要に応じて、感光体３１上の静電潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては、除電ランプ３２及び除電チャージャが用いられ、それぞれ露光光源及び帯電手段と同様のものを利用することができる。
【０１９４】
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは、公知のものを使用することができる。
【０１９５】
本発明の画像形成装置としては、複写装置、ファクシミリ、プリンタが挙げられるが、プロセスカートリッジが画像形成装置本体に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。
【０１９６】
図４に、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す。プロセスカートリッジとは、感光体５１を内蔵し、他に、帯電手段５２、現像手段５４、転写手段５６、クリーニング手段５７、除電手段（図示せず）の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。なお、感光体５１は、本発明の感光体である。
【０１９７】
図４のプロセスカートリッジによる画像形成プロセスについて示すと、感光体５１は、矢印方向に回転しながら、帯電手段５２による帯電、露光手段５３による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成される。静電潜像は、現像手段５４でトナー像に現像され、トナー像は、転写手段５６により、転写体５５に転写され、プリントアウトされる。次に、転写後の感光体５１の表面は、クリーニング手段５７により、クリーニングされ、さらに除電手段（図示せず）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
【０１９８】
以上の説明から明らかなように、本発明の感光体は、電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
【０１９９】
本発明において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーは、例えば、特許第３１６４４２６号公報に記載されている方法を用いて、合成することができる。この一例を下記に示す。
（１）ヒドロキシル基置換トリアリールアミンの合成
【０２００】
【化３０】
0004579151.tif 000031
化学構造式
【０２０１】
【化３１】
0004579151.tif 000032
で示されるメトキシ基置換トリアリールアミン１１３．８５ｇ（０．３ｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム１３８ｇ（０．９２ｍｏｌ）にスルホラン２４０ｍｌを加え、窒素気流中で６０℃に加温した。この液中にトリメチルクロロシラン９９ｇ（０．９１ｍｏｌ）を１時間で滴下し、約６０℃の温度で４時間半撹拌し、反応を終了させた。この反応液にトルエン約１．５Ｌを加え、室温まで冷却し、水と炭酸ナトリウム水溶液で繰り返し洗浄した。その後、得られたトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：体積比２０／１のトルエン／酢酸エチル混合溶媒）により、精製した。得られた淡黄色オイルにシクロヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにしてヒドロキシル基置換トリアリールアミンの白色結晶８８．１ｇ（収率：８０．４％）を得た。なお、生成物の融点は、６４．０〜６６．０℃であり、元素分析値（％）は、表１に示す。
【０２０２】
【表１】
0004579151.tif 000033
（２）例示化合物Ｎｏ．１の合成
上記ヒドロキシ基置換トリアリールアミン８２．９ｇ（０．２２７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４００ｍｌに溶解させ、窒素気流中で水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ：１２．４ｇ，水：１００ｍｌ）を滴下した。この溶液を５℃に冷却し、アクリル酸塩化物２５．２ｇ（０．２７２ｍｏｌ）を４０分かけて滴下した。その後、５℃で３時間撹拌し、反応を終了させた。この反応液を水中に注ぎ、トルエンで抽出した。この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で繰り返し洗浄した。その後、得られたトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：トルエン）により、精製した。得られた無色のオイルにｎ−ヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして例示化合物Ｎｏ．５４の白色結晶８０．７３ｇ（収率：８４．８％）を得た。なお、生成物の融点は、１１７．５〜１１９．０℃であり、元素分析値（％）は、表２に示す。
【０２０３】
【表２】
0004579151.tif 000034
（３）例示化合物Ｎｏ．３４の合成
かき混ぜ装置、温度計及び滴下漏斗を設けた反応容器に、２−ヒドロキシベンジルアルコール（東京化成品社製）３８．４ｇ及びｏ−キシレン８０ｍｌを入れ、窒素気流下、亜リン酸トリエチル（東京化成品社製）６２．８ｇを８０℃で滴下し、さらに１時間反応を行った。次に、減圧蒸留により、生成したエタノール、溶媒のｏ−キシレン及び未反応の亜リン酸トリエチルを除去し、２−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル６６ｇ（収率９０％）を得た。なお、生成物の沸点は、１２０．０℃／１．５ｍｍＨｇであった。
【０２０４】
かき混ぜ装置、温度計及び滴下漏斗を設けた反応容器に、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１４．８ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌを入れ、窒素気流下、２−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル９．９０ｇ及び４−（Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）アミノ）ベンズアルデヒド５．４４ｇをテトラヒドロフランに溶解させた溶液を室温でゆっくり滴下し、２時間反応させた。次に、水冷下、水を加えた後、２Ｎ塩酸を加えて酸性化した。さらに、テトラヒドロフランをエバポレーターにより除き、粗生成物をトルエンで抽出した。トルエン相を、順に、水、炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水を用いて洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。ろ過後、トルエンを除いてオイル状の粗収物を得、シリカゲルによりカラム精製を行った後、ヘキサン中で晶析させ、２−ヒドロキシ−４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）アミノ）スチルベン５．０９ｇ（収率７２％）を得た。なお、生成物の融点は、１３６．０〜１３８．０℃であった。
【０２０５】
かき混ぜ装置、温度計及び滴下漏斗を設けた反応容器に、２−ヒドロキシ−４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）アミノ）スチルベン１４．９ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍｌ及び１２重量％水酸化ナトリウム水溶液２１．５ｇを入れ、窒素気流下、５℃でアクリル酸塩化物５．１７ｇを３０分で滴下し、３時間反応させた。反応液を水中に注ぎ、トルエンで抽出した後、濃縮してシリカゲルによるカラム精製を行った。得られた粗収物をエタノールで再結晶し、例示化合物Ｎｏ．２（４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）アミノ）スチルベン−２−イルアクリレート）の黄色針状晶１３．５ｇ（収率７９．８％）を得た。なお、生成物の融点は、１０４．１〜１０５．２℃であり、元素分析値（％）は、表３に示す。
【０２０６】
【表３】
0004579151.tif 000035
【実施例】
【０２０７】
次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において使用する部は、全て重量部を表す。
（実施例１）
アルキッド樹脂ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ（大日本インキ化学工業社製）６部、メラミン樹脂スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０（大日本インキ化学工業社製）４部、酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）４０部及びメチルエチルケトン５０部からなる下引き層塗布液を調製した。
【０２０８】
化学構造式
【０２０９】
【化３２】
0004579151.tif 000036
で示されるビスアゾ顔料２．５部、ポリビニルブチラールＸＹＨＬ（ＵＣＣ社製）０．５部、シクロヘキサノン２００部及びメチルエチルケトン８０部からなる電荷発生層塗布液を調製した。
【０２１０】
ビスフェノールＺ型ポリカーボネートのパンライトＴＳ−２０５０（帝人化成社製）１０部、化学構造式
【０２１１】
【化３３】
0004579151.tif 000037
で示される低分子電荷輸送物質７部、テトラヒドロフラン１００部及び１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液ＫＦ５０−１００ＣＳ（信越化学工業社製）１部からなる電荷輸送層塗布液を調製した。
【０２１２】
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー（例示化合物ＮＯ．１）１０部、電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）１０部、光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）１部及びテトラヒドロフラン１００部からなる表面層塗布液を調製した。
【０２１３】
外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下引き層塗布液、電荷発生層塗布液及び電荷輸送層塗布液を、浸漬塗工法により、順次塗布、乾燥することにより、膜厚３．５μｍの下引き層、膜厚０．２μｍの電荷発生層及び膜厚２３μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２１４】
電荷輸送層上に表面層塗布液をスプレー塗布した（以下、これを感光体前駆体という）。次に、ＵＶランプシステムとして、図５に示すＭｏｄｅｌ  Ｆ６００Ｓ（Ｆｕｓｉｏｎ社製）（光源部：モデルＩ６００Ｍ、電源部：モデルＰ６００Ｍ）を用いて、ワーク室６４内で感光体前駆体６１を回転させながら光照射を行った。なお、光照射は、ランプ室６５に設けられたＵＶランプ６２をＶバルブ（直列２本連結）、電力を１６０Ｗ／ｃｍとし、照度３００ｍＷ／ｃｍ２以上、波長３６５ｎｍのＵＶ光が感光体前駆体６１の表面に照射する時間を３０秒とし、感光体前駆体６１の表面温度が７０℃を超えないように水冷する条件で行った。また、光透過性部材６３として、石英版ＥＳグレード、厚さ２ｍｍ石英ガラス（藤原製作所社製）を用い、ワーク室６４の雰囲気を大気下とした。この石英ガラスは、波長が１９０〜２０００ｎｍの光の透過率が８０〜９０％である。さらに、１３０℃で３０分間乾燥し、膜厚５．０μｍの表面層を形成し、感光体を作製した。なお、波長３６５ｎｍのＵＶ光の照度は、紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０及びセパレート型受光機ＵＶＤ−Ｓ３５６（以上、ＵＳＩＯ電気社製）を用いて測定した。
（実施例２）
光透過性部材６３として、コールドフィルタを用いた以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。なお、コールドフィルタの波長−透過率特性を図６に示す。
（実施例３）
ワーク室６４の雰囲気を、酸素濃度２．０％以下とした以外は、実施例２と同様にして感光体を作製した。このとき、７．５ｍ３／時で２分間窒素を充填することにより、ワーク室の酸素濃度を２．０％以下とした。酸素濃度は、酸素モニタＯＭ−２５ＭＳ１０（アズワン社製）を用いて測定し、光照射中は、常に酸素濃度が２．０％以下になるようにした。
（実施例４）
ワーク室６４の雰囲気を、図７に示すように、ノズル６６から窒素６７を２０ｍ３／時で感光体前駆体６１の光照射部に噴き付けるようにした以外は、実施例２と同様にして感光体を作製した。
（実施例５）
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして、例示化合物ＮＯ．３４を用いた以外は、実施例４と同様にして感光体を作製した。
（実施例６）
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして、例示化合物ＮＯ．２１を用いた以外は、実施例４と同様にして感光体を作製した。
（実施例７）
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとして、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬社製）を重量比１：１で混合した混合モノマーを用いた以外は、実施例４と同様にして感光体を作製した。
（実施例８）
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとして、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）を重量比１：１で混合した混合モノマーを用いた以外は、実施例４と同様にして感光体を作製した。
（比較例１〜５）
光透過性部材を用いなかった以外は、それぞれ実施例１、５〜８と同様にして感光体を作製した。
（評価方法及び評価結果）
以上のようにして、実施例及び比較例の感光体を２本ずつ作製した。１本の感光体は、糸鋸を使用して切り取り、テトラヒドロフランに浸漬させることにより、表面層を取り出し、分光光度計ＵＶ３１００（島津製作所社製）を用いて、光硬化前の表面層の光吸収スペクトルの吸収端波長より２５ｎｍ長い波長の光の透過率を測定した。なお、透過率は、剥がした表面層を測定用石英セルに貼り付けて測定を行い、膜厚を８μｍに換算した。結果を表４に示す。
【０２１５】
【表４】
0004579151.tif 000038
実施例の感光体は、光硬化前の表面層の吸収端波長より２５ｎｍ長い波長の光の透過率は６５％以上であった。これに対して、比較例の感光体の透過率は、６５％未満であり、感光体表面を観察すると、茶色みかかった色をしていた。
【０２１６】
サーフコム１４００Ｄ（東京精密社製）を用いて、感光体の中心線表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９８２規格）を測定した。結果を表５に示す。
【０２１７】
【表５】
0004579151.tif 000039
実施例の感光体は、良好な表面平滑性を有していた。このため、光照射時に硬化反応が安定に進行し、均一な表面層が形成されていると考えられる。実施例６は、実施例４、７、８と比較して中心線表面粗さＲａが少し大きいが、これは電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが２官能であるため、硬化収縮が起こったものと考えられる。
【０２１８】
比較例の感光体は、表面平滑性が低い。これは、ランプ室とワーク室とが隔離されていないため、ランプ室からの余分な熱によって、溶剤の揮発、副反応等が発生し、硬化反応が均一に進行せず、不均一な硬化膜が形成されたためと考えられる。
【０２１９】
実施例の感光体は、クリーニングに対して十分な余裕度のある表面平滑性を有していると考えられる。
【０２２０】
感光体を、プロセスカートリッジに装着し、帯電方式として、ＡＣ非接触ローラ方式、画像露光光源として、波長６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたＩＰＳｉＯ  Ｃｏｌｏｒ  ７１００（リコー社製）により、暗部電位を７００（−Ｖ）に設定した後、連続してトータル５万枚の実機通紙試験を行い、摩耗量及び機内電位を評価した。なお、感光体の膜厚は、渦電流式膜厚測定装置（フィッシャーインスツルメント社製）を用いて測定した。結果を表６に示す。
【０２２１】
【表６】
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実施例の感光体は、初期及び５万枚通紙後ともに、安定して良好な機内電位を示していることがわかる。これに対して、比較例の感光体は、初期の明部電位が高く、５万枚通紙後に、明部電位の大きな上昇が見られる。また、摩耗量においても、実施例に比べて、比較例は、摩耗量が大きい傾向がある。
【０２２２】
以上のことは、ランプ室とワーク室が隔離されていないため、ランプ室の熱が影響し、溶剤の揮発、副反応の促進等が起きて、電荷トラップサイトの形成、副反応による電荷輸送物質へのダメージ、表面層の内部の硬化不良等が起こっていることが原因であると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０２２３】
【図１】本発明の感光体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の感光体の他の例を示す断面図である。
【図３】本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図４】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
【図５】実施例１のＵＶランプシステムの構成を示す図である。
【図６】実施例２のコールドフィルタの波長−透過率特性を示す図である。
【図７】実施例４のＵＶランプシステムの構成を示す図であり、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ上から見たＵＶランプシステム及び横から見たワーク室を示す図である。
【図８】従来の光硬化前後の表面層の光吸収スペクトルの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０２２４】
１１、２１    導電性支持体
１２    感光層
１３、２４    表面層
２２    電荷発生層
２３    電荷輸送層
３１    感光体
３２    除電ランプ
３３    帯電チャージャ
３４    イレーサ
３５    画像露光部
３６    現像ユニット
３７    転写前チャージャ
３８    レジストローラ
３９    転写体
４０    転写チャージャ
４１    分離チャージャ
４２    分離爪
４３    クリーニング前チャージャ
４４    ファーブラシ
４５    クリーニングブレード
５１    感光体
５２    帯電手段
５３    露光手段
５４    現像手段
５５    転写体
５６    転写手段
５７    クリーニング手段
６１    感光体前駆体
６２    ＵＶランプ
６３    光透過性部材
６４    ワーク室
６５    ランプ室
６６    ノズル
６７    窒素
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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