(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク基板を載置した回転テーブル中央凹部に装着した脱着可能なセンターカバーで前記ディスク基板のセンター孔を覆った形態で、回転テーブルを低速回転させつつディスク基板上中央部にカバー層形成用の液状ＵＶ樹脂を供給し半径方向に拡げた後、前記回転テーブルを高速回転させて前記ディスク基板全体に液状ＵＶ樹脂をコーティングするスピンコーティング工程と、前記スピンコーティング工程終了前に、前記ＵＶ照射装置のハウジングが前記回転テーブル上方を覆った形態となって、前記回転テーブルの減速開始時前後にＵＶ照射してＵＶ樹脂層を仮硬化するＵＶ照射工程とを備えた光学記録媒体の製造方法において、
前記ＵＶ照射工程では、キセノンフラッシュランプのパルス発光によるＵＶ照射を前記回転テーブルの減速中に行うことを特徴とする光学記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記回転テーブル外周囲下方は、ミスト回収用ハウジングに覆われて、前記スピンコーティング工程およびＵＶ照射工程は、前記ディスク基板の回転により発生するＵＶ樹脂ミストを下方に負圧吸引しつつ行われることを特徴とする請求項１に記載の光学記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記ＵＶ照射工程後の前記回転テーブルの回転停止後、前記センターカバーを脱着した後に、ＵＶ樹脂層を本硬化するＵＶ照射工程を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の光学記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学記録媒体の製造方法に係わり、特に大容量の情報を記録できる光学記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザーディスクやＣＤやＤＶＤでは、図１０に示すように、例えば厚さ１．２ｍｍの透明なディスク基板１に記録情報となるピットやグルーブ等の凹凸（以下、ピット等という）２が形成され、その上に記録反射膜３が形成され、さらにその上に厚さ数μｍの保護膜４が積層形成された構造で、ディスク基板１側（図１０下側）から情報を読み取るようになっている。
【０００３】
これらのディスクを製造する従来の一般的な方法としては、まずピット等を形成したスタンパを用いてプラスチック樹脂を射出成形や加圧成形して、ピット等を転写したディスク基板１を作成する。ついで、ディスク基板１のピット等の凹凸２形成面にスパッタ法や真空蒸着法等によりアルミニウムなどの記録反射膜３を積層する。最後にスピナーを用いたスピンコーティングにより記録反射膜３上に保護膜材料である液状の紫外線硬化型樹脂（以下、ＵＶ樹脂という）を塗布し、さらに紫外線（以下、ＵＶという）を照射して保護膜４を硬化させる。
【０００４】
なお、スピンコーティングは、ディスク基板を載置した回転テーブルを低速回転させつつディスク基板の記録反射膜上に液状ＵＶ樹脂を塗布した後、回転テーブルを高速回転させてディスク基板（の記録反射膜）全体に液状ＵＶ樹脂層をコーティングする方法であって、量産に適することから広く利用されている。
【０００５】
そして最近では、図１１に示すように、ディスク基板１の表面に情報記録部となる記録反射膜５が形成され、その上に情報読み取り面側となる所定厚さの透明なカバー層６が形成された、小型かつ高密度記録方式の光学記録媒体が開発されつつある。この高密度記録方式の光学記録媒体における情報の読み取りには開口度（ＮＡ）の大きな光学系を用いるため、カバー層６表面の僅かな凹凸でも再生信号の大幅な劣化につながることから、記録反射膜５を覆うカバー層６表面は傾斜のない平滑面であることが必要である。さらに、記録反射膜５における情報を正確に読み取るためには、カバー層６の厚さＨ１は、従来の光学記録媒体における情報読み取り面側のディスク基板１（図１０参照）の厚さ１．２ｍｍに比べると非常に薄く、カバー層６の表面から記録反射膜５までの距離（カバー層６の厚さ）Ｈ１を使用レーザーの波長，対物レンズの開口数，カバー層６の屈折率に応じた所定値（例えば１００μｍ）となるように正確に形成する必要がある。そして、カバー層６における内周と外周における膜厚差が、例えば４μｍ（膜厚１００μｍの４％）以下という高精度が要求されている。
【０００６】
そこで、発明者は、スピンコーターの回転テーブル中央部に、ディスク基板のセンター孔を覆う脱着可能なセンターカバーを装着することで、ディスク基板（のセンターカバー）の中央部に液状ＵＶ樹脂を塗布でき、回転テーブルを低速回転または中速回転することで液状ＵＶ樹脂を半径方向に拡げた後に、回転テーブルを高速回転させるスピンコーティングによりＵＶ樹脂層を薄くかつ均一な厚さにするスピンコーティング工程を行い、スピンコーティング工程終了時の回転テーブルの減速開始時前後にＵＶ照射してＵＶ樹脂層を硬化するＵＶ照射工程を行うことで、ＵＶ樹脂の表面張力でディスクの外周部が盛り上がってしまう現象を抑制し、記録反射膜５を覆うカバー層６の全面に平滑で膜厚精度の高い高密度記録方式の光学記録媒体を製造する方法（特許文献１）を出願した。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４-９５１０８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、この種の従来方法におけるＵＶ照射工程では、水銀ランプ，メタルハライドランプ，水銀−キセノンランプなどのＵＶ発生ランプを連続発光させる方式（以下、連続発光方式という）が採用されており、ＵＶ発生ランプを内蔵するＵＶ照射装置のハウジングがスピンコーティング工程終了前に回転テーブル上方を覆って、ＵＶ光線がハウジング外に漏れないようにしてＵＶ照射されるため、ランプの連続発光に伴ってハウジングを含むＵＶ照射装置は高温となり、このため、スピンコーティング工程終了までのディスク基板周辺の温度は、光学記録媒体の製造装置の稼働開始直後と長時間の稼働継続した後とで大きく異なり、繰り返し行われるスピンコーティング工程およびＵＶ照射工程の際の液状ＵＶ樹脂の粘度が常に一定に保証されるものではなく、製品（光学記録媒体）の品質、特にカバー層の膜厚に大きな誤差を生じてしまっていた。
【０００９】
また、回転テーブルの外周囲下方はミスト回収用ハウジングに覆われて、スピンコーティング工程およびＵＶ照射工程では、ディスク基板の回転により発生するＵＶ樹脂ミストをミスト回収用ハウジングを介して負圧吸引し回収するように構成されているが、ＵＶ照射工程では、スピンコーティング工程で開放されていた回転テーブル上方空間がＵＶ照射装置のハウジングで覆われることで、回転テーブル（ディスク基板）上方の気流が乱れ、ＵＶ照射されて半硬化したＵＶ樹脂ミストがディスク基板上に付着し易いという問題も発生した。
【００１０】
そこで、発明者は、ＵＶ照射工程において、従来のＵＶ発生ランプの連続発光方式に代えて、ＵＶ照度が極めて高いキセノンフラッシュランプのパルス発光方式によるＵＶ照射（パルス化照射）の採用を考えた。即ち、キセノンフラッシュランプのパルス発光（パルス化照射）では、常時消灯で照射時のみ短時間発光するので装置及び周囲環境温度が上昇することがなく、またＵＶ照度が極めて高いが照射時間が極めて短いので、ＵＶ樹脂膜への熱の影響もほとんどなく、ＵＶ樹脂の硬化も早いので、前記した問題点を解消できると考えて試作したところ、前記した全ての問題点を解消する上で有効であることが確認されたので、この度の出願に至ったものである。
【００１１】
本発明は前記従来技術の問題点および発明者の前記した知見に基づきなされたもので、その目的は、情報記録部である記録反射膜が情報読み取り面側となる均一厚さのカバー層で覆われた製造歩留まりのよい量産に最適な光学記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決するために、請求項１に係る光学記録媒体の製造方法においては、ディスク基板を載置した回転テーブル中央凹部に装着した脱着可能なセンターカバーで前記ディスク基板のセンター孔を覆った形態で、回転テーブルを低速回転させつつディスク基板上中央部にカバー層形成用の液状ＵＶ樹脂を供給し半径方向に拡げた後、前記回転テーブルを高速回転させて前記ディスク基板全体に液状ＵＶ樹脂をコーティングするスピンコーティング工程と、前記スピンコーティング工程終了前に、前記ＵＶ照射装置のハウジングが前記回転テーブル上方を覆った形態となって、前記スピンコーティング工程終了時の前記回転テーブルの減速開始時前後にＵＶ照射してＵＶ樹脂層を仮硬化するＵＶ照射工程とを備えた光学記録媒体の製造方法において、
前記ＵＶ照射工程では、キセノンフラッシュランプのパルス発光によるＵＶ照射を前記回転テーブルの減速中に行うように構成した。
【００１３】
また、請求項２においては、請求項１に記載の光学記録媒体の製造方法において、前記回転テーブル外周囲下方は、ミスト回収用ハウジングに覆われて、前記スピンコーティング工程およびＵＶ照射工程を、前記ディスク基板の回転により発生するＵＶ樹脂ミストを下方に負圧吸引しつつ行うように構成した。

【００１４】
また、請求項３においては、請求項１または２に記載の光学記録媒体の製造方法において、前記ＵＶ照射工程後の前記回転テーブルの回転停止後、前記センターカバーを脱着した後に、ＵＶ樹脂層を本硬化するＵＶ照射工程を備えるように構成した。
（作用）回転テーブルが低速回転することで、ディスク基板（のセンターカバー）に塗布された液状ＵＶ樹脂は、センターカバーを介してディスク基板全体に円形に拡がる。そして回転テーブルが高速回転することで、液状ＵＶ樹脂層は作用する遠心力により半径方向に引っ張られて、薄い膜厚のＵＶ樹脂層となり、スピンコーティング工程終了時の回転テーブルの減速開始時前後にＵＶ照射されることで、ＵＶ樹脂層が仮硬化される。回転テーブルの回転停止後、センターカバーを取り外し、回転テーブルから取り出したディスク基板のＵＶ樹脂層を本硬化するＵＶ照射工程を行うことで、光学記録媒体が製造される。
【００１５】
スピンコーティング工程終了前にＵＶ照射装置のハウジングで回転テーブルを覆ってＵＶ樹脂層を仮硬化するＵＶ照射工程は、ＵＶ照度が極めて高いが照射時間が極めて短いキセノンフラッシュランプのパルス発光（パルス化照射）方式が採用されているので、スピンコーティング工程終了までのディスク基板周辺の温度は、従来の連続発光方式のようには高くならず、光学記録媒体の製造装置の長時間の稼働継続した後にもこの温度変化はほとんどなく、繰り返し行われるスピンコーティング工程およびＵＶ照射工程における液状ＵＶ樹脂層の粘度は常に一定に保証されて、仮硬化したＵＶ樹脂層の厚さは製造される製品（光学記録媒体）の全てに対して一定となる。
【００１６】
また、回転テーブルの外周囲下方はミスト回収用ハウジングに覆われて、スピンコーティング工程およびＵＶ照射工程では、ディスク基板の回転により発生するＵＶ樹脂ミストをミスト回収用ハウジングを介して負圧吸引し回収するように構成されており、ＵＶ照射工程では、スピンコーティング工程において開放されていた回転テーブルの上方空間がＵＶ照射装置のハウジングで覆われることで、回転テーブル（ディスク基板）上方の気流が乱れるが、キセノンフラッシュランプのパルス発光のＵＶ照度は極めて高いので、ディスク基板上の液状ＵＶ樹脂表層部の硬化が瞬時に進行して液状ＵＶ樹脂ミストが発生しにくいため、半硬化したＵＶ樹脂ミストがディスク基板上に付着するという不具合がない、と推定される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明方法によれば、キセノンフラッシュランプのパルス発光（パルス化照射）方式では、常時消灯で照射時のみ短時間発光するので、装置及びその周囲環境温度が上昇することがなく、またＵＶ照度が極めて高いが照射時間が極めて短いので、形成されるＵＶ樹脂層への熱の影響もほとんどなく、製造される光学記録媒体毎のＵＶ樹脂層の厚さが一定となる。
【００１８】
また、キセノンフラッシュランプのパルス発光（パルス化照射）方式では、ＵＶ照度が極めて高いので、ディスク基板上の液状ＵＶ樹脂表層部の硬化が瞬時に進行してＵＶ樹脂ミストの発生が抑制されるので、半硬化したＵＶ樹脂ミストがディスク基板上に付着するという不具合が回避されて、光学記録媒体の製造歩留まりが著しく向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を実施例に基づいて説明する。
【００２０】
図１は、本発明方法によって製造された小型かつ高密度記録方式の光学記録媒体である光ディスクの縦断面図、図２〜図９は、図１に示す高密度記録方式の光学記録媒体である光ディスク４０の製造方法の実施例を示し、図２は同製造方法におけるスピンコーティング工程に用いるスピンコーター全体の要部構成図、図３はスピンコーターの要部である回転テーブルの縦断面図、図４〜図８はスピンコーティング工程を説明する工程説明図で、図４はセンターカバーを回転テーブルに装着する状態の説明図、図５はディスク基板の中央円孔を覆うセンターカバー上に液体状ＵＶ樹脂を塗布する状態の説明図、図５（ａ）は回転テーブルを低速回転させることでセンターカバー上に塗布される液体状ＵＶ樹脂を説明する説明図、図６は回転テーブルを中速回転さらには高速回転する状態の説明図、図７は回転テーブルの高速回転終了時の減速開始時前後に仮ＵＶ照射する状態の説明図、図８はスピンコーティング工程終了後にセンターカバーを回転テーブルから脱着する状態の説明図、図９はスピンコーティング工程における回転テーブルの回転速度を制御するタイムチャートである。
【００２１】
図１において、この光ディスク４０は、ディスク基板４１の表面に情報記録部となる記録反射膜４２が形成され、その上に情報読み取り面となる透明な厚さ１００μｍのカバー層Ｃが形成された構造である。この高密度記録方式の光ディスクの情報の読み取りには開口度（ＮＡ）の大きな光学系を用いるため、カバー層Ｃ表面の僅かな凹凸やカバー層Ｃ内の僅かな気泡の存在によっても再生信号の大幅な劣化につながることから、記録反射膜４２を覆うカバー層Ｃの表面は傾斜のない平滑面に形成され、カバー層Ｃ内には気泡が確実に残存しない形態に構成されている。
【００２２】
さらに、記録反射膜４２における情報を正確に読み取ることができるように、カバー層Ｃ表面から記録反射膜４２までの距離（カバー層Ｃの厚さ）Ｔは、従来の光学記録媒体（図１０参照）における情報読み取り面側のディスク基板の厚さ１．２ｍｍに比べると非常に薄く、使用レーザーの波長（４０５ｎｍ），対物レンズの開口数（０．８５），カバー層Ｃの屈折率（約１．６）に対応した所定値（１００μｍ）で、カバー層Ｃの内周と外周における膜厚差が４μｍ以下という高精度に形成されている。
【００２３】
なお、この光ディスク４０は、まずピット等を形成したスタンパを用いてポリカーボネイト等のプラスチック樹脂を射出成形や加圧成形して、ピット等を転写したディスク基板４１を作成する。ついで、ディスク基板４１のピット等の凹凸形成面にスパッタ法や真空蒸着法等によりアルミニウムなどの記録反射膜４２を積層する。次に、後述するスピンコーティング工程により記録反射膜４２上にカバー層形成材料である液状ＵＶ樹脂を塗布し、さらにＵＶ照射工程により液状ＵＶ樹脂層を硬化させることで、カバー層Ｃをディスク基板４１に一体化するようになっている。
【００２４】
図２において、このスピンコーターは、記録反射膜４２が積層形成されたディスク基板４１を下方から支持して回転させる回転テーブル１０と、回転テーブル１０の外周囲下方に配置されたミスト回収部１８と、ミスト回収部１８の外側に配置されるとともに、回転テーブル１０の上方に接近動作可能な液体ＵＶ樹脂供給ノズル３０および仮ＵＶ照射器３２で主として構成されている。
【００２５】
回転テーブル１０は、駆動モータＭによって回転するスピンドル１１の先端部に固定されており、スピンドル１１は回転テーブル１０の下方に配置された円筒状の筒部１３で回転可能に支承されている。回転テーブル１０のディスク載置面１０ａの中央寄りには、図３に示すように、ドーナツ形状のラバー層１２が積層一体されるとともに、周方向４カ所に吸気孔１４が開口（吸気孔１４は１カ所のみ図示）し、スピンドル１１に設けられた吸気通路（図示せず）を介して吸気孔１４に負圧が作用することで、回転テーブル１０のディスク載置面１０ａにディスク基板４１が吸着固定保持される。
【００２６】
また、回転テーブル１０の中央部には、図３に示すように、センターカバー２０を装着するための段付き係合凹部１０ｂが設けられており、係合凹部１０ｂの内周面には、スプリング１５により付勢された鋼球１６が設けられて、係合凹部１０ｂに装着されたセンターカバー２０を抜け止めするとともに、スプリング１５の付勢力以上の力でセンターカバー２０を上方に引っ張ることで、センターカバー２０を係合凹部１０ｂから脱着できるように構成されている。
【００２７】
センターカバー２０は、図４，図８に示すように、回転テーブル１０の係合凹部１０ｂに整合する段付き係合凸部２２にセンターピン２４が垂設されるとともに、円盤状のスカート部２６を有し、係合凸部２２の外周には、回転テーブル１０側の鋼球が係合する係合溝２３が周設されている。そして、図示しないロボットアームがセンターピン２４をクランプして回転テーブル１０の中央部上方まで前進し、昇降動作することで、センターカバー２０（の係合凸部２２）を回転テーブル１０の係合凹部１０ｂに装脱着できる。
【００２８】
また、円盤状のスカート部２６は、図５（ａ）に示すように、回転テーブル１０に載置されたディスク基板４１の中央円孔４１ａからスタンパ押さえの溝４１ｂを越えた位置まで覆う大きさに形成されており、回転テーブル１０のディスク載置面１０ａに吸着固定したディスク基板４１の中央円孔４１ａの周縁部をセンターカバー２０が覆う形態にして、ディスク基板４１の中央部（センターカバー２０の中央部）に液体ＵＶ樹脂を塗布できるようになっている。
【００２９】
また、円盤状のスカート部２６は、中央が最も高く周縁ほど低い曲面に形成されて、回転テーブル１０の回転によりスカート部２６上の液体ＵＶ樹脂がスカート部２６外側のディスク基板４１にスムーズに導かれるようになっている。
【００３０】
ＵＶ樹脂供給ノズル３０は、回転テーブル１０の上方において、センターカバー２０のセンターピン２４に接近した位置から、図５（ａ）仮想線で示す位置（スカート部２６外周縁位置）まで等速でゆっくりと移動できるようになっており、この間に回転テーブル１０が低速で等速回転することで、図５および図５（ａ）に示すように、センターカバー２０のスカート部２６外周を僅かに越えた位置まで、液体ＵＶ樹脂がドーム形に塗布される。
【００３１】
またモータＭの回転速度は、図示しない制御ユニットによって、図９に示すように、低速、中速、高速の３段階に制御されている。
【００３２】
即ち、ＵＶ樹脂供給ノズル３０からセンターカバー２０上に液体ＵＶ樹脂を供給する時は、センターカバー２０全体に均一に塗布できるように、回転テーブル１０は低速（例えば、３０ｒ．ｐ．ｍ．）で回転し、センターカバー２０上の液体ＵＶ樹脂を外側に拡げる時は、ＵＶ樹脂がディスク全体にほぼ均一に拡がるように、回転テーブル１０は中速（例えば、１００〜４００ｒ．ｐ．ｍ．）で回転し、スピンコーティングの際は、液体ＵＶ樹脂にできるだけ大きな遠心力が作用して均一な膜厚となるように、回転テーブル１０は高速（例えば、８００〜２０００ｒ．ｐ．ｍ．）で回転するように制御されている。
【００３３】
また、ディスク基板４１上に塗布された液体ＵＶ樹脂の仮硬化に使用される仮ＵＶ照射器３２は、図２，７に示すように、回転テーブル１０にほぼ整合する大きさの筒状ケース３３内中央上方にＵＶ照射ランプであるキセノンフラッシュランプ３４が内蔵され、図示しない制御ユニットによって、キセノンフラッシュランプの発光のタイミングおよびＵＶ照射強度を調整できるように構成された、ＵＶ照度は極めて高いが照射時間が極めて短いパルスＵＶ照射装置（例えば、米国ＸＥＮＯＮ社製パルスＵＶ照射装置ＲＣ−７４２）で構成されている。そして、回転テーブル１０の高速回転による液体ＵＶ樹脂のスピンコーティング終了前に、図７に示すように、仮ＵＶ照射器３２が回転テーブル１０に接近した位置となって、ＵＶ遮光カバー３８がセンターカバー２０全体を覆った形態において、微小時間（例えば、６μｓｅｃで、２パルス）だけ仮ＵＶ照射が行われる。
【００３４】
このとき、ＵＶ照射ランプ３４の照射光は、センターカバー２０からディスク基板１０全体にコーティングされたＵＶ樹脂層の内、スカート部２６外周より外側にだけ照射されて、遮光カバー３８で覆われたスカート部２６外周より内側には照射されないので、スカート部２６外周の外側におけるＵＶ樹脂層では表面硬化が進み、一方、スカート部２６外周の内側におけるＵＶ樹脂層では、まだ硬化の進行していない柔らかい状態に保持される。
【００３５】
このため、後に詳しく説明するが、その後のセンターカバー２０の脱着の際に、スカート部２６の外周に沿ってＵＶ樹脂層をスムーズに剪断分離できる。
【００３６】
ミスト回収部１８は、図２に示すように、回転テーブル１０の下方外周囲を取り囲むように配設されたインナーカバー１８ａと、回転テーブル１０およびインナーカバー１８ａの外周囲を取り囲むように配設されたアウターカバー１８ｂで構成されるとともに、アウターカバー１８ｂの底部には、排気通路１９ａおよびＵＶ樹脂回収路１９ｂが設けられており、排気通路１９を介して回転テーブル１０の上方空間に図２矢印に示すような負圧吸引力を作用させることで、回転テーブル１０を高速回転させるスピンコーティングの際にディスク基板４１上から飛散することで発生した液状ＵＶ樹脂のミストがＵＶ樹脂回収路１９ｂを介して回収されるように構成されている。
【００３７】
次に、図２〜９を参照して、スピンコーティング工程により、ディスク基板４１の記録反射膜４２上にカバー層形成材料である液状ＵＶ樹脂をコーティングし、さらにＵＶ照射工程により液状ＵＶ樹脂層を硬化させることで、カバー層Ｃをディスク基板４１に一体化する手順を説明する。
【００３８】
まず、図３に示すように、ディスク基板４１を回転テーブル１０のディスク載置面１０ａにセットする。次に、図４に示すように、センターカバー２０を回転テーブル１０の係合凹部１０ｂに装着する。
【００３９】
次に、図５，図５（ａ）に示すように、ＵＶ樹脂供給ノズル３０を前進させてセンターカバー２０の中心近傍に位置させ、回転テーブル１０を低速で等速回転させつつ、ＵＶ樹脂供給ノズル３０をセンターカバー２０のスカート部２６外周位置まで半径方向外方にゆっくりと等速で移動させつつ液体ＵＶ樹脂を供給する。
【００４０】
次いで、図６に示すように、回転テーブル１０が中速回転して、液体ＵＶ樹脂が広がり、さらに回転テーブル１０が高速回転して、センターカバー２０のスカート部２６からディスク基板４１の全体にスピンコーティングされてＵＶ樹脂層が形成される。一方、ＵＶ樹脂供給ノズル３０が後退するとともに、回転テーブル１０が低速回転から中速及び高速回転に移行すると、仮ＵＶ照射器３２が前進し下降して、図７に示すように、回転テーブル１０上にセットされる。そして、図９に示すように、回転テーブル１０の高速回転終了時の減速開始時前後に、仮ＵＶ照射器３２がパルス発光し、微小時間（例えば６μｓｅｃで２パルス）ＵＶパルス化照射を行う。例えば、回転テーブル１０が減速開始後０．５秒で完全停止する場合、減速開始時３秒前を起点とした３．０秒後に仮ＵＶ照射器３２のキセノンランプがパルス発光し、所定時間（例えば６μｓｅｃで２パルス）だけＵＶパルス化照射を行う。仮ＵＶ照射が終了すると、仮ＵＶ照射器３２は上昇して後退する。
【００４１】
次いで、図８に示すように、センターカバー２０を脱着し、ディスク基板４１を回転テーブル１０から取り出して、図示しないＵＶ照射装置にセットする。そして、所定時間ＵＶ照射してＵＶ樹脂層を硬化させることで、カバー層Ｃを形成する。
【００４２】
このように本実施例方法では、スピンコーティング工程において、回転テーブル１０を低速回転，中速回転，高速回転と３段階に回転速度を制御することで、ディスク基板４１に形成するＵＶ樹脂層に空気を取り込まないようになっている。
【００４３】
即ち、回転テーブル１０が低速回転することで、ディスク基板１０（のセンターカバー２０）に塗布された液状ＵＶ樹脂はセンターカバー２０（のスカート部２６）の全体に円形に拡がる。そして回転テーブル１０が中速回転することで、液状ＵＶ樹脂層は作用する遠心力（中速回転に対応する比較的小さい遠心力）により半径方向に引っ張られて、ゆっくりとその径を拡げて記録反射膜４２と密着して馴染んだ形態となる。このとき、液状ＵＶ樹脂層はゆっくりと拡がるので、ＵＶ樹脂層と記録反射膜４２間の空気をＵＶ樹脂層中に巻き込む（取り込む）ことがない。そして、回転テーブル１０が高速回転に移行すると、液状ＵＶ樹脂層は作用する遠心力（高速回転に対応する大きな遠心力）により半径方向に拡がり、所望の膜厚のカバー層を気泡の混入もなく形成することができる。
【００４４】
また、本実施例方法では、回転テーブル１０の高速回転終了時の減速中にディスク基板４１にコーティングしたＵＶ樹脂層だけに仮ＵＶ照射し、回転テーブル１０の停止後、センターカバー２０を回転テーブル１０の中央凹部１０ｂから脱着して、ＵＶ照射工程に移行するようにすることで、センターカバー２０のスムーズな脱着およびＵＶ樹脂層のスムーズな剪断分離を行えるようになっている。
【００４５】
また、本実施例方法では、ＵＶ樹脂層に表面張力が作用する前である回転テーブル１０の高速回転終了時の減速開始時前後に、ディスク基板４１上のＵＶ樹脂層だけに仮ＵＶ照射を行う（センターカバー２０上のＵＶ樹脂層には仮ＵＶ照射を行わない）ことで、ディスク基板４１上のＵＶ樹脂層の表層部が硬化する。このため、ディスク基板４１からセンターカバー２０（スカート部２６）にかけてコーティングされているＵＶ樹脂層は、センターカバー２０（スカート部２６）の外周を境として外側では仮ＵＶ照射により表面硬化が進行し、内側では柔らかい表面未硬化状態である。
【００４６】
特に、本実施例方法では、高速回転終了時の減速開始時前後に仮ＵＶ照射を行うので、仮ＵＶ照射されるＵＶ樹脂層は、遠心力が作用した状態で仮ＵＶ照射されるので、ＵＶ樹脂の表面張力によるディスク外周部の盛り上がり現象が抑制されて、ディスク基板４１表面全体のＵＶ樹脂層が均一な膜厚に形成される。
【００４７】
そして、スピンコーティング工程終了後、センターカバー２０を回転テーブル１０の中央凹部１０ｂから脱着（上方に持ち上げる）する際に、ある程度硬化の進行したセンターカバー２０（スカート部２６）外周外側のＵＶ樹脂層に対し、センターカバー２０（スカート部２６）外周内側の柔らかいＵＶ樹脂層をスカート部２６の外周位置で上方に剪断するため、センターカバー２０（スカート部２６）の外周に沿ってＵＶ樹脂層をスムーズに分離できる。
【００４８】
また、ＵＶ樹脂層を仮硬化するＵＶ照射工程では、ＵＶ照度が極めて高いが照射時間が極めて短いキセノンフラッシュランプのパルス発光（パルス化照射）方式が採用されているので、スピンコーティング工程およびＵＶ照射工程におけるディスク基板４１周辺の温度は、従来の連続発光方式のようには高くならず、光学記録媒体の製造装置の長時間の稼働継続した後にもこの温度変化はほとんどなく、繰り返し行われるスピンコーティング工程およびＵＶ照射工程における液状ＵＶ樹脂層の粘度は常に一定に保たれるので、カバー層の膜厚を精度よく安定して形成することができる。
また、回転テーブルの外周囲下方はミスト回収用ハウジングに覆われて、スピンコーティング工程およびＵＶ照射工程では、ディスク基板４１の回転により発生するＵＶ樹脂ミストをミスト回収用部１８を介して負圧吸引し回収するように構成されており、ＵＶ照射工程では、スピンコーティング工程において開放されていた回転テーブル１０の上方空間が仮ＵＶ照射器３２のハウジング３３で覆われることで、回転テーブル１０（ディスク基板４１）上方の気流が乱れるが、キセノンフラッシュランプのパルス発光のＵＶ照度は極めて高いので、ディスク基板４１上の液状ＵＶ樹脂表層部の硬化が瞬時に進行して液状ＵＶ樹脂ミストが発生しにくいため、半硬化したＵＶ樹脂ミストがディスク基板４１上に付着するという不具合がない。
【００４９】
したがって、その後のＵＶ照射工程によって本硬化したＵＶ樹脂層であるカバー層Ｃの表面は半径方向に平滑な面で、しかも平均膜厚１００μｍに対し内外周における膜厚差が４μｍという非常に高精度のカバー層Ｃが得られる。
【００５０】
このように、本実施例に示す製造方法によれば、製造された光ディスクの情報読み取り面側の表面（カバー層Ｃの表面）から記録反射膜４２までの距離が設計値通りの正確な値（１００μｍ）に高精度に形成することができるので、現在注目されているＧａＮ系青紫色半導体レーザ用等の高情報量光ディスクの製造に有効である。
【００５１】
なお、カバー層Ｃの膜厚は、液体ＵＶ樹脂の粘性と回転テーブル１０の速度（特に高速回転速度）および回転時間を調節することで、任意の厚さに形成できる。
【００５２】
また、前記センターカバー２０の抜け止め保持手段は、スプリング１５で付勢された鋼球１６で構成されているが、回転テーブル１０の中央凹部１０ｂ内に、ディスク載置面１０ａに開口するような吸気孔１４と同様な吸気孔（図示せず）を設けて、負圧によって吸着固定保持するようにしてもよい。そして、センターカバー２０を負圧で吸着固定保持する場合は、負圧の作用をＯＮＮ／ＯＦＦすることでセンターカバー２０の固定と固定解除を行えるので、センターカバー２０の装脱着が容易である。
【００５３】
また、前記実施例の高密度記録方式の光学記録媒体として、読み取り専用の光ディスク（いわゆるＲＯＭ）について説明したが、本発明はこれに限らず追記型（Ｒ）や書き換え型（ＲＷ）などの光ディスクにも対応するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明方法によって製造された小型かつ高密度記録方式の光学記録媒体である光ディスクの縦断面図である。
【図２】図１に示す高密度記録方式の光学記録媒体である光ディスクの製造方法におけるスピンコーティング工程に用いるスピンコーター全体の要部構成図である。
【図３】スピンコーターの要部である回転テーブルの縦断面図である。
【図４】センターカバーを回転テーブルに装着する状態の説明図である。
【図５】ディスク基板の中央円孔を覆うセンターカバー上に液体状ＵＶ樹脂を塗布する状態の説明図である。
【図５（ａ）】回転テーブルを低速回転させることでセンターカバー上に塗布される液体状ＵＶ樹脂を説明する説明図である。
【図６】回転テーブルを中速回転さらには高速回転する状態の説明図である。
【図７】回転テーブルの高速回転終了時の減速中に仮ＵＶ照射する状態の説明図である。
【図８】スピンコーティング工程終了後にセンターカバーを回転テーブルから脱着する状態の説明図である。
【図９】スピンコーティング工程における回転テーブルの回転速度を制御するタイムチャートである。
【図１０】従来の光ディスクの拡大縦断面図である。
【図１１】最近開発されつつある高密度記録方式の光学記録媒体である光ディスクの縦断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０    回転テーブル
１０ａ  回転テーブルのディスク載置面
１０ｂ  回転テーブル中央の係合凹部
１４    吸気孔
Ｍ      回転テーブル駆動用モータ
１５    センターカバー抜け止め手段である鋼球
１６    センターカバー抜け止め手段であるスプリング
１７    センターカバー抜け止め手段である吸気孔
１８    液状ＵＶ樹脂ミスト回収部
１８ａ  ミスト回収部を構成するインナーカバー
１８ｂ  ミスト回収部を構成するアウターカバー
１９ａ  排気通路
１９ｂ  ＵＶ樹脂回収路
２０    センターカバー
２２    センターカバーの係合凸部
２４    センターピン
２６    円盤状スカート部
３０    ＵＶ樹脂供給ノズル
３２    仮ＵＶ照射器
３４    ＵＶ照射ランプであるキセノンフラッシュランプ
４０    光ディスク
４１    ディスク基板
４２    記録反射膜
Ｃ      カバー層
【図１】
0004531645.tif 000002
【図２】
0004531645.tif 000003
【図３】
0004531645.tif 000004
【図４】
0004531645.tif 000005
【図５】
0004531645.tif 000006
【図５（ａ）】
0004531645.tif 000007
【図６】
0004531645.tif 000008
【図７】
0004531645.tif 000009
【図８】
0004531645.tif 000010
【図９】
0004531645.tif 000011
【図１０】
0004531645.tif 000012
【図１１】
0004531645.tif 000013