(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、上記被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査において、被走査面上の走査線間の間隔を調整する方法であって、
各光ビームを個別的に別個のシリンドリカルレンズにより副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段へ導き、上記ビーム合成手段により合成された光ビーム群を光偏向器の偏向反射面位置に導光し、偏向反射面近傍に各光ビームごとに主走査方向に長い線像として結像させるようにし、
１以上の光ビームの光路上にミラーを配置し、このミラーの反射面の揺動調整により上記光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整し、前記シリンドリカルレンズの１以上を副走査方向に並進変位調整することにより、被走査面上の走査線間の間隔を調整する方法であって、
１以上の光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設け、上記１以上の光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向に調整することを特徴とする走査線ピッチ調整方法。
【請求項２】
請求項１記載の走査線ピッチ調整方法において、
各光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設け、各光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向に調整することを特徴とする走査線ピッチ調整方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の走査線ピッチ調整方法において、
ミラーの反射面の揺動調整により粗調整を行い、シリンドリカルレンズの並進変位調整により微調整を行うことを特徴とする走査線ピッチ調整方法。
【請求項４】
請求項１〜３の任意の１に記載の走査線ピッチ調整方法において、
光源の数が２であることを特徴とする走査線ピッチ調整方法。
【請求項５】
複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、上記被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査において、ビーム合成機能と走査線ピッチ調整機能とを有するマルチビーム走査用光源装置であって、
ｎ（≧２）個の光源と、
各光源からの光束を個別的にカップリングして光ビームとするｎ個のカップリングレンズと、  
カップリングされた各光束を、マルチビーム走査用の光ビーム群としてビーム合成するビーム合成手段と、
上記各カップリングレンズと上記ビーム合成手段との間に配備され、光ビームを個別的に副走査方向へ集束させるｎ個のシリンドリカルレンズと、
１以上の光ビームの光路上において、カップリングレンズとビーム合成手段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整可能な１以上のミラーとを有し、
上記ｎ個のシリンドリカルレンズの１以上を、副走査方向に並進変位調整可能とし、
１以上の光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調整可能な揺動調整ミラーとが設けられていることを特徴とするマルチビーム走査用光源装置。
【請求項６】
請求項５記載のマルチビーム走査用調整装置において、
各光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調整可能な揺動調整ミラーとが設けられていることを特徴とするマルチビーム走査用光源装置。
【請求項７】
請求項５または６記載のマルチビーム走査用光源装置において、
光源の数が２であり、ビーム合成手段が、一方の光ビームの透過と、他方の光ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素子であることを特徴とするマルチビーム走査用光源装置。  
【請求項８】
請求項７記載のマルチビーム走査用光源装置において、
プリズム光学素子が光ビームを、光ビームの偏光状態に応じて透過または反射させる偏光プリズムであることを特徴とするマルチビーム走査用光源装置。
【請求項９】
請求項８記載のマルチビーム走査用光源装置において、  
一方の光ビームの偏光方向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波長板を有することを特徴とするマルチビーム走査用光源装置。
【請求項１０】
複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、上記被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査装置であって、
マルチビーム走査用光源装置として、請求項５〜９の任意の１に記載のものを用いることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、マルチビーム走査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近来、光プリンタや光製版装置、光描画装置等の画像形成装置に用いられる光走査装置において、一度に複数の走査線を走査する「マルチビーム走査方式」が提案され、実用化されつつある。
【０００３】
このようなマルチビーム走査方式には、各光スポットが隣接する走査線を走査する「隣接走査方式」と、副走査方向に隣接する光スポットが、１以上の走査線を飛び越して走査する「飛び越し走査方式」とがあるが、何れの走査方式においても、良好なマルチビーム走査を行うには、「走査線ピッチ」即ち、隣接する光スポットの副走査方向の間隔が適正に設定されねばならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は、マルチビーム走査における走査線ピッチを容易かつ正確に行いうる新規な「走査線ピッチ調整方法」およびこの方法を実施するための「マルチビーム走査用光源装置」の実現を課題とする。この発明はまた、上記マルチビーム走査用光源装置を用いた新規なマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明の走査線ピッチ調整方法は「複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査において、被走査面上の走査線間の間隔（走査線ピッチ）を調整する方法」である。
【０００６】
請求項１記載の方法は、以下の如き特徴を有する。
即ち、各光ビームを個別的に別個のシリンドリカルレンズにより副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段へ導き、このビーム合成手段により合成された光ビーム群を光偏向器の偏向反射面位置に導光し、偏向反射面近傍に各光ビームごとに「主走査方向に長い線像」として結像させるようにする。
【０００７】
１以上の光ビームの光路上に「ミラー」を配置し、このミラーの反射面の揺動調整により光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整する。
また、シリンドリカルレンズの１以上を副走査方向に「並進変位調整」することにより、被走査面上の走査線間の間隔を調整する。
【０００８】
従って、走査線ピッチの調整は、１以上のミラーの反射面の揺動調整と、シリンドリカルレンズの並進変位調整とにより行われることになる。
この場合、反射面の揺動調整を行うミラーと、並進変位調整を行うシリンドリカルレンズとを、異なる光ビームの光路上に配することも参考技術として考えられる。
【０００９】
即ち、例えば、２つの光ビームの光路を仮に光路：Ａ、光路：Ｂとするとき、光路：Ａに設けたミラーの反射面を揺動調整するとともに、光路：Ｂに設けたシリンドリカルレンズを並進変位調整するようにすることも考えられる。
【００１０】
しかし、請求項１記載の方法では、１以上の光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設け、１以上の光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向に調整する。
【００１１】
この請求項１記載の走査線ピッチ調整方法の場合、各光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設け、各光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向に調整することができる（請求項２）。ミラーとシリンドリカルレンズの位置関係はどちらを光源側にしてもよい。
【００１２】
上記請求項１または２記載の走査線ピッチ調整方法で、ミラーの反射面の揺動調整により粗調整を行い、シリンドリカルレンズの並進変位調整により微調整を行うことが好ましい（請求項３）。即ち、ミラーの反射面（の法線の向き）がΔθだけ変化すると、反射される光ビームの方向は副走査方向に２Δθだけ変化するので、ミラーによる進行方向の偏向調整は粗調整に適している。これに対し、シリンドリカルレンズの副走査方向への並進変位による光ビームの変位は小さいので、シリンドリカルレンズによる調整は微調整に適している。
【００１３】
光源の数は、同時走査する走査線の本数に等しい。
光源の数は、ビーム合成の可能な限りにおいて適宜であるが、最小限の数として光源数：２とすることができる（請求項４）。
【００１４】
この発明のマルチビーム走査用光源装置は「複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査において、ビーム合成機能と走査線ピッチ調整機能とを有するマルチビーム走査用光源装置」であって、ｎ（≧２）個の光源と、ｎ個のカップリングレンズ、ビーム合成手段、ｎ個のシリンドリカルレンズ、１以上のミラーを有する（請求項５）。
【００１５】
ｎ（≧２）個の光源は、マルチビーム走査用の光束を放射する。光源としては半導体レーザが好適である。
ｎ個のカップリングレンズは、各光源からの光束を個別的にカップリングして、以後の光学系に適した光束形態の光ビームとする。光ビームの光束形態としては平行光束とすることもできるし、弱い集束性もしくは弱い発散性の光束とすることもできる。
【００１６】
「ビーム合成手段」は、カップリングされた各光束を、マルチビーム走査用の光ビーム群（マルチビーム走査に用い得る光ビーム群）としてビーム合成する。
「ｎ個のシリンドリカルレンズ」は、各カップリングレンズとビーム合成手段との間に配備され、光ビームを個別的に副走査方向へ集束させる。
【００１７】
「１以上のミラー」は、１以上の光ビームの光路上において、カップリングレンズとビーム合成手段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整可能である。ミラーの個数：ｍは、１≦ｍ≦ｎである。
【００１８】
上記ｎ個のシリンドリカルレンズの１以上は、副走査方向に並進変位調整可能である。
【００１９】
そして、請求項５記載のマルチビーム走査用光源装置は「１以上の光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調整可能な揺動調整ミラーと」を設ける。この場合において、「並進変位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面を揺動調整可能な揺動調整ミラーと」を。各光ビームの光路上に設けることができる（請求項６）。
【００２０】
上記請求項５または６記載のマルチビーム走査用光源装置において、光源の数を２とし、ビーム合成手段を「一方の光ビームの透過と、他方の光ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素子」とすることができる（請求項７）。このプリズム光学素子としては、例えば、ハーフミラープリズムを用いることができる。
【００２１】
「プリズム光学素子」はまた「光ビームを、光ビームの偏光状態に応じて透過または反射させる偏光プリズム」とすることができる（請求項８）。例えば、光源として２個の半導体レーザを用いる場合、半導体レーザから放射されるレーザ光束は実質的な直線偏光状態にあるので、各半導体レーザから放射されるレーザ光束の偏光方向を互いに直交関係にすることにより、上記偏光プリズムで光利用効率良くビーム合成することができる。
【００２２】
あるいは、上記請求項８記載のマルチビーム走査用光源装置において、一方の光ビームの偏光方向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波長板（１／２波長板）を設けても良い（請求項９）。
【００２３】
ビーム合成の他の方法としては、光源から放射される光束の波長を互いに異ならせ、互いに波長の異なる各光ビームを「ダイクロイックミラー」を用いてビーム合成することができる。この方法でビーム合成を行うと３以上の光ビームの場合でも容易にビーム合成することができる。
【００２４】
この発明のマルチビーム走査装置は「複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査装置」であって、マルチビーム走査用光源装置として、請求項５〜９の任意の１に記載のものを用いることを特徴とする（請求項１０）。
【００２５】
光偏向器としては、回転多面鏡や回転単面鏡、あるいは回転２面鏡のように、偏向反射面を回転させる方式のものでも良いし、ガルバノミラーのように偏向反射面を揺動させる方式のものでもよい。
【００２６】
走査結像光学系は１枚以上のレンズで構成することもできるし、１面以上の結像ミラーで構成することもでき、さらには１枚以上のレンズと１面以上の結像ミラーの組合せとして構成することもできる。
【００２７】
即ち、光偏向器や走査結像光学系は、従来から知られたものを適宜に用いることができる。「被走査面」は、実体的には感光性媒体の感光面である。感光性媒体としては、光導電性の感光体や、銀塩フィルム、走査光のエネルギーで発色する発色性感光シート等を利用できる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
図４は、マルチビーム走査装置を説明するための図である。
図４において、符号１０で示すマルチビーム走査用光源装置は、複数の光源から放射される光束を「マルチビーム走査用にビーム合成」して光ビーム群（図の繁雑を避けるため、１本の光ビームのみを示している）として射出させる。
光ビーム群は「光偏向器」である回転多面鏡１２により偏向され、「走査結像光学系」を構成する２枚のレンズ１４、１６により被走査面１８へ導光され、被走査面１８上に、副走査方向（図面に直交する方向）へ互いに分離した複数の光スポットを形成する。これら複数の光スポットにより被走査面１８が複数走査線同時に走査される。
【００２９】
図１は、図４に示すマルチビーム走査用光源装置１０の実施の１形態を示している。符号１Ａ、１Ｂで示す「光源」としての半導体レーザから放射される光束は、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂによりそれぞれカップリングされて、以下の光学系に適した光ビームとなる。この実施の形態において、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂから射出する光ビームは実質的な平行光束である。
【００３０】
カップリングされた光ビームはそれぞれ、アパーチュア３の開口部を透過してビーム整形され、ミラー４Ａ、４Ｂに入射して反射され、各々シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂに入射する。シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂは入射する光ビームを副走査方向（図面に直交する方向）に集束させる。各光ビームは集束しつつビーム合成手段６に入射してビーム合成され、光偏向器としての回転多面鏡１２に入射する。各光ビームは回転多面鏡１２の偏向反射面近傍に、主走査方向に長い線像として結像する。
【００３１】
ミラー４Ａ、４Ｂは平面鏡であって、図面に平行な軸の回りに揺動調整可能である。また、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂは、副走査方向にのみ正のパワーを持ち、図面に直交する方向、即ち、副走査方向に並進変位調整可能である。
【００３２】
ビーム合成手段６は、偏光プリズムと１／２波長板６Ｂとを有する。偏光プリズムは偏光分離膜６Ａと反射膜６Ｃとを有する。各光ビームは、半導体レーザ１Ａ、１Ｂからは「偏光分離膜６Ａに対してＰ偏光」として射出する。
【００３３】
従って、半導体レーザ１Ａからの光ビームは、偏光プリズムに入射すると、反射膜６Ｃにより内部反射し、偏光分離膜６Ａを直進的に透過して偏光プリズムから射出する。
【００３４】
半導体レーザ１Ｂからの光ビームは、１／２波長板６Ｂにより偏光方向を９０度旋回され、偏光分離膜６Ａに対してＳ偏光として偏光プリズムに入射し、偏光分離膜６Ａに反射されて偏光プリズムから射出する。
【００３５】
図２は、マルチビーム走査用光源装置の実施の別形態を示している。混同の虞が無いと思われるものについては、図１におけると同一の符号を付した。図１の実施の形態との差異は、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂが、ミラー４Ａ、４Ｂよりも光源側に位置すること、ビーム合成手段６０として、偏光プリズムと１／２波長板６０Ｂとが用いられている点である。
【００３６】
従って、各光源からの光ビームはシリンドリカルレンズにより副走査方向へ集束する光ビームとなってミラー４Ａ、４Ｂに反射される。ビーム合成手段６０における符号６０Ａは偏光分離膜、符号６０Ｃは反射膜であり、ビーム合成は、図１の実施の形態におけると同様に行われる。
【００３７】
即ち、図１（図２）に実施の形態を示すマルチビーム走査用光源装置は、複数の光源１Ａ、１Ｂから放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査において、ビーム合成機能と走査線ピッチ調整機能とを有するマルチビーム走査用光源装置であって、ｎ（≧２）個の光源１Ａ、１Ｂと、各光源からの光束を個別的にカップリングして光ビームとするｎ個のカップリングレンズ２Ａ、２Ｂと、カップリングされた各光束を、マルチビーム走査用の光ビーム群としてビーム合成するビーム合成手段６（６０）と、各カップリングレンズとビーム合成手段との間に配備され、光ビームを個別的に副走査方向へ集束させるｎ個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂと、１以上の光ビームの光路上において、カップリングレンズとビーム合成手段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整可能な１以上のミラー４Ａ、４Ｂとを有し、ｎ個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を、副走査方向に並進変位調整可能としたマルチビーム走査用光源装置である。
【００３８】
そして、これら実施の形態のマルチビーム走査用光源装置は、１以上の光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調整可能な揺動調整ミラーとが設けられており（請求項５）、各光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂと、反射面が揺動調整可能な揺動調整ミラー４Ａ、４Ｂとが設けられている（請求項６）。
【００３９】
さらに、光源の数が２であり、ビーム合成手段６（６０）が、一方の光ビームの透過と、他方の光ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素子であり（請求項７）、プリズム光学素子は光ビームを「光ビームの偏光状態に応じて透過または反射」させる偏光プリズムであり（請求項８）、一方の光ビームの偏光方向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波長板６Ｂ（６０Ｂ）を有する（請求項９）。
【００４０】
図１、図２のマルチビーム走査用光源装置において、走査線ピッチを調整するには、例えば、以下のようにする。即ち、まず、ミラー４Ａを揺動調整すると共に、シリンドリカルレンズ５Ａを並進変位調整することにより、光源１Ａからの光ビームが被走査面上に形成する光スポットの（副走査方向の）位置を所定の基準位置に設定する。
【００４１】
この状態で、ミラー４Ｂを揺動調整し、且つ、シリンドリカルレンズ５Ｂを並進変位調整することにより、光源１Ｂからの光ビームが被走査面上に形成する光スポットの位置を、先に設定された「光源１Ａからの光ビームの光スポット」位置に対して調整し、両光スポットの副走査方向の間隔が所望の走査線ピッチになるようにする。
【００４２】
このようにする代わりに、光源１Ａからの光ビームの光路上にあるミラー４Ａ、シリンドリカルレンズ５Ａを固定とし、光源１Ａからの光ビームが形成する光スポットの副走査方向の位置を基準位置として一義的に固定し、この基準位置に対して、光源１Ｂからの光ビームの光スポットの位置を、ミラー４Ｂの揺動調整とシリンドリカルレンズ５Ｂの並進変位調整とにより調整して、所望の走査線ピッチを実現するようにしてもよい。
【００４３】
あるいは、ミラー４Ａとシリンドリカルレンズ５Ｂとを揺動調整して固定し、シリンドリカルレンズ５Ａの併進変位調整により「光源１Ａからの光ビームの光スポットの位置」を基準位置に設定し、この基準位置に対して、光源１Ｂからの光ビームの光スポット位置を、ミラー４Ｂの揺動調整により調整して所望の走査線ピッチを得るようにしても良い。
【００４４】
図１（図２）の実施の形態のマルチビーム走査用光源装置を用いると、複数の光源１Ａ、１Ｂから放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査において、被走査面上の走査線間の間隔を調整する方法であって、各光ビームを個別的に別個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂにより副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段６（６０）へ導き、ビーム合成手段により合成された光ビーム群を光偏向器１２の偏向反射面位置に導光し、偏向反射面近傍に各光ビームごとに主走査方向に長い線像として結像させるようにし、１以上の光ビームの光路上にミラー４Ａ、４Ｂを配置し、このミラーの反射面の揺動調整により光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整し、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を副走査方向に並進変位調整することにより、被走査面上の走査線間の間隔を調整する走査線ピッチ調整方法を実施することができる。
【００４５】
そして、図１（図２）のマルチビーム走査用光源装置によれば、１以上の光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設け、１以上の光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向に調整する走査線ピッチ調整方法（請求項１）、各光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設け、各光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向に調整する走査線ピッチ調整方法（請求項２）を実施することができる。
【００４６】
上記走査線ピッチ調整方法においては、ミラー４Ａ、４Ｂの反射面の揺動調整により粗調整を行い、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの並進変位調整により微調整を行うのが良い（請求項３）。上に説明した実施の形態では、光源の数が２である（請求項４）が、ビーム合成手段を工夫することにより、光源の数を３以上とすることも可能である。
【００４７】
従って、図４のマルチビーム走査装置における光源装置１０として、図１又は図２に示すものを用いたものは、複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系１４、１６により被走査面１８に導光し、被走査面１８上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査装置であって、マルチビーム走査用光源装置１０として、請求項５〜９の任意の１に記載のものを用いるマルチビーム走査装置（請求項１０）である。
【００４８】
ミラー４Ａ、４Ｂを揺動調整する方法や、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂを並進変位調整する方法は、公知の適宜の方法を利用することができるが、これら揺動調性方法・並進変位調整方法の１例を、ミラー４Ａ、シリンドリカルレンズ５Ａの調整を例にとって説明する。
【００４９】
図３（ａ）において、ミラー４Ａは、保持具４１に保持されて鏡面に合致した揺動軸４０の回りに揺動自在となっている。保持具４１と不動部材４２との間には「圧縮性」のばね４３が介設され、ばねの段発力によりミラー４Ａに反時計方向のモーメントを作用させている。
【００５０】
一方、不動部材４４に設けられた調整ねじ４５の先端が保持具４１に当接し、上記モーメントによるミラー４Ａの回転を阻止している。調整ねじ４５の調整により、ミラー４Ａの反射面態位を揺動調整することができる。
【００５１】
図３（ｂ）において、シリンドリカルレンズ５Ａは、その母線方向両端に凸設された係合部５０Ａ、５０Ｂを、保持具５１のガイド溝に係合させることにより、保持具５１に対して副走査方向にのみ変位可能となっている。
【００５２】
保持具５１の底部には板ばね５２が設けられてシリンドリカルレンズ５Ａに上方へ向う弾性力を作用させている。保持具５１の上部に設けられた調整ねじ５３、５４は、その先端部をシリンドリカルレンズ５Ａの上端縁の２箇所に当接させている。調整ねじ５３、５４の調整により、シリンドリカルレンズ５Ａを副走査方向に並進変位調整することができる。
【００５３】
なお、図１の例において、半導体レーザ１Ａ、１Ｂからの光ビームの中心光線は、ミラー４Ａ、４Ｂの揺動軸上に入射する。また、図２の例においても、半導体レーザ１Ａ、１Ｂからの光ビームの中心光線は、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂが無いものとすればミラー４Ａ、４Ｂの揺動軸上に入射する。
【００５４】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、マルチビーム走査における新規な走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム走査装置を実現できる。この発明のマルチビーム走査用光源装置は、走査線ピッチ調整方法の実施により、容易に走査線ピッチを調整できる。従って、マルチビーム走査用光源装置を用いるマルチビーム走査装置は所望の走査線ピッチで良好なマルチビーム走査を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】マルチビーム走査用光学装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図２】マルチビーム走査用光学装置の実施の別形態を説明するための図である。
【図３】ミラーの揺動調整、シリンドリカルレンズの並進変位調整を説明するための図である。
【図４】マルチビーム走査装置を説明するための図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ      半導体レーザ（光源）
２Ａ、２Ｂ      カップリングレンズ
３      アパーチュア
４Ａ、４Ｂ      ミラー
５Ａ、５Ｂ      シリンドリカルレンズ
６        ビーム合成手段
１２      回転多面鏡（光偏向器）
【図１】
0004592985.tif 000002
【図２】
0004592985.tif 000003
【図３】
0004592985.tif 000004
【図４】
0004592985.tif 000005