(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の磁石が列状に配置された第１磁石列と、
この第１磁石列が取り付け支持された第１支持体と、
多数の磁石が列状に配置された第２磁石列と、
この第２磁石列が取り付け支持された第２支持体と、
前記第１磁石列と前記第２磁石列との間に形成される電子ビームが通過するためのギャップ空間と、
前記ギャップ空間の間隔を変更するため前記第１支持体と前記第２支持体のうちの少なくとも一方を駆動する駆動装置とを備え、
前記駆動装置は、前記ギャップ空間の前記電子ビームの入口部から出口部にかけての前記間隔が傾斜状に変化するように前記第１支持体と前記第２支持体のうちの少なくとも一方を駆動可能にし、傾斜の度合いを設定可能に構成したことを特徴とする挿入光源。
【請求項２】
前記第１支持体における前記第１磁石列の一端側を上下動させる第１駆動機構と、
前記第１磁石列の他端側を上下動させる第２駆動機構と、
前記第１駆動機構と前記第２駆動機構とを駆動する電動モータと、
前記第１駆動機構の駆動力伝達経路中に配置された回転調整機構と、
前記回転調整機構を第１状態と第２状態とに切り換え可能な切り換え手段とを備え、
前記第１状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが同一になるように設定され、前記第２状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが異なるように設定されることを特徴とする請求項１に記載の挿入光源。
【請求項３】
前記第１支持体における前記第１磁石列の一端側、および、前記第２支持体における前記第２磁石列の一端側を上下動させる第１駆動機構と、
前記第１磁石列の他端側および前記第２磁石列の他端側を上下動させる第２駆動機構と、
前記第１駆動機構と前記第２駆動機構とを駆動する電動モータと、
前記第１駆動機構の駆動力伝達経路中に配置された回転調整機構と、
前記回転調整機構を第１状態と第２状態とに切り換え可能な切り換え手段とを備え、
前記第１状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが同一になるように設定され、前記第２状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが異なるように設定されることを特徴とする請求項１に記載の挿入光源。
【請求項４】
前記第１駆動機構の上下駆動量を検出する第１検出手段と、前記第２駆動機構の上下駆動量を検出する第２検出手段と、
前記第１検出手段と前記第２検出手段の検出結果に基づいて前記駆動装置及び前記回転調整機構の制御を行う制御装置とを備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の挿入光源。
【請求項５】
前記駆動装置は、前記第１支持体の前記一端側と他端側をそれぞれ昇降シャフトを介して支持するとともに水平配置される移動ベースと、
前記移動ベースの一端側を第１軸受を介して回動可能に支持する移動ベース支持体と、
前記移動ベース支持体を水平方向に移動可能にリニアガイドを介して支持する第１サドルと、
前記移動ベースの他端側を第２軸受を介して回動可能に支持する第２サドルと、
前記第１サドルを上下動させるための第１ボールネジと、
前記第２サドルを上下動させるための第２ボールネジと、を備え、
前記移動ベース支持体を水平方向に移動可能にすることで、前記傾斜の度合いを設定変更する際に、前記第１軸受と第２軸受の間の水平方向の距離の変動を吸収可能にしたことを特徴とする請求項２に記載の挿入光源。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビームの通過するギャップ空間を変更可能な挿入光源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
真空中において光速近くまで加速された電子ビームが磁界中で曲げられると、電子ビームの移動軌跡の接線方向に放射光を発光し、これをシンクロトロン放射光と呼んでいる。このようなシンクロトロン放射光を発生させる光源を、電子貯蔵リング（電子ビーム蓄積リング）の直線部に設置し、高指向性、高強度、高偏光性などの特性を生かした種々の技術の実用化のための研究が行われている。今日の電子貯蔵リングには、より高いビーム電流、より小さなビーム断面積による高輝度光源である挿入光源（アンジュレータ）が複数設けられている。
【０００３】
ここで、挿入光源の構成例として、多数の磁石が列状に配置された第１磁石列と、この第１磁石列が取り付け支持された第１支持体と、多数の磁石が列状に配置された第２磁石列と、この第２磁石列が取り付け支持された第２支持体とを備えている。これにより第１磁石列と第２磁石列との間に正弦波状の周期的に変化する磁場を形成することができる。そして、この第１磁石列と第２磁石列との間に形成されるギャップ空間の真空路を電子ビームが通過することにより、前述したシンクロトロン放射光を発生させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前述したギャップ空間の間隔は、ギャップ空間の電子ビームの入口部と出口部では同じになるようにしており、これにより特定波長の高輝度のシンクロトロン放射光を得ることができる。
【０００５】
一方、ＸＡＦＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｆｉｎｅ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ：Ｘ線吸収微細構造解析法）実験等の特殊な分野では、特定波長ではなく、スペクトル幅の広いシンクロトロン放射光を必要とする場合がある。このような放射光を得るためには電子ビームの入口部から出口部にかけて上記正弦波状の磁場分布が徐々に変化するようにすればよい。例えば、特開平５−１９０９９０号公報には、電子ビームの入口部から出口部にかけて徐々にギャップ空間の間隔を広げていく（間隔が傾斜状に変化する）自由電子レーザ装置が開示されている。
【０００６】
しかしながら、この従来技術においては、ギャップ空間の両側に配置された磁石列が固定された状態であり、異なるスペクトル幅のシンクロトロン放射光を必要とする場合や、特定波長の放射光を必要とする場合には対応できなかった。
【０００７】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その課題は、多様なニーズに対応することのできる挿入光源を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本発明に係る挿入光源は、多数の磁石が列状に配置された第１磁石列と、この第１磁石列が取り付け支持された第１支持体と、多数の磁石が列状に配置された第２磁石列と、この第２磁石列が取り付け支持された第２支持体と、前記第１磁石列と前記第２磁石列との間に形成される電子ビームが通過するためのギャップ空間と、前記ギャップ空間の間隔を変更するため前記第１支持体と前記第２支持体のうちの少なくとも一方を駆動する駆動装置とを備え、前記駆動装置は、前記ギャップ空間の前記電子ビームの入口部から出口部にかけての前記間隔が傾斜状に変化するように前記第１支持体と前記第２支持体のうちの少なくとも一方を駆動可能にし、傾斜の度合いを設定可能に構成したことを特徴とするものである。
【０００９】
この構成によると、駆動装置により第１支持体と第２支持体のうちの少なくとも一方を駆動することによりギャップ空間の間隔を変更することができる。そして、この駆動装置により電子ビームの入口部から出口部にかけての前記間隔が傾斜状に変化するように前記第１支持体と前記第２支持体のうちの少なくとも一方を駆動することにより、磁場分布を徐々に変化させることができ、スペクトル幅の広い放射光を得ることができる。上記傾斜状に変化させる場合に、傾斜の度合いを変えることにより特性の異なる種々の放射光を得ることができる。また、傾斜の度合いがゼロであれば特定波長の放射光を得ることができる。したがって、多様なニーズに対応することのできる挿入光源を提供することができる。
【００１０】
なお、駆動装置の構成としては、
（１）第１支持体のみを駆動する駆動装置。
（２）第２支持体のみを駆動する駆動装置。
（３）第１支持体と第２支持体の両方を駆動する駆動装置。
があげられる。また、（３）の場合において、１つの駆動装置で第１、第２支持体の両方を駆動しても良く、２つ（又はそれ以上）の駆動装置で第１、第２支持体を独立して駆動しても良い。
【００１１】
本発明の好適な実施形態として、前記第１支持体における前記第１磁石列の一端側を上下動させる第１駆動機構と、
前記第１磁石列の他端側を上下動させる第２駆動機構と、
前記第１駆動機構と前記第２駆動機構とを駆動する電動モータと、
前記第１駆動機構の駆動力伝達経路中に配置された回転調整機構と、
前記回転調整機構を第１状態と第２状態とに切り換え可能な切り換え手段とを備え、
前記第１状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが同一になるように設定され、前記第２状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが異なるように設定されるものがあげられる。
【００１２】
この構成によると、電動モータにより第１駆動機構と第２駆動機構を駆動する。第１駆動機構により第１磁石列の一端を上下動させ、第２駆動機構により第１磁石列の他端を上下動させる。これにより第１磁石列全体を上下動させることができる。また、第１駆動機構の駆動力伝達経路中に回転調整機構が配置されており、この回転調整機構を第１状態に設定すると、第１、第２駆動機構による上下駆動量が同じになる。よって、第１磁石列が水平な状態又は特定の傾斜した状態を保持したまま上下動させることができる。また、回転調整機構を第２状態に設定すると、第１駆動機構による上下駆動量と第２駆動機構による上下駆動量を異ならせることができる。これにより、第１磁石列を水平な状態から傾斜した状態へ (或いはその逆も) 駆動することができる。回転調整機構としては、たとえば、市販の位相調整装置を用いることができるので、簡単な構成により第１磁石列を傾斜状態に設定することができる。
なお、第２磁石列についても同様の構成を採用してもよいし、第２磁石列は固定したままでもよい。
【００１３】
本発明の別の好適な実施形態として、前記第１支持体における前記第１磁石列の一端側、および、前記第２支持体における前記第２磁石列の一端側を上下動させる第１駆動機構と、
前記第１磁石列の他端側および前記第２磁石列の他端側を上下動させる第２駆動機構と、
前記第１駆動機構と前記第２駆動機構とを駆動する電動モータと、
前記第１駆動機構の駆動力伝達経路中に配置された回転調整機構と、
前記回転調整機構を第１状態と第２状態とに切り換え可能な切り換え手段とを備え、
前記第１状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが同一になるように設定され、前記第２状態においては前記第１駆動機構による上下駆動量と前記第２駆動機構による上下駆動量とが異なるように設定されるものがあげられる。
【００１４】
この構成によると、電動モータにより第１駆動機構と第２駆動機構を駆動する。第１駆動機構により第１磁石列の一端と第２磁石列の一端を上下動させ、第２駆動機構により第１磁石列の他端と第２磁石列の他端を上下動させる。これにより第１磁石列全体を上下動させることができる。また、第１駆動機構の駆動力伝達経路中に回転調整機構が配置されており、この回転調整機構を第１状態に設定すると、第１、第２駆動機構による上下駆動量が同じになる。よって、第１磁石列が水平な状態又は特定の傾斜した状態を保持したまま上下動させることができる。また、回転調整機構を第２状態に設定すると、第１駆動機構による上下駆動量と第２駆動機構による上下駆動量を異ならせることができる。これにより、第１磁石列を水平な状態から傾斜した状態へ (或いはその逆も) 駆動することができる。回転調整機構としては、たとえば、市販の位相調整装置を用いることができるので、簡単な構成により第１磁石列を傾斜状態に設定することができる。更に、第１磁石列と第２磁石列の駆動機構を共通化できるので駆動機構を大型化しなくてもすむ。
【００１５】
本発明の更に別の好適な実施形態として、前記第１駆動機構の上下駆動量を検出する第１検出手段と、
前記第２駆動機構の上下駆動量を検出する第２検出手段と、
前記第１検出手段と前記第２検出手段の検出結果に基づいて前記駆動装置及び前記回転調整機構の制御を行う制御装置とを備えたものがあげられる。
【００１６】
この構成によると、第１検出手段と第２検出手段により、第１駆動機構と第２駆動機構による上下駆動量を別々に監視することができる。これにより、精度よく所望の傾斜状態を設定することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態にかかる挿入光源の構成＞
第１実施形態は、第１磁石列と第２磁石列とを組み合わせてなる挿入光源を１機で構成した例を示し、後述する第２実施形態は、第１磁石列と第２磁石列とを組み合わせてなる挿入光源を２機並べて構成した例を示すものである。
【００１８】
本発明に係る挿入光源の好適な実施形態を図面を用いて説明する。図１は、挿入光源の全体構成を示す正面図、図２は、同じく側面図である。
この挿入光源Ｒは、床面に設置される共通ベース１と、この共通ベース１の上に組み付けられる門型の本体フレーム２と、内部が超高真空に維持される真空槽３０とを備えている。真空槽３０は、支持機構１６により共通ベース１に対して固定して取り付けられている。
【００１９】
真空槽３０の内部には、多数の磁石が列状に配置された第１磁石列が取り付け支持された第１支持体３と、同じく多数の磁石が列状に配置された第２磁石列が取り付け支持された第２支持体４とが配置される。
【００２０】
＜磁石列の構成＞
これら磁石列は図２に示すように、第１磁石列３ｍと第２磁石列４ｍとからなり、これら第１、第２磁石列３ｍ，４ｍの間には電子ビームが通過するギャップ空間( 図３に、間隔をδ１、δ２で示す。) が形成されている。
【００２１】
図１，２によると、本体フレーム２の上部には、第１支持体３及び第２支持体４を上下方向に直線駆動させるための直線駆動装置６( 駆動装置に相当する。) が設けられている。この直線駆動装置は、真空槽３０内部で向かい合っている第１磁石列と第２磁石列との間に形成される電子ビームが通過するためのギャップ空間の間隔や位置を変更するためのものである。
【００２２】
直線駆動装置６の概略を説明すると、本体フレーム２の上部に設けられたパルスモータ７（電動モータに相当する。）と、減速機８，９ａ，９ｂと、減速機９ａ（９ｂ）の下方に設けられたボールネジ１０ａと、ボールナット１１と、ボールネジ１０ａの両端を支持する一対のベアリング１２が備えられている。ボールナット１１に連結されたサドル１３がリニアガイドにより上下方向にスムーズに移動可能に設けられており、このサドル１３に対して更に上側Ｉビーム１４（第１移動ベースに相当する。）が組み付けられている。
【００２３】
また、ボールネジ１０ａの下方には同軸にボールネジ１０ｂが設けられており、位相調整機構１０ｃ（後述の位相調整機構２５と同じ機能を持つもの）により連結されている。上側のボールネジ１０ａは右ねじであり、下側のボールネジ１０ｂは左ねじとなっている。下側のボールネジ１０ｂにより、下側Ｉビーム１５（第２移動ベースに相当する。）を上下方向に移動可能にしている。つまり、第１支持体３と第２支持体４とは共通の直線駆動装置６により駆動されるように構成されている。直線駆動装置６を共通化することにより、駆動装置の構成を簡素化するとともにコストダウンを図ることができる。なお、第１支持体３と第２支持体４とを別々の独立した直線駆動装置により駆動するようにしても良い。
【００２４】
上側Ｉビーム１４と、第１支持体３との連結は、昇降用シャフト１７ａ，１７ｂ、熱伝導抑止用のサポータ１８ａ，１８ｂ、リニアガイド１９により行なわれている。下側Ｉビーム１５と、第２支持体４との連結を行なう第２連結機構も同様の構成である。図１において右側に示される昇降シャフト１７ａは第１支持体３の一端側３ａを支持しており、昇降シャフト１７ｂは他端側３ｂを支持している。
【００２５】
図１において、減速機８と減速機９ｂとはシャフト２６ｂにより直接連結されているが、減速機８と減速機９ａは、位相調整機構 (回転調整機構に相当する。) ２５を介して連結されている。位相調整機構２５（デファレンシャルユニット）は、調整用モータ２５ａ (図３参照：切り換え機構に相当する。）を備えており、第１状態 (通常状態) においては調整用モータ２５ａが固定されており、入力側であるシャフト２６ｃの回転が１：１の割合で出力側のシャフト２６ａに伝達される。また、調整用モータ２５ａを回転させることにより入力側と出力側のシャフト２６ａ，２６ｃにわずかの回転差を生じさせて位相を調整することができる (第２状態) 。
【００２６】
＜ギャップの間隔の調整＞
次に、図３の模式図によりギャップ間隔の調整について説明する。図３（ａ）において、第１磁石列３ｍと第２磁石列４ｍが所定の間隔を保持した状態で設定されており、電子ビームの入口側の間隔δ１と出口側の間隔δ２とは等しくなっている。この設定状態では、特定波長のシンクロトロン放射光を得ることができる。
【００２７】
パルスモータ７を駆動すると、その駆動力はシャフト２６ｃ、位相調整機構２５、シャフト２６ａ、・・・昇降シャフト１７ａ（これらは、第１駆動機構Ｋ１に相当する。）により、第１磁石列３ｍの一端側に伝達され、この一端側を上下動させる。また、パルスモータ７の駆動力はシャフト２６ｂ、減速機９ｂ、・・・昇降シャフト１７ｂ（これらは、第２駆動機構Ｋ２に相当する。）により、第１磁石列３ｍの他端側に伝達され、この他端側を上下動させる。
【００２８】
制御装置２７は、検出手段２３ａ，２３ｂ（エンコーダ）から入力されるパルス信号に基づいて、パルスモータ７と位相調整機構２５の調整用モータ２５ａとを制御することができる。
既に説明したように、第１状態では、調整用モータ２５ａが固定されておりシャフト２６ａと２６ｃとは同じ回転をする。よって、減速機８から分岐するシャフト２６ａと２６ｂとは同じ回転をする。その結果、第１駆動機構Ｋ１による第１磁石列３ｍの一端側の上下駆動量と、第２駆動機構Ｋ２による第１磁石列３ｍの他端側の上下駆動量とが同一になるように設定される。したがって、第１磁石列３ｍはその姿勢を維持したまま（水平であれば水平状態のまま、傾斜状態であればその傾斜状態のまま）上下動されることになる。
【００２９】
第２状態では、調整用モータ２５ａが回転されて、シャフト２６ａと２６ｃの間に回転数の差を生じさせる。よって、減速機８から分岐するシャフト２６ａと２６ｂの間に回転数の差を生じさせる。その結果、第１駆動機構Ｋ１による第１磁石列３ｍの一端側の上下駆動量と、第２駆動機構Ｋ２による第１磁石列３ｍの他端側の上下駆動量とが異なるように設定される。したがって、第１磁石列３ｍを水平な状態から傾斜した状態に、傾斜した状態から水平な状態に、傾斜した状態から別の傾斜した状態に設定変更することができる。例えば、図３（ａ）に示す水平状態から（ｂ）に示す傾斜状態に変更することができる。
なお、第２状態においては上側Ｉビーム１４は回動することになるので、高剛性の軸受２８を設けている。
【００３０】
第１磁石列３ｍを駆動する場合に関して説明してきたが、第２磁石列４ｍについても、同様の動作をさせることができる。（ｂ）では、第１磁石列３ｍと第２磁石列４ｍの双方を傾斜状態としている。これにより、電子ビームの入口部のギャップ間隔δ１よりも出口部のギャップ間隔δ２を大きくし、又は、δ１よりもδ２を小さくし、間隔が傾斜状になるように設定される。この状態で電子ビームを通過させることにより、スペクトル幅の広いシンクロトロン放射光を得ることができる。
【００３１】
＜Ｉビームの支持機構＞
上側Ｉビーム１４の好ましい支持機構について図４により説明する。図４において、Ｉビーム１４は、軸受２８と軸受２９により回動可能に支持されている。軸受２８は、ボールネジ１０により上下動する第２サドル３０に設けられている。軸受２９は、第１サドル３１に対して水平方向に移動可能にリニアガイド３２で取り付けられた支持体３３に設けられている。第１サドル３１は、ボールネジ１０により上下動することができる。
【００３２】
第１磁石列３ｍを傾斜状態に駆動するときにはＩビーム１４も同じように傾斜状態となる。このとき、軸受２８，２９間の距離Ｌは不変であるが、水平方向の距離はＬｃｏｓθ（θは傾斜角度）となり、△＝（１−ｃｏｓθ）Ｌだけ水平方向の距離が変動する。よって、この距離の変動分を吸収する機構が必要であるが、図４に示すように、軸受２９側をリニアガイド３２により水平方向にスムーズに移動可能にすることにより、距離の変動分を吸収している。これにより、機構に無理な力を発生させないようにしている。なお、下側Ｉビーム１５についても同様の機構を採用することが好ましい。
【００３３】
＜第２実施形態にかかる挿入光源の構成＞
次に第２実施形態を説明する。第２実施形態は、図１に示す挿入光源Ｒを電子ビームの移動する方向に沿って２機並べたものである。磁石列の駆動装置の構成を図５に模式的に示す。図３に示す部材（要素）と同じ機能を有する部材には同一の図番を付している。図５（ａ）において、左側に示されるのが基準側の挿入光源Ｒ１であり、右側に示されるのが非基準側の挿入光源Ｒ２である。
【００３４】
図５（ａ）において、基準側の第１磁石列３ｍ１と第２磁石列４ｍ１とは平行であり、入口部の間隔δ１と出口部の間隔δ２とは等しくなっている。非基準側の第１磁石列３ｍ２と第２磁石列４ｍ２も平行となっており、入口部の間隔δ３と出口部の間隔δ４とは等しくなっており、しかもδ１とδ２とも等しい。この状態から、図５（ｂ）に示される傾斜状態に設定変更する手順を図６により説明する。
【００３５】
まず、基準側の調整用モータ２５ａを固定した第１状態に設定してパルスモータ７を駆動する。これにより、基準側の第１磁石列３ｍ１と第２磁石列４ｍ１を水平状態を保持したまま、ギャップ間隔δ１、δ２を広げる（図６（ａ））。
次に、基準側の調整用モータ２５ａを回転させ（第２状態）、位相調整機構２５の入力側と出力側のシャフトに回転数の差を生じさせる。これにより、第１磁石列３ｍ１は傾斜状態となるように駆動される。第２磁石列４ｍ１も第１磁石列３ｍ１と同様に傾斜状態になるように駆動される。これにより、基準側の挿入光源については入口部のギャップ間隔δ１よりも出口部のギャップ間隔δ２の方が広くなるように設定される（図６（ｂ））。この場合の傾斜度Ｔ１は、δ１とδ２の中点が水平面内にある場合は、
Ｔ１＝（δ２−δ１）／２／Ａ
である。なお、Ａは、第１磁石列３ｍ１（第２磁石列４ｍ１）の一端側と他端側の距離である（図５参照）。
【００３６】
次に、非基準側の第１磁石列３ｍ２と第２磁石列４ｍ２とを、基準側と同様に傾斜状態に設定する（図６（ｃ））。これにより、非基準側の挿入光源についても、入口部のギャップ間隔δ３よりも出口部のギャップ間隔δ４の方が広くなるように設定される。この場合の傾斜度Ｔ２は、δ３とδ４の中点が水平面内にある場合は、
Ｔ２＝（δ４−δ３）／２／Ｃ
である。なお、Ｃは、第１磁石列３ｍ２（第２磁石列４ｍ２）の一端側と他端側の距離である。これらの傾斜度Ｔ１，Ｔ２は、現在の傾斜度として、モニターその他の表示器に表示される。
【００３７】
基準側のギャップの平均値Ｇ１は、
Ｇ１＝（δ１＋δ２）／２
非基準側のギャップの平均値Ｇ２は、
Ｇ２＝（δ３＋δ４）／２
である。これらの平均値が、モニター等に表示される。Ｇ２がＧ１と同じ値になるように非基準側のパルスモータ７及び調整用モータ２５ａの駆動制御を行う。
【００３８】
次に、図６（ｃ）の状態から、最終目標設定状態である図５（ｂ）の状態に設定する必要がある。そのための、非基準側のギャップ間隔δ３の目標値を△３とすると、
△３＝δ１＋Ｔ１×（Ａ＋Ｂ）×２
である。ここで、Ｂは、第１磁石列３ｍ１の一端側と第１磁石列３ｍ２の他端側との距離である。この目標値△３になるように、ギャップ間隔δ３を設定することにより、基準側と非基準側のギャップ空間が連続的な傾斜状態になるように設定される。ギャップ間隔δ３が目標値△３になるように、非基準側のパルスモータ７及び調整用モータ２５ａの駆動制御を行う。
【００３９】
＜更に別の実施形態＞
（１）本実施形態では、真空槽３０の内部に第１磁石列と第２磁石列とが封入された構成を採用しているが、第１磁石列と第２磁石列の間の空間部分に真空槽を構成して、第１、第２磁石列を大気中に配置しても良い。
（２）本実施形態は、図１に示される挿入光源Ｒを１つまたは２つで構成しているが、図１に示される挿入光源Ｒを３つ以上並べて構成しても良い。
（３）本実施形態では、第１磁石列と第２磁石列の両方を駆動しているが、第１磁石列のみ、または、第２磁石列のみを駆動するように構成しても良い。
【００４０】
（４）上記（２）及び（３）においては、第１磁石列と第２磁石列の間の空間部分に真空槽を構成して、第１、第２磁石列を大気中に配置しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】挿入光源の全体構成を示す正面図
【図２】図１に示す挿入光源の側面図
【図３】ギャップ間隔の変更手順を説明する模式図
【図４】Ｉビームの好ましい支持機構を説明する図
【図５】第２実施形態に係る挿入光源の構成を示す模式図
【図６】第２実施形態においてギャップ間隔の変更手順を説明する模式図
【符号の説明】
３      第１支持体
３ａ    一端側
３ｂ    他端側
３ｍ    第１磁石列
４      第２支持体
４ａ    一端側
４ｂ    他端側
４ｍ    第２磁石列
６      直線駆動装置
７      パルスモータ
２３ａ  第１検出手段
２３ｂ  第２検出手段
２５    位相調整機構
２５ａ  調整用モータ
Ｒ      挿入光源
δ１、δ２、δ３、δ４    ギャップ間隔
【図１】
0004452377.tif 000002
【図２】
0004452377.tif 000003
【図３】
0004452377.tif 000004
【図４】
0004452377.tif 000005
【図５】
0004452377.tif 000006
【図６】
0004452377.tif 000007