(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に凹部を形成し、前記凹部の底面に複数のボンディングパッドと絶縁パッドを配置した半導体チップと、一側が前記ボンディングパッドに連結し他側が前記絶縁パッドに連結した金属ワイヤと、前記金属ワイヤの中間部が露出するように前記凹部内に埋め込まれ、表面が前記半導体チップの表面と同一平面をなす封止剤と、前記封止剤から露出した金属ワイヤに形成されたバンプと、及び前記バンプにマウントした半田ボールと、を含むことを特徴とするチップサイズパッケージ。
【請求項２】
前記絶縁パッドは、前記半導体チップの凹部の底面に取り付け、上面に溝部を形成した接着層と、及び前記接着層の溝部内にメッキされ、前記金属ワイヤの連結した金属層を含むことを特徴とする請求項１記載のチップサイズパッケージ。
【請求項３】
前記金属層の表面に金属薄膜を蒸着したことを特徴とする請求項２記載のチップサイズパッケージ。
【請求項４】
前記接着層の材料はポリマー系のポリイミドであることを特徴とする請求項３記載のチップサイズパッケージ。
【請求項５】
前記金属層の材料はアルミニウム、銅、ニッケル、金、銀、コバルトまたは錫の一つ、あるいはそれらの複数からなる合金であることを特徴とする請求項３記載のチップサイズパッケージ。
【請求項６】
前記金属薄膜の材料は銀、金またはクロムの一つであることを特徴とする請求項３記載のチップサイズパッケージ。
【請求項７】
表面に集積回路を形成した半導体チップと、前記半導体チップの全表面を覆い、上面に凹部が形成された保護層と、前記凹部の底面に複数配置されたボンディングパッドと、一側が前記ボンディングパッドに連結した金属ワイヤと、前記金属ワイヤの一部分が露出するように前記凹部内に埋め込まれ、表面が前記半導体チップの表面と同一平面をなす封止剤と、前記封止剤から露出した金属ワイヤに形成されたバンプと、前記バンプにマウントした半田ボールと、を含むことを特徴とするチップサイズパッケージ。
【請求項８】
表面に複数のボンディングパッドと絶縁パッドを配置した半導体チップと、前記絶縁パッドとボンディングパッドとを連結する金属ワイヤと、前記半導体チップの表面に取り付け、前記金属ワイヤの中間部から引き出された引出し溝を形成するキャップと、前記キャップの引出し溝を通じて露出した金属ワイヤに形成されるバンプと、及び前記バンプにマウントした半田ボールと、を含むことを特徴とするチップサイズパッケージ。
【請求項９】
初期ウェーハの表面に凹部を形成する段階と、前記凹部の底面に集積回路を形成して半導体チップを構成する段階と、前記各凹部の底面に複数のボンディングパッドと絶縁パッドを形成する段階と、前記ボンディングパッドと絶縁パッドとを金属ワイヤで電気的に連結しながら、前記金属ワイヤの中間部をウェーハの表面より高く突出させる段階と、前記金属ワイヤの中間部が露出するように前記凹部内を封止剤で埋め込む段階と、前記封止剤から露出した金属ワイヤの中間部にバンプを形成する段階と、前記ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する段階と、及び前記バンプに半田ボールをマウントする段階と、を含むことを特徴とするチップサイズパッケージの製造方法。
【請求項１０】
初期ウェーハの表面に集積回路を形成して半導体チップを構成し、前記ウェーハ全体の表面に保護層を蒸着する段階と、前記保護層に凹部を形成する段階と、前記各凹部の底面に複数のボンディングパッドと絶縁パッドを形成する段階と、前記ボンディングパッドと絶縁パッドとを金属ワイヤで電気的に連結しながら、前記金属ワイヤの中間部をウェーハの表面より高く突出させる段階と、前記金属ワイヤの中間部が露出するように前記凹部内を封止剤で埋め込む段階と、前記封止剤から露出した金属ワイヤの中間部にバンプを形成する段階と、前記ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する段階と、及び前記バンプに半田ボールをマウントする段階と、を含むことを特徴とするチップサイズパッケージの製造方法。
【請求項１１】
初期ウェーハの表面に集積回路を形成して半導体チップを構成し、前記ウェーハ全体の表面に保護層を蒸着する段階と、前記保護層に凹部を形成する段階と、前記各凹部の底面に複数のボンディングパッドを形成する段階と、前記ウェーハの表面にダミーパッドを形成する段階と、前記ダミーパッドとボンディングパッドとを金属ワイヤで電気的に連結する段階と、前記凹部内を封止剤で埋め込む段階と、前記封止剤の表面がウェーハの表面と同一平面をなすように前記封止剤の表面を研磨し、前記ダミーパッドを除去すると共に、前記金属ワイヤを封止剤から露出させる段階と、前記封止剤から露出した金属ワイヤにバンプを形成する段階と、前記ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する段階と、及び前記バンプに半田ボールをマウントする段階と、を含むチップサイズパッケージの製造方法。
【請求項１２】
初期ウェーハの表面に凹部を形成する段階と、前記凹部の底面に集積回路を形成して半導体チップを構成する段階と、前記各凹部の底面に複数のボンディングパッドを形成する段階と、前記ウェーハの表面にダミーパッドを形成する段階と、前記ダミーパッドとボンディングパッドとを金属ワイヤで電気的に連結する段階と、前記凹部内を封止剤で埋め込む段階と、前記封止剤の表面がウェーハの表面と同一平面をなすように前記封止剤の表面を研磨し、前記ダミーパッドを除去すると共に、前記金属ワイヤを封止剤から露出させる段階と、前記封止剤から露出した金属ワイヤにバンプを形成する段階と、前記ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する段階と、及び前記バンプに半田ボールをマウントする段階と、を含むチップサイズパッケージの製造方法。
【請求項１３】
初期ウェーハの表面に凹部を形成する段階と、前記凹部の底面に集積回路を形成して半導体チップを構成する段階と、前記各凹部の底面に複数のボンディングパッドを形成する段階と、一方の凹部のボンディングパッドと、前記凹部と隣接する他方の凹部のボンディングパッドとを金属ワイヤで電気的に連結する段階と、前記各半導体チップの凹部を封止剤で埋め込む段階と、前記封止剤の表面がウェーハの表面と同一平面をなすように前記封止剤の表面を研磨すると共に、前記金属ワイヤの中間部を封止剤から露出させる段階と、前記ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する段階と、前記封止剤から露出した金属ワイヤ部分にバンプを形成する段階と、及び前記バンプに半田ボールをマウントする段階と、を含むチップサイズパッケージの製造方法。
【請求項１４】
初期ウェーハの表面に集積回路を形成して半導体チップを構成し、前記ウェーハ全体の表面に保護層を蒸着する段階と、前記保護層に凹部を形成する段階と、前記各凹部の底面に複数のボンディングパッドを形成する段階と、一方の凹部のボンディングパッドと、前記凹部と隣接する他方の凹部のボンディングパッドとを金属ワイヤで電気的に連結する段階と、前記各半導体チップの凹部を封止剤で埋め込む段階と、前記封止剤の表面がウェーハの表面と同一平面をなすように前記封止剤の表面を研磨すると共に、前記金属ワイヤの中間部を封止剤から露出させる段階と、前記ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する段階と、前記封止剤から露出した金属ワイヤ部分にバンプを形成する段階と、及び前記バンプに半田ボールをマウントする段階と、を含むチップサイズパッケージの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チップサイズパッケージ及びその製造方法に関し、特にアレイ状に配列される複数個の半田ボールを持つチップサイズパッケージ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体パッケージの例として、通常的に使用されているＳＯＪ(Small Outline J-lead)型、特殊に使用されているＺＩＰ(Zigzag Inline Package)型、及び規格化したメモリーカード(memory card)に適合するように構成されたＴＳＯＰ(Thin Small Outline Package)型等がある。
【０００３】
かかるパッケージの製造方法を概略的に説明すると次の通りである。
まず、ウェーハをスクライブラインに沿って切断するソーウィング(sawing)工程によって個々の半導体チップに分離した後、リードフレームを各半導体チップに取り付けるダイ接着工程を行う。
【０００４】
以後、一定の温度で一定時間の間に半導体チップを硬化(curing)させた後、半導体チップのボンディングパッドとリードフレームのインナーリードとが金属ワイヤによって電気的に連結するワイヤボンディング工程を行う。
【０００５】
ワイヤボンディング工程の終了後、封止剤を用いて半導体チップをモールドするモールド工程を行う。なお、半導体チップをモールドしなければ、外部からの熱や、機械的衝撃から半導体チップが保護できない。
【０００６】
前記モールド工程の終了後、リードフレームのアウタリードをメッキするプレーティング工程、アウタリードを支持しているダムバーを切断するトリム工程、基板に実装し易いようにアウタリードを所定形態で曲がるフォーミング工程を順次行う。
【０００７】
こうした工程で製作される一般のパッケージに対して、パッケージの軽薄化のため、最近では、半導体チップの大きさとほぼ同じチップサイズパッケージが開発されつつある。この様なチップサイズパッケージは、前述した一般のパッケージで用いるリードフレームの代りにタブテープを用い、かつ基板に実装するためにアレイ状に配列される複数個の半田ボールが用いられている。
【０００８】
従来のチップサイズパッケージは、図１に示すように、半導体チップ１のボンディングパッドにバンプ２を形成する。銅材質の金属パターンの形成されたタブテープ３(TAB tape)を、熱圧着によりバンプ２に取り付けて電気的に連結する。全体が封止剤４でモールドされ、タブテープ３の下面に形成したボールランドに半田ボール５をマウントする。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記のような従来のパッケージの厚さは、半導体チップ１の厚さにタブテープ３及び封止剤４の厚さを合算したもので、軽薄化していく最近のパッケージに比較して厚みがあり、さらに薄く改善することが望まれていた。
【００１０】
また、バンプ２とタブテープ３の熱圧着の際、機械的衝撃によりバンプ２またはタブテープ３に割れ目が発生するという問題点があった。さらに、ボールランドの金属面と半田ボール５とが反応し、その接触面に金属化合物が発生するという問題点もあった。
【００１１】
特に、タブテープ３自体に残留するイオン又は水分のため、パッケージが誤動作する恐れがあった。また、タブテープ３内の金属パターンを絶縁させる絶縁フィルムの損傷がおきることによってショートが発生する問題があった。さらにまた、パッドと半田ボールの位置及びピッチが変更されるごとに、タブテープ３を再設計せねばならないという問題点もあった。
【００１２】
本発明は、前記問題点を解消する目的でなされたもので、半導体チップの厚さがパッケージの厚さとなるようにし、パッケージの軽薄化が実現できる画期的な構造のチップサイズパッケージ及びその製造方法を提供することにある。
【００１３】
別の目的は、バンプの代わりに金属ワイヤを用いて、機械的衝撃によるボンディングパッドの破壊を防止することにある。
【００１４】
さらに別の目的は、半田ボールの取付方式を変更して、半田ボール及びボールランド間に金属反応が発生しないようにすることにある。
【００１５】
さらに別の目的は、タブテープを使用しないことにより、タブテープによる諸問題点を解消させることにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
前記のような目的を達成するため、上面に凹部を形成し、凹部の底面に複数のボンディングパッドを配置した半導体チップと、一側が前記ボンディングパッドに連結した金属ワイヤと、金属ワイヤの一部分が露出するように凹部内に埋め込まれ、表面が前記半導体チップの表面と同一平面をなす封止剤と、封止剤から露出した金属ワイヤに形成されたバンプと、バンプにマウントした半田ボールを含むチップサイズパッケージにおいて、
本発明によるチップサイズパッケージは、次のような構成からなる。実施例１において、半導体チップの上面に凹部を形成し、凹部の底面に複数のボンディングパッドと絶縁パッドを形成する。金属ワイヤでボンディングパッドと絶縁パッドとを電気的に連結しながら、凹部に封止剤を埋め込み、金属ワイヤの中間部がウェーハの表面より突出されるようにする。金属ワイヤの中間部は封止剤から露出する。露出した金属ワイヤの中間部にバンプを形成する。そのバンプに半田ボールをマウントする。
【００１７】
前記構成からなるチップサイズパッケージを製造する方法は次の通りである。最初に、初期（ｉｎｉｔｉａｌ）ウェーハの表面に凹部を形成する。各凹部の底面に集積回路を形成して半導体チップを構成した後、保護層（ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ  ｌａｙｅｒ）を凹部の底面に蒸着する。次いで、各凹部の底面に複数のボンディングパッドと絶縁パッドを形成する。金属ワイヤでボンディングパッドと絶縁パッドとを電気的に連結しながら、金属ワイヤの中間部がウェーハの表面より突出されるようにする。金属ワイヤの中間部が露出するように前記凹部内を封止剤で埋め込む。ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する。封止剤から露出した金属ワイヤの中間部にバンプを形成し、そのバンプに半田ボールをマウントする。
【００１８】
上面に凹部を形成し、凹部の底面に複数のボンディングパッドを配置した半導体チップと、一側が前記ボンディングパッドに連結した金属ワイヤと、金属ワイヤの一部分が露出するように凹部内に埋め込まれ、表面が前記半導体チップの表面と同一平面をなす封止剤と、封止剤から露出した金属ワイヤに形成されたバンプと、バンプにマウントした半田ボールを含むチップサイズパッケージの構成において、前記構成からなるチップサイズパッケージを製造する方法は次の通りである。
第１に、初期ウェーハの表面に凹部を形成する。各凹部の底面に集積回路を形成して半導体チップを構成した後、保護層を凹部の底面に蒸着する。次いで、各凹部の底面にボンディングパッドを形成し、ウェーハの表面にはダミーパッドを形成する。ダミーパッドとボンディングパッドとを金属ワイヤで電気的に連結する。凹部内を封止剤で埋め込んだ後、封止剤の表面を研磨し、ダミーパッドを除去すると共に、金属ワイヤを封止剤から露出させる。封止剤から露出した金属ワイヤにバンプを形成した後、ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離する。バンプに半田ボールをマウントする。
【００１９】
第２に、初期ウェーハの表面に凹部を形成する。各凹部の底面に集積回路を形成して半導体チップを構成した後、保護層を凹部の底面に蒸着する。次いで、各凹部の底面にボンディングパッドを形成する。一方の凹部のボンディングパッドと、前記凹部と隣接する他方の凹部のボンディングパッドとを金属ワイヤで電気的に連結する。各凹部を封止剤で埋め込む。ウェーハを切断して個々の半導体チップに分離すると共に、前記金属ワイヤの中間部を切断する。封止剤の表面を研磨し、金属ワイヤの切断部分を封止剤から露出させる。封止剤から露出した金属ワイヤ部分にバンプを形成した後、そのバンプに半田ボールをマウントする。
これらの構成において、反対に、初期ウェーハの表面に、まず半導体チップと保護層を形成した後、保護層に凹部を形成した構成をとることもできる。
【００２０】
実施例１とは違う方案の実施例２であって、半導体チップの表面にボンディングパッドと絶縁パッドを配置する。ボンディングパッドと絶縁パッドとが金属ワイヤによって電気的に連結する。半導体チップの表面に引出し溝の形成されたセラミック材質のキャップを設ける。金属ワイヤの中間部が引出し溝を通じて露出する。引出し溝を通じて露出した金属ワイヤ部分にバンプを形成し、そのバンプに半田ボールをマウントする。
【００２１】
上述した本発明の構成によれば、半導体チップに形成された凹部内でワイヤボンディングされるので、封止剤も凹部内だけにモールドするだけとなる。このため、半導体チップの厚さがほぼパッケージの厚さとなり、パッケージの軽薄化が実現できる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
［実施例１］
本実施例１によって最後に完成したチップサイズパッケージの構造を、図１０を参照しながら説明する。
図１０に示すように、半導体チップ１０の表面にＵ字形状の凹部１１を形成する。凹部１１の底面の中央には一対のボンディングパッド２０を形成し、両側には一対の絶縁パッド３０を形成する。各パッド２０、３０は金属ワイヤ４０によって連結する。特に金属ワイヤ４０の中間部は上向きに突出して曲げた形状としている。
【００２３】
封止剤５０は凹部１１内だけに埋め込まれる。この時、封止剤５０はその表面が半導体チップ１０の表面と同一の平面をなすように埋め込まれると共に、金属ワイヤ４０の中間部が封止剤５０からやや露出するようにする。材質が金のバンプ６０は封止剤５０から露出した金属ワイヤ４０の中間部に形成され、このバンプ６０に半田ボール７０をマウントする。
【００２４】
この様なパッケージでは、封止剤５０が半導体チップ１０から突出しないので、パッケージの厚さを半導体チップ１０の厚さとして構成できる。
【００２５】
一方、本実施例１では、ボンディングパッド２０が凹部１１の中央に配置されることを例に挙げたが、これに限るものではない。他の例として、ボンディングパッド２０は凹部１１の両側に、絶縁パッド３０は凹部１１の中央に配置する事も出来る。
【００２６】
以下、前記の様な構造のパッケージを製造する過程を、添付図面を参照しながら順次説明する。
まず、図２に示すように、初期ウェーハの表面をエッチングしてＵ字形状の凹部１１を形成する。この時、凹部１１の幅は２００乃至４００μｍ、深さは２５０乃至４００μｍであるのが望ましい。次に、凹部１１の底面に半導体集積回路を形成するための通常の各種工程を行い、各凹部１１の底面ごとに半導体チップ１０を構成する。そして、半導体１０の回路を保護するため、各凹部１１の底面に保護層(図示せず)を蒸着する。次に、図３に示すように、凹部１１の底面の中央に一対のボンディングパッド２０を形成し、両側には絶縁パッド３０を形成する。
【００２７】
絶縁パッド３０は、図４に示すように、接着層３１の上部にＵ字形状の溝部を形成し、その溝部内に溝部の深さと同じ厚さで金属層３２をメッキし、金属層３２の上部にはワイヤボンディングが容易にできるように金属薄膜３３をコーティングした構造からなる。ここで、接着層３１の材質はポリマー系のポリイミドで、金属層３２の材質はアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）または錫（Ｓｎ）の一つ、あるいはそれらの複数からなる合金で、金属薄膜３３の材質は以後に行う金属ワイヤとの熱圧着に際して、接着力のよい金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）またはクロム（Ｃｒ）であるのが望ましい。一方、接着層３１の厚さは１０乃至１００μｍ、絶縁パッド３０の厚さは１乃至４ｍｉｌであるのが望ましい。
【００２８】
続いて、図５に示すように、金属ワイヤ４０によってボンディングパッド２０と絶縁パッド３０の金属薄膜３３とを熱圧着で連結する。この時、金属ワイヤ４０の中間部は、半導体チップ１０の表面より高く位置するようにする。
【００２９】
次に、ディスペンサー８０を用いて、図６に示すように、凹部１１内に封止剤５０を埋め込む。特に、封止剤５０の高さは半導体チップ１０の表面と同一であるようにする。
【００３０】
この時、金属ワイヤ４０の中間部は、半導体チップ１０の表面よりも突出していっても、埋め込んだ封止剤５０によって、凹部内に沈み込むことにより、金属ワイヤ４０が封止剤５０から露出されないおそれがある。これを予防するため、図７に示すように、封止剤５０の表面にノズル９を通じて研磨剤を噴射して、金属ワイヤ４０を封止剤５０から露出させる。研磨剤の代りに研磨ペーパーを用いて研磨してもいい。
【００３１】
続いて、図８に示すように、封止剤５０から露出した金属ワイヤ４０部分に金材質のような導電性のバンプ６０を形成し、図９のように、ウェーハを切断して個々の半導体チップ１０に分離する。
【００３２】
最後に、図１０に示すように、半田ボール７０をバンプ６０にマウントすると、本実施例１によるチップサイズパッケージが完成する。則ち、図１０に示すようなパッケージを、１８０゜かえすと半田ボール７０が下部に位置するようになるので、半田ボール７０を基板に実装できるようになる。
【００３３】
［実施例２］
本実施例２は、実施例１で用いた絶縁パッドを用いない方式である。
図１１に示すように、半導体チップ１０の表面にダミーパッド３４を形成する。ダミーパッド３４とボンディングパッド２０とが金属ワイヤ４４によって連結する。従ってこの実施例では、ダミーパッド３４側の金属ワイヤ４４部分は半導体チップ１０の表面よりも高く突出する。
【００３４】
続いて、凹部１１内に封止剤５０を埋め込んだ後、半導体チップ１０の表面を基準にして封止剤５０の表面を研磨すると、ダミーパッド３４とこれに連結した金属ワイヤ４４の上端が切断されて除去される。したがって、切断された金属ワイヤ４４の上端が封止剤５０から露出し、この露出した金属ワイヤ４４にバンプ６０を形成する。バンプ６０に半田ボール７０をマウントすると、図１２に示すように、本実施例２によるパッケージが完成する。
【００３５】
［実施例３］
本実施例３は、前記実施例１及び２で用いる絶縁パッドとダミーパッドを全く用いない方式である。
則ち、図１３に示すように、ウェーハ表面に凹部１１を形成する。各凹部１１の底面の中央にはボンディングパッド２０を形成する。金属ワイヤ４５の両端は、互いに隣接する半導体チップ１０の側壁を越えて各凹部１１のボンディングパッド２０に連結する。
【００３６】
封止剤５０で凹部１１を埋め込み、封止剤５０の表面がウェーハの表面を基準にして研磨される。この時、金属ワイヤ４５が切断されながら封止剤５０から露出される。次に、切断工程によってウェーハを個々の半導体チップ１０に分離する。次に、図１４に示すように、露出した各金属ワイヤ４５部分にバンプ６０を形成し、半田ボール７０をバンプ６０にマウントすると、本実施例３によるパッケージが完成する。
【００３７】
一方、実施例１から３では、初期ウェーハの表面に凹部を形成し、凹部の底面に半導体チップを構成した状態でパッケージ工程を行うことを例に挙げたが、これに限るものではない。
【００３８】
反対に、初期ウェーハの表面に、まず半導体チップと保護層を構成した後、保護層に凹部を形成した状態でパッケージ工程を行うこともできる。但し、この方法を実現するには、保護層の厚さが充分に厚くなければならない。則ち、ワイヤボンディングの際に、金属ワイヤがウェーハの表面から突出してしまわないように、凹部をある程度の深さ以上に形成しなければならない。ところで、凹部は保護層のみに形成すべきであると共に、保護層の残っている厚さも一定以上にならなければ半導体チップの集積回路が傷つくので、この方法を実現するには、保護層が充分な厚さで蒸着されることが必要である。
【００３９】
［実施例４］
本実施例４では、実施例１のワイヤボンディング方式と同様であるが、封止剤を用いず、代わりに、セラミックキャップを用いる。
図１５に示すように、封止剤を用いないので、半導体チップ１０の表面に凹部が形成されない。半導体チップ１０の表面には、ボンディングバッド２０と絶縁パッド３０とを形成する。ボンディングパッド２０と絶縁パッド３０とは金属ワイヤ４０によって連結する。半導体チップ１０の表面を外枠に沿ってセラミックキャップ１００で覆う。セラミックキャップ１００は半導体チップ１０に接着剤１１０で取り付けられる。セラミックキャップ１００には、図１６に示すように、引出し溝１０１を形成し、この引出し溝１０１を通じて金属ワイヤ４０の中間部を引き出す。引出した金属ワイヤ４０を、引出し溝１０１に落ち込まないようにパンチで圧着し、引き出し溝１０１の両側壁に階段状に形成された底面に固定させる。
【００４０】
その後、図１７に示すように、金属ワイヤ４０にバンプ６０を形成し、半田ボール７０をバンプ６０にマウントすると、図１８に示すように、本実施例４によるパッケージが完成する。
【００４１】
一方、図１８に示すような構造からなる複数個のパッケージを、基板２２０に実装した後、全体の上部に接着剤２１０を用いてセラミックカプセル２００で覆うと、最終的なパッケージが完成する。
【００４２】
【発明の効果】
以上から説明したように、封止剤は半導体チップに形成された凹部内だけに埋め込まれるので、半導体チップの厚さがパッケージの厚さとなるため、パッケージの軽薄化が実現できる。
【００４３】
特に、本発明では、従来に用いられるタブテープの代りに、金属ワイヤを用いる。よって、従来にはタブテープの金属配線形状が、焦点板(reticle)を用いて予め決定されるので、ボールランドの位置を変更し難い。しかし、本発明では、焦点板を用いず金属ワイヤの露出位置のみを変更すると、ボールランドの位置を手軽に変更することができる。このため、パッドや半田ボールの位置変更への素早い対応が可能である。則ち、設計変更が非常に簡単になる。
【００４４】
尚、本発明によるパッケージを実施するための好適な実施例について図示して説明したが、本発明は前記の実施例に限らず、当該発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、請求範囲で請求する本発明の要旨から逸脱しない範囲で多様に実施・変更ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  従来のチップサイズパッケージを示す断面図。
【図２】  本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図３】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図４】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図５】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図６】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図７】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図８】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図９】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図１０】本発明の実施例１によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図１１】本発明の実施例２によるパッケージの製造過程を示す断面図。
【図１２】本発明の実施例２によるパッケージの製造過程を示す断面図。
【図１３】本発明の実施例３によるパッケージの製造過程を示す断面図。
【図１４】本発明の実施例３によるパッケージの製造過程を示す断面図。
【図１５】本発明の実施例４によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図１６】本発明の実施例４によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図１７】本発明の実施例４によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図１８】本発明の実施例４によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【図１９】本発明の実施例４によるパッケージの製造過程を順次示す断面図。
【符号の説明】
１０  半導体チップ
１１  凹部
２０  ボンディングパッド
２０  絶縁パッド
４０  金属ワイヤ
５０  封止剤
６０  バンプ
７０  半田ボール
１００  セラミックキャップ
１０１  引出し溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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