(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の凹部を有する凹部付き部材の製造方法であって、
基材上に、マスク形成用膜を形成するマスク形成用膜形成工程と、
多数の光透過部を有し、レーザ光源から出射されたレーザ光を多数に分岐する機能を有する分岐用フィルタを用いたレーザ加工により、前記マスク形成用膜に多数の開口部を形成してマスクとする開口部形成工程と、
前記マスクが形成された前記基材をエッチングして前記凹部を形成するエッチング工程とを有し、
前記分岐用フィルタは、所定の領域内に設けられた複数の第１の光透過部からなる光透過部群と、前記所定の領域の外部に設けられた第２の光透過部とを有し、
前記レーザ加工は、前記マスク形成用膜上の第１の領域に前記分岐用フィルタを配置し、前記分岐用フィルタにより分岐された前記レーザ光を前記マスク形成用膜に照射する第１のレーザ照射処理と、該第１のレーザ照射処理が行われた後、前記マスク形成用膜上の第２の領域に前記分岐用フィルタを配置し、前記分岐用フィルタにより分岐された前記レーザ光を前記マスク形成用膜に照射する第２のレーザ照射と、を含み、
前記第１のレーザ照射処理における前記分岐用フィルタの前記所定の領域に対応する前記マスク形成用膜上の領域内であって、前記開口部が形成されていない部位に、前記第２のレーザ照射処理で前記第２の光透過部を透過した光により前記開口部を形成し、
その後の前記エッチング工程により、前記基材の有効領域内において規則的に配列した多数の凹部を形成するとともに、前記基材の有効領域外に、前記エッチング工程により形成される前記凹部の形状検査に利用する検査用凹部を、前記基材の有効領域外において、他の凹部と接触せずに独立して形成することを特徴とする凹部付き部材の製造方法。
【請求項２】
前記レーザ加工は、前記照射領域を、第１の方向およびそれに直行する第２の方向について変更しつつ行うものであり、
前記分岐用フィルタは、前記光透過部群から、前記第１の方向および前記第２の方向に所定距離だけ離間した部位に、それぞれ、前記第２の光透過部を有するものである請求項１に記載の凹部付き部材の製造方法。
【請求項３】
前記有効領域内に形成される前記凹部は、平面視したときに、扁平形状を有するものである請求項１または２に記載の凹部付き部材の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法を用いて製造された凹部付き基板の凹部が設けられた側の面に、流動性を有する状態の組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ基板本体とする固化工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記組成物付与工程と前記固化工程との間に、前記凹部付き部材上に付与された前記組成物上に、シート材を載せ、当該シート材を介して、押圧部材により前記組成物を押圧する押圧工程を、さらに有する請求項４に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記固化工程の後に、前記基板本体の光の出射側に遮光膜を形成する工程を、さらに有する請求項４または５に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記固化工程の後に、前記基板本体の前記遮光膜が設けられた面側に、拡散部を形成する拡散部形成工程を、さらに有する請求項６に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記固化工程の後に、前記基板本体のレンズが設けられた面側に着色液を付与することにより、着色部を形成する着色部形成工程を、さらに有する請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
前記着色液は、着色剤と、ベンジルアルコールと、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物とを含むものである請求項８に記載のレンズ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹部付き部材の製造方法およびレンズ基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズを備えたレンズ基板（レンチキュラレンズ基板）を備えたものが一般的に用いられている。
また、視野角特性の観点等から、従来のレンチキュラレンズに代わり、マイクロレンズを用いたレンズ基板（マイクロレンズ基板）が、近年注目されている（例えば、特許文献１参照）。
上記のようなレンズ基板は、一般に、製造すべきレンズ基板が有するレンズ部（レンチキュラレンズ、マイクロレンズ等）に対応する形状を有する成形型を用いて製造されている。このような成形型は、例えば、形成すべきレンズ部（凹部）に対応する部位に開口部を有するマスクを用いたエッチングにより製造されている。
【０００３】
しかしながら、エッチングによる凹部の形成では、エッチング液の温度や、エッチング液の組成等によるエッチング量の変化が著しく、所望の大きさ、形状（曲率半径等）の凹部を有する成形型を確実に製造するのが困難であった。また、エッチング液の組成は、エッチング処理を繰り返し行うこと等により、経時的に変化するため、エッチング量の制御は益々困難となる。
このように、エッチング量の制御を確実に行うことができないと、最終的なレンズ基板において、所望の光学特性を得ることができず、レンズ基板および当該レンズ基板を備えたリア型プロジェクタ等の信頼性が低下する。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２８６９０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、所望の大きさ、形状の凹部を備えた凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凹部付き部材の製造方法を提供すること、および、前記凹部付き部材を用いてレンズ基板を製造するレンズ基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の凹部付き部材の製造方法は、多数の凹部を有する凹部付き部材の製造方法であって、
基材上に、マスク形成用膜を形成するマスク形成用膜形成工程と、
多数の光透過部を有し、レーザ光源から出射されたレーザ光を多数に分岐する機能を有する分岐用フィルタを用いたレーザ加工により、前記マスク形成用膜に多数の開口部を形成してマスクとする開口部形成工程と、
前記マスクが形成された前記基材をエッチングして前記凹部を形成するエッチング工程とを有し、
前記分岐用フィルタは、所定の領域内に設けられた複数の第１の光透過部からなる光透過部群と、前記所定の領域の外部に設けられた第２の光透過部とを有し、
前記レーザ加工は、前記マスク形成用膜上の第１の領域に前記分岐用フィルタを配置し、前記分岐用フィルタにより分岐された前記レーザ光を前記マスク形成用膜に照射する第１のレーザ照射処理と、該第１のレーザ照射処理が行われた後、前記マスク形成用膜上の第２の領域に前記分岐用フィルタを配置し、前記分岐用フィルタにより分岐された前記レーザ光を前記マスク形成用膜に照射する第２のレーザ照射と、を含み、
前記第１のレーザ照射処理における前記分岐用フィルタの前記所定の領域に対応する前記マスク形成用膜上の領域内であって、前記開口部が形成されていない部位に、前記第２のレーザ照射処理で前記第２の光透過部を透過した光により前記開口部を形成し、
その後の前記エッチング工程により、前記基材の有効領域内において規則的に配列した多数の凹部を形成するとともに、前記基材の有効領域外に、前記エッチング工程により形成される前記凹部の形状検査に利用する検査用凹部を、前記基材の有効領域外において、他の凹部と接触せずに独立して形成することを特徴とする。
これにより、所望の大きさ、形状の凹部を備えた凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凹部付き部材の製造方法を提供することができる。
【０００７】
本発明の凹部付き部材の製造方法では、前記レーザ加工は、前記照射領域を、第１の方向およびそれに直行する第２の方向について変更しつつ行うものであり、
前記分岐用フィルタは、前記光透過部群から、前記第１の方向および前記第２の方向に所定距離だけ離間した部位に、それぞれ、前記第２の光透過部を有するものであることが好ましい。
これにより、形成すべき凹部（有効領域内の凹部）の大きさ、形状等をより精確に制御することができる。
【０００８】
本発明の凹部付き部材の製造方法では、前記有効領域内に形成される前記凹部は、平面視したときに、扁平形状を有するものであることが好ましい。
形成すべき凹部の平面視したときの形状が扁平形状の場合、従来の方法では、凹部を形成する際のエッチング量を適切にコントロールするのが困難であったが、本発明によれば、形成すべき凹部が扁平形状を有するものであってもエッチング量を適切にコントロールすることができ、所望の大きさ、形状の凹部を備えた凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる。すなわち、形成すべき凹部が扁平形状を有するものである場合、本発明の効果はより顕著に発揮される。
【０００９】
本発明のレンズ基板の製造方法は、本発明の方法を用いて製造された凹部付き基板の凹部が設けられた側の面に、流動性を有する状態の組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ基板本体とする固化工程とを有することを特徴とする。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記組成物付与工程と前記固化工程との間に、前記凹部付き部材上に付与された前記組成物上に、シート材を載せ、当該シート材を介して、押圧部材により前記組成物を押圧する押圧工程を、さらに有することが好ましい。
【００１０】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記固化工程の後に、前記基板本体の光の出射側に遮光膜を形成する工程を、さらに有することが好ましい。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記固化工程の後に、前記基板本体の前記遮光膜が設けられた面側に、拡散部を形成する拡散部形成工程を、さらに有することが好ましい。
【００１１】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記固化工程の後に、前記基板本体のレンズが設けられた面側に着色液を付与することにより、着色部を形成する着色部形成工程を、さらに有することが好ましい。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液は、着色剤と、ベンジルアルコールと、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物とを含むものであることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の凹部付き部材の製造方法、凹部付き部材、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
【００１３】
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。また、以下の説明では、レンズ基板の一例として、マイクロレンズ基板について代表的に説明する。また、本発明において、凹部付き部材の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を製造するための成形型として用いる場合について代表的に説明する。
また、凹部付き部材は、実際には多数の凹部を有するものであり、マイクロレンズ基板は、実際には多数のマイクロレンズ（凸レンズ）を有するものであるが、説明をわかりやすくするために、図示の構成では、その一部分を強調して示した。
【００１４】
［凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法］
以下、本発明の凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法について説明する。
＜第１実施形態＞
まず、第１実施形態の凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法について説明する。
図１は、本発明の凹部付き部材を模式的に示す縦断面図、図２は、本発明の第１実施形態の凹部付き部材を模式的に示す平面図、図３は、本発明の凹部付き部材の製造工程を示す模式的な縦断面図、図４は、開口部の形成に用いるレーザ加工装置の構成、および、レーザ照射処理の様子を模式的に示す図、図５は、第１実施形態の製造方法において、開口部形成工程（レーザ照射処理）で用いる分岐用フィルタを模式的に示す平面図、図６は、第１実施形態の凹部付き部材の製造方法において、各レーザ照射処理毎にマスク形成用膜に形成される開口部の配列を示す平面図、図７、図８は、レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。なお、以下の説明では、図３中、上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。また、図５〜図８中、基板７の対応する部位に形成される凹部６１の形状を仮想線で示した（後述する図１０、図１１、図１２、図１３、図１５、図１６、図１７、図１８についても同様）。また、以下の説明では、マイクロレンズ基板をリア型プロジェクタに適用した場合における縦方向（鉛直方向）を、単に、「縦方向」または「鉛直方向」と言い、マイクロレンズ基板をリア型プロジェクタに適用した場合における横方向（水平方向）を、単に、「横方向」または「水平方向」と言う。また、マイクロレンズ基板に対応する凹部付き部材についても、同様に説明する。
【００１５】
まず、本発明の凹部付き部材の製造方法に先立ち、本発明の凹部付き部材について説明する。
凹部付き部材６は、後に詳述する方法により製造されるものであって、図１および図２に示すように、表面に多数の凹部６１（凹部６１’および凹部６１’’）を有している。
凹部付き部材（凹部付き基板）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材６が有する凹部６１の形状の安定性（信頼性）や、凹部６１（凹部６１’）を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板の光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００１６】
凹部付き部材（凹部付き基板）６は、後述するマイクロレンズ基板（レンズ基板）１が有するマイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’を備えている。そして、これらの凹部６１’は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
【００１７】
本実施形態において、凹部６１’は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１’がこのような形状を有することにより、得られるマイクロレンズ基板１は、視野角特性に特に優れたものとなる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとなる。また、投影される画像の輝度がより高いものとなる。
【００１８】
平面視したときの凹部６１’の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００１９】
平面視したときの凹部６１’の短軸方向の長さ（凹部６１’の縦幅）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１’の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、凹部付き部材６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１において、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２０】
また、平面視したときの凹部６１’の長軸方向の長さ（凹部６１’の横幅）は、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１’の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、凹部付き部材６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１において、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２１】
また、凹部６１’の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１’の曲率半径が前記範囲内の値であると、凹部付き部材６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１において、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１’は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２２】
また、凹部６１’の深さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１’の深さが前記範囲内の値であると、凹部付き部材６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１において、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１’は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１’が配列することにより、最終的に得られる透過型スクリーン１０（リア型プロジェクタ３００）において、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部６１’が正方格子状等に配列したものであると、凹部６１’の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、凹部をランダムに配した場合、凹部６１’の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、得られるマイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００２３】
上記のように、本実施形態において、凹部６１’は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１’で構成される第１の行６５と、それに隣接する第２の行６６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、最終的に得られる透過型スクリーン１０（リア型プロジェクタ３００）において、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２４】
上記のように、凹部の形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、最終的に得られる透過型スクリーン１０（リア型プロジェクタ３００）において、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。
また、凹部付き部材６を平面視したときの、凹部６１’が形成されている有効領域において、凹部６１’の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７％以上であるのがさらに好ましい。凹部６１’の占有率が前記範囲内の値であると、得られるマイクロレンズ基板１の光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。
【００２５】
なお、凹部６１’の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であってもよい。
また、例えば、製造すべきマイクロレンズ基板１を構成する基板本体２が、収縮し易い材料で構成されるものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１’とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００２６】
また、凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’が設けられた有効領域の外部には、凹部（検査用凹部）６１’’が設けられている。凹部６１’’は、後に詳述するように、後述するエッチング工程において、エッチングの進行の度合いを判断するために用いられたものである。凹部６１’’は、通常、平面視したときの形状が略円形をなすものである。そして、凹部６１’’の直径は、通常、凹部６１’の長軸方向の長さと実質的に等しいものである。
【００２７】
次に、本実施形態の凹部付き部材の製造方法について説明する。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板（基材）７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。このような清浄化は、例えば、基板７の表面をエッチング（ライトエッチング）することにより行うことができる。エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。ウェットエッチングを用いた場合、エッチング液としては特に限定されないが、一水素二フッ化アンモニウムと硫酸との混合液を用いるのが好ましい。これにより、基板７の表面の平滑性を高くすることができるとともに、基板７表面の不純物（Ｎａ、Ｋ等）を好適に除去することができる。その結果、後述するマスクの形成工程において、マスク形成用膜８１（マスク８）をピンホール等欠陥の少ないものとすることができる。これにより、後述するエッチング工程において、レーザによる開口部に対応する部位以外が不本意にエッチングされることをより確実に防ぐことができる。
次に、以下のようにして、用意した基板７の表面に、多数個の開口部（初期孔）８２を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する。
【００２８】
＜Ａ１＞まず、図３（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜８１を形成する（マスク形成用膜形成工程）。なお、裏面保護膜８９は、図示のように、本工程において、マスク形成用膜８１とともに形成されるものであってもよいし、後の工程で形成されるものであってもよい。
マスク形成用膜８１は、後述する開口部形成工程においてレーザ光の照射（レーザ加工）により開口部８２（開口部８２Ａおよび開口部８２Ｂ）を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜８１（マスク８）は、エッチングレートが、基板７に比べて小さくなるように構成されているのが好ましい。
【００２９】
かかる観点からは、マスク形成用膜８１（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜８１（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
上記のように、マスク形成用膜８１（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜８１は、後述するようなレーザ光の照射（レーザ加工）により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜８１を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、マスク形成用膜８１（マスク８）が上記のような構成であると、エッチング液への耐性を保持しつつ、マスク８の厚さを薄くすることができる。また、マスク形成用膜８１（マスク８）のが上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜８１（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜８１（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１をより好適に形成することができる。
【００３０】
マスク８が、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、クロムの層の平均厚さをＸ［ｎｍ］、酸化クロムの層の平均厚さをＹ［ｎｍ］としたとき、０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．８の関係を満足するのが好ましく、０．１≦Ｙ／Ｘ≦０．５の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、所望の大きさの開口部８２をより高い精度で形成することができる。
【００３１】
マスク形成用膜８１の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜８１（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜８１は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜８１（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜８１は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００３２】
マスク形成用膜８１（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜８１（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍであるのが好ましく、０．０１〜０．３μｍであるのがより好ましい。これにより、エッチングに対する耐性を保持しつつ、開口部８２の形成が容易になり、開口部８２の大きさ、形状をより容易に制御することができる。これに対し、厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜８１の構成材料等によっては、後述する開口部形成工程（初期孔形成工程）において形成される開口部８２の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜８１の構成材料等によっては、後述する開口部形成工程において、貫通する開口部８２を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜８１（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜８１（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００３３】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜８１（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜８１の形成と同時に、マスク形成用膜８１と同様に設けることができる。
【００３４】
＜Ａ２＞次に、図３（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８１に開口部８２（開口部８２Ａおよび開口部８２Ｂ）を形成することによりマスク８を得る（開口部形成工程）。本工程で形成される開口部８２は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
開口部８２は、レーザ加工（レーザ光の照射）により形成されるものである。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の開口部８２を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、開口部８２をレーザ加工により形成することにより、凹部付き部材６を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板７にも簡単に凹部６１を形成することができる。また、レーザ加工により開口部８２を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部を形成することなく開口部８２のみを形成したり、開口部８２とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部を、容易かつ確実に形成することができる。
【００３５】
また、開口部８２の形成に用いることのできるレーザ光の種類としては、例えば、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
そして、レーザ加工は、マスク形成用膜８１上の所定の広さの照射領域に、分岐用フィルタ９１により分岐されたレーザ光を照射するレーザ照射処理を施すことにより行う。
【００３６】
特に、本実施形態では、図４に示すようなレーザ加工装置９を用いて開口部８２を形成する。レーザ加工装置９は、レーザ光源（図示略）と、分岐用フィルタ９１と、レンズ９２とを備えている。
分岐用フィルタ９１は、遮光性の材料で構成されたシート状の部材であり、レーザ光を分岐するための複数（多数）の光透過部（孔）９１１が所定パターンで配列形成されている。
【００３７】
このレーザ加工装置９では、レーザ光源から出射されたレーザ光Ｌｃを、分岐用フィルタ９１にて複数に分岐し、分岐された複数のレーザ光をレンズにより反転させ、マスク形成用膜８１上の所定の広さの照射領域Ｅに照射する（レーザ照射処理、約１／５に縮小）。これにより、マスク形成用膜８１においては、照射領域Ｅに、所定の倍率で、分岐用フィルタ９１に形成されている孔の配列パターンに対応した配列パターンで多数の開口部８２が形成される。そして、このようなレーザ照射処理を、Ｘ方向およびそれに直行するＹ方向（ただし、Ｘ方向およびＹ方向は、いずれもマスク形成用膜８１の面方向）について変更しつつ、異なる複数の照射領域Ｅについて順次行う。これにより、マスク形成用膜８１について、基板７の凹部６１’を形成すべき領域に対応する部位全体に、開口部８２Ａを形成することができる。また、異なる複数の照射領域Ｅについてレーザ照射処理を行う（レーザ照射処理を複数回行う）ことにより、マスク８が有する多数の開口部８２についての大きさや形状のばらつきを抑制することができる。これにより、マスク８を用いて形成される凹部付き部材６の多数の凹部６１での大きさや形状のばらつきを抑制することができ、結果として、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の光学特性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
【００３８】
また、レーザ照射処理を複数回行うことにより、照射領域Ｅの面積が小さいものであっても十分に広い領域にわたって凹部６１が設けられた凹部付き部材６を製造することができる。すなわち、大型の凹部付き部材６を好適に製造することができる。また、今後のスクリーンの更なる大型化に対しても、新たな設備投資を最小限にとどめつつ、好適に対応することができる。
【００３９】
また、レーザ照射処理を複数回行うことにより、マスク形成用膜８１において、１回のレーザ照射により開口部８２を形成する領域の面積を小さくすることができる。このため、１回に広い領域にレーザ光を照射する場合に比べて、各部位でのレーザ光の強度のばらつきを抑制することができる。また、仮に、照射するレーザ光が、各部位での照射強度のばらつきの比較的大きいものであっても、マスク形成用膜８１全体としては、マクロ的な照射強度のばらつきを小さなものとすることができる。その結果、開口部８２の大きさ、形状のばらつきをより確実に抑制することができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板１における色むら、輝度むら等の発生を確実に防止することができる。
【００４０】
分岐用フィルタ９１において光透過部９１１が設けられた領域の幅（長さ）は、０．５〜１０ｍｍであるのが好ましく、１〜５ｍｍであるのがより好ましい。これにより、効率よく凹部付き部材６の生産性を十分に優れたものとしつつ、上述した効果を更に顕著なものとして発揮させることができる。また、光透過部９１１が設けられた領域の幅（長さ）が、上記のように十分に小さいものであると、各レーザ照射処理時における位置合わせの際にずれを生じた場合であっても、当該ずれによる、凹部付き部材６における凹部６１の配列、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ２１の配列にずれを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。また、光透過部９１１が設けられた領域の幅（長さ）が、上記のように十分に小さいものであると、複数個の光透過部９１１で大きさのばらつきが比較的大きい場合であっても、各光透過部９１１の大きさのばらつきによる、凹部付き部材６による凹部６１の大きさのばらつき、マイクロレンズ基板によるマイクロレンズ２１の大きさのばらつきを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。
【００４１】
上記のように、分岐用フィルタ９１が比較的小さいものである場合、分岐用フィルタ９１が有する光透過部９１１の個数も比較的少ないものとなる。分岐用フィルタ９１が有する光透過部９１１の個数は、５〜２０００個であるのが好ましく、１０〜２００個であるのがより好ましい。これにより、効率よく凹部付き部材６の生産性を十分に優れたものとしつつ、上述した効果を更に顕著なものとして発揮させることができる。また、分岐用フィルタ９１が有する光透過部９１１の個数が前記範囲内の値であると、各レーザ照射処理時における位置合わせの際にずれを生じた場合であっても、当該ずれによる、凹部付き部材６における凹部６１の配列、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ２１の配列にずれを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。また、分岐用フィルタ９１が有する光透過部９１１の個数が前記範囲内の値であると、複数個の光透過部９１１で大きさのばらつきが比較的大きい場合であっても、各光透過部９１１の大きさのばらつきによる、凹部付き部材６による凹部６１の大きさのばらつき、マイクロレンズ基板によるマイクロレンズ２１の大きさのばらつきを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。
【００４２】
分岐用フィルタ９１としては、図５に示すように、多数個の第１の光透過部９１１Ａを備え、所定の領域内に設けられた光透過部群９１２と、光透過部群９１２とは異なる領域に設けられた第２の光透過部９１１Ｂとを有するものを用いる。言い換えると、分岐用フィルタ９１は、光透過部９１１として、第１の光透過部９１１Ａと、第２の光透過部９１１Ｂとを有している。光透過部９１１は、図示の構成では、貫通する孔として設けられているが、このような形態のものに限定されず、例えば、光透過性の材料で構成されたものであってもよい。
【００４３】
そして、レーザ照射処理を上記のように複数回行うことにより、基板７の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’を形成すべき領域に対応するマスク形成用膜８１の領域に、規則的に配列した多数個の開口部８２（開口部８２Ａおよび開口部８２Ｂ）が形成されるとともに、基板７の凹部（検査用凹部）６１’’を形成すべき部位に対応するマスク形成用膜８１の部位に、開口部８２（開口部８２Ｂ）が形成される（図６〜図８参照）。基板７の凹部（検査用凹部）６１’’を形成すべき部位に対応するマスク形成用膜８１の部位に形成された開口部８２Ｂは、後述するエッチング工程を行った際に、当該開口部８２Ｂにおいて形成される凹部（検査用凹部）６１’’が所定の大きさになった際（凹部６１’’の直径が形成すべき凹部６１’の最大径の設計値と同一になった際）に、隣接する開口部８２Ａにおいて形成される凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’と重なり合わないように設けられている。これにより、形成すべき凹部６１に対応する開口部８２が形成されたマスク８が得られる。特に、上記のようにしてマスク８を形成する（開口部８２を形成する）ことにより、後のエッチング工程で、基板７の有効領域内において規則的に配列した多数の凹部６１（凹部６１’）を欠損なく形成するとともに、基板７の有効領域外に、エッチングにより形成される凹部６１の形状検査に利用する検査用凹部６１’’を形成することができる。その結果、エッチング工程において、検査用凹部６１’’の様子を観察すること等により、基板７のエッチングの進行状況を適切に判断することができ、好適な大きさ、形状の凹部６１’が設けられた凹部付き部材６を容易かつ確実に製造することができる。また、先のレーザ照射処理で、マスク形成用膜８１の、第１の光透過部９１１Ａを透過した光により形成された開口部８２（開口部８２Ａ）が多数個設けられた領域内の開口部８２（開口部８２Ａ）が形成されていない部位に、後のレーザ照射処理で第２の光透過部９１１Ｂを透過した光により開口部８２（開口部８２Ｂ）を形成することにより、第２の光透過部９１１Ｂ（第２の光透過部９１１Ｂを透過した光）を各照射領域Ｅの位置合わせの基準として利用することができ、マスクに形成される開口部８２の形成むら、傾き等を防止することができる。また、レーザ照射処理を複数回繰り返して行いマスク８を形成することにより、マスク８が有する多数の開口部８２についての大きさ、形状のばらつきを抑制することができる。その結果、製造される凹部付き部材６において各凹部６１’の大きさ、形状のばらつきを抑制することができ、また、当該凹部付き部材６を用いて製造されるマイクロレンズ基板１において各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきを抑制することができる。これにより、マイクロレンズ基板１の光学特性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
【００４４】
これに対し、第２の光透過部を有さない分岐用フィルタを用いた場合（検査用凹部を形成しない場合）、後述するエッチング工程でのエッチングの進行状況を適切に判断するのが困難となる。その結果、所望の大きさ、形状のレンズ部を有するレンズ基板を得るのが困難となり、満足のいく光学特性を得るのが困難となる。また、第２の光透過部を有さない分岐用フィルタを用いて有効領域内に開口部を形成し、さらに、別途、有効領域外に検査用凹部形成用の開口部を形成することも考えられるが、このような場合、有効領域内での開口部の大きさ、形状と、有効領域外での開口部（検査用凹部形成用の開口部）の大きさ、形状とのばらつきが大きくなり、エッチング工程におけるエッチングを適切に制御し、所望の大きさ、形状の凹部を形成するのが困難となる。また、第２の光透過部を有さない分岐用フィルタを用いた場合、複数回のレーザ照射処理での各照射領域の位置合わせが困難となり、マスクに形成される開口部８２の形成むら等を十分に防止することが困難になる。
【００４５】
また、分岐用フィルタとして、形成すべきマスク全面に対応するものを用いること、すなわち、形成すべきマスクが有する開口部に対応する数、配列の光透過部を有するものを用いることも考えられるが、このような場合、用いる分岐用フィルタ、平行光を照射する光源、分岐用フィルタを透過した光を反転させるレンズ等が大型化してしまい、凹部付き部材の生産コストを著しく高くしてしまう。また、上記のように非常に多数の光透過部を有する分岐用フィルタを用いた場合、収差による形状の歪み等が顕著となり、設計通りの凹部を形成するのが困難となる。
【００４６】
本実施形態では、図６に示すように、後のエッチング工程で形成される検査用凹部６１’’が、基板７の有効領域外において、凹部６１’と隣接するように、開口部８２（８２Ａ、８２Ｂ）を形成する。
また、本実施形態では、分岐用フィルタ９１は、複数個の第２の光透過部９１１Ｂを有しており、１回のレーザ照射処理により複数の開口部８２Ｂが形成される。これにより、隣接する照射領域Ｅに順次レーザ照射処理を行い、開口部８２を形成する際に、好適に位置合わせを行うことができ、形成される開口部８２の不本意な形成むらなどが生じるのをより確実に防止することができる。
【００４７】
マスク形成用膜８１に開口部８２を形成するとき、マスク形成用膜８１だけでなく基板７の表面付近の一部も同時に除去し、初期凹部を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部の深さの調整により、凹部６１’の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部を形成する場合、初期凹部の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、開口部８２の形成をレーザ光の照射により行うことにより、開口部８２とともに形成される複数個の初期凹部について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、凹部付き部材６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ２１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００４８】
本工程で形成する開口部８２は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。開口部８２の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１’を確実に形成することができる。
【００４９】
＜Ａ３＞次に、開口部８２（開口部８２Ａおよび開口部８２Ｂ）が形成されたマスク８で被覆された基板７にエッチングを施し、図３（ｃ）に示すように、基板７上に多数の凹部６１（凹部６１’および凹部（検査用凹部）６１’’）を形成する（エッチング工程）。
エッチング液としては、特に限定されず、いずれのものを用いてもよいが、フッ化アンモニウムを用いるのが好適である。フッ化アンモニウムとしては、正塩（ＮＨ４Ｆ）と、水素塩（ＮＨ４ＨＦ２：一水素二フッ化アンモニウム）とがあり、いずれのものを用いてもよいし、その両方を含むものを用いてもよい。
【００５０】
特に、フッ化アンモニウムとして、一水素二フッ化アンモニウムを主成分とするものを用いた場合、基板７に対して、より効率よくエッチングを施すことができる。また、一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。
エッチング液中のフッ化アンモニウムの含有量は、特に限定されないが、１〜５００ｇ／Ｌであるのが好ましく、１〜２００ｇ／Ｌであるのがより好ましく、１０〜１００ｇ／Ｌであるのがさらに好ましい。これにより、基板７に対して、より効率よくエッチングを施すことができる。これに対して、フッ化アンモニウムの含有量が前記下限値未満であると、エッチング液の温度等の条件等によっては、十分なエッチング速度が得られない可能性がある。また、フッ化アンモニウムの含有量が前記上限値を超えると、含有量に見合うだけの十分な効果が得られない場合がある。
【００５１】
また、エッチング液には前述したフッ化アンモニウムの他に、酸を含んでいてもよい。このような酸としては、水に溶けた際に、Ｆ−イオンやＨＦ２−イオン等を生じない酸であれば、特に限定されず、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸、酢酸、コハク酸等の有機酸が挙げられ、これらのうち、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、無機酸を用いるのが好ましく、硫酸、硝酸等のオキソ酸を用いるのがより好ましく、硫酸を用いるのがさらに好ましい。これにより、エッチング液とガラスとの反応の副生成物をより効果的に除去することができる。また、特に、マスク８として、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体を用いた場合に、硫酸を含むエッチング液を用いることで、マスク８への影響をより効果的に抑制しつつ、基板７に対してより均一にエッチングを施すことができる。
【００５２】
エッチング液中の酸の含有量は、特に限定されないが、１．７〜９２０ｇ／Ｌであるのが好ましく、１．７〜３７０ｇ／Ｌであるのがより好ましく、１．７〜１９０ｇ／Ｌであるのがさらに好ましい。これにより、エッチング液とガラスとの反応の副生成物をより効果的に除去することができる。これに対して、酸の含有量が前記下限値未満であると、基板７の組成やフッ化アンモニウムの含有量等によっては、前述のような効果が十分に発揮されない場合がある。また、酸の含有量が前記上限値を超えると、マスク８の組成やフッ化アンモニウムの含有量等によっては、マスク８に不本意な影響を与えてしまう場合がある。
【００５３】
エッチング液中のフッ化アンモニウムの含有量をＡ［ｇ／Ｌ］、酸の含有量をＢ［ｇ／Ｌ］としたとき、１．０≦Ｂ／Ａ≦４．０の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｂ／Ａ≦３．０の関係を満足するのがより好ましく、１．３≦Ｂ／Ａ≦２．７の関係を満足するのがさらに好ましい。これにより、エッチング液とガラスとの反応の副生成物をより効果的に除去しつつ、基板７に対してより均一にかつ効率的にエッチングを施すことができる。
【００５４】
なお、上記エッチング液には、前述したフッ化アンモニウム、酸の他に、水等の溶媒を含んでいてもよい。
また、上記エッチング液には、上記成分の他、過酸化水素、界面活性剤等の添加物を含んでいてもよい。このような添加物を含むことにより、基板７に対してより均一にエッチングを施すことができる。前述した中でも、特に過酸化水素を含む場合には、エッチングスピートをより速くすることができる。
さらに、上記のような条件を満足し、かつ、マスクとして、前述したような、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体を用いた場合、上記の効果はより顕著なものとして発揮される。
【００５５】
上述したように、マスク８には、開口部（第２の光透過部による開口部）８２Ｂが設けられている。そして、上述したように、凹部（検査用凹部）６２’’を形成すべき領域（マイクロレンズ用凹部６２’が形成されるべき領域以外の領域）において、開口部８２Ｂは、凹部（検査用凹部）６２’’を形成した際に、隣接する凹部（マイクロレンズ用凹部）６２’と重なり合わないように設けられている。すなわち、凹部（検査用凹部）６２’’は、平面視した際に略真円状の形状を保持しているため、その正確な大きさ等を測定することができる。このため、本工程において、開口部９２Ｂに対応する凹部（検査用凹部）６１’’のエッチングの進行状況を観察すること等により、開口部９２Ａに対応する部位に形成されつつある凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’の大きさ、形状等を、容易かつ精確に予測することができ、エッチングの終点を適切に判断することができる。その結果、凹部付き部材６を、所望の大きさ、形状の凹部６１’を備えたものとして、容易かつ確実に製造することができる。また、各凹部６１’間での大きさ、形状のばらつきを特に小さいものとすることができる。
そして、開口部８２Ｂにおいて、所定の大きさの凹部６１’’が形成されたタイミングで、エッチングを終了する。これにより、開口部８２Ａにおいて、エッチングが過剰に進行するのを防止することができ、所望の大きさ、形状の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’を精確に形成することができる。
【００５６】
＜Ａ４＞次に、図３（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
【００５７】
また、例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
以上により、図３（ｄ）、図１、図２に示すように、基板７上に多数の凹部６１’が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
【００５８】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態の凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法について説明する。
図９は、本発明の第２実施形態の凹部付き部材を模式的に示す平面図、図１０は、第２実施形態の製造方法において、開口部形成工程（レーザ照射処理）で用いる分岐用フィルタを模式的に示す平面図、図１１は、第２実施形態の凹部付き部材の製造方法において、各レーザ照射処理毎にマスク形成用膜に形成される開口部の配列を示す平面図、図１２、図１３は、レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【００５９】
以下、第２実施形態の凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
前述した実施形態の凹部付き部材６では、平面視したときの形状が略円形の凹部（検査用凹部）６１’’が、扁平形状の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’に接触するように、設けられていたのに対し、本実施形態の凹部付き部材６では、略円形の凹部（検査用凹部）６１’’が、扁平形状の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’に接触していない（図９参照）。これにより、エッチング工程において、凹部６１’’の大きさの測定等をより好適に行うことができ、所望の大きさ、形状を有する凹部６１’を、より確実に形成することができる。また、開口部形成工程において、位置合わせをより好適に行うことができるため、凹部６１’の形成むらの発生等をより確実に防止することができる。
【００６０】
また、前述した実施形態の凹部付き部材６では、凹部（検査用凹部）６１’’が凹部付き部材６（有効領域外部）の２辺方向に設けられていたのに対し、本実施形態の凹部付き部材６では、凹部（検査用凹部）６１’’が凹部付き部材６（有効領域外部）の４辺方向に設けられている。これにより、後述する製造工程時において、基板７上のより広い範囲にわたって、凹部６１’’の大きさの測定等を行うことができ、エッチング装置（例えば、エッチング槽）内の各部位でのエッチング量のばらつきが発生し易い場合であっても、より適切にエッチングの終点を判断することができる。また、多数の凹部６１’’を形成することにより、エッチング装置（例えば、エッチング槽）内の各部位でのエッチング量のばらつきが発生した場合であっても、エッチング工程において、各凹部６１’’についてのエッチングの進行の度合いのばらつきが小さくなるように、エッチング装置内での基板７の向き、配置を変更することにより、凹部付き部材が有する凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’の大きさ、形状のばらつきの発生を効果的に防止することができる。
なお、本実施形態の凹部付き部材６は、凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’の形状、配列等については、前述した実施形態の凹部付き部材とほぼ同様であり、また、本実施形態の凹部付き部材６の断面形状も、図１に示したようなものである。
【００６１】
次に、本実施形態の凹部付き部材の製造方法について説明する。
本実施形態の製造方法においては、前述した実施形態と同様に、図３に示すような各工程を有するものであり、また、図４に示すようなレーザ加工装置９を用いてマスク形成用膜８１に開口部８２を形成するが、分岐用フィルタ９１に設けられた光透過部９１１の配列が前述した実施形態とは異なる。すなわち、本実施形態において、分岐用フィルタ９１では、形成されるマスク８において、エッチング工程を行った際に、開口部８２Ｂで形成される凹部（検査用凹部）６１’’が所定の大きさになった際（凹部６１’’の直径が形成すべき凹部６１’の最大径の設計値と同一になった際）に、開口部８２Ｂで形成される凹部（検査用凹部）６１’’が、隣接する開口部８２Ａで形成される凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’と接触せずに、独立したものとなるように、開口部８２Ｂが設けられている。分岐用フィルタ９１がこのような配置の光透過部９１１（第１の光透過部９１１Ａ、第２の光透過部９１１Ｂ）を有していることにより、エッチング工程において、平面視したときの形状が真円状の検査用凹部６１’’を、より確実に形成することができる。その結果、より確実に、エッチング終了の好適なタイミングを判断することができ、所望の大きさ、形状を有する凹部６１’を、より確実に形成することができる。また、分岐用フィルタ９１は、光透過部群９２中の複数の第１の光透過部９１１Ａで囲まれた領域であって、規則的な配列の観点からは光透過部が設けられているべき部位に光透過部が形成されていない領域を有している。このような領域を有することにより、開口部形成工程において、先のレーザ照射処理で、第１の光透過部９１１Ａにより形成された複数の開口部８２Ａで囲まれ、かつ開口部が形成されなかった領域に、後のレーザ照射処理で、第２の光透過部９１１Ｂを透過したレーザ光により開口部８２Ｂを形成する際に、位置合わせをより好適に行うことができるため、凹部６１’の形成むらの発生等をより確実に防止することができる。また、上記のような領域を有する分岐用フィルタ９１を用いることにより、仮に、分岐用フィルタ９１に照射するレーザ光が、各部位での照射強度のばらつきの比較的大きいものであっても、マスク形成用膜８１全体としては、マクロ的な照射強度のばらつきを小さなものとすることができる。その結果、開口部８２の大きさ、形状のばらつきをより確実に抑制することができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板１における色むら、輝度むら等の発生を確実に防止することができる。また、上記のような領域を有する分岐用フィルタ９１を用いることにより、各レーザ照射処理時における位置合わせの際にずれを生じた場合であっても、当該ずれによる、凹部付き部材６における凹部６１の配列、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ２１の配列にずれを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。また、複数個の光透過部９１１で大きさのばらつきが比較的大きい場合であっても、各光透過部９１１の大きさのばらつきによる、凹部付き部材６による凹部６１の大きさのばらつき、マイクロレンズ基板によるマイクロレンズ２１の大きさのばらつきを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。
【００６２】
そして、前述した実施形態と同様に、レーザ照射処理を複数回繰り返し行い、マスク形成用膜８１の、先のレーザ照射処理で、マスク形成用膜８１の、第１の光透過部９１１Ａを透過した光により形成された開口部８２（第１の光透過部による開口部８２Ａ）が多数個設けられた領域内の開口部８２（開口部８２Ａ）が形成されていない部位に、後のレーザ照射処理で第２の光透過部９１１Ｂを透過した光により開口部８２（第２の光透過部による開口部８２Ｂ）を形成する（図１１〜図１３参照）。これにより、マスク８が得られる。
【００６３】
上記のようにして得られるマスクは、開口部８２Ｂが、有効領域の外側を囲むように設けられたものである（４辺方向に設けられている）ので、基板７上のより広い範囲にわたって、エッチング工程で形成されていく凹部６１’’の大きさの測定等を行うことができ、エッチング装置（例えば、エッチング槽）内の各部位でのエッチング量のばらつきが発生し易い場合であっても、より適切にエッチングの終点を判断することができる。また、マスク８が多数の開口部８２Ｂを有していることにより、エッチング装置（例えば、エッチング槽）内の各部位でのエッチング量のばらつきが発生した場合であっても、エッチング工程において、各凹部６１’’についてのエッチングの進行の度合いのばらつきが小さくなるように、エッチング装置内での基板７の向き、配置を変更することにより、凹部付き部材が有する凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’の大きさ、形状のばらつきの発生を効果的に防止することができる。
【００６４】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態の凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法について説明する。
図１４は、本発明の第３実施形態の凹部付き部材を模式的に示す平面図、図１５は、第３実施形態の製造方法において、開口部形成工程（レーザ照射処理）で用いる分岐用フィルタを模式的に示す平面図、図１６は、第３実施形態の凹部付き部材の製造方法において、各レーザ照射処理毎にマスク形成用膜に形成される開口部の配列を示す平面図、図１７、図１８は、レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【００６５】
以下、第３実施形態の凹部付き部材および凹部付き部材の製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
本実施形態の凹部付き部材６では、図１４に示すように、多数個の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’からなる行（または列）の延長線上に、複数個の凹部（検査用凹部）６１’’が連続して（間にマイクロレンズ用凹部６１’が介在することなく）配置されている。これにより、開口部形成工程において、位置合わせをより好適に行うことができるため、凹部６１’の形成むらの発生等をより確実に防止することができる。また、エッチング工程において、凹部６１’’の大きさの測定等をより好適に行うことができ、所望の大きさ、形状を有する凹部６１’を、より確実に形成することができる。
なお、本実施形態の凹部付き部材６は、凹部（マイクロレンズ用凹部）６１’の形状、配列等については、前述した実施形態の凹部付き部材とほぼ同様であり、また、本実施形態の凹部付き部材６の断面形状も、図１に示したようなものである。
【００６６】
次に、本実施形態の凹部付き部材の製造方法について説明する。
本実施形態の製造方法においては、前述した実施形態と同様に、図３に示すような各工程を有するものであり、また、図４に示すようなレーザ加工装置９を用いてマスク形成用膜８１に開口部８２を形成するが、分岐用フィルタ９１に設けられた光透過部９１１の配列が前述した実施形態とは異なる。すなわち、本実施形態において、分岐用フィルタ９１は、図１５に示すように、光透過部群９２中の複数の第１の光透過部９１１Ａで囲まれた領域であって、規則的な配列の観点からは光透過部が設けられているべき部位に光透過部が形成されていない複数個の領域を、多数個の第１の光透過部９１１Ａからなる行（または列）の線上に有している。これにより、開口部形成工程において、先のレーザ照射処理で、第１の光透過部９１１Ａにより形成された複数の開口部８２Ａで囲まれ、かつ開口部が形成されなかった領域に、後のレーザ照射処理で、第２の光透過部９１１Ｂを透過したレーザ光により開口部８２Ｂを形成する際に、位置合わせをより好適に行うことができるため、凹部６１’の形成むらの発生等をより確実に防止することができる。また、仮に、分岐用フィルタ９１に照射するレーザ光が、各部位での照射強度のばらつきの比較的大きいものであっても、マスク形成用膜８１全体としては、マクロ的な照射強度のばらつきを小さなものとすることができる。その結果、開口部８２の大きさ、形状のばらつきをより確実に抑制することができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板１における色むら、輝度むら等の発生を確実に防止することができる。また、上記のような分岐用フィルタ９１を用いることにより、各レーザ照射処理時における位置合わせの際にずれを生じた場合であっても、当該ずれによる、凹部付き部材６における凹部６１の配列、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ２１の配列にずれを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。また、複数個の光透過部９１１で大きさのばらつきが比較的大きい場合であっても、各光透過部９１１の大きさのばらつきによる、凹部付き部材６による凹部６１の大きさのばらつき、マイクロレンズ基板によるマイクロレンズ２１の大きさのばらつきを目立ちにくいものとすることができ、投影される画像の画質に対して悪影響を及ぼすことをより確実に防止することができる。
【００６７】
そして、前述した実施形態と同様に、レーザ照射処理を複数回繰り返し行い、マスク形成用膜８１の、先のレーザ照射処理で、マスク形成用膜８１の、第１の光透過部９１１Ａを透過した光により形成された開口部８２（第１の光透過部による開口部８２Ａ）が多数個設けられた領域内の開口部８２（開口部８２Ａ）が形成されていない部位に、後のレーザ照射処理で第２の光透過部９１１Ｂを透過した光により開口部８２（第２の光透過部による開口部８２Ｂ）を形成する（図１６〜図１８参照）。これにより、マスク８が得られる。
【００６８】
［マイクロレンズ基板の製造方法およびマイクロレンズ基板］
次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法およびマイクロレンズ基板１の構成について説明する。
図１９、図２０は、マイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１９、図２０中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００６９】
＜Ｂ１＞まず、凹部付き部材６の凹部６１が設けられた側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与する（組成物付与工程。図１９（ａ）参照）。
＜Ｂ２＞次に、凹部付き部材６上に付与された組成物２３上に、シート材（基材フィルム）２４を載せ、このシート材２４を介して、平板（押圧部材）１１により組成物２３を押圧する（押圧工程。図１９（ｂ）参照）。
【００７０】
シート材２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、シート材２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。シート材２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネートで構成されたものであるのが好ましい。また、シート材２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００７１】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、シート材２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６とシート材２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられた側の面に、付与する組成物２３として予めスペーサーが分散されたものを用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００７２】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００７３】
＜Ｂ３＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１（特に、上述したような形状、配列等の条件を満足するマイクロレンズ２１）を備えた基板本体２を得る（固化工程。図１９（ｃ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００７４】
＜Ｂ４＞次に、形成された基板本体２から、凹部付き部材６および平板１１を取り外す（押圧部材・凹部付き部材除去工程。図１９（ｄ）参照）。
本工程で除去された凹部付き部材６および平板１１は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００７５】
＜Ｂ５＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス（遮光膜）３を形成する。
本実施形態では、遮光膜の形成を、基板本体に遮光膜形成用材料を付与する工程（遮光膜形成用材料付与工程）と、当該遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、開口部を形成する工程（開口部形成工程）とを経て行う。遮光膜形成用材料としては、開口部を形成しうるものであればいかなるものであってもよいが、感光性を有する成分を含むものであるのが好ましい。これにより、容易かつ確実に好適な形状の開口部を形成することができる。以下の説明では、主に、遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマー３２を用いるものとして説明する。
【００７６】
まず、図２０（ｅ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー（遮光膜形成用材料）３２を付与する（遮光膜形成用材料付与工程）。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００７７】
＜Ｂ６＞次に、基板本体２に光（露光用光）Ｌｂを照射する。
照射された光（露光用光）Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００７８】
基板本体に照射する光（露光用光）Ｌｂは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３１の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
【００７９】
上記のような方法等により光Ｌｂを照射した後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、集光された光が照射された部位のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図２０（ｆ）に示すように、開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００８０】
本実施形態のように、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた光（露光用光）を照射しブラックマトリックス（開口部を有する遮光膜）を形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
なお、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００８１】
また、上記の説明では、（＜Ｂ５＞、＜Ｂ６＞において、）遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマーを用いて遮光膜（ブラックマトリックス３）を形成するものとして説明したが、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光膜形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料（反転現像材料）を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部（遮光領域）とすることができる。また、遮光膜の形成には、感光性材料を用いなくてもよい。例えば、感光性材料以外の遮光膜形成用材料で構成された膜を基板本体上に成膜した後、光（エネルギー線）を照射することにより、レンズ部により集光され、エネルギー密度が高くなった光で、遮光膜形成用材料で構成された膜の一部を弾き飛ばしたり、蒸発させること等により、開口部を有する遮光膜としてもよい。
【００８２】
また、遮光膜の形成は、上述した例に限定されず、例えば、ポジ型の感光性粘着剤を基板本体上に付与した後、光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させ、感光部以外の部位上に、遮光性材料を付与することにより、開口部を有する遮光膜としてもよい。
また、上記のような遮光膜形成用材料の付与、光の照射（露光）等の一連の処理を、繰り返し行ってもよい。これにより、遮光膜（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができ、コントラストの更なる向上を図ることができる。
【００８３】
また、上記の説明では、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、直接、遮光膜形成用材料（フォトポリマー）を付与するものとして説明したが、遮光膜形成用材料は、基板本体２の表面に直接付与されるものでなくてもよい。例えば、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、露光後に、十分な遮光性を発揮しない感光性材料の付与、現像等の一連の処理を行った後に、上記のような遮光膜形成用材料を用いた処理を行ってもよい。これにより、遮光膜（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができる。
【００８４】
＜Ｂ７＞次に、図２０（ｇ）に示すように、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部４を形成する（拡散部形成工程）。
拡散部４は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。
【００８５】
＜Ｂ８＞その後、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側に、着色液を付与することにより、着色部２２を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（着色部形成工程。図２０（ｈ）参照）。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができる。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００８６】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体２中に侵入、拡散し、基板本体２を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体２が着色される。
【００８７】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さの着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色むらなく）着色部を形成することができる。
【００８８】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な厚さの着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００８９】
着色液を付与する工程は、着色液および／または基板本体２を、３０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体２内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００９０】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【００９１】
以下、本工程で用いる着色液についてより詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【００９２】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【００９３】
また、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【００９４】
また、例えば、着色液中には、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていてもよい。これにより、上述したような効果がより顕著なものとして発揮される。より具体的には、例えば、基板本体２の着色をさらに容易かつ確実に行うことができ、特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体２に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。また、本工程での処理温度をより低いものとした場合であっても、短時間で効率良く好適な着色部２２を形成することができる。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとが相補的に作用し合い、その結果として、これらを併用することによる顕著な効果（相乗的な効果）が発揮されるものであると考えられる。より具体的には、以下のような理由（メカニズム）によるものであると考えられる。
【００９５】
すなわち、まず第一に、着色液中のベンジルアルコールが基板本体２を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する。第二にベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が、着色剤に優先して、この空間に侵入し深く拡散する。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物が、ベンジルアルコールと同様に、基板本体２を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する働きがあり、このためベンジルアルコールにより確保された空間を利用して、さらに深く、広く、その空間を広げる作用があることによる。なお着色剤にはこの働きがない。第三に、第二の作用と併行して着色剤が前記空間に入りこみ、保持される。あるいは一部、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物と置換する。このように、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を、ベンジルアルコールと併用することにより、着色剤が基板本体２中に、効率良く、さらに深く、比較的短時間で拡散でき、均一に着色することが可能となる。
【００９６】
ベンゾフェノン系化合物としては、下記式（Ｉ）またはこれに対応する他の限界構造式で示されるようなベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（Ｉ）で示されるベンゾフェノン骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【００９７】
【化１】
0004561726.tif 000002
【００９８】
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、上記式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（II）、式（III）として示す。
【００９９】
【化２】
0004561726.tif 000003
【０１００】
【化３】
0004561726.tif 000004
【０１０１】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記式（IV）またはこれに対応する他の限界構造式で表されるようなベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（IV）で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【０１０２】
【化４】
0004561726.tif 000005
【０１０３】
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、上記式（IV）で表されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（Ｖ）、式（VI）として示す。
【０１０４】
【化５】
0004561726.tif 000006
【０１０５】
【化６】
0004561726.tif 000007
【０１０６】
着色液中には、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていればよいが、２種以上の化合物（特に、１種以上のベンゾフェノン系化合物と、１種以上のベンゾトリアゾール系化合物）が含まれていてもよい。これにより、これらの化合物同士が相補的に作用し合うとともに、これらの化合物がベンジルアルコールと相補的に作用し合うことにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
また、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物とベンジルアルコールを含む前処理液に浸漬した後、前記着色液に浸漬しても同様の効果が得られる。
【０１０７】
着色液または前処理液がベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものである場合、着色液または前処理液中におけるベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０８】
また、着色液または前処理液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に、また高速に好適な着色部２２を形成することができる。
上記のようにして得られるマイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、凹部付き部材６が有する凹部６１’と同様な形状、大きさ、配列方式に対応する、多数のマイクロレンズ２１を備えている。
【０１０９】
以下、マイクロレンズ基板１の構成について、詳細に説明する。
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（レンズ部）２１を備えた基板本体２と、ブラックマトリックス（遮光膜）３と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部４とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
【０１１０】
基板本体２は、通常、主として光透過性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体２の生産性や、ブラックマトリックス３との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【０１１１】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．３５〜１．９であるのが好ましく、１．４０〜１．７５であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【０１１２】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ（レンズ部）２１を複数個備えている。
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１においては、マイクロレンズ（レンズ部）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【０１１３】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【０１１４】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【０１１５】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【０１１６】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【０１１７】
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。
【０１１８】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【０１１９】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側から平面視したときの、マイクロレンズ２１が設けられている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７％以上であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２０】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、ブラックマトリックス３、着色部２２を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【０１２１】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして設けられており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（フレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板１を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２２】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部２２を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。特に、着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、これらの機能が相乗的に作用し合い、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２３】
特に、本実施形態において、着色部（染色部）２２は、上述したように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成されたものである。着色部２２がこのようにして形成されたもの（染色により形成されたもの）であると、基板本体上に着色部を積層（外付け）した場合に比べて、着色部の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
【０１２４】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色むら等の不都合が発生するのをより確実に防止することができる。
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【０１２５】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２６】
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス（遮光膜）３が設けられている。
ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２７】
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
開口部３１は、ブラックマトリックス３の開口部３１以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。
【０１２８】
ブラックマトリックス３の開口部３１は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜１００μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、２０〜７０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【０１２９】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．８〜７μｍであるのがより好ましく、１．４〜６μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１３０】
また、平面視したときの開口部３１のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、５〜５０％であるのが好ましく、１０〜３５％であるのがより好ましく、１５〜２５％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
【０１３１】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部４が設けられている。拡散部４は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部４を有することにより、視野角特性を優れたものとすることができる。また、拡散部４は、ブラックマトリックス３より光の出射側に設けられた領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部４に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、透過型スクリーン１０の視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部４は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【０１３２】
また、拡散部４の厚さは、特に限定されないが、０．０５〜５ｍｍであるのが好ましく、０．７〜４ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部４の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部４の厚さが前記下限値未満であると、拡散部４を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部４の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、光拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、光の利用効率に優れている。マイクロレンズ基板１の光の利用効率（マイクロレンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６５％以上であるのが好ましく、７５％以上であるのがより好ましく、８５％以上であるのがさらに好ましい。
【０１３３】
［透過型スクリーン］
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図２１は、図２０（ｈ）に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
図２１に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
【０１３４】
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のブラックマトリックス３が設けられた面側とは反対の面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【０１３５】
［リア型プロジェクタ］
次に、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図２２は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１３６】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、その透過型スクリーン１０として、上述した透過型スクリーン１０を用いているので、表示品質の良い優れたリア型プロジェクタとなる。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１３７】
例えば、本発明の凹部付き部材の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、分岐用フィルタは、多数の第１の光透過部を備えた光透過部群と、該光透過部群とは異なる領域の設けられた第２の光透過部とを有するものであればいかなるものであってもよく、前述した実施形態で挙げたものに限定されず、いかなるものであってもよい。
【０１３８】
また、前述した実施形態では、最終的な凹部付き部材（レンズ基板の製造に用いられる凹部付き部材）は、検査用凹部を有するものとして説明したが、レンズ基板の製造時において、検査用凹部が設けられた領域は切断等により除去されていてもよい。また、同様に、レンズ基板は、検査用凹部による凸部を有していなくてもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材は、レンズ基板（基板本体）の製造において成形型として繰り返し利用する（基板本体の製造後に除去される）ものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去されるものでなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
【０１３９】
また、前述した実施形態では、ある任意の照射領域Ｅ（第１の照射領域）に隣接する照射領域Ｅ（第２の照射領域）にレーザ照射処理を施した際に、第１の照射領域内に存在する開口部８２（開口部８２Ａ）が形成されていない部位に、開口部８２（開口部８２Ｂ）を形成するものとして説明したが、第１の照射領域に隣接していない照射領域Ｅ（第３の照射領域）にレーザ照射処理を施す際に、第１の照射領域内に存在する開口部８２（開口部８２Ａ）が形成されていない部位に、開口部８２（開口部８２Ｂ）を形成してもよい。これにより、開口部８２の形成むらをより効果的に防止することができる。
【０１４０】
また、前述した実施形態では、凹部付き部材をレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造において成形型として用いるもののとして説明したが、凹部付き部材そのものをレンズ基板（凹レンズ基板）として用いてもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材が板状の部材（凹部付き基板）であるものとして説明したが、凹部付き部材は、例えば、ロール状のものであってもよい。これにより、レンズ基板の生産性を特に優れたものとすることができる。
【０１４１】
また、凹部付き部材、レンズ基板（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板として説明したが、レンズ基板は、レンチキュラレンズ基板であってもよい。
【０１４２】
また、レンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、レンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面（または平板上に載置された基材フィルム）に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、レンズ基板を製造してもよい。
【０１４３】
また、前述した実施形態では、ブラックマトリックス（遮光膜）を形成する際に、凹部付き部材を取り外した状態で光（露光用光）を照射するものとして説明したが、凹部付き部材が基板本体に取り付けられた状態で、ブラックマトリックスを形成してもよい。すなわち、遮光膜形成用材料に光を照射する際に、凹部付き部材を介して光を照射してもよい。
【０１４４】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板（レンズ基板）が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板は、前述したような拡散部を備えていなくてもよい。また、本発明のレンズ基板は遮光膜を有していなくてもよい。
【０１４５】
また、前述した実施形態では、基板本体が染色により設けられた着色部（染色部）を有するものとして説明したが、基板本体はこのような着色部を有していないものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズが、平面視したときの形状が扁平形状で、千鳥格子状に配列されているものとして説明したが、マイクロレンズ（レンズ部）の形状、配列はこれに限定されるものではない。例えば、マイクロレンズの平面視したときの形状は、略円形状、略六角形状等であってもよい。また、マイクロレンズは、例えば、正方格子状に配列されたものであってもよい。
【０１４６】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１】本発明の凹部付き部材を模式的に示す縦断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態の凹部付き部材を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明の凹部付き部材の製造工程を示す模式的な縦断面図である。
【図４】開口部の形成に用いるレーザ加工装置の構成、および、レーザ照射処理の様子を模式的に示す図である。
【図５】第１実施形態の製造方法において、開口部形成工程（レーザ照射処理）で用いる分岐用フィルタを模式的に示す平面図である。
【図６】第１実施形態の凹部付き部材の製造方法において、各レーザ照射処理毎にマスク形成用膜に形成される開口部の配列を示す平面図である。
【図７】レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【図８】レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【図９】本発明の第２実施形態の凹部付き部材を模式的に示す平面図である。
【図１０】第２実施形態の製造方法において、開口部形成工程（レーザ照射処理）で用いる分岐用フィルタを模式的に示す平面図である。
【図１１】第２実施形態の凹部付き部材の製造方法において、各レーザ照射処理毎にマスク形成用膜に形成される開口部の配列を示す平面図である。
【図１２】レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【図１３】レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【図１４】本発明の第３実施形態の凹部付き部材を模式的に示す平面図である。
【図１５】第３実施形態の製造方法において、開口部形成工程（レーザ照射処理）で用いる分岐用フィルタを模式的に示す平面図である。
【図１６】第３実施形態の凹部付き部材の製造方法において、各レーザ照射処理毎にマスク形成用膜に形成される開口部の配列を示す平面図である。
【図１７】レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【図１８】レーザ照射処理を繰り返し行うことによりマスク形成用膜に開口部が形成されていく様子を示す平面図である。
【図１９】本発明のレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図２０】本発明のレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図２１】マイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた本発明の透過型スクリーンの一例を示す模式的な縦断面図である。
【図２２】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１４８】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２２…着色部  ２３…組成物  ２４…シート材  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…開口部  ３２…フォトポリマー（遮光膜形成用材料）  ４…拡散部  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材  ６１…凹部  ６１’…凹部（マイクロレンズ用凹部）  ６１’’…凹部（検査用凹部）  ６５…第１の行  ６６…第２の行  ７…基板（基材）  ８…マスク  ８１…マスク形成用膜  ８２…開口部（初期孔）  ８２Ａ…開口部（第１の光透過部による開口部）  ８２Ｂ…開口部（第２の光透過部による開口部）  ８９…裏面保護膜  ９…レーザ加工装置  ９１…分岐用フィルタ  ９１１…光透過部（孔）  ９１１Ａ…第１の光透過部  ９１１Ｂ…第２の光透過部  ９１２…光透過部群  ９２…レンズ  １０…透過型スクリーン  １１…平板  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体  Ｌａ…平行光  Ｌｃ…レーザ光  Ｅ…照射領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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