(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
濾紙上に集塵されたダストからの放射線を測定する放射性ダストモニタの製造方法において、
前記放射性ダストモニタは、シンチレータ部材と、前記シンチレータ部材における放射線入射側とは反対の裏面側から出た光を検出する光検出器と、を備え、
前記シンチレータ部材は、前記放射線の入射により発光を生じるシンチレータと、前記シンチレータにおける前記濾紙に対向する放射線入射面としての表面に形成された少なくとも１つの皮膜と、を含み、
当該製造方法は、転写シートから前記シンチレータの表面上へ剥離膜としての前記皮膜を転写する転写工程を含み、
前記皮膜は、前記放射線を透過させ且つ外部光の透過を阻止する遮光層を有する、
ことを特徴とする放射性ダストモニタの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の放射性ダストモニタの製造方法において、
前記転写シートは熱転写シートであり、前記皮膜は熱転写法によって形成され、
前記皮膜は、更に、
前記遮光層の放射線入射側である上面側に形成され、前記放射線を透過させる保護層と、
前記遮光層における上面側とは反対の下面側に形成された接着層と、
を有することを特徴とする放射性ダストモニタの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の放射性ダストモニタの製造方法において、
前記シンチレータ部材を、前記光検出器の受光面に接合又は離間して設け、且つ、一定の隙間を介在させつつ前記濾紙の一部である集塵部に近接して設ける工程を含む、
ことを特徴とする放射性ダストモニタの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の放射性ダストモニタの製造方法において、
前記濾紙の一部である集塵部、前記シンチレータ部材及び光検出器が収容され、吸入されたエアが通過する測定室を設ける工程を含み、
前記測定室内の圧力の変動によっても前記シンチレータ部材の形状が維持される、
ことを特徴とする放射性ダストモニタの製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の放射性ダストモニタの製造方法において、
前記転写工程では、前記皮膜を単体で存在させずに前記転写シートから前記シンチレータの表面上に前記皮膜が転写される、ことを特徴とする放射性ダストモニタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射性ダストモニタに関し、特に、シンチレータ部材を備えた放射性ダストモニタに関する。
【背景技術】
【０００２】
シンチレータ部材は、放射性ダストモニタ等の様々な放射線測定装置に用いられている。シンチレータ部材に放射線が入射すると、そこで生じた光が光電子増倍管（ＰＭＴ）の受光面に導かれる。シンチレータ部材で生じた光を高感度で検出するために、シンチレータ部材の背面側には外部光を遮断する遮光構造（暗室）が設けられ、シンチレータ部材の前面側にも遮光構造が設けられる。
【０００３】
シンチレータ部材の前面（放射線入射面）側における遮光に際しては、そこを放射線が通過するために、そこでの放射線の減弱が問題となる。特に、β線（特に低エネルギーβ線）は空気中の飛程が小さく、シンチレータ部材の前面側に、ある程度の厚みをもった遮光膜を形成すると、そこにおける放射線の遮断、減弱が無視できなくなって、測定感度が大きく低下する。よって、シンチレータ部材の前面側には極めて薄い遮光膜しか設けることができない。しかし、そのような薄い遮光膜は物理的な強度が非常に低く、腐食にも弱い。遮光膜が傷ついたりピンポールが形成されたりすると、そこから光が内部へ入射してしまい、シンチレータ部材で生じた微弱発光を検出することができなくなる。
【０００４】
そこで、下記の特許文献１及び特許文献５に記載されているように、シンチレータ部材の前面側に互いに離間して複数の薄い遮光膜を設けることが考えられる。各遮光膜は樹脂フィルムとその両面に形成された遮光層とで構成される。仮に、最も外側の遮光膜の表面に形成された遮光層が傷ついても、その裏面に形成された遮光膜によって光が遮断される。仮に外的作用が大きく、外側に設けられた遮光膜の全体が傷ついても、それに対して離間して配置された次の遮光膜によって光の遮断を確保できる。
【０００５】
遮光膜を放射線測定装置に取り付ける場合には、皺が生じないように全体を均等に引っ張りつつ、その配置を行う必要がある。その作業には熟練を要し、また非常に手間がかかる。更に、配置作業中に必要以上に力を加えると、遮光膜が簡単に破れてしまうという問題もある。従来においては、一般に、放射線測定装置に対して複数の遮光膜が取り付けられるため、上記問題は非常に顕著なものとなっている。
【０００６】
下記の特許文献２にはシンチレータ部材を用いた放射線測定器の一例が示されている。下記の特許文献３には、大面積の薄型シンチレータ板に対して遮光膜を貼り付けることが記載されている（第００４１段落など）。しかし、遮光膜の詳細については記載されておらず、また、遮光膜の取付方法についても記載されていない。特に、β線検出においては極めて薄い遮光膜を配置する必要があるが、そのような薄膜特有の取り扱いについては記載されていない。
【０００７】
下記の特許文献４には、プラスチックシンチレータの表面上に遮光膜を設けることが記載されている。遮光膜は、薄膜状のプラスチックフィルムと、その裏面又は表面に形成された薄膜状の蒸着層と、を有する。しかし、プラスチックシンチレータに薄膜状の遮光膜をどのように設けるのかについては記載されていない。下記の特許文献６には、シンチレータ層と遮光層とを密着させることが記載されている。但し、遮光層は着脱可能であり、シンチレータ層に接着されているものではない。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−１４１８３１号公報
【特許文献２】特開平７−３５８６９号公報
【特許文献３】特開平８−２４８１３９号公報
【特許文献４】実願昭６０−１０８２７８号（実開昭６２−１６４８６号）のマイクロフィルム
【特許文献５】特開平３−２３１１８７号公報
【特許文献６】特開平５−２９７１４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
シンチレータ部材を利用した放射性ダストモニタにおいて、シンチレータ部材の前面側に上記のような遮光膜を設けると、遮光膜の前方側と後方側の圧力差によって、遮光膜の形状が変化してしまうという問題を指摘できる。図６にはその問題が図示されている。測定室１１８内には検出ユニット１６０が配置され、また、測定室１１８内を濾紙が横切るように濾紙移送機構１２４が設けられている。濾紙移送機構１２４の全体が測定室１１８内に収容される場合もある。いずれにしても、測定室１１８はダストエアを流通させる密閉構造を有する。検出ユニット１６０はシンチレータ１６２を有し、その前方側つまり濾紙集塵部１４０側には薄いフィルム状の遮光膜１６４が設けられている。図示されていないポンプを駆動して、ダストエアを流通させると、測定室１１８内が負圧（大気圧よりも低い圧力）となり、その結果、遮光膜１６４が濾紙集塵部１４０側へ膨らむ。この結果、遮光膜１４０の破損のおそれ、遮光膜１６４と濾紙集塵部１４０との間の流路を確保できない、遮光膜が濾紙に接触してしまうおそれがある、という問題が指摘できる。なお、検出ユニット１６０は通常、ほぼ遮光された状態におかれる空間であるが、諸状況によっては外来光が進入する可能性もあり、シンチレータへ不要な光が入射してしまうことを完全に防止するためには、何らかの遮光が必要となる。
【００１０】
本発明の目的は、放射性ダストモニタにおいてシンチレータ前面側に堅牢な遮光構造を設けられるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
（１）シンチレータ部材の説明
好適な実施形態に係るシンチレータ部材は、放射線の入射により発光を生じるシンチレータと、前記シンチレータにおける放射線入射面としての表面に形成された少なくとも１つの皮膜と、を含み、前記皮膜は、放射線を透過させる保護層と、前記保護層の裏面側に設けられ、放射線を透過させ且つ光の透過を阻止する遮光層と、前記遮光層の裏面側に設けられ、当該皮膜を前記シンチレータに貼り付けるための接着層と、を有し、前記皮膜は、転写シートから前記シンチレータの表面上へ転写された剥離膜である。
【００１２】
上記構成によれば、転写技術を用いて、シンチレータの放射線入射面に直接的に（つまり、空気層を介在させずに）少なくとも１つの皮膜が形成される。皮膜は、保護層、遮光膜及び接着層を有する。遮光層は望ましくはアルミニウムを含有する薄い層として形成され、それは外部から進入する放射線を透過させ且つ外部からの光の進入を遮断する。遮光層は、放射線をできるだけ減弱させずに且つ遮光性を発揮できる程度の厚さに形成される。保護層は、放射線を透過させ、同時に遮光膜を外部作用から保護する材料で構成される。保護層は、一般に、塗布（印刷）により均一の厚みで形成されて硬化した塗膜として構成される。保護層は、放射線をできるだけ減弱させず且つ保護機能を発揮できる程度の厚さに形成される。但し、遮光層の厚み及び保護層の厚みは、シンチレータ上に形成する皮膜数を考慮して決定するのが望ましい。あるいは、皮膜における遮光層の厚み及び保護層の厚みを考慮して、シンチレータ上に形成する皮膜数を決定するのが望ましい。接着層は皮膜をシンチレータに貼り付ける部材として機能する。保護層、遮光層、接着層のいずれについても、その厚みが全体的に均一であるのが望ましい。皮膜が、保護層と遮光層との間に設けられた中間層、遮光層と接着層との間に設けられた別の中間層、その他の層を有するように構成してもよい。シンチレータの表面にそのまま皮膜を形成してもよいし、シンチレータの表面にコーティング層等を形成した上で、その表面に皮膜を形成するようにしてもよい。
【００１３】
遮光層から見てシンチレータが背面支持基板として機能するため、また、遮光層が保護層とシンチレータとでサンドイッチ状態で挟まれるため、遮光層は物理的作用から効果的に保護される。例えば、皮膜へ局所的な外力が加わっても、その外力は保護層で分散され、またシンチレータで分散されるので、遮光層へ及ぼうとする局所応力を回避、緩和できる。また、保護層それ自体についても、シンチレータが背面支持基板として機能するので、保護層の強度を向上できる。また、接着を利用するため、大掛かりで特殊な装置を必要とせずに、皮膜形成を簡便に行える。皮膜形成に当たって転写技術を利用すれば、例えば、既に形成されているアルミニウム蒸着層を転写するだけでよいので、シンチレータ全体を高温下で長い時間処理する必要はない。また、既に均一に形成されている遮光膜をそのまま利用できるので厚みの不均一性の問題も回避できる。なお、熱転写方式を利用する場合には、シンチレータへの熱伝導が生じるが、その場合でも比較的低温で処理を行うことができ、また、熱転写部位のみを短時間だけ加熱すればよいので、加熱による影響はほとんど問題とならない。感圧方式を利用する場合には加熱による問題を回避できる。
【００１４】
望ましくは、前記転写シートは熱転写シートであり、前記皮膜は熱転写法によって形成される。望ましくは、前記転写シートは感圧転写シートであり、前記皮膜は感圧転写法によって形成される。
【００１５】
転写方式を利用すれば、ある程度の厚みをもったベースフィルム上に薄膜状の皮膜を形成しておいて、そのベースフィルムから皮膜を剥離してそれをシンチレータに接着することができる。つまり、転写前の状態において、皮膜はベースフィルムと一体化されているので物理的に強化された状態にあり、転写後の状態において、皮膜はシンチレータと一体化されるので物理的に強化された状態にある。また、転写という簡便な方法によって、シンチレータの表面に皮膜を形成できるので、従来の手張り法による場合に比べて、作業性を飛躍的に向上できる。また、ベースフィルム上への所定材料の塗布によって均一な厚みをもった保護層を容易に形成でき、その厚みのコントロールも容易である。保護層が塗布されて、それが硬化した後に、保護層の上に蒸着処理によって遮光層を均一な厚みで形成することも容易である。
【００１６】
望ましくは、前記遮光層はアルミニウムを含有する蒸着層である。望ましくは、前記保護層は遮光性をもった着色層である。着色層であれば保護層それ自体が遮光性を有することになるので、皮膜全体としての遮光性能をより向上できる。望ましくは、前記シンチレータの表面に複数の皮膜が積層され、前記各皮膜が前記保護層、前記遮光層及び前記接着層を有する。望ましくは、前記放射線はα線又はβ線である。上記の皮膜はＸ線、γ線の検出においてもその機能を発揮するが、特に、空気中でさえ減弱し易いα線、β線を検出する場合において有効なものである。望ましくは、前記接着層には、前記皮膜の裏面から入射する光を反射する反射材が混入される。反射材は望ましくは白色を呈し、典型的には、乱反射作用も有する。
【００１７】
（２）本発明に係る放射性ダストモニタ及びその製造方法の説明
本発明は、濾紙上に集塵されたダストからの放射線を測定する放射性ダストモニタの製造方法において、前記放射性ダストモニタは、シンチレータ部材と、前記シンチレータ部材における放射線入射側とは反対の裏面側から出た光を検出する光検出器と、を備え、前記シンチレータ部材は、前記放射線の入射により発光を生じるシンチレータと、前記シンチレータにおける前記濾紙に対向する放射線入射面としての表面に形成された少なくとも１つの皮膜と、を含み、当該製造方法は、転写シートから前記シンチレータの表面上へ剥離膜としての前記皮膜を転写する工程を含み、前記皮膜は、前記放射線を透過させ且つ外部光の透過を阻止する遮光層を有する、ことを特徴とする。
【００１８】
上記構成によれば、シンチレータの放射線入射面に転写剥離膜としての皮膜が形成され、その皮膜が遮光層を有するので、圧力の変動があっても簡単には破損せず、しかも良好な遮光性能を有する遮光構造を構築できる。また、転写方式を利用してシンチレータに対して簡便に皮膜を形成できるので、製造時の労力やコストを引き下げられる。
【００１９】
望ましくは、前記転写シートは熱転写シートであり、前記皮膜は熱転写法によって形成され、前記皮膜は、更に、前記遮光層の放射線入射側である上面側に形成され、前記放射線を透過させる保護層と、前記遮光層における上面側とは反対の下面側に形成された接着層と、を有する。望ましくは、前記シンチレータ部材を、前記光検出器の受光面に接合又は離間して設け、且つ、一定の隙間を介在させつつ前記濾紙の一部である集塵部に近接して設ける工程を含む。従来のように遮光膜の変形という問題が生じないので、濾紙集塵部とシンチレータの放射線入射面との間の距離を近接させることが容易であって、測定感度を高めることができ、また、近接配置を行ってもダストエアの流通を確保でき、また、シンチレータ部材が濾紙集塵部に接触することを未然に防止できる。
【００２０】
望ましくは、前記濾紙の一部である集塵部、前記シンチレータ部材及び光検出器が収容され、吸入されたエアが通過する測定室を設ける工程を含み、前記測定室内の圧力の変動によっても前記シンチレータ部材の形状が維持される。つまり、皮膜の物理的強度はそれを支持しているシンチレータの物理的強度に依存することになる。望ましくは、前記転写工程では、前記皮膜を単体で存在させずに前記転写シートから前記シンチレータの表面上に前記皮膜が転写される。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように、本発明によれば、放射性ダストモニタにおいてシンチレータ前面側に堅牢な遮光構造を設けることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２３】
図１には、実施形態に係るシンチレータ部材１０の製造方法が示されている。このシンチレータ部材１０は、放射線測定装置において放射線検出器として用いられるものである。シンチレータ部材１０はシンチレータプレート１６と皮膜１４とで構成される。
【００２４】
なお、図１には、シンチレータプレート１６の表面（放射線入射面）上に１つの皮膜が形成されているものが示されているが、シンチレータプレート１６の表面上に複数の皮膜１４を積層形成するようにしてもよい。
【００２５】
シンチレータプレート１６はプラスチックシンチレータ材料によって構成される。周知のように、シンチレータプレート１６に放射線が入射すると、それによって発光が生じ、生じた光はシンチレータプレート１６の裏面側において検出される。放射線としては、Ｘ線（γ線）、β線、α線などをあげることができ、本実施形態に係るシンチレータ部材１０は特にα線やβ線の検出に好適なものである。図１において、シンチレータ部材１０は板状の部材として示されている。ただし、シンチレータ部材１０の形状は必ずしも平板状である必要はなく、例えば曲面状であってもよいし、棒状であってもよい。転写技術を利用すれば、任意の形態のシンチレータに対して遮光層を容易に形成できる。
【００２６】
皮膜１４は放射線を透過させる機能と外部からの光を遮断する機能とを有する。この皮膜１４は、本実施形態において、熱転写方式によって、熱転写シート１８から剥離された剥離膜である。これについては後に詳述する。皮膜１４は、放射線の入射側から見て、保護層２４、遮光層２６及び接着層２８を有している。各層はそれ全体として均一の厚みを有する。
【００２７】
保護層２４は透明な材料あるいは着色された材料からなるものであり、遮光層２６の表面の全体を覆って遮光層２６を物理的な作用から保護する機能を発揮する。保護層は例えばアクリルエポキシ系の材料によって構成され、その厚みは例えば０．５〜３μｍの範囲内に設定される。望ましくは保護層２４は１．０μｍの厚みを有する。保護層２４は堅い材料によって薄く均一に形成されており、これによって上述したように遮光層２６が物理的な作用から保護されている。保護層２４を着色層として構成すれば、例えば黒色あるいは白色の層として構成すれば、それ自体に遮光性を持たせることができる。一般に、遮光層２６を構成するアルミニウム材料などに比べて樹脂系の材料の方が放射線の減弱作用が弱いために、遮光層２６よりも保護層２４の方を厚くするのが望ましい。
【００２８】
保護層２４は、後述するベースフィルム上に所定材料を塗布し、それを硬化することによって形成された塗膜（塗布層）である。塗布処理によれば、均一で薄い層を比較的に容易に形成できるという利点がある。
【００２９】
本実施形態では、熱転写前の状態では、皮膜１４が後述するベースフィルム２０に一体化されてその強度が確保され、熱転写後の状態では皮膜がシンチレータプレート１６に一体化されてその強度が確保される。皮膜を単体で存在させる必要がないので、その取扱いが極めて容易である。
【００３０】
遮光層２６はアルミニウム材料あるいはそれを含む混合材料によって構成され、その遮光層２６は保護層２４の裏面側に形成された蒸着層として形成されている。すなわち遮光層２６は熱転写シート１８の形成段階において蒸着によって形成されたものである。その厚みは、例えば０．０１〜１．５μｍの範囲内に設定され、望ましくは０．０５μｍである。熱転写シート１８の形成段階において蒸着法以外を用いて遮光層２６を形成するようにしてもよい。遮光層２６は、測定対象となる放射線を通過させ、その一方において、外来光がシンチレータプレートへ到達することを防止する遮光機能、及び、シンチレータプレート側からの光を反射する反射機能、を有する。なお、蒸着層をアルミニウム材料以外の材料で構成することも可能である。
【００３１】
接着層２８は、本実施形態において、熱可塑性接着材によって構成され、例えばオレフィン系の材料（ＰＰ系接着材、アクリル系接着材、等）によって構成される。接着層２８は、皮膜１４をシンチレータプレート１６上に接着するためのものである。その厚みは例えば２〜３μｍ程度である。接着層２８を構成する材料としては加熱後に硬化する材料を用いるのが望ましい。もちろん、それ以外にも様々な接着材料を利用することが可能である。但し、あまり接着層２８の厚さを厚くするとそこでの放射線の減弱が無視できなくなるため、そのような放射線の減弱を考慮しつつできる限り薄い接着層２８を形成するのが望ましい。複数の接着層を形成するようにしてもよい。本実施形態において、接着層２８には、白色を呈する酸化チタンの粉末が添加されている。その粉末は、シンチレータプレート１６側から進入した光を反射（乱反射）する反射材として機能する。酸化チタンに代えて他の材料を用いることもできる。
【００３２】
なお、シンチレータプレートは例えば０．５〜２．０ｍｍの厚みを有し、その厚みは、検出する放射線などに応じて適宜設定される。例えばシンチレータプレート１６の厚みを薄くしてそれに対して皮膜１４を形成した後に、シンチレータ部材１０を湾曲させて放射線検出器として利用することも可能である。シンチレータプレート１６を湾曲させた状態において皮膜１４を熱転写によって形成するようにしてもよい。シンチレータプレートそれ自体は通常透明であるが、その表面には、必要に応じて、光の散乱を生じさせる非常に細かい凹凸加工が施される。これは、光検出器側から見て発光部分を広げるためである。
【００３３】
次に、熱転写シート１８について詳述する。熱転写シート１８は、ベースフィルム２０と、そのベースフィルム２０に対して離型層２２を介して設けられた上記の皮膜１４と、を有している。すなわち、熱転写時において、熱転写シート１８に対して加熱が行われると、離型層２２の作用により、ベースフィルム２０から皮膜１４が剥がれることになる。それと同時に、皮膜１４は上記の接着層２８の作用によってシンチレータプレート１６上に接着される。ベースフィルム２０は、例えばポリエステル樹脂によって構成され、具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムによって構成される。その厚みは例えば１０〜２０μｍの範囲内に設定され、望ましくは１６μｍの厚みを有する。離型層２２は例えばワックス系あるいはアクリル系の材料によって構成され、その厚みは例えば０．３〜０．８μｍの範囲内に設定され、望ましくは０．５μｍである。上記の離型層を有しない熱転写シートを用いることもできる。
【００３４】
図１においては、シンチレータプレート１６上に熱転写シート１８が重合され、その重合体が搬送されている状態が示されている。重合体に対する局所的な加熱が図示されていない熱転写ローラによって行われた後、ガイドローラ４４によってベースフィルム２０が巻き取られる。すると、上述したようにベースフィルム２０上から皮膜１４が剥離して、皮膜１４がシンチレータ部材１０側に残存することになる。これによって熱転写処理が完成する。
【００３５】
後に説明するように、熱転写処理にあたっては、シンチレータプレート１６への熱伝導は局所的になされるため、シンチレータプレート１６が熱的な影響によって劣化する問題はほとんど生じない。但し、熱転写後において、シンチレータ部材１０の反りを防止するために、熱転写時に、シンチレータプレート１６の裏面側に（シンチレータプレート１６と後述するベルトコンベアとの間に）薄い平坦な金属板を設けることもできる。その金属板は、例えばアルミニウムによって構成され、熱転写時に、シンチレータプレート１６へ加えられた熱を、シンチレータプレート１６の裏面側で奪い取る吸熱作用を発揮する。
【００３６】
なお、上記で掲げた各数値は一例であって、諸条件に応じて各種の数値を採用し得る。例えば、遮光層２６の厚みを遮光性が十分担保される限りにおいてより薄くしつつ、その一方において保護層２４の厚みをより厚くするようにしてもよい。また薄い遮光層２６と薄い保護層２４とで皮膜１４を構成し、そのような皮膜を複数積層することによって、全体として厚い遮光層及び厚い保護層を構成するようにしてもよい。いずれの場合においても、放射線に応じてそれを十分な感度をもって検出できるように、しかも遮光層における物理的な保護が十分に図られるように、各材料の厚みを適宜設定するのが望ましい。
【００３７】
図２には、熱転写装置３０が例示されている。シンチレータプレート１６はベルトコンベア３２上におかれ、図２における矢印方向へのベルトコンベア３２の移動に伴ってシンチレータプレート１６が搬送される。ベルトコンベア３２上には転写ユニットが設けられており、その転写ユニットは供給ローラ３８、巻取りローラ４０、ヒーター３６、熱転写ローラ３４、及び、ガイドローラ４２，４４などによって構成される。
【００３８】
供給ローラ３８には熱転写シートが巻き付けられており、その供給ローラ３８から供給される熱転写シート１８は、ガイドローラ４２によって案内され、熱転写ローラ３４を経てガイドローラ４４によって折り返され、巻取りローラ４０によって巻き取られる。熱転写ローラ３４はヒーター３６によって所定温度に加熱されており、また熱転写ローラ３４がその下方を通過するシンチレータプレート１６に対して熱転写シート１８を押しつける。これによって、熱転写ローラ３４の当接部位において、加圧と加熱とが同時に行われる。ベルトコンベア３２は一定速度で搬送されており、それと同じ速度で熱転写シート１８も搬送される。加熱後においては、熱転写シート１８がガイドローラ４４によって折り返されるが、その段階においては図１に示したようにガイドローラ４４の作用によって熱転写シート１８におけるベースフィルム２０と皮膜１４との分離が達成される。すなわちベースフィルム２０から皮膜１４が剥がされることになる。
【００３９】
したがって、図２に示すような熱転写装置３０を用いれば、様々な形状あるいはサイズをもったシンチレータプレート１６に対して簡便かつ迅速に皮膜形成処理を行うことができ、その製造コストを非常に軽減することが可能となる。また様々な場所で皮膜形成を行えるという利点もある。シンチレータ部材を事後的に加工、成形することも容易である。ベルトコンベア３２上に複数のシンチレータプレート１６を整列させておけば、それらのシンチレータプレート１６に対して連続的に熱転写処理を施すことも可能であり、図２に示す構成によれば大量処理を容易に行えるという利点がある。なお、熱転写時における加熱温度は例えば１００〜２５０℃であるが、その温度は熱転写シートやシンチレータ材料などに応じて適宜設定すればよい。加熱部位はシンチレータプレートの搬送方向及び深さ方向の両方向にわたって限定されており、また瞬時的なものであるため、シンチレータ材料に与える熱的な影響をほとんど無視することができる。
【００４０】
図３には、複数の皮膜が積層されたシンチレータ部材１００が示されている。シンチレータプレート１６上には２つの皮膜１４Ａ，１４Ｂが設けられている。各皮膜１４Ａ，１４Ｂは、それぞれ放射線入射側から見て保護層２４、遮光層２６及び接着層２８を有する。例えば、図２に示したようなプロセスを２回繰り返せば、図３に示すような２層の皮膜１４Ａ，１４Ｂを容易に形成することができる。もちろん３層以上の積層構造を構築することも容易である。
【００４１】
図２に示した熱転写プロセスにおいては、熱転写処理に先立ってシンチレータプレート１６の表面上における塵、ゴミ等の異物を十分に除去しておくのが望ましい。すなわち、シンチレータプレート１６の表面を清浄状態にしておくのが望ましい。その場合においては、例えばエアブロー、洗浄などの手法を利用することができ、場合によっては、不純物の混入を避けるために、クリーンブースあるいはそれに相当するような部屋を用意し、その内部において熱転写処理を行うようにしてもよい。そのような密閉空間には、エアフィルタを通過したクリーンエアが導入される。エアーブロー装置は、熱転写前の段階で、シンチレータプレート１６の表面上にクリーンエアを吹き付けて異物を吹き飛ばすものである。そのような処理によれば異物によるピンホールの発生を効果的に防止できるという利点がある。
【００４２】
上記の熱転写方式に代えて感圧転写方式を利用することもできる。その場合、感圧転写シートが利用される。感圧転写シートは、上記の熱転写シートと同様に、ベースフィルムの上に設けられた皮膜（保護層、蒸着層、接着層）を有する。感圧転写シートにおける接着層は、熱可塑性接着材ではなく、加圧によって接着作用を十分に発揮する接着材で構成される。感圧転写方式の場合には、加圧ローラーによって、感圧転写シートがシンチレータプレートへ押しつけられ、シンチレータプレート上に皮膜（剥離膜）が転写される。この感圧転写方式においても、熱転写方式の場合と同様の利点を得られる。すなわち、転写前の状態においては、皮膜がベースフィルム上に形成されるので、その皮膜を薄く形成することができ、しかも、皮膜が単体で存在している場合に比べて、皮膜を物理的あるいは構造的に保護、強化することができる。転写後の状態においては、皮膜がシンチレータプレートに転写されるため、その皮膜を物理的あるいは構造的に保護、強化することができる。感圧転写方式によれば、熱的歪みの発生を防止できる。熱転写方式によれば、より薄い皮膜の転写を行える。
【００４３】
次に、図４及び図５を用いて上述したシンチレータ部材を備えた放射性ダストモニタについて説明する。ここでシンチレータ部材の製造方法については既に説明した通りである。それを用いて以下の放射性ダストモニタが製造される。図４には放射性ダストモニタ１１０の全体構成が概念図として示されている。図５には図４に示される検出ユニット１２２の構成が示されている。
【００４４】
図４において、吸気口１１２にはダストエアが導入される。ダストエアは例えば原子力発電所内において所定の空間から引き込まれたものである。吸気口１１２と排気口１１４との間には配管１１６が設けられている。配管１１６は、大別して３つの部分１１６Ａ、１１６Ｂ及び１１６Ｃによって構成されている。配管１１６上には測定室１１８が設けられている。測定室１１８はダストエアを収容する空間を有し、測定室１１８の内部には図示されるように検出ユニット１２２が配置されている。
【００４５】
測定室１１８とともに濾紙移送機構１２４が設けられている。濾紙移送機構１２４は測定室１１８において放射性ダストを集塵する濾紙を搬送するものである。少なくとも濾紙集塵部１４０が測定室１１８内に位置決めされるが、濾紙移送機構１２４の全体が測定室１１８内に配置されてもよい。濾紙移送機構１２４はリール状に巻かれている長尺の濾紙を必要に応じて搬送する機構である。もちろん、複数枚に切断された濾紙を順次交換するような機構を設けることも可能である。測定室１１８の後段には配管部分１１６Ｂを介して流量計１２６が設けられており、またその後段には配管１１６Ｃに接続された圧力計１２８が設けられている。さらに、配管部分１１６Ｃ上には電磁弁１３０、流量調整弁１３２、ポンプ１３４などが配置されている。ポンプ１３４は配管１１６内においてダストエアを流通させるための駆動源である。図４に示されている各構成は必要に応じて設けられるものである。
【００４６】
制御部１３６は図４に示される各構成の動作制御を行っており、特に圧力計１２８から出力された出力信号に基づいて各構成の制御を行っている。電源部１３８は制御部１３６に電力を供給するものである。
【００４７】
検出ユニット１２２からの出力信号は計測部１５０に送られており、計測部１５０において放射線の測定値が演算され、それが必要に応じて表示部に表示される。また計測されたデータを必要に応じてデータ伝送部１５２を介して外部機器へ出力することも可能である。
【００４８】
濾紙移送機構１２４は、送りリール１４２と受けリール１４４とを有している。符号１４２Ａは送りリールの回転軸を示しており、符号１４６は受けリールの回転軸を駆動するモータを示している。例えばそれらのリール１４２、１４４が所定の回転角度に維持された状態において、測定室１１８内に存在する濾紙集塵部１４０上に放射性ダストが集塵される。その集塵された放射性ダストからの放射線が検出ユニット１２２によって検出される。所定の期間にわたってそのような測定が行われた後、各リール１４２，１４４が回転駆動され、新しい濾紙集塵部が検出ユニット１２２に対向することになる。図から明らかなように濾紙集塵部は濾紙の一部である。そして、所定期間にわたって放射性ダストのモニタリングが行われる。
【００４９】
図５には、図４に示した検出ユニット１２２の構成が示されている。検出ユニット１２２は上述したように測定室１１８内に配置されており、検出ユニット１２２は、本実施形態において、光検出器としての光電子増倍管１５４と、その受光面に配置されあるいは近接して設けられたシンチレータ部材１０とを有している。このシンチレータ部材１０は図１等に示したものである。すなわち、シンチレータ部材１０は、シンチレータプレート１６とその放射線入射面（前面）上に転写された皮膜１４とを有するものである。皮膜１４は図１に示したように保護層、遮光層及び接着層を有する。シンチレータ部材１０は図示されるように濾紙集塵部１４０に対して近接配置されており、すなわち濾紙集塵部１４０に接触しない限りにおいて、かつ、濾紙集塵部との間にダストエアの流通を確保できる限りにおいて、濾紙集塵部１４０に対向して近接した状態で設けられている。たとえば、それらの間隔は５ｍｍである。
【００５０】
ちなみに、光電子増倍管１５４の受光面が円形である場合、シンチレータ部材１０も円形に加工される。そして、望ましくはその受光面にシンチレータ部材１０が直接的に貼り付けられる。あるいは光電子増倍管１５４の受光面それ自体をシンチレータ部材１０によって構成するようにしてもよい。いずれにしても、従来のような遮光膜によらずに、シンチレータプレート１６の前面側に物理的に強化された状態で遮光構造が形成されているため、図５に示されるように、測定室１１８内にダストエアが流通してあるいはポンプの作用によって測定室１１８内が負圧となっても部材の変形といった問題は生じない。これにより、シンチレータ部材１０と濾紙集塵部１４０との間の間隔を従来よりも狭めることができるとともに、その間隔を常に一定量に維持できるという利点がある。その結果として測定感度を高められるとともに、装置の動作信頼性を高められる。ちなみに、シンチレータプレート１６の前面側に複数の皮膜を形成してもよいことは上述の通りである。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に係るシンチレータ部材の製造方法を示す概念図である。
【図２】熱転写装置の構成を示す斜視図である。
【図３】複数の皮膜を有するシンチレータ部材を示す図である。
【図４】放射性ダストモニタの全体構成を示す図である。
【図５】放射性ダストモニタにおける測定室の構成を説明するための概念図である。
【図６】従来の放射線ダストモニタにおける問題を説明するための概念図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０  シンチレータ部材、１４  皮膜、１６  シンチレータプレート、１８  熱転写シート、２０  ベースフィルム、２２  離型層、２４  保護層、２６  遮光層、２８  接着層、１１０  放射性ダストモニタ、１１８  測定室、１２２  検出ユニット、１２４  濾紙移送機構、１４０  濾紙集塵部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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