(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧下で被処理体に所定の処理を施す少なくとも一つの処理室と、この処理室の少なくとも一つのキャリアとの間に配設され且つ上記処理室と上記キャリアとの間で上記被処理体を搬送する搬送機構とを備え、且つ、上記搬送機構は、上記被処理体を搬送する多関節型搬送アームと、この搬送アームを駆動させて上記処理室と上記キャリアとの間でロードロック室を介して上記被処理体を遣取りする駆動機構とを備えた処理装置において、上記ロードロック室内の空気を、フィルタによって清浄化した外部の空気で換気する上記フィルタ付きの換気機構を、ゲートバルブを介して上記ロードロック室の背面に設けると共に、このロードロック室を上記処理室に対して接続可能に上記搬送機構に設け、且つ、上記搬送アームを上記ロードロック室内に設けると共に上記搬送アームと対向する上記処理室または上記キャリアに対して上記搬送アームを進退動させる直進駆動機構を上記ロードロック室内に設けたことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
上記直進駆動機構は、上記搬送アームをその移動方向へ案内するガイドレールと、このガイドレールに沿って上記搬送アームを往復移動させる無端状ベルトと、この無端状ベルトを回転駆動させる回転駆動機構とを有することを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
上記直進駆動機構は、上記搬送アームをその移動方向へ案内するガイドレールと、このガイドレールに沿って上記搬送アームを往復移動させるシリンダ機構とを有することを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理装置に関し、更に詳しくは、液晶表示体用基板（以下、「ＬＣＤ用基板」と称す。）半導体ウエハ等の被処理体を搬送する多関節型搬送アームを改良した処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の処理装置としては、例えば、マルチチャンバー処理装置が広く用いられている。マルチチャンバー処理装置は、例えば、減圧下で被処理体（例えば、ＬＣＤ用基板）にそれぞれ同種または異種の処理を施す複数（例えば、３室）の処理室と、これらの処理室に接続された搬送室と、この搬送室に処理室と同様に接続されたロードロック室と、このロードロック室と載置機構に配置されたキャリアとの間でＬＣＤ用基板を遣取りする搬送機構とを備えている。
【０００３】
ＬＣＤ用基板に所定の処理を施す場合には、搬送機構の多関節型搬送アームを屈伸して載置機構に配置されたキャリアからＬＣＤ用基板を一枚ずつ取り出した後、搬送機構がキャリアから処理室側まで移動しロードロック室と対峙する。次いで、ロードロック室の搬出入口のゲートバルブが開き、大気圧化で搬送アームを介してＬＣＤ用基板をロードロック室内へ搬入し搬送アームがロードロック室から退避した後、ゲートバルブを閉じてロードロック室内を密閉する。その後、ロードロック室内の空気を例えば窒素ガス等の不活性ガスで置換すると共に、ロードロック室内の不活性ガスを排気し、ロードロック室内を搬送室内と同程度の減圧状態にする。次いで、搬送室側のゲートバルブが開き、ロードロック室と搬送室が連通した後、搬送室内の搬送アームが駆動し、搬送アームを介してロードロック室内のＬＣＤ用基板を搬送室内へ搬入しゲートバルブを閉じる。搬送室がロードロック室から遮断されると、処理室側のゲートバルブが開き、搬送アームを介して処理室内へＬＣＤ用基板を搬入した後、処理室から搬送アームが退避すると共にゲートバルブが閉じ、処理室と搬送室を遮断し、処理室内でエッチングや成膜等の処理を開始する。処理室内でＬＣＤ用基板の処理が終了すると、搬送室内の搬送アーム及び搬送機構を介して上述した場合とは逆の経路を辿って処理室からキャリア内の元の場所へ処理後のＬＣＤ用基板を戻す。尚、引き続きＬＣＤ用基板に対して別の処理を施す場合には搬送室内の搬送アームを介して次に処理すべき処理室へ処理後のＬＣＤ用基板を搬入し、その処理を施した後、キャリア内の元の場所へ処理後のＬＣＤ用基板を戻す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の搬送機構の場合には、例えばＬＣＤ用基板等の被処理体が大型化すると搬送アームと被処理体の受け渡し位置との間の距離が被処理体に即して長くなり、しかも図１７に示すように多関節型の搬送アーム１００が回転軸１０１を介して固定されているため、第１、第２アーム１０２、１０３の長さＬ’Ｌ１’が長くなり、しかも被処理体を支持するためにその重さに即して各ア ーム１０２、１０３の剛性を強化しなくてはならないが、この剛性強化には自ずと限界があり、被処理体の大型化に見合った剛性を持った多関節型搬送アームを得ることが難しいという課題があった。更に、搬送アームが長くなるに伴って動作時間が長くなるという課題があった。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、ＬＣＤ用基盤等の被処理体の大型化に即して搬送アームの各アームを長くする必要がなく、しかも搬送アームの動作時間を短縮することができ、また、大気圧下で被処理体を搬送する時でもロードロック室内の環境を常に清浄に保持することができ、搬送過程で被処理体を汚染する虞のない処理装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に記載の処理装置は、減圧下で被処理体に所定の処理を施す少なくとも一つの処理室と、この処理室の少なくとも一つのキャリアとの間に配設され且つ上記処理室と上記キャリアとの間で上記被処理体を搬送する搬送機構とを備え、且つ、上記搬送機構は、上記被処理体を搬送する多関節型搬送アームと、この搬送アームを駆動させて上記処理室と上記キャリアとの間でロードロック室を介して上記被処理体を遣取りする駆動機構とを備えた処理装置において、上記ロードロック室内の空気を、フィルタによって清浄化した外部の空気で換気する上記フィルタ付きの換気機構を、ゲートバルブを介して上記ロードロック室の背面に設けると共に、このロードロック室を上記処理室に対して接続可能に上記搬送機構に設け、且つ、上記搬送アームを上記ロードロック室内に設けると共に上記搬送アームと対向する上記処理室または上記キャリアに対して上記搬送アームを進退動させる直進駆動機構を上記ロードロック室内に設けたことを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項２に記載の処理装置は、請求項１に記載の発明において、上記直進駆動機構は、上記搬送アームをその移動方向へ案内するガイドレールと、このガイドレールに沿って上記搬送アームを往復移動させる無端状ベルトと、この無端状ベルトを回転駆動させる回転駆動機構とを有することを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の請求項３に記載の処理装置は、請求項１に記載の発明において、上記直進駆動機構は、上記搬送アームをその移動方向へ案内するガイドレールと、このガイドレールに沿って上記搬送アームを往復移動させるシリンダ機構とを有することを特徴とするものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図１〜図１６に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。
本実施形態の処理装置は、例えば、図１に示すように、所定の減圧下で被処理体（例えば、ＬＣＤ用基板）１に所定の処理（例えば、エッチング処理、成膜処理等）を施す２室の処理室２を有する処理ユニット３と、この処理ユニット３で処理するＬＣＤ用基板１が例えば２５枚収納されたキャリアＣを載置する３台の載置ユニット４と、これら両者３、４間に配設され且つＬＣＤ用基板１を搬送する搬送ユニット５とを備え、搬送ユニット４を介してキャリアＣ内のＬＣＤ用基板１を一枚ずつ取り出し、各処理室２内へＬＣＤ用基板１を搬入し、その内部で所定の処理を施し、処理後には逆の経路を辿って処理室２からキャリアＣ内の元の場所へ戻すようにしてある。
【００１６】
而して、上記処理室２の正面にはゲートバルブユニット６及び接続ユニット７が互いに気密を保持した状態で重ねて取り付けられ、接続ユニット７を介して処理室２と搬送ユニット５を直接接続するようにしてある。処理室２の上部には開閉自在な蓋体８が取り付けられ、例えばメンテナンス時等に図１の矢印で示すように蓋体８を一点鎖線で示す位置まで開き、処理室２を開放するようにしてある。処理ユニット３内には真空ポンプ９が配設され、この真空ポンプ９により処理室２内を減圧し、所定の真空度を維持するようにしてある。尚、載置ユニット４及び搬送ユニット５はいずれも例えば基台１０上に配置されている。
【００１７】
上記搬送ユニット５は、図１、図２に示すように、ＬＣＤ用基板１を搬送する多関節型の搬送アーム１１と、この搬送アーム１１が収納された略矩形状のロードロック室１２と、このロードロック室１２を処理室２と載置ユニット４間で移動させる駆動ユニット１３と、この駆動ユニット１３を処理室２と載置ユニット４の間で移動案内する一対のガイドレール１４とを備えている。駆動ユニット１３は、例えば、ロードロック室１２を旋回させるモータ（図示せず）を主体にした旋回駆動機構１５と、この旋回駆動機構１５を昇降させるラックアンドピニオンを主体にした昇降駆動機構１６とを備え、旋回駆動機構１５によりロードロック室１２を処理室２と載置ユニット４との間で例えば１８０°旋回させ、また、昇降駆動機構１６を介してロードロック室１２をキャリアＣ内の任意のＬＣＤ用基板１及び処理室２のゲートバルブユニット６それぞれの高さに合わせて昇降させるようにしてある。ロードロック室１２は、図１、図２に示すように、旋回駆動機構１５を構成する基板１５Ａ上に配設され、この基板１５Ａを介して旋回するようにしてある。
【００１８】
上記ロードロック室１２は、図１、図２に示すように、基板１５Ａ上に配設された一対のエアシリンダ１８を介して各ガイドレール１７に従って往復移動するようになっている。即ち、一対のエアシリンダ１８は、一対のガイドレール１７の外側でこれと平行させて基板１５Ａ上に固定されている。エアシリンダ１８のロッド１８Ａの先端がロードロック室１２の両側面に固定された連結部材１２Ｃに連結されている。従って、搬送ユニット５とキャリアＣまたは処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、ロードロック室１２がエアシリンダ１８を介してガイドレール１７に従って基板１５Ａ上で往復移動するようになっている。尚、図２ではエアシリンダ１８を図示してない。
【００１９】
更に、上記搬送アーム１１は、図３の（ａ）、（ｂ）に示すように、基板１９Ａの裏面に固定されたモータ１１Ａと、このモータ１１Ａと回転軸１１Ｂを介して連結され且つ基板１９Ａの表面側に配置された第１アーム１１Ｃと、第１アーム１１Ｃと第２アーム１１Ｄを介して連結され且つＬＣＤ用基板１を支持するフォーク型のハンド１１Ｅとを備え、モータ１１Ａの駆動により第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅを屈伸し、ハンド１１Ｅをロードロック室１２の搬出入口１２Ａから出し入れするようにしてある。しかも、この搬送アーム１１は、直進駆動機構１９を介してロードロック室１２内で進退動し、ＬＣＤ用基板１をキャリアＣまたは処理室２との間で直接遣取りするようにしてある。このように搬送アーム１１が直進駆動機構１９を介してロードロック室１２内で移動するため、この移動量に見合った距離だけ第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄを短くしてもキャリアＣまたは処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りすることができる。そして、第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄを短くできるため、各アーム１１Ｃ、１１Ｄの剛性を強化することができ、しかも第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄの作動時間を短縮してスループットを高めることができる。
【００２０】
上記直進駆動機構１９は、搬送アーム１１を支持する上記基板１９Ａと、この基板１９Ａと隙間を隔てた基台１９Ｂ上に配設され且つ基板１９Ａの裏面に固定された係合部材１９Ｃと係合する一対のガイドレール１９Ｄと、これらのガイドレール１９Ｄに従って搬送アーム１１を移動させる駆動機構１９Ｅとを備えている。駆動機構１９Ｅは、モータ１９Ｆと、このモータ１９Ｆにより正逆回転する駆動側プーリ１９Ｇと、この駆動側プーリ１９Ｇと対をなす従動側プーリ１９Ｈと、これらのプーリ１９Ｇ、１９Ｈに巻回され且つガイドレール１９Ｄに対して並設された無端状ベルト１９Ｉとを備えている。搬送アーム１１は基板１９Ａを介して無端状ベルト１９Ｉと連結されている。基台１９Ｂには搬送アーム１１のモータ１１Ａが貫通する長孔１９Ｊが形成され、搬送アーム１１がガイドレール１９Ｄに従って移動する際にモータ１１Ａが長孔１９Ｊ内で移動するようにしてある。
【００２１】
また、本発明では図３の（ａ）、（ｂ）に示す直進駆動機構１９に代えて図４に示す直進駆動機構２０を用いても良い。この直進駆動機構２０は、同図に示すように、駆動機構２０Ｅとして搬送アーム１１を支持する基板２０Ａにエアシリンダ２０Ｆを連結してある以外は上記直進駆動１９と実質的に同様に構成されている。
【００２２】
ところで、上記ロードロック室１２はＬＣＤ用基板１を遣取りする時にはクリーンルーム内で開放された状態になっているため、装置廻りの空気がロードロック室１２内に侵入し、装置廻りで発生したパーティクルにより内部が汚染される虞がある。図５、図６に示すロードロック室１２０はこのような汚染から防止するために、ロードロック室１２０が大気に開放されている時には換気機構を用いて内部を常に正圧状態を保持して装置廻りの空気がロードロック室１２０内に侵入しないようにしてある。その他の点では上記ロードロック室１２に準じて構成されている。
【００２３】
即ち、図５、図６に示すロードロック室１２０の背面には換気機構１２１が取り付けられている。この換気機構１２１は、図５、図６に示すように、例えばゲートバルブユニット１２２、ＨＥＰＡフィルタ１２３及び送風ファン１２４を備え、この順序で背面側から外側へ順次配設されている。従って、ロードロック室１２０がキャリアＣと処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、ゲートバルブユニット１２２及び送風ファン１２４が駆動し、ゲートバルブ１２２Ａがロードロック室１２０の背面に形成された開口部１２０Ｃを開放すると共に送風ファン１２４からクリーンルーム内の空気がロードロック室１２０内に送風され、搬出入口１２０Ａから流出しロードロック室１２０内を常に正圧状態に保持し、装置廻りの空気がロードロック室１２０内に侵入しないようになっている。ロードロック室１２０内を流れる空気はＨＥＰＡフィルタ１２３を介して空気中に含まれている装置廻りで発生したパーティクルが除去されて清浄になっており、ＬＣＤ用基板１を汚染する虞がない。
【００２４】
図７に示すロードロック室１２０’は搬送アームとしてフロッグレッグタイプでダブルアームの搬送アーム１１’を使用した以外は図５及び図６に示すロードロック室１２０に準じて構成されている。即ち、このロードロック室１２０’は、換気機構１２１’としてゲートバルブユニット１２２’、ＨＥＰＡフィルタ１２３’及び送風ファン１２４’を備え、ロードロック室１２０’内を清浄な空気で常に正圧に保持し、装置廻りの空気が侵入しないようになっている。このようにダブルアームを採用することでＬＣＤ用基板１の搬出入効率を高めることができる。
【００２５】
また、上記ロードロック室１２と処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、図１、図８に示すように接続ユニット７を介してロードロック室１２を処理室２のゲートバルブユニット６に接続した後、ロードロック室１２内を処理室２内の真空度に合わせて真空引きするようにしてある。尚、図８では説明の都合上搬送ユニット４のロードロック室１２のみを図示してある。
【００２６】
即ち、上記ゲートバルブユニット６は、図９、図１０に示すように、処理室２の搬出入口を昇降して開閉するゲートバルブ６Ａと、このゲートバルブ６Ａが取り付けられた枠体６Ｂとを備えている。枠体６Ｂの両面にはそれぞれＯリング等からなるシール部材６Ｃが装着され、これらのシール部材６Ｃによりゲートバルブユニット６と処理室２及び接続ユニット７との間の気密を保持するようにしてある。更に、図９に示すようにゲートバルブ６Ａの上端及び下端にはシール部材６Ｄが装着され、これらのシール部材６Ｄによりゲートバルブ６Ａと処理室２間の気密を保持するようにしてある。枠体６Ｂの上部には例えば窒素ガスの等の不活性ガスを導入する導入管６Ｅが取り付けられ、その下部には排気管６Ｆが取り付けられている。そして、図９の矢印で示すように導入管６Ｅから不活性ガスを導入すると共に排気管６Ｆから排気し、処理室２に対してロードロック室１２が接続された時にロードロック室１２内の空気を不活性ガスと置換した後、その内部を所定の真空度に達するまで排気するようにしてある。
【００２７】
上記接続ユニット７は、図８の（ａ）、図９に示すように、ゲートバルブユニット６に対して気密状態で接合されている。この接続ユニット７は、上記枠体６Ｂに接合された枠体７Ａと、この枠体７Ａの両側に取り付けられた一対のロック機構７Ｂとを備え、ロック機構７Ｂを介して接続ユニット７に接合したロードロック室１２をロックしてロードロック室１２を処理室２側に接続するようにしてある。各ロック機構７Ｂは、例えば図８の（ａ）、（ｂ）、図１１に示すように、枠体７Ａ正面の両側に固定された左右のガイドレール７Ｃと、これらのガイドレール７Ｃとそれぞれ係合し且つロードロック室１２の搬出入口の左右に形成されたフランジ１２Ｄとそれぞれ係合する左右の係合部材７Ｄと、これらの係合部材７Ｄにそれぞれ連結され且つ係合部材７Ｄをガイドレール７Ｃに従ってそれぞれ昇降させる左右の第１エアシリンダ７Ｅと、上記各係合部材７Ｄにそれぞれ取り付けられ且つこれと係合したロードロック室１２のフランジ１２Ｄをそれぞれ均等に押圧してロードロック室１２を枠体７Ａに対して密着させる第２エアシリンダ７Ｆとを備えている。従って、ロードロック室１２が図８の（ａ）に示すように処理室２側に接合されると、ロック機構７Ｂが駆動し、ロードロック室１２が接続ユニット７の枠体７Ａと密着するようにしてある。また、図８の（ｂ）に示すようにロードロック室１２の背後には例えばバネ２２が装着され、このバネ２２を介してロードロック室１２を処理室２側に弾接させ、ロック機構７Ｂが円滑に機能するようにしても良い。尚、図９において７ＧはＯリング等からなるシール部材である。
【００２８】
また、本発明では上記ロック機構７Ｂに代えて図１２の（ａ）、（ｂ）に示すロック機構２３を取り付けても良い。このロック機構２３は、同図に示すように、正逆方向に回転するクランプ２３Ａと、このクランプ２３Ａを進退動作せるエアシリンダ２３Ｂとを備え、枠体７Ａの周面に取り付けられている。一方、ロードロック室１２には搬出入口の全周にフランジ１２Ｅが形成され、このフランジ１２Ｅを介してロードロック室１２を処理室２に対してロックするようにしてある。
【００２９】
また、本発明では図１３、図１４に示すようにロードロック室をフローティング構造にすることで、ロードロック室と処理室との位置合わせをより円滑に行うことができる。このロードロック室５１は、各図に示すように、フローティング機構５２によって支持されている。このフローティング機構５２は、側面形状がＬ字状に形成された基板５２Ａと、この基板５２Ａに配置されてロードロック室５１を弾力的に支持する第１、第２、第３バネ５２Ｂ、５２Ｃ、５２Ｄとを備えている。第１バネ５２Ｂはロードロック室５１の両側の前後にそれぞれ立設された支持柱５２Ｅとロードロック室５１の上面から側方へ延設されたフランジ５１Ａの間に弾装され、第２バネ５２Ｃは基台５２の垂直壁面とロードロック室５１の背面の間に弾装され、更に第３バネ５２Ｄはロードロック室５１の下面と基板５２Ａの間に弾装されている。そして、ロードロック室５１の基板５２Ａに前記支持機構１９が取り付けられている。従って、ロードロック室５１を処理室２と接続する時には、第１、第２、第３バネ５２Ｂ、５２Ｃ、５２Ｄ介して図１３の矢印で示すようにロードロック室５１が全方向に僅かに変動し、ロードロック室５１と処理室２間の位置ズレを吸収し、ロードロック室５１と処理室２が衝撃なく円滑に接続する。尚、図１３において、５０は多関節型搬送アーム、５３はベローズで、これらは前述したものと同様に構成されている。
【００３０】
次に、本実施形態の処理装置を用いた本発明の処理方法について図１５、図１６を参照しながら説明する。まず、キャリアＣからＬＣＤ用基板１を取り出す時には、搬送ユニット４が基台１０上のガイドレール１４に従って載置機構４上の所定のキャリアＣまで移動した後、図１５の（ａ）に示すように旋回駆動機構１５を介してロードロック室１２の搬出入口１２ＡをキャリアＣと対峙させる。次いで、昇降駆動機構１６を介してロードロック室１２が昇降し、搬送アーム１１のハンド１１Ｅの高さを取り出すべきＬＣＤ用基板１の高さに合わせる。
【００３１】
この状態でエアシリンダ１８が駆動してロードロック室１２がガイドレール１７に従って移動し、同図の（ｂ）に示すようにロードロック室１２がキャリアＣへ接近して停止する。この時、直進駆動機構１９が駆動し、搬送アーム１１がガイドレール１９Ｄに従って移動してロードロック室１２よりも更にキャリアＣに接近する。更に、モータ１１Ａが回転して回転軸１１Ｂを介して第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅが伸び、ハンド１１ＥがキャリアＣ内へ進入する。次いで、ロードロック室１２が昇降駆動機構１６を介して僅かに昇降し、キャリアＣ内のＬＣＤ用基板１をハンド１１Ｅ上に載置する。
【００３２】
次いで、直進駆動機構１９を介して搬送アーム１１がロードロック室１２内で後退すると共に、搬送アーム１１のモータ１１Ａが逆回転して同図に（ｃ）に示すように回転軸１１Ｂを介して第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅが屈曲してキャリアＣからロードロック室１２内へＬＣＤ用基板１を持ち込む。その後、エアシリンダ１８が駆動してロードロック室１２がガイドレール１７に従って移動し、ロードロック室１２がキャリアＣから離れて元の位置へ戻る。
【００３３】
その後、同図の（ｄ）に示すようにロードロック室１２が旋回駆動機構１５及び昇降駆動機構１６を介して１８０°回転すると共に搬出入口１２Ａを処理室２の接続ユニット７の高さに合わせた状態で停止する。次いで、エアシリンダ１８が駆動し、同図の（ｅ）に示すようにロードロック室１２が処理室２へ接近して搬出入口１２Ａが処理室２側の接続ユニット７の枠体７Ａと接触する。これと同時に接続ユニット７のロック機構７Ｂの第１エアシリンダ７Ｅが駆動し、係合部材７Ｄがガイドレール７Ｃに従って上昇してロードロック室１２のフランジ１２Ｅと係合すると同時に第２エアシリンダ７Ｆが駆動してロードロック室１２を接続ユニット７の枠体７Ａに密着させる。
【００３４】
この時、図１３、図１４に示すようにロードロック室５１がフローティング構造になっていると、ロードロック室５１は何等の衝撃を伴うことなく接続ユニット７と接触し、しかも接続ユニット７に対して多少の位置ズレがあってもフローティング機構５２によってズレを吸収し、ロードロック室５１と接続ユニット７をロック機構７Ｂを介して円滑に接続することができる。
【００３５】
引き続き、ゲートバルブユニット６の導入管６Ｅから不活性ガス（例えば窒素ガス）を導入すると共に排気管６Ｆからロードロック室１２内の空気を排気し、内部の空気を窒素ガスと置換すると共にロードロック室１２内を処理室２内の真空度に近い状態まで真空引きする。
【００３６】
ロードロック室１２内が所定の真空度に達した後、ゲートバルブ６Ａが開き、ロードロック室１２内で直進駆動機構１９が駆動して図１６に示すように搬送アーム１１が処理室２側へ進出すると共に、搬送アーム１１のモータ１１Ａが回転し、同図の（ｆ）に示すように回転軸１１Ｂを介して第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅが伸びてハンド１１Ｅが処理室２内へ進入し、ハンド１１Ｅ上のＬＣＤ用基板１を処理室２内の載置台２Ａへ引き渡す。この際、処理済みのＬＣＤ用基板１が載置台２Ａ上に存在すれば、ハンド１１Ｅで処理済みのＬＣＤ用基板１を受け取り、直進駆動機構１９が駆動し搬送アーム１１がロードロック室１２内へ後退すると共に搬送アーム１１のモータ１１Ａが駆動して処理室２からロードロック室１２内へＬＣＤ用基板１を持ち込む。引き続き、処理室２内へＬＣＤ用基板１を搬入した場合とは逆の手順で処理済みのＬＣＤ用基板１をキャリアＣ内の元の場所へ戻す。
【００３７】
また、図５〜図７に示すロードロック室１２０、１２０’を使用する場合には、ロードロック室１２０、１２０’を介してキャリアＣと処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、換気機構１２１、１２１’が駆動してロードロック室１２０、１２０’内に外気を清浄化しながら送風し、その内部を清浄な空気で常に正圧に保持し、装置廻りの空気が内部に侵入しないようにしてＬＣＤ用基板１をパーティクルの汚染から防止する。即ち、換気機構１２１、１２１’が駆動すると、送風ファン１２４、１２４’が始動すると共に、ゲートバルブ１２２Ａ、１２２’Ａが駆動してロードロック室１２０、１２０’の開口部１２０Ｃ、１２０’Ｃを開放し、外部の空気がＨＥＰＡフィルタ１２３、１２３’で清浄化された後、ロードロック室１２０、１２０’の開口部１２０Ｃ、１２０’Ｃから内部へ流入し搬出入口１２０Ａ、１２０’Ａから流出する。これによりロードロック室１２０、１２０’内に装置廻りの空気が侵入せず、内部を常に清浄な環境にする。そして、ロードロック室１２０、１２０’が処理室２と接続された時点で換気機構１２１、１２１’が停止し、ロードロック室１２０、１２０’内の気密を保持する。その後の工程は上述した通りである。また、処理室２から処理後のＬＣＤ用基板１を戻す時にも換気機構１２１、１２１’が働き、ロードロック室１２０、１２０’内に装置廻りの空気が直接侵入しないようにする。
【００３８】
以上説明したように本実施形態によれば、搬送アーム１１と対向する処理室２またはキャリアＣに対して搬送アーム１１を進退動させる直進駆動機構１９をロードロック室内１２に設けたため、ロードロック室１２内で直進駆動機構１９による搬送アーム１１の移動距離だけ搬送アーム１１を伸ばす距離、即ち第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄの長さＬ、Ｌ１、を短くすることができ、ひいては第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄの剛性をＬＣＤ用基板１の重量に即して強化することができる。また、本実施形態では、ＬＣＤ用基板１の大型化に即して第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄを長くする必要がないため、搬送アーム１１の動作時間を短縮してスループットを高めることができる。
【００３９】
また、本実施形態によれば、ロードロック室１２０、１２０’内の空気を清浄な外部の空気で換気する換気機構１２１、１２１’をＨＥＰＡフィルタ１２３とゲートバルブ１２２Ａを介してロードロック室１２０、１２０’の背面に設けたため、大気圧下でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、搬送ユニット５によるロードロック室１２０、１２０’の移動の自由度を確保することができると共にロードロック室１２０、１２０’内で常に清浄な環境が保持され、ＬＣＤ用基板１のパーティクルによる汚染を確実に防止することができる。
【００４０】
尚、本発明は上記実施形態に何等制限されるものではなく、必要に応じて各構成要素を適宜設計変更することができる。例えば、上記実施形態では、ロードロック室１２を搬送ユニット５の一部として移動可能に構成した従来にない新規な処理装置に対して適用した搬送機構について説明したが、本発明の搬送機構は従来の処理装置、即ちロードロック室が処理室の一部として接続された処理装置に対しても適用することができる。この場合には搬送機構の搬送アームは処理室のロードロック室とキャリアとの間でＬＣＤ用基板等の被処理体を遣取りすることになる。
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、減圧下で被処理体に所定の処理を施す少なくとも一つの処理室と、この処理室の少なくとも一つのキャリアとの間に配設され且つ上記処理室と上記キャリアとの間で上記被処理体を搬送する搬送機構とを備え、且つ、上記搬送機構は、上記被処理体を搬送する多関節型搬送アームと、この搬送アームを駆動させて上記処理室と上記キャリアとの間でロードロック室を介して上記被処理体を遣取りする駆動機構とを備えた処理装置において、上記ロードロック室内の空気を、フィルタによって清浄化した外部の空気で換気する上記フィルタ付きの換気機構を、ゲートバルブを介して上記ロードロック室の背面に設けると共に、このロードロック室を上記処理室に対して接続可能に上記搬送機構に設け、且つ、上記搬送アームを上記ロードロック室内に設けると共に上記搬送アームと対向する上記処理室または上記キャリアに対して上記搬送アームを進退動させる直進駆動機構を上記ロードロック室内に設けたため、ＬＣＤ用基板等の被処理体の大型化に即して搬送アームの各アームを長くする必要がなく、しかも搬送アームの動作時間を短縮することができ、また、大気圧下で被処理体を搬送する時でもロードロック室の移動の自由度を確保することができると共にロードロック室内の環境を常に清浄に保持することができ、搬送過程で被処理体を汚染する虞のない処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の処理装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示す処理装置の載置機構及び搬送ユニットを示す斜視図である。
【図３】図２に示す搬送ユニットのロードロック室内に収納された本発明の搬送機構の一実施形態の要部を示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）はその部分断面図である。
【図４】本発明の搬送機構の他の実施形態の要部を示す平面図である。
【図５】図２に示すロードロック室とは別のタイプのロードロック室の要部を示す斜視図である。
【図６】図５に示すロードロック室の要部を示す断面図である。
【図７】図２に示すロードロック室とは更に別のタイプのロードロック室の要部を示す斜視図である。
【図８】図１に示すロードロック室と処理室が接続された状態を部分的に拡大して示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）の一部を示す断面図である。
【図９】図８の（ａ）に示す処理室のゲートバルブユニット及び接続ユニットを示す断面図である。
【図１０】図９に示すゲートバルブユニットを示す斜視図である。
【図１１】図８の（ａ）に示す接続ユニットのロック機構を示す斜視図である。
【図１２】図１１に示すロック機構とは別のタイプのロック機構を示す図で、（ａ）は処理室とロードロック室とが接続する直前の状態を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）のロック機構によってロードロック室を処理室に接続した状態を示す斜視図である。
【図１３】フローティングタイプのロードロック室を示す斜視図である。
【図１４】図１３に示すロードロック室と処理室とを接続する直前の状態の要部断面図である。
【図１５】（ａ）〜（ｆ）は図１に示す処理装置の搬送工程を説明するための説明図である。
【図１６】図３、図４に示す搬送アームの構成及び動作を説明する概念図である。
【図１７】従来の搬送機構の搬送アームの構成及び動作を説明する概念図である。
【符号の説明】
１ ＬＣＤ用基板（被処理体）
２ 処理室
４ 載置ユニット（載置機構）
５ 搬送ユニット（搬送機構）
６Ｆ 排気管（排気手段）
７Ｂ ロック機構
１１ 搬送アーム
１２、１２０、１２０’ロードロック室
１３ 駆動ユニット（駆動機構）
１９ 直進駆動機構
１９Ｄ ガイドレール
１９Ｅ 駆動機構
１９Ｆ モータ
１９Ｇ 駆動側プーリ
１９Ｈ 従動側プーリ
１９Ｉ 無端状ベルト
２０ 直進駆動機構
２０Ｅ 駆動機構
２０Ｆ エアシリンダ（シリンダ機構）
１２１、１２１ 換気機構
【図１】
0004467660.tif 000002
【図２】
0004467660.tif 000003
【図３】
0004467660.tif 000004
【図４】
0004467660.tif 000005
【図５】
0004467660.tif 000006
【図６】
0004467660.tif 000007
【図７】
0004467660.tif 000008
【図８】
0004467660.tif 000009
【図９】
0004467660.tif 000010
【図１０】
0004467660.tif 000011
【図１１】
0004467660.tif 000012
【図１２】
0004467660.tif 000013
【図１３】
0004467660.tif 000014
【図１４】
0004467660.tif 000015
【図１５】
0004467660.tif 000016
【図１６】
0004467660.tif 000017
【図１７】
0004467660.tif 000018