(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
除草有効量のクロロアセトアミド除草剤と、
少なくとも１種類の、以下の式
【化１】
0004578677.tif 000008
で表され、式中Ｒ1が塩素又はメトキシを、Ｒ2が水素、ハロゲン、低級アルキル、低級アルキルハロゲン化物、又は低級アルキルエーテルを意味する化合物を含むクロロアセトアミド沈殿温度低下剤と、
を含む除草剤として適する組成物であって、組成物が少なくとも４０モル％濃度のクロロアセトアミド除草剤を含み、１０℃未満の温度で、組成物が固体のクロロアセトアミドを痕跡量以下でしか含有しないように、組成物中に沈殿温度低下剤が存在することを特徴とする組成物。
【請求項２】
クロロアセトアミド除草剤が、アラクロール、メトラクロール、アセトクロール、メタザクロール、ジエタチル、プロパクロールおよびチオフェナミンから選択されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
クロロアセトアミド除草剤がチオフェナミンを含むことを特徴とする、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
クロロアセトアミド除草剤がジメテンアミドを含むことを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
沈殿温度低下剤が、ジカンバ酸、２，６−ジクロロ安息香酸またはこれらの組合わせからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
沈殿温度低下剤が、ジカンバ酸を含むことを特徴とする請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
沈殿温度低下剤が、２，６−ジクロロ安息香酸を含むことを特徴とする請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
除草有効量のジメテンアミドと、ジメテンアミド沈殿温度低下剤とを含み、ジメテンアミド対沈殿温度低下剤のモル比が１：１〜２．５：１の範囲にあることを特徴とする請求項１〜７いずれかに記載の組成物。
【請求項９】
ジメテンアミドを、少なくとも１種類の、以下の式
【化２】
0004578677.tif 000009
で表され、式中Ｒ1が塩素又はメトキシを、Ｒ2が水素、ハロゲン、低級アルキル、低級アルキルハロゲン化物、又は低級アルキルエーテルを意味する化合物を含むジメテンアミド沈殿温度低下剤、および０モル％〜５０モル％の農業上受容される希釈剤と混合し、組成物中のジメテンアミド、沈殿温度低下剤及び希釈剤の総量に対して、ジメテンアミドのモル濃度が４０モル％を上回り、０℃未満の温度で、組成物が固体のジメテンアミドを痕跡量以下でしか含有しないように、沈殿温度低下剤を組成物に存在させることを特徴とする、低温貯蔵安定性を有するジメテンアミド組成物の製造方法。
【請求項１０】
組成物中の沈殿温度低下剤の濃度が、組成物中のジメテンアミド、沈殿温度低下剤及び希釈剤の総量に対して４０モル％未満であることを特徴とする、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
ジメテンアミドを、３０モル％〜５０モル％のジカンバまたは２，６−ジクロロ安息香酸、および０モル％〜５０モル％の農業上受容される希釈剤と混合し、組成物中のジメテンアミド、ジカンバまたは２，６−ジクロロ安息香酸及び希釈剤の総量に対して、ジメテンアミドのモル濃度が４０モル％を上回り、−２０℃未満の温度で、組成物が固体のジメテンアミドを痕跡量以下でしか含有しないようにジカンバまたは２，６−ジクロロ安息香酸を組成物に存在させることを特徴とする、低温貯蔵安定性を有するジメテンアミド組成物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、クロロアセトアミドを含む混合物、及びクロロアセトアミドの沈殿温度低下作用を有する方法に関する。
【０００２】
クロロアセトアミドは公知の除草剤であり、更に詳細には苗の根および苗条の生長を主に阻害する植物生長阻害除草剤に関する。クロロアセトアミド除草剤の例は、アラクロール、メトクロール、アセトクロール、メタザクロール、ジエタチル、プロパクロールおよびチオフェナミンである。公知のチオフェナミン植物生長阻害除草剤の例はジメテンアミド（化学名称：２−クロロ−Ｎ−（２，４−ジメチル−３−チエニル）−Ｎ−（２−メトキシ−１−メチルエチル）−アセトアミド）である。その製造法、これを含む除草剤組成物およびその除草剤としての使用法は、Ｕ．Ｓ．４６６６５０２号に記載されている。ジメテンアミドは４種類の立体異性体のジアステレオマー混合物として［１Ｓ、ａＲＳ（Ｓ−ジメテンアミドとして公知）及び１Ｒ、ａＲＳ（Ｒ−ジメテンアミドとして公知）］、およびラセミ混合物（１ＲＳ、ａＲＳ）として構成される。本発明におけるジメテンアミドを含むクロロアセトアミドについての説明は、特に言及しない限り、種々の立体異性体を含む様々な形態についても該当するものとする。
【０００３】
市販のジメテンアミド製品としては、登録商標ＦＲＯＮＴＩＥＲ（ＢＡＳＦ社、ドイツ）の6.0 lb/gal.または7.5 lb/gal.のいずれかのジメテンアミド、および他の不活性成分、例えば石油蒸留物、キシレンまたはキシレン類芳香族溶媒も購入可能である。
【０００４】
ジメテンアミドを含むクロロアセトアミドの使用法は生長阻害除草剤として従来より公知であるが、工業用に使用する場合の不都合は、その沈殿温度である。すなわち沈殿温度（ほぼ標準大気圧で）で液体状のクロロアセトアミドが固化を開始し固体状沈殿物を形成する。ジメタンアミドのラセミ状混合物は約２０〜２２℃の沈殿温度を有する。この特性の結果として、この市販製品では、一般に除草剤を工業的に使用する温度で液体状の組成物から沈殿が析出する傾向がある。
【０００５】
例えば、上述のＦＲＯＮＴＩＥＲ（登録商標）と称する製品は、７．５ポンド／ガロンのジメテンアミドを含有し、１２〜１３℃の温度で固体沈殿を生ずる傾向がある。通常の散布および農地での施与において、このような組成物の温度は、通常１２〜１３℃よりもかなり下回るため、ジメテンアミド沈殿が生成する。沈殿が発生すると使用者は農作物に除草剤を均一に施与することが困難となるため、このことが工業上の使用者には１つの不都合点となる。従って、使用者は通常、使用前にジメテンアミド製品を加熱しなけれならず、このためには費用と時間がかかってしまう。更に、ジメテンアミド製品の製造業者は、加熱保管庫のジメテンアミドの在庫を、工業上の使用者に便宜を図るために１２〜１３℃未満の温度に暴露されていた未使用のジメテンアミドと交換しなければならない。
【０００６】
溶解状態の液体が凝固または沈殿する温度は、液体溶媒による溶液中の溶質のモル画分を減少させることにより低下することは良く知られている。沈殿温度に影響を与える度合いは、通常は溶媒のモル画分の低下割合に直接比例する。
【０００７】
溶液が「理想溶液」である場合、溶質の添加による沈殿温度低下の割合は、溶媒や溶質の組成に影響を受けず、濃度に対して沈殿温度をプロットして得られた曲線は、液体の希釈に異なる化合物を用いた場合でも変化しない。「理想溶液」と言う言葉は成分間に特殊な分子間相互作用がほとんど起こらないか、または全く起こらない溶液を意味する。「理想溶液」はラウールの法則に従う。
【０００８】
従って、使用前にクロロアセトアミド除草剤を加熱する必要性を回避するための理論的な代替策は、溶液中の除草剤モル画分を大幅に低下させること（希釈すること）である。
【０００９】
ガンマブチロラクトンとして公知の好ましい希釈剤を用いて、ジメテンアミドの融点を−２０℃まで低下させることができる。しかしながら、このようにするためには、溶液中のジメテンアミドを２０モル％まで希釈しなければならない（４５質量％）。
【００１０】
しかしながら、除草剤を大幅に希釈すると、その効果も低下する。更に除草剤を大幅に希釈することにより、所望の除草効果を得るために用いられる製品の総量が非常に増大する。これは、使用者が大量の製品を購入することによりコストが増大する結果を招くのみならず、製品の輸送、出荷、および施与のコストを大幅に増大させる。
【００１１】
クロロアセトアミド除草剤のジメテンアミドの沈殿温度を低下させるべく、ジメテンアミドを溶液中で種々の物質と組み合わせ、固体沈殿形成を監視しつつ溶液の温度を徐々に低下させる、熱心な研究が行われた。各溶液のジメテンアミド沈殿温度、少なくとも痕跡量の固体ジメテンアミド沈殿を生ずる溶液の、ほぼ標準大気圧における温度と定義する。「痕跡」という用語は、拡大せずに目視にて検出可能であるが、拡大をせずには定量的に測定できない固体沈殿の量を意味する。固体沈殿の量が拡大せずに目視にて測定可能である場合には、痕跡量を上回るものと考える。
【００１２】
ほとんどの物質がジメテンアミドと共に理想溶液または理想溶液に近い溶液を形成するものと考えられるため、ジメテンアミドの融点は、大幅に希釈しないと低下しない。化合物によっては、沈殿温度への小さな効果を有するものもあるが、これらの物質により理想溶液から逸脱しても、このことを十分に利用することはできないため、これらの物質は工業用除草剤配合物には適用さない。
【００１３】
従って、従来の輸送、貯蔵及び施与温度においてクロロアセトアミド溶液中での固体沈殿成長を阻害する方法は、非受容性の希釈以外には現在のところ見出されていない。従って、ジメテンアミド等のクロロアセトアミド除草剤の工業的使用者は、実質的に１２〜１３℃を下回る温度で製品が輸送または貯蔵されていた場合、これに含まれる固体沈殿を加熱して溶融ないし再溶融させることなく、実質的に固体沈殿を含まない液体状の製品を使用することはできない。公知の希釈剤を用いる場合は除草剤を実質的に希釈すること以外では沈殿温度を低下させることができるため、この条件において使用者は、この製品を固体沈殿を含むまま使用するか、または費用と時間のかかる製品の加熱工程を用いて固体沈殿物を溶融または溶解させるかのいずれかのみを選択しなければならない。
【００１４】
これまでに行われてきたジメテンアミドに対する希釈よりも大幅に希釈率を低下させて、クロロアセトアミド除草剤のジメテンアミドが固体沈殿を形成する温度を顕著に低下可能であることが本発明者等により見出された。本発明により、優れた低温安定性を有するクロロアセトアミド組成物、及びクロロアセトアミドの沈殿温度を低下させるための方法が提供される。クロロアセトアミド沈殿温度は、クロロアセトアミドと、下式
【００１５】
【化２】
0004578677.tif 000002
【００１６】
で表され、Ｒ1が塩素またはメトキシのいずれか、Ｒ2が水素、ハロゲン、低級アルキル、低級アルキルエーテルまたは低級アルキルハロゲン化物を意味する化合物と、を組み合わせることにより好ましく低下する。
【００１７】
本発明の好ましい実施の形態において、除草剤混合物は、除草有効量のジメテンアミドと、３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸（ジカンバ酸として公知である）とを含み、ジカンバ酸のモル濃度がジメテンアミドとジカンバ酸の総モル濃度の３０〜５０％とされる。混合物を、公知不活性成分、例えばガンマブチロラクトン、石油蒸留物、キシレンまたはキシレン類芳香族溶媒で希釈し、その除草剤成分濃度を調整することができる。
【００１８】
以下に、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。図１は、ジメテンアミドを、種々のモル濃度によりジカンバまたはガンマブチロラクトンと組み合わせて用いた場合の沈殿温度を示すグラフである。
【００１９】
本発明の組成物は、除草活性量のクロロアセトアミド、例えばアラクロール、メトラクロール、アセトクロール、メタザクロール、ジエタチル、プロパクロールまたはチオフェナミン、例えばジメテンアミドと、沈殿温度低下剤とを含むものである。本発明の組成物は、モル／モル基準により、好ましくは約１：１〜約２．５：１、更に好ましくは１．５：１〜２：１、特に好ましくは１．５：１のクロロアセトアミドと沈殿温度低下剤を含む。
【００２０】
本発明で使用される沈殿温度低下剤は、以下の式
【００２１】
【化３】
0004578677.tif 000003
【００２２】
で表わされ、Ｒ1が塩素またはメトキシのいずれか、Ｒ2が水素、ハロゲン、低級アルキル、低級アルキルエーテルまたは低級アルキルハロゲン化物を意味する化合物であるのが好ましい。このような沈殿温度低下剤の例には、ジカンバ酸（３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸）および２，６−ジクロロ安息香酸である。ジカンバは、単子葉作物の広葉の雑草の発芽後法による除草剤処理に一般的に使用される公知の植物生長抑制除草剤である。市販のジカンバ製品はＢＡＮＶＥＬ（登録商標：ＢＡＳＦ社、ドイツ）として公知であり、４．０ lb/galのジカンバを不活性希釈剤中に含むものである。
【００２３】
ジカンバ酸および他の安息香酸は公知の植物生長抑制除草剤であるが、これらがかつて、クロロアセトアミド、例えばジメテンアミドと、本発明において上述した割合で組み合わされたことはなく、本発明による沈殿温度低下効果は達成されていなかった。
【００２４】
これらの化合物とクロロアセトアミド除草剤ジメテンアミドとの、上述の割合のパラメータ内での混合物は、極めて低い沈殿温度を示し、この溶液の沈殿温度、すなわち痕跡量の固体沈殿が観察される前の温度を−２０℃未満まで下げることが可能である。更に、このような溶液の温度を沈殿が起こる点まで下げた場合も、ジメタンアミドを他の公知希釈剤と組み合わせた場合よりも、生成する固体沈殿の量が非常に少なく、時間的にも非常にゆっくりと形成される。
【００２５】
クロロアセトアミドとしてジメテンアミドを含む好ましい組成物は、沈殿温度低下剤を、該組成物が５℃未満、好ましくは０℃未満でも固体のジメテンアミドを実質的に含まないようにする量で含むものである。特に好ましい組成物は−１０℃未満、特に−２０℃未満、更に好ましくは−３０℃未満の温度で固体のジメテンアミドを実質的に含まないものである。
【００２６】
ジメテンアミドとジカンバとの混合物の赤外スペクトルでは、ジメテンアミドとジカンバの双方のカルボニルバンドが、混合しない場合のジメテンアミドとジカンバのそれぞれの赤外スペクトルと比較してシフトしている。更に、双方の物質を、混合対象物質に対して化学量論的に過剰とした場合、シフトしたカルボニルバンドとシフトしないカルボニルバンドの双方が現れるため、これら二種類の物質のカルボニル成分に関連して何らかの化学結合が生じていることが示唆される。しかしながら、ジメテンアミドとジカンバの混合物を薄層クロマトグラフィーにより実験した場合、２種類の物質は容易に分離される。この結果は、ジメテンアミドとジカンバの間に共有結合は形成されておらず、この二物質の会合状態も非常に弱く動的であることを示している。
【００２７】
面白いことに、分量を変えてジカンバまたは２，６−ジクロロ安息香酸をジメテンアミドと混合した溶液の沈殿温度を測定することにより、ジカンバと２，６−ジクロロ安息香酸がジメテンアミドに、ジメテンアミドのモル濃度にほぼ等しいモル濃度まで可溶であることがわかった。ジカンバまたは２，６−ジクロロ安息香酸のモル濃度がジメテンアミドの濃度を上回る場合は、ジカンバまたは２，６−ジクロロ安息香酸が沈殿し、溶液状に戻すためにはかなりの加熱が必要とされる。
【００２８】
ジメテンアミドにおける変則的な沈殿温度降下がこれらの化合物の安息香酸構造に帰属するかどうかを決定するために、ジメテンアミド中における他の構造類似安息香酸類の溶解度を測定した。
【００２９】
構造的に類似の安息香酸類、例えば３，５−ジカンバ酸は、ジカンバや２，６−ジクロロ安息香酸と比較すると、ジメテンアミド中での溶解性にかなり乏しい。これはジメテンアミドと、ジカンバ及び２，６−ジクロロ安息香酸双方との間の相互作用において強い構造的な特異性が存在することを示唆している。この構造的な特異性は、ジカンバと２，６−ジクロロ安息香酸の双方の酸基に隣接する塩素及びメトキシ基の位置に見出され、これらの基の電子親和性によりこれらの分子の酸基と、ジメテンアミドのカルボニル成分の相互作用が向上するものと考えられる。
【００３０】
上述の混合物および配合物は、公知方法により、例えば化合物と他の製剤用助剤とをジメテンアミド中に攪拌しながら(必要に応じて加熱しながら）導入することにより得られる。好ましい実施の形態において、ジカンバを添加する前に、ジメテンアミドを約１１５°Ｆ（４６．１℃）に加熱する。更に、公知方法により、特に各化合物を公知希釈剤と共に攪拌して混合物を合体することにより、各成分の濃度は変化する。
【００３１】
本明細書で用いられる、希釈剤という用語は、より簡単もしくは改善された施与形態を得るため、または使用可能もしくは所望の強度の活性を得るために成分に添加可能な、液体または固体の農業上受容される材料を意味する。この例は、ガンマブチロラクトン、石油蒸留物、キシレンまたはキシレン類芳香族溶媒である。本発明の好ましい一実施の形態では、約５ポンド／ガロンのジメテンアミドと、約１ポンド／ガロンのジカンバと、公知希釈剤、例えば石油蒸留物、キシレンまたはキシレン類芳香族溶媒を含むものである。この濃度で、ジカンバはジメテンアミドの沈殿温度を低下させる所望の効果を示し、混合物は工業上の使用者による施与を効率的とするような所望の粘度を有するものである。
【００３２】
本発明の配合物は、当該分野で一般に使用される他の成分または助剤、例えば浸透剤、界面活性剤、穀物油、ドリフト調整剤、脱泡剤、保存剤、湿潤剤、接着剤、抗微生物剤等、およびこれらの混合物を含んでもよい。このことは従来より公知であり、例えば上記米国特許第４６６６５０２号明細書に記載されている。
【００３３】
除草用に使用可能な添加剤は、特に同様または補足的な除草活性を有する他の化合物、または解毒、殺菌または殺虫活性を有する化合物とともに攪拌することにより、公知方法で本発明の混合物に添加することが可能である。噴霧形態で施与されるべき特定の配合物形は、界面活性剤、例えば湿潤剤および分散剤、例えばエトキシル化アルキルフェノールまたはエトキシル化脂肪アルコールを含んでもよい。更にエンドユーザーにより水含有製品との組合わせ使用が行われる場合、相溶性向上剤、例えば乳化剤を使用して配合物の相溶性を向上させてもよい。例えば一実施の形態では、本発明の配合物を非イオン性／陰イオン性界面活性剤のブレンド、および燐酸エステルと組み合わせ、本発明の配合物を水中で乳化させる。更に本発明の混合物および配合物は、従来より公知の形態および上記米国特許第４６６６５０２号に記載のように種々の除草剤施与形態で使用することができる。
【００３４】
以下に記載の実施例により、本発明における種々の組合わせのジメテンアミド結晶点低下効果を示す。
［実施例］
ほぼ標準大気圧の室温にて溶液を調製した。溶液を−２０℃に冷却した。ジカンバを含有するジメテンアミドの溶液の沈殿温度を、溶液中に少なくとも痕跡量の固体のジメテンアミドが析出する未満の温度として記録した。結果を以下の表１に示す。
［表１］
【００３５】
【表１】
0004578677.tif 000004
【００３６】
*０．５０５モル分率以下のジカンバ濃度における固体生成は、ジメテンアミド沈殿物である。上記濃度を超過すると、ジカンバ沈殿が形成され、これを再度溶液状に溶解するにはかなりの加熱が必要である。
【００３７】
上記表１に記載のように、ジカンバが約０．３０モル％を超過する（すなわち２５質量％を超過する）濃度で存在すると、ジメテンアミド沈殿温度が顕著に低下する。
【００３８】
比較のために、ジメテンアミドの沈殿温度を公知希釈剤のガンマブチロラクトン（「ガンマＢｌｏ」）の濃度を変更しつつ、溶液中で同様の方法で測定した。これらの溶液のジメテンアミド沈殿温度を以下の表２に記載する。
［表２］
【００３９】
【表２】
0004578677.tif 000005
【００４０】
上記表２に記載のように、ジメテンアミドの沈殿温度を低下させるためには、同様にジメテンアミド沈殿温度を低下させるために必要とされるジカンバの量よりもかなり大量のガンマブチロラクトンが必要である。ジメテンアミド沈殿温度を−２０℃とするために必要なジカンバの使用量は、約３０質量％である（モル分率約０．３５に相当）。比較の結果、沈殿温度−２０℃を達成するために必要なガンマブチロラクトンの使用量は約５５質量％（モル分率約０．８に相当）である。
【００４１】
ジカンバを沈殿温度低下剤として用いた場合の沈殿温度低下を、ジメテンアミド希釈により生ずる通常の沈殿温度低下と比較した場合の差異は、図１に記載のグラフから容易に理解される。図１の曲線１は、ジメテンアミドとジカンバの溶液において観察される沈殿温度を示している。図１からわかるように、ジカンバを使用した場合のジメテンアミドの沈殿温度低下は、ジメテンアミドモル分率が約０．７０、ジカンバモル分率が約０．３０の点で開始されている。
【００４２】
直線Ａ−Ａは、ジカンバが沈殿を開始するおよその点を示しており、沈殿したジカンバを溶液に戻すためにはかなりの加熱が必要とされる。図１の曲線２には、ガンマブチロラクトンを用いた希釈によるジメテンアミド沈殿温度の低下が示されている。図１に示すように、ジメテン沈殿温度をガンマブチロラクトンで顕著に下降させるためには、ジメテンアミドのモル分率がジカンバによる場合よりも大幅に希釈されなければならない。例えばジカンバを用いると、ジメテンアミドの沈殿温度を１０℃とするジメテンアミドモル分率は約０．７０であり、一方、ガンマブチロラクトンを用いた場合には、ジメテンアミドの沈殿温度を１０℃とするジメテンアミドモル分率は約０．３７である。同様にジカンバを沈殿温度低下剤として用いると、ジメテンアミドモル分率約０．６５でジメテンアミド沈殿温度が−２０℃となる。ガンマブチロラクトンを希釈剤として用いてジメテンアミド沈殿温度を−２０℃とするためには、ジメテンアミドモル分率を、約０．２０まで低下させなければならない。
【００４３】
ジメテンアミドと２，６−ジクロロ安息香酸の組合わせを用いて、同様の処理による実験を行った。これらの実験結果では、ジメテンアミドとジカンバ酸の組合わせにより示されたと同様の沈殿温度下降が観察された。結果を以下の表３に示す。
［表３］
【００４４】
【表３】
0004578677.tif 000006
【００４５】
**ジカンバに関する沈殿温度測定と同様に、２，６−ジクロロ安息香酸のモル分率がジメテンアミドのモル分率を超過する点で２，６−ジクロロ安息香酸の沈殿が開始し、ジメテンアミドの溶解にはかなりの加熱が必要とされる。更に、ジカンバの場合と同様に、ジメテンアミドと２，６−ジクロロ安息香酸の混合物の赤外スペクトルでは、両物質のカルボニルバンドのシフトが観察され、この２種の物質のカルボニル成分に関して何らかの化学結合が存在することが示唆された。
【００４６】
本発明で提供される沈殿温度低下の工業的利用法を示すために、ジメテンアミドとジカンバ酸の配合物（２種）を、ジメテンアミド：ジカンバ質量比２：１、および３：１として製造した（それぞれモル比１．６：１および２．４：１に相当）。公知希釈剤のガンマブチロラクトンを用いて、配合物試料を希釈し、全活性成分（すなわちジメテンアミドとジカンバ）の濃度を１ポンド／ガロン、７ポンド／ガロン、６ポンド／ガロンとした。
【００４７】
希釈した試料と、未希釈のジメテンアミド対ジカンバ、質量比２：１、３：１の混合物試料とを、１０℃ごとに冷却し、各冷却の後に固体のジメテンアミドと固体のジカンバのシードを施し、固体沈殿の成長を観察した。−２０℃においては、いずれの試料にも、シード施与の後にも沈殿は見られなかった。−３０℃で、シード施与４日後、未希釈試料と、８ポンド／ガロンに希釈した３：１混合物からわずかに痕跡量の固体沈殿が生じた。ついで混合物を−４０℃に冷却し、固体のジメテンアミドと固体のジカンバの種結晶を再度施した。ジメテンアミドとジカンバの質量比２：１の混合物では痕跡量の固体ジメテンアミドが得られた。質量比３：１のジメテンアミドとジカンバの混合物においては固体沈殿の成長が更に顕著に観察された。
【００４８】
ついで溶液を１℃ごとに０℃まで加熱し、痕跡量の固体沈殿物のみが残留する温度と、全固体沈殿が再度溶液状に戻る温度を監視した。結果を以下の表４に示す。
［表４］
【００４９】
【表４】
0004578677.tif 000007
【００５０】
*加熱開始時点（−３９℃）と加熱終了時点（０℃）に痕跡量の固体沈殿が存在。
**加熱開始時点（−３９℃）に痕跡量の固体沈殿が存在。
***加熱終了時点（０℃）に痕跡量の固体沈殿が存在。
【図１】
0004578677.tif 000010