(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被搬送物を成膜室と加熱室又は取り出し室との間で搬送するプラズマＣＶＤ装置の前記成膜室と、加熱室又は取り出し室との間を開閉するゲートバルブであって、
前記ゲートバルブは、前記被搬送物を通過させるためのゲート開口部が設けられた弁箱と、前記ゲート開口部を一方向からスライド往復移動させることによって開閉する板状の弁体とからなり、前記弁体をスライド移動させて前記弁箱のゲート開口部を閉じたとき、前記弁体に形成されたシール面に取り付けられたシール部材が前記弁箱のゲート開口部を囲むように設けられたシール座面に当接することによって前記ゲート開口部が遮断されるように構成されており、
前記弁体には、前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側を含むように弁体本体部が部分的に切り欠かれて切欠き部が形成されると共に、前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側の反対側には前記切欠き部より厚い部分が前記切欠き部と段差を介して形成されており、前記切欠き部の端面と前記段差の面とによりシール面が構成され、
前記弁体の外周面であるシール面と前記弁箱のシール座面との間に、前記シール部材の圧潰量を規制するスペーサ部材が設けられ、
前記スペーサ部材は、前記被搬送物の製造過程において発生する熱によって前記弁体の温度が最も上昇する部分である前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側において、前記弁体のシール面のうち前記スライド方向に対して垂直な面の、前記シール部材が直線状に伸びる方向の中央部とその両側との複数個所に取り付けられていることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブ。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブにおいて、
前記スペーサ部材は、前記弁箱のシール座面に面接触するように設けられていることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブにおいて、
前記スペーサ部材は、熱膨張の少ない材質の材料で形成されていることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマＣＶＤ装置に使用されるゲートバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
ゲートバルブの従来の構造の一例を図６及び図７に示す。図６は、ゲートバルブの構造の一例を示す分解斜視図、図７はゲートバルブの縦断面図である。このゲートバルブは、特開２００４−３６７６２号公報に開示されているゲートバルブ（真空用ゲート弁）である。
【０００３】
このゲートバルブ１０１は、略箱形状の弁箱本体１０２と、サイドプレート１０３と、弁箱本体１０２の下端開口を覆うボンネットフランジ部材１０４と、軸１０６に支持された長形の弁体１０５とから構成されている。
【０００４】
弁箱本体１０２のサイドプレート１０３が装着される一方の長側壁１０８と他方の長側壁１０８との間には、略矩形状のゲート開口部１０９ａが貫通して形成されており、サイドプレート１０３にも、略矩形状のゲート開口部１０９ｂが貫通して形成されている。
【０００５】
弁箱本体１０２内には、ゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを上下に挟む位置関係で、図の上方側に上方シール座面１１１が、図の下方側に下方シール座面１１６がそれぞれ形成され、これらのシール座面１１１，１１６は、段違いではあっても、全体が変形した環形状となるように、連続して形成されている。これにより、弁箱本体１０２内部には、上方シール座面１１１から下方シール座面１１６に至るまでの連続したシール座面が構成されている。
【０００６】
一方、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面には、シール部材１１３が装着されている。シール部材１１３は、図８に示すように、長細い環状に形成されており、上方シール座面１１１と下方シール座面１１６との連続する段違い部に対応する略Ｕ字状部分１１３ａ，１１３ａから上下両側に押し開いた姿勢で、弁体１０５の外周面（すなわち、先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面）に装着されている。
【０００７】
そして、弁体１０５がゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを閉じる方向（図中、上方向）に移動したときに、その先端部１０５ａ及び基端部１０５ｂに装着されているシール部材１１３が、弁箱本体１０２の上方シール座面１１１及び下方シール座面１１６にそれぞれ圧接され、これにより、弁箱本体１０２のゲート開口部１０９ａ，１０９ｂ間の流通が遮断されるようになっている。
【０００８】
上記構成において、弁体１０５の移動は、図示しないエアーシリンダによる駆動手段によって行われており、弁体１０５をゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを閉じる方向に移動したときの、シール部材１１３と上方シール座面１１１及び下方シール座面１１６との圧接力（すなわち、シール部材１１３の潰し量）は、このエアーシリンダによるエアー圧を変えることによって制御されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、最近はゲートバルブ自体の形状が大きくなり、これに伴って弁体１０５も大型化する傾向にあるため、この弁体１０５を駆動するエアシリンダの駆動力も大きくなっている。そして、その駆動力でシール部材１１３をシール座面１１１，１１６に押し付けてしまうと、シール部材１１３を押さえ過ぎて余分な力がかかることになる。
【００１０】
この場合、設計段階では、シール部材１１３がシール座面１１１，１１６に均等に当たるように設計しているが、使用による経年変化等により、シール部材１１３とシール座面１１１，１１６との当たりに偏りが出てくるので、シール部材１１３がシール座面１１１，１１６に常に均等に当たるようにエアシリンダの圧力のみで制御することは実質的に困難である。また、このようなゲートバルブを真空装置等のゲートバルブとして使用した場合、半導体素子等の製造過程で発生する熱の影響によって弁体が伸縮や変形等し、これによってもシール部材１１３とシール座面１１１，１１６との当たりに偏りが出てくるので、このような製造プロセスにおいてシール部材１１３がシール座面１１１，１１６に常に均等に当たるようにエアシリンダの圧力だけで制御することは実質的に困難である。
【００１１】
また、上記したように、弁体１０５の先端部１０５ａには、弁体１０５の移動方向に対して斜めになる面１０５ａ１があり、この斜めの面１０５ａ１に装着されているシール部材１１３がシール座面１１１の対応する斜めの面に偏った状態で当接すると、シール部材１１３の斜めの面部分でその偏りが剪断応力となって現れることになる。例えば、斜めの部分の下部側がシール座面に先に当たって、上部側が当たらないといった偏りであった場合、シール部材１１３を斜め上方に押し上げる力が働き、この力によってシール部材１１３が弁体１０５の外周面に形成された溝１０７内で転動してしまうといった問題が発生する。この転動は、実際にはシール部材１１３が完全なＯリング形状ではない（図８参照）ので、上方シール座面１１１と下方シール座面１１６との連続する段違い部に対応する略Ｕ字状部分１１３ａ，１１３ａに、転動による応力が集中し、この部分のシール部材に皺が寄るといった現象として現れることになる。
【００１２】
そのため、このような集中応力によってシール部材１１３が損傷し、シール部材１１３の劣化が早く進行して、ゲートバルブとしての遮断性能も低下するといった問題があった。
【００１３】
本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、シール部材のシール座面への当たりの偏りを改善することでシール部材の劣化の防止、及び遮断性能の向上を図ったプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、本発明に係るプラズマＣＶＤ装置のゲートバルブは、被搬送物を成膜室と加熱室又は取り出し室との間で搬送するプラズマＣＶＤ装置の前記成膜室と加熱室又は取り出し室との間を開閉するゲートバルブであって、前記ゲートバルブは、前記被搬送物を通過させるためのゲート開口部が設けられた弁箱と、前記ゲート開口部を一方向からスライド往復移動させることによって開閉する板状の弁体とからなり、前記弁体をスライド移動させて前記弁箱のゲート開口部を閉じたとき、前記弁体に形成されたシール面に取り付けられたシール部材が前記弁箱のゲート開口部を囲むように設けられたシール座面に当接することによって前記ゲート開口部が遮断されるように構成されており、前記弁体には、前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側を含むように弁体本体部が部分的に切り欠かれて切欠き部が形成されると共に、前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側の反対側には前記切欠き部より厚い部分が前記切欠き部と段差を介して形成されており、前記切欠き部の端面と前記段差の面とによりシール面が構成され、前記弁体の外周面であるシール面と前記弁箱のシール座面との間に、前記シール部材の圧潰量を規制するスペーサ部材が設けられ、前記スペーサ部材は、前記被搬送物の製造過程において発生する熱によって前記弁体の温度が最も上昇する部分である前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側において、前記弁体のシール面のうち前記スライド方向に対して垂直な面の、前記シール部材が直線状に伸びる方向の中央部とその両側との複数個所に取り付けられた構成としている。
【００１５】
すなわち、弁体の外周面と弁箱のシール座面との間に、シール部材の圧潰量を規制するスペーサ部材を設けることで、シール部材の潰し量をエアシリンダの圧力のみで制御するのではなく、スペーサ部材の厚み幅で規制できる。これにより、シール部材のシール座面への当たりに偏りが生じたとしても、シール部材はスペーサ部材の厚み以上には押し潰されないので、先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。そのため、仮にこの偏り部分に剪断応力が発生したとしても、その大きさはエアシリンダの圧力によって制御する従来の場合に比べてはるかに小さく、シール部材を転動させるほどの力とはならないので、シール部材が破損することもなく、ゲートバルブとしての遮断性能も低下することがない。
【００１６】
この場合、前記スペーサ部材は、前記弁体のシール面に取り付けられているのがよい。スペーサ部材をゲート開口部のシール座面に取り付けることも可能であるが、プラズマＣＶＤ装置のゲートバルブとして使用する場合、装置内の熱の影響による弁体と弁箱の温度の上がり方が微妙に異なるため、弁体や弁箱の伸縮や変形等によって、両者が数ミリ単位でずれることになる。そのため、両者の位置関係をしっかり出すためには、動く方である弁体にスペーサ部材を取り付けておくのがよい。
【００１７】
また、前記スペーサ部材は、前記弁体のシール面のうち、前記ゲート開口部を閉じる方向の先端側の垂直面に取り付けられているのがよい。熱の影響による弁体の伸縮等は、基端側より先端側により顕著に現れる。すなわち、エアシリンダのシリンダロッドが連結される弁体の基端側を基準とした場合、この基端側から最も離れた先端側がより前方に延びた状態となる。従って、最も変化のある先端側の垂直面にスペーサ部材を取り付けることで、弁体の横方向のぶれや熱の影響による伸縮や変形等に十分に対応することが可能となる。
【００１８】
また、前記スペーサ部材は、前記弁体のシール面のうち、前記弁体の温度が最も上昇する部分に取り付けられているのがよい。温度が最も上昇する部分が最も熱変形が生じる部分であるので、この部分にスペーサ部材を取り付けることにより、温度変化に十分対応することが可能となる。因みに、弁体の温度が最も上昇する部分は、上記した先端側の垂直面部分である。
【００１９】
また、前記スペーサ部材は、前記弁箱のシール座面に面接触するように設けられていることが好ましい。例えば、点接触であると、その部分が削れてパーティクルが発生する可能性がある。従って、面接触にしておくことで、このようなパーティクルの発生を防止（低減）することが可能となる。
【００２０】
また、前記スペーサ部材は、熱膨張の少ない材質の材料で形成するのがよい。スペーサ部材はシール部材の潰し量を規制するものであるから、当然のことながら熱変形の少ないものがよい。
【００２１】
なお、本発明のゲートバルブは、プラズマＣＶＤ装置の成膜室と加熱室又は取り出し室との間を開閉するゲートバルブとして用いることにより、装置自体の耐久性や、成膜室と加熱室又は取り出し室との遮断性能を向上させることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明は上記のように構成したので、シール部材のシール座面への当たりに偏りが生じたとしても、シール部材はスペーサ部材の厚み以上には押し潰されないので、先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。そのため、仮にこの偏り部分に剪断応力が発生したとしても、その大きさはエアシリンダの圧力によって制御する従来の場合に比べてはるかに小さく、シール部材を転動させるほどの力とはならないので、シール部材の破損を防止することができるとともに、ゲートバルブの遮断性能を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２４】
図１ないし図３は、本発明の実施形態に係るゲートバルブ１の構造を示しており、図１
は分解斜視図、図２は縦断面図、図３は、弁箱の一部を切り欠いた状態の分解斜視図である。
【００２５】
このゲートバルブ１は、内部が後述する弁板５のスライド空間２ａ（図３参照）に形成された略箱形状の弁箱２と、サイド板３と、弁箱２の一側面（図３では左側の側面）に形成された、スライド空間２ａの開口部２ｂを覆う蓋部材４と、図示しないエアシリンダの駆動軸（シリンダロッド）６に支持された略板形状の弁体５とから構成されている。ただし、サイド板３は、図１では弁箱２に既に装着した状態で示している。
【００２６】
弁箱２のサイド板３が装着される一方の側壁８ａと他方の側壁８ｂとの間には、略矩形状に形成されたゲート開口部９ａが貫通して形成されており、サイド板３にも、略矩形状に形成されたゲート開口部９ｂが貫通して形成されている。すなわち、ゲート開口部９ａ，９ｂが、スライド空間２ａを貫通するように形成されている。
【００２７】
また、弁箱２のスライド空間２ａの左右の内壁面には、ゲート開口部９ａ，９ｂを左右から挟むような位置関係で、右シール座面１１と左シール座面１６とがそれぞれ形成されている。各シール座面１１，１６は、図１に示す正面側から見たときに、左右対称の台形形状に形成されており、全体として六角形状に形成されている。これらのシール座面１１，１６は、接続部である上部位置及び下部位置において段違いに形成されているが、その段違い部１５，１５を含めて、全体が厚み方向に段差を有する六角形の環形状となるように、連続して形成されている。これにより、弁箱２の内壁面には、右シール座面１１から段違い部１５を経て左シール座面１６に至るまでの連続した六角形状のシール座面が形成されている。
【００２８】
一方、弁体５は、略正方形状の本体部５１の右側端面５２に、スライド方向（図１及び図３中、矢符Ｘ１方向）に延設するようにして台形形状の右側弁体部５３が形成されている。この右側弁体部５３は、本体部５１の半分の厚みに形成されている。すなわち、右側端面５２の手前側半分に形成されている。一方、右側端面５２の奥側半分には、右側弁体部５３と対称な台形形状の切欠き部５５が形成されており、この切欠き部５５によって囲まれた本体部５１の切欠き部分が、六角形状の左側弁体部５６となっている。すなわち、右側弁体部５３と左側弁体部５６は、図１に示す正面側から見たときに、左右対称の台形形状に形成されており、全体として前記シール座面１１，１６に合致する六角形状に形成されている。すなわち、右側弁体部５３の周端面（以下、「右シール面」という。）５３ａ及び左側弁体部５６の周端面（以下、「左シール面」という。）５６ａは、接続部である上部位置及び下部位置において段違いに形成されているが、その段違い部５７，５７を含めて、全体が厚み方向に段差を有する六角形の環形状となるように、連続して形成されている。
【００２９】
また、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａには、シール部材１３が装着されている。シール部材１３は、図４に示すように、長細い環状に形成されており、右側弁体部５３の右シール面５３ａと左側弁体部５６の左シール面５６ａとの連続する段違い部５７に対応する略Ｕ字状部分１３ａ，１３ａから上下両側に押し開いた姿勢で、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａに装着されている。
【００３０】
そして、弁体５がゲート開口部９ａ，９ｂを閉じる方向（図中、Ｘ１方向）にスライド空間２ａ内を移動したときに、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａに装着されているシール部材１３が、弁箱２の右シール座面１１及び左シール座面１６にそれぞれ圧接され、これにより、弁箱２のゲート開口部９ａ，９ｂ間の流通が遮断されるようになっている。
【００３１】
なお、弁体５には、本体部５１の上面と下面にそれぞれ自由回転可能に複数のローラ５８，５８，・・・が取り付けられており、このローラ５８，５８，・・・が、弁箱２のスライド空間２ａの上下の内壁面（レール面）２ａ２，２ａ２にそれぞれ接触した状態で転動することで、弁体５がスライド空間２ａ内をスムーズに移動するようになっている。
【００３２】
上記構成において、本実施形態では、右側弁体部５３の右シール面５３ａと弁箱２の右シール座面１１との間に、シール部材１３の圧潰量を規制するスペーサ部材２１を取り付けている。すなわち、シール部材１３の潰し量を、従来のようにエアシリンダの圧力で制御するのではなく、このスペーサ部材２１の厚み幅で規制するようにしている。これにより、製造過程で発生する熱の影響によって弁体５が伸縮や変形等し、その結果、シール部材１３のシール座面１１，１６への当たりに偏りが生じたとしても、シール部材１３はスペーサ部材２１の厚み以上には押し潰されないので、シール部材１３の先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。そのため、仮にこの偏り部分に剪断応力が発生したとしても、その大きさはエアシリンダの圧力によって制御する従来の場合に比べてはるかに小さく、シール部材１３を転動させるほどの力とはならないので、シール部材１３が破損することもなく、ゲートバルブとしての遮断性能も低下することがない。
【００３３】
本実施形態では、スペーサ部材２１を弁体５の外周面である右側弁体部５３の右シール面５３ａに取り付けている。スペーサ部材１３を右シール座面１１に取り付けることも可能であるが、熱の影響による弁体５と弁箱２の温度の上がり方が微妙に異なるため、数ミリ単位で両者がずれるので、両者の位置関係をしっかり出すためには、動く方である弁体５にスペーサ部材２１を取り付けておくのがよい。
【００３４】
この場合、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａのうち、ゲート開口部を閉じる方向の先端側の垂直面５３ａ１に取り付けるのがよい。熱の影響による弁体５の伸縮等は、エアシリンダのシリンダロッド６が取り付けられている基端側（図１では左側）より先端側（図１では右側）により顕著に現れる。すなわち、エアシリンダのシリンダロッド６が連結される弁体の基端側を基準とした場合、この基端側から最も離れた先端側がより前方に延びた状態となる。従って、最も変化のある先端側、すなわち右側弁体部５３の右シール面５３ａの垂直面５３ａ１にスペーサ部材２１を取り付けることで、弁体の横方向のぶれや熱による変形等に十分に対応することが可能となる。すなわち、言い換えると、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａのうち、弁体５の温度が最も上昇する部分に取り付けられている。温度が最も上昇する部分が最も熱変形が生じる部分であるので、この部分にスペーサ部材１３を取り付けることにより、温度変化に十分対応することが可能となる。
【００３５】
また、スペーサ部材２１は、右シール座面１１に面接触するように設けられている。すなわち、スペーサ部材２１は直方体形状に形成されており、本実施形態では、この直方体形状のスペーサ部材２１を、所定の間隔を存して３個取り付けている。ただし、取り付ける個数については設計的事項であり、任意に決定すればよい。例えば、スペーサ部材２１と右シール座面１１との接触が点接触であった場合には、その部分のスペーサ部材２１が削れてパーティクルが発生する可能性がある。従って、面接触にしておくことで、このようなパーティクルの発生を防止（低減）することが可能となる。
【００３６】
なお、本実施形態では、スペーサ部材２１は、熱膨張の少ない材質の材料で形成されている。スペーサ部材２１はシール部材の潰し量を規制するものであるから、当然のことながら熱変形の少ないものがよい。ここで、スペーサ部材の材料としては、樹脂材料と金属材料とがある。樹脂材料としては、テフロン（登録商標）、ダイフロン、ピークなどの使用が可能である。また、金属材料としては、ステンレス、アルミ合金、チタン合金などの使用が可能である。
【００３７】
また、上記実施形態では、スペーサ部材２１を、右側弁体部５３の右シール面５３ａのうち、ゲート開口部９ａ，９ｂを閉じる方向の先端側の垂直面５３ａ１のみに取り付けているが、右シール面５３ａの他の面（傾斜している面）や、左側弁体部５６の左シール面５６ａの適所にも、必要に応じて取り付けてもよい。
【００３８】
上記構成のゲートバルブ１は、真空装置の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして用いることできる。これにより、真空装置自体の耐久性や、第１処理室と第２処理室との遮断性能を向上させることができる。
【００３９】
図５は、本発明のゲートバルブを搭載した真空装置の概略構成図であり、ここではプラズマＣＶＤ装置を例示している。すなわち、このプラズマＣＶＤ装置８０は、加熱室８１、成膜室８２、及び取り出し室８３を有し、加熱室８１と成膜室８２との間、及び成膜室８２と取り出し室８３との間にそれぞれ本発明のゲートバルブ１Ａ，１Ｂが配置されている。基板は各室内を矢印Ｙ１方向に移動する。
【００４０】
まず最初に、ガラスなどからなる透明基板上に、透明導電膜が形成される。次に、この基板をプラズマＣＶＤ装置８０に搬入する。プラズマＣＶＤ装置８０に搬入した基板は、加熱室８１で成膜温度に一定時間加熱保持される。その後、加熱室８１と成膜室８２との間のゲートバルブ１Ａを開き、基板を加熱室８１から成膜室８２に搬入した後、ゲートバルブ１Ａを閉める。そして後、成膜室８２にてプラズマＣＶＤ法によりｐｉｎ成膜を行う。成膜後、成膜室８２と取り出し室８３との間のゲートバルブ１Ｂを開き、基板を取り出し室８３に搬出した後、ゲートバルブ１Ｂを閉める。この後、取り出し室８３にて膜剥離などの異常の有無の確認を行う。
【００４１】
このような構成のプラズマＣＶＤ装置８０によれば、ゲートバルブ１Ａ，１Ｂは、製造過程において発生する熱によって加熱されることになる。そのため、この熱の影響によって弁体５が伸縮や変形等し、その結果、シール部材１３のシール座面１１，１６への当たりに偏りが生じる可能性がある。すなわち、ゲートバルブ自体の経年変化に加え、熱による変形等によっても当たりに偏りが生じる可能性があるが、本発明のゲートバルブ１Ａ，１Ｂによれば、シール部材１３はスペーサ部材２１の厚み以上には押し潰されないので、シール部材１３の先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。従って、シール部材１３が破損することもなく、ゲートバルブ１Ａ，１Ｂの遮断性能も低下しないので、耐久性に優れたプラズマＣＶＤ装置８０を実現することができるものである。なお、請求項に記載の第１処理室は、ゲートバルブ１Ａから見た場合には加熱室８１となり、第２処理室は成膜室８２となる。また、ゲートバルブ１Ｂから見た場合には、第１処理室が成膜室８２となり、第２処理室が取り出し室８３となる。
【００４２】
なお、本実施形態では、真空装置としてプラズマＣＶＤ装置を例示しているが、ドライエッチング装置やスパッタリング装置などのガス導入を伴うプラズマ処理装置に本発明のゲートバルブを適用した場合においても同様の効果を期待することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係るゲートバルブの分解斜視図である。
【図２】本発明に係るゲートバルブの縦断面図である。
【図３】本発明に係るゲートバルブの弁箱の一部を切り欠いた状態の分解斜視図である。
【図４】本発明に係るゲートバルブのシール部材の形状を示す斜視図である。
【図５】本発明のゲートバルブを搭載した真空装置の一構成例を示す概略図である。
【図６】従来のゲートバルブの構造の一例を示す分解斜視図である。
【図７】従来のゲートバルブの縦断面図である。
【図８】従来のゲートバルブのシール部材の形状を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４４】
１  ゲートバルブ
２  弁箱
２ａ  スライド空間
２ｂ  開口部
３  サイド板
４  蓋部材
５  弁体
６  エアシリンダの駆動軸（シリンダロッド）
８ａ，８ｂ  側壁
９ａ，９ｂ  ゲート開口部
１１右シール座面
１３  シール部材
１３ａ，１３ｂ  略Ｕ字状部分
１５  段違い部
１６  左シール座面
２１  スペーサ部材
５１  本体部（弁体本体部）
５２  右側端面
５３  右側弁体部
５５  切欠き部
５６  左側弁体部
５３ａ  右シール面（周端面）
５６ａ  左シール面（周端面）
５７  段違い部
８０  プラズマＣＶＤ装置
８１  加熱室
８２  成膜室
８３  取り出し室
【図１】
0004485580.tif 000002
【図２】
0004485580.tif 000003
【図３】
0004485580.tif 000004
【図４】
0004485580.tif 000005
【図５】
0004485580.tif 000006
【図６】
0004485580.tif 000007
【図７】
0004485580.tif 000008
【図８】
0004485580.tif 000009