(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動性を有した液状体を被吐出物上に吐出するノズルが設けられた液滴吐出ヘッド、前記液滴吐出ヘッドが取り付けられた取付基板および前記取付基板に配設され電気的接続に用いられるコネクタを備えた吐出手段と、
複数の前記吐出手段が配置されてなる平板状の保持手段と、
前記保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を前記液滴吐出ヘッドが前記被吐出物の表面に沿う状態で相対的に移動させる移動手段と
を具備し、
前記保持手段には、複数の前記吐出手段が２つのグループに分けて配列され、かつ一方のグループに配列された前記吐出手段の前記取付基板におけるコネクタの配設された部分が他のグループとの対向方向とは反対側である外側に向くようにそれぞれ配置され、前記ノズルが前記被吐出物の表面に間隙を介して対向するように配置されている
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出装置において、
取付基板は長手状に形成され、
吐出手段は、前記取付基板の長手方向の一端側に液滴吐出ヘッドが配設され、前記取付基板の長手方向の他端側に前記コネクタが配設された
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の吐出装置において、
前記複数の吐出手段のグループ同士は略点対称となる状態で当該吐出手段が並べて配置された
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の吐出装置において、
前記液状体を前記吐出手段に供給する給液手段を具備し、
前記給液手段は、前記複数の吐出手段のグループの間の位置から前記各吐出手段に供給管を接続し、前記供給管を通して前記各吐出手段に前記液状体を供給する
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の吐出装置において、
前記給液手段は、前記液状体を貯留するタンクと、前記液状体を流通する供給管と、前記タンク内の液状体を前記供給管を通して前記吐出手段の液滴吐出ヘッドに供給するポンプとを備え、
前記供給管は、前記吐出手段の液滴吐出ヘッドに対応して複数設けられ、前記２つのグループの配置位置の間の位置から前記各吐出手段に配管された
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の吐出装置において、
制御手段から前記各吐出手段のコネクタに接続される複数の電気配線を備え、
前記複数の電気配線は、前記保持手段の外周側から前記各吐出手段のコネクタに向けてそれぞれ配線された
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の吐出装置において、
前記複数の吐出手段は、前記移動手段によって前記液滴吐出ヘッドが前記被吐出物の表面に沿って相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って前記液滴吐出ヘッドが２列に並んだ状態に配置された
ことを特徴とした吐出装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の吐出装置を備える電気光学装置の製造装置において、
前記被吐出物はＥＬ発光層が形成される基板であって、前記複数の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記複数の液滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからＥＬ発光材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上に前記ＥＬ発光層を形成する
ことを特徴とした電気光学装置の製造装置。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれかに記載の吐出装置を備える電気光学装置の製造装置であって、
前記被吐出物は液晶を挟持する一対の基板の一方であって、前記複数の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記複数の液滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからカラーフィルタ材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上にカラーフィルタを形成する
ことを特徴とした電気光学装置の製造装置。
【請求項１０】
請求項１ないし７のいずれかに記載の吐出装置を備えるカラーフィルタの製造装置であって、
前記被吐出物は異なる色を呈するカラーフィルタが形成される基板であって、前記複数の液滴吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記基板上に前記複数の液滴吐出ヘッドにおける所定のノズルからカラーフィルタ材料を含有する液状体を吐出させ、前記基板上に前記カラーフィルタを形成する
ことを特徴としたカラーフィルタの製造装置。
【請求項１１】
流動性を有した液状体を吐出するノズルが設けられた液滴吐出ヘッド、前記液滴吐出ヘッドが取り付けられた取付基板および前記取付基板に配設され電気的接続に用いられるコネクタをそれぞれ備えた複数の吐出手段が２つのグループに分けて配列され、かつ一方のグループに配列された前記吐出手段の前記取付基板におけるコネクタの配設された部分が他のグループとの対向方向とは反対側である外側に向くようにそれぞれ配置された平板状の保持手段を用い、
前記保持手段に配置された前記液滴吐出ヘッドが、前記被吐出物の表面に沿う状態で前記被吐出物に対して相対的に移動されつつ、前記ノズルから前記液状体が前記被吐出物の所定位置に適宜吐出する
ことを特徴とする吐出方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の吐出方法において、
前記取付基板は長手状に形成され、
前記複数の吐出手段は、前記取付基板の長手方向の一端側に前記液滴吐出ヘッドが配設され、前記取付基板の長手方向の他端側に前記コネクタが配設されてそれぞれ構成され、
前記ノズルから前記液状体を前記被吐出物上に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の吐出方法において、
前記２つのグループ同士は略点対称となる状態で前記吐出手段が並べて配置され、
前記ノズルから前記液状体を前記被吐出物上に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。
【請求項１４】
請求項１１ないし１３のいずれかに記載の吐出方法において、
前記２つのグループの配設位置の間の位置から前記各グループにおける前記吐出手段に供給管が接続され、前記供給管を通して前記各吐出手段に前記液状体を供給し、
前記ノズルから前記液状体を前記被吐出物上に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。
【請求項１５】
請求項１１ないし１４のいずれかに記載の吐出方法において、
制御手段からの電気配線が前記保持手段の外周側から前記各コネクタに接続された前記吐出手段により前記液状体を吐出する
ことを特徴とする吐出方法。
【請求項１６】
請求項１１ないし１５のいずれかに記載の吐出方法において、
前記複数の吐出手段は、前記液滴吐出ヘッドが前記被吐出物の表面に沿って相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って前記液滴吐出ヘッドが２列に並んで配置され、
前記ノズルから前記液状体を前記被吐出物上に吐出する
ことを特徴とする吐出方法。
【請求項１７】
請求項１１ないし１６のいずれかに記載の吐出方法により液状体を吐出する電気光学装置の製造方法であって、
前記液状体はＥＬ発光材料を含有するものであって、
前記被吐出物は基板であって、
前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に移動しつつ、前記ノズルから前記液状体を前記基板上の所定の位置に適宜吐出してＥＬ発光層を形成する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１１ないし１６のいずれかに記載の吐出方法により液状体を吐出する電気光学装置の製造方法であって、
前記液状体はカラーフィルタ材料を含有するものであって、
前記被吐出物は基板であって、
前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に移動しつつ、前記ノズルから前記液状体を前記基板上の所定の位置に適宜吐出してカラーフィルタを形成する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１１ないし１６のいずれかに記載の吐出方法により液状体を吐出するカラーフィルタの製造方法であって、
前記液状体はフィルタ材料を含有するものであって、
前記被吐出物は基板であって、
前記液滴吐出ヘッドを前記基板の表面に沿う状態で相対的に移動しつつ、前記ノズルから前記液状体を前記基板上の所定の位置に適宜吐出してカラーフィルタを形成する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、流動性を有した液状体を吐出する吐出方法およびその装置に関する。そして、本発明は、液晶装置、ＥＬ装置、電気泳動装置、電子放出装置およびＰＤＰ装置などの電気光学装置、この電気光学装置を製造する電気光学素装置の製造方法およびその製造装置に関する。また、本発明は、電気光学装置に用いられるカラーフィルタ、このカラーフィルタを製造する製造方法およびその製造装置に関する。さらに、本発明は、電気光学部材、半導体装置、光学部材、試薬検査部材などの基材を有するデバイス、この基材を有したデバイスを製造する製造方法およびその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータなどといった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロルミネッセンス装置（以下ＥＬ（electoro  luminescence）装置という）などといった電気光学装置である表示装置が広く用いられている。また、最近では、表示装置によってフルカラー表示することが多くなっている。この液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すことによって表示される。そして、カラーフィルタは、例えば、ガラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色のフィルタエレメントをいわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べることによって形成される。
【０００３】
また、ＥＬ装置によるフルカラー表示は、例えばガラス、プラスチックなどによって形成された基板の表面に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のドット状の各色のＥＬ発光層をいわゆるストライプ配列、デルタ配列またはモザイク配列などといった所定の配列で並べ、これらのＥＬ発光層を一対の電極で挟持して絵素ピクセルを形成する。そして、これらの電極に印加する電圧を絵素ピクセル毎に制御することにより、これら絵素ピクセルを希望の色で発光させてフルカラー表示する。
【０００４】
従来、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂなどの各色のフィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ装置のＲ、Ｇ、Ｂなどの各色の絵素ピクセルをパターニングする場合、フォトリソグラフィー法を用いることが知られている。しかしながら、このフォトリソグラフィー法を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色の材料あるいはフォトレジストなどを多量に消費するので、コストが高くなるなどといった問題がある。
【０００５】
この問題を解決するために、インクジェット法によってフィルタエレメント材料やＥＬ発光材料などをドット状に吐出することにより、ドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００６】
ここで、インクジェット法によってドット状配列のフィラメントやＥＬ発光層などを形成する方法について説明する。図２９（ａ）において、ガラス、プラスチックなどによって形成された大面積の基板、いわゆるマザーボード３０１の表面に設定される複数のパネル領域３０２の内部領域に、図２９（ｂ）に示すように、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント３０３をインクジェット法に基づいて形成する場合について考える。この場合には、例えば図２９（ｃ）に示すように、複数のノズル３０４を列状に配列してなるノズル列３０５を有するインクジェットヘッド３０６を、図２９（ｂ）の矢印Ａ１および矢印Ａ２で示すように、１個のパネル領域３０２に関して複数回（図２９では２回）主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にインクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメント３０３を形成する。
【０００７】
このフィルタエレメント３０３は、上述したように、Ｒ、Ｇ、Ｂなどの各色をいわゆるストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列などといった適宜の配列形態で配列することによって形成されるものである。このことから、図２９（ｂ）に示すインクジェットヘッド３０６によるインク吐出処理は、Ｒ、Ｇ、Ｂの単色を吐出するインクジェットヘッド３０６をＲ、Ｇ、Ｂの３色分だけあらかじめ設けておく。そして、これらのインクジェットヘッド３０６を順次に用いて１つのマザーボード３０１上にＲ、Ｇ、Ｂなどの３色配列を形成する。
【０００８】
なお、マザーボード３０１に複数のパネル領域３０２を形成する場合、インクジェットヘッドの主走査方向に対して幅方向となるマザーボード３０１の幅寸法略全域にインクジェットヘッドが位置するように長手状のインクジェットヘッドを用いることにより、効率よくフィルタエレメント３０３を形成することが考えられる。しかしながら、パネル領域３０２の大きさに対応して異なる大きさのマザーボード３０１を用いる場合には、その都度異なるインクジェットヘッドが必要となり、コストが増大することから、複数のインクジェットヘッドを複数配設する構成が考えられる。
【０００９】
【特許文献１】
特開平２−１７３７０３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、インクジェットヘッドは、例えば組み込まれ圧電素子を適宜動作させてインクに圧力を加えて吐出させる構造で、圧電素子に適宜電気信号を送信するための電気配線が必要となる。このことから、取付基板にインクジェットヘッドおよびこのインクジェットヘッドに電気的に接続され圧電素子を制御するための電気配線が接続されるコネクタを一体的に組立形成されたヘッド装置を用いる構成が考えられる。
【００１１】
しかしながら、複数のヘッド装置を配設する際、インクジェットヘッドへの電気配線の配線などの作業性や、所望の描画が得られるヘッド装置の配設位置、電気ノイズなどを考慮する必要がある。
【００１２】
本発明は、このような点に鑑みて、組立性が良好で電気ノイズによる影響を防止した吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明の吐出装置は、流動性を有した液状体を被吐出物上に吐出するノズルが設けられた液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドが取り付けられた取付基板およびこの取付基板に配設されたコネクタを備えた複数の吐出手段と、
前記複数の吐出手段を複数グループに分けて配列させ、かつ前記取付基板におけるコネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列した前記吐出手段と互いに対向しないように配置させてなり、前記液滴吐出ヘッドのノズルが設けられた一面が前記被吐出物の表面に間隙を介して対向するように前記複数の吐出手段を配置する保持手段と、この保持手段および前記被吐出物のうちの少なくともいずれか一方を前記液滴吐出ヘッドが前記被吐出物の表面に沿う状態で相対的に移動させる移動手段とを具備したことを特徴とする。
【００１４】
この発明では、流動性を有した液状体を吐出するノズルを一面に設けた液滴吐出ヘッドとコネクタとを取付基板に取り付けた複数の吐出手段を、複数のグループに分けて配列するとともに、取付基板におけるコネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列した吐出手段と互いに対向しないように保持手段に配置し、配置された液滴吐出ヘッドをノズルを有する一面が被吐出物の表面に沿う状態で被吐出物に対して相対的に移動させ、ノズルから液状体を被吐出物上の所定位置に適宜吐出する。
【００１５】
この構成により、取付基板に液滴吐出ヘッドおよびコネクタを設けた吐出手段を保持手段に複数配置させるので、複数の液滴吐出ヘッドおよびこれら液滴吐出ヘッドに対応するコネクタを別々に配設する場合に比して組立が容易となり、製造性が向上する。
また、コネクタが取付基板に配設される部分が他のグループの吐出手段と互いに対向することなく配置するので、コネクタが配設された部分が液滴吐出ヘッドに対して対向方向と反対側である外側に向く状態となり、コネクタへの配線作業が容易で組立作業性が向上するとともに、コネクタが位置する部分での電気ノイズが互いに影響し合うことが防止され、安定した良好な液状体の吐出が得られる。
【００１６】
そして、本発明では、取付基板は長手状に形成され、吐出手段は、前記取付基板の長手方向の一端側に液滴吐出ヘッドが配設され、前記取付基板の長手方向の他端側にコネクタが配設されたことが好ましい。この構成により、コネクタが取付基板に配設される部分が他のグループの吐出手段に互いに対向することなく、液滴吐出ヘッドに対して対向方向と反対側である外側に向く状態で複数の吐出手段を保持手段に配置する構成が容易に得られるとともに、簡単な構成で液滴吐出ヘッドからコネクタの位置が離れた状態が得られ、コネクタへの配線作業も容易となる。
【００１７】
また、本発明では、コネクタの配設された部分が対向しないように配列された吐出手段のグループ同士は略点対称となる状態で当該吐出手段が並べて配置されたことが好ましい。この構成により、コネクタの位置が略点対称となる他方のグループの吐出手段のコネクタの位置から最も遠い位置となり、確実に電気ノイズによる影響の防止および配線作業性の向上が図れる。
【００１８】
さらに、本発明では、液状体を吐出手段に供給する給液手段を具備し、給液手段は、複数の吐出手段のグループの間の位置から各グループにおける各吐出手段に供給管を接続し、この供給管を通して各吐出手段に液状体を供給することが好ましい。この構成により、給液手段にて複数の吐出手段のグループの配置位置の間の位置から各グループの吐出手段に接続した供給管を通して液状体を供給するので、液状体を供給するための流路が途中までまとまった状態となり、配管作業および保守管理が容易となるとともに、配管された流路が他の部位に干渉することにより、保持手段の移動が規制されたり、配管の外れや損傷などの不都合が防止される。
【００１９】
そして、本発明では、給液手段は、液状体を貯留するタンクと、前記液状体を流通する供給管と、前記タンク内の液状体を前記供給管を通して吐出手段の液滴吐出ヘッドに供給するポンプとを備え、前記供給管は、前記吐出手段の液滴吐出ヘッドに対応して複数設けられ、複数の吐出手段のグループの配置位置の間の位置から各吐出手段に配管されたことが好ましい。この構成により、タンクに貯留された液状体を流通する供給管を、吐出手段の液滴吐出ヘッドに対応して複数設け、複数の吐出手段のグループの配置位置の間の位置から各吐出手段にそれぞれ配管するので、例えば液状体を分流して供給する構成における分流位置から先端までの流通抵抗を一致させて各吐出手段の液滴吐出ヘッド間での吐出量のバラツキを防止するための煩雑な構成が不要で、同一形状で同一長さの供給管を用いて配管することで、各液滴吐出ヘッド間での均一な吐出量となる構成が容易に得られ、製造性が向上する。
【００２０】
また、本発明では、制御手段から各吐出手段のコネクタに接続される複数の電気配線を備え、これら電気配線は、保持手段の外周側から各吐出手段のコネクタに向けてそれぞれ配線されたことが好ましい。この構成により、制御手段から各吐出手段のコネクタに接続する複数の電気配線を、保持手段の外周側から各吐出手段のコネクタに向けてそれぞれ配線するので、電気配線による電気ノイズの影響も防止され、安定した良好な液状体の吐出が得られる。
【００２１】
さらに、本発明では、複数の吐出手段は、移動手段によって液滴吐出ヘッドが被吐出物の表面に沿って相対的に移動される方向に対して交差する方向に沿って前記液滴吐出ヘッドが複数列に並んだ状態に配置されたことが好ましい。この構成により、例えば被吐出物の表面にドット状に吐出される液状体のドット間ピッチに対応してノズル間ピッチが対応するように移動手段による移動方向に対して液滴吐出ヘッドが傾斜する状態で複数列に配設しても、コネクタが配設された位置が隣接する吐出手段同志で干渉することなく容易に配設され、製造性が向上するとともに、配線による電気ノイズの影響も防止される。
【００２２】
（２）本発明では、吐出する液状体としてＥＬ発光材料を含有する液状体を用い、被吐出物である基板上に吐出させてＥＬ発光層を形成して電気光学装置を製造することに好都合である。
【００２３】
（３）本発明では、吐出する液状体としてカラーフィルタ材料を含有する液状体を用い、被吐出物として液晶を挟持する一対の基板の一方に吐出させてカラーフィルタを形成して電気光学装置を製造することに好都合である。
【００２４】
（４）本発明では、吐出する液状体としてカラーフィルタ材料を含有する液状体を用い、被吐出物である基板上に吐出させて異なる色を呈するカラーフィルタを製造することに好都合である。
【００２５】
（５）本発明では、流動性を有する液状体を被吐出物である基材上に吐出して所定の層が設けられる基材を有するデバイスを製造することに好都合である。
【００２６】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタの製造方法および製造装置に関する実施の形態）
次に、本発明のカラーフィルタの製造装置の実施の形態について図面を参照して説明する。まず、このカラーフィルタの製造装置の説明に先立って、製造されるカラーフィルタについて説明する。図３３はカラーフィルタを示す部分拡大図で、図３３（Ａ）は平面図であり、図３３（Ｂ）は図３３（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。なお、この図３３に示すカラーフィルタにおいて、図５に示す実施形態のカラーフィルタ１と同一の構成については、同一の符号を付して説明する。
【００２７】
〔カラーフィルタの構造〕
まず、本発明のカラーフィルタの製造装置により形成されるカラーフィルタについて図面を参照して説明する。図１２はカラーフィルタを示す部分拡大図で、図１２（Ａ）は平面図であり、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。
【００２８】
〔カラーフィルタの構成〕
図１２（Ａ）において、カラーフィルタ１は、マトリックス状に並んだ複数の画素１Ａを備えている。これら画素１Ａの境目は、隔壁６によって区切られている。画素１Ａの１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインクである液状体としてのカラーフィルタ材料すなわちフィルタエレメント材料１３が導入されている。この図１２に示すカラーフィルタは、赤、緑、青の配置をいわゆるモザイク配列として説明したが、上述したように、ストライプ配列やデルタ配列など、いずれの配置でも適用できる。
【００２９】
カラーフィルタ１は、図１２（Ｂ）に示すように、透光性の基板２と、透光性の隔壁６とを備えている。この隔壁６が形成されていない、すなわち除去された部分は、上記画素１Ａを構成する。この画素１Ａに導入された各色のフィルタエレメント材料１３は、着色層となるフィルタエレメント３を構成する。隔壁６およびフィルタエレメント３の上面には、保護層である保護膜４および電極層５が形成されている。
【００３０】
〔カラーフィルタ製造装置の構造〕
次に、上記カラーフィルタを製造する製造装置の構成について図面を参照して説明する。図１は、本発明に係るカラーフィルタの製造装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
【００３１】
カラーフィルタ製造装置は、電気光学装置としてのカラー液晶パネルを構成するカラーフィルタ１を製造する。このカラーフィルタ製造装置は、図示しない液滴吐出装置を備えている。
【００３２】
〔液滴吐出処理装置の構成〕
そして、液滴吐出装置は、図１に示すような３台の液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂを有している。これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、液状体としてのインクすなわちカラーフィルタ材料である例えばＲ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料１３をマザー基板１２にそれぞれ吐出するＲ、Ｇ、Ｂの３色に対応している。なお、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂは、略直列状に配置されて液滴吐出装置を構成する。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、各構成部材の動作を制御する図示しない制御装置が一体的に設けられている。
【００３３】
なお、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、これら液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにマザー基板１２を一枚ずつ搬入および搬出する図示しない搬送ロボットがそれぞれ接続される。また、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂには、マザー基板１２が例えば６枚収容可能で、マザー基板１２を熱処理、例えば１２０℃、５分間加熱して吐出されたフィルタエレメント材料１３を乾燥させる図示しない多段ベーク炉が接続されている。
【００３４】
そして、各液滴吐出処理装置４０５Ｒ，４０５Ｇ，４０５Ｂは、図１に示すように、中空箱状の本体ケースであるサーマルクリーンチャンバ４２２を有している。このサーマルクリーンチャンバ４２２内は、インクジェット方式による安定した良好な描画が得られるように、内部が例えば２０±０．５℃に調整されて外部から塵埃が侵入不可能に形成されている。このサーマルクリーンチャンバ４２２内には、液滴吐出処理本体４２３が配設されている。
【００３５】
液滴吐出処理装置本体４２３は、図１に示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４を有している。このＸ軸エアースライドテーブル４２４上には、図示しないリニアモータが配設された主走査駆動装置４２５が配設されている。この主走査駆動装置４２５は、マザー基板１２を例えば吸引により取付固定する図示しない台座部を有し、この台座部をＸ軸方向であるマザー基板１２に対して主走査方向に移動させる。
【００３６】
液滴吐出処理装置本体４２３には、図１に示すように、Ｘ軸エアースライドテーブル４２４の上方に位置して、Ｙ軸テーブルとしての副走査駆動装置４２７が配設されている。この副走査駆動装置４２７は、フィルタエレメント材料１３を例えば上下方向に沿って吐出させるヘッドユニット４２０をＹ軸方向であるマザー基板１２に対して副走査方向に移動させる。なお、図１において、ヘッドユニット４２０は、位置関係を明確化するために、空中に浮いた状態で実線により表示している。
【００３７】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、後述する液滴吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド４２１の位置やマザー基板１２の位置を制御するために位置を認識する位置認識手段である図示しない各種カメラが配設されている。なお、ヘッドユニット４２０や台座部の位置制御は、パルスモータを用いた位置制御の他、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現できる。
【００３８】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、図１に示すように、ヘッドユニット４２０におけるフィルタエレメント材料１３を吐出する面を洗浄するワイピングユニット４８１が設けられている。このワイピングユニット４８１は、例えば布部材およびゴムシートが一体的に積層された図示しないワイピング部材の一端側を適宜巻き取り、順次新しい面でフィルタエレメント材料１３を吐出する面をワイピングする構成となっている。これにより、吐出面に付着したフィルタエレメント材料１３の除去を実施し、後述するノズルの目詰まりが起こらないようにしている。
【００３９】
さらに、液滴吐出処理装置本体４２３には、図１に示すように、インクシステム４８２が設けられている。このインクシステム４８２は、フィルタエレメント材料１３を貯留するインクタンク４８３、フィルタエレメント材料１３が流通可能な供給管４７８、および、インクタンク４８３から供給管４７８を介してフィルタエレメント材料１３をヘッドユニット４２０へ供給する図示しないポンプを有している。なお、図１において、供給管４７８の配管は、模式的に示したもので、インクタンク４８３からヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線され、ヘッドユニット４２０を走査する副走査駆動装置４２７の上方からヘッドユニット４２０にフィルタエレメント材料１３を供給するようになっている。
【００４０】
また、液滴吐出処理装置本体４２３には、ヘッドユニット４２０から吐出されるフィルタエレメント材料１３の吐出量を検出する重量測定ユニット４８５が設けられている。
【００４１】
さらに、液滴吐出処理装置本体４２３には、例えば図示しない光センサを有しヘッドユニット４２０からのフィルタエレメント材料１３の吐出状態を検出するドット抜け検出ユニット４８７が一対の配設されている。このドット抜け検出ユニット４８７は、ヘッドユニット４２０から液状体が吐出させる方向に対して交差する方向、例えばＸ軸方向に沿って図示しない光センサの光源および受光部が、ヘッドユニット４２０から吐出された液滴が通過する空間を挟んで対向するように配設されている。また、ヘッドユニット４２０の搬送方向であるＹ軸方向側に位置して配設され、フィルタエレメント材料１３を吐出するためにヘッドユニット４２０を副走査移動させる毎に吐出状態を検出してドット抜けを検出する。
【００４２】
なお、詳しくは後述するが、ヘッドユニット４２０には、フィルタエレメント材料１３を吐出するヘッド装置４３３を２列に配置している。このため、ドット抜け検出ユニット４８７は、各列各ヘッド装置毎に吐出状態を検出するために一対設けられている。
【００４３】
〔ヘッドユニットの構成〕
次に、ヘッドユニット４２０の構成について説明する。図２は、液滴吐出処理装置に設けられたヘッドユニットを示す平面図である。図３は、ヘッドユニットを示す側面図である。図４は、ヘッドユニットを示す正面図である。図５は、ヘッドユニットを示す断面図である。
【００４４】
ヘッドユニット４２０は、図２ないし図５に示すように、ヘッド本体部４３０と、インク供給部４３１とを有している。また、ヘッド本体部４３０は、平板状のキャリッジ４２６と、このキャリッジ４２６に複数取り付けられた実質的に略同一形状のヘッド装置４３３とを有している。
【００４５】
（ヘッド装置の構成）
図６はヘッドユニット４２０に配設されたヘッド装置４３３を示す分解斜視図である。
ヘッド装置４３３は、図６に示すように、短冊状のプリント基板４３５を有している。このプリント基板４３５には、各種電気部品４３６が実装され図示しない電気配線が設けられている。また、プリント基板４３５には、長手方向の一端側（図６中右側）に位置して窓部４３７が貫通形成されている。さらに、プリント基板４３５には、インクであるフィルタエレメント材料１３が流通可能な流通路４３８が窓部４３７の両側に位置して設けられている。
【００４６】
そして、このプリント基板４３５の一面側（図６中下面側）には、長手方向の略一端側（図６中右側）に位置してインクジェットヘッド４２１が取付部材４４０により一体的に取り付けられている。このインクジェットヘッド４２１は、長手矩形状に形成され、長手方向がプリント基板４３５の長手方向に沿う状態で取り付けられる。
【００４７】
なお、各ヘッド装置４３３における各インクジェットヘッド４２１は、実質的に略同一形状、すなわち例えば所定の規格の製品であって、所定の品質に選別されたものなどであればよい。具体的には、これらインクジェットヘッド４２１が同一個数の後述するノズルを有し、ノズルの形成位置が互いに同一であることが、キャリッジ４２６に対してインクジェットヘッド４２１を組み立てる際に効率的となり、また組み立て精度も高まるので、好ましい。さらに、同一の製造・組立工程を経て作られた製品を用いれば、特別な製品を作る必要が無くなり、低コストとすることができる。
【００４８】
また、プリント基板４３５の他面側（図６中上面側）には、長手方向の略他端側（図６中左側）に位置してインクジェットヘッド４２１に電気配線４４２にて電気的に接続されるコネクタ４４１が一体的に取り付けられている。これらコネクタ４４１には、図１に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線された電気配線４４２（電源配線、信号配線を含む）が接続される。この電気配線４４２は図示しない制御装置とヘッドユニット４２０を接続するものとなる。すなわち、これら電気配線４４２は、図２および図５に二点鎖線の矢印で模式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０の２列のヘッド装置４３３の配列方向の両側であるヘッドユニット４２０の外周側に配線されてコネクタ４４１に接続され、電気ノイズが生じないようになっている。
【００４９】
さらに、プリント基板４３５の他面側（図６中上面側）には、長手方向の略一端側（図６中右側）でインクジェットヘッド４２１に対応してインク導入部４４３が取り付けられている。このインク導入部４４３は、取付部材４４０に設けられプリント基板４３５を貫通する位置決めピン部４４４を嵌合する略円筒状の位置決め筒部４４５と、プリント基板４３５に係止する係止爪部４４６とを有している。
【００５０】
また、インク導入部４４３には、先端先細り形状の略円筒状の連結部４４８が一対突設されている。これら連結部４４８は、プリント基板４３５側となる基端部にプリント基板４３５の流通路４３８に略液密に連通する図示しない開口を有し、先端部にフィルタエレメント材料１３が流通可能な図示しない孔を有している。
【００５１】
さらに、これら連結部４４８には、図３ないし図６に示すように、先端側に位置してシール連結部４５０がそれぞれ取り付けられている。これらシール連結部４５０は、内周側に連結部４４８を略液密に嵌着する略円筒状に形成され、先端部にシール部材４４９が設けられている。
【００５２】
（インクジェットヘッドの構成）
図７は、インクジェットヘッド４２１を示す分解斜視図である。図８はインクジェットヘッド４２１のフィルタエレメント材料１３を吐出する動作をインクジェットヘッド４２１の断面に対応して説明する模式図で、図８（Ａ）はフィルタエレメント材料１３を吐出する前の状態、図８（Ｂ）は圧電振動子４５２を収縮させてフィルタエレメント材料１３を吐出している状態、図８（Ｃ）はフィルタエレメント材料１３を吐出した直後の状態である。図９は、インクジェットヘッド４２１におけるフィルタエレメント材料１３の吐出量を説明する説明図である。図１０は、インクジェットヘッド４２１の配置状態を説明する概略的な模式図である。図１１は、図１０における部分拡大図である。
【００５３】
インクジェットヘッド４２１は、図７に示すように、略矩形状のホルダ４５１を有している。このホルダ４５１には、長手方向に沿って例えば１８０個のピエゾ素子などの圧電振動子４５２が２列設けられている。また、ホルダ４５１には、プリント基板４３５の流通路４３８に連通し長手方向の両側略中央にインクであるフィルタエレメント材料１３が流通する貫通孔４５３がそれぞれ設けられている。
【００５４】
また、ホルダ４５１の圧電振動子４５２が位置する一面である上面には、図７に示すように、合成樹脂にてシート状に形成された弾性板４５５が一体的に設けられている。この弾性板４５５には、貫通孔４５３に連続する連通孔４５６がそれぞれ設けられている。そして、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に位置決めされて一体的に取り付けられている。
【００５５】
さらに、弾性板４５５の上面には、平板状の流路形成板４６０が設けられている。この流路形成板４６０には、ホルダ４５１の幅方向に長手状で圧電振動子４５２に対応してホルダ４５１の長手方向に１８０個の直列状に２列設けられたノズル溝４６１と、ノズル溝４６１の一側にホルダの長手方向に長手状に設けられた開口部４６２と、弾性板４５５の連通孔４５６に連続する流通孔４６３とが設けられている。そして、弾性板４５５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５とともに位置決めされて一体的に取り付けられている。
【００５６】
また、流路形成板４６０の上面には、略平板状のノズルプレート４６５が設けられている。このノズルプレート４６５には、流路形成板４６０のノズル溝４６１に対応して略円形のノズル４６６がホルダ４５１の長手方向に１８０個で２５．４ｍｍ（１ｉｎｃｈ）の長さ範囲に直列状で２列設けられている。また、ノズルプレート４６５には、ホルダ４５１の上面略四隅に突設された位置決め爪部４５７に係合する係合孔４５８が設けられ、ホルダ４５１の上面に弾性板４５５および流路形成板４６０とともに位置決めされて一体的に取り付けられている。
【００５７】
そして、積層する弾性板４５５、流路形成板４６０およびノズルプレート４６５により、図８に模式的に示すように、流路形成板４６０の開口部４６２にて液リザーバ４６７が区画形成されるとともに、この液リザーバ４６７は各ノズル溝４６１に液供給路４６８を介して連続する。このことにより、インクジェットヘッド４２１は、圧電振動子４５２の動作により、ノズル溝４６１内の圧力が増大しノズルからフィルタエレメント材料１３を２〜１３ｐｌ例えば約１０ｐｌの液滴量で７±２ｍ／ｓで吐出する。すなわち、図８に示すように、圧電振動子４５２に対して所定の印加電圧Ｖｈをパルス状に印加することで、図８（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に順次示すようにして、圧電振動子４５２を矢印Ｑ方向に適宜伸縮させることで、インクであるフィルタエレメント材料１３を加圧して所定量の液滴８でノズル４６６から吐出させる。
【００５８】
また、このインクジェットヘッド４２１は、上述したように、図９に示すような配列方向の両端部側の吐出量が多くなる吐出量のバラツキがある。このことから、例えば吐出量バラツキが５％以内となる範囲のノズル４６６すなわち両端部の１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメント材料１３を吐出しないように制御される。
【００５９】
そして、ヘッドユニット４２０を構成するヘッド本体部４３０は、図１ないし図５に示すように、インクジェットヘッド４２１を有したヘッド装置４３３が複数互いに並んで配置されて構成されている。このヘッド装置４３３のキャリッジ４２６における配置は、図１０に模式的に示すように、副走査方向であるＹ軸方向よりもＹ軸方向と直交する主走査方向であるＸ軸方向側に対して傾斜した方向にオフセットしながら配列される状態である。すなわち、すなわち、副走査方向であるＹ軸方向より若干傾斜した方向に例えば６個並べて配置され、この列が１つのグループとして複数列、例えば２つのグループである２列で配置されている。これは、インクジェットヘッド４２１よりもヘッド装置４３３の短辺方向の幅が広く、互いに隣接するインクジェットヘッド４２１同士の配置間隔を狭めることができない一方で、ノズル４６６の列がＹ軸方向に連続して配列されているようにしなければならない状況から考えられた配置の仕方である。
【００６０】
さらに、ヘッド本体部４３０は、ヘッド装置４３３が、インクジェットヘッド４２１の長手方向がＸ軸方向に対して交差する方向に傾斜する状態で、かつコネクタ４４１が相対向方向と反対側に位置する状態で略点対称に配設されている。このヘッド装置４３３の傾斜する配置状態は、例えばインクジェットヘッド４２１の長手方向であるノズル４６６の配設方向がＸ軸方向に対して５７．１°傾斜する。
【００６１】
また、ヘッド装置４３３は、略千鳥状すなわち配列方向に対して並列状態に位置しないように配置されている。すなわち、図２ないし図５および図１０に示すように、１２個のインクジェットヘッド４２１のノズル４６６がＹ軸方向に連続して配列されるように、インクジェットヘッド４２１は２列に配列され且つそのＹ軸方向への配列順序が互い違いの交互に配置される。
【００６２】
具体的には、図１０および図１１に基づいて、より詳細に説明する。ここで、インクジェットヘッド４２１は、長手方向であるノズル４６６の配列方向がＸ軸方向に対して傾斜する。このため、インクジェットヘッド４２１に設けられた２列のノズル４６６の一列目において、フィルタエレメント材料１３を吐出する１１個目のノズル４６６が位置するＸ軸方向の直線上で、２列目のノズル４６６の他方は吐出しない１０個以内の位置となる領域Ａがある（図１１中のＡ）。すなわち、１つのインクジェットヘッド４２１では、Ｘ軸方向での直線上に２個のノズル４６６が存在しない領域Ａが生じる。
【００６３】
したがって、図１０および図１１に示すように、１つのインクジェットヘッド４２１でＸ軸方向の直線上に２個のノズル４６６が位置する領域Ｂ（図１１中のＢ）では、列をなすヘッド装置４３３はＸ軸方向で並列状態に位置させない。さらに、一方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しない領域Ａと、他方の列をなすヘッド装置４３３のＸ軸方向での直線上に１個しか位置しない領域Ａとは、Ｘ軸方向で互いに並列状態に位置させ、一方の列のインクジェットヘッド４２１と他方の列のインクジェットヘッド４２１とにてＸ軸方向の直線上に合計で２個のノズル４６６が位置する状態とする。すなわち、インクジェットヘッド４２１が配設されている領域においては、どの位置でもＸ軸方向の直線上に必ず合計２個のノズル４６６が位置するように２列に千鳥状（互い違い）に配設する。なお、フィルタエレメント材料１３を吐出しないノズル４６６の領域Ｘは、このＸ軸方向の直線上における２個のノズル４６６の数として数えない。
【００６４】
このように、主走査されるＸ軸方向に対してインクを吐出するノズル４６６は２個が直線上に位置し、口述するように、この２個のノズルから１つの個所にインクが吐出されることになる。１つのノズルからの吐出だけで１つのエレメントを構成すると、ノズル間の吐出量のバラツキがエレメントの特性バラツキや歩留まり劣化に繋がるので、このように別々のノズルから吐出により１つのエレメントを形成すれば、ノズル間の吐出のバラツキを分散し、エレメント間での特性の均一化および歩留まり向上を図ることができる。
【００６５】
（インク供給部の構成）
インク供給部４３１は、図２ないし図５に示すように、ヘッド本体部４３０の２列に対応してそれぞれ設けられた一対の平板状の取付板４７１と、これら取付板４７１に複数取り付けられた供給本体部４７２とを有している。そして、供給本体部４７２は、略細長円筒状の進退部４７４を有している。この進退部４７４は、取付治具４７３にて取付板４７１を貫通する状態で軸方向に沿って移動可能に取り付けられる。また、供給本体部４７２の進退部４７４は、例えばコイルスプリング４７５などにより取付板４７１からヘッド装置４３３に向けて進出する方向に付勢されて取り付けられる。なお、図２において、説明の都合上、インク供給部４３１は、２列のヘッド装置４３３のうちの一方の列に対してのみ図示し、他方はそれを省略して図示している。
【００６６】
この進退部４７４のヘッド装置４３３に対向する側の端部には、フランジ部４７６が設けられている。このフランジ部４７６は、進退部４７４の外周縁に鍔状に突出し、端面がヘッド装置４３３のインク導入部４４３のシール部材４４９に、コイルスプリング４７５の付勢に抗して略液密に当接する。また、進退部４７４のフランジ部４７６が設けられた側と反対側の端部には、ジョイント部４７７が設けられている。このジョイント部４７７は、図１に模式的に示すように、フィルタエレメント材料１３が流通する供給管４７８の一端が接続される。
【００６７】
この供給管４７８は、上述したように、図１に模式的に示すように、ヘッドユニット４２０の移動に影響しないように副走査駆動装置４２７に配線され、図２および図４に一点鎖線の矢印で模式的に示すように、副走査駆動装置４２７からヘッドユニット４２０上方より２列で配列されたインク供給部４３１の間の略中央に配管され、さらに放射状に配管されて先端がインク供給部４３１のジョイント部４７７に接続されて配管される。
【００６８】
そして、インク供給部４３１は、供給管を介して流通するフィルタエレメント材料１３をヘッド装置４３３のインク導入部４４３に供給する。また、インク導入部４４３に供給されたフィルタエレメント材料１３はインクジェットヘッド４２１に供給され、電気制御されたインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６から適宜液滴８状に吐出される。
【００６９】
〔カラーフィルタの製造動作〕
（前処理）
次に、上記実施の形態のカラーフィルタ製造装置を用いてカラーフィルタ１を形成する動作を図面を参照して説明する。図１３は上記カラーフィルタの製造装置を用いてカラーフィルタ１を製造する手順を説明する製造工程断面図である。
【００７０】
まず、例えば膜厚寸法が０．７ｍｍ、縦寸法が３８ｃｍ、横寸法が３０ｃｍの無アルカリガラスの透明基板であるマザー基板１２の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１質量％添加した洗浄液で洗浄する。この洗浄後、純水でリンスして空気乾燥し、清浄表面を得る。このマザー基板１２の表面に、例えばスパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層６ａを得る（図１３中手順Ｓ１）。
【００７１】
このマザー基板１２をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層６ａの表面に、例えばスピンコートにより図示しないフォトレジスト層を形成する。このマザー基板１２の表面に、例えば所要のマトリックスパターン形状を描画した図示しないマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光する。次に、この露光したマザー基板１２を、例えば水酸化カリウムを８質量％の割合で含有するアルカリ現像液に浸漬し、未露光部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層６ａを、例えば塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして、所定のマトリックスパターンを有するブラックマトリックスである遮光層６ｂが得られる（図１３中手順Ｓ２）。なお、遮光層６ｂの膜厚はおおよそ０．２μｍで、遮光層６ｂの幅寸法はおおよそ２２μｍである。
【００７２】
この遮光層６ｂが設けられたマザー基板１２上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物６ｃを例えばスピンコート法で塗布形成する（図１３中手順Ｓ３）。この感光性樹脂組成物６ｃを設けたマザー基板１２を１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリックスパターン形状を描画した図示しないマスクフィルムを用いて紫外線露光する。そして、未露光部分の樹脂を、例えば上述したようなアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後にスピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを例えば２００℃で３０分間実施し、樹脂部分を十分に硬化させ、バンク層６ｄを形成する。このバンク層６ｄの膜厚は平均で約２．７μｍ、幅寸法は約１４μｍである。このバンク層６ｄと遮光層６ｂとにて隔壁６が形成される（図１３中手順Ｓ４）。
【００７３】
上記得られた遮光層６ｂおよびバンク層６ｄで区画された着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域７（特にマザー基板１２の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理をする。具体的には、例えばヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ処理でエッチングスポットに形成し、マザー基板１２を形成したエッチングスポット下を通過させてエッチングし、マザー基板１２の前処理工程を実施する。
【００７４】
（フィルタエレメント材料の吐出）
次に、上述の前処理が実施されたマザー基板１２の隔壁６で区切られて形成されたフィルタエレメント形成領域７内に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料をインクジェット方式により導入、すなわち吐出する（図１３中手順Ｓ５）。
【００７５】
このインクジェット方式によるフィルタエレメント材料１３の吐出に際しては、あらかじめヘッドユニット４２０を組立形成しておく。そして、液滴吐出装置の各液滴吐出処理装置４０５Ｒ、４０５Ｇ、４０５Ｂにおいて、各インクジェットヘッド４２１の１つのノズル４６６から吐出されるフィルタエレメント材料１３の吐出量が所定量、例えば１０ｐｌ程度となるように調整しておく。一方、マザー基板１２の一面に、あらかじめ隔壁６を格子状パターンに形成しておく。
【００７６】
そして、上述したように前処理したマザー基板１２を、図示しない搬送ロボットにより、まずＲ色用の液滴吐出処理装置４０５Ｒ内に搬入し、液滴吐出処理装置４０５Ｒ内の台座部上に載置する。この台座部上に載置されたマザー基板１２は、例えば吸引により位置決め固定される。そして、マザー基板１２を保持した台座部は、各種カメラなどにてマザー基板１２の位置が確認され、適宜所定の位置となるように主走査駆動装置４２５を制御して移動する。また、副走査駆動装置４２７にてヘッドユニット４２０を適宜移動させ、その位置を認識する。この後、ヘッドユニット４２０を副走査方向に移動させドット抜け検出ユニット４８７にて、ノズル４６６からの吐出状態を検出し、吐出不良を生じていないことを認識して初期位置に移動させる。
【００７７】
この後、主走査駆動装置４２５により可動される台座部に保持されたマザー基板１２をＸ方向に走査して、マザー基板１２に対して相対的にヘッドユニット４２０を移動させつつ、適宜インクジェットヘッド４２１の所定のノズル４６６から適宜フィルタエレメント材料１３を吐出させ、マザー基板１２の隔壁６にて区画された凹部内に充填する。このノズル４６６からの吐出は、図示しない制御装置により、図１１に示すノズル４６６の配設方向の両端部に位置する所定領域Ｘ、例えば両端１０個ずつのノズル４６６からはフィルタエレメント材料１３は吐出させない制御をし、中間部分に位置する比較的に吐出量が一様な１６０個から吐出させる。
【００７８】
また、ノズル４６６からの吐出は、走査方向の直線上、すなわち走査ライン上に２つのノズル４６６が位置するので、移動中に１つの凹部に１ノズル４６６から２ドット、より詳しくは１ノズル４６６から１ドットとして２液滴分を吐出させるので、計８液滴分が吐出される。この１走査移動毎にドット抜け検出ユニット４８７より吐出状態を検出してドット抜けが生じていないか確認する。
【００７９】
ドット抜けを認識しない場合、ヘッドユニット４２０を副走査方向に所定量移動させ、再びマザー基板１２を保持する台座部を主走査方向に移動させつつフィルタエレメント材料１３を吐出させる動作を繰り返し、所定のカラーフィルタ形成領域１１の所定のフィルタエレメント形成領域７にフィルタエレメント３を形成する。
【００８０】
（乾燥・硬化）
そして、Ｒ色のフィルタエレメント材料１３が吐出されたマザー基板１２は、図示しない搬送ロボットにより液滴吐出処理装置４０５Ｒから採り出され、図示しない多段ベーク炉にて、フィルタエレメント材料１３を例えば１２０℃で５分間乾燥させる。この乾燥後、搬送ロボットにより多段ベーク炉からマザー基板１２を採り出し、冷却しつつ搬送する。この後、液滴吐出処理装置４０５Ｒから順次Ｇ色用の液滴吐出処理装置４０５ＧおよびＢ色用の液滴吐出処理装置４０５Ｂに搬送し、Ｒ色の形成の場合と同様に、所定のフィルタエレメント形成領域７にＧ色およびＢ色のフィルタエレメント材料１３を順次吐出する。そして、各３色のフィルタエレメント材料１３が吐出されて乾燥されたマザー基板１２を回収し、熱処理、すなわちフィルタエレメント材料１３を加熱により固化定着させる（図１３中手順Ｓ６）。
【００８１】
（カラーフィルタの形成）
この後、フィルタエレメント３が形成されたマザー基板１２の略全面に保護膜４を形成する。さらに、この保護膜４の上面にＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）にて電極層５を所要パターンで形成する。この後、別途カラーフィルタ形成領域１１毎に切断して複数のカラーフィルタ１を切り出し形成する（図１３中手順Ｓ７）。このカラーフィルタ１が形成された基板は、液晶装置における一対の基板の一方として用いられる。
【００８２】
〔カラーフィルタの製造装置の効果〕
この図１ないし図１３に示す一実施の形態によれば、以下に示す作用効果を奏する。
すなわち、流動性を有した液状体としてのカラーフィルタ材料であるフィルタエレメント材料１３をマザー基板１２に吐出するノズル４６６を一面に設けたインクジェットヘッド４２１を取付基板であるプリント基板４３５の一面に設けるとともに、ノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる制御をする制御手段が電気的に接続されるコネクタ４４１をプリント基板４３５のインクジェットヘッド４２１の周面から突出する位置に設けた吐出手段であるヘッド装置４３３を、プリント基板４３５のコネクタ４４１が配設された部分が互いに対向することなく互いに並べて複数配置した保持手段としてのキャリッジ４２６を用い、ノズル４６６を有するインクジェットヘッド４２１の一面がマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でこのマザー基板１２の表面に沿う方向にキャリッジ４２６を相対的に移動させ、ノズル４６６からフィルタエレメント材料１３をマザー基板１２の所定位置に適宜吐出する。
このため、キャリッジ４２６にインクジェットヘッド４２１およびコネクタ４４１を設けたヘッド装置４３３を用いてキャリッジ４２６に複数互いに並べて配置させるので、複数のインクジェットヘッド４２１およびこれらインクジェット４２１に対応するコネクタ４４１を別々に配設する場合に比して組立が容易となり、製造性を向上できる。
【００８３】
また、インクジェットヘッド４２１のノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる制御をする制御装置が電気的に接続されるコネクタ４４１がプリント基板４３５に配設される部分が他のグループのインクジェットヘッド４２１に互いに対向することなく複数のヘッド装置４３３をキャリッジ４２６に保持させるので、コネクタ４４１が配設された部分がインクジェットヘッド４２１に対して対向方向と反対側である外側に向く状態となり、コネクタ４４１への配線作業が容易で組立作業性を向上できるとともに、コネクタ４４１が位置する部分での電気ノイズが互いに影響し合うことを防止でき、安定した良好なフィルタエレメント材料１３の吐出が得られる。
【００８４】
そして、長手状に形成されたプリント基板４３５の長手方向の一端側にインクジェットヘッド４２１を配設し、長手方向の他端側にコネクタ４４１を配設した。このため、コネクタ４４１がプリント基板４３５に配設される部分が他の列であるグループのインクジェットヘッド４２１に互いに対向することなく、インクジェットヘッド４２１に対して対向方向と反対側である外側に向く状態で配設される構成を容易に得ることができるとともに、簡単な構成でインクジェットヘッド４２１からコネクタ４４１の位置が離れた状態が得られ、コネクタ４４１への配線作業も容易となり、保守管理も容易にできる。
【００８５】
さらに、複数のインクジェットヘッド４２１を短冊状のプリント基板４３５の一端側に配設し、他端側にコネクタ４４１を設けた。このため、複数直線上に配設してもコネクタ４４１が干渉することなく配設でき、小型化ができるとともに、主走査方向でのノズル４６６が存在しない位置が形成されることがなく、連続したノズル４６６の配列を得ることができ、長手の特別なインクジェットヘッドを用いる必要がない。
【００８６】
そして、インクジェットヘッド４２１をグループである２列が略点対称となるように配設した。このため、フィルタエレメント材料１３を供給する供給管４７８をヘッドユニット４２０の近傍までまとめることができ、装置の組立や保守管理などが容易にできる。
【００８７】
また、インクジェットヘッド４２１を制御するための電気配線４４２の配線がヘッドユニット４２０の両側、すなわちキャリッジ４２６の外周側からとなり、電気配線４４２による電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を得ることができる。さらには、電気配線４４２とフィルタエレメント材料１３を供給する供給管４７８とを離して配線・配管でき、電気配線４４２と供給管４７８とが絡まず、組み立て作業が容易にでき、絡み合いによる損傷やフィルタエレメント材料１３の吐出状態の変動なども防止できる。
【００８８】
そして、コネクタ４４１が反対側に位置するように点対称で配設したため、コネクタ４４１部分での電気ノイズの影響を防止でき、良好で安定した描画を得ることができる。
【００８９】
また、流動性を有した液状体としての例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数略直線上に設けられたインクジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、インクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６のうちこれらノズル４６６の配設方向の両端部の所定領域XXに位置する例えば両側１０個のノズル４６６からは吐出させることなく所定領域XX以外の中間部分に位置するノズル４６６からマザー基板１２の表面にフィルタエレメント材料１３を吐出する。この構成により、吐出量が特に多くなるノズル４６６の配設方向の両端部に位置する所定領域XXである両端１０個ずつのノズル４６６からはを吐出させず、吐出量が比較的一様な中間部分のノズル４６６を用いてフィルタエレメント材料１３を吐出させるので、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出でき、平面的に品質が均一なカラーフィルタ１が得られ、このカラーフィルタ１を用いた電気光学装置である表示装置にて良好な表示が得られる。
【００９０】
そして、フィルタエレメント材料１３の吐出量の平均値より１割以上多い吐出量となるノズル４６６からは吐出させないので、特にカラーフィルタ１のフィルタエレメント材料１３やＥＬ発光材料、荷電粒子を含有した電気泳動装置用などの機能性液状体を液状体として用いる場合でも、特性にバラツキが生じず、液晶装置やＥＬ装置などの電気光学装置として良好な特性を確実に得ることができる。
【００９１】
また、各ノズル４６６から吐出量の平均値に対して±１割以内でフィルタエレメント材料１３が吐出されるので、吐出量が比較的一様となり、マザー基板１２の表面に平面的に均一に吐出され、良好な特性の電気光学装置が得られる。
【００９２】
そして、ノズル４６６が略等間隔で直線上に配設したインクジェットヘッド４２１を用いることにより、例えばストライプ型やモザイク型、デルタ型など、所定の規則性を有した構成を描画することが容易にできる。
【００９３】
さらに、ノズル４６６が略等間隔で直線上に配設されたインクジェットヘッド４２１の構成において、長手矩形状のインクジェットヘッド４２１に長手方向に沿ってノズル４６６を略等間隔で直線上に設けたので、インクジェットヘッド４２１が小型化し、例えば隣接するインクジェットヘッド４２１同志や他の部位との干渉を防止でき、容易に小型化できる。
【００９４】
また、ノズル４６６の配設方向に対して交差する方向にインクジェットヘッド４２１を相対的に移動させるので、ノズル４６６の配設方向が移動方向に対して傾斜した状態となり、フィルタエレメント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間ピッチより狭くなり、傾斜する状態を適宜設定するのみで、マザー基板１２の表面にドット状に吐出する際の所望のエレメント間ピッチに容易に対応でき、エレメント間ピッチに対応してインクジェットヘッド４２１を形成する必要がなく、汎用性を向上できる。
【００９５】
そして、流動性を有した液状体としての例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数設けられた複数のインクジェットヘッド４２１を、これらインクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面がマザー基板１２などの被吐出物の表面に所定の間隙を介して対向する状態で、被吐出物の表面に沿って相対的に移動させ、複数のインクジェットヘッド４２１の各ノズル４６６から被吐出物の表面に同一の液状体を吐出させる。このため、例えば同一の規格品のインクジェットヘッド４２１を用いて、広い範囲に液状体を吐出させることが可能となり、長手の特別なインクジェットヘッドを用いることなく従来の規格品を複数用いることで代用でき、コストを低減できる。さらに、例えばインクジェットヘッド４２１を配列する配設方向の数を適宜設定することにより、液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、汎用性を向上できる。
【００９６】
また、複数のインクジェットヘッド４２１を配設するので、例えばマザー基板１２の表面に吐出する領域が広い場合や同じ箇所に重ねて吐出する場合などでも、インクジェットヘッド４２１を複数回移動させる必要がなく、また特別なインクジェットヘッドを形成する必要もなく、簡単な構成で容易にフィルタエレメント材料１２を吐出できる。
【００９７】
さらに、複数のインクジェットヘッド４２１として同一形状のものを用いることにより、１種類のインクジェットヘッド４２１でも、適宜配列させることで液状体を吐出する領域に対応させることが可能となり、構成が簡略化し、製造性を向上でき、コストも低減できる。
【００９８】
また、ノズル４６６の配設方向がそれぞれ略平行となる状態で複数のインクジェットヘッド４２１をキャリッジ４２６に配設してヘッドユニット４２０を構成したので、例えばノズル４６６の配列方向が略直列状で平行となる場合には、ノズル４６６の配列領域が広くなり、広い範囲にフィルタエレメント材料１３を吐出でき、吐出効率を向上でき、またインクジェットヘッド４２１の移動方向に並列状態で平行となる場合には、１つの箇所に異なるインクジェットヘッド４２１から液状体を重ねて吐出させることが可能となり、吐出領域での吐出量を容易に平均化でき、安定した良好な描画を得ることができる。
【００９９】
そして、複数のインクジェットヘッド４２１をそれぞれ主走査方向に対して交差する方向に傾斜させて略直線上に位置して配設したため、フィルタエレメント材料１３の吐出される間隔であるエレメント間ピッチがノズル間ピッチより狭くなり、例えばフィルタエレメント材料１３が吐出されたマザー基板１２を表示装置などに利用した場合、より詳細な表示形態が得られる。さらに、隣合うインクジェットヘッド４２１の干渉を防止でき、小型化が容易に図れる。そして、この傾斜角を適宜設定することにより、描画のドットピッチが適宜設定され、汎用性を向上できる。
【０１００】
また、複数のインクジェットヘッド４２１を複数列、例えば２列で略千鳥状に配設したため、長手の特別なインクジェットヘッド４２１を用いることなく、既製品のインクジェットヘッド４２１を用いても、隣合うインクジェットヘッド４２１が干渉せずにインクジェットヘッド４２１間で液状体が吐出されない領域を生じることがなく、連続的な液状体の良好な吐出、すなわち連続した描画ができる。
【０１０１】
そして、流動性を有した液状体である例えばインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出するノズル４６６が一面に複数設けられたインクジェットヘッド４２１を、インクジェットヘッド４２１のノズル４６６が設けられた一面が被吐出物としてのマザー基板１２の表面に所定の間隙を介して対向する状態でマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動させ、この相対的な移動方向に沿った直線上に位置する複数、例えば２つのノズル４６６からフィルタエレメント材料１３を吐出させる。このため、異なる２つのノズル４６６から重ねてフィルタエレメント材料１３を吐出する構成が得られ、仮に複数のノズル４６６間において吐出量にバラツキが存在する場合でも、吐出されたフィルタエレメント材料１３の吐出量が平均化されてバラツキを防止でき、平面的に均一な吐出が得られ、平面的に品質の均一な良好な特性の電気光学装置を得ることができる。
【０１０２】
さらに、ドット抜け検出ユニット４８７を設け、ノズル４６６からのフィルタエレメント材料１３の吐出を検出するため、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出である描画を得ることができる。
【０１０３】
そして、ドット抜け検出ユニット４８７に光センサを設け、この光センサにてフィルタエレメント材料１３の吐出方向に対して交差する方向でフィルタエレメント材料１３の通過を検出するので、フィルタエレメント材料１３を吐出する工程中でも、簡単な構成で確実なフィルタエレメント材料１３の吐出状態を認識でき、フィルタエレメント材料１３の吐出むらを防止でき、確実で良好なフィルタエレメント材料１３の吐出である描画を得ることができる。
【０１０４】
さらに、ノズル４６６からマザー基板１２にフィルタエレメント材料１３を吐出する工程の前後で、ドット抜け検出ユニット４８７により吐出状態を検出するため、描画のためのフィルタエレメント材料１３の吐出直前および直後の吐出状態を検出でき、吐出状態を確実に認識でき、ドット抜けを確実に防止して良好な描画を得ることができる。なお、吐出する構成の前あるいは後のいずれか一方の時点で行うのみでもよい。
【０１０５】
また、ヘッドユニット４２０の主走査方向側にドット抜け検出ユニット４８７を配設するため、フィルタエレメント材料１３の吐出状態の検出のためにヘッドユニット４２０を移動させる距離が短く、かつ吐出のための主走査方向への移動をそのまま継続させる簡単な構成ででき、ドット抜けの検出を効率よく簡単な構成でできる。
【０１０６】
〔カラーフィルタの適用例〕
次に、上記実施の形態のカラーフィルタを備えた電気光学装置の一例としてカラー液晶装置を挙げて以下に説明する。図５０は、先の実施形態のカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成図である。
【０１０７】
この実施形態の液晶装置７００は、互いに対向するように配置されたカラーフィルタ基板７４１及びアクティブ素子基板７０１と、これらの間に挟持された液晶層７０２と、カラーフィルタ基板７４１の上面側（観測者側）に付設された位相差板７１５ａ、偏光板７１６ａと、アクティブ素子基板７０１の下面側に付設された位相差板７１５ｂ、偏光板７１６ｂとが備えられた液晶パネル７５０を主体として構成されている。この液晶パネル７５０に、液晶駆動用ドライバチップと、電気信号を伝達するための配線類、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての液晶装置が構成される。
【０１０８】
カラーフィルタ基板７４１は、光透過性基板（基板）７４２を具備してなる観測者側に向いて設けられる表側の基板であり、アクティブ素子基板７０１はその反対側、換言すると裏側に設けられる基板である。
カラーフィルタ基板７４１は、プラスチックフィルム又は厚さ３００μｍ（０.３ｍｍ）程度のガラス基板等からなる光透過性基板７４２と、この基板７４２の下側（換言すると液晶層側の面）に形成されたカラーフィルタ７５１とを主体として構成されている。
カラーフィルタ７５１は、この基板７４２の下側（換言すると液晶層側の面）に形成された隔壁７０６と、フィルタエレメント７０３…と、隔壁７０６及びフィルタエレメント７０３…を覆う保護膜７０４と、を具備して構成されている。
【０１０９】
隔壁７０６は、各フィルタエレメント７０３を形成する着色層形成領域であるフィルタエレメント形成領域７０７をそれぞれ取り囲むように形成された格子状のもので、基板７４２の一面７４２ａに形成されている。隔壁７０６は、孔７０６ｃ…を複数有している。各孔７０６ｃ内には基板７４２面が露出している。そして隔壁７０６の内壁（孔７０６ｃの壁面）と基板７４２面とにより区画されてフィルタエレメント形成領域７０７…が形成されている。
【０１１０】
隔壁７０６は、例えば黒色感光性樹脂膜からなり、この黒色感光性樹脂膜としては例えば、通常のフォトレジストに用いられるようなポジ型若しくはネガ型の感光性樹脂と、カーボンブラック等の黒色の無機顔料あるいは黒色の有機顔料とを少なくとも含むものが好ましい。この隔壁７０６は、黒色の無機顔料または有機顔料を含むもので、フィルタエレメント７０３…の形成位置を除く部分に形成されているため、フィルタエレメント７０３…同士の間の光の透過を遮断でき、従ってこの隔壁７０６は、遮光膜としての機能をも有する。
フィルタエレメント７０３…は、隔壁７０６の内壁と基板７４２に渡って設けられたフィルタエレメント形成領域７０７に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各フィルタエレメント材料をインクジェット方式により導入、すなわち吐出し、その後乾燥させることにより形成したものである。
【０１１１】
更に保護膜７０４の下側（液晶層側）にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料からなる液晶駆動用の電極層７０５が保護膜７０４の略全面にわたって形成されている。更にこの液晶駆動用の電極層７０５を覆って液晶層側に配向膜７１９ａが設けられており、また、反対側のアクティブ素子基板７０１側の後述する画素電極７３２上にも配向膜７１９ｂが設けられている。
【０１１２】
アクティブ素子基板７０１は、光透過性基板（基板）７１４上に図示略の絶縁層が形成され、さらにこの絶縁層の上に、ＴＦＴ型のスイッチング素子としての薄膜トランジスタＴと画素電極７３２が形成されてなるものである。また、基板７１４上に形成された絶縁層上には、実際にはマトリクス状に複数の走査線と複数の信号線とが形成され、これら走査線と信号線とに囲まれた領域毎に先の画素電極７３２が設けられ、各画素電極７３２と走査線及び信号線とが電気的に接続される位置に薄膜トランジスタＴが組み込まれており、走査線と信号線に対する信号の印加によって薄膜トランジスタＴをオン・オフして画素電７３２への通電制御を行うことができるように構成されている。また、対向側のカラーフィルタ基板７４１側に形成された電極層７０５はこの実施形態では画素領域全体をカバーする全面電極とされている。尚、ＴＦＴの配線回路や画素電極形状には様々なものを適用できる。
【０１１３】
アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板（対向基板）７４１とは、カラーフィルタ基板７４１の外周縁に沿って形成されたシール材７５５によって所定の間隙を介して貼り合わされている。また、符号７５６は両基板間の間隔（セルギャップ）を基板面内で一定に保持するためのスペーサである。その結果、アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１との間には、平面視略額縁状のシール材７５５によって矩形の液晶封入領域が区画形成され、この液晶封入領域内に、液晶が封入されている。
【０１１４】
図５０に示すようにカラーフィルタ基板７４１はアクティブ素子基板７０１よりも小さく、アクティブマ素子基板７０１の周辺部分は、カラーフィルタ基板７４１の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされる。従って、アクティブ素子基板７０１では、シール材４５５の外周側領域において、画素スイッチング用の薄膜トランジスタＴと同時に駆動回路用のＴＦＴを形成することができ、もって走査線駆動回路やデータ線駆動回路を設けることが可能になっている。
この液晶パネル７５０では、アクティブ素子基板７０１およびカラーフィルタ基板７４１の光入射側および光出射側の面には、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、上記の偏光板７１６ａ、７１６ｂ（偏光シート）が所定の向きに配置されている。
【０１１５】
このように構成した液晶パネル７５０において、アクティブ素子基板７０１では、データ線（図示せず。）および薄膜トランジスタＴを介して画素電極７３２に印加した表示信号によって、画素電極７３２と対向電極７１８との間において液晶の配向状態を画素毎に制御し、表示信号に対応した所定の表示を行う。たとえば、液晶パネル７５０をＴＮモードで構成した場合に、一対の基板間（アクティブ素子基板７０１とカラーフィルタ基板７４１）の各々に形成した配向膜７１９ａ、７１９ｂに対してラビング処理を行う際にラビング方向を互いに直交する方向に設定すると、液晶は、基板間で９０°の角度をもって捩じれ配向する。このような捩じれ配向は、基板間で液晶層７０２に電場をかけることによって解放される。従って、基板間に外部から電場を印加するか否かによって、液晶の配向状態を画素電極７３２が形成されている領域毎（画素毎）に制御することができる。
【０１１６】
それ故、液晶パネル７５０を透過型の液晶パネルとして用いる場合、アクティブ素子基板７０１の下側に配置した照明装置（図示略）からの光は、入射側の偏光板７１６ｂによって所定の直線偏光光に揃えられた後、位相差板７１５ｂ、アクティブ素子基板７０１を通って液晶層７０２に入射し、ある領域を透過する直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられて出射される一方、他の領域を通過した直線偏光光は、透過偏光軸が捩じられることなく出射する。このため、入射側の偏光板７１６ｂと出射側の偏光板７１６ａを互いの透過偏光軸が直交するように配置しておけば（ノーマリホワイト）、液晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられた方の直線偏光光のみである。これに対して、入射側の偏光板７１６ｂと透過偏光軸が平行になるように出射側の偏光板７１６ａを配置しておけば（ノーマリブラック）、液晶パネル７５０の出射側に配置された偏光板７１６ａを通過するのは、液晶によって透過偏光軸が捩じられることのなかった直線偏光光のみである。よって、液晶７０２の配向状態を画素毎に制御すれば、任意の情報を表示することができる。
【０１１７】
上記構成の液晶装置７００によれば、吐出量を高度に制御されたインクジェット方式によりカラーフィルタ基板７４１のフィルタエレメント７０３…が形成されているので、平面的に品質の均一な表示を得ることができる。
【０１１８】
上記では、カラーフィルタを液晶装置に適用した例について説明したが、本発明に係るカラーフィルタは上記以外の用途にも適用できるのは勿論である。例えば、カラーフィルタは白色有機ＥＬにも適用することができる。すなわち、白色有機ＥＬの前面（有機ＥＬの光出射側）に前述で形成したカラーフィルタを配置する。この構成とすることにより、白色有機ＥＬを用いながら、カラー表示が行える有機ＥＬ装置を提供することができる。
【０１１９】
なお、以下のように光は制御される。有機ＥＬは白色光源となるように形成され、各画素毎に設けられたトランジスタの制御により発光量を調整し、さらにカラーフィルタを光が透過することにより所望の色を表示させる。
【０１２０】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法に関する実施の形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、電気光学装置として、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説明する。なお、この表示装置の製造方法の説明に先立って、製造される表示装置の構成について説明する。
【０１２１】
〔表示装置の構成〕
図１４は、本発明の電気光学装置の製造装置における有機ＥＬ装置の一部を示す回路図である。図１５は、表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【０１２２】
すなわち、図１４において、５０１は有機ＥＬ装置であるＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置で、この表示装置５０１は、基板である透明の表示基板５０２上に、複数の走査線５０３と、これら走査線５０３に対して交差する方向に延びる複数の信号線５０４と、これら信号線５０４に並列に延びる複数の共通給電線５０５とがそれぞれ配線された構成を有している。そして、走査線５０３と信号線５０４との各交点には、画素領域５０１Ａが設けられている。
【０１２３】
信号線５０４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを有したデータ側駆動回路５０７が設けられている。また、走査線５０３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを有した走査側駆動回路５０８が設けられている。そして、画素領域５０１Ａのそれぞれには、走査線５０３を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ５０９と、このスイッチング薄膜トランジスタ５０９を介して信号線５０４から供給される画像信号を蓄積し保持する蓄積容量ｃａｐと、この蓄積容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ５１０と、このカレント薄膜トランジスタ５１０を介して共通給電線５０５に電気的に接続したときに共通給電線５０５から駆動電流が流れ込む画素電極５１１と、この画素電極５１１および反射電極５１２間に挟み込まれる発光素子５１３とが設けられている。
【０１２４】
この構成により、走査線５０３が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ５０９がオンすると、その時の信号線５０４の電位が蓄積容量ｃａｐに保持される。この蓄積容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ５１０のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネルを介して、共通給電線５０５から画素電極５１１に電流が流れ、さらに発光素子５１３を通じて反射電極５１２に電流が流れる。このことにより、発光素子５１３は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【０１２５】
ここで、画素領域５０１Ａは、反射電極５１２や発光素子５１３を取り除いた状態の拡大平面図である図１５に示すように、平面状態が長方形の画素電極５１１の４辺が、信号線５０４、共通給電線５０５、走査線５０３および図示しない他の画素電極５１１用の走査線５０３によって囲まれた配置となっている。
【０１２６】
〔表示装置の製造工程〕
次に、上記ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を製造する製造工程の手順について説明する。図１６ないし図１８は、ＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置の製造工程の手順を示す製造工程断面図である。
【０１２７】
（前処理）
まず、図１６（Ａ）に示すように、透明の表示基板５０２に対して、必要に応じて、テトラエトキシシラン（tetraethoxysilane：ＴＥＯＳ）や酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、厚さ寸法が約２０００〜５０００オングストロームのシリコン酸化膜である図示しない下地保護膜を形成する。次に、表示基板５０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約３００〜７００オングストロームの非晶質のシリコン膜である半導体膜５２０ａを形成する。この後、半導体膜５２０ａに対して、レーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を実施し、半導体膜５２０ａをポリシリコン膜に結晶化する。ここで、レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が約４００ｎｍのラインビームを用い、出力強度が約２００ｍＪ／ｃｍ2である。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の約９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームが走査される。
【０１２８】
そして、図１６（Ｂ）に示すように、半導体膜５２０ａをパターニングして島状の半導体膜５２０ｂを形成する。この半導体膜５２０ｂが設けられた表示基板５０２の表面に、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマＣＶＤ法により厚さ寸法が約６００〜１５００オングストロームのシリコン酸化膜あるいは窒化膜であるゲート絶縁膜５２１ａを形成する。なお、半導体膜５２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ５０９のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。すなわち、図１６ないし図１８に示す製造工程では二種類のスイッチング薄膜トランジスタ５０９およびカレント薄膜トランジスタ５１０が同時に形成されるが、同じ手順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜トランジスタ５１０についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタ５０９については説明を省略する。
【０１２９】
この後、図１６（Ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜である導電膜をスパッタ法により形成した後にパターニングし、図１５にも示すゲート電極５１０Ａを形成する。この状態で、高温度のリンイオンを打ち込み、半導体膜５２０ｂにゲート電極５１０Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域５１０ａ，５１０ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域５１０ｃとなる。
【０１３０】
次に、図１６（Ｄ）に示すように、層間絶縁膜５２２を形成した後、コンタクトホール５２３，５２４を形成し、これらコンタクトホール５２３，５２４内に中継電極５２６，５２７を埋め込み形成する。
【０１３１】
さらに、図１６（Ｅ）に示すように、層間絶縁膜５２２上に、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３（図１６中には図示しない）を形成する。
このとき、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３の各配線は、配線として必要な厚さ寸法にとらわれることなく、十分に厚く形成する。具体的には、各配線を例えば１〜２μｍ程度の厚さ寸法に形成するとよい。ここで、中継電極５２７と各配線とは、同一工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極５２６は、後述するＩＴＯ膜により形成される。
【０１３２】
そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜５３０を形成し、中継電極５２６に対応する位置にコンタクトホール５３２を形成する。このコンタクトホール５３２内を埋めるようにＩＴＯ膜を形成し、このＩＴＯ膜をパターニングして、信号線５０４、共通給電線５０５および走査線５０３に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域５１０ａに電気的に接続する画素電極５１１を形成する。
【０１３３】
ここで、図１６（Ｅ）では、信号線５０４および共通給電線５０５に挟まれた部分が、光学材料が選択的に配置される所定位置に相当するものである。そして、その所定位置とその周囲との間には、信号線５０４や共通給電線５０５によって段差５３５が形成される。具体的には、所定位置の方がその周囲よりも低く、凹型の段差５３５が形成される。
【０１３４】
（ＥＬ発光材料の吐出）
次に、上述の前処理が実施された表示基板５０２にインクジェット方式により、機能性液状体であるＥＬ発光材料を吐出する。すなわち、図１７（Ａ）に示すように、前処理が実施された表示基板５０２の上面を上方に向けた状態で、発光素子１４０の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の前駆体である光学材料５４０Ａを、インクジェット方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、段差５３５で囲まれた所定位置の領域内に選択的に塗布する。
【０１３５】
この吐出する正孔注入層５１３Ａを形成するための光学材料５４０Ａとしては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウムなどが用いられる。
【０１３６】
なお、この吐出の際、流動性を有した液状体の光学材料５４０Ａは、上述した各実施の形態の隔壁にフィルタエレメント材料１３を吐出する場合と同様に、流動性が高いので、平面方向に広がろうとするが、塗布された位置を取り囲むように段差５３５が形成されているため、光学材料５４０Ａの１回当たりの吐出量を極端に大量にしなければ、光学材料５４０Ａは段差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。
【０１３７】
そして、図１７（Ｂ）に示すように、加熱あるいは光照射などにより液状の光学材料５４０Ａの溶媒を蒸発させ、画素電極５１１上に固形の薄い正孔注入層５１３Ａを形成する。この図１７（Ａ），（Ｂ）を必要回数繰り返し、図１７（Ｃ）に示すように、十分な厚さ寸法の正孔注入層５１３Ａを形成する。
【０１３８】
次に、図１８（Ａ）に示すように、表示基板５０２の上面を上に向けた状態で、発光素子５１３の上層部分に有機半導体膜５１３Ｂを形成するための機能性液状体としての溶媒に溶かされた溶液状の有機蛍光材料である光学材料５４０Ｂを、インクジェット方式すなわち上述した各実施の形態の装置を用いて吐出し、これを段差５３５で囲まれた所定位置である領域内に選択的に塗布する。なお、この光学材料５４０Ｂについても、上述したように、光学材料５４０Ａの吐出と同様に、段差５３５を越えて所定位置の外側に広がることは防止される。
【０１３９】
この吐出する有機半導体膜５１３Ｂを形成するための光学材料５４０Ｂとしては、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアルキルフェニレン、２，３，６，７−テトラヒドロ−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ペンゾビラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン−１０−カルボン酸、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、２−１３・４'−ジヒドロキシフェニル）−３，５，７−トリヒドロキシー１−ベンゾピリリウムパークロレート、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム、２，３・６・７−テトラヒドロ−９−メチル−１１−オキソ−１Ｈ・５Ｈ・１１Ｈ（１）ベンゾピラノ［６，７，８−ｉｊ］−キノリジン、アロマティックジアミン誘導体（ＴＤＰ）、オキシジアゾールダイマ（ＯＸＤ）、オキシジアゾール誘導体（ＰＢＤ）、ジスチルアリーレン誘導体（ＤＳＡ）、キノリノール系金属錯体、ベリリウムーベンゾキノリノール錯体（Ｂｅｂｑ）、トリフェニルアミン誘導体（ＭＴＤＡＴＡ）、ジスチリル誘導体、ピラゾリンダイマ、ルブレン、キナクリドン、トリアゾール誘導体、ポリフェニレン、ポリアルキルフルオレン、ポリアルキルチオフェン、アゾメチン亜鉛錯体、ポリフイリン亜鉛錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、フェナントロリンユウロピウム錯体などが用いられる。
【０１４０】
次に、図１８（Ｂ）に示すように、加熱あるいは光照射などにより、光学材料５４０Ｂの溶媒を蒸発させ、正孔注入層５１３Ａ上に、固形の薄い有機半導体膜５１３Ｂを形成する。この図１８（Ａ），（Ｂ）を必要回数繰り返し、図１８（Ｃ）に示すように、十分な厚さ寸法の有機半導体膜５１３Ｂを形成する。正孔注入層５１３Ａおよび有機半導体膜５１３Ｂによって、発光素子５１３が構成される。最後に、図１８（Ｄ）に示すように、表示基板５０２の表面全体、若しくはストライプ状に反射電極５１２を形成し、表示装置５０１を製造する。
【０１４１】
この図１４ないし図１８に示す実施の形態においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度にパターニングできる。
【０１４２】
なお、この図１４ないし図１８の実施の形態において、カラー表示を念頭においたＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置について説明したが、例えば図１９に示すように、図１４ないし図１８に示す構成を単色表示の表示装置に適用してもできる。
【０１４３】
すなわち、有機半導体膜５１３Ｂは、表示基板５０２の全面に一様に形成してもよい。ただし、この場合でも、クロストークを防止するために、正孔注入層５１３Ａは各所定位置毎に選択的に配置しなければならないため、段差１１１を利用した塗布が極めて有効である。なお、この図１９において、図１４ないし図１８に示す実施の形態と同一の構成については、同一の符号を付す。
【０１４４】
また、ＥＬ表示素子を用いた表示装置としては、アクティブマトリックス型に限らず、例えば図２０に示すようなパッシブマトリックス型の表示装置としてもできる。図２０は本発明の電気光学装置の製造装置におけるＥＬ装置であり、図２０（Ａ）は複数の第１のバス配線５５０と、これに直交する方向に配設された複数の第２のバス配線５６０と、の配置関係を示す平面図で、図２０（Ｂ）は同（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。この図２０において、図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様の構成には、同じ符号を付して重複する説明は省略する。また、細かな製造工程なども図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様であるため、その図示および説明は省略する。
この図２０に示す実施の形態の表示装置は、発光素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように、例えばＳｉＯ2などの絶縁膜５７０が配設され、これにより、所定位置とその周囲との間に段差５３５を形成したものである。このため、機能性液状体を選択的に塗布する際に、それらが周囲に流れ出ることを防止でき、高精度にパターニングできる。
【０１４５】
さらに、アクティブマトリックス型の表示装置としては、図１４ないし図１８に示す実施の形態の構成に限られない。すなわち、例えば図２１に示すような構成、図２２に示すような構成、図２３に示すような構成、図２４に示すような構成、図２５に示すような構成、あるいは図２６に示すような構成など、いずれの構成のものでもできる。
【０１４６】
図２１に示す表示装置は、画素電極５１１を利用して段差５３５を形成することにより、高精度にパターニングできるようにしたものである。図２１は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、その前後の段階は上記図１４ないし図１８に示す実施の形態と略同様であるため、その図示および説明は省略する。
この図２１に示す表示装置では、画素電極５１１を通常よりも厚く形成し、これにより、その周囲と間に段差５３５を形成している。つまり、この図２１に示す表示装置では、後に光学材料が塗布される画素電極５１１の方がその周囲よりも高くなっている凸型の段差が形成されている。そして、上記図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様に、インクジェット方式により、発光素子５１３の下層部分に当たる正孔注入層５１３Ａを形成するための前駆体である光学材料５４０Ａを吐出し、画素電極５１１の上面に塗布する。
【０１４７】
ただし、上記図１４ないし図１８に示す実施の形態の場合とは異なり、表示基板５０２を上下逆にした状態、つまり光学材料５４０Ａが塗布される画素電極５１１の上面を下方に向けた状態で、光学材料５４０Ａを吐出して塗布する。このことにより、光学材料５４０Ａは、重力と表面張力とによって、画素電極５１１の上面（図２１中で下面）に溜まり、その周囲には広がらない。よって、加熱や光照射などにより固形化すれば、図１７（Ｂ）と同様の薄い正孔注入層５１３Ａを形成でき、これを繰り返せば正孔注入層５１３Ａが形成される。同様の手法で、有機半導体膜５１３Ｂも形成される。このため、凸型の段差を利用して高精度にパターニングできる。なお、重力と表面張力とに限らず、遠心力などの慣性力を利用して光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの量を調整してもよい。
【０１４８】
図２２に示す表示装置も、アクティブマトリックス型の表示装置である。図２２は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図２２に示す表示装置では、まず、表示基板５０２上に反射電極５１２を形成し、この反射電極５１２上に後に発光素子５１３が配置される所定位置を取り囲むように絶縁膜５７０を形成し、これにより所定位置の方がその周囲よりも低くなっている凹型の段差５３５を形成する。
【０１４９】
そして、上記図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様に、段差５３５で囲まれた領域内に、インクジェット方式により機能性液状体である光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成する。
一方、剥離用基板５８０上に、剥離層５８１を介して、走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間絶縁膜５３０を形成する。最後に、表示基板５０２上に、剥離用基板５８０上の剥離層５８１から剥離された構造を転写するものである。
【０１５０】
この図２２の実施の形態では、走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、スイッチング薄膜トランジスタ５０９、カレント薄膜トランジスタ５１０および層間絶縁膜５３０への光学材料５４０Ａ，５４０Ｂの塗布形成によるダメージの軽減が図れる。なお、パッシブマトリックス型の表示素子にも適用できる。
【０１５１】
図２３に示す表示装置も、アクティブマトリックス型の表示装置である。図２３は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図２３に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を利用して凹型の段差５３５を形成するものである。このため、特に新たな工程が増加することなく、層間絶縁膜５３０を利用でき、製造工程の大幅な複雑化などを防止できる。なお、層間絶縁膜５３０をＳｉＯ2で形成するとともに、その表面に紫外線やＯ2、ＣＦ3、Ａｒなどのプラズマなどを照射し、その後に、画素電極５１１の表面を露出させ、そして液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布してもよい。このことにより、層間絶縁膜５３０の表面に沿って撥液性の強い分布が形成され、光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが段差５３５と層間絶縁膜５３０の撥液性との両方の作用によって所定位置に溜まり易くなる。
【０１５２】
図２４に示す表示装置は、液状体である光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが塗布される所定位置の親水性を、その周囲の親水性よりも相対的に強くすることにより、塗布された光学材料５４０Ａ，５４０Ｂが周囲に広がらないようにしたものである。図２４は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
この図２４に示す表示装置では、層間絶縁膜５３０を形成した後に、その上面に非晶質シリコン層５９０を形成する。非晶質シリコン層５９０は、画素電極５１１を形成するＩＴＯよりも相対的に撥水性が強いので、ここに、画素電極５１１の表面の親水性がその周囲の親水性よりも相対的に強い掩撥水性・親水性の分布が形成される。そして、上記図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様に、画素電極５１１の上面に向けて、インクジェット方式により液状の光学材料５４０Ａ，５４０Ｂを選択的に吐出して塗布することにより、発光素子５１３を形成し、最後に反射電極５１２を形成するものである。
【０１５３】
なお、この図２４に示す実施の形態についても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用できる。さらに、図２２に示す実施の形態のように、剥離用基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよい。
【０１５４】
そして、撥水性・親水性の分布は、金属や、陽極酸化膜、ポリイミドまたは酸化シリコンなどの絶縁膜や、他の材料により形成していてもよい。なお、パッシブマトリックス型の表示素子であれば第１のバス配線５５０、アクティブマトリックス型の表示素子であれば走査線５０３、信号線５０４、画素電極５１１、絶縁膜５３０あるいは遮光層６ｂによって形成してもよい。
【０１５５】
図２５に示す表示装置は、段差５３５や撥液性・親液性の分布などを利用してパターニング精度を向上させるのではなく、電位による引力や斥力などを利用してパターニング精度の向上を図るものである。図２５は、表示装置を製造する製造工程の途中の段階における断面図であり、この前後の段階では、図１４ないし図１８に示す実施の形態と同様で、その図示および説明は省略する。
【０１５６】
この図２５に示す表示装置では、信号線５０４や共通給電線５０５を駆動するとともに、図示しないトランジスタを適宜オン・オフすることにより、画素電極５１１がマイナス電位となり、層間絶縁膜５３０がプラス電位となる電位分布を形成する。そして、インクジェット方式により、プラスに帯電した液状の光学材料５４０Ａを所定位置に選択的に吐出して塗布形成するものである。このことにより、光学材料５４０Ａを帯電させているので、自発分極だけでなく帯電電荷も利用でき、パターニングの精度をさらに向上できる。
【０１５７】
なお、この図２５に示す実施の形態についても、パッシブマトリックス型の表示素子に適用できる。さらに、図２２に示す実施の形態のように、剥離用基板５８０上に剥離層５８１を介して形成された構造を、表示基板５０２に転写する工程を含んでいてもよい。
【０１５８】
また、画素電極５１１と、その周囲の層間絶縁膜５３０との両方に電位を与えているが、これに限定されるものではなく、例えば図２６に示すように、画素電極５１１には電位を与えず、層間絶縁膜５３０にのみプラス電位を与え、そして、液状の光学材料５４０Ａをプラスに帯電させてから塗布するようにしてもよい。この図２６に示す構成によれば、塗布された後にも、液状の光学材料５４０Ａは確実にプラスに帯電した状態を維持できるから、周囲の層間絶縁膜５３０との間の斥力によって、液状の光学材料５４０Ａが周囲に流れ出ることをより確実に防止できる。
【０１５９】
（ＥＬ素子を用いた電気光学装置の製造方法に関する他の実施の形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法の他の実施の形態について図面を参照して説明する。以下では、電気光学装置としてＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置を適用している点は、上記実施の形態と同様であり、その回路構成も、図１４に示す先の実施形態の表示装置と同様である。
【０１６０】
〔表示装置の構成〕
図３０（ａ）は、本実施の形態の表示装置の平面模式図であり、図３０（ｂ）は、図３０（ａ）に示すＡ−Ｂ線に沿う断面模式図である。これらの図に示すように、本実施形態の表示装置３１は、ガラス等からなる透明な基体３２と、マトリックス状に配置された発光素子と、封止基板を具備している。基体３２上に形成された発光素子は、後述する画素電極と、機能層と、陰極４２により形成されている。
【０１６１】
基体３２は、例えばガラス等の透明基板であり、基体３２の中央に位置する表示領域３２ａと、基体３２の周縁に位置して表示領域３２ａの外側に配置された非表示領域３２ｂとに区画されている。
表示領域３２ａは、マトリックス状に配置された発光素子によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、表示領域の外側に非表示領域３２ｂが形成されている。そして，非表示領域３２ｂには、表示領域３２ａに隣接するダミー表示領域３２ｄが形成されている。
【０１６２】
また、図３０（ｂ）に示すように、発光素子及びバンク部からなる発光素子部４１と基体３２との間には回路素子部４４が備えられ、この回路素子部４４に前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ１２３等が備えられている。
【０１６３】
また、陰極４２は、その一端が基体３２上に形成された陰極用配線４２ａに接続しており、この配線の一端部がフレキシブル基板３５上の配線３５ａに接続されている。また、配線３５ａは、フレキシブル基板３５上に備えられた駆動ＩＣ３６（駆動回路）に接続されている。
【０１６４】
また、図３０（ａ）及び図３０（ｂ）に示すように、回路素子部４４の非表示領域３２ｂには、前述の電源線１０３（１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂ）が配線されている。
また、表示領域３２ａの図３０（ａ）中両側には、前述の走査側駆動回路１０５、１０５が配置されている。この走査側駆動回路１０５、１０５はダミー領域３２ｄの下側の回路素子部４４内に設けられている。更に回路素子部４４内には、走査側駆動回路１０５、１０５に接続される駆動回路用制御信号配線１０５ａと駆動回路用電源配線１０５ｂとが設けられている。
更に表示領域３２ａの図３０（ａ）中上側には検査回路１０６が配置されている。この検査回路１０６により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。
【０１６５】
また図３０（ｂ）に示すように、発光素子部４１上には封止部３３が備えられている。この封止部３３は、基体３２に塗布された封止樹脂６０３ａと、缶封止基板６０４とから構成されている。封止樹脂６０３は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。
この封止樹脂６０３は、基体３２の周囲に環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ等により塗布されたものである。この封止樹脂６０３は、基体３２と封止缶６０４を接合するもので、基体３２と缶封止基板６０４の間から缶封止基板６０４内部への水又は酸素の侵入を防いで、陰極４２または発光素子部４１内に形成された図示略の発光層の酸化を防止する。
【０１６６】
缶封止基板６０４は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂６０３を介して基体３２に接合されており、その内側には表示素子４０を収納する凹部６０４ａが設けられている。また凹部６０４ａには水、酸素等を吸収するゲッター剤６０５が貼り付けられており、缶封止基板６０４の内部に侵入した水又は酸素を吸収できるようになっている。なお、このゲッター剤６０５は省略しても良い。
【０１６７】
次に図３１には、表示装置における表示領域の断面構造を拡大した図を示す。この図３１には３つの画素領域Ａが図示されている。この表示装置３１は、基体３２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部４４と、機能層１１０が形成された発光素子部４１とが順次積層されて構成されている。
【０１６８】
この表示装置３１においては、機能層１１０から基体３２側に発した光が、回路素子部４４及び基体３２を透過して基体３２の下側（観測者側）に出射されるとともに、機能層１１０から基体３２の反対側に発した光が陰極４２により反射されて、回路素子部４４及び基体３２を透過して基体３２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。
なお、陰極４２として、透明な材料を用いることにより陰極側から発光する光を出射させることができる。透明な材料としては、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄを用いる事ができる。膜厚としては７５ｎｍほどの膜厚にする事が好ましく、この膜厚よりも薄くした方がより好ましい。
【０１６９】
回路素子部４４には、基体３２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜３２ｃが形成され、この下地保護膜３２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜１４１が形成されている。尚、半導体膜１４１には、ソース領域１４１ａ及びドレイン領域１４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域１４１ｃとなっている。
更に回路素子部４４には、下地保護膜３２ｃ及び半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形成され、ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極１４３（走査線１０１）が形成され、ゲート電極１４３及びゲート絶縁膜１４２上には透明な第１層間絶縁膜１４４ａと第２層間絶縁膜１４４ｂが形成されている。ゲート電極１４３は半導体膜１４１のチャネル領域１４１ｃに対応する位置に設けられている。
【０１７０】
また、第１、第２層間絶縁膜１４４ａ、１４４ｂを貫通して、半導体膜１４１のソース、ドレイン領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール１４５，１４６が形成されている。
そして、第２層間絶縁膜１４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極１１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール１４５がこの画素電極１１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール１４６が電源線１０３に接続されている。
このようにして、回路素子部４４には、各画素電極１１１に接続された駆動用の薄膜トランジスタ１２３が形成されている。
尚、回路素子部４４には、前述した保持容量cap及びスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２も形成されているが、図３１ではこれらの図示を省略している。
【０１７１】
次に図３１に示すように、発光素子部４１は、複数の画素電極１１１…上の各々に積層された機能層１１０と、各画素電極１１１及び機能層１１０の間に備えられて各機能層１１０を区画するバンク部１１２と、機能層１１０上に形成された陰極４２とを主体として構成されている。これら画素電極（第１電極）１１１、機能層１１０及び陰極４２（対向電極（電極））によって発光素子が構成されている。
ここで、画素電極１１１は、例えばＩＴＯにより形成されてなり、平面視略矩形にパターニングされて形成されている。この画素電極１１１の厚さは、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度がよい。この各画素電極１１１…の間にバンク部１１２が備えられている。
【０１７２】
バンク部１１２は、図３１に示すように、基体３２側に位置する無機物バンク層１１２ａ（第１バンク層）と基体３２から離れて位置する有機物バンク層１１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されている。
無機物バンク層、有機物バンク層（１１２ａ、１１２ｂ）は、画素電極１１１の周縁部上に乗上げるように形成されている。平面的には、画素電極１１１の周囲と無機物バンク層１１２ａとが平面的に重なるように配置された構造となっている。また、有機物バンク層１１２ｂも同様であり、画素電極１１１の一部と平面的に重なるように配置されている。また無機物バンク層１１２ａは、有機物バンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中央側に更に形成されている。このようにして、無機物バンク層１１２ａの各第１積層部１１２ｅが画素電極１１１の内側に形成されることにより、画素電極１１１の形成位置に対応する下部開口部１１２ｃが設けられている。
【０１７３】
また、有機物バンク層１１２ｂには、上部開口部１１２ｄが形成されている。この上部開口部１１２ｄは、画素電極１１１の形成位置及び下部開口部１１２ｃに対応するように設けられている。上部開口部１１２ｄは、図３１に示すように、下部開口部１１２ｃより広く、画素電極１１１より狭く形成されている。また、上部開口部１１２ｄの上部の位置と、画素電極１１１の端部とがほぼ同じ位置になるように形成される場合もある。この場合は、図３１に示すように、有機物バンク層１１２ｂの上部開口部１１２ｄの断面が傾斜する形状となる。
そしてバンク部１１２には、下部開口部１１２ｃ及び上部開口部１１２ｄが連通することにより、無機物バンク層１１２ａ及び有機物バンク層１１２ｂを貫通する開口部１１２ｇが形成されている。
【０１７４】
また、無機物バンク層１１２ａは、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料からなることが好ましい。この無機物バンク層１１２ａの膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。膜厚が５０ｎｍ未満では、無機物バンク層１１２ａが後述する正孔注入／輸送層より薄くなり、正孔注入／輸送層の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。また膜厚が２００ｎｍを越えると、下部開口部１１２ｃによる段差が大きくなって、正孔注入／輸送層上に積層する後述の発光層の平坦性を確保できなくなるので好ましくない。
【０１７５】
更に、有機物バンク層１１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料から形成されている。この有機物バンク層１１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層１１２ｂが薄くなり、発光層が上部開口部１１２ｄから溢れるおそれがあるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部１１２ｄによる段差が大きくなり、有機物バンク層１１２ｂ上に形成する陰極４２のステップガバレッジを確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層１１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、駆動用の薄膜トランジスタ１２３との絶縁を高めることができる点でより好ましい。
【０１７６】
また、バンク部１１２には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域が形成されている。
親液性を示す領域は、無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１２ｅ及び画素電極１１１の電極面１１１ａであり、これらの領域は、酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理されている。また、撥液性を示す領域は、上部開口部１１２ｄの壁面及び有機物バンク層１１２の上面１１２ｆであり、これらの領域は、４フッ化メタン、テトラフルオロメタン、もしくは四フッ化炭素を処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）されている。尚、有機物バンク層は、フッ素ポリマーを含有する材料により形成しても良い。
【０１７７】
次に図３１に示すように、機能層１１０は、画素電極１１１上に積層された正孔注入／輸送層１１０ａと、正孔注入／輸送層１１０ａ上に隣接して形成された発光層１１０ｂとから構成されている。なお、発光層１１０ｂに隣接して電子注入輸送層などの機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。
【０１７８】
正孔注入／輸送層１１０ａは、正孔を発光層１１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層１１０ａ内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層１１０ａを画素電極１１１と発光層１１０ｂの間に設けることにより、発光層１１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層１１０ｂでは、正孔注入／輸送層１１０ａから注入された正孔と、陰極４２から注入される電子が発光層で再結合し、発光が得られる。
【０１７９】
正孔注入／輸送層１１０ａは、下部開口部１１２ｃ内に位置して画素電極面１１１ａ上に形成される平坦部１１０ａ１と、上部開口部１１２ｄ内に位置して無機物バンク層の第１積層部１１２ｅ上に形成される周縁部１１０ａ２から構成されている。また、正孔注入／輸送層１１０ａは、構造によっては、画素電極１１１上であって、且つ無機物バンク層１１０ａの間（下部開口部１１０ｃ）にのみ形成されている（前述に記載した平坦部にのみ形成される形態もある）。
この平坦部１１０ａ1は、その厚さが一定で例えば５０〜７０ｎｍの範囲に形成される。
【０１８０】
周縁部１１０ａ2が形成される場合においては、周縁部１１０ａ2は、第１積層部１１２ｅ上に位置するとともに上部開口部１１２ｄの壁面、即ち有機物バンク層１１２ｂに密着している。また、周縁部１１０ａ2の厚さは、電極面１１１ａに近い側で薄く、電極面１１１ａから離れる方向に沿って増大し、下部開口部１１２ｄの壁面近くで最も厚くなっている。
【０１８１】
周縁部１１０ａ2が上記の様な形状を示す理由としては、正孔注入／輸送層１１０ａが、正孔注入／輸送層形成材料及び極性溶媒を含む第１組成物を開口部１１２内に吐出してから極性溶媒を除去して形成されたものであり、極性溶媒の揮発が主に無機物バンク層の第１積層部１１２ｅ上で起こり、正孔注入／輸送層形成材料がこの第１積層部１１２ｅ上に集中的に濃縮・析出されたためである。
【０１８２】
また発光層１１０ｂは、正孔注入／輸送層１１０ａの平坦部１１０ａ1及び周縁部１１０ａ2上に渡って形成されており、平坦部１１２ａ1上での厚さが５０〜８０ｎｍの範囲とされている。
発光層１１０ｂは、赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層１１０ｂ1、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層１１０ｂ2、及び青色（Ｂ）に発光する青色発光層１１０ｂ3、の３種類を有し、各発光層１１０ｂ1〜１１０ｂ3がストライプ配置されている。
【０１８３】
上記のように、正孔注入／輸送層１１０ａの周縁部１１０ａ2が上部開口部１１２ｄの壁面（有機物バンク層１１２ｂ）に密着しているので、発光層１１０ｂが有機物バンク層１１２ｂに直接に接することがない。従って、有機物バンク層１１２ｂに不純物として含まれる水が発光層１１０ｂ側に移行するのを、周縁部１１０ａ2によって阻止することができ、水による発光層１１０ｂの酸化を防止できる。
【０１８４】
また、無機物バンク層の第１積層部１１２ｅ上に不均一な厚さの周縁部１１０ａ2が形成されるため、周縁部１１０ａ2が第１積層部１１２ｅによって画素電極１１１から絶縁された状態となり、周縁部１１０ａ2から発光層１１０ｂに正孔が注入されることがない。これにより、画素電極１１１からの電流が平坦部１１２ａ1のみに流れ、正孔を平坦部１１２ａ1から発光層１１０ｂに均一に輸送させることができ、発光層１１０ｂの中央部分のみを発光させることができるとともに、発光層１１０ｂにおける発光量を一定にすることができる。
【０１８５】
また、無機物バンク層１１２ａが有機物バンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中央側に更に延出されているので、この無機物バンク層１１２ａによって画素電極１１１と平坦部１１０ａ1との接合部分の形状をトリミングすることができ、各発光層１１０ｂ間の発光強度のばらつきを抑えることができる。
【０１８６】
更に、画素電極１１１の電極面１１１ａ及び無機物バンク層の第１積層部１１２ｅが親液性を示すので、機能層１１０が画素電極１１１及び無機物バンク層１１２ａに均一に密着し、無機物バンク１１２ａ上で機能層１１０が極端に薄くならず、画素電極１１１と陰極４２との短絡を防止できる。
また、有機物バンク層１１２ｂの上面１１２ｆ及び上部開口部１１２ｄ壁面が撥液性を示すので、機能層１１０と有機物バンク層１１２ｂとの密着性が低くなり、機能層１１０が開口部１１２ｇから溢れて形成されることがない。
【０１８７】
尚、正孔注入／輸送層形成材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を用いることができる。また、発光層１１０ｂの材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
【０１８８】
次に陰極４２は、発光素子部４１の全面に形成されており、画素電極１１１と対になって機能層１１０に電流を流す役割を果たす。この陰極４２は、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態においては発光層１１０ｂに直接に接して発光層１１０ｂに電子を注入する役割を果たす。また、フッ化リチウムは発光層の材料によっては効率よく発光させるために、発光層１１０と陰極４２との間にＬｉＦを形成する場合もある。
【０１８９】
尚、赤色及び緑色の発光層１１０ｂ1、１１１０ｂ2にはフッ化リチウムに限らず、他の材料を用いても良い。従ってこの場合は青色（Ｂ）発光層１１０ｂ3のみにフッ化リチウムからなる層を形成し、他の赤色及び緑色の発光層１１０ｂ1、１１０ｂ2にはフッ化リチウム以外のものを積層しても良い。また、赤色及び緑色の発光層１１０ｂ1、１１０ｂ2上にはフッ化リチウムを形成せず、カルシウムのみを形成しても良い。
尚、フッ化リチウムの厚さは、例えば２〜５ｎｍの範囲が好ましく、特に２ｎｍ程度がよい。またカルシウムのの厚さは、例えば２〜５０ｎｍの範囲が好ましく、特に２０ｎｍ程度がよい。
【０１９０】
また、陰極４２を形成するアルミニウムは、発光層１１０ｂから発した光を基体３２側に反射させるもので、Ａｌ膜の他、Ａｇ膜、ＡｌとＡｇの積層膜等からなることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００ｎｍ程度がよい。
更にアルミニウム上にＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＳｉＮ等からなる酸化防止用の保護層を設けても良い。
尚、このように形成した発光素子上に封止缶６０４を配置する。図３０（ｂ）に示すように、封止缶６０４を封止樹脂６０３により接着し、表示装置３１を形成する。
【０１９１】
〔表示装置の製造方法〕
次に、本実施形態の表示装置の製造方法を図面を参照して説明する。
本実施形態の表示装置３１の製造方法は、例えば、(1)バンク部形成工程、(2)プラズマ処理工程（親液化工程及び撥液化工程を含む）、(3)正孔注入／輸送層形成工程（機能層形成工程）、(4)発光層形成工程（機能層形成工程）、(5)対向電極形成工程、及び(6)封止工程とを具備して構成されている。なお、製造方法はこれに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１９２】
(1)バンク部形成工程
バンク部形成工程では、基体３２の所定の位置にバンク部１１２を形成する工程である。バンク部１１２は、第１のバンク層として無機物バンク層１１２ａが形成されてなり、第２のバンク層として有機物バンク層１１２ｂが形成された構造である。以下に形成方法について説明する。
【０１９３】
(1)-1無機物バンク層の形成
まず、図３２に示すように、基体上の所定の位置に無機物バンク層１１２ａを形成する。無機物バンク層１１２ａが形成される位置は、第２層間絶縁膜１４４ｂ上及び電極(ここでは画素電極)１１１上である。なお、第２層間絶縁膜１４４ｂは薄膜トランジスタ、走査線、信号線、等が配置された回路素子部４４上に形成されている。
【０１９４】
無機物バンク層１１２ａは、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機物膜を材料として用いることができる。これらの材料は、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって形成される。
更に、無機物バンク層１１２ａの膜厚は５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍがよい。
【０１９５】
無機物バンク層１１２は、層間絶縁層１１４及び画素電極１１１の全面に無機物膜を形成し、その後無機物膜をフォトリソグラフィ法等によりパターニングすることにより、開口部を有する無機物バンク層１１２が形成される。開口部は、画素電極１１１の電極面１１１ａの形成位置に対応するもので、図３２に示すように下部開口部１１２ｃとして設けられる。
このとき、無機物バンク層１１２ａは画素電極１１１の周縁部（一部）と重なるように形成される。図３２に示すように、画素電極１１１の一部と無機物バンク層１１２ａとが重なるように無機物バンク層１１２ａを形成することにより、発光層１１０の発光領域を制御することができる。
【０１９６】
(1)-2有機物バンク層１１２ｂの形成
次に、第２バンク層としての有機物バンク層１１２ｂを形成する。
図３３に示すように、無機物バンク層１１２ａ上に有機物バンク層１１２ｂを形成する。有機物バンク層１１２ｂとして、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料を用いる。これらの材料を用い、有機物バンク層１１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。なお、パターニングする際、有機物バンク層１１２ｂに上部開口部１１２ｄを形成する。上部開口部１１２ｄは、電極面１１１ａ及び下部開口部１１２ｃに対応する位置に設けられる。
【０１９７】
上部開口部１１２ｄは、図３３に示すように、無機物バンク層１１２ａに形成された下部開口部１１２ｃより広く形成する事が好ましい。更に、有機物バンク層１１２ｂはテーパーを有する形状が好ましく、有機物バンク層の開口部が画素電極１１１の幅より狭く、有機物バンク層１１２ｂの最上面では画素電極１１１の幅とほぼ同一の幅になるように有機物バンク層を形成する事が好ましい。これにより、無機物バンク層１１２ａの下部開口部１１２ｃを囲む第１積層部１１２ｅが、有機物バンク層１１２ｂよりも画素電極１１１の中央側に延出された形になる。
このようにして、有機物バンク層１１２ｂに形成された上部開口部１１２ｄ、無機物バンク層１１２ａに形成された下部開口部１１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層１１２ａ及び有機物バンク層１１２ｂを貫通する開口部１１２ｇが形成される。
【０１９８】
なお、有機物バンク層１１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。このような範囲とする理由は以下の通りである。
すなわち、厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入／輸送層及び発光層の合計厚より有機物バンク層１１２ｂが薄くなり、発光層１１０ｂが上部開口部１１２ｄから溢れてしまうおそれがあるので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、上部開口部１１２ｄによる段差が大きくなり、上部開口部１１２ｄにおける陰極４２のステップガバレッジが確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層１１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、陰極４２と駆動用の薄膜トランジスタ１２３との絶縁を高めることができる点で好ましい。
【０１９９】
(2)プラズマ処理工程
次にプラズマ処理工程では、画素電極１１１の表面を活性化すること、更にバンク部１１２の表面を表面処理する事を目的として行われる。特に活性化工程では、画素電極１１１（ＩＴＯ）上の洗浄、更に仕事関数の調整を主な目的として行っている。更に、画素電極１１１の表面の親液化処理（親液化工程）、バンク部１１２表面の撥液化処理（撥液化工程）を行う。
【０２００】
このプラズマ処理工程は、例えば(2)-1予備加熱工程、(2)-2活性化処理工程（親液化工程）、(2)-3撥液化処理工程（親液化工程）、及び(2)-4冷却工程とに大別される。なお、このような工程に限られるものではなく、必要に応じて工程を削減、更なる工程追加も行われる。
【０２０１】
まず、図３４は、プラズマ処理工程で用いられるプラズマ処理装置を示す。
図３４に示すプラズマ処理装置５０は、予備加熱処理室５１、第１プラズマ処理室５２、第２プラズマ処理室５３、冷却処理室５４、これらの各処理室５１〜５４に基体３２を搬送する搬送装置５５とから構成されている。各処理室５１〜５４は、搬送装置５５を中心として放射状に配置されている。
まず、これらの装置を用いた概略の工程を説明する。
【０２０２】
予備加熱工程は、図３４に示す予備加熱処理室５１において行われる。そしてこの処理室５１により、バンク部形成工程から搬送された基体３２を所定の温度に加熱する。
予備加熱工程の後、親液化工程及び撥液化処理工程を行う。すなわち、基体は第１，第２プラズマ処理室５２，５３に順次搬送され、それぞれの処理室５２，５３においてバンク部１１２にプラズマ処理を行い親液化する。この親液化処理後に撥液化処理を行う。撥液化処理の後に基体を冷却処理室に搬送し、冷却処理室５４おいて基体を室温まで冷却する。この冷却工程後、搬送装置により次の工程である正孔注入／輸送層形成工程に基体を搬送する。
【０２０３】
以下に、それぞれの工程について詳細に説明する。
(2)-1予備加熱工程
予備加熱工程は予備加熱処理室５１により行う。この処理室５１において、バンク部１１２を含む基体３２を所定の温度まで加熱する。
基体３２の加熱方法は、例えば処理室５１内にて基体３２を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基体３２を加熱する手段がとられている。なお、これ以外の方法を採用することも可能である。
予備加熱処理室５１において、例えば７０℃〜８０℃の範囲に基体３２を加熱する。この温度は次工程であるプラズマ処理における処理温度であり、次の工程に合わせて基体３２を事前に加熱し、基体３２の温度ばらつきを解消することを目的としている。
仮に予備加熱工程を加えなければ、基体３２は室温から上記のような温度に加熱されることになり、工程開始から工程終了までのプラズマ処理工程中において温度が常に変動しながら処理される事になる。したがって、基体温度が変化しながらプラズマ処理を行うことは、有機ＥＬ素子の特性の不均一につながる可能性がある。したがって、処理条件を一定に保ち、均一な特性を得るために予備加熱を行うのである。
そこで、プラズマ処理工程においては、第１，第２プラズマ処理装置５２，５３内の試料ステージ上に基体３２を載置した状態で親液化工程または撥液化工程を行う場合に、予備加熱温度を、親液化工程または撥液化工程を連続して行う試料ステージ５６の温度にほぼ一致させることが好ましい。
【０２０４】
そこで、第１，第２プラズマ処理装置５２，５３内の試料ステージが上昇する温度、例えば７０〜８０℃まで予め基体３２を予備加熱することにより、多数の基体にプラズマ処理を連続的に行った場合でも、処理開始直後と処理終了直前でのプラズマ処理条件をほぼ一定にすることができる。これにより、基体３２の表面処理条件を同一にし、バンク部１１２の組成物に対する濡れ性を均一化することができ、一定の品質を有する表示装置を製造することができる。
また、基体３２を予め予備加熱しておくことにより、後のプラズマ処理における処理時間を短縮することができる。
【０２０５】
(2)-2活性化処理（親液化工程）
つぎに第１プラズマ処理室５２では、活性化処理が行われる。活性化処理には、画素電極１１１における仕事関数の調整、制御、画素電極表面の洗浄、画素電極表面の親液化工程が含まれる。
親液化工程として、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。図３５には第１プラズマ処理を模式的に示した図である。図３５に示すように、バンク部１１２を含む基体３２は加熱ヒータ内臓の試料ステージ５６上に載置され、基体３２の上側にはギャップ間隔０．５〜２ｍｍ程度の距離をおいてプラズマ放電電極５７が基体３２に対向して配置されている。基体３２は、試料ステージ５６によって加熱されつつ、試料ステージ５６は図示矢印方向に向けて所定の搬送速度で搬送され、その間に基体３２に対してプラズマ状態の酸素が照射される。
【０２０６】
Ｏ２プラズマ処理の条件は、例えば、プラズマパワー１００〜８００ｋＷ、酸素ガス流量５０〜１００ｍｌ/ｍｉｎ、板搬送速度０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、試料ステージ５６による加熱は、主として予備加熱された基体３２の保温のために行われる。
このＯ２プラズマ処理により、図３６に示すように、画素電極１１１の電極面１１１ａ、無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１２ｅ及び有機物バンク層１１２ｂの上部開口部１１２ｄの壁面ならびに上面１１２ｆが親液処理される。この親液処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親液性が付与される。
図３７では、親液処理された部分を一点鎖線で示している。
なお、このＯ２プラズマ処理は、親液性を付与するのみならず、上述の通り画素電極であるＩＴＯ上の洗浄，仕事関数の調整も兼ねている。
【０２０７】
(2)-3撥液処理工程（撥液化工程）
つぎに、第２プラズマ処理室５３では、撥液化工程として、大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。第２プラズマ処理室５３の内部構造は図３５に示した第１プラズマ処理室５２の内部構造と同じである。即ち、基体３２は、試料ステージによって加熱されつつ、試料ステージごと所定の搬送速度で搬送され、その間に基体３２に対してプラズマ状態のテトラフルオロメタン（四フッ化炭素）が照射される。
【０２０８】
ＣＦ4プラズマ処理の条件は、例えば、プラズマパワー１００〜８００ｋＷ、４フッ化メタンガス流量５０〜１００ｍｌ/ｍｉｎ、基体搬送速度０．５〜１０２０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度７０〜９０℃の条件で行われる。なお、加熱ステージによる加熱は、第１プラズマ処理室５２の場合と同様に、主として予備加熱された基体３２の保温のために行われる。
なお、処理ガスは、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素）に限らず、他のフルオロカーボン系のガスを用いることができる。
【０２０９】
ＣＦ４プラズマ処理により、図３７に示すように、上部開口部１１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面１１２ｆが撥液処理される。この撥液処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥液性が付与される。図３７では、撥液性を示す領域を二点鎖線で示している。有機物バンク層１１２ｂを構成するアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の有機物はプラズマ状態のフルオロカーボンが照射することで容易に撥液化させることができる。また、Ｏ２プラズマにより前処理した方がフッ素化されやすい、という特徴を有しており、本実施形態には特に有効である。
尚、画素電極１１１の電極面１１１ａ及び無機物バンク層１１２ａの第１積層部１１２ｅもこのＣＦ4プラズマ処理の影響を多少受けるが、濡れ性に影響を与える事は少ない。図３７では、親液性を示す領域を一点鎖線で示している。
【０２１０】
(2)-4冷却工程
次に冷却工程として、冷却処理室５４を用い、プラズマ処理のために加熱された基体３２を管理温度まで冷却する。これは、この以降の工程である液滴吐出工程（機能層形成工程）の管理温度まで冷却するために行う工程である。
この冷却処理室５４は、基体３２を配置するためのプレートを有し、そのプレートは基体３２を冷却するように水冷装置が内蔵された構造となっている。
また、プラズマ処理後の基体３２を室温、または所定の温度（例えば液滴吐出工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程において、基体３２の温度が一定となり、基体３２の温度変化が無い均一な温度で次工程を行うことができる。したがって、このような冷却工程を加えることにより、液滴吐出法等の吐出手段により吐出された材料を均一に形成できる。
例えば、正孔注入／輸送層を形成するための材料を含む第１組成物を吐出させる際に、第１組成物を一定の容積で連続して吐出させることができ、正孔注入／輸送層を均一に形成することができる。
【０２１１】
上記のプラズマ処理工程では、材質が異なる有機物バンク層１１２ｂ及び無機物バンク層１１２ａに対して、Ｏ２プラズマ処理とＣＦ４プラズマ処理とを順次行うことにより、バンク部１１２に親液性の領域と撥液性の領域を容易に設けることができる。
尚、プラズマ処理工程に用いるプラズマ処理装置は、図３４に示したものに限られず、例えば図３８に示すようなプラズマ処理装置６０を用いてもよい。
図３８に示すプラズマ処理装置６０は、予備加熱処理室６１と、第１プラズマ処理室６２と、第２プラズマ処理室６３と、冷却処理室６４と、これらの各処理室６１〜６４に基体３２を搬送する搬送装置６５とから構成され、各処理室６１〜６４が、搬送装置６５の搬送方向両側（図中矢印方向両側）に配置されてなるものである。
このプラズマ処理装置６０では、図３４に示したプラズマ処理装置５０と同様に、バンク部形成工程から搬送された基体３２を、予備加熱処理室６１、第１，第２プラズマ処理室６２，６３、冷却処理室６４に順次搬送して各処理室にて上記と同様な処理を行った後、基体３２を次の正孔注入／輸送層形成工程に搬送する。
また，上記プラズマ装置は，大気圧下の装置でなくとも，真空下のプラズマ装置を用いても良い。
【０２１２】
(3)正孔注入／輸送層形成工程（機能層形成工程）
正孔注入／輸送層形成工程では、液滴吐出としてたとえば液滴吐出装置を用いることにより、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（組成物）を電極面１１１ａ上に吐出する。その後に乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極１１１上及び無機物バンク層１１２ａ上に正孔注入/輸送層１１０ａを形成する。なお、正孔注入/輸送層１１０ａが形成された無機物バンク層１１２ａをここでは第１積層部１１２ｅという。
この正孔注入／輸送層形成工程を含めこれ以降の工程は、水、酸素の無い雰囲気とする事が好ましい。例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
【０２１３】
なお、正孔注入/輸送層１１０ａは第１積層部１１２ｅ上に形成されないこともある。すなわち、画素電極１１１上にのみ正孔注入／輸送層が形成される形態もある。
液滴吐出による製造方法は以下の通りである。
本実施形態の表示装置の製造方法に好適に用いられる液滴吐出ヘッドとしては、先の実施形態の図２に示すヘッドユニット４２０とほぼ同様の基本構成を備えたヘッドユニット１２０を用いることができる。更に、基体と上記のヘッドユニット１２０の配置に関しては図３９のように配置することが好ましい。
【０２１４】
図３９に示す液滴吐出装置には、図２に示すものとほぼ同様の構成のヘッドユニット１２０が備えられている。また符号１１１５は基体３２を載置するステージであり、符号１１１６はステージ１１１５を図中ｘ軸方向（主走査方向）に案内するガイドレールである。またヘッドユニット１２０は、支持部材１１１１を介してガイドレール１１１３により図中ｙ軸方向（副走査方向）に移動できるようになっており、更にヘッドユニット１２０は図中θ軸方向に回転できるようになっており、インクジェットヘッド１２１を主走査方向に対して所定の角度に傾けることができるようになっている。
【０２１５】
図３９に示す基体３２は、マザー基板に複数のチップを配置した構造となっている。即ち、１チップの領域が１つの表示装置に相当する。ここでは、３つの表示領域３２ａが形成されているが、これに限られるものではない。例えば、基体３２上の左側の表示領域３２ａに対して組成物を塗布する場合は、ガイドレール１１１３を介してヘッドＨを図中左側に移動させるとともに、ガイドレール１１１６を介して基体３２を図中上側に移動させ、基体３２を走査させながら塗布を行う。次に、ヘッド１２１を図中右側に移動させて基体の中央の表示領域３２ａに対して組成物を塗布する。右端にある表示領域３２ａに対しても前記と同様である。
尚、ヘッドユニット１２０及び図３９に示す液滴吐出装置は、正孔注入／輸送層形成工程のみならず、発光層形成工程にも用いることができる。
【０２１６】
図４０には、基体３２に対してインクジェットヘッド１２１を走査させた状態を示す。図４０に示すように、インクジェットヘッド１２１は、図中Ｘ方向に沿う方向に相対的に移動しながら第１組成物を吐出するが、その際、ノズルｎの配列方向Ｚが、主走査方向（Ｘ方向に沿う方向）に対して傾斜した状態になっている。このように、インクジェットヘッド１２１におけるノズルｎの配列方向を主走査方向に対して傾けて配置することにより、ノズルピッチを画素領域Ａのピッチに対応させることができる。また、傾き角度調整することにより、どのような画素領域Ａのピッチに対しても対応させることができる。
【０２１７】
次に、インクジェットヘッド１２１を走査して各画素領域Ａ…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成する工程について説明する。この工程には、（１）インクジェットヘッド１２１の走査を１回で行う方法、（２）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、（３）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程がある。以下、（１）〜（３）の方法を順次説明する。
【０２１８】
（１）インクジェットヘッド１２１の走査を１回で行う方法
図４１は、インクジェットヘッド１２１の１回の走査で各画素領域Ａ1…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図４１（ａ）は、インクジェットヘッド１２１が図４０における位置から図示Ｘ方向に沿って走査した後の状態を示し、図４１（ｂ）は図４１（ａ）に示す状態からインクジェットヘッド１２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトした状態を示し、図４１（ｃ）は図４１（ｂ）に示す状態からインクジェットヘッド１２１が僅かに図示Ｘ方向に走査するとともに、図示Ｙ方向にシフトした状態を示している。また図４４には画素領域Ａ及びインクジェットヘッドの断面模式図を示している。図４１には、インクジェットヘッド１２１の一部に設けられた符号ｎ1a〜ｎ3bで表される６つのノズルが図示されている。６つのノズルのうちのノズルｎ1a、ｎ2a、ｎ3aの３つは、インクジェットヘッド１２１が図示Ｘ方向に移動した場合に各画素領域Ａ1〜Ａ3上にそれぞれ位置するように配置されており、残りの３つのノズルｎ1b、ｎ2b、ｎ3bは、インクジェットヘッド１２１が図示Ｘ方向に移動した場合に隣接する画素領域Ａ1〜Ａ3の間に位置するように配置されている。
【０２１９】
図４１（ａ）では、インクジェットヘッド１２１に形成された各ノズルのうち、３つのノズルｎ1a〜ｎ3aから正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域Ａ1〜Ａ3に吐出する。尚、本実施形態ではインクジェットヘッド１２１を走査することにより第１組成物を吐出するが、基体３２を走査することによっても可能である。更に、インクジェットヘッド１２１と基体３２とを相対的に移動させることによっても第１組成物を吐出させることができる。なお、これ以降の液滴吐出ヘッドを用いて行う工程では上記の点は同様である。
【０２２０】
インクジェットヘッド１２１による吐出は以下の通りである。すなわち、図４１（ａ）及び図４４に示すように、インクジェットヘッド１２１に形成されてなるノズルｎ1a〜ｎ3aを電極面１１１ａに対向して配置し、ノズルｎ1a〜ｎ3aから最初の第１組成物の液滴１１０ｃ1を吐出する。画素領域Ａ1〜Ａ3は、画素電極１１１と当該画素電極１１１の周囲を区画するバンク１１２から形成されており、これらの画素領域Ａ1〜Ａ3に対し、ノズルｎ1a〜ｎ3aから１滴当たりの液量が制御された最初の第１組成物の液滴１１０ｃ1を吐出する。
【０２２１】
次に図４１（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド１２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させるとともに、図示Ｙ方向の反対方向にシフトさせることによってノズルｎ1b〜ｎ3bを各画素領域Ａ1〜Ａ3上に位置させる。そして、各ノズルｎ1b〜ｎ3bから第１組成物の２滴目の液滴１１０ｃ2を画素領域Ａ1〜Ａ3に向けて吐出する。
【０２２２】
更に図４１（ｃ）に示すように、インクジェットヘッド１２１を図示Ｘ方向に僅かに走査させるとともに、図示Ｙ方向にシフトさせることによってノズルｎ1a〜ｎ3aを再び各画素領域Ａ1〜Ａ3上に位置させる。そして、各ノズルｎ1a〜ｎ3aから第１組成物の３滴目の液滴１１０ｃ3を画素領域Ａ1〜Ａ3に向けて吐出する。
【０２２３】
このようにして、インクジェットヘッド１２１を図示Ｘ方向に沿って走査させつつ、図示Ｙ方向に沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａに対して２つのノズルから第１組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面１１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。
【０２２４】
このように、１回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、第１組成物の吐出のたびにノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ1〜Ａ3に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極１１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０２２５】
（２）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法
図４２は、インクジェットヘッド１２１の３回の走査で各画素領域Ａ1…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図４２（ａ）は、インクジェットヘッド１２１による１回目の走査後の状態を示し、図４２（ｂ）は２回目の走査後の状態を示し、図４２（ｃ）は３回目の走査後の状態を示す。
【０２２６】
１回目の走査では、図４１に示したインクジェットヘッド１２１の各ノズルのうち、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の最初の液滴１１０ｃ1を吐出し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の２滴目の液滴１１０ｃ2を吐出する。これにより、図４２（ａ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に２つの液滴１１０ｃ1，１１０ｃ2が吐出される。各液滴１１０ｃ1，１１０ｃ2は、図４２（ａ）に示すように相互に間隔を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。
【０２２７】
次に２回目の走査では、１回目の場合と同様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の３滴目の液滴１１０ｃ3を吐出し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bから第１組成物の４滴目の液滴１１０ｃ4を吐出する。これにより図４２（ｂ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に更に２つの液滴１１０ｃ3，１１０ｃ4が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴１１０ｃ3，１１０ｃ4は、図４２（ｂ）に示すように、１滴目及び２滴目の液滴１１０ｃ1，１１０ｃ2と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０２２８】
更に３回目の走査では、１、２回目の場合と同様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の５滴目の液滴１１０ｃ5を吐出し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bから第１組成物の６滴目の液滴１１０ｃ6を吐出する。これにより図４２（ｃ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に更に２つの液滴１１０ｃ5，１１０ｃ6が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液滴１１０ｃ5，１１０ｃ6は、図４２（ｃ）に示すように、他の液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ4と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０２２９】
このように、複数回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ1〜Ａ3に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極１１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０２３０】
（３）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法
図４３は、インクジェットヘッド１２１の２回の走査で各画素領域Ａ1…に正孔注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程図である。図４３（ａ）は、インクジェットヘッド１２１による１回目の走査後の状態を示し、図４３（ｂ）は２回目の走査後の状態を示す。更に図４３（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示す。
【０２３１】
１回目の走査では、図４１に示したインクジェットヘッド１２１の各ノズルのうち、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の最初の液滴１１０ｃ1、２、３滴目の液滴１１０ｃ2、１１０ｃ3を順次吐出する。これにより、図４１（ａ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に３つの液滴１１０ｃ1，１１０ｃ2、１１０ｃ3が吐出される。各液滴１１０ｃ1，１１０ｃ2、１１０ｃ3は、図４１（ａ）に示すように相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。
【０２３２】
次に２回目の走査では、インクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3b各画素領域Ａ1〜Ａ3に対向させて第１組成物の４、５，６滴目の液滴１１０ｃ4、１１０ｃ5、１１０ｃ6を順次吐出する。これにより図４３（ｂ）に示すように、各画素領域Ａ1〜Ａ3に更に３つの液滴１１０ｃ4，１１０ｃ5，１１０ｃ6が吐出される。尚、４〜６滴目の液滴１１０ｃ4，１１０ｃ5、１１０ｃ6は、図４３（ｂ）に示すように、１〜３滴目の液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ3の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ3に重ねて吐出しても良い。
【０２３３】
更に図４３（ｃ）は１、２回目の走査後の別の状態を示す。図４３（ｃ）においては、走査回数を２回とし、１回目の走査で１〜３滴目の液滴を吐出し、２回目の走査でインクジェットヘッド１２１をシフトさせて別のノズルから４〜６滴目の液滴を吐出する点については、図４３（ａ）及び（ｂ）の場合と同様である。図４３（ａ）及び（ｂ）との相違点は、各液滴の吐出位置が異なることである。即ち図４３（ｃ）では、１回目の走査により各画素領域Ａ1〜Ａ3の図中下半分の領域に液滴１１０ｃ1〜１１０ｃ3を吐出し、２回目の走査により各画素領域Ａ1〜Ａ3の図中上半分の領域に液滴１１０ｃ4〜１１０ｃ6を吐出している。
【０２３４】
尚、図４２及び図４３においては、一の画素領域Ａに対して吐出する液滴の数をそれぞれ６滴としたが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は画素の面積によって代わるものであるから、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（電極面１１１ａ上）に吐出する第１組成物の全量は、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。
【０２３５】
このように、複数回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、各画素領域Ａ1〜Ａ3に対して各々２つのノズルから第１組成物を吐出するので、従来のように、１つの画素領域Ａに対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素電極１１１…における第１組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、正孔注入／輸送層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
尚、インクジェットヘッド１２１の走査を複数回行う際には、インクジェットヘッド１２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方向としても良い。
【０２３６】
図４４に示すように、インクジェットヘッド１２１から吐出された第１組成物の液滴１１０ｃは、最終的には親液処理された電極面１１１ａ及び第１積層部１１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に充填される。仮に、第１組成物の液滴１１０ｃが所定の吐出位置からはずれて上面１１２ｆ上に吐出されたとしても、上面１１２ｆが第１組成物滴１１０ｃで濡れることがなく、はじかれた第１組成物滴１１０ｃが下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に滑り込む。
【０２３７】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
より具体的な第１組成物の組成としては、PEDOT/PSS混合物(PEDOT/PSS=1:20)：２２．４重量％、PSS：１．４４重量％、IPA：１０重量％、NMP：２７．０重量％、DMI：５０重量％のものを例示できる。尚、第１組成物の粘度は２〜２０Ｐｓ程度が好ましく、特に４〜１２ｃＰｓ程度が良い。
【０２３８】
上記の第１組成物を用いることにより、吐出ノズルＨ2に詰まりが生じることがなく安定吐出できる。
なお、正孔注入／輸送層形成材料は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各発光層１１０ｂ1〜１１０ｂ3に対して同じ材料を用いても良く、各発光層毎に変えても良い。
【０２３９】
次に、図４５に示すような乾燥工程を行う。乾燥工程を行う事により、吐出後の第１組成物を乾燥処理し、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、正孔注入／輸送層１１０ａを形成する。
乾燥処理を行うと、第１組成物滴１１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層１１２ａ及び有機物バンク層１１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０２４０】
これにより図４５に示すように、第１積層部１１２ｅ上に、正孔注入／輸送層形成材料からなる周縁部１１０ａ2が形成される。この周縁部１１０ａ2は、上部開口部１１２ｄの壁面（有機物バンク層１１２ｂ）に密着しており、その厚さが電極面１１１ａに近い側では薄く、電極面１１１ａから離れた側、即ち有機物バンク層１１２ｂに近い側で厚くなっている。
【０２４１】
また、これと同時に、乾燥処理によって電極面１１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面１１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部１１０ａ1が形成される。電極面１１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面１１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部１１０ａが形成される。
このようにして、周縁部１１０ａ2及び平坦部１１０ａ1からなる正孔注入／輸送層１１０ａが形成される。
なお、周縁部１１０ａ2には形成されず、電極面１１１ａ上のみに正孔注入／輸送層が形成される形態であっても構わない。
【０２４２】
上記の乾燥処理は、例えば窒素雰囲気中、室温で圧力を例えば１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒｒ）程度にして行う。急激に圧力を低下させると第１組成物滴１１０ｃが突沸してしまうので好ましくない。また、温度を高温にしてしまうと、極性溶媒の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができない。したがって、３０℃〜８０℃の範囲が好ましい。
乾燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で２００℃で１０分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入／輸送層１１０ａ内に残存する極性溶媒や水を除去することが好ましい。
【０２４３】
上記の正孔注入／輸送層形成工程では、吐出された第１組成物滴１１０ｃが、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に満たされる一方で、撥液処理された有機物バンク層１１２ｂで第１組成物がはじかれて下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に転がり込む。これにより、吐出した第１組成物滴１１０ｃを必ず下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に充填することができ、電極面１１１ａ上に正孔注入／輸送層１１０ａを形成することができる。
【０２４４】
また、上記の正孔注入／輸送層形成工程によれば、各画素領域Ａごとに最初に吐出する第１組成物の液滴１１０ｃ1を有機物バンク層１１２ｂの壁面１１２ｈに接触させるので、この液滴が壁面１１２ｈから第１積層部１１２ｅ及び電極面１１１ａに転がり込むため、第１組成物の液滴１１０ｃを画素電極１１１の周囲に優先的に濡れ広げて第１組成物をむらなく塗布することができ、これにより正孔注入輸送層１１０ａをほぼ均一な膜厚で形成できる。
【０２４５】
(4)発光層形成工程
次に発光層形成工程は、表面改質工程、発光層形成材料吐出工程、および乾燥工程、とからなる。
まず、正孔注入/輸送層１１０ａの表面を表面改質するために表面改質工程を行う。この工程については、以下に詳述する。次に、前述の正孔注入/輸送層形成工程と同様、液滴吐出法により第２組成物を正孔注入／輸送層１１０ａ上に吐出する。その後、吐出した第２組成物を乾燥処理（及び熱処理）して、正孔注入／輸送層１１０ａ上に発光層１１０ｂを形成する。
【０２４６】
次に発光層形成工程として、液滴吐出法により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層１１０ａ上に吐出した後に乾燥処理して、正孔注入／輸送層１１０ａ上に発光層１１０ｂを形成する。
図４６に、液滴吐出方法の概略を示す。図４６に示すように、インクジェットヘッド４３１と基体３２とを相対的に移動し、インクジェットヘッドに形成された吐出ノズルから各色（たとえばここでは青色（Ｂ））発光層形成材料を含有する第２組成物が吐出される。
吐出の際には、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層１１０ａに吐出ノズルを対向させ、インクジェットヘッド１２１と基体３２とを相対移動させながら、第２組成物が吐出される。吐出ノズルから吐出される液量は１滴当たりの液量が制御されている。このように液量が制御された液（第２組成物滴１１０ｅ）が吐出ノズルから吐出され、この第２組成物滴１１０ｅを正孔注入／輸送層１１０ａ上に吐出する。
【０２４７】
発光層形成工程は、正孔注入／輸送層形成工程と同様に、１つの画素領域に対して複数のノズルにより第２組成物の吐出を行う。
即ち、図４１、図４２及び図４３に示した場合と同様に、インクジェットヘッド１２１を走査して各正孔注入／輸送層１１０ａ上に発光層１１０ｂを形成する。この工程には、（４）インクジェットヘッド１２１の走査を１回で行う方法、（５）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法、（６）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法、の３つの工程がある。以下、（４）〜（６）の方法を簡略に説明する。
【０２４８】
（４）インクジェットヘッド１２１の走査を１回で行う方法
この方法では、図４１の場合と同様に、インクジェットヘッド１２１の１回の走査で画素領域（正孔注入／輸送層１１０ａ上）に発光層を形成する。即ち、図４１（ａ）と同様に、インクジェットヘッド１２１のノズルｎ1a〜ｎ3aを各正孔注入／輸送層１１０ａに対向して配置し、ノズルｎ1a〜ｎ3aから最初の第２組成物の液滴を吐出する。次に図４１（ｂ）と同様に、インクジェットヘッド１２１を主走査方向に僅かに走査させるとともに、副走査方向の反対方向にシフトさせることによってノズルｎ1b〜ｎ3bを各正孔注入／輸送層１１０ａ上に位置させ、各ノズルｎ1b〜ｎ3bから第２組成物の２滴目の液滴を吐出する。更に図４１（ｃ）と同様に、液滴吐出ヘッドＨ5を主走査方向に僅かに走査させるとともに、副走査方向にシフトさせることによってノズルｎ1a〜ｎ3aを再び各正孔注入／輸送層１１０ａ上に位置させ、各ノズルｎ1a〜ｎ3aから第２組成物の３滴目の液滴を各正孔注入／輸送層１１０ａに向けて吐出する。
【０２４９】
このようにして、インクジェットヘッド１２１を主走査方向に沿って走査させつつ、副走査方向に沿って僅かにシフトさせることにより、一の画素領域Ａ（正孔注入／輸送層１１０ａ）に対して２つのノズルから第２組成物の液滴を順次吐出する。一の画素領域に対して吐出する液滴の数は、例えば６〜２０滴の範囲とすることができるが、この範囲は画素の面積によって代わるものであり、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入／輸送層１１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。
【０２５０】
このように、１回の走査で発光層を形成する場合において、第２組成物の吐出のたびにノズルの切替えを行い、画素領域に対して２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０２５１】
（５）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査中において複数のノズルを用いる方法
この方法では、まず図４２（ａ）と同様に、１回目の走査として、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bを各画素領域に対向させて第２組成物の２滴目の液滴を吐出する。これにより、図４２（ａ）と同様に、各画素領域に２つの液滴が吐出される。各液滴は、図４２（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよく、重ねて吐出してもよい。
【０２５２】
次に２回目の走査では、１回目の場合と同様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて第２組成物の３滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bから第２組成物の４滴目の液滴を吐出する。これにより図４２（ｂ）と同様に、各画素領域に更に２つの液滴が吐出される。尚、３滴目及び４滴目の液滴は、１滴目及び２滴目の液滴と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０２５３】
更に３回目の走査では、１、２回目の場合と同様に、ノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて第２組成物の５滴目の液滴を吐出し、更にインクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3bから第２組成物の６滴目の液滴を吐出する。これにより図４２（ｃ）と同様に、各画素領域に更に２つの液滴が吐出される。尚、５滴目及び６滴目の液滴は、他の液滴と重ならないように吐出しても良く、重ねて吐出しても良い。
【０２５４】
このように、複数回の走査で発光層を形成する場合において、各走査中にノズルの切替えを行い、各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
【０２５５】
（６）インクジェットヘッド１２１の走査を複数回で行い、かつ各走査毎に別のノズルを用いる方法
この方法では、まず図４３（ａ）と同様に、１回目の走査において、インクジェットヘッド１２１のノズルｎ1a〜ｎ3aを各画素領域に対向させて第２組成物の最初の液滴及び２、３滴目の液滴を順次吐出する。これにより、図４３（ａ）と同様に、各画素領域に３つの液滴が吐出される。各液滴は、図４３（ａ）と同様に相互に間隔を空けて吐出してもよく、相互に重ねて吐出してもよい。
【０２５６】
次に２回目の走査では、インクジェットヘッド１２１を副走査方向に僅かにシフトさせてノズルｎ1b〜ｎ3b各画素領域に対向させて第２組成物の４、５，６滴目の液滴を順次吐出する。これにより図４３（ｂ）と同様に、各画素領域に更に３つの液滴が吐出される。尚、４〜６滴目の液滴は、１〜３滴目の液滴の間をうめるように吐出しても良く、１〜３滴目の液滴に重ねて吐出しても良い。
【０２５７】
更に別の方法として、図４３（ｃ）と同様に、１回目の走査により各画素領域の半分の領域に液滴を吐出し、２回目の走査により各画素領域のもう半分の領域に液滴を吐出してもよい。
尚、１つの画素領域に対して吐出する第２組成物の液滴の数をそれぞれ６滴としたが、６〜２０滴の範囲としてもよく、またこの範囲は画素の面積によって代わるものであるから、この範囲より多くても少なくても構わない。各画素領域（正孔注入／輸送層１１０ａ）に吐出する第２組成物の全量は、下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄの大きさ、形成しようとする発光層の厚さ、第２組成物中の発光層形成材料の濃度等により決定される。
【０２５８】
このように、複数回の走査で発光層を形成する場合において、各走査毎にノズルの切替えを行い、各画素領域に対して各々２つのノズルから第２組成物を吐出するので、従来のように、１の画素領域に対して１つのノズルで複数回吐出する場合と比較して、ノズル間の吐出量のバラツキが相殺されるので、各画素領域における第２組成物の吐出量のバラツキが小さくなり、発光層を同じ膜厚で形成することができる。これにより、画素毎の発光量を一定に保つことができ、表示品質に優れた表示装置を製造することができる。
尚、インクジェットヘッド１２１の走査を複数回行う際には、正孔注入／輸送層形成工程と同様に、インクジェットヘッド１２１の走査方向を各回毎に同一の方向としても良く、反対方向としても良い。
【０２５９】
また、発光層１１０ｂの材料としては、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープして用いることができる。
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層１１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。
このような非極性溶媒を発光層１１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層１１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０２６０】
図４６に示すように、吐出された第２組成物１１０ｅは、正孔注入／輸送層１１０ａ上に広がって下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に満たされる。その一方で、撥液処理された上面１１２ｆでは第１組成物滴１１０ｅが所定の吐出位置からはずれて上面１１２ｆ上に吐出されたとしても、上面１１２ｆが第２組成物滴１１０ｅで濡れることがなく、第２組成物滴１１０ｅが下部、上部開口部１１２ｃ、１１２ｄ内に転がり込む。
【０２６１】
次に、第２の組成物を所定の位置に吐出し終わった後、吐出後の第２組成物滴１１０ｅを乾燥処理することにより発光層１１０ｂ３が形成される。すなわち、乾燥により第２組成物に含まれる非極性溶媒が蒸発し、図４７に示すような青色（Ｂ）発光層１１０ｂ3が形成される。なお、図４７においては青に発光する発光層が１つのみ図示されているが、図３０やその他の図より明らかなように本来は発光素子がマトリックス状に形成されたものであり、図示しない多数の発光層（青色に対応）が形成されている。
【０２６２】
続けて、図４８に示すように、前述した青色（Ｂ）発光層１１０ｂ3の場合と同様の工程を用い、赤色（Ｒ）発光層１１０ｂ1を形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層１１０ｂ2を形成する。
なお、発光層１１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０２６３】
また、発光層の第２組成物の乾燥条件は、青色１１０ｂ3の場合、例えば、窒素雰囲気中、室温で圧力を１３３．３〜１３．３Ｐａ（１〜０．１Ｔｏｒｒ）程度として５〜１０分行う条件とする。圧力が低すぎると第２組成物が突沸してしまうので好ましくない。また、温度を高温にすると、非極性溶媒の蒸発速度が高まり、発光層形成材料が上部開口部１１２ｄ壁面に多く付着してしまうので好ましくない。好ましくは、３０℃〜８０℃の範囲が良い。
【０２６４】
また緑色発光層１１０ｂ2、および赤色発光層ｂ１の場合、発光層形成材料の成分数が多いために素早く乾燥させることが好ましく、例えば、４０℃で窒素の吹き付けを５〜１０分行う条件とするのがよい。その他の乾燥の手段としては、遠赤外線照射法、高温窒素ガス吹付法等を例示できる。
このようにして、画素電極１１１上に正孔注入／輸送層１１０ａ及び発光層１１０ｂが形成される。
【０２６５】
(5)対向電極（陰極）形成工程
次に対向電極形成工程では、図４９に示すように、発光層１１０ｂ及び有機物バンク層１１２ｂの全面に陰極４２（対向電極）を形成する。なお，陰極４２は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高い材料、例えばＡｌを用いる事もできる。
これらの陰極４２は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、熱による発光層１１０ｂの損傷を防止できる点で好ましい。
【０２６６】
また、フッ化リチウムは、発光層１１０ｂ上のみに形成しても良く、更に所定の色に対応して形成する事ができる。例えば、青色（Ｂ）発光層１１０ｂ3上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層１１０ｂ1、１１０ｂ2には、カルシウムからなる上部陰極層１２ｂが接することとなる。
【０２６７】
また陰極４２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、その厚さは、例えば１００〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、特に２００〜５００ｎｍ程度がよい。また陰極４２上に、酸化防止のためにＳｉＯ２、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０２６８】
(6)封止工程
最後に封止工程は、発光素子が形成された基体３２と封止基板３ｂとを封止樹脂３ａにより封止する工程である。たとえば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂３ａを基体３２の全面に塗布し、封止樹脂３ａ上に封止用基板３ｂを積層する。この工程により基体３２上に封止部３３を形成する。
【０２６９】
封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極４２にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極４２に侵入して陰極４２が酸化されるおそれがあるので好ましくない。
更に、図３０に例示した基板５の配線３５ａに陰極４２を接続するとともに、駆動ＩＣ３６に回路素子部４４の配線を接続することにより、本実施形態の表示装置３１が得られる。
【０２７０】
この実施の形態においても、上述した各実施の形態と同様のインクジェット方式を実施することにより、同様の作用効果を享受できる。さらに、機能性液状体を選択的に塗布する際に、１つの機能層に対して複数のノズルを用いて液状体の吐出するのて、ノズル間の吐出量のばらつきが相殺され、各電極間における創成物量のばらつきが小さくなり、各機能層の膜厚を揃えることができる。これにより、画素毎の発光量が均一化された表示品質に優れる表示装置を製造することができる。
【０２７１】
（その他の実施の形態）
以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。
【０２７２】
すなわち、例えば、インクジェットヘッド４２１を主走査方向Ｘへ移動させてマザー基板１２を主走査し、マザー基板１２を副走査駆動装置４２５によって移動させることにより、インクジェットヘッド４２１によってマザー基板１２を副走査することにしたが、これとは逆に、マザー基板１２の移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド４２１の移動によって副走査を実行することもできる。さらには、インクジェットヘッド４２１を移動させずにマザー基板１２を移動させたり、双方を相対的に逆方向に移動させるなど、少なくともいずれか一方を相対的に移動させ、インクジェットヘッド４２１がマザー基板１２の表面に沿って相対的に移動するいずれの構成とすることができる。
【０２７３】
また、上記実施の形態では、圧電素子４５２の撓み変形を利用してインクであるフィルタエレメント材料１３を吐出する構造のインクジェットヘッド４２１を用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッド、例えば加熱により発生するバブルによりインクを吐出する方式のインクジェットヘッドなどを用いることもできる。
【０２７４】
さらに、図１ないし図１３に示す実施の形態において、インクジェットヘッド４２１として、ノズル４６６を略等間隔で略直線上でかつ２列設けて説明したが、２列に限らず、複数条とすることができる。また、等間隔でなくてもよく、直線上に列をなして配設しなくてもよい。
【０２７５】
そして、液滴吐出装置１６，４０１が製造に使用されるのは、カラーフィルタ１や液晶装置、ＥＬ装置、ＦＥＤ（Field Emission Display:フィールドエミッションディスプレイ）、ＰＤＰ（Plasma Display Panel:プラズマディスプレイパネル）、電気泳動装置すなわち荷電粒子を含有する機能性液状体であるインクを各画素の隔壁間の凹部に吐出し、各画素を上下に挟持するように配設される電極間に電圧を印加して荷電粒子を一方の電極側に寄せて各画素での表示をする装置、薄型のブラウン管、ＣＲＴ（Cathode-Ray Tube:陰極線管）ディスプレイなど、基板（基材）を有し、その上方の領域に所定の層を形成する工程を有する様々な電気光学装置に用いることができる。
【０２７６】
本発明の装置や方法は、電気光学装置を含む基板（基材）を有するデバイスであって、その基材に液滴を吐出する工程を用いることができる各種デバイスの製造工程において用いることができる。例えば、プリント回路基板の電気配線を形成するために、液状金属や導電性材料、金属含有塗料などをインクジェット方式にて吐出して金属配線などとする構成、燃料電池を構成する電極やイオン伝導膜等をインクジェット方式にて吐出して形成する構成、基材上に形成される微細なマイクロレンズをインクジェット方式による吐出にて光学部材を形成する構成、基板上に塗布するレジストを必要な部分だけに塗布するようにインクジェット方式にて吐出する構成、プラスチックなどの透光性基板などに光を散乱させる凸部や微小白パターンなどをインクジェット方式にて吐出形成して光散乱板を形成する構成、試薬検査装置などのように、ＤＮＡ（deoxyribonucleic acid:デオキシリボ核酸）チップ上にマトリクス配列するスパイクスポットにＲＮＡ（ribonucleic acid:リボ核酸）をインクジェット方式にて吐出させて蛍光標識プローブを作製してＤＮＡチップ上でハイブリタゼーションさせるなど、基材に区画されたドット状の位置に、試料や抗体、ＤＮＡ（deoxyribonucleic acid:デオキシリボ核酸）などをインクジェット方式にて吐出させてバイオチップを形成する構成などにも利用できる。
【０２７７】
また、液晶装置としても、ＴＦＴなどのトランジスタやＴＦＤのアクティブ素子を画素に備えたアクティブマトリクス液晶パネルなど、画素電極を取り囲む隔壁６を形成し、この隔壁６にて形成される凹部にインクをインクジェット方式にて吐出してカラーフィルタ１を形成するような構成のもの、画素電極上にインクとして色材および導電材を混合したものをインクジェット方式にて吐出して、画素電極上に形成するカラーフィルタ１を導電性カラーフィルタとして形成する構成、基板間のギャップを保持するためのスペーサの粒をインクジェット方式にて吐出形成する構成など、液晶装置の電気光学系を構成するいずれの部分にも適用可能である。
【０２７８】
さらに、カラーフィルタ１に限られず、液晶表示装置や（有機）ＥＬ装置など、他のいずれの電気光学装置に適用でき、ＥＬ装置としても、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色に対応するＥＬが帯状に形成されるストライプ型や、上述したように、各画素毎に発光層に流す電流を制御するトランジスタを備えたアクティブマトリックス型の表示装置、あるいはパッシブマトリックス型に適用するものなど、いずれの構成でもできる。
【０２７９】
そして、上記各実施の形態の電気光学装置が組み込まれる電子機器としては、例えば図２７に示すようなパーソナルコンピュータ４９０に限らず、図２８に示すような携帯電話４９１やＰＨＳ（Personal Handyphone System）などの携帯型電話機、電子手帳、ページャ、ＰＯＳ（Point Of Sales）端末、ＩＣカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、エンジニアリング・ワークステーション（Engineering Work Station:ＥＷＳ）、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装置、時計、ゲーム機器などの様々な電子機器に適用できる。
【０２８０】
また、カラーフィルタ１の隔壁６として透光性のない樹脂材料を用いる他、透光性の隔壁６として透光性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。この場合にあっては、フィルタエレメント３間に対応する位置、例えば隔壁６の上、隔壁６の下などに別途遮光性の金属膜あるいは樹脂材料を設けてブラックマスクとしても良い。また、透光性の樹脂材料で隔壁６を形成し、ブラックマスクを設けない構成としても良い。なお、本発明における「隔壁」は「バンク」の意味も含まれている言葉として使われ、基板から見てほぼ垂直な角度の側面や概ね９０度以上や未満の角度を持った側面を有する基板から見て凸になる部分を指す。
【０２８１】
また、フィルタエレメント３としてＲ、Ｇ、Ｂを用いたが、もちろんＲ、Ｇ、Ｂに限定されることはなく、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ、Ｇ、Ｂのフィルタエレメント材料１３に代えて、Ｃ、Ｍ、Ｙの色を有するフィルタエレメント材料１３を用いればよい。
【０２８２】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造や手順などとしてもよい。
【０２８３】
【発明の効果】
本発明によれば、液滴吐出ヘッドおよびコネクタを取付基板に取り付けた吐出手段を、複数のグループに分けて配列するとともに、取付基板におけるコネクタの配設された部分が他のグループにおいて配列した吐出手段と互いに対向しないように保持手段に配置し、液滴吐出ヘッドをノズルを有する一面が被吐出物の表面に沿う状態で相対的に移動させ、ノズルから液状体を被吐出物上の所定位置に適宜吐出するため、複数の液滴吐出ヘッドおよび対応するコネクタを別々に配設する場合に比して容易に組立でき、製造性を向上できる。また、コネクタが取付基板に配設される部分が他のグループの吐出手段と互いに対向することなく配置させるので、コネクタが配設された部分が液滴吐出ヘッドに対して対向方向と反対側である外側に向く状態となり、コネクタへの配線作業が容易で組立作業性を向上できるとともに、コネクタが位置する部分での電気ノイズが互いに影響し合うことを防止でき、安定した良好な液状体の吐出を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係るカラーフィルタ製造装置の液滴吐出装置の液滴吐出処理装置を示す一部を切り欠いた斜視図である。
【図２】  同上液滴吐出処理装置のヘッドユニットを示す平面図である。
【図３】  同上側面図である。
【図４】  同上正面図である。
【図５】  同上断面図である。
【図６】  同上ヘッド装置を示す分解斜視図である。
【図７】  同上インクジェットヘッドを示す分解斜視図である。
【図８】  同上インクジェットヘッドのフィルタエレメント材料を吐出する動作を説明する説明図である。
【図９】  同上インクジェットヘッドのフィルタエレメント材料の吐出量を説明する説明図である。
【図１０】  同上インクジェットヘッドの配置状態を説明する概略図である。
【図１１】  同上インクジェットヘッドの配置状態を説明する部分的に拡大した概略図である。
【図１２】  同上カラーフィルタの製造装置により製造されるカラーフィルタを示す模式図であって、（Ａ）はカラーフィルタの平面図で、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。
【図１３】  同上カラーフィルタを製造する手順を説明する製造工程断面図である。
【図１４】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の一部を示す回路図である。
【図１５】  同上表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【図１６】  同上表示装置の製造工程の前処理における手順を示す製造工程断面図である。
【図１７】  同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の吐出における手順を示す製造工程断面図である。
【図１８】  同上表示装置の製造工程のＥＬ発光材料の吐出における手順を示す製造工程断面図である。
【図１９】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【図２０】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置の画素領域の構造を示す拡大図であり、（Ａ）は平面構造で、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図２１】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図２２】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図２３】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図２４】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図２５】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図２６】  本発明の電気光学装置に係るＥＬ表示素子を用いた表示装置を製造する製造工程を示す製造工程断面図である。
【図２７】  同上電気光学装置を備えた電気機器であるパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図２８】  同上電気光学装置を備えた電気機器である携帯電話を示す斜視図である。
【図２９】  従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す図である。
【図３０】  本発明の電気光学装置の他の形態である表示装置を示す図であって、（ａ）は表示装置の平面模式図、（ｂ）は（ａ）のＡＢ線に沿う断面模式図。
【図３１】  同上表示装置の要部を示す図。
【図３２】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図３３】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図３４】  同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理装置の一例を示す平面模式図。
【図３５】  図３４に示したプラズマ処理装置の第１プラズマ処理室の内部構造を示す模式図。
【図３６】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図３７】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図３８】  同上表示装置の製造に用いるプラズマ処理装置の別の例を示す平面模式図。
【図３９】  同上表示装置の製造に用いる液滴吐出装置を示す平面図。
【図４０】  基体に対するインクジェットヘッドの配置状態を示す平面図。
【図４１】  インクジェットヘッドの１回の走査で正孔注入／輸送層を形成する場合の工程を示す工程図。
【図４２】  インクジェットヘッドの３回の走査で正孔注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程図。
【図４３】  インクジェットヘッドの２回の走査で正孔注入／輸送層１１０ａを形成する場合の工程を示す工程図。
【図４４】  本発明の電気光学装置の他の形態である表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図４５】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図４６】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図４７】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図４８】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図４９】  同上表示装置の製造方法を説明する工程図。
【図５０】  本発明のカラーフィルタの製造装置により製造されるカラーフィルタを備えた液晶装置の断面構成図である。
【符号の説明】
１    電気光学装置としてのカラー液晶パネルを構成するカラーフィルタ
１２    被吐出物としての基板（基材）であるマザー基板
１３    液状体としてのフィルタエレメント材料
４０５Ｒ（４０５Ｇ，４０５Ｂ）    吐出装置としてのカラーフィルタの製造装置である液滴吐出処理装置
４２１    インクジェットヘッド
４２５    移動手段を構成する主走査駆動手段としての主走査駆動装置
４２６    保持手段としてのキャリッジ
４２７    移動手段を構成する副走査駆動手段としての副走査駆動装置
４３３    吐出手段としてのヘッド装置
４３５    取付基板としてのプリント基板
４４１    コネクタ
４４２    電気配線
４６６    ノズル
４７８    供給管
４８３    給液手段としてのインクユニットを構成するタンク
５０１    電気光学装置である表示装置
５０２    被吐出物としての基板（基材）である表示基板
５４０Ａ，５４０Ｂ    液状体としての光学材料
Ｘ    主走査方向
Ｙ    副走査方向
【図１】
0004509469.tif 000002
【図２】
0004509469.tif 000003
【図３】
0004509469.tif 000004
【図４】
0004509469.tif 000005
【図５】
0004509469.tif 000006
【図６】
0004509469.tif 000007
【図７】
0004509469.tif 000008
【図８】
0004509469.tif 000009
【図９】
0004509469.tif 000010
【図１０】
0004509469.tif 000011
【図１１】
0004509469.tif 000012
【図１２】
0004509469.tif 000013
【図１３】
0004509469.tif 000014
【図１４】
0004509469.tif 000015
【図１５】
0004509469.tif 000016
【図１６】
0004509469.tif 000017
【図１７】
0004509469.tif 000018
【図１８】
0004509469.tif 000019
【図１９】
0004509469.tif 000020
【図２０】
0004509469.tif 000021
【図２１】
0004509469.tif 000022
【図２２】
0004509469.tif 000023
【図２３】
0004509469.tif 000024
【図２４】
0004509469.tif 000025
【図２５】
0004509469.tif 000026
【図２６】
0004509469.tif 000027
【図２７】
0004509469.tif 000028
【図２８】
0004509469.tif 000029
【図２９】
0004509469.tif 000030
【図３０】
0004509469.tif 000031
【図３１】
0004509469.tif 000032
【図３２】
0004509469.tif 000033
【図３３】
0004509469.tif 000034
【図３４】
0004509469.tif 000035
【図３５】
0004509469.tif 000036
【図３６】
0004509469.tif 000037
【図３７】
0004509469.tif 000038
【図３８】
0004509469.tif 000039
【図３９】
0004509469.tif 000040
【図４０】
0004509469.tif 000041
【図４１】
0004509469.tif 000042
【図４２】
0004509469.tif 000043
【図４３】
0004509469.tif 000044
【図４４】
0004509469.tif 000045
【図４５】
0004509469.tif 000046
【図４６】
0004509469.tif 000047
【図４７】
0004509469.tif 000048
【図４８】
0004509469.tif 000049
【図４９】
0004509469.tif 000050
【図５０】
0004509469.tif 000051