(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷用マスク材に所定の印刷パターンからなる開口が形成された印刷用マスクを被印刷体に対向配置し、該印刷用マスクの開口内にペーストを充填した後、該印刷用マスクを被印刷体から剥離することによって、該印刷用マスクの開口を通して該開口内に充填したペーストを被印刷体上に印刷する印刷用マスクの製造方法であって、
上記印刷用マスクがプラスチックマスクで構成され、該印刷用マスクの開口の内壁面のコーティング膜形成面に紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に、ペルフルオロ（４−ビニルオキシ−１−ブテン）重合物からなるフッ素系樹脂をトリス（パーフルオロブチル）アミンからなる希釈液に溶解した撥水処理剤を塗布してコーティング膜を形成することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項２】
請求項１の印刷用マスクの製造方法において、
上記コーティング膜を、上記印刷用マスクの被印刷体との対向面にも形成することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２の印刷用マスクの製造方法において、
上記コーティング膜を、上記印刷用マスクの被印刷体との非対向面にも形成することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項４】
請求項１の印刷用マスクの製造方法であって、
上記印刷用マスク材の表面及び裏面に保護膜をラミネートして、該印刷用マスク材に上記所定の印刷パターンからなる開口を形成し、該保護膜がラミネートされたままの状態で、少なくとも該開口の内壁面に上記コーティング膜を形成した後、該保護膜を除去することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項５】
請求項２の印刷用マスクの製造方法であって、
上記印刷用マスク材の上記被印刷体との非対向面に保護膜をラミネートして、該印刷用マスク材に上記所定の印刷パターンからなる開口を形成し、該保護膜がラミネートされたままの状態で、少なくとも該開口の内壁面及び該印刷用マスク材の被印刷体との対向面に上記コーティング膜を形成した後、該保護膜を除去することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、
上記紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面にイソプロピルアルコールを塗布した後、該イソプロピルアルコールが塗布されたコーティング膜形成面に上記撥水処理剤を塗付して上記コーティング膜を形成することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、
上記コーティング膜形成面に塗布される撥水処理剤の濃度が０．１〜１％であることを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、
上記コーティング膜形成面に塗布した撥水処理剤を常温で乾燥することを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、
上記コーティング膜形成面に塗布される撥水処理剤が、該コーティング膜形成面の表面電荷の極性と反対の極性に帯電されていることを特徴とする印刷用マスクの製造方法。
【請求項１０】
印刷用マスク材に所定の印刷パターンからなる開口が形成された印刷用マスクを被印刷体に対向配置し、該印刷用マスクの開口内にペーストを充填した後、該印刷用マスクを被印刷体から剥離することによって、該印刷用マスクの開口を通して該開口内に充填したペーストを被印刷体上に印刷するプラスチックマスクで構成された印刷用マスクであって、
請求項１乃至９のいずれかの印刷マスクの製造方法で製造されたことを特徴とする印刷用マスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、印刷用マスク及びその製造方法に係り、詳しくは、プリント基板やシリコンウエハーなどにクリーム半田、銀ペースト、金ペースト、Ｃｒペーストなどを印刷してバンプや電子回路などを形成するための所定の印刷パターンからなる開口が形成された印刷用マスク及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント基板やシリコンウエハーなどの被印刷体上に、クリーム半田、銀ペースト、金ペースト、Ｃｒペースト、あるいはペースト状の樹脂など（以下、「ペースト」という）を印刷する方法として、印刷用マスク材に所定の印刷パターンからなる開口が形成された印刷用マスクを被印刷体に対向配置し、該印刷用マスクの開口内にペーストを充填した後、該印刷用マスクを被印刷体から剥離することによって、該印刷用マスクの開口を通して該開口内に充填したペーストを被印刷体上に印刷する方法が知られている。
このようなペースト印刷に用いられる印刷用マスクとしては、ステンレススチールや銅、銅合金あるいは鉄、鋼、ニッケルまたはこれら合金の電鋳品などのいわゆる金属板などを印刷用マスク材とするメタルマスクや、ＰＭＭＡ（熱可塑性アクリル樹脂）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＳ（ポリスチレン）、ＰＳＦ（ポリスルフォン）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＵＶ硬化アクリル樹脂、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）などを印刷用マスク材とするプラスチックマスク等が用いられている。
また、上記印刷用マスクは、周知のように、エッチング法、アディティブ法、パンチプレス加工、ＹＡＧレーザによる熱加工、エキシマレーザによる非熱加工（アブレーション加工）等により製造される。なお、微細な開口が穿孔される印刷用マスクでは、ハーフエッチング加工が施されることもある。
【０００３】
図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に、上記印刷用マスクを用いて被印刷体にペーストを印刷する過程を示す。まず、図５（ａ）に示すように、上記金属板やプラスチック板などの印刷用マスク材に所定の印刷パターンからなる開口１ａが形成された印刷用マスク１を、被印刷体２に対向配置する。次いで、図５（ｂ）に示すように、例えばゴムブレードなどからなるスキージ３によりペースト４をスキージングして、該印刷用マスク１の開口１ａ内にペースト４を充填する。この後、図５（ｃ）に示すように、該印刷用マスク１を被印刷体２から剥離する。これにより、該印刷用マスク１の開口１ａ内に充填されたペースト４が、該開口１ａから抜けて被印刷体２上に印刷される。
【０００４】
このような印刷用マスク１を用いて被印刷体２に印刷されたペースト４の印刷品質は、図５（ｄ）に示すような印刷用マスク１の開口１ａ内に充填されたペースト４の開口周縁部１ｂへの滲み出しの有無、及び、被印刷体２から剥離される印刷用マスク１の開口１ａからのペースト４の版抜け性の善し悪しによって左右される。
このペースト４の開口周縁部１ｂへの滲み出しの有無は、印刷用マスク1と被印刷体２との間の隙間の有無によって左右されるが、さらに、印刷用マスク１の被印刷体２との対向面の撥水性（表面エネルギー）によって大きく影響される。また、該印刷用マスク１の開口１ａからのペースト４の版抜け性の善し悪しは、該印刷用マスク１における開口１ａの内壁面１ｃの平滑度（表面粗さ）や濡れ性（撥水性）によって大きく影響されることが知られている。
【０００５】
すなわち、この種の印刷用マスク１においては、その被印刷体２との対向面の撥水性（表面エネルギー）が高いほど、該対向面に付着したペースト４の体積がその表面エネルギーによって小さくなろうとするので、該印刷用マスク１と被印刷体２との隙間への毛管現象によるペースト４の浸潤が阻止されて、該ペースト４の開口周縁部１ｂへの滲み出しが低減され、被印刷体２へのペースト４の印刷品質が向上される。
一方、印刷用マスク１が被印刷体２から剥離される際の該印刷用マスク１の開口１ａからのペースト４の版抜けは、該開口１ａ内に充填されたペースト４の被印刷体２へのタッキング力（粘着力）が、開口１ａの内壁面１ｃとペースト４との間に生じるズリ応力よりも大きくなることによって起こる。従って、この印刷用マスク１においては、その開口１ａの内壁面１ｃの平滑度が高く（表面粗さが小さく）、且つ、ペースト４に対する該内壁面１ｃの濡れ性が低い（撥水性が高い）ほど、該内壁面１ｃと該ペースト４との滑りが大きくなり、該内壁面１ｃと該ペースト４とのズリ応力が小さくなって、該印刷用マスク１の開口１ａからのペースト４の版抜け性が良好になり、被印刷体２へのペースト４の印刷品質が向上される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、前記従来の印刷用マスク、例えば、前記メタルマスクにおいては、その加工方法によっても異なるが、その開口の内壁面の平滑度が低下（表面粗さが増大）して、該内壁面とペーストとの間に生じるズリ応力が、該ペーストの被印刷体へのタッキング力（粘着力）よりも大きくなり、該メタルマスクの開口からのペーストの版抜け性が悪化することがあった。
また、前記プラスッチックマスクにおいては、例えば、エキシマレーザ等のアブレーション加工に伴う開口の内壁面の表面改質（樹脂の官能基の露出）により、該内壁面の濡れ性が増大（撥水性が低下）されてしまうため、該内壁面とペーストとの間のズリ応力が、該ペーストの被印刷体へのタッキング力（粘着力）よりも大きくなって、該プラスチックマスクの開口からのペーストの版抜け性が低下することがあった。
【０００７】
このため、この種の従来の印刷用マスクにおいては、上述のような開口からのペーストの版抜け性の低下によって、該ペーストが被印刷体に印刷されずに開口に目詰まりしたり、該ペーストが糸引き状に細くなって、隣接する印刷部に倒れ込むことによって不要な接触を発生させたりして、該ペーストの被印刷体への印刷品質が悪化する不具合があった。また、この種の従来の印刷用マスクにおいては、その開口内に充填されたペーストの開口周縁部への滲み出しに対しても有効な対策が講じられていなかった。
【０００８】
なお、このような印刷用マスクの開口内壁面の撥水性を高めるために、該内壁面にニッケルテフロン複合メッキを施す方法がある。この印刷用マスクにおいては、該メッキ処理が施された当初の状態では、図６（ａ）に示すように、その開口１ａの内壁面１ｃを覆うようにメッキされたテフロン粒子５によって、開口１ａの内壁面１ｃの撥水性が高い状態になっている。しかしながら、上記テフロン粒子５は、周知のように、比較的軟質であるため、この印刷用マスクにおいては、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示したようなペースト印刷が繰り返し行われることによって、該内壁面１ｃにメッキされたテフロン粒子５が、図６（ｂ）に示すように、該開口１ａの内壁面１ｃ部が磨耗したり離脱したりして、該開口１ａの内壁面１ｃの平滑度（表面粗さ）が却って悪化してしまい、ペーストの印刷性が悪化してしまう不具合があった。
【０００９】
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、ペーストに対する版抜け性及び撥水性が良好な開口内壁面を有する印刷用マスク及びその製造方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、印刷用マスク材に所定の印刷パターンからなる開口が形成された印刷用マスクを被印刷体に対向配置し、該印刷用マスクの開口内にペーストを充填した後、該印刷用マスクを被印刷体から剥離することによって、該印刷用マスクの開口を通して該開口内に充填したペーストを被印刷体上に印刷する印刷用マスクの製造方法であって、上記印刷用マスクがプラスチックマスクで構成され、該印刷用マスクの開口の内壁面のコーティング膜形成面に紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に、ペルフルオロ（４−ビニルオキシ−１−ブテン）重合物からなるフッ素系樹脂をトリス（パーフルオロブチル）アミンからなる希釈液に溶解した撥水処理剤を塗布してコーティング膜を形成することを特徴とするものである。
【００１１】
この印刷用マスクの製造方法においては、印刷用マスクがプラスチックマスクで構成され、該印刷用マスクの開口の内壁面のコーティング膜形成面に紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に、ペルフルオロ（４−ビニルオキシ−１−ブテン）重合物がトリス（パーフルオロブチル）アミンに溶解された撥水処理剤が塗布されてコーティング膜が形成される。この撥水処理剤は、水の接触角で１１０（ｄｅｇ）という高い撥水性を有している（詳しくは後述する）。従って、該撥水処理剤からなるコーティング膜が印刷用マスクの開口の内壁面に形成されることにより、該内壁面の平滑度が高く（表面粗さが小さく）なり、且つ、ペーストに対する該内壁面の濡れ性が低く（撥水性が高く）なる。これにより、この印刷用マスクにおいては、該開口の内壁面と該ペーストとの滑りが大きくなり、該内壁面と該ペーストとのズリ応力が小さくなって、該印刷用マスクの開口からのペーストの版抜け性が良好になり、被印刷体へのペーストの印刷品質が向上される。
ここで、上記印刷用マスクがプラスチックマスクで構成されている場合には、該印刷用マスクのコーティング膜形成面に上記撥水処理剤（サイトップ）を単に塗布してコーティング膜を形成する方法では、該コーティング膜形成面から撥水処理剤が弾かれてしまいコーティング膜を形成することが非常に困難となる。また、仮に、コーティング膜形成面に撥水処理剤を単に塗布してコーティング膜を形成できた場合でも、該コーティング膜形成面に対するコーティング膜の固着力が小さくなる。ちなみに、本発明者が行った摺擦試験（詳しくは後述する）によれば、単に塗布して形成したコーティング膜は容易に剥がれてしまう程度であった。これは、上述した撥水処理剤自体が高い撥水性を有しているためと思われる。
そこで、この印刷用マスクの製造方法においては、上記プラスチックマスクのコーティング膜形成面に紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に上記撥水処理剤を塗付してコーティング膜を形成する。これにより、上記アモルファスフッ素系樹脂がプラスチックマスクのコーティング膜形成面に極めて強固に固着され、コーティング膜形成面に撥水性及び固着力の高いコーティング膜が形成される。このように、コーティング膜形成面に対してアモルファスフッ素系樹脂が極めて強固に固着される理由としては、該コーティング膜形成面に紫外レーザ光が照射されることにより、プラスチックマスクの紫外レーザ光照射部表面が改質され、該コーティング膜形成面に新たな官能基が生成されることによるものと考えられる。なお、上記レーザー光照射工程で上記被処理面に照射する紫外レーザー光としては、例えば、プラスチックの被処理面に紫外域の高強度パルス光を発振するエキシマレーザー光を用いることができる。エキシマレーザー光は、上記プラスチックの被処理面をアブレーション（ダイレクトエッチング）により容易に表面改質できる。また、エキシマレーザー光は、ヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンもしくはクリプトンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー等の他のレーザー光と比較して、ビーム形状が大きく、ビームを走査させながら任意の改質すべき被処理面を照射することができるので、大面積の被処理面を容易に改質させることが可能となる。
【００１２】
請求項２の発明は、請求項１の印刷用マスクの製造方法において、上記コーティング膜を、上記印刷用マスクの被印刷体との対向面にも形成することを特徴とするものである。
【００１３】
前述したように、上記印刷用マスクの開口内に充填されたペーストの開口周縁部への滲み出しの有無は、該印刷用マスクの被印刷体との対向面の撥水性（表面エネルギー）によって大きく影響される。つまり、該印刷用マスクの被印刷体との対向面が撥水性の高い表面状態であれば、該対向面に付着したペーストの体積がその表面エネルギーによって小さくなろうとするので、該印刷用マスクと被印刷体との隙間への毛管現象によるペーストの浸潤が阻止されて、該ペーストの開口周縁部への滲み出しが低減される。そこで、この印刷用マスクの製造方法においては、上記コーティング膜を上記印刷用マスクの被印刷体との対向面にも形成する。これにより、該印刷用マスクの被印刷体との対向面の撥水性（表面エネルギー）が高くなり、ペーストの開口周縁部への滲み出しが低減されて、被印刷体へのペーストの印刷品質が向上される。
【００１４】
請求項３の発明は、請求項１または２の印刷用マスクの製造方法において、上記コーティング膜を、上記印刷用マスクの被印刷体との非対向面にも形成することを特徴とするものである。
【００１５】
この種の印刷用マスクの被印刷体との非対向面、すなわち、前記スキージによりペーストがスキージングされる面は、該スキージング時におけるペーストの空滑りを防止するために、ある程度の濡れ性を有していることが好ましいとされている。しかしながら、上記ペーストが、該印刷用マスクの被印刷体との非対向面の状態に影響を受けないようなものである場合、あるいは、被印刷体と印刷用マスクとを重ね合わせた状態で、ペーストを充填させるための充填部材により、該印刷用マスクの開口にペーストを圧入して充填するようにした場合には、この非対向面に付着したペーストの除去を円滑に行えるようにするために、該印刷用マスクの被印刷体との非対向面はできるだけ該ペーストに対する撥水性が高い滑りの大きな面とすることが望ましい。
そこで、この印刷用マスクの製造方法においては、該印刷用マスクの被印刷体との非対向面にも上記コーティング膜を形成する。これにより、上記ペーストに対する該印刷用マスクの被印刷体との非対向面の撥水性が向上され、該ペーストのスキージングや該被対向面に付着した除去を容易に行えるようになる。
【００１６】
請求項４の発明は、請求項１記載の印刷用マスクの製造方法であって、上記印刷用マスク材の表面及び裏面に保護膜をラミネートして、該印刷用マスク材に上記所定の印刷パターンからなる開口を形成し、該保護膜がラミネートされたままの状態で、少なくとも該開口の内壁面に上記コーティング膜を形成した後、該保護膜を除去することを特徴とするものである。
【００１７】
この印刷用マスクの製造方法においては、まず、該印刷用マスク材の表面及び裏面に保護膜がラミネートされる。次いで、この状態で、該印刷用マスク材に上記所定の印刷パターンからなる開口が形成される。そして、該保護膜がラミネートされたままの状態で、少なくとも該開口の内壁面に上記コーティング膜が形成される。その後、該保護膜が除去される。これにより、上記印刷用マスク材の表面及び裏面への上記撥水処理剤の付着が防止されるので、該印刷用マスク材の開口の内壁面のみにコーティング膜が形成された印刷用マスクを比較的容易に製造できる。
【００１８】
請求項５の発明は、請求項２記載の印刷用マスクの製造方法であって、上記印刷用マスク材の上記被印刷体との非対向面に保護膜をラミネートして、該印刷用マスク材に上記所定の印刷パターンからなる開口を形成し、該保護膜がラミネートされたままの状態で、少なくとも該開口の内壁面及び該印刷用マスク材の被印刷体との対向面に上記コーティング膜を形成した後、該保護膜を除去することを特徴とするものである。
【００１９】
この印刷用マスクの製造方法においては、まず、該印刷用マスク材の上記被印刷体との非対向面に保護膜がラミネートされる。次いで、この状態で、該印刷用マスク材に上記所定の印刷パターンからなる開口が形成される。そして、該保護膜がラミネートされたままの状態で、少なくとも該開口の内壁面及び該印刷用マスク材の被印刷体との対向面に上記コーティング膜が形成される。その後、該保護膜が除去される。これにより、上記印刷用マスク材の上記被印刷体との非対向面への上記撥水処理剤の付着が防止されるので、該印刷用マスク材の開口の内壁面及び該印刷用マスク材の被印刷体との対向面のみにコーティング膜が形成された印刷用マスクを比較的容易に製造できる。
【００２２】
請求項６の発明は、請求項１乃至５のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、上記紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面にイソプロピルアルコールを塗布した後、該イソプロピルアルコールが塗布されたコーティング膜形成面に上記撥水処理剤を塗付して上記コーティング膜を形成することを特徴とするものである。
【００２３】
この印刷用マスクの製造方法においては、プラスチックマスクのコーティング膜形成面への上記撥水処理剤の塗付に先立って、該プラスチックマスクの紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）が塗布される。これにより、上記アモルファスフッ素系樹脂のコーティング膜形成面に対する固着力が増大され、プラスチックマスクに形成されるコーティング膜の固着力が向上される。これは、該コーティング膜形成面にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）が塗布されることで、該イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の洗浄作用により、該プラスチックマスクの紫外レーザ光照射部表面（コーティング膜形成面）に付着して該アモルファスフッ素系樹脂とコーティング膜形成面との固着力を低下させるバインダ成分（不純物）が除去されることによるものと考えられる。
【００２４】
請求項７の発明は、請求項１乃至６のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、上記コーティング膜形成面に塗布される撥水処理剤の濃度が０．１〜１％であることを特徴とするものである。
【００２５】
この印刷用マスクの製造方法においては、撥水処理剤の濃度が０．１〜１％であるので、プラスチックマスクに形成されるコーティング膜の撥水性が向上される。ちなみに、該濃度の撥水処理剤を用いて形成されたコーティング膜には水滴を固着させることが困難なため、該コーティング膜に対する水滴の接触角を正確に測定できなくなるほどの超撥水性を示した。
【００２６】
請求項８の発明は、請求項１乃至７のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、上記コーティング膜形成面に塗布した撥水処理剤を常温で乾燥することを特徴とするものである。
【００２７】
この印刷用マスクの製造方法においては、プラスチックマスクのコーティング膜形成面に塗布された撥水処理剤が常温で乾燥されるので、該撥水処理剤を加熱乾燥させた場合に発生する該プラスチックマスクの熱影響による変形や寸法精度の悪化を防止することができる。これにより、プラスチックマスクのコーティング膜形成面に塗布された撥水処理剤を乾燥させる際に、該プラスチックマスクの印刷パターン（開口）が熱影響により変形することがなく、印刷精度の高いプラスチックマスクが得られる。
【００２８】
請求項９の発明は、請求項１乃至８のいずれかの印刷用マスクの製造方法において、上記コーティング膜形成面に塗布される撥水処理剤が、該コーティング膜形成面の表面電荷の極性と反対の極性に帯電されていることを特徴とするものである。
【００２９】
この印刷用マスクの製造方法においては、プラスチックマスクのコーティング膜形成面に対して撥水処理剤が静電的な固着力により塗布される。なお、該撥水処理剤を帯電させる方法としては、例えば、所定の電界雰囲気中に霧状化（ミスト化）した該撥水処理剤を噴霧する方法を用いることができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用した印刷用マスクの実施形態について説明する。
本実施形態に係る印刷用マスク１は、図１に示すように、該印刷用マスク１の開口１ａの内壁面１ｃに、コーティング膜６が形成されている。ここで、上記コーティング膜６は、ペルフルオロ（４−ビニルオキシ−１−ブテン）重合物からなるアモルファスフッ素系樹脂がトリス（パーフルオロブチル）アミンからなる希釈液に溶解された撥水処理剤を塗布・乾燥することにより形成される。
【００３１】
上記ペルフルオロ（４−ビニルオキシ−１−ブテン）重合物は、ガラス転移温度（℃）１０８、融点（℃）無し、密度（ｇ／ｃｍ２）２．０３、臨海表面張力ｒｃ（ｍＮ／ｍ）１９、吸水率（％）０．０１未満、デュロメーター硬度ＨＤＤ７８、線膨張係数（ｃｍ／ｃｍ／℃）７．４×１０−５等の物理特性を有するアモルファスフッ素系樹脂である（化学式；（Ｃ６Ｆ１０Ｏ）ｎ、化学名；フッ素系樹脂、化審法番号６−２０９２、Cas番号１０１１８２−８９−２）。
上記撥水処理剤は、上記アモルファスフッ素系樹脂を、上記希釈液；トリス（パーフルオロブチル）アミン（化学式；（Ｃ４Ｆ９）３Ｎ、化学名；ＴＦＰＡ、化審法番号２−１７３、Cas番号３１１−８９−７）に溶解したものである。
【００３２】
この撥水処理剤は、旭硝子株式会社製造のサイトップ（商品名）として市販されており、水の接触角で１１０（ｄｅｇ）という高い撥水性を有している。従って、印刷用マスク１の開口１ａの内壁面１ｃに該撥水処理剤を塗付してコーティング膜６形成することにより、内壁面１ｃの平滑度が高く（表面粗さが小さく）、且つ、ペーストに対する内壁面１ｃの濡れ性が低い（撥水性が高く）印刷用マスク１を得ることができる。
この印刷用マスク１は、その開口１ａの内壁面１ｃとペースト４との滑りが大きく、該内壁面１ｃと該ペースト４とのズリ応力が小さくなるので、該開口１ａに充填されたペースト４の版抜け性が良好になり、前記被印刷体２へのペースト４の印刷品質を向上させることができる。
【００３３】
ところで、図５（ｄ）に示したように、上記印刷用マスク１の開口１ａ内に充填されたペースト４が、印刷用マスク１の剥離時（引き上げ時）の毛管現象によって開口周縁部１ｂへ滲み出すか否かは、該印刷用マスク１の被印刷体２との対向面（ここでは、下面）の撥水性（表面エネルギー）によって大きく影響される。つまり、該印刷用マスク１の被印刷体２との対向面が撥水性の高い表面状態であれば、該対向面に付着したペースト４の体積がその表面エネルギーによって小さくなろうとする。これにより、該印刷用マスク１と被印刷体２との隙間への毛管現象によるペーストの浸潤が阻止されて、該ペースト４の開口周縁部１ｂへの滲み出しが低減される。また、印刷用マスク１の剥離時（引き上げ時）に、充填されたペースト４が開口１ａ内から無理に引っ張り出される現象も防止できるようになる。
【００３４】
そこで、上記印刷用マスク１としては、図２に示すように、その開口１ａの内壁面１ｃのほか、該印刷用マスク１の被印刷体２との対向面（ここでは、下面）にも、上記コーティング膜６を形成したものであってもよい。この印刷用マスク１は、その被印刷体２との対向面の撥水性（表面エネルギー）が高く、ペースト４の開口周縁部１ｂへの滲み出しを低減できるので、被印刷体２へのペースト４の印刷品質を向上させることができる。
【００３５】
一方、この種の印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面、すなわち、図５（ｂ）に示したように、前記スキージ３によりペースト４がスキージングされる面（ここでは、上面）は、該スキージング時におけるペースト４の空滑りを防止するために、ある程度の濡れ性を有していることが好ましいとされている。
しかしながら、上記ペースト４が、該印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面（上面）の状態に影響を受けないようなものである場合には、この非対向面に付着したペースト４の除去を円滑に行えるようにする上でも、該印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面は、できるだけ該ペースト４に対する撥水性が高い滑りの大きな面であることが望ましい。また、このように、印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面を、ペースト４に対する撥水性が高い滑りの大きな面とすることによって、本発明者が提案した特願平１０−９２３１６に示されるように、被印刷体２と印刷用マスク１とを重ね合わせた状態で、ペースト４を充填させるための充填部材（スキージ）により、該印刷用マスク１の開口１ａにペースト４を圧入して充填するようにした場合のスキージング時におけるスキージの滑りを改善することが可能となる。
【００３６】
そこで、上記印刷用マスク１としては、図３（ａ）に示すように、該印刷用マスク１の開口１ａの内壁面１ｃと、該印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面（上面）とに、上記コーティング膜６を形成したもの、または、図３（ｂ）に示すように、該印刷用マスク１の開口１ａの内壁面１ｃ、及び、該印刷用マスク１の被印刷体２との対向面（下面）と、該印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面（上面）とに、上記コーティング膜６を形成したものであってもよい。この印刷用マスク１においては、該印刷用マスク１の被印刷体との非対向面のペースト４に対する撥水性が向上されるので、該印刷用マスク１の被印刷体２との非対向面に付着したペースト４の除去やスキージングを容易に行えるようになる。
【００３７】
次に、図１に示した印刷用マスク１の製造方法について説明する。
この印刷用マスク１を製造するには、まず、図４（ａ）に示すように、印刷用マスク材１Ａの表面（上面）及び裏面（下面）に、樹脂フィルムなどからなる保護膜７，８をラミネートする。次いで、この保護膜７，８がラミネートされたままの状態で、図４（ｂ）に示すように、該印刷用マスク材１Ａに所定の印刷パターンからなる上記開口１ａを形成する。そして、該保護膜７，８がラミネートされたままの状態で、図４（ｃ）に示すように、該開口１ａの内壁面１ｃをカバーするように上記撥水処理剤（サイトップ）９をコーティングして、少なくとも該開口１ａの内壁面１ｃに上記コーティング膜６を形成する。その後、図４（ｄ）に示すように、該印刷用マスク材１Ａの表面（上面）及び裏面（下面）にラミネートされた保護膜７，８を除去する。
これにより、上記印刷用マスク材１Ａの表面（上面）及び裏面（下面）への上記撥水処理剤９の付着が防止されるので、該印刷用マスク材１Ａの開口１ａの内壁面１ｃのみに該撥水処理剤９からなるコーティング膜６が形成された図１に示すような印刷用マスク１が製造される。
【００３８】
ここで、図４（ｂ）に示した工程において、上記印刷用マスク材１Ａの前記被印刷体２との非対向面（ここでは、上面）のみに上記保護膜７をラミネートして、図４（ｃ）、（ｄ）に示した工程を実行すれば、該印刷用マスク材１Ａの前記被印刷体２との非対向面（上面）への上記撥水処理剤９の付着が防止されるので、該印刷用マスク材１Ａの開口１ａの内壁面１ｃ及び該印刷用マスク材１Ａの被印刷体２との対向面（下面）のみに該撥水処理剤９からなるコーティング膜６が形成された図２に示したような印刷用マスク１を製造できる。
【００３９】
また、図４（ｂ）に示した工程において、上記印刷用マスク材１Ａの前記被印刷体２との対向面（ここでは、下面）のみに上記保護膜８をラミネートして、図４（ｃ）、（ｄ）に示した工程を実行すれば、該印刷用マスク材１Ａの前記被印刷体２との対向面（下面）への上記撥水処理剤９の付着が防止されるので、該印刷用マスク材１Ａの開口１ａの内壁面１ｃ及び該印刷用マスク材１Ａの被印刷体２との非対向面（上面）のみに該撥水処理剤９からなるコーティング膜６が形成された図３（ａ）に示したような印刷用マスク１を製造できる。
【００４０】
更に、図４（ｂ）に示した工程において、上記印刷用マスク材１Ａの表面（上面）及び裏面（下面）の何れにも上記保護膜７，８をラミネートせずに、図４（ｃ）、（ｄ）に示した工程を実行すれば、該印刷用マスク材１Ａの開口１ａの内壁面１ｃと、該印刷用マスク材１Ａの被印刷体２との非対向面（上面）及び対向面（下面）とに該撥水処理剤９からなるコーティング膜６が形成された図３（ｂ）に示したような印刷用マスク１が製造される。
【００４１】
ここで、上記保護膜７，８は、該印刷用マスク材１Ａから剥離されるまで、該印刷用マスク材１Ａの搬送時や加工時などにおける該印刷用マスク材１Ａの表面もしくは裏面の傷付きや粉塵等の付着を防止する機能も有している。
【００４２】
一方、図４（ｃ）に示した上記印刷用マスク材１Ａへの撥水処理剤９のコーティングに際しては、該印刷用マスク材１Ａの材質に応じて、シランカップリング剤処理や、プライマー処理などの前処理を行って、該印刷用マスク材１Ａに対する撥水処理剤９の密着性を付与することが好ましい。
例えば、上記印刷用マスク材１Ａの材質が、ガラス類の場合には上記シランカップリング剤処理、プラスチック類の場合には上記プライマー処理を行うことが好ましい。なお、上記印刷用マスク材１Ａの材質が金属の場合には、特に前処理を必要としないが、ガラス類と同様のシランカップリング剤処理も有効である。
ここで、上記シランカップリング剤処理は、例えば、エタノールまたは水などを希釈溶剤とする濃度＝０．０５〜１％のシランカップリング剤：Ｈ２ＮＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３などに、上記印刷用マスク材１Ａを１〜３０分浸漬し、キュア＝３０分×１８０℃後、エタノール洗を行う処理である。
また、上記プライマー処理は、例えば、希釈（０．１〜１ｗｔ％）したプライマーを用いて、キュアする処理である。ここで、該印刷用マスク材１Ａの材質が、熱硬化性樹脂の場合には、事前にコロナ放電処理等が必要となる。
【００４３】
また、上記撥水処理剤９のコーティング後の乾燥方法としては、乾燥時間を１時間とした場合、乾燥後膜厚が０．５μm以下の場合には８０℃以上、乾燥後膜厚が１μm程度の場合には１２０℃以上、乾燥後膜厚が３μm程度の場合には１４０℃以上、乾燥後膜厚が５μm以上の場合には１５０℃以上（望ましくは１８０℃）、の乾燥条件が目安となる。特に、乾燥後膜厚が２〜３μm以上で、表面の平滑性が必要な場合の乾燥条件としては、例えば、５０℃０．５時間（以上）、昇温１時間（ｔｏ１８０℃）、１８０℃１時間とすることが望ましい。
更に、上記撥水処理剤９のコーティング方法としては、上記コーティング膜６の膜厚が１０μm以下の場合にはスピンコートやスプレー、該膜厚が１μm以下の場合にはディップコート（浸漬引き上げ）、該膜厚が１〜２０μmの場合にはポッティング（滴下）が適している。
【００４４】
ところで、上記印刷用マスク１がプラスチックマスクで構成されている場合には、該プラスチックマスクのコーティング膜形成面に上記撥水処理剤（サイトップ）を単に塗布してコーティング膜を形成する方法では、該コーティング膜形成面から撥水処理剤が弾かれてしまいコーティング膜を形成することが非常に困難となる。また、仮に、コーティング膜形成面に撥水処理剤を単に塗布してコーティング膜を形成できた場合でも、該コーティング膜形成面に対するコーティング膜の固着力が小さくなる。ちなみに、本発明者が行った摺擦試験（詳しくは後述する）によれば、単に塗布して形成したコーティング膜は容易に剥がれてしまう程度であった。これは、上述したように、市販されている撥水処理剤（サイトップ）自体が高い撥水性を有しているためと思われる。
【００４５】
そこで、上記印刷用マスク１の製造方法としては、上記プラスチックマスクのコーティング膜形成面に紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に上記撥水処理剤を塗付してコーティング膜を形成することが好ましい。すなわち、プラスチックマスクのコーティング膜形成面に紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に上記撥水処理剤を塗付することによって、上記アモルファスフッ素系樹脂がプラスチックマスクのコーティング膜形成面に極めて強固に固着され、コーティング膜形成面に撥水性及び固着力の高いコーティング膜が形成される。このように、コーティング膜形成面に対してアモルファスフッ素系樹脂が極めて強固に固着される理由としては、該コーティング膜形成面に紫外レーザ光が照射されることにより、プラスチックマスクの紫外レーザ光照射部表面が改質され、該コーティング膜形成面に新たな官能基が生成されることによるものと考えられる。
【００４６】
図７に、上述のように、紫外レーザ光を照射した後、該紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に上記撥水処理剤を塗付・乾燥してコーティング膜を形成する撥水処理方法の一例を示す。
この撥水処理方法においては、レーザ光照射工程及び撥水処理剤塗布工程が順に実行される。
まず、上記レーザ光照射工程では、図７（ａ）に示すように、処理対象となるＰＥＴやポリイミド等のプラスチック素材で構成されたプラスチックマスク１０の撥水処理を施すコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０が照射される。このように、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０が照射されることにより、プラスチックマスク１０の紫外レーザ光照射部表面（プラスチック表面）が改質され、該コーティング膜形成面１０ａに新たな官能基が生成される。なお、紫外レーザ光の照射によってプラスチックの紫外レーザ光照射部表面が改質されて新たな官能基が生成されることは、Ｓ．ラザレ等の報告（Ｓ．Ｌａｚａｒｅ  ａｎｄ  Ｒ．Ｓｒｉｎｉｖａｓａｎ，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．９０，ｐ．２１２４（１９８６）．）で明らかにされている。
【００４７】
次いで、上記撥水処理剤塗布工程では、図７（ｂ）に示すように、上記レーザ光照射工程において紫外レーザ光が照射されて表面改質されたプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに撥水処理剤３０が塗布される。この撥水処理剤塗布工程においてコーティング膜形成面１０ａに塗布される撥水処理剤３０としては、前述したサイトップを使用する。
【００４８】
次いで、上記撥水処理剤塗布工程においてプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに塗布された撥水処理剤３０を、上記撥水処理剤乾燥工程で乾燥させる。これにより、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに生成された官能基の作用によってコーティング膜形成面１０ａに上記アモルファスフッ素系樹脂が極めて強固に固着され、図１（ｃ）に示すように、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに撥水性及び固着力の高いコーティング膜４０が形成される。
【００４９】
ここで、上記レーザ光照射工程で使用される紫外レーザ光２０としては、その照射によりプラスチックマスク１０の紫外レーザ光照射部表面を改質してコーティング膜形成面１０ａに新たな官能基を生成させるものであれば何でもよいが、例えば、エキシマレーザー光を用いることができる。この紫外域の高強度パルス光を発振するエキシマレーザー光を、プラスチックからなるプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに照射することで、該プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａをアブレーション（ダイレクトエッチング）により容易に表面改質できる。また、エキシマレーザ光は、ヘリウム・ネオンレーザ、アルゴンもしくはクリプトンイオンレーザ、ＹＡＧレーザ等の他のレーザ光と比較して、ビーム形状が大きく、ビームを走査させながら任意の改質すべきコーティング膜形成面１０ａを照射することができるので、大面積のコーティング膜形成面１０ａを容易に改質させることが可能となる。
【００５０】
また、上記撥水処理剤塗布工程におけるプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの撥水処理剤３０の塗布方法としては、（１）プラスチックマスク１０に撥水処理剤３０をドブ付けする方法、（２）プラスチックマスク１０に撥水処理剤３０を刷毛塗りする方法、（３）プラスチックマスク１０に撥水処理剤３０を静電塗装により塗布する方法などを用いることができる。上記（３）の静電塗装により塗布する塗布方法においては、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに塗布される撥水処理剤３０が、該コーティング膜形成面１０ａの表面電荷の極性と反対の極性に帯電されることにより、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに対して撥水処理剤３０が静電的な付着力により塗布される。なお、撥水処理剤３０を帯電させる方法としては、例えば、本発明者が提案した特願平１０−１３１０８９に示されるように、所定の電界雰囲気中に霧状化（ミスト化）した該撥水処理剤を噴霧する方法を用いることができる。
【００５１】
上記撥水処理剤乾燥工程においてプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに塗布された撥水処理剤３０は、自然乾燥あるいはプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａにエアーを吹き付けるブロー処理により乾燥される。このとき、該撥水処理剤３０を常温で乾燥させることが望ましい。すなわち、プラスチックマスク１０が熱可塑性を有している場合には、該プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに塗布された撥水処理剤３０を加熱乾燥させることによって、乾燥時の熱影響によってプラスチックマスク１０が変形する虞がある。従って、このようなワークの場合には、該撥水処理剤３０を常温で乾燥させることにより、該ワークの熱影響による変形を防止することができる。このように撥水処理剤３０を常温で乾燥させることは、上記プラスチックマスク１０のように、熱影響により印刷パターン（開口）が変形する虞の高い印刷用マスクに撥水処理を施す場合に特に有効となる。
【００５２】
次に、上記プラスチックマスク１０に撥水処理剤を塗布・乾燥してコーティング膜を形成する他の撥水処理方法について説明する。
この撥水処理方法においては、図８（ａ）に示すレーザ光照射工程、図８（ｂ）に示すＩＰＡ塗付工程、図８（ｃ）に示す撥水処理剤塗布工程、図８（ｄ）に示す撥水処理剤乾燥工程が順に実行される。ここで、レーザ光照射工程、撥水処理剤塗布工程、撥水処理剤乾燥工程は、図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示した各工程と同じである。
すなわち、このプラスチックマスクの撥水処理方法では、図８（ａ）に示すレーザ光照射工程が実行された後、図８（ｃ）に示す撥水処理剤塗布工程の実行に先立って、図８（ｂ）に示すように、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）５０を塗布するＩＰＡ塗付工程が実行される。
【００５３】
このように、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの撥水処理剤３０の塗布に先立って上記ＩＰＡ塗付工程を実行して、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａにイソプロピルアルコール５０を塗布することにより、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに対する上記アモルファスフッ素系樹脂の固着力が増大され、プラスチックマスク１０（プラスチック表面）に形成されるコーティング膜４０の固着力が向上される。これは、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａにイソプロピルアルコール５０が塗布されることで、該イソプロピルアルコール５０の洗浄作用により、該プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに付着して該アモルファスフッ素系樹脂とコーティング膜形成面１０ａとの固着力を低下させるバインダ成分（不純物）が除去されることによるものと考えられる。
【００５４】
表１に、上述の撥水処理方法によりプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに形成したコーティング膜４０の撥水性及び固着力を調べるために実施した試験結果を示す。この試験では、プラスチックマスク１０の素材としてＰＥＴを用いた。また、コーティング膜４０の撥水性はプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに対する水滴の接触角で表し、該コーティング膜４０の固着力は、該コーティング膜４０に貼り付けた粘着テープを剥離する剥離試験、及び該コーティング膜４０を布により所定圧で摺擦する摺擦試験を所定回数実施した後の接触角の大きさを比較して調べた。
【００５５】
【表１】
0004509295.tif 000002
【００５６】
表１において、比較例１は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０及び撥水処理剤３０の塗付を行わない場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で７５度であった。
また、比較例２は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わず、撥水処理剤３０としてＦ４スキーワックスを塗付した場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１０４度であった。
比較例３は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わず、コーティング膜形成面１０ａをカーボンコートした場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で８７度であった。
比較例４は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わず、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液（０．５％Ｃ液）をドブ付けにより塗付した場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１０７度であった。
比較例５は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わず、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液を刷毛塗りにより塗布した場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１０８度であった。
比較例６は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わず、カーボンコートしたコーティング膜形成面１０ａ上に、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液をドブ付けにより塗布した場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１１２度であった。
比較例７は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａへの紫外レーザ光２０の照射、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わず、カーボンコートしたコーティング膜形成面１０ａ上に、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液を刷毛塗りにより塗布した場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１１６度であった。
比較例８は、カーボンコートしたプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０の最大ビームを照射し、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わない場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で８４度であった。
比較例９は、カーボンコートしたプラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０をスキャニング照射し、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わない場合の試験結果であって、この場合の撥水角は、水滴が濡れ広がり正確な測定が不可能（推定で最大１０度程度）であった。
【００５７】
これに対し、本発明の撥水処理方法によりコーティング膜４０を形成したワークの場合には、撥水角が１５０〜１８０度となり、非常に高い撥水性及び固着性を示した。
例えば、表１の実施例１に示すように、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０の最大ビームを照射した後、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わずに、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液を静電塗装により塗布した場合の試験結果では、１０回のテープ剥離試験後の撥水角が最大で１２２度と高い撥水性及び固着性を示した。
また、実施例２のように、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０の最大ビームを照射した後、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わずに、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液を静電塗装により塗布した場合の試験結果では、２０回の摺擦試験後の撥水角が最大で１１８度であった。
実施例３は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０の最大ビームを照射した後、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わずに、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液をドブ付けにより塗布し、２０回の摺擦試験を行った場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１０２度であった。
実施例４は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０の最大ビームを照射した後、イソプロピルアルコール５０の塗付を行わずに、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液を刷毛塗りにより塗布し、２０回の摺擦試験を行った場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で１１０度であった。
実施例５は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０をスキャニング照射し、該プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａにイソプロピルアルコール５０を塗付した後、撥水処理剤３０として濃度０．５％のサイトップ液を静電塗装により塗布し、１００回の摺擦試験を行った場合の試験結果であって、この場合の撥水角は最大で９０度であった。
【００５８】
一方、実施例６は、プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａに紫外レーザ光２０をスキャニング照射し、該プラスチックマスク１０のコーティング膜形成面１０ａにイソプロピルアルコール５０を塗付した後、撥水処理剤３０として濃度０．１％のサイトップ液を静電塗装により塗布し、２０回の摺擦試験を行った場合の試験結果である。この場合には、コーティング膜４０から水滴がはじかれて該コーティング膜４０に対する水滴の接触角を正確に測定できなくなるほどの完全撥水の状態であった。
【００５９】
【発明の効果】
請求項１乃至９の発明によれば、紫外レーザ光の照射によりプラスチックマスクのコーティング膜形成面が改質されて、該コーティング膜形成面に新たな官能基が生成されるので、プラスチックマスクに撥水性及び固着力の高いアモルファスフッ素系樹脂からなるコーティング膜を形成できるという優れた効果がある。
また、請求項１０の発明によれば、印刷用マスクの開口からのペーストの版抜け性が良好な被印刷体へのペーストの印刷品質の高い印刷用マスクを提供できるという優れた効果がある。
【００６０】
特に、請求項２の発明によれば、印刷用マスクの被印刷体との対向面の撥水性（表面エネルギー）を高めて、ペーストの開口周縁部への滲み出しをも低減した被印刷体へのペーストの印刷品質の高い印刷用マスクを提供できるという優れた効果がある。
【００６１】
また、請求項３の発明によれば、印刷用マスクの被印刷体との非対向面に付着したペーストの除去やスキージングを容易に行える印刷用マスクを提供できるという優れた効果がある。
【００６２】
また、請求項４の発明によれば、印刷用マスクの開口の内壁面のみに撥水処理剤からなるコーティング膜が形成された請求項１記載の印刷用マスクを比較的容易に製造できるという優れた効果がある。
【００６３】
また、請求項５の発明によれば、印刷用マスクの開口の内壁面及び印刷用マスクの被印刷体との対向面のみに撥水処理剤からなるコーティング膜が形成された請求項２記載の印刷用マスクを比較的容易に製造できるという優れた効果がある。
【００６５】
特に、請求項６の発明によれば、プラスチックマスクの紫外レーザ光が照射されたコーティング膜形成面に、撥水処理剤の塗布に先立ってイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）が塗布されるので、上記アモルファスフッ素系樹脂の該コーティング膜形成面に対する固着力が増大され、プラスチックマスクに形成されるコーティング膜の固着力が向上されるという優れた効果がある。
【００６６】
また、請求項７の発明によれば、撥水処理剤の濃度が０．１〜１％であるので、プラスチックマスクに形成されたコーティング膜に対する水滴の接触角を正確に測定できなくなるほど、該コーティング膜の撥水性を向上させることができるという優れた効果がある。
【００６７】
また、請求項８の発明によれば、プラスチックマスクのコーティング膜形成面に塗布された撥水処理剤が常温で乾燥されるので、該撥水処理剤を加熱乾燥させた場合に発生する該プラスチックマスクの熱影響による変形を防止することができるという優れた効果がある。
【００６８】
また、請求項９の発明によれば、プラスチックマスクのコーティング膜形成面に対して撥水処理剤を静電的な固着力により塗布できるという優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る印刷用マスクの概略構成を示す要部拡大断面図。
【図２】他の実施形態に係る印刷用マスクの概略構成を示す要部拡大断面図。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、更に他の実施形態に係る印刷用マスクの概略構成を示す要部拡大断面図。
【図４】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、上記印刷用マスクを製造する過程を説明するための概略工程図。
【図５】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、上記印刷用マスクを用いて被印刷体上にペーストを印刷する過程を説明するための概略工程図。
【図６】（ａ）、（ｂ）は、上記印刷用マスクの開口の内壁面の撥水性を向上させるための従来の方法を説明するための要部拡大断面図。
【図７】（ａ）は、本発明によるプラスチックマスクの撥水処理方法におけるレーザ光照射工程を示す概略図。
（ｂ）は、該撥水処理方法における撥水処理剤塗布工程を示す概略図。
（ｃ）は、該撥水処理方法における撥水処理剤乾燥工程を示す概略図。
【図８】（ａ）は、本発明によるプラスチックマスクの他の撥水処理方法におけるレーザ光照射工程を示す概略図。
（ｂ）は、該撥水処理方法におけるＩＰＡ塗布工程を示す概略図。
（ｃ）は、該撥水処理方法における撥水処理剤塗布工程を示す概略図。
（ｄ）は、該撥水処理方法における撥水処理剤乾燥工程を示す概略図。
【符号の説明】
１      印刷用マスク
１ａ    印刷用マスクの開口
１ｂ    印刷用マスクの開口周縁部
１ｃ    印刷用マスクの開口の内壁面
１Ａ    印刷用マスク材
２      被印刷体
３      スキージ
４      ペースト
６      コーティング膜
７，８      保護膜
９      撥水処理剤
１０    プラスチックマスク
１０ａ  プラスチックマスクのコーティング膜形成面
２０    紫外レーザ光
３０    撥水処理剤
４０    コーティング膜
５０    イソプロピルアルコール
【図１】
0004509295.tif 000003
【図２】
0004509295.tif 000004
【図３】
0004509295.tif 000005
【図４】
0004509295.tif 000006
【図５】
0004509295.tif 000007
【図６】
0004509295.tif 000008
【図７】
0004509295.tif 000009
【図８】
0004509295.tif 000010