(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクラブ用ブラシと、基板固定用アームと、基板回転用チャックとを少なくとも備え、前記スクラブ用ブラシの回転軸が、角型基板の端面（辺）に対して平行に配置、または、角型基板端面長さより長い２本の前記スクラブ用ブラシが平行に配置されている端面洗浄装置において、ブラシリンス用シャワーノズルが、前記洗浄装置に設置される基板上面の端面近傍に設置されることを特徴とする端面洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造過程で利用されているフォトリソグラフイーに用いられるフォトマスク等の基板端面を洗浄するための洗浄装置の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の半導体装置の製造に用いられるフォトマスクの洗浄装置は、スクラブ洗浄を行なう場合に、フォトマスクの表面（回路パターンが形成されているメインパターン部が存在する面）および裏面を洗浄する方式の装置が使用されている。
しかしながら、フォトマスクにおいて最も多く汚染物質が付着している部分は、フォトマスクを搬送する際に搬送用ベルト等に直接接触する端面である、ということが最近知られるようになってきた。
【０００３】
通常、フォトマスクの端面を洗浄する場合には、フォトマスクの洗浄剤が満たされた洗浄槽にフォトマスクを浸漬して洗浄する、いわゆる浸漬洗浄法が用いられている。しかし、この方法では、端面もメインパターン部も同時に同一の洗浄槽の中に浸漬されるために、端面から離れた汚染物質がメインパターン部に移行して再付着することにより、かえってメインパターン部を汚染してしまうことがある。
【０００４】
この問題を解消するために、近年、基板の端面のみを洗浄する目的で、図４に示すような基板端面洗浄装置が使用されている。図４において、２００は基板端面洗浄装置、１１１はスクラブ用ブラシ、１２１は基板、１１２はスクラブ用ブラシの回転方向、１２２は基板の移動方向を示す。すなわち、この構造の洗浄装置では、スクラブ用ブラシ１１１の軸方向は、基板の端面（辺）に対して直角に配置されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この構造の洗浄装置は、スクラブ用ブラシ１１１を回転し、基板の端面に沿って移動させながら洗浄を行なうために、洗浄が終了するまでに要する時間が長くかかるという問題点を有する。
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、洗浄に要する時間を短縮し、しかも、フォトマスク等のメインパターン部及び裏面を汚染することがないような基板端面洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明において上記課題を達成するために、請求項１においては、スクラブ用ブラシと、基板固定用アームと、基板回転用チャックとを少なくとも備え、前記スクラブ用ブラシの回転軸が、角型基板の端面（辺）に対して平行に配置、または、角型基板端面長さより長い２本の前記スクラブ用ブラシが平行に配置されている端面洗浄装置において、ブラシリンス用シャワーノズルが、前記洗浄装置に設置される基板上面の端面近傍に設置されることを特徴とする端面洗浄装置としたものである。この基板端面洗浄装置によれば、スクラブ用ブラシの回転軸が角型基板の端面（辺）と平行になるように設置してあるため、角型基板の端面（辺）の洗浄に要する時間を大幅に短縮することができる。また、角型基板端面長さより長いスクラブ用ブラシが２本設置され、２つの端面を同時に洗浄することができるため、角型基板の端面（辺）の洗浄に要する時間をさらに短縮することが可能となる。そして、ブラシリンス用シャワーノズルが、前記洗浄装置に設置される基板上面の端面近傍に設置されるため、ブラシリンス用シャワーノズルから洗浄剤がスクラブ用ブラシに噴射されながら、基板の端面をスクラブされるので、基板の端面に付着している汚染物質を、より確実に端面から除去することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明に係る基板端面洗浄装置におけるスクラブ用ブラシ１１と基板７１の位置関係を示す部分構成概観図である。図１において、１００ａは基板端面洗浄装置１００の部分構成概観図、１１はスクラブ用ブラシ、７１は基板、１２はスクラブ用ブラシの回転方向、７２は基板の移動方向を示す。すなわち、この構造の洗浄装置では、スクラブ用ブラシ１１の軸方向は基板７２の端面（辺）に対して平行に配置されている。
【００１１】
図２〜図３は、本発明の基板端面洗浄装置１００を用いて基板端面の洗浄を行っているときの基板端面洗浄装置１００の概要を示す構成概観図である。図２は被洗浄物である基板７１を載置していない待機中の基板端面洗浄装置の状態を、図３（ｂ）は被洗浄物である基板７１端面の洗浄を実施している実施中の基板端面洗浄装置の状態をそれぞれ示す。
【００１２】
図２は待機中の基板端面洗浄装置１００を示しており、スクラブ用ブラシ１１は回転方向１２で絶えず回転しており、ブラシ自己洗浄用ノズル８１より洗浄液がシャワー状に絶えず吹き付けれられて待機している。
【００１３】
図３（ｂ）は被洗浄物である基板７１端面の洗浄を実施している基板端面洗浄装置の状態を示しており、まず、図３（ａ）に示すような基板固定用アーム２１に保持された基板７１が所定位置に移動し、スクラブ用ブラシ１１のほぼ中心軸位置付近でセットされる。次に、回転方向１２に回転しているスクラブ用ブラシ１１が基板７１の端面まで移動すると同時に、洗浄剤がブラシリンス用シャワーノズル４１より基板端面とスクラブ用ブラシ１１にシャワー状に噴射され、一方の対向している基板端面の洗浄が行われる。一方の対向している基板端面の洗浄が終了した基板７１は基板固定用アーム２１にて基板固定用チャック３１に載置され、基板７１の保持が解除される。基板固定用チャック３１が９０度回転したところで、再度基板固定用アーム２１にて基板７１が保持され、スクラブ用ブラシ１１のほぼ中心軸位置付近まで移動し、他方の対向している基板端面の洗浄が行われ、基板の端面に付着している汚染物質を、確実に基板端面から除去することができる。
【００１４】
さらに、基板端面洗浄中は基板リンス用シャワーノズル５１及び６１より洗浄剤が基板表裏面にシャワー状に噴射されており、スクラブ用ブラシ１１により基板端面から除去された汚染物質が即座に洗い流されて、例えばフォトマスク等のメインパターン及び裏面の汚染を防止することができる。
【００１５】
４方向の基板端面洗浄が終了した基板７１は基板固定用アーム２１にて所定の場所に移動され、さらに、別の基板７１が供給されて基板端面洗浄装置１００にて基板端面の洗浄が順次繰り返される。
【００１６】
【発明の効果】
本発明の基板端面洗浄装置は以上の構成であるから、下記に示す如き効果がある。
スクラブ用ブラシの軸方向が基板の端面（辺）と平行になるように２本設置されており、２つの端面を同時に洗浄することができるので、洗浄に要する時間を大幅に短縮することができる。
また、ブラシリンス用シャワーノズルより洗浄剤がスクラブ用ブラシに噴射されながら、基板の端面をスクラブするので、基板の端面に付着している汚染物質を、より確実に端面から除去することができる。
さらにまた、基板リンス用シャワーノズルより洗浄剤をマスク表裏面に噴射しているので、スクラブ用ブラシにより端面から除去された汚染物質が即座に洗い流され、例えばフォトマスク等のメインパターン部及び裏面の汚染を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の基板端面洗浄装置におけるスクラブ用ブラシと基板の位置関係を示す部分構成概観図である。
【図２】基板を載置していない待機状態を示す本発明の基板端面洗浄装置の構成概観図である。
【図３】（ａ）は、基板が基板固定用アームに保持されてスクラブ用ブラシの間にセットされている状態を示す本発明の基板端面洗浄装置の部分構成概観図である。
（ｂ）は、基板端面の洗浄状態を示す本発明の基板端面洗浄装置の構成概観図である。
【図４】従来の基板端面洗浄装置におけるスクラブ用ブラシと基板の位置関係を示す部分構成概観図である。
【符号の説明】
１１、１１１……スクラブ用ブラシ
１２、１１２……ブラシの回転方向
２１……基板固定用アーム
３１……基板固定用チャック
４１……ブラシリンス用シャワーノズル
４２、８２……洗浄シャワー
５１、６１……基板リンス用シャワーノズル
５２、６２……リンスシャワー
７１、１２１……基板
７２、１２２……基板の移動方向
８１……ブラシ自己洗浄ノズル
１００……本発明の基板端面洗浄装置
１００ａ……スクラブ用ブラシと基板の位置関係を示す基板端面洗浄装置
１００ｂ……基板と基板固定用アームとスクラブ用ブラシの位置関係を示す基板端面洗浄装置
２００……従来の基板端面洗浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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