(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁界転写用マスタから所定情報を転写する工程を有して垂直記録媒体を製造する方法であって、該転写工程は、
前記垂直記録媒体の磁化の方向を一方向に初期化するため媒体面に対し垂直な方向に磁界を印加し、
前記所定情報に対応する凹凸を表面に有し、前記凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、前記基板の凹部内に設けられる導電体とを備え、前記軟磁性体の電気抵抗率が前記導電体の電気抵抗率の５０／８倍以上大きい前記電磁界転写用マスタに前記垂直記録媒体を密着または近接させ、
初期化方向と反対方向に前記垂直記録媒体の保磁力よりも強い外部電磁界を電磁誘導の法則に従う程度瞬間的に前記垂直記録媒体及び前記電磁界転写用マスタに印加する、
ことを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の記録媒体の製造方法であって、
前記外部電磁界の立ち上がり速度は、１ｋＯｅ／ｍｓ以上である、
ことを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項３】
垂直記録媒体の記録面への所定情報の転写に使用される電磁界転写用マスタであって、
前記所定情報に対応する凹凸を表面に有し、前記凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、
前記基板の凹部内に設けられる導電体とを備え、
前記軟磁性体の電気抵抗率が前記導電体の電気抵抗率の５０／８倍以上大きいことを特徴とする電磁界転写用マスタ。
【請求項４】
垂直記録媒体に電磁界転写用マスタを密着または近接させた状態で前記垂直記録媒体の記録面に対して垂直方向の外部電磁界を前記垂直記録媒体及び前記電磁界転写用マスタに印加することにより前記電磁界転写用マスタから前記垂直記録媒体へ所定情報を転写する電磁界転写装置であって、
前記所定情報に対応する凹凸を表面に有し、前記凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、前記基板の凹部内に設けられる導電体とを備え、前記軟磁性体の電気抵抗率が前記導電体の電気抵抗率の５０／８倍以上大きい前記電磁界転写用マスタと、
前記外部電磁界を発生する電磁石と、
前記電磁石に電流を流し、前記垂直記録媒体の保磁力よりも強い前記外部電磁界を電磁誘導の法則に従う程度瞬間的に前記電磁石に発生させる電磁界発生手段と、
を備えることを特徴とする電磁界転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁界転写用マスタから垂直記録媒体へ所定情報を一括で転写する記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来では、垂直記録媒体に所定情報を一括で磁気転写して、垂直記録媒体を製造する方法として、例えば、図１８や図１９に示すように、所定情報に対応する凹凸を表面に有するＮｉ基板１８０と、そのＮｉ基板１８０の凹凸上に設けられる軟磁性体１８１とを備える磁気転写用マスタ１８２に垂直記録媒体１８３を密着させ、その垂直記録媒体１８３の記録面に対して垂直方向の磁界を外部から印加することにより所定情報を垂直記録媒体１８３に一括で磁気転写する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような垂直記録媒体の製造方法において良好な記録性能を得るためには、凸部の軟磁性体１８１に磁束を収束させて、凸部の軟磁性体１８１の表面近傍の磁界を十分に大きくする必要がある。
【０００４】
しかしながら、図１８に示す磁気転写用マスタ１８２では、軟磁性体１８１内部に磁束の方向と反対方向の反磁界が生じるため、この反磁界により軟磁性体１８１表面近傍において所定情報の記録に寄与する十分な大きさの漏れ磁束すなわち垂直方向の磁界を得ることができない。また、図１８に示す磁気転写用マスタ１８２では、Ｎｉ基板１８０の凹凸の壁にも軟磁性体１８１が設けられているため、図１９に示すように、Ｎｉ基板１８０の凸部のエッジ部分に磁束が集中し易く、凸部の軟磁性体１８１のエッジ部分の磁界を大きくさせてしまう。そのため、この磁気転写用マスタ１８２により所定情報を記録した垂直記録媒体１８３の再生波形は、図１９に示す再生波形１８４のように、Ｎｉ基板１８０の凹凸形状に対応するきれいな矩形波にならない。
【０００５】
そこで、少なくとも軟磁性体１８１表面近傍において所定情報の記録に寄与する十分な大きさの垂直方向の磁界を得るために外部磁界を大きくすることが考えられるが、外部磁界を大きくすると、例えば、図２０に示すように、磁束の範囲がＮｉ基板１８０の凹部にまで拡がり、垂直記録媒体１８３の磁壁（垂直記録媒体１８３内部に分布する磁界が反転するときの境界）の位置がＮｉ基板１８０の凹凸のエッジ部分の位置と一致しなくなり、垂直記録媒体１８３の再生波形がＮｉ基板１８０の凹凸形状に対応する矩形波にならない。
【０００６】
このように垂直記録媒体１８３の再生波形がＮｉ基板１８０の凹凸に対応する矩形波にならないと、例えば、垂直記録媒体１８３に記録されるアドレスのデコードやサーボ情報の復調精度を悪化させてしまうという問題がある。
【０００７】
そこで、この問題を解決するための垂直記録媒体の製造方法として、例えば、図２１に示すように、所定情報に対応する凹凸を表面に有する基板１８５と、その基板１８５の凹凸の凹部内に設けられる強磁性体１８６とを備える磁気転写用マスタ１８７に垂直記録媒体１８３を密着させ、その垂直記録媒体１８３の記録面に対して水平方向の磁界（矢印）を外部から印加することにより所定情報を垂直記録媒体１８３に一括で磁気転写する方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
この垂直記録媒体の製造方法では、図２１に示すように、強磁性体１８６のエッジ部分で垂直記録媒体１８３に分布する磁界強度１８８が最大になり、強磁性体１８６の中央付近や強磁性体１８６間近傍で垂直記録媒体１８３に分布する磁界強度１８８がほぼゼロになる。これにより、たとえ外部磁界が変動しても、図２１に示すように、垂直記録媒体１８３の再生波形１８９が最大になる位置と基板１８５の凹凸のエッジ部分の位置とを一致させることができる。また、上記垂直記録媒体の製造方法は、水平方向に外部磁界を印加する構成であるため、強磁性体１８６内部に生じる反磁界の影響が垂直記録媒体１８３に及ばない。
【０００９】
ところで、トラック密度が高い磁気ディスクを備える最近の磁気ディスク装置（例えば、ハードディスク装置）では、磁気ディスクに対して情報を読み書きする磁気ヘッドの動作を制御するためのサーボ情報がその磁気ディスクの中に記録されているが、このサーボ情報を上述のような水平方向に外部磁界を印加する垂直記録媒体の製造方法で磁気ディスクに記録することにより、サーボ情報の再生波形の品質を向上させることができ、磁気ディスク装置の信頼性を高めることができる。
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−２９７４３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
また、近年では、磁気ディスクのトラック密度の向上に伴い、サーボ情報の再生精度をさらに高めるため、磁気ディスクにサーボ情報を記録した後、サーボ情報の誤差を補正するための偏芯補正情報を記録するものがあるが、この偏芯補正情報は、通常、磁気ヘッドにより磁気ディスクに記録する構成であるため、その偏芯補正情報が記録される磁気ディスクの再生波形は、図２２に示すように、矩形波になる。そのため、サーボ情報の再生波形の品質を向上させつつ、磁気ディスクのトラック密度を高めようと、上述のような水平方向に外部磁界を印加する垂直記録媒体の製造方法でサーボ情報を磁気ディスクに記録した後、磁気ヘッドにより偏芯補正情報を磁気ディスクに記録する場合では、サーボ情報を読むためのリードチャネルと偏芯補正情報を読むためのリードチャネルの２種類のリードチャネルを取り扱う必要があり、２種類のリードチャネルを取り扱おうとすると、磁気ディスク装置の構成が複雑になってしまうという問題がある。
【００１１】
また、上述のような水平方向に外部磁界を印加する垂直記録媒体の製造方法において、図２３に示すような電磁石１９０を用いて外部磁界を発生させる場合では、垂直記録媒体１８３及び電磁石１９０のうちどちらか一方を他方に対して相対的に回転させる必要があり、垂直方向に外部磁界を印加してサーボ情報を垂直記録媒体１８３に一括転写する場合に比べて、サーボ情報の転写に時間（タクトタイム）が多くかかるという問題がある。また、転写時間が多くかかる分、電磁石１９０に供給する電力が増大するという問題もある。
【００１２】
そこで、本発明では、垂直記録媒体に記録される情報の再生波形の品質を向上させつつ、垂直記録媒体のトラック密度を高め、かつ、転写時間や消費電力を抑えることが可能な記録媒体の製造方法並びに電磁界転写用マスタ及び電磁界転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の課題を解決するために本発明では、以下のような方法を採用した。
すなわち、本発明の記録媒体の製造方法は、垂直記録媒体の磁化の方向を、電磁界転写用マスタから垂直記録媒体へ所定情報を転写する際に垂直記録媒体及び電磁界転写用マスタに印加される外部電磁界の方向と反対方向に初期化し、所定情報に対応する凹凸を表面に有し、その凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、その基板の凹部内に設けられる導電体とを備える電磁界転写用マスタに垂直記録媒体を密着または近接させ、垂直記録媒体の保磁力よりも強い外部電磁界を垂直記録媒体及び電磁界転写用マスタに印加する。
【００１４】
これにより、垂直記録媒体において軟磁性体に密着または近接する部分の磁化の方向を外部電磁界により反転させて外部電磁界と同じ方向にし、垂直記録媒体において導電体に密着または近接する部分の磁化の方向を瞬間的に発生する外部電磁界により導電体に流れる誘導電流で生じる磁界と外部電磁界とが互いに打ち消し合うことにより外部電磁界と反対方向に維持することができる。そのため、垂直記録媒体に分布する磁界のコントラストを電磁界転写用マスタが備える基板の凹凸形状に一致させることができるので、垂直記録媒体に転写される所定情報の再生波形を矩形波にすることができる。
【００１５】
また、本発明の記録媒体の製造方法では、電磁界転写用マスタの基板の凸部が軟磁性体で構成されているため、基板の凸部のエッジ部分に外部電磁界の磁束が集中しない。また、垂直記録媒体において基板の凸部の軟磁性体に密着または近接する部分の磁化の方向を外部電磁界により反転させる構成であるため、その軟磁性体内部に発生する反磁界が垂直記録媒体に分布する磁界に影響を及ぼさない。また、導電体に印加される外部電磁界は、導電体に流れる誘導電流により生じる外部電磁界と反対方向の磁界により打ち消されるため、外部電磁界の強さが大きくなっても垂直記録媒体の磁壁の位置が電磁界転写用マスタの基板の凸部のエッジ部分の位置からずれない。従って、垂直記録媒体の再生波形を電磁界転写用マスタが備える基板の凹凸形状に対応する矩形波にすることができるので、再生波形の品質を高めることができる。
【００１６】
また、本発明の記録媒体の製造方法により垂直記録媒体に記録される所定情報の再生波形を矩形波にすることができるので、本発明の記録媒体の製造方法によりサーボ情報を垂直記録媒体に記録した後、その垂直記録媒体に磁気ヘッドにより偏芯補正情報を記録して、その垂直記録媒体のトラック密度を向上させることができる。また、サーボ情報及び偏芯補正情報を読む際の磁気ヘッドのリードチャネルを１種類にすることができるので、その垂直記録媒体を備える磁気ディスク装置の構成が複雑になることを防止することができる。
【００１７】
また、本発明の記録媒体の製造方法は、垂直方向に外部電磁界を印加する構成であるため、電磁界転写用マスタから垂直記録媒体に所定情報を一括で転写することができ、転写時間や消費電力を抑えることができる。
【００１８】
また、本発明の記録媒体の製造方法は、外部電磁界の強さが変動しても、垂直記録媒体の磁壁の位置が電磁界転写用マスタの基板の凸部のエッジ部分の位置からずれないため、外部電磁界の強さにマージンをもたせることができる。
【００１９】
また、本発明の範囲は、電磁界転写用マスタ及び電磁界転写装置にまで及ぶ。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、垂直記録媒体に記録される情報の再生波形の品質を向上させつつ、垂直記録媒体のトラック密度を高め、かつ、転写時間や消費電力を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
図１は、本発明の実施形態の電磁界転写用マスタを示す図である。
図１に示す電磁界転写用マスタ１は、サーボ情報に対応する凹凸を表面に有し、その凹凸のうち少なくとも凸部が電気抵抗率の高い軟磁性体で構成される基板２と、基板２の凹部内に設けられる導電体３とを備えて構成されている。すなわち、電磁界転写用マスタ１は、サーボ情報に対応する軟磁性体と導電体との配列パターンを表面に有している。なお、上記軟磁性体の電気抵抗率は、垂直記録媒体にサーボ情報を転写する際の外部磁界が印加しても誘導電流が流れないような値に設定されているものとする。
【００２２】
図２は、電磁界転写用マスタ１を使用した記録媒体の製造方法のフローチャートを示す図である。
まず、垂直記録媒体に磁界を印加するなどして、垂直記録媒体の磁化の方向を、垂直記録媒体にサーボ情報を転写する際の外部磁界と反対方向に初期化する（ステップＳ１）。例えば、図３に示すように、垂直記録媒体４の磁化の方向を、初期化装置により矢印が示す方向に初期化する。
【００２３】
次に、電磁界転写用マスタ１を備える電磁界転写装置の非磁性のホルダに垂直記録媒体をセットする（ステップＳ２）。
図４は、本発明の実施形態の電磁界転写装置を示す図である。
【００２４】
図４に示す電磁界転写装置５は、電磁石６、７と、電磁石６、７の間に設けられる電磁界転写用マスタ１と、電磁石６、７に電流を流し、電磁石６、７の間に瞬間的に電磁界を発生させる電磁界発生部８とを備えて構成されている。なお、電磁石６、７は、電磁石６がＮ極、電磁石７がＳ極になるように電磁界転写装置５に取り付けられているものとする。
【００２５】
図５は、電磁界発生部８の回路構成の一例を示す図である。なお、図４に示す構成と同じ構成には同じ符号を付している。
図５に示す電磁界発生部８は、互いに直列接続される電磁石６、７に電力を供給する直流電源９と、互いに直列接続され直流電源９のプラス端子と電磁石６との間に設けられるスイッチ１０、１１と、直流電源９のマイナス端子と電磁石７との間に設けられ電磁石６、７の間に発生する電磁界の立ち上がり速度を調整する速度調整用抵抗１２と、直流電源９のマイナス端子とスイッチ１０、１１の接続点との間に設けられるコンデンサ１３とを備えて構成されている。なお、電磁石６、７は、それぞれ、コイル１４（例えば、インダクタンスが１０ｍヘンリー以下のコイル）と、内部抵抗１５とにより構成されているものとする。また、内部抵抗１５のインピーダンスを例えば１０Ωとする。また、スイッチ１０、１１は、例えば、サイリスタなどスイッチング速度が速い素子により構成されているものとする。
【００２６】
次に、電磁界発生部８の動作について説明する。
まず、スイッチ１０を閉じると共に、スイッチ１１を開き、コンデンサ１３の一方の端子がプラスになるようにコンデンサ１３を充電する。次に、スイッチ１０を開くと共に、スイッチ１１を閉じ、コンデンサ１３から電磁石６、７に電流を流す。そして、コンデンサ１３の他方の端子がプラスになるとき、スイッチ１１を開き、電磁石６、７の間の電磁界の発生を終了する。例えば、電磁石６、７の間に発生する電磁界の立ち上がり速度が１ｋＯｅ／ｍｓ以上になるようにスイッチ１１の動作を制御したり、速度調整用抵抗１２の抵抗値を調整する。
【００２７】
次に、図２に示すフローチャートにおいて、電磁界転写用マスタ１の導電体３と垂直記録媒体４の記録面とが対向するように、上記ホルダにより電磁界転写用マスタ１と垂直記録媒体とを密着させる（ステップＳ３）。例えば、図６に示すように、電磁界転写用マスタ１と垂直記録媒体４とを密着させる。なお、このとき、電磁界転写用マスタ１と垂直記録媒体４とを近接させるようにしてもよい。
【００２８】
次に、垂直記録媒体の記録面に対して垂直方向の外部電磁界を垂直記録媒体及び電磁界転写用マスタ１へ瞬間的に印加し垂直記録媒体を着磁させる（ステップＳ４）。例えば、図６に示すように、垂直記録媒体４の記録面に対して垂直方向の外部電磁界（破線矢印）を瞬間的に垂直記録媒体４及び電磁界転写用マスタ１に印加する。なお、このときの外部磁界は、垂直記録媒体４の保磁力よりも強いものとする。
【００２９】
このように、外部電磁界を瞬間的に垂直記録媒体４及び電磁界転写用マスタ１に印加すると、外部電磁界が垂直記録媒体４の保磁力よりも強いため、垂直記録媒体４において基板２の凸部の軟磁性体に密着する部分の磁化の方向が外部電磁界により反転する。また、瞬間的に発生する外部電磁界により導電体３には電磁誘導の法則に従って誘導電流（曲線矢印）が流れるため、その誘導電流により発生する磁界と外部電磁界とが互いに打ち消しあう。このように、導電体３には外部電磁界の強さに応じた誘導電流が流れるため、外部電磁界の強さや外部電磁界の立ち上がり時間が変動しても導電体３に印加される外部電磁界の強さはゼロになる。すなわち。垂直記録媒体４において導電体３に密着する部分には外部電磁界が印加されず、その部分の磁化の方向が初期化時の方向のまま維持される。
【００３０】
そして、電磁界転写装置から垂直記録媒体を取り出し、垂直記録媒体へのサーボ情報の転写を終了する（ステップＳ５）。
図７は、転写終了後の垂直記録媒体の磁化の方向（白抜き矢印）とその垂直記録媒体に記録される情報の再生波形を示す図である。なお、図７に示す再生波形は、本実施形態の記録媒体の製造方法によりサーボ情報を転写した垂直記録媒体４をテスタにセットし波形を観測したものである。
【００３１】
図７に示すように、垂直記録媒体４において基板２の凸部の軟磁性体に密着する部分の磁化の方向が外部電磁界と同じ方向になり、垂直記録媒体４において導電体３に密着する部分の磁化の方向が外部磁界と反対方向になっている。このように、垂直記録媒体４に分布する磁界のコントラストを電磁界転写用マスタ１が備える基板２の凹凸形状（幾何形状）に一致させることができるので、垂直記録媒体４に転写されるサーボ情報の再生波形を図７に示すような矩形波にすることができる。
【００３２】
また、本実施形態の記録媒体の製造方法では、十分に強い磁界を加えても伝導体部分では磁束が洩れないため、その部分に密着する磁化は反転することが無く、軟磁性体が密着する部分の磁化を完全に飽和させることが出来る。また、垂直記録媒体４において基板２の凸部の軟磁性体に密着する部分の磁化の方向を外部磁界により反転させる構成であるため、その軟磁性体内部に発生する反磁界が垂直記録媒体４に分布する磁界に影響を及ぼさない。また、導電体３に印加される外部電磁界は、導電体３に流れる誘導電流により発生する外部電磁界と反対方向の磁界により打ち消されるため、例えば温度変化などにより外部磁界の強さが大きくなっても垂直記録媒体４の磁壁の位置が電磁界転写用マスタ１の基板２の凸部のエッジ部分の位置からずれない。従って、図７に示すように、垂直記録媒体４の再生波形を電磁界転写用マスタ１の基板２の凹凸形状に対応する矩形波にすることができるので、再生波形の品質を高めることができる。
【００３３】
また、本実施形態の記録媒体の製造方法により垂直記録媒体４に記録されるサーボ情報の再生波形を矩形波にすることができるので、本実施形態の記録媒体の製造方法によりサーボ情報を垂直記録媒体４に記録した後、その垂直記録媒体４に磁気ヘッドにより偏芯補正情報を記録して、その垂直記録媒体４のトラック密度を向上させることができる。また、サーボ情報及び偏芯補正情報を読む際の磁気ヘッドのリードチャネルを１種類にすることができるので、その垂直記録媒体４を備える磁気ディスク装置（例えば、ハードディスク装置）の構成が複雑になることを防止することができる。
【００３４】
また、本実施形態の記録媒体の製造方法は、垂直記録媒体４にサーボ情報を記録する際、垂直記録媒体４の記録面に対して垂直方向に外部電磁界を印加する構成であるため、電磁界転写用マスタ１から垂直記録媒体４にサーボ情報を一括で転写することができ、転写時間や消費電力を抑えることができる。例えば、図２３に示すように、電磁石１９０を用いて水平方向に外部電磁界を印加する場合では、その外部電磁界を約５ｋＯｅとして１分間程度継続して印加する必要があるが、本実施形態の記録媒体の製造方法では、電磁界の立ち上がり速度を１ｋＯｅ／ｍｓ以上としているので、転写時間を抑え、かつ、消費電力を１／２０程度にすることができる。
【００３５】
また、本実施形態の記録媒体の製造方法は、外部電磁界を瞬間的に発生させる構成であるため、その分消費電力が抑えられている。
また、本実施形態の記録媒体の製造方法は、外部電磁界の強さが変動しても、垂直記録媒体４の磁壁の位置が電磁界転写用マスタ１の基板２の凸部のエッジ部分の位置からずれないため、外部電磁界の強さにマージンをもたせることができる。
【００３６】
また、本実施形態の記録媒体の製造方法は、垂直記録媒体４の磁壁の位置が電磁界転写用マスタ１の基板２の凸部のエッジ部分の位置からずれないため、その位置ずれを考慮せずに基板２の凹凸のマスクパターンを設計することができる。
【００３７】
図８は、本発明の他の実施形態の電磁界転写装置を示す図である。なお、図４に示す構成と同じ構成には同じ符号を付している。
図８に示す電磁界転写装置１６は、電磁界転写用マスタ１−１〜１−４と、電磁石１７、１８と、電磁石１９、２０と、電磁石１７、１８に電流を流し、電磁石１７、１８の間に瞬間的に電磁界を発生させる共に、電磁石１９、２０に電流を流し、電磁石１９、２０の間に瞬間的に電磁界を発生させる電磁界発生部２１とを備えて構成されている。なお、電磁石１７〜２０は、電磁石１７がＮ極、電磁石１８がＳ極、電磁石１９がＳ極、電磁石２０がＮ極になるように電磁界転写装置１６に取り付けられているものとする。また、電磁界転写用マスタ１−１、１−２は、互いに導電体３が対向するように電磁石１７、１８の間に設けられ、電磁界転写用マスタ１−３、１−４は、互いに導電体３が対向するように電磁石１９、２０の間に設けられているものとする。また、電磁界転写用マスタ１−１〜１−４は、電磁界転写用マスタ１と同じ構成とする。
【００３８】
図９は、電磁界発生部２１の回路構成の一例を示す図である。図５または図８に示す構成と同じ構成には同じ符号を付している。
図９に示す電磁界発生部２１は、直流電源９と、コンデンサ１３と、直流電源９とコンデンサ１３との間に設けられる極性反転用スイッチ２２と、互いに直列接続され電磁石１７、１９の間に設けられるスイッチ２３、２４と、コンデンサ１３とスイッチ２３、２４の接続点との間に設けられるスイッチ２５とを備えて構成されている。なお、電磁石１７〜２０は、それぞれ、コイル１４と、内部抵抗１５とにより構成されているものとする。また、スイッチ２３は、電磁石１７に接続され、スイッチ２４は、電磁石１９に接続されているものとする。また、スイッチ２３、２４、２５は、サイリスタなどスイッチング速度が速い素子により構成されているものとする。また、速度調整用抵抗１２をコンデンサ１３と電磁石１８との間やコンデンサ１３と電磁石２０との間などに設けてもよい。
【００３９】
次に、電磁界発生部２１の動作について説明する。
まず、極性反転用スイッチ２２を動作させることにより、コンデンサ１３においてスイッチ２５に接続される方の端子がプラスになるようにコンデンサ１３を充電させた後、極性反転用スイッチ２２を開き、コンデンサ１３から直流電源９を外す。次に、スイッチ２３を閉じると共に、スイッチ２４を開いた後、スイッチ２５を閉じ、コンデンサ１３から電磁石１７、１８に電流を流す。次に、コンデンサ１３において電磁石１８に接続される方の端子がプラスになりコンデンサ１３に蓄積された電荷が逆流する前にスイッチ２５を開き、電磁石１７、１８の間の電磁界の発生を終了する。例えば、電磁石１７、１８の間に発生する電磁界の立ち上がり速度が１ｋＯｅ／ｍｓ以上になるようにスイッチ２５の動作を制御する。そして、極性反転用スイッチ２２を動作させることにより、電磁石１７、１８の内部抵抗１５により消費された分、電磁石１８に接続される方の端子がプラスになるようにコンデンサ１３を充電する。
【００４０】
次に、コンデンサ１３において電磁石１８に接続される方の端子がプラスになるようにコンデンサ１３が十分に充電されると、極性反転用スイッチ２２を開き、コンデンサ１３から直流電源９を外す。次に、スイッチ２４を閉じると共に、スイッチ２３を開いた後、スイッチ２５を閉じ、コンデンサ１３から電磁石１９、２０に電流を流す。次に、コンデンサ１３において電磁石１９に接続される方の端子がプラスになりコンデンサ１３に蓄積された電荷が逆流する前にスイッチ２５を開き、電磁石１９、２０の間の電磁界の発生を終了する。例えば、電磁石１９、２０の間に発生する電磁界の立ち上がり速度が１ｋＯｅ／ｍｓ以上になるようにスイッチ２５の動作を制御する。そして、極性反転用スイッチ２２を動作させることにより、電磁石１９、２０の内部抵抗１５により消費された分、スイッチ２５に接続される方の端子がプラスになるようにコンデンサ１３を充電する。
【００４１】
この上述の一連の動作により、電磁石１７、１８に電磁界を発生させた後、電磁石１９、２０に電磁界を発生させることができる。そして、さらに続けて電磁石１７、１８や電磁石１９、２０に電磁界を発生させる場合は、上述の一連の動作を繰り返し行う。
【００４２】
なお、電磁界転写装置１６は、１つの直流電源９を使用して電磁石１７、１８及び電磁石１９、２０に電流を流し２つの電磁界を順次発生させる構成であるが、電磁石１７、１８及びスイッチ２３により構成される回路と同じ構成の回路を電磁石１７、１８及びスイッチ２３により構成される回路に並列に接続し、１つの直流電源９を使用して３つ以上の電磁界を順次発生させるように構成してもよい。
【００４３】
このように、１つの直流電源９を使用して２つ以上の電磁界を発生させるように構成する電磁界転写装置１６は、前回の電磁界の発生時にコンデンサ１３に蓄積された電荷を次回の電磁界の発生時にも利用することができるため、図４に示す電磁界転写装置５に比べて、消費電力を低減することができる。
【００４４】
次に、図８に示す電磁界転写装置１６により、垂直記録媒体４−１の両面及び垂直記録媒体４−２の両面にそれぞれサーボ情報を一括で記録する場合の記録媒体の製造方法について説明する。
【００４５】
（１）垂直記録媒体４−１、４−２のそれぞれの表面の磁化の方向を垂直記録媒体４の記録面に対して垂直方向に初期化する。このとき、垂直記録媒体４−１、４−２のそれぞれの両面の磁化の方向は、外部電磁界と反対方向になるように初期化されるものとする。
【００４６】
（２）電磁界転写用マスタ１−１、１−２のそれぞれの導電体３が垂直記録媒体４−１の各記録面と対向するように、電磁界転写用マスタ１−１、１−２を垂直記録媒体４−１に密着させると共に、電磁界転写用マスタ１−３、１−４のそれぞれの導電体３が垂直記録媒体４−２の各記録面と対向するように、電磁界転写用マスタ１−３、１−４を垂直記録媒体４−２に密着させる。なお、上述したように、電磁界転写用マスタ１−１〜１−４をそれぞれ垂直記録媒体４−１、４−２に近接させてもよい。また、図４に示す電磁界転写装置１６では、電磁石１７、１８で発生する電磁界の方向と電磁石１９、２０で発生する電磁界の方向が互いに反対方向であるため、垂直記録媒体４−１の磁化の方向と垂直記録媒体４−２の磁化の方向とが互いに反対方向になるように垂直記録媒体４−１、４−２が電磁界転写装置１６にセットされているものとする。
【００４７】
（３）垂直記録媒体４−１の記録面に対して垂直方向の外部電磁界を垂直記録媒体４−１及び電磁界転写用マスタ１−１、１−２に印加した後、垂直記録媒体４−２の記録面に対して垂直方向の外部電磁界を垂直記録媒体４−２及び電磁界転写用マスタ１−３、１−４に印加する。なお、このときの各外部磁界は、垂直記録媒体４−１、４−２の保磁力よりも強いものとする。
【００４８】
これにより、垂直記録媒体４−１、４−２のそれぞれの両面にサーボ情報を一括で記録することができるので、タクトタイムを短縮することができる。
また、コンデンサ１３の充電は瞬時に行われるため、電磁界転写の待ち時間はほとんど存在しない。
【００４９】
なお、新しい垂直記録媒体４−１、４−２のそれぞれの両面にサーボ情報を記録させる場合は、その新しい垂直記録媒体４−１、４−２に対して上記（１）〜（３）を繰り返し行う。
【００５０】
また、垂直記録媒体４−１（または垂直記録媒体４−２）の両面にそれぞれ同じサーボ情報を記録させる場合は、電磁界転写用マスタ１−１、１−２（または電磁界転写用マスタ１−３、１−４）のそれぞれの基板２の凹凸の形状を互いに反転させる。これにより、垂直記録媒体４−１（または垂直記録媒体４−２）の両面に記録される各サーボ情報を同じ極性で読むことができる。
【００５１】
次に、電磁界転写用マスタ１の製造方法について説明する。
図１０は、電磁界転写用マスタ１の製造方法のフローチャートを示す図である。なお、この電磁界転写用マスタ１の製造方法は、例えば、光ディスクのスパンタの製造方法と同様である。
【００５２】
まず、Ｓｉのウエハー上に電子線レジストを塗布する（ステップＳＴ１）。このＳｉが電磁界転写用マスタ１の基板２となる。
次に、電子ビーム描画装置などでサーボ情報に対応するパターンを電子線レジストに描画する（ステップＳＴ２）。例えば、図１１や図１２に示すようなサーボ情報２６に対応するパターンを描画する。
【００５３】
次に、サーボ情報に対応するパターンを形成するために、そのパターン以外の電子線レジストを除去する（ステップＳＴ３）。すると、図１３Ａに示すように、ウエハー２７上にサーボ情報に対応するパターンの電子線レジスト２８が形成される。
【００５４】
次に、ウエハーをエッチングする（ステップＳＴ４）。例えば、１Ｐａ、１５ｃｃ／ｍｉｎのＳＦ６（六フッ化硫黄ガス）の環境下において６０秒間ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）を行い、ウエハーを深さ１００ｎｍまでエッチングする。すると、図１３Ｂに示すように、ウエハー２７にサーボ情報に対応する凹凸が形成される。
【００５５】
次に、ウエハー上の電子線レジストをアッシング除去する（ステップＳＴ５）。例えば、１０Ｐａ、１００ｃｃ／ｍｉｎの酸素の環境下において３分間アッシングする。
次に、無電界メッキによりウエハーの凹凸上に電気抵抗率の高い軟磁性体膜を形成する（ステップＳＴ６）。例えば、軟磁性体膜は、ＦｅＣｏＮｉとする。すると、図１３Ｃに示すように、ウエハー２７の凹凸上に軟磁性体膜２９がメッキされる。この軟磁性体膜２９が電磁界転写用マスタ１の基板２の凹凸の凸部となる。このように、無電界メッキにより形成される軟磁性体膜２９は、粒界が析出されるため、電気抵抗率が高くなる。例えば、軟磁性体膜２９は、電気抵抗率が１×１０−６Ωｍになるように形成する。
【００５６】
次に、外形加工装置により所定の大きさに加工する（ステップＳＴ７）。例えば、直径３インチのウエハー及び軟磁性体膜を直径２．５インチに加工する。
次に、軟磁性体膜の凹凸上に導電体膜をスパッタリングにより形成する（ステップＳＴ８）。例えば、導電体膜は、銅とし、電気抵抗率を５×１０−８Ωｍとする。なお、導電体膜は、銀または金としてもよい。すると、図１３Ｄに示すように、軟磁性体膜２９の凹凸上に導電体膜３０が形成される。この導電体膜３０が電磁界転写用マスタ１の導電体３となる。
【００５７】
次に、導電体膜を隣の軟磁性体膜の表面まで研磨し平坦化する（ステップＳＴ９）。例えば、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｌａｎａｒｉｚａｔｉｏｎ）により導電体膜を研磨する。すると、図１５Ｅに示すように、軟磁性体膜２９及び導電体膜３０が平坦化する。
【００５８】
そして、平坦化した軟磁性体膜及び導電体膜の上にスパッタリングにより保護膜を形成する（ステップＳＴ１０）。例えば、厚さ２ｎｍのＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）の保護膜を形成する。
【００５９】
図１４は、電磁界転写用マスタ１の他の製造方法を示すフローチャートである。
この図１４に示すフローチャートにおいて図１０に示すフローチャートと異なる点は、図１０に示すフローチャートにおいて軟磁性体膜のメッキ形成の工程（ステップＳＴ６）と外形加工の工程（ステップＳＴ７）との間に、軟磁性体膜をアニールして軟磁性体膜の電気抵抗率を小さくする工程（ステップＳＴＥ７）を追加している点である。
【００６０】
ここで、下記表１は、メッキ形成された軟磁性体膜（ＦｅＣｏＮｉ）をアニールする場合、メッキ形成された軟磁性体膜（ＦｅＣｏＮｉ）をアニールしない場合、または、スパッタリングにより軟磁性体膜（ＦｅＣｏ）を形成する場合で、かつ、導電体膜をＣｕ（銅）、Ｃｒ（クロム）、または、Ｔｉ（チタン）とする場合において、それぞれ、垂直記録媒体の再生波形のエッジと基板２の凸部のエッジとのずれの程度を示している。なお、メッキ形成された軟磁性体膜をアニールする場合のその軟磁性体膜の電気抵抗率を８×１０―７Ωｍ、メッキ形成された軟磁性体膜をアニールしない場合のその軟磁性体膜の電気抵抗率を１×１０―６Ωｍ、スパッタリングにより形成された軟磁性体膜の電気抵抗率を５×１０―６Ωｍ、Ｃｕの電気抵抗率を５×１０−８Ωｍ、Ｃｒの電気抵抗率を３×１０−７Ωｍ、Ｔｉの電気抵抗率を８×１０―７Ωｍとする。また、再生波形のエッジと基板２の凸部のエッジとがずれていない場合は○とし、少しずれている場合は△とし、大きくずれている場合は×とする。
【００６１】
下記表１によれば、軟磁性体膜は、導電体膜に対して電気抵抗率の比が５０／８倍以上大きいとき、電磁界転写用マスタ１により垂直記録媒体に転写された情報の再生波形のエッジが電磁界転写用マスタ１の基板２の凹凸の凸部のエッジから大きくずれないことがわかる。
【００６２】
【表１】
0004411453.tif 000002
【００６３】
次に、本発明の他の実施形態の電磁界転写用マスタについて説明する。
図１５は、本発明の他の実施形態の電磁界転写用マスタを示す図である。なお、図１または図１３Ｅに示す構成と同じ構成には同じ符号を付している。
【００６４】
図１５に示す電磁界転写用マスタ３１は、サーボ情報に対応する凹凸を表面に有し、ポリカーボネート（ＰＣ）で構成される基板３２と、基板３２の凹凸上に形成される軟磁性体膜２９と、軟磁性体膜２９の凹部すなわち軟磁性体膜２９及び基板３２からなる基板の凹凸のうち凹部に設けられる導電体３とを備えて構成されている。なお、この電磁界転写用マスタ３１を使用する記録媒体の製造方法は、上述の記録媒体の製造方法と同様であり、垂直記録媒体に記録される情報の再生波形の品質を向上させつつ、垂直記録媒体のトラック密度を高め、かつ、転写時間や消費電力を抑えることができる。
【００６５】
また、この電磁界転写用マスタ３１を使用する記録媒体の製造方法では、基板３２がポリカーボネートにより構成されているため、垂直記録媒体にサーボ情報を転写する際、垂直記録媒体と電磁界転写用マスタ３１との密着性が上がり、垂直記録媒体に分布される磁界のコントラストをより高くすることができ、さらに再生波形の品質を向上させることができる。
【００６６】
図１６は、電磁界転写用マスタ３１の製造方法を示すフローチャートである。なお、電子線レジストを除去する工程（ステップＳＴＥＰ５）までは、図１０に示すフローチャートの電子線レジストを除去する工程（ステップＳＴ５）までと同じであるため説明を省略する。
【００６７】
次に、スパッタリングによりウエハーの凹凸上にＮｉの電極層を形成した後、その電極層上に電気メッキによりＮｉをメッキする（ステップＳＴＥＰ６）。例えば、電極層上に３００μｍのＮｉを電気メッキする。すると、図１７Ａに示すように、ウエハー２７の凹凸上にＮｉ３３がメッキされる。
【００６８】
次に、Ｎｉからウエハーを剥離した後、そのＮｉを外形加工装置により所定の大きさに加工する（ステップＳＴＥＰ７）。例えば、直径８インチのＳｉのウエハー上にメッキされたＮｉを直径２．５インチのＮｉに加工する。
【００６９】
次に、そのＮｉを金型として使用しポリカーボネートの表面にサーボ情報に対応する凹凸形状をつける（ステップＳＴＥＰ８）。例えば、１００トンの光ディスク基板の成型機を使用して、ポリカーボネートの温度を３００度、金型としてのＮｉの温度を１３０度、成型時間を９０秒として、ポリカーボネートの表面にサーボ情報に対応する凹凸形状をつける。このポリカーボネートが電磁界転写用マスタ３１の基板３２となる。すると、図１７Ｂに示すように、ポリカーボネート３４の表面にＮｉ３３の凹凸形状に対応する凹凸形状が形成される。
【００７０】
次に、ポリカーボネートの凹凸上に軟磁性体膜をスパッタリングにより形成する（ステップＳＴＥＰ９）。例えば、軟磁性体膜は、ＦｅＣｏとする。すると、図１７Ｃに示すように、ポリカーボネート３４の凹凸上に軟磁性体膜２９が形成される。
【００７１】
次に、軟磁性体膜の凹凸上に導電体膜をスパッタリングにより形成する（ステップＳＴＥＰ１０）。例えば、２ＰａのＡｒガスの環境下において、ＲＦマグネトロンスパッタにより厚さ１００ｎｍ、電気抵抗率７×１０−８ΩｍのＡｌ（アルミニウム）を軟磁性体膜の凹凸上に形成する。すると、図１７Ｄに示すように、軟磁性体膜２９の凹凸上に導電体膜３０が形成される。
【００７２】
次に、導電体膜を隣の軟磁性体膜の表面まで研磨し平坦化する（ステップＳＴＥＰ１１）。例えば、ＣＭＰにより導電体膜を研磨する。すると、図１７Ｅに示すように、軟磁性体膜２９及び導電体膜３０が平坦化する。
【００７３】
次に、平坦化した軟磁性体膜及び導電体膜の上に保護膜を形成する（ステップＳＴＥＰ１２）。例えば、厚さ２ｎｍのＳｉＮの保護膜を形成する。
なお、上記実施形態では、サーボ情報を垂直記録媒体に転写する構成であるが、サーボ情報以外の所定情報（例えば、音声情報や画像情報など）を垂直記録媒体に転写するように構成してもよい。
【００７４】
また、上記実施形態では、電子線レジストを使用して所定情報に対応する凹凸を基板に形成する構成であるが、レーザ、電子ビーム、イオンビーム、または機械加工などを使用して所定情報に対応する凹凸を基板に形成してもよい。
【００７５】
また、上記軟磁性体膜や上記導電体膜の形成方法は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ（Ｃｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などスパッタリングに限定されない。
【００７６】
また、電磁界転写用マスタ１の基板２の材質は、ガラスなど、Ｓｉに限定されない。
また、電磁界転写用マスタ３１の基板３２は、ポリカーボネート以外の樹脂により構成されてもよい。
また、上記実施形態の記録媒体の製造方法によりサーボ情報が転写された垂直記録媒体を備える磁気ディスク装置（例えば、ハードディスク装置）を構成してもよい。
【００７７】
（付記１）電磁界転写用マスタから所定情報を転写する工程を有して垂直記録媒体を製造する方法であって、該転写工程は、前記垂直記録媒体の磁化の方向を前記外部電磁界の方向と反対方向に初期化し、前記所定情報に対応する凹凸を表面に有し、前記凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、前記基板の凹部内に設けられる導電体とを備える前記電磁界転写用マスタに前記垂直記録媒体を密着または近接させ、前記垂直記録媒体の保磁力よりも強い前記外部電磁界を瞬間的に前記垂直記録媒体及び前記電磁界転写用マスタに印加する、ことを特徴とする記録媒体の製造方法。
（付記２）付記１に記載の記録媒体の製造方法であって、前記外部電磁界の立ち上がり速度は、１ｋＯｅ／ｍｓ以上である、ことを特徴とする記録媒体の製造方法。
（付記３）垂直記録媒体の記録面への所定情報の転写に使用される電磁界転写用マスタであって、前記所定情報に対応する凹凸を表面に有し、前記凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、前記基板の凹部内に設けられる導電体と、を備えることを特徴とする電磁界転写用マスタ。
（付記４）付記３に記載の電磁界転写用マスタであって、前記軟磁性体は、前記導電体に対して電気抵抗率の比が５０／８倍以上大きい、ことを特徴とする電磁界転写用マスタ。
（付記５）付記３に記載の電磁界転写用マスタであって、前記導電体は、銅、銀、アルミニウム、または金である、ことを特徴とする電磁界転写用マスタ。
（付記６）付記３に記載の電磁界転写用マスタであって、前記軟磁性体は、粒界を析出させたＦｅＣｏＮｉである、ことを特徴とする電磁界転写用マスタ。
（付記７）垂直記録媒体に電磁界転写用マスタを密着または近接させた状態で前記垂直記録媒体の記録面に対して垂直方向の外部電磁界を前記垂直記録媒体及び前記電磁界転写用マスタに印加することにより前記電磁界転写用マスタから前記垂直記録媒体へ所定情報を転写する電磁界転写装置であって、前記所定情報に対応する凹凸を表面に有し、前記凹凸のうち少なくとも凸部が軟磁性体で構成される基板と、前記基板の凹部内に設けられる導電体とを備える前記電磁界転写用マスタと、前記外部電磁界を発生する電磁石と、前記電磁石に電流を流し、前記垂直記録媒体の保磁力よりも強い前記外部電磁界を瞬間的に前記電磁石に発生させる電磁界発生手段と、を備えることを特徴とする電磁界転写装置。
（付記８）付記７に記載の電磁界転写装置であって、前記電磁石を構成するコイルのインダクタンスは、１０ｍヘンリー以下である、ことを特徴とする電磁界転写装置。
（付記９）付記７に記載の電磁界転写装置であって、前記電磁界発生手段は、１つの直流電源を使用して前記外部電磁界を２以上発生させる、ことを特徴とする電磁界転写装置。
（付記１０）付記１に記載の記録媒体の製造方法により転写される垂直記録媒体。
（付記１１）付記１に記載の記録媒体の製造方法により転写される垂直記録媒体を備える磁気ディスク装置。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタを示す図である。
【図２】本実施形態の記録媒体の製造方法のフローチャートを示す図である。
【図３】垂直記録媒体の初期化後の磁化の方向を示す図である。
【図４】本発明の実施形態の電磁界転写装置を示す図である。
【図５】電磁界転写装置の電磁界発生部の回路構成の一例を示す図である。
【図６】本実施形態の記録媒体の製造方法の転写の様子を示す図である。
【図７】転写終了後の垂直記録媒体の磁化の方向とその垂直記録媒体に記録される情報の再生波形を示す図である。
【図８】本発明の他の実施形態の電磁界転写装置を示す図である。
【図９】他の実施形態の電磁界転写装置の電磁界発生部の回路構成の一例を示す図である。
【図１０】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法のフローチャートを示す図である。
【図１１】サーボ情報のパターンの一例を示す図である。
【図１２】サーボ情報のパターンの他の例を示す図である。
【図１３Ａ】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その１）である。
【図１３Ｂ】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その２）である。
【図１３Ｃ】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その３）である。
【図１３Ｄ】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その４）である。
【図１３Ｅ】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その５）である。
【図１４】本発明の実施形態の電磁界転写用マスタの他の製造方法のフローチャートを示す図である。
【図１５】本発明の他の実施形態の電磁界転写用マスタを示す図である。
【図１６】本発明の他の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法のフローチャートを示す図である。
【図１７Ａ】他の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その１）である。
【図１７Ｂ】他の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その２）である。
【図１７Ｃ】他の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その３）である。
【図１７Ｄ】他の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その４）である。
【図１７Ｅ】他の実施形態の電磁界転写用マスタの製造方法を説明するための図（その５）である。
【図１８】従来の磁気転写用マスタを示す図である。
【図１９】従来の磁気転写用マスタにより情報を垂直記録媒体に記録する際に生じる磁束及びその垂直記録媒体の再生波形を示す図である。
【図２０】従来の磁気転写用マスタにより情報を垂直記録媒体に記録する際の外部磁界が大きい場合の磁束を示す図である。
【図２１】従来の垂直記録媒体の製造方法に使用される磁気転写用マスタ及びその磁気転写用マスタにより情報が記録された垂直記録媒体の再生波形を示す図である。
【図２２】磁気ヘッドにより情報が記録される磁気ディスクの再生波形を示す図である。
【図２３】水平方向の外部磁界印加による磁気転写の様子を示す図である。
【符号の説明】
【００７９】
１  電磁界転写用マスタ
２  基板
３  導電体
４  垂直記録媒体
５  電磁界転写装置
６、７  電磁石
８  電磁界発生部
９  直流電源
１０、１１  スイッチ
１２  速度調整用抵抗
１３  コンデンサ
１４  コイル
１５  内部抵抗
１６  電磁界転写装置
１７〜２０  電磁石
２１  電磁界発生部
２２  極性反転用スイッチ
２３〜２５  スイッチ
２６  サーボ情報
２７  ウエハー
２８  電子線レジスト
２９  軟磁性体膜
３０  導電体膜
３１  電磁界転写用マスタ
３２  基板
３３  Ｎｉ
３４  ポリカーボネート
１８０  基板
１８１  軟磁性体
１８２  磁気転写用マスタ
１８３  垂直記録媒体
１８４  再生波形
１８５  基板
１８６  強磁性体
１８７  磁気転写用マスタ
１８８  磁界強度
１８９  再生波形
１９０  電磁石
【図２】
0004411453.tif 000003
【図３】
0004411453.tif 000004
【図５】
0004411453.tif 000005
【図９】
0004411453.tif 000006
【図１０】
0004411453.tif 000007
【図１１】
0004411453.tif 000008
【図１２】
0004411453.tif 000009
【図１４】
0004411453.tif 000010
【図１６】
0004411453.tif 000011
【図１】
0004411453.tif 000012
【図４】
0004411453.tif 000013
【図６】
0004411453.tif 000014
【図７】
0004411453.tif 000015
【図８】
0004411453.tif 000016
【図１３Ａ】
0004411453.tif 000017
【図１３Ｂ】
0004411453.tif 000018
【図１３Ｃ】
0004411453.tif 000019
【図１３Ｄ】
0004411453.tif 000020
【図１３Ｅ】
0004411453.tif 000021
【図１５】
0004411453.tif 000022
【図１７Ａ】
0004411453.tif 000023
【図１７Ｂ】
0004411453.tif 000024
【図１７Ｃ】
0004411453.tif 000025
【図１７Ｄ】
0004411453.tif 000026
【図１７Ｅ】
0004411453.tif 000027
【図１８】
0004411453.tif 000028
【図１９】
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【図２０】
0004411453.tif 000030
【図２１】
0004411453.tif 000031
【図２２】
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【図２３】
0004411453.tif 000033