(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料で構成されたシート状支持体上に輝尽性蛍光体層を塗設して放射線像変換パネルを形成する放射線像変換パネルの製造方法において、該シート状支持体が、該シート状支持体を１３０℃で３０分放置した時の、該シート状支持体を製膜により製造する際の搬送（ＭＤ）方向の熱収縮率が０．６２％以下、かつ搬送方向と直角（ＴＤ）方向の熱収縮率が０．５％以下である、ことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項２】
輝尽性蛍光体層の厚さが１５０〜３００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項３】
高分子材料で構成されたシート状支持体上に輝尽性蛍光体層を塗設して放射線像変換パネルを形成する放射線像変換パネルの製造方法において、該輝尽性蛍光体層の塗設前に該シート状支持体がアニール処理されていることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項４】
高分子材料で構成されたシート状支持体が８０〜１５０℃で１０分以上アニール処理されていることを特徴とする請求項３に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項５】
輝尽性蛍光体層の膜厚が１５０〜３００μｍであることを特徴とする請求項３または４に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、放射線像変換パネル、特に輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の放射線写真法に代わる方法として、例えば特開昭５５−１２１４５号公報に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像記録再生方法が知られている。
【０００３】
この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線をパネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に輝尽性蛍光体を可視光線、紫外線等の電磁波（励起光）で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生するものである。読み取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行われた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線像変換パネルは繰り返し使用することができる。上記の放射線像記録再生方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組み合わせを用いる放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない被爆線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点がある。
【０００４】
さらに、従来の放射線写真法では１回の撮影毎に放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面からも有利である。
【０００５】
輝尽性蛍光体は放射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用上では波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が一般的に利用される。
【０００６】
放射線像記録再生方法に用いられる放射線像変換パネルは、基本構造として、シート状支持体とその表面に設けられた輝尽性蛍光体層からなるものである。但し、輝尽性蛍光体層が自己支持性である場合には必ずしもシート状支持体を必要としない。
【０００７】
輝尽性蛍光体層は、通常は輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる。但し、輝尽性蛍光体層としては、蒸着法や焼結法によって形成される結合剤を含まないで輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるものが知られている。また、輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されている輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネルも知られている。
【０００８】
これらのいずれの輝尽性蛍光体層でも、輝尽性蛍光体はＸ線等の放射線を吸収した後励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有するものであるから、被写体を透過したあるいは被検体から発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に吸収され、パネルには被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄積像として形成される。
【０００９】
この蓄積像は、上記励起光を照射することにより輝尽発光光として放出させることができ、この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換することにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化することが可能となる。
【００１０】
なお、輝尽性蛍光体層の表面（シート状支持体に面していない側の表面）には通常、ポリマーフィルムあるいは無機物の蒸着膜からなる保護膜が設けられていて、輝尽性蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。
【００１１】
従来、放射線像変換パネルに用いられてきた輝尽性蛍光体の例としては下記のものが一例として挙げられる。
【００１２】
（１）特開昭５５−１２１４５号公報に記載されている（Ｂａ1-x、Ｍ2+x）ＦＸ：ｙＡ（但し、Ｍ2+はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ及びＣｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩのうちの少なくとも一種、ＡはＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ及びＥｒのうち少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる希土類元素付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物蛍光体；
また、この蛍光体には以下のような添加物が含まれていてもよい；
特開昭５６−７４１７５号公報に記載されている、Ｘ′、ＢｅＸ″、Ｍ3Ｘ″′3（ただし、Ｘ′、Ｘ″、及びＸ″′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩのうち少なくとも一種であり、Ｍ3は３価金属である）；
特開昭５５−１６００７８号公報に記載されているＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｌＯ2、ＺｒＯ2、ＧｅＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5及びＴｈＯ2等の金属酸化物；
特開昭５６−１１６７７７号公報に記載されているＺｒ、Ｓｃ；
特開昭５７−２３６７３号公報に記載されているＢ；
特開昭５７−２３６７５号公報に記載されているＡｓ、Ｓｉ；
特開昭５８−２０６６７８号公報に記載されているＭ・Ｌ（ただし、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＬはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の３価金属である）；
特開昭５９−２７９８０号公報に記載されているテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物；
特開昭５９−２７２８９号公報に記載されているヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン酸及びヘキサフルオロジルコニム酸の１価もしくは２価金属の塩の焼成物；
特開昭５９−５６４７９号公報に記載されているＮａＸ′（ただし、Ｘ′はＣｌ、Ｂｒ及びＩのうちの少なくとも一種である）；
特開昭５９−５６４８０号公報に記載されているＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉ等の遷移金属；
特開昭５９−７５２００号公報に記載されているＭ1Ｘ′、Ｍ2Ｘ″、Ｍ3Ｘ″′、Ａ（ただし、Ｍ1はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、Ｍ2はＢｅ及びＭｇからなる群より選ばれる少なくとも一種の２価金属であり；Ｍ3はＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の３価金属であり；Ａは金属酸化物であり；Ｘ′、Ｘ″及びＸ″′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６０−１０１１７３号公報に記載されているＭ1Ｘ′（ただし、Ｍ1はＲｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ′はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６１−２３６７９号公報に記載されているＭ2′Ｘ′2・Ｍ2′Ｘ″2（ただし、Ｍ2′は、Ｂａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり、Ｘ′及びＸ″はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつＸ′≠Ｘ″である）；
及び特開昭６１−２６４０８４号公報に記載されているＬｎＸ″3（ただし、ＬｎはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）。
【００１３】
（２）特開昭６０−８４３８１号公報に記載されているＭ2Ｘ2・ａＭ2′2：ｘＥｕ2＋（ただし、Ｍ2及びＭ2′はＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦０．０、ｘは０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属ハロゲン化物蛍光体；
また、この蛍光体には以下のような添加物が含まれていてもよい；
特開昭６０−１６６３７９号公報に記載されているＭ1Ｘ″（ただし、Ｍ1はＲｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６０−２２１４８３号公報に記載されているＫＸ″、ＭｇＸ″′2、Ｍ3Ｘ″″3（ただし、Ｍ3はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の３価金属であり；Ｘ″、Ｘ″′及びＸ″″はいずれもＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６０−２２８５９２号公報に記載されているＢ；
特開昭６０−２２８５９３号公報に記載されているＳｉＯ2、Ｐ2Ｏ5等の酸化物；
特開昭６１−１２０８８２号公報に記載されているＬｉＸ″、ＮａＸ″（ただし、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６１−１２０８８３号公報に記載されているＳｉＯ2；
特開昭６１−１２０８８５号公報に記載されているＳｎＸ″2（ただし、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６１−２３５４８６号公報に記載されているＣｓＸ″、ＳｎＸ″′2（ただし、Ｘ″及びＸ″′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；及び、特開昭６１−２３５４８７号公報に記載されているＣｓＸ″、Ｌｎ3+（ただし、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；ＬｎはＳｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素である）。
【００１４】
（３）特開昭５５−１２１４４号に記載されているＬｎＯＸ：ｘＡ、（式中、ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、及びＬｕのうち少なくとも一つ；ＸはＣｌ、Ｂｒ、及びＩのうち少なくとも一つ；ＡはＣｅ及びＴｂのうち少なくとも一つ；ｘは、０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表される希土類元素付活希土類オキシハライド蛍光体。
【００１５】
（４）特開昭５８−６９２８１号に記載されているＭ（II）ＯＸ：ｘＣｅ、（式中、Ｍ（II）はＰｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、及びＢｉからなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ、及びＩのうち少なくとも一つであり；ｘは０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表されるセリウム付活３価金属オキシハライド蛍光体。
【００１６】
（５）特開昭６２−２５１８９号に記載されているＭ（Ｉ）Ｘ：ｘＢｉ、（式中、Ｍ（Ｉ）はＲｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表されるビスマス付活アルカリ金属ハロゲン化物蛍光体。
【００１７】
（６）特開昭６０−１４１７８３号に記載されているＭ（II）5（ＰＯ4）3Ｘ：ｘＥｕ2+、（式中、Ｍ（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。
【００１８】
（７）特開昭６０−１５７０９９号に記載されているＭ（II）2ＢＯ3Ｘ：ｘＥｕ2+、（式中、Ｍ（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属ハロホウ酸塩蛍光体。
【００１９】
（８）特開昭６０−１５７１００号に記載されているＭ（II）2（ＰＯ4）3Ｘ：ｘＥｕ2+、（式中、Ｍ（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。
【００２０】
（９）特開昭６０−２１７３５４号に記載されているＭ（II）ＨＸ：ｘＥｕ2+、（式中、Ｍ（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属水素化ハロゲン化物蛍光体。
【００２１】
（１０）特開昭６１−２１１７３号に記載されているＬｎＸ3・ａＬｎ′Ｘ′3：ｘＣｅ3+、（式中、Ｌｎ及びＬｎ′はそれぞれＹ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；Ｘ及びＸ′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつＸ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希土類複合ハロゲン化物蛍光体。
【００２２】
（１１）特開昭６１−２１１８２号に記載されているＬｎＸ3・ａＭ（Ｉ）Ｘ′３：ｘＣｅ3+、（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；Ｍ（Ｉ）はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ及びＲｂからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ及びＸ′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希土類複合ハロゲン化物系蛍光体。
【００２３】
（１２）特開昭６１−４０３９０号に記載されているＬｎＰＯ4・ａＬｎＸ3：ｘＣｅ3+、（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希土類ハロ燐酸塩蛍光体。
【００２４】
（１３）特開昭６１−２３６８８８号に記載されているＣｓＸ：ａＲｂＸ′：ｘＥｕ2+、（式中、Ｘ及びＸ′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活ハロゲン化セシウム・ルビジウム蛍光体。
【００２５】
（１４）特開昭６１−２３６８９０号に記載されているＭ（II）Ｘ2・ａＭ（Ｉ）Ｘ′：ｘＥｕ2+、（式中、Ｍ（II）はＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｍ（Ｉ）はＬｉ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ及びＸ′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦２０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活複合ハロゲン化物蛍光体。
【００２６】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、ヨウ素を含有する２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素付活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、及びヨウ素を含有するビスマス付活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示す。
【００２７】
放射線像変換パネルは、基本構造として、シート状支持体とその表面に設けられた輝尽性蛍光体層からなるものである。
【００２８】
シート状支持体としては各種高分子材料、硝子、金属、特に情報記録材料としての取り扱い上、可撓性のあるシートあるいはウェブに加工できるものが好適であり、特にポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルムが好ましい。中でもポリエチレンテレフタレートフィルムがコスト、塗設適性、物性等の面で好ましい。
【００２９】
ところが、ポリエチレンテレフタレートフィルムは熱により収縮する性質があり、放射線像変換パネルを作製するためにシート状支持体上に輝尽性蛍光体層等を塗布乾燥する際に、シート状支持体の変形により輝尽性蛍光体層等の塗布性が劣化し、膜厚分布が悪くなり、塗布故障が増加するという問題があった。特に、輝尽性蛍光体層の塗布等の厚膜塗布（ＤＲＹ膜厚１５０〜３００μｍ、ＷＥＴ膜厚２５０〜７５０μｍ）においては高温で長時間の乾燥が必要であり、これがシート状支持体の熱収縮を加速させることとなった。
【００３０】
また、５０〜２５０μｍのシート状支持体上に１５０〜３００μｍという相対的に厚膜の輝尽性蛍光体層の塗布を行う場合には、良好な塗布面を出すことが難しく、シート状支持体の熱収縮は大きな問題となっている。
【００３１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、シート状支持体上に塗設する輝尽性蛍光体層等の塗膜の膜厚分布及び塗布故障が改良され、感度ムラが向上した放射線像変換パネルを提供することである。
【００３２】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記手段により達成される。
【００３３】
１．高分子材料で構成されたシート状支持体上に輝尽性蛍光体層を塗設して放射線像変換パネルを形成する放射線像変換パネルの製造方法において、該シート状支持体が、該シート状支持体を１３０℃で３０分放置した時の、該シート状支持体を製膜により製造する際の搬送（ＭＤ）方向の熱収縮率が０．６２％以下、かつ搬送方向と直角（ＴＤ）方向の熱収縮率が０．５％以下である、ことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【００３４】
２．輝尽性蛍光体層の厚さが１５０〜３００μｍであることを特徴とする前記１に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【００３５】
３．高分子材料で構成されたシート状支持体上に輝尽性蛍光体層を塗設して放射線像変換パネルを形成する放射線像変換パネルの製造方法において、該輝尽性蛍光体層の塗設前に該シート状支持体がアニール処理されていることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【００３６】
４．高分子材料で構成されたシート状支持体が８０〜１５０℃で１０分以上アニール処理されていることを特徴とする前記３に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【００３７】
５．輝尽性蛍光体層の膜厚が１５０〜３００μｍであることを特徴とする前記３または４に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【００３８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者は鋭意研究の結果、請求項１に記載するように、高分子材料で構成されたシート状支持体上に輝尽性蛍光体層を塗設して放射線像変換パネルを形成する放射線像変換パネルにおいて、シート状支持体を１３０℃で３０分放置した時の、シート状支持体を製膜により製造する際の搬送（ＭＤ）方向の熱収縮率が０．６２％以下で、かつ搬送方向と直角（ＴＤ）方向の熱収縮率が０．５％以下とすることにより、または、請求項３に記載するように、高分子材料で構成されたシート状支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、輝尽性蛍光体層の塗設前にシート状支持体をアニール処理することにより、シート状支持体上に塗設する輝尽性蛍光体層等の塗膜の膜厚分布及び塗布故障が改良され、感度が向上した放射線像変換パネルが得られることを見出した。
【００３９】
また、本発明の効果をより発現するためには、さらに、輝尽性蛍光体層の厚さが１５０〜３００μｍで、高分子材料で構成されたシート状支持体が８０〜１５０℃で１０分以上アニール処理されたものであり、輝尽性蛍光体層の膜厚が１５０〜３００μｍであることが好ましい。
【００４０】
次に、本発明の輝尽性蛍光体層に用いられる蛍光体について説明する。
本発明に好ましく用いられる希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体の製造方法の代表的な態様を以下に詳しく説明する。
【００４１】
液相法による輝尽性蛍光体前駆体製造については、公知の前駆体製造方法及び装置が好ましく利用できる。ここで輝尽性蛍光体前駆体とは、下記一般式（１）の物質が６００℃以上の高温を経ていない状態を示し、輝尽性蛍光体前駆体は、輝尽発光性や瞬時発光性を殆ど示さない。
【００４２】
一般式（１）
Ｂａ(1-x)Ｍ2(x)ＦＩ：ｙＭ1，ｚＬｎ
式中、Ｍ1はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ2はＳｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルカリ土類金属、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ及びＹｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ０≦ｘ≦０．５、０≦ｙ≦０．０５、０＜ｚ≦０．２である。
【００４３】
本発明では以下の液相合成法により前駆体を得ることが好ましい。
前記一般式（１）で示される希土類付活アルカリ土類金属弗化沃化物系輝尽性蛍光体の製造は、粒子形状の制御が難しい固相法ではなく、粒径の制御が容易である液相法により行うことが好ましい。特に、下記の２つの液相製造法により輝尽性蛍光体を得ることが好ましい。
【００４４】
（液相製造法１）
母液がＢａＩ2とＬｎのハロゲン化物を含み、前記一般式（１）のｘが０でない場合にはさらにＭ2のハロゲン化物を、そしてｙが０でない場合はさらにＭ1のハロゲン化物を含み、それらが溶解した後、ＢａＩ2濃度が２ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは２．７ｍｏｌ／Ｌ以上の溶液を調製する工程；
上記溶液を５０℃以上、好ましくは８０℃以上の温度に維持しながら、これに濃度５ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは８ｍｏｌ／Ｌ以上の無機弗化物（弗化アンモニウムまたはアルカリ金属の弗化物）の溶液を添加して、希土類付活アルカリ土類金属弗化沃化物系輝尽性蛍光体前駆体結晶の沈澱物を得る工程；
上記前駆体結晶沈澱物を反応液から分離する工程；
そして、分離した前駆体結晶沈澱物を焼結を避けながら焼成する工程を含む製造方法である。
【００４５】
（液相製造法２）
母液がハロゲン化アンモニウムとＬｎのハロゲン化物を含み、前記一般式（１）のｘが０でない場合にはさらにＭ2のハロゲン化物を、そしてｙが０でない場合にはさらにＭ1のハロゲン化物を含み、それが溶解した後、ハロゲン化アンモニウム濃度が３ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは４ｍｏｌ／Ｌ以上の溶液を調整する工程；
上記溶液を５０℃以上、好ましくは８０℃以上の温度に維持しながら、これに濃度５ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは８ｍｏｌ／Ｌ以上の無機弗化物（弗化アンモニウムまたはアルカリ金属の弗化物）の水溶液とＢａＩ2の水溶液とを前者の弗素と後者のＢａとの比率を一定に維持しながら連続的もしくは間欠的に添加して希土類付活アルカリ土類金属弗化沃化物系輝尽性蛍光体前駆体結晶の沈殿物を得る工程；
上記の前駆体結晶沈殿物を水溶液から分離する工程；
そして、分離した前駆体結晶沈殿物を焼結を避けながら焼成する工程を含む製造方法である。
【００４６】
尚、上記２つの製造方法で、Ｌｎのハロゲン化物の添加時期は特に問わず、添加開始時に予め反応母液等にあってもよく、また無機弗化物（弗化アンモニウムもしくはアルカリ金属の弗化物）水溶液の添加時、及び無機弗化物（弗化アンモニウムもしくはアルカリ金属の弗化物）の水溶液とＢａＩ2の水溶液の添加時に同時または後で添加してもよい。
【００４７】
本発明に係る粒子（結晶）は、平均粒径が１〜１０μｍで、かつ単分散性のものが好ましく、平均粒径が１〜５μｍ、平均粒径の分布が２０％以下のものがより好ましく、特に平均粒径が１〜３μｍ、平均粒径の分布が１５％以下のものが好ましい。
【００４８】
本発明における平均粒径とは、粒子（結晶）の電子顕微鏡写真より無作為に粒子２００個を選び、球換算の体積粒子径で平均を求めたものである。
【００４９】
以下に輝尽性蛍光体の製造法の詳細について説明する。
（前駆体結晶の沈澱物の作製、輝尽性蛍光体の作製）
最初に、水系媒体を用いて弗素化合物以外の原料化合物を溶解させる。即ち、ＢａＩ2とＬｎのハロゲン化物、そして必要によりさらにＭ2のハロゲン化物、そしてさらにＭ1のハロゲン化物を水系媒体中に入れ、充分に混合し、溶解させて、それらが溶解した水溶液を調製する。ただし、ＢａＩ2濃度が２ｍｏｌ／Ｌ以上となるように、ＢａＩ2濃度と水系溶媒との量比を調整しておく。この時、所望により少量の酸、アンモニア、アルコール、水溶性高分子ポリマー、水不溶性金属酸化物微粒子粉体等を添加してもよい。この水溶液（反応母液）は５０℃に維持される。
【００５０】
次に、この５０℃に維持され、撹拌されている水溶液に、無機弗化物（弗化アンモニウムまたはアルカリ金属の弗化物等）の水溶液をポンプ付きのパイプ等を用いて注入する。この注入は、撹拌が特に激しく実施されている領域部分に行うのが好ましい。この無機弗化物水溶液の反応母液への注入によって、前記一般式（１）に該当する希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体前駆体結晶が沈澱する。
【００５１】
次に、上記の蛍光体前駆体結晶を、濾過、遠心分離等により溶液から分離し、メタノール等で充分に洗浄し、乾燥する。この乾燥蛍光体前駆体結晶に、アルミナ微粉末、シリカ微粉末等の焼結防止剤を添加、混合し、結晶表面に焼結防止剤微粉末を均一に付着させる。尚、焼成条件を選ぶことにより焼結防止剤の添加を省略することも可能である。
【００５２】
次に、蛍光体前駆体の結晶を、石英ポート、アルミナ坩堝、石英坩堝等の耐熱性容器に充填し、電気炉の炉心に入れて焼結を避けながら焼成を行う。焼成温度は４００〜１，３００℃の範囲が適当であり、５００〜１，０００℃の範囲が好ましい。焼成時間は、蛍光体原料混合物の充填量、焼成温度及び炉からの取出し温度等によっても異なるが、一般には０．５〜１２時間が適当である。
【００５３】
焼成雰囲気としては、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気、あるいは少量の水素ガスを含有する窒素ガス雰囲気、一酸化炭素を含有する二酸化炭素雰囲気等の弱還元性雰囲気、あるいは微量酸素導入雰囲気が利用される。
【００５４】
上記の焼成によって目的の希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体が得られる。
【００５５】
（放射線像変換パネルの作製）
本発明の放射線像変換パネルに用いられるシート状支持体としては、各種高分子材料が用いられる。特に情報記録材料としての取扱い上、可撓性のあるシートまたはウェブに加工できるものが好適であり、この点から言えばポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート等のプラスチックフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【００５６】
シート状支持体の製造方法は素材により異なるが、いずれの製造方法でも製膜したフィルムを巻き取るため搬送することが必要であり、フィルムには搬送（ＭＤ）方向と搬送方向に直角（ＴＤ）方向がある。
【００５７】
例えば、本発明に好ましく用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは溶融延伸製膜方法により製造される。ポリエチレンテレフタレートを１５０℃で真空乾燥した後、２７０℃にて溶融後、ダイから押し出し、冷却ドラム上で急冷して未延伸フィルムを得る。この未延伸フィルムを、ロール式縦延伸機を用いて８５℃で３．４倍の縦延伸を行い、続いてテンター式横延伸機を用いて９０℃で３．４倍の横延伸を行い、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得る。
【００５８】
これらのシート状支持体の厚さは、用いるシート状支持体の材質等によって異なるが、一般的には１０〜１０００μｍであり、本発明では取扱い上の点から５０〜２５０μｍが好ましい。
【００５９】
これらのシート状支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。
【００６０】
これらのシート状支持体は熱により収縮する性質があり、放射線像変換パネルを作製するためにシート状支持体上に輝尽性蛍光体層等を塗布乾燥する際にシート状支持体の変形により輝尽性蛍光体層等の塗布性が劣化し、膜厚分布が悪くなり、塗布故障が増加するという問題があった。特に、輝尽性蛍光体層の塗布等においては高温で長時間の乾燥が必要でありシート状支持体の熱収縮を加速させる。このため、本発明に用いられるシート状支持体の熱収縮率はできるだけ小さいことが好ましく、具体的には、シート状支持体を１３０℃で３０分放置した時の、シート状支持体を製膜により製造する際の搬送（ＭＤ）方向の熱収縮率が０．６２％以下で、かつ搬送方向と直角（ＴＤ）方向の熱収縮率が０．５％以下であることがことが好ましい。
【００６１】
これらのシート状支持体の熱収縮率を小さくする方法として、シート状支持体の組成を選択する方法、アニール処理（熱処理）による方法があるが、アニール処理による方法が好ましい。アニール処理は、輝尽性蛍光体層への加熱の影響を避けるために輝尽性蛍光体層の塗設前に行うことが好ましい。
【００６２】
アニール処理は、シート状支持体のガラス転移点（Ｔｇ）近傍での加熱処理が必要である。例えば、Ｔｇが９０℃のポリエステルフィルムでは、６０℃以上で加熱処理しないと十分に効果が得られないし、Ｔｇが１２０℃のポリエステルフィルムでは、９０℃以上で加熱処理しないと十分に効果が得られないのが実情である。一方、このようなアニール処理の効果は、シート状支持体がＴｇ近傍に加熱されると、急激に弾性率が低下して、そのＴｇ以上の温度に暴露されると消失する。また、高温での処理はシート状支持体の品質を著しく損なう。従って、アニール処理は８０〜１５０℃で１０分以上行うことが好ましい。特に短時間で熱処理をするために、Ｔｇ以上に一度昇温し、Ｔｇ近傍で徐々に冷却する方法もある。
【００６３】
さらに、これらのシート状支持体は輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的で輝尽性蛍光体層が設けられる面に下引き層を設けてもよい。下引き層の層厚としては、１〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは３〜５０μｍである。
【００６４】
また、放射線像変換パネル製造時、または製造後の静電気によるゴミ付着を防止するために導電層を設けてもよい。導電層の層厚としては１〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは１０〜５０μｍである。
【００６５】
輝尽性蛍光体層に用いられる結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分子物質；ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステル等のような、通常、層構成に用いられる造膜性の合成高分子物質等により代表される結合剤を挙げることができる。これらの中で特に好ましいものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、ポリアルキル（メタ）アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエステルとの混合物、ニトロセルロースとポリアルキル（メタ）アクリレートとの混合物及びポリウレタンとポリビニルブチラールとの混合物である。尚、これらの結合剤は、架橋剤によって架橋されたものでもよい。
【００６６】
輝尽性蛍光体層は、例えば次のような方法により下引き層上に形成することができる。
【００６７】
まず、沃素含有輝尽性蛍光体、黄変防止のための亜燐酸エステル等の化合物及び結合剤を適当な溶剤に添加し、これらを充分に混合して結合剤溶液中に蛍光体粒子及び該化合物の粒子が均一に分散した塗布液を調製する。
【００６８】
一般に、結合剤は輝尽性蛍光体１質量部に対して０．０１〜１質量部の範囲で使用される。しかしながら得られる放射線像変換パネルの感度と鮮鋭性の点では結合剤は少ない方が好ましく、塗布の容易さとの兼ね合いから輝尽性蛍光体１質量部に対して０．０３〜０．２質量部の範囲がより好ましい。
【００６９】
輝尽性蛍光体層用塗布液の調製に用いられる溶剤の例としては、メタノール、エノタール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライド等の塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル；トルエン；そして、それらの混合物を挙げることができる。
【００７０】
尚、塗布液には、該塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、また、形成後の輝尽性蛍光体層中における結合剤と蛍光体との結合力を向上させるための可塑剤等、種々の添加剤が混合されてもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等を挙げることができる。また、可塑剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール酸エステル；トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等を挙げることができる。
【００７１】
輝尽性蛍光体層用塗布液の調製は、ボールミル、サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速インペラー分散機、Ｋａｄｙミル、及び超音波分散機等の分散装置を用いて行われる。このようにして調製した塗布液を、下引き層の表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この塗布操作は通常の塗布手段、例えばドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーター等を用いて行うことができる。次いで、形成された塗膜を徐々に加熱することにより乾燥し、下引き層上への輝尽性蛍光体層の形成を完了する。
【００７２】
輝尽性蛍光体層の膜厚は目的とする放射線像変換パネルの特性、輝尽蛍光体の種類、結合剤と蛍光体の混合比等によって異なるが、１０〜１０００μｍが好ましく、１０〜５００μｍがより好ましく、さらに１５０〜３００μｍが最も好ましい。
【００７３】
【実施例】
以下本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００７４】
実施例１
ユーロピウム付活弗化沃化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ2水溶液（４．０ｍｏｌ／Ｌ）２５００ｍｌとＥｕＢｒ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）１２５ｍｌを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌しながら７０℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／Ｌ）２５０ｍｌを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈殿物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続けて沈殿物の熟成を行った。
【００７５】
次に沈殿物を濾別後、エタノールにより洗浄した後、真空乾燥させてユーロピウム付活弗化沃化バリウムの結晶を得た。
【００７６】
焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するためにアルミナの超微粒子粉体を０．１質量％添加し、ミキサーで充分撹拌して結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。
【００７７】
これを石英ボートに充填してチューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユーロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体粒子を得た。
【００７８】
次に上記蛍光体粒子を分級することにより平均粒径３μｍの粒子を得た。輝尽性蛍光体層形成材料として、上記で得たユーロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体４２７ｇ、ポリエステル樹脂（東洋紡製、バイロン５３０）１８ｇをメチルエチルケトンとトルエン、シクロヘキサノンの混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、固形分８０％の塗布液を調製した。
【００７９】
この塗布液をドクターブレードを用いて、表１に示すような熱収縮率で厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて、１７０μｍの輝尽性蛍光体層を形成させた。
【００８０】
次に保護膜形成材料としてフッ素樹脂：フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体（旭硝子社製、ルミフロンＦ１００）７０ｇ、架橋剤：イソシアネート（日本ポリウレタン製、ｃ−３０４１）２５ｇをトルエン−イソプロピルアルコール（１：１）混合溶媒に添加し、塗布液を作製した。
【００８１】
この塗布液を上記のようにして予め形成しておいた輝尽性蛍光体層上にドクターブレードを用いて塗布し、次に１２０℃で３０分間熱処理をして熱硬化させると共に乾燥し、厚さ１０μｍの保護膜を設けた。以上の方法により輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。
【００８２】
この放射線像変換パネルについて、下記方法により輝尽性蛍光体層の膜厚分布、塗布故障及び感度ムラを評価し、その結果を表２に示す。
【００８３】
実施例２、３
シート状支持体として表１に示すような熱収縮率のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００８４】
実施例４、５
表１に示すような条件でアニール処理したポリエチレンテレフタレートフィルムをシート状支持体として用いた以外は、実施例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００８５】
実施例６
膜厚２８０μｍの輝尽性蛍光体層を形成させた以外は、実施例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００８６】
実施例７
シート状支持体として表１に示すような熱収縮率、厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、膜厚２８０μｍの輝尽性蛍光体層を形成させた以外は、実施例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００８７】
参考例８〜１０
表１に示すような熱収縮率の、あるいはアニール処理した厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、輝尽性蛍光体層塗布液を塗布せず、下記導電層塗布液をダイコーターを用いて塗布し、シート状支持体と２０μｍの導電層のみからなる放射線像変換パネル（輝尽性蛍光体層のない試料）を得た。この放射線像変換パネルについて、下記方法により導電層の膜厚分布及び塗布故障を評価し、その結果を表２に示す。
【００８８】
導電層塗布液の調製は以下のように行った。
ポリエステル樹脂（東洋紡製、バイロン２００）１０６ｇ、ＣＢ分散液（御国色素製、＃２７３：ＮＶ＝１８％）１０４ｇをメチルエチルケトンとトルエン（１：１）の混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、粘度０．１〜０．５Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。
【００８９】
参考例１１〜１３
表１に示すような熱収縮率の、あるいはアニール処理した厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、輝尽性蛍光体層塗布液を塗布せず、下記下引き層塗布液をダイコーターを用いて塗布し、シート状支持体と３０μｍの下引き層のみからなる放射線像変換パネル（輝尽性蛍光体層のない試料）を得た。この放射線像変換パネルについて、下記方法により下引き層の膜厚分布及び塗布故障を評価し、その結果を表２に示す。
【００９０】
下引き層塗布液の調製は以下のように行った。
ポリエステル樹脂（東洋紡製、バイロン２００）１７５ｇ、Ｃｕ−フタロシアニン１．７５ｇをメチルエチルケトンとトルエン（１：１）の混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、粘度０．３〜１．０Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。
【００９１】
比較例１〜４
シート状支持体として表１に示すような熱収縮率の、あるいはアニール処理した厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００９２】
比較例５
輝尽性蛍光体層の膜厚を２８０μｍに変えた以外は、比較例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００９３】
比較例６
シート状支持体として表１に示すような熱収縮率の厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、２８０μｍの輝尽性蛍光体層を形成させた以外は、実施例１と同様にして輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを得た。この放射線像変換パネルについて、実施例１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００９４】
参考比較例７〜１０
シート状支持体として表１に示すような熱収縮率の、あるいはアニール処理した厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、実施例８〜１０と同様にして導電層塗布液を塗布し、シート状支持体と２０μｍの導電層のみからなる放射線像変換パネル（輝尽性蛍光体層のない試料）を得た。この放射線像変換パネルについて、実施例８と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００９５】
参考比較例１１〜１４
シート状支持体として表１に示すような熱収縮率の、あるいはアニール処理した厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、参考例１１〜１３と同様にして下引き層塗布液を塗布し、シート状支持体と３０μｍの下引き層のみからなる放射線像変換パネル（輝尽性蛍光体層のない試料）を得た。この放射線像変換パネルについて、参考例１１と同様に評価し、その結果を表２に示す。
【００９６】
（放射線像変換パネルの特性評価）
〈膜厚分布〉
放射線像変換パネル（輝尽性蛍光体層のない試料を含む）を温度２３℃、相対湿度５５％に調湿された部屋で４時間調湿した後、接触式の膜厚計（東京精密社製電機マイクロメーター、ミニコムＭ）を用いて幅手方向に１０ｍｍ間隔で膜厚を測定した。得られた膜厚分布データから、以下の式に従って膜厚分布Ｒ（％）を算出した
Ｒ（％）＝（Ｒ（ｍａｘ）−Ｒ（ｍｉｎ））／Ｒ（ａｖｅ）／２×１００
ここで、Ｒ（ｍａｘ）は最大膜厚、Ｒ（ｍｉｎ）は最小膜厚、Ｒ（ａｖｅ）は平均膜厚である。輝尽性蛍光体層、導電層、下引き層共、Ｒが３％以下は合格である。
【００９７】
〈塗布故障〉
放射線像変換パネル（輝尽性蛍光体層のない試料を含む）の塗布性を目視で観察し、以下の基準で評価した
Ａ：全く異物が見えず、筋故障が全然ない
Ｂ：筋故障の凸状の高さが３０μｍ未満
Ｃ：筋故障の凸状の高さが３０μｍ以上で１００μｍ未満
Ｄ：筋故障の凸状の高さが１００μｍ以上で２００μｍ未満
Ｅ：筋故障の凸状の高さが２００μｍ以上。
【００９８】
〈感度ムラ〉
感度の測定は放射線像変換パネルに管電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射した後、パネルをＨｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ）で操作して励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器（分光感度Ｓ−５の光電子像倍管）で受光してその強度を測定することで行った。表中の感度ムラは、鉛スリット法による鮮鋭度Ｍ３値（０．５、１．０、１．５Ｌｉｎｅ／ｍｍの鮮鋭度の和を１００倍したもの）が２１０のときのパネル面内感度バラツキ（変動係数）である。
【００９９】
【表１】
0004411810.tif 000002
【０１００】
【表２】
0004411810.tif 000003
【０１０１】
表１、２より、シート状支持体の製膜時の搬送（ＭＤ）方向の熱収縮率が０．６２％以下で、かつ搬送方向と直角（ＴＤ）方向の熱収縮率が０．５％以下のとき、またはアニール処理条件が１２０℃以上、１０分以上のときに、膜厚分布が良好で、塗布故障が改良され、感度ムラも向上した。その結果、構造モトルが良好で、特に立位、臥位等の専用機の画質アップや乳ガン検診時等の際に淡い腫瘤や微小石灰化の存在を適確に判断することが可能であった。
【０１０２】
【発明の効果】
本発明により、シート状支持体上に塗設する輝尽性蛍光体層等の塗膜の膜厚分布及び塗布故障が改良され、感度ムラが向上した放射線像変換パネルを提供することができる。