(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの主面を備えており、少なくとも１つの主面が有機または無機の外側層を有しており、外側層がＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆されている眼用レンズの処理方法であって、
（１）仮保護層の上部に、ＭｇＯおよび／またはＭｇ（ＯＨ）２が形成される工程を含む、仮保護層の液相化学処理（a liquid phase chemical treatment）工程、および
（２）少なくとも１種類のフッ素化されていない金属酸化物および／または少なくとも１種類のフッ素化されていない金属水酸化物を、静電フィルムからのそれの転写によって、または仮保護層上へのそれの直接的な真空蒸着によって堆積する工程、
からなる群から選択される特定の処理を含む方法であることを特徴とする、眼用レンズの処理方法。
【請求項２】
前記外側層は、疎水的および／または疎油的な表面被膜であることを特徴とする、請求項１に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項３】
前記外側層は、３０ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする、請求項１または２に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項４】
前記外側層は、１〜２０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１または２に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項５】
前記外側層は、１〜１０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１または２に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項６】
前記外側層は、非反射被膜上に堆積されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項７】
前記非反射被膜は、多層であることを特徴とする、請求項６に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項８】
前記仮保護層は、５〜５０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項９】
前記液相化学処理工程は、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、脱イオンされておらずかつ蒸留していない水であって、温度が３０〜５０℃の範囲である水に接触させる工程をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１０】
前記液相化学処理工程は、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、炭酸ナトリウム水溶液に接触させる工程をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１１】
前記炭酸ナトリウム水溶液は、１４〜４０℃の温度範囲であることを特徴とする、請求項１０に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１２】
前記炭酸ナトリウム水溶液は、１４〜２０℃の温度範囲であることを特徴とする、請求項１０に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１３】
前記炭酸ナトリウム水溶液中の炭酸ナトリウムのモル濃度が、０．０１〜０．１モル／Ｌの範囲であることを特徴とする、請求項１０〜１２のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１４】
前記液相化学処理工程は、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、次亜塩素酸ナトリウム水溶液に接触させる工程をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１５】
前記次亜塩素酸ナトリウム水溶液は、１４〜４０℃の温度範囲であることを特徴とする、請求項１４に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１６】
前記次亜塩素酸ナトリウム水溶液は、１４〜２０℃の温度範囲であることを特徴とする、請求項１４に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１７】
前記次亜塩素酸ナトリウム水溶液の塩素量（chlorometric degree)は、０．１〜５の範囲である、請求項１４〜１６のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１８】
前記ＭｇＦ２を含む仮保護層を、脱イオンされておらずかつ蒸留されていない水、または炭酸ナトリウム水溶液、または次亜塩素酸ナトリウム水溶液に接触させる工程は、少なくとも１０秒の一定時間行われることを特徴とする、請求項９〜１７のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項１９】
前記液相化学処理工程は、次に、水ですすぐ工程と、乾燥させる工程とを含むことを特徴とする、請求項９〜１８のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項２０】
前記少なくとも１種類のフッ素化されていない金属酸化物は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化プラセオジウムおよび酸化セリウムからなる群から選ばれることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項２１】
前記金属水酸化物は、水酸化マグネシウムであることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項２２】
前記ＭｇＯの堆積が、
静電フィルム上へＭｇＯを真空蒸着する工程と、
静電フィルムを、レンズのＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された面の上に載置する工程と、
ＭｇＯをＭｇＦ２上に残して、静電フィルムを取り除く工程と
を含むことを特徴とする、請求項２０に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項２３】
前記ＭｇＯの堆積はＭｇＯの真空蒸着によって行われ、形成されたＭｇＯの層は１〜５ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項２０に記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項２４】
両主面が、ＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された外側層を含むことを特徴とする、請求項１〜２３のいずれかに記載の眼用レンズの処理方法。
【請求項２５】
疎水的および／または疎油的な被覆層と、前記疎水的および／または疎油的な被覆層上に堆積されたＭｇＦ２を含む仮保護層とを含む眼用レンズであって、
少なくとも１種類のフッ素化されていない金属酸化物および／または少なくとも１種類のフッ素化されていない金属水酸化物が、ＭｇＦ２を含む仮保護層上に堆積されていることを特徴とする、眼用レンズ。
【請求項２６】
前記少なくとも１種類のフッ素化されていない金属酸化物が、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化プラセオジウムおよび酸化セリウムからなる群から選ばれることを特徴とする、請求項２５に記載の眼用レンズ。
【請求項２７】
前記フッ素化されていない金属水酸化物は、水酸化マグネシウムであることを特徴とする、請求項２５または２６に記載の眼用レンズ。
【請求項２８】
前記疎水的および／または疎油的な被覆層は、３０ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする、請求項２５〜２７のいずれかに記載の眼用レンズ。
【請求項２９】
前記疎水的および／または疎油的な被覆層は、１〜２０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項２５〜２７のいずれかに記載の眼用レンズ。
【請求項３０】
前記疎水的および／または疎油的な被覆層は、１〜１０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項２５〜２７のいずれかに記載の眼用レンズ。
【請求項３１】
前記疎水的および／または疎油的な被覆層は、非反射被膜上に堆積されていることを特徴とする、請求項２５〜３０のいずれかに記載の眼用レンズ。
【請求項３２】
前記フッ素化されていない金属酸化物および／またはフッ素化されていない金属水酸化物の上に静電フィルムを備えることを特徴とする、請求項２５〜３１のいずれかに記載の眼用レンズ。
【請求項３３】
前記フッ素化されていない金属酸化物がＭｇＯであることを特徴とする、請求項２５〜３２のいずれかに記載の眼用レンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ、特に眼用レンズのトリミングの分野に関する。
眼用レンズは、型を用いた成形（moulding）、および／または、上記レンズの凸状および凹状の光学的表面の形状を決定する表面仕上げ／平滑化操作、続いて行われる適当な表面処理からなる一連の操作から得られる。
【０００２】
最終的に眼用レンズを仕上げる工程は、ガラスの端部（edge）または外周（periphery）を機械加工することに本質があるトリミング操作である。ガラスの端部または外周の機械加工は、要求される大きさに従って行われ、この要求される大きさは、レンズが配置されるガラス枠に適合させるための大きさである。
トリミングは、一般的に研削盤で行われる。研削盤は、機械加工工程を先に規定されたように行うダイヤモンド製の回転盤を含んでいる。
レンズは、このような操作を行う上で、軸方向に作動する阻止部材によって保持される。
【０００３】
砥石車に対するレンズの相対的な動きは、所望の形状とするために、一般的にはデジタルで、監視される。
明らかなように、レンズは、このような動きに対して固定して保持されることが要求される。
最終的には、トリミング操作の前に、レンズ上にエーコン（acorn）を形成する工程が行われる。すなわち、保持手段またはエーコンがレンズの凸面上に取り付けられる。
のりつきチップであり、例えば両面接着テープなどの保持用パッドが、エーコンとレンズの凸面との間に配置される。
このように配置されたレンズは、上述した軸方向の阻止部材のうち１つの上に配置され、そして、第２の軸方向の阻止部材が、レンズを、その凹面上で、接合部分によって固定する。この接合部分は、一般的に、弾性物質（elastomer）によって形成される。
【０００４】
機械加工工程では、接線方向のトルクの効果がレンズ上に発生する。これは、レンズ保持手段が十分に効率よく使用されていない場合に、レンズが回転する結果、エーコンに対して生じうるものである。
レンズの良好な保持は、主に、保持用パッド／レンズの凸面間での良好な粘着に依存する。
【０００５】
最近の眼用レンズは、かなり多くの場合に有機または無機の外側層を有しており、この外側層は、表面のエネルギーを低減させる。この外側層は、例えば、防汚性の疎水的および／または疎油的な被膜である。
これらは、かなり多くの場合に、フッ素化水素化ケイ素（fluorosilane）タイプの物質である。この物質は、除去を容易にして脂肪による汚れの付着を防ぐための、表面エネルギーの低減を行う。
このような表面を被覆するタイプは非常な有効性をもつことができ、パッド／凸面の境界への付着はそのために変化しうるので、満足なトリミング操作を行うことが困難になり、特にポリカーボネートレンズのトリミングは、他の材料と比較して非常に大きな努力を要する。
不正確に行われたトリミング操作の結果は、純粋かつ単純なレンズの損失となる。
【０００６】
以上の説明が、外側層の上に、少なくとも１５ｍＪ／ｍ２の表面エネルギーを付与する仮保護層、特にＭｇＦ２を含む仮保護層を堆積させることが有利となる理由である。ＭｇＦ２を含む仮保護層は、フランス特許出願ｎｏ０１０６５４３で開示されているようなものである。
【０００７】
このような方法は、幅広く成功しているが、さらに改良することができる。実際、一時的なＭｇＦ２を含む仮保護層で外側層が被覆されているレンズのトリミングは、しばしばレンズの処理から４８時間を経過した後にのみ、成功して実行できる。すなわち、種々の層が堆積した後であって、特に外側層と仮保護層が堆積した後である。このようなレンズが４８時間より短い特定の時間の間にトリミングされた場合には、エーコン保持パッドシステムはそれ自身がレンズから自然にまたは弱い力で分離される。これが「エーコン脱落」現象である。実質的に、これはレンズが研削盤から外されるときに生じる。
【０００８】
発明の目的の１つは、それゆえに、有機または無機の外側層を含むレンズの処理方法をねらいとしている。有機または無機の外側層は、特に、ＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された疎水的および／または疎油的な層であって、種々の層がレンズ上に堆積された後に非常に速く、例えば１時間で、トリミング操作を行うことを可能にする。
【０００９】
このため、本発明は、２つの主面を備えており、少なくとも１つの主面は有機または無機の外側層を有しており、外側層がＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆されている眼用レンズの処理方法であって、次に掲げる工程からなる群から選択される特定の処理工程を含む、眼用レンズの処理方法に関する：
（１）仮保護層の上部に、ＭｇＯおよび／またはＭｇ（ＯＨ）２を形成させる工程を含む、仮保護層の液相化学処理（ａ liquid phase chemical treatment）工程、および
（２）少なくとも１種類のフッ素化されていない金属酸化物および／または少なくとも1種類のフッ素化されていない金属水酸化物を、静電フィルムからのそれらの転写によって、または仮保護層上へのそれらの直接的な真空蒸着によって堆積する工程。
【００１０】
金属酸化物は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化プラセオジウム、酸化セリウム、またはこれらの酸化物のうち２つもしくはそれ以上の混合物から選ばれることがこのましい。
金属水酸化物は、水酸化マグネシウムであることが好ましい。
【００１１】
この外側層は、好ましくは、疎水的および／または疎油的な表面被膜であって、特に、単層または多層の非反射被膜上に形成された疎水的および／または疎油的な表面被膜である。
上述したように、疎水的および／または疎油的な被膜は、非反射被膜上表面上へ、レンズの表面エネルギーを低減する化合物を被覆することによって得られる。
【００１２】
このような化合物は、先行技術の中で幅広く開示されている。例えば、ＵＳ−４４１０５６３、ＥＰ−２０３７３０、ＥＰ−７４９０２１、ＥＰ−８４４２６５、ＥＰ−９３３３７７などの特許である。
フッ素化された特性基、特にパーフルオロカーボンまたはパーフルオロポリエーテル基などを有する水素化ケイ素化合物が最も頻繁に用いられる。
例として、シラザン、ポリシラザン、またはケイ素化合物を挙げることが可能であり、上記で述べられたような１つまたはそれを超えるフッ素化された特性基が含まれている。
【００１３】
一般的な方法は、非反射被膜化合物の上への化合物の堆積であり、この化合物は、フッ素化された特性基とＳｉ−Ｒ基とを有しており、Ｒは−ＯＨ基またはその前駆体、好ましくはアルコキシ基を示している。このような化合物は、非反射被膜の表面において、直接的または加水分解の後で、重合および／または架橋結合反応が行われうる。
レンズ表面のエネルギーを低減する化合物を被覆させることは、一般に、上記化合物の溶液の中に浸漬することや、遠心または気相堆積、その他の方法などによって行われる。一般的に、疎水的および／または疎油的な被膜は、３０ｎｍ未満、好ましくは１〜２０ｎｍの範囲、より好ましくは１〜１０ｎｍの範囲の厚さを有している。
【００１４】
本発明の方法は、好ましくは、１４ｍＪｏｕｌｅ／ｍ2未満、より好ましくは１２ｍＪ／ｍ2以下の表面エネルギーを付与する、疎水的および／または疎油的な表面被膜を含むレンズで行われる。（表面エネルギーの計算は、オーウェンスウェンズ法に従って行われ、この方法は、以下の参考文献に開示されている：“Estimation of the surface force energy of polymers” Owens D. K., Wendt R. G. (1969), J. APPL. POLYM. SCI, 13, 1741-1747）。
【００１５】
ＭｇＦ２を含む仮保護層は、外側層の上に直接堆積される。
仮保護層は、一般的に行われているどのような適切な方法を用いても堆積することができる。この方法とは、気相中での方法（真空蒸着）や、液相中での方法であり、例えば、気化、遠心、または浸漬などを通じた方法である。
【００１６】
一般的に、非反射の疎水的および／または疎油的な被膜は、真空容器（vacuum cap）中での蒸着によって堆積され、仮保護層も同じ方法で堆積されることが好ましい。同じ方法で堆積することは、全ての操作を連続して行うことを可能として、工程の間にレンズを過度に取り扱う必要がなくなる。
真空蒸着の他の利点は、上に仮保護層が形成されたばかりの薄層が、疎水的および／または疎油的な特性を示す場合の、湿潤に対する様々な問題を避けることができることである。
【００１７】
一般的にいうと、仮保護層は、レンズに対する種々の処理工程の間に、外側層に対して続いて起こるどのような変化をも避けることができるように、満足な厚さを有していることが好ましい。
好ましくは、その厚さは５〜５０ｎｍの範囲である。
【００１８】
ＭｇＦ２を含む仮保護層は、レンズ表面のエネルギーを少なくとも１５ｍＪｏｕｌｅ／ｍ2以上の値にまで上昇させることができる。
それは、レンズの２つの面の少なくとも一方の全体を覆う領域か、または、上述したレンズの保持パッドが接触するのを受け入れるのに適合した領域だけに、被覆されうる。
より正確には、エーコンと関係付けるために、保持パッドをレンズの凸面上に配置することは、通常行われていることである。それゆえに、仮保護層で、凸面全体、または代わりに、凸面の中央領域を、マスクまたは何か他の適切な技術を用いて被覆することは、可能である。
それ以上に、ＭｇＦ２を含む仮保護層を有するレンズは、進歩的なレンズを作製する業界の当業者によって広く使われている種々のインクを用いて、印がつけられる可能性がある。
【００１９】
上述したように、本発明による方法は、特定の処理工程を含む。
本発明による特定の処理工程が、仮保護層の液相化学処理である場合には、このような液相化学処理は、いくつかの実施形態によって行うことができる。
【００２０】
最初の好ましい実施形態では、液相化学処理は、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、蒸留されておらずかつ脱イオンされていない水（例えば水道水など）であって、３０〜５０℃、好ましくは３０〜４０℃の水に接触させる工程を含む。
【００２１】
第２の好ましい実施形態では、液相化学処理は、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、炭酸ナトリウム水溶液に接触させる工程を含む。
接触させる工程の間、水溶液の温度は、好ましくは１４〜４０℃の範囲であり、より好ましくは１４〜２０℃の範囲である。
好ましくは、溶液の炭酸ナトリウムのモル濃度は、０．０１〜０．１ｍｏｌ／Ｌの範囲であり、より好ましくは、０．０２ｍｏｌ／Ｌ程度である。
【００２２】
第３の好ましい実施形態では、液相化学処理は、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、次亜塩素酸ナトリウム水溶液に接触させる工程を含む。
上述したように、水溶液の温度は、好ましくは１４〜４０℃の範囲であり、より好ましくは１４〜２０℃の範囲である。
好ましくは、溶液の次亜塩素酸ナトリウムのモル濃度は、塩素量（chlorometric degree）が０．１〜５の範囲であり、より好ましくは、１程度である。
【００２３】
一般的に、３つの上述した実施形態では、ＭｇＦ２を含む仮保護層を、蒸留されておらずかつ脱イオンされていない水、炭酸ナトリウム水溶液、または次亜塩素酸ナトリウム水溶液に接触させる工程が、少なくとも１０秒、好ましくは１５秒程度の間行われる。
さらに、好ましくは、液相化学処理は、次に、水、好ましくは脱イオン化されておらずかつ蒸留されていない水を用いてすすぐ工程と、例えば空気を吹き付けることによって乾燥させる工程とを含む。
【００２４】
上述したように、本発明による特定の処理工程は、少なくとも1種類のフッ素化されていない金属酸化物および／または少なくとも1種類のフッ素化されていない金属水酸化物を、仮保護層上に堆積する工程でもよい。好ましくは、ＭｇＯの堆積が行われる。ＭｇＯの場合の堆積する技術について以下に述べる。しかしながら、述べられた技術と厚さは、仮保護層上に形成される他のフッ素化されていない酸化金属および水酸化金属にも適用される。ＭｇＯの堆積は、上述した２つの好ましい実施形態に従って行われうる。
【００２５】
最初の好ましい実施形態によると、ＭｇＯの堆積は転写によって行われ、以下の工程を含んでいる：
−静電フィルム上へＭｇＯを真空蒸着する工程、
−静電フィルムを、レンズのＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された面の上に載置する工程、
−ＭｇＯをＭｇＦ２上に残して、静電フィルムを取り除く工程。
【００２６】
静電フィルムを取り除くことは、一般的に、トリミングの直前に行われる。このように、フィルムの載置とそれを取り除く間には、フィルムは、それがＭｇＯを仮保護層上に転写させるという事実に加えて、それが保管されて移動されているときに、仮保護層の保護を確実にすることも可能にしている。
【００２７】
第２の好ましい実施形態によると、仮保護層上へのＭｇＯの堆積は、真空蒸着によって行われ、形成されたＭｇＯ層は、１〜５ｎｍの範囲の厚さを有している。
蒸着されたＭｇＯは、例えば、測定値が１〜３ｍｍの範囲であるＭｇＯの顆粒（参照：ＣＥＲＡＣから入手可能なＭ−１１３１）、測定値が３〜６ｍｍの範囲であるＭｇＯの顆粒（参照：ＵＭＩＣＯＲＥから入手可能なＭ−２０１３）、ＭｇＯ小球（参照：ＵＭＩＣＯＲＥによって商品化されている０４８１２６３）の蒸着によって、得ることができる。
Ｍｇ（ＯＨ）２が蒸着される場合には、それは好ましくはＡＬＤＲＩＣＨから入手する。
【００２８】
一般的に、ＭｇＯの堆積は、ＭｇＦ２の堆積の後に行われる。したがって、２つの異なったＭｇＦ２／ＭｇＯ層が形成される。必要であれば、ＭｇＯの堆積は、ＭｇＦ２の蒸着の一部を行い、続けて開始できるので、組成の勾配ができ、純粋なＭｇＦ２から表面の純粋なＭｇＯに変化する。
【００２９】
最後に、上述したように、特定の処理工程は、外側層の上へのＭｇＦ２を含む仮保護層の形成速度を遅らせる点にもありうる。通常、このようなタイプの堆積は約０．５ｎｍ／ｓの速度で行われる。本発明によると、真空蒸着を通じた仮保護層の堆積は、０．５ｎｍ／ｓ未満、好ましくは約０．１ｎｍ／ｓで行われる。
【００３０】
上述したように、本発明に従った方法で処理されるレンズは、２つの主面を有しており、そのうち１つは、ＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された外側層を有している。
上述した実施形態によると、２つの主面が、ＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された外側層を有している。一般的に、種々の層が堆積される第１の面は、凹面である。ＭｇＦ２層は、第２の面が処理されている間に、この面を保護することができる。
【００３１】
両方の主面が、ＭｇＦ２を含む仮保護層で被覆された外側層を含んでいる場合には、本発明の特定の処理は、両主面のそれぞれに施されることが好ましい。
レンズの種々の処理操作の後で、特に、レンズがトリミングされた後で、仮保護層は取り除かれる。
仮保護層を取り除く工程は、液体の媒質中で行われるか、もしくは、摩擦や乾式のふき取りなどの機械的な動作によって行われるか、またはこれらの２つの方法を実行することによって行われるかの、いずれかである。
仮保護層を取り除く工程の終了後には、レンズは、疎水的および／または疎油的な被膜を含むものと同程度の、さらには最初のレンズとほぼ同様の、光学および表面の特徴を示している。
【００３２】
本発明はまた、疎水的および／または疎油的な被膜と、上記疎水的および／または疎油的な被膜上に堆積されたＭｇＦ２を含む仮保護層を含み、少なくとも1種類のフッ素化されていない金属酸化物および／または少なくとも1種類のフッ素化されていない金属水酸化物がＭｇＦ２を含む仮保護層の上に堆積されているという点で特徴付けられている眼用レンズに関する。
【００３３】
フッ素化されていない金属酸化物および水酸化物は、上述したものの中から選択されることが好ましく、より好ましくは、フッ素化されていない金属水酸化物は、水酸化マグネシウムである。
疎水的および／または疎油的な被膜は、上述の通り規定したものであり、外側層は、好ましくは非反射被膜、特に多層化されたものの上に堆積される。
【００３４】
本発明はまた、先に規定されたような、簡単に取り除ける静電フィルムであって上述したフッ素化されていない金属酸化物および／または水酸化物層を被覆しているものを含む眼用レンズに関する。
好ましくは、静電フィルムで被覆されている層は、ＭｇＯ層である。
【００３５】
以上説明した本発明は、以下の実施例によって説明されており、特に、図１に記載されている。図１は、水が噴出している状態でパッドがレンズにしっかりと接着して保持される時間を、外側層と仮保護層との堆積からの経過時間の関数として示している。
【実施例】
【００３６】
実施例の目的は、レンズのトリミングを行う上での、本発明に従った特定の処理の効果をテストすることである。
堆積は、基板上になされ、この基板は、ＣＲ３９（Ｒ）を主材料とした眼用レンズであって、両面に、ポリシロキサンタイプの非剥離被膜を含んでいる。この非剥離被膜は、特許出願ＥＰ６１４９５７の実施例３に相当する。レンズは、超音波洗浄容器中で洗浄され、蒸気によって、少なくとも３時間の間、１００℃の温度で処理される。レンズは、これにより処理する準備が整う。
【００３７】
１．レンズの準備
１．１  非反射被膜と疎水的および／または疎油的な被膜とを有するレンズの準備
用いられている真空処理機は、Blazers BAK760 machineであって、電子銃が備えられている。電子銃は、“end-Hall”というMark2 Commonwealth型のイオン銃である。また、ジュール効果での蒸発熱源も備えられている。
レンズは、回転搬送装置（carrousel）の上に載置される。回転搬送装置は、円形の開口が備えられており、これは、レンズを処理に適応させることを意図しており、凹面を、蒸発熱源とイオン銃に対向させる。
真空の吸引は、第２の真空（secondary vacuum）が達成されるまで行われる。
【００３８】
そして、連続して、蒸発が電子銃を用いて行われ、高反射率（ＩＨ）、低反射率（ＢＩ）、ＨＩ、ＢＩ：ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２という４層の光学的に非反射な層が形成される。
【００３９】
最後に、疎水的および／または疎油的な被膜層が、ＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸ（パーフルオロポリプロピレンパターンを含む化合物である）という商品名の物質を蒸着することによって、得られる。ＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸは、ＤＡＩＫＩＮ社によって販売されている。
一定量のＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸが、直径１８ｍｍの銅製の小皿の中に入れられる。銅製の小皿は、ジュール効果るつぼ（タンタル製るつぼ）の代わりに備えられたものである。
１〜５ｎｍの厚さの疎水的でかつ疎油的な被膜が、蒸着によって堆積される。
堆積の厚さの調整は、石英製定規を用いて行われる。
【００４０】
１．２  仮保護層の堆積
仮保護層は、それから蒸着される。
堆積される材料は、分子式ＭｇＦ２の化合物であり、粒径が１〜２．５ｎｍであり、Ｍｅｒｃｋ社によって販売されている。
蒸着は、電子銃を用いて行われる。
堆積された物理的な厚さは２０ｎｍであり、堆積の速度は０．５２ｎｍ／ｓである。
堆積された厚さは、石英製定規を用いて測定される。
続いて、封入物が再度加熱され、そして、処理チャンバー内が大気圧に戻される。
レンズは、それからひっくり返されて、凸面が処理領域に向けて配置される。凸面は、凹面と同じように処理される（上述した工程１．１と１．２を再度行う）。
【００４１】
１．３  特定の処理工程
レンズは、次に、本発明による、以下の工程から選択される特定の処理工程を受ける。
−脱イオンされておらずかつ蒸留されていない水
−次亜塩素酸水溶液
−炭酸ナトリウム水溶液
−静電フィルムからのＭｇＯの転写
−ＭｇＯの、一時的なＭｇＦ２層上への、直接的な蒸着
【００４２】
ａ）（脱イオンされておらずかつ蒸留されていない）温水
レンズは、暖かい水道水の中に浸漬される。水道水の温度は４０℃で、浸漬時間は１５秒である。
そして、レンズは、蒸留されていない水ですすがれ、圧力がかかった気体が吹き付けられることにより乾燥させられる。
【００４３】
ｂ）次亜塩素酸水溶液
レンズは、温度が４０℃であるの蒸留されていない水１リットルと、塩化メチルの割合（chlorometric degree）が４８である２０ｍＬのジャベル抽出物とを含むパイレックス（Ｒ）容器の中に、１５秒間浸漬させる。
そして、レンズは、蒸留されていない水ですすがれ、圧力がかかった気体が吹き付けられることにより乾燥させられる。
【００４４】
ｃ）炭酸水溶液
レンズは、温度が４０℃である蒸留されていない水１リットルと、０．５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウム４０ｍＬとを含むパイレックスの容器の中に、１５秒間浸漬される。
そして、レンズは、蒸留されていない水ですすがれ、圧力がかかった気体が吹き付けられることにより乾燥させられる。
【００４５】
ｄ）ＭｇＯの静電フィルムからの転写
電子銃を用いて、ＭｇＯは、ＵＭＩＣＯＲＥ社から入手したＭｇＯチップ（参考文献０４８１２６３）から、ＰＶＣを主体とする（ポリ塩化ビニル）共重合体からなる静電フィルム上に、真空蒸着される。静電フィルムは、１００／μｍの厚さであり、ＳＥＲＩＣＯＭ  ＰＬＡＳＴＯＲＥＸ社から供給される。
ＭｇＯで被覆された静電フィルムが、レンズの凸面上に載置される。
トリミングするときに、フィルムは除去される。ＭｇＯ層は、ＭｇＦ２を含む仮保護層上に残存する。
【００４６】
ｅ）ＭｇＯを、ＭｇＦ２を含む一時的な層の上に、直接蒸着する。
電子銃を用いて、ＭｇＯ層は真空蒸着される（ＵＭＩＣＯＲＥ社から入手したＭｇＯチップ（参考文献０４８１２６３）から）。ＭｇＯ層は、２ｎｍの厚さであり、ＭｇＦ２を含む仮保護層上に直接真空蒸着される。
【００４７】
２．エーコン脱落テスト
２．１  原理
エーコン脱落テストは、準備されたレンズに対して、噴出水の下で行われる。このテストは、レンズのトリミングを行うよりも、簡単で速い。このテストは、レンズの実際のトリミングよりも「苛酷」でもある。それにも拘わらず、このテストは、全く異なった方法で、結果を格付けすることができる。
【００４８】
保持パッドとしては、３Ｍ社の商品であるのりつきチップが使用される。
パッドは、エーコン上に手で接着される。
エーコン＋パッドのセットは、各レンズの凹面に、手で接着される。
レンズは、水道水（流水）にさらされて５分以上置かれる。水道水の温度は、測定されていない。流速は、６Ｌ／分である。レンズと蛇口の距離は、約２０ｃｍである。
【００４９】
一方、レンズの手動での回転が行われ、同様に、傾ける操作も行われる。これは、水を、端部を通じて、また、エーコンの中央の穴を通じて、浸透させるためである。
もし、エーコン＋パッドのセットが５分より前に落下したら（エーコンが脱落する現象と一致する）、そのセットがレンズ上に接着して残っている間、時間が記録される。
エーコン＋パッドのセットが落下するのが５分以降であれば、パッド表面がまだ接着している部分の割合が記録される。これは、ネオンの光の下で、凸面からレンズを透視することによって、よく見える。
【００５０】
２．２  テストおよび結果
ａ）テスト１
エーコン＋パッドのセットの保持時間は、噴出水（water jet）にさらされた状態で測定され、レンズの処理の最後からの経過時間の関数として、すなわち、いろいろな層の堆積と特定の処理工程とからの経過時間の関数として、測定される。
結果は、図１に示されている。
測定は、特定の処理工程が施されていないレンズ（カーブ１）と、次亜塩素酸ナトリウムを用いて特定の処理工程が施されたレンズ（カーブ２）に対して行われた。
横座標は、レンズ処理の最後からの時間の経過を表している。また、縦座標は、噴出水にさらされた状態でのパッド保持時間を表している。
特定の処理工程を施したレンズは、１時間後にパッドを保持している時間が３００秒に達することができ、一方、特定の処理工程を施していないガラスは、同じ時間に保持できるのは２週間後である。
【００５１】
ｂ）テスト２
保持時間の測定が、本発明に従った特定の処理工程を施していないレンズと、本発明に従った特定の処理工程を施しているレンズに対して行われる。測定は、レンズ処理の後、様々な時間Ｔが経過したときに行われる。
結果が表１にまとめられている。
【００５２】
【表１】
0004408859.tif 000002
【００５３】
表１に見られるように、本発明に従った特定の処理工程は、エーコンが脱落する現象を、完全になくす。
【００５４】
ｃ）テスト３
このテストでは、前述したような次亜塩素酸ナトリウム水溶液による特定の処理工程が、レンズ表面の半分にのみ施される。
したがって、レンズは、次亜塩素酸ナトリウムを含むパイレックスのフラスコ中に半分浸漬される。
噴出水にさらされてから約１５秒後に、レンズ表面の、特定の処理工程がされていない半分にしっかり接着されたパッドは、完全にはがされる。
噴出水にさらされてから５分後に、レンズ表面の、特定の処理工程がされている半分にしっかりと接着されたパッドは、１００％接着し続けている。
特定の処理工程が炭酸ナトリウムの水溶液で行われた場合にも、同じ結果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】水が噴出している状態でパッドがレンズにしっかりと接着して保持される時間を、外側層と仮保護層との堆積からの経過時間の関数として示している。
【図１】
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