(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板、第２基板、前記両基板間に形成された液晶層、及び前記両基板間で前記液晶層を囲むとともに、単位パネルに切断する際に用いられるカッティングラインと一致する部分を有するシール材を備えてなる液晶セルを用意する工程と、
液晶の入出のために前記シール材に入出口を形成する工程と、
前記入出口を介して液晶量を調節する工程と、
前記入出口を封じる工程と
を含んでなる液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
前記シール材は、カッティングラインと一致する一辺を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
前記シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、カッティングラインと一致する第２部分、及び前記第１部分と前記第２部分とを連結する第３部分からなる一辺を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
前記第３部分の一端は、前記第１部分の一端に連結され、前記第３部分の他端は、前記第２部分の一端に連結されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
前記第３部分の一端は、前記第１部分の一端に連結され、前記第３部分の他端は、前記第２部分の一端を行過ぎて延びるように形成されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
前記シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、及び前記第１部分から延びカッティング前のカッティングラインを横切るように形成された複数個の第２部分からなる一辺を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
前記シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、前記第１部分から延びカッティング前のカッティングラインを横切るように形成された複数個の第２部分、及び前記複数個の第２部分を連結する第３部分からなる一辺を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】
前記シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、及び前記第１部分から延び端部がカッティングラインと一致する複数個の第２部分からなる一辺を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
前記シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、前記第１部分から延びカッティング前のカッティングラインを横切るように形成された複数個の第２部分、及び前記第１部分または前記第２部分と交差して形成される曲線型の第３部分からなる一辺を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
前記液晶セルを用意する工程は、
前記第１基板及び前記第２基板を用意する工程と、
前記両基板のいずれかの基板上にシール材を形成する工程と、
前記両基板のいずれかの基板上に所定量の液晶を滴下する工程と、
前記両基板を合着する工程と
を含んでなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１１】
前記シール材に入出口を形成する工程は、前記カッティングラインと一致する部分を有するシール材の一辺に入出口を形成する工程からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１２】
前記カッティングラインと一致する部分を有するシール材の一辺に入出口を形成する工程は、前記カッティングラインと一致する部分の内部に入出口を形成する工程からなることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１３】
前記カッティングラインと一致する部分を有するシール材の一辺に入出口を形成する工程は、前記カッティングラインと一致する部分の間の領域に入出口を形成する工程からなることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１４】
前記シール材に入出口を形成する工程は、シール材の所定部分を除去する工程からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１５】
前記シール材の所定部分を除去する工程は、レーザー照射を用いて行うことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１６】
前記シール材の所定部分を除去する工程は、シール材の所定部分の幅が開放されるように除去して開口タイプの入出口を形成する工程からなることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１７】
前記開口タイプの入出口を形成する工程は、シール材の所定部分を完全に除去する工程からなることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１８】
前記開口タイプの入出口を形成する工程は、シール材の所定部分を完全に除去せずに、前記第１基板または前記第２基板と隔たる残存シール材が形成されるようにする工程からなることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１９】
前記シール材の所定部分を除去する工程は、シール材の所定部分の幅を減らして薄い膜のタイプの入出口を形成する工程からなることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２０】
前記薄い膜のタイプの入出口は、加圧時に液晶セル中の液晶によって破れる程度の幅を有することを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２１】
前記薄い膜のタイプの入出口の幅は、０．２５〜０．６ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２２】
前記液晶量を調節する工程は、過充填された液晶を所定の量だけ外部に排出する工程からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２３】
前記過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出する工程は、液晶セルに圧力を加える工程であることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２４】
前記液晶セルに圧力を加える工程は、シール材の入出口を破る工程を含むことを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２５】
前記液晶量を調節する工程は、未充填のため不足する液晶として所定の量だけ内部に投入する工程からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２６】
前記入出口を封じる工程は、仕上げ剤を入出口に投入する工程及び該仕上げ剤を硬化する工程からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２７】
前記入出口を封じる工程は、仕上げ剤を前記第２部分の間の領域に投入する工程及び前記仕上げ剤を硬化する工程からなることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２８】
前記液晶セルを用意する工程の後に、液晶セルに形成された液晶量を検査する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２９】
前記液晶量を検査する工程は、肉眼検査工程からなることを特徴とする請求項２８に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子に係り、より具体的には、液晶滴下方法によって製造される液晶表示素子において液晶量を調節できる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示画面の厚さが数ｃｍに過ぎない超薄型の平板表示素子（Flat Panel Display）、なかでも液晶表示素子は、動作電圧が低いために消費電力が少なく且つ携帯用に向いている点から、ノートブックコンピュータ、モニタ、宇宙船、航空機などにいたるまで、広範で多様な分野に応用されている。
【０００３】
以下、かかる液晶表示素子を、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【０００４】
図１は、従来の液晶表示素子を示す概略断面図である。
【０００５】
図１に示すように、従来の液晶表示素子は、所定間隔をおいて相対向している下部基板１０及び上部基板２０と、これら両基板１０、２０間においてシール材３０によって封じられた液晶層４０とを備えて構成される。
【０００６】
図示してはいないが、下部基板１０上には、互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲートラインとデータラインが形成されており、ゲートラインとデータラインとの交差領域には、スイッチング素子として薄膜トランジスタが形成されており、この薄膜トランジスタと接続される画素電極が画素領域に形成されている。
【０００７】
図示してはいないが、上部基板２０上には、画素領域以外の領域から光が漏れるのを防ぐための遮光層が形成されており、画素領域に対応する部分に、色を表現するための赤色Ｒ、緑色Ｇ及び青色Ｂのカラーフィルタ層が形成されており、該カラーフィルタ層上部に共通電極が形成されている。
【０００８】
このような液晶表示素子は、下部基板及び上部基板を用意する工程、及び用意した両基板間に液晶層を形成する工程によって製造され、両基板間に液晶層を形成する工程には、真空注入方法及び液晶滴下方法がある。
【０００９】
真空注入方法は、用意した両基板のいずれか１つの基板に、注入口を有するシール材を形成し、両基板を合着した後に、注入口から液晶を両基板の間に注入する方法である。
【００１０】
液晶滴下方法は、用意した両基板のいずれか１つの基板に、注入口のないシール材を形成し、該注入口のないシール材が形成された基板上に液晶を滴下した後に、両基板を合着する方法である。
【００１１】
基板の大型化に伴って液晶滴下方法が多く用いられているが、これは、真空注入方法によって液晶を注入すると、液晶注入に長い時間がかかり生産性が落ちるためである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、液晶滴下方法では、適正の液晶量を算出することが大きな難題とされている。
【００１３】
すなわち、真空注入方法では、両基板を合着してから液晶を注入するので、合着基板中に注入される液晶量をあらかじめ算出する必要がないが、液晶滴下方法では、液晶を滴下してから両基板を合着するので、液晶量をあらかじめ算出しなければならない。
【００１４】
現在、液晶滴下方法では、セルの大きさ及び高さなどを考慮して液晶量をあらかじめ算出してはいるものの、種々の要因によって液晶量を正確に算出するのは現実的に不可能な実情である。
【００１５】
例えば、液晶量が少なく算出されると、液晶パネル内部に液晶未充填領域が発生し、液晶量が過度に算出されると、液晶パネル内部に液晶過充填領域が発生してしまい、いずれも表示クォリティーが低下するという問題につながる。
【００１６】
そこで、現在、液晶の未充填または過充填の発生を最小化すべく、最適の液晶量を算出するための研究が多方面で行われているが、いったん液晶の未充填または過充填が発生すると、その後の治癒方法がないため、不良度合がひどい場合には廃棄処分しなければならず、不経済である。
【００１７】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、液晶の未充填または過充填が発生しても、液晶量の事後調節によって未充填または過充填を治癒できる液晶表示素子の製造方法を提供することにある。
【００１８】
本発明の他の目的は、液晶の未充填または過充填が発生しても、液晶量の事後調節によって未充填または過充填を治癒した液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記の目的を達成するために、本発明は、第１基板、第２基板、前記両基板間に形成された液晶層、及び前記両基板間で前記液晶層を囲むとともにカッティングラインと一致する部分を有するシール材を備えてなる液晶セルを用意する工程と、液晶の入出のために前記シール材に入出口を形成する工程と、前記入出口を介して液晶量を調節する工程と、前記入出口を封じる工程とを含んでなる液晶表示素子の製造方法を提供する。
【００２０】
本発明の第１の特徴は、シール材に液晶の入出のための入出口を形成した後に、該入出口を介して液晶量を調節できるようにすることによって、たとえ液晶の未充填または過充填などの不良が発生しても、該不良を事後に治癒できるようにした点にある。
【００２１】
本発明の第２の特徴は、入出口を介して液晶量を調節した後に、入出口を封じる過程で、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れるのを防ぐために、カッティングラインと一致する部分を有するシール材を形成した点にある。
【００２２】
このような本発明の第２の特徴について図面を参照して説明すると、下記の通りである。
【００２３】
図２Ａ乃至図２Ｃは、シール材に液晶の入出口を形成して液晶量を調節し、該入出口を封じた後に、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる様子を説明するための工程図である。
【００２４】
図２Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、及び両基板１００、２００間で液晶層（図示せず）を囲んで形成されたシール材３００を備えてなる液晶セルを形成した後、液晶の未充填または過充填が発生した場合、図２Ｂに示すように、シール材３００に液晶量調節用の入出口３５０を形成し、該入出口３５０を介して液晶を投入または排出させることで液晶量を調節した後、図２Ｃに示すように、仕上げ剤４００を用いて入出口３５０を封じる。このときに、仕上げ剤４００はある程度の粘性があるため、図２Ｃに示すように、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できない場合が生じ、この場合は、入出口３５０が完全に密封されず、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れるという問題につながる。
【００２５】
したがって、本発明は、液晶量調節用の入出口３５０が形成されるシール材の所定部分をカッティングラインと一致するように形成することによって、すなわち、シール材の所定部分を液晶セルの最外周部と一致するように形成することによって、仕上げ剤４００の形成後に入出口３５０から液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる問題を解消する。
【００２６】
シール材は、カッティングラインと一致する一辺を有するように形成することができる（後述する実施の形態１参照）。
【００２７】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、カッティングラインと一致する第２部分、及び第１部分と第２部分とを連結する第３部分からなる一辺を有するように形成できる（後述する実施の形態２及び実施の形態３参照）。この時、第３部分の一端は、第１部分の一端に連結され、第３部分の他端は、第２部分の一端に連結される、または、第２部分の一端を行過ぎて延在するように形成することができる。
【００２８】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、及び第１部分から延びカッティングラインを横切って形成された複数個の第２部分からなる一辺を有するように形成できる（後述する実施の形態４参照）。
【００２９】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、及び第１部分から延びカッティングラインを横切って形成された複数個の第２部分、及び複数個の第２部分を連結する第３部分からなる一辺を有するように形成できる（後述する実施の形態５参照）。
【００３０】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、及び第１部分から延びてその端部がカッティングラインと一致する複数個の第２部分からなる一辺を有するように形成できる（後述する実施の形態６参照）。
【００３１】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、第１部分から延びカッティングラインを横切って形成された複数個の第２部分、及び第１部分または第２部分と交差して形成された曲線型の第３部分からなる一辺を有するように形成できる（後述する実施の形態７参照）。
【００３２】
入出口は、カッティングラインと一致する部分を有するシール材の一辺に形成し、具体的には、カッティングラインと一致する部分の内部に形成する、または、カッティングラインと一致する部分の間の領域に形成することが好ましい。
【００３３】
入出口は、レーザー照射を用いてシール材の所定部分を除去することによって開口タイプまたは薄い膜タイプに形成できる。
【００３４】
上記の第２目的を達成するために、本発明は、第１基板及び第２基板と、これら両基板間に形成された液晶層と、両基板間で液晶層を囲むとともにカッティングラインと一致する部分及び液晶の入出のための入出口を有するシール材と、入出口を密封している仕上げ剤とを備えてなる液晶表示素子を提供する。
【００３５】
シール材は、カッティングラインと一致する一辺を有するように形成することができる（後述する実施の形態８参照）。
【００３６】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、カッティングラインと一致する第２部分、及び第１部分と第２部分とを連結する第３部分からなる一辺を有するように形成することができる。ここで、第３部分の一端は、第１部分の一端に連結され、第３部分の他端は、第２部分の一端に連結される（後述する実施の形態９参照）。
【００３７】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、及び第１部分からカッティングラインまで延びた複数個の第２部分からなる一辺を有するように形成することができる（後述する実施の形態１０参照）。
【００３８】
シール材は、カッティングラインと一致しない第１部分、第１部分からカッティングラインまで延びた複数個の第２部分、及び第１部分または第２部分と交差して形成される曲線型の第３部分からなる一辺を有するように形成することができる（後述する実施の形態１１参照）。
【００３９】
また、入出口は、カッティングラインと一致する部分を有するシール材の一辺に形成され、具体的には、カッティングラインと一致する部分の内部に形成される、または、カッティングラインと一致する部分の間の領域に形成されることが好ましい。
【００４０】
入出口は、シール材の所定部分が除去された開口タイプであっても良く、シール材の所定部分の幅が減らされて形成された薄い膜が破れてなるタイプであっても良い。
【発明の効果】
【００４１】
本発明によれば、下記のような効果が得られる。
【００４２】
第１に、シール材に液晶の入出のための入出口を形成した後、該入出口を介して液晶量を調節できるようにしたため、たとえ液晶の未充填または過充填が発生しても、事後にその不良を治癒することが可能になる。
【００４３】
第２に、カッティングラインと一致する部分を有するようにシール材を形成したため、入出口を介して液晶量を調節した後、該入出口を封じる過程で液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れるのを防ぐことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
以下、添付の図面を参照しつつ、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
【００４５】
１．液晶表示素子の製造方法
実施の形態１．
図３Ａ乃至図３Ｄは、本発明の実施の形態１による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【００４６】
まず、図３Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、及び両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【００４７】
この液晶セルを用意する工程は、第１基板１００を用意する工程、第２基板２００を用意する工程、両基板１００、２００のいずれかの基板上にシール材３００を形成する工程、及び両基板１００、２００間に液晶層を形成する工程からなる。
【００４８】
第１基板１００を用意する工程は、図示してはいないが、透明な基板上に互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲートラインとデータラインを形成する工程、これらゲートラインとデータラインの交差点に、スイッチング素子として薄膜トランジスタを形成する工程、及び該薄膜トランジスタと電気的に連結されるように画素領域に画素電極を形成する工程とを含んでなる。
【００４９】
第２基板２００を用意する工程は、図示してはいないが、透明な基板上に光の漏れを防ぐための遮光層を形成する工程、遮光層間の領域にカラーフィルタ層を形成する工程、及びカラーフィルタ層の上部に共通電極を形成する工程を含んでなる。ただし、いわゆるＩＰＳ（In-Plane Switching）モード液晶表示素子では、共通電極を第２基板２００に形成するのではなく、第１基板１００上に画素電極と平行に形成する。
【００５０】
シール材３００を形成する工程は、第１基板１００または第２基板２００上に熱硬化型樹脂またはＵＶ硬化型樹脂、好ましくはＵＶ硬化型樹脂を、プリンティング法またはディスペンシング法など当業界における公知の方法を用いて形成する。ここで、シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致するように形成する。このようにシール材３００の一辺３１０をカッティングラインと一致するように形成することによって、後述する液晶の入出口を介して液晶量を調節した後に該入出口を封じる際に、液晶が外部に漏れるのを防止できる。これについては、以後工程に対する説明から、より明確に理解できるはずである。
【００５１】
両基板１００、２００間に液晶層を形成する工程は、液晶滴下方法によって行われる。すなわち、両基板１００、２００のいずれかの基板上に所定量の液晶を滴下した後、両基板１００、２００を合着する工程からなる。
【００５２】
以上説明した液晶セルを用意する工程において、それぞれの構成要素の材料及び形成方法などは、当業界における様々な公知の方法によって変更可能である。
【００５３】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【００５４】
液晶セルの液晶量を検査する方法は、通常の肉眼検査方法によって行うことができ、その他当業界における公知の検査方法によって行えば良い。液晶量検査の結果、適正量の液晶が滴下されていないと判断される場合（すなわち、液晶量が不足して未充填領域が発生した場合や、液晶量が多すぎて過充填領域が発生した場合）には、以下の工程によって未充填や過充填を治癒する。
【００５５】
その後、未充填領域または過充填領域が発生した場合には、図３Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【００５６】
入出口３５０は、カッティングラインと一致するシール材の一辺３１０に形成する。
【００５７】
入出口３５０は、シール材３００の所定部分をレーザー照射などの方法で除去して形成する。ここで、シール材３００の所定部分を除去して形成した入出口３５０は、シール材３００の所定部分の幅を全部除去して開口タイプにしても良く、シール材３００の所定部分の幅を一部のみ除去して薄い膜タイプにしても良い。
【００５８】
図４Ａ乃至図４Ｃは、本発明の実施の形態１による入出口３５０の様々な形態を示す図で、図４Ａ及び図４Ｂは断面図で、図４Ｃは平面図である。
【００５９】
すなわち、入出口３５０は、図４Ａ及び図４Ｂのように開口部３５０ａのタイプにしても良く、図４Ｃのように薄い膜３５０ｂのタイプにしても良い。
【００６０】
入出口３５０を開口部３５０ａのタイプにする場合には、図４Ａのようにシール材３００の所定部分を完全に除去しても良く、図４ｂのようにシール材３００の所定部分を完全に除去せずに、第１基板１００または第２基板２００と隔たる残存シール材３６０が形成されるようにしても良い。
【００６１】
入出口３５０を薄い膜３５０ｂのタイプにする場合には、薄い膜３５０ｂが、後述する加圧工程時に液晶セル中の液晶によって破れなければならず、これが可能な程度の幅を持つように形成しなければならない。幅は、好ましくは、０．２５〜０．６ｍｍの範囲にする。
【００６２】
ただし、図４Ａ及び図４Ｂのように入出口３５０を開口部３５０ａのタイプにする場合には、開口部３５０ａから気泡が流入して液晶セル内部に悪影響を及ぼす恐れがあるのに対し、図４Ｃのように入出口３５０を薄い膜３５０ｂのタイプにすると、気泡が流入する心配ない。したがって、入出口３５０は、薄い膜３５０ｂのタイプにすることがより好ましい。
【００６３】
その後、図３Ｃに示すように、液晶セルに圧力を加え、過充填された液晶を入出口３５０から所定の量だけ外部に排出させる。
【００６４】
ここで、液晶セルに加える圧力の大きさ及び時間によって、外部に排出される液晶の量が変わるので、過充填された液晶量に基づいて適当な圧力及び時間を選択して加えなければならない。特に、入出口３５０が薄い膜３５０ｂのタイプに形成された場合には、液晶セルに圧力を加えることによって、薄い膜３５０ｂを破り液晶を排出させるようになるので、入出口３５０が開口部３５０ａのタイプに形成された場合に比べ、加える圧力の大きさをより大きく設定しなければならない。
【００６５】
一方、図３Ｃには、液晶が過充填された場合が示されているが、液晶が未充填された場合には、入出口３５０から所定量の液晶を液晶セル内に投入しなければならない。このため、液晶が未充填された場合には、入出口３５０のタイプを開口部３５０ａのタイプにしなければならない。
【００６６】
その後、図３Ｄに示すように、入出口３５０を封じる。
【００６７】
入出口を封じる工程は、仕上げ剤４００を入出口３５０に投入した後、硬化させる工程からなる。
【００６８】
仕上げ剤４００を硬化する工程は、仕上げ剤４００が熱硬化型樹脂の場合には加熱工程によって、仕上げ剤４００がＵＶ硬化型樹脂の場合にはＵＶ照射工程によって行う。
【００６９】
このように、本発明の実施の形態１では、カッティングラインと一致するシール材の一辺３１０に入出口３５０を形成することから、入出口３５０を介して液晶量を調節した後に入出口３５０を仕上げ剤４００で塞ぐと、仕上げ剤４００が入出口３５０を完全に密封でき、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる心配がない。
【００７０】
図５乃至図１０はそれぞれ、本発明の実施の形態２乃至実施の形態７による液晶表示素子の製造工程を概略的に示す平面図で、本発明の実施の形態２乃至実施の形態７は、シール材、入出口、仕上げ剤の形成工程以外は、上記の実施の形態１と同一である。したがって、同じ構成要素には同じ参照符号を付し、重複する説明は省略するものとする。以下、本発明の実施の形態２乃至実施の形態７について説明する。
【００７１】
実施の形態２．
図５Ａ乃至図５Ｃは、本発明の実施の形態２による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【００７２】
まず、図５Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、及び両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【００７３】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、カッティングラインと一致する第２部分３１２、及び第１部分３１１と第２部分３１２とを連結する第３部分３１３からなる。ここで、第３部分３１３の一端は、第１部分３１１の一端に連結され、第３部分３１３の他端は、第２部分３１２の一端に連結される。
【００７４】
その後、図示してはいないが、液晶セル内の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【００７５】
その後、図５Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【００７６】
入出口３５０は、シール材３００の一辺３１０に形成され、より具体的には、カッティングラインと一致する第２部分３１２の内部に形成する。
【００７７】
入出口３５０は、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定部分を除去し、開口部のタイプまたは薄い膜のタイプにすることができる。
【００７８】
その後、図示してはいないが、液晶セルに圧力を加えることによって、入出口３５０を介して、過充填と判別された際には過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出し、未充填と判別された際には不足する液晶として所定の量だけ液晶セル内部に投入する。
【００７９】
その後、図５Ｃに示すように、仕上げ剤４００で入出口３５０を封じる。
【００８０】
このように、本発明の実施の形態２では、シール材の一辺３１０のうち、カッティングラインと一致する第２部分３１２に入出口３５０を形成するため、該入出口３５０を介して液晶量を調節した後に入出口３５０を仕上げ剤４００で塞ぐ場合、仕上げ剤４００が入出口３５０を完全に密封することができ、液晶セル中の液晶が液晶セル外部に漏れる恐れがない。
【００８１】
実施の形態３．
図６Ａ乃至図６Ｃは、本発明の実施の形態３による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【００８２】
まず、図６Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、及び両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【００８３】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、カッティングラインと一致する第２部分３１２、及び第１部分３１１と第２部分３１２とを連結する第３部分３１３からなる。ここで、第３部分３１３の一端は、第１部分３１１の一端に連結され、第３部分３１３の他端は、第２部分３１２の一端を行過ぎて延在する。第３部分３１３のうち、カッティングラインの外側に形成される部分は、便宜上図面に示されているが、単位パネルに切断する際に除去される部分で、単位パネルでは存在しない。これは、以降の図６Ｂ及び図６Ｃにおいても同様である。
【００８４】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【００８５】
その後、図６Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【００８６】
入出口３５０は、シール材３００の一辺３１０に形成され、より具体的には、カッティングラインと一致する第２部分３１２の内部に形成する。
【００８７】
入出口３５０は、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定部分を除去し、開口部のタイプまたは薄い膜のタイプにすることができる。
【００８８】
その後、図示してはいないが、液晶セルに圧力を加えることによって、入出口３５０を介して、過充填と判別された際には過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出し、未充填と判別された際には不足する液晶として所定の量だけ液晶セル内部に投入する。
【００８９】
その後、図６Ｃに示すように、仕上げ剤４００で入出口３５０を封じる。
【００９０】
このように、本発明の実施の形態３では、シール材の一辺３１０のうち、カッティングラインと一致する第２部分３１２に入出口３５０を形成するため、入出口３５０を介して液晶量を調節した後、入出口３５０を仕上げ剤４００で塞ぐ場合、仕上げ剤４００が入出口３５０を完全に密封でき、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる恐れがない。
【００９１】
実施の形態４．
図７Ａ乃至図７Ｃは、本発明の実施の形態４による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【００９２】
まず、図７Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【００９３】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、及び第１部分３１１から延びカッティングラインを横切って形成された２つの第２部分３１２からなる。第２部分３１２のうち、カッティングラインの外側に形成される部分は、便宜上図面に示されているが、単位パネルに切断する際に除去される部分で、単位パネルでは存在しない。これは、以降の図７Ｂ及び図７Ｃにおいても同様である。
【００９４】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【００９５】
その後、図７Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【００９６】
入出口３５０は、シール材３００の一辺３１０に形成され、より具体的には、カッティングラインを横切って形成された２つの第２部分３１２の間に該当する第１部分３１１の領域に形成される。
【００９７】
入出口３５０は、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定部分を除去し、開口部のタイプまたは薄い膜のタイプにすることができる。
【００９８】
その後、図示してはいないが、液晶セルに圧力を加えることによって、入出口３５０を介して、過充填と判別された際には過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出し、未充填と判別された際には不足する液晶として所定の量だけ液晶セル内部に投入する。
【００９９】
その後、図７Ｃに示すように、シール材の一辺３１０のうち、２つの第２部分３１２の間の領域に仕上げ剤４００を形成し、入出口３５０を封じる。理想的には仕上げ剤４００が、入出口３５０まで進入して入出口３５０を塞ぐことになるが、図７Ｃは、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できない場合を例示している。
【０１００】
図示のように、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できないとしても、本発明の実施の形態４では、仕上げ剤４００が第２部分３１２同士の間の領域に形成され、第２部分３１２と仕上げ剤４００が壁を形成するため、液晶セル中の液晶が液晶セル外部に漏れることがない。
【０１０１】
実施の形態５．
図８Ａ乃至図８Ｃは、本発明の実施の形態５による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【０１０２】
まず、図８Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【０１０３】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、第１部分３１１から延びカッティングラインを横切って形成された２つの第２部分３１２、第２部分３１２を連結する第３部分３１３からなる。第２部分３１２のうちカッティングラインの外側に形成される部分及び第３部分３１３は、便宜上図面に示しているが、単位パネルに切断する際に除去される部分で、単位パネルでは存在しない。これは、以降の図８Ｂ及び図８Ｃにおいても同様である。
【０１０４】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【０１０５】
その後、図８Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【０１０６】
入出口３５０は、シール材３００の一辺３１０に形成され、より具体的には、カッティングラインを横切って形成された２つの第２部分３１２の間に該当する第１部分３１１の領域に形成される。
【０１０７】
入出口３５０は、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定部分を除去し、開口部のタイプまたは薄い膜のタイプにすることができる。
【０１０８】
その後、図示してはいないが、液晶セルに圧力を加えることによって、入出口３５０を介して、過充填と判別された際には過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出し、未充填と判別された際には不足する液晶として所定の量だけ液晶セル内部に投入する。
【０１０９】
その後、図８Ｃに示すように、シール材の一辺３１０のうち、２つの第２部分３１２の間の領域に仕上げ剤４００を形成し、入出口３５０を封じる。理想的には仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入して入出口３５０を塞ぐことになるが、図８Ｃは、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できなかった場合を例示している。
【０１１０】
図示のように、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できないとしても、本発明の実施の形態５では、仕上げ剤４００が第２部分３１２同士の間の領域に形成され、第２部分３１２と仕上げ剤４００が壁を形成するため、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる恐れがない。
【０１１１】
実施の形態６．
図９Ａ乃至図９Ｃは、本発明の実施の形態６による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【０１１２】
まず、図９Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【０１１３】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、及び第１部分３１１から延びてその端部がカッティングラインと一致する２つの第２部分３１２からなる。
【０１１４】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【０１１５】
その後、図９Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【０１１６】
入出口３５０は、シール材３００の一辺３１０に形成され、より具体的には、２つの第２部分３１２の間に該当する第１部分３１１の領域に形成される。
【０１１７】
入出口３５０は、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定部分を除去し、開口部のタイプまたは薄い膜のタイプにすることができる。
【０１１８】
その後、図示してはいないが、液晶セルに圧力を加えることによって、入出口３５０を介して、過充填と判別された際には過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出し、未充填と判別された際には不足する液晶として所定の量だけ液晶セルの内部に投入する。
【０１１９】
その後、図９Ｃに示すように、シール材の一辺３１０のうち、２つの第２部分３１２の間の領域に仕上げ剤４００を形成し、入出口３５０を封じる。理想的には仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入して入出口３５０を塞ぐことになるが、図９Ｃは、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できなかった場合を例示している。
【０１２０】
図示のように、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できないとしても、本発明の実施の形態６では、仕上げ剤４００が第２部分３１２同士の間の領域に形成され、第２部分３１２と仕上げ剤４００が壁を形成するため、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる恐れがない。
【０１２１】
実施の形態７．
図１０Ａ乃至図１０Ｃは、本発明の実施の形態７による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【０１２２】
まず、図１０Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）、両基板１００、２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【０１２３】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、第１部分３１１から延びカッティングラインを横切って形成された２つの第２部分３１２、及び第１部分３１１または第２部分３１２と交差して形成される曲線型の第３部分３１３からなる。
【０１２４】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【０１２５】
その後、図１０Ｂに示すように、シール材３００に液晶の入出のための入出口３５０を形成する。
【０１２６】
入出口３５０は、シール材３００の一辺３１０に形成され、より具体的には、２つの第２部分３１２間に該当する第３部分３１３の領域に形成される。
【０１２７】
入出口３５０は、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定部分を除去し、開口部のタイプまたは薄い膜のタイプにすることができる。
【０１２８】
その後、図示してはいないが、液晶セルに圧力を加えることによって、入出口３５０を介して、過充填と判別された際には過充填された液晶として所定の量だけ外部に排出し、未充填と判別された際には不足する液晶として所定の量だけ液晶セル内部に投入する。
【０１２９】
その後、図１０Ｃに示すように、シール材の一辺３１０のうち、２つの第２部分３１２の間の領域に仕上げ剤４００を形成し、入出口３５０を封じる。理想的には仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入して入出口３５０を塞ぐことになるが、図１０Ｃは、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できなかった場合を例示している。
【０１３０】
図示のように、仕上げ剤４００が入出口３５０まで進入できないとしても、本発明の実施の形態７では、仕上げ剤４００が第２部分３１２の間の領域に形成され、第２部分３１２と仕上げ剤４００が壁を形成するため、液晶セル中の液晶が液晶セルの外部に漏れる恐れがない。
【０１３１】
２．液晶表示素子
実施の形態８．
図１１は、本発明の実施の形態８による液晶表示素子を示す概略平面図で、上の図３Ａ乃至図３Ｄに基づく本発明の実施の形態１による液晶表示素子の製造方法によって製造された液晶表示素子を示している。したがって、以下説明する部分についての具体的な内容は、上記本発明の実施の形態１からより明確になるだろう。
【０１３２】
図１１に示すように、本発明の実施の形態８による液晶表示素子は、第１基板１００及び第２基板２００と、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）と、両基板１００、２００間で液晶層を囲み、液晶の入出のための入出口３５０を有するシール材３００と、入出口３５０を密封する仕上げ剤４００とを備えてなる。
【０１３３】
ここで、第１基板１００及び第２基板２００の構成については上にも述べたので、その具体的な説明は省略する。
【０１３４】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致する。
【０１３５】
入出口３５０は、カッティングラインと一致するシール材の一辺３１０に形成される。
【０１３６】
入出口３５０は、シール材３００の所定部分の幅が開放されるように除去されてなる開口部のタイプであっても良く、シール材３００の所定部分の幅が減らされてなる薄い膜のタイプであっても良い。入出口３５０を開口部のタイプにする場合、開口部は、シール材３００の所定部分が完全に除去されたものにしても良く、シール材３００の所定部分が完全に除去されずに、第１基板１００または第２基板２００と隔たって残存シール材が形成されたものにしても良い。
【０１３７】
実施の形態９．
図１２は、本発明の実施の形態９による液晶表示素子を示す概略平面図で、上の図５及び図６に基づく本発明の実施の形態２及び実施の形態３による液晶表示素子の製造方法によって製造された液晶表示素子を示している。
【０１３８】
図６による本発明の実施の形態３は、シール材の一辺３１０のうち、第３部分３１３の一端が第２部分３１２の一端を行過ぎて延在する以外は、図５に基づく本発明の実施の形態２と同一であるが、図６において第２部分３１２の一端を行過ぎて延在する第３部分３１３のうち、カッティングラインの外側に形成される部分は、単位パネル製造時に切断される部分であるため、実際に、図５に基づく本発明の実施の形態２によって製造された液晶表示素子と図６に基づく本発明の実施の形態３によって製造された液晶表示素子は同一となり、その形状は、図１２に示す通りである。
【０１３９】
図１２に示すように、本発明の実施の形態９による液晶表示素子は、第１基板１００及び第２基板２００と、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）と、両基板１００、２００間で液晶層を囲み、液晶の入出のための入出口３５０を有するシール材３００と、入出口３５０を密封している仕上げ剤４００とを備えてなる。
【０１４０】
第１基板１００及び第２基板２００の構成については上にも述べたので、その具体的な説明は省略する。
【０１４１】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、カッティングラインと一致する第２部分３１２、及び第１部分３１１と第２部分３１２とを連結する第３部分３１３からなり、第３部分３１３の一端は、第１部分３１１の一端に連結され、第３部分３１３の他端は、第２部分３１２の一端に連結される。
【０１４２】
入出口３５０は、シール材の一辺３１０、好ましくは、カッティングラインと一致する第２部分３１２の内部に形成される。
【０１４３】
入出口３５０は、シール材３００の所定部分の幅が開放されるように除去されてなる開口部のタイプであっても良く、シール材３００の所定部分の幅が減らされてなる薄い膜のタイプにしても良い。入出口３５０を開口部のタイプにする場合、開口部は、シール材３００の所定部分が完全に除去されたものにしても良く、シール材３００の所定部分が完全に除去されずに、第１基板１００または第２基板２００と隔たって残存シール材が形成されたものにしても良い。
【０１４４】
実施の形態１０．
図１３は、本発明の実施の形態１０による液晶表示素子を示す概略平面図で、上の図７、図８及び図９による本発明の実施の形態４、実施の形態５及び実施の形態６による液晶表示素子の製造方法によって製造された液晶表示素子を示している。
【０１４５】
図７に基づく本発明の実施の形態４においてシール材の第２部分３１２のうちカッティングラインの外側に形成される部分と、図８に基づく本発明の実施の形態５においてシール材の第２部分３１２のうちカッティングラインの外側に形成される部分及び第３部分３１３は、単位パネル製造時に切断される部分であるため、実際に、図７、図８及び図９に基づく本発明の実施の形態４、実施の形態５及び実施の形態６によって製造された液晶表示素子は同一となり、その形状は、図１３に示す通りである。
【０１４６】
図１３に示すように、本発明の実施の形態１０による液晶表示素子は、第１基板１００及び第２基板２００と、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）と、両基板１００、２００間で液晶層を囲み、液晶の入出のための入出口３５０を有するシール材３００と、入出口３５０を密封している仕上げ剤４００とを備えてなる。
【０１４７】
第１基板１００及び第２基板２００の構成については上にも述べたので、その具体的な説明は省略する。
【０１４８】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、第１部分３１１からカッティングラインまで延びた複数の第２部分３１２からなる。
【０１４９】
入出口３５０は、シール材の一辺３１０、好ましくは、カッティングラインまで延びた複数の第２部分３１２の間の領域に該当する第１部分３１１に形成される。
【０１５０】
入出口３５０は、シール材３００の所定部分の幅が開放されるように除去されてなる開口部のタイプであっても良く、シール材３００の所定部分の幅が減らされてなる薄い膜のタイプにしても良い。入出口３５０を開口部のタイプにする場合、開口部は、シール材３００の所定部分が完全に除去されたものにしても良く、シール材３００の所定部分が完全に除去されずに、第１基板１００または第２基板２００と隔たって残存シール材が形成されたものにしても良い。
【０１５１】
仕上げ剤４００は、第２部分３１２の間の領域に形成される。
【０１５２】
実施の形態１１．
図１４は、本発明の実施の形態１１による液晶表示素子を示す概略平面図で、図１０に基づく本発明の実施の形態７による液晶表示素子の製造方法によって製造された液晶表示素子を示している。
【０１５３】
図１４に示すように、本発明の実施の形態１１による液晶表示素子は、第１基板１００及び第２基板２００と、両基板１００、２００間に形成された液晶層（図示せず）と、両基板１００、２００間で液晶層を囲み、液晶の入出のための入出口３５０を有するシール材３００と、入出口３５０を密封している仕上げ剤４００とを備えてなる。
【０１５４】
第１基板１００及び第２基板２００の構成については上にも述べたので、その具体的な説明は省略する。
【０１５５】
シール材３００の一辺３１０は、カッティングラインと一致しない第１部分３１１、第１部分３１１からカッティングラインまで延びた複数個の第２部分３１２、及び第１部分３１１または第２部分３１２と交差して形成される曲線型の第３部分３１３からなる。
【０１５６】
入出口３５０は、シール材の一辺３１０、好ましくは、カッティングラインまで延びた複数個の第２部分３１２の間の領域に該当する第３部分３１３に形成される。
【０１５７】
入出口３５０は、シール材３００の所定部分の幅が開放されるように除去されてなる開口部のタイプにしても良く、シール材３００の所定部分の幅が減らされてなる薄い膜のタイプにしても良い。入出口３５０を開口部のタイプにする場合、開口部は、シール材３００の所定部分が完全に除去されたものにしても良く、シール材３００の所定部分が完全に除去されずに、第１基板１００または第２基板２００と隔たって残存シール材が形態されたものにしても良い。
【０１５８】
仕上げ剤４００は、第２部分３１２の間の領域に形成される。
【図面の簡単な説明】
【０１５９】
【図１】従来の液晶表示素子を示す概略断面図である。
【図２Ａ】シール材に液晶の入出口を形成し液晶量を調節し、該入出口を封じた後に、液晶セル中の液晶が液晶セル外部に漏れる様子を説明するための工程図である。
【図２Ｂ】シール材に液晶の入出口を形成し液晶量を調節し、該入出口を封じた後に、液晶セル中の液晶が液晶セル外部に漏れる様子を説明するための工程図である。
【図２Ｃ】シール材に液晶の入出口を形成し液晶量を調節し、該入出口を封じた後に、液晶セル中の液晶が液晶セル外部に漏れる様子を説明するための工程図である。
【図３Ａ】本発明の実施の形態１による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図３Ｂ】本発明の実施の形態１による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図３Ｃ】本発明の実施の形態１による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図３Ｄ】本発明の実施の形態１による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図４Ａ】本発明の実施の形態１による入出口の様々な形態を示す図で、図４Ａ及び図４Ｂは断面図で、図４Ｃは平面図である。
【図４Ｂ】本発明の実施の形態１による入出口の様々な形態を示す図で、図４Ａ及び図４Ｂは断面図で、図４Ｃは平面図である。
【図４Ｃ】本発明の実施の形態１による入出口の様々な形態を示す図で、図４Ａ及び図４Ｂは断面図で、図４Ｃは平面図である。
【図５Ａ】本発明の実施の形態２による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図５Ｂ】本発明の実施の形態２による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図５Ｃ】本発明の実施の形態２による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図６Ａ】本発明の実施の形態３による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図６Ｂ】本発明の実施の形態３による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図６Ｃ】本発明の実施の形態３による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図７Ａ】本発明の実施の形態４による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図７Ｂ】本発明の実施の形態４による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図７Ｃ】本発明の実施の形態４による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図８Ａ】本発明の実施の形態５による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図８Ｂ】本発明の実施の形態５による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図８Ｃ】本発明の実施の形態５による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図９Ａ】本発明の実施の形態６による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図９Ｂ】本発明の実施の形態６による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図９Ｃ】本発明の実施の形態６による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図１０Ａ】本発明の実施の形態７による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図１０Ｂ】本発明の実施の形態７による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図１０Ｃ】本発明の実施の形態７による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す平面図である。
【図１１】本発明の実施の形態８による液晶表示素子を示す概略平面図である。
【図１２】本発明の実施の形態９による液晶表示素子を示す概略平面図である。
【図１３】本発明の実施の形態１０による液晶表示素子を示す概略平面図である。
【図１４】本発明の実施の形態１１による液晶表示素子を示す概略平面図である。
【符号の説明】
【０１６０】
１００  第１基板、２００  第２基板、３００  シール材、３１０  シール材の一辺、３１１  第１部分、３１２  第２部分、３１３  第３部分、３５０  入出口、３５０ａ  開口部、３５０ｂ  薄い膜、４００  仕上げ材。
【図１】
0004496203.tif 000002
【図２Ａ】
0004496203.tif 000003
【図２Ｂ】
0004496203.tif 000004
【図２Ｃ】
0004496203.tif 000005
【図３Ａ】
0004496203.tif 000006
【図３Ｂ】
0004496203.tif 000007
【図３Ｃ】
0004496203.tif 000008
【図３Ｄ】
0004496203.tif 000009
【図４Ａ】
0004496203.tif 000010
【図４Ｂ】
0004496203.tif 000011
【図４Ｃ】
0004496203.tif 000012
【図５Ａ】
0004496203.tif 000013
【図５Ｂ】
0004496203.tif 000014
【図５Ｃ】
0004496203.tif 000015
【図６Ａ】
0004496203.tif 000016
【図６Ｂ】
0004496203.tif 000017
【図６Ｃ】
0004496203.tif 000018
【図７Ａ】
0004496203.tif 000019
【図７Ｂ】
0004496203.tif 000020
【図７Ｃ】
0004496203.tif 000021
【図８Ａ】
0004496203.tif 000022
【図８Ｂ】
0004496203.tif 000023
【図８Ｃ】
0004496203.tif 000024
【図９Ａ】
0004496203.tif 000025
【図９Ｂ】
0004496203.tif 000026
【図９Ｃ】
0004496203.tif 000027
【図１０Ａ】
0004496203.tif 000028
【図１０Ｂ】
0004496203.tif 000029
【図１０Ｃ】
0004496203.tif 000030
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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