(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩基の存在下、式（１）
【化１】
0004496586.tif 000009
で示されるキノリンカルボアルデヒド誘導体にアセトニトリルを反応させることにより、式（２）
【化２】
0004496586.tif 000010
で示されるキノリルヒドロキシプロピオニトリル誘導体と式（３）
【化３】
0004496586.tif 000011
で示されるキノリルアクリロニトリル誘導体との混合物を生成させ、次いで、この混合物に脱水剤を添加して脱水反応を行なうことを特徴とする、式（３）
【化４】
0004496586.tif 000012
で示されるキノリルアクリロニトリル誘導体の製造法。
【請求項２】
式（２）
【化５】
0004496586.tif 000013
で示される３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−イル］−３−ヒドロキシプロピオニトリル。
【請求項３】
塩基の存在下、式（１）
【化６】
0004496586.tif 000014
で示されるキノリンカルボアルデヒド誘導体にアセトニトリルを反応させたのち、さらに脱水剤を添加して脱水反応を行なうことを特徴とする、式（３）
【化７】
0004496586.tif 000015
で示されるキノリルアクリロニトリル誘導体の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、キノリンカルボキシアルデヒド誘導体からキノリンカルボアルデヒド誘導体を製造する方法に関する。本発明の方法により得られるキノリルアクリロニトリル誘導体は、例えば、コレステロール低下剤（ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害薬）の合成中間体として有用なキノリルプロペナール誘導体の原料化合物として用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】
従来、キノリルプロペナール誘導体を製造する方法としては、キノリンアクリル酸エステルを水素化ジイソブチルアルミニウムで還元してキノリルプロぺノールを得て、これをオキサリルクロライド及びジメチルスルホキシド、又は二酸化マンガンを用いて酸化してキノリルプロペナールとすることからなる、二工程で製造する方法が知られている（J.Med.Chem.,34,367（1991））。また、アクリロニトリル化合物の二重結合を保持したまま、シアノ基のみを選択的にホルミル基に還元してプロペナール化合物を製造する方法としては、還元剤として水素化ジイソブチルアルミニウムを用いる方法が知られている（Heterocycles,29,691（1989））。しかしながら、これらのいずれの方法も、取り扱いや後処理が煩雑となる水素化ジイソブチルアルミニウムや二酸化マンガンを用いなければならず、工業的な製造法としては不利である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、原料として、公知のキノリンカルボアルデヒド誘導体を用い、キノリルプロペナール誘導体の製造に有利に利用することのできるキノリルアクリロニトリル誘導体を製造することが出来る新規な方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題は、塩基の存在下、式（１）
【０００５】
【化８】
0004496586.tif 000002
【０００６】
で示されるキノリンカルボアルデヒド誘導体にアセトニトリルを反応させることにより、式（２）
【０００７】
【化９】
0004496586.tif 000003
【０００８】
で示されるキノリルヒドロキシプロピオニトリル誘導体と式（３）
【０００９】
【化１０】
0004496586.tif 000004
【００１０】
で示されるキノリルアクリロニトリル誘導体との混合物を生成させ、次いで、この混合物に脱水剤を添加して脱水反応を行なうことを特徴とする、式（３）
【００１１】
【化１１】
0004496586.tif 000005
【００１２】
で示されるキノリルアクリロニトリル誘導体の製造法により解決される。なお、上記の式（２）の化合物である、３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−イル］−３−ヒドロキシプロピオニトリルは新規な化合物である。本発明の課題はまた、塩基の存在下、式（１）
【００１３】
【化１２】
0004496586.tif 000006
【００１４】
で示されるキノリンカルボアルデヒド誘導体にアセトニトリルを反応させたのち、さらに脱水剤を添加して脱水反応を行なうことを特徴とする、式（３）
【００１５】
【化１３】
0004496586.tif 000007
【００１６】
で示されるキノリルアクリロニトリル誘導体の製造法によっても解決される。
【００１７】
本発明の製造法により得られる上記式（３）のキノリルアクリロニトリル誘導体は、例えば、ギ酸と、ギ酸に対して０．２５乃至１容量倍の水の存在下にて、ラネーニッケルにより還元するなどの方法を利用して３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エナールに変換することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の製造法の出発原料となる式（１）の２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−カルボアルデヒドは、特開平１−２７９８６６号公報、欧州公開特許出願第３０４０６３号公報、米国特許第５０１１９３０号明細書などに記載されており、公知である。
【００１９】
本発明の製造法の反応において使用する塩基としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；リチウムアミド、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド等の金属アミド；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド；メチルリチウム、ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物が挙げられるが、好ましくは金属水素化物、金属アルコキシド、金属水酸化物、更に好ましくは金属水素化物が使用される。
【００２０】
上記の塩基の使用量は、原料のキノリンカルボアルデヒド誘導体に対して、好ましくは０．９〜３．０倍モル、さらに好ましくは１．０〜２．０倍モルである。
【００２１】
本発明の反応において使用するアセトニトリルの使用量は、原料のキノリンカルボアルデヒド誘導体に対して、好ましくは０．９〜１００倍モル、更に好ましくは１．０〜６０倍モルである。
【００２２】
本発明における脱水剤は、式（４）
【００２３】
【化１４】
0004496586.tif 000008
【００２４】
で示されるように、ヒドロキシ基を有するキノリルヒドロキシプロピオニトリル誘導体（中間体）を脱水して、二重結合を有するキノリルアクリロニトリル誘導体（最終生成物）へと変換させる反応試剤の意味で用いる。
【００２５】
前記脱水剤としては、塩酸、硫酸等の無機酸；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸；ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸エチル等の有機酸エステル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等の有機酸無水物；メシルクロライド、チオニルクロライド、アセチルクロライド等の酸クロライド；トリメチルアミン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ジエチルイソプロピルアミン、ベンジルジメチルアミン等の三級アミン；１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン等のシラン化合物が挙げられるが、好ましくは有機酸エステル、酸クロライドと三級アミンの組み合わせ、更に好ましくは有機酸エステル、特に好ましくはギ酸エステルが使用される。
【００２６】
上記の脱水剤の使用量は、原料のキノリンカルボアルデヒド誘導体に対して、好ましくは０．１〜１００倍モル、更に好ましくは０．２〜５０倍モルである。
【００２７】
本発明の製造法における反応は、溶媒の存在下または非存在下において行われる。使用される溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定はないが、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド類；アセトニトリルが挙げられるが、好ましくはアセトニトリルが使用される。
【００２８】
上記の溶媒の使用量は、原料として用いるキノリンカルボアルデヒド誘導体に対して、好ましくは０．１５〜１００重量倍、更に好ましくは０．５〜８０重量倍である。
【００２９】
本発明の反応は、例えば、塩基の存在下、前記のキノリンカルボアルデヒド誘導体とアセトニトリルとを反応させて、キノリルヒドロキシプロピオニトリル誘導体（中間体）とキノリルアクリロニトリル誘導体（最終生成物）の混合物を生成させ、次いで、脱水剤を添加して反応を完結させる等の方法によって、常圧下又は加圧下で行われる。その際の反応温度は、好ましくは−７８〜８０℃、更に好ましくは−３０〜５０℃である。
【００３０】
なお、最終生成物であるキノリルアクリロニトリル誘導体は、例えば、反応終了後、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等による一般的な方法によって分離・精製される。
【００３１】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
［実施例１］
３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルの製造
攪拌装置及び温度計を備えた内容積１００ｍＬのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−カルボアルデヒド１．９４ｇ（６．６６ミリモル）、アセトニトリル１０ｍＬ及び純度６０％水素化ナトリウム０．４２２ｇ（１０．６ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌した。次いで、−１０℃まで冷却した後、ギ酸エチル２０ｍＬ（２４８ミリモル）を加え、同温度で４時間攪拌した。その後、予め氷浴で冷却しておいた１モル／Ｌ塩酸１１ｍＬをゆるやかに加え、有機層と水層に分離した。有機層を取り出し、飽和食塩水１０ｍＬで２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、有機層を高速液体クロマトグラフィー（絶対定量法）により分析したところ、３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルが１．７１ｇ（収率８５％）生成していた。この有機層を減圧下で濃縮後、得られた黄色固体をトルエン／ヘキサン（＝１／８（容量比））で再結晶し、黄色結晶として純度９７％の３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリル１．７９ｇを得た。
【００３３】
得られた３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルの物性値を次に示す。
融点：１７４．５〜１７５．０℃ＥＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）：３１３（Ｍ−１）、ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）：３１５（Ｍ＋１）
ＩＲ（ＫＢｒ法，ｃｍ-1）：２２２３、１５１３、１４９０、１２２４、１１６１、８４６、７６８元素分析：炭素８０．３１％、水素４．７４％、窒素８．８９％（理論値（Ｃ21Ｈ15Ｎ2Ｆ）：炭素８０．２４％、水素４．８１％、窒素８．９１％）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ（ｐｐｍ））：１．０６〜１．１５（２Ｈ，ｍ）、１．３６〜１．４６（２Ｈ，ｍ）、２．２３〜２．３３（１Ｈ，ｍ）、５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、７．１８〜７．３２（４Ｈ，ｍ）、７．３４〜７．３９（１Ｈ，ｍ）、７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．９Ｈｚ）、７．６０〜７．７３（１Ｈ，ｍ）、７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）
【００３４】
［実施例２］
３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルの製造
実施例１と同様な装置に、アルゴン雰囲気下、２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−カルボアルデヒド１．９６ｇ（６．７３ミリモル）、アセトニトリル１０ｍＬ及び純度６０％水素化ナトリウム０．４３４ｇ（１０．９ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌した。次いで、０℃まで冷却した後、ギ酸エチル０．８５ｍＬ（１０．５ミリモル）を加え、同温度で４時間攪拌した。その後、冷水１０ｍＬを加え、予め氷浴で冷却しておいた酢酸エチル３０ｍＬで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、有機層を高速液体クロマトグラフィー（絶対定量法）により分析したところ、３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルが１．７４ｇ（収率８２％）生成していた。
【００３５】
［実施例３］
３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルの製造
攪拌装置及び温度計を備えた内容積５０ｍＬのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−カルボアルデヒド２００ｍｇ（０．６９ミリモル）、アセトニトリル２ｍＬ及び純度６０％水素化ナトリウム４１．５ｍｇ（１．０４ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌した。次いで、０℃まで冷却した後、メタンスルホン酸クロリド８０μＬ（１．０３ミリモル）及びトリエチルアミン０．１５ｍＬ（１．０８ミリモル）を加え、同温度で３時間攪拌した。その後、冷水５ｍＬを加え、予め氷浴で冷却しておいた酢酸エチル１５ｍＬで３回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、乾燥液を高速液体クロマトグラフィー（絶対定量法）により分析したところ、３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリルが１８０ｍｇ（収率８３％）生成していた。
【００３６】
［実施例４］
３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−イル］−３−ヒドロキシプロピオニトリルの生成
攪拌装置及び温度計を備えた内容積５０ｍＬのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−カルボアルデヒド０．２０ｇ（０．６８ミリモル）、アセトニトリル２ｍＬ及び純度６０％水素化ナトリウム０．０４２ｇ（１．０６ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌した。次いで、０℃まで冷却した後、酢酸０．０８ｍＬ（１．４０ミリモル）を加え、同温度で５分間攪拌した。その後、冷水１０ｍＬを加え、予め氷浴で冷却しておいた酢酸エチル２０ｍＬで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍＬ、飽和食塩水５ｍＬで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー［充填剤：ワコーゲルＣ−２００：和光純薬（株）製、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン（＝７／９３→１５／８５（容量比））］により精製して、白色固体として３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−イル］−３−ヒドロキシプロピオニトリル０．１７ｇを得た（収率７５％）。
【００３７】
得られた３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）キノリン−３−イル］−３−ヒドロキシプロピオニトリルの物性値を次に示す。
融点：２００℃ＥＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）：３３２（Ｍ）、ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）：３３３（Ｍ+１）
ＩＲ（ＫＢｒ法，ｃｍ-1）：３４９６、２２５３、１５１２、１４９１、１２２６、１０７８、７７８元素分析：炭素７５．９０％、水素５．１７％、窒素８．３９％（理論値（Ｃ21Ｈ17Ｎ2ＯＦ）；炭素７５．８９％、水素５．１６％、窒素８．４３％）
【００３８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ（ｐｐｍ））：１．０７〜１．１７（３Ｈ，ｍ）、１．７９〜１．８４（１Ｈ，ｍ）、２．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ）、２．８７〜２．９６（１Ｈ，ｍ）、３．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１６．９Ｈｚ）、３．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１６．９Ｈｚ）、５．２５〜５．３５（１Ｈ，ｍ）、７．１２〜７．３６（６Ｈ，ｍ）、７．６３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，６．８，８．３Ｈｚ）、７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【００３９】
1Ｈ−ＮＮＲ（ＣＤＣｌ3−Ｄ2Ｏ，δ（ｐｐｍ））：１．０７〜１．２０（３Ｈ，ｍ）、１．７６〜１．８４（１Ｈ，ｍ）、２．８７〜２．９６（１Ｈ，ｍ）、３．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１６．９Ｈｚ）、３．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１６．９Ｈｚ）、５．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．６Ｈｚ）、７．１１〜７．３６（６Ｈ，ｍ）、７．６４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，７．１，８．５Ｈｚ）、７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）
【００４０】
［参考例１］
３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エナールの製造
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５ｍＬのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、実施例１で合成した３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エンニトリル３１４ｍｇ（１．０ミリモル）、ギ酸２．２５ｍＬ（１００％ギ酸換算、６０ミリモル）、水０．７５ｍＬ、および含水展開ラネーニッケル（川研ファインケミカル（株）製：ＮＤＨＴ−９０：ニッケル含有量５０重量％品）６２０ｍｇ（ニッケル原子として５．３ミリモル）を加え、８０℃で１．５時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水９ｍＬと１モル／Ｌ塩酸９ｍＬを加えた後、触媒をセライトで濾過した。次いで、セライトを、２−ブタノール１ｍＬで２回、トルエン９ｍＬで２回洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下で濃縮し、黄色固体として純度９７％（高速液体クロマトグラフィーによる面積百分率）の３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ-２−エナール３０７ｍｇを得た（収率９１％）。
【００４１】
３−［２−シクロプロピル−４−（４−フルオロフェニル）−３−キノリル］プロプ−２−エナールの物性値を次に記す。
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）：３１８（Ｍ＋１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、δ（ｐｐｍ））；１．０７〜１．１３（２Ｈ，ｍ）、１．４０〜１．４５（２Ｈ，ｍ）、２．３２〜２．３７（１Ｈ，ｍ）、６．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１６．２Ｈｚ）、７．２２〜７．２６（４Ｈ，ｍ）、７．３５〜７．３８（２Ｈ，ｍ）、７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、７．６４４〜７．６９（１Ｈ，ｍ）、７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、９．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）
【００４２】
【発明の効果】
本発明の製造法を利用することにより、簡便な方法によって公知のキノリンカルボアルデヒド誘導体から、キノリルアクリロニトリル誘導体を製造することが出来る。このキノリルアクリロニトリル誘導体は、公知のキノリルプロペナール誘導体の製造に有利に利用することのできる。