(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、
（Ｂ）光重合開始剤及び
（Ｃ）希釈剤
を含有して成ることを特徴とする紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
上記エチレン性不飽和単量体成分に、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）及びエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｅ）を含有させて成ることを特徴とする請求項１に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）において、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物１モルに対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体の量が０．３５〜０．８モルであることを特徴とする請求項１又は２に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
上記エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）が、グリシジル（メタ）アクリレートを含むものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）において、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体が（メタ）アクリル酸を含むものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）は、上記共重合体の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分の全量中で、０．１〜１０モル％の範囲であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
１液型であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（Ｄ）を含んで成ることを特徴とする請求項１乃至７記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥することにより得られて成ることを特徴とする予備乾燥被膜。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化被膜を備えて成ることを特徴とする基板。
【請求項１１】
請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物から成ることを特徴とするフォトソルダーレジストインク。
【請求項１２】
請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクを乾燥することにより得られて成ることを特徴とする予備乾燥被膜。
【請求項１３】
請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクの硬化被膜を備えて成ることを特徴とするプリント配線板。
【請求項１４】
請求項１乃至９のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成して成ることを特徴とするドライフィルム。
【請求項１５】
請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクを乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成して成ることを特徴とするドライフィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクやカラーフィルターの保護膜や画素子に用いられる紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物からなり、微細・高密度の導体パターンを有するプリント配線板の製造に好適に用いられるフォトソルダーレジストインク、この紫外線硬化性樹脂組成物やフォトソルダーレジストインクにて形成される予備乾燥被膜、並びにこの紫外線硬化性樹脂組成物やフォトソルダーレジストインクにて形成される硬化被膜を有する基板やプリント配線板、及びこの紫外線硬化性樹脂組成物やフォトソルダーレジストインクにて形成される被膜を有するドライフィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
民生用及び産業用各種プリント配線板の導体パターンの微細・高密度化に対応するために、現像可能な液状のフォトレジストインク等が好んで用いられている。この液状のフォトソルダーレジストインクとしては、例えば特開昭６１−２４３８６９号公報や特開平６−２５８８３０号公報に開示されるように、一般的には希アルカリ水溶液に可溶なカルボキシル基を含有する紫外線硬化性樹脂と光重合開始剤及びエポキシ化合物からなる希アルカリ水溶液で現像可能なものが用いられる。
【０００３】
しかしながら、上記インクは、その保存中にエポキシ化合物とカルボキシル基を有する紫外線硬化性樹脂等の成分が不要な反応を生じるので、インク使用直前にエポキシ成分からなる液を添加混合して、いわゆる２液型として使用しなければならなかった。
【０００４】
そこで、例えば特開平１１−８０２９４号公報や特開平８−８２９３０号公報には、１液型で十分な性能を発揮し得るフォトソルダーレジストインクが提案されている。しかしながら、保存安定性が十分でなかったり、２液型のものに対抗できるだけの耐熱性、耐電蝕性等を実現できなかったりするので実用的なものとなるには至っていない。
【０００５】
また、エポキシ化合物等の熱硬化性を有する成分を含有し、主として２液型として用いられるフォトソルダーレジストインクにおいても、はんだ耐熱性、耐電蝕性、耐金めっき性の向上等さらなる向上が要望されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することのできる希アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
【０００７】
また、本発明は、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することのできる希アルカリ水溶液で現像可能な１液型の紫外線硬化性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
【０００８】
また、本発明は、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することのできる希アルカリ水溶液で現像可能な、特に１液型として好適なフォトソルダーレジストインクを提供することを目的とするものである。
【０００９】
また、本発明は優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
【００１０】
また、本発明は優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能な１液型のフォトソルダーレジストインクを提供することを目的とするものである。
【００１１】
また、本発明は優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能な予備乾燥被膜を提供することを目的とするものである。
【００１２】
また、本発明は優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストが形成された基板及びプリント配線板を提供することを目的とするものである。
【００１３】
また、本発明は優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを形成することができるドライフィルムを提供することを目的とするものである。
【００１４】
ここで現像幅とは、現像可能性を保持し得る予備乾燥条件の幅を意味するものであり、予備乾燥管理幅あるいは予備乾燥許容範囲ともいう。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、
（Ａ）分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と、分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、
（Ｂ）光重合開始剤及び
（Ｃ）希釈剤
を含有して成ることを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の請求項２に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１の構成に加えて、上記エチレン性不飽和単量体成分に、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）及びエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｅ）を含有させて成ることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明の請求項３に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１又は２の構成に加えて、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）において、２個のエポキシ基を有する化合物１モルに対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体の量が０．３５〜０．８モルであることを特徴とするものである。
【００１８】
本発明の請求項４に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１乃至３のいずれかの構成に加えて、上記エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）が、グリシジル（メタ）アクリレートを含むものであることを特徴とするものである。
【００１９】
本発明の請求項５に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１乃至４のいずれかの構成に加えて、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）において、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体が（メタ）アクリル酸を含むものであることを特徴とするものである。
【００２０】
本発明の請求項６に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１乃至５のいずれかの構成に加えて、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）は、上記共重合体の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分の全量中で、０．１〜１０モル％の範囲であることを特徴とするものである。
【００２１】
本発明の請求項７に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１乃至６のいずれかの構成に加えて、１液型であることを特徴とするものである。
【００２２】
本発明の請求項８に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、請求項１乃至７のいずれかの構成に加えて、分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（Ｄ）を含んで成ることを特徴とするものである。
【００２３】
本発明の請求項９に係る予備乾燥被膜は、請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥することにより得られて成ることを特徴とするものである。
【００２４】
本発明の請求項１０に係る基板は、請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化被膜を備えて成ることを特徴とするものである。
【００２５】
本発明の請求項１１に係るフォトソルダーレジストインクは、請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物から成ることを特徴とするものである。
【００２６】
本発明の請求項１２に係る予備乾燥被膜は、請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクを乾燥することにより得られて成ることを特徴とするものである。
【００２７】
本発明の請求項１３に係るプリント配線板は、請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクの硬化被膜を備えて成ることを特徴とするものである。
【００２８】
本発明の請求項１４に係るドライフィルムは、請求項１乃至９のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成して成ることを特徴とするものである。
【００２９】
本発明の請求項１５に係るドライフィルムは、請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクを乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成して成ることを特徴とするものである。
【００３０】
【発明の実施の形態】
本発明に使用する紫外線硬化性樹脂（Ａ）は、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得ることのできる化合物（ａ）と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、（ｃ）カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体を反応させた後、（ｄ）飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られるものである。
【００３１】
尚、本明細書において、（メタ）アクリル酸とはアクリル酸とメタクリル酸を総称し、（メタ）アクリ−とはアクリ−とメタクリ−を総称したものである。
【００３２】
分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸を含んでなるカルボン酸成分を反応させて得ることのできる化合物（ａ）は、主として耐熱性、被膜強度の向上を目的として配合される。
【００３３】
化合物（ａ）の合成に用いる分子中に２個のエポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びこれらの水素添加物等のビスフェノール型エポキシ樹脂、並びに分子中に２個のエポキシ基を有するカルド型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ化合物及び、脂肪族エポキシ化合物、並びに二官能フェノール類のジグリシジルエーテル化物、あるいは二官能アルコール類のジグリシジルエーテル化物およびそれらのハロゲン化物、水素添加物等が挙げられる。
【００３４】
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、例えばエピクロン８４０Ｓ、８５０、８６０、１０５０、２０５５（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）等を例示することができる。ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピクロン８３０Ｓ、８３５（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）等を例示することができる。ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂としては、エピクロンＥＸＡ−４８００、ＥＸＡ−１５１４（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）等を例示することができる。臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としてはＹＤＢ−６００、ＹＤＢ−７１５（いずれも東都化成（株）製）等を例示することができる。水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としてはＳＴ−１０００、ＳＴ−３０００、ＳＴ−５０８０、ＳＴ−５１００（いずれも東都化成（株）製）、エピクロン７５０、ＥＸＡ７０１５等（いずれも大日本インキ化学工業（株）製）を例示することができる。分子中に２個のエポキシ基を有するカルド型エポキシ樹脂としては、ＥＳＦ−３００（例、新日鐵化学（株）製、フルオレンエポキシ樹脂）等を例示することができる。
【００３５】
上記の分子中に２個のエポキシ基を有する脂環式エポキシ系化合物に係るエポキシ基としては、シクロヘキセンオキサイド基、トリシクロデセンオキサイド基、シクロペンテンオキサイド基が例示でき、２個のエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物としては、４−（１，２−エポキシ−１−メチルエチル）−１−メチル−７−オキサビシクロ−〔４．１．０〕ヘプタン、３，４−エポキシ−３ −メチル−エポキシシクロヘキシル−１−メチルエポキシド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ダイセル化学工業（株）製、商品名セロキサイド２０２１；ユニオンカーバイド社製、商品名ＥＲＬ４２２１）及び該カルボキシレートとカプロラクトンの２量体（ダイセル化学工業（株）製、商品名セロキサイド２０８１）、３量体（同社製、商品名セロキサイド２０８３）、４量体（同社製、商品名セロキサイド２０８５）、５量体、６量体の付加物、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−３−メチルエポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−３−メチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン（ユニオンカーバイド社製、商品名ＥＲＬ４２３４）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキサレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（ユニオンカーバイド社製、商品名ＥＲＬ４２９９）、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）ビメレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド（ユニオンカーバイド社製、商品名ＥＲＬ４２０６）等を例示することができる。
【００３６】
上記の分子中に２個のエポキシ基を有する脂肪族エポキシ化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の脂肪族多価アルコールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサドの１種又は２種以上を付加させることにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【００３７】
これらの分子中に２個のエポキシ基を有する化合物は、それぞれ単独又は２種以上混合して用いることができる。
【００３８】
上記のエポキシ当量は、特に限定されるものではないが、好ましくは１００〜５０００、より好ましくは１００〜２０００である。また、１５０〜６００のときに最適なものとなる。
【００３９】
上記の分子中に２個のエポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ダイセル化学工業（株）製、商品名セロキサイド２０２１；ユニオンカーバイド社製：商品名ＥＲＬ４２２１）、及び該カルボキシレートとカプロラクトンの２量体（ダイセル化学工業（株）製、商品名セロキサイド２０８１）、３量体（同社製、商品名セロキサイド２０８３）、４量体（同社製、商品名セロキサイド２０８５）、５量体、６量体の付加物が好適であり、これらの中でも特に上記エポキシ当量の範囲であるものが最適である。
【００４０】
分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分は、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物の他に、分子中にエポキシ基１個のみ有するエポキシ化合物や分子中に３個以上のエポキシ基を有する化合物を含むことを禁じるものではないが、その含有量は本発明の目的達成を阻害しない範囲であることが必要である。
【００４１】
化合物（ａ）に用いる分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、桂皮酸、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−プロペノイックアシッド，３−（２−カルボキシエトキシ）−３−オキシプロピルエステル、並びに２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等の二塩基酸無水物とモノヒドロキシ（メタ）アクリレートとを反応させて得ることのできるハーフエステル類等のエチレン性不飽和基を１個のみ有するもの、並びにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する多官能アクリレートに二塩基酸無水物を反応させて得ることができるもの等のエチレン性不飽和基を複数有するものが挙げられ、これらの分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体はそれぞれ単独又は２種以上混合して用いることができる。
【００４２】
化合物（ａ）の合成に用いる分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、シクロヘキサンカルボン酸等の直鎖状又は分岐を有する飽和脂肪族モノカルボン酸や脂環式モノカルボン酸、並びに安息香酸、ｐ−ブチル安息香酸、ｐ−アセチルオキシ安息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、２，６−ジメトキシ安息香酸等の芳香族モノカルボン酸、並びにグリコール酸、乳酸、グリセリン酸やジオールとジカルボン酸無水物との反応によって得ることができるハーフエステル類が例示できる。
【００４３】
上記の分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸を含んでなるカルボン酸成分は、カルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸の他に、マレイン酸等のエチレン性不飽和ポリカルボン酸やシュウ酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、トリメリット酸等のカルボキシル基を２個以上有するカルボン酸類を含むことを禁じるものではないが、その含有量は本発明の目的達成を阻害しない範囲であることが必要である。
【００４４】
化合物（ａ）は、特に限定されるものではなく、公知、慣用の方法によって合成することができる。例えば、上記エポキシ化合物成分とカルボン酸成分を含む有機溶剤溶液に、熱重合禁止剤であるメチルハイドロロキノン及び触媒である第３級アミン類、第４級アンモニウム塩類若しくはトリフェニルスチビン等を加え撹拌混合し、常法により、好ましくは６０〜１５０℃、特に好ましくは８０〜１２０℃の反応温度で反応させる。
【００４５】
上記化合物（ａ）の合成において、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対する分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体の量は前者のエポキシ基の１モルに対してカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体が好ましくは０．３５〜０．８モル、より好ましくは０．４５〜０．７モル、特に好ましくは０．５〜０．７、更に０．５５〜０．７モルが最適である。
【００４６】
また、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸を含んでなるカルボン酸成分の量は前者のエポキシ基１モルに対して、後者のカルボキシル基が好ましくは０．８〜１．２モル、特に好ましくは０．９〜１．１モル、更に０．９５〜１．１モルが最適である。
【００４７】
これらの範囲において、化合物（ａ）は分子中に２個のエポキシ基を有する化合物のエポキシ基の内、一方に分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体が付加し、他方に重合性を有する基を持たないモノカルボン酸が付加された生成物が多くなることが期待できるからである。
【００４８】
化合物（ａ）の含有率は共重合体の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分全量中で好ましくは０．１〜１０モル％、特に好ましくは０．１〜７モル％である。この範囲において化合物（ａ）は共重合の際に良好な重合性を示すと共に、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は特に優れた耐熱性を有するものとなる。
【００４９】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）は、主として、上記共重合体にエポキシ基を導入すると共に、これにカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体を付加することで共重合体にエチレン性不飽和二重結合による光硬化性を付与することを目的として配合される。このためエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）の含有率は、共重合体の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分全量中で４０〜９９．９モル％の範囲であることが好ましく、５５〜９５モル％が最適である。
【００５０】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）の含有率がこの範囲において本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は、特に優れた光硬化性や解像性を有し、かつ形成される永久被膜は優れた耐熱性を有する。また、この永久被膜はソルダーレジストとして使用された場合には、特に優れたはんだ耐熱性及び耐電蝕性を示す。
【００５１】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類、（メタ）アクリレートの脂環エポキシ誘導体、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート等を挙げることができこれらは単独で又は組み合わせて用いることができる。特に、汎用されて入手が容易なグリシジル（メタ）アクリレートを用いるのが好ましい。
【００５２】
上記共重合体の製造に供するエチレン性不飽和単量体成分には、任意成分として、上記（ａ）、（ｂ）成分と共にこれらと共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｅ）を含有させることができる。（ｅ）成分は特に制限されず上記（ａ）、（ｂ）成分と共重合可能なエチレン性不飽和単量体であればよく、主として、光硬化性の調整、及び硬化膜物性の調整のために必要に応じて併用される。
【００５３】
この（ｅ）成分としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の直鎖、分岐或いは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル及びヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のエチレングリコールエステル系（メタ）アクリレート、及び同様なプロピレングリコール系（メタ）アクリレート、ブチレングリコール系モノ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等、及びベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系の（メタ）アクリレート、及び（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド系化合物、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）マレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド等のマレイミド系化合物、及びビニルピロリドン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテル等を挙げることができる。
【００５４】
また、（ａ）、（ｂ）成分と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｅ）としては、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を使用することも可能である。
【００５５】
１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物としては、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯＰＯ変性ジメタクリレート、ビスフェノールＡＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＥＯＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、シクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロペンテニルジ（メタ）アクリレート等の１分子中にエチレン性不飽和基を２個有する化合物を用いることができる。また、１分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物である、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及び多塩基酸とヒドロキシ（メタ）アルキルアクリレートとのジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等、及びポリエステル（メタ）アクリレート等を用いることもできる。
【００５６】
これらのエチレン性不飽和単量体（ｅ）はそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。それらの中でも、直鎖又は分岐の脂肪族、芳香族、あるいは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、マレイミド系化合物等が、紫外線硬化性樹脂組成物の被膜の硬度、及び油性の調節並びに最終的に形成されるレジストの硬度の調節が容易である等の点で特に好適である。
【００５７】
なお、（ｅ）成分の一部又は全部として１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を使用する場合には、重合時のゲル化を起こさない範囲で使用する必要がある。
【００５８】
このようなエチレン性不飽和単量体（ｅ）を用いる場合は、その含有率は特に限定するものではないが、エチレン性不飽和単量体成分全量中で、１〜６０モル％、特に好ましくは１〜５５モル％、更に好ましくは１０〜５０モル％とすることが好ましく、この範囲において、紫外線硬化性樹脂（Ａ）中へのエチレン性不飽和基の導入量を充分確保することができると共に、硬化被膜の硬度、親水性等の調整を特に容易に行うことができるものとなる。
【００５９】
上記共重合体は、公知の重合方法、例えば溶液重合やエマルジョン重合等により得られる。溶液重合を用いる場合について説明すれば、例えば、上記（ａ）成分と（ｂ）成分及び必要に応じて（ｅ）成分とからなるエチレン性不飽和単量体の混合物（エチレン性不飽和単量体成分）を、適当な有機溶剤中で重合開始剤を添加して、窒素気流下に加熱撹拌する方法や還流下での重合法等により重合させるものである。
【００６０】
上記有機溶剤として、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で又は混合して用いることができる。
【００６１】
前記重合のための重合開始剤としては、例えば、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の過酸化物及びアゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスシアノバレロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられこれらはそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。
【００６２】
本発明の紫外線硬化性樹脂（Ａ）は、上記のように（ａ）成分と（ｂ）成分及び必要に応じて用いられる（ｅ）成分から生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）を付加反応させることによって生成することができる。
【００６３】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−プロペノイックアシッド，３−（２−カルボキシエトキシ）−３−オキシプロピルエステル、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のエチレン性不飽和基を１個のみ有するもの、並びにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する多官能（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物を反応させて得られるもののような、エチレン性不飽和基を複数有するものが挙げられ、これらをそれぞれ単独で、又は組み合わせて用いることができる。これらの中でもカルボキシル基を１個のみ有するものが好ましく、特に（メタ）アクリル酸を用いるか、（メタ）アクリル酸を主成分とするのが好ましい。（メタ）アクリル酸により導入されるエチレン性不飽和基は光反応性に優れるので、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）として（メタ）アクリル酸を用いるのが好ましいものである。
【００６４】
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）の配合量は、上記共重合体中のエポキシ基１モルに対し（ｃ）成分のカルボキシル基が好ましくは０．７〜１．２モル、特に好ましくは０．９〜１．１モルとなる割合の範囲とするものである。また、０．９５〜１．１モルとなる範囲が最適である。この範囲において、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は特に広い現像幅を示し、また、未反応のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）の残存の影響が特に少ないものとなる。
【００６５】
また飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）としては、例えば、無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水グルタル酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物、及び無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物等の三塩基酸以上の酸無水物が挙げられ、これらはそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。
【００６６】
上記飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）は、紫外線硬化性樹脂に酸価を与え、希アルカリ水溶液による再分散、再溶解性をもたせることを主たる目的として使用される。その使用量は、該多塩基酸無水物を付加してなる紫外線硬化性樹脂の酸価が２５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲になるように選択することが好ましい。この範囲で特に良好な現像性を有し、形成されたソルダーレジストは優れた電気特性、耐電蝕性、耐水性を有するものとなる。なお、特に酸価が４０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇである場合に最適な効果が得られる。
【００６７】
上記カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）及び飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）の付加反応は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）の付加反応は、上記共重合体の溶剤溶液に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）、熱重合禁止剤であるメチルハイドロロキノン及び触媒である第３級アミン類、第４級アンモニウム塩類若しくはトリフェニルスチビン等を加え撹拌混合し、常法により、好ましくは６０〜１５０℃、特に好ましくは８０〜１２０℃の反応温度で反応させる。飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｄ）の付加反応も、上記と同様の方法で行うことができる。
【００６８】
上記のように調製される紫外線硬化性樹脂（Ａ）の重量平均分子量は特に限定されるものではないが、好ましい範囲は重量平均分子量が３０００〜４０００００、特に好ましくは８０００〜１０００００である。特にこの範囲において本発明の感光性樹脂組成物は、優れた感度と解像性を有するものとなる。
【００６９】
本発明に使用する紫外線硬化性樹脂（Ａ）の配合量は、組成物の良好な感度及び作業特性並びに最終的に形成されるレジストの良好な物性を確保するために、同時に配合される希釈剤（Ｃ）中の有機溶剤を除外した本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の成分全量中で１０〜８０重量％であることが望ましく、この範囲において、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は紫外線硬化性が特に優れると共に、予備乾燥被膜の粘着性が特に低減されたものとなる。
【００７０】
光重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類、及びアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類、及び２−メチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類、及び２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等のチオキサントン類、及びアセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、及びベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシルカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類又はキサントン類、及び２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、２−ベンゾイル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、４，４’−ビス−ジエチルアミノベンゾフェノン等の窒素原子を含むもの、及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられ、これらは安息香酸系又はｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート等の第三級アミン系等の公知の光重合促進剤及び増感剤等と併用しても良い。これらの光重合開始剤はそれぞれ単独で又は適宜互いに組み合わせて配合される。
【００７１】
尚、例えばレーザ露光法用増感剤として７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン等のクマリン誘導体、カルボシアニン色素系、キサンテン色素系、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等のメタロセン類等を適宜選択することもでき、また本発明の紫外線硬化性樹脂組成物を可視光又は近赤外線硬化性のものとすることができる。
【００７２】
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物中における光重合開始剤（Ｂ）の配合量は、光硬化性と得られるソルダーレジストの物性の良好なバランスを得るために、同時に配合される希釈剤（Ｃ）中の有機溶剤を除外した本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の成分全量中で０．１〜３０重量％であることが望ましく、この範囲において、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は、特に優れた紫外線硬化性を示すと共に、その硬化被膜の耐熱性、耐電蝕性が特に優れたものとなる。
【００７３】
希釈剤（Ｃ）としては、光重合性のエチレン性不飽和単量体又は有機溶剤をそれぞれ単独で又は併せて使用することができる。上記光重合性のエチレン性不飽和単量体として、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、及びジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、シクロペンタニルモノ（メタ）アクリレート、シクロペンテニルモノ（メタ）アクリレート、シクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロペンテニルジ（メタ）アクリレート及び多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等、及びポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート単量体等が挙げられる。光重合性のエチレン性不飽和単量体はそれぞれ単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００７４】
また、上記有機溶剤としては、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、２−ブチルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、２級あるいは多価のアルコール類、及びメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、スワゾールシリーズ（丸善石油化学社製）、ソルベッソシリーズ（エクソン・ケミカル社製）等の石油系芳香族系混合溶剤及びセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、及びカルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、及びプロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類、及びジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらはそれぞれ単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
【００７５】
上記の希釈剤（Ｃ）として用いられる光重合性のエチレン性不飽和単量体は、紫外線硬化性樹脂（Ａ）等を希釈し、塗布し易い状態にすると共に酸価を調整し、光重合性を与える。また、上記の希釈剤（Ｃ）として用いられる有機溶剤は、紫外線硬化性樹脂（Ａ）等を溶解、希釈等し、液状として塗布可能にすると共に乾燥により造膜させる。
【００７６】
尚、上記希釈剤（Ｃ）としては、上記の光重合性のエチレン性不飽和単量体等の光重合性を有する成分は、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物に必ずしも配合する必要はないが、配合する場合におけるその合計量は、希釈剤（Ｃ）として同様に配合されている有機溶剤を除外した本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の成分全量中で５０重量％以下であることが望ましい。これを５０重量％を超えて配合した場合は予備乾燥被膜の表面粘着性が強くなり過ぎ、パターンを描いたネガマスクを乾燥した塗膜表面に直接当てがって露光するときにネガマスクの汚損等の問題を生じ易い。
【００７７】
一方、上記光重合性のエチレン性不飽和単量体と同様に希釈剤（Ｃ）として用いられる有機溶剤は本発明の紫外線硬化性樹脂組成物、特にこれを希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクとして用いる場合の必須成分であり、予備乾燥時に速やかに揮散し、予備乾燥被膜に残存しないように選択する必要がある。組成物中における有機溶剤の配合量は、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の成分全量中で５％以上配合することが望ましく、これより少ない場合は組成物の塗布が困難となり易い。尚、その好適な配合量は塗布方法により異なるので、該塗布方法に応じて適宜調節する必要があるため、配合量の上限は特に限定するものではない。
【００７８】
上記本発明の紫外線硬化性樹脂組成物には、硬化促進剤類、充填剤、着色剤、レベリング剤、密着性付与剤、チクソトロピー剤、重合禁止剤、ハレーション防止剤、難燃剤、消泡剤、分散安定化剤、高分子分散剤及び酸化防止剤等の各種添加剤やブロックドイソシアネート、ビニルトリアジン化合物類、アリルナジイミド化合物、カルボジイミド基を有する化合物、シアノグアニジン類、エポキシ樹脂、アミノ樹脂等、並びに紫外線硬化性エポキシ（メタ）アクリレート、例えばビスフェノールＡ型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、脂環型エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加したもの、或はこれらにさらに無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の飽和もしくは不飽和多塩基酸無水物を付加したものを加えても良い。
【００７９】
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は上述の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分からなるものである。また、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は一液型の組成物として特に好適なものである。
【００８０】
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物には、任意成分として１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（Ｄ）を加えることができるが、その例としては溶剤難溶性エポキシ化合物、溶剤可溶性エポキシ化合物等が挙げられ、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、ＹＸ４０００（油化シェルエポキシ社製）、ソルビトールポリグリシジルエーテル、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂（例えばダイセル化学工業社製「ＥＨＰＥ−３１５０」）、ポリオールポリグリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、トリス（ヒドロキシフェニル）メタンベースの多官能エポキシ樹脂（日本化薬社製ＥＰＰＮ−５０２Ｈ、並びにダウケミカル社製タクテックス−７４２及びＸＤ−９０５３等）、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂及びエポキシ基を有するビニル重合ポリマー等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で又は組み合わせて用いることができる。特に、トリグリシジルイソシアヌレート、ＹＸ４０００、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂等が望ましい。
【００８１】
エポキシ化合物（Ｄ）を配合する場合には、同時に配合される希釈剤（Ｃ）中の有機溶剤を除外した本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の成分全量中で０．１〜５０重量％であることが望ましく、この範囲において本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は、特に優れた熱硬化性を示す。
【００８２】
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の使用法は特に限定されるものではないが、例えばこれをフォトソルダーレジストインクとして用い、プリント配線板や基板上へレジストパターンを形成することができる。このときは、プリント配線板や基板上にこのフォトソルダーレジストインクを適宜のパターン形状に硬化成形することによって硬化被膜を形成し、この硬化被膜によってレジストパターンを形成するものである。基板上へレジストパターンを形成するための最も一般的な方法を例示すれば以下の通りである。
【００８３】
例えば、基板上にフォトソルダーレジストインクを浸漬法、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、カーテンコーター又はスクリーン印刷等により塗布した後、希釈剤たる有機溶剤を揮発させるために例えば６０〜１２０℃で予備乾燥を行ない、予備乾燥被膜を形成する。次にパターンを描いたネガマスクを予備乾燥被膜表面に直接又は間接的に当てがい、ケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射した後、希アルカリ水溶液等により現像することで硬化被膜からなる画像を形成することができる。また、必要に応じ、例えば１２０〜１８０℃で３０〜９０分程度の加熱によりポストベークすることで、被膜強度、硬度及び耐薬品性等が向上された硬化被膜が形成可能である。
【００８４】
また、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物を支持体の表面に成膜していわゆるドライフィルムレジストとすることもできる。この場合、膜の厚さは１０〜１００μｍとすることが好ましく、支持体としては好ましくはポリエチレンテレフタレート等の厚さ５〜１００μｍのフィルムが用いられる。紫外線硬化性樹脂組成物の被膜は好ましくは支持体フィルム上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布乾燥等することにより形成される。
【００８５】
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は、フォトソルダーレジストインクに特に好適に用いられるが、これに限定されるものではなく、例えばカラーフィルタ保護被膜の形成用として、また着色剤として例えばアゾレーキ系、不溶性アゾ系、フタロシアニン系等の有機顔料、及びミロリブルー、酸化鉄、コバルト系等の無機顔料、及び油溶性染料、塩基性染料、分散性染料等の適当な顔料又は染料を選択することによりカラーフィルタ画素子調製用組成物として用いることもできる。
【００８６】
【実施例】
以下に本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下に使用される「部」及び「％」は、特に示さない限り、全て重量基準である。
【００８７】
〔合成例１〕
エピクロン７５０（商品名、大日本インキ化学工業社製  水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量  ２１６）２１６部をカルビトールアセテートで５０％にバランスして加熱溶解したものに、撹拌下にアクリル酸３９．６部、プロピオン酸３７部、ハイドロキノン０．１部及びベンジルジメチルアミン０．７部を加え、常法により９０〜１００℃で２４時間反応さた後、この反応液にバランス量のカルビトールアセテートを加え、(ａ)成分である化合物（ａ−１）の５０％溶液を得た。
【００８８】
〔合成例２〕
アクリル酸の量を４６．８部、プロピオン酸の量を２９．６部に変更した他は合成例１と同様にして化合物（ａ−２）の５０％溶液を得た。
【００８９】
〔合成例３〕
エピクロン７５０の２１６部をエピクロン８４０（商品名、大日本インキ化学工業社製  ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量  １８５）１８５部に変更した他は合成例１と同様にして化合物（ａ−３）の５０％溶液を得た。
【００９０】
〔合成例４〕
アクリル酸の量を５０．４部、プロピオン酸の量を２５．９部に変更した他は合成例３と同様にして化合物（ａ−４）の５０％溶液を得た。
【００９１】
〔合成例５〕
エピクロン７５０の２１６部をセロキサイド２０８５（商品名、ダイセル化学工業社製  脂環式エポキシ樹脂、エポキシ当量  ４９０）４９０部に変更した他は合成例１と同様にして化合物（ａ−５）の５０％溶液を得た。
【００９２】
〔合成例６〕
アクリル酸の量を３６部、プロピオン酸の量を４０．７部に変更した他は合成例５と同様にして化合物（ａ−６）の５０％溶液を得た。
【００９３】
〔合成例７〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート７０部、メチルメタクリレート２２．５部、合成例１で得られた化合物（ａ−１）の５０％溶液１５部、カルビトールアセテート９２．５部、ラウリルメルカプタン０．２部、アゾビスイソブチロニトリル３部を加え、窒素気流下に加熱、撹拌しつつ８０℃において５時間重合をおこない、５０％共重合体溶液を得た。
【００９４】
続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸３７部、ジメチルベンジルアミン０．２部を加え、１００℃で２４時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸４５部及びカルビトールアセテート７９部を加えて１００℃で３時間反応させ、５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−１）を得た。
【００９５】
〔合成例８〕
合成例１で得られた化合物（ａ−１）の５０％溶液１５部を合成例２で得られた化合物（ａ−２）の５０％溶液１５部に変更した他は合成例７と同様にして５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−２）を得た。
【００９６】
〔合成例９〕
合成例１で得られた化合物（ａ−１）の５０％溶液１５部を合成例３で得られた化合物（ａ−３）の５０％溶液１５部に変更した他は合成例７と同様にして５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−３）を得た。
【００９７】
〔合成例１０〕
合成例１で得られた化合物（ａ−１）の５０％溶液１５部を合成例４で得られた化合物（ａ−４）の５０％溶液１５部に変更した他は合成例７と同様にして５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−４）を得た。
【００９８】
〔合成例１１〕
合成例１で得られた化合物（ａ−１）の５０％溶液１５部を合成例５で得られた化合物（ａ−５）の５０％溶液１５部に変更した他は合成例７と同様にして５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−５）を得た。
【００９９】
〔合成例１２〕
合成例１で得られた化合物（ａ−１）の５０％溶液１５部を合成例６で得られた化合物（ａ−６）の５０％溶液１５部に変更した他は合成例７と同様にして５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−６）を得た。
【０１００】
〔合成例１３〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート７０部、メチルメタクリレート２０部、ｔ−ブチルメタクリレート１０部、カルビトールアセテート１００部、ラウリルメルカプタン０．２部、アゾビスイソブチロニトリル３部を加え、窒素気流下に加熱、撹拌しつつ８０℃において５時間重合をおこない、５０％共重合体溶液を得た。続いて、上記５０％共重合体溶液に、ハイドロキノン０．０５部、アクリル酸３７部、ジメチルベンジルアミン０．２部を加え、１００℃で２４時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸４５部及びカルビトールアセテート７９部を加えて１００℃で３時間反応させ、５０％の紫外線硬化性樹脂溶液（Ｅ−１）を得た。
【０１０１】
〔合成例１４〕
エピクロンＮ−６８０（商品名、大日本インキ化学工業社製  クレゾールノボラックエポキシ樹脂、エポキシ当量  ２１４）２１４部をカルビトールアセテート６０部に加熱溶解したものに、撹拌下にアクリル酸７４部、ハイドロキノン０．１部及びベンジルジメチルアミン０．７部を加え、常法により９０〜１００℃で２４時間反応させた。この反応液にカルビトールアセテート９５部を加え、撹拌後に冷却し、エポキシアクリレート溶液を得た。続いてテトラヒドロ無水フタル酸７６部及びカルビトールアセテート８７部を加えて１００℃で３時間反応させ、６０％紫外線硬化性樹脂溶液（Ｅ−２）を得た。
【０１０２】
〔実施例１乃至８及び比較例１乃至３〕
上記合成例で生成された紫外線硬化性樹脂液（Ａ−１）乃至（Ａ−６）、（Ｅ−１）及び（Ｅ−２）を用いてなる、表１に示す各配合組成の配合成分を三本ロールで混練し、実施例１乃至８及び比較例１乃至３の希アルカリ水溶液で現像可能な液状フォトソルダーレジストインクを得た。
【０１０３】
【表１】
0004532724.tif 000002
【０１０４】
尚、表１中の「エピクロンＮ−６９５」（商品名）は大日本インキ化学工業社製のクレゾールノボラックエポキシ樹脂であり、また「ＴＥＰＩＣ−Ｓ」（商品名）はエポキシ当量１００の日産化学工業社製トリグリシジルイソシアヌレートである。また「イルガキュアー９０７」（商品名）はチバガイギー社製の光重合開始剤（２−メチル−１−［４−メチルチオ（フェニル）］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）であり、また「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」（商品名）は日本化薬社製の光重合開始剤（２，４−ジエチルチオキサントン）であり、また「モダフロー」（商品名）はモンサント社製レベリング剤である。また、「スワゾール１５００」（商品名）は丸善石油化学社製の石油系芳香族系混合溶剤である。
【０１０５】
次に、調製の直後の上記実施例１乃至８及び比較例１乃至３の各インクを用い、レジストインク及びそれにより最終的にソルダーレジストの形成されたプリント配線板の各性能を下記の試験方法で評価し、それらの試験結果を表２に示した。
【０１０６】
次に、調製の後、２０℃で３日間保存した上記実施例１乃至６及び比較例１乃至３の各インクを用い、レジストインク及びそれにより最終的にソルダーレジストの形成されたプリント配線板の各性能を下記の試験方法で評価し、それらの試験結果を表３に示した。
【０１０７】
〔レジストインクの性能評価〕
−表面粘着性−
レジストインクを厚み３５μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために８０℃で乾燥時間１０、２０及び３０分の各乾燥条件で予備乾燥を行い、膜厚２０μｍの予備乾燥被膜を有する３種類の試験片を各インクについて作製した。その後、ＯＲＣＨＭＷ６８０ＧＷ（型番、オーク製作所製減圧密着型両面露光機）にてパターンを描いたマスクを予備乾燥被膜面に直接当てがうと共に減圧密着させ、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、各乾燥条件においてマスクを取り外すときの粘着の程度を観察した。
【０１０８】
表面粘着性の評価方法は、次の通りである。
×：マスクを取り外すことが困難で、無理に剥すとマスクパターンがはがれ落ち再使用できない状態となった。
△：マスクを取り外した後、予備乾燥被膜上にマスクの貼付痕が認められた。
○：マスクを容易に取り外すことができ、貼付痕もなかった。
【０１０９】
−現像幅（予備乾燥時間許容範囲）−
レジストインクを厚み３５μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために８０℃で乾燥時間１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０分及び９０分の各乾燥条件で予備乾燥を行い、膜厚２０μｍの予備乾燥被膜を有する８種類の試験片を各インクについて作成した。その後、パターンを描いたマスクを予備乾燥被膜面に直接当てがって密着させ、各レジストインクにおける最適露光量の紫外線を照射し、次に１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより現像性及びパターンの形成状態を観察した。
【０１１０】
現像幅の評価方法は次の通りである。
×：未露光部も現像による除去が困難であり、パターン形成が不可能であった。
△：未露光部の現像に長時間を要し、また微細なパターン部分についてはパターン形成が不可能であった。
○：未露光部の現像は容易で、シャープなパターンを得ることができた。
【０１１１】
−残存ステップ段−
レジストインクを厚み３５μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために８０℃で乾燥時間２０分の乾燥条件で予備乾燥を行ない、膜厚２０μｍの予備乾燥被膜を有する試験片を各インクについて作成した。その後、ＯＲＣ  ＨＭＷ６８０ＧＷ（型番、オーク製作所製減圧密着型両面露光機）にて、ステップタブレットＰＨＯＴＥＣ２１段（日立化成工業社製の露光テスト用マスク）を予備乾燥被膜に直接当てがうと共に減圧密着させ、各々５０及び１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、次に１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより現像後の残存ステップ段数を求め、露光感度の目安とした。
【０１１２】
〔プリント配線板の性能評価〕
次に、各レジストインクにより製造されるプリント配線板の性能を確認するため、順次下記（ｉ）から(ｖ)の工程を経ることによりテストピースを作成した。
【０１１３】
（ｉ）＜塗布工程＞  液状フォトソルダーレジストインクを、厚み３５μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板及びこれを予めエッチングしてパターンを形成しておいたプリント配線基板の全面にスクリーン印刷により塗布し、基板表面にレジストインク層を形成させた。
【０１１４】
（ii）＜予備乾燥工程＞  塗布工程の後、基板表面のレジストインク層中の溶剤を揮発させるために８０℃で予備乾燥を２０分行ない、膜厚２０μｍの予備乾燥被膜を得た。
【０１１５】
（iii）＜露光工程＞  その後、パターンを描いたマスクを予備乾燥被膜表面に直接当てがうとともに各レジストインクにおける最適露光量の紫外線を照射し、基板表面上の予備乾燥被膜の選択的露光を行った。
【０１１６】
（iv）＜現像工程＞  露光工程後の予備乾燥被膜において、選択的に未露光となっている部分を、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより除去し、基板上に露光硬化された予備乾燥被膜のパターンを形成させた。
【０１１７】
（ｖ）＜ポストベーク工程＞  現像工程で得られた、露光硬化された予備乾燥被膜のパターンが形成されている基板を１５０℃で３０分間ポストベークを行って、テストピースを得た。
【０１１８】
上記工程で得られたテストピースについて以下の評価を行った。
【０１１９】
−解像性−
線幅及び線間が共に４０μｍの同心円で構成されるマスクパターンによって形成されるパターンの形成状態を観察した。
【０１２０】
解像性の評価方法は次の通りである。
×：パターンが形成されなかった。
△：パターンは一応形成されるものの、その一部が欠落していた。
○：シャープなパターンを得ることができた。
【０１２１】
−はんだ耐熱性−
フラックスとしてＬＯＮＣＯ  ３３５５−１１（商品名、ロンドンケミカル社製の水溶性フラックス）を用い、まずテストピースにフラックスを塗布し、次いでこれを２６０℃の溶融はんだ浴に１５秒間浸漬し、その後水洗した。このサイクルを１回又は３回おこなった後の表面白化の程度を観察した。また、クロスカットによるセロハン粘着テープ剥離試験をＪＩＳ  Ｄ  ０２０２に準拠して行い、密着状態の変化を観察した。
【０１２２】
表面白化の評価方法は次の通りである。
×：著しく白化した。
△：白化が認められた。
○：極めて僅かな白化を生じた。
◎：全く白化を生じなかった。
【０１２３】
また密着性の評価方法は次の通りである。
×：クロスカット試験をするまでもなく、レジストの膨れ又は剥離を生じた。
△：テープ剥離時にクロスカット部分に一部剥離を生じた。
○：クロスカット部分の剥離を生じなかった。
◎：全く変化を生じなかった。
【０１２４】
−鉛筆硬度−
鉛筆硬度をＪＩＳ  Ｋ  ５４００に準拠して測定して評価し、その他の項目は常法により評価した。
【０１２５】
−耐金めっき性−
市販品の無電解ニッケルめっき浴及び無電解金めっき浴を用いて、テストピースのめっきを行い、塗膜の密着状態を観察した。
【０１２６】
耐金めっき性の評価方法は次の通りである。
○：全く変化のないもの。
△：外観変化はないが、テープ剥離時に一部剥離が見られるもの。
×：塗膜の浮きが見られ、テープ剥離時に剥離が見られるもの。
【０１２７】
−耐電蝕性−
テストピースに代えて、ＩＰＣ  Ｂ−２５のくし型電極Ｂクーポンを用い、上記の条件で評価用のプリント配線板を作製し、くし電極にＤＣ１００Ｖのバイアス電圧を印加し、４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．の条件下にて５００時間後のマイグレーションの有無を確認して評価した。
【０１２８】
耐電蝕性の評価方法は次の通りである。
○：全くマイグレーションが確認できないもの。
△：僅かにマイグレーションが確認できるもの。
×：マイグレーションが発生しているもの。
【０１２９】
【表２】
0004532724.tif 000003
【０１３０】
【表３】
0004532724.tif 000004
【０１３１】
表２から明らかなように、比較例１〜３と比べて、実施例１〜８では、現像幅及びはんだ耐熱性、耐金めっき性が向上し、また優れた基板密着性及び耐電蝕性を有するものであった。また、表３から明らかなように、比較例１〜３と比べて、実施例１〜６では、３日間保存した後であっても、現像幅及びはんだ耐熱性、耐金めっき性が向上し、また優れた基板密着性及び耐電蝕性を有するものであった。
【０１３２】
【発明の効果】
本発明の請求項１に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、（Ａ）分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ）を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物（ｄ）を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）希釈剤を含有するので、上記（Ａ）成分の紫外線硬化性樹脂によって、１液型で、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１３３】
本発明の請求項２に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記エチレン性不飽和単量体成分に、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）及びエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ｅ）を含有させるので、光硬化性の調整、及び硬化膜物性の調整を行うことができるものである。
【０１３４】
本発明の請求項３に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸を含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）において、２個のエポキシ基を有する化合物１モルに対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体の量が０．３５〜０．８モルであるので、分子中に２個のエポキシ基を有する化合物のエポキシ基の内、一方に分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体が付加し、他方に重合性を有する基を持たないモノカルボン酸が付加された生成物を多く得ることができるものである。
【０１３５】
本発明の請求項４に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体（ｂ）が、グリシジル（メタ）アクリレートを含むものであるので、１液型で、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１３６】
本発明の請求項５に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）において、分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体が（メタ）アクリル酸を含むものであるので、１液型で、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１３７】
本発明の請求項６に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記分子中に２個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対し分子中にカルボキシル基を１個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸を含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物（ａ）は、上記共重合体の製造に用いられるエチレン性不飽和単量体成分の全量中で、０．１〜１０モル％の範囲であるので、化合物（ａ）は共重合の際に良好な重合性を示すと共に紫外線硬化性樹脂組成物は特に優れた耐熱性を有するものとなるものである。
【０１３８】
本発明の請求項７に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、１液型であるので、２液型の場合のように混合等の作業を行う必要がなく、取り扱い性を向上させることができるものである。
【０１３９】
本発明の請求項８に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（Ｄ）を含むので、特に優れた熱硬化性を有するものである。
【０１４０】
本発明の請求項９に係る予備乾燥被膜は、請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥することにより得られるので、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１４１】
本発明の請求項１０に係る基板は、請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化被膜を備えるので、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを有するものに形成することができるものである。
【０１４２】
本発明の請求項１１に係るフォトソルダーレジストインクは、請求項１乃至８のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物から成るので、１液型で、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１４３】
本発明の請求項１２に係る予備乾燥被膜は、請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクを乾燥することにより得られるので、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１４４】
本発明の請求項１３に係るプリント配線板は、請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクの硬化被膜を備えるので、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを有するものに形成することができるものである。
【０１４５】
本発明の請求項１４に係るドライフィルムは、請求項１乃至９のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成するので、１液型で、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。
【０１４６】
本発明の請求項１５に係るドライフィルムは、請求項１１に記載のフォトソルダーレジストインクを乾燥することにより得られる被膜を支持体の表面に形成するので、１液型で、広い現像幅を有し、また耐熱性に優れた永久被膜を形成することができ、さらに希アルカリ水溶液で現像可能にすることができるものである。また、優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができるものである。