(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送された基板を保持する保持手段と、
前記保持手段によって保持された基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置されて前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する複数個の液滴吐出ユニットと、
前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーと、
前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる移動手段と、
基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられ、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせる複数個のスライド機構とを備え、
複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあい、
前記液滴吐出ユニットは、前記スライド機構の各々に一つずつ独立して移動可能に搭載されていることを特徴とする欠陥修復装置。
【請求項２】
前記基板に垂直な方向から見て、前記複数個のスライド機構は、千鳥状に配置されている請求項１記載の欠陥修復装置。
【請求項３】
前記基板の修復領域を、各液滴吐出ユニット毎に割り当てる請求項１記載の欠陥修復装置。
【請求項４】
各液滴吐出ユニットは、前記搬送方向と異なる方向に沿って移動した後停止した状態で前記欠陥に前記液滴を吐出する請求項１記載の欠陥修復装置。
【請求項５】
各液滴吐出ユニットは、その液滴吐出位置と、前記基板上の欠陥の位置とが一致するように前記搬送方向と異なる方向に沿って移動する請求項１記載の欠陥修復装置。
【請求項６】
前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載したガントリーの重量は、０．５トン以上４トン以下である請求項１記載の欠陥修復装置。
【請求項７】
搬送された基板を固定し、
前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させ、
基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられた複数個のスライド機構によって、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせ、
複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあい、
前記液滴吐出ユニットは、前記スライド機構の各々に一つずつ独立して移動可能に搭載されていることを特徴とする欠陥修復方法。
【請求項８】
コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、
前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、
基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられた複数個のスライド機構であって、前記スライド機構のうちの複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあっているスライド機構によって、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせ、前記液滴吐出ユニットは、前記スライド機構の各々に一つずつ独立して移動可能に搭載されている手順とを実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項９】
コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、
前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、
基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられた複数個のスライド機構であって、前記スライド機構のうちの複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあっているスライド機構によって、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせ、前記液滴吐出ユニットは、前記スライド機構の各々に一つずつ独立して移動可能に搭載されている手順とを実行させるプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に点在する欠陥の位置データに基づいて、欠陥を修復する欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット技術は紙媒体上に画像を形成するプリンター装置としてだけでなく、製造装置としての用途が期待されている。例えば、特許文献１では、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置などの製造装置として、インクジェット方式による液滴吐出素子を搭載した製造装置の構成が示されている。この特許文献１では、基板上への着弾位置精度を向上させるために、装置基体を石定盤として、基板を同一方向に搬送するステージと、ステージ進行方向と直交する方向にインクジェットヘッドを移動させるキャリッジ機構とを、それぞれ石定盤上に直結して設けている。
【０００３】
インクジェット方式による汎用プリンターには、通常は液滴を吐出させる素子として１５０〜３００ノズル／インチの間隔でノズル孔が規則配列した幅１／２〜２インチのインクジェットヘッド素子を各色毎に数個ずつ搭載した１個のインクジェットヘッドユニットを用いて画像を形成する。画像形成方法としては、記録紙を紙送りローラーで送りつつ、記録紙の搬送方向に対して直交する方向にインクジェットヘッドユニットを複数回走査することで、記録紙に画像を形成していた。
【０００４】
このインクジェット方式を製造装置として用いる場合でも、インクジェットヘッド素子は汎用プリンター用と同等であり、ノズル列方向のサイズは高々１〜２インチ程度しかないのが現状である。
【０００５】
一方、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置の製造プロセスは、大面積基板を使用して採れ数を増やすことによって低コスト及びタクトの短縮を図る傾向にあり、インクジェット方式によりこれらを製造するためには、一辺数ｍにも及ぶ大面積基板に対応できる製造装置が必要とされてきた。
【０００６】
大面積基板に対して高速で処理できるインクジェット方式を用いた製造装置としては、複数のインクジェットヘッド素子を並べて基板サイズ以上の長さにしたラインヘッド方式がある。この方式は、高々１〜２インチの幅のインクジェット素子を、基板サイズに至る長さまで千鳥配列させるものであり、基板サイズが数ｍとすると少なくとも１００〜２００個のヘッドを配列させる必要がある。このラインヘッド方式による製造装置は、例えばカラーフィルター基板のような、基板全面に吐出を必要とし、さらに吐出箇所が規則的である基板には、非常に効果的であるといえる。
【０００７】
また、カラーフィルター基板の製造方法の一部として、カラーフィルター基板に着色不良部分があった場合に、不良箇所のみにカラーフィルター材料を吐出させる構成が知られている（特許文献２）。
【０００８】
また、ライン型固定インクジェットヘッドと、リペア用ヘッドとを設け、ライン型固定インクジェットヘッドから不吐出ノズルを検出し、リペア用ヘッドを不吐出ノズルに対応する位置まで移動させて、不吐出ノズルの替わりにリペア用ヘッドにより液滴を吐出する構成が開示されている（特許文献３）。
【０００９】
また、第１吐出部及び第２吐出部と、第１吐出部が描画したパターンの欠陥を検出する描画検査部とを設け、描画検査部からの情報に基づいて、第２吐出部を欠陥に対応する位置に相対移動させて液滴を吐出する構成が開示されている（特許文献４）。
【特許文献１】特開２００３−１９１４６２号公報（平成１５年７月８日（２００３．７．８）公開）
【特許文献２】特開２００３−６６２１８号公報（平成１５年３月５日（２００３．３．５）公開）
【特許文献３】特開２００５−１８５９７８号公報（平成１７年７月１４日（２００５．７．１４）公開）
【特許文献４】特開２００４−３３７７０７号公報（平成１６年１２月２日（２００４．１２．２）公開）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１に記載のラインヘッド方式により、特許文献２に示されているカラーフィルター基板の修復を実施しようとすると、以下のような問題を生じる。
【００１１】
カラーフィルター基板に点在する欠陥（不良箇所）を修正する手段としてラインヘッド方式を用いると、基板全面に液滴を吐出させるのと同一の処理時間を要する上に、殆どが吐出されない非動作ノズルとなり、ノズル詰まりを発生しやすい。さらに全てのノズルに対してメンテナンス動作を行うことが必要で、不要な廃液が増加する。また、吐出量を均一化させたい場合において、ラインヘッド方式では、点在する所望箇所に対して液滴を吐出させるだけであるにもかかわらず、合計数千個にも及ぶノズルに対して逐一吐出量補正を行うことが必要となり極めて非効率的である。
【００１２】
また、汎用プリンターで多用されてきたインクジェットヘッドユニットを複数個同一ガントリー上に並べて往復させる方式では、インクジェットヘッドユニットの走査距離は増加する上に、安定動作の面で走査速度にも限界があり、処理時間が短縮できない。
【００１３】
また、大面積基板上の全面に限らず、所望の箇所に液滴を効率よく吐出させたいという要望は、カラーフィルターの修復に限らず様々な製造分野で今後求められるものである。
【００１４】
特許文献３に記載のライン型固定インクジェットヘッドとリペア用ヘッドとの組み合わせの構成、または特許文献４に記載の第１吐出部及び第２吐出部の組み合わせの構成で、液滴を基板に吐出すると、修復専門の装置を別途設けて修復する構成に比較して、タクトタイムが長くなるという問題がある。
【００１５】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板に点在する欠陥を効率よく修復することができる欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明に係る欠陥修復装置は、上記課題を解決するために、搬送された基板を保持する保持手段と、前記保持手段によって保持された基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置されて前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する複数個の液滴吐出ユニットと、前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーと、前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる移動手段と、基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられ、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせる複数個のスライド機構とを備え、複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあっていることを特徴とする。
【００１７】
この特徴によれば、各液滴吐出ユニットは、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、ガントリーが基板の搬送方向に沿って相対移動している間、搬送方向に垂直な方向に沿って互いに独立して移動する。このため、表面に欠陥が点在する基板を搬入し、ガントリーを基板の搬送方向に沿って相対移動させながら、前記搬送方向に垂直な方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させることにより、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができる。また、表面に欠陥が点在する大型基板に対応してガントリーが大型化し、重量が増大しても、ガントリーを等速移動させるので、液滴吐出ユニットから吐出した液滴の基板への着弾精度が悪化することがない。
【００１８】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記移動手段は、前記基板の一端から他端まで前記ガントリーを往復移動させることが好ましい。
【００１９】
上記構成によれば、ガントリーが基板に対して移動するので、ガントリーに対して大型基板が移動する構成よりも、省スペースを実現することができる。
【００２０】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記ガントリーは、前記基板の搬送方向に沿って所定の間隔を空けて複数列設けられていることが好ましい。
【００２１】
上記構成によれば、複数個の欠陥を修復するためのガントリー１列あたりの総移動量を低減することができるので、基板の処理時間（タクトタイム）を短縮することができる。
【００２２】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記ガントリーには、各液滴吐出ユニットを前記搬送方向と異なる方向に沿ってスライドさせる複数個のスライド機構が設けられていることが好ましく、特に装置の省スペース化の点で前記搬送方向に垂直な方向に配列させていることが望ましい。
【００２３】
上記構成によれば、簡単な構成によって、液滴吐出ユニットを前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動させることができる。
【００２４】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なり合っていることが好ましい。
【００２５】
上記構成によれば、基板の全域にわたって欠陥の修復が可能になる。
【００２６】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記基板に垂直な方向から見て、前記複数個のスライド機構は、千鳥状に配置されていることが好ましい。
【００２７】
上記構成によれば、液滴吐出ユニットを効率的にガントリーに配置することができ、ガントリーを小型化することができるので、移動速度を高速化でき、基板の処理時間（タクトタイム）を短縮することができる。
【００２８】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記基板の修復領域を、各液滴吐出ユニット毎に割り当てることが好ましい。
【００２９】
上記構成によれば、各液滴吐出ユニットの移動量を抑えることができ、装置コストを下げることができる。また、修復動作を効率的に行うことができる。
【００３０】
本発明に係る欠陥修復装置では、各液滴吐出ユニットは、前記搬送方向と異なる方向に沿って移動した後停止した状態で前記欠陥に前記液滴を吐出することが好ましい。
【００３１】
上記構成によれば、欠陥に対する液滴の着弾精度を高めることができる。
【００３２】
本発明に係る欠陥修復装置では、各液滴吐出ユニットは、その液滴吐出位置と、前記基板上の欠陥の位置とが一致するように前記搬送方向と異なる方向に沿って移動することが好ましい。
【００３３】
上記構成によれば、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、各液滴吐出ユニットにより欠陥に液滴を吐出し、その欠陥を修復することができる。
【００３４】
本発明に係る欠陥修復装置では、前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載したガントリーの重量は、０．５トン以上４トン以下であることが好ましい。
【００３５】
上記構成によれば、液晶表示装置用画面の大型化に対応してガントリーが大型化し、０．５トン以上４トン以下に重量が増大しても、ガントリーを等速移動させるので、液滴吐出ユニットから吐出した液滴の基板への着弾精度が悪化することがない。
【００３６】
本発明に係る欠陥修復方法は、上記課題を解決するために、搬送された基板を固定し、前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させ、基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられた複数個のスライド機構によって、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせ、複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあっていることを特徴とする。
【００３７】
この特徴によれば、各液滴吐出ユニットは、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、ガントリーが基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動している間に、搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動する。このため、表面に欠陥が点在する基板を搬入し、ガントリーを基板の搬送方向に沿って移動させながら、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させることにより、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができる。また、表面に欠陥が点在する大型基板に対応してガントリーが大型化し、重量が増大しても、ガントリーを等速移動させるので、液滴吐出ユニットから吐出した液滴の基板への着弾精度が悪化することがない。
【００３８】
本発明に係るプログラムは、上記課題を解決するために、コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられた複数個のスライド機構であって、前記スライド機構のうちの複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあっているスライド機構によって、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせる手順とを実行させることを特徴とする。
【００３９】
本発明に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、上記課題を解決するために、コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、基板の前記搬送方向と異なる方向に沿って複数に区分された領域の各々に対応して設けられた複数個のスライド機構であって、前記スライド機構のうちの複数に区分された隣り合う領域のスライド機構の各々は、互いに前記搬送方向にずれて配置されていると共に、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なりあっているスライド機構によって、前記液滴吐出ユニットを前記異なる方向にスライドさせる手順とを実行させるプログラムを記録したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００４０】
本発明に係る欠陥修復装置は、以上のように、前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる移動手段を備え、各液滴吐出ユニットは、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動するので、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができるという効果を奏する。
【００４１】
本発明に係る欠陥修復方法は、以上のように、前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させ、各液滴吐出ユニットを、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動させるので、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
本発明の一実施形態について図１ないし図２３に基づいて説明すると以下の通りである。
【００４３】
（実施の形態１）
＜装置全体の構成説明＞
図１は、実施の形態１に係る欠陥修復装置１の外観を示す斜視図である。図２は、欠陥修復装置１の模式的断面図である。
【００４４】
欠陥修復装置１は、基体２を備えている。液滴吐出装置１には、基体２上に搭載され基板搬入及び搬出時に移動する基板載置台３と、基板載置台３の上方を該台に接触することなく横断しているヘッドガントリーユニット７とが設けられている。ヘッドガントリーユニット７は、基体２に連結しているガントリースライド機構４により、一方向（図１のＹ方向に平行な方向）に往復移動できる構成となっている。
【００４５】
ヘッドガントリーユニット７の側面には、液滴吐出ユニット１１をヘッドガントリーユニット７の移動方向（図１のＹ方向に平行な方向）とは異なる方向（図１のＸ方向に平行な方向）に移動させることのできる吐出ユニットスライド機構１０が搭載されており、吐出ユニットスライド機構１０上に搭載された液滴吐出ユニット１１は、吐出ユニットスライド機構１０上の移動可能領域の範囲内で、ヘッドガントリーユニット７の移動方向と異なる方向（図１のＸ方向に平行な方向）に移動可能となっている。
【００４６】
液滴吐出ユニット１１は、ヘッドガントリーユニット７の側面に、複数個（図１では９個）搭載され、それぞれに個別の吐出ユニットスライド機構１０を有している。そして、複数の液滴吐出ユニット１１は、それぞれの吐出ユニットスライド機構１０上を、欠陥修復装置１からの制御指令に基づいて、個別に独立して図１のＸ方向に平行な方向に移動する。
【００４７】
また、液滴吐出ユニット１１は、ヘッド吐出面を有している。ヘッド吐出面は、基板載置台３に略平行であって、かつ、液滴を吐出するための孔が形成されている。液滴吐出ユニット１１は、液滴吐出装置１からの制御指令に基づいて、基板載置台３上に載置した対象基板にヘッド吐出面から液滴を滴下する。
【００４８】
装置基体２上には、基板載置台３の他に、液滴吐出ユニット１１に対して、非使用時に吐出面をキャップする機構、不良吐出口を検出する機構、不良吐出口を回復する機構、などを有するメンテナンス機構１５が設けられている。メンテナンス時は、ガントリースライド機構４により、ヘッドガントリーユニット７が、メンテナンス機構１５の直上に移動し、液滴吐出ユニット１１に対して各種メンテナンス動作を行う。
【００４９】
＜装置基体２の説明＞
装置基体２の構成について図２を用いて説明する。
【００５０】
装置基体２は、中央に位置するメインステージ２ａを有しており、メンテナンス機構１５を有するサブステージ２ｃと、サブステージ２ｂとをその両脇に機械的に連結している。
【００５１】
メインステージ２ａは、御影石製の高精度のステージであり、液滴吐出ユニット１１から基板載置台３上の対象基板に向けて液滴が吐出される間は、基板載置台３を正確に固定するものである。
【００５２】
サブステージ２ｃは、メンテナンス機構１５を搭載するもので、メインステージ２ａに比べ精度良く製造する必要はない。
【００５３】
サブステージ２ｂは、基板載置台３上に基板を搬入、または基板載置台３上から基板を搬出する際に、基板載置台３を装置端部に移動させる際に使用するステージである。
【００５４】
それぞれのステージには、メインステージ用ガントリーガイド５ａ、及びサブステージ用ガントリーガイド５ｂ・５ｃが搭載されており、ガントリーガイド５ａ・５ｂ・５ｃは、異なるガントリーガイド５ａ・５ｂ・５ｃ間を跨いでヘッドガントリーユニット７が自由にスライドできるように、それぞれの間に繋ぎ目を有しつつ連結している。
【００５５】
図１では、ヘッドガントリーユニット７は、浮上スライド機構８とガントリースライド機構４との間で常時エアー浮上しており、ガントリースライド機構４上の磁石式リニアスケール６と浮上スライド機構８との間のリニアモータ制御により、ヘッドガントリーユニット７の移動を可能としている。
【００５６】
そして、ガントリースライド機構４及びリニアスケール６は、それぞれのステージ２ａ・２ｂ・２ｃを跨ってヘッドガントリーユニット７が自由に移動できるよう連続的に構成されている。また、装置基体２の地面側には図示しない従来技術の除振機構が設けられている。
【００５７】
＜基板載置台３の説明＞
基板載置台３は、上面には図示しない微小な孔が複数形成されており、その孔の全てが図示しない吸引／送風機構に連結し、吸引／送風制御を行うことにより、基板載置台３上に配置された対象基板の吸着固定、もしくは基板載置台３からの基板の解放を行うことが可能となっている。
【００５８】
図３は、欠陥修復装置１に設けられたヘッドガントリーユニット７及び基板載置台３の動作を説明するための模式的断面図である。基板載置台３は、装置基体２上に設けられた図示しないスライドレール上をリニアモータ制御により移動することが可能であり、基板搬入若しくは搬出時には、図３に示すように基板載置台３は、矢印ｒ１の方向に沿ってメンテナンス機構１５と反対方向の装置端部に移動する。
【００５９】
さらに、基板載置台３には、図示しないθ回転機構が内在しており、スライドレール上をリニアモータ制御により一方向に移動すること、及び載置した基板を面内方向に自在に回転させることが可能となっている。
【００６０】
さらに、基板載置台３は、スライドレールと直交する方向にも微調移動できる機構を有している。また、基板載置台３の上面は、上面の平坦性が良い石定盤からなり、液滴吐出ユニット１１の吐出面と平行である。
【００６１】
＜ヘッドガントリーユニット７の説明＞
図４（ａ）は、ヘッドガントリーユニット７の構成を説明するためのＺ方向から見た要部平面図であり、図４（ｂ）は、Ｘ方向から見た要部正面図である。ヘッドガントリーユニット７の構成について、図４を参照して説明する。
【００６２】
ヘッドガントリーユニット７は、一対のガントリー９を浮上スライド機構８により連結した構成となっている。ガントリー９の一方の外側に向いた側面には、液滴吐出ユニット１１及び吐出ユニットスライド機構１０が複数個設けられている（図１では４ユニット）。
【００６３】
その反対面で、かつ２本のガントリー９間に位置する部分に、基板の面内回転制御用のアライメントカメラ１２が２台固定設置されている。図４では１台のみ図示されているが、同等のカメラ１２が図４（ａ）における上方にさらに一台設置されている。
【００６４】
ガントリー９の他方の装置外側に向いた側面には、ガントリー９の一方と同様に液滴吐出ユニット１１及び吐出ユニットスライド機構１０とが複数個設けられている（図１では５ユニット）。その反対面で、かつ２本のガントリー９に挟まれた部分に、観察用カメラユニット１４が、観察用カメラユニット１４をガントリー９の長手方向に移動可能にするカメラスライド機構１３を介して移動可能に取り付けられている。
【００６５】
＜ガントリースライド機構４の説明＞
ガントリースライド機構４は、浮上スライド機構８との間にエアー浮上させるとともに、浮上スライド機構８との間のリニア駆動制御により、欠陥修復装置１本体からの制御信号に従って、ヘッドガントリーユニット７を図１のＹ方向に平行な方向に沿って任意の位置に移動させることが可能である。
【００６６】
＜液滴吐出ユニット１１の説明＞
図５は、液滴吐出ユニット１１の構成を説明するための図１のＹ方向から見た要部側面図である。液滴吐出ユニット１１は、ヘッドガントリーユニット７上に設置された吐出ユニットスライド機構１０に搭載されており、矢印ｒ３方向にそれぞれ独立して移動可能である。
【００６７】
液滴吐出ユニット１１は、吐出素子１７と、駆動制御回路１８と、電気接続ケーブル１９と、インクタンク２０と、インク配管２１と、とそれらを収納する筺体１６とを有している。筺体１６が、吐出ユニットスライド機構１０上を移動する。
【００６８】
吐出素子１７の基板載置台３の上面との平行面には、ノズルプレート２２が接着されており、ノズルプレート２２には複数のノズル孔２３が形成されている。なお、ノズル孔２３の直径は、１０〜２０μｍである。
【００６９】
吐出素子１７は、圧電体基板に複数のインク室となる溝を形成した後、隔壁側面の一部に電極を形成して、隔壁の両側面の間に電界を印加して隔壁自体をせん断変形させて吐出エネルギーを発生させる公知のものを使用した。駆動制御回路１８は、図示しないケーブルにより、図示しない駆動制御システムに接続されて吐出制御が行われる。基板載置台３上に対象基板を搭載した場合、ノズルプレート２２の最下面である液滴吐出面と対象基板の上面との間は、０．５〜１ｍｍになるように予め調整されている。
【００７０】
＜吐出ユニットスライド機構１０の説明＞
図６は、吐出ユニットスライド機構１０の構成を説明するための図１のＸ方向から見た要部正面図である。吐出ユニットスライド機構１０の構成を、図６を用いて説明する。
【００７１】
吐出ユニットスライド機構１０は、２列のＬＭガイド２５（株式会社ＴＨＫ製）と、２列のＬＭガイド２５の列間に設置したガントリーリニアスケール２６からなり、液滴吐出ユニット１１に取り付けられているリニア駆動機構２４を駆動制御することで、図１のＸ方向に平行な方向（図６において紙面に垂直な方向）の所定の位置に液滴吐出ユニット１１を移動させることが可能である。リニアスケール２６は、小型のＮ極及びＳ極の永久磁石を交互に規則配列させたものである。
【００７２】
リニア駆動機構２４は、交流制御でＮ極及びＳ極を自在に発生できるものであり、リニアスケール２６とリニア駆動機構２４との磁石力により吐出ユニットスライド機構１０上の液滴吐出ユニット１１の位置制御を可能としている。なお、ＬＭガイド２５の有効移動ストロークは２５０ｍｍであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール２６は設置されている。吐出ユニットスライド機構１０による液滴吐出ユニット１１の移動は、基板載置台３の上面と、液滴吐出ユニット１１の液滴吐出面であるノズルプレート２２との間のギャップが常に一定となるように予め調整されている。このギャップは、例えば０．２ｍｍ以上０．８ｍｍ以下に調整される。一般にこのギャップを０．２ｍｍ以下に設定すると、基板面にヘッドが接触して装置を故障させる可能性が高まるとともに、液滴を基板へ着弾させたときに生じる微小な跳ね返り滴がノズル面に到達し、ノズル面上に蓄積されて結果的に大滴化してしまう恐れがある。一方、０．８ｍｍ以上とすると、液滴が飛翔する時に風の影響を受け、着弾精度が悪化する。なお、他のガントリー９の側面に設けられている吐出ユニットスライド機構１０も同様の構成であるため説明を除く。
【００７３】
＜カメラスライド機構２８の説明＞
カメラスライド機構２８の構成を、図６を用いて説明する。観察カメラユニット１４は、ガントリースライド機構４に設けられたＹ方向に平行な方向の情報取得機能と、カメラスライド機構２８に設けられたＸ方向に平行な方向の情報取得機能とにより、アライメントマークに対する対象基板のアドレス情報を出力することが可能である。観察カメラユニット１４は、主に液滴吐出ユニット１１が基板上に着弾した着弾画像を観察し、それぞれの液滴吐出ユニット１１の吐出状態、若しくはアライメントマーク基準の着弾位置のアドレスを出力することができる。
【００７４】
観察カメラユニット１４で得た着弾位置座標を用いて、それぞれの液滴吐出ユニット１１について、Ｙ方向に対しては吐出タイミングの補正、Ｘ方向に対しては吐出ユニットスライド機構１０の移動量の補正により、対象基板上の所望の位置に液滴を着弾させることができる。
【００７５】
カメラスライド機構２８は、前述の吐出ユニットスライド機構１０と同様に、２列のＬＭガイド２９（株式会社ＴＨＫ製）と、２列のＬＭガイド２９の列間に設置したカメラ用リニアスケール３０からなり、観察カメラユニット１４に取り付けられているリニア駆動機構２７を駆動制御することで、図１のＸ方向（図６における紙面に垂直な方向）の所定の位置に観察カメラユニット１４を移動させることが可能である。なお、ＬＭガイド２９の有効移動ストロークは２５００ｍｍであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール３０は設置されている。
【００７６】
＜ノズル列の配列＞
図７（ａ）は、液滴吐出ユニット１１の構成を説明するための要部下面図であり、図７（ｂ）は、他の液滴吐出ユニット１１ａの構成を説明するための要部下面図である。液滴吐出ユニット内のノズル孔の配列を、図７（ａ）（ｂ）を用いて説明する。図７（ａ）は、１種類の液体を吐出する液滴吐出ユニット１１を複数搭載した装置を示す。ヘッドガントリーユニット７には、吐出ユニットスライド機構１０を介して、液滴吐出ユニット１１が矢印Ｘ方向（図１）に移動可能に取り付けられている。液滴吐出面であるノズルプレート２２に形成されたノズル孔２３は一列に配列し、矢印Ｂに対して直角な方向から数度傾いている。配列しているノズル孔２３は全て同一の液滴材料が吐出する。
【００７７】
図７（ｂ）は、３種類の液体を吐出するノズルプレートを複数搭載した液滴吐出ユニット１１ａを有する装置を示す。液滴吐出ユニット１１ａには、第一の液滴材料を吐出するノズル孔２３Ｒの列、第二の液滴材料を吐出するノズル孔２３Ｇの列、第三の液滴材料を吐出するノズル孔２３Ｂの列、を有し、それぞれのノズル孔列が方向Ｂに対して直角な方向から数度傾いており、それぞれの列のＢ方向への投影領域はほぼ一致するように構成されている。また、それぞれのノズル孔列は、液滴吐出ユニット１１ａ内でＢ方向に微小に移動可能となっていてもよい。
【００７８】
Ａ方向からのノズル孔列の傾きをθとし、ノズルピッチをｐとすると、Ｂ方向に投影したノズルピッチＱは、
Ｑ＝ｐ×ｓｉｎθ、
となるため、実際のノズルピッチに比べてＢ方向のピッチＱを高密度化できる利点がある。ピッチＱを高密度化することで、複数のヘッドを組み合わせて１つのユニットを作製する際に、各ヘッドの位置合わせを厳密に行わなくとも、少なくともピッチＱの精度以内で配列させることが可能となる。
【００７９】
なお、１００〜２００ＤＰＩ（１インチ幅に１００〜２００個の孔が等ピッチで配列）のノズル孔ピッチで、１吐出素子あたり２０〜８０孔の吐出素子をθ＝３〜１０°傾斜させて用いることが好ましく、これは、吐出素子あたりの孔数が小さいほど、複数の素子を配列させてなる液滴吐出ユニットの全幅が小さくなり、不能領域が小さくすることができるためである。また、製造コストが安価な１００〜２００ＤＰＩの吐出素子をθ＝３〜１０°の範囲で傾斜させることにより、複数の吐出素子間の位置合わせを厳密に行わなくても、一度、試験吐出を行って吐出タイミング制御を行えば、Ｂ方向に投影したノズルピッチを５〜３５μｍにまで高密度化でき、カラーフィルタや、有機ＥＬ表示装置などの、画素サイズよりも高密度の配列を実現することができる。
【００８０】
＜基板搬入動作の説明＞
図８（ａ）〜図８（ｃ）は、ヘッドガントリーユニット７及び基板載置台３の動作を説明するための図１のＸ方向から見た模式的断面図である。
【００８１】
図８（ａ）は対象基板３５を処理した後の状態を示す。基板処理後は図８（ｂ）に示すように、欠陥修復装置の基板載置台３は、矢印ｒ１の方向に沿って紙面左側（サブステージ２ｂ側）にスライドすると共に、ヘッドガントリーユニット７は、矢印ｒ２の方向に沿ってメンテナンス機構１５の直上に移動する。そして、基板載置台３は、処理済の対象基板３５の吸着を解放した後に、図示しない搬送ロボットに受け渡す。その後、搬送ロボットは次の対象基板３５ａを基板載置台３に載せる。そして、載せられた対象基板３５ａは、即座に基板載置台３にエアー吸着され、基板載置台３は元の位置（図８（ａ）に示す位置）に戻る。
【００８２】
基板載置台３から対象基板３５が搬出され、次の対象基板３５ａが搬入されて、基板載置台３が元の位置に戻る間に、並行して液滴吐出ユニット１１に対して、通常のメンテナンス動作が行われる。メンテナンス動作では、ヘッドガントリーユニット７は、メンテナンス機構１５上に移動し、移動を完了後はメンテナンス作業を行う。具体的には、液滴吐出ユニット１１のノズルプレート面は、図８（ｂ）に示すように、ゴム製のキャップ部材３１によりキャップされる。また、キャップされた後、キャップ部材３１の底部にある通気口より負圧吸引されて、ノズルプレートのノズル孔から液を強制排出することによりノズル孔のダスト等を除去する。その後、ノズルプレート面を図示しないワイプブレードでワイプする。そして、その後、後述する不吐出検出器により、ノズル孔からの吐出状態をチェックする。これら一連のメンテナンス動作は順序は、前述した順序と異なっていても良い。
【００８３】
新たな対象基板３５ａが搭載された基板載置台３と、液滴吐出ユニット１１のメンテナンス動作が完了したヘッドガントリーユニット７とは、ほぼ同時に図８（ｃ）に示す矢印ｒ４・ｒ５の方向にそれぞれ移動し、図８（ａ）に示す位置に到達する。
【００８４】
＜メンテナンス動作の説明＞
基板の搬出及び搬入を実行する間、または基板への液滴吐出動作を長期間実施しないときは、液滴吐出ユニット１１に対してメンテナンス動作を実行する。このメンテナンス動作は、不吐出検出動作と、キャップ動作と、キャップ内吸引パージ動作と、ワイピング動作とを含む。先の対象基板を処理後に、直ちに次の対象基板の処理を行う場合、先の対象基板の搬出動作の命令が与えられるのと同時に、液滴吐出ユニット１１を搭載したヘッドガントリーユニット７は、メンテナンス機構１５の直上への移動命令が与えられる。
【００８５】
図９（ａ）は、不吐出検出器３２の構成を説明するための図１のＸ方向から見た正面図であり、図９（ｂ）は、図１のＺ方向から見たその下面図である。メンテナンス機構１５は、レーザー発光素子３３とレーザー受光素子３４とを有する不吐出検出器３２を有しており、不吐出検出器３２は、液滴吐出ユニット１１毎に設置されている。
【００８６】
レーザー発光素子３３と図示しないレーザー発光回路とは、不吐出検出の指令を受けるとレーザー光をレーザー受光素子３４に向けて連続的に照射する。レーザー受光素子３４に接続された受光量計測回路は通常の受光量を記憶している。レーザー照射方向は、図９（ａ）（ｂ）に示すように基板面及びノズルプレート２２の面に略平行で、かつノズル孔２３Ｒ・２３Ｇ・２３Ｂの列に略平行である。レーザー光は直径１ｍｍであり、一つの液滴吐出ユニット１１ａの全てのノズル孔２３Ｒ・２３Ｇ・２３Ｂから吐出される液滴は、このレーザー光軸内を通過するように配置されている。
【００８７】
レーザー発光素子３３及びレーザー受光素子３４は微動機構を有しており、万一レーザー光軸内を液滴が通過しない場合は、位置を調整する。まず初めに第一番目のノズル孔２３Ｒから液滴を一定時間吐出させて受光量計測手段からの光量を読み取り、通常の受光量と比較して、遮光量を計測しその値が予め設定した設定値の範囲内にあるか判断し、設定値の範囲内の場合は正常吐出とみなし、それ以外は吐出不良とみなす。
【００８８】
次に２番目、３番目と順次同様の吐出制御及び遮光量計測を行い、液滴吐出ユニット１１の全てのノズル孔２３Ｒ・２３Ｇ・２３Ｂについて、吐出不良の有無を確認する。吐出不良が無ければ、液滴吐出ユニット１１をキャップ位置に移動させて、基板搬入動作が完了する直前までキャッピングを行う。
【００８９】
吐出不良がある場合、従来技術で行われている回復動作を実行する。例えば、液滴吐出ユニット１１をキャップ位置に移動させ、そして、キャッピングし、次に、キャップを負圧に引いてノズル孔から強制排出させ、その後、キャップ解除して、ワイピングを行い、再度、不吐出検出を行う。
【００９０】
この不吐出検出と回復動作とを、吐出不良が無くなるまで数回を限度に実行する。そして、吐出不良が回復しない場合は、その旨を装置に出力する。なお、先の対象基板を処理する直前の最後の不吐出検出結果と、先の対象基板を搬出中に行う最初の不吐検出結果を比較して、吐出状態に変化が認められる場合には、先の対象基板の処理が不適として廃棄するか、修復工程に回すことができる。
【００９１】
＜液滴吐出ユニット１１の配列＞
図１０（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１のアライメント動作を説明するための平面図である。図１０（ａ）（ｂ）は欠陥修復装置１を上方から見た図であり、ヘッドガントリーユニット７上に計９個の液滴吐出ユニット１１が搭載されている。
【００９２】
液滴吐出ユニット１１毎に設けられている吐出ユニットスライド機構１０は、一対のヘッドガントリーユニット７の両外側に向いた両側面にそれぞれ設けられている。ヘッドガントリーユニット７の紙面左側面には４対の液滴吐出ユニット１１と吐出ユニットスライド機構１０とが一定間隔を空けて取り付けられている。ヘッドガントリーユニット７の紙面右側面は、５対の液滴吐出ユニット１１と吐出ユニットスライド機構１０とが一定間隔を空けて取り付けられている。そして、基板載置台３の上面に対して、それぞれの吐出ユニットスライド機構１０は千鳥状に配列されている。すなわち、ガントリー移動方向である矢印ｒ３に直交する方向に互いに隣接する２つの吐出ユニットスライド機構１０は、吐出ユニットスライド機構１０のスライド可能方向である矢印ｒ３の方向に沿って、それぞれのスライド可能領域の端部が一部重複するように構成されている。なお、重複する移動可能領域はその領域が大きいほど好ましく、吐出ユニットスライド機構１０の長手方向の長さの三分の一以上重複していることが望ましい。
【００９３】
＜基板アライメント動作の説明＞
対象基板のアライメント動作を図１０（ａ）（ｂ）及び図１１（ａ）（ｂ）を用いて説明する。図１１（ａ）（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット７に設けられたアライメントカメラ１２の構成を説明するための要部平面図である。基板載置台３上で吸着固定された対象基板３５の基板端近傍には、対象基板３５の面内回転方向を補正するためのアライメントマーク３６が２箇所設けられている。
【００９４】
ヘッドガントリーユニット７に固定されている２個のアライメントカメラ１２は、図１０（ａ）に示す位置からヘッドガントリーユニット７と一体的に図１０（ｂ）に示す位置に移動する。そして、アライメントカメラ１２の画像情報を元に、対象基板３５の面内回転方向のずれを算出し、前述の基板載置台３のθ回転機構と矢印ｒ３の方向の微動機構により、図１０（ｂ）に示す回転矢印ｒ６の方向に対象基板３５の姿勢を補正する。
【００９５】
対象基板３５には、予め高精度の２つのアライメントマーク３６が設けられており、対象基板３５の液滴塗布位置は、このアライメントマーク３６を基準として、予め決定されている。このアライメントマーク３６は、同心円状のマークであり、対象基板３５上の２つのアライメントマーク３６のピッチずれは２μｍ以内である。２つのアライメントマーク３６のピッチと同ピッチで２つのアライメントカメラ１２はヘッドガントリーユニット７上に設置されている。また、アライメントカメラ１２は、複数の広視野モード部４３ａと狭視野モード部４３ｂとを有し、広視野モード部４３ａでθ回転機構及び微動機構によりアライメントしたのち、狭視野モード部４３ｂで再度同様なアライメント動作を行う。
【００９６】
図１２（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１のアライメント動作を説明するための要部平面図である。図１３（ａ）（ｂ）は、その要部拡大平面図である。図１２（ａ）（ｂ）は、広視野モードでのアライメントカメラ１２による撮像画像を示す模式図であり、図１２（ａ）は一対のアライメントカメラ１２の一方による画像、図１２（ｂ）は一対のアライメントカメラ１２の他方による画像である。
【００９７】
アライメントカメラ１２の広視野モードは、搬送ロボットの基板載置台３への基板の配置精度以上の視野を有するように設計されている。この広視野モードでは、まず、同心円のアライメントマーク３６の外側円環部３７ａを用いて、アライメントマーク３６と基準位置とのずれを計測し、アライメントマーク３６と基準位置とが一致するように、θ回転機構及び微調整機構により基板載置台３を調整し、対象基板３５の姿勢を制御する。外側円環部３７ａの外径は、例えば２ｍｍであり、内側円部３７ｂの外径は、例えば０．２ｍｍである。
【００９８】
次に図１３（ａ）（ｂ）に示すように、アライメントカメラ１２を狭視野モードに切り替え、アライメントマーク３６の同心円の内側円部３７ｂを用いてアライメントマーク３６と基準位置とのずれを計測し、アライメントマーク３６と基準位置とが一致するように、θ回転機構及び微調整機構により基板載置台３を調整し、対象基板３５の姿勢を制御する。また、一対のアライメントカメラ１２による観察位置と液滴吐出ユニット１１の液滴吐出位置は、液滴吐出ユニット１１を取り付けた後の調整工程で予め計測されている。
【００９９】
図１４は、欠陥修復装置１のアライメント動作を示すフローチャートである。まず、欠陥修復装置１に設けられた制御ユニットからアライメント開始指令が発行されると（ステップＳ１），サブステージ２ｂ側に移動した基板載置台３上に対象基板３５が搬入される（ステップＳ２）。そして、対象基板３５を載置した基板載置台３は、メインステージ上の定位置に移動する（ステップＳ３）。
【０１００】
そして、図１０（ａ）に示すようにメンテナンス機構１５上に位置していたヘッドガントリーユニット７は、図１０（ｂ）に示すアライメント位置に移動する（ステップＳ４）。そして、アライメントカメラ１２の広視野モード部４３ａをアライメントマーク３６上の標準位置に移動させる（ステップＳ５）。
【０１０１】
次に、アライメントカメラ１２の広視野モード部４３ａは、アライメントマーク３６の外側円環部３７ａを撮像し（ステップＳ６）、アライメント量を算出する（ステップＳ７）。その後、算出したアライメント量に基づいて、基板載置台３の位置を粗く調整する粗アライメント動作を実行する（ステップＳ９）。
【０１０２】
そして、アライメントカメラ１２の狭視野モード部４３ｂをアライメントマーク３６上の標準位置に移動させる（ステップＳ８）。その後、アライメントカメラ１２の狭視野モード部４３ｂは、アライメントマーク３６の内側円部３７ｂを撮像し（ステップＳ１０）、アライメント量を算出する（ステップＳ１１）。その後、算出したアライメント量に基づいて、基板載置台３の位置を精密に調整する本アライメント動作を実行する（ステップＳ１２）。
【０１０３】
その後、再び、アライメントカメラ１２の狭視野モード部４３ｂは、アライメントマーク３６の内側円部３７ｂを撮像し（ステップＳ１３）、基板載置台３の位置精度を確認する（ステップＳ１４）。そして、アライメント動作を完了する（ステップＳ１５）。
【０１０４】
＜観察カメラユニット１４による液滴着弾位置の計測＞
図１５（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１に設けられた観察カメラユニット１４による液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。観察カメラユニット１４は、液滴吐出ユニット１１の液滴吐出素子１７（図５）を交換して着弾位置補正を行うための情報を取得する場合や、使用中の着弾位置を再確認する際に用いる。観察カメラユニット１４は、ガントリースライド機構４とカメラスライド機構２８とにより、欠陥修復装置１上面の任意の位置を撮像することができ、また、欠陥修復装置１上面の任意の位置を割り出すことが可能である。観察カメラユニット１４の撮像位置は、ガントリースライド機構４とカメラスライド機構２８とに内在しているスケールにより、その位置情報を出力することが可能である。
【０１０５】
液滴着弾位置を観察する場合、通常の対象基板３５と同様の所定のアライメントマーク３６が付与されたダミー基板３８を欠陥修復装置１に搬入し、通常通りの基板姿勢制御を行う。次に、観察カメラユニット１４は、ダミー基板３８上の２つのアライメントマーク３６をそれぞれ撮像し、その位置情報を取得する。
【０１０６】
図１５（ａ）に示すように、ヘッドガントリーユニット７は、ダミー基板３８上の任意の位置まで移動する。そして、それぞれの液滴吐出ユニット１１のノズル孔からダミー基板３８に向けて液滴を吐出する。このとき、全てのノズル孔から液滴を吐出しても良い。また、それぞれの液滴吐出ユニット１１は、ガントリースライド機構４とそれぞれの吐出ユニットスライド機構１０に内在しているスケールに基づいて、仮想の着弾位置（理想的な着弾位置）をそれぞれ認識する。
【０１０７】
次に、図１５（ｂ）に示すように、観察カメラユニット１４は、ガントリースライド機構４とカメラスライド機構２８とにより移動しながら、液滴着弾位置３９を順次撮像して、アライメントマーク３６に対する実際の着弾位置を割り出す。そして、仮想の着弾位置と実際の着弾位置との間の差分をそれぞれの液滴吐出ユニット１１の補正データとして保管する。ずれ（差分）は、Ｘ方向、及びＹ方向に分解される。Ｙ方向のずれは、ヘッドガントリーユニット７がＹ方向に移動しながら液滴吐出を行うため、吐出タイミングを調整することによって補正することができる。Ｘ方向のずれに関しては、吐出ユニットスライド機構１０の移動量をオフセット補正する。この観察カメラユニット１４の動作により、ノズル毎の不吐出を検出し、ノズル毎の着弾ずれを検出することも可能である。
【０１０８】
＜ヘッドガントリーユニット７の往復動作／液滴吐出ユニット１１の移動動作＞
図１６（ａ）（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット７の往復動作を説明するための平面図である。姿勢制御が完了した対象基板３５に対して、アライメントマーク３６基準の所望位置に液滴を滴下する方法を以下に示す。
【０１０９】
図１６（ａ）は、対象基板３５に液滴を滴下する作業において、ヘッドガントリーユニット７が図１６（ａ）において最も右に移動した状態を示している。一方、図１６（ｂ）は、最も左に移動した状態を示している。ヘッドガントリーユニット７は、矢印ｒ７によって示される範囲を１回〜複数回往復する。ヘッドガントリーユニット７に搭載されている複数の液滴吐出ユニット１１は、図１６（ａ）の矢印ｒ３に示す方向にそれぞれ独立して移動可能である。ヘッドガントリーユニット７自体は、対象基板３５上を、紙面左右方向（矢印ｒ７の方向）に往復動作する。それぞれの液滴吐出ユニット１１は、液滴吐出動作を実行する前に、矢印ｒ３に示す方向に沿って所望のアドレスに移動し停止する。そして、ヘッドガントリーユニット７が矢印ｒ７の方向に往復動作する過程で、矢印ｒ７方向及び矢印ｒ３方向の所望位置のアドレスが一致した時点で、液滴を吐出する。複数の液滴吐出ユニット１１は、その動作を、それぞれ独立して制御される。
【０１１０】
図１６（ｂ）において、矢印ｒ７によって示されるヘッドガントリーユニット７の移動範囲は、液滴吐出ユニット１１が移動する方向の直交方向の基板幅よりも大きく、基板幅の中心線をヘッドガントリーユニット７の移動範囲の略中心としている。
【０１１１】
このように基板幅よりも大きい範囲を液滴吐出ユニット１１が移動できることにより、着目した液滴吐出ユニット１１は、その液滴吐出ユニット１１が搭載されたヘッドガントリーユニット７の移動ストロークの範囲内の基板の所望の位置（帯状の領域）に対して、液滴を滴下することが可能となる。
【０１１２】
＜吐出動作の具体例＞
図１７（ａ）（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット７の対象基板３５に対する動作を説明するための平面図である。ヘッドガントリーユニット７には、Ｘ方向に独立して移動可能な９個の液滴吐出ユニット１１ａ・１１ｂ・１１ｃ・１１ｄ・１１ｅ・１１ｆ・１１ｇ・１１ｈ・１１ｉが搭載されており、それぞれの液滴吐出ユニット１１ａ〜１１ｉには、対象基板３５上の受け持ち領域４１ａ・４１ｂ・４１ｃ・４１ｄ・４１ｅ・４１ｆ・４１ｇ・４１ｈ・４１ｉが設定されている。
【０１１３】
約２．２ｍ×２．８ｍの対象基板３５には、約３０個から約３００個の吐出箇所（欠陥）４０が点在している。なお、基板サイズにもよるが、欠陥が３０個以上の場合には、複数の液滴吐出ユニットが搬送方向と異なる方向に個別に移動する構成とすることにより、液滴吐出ユニットが１つの場合に比べてタクトタイム短縮の効果が大きくなる。一方、欠陥が３００個以下の場合では、修復されたカラーフィルタ基板及び有機ＥＬ表示基板の修復部分に起因する色むらが、実使用上問題のないレベルとなり、高品位な前記基板を得ることができる。
【０１１４】
それぞれの液滴吐出ユニット１１ａ〜１１ｉには紙面横方向に帯状に伸びた受け持ち領域４１ａ〜４１ｉが割り当てられている。液滴吐出ユニット１１ａは、領域４１ａを受け持つ。液滴吐出ユニット１１ｂは、領域４１ｂを受け持つ。それぞれの液滴吐出ユニット１１ａ〜１１ｉは、受け持ち領域４１ａ〜４１ｉに点在する吐出箇所（欠陥）４０に対して液滴吐出動作を行う。
【０１１５】
ヘッドガントリーユニット７を紙面左右方向に繰り返し往復移動させる過程で、それぞれの液滴吐出ユニット１１ａ〜１１ｉは、それぞれ受け持つ吐出箇所４０の直上に移動すべく、Ｘ方向（図１）に個別に移動しＸ方向のアドレスが一致した場所で停止し、ヘッドガントリーユニット７の移動に伴って、Ｙ方向（図１）のアドレスが一致するまで待機する。そして、処理基板３５上の所望位置が直下に来るタイミングで、液滴吐出ユニット１１を駆動し、吐出口から液滴を処理基板３５上の所望位置に吐出させる。
【０１１６】
図１７（ａ）（ｂ）に示すように、９個の液滴吐出ユニット１１ａ〜１１ｉを２列の千鳥状に配列すると、図の点線によって示すように対象基板３５を９個の領域４１ａ〜４１ｉに分割して、それぞれの液滴吐出ユニット１１ａ〜１１ｉ毎にその受け持ち領域を決定することができる。
【０１１７】
図１８（ａ）〜図１８（ｄ）は、液滴吐出ユニット１１の欠損部４０ａ・４０ｂ・４０ｃに対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。液滴吐出ユニット１１が、ヘッドガントリーユニット７の往復移動の過程で、複数の長方形状凹部（欠損部４０ａ・４０ｂ・４０ｃ）に液滴を吐出させる工程を説明する。このような工程は、例として、一部に欠損を有するカラーフィルター基板をこの欠陥修復装置を用いて修復する場合が相当する。一例として、カラーフィルター基板の画素の１色が欠損した場合の欠陥修復装置としての説明を行う。
【０１１８】
ここでの欠損部とは、製造工程でダストが混入した部分、空白の窪みが形成された部分等について、レーザー等により不良部分を一定形状に凹み修正した部分である。液滴吐出ユニット１１は、全て同一種類の液滴材料を吐出するものとして、１種類の画素（レッド、ブルー及びイエローのいずれか）の欠損について、その修復方法を示している。よって、全ての色の欠損部を修復するには、本実施の形態の欠陥修復装置を色材毎に３台設けて逐次処理するか、実施の形態２において例示するように、液滴吐出ユニットを、複数色の液滴を吐出可能とするように構成することで可能となる。
【０１１９】
図１８（ａ）〜図１８（ｄ）は、ヘッドガントリーユニット７上に搭載されている複数の液滴吐出ユニット１１のうちの１つに着目して、１つの液滴吐出ユニット１１に設けられた液滴吐出面から複数の吐出箇所に吐出を行う動作を時系列に沿って示している。
【０１２０】
図１８（ａ）を参照すると、処理基板上の欠損部（欠陥）４０ａ・４０ｂ・４０ｃは、深さ２μｍ程度の凹部であり、その開口部はヘッドガントリーユニット７の移動方向を長辺とした２００μｍ×７０μｍ程度の長方形状をしている。図１８（ａ）〜図１８（ｄ）では、欠損部（欠陥）４０ａ・４０ｂ・４０ｃの長辺は、ヘッドガントリーユニット７の移動方向Ａに対して平行であるように描いているが、実際には図７（ａ）（ｂ）に示すように数度傾いている。液滴吐出ユニット１１のノズル吐出面は、対向する搬送ステージ面と平行にしており、ノズルプレート２２には複数のノズル孔２３が形成されている。この複数のノズル孔２３は、ヘッドガントリーユニット７の移動方向である紙面左右方向に配列しており、個々のノズル孔２３はそれぞれ、その背面側に液滴吐出制御可能な図示しない個別のインク加圧室と加圧制御手段とを有している。また、１列に配列しているノズル孔２３は、同一の液滴材料を吐出することが可能となっている。
【０１２１】
ヘッドガントリーユニット７は、液滴吐出ユニット１１の移動や吐出動作によらず、常に紙面左右方向に略等速度（１００ｍｍ／秒〜５００ｍｍ／秒）で往復移動している。欠損部４０ａに液滴を吐出して修復するために、液滴吐出ユニット１１は吐出ユニットスライド機構１０を用いて高速移動させてノズル孔２３を欠損部４０ａの中心線上に合わせて停止する。なお、液滴吐出ユニット１１の移動時間は、実際に移動する時間に加えて、停止した後に吐出ユニットスライド機構１０による残留振動が液滴吐出に悪影響を与えないレベルまで低減するまでの静定時間を含んだ時間をも考慮する必要がある。
【０１２２】
基板載置台３の相対進行方向側において、欠損部４０ａの中心線上まで予め移動させた液滴吐出ユニット１１は、ヘッドガントリーユニット７の等速移動により相対的に矢印Ｄ方向に移動し、欠損部４０ａ上にあるノズル孔２３から液滴が吐出される。このとき、使用するノズル孔２３は、欠損部４０ａの直上にある複数のノズル孔２３を使用することができるため、１つのノズル孔を使用する場合に比べてヘッドガントリーユニット７の等速移動速度を上げることができ、基板全体の処理速度を向上させることが可能となる。
【０１２３】
次に欠損部４０ａ上に液滴を吐出した液滴吐出ユニット１１は、図１８（ｂ）に示すように、欠損部４０ｃを修復するために、吐出ユニットスライド機構１０を駆動して矢印Ｅ方向に移動して、欠損部４０ｃの中心線がノズル孔２３に一致する位置で停止する。このとき、ヘッドガントリーユニット７は一定速度で紙面左方向に移動しているため、液滴吐出ユニット１１は、図１８（ｃ）の矢印Ｆ方向に相対的に移動し停止する。そして、ヘッドガントリーユニット７の移動により液滴吐出ユニット１１は、相対的に矢印Ｇ方向に移動しながら、欠損部４０ｃの直上にあるノズル孔２３から液滴を吐出し、欠損部４０ｃの修復を行う。
【０１２４】
そして、ヘッドガントリーユニット７は、一方向の移動を完了した後に反対方向に移動を始める。図１８（ｄ）に示すように液滴吐出ユニット１１は、欠損部４０ｂを修復するために、吐出ユニットスライド機構１０を用いて矢印Ｋ方向に移動し、欠損部４０ｂの中心線上にノズル孔２３を合わせて停止する。そして、ヘッドガントリーユニット７の移動により、液滴吐出ユニット１１は相対的に矢印Ｌ方向に移動して、欠損部４０ｂの直上にあるノズル孔２３で液滴を吐出する。
【０１２５】
このように、ヘッドガントリーユニット７の往復動作を利用して、３つの欠損部４０ａ・４０ｂ・４０ｃの修復を、欠損部４０ａ、欠損部４０ｂ、欠損部４０ｃの順で行っており、本欠陥修復装置の構成上の利点を最大限活用するものである。即ち、図１８（ｃ）に示すように、欠損部４０ａに複数のノズル孔２３で吐出する際に、実際に吐出を行う紙面右端のノズル孔２３が欠損部４０ａ直上から離れるまでは、移動させることはできず、少なくとも使用するノズル孔２３の両端間距離に相当する領域では、液滴吐出ユニット１１を紙面上下方向に移動させて、次の欠損部の修復に向かうことはできない。
【０１２６】
この不能範囲Ｈは、処理直後の欠損部端から使用するノズル孔２３の両端間距離に相当する帯状の範囲に加えて、搬送ステージの移動速度と、矢印Ｅ方向（図１８（ｂ））の移動に要する時間及び移動後の残留振動の静定に要する時間の和、を掛け合わせた領域も含まれる。
【０１２７】
図１８（ｃ）に示すように、欠損部４０ｂは欠損部４０ａに対する不能範囲Ｈに入る場所に位置しているため、欠損部４０ａの修復の直後に欠損部４０ｂの処理を行なわず、不能範囲Ｈに属さない欠損部４０ｃの修復を行っている。そして、ヘッドガントリーユニット７の復路移動に伴って、欠損部４０ｃの修復後に、その不能範囲Ｈに属さない欠損部４０ｂの修復を行っている。
【０１２８】
以上は、１つの液滴吐出ユニット１１の移動動作について説明を行ったが、欠陥修復装置は複数の液滴吐出ユニット１１を有し、それぞれが独立して動作している。なお、本実施の形態の欠陥修復装置は、カラーフィルター基板の欠陥修復装置に限るものではなく、基板上に点在する所望箇所に液滴を吐出させることが可能である。
【０１２９】
図１９（ａ）〜図１９（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット１１ａの移動方向が、画素４２Ｒ・４２Ｇ・４２Ｂの長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。図２０（ａ）〜図２０（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット１１ａの移動方向が、画素４２Ｒ・４２Ｇ・４２Ｂの長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。ダスト等の原因によって製造途中にＲ及びＧの画素間において混色が発生してしまい、所望の色を示さない画素ができた際に、その部分を矩形状にレーザーで除去し、本実施の形態の欠陥修復装置を用いて矩形部に液滴を滴下する。
【０１３０】
図１９（ａ）〜図１９（ｃ）及び図２０（ａ）〜図２０（ｃ）では、液滴吐出ユニット１１ａとその液滴吐出ユニット１１ａが修復すべき画素４２Ｒ・４２Ｇ・４２Ｂを示しており、画素４２Ｒ及び画素４２Ｇが混色リークしたために、あらかじめレーザーにより、混色箇所を除去して凹みを形成している。
【０１３１】
図１９（ａ）は、修復前の状態を示しており、液滴吐出ユニット１１ａは図の矢印方向に沿って画素４２Ｒ・４２Ｇ・４２Ｂに向かって移動している。図１９（ｂ）はノズル孔２３Ｒにより画素４２Ｒに液滴を滴下した直後の図であり、次に、図１９（ｃ）に示すようにノズル孔２３Ｇにより画素４２Ｇに液滴を滴下する。
【０１３２】
画素４２Ｒ・４２Ｇ・４２Ｂの長手方向がヘッドガントリーユニット（液滴吐出ユニット１１ａ）の移動方向と平行である場合についても同様に、図２０（ａ）は修復前の状態を示しており、図２０（ｂ）、図２０（ｃ）の順にしたがって、画素４２Ｒ、画素４２Ｇを修復する。
【０１３３】
（実施の形態２）
図２１（ａ）は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、図２１（ｂ）は、その動作を説明するための平面図である。
【０１３４】
実施の形態２に係る欠陥修復装置は、所定の間隔を空けて互いに並列に設けられた２本のヘッドガントリーユニット７を有している。各ヘッドガントリーユニット７には、４個の液滴吐出ユニット１１が設けられている。従って、液滴塗布装置には計８個の液滴吐出ユニット１１が搭載されている。
【０１３５】
１本目のヘッドガントリーユニット７に搭載された４個の液滴吐出ユニット１１をスライドさせる吐出ユニットスライド機構１１の移動可能領域は、互いに重複している。このため、４個の液滴吐出ユニット１１は、そのいずれかが基板の任意の位置に移動可能である。２本目のヘッドガントリーユニット７にも、同様に４個の液滴吐出ユニット１１が搭載されている。
【０１３６】
１つの液滴吐出ユニット１１は吐出ユニットスライド機構１０の移動範囲Ｐだけ移動可能であり、千鳥状に隣接する吐出ユニットスライド機構１０の移動範囲は、液滴吐出ユニット１１が移動する方向に沿って、一部を重複させている。このため、１つのガントリー上にある４つの液滴吐出ユニット１１のいずれかが、ヘッドガントリーユニット７の長手方向に沿った位置に必ず移動することが可能である。互いに補完しながらヘッドガントリーユニット７の移動方向に直交する方向に沿った全ての位置への移動を網羅できる液滴吐出ユニット１１の集合をユニット列とすると、本実施の形態では、２本のユニット列が存在することとなる。そして、１ユニット列は４つの液滴吐出ユニット１１から構成されている。
【０１３７】
対象基板３５には、図中黒点で示す複数の欠損部４０が点在する。対象基板３５の領域は、ユニット列数を列数、ユニット列毎の液滴吐出ユニット数を行数として均等分割されて、具体的には、４行×２列の領域に分割して、それぞれの液滴吐出ユニット１１の受け持ち領域となる。例えば、左側のヘッドガントリーユニット７に設けられた左上の液滴吐出ユニット１１は、図中のハッチングで示されている受け持ち領域４１に点在する欠損部４０のみを修復する。なお、図１７で前述したユニット配列では、ユニット列数は１となるために、図１７に示すように９行×１列に分割されている。
【０１３８】
図２１（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット７の移動による対象基板３５の往復動作の往路の半分の状態を示す図であり、図中の白矢印方向までヘッドガントリーユニット７は移動して往路を終える。その後、ヘッドガントリーユニット７は復路に転換し、図２１（ａ）に示す位置まで戻る。この往復動作を１往復として、点在する欠損部４０の多少に応じて１〜数往復を繰り返すことにより、対象基板３５全体に点在する欠損部４０を修復する。ここで、合計８領域ある液滴吐出ユニット１１毎の受け持ち領域で欠損部４０の多少の差のために、液滴吐出ユニット１１毎に完了・未完了の差が生じるが、全ての液滴吐出ユニット１１が欠損部４０を修復するまでヘッドガントリーユニット７は往復を繰り返す。
【０１３９】
ここで図２１（ｂ）に示すように、前述のユニット列は１本のヘッドガントリーユニット７上に搭載された４個の液滴吐出ユニット１１であり、このユニット列の中心線は、Ｙ２−Ｙ２、及びＹ３−Ｙ３となる。本実施の形態では、この２本のユニット列（ヘッドガントリーユニット７）の中心線Ｙ２−Ｙ２及び中心線Ｙ３−Ｙ３間の距離が、対象基板３５の搬送方向に沿った長さの略２分の１になっている。そして、図２１（ｂ）に示すように、２本のヘッドガントリーユニット７の中心線Ｙ２−Ｙ２、及び中心線Ｙ３−Ｙ３との間の間隔が、対象基板３５の幅の略半分となるように配置し、その配置位置を中心に両振幅を基板の幅の略半分の移動量で移動する。
【０１４０】
このように、ユニット列数毎に基板幅を分割し、それぞれのユニット列がその分割領域内で走査することにより、効率よく修復作業を行うことが可能となる。なお、図１７のようにユニット列数が１本の場合、基板中間線をユニット列中心として、両振幅を基板幅とする。
【０１４１】
図２２は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。図２２には、３列のユニット列（ヘッドガントリーユニット７）を有する構成の例が示されている。この場合、１ユニット当り４個の液滴吐出ユニット１１が搭載され、計３列のユニット列を形成している。よって、対象基板３５は４行×３列に分割されている。
【０１４２】
ｎ本（ｎは整数）のユニット列を有する欠陥修復装置においては、対象基板をｎ分割し、そのｎ分割領域の中間線を中心として、それぞれのユニット列を基板幅のｎ分の１の両振幅で複数回走査すると良い。このようにすることにより、往復動作によるヘッドガントリーユニット７の移動総距離を最小にすることが可能となり、基板の処理時間を最も短縮することができる。この比率は厳密に適用することなくとも、±２０％程度の誤差以内であれば、時間短縮の効果は大きい。
【０１４３】
ここで、対象基板３５のヘッドガントリーユニット移動方向の幅をＤ、ユニット列の走査幅をｄ、ユニット列数をｎとしたとき、
０．８ｄ≦Ｄ／ｎ≦１．２ｄ、
の範囲にあると、基板の処理時間を短縮することができる。
【０１４４】
修復が終えられた処理基板は図示しない搬送ロボットにより取り出される。カラーフィルター基板の場合は、基板は焼成炉に入れられて液滴材料は固化、完成する。実施形態２では２個のユニット列、及び、３個のユニット列を有する欠陥修復装置について説明したことから、ｎ個のユニット列を有する場合、基板導入方向の基板サイズＤに対して、基板をｎ分割し、ユニット列を分割したそれぞれの領域の中間線を中心に、基板のＤ／２ｎの振幅で往復走査することが良いことがわかる。また、ｄをＤ／ｎと略一致させることで、装置サイズの最小化を図ることが可能となるが、±１０％程度の差異であれば、装置サイズが大幅に増加することは無く装置の占有面積を小さくすることができる。また、ｄとＤ／ｎは一致することが望ましいが、±２０％までの差異であれば、基板一枚当たりに要する処理時間が大幅に増加することはなく、タクトタイムの短縮を実現することができる。
【０１４５】
図２３（ａ）（ｂ）は、は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図である。ガントリー９の一方の側面には、液滴吐出ユニット１１を搭載した吐出ユニットスライド機構１０が設けられており、ガントリー９の他方の側面にも、液滴吐出ユニット１１を搭載した吐出ユニットスライド機構１０が設けられている。ガントリー９の一方の側面は、基板載置台３に垂直であり、ガントリー９の他方の側面は、基板載置台３に対して傾斜している。
【０１４６】
ガントリー９の一方の側面の液滴吐出ユニット１１のスライド方向は、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図１のＹ方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜しており、ガントリー９の他方の側面の液滴吐出ユニット１１のスライド方向も、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図１のＹ方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜している。このように基板搬送方向に対して液滴吐出ユニットのスライド方向が垂直でなくとも、本発明は適用可能である。また、複数のスライド機構において、搬送方向に対するそれぞれのスライド方向が異なっていても、その移動軌跡を予め把握し、スライド位置座標に基づいて液滴吐出ユニットの吐出タイミングを補正することができる。
【０１４７】
前述した実施の形態１及び２では、ＣＦパネルに生じた欠陥画素の例を説明したが、本発明はこれに限定されない。マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部を有するエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造に対しても本発明を適用することができる。また、プラズマ表示装置の背面基板の製造に対しても本発明を適用することができ、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造、および配線の製造に対しても本発明を適用することができる。
【０１４８】
また、本実施例では、ガントリーが基板上を、基板の一端から他の一端まで、繰り返し往復走査する構成を示したが、必ずしも全往復動作において基板の全領域を走査する必要は無い。
【０１４９】
特に、基板搬送方向と異なる方向に個別に移動可能である液滴吐出ユニットが、基板に対して略等速に搬送方向に相対移動する過程で、基板上に点在する複数の修復箇所を順次巡回して修復する場合には、相対移動の移動方向を繰り返し反転動作して、複数回基板上を走査することが可能である。
【０１５０】
基板上を走査するにつれて、修復すべき箇所が減少していき、複数の走査の最終段階では、基板の全域を走査する必要がなく、基板の一部領域上を走査するだけでよい。
【０１５１】
よって、予め基板上の修復すべき箇所がわかっている場合には、液滴吐出ユニットのそれぞれが、順次巡回する修復箇所が予め想定できるために、基板上の全ての領域上を走査する必要が無く、それぞれの走査毎に必要な部分のみを走査させることが可能となり、修復に要するタクトを低減することが可能となる。
なお、本発明では、搬送方向の略等速の移動は、緩やかな加速、減速状態も含まれる。
【０１５２】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【０１５３】
なお、上記実施形態の欠陥修復装置の各部や各処理ステップは、ＣＰＵなどの演算手段が、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭなどの記憶手段に記憶されたプログラムを実行し、インターフェース回路などの通信手段を制御することにより実現することができる。したがって、これらの手段を有するコンピュータが、上記プログラムを記録した記録媒体を読み取り、当該プログラムを実行するだけで、本実施形態の欠陥修復装置の各種機能および各種処理を実現することができる。また、上記プログラムをリムーバブルな記録媒体に記録することにより、任意のコンピュータ上で上記の各種機能および各種処理を実現することができる。
【０１５４】
この記録媒体としては、マイクロコンピュータで処理を行うために図示しないメモリ、例えばＲＯＭのようなものがプログラムメディアであっても良いし、また、図示していないが外部記憶装置としてプログラム読取り装置が設けられ、そこに記録媒体を挿入することにより読取り可能なプログラムメディアであっても良い。
【０１５５】
また、何れの場合でも、格納されているプログラムは、マイクロプロセッサがアクセスして実行される構成であることが好ましい。さらに、プログラムを読み出し、読み出されたプログラムは、マイクロコンピュータのプログラム記憶エリアにダウンロードされて、そのプログラムが実行される方式であることが好ましい。なお、このダウンロード用のプログラムは予め本体装置に格納されているものとする。
【０１５６】
また、上記プログラムメディアとしては、本体と分離可能に構成される記録媒体であり、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フレキシブルディスクやハードディスク等の磁気ディスクやＣＤ／ＭＯ／ＭＤ／ＤＶＤ等のディスクのディスク系、ＩＣカード（メモリカードを含む）等のカード系、あるいはマスクＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ（Ｅｒａｓａｂｌｅ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＥＥＰＲＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｅｒａｓａｂｌｅ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、フラッシュＲＯＭ等による半導体メモリを含めた固定的にプログラムを担持する記録媒体等がある。
【０１５７】
また、インターネットを含む通信ネットワークを接続可能なシステム構成であれば、通信ネットワークからプログラムをダウンロードするように流動的にプログラムを担持する記録媒体であることが好ましい。
【０１５８】
さらに、このように通信ネットワークからプログラムをダウンロードする場合には、そのダウンロード用のプログラムは予め本体装置に格納しておくか、あるいは別な記録媒体からインストールされるものであることが好ましい。
【産業上の利用可能性】
【０１５９】
本発明は、基板上に点在する欠陥の位置データに基づいて、欠陥を修復する欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】実施の形態１に係る欠陥修復装置の外観を示す斜視図である。
【図２】上記欠陥修復装置の模式的断面図である。
【図３】上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニット及び基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。
【図４】（ａ）は、上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの構成を説明するための要部平面図であり、（ｂ）は、要部正面図である。
【図５】上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部側面図である。
【図６】上記ヘッドガントリーユニットに設けられた吐出ユニットスライド機構の構成を説明するための要部正面図である。
【図７】（ａ）は、上記液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部下面図であり、（ｂ）は、上記液滴吐出ユニットの他の構成を説明するための要部下面図である。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、上記ヘッドガントリーユニット及び上記基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。
【図９】（ａ）は、上記欠陥修復装置に設けられたメンテナンス機構の不吐出検出器の構成を説明するための正面図であり、（ｂ）は、その下面図である。
【図１０】（ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置のアライメント動作を説明するための平面図である。
【図１１】（ａ）（ｂ）は、上記ヘッドガントリーユニットに設けられたアライメントカメラの構成を説明するための要部平面図である。
【図１２】（ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置のアライメント動作を説明するための要部平面図である。
【図１３】（ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置のアライメント動作を説明するための要部拡大平面図である。
【図１４】上記欠陥修復装置のアライメント動作を示すフローチャートである。
【図１５】（ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置に設けられた観察カメラユニットによる液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。
【図１６】（ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの往復動作を説明するための平面図である。
【図１７】（ａ）（ｂ）は、上記ヘッドガントリーユニットの対象基板に対する動作を説明するための平面図である。
【図１８】（ａ）〜（ｄ）は、上記液滴吐出ユニットの欠損部に対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。
【図１９】（ａ）〜（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。
【図２０】（ａ）〜（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。
【図２１】（ａ）は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、（ｂ）は、その動作を説明するための平面図である。
【図２２】実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。
【図２３】（ａ）（ｂ）は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１６１】
１    欠陥修復装置
２    基体
２ａ  メインステージ
２ｂ、２ｃ  サブステージ
３    基板載置台（固定手段）
４    ガントリースライド機構（移動手段）
５ａ、５ｂ、５ｃ  ガントリーガイド
６    リニアスケール
７    ヘッドガントリーユニット（ガントリー）
８    浮上スライド機構
９    ガントリー
１０  吐出ユニットスライド機構（スライド機構）
１１、１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ  液滴吐出ユニット
１１ａ〜１１ｉ  液滴吐出ユニット
１２  アライメントカメラ
１３  カメラスライド機構
１４  観察カメラユニット
１５  メンテナンス機構
１６  筐体
１７  吐出素子
１８  駆動制御回路
１９  ケーブル
２０  インクタンク
２１  インク配管
２２  ノズルプレート
２３  ノズル孔
２４  リニア駆動機構
２５  ＬＭガイド
２６  ガントリーリニアスケール
２７  リニア駆動機構
２８  カメラスライド機構
２９  ＬＭガイド
３０  カメラ用リニアスケール
３１  キャップ部材
３２  不吐出検出器
３３  レーザ発光素子
３４  レーザ受光素子
３５  対象基板
３６  アライメントマーク
３７ａ  外側円環部
３７ｂ  内側円部
３８  ダミー基板
３９  液滴着弾位置
４０  欠損部（欠陥）
４１  領域（修復領域）
【図１】
0004598036.tif 000002
【図２】
0004598036.tif 000003
【図３】
0004598036.tif 000004
【図４】
0004598036.tif 000005
【図５】
0004598036.tif 000006
【図６】
0004598036.tif 000007
【図７】
0004598036.tif 000008
【図８】
0004598036.tif 000009
【図９】
0004598036.tif 000010
【図１０】
0004598036.tif 000011
【図１１】
0004598036.tif 000012
【図１２】
0004598036.tif 000013
【図１３】
0004598036.tif 000014
【図１４】
0004598036.tif 000015
【図１５】
0004598036.tif 000016
【図１６】
0004598036.tif 000017
【図１７】
0004598036.tif 000018
【図１８】
0004598036.tif 000019
【図１９】
0004598036.tif 000020
【図２０】
0004598036.tif 000021
【図２１】
0004598036.tif 000022
【図２２】
0004598036.tif 000023
【図２３】
0004598036.tif 000024