(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法において、
（ａ）基準面を定める金属製の鋳型インサートに凹状のマーク形状を形成する工程であって、前記凹状のマーク形状は、深さが最小でも１０ミクロン以上であり、かつ、非接触走査白色光干渉計を用いて確認され、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］の比で表される体積指標が最低でも０．９以上である、工程と、
（ｂ）前記金属製の鋳型インサートを用いて熱可塑性の鋳型フレームを射出成形する工程と、
（ｃ）前記熱可塑性の鋳型フレーム中でソフトヒドロゲルコンタクトレンズを鋳造する工程と、
を備え、
前記金属製の鋳型インサートにおける前記凹状のマーク形状は、射出成型された前記熱可塑性の鋳型フレームに、前記鋳型インサートの前記凹状マークの形状に形状および寸法が合致する凸部として転写され、続いて、前記鋳型インサートを用いて準備された前記熱可塑性の鋳型フレーム中で鋳造されるコンタクトレンズにおける視認可能な凹状のマークとして転写され、
前記鋳型インサートの前記凹状のマーク形状の深さは、前記鋳型フレームの前記凸部の高さに合致することができる範囲にあり、
前記凹状のマーク形状は、非接触走査白色光干渉計を用いて、かつ、Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、ＰＶを前記マーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上であり、
前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫刻法により行う、方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、ＰＶを前記マーク中の最高点と最低点との間隔として、ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上である、方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の方法において、
Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、Ｈを前記マークの縦断面における２本の基準線間の距離として、Ｒａ／Ｈとして計測される前記鋳型インサートの表面粗さの比が１．５以上である、方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の方法において、
ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈを前記マークの縦断面における２本の基準線間の距離として、ＲＭＳ／Ｈとして計測される前記鋳型インサートの表面粗さの比が１．５以上である、方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項記載の方法において、
前記凹状のマーク形状は、深さが１６ミクロン以下である、方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、マークの付けられたコンタクトレンズを製造するための鋳型インサートのマーキングに関するものであり、より詳細には、コンタクトレンズ用の鋳型インサートの放電彫刻に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
コンタクトレンズには、以下に示す種々の用途または機能のために視認可能なマークが付けられる。まず、視認可能なマークは、コンタクトレンズの反転指示用に用いることができ、視認可能なマークは、特定のデザインとしてレンズ上につけられ、レンズが適切な形状となっているか裏返しとなっているかをユーザーが判断することを可能とする。また他の視認可能なマークを、製造会社を示すための商標として付けることができる。視認可能なマークはまた、挿入時の眼に対する特定の方向性を必要とする種類のコンタクトレンズにおいても必要とされる。
【０００３】
それから、視認可能なマークには、最初の製品包装や保存容器中に用いられる生理食塩水の保存液などの、溶液中にあるレンズをより容易に視認し探し出すことを可能にすることが望まれている。
【０００４】
従来技術は、コンタクトレンズに対して視認可能なマークを付ける際の問題点を解決するための技術的アプローチを多数開示している。レーザによるエッチングやバーニングによる方法がＥＰ２９１４５９号公報やＪＰ６１２２３８２０号公報において教示されており、また、ダイヤモンド点状彫刻法がＤＥ３３１６７３０号公報に開示されている。
【０００５】
また、紫外線のエネルギーに対する感光材料を用いるなどの印刷技術による方法が、ＧＢ２００６１４号公報、ＤＥ３２１９８９０号公報、ＪＰ６１２１１３８２号公報等に示されている。そして、他の着色技術や染色技術がＪＰ６２１８６２２１号公報、ＪＰ６２１８６２２２号公報、ＪＰ６２２５０２８６号公報等に開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
これらの従来技術のアプローチは、どれも、時間がかかり、制御が難しく、典型的には、コンタクトレンズの製造のコストを増大させるものであった。
【０００７】
これらの従来技術の欠点を考慮すれば、効率的で、制御容易で、大量生産施設において繰り返し容易で、レンズ製品の製造コストを特に増加させることなく、コンタクトレンズの最終製品に充分に視認可能なマークを付けることができるようなソフトコンタクトレンズへのマーキング方法を開発することは有益であろう。
【０００８】
従って、この発明の第１の目的は、マークの付けられたコンタクトレンズの製造に用いられる鋳型インサートのマーキング方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
ここに示される各教示に従ってこの発明は成型されるコンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法を提供する。その方法は、その後コンタクトレンズの最終生産物の成型に用いられる射出成型フレーム（injection molded frames ）の製造において用いられる金属のインサートに、凹状のマーク形状を付ける工程を有する。
【００１０】
凹状のマーク形状は、深さが少なくとも約１０ミクロンあり、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］で表される体積指標（ＶＩ）が少なくとも約０．９ある。
【００１１】
金属製インサートの凹状のマーク形状は、続いて、射出成型フレームにおける凸部として転写される。そして、その後、インサートを用いて準備されたフレーム中で成型されるコンタクトレンズにおける視認可能な凹状のマークとして転写される。
【００１２】
より詳細にいえば、この発明は、金属製の鋳型インサートに、深さが少なくとも約１０ミクロンあり、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］で表される体積指標が少なくとも約０．９ある凹状のマーク形状を付け、金属製の鋳型インサートを用いて熱可塑性の鋳型フレームを射出成型し、熱可塑性の鋳型フレーム中でヒドロゲル製のソフトコンタクトレンズを成型する工程を備えた、成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法に関するものであり、ここで、金属製インサートの凹状のマーク形状は、射出成型熱可塑性フレームにおける凸部として転写され、その後、インサートを用いて準備された熱可塑性の鋳型フレーム中で成型されるコンタクトレンズにおける視認可能な凹状のマークとして転写されるものである。
【００１３】
更に詳しくは、凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、ＰＶを頂部から谷部までの測定値として、表面粗さの比（Ｒａ／ＰＶ）は約０．１５以上であり、また、ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均として、表面粗さの比（ＲＭＳ／ＰＶ）は約０．１５以上である。この発明の方法は、特に、安定化ソフト成型（stabilizad soft molded（ＳＳＭ））されるヒドロゲルコンタクトレンズに適用可能である。
【００１４】
更に、Ｈをマークの縦断面における２本の基準線間の距離として、表面粗さの比（Ｒａ／Ｈ）または（ＲＭＳ／Ｈ）は少なくとも１．５程度である。
【００１５】
インサートに対して凹状のマーク形状を付けるのに好ましい方法としては、放電彫刻法（Electric Discharge Machining（ＥＤＭ））がある。また、上記のいくつかのパラメータ：ＲＭＳ，Ｒａ，ＰＶ，およびＶＩの大きさは、非接触の白色光干渉計の走査により確認することができる。
【００１６】
従来技術とは対照的に、この発明の方法は、効率的で、制御容易で、繰り返し容易で、レンズ製品の製造コストを特に増加させることなく、コンタクトレンズの最終製品に充分に視認可能なマークを付けることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
この発明において用いられている全体の成型工程は、従来技術において周知のものであり、金属製のインサート鋳型を用いる。インサート鋳型は、多数の熱可塑性射出成型フレームの製造に用いられ、熱可塑性射出成型フレームは、後に一個のコンタクトレンズを成型するために一度だけ用いられる。この工程においては、熱可塑性フレームは、金属製のインサート鋳型中で射出成型され、成型キャビティーを形成する工程において接続される２個の半形成体が造られる。射出成型フレームを用いて形成された成型キャビティーには、次に単量体が充填され、これがレンズ形成のために重合され、鋳型から取り外され、ソフトヒドロゲルレンズの最終製品とするために更に加工される。
【００１８】
フレームは、射出成型により成型可能であり、要求される光学的特性を持つ最終成型レンズを与えるものであれば、どのような熱可塑性の物質から造られてもよく、フレームとして好ましい材質はポリスチレンやポリプロピレンである。フレームの射出成型のためには、従来技術において周知のように、要求される形状の金属製の工具インサートが加工され、射出成型機械に取り付けられる。射出成型されたフレームは金属製の鋳型インサートの厳密な反転複製品となる。
【００１９】
この発明においては、凹状の視認可能マーク形状が金属製インサートの表面に加工される。続く射出成型工程において、熱可塑性重合体材料は金属インサートの形状と寸法に整合する。従って、射出成型されたフレームはその表面に、金属製の鋳型インサートにある凹状の形状に厳密に合致する凸部を有することとなる。
【００２０】
続くコンタクトレンズの成型の操作において、成型キャビティー中に導入された反応性のポリマーは正確に鋳型の表面に形状が合い、これにより重合化終了後にはレンズは、鋳型の凸状の部分に正確に一致する凹状の形状を有することとなり、金属製の鋳型インサートに設けられた凹状の部分を正確に複製することとなる。
【００２１】
金属製の鋳型インサートの凹状の形状は、全てを以下に説明する要求深さ、表面粗さ、および体積指標が達成するものであれば、レーザーエッチング、化学エッチング、彫刻法、放電彫刻法等の従来技術において周知のどのような加工方法によっても形成することができる。適切なパラメータを有する凹状の形状を与えるために好ましい方法は、放電彫刻法（ＥＤＭ）によるものである。
【００２２】
放電彫刻法（ＥＤＭ）は従来技術においてよく知られており、Poco Graphite,1601 S.State,Decatur,Texas 76234による本「A PRACTICAL GUIDE TO ELECTRODE MATERIAL SELECTION 」の特に８〜１６頁に記載されている。この発明の一つのデザインされた実施態様においては、Wood Dale,Illinois 60191のMitsubishi International Corp.製のＭ２５Ｊ  ＥＤＭユニットを使用した。
【００２３】
マークのバーニングにおいては、電極は下向きにと同様に側壁に対しても発火する。これにより、マークの側面と底面の両方に粗さが形成される。使用される移動速度、電極サイズ、および通過回数は、最終的に形成される表面粗さに影響する。この粗さは、以下に記すように、マークに視認性を与えるために要求されるものである。
【００２４】
付けられたマークのパラメータの確認および決定は、共にMiddle Field,ConnecticutのZYGO Corp.製の、ＮｅｗＶｉｅｗ１００干渉計とＭｅｔｒｏｐｒｏソフトウェアを使用して行うことができる。ＮｅｗＶｉｅｗ１００は表面形状の決定のための高分解能ｘ，ｙ，ｚ軸像の形成に、非接触走査白色光干渉計を用いる。
【００２５】
ＮｅｗＶｉｅｗ１００は自身の光源からの光を分配し、一方の光線を精密な内部表面に送り、もう一方の光線をサンプル表面に送る。反射された各光線は干渉計中で再結合する。結果として生じる光路差により、各光線に強め合いまたは打ち消し合う干渉が生じ、ビデオモニター上で視認可能な明暗縞パターンが生じる。
【００２６】
適切なＥＤＭ処理（バーニング）条件を選択することは、マークの視認性および性能に対して決定的に重要である。ある特有のバーニング条件は、いくつかの変数値からなっている。許容しうるバーニングを行うことが可能なこれらの変数の値とその適切な組合せは、予め製造者により決定され、提供されるソフトウェア中にプログラムされている。
【００２７】
これらの変数の組合せは「Ｅ」パッケージ（Ｅ−ｐａｃｋｓ）として知られているもので、文字「Ｅ」と４桁の数により示される。図１には、使用されるバーニング条件のいくつかの値の例を、Ｅ−ｐａｃｋ表示とともに示しており、左側の枠には、製造者から入手可能なユーザーズマニュアルに詳細に定義されている各変数がリストされている。
【００２８】
左側の枠にリストされている各変数には、以下に示すような簡単な説明がある。
ＥＰ−ＳＥＬではパワーサプライの種類を選択する。
ＴＰ：標準的なトランジスタパワーサプライ
ＳＦ：精密仕上げ回路
ＳＣ：傾斜制御回路
ＧＭ：光沢鏡面用精密仕上げ回路
【００２９】
ＰＯＬは極性の選択である。選択枝は正（＋）か負（−）であり、正極性はスパークが電極から加工部分へ飛ぶことを意味し、負極性はスパークが加工部分から電極へ飛ぶことを意味する。
【００３０】
ＡＵＸは外部設定の選択である。外部設定は、ＳＦ，ＳＣ回路へのパワー設定を０から９に設定するのに用いられる。
ＩＰはピーク電流の設定である。実際のピーク電流アンペアを０から１０に設定する。
ＤＥＬ  Ｉｐではピーク電流アンペアの微調整値を０から１０に設定する。
【００３１】
ＧＡＰ（Ｆ）はギャップ電圧である。ギャップの設定には２つの目的がある。第１にサーボ応答の型をＥＰにするかＭＶにするかの選択であり、第２にギャップ電圧の選択である（ギャップが開いており彫刻が行われている間は電圧のポテンシャルが存在する。）。ＥＰなら０〜５にＭＶなら１０〜１５に設定する。
ＯＮはＯｎ時間の選択である。放電パルスのＯｎ時間を選択する。１から１２に設定する。
ＤＥＬ  ＯＮはＯｎ時間の微調整である。０から９に設定する。
【００３２】
ＯＦＦはｏｆｆ時間の選択である。放電パルスのｏｆｆ時間を１から１２に設定する。
ＤＥＬ  ＯＦＦはｏｆｆ時間の微調整である。０から９に設定する。
ＪＵＭＰＵは実際の加工部分と電極との距離を選択するジャンプアップである。０から９に設定する。
【００３３】
ＪＵＭＰＤは実際のジャンプダウン時間を選択するジャンプダウンである。１から９に設定する。
ＰＣＯＮは並列コンデンサである。ＰＣＯＮ設定では、放電回路に付加することができる並列コンデンサ（キャパシター）の数を選択する。０から５に設定する。
ＪＵＭＰはジャンプのオン／オフ選択である。選択範囲は、０から９であり、０はオフ、１から９がオンである。
【００３４】
ＧＡＩＮはゲインの選択である。ユニットのサーボゲインを１（最小）から９９（最大）に設定する。
ＯＰＡＪはオプティマイザーの感度の選択である。オプティマイザーの感度の範囲は０（感度最高）から１０（感度最低）までである。
【００３５】
Ｅ−ｐａｃｋの各変数は、炎の質を変化させるために各々独立に変化させることができる。マークの性能（視認可能性）に最大に影響する主な変数の２つは、電流値のＩｐとＤＥＬ  Ｉｐである。理論的には、電流値を大きくするにつれ、炎はより強く、より深く入るようになり、より深く明確なマークを付けることができることとなり、レンズにおける視認可能性増大と識別可能性増進へと転換される。
【００３６】
マークの視認可能性に影響を与える他の独立変数としては、電極の直径がある。適切な電極の直径は、０．００５インチから０．０１０インチの間である。いくつかの試験において、直径の大きい電極の先端部の三角形の大きさを「Ａ」字型に小さくしたものにおいては、読みにくい文字となることが判明している。電極直径はレンズに付けられたマークの形状に基づいて最適に決定される。
【００３７】
各文字はＥＤＭマシンにより加工部分に書き加えられる。キャラクターの始点から終点までに描かれるパターンとその距離は一筆書きで考えられる。キャラクター上の通過回数が多くなるほど、炎は深くなり、これによりキャラクターはより見えやすくなることが理論化されている。
【００３８】
図２には、特定のキャラクターに対して試行された通過回数の例を、総経過時間、Ｅ−ｐａｃｋ表示、およびプログラムされた文字高さとともに示している。通過回数の制限は、生産効率、製造の際の考慮事項、およびマークの配置を考慮したレンズ形状に依存する。また、連続するフレームの鋳造の処理において、深いマークの方がインサート表面の磨滅寿命が長いことに着目する必要がある。
【００３９】
金属製のインサートは図１と図２で規定される炎の条件でマーキングされた。各レンズは、図１中に指定され、Ａ，Ｂ，およびＣとラベル付けされた炎の条件でマーキングされた金属製のインサートにより製造された熱可塑性のフレームを用いて鋳造された。
【００４０】
図２に示されているように、レンズＡはＥ−ｐａｃｋ  Ｅ９５２１の条件と指示された通過回数によりマーキングされた金属製のインサートから製造された鋳型フレームより鋳造された。レンズＢはＥ−ｐａｃｋ  Ｅ９５２０の条件と指示された通過回数によりマーキングされた金属製のインサートから製造された鋳型フレームより鋳造された。レンズＣはＥ−ｐａｃｋ  Ｅ９５０７の条件と指示された通過回数によりマーキングされた金属製のインサートから製造された鋳型フレームより鋳造された。
【００４１】
それから、マーク評価班が、各マークを１から５までの等級で評価した。ここで、１はかろうじて視認可能なもの、５は極めて良好に視認可能なものを示す。炎の条件Ｂ，条件＃４と炎の条件Ｃ，条件＃１を用いたマークが最上位に評価されており、バーニングの電流の増加がマークの品質に大きく影響することを示している。なお、表面の特徴に関する部分において報告する視認可能性の等級の２．８，４．１，および４．４は、図２の☆を付けた炎の条件と直接対応するものである。
【００４２】
以下に、マークが有効に視認可能となるためのキーポイントとなる各特徴を示す。
［マーク深さ］
視認可能であるためには、マークは１０ミクロン以上深くなければならない。図３は（マークの深さ）対（視認性の等級）のグラフであり、マークが有効に視認されるためには１０ミクロン以上深くなければならないことを図式的に示している。図３のマークの深さのグラフに示されているように、０ミクロンから５ミクロンまでの範囲内のマークは、従属する等級軸において良好に視認可能とは評価されていない。なお、最大深さは、製造条件とレンズ形状により決定される。
【００４３】
［体積指標］
体積指標は、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］の比により定義されるものである。図４は、（体積指標）対（視認性の等級）を示すグラフであり、体積指標が１に近づくにつれてマークの有効視認性が増加し、マークが有効に視認されるためには体積指標が０．９以上でなければならないことを図式的に示している。
【００４４】
［表面粗さ］
表面粗さは、ＲＭＳ，Ｒａ，ＰＶ，およびＨにより表すことができ、これらは以下に示すようにいくらか関連を持っている。ＰＶは、サンプルまたはマークにおける最高点と最低点の間隔として定義される。Ｈは、縦断面内の２本の基準線の間隔である。上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置する。正味の結果では、Ｈの方がＰＶと比較してデータの突出部に対する敏感さが少ない。表面粗さの計測値（ＲＭＳとＲａ）／ＰＶの比をプロットすると、マークが有効に視認可能であるためには、比が０．１５以上でなければならないことが判る。このことは図５の表面粗さのグラフに示されている。
【００４５】
同様に、表面粗さの計測値（ＲＭＳとＲａ）／スウェーデン高さ（Ｓｗｅｄｉｓｈ  Ｈｅｉｇｈｔ）（Ｈ）の比を視認性等級に対してプロットすると、マークが有効に視認可能であるためには、比が１．５以上でなければならないことが判る。このことは図６の表面粗さのグラフに示されている。なお、これらの値の最大値は、金属製のインサート鋳型へのマーク付けの処理方法により決まる。
【００４６】
図７は、装置のｚ−軸における基準データ領域に対するテストデータ領域の平均高さとして定義される［平均高さ］（ＡｖｇＨｇｔ）を図式的に示している。これは、テストマスクにより定義される領域を基準マスクにより定義される領域と比較して、それらの間の垂直方向の偏差を決定するものである。高さは、装置のｚ−軸方向に関するものであり、Ａｖｇ  Ｈｔとしても知られている。なお、分析工程においてもしマスクが用いられなければ、ＡｖｇＨｇｔはデータ集合の算術的平均と等しくなる。
【００４７】
図８は、縦断面内の２本の基準線の間隔として定義される［スウェーデン高さ（Ｈ）］を図式的に示している。上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置する。正味の結果では、スウェーデン高さはＰＶと比較してデータの突出部に対する敏感さが少ない。
【００４８】
図９は、サンプルのテスト領域中の最高点と最低点の間隔として定義される頂部−谷部間隔（ＰＶ）を図式的に示している。Ｒｔ、Ｒｙ、またはＲｍａｘとしても知られているものである。粗さを数量化するために用いられた場合、ＰＶは最大の粗さ高さとなる。また、ＰＶはデータ集合中の点−点誤差が最も出やすいものである。ＰＶは表面における最も極端な２点を比較する。そのため、２個の全く異なる表面においてＰＶが同じとなる可能性もある。ＰＶ（Ａｌｌ）はテスト領域および基準領域の両方における最高点と最低点との間隔である。
【００４９】
図１０は中心線またはベストフィットされた表面からの偏差の算術平均として定義される［Ｒａ］を図式的に示している。
Ｒａ＝（ｙ1 ＋ｙ2 ＋ｙ3 ・・・＋ｙN ）／Ｎ
ここで、分子の各ｙは各データ点の絶対値であり、Ｎはデータ点の数である。
【００５０】
図１１は中心線またはベストフィットされた表面からの偏差の２乗平均である［２乗平均（ＲＭＳ）］を図式的に示しており、偏差の各値を２乗したものの平均値をとり、その平均値の平方根をとったものである。Ｒｑ、ｒｍｓとしても知られているものであり、面積で重み付けされた統計量であり、ＰＶより多数のデータを計算に用いるため、計測される表面の光学的性能をＰＶよりもより正確に描き出すものである。
ＲＭＳ＝［（ｙ12＋ｙ22＋ｙ32・・・＋ｙN2）／Ｎ］1/2
ここで、各ｙは各データ点の絶対値であり、Ｎはサンプル中のデータ点の数である。
【００５１】
図１２はテストマスクにより決定された３次元テスト領域中のデータにより占められた空間の量として定義される［体積］を図式的に示している。体積は、各データ点の高さに画素の面積を掛けることにより計算される。
【００５２】
下部体積（Ｖｏｌ  Ｄｎ）は、基準領域より下にあるテスト領域の体積として定義される。正のＶｏｌ  Ｄｎはテスト領域上の窪みにより占められた空間として考えることができ、負のＶｏｌ  Ｄｎの結果は基準領域上への突出を示す。
【００５３】
上部体積（Ｖｏｌ  Ｕｐ）は、基準領域より上にあるテスト領域の体積として定義される。正のＶｏｌ  Ｕｐはテスト領域上の隆起部により占められた空間として考えることができ、負のＶｏｌ  Ｄｎの結果は基準領域下への広がりを示す。
【００５４】
正味体積（Ｖｏｌ  Ｎｅｔ）はテスト領域の全体積として定義される。またこれは、Ｖｏｌ  ＵｐからＶｏｌ  Ｄｎを差し引いたものと等しい量である。
【００５５】
本発明の好適な実施態様として、以下のものがある。
（Ａ）  ａ：凹状のマーク形状において、深さが最小でも１０ミクロン以上、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］の比で表される体積指標が最低でも０．９以上となるように、金属製の鋳型インサートに凹状のマーク形状を形成する工程と、
ｂ：前記金属製の鋳型インサートを用いて熱可塑性の鋳型フレームを射出成形する工程と、
ｃ：熱可塑性の鋳型フレーム中でソフトヒドロゲルコンタクトレンズを鋳造する工程とを備え、金属製の鋳型インサートにおける凹状のマーク形状は、射出成型熱可塑性鋳型フレームにおける凸部として転写され、続いて、インサートを用いて準備された熱可塑性鋳型フレーム中で鋳造されるコンタクトレンズにおける視認可能な凹状のマークとして転写されることを特徴とする、成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（１）凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上であることを特徴とする実施態様Ａ記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（２）凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上であることを特徴とする実施態様Ａ記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（３）鋳造工程において、安定化ソフト成型ヒドロゲルコンタクトレンズを製造することを特徴とする実施態様Ａ記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（４）前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫刻法により行うことを特徴とする実施態様Ａ記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（５）Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、Ｈをマークの縦断面における２本の基準線間の距離として、インサートにおけるＲａ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以上であることを特徴とする実施態様Ａ記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
【００５６】
（６）ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈをマークの縦断面における２本の基準線間の距離として、インサートにおけるＲＭＳ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以上であることを特徴とする実施態様Ａ記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（７）前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫刻法により行うことを特徴とする上記実施態様３記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（８）凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上であることを特徴とする上記実施態様７記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（９）凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上であることを特徴とする上記実施態様８記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（１０）Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、Ｈをマークの縦断面における２本の基準線間の距離として、インサートにおけるＲａ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以上であることを特徴とする上記実施態様９記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
（１１）ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈをマークの縦断面における２本の基準線間の距離として、インサートにおけるＲＭＳ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以上であることを特徴とする上記実施態様１０記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
【００５７】
なお、マークの付けられたコンタクトレンズを製造するための鋳型インサートの作成のためのいくつかの実施態様とこの発明の変形例をここに詳細に記載したが、この発明の開示と教示がこの分野における当業者に多数の代替設計を示唆することは明らかである。
【００５８】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、効率的に、高い制御性により、繰り返し容易に、製造コストを特に増加させる必要なく、レンズの最終製品に充分に視認可能なマークを付けることが可能となる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】最適なマーク形状の決定に使用された各ＥＤＭ炎条件を示す図である。
【図２】図１のレンズＡからレンズＣまでに対するバーニングの経過時間と通過回数の例を示す図である。
【図３】（マークの深さ）対（視認性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有効に視認されるためには１０ミクロン以上深くなければならないことを図式的に示している。
【図４】（体積指標）対（視認性の等級）を示すグラフ図であり、体積指標が１に近づくにつれてマークの有効視認性が増加し、マークが有効に視認されるためには体積指標が０．９以上でなければならないことを図式的に示している。
【図５】（表面粗さの測定値（ＲＭＳおよびＲａ）を頂部から谷部までの測定値（ＰＶ）で割った値）対（視認性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有効に視認されるためにはこの値が０．１５以上でなければならないことを図式的に示している。
【図６】（表面粗さの測定値（ＲＭＳおよびＲａ）をマークの縦断面内の２本の基準線間の距離Ｈで割った値）対（視認性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有効に視認されるためにはこの値が１．５以上でなければならないことを図式的に示している。
【図７】マークの縦断面における基準データ領域と比較したテストデータ領域の平均高さとして定義される［平均高さ］（ＡｖｇＨｇｔ）（テストマスクにより定義される領域を基準マスクにより定義される領域または基準データ領域と比較する）を示す図であり、それらの垂直方向の偏差を計測する。
【図８】縦断面内の２本の基準線の間隔として定義される［スウェーデン高さ（Ｈ）］を示す図である。ここで、上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置するものである。
【図９】マーク中のサンプルテスト領域中の最高点と最低点の間隔である頂部−谷部間隔（ＰＶ）（または最大粗さ高さ）を示す図であり、粗さの数量化に用いられる。
【図１０】ベストフィットされた曲線または表面の中心線からの偏差の算術平均として定義される［Ｒａ］を示す図である。
【図１１】ベストフィットされた曲線または表面の中心線からの偏差の２乗平均である［２乗平均（ＲＭＳ）］を示す図であり、各値を２乗したものの平均値をとり、その平均値の平方根をとる方法を表現している。
【図１２】テストマスクにより決定された３次元テスト領域中のデータにより占められた空間の量として定義される［体積］を示す図であり、ここで体積は、各データ点または画素の高さに各画素の面積を掛けることにより計算される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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