(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）脂肪族二塩基酸がアジピン酸、グルタル酸、コハク酸、マロン酸またはシュウ酸で、アルキル基がメチル基またはエチル基である脂肪族二塩基酸ジアルキルエステル化合物、もしくはこれらの混合物からなる成分Ａを３０〜７０重量％と、（Ｂ）炭素数８〜１０のアルキルベンゼン、もしくはこれらの混合物からなる成分Ｂを７０〜３０重量％含有する光学部品用洗浄液組成物。
【請求項２】
洗浄対象物が、シアノアクリレート系接着剤、およびワックスまたはピッチにより汚染されている請求項１に記載の光学部品用洗浄液組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光学部品に付着したワックス、ピッチ、接着剤などを洗浄するために用いられる洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レンズなどの光学部品の製造においては、研磨のためにワックスやピッチが、また、仮止めのためなどにワックス、ピッチや接着剤が用いられている。そのため、光学部品表面に付着したワックス、ピッチ、接着剤を除去するために、洗浄工程が必要となる。従来、このような洗浄には、トリフロロトリクロロエタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系溶剤が洗浄剤として使用されてきた。しかし、トリフロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メチレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・水質汚染を引き起こすため、その法規制が厳しい。
【０００３】
また、界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄剤、リン酸塩類等の水溶液系洗浄剤の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要するため経済性の面から好ましくない。炭化水素系洗浄剤も検討されているが、ワックス、ピッチに対しての洗浄力はあるものの、それ以外の汚れ、例えば接着剤に対する洗浄力が十分でない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題を解決するもので、ワックス、ピッチ、接着剤などが付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、 (Ａ)脂肪族二塩基酸ジアルキルエステルからなる成分Ａを３０〜７０重量％と、（Ｂ）ポリアルキレングリコールジアルキルエーテル、アルキレングリコールエーテルエステル、炭素数５〜２０の炭化水素、もしくはこれらの混合物からなる成分Ｂを７０〜３０重量％含有する洗浄液組成物が光学部品の洗浄に適していることを見出した。
【０００６】
【発明の実施の形態】
[成分Ａ]  脂肪族二塩基酸ジアルキルエステルとしては、炭素数２〜６の脂肪族二塩基酸と炭素数１〜４のアルコールとのエステルを用いることができる。入手の容易さ、引火点の高さから、炭素数３〜６の脂肪族二塩基酸と炭素数１〜２のアルコールとのエステル、特には、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチルおよびこれらの混合物からなることが好ましい。洗浄液組成物に占める成分Ａの割合は、３０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量％である。成分Ａが３０重量％未満では接着剤に対する溶解力が低下し、７０重量％を超えるとピッチ、ワックスに対する洗浄力が低下するため洗浄液として望ましくない。
【０００７】
[成分Ｂ]  成分Ｂは、ポリアルキレングリコールジアルキルエーテル、アルキレングリコールエーテルエステル、炭素数５〜２０の炭化水素、もしくはこれらの混合物からなる成分である。成分Ｂには、次の化１で表されるポリアルキレングリコールジアルキルエーテルを用いることができる。
【化１】
Ｒ１−（Ｏ−Ｒ２）ｎ−Ｒ３
【０００８】
ここで、Ｒ１、Ｒ３は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ２は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４であり、好ましくはＲ１、Ｒ３はメチル基、Ｒ２は炭素数２〜３のアルキレン基、ｎは２〜４である。このような化合物としては、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテルが挙げられ、入手の容易性、引火点の高さからトリエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。
【０００９】
成分Ｂに用いるアルキレングリコールエーテルエステルとしては、次の化２で表される化合物を用いることができる。
【化２】
Ｒ４−（Ｏ−Ｒ５）ｍ−Ｘ−Ｒ６
【００１０】
ここで、Ｒ４は炭素数１〜８の炭化水素残基、Ｒ５は炭素数２〜６のアルキレン基、ｍは１〜４、Ｘはオキシカルボニル基、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基、好ましくはＲ４、Ｒ６はメチル基、Ｒ５は炭素数４〜６のアルキレン基、ｍは１〜２である。このような化合物としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート；  プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート；  モノメチルエーテルアセテート、ジブチレングリコールモノメチルエーテルアセテート；  ペンテングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジペンテングリコールモノメチルエーテルアセテート；  エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；  プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート；  ブチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジブチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；  ペンテングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジペンテングリコールモノエチルエーテルアセテート；  エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート；  プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート；  ブチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジブチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート；  ペンテングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジペンテングリコールモノプロピルエーテルアセテート；  エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート；
プロピレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノフェニルエーテルアセテート；  ブチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジブチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート；  ペンテングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジペンテングリコールモノフェニルエーテルアセテート；  エチレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート；  プロピレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート；  ブチレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート、ジブチレングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート；  ペンテングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート、ジペンテングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテートが挙げられる。入手の容易性、引火点の高さから、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテートの一種である３-メチル-３−メトキシブチルアセテートが好適である。
【００１１】
炭素数５〜２０の炭化水素としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素を用いることができ、洗浄力の点からは芳香族炭化水素が好ましく用いられる。芳香族炭化水素の具体例としては、メチル、エチルまたはプロピルベンゼンなどのアルキルベンゼン、メチル、エチル、プロピルナフタレンなどのアルキルナフタレンが挙げられ、引火点の高さ、沸点の低さから、特に炭素数８〜１０のアルキルベンゼンが好適である。脂肪族炭化水素の具体例としては、直鎖および分岐鎖のヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカンなどが挙げられ、引火点の高さ、沸点の低さから、特に炭素数９〜１２のパラフィンが好適である。脂環族炭化水素の具体例としてはメチル、エチルまたはプロピルシクロヘキサンなどのアルキルシクロヘキサン、メチル、エチルまたはプロピルデカリンなどのアルキルデカリンが挙げられる。
【００１２】
洗浄液組成物に占める成分Ｂの割合は、３０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量％である。ポリアルキレングリコールジアルキルエーテル、アルキレングリコールエーテルエステル、または、炭素数５〜２０の炭化水素のそれぞれ単独の配合量は、５０重量％以下が好ましく、５０重量％を超えると接着剤に対する洗浄力が低下する。成分Ｂとして、炭素数５〜２０の炭化水素、特には芳香族炭化水素を３０〜６０重量％含有することが好ましい。成分Ａおよび成分Ｂ以外の成分は、洗浄液組成物に含まれていないことが好ましく、１０重量％未満、特には３重量％未満であることが好ましい。
【００１３】
本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で有機溶剤や水を配合したり、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤、無機微粒子等の慣用の添加剤を含めることができる。界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系等いずれのものも使用できる。
【００１４】
また、紫外線吸収剤及び酸化防止剤としては、洗浄液の長期保存等における安定性の向上に役立ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等を使用でき、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン系、硫黄系、リン系等、本発明の洗浄液組成物に溶解するものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤を、１００〜１０００重量ｐｐｍ添加することが特に好ましい。
【００１５】
本発明の洗浄液組成物を洗浄対象物である光学部品に接触させることで洗浄することができるが、光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジ等による拭き取り、洗浄液組成物への浸漬及び／又はスプレー等により実施することが好ましい。浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波又はエアバブリング等を組み合わせることが更に好ましい。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波数２０〜１００ｋＨｚ、発振出力１０〜２００Ｗ／ｌが好ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましくは空気：洗浄液の体積比１：１〜５：１程度で通気することにより、洗浄液組成物に不溶性の汚れを気泡と共に上昇させ、不溶性の汚れをも分離することができる。スプレーによる洗浄において、その圧力は、例えば０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ２ Ｇが好ましい。いずれの場合も洗浄時間は、好ましくは１５秒間〜２時間、特に好ましくは３０秒間〜２０分間である。上記範囲未満では洗浄が不十分で、付着した汚れを十分に除去し得ず、一方、上記範囲を超えても洗浄効果は格別向上しない。洗浄温度は、好ましくは２０〜１２０℃である。上記洗浄において、より高温で処理することにより洗浄効果を著しく上昇させることができる。上記範囲未満では、洗浄が不十分となり易い。
【００１６】
本発明の洗浄液組成物は、光学部品に付着したワックス、ピッチ、接着剤などを洗浄するために用いられる。このような光学部品としてはめがね、顕微鏡、望遠鏡、カメラまたは電子機器の光学ピックアップ用などのレンズ、その筐体があげられる。これらの製造工程において、部品表面の研磨、保護、固定などの目的でワックス、ピッチを用いることがあり、同時にシアノアクリレート系の接着剤を使用することがある。
【００１７】
汚染物となるワックス、ピッチ、接着剤を具体的に例示すれば、研磨用あるいは張付用ピッチとしてのストレートアスファルト系、ブローンアスファルト系、ウッド系等のピッチが挙げられる。また、ワックスは金属、ガラス等の仮止め接着剤として使用されている天然樹脂、石油系ワックス、合成系ワックス等が挙げられる。接着剤としてはメチル−α−シアノアクリレート、エチル−α−シアノアクリレートなどに代表されるアルキルシアノアクリレートをモノマーとする接着剤であるシアノアクリレート系瞬間接着剤が広範に用いられている。
【００１８】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００１９】
実施例として用いた洗浄液の配合量を表１、２に、比較例として用いた洗浄液の配合量を表３に示す。表中、ＧＤＭはグルタル酸ジメチルを、ＯＤＥはシュウ酸ジエチルを、ＡＧＳＭはアジピン酸ジメチル１５重量％、グルタル酸ジメチル６５重量％、コハク酸ジメチル２０重量％の混合物を、ＴＥＧＤＭＥはトリエチレングリコールジメチルエーテルを、ＭＭＢＡは３−メチル−３−メトキシブチルアセテートを示す。
【００２０】
【表１】
0004502474.tif 000002
【００２１】
【表２】
0004502474.tif 000003
【００２２】
【表３】
0004502474.tif 000004
【００２３】
接着剤に対する洗浄テスト
シアノアクリレート系瞬間接着剤であるLoctite412（日本ロックタイト製）をガラスプレートに滴下し、さらにカバーガラス（２２ｍｍ角、厚さ０．２ｍｍ）を掛けて２５℃の室温において硬化させて張り合わせた。これを被検液（洗浄液）に浸せきし、５０℃で超音波照射下に６０分間洗浄を行い、剥離、溶解の状態を観察した。洗浄後にカバーガラスが剥離したものを○、剥離しなかったものを×として評価し、表１、２、３に併せて示した。
【００２４】
ワックス、ピッチに対する洗浄テスト
ワックス、ピッチの洗浄性の評価では、光学加工用ワックス０．０２５ｇを被検液（洗浄液）５ｍｌに投入し、５０℃で超音波照射下に６０分間溶解し、被検液が透明もしくは乳化し均一になったものを○、固体の沈殿が認められたものを×とし、表１、２、３に併せて示した。ワックスとしては日化精工(株)製フラットローワックスＬをそれぞれ用いた。
【００２５】
【発明の効果】
本発明の光学部品用洗浄液は、(Ａ)脂肪族二塩基酸ジアルキルエステルからなる成分Ａを３０〜７０重量％と、（Ｂ）ポリアルキレングリコールジアルキルエーテル、アルキレングリコールエーテルエステル、炭素数５〜２０の炭化水素、もしくはこれらの混合物からなる成分Ｂを７０〜３０重量％含有するものである。これは、光学部品に付着したピッチ、ワックス及び接着剤の洗浄性に優れるのみならず、毒性が低く、環境規制上使用が制限されている化合物を用いることなく使用・取り扱いが比較的容易である。