(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶剤を染み込ませた清掃部材を用いて基板表面を拭き取り清掃する基板清掃装置において、前記清掃部材に前記溶剤を滴下で供給する溶剤供給装置と、この溶剤供給装置により前記清掃部材に前記溶剤が滴下で供給された後の経過時間を計測する計測装置と、前記計測装置により計測された経過時間が予め設定された許容時間を越えたか否かを判別する比較判別部と、前記比較判別部により前記経過時間が前記許容時間を越えたことが判別されたことを条件に、前記基板の清掃を中止する制御装置とを有し、前記計測装置は、前記溶剤の滴下が完了したタイミングで前記計測装置による経過時間の計測が開始されることを特徴とする基板清掃装置。
【請求項２】
溶剤を染み込ませた清掃部材を用いて基板表面を拭き取り清掃する基板清掃装置において、前記清掃部材に前記溶剤を滴下で供給する溶剤供給装置と、この溶剤供給装置により前記清掃部材に前記溶剤が滴下で供給された後の経過時間を計測する計測装置と、前記計測装置により計測された経過時間が予め設定された許容時間を越えたか否かを判別する比較判別部と、前記比較判別部により前記経過時間が前記許容時間を越えたことが判別されたことを条件に、前記清掃部材に前記溶剤を滴下で供給すべく前記溶剤供給装置を制御する制御装置とを有し、前記計測装置は、前記溶剤の滴下が完了したタイミングで前記計測装置による経過時間の計測が開始されることを特徴とする基板清掃装置。
【請求項３】
溶剤を染み込ませた清掃部材を用いて基板表面を拭き取り清掃する基板清掃方法において、前記清掃部材による前記基板の清掃に先立ち、前記清掃部材に前記溶剤を滴下で供給する工程と、前記清掃部材に前記溶剤が滴下で供給された後の経過時間を計測する工程と、前記計測された経過時間が予め設定された許容時間を越えたか否かを比較判別する工程と、前記比較判別することにより前記経過時間が前記許容時間を越えたことが判別されたことを条件に、前記基板の清掃を中止する工程とを有し、前記溶剤を滴下で供給する工程は、前記溶剤の滴下が完了したタイミングで経過時間の計測が開始されることを特徴とする基板清掃方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板面を清掃する基板清掃装置および基板清掃方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶デイスプレイパネル（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に代表されるフラットパネルディスプレイ等の製造工程では、ガラス基板の縁部に沿って設けられた電極に、フィルム状部材にて形成された電子部品の電極を異方性導電フィルム（Anisotropic  Conductive  Film、以下「ＡＣＦ」という）等のテープ部材を介して接続することが行なわれている。
【０００３】
そして、この電子部品の接続に先立ち、ガラス基板の電極面にはＡＣＦが貼付される。ここで、ガラス基板と電子部品との接合部において電気的に良好な接続状態が得られるためには、ガラス基板の電極面にごみが付着していたり汚れが付着していないことが必要とされる。そこで、従来から、ＡＣＦの貼付に際しては、その貼付の前に基板清掃装置によるガラス基板の電極面の清掃が行なわれている。
【０００４】
従来の基板清掃装置は、清掃部材としての清掃布に滴下用ノズルからエタノール等の揮発性溶剤を滴下させて染み込ませ、清掃布における溶剤が滴下された部位をガラス基板の電極面に接触させつつ移動させることで、電極面の汚れやごみを取り除くように構成されている。
【０００５】
そして、ガラス基板の電極面の清掃は、一般にガラス基板の辺毎に行なわれており、清掃布に対する溶剤の滴下は、１回の清掃毎、すなわちガラス基板の一辺を清掃する毎にその清掃が行なわれる前段階で行なわれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような基板清掃装置においては、装置が有する各機構部の動作異常等に起因するエラー信号に伴い装置が停止されることがある。そして、このようなエラー信号に基づく装置の停止は、清掃布に溶剤が滴下されてから清掃が開始されるまでの間に生じることがある。
【０００７】
このような停止が生じた場合、この停止期間中に清掃布に滴下された溶剤が揮発して清掃布が乾燥しまうことがあり、このような清掃布で電極面の清掃が行なわれた場合には、電極面の清掃が充分に行なえないのみならず、乾燥した清掃布と電極面との摩擦により静電気が発生し、この静電気が電極を介してガラス基板内に形成された回路素子に流れ、回路素子を破壊してしまうおそれがあった。
【０００８】
なおここで、装置が有する各機構部とは、例えば、ガラス基板を清掃布による清掃位置へ位置付けるために行なわれる撮像装置を用いた画像処理装置を含む位置認識装置や、この位置認識装置による認識結果に基づいてガラス基板の位置補正を行なう位置補正装置（搬送ステージ）等が考えられ、これら機構部による動作が、清掃布に対する溶剤の滴下動作と並行して行なわれ、位置認識動作不良、或いは、位置補正動作不良に起因するエラー信号により装置が停止された場合に、上述の問題を生じることがある。
【０００９】
本発明は、基板面の清掃を良好に行なうことができる基板清掃装置および基板清掃方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、溶剤を染み込ませた清掃部材を用いて基板表面を拭き取り清掃する基板清掃装置において、前記清掃部材に前記溶剤を滴下で供給する溶剤供給装置と、この溶剤供給装置により前記清掃部材に前記溶剤が滴下で供給された後の経過時間を計測する計測装置と、前記計測装置により計測された経過時間が予め設定された許容時間を越えたか否かを判別する比較判別部と、前記比較判別部により前記経過時間が前記許容時間を越えたことが判別されたことを条件に、前記基板の清掃を中止する制御装置とを有し、前記計測装置は、前記溶剤の滴下が完了したタイミングで前記計測装置による経過時間の計測が開始されることを特徴とする。
【００１１】
【作用】
本発明によれば、溶剤を染み込ませた清掃部材を用いて基板表面を拭き取り清掃するに際し、判別部により溶剤が供給された清掃部材の乾燥状態が検出され、この検出結果に基づいて清掃部材による基板の清掃の実行の可否が判別される。そして、基板の清掃が不可と判別された場合には、制御装置により、基板の清掃の中止、或いは、清掃部材に対する溶剤の供給のいずれかが実行される。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明に係る基板清掃装置の実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１３】
図１は、本発明に係る基板清掃装置の構成を示す正面図、図２は、図１の側面図、図３は、図１の基板清掃装置の構成を示すブロック図、図４は、図１に示す基板清掃装置の要部を示す部分拡大図である。
【００１４】
図において、基板清掃装置１は、ガラス基板２を搬送する基板搬送装置３、基板清掃機構４、溶剤供給装置５を有する。
【００１５】
基板搬送装置３は、搬送テーブル６、およびカメラ７（図２）を有する。搬送テーブル６は、Ｘテーブル６ａ、Ｙテーブル６ｂ、θテーブル６ｃ、および基板載置部６ｄを有してなり、基板載置部６ａをガラス基板２の供給位置、カメラ７による撮像位置、基板清掃位置、排出位置の４つのポジションに移動可能とされる。そして、搬送テーブル６は、供給位置で受け取ったガラス基板２を撮像位置、基板清掃位置へと搬送し、基板清掃位置で清掃が完了したガラス基板２を排出位置へと搬送する。
【００１６】
基板清掃機構４は、ガラス基板２の搬送レベルを中心として上下対称に配置された上清掃機構４ａと下清掃機構４ｂとから構成される。なお、上清掃機構４ａと下清掃機構４ｂは、同様の構成であるので、上清掃機構４ａについてのみ説明し、下清掃機構４ｂの部品については、上清掃機構４ａの部品と同一符号を付し、その説明は省略する。
【００１７】
上清掃機構４ａは、清掃部材としてのテープ状の清掃布８を巻回した供給リール９、３つのガイドローラ１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、押付けローラ１１、送りローラ１２、および巻取りリール１３を有する。供給リール９、送りローラ１２、巻取りリール１３には、それぞれ駆動モータ９ａ、１２ａ、１３ａが連結されており、各駆動モータ９ａ、１２ａ、１３ａは、清掃布８が弛むことなく送られるように後述の制御装置２０によりその駆動が制御される。そして、供給リール９から供給された清掃布８は、３つのガイドローラ１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、押付けローラ１１、送りローラ１２を介して巻取りリール１３へと掛け回され、主として送りローラ１２の回転により搬送される。なお、押付けローラ１１は、上下シリンダ１１ａに連結されており、上下シリンダ１１ａの駆動により、ガラス基板２から離隔した清掃待機位置と、ガラス基板２に対して清掃布８を押し付ける清掃位置との間で移動自在とされる。
【００１８】
溶剤供給装置５は、エタノール等の揮発性の溶剤１４を貯留する容器１５、溶剤供給制御器１６、清掃布８に溶剤１４を滴下するノズル１７、容器１４とノズル１７との間を連結するパイプ１８、およびノズル１７からの溶剤１４の滴下量を検出するセンサ１９（図４）、を有する。ノズル１７は、清掃布１８に溶剤１４を滴下すべく、ガイドローラ１０ｂと押付けローラ１１との間に位置する清掃布８の直上に配置される。また、溶剤供給制御器１６は、溶剤１４の供給量を制御するもので、後述する制御装置２０からの供給信号を受けて設定された供給量の溶剤１４の供給を実行する。センサ１９は、図４に示すように、ノズル１７と清掃布８の間に配置されており、ノズル１７から雫状となって滴下される溶剤１４の滴下数を検出し、この検出信号を溶剤供給制御器１６へ送信する。
【００１９】
また、基板清掃装置１は、制御装置２０を有する。制御装置２０は、図３に示すように、搬送テーブル６、溶剤供給制御器１６、各モータ駆動制御部２１ａ、２１ｂ、２２ａ、２２ｂ、２３ａ、２３ｂを介して駆動モータ９ａ、９ａ、１２ａ、１２ａ、１３ａ、１３ａ、および各シリンダ駆動制御部２４ａ、２４ｂを介して上下シリンダ１１ａ、１１ａに接続される。また、制御装置２０は、計測装置２５、記憶部２６、比較判定部２７を有する。ここで、計測装置２５は、溶剤供給装置５による清掃布８に対する溶剤１４の供給が完了した後の経過時間ｔを計測するもので、記憶部２６は、清掃布８に供給された溶剤８が揮発することなく良好にガラス基板２の電極面の清掃を行なうことができる許容時間Ｔを記憶するものである。そして、比較判定部２７は、計測装置２５により計測した経過時間ｔと、記憶部２６に記憶された許容時間Ｔとを比較して、経過時間ｔが許容時間Ｔを超過したか否かを判定する。
【００２０】
なおここで、許容時間Ｔは、１回のガラス基板２の清掃が開始されてから完了するまでの間で、溶剤１４の揮発が進行したとしても、清掃に支障をきたすことがない程度の余裕時間を見込んで設定する必要がある。また、この許容時間Ｔは、例えば、清掃布８に対する溶剤１４の滴下量と溶剤１４の揮発時間との関係を実験等により求めた結果結果に基づいて決定することができる。なおこのとき、温度等の他の要因についても考慮する必要があることはいうまでもない。
【００２１】
次に、作動について説明する。
【００２２】
▲１▼まず、制御装置２０の制御に基いて、搬送テーブル６の基板載置部６ａが、ガラス基板２の供給位置に移動され、不図示の搬送装置により供給されるガラス基板２を、不図示の吸着機構により真空吸着して受け取る。
【００２３】
▲２▼ガラス基板２を受け取ると、基板載置部６ａは撮像位置へと移動される。そして、この位置で、カメラ７によりガラス基板２に設けられた不図示の位置検出用マークが撮像される。この撮像データは、不図示の画像処理装置へと送られ、この画像処理装置にて公知のパターンマッチング手法を用いた画像認識処理技術に基いてガラス基板の位置ずれが算出される。そして、算出されたガラス基板２の位置ずれ情報は制御装置２０へと送られ、制御装置２０はこの位置ずれ修正するように基板ステージ６を制御して、基板載置部６ａ（ガラス基板２）を基板清掃位置へと位置付ける。なお、基板清掃位置への位置決めが完了した状態において、図１に示すように、ガラス基板２における今回清掃対象となる電極が形成された辺の一方の端部（右側の端部）が、押付けローラ１１との対応位置に位置付けられる。
【００２４】
▲３▼一方、上述の▲２▼の工程と並行して、清掃布８に対する溶剤１４の供給が行なわれる。すなわち、制御装置２０から溶剤供給制御器１６に、溶剤１４の供給信号が送信され、この信号を受けて溶剤供給制御器１６が所定量の溶剤１４を供給する。なおこのとき、センサ１９により溶剤１４の滴下数が検出され、この検出値に基いて溶剤１４の滴下所定量が確認される。
【００２５】
所定量の溶剤１４の滴下が完了すると駆動モータ１２ａが駆動され、清掃布８における溶剤１４が滴下された部分が、押付けローラ１１とガラス基板２との間に位置付けられるように清掃布８が搬送され、清掃待機状態となる。
【００２６】
なお、上述の溶剤１４の滴下が完了したタイミングで、計測装置２５による経過時間ｔの計測が開始される。
【００２７】
▲４▼上記▲２▼、▲３▼の工程の実行中、制御装置２０は、基板清掃位置へのガラス基板２の位置付けが完了したか否か（▲２▼の工程が完了したか否か）、基板清掃機構５がガラス基板２の清掃待機状態となったか否か（▲３▼の工程が完了したか否か）を監視している。そして、これら２つの工程が完了したことを条件にガラス基板２の清掃を開始するのであるが、この清掃の開始に先立ち、比較判定部２７による計測装置２５により計測された経過時間ｔと記憶部２６に記憶された許容時間Ｔとの比較判定を行なうことで、ガラス基板２の清掃の実行可否の判別を行なう。
【００２８】
▲５▼（ａ）まず、比較判定部２７による比較判定の結果、計測装置２５により計測した経過時間ｔが許容時間Ｔを超過していると判定された場合、制御装置２０は、再度▲３▼の工程を実行する。すなわち、溶剤供給制御器１６に溶剤１４の供給信号を発信し、清掃布８に対する溶剤１４の供給を実行させるとともに、清掃布８を所定量送り、清掃待機状態とする。このとき、計測装置２５は、溶剤１４の滴下が完了したタイミングで、新たに経過時間ｔの計測を開始する。
【００２９】
なお、上記工程中も、制御装置２０により、基板清掃位置へのガラス基板２の位置付けが完了したか否か（この場合、基板清掃位置へのガラス基板２の位置付けは既に完了している）、および基板清掃機構５が清掃待機状態となったか否かが監視されており、双方が完了したことが確認されると、再度、比較判定部２７による計測装置２５により計測された経過時間ｔと記憶部２６に記憶された許容時間Ｔとの比較判定が行なわれる。
【００３０】
▲５▼（ｂ）他方、計測装置２５により計測された経過時間ｔが許容時間Ｔ内であると判定された場合、制御装置２０は、基板清掃機構４によるガラス基板２の電極面の清掃を開始する。
【００３１】
すなわち、上下シリンダ１１ａが駆動され、押付けローラ１１が清掃位置へと移動して、清掃布８をガラス基板２の電極面および背面に押付ける。そして、この状態を維持したまま、搬送ステージ６の駆動によりガラス基板２が矢印Ｘ方向に移動され、ガラス基板２の電極面および背面が清掃布８により拭き取り清掃される。
【００３２】
図１に示すガラス基板２における左側の端部が押付けローラ１１の対応位置に到達するタイミングで搬送ステージ６によるガラス基板２の移動が停止されるとともに、上下シリンダ１１ａにより押付けローラ１１が清掃待機位置へと移動され、ガラス基板２の一辺に対する清掃が完了する。
【００３３】
この後、このガラス基板２における他の辺にも電極が形成されており、その辺に対しても清掃が必要な場合には、搬送ステージを駆動させることにより、その辺が基板清掃機構４に対向するようにガラス基板２を水平面内で回転させ、上述▲２▼〜▲５▼と同様の動作を繰り返すことにて清掃が必要な辺に対する清掃を実行する。
【００３４】
清掃が必要な全ての辺に対する清掃が完了したときには、搬送ステージ６により清掃が完了したガラス基板２を排出位置へと搬送し、不図示の搬送装置によりガラス基板２を後工程へと搬出する。なお、ガラス基板２が取出された後、搬送テーブル６の基板載置部６ａは、次のガラス基板２の供給を受けるため、再び供給位置へ移動される。
【００３５】
上記の実施の形態によれば、基板清掃機構４によりガラス基板２の電極面の清掃を開始するに先立ち、比較判定部２７により、計測装置２５にて計測された経過時間ｔと、記憶部２６に記憶された許容時間Ｔとを比較し、計測装置２５にて計測した経過時間ｔが許容時間Ｔを超過したか否かが判別され、経過時間ｔが許容時間Ｔを超過したことが判別された場合には、清掃布８に対して再度溶剤１４の滴下を実行するものとしたことから、溶剤１４の揮発により乾燥した清掃布８により清掃が実行されることが防止できる。これにより、清掃中にガラス基板８の電極面と清掃布８との摩擦により静電気が生じ、この静電気が電極を介してガラス基板８内に形成された回路素子に流れ、回路素子が破壊されることを防止しつつ、良好な清掃を行なうことができる。
【００３６】
なお、上記実施の形態において、比較判定部２７により、計測装置２５にて計測した経過時間ｔが記憶部２６に記憶された許容時間Ｔを超過したことが判別された場合、清掃布８に対して再度溶剤１４の滴下を実行する例で説明したが、この例に限らず、比較判定部２７により、計測装置２５にて計測した経過時間ｔが記憶部２６に記憶された許容時間Ｔを超過したことが判別されたときに、基板清掃機構４による清掃を中止するとともに、上記の旨をモニタ等の表示手段に表示させる等によりオペレータに報知し、対応を促すようにしてもよい。このようにした場合でも、溶剤１４の揮発により乾燥した清掃布８により清掃が実行されることが防止できる。
【００３７】
また、比較判定部２７により、計測装置２５にて計測した経過時間ｔが記憶部２６に記憶された許容時間Ｔを超過したか否かにより、溶剤１４が滴下（供給）された清掃布８の乾燥状態を判別する例で説明したが、溶剤１４の乾燥状態の判別する手段は、これに限られるものではなく、他の手段を用いても構わない。
【００３８】
例えば、清掃布８に滴下（供給）された溶剤１４が基板清掃機構４による清掃が開始される前に揮発してしまう要因として、清掃布８に対する溶剤１４の滴下が完了てから清掃が開始されるまでの間においての、基板清掃装置１が有する各機構部（位置認識装置（画像処理装置含む）や位置補正装置（搬送ステージ）等）の動作異常等に起因するエラー信号の発生による装置１の停止が考えられる。そして、このようなエラー信号に伴う装置１の停止が生じた場合、オペレータが即座に対応できた場合を除いては、数十秒から数分の停止が生じることが有り得る。そこで、エラー信号に伴い装置１が停止された場合には、滴下された溶剤１４が揮発し清掃布８が乾燥状態にある危険が極めて高いものとし、清掃布８に対する溶剤１４の滴下が完了してから清掃が開始されるまでの間にエラー信号が発生したときには、清掃布８に再度溶剤１４の滴下を行なうように構成してもよい。
【００３９】
具体的には例えば、上述の実施の形態における計測装置２５、記憶部２６、および比較判別部２７に代えて、装置１の各機構部におけるエラー信号の発生の有無を判別するエラー信号判別部を設け、清掃布８対する溶剤１４の滴下が完了てから清掃が開始されるまでの間にエラー信号判別部により、エラー信号の発生が判別された場合には、清掃布８に対して再度、溶剤１４の滴下を行なう。
【００４０】
このように構成した場合でも、上述した実施の形態と同様に、溶剤１４の揮発により乾燥した清掃布８により清掃が実行されることが防止できる。
【００４１】
また、基板清掃機構４によるガラス基板２の清掃が開始される前段階において、比較判別装置２７により経過時間ｔが許容時間Ｔを越えたか否かを判別し、この判別結果に基づいて、清掃の中止、或いは、溶剤１４の再供給のいずれかを実行する例で説明したが、例えば、ガラス基板２の清掃中においても比較判別装置２７による経過時間ｔと許容時間Ｔとの比較判別を継続して行なうようにしてもよい。そして、ガラス基板２の清掃中に、経過時間ｔが許容時間Ｔを越えたことが判別されたときには、その時点で、一旦ガラス基板２の清掃を中止するとともに、上述の実施の形態における▲３▼の工程による溶剤１４の供給を実行し、ガラス基板２における清掃が中止された位置から清掃を再開するようにしてもよい。
【００４２】
このように構成した場合でも、上述した実施の形態と同様に、溶剤１４の揮発により乾燥した清掃布８により清掃が実行されることが防止できる。
【００４３】
また、このように構成した場合、許容時間Ｔ内に見込む溶剤１４の揮発に関する余裕時間を極力短くすることができるので、溶剤１４の消費を節約することができる。
【００４４】
さらに、本実施の形態において、清掃部材がテープ状の清掃布である例で説明したが、必ずしもテープ状である必要はなく、例えば、スポンジやフエルト等の吸湿性部材で形成された清掃体に溶剤を染み込ませて清掃を行なうようにしてもよい。
【００４５】
【発明の効果】
本発明によれば、基板面の清掃を良好に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図1は、本発明に係る基板清掃装置の構成を示す正面図である。
【図２】図２は、図１の側面図である。
【図３】図３は、図１の基板清掃装置の構成を示すブロック図である。
【図４】図４は、図１に示す基板清掃装置の要部を示す部分拡大図である。
【符号の説明】
１  基板清掃装置
２  ガラス基板
３  基板搬送装置
４  基板清掃機構
４ａ  上清掃機構
４ｂ  下清掃機構
５  溶剤供給装置
６  搬送テーブル
７  カメラ
８  清掃布（清掃部材）
９  供給リール
１１  押付けローラ
１２  送りローラ
１３  巻取りリール
１４  溶剤
１６  溶剤供給制御器
１７  ノズル
２０  制御装置
２５  計測装置
２６  記憶部
２７  比較判定部
【図１】
0004414116.tif 000002
【図２】
0004414116.tif 000003
【図３】
0004414116.tif 000004
【図４】
0004414116.tif 000005