(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン及びフェノール性化合物の固形アダクトを含む懸濁液から前記アダクトを回収する方法であって、
ａ）前記懸濁液をロータリー圧力フィルターへ供給し、
ｂ）供給された懸濁液とロータリー圧力フィルターにおいて濾過してアダクトをアダクトケーキとして保留し、
ｃ）アダクトケーキを、大気圧上０．２〜６バールの圧力で、不活性ガスで予備乾燥し、
ｄ）予備乾燥したアダクトケーキを洗浄し、
ｅ）洗浄アダクトケーキを乾燥し又は乾燥することなく、そして
ｆ）ロータリー圧力フィルターから洗浄アダクトケーキを排出する
各工程を含んでなる固形アダクトの回収方法。
【請求項２】
前記洗浄アダクトケーキを乾燥する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ロータリー圧力フィルターが懸濁液供給ゾーン（１）、予備乾燥ゾーン（２）、第一の洗浄ゾーン（３ａ）、中間乾燥ゾーン（４）、第二の洗浄ゾーン（３ｂ）、乾燥ゾーン（５）及び排出ゾーン（１５）を含んでなるロータリードラム（３）を含む請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記懸濁液を静下降力によってロータリー圧力フィルター中に供給する請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記予備乾燥したアダクトケーキを先ずフェノール、アセトン及び水の混合物で洗浄し、そして次に水で洗浄する請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記予備乾燥したアダクトケーキをフェノールで洗浄する請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
工程ｄ）において予備乾燥したアダクトケーキを中間乾燥工程で２段で洗浄し、
工程ｅ）において前記乾燥ケーキを乾燥し、そして
工程ｆ）において前記洗浄及び乾燥したアダクトケーキをロータリー圧力フィルターから
排出する請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記懸濁液が、触媒としての酸性カチオン交換樹脂の存在下に、化学量論的過剰のフェノール性化合物のカルボニル化合物との反応及び得られる生成混合物の結晶化デバイスにおける処理から生ずるアダクトを含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ビスフェノール−Ａ及びフェノールのアダクトを回収する請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法によって回収されたアダクトを溶融し、そしてフェノール性化合物を留去するビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンの回収方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン及びフェノール性化合物の固形アダクトを含む懸濁液から前記アダクトを回収する方法、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンを回収する方法並びにこれらの方法によって製造することができる固形アダクト及びビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンに関する。以下、「方法」を「プロセス」ということがあります。
【背景技術】
【０００２】
酸触媒の存在下におけるフェノール化合物とカルボニル化合物の縮合生成物であるビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンは、ポリカーボネートやエポキシ樹脂のような多くの商業的製品の製造に使用されている。特に技術上及び商業上の重要性はしばしばビスフェノール−Ａと呼ばれるフェノールとアセトンとの縮合生成物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンである。ビスフェノール−Ａの１９９９年における世界生産量は２百万メートルトン／年で、依然として成長している。非常に高純度のビスフェノール−Ａは、それをプロセス処理するポリカーボネートのような商業的製品の品質に対して必要不可欠なことである。ビスフェノール−Ａを製造する周知の方法は、ｉ）酸性触媒の存在下に、過剰のフェノールをアセトンと反応させてビスフェノール−Ａを含む混合生成物を製造し、ｉｉ）その混合生成物を結晶化器を通してビスフェノール−Ａとフェノールの結晶アダクトを含む懸濁液を得、ｉｉｉ）アダクトを母液から分離してアダクト結晶を洗浄し、そしてｉｖ）ビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトからフェノールを留去してビスフェノール−Ａを得る工程を含む。反応混合物は、典型的には、ビスフェノール−Ａ、未反応フェノール、水、そして一般には未反応アセトンも含む。しかし、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｏ，ｐ−アイソマー（異性体））、２，２，４−トリメチル−４−（４−ヒドロキシフェニル）クロマン、分子中に３個又はそれ以上のフェニル環を有するポリフェノール、置換インデン、ヒドロキシ−フェニルクロマン、ヒドロキシフェニル−インダノール又は置換キサンテンのようないくらかの副生物も含む。これらの副生物は結晶ビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトから効果的に分離されなければビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトに望ましくない着色を生じる。
【０００３】
従って、当業者はビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトの結晶化、母液からの結晶の分離及びビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトの精製に多大な努力を払ってきた。
【０００４】
結晶化工程には、例えば特許文献１〜５などの多くの特許出願が提出されている。これらの文献には、水の存在下での結晶化、多酸結晶化及びプロセス中での（ｉｎ−ｐｒｏｃｅｓｓ）結晶化が記載されている。
【０００５】
特許文献６は母液からのアダクト結晶の分離の問題に関している。この文献は数個のフィルターセルを含む回転真空ドラムにおける連続濾過によって母液からアダクト結晶を分離し、次にフェノールで洗浄し、そして吸引によって洗浄液から分離するプロセスを示唆している。
【０００６】
その他の文献は主としてアダクト結晶の洗浄に関するものである。特許文献７は結晶を熱水で洗浄することを開示している。
【０００７】
【特許文献１】米国特許第４７４０６３５号
【特許文献２】米国特許第４８６１９１９号
【特許文献３】米国特許第４９２７９７３号
【特許文献４】米国特許第５３４５０００号
【特許文献５】米国特許第５５４５７６４号
【特許文献６】ＷＯ  ０１／４６１０５Ａ１
【特許文献７】米国特許第５４３４３１６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
商業的生産に使用される多量のビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン類及びそれらの純度に対する高い要求からみて、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン及びフェノール性化合物（ｐｈｅｎｏｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）のアダクトを回収する新しいプロセス並びにビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン類を回収する新しいプロセスを見出すことは依然として望まれている。特に高純度の前述のアダクト類及びビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン類を回収できる新しいプロセスを見出すことは特に望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様はビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン及びフェノール性化合物の固形アダクトを含む懸濁液から前記アダクトを回収する方法であって、
ａ）前記懸濁液をロータリー圧力フィルターへ供給し、
ｂ）供給された懸濁液とロータリー圧力フィルターにおいて濾過してアダクトをアダクトケーキとして保留し、
ｃ）アダクトケーキを、大気圧上０．２〜６バールの圧力で、不活性ガスで予備乾燥し、
ｄ）予備乾燥したアダクトケーキを洗浄し、
ｅ）洗浄アダクトケーキを乾燥し又は乾燥することなく、そして
ｆ）ロータリー圧力フィルターから洗浄アダクトケーキを排出する
各工程を含んでなる固形アダクトの回収方法である。
【００１０】
本発明の別の態様は、前述のプロセスに従って製造することができるビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物のアダクトである。
【００１１】
本発明の更に別の態様は、前述のプロセスによって回収されアダクトを溶融してフェノール性化合物を留去するビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンの回収プロセスである。
【００１２】
本発明の更に別の態様は前述のプロセスに従って得ることができるビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン及びフェノール性化合物の固形アダクトを含むスラリーは化学量論的に過剰な量のフェノール性化合物を、酸性触媒の存在下に、カルボニル化合物と反応させることにより得ることができる。
【００１４】
有用なフェノール性化合物は米国特許第５７２３６８８号（４欄７〜３９行）に列挙されている。式（Ｉ）の化合物の好ましい例は、フェノール、クレゾール、キシレノール（例えば２，６−ジメチルフェノール又は３，５−ジメチルフェノール）、クロロフェノール、ジクロロフェノール、２−イソプロピル−５−メチル−フェノール、５−イソプロピル−２−メチルフェノール、２−メチル−６−エチルフェノール、２，４−ジメチル−３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２−エチル−４−メチルフェノール、２，３，６−トリメチルフェノール、２−メチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−メチル−２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，３，５，６−テトラメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３，５−ジエチルフェノール、２−メチル−３，５−ジエチルフェノール、ｏ−フェニルフェノール又はｐ−フェニルフェノールである。
【００１５】
有用なカルボニル化合物はケトン類及びアルデヒド類で、これらは米国特許第５７２３６８８号（４欄４０〜６７行及び５欄１〜４行）に列挙されている。適当なケトンの例は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジブチルケトン、メチルイソブチルケトン及びメチルアミンケトンを含む。適当なアルデヒドの例はホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド及びブチルアルデヒドを含む。
【００１６】
本発明のプロセスはビスフェノール−Ａとフェノールのアダクトを回収するのに特に適している。ビスフェノール−Ａはアセトンとフェノールの反応生成物である。しかし、本発明のプロセスはこれらには限定されない。
【００１７】
好ましくはビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトを含む懸濁液は、触媒としての酸性カチオン交換樹脂の存在下に、化学量論的に過剰のフェノール性化合物とカルボニル化合物とを反応させ、そして得られた生成混合物を結晶化デバイスにおいて処理することによって得られる。更に好ましくは、生成混合物は、生成混合物を結晶化デバイスに通す前に、蒸留工程にかけない。このようなプロセスは米国特許第５７２３６８８号に記載されている。結晶化前に、得られる生成混合物はビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン、未反応フェノール性化合物、いくらかの未反応カルボニル化合物、水及び副生物を含む。反応におけるモル過剰のフェノール性化合物は生成混合物が生成混合物の合計重量当り１０〜２７％のフェノール性化合物を含むように選ぶのが好ましい。結晶化工程前に、生成混合物中のアセトンのようなカルボニル化合物の含量を制御するのが好ましく、必要であればカルボニル化合物の合計濃度が、生成混合物の合計重量当り、０．１〜８％になるようにカルボニル化合物を添加する。生成混合物中の水の重量は、好ましくは、生成混合物の全重量当り、１〜１０％である。生成混合物は結晶化デバイスを通してビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物とのアダクト結晶を生成させる。アダクトの結晶化は、例えば結晶化デバイス中の生成混合物を２５〜７５℃の温度、更に好ましくは３０〜６５℃、最も好ましくは３４〜５８℃に冷却することによって、実施することができる。生成混合物の冷却は外部冷却、例えば水冷却を備えたジャケット付き結晶化デバイスのような熱交換器、又は結晶化デバイス中の圧力の減圧化によって、そして、水、カルボニル化合物及び少量のフェノール性化合物の蒸発によって実施することができる。生成混合物の結晶化デバイス中の滞留時間は好ましくは０．１〜２０時間、更に好ましくは１〜６時間である。ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンの主要部分はフェノール性化合物との１：１モル比のアダクトとして結晶化する。これによって、液体、即ち母液中のアダクトの懸濁液が得られ、それによって母液は、主としてフェノール性化合物、いくらかのビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン、副生物及び場合によっては残存する量の未反応カルボニル化合物並びに水を含む。
【００１８】
別法として、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトを含む懸濁液は、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトの分離後、前記結晶化デバイスから回収される母液の処理によって得ることができる。この懸濁液は、例えば、母液の冷却、濃縮又は他の適当な処理によって得ることができる。
【００１９】
別法として、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトを含む懸濁液は、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との粗固形アダクトを適当な液体、例えばフェノール性化合物、水及びアセトンの混合物又はフェノール性化合物及びアセトンの混合物又はフェノール性化合物単独中にスラリー化させることによって得ることができる。フェノールが最も好ましいフェノール性化合物である。
【００２０】
本発明に係る懸濁液は、好ましくは、懸濁液全重量に基づいて、２〜４０、更に好ましくは５〜３８、最も好ましくは１０〜３０重量％のアダクト結晶、０．５〜８．５、更に好ましくは０．８〜６．５、最も好ましくは１．２〜４．８重量％のビスフェノール化合物のｏ，ｐ−アイソマー及び０．５〜１０．６、更に好ましくは０．８〜７．８、最も好ましくは１．１〜６．４重量％の他の副生物を含む。懸濁液の残りの部分は主としてフェノール性化合物及び場合によっては少量のアセトン及び水とからなる。存在する場合のアセトンの量は一般的には、懸濁液の全重量当り、０．１〜８％である。存在する場合の水の量は懸濁液の全重量当り一般的には１〜１０％である。
【００２１】
ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との、固形、典型的には結晶形、のアダクトは、以下に述べるプロセス、即ち、ａ）前記懸濁液をロータリーフィルターへ供給し、ｂ）供給された懸濁液とロータリーフィルターにおいて濾過してアダクトをアダクトケーキとして保留し、ｃ）アダクトケーキを不活性ガスで予備乾燥し、ｄ）予備乾燥したアダクトケーキを洗浄し、ｅ）任意的に、洗浄アダクトケーキを乾燥し、そしてｆ）ロータリーフィルターから洗浄アダクトケーキを排出する
各工程を含むプロセスから回収される。
【００２２】
本発明のプロセスに使用されるロータリーフィルターは真空又は圧力（ｐｒｅｓｓｕｒｅ）フィルターとすることができる。ロータリー圧力フィルターの使用が好ましいことを見出した。ロータリー圧力フィルターそれ自体は、業界において一般に知られている。圧力フィルターは一般にフェノール及びガス気密性である必要がある。ロータリー真空フィルターにおけるよりもフィルター媒体の内部と外部との間の高い圧力差を達成する可能性は、アダクトケーキの純度に好ましい影響を与える。特に好ましいのは連続操作を可能にするロータリー圧力フィルターであり、最も好ましいのは本発明のプロセスに適合するＢＨＳ  Ｓｏｎｔｈｏｆｅｎにより出荷されているロータリープレッシャーフィルターである。
【００２３】
添付図面は、本発明プロセスにおいて有用な好ましいロータリーフィルター、更に好ましいロータリー圧力フィルターの断面図を示す。以下の記述は添付図面を参照するが、本発明プロセスをこれに限定するものではない。ロータリーフィルターは懸濁液供給ゾーン１、予備乾燥ゾーン２、第一の洗浄ゾーン３ａ、中間乾燥ゾーン４、第二の洗浄ゾーン３ｂ、乾燥ゾーン５及び排出ゾーン１５を含んでなるロータリードラム３を含む。このロータリーフィルターは数種の濾過セル６を含む。各濾過セル６は、その中にアダクトケーキ８が形成される濾過布７を含む。母液は各濾過セル６から溝路（又は導管）９を通して、母液出口として典型的に機能するコントロールヘッド１０に除去することができる。ロータリーフィルターはまたガス供給ノズル１１ａ，１１ｂ及び１１ｃ、液供給ノズル１２ａ及び１２ｂ並びに懸濁液供給溝路（又は導管）１４を含む。ロータリードラム１３の内部分割部の故に、アダクトケーキは別々のゾーンで更に処理することができる。ロータリーフィルターは一般に、図示されていないが、ロータリードラム並びにロータリードラムへ、そしてロータリードラムから、物質を供給したり、取り出したりする種々の追加の溝路用の、ハウジング及びサポートを含む。
【００２４】
本発明のプロセスの工程ａ）において、前述のアダクトを含む懸濁液は、懸濁液供給溝路１４を通して、懸濁液供給ゾーン１に供給される。懸濁液は大気圧上、好ましくは０．１〜５．０バール（１０〜５００kPa）、更に好ましくは０．４〜３．２バール（４０〜３２０kPa）、最も好ましくは０．６〜２．４バール（６０〜２４０kPa）の圧力を有する。この懸濁液は、前記結晶化デバイスと前記ロータリーフィルターとの間静止高さ（ｓｔａｔｉｃ  ｈｅｉｇｈｔ）に十分な差がある場合には、好ましくは静下降力（ｓｔａｔｉｃ  ｄｅｓｃｅｎｄｉｎｇ  ｆｏｒｃｅ）によってロータリーフィルター中に供給する。ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物とのアダクトの結晶形状を、可能な限り最大限、保存するために、静止高さの差により与えられる懸濁液の圧力はポンプの使用を超えて好ましい。
【００２５】
濾過工程ｂ）は好ましくは不活性ガス雰囲気、更に好ましくは窒素雰囲気下に実施する。ロータリーフィルターは一般に３２〜９８℃、好ましくは３５〜８５℃、更に好ましくは４２〜６８℃の温度を有する。ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトは濾過セル６にアダクトケーキ８として保持される。母液は各濾過セル６から溝路９を通して母液出口として典型的に作用するコントロールヘッド１０に通す。コントロールヘッド１０の回転によって、アダクトケーキ８で充たされた濾過セル６は懸濁液供給ゾーン１から予備乾燥ゾーン２へ通すことができる。
【００２６】
本発明プロセスの工程ｃ）において、アダクトケーキは不活性ガスで予備乾燥される。驚くべきことに、本発明の予備乾燥工程ｃ）はビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトの高純度及び淡色を達成するために必須である。特に、ビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトを回収するときに、高純度の結晶を達成することができる。窒素は好ましい不活性ガスである。予備乾燥温度は好ましくは４０〜８５℃であり、更に好ましくは４２〜６８℃である。不活性ガスの圧力は好ましくは０．２〜６バール（２０〜６００kPa）であり、更に好ましくは０．６〜３．８バール（６０〜３８０kPa）である。予備乾燥ゾーン２へは第一のガス供給ノズル１１ａを通して供給できる。アダクトケーキは、好ましくは、乾燥アダクトケーキの重量に対して、残存湿分含量５０重量％未満、更に好ましくは６〜４２重量％、最も好ましくは、１２〜３０重量％まで乾燥させることができる。コントロールヘッド１０の回転によって、予備乾燥されたアダクトケーキで充たされた濾過セル６を予備乾燥ゾーン２から第一の洗浄ゾーン３ａへ送ることができる。
【００２７】
本発明のプロセスの工程ｄ）において、予備乾燥したアダクトケーキを洗浄する。洗浄液は洗浄ゾーン３ａ及び／又は第二の洗浄ゾーン３ｂ中に第一の液体供給ノズル１２ａ及び／又は第二の液体供給ノズル１２ｂを通して供給することができる。好ましい洗浄液は、例えばフェノール、アセトン、水、フェノール／アセトン混合物、フェノール／水混合物、フェノール／アセトン／水混合物又はアセトン／水混合物である。別法として、予備乾燥したアダクトケーキはスチームで洗浄することができる。このケーキは単一又は多段工程で洗浄することができる。多段工程で洗浄する場合には、前記ケーキは向流で、又は好ましくは共流（ｃｏ−ｃｕｒｒｅｎｔｌｙ）で洗浄することができる。アダクトケーキは好ましくは２又はそれ以上の段階で、更に好ましくは２段で中間乾燥工程と一緒に、洗浄する。洗浄工程ｄ）の好ましい態様において、アダクトケーキは第一段階でフェノール／アセトン／水混合物で洗浄して、残存量の母液を結晶から除去し、そして母液中に一般に存在する不純物を除去又は減少させる。フェノール／アセトン／水混合物において、フェノールの濃度は、合計混合物重量に対して、好ましくは０．８〜９８％、更に好ましくは２．１〜５５％、最も好ましくは５〜４０％であり、アセトンの濃度は、好ましくは０．４〜４６％、更に好ましくは１．１〜２５％、最も好ましくは１．５〜１０％であり、そして混合物の残存量は水である。洗浄工程ｄ）で使用するフェノール／アセトン／水混合物の温度は好ましくは２０〜９０℃、更に好ましくは３２〜７２℃である。好ましくは０．１〜２．６重量部、更に好ましくは０．４〜１．５重量％のフェノール／アセトン／水混合物を、例えばビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトのようなビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクトを１重量部当り使用する。固形アダクト結晶の洗浄に使用するフェノール／アセトン／水混合物は好ましくは循環する。第一洗浄段階の後、アダクトケーキは好ましくは中間乾燥工程にかける。窒素のような不活性ガスは好ましくは中間乾燥工程に使用される。不活性ガスの温度は好ましくは４０〜８５℃、更に好ましくは４２〜６８℃である。不活性ガスの圧力は好ましくは０．２〜６バール（２０〜６００kPa）、更に好ましくは０．６〜３．８バール（６０〜３８０kPa）である。中間乾燥工程において、アダクトケーキは、好ましくは、乾燥アダクトケーキの重量に基づいて、残存湿分含量を、５０重量％未満、更に好ましくは４〜３６重量％、最も好ましくは８〜２４重量％に乾燥する。第二の洗浄工程にはアダクトケーキは好ましくはフェノールで洗浄する。洗浄フェノールの温度は好ましくは４２〜９５℃、更に好ましくは４４〜７８℃である。好ましくは０．１〜１．６重量部、更に好ましくは０．３〜１．２重量部の洗浄フェノールを、例えばビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトのようなビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物との固形アダクト１重量部に対して使用する。固形アダクト結晶を洗浄するのに使用された洗浄フェノールは、好ましくはビスフェノール製造プロセスに循環する。コントロールヘッド１０の回転によって、洗浄アダクトケーキ８で充たされた濾過セル６は第一の洗浄ゾーン３ａから中間乾燥ゾーン４へ、そして第二の洗浄ゾーン３ｂ、そして次に乾燥ゾーン５に送られる。
【００２８】
洗浄工程ｄ）の後、結晶は場合によっては、好ましくは窒素のような不活性ガスで乾燥する。不活性ガスはガス供給ノズル１１ｃによって乾燥ゾーン５中に供給することができる。不活性ガスの温度は、好ましくは４０〜８５℃、更に好ましくは４２〜６８℃である。不活性ガスの圧力は好ましくは０．２〜６バール（２０〜６００kPa）、更に好ましくは０．６〜３．８バール（６０〜３８０kPa）である。例えばビスフェノール−Ａ：フェノールアダクトのようなビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物とのアダクトは、好ましくは、乾燥アダクトの重量基準で、２〜４６重量％、更に好ましくはは８〜３０重量％の残存湿分含量を有する。コントロールヘッド１０の回転によって、乾燥されたアダクトケーキ８で充たされた濾過セル６は乾燥ゾーン５から排出ゾーン１５に移すことができる。
【００２９】
洗浄した、そして場合によっては乾燥したアダクトケーキは公知のやり方でロータリーフィルターから排出することができる。例えばアダクトケーキは過圧の窒素のような不活性ガスによって排出ゾーン１５から排出することができる。排出工程ｆ）は好ましくは逆方向のガスブローによって補助することができる。アダクトケーキの排出後、濾過布７を、好ましくはフェノールで、更に好ましくは洗浄工程ｄ）において述べたのと同一の条件に、洗浄する。
【００３０】
本発明のプロセスの濾過工程ｂ）において得られる母液は洗浄工程ｄ）から得られる使用洗浄液と混合することができる。混合物は公知の方法で蒸留して水、アセトン及び少量のフェノールを、好ましくは絶対圧で１５０〜７５０ミリバール（１５〜７５kPa）、更に好ましくは２２０〜６２０ミリバール（２２〜６２kPa）で、除去することができる。フェノール／アセトン／水の蒸留混合物の一部は好ましくは本発明の洗浄工程ｄ）に循環する。
【００３１】
本発明プロセスに従って得られたビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンとフェノール性化合物とのアダクトから、アダクトを溶融し、そしてフェノール性化合物を留去することによって、ビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンを回収することができる。例えばフェノールのような回収フェノール性化合物はビス（４−ヒドロキシアリール）アルカンを製造する反応混合物中に循環することができ、又はアダクト結晶を洗浄する本発明の工程ｄ）に循環することができる。蒸留は、好ましくは温度７０〜２４０℃、更に好ましくは１５０〜２３０℃で、好ましくは圧力２〜６００ミリバール（０．２〜６０kPa）、更に好ましくは５〜１６０ミリバール（０．５〜１６kPa）で実施する。
【００３２】
本発明のプロセスに従って回収されたビスフェノール−Ａは一般には１４００ppm未満の２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｏ，ｐ−アイソマー）、好ましくは１３００ppm未満のｏ，ｐ−アイソマー、更に好ましくは１１００ppmのｏ，ｐ−アイソマー、そして最も好ましくは１０００ppm未満のｏ，ｐ−アイソマー濃度を有する。そのカラーは好ましくは１０ＡＰＨＡ未満である。
【００３３】
図中の符号は以下のものを示す。
１：懸濁液供給ゾーン
２：予備乾燥ゾーン
３ａ：第一の洗浄ゾーン
３ｂ：第二の洗浄ゾーン
４：中間乾燥ゾーン
５：乾燥ゾーン
６：濾過セル
７：濾過布
８：アダクトケーキ
９：溝路
１０：コントロールヘッド
１１ａ，１１ｂ，１１ｃ：ガス供給ノズル
１２ａ，１２ｂ：液供給ノズル
１３：ロータリードラム
１４：懸濁液供給溝路
１５：排出ゾーン
【実施例】
【００３４】
本発明を以下の実施例によって更に説明するが、本発明をこれらの実施例に限定するものでないことはいうまでもない。特に断らない限り、部及び％はすべて重量基準である。不純物２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｏ，ｐ−アイソマー）の含量はガスクロマトグラフィーで分析する。ビスフェノール−Ａの色（カラー）はＡＰＨＡ−ＡＳＴＭ、テスト方法  Ｄ  １２０９−８４（１９８８年再承認）の方法に従って求める。低ＡＰＨＡ数は明色（ｂｒｉｇｈｔ  ｃｏｌｏｒ）を示す。
【００３５】
例１（比較、但し従来技術ではない）
結晶性ビスフェノール−Ａ：フェノールアダクト１４．８％、ビスフェノール−Ａのｏ，ｐ−アイソマー（異性体）２．７％、水２．６％、アセトン０．５％、その他の副生物３．４％を含み、残りはフェノールである懸濁液を連続加圧フィルター（ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ｆｉｌｔｅｒ）に、懸濁液の圧力１．４バールで、１１７２０kg／時の速度で供給した。濾過工程でアダクト結晶を母液から分離した。アダクトケーキを第一の洗浄段階で洗浄フェノール４２５kg／時で洗浄し、そして第二の洗浄段階で洗浄フェノール４７５kg／時で洗浄した。洗浄に使用した洗浄フェノールの温度は５５℃であった。洗浄段階の後、ケーキを圧力１．９バールで窒素で、乾燥アダクトケーキの重量に対して、３０％の残存水分（湿分）含量まで乾燥した。得られたケーキを、窒素を用いて、圧力フィルターから排出した。２０６０kg／時の湿りアダクト結晶（４５０kg／時のフェノールを湿分として含む）を溶融タンクへ移した。混合物を１５４℃に加熱し、溶融させ、そして蒸留装置に供給し、そこで温度１６４℃、１７５℃及び１８６℃並びに圧力（絶対）１６５mbar、７５mbar及び４０mbarで３個の真空カラムでフェノールを留去した。ビスフェノール−Ａを１１３０kg／時で得た。得られたビスフェノール−Ａは濃度１４５０ppmのビスフェノールのｏ，ｐ−アイソマーを含む、カラーは１０ＡＰＨＡであった。
【００３６】
分離した母液は、フェノール、ビスフェノール−Ａ、副生物、未反応アセトン及び生成した水を含み、蒸留カラムに供給して混合物から水及びアセトンを分離した。
【００３７】
例２
例１と同じ懸濁液を１１７２０kg／時で連続加圧フィルターへ供給し、そこで懸濁液の圧力は１．４バールであった。濾過工程でアダクト結晶は母液から分離した。アダクト結晶は１．９バールの圧力及び温度５１℃で窒素で予備乾燥した。
【００３８】
得られたアダクトケーキを、例１に述べたようにして、２回の洗浄段階で洗浄し、乾燥し、更に処理した。１１３０kg／時のビスフェノール−Ａが得られた。このビスフェノール−Ａはビスフェノール−Ａのｏ，ｐ−アイソマーを１０４０ppmの濃度で含み、カラーは８ＡＰＨＡであった。
【００３９】
分離した母液はフェノール、ビスフェノール−Ａ、副生物、未反応アセトン及び生成水を含み、例１のようにして処理した。
【００４０】
例３（比較、但し従来技術ではない）
例１と同じ懸濁液を、連続加圧フィルターに、懸濁液の圧力１．４バールで、１１７２０kg／時の速度で供給した。濾過工程でアダクト結晶を母液から分離した。
【００４１】
アダクトケーキを第一の洗浄段階でフェノール／アセトン／水の混合物（フェノール７．２％、アセトン１．７％、及び水）を用いて４２℃で４２５kg／時の速度で洗浄した。次に洗浄アダクトケーキを、圧力１．９バール及び温度５１℃で窒素による中間乾燥工程にかけた。そして第二の洗浄段階で洗浄フェノール４７５kg／時でそのアダクトケーキを洗浄した。洗浄に使用した洗浄フェノールの温度は５５℃であった。第二洗浄段階の後、アダクトケーキを圧力１．９バール及び温度５５℃で窒素で、乾燥アダクトケーキの重量に対して、３０％の残存水分（湿分）含量まで乾燥した。得られたケーキを、窒素を用いて、加圧フィルターから排出した。
【００４２】
２０６０kg／時の湿りアダクト結晶（４５０kg／時のフェノールを湿分として含む）を溶融タンクへ移した。ビスフェノール−Ａを１１３０kg／時で得た。得られたビスフェノール−Ａは濃度１２４０ppmのビスフェノールのｏ，ｐ−アイソマーを含む、カラーは７ＡＰＨＡであった。
【００４３】
分離した母液は、フェノール、ビスフェノール−Ａ、副生物、未反応アセトン及び生成した水を含み、例１のようにして処理した。
【００４４】
例４
例１と同じ懸濁液を１１７２０kg／時で連続加圧フィルターへ供給し、そこで懸濁液の圧力は１．４バールであった。濾過工程でアダクト結晶は母液から分離した。アダクト結晶は１．９バールの圧力及び温度５１℃で窒素で予備乾燥した。
【００４５】
得られたアダクトケーキを、例３に述べたようにして、２回の洗浄段階で洗浄し、乾燥し、更に処理した。１１３０kg／時のビスフェノール−Ａが得られた。このビスフェノール−Ａはビスフェノール−Ａのｏ，ｐ−アイソマーを７１０ppmの濃度で含み、カラーは２ＡＰＨＡであった。
【００４６】
分離した母液はフェノール、ビスフェノール−Ａ、副生物、未反応アセトン及び生成水を含み、例１のようにして処理した。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明のプロセスに有用なロータリー圧力フィルターの断面図である。
【図１】
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