(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック材料からなるシート基材に比べて耐熱性および寸法安定性にすぐれた基板に、仮に透明導電膜を形成した後、その基板側から前記シート基材の一面に、接着剤の層を介して前記透明導電膜の層を転写して支持するに際し、次の各工程を備えることを特徴とする、接着剤による透明導電膜の支持方法。
Ａ  前記接着剤の層の厚さをＬとし、前記シート基材の一面からそのＬを越える大きさの不要な付着物を除去する一方、大きさがＬ以下の付着物を残存させる工程。
Ｂ  前記Ａの工程で残存させた付着物を前記接着剤の層の中に埋め込むことにより、前記接着剤層の膜厚に悪影響を及ぼさないようにする工程。
【請求項２】
前記透明導電膜は、前記耐熱性および寸法安定性にすぐれた基板上、転写時に剥離部分となる剥離層と、その透明導電膜を保護するための保護膜とではさみ込まれている、請求項１の支持方法。
【請求項３】
前記保護膜の上にさらに前記接着剤層を含む、請求項２の支持方法。
【請求項４】
前記透明導電膜は、液晶カラー表示装置の電極であり、カラー表示のためのカラーフィルタ層が前記保護膜の上に形成され、前記接着剤層がそのカラーフィルタ層を被っている、請求項２あるいは３の支持方法。
【請求項５】
前記Ｂの工程のために、粘度が１０ｃＰ〜２０００ｃＰの塗布液を用いて前記接着剤の層を塗布し形成する、請求項１の支持方法。
【請求項６】
前記Ｌの値が、３μｍ≦Ｌ≦２０μｍである、請求項１の支持方法。
【請求項７】
プラスチック材料からなるシート基材の一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持する層構成であり、前記接着剤の層が、光もしくは熱等のエネルギーを受けて退色し透明になる色素を含み、その色素の色濃度により前記接着剤の層の厚さの均一性を検出することができる、透明導電膜を支持する層構成。
【請求項８】
プラスチック材料からなるシート基材の一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持する層構成であり、前記接着剤は、厚さを制御するためのスペーサ粒子を含み、そのスペーサ粒子は、硬度が前記透明導電膜に比べてやわらかであり、しかも、硬化した前記接着剤の層の平均厚さの５０〜９０％の大きさである、透明導電膜を支持する層構成。
【請求項９】
前記透明導電膜は、その膜厚の１０％相当分を押し込んだとき、弾性変形量が塑性変形量よりも大きい、請求項８の層構成。
【請求項１０】
前記透明導電膜は、その結晶のグレンサイズが０．００５μｍ〜０．１μｍである、請求項８の層構成。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラスチック材料からなるシート基材の一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持する技術であり、プラスチック材料が耐熱性および寸法安定性の面でガラス等に比べて劣る点をカバーするための技術に関する。
【０００２】
【発明の背景】
たとえば、液晶表示装置などの光学的な表示装置のための基板材料としては、ガラスが一般的である。しかし、ガラスは割れやすく、重量も重いことから、それをプラスチック材料に変えることが注目されている。プラスチック材料は、割れにくいし、軽量であることから、特に、携帯機器における表示用の基材として好適である。
【０００３】
ところが、プラスチック材料からなるシート基材を表示装置のための基板材料として用いるとき、プラスチックがガラスに比べて、耐熱性、および温度や湿度の変化に対する寸法安定性で劣ることが製造上問題となる。透明導電膜の特性については、実用上、たとえば１５０℃以上の基板温度で成膜可能で比抵抗が３．０×１０-4Ωｃｍ以下のものが要求される。また、透明導電膜および表示用の画素のパターニングについても、加熱や洗浄などの処理を通して行われるので、耐熱性だけでなく、温度や湿度の変化に対する寸法安定性が求められる。その点、プラスチック材料はガラスに比べて劣るため、プラスチック材料からなるシート基材上に透明導電膜を直接形成する方法では、良好な比抵抗をもつ透明導電膜、また、表示用の画素に対し正確に位置合わせされた透明導電膜を得ることは困難である。
【０００４】
そこで、そのようなプラスチックを用いる場合の難点を解消するため、この出願人は、転写法を利用する技術を先に提案した（平成１０年７月２４日提出の特願平１０−２２５３２０号、および平成１０年１２月１９日提出の特願平１０−３７５９５１号）。これらの先の提案の技術では、透明導電膜をプラスチック材料からなるシート基材に比べて耐熱性および寸法安定性にすぐれた基板（代表的には、ガラス基板）に仮に形成した後、その仮の基板側からシート基材側に転写する。その結果、透明導電膜、さらには表示用の画素群は、仮の基板がもつすぐれた耐熱性および寸法安定性にバックアップされることによって、要求される比抵抗および位置合わせ精度をもつことになる。それは、転写後の状態、すなわち、プラスチック材料からなるシート基材の一面に、接着剤の層を介して支持される状態でも同じである。
【０００５】
【発明の解決すべき課題】
しかし、カラー液晶表示装置のような精密な装置においては、塵埃によるコンタミネーション（汚れ）が常に問題となる。透明導電膜等を形成した仮の基板と、プラスチック材料からなるシート基材は、接着剤の塗布前、あるいは転写のための張り合わせの直前に洗浄し、付着した塵埃を除去することが必要である。仮の基板側については、ブラシ、超音波などを使用したウエット洗浄を行い、エアーナイフ乾燥、熱乾燥をすることによって、付着した塵埃を完全に除去することができ、しかもまた、基板温度を元に戻せば基板上のパターンの寸法もすぐに回復する。
【０００６】
それに対し、すでに述べたように、プラスチック材料からなるシート基材は熱により伸縮しやすく、また、吸湿もしやすい。しかも、熱や吸湿による寸法の変化はヒステリシス特性をもつので、シート基材の寸法の安定化に時間がかかるばかりか、完全に元の寸法に戻らないこともある。そのため、透明導電膜のパターンの寸法精度の点から、シート基材に対しては、仮の基板に対する前記ウエット洗浄を適用することが困難である。たとえば、ポリエーテルスルホンのシート基材を例にあげると、このシート基材は、洗浄のため水に浸すだけで３０ｃｍの長さが１５０μｍ伸びてしまった。また、このシート基材を乾燥のため１００℃で処理し、常温に戻したところ、逆に３００μｍ（水処理前に比べ）収縮してしまった。そして、このシート基材を温度、湿度を一定にして保管したが、寸法が安定するまで３日を必要とした。
【０００７】
プラスチック材料からなるシート基材を熱や水分の影響を受けずに洗浄する方法としては、エアーブローを行うか、粘着ローラを用いるもの等のドライな手法に限られる。しかし、これらの手法では大きな粒子、おおむね３μｍ以上の粒子は除去できるが、これより小さい粒子は除去することが困難である。特に、プラスチック材料は、静電気を帯びやすく、空気中の塵埃を引き付けやすいので、塵埃あるいは異物を完全になくすことは非常に困難である。仮の基板とプラスチック材料からなるシート基材の張り合わせ工程における異物の混入は、接着剤層の膜厚に影響を与え、膜厚の均一性を損なうだけでなく、時によっては、張り合わせ時の圧力で部分的に透明導電膜のパターンを圧迫し、電極となる透明導電膜のパターンを損傷し断線してしまうおそれがある。
【０００８】
【発明の着眼点および解決手段】
そこで、この発明では、プラスチック材料からなるシート基材（以下、プラスチックシートともいう）の洗浄についての検討の結果から、プラスチックシートからすべての塵埃を完全に除去することはせずに、除去しにくい塵埃はプラスチックシート側に残しておき、それが悪影響を及ぼさないようにするという考え方をとることにした。
すなわち、この発明は、プラスチック材料からなるシート基材の一面に、接着剤の層を介して透明導電膜の層を支持するに際し、次の各工程を備えることに特徴がある。
Ａ  前記接着剤の層の厚さをＬとし、前記シート基材の一面からそのＬを越える大きさの不要な付着物を除去し、大きさがＬ以下の付着物を残存させる工程。
Ｂ  前記Ａの工程で残存させた付着物を前記接着剤の層の中に埋め込む工程。
【０００９】
前記Ｌについては、３μｍ≦Ｌ≦２０μｍにするのが良い。下限の３μｍという数値は、３μｍ以上の塵埃はドライな手法で比較的容易に除去することができるという経験的な事実に基づく。また、上限の２０μｍという数値は、膜厚の均一性の点および接着剤の硬化収縮に伴う応力からの制限である。表示品質を担保するためには、接着剤の層についても、その平均膜厚および面内の厚さのばらつきを抑制することが必要であり、また、応力についても、熱処理、高温高湿試験等の信頼性試験によって透明導電膜に断線が生じないように考慮すべきであり、それらの面から２０μｍが限度であり、より好ましい上限値は１０μｍである。なお、前記Ｌの値は、硬化後の厚さであり、その際、接着剤は、応力の影響を避ける意味から、好ましくはヤング率が２０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、特には５００〜２０００ｋｇｆ／ｍｍ2 になるようにすると良い。また、応力を緩和するため、転写の対象である透明導電膜を剥離層と保護膜とではさみ込むように形成するのも良い（平成１１年４月１９日提出の特願平１１−１１０３１０号）。
【００１０】
一方、前記Ｂの工程において、残存させた付着物を接着剤の層の中に確実に埋め込むため、また、転写のための張り付け時に泡が混入することを避けるために、接着剤は高粘度にすべきではなく、粘度が１０ｃＰ〜２０００ｃＰの塗布液を用いて接着剤の層を塗布し形成することが好ましい。このような低粘度の接着剤を用いるとき、接着剤の中に粒径のそろったスペーサ粒子を混入し、接着剤の層の膜厚を制御することができる。スペーサ粒子としては、ベンゾグアナミン（圧縮弾性率：１１００ｋｇ／ｍｍ2 ）より柔らかいものが好ましい。それ以上に固いと、張り付け時に保護膜を通して透明導電膜にダメージを与えやすくなる。ＳｉＯ2 の粒子は、この面から好ましくなく、シリコーンのような柔らかいものが最も好ましい。接着剤の層は、スペーサ粒子の大きさまで押しつぶすのではなく、平均膜厚としてはスペーサ粒子の大きさよりもやや厚めに制御する。この膜厚の制御は、層の中にスペーサ粒子が存在するとき、かなり容易であり、張り付け条件を広くとることができるようになる。実験の結果からすると、スペーサ粒子の大きさは硬化した接着剤の層の平均厚さの５０〜９０％の大きさが好ましく、また、その混入量は面内分布量で２０〜４０個／ｍｍ2 が好ましい。
【００１１】
接着剤としては、熱をかけずに硬化する光硬化型の接着剤を用いることが望ましく、アクリルモノマーあるいはアクリルモノマーとオリゴマーからなるラジカル重合型のものやカチオン重合型のエポキシ系の光硬化型樹脂を用いることができ、その中でもカチオン重合型の、たとえば、エポキシ系の紫外線硬化型接着剤が最適である。これは、ガラスからなる仮の基板と転写されるプラスチックシートのように熱膨張係数の差が大きいものを接着剤を介して張り合わせ、接着剤の層を硬化させるに際し、熱収縮の影響を受けずに転写することができるからである。接着剤の層は、スピンコータ、ロールコータ、スプレイコータ等の各種の塗布手段によって塗布し形成することができる。塗布被膜の均一性の点からはスピンコータによる方法が最もすぐれるが、塗布装置の価格や塗布材料である接着剤の利用効率の面に難点がある。また、ロールコータによる方法は生産性にすぐれるが、ロールのスジムラがでやすく、それを後の張り付け工程で消すことが難しい。その点、スプレイコータによる方法は、装置価格や塗布材料の利用効率にすぐれ、しかもまた、塗布表面に微細なあばた状のムラが生じる傾向はあるが、後の張り付け工程でそうしたムラを消すことができる。さらに、接着剤の層は、仮の基板上、あるいはプラスチックシート上のいずれの側へも形成することができるが、仮の基板側に形成する方が好ましい。仮の基板側の方が塵埃（異物）を除去しやすく、塗布をより確実に均一に行うことができるからである。塗布すべき面に異物がある場合、その異物を核にして、流動性のある塗布液がはじかれることがある。
【００１２】
光学的な表示装置として、高品質な表示をするためには、他の層に比べて厚い接着剤の層の平均膜厚や、面内の厚さのばらつきをチェックすることが必要である。こうしたチェック、たとえば、局部的な凹凸とかすじ状の接着剤の層の厚さのむらを目視検査等では識別することが困難である。ところが、液晶表示装置としてパネル化すると、その厚さのむらの部分の屈折率が周囲の部分と異なり目立つようになる場合がある。
そこで、この発明では、接着剤の層の厚さのばらつきを目視検査で確認することができるようにすることにも目を付けた。すなわち、予め接着剤の中に特定の色素を少量、たとえば０．０１重量％〜０．１重量％添加し、この色素の濃淡で膜厚のばらつきや膜厚のむらを確認するようにした。そして、電極である透明導電膜のパターンおよびカラー表示のためのカラーフィルタ等を形成した仮の基板とプラスチックシートとを張り合わせた際、加圧（ロールの当たり）のむらや接着剤の塗布むらや、すじに起因する接着剤の層の膜厚のばらつきやむらを容易に発見することができる。
【００１３】
しかし、接着剤に添加した色素による着色は、接着剤の層のチェックの上では有効であるが、カラー液晶表示等の色彩に影響を与える場合がある。そのため、使用する染料としては、強い光、酸あるいは熱などで容易に退色、透明化するものを用いることが望ましい。このような色素としては、シアニン系色素、オキサジン系色素、フェノチアジン系色素、トリフェニルメタン系色素のうち、メチレンブルー、フェノールフタレイン等が使用可能である。接着剤として、たとえば紫外線硬化型のように、接着剤の硬化と一緒に、添加した染料を退色、透明化させることができるものを選択するのが良い。
【００１４】
この発明で用いるプラスチック材料からなるシートは、枚葉、ロールのいずれの形態でも用いることができ、好ましい厚さは１００〜７００μｍ、特に好ましくは、１００〜４００μｍの範囲である。プラスチック材料としては、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル、ポリイミド等の樹脂からなるシートを適用することができる。
【００１５】
また、透明導電膜としては、ＩＴＯやＳｎＯ2 などの金属酸化物を用いるこができ、特に、透明性および比抵抗などの物理的な特性面で優れたＩＴＯが好ましい。このＩＴＯは、スパッタリング、イオンプレーティング、あるいは電子ビーム蒸着等の公知の方法によって形成することができる。これらの成膜法により形成した透明導電膜を公知のエッチング法を用いてパターン化することができる。この発明では、このパターン化の際に、仮の基板として、セラミックス、ガラス、金属（４２アロイ、銅合金の熱膨張の小さい金属材料が好適である）の単体、あるいはそれらの複数を積層し複合したものなどの耐熱性および寸法安定性にすぐれた基板、特に好ましくは、ガラス基板を用いるので、たとえば、１００ｍｍに対し、約±３μm以下の寸法精度で透明導電膜を得ることができる。
【００１６】
このような透明導電膜に必要とされる膜特性としては、主に良好な光透過率と小さな抵抗値であるが、そのほか、転写後にプラスチックシートから受ける力（シートの伸縮、曲げなどによる力）に対する適正も大事である。透明導電膜は、たとえば１０００〜２０００オングストロームの薄い膜であり、その硬さについて、超微小硬さ試験機で測定することができる。この硬さ試験機は、圧子駆動部に変位計が装備され、圧子の押し込み深さを測定し、押し込み深さから硬さを求めるもので、これを連続的に測定することによって、弾性変形量、塑性変形量、試験力の保持中におけるクリープ変形量などの情報を得ることができる。この超微小硬さ試験機で透明導電膜の物性を測定したところ、この発明に適用する上で良好な透明導電膜としては、透明導電膜の膜厚の１０％相当分を押し込んだとき、弾性変形量が塑性変形量よりも大きいものが好ましく、そのヤング率は２×１０4 ｋｇｆ／ｍｍ2 より大きいものが良いことが分かった。また、その好ましい透明導電膜をＳＥＭで観察したところ、その結晶のグレンサイズは０．００５μｍ〜０．１μｍであり、０．１μｍより大きい場合にはクラックやしわなどの欠陥が発生しやすいことが判明した。なお、グレンサイズが０．００５μｍより小さい膜の成膜はむずかしく、しかも、低抵抗のものが得られない。
【００１７】
【好適な実施態様】
この発明は、カラー液晶表示装置やタッチパネルなどの各種の光学的な表示装置に適用することができるが、特には、透明導電膜およびカラーフィルタを含むカラー液晶表示装置に好適に適用することができる。図１〜図６が、この発明を適用することによりカラー液晶表示装置を製造する際の工程図である。まず、図１に示すように、洗浄したガラスの仮の基板１０の一面に、ポリイミドからなる剥離層２０を形成する。
【００１８】
剥離層２０としては、透明導電膜の材料であるＩＴＯ等を高温で成膜することが可能な耐熱性や、そうした透明導電膜をパターンニングする際のエッチングプロセス等に対する耐性や、また、仮の基板１０との適度な密着性（転写・剥離するまでしっかりと仮の基板１０に密着していること）が求められる。
このような特性を満足するために、剥離層２０は、たとえば、９０度剥離試験で数ｇ〜１００ｇ／ｃｍ程度の引き剥がし力が必要なだけの密着性をもつことが必要である。また、仮の基板１０がガラス基板のような剛体である場合には、剥離層２０の破壊や層間剥離を防止するために、剥離層２０の幅１ｃｍ当たりで、１００ｇ以上の引き剥がし強度をもつことが望ましい。剥離層２０の材料として、特定組成のポリイミドが望ましい。その理由として、仮の基板１０がガラス基板の場合には、特定組成のポリイミドを用いるとき、ガラス基板１０と剥離層２０の層間に特別な処理をしなくとも剥離することが可能となるからである。
【００１９】
こうした特定組成のポリイミドとして、たとえば、ピロメリット酸無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエーテルから合成されるポリイミドや、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、あるいはピロメリット酸無水物と３，３’−ジアミノジフェニルスルホンから合成されるポリイミドを用いることができる。また、この特定組成のポリイミドとガラスとの密着性は、ベークすると高く（良く）なるが、時間の経過とともに次第に低下する。そして、一定の所で変化しなくなる。しかし、そのように密着性が低下した剥離層２０を再びベークすると密着性は元に戻る。この特定組成のポリイミドはベーク直後では、仮の基板（ガラス基板）２０から剥がすことはできないが、時間が経過すれば剥がすことができるようになる。こうしたポリイミドの密着性の変化は、ポリイミドの吸湿が原因していると考えられる。したがって、ポリイミドのそうした特性を考慮しつつ、ポリイミドを剥離層２０として用いることができる。このとき、剥離層としての機能を満足するために、剥離層となる特定組成のポリイミドの膜厚を１．３μｍ好ましくは２．０μｍ以上にする事が好ましい。なお、前記の特定組成のポリイミド、特に、ピロメリット酸無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエーテルから合成されるポリイミドは、シリカコートガラス上でベーク直後でも剥離することができるが、数日すると水洗で剥がれてしまうほど密着性が低下する。しかし、これら密着性の良くないポリイミドにシランラップリング剤を添加することにより、ガラスとの密着性を最適化する事ができる。したがって、そのようなポリイミドをも剥離層２０の材料として利用することもできる。
【００２０】
次に、図２に示すように、そうした仮の基板１０の剥離層２０上に、ＩＴＯ膜を成膜した後、それをパターニングすることによって、透明導電膜３０を形成する。ＩＴＯ膜の成膜に当たっては、仮の基板１０の温度を１５０℃以上とし、すでに述べたような比抵抗の低い膜を得る。そして、図３に示すように、仮の基板１０上の透明導電膜３０を被うように、保護膜４０を形成する。保護膜４０は、剥離層２０と相俟って透明導電膜３０を保護するための膜であり、アルキッド、アクリル、ウレタン等有機系の樹脂のほか、無機系、あるいは無機系と有機系のハイブリッド樹脂などを用いることができる。また、無機系の材料としては、たとえばテトラアルコキシシランのアルコール溶液があり、保護膜としてより厚い膜が必要な場合には、有機成分を入れたコーティング溶液を用いることもできる（たとえば、商品名セラメート、ＺＲＳ−５ＰＨシリーズ／触媒化成）。保護膜４０の厚さとしては、０．１μｍから１０μｍが好ましく、特に１〜５μｍが好ましい。その時の保護膜４０の硬さとしては、鉛筆硬度でＨ以上、できれば、２Ｈ以上に設定することが好ましい。
【００２１】
この後、図４に示すように、保護膜４０の上にイエロー、マゼンタ、シアンの色画素５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃを含むカラーフィルタ層５０をフォトリソグラフィ法によって形成する。色画素５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃの材料として、染料あるいは顔料などの着色剤をポリイミド樹脂溶液に溶解あるいは分散させた公知の塗布材料を用いることができる（たとえば、特開平１０−１７０７１６号）。各色画素はストライプ形状であり、その幅は５０〜２００μｍであり、隣り合う色画素の間の距離は５〜２０μｍである。
【００２２】
さらに、図５に示すように、カラーフィルタ層５０の上を全体的に被うように、接着剤の層６０を塗布によって形成する。塗布液は前記したように低粘度であり、その中にはスペーサ粒子が混入されている。この接着剤の層６０を形成した後、図６に示すように、接着剤の層６０の側にプラスチックシート８０を張り付け、透明導電膜３０およびカラーフィルタ層５０などを仮の基板１０側からプラスチックシート８０側に転写する。転写後、剥離層２０を除去する。それは、透明導電膜３０と液晶表示のための駆動素子との電気的な接続を可能とするためでもあり、液晶駆動のための実効電圧の向上を図るためでもある。ポリイミドからなる剥離層２０を除去する方法としては、公知のウエットエッチングあるいはドライエッチングのいずれをも適用することができる。なお、透明導電膜３０と駆動素子との電気的な接続については、ＡＣＦ（異方性導電膜）による熱圧着接続を適用することができる。前記したグレンサイズの小さなＩＴＯは、ＡＣＦに対してクラックを生じることがない。
【００２３】
【実施例１】
仮の基板であるシリカコートした青板ガラス基板上にピロメリット酸無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエーテルを反応させ生成したポリイミド前駆体ワニス（ジメチルアセトアミド溶液、固形分比１０％）にシランカップリング剤（ＫＢＭ−５７３：信越シリコーン社製）を０．０５wt％（固形分比）を添加した溶液を、スピンコーターを用いて９００ｒｐｍで１２秒の条件で塗布した。そして、それを乾燥した後、ホットプレートを用い２６０℃、１０分の条件で加熱、脱水閉環し、２μｍの厚みのポリイミド被膜からなる剥離層を形成した。この剥離層と仮の基板との界面の密着強度は、加熱処理２日後で４ｇ／ｃｍであった。また、その剥離層の引っ張り強度は、ＪＩＳＫ７１２７を準用して測定した試験で１５０ｇ／ｃｍであった。
【００２４】
次に、剥離層上にＩＴＯをスパッタ法を用い１８０℃の基板温度で、１５００Ａ（オングストローム）の厚みに成膜した。その表面抵抗は、１５Ω／□であった。ついで、ＩＴＯ上に市販のポジ型レジストを塗布し、乾燥後、所定のパターンを持ったマスクを介して露光、現像、エッチング、レジストを剥離してパターン状の透明導電膜を形成した。
【００２５】
さらに、透明導電膜上に、保護膜としてコーティング剤（オプトマーＳＳ−６９１７：ＪＳＲ社製）を３μｍの厚さとなるように形成した。この保護膜のヤング率は、超微小硬さ試験機で測定したところ、１１００ｋｇｆ／ｍｍ2 であった。そして、この保護膜上に着色ポリイミドを用い、フォトリソグラフィ法でＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の色画素を含むカラーフィルタ層を形成した。その後、仮の基板上にカラーフィルタ層まで形成したものを水洗、乾燥後、室温に戻し洗浄した。
【００２６】
次に、カラーフィルタ層上に接着剤として、紫外線硬化樹脂（ＫＲ−４００：旭電化社製）に粒径が４μｍのスペーサ粒子（エポスターＧＰ−Ｈ：日本触媒社製）と色素（ＮＫ−１３６：日本感光色素研究所）を少量混入分散させた。このときの接着剤の粘度は、１２０ｃＰであった。この接着剤を、カラーフィルタ層上に約６μｍの膜厚となるようにスプレーにより塗布し、接着剤の層を形成した。この接着剤の層は、色素により薄い青色に着色していた。
【００２７】
一方、被転写体であるプラスチック材料からなる厚さが１５０μｍのシート（ＬＣＤ用ポリエーテルスルホンフィルム：住友ベークライト社製）を超音波で水洗、乾燥後２日クリーンルーム内で乾燥し、このプラスチックシートを仮の基板と張り合わせる直前に超音波エアークリナで洗浄してから、張り合わせに供した。張り合わせは、加圧ロールを用いたラミネータを用い、その加圧圧力は、ロールの自重のみとした。そして、プラスチックシートと仮の基板を張り合わせた状態で、接着剤の層にむらや筋等の異常がないことを確認してから、紫外線を照射して接着剤の層を硬化した。硬化後の接着剤の層の厚さは、４．５〜５．５μｍであり、ヤング率は、９００ｋｇｆ／ｍｍ2 であった。また、接着剤の層に添加した色素の薄い青色は、紫外線照射により退色、透明化していた。
【００２８】
次に、仮の基板と張り合わせたプラスチックシート側の一端を、直径２００ｍｍのロールに固定し、このロールを回転させながら仮の基板の端からプラスチックシートを引き剥がした。この時、仮の基板は、ガラス基板と剥離層との界面から剥がれ、透明導電膜、保護膜、カラーフィルタ層等はプラスチックシート側に転写された。
【００２９】
転写処理後、ヒドラジンとエチレンジアミンの１：１混合液でポリイミド剥離層を水洗し除去した。このプラスチックシートは、接着剤の層に若干の異物の混入が見られるものの、異物が接着剤の層の中に埋め込まれており、透明導電膜の断線は発生していなかった。また、熱処理、あるいは高温高湿試験等の信頼性試験を行っても透明導電膜にクラックが発生することはなかった。
【００３０】
【実施例２】
保護膜にＥＸＰ−１４７４（藤倉化成社製）を用い厚さ１．５μｍの保護膜を形成し、また、スペーサ粒子として柔らかいシリコーン系のＫＭＰ−６００（平均粒径５μｍ、信越シリコーン社）以外は実施例１と同条件で各層を形成し、転写処理を行った。接着剤の層の硬化後の膜厚は４．５〜５．５μｍであり、実施例１と同様に特に問題はなかった。
【００３１】
【比較例１】
ここで、接着剤の層にスペーサ粒子を入れずに張り合わせを行ったものは、平均膜厚が前述したよりかなり薄く、その値は３μｍより薄く、しかも、膜厚のばらつきが大きかった。また、異物は、接着剤の中に完全には埋め込まれておらず、その異物のある位置に透明導電膜のクラックが発生している部分があった。
【００３２】
【比較例２】
スペーサ粒子として、硬い、真絲球（商品名であって、シンジョウキュウと称する真球）−ＳＷ１０．０（触媒化成工業、ＳｉＯ2微粒子）を使用したこと、および、接着剤の層の塗布膜厚を１１μｍとしたこと以外は、実施例２と同一条件で各層を形成し、転写処理を行った。接着剤の層の硬化後の膜厚は１０．５μｍであったが、所々スペーサ粒子が透明導電膜までめり込んで傷になっている部分が観察された。また、スペーサ粒子の部分が肉眼で若干曇ったように見えた。
【図面の簡単な説明】
【図１】  剥離層を形成した仮の基板を示す断面図である。
【図２】  仮の基板上に透明導電膜を形成した状態を示す断面図である。
【図３】  透明導電膜のパターンの上を保護膜で被覆した状態を示す断面図である。
【図４】  保護膜の上にカラーフィルタ層を形成した状態を示す断面図である。
【図５】  カラーフィルタ層の上に接着剤の層を塗布した状態を示す断面図である。
【図６】  転写の際の状態を示す断面図である。
【符号の説明】
１０  仮の基板（ガラス基板）
２０  剥離層（ポリイミド層）
３０  透明導電膜
４０  保護膜
５０  カラーフィルタ層
６０  接着剤の層
８０  シート基材（プラスチックシート）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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