(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される構造からなるラジカル重合性化合物。
【化１】
0004414607.tif 000028
（一般式（Ｉ）中、Ｘ3は下記式(1)〜(4)から選択されるＳ原子を介してヘテロ環と結合する基又は該下記式(1)〜(4)から選択される基においてへテロ環の水素原子一つがハロゲン原子若しくはＲ4ＣＯＮＨ−で表されるアシルアミノ基で置換されている基を表す。Ｑ1はＣＯＸ2で表される基であり、Ｘ2はＲ5Ｏ−で表されるアルコキシ基を表す。Ｒa、Ｒbは各々水素原子を表す。なお、Ｒ4、Ｒ5は炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を表す。）
【化２】
0004414607.tif 000029
【請求項２】
下記一般式（II）で表される構造からなるラジカル重合性化合物。
【化３】
0004414607.tif 000030
（一般式（II）中、Ｑ1はＣＯＸ2で表される基であり、Ｘ2はＲ5Ｏ−で表されるアルコキシ基を表す。Ｚ2は、ｎ個の連結部が全てヘテロ原子であるｎ価の連結基であって下記連結基群（１）に記載のものから選択される連結基を表す。Ｒa、Ｒbは各々水素原子を表す。ｎは３〜５の整数。なお、Ｒ5は炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を表す。）
連結基群（１）
【化４】
0004414607.tif 000031
【請求項３】
下記一般式（III）で表される構造からなるラジカル重合性化合物。
【化５】
0004414607.tif 000032
（一般式（III）中、Ｘ1は、Ｒ5ＣＯＯ−で表されるアルキルエステル基、ベンジルエステル基、フェニルエステル基から選択される基を表す。Ｚ1は、ｎ個の連結部が全てヘテロ原子であるｎ価の連結基であって下記連結基群（２）に記載のものから選択される連結基を表す。Ｒa、Ｒbは各々水素原子を表す。ｎは２〜６の整数。なお、Ｒ5、は炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を表す。）
連結基群（２）
【化６】
0004414607.tif 000033
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なラジカル重合性化合物に関し、３次元光造形やホログラフィー、平版印刷用版材やカラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターといった画像形成材料やインクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料用途に利用できる光重合性材料に関する。特にコンピュータ等のデジタル信号から各種レーザを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷用版材に好適な光重合性組成物に用いられるラジカル重合性化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ、ガスレーザは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっており、これらのレーザはコンピュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源として、非常に有用である。
これら各種レーザ光に感応する記録材料については種々研究されており、代表的なものとして、
第一に、感光波長７６０ｎｍ以上の赤外線レーザで記録可能な材料としては米国特許第４７０８９２５号記載のポジ型記録材料、特開平８−２７６５５８号に記載されている酸触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。
第二に、３００ｎｍ〜７００ｎｍの紫外光または可視光レーザ対応型の記録材料としては米国特許２８５０４４５号及び特公昭44-20189に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等が多数ある。
【０００３】
一方、３００ｎｍ以下の短波長光及び電子線に関しては、特にフォトレジスト材料として重要である。近年では集積回路がその集積度を益々高め、超ＬＳＩなどの半導体基板の製造でもハーフミクロン以下の線幅からなる超微細パターンの加工が必要とされており、その必要性を満たすためにフォトリソグラフィーに用いられる露光装置の使用波長は益々短波化し、遠紫外光やエキシマレーザ光（ＸｅＣｌ、ＫｒＦ、ＡｒＦなど）が検討され、さらに電子線による超微細パターンの形成が検討されるに至っている。特に電子線は次世代のパターン形成技術の光源として有望しされている。
【０００４】
これらの画像形成材料全てに共通の課題としては上述の各種エネルギー照射部と未照射部において、その画像のＯＮ−ＯＦＦをいかに拡大できるかであり、つまり画像形成材料の高感度と保存安定性の両立である。
通常、光ラジカル重合系は高感度であるが、空気中の酸素による重合阻害により大きく低感度化する。そのため、画像形成層の上に酸素遮断性の層を設ける手段が取られている。しかし、酸素遮断性の層を設けると逆に暗重合等によるカブリが発生し、保存安定性が悪化する。従って、高感度と保存安定性の両立は、困難な課題であり、従来の技術では十分に満足できる結果は得られておらず、従来にはない新たな技術が求められていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、画像形成技術の中でも最も高感度で有望視されている光ラジカル重合系組成物において、高感度と優れた保存安定性を見事に両立できる光重合性組成物のためのラジカル重合性化合物を提供することである。特に紫外光、可視光及び赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板印刷用版材として好適な光重合性組成物のためのラジカル重合性化合物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、光重合性組成物において特定の重合性基を有する化合物を用いることにより、上記目的を達成することを見いだした。即ち、本発明のラジカル重合性化合物は、下記一般式（Ｉ）〜（III)で表される構造からなる化合物である。
【０００７】
【化２】
0004414607.tif 000002
【０００８】
一般式（Ｉ）中、Ｘ3は下記式(1)〜(4)から選択されるＳ原子を介してヘテロ環と結合する基又は該下記式(1)〜(4)から選択される基においてへテロ環の水素原子一つがハロゲン原子若しくはＲ4ＣＯＮＨ−で表されるアシルアミノ基で置換されている基を表す。Ｑ1はＣＯＸ2で表される基であり、Ｘ2はＲ5Ｏ−で表されるアルコキシ基を表す。Ｒa、Ｒbは各々水素原子を表す。なお、Ｒ4、Ｒ5は炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を表す。）
【化７】
0004414607.tif 000003
一般式（II）中、Ｑ1はＣＯＸ2で表される基であり、Ｘ2はＲ5Ｏ−で表されるアルコキシ基を表す。Ｚ2は、ｎ個の連結部が全てヘテロ原子であるｎ価の連結基であって下記連結基群（１）に記載のものから選択される連結基を表す。Ｒa、Ｒbは各々水素原子を表す。ｎは３〜５の整数。なお、Ｒ5は炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を表す。）
連結基群（１）
【化８】
0004414607.tif 000004
一般式（III）中、Ｘ1は、Ｒ5ＣＯＯ−で表されるアルキルエステル基、ベンジルエステル基、フェニルエステル基から選択される基を表す。Ｚ1は、ｎ個の連結部が全てヘテロ原子であるｎ価の連結基であって下記連結基群（２）に記載のものから選択される連結基を表す。Ｒa、Ｒbは各々水素原子を表す。ｎは２〜６の整数。なお、Ｒ5、は炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を表す。）
連結基群（２）
【化９】
0004414607.tif 000005
【０００９】
従来から最も一般的なラジカル重合性の化合物として、重合性が高いアクリル酸エステル基、アクリル酸アミド基、メタクリル酸エステル基、メタクリル酸アミド基等を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーなどが利用されてきたが、これらのものでは、酸素による重合阻害を受けるため、光重合性組成物に用いたときに感度と保存安定性の両立という課題を達成できるものでなかった。
【００１０】
一方、ポリマーの構成成分として、アクリル系に匹敵する重合性をもつ基としてα-ヘテロ置換メチルアクリル基やα-ハロゲン置換メチルアクリル基を有する化合物（モノマー）が知られている。これらの化合物は、同じα位に置換基を有する重合性の低いイタコン酸基やα-アルキルアクリル基などとは違い、α位に置換されたヘテロ原子或いはハロゲン原子の電子的効果及び立体的効果により、ポリマーの構成成分としての重合性が向上すると言われている。
【００１１】
本発明者は、α位にヘテロ原子あるいはハロゲン原子が置換した重合性基を有する構造を含有する化合物を光重合開始剤とともに光重合性組成物に用いることにより、従来のラジカル重合性化合物が有する課題、即ち上述の酸素の重合阻害の影響を大幅に低減でき、上記光重合性組成物特有の課題である高感度と優れた保存安定性の両立を解決できるということを見いだした。
酸素の重合阻害の影響を低減する機構は明確ではないが、本発明における一般式（Ｉ）〜（III)で表される構造を有する化合物は、そのα-位の置換基効果により、従来のアクリル系やメタクリル系と比較し重合成長速度定数はあまり高くはないが、停止速度定数が極端に小さいため、連鎖成長時に酸素と反応しにくく、結果として酸素の重合阻害の影響を受けにくくなったのではないかと考えられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
＜本発明における一般式（Ｉ）〜（III)で表される構造を有する化合物＞
本発明における特徴の化合物は、一般式（Ｉ）〜（III)で表される構造を有し、重合性基を少なくとも１つ有する化合物である。
一般式（Ｉ）〜（III)で示される構造は、１価あるいは２価以上の置換基となっていてもよいし、一般式（Ｉ）〜（III)におけるＲa、Ｒb、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3が全て末端基を表して、それ自身で１つの化合物となっていてもよい。一般式（Ｉ）〜（III)で示される構造が１価あるいは２価以上の置換基となっている場合には、一般式（Ｉ）〜（III)におけるＲa、Ｒb、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち少なくとも１つが、１つ以上の結合手を有する。更に、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3がｎ個の連結可能な部位を有する連結基となって、その末端に一般式（Ｉ）〜（III)で示される基をｎ個連結していても良い（ｎは２以上の整数）（多量体）。
さらに、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち少なくとも１つで、重合体鎖に結合していてもよい。即ち、重合体鎖の側鎖に一般式（Ｉ）〜（III)で表される構造が存在する形態を取っていてもよい。ここで、重合体鎖としては後述の線状有機高分子重合体が挙げられる。
具体的には、ポリウレタン、ノボラック、ポリビニルアルコール等のようなビニル系高分子、ポリヒドロシスチレン、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)アクリル酸アミド、ポリアセタール等が挙げられる。これら重合体はホモポリマーでも、コポリマー(共重合体)でもよい。
該一般式（Ｉ）〜（III)において、
Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表すが、それらが末端基になってもよいし、また連結基となり、他の置換基（ここで置換基としては、上述の如く、一般式（Ｉ）〜（III)の構造や重合体鎖も含む）に連結されてもよい。ヘテロ原子としては、好ましくは非金属原子であり、具体的には酸素原子、イオウ原子、窒素原子、リン原子が挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等が挙げられる。
Ｘ1として好ましくは、ハロゲン原子、あるいはＸ1が連結基となり、そこに他の置換基が連結されている基として、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、ニトロ基、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で連結している）を表す。
Ｘ2として好ましくは、ハロゲン原子、あるいはＸ2が連結基となり、そこに他の置換基が連結されている基として、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で連結している）を表す。
Ｘ3として好ましくは、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で結合している）を表す。
【００１３】
Ｘ1、Ｘ2又はＸ3が連結基となり、そこに他の置換基が連結されている基となる場合において、それらの基からｎ個の水素を除いて、ｎ個の連結可能な部位を有する連結基となり、その末端に一般式（Ｉ）〜（III)の基をｎ個連結していても良い（ｎは２以上の整数）。
またＸ1、Ｘ2、Ｘ3が互いに結合し環状構造を形成していても良い。
【００１４】
Ｒa、Ｒbは各々独立して、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、あるいは有機残基として、置換基を有していても良くかつ不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、置換オキシ基、置換チオ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキシラート基を表し、また、ＲaとＲb、Ｘ1とＲaあるいはＲb、 Ｘ3とＲaあるいはＲb、Ｑ1とＲaあるいはＲbが互いに結合して環状構造を形成しても良い。ｎは２〜６の整数。
【００１５】
Ｚ1とＺ2は各々独立して、少なくとも炭素を６個以上含有し、好ましくは炭素を７個以上含有するｎ個の連結部が全てヘテロ原子であるｎ価の連結基を表す。ここでｎは２〜６の整数であり、好ましくはｎは３〜６の整数である。
Ｚ1とＺ2のｎ個の連結部ヘテロ原子は酸素原子、イオウ原子、窒素原子、リン原子のいずれかであり、好ましくは、連結した状態で置換オキシ基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で連結している）を形成する。 また、Ｚ2のｎ個の連結部は、より好ましくは−ＯＣＯ−の連結構造を有する。
Ｚ1とＺ2の最も好ましい具体例は後記の「具体例」中に記載した連結基構造が挙げられる。
【００１６】
次に、一般式（Ｉ）〜（III)におけるＸ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｒa、Ｒbにおける上述の各置換基の例を示す。
上記、置換基を有していても良くかつ不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基があげられる。
【００１７】
アルキル基としては炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあげることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００１８】
置換アルキル基は置換基とアルキレン基との結合により構成され、その置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びそ��共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基があげられる。
【００１９】
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基などをあげることができる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等があげられる。
【００２０】
上述のアシル基（Ｒ4ＣＯ−）としては、Ｒ4が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基をあげることができる。
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものをあげることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基をあげることができる。好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、
【００２１】
【化３】
0004414607.tif 000006
【００２２】
ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等をあげることができる。
【００２３】
アリール基としては１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、をあげることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００２４】
置換アリール基は、置換基がアリール基に結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものをあげることができる。これらの、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等をあげることができる。
【００２５】
アルケニル基としては、上述のものを挙げることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、この置換基としては、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例としては
【００２６】
【化４】
0004414607.tif 000007
【００２７】
等をあげることができる。
アルキニル基としては、上述のものを挙げることができる。置換アルキニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わり、結合したものであり、この置換基としては、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。
【００２８】
ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合してできた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘテロ環の例としては、
【００２９】
【化５】
0004414607.tif 000008
【００３０】
【化６】
0004414607.tif 000009
【００３１】
等をあげることができる。
【００３２】
置換オキシ基（Ｒ5Ｏ−）としては、Ｒ5が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基をあげる事ができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものをあげる事ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）としては、Ｒ6が、前述のアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものをあげることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。
【００３３】
置換チオ基（Ｒ7Ｓ−）としてはＲ7が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好ましい置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシルチオ基をあげることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものをあげることができ、アシルチオ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これらの中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がより好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシエチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカルボニルチオ基等があげられる。
【００３４】
置換アミノ基（Ｒ8ＮＨ−，（Ｒ9）（Ｒ10）Ｎ−）としては、Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基があげられる。
これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものをあげることができ、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これらの内、より好ましいものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があげられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があげられる。
【００３５】
置換カルボニル基（Ｒ11−ＣＯ−）としては、Ｒ11が一価の非金属原子団のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基があげられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものをあげることができる。これらの内、より好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、があげられ、更により好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基があげられる。好ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等があげられる。
【００３６】
置換スルフィニル基（Ｒ12−ＳＯ−）としてはＲ12が一価の非金属原子団のものを使用できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基があげられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものをあげることができる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、があげられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等があげられる。
【００３７】
置換スルホニル基（Ｒ13−ＳＯ2−）としては、Ｒ13が一価の非金属原子団のものを使用できる。より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基をあげることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものをあげることができる。このような、置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基等があげられる。
【００３８】
スルホナト基（−ＳＯ3-）は前述のとおり、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００３９】
カルボキシラート基（−ＣＯ2-）は前述のとおり、カルボキシル基（ＣＯ2Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００４０】
置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基があげられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等があげられる。
【００４１】
ホスホナト基（−ＰＯ32-、−ＰＯ3Ｈ-）とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）の、酸第一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００４２】
置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））の共役塩基をあげることができる。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００４３】
次に一般式（Ｉ）〜（III)で示される構造からなる化合物の具体例を示す。（なお、Ａ群（表１）のＡ−１〜Ａ−８，Ａ−１７〜Ａ−１９，Ａ−２１〜Ａ−２３が、補正後の一般式（Ｉ）の具体例であり、Ａ群（表１）の他の例は一般式（Ｉ）の具体例からははずれた参考例を表す。また、Ｆ群（表６）のＦ−２〜Ｆ８，Ｆ−１０，Ｆ−１６〜Ｆ１８，Ｆ２１，Ｆ２３〜Ｆ３１が、補正後の一般式（II）の具体例であり、Ｆ群（表６）の他の例及びＢ群（表２）、Ｄ群（表４）、Ｇ群（表７）の例は一般式（II）の具体例からははずれた参考例を表す。また、Ｃ群（表３）、Ｅ群（表５）ではＣ−１〜Ｃ−８，Ｃ−１１〜Ｃ−２３，Ｅ−１，Ｅ−３〜Ｅ−５，Ｅ−７〜Ｅ−１０，Ｅ−１７が、補正後の一般式（III）の具体例であり、Ｃ群（表３）、Ｅ群（表５）の他の例は一般式（III）の具体例からははずれた参考例を表す。）
【００４４】
【表１】
0004414607.tif 000010
【００４５】
【表２】
0004414607.tif 000011
【００４６】
【表３】
0004414607.tif 000012
【００４７】
【表４】
0004414607.tif 000013
【００４８】
【表５】
0004414607.tif 000014
【００４９】
【表６】
0004414607.tif 000015
【００５０】
【表７】
0004414607.tif 000016
【００５１】
【表８】
0004414607.tif 000017
【００５２】
【表９】
0004414607.tif 000018
【００５３】
【表１０】
0004414607.tif 000019
【００５４】
【表１１】
0004414607.tif 000020
【００５５】
【表１２】
0004414607.tif 000021
【００５６】
【表１３】
0004414607.tif 000022
【００５７】
【表１４】
0004414607.tif 000023
【００５８】
【表１５】
0004414607.tif 000024
【００５９】
【表１６】
0004414607.tif 000025
【００６０】
【表１７】
0004414607.tif 000026
【００６１】
【表１８】
0004414607.tif 000027
【００６４】
本発明のラジカル重合性化合物を用いた光重合性組成物の用途としては走査露光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂の用途として知られるものに制限なく適用できる。例えば、必要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の光重合性組成物に適用することで、高感度な光造形用材料が得られる。また、光重合にともなう、屈折率の変化を利用し、ホログラム材料とすることもできる。光重合に伴う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料（剥離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイクロカプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト等の電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料にも応用できる。
【００６５】
【実施例】
以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００６６】
＜本発明の一般式（I）〜（III）で表される構造を有するの化合物の合成＞
上記一般式（I）〜（III）の化合物は対応するアクリル基含有化合物から、日本接着学会発行の「接着の技術」、Vol.14  No.4（1995）通巻37号、ｐ.２に記載の方法により容易に合成することができる。
【００６７】
＜合成例１：化合物Ａ−１＞
フラスコ内に２−メルカプトベンゾチアゾール（０．１ｍｏｌ）、メチル  ２−（ブロモメチル）アクリレート（０．１ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍｌ）を入れ、次に氷冷下でトリエチルアミン（０．１ｍｏｌ）を１時間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌すると結晶が析出。濾取し乾燥すると化合物Ａ−１が収率９０％で得られた。融点１２４．０℃、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００６８】
＜合成例２：化合物Ａ−１４＞
フラスコ内に２−メルカプトベンゾチアゾール（０．１ｍｏｌ）、２−（ブロモメチル）アクリル酸（０．１ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍｌ）を入れ、次に氷冷下でトリエチルアミン（０．１ｍｏｌ）を１時間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて、１Ｎ塩酸にてｐＨ３以下とすると結晶が析出。濾取し乾燥すると化合物Ａ−１４が収率９０％で得られた。融点＞２００℃、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００６９】
＜合成例３：化合物Ｂ−８＞
フラスコ内に２−（ヒドロキシメチル）アクリロニトリル（０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍｌ）を入れ、次に氷冷下でウンデカン酸ジクロライド（０．０５ｍｏｌ）を１時間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌後、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮すると化合物Ｂ−８が収率８０％で得られた。ＷＡＸ状固体、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００７０】
＜合成例４：化合物Ｃ−１＞
フラスコ内に１，６−ヘキサンジオール  ジアクリレート（０．７５ｍｏｌ）、３７％ホルマリン水溶液（１．０ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）を入れる。次にＤＡＢＣＯ（０．１３５ｍｏｌ）を加え、攪拌する。２４ｈ反応後、１Ｎ塩酸４０ｍｌ／水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濾液にトリエチルアミン（１．０ｍｏｌ）を加え、氷冷下で酢酸クロライド（１．０ｍｏｌ）を１時間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌後、再度、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮したものをさらにシリカゲルカラムクロマト（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で分離し、減圧濃縮すると化合物Ｃ−１が収率２５％で得られた。  無色油状、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００７１】
＜合成例５：化合物Ｄ−７＞
フラスコ内にアジピン酸（０．０５ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍｌ）を入れ、室温でメチル  ２−（ブロモメチル）アクリレート（０．１ｍｏｌ）を１時間で滴下し、２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌すると結晶が析出。濾取し乾燥すると化合物Ｄ−７が収率９０％で得られた。融点６１．０℃、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００７２】
＜合成例６：化合物Ｄ−３５＞
フラスコ内に３，６−ジオキサオクタンジカルボン酸（０．０５ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍｌ）を入れ、室温でメチル  ２−（ブロモメチル）アクリレート（０．１ｍｏｌ）を１時間で滴下し、２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌後、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮すると化合物Ｄ−３５が収率６０％で得られた。室温で半固体状、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００７３】
＜合成例７：化合物Ｅ−４＞
フラスコ内にペンタエリスリトール  テトラアクリレート（０．３７５ｍｏｌ）、３７％ホルマリン水溶液（１．０ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）を入れる。次にＤＡＢＣＯ（０．１３５ｍｏｌ）を加え、攪拌する。２４ｈ反応後、１Ｎ塩酸４０ｍｌ／水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾液にトリエチルアミン（１．０ｍｏｌ）を加え、氷冷下で酢酸クロライド（１．０ｍｏｌ）を１時間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌後、再度、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮したものをさらにシリカゲルカラムクロマト（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で分離し、減圧濃縮すると化合物Ｅ−４が収率２０％で得られた。  無色油状、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００７４】
＜合成例８：化合物Ｆ−２４＞
フラスコ内にトリカルバリル酸（０．０５ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１５ｍｏｌ）、アセトン（１５０ｍｌ）を入れ、室温でメチル  ２−（ブロモメチル）アクリレート（０．１５ｍｏｌ）を１時間で滴下し、２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌すると結晶が析出。濾取し乾燥すると化合物Ｆ−２４が収率９０％で得られた。融点６３．０℃、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲにより確認した。
【００７５】
＜合成例９：化合物Ｆ−２５＞
フラスコ内にトリメチロールエタン（０．０５ｍｏｌ）、コハク酸無水物（０．１５ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．３０ｍｏｌ）、アセトン（１５０ｍｌ）を入れ、室温で８時間攪拌後、メチル  ２−（ブロモメチル）アクリレート（０．１５ｍｏｌ）を１時間で滴下し、２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌後、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮したものをさらにシリカゲルカラムクロマト（ヘキサン／酢酸エチル＝８／２）で分離し、減圧濃縮すると化合物Ｆ−２５が収率６０％で得られた。融点３８．０℃、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲIRにより確認
した。
【００７６】
＜合成例１０：化合物Ｆ−２７＞
フラスコにトリス（２−シアノエトキシプロパン）（０．１ｍｏｌ）、濃塩酸（１００ｍｌ）を入れ、加熱還流２ｈ、結晶析出（塩化アンモニウム）、濃塩酸を濃縮後、アセトンを加えて濾過し結晶を取り除き、濾液にトリエチルアミン（１．０ｍｏｌ）を入れ、メチル  ２−（ブロモメチル）アクリレート（０．３ｍｏｌ）を１時間で滴下し、２時間攪拌する。ここへ水３００ｍｌを入れて攪拌後、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮したものをさらにシリカゲルカラムクロマト（ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）で分離し、減圧濃縮すると化合物Ｆ−２７が収率２０％で得られた。室温で半固体状、化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、ＩＲIRにより確認した。
【００７７】
参考のために上記化合物Ａ−１、Ｄ−７、Ｆ−２５の1Ｈ ＮＭＲ（３００MHz、CDCl3溶媒)  データを掲載する。
［Ａ−１］
δ  ３．８７（ｓ，３Ｈ，ＣＨ3），５．２８（ｍ，１Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ−），５．３５（ｍ，２Ｈ,＝ＣＨ−ＣＨ2−），６．３１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ−）,７．１１（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ），７．３５（ｍ，２Ｈ，ＡｒＨ）,７．５２（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ）。
【００７８】
［Ｄ−７］
δ  １．６８（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ2−），２．３８（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ2ＣＯ2−），３．７８（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3），４．８０（ｍ，４Ｈ,  ＝ＣＨ−ＣＨ2−），５．８４（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ−）,６．３７（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ−）。
【００７９】
［Ｆ−２５］
δ  １．００（ｓ，３Ｈ，ＣＨ3）,  ２．６５（ｍ，１２Ｈ，−ＣＨ2ＣＯ2−），３．７７（ｓ,９Ｈ，ＣＨ3），４．０２（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ2ＯＣＯ−），４．８２（ｍ，６Ｈ,  ＝ＣＨ−ＣＨ2−），５．８５（ｍ，３Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ−）,  ６．３８（ｍ，３Ｈ，ＣＨ2＝ＣＨ−）。
以上のようにして具体例に示した全ての化合物を合成した。
【００８０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のラジカル重合性化合物は、一般式（Ｉ）〜（III)で表される構造の少なくとも一つを有する化合物であり、そのα-位の置換基効果により、画像形成技術の中でも最も高感度で有望視されている光ラジカル重合系組成物のためのラジカル重合性化合物として有用である。
本発明のラジカル重合性化合物を用いることにより、特に紫外光、可視光及び赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板印刷用版材等に好適な、高感度と優れた保存安定性を見事に両立できる、光重合性組成物を提供することができる。