(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を周速３０ｍ／ｓ以上の撹拌で処理し、前記材料中の、前記酸化ビスマスの平均粒径が０．２μｍ以上０．６μｍ以下、かつ固形分率が２０％以下の塗料をシャドウマスクに塗布することを特徴とする電子管の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、テレビ用もしくはコンピュータ用のシャドウマスクを具備する電子管の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子管の製造方法は特開平５９−９４３２５号公報に記載されたものが知られている。テレビ用もしくはコンピュータ用の電子管の構成を図１に示す。１はシャドウマスク、１ａはシャドウマスクの電子銃側の面、２は電子銃、３は蛍光体面、４は電子ビーム、５は電子管である。金属材料で形成されたシャドウマスクは多数の開孔を有しており蛍光体層と一対一の関係にあるように設計される。電子管を動作させると、電子銃から発射された電子ビームは電子ビーム透過孔を通して蛍光体面に射突し、所用の画像を映し出す。
【０００３】
しかし大部分の電子は開孔を通過せずシャドウマスクに衝突し、それにより電子の運動エネルギーが熱エネルギーとしてシャドウマスクに伝えられ、その結果シャドウマスクが７０℃以上の温度まで加熱される。前記の温度上昇に伴いシャドウマスクが熱膨張してシャドウマスクに設けられた開孔部と蛍光体面との位置関係にずれが生じることにより、色ずれや輝度の低下が弊害として生じる。この電子ビームの射突によりシャドウマスクが熱膨張し、弊害が生じる現象はドーミングと呼ばれている。
【０００４】
この弊害を除くため、原子番号７０番以上の元素を含む塗料、なかでも電子を反射する効果（以下、反射電子効果と呼ぶ。）の大きな酸化ビスマス粉末等が適当であると知られており、これをシャドウマスクの電子銃側の面１ａに塗布して電子線反射膜を形成していた。
反射電子効果については原子番号の大きな元素ほど、その効果も大きいことが知られているため、その効果の大きな酸化ビスマス粉末等の塗料をシャドウマスクの電子銃側の面１ａに塗布することによってシャドウマスクに射突する電子ビームを反射させるのである。
【０００５】
この電子線反射膜の形成方法としてはスプレー法が一般的に用いられており、ノズルや配管内での沈降を防ぐため電子線反射膜用塗料を送液能力の高いマグネットポンプ等によりノズルに供給し、ノズルを走査することでシャドウマスクへの塗布を行っていた。
このようにシャドウマスクの電子銃側の面に電子線反射膜を形成することにより、シャドウマスクの温度上昇を防ぐことができ、ドーミングによる色ずれ等の弊害を解消できる。
【０００６】
表面コートに関しては、ＳｉＯ２やＩＴＯ等を含有する表面コート用塗料を塗布し、それらの屈折率の違いや導電性を利用して低反射機能や帯電防止機能を得る。塗布方法としてはスプレー法とスピンコート法があるが、スプレー法では緻密で均一な塗膜を得ることが難しいため、スピンコート法が一般的である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従来の電子線反射膜用塗料は、ボールミル等で回転分散させて作製されていたが、この分散方法で作製した塗料は分散処理後に二次凝集が起こりやすく、その結果沈降や塗布装置内での詰まり等が発生してノズルからの吐出量が安定しないため、緻密で均一な電子線反射膜を形成することが困難になるという問題があった。また、その他の分散方法としてはサンドミル等が挙げられるが、このような媒体を用いた分散機では分散中に媒体自体が削れてしまい、材料に混入してしまうという問題があると共に、材料の形状を壊してしまうことにより新しい界面が生じて塗料の分散状態を不安定にさせるという問題があった。
【０００８】
さらにまた、従来の電子線反射膜用塗料は平均粒径が大きく、粒度分布が非常に不安定なため、被覆率の高い電子線反射膜を形成するためには、特開昭５９−９４３２５号公報に記載されているように塗布重量０．２ｍｇ／ｃｍ2 以上という多量の塗料を塗布する必要があった。その結果、電子管完成後に電子管内でシャドウマスクの表面から電子線反射膜の剥離が発生し、電子管内の汚染を生じさせて画質を低下させるという問題がある。
【０００９】
従来のスプレー法による電子線反射膜の塗布方法に関しては、送液能力の高いマグネットポンプ等で電子線反射膜用塗料の循環及びノズルへの供給が行なわれていたが、この方法ではポンプの吐出圧力の変動がノズルからの吐出状態に影響し、その結果吐出量が変動することにより塗布ムラなどが生じ易く、緻密で均一な電子線反射膜を形成することが困難になるという問題があった。
【００１０】
さらにまた、電子線反射膜を塗布する場合にノズルと塗料貯蔵部液面との高低差が変化することにより、ノズルへの塗料供給圧力が変化することでノズルからの吐出量が変動し、前記と同様に塗布ムラなどが生じ易く、緻密で均一な電子線反射膜を形成することが困難になるという問題があった。
また、スプレー法によるガラスパネル表面への表面コート用塗料の塗布においては、低反射機能や帯電防止機能を持たせるために、より緻密な塗布が必要となるが、従来のようなスプレー法による方法では塗布ムラなどが生じ易く十分な機能を持った表面コートの実現が困難であった。また、スピンコート法による表面コート用塗料の塗布では、塗布効率が低くコストが嵩むという問題があった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、緻密で均一な電子線反射膜を形成してドーミングを抑制することで、画質の低下を解消し、良好な電子管の製造方法を提供することを目的とする。このため酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を周速３０ｍ／ｓ以上の撹拌で処理し、前記材料中の、前記酸化ビスマスの平均粒径が０．２μｍ以上０．６μｍ以下、かつ固形分率が２０％以下の塗料をシャドウマスクに塗布する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を周速３０ｍ／ｓ以上の撹拌で処理し、前記材料中の、前記酸化ビスマスの平均粒径が０．２μｍ以上０．６μｍ以下、かつ固形分率が２０％以下の塗料をシャドウマスクに塗布することを特徴とする電子管の製造方法としたものであり、ビスマス粒子の粒径にバラツキがないため、塗布重量が少量でも緻密で被覆率の高い電子線反射膜が形成できる。
【００３７】
（実施の形態２）
本実施例では、酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を、周速３０ｍ／ｓ以上の攪拌機で分散処理して、電子線反射膜用塗料を作製した。
水硝子は酸化ビスマスとシャドウマスクとを接着するバインダーとしての役割を果たし、主に珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムが挙げられるが、ここではその中で最も接着力の強い珪酸ナトリウムを用いた。
【００３８】
次に、電子線反射膜用材料の分散方法について図面を参照しながら説明する。図２は分散処理機の構成図である。６は攪拌羽根、７はチャンバー、８は塗料である。攪拌羽根６を回転させ、遠心場力により塗料８をチャンバー側面に張り付かせて分散処理した（以後、遠心場力分散と呼ぶ）。この方法では高い周速度で分散処理することができ、媒体を用いないためエネルギー効率も非常に高い。
【００３９】
（表２）に酸化ビスマスと水硝子と水を含有した電子線反射膜用材料をサンドミル及び前記遠心場力分散により処理した場合の平均粒径及びＰＨ値を示す。ここで平均粒径とはレーザー回折式測定機により測定したＤ５０の値を示す。
【００４０】
【表２】
0004480195.tif 000002
（表２）より、サンドミルによる分散では分散後に凝集が起こり、平均粒径の増加及びＰＨ値の増加が見られ、塗料の状態が不安定になっている。しかし、遠心場力分散ではＰＨ値は変化することなく、しかも平均粒径が１年間静置後も変化しなかった。
【００４１】
（表３）に周速を変化させて遠心場力分散を行った塗料の、１年間静置後の平均粒径及びＰＨ値の変化を示す。
【００４２】
【表３】
0004480195.tif 000003
（表３）より、遠心場力分散では、周速が２０ｍ／ｓの処理では平均粒径の増加が見られたが、周速３０ｍ／ｓ以上では１年間静置後も平均粒径は変化せずＰＨ値も変化しなかった。
以上の結果から周速３０ｍ／ｓ以上で遠心場力を利用して分散することにより、材料の性質を壊すことなく凝集の生じない塗料を作製することができ、これらの塗料を用いることでノズル内部や配管内での詰まりのない安定吐出が可能となった。
【００４３】
次に、遠心場力分散で処理した塗料を塗布した場合と、サンドミルで処理した塗料を塗布した場合及び未処理の塗料をスプレー法により塗布した場合の被覆率のグラフを図３に示す。
図３より、遠心場力分散で処理した場合は緻密で均一な膜が形成できるため、同じ塗布重量でも、サンドミル処理塗料や未処理の塗料よりも高い被覆率が得られた。
【００４４】
以上のことから、遠心場力分散では０．２ｍｇ／ｃｍ2 未満の少ない塗布重量で被覆率８０％以上の電子線反射膜を形成できるため、膜の自然剥離もなく良好な画質を得ることが出来る。
次に平均粒径の異なる、遠心場力により分散処理した塗料を塗布した場合の被覆率を調べた結果を（表４）に示す。
【００４５】
【表４】
0004480195.tif 000004
（表４）より、平均粒径が０．８μｍ以上では８０％以上の高い被覆率を得るために塗布重量を増加していくと、シャドウマスクの開孔に塗料が詰まってしまった。
しかし平均粒径が０．６μｍ以下ではシャドウマスク開孔が孔詰まりすることなく、しかも、塗布重量が０．２ｍｇ／ｃｍ2 未満という少ない塗布重量で８０％以上の被覆率を得ることが出来た。ここでは固形分率１０％の塗料を塗布した場合の結果を示したが、固形分率２０％以下の異なる固形分率の場合についても同様の結果が得られることを確認した。
【００４６】
以上のことから、平均粒径が０．６μｍ以下の塗料ではシャドウマスクの開孔への孔詰まりを生じることなく被覆率の高い電子線反射膜を少ない塗布重量で形成でき、その結果、膜の自然剥離も生じないため良好な画質を得ることが出来る。
次に、固形分率の異なる遠心場力により分散処理した塗料を塗布した場合の被覆率を調べた結果を（表５）に示す。
【００４７】
【表５】
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（表５）より、固形分率３０％以上では、（表５）中で「詰まり」と表示されているようにノズル内部や配管内で塗料の詰まりが発生し、ノズルからの吐出量が不安定となった。また塗布重量を増加させていくとシャドウマスク開孔の孔詰まりが発生した。しかし固形分率が２０％以下では孔詰まりすることなく、０．２ｍｇ／ｃｍ2 未満という少ない塗布重量で８０％以上の被覆率が得られた。ここでは平均粒径０．４μｍの塗料を塗布した場合の結果を示したが、平均粒径０．６μｍ以下の異なる平均粒径の場合についても同様の結果が得られることを確認した。
【００４８】
以上のことから、固形分率が２０％以下では、少ない塗布重量で緻密で被覆率の高い電子線反射膜が形成できるため、シャドウマスクの開孔の孔詰まりを生じることなく、また、膜の自然剥離もないので良好な画像を得ることができる。
次に遠心場力分散処理した塗料の塗布重量に対する剥離の発生を調べた結果を（表６）に示す。
【００４９】
【表６】
0004480195.tif 000006
（表６）より、塗布重量が０．２ｍｇ／ｃｍ2 以上では過剰に塗布されているため、自然剥離が発生し、画質の劣化が生じた。しかし、塗布重量が０．２ｍｇ／ｃｍ2未満の場合については自然剥離は生じず画質の劣化は見られなかった。ここでは平均粒径０．４μｍ、固形分率１０％の塗料を塗布した場合の結果を示したが、平均粒径０．６μｍ以下の塗料の場合及び固形分率２０％以下の塗料の場合でも同様の結果が得られることを確認した。
【００５０】
以上のことから、シャドウマスクへの塗布重量が０．２ｍｇ／ｃｍ2 以上では過剰に塗布しているため自然剥離が発生するが、塗布重量が０．２ｍｇ／ｃｍ2 未満では塗布重量が適切であるため剥離も発生せず、画質の劣化を生じない。このように遠心場力分散により処理した塗料を０．２ｍｇ／ｃｍ2 未満の塗布重量でシャドウマスクに塗布することで、緻密で均一な被覆率の高い電子線反射膜を形成することが出来、膜の剥離もなく良好な画質を得ることが出来る。
【００５１】
（実施の形態３）
前記の酸化ビスマスと水硝子と水に代えて酸化ビスマスとシリカのアルコラートとエタノールもしくはメタノールを含有した塗料を塗布した場合でも同様の結果を得ることができた。
（実施の形態４）
酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を分散処理した電子線反射膜用塗料を塗布し、シャドウマスクの電子線照射膜に電子線反射膜を形成した。
【００５２】
次にスプレー塗布装置及び電子線反射膜の塗布方法について図面を参照しながら説明する。
図４は圧電ポンプの構成図である。１２は圧電素子、１３は逆止弁、１４は塗料入口、１５は塗料出口である。圧電素子１２を高周波で振動させ、塗料入口１４から塗料を吸引し、脈動少なく塗料出口１５から吐出することができる。
【００５３】
図５はスプレー塗布装置の構成図である。
１６はスプレーノズル、１０はポンプ、１７は塗料貯蔵部、１８は塗料、１９は循環経路、２０は被塗布物である。ノズル１６の走査方向としては被塗布物２０に対して平行に水平方向に走査する方向をＸ軸、それに対して被塗布物２０に平行に鉛直方向に走査する方向をＹ軸とする。
【００５４】
塗料貯蔵部１７に貯めてある塗料１８を図４に示す圧電ポンプにより、スプレーノズル１６に供給してシャドウマスク２０への塗布を行った。スプレーノズル１６への塗料供給圧力の変動はスプレーノズル１６からの塗料の吐出に反映される。
（表７）に圧電ポンプ（振動周波数１２０Ｈｚ）及び従来用いられてきたポンプを使用した場合の塗料供給圧力変動の大きさと、各圧力変動が生じた場合でのスプレーノズル１６からの吐出量の変動幅を示す。
【００５５】
【表７】
0004480195.tif 000007
（表７）より、従来用いられてきたチューブポンプやマグネットポンプの場合、塗料供給圧力変動が大きくスプレーノズル１６からの吐出量もこの変動に伴い大きく変動していることが分かった。しかし、圧電ポンプを用いた場合では塗料供給圧力変動を抑制することができ、スプレーノズル１６からの吐出量を安定化できることが分かった。
【００５６】
電子ビームがシャドウマスクに射突することで生じるシャドウマスクの熱膨張を防ぐために形成する電子線反射膜は、シャドウマスク表面を覆う面積が高いほど効果がある。しかし、シャドウマスクへ塗布する電子線反射膜用塗料の塗布重量が多くなると、電子管完成後に電子管内で電子線反射膜の剥離が発生し、電子管内の汚染を生じさせて画質を低下させるため、塗布重量の基準を０．３ｍｇ／ｃｍ2 とし、被覆率測定及びドーミング抑制効果測定を行い比較を行った。
【００５７】
ドーミング抑制効果は、シャドウマスクが熱膨張を起こす前後での電子ビーム移動量により評価する。熱膨張が大きい程電子ビーム移動量は大きくなり、基準としては電子ビーム移動量が６０μｍ以下であれば画質に及ぼす悪影響は少なく、ドーミング抑制効果良好とした。
（表８）に固形分率２０％の電子線反射膜用塗料を従来方式（チューブポンプ、マグネットポンプ）と圧電ポンプ（振動周波数１２０Ｈｚ）を用いた塗布方式とによりシャドウマスクに塗布した場合の、塗布重量に対するドーミング評価結果を示す。
【００５８】
【表８】
0004480195.tif 000008
また、（表９）に固形分率２０％の電子線反射膜用塗料を従来方式（チューブポンプ、マグネットポンプ）と圧電ポンプ（振動周波数１２０Ｈｚ）を用いた塗布方式とにより塗布重量０．３ｍｇ／ｃｍ2 でシャドウマスクに塗布した場合の被覆率及びドーミング評価結果を示す。
【００５９】
【表９】
0004480195.tif 000009
（表８）及び（表９）より従来方式では被覆率が低くドーミング抑制効果が不良であった塗布重量でも、圧電ポンプを用いて吐出状態を安定化させることにより緻密で均一な電子線反射膜を形成できるため、良好な画質を得ることができた。
【００６０】
（表１０）に圧電ポンプの振動周波数を変化させてスプレーノズルへ塗料を供給し、シャドウマスク２０への塗布を行った場合のスプレーノズル吐出量変動巾、ドーミング抑制効果及び被覆率の結果を示す。
【００６１】
【表１０】
0004480195.tif 000010
（表１０）より圧電ポンプの振動周波数が２０Ｈｚ以上の場合ではスプレーノズル吐出量変動が従来の方法よりも抑制でき、同じ塗布重量でも被覆率向上が可能となりドーミング抑制効果も良好であった。
次に、図６に示すような水平方向、鉛直上向き方向及び鉛直下向き方向の３通りの方法により、圧電ポンプを１２０Ｈｚで駆動させてスプレーノズル１６へ塗料を供給し、塗布重量０．３ｍｇ／ｃｍ2 の塗布を行った。
【００６２】
スプレーノズル１６では霧化用エアーにより塗料１８を微粒子化するが、微粒子の粒径は均一ではなくバラツキが生じる。水平方向塗布では粒径が大きく十分に霧化されていない粒子は被塗布物２０に達するまでに落下してしまい、細かく微粒子化されたものだけが塗布される。その結果、均一で緻密な塗布が実現できる。これに対して鉛直上向きへの塗布は、被塗布物２０に到達できない粒径の大きな粒子及び被塗布物２０で跳ね返ってくるオーバーコート分がノズル１６の吐出部に降りかかり、ノズル先端部の汚れや詰まりの原因となり吐出量を不安定にさせる。また、鉛直下向きへの塗布は、粒径の異なる粒子が全て被塗布物２０に降り注ぐため、十分に霧化されていない粒径の大きな粒子が塗布された部分は厚く、粒径の小さな粒子が塗布された部分は薄く塗布され、塗布むらが生じるという欠点がある。
【００６３】
これらの３通りの方法により０．３ｍｇ／ｃｍ2 の塗布重量で塗布したサンプルのビーム移動量及び被覆率の測定結果を（表１１）に示す。またビーム移動量で評価したドーミング抑制効果の評価基準を（表１２）に示す。
【００６４】
【表１１】
0004480195.tif 000011
【００６５】
【表１２】
0004480195.tif 000012
（表１１）及び（表１２）より、３通りの塗布方法のいずれの場合でも標準型の評価基準を満たしておりドーミング抑制効果は良好という結果が得られた。しかし、鉛直上向き及び鉛直下向きへの塗布ではハイビジョン用の基準は満たさず、更に厳しい基準となるハイビジョン用スペックとしては、より緻密で被覆率の高い塗布を実現できる水平方向への塗布が望ましい。
【００６６】
また、好ましくは更に塗料の循環経路１９内に精密バルブ２１を設け、その開度によりノズル１６への塗料供給圧力を制御すると良い（図７参照）。
従来のようなバルブを用いない方式では、ポンプの能力により塗料供給圧力が決定され、ポンプの出力により塗料供給圧力を制御した場合、その流量特性の影響を受け易く安定性にも欠けるため任意に精密な塗料供給圧力の制御を行うことが困難であった。
【００６７】
しかし、循環経路１９内にバルブ２１を設けることにより、ポンプ１０の出力は一定のままで、その流量特性等の影響を受けることなく、精密な塗料供給圧力の制御が可能となり安定した吐出が実現できた。
以上のことから圧電ポンプによりスプレーノズル１６へ塗料１８を精密に供給し、更に塗料貯蔵部１７からスプレーノズル１６を介して再び塗料貯蔵部１７へ循環させる循環経路１９内にバルブ２１を設けることによりスプレーノズル１６への塗料供給圧力を制御することで、精密な塗料供給圧力制御が可能となり安定した吐出状態を実現できるため緻密で被覆率の高い電子線反射膜を形成でき、良好な画質を得ることができる。
【００６８】
（実施の形態５）
前記実施の形態４と同様に酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を分散処理した電子線反射膜用塗料を塗布し、シャドウマスク表面に電子線反射膜を形成した。
次にスプレー塗布装置及び電子線反射膜の塗布方法について図面を参照しながら説明する。
【００６９】
図５に示した塗布装置によりノズル１６をＸ軸方向のみに走査し、図８に示すように塗料貯蔵部１７の液面とスプレーノズル中心ｏとの高低差ｈを変化させずスプレーノズル１６の傾きを変化させて電子線反射膜用塗料を塗布し、シャドウマスク表面に電子線反射膜を形成した。
図７の塗布法１は従来通りの方法であり、スプレーノズル１６を上下させて広範囲のシャドウマスク２０への塗布を行うものである。この方法ではノズル１６はＸ、Ｙ両軸方向に走査され、ノズルが上下するに伴い塗料貯蔵部液面とスプレーノズル中心との高低差が変化してしまうため、スプレーノズル１６への塗料供給圧力も変化してしまいシャドウマスク上部は薄く、そしてシャドウマスク下部は厚く塗布されてしまう。
【００７０】
図８の塗布法２はスプレーノズル中心の高さｈは一定に保ち（即ちノズルはＸ軸方向のみに走査する）、角度を上下に振りながら塗布を行う方法であり、この方法によれば塗料貯蔵部液面とスプレーノズル中心ｏとの高低差ｈが一定に保たれるため、前記のような塗料供給圧力の変動は生じない。
（表１３）に前記２通りの塗布法により塗布したシャドウマスクの上部（図７，８中Ａ）、中央部（図７，８中Ｂ）、下部（図７，８中Ｃ）の塗布重量バラツキと被覆率を示す。
【００７１】
【表１３】
0004480195.tif 000013
このようにスプレーノズル中心ｏと塗料貯蔵部液面との高低差ｈを変化させずスプレーノズルの傾きを変化させてＸ軸方向のみに走査することで、スプレーノズル１６への塗料供給圧力が変化せず、塗布重量バラツキの少ない安定した吐出が可能となり緻密で被覆率の高い電子線反射膜を形成できるため良好な画質を得ることができる。
【００７２】
実施の形態４において、ハイビジョン用のハイスペックには水平方向の塗布方法が好ましいことを示したが、３２インチを超える大画面用となるとシャドウマスクも大面積となるため、ハイビジョン用よりも更に厳しい基準が要求される。このような最も厳しい基準となるスペックに対しては、スプレーノズル中心ｏと塗料貯蔵部液面との高低差ｈを変化させずスプレーノズル１６の傾きを変化させてＸ軸方向のみに走査する方法が適している。望ましくは、更にポンプ１０とノズル１６のそれぞれの中心部を同一高さとし一体化させて両者の位置関係を同一のまま走査することで、両者の距離や高低差が変化することにより生じるノズル１６への塗料供給圧力変動を抑制でき、なお且つ循環経路１９内に精密バルブ２１を設けてその開度によりノズル１６への塗料供給圧力を制御することで、精密な塗布重量制御が可能となり、最も厳しい基準を満たすことのできる緻密で均一な塗布を実現できる（図９参照）。図９の塗布方法により０．３ｍｇ／ｃｍ2 の塗布重量で塗布したサンプルのビーム移動量及び被覆率の測定結果を表１４に示す。
【表１４】
0004480195.tif 000014
【００７３】
このように、図９のような方法により塗布することで（表１２）に示した大型用の最も厳しい基準を満たす緻密で均一な電子線反射膜を形成でき、良好な画質を得ることができる。
（実施の形態６）
前記の酸化ビスマスと水硝子と水に代えてＳｉＯ２もしくはＩＴＯを含有した塗料を塗布した場合でも同様に安定した吐出が可能となり、均一で緻密な塗布により高い低反射機能もしくは帯電防止機能が得られる表面コート塗布を実現できた。
【００７４】
【発明の効果】
以上のように本発明の電子管の製造方法によれば、酸化ビスマスと水硝子と水を含有する材料を周速３０ｍ／ｓ以上の撹拌で処理し、前記材料中の、前記酸化ビスマスの平均粒径が０．２μｍ以上０．６μｍ以下、かつ固形分率が２０％以下の塗料をシャドウマスクに塗布することで、少ない塗布重量でも被覆率の高い電子線反射膜が形成できるため、ドーミング抑制効果が高く自然剥離も生じず、良好な電子管を得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来例の電子管の構造断面図
【図２】本発明の実施の形態２における分散処理機の構成図
【図３】本発明の実施の形態２における遠心場力分散、サンドミル分散、及び未処理の塗料を塗布した場合の、処理法に対する被覆率の関係図
【図４】本発明の実施の形態４における圧電ポンプの構成図
【図５】本発明の実施の形態４におけるスプレー塗布装置の構成図
【図６】本発明の実施の形態４における塗布方向に対する塗布状態の関係図
【図７】本発明の実施の形態４における精密バルブによる塗料供給圧力制御システムの構成図
【図８】本発明の実施の形態５における塗料液面とノズルの高低差を一定にし、ノズルの角度を変化させる塗布方法
【図９】本発明の実施の形態５におけるポンプとノズルを一体化した塗布システムの構成図
【符号の説明】
１  シャドウマスク
１ａ  シャドウマスクの電子銃側の面
２  電子銃
３  蛍光面
４  電子ビーム
５  電子管
６  攪拌羽根
７  チャンバー
８  塗料
１０  ポンプ
１２  圧電素子
１３  逆止弁
１４  塗料入口
１５  塗料出口
１６  スプレーノズル
１７  塗料貯蔵部
１８  塗料
１９  塗料循環用配管
２０  被塗布物
２１  塗料供給圧力制御用バルブ
【図１】
0004480195.tif 000015
【図２】
0004480195.tif 000016
【図３】
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【図４】
0004480195.tif 000018
【図５】
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【図６】
0004480195.tif 000020
【図７】
0004480195.tif 000021
【図８】
0004480195.tif 000022
【図９】
0004480195.tif 000023