(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）、または一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）と一般式（Ｃ）で表される化合物を、炭酸エステル形成化合物と反応させて得られるポリカーボネートであって、一般式（Ｂ）が全モノマー成分〔一般式（Ａ）＋一般式（Ｂ）＋一般式（Ｃ）〕に対して、２０〜６０wt％であり、かつ極限粘度［η］が、０．２〜１．０［dl/g］であるポリカーボネート樹脂よりなるフラットパネルディスプレー用フィルム。
【化１】
0004484131.tif 000011
（式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基を表す。これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。）
【化２】
0004484131.tif 000012
（式中、Ｒ5 〜Ｒ8 は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。Ｒ9 〜Ｒ12は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。Ｒ13は炭素数１〜６の脂肪族基を表すか単に結合を表す。Ｘは、−SiO(Ｒ14)(Ｒ15）−および／または−SiO(Ｒ16)(Ｒ17）−の単独重合体、ブロックまたはランダム共重合体を表し、重合度は０〜２００であり、Ｒ14〜Ｒ17は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。）
【化３】
0004484131.tif 000013
（式中、Ｒ18〜Ｒ19は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。Ｙは、
【化４】
0004484131.tif 000014
であり、ここにＲ20，Ｒ21は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表すか、Ｒ20とＲ21が一緒に結合して、炭素数３〜６の炭素環または複素環を形成する基を表し、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。ａは０〜２０の整数を表す。）
【請求項２】
一般式（Ａ）が、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、及び９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレンの群から選ばれた少なくとも１種である請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【請求項３】
炭酸エステル形成化合物がホスゲンである請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【請求項４】
一般式（Ｂ）のＲ9 〜Ｒ12がメチル基およびフェニル基から選ばれる少なくとも１種である請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【請求項５】
一般式（Ｂ）が、α，ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有するジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム共重合体およびα，ω−ビス[3-(o-ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンの群より誘導された少なくとも１種である請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【請求項６】
一般式（Ｃ）が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンである請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【請求項７】
一般式（Ｃ）の割合が、重量比で一般式（Ｃ）／〔一般式（Ａ）＋一般式（Ｃ）〕が０．５以下である請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【請求項８】
請求項１記載のポリカーボネート樹脂と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されたポリカーボネート樹脂を混合したポリカーボネート樹脂組成物を用いた請求項１記載のフラットパネルディスプレー用フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレーを初めとする表示品位に優れたフラットパネルディスプレーに好適に使用されるフラットパネルディスプレー用フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレーをはじめとするフラットパネルディスプレーの表示品位は、従来ディスプレーとして広く用いられてきたＣＲＴとほぼ同等のレベルに到達しており、また生産工程の見直し等の努力により低価格化が図られつつあることから、その利用分野は拡大の一途にある。ノートパソコンを始めとし、テレビ、デスクトップパソコン、ＦＡＸ等のＯＡ、家電製品、携帯電話、ＰＤＡ等の携帯情報端末機器用ディスプレーなど多くの製品に広く使用されている。
【０００３】
ビスフェノールＡから誘導されるポリカーボネート樹脂は、その透明性、耐熱性、寸法安定性などの特徴を生かして、最近では液晶ディスプレーを構成するフィルム材料の一部である拡散フィルムなどとして広く用いられるようになった。しかしながら、液晶ディスプレー用に、該ポリカーボネートフィルム材料を用いる場合にいくつかの問題点があった。
【０００４】
このような拡散フィルムは通常、溶融押出フィルム成形によって製造される。溶融押出フィルム成形では、流れ方向に延伸しながら製造するため、延伸方向と平行にポリマー分子鎖が並び偏光（位相差）が生ずることとなる。液晶ディスプレー用のある種の拡散フィルムとしてこのような性質のフィルムを用いると、拡散フィルム通過時に位相差をおこし、偏光板への透過率が悪くなり液晶画面が暗く見えることになる。また、偏光度合いが場所により異なっていると、外光が偏光板を透過し、拡散シートに入り、その下層の部材で反射され再び、拡散シートに入り、偏光板を透過した光が虹模様に見えることがある。これは拡散シートが位相差板となり場所によりこの位相差が異なるため光が干渉を起こし虹模様に見える。
【０００５】
かかる偏光（位相差）を生じさせないために溶融押出フィルム成形ではなく、湿式フィルム成形する技術は一般的に行われている（特開平８−０５４６１５、特開平８−１６０２２２）。しかし湿式フィルム成形によるフィルムの製造は、有機溶剤を使用することから、コスト高、環境に悪影響を及ぼすことは避けられなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、偏光（位相差）が少なく、好みに応じた形状をフィルム面に付与可能な転写性に優れたフラットパネルディスプレー用フィルムを溶融押出フィルム成形により安価に提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、従来の課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、特定の数種類のビスフェノール類より誘導された共重合ポリカーボネート樹脂は、溶融押出フィルム成形を行っても、偏光（位相差）が少なく、転写性が良好で、透明性と成形性を兼ね備えた良質のフラットパネルディスプレー用フィルムとなることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
【発明の実施の形態】
即ち、本発明は、一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）、または一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）と一般式（Ｃ）で表される化合物を、炭酸エステル形成化合物と反応させて得られるポリカーボネートであって、一般式（Ｂ）が全モノマー成分〔一般式（Ａ）＋一般式（Ｂ）＋一般式（Ｃ）〕に対して、２０〜６０wt％であり、かつ極限粘度［η］が、０．２〜１．０［dl/g］であるポリカーボネート樹脂よりなるフラットパネルディスプレー用フィルムである。
【０００９】
【化５】
0004484131.tif 000002
（式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基を表す。これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。）
【００１０】
【化６】
0004484131.tif 000003
（式中、Ｒ5 〜Ｒ8 は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。Ｒ9 〜Ｒ12は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。Ｒ13は炭素数１〜６の脂肪族基を表すか単に結合を表す。Ｘは、−SiO(Ｒ14)(Ｒ15）−および／または−SiO(Ｒ16)(Ｒ17）−の単独重合体、ブロックまたはランダム共重合体を表し、重合度は０〜２００であり、Ｒ14〜Ｒ17は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。）
【００１１】
【化７】
0004484131.tif 000004
（式中、Ｒ18〜Ｒ19は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。Ｙは、
【化８】
0004484131.tif 000005
であり、ここにＲ20，Ｒ21は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表すか、Ｒ20とＲ21が一緒に結合して、炭素数３〜６の炭素環または複素環を形成する基を表し、これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有することもできる。ａは０〜２０の整数を表す。）
【００１２】
本発明のフラットパネルディスプレー用フィルムに用いられるポリカーボネート樹脂は、前記一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）、または一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）と一般式（Ｃ）の化合物とを、炭酸エステル形成化合物と反応させることによって、製造することができるものであり、ビスフェノールＡから誘導されるポリカーボネートを製造する際に用いられている公知の方法、例えばビスフェノール類とホスゲンとの直接反応（ホスゲン法）、あるいはビスフェノール類とビスアリールカーボネートとのエステル交換反応（エステル交換法）などの方法を採用することができる。
【００１３】
本発明中の炭酸エステル形成性化合物としては、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げられる。これらの化合物は２種類以上併用して使用することも可能である。
【００１４】
本発明に用いられる一般式（Ａ）の化合物としては、具体的には、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、３，６−ジメチル−９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、４，５−ジメチル−９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、３，６−ジメチル−９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン及び３，６−ジフェニル−９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等を挙げることができる。中でも特に、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレンが好ましい。これらの化合物は２種類以上併用して使用することも可能である。
【００１５】
本発明に用いられる一般式（Ｂ）の化合物としては、具体的には、下記のものが例示される。
【００１６】
【化９】
0004484131.tif 000006
【００１７】
これらは、２種類以上併用することも可能である。Ｘには、ジメチルシロキサンが１〜１００個またはジフェニルシロキサンが１〜１００個含まれるものおよびそれらのランダム共重合体が好ましい。中でも、特に、α，ω−ビス[3-(o-ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルジフェニルランダム共重合シロキサン、α，ω−ビス[3-(o-ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
【００１８】
本発明中の一般式（Ｃ）の化合物としては、具体的には、4,4'−ビフェニルジオール、ビス（4-ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（4-ヒドロキシ−3-メチルフェニル）スルホン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（4-ヒドロキシフェニル）ケトン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）エタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノ−ルＡ；BPA)、2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）ブタン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルＺ；BPZ)、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3-メチルフェニル）プロパン（ジメチルビスフェノールＡ）、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニルエタン（ビスフェノールＡＰ；BPAP）、ビス（4-ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3-アリルフェニル）プロパン、3,3,5-トリメチル−1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（トリメチルビスフェノール−Ｚ；TMBPZ)などが例示される。これらは、２種類以上併用することも可能である。また、これらの中でも特に2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンが好ましい。
【００１９】
ホスゲン法とエステル交換法では、一般式（Ａ）の化合物および一般式（Ｂ）の化合物の反応性を考慮した場合、ホスゲン法の方が好ましい。
【００２０】
前者のホスゲン法においては、通常酸結合剤および溶媒の存在下において、本発明における一般式（Ａ）の化合物と一般式（Ｂ）の化合物、または一般式（Ａ）の化合物と一般式（Ｂ）の化合物と一般式（Ｃ）の化合物とを、ホスゲンと反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物などが用いられる。また、溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。さらに、縮重合反応の触媒として、トリエチルアミンのような第三級アミンなどが使用される。重合度調節には、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、p-クミルフェノール、アルキル置換フェノール類、ヒドロキシ安息香酸アルキル類やアルキルオキシフェノール類などの一官能基化合物を分子量調節剤として加える。さらにまた、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシン、イサチンビスフェノール、1,1,1-トリス（4-ヒドロキシフェニル）エタン、α，α',α"-トリス（4-ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなど分岐化剤を小量添加してもよい。反応は通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常０．５分〜１０時間、好ましくは１分〜２時間である。また、反応中は、反応系のｐＨを１０以上に保持することが望ましい。
【００２１】
一方、後者のエステル交換法においては、本発明における一般式（Ａ）の化合物と一般式（Ｂ）の化合物または一般式（Ａ）の化合物と一般式（Ｂ）の化合物と一般式（Ｃ）の化合物とをビスアリールカーボネートと混合し、減圧下で高温において反応させる。この時、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、p-クミルフェノール、アルキル置換フェノール類、ヒドロキシ安息香酸アルキル類やアルキルオキシフェノール類などの一官能基化合物を分子量調節剤として加えてもよい。反応は通常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度において行われ、また減圧度は最終で好ましくは１mmHg以下にして、エステル交換反応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜１０時間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じ、酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。
【００２２】
本発明においてホスゲン法を採用する場合は、用いられる三級アミン重合触媒として、例えばトリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ’―ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’―ジエチルアニリン、ジエチルアミノピリジン等があるが、触媒活性や洗浄除去の問題からトリエチルアミンが好ましい。重合触媒の添加量は、使用される全ビスフェノール類に対して、 0.001〜５mol%が好ましい。
【００２３】
本発明においてホスゲン法を採用する場合は、反応を効率よく行うため第四級アンモニウム塩を少量添加してもよい。具体的には、テトラメチルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアイオダイドなどが例示され、これらのうちトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライドが好ましい。この第四級アンモニウム塩は、使用される全ビスフェノール類に対して、一般に0.0005〜５mol%使用されることが好ましい。
【００２４】
更に、本発明に分子量調節剤を用いる場合には、特に一価フェノールが好ましく、具体的にはフェノールやブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、デカニルフェノール、テトラデカニルフェノール、ヘプタデカニルフェノール、オクタデカニルフェノール等のアルキル置換フェノール；ヒドロキシ安息香酸ブチル、ヒドロキシ安息香酸オクチル、ヒドロキシ安息香酸ノニル、ヒドロキシ安息香酸デカニル、ヒドロキシ安息香酸ヘプタデカニル等のヒドロキシ安息香酸アルキルエステル；ブトキシフェノール、オクチルオキシフェノール、ノニルオキシフェノール、デカニルオキシフェノール、テトラデカニルオキシフェノール、ヘプタデカニルオキシフェノール、オクタデカニルオキシフェノール等のアルキルオキシフェノール類が例示される。この分子量調節剤の添加量は全ビスフェノール類に対して０．１〜５０ｍｏｌ％である。好ましくは、０．５〜１０mol%である。
【００２５】
これらの反応で合成された本発明のポリカーボネート樹脂は、フラットパネルディスプレー用フィルムとして成形するための溶融押出フィルム成形、射出フィルム成形、圧縮フィルム成形、湿式フィルム成形など公知の成形法で成形可能であるが、溶融押出フィルム成形により、フラットパネルディスプレー用フィルムとして成形されるには、容易に溶融押出フィルム成形できることが望ましく、極限粘度が０．２〜１．０ｄｌ／ｇの範囲であることが好ましい。
【００２６】
また、前記一般式（Ｂ）の使用量はフラットパネルディスプレー用フィルムの強度を考慮すると、前記一般式（Ａ）及び一般式（Ｂ）及び一般式（Ｃ）の合計量に対して２０〜６０重量％が好ましい。前記一般式（Ｂ）が２０重量％未満では、剛直に成りすぎて脆く、６０重量％を越えるとフラットパネルディスプレー用フィルムとして必要な耐熱性が不足する。
【００２７】
前記一般式（Ｃ）の使用は、諸性能の向上やコスト低減等のため使用可能であるが、特にビスフェノールＡを用いた場合、従来のビスフェノールＡ型ポリカーボネートとの相溶性がよく、リサイクル性や他品種押出機内の樹脂置換性が向上する利点を有する。フラットパネルディスプレー用フィルムの偏光（位相差）を考慮すると、前記一般式（Ｃ）は、前記一般式（Ａ）及び一般式（Ｃ）の合計量に対して５０重量％未満が好ましい。前記一般式（Ｃ）が前記一般式（Ａ）及び一般式（Ｃ）の合計量に対して５０重量％以上では偏光（位相差）が著しく悪化し不充分となる。
【００２８】
本発明のポリカーボネート樹脂は、従来のフラットパネルディスプレー用フィルムの材料であるポリカーボネート樹脂と同様に高度に精製されたものが好ましい。具体的には、直径５０μｍ以上のダストが実質上検出されず、直径０．５〜５０μｍのダストが３×１０4 以下、無機および有機残留塩素が２ｐｐｍ以下、残留アルカリ金属が２ｐｐｍ以下、残存水酸基２００ｐｐｍ以下、残存窒素量５ｐｐｍ以下、残存モノマー２０ｐｐｍ以下等の基準を可能な限り満たすように精製される。また、低分子量体除去や溶媒除去のため抽出等の後処理が行われる場合もある。また、原材料の一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）および一般式（Ｃ）の化合物や炭酸エステル形成化合物等についても不純物や異性体などを極力低減した材料を用いることが好ましい。
【００２９】
本発明のポリカーボネート樹脂は、フラットパネルディスプレー用フィルム成形時に必要な安定性や離型性を確保するため、所望に応じて、ヒンダードフェノール系やホスファイト系酸化防止剤；シリコン系、脂肪酸エステル系、脂肪酸系、脂肪酸グリセリド系、密ろう等天然油脂などの滑剤や離型剤；ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ジベンゾイルメタン系、サリチレート系等の光安定剤；ポリアルキレングリコール、脂肪酸グリセリド等帯電防止剤などを適宜併用してよい。
【００３０】
さらにはコスト低減等の目的で、本発明のポリカーボネート樹脂と従来のビスフェノールＡ型ポリカーボネートと性能を損なわない範囲で任意に混合して使用する事も可能である。
【００３１】
本発明のポリカーボネート樹脂を用いたフラットパネルディスプレー用フィルムは、通常溶融押出フィルム成形で成形する場合には、２３０〜３８０℃の範囲で成形されることが好ましく、溶融粘度が高化式フローテスター(280℃、15.7MPa 、ノズル径1mm ×10mm）の１×１０-2cc/sec以上であることがあることが好ましい。１×１０-2cc/sec未満では溶融粘度が大きすぎるため押出が難しく、成形温度や分子量により調整し、物性を損なわない範囲で成形可能な流動性を得ることが好ましい。
【００３２】
【実施例】
次に実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
【００３３】
実施例１
8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム水溶液４９リットルに9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-メチルフェニル）フルオレン３．５kg（以下、BCFLと略称）とハイドロサルファイト10g を加え溶解した。これにメチレンクロライド２５リットルを加え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、ホスゲン２．３kgを30分かけて吹き込んだ。
吹き込み終了後、１分間激しく撹拌して反応液を乳化させ、p-ターシャルブチルフェノール８４g （以下PTBPと略称）と下記ポリシロキサン化合物３．５kg（以下Si1 と略称）とを加え、さらに１０分間撹拌後、20mlのトリエチルアミンを加え、さらに６０分撹拌を継続し重合させた。
【００３４】
【化１０】
0004484131.tif 000007
【００３５】
重合液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液の導電率が10μＳ/cm 以下になるまで水洗を繰り返した後、精製樹脂液を得た。得られた精製樹脂液０．５μｍ径テフロンフィルターで濾過後、強攪拌されている６０℃の純水に樹脂液をゆっくり滴下し、溶媒を除去しつつ重合物を固形化した。固形物を濾過後、乾燥して白色粉末状重合体を得た。
【００３６】
この重合体は、メチレンクロライドを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃（ハギンズ定数0.45）における極限粘度［η］は0.38dl／g であった。
【００３７】
得られたポリカーボネート粉末にステアリン酸モノグリセリド300ppmを添加し、50μｍポリマーフィルターを付けたベント付き５０ｍｍ押出機にて２８０℃で押出し、溶融ペレット化を行った。
【００３８】
得られたペレットを、水平３本ロールを備えたベント付き９０ｍｍ溶融フィルム押出機にて２８０℃で押出し、溶融成形フィルムを得た。
得られたポリカーボネートフィルムの厚さは１０２μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００３９】
実施例２
Si1 の代わりに下記ポリシロキサン化合物２．３Kg（以下Si2 と略称）に変更し、PTBPを４８g に変更し、さらにBCFL投入と同時にトリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.5g加えた以外は実施例１と同様に重合反応を行った。
【００４０】
【化１１】
0004484131.tif 000008
【００４１】
得られた重合体の極限粘度［η］は0.28dl/gであった。実施例１と同様にペレット化後、得られた溶融成形ポリカーボネートフィルムの厚さは１０１μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００４２】
実施例３
Si1 の代わりに下記ポリシロキサン化合物３．５Kg（以下Si3 と略称）に変更し、PTBPの代わりにフェノール４８g （以下PHと略称）に変更した以外は実施例１と同様に重合反応を行った。
【００４３】
【化１２】
0004484131.tif 000009
【００４４】
得られた重合体の極限粘度［η］は0.29dl／g であった。実施例１と同様にペレット化後、得られた溶融成形ポリカーボネートフィルムの厚さは９９μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００４５】
実施例４
BCFLを２．５kg、Si1 を１．８kgに変更し、さらにBCFL投入と同時に2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン０．６０kg（以下、BPA と略称）を加えた以外は、実施例１と同様に重合反応を行った。
得られた重合体の極限粘度［η］は0.35dl／g であった。実施例１と同様にペレット化後、得られた溶融成形ポリカーボネートフィルムの厚さは１０１μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００４６】
比較例１
実施例１のポリカーボネートの代わりに、市販のビスフェノールＡ型光学用ポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学（株）製ユーピロH-4000）を用いた以外は実施例１と同様にペレット化した。得られた溶融成形ポリカーボネートフィルムの厚さは１００μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００４７】
比較例２
BCFLの代わりに、9,9-ビス（4-ヒドロキシフェニル）フルオレン0.65kg（以下BFLと略称）とBPA3.8kgを用い、PTBPを90g に変更し、Si1 を用いなかった以外は、実施例１と同様に反応重合を行った。
得られた重合体の極限粘度［η］は0.32dl／g であった。実施例１と同様にペレット化後、得られた溶融成形ポリカーボネートフィルムの厚さは１０２μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００４８】
比較例３
BCFLの代わりに、3,3,5-トリメチル−1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン0.87kg（以下TMBPZ と略称）とBPA3.6kgを用い、PTBPを92g に変更し、Si1 を用いなかった以外は、実施例１と同様に反応重合を行った。
得られた重合体の極限粘度［η］は0.31dl／g であった。実施例１と同様にペレット化後、得られた溶融成形ポリカーボネートフィルムの厚さは１００μｍで、幅方向の厚みムラは±３μｍであった。
【００４９】
実施例１〜４及び比較例１〜３の各試験後の外観、偏光板の間に挟んでの透過率の結果を表１に示す。偏光板の間に挟んでの透過率の測定は各試験片が位相差をどのくらい起こしているかを確認する評価である。偏光軸を合わせた２枚の偏光板の間に偏光軸と試験片の延伸方向（シートのＭＤ方向、巻き取り方向）を合わせ挟んだ構成を（α）とし、偏光軸と試験片の延伸軸（シートのＭＤ方向、巻き取り方向）を45°傾けて挟んだ構成を（β）とする。試験片が偏光（位相差）を起こしていても偏光軸と樹脂の配向軸が一致していれば偏光状態は崩れず、偏光（位相差）による透過率低下は無い。しかし、偏光軸と樹脂の配向軸が45°傾けると、位相差を起こし偏光状態が崩れ透過率は低下する。このため（α）と（β）の値が大きく異なるほど、偏光（位相差）を起こしているシートとなる。
【００５０】
【表１】
0004484131.tif 000010
【００５１】
ＢＣＦＬ：９，９−ビス（３−メチル4-ヒドロキシフェニル）フルオレン
ＢＰＡ：２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
ＢＦＬ：９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン
TMBPZ:3,3,5-トリメチル−1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン
極限粘度：0.5g／100mlジクロロメタン樹脂溶液を20℃、ハギンズ定数 0.45 で極限粘度［η］(dl/g)を求めた。
透過率：スガ試験器（株）製 HGM-2DPを用いて測定(JIS K 6714)を行った。
【００５２】
【発明の効果】
本発明より、偏光（位相差）が少なく、好みに応じた形状をフィルム面に付与可能な転写性に優れたフラットパネルディスプレー用フィルムが作成できる。