(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式(I)又は式(II)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として使用し、下記式(III)で表されるオレフィンを下記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物を用いて不斉アジリジン化反応することを特徴とする下記式(V)で表される光学活性なアジリジン化合物の製造方法。
0004564010.tif 000041
0004564010.tif 000042
［式(I)及び式(II)において、Ａｒは、下記式(VI)又は式(VII)：
0004564010.tif 000043
で表され、式(VI)中のＸは、それぞれ独立してハロゲン（塩素を除く）又はハロゲン化アルキル基で、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して水素又は炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、式(VII)中のＲ3は、炭素又はケイ素にアルキル基又はアリール基が３つ結合してなる基である。］
0004564010.tif 000044
［式中、Ｒ4は、炭素数１〜１５のアルキル基若しくは置換アルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基若しくは置換アルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基若しくは置換アルキニル基、又は炭素数６〜２０のアリール基若しくは置換アリール基であり、Ｒ5は、水素、又は炭素数１〜１０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、Ｒ4及びＲ5は、互いに結合して環を形成してもよい。］
Ｒ6−ＳＯ2Ｎ3 ・・・ (IV)
［式中、Ｒ6は、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換アリール基である。］
0004564010.tif 000045
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、上記と同義である。］
【請求項２】
前記式(I)又は式(II)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体において、Ａｒが上記式(VI)で表され、該式(VI)中のＸがフッ素で、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素であることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なアジリジン化合物の製造方法。
【請求項３】
前記式(III)で表されるオレフィンにおいて、Ｒ4が、フェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、２−ナフチル基、フェニルエチニル基、及びｎ−ヘキシル基のいずれかであり、Ｒ5が水素であることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なアジリジン化合物の製造方法。
【請求項４】
前記式(III)で表されるオレフィンがインデンであることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なアジリジン化合物の製造方法。
【請求項５】
前記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物が、トルエンスルフォニルアジド、ニトロベンゼンスルフォニルアジド又はトリメチルシリルエタンスルフォニルアジドであることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なアジリジン化合物の製造方法。
【請求項６】
上記請求項１の式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記請求項１の式(VI)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として使用し、下記式(VIII)で表されるオレフィンを上記請求項１の式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物を用いて不斉アミノ化反応することを特徴とする下記式(IX)で表される光学活性なアミン化合物の製造方法。
0004564010.tif 000046
［式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、水素、炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基、又は炭素数６〜１５のアリール基若しくは置換アリール基で、但し、Ｒ7及びＲ8の少なくとも一方は水素ではなく、Ｒ10は、炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、Ｒ7とＲ8とは、並びにＲ9とＲ10とは互いに結合して環を形成してもよい。］
0004564010.tif 000047
［式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、上記と同義である。］
【請求項７】
前記式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記式(VI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体において、Ｘがフッ素で、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素であることを特徴とする請求項６に記載の光学活性なアミン化合物の製造方法。
【請求項８】
前記式(VIII)で表されるオレフィンが下記式(X)で表されることを特徴とする請求項６に記載の光学活性なアミン化合物の製造方法。
0004564010.tif 000048
［式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、上記と同義であり、Ｒ11は、水素又は炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、Ｒ8とＲ11とは、並びにＲ9とＲ10とは互いに結合して環を形成してもよい。］
【請求項９】
前記式(X)で表されるオレフィンが、１-フェニルシクロペンテン又は２-エチルインデンであることを特徴とする請求項８に記載の光学活性なアミン化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物が、トルエンスルフォニルアジド、ニトロベンゼンスルフォニルアジド又はトリメチルシリルエタンスルフォニルアジドであることを特徴とする請求項６に記載の光学活性なアミン化合物の製造方法。
【請求項１１】
上記請求項１の式(I)又は式(II)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体。
【請求項１２】
前記式(I)又は式(II)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体において、Ａｒが上記式(VI)で表され、該式(VI)中のＸがフッ素で、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素であることを特徴とする請求項１１に記載のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体。
【請求項１３】
下記式(XI)又は式(XII)で表される中間体。
0004564010.tif 000049
0004564010.tif 000050
［式(XI)及び式(XII)において、Ａｒは、上記請求項１の式(VI)で表される。］
【請求項１４】
下記式(XIII)又は式(XIV)で表される中間体。
0004564010.tif 000051
0004564010.tif 000052
［式(XIII)及び式(XIV)において、Ａｒは、上記請求項１の式(VI)で表される。］
【請求項１５】
下記式(XV)又は式(XVI)で表される中間体。
0004564010.tif 000053
0004564010.tif 000054
［式(XV)及び式(XVI)において、Ａｒは、上記請求項１の式(VI)で表される。］
【請求項１６】
下記式(XVII)又は式(XVIII)で表されるサレン配位子。
0004564010.tif 000055
0004564010.tif 000056
［式(XVII)及び式(XVIII)において、Ａｒは、上記請求項１の式(VI)で表される。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物の製造方法、並びに該方法に用いる錯体及びその中間体に関し、より詳しくは、特定構造のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として、オレフィンを不斉アジリジン化反応又は不斉アミノ化反応して、光学活性なアジリジン化合物又はアミン化合物を製造する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ナイトレンの転移は、基本的なＣ−Ｎ結合生成反応である。これまでに、メタルナイトレノイド中間体を経由したナイトレン転移反応の触媒として、多くの金属錯体が機能することが知られており、不斉ナイトレン転移反応、特にアジリジン化反応及びアミノ化反応が活発に研究されている。かかる不斉ナイトレン転移反応用の触媒として、メタルポルフィリン類、メタロサレン類、Ｃｕ-ビス(オキサゾリン)、Ｃｕ-ビス(シッフ塩基)、Ｃｕ-ジアミン錯体等の種々のキラルな金属錯体が検討され、高いエナンチオ選択性を示すことが報告されている。【０００３】
しかしながら、これらの報告におけるナイトレン先駆体としては、Ｎ-アリールスルフォニルイミノフェニルアイオディナン（ＰｈＩ=ＮＳＯ2Ａｒ）が用いられており、この場合、ヨウ化ベンゼンが副生成することに加え、生成物からアリールスルフォニル基を除去するのが難しいという問題があった。【０００４】
これに対し、Ｎ-アリールスルフォニルイミノフェニルアイオディナンに代えて、Ｎ-アリールスルフォニルアジドを用いた不斉ナイトレン転移反応が報告されているが、反応のエナンチオ選択性が不十分であったり、ナイトレン転移反応を促進するために、ＵＶ照射や加熱等の過酷な反応条件を要するものであった。【０００５】
これに対し、本発明者らは、Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の存在下、室温、光照射なしで、Ｎ-アリールスルフォニルアジドをナイトレン先駆体として、アルキルアリールスルフィドの不斉スルフィミド化、並びにオレフィンの不斉アジリジン化及び不斉アミノ化が可能であることを報告した（文献１：M. Murakami, T. Uchida, T. Katsuki, Tetrahedron Lett., 2001, 42, 7071-7074、文献２：M. Murakami, T. Uchida, B. Saito, T. Katsuki, Chirality, 2003, 15, 116-123、及び文献３：K. Omura, M. Murakami, T. Uchida, R. Irie, T. Katsuki, Chem. Lett., 2003, 32, 354-355参照）。
【発明の開示】
【０００６】
しかしながら、上記文献１〜３に記載のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒とした場合、該Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の安定性が低いため、触媒回転数（ＴＯＮ）が低く、工業化の観点で課題があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、安定性が高い特定構造のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒とし、触媒回転数（ＴＯＮ）が高く、高いエナンチオ選択性で光学活性なアジリジン化合物又はアミン化合物を製造する方法を提供することにある。また、本発明の他の目的は、該製造方法の触媒として好適な特定構造のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体、並びに該錯体の合成に用いる中間体及びサレン配位子を提供することにある。
【０００８】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体のサレン配位子にハロゲン又はハロゲン化アルキル或いは嵩高い基を導入して特定の構造とすることで、錯体の安定性が改善して、触媒回転数(ＴＯＮ)が向上し、より経済的に、光学活性なアジリジン化合物又はアミン化合物を製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
即ち、本発明のアジリジン化合物の製造方法は、下記式(I)又は式(II)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として使用し、下記式(III)で表されるオレフィンを下記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物を用いて不斉アジリジン化反応することを特徴とし、下記式(V)で表される光学活性なアジリジン化合物を製造することができる。
0004564010.tif 000002
0004564010.tif 000003
［式(I)及び式(II)において、Ａｒは、下記式(VI)又は式(VII)：
0004564010.tif 000004
0004564010.tif 000005
で表され、式(VI)中のＸは、それぞれ独立してハロゲン又はハロゲン化アルキル基で、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して水素又は炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、式(VII)中のＲ3は、嵩高い基である。］
0004564010.tif 000006
［式中、Ｒ4は、炭素数１〜１５のアルキル基若しくは置換アルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基若しくは置換アルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基若しくは置換アルキニル基、又は炭素数６〜２０のアリール基若しくは置換アリール基であり、Ｒ5は、水素、又は炭素数１〜１０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、Ｒ4及びＲ5は、互いに結合して環を形成してもよい。］
Ｒ6−ＳＯ2Ｎ3  ・・・  (IV)
［式中、Ｒ6は、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換アリール基である。］
0004564010.tif 000007
［式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、上記と同義である。］
【００１０】
本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法において、Ａｒが上記式(VI)で表される場合、該式(VI)中のＸがフッ素又は塩素で、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素であることが好ましい。また、Ａｒが上記式(VII)で表される場合、該式(VII)中のＲ3は、炭素又はケイ素にアルキル基又はアリール基が３つ結合してなる基であることが好ましい。
【００１１】
本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法の好適例においては、前記式(III)で表されるオレフィンにおいて、Ｒ4が、フェニル基、ｐ-ブロモフェニル基、ｐ-ニトロフェニル基、２-ナフチル基、フェニルエチニル基、及びｎ-ヘキシル基のいずれかであり、Ｒ5が水素である。
【００１２】
本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式(III)で表されるオレフィンがインデンである。
【００１３】
本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物が、トルエンスルフォニルアジド、ニトロベンゼンスルフォニルアジド又はトリメチルシリルエタンスルフォニルアジドである。
【００１４】
一方、本発明のアミン化合物の製造方法は、上記式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記式(VI)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として使用し、下記式(VIII)で表されるオレフィンを上記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物を用いて不斉アミノ化反応することを特徴とし、下記式(IX)で表される光学活性なアミン化合物を製造することができる。
0004564010.tif 000008
［式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、水素、炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基、又は炭素数６〜１５のアリール基若しくは置換アリール基で、但し、Ｒ7及びＲ8の少なくとも一方は水素ではなく、Ｒ10は、炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、Ｒ7とＲ8とは、並びにＲ9とＲ10とは互いに結合して環を形成してもよい。］
0004564010.tif 000009
［式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、上記と同義である。］
【００１５】
本発明の光学活性なアミン化合物の製造方法の好適例においては、前記式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記式(VI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体において、Ｘがフッ素又は塩素で、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素である。
【００１６】
本発明の光学活性なアミン化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式(VIII)で表されるオレフィンが下記式(X)で表される。
0004564010.tif 000010
［式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、上記と同義であり、Ｒ11は、水素又は炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、Ｒ8とＲ11とは、並びにＲ9とＲ10とは互いに結合して環を形成してもよい。］ここで、前記式(X)で表されるオレフィンとしては、１-フェニルシクロペンテン及び２-エチルインデンを挙げることができる。
【００１７】
本発明の光学活性なアミン化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式(IV)で表されるスルフォニルアジド化合物が、トルエンスルフォニルアジド、ニトロベンゼンスルフォニルアジド又はトリメチルシリルエタンスルフォニルアジドである。
【００１８】
また、上記アジリジン化合物及びアミン化合物の製造用触媒として好適な本発明のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体は、上記式(I)又は式(II)で表される。ここで、Ａｒが上記式(VI)で表され、該式(VI)中のＸがフッ素又は塩素で、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素であることが好ましい。また、Ａｒが上記式(VII)で表され、該式(VII)中のＲ3が炭素又はケイ素にアルキル基又はアリール基が３つ結合してなる基であることも好ましい。
【００１９】
更に、本発明の中間体は、下記式(XI)若しくは式(XII)：
0004564010.tif 000011
0004564010.tif 000012
［式(XI)及び式(XII)において、Ａｒは、上記式(VI)で表される］、下記式(XIII)若しくは式(XIV)：
0004564010.tif 000013
0004564010.tif 000014
［式(XIII)及び式(XIV)において、Ａｒは、上記式(VI)で表される］、或いは下記式(XV)若しくは式(XVI)：
0004564010.tif 000015
0004564010.tif 000016
［式(XV)及び式(XVI)において、Ａｒは、上記式(VI)で表される］で表される。
【００２０】
また更に、本発明のサレン配位子は、下記式(XVII)又は式(XVIII)で表される。
0004564010.tif 000017
0004564010.tif 000018
［式(XVII)及び式(XVIII)において、Ａｒは、上記式(VI)で表される。］
【００２１】
本発明によれば、ナイトレン先駆体としてスルフォニルアジド化合物を用い、高い触媒回転数で光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物を高いエナンチオ選択性で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】文献１〜３に記載のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体をアセトニトリルから再結晶化して得た結晶のＸ線構造解析の結果である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に、本発明の光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物の製造方法について詳細に説明する。本発明で触媒として使用する光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体は、前記式(I)又は式(II)で表される。ここで、式(II)の錯体は、式(I)の錯体の鏡像異性体である。式(I)及び式(II)において、Ａｒは、上記式(VI)又は式(VII)で表される。式(VI)において、Ｘは、それぞれ独立してハロゲン又はハロゲン化アルキル基であり、該ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、これらの中でも、フッ素及び塩素が好ましく、上記ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基が挙げられ、その炭素数は１〜４の範囲が好ましい。また、式(VI)において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、該アルキル基としては、メチル基、エチル基等が挙げられ、上記トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、エチルジメチルシリル基等が挙げられる。更に、式(VII)において、Ｒ3は、嵩高い基であり、該嵩高い基は、隣接する３位及び５位の水素原子の引き抜きを抑制できる限り特に限定されるものではない。該嵩高い基としては、炭素又はケイ素にアルキル基又はアリール基が３つ結合してなる基、即ち、式：−ＳｉＲ123又は−ＣＲ123［式中、Ｒ12はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基である］で表される基が好ましく、ここで、炭素又はケイ素に結合するアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ-プロピル基、ｉ-プロピル基、ｎ-ブチル基、ｉ-ブチル基、sec-ブチル基、ｔ-ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素又はケイ素に結合するアリール基としては、フェニル基、トリル基等の炭素数６〜７のアリール基が好ましい。なお、式(VII)のＲ3として、具体的には、ｔ-ブチルジメチルシリル基、ｔ-ブチルジフェニルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ-ブチル基等が挙げられる。ここで、錯体の合成上の観点から、式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記式(VI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体においては、Ｒ1がメチル基又はトリメチルシリル基で、Ｒ2が水素であるのが特に好ましい。なお、これらのＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体はアピカル位にＣＯ配位子を有する。触媒としての上記Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の使用量は、基質のオレフィンのモル量に対し、0.01〜100mol％の範囲が好ましく、0.1〜4mol％の範囲が更に好ましい。【００２４】
本発明者らが、上記文献１〜３に記載のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体をアセトニトリルから再結晶化してＸ線構造解析したところ、図１に示すように、３又は３'の２-フェニルナフチル基のフェニル基のメタ位の炭素がルテニウムに結合したアセトニトリルの窒素原子に非常に近接している（3.59Å）ことが分った。ここで、ルテニウムに結合したアセトニトリルは、反応中はスルフォニルアジド化合物で置き換えられるため、メタ位の炭素がルテニウムに結合したスルフォニルアジド化合物で優先的にアミノ化されるものと考えられる。【００２５】
これに対して、上記式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記式(VI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体においては、３及び３'の２-フェニルナフチル基のフェニル基のメタ位の炭素にＸが結合しており、スルフォニルアジド化合物によるアミノ化反応が防止されているため、反応中の安定性が高く、触媒回転数（ＴＯＮ）を向上させることができる。また、上記式(I)又は式(II)で表され、該式(I)又は式(II)中のＡｒが上記式(VII)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体においては、パラ位の嵩高い基が隣接するメタ位の水素をスルフォニルアジド化合物によるアミノ化反応から保護するため、反応中の安定性が高く、触媒回転数（ＴＯＮ）を向上させることができる。【００２６】
上記式(I)で表され、該式(I)中のＡｒが上記式(VI)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体は、公知の(Ｒ)-２'-ヨード-２-メトキシメトキシ-１,１'-ビナフチルのヨウ素を上記式(VI)で表される置換フェニル基で置換して上記式(XI)で表される中間体を得、該式(XI)で表される中間体をホルミル化して上記式(XIII)で表される中間体を得、該式(XIII)で表される中間体を加水分解して上記式(XV)で表される中間体を得、該式(XV)で表される中間体と(１Ｒ,２Ｒ)-１,２-ジアミノシクロヘキサンとから上記式(XVII)で表されるサレン配位子を得、該式(XVII)で表されるサレン配位子をルテニウム化合物、例えば、トリルテニウムドデカカルボニルに配位させて合成することができる。【００２７】
同様に、式(II)で表され、該式(II)中のＡｒが上記式(VI)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体は、公知の(Ｓ)-２'-ヨード-２-メトキシメトキシ-１,１'-ビナフチルのヨウ素を上記式(VI)で表される置換フェニル基で置換して上記式(XII)で表される中間体を得、該式(XII)で表される中間体をホルミル化して上記式(XIV)で表される中間体を得、該式(XIV)で表される中間体を加水分解して上記式(XVI)で表される中間体を得、該式(XVI)で表される中間体と(１Ｓ,２Ｓ)-１,２-ジアミノシクロヘキサンとから上記式(XVIII)で表されるサレン配位子を得、該式(XVIII)で表されるサレン配位子をルテニウム化合物に配位させて合成することができる。【００２８】
本発明でナイトレン先駆体として使用するスルフォニルアジド化合物は、前記式(IV)で表される。式中、Ｒ6は、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換アリール基である。ここで、アルキル基及び置換アルキル基の炭素数は１〜２０の範囲が好ましく、アリール基及び置換アリール基の炭素数は６〜２０の範囲が好ましい。また、上記置換アルキル基及び置換アリール基における置換基としては、塩素及び臭素等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基及びブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基、トリメチルシリル基等の炭素数３〜１２のトリアルキルシリル基、ニトロ基等が挙げられる。上記スルフォニルアジド化合物として、具体的には、ｐ-トルエンスルフォニルアジド（ｐ-ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ2Ｎ3）、ｐ-ニトロベンゼンスルフォニルアジド（ｐ-Ｏ2ＮＣ6Ｈ4ＳＯ2Ｎ3）、ｏ-ニトロベンゼンスルフォニルアジド（ｏ-Ｏ2ＮＣ6Ｈ4ＳＯ2Ｎ3）、ｐ-メトキシベンゼンスルフォニルアジド（ｐ-ＣＨ3ＯＣ6Ｈ4ＳＯ2Ｎ3）、ｐ-ブロモベンゼンスルフォニルアジド（ｐ-ＢｒＣ6Ｈ4ＳＯ2Ｎ3）等の置換若しくは非置換のアリールスルフォニルアジド、２-トリメチルシリルエタンスルフォニルアジド（(ＣＨ3)3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2Ｎ3）等の置換若しくは非置換のアルキルスルフォニルアジドが挙げられ、これらの中でも、ｐ-トルエンスルフォニルアジド、ｐ-ニトロベンゼンスルフォニルアジド及び２-トリメチルシリルエタンスルフォニルアジドが特に好ましい。なお、式(I)又は式(II)で表され、Ａｒが式(VI)で表され、Ｘが塩素以外のハロゲン又はハロゲン化アルキル基である錯体や、式(I)又は式(II)で表され、Ａｒが式(VII)で表される錯体を触媒として使用する場合は、Ｒ6がアリール基又は置換アリール基であるアリールスルフォニルアジド化合物を使用することが好ましい。これらのスルフォニルアジド化合物は、商業的に利用可能なスルフォニルクロライドから１段階で容易に調製できる［例えば、有機合成実験法ハンドブックP.505(丸善)に記載されている］。該スルフォニルアジド化合物の使用量は、後述する基質のオレフィン1molに対し1mol〜3molの範囲が好ましく、1mol〜1.5molの範囲が更に好ましい。収率を上げる観点からは、オレフィンのモル数に比べて、スルフォニルアジド化合物のモル数を幾分過剰にするのが好ましい。【００２９】
従来のナイトレン転移反応ではアリールスルフォニルイミノフェニルアイオディナン（ＡｒＳＯ2Ｎ=ＩＰｈ）等の合成が複雑なナイトレン先駆体を用いていたが、本発明では、容易に合成できるスルフォニルアジド(Ｒ6ＳＯ2Ｎ3)をナイトレン先駆体に使用する点で、製造プロセスの簡略化及び低コスト化が図れるといった利点がある。また、本発明では、ｐ-ニトロベンゼンスルフォニルアジド及びｏ-ニトロベンゼンスルフォニルアジドの使用が可能であり、この場合、生成物から、温和な条件でｏ-又はｐ-ニトロベンゼンスルフォニル基を外すことができるといった利点がある。【００３０】
本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法とアミン化合物の製造方法とは、出発物質のオレフィンを異にする。即ち、光学活性なアジリジン化合物の製造方法では、式(III)で表されるオレフィンを用い、光学活性なアミン化合物の製造方法では、式(VIII)で表されるオレフィンを用いる。【００３１】
光学活性なアジリジン化合物の製造方法にかかわる式(III)で表されるオレフィンにおいて、Ｒ4は、炭素数１〜１５のアルキル基若しくは置換アルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基若しくは置換アルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基若しくは置換アルキニル基、又は炭素数６〜２０のアリール基若しくは置換アリール基であり、該炭素数１〜１５のアルキル基としては、ｎ-ヘキシル基、エチル基、ｎ-オクチル基等が挙げられ、該炭素数２〜２０のアルケニル基としては、１-フェニルビニル基、２-フェニルビニル基、イソプロペニル基等が挙げられ、該炭素数２〜２０のアルキニル基としては、フェニルエチニル基、トリメチルシリルエチニル基、シクロヘキシルエチニル基等が挙げられ、該炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、２-ナフチル基、ｐ-(１-シクロヘキセニル)-フェニル基、ｐ-ビフェニル基等が挙げられる。また、Ｒ5は、水素、又は炭素数１〜１０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、該アルキル基としては、メチル基等が挙げられる。上記Ｒ4及びＲ5におけるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアリール基中の水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基等で置換されていてもよい。また、Ｒ4及びＲ5は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ4及びＲ5が互いに結合して環を形成してなるオレフィンとしては、インデン（Ｒ4がフェニル基で、Ｒ5がメチル基の化合物において、フェニル基とメチル基を結合）等が挙げられる。【００３２】
一方、光学活性なアミン化合物の製造方法にかかわる式(VIII)で表されるオレフィンにおいて、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、水素、炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基、又は炭素数６〜１５のアリール基若しくは置換アリール基で、但し、Ｒ7及びＲ8の少なくとも一方は水素ではなく、該炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、該炭素数６〜１５のアリール基としては、フェニル基、２-メチルフェニル基、２-ナフチル基等が挙げられる。また、Ｒ10は、炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。但し、Ｒ7とＲ8とは、並びにＲ9とＲ10とは互いに結合して環を形成してもよい。また、上記Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10におけるアルキル基及びアリール基中の水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基等で置換されていてもよい。【００３３】
上記式(VIII)で表されるオレフィンの中でも、上記式(X)で表されるオレフィンが好ましい。式(X)において、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、上記と同義であり、Ｒ11は、水素又は炭素数１〜２０のアルキル基若しくは置換アルキル基であり、該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。また、Ｒ8とＲ11とは、並びにＲ9とＲ10とは互いに結合して環を形成してもよく、例えば、結合して５員環又は６員環を形成した場合、式(X)のオレフィンは、下記式(XIX)、式(XX)、式(XXI)又は式(XXII)で表される。ただし、式(X)において、Ｒ9とＲ10ＣＨ2とが水素原子の場合、アジリジン化が高エナンチオ選択的に進行する。【００３４】
0004564010.tif 000019
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【００３５】
上記式(X)で表されるオレフィンとして、具体的には、１-フェニルシクロペンテン及び２-エチルインデンが挙げられる。【００３６】
本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法では、前記式(III)で表されるオレフィンを用いて式(V)で表されるアジリジン化合物を製造し、一方、光学活性なアミン化合物の製造方法では、前記式(VIII)で表されるオレフィンを用いて式(IX)で表されるアミン化合物を製造する。本発明の光学活性なアジリジン化合物の製造方法の最終生成物である光学活性なアジリジン化合物は、前記式(V)で表され、式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、上記と同義である。なお、式(I)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体と式(II)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体との使い分けによって、光学活性なアジリジン化合物の両鏡像異性体が得られる。一方、本発明の光学活性なアミン化合物の製造方法の最終生成物である光学活性なアミン化合物は、前記式(IX)で表され、式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、上記と同義である。ここで、式(I)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体と式(II)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体との使い分けによって、光学活性なアミン化合物の両鏡像異性体が得られる。これらの光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物は医農薬品の合成に使用できる。【００３７】
本発明では、ゼオライトの存在下で不斉アジリジン化反応及びアミノ化反応を行うのが好ましい。ゼオライトが存在しない場合でも、不斉アジリジン化反応及びアミノ化反応は良好なエナンチオ選択性で進行するが、ゼオライトの存在下で行うことにより、収率を大きく向上させることができる。本発明で使用するゼオライトとしては、ＭＳ-３Ａ、ＭＳ-４Ａ、ＭＳ-５Ａ等が例示でき、この中でも、ＭＳ-４Ａが好ましい。ゼオライトの使用量としては、基質のオレフィン1mmolに対し、50〜500mgの範囲が好ましく、100〜300mgの範囲が更に好ましい。【００３８】
上記不斉アジリジン化反応及びアミノ化反応は、溶媒中で行う。溶媒としては、クロロベンゼン、ジクロロエタン、トルエン、ジクロロメタン等が例示でき、ジクロロメタンが好ましい。溶媒の使用量は、基質のオレフィン1mmolに対し、2〜50mLの範囲が好ましく、4〜10mLの範囲が更に好ましい。【００３９】
本発明の光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物の製造方法は、-10〜40℃の範囲で実施することが好ましく、室温で特に好適に実施できる。本発明の製造方法は、室温で実施できるため、温度調節にかかるエネルギーコストを抑制することができる。また、本発明では、オレフィン、スルフォニルアジド化合物、溶媒及び触媒の混合溶液を、撹拌することにより光学活性なアジリジン化合物又はアミン化合物を製造することができる。反応時間は特に限定されず、反応温度に応じて適宜選択される。反応温度が高い場合は反応時間を短く、反応温度が低い場合は反応時間を長くすることが好ましい。【００４０】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
【実施例】
【００４１】
（錯体合成例１）
以下の反応スキーム１に従って、(aＲ)-３-ホルミル-２'-(３,５-ジフルオロ-４-メチルフェニル)-２-ヒドロキシ-１,１'-ビナフチルを合成した。
0004564010.tif 000023
【００４２】
具体的には、上記式(XXIII)で表される化合物［H. Sasaki, R. Irie, T. Hamada, K. Suzuki, and T.Katsuki, Tetrahedron, 50(41), 11827-11838(1994)に記載の方法にて合成］を窒素下、-78℃でＴＨＦ（60mL）に溶解させた。次に、該溶液にｎ-ブチルリチウム（1.58Ｍ, 8.4mL, 13.2mmol）を加え、1時間撹拌した。更に、-78℃で、ジエチルクロロホスフェート（2.1mL, 13.2mmol）を加えた後、室温まで加温して1時間撹拌し、再び-78℃に冷却した。該混合物を、ＴＨＦ（60mL）にリチウム／ナフタレン（39.6mmol, 3.3eq）を溶解させた溶液に加え、-78℃で1.5時間撹拌した。該混合物をヨウ素（16.7g, 65.8mmol, 5.5eq）で処理し、更に2時間撹拌した後、室温まで加温し、減圧乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラム（ヘキサン／トルエン＝1／0〜0／1）に通し、上記式(XXIV)で表される化合物と上記式(XXV)で表される化合物とを1：1で得た。ジクロロメタン／ヘキサン混合液から混合物を再結晶して、純粋な式(XXIV)の化合物を収率45％で得た。得られた式(XXIV)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ8.05（d, J=8.8Hz, 1H）, 8.01（d, J=7.8Hz, 1H）, 7.90（m, 2H）, 7.67（d, J=8.8Hz, 1H）, 7.60（d, J=9.0Hz, 1H）, 7.47（m, 1H）, 7.37（m, 1H）, 7.25（m, 3H）, 6.99（d, J=8.8Hz, 1H）, 5.11（ABq, J=7.1Hz, 2H）, 3.23（s, 3H）であり、元素分析の結果は、Ｈ 3.89％、Ｃ 60.232％であり、Ｃ22Ｈ17ＩＯ2の理論値（Ｈ 3.89％、Ｃ 60.02％）と非常に良く一致していた。【００４３】
次に、式(XXIV)の化合物（1.0g, 2.27mmol）、Ｐｄ(ＰＰｈ3)4（131mg, 0.11mmol, 5mol％）、フッ化セシウム（1.03g, 6.81mmol, 3eq）及び３,５-ジフルオロフェニルボロン酸（860mg, 5.5mmol, 2.4eq）をＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ, 8mL）に加えた。懸濁液を115℃に加熱して24時間撹拌した後、室温に冷却した。混合物をエーテル層とアンモニウムクロライド水溶液層とに分離させ、エーテル層を無水Ｎａ2ＳＯ4で乾燥して、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝19／1）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXVI)で表される化合物を収率98％で得た。得られた式(XXVI)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ8.06（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.95（d, J=8.6Hz, 2H）, 7.86（d, J=8.8Hz, 1H）, 7.64（m, 1H）, 7.47（m, 2H）, 7.26（m, 3H）, 7.02（d, J=8.1Hz, 1H）, 6.67（m, 2H）, 6.48（m, 1H）, 4.98（ABq, J=6.8Hz, 2H）, 3.143（s, 3H）であり、ＨＲＦＡＢＭＳ m/zの結果は、426.1431であり、Ｃ28Ｈ20Ｆ2Ｏ2（Ｍ+）の計算値（426.1445）と非常に良く一致していた。【００４４】
次に、上記式(XXVI)の化合物（938mg, 2.2mmol）を窒素下、-78℃でＴＨＦ（5.6mL）に溶解させた。該溶液に、ｎ-ブチルリチウム（1.58Ｍ, 1.4mL, 2.2mmol, 1.0eq）を加え、1時間撹拌した。該溶液に、-78℃で、ヨウ化メタン（415μL, 6.7mmol, 3eq）を加えて1時間撹拌した後、室温に加温した。混合物の反応をアンモニウムクロライド水溶液で停止させ、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル層を無水Ｎａ2ＳＯ4で乾燥して、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXVII)で表される化合物を収率93％で得た。得られた式(XXVII)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ8.01（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.95（d, J=9.3Hz, 1H）, 7.94（d, J=8.1Hz, 1H）, 7.87（d, J=9.0Hz, 1H）, 7.80（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.58（d, J=8.8Hz, 1H）, 7.49（d, J=8.8Hz, 1H）,7.23（m, 5H）, 7.02（d, J=8.3Hz, 1H）, 6.67（d, J=8.1Hz）, 4.98（ABq, J=7.0Hz, 2H）, 3.15（s, 3H）, 2.01（s, 3H）であり、元素分析の結果は、Ｈ 5.17％、Ｃ 79.11％であり、Ｃ29Ｈ22Ｆ2Ｏ2の理論値（Ｈ 5.03％、Ｃ 79.08％）と非常に良く一致していた。【００４５】
次に、上記式(XXVII)の化合物（865mg, 2.0mmol）を窒素下、-78℃でＴＨＦ（5mL）に溶解させた。該溶液に、ｎ-ブチルリチウム（1.58Ｍ, 1.4mL, 2.2mmol, 1.1eq）及びテトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ, 325μL, 2.2mmol, 1.1eq）を加え、1時間撹拌した。該溶液に、-78℃でＤＭＦ（750μL, 9.7mmol, 4.8eq）を加え1時間撹拌した後、室温に加温した。混合物の反応を水で停止させ、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル層を無水Ｎａ2ＳＯ4で乾燥して、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXVIII)で表される化合物を収率50％で得た。得られた式(XXVIII)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ10.40（s, 1H）, 8.47（s, 1H）, 8.05（m, 3H）, 8.04（d, J=8.6Hz, 1H）, 7.97（m, 2H）, 7.60（d, J=8.6Hz, 1H）, 7.49（m, 2H）, 7.35（m, 2H）, 7.20（m, 2H）, 6.61（d, J=8.1Hz, 2H）, 4.55（ABq, J=5.7Hz, 2H）, 2.91（s, 3H）, 2.01（s, 3H）であった。【００４６】
次に、上記式(XXVIII)の化合物（468mg, 1.0mmol）を窒素下、塩酸／イソプロパノール（20w/w％, 10mL）に溶解させ、室温で一晩撹拌した。混合物をＮａＨＣＯ3水溶液で中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル層を無水Ｎａ2ＳＯ4で乾燥して、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXIX)で表される化合物を収率99％で得た。得られた式(XXIX)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ10.49（s, 1H）, 10.14（s, 1H）, 8.04（d, J=8.6Hz, 1H）, 7.97（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.90（m, 2H）, 7.58（d, J=8.6Hz, 1H）, 7.50（m, 1H）, 7.33（m, 3H）, 7.22（d, J=8.6Hz, 1H）, 7.059（m, 1H）, 6.71（d, J=8.1Hz, 2H）, 1.997（s, 1H）であり、元素分析の結果は、Ｈ 4.53％、Ｃ 79.10％であり、Ｃ28Ｈ18Ｆ2Ｏ2の理論値（Ｈ 4.27％、Ｃ 79.23％）と非常に良く一致していた。【００４７】
次に、(１Ｒ,２Ｒ)-１,２-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.](10.8mg, 0.095mmol)をエタノール(1.5mL)に溶解させる。次に、上記式(XXIX)で表される(aＲ)-３-ホルミル-２'-(３,５-ジフルオロ-４-メチルフェニル)-２-ヒドロキシ-１,１'-ビナフチル(80.5mg, 0.19mmol)を加え、この溶液を24時間室温で撹拌する。反応終了後、生じた沈殿物をろ取し、1時間50℃で減圧乾燥させ、下記式(XXX)で表されるサレン配位子（63.4mg, 収率72％）を得た。
0004564010.tif 000024
【００４８】
得られた配位子は、赤外吸収スペクトルにおいて、3313, 3055, 2931, 2858, 1631, 1581, 1481, 1342, 1126, 621cm-1に特徴的な吸収を示した。【００４９】
次に、上記サレン配位子からなる乾燥した残渣に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.](57.0mg, 0.09mmol)と脱水エタノール(2.0mL)を加え、生じた懸濁液を5日間加熱還流する。その後室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除く。得られた残渣をジクロロメタン／エタノール(＝20／1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで精製分離し、下記式(XXXI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（32.2mg, 収率45％）を得た。
0004564010.tif 000025
【００５０】
得られた錯体の元素分析の結果は、Ｈ 4.27％、Ｃ 64.09％、Ｎ 2.32％であり、Ｃ63Ｈ44Ｆ4Ｎ2Ｏ3Ｒｕ・1.5Ｈ2Ｏ・1.5ＣＨ2Ｃｌ2の理論値（Ｈ 4.17％、Ｃ 64.10％、Ｎ 2.32％）と非常に良く一致していた。【００５１】
（錯体合成例２）
(１Ｒ,２Ｒ)-１,２-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.](26.3mg, 0.23mmol)をエタノール(5.0mL)に溶解させる。次に、(aＲ)-３-ホルミル-２-ヒドロキシ-２'-[(４-tert-ブチルジメチルシリル)フェニル]-１,１'-ビナフチル[H. Sasaki, R. Irie, T. Hamada, K. Suzuki, and T.Katsuki, Tetrahedron, 50(41), 11827-11838(1994)等に記載の方法にて合成](225mg, 0.46mmol)を加え、この溶液を24時間室温で撹拌する。反応終了後、生じた沈殿物をろ取し、1時間50℃で減圧乾燥させる。乾燥した残渣に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.](150.0mg, 0.23mmol)と脱水エタノール(5.0mL)を加え、生じた懸濁液を5日間加熱還流する。その後室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除く。得られた残渣をジクロロメタン／エタノール(=20／1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで精製分離し、下記式(XXXII)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体(137.6mg, 収率60％)を得た。
0004564010.tif 000026
【００５２】
得られた錯体の元素分析の結果は、Ｈ 5.84％、Ｃ 67.40％、Ｎ 2.20％であり、Ｃ73Ｈ72Ｎ2Ｏ3ＲｕＳｉ2・1.0Ｈ2Ｏ・1.5ＣＨ2Ｃｌ2の理論値（Ｈ 5.84％、Ｃ 67.38％、Ｎ 2.11％）と非常に良く一致していた。【００５３】
（錯体合成例３）
(１Ｒ,２Ｒ)-１,２-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.](51.4mg, 0.45mmol)をエタノール(10mL)に溶解させる。次に、(aＲ)-３-ホルミル-２-ヒドロキシ-２'-[(４-tert-ブチルジフェニルシリル)フェニル]-１,１'-ビナフチル[H. Sasaki, R. Irie, T. Hamada, K. Suzuki, and T.Katsuki, Tetrahedron, 50(41), 11827-11838(1994)等に記載の方法にて合成](551mg, 0.9mmol)を加え、この溶液を24時間室温で撹拌する。反応終了後、生じた沈殿物をろ取し、1時間50℃で減圧乾燥させる。乾燥した残渣に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.](293.5mg, 0.45mmol)と脱水エタノール(10.0mL)を加え、生じた懸濁液を5日間加熱還流する。その後室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除く。得られた残渣をジクロロメタン／エタノール(=20／1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで精製分離し、下記式(XXXIII)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体(310mg, 収率53％)を得た。
0004564010.tif 000027
【００５４】
得られた錯体の元素分析の結果は、Ｈ 5.73％、Ｃ 74.53％、Ｎ 1.84％であり、Ｃ83Ｈ76Ｎ2Ｏ3ＲｕＳｉ2・２Ｈ2Ｏの理論値（Ｈ 6.01％、Ｃ 74.24％、Ｎ 2.09％）と非常に良く一致していた。【００５５】
（錯体合成例４）
(１Ｒ,２Ｒ)-１,２-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.](27.5mg, 0.24mmol)をエタノール(5mL)に溶解させる。次に、(aＲ)-３-ホルミル-２-ヒドロキシ-２'-フェニル-１,１'-ビナフチル[H. Sasaki, R. Irie, T. Hamada, K. Suzuki, and T.Katsuki, Tetrahedron, 50(41), 11827-11838(1994)等に記載の方法にて合成](179.7mg, 0.48mmol)を加え、この溶液を24時間室温で撹拌する。反応終了後、生じた沈殿物をろ取し、1時間50℃で減圧乾燥させる。乾燥した残渣に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.](152.1mg, 0.24mmol)と脱水エタノール(10mL)を加え、生じた懸濁液を5日間加熱還流する。その後室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除く。得られた残渣をジクロロメタン／エタノール(=20／1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで精製分離し、下記式(XXXIV)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体(80.5mg, 収率36％)を得た。
0004564010.tif 000028
【００５６】
上記の方法で得られた錯体の元素分析の結果は、Ｈ 4.32％、Ｃ 65.12％、Ｎ 2.35％であり、Ｃ61Ｈ44Ｎ2Ｏ3Ｒｕ・２Ｈ2Ｏ・２ＣＨ2Ｃｌ2の理論値（Ｈ 4.52％、Ｃ 65.23％、Ｎ 2.42％）と非常に良く一致していた。また、上記方法で得られた錯体のＩＲ測定の結果、1323.1, 1423.4, 1490.9, 1541.0, 1577.7, 1612.4, 1934.5, 2019.3cm-1に上記錯体に特徴的なシグナルが観測された。【００５７】
（錯体合成例５）
以下の反応スキーム２に従って、(aＲ)-３-ホルミル-２'-(３,５-ジクロロ-４-トリメチルシリルフェニル)-２-ヒドロキシ-１,１'-ビナフチルを合成した。
0004564010.tif 000029
【００５８】
具体的には、上記式(XXXV)で表される化合物［K. Omura, T. Uchida, R. Irie, and T. Katsuki, Chem. Commun., 2060-2061(2004)に記載の方法にて合成］（194mg, 0.44mmol）を窒素下、室温でトルエン（3.5mL）に溶解させ、３,５-ジクロロベンゼンボロン酸（232mg, 0.88mmol, 2eq）、炭酸ナトリウム水溶液（1mol/L, 3.5mL）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（25.5mg, 22μmol, 5mol％）を加えた。該溶液を14時間還流した後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝30／1）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXXVI)で表される化合物を収率92％で得た。得られた式(XXXVI)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ8.02（d, J=8.5Hz, 1H）, 7.96（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.86（d, J=9.0Hz, 1H）, 7.80（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.58（d, J=8.5Hz, 1H）, 7.49（m, 2H）, 7.26（m, 4H）, 7.06（d, J=1.7Hz, 2H）, 7.00（m, 2H）, 5.04（d, J=7.1Hz, 1H）, 4.96（d, J=7.1Hz, 1H）, 3.18（s, 3H）であった。【００５９】
次に、上記式(XXXVI)の化合物（335mg, 0.73mmol）を窒素下、-78℃でＴＨＦ（5mL）に溶解させた。該溶液に、sec-ブチルリチウム（1.01mol/L, 1.44mL, 1.46mmol, 2eq）を加え2時間撹拌した。該溶液に、-78℃で塩化トリメチルシリル（92.6μL, 0.73mmol, 1eq）を加え1時間撹拌した後、室温に加温した。飽和食塩水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝40／1）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXXVII)で表される化合物を収率65％で得た。得られた式(XXXVII)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ8.02（d, J=8.5Hz, 1H）, 7.95（d, J=8.1Hz, 1H）, 7.89（d, J=9.0Hz, 1H）, 7.82（d, J=8.1Hz, 1H）, 7.59（d, J=8.5Hz, 1H）, 7.52（d, J=9.3Hz, 1H）, 7.47（m, 1H）, 7.26（m, 4H）, 7.06（m, 2H）, 7.00（d, J=8.3Hz, 1H）, 5.04（d, J=7.1Hz, 1H）, 4.94（d, J=7.1Hz, 1H）, 3.16（s, 3H）, 0.38（s, 9H）であった。【００６０】
次に、上記式(XXXVII)の化合物（168mg, 0.32mmol）を窒素下、-78℃でＴＨＦ（2.8mL）に溶解させた。該溶液に、ｎ-ブチルリチウム（1.60mol/L, 218μL, 0.35mmol, 1.1eq）及びテトラメチルエチレンジアミン（53μL, 0.35mmol, 1.1eq）を加え2時間撹拌した。該溶液に、-78℃でＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ, 27μL, 0.35mmol, 1.1eq）を加え1時間撹拌した後、室温に加温した。飽和食塩水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下で濃縮した。残渣をＴＨＦ（1.3mL）に溶かした後、塩化水素／イソプロピルアルコール（20w/w％, 0.3mL）を加え室温で撹拌した。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝10／1）でクロマトグラフ分離して、上記式(XXXVIII)で表される化合物を収率83％で得た。得られた式(XXXVIII)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ10.52（s, 1H）, 10.13（s, 1H）, 8.23（s, 1H）, 8.04（d, J=8.3Hz, 1H）, 7.96（d, J=8.1Hz, 1H）, 7.90（dd, J=7.6Hz, J=1.7Hz, 1H）, 7.58（d, J=8.5Hz, 1H）, 7.50（dd, J=7.8Hz, J=6.8Hz, 1H）, 7.34（m, 3H）, 7.22（m, 1H）, 7.11（s, 2H）, 7.02（d, J=9.3Hz, 1H）, 0.37（s, 9H）であった。【００６１】
(１Ｒ,２Ｒ)-１,２-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.]（16.0mg, 0.14mmol）をエタノール（3mL）に溶解させ、次いで上記式(XXXVIII)で表される(aＲ)-３-ホルミル-２'-(３,５-ジクロロ-４-トリメチルシリルフェニル)-２-ヒドロキシ-１,１'-ビナフチル（132.2mg, 0.26mmol）を加え、室温で24時間撹拌した。反応終了後、生じた沈殿物を濾取し、1時間50℃で減圧乾燥させ、下記式(XXXIX)で表されるサレン配位子を収率82％でを得た。得られた式(XXXIX)の化合物の1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz, ＣＤＣｌ3, 25℃）の結果は、δ13.33（s, 2H）, 8.45（s, 2H）, 8.02（d, J=8.5Hz, 2H）, 7.95（d, J=8.1Hz, 2H）, 7.67（m, 4H）, 7.58（d, J=8.3Hz, 2H）, 7.42（m, 2H）, 7.19（m, 10H）, 6.97（ddd, J=7.1Hz, J=6.8Hz, J=1.3Hz, 2H）, 6.85（d, J=7.6Hz, 2H）, 3.72（m, 1H）, 3.33（m, 1H）, 1.91（m, 4H）, 1.72（m, 2H）, 1.45（m, 2H）, 0.35（s, 18H）であった。
0004564010.tif 000030
【００６２】
次に、上記式(XXXIX)で表されるサレン配位子（91.8mg, 0.08mmol）に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.]（68.8mg, 0.11mmol）と脱水エタノール（7mL）を加え、生じた懸濁液を24時間加熱還流した。その後、室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除いた。得られた残渣をシリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝5／1）で精製分離し、下記式(XL)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（63.7mg, 収率62％）を得た。得られた錯体の元素分析の結果は、Ｈ 4.87％、Ｃ 63.80％、Ｎ 2.10％であり、Ｃ67Ｈ56Ｃｌ4Ｎ2Ｏ3ＲｕＳｉ2・２Ｈ2Ｏの理論値（Ｈ 4.75％、Ｃ 63.25％、Ｎ 2.20％）と非常に良く一致していた。
0004564010.tif 000031
【００６３】
（実施例１）
前記式(XXXI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体(1.0mg, 0.9μmol)のトルエン溶液（0.25mL）を、２度真空下で共沸させて濃縮した。濃縮した残渣にＭＳ-４Ａ(20mg)、スチレン(104mg, 1.0mmol)及び２-ブロモナフタレン（40mg, 内部標準）を加え、更にジクロロメタン(0.5mL)を加えた。得られた懸濁液を室温で0.5時間撹拌した後、ｐ-トルエンスルフォニルアジド(155μL, 1.0mmol)を加え、更に24時間撹拌した。反応終了後、1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz）で対応するアジリジン化合物の収率を測定したところ、78％であった。また、このアジリジン化合物の鏡像体過剰率をダイセル・キラルセルＯＪ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロパノール（＝1／1）混合液を用い高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、鏡像体過剰率は85％eeであった。なお、生成物の絶対配置は、M. Shi. C.-J. Wang, Chirality, 2002, 14, 412-416に記載の比旋光度との比較から、決定した。結果を表１に示す。【００６４】
（実施例２〜５）
スチレンに代えて表１に示すオレフィンを用いる以外は、実施例１と同様の方法でアジリジン化反応を行った。なお、実施例２では、ダイセル・キラルパックＡＳ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（2／1）混合液を用い、実施例３では、ダイセル・キラルパックＡＤ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（2／1）混合液を用い、実施例４では、ダイセル・キラルセルＯＦ及びヘキサン／イソプロパノール（2／1）混合液を用い、実施例５では、ダイセル・キラルパックＡＳ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（7／3）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで鏡像体過剰率を分析した。結果を表１に示す。【００６５】
（実施例６〜７）
スチレンに代えて表１に示すオレフィンを用い、式(XXXI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の使用量を2mol％とする以外は、実施例１と同様の方法でアジリジン化反応を行った。なお、実施例６では、ダイセル・キラルパックＡＳ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（9／1）混合液を用い、実施例７では、ダイセル・キラルパックＡＤ及びヘキサン／イソプロパノール（15／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで鏡像体過剰率を分析した。なお、実施例７の生成物の絶対配置は、M. Shi. C.-J. Wang, Chirality, 2002, 14, 412-416に記載の比旋光度との比較から、１Ｓ,２Ｒであることを確認した。結果を表１に示す。【００６６】
（実施例８〜１１）
表１に示す錯体及びオレフィンを用いて、実施例１と同様の方法でアジリジン化反応を行った。なお、実施例８〜１０では、錯体の使用量を0.1mol％とし、実施例１１では、錯体の使用量を2.0mol％とした。また、実施例１０では、ダイセル・キラルパックＡＳ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（2／1）混合液を用い、実施例１１では、ダイセル・キラルパックＡＳ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（9／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで鏡像体過剰率を分析した。結果を表１に示す。【００６７】
（実施例１２）
前記式(XL)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（0.6mg, 0.5μmol）をトルエン（0.25mL）に溶かした後、２回真空下で共沸乾燥した。残渣にモレキュラーシーブス４Ａ（ＭＳ-４Ａ, 10mg）、スチレン（57μL, 0.5mmol）及び２-ブロモナフタレン（20mg, 内部標準）を加えた後、更にジクロロメタン（0.25mL）を加え懸濁液とした。該懸濁液を室温で0.5時間撹拌した後、ｐ-トルエンスルホニルアジド（78μL, 0.5mmol）を加え、更に12時間撹拌した。反応終了後、該溶液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝10／1）でクロマトグラフ分離して、対応するアジリジン化合物を収率93％で得た。また、このアジリジン化合物の鏡像体過剰率をダイセル・キラルセルＯＪ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（1／1）混合液を溶離液に用いて高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、86％eeであった。結果を表１に示す。【００６８】
（実施例１３〜１５）
スチレンに代えて表１に示すオレフィンを用いた以外は、実施例１２と同様の方法でアジリジン化反応を行った。なお、実施例１３では、ダイセル・キラルセルＯＪ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（9／1）混合液を用い、実施例１４では、ダイセル・キラルセルＯＦカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（2／1）混合液を用い、実施例１５では、ダイセル・キラルセルＯＪ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（19／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで分析した。結果を表１に示す。【００６９】
（実施例１６〜１７）
スチレンに代えて表１に示すオレフィンを用い、前記式(XL)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の使用量を2mol％とし、38時間撹拌を行った以外は、実施例１２と同様の方法でアジリジン化反応を行った。なお、実施例１６では、ダイセル・キラルパックＡＳ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（19／1）混合液を用い、実施例１７では、ダイセル・キラルパックＡＤ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（19／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで分析した。結果を表１に示す。【００７０】
（比較例１）
式(XXXI)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（0.9μmol）に代えて式(XXXIV)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（2.0μmol）を用いる以外は、実施例１と同様の方法でアジリジン化反応を行った。結果を表１に示す。【００７１】
0004564010.tif 000032
【００７２】
表１の実施例１〜６及び８〜１６に対応する反応式を下記に示す。
0004564010.tif 000033
【００７３】
実施例７及び１７に対応する反応式を下記に示す。
0004564010.tif 000034
【００７４】
表１の結果から、本発明の方法が、種々のオレフィンに適用でき、該オレフィンに対応する、光学活性な種々のアジリジン化合物を製造できることが分る。また、実施例１と比較例１の比較から、従来のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体に比べて、本発明のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の方が触媒回転数が著しく高いことが分る。【００７５】
（実施例１８）
共沸乾燥させた式(XXXI)表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（4.3mg, 4μmol）をシュレンクチューブに仕込み、窒素でパージした。次に、ＭＳ４Ａ（20mg）、スチレン（10.4mg, 0.1mmol）及び２-ブロモナフタレン（4.0mg, 内部標準）を加え、更にジクロロメタン(0.5mL)を加えた。得られた懸濁液を室温で0.5時間撹拌した後、ｐ-ニトロベンゼンスルフォニルアジド(22.8mg, 0.1mmol)を加え、更に24時間撹拌した。反応終了後、1Ｈ-ＮＭＲ（400MHz）で対応するアジリジン化合物の収率を測定したところ、100％であった。また、このアジリジン化合物の鏡像体過剰率をダイセル・キラルセルＯＤ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロパノール（＝8／2）混合液を用い高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、鏡像体過剰率は84％eeであった。結果を表２に示す。【００７６】
（実施例１９〜２１及び比較例２）
表２に示す触媒及びオレフィンを用いて実施例１８と同様にしてアジリジン化反応を行った。但し、実施例１９の触媒量は、基質のオレフィンに対して1mol％であり、実施例２０〜２１及び比較例２の触媒量は、基質のオレフィンに対して4mol％である。なお、実施例２０では、ダイセル・キラルセルＯＤ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（1／1）混合液を用い、実施例２１では、ダイセル・キラルセルＯＤ-Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（2／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで鏡像体過剰率を分析した。結果を表２に示す。【００７７】
0004564010.tif 000035
【００７８】
表２の実施例１８〜２１に対応する反応式を下記に示す。
0004564010.tif 000036
【００７９】
表２の結果から、本発明の方法においては、ナイトレン先駆体として従来使用が難しかったｐ-ニトロベンゼンスルフォニルアジドを使用できることが分る。また、実施例１９と比較例２の比較からも、従来のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体に比べて、本発明のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の方が触媒回転数が著しく高いことが分る。【００８０】
（実施例２２）
前記式(XL)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体（0.6mg, 0.5μmol）をトルエン（0.25mL）に溶かした後、２回真空下で共沸乾燥した。残渣にモレキュラーシーブス４Ａ（ＭＳ-４Ａ, 10mg）、スチレン（5.7μL, 0.05mmol）及び２-ブロモナフタレン（2.0mg, 内部標準）を加えた後、更にジクロロメタン（0.25mL）を加え懸濁液とした。該懸濁液を室温で0.5時間撹拌した後、0℃に冷却し、２-トリメチルシリルエタンスルホニルアジド（9.6μL, 0.05mmol）を加え、更に0℃で12時間撹拌した。反応終了後、該溶液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル＝10／1）でクロマトグラフ分離して、対応するアジリジン化合物を収率99％で得た。また、このアジリジン化合物の鏡像体過剰率をダイセル・キラルセルＯＪ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（97／3）混合液を溶離液に用いて高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、92％eeであった。結果を表３に示す。【００８１】
（実施例２３〜２４）
スチレンに代えて表３に示すオレフィンを用いた以外は、実施例２２と同様の方法でアジリジン化反応を行った。なお、実施例２３及び２４では、ダイセル・キラルセルＯＪ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロピルアルコール（9／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで分析した。結果を表３に示す。【００８２】
0004564010.tif 000037
【００８３】
表３の実施例２２〜２４に対応する反応式を下記に示す。
0004564010.tif 000038
【００８４】
表３の結果から、本発明の方法においては、ナイトレン先駆体として従来使用が難しかった置換又は非置換のアルキルスルホニルアジドを使用できることが分る。【００８５】
（実施例２５）
スチレンに代えて２-エチルインデンを用いる以外は、実施例１と同様の方法で反応を行った。なお、ここでは、ダイセル・キラルセルＯＤ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロパノール（＝1／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで鏡像体過剰率を分析した。結果を表４に示す。【００８６】
（比較例３）
式(XXXI)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体に代えて式(XXXIV)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を用いる以外は、実施例２５と同様の方法で反応を行った。結果を表４に示す。【００８７】
0004564010.tif 000039
【００８８】
表４の結果から、式(VIII)で示すようなＥ-置換基を有するオレフィンを、Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の存在下、スルフォニルアジド化合物でアミノ化することにより、光学活性なアミン化合物が得られることがわかる。また、実施例２５と比較例３の比較から、従来のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体に比べて、本発明のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を用いた方が収率が向上することが分る。これは、触媒回転数が向上したことに起因するものと考えられる。【００８９】
（実施例２６及び実施例２７）
スチレンに代えて１-フェニルシクロペンテン又は２-エチルインデンを用いる以外は、実施例１８と同様の方法で反応を行った。なお、実施例２６では、ダイセル・キラルセルＯＤ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロパノール（＝2／1）混合液を用い、実施例２７では、ダイセル・キラルセルＯＤ-Ｈカラム及びヘキサン／イソプロパノール（＝1／1）混合液を用い、高速液体クロマトグラフィーで鏡像体過剰率を分析した。結果を表５に示す。【００９０】
0004564010.tif 000040
【００９１】
表５の結果から、Ｅ-置換基を有する種々のオレフィンを、Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の存在下、スルフォニルアジド化合物でアミノ化することにより、光学活性なアミン化合物が得られることが分る。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明の製造方法は、オレフィンをエナンチオ選択的にアジリジン化又はアミノ化して、光学活性なアジリジン化合物又はアミン化合物を製造するのに非常に有用である。また、本発明の錯体は、該製造方法の触媒として非常に有用である。更に、本発明の中間体及びサレン配位子は、該触媒の合成に有用である。また更に、本発明の製造方法で得られる光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物は、医農薬品の合成に使用できる。
【図１】
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