(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロールを水平に両端チャックして回転するロールチャック回転手段と、上蓋を開けてタンクより露出するコートロールであって、前記ロールの下側に位置して回転方向を交差させてかつ移動側がアップ回転になるコートロールの上端を前記回転するロールの下面の一端に接触させて回転させつつ前記ロールの下面の他端まで移動することによって半導体レーザによりアブレーションされる耐酸性の黒色塗料を塗布して黒色被膜を形成する塗布手段と、半導体レーザのレーザ光を集光レンズを介して照射する照射ヘッドを前記黒色被膜が形成され回転するロールの側面の一端に近接させて製版すべき画像に対応してレーザ光を照射して前記黒色被膜をアブレーションするアブレーション手段とを備え、さらに、前記アブレーションからタンク内の黒色塗料の引火・爆発を防ぐ防爆手段を備え、前記防爆手段は、負圧発生装置の負圧をフレキシブルホースを介して前記塗布手段のタンク内の上部に導くようにしておいて、前記アブレーション手段の稼働時に、前記塗布手段の上蓋がタンクを密閉した状態でタンク内の上部の空間を負圧にするようになっていることを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置。
【請求項２】
ロールを水平に両端チャックして回転するロールチャック回転手段と、上蓋を開けてタンクより露出するコートロールであって、前記ロールの下側に位置して回転方向を交差させてかつ移動側がアップ回転になるコートロールの上端を前記回転するロールの下面の一端に接触させて回転させつつ前記ロールの下面の他端まで移動することによって半導体レーザによりアブレーションされる耐酸性の黒色塗料を塗布して黒色被膜を形成する塗布手段と、半導体レーザのレーザ光を集光レンズを介して照射する照射ヘッドを前記黒色被膜が形成され回転するロールの側面の一端に近接させて製版すべき画像に対応してレーザ光を照射して前記黒色被膜をアブレーションするアブレーション手段とを備え、さらに、前記塗布手段の稼働時に前記照射ヘッドを密閉する照射ヘッド隔離手段と、前記アブレーションからタンク内の黒色塗料の引火・爆発を防ぐ防爆手段を備え、前記防爆手段は、負圧発生装置の負圧をフレキシブルホースを介して前記塗布手段のタンク内の上部に導くようにしておいて、前記アブレーション手段の稼働時に、前記塗布手段の上蓋がタンクを密閉した状態でタンク内の上部の空間を負圧にするようになっていることを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置。
【請求項３】
ロールを水平に両端チャックして回転するロールチャック回転手段と、上蓋を開けてタンクより露出するコートロールであって、前記ロールの下側に位置して回転方向を交差させてかつ移動側がアップ回転になるコートロールの上端を前記回転するロールの下面の一端に接触させて回転させつつ前記ロールの下面の他端まで移動することによって半導体レーザによりアブレーションされる耐酸性の黒色塗料を塗布して黒色被膜を形成する塗布手段と、前記塗布手段による黒色塗料の塗布時に前記コートロールの移動方向後方に所要離れた位置に前記コートロールと一体に移動するように吹き出し口を該吹き出し口より空気を吹き出して前記コートロールでロールに塗布形成した黒色被膜を乾燥させる被膜乾燥手段と、半導体レーザのレーザ光を集光レンズを介して照射する照射ヘッドを前記黒色被膜が形成され回転するロールの側面の一端に近接させて製版すべき画像に対応してレーザ光を照射して前記黒色被膜をアブレーションするアブレーション手段とを備え、さらに、前記塗布手段の稼働時に前記照射ヘッドを密閉する照射ヘッド隔離手段と、前記アブレーションからタンク内の黒色塗料の引火・爆発を防ぐ防爆手段を備え、前記防爆手段は、負圧発生装置の負圧をフレキシブルホースを介して前記塗布手段のタンク内の上部に導くようにしておいて、前記アブレーション手段の稼働時に、前記塗布手段の上蓋がタンクを密閉した状態でタンク内の上部の空間を負圧にするようになっていることを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置。
【請求項４】
前記照射ヘッド隔離手段は、照射ヘッド用格納容器に前記照射ヘッドを格納にするようになっていることを特徴とする、請求項２又は３記載のロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションしてエッチングし被膜を除去してクロムメッキしてグラビア版又は凸版を製版するための、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来は、ロールに耐酸性被膜を形成する工程と、ロールに形成した耐酸性被膜をレーザアブレーションする工程は別々の装置に行なっていた。そして、レーザアブレーションはヤグレーザにより行なわれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
顧客によっては、工場内の設置スペースがないので、連続する処理工程については、装置の複合化・省スペース化・低コスト化・省力化の要望がある。その一つとして、ロールに耐酸性被膜を形成する塗布装置と、ロールに形成した耐酸性被膜をレーザアブレーションするレーザ装置との複合化の要望がある。
又、ヤグレーザによるレーザアブレーションは高出力であるので電力消費が大きく、高出力であるにもかかわらず残滓が残る問題がある。
【０００４】
本発明は、上述した課題を解消することができ、かつ、黒色塗料への引火・爆発の危険がなく、構造が複雑にならず、工程時間が長くならず、ロールに形成する塗布の乾燥時間を短縮することができ、電力消費が小さくて済む、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本願第一の発明は、ロールを水平に両端チャックして回転するロールチャック回転手段と、上蓋を開けてタンクより露出するコートロールであって、前記ロールの下側に位置して回転方向を交差させてかつ移動側がアップ回転になるコートロールの上端を前記回転するロールの下面の一端に接触させて回転させつつ前記ロールの下面の他端まで移動することによって半導体レーザによりアブレーションされる耐酸性の黒色塗料を塗布して黒色被膜を形成する塗布手段と、半導体レーザのレーザ光を集光レンズを介して照射する照射ヘッドを前記黒色被膜が形成され回転するロールの側面の一端に近接させて製版すべき画像に対応してレーザ光を照射して前記黒色被膜をアブレーションするアブレーション手段とを備え、
さらに、前記アブレーションからタンク内の黒色塗料の引火・爆発を防ぐ防爆手段を備えたことを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置を提供するものである。
【０００６】
本願第二の発明は、ロールを水平に両端チャックして回転するロールチャック回転手段と、上蓋を開けてタンクより露出するコートロールであって、前記ロールの下側に位置して回転方向を交差させてかつ移動側がアップ回転になるコートロールの上端を前記回転するロールの下面の一端に接触させて回転させつつ前記ロールの下面の他端まで移動することによって半導体レーザによりアブレーションされる耐酸性の黒色塗料を塗布して黒色被膜を形成する塗布手段と、半導体レーザのレーザ光を集光レンズを介して照射する照射ヘッドを前記黒色被膜が形成され回転するロールの側面の一端に近接させて製版すべき画像に対応してレーザ光を照射して前記黒色被膜をアブレーションするアブレーション手段とを備え、
さらに、前記塗布手段の稼働時に前記照射ヘッドを密閉する照射ヘッド隔離手段と、前記アブレーションからタンク内の黒色塗料の引火・爆発を防ぐ防爆手段を備えたことを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置を提供するものである。
【０００７】
本願第三の発明は、ロールを水平に両端チャックして回転するロールチャック回転手段と、上蓋を開けてタンクより露出するコートロールであって、前記ロールの下側に位置して回転方向を交差させてかつ移動側がアップ回転になるコートロールの上端を前記回転するロールの下面の一端に接触させて回転させつつ前記ロールの下面の他端まで移動することによって半導体レーザによりアブレーションされる耐酸性の黒色塗料を塗布して黒色被膜を形成する塗布手段と、前記塗布手段による黒色塗料の塗布時に前記コートロールの移動方向後方に所要離れた位置に前記コートロールと一体に移動するように吹き出し口を該吹き出し口より空気を吹き出して前記コートロールでロールに塗布形成した黒色被膜を乾燥させる被膜乾燥手段と、半導体レーザのレーザ光を集光レンズを介して照射する照射ヘッドを前記黒色被膜が形成され回転するロールの側面の一端に近接させて製版すべき画像に対応してレーザ光を照射して前記黒色被膜をアブレーションするアブレーション手段とを備え、
さらに、前記塗布手段の稼働時に前記照射ヘッドを密閉する照射ヘッド隔離手段と、前記アブレーションからタンク内の黒色塗料の引火・爆発を防ぐ防爆手段を備えたことを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置を提供するものである。
【０００８】
特に、本願発明は、前記の三つの発明に関して、
前記防爆手段が、待機位置に備えた格納容器に前記塗布手段を格納にするようになっているか、
又は、前記防爆手段が、負圧発生装置の負圧をフレキシブルホースを介して前記塗布手段のタンク内の上部に導くようにしておいて、前記アブレーション手段の稼働時に、前記塗布手段の上蓋がタンクを密閉した状態でタンク内の上部の空間を負圧にするようになっているか、
又は、前記照射ヘッド隔離手段が、照射ヘッド用格納容器に前記照射ヘッドを格納にするようになっていることを特徴とする、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置を提供するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本願発明の、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置の実施の形態を図１、図２を参照して説明する。
本願発明の、ロールチャック回転手段１と、塗布手段２と、被膜乾燥手段３と、アブレーション手段４と、照射ヘッド隔離手段５と、防爆手段６を備えてなる。
【００１０】
ロールチャック回転手段１は、図示しない産業用ロボットで両端チャックされ水平にハンドリングされるロールＲを、一対のチャックコーン１ａ、１ｂで水平に両端チャックする構成である。
駆動側のチャックコーン１ａは、フレーム１ｃに固定した軸受ブラケット１ｄに軸支されるスピンドル１ｅの先端に固定されていて、スピンドル１ｅの基端に連結されたモータ１ｆにより回転される。
反駆動側のチャックコーン１ｂは、テイルスピンドル１ｇの先端に、チャック方向に微小ストローク可能にかつ図示しないバネによりチャック方向に付勢されて取りつけられている。テイルスピンドル１ｇは、ロールＲの長さに対応して段階的にチャック方向に移動調整される可動テーブル１ｈに設けられた軸受ブラケット１ｉに回転自在かつ軸方向に移動自在に軸支されている。
テイルスピンドル１ｇは、軸受ブラケット１ｉに回転不能かつ軸方向に移動自在に軸支されるロッド１ｊと連結され、ロッド１ｊはシリンダ筒を軸受ブラケット１ｉに固定されたシリンダ装置１ｋのピストンロッドと連結されている。
さらに、可動テーブル１ｈは、フレーム１ｃに固定した直動ガイド１ｍ，１ｎに係合案内され、かつ、フレーム１ｃに両端を軸支されるねじ軸１ｐに螺合していて、  フレーム１ｃに取付けられ出力軸がねじ軸１ｐと結合されたモータ１ｑでねじ軸１ｐを回転することにより、チャック方向に移動自在である。
従って、最初にモータ１ｑが駆動してロールＲの長さに応じて可動テーブル１ｈが位置決めされる。次いで、図示しない産業用ロボットで両端チャックされ水平にハンドリングされるロールＲの一方の被チャック孔が駆動側のチャックコーン１ａに係合されると、シリンダ装置１ｋが伸長作動し、反駆動側のチャックコーン１ｂがロールＲの他方の被チャック孔に係合し、ロールチャックが完了する。その後、図示しない産業用ロボットで両端チャックを解除して離隔移動する。もって、モータ１ｆが駆動するとロールＲが回転する。
【００１１】
塗布手段２は、チャックされるロールＲの下方に設けられる。塗布手段２は、半導体レーザのレーザ光によりアブレーションされ得る黒色材料がタンク２ａ内に貯留され、タンク２ａ内に収容されていて両側の軸部をタンク２ａの側壁に設けた縦長の長孔を通されかつ図示しないバネで持ち上げられているコートロール２ｂの上端部がタンク２ａの上面部に設けられたスリットから突き出ていて、開閉駆動される蓋２ｃがコートロール２ｂの上端部を密閉し得る。
コートロール２ｂは、一方の軸部が自在継手２ｅを介して防爆モータ２ｄの出力軸と接続されている。タンク２ａと防爆モータ２ｄがＹ方向可動テーブル２ｆ上に載置されている。
コートロール２ｂは、塗布液のすり切りコートが可能であるようにするため、ロールＲに対して回転方向を９０度異ならせていてかつ移動側がアップ回転になるように防爆モータ２ｄにより駆動される。
Ｙ方向可動テーブル２ｆは、直動ガイド２ｐ，１ｎに係合案内されかつねじ軸２ｈと螺合していてモータ２ｇの駆動により、チャックされるロールＲに沿って水平移動自在かつ昇降自在であるＸ方向可動テーブル２ｎに支持されている。
すなわち、モータ２ｇは、水平なねじ軸２ｈを回転してＸ方向可動テーブル２ｎを水平移動し、又、モータ２ｉは、垂直なねじ軸２ｊを回転してＹ方向可動テーブル２ｆを昇降する。
ロールＲの面長方向に対応するコートロール２ｂの両側には近接センサ２ｋ、２ｋが設けられ、センサ信号が得られた時点でＹ方向可動テーブル２ｆを上昇させるモータ２ｉの駆動が停止するようになっていて、これによって、コートロール２ｂの両側の軸部を持ち上げている図示しないばねの付勢力によって、コートロール２ｂがロールＲに一定の圧力を有して接触するようになっている。
Ｙ方向可動テーブル２ｆが下降位置にあり、Ｘ方向可動テーブル２ｎが駆動側の待機位置に移動されると、Ｙ方向可動テーブル２ｆがタンク２ａと防爆モータ２ｄは入口及び底面が開いているアーチ形の格納容器６内に収容され、Ｙ方向可動テーブル２ｆが格納容器６ａの底部を密閉し、又、格納容器６の内縁に付けた帯状のゴム６ｂが格納容器６ａの入口を密閉する。タンク２ａ内の黒色塗料は，液面管理され足りなくなると図示しないポンプ及びフレキシブルホースを介して補給タンク２ｑから補給される。
従って、ロールチャックが完了すると、モータ２ｇが格納容器６内に位置するＸ方向可動テーブル２ｎを反駆動側へ移動し、コートロール２ｂの軸心がロールＲのロール面の駆動側の端縁に対応するようにタンク２ａを位置させる。すると、図示しないアクチュエータにより平行リンクに支持された蓋２ｃが揺動して側方へ開く。次いで、ロールＲが回転されかつコートロール２ｂが回転されてから、モータ２ｉがＹ方向可動テーブル２ｆを上昇していってコートロール２ｂがロールＲにばねの圧力で回転接触するとモータ２ｉの駆動が停止する。次いで、モータ２ｇが駆動して、コートロール２ｂが回転接触しつつロールＲの他端まで移動していき、この過程で、タンク２ａ内に貯留された耐酸性の黒色塗料をコートロール２ｂで擦り込むようにスパイラル状に全面塗布して数μｍの黒色被膜を形成することとなり、移動方向前側の近接センサ２ｋがロールＲの他端を検出すると、コートロール２ｂが該移動方向前側の近接センサ２ｋとコートロール２ｂの水平距離＋コートロール２ｂの幅寸法だけ引続き移動した時点で、モータ２ｇが駆動を停止してＹ方向可動テーブル２ｆが水平移動を停止しかつ防爆モータ２ｄが駆動を停止してコートロール２ｂが回転を停止し、ロールＲも回転を停止する。その後、モータ２ｉが逆転してタンク２ａが下降復帰しかつ蓋２ｃが閉じる。次いで、モータ２ｇが逆転してタンク２ａが待機位置に復帰する。タンク２ａが待機位置に復帰して格納容器６内に収容されると、タンク２ａの内部は二重に密閉され、タンク２ａ内の黒色塗料の引火の危険性が回避される。従って、格納容器６は、タンク２ａ内の黒色塗料の半導体レーザのレーザ光による引火を防ぐ防爆手段となっている。
なお、格納容器６は、待機位置に固定設置しないで、タンク２ａを囲んで一体に移動するようになっていてもよい。この場合は、タンク２ａは蓋２ｃで閉じられ、さらに、格納容器６に設けられる蓋で閉じられる二重密閉構造とする。
黒色塗料は、例えば、可燃性物質（ニトロセルロース、やエチレン酢酸ビニル強重合体、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアセタール、テンネンゴム等の何れか一種又は複数種：75重量％）と酸化剤（硝酸アンモニウムや塩素酸化合物：10重量％）と光吸収体（カーボンブラック：15重量％）からなる。
【００１２】
前記被膜乾燥手段３は、フレーム１ｃの外側に設置した送風機３ａと、該送風機３ａの外気採り入れ口に設けたフィルター３ｂと、該送風機３ａの吐出口に設けられ温風又は熱風にするヒーター３ｃと、タンク２ａの移動方向後面部に取りつけられコートロール２ｂから例えば１０ｃｍ離れた位置で温風又は熱風を上向きに吹き出す吹き出し口３ｄと、前記ヒーター３ｃと前記吹き出し口３ｄとを連通接続しているフレキシブルダクト３ｅからなり、前記塗布時に前記タンク２ａと一体に移動して前記コートロール２ｂでロールＲに塗布形成したウエットな黒色被膜に対して温風又は熱風を吹き付けて乾燥させる役目を果たす。
従って、前記コートロール２ｂによるロールＲに対する黒色塗料の塗布を終了した後、モータ２ｇが駆動を停止してＹ方向可動テーブル２ｆが水平移動を停止する時点は、吹き出し口３ｄがロールＲの他端を外れる時点に対応させる。そして、ロールＲの回転は、吹き出し口３ｄがロールＲの他端を外れる時点で停止して良い。従来は、約１５分〜２０分かけて黒色塗料を塗布しており、さらにロールの回転を約２０分位停止させないで塗膜を乾固させており、従って、約は３５分〜４０分の塗布・乾燥の工程時間が必要であったが、本願発明では、塗布と乾燥の工程時間が略重複するので、塗布・乾燥の工程時間は約１５分〜２０分に短縮できる。
【００１３】
アブレーション手段４は、複数の半導体レーザ４ａ，・・と、これら半導体レーザ４ａ，・・に画像データに対応するレーザ光を点滅発射させる電気信号を割り当てるコントローラ４ｂと、集光レンズと対物レンズと対物レンズを支持するボイルコイル又は電歪アクチュエータからなる対物レンズとローラＲのギャップを一定に確保する対物レンズ調整装置と近接センサとからなる照射ヘッド４ｄと、照射ヘッド４ｄを支持していて直動ガイド４ｍに係合案内されかつねじ軸４ｎと螺合していてねじ軸４ｎと連結しているモータ４ｆの駆動により前記チャックされるロールＲに対して接近・離隔自在であるＺ方向可動ブラケット４ｅと、Ｚ方向可動ブラケット４ｅを支持していて直動ガイド４ｋ．４ｋに係合案内されかつねじ軸４ｊと螺合していてねじ軸４ｊと連結しているモータ４ｇの駆動により前記チャックされるロールＲに沿って往復動自在であるＸ方向可動ブラケット４ｈと、前記複数の半導体レーザ４ａ，・・から放射するレーザ光を前記照射ヘッド４ｄの集光レンズに導く複数本の光ファイバー４ｉと、前記Ｘ方向可動ブラケット４ｅがロールＲの駆動側端縁に対応してロールＲの離隔した待機位置にあるとき前記照射ヘッド４ｄを密閉状態に格納して埃や前記黒色塗料の成分の蒸発ガスが照射ヘッド４ｄを含む周辺に被膜となって付着堆積しないように隔離する照射ヘッド用格納容器５ａ及び図示しないアクチュエータにより開閉され対物レンズの前方を塞ぐ可動蓋５ｂとからなる。
アブレーション手段４は、前記黒色被膜の形成が完了し、前記塗布手段２が待機位置に復帰すると、再び回転する前記チャックされるロールＲに対して照射ヘッド４ｄを近接させ、黒色被膜に対してレーザ光を点滅照射してアブレーションを開始し、照射ヘッド４ｄをロールＲの他端まで移動してエッチングするべき画線部（グラビア版の場合）又は非画線部（凸版の場合）をアブレーションする。なお、照射ヘッド用格納容器５ａは、待機位置に固定設置しても良い。
【００１４】
本願発明は、上記の実施の態様に限定されるものではない。
図示のロールはスリーブ形の被製版ロールであるが、軸付きのロールにも適用される。
前記防爆手段は、負圧発生装置の負圧をフレキシブルホースを介して前記塗布手段のタンク内の上部に導くようにしておいて、前記アブレーション手段の稼働時に、前記塗布手段の上蓋がタンクを密閉した状態でタンク内の上部の空間を負圧にする構成としてもよい。
【００１５】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本願第一の発明のロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置によれば、
チャックしたロールの下面に沿ってコートロールを移動して耐酸性でレーザアブレーションが可能な黒色塗料を塗布して被膜形成でき、又、ロールの側面で半導体レーザによりレーザアブレーションを行なうので複数工程作業を行なう構成であり、特に、防爆手段を付設した構成であるので、
装置の複合化・省スペース化・低コスト化・省力化が図れ電力消費が少なくて済み、特に、レーザアブレーションを行なうときにタンク内の黒色塗料に引火し爆発する危険を回避できる。
本願第二の発明のロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置によれば、
チャックしたロールの下面に沿ってコートロールを移動して耐酸性でレーザアブレーションが可能な黒色塗料を塗布して被膜形成でき、又、ロールの側面で半導体レーザによりレーザアブレーションを行なうので複数工程作業を行なう構成であり、特に、照射ヘッド隔離手段と防爆手段を付設した構成であるので、
装置の複合化・省スペース化・低コスト化・省力化が図れ電力消費が少なくて済み、特に、黒色被膜を塗布するときに発生するガスが前記アブレーション手段の照射ヘッドを含む周辺に被膜となって付着堆積するのを回避することができてレンズを清掃するメンテナンスが不要でありかつ照射ヘッドを含む周辺へ引火する危険がなく、又、レーザアブレーションを行なうときにタンク内の黒色塗料に引火し爆発する危険を回避できる。
本願第三の発明のロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置によれば、
チャックしたロールの下面に沿ってコートロールを移動して耐酸性でレーザアブレーションが可能な黒色塗料を塗布して被膜形成できるとともに、塗布位置を後追いして風を吹き付けて迅速に被膜を乾固させることができ、又、ロールの側面で半導体レーザによりレーザアブレーションを行なうので複数工程作業を行なう構成であり、特に、照射ヘッド隔離手段と防爆手段を付設した構成であるので、装置の複合化・省スペース化・低コスト化・省力化が図れ電力消費が少なくて済み、特に、黒色塗料の塗布・乾固に要する時間が重複により約半分に短縮でき、処理能力が大幅に向上し、又、被膜を塗布黒色被膜を塗布するときに発生するガスが前記アブレーション手段の照射ヘッドを含む周辺に被膜となって付着堆積するのを回避することができてレンズを清掃するメンテナンスが不要でありかつ照射ヘッドを含む周辺へ引火する危険がなく、又、レーザアブレーションを行なうときにタンク内の黒色塗料に引火し爆発する危険を回避できる。
本願第四、第五、第六の発明の、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置によれば、上記第一、第二、第三の発明の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明の実施の形態にかかる、ロールに耐酸性被膜を形成しレーザアブレーションする装置の正面図。
【図２】図１の装置の塗布工程を示す縦断右側面図。
【符号の説明】
１            ・・・・ロールチャック回転手段
２            ・・・・塗布手段
３            ・・・・被膜乾燥手段
４            ・・・・アブレーション手段
５            ・・・・照射ヘッド隔離手段（格納容器）
６            ・・・・防爆手段（格納容器、他）
Ｒ            ・・・・ロール
１ａ，１ｂ    ・・・・チャックコーン
１ｃ          ・・・・フレーム
１ｄ          ・・・・軸受ブラケット
１ｅ          ・・・・スピンドル
１ｆ          ・・・・モータ
１ｇ          ・・・・テイルスピンドル
１ｈ          ・・・・可動テーブル
１ｉ          ・・・・軸受ブラケット
１ｊ          ・・・・ロッド
１ｋ          ・・・・シリンダ装置
１ｍ          ・・・・直動ガイド
１ｎ          ・・・・ねじ軸
１ｐ          ・・・・モータ
２ａ          ・・・・タンク
２ｂ          ・・・・コートロール
２ｃ          ・・・・蓋
２ｄ          ・・・・防爆モータ
２ｅ          ・・・・自在継手
２ｆ          ・・・・Ｙ方向可動テーブル
２ｇ          ・・・・モータ
２ｈ          ・・・・ねじ軸
２ｉ          ・・・・モータ
２ｊ          ・・・・ねじ軸
２ｋ          ・・・・近接センサ
２ｍ          ・・・・蓋板
２ｎ          ・・・・Ｘ方向可動テーブル
２ｐ          ・・・・直動ガイド
２ｑ          ・・・・補給タンク
３ａ          ・・・・送風機
３ｂ          ・・・・フィルター
３ｃ          ・・・・ヒーター
３ｄ          ・・・・吹き出し口
３ｅ          ・・・・フレキシブルダクト
４ａ          ・・・・半導体レーザ
４ｂ          ・・・・コントローラ
４ｃ          ・・・・照射ヘッド
４ｄ          ・・・・アブレーションヘッド
４ｅ          ・・・・Ｚ方向可動ブラケット
４ｆ          ・・・・モータ
４ｇ          ・・・・モータ
４ｈ          ・・・・Ｘ方向可動ブラケット
４ｉ          ・・・・光ファイバー
４ｊ          ・・・・ねじ軸
４ｋ          ・・・・直動ガイド
４ｍ          ・・・・直動ガイド
４ｎ          ・・・・ねじ軸
【図１】
0004421719.tif 000002
【図２】
0004421719.tif 000003