(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス微粒子合成用のバーナと回転するターゲットロッドとを相対的に往復移動させながらガラス原料ガスと燃焼ガスとを前記バーナに供給して生成せしめたガラス微粒子を、前記ターゲットロッドの外周に堆積させて光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造する方法において、
単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］を求め、求めた密度が目標密度ρ［ｇ／ｃｍ3］より小さいときに前記バーナの掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］を遅くし、求めた密度が目標密度より大きいときに前記バーナの掃引速度を速くするように制御し、
製造する光ファイバ用多孔質ガラス母材の最終的な外径をＬ［ｍｍ］、形成途中のガラス微粒子堆積体の外径をＲ［ｍｍ］としたとき、
０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌ
となる部分のガラス微粒子堆積層を形成させる際に、前記密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が、
０．７≦ρc≦０．９    ［ｇ／ｃｍ3］
の範囲となるように前記バーナの掃引速度の制御を行う
ことを特徴とする光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
【請求項２】
ガラス微粒子合成用のバーナと回転するターゲットロッドとを相対的に往復移動させながらガラス原料ガスと燃焼ガスとを前記バーナに供給して生成せしめたガラス微粒子を、前記ターゲットロッドの外周に堆積させて光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造する方法において、
単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］を求め、求めた密度を記録手段に順次記録して前記光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造し、記録された密度が目標密度ρ［ｇ／ｃｍ3］より小さい部分を堆積させるときに前記バーナの掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］を遅くし、記録された密度が目標密度より大きい部分を堆積させるときに前記バーナの掃引速度を速くするように制御して、次のロッドを製造し、
製造する光ファイバ用多孔質ガラス母材の最終的な外径をＬ［ｍｍ］、形成途中のガラス微粒子堆積体の外径をＲ［ｍｍ］としたとき、
０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌ
となる部分のガラス微粒子堆積層を形成させる際に、前記密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が、
０．７≦ρc≦０．９    ［ｇ／ｃｍ3］
の範囲となるように前記バーナの掃引速度の制御を行う
ことを特徴とする光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
【請求項３】
前記バーナの掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］は、目標密度をρ［ｇ／ｃｍ3］、ガラス微粒子堆積体の外径をＲ［ｍｍ］としたとき、
ρ＝ａＸ＋ｂ    ［ｇ／ｃｍ3］    ここで、ａ、ｂは任意定数
ただし、Ｘ＝１／Ｓ×１／Ｒ
の関係式に基づいて算出される
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
【請求項４】
目標密度がρ［ｇ／ｃｍ3］であるとき、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が、
ρ−０．１５≦ρc≦ρ＋０．１５    ［ｇ／ｃｍ3］
の範囲となるように前記バーナの掃引速度の制御を行う
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
【請求項５】
前記バーナの掃引速度は、前記ターゲットロッドの回転速度と、前記ターゲットロッドに対する前記バーナの回転軸線方向の相対的な移動速度とを変化させることにより変更することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ファイバ母材の生産性を向上させるために母材の大型化が進んでいる。光ファイバ母材は、ＶＡＤ（Vapor phase Axial Deposition）法やＭＣＶＤ（Modified Chemical Vapor Deposition）法、プラズマ法などの良く知られた製造方法によって作製された光を伝えるコアを含むターゲットロッドに、ＯＶＤ（Outside Vapor phase Deposition）法やＲＩＴ（Rod In Tube）法などによりクラッド部分を付与して作製される。ここで、クラッド部分の製造にＯＶＤ法を用いる場合には、光ファイバ母材の大型化には長尺化と太径化という２つの方法がある。しかし、長尺化を行うと製造装置が大型化して設置スペースや設備コストの点で制約される他、製造した母材の取り扱いも難しいものとなる。そのため、母材の大型化には可能な限り太径化によって対処されることが好ましい。また、既存の設備サイズなどの制約からＯＶＤ法によって製造される光ファイバ用多孔質母材の太径化にも自ずと限界があるため、これら諸般の制約条件に配慮して光ファイバ母材の大型化を実現するには、堆積させるガラス微粒子の密度を上げる必要が生じる。
【０００３】
一般に、ＯＶＤ法により、ターゲットロッドの外周にガラス微粒子の堆積を行う場合、ガラス微粒子堆積層の厚みが大きくなるにつれて、つまり母材の最終的な外径に近くなるにつれて、堆積するガラス微粒子の密度が低下する。これを防止するために、従来、バーナに供給する燃焼ガス（酸素、水素）の量を増加させる方法がとられている。
【０００４】
しかしながら、ある一定量以上の燃焼ガスを供給すると、炎が不安定になり、形成されるガラス微粒子堆積体の表面が凸凹になったり、ガラス微粒子の付着効率が低下したりするという問題が生じる。この問題を解決する手段として、従来、回転速度を制御してガラス微粒子堆積体の表面温度をコントロールする手法が提案されている。つまり、堆積層の厚みの増大に対応して、徐々に回転速度を落とし、炎との接触時間を長くして所望の表面温度とすることにより、堆積するガラス微粒子の密度ならびに付着効率を維持する手法である（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平２−３０７８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、近年のさらなる母材の大型化に伴い、回転速度のみで密度をコントロールしようとすると回転速度を極端に小さくしなければならず、回転機構の出力が不安定になり良好に制御できないという問題が生じてきた。
【０００７】
本発明はこの問題を解決するためになされたものであり、堆積させるガラス微粒子の密度をバーナの掃引速度で制御することにより、目標とするガラス微粒子堆積体の密度分布を精度よく得ることができ、ひいては母材の大型化を図ることができる光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる第１の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法は、ガラス微粒子合成用のバーナと回転するターゲットロッドとを相対的に往復移動させながらガラス原料ガスと燃焼ガスとを前記バーナに供給して生成せしめたガラス微粒子を、前記ターゲットロッドの外周に堆積させて光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造する方法において、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］を求め、求めた密度が目標密度ρ［ｇ／ｃｍ3］より小さいときに前記バーナの掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］を遅くし、求めた密度が目標密度より大きいときに前記バーナの掃引速度を速くするように制御し、製造する光ファイバ用多孔質ガラス母材の最終的な外径をＬ［ｍｍ］、形成途中のガラス微粒子堆積体の外径をＲ［ｍｍ］としたとき、
０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌ
となる部分のガラス微粒子堆積層を形成させる際に、前記密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が、
０．７≦ρc≦０．９    ［ｇ／ｃｍ3］
の範囲となるように前記バーナの掃引速度の制御を行う。
【０００９】
また、本発明にかかる第２の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法は、ガラス微粒子合成用のバーナと回転するターゲットロッドとを相対的に往復移動させながらガラス原料ガスと燃焼ガスとを前記バーナに供給して生成せしめたガラス微粒子を、前記ターゲットロッドの外周に堆積させて光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造する方法において、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］を求め、求めた密度を記録手段に順次記録して前記光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造し、記録された密度が目標密度ρ［ｇ／ｃｍ3］より小さい部分を堆積させるときに前記バーナの掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］を遅くし、記録された密度が目標密度より大きい部分を堆積させるときに前記バーナの掃引速度を速くするように制御して、次のロッドを製造し、製造する光ファイバ用多孔質ガラス母材の最終的な外径をＬ［ｍｍ］、形成途中のガラス微粒子堆積体の外径をＲ［ｍｍ］としたとき、
０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌ
となる部分のガラス微粒子堆積層を形成させる際に、前記密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が、
０．７≦ρc≦０．９    ［ｇ／ｃｍ3］
の範囲となるように前記バーナの掃引速度の制御を行う。
【００１０】
また、本発明にかかる第３の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法は、上記第１あるいは第２の製造法において、前記バーナの掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］は、目標密度をρ［ｇ／ｃｍ3］、ガラス微粒子堆積体の外径をＲ［ｍｍ］としたとき、
ρ＝ａＸ＋ｂ    ［ｇ／ｃｍ3］    ここで、ａ、ｂは任意定数
ただし、Ｘ＝１／Ｓ×１／Ｒ
の関係式に基づいて算出される。
【００１１】
また、本発明にかかる第４の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法は、上記第１から第３のいずれか１の製造法において、目標密度がρ［ｇ／ｃｍ3］であるとき、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が、
ρ−０．１５≦ρc≦ρ＋０．１５    ［ｇ／ｃｍ3］
の範囲となるように前記バーナの掃引速度の制御を行う。
【００１３】
さらに、本発明にかかる第５の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法は、上記第１から第４のいずれか１つの製造方法において、前記バーナの掃引速度は、前記ターゲットロッドの回転速度と、前記ターゲットロッドに対する前記バーナの回転軸線方向の相対的な移動速度とを変化させることにより変更する。
【発明の効果】
【００１４】
この発明によれば、目標とするガラス微粒子堆積体の密度分布を精度よく得ることができ、ひいては母材の大型化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明にかかる光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法の実施例を図に沿って詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。以下では、本発明の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法の詳細を実施の形態として説明し、その後に多くの実験の中から代表的なものを比較例及び実施例として説明する。
【００１６】
［実施の形態］
図１はこの発明にかかる光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法に用いられる製造装置の要部を示す斜視図である。本実施の形態は所謂ＯＶＤ法によるものである。ターゲットロッド１の両端が支持部２，２で軸支されている。図示しない駆動機構は図示しない制御手段に制御されてターゲットロッド１を矢印Ａで示すように所定の方向に所定の速度で回転させる。さらにこの状態で、駆動機構はガラス微粒子合成用バーナ４をターゲットロッド１の軸方向に矢印Ｂで示すように直線往復運動させる。
【００１７】
ガラス微粒子合成用バーナ４には、ガラス原料ガスであるＳｉＣｌ4ガスと、燃焼ガスであるＨ2ガス及びＯ2ガスとを供給し、燃焼ガスによって形成される火炎中でガラス原料ガスを火炎加水分解させてガラス微粒子を合成する。このガラス微粒子を火炎噴射口３から回転するターゲットロッド（多くの場合、クラッド部の一部が付いたコアロッドをガラス化したもの）１の外周上に噴射し、ガラス微粒子堆積層を堆積せしめ、光ファイバ用多孔質ガラス母材５を製造する。
【００１８】
尚、回転するターゲットロッド１に対するガラス微粒子合成用バーナ４の軸方向の動きは、相対的にその動きの関係になればよく、本実施の形態においては、ターゲットロッド１に対してバーナ４を直線往復運動させているが、バーナ４を固定しておき回転するターゲットロッド１を回転軸方向に直線往復運動させてもよい。
【００１９】
ターゲットロッド１の上端は、重量測定器９から延びるチャック８によって回転自在に吊り下げられている。重量測定器９は、ターゲットロッド１の外周上に堆積したガラス微粒子の重量を測定する。ターゲットロッド１の側方の所定の距離離れた位置に、外径測定器７が配設されている。外径測定器７は、出射したレーザビームがガラス微粒子堆積体の表面で反射して戻って来るまでの時間からガラス微粒子堆積体の外径を測定する。
【００２０】
ガラス微粒子堆積体の形成に関して、一般的な製造方法では、一工程中、すなわち同一の光ファイバ用多孔質ガラス母材５を製造している間は、ターゲットロッド１とガラス微粒子合成用バーナ４との相対移動速度及び前記ターゲットロッド１の回転速度を一定にして製造する。
【００２１】
発明者等は、詳細なる実験の結果、同一の回転速度でもガラス微粒子合成用バーナ４との相対移動速度を遅くすることで堆積するガラス微粒子の密度が大きくなることを確認した。また、同一の回転速度、同一の相対移動速度であってもガラス微粒子堆積体の外径が異なると堆積するガラス微粒子の密度が異なることを発見した。
【００２２】
そしてさらに発明者等は、一定のガス条件の下において堆積するガラス微粒子の密度が、バーナ４の掃引速度Ｓとガラス微粒子堆積体の外径Ｒに反比例することを発見した。つまり、堆積するガラス微粒子の密度は、１／Ｓと１／Ｒの積に比例することを発見した。ここで、バーナ４の掃引速度Ｓ［ｍｍ／ｓｅｃ．］は、ガラス微粒子堆積体の外径Ｒ［ｍｍ］、ターゲットロッド１の回転速度ｒ［ｒｐｍ］、ターゲットロッド１とガラス微粒子合成用バーナ４との相対移動速度Ｖ［ｍｍ／ｓｅｃ．］から、
Ｓ＝√（（πＲｒ）2＋Ｖ2）    ［ｍｍ／ｓｅｃ．］
として求めることができるものであり、図１に点線Ｃで示すような軌跡である。
【００２３】
発明者等が実験を行って採取したガラス微粒子堆積層の密度データを、１／Ｓと１／Ｒの積を横軸にとってプロットしたものを図２に示す。この実験においては、ガス条件として、ガラス原料ガスであるＳｉＣｌ4ガスを８０ｇ／ｍｉｎ、燃焼ガスであるＨ2ガス及びＯ2ガスをそれぞれ２４０ＳＬＭ、１２０ＳＬＭの流量で供給した。また、ガラス微粒子合成用バーナ４の火炎噴射口３先端からガラス微粒子堆積体表面までの距離は、１５０ｍｍで一定とした。
【００２４】
図２において、横軸は、１／Ｓと１／Ｒの積を示し、縦軸は単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］を示している。単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度は、右上がりの直線（図２の直線ａ）に沿って分布している。つまり、１／Ｓと１／Ｒの積に比例している。そして発明者等は、この直線の示す関係式に基づき、ガラス微粒子堆積体の外径に応じてバーナ４の掃引速度を変化させることにより、容易に所望の密度分布を持つガラス微粒子堆積体を形成できることを発見した。
【００２５】
さらなる実験の結果、目標密度ρに対して単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρcが、ρ＋０．１５（図２の直線ｂ）よりも大きくなる条件で堆積を行うと堆積面の温度が上昇してガラス微粒子の一部が焼結し、焼結部が核となってブツ状の概観不良が発生してしまうことがわかった。一方、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρcがρ−０．１５（図２の直線ｃ）よりも小さくなる条件で堆積を行うとクラックが発生しやすくなるばかりでなく、ガラス微粒子堆積体の外径が大きくなってしまい母材の大型化には不利益であることもわかった。従って、
ρ−０．１５≦ρc≦ρ＋０．１５    ［ｇ／ｃｍ3］
となるようにバーナ４の掃引速度を調整することが好ましいことがわかった。
【００２６】
背景技術にて述べたように、一般に母材の最終的な外径に近くなるにつれて、ガラス微粒子堆積層の密度は低下する。この密度低下は、母材作製上抑える必要がある。この点に関して、発明者等は、堆積終了時のガラス微粒子堆積体の外径（母材外径）をＬ［ｍｍ］としたとき、０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌ［ｍｍ］となる部分のガラス微粒子堆積層を形成させる際に、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρcを０．７≦ρc≦０．９［ｇ／ｃｍ3］とすると理想的な母材とすることができることを発見した。単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρcを高くすることで母材外径Ｌを大きくせずに母材を大型化できるが、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρcが大きくなるほど、ガラス微粒子堆積体中に含まれる水分の脱水が困難になるので、密度ρcは所定の値に制限される。
【００２７】
実験の結果によれば、ガラス微粒子堆積体の外径Ｒが０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌのときの密度を０．９ｇ／ｃｍ3（図２の直線ｄ）以下にしないと次のガラス化工程での脱水が不十分になり、本母材を用いて製造される光ファイバの波長１３８０ｎｍにおける伝送損失が増加することがわかった。また、ガラス微粒子堆積体の外径Ｒが０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌのときの密度が０．７ｇ／ｃｍ3（図２の直線ｅ）よりも小さくなると結果としてＬが大きくなり、母材の大型化には不利益である。
【００２８】
発明者等は、図２より求めた関係式を用いて、ガラス微粒子堆積体の外径Ｒが０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌ［ｍｍ］の範囲において、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度を０．７≦ρc≦０．９［ｇ／ｃｍ3］とするように掃引速度を制御する（図２の直線ｂ，ｃ，ｄ，ｅで囲まれた範囲とする）ことで母材の大型化が可能であることを確認した。
【００２９】
［比較例］
発明者等は、ターゲットロッドの回転速度ｒのみを制御して、堆積面の温度を上げることにより、密度ρcを上げることを試みた。このとき、バーナ速度Ｖは一定とした。ターゲットロッドの外径を４０ｍｍ、バーナ速度Ｖは１３０ｍｍ／ｓｅｃ．とし、堆積終了時の外径Ｌがおよそ２５０ｍｍのガラス微粒子堆積体（多孔質ガラス母材）を合成した。このときのターゲットロッドの回転速度ならびにバーナ速度とガラス微粒子堆積層の密度の関係を図３に示す。図３において、横軸は、ガラス微粒子堆積層の厚み［ｍｍ］、縦軸はそれぞれ、ターゲットロッドの回転速度ｒ［ｒｐｍ］とバーナ速度Ｖ［ｍｍ／ｓｅｃ．］とガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］を示している。
【００３０】
ガラス微粒子堆積層密度ρcのコントロールは、ある程度達成することができたが、ガラス微粒子堆積体の外径Ｒが０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌであるのときの密度を０．７≦ρcにしようとすると回転速度ｒを極端に小さくしなければならず、回転機構の出力が不安定になり良好に制御することができなくなった。図３から明らかなように、回転数が０に近づいて良好に制御ができなくなると回転数のばらつきが大きくなり、これに伴い、単位時間あたりに堆積させた部分のガラス微粒子堆積層の密度ρc［ｇ／ｃｍ3］が大きく変動してしまうことが確認された。このようにして作製された母材は、径方向の密度分布に急激な変動があるためにガラス化工程の際に脱水が不十分となる恐れがあり、望ましいものではない。
【００３１】
［実施例１］
次に、発明者等は、回転速度ｒを極端に小さくせずにガラス微粒子堆積層の密度ρcを高める方法として回転速度のみならずバーナ速度Ｖも小さくすることを試みた。ターゲットロッドの外径は、比較例と同様に４０ｍｍとし、堆積終了時の外径Ｌがおよそ２５０ｍｍのガラス微粒子堆積体を合成した。このときのターゲットロッドの回転速度ならびにバーナ速度とガラス微粒子堆積層の密度の関係を図４に示す。縦軸と横軸の関係は図３と同様である。
【００３２】
バーナ速度Ｖを小さくすることで、回転速度ｒを良好に制御可能な範囲とすることができ、所望する密度のガラス微粒子を堆積させることが可能であった。そして、上記実施の形態において説明した方法を適用することにより、ガラス微粒子堆積体の外径Ｒが０．８Ｌ≦Ｒ≦Ｌであるのときの密度を０．７≦ρcとすることができた。
【００３３】
［実施例２］
さらに発明者等は、記録手段に記録されたガラス微粒子堆積層の厚みと密度のデータを目標とするガラス微粒子堆積層の厚みと密度の関係と比較し、次のロッドを製造する際にガラス微粒子堆積層の密度が目標とするガラス微粒子堆積層密度よりも小さい部分に対してはバーナの掃引速度Ｓを遅くしてガラス微粒子の堆積を行い、ガラス微粒子堆積体の外径が目標とするガラス微粒子堆積層密度よりも大きい部分に対してはバーナの掃引速度Ｓを速くしてガラス微粒子の堆積を行うことを試みた。結果、当該ロッドを製造する際に記録手段に記録されたガラス微粒子堆積層の厚みと密度のデータが、目標とするガラス微粒子堆積層の厚みと密度の関係とよく一致することを確認した。このときのガラス微粒子堆積層の厚みと密度のデータは図４に示すものとほぼ一致していた。
【００３４】
尚、上記実施の形態においては、ガラス微粒子が良好に堆積するように、ガラス微粒子堆積体の表面とバーナ４の火炎噴射口３先端からの距離が、所定の最適な条件のもとに一定の距離を保つように制御をしている。この制御は、容易な方法でありながら、バーナ４の火炎をガラス微粒子の堆積に常に最適な条件で作用させる上で非常に有効な方法である。しかしながら、堆積体の表面とバーナ４の火炎噴射口３先端からの距離を一定の距離に保つ制御は、必ずしも必須の条件ではなく、この制御を行わなくても、堆積するガラス微粒子の密度は、１／Ｓと１／Ｒの積に比例することを確認した。
【００３５】
さらに、バーナ種類（方式、形状、大きさ等を含む）及びガス条件（ガラス原料ガス及び燃焼ガスの各々の成分、各々のガス流量、及び両ガスの割合を含む）が本実施例と異なる場合においても、所定の条件下においては堆積するガラス微粒子層の密度は、１／Ｓと１／Ｒの積に比例することを確認した。
【００３６】
以上のように、本発明にかかる光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法は、ＯＶＤ法によりガラス微粒子堆積体を形成する際に適用されて有用なものであり、特に光ファイバ用母材の大型化を実現する際に適用されて好適なものである。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】この発明にかかる光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法に用いられる製造装置の要部を示す斜視図である。
【図２】実験を行って採取したガラス微粒子堆積層の密度データが１／Ｓと１／Ｒの積に比例している様子を示すグラフである。
【図３】ターゲットロッドの回転速度のみを制御して、ガラス微粒子堆積体表面の温度を上げることにより、ガラス微粒子堆積層の密度を上げることを試みた際のターゲットロッドの回転速度ならびにバーナ速度とガラス微粒子堆積層密度の関係を示すグラフである。
【図４】回転速度を極端に小さくせずにガラス微粒子堆積層密度を高める方法として回転速度のみならずバーナ速度も小さくすることを試みた際のターゲットロッドの回転速度ならびにバーナ速度とガラス微粒子堆積層密度の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３８】
１  ターゲットロッド
２  支持部
３  火炎噴射口
４  ガラス微粒子合成用バーナ
５  光ファイバ用多孔質ガラス母材
７  外径測定器
８  チャック
９  重量測定器
【図１】
0004532386.tif 000002
【図２】
0004532386.tif 000003
【図３】
0004532386.tif 000004
【図４】
0004532386.tif 000005