(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）少なくとも１種のアルカリ可溶性結合剤樹脂、プレポリマー又はモノマー成分と、
（Ｂ）少なくとも１種の式Ｉ又はII
【化１】
0004532726.tif 000026
（式中、
Ｒ1は、Ｃ4〜Ｃ9シクロアルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケノイル；非置換であるか、１個以上のハロゲン、ＣＮ又はフェニルによって置換されているＣ1〜Ｃ20アルカノイルであるか；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているベンゾイルであるか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルもしくはベンジルオキシカルボニル、又は；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル又はハロゲンによって置換されているフェノキシカルボニルであり；
Ａｒ1は、Ｃ6〜Ｃ20アリール又はＣ6〜Ｃ20アリーロイルであり、両基は、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ20アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルによって１〜１２回置換されているか；フェニル又はベンゾイル（それぞれが場合によっては１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されている）によって置換されているか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル（場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基によって置換されている）によって置換されているか；フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されており、置換基ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6は、場合によっては、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び／又はＲ6を介して、Ｃ6〜Ｃ20アリールもしくはＣ6〜Ｃ20アリーロイル基のアリール環上のさらなる置換基又はＣ6〜Ｃ20アリールもしくはＣ6〜Ｃ20アリーロイル基のアリール環の炭素原子の１個とで五又は六員環を形成し；
あるいは、Ａｒ1は、Ｒ1がアセチルであるならばＣ3〜Ｃ9ヘテロアリールであり、該Ｃ3〜Ｃ9ヘテロアリールは、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ20アルカノイル又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルによって１〜７回置換されているか；フェニル又はベンゾイル（それぞれが場合によっては１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されている）によって置換されているか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル（場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基によって置換されている）によって置換されているか；あるいは、該Ｃ6〜Ｃ20アリール又はＣ6〜Ｃ20アリーロイルは、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されており；
ｘは、２又は３であり；
Ｍ1は、ｘが２である場合、
【化２】
0004532726.tif 000027
であり、それぞれが場合によってはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、ベンジル；非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているフェニル；非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているベンゾイル；Ｃ1〜Ｃ12アルカノイル；場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のＯＨ、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているＣ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルによって１〜１２回置換されており；
あるいは、Ｍ1は、ｘが３である場合、
【化３】
0004532726.tif 000028
であり、それぞれが場合によってはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル；非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているフェニル；ベンジル、ベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ12アルカノイル；場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているＣ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルによって１〜１２回置換されており；
Ｍ2は、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＳ−、−ＮＲ3−、−（ＣＯ）−、Ｃ1〜Ｃ12アルキレン、シクロへキシレン、フェニレン、ナフチレン、−（ＣＯ）Ｏ−（Ｃ2〜Ｃ12アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−（ＣＯ）−又は−（ＣＯ）−（Ｃ2〜Ｃ12アルキレン）−（ＣＯ）−であるか；それそれが場合によっては１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−及び／又は−ＮＲ3−によって置換されているＣ4〜Ｃ12アルキレン又はＣ4〜Ｃ12アルキレンジオキシ−であり；
Ｍ3は、直接結合、−ＣＨ2−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＳ−、−ＮＲ3−又は−（ＣＯ）−であり；
Ｍ4は、
【化４】
0004532726.tif 000029
であり；
Ｒ3は、水素又はＣ1〜Ｃ20アルキルであるか；−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ、−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）2、−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル〕2又はモルホリニルによって置換されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケノイル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルであるか；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル、ハロゲン、−ＯＨ又はＣ1〜Ｃ4アルコキシによって置換されているベンゾイルであるか；それぞれが非置換であるか、ハロゲン、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）2、ジフェニルアミノ又は−（ＣＯ）Ｒ7によって置換されているフェニル又はナフチルであるか；フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル又はＳｉ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）r（フェニル）3-rであり；
ｒは、０、１、２又は３であり；
ｎは、１〜２０であり；
Ｒ4は、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル；−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）によって置換されているＣ2〜Ｃ8アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−又は−Ｓ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケノイルであるか；それぞれが非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ又は−（ＣＯ）Ｒ7によって置換されているフェニル又はナフチルであり；
Ｒ5及びＲ6は、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ2〜Ｃ4ヒドロキシアルキル、Ｃ2〜Ｃ10アルコキシアルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケノイル、ベンゾイルであるか；それぞれが非置換であるか、Ｃ1〜Ｃ12アルキル又はＣ1〜Ｃ12アルコキシによって置換されているフェニル又はナフチルであるか；Ｒ5とＲ6とが一緒になって、場合によっては−Ｏ−又は−ＮＲ3−によって中断されている、及び／又は、場合によってはヒドロキシル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ2〜Ｃ4アルカノイルオキシ又はベンゾイルオキシによって置換されているＣ2〜Ｃ6アルキレンであり；
Ｒ7は、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキルであるか；ハロゲン、フェニル、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）によって置換されているＣ2〜Ｃ8アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルであるか；場合によっては１個以上のハロゲン、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）2又はジフェニルアミノによって置換されているフェニルである）
の化合物と、
（Ｃ）光重合性化合物と
を含む、アルカリ現像可能な感光性組成物。
【請求項２】
請求項１記載の組成物を含む、はんだレジスト。
【請求項３】
請求項１記載の組成物を含む、カラーフィルタレジスト。
【請求項４】
請求項１記載の組成物に１５０〜６００nmの範囲の電磁線を照射することを含む、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物の光重合法。
【請求項５】
請求項１記載の組成物で少なくとも一面を被覆された被覆基材。
【請求項６】
請求項５記載の被覆基材を１５０〜６００nmの範囲の電磁線で像様の露光に付したのち、未露光部分を溶媒で除去する、レリーフ像の作製方法。
【請求項７】
すべてが請求項１記載の感光性組成物及び顔料を含む赤、緑及び青（ＲＧＢ）色要素ならびに場合によっては黒マトリクスを透明基材上に設け、基材の表面又はカラーフィルタ層の表面のいずれかに透明な電極を設けることによって調製されるカラーフィルタ。
【請求項８】
（１）請求項１記載の組成物の各成分を混合し、
（２）得られた組成物を基材に適用し、
（３）溶媒を、存在するならば、上昇した温度で蒸発させ、
（４）被覆された基材をパターン様に露光し、
（５）照射を受けた試料をアルカリ水溶液で現像し、それによって未硬化区域を除去し、
（６）試料を熱硬化させる、像形成法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オキシムエステル化合物を光開始剤として含む、アルカリによって現像することができる感光性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＵＳＰ３，５５８，３０９、４，２０２，６９７、４，２５５，５１３、４，５９０，１４５の明細書から、オキシムエステル誘導体が光開始剤であることが公知である。特開平８−２７２０９５号公報には、とりわけ１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−Ｏ−ベンゾイルオキシム及び１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−Ｏ−エトキシカルボニルオキシムを光開始剤として含むはんだレジストインク組成物が開示されている。特開平８−３３９０８１号公報では、同様な組成物に１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−Ｏ−エトキシカルボニルオキシムが使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
光重合技術では、反応性であり、アルカリ現像可能であり、扱いやすく、良好な解像性を示し、たとえば熱安定性及び貯蔵安定性のような性質に関して産業の高い要求基準を満たす、特に画像形成配合物として適した組成物の必要性がなおも存在する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
驚くべきことに、
（Ａ）少なくとも１種のアルカリ可溶性結合剤樹脂、プレポリマー又はモノマー成分と、
（Ｂ）少なくとも１種の式Ｉ又はII
【０００５】
【化５】
0004532726.tif 000002
【０００６】
（式中、
Ｒ1は、Ｃ4〜Ｃ9シクロアルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケノイル；非置換であるか、１個以上のハロゲン、ＣＮ又はフェニルによって置換されているＣ1〜Ｃ20アルカノイルであるか；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているベンゾイルであるか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルもしくはベンジルオキシカルボニル又は非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル又はハロゲンによって置換されているフェノキシカルボニルであり；
Ａｒ1は、Ｃ6〜Ｃ20アリール又はＣ6〜Ｃ20アリーロイルであり、両基は、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ20アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルによって１〜１２回置換されているか；フェニル又はベンゾイル（それぞれが場合によっては１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されている）によって置換されているか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル（場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基によって置換されている）によって置換されているか；フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されており、置換基ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6は、場合によっては、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び／又はＲ6を介して、Ｃ6〜Ｃ20アリールもしくはＣ6〜Ｃ20アリーロイル基のアリール環上のさらなる置換基又はＣ6〜Ｃ20アリールもしくはＣ6〜Ｃ20アリーロイル基のアリール環の炭素原子の１個とで五又は六員環を形成し；
あるいは、Ａｒ1は、Ｒ1がアセチルであるならばＣ3〜Ｃ9ヘテロアリールであり、該Ｃ3〜Ｃ9ヘテロアリールは、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ20アルカノイル又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルによって１〜７回置換されているか；フェニル又はベンゾイル（それぞれが場合によっては１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されている）によって置換されているか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル（場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基によって置換されている）によって置換されているか；あるいは、該Ｃ6〜Ｃ20アリール又はＣ6〜Ｃ20アリーロイルは、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されており；
ｘは、２又は３であり；
Ｍ1は、ｘが２である場合、
【０００７】
【化６】
0004532726.tif 000003
【０００８】
であり、それぞれが場合によってはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、ベンジル；非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているフェニル；非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているベンゾイル；Ｃ1〜Ｃ12アルカノイル；場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のＯＨ、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているＣ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルによって１〜１２回置換されており；
あるいは、Ｍ1は、ｘが３である場合、
【０００９】
【化７】
0004532726.tif 000004
【００１０】
であり、それぞれが場合によってはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル；非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているフェニル；ベンジル、ベンゾイル、Ｃ1〜Ｃ12アルカノイル；場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されているＣ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルによって１〜１２回置換されており；
Ｍ2は、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＳ−、−ＮＲ3−、−（ＣＯ）−、Ｃ1〜Ｃ12アルキレン、シクロへキシレン、フェニレン、ナフチレン、−（ＣＯ）Ｏ−（Ｃ2〜Ｃ12アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−（ＣＯ）−又は−（ＣＯ）−（Ｃ2〜Ｃ12アルキレン）−（ＣＯ）−であるか；それそれが場合によっては１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−及び／又は−ＮＲ3−によって置換されているＣ4〜Ｃ12アルキレン又はＣ4〜Ｃ12アルキレンジオキシ−であり；
Ｍ3は、直接結合、−ＣＨ2−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＳ−、−ＮＲ3−又は−（ＣＯ）−であり；
Ｍ4は、
【００１１】
【化８】
0004532726.tif 000005
【００１２】
であり；
Ｒ3は、水素又はＣ1〜Ｃ20アルキルであるか；−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ、−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）2、−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル〕2又はモルホリニルによって置換されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケノイル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルであるか；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル、ハロゲン、−ＯＨ又はＣ1〜Ｃ4アルコキシによって置換されているベンゾイルであるか；それぞれが非置換であるか、ハロゲン、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）2、ジフェニルアミノ又は−（ＣＯ）Ｒ7によって置換されているフェニル又はナフチルであるか；フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル又はＳｉ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）r（フェニル）3-rであり；
ｒは、０、１、２又は３であり；
ｎは、１〜２０であり；
Ｒ4は、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル；−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）によって置換されているＣ2〜Ｃ8アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−又は−Ｓ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケノイルであるか；それぞれが非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ又は−（ＣＯ）Ｒ7によって置換されているフェニル又はナフチルであり；
Ｒ5及びＲ6は、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ2〜Ｃ4ヒドロキシアルキル、Ｃ2〜Ｃ10アルコキシアルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケノイル、ベンゾイルであるか；それぞれが非置換であるか、Ｃ1〜Ｃ12アルキル又はＣ1〜Ｃ12アルコキシによって置換されているフェニル又はナフチルであるか；Ｒ5とＲ6とが一緒になって、場合によっては−Ｏ−又は−ＮＲ3−によって中断されている、及び／又は、場合によってはヒドロキシル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ2〜Ｃ4アルカノイルオキシ又はベンゾイルオキシによって置換されているＣ2〜Ｃ6アルキレンであり；
Ｒ7は、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキルであるか；ハロゲン、フェニル、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）によって置換されているＣ2〜Ｃ8アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルであるか；場合によっては１個以上のハロゲン、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）2又はジフェニルアミノによって置換されているフェニルである）
の化合物と、
（Ｃ）光重合性化合物と
を含む、アルカリ現像可能な感光性組成物が、予想外の良好な性能を示すことがわかった。
【００１３】
Ｃ1〜Ｃ20アルキルは、直鎖状又は分岐鎖状であり、たとえば、Ｃ1〜Ｃ18、Ｃ1〜Ｃ14、Ｃ1〜Ｃ12、Ｃ1〜Ｃ8、Ｃ1〜Ｃ6もしくはＣ1〜Ｃ4アルキル又はＣ4〜Ｃ12もしくはＣ4〜Ｃ8アルキルである。例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、２，４，４−トリメチルペンチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシルである。Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルキル及びＣ1〜Ｃ4アルキルは、対応するＣ原子数まで、Ｃ1〜Ｃ20アルキルに関して上述した意味と同じ意味である。
【００１４】
１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ20アルキルは、たとえば、−Ｏ−によって１〜９回、１〜５回、１〜３回又は１回もしくは２回中断されている。２個のＯ原子は、少なくとも２個のメチレン基、すなわちエチレンによって分けられている。アルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状である。たとえば、以下の構造単位、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3、−〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ〕y−ＣＨ3（ｙ＝１〜９）、−（ＣＨ2−ＣＨ2Ｏ）7−ＣＨ2ＣＨ3、−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2ＣＨ3又は−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ3が考えられる。１又は２個の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ6アルキルは、たとえば、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＣＨ2ＣＨ3又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3である。
【００１５】
Ｃ2〜Ｃ4ヒドロキシアルキルとは、１又は２個のＯ原子によって置換されているＣ2〜Ｃ4アルキルをいう。アルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状である。例は、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシブチル、３−ヒドロキシブチル、２，３−ジヒドロキシプロピル又は２，４−ジヒドロキシブチルである。
【００１６】
Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、特にシクロペンチル及びシクロヘキシルである。
【００１７】
Ｃ1〜Ｃ4アルコキシは、直鎖状又は分岐鎖状であり、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブチルオキシである。
【００１８】
Ｃ2〜Ｃ10アルコキシアルキルは、１個のＯ原子によって中断されているＣ2〜Ｃ10アルキルである。Ｃ2〜Ｃ10アルキルは、対応するＣ原子数まで、Ｃ1〜Ｃ20アルキルに関して上述した意味と同じ意味である。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピルである。
【００１９】
Ｃ1〜Ｃ20アルカノイルは、直鎖状又は分岐鎖状であり、たとえば、Ｃ2〜Ｃ18、Ｃ2〜Ｃ14、Ｃ2〜Ｃ12、Ｃ2〜Ｃ8、Ｃ2〜Ｃ6もしくはＣ2〜Ｃ4アルカノイル又はＣ4〜Ｃ12もしくはＣ4〜Ｃ8アルカノイルである。例は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ドデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、エイコサノイル、好ましくはアセチルである。Ｃ1〜Ｃ12アルカノイル、Ｃ1〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ1〜Ｃ4アルカノイル及びＣ2〜Ｃ4アルカノイルは、対応するＣ原子数まで、Ｃ2〜Ｃ20アルカノイルに関して上述した意味と同じ意味である。
【００２０】
Ｃ4〜Ｃ9シクロアルカノイルは、たとえば、シクロプロパノイル、シクロブタノイル、シクロペンタノイル、シクロヘキサノイル、シクロオクタノイルである。
【００２１】
Ｃ2〜Ｃ4アルカノイルオキシは、直鎖状又は分岐鎖状であり、たとえば、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブタノイルオキシ、イソブタノイルオキシ、好ましくはアセチルオキシである。
【００２２】
Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルは、直鎖状又は分岐鎖状であり、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル又はドデシルオキシカルボニル、特にメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシカルボニル又はイソブチルオキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである。
【００２３】
１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルコキシカルボニルは、直鎖状又は分岐鎖状である。２個の−Ｏ−原子は、少なくとも２個のメチレン基、すなわちエチレンによって分けられている。
【００２４】
Ｃ6〜Ｃ20アリールは、たとえば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、９−アントリル、９−フェナントリル、１−ピレニル、２−ピレニル、１−ペリレニル又は３−ペリレニル、好ましくはフェニル又はナフチルである。Ｃ10〜Ｃ20アリール及びＣ6〜Ｃ12アリールは、対応するＣ原子数まで、Ｃ6〜Ｃ20アリールに関して上述した意味と同じ意味である。
【００２５】
Ｃ6〜Ｃ20アリーロイルは、たとえば、ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイル、９−アントラセンカルボニル、９−フェナントレンカルボニル、１−ピレンカルボニル、２−ピレンカルボニル、１−ペリレンカルボニル又は３−ペリレンカルボニル、好ましくはベンゾイル又はナフトイルである。Ｃ10〜Ｃ20アリーロイルは、対応するＣ原子数まで、Ｃ6〜Ｃ20アリロイルに関して上述した意味と同じ意味である。
【００２６】
置換アリール基Ａｒ1及びＡｒ2は、１〜１２回置換されている。定義したアリール基がアリール環のフリーな位置の数よりも多い置換基を有することはできないことは明白である。アリール基は、１〜１２回、たとえば１〜９回、１〜６回、１〜４回、特に１、２又は３回置換されている。
【００２７】
Ｃ3〜Ｃ9ヘテロアリールは、たとえば、２−フリル、３−フリル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−チエニル、３−チエニル、２−チアゾリル、２−ベンゾフラニル、３−ベンゾフラニル、２−インドリル、３−インドリル、２−ベンゾチオフェニル、３−ベンゾチオフェニル、２−ベンゾチアゾリル、２−ピリジル、３−ピリジル、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリルである。
【００２８】
フェノキシカルボニルは、
【００２９】
【化９】
0004532726.tif 000006
【００３０】
である。置換フェノキシカルボニル基は、１〜４回、たとえば１、２又は３回、特に２又は３回置換されている。フェニル環上の置換基は、好ましくは、フェニル環上の４位又は３，４−、３，４，５−、２，６−、２，４−もしくは２，４，６−位、特に４又は３，４−位にある。
【００３１】
フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキルは、たとえば、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル又はα，α−ジメチルベンジル、特にベンジルである。
【００３２】
Ｃ2〜Ｃ20アルケニル基は、一又は多不飽和であり、たとえば、Ｃ2〜Ｃ12、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、たとえばアリル、メタリル、１，１−ジメチルアリル、１−ブテニル、３−ブテニル、２−ブテニル、１，３−ペンタジエニル、５−ヘキセニル、７−オクテニル又はドデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル及びエイコセニル、特にアリルである。Ｃ3〜Ｃ12アルケニル基及びＣ3〜Ｃ5アルケニル基は、対応するＣ原子数まで、Ｃ2〜Ｃ20アルケニル基に関して上述した意味と同じ意味である。
【００３３】
Ｃ2〜Ｃ20アルキニル基は、たとえば、Ｃ2〜Ｃ12、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルであり、一又は多飽和であることができ、たとえば、エチニル、プロパルギル、１−ブチニル、３−ブチニル、２−ブチニル、５−ヘキシニル、７−オクチニルもしくはドデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、ヘキサデシニル、オクタデシニル又はエイコシニルである。
【００３４】
Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ基は、一又は多不飽和であってもよく、たとえば、アリルオキシ、メタリルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテンオキシ、１，３−ペンタジエニルオキシ、５−ヘキセニルオキシである。
【００３５】
Ｃ3〜Ｃ6アルケノイル基は、一又は多不飽和であってもよく、たとえば、プロペノイル、２−メチル−プロペノイル、ブテノイル、ペンテノイル、１，３−ペンタジエノイル、５−ヘキセノイルである。ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨード、特にフルオロ、クロロ及びブロモ、好ましくはフルオロ及びクロロである。
【００３６】
フェニル環上の置換基ＯＲ3、ＳＲ4及びＮＲ5Ｒ6が、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び／又はＲ6を介して、フェニル環上のさらなる置換基又はフェニル環の炭素原子の１個とで五又は六員環を形成するならば、２又は４個の環（フェニル環又はナフチル、アントラシルもしくはフェナントリル環を含む）を含む構造が得られる。
例は、
【００３７】
【化１０】
0004532726.tif 000007
【００３８】
である。
【００３９】
式Ｉ及びIIのオキシムエステルは、文献に記載されている方法によって、たとえば、対応するオキシム（Ｒ1＝Ｈ）を、不活性溶媒、たとえばtert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中、塩基、たとえばトリエチルアミン又はピリジンの存在又は塩基性溶媒、たとえばピリジン中で、塩化アシル又は酸無水物と反応させることによって調製される。
【００４０】
【化１１】
0004532726.tif 000008
【００４１】
このような反応は当業者に周知であり、一般に、−１５〜＋５０℃、好ましくは０〜２５℃で実施される。
【００４２】
出発原料として必要なオキシムは、標準的な化学の教則本（たとえばJ.  March,  Advanced  Organic  Chemistry,  4th  Edition,  Wiley  Interscience,  1992）又は専門の研究論文、たとえばS.  R.  Sandler  &  W.  Karo,  Organic  functional  group  preparations,  Vol.  3,  Academic  Pressに記載されている多様な方法によって得ることができる。
【００４３】
もっとも簡便な方法の一つは、たとえば、アルデヒド類又はケトン類を、極性溶媒、たとえばエタノール又は水性エタノール中、ヒドロキシルアミン又はその塩と反応させる方法である。その場合、塩基、たとえば酢酸ナトリウム又はピリジンを加えて反応混合物のｐＨを制御する。反応速度がｐＨに依存することは周知であり、塩基は、はじめに加えることもできるし、反応中で連続的に加えることもできる。塩基性溶媒、たとえばピリジンはまた、塩基及び／又は溶媒もしくは共溶媒として使用することができる。反応温度は一般に、混合物の環流温度、通常は６０〜１２０℃である。
【００４４】
もう一つの簡便なオキシム合成法は、活性メチレン基を亜硝酸又は亜硝酸アルキルでニトロソ化する方法である。たとえばOrganic  Syntheses  coll.  Vol.  VI（J.  Wiley  &  Sons,  New  York,  1988）pp  199及び840に記載されているアルカリ性条件ならびにたとえばOrganic  Synthesis  coll.  Vol.  V,  pp  32  and  373,  coll.  Vol.  III,  pp  191  and  513、coll.  Vol.  II,  pp  202,  204  and  363に記載されている酸性条件が、本発明で出発原料として使用されるオキシムの調製に適している。亜硝酸は通常、亜硝酸ナトリウムから生成される。亜硝酸アルキルは、たとえば亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸イソプロピル、亜硝酸ブチル又は亜硝酸イソアミルであることができる。
【００４５】
各オキシムエステル基は、２種の立体配置（Ｚ）又は（Ｅ）で存在することができる。異性体は、従来の方法によって分解することが可能であるが、異性体混合物を光開始種として使用することも可能である。したがって、本発明はまた、式Ｉ及びIIの化合物の立体配置異性体の混合物に関する。
【００４６】
本発明の組成物のための光開始剤として特に興味深いものは、式Ｉ及びIIの化合物である。
【００４７】
成分（Ｂ）として好ましい組成物は、
Ｒ1が、Ｃ2〜Ｃ6アルカノイル又はＣ2〜Ｃ5アルコキシカルボニルであるか；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル又はハロゲンによって置換されているベンゾイルであり；
Ａｒ1がフェニル又はナフチルであり、
これらの基それぞれが、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、ベンジル又はＣ1〜Ｃ20アルカノイルによって１〜５回置換されているか；フェニル又はベンゾイル（それぞれが場合によっては１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されている）によって置換されているか；Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル（場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のＯＨによって置換されている）によって置換されているか；ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されており、置換基ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6は、場合によっては、基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及び／又はＲ6を介して、フェニルもしくはナフチル環上のさらなる置換基又はフェニルもしくはナフチル環の炭素原子の１個とで五又は六員環を形成し；
あるいは、Ｒ1がアセチルであるならば、Ａｒ1が、フリル、ピロリル、チエニル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンゾチオフェニル又はピリジルであり、これらの基それぞれが、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、ベンジル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ20アルカノイル、ベンゾイル、Ｃ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ＯＲ3、ＳＲ4、ＳＯＲ4、ＳＯ2Ｒ4又はＮＲ5Ｒ6によって１〜４回置換されており；
ｘが２であり；
Ｍ1が
【００４８】
【化１２】
0004532726.tif 000009
【００４９】
であり、それぞれが、場合によっては、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、ベンジル、ＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって；又はベンゾイル（非置換であるか、１個以上のＯＲ3、ＳＲ4又はＮＲ5Ｒ6によって置換されている）によって；又はＣ1〜Ｃ12アルカノイルによって；又はＣ2〜Ｃ12アルコキシカルボニル（場合によっては１個以上の−Ｏ−によって中断されている、及び／又は、場合によっては１個以上のヒドロキシル基によって置換されている）によって１〜４回置換されており；
Ｍ2が、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＳ−、−ＮＲ3−、−（ＣＯ）−、Ｃ1〜Ｃ12アルキレン、フェニレン、−（ＣＯ）Ｏ−（Ｃ2〜Ｃ12アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−（ＣＯ）−又は−（ＣＯ）−（Ｃ2〜Ｃ12アルキレン）−（ＣＯ）−であるか；Ｃ4〜Ｃ12アルキレン又はＣ4〜Ｃ12アルキレンジオキシ−（それそれが場合によっては１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−及び／又は−ＮＲ3−によって置換されている）であり；
Ｍ3が、直接結合、−ＣＨ2−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ3−又は−（ＣＯ）−であり；
Ｒ3が、水素又はＣ1〜Ｃ20アルキルであるか；−ＯＨ、−ＳＨ、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）2、−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル〕2又はモルホリニルによって置換されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル又はＣ3〜Ｃ6アルケノイルであるか；非置換であるか、１個以上のＣ1〜Ｃ6アルキル、ハロゲン又はＣ1〜Ｃ4アルコキシによって置換されているベンゾイルであるか；それぞれが非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）2、ジフェニルアミノ又は−（ＣＯ）Ｒ7によって置換されているフェニル又はナフチルであり；
ｎが１〜２０であり；
Ｒ4が、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル；−ＯＨ、−ＳＨ、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）によって置換されているＣ2〜Ｃ8アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−又は−Ｓ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケノイルであるか；それぞれが非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ又は−（ＣＯ）Ｒ7によって置換されているフェニル又はナフチルであり；
Ｒ5及びＲ6が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキル、Ｃ2〜Ｃ4ヒドロキシアルキル、Ｃ2〜Ｃ10アルコキシアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ12アルケノイル、ベンゾイルであるか；それぞれが非置換であるか、Ｃ1〜Ｃ12アルキル又はＣ1〜Ｃ12アルコキシによって置換されているフェニル又はナフチルであるか；Ｒ5とＲ6とが一緒になって、場合によっては−Ｏ−又は−ＮＲ3−によって中断されている、及び／又は、場合によってはヒドロキシル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ2〜Ｃ4アルカノイルオキシ又はベンゾイルオキシによって置換されているＣ2〜Ｃ6アルキレンであり；
Ｒ7が、水素、Ｃ1〜Ｃ20アルキルであるか；ハロゲン、フェニル、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ3〜Ｃ6アルケノキシ、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）によって置換されているＣ2〜Ｃ8アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ8アルキル又はＣ3〜Ｃ12アルケニルであるか；場合によっては１個以上のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ1〜Ｃ12アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）2又はジフェニルアミノによって置換されているフェニルである、式Ｉ又はIIの化合物を含む。
【００５０】
好ましいものは、成分（Ｂ）が、
Ｒ1がＣ2〜Ｃ4アルカノイルであり；
Ａｒ1がフェニル又はナフチルであり、これらの基それぞれが、非置換であるか、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、ＮＲ5Ｒ6又はＯＲ3によって置換されており、置換基ＯＲ3は、場合によっては、基Ｒ3を介して、フェニルもしくはナフチル環上のさらなる置換基とで五又は六員環を形成し；あるいは、Ｒ1がアセチルであるならば、Ａｒ1が、２−フリル、２−ピロリル、２−チエニル、３−インドリルであり；
Ｍ1が、
【００５１】
【化１３】
0004532726.tif 000010
【００５２】
であり；
ｘが２であり；
Ｒ3が、Ｃ1〜Ｃ20アルキルであるか；ＯＨ、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）2、−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキル又はモルホリニルによって置換されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；１個以上の−Ｏ−によって中断されているＣ2〜Ｃ12アルキルであるか；−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n+1Ｈ又は−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＯ）−Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり；
ｎが１〜３であり；
Ｒ5及びＲ6がＣ1〜Ｃ4アルキルである、式Ｉの化合物である、上記の感光性組成物である。
【００５３】
式Ｉ及びIIの化合物は、エチレン性不飽和化合物又はそのような化合物を含む混合物の光重合ための光開始剤として使用することができる。
【００５４】
本発明の組成物の成分（Ａ）は、水性アルカリ現像剤に可溶性であるモノマー、オリゴマー又はポリマーである。
【００５５】
適当な成分（Ａ）の例は、分子量約５００〜２，０００，０００、好ましくは１，０００〜１，０００，０００を有するオリゴマー及びポリマーである。アルカリ現像可能な結合剤の例は、カルボン酸官能基をアルカリ可溶性側鎖基として有するアクリルポリマー、たとえば、エチレン性不飽和カルボン酸、たとえば（メタ）アクリル酸、２−カルボキシエチル（メタ）アクリル酸、２−カルボキシプロピル（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸を、（メタ）アクリル酸のエステル、たとえばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ビニル芳香族化合物、たとえばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−クロロスチレン；アミドタイプ不飽和化合物、（メタ）アクリルアミドジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメタクリルアミドならびにポリオレフィンタイプ化合物、たとえばブタジエン、イソプレン、クロロプレンなど；メタクリロニトリル、メチルイソプロペニルケトン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル又はピバル酸ビニルから選択される一つ以上のモノマーとで共重合させることによって得られる従来から公知のコポリマーである。コポリマーの例は、アクリレート及びメタクリレートとアクリル酸又はメタクリル酸及びスチレン又は置換スチレンとのコポリマー、フェノール樹脂、たとえばノボラック、（ポリ）ヒドロキシ−スチレンならびにヒドロキシスチレンとアルキルアクリレート、アクリル酸及び／又はメタクリル酸とのコポリマーである。コポリマーの好ましい例は、メチルメタクリレート／メタクリル酸のコポリマー、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のコポリマー、メチルメタクリレート／エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマー、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレンのコポリマー、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ヒドロキシエチルメタクリレートのコポリマー、メチルメタクリレート／ブチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレンのコポリマー、メチルメタクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ヒドロキシフェニルメタクリレートのコポリマーである。
【００５６】
化合物（Ａ）はまた、配合物中のその濃度が全配合物をアルカリ現像剤に可溶性にするのに十分な高さであるならば、アルカリ可溶性モノマー化合物であることもできる。
【００５７】
良好なアルカリ可溶性を生じさせる化合物（Ａ）の官能基は、好ましくはカルボキシル基である。しかし、アルカリ可溶性を生じさせる他の基もまた可能である。そのような基の例は、フェノール基、スルホン酸基及び無水物基である。
【００５８】
さらには、化合物（Ａ）は、場合によっては、主鎖又は分子中のエステル基に付いた光重合性側鎖基と、この物質を水性アルカリ中に可溶性にするのに十分な遊離フェノール基又はカルボキシル基とを有するアルカリ可溶性ポリイミド前駆体、たとえばポリ（アミド酸エステル）化合物であることもできるし、たとえば、ポリ（アミド酸）であることもできる。アルカリ可溶性化合物（Ａ）の他の例は、ヒドロキシスチレンとスチレン、アルキルアクリレート、アクリル酸、アルキルメタクリレート及びメタクリル酸とのコポリマーを含む。
【００５９】
成分（Ａ）のさらなる例は、飽和又は不飽和多塩基酸無水物と、エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応生成物との反応によって得られるオリゴマー又はポリマーである。調製に使用されるエポキシ化合物として、もっとも興味深いものは、ノボラックタイプエポキシ樹脂である。
【００６０】
活性化エネルギー光線によって硬化させることができる前記樹脂は、ノボラックタイプエポキシ化合物（後記する）と不飽和モノカルボン酸との反応生成物を、二塩基酸無水物、たとえばフタル酸無水物又は芳香族ポリカルボン酸無水物、たとえばトリメリト酸無水物又はピロメリト酸無水物と反応させることによって得られる。この場合、樹脂は、その製造において、反応に使用される前記酸無水物の量が、ノボラックタイプエポキシ化合物と不飽和カルボン酸との反応生成物が有するヒドロキシル基１個あたり０．１５molを超える場合、特に適していることがわかる。
【００６１】
このようにして得られた樹脂の酸価は、好適には４５〜１６０mg  KOH/g、好ましくは５０〜１４０mg  KOH/gの範囲にはいる（酸価は、樹脂１gを中和するのに必要な水酸化カリウムのmg数によって表される）。
【００６２】
活性化エネルギー線によって硬化させることができる樹脂の分子単位中に存在するエチレン性不飽和結合の数が少ない場合、光硬化はゆっくり進行するため、ノボラックタイプエポキシ化合物を原料として使用することが望ましい。インクの粘度を下げるためには、ビスフェノールＡタイプのエポキシ化合物を代用することも可能である。
【００６３】
ノボラックタイプエポキシ化合物は、フェノールノボラックタイプエポキシ樹脂及びクレゾールノボラックタイプエポキシ樹脂によって代表される。このような化合物は通常、エピクロロヒドリンをノボラック樹脂と反応させることによって製造される。
【００６４】
前記酸無水物の典型例は、二塩基酸無水物、たとえばマレイン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、エンド−メチレンテトラヒドロフタル酸無水物、メチル−エンド−メチレンテトラヒドロフタル酸無水物、chlorendic酸無水物及びメチルテトラヒドロフタル酸無水物；芳香族ポリカルボン酸無水物、たとえばトリメリト酸無水物、ピロメリト酸無水物及びベンゾフェノン−テトラカルボン酸二無水物ならびにポリカルボン酸無水物誘導体、たとえば５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物である。
【００６５】
成分（Ａ）のさらなる例は、エポキシ基含有アクリル酸又はメタクリル酸エステル化合物を、アクリレート又はメタクリレートとアクリル酸又はメタクリル酸との反応から得られるコポリマーのカルボキシル基の一部に加えることによって得られる反応生成物である。そのような化合物の例は、一般式（１）及び（２）によって示される。
【００６６】
【化１４】
0004532726.tif 000011
【００６７】
式中、Ｒaは、水素原子又はメチル基であり、Ｒbは、炭素原子１〜６個を有する脂肪族炭化水素基である。
【００６８】
一般式（２）によって示されるアクリル酸及び／又はメタクリル酸
【００６９】
【化１５】
0004532726.tif 000012
【００７０】
式中、Ｒaは、上記と同じ意味である。これらは、通常の方法、たとえば溶液重合によって製造される。
【００７１】
好ましくは、アクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルと、アクリル酸及び／又はメタクリル酸とのモル比は、３０：７０〜７０：３０である。
【００７２】
アクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルそれぞれのエステル基は、炭素原子１〜６個を含む種々の脂肪族基から適切に選択することができる。
【００７３】
反応生成物は、以下の一般式（３）によって示される、末端エポキシ基を有するこうして得られるアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルをコポリマーに加えることによって得られる。
【００７４】
【化１６】
0004532726.tif 000013
【００７５】
式中、Ｒaは、上記と同じ意味であり、
Ｒcは、炭素原子１〜１２個を有する脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素である。
【００７６】
本発明に適した反応生成物を得るためには、式（３）の化合物を１０〜４０モル％の比で式（１）及び（２）の前記モノマーに加えて、紫外線硬化性を有するコポリマーを得る。
【００７７】
こうして得られた反応生成物は、好ましくは、２０，０００〜７０，０００の範囲の平均分子量を有する。軟化点は、好適には３５℃〜１３０℃の範囲であり、酸価は５０〜１５０である。
【００７８】
成分（Ａ）のさらなる例は、α，β不飽和二重結合を側鎖に有し、５０〜２００の酸価を有する樹脂である。光重合性樹脂は、たとえば、エチレン性不飽和酸成分及びその共重合可能な成分７０〜９５重量％で構成されている。これは、５００以上、好ましくは６００以上、特に６２０以上の酸価を有し、１，０００〜１００，０００、好ましくは３，０００〜７０，０００の数平均分子量を有するカルボキシル基含有樹脂と、α，β不飽和二重結合及びエポキシ基を有する不飽和化合物との間で形成される付加物である。光重合性樹脂中のカルボキシル基含有樹脂中のエチレン性不飽和酸成分の含量は７０〜９５重量％であり、そのため、光重合性樹脂（Ａ）は、α，β不飽和二重結合及びエポキシ基を有する不飽和化合物をそこに加えた後でさえ、水又は希釈アルカリ水溶液中に不溶性にはならず、その可溶性を保持する。このような樹脂の例は、特開平８−３３９０８１号公報に記載されている。
【００７９】
カルボキシル基含有樹脂（Ａ）は、たとえば、エチレン性不飽和酸モノマー７０〜９５重量％、好ましくは７８〜８８重量％、特に８０〜８５重量％及び共重合性モノマー５〜３０重量％、好ましくは１２〜２２重量％、特に１５〜２０重量％を適当な非反応性溶媒に溶解し、溶液を、熱重合開始剤の存在で、４５〜１２０℃で熱重合させることによって製造される。このようにして、５００以上の酸価及び１，０００〜１００，０００の数平均分子量を有するカルボキシル基含有樹脂を安全かつ安定に製造することができる。
【００８０】
カルボキシル基含有樹脂（Ａ）の製造に適したエチレン性不飽和モノマーの具体例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、アンゲリカ酸、チグリン酸、２−エチルアクリル酸、３−プロピルアクリル酸、３−イソプロピルアクリル酸、コハク酸モノヒドロキシエチルアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、ジヒドロフタル酸モノ−ヒドロキシエチルアクリレート、テトラヒドロフタル酸モノ−ヒドロキシエチルアクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル−アクリレート、アクリル酸ダイマー、アクリル酸トリマー、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート及びω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレートを含む。これらのモノマーのうち、好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、アンゲリカ酸、チグリン酸、２−エチルアクリル酸、３−プロピルアクリル酸、３−イソプロピルアクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレートなどであり、特に好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、アンゲリカ酸、チグリン酸、２−エチルアクリル酸、３−プロピルアクリル酸、３−イソプロピルアクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート及びω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレートである。これらのモノマーは、単独で使用することもできるし、２種以上の混合物として使用することもできる。
【００８１】
適当な共重合性モノマーは、アクリルエステル、メタクリルエステル、ビニルモノマー、スチレンタイプモノマー及び環式エステルモノマーである。その具体例は、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテルメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロ−フルフリルメタクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシル−メタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、アクリル酸カルビトール、メタクリル酸カルビトール、ε−カプロラクトン改質テトラフルフリルアクリレート、ε−カプロラクトン改質テトラフルフリルメタクリレート、ジエチレングリコールエトキシアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、トリデシルアクリレート、トリデシルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレートなどを含む。これらのモノマーは、単独で使用することもできるし、２種以上の混合物として使用することもできる。
【００８２】
適当な熱重合開始剤は、たとえば、２，２′−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）（使用可能温度４５〜７０℃）、２，２′−アゾビス（イソブチロニトリル）（使用可能温度６０〜９０℃）、２，２′−アゾビス（２−メチルイソブチロニトリル）（使用可能温度６０〜９５℃）、tert−ブチルペルオクトエート（使用可能温度７５〜１００℃）、１，１′−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）（使用可能温度８０〜１１０℃）又は１−〔（１−ジアゾ−１−メチルエチル）アゾ〕−ホルムアミド（使用可能温度９５〜１２０℃）である。前記化合物の少なくとも１種が使用される。
【００８３】
そして、前記方法にしたがって製造したカルボキシル基含有樹脂を、α，β不飽和二重結合及びエポキシ基を有する不飽和化合物でのエステル化により、カルボキシル基がエステル化され、側鎖がα，β不飽和二重結合を有する光重合性樹脂に改質する。α，β不飽和二重結合及びエポキシ基を有する適当な化合物の例を以下に記す。グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、以下の式４、５、６の化合物からなる群より選択される少なくとも一つが使用される。
【００８４】
【化１７】
0004532726.tif 000014
【００８５】
式中、Ｒ1′は水素又はメチルであり、ｎ′は１〜１０の整数である。
【００８６】
【化１８】
0004532726.tif 000015
【００８７】
式中、Ｒ2′は水素又はメチルであり、ｎ″は１〜３の整数である。
【００８８】
これらの化合物のうち、非環式エポキシ基を有する化合物が特に好ましい。理由は、これらの化合物は、カルボキシル基含有樹脂とで高い反応性を有し、したがって、反応時間を短縮することができるからである。これらの化合物はさらに、反応の過程でゲル化を起こさず、反応を安定に実施することを可能にする。他方、感度及び耐熱性の観点から、グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレートが、低い分子量を有し、高いエステル化転換率を与えることができるため、有利である。
【００８９】
上記方法によって得ることができる光重合性樹脂は、α，β不飽和二重結合をその側鎖に有する。その酸価は、５０〜２００、好ましくは７０〜１５０、特に８５〜１２０である。その数平均分子量は７，０００〜１０，０００であり、そのガラス遷移温度（以下「Ｔｇ」と呼ぶ）は３０〜１２０℃である。光重合性樹脂をはんだ（solder）レジストとして使用する場合、他の添加物成分がさらに組成に加えられるかもしれないため、７０以上の酸価が好ましい。エステル化を実施し、感光性樹脂組成物を調製する際には、不活性有機溶媒が使用される。
【００９０】
前記の市販の不飽和モノマー、オリゴマー及びポリマー成分（Ａ）は、たとえば、Ｍ−５３００、Ｍ−５４００、Ｍ−５６００（東亜合成化学）、ＥＢ３８００、ＥＢ９６９２、ＥＢ９６９４、ＥＢ９６９５、ＥＢ９６９６（UCB  Chemicals）、KAYARAD  TCR1025（日本化薬）、NEOPOL8319（U-Pica）、ＥＡ−６３４０（新中村化学工業）、ＡＣＡ２００Ｍ、ＡＣＡ２５０（ダイセル化学工業）である。
【００９１】
特に興味深いものは、化合物（Ａ）がオリゴマー又はポリマー化合物である感光性組成物である。
【００９２】
好ましいものは、オリゴマー又はポリマー（Ａ）が、結合剤ポリマー、特に（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸とのコポリマー又は飽和又は不飽和多塩基酸無水物と、エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応生成物との反応によって得られる樹脂であるか、カルボキシル基含有樹脂とα，β不飽和二重結合及びエポキシ基を有する不飽和化合物との間で形成される付加物である組成物である。
【００９３】
本発明の組成物に適した化合物（Ｃ）の例は、光重合性ビニルタイプモノマーである。光重合性ビニルタイプモノマーの代表例は、ヒドロキシアルキルアクリレート、たとえば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレートなど；グリコール類、たとえばエチレングリコール、メトキシテトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコールのモノもしくはジアクリレートなど；アクリルアミド類、たとえばＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミドなど；アミノアルキルアクリレート、たとえばＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなど；多価アルコール又はそのエチレンオキシドもしくはプロピレンオキシド付加物、たとえばヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレートの多価アクリレートなど；フェノキシアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート及びこれらのフェノール類のエチレンオキシドもしくはプロピレンオキシド付加物のアクリレートなど；グリシジルエーテル類、たとえばグリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレートのアクリレートなどならびにメラミンアクリレート及び／又は上記アクリレートに対応するメタクリレートなどである。
【００９４】
成分（Ｃ）の他の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリレート、ビニルエーテルもしくはエポキシ基を含有するポリエステルならびにポリウレタン及びポリエーテルである、比較的高い分子量の多不飽和化合物、たとえばオリゴマー又はポリマーである。不飽和オリゴマーのさらなる例は、通常、マレイン酸、フタル酸及び１種以上のジオール類から調製され、約５００〜３０００の分子量を有する不飽和ポリエステル樹脂である。加えて、ビニルエーテルモノマー及びオリゴマーならびにポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテル及びエポキシ主鎖を有するマレイン酸末端オリゴマーを使用することも可能である。特に好ましいものは、ＷＯ９０／０１５１２に記載の、ビニルエーテル基を有するオリゴマー及びポリマーの組み合わせである。しかし、ビニルエーテルとマレイン酸官能化モノマーとのコポリマーもまた適している。この種の不飽和オリゴマーは、プレポリマーと呼ぶこともできる。
【００９５】
上記の光架橋性化合物（Ｃ）は、単独で使用することもできるし、それらの２種以上の混合物として使用することもできる。適量は、成分（Ａ）１００重量部を基準にして５〜３００重量部、好ましくは１０〜１５０重量部である。
【００９６】
光架橋性化合物（Ｃ）が低粘性液体であるならば、それを使用して混合物の成分を希釈して、塗布しやすくすることもできる。もう一つの目的は、光架橋効率を改善することである。
【００９７】
好ましいものは、光重合性化合物（Ｃ）が液体である上記感光性組成物である。
【００９８】
光重合はまた、スペクトル感度を移動又は広範化するさらなる感光剤又は開始助剤を成分（Ｄ）として加えることによって促進することができる。これらは、特に、芳香族化合物、たとえばベンゾフェノン及びその誘導体、チオキサントン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、クマリン及びフェノチアジン及びその誘導体ならびに３−（アロイルメチレン）チアゾリン、ロダニン、カンフルキノン、さらにエオシン、ローダミン、エリトロシン、キサンテン、チオキサンテン、アクリジン、たとえば９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、シアニン及びメロシアニン染料である。
【００９９】
そのような化合物の具体例は以下のものである。
１．チオキサントン類
チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ドデシルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−メトキシ−カルボニルチオキサントン、２−エトキシカルボニルチオキサントン、３−（２−メトキシエトキシカルボニル）−チオキサントン、４−ブトキシカルボニルチオキサントン、３−ブトキシカルボニル−７−メチルチオキサントン、１−シアノ−３−クロロチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−クロロチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−エトキシチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−アミノチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−フェニルスルフリルチオキサントン、３，４−ジ−〔２−（２−メトキシエトキシ）エトキシカルボニル〕−チオキサントン、１，３−ジメチル−２−ヒドロキシ−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン２−エチルヘキシルエーテル、１−エトキシカルボニル−３−（１−メチル−１−モルホリノエチル）−チオキサントン、２−メチル−６−ジメトキシメチル−チオキサントン、２−メチル−６−（１，１−ジメトキシベンジル）−チオキサントン、２−モルホリノメチルチオキサントン、２−メチル−６−モルホリノメチルチオキサントン、Ｎ−アリルチオキサントン−３，４−ジカルボキシミド、Ｎ−オクチルチオキサントン−３，４−ジカルボキシミド、Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−チオキサントン−３，４−ジカルボキシミド、１−フェノキシチオキサントン、６−エトキシカルボニル−２−メトキシチオキサントン、６−エトキシカルボニル−２−メチルチオキサントン、チオキサントン−２−カルボン酸ポリエチレングリコールエステル、２−ヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサントン−２−イルオキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミニウムクロリド
【０１００】
２．ベンゾフェノン類
ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ジメチルベンゾフェノン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（メチルエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ｐ−イソプロピルフェノキシ）ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−（４−メチルチオフェニル）ベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチル−２−ベンゾイルベンゾエート、４−（２−ヒドロキシエチルチオ）ベンゾフェノン、４−（４−トリルチオ）ベンゾフェノン、１−〔４−（４−ベンゾイル−フェニルスルファニル）−フェニル〕−２−メチル−２−（トルエン−４−スルホニル）−プロパン−１−オン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルベンゼンメタンアミニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミニウムクロリドモノヒドレート、４−（１３−アクリロイル−１，４，７，１０，１３−ペンタオキサトリデシル）−ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔２−（１−オキソ−２−プロペニル）オキシ〕エチル−ベンゼンメタンアミニウムクロリド
【０１０１】
３．クマリン類
クマリン１、クマリン２、クマリン６、クマリン７、クマリン３０、クマリン１０２、クマリン１０６、クマリン１３８、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン３０７、クマリン３１４、クマリン３１４Ｔ、クマリン３３４、クマリン３３７、クマリン５００、３−ベンゾイルクマリン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、３−ベンゾイル−６，８−ジクロロクマリン、３−ベンゾイル−６−クロロ−クマリン、３，３′−カルボニル−ビス〔５，７−ジ（プロポキシ）クマリン〕、３，３′−カルボニル−ビス（７−メトキシクマリン）、３，３′−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノ−クマリン）、３−イソブチロイルクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシ−クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジエトキシ−クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジブトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジ（メトキシエトキシ）−クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジ（アリルオキシ）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジメチルアミノクマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−イソブチロイル−７−ジメチルアミノクマリン、５，７−ジメトキシ−３−（１−ナフトイル）−クマリン、５，７−ジエトキシ−３−（１−ナフトイル）−クマリン、３−ベンゾイルベンゾ〔ｆ〕クマリン、７−ジエチルアミノ−３−チエノイルクマリン、３−（４−シアノベンゾイル）−５，７−ジメトキシクマリン、３−（４−シアノベンゾイル）−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ジメチルアミノ−３−フェニルクマリン、７−ジエチルアミノ−３−フェニルクマリン、特開平９−１７９２９９号公報及び特開平９−３２５２０９号公報に開示されているクマリン誘導体、たとえば７−〔｛４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−Ｓ−トリアジン−２−イル｝アミノ〕−３−フェニルクマリン
【０１０２】
４．３−（アロイルメチレン）チアゾリン類
３−メチル−２−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチアゾリン、３−メチル−２−ベンゾイルメチレン−ベンゾチアゾリン、３−エチル−２−プロピオニルメチレン−β−ナフトチアゾリン
【０１０３】
５．ロダニン類
４−ジメチルアミノベンザルロダニン、４−ジエチルアミノベンザルロダニン、３−エチル−５−（３−オクチル−２−ベンゾチアゾリニリデン）ロダニン、ロダニン誘導体、特開平８−３０５０１９号公報に開示された式〔１〕、〔２〕、〔７〕
【０１０４】
６．他の化合物
アセトフェノン、３−メトキシアセトフェノン、４−フェニルアセトフェノン、ベンジル、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンジル、２−アセチルナフタレン、２−ナフトアルデヒド、dansyl酸誘導体、９，１０−アントラキノン、アントラセン、ピレン、アミノピレン、ペリレン、フェナントレン、フェナントレンキノン、９−フルオレノン、ジベンゾスベロン、クルクミン、キサントン、チオミヒラーケトン、α−（４−ジメチルアミノベンジリデン）ケトン類、たとえば２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンジリデン）シクロペンタノン、２−（４−ジメチルアミノ−ベンジリデン）−インダン−１−オン、３−（４−ジメチルアミノ−フェニル）−１−インダン−５−イル−プロペノン、３−フェニルチオフタルイミド、Ｎ−メチル−３，５−ジ（エチルチオ）−フタルイミド、Ｎ−メチル−３，５−ジ（エチルチオ）−フタルイミド、フェノチアジン、メチルフェノチアジン、アミン類、たとえばＮ−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、オクチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−ｐ−トルイジン、ブトキシエチル４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノアセトフェノン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ポリ（プロピレングリコール）−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート及びミヒラーケトン。アミン類の作用は、ベンゾフェノンタイプの芳香族ケトン類の添加によって増強することができる。酸素捕獲剤として使用することができるアミン類の例は、ＥＰ３３９８４１に記載されている置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン類である。他の促進剤、開始助剤及び自動酸化質は、たとえばＥＰ４３８１２３、ＧＢ２１８０３５８及び特開平６−６８３０９号公報に記載されているチオール類、チオエーテル類、ジスルフィド類、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシド又はホスフィン類である。
【０１０５】
ベンゾフェノン及びその誘導体、チオキサントン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体又はクマリン誘導体からなる群より選択される感光剤化合物をさらなる添加物（Ｄ）として含む光重合性組成物が好ましい。
【０１０６】
成分（Ｄ）は、好適には、化合物（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計１００重量部を基準にして０．０１５〜６０重量部、好ましくは０．０３〜３０重量部の量で使用される。
【０１０７】
場合によっては、増感剤化合物を式Ｉ及びIIの化合物と組み合わせて使用することが有利であるかもしれない。したがって、本発明のもう一つの目的は、成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に加えて、少なくとも１種の感光剤化合物（Ｄ）及び／又はさらなる添加物（Ｅ）を含む組成物にある。
【０１０８】
光開始剤及び／又は増感剤化合物に加えて、光重合性混合物は、種々の添加物（Ｅ）を含むことができる。
【０１０９】
成分（Ｅ）は、たとえば、エポキシ基を有し、組成物に熱硬化性を付与する化合物である。固体又は液体の公知のエポキシ化合物を使用することができ、前記エポキシ化合物は、求められる特性に依存して使用される。たとえば、耐めっき性を改善しなければならない場合、液体エポキシ樹脂が使用され、耐水性が求められる場合には、ベンゼン環又はシクロアルキル環上に多数のメチル基を有するエポキシ樹脂が使用される。好ましいエポキシ樹脂は、ビスフェノールＳタイプエポキシ樹脂、たとえば日本化薬製のＢＰＳ−２００、ＡＣＲ社製のＥＰＸ−３０、大日本インキ化学工業製のEpiculon  ＥＸＡ−１５１４など；ビスフェノールＡタイプエポキシ樹脂、たとえば、大日本インキ化学工業製のEpiculon  Ｎ−３０５０、Ｎ−７０５０、Ｎ−９０５０、Ciba  Specialty  Chemicals社製のＸＡＣ−５００５、ＧＴ−７００４、６４８４Ｔ、６０９９など；ビスフェノールＦタイプエポキシ樹脂、たとえば、東都化成製のＹＤＦ−２００４、ＹＤＦ２００７など；ジグリシジルフタレート樹脂、たとえば日本油脂製のBlemmer  ＤＧＴなど；複素環式エポキシ樹脂、たとえば日産化学工業製のＴＥＰＩＣ、Ciba  Specialty  Chemicals社製のAraldite  ＰＴ８１０など；ビキシレノールタイプエポキシ樹脂、たとえば油化シェル製のＹＸ−４０００など；ビフェノールタイプエポキシ樹脂、たとえば油化シェル製のＹＬ−６０５６など；テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、たとえば東都化成製のＺＸ−１０６３など；ノボラックタイプエポキシ樹脂、たとえば日本化薬製のＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０３、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５及びＢＲＲＮ、旭化成工業製のＥＣＮ−２７８、ＥＣＮ−２９２及びＥＣＮ−２９９、Ciba  Specialty  Chemicals社製のＧＹ−１１８０、ＥＣＮ−１２７３及びＥＣＮ−１２９９、東都化成製のＹＤＣＮ−２２０Ｌ、ＹＤＣＮ−２２０ＨＨ、ＹＤＣＮ−７０２、ＹＤＣＮ−７０４、ＹＤＰＮ−６０１及びＹＤＰＮ−６０２、大日本インキ化学工業製のEpiculon−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−７７０及びＮ−７７５など；ビスフェノールＡのノボラックタイプエポキシ樹脂、たとえば旭化成工業製のＥＰＸ−８００１、ＥＰＸ−８００２、ＥＰＰＸ−８０６０及びＥＰＰＸ−８０６１、大日本インキ化学工業製のEpiculon  Ｎ−８８０など；キレートタイプエポキシ樹脂、たとえば旭電化工業製のＥＰＸ−４９−６９及びＥＰＸ−４９−３０など；グリオキサールタイプエポキシ樹脂、たとえば東都化成製のＹＤＧ−４１４など；アミノ基含有エポキシ樹脂、たとえば東都化成製のＹＨ−１４０２及びＳＴ−１１０、油化シェル製のＹＬ−９３１及びＹＬ−９３３など；ゴム改質エポキシ樹脂、たとえば大日本インキ化学工業製のEpiculon  ＴＳＲ−６０１、旭電化工業製のＥＰＸ−８４−２及びＥＰＸ−４０６１など；ジシクロペンタジエンフェノールタイプエポキシ樹脂、たとえば山陽国策パルプ製のＤＣＥ−４００など；シリコーン改質エポキシ樹脂、たとえば旭電化工業製のＸ−１３５９など；ε−カプロラクトン改質エポキシ樹脂、たとえばダイセル化学工業製のPlaque  Ｇ−４０２及びＧ−７１０などならびにその他である。さらには、これらのエポキシ化合物の部分的にエステル化（たとえば（メ���）アクリレートによってエステル化）された化合物を組み合わせて使用することができる。
【０１１０】
したがって、本発明の主題は、分子中に少なくとも２個のエポキシ基を含むエポキシ化合物をさらに含む、上記感光性組成物である。
【０１１１】
本発明にしたがって使用される熱硬化性成分の適量は、成分（Ａ）１００重量部を基準にして１０〜１５０重量部、好ましくは２０〜８０重量部である。
【０１１２】
好ましくは、熱硬化性成分は、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ又はノボラックタイプエポキシ化合物である。
【０１１３】
さらなる添加物（Ｅ）の例は、早期重合を防止するための熱阻害剤、たとえばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシフェノール、β−ナフトール又は立体障害フェノール類、たとえば２，６−ジ−tert−ブチル−ｐ−クレゾールである。暗所での貯蔵安定性を増すため、たとえば、銅化合物、たとえばナフテン酸銅、ステアリン酸銅もしくはオクタン酸銅、リン化合物、たとえばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニルもしくは亜リン酸トリベンジル、第四アンモニウム化合物、たとえば塩化テトラメチルアンモニウムもしくは塩化トリメチルベンジルアンモニウム又はヒドロキシルアミン誘導体、たとえばＮ−ジエチルヒドロキシルアミンを使用することが可能である。重合中に大気酸素を排除するためには、ポリマーへの可溶性が不十分であるため、重合のはじめに表面に移行し、空気の侵入を防ぐ透明な表面層を形成するパラフィン又は同様なロウ様物質を加えることが可能である。また、酸素不透過性層を塗被することも可能である。少量で加えることができる光安定剤は、ＵＶ吸収剤、たとえば、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニル−ベンゾフェノン、オキサルアミド又はヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンタイプのＵＶ吸収剤である。これらの化合物は、単独で使用することもできるし、立体障害アミン（ＨＡＬＳ）と混合して使用することもできる。このようなＵＶ吸収剤及び光安定剤の例は以下のものである。
【０１１４】
１．２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類、たとえば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（３′，５′−ジ−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（５′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール；２−（３′，５′−ジ−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール；２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール；２−（３′−sec−ブチル−５′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（３′，５′−ジ−tert−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（３′，５′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール；２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−ブチル−５′−〔２−（２−エチルヘキシル−オキシ）カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−ブチル−５′−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールの混合物；５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾル−２−イル−フェノール〕；２−〔３′−tert−ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシ−フェニル〕−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換反応生成物；〔Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ（ＣＨ2）3〕2−（式中、Ｒ＝３′−tert−ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イル−フェニル）
【０１１５】
２．２−ヒドロキシベンゾフェノン類、たとえば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−及び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体
【０１１６】
３．置換又は非置換安息香酸のエステル、たとえば、４−tert−ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレソルシノール、ビス（４−tert−ブチルベンゾイル）レソルシノール、ベンゾイルレソルシノール、２，４−ジ−tert−ブチルフェニル３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート及び２−メチル−４，６−ジ−tert−ブチルフェニル３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
【０１１７】
４．アクリレート、たとえば、イソオクチルもしくはエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、ブチルもしくはメチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボキシメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン
【０１１８】
５．立体障害アミン類、たとえば、ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサ−メチレンジアミンと４−tert−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンとの縮合物、トリス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１′−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ−〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピル−アミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン及び３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン
【０１１９】
６．オキサルアミド類、たとえば、４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジエトキシオキサニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−tert−ブチル−２′−エチルオキサニリド及び２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−tert−ブチルオキサニリドとのその混合物、ｏ−及びｐ−メトキシならびにｏ−及びｐ−エトキシ二置換オキサナリドの混合物
【０１２０】
７．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン類、たとえば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシ−フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−ドデシル／トリデシル−オキシ−（２−ヒドロキシプロピル）オキシ−２−ヒドロキシ−フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン
【０１２１】
８．ホスファイト及びホスホナイト、たとえば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリトリチルジホスファイト、トリス−（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリチルジホスファイト、ビス−（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスファイト、ビス−イソデシルオキシペンタエリトリチルジホスファイト、ビス−（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスファイト、ビス−（２，４，６−トリ−tert−ブチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスファイト、トリステアリルソルビチルトリホスファイト、テトラキス−（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−１２−メチル−ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス−（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト及びビス−（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト
【０１２２】
本発明の感光性樹脂組成物では、被着性、硬度などのような特性を改善するため、必要ならば、無機充填材、たとえば硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉末、粒子状シリコーンオキシド、非晶質シリカ、タルク、粘土、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、雲母粉末などを使用することができる。配合物中の充填材の比率は、感光性熱硬化性樹脂組成物の０〜６０重量％、好ましくは５〜４０重量％である。
【０１２３】
さらには、必要ならば、公知の添加物、たとえば公知の着色剤、たとえばフタロシニンブルー、フタロシアニングリーン、ジアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどを使用してもよい。
【０１２４】
組成物は、場合によっては、成分（Ｅ）エポキシ硬化促進剤、たとえばアミン化合物、イミダゾール化合物、カルボン酸、フェノール類、第四アンモニウム塩又はメチロール基含有化合物をさらに含む。使用される該硬化剤の量は、感光性熱硬化性樹脂組成物の０〜１０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％の範囲である。
【０１２５】
光重合を促進するため、アミン類、たとえばトリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノベンゾエート又はミヒラーケトン及び上記の化合物を加えることが可能である。アミン類の作用は、ベンゾフェノンタイプの芳香族ケトン類の添加によって増強することができる。酸素捕獲剤として使用することができるアミン類の例は、ＥＰ３３９８４１に記載されている置換Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン類である。他の促進剤、開始助剤及び自動酸化質は、たとえばＥＰ４３８１２３、ＧＢ２１８０３５８及び特開平６−６８３０９号公報に記載されているチオール類、チオエーテル類、ジスルフィド、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシド又はホスフィン類である。
【０１２６】
さらには、当該技術で通例である連鎖移動剤を本発明の組成物に加えることも可能である。例は、メルカプタン類及びアミン類である。
【０１２７】
硬化工程は、特に、たとえば二酸化チタンで着色された組成物により、また、たとえばＥＰ２４５６３９で記載されている、熱条件下でフリーラジカルを形成する成分、たとえばアゾ化合物、たとえば２，２′−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、トリアゼン、ジアゾスルフィド、ペンタザジエン又はペルオキシ化合物、たとえばヒドロペルオキシドもしくはペルオキシカーボネート、たとえばtert−ブチルヒドロペルオキシドを加えることにより、支援することができる。
【０１２８】
本発明の組成物は、光還元性染料、たとえばキサンテン−、ベンゾキサンテン−、ベンゾチオキサンテン−、チアジン−、ピロニン−、ポルフィリン−もしくはアクリジン染料及び／又は照射によって開裂させることができるトリハロゲンメチル化合物をさらなる添加物（Ｅ）として含むことができる。同様な組成物は、たとえばＥＰ４４５６２４に記載されている。
【０１２９】
さらなる通例の添加物（Ｅ）は、使用目的に応じて、蛍光増白剤、湿潤剤又は均染助剤である。着色された厚い塗膜を硬化させるためには、たとえばＵＳ５，０１３，７６８に記載されているように、極小ガラス球又は粉砕ガラス繊維を加えることが適当である。
【０１３０】
したがって、本発明の主題は、エポキシ化合物、熱重合阻害剤、無機充填材、着色剤、エポキシ硬化剤、アミン類、連鎖移動剤、熱ラジカル開始剤、光還元性染料、蛍光増白剤、増粘剤、消泡剤及び均染剤からなる群より選択されるさらなる添加物（Ｅ）、特に無機充填材を含む上記組成物である。
【０１３１】
添加物（Ｅ）の選択は、適用分野及びその分野に求められる性質に依存して下される。上記添加物は、当該技術で通例であり、したがって、それぞれの用途で通常である量で加えられる。
【０１３２】
また、本発明の主題は、少なくとも１種の光開始剤（Ｂ１）をさらに含む組成物である。
【０１３３】
場合によっては、２種以上の新規な光開始剤の混合物を使用することが有利であるかもしれない。当然、公知の光開始剤（Ｂ１）との混合物、たとえばカンフルキノン、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、たとえばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトン類もしくはジアルコキシアセトフェノン類、α−ヒドロキシアセトフェノン類、たとえば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノン又はα−アミノアセトフェノン類、たとえば（４−メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタン、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、４−アロイル−１，３−ジオキソラン類、ベンゾインアルキルエーテル類及びベンジルケタール類、たとえばジメチルベンジルケタール、フェニルグリオキサル酸エステル及びその誘導体、二量体フェニルグリオキサル酸エステル、ジアセチルペルエステル、たとえばＥＰ１２６５４１に記載されているベンゾフェノンテトラカルボン酸ペルエステル、モノアシルホスフィンオキシド、たとえば（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド、ハロメチルトリアジン類、たとえば２−〔２−（４−メトキシ−フェニル）−ビニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−（４−メトキシ−フェニル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−メチル−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−（４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−〔１，３，５〕トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフチル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−（１，３−ベンゾジオキソル−５−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−〔４−（ペンチルオキシ）フェニル〕エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕−トリアジン、２−〔２−（３−メチル−２−フラニル）−エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−（５−メチル−２−フラニル）−エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−（２，４−ジメトキシ−フェニル）−エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−（２−メトキシ−フェニル）エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−（４−イソプロピルオキシ−フェニル）−エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−（３−クロロ−４−メトキシ−フェニル）エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−ブロモ−４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔３−ブロモ−４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔３−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン又は、たとえばG.  Buhr,  R.  Dammel  and  C.  Lindley  Polym.  Mater.  Sci.  Eng.  61,  269(1989)及びＥＰ０２６２７８８に記載されている他のハロメチルトリアジン類；ＵＳ４，３７１，６０６及びＵＳ４，３７１，６０７に記載されているようなハロメチル−オキサゾル光開始剤；E.  A.  Bartmann,  Synthesis  5,  490(1993)に記載されているような１，２−ジスルホン類；ヘキサアリールビスイミダゾール及びヘキサアリールビスイミダゾール／開始助剤系、たとえば２−メルカプトベンズチオゾールと組み合わせたｏ−クロロヘキサフェニル−ビスイミダゾール、フェロセニウム化合物又はチタノセン類、たとえばビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピリル−フェニル）チタニウムとの混合物を使用することも可能である。
【０１３４】
新規な光開始剤系がハイブリッド系で使用される場合、新規なフリーラジカル硬化剤に加えて、カチオン性光開始剤、ペルオキシド化合物、たとえば過酸化ベンゾイル（他の適当な過酸化物は、ＵＳＰ４，９５０，５８１の１９欄１７〜２５行に記載されている）、たとえばＵＳＰ４，９５０，５８１の１８欄６０行目〜１９欄１０行目に記載されている芳香族スルホニウム、ホスホニウムもしくはインドニウム塩又はシクロペンタジエニル−アレン−鉄（II）錯塩、たとえば（η6−イソ−プロピルベンゼン）（η5−シクロペンタジエニル）−鉄（II）ヘキサフルオロホスフェートならびにたとえばＥＰ７８０７２９に記載されているオキシムスルホン酸エステルが使用される。また、たとえばＥＰ４９７５３１及びＥＰ４４１２３２に記載されているピリジニウム及び（イソ）キノリニウム塩を新規な光開始剤と組み合わせて使用してもよい。
【０１３５】
光開始剤（Ｂ）は、単独で、又は他の公知の光開始剤（Ｂ１）及び増感剤（Ｄ）と組み合わせて、水又は水溶液中の分散液又は乳濁液の形態で使用することもできる。
【０１３６】
光開始剤（Ｂ）は通常、成分（Ａ）及び（Ｃ）の合計１００重量部を基準にして０．０１５〜６０重量部、好ましくは０．０３〜３０重量部の量で加えられる。
【０１３７】
開始剤の混合物が使用されるならば、量は、加えられるすべての光開始剤の合計をいう。したがって、量は、光開始剤（Ｂ）又は光開始剤（Ｂ）＋（Ｂ１）のいずれかをいう。
【０１３８】
本発明はまた、成分（Ａ）１００重量部、成分（Ｂ）０．０１５〜１２０重量部、成分（Ｃ）５〜５００重量部、たとえば５〜３００重量部及び成分（Ｄ）０．０１５〜１２０重量部を含む組成物に関する。
【０１３９】
新規な感照射性組成物は、光に対して非常に高い感度を有し、水性アルカリ媒体中で膨潤なしで現像することができるネガレジストとして用途がある。これらは、電子部品のフォトレジスト（無電解めっきレジスト、電気めっきレジスト、エッチングレジスト、はんだレジスト、光現像性絶縁及び誘電層）として適している。
【０１４０】
組成物は、公知の被覆技術、たとえばスピンコーティング、ディップコーティング、ナイフコーティング、カーテンコーティング、スクリーンコーティング、ブラッシング、吹き付け、特に静電吹き付け及び逆ロールコーティングならびに電気泳動被着によって基材に均一に適用させる。また、感光層を一時的な可撓性の支持体に被着させたのち、積層によって層を移すことにより、最終的な基板、たとえば銅被覆回路板を被覆することも可能である。
【０１４１】
使用されるコーティング技術に適した組成物の粘度を調節する、適当な有機溶媒の例は、ケトン類、たとえばエチルメチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ペンタノン、２−ヘプタノンなど；芳香族炭化水素、たとえばトルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなど；グリコールエーテル類、たとえばメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ベンジルセロソルブ、フェニルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなど；エステル類、たとえば酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート及び上記グリコールエーテル類のエステル化生成物、たとえばセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート；アルコール類、たとえばエタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなど；脂肪族炭化水素、たとえばオクタン、デカンなど；石油タイプ溶媒、たとえば石油エーテル、石油ナフサ、水素化石油ナフサ、溶媒ナフサなどならびにその他、たとえばＮ−メチルピロリジノン及びγ−ブチロラクトンである。有機溶媒は、樹脂を容易に塗布することができるよう、それを希釈するために使用される。
【０１４２】
塗布量（塗膜厚さ）及び基材（層支持体）の性質は、所望の適用分野に依存する。塗膜厚さの範囲は一般に、約０．１μm〜１００μm超、たとえば０．１μm〜１cm、好ましくは０．５μm〜１０００μmの値を含む。
【０１４３】
基板の被覆ののち、一般には乾燥によって溶媒を除去して、フォトレジスト膜を基材上に残す。
【０１４４】
「像様の」露光とは、所定のパターンを含むフォトマスク、たとえばスライド、クロムマスク、ステンシルマスク又は焦点板を介する露光ならびにたとえばコンピュータ制御の下で被覆される基板の表面上を動かされ、この方法で像を生成するレーザもしくはライトビーム及びコンピュータ制御電子ビームの照射による露光を含む。また、たとえばA.  Bertsch,  J.  Y.  Jezequel,  J.  C.  AndreによってJournal  of  Photochemistry  and  Photobiology  A:  Chemistry  1997,  107,  p.  275-281に、またK.  P.  NicolayによってOffset  Printing  1997,  6,  p.  34-37に記載されているように、デジタル画像を生成するためにピクセル単位でアドレス指定される液晶製のマスクを使用することも可能である。
【０１４５】
すでに述べたように、組成物は、水性アルカリによって現像することができる。特に適した水性アルカリ現像溶液は、水酸化テトラアルキルアンモニウム又はアルカリ金属ケイ酸塩、リン酸塩、水酸化物及び炭酸塩の水溶液である。所望により、少量の湿潤剤及び／又は有機溶媒をこれらの溶液に加えてもよい。少量で現像液に加えることができる典型的な有機溶媒の例は、シクロヘキサノン、２−エトキシエタノール、トルエン、アセトン、Ｎ−メチルピロリジノン及びそのような溶媒の混合物である。
【０１４６】
新規な組成物の感光度は、一般に、約１５０nm〜６００nm、たとえば１９０〜６００nm（ＵＶ可視領域）に及ぶことができる。適当な照射は、たとえば、陽光又は人工光源からの光に存在する。その結果、多数の非常に異なるタイプの光源が使用される。点光源及びアレイ（「ランプカーペット」）の両方が適当である。例は、炭素アーク灯、キセノンアーク灯、おそらくは金属ハロゲン化物をドープされた超高圧、高圧、中圧及び低圧水銀灯（金属ハロゲン灯）、マイクロ波刺激金属蒸気灯、エキシマ灯、超化学線蛍光管、蛍光灯、アルゴン白熱灯、電子閃光、写真用投光照明灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、電子ビーム及びＸ線である。灯具と、本発明によって露光される基材との距離は、目的の用途ならびに灯具のタイプ及び出力に依存して異なり、たとえば２cm〜１５０cmであることができる。レーザ光源、たとえばエキシマレーザ、たとえば２４８nmの露光のためのＫｒＦレーザ、１９３nmの露光のためのＡｒＦレーザ及び１５７nmの露光のためのＦ2レーザもまた適当である。可視領域のレーザを使用することもできる。
【０１４７】
したがって、本発明は、上述した式Ｉ又はIIの少なくとも１種の光開始剤を前記化合物に加えることと、得られた組成物に電磁線、特に波長１５０〜６００nmの光を照射することとを含む、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を含む化合物を光重合させる方法、すなわち、上記組成物に１５０〜６００nmの範囲の電磁線を照射することを含む、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物を光重合させる方法を提供する。
【０１４８】
本発明はまた、少なくとも一つの面を上記組成物で被覆された被覆基材及び前記被覆基材を１５０〜６００nmの範囲の電磁線による像様の露光に付したのち未露光部分を溶媒で除去するレリーフ像の写真術的製造方法に関する。
【０１４９】
本発明の組成物は、低濃度の光開始剤でさえ、増感剤の使用又は未使用にかかわらず、高い感度及び解像度を有し、水性現像可能なフォトレジスト用途に特に適している。これらの組成物はまた、良好な熱安定性及び低い揮発性を有する。
【０１５０】
新規な感照射性組成物は、光に対して非常に高い感度を有し、水性アルカリ媒体中で膨潤なしで現像することができるネガレジストとして用途がある。これらは、電子部品のフォトレジスト、たとえば電気めっきレジスト、エッチングレジスト、液及び乾燥フィルム、はんだレジスト、多様な表示用途のためのカラーフィルタを製造したり、プラズマ表示パネル及びエレクトロルミネセンス表示装置の製造法において構造を生成したりするためのレジストとして、版面、たとえばオフセット印刷版面もしくはスクリーン印刷版面の製造、レリーフ印刷、平版印刷、フォトグラビア又はスクリーン印刷の印刷フォームの製造、たとえば文字をブライユ点字で製造するためのレリーフコピーの製造、化学粉砕に使用するためのスタンプの製造又は集積回路の製造におけるマイクロレジストとして適している。組成物はさらに、コンピュータチップ、印刷回路板及び他の電気もしくは電子部品の製造における光パターン付け可能な誘電性の層もしくは塗膜、カプセル封入材料及び絶縁塗膜として使用することもできる。可能な層支持体及び被覆基材の処理条件は相応に異なる。
【０１５１】
本発明の光硬化性組成物は、良好な熱安定性を有し、酸素による阻害に対して十分な耐性を有するため、たとえばＥＰ３２０２６４に記載されているように、カラーフィルタ又はカラーモザイク系の製造に特に適している。カラーフィルタは普通、ＬＣＤ、投影装置及びイメージセンサの製造に使用される。カラーフィルタは、たとえば、テレビ受信器、ビデオモニタ又はコンピュータの表示装置及びイメージスキャナ、フラットパネル表示技術などに使用することができる。
【０１５２】
したがって、本発明の主題は、前記し、以下で詳細に説明する組成物を含むカラーフィルタレジストである。
【０１５３】
カラーフィルタは普通、赤、緑及び青のピクセルならびに黒マトリクスをガラス基板上に形成することによって調製される。これらの方法で、本発明の光硬化性組成物を使用することができる。特に好ましい使用方法は、本発明の組成物による基材の被覆、短時間の熱処理による塗膜の乾燥、化学線放射への塗膜のパターン様の露光ならびにその後の水性アルカリ現像溶液中でのパターンの現像及び場合によっては熱処理を含む。したがって、その後、この方法によって赤、緑及び青の着色塗膜を互いの上に所望の順序で塗布することにより、赤、緑及び青のカラーピクセルを有するカラーフィルタ層を製造することができる。
【０１５４】
現像は、重合しなかった区域を適当なアルカリ現像溶液で洗い落とすことによって実施される。この処理を繰り返して、複数の色を有する像を形成する。
【０１５５】
本発明の感光性樹脂組成物において、少なくとも１個以上の画素を透明基材上に形成したのち、透明基材の上記画素が形成されていない側から露光を加える方法により、上記画素を遮光マスクとして利用することができる。この場合、たとえば全体的な露光を加える場合、マスクの位置調節は不要になり、その位置ずれに関する心配は除かれる。そして、上記画素が形成されていない部分すべてを硬化させることが可能である。さらには、この場合、部分的に遮光性のマスクを使用することにより、上記画素が形成されていない部分の一部を現像し、除去することも可能である。
【０１５６】
いずれの場合でも、先に形成された画素と後で形成される画素との間に隙間ができないため、本発明の組成物は、たとえば、カラーフィルタの形成材料として適している。具体的には、赤、緑及び青の着色料、染料及び顔料を本発明の感光性樹脂組成物に加え、像を形成する工程を繰り返して赤、緑及び青の画素を形成する。そして、たとえば黒の着色料、染料及び顔料が加えられた感光性樹脂組成物を全面に加える。全体的露光（又は遮光性マスクを介する部分的露光）をその上に加えると、赤、緑及び青の画素の間の空間の全面（又は、遮光性マスクの部分的領域を除く全面）に黒の画素を形成することができる。
【０１５７】
感光性樹脂組成物を基材に塗布し、乾燥させる方法に加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、層転写材料としても使用することができる。すなわち、感光性樹脂組成物を、一時的支持体、好ましくはポリエチレンテレフタレート膜又は酸素遮蔽層及び剥離層もしくは剥離層及び酸素遮蔽層が設けられているポリエチレンテレフタレート膜上に直接、層様に設ける。普通、取り扱いにおける保護のため、合成樹脂製の剥離可能なカバーシートをその上に積層する。さらに、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層及び中間層が一時的支持体に設けられ、さらに、感光性樹脂組成物層がその上に設けられている層構造を被着することもできる（特開平５−１７３３２０号公報）。
【０１５８】
上記カバーシートを使用時に取り除き、感光性樹脂組成物層を永久的支持体上に積層する。その後、酸素遮蔽層及び剥離層が設けられている場合には、これらの層と一時的支持体とを剥離させ、剥離層及び酸素遮蔽層が設けられている場合には、剥離層と酸素遮蔽層とを剥離させ、剥離層又は酸素遮蔽層のいずれかが設けられていない場合には、一時的支持体と感光性樹脂組成物層とを剥離させ、一時的支持体を取り除く。
【０１５９】
金属支持体、ガラス、セラミックス及び合成樹脂フィルムをカラーフィルタの支持体として使用することができる。透明であり、優れた寸法安定性を有するガラス及び合成樹脂フィルムが特に好ましい。
【０１６０】
感光性樹脂組成物層の厚さは、通常０．１〜５０μm、特に１〜５μmである。
【０１６１】
本発明の感光性樹脂組成物の現像溶液としては、アルカリ性物質の希釈水溶液が使用され、さらに、少量の水混和性有機溶媒をそこに加えることによって調製される溶液が同様に含まれる。
【０１６２】
適当なアルカリ性物質の例は、アルカリ金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム）、アルカリ金属炭酸水素塩（たとえば炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩（たとえばケイ酸ナトリウム及びケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩（たとえばメタケイ酸ナトリウム及びメタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモニウム水酸化物（たとえば水酸化テトラメチルアンモニウム）又はリン酸三ナトリウムを含む。アルカリ性物質の濃度は０．０１〜３０重量％であり、ｐＨは好ましくは８〜１４である。
【０１６３】
水と混和性である適当な有機溶媒は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム及びＮ−メチル−ピロリドンを含む。水と混和性である有機溶媒の濃度は０．１〜３０重量％である。
【０１６４】
さらに、当業者に公知である現在の技術水準の界面活性剤を加えることができる。界面活性剤の濃度は、好ましくは０．００１〜１０重量％である。
【０１６５】
現像溶液は、浴溶液又は吹き付け溶液のいずれの形態で使用することもできる。感光性樹脂組成物層の非硬化部分を除去するためには、回転ブラシを使用する摩擦及び濡れスポンジを使用する摩擦などの方法を組み合わせることができる。
通常、現像溶液の温度は、好ましくは、およそ室温〜４０℃である。現像時間は、感光性樹脂組成物の具体的な種類、現像溶液のアルカリ度及び温度ならびに、有機溶媒を加える場合には、その種類及び濃度に応じて異なる。普通、１０秒〜２分である。現像処理の後にすすぎ工程を置くことも可能である。
【０１６６】
好ましくは、現像処理の後で最終的な熱処理を実施する。したがって、露光によって光重合する層（以下「光硬化層」という）を有する支持体を電気炉及び乾燥器中で加熱するか、光硬化層を赤外線灯で照射するか、ホットプレート上で加熱する。加熱温度及び時間は、使用される組成及び形成する層の厚さに依存する。一般に、加熱は、好ましくは、約１２０℃〜約２５０℃で約５〜約６０分間適用する。
【０１６７】
着色したカラーフィルタレジスト組成物を含む、本発明の組成物に含めることができる顔料は、好ましくは、加工顔料、たとえば、顔料を、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、マレイン酸樹脂及びエチルセルロース樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂中に微分散させることによって調製される粉末又はペースト状生成物である。
【０１６８】
赤顔料は、たとえば、アントラキノンタイプ顔料のみ、ペリレンタイプ顔料のみ又はそれらの少なくとも一方と、ジスアゾタイプ黄顔料又はイソインドリンタイプ黄顔料からなる混合物、特にＣＩピグメントレッド１７７のみ、ＣＩピグメントレッド１５５のみ又はＣＩピグメントレッド１７７、ＣＩピグメントレッド１５５及びＣＩピグメントイエロー８３もしくはＣＩピグメントイエロー１３９の少なくとも１種からなる混合物を含む（「ＣＩ」は、当業者には公知であり、公に利用可能であるカラーインデックスをいう）。さらに適当な顔料の例は、ＣＩピグメントレッド１０５、１４４、１４９、１７６、１７７、１８５、２０２、２０９、２１４、２２２、２４２、２５４、２５５、２６４、２７２及びピグメントイエロー２４、３１、５３、８３、９３、９５、１０９、１１０、１２８、１２９、１３８、１３９、１６６及びＣＩピグメントオレンジ４３である。
【０１６９】
緑顔料は、たとえば、ハロゲン化フタロシアニンタイプ顔料のみ又はジスアゾタイプ黄顔料もしくはイソインドリンタイプ黄顔料とのその混合物、特にＣＩピグメントグリーン７のみ、ＣＩピグメントグリーン３６のみ、ＣＩピグメントグリーン３７のみ又はＣＩピグメントグリーン７、ＣＩピグメントグリーン３６、ＣＩピグメントグリーン３７、ＣＩピグメントグリーン１３６及びＣＩピグメントイエロー８３又はＣＩピグメントイエロー１３９の少なくとも１種からなる混合物を含む。他の適当な緑顔料は、ＣＩピグメントグリーン１５及び２５である。
【０１７０】
適当な青顔料の例は、単独で使用されるか、ジオキサジンタイプ紫顔料と組み合わせて使用されるフタロシアニンタイプ顔料、たとえばＣＩピグメントブルー１５：３とＣＩピグメントバイオレット２３との組み合わせである。青顔料のさらなる例は、ＣＩブルー１５：３、１５：４、１５：６、１６及び６０の顔料、すなわちフタロシアニンＣＩピグメントブルー１５：３又はフタロシアニンＣＩピグメントブルー１５：６である。他の適当な顔料は、ＣＩピグメントブルー２２、２８、ＣＩピグメントバイオレット１４、１９、２３、２９、３２、３７、１７７及びＣＩオレンジ７３の顔料である。
【０１７１】
黒マトリクスフォトポリマー組成物の顔料は、好ましくは、カーボン、チタンブラック及び酸化鉄からなる群より選択される少なくとも１種を含む。しかし、全体として黒の見かけを与える他の顔料の混合物を使用してもよい。たとえば、ＣＩピグメントブラック１及び７を、単独で、又は組み合わせて使用することができる。
【０１７２】
いずれの色についても、３種以上の顔料の組み合わせを使用することができる。カラーフィルタ用途に特に適したものは、上述した顔料を樹脂中に微分散させることによって調製される粉末状の加工顔料である。
【０１７３】
全固形成分（種々の色の顔料及び樹脂）中の顔料の濃度は、たとえば、５重量％〜８０重量％、たとえば１０重量％〜５０重量％、特に２０重量％〜４５重量％の範囲である。
【０１７４】
カラーフィルタレジスト組成物中の顔料は、好ましくは、可視光線の波長（４００nm〜７００nm）よりも小さい平均粒径を有している。特に好ましいものは、＜１００nmの平均顔料粒径である。
【０１７５】
必要ならば、顔料は、分散剤で前処理して液状配合物中の顔料の分散安定性を改善することにより、感光性組成物中で安定化してもよい。
【０１７６】
カラーフィルタレジスト、そのようなレジストの組成及び加工条件の例は、T.  Kudo  et  al.,  Jpn.  J.  Appl.  Phys.  Vol.  37(1998)3594；T.  Kudo  et  al.,  J.  Photopolym.  Sci.  Technol.  Vol  9(1996)109；K.  Kobayashi,  Solid  State  Technol.  Nov.  1992,  p.  S15-S18；ＵＳ５，３６８，９７６、ＵＳ５，８００，９５２、ＵＳ５，８８２，８４３、ＵＳ５，８７９，８５５、ＵＳ５，８６６，２９８；ＵＳ５，８６３，６７８；特開平６−２３０２１２号公報、ＥＰ３２０２６４；特開平９−２６９４１０号公報、特開平１０−２２１８４３号公報、特開平１−０９０５１６号公報、特開平１０−１７１１１９号公報、ＵＳ５，８２１，０１６、ＵＳ５，８４７，０１５、ＵＳ５，８８２，８４３、ＵＳ５，７１９，００８、ＥＰ８８１５４１又はＥＰ９０２３２７によって記載されている。
【０１７７】
本発明の光開始剤は、カラーフィルタレジスト、たとえば上記で例として挙げたものに使用することもできるし、そのようなレジストにおいて公知の光開始剤に部分的又は完全に取って代わることもできる。本発明の新規な光開始剤の利用は、先に挙げたカラーフィルタレジスト例の具体的な結合剤樹脂、架橋剤及び配合物に限定されず、感光性カラーフィルタインク又はカラーフィルタレジストを形成するために、染料又は有色顔料もしくは潜顔料と組み合わせていかなるラジカル重合性成分とで使用することもできることが当業者によって理解される。
【０１７８】
したがって、本発明の主題はまた、赤、緑及び青（ＲＧＢ）色要素ならびに場合によっては黒マトリクス（すべて感光性樹脂及び顔料を含む）を透明基材上に設け、透明な電極を基材表面又はカラーフィルタ層表面に設けることによって調製される、前記感光性樹脂が多官能性アクリレートモノマー、有機ポリマー結合剤及び上述した式Ｉ又はIIの光重合開始剤を含むカラーフィルタである。モノマー及び結合剤成分ならびに適当な顔料は、上述したとおりである。カラーフィルタの製造において、透明な電極層は、透明基板の表面に被着させることもできるし、赤、緑及び青の画素ならびに黒マトリクスの表面に設けることもできる。透明基板は、たとえば、その表面に電極層をさらに有することができるガラス基板である。カラーフィルタのコントラストを改善するために、異なる色区域の間に黒マトリクスを適用することが好ましい。
【０１７９】
感光性組成物を使用して黒マトリクスを形成し、パターン様の露光（すなわち適当なマスクを介する）によって黒の感光性組成物を光リソグラフィー的にパターン付けして、赤、緑及び青の色区域を分ける黒のパターンを透明基板上に形成する代わりに、無機の黒マトリクスを使用することも可能である。そのような無機の黒マトリクスは、透明基材上に蒸着させた（すなわちスパッタリングした）金属（すなわちクロム）膜から適当な現像法、たとえばエッチングレジストによる光リソグラフィーパターン付けを使用し、エッチングレジストによって保護されない区域の無機層をエッチングしたのち、残るエッチングレジストを除去することによって形成することができる。
【０１８０】
いかにして、またカラーフィルタ製造工程のどの段階で黒マトリクスを被着させるかに関して種々の方法が知られている。すでに上述したように、赤、緑及び青（ＲＧＢ）カラーフィルタを形成する前に透明基板に直接被着させることもできるし、ＲＧＢカラーフィルタを基板上に形成した後で被着させることもできる。
【０１８１】
ＵＳ５，６２６，７９６に記載の、液晶表示装置のためのカラーフィルタの異なる実施態様では、黒マトリクスはまた、液晶層によってＲＧＢカラーフィルタ素子担持基板から隔てられている、ＲＧＢカラーフィルタ素子担持基板に対して反対側の基板に被着させることもできる。
【０１８２】
ＲＧＢカラーフィルタ素子及び場合によっては黒マトリクスを被着させたのち透明な電極層を被着させるならば、電極層の被着の前に、たとえばＵＳ５，６５０，２６３に記載のようにして、さらなるオーバコート膜を保護層としてカラーフィルタ層に被着させることができる。
【０１８３】
カラーフィルタのオーバコート層を形成するためには、感光性樹脂又は熱硬化性樹脂組成物が使用されうる。本発明の感光性組成物はまた、組成物の硬化膜が平坦さ、硬度、耐薬品性及び耐熱性、特に可視領域における透明度、基材への被着ならびに透明な導電膜、たとえばＩＴＯ膜をその上に形成するための適性において優れているため、そのようなオーバコート層を形成するためにも使用することができる。保護層の製造においては、特開昭５７−４２００９号公報、特開平１−１３０１０３号公報及び特開平１−１３４３０６号公報に記載されているように、保護層の不要部分、たとえば基材を切断するためのけがき線の不要部分及び固体イメージセンサのボンディングパッド上の不要部分を基材から除去すべきであるという必要性があった。これに関して、上述した熱硬化性樹脂を使用して良好な精度で保護層を選択的に形成することは困難である。しかし、感光性組成物は、保護層の不要な部分を光リソグラフィーによって容易に除去することを可能にする。
【０１８４】
本発明の感光性組成物は、カラーフィルタの製造のために、加工法における上記違いにかかわらず、被着させることができるさらなる層にかかわらず、また、カラーフィルタの設計における違いにかかわらず、赤、緑及び青のカラーピクセルならびに黒マトリクスを生成するために使用できるということは当業者に自明である。色付き素子を形成するための本発明の組成物の使用は、そのようなカラーフィルタの種々の設計及び製造方法によって限定されると見なされてはならない。
【０１８５】
アルカリ水溶液に可溶性であり、水不溶性である、カラーフィルタレジスト組成物に使用される化合物（Ａ）、たとえば、分子中に１個以上の酸基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物のホモポリマー又はそれらの２種以上のコポリマーならびにこれらの化合物とで共重合可能な１個以上の不飽和結合を有し、酸基を含まない１種以上の重合性化合物のコポリマーを使用することができる。このような化合物は、分子中に１個以上の酸基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する１種以上の低分子量化合物を、これらの化合物とで共重合可能な１個以上の不飽和結合を有し、酸基を含まない１種以上の重合性化合物と共重合させることによって得ることができる。酸基の例は、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基、−ＳＯ2ＮＨＣＯ−基、フェノール性ヒドロキシ基、−ＳＯ2ＮＨ−基及び−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基である。これらのうち、−ＣＯＯＨ基を有する高分子量化合物が特に好ましい。
【０１８６】
好ましくは、カラーフィルタレジスト組成物中の化合物（Ａ）としての有機ポリマー結合剤は、付加重合性モノマー単位として、少なくとも不飽和有機酸化合物、たとえばアクリル酸、メタクリル酸などを含むアルカリ可溶性コポリマーを含む。ポリマー結合剤のためのさらなるコモノマーとして、不飽和有機酸エステル化合物、たとえばメチルアクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレンなどを使用して、アルカリ可溶性、被着剛性、耐薬品性などの性質を均衡させることが好ましい。有機ポリマー結合剤は、ランダムコポリマーであってもよいし、ＵＳ５，３６８，９７６に記載されているように、ブロックコポリマーであってもよい。
【０１８７】
分子中に１個以上の酸基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例は、以下の化合物を含む。アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、ビニル安息香酸及びケイ皮酸が、分子中に１個以上の−ＣＯＯＨ基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例である。
【０１８８】
ビニルベンゼンスルホン酸及び２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸が、１個以上の−ＳＯ3Ｈ基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例である。
【０１８９】
Ｎ−メチルスルホニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチルスルホニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニルスルホニル（メタ）アクリルアミド及びＮ−（ｐ−メチルフェニルスルホニル）（メタ）アクリルアミドが、１個以上の−ＳＯ2ＮＨＣＯ−基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例である。
【０１９０】
分子中に１個以上のフェノール性ヒドロキシ基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例は、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ジヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシフェニル−カルボニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシフェニルチオエチル（メタ）アクリレート、ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジヒドロキシフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート及びジヒドロキシフェニルチオエチル（メタ）クリレートを含む。
【０１９１】
分子中に１個以上の−ＳＯ2ＮＨ−基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例は、式（ａ）又は（ｂ）によって示される化合物を含む。
ＣＨ2＝ＣＨＡ1−Ｙ1−Ａ2−ＳＯ2−ＮＨ−Ａ3  （ａ）
ＣＨ2＝ＣＨＡ4−Ｙ2−Ａ5−ＮＨ−ＳＯ2−Ａ6  （ｂ）
式中、Ｙ1及びＹ2は、それぞれ−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＡ7−又は単結合を表し；Ａ1及びＡ4は、それぞれＨ又はＣＨ3を表し；Ａ2及びＡ5は、それぞれ、場合によっては置換基シクロアルキレン、アリーレンもしくはアラルキレンを有するＣ1〜Ｃ12アルキレン又はエーテル基及びチオエーテル基が挿入されているＣ2〜Ｃ12アルキレン、シクロアルキレン、アリーレン又はアラルキレンを表し；Ａ3及びＡ6は、それぞれＨ、場合により置換基を有するＣ1〜Ｃ12アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表し；Ａ7は、Ｈ、場合により置換基を有するＣ1〜Ｃ12アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表す。
【０１９２】
１個以上の−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物は、マレイミド及びＮ−アクリロイル−アクリルアミドを含む。これらの重合性化合物は、重合により、主鎖とで環が形成される−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基を含む高分子量化合物になる。さらには、それぞれ−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基を有するメタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体を使用することもできる。そのようなメタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体は、たとえば、メタクリルアミド誘導体、たとえばＮ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−ブタノイルメタクリルアミド、Ｎ−ペンタノイルメタクリルアミド、Ｎ−デカノイルメタクリルアミド、Ｎ−ドデカノイルメタクリルアミド、Ｎ−ベンゾイルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルベンゾイル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド、Ｎ−（ナフチル−カルボニル）メタクリルアミド、Ｎ−（フェニルアセチル）−メタクリルアミド及び４−メタクリロイルアミノフタルイミドならびにこれらと同じ置換基を有するアクリルアミド誘導体を含む。これらの重合性化合物は、重合すると、−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基を側鎖中に有する化合物になる。
【０１９３】
１個以上の重合性不飽和結合を有し、酸基を含まない重合性化合物の例は、（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類及びクロトネート類から選択される、重合性不飽和結合を有する化合物を含み、具体的には以下の化合物を含む。
【０１９４】
（メタ）アクリレート類、たとえばアルキル（メタ）アクリレートもしくは置換アルキル（メタ）アクリレート（たとえばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、tert−オクチル（メタ）アクリレート、クロロエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシ−ベンジル（メタ）アクリレート、クロロベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレート（たとえばフェニル（メタ）アクリレート、クレジル（メタ）アクリレート及びナフチル（メタ）アクリレート）；（メタ）アクリルアミド類、たとえば（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルアミド（アルキル基は、たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、ヘプチル、オクチル、エチルヘキシル、シクロヘキシル、ヒドロキシエチル及びベンジルを含む）、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド（アリール基は、たとえば、フェニル、トリル、ニトロフェニル、ナフチル及びヒドロキシフェニルを含む）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド（アルキル基は、たとえば、メチル、エチル、ブチル、イソブチル、エチルヘキシル及びシクロヘキシルを含む）、Ｎ，Ｎ−ジアリール（メタ）アクリルアミド（アリール基は、たとえば、フェニルを含む）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（フェニル−スルホニル）（メタ）アクリルアミド及びＮ−（ｐ−メチルフェニル−スルホニル）（メタ）アクリルアミド；
【０１９５】
アリル化合物、たとえばアリルエステル類（たとえばアリルアセテート、アリルカプロエート、アリルカプレート、アリルラウレート、アリルパルミテート、アリルステアレート、アリルベンゾエート、アリルアセトアセテート及びアリルラクテート）及びアリルオキシエタノール；
【０１９６】
ビニルエーテル類、たとえばアルキルビニルエーテル（アルキル基は、たとえば、ヘキシル、オクチル、デシル、エチルヘキシル、メトキシエチル、エトキシエチル、クロロエチル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピル、２−エチルブチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシエトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ブチルアミノエチル、ベンジル及びテトラヒドロフルフリルを含む）及びビニルアリールエーテル（アリール基は、たとえば、フェニル、トリル、クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、ナフチル及びアントラニルを含む）；
【０１９７】
ビニルエステル類、たとえばビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−ｂ−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、ビニルベンゾエート、ビニルサリチレート、ビニルクロロベンゾエート、ビニルテトラクロロベンゾエート及びビニルナフトエート；
【０１９８】
スチレン類、たとえばスチレン、アルキルスチレン（たとえばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン及びアセトキシメチルスチレン）、アルコキシスチレン（たとえばメトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン及びジメトキシスチレン）及びハロゲノスチレン（たとえばクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチレン及び４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチレン）；
【０１９９】
クロトネート類、たとえばアルキルクロトネート（たとえばブチルクロトネート、ヘキシルクロトネート及びグリセリンモノクロトネート）；ジアルキルイタコネート類（たとえばジメチルイタコネート、ジエチルイタコネート及びジブチルイタノネート）；ジアルキルマレエート又はフマレート類（たとえばジメチルマレエート及びジブチルフマレート）ならびに（メタ）アクリロニトリル。
【０２００】
同様に、ヒドロキシスチレンホモもしくはコポリマー又はノボラックタイプフェノール樹脂、たとえばポリ（ヒドロキシスチレン）及びポリ（ヒドロキシスチレン−ｃｏ−ビニルシクロヘキサノール）、ノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂及びハロゲン化フェノールノボラック樹脂を使用することができる。より具体的には、たとえば、コモノマーとしてのたとえばスチレンとのメタクリル酸コポリマー、アクリル酸コポリマー、イタコン酸コポリマー、クロトン酸コポリマー、マレイン酸無水物コポリマーならびにマレイン酸コポリマー及び部分的にエステル化されたマレイン酸コポリマー（それぞれ、たとえば特公昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報及び特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、特開昭５９−７１０４８号公報、特開昭６０−１５９７４３号公報、特開昭６０−２５８５３９号公報、特開平１−１５２４４９号公報、特開平２−１９９４０３号公報及び特開平２−１９９４０４号公報に記載されている）（これらのコポリマーは、たとえばＵＳＰ５，６５０，２６３で開示されているようにして、さらにアミンと反応させることができる）を含む。さらに、カルボキシル基を側鎖に有するセルロース誘導体を使用することができ、特に好ましいものは、たとえばＵＳＰ４，１３９，３９１、特公昭５９−４４６１５号公報、特開昭６０−１５９７４３号公報及び特開昭６０−２５８５３９号公報に記載されている、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸とのコポリマー及びベンジル（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸と、他のモノマーとのコポリマーである。
【０２０１】
上記有機結合剤ポリマーのうち、カルボン酸基を有するものに関して、カルボン酸基の一部又は全部をグリシジル（メタ）アクリレート又はエポキシ（メタ）アクリレートと反応させて、感光性、塗膜強度、耐被覆溶媒性及び耐薬品性ならびに基材への被着性を改善するための光重合性有機結合剤ポリマーを得ることが可能である。例は、特公昭５０−３４４４３号公報及び特公昭５０−３４４４４号公報、ＵＳＰ５，１５３，０９５、T.  KudoらによるJ.  Appl.  Phys.,  Vol.  37(1998),  p.  3594-3603、ＵＳ５，６７７，３８５及びＵＳ５，６５０，２３３に開示されている。
【０２０２】
結合剤の重量平均分子量は、好ましくは５００〜１，０００，０００、たとえば３，０００〜１，０００，０００、より好ましくは５，０００〜４００，０００である。
【０２０３】
これらの化合物は、単独で使用してもよいし、２種以上の混合物として使用してもよい。感光性樹脂組成物中の結合剤の含有量は、全固形分を基準にして、好ましくは１０〜９５重量％、より好ましくは１５〜９０重量％である。
【０２０４】
化合物（Ｃ）として、本発明のカラーフィルタレジスト組成物は、少なくとも１種の付加重合性モノマー化合物をさらに含む。たとえば、以下の化合物を、単独又は他のモノマーと組み合わせて、本発明で使用されるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性モノマーとして使用することができる。具体的には、tert−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタアクリレート）、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニル−ベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリアリルトリメリテート、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド及びキシレンビス（メタ）アクリルアミドを含む。さらには、ヒドロキシル基を有する化合物、たとえば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及びポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートと、ジイソシアネート、たとえばヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート及びキシレンジイソシアネートとの反応生成物を使用することができる。特に好ましいものは、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ジペンタ−エリトリトールペンタアクリレート及びトリス（２−アシロイルオキシエチル）−イソシアヌレートである。
【０２０５】
カラーフィルタレジスト組成物では、光重合性組成物に含まれるモノマーの全量は、組成物の全固形成分を基準にして、好ましくは５〜８０重量％、特に１０〜７０重量％である。
【０２０６】
さらには、カラーフィルタでは、各色の全固形成分は、イオン不純物捕獲剤、たとえばエポキシ基を有する有機化合物を含むことができる。全固形成分中のイオン不純物捕獲剤の濃度は、一般に０．１重量％〜１０重量％の範囲である。
【０２０７】
特に顔料とイオン不純物捕獲剤との上記組み合わせに関し、カラーフィルタの例がＥＰ３２０２６４に記載されている。ＥＰ３２０２６４に記載されているカラーフィルタ配合物中の本発明の光開始剤、すなわち式Ｉ及びIIの化合物は、トリアジン開始剤化合物に代わることができる。
【０２０８】
本発明の組成物は、たとえば特開平１０−２２１８４３号公報に記載されている、酸によって活性化される架橋剤と、熱的又は化学線照射によって酸を生成し、架橋反応を活性化する化合物とをさらに含むことができる。
【０２０９】
本発明の組成物はまた、潜顔料を含む感光性パターン又は塗膜の熱処理中に微分散顔料に転換される潜顔料を含むことができる。熱処理は、潜顔料含有光現像性層の露光又は現像の後で実施することができる。そのような潜顔料は、たとえばＵＳ５，８７９，８５５に記載されている化学的、熱的、光分解的又は照射誘発法によって不溶性顔料に転換することができる可溶性の顔料前駆体である。このような潜顔料のこの転換は、化学線露光で酸を生成する化合物を加えることによって、又は、酸性化合物を組成に加えることによって高めることができる。したがって、本発明の組成物中に潜顔料を含むカラーフィルタレジストをも調製することができる。
【０２１０】
基材の被覆ののち、一般には乾燥によって溶媒を除去して、本質的に乾燥したフォトレジストのレジスト膜を基材上に残す。
【０２１１】
本発明の感光性組成物は、好適には、カラーフィルタを形成するために使用することができるが、この用途に限定されない。他の用途、たとえば記録材料、フォトレジスト、表示装置、表示素子、塗料及び印刷インクにも有用である。
【０２１２】
本発明の感光性組成物はまた、液晶表示装置、より具体的には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を切り換え素子として有するアクティブマトリックスタイプ表示装置及び切り換え素子をもたないパッシブマトリックスタイプ表示装置を含む反射型液晶表示装置における層間絶縁層又は誘電層を製造するのにも適している。
【０２１３】
近年、液晶表示装置は、たとえば、その薄さ及び軽さのおかげで、ポケット型ＴＶセット及び通信端末装置に広く使用されている。バックライトを使用する必要のない反射型液晶表示装置は、その超薄さ及び軽さのため、特に需要があり、電力消費を有意に減らすことができる。しかし、現在利用しうる透過型カラー液晶表示装置からバックライトを除き、表示装置の下面に光反射板を加えるとしても、光の利用効率は低く、実用的な明るさを得ることができないという問題が生じるであろう。
【０２１４】
この問題に対する解決策として、光の利用効率を高めるための種々の反射型液晶表示装置が考案されている。たとえば、ある種の反射型液晶表示装置は、反射機能を有するピクセル電極を含むように設計されている。反射型液晶表示装置は、絶縁基板と、絶縁基板から離間した対向する基板とを含む。基板間の空間が液晶で満たされている。絶縁基板上にゲート電極が形成され、ゲート電極及び絶縁基板はいずれもゲート絶縁膜で覆われている。そして、ゲート絶縁膜上でゲート電極の上方に半導体層が形成されている。また、ゲート絶縁膜上には、半導体層と接触して、ソース電極及びドレン電極が形成されている。ソース電極、ドレン電極、半導体層及びゲート電極が互いに連携し、それにより、切り換え素子としてのボトムゲート型ＴＦＴを構成する。
【０２１５】
層間絶縁膜が形成されて、ソース電極、ドレン電極、半導体層及びゲート絶縁膜をそれによって覆う。ドレン電極上で、層間絶縁膜を貫通する接触孔が形成される。アルミニウム製のピクセル電極が、層間絶縁膜及び接触孔の内側壁の両方に形成される。ＴＦＴのドレン電極は、最終的には、層間絶縁膜を介してピクセル電極と接触する。層間絶縁層は一般に、ピクセル電極が、光を散乱させてより広い視角を与える反射面として作用するための粗化面を有するように設計されている。反射型液晶表示装置は、ピクセル電極が光反射板として作用するおかげで、光の利用効率を顕著に高める。
【０２１６】
上述した反射型液晶表示装置では、層間絶縁膜は、光リソグラフィーによって凹凸を有するように設計されている。表面の粗さを得るためにマイクロメートルオーダで凹凸の微細形状を形成、制御し、接触孔を形成するためには、ポジ型及びネガ型フォトレジストを使用する光リソグラフィー法が使用される。これらのレジストには、本発明の組成物が特に適している。
【０２１７】
本発明の感光性組成物はさらに、液晶表示パネルの液晶部分のセルギャップを制御するスペーサの製造に使用することができる。液晶表示装置の液晶層を透過又は反射して通過する光の性質はセルギャップに依存するため、ピクセルアレイ上の厚さ精度及び均一性が、液晶表示装置の性能にとって決定的なパラメータである。液晶セルでは、セル中の基板の間隔は、直径約数マイクロメートルのガラス又はポリマー球体をスペーサとして基板間に散在させることによって一定に維持される。したがって、スペーサが基板間に保持されて、基板間の距離が一定値に維持される。距離はスペーサの直径によって決まる。スペーサは、基板間の最小間隔を保証する。すなわち、基板間の距離の減少を防ぐ。しかし、基板が互いに離れること、すなわち基板間の距離の増大を防ぐことはできない。さらには、スペーサビーズを使用するこの方法は、スペーサビーズの直径の均一性及びパネル上のスペーサビーズの均等な分散の難しさならびに、ピクセルアレイ領域上のスペーサの場所に依存して、不均一な配向ならびに明るさ及び／又は光学開度の低下の問題を抱えている。最近、大きな画像表示面積を有する液晶表示装置が多大な注目を集めている。しかし、液晶セルの面積の増大は一般に、セルを構成する基板の歪みを生じさせる。液晶の層構造は、基板の変形によって破壊される傾向がある。したがって、基板の間隔を一定に維持するためにスペーサを使用する場合でも、大きな画像表示面積を有する液晶表示装置は、表示が乱れを被るため、実用不可能である。上記のスペーサ球分散法の代わりに、セルギャップ中にスペーサとして柱状物を形成する方法が提案されている。この方法では、樹脂の柱状物を、スペーサとして、ピクセルアレイ領域と対電極との間の領域に形成して規定のセルギャップを形成する。たとえばカラーフィルタの製造工程では、光リソグラフィーによって接着性を有する感光性材料が一般に使用される。この方法は、スペーサの場所、数及び高さを自由に制御することができる点で、スペーサビーズを使用する従来法に比較して有利である。カラー液晶表示パネルでは、そのようなスペーサは、カラーフィルタ素子の黒マトリクスの下の非画像区域に形成される。したがって、感光性組成物を使用して形成されるスペーサは、明るさ及び光学開度を低下させない。
【０２１８】
カラーフィルタ用の、スペーサを有する保護層を製造するための感光性組成物が特開２０００−８１７０１号公報に開示されており、また、スペーサ材料のための乾燥膜型フォトレジストが特開平１１−１７４４５９号公報及び特開平１１−１７４４６４号公報に開示されている。これらの文献に記載されているように、感光性組成物、液体及び乾燥膜フォトレジストは、少なくとも、アルカリ又は酸可溶性結合剤ポリマー、ラジカル重合性モノマー及びラジカル開始剤を含む。場合によっては、熱架橋性成分、たとえばエポキシド及びカルボン酸をさらに含めてもよい。
【０２１９】
感光性組成物を使用してスペーサを形成する工程は次のとおりである。感光性組成物を基材、たとえばカラーフィルタパネルに被着させ、基板をプレベークしたのち、マスクを介して露光させる。次に、基板を現像剤で現像し、パターン付けして所望のスペーサを形成する。組成物が熱硬化性成分を含む場合、通常、ポストベーキングを実施して組成物を熱硬化させる。
【０２２０】
本発明の光硬化性組成物は、その高い感度のため、液晶表示装置のスペーサ（上記のとおり）を製造するのに適している。
【０２２１】
本発明の感光性組成物はまた、液晶表示パネル、イメージセンサなどで使用されるマイクロレンズアレイを製造するのに適している。マイクロレンズは、能動光学電子装置、たとえば検出器、表示装置及び発光素子（発光ダイオード、水平及び垂直キャビティレーザ）に嵌合して、それらの光学的入力又は出力特質を改善する極小受動光学部品である。応用分野は広く、電気通信、情報技術、視聴覚サービス、ソーラセル、検出器、ソリッドステート光源及び光学相互接続などの分野に及ぶ。
【０２２２】
本光学系は、マイクロレンズと微小光学素子との効率的な結合を得るために多様な技術を使用する。マイクロレンズアレイは、照射光を非発光表示装置、たとえば液晶表示装置の画素領域に集束して表示装置の明るさを増すため、入射光を集束するため、又はたとえばファクシミリなどに使用されるラインイメージセンサの光電気変換領域に像を形成してこれらの装置の感度を改善するための手段として、また、液晶プリンタ又は発光ダイオード（ＬＥＤ）プリンタで使用される感光手段上にプリントされる像を形成するために使用される。
【０２２３】
もっとも一般的な用途は、ソリッドステート感像装置、たとえば電荷結合素子（ＣＣＤ）の光検出器アレイの効率を改善するための用途である。検出器アレイでは、各検出器素子又はピクセル中でできるだけ多くの光の収集が望まれる。マイクロレンズを各ピクセルの上に置くならば、レンズが入射光を収集し、それを、レンズのサイズよりも小さい能動区域に集束させる。
【０２２４】
従来技術によると、マイクロレンズアレイは多様な方法で製造することができる。
（１）凸レンズを得るための、従来の光リソグラフィー技術などによって平面形状のレンズのパターンを熱可塑性樹脂上に描いたのち、熱可塑性樹脂を、樹脂の軟化点を超える温度まで加熱して流動性を帯びさせ、それにより、パターンエッジに垂下（いわゆる「リフロー」）を生じさせる方法（たとえば特開昭６０−３８９８９号公報、特開昭６０−１６５６２３号公報、特開昭６１−６７００３号公報及び特開２０００−３８５０３号公報を参照）。この方法では、使用される熱可塑性樹脂が感光性であるとき、この樹脂を露光させることによってレンズのパターンを得ることができる。
【０２２５】
（２）型又はスタンパの使用によってプラスチック又はガラス材料を成形する方法。レンズ材料として、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂をこの方法に使用することができる（たとえばＷＯ９９／３８０３５を参照）。
【０２２６】
（３）アライナを使用することによって感光性樹脂を所望のパターンで露光させると、未反応モノマーが未露光領域から露光領域に移動し、露光領域の膨張を生じさせる現象に基づいて凸レンズを形成する方法（たとえばJournal  of  the  Research  Group  in  Microoptics  Japanese  Society  of  Applied  Physics,  Colloquium  in  Optics,  Vol.  5,  No.  2,  pp.  118-123(1987)及びVol.  6,  No.  2,  pp.  87-92(1988)を参照）。
【０２２７】
支持基材の上面に感光性樹脂層を形成する。その後、別個の遮光マスクを使用しながら、感光性樹脂層の上面に水銀灯などの光を照射して、感光性樹脂層を露光させる。その結果、感光性樹脂層の露光部分が凸レンズの形状に膨張して、複数のマイクロレンズを有する光集束層を形成する。
【０２２８】
（４）フォトマスクを樹脂と接触させない近接露光技術によって感光性樹脂を露光させてパターンエッジにぼけを生じさせ、光化学反応生成物の量を、パターンエッジにおけるぼけの程度に依存して分布させる、凸レンズを得る方法（たとえば特開昭６１−１５３６０２号公報を参照）。
【０２２９】
（５）感光性樹脂を特定の強度分布で露光させて、光の強さに依存する屈折率分布パターンを形成する、レンズ効果を生成する方法（たとえば特開昭６０−７２９２７号公報及び特開昭６０−１６６９４６号公報を参照）。
【０２３０】
光硬化性樹脂組成物を使用してマイクロレンズアレイを形成するために、本発明の感光性組成物を上述した方法のいずれで使用してもよい。
【０２３１】
ある特定の分類の技術は、フォトレジストのような熱可塑性樹脂でマイクロレンズを形成することに専念している。ある例が、Popovicらにより、参考文献SPIE  898,  pp.  23-25(1988)で公表されている。「リフロー技術」と呼ばれるこの技術は、フォトレジストのような感光性樹脂におけるたとえば光リソグラフィーによって熱可塑性樹脂中にレンズのフットプリントを画定する工程と、次に、この材料をそのリフロー温度よりも高く加熱する工程とを含む。表面張力がフォトレジストのアイランドを、リフロー前に元のアイランドに等しい容積の球形キャップに引き込む。このキャップは平凸マイクロレンズである。この技術の利点は、とりわけ、簡単さ、再現精度及び発光もしくは光検出光学電子素子の上への直接集積の可能性である。場合によっては、リフローの前に、パターン付けした長方形のレンズユニットの上にオーバコート層を形成して、リフロー工程で球形キャップ中にリフローさせることなく、中央部での樹脂のアイランドの垂下を避ける。オーバコートは、永久的な保護層として働く。保護層もまた、感光性組成物でできている。
【０２３２】
マイクロレンズアレイはまた、たとえばＥＰ９３２２５６で開示されているように、型又はスタンパの使用によって製造することもできる。平面マイクロレンズアレイを製造する方法は次のとおりである。離型剤を、凸部分が密に配設されているスタンパの成形面に塗布し、高い屈折率を有する光硬化性合成樹脂材料をスタンパの成形面にセットする。次に、ベースガラス板を合成樹脂材料に押し当て、それにより、合成樹脂材料を延展させ、紫外線照射又は加熱によって合成樹脂材料を硬化させ、成形して凸マイクロレンズを形成する。その後、スタンパを剥離する。次に、低い屈折率を有する光硬化性合成樹脂材料を接着層として凸マイクロレンズ上にさらに塗布し、カバーガラス板として製造されたガラス基板を合成樹脂材料に押し付けて、それにより、合成樹脂材料を延展させる。そして、合成樹脂材料を硬化させ、最後に平面マイクロレンズアレイを形成する。
【０２３３】
ＵＳ５，９６９，８６７に開示されているように、型を使用する同様な方法が、カラー液晶表示パネルのバックライト装置の一部として使用されて明るさを高めるプリズムシートの製造に適用される。片側にプリズム列を形成するプリズムシートがバックライトの発光面に取り付けられる。プリズムシートを製造するためには、活性エネルギー光線硬化性組成物を、金属、ガラス又は樹脂でできた、プリズム列などのレンズ形を形成するレンズ型に流延したのち、透明な基材シートをその上に配置し、活性エネルギー光線発光源からの活性エネルギー光線をシートに透過させて照射して硬化させる。そして、調製したレンズシートをレンズ型から離型させてレンズシートを得る。
【０２３４】
レンズセクションを形成するために使用される活性エネルギー光線硬化性組成物は、透明基材への被着性及び適切な光学特性をはじめとする多様な性質を有しなければならない。
【０２３５】
少なくとも従来技術の何らかのフォトレジストを有するレンズは、光学スペクトルの青端の光学透過率が不十分であるため、用途によっては望ましくない。本発明の光硬化性組成物は、熱的及び光化学的に低い黄変性を有するため、上記のようなマイクロレンズアレイの製造に適している。
【０２３６】
新規な感放射線性組成物はまた、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）の製造過程で使用される光リソグラフィー工程、特にバリヤリブ、蛍光層及び電極の像形成過程に適している。
【０２３７】
ＰＤＰとは、ガス放電による発光のおかげで画像及び情報を表示するための平面表示装置である。パネルの構成及び作動方法の点で、二つのタイプ、すなわちＤＣ（直流）タイプ及びＡＣ（交流）タイプが公知である。
【０２３８】
一例として、ＤＣタイプカラーＰＤＰの原理を簡単に説明する。ＤＣタイプカラーＰＤＰでは、２枚の透明基板（一般にはガラス板）の間にある空間が、透明基板の間に挿入された格子状のバリヤリブにより、多数の微細なセルに分割されている。個々のセルには、放電ガス、たとえばＨｅ又はＸｅが封入されている。
各セルの後壁には、放電ガスの放電によって生成される紫外線によって励起されると三原色の可視光線を発する蛍光層がある。２枚の基板の内面には、電極が、関連するセルをはさんで互いに対向して配置されている。一般に、陰極は、透明な導電性材料、たとえばＮＥＳＡガラスの膜で形成されている。前壁及び後壁に形成されたこれらの電極の間に高い電圧が印加されると、セル中に封入された放電ガスがプラズマ放電を誘発し、その結果として照射される紫外線のおかげで、赤、青及び緑の蛍光要素を励起して発光させ、画像表示を生じさせる。フルカラー表示システムでは、上述した赤、青及び緑の三原色それぞれの三つの蛍光素子が合わさって一つの画素を形成する。
【０２３９】
ＤＣタイプＰＤＰのセルは、格子の部品バリヤリブによって分割されているが、ＡＣタイプＰＤＰのセルは、基板表面で互いに並行に配設されたバリヤリブによって分割されている。いずれの場合でも、セルはバリヤリブによって分割されている。これらのバリヤリブは、蛍光放電を一定区域に閉じ込めて、偽放電又は隣接する放電セル間のクロストークを排除し、理想的な表示を保証するためのものである。
【０２４０】
新規な組成物はまた、感光性熱硬化性樹脂組成物及びその使用によってはんだレジストパターンを形成する方法に関し、より具体的には、プリント回路板の製造、金属製品の精密製造、ガラス及び岩石製品のエッチング、プラスチック製品のレリーフならびに版面の調製の材料として有用であり、特にプリント回路板のはんだレジストとして有用である新規な感光性熱硬化性樹脂組成物に関し、また、樹脂組成物の層を、パターンを有するフォトマスクを介して選択的に化学線に露光させる工程と、層の未露光部分を現像する工程とによってはんだレジストパターンを形成する方法に関する。
【０２４１】
はんだレジストは、所与の部分をプリント回路板にはんだ付けする際、溶融したはんだが無関係な部分に付着することを防ぎ、回路を保護するために使用される物質である。したがって、高い付着性、絶縁抵抗、耐はんだ温度性、耐溶媒性、耐アルカリ性、耐酸性及び耐めっき性のような性質を有することが必要である。
【０２４２】
本発明の主題はまた、上記組成物を含むはんだレジストである。
【０２４３】
好ましいものは、本発明で化合物（Ｅ）として記載された熱硬化性要素を含む組成物の、像形成法、たとえば、
（１）上記組成物の成分を混合し、
（２）得られた組成物を基材に被着させ（「組成物の適用」）、
（３）溶媒を、存在するならば、高温、たとえば８０〜９０℃で蒸発させ、
（４）被覆された基板をネガ型マスクを介して電磁線にパターン様に露光し（それにより、アクリレートの反応を開始させる）、
（５）照射を受けた試料を、アルカリ水溶液で洗浄し、それにより、未硬化区域を除くことによって現像し、
（６）試料を、たとえば約１５０℃で熱硬化させる、
はんだマスクの調製法における使用である。
【０２４４】
加熱工程（６）は通常、＞１００℃かつ＜２００℃、好ましくは１３０〜１７０℃、たとえば１５０℃で実施する。
【０２４５】
【実施例】
以下の例が本発明をさらに詳細に説明する。別段記載されない限り、部及び％値は、明細書の他の部分及び請求の範囲と同様、重量基準である。具体的な異性体を挙げることなく３個を超える炭素原子を有するアルキル基をいう場合、いずれの場合もｎ異性体をいう。
【０２４６】
例１：２，５−ジメトキシベンズアルデヒドオキシム−Ｏ−アセテートの合成
式（Ｉ）中、Ａｒ1＝
【０２４７】
【化１９】
0004532726.tif 000016
【０２４８】
、Ｒ1＝ＣＯＣＨ3
【０２４９】
１．ａ：２，５−ジメトキシベンズアルデヒドオキシム
エタノール（１００ml）中２，５−ジメトキシベンズアルデヒド１６．６g（９９．９mmol）に、Ｈ2Ｏ５０ml中Ｈ2ＮＯＨ−ＨＣｌ７．６４g（１６９mmol）及び酢酸ナトリウム１３．９g（１６９mmol）の混合物を加えた。この反応混合物を環流状態で２．５時間加熱した。Ｈ2Ｏを加えて沈殿した無機塩を溶解したのち、減圧中の蒸発によってエタノールを除去した。得られた白色の固体をろ別し、Ｈ2Ｏで洗浄した。白色固体１４．９gを得た（８２％）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ〔ppm〕：3.79（s,  3H）、3.82（s,  3H）、6.85（d,  1H）、6.92（d,  1H）、7.25（d,  1H）、8.00（ブロードs,  1H）、8.47（s,  1H）
【０２５０】
１．ｂ：２，５−ジメトキシベンズアルデヒドオキシム−Ｏ−アセテート
２，５−ジメトキシベンズアルデヒドオキシム２．００g（１１．０mmol）及び塩化アセチル１．１３g（１４．３mmol）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１５mlに溶解した。この溶液に、氷槽温度のトリエチルアミン１．６７g（１６．５mmol）を徐々に加えた。添加が完了したのち、反応混合物を室温で３時間攪拌し、Ｈ2Ｏを加えて得られた白色固体を溶解した。粗生成物を酢酸エチルで抽出した。この有機層をＮａＨＣＯ3飽和水溶液及びブラインで２回洗浄したのち、無水ＭｇＳＯ4で乾燥させた。残渣をシリカゲル上で酢酸エチル／ヘキサン（１：４）を溶離剤として用いてカラムクロマトグラフィーに付した。融点５５〜５７℃の白色固体２．０３gを得た（８３％）。構造を1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3）によって確認した。
δ〔ppm〕：2.23（s,  3H）、3.81（s,  3H）、3.83（s,  3H）、6.87（d,  1H）、7.01（dd,  1H）、7.47（d,  1H）、8.75（s,  1H）
【０２５１】
例２〜３０
例１に記載した方法にしたがって、例２〜３０の化合物を対応する各アルデヒドから調製した。化合物及びそれらの1Ｈ−ＮＭＲデータを表１に掲げる。
【０２５２】
【表１】
0004532726.tif 000017
【０２５３】
【表２】
0004532726.tif 000018
【０２５４】
【表３】
0004532726.tif 000019
【０２５５】
【表４】
0004532726.tif 000020
【０２５６】
【表５】
0004532726.tif 000021
【０２５７】
【表６】
0004532726.tif 000022
【０２５８】
以下の増感剤を例３１及び３２に使用した。
Ｓ−１  ２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントンとの混合物（International  Biosynthetics社製のQUANTACURE（登録商標）ＩＴＸ）
Ｓ−２  ４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（ミヒラーケトン）
【０２５９】
例３１
以下の成分
アクリル化アクリルコポリマー（ダイセル化学工業製のＡＣＡ２００Ｍ（登録商標）固形分５０重量％）２００．０重量部
ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（UCB  Chemicals社製）１５．０重量部
アセトン１００．０重量部
を混合することにより、感度試験のための光硬化性配合物を調製した。
【０２６０】
この混合物に、増感剤０．５％（固形分基準）及び試験する開始剤２％（固形分基準）を加え、攪拌した。すべての手順を黄色光の下で実施した。配合物をアルミニウム板に被着させた。対流オーブン中、８０℃で１５分間加熱することにより、溶媒を除去した。乾燥膜の厚さは２５μmであった。この塗膜の上にアセテート膜を被着させ、その上に、２１段階の異なる光学密度（Stoufferステップくさび）を有する標準化試験ネガを配置した。試料を第二のＵＶ透過膜で覆い、減圧によって金属板に押し付けた。露光は、最初の試験では４０秒間、第二の試験では８０秒間、第三の試験では１６０秒間、メタルハライド灯（ＯＲＣ、モデルＳＭＸ３０００）を６０cmの距離で使用して実施した。露光ののち、カバー膜及びマスクを外し、露光したフィルムを、１％炭酸ナトリウム水溶液で、スプレー型現像機（Walter  Lemmen社、モデルＴ２１）を使用することにより、３０℃で１８０秒間現像した。現像後に残った（すなわち重合した）最高段数を示すことにより、使用した開始剤系の感度を決定した。段数が高くなればなるほど、試験した系は高感度であった。結果を表２にまとめる。
【０２６１】
【表７】
0004532726.tif 000023
【０２６２】
例３２
ポリ（ベンジルメタクリレート−ｃｏ−メタクリル酸）の調製
ベンジルメタクリレート２４g、メタクリル酸６g及びアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５２５gをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセテート（ＰＧＭＥＡ）９０mlに溶解した。得られた反応混合物を、８０℃に予熱した油浴に入れた。窒素下８０℃で５時間攪拌したのち、得られた粘ちょうな溶液を室温まで冷まし、さらに精製することなく使用した。固形分は約２５％であった。
【０２６３】
以下の成分
上記のように調製した、２５％プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセテート（ＰＧＭＥＡ）溶液中ベンジルメタクリレートとメタクリル酸とのコポリマー（ベンジルメタクリレート：メタクリル酸＝重量比８０：２０）２４０．０重量部、
ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（UCB  Chemicals社製）４０．０重量部、
光開始剤２．０重量部、
増感剤１．２重量部及び
ＰＧＭＥＡ１２０．０重量部
を混合することにより、光硬化性組成物を調製した。
【０２６４】
すべての手順を黄色光の下で実施した。電気式アプリケータをワイヤ巻きバーとともに使用して組成物をアルミニウム板に被着させた。対流オーブン中１００℃で２分間加熱することにより、溶媒を除去した。乾燥膜の厚さは約２μmであった。２１段階の異なる光学密度（Stoufferステップくさび）を有する標準化試験ネガフィルムを、フィルムとレジストとの間に約１００μmのエアギャップを置いて配置した。２５０Ｗ超高圧水銀灯（ウシオ電機、ＵＳＨ−２５０ＢＹ）を１５cmの距離で使用して露光を実施した。試験ネガフィルムに対して光学出力計（ＯＲＣ  ＵＶ光計測モデルＵＶ−Ｍ０２、ＵＶ−３５検出器付き）によって計測した全露光線量は５００mJ/cm2であった。露光ののち、露光したフィルムを、１％炭酸ナトリウム水溶液で、スプレー型現像機（Walter  Lemmen社、モデルＴ２１）を使用することにより、３０℃で１００秒間現像した。現像後に残った（すなわち重合した）最高段数を示すことにより、使用した開始剤系の感度を決定した。段数が高くなればなるほど、試験した系は高感度であった。結果を表３にまとめる。
【０２６５】
【表８】
0004532726.tif 000024
【０２６６】
【表９】
0004532726.tif 000025