(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表されるニトロ化合物と下記一般式（ＩＩ）で表されるシリル化合物を反応させた後、その生成物と過酸化水素を反応させることを特徴とする一般式(III）で表されるカルボニル化合物の製造方法。
【化１】
0004491104.tif 000013
（式中、Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して水素原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロ環残基を表し、Ｒ１とＲ２が同時に水素原子を表すことはない。また、Ｒ１とＲ２は結合して、ニトロ基が結合している炭素原子と共に非金属原子からなる置換または非置換の環を形成していても良い。Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基を表す。また、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５の任意の２つの置換基は結合して、それらが結合している珪素原子と共に非金属原子からなる置換または非置換の環を形成してもよい。Ｘはハロゲン原子を表す。）
【請求項２】
一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つが、置換又は非置換の窒素原子及び／又は硫黄原子を含有するヘテロ環残基を置換基として有する、アルキル基、アリール基又はヘテロ環残基である請求項１に記載のカルボニル化合物の製造方法。
【請求項３】
一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つが、置換又は非置換のアミノ基を置換基として有する、アルキル基、アリール基又はヘテロ環残基である請求項１に記載のカルボニル化合物の製造方法。
【請求項４】
一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つが、置換又は非置換のインドリニル残基を置換基として有するアルキル基である請求項１に記載のカルボニル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は医薬品、農薬、染料、電子写真材料の分野において重要な中間体であるカルボニル化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
カルボニル化合物の合成は、古くから数多くの方法が開発されており、その一例として、ニトロ基をカルボニル基に変換する方法（Ｎｅｆ反応）が知られている。この方法は、例えば、強塩基と強酸での処理方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９９pp.３８６１（１９７７）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１７，pp.５８１（１９５２））、オゾン酸化法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３９，pp.２５９（１９７４））、三塩化チタン等のルイス酸処理法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９３． pp.５３０９（ １９７１）、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，９， pp.５２（１９６６））、重金属酸化物による酸化法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２７， pp.３６９９（１９６２）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓｌ．，１９９７（３）， pp.２０７、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９８２（１１）， pp.６３５、ロシア特許（ＳＵ）８２９６２８号、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２２（５２）， pp. ５２３５（１９８７））、電極反応法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８６（９）， pp.７６６、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８３（９）， pp.７６３））、酸−過酸化水素法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．ＵＳＳＲ（Ｅｎｇｌ．Ｔｒａｎｓｌ．)，１５， pp.２２０４（１９７９））、塩基−過酸化水素法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ， １９８８（１１）， pp.９１５）等が挙げられる。
【０００３】
しかし、これらの方法には幾つかの欠点がある。例えば、強塩基と強酸での処理方法、酸−過酸化水素法および塩基−過酸化水素法では、反応条件が激しいために分子内にエステル、アミド、シアノ基等の官能基が共存する場合は加水分解等の副反応が起こり、収率及び品質に悪影響を与える。また、オゾン酸化法や電極反応法では、高価な設備が必要であり、ルイス酸処理法や重金属酸化物による酸化法では、生じる重金属残渣の処理が大きな問題である。
【０００４】
一方、塩基存在下ニトロ化合物をトリメチルシリル化合物と反応させ、次いでｍ−クロロ過安息香酸で処理する過酸酸化法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２８(４４)， pp.５３６１（１９８７））や、塩基存在下ニトロ化合物をトリメチルシリル化合物と反応させ、硝酸二アンモニウムセリウム（ＣＡＮ）で酸化する方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８０，pp.４４）が報告されている。しかし、上記の反応はアミノ基や含窒素環、チオエーテル、含硫黄環が存在する場合や、一級ニトロアルカン類等（一般式（Ｉ）においてＲ１またはＲ２のどちらかが水素原子の場合）を基質に用いてアルデヒド類を製造する場合には副反応が起こるため、これらの置換基を有する基質には用いることができなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、緩和な反応条件で、分子内にアミノ基、含窒素環、チオエーテルおよび含硫黄環を有する場合や、一級ニトロアルカン類等の基質からアルデヒド類を製造する場合でも副生物を生成せず、高収率且つ高純度なカルボニル化合物の製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、下記の製造方法によって上記目的が達成されることを見出した。
即ち、本発明は、下記構成である。
（１）下記一般式（Ｉ）で表されるニトロ化合物と下記一般式（ＩＩ）で表されるシリル化合物を反応させた後、その生成物と過酸化水素を反応させることを特徴とする一般式(III）で表されるカルボニル化合物の製造方法。
【０００７】
【化２】
0004491104.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して水素原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロ環残基を表し、Ｒ１とＲ２が同時に水素原子を表すことはない。また、Ｒ１とＲ２は結合して、それらが結合している炭素原子と共に非金属原子からなる置換または非置換の環を形成していても良い。Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基を表す。また、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５の任意の２つの置換基は結合して、それらが結合している炭素原子と共に非金属原子からなる置換または非置換の環を形成してもよい。Ｘはハロゲン原子を表す。）
（２）  一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つが、置換又は非置換の窒素原子及び／又は硫黄原子を含有するヘテロ環残基を置換基として有する、アルキル基、アリール基又はヘテロ環残基である前記（１）に記載のカルボニル化合物の製造方法。
（３）  一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つが、置換又は非置換のアミノ基を置換基として有する、アルキル基、アリール基又はヘテロ環残基である前記（１）に記載のカルボニル化合物の製造方法。
（４）  一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２のうち少なくとも１つが、置換又は非置換のインドリニル残基を置換基として有するアルキル基である前記（１）に記載のカルボニル化合物の製造方法。
【０００９】
本発明は、出発物質である一般式（Ｉ）で表されるニトロ化合物を、一般式（ＩＩ）で表されるシリル化合物と反応させる。このとき、シリルニトロナート化合物の如き中間体が生成していると思われる。この中間体に過酸化水素を反応させることにより、一般式(III）で表されるカルボニル化合物が得られる。本発明は、温和な条件で反応が進行し、また分子内にアミノ基や含窒素環、チオエーテルが存在する場合や、一級ニトロアルカン類等の基質からアルデヒド類を製造する場合でも、酸化や加水分解といった副反応が起こらないため目的のカルボニル化合物を高収率且つ高純度で得ることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明について、詳細に説明する。
本発明の方法で使用されるニトロ化合物は、上記した通りの一般式（Ｉ）で表わされるが、一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２は、互いに独立して水素原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロ環残基を表す。具体的には水素原子；メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の直鎖、分岐または環状のアルキル基；フェニル、ナフチル、フェナントリル等のアリール基；フリル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、クマリニル、ベンゾチアゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、モルホリニル、ピラゾリジニル等のヘテロ環残基が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜１０の置換または非置換アルキル基、置換または非置換フェニル基、置換または非置換の含窒素ヘテロ環残基であり、より好ましくは炭素数１〜６の置換または非置換アルキル基、置換または非置換フェニル基である。但し、Ｒ１とＲ２が同時に水素原子である場合を除く。
【００１１】
上記アルキル基、アリール基、ヘテロ環残基に置換する基は、一置換でも多置換でもよく、多置換の場合は各々の置換基は同一でも異なってもよい。また、置換基は反応に関与しない部位であればどこに置換していてもよい。置換基は塩基、一般式（ＩＩ）で表されるシリル化合物および過酸化水素と反応しないものであるか、あるいはシリル化合物と反応しうるものでも後処理により加水分解して元の置換基に戻るものであれば何でもよい。例えば、シアノ基；アミノ、ジメチルアミノ、アニリノ等の置換または非置換アミノ基；アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等のアシルアミノ基；エチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等のスルホニルアミノ基；スルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル等の置換または非置換スルファモイル基；カルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル等の置換または非置換カルバモイル基；メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ等のウレタン基；ウレイド、Ｎ−エチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジフェニルウレイド等の置換または非置換ウレイド基；ピリジル、ジピリジル、ピリミジニル、ピリダジニル、キノリル、イソキノリル、ピラゾリル、イミダゾリル、テトラゾリル、３−フェニルピペリジル、モルホリニル、インドリル、１−メチルインドリル、インドリニル、１−エチルインドリニル等の置換または非置換含窒素ヘテロ環残基；メチルチオエチル、エチルチオプロピル等のアルキルチオアルキル基；フェニルチオメチル、ナフチルチオエチル等のアリールチオアルキル基；チエニル、テトラヒドロチエニル、２−メチルチエニル等の置換または非置換含硫黄ヘテロ環残基；チアゾリジニル、チアゾリル、２−メチルチアゾリニル等の置換または非置換含窒素・含硫黄ヘテロ環残基が挙げられる。
【００１２】
これらの更なる置換基の中で好ましくは、シアノ基、置換または非置換のアミノ基、アルキルチオアルキル基、アリールチオアルキル基、置換または非置換のピリジル、イミダゾリル、インドリル、インドリニル、チアゾリジニル、チアゾリル等の窒素原子及び／又は硫黄原子を含有するヘテロ環残基であり、より好ましくは、置換または非置換のアミノ基およびインドリニル、チアゾリジニル等の窒素原子及び／又は硫黄原子を含有するヘテロ環残基であり、特に好ましくは置換または非置換インドリニル残基である。
これらの更なる置換基は、上記アルキル基、アリール基、ヘテロ環残基に直接置換していても、または連結基を介して結合していてもよい。連結基としては、好ましくはメチレン、エチレン、ブチレン等のアルキレン基；１，４−フェニレン基、１，５−ナフチレン基等のアリーレン基；ピリミジン−２，４−ジイル基、１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル基等の２価のヘテロ環残基が挙げられる。また、これらの連結基は置換基を有していてもよい。
【００１３】
また、Ｒ１とＲ２は互いに結合して、ニトロ基が結合している炭素原子と共に非金属原子からなる置換または非置換の環を形成していても良く、具体例としてはシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族環；エチルシクロペンタン、ジメチルアミノシクロヘキサン等の置換脂肪族環；ピペリジン、ピラゾリン、ピロリジン等のヘテロ環；１−メチルピペリジン、１−ベンジルピロリジン、１−ナフチル−２−ピラゾリン等の置換ヘテロ環が挙げられる。
【００１４】
尚、本発明の方法で使用されるニトロ化合物は、ニトロオレフィン化合物から還元または付加反応で簡単に合成することができる（例えば、Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，５０，pp.１２９２（１９７２）、Ｓｙｎｔｈ．ｃｏｍｍｕｎ．，１２（５）， pp.１０９３（１９８２）、Ｓｙｎｔｈ．ｃｏｍｍｕｎ．，１５（２）， pp.１５１（１９８５）、Ｓｙｎｔｈ．ｃｏｍｍｕｎ．，１８（１）， pp.２１（１９８８）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ， ５１（１７）， pp.４９９７（１９９５）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４３（５）， pp.８１３（１９８７）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７０， pp.１４７（１９４８）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．ＵＳＳＲ（Ｅｎｇｌ．Ｔｒａｎｓｌ．），９， pp.１０８７（１９７３）、Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，２７， pp.１９８（１９７９）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２６， pp.１３４８（１９６１）等参照。）。
【００１５】
また、更にその前駆体であるニトロオレフィン化合物についても、従来から知られている方法で簡単に合成することができる（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２５，pp.４７（１９６０）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１５，pp.８（１９５０）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２８， pp.６６３（１９７２），Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．， pp.１４７，（１９６１）、Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，ＩＶ， pp.５７３（１９６３）、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８５（５）， pp.５１５等参照）。
【００１６】
本発明の方法で使用されるシリル化合物は、上記一般式（ＩＩ）で表わされるものであるが、一般式（ＩＩ）中のＲ３、Ｒ４及びＲ５の具体例としては、メチル、エチル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の直鎖、分岐または環状アルキル基；フェニルプロピル、メトキシエチル、２−クロロプロピル、ベンジル、３−ジメチルアミノメチル等の置換アルキル基；フェニル、ナフチル等のアリール基；トリル、キノリル、クロロフェニル、１−メチルピロリジニル、１−メチルピペリジル等の置換アリール基が挙げられる。
【００１７】
これらＲ３、Ｒ４及びＲ５の組み合わせとしては、いずれもメチル、エチル、イソプロピルあるいはフェニルを表す組み合わせ、１つがｔ−ブチルを表し、他の２つがメチルあるいはフェニルを表す組み合わせ、２つがメチルを表し、他の１つがフェニル、ビニル、クロロメチルあるいはオクタデシルを表す組み合わせ、２つがフェニルを表し、他の１つがメチルを表す組み合わせ等が挙げられ、好ましくはいずれもメチル、エチルあるいはイソプロピルを表す組み合わせ、１つがｔ−ブチルを表し、他の２つがメチルあるいはフェニルを表す組み合わせ、２つがメチルを表し、他の１つがフェニルを表す組み合わせであり、より好ましくはいずれもメチル、エチルあるいはイソプロピルを表す組み合わせ、１つがｔ−ブチルを表し、他の２つがメチルを表す組み合わせである。
【００１８】
また、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５の中の任意の２つの置換基は結合して、それらが結合している珪素原子と共に非金属原子からなる置換または非置換の環を形成してもよく、具体例としてはシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族環；エチルシクロペンタン、ジメチルアミノシクロヘキサン等の置換脂肪族環；ピペリジン、ピラゾリン、ピロリジン等のヘテロ環；１−メチルピペリジン、１−ベンジルピロリジン、１−ナフチル−２−ピラゾリン等の置換ヘテロ環が挙げられる。
Ｘは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子を表し、好ましくは塩素及び臭素である。
【００１９】
尚、上記シリル化合物は市販品を容易に入手することが可能であるし、また、従来知られている方法を用いて容易に合成することもできる（例えば、ＡｃｔａＣｈｅｍ．Ｓｃａｎｄ．，５ ， pp.１１７３（１９５１）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７３， pp.２５０９（１９５１）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３４， pp.６３８（１９６９）、Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，１８８， pp.２５（１９８０）等参照）。
【００２０】
以下に一般式（ＩＩ）及び一般式(III）で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
【００２１】
【化３】
0004491104.tif 000003
【００２２】
【化４】
0004491104.tif 000004
【００２３】
【化５】
0004491104.tif 000005
【００２４】
ニトロ化合物とシリル化合物の反応においては、通常塩基性条件下で行なう。本発明で用いられる塩基は、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、ブチルリチウム、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、トリエチルアミン（ＴＥＡ）、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）等が挙げられ、好ましくはトリエチルアミン（ＴＥＡ）、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）等の有機塩基であり、より好ましくは１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ ）、及び、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）である。
【００２５】
本発明の方法においては、通常ニトロ化合物とシリル化合物の反応の際に上記した塩基を存在させるが、その際の塩基の使用量はニトロ化合物１モルに対し、通常１．０〜１０モル量、好ましくは１．０〜５．０モル量、より好ましくは１．２〜２．０モル量であるのが望ましい。
【００２６】
また、シリル化合物の使用量はニトロ化合物１モルに対し、通常１．０〜１０モル量、好ましくは２．０〜５．０モル量であるのが望ましい。
【００２７】
本発明においては、反応溶媒は使用しなくでもよいが、必要に応じて溶媒を使用しても良い。溶媒は基本的にシリル化合物や過酸化水素と反応しない溶媒なら何でも良く、例えば、アニゾール、トルエン、アセトニトリル、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等を使用しても良い。望ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の水溶性溶媒である。
【００２８】
本発明において、ニトロ化合物とシリル化合物の反応（シリル化反応）の際の反応温度は−５０〜１５０℃、好ましくは−２０〜１００℃、より好ましくは−１０〜３０℃の範囲であるのが望ましい。これらの反応は通常１０時間以内で終了し、多くの場合は１〜２時間で終了する。尚、反応終了は、原料のニトロ化合物の消失で確認することができ、この確認は、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）または高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で行なうことができる。
【００２９】
原料の消失を確認した後、過酸化水素を添加しその生成物と反応させるが、シリルニトロナート化合物と考えられる中間体を単離せずに、そのまま一貫法で過酸化水素処理を行うことが可能である。
【００３０】
過酸化水素の使用量はニトロ化合物１モルに対し、好ましくは１．０〜１０モル量、より好ましくは１．０〜５．０モル量、更に好ましくは１．２〜２．０モル量の範囲で実施するのが好ましい。
過酸化水素での処理の温度は−２０〜１００℃、好ましくは−１０〜５０℃、より好ましくは０〜３０℃の範囲であるのが望ましい。これらの反応は通常３時間以内で終了し、多くの場合は０.５〜１時間で終了する。
【００３１】
反応終了後、目的物であるカルボニル化合物の精製方法としては、通常行われる方法、例えば再結晶、減圧蒸留、シリカゲルを用いたカラム精製、水蒸気蒸留等が挙げられる。多くの場合は貧溶媒の添加によって結晶化し、適当な溶媒で再結晶または再結晶をしなくても高純度な目的物を得ることが可能である。
【００３２】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
実施例１  ３−［５−（２−オキソプロピル）インドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−２）の合成
３−［５−（２−ニトロプロピル）インドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−１）１００．０ｇ（０．２７モル）を２００ｍｌのアセトニトリルに溶解し、内温０〜２０℃で１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ ）８２．０ｇ（０．５４モル）を添加した。次いで、塩化トリメチルシリル８８．０ｇ（０．８１モル）を３０分かけて滴下した後、０〜２０℃で１時間攪拌した。反応液を１０℃以下に冷却した後、３０％過酸化水素水４５．０ｇ（０．４０モル）を滴下し、引き続き０〜２０℃で１時間反応した。反応終了後、反応液に５００ｍｌの水を添加し、酢酸エチルエステル５００ｍｌで計２回抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後、無水芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムで精製し、目的物（Ａ−２） の微黄色粉末７４．２ｇ（収率８１．５％）を得た。ＨＰＬＣ分析（カラム ＹＭＣ Ａ−３１２、検出ＵＶ２７０ｎｍ、流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、溶離液 アセトニトリル／水＝７０：３０ トリエチルアミン０．２％、酢酸０．２％添加）の結果、純度は９７．８％であった。
【００３３】
実施例２  ３−［５−（２−オキソプロピル）−７−シアノインドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−４）の合成
３−［５−（２−ニトロプロピル）−７−シアノインドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−３） ８０．０ｇ（０．２０モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３２０ｍｌに溶解し、内温０〜１０℃で１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）４８．０ｇ（０．３２モル）を添加した。次いで塩化トリエチルシリル９２．０ｇ（０．６１モル）を３０分かけて滴下した後、０〜１０℃で１時間攪拌した。反応液を５℃以下に冷却した後、３０％過酸化水素水３５．７ｇ（０．３１モル）を滴下し、引き続き０〜１０℃で１時間反応した。反応液を１７００ｍｌの水中に添加晶析し、得られた粗製物を更に酢酸エチルとヘキサンから再結晶し、目的物（Ａ−４）の微黄色粉末６０．３ｇ（収率８２．０％）を得た。ＨＰＬＣ分析（カラム ＹＭＣ Ａ−３１２、検出ＵＶ２７０ｎｍ、流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、溶離液 アセトニトリル／水＝７０／３０ トリエチルアミン０．２％、酢酸０．２％添加）の結果、純度は９６．８％であった。
【００３４】
実施例３  ６−（４−メトキシフェニル）−４−メチルヘキサン−３−オン（Ａ−６）の合成
１−メトキシ−４−（３−メチル−４−ニトロヘキシル）ベンゼン（Ａ−５） ２５．１ｇ（０．１０モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解し、内温０〜１０℃で１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）２４．０ｇ（０．１６モル）を添加した。次いで塩化トリエチルシリル４６．０ｇ（０．３１モル）を３０分かけて滴下した後、０〜１０℃で１時間攪拌した。反応液を５℃以下に冷却した後、３０％過酸化水素水１８．８ｇ（０．１７モル）を滴下し、引き続き０〜１０℃で１時間反応した。反応液を８００ｍｌの水中に添加し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。亜硫酸ナトリウム水溶液、重曹水、飽和食塩水で洗浄した後、無水芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、目的物（Ａ−６）２０．９ｇ（収率９５．０％）を得た。ＨＰＬＣ分析（カラム ＹＭＣ Ａ−３１２、検出ＵＶ２５４ｎｍ、流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、溶離液 アセトニトリル／水＝７０／３０ トリエチルアミン０．２％、酢酸０．２％添加）の結果、純度は９８．１％であった。
【００３５】
実施例４  ３，７−ジメチル−１−（５−メチル−６−オキソ−６−フェニルヘキシル）−３，７−ジヒドロプリン−２，６−ジオン（Ａ−８）の合成
３，７−ジメチル−１−（５−メチル−６−ニトロ−６−フェニルヘキシル）−３，７−ジヒドロプリン−２，６−ジオン（Ａ−７） ４０．０ｇ（０．１０モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解し、内温０〜１０℃で１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）２４．０ｇ（０．１６モル）を添加した。次いで塩化トリエチルシリル４６．０ｇ（０．３１モル）を３０分かけて滴下した後、０〜１０℃で１時間攪拌した。反応液を５℃以下に冷却した後、３０％過酸化水素水１８．８ｇ（０．１７モル）を滴下し、引き続き０〜１０℃で１時間反応した。反応液を１０００ｍｌの水中に添加し、０〜５℃で５時間攪拌した後、生成した結晶を濾過し、目的物（Ａ−８）３４．３ｇ（収率９３．１％）を得た。ＨＰＬＣ分析（カラム ＹＭＣ Ａ−３１２、検出ＵＶ２５４ｎｍ、流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、溶離液 アセトニトリル／水＝６０／４０ トリエチルアミン０．２％、酢酸０．２％添加）の結果、純度は９６．３％であった。
以下に、前述のＡ−１〜Ａ−８の化合物の構造を示す。
【００３６】
【化６】
0004491104.tif 000006
【００３７】
実施例５〜実施例２１
ニトロ化合物、シリル化合物及び塩基を、下記表−１に記載される通り変更した以外は、実施例１に記載される方法と同様にカルボニル化合物を合成した。その結果得られたカルボニル化合物の収率と純度を下記表−１に示す。
【００３８】
【表１】
0004491104.tif 000007
【００３９】
【表２】
0004491104.tif 000008
【００４０】
【表３】
0004491104.tif 000009
【００４１】
【表４】
0004491104.tif 000010
【００４２】
以下の５種のＮｅｆ反応（強塩基と強酸での処理方法、塩基−過酸化水素法、過酸酸化法、硝酸二アンモニウムセリウム（ＣＡＮ）酸化法および重金属酸化物による酸化法）を用いて実施例２の化合物を合成し、本発明との比較を行った。以下に、その結果を述べる。
比較例１   強塩基と強酸での処理方法（ Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１７，pp.５８１（１９５２）記載の方法）
２００ｍｌの四つ口フラスコにエタノール１５ｍｌを入れ、氷冷、窒素気流下、ナトリウム０.４６ｇ（０.０２モル）を添加し、３０分間攪拌した。３−［５−（２−ニトロプロピル）−７−シアノインドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−３）４．０ｇ（０．０１モル）をエタノール４０ｍｌに溶解し、内温０〜５℃で反応液に滴下し、同温のまま１時間攪拌した。次にこの反応液を、０〜５℃で１ｍｏｌ／Ｌの塩酸１２０ｍｌ（０．１２モル）と１００ｍｌのエタノールの混合液中に滴下し、同温で１時間反応した。重曹で中和した後、酢酸エチルで抽出し、乾燥、濃縮した。得られたオイルを実施例２と同条件でＨＰＬＣ分析し、またＮＭＲ、ＭＳによる構造解析を行った。その結果、目的物は生成されず、原料の残存および副生物（Ａ−２６）の生成（３８．７％）が確認された。
【００４３】
比較例２  塩基−過酸化水素法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８８，pp．９１５、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８６，pp.１０２４ 記載の方法）
氷冷下、３−[５−（２−ニトロプロピル）−７−シアノインドリニル]−プロピルベンゾエート（Ａ−３） ４．０ｇ（０．０１モル）をメタノール５０ｍｌに溶解し、内温０〜５℃で３０％過酸化水素水２０．０ｇ（０．１８モル）を滴下した。炭酸カリウム８．０ｇを添加し、室温まで昇温して、そのまま１０時間反応した。反応液を２ｍｏｌ／Ｌの塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥、濃縮した。得られたオイルを実施例２と同条件でＨＰＬＣ分析した結果、目的物のＨＰＬＣ含有率は５３．２％であり、原料の残存と多数の副生物の生成が確認された。このうち主な副生物（含有率１４．３％）をＨＰＬＣ分取し、ＮＭＲ、ＭＳによる構造解析を行ったところ、（Ａ−２７）の構造であることが判明した。
【００４４】
比較例３  過酸酸化法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２８(４４)， pp.５３６１（１９８７）記載の方法）
３−［５−（２−ニトロプロピル）−７−シアノインドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−３）４．０ｇ（０．０１モル）をジクロロメタン３０ｍｌに溶解し、氷冷、窒素気流下、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）１．８ｇ(０．０１２モル)を添加した。次いで塩化トリメチルシリル２．２ｇ（０．０２モル）を滴下した後、０〜５℃で３０分間攪拌した。 ｍ−クロロ過安息香酸２．５ｇ（０．０１４モル）をジクロロメタン３０ｍｌに溶解したものを滴下し、更に０℃〜室温の範囲で２時間反応した。反応終了後、１ｍｏｌ／Ｌの亜硫酸ソーダ水溶液６０ｍｌ、１ｍｏｌ／Ｌの塩酸６０ｍｌ、飽和重曹水４０ｍｌで順次洗浄し、乾燥、濃縮した。得られたオイルを実施例２と同条件でＨＰＬＣ分析した結果、目的物のＨＰＬＣ含有率は３．３％であり、原料の残存と多数の副生物が確認された。カラム等での精製は困難であった。主な副生物をＨＰＬＣ分取し、ＮＭＲ、ＭＳによる機器解析を行ったところ、（Ａ−２８）、（Ａ−２９）の構造であることが判明した。
【００４５】
比較例４ ＣＡＮ酸化法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８０，pp.４４ 記載の方法）
３−［５−（２−ニトロプロピル）−７−シアノインドリニル］−プロピルベンゾエート（Ａ−３）４．０ｇ（０．０１モル）をジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、氷冷、窒素気流下、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）２．３ｇ（０．０１５モル）を添加した。次いで塩化トリメチルシリル３．３ｇ（０．０３モル）を滴下した後、０〜５℃で３時間攪拌した。次に硝酸二アンモニウムセリウム（ＣＡＮ）８．５ｇ（０．０１６モル）を水２０ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、０℃〜室温で２時間反応した。反応終了後、１ｍｏｌ／Ｌの亜硫酸ソーダ水溶液６０ｍｌ、１ｍｏｌ／Ｌの塩酸６０ｍｌ、飽和重曹水４０ｍｌで順次洗浄し、乾燥、濃縮した。得られたオイルを実施例２と同条件でＨＰＬＣ分析した結果、目的物のＨＰＬＣ含有率は３１．１％であり、原料の残存（８．２％）と多数の副生物が確認された。カラム等での精製は困難であった。主な副生物をＨＰＬＣ分取し、ＮＭＲ、ＭＳによる機器解析を行ったところ、それぞれ（Ａ−２７）、（Ａ−２８）、（Ａ−２９）の構造であることが判明した。
【００４６】
比較例５ 重金属酸化物による酸化法（ Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２７， pp.３６９９（１９６２） 記載の方法）
氷冷下、３−[５−（２−ニトロプロピル）−７−シアノインドリニル]−プロピルベンゾエート（Ａ−３）４．０ｇ（０．０１モル）をアセトン４０ｍｌに溶解し、０℃で０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液１００ｍｌを添加した。次に同温で０．２ｍｏｌ／Ｌの過マンガン酸カリウム水溶液５ｍｌ（０．０１モル）を滴下した。０〜１０℃で２時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出し、乾燥、濃縮した。得られたオイルを実施例２と同条件でＨＰＬＣ分析し、またＮＭＲ、ＭＳによる構造解析を行った。その結果、目的物は生成されず、副生物（Ａ−２８）が８２．９％、（Ａ−３０）が９．４％生成していることが判明した。
比較例１〜５の結果を下記表−２に示した。尚、副生物の構造は、下記（Ａ−２６）〜（Ａ−３０）に示される通りである。
【００４７】
【表５】
0004491104.tif 000011
【００４８】
【化７】
0004491104.tif 000012
【００４９】
表−２から明らかなように、強塩基／強酸を用いる方法（比較例1）及び重金属酸化物を用いる方法（比較例５）では、全く目的のカルボニル化合物を得ることが出来ず、またシリル化合物を使用しない比較例２や、塩基、シリル化合物は使用するものの過酸化水素を使用せずに過酸化水素以外のもので酸化させた比較例3及び４でも、原料が残存し、副反応により不純物が大量に生成するために、収率が非常に低いことが判る。それに対し、塩基、シリル化合物及び過酸化水素を組み合わせた本発明の方法においては、従来技術とは比較にならないほどの高収率、高純度で目的のカルボニル化合物が得られることが判る。
【００５０】
【発明の効果】
本発明によれば、目的物であるカルボニル化合物を緩和な反応条件で、分子内にアミノ基、含窒素環、チオエーテルおよび含硫黄環を有する場合や、一級ニトロアルカン類等の基質からアルデヒド類を製造する場合でも副生物を生成せず、高収率且つ高純度に合成することができる。