(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し０．３質量％以上４５質量％以下含有する光学フィルムであって、前記光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、前記光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％であることを特徴とする光学フィルム。
【化１】
0004491353.tif 000052
[式中、Ｒ1は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上である。]
【化２】
0004491353.tif 000053
[式中、Ｒ31は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。]
【請求項２】
下記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し０．３質量％以上４５質量％以下含有する光学フィルムであって、２５℃１０％ＲＨから２５℃８０％ＲＨの温湿度条件のすべての範囲で、前記光学フィルムのＭＤ方向及びＴＤ方向のカール値が、−１４〜＋１４／ｍであり、２５℃８０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＭＤ方向のカール値ＣMD,80と２５℃１０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＭＤ方向のカール値ＣMD,10との差が−９／ｍ〜＋９／ｍであり、かつ、２５℃８０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＴＤ方向のカール値ＣTD,80と２５℃１０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＴＤ方向のカール値ＣTD,10との差が−９／ｍ〜＋９／ｍであることを特徴とする光学フィルム。
【化３】
0004491353.tif 000054
[式中、Ｒ1は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上である。]
【化４】
0004491353.tif 000055
[式中、Ｒ31は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。]
【請求項３】
前記光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、前記光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％であることを特徴とする請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記光学フィルムのＲｅ(λ)およびＲｔｈ(λ)が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）をみたすことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
式（Ｉ）０≦Ｒｅ(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
式（ＩＩ）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項５】
前記光学フィルムの厚みが３０〜７５μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
下記（１）および（２）の工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し複数の異なる濃度で添加し、溶融し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶融物を調製する工程。
（２）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤の濃度の高い溶融物が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共押出し法により基材上に押出し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
【請求項７】
下記（１）および（２）の工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し複数の異なる濃度で添加し、溶剤を加え溶解し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶液を調製する工程。
（２）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤の濃度の高い溶液が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共流延法または積層流延法により基材上に流延し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
【請求項８】
下記（１）、（２）および（３）の工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）溶剤にセルロースアシレートおよび前記一般式（１）または（２）で表される添加剤を加え溶解し溶液を調製し、これを基材上に流延する工程。
（２）前記溶液の揮発分量が８０％以下４０％以上の範囲になるまで乾燥し、フィルムを形成し、前記フィルムを前記基材から剥ぎ取る工程。
（３）前記基材から剥ぎ取ったフィルムの揮発分量を４５％以下１０％以上の範囲に調整し、これを１３１℃以上の温度で乾燥し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムに、Ｒｅ(630)が０〜２００ｎｍであり、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層を設けたことを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム、又は請求項９に記載の光学補償フィルムを少なくとも１枚、偏光膜の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム、請求項９に記載の光学補償フィルム、または請求項１０に記載の偏光板のいずれかを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
液晶モードがＶＡ方式またはＩＰＳ方式であることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、並びに光学フィルムの製造方法、光学フィルムを用いた光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、液晶セルおよび偏光板からなる。偏光板は偏光膜および保護フィルムを有し、例えば、ポリビニルアルコールからなる偏光膜をヨウ素にて染色して延伸を行ない、その両面に保護フィルムを貼り付けて形成される。透過型液晶表示装置では、この偏光板が液晶セルの両側に配置されており、さらには１枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、１枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。２枚の偏光膜あるいは、偏光膜と反射板の間に置かれる保護フィルムや光学補償フィルムは、液晶表示装置の表示性能に重大な影響を及ぼし、その機能は極めて重要である。
液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための２枚の基板、及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行ない、透過型および反射型のいずれの液晶表示装置にも適用できる、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
この様なＬＣＤの中でも、高い表示品位が必要な用途については、ＴＮモードによる液晶表示装置（９０度ねじれネマチック型液晶表示装置）が適している。このＴＮモードでは、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トタンジスタにより駆動している。このＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下するほか、階調表示で明るさが逆転する階調反転が起こることにより、表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。
【０００４】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるＩＰＳモード（インプレーンスイッチング）による液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割したＶＡ（垂直配向）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはパソコン等のモニター用途に留まらず、ＴＶ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなっかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。
【０００５】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳモードにおいて検討されている。例えば、傾斜時に液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示又は中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善する技術が開示されている（特許文献１参照）。また、負の固有複屈折を有するスチレン系ポリマーやディスコティック液晶性化合物からなる光学補償フィルムを使用した方法（特許文献２、３、４参照）が提案されている。
【０００６】
提案された上記方式の多くは、液晶セル内の液晶の複屈折異方性を打ち消して視野角を
改善する方式であるために、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを十分に解決できないという問題がある。また、この光漏れを補償できるとされる方式でも、液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。なぜなら、ある波長において完全に光漏れを補償できたとしても、他の波長で補償できるとは限らないからである。たとえば、視感度が最も大きい緑の波長で光りぬけを補償したとしても、より小さな波長の青やより大きな波長の赤における光漏れは生じるという問題がある。上記の問題を解決するために、非特許文献１では２枚の２軸性フィルムを積層することを提案している。
しかしながら、非特許文献１に記載の方法は、２枚の２軸性フィルムを用いるため、２軸フィルムの軸ずれが発生しやすく、画面むらが発生しやすいという問題があった。また黒表示時の光漏れは、液晶セルと偏光膜との間にある偏光板保護膜として従来用いられてきたトリアセチルセルロースフィルムに、正面レターデーションＲｅがおよそ５ｎｍ程度、膜厚方向のレターデーションＲｔｈがおよそ５０ｎｍあることも原因となっていた。そのため、正面レターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈがともに小さいセルロースアシレートフィルムを開発し、偏光板の保護フィルムとして用いることが望まれている。
【０００７】
また近年、液晶表示装置においては内部のバックライトで温度が上昇するほか、高温高湿度や低湿の過酷な環境下にて用いられる場合があり、上記の偏光板の保護フィルムであるトリアセチルセルロースフィルムが温度、湿度でそのＲｅ、Ｒｔｈが変化し、その光学補償能が変わり、黒表示時に光が漏れる、または画像にムラが生じるということが問題視されている。この場合、表示装置の縦横の長さが異なること、部材がもともと縦横で異なる物性を持つ場合があること、によって表示装置の枠の周囲から本来の黒表示時に光が漏れる現象や色味が変化することが問題である。加えて、温度、湿度の変化はフィルムをカールさせ、偏光板、引いては、偏光板と液晶セルが一体となった液晶表示装置がワープすることでコーナー部にリブ干渉によるセル変形の光漏れや色味ムラなど新たな故障の原因となることも大きな問題となっている。
カール値の制御は特許文献５、６、７などに記載された方法が知られている。しかしこれらの方法によっても湿度変化によるカール値の制御は十分ではなかった。
そのため、このような環境による幾何特性の変化や光学補償機能の変化が少ない液晶表示装置が得られるフィルムの開発が要望されている。
【０００８】
【特許文献１】特開平９−８０４２４号公報
【特許文献２】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献３】特開平１１−２０２３２３号公報
【特許文献４】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献５】特開２００１−１３１３０１号公報
【特許文献６】特開２００１−１５１９０２号公報
【特許文献７】特開２００１−１６３９９４号公報
【非特許文献１】Jｐｎ. Ｊ. Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４１．（２００２）４５５３．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、カールの絶対値が小さく、また温度、湿度などの環境変化によるカールの変化が少ない光学フィルムおよびその製造方法を提供することである。
また本発明の別の目的は、この光学フィルムを用いることにより優れた取り扱い性および視野角特性を有する光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討した結果、光学フィルム中の添加剤存在量を厚み方向に均一に分布させることによって、カールの絶対値並びに、温度および湿度による変化を小さくできることを見出した。
また本発明者らは、光学フィルムを主に構成する樹脂素材および添加剤を、特定の共押出し条件、流延条件あるいは乾燥条件でもって製膜することにより、前記光学フィルムを効率的に製造できる製造方法を見出した。
さらに本発明者らは、前記光学フィルムを光学補償フィルム、偏光板、および液晶表示装置に用いることにより、ワープや光漏れ、色味変化を低減できることを見出した。
【００１１】
以下に記載する手段により、本発明の課題が達成された。
〔１〕
下記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し０．３質量％以上４５質量％以下含有する光学フィルムであって、前記光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、前記光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％であることを特徴とする光学フィルム。
【化１０１】
0004491353.tif 000002
[式中、Ｒ1は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上である。]
【化１０２】
0004491353.tif 000003
[式中、Ｒ31は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。]
〔２〕
下記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し０．３質量％以上４５質量％以下含有する光学フィルムであって、２５℃１０％ＲＨから２５℃８０％ＲＨの温湿度条件のすべての範囲で、前記光学フィルムのＭＤ方向及びＴＤ方向のカール値が、−１４〜＋１４／ｍであり、２５℃８０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＭＤ方向のカール値ＣMD,80と２５℃１０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＭＤ方向のカール値ＣMD,10との差が−９／ｍ〜＋９／ｍであり、かつ、２５℃８０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＴＤ方向のカール値ＣTD,80と２５℃１０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＴＤ方向のカール値ＣTD,10との差が−９／ｍ〜＋９／ｍであることを特徴とする光学フィルム。
【化１０３】
0004491353.tif 000004
[式中、Ｒ1は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上である。]
【化１０４】
0004491353.tif 000005
[式中、Ｒ31は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。]
〔３〕
前記光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、前記光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％であることを特徴とする〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕
前記光学フィルムのＲｅ(λ)およびＲｔｈ(λ)が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）をみたすことを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学フィルム。
式（Ｉ）０≦Ｒｅ(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
式（ＩＩ）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
〔５〕
前記光学フィルムの厚みが３０〜７５μｍであることを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔６〕
下記（１）および（２）の工程を有することを特徴とする〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し複数の異なる濃度で添加し、溶融し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶融物を調製する工程。
（２）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤の濃度の高い溶融物が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共押出し法により基材上に押出し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
〔７〕
下記（１）および（２）の工程を有することを特徴とする〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤をセルロースアシレートに対し複数の異なる濃度で添加し、溶剤を加え溶解し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶液を調製する工程。
（２）前記一般式（１）または（２）で表される添加剤の濃度の高い溶液が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共流延法または積層流延法により基材上に流延し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
〔８〕
下記（１）、（２）および（３）の工程を有することを特徴とする〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）溶剤にセルロースアシレートおよび前記一般式（１）または（２）で表される添加剤を加え溶解し溶液を調製し、これを基材上に流延する工程。
（２）前記溶液の揮発分量が８０％以下４０％以上の範囲になるまで乾燥し、フィルムを形成し、前記フィルムを前記基材から剥ぎ取る工程。
（３）前記基材から剥ぎ取ったフィルムの揮発分量を４５％以下１０％以上の範囲に調整し、これを１３１℃以上の温度で乾燥し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
〔９〕
〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルムに、Ｒｅ(630)が０〜２００ｎｍであり、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層を設けたことを特徴とする光学補償フィルム。
〔１０〕
〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルム、又は〔９〕に記載の光学補償フィルムを少なくとも１枚、偏光膜の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
〔１１〕
〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルム、〔９〕に記載の光学補償フィルム、または〔１０〕に記載の偏光板のいずれかを有することを特徴とする液晶表示装置。
〔１２〕
液晶モードがＶＡ方式またはＩＰＳ方式であることを特徴とする〔１１〕に記載の液晶表示装置。
なお、本発明は上記〔１〕〜〔１２〕に関するものであるが、参考のためその他の事項、例えば下記１〜１３などについても記載した。
１．添加剤を前記樹脂素材に対し０．３質量％以上含有する光学フィルムであって、前記光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、前記光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％であることを特徴とする光学フィルム。
２．添加剤を０．３質量％以上含有する光学フィルムであって、２５℃１０％ＲＨから２５℃８０％ＲＨの温湿度条件のすべての範囲で、前記光学フィルムのＭＤ方向及びＴＤ方向のカール値が、−１４〜＋１４／ｍであり、２５℃８０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＭＤ方向のカール値ＣMD,80と２５℃１０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＭＤ方向のカール値ＣMD,10との差が−９／ｍ〜＋９／ｍであり、かつ、２５℃８０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＴＤ方向のカール値ＣTD,80と２５℃１０％ＲＨ下での前記光学フィルムのＴＤ方向のカール値ＣTD,10との差が−９／ｍ〜＋９／ｍであることを特徴とする光学フィルム。
３．前記光学フィルムが、添加剤を前記樹脂素材に対し０．３質量％以上含有し、前記光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、前記光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％であることを特徴とする前記２に記載の光学フィルム。
４．前記添加剤の少なくとも１種が、一般式（１）または（２）で表されることを特徴とする前記１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１２】
【化１】
0004491353.tif 000006
【００１３】
[式中、Ｒ1は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上である。] 
【００１４】
【化２】
0004491353.tif 000007
【００１５】
[式中、Ｒ31は置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に水素原子、置換または未置換のアルキル基またはアリール基を表す。]
【００１６】
５．前記光学フィルムのＲｅ(λ)およびＲｔｈ(λ)が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）をみたすことを特徴とする前記１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
式（Ｉ）０≦Ｒｅ(630)≦１０かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
式（ＩＩ）｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ(λ)は、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
６．前記光学フィルムの厚みが３０〜７５μｍであることを特徴とする前記１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
７．下記（１）および（２）の工程を有することを特徴とする前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）添加剤を樹脂素材に対し複数の異なる濃度で添加し、溶融し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶融物を調製する工程。
（２）前記添加剤の濃度の高い溶融物が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共押出し法により基材上に押出し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
【００１７】
８．下記（１）および（２）の工程を有することを特徴とする前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）添加剤を樹脂素材に対し複数の異なる濃度で添加し、溶剤を加え溶解し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶液を調製する工程。
（２）前記添加剤の濃度の高い溶液が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共流延法または積層流延法により基材上に流延し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
【００１８】
９．下記（１）、（２）および（３）の工程を有することを特徴とする前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを製造する方法：
（１）溶剤に樹脂素材および添加剤を加え溶解し溶液を調製し、これを基材上に流延する工程。
（２）前記溶液の揮発分量が８０％以下４０％以上の範囲になるまで乾燥し、フィルム
を形成し、前記フィルムを前記基材から剥ぎ取る工程。
（３）前記基材から剥ぎ取ったフィルムの揮発分量を４５％以下１０％以上の範囲に調整し、これを１３１℃以上の温度で乾燥し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの前記添加剤存在量が、光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０〜１２０％となる光学フィルムを調製する工程。
【００１９】
１０．前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルムに、Ｒｅ(630)が０ 〜２００ｎｍであり、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層を設けたことを特徴とする光学補償フィルム。
１１．前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム、又は前記１０に記載の光学補償フィルムを少なくとも１枚、偏光膜の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
１２．前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム、前記１０に記載の光学補償フィルム、または前記１１に記載の偏光板のいずれかを有することを特徴とする液晶表示装置。
１３．液晶モードがＶＡ方式またはＩＰＳ方式であることを特徴とする前記１２に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、カールの絶対値が小さく、また温度、湿度などの環境変化によるカールの変化が少ない光学フィルムおよびその製造方法が提供される。
また本発明によれば、この光学フィルムを用いることにより優れた取り扱い性および視野角特性を有する光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
[フィルムのカール特性] 
本発明の光学フィルムのカール値は、２５℃１０％ＲＨから２５℃８０％ＲＨの温湿度条件のすべての範囲で、ＭＤ方向及びＴＤ方向ともに、−１４〜＋１４／ｍであり、より好ましくは−１０／ｍ〜＋１０／ｍであり、更に好ましくは−７／ｍ〜＋７／ｍであり、−３／ｍ〜＋３／ｍであることが特に好ましい。
また本発明の光学フィルムのカールは温度や湿度によって変化しないことが好ましく、２５℃８０％ＲＨ下でのＭＤ方向のカール値ＣMD,80と２５℃１０％ＲＨ下でのＭＤ方向のカール値ＣMD,10との差（ＣMD,80−ＣMD,10）が−９／ｍ〜＋９／ｍであり、かつ、２５℃８０％ＲＨ下でのＴＤ方向のカール値ＣTD,80と２５℃１０％ＲＨ下でのＴＤ方向のカール値ＣTD,10との差（ＣTD,80−ＣTD,10）が−９／ｍ〜＋９／ｍである。より好ましくは、（ＣMD,80−ＣMD,10）および（ＣTD,80−ＣTD,10）が−７／ｍ〜＋７／ｍであり、更に好ましくは−５／ｍ〜＋５／ｍであり、−３／ｍ〜＋３／ｍであることが特に好ましい。
【００２２】
さらに、２５℃１０％ＲＨでのカール値と４５℃１０％ＲＨでのカール値の差は、ＭＤおよびＴＤ方向ともに−１９／ｍ〜＋１９／ｍであることが好ましい。より好ましくは−１４／ｍ〜＋１４／ｍであり、−９／ｍ〜＋９／ｍであることが特に好ましい。さらにまた、２５℃６０％ＲＨでのカール値と４５℃６０％ＲＨでのカール値の差及び２５℃８０％ＲＨでのカール値と４５℃８０％ＲＨでのカール値の差が、ＭＤおよびＴＤ方向ともに、−１５／ｍ〜＋１５／ｍであることが好ましい。より好ましくは−１０／ｍ〜＋１０／ｍであり、−５／ｍ〜＋５／ｍであることが特に好ましい。
【００２３】
本発明の光学フィルムのカール値を上述の範囲とすることにより、偏光板保護フィルムとして偏光膜と貼りあわせた場合、偏光板のカールを小さく抑えることができ、温度及び湿度の変化による偏光板のカールの変化も小さく抑えることができ、引いては液晶表示装置に組み込んだ場合、色ムラや光漏れ（濃度ムラ）を抑えることができる。
【００２４】
本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして偏光膜との貼りあわせを行なう場合、特に、長尺の偏光膜と長尺の光学フィルムを効率的に貼りあわせる場合のほか、光学フィルムに表面処理、光学異方性層を塗設したりする際のラビング処理の実施や光学異方性層や様々な機能層の塗設などを長尺品で行なう際に、本発明の光学フィルムのカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし、フィルムの切断が起きるトラブルが発生することがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償フィルムなどの光学用フィルムとして、擦れ傷、点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがある。さらにカール値を上述の範囲とすることで偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減することができる。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【００２５】
［フィルムの添加剤]
本発明の光学フィルムは種々の添加剤を含有させることができ、添加剤としては、例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、その他光学特性調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、等が挙げられる。
種々の添加剤は、製造段階において添加する。添加する時期は特に限定されないが、熱可塑性樹脂を熱溶融して光学フィルムを製膜する場合は、熱溶融時に加えることができる。また、ポリマーを均一に溶剤に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープという）の調製工程に添加することができる。この場合、ドープ調製工程の最後の工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【００２６】
［添加剤の含有量] 
本発明の光学フィルムは、０．３質量％以上、例えば０．３質量％以上４５質量％以下の添加剤を含有する。添加剤は樹脂素材の光学特性、物理特性などのフィルムの諸特性を樹脂素材のみからなるフィルムよりも広範囲に調整することができる。より好ましくは５〜４０質量％であり、さらにのぞましくは１０〜３０質量％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては、３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。３０００より大きくなると効果が小さくなり好ましくない。また、均一に分布していることの検出がむずかしくなる。これら化合物の総量が０．３質量％未満であると、基材樹脂素材単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５質量％を超えると、光学フィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する(フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。
樹脂素材が吸水性、吸湿性を有する場合、添加剤は疎水性を有するものが好ましく、フィルムの厚み方向の親疎水性を均質化することができ、透過率や光学異方性などの光学特性や、カールや透湿度などの物理特性を温度変化、湿度変化や経時変化に対して安定させることができ好ましい。一方、樹脂素材が疎水的である場合には逆に親水性添加剤を用いることも好ましい。
【００２７】
［添加剤の厚み方向分布] 
本発明の光学フィルムは、分子量が３０００以下の化合物の添加物を、光学フィルムを構成する樹脂素材質量に対して少なくとも１種類以上、０．３％以上含有し、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの添加剤存在
量が光学フィルム全体の平均添加剤存在量の８０％〜１２０％である。ここで、本明細書において光学フィルム全体の平均添加剤存在量とは、光学フィルム中の全添加剤存在量を１０で割った値である。このように添加剤分布が均一であることにより、常温常湿、低湿、高湿の他、低温や高温でも光学フィルムのカール値を０に近づけることができるものと考えられ、湿度変化によるカールの変動や温度変化によるカールの変動も小さく抑えられるものと考えられる。各領域の添加剤存在量はフィルム平均存在量の８５％〜１１５％であることがより好ましく、９０％〜１１０％であることが特に好ましい。
【００２８】
添加剤の厚み方向分布の評価はＩＯＮ―ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ  ＩＶ（一次イオンとしてＡｕ1+、２５ｋｅＶ）を用いて評価することができる。フィルム流延時の支持体面から空気表面（反支持体面）へ膜厚方向に１０等分した各層の添加剤強度を算出し評価する。複数の添加剤を有する場合、それぞれの添加剤ごとに添加強度を算出し、フィルム全体に含有する添加剤量を算出し、その割合に応じて各層の添加剤量を評価することができる。
【００２９】
光学フィルムの添加剤の分布を上記の範囲とするには、溶融製膜品についてはフィルム製膜時の押出し、冷却工程における添加剤の飛散性や拡散性の少ない添加剤を用いることにより達成できる。また、添加剤の飛散性や拡散性を考慮した上で、共押出し法により、外側溶融層の添加剤添加量を内部よりも幾分高めに設定することも好ましい方法である。すなわち、下記（１）および（２）の工程を有する方法が挙げられる。
（１）分子量３０００以下の添加剤を樹脂素材に対し複数の異なる濃度で添加し、溶融し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶融物を調製する工程。
（２）前記添加剤の濃度の高い溶融物が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共押出し法により基材上に押出す工程。
なお、前記の外側層とは、光学フィルムを厚み方向に１０等分した領域の中での、上下の最外層を意味する。また、最外層の添加剤の濃度は、内側層にくらべて０．１〜１５％、さらに好ましくは０．５％〜１０％高いのがよい。
【００３０】
溶液製膜品については、ドープ溶液流延後の溶剤乾燥工程における添加剤の拡散性や飛散性の少ない添加剤と溶剤の組み合わせを選択することにより達成できる。好ましい添加剤は、溶剤よりも樹脂素材との親和性が強いものが好ましく、乾燥過程で、溶剤がフィルム表面から蒸発する際の添加剤の飛散性や、溶剤濃度が低くなっていく過程で、溶剤がフィルム表面へ拡散する際の添加剤の拡散性が、親和性のより強い樹脂素材によって阻害され、添加剤の分布が不均一とならず、所望の範囲に収めることができる。
また、添加剤の拡散性や飛散性を考慮した上で、公知の共流延法あるいは積層流延法により、外側ドープ層（外側層）の添加剤添加量を内部よりも幾分高めに設定することも好ましい。すなわち、下記（１）および（２）の工程を有する方法が挙げられる。
（１）分子量３０００以下の添加剤を樹脂素材に対し複数の異なる濃度で添加し、溶剤を加え溶解し、前記添加剤の濃度の異なる複数の溶液を調製する工程。
（２）前記添加剤の濃度の高い溶液が、得られる光学フィルムの外側層を形成するように、共流延法または積層流延法により基材上に流延する工程。
なお、前記の外側層の定義、また最外層と内側層の添加剤の濃度の差異は、前述のとおりである。
【００３１】
また、乾燥条件をコントロールすることにより、添加剤の分布を本発明の範囲に収めることができる。すなわち、下記（１）、（２）および（３）の工程を有する方法が挙げられる。
（１）溶剤に樹脂素材および分子量３０００以下の添加剤を加え溶解し溶液を調製し、これを基材上に流延する工程。
（２）前記溶液の揮発分量が８０％以下４０％以上の範囲になるまで乾燥し、フィルム
を形成し、前記フィルムを前記基材から剥ぎ取る工程。
（３）前記基材から剥ぎ取ったフィルムの揮発分量を４５％以下１０％以上の範囲に調整し、これを１３１℃以上の温度で急速に乾燥する工程。
【００３２】
好ましい乾燥条件としては、バンドまたはドラムのような基材からの剥ぎ取りを揮発分量８０％以下４０％以上、剥ぎ取り速度４０ｍ／分以上２００ｍ／分以下で行い、１３１℃以上での乾燥を揮発分量４５％以下１０％以上で開始し、乾燥時間を２４分以内として、急速に乾燥させる条件である。
剥ぎ取り時の揮発分量は７０％以下５０％以上が好ましく、６５％以下５８％以上がより好ましい。剥ぎ取り速度は５３ｍ／分以上１８０ｍ／分以下が好ましく、９０ｍ／分以上１６０ｍ以下がより好ましい。剥ぎ取り速度は生産性に影響し、４０ｍ／分未満では、安価にフィルムを作製することは難しくなる。
１３１℃以上での乾燥を揮発分量４０％以下１５％以上で開始することが好ましく、３５％以下１８％以上で行うことがより好ましい。乾燥時間は２０分以内であることが好ましく、１６分以内であることがより好ましい。
乾燥温度は、高いほど迅速に乾燥でき、添加剤の分布を均一化することができ好ましい。ドープの組成にもよるが、混入する水分を速やかに除去するために、１３１℃以上が好ましく、さらに好ましくは１３５〜１８０℃である。
【００３３】
添加剤の具体的な例としては、下記一般式（１）や一般式（２）で表される化合物などが挙げられる。これらはフィルムの光学異方性を低下させる機能を有しており、大変好ましい。
【００３４】
【化３】
0004491353.tif 000008
【００３５】
上記一般式（１）において、Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましい。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3において、各々のアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよい。
【００３６】
上記アルキル基又はアリール基の置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基がより好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル
、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。
【００３７】
一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されない。
【００３８】
【化４】
0004491353.tif 000009
【００３９】
【化５】
0004491353.tif 000010
【００４０】
【化６】
0004491353.tif 000011
【００４１】
次に、一般式（２）の化合物について説明する。
【００４２】
【化７】
0004491353.tif 000012
【００４３】
式中、Ｒ31はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。
【００４４】
上記のアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基およびアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基であり、特に好ましくは、アルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基である。
【００４５】
以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されない。
【００４６】
【化８】
0004491353.tif 000013
【００４７】
【化９】
0004491353.tif 000014
【００４８】
【化１０】
0004491353.tif 000015
【００４９】
【化１１】
0004491353.tif 000016
【００５０】
【化１２】
0004491353.tif 000017
【００５１】
【化１３】
0004491353.tif 000018
【００５２】
【化１４】
0004491353.tif 000019
【００５３】
【化１５】
0004491353.tif 000020
【００５４】
上述したこれらの添加剤は、光学異方性を低下させる機能を有している。
この光学異方性を低下させる化合物を含有することにより、光学フィルム中のポリマーが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅをゼロに近くしかつＲｔｈをゼロに近くすることができる。光学異方性を低下させる化合物は、ポリマーに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００５５】
本発明の光学フィルムは、光学異方性を低下させる化合物を、下記式（ａ）、（ｂ）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが好ましい。
（ａ）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−１．０
（ｂ）０．０１≦Ａ≦３０
［式中、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａは前記ポリマーの固形分質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
上記式（ａ）、（ｂ）は
（ａ1）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−２．０
（ｂ1）０．０５≦Ａ≦２５
であることがより好ましく、
（ａ2）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−３．０
（ｂ2）０．１≦Ａ≦２０
であることがさらに好ましい。
【００５６】
[フィルムの光学異方性]
本発明の光学フィルムの光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）は、小さいことが好ましく、波長６３０ｎｍにおける正面レターデーション値Ｒｅ(630)が１０ｎｍ以下（０≦Ｒｅ(630)≦１０）でかつ、膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ(630)の絶対値が２５ｎｍ以下（｜Ｒｔｈ｜≦２５ｎｍ）であることが好ましい。より好ましくは、０≦Ｒｅ(630)≦５かつ｜Ｒｔｈ｜≦２０ｎｍであり、０≦Ｒｅ(630)≦２かつ｜Ｒｔｈ｜≦１５ｎｍであることが特に好ましい。
【００５７】
また、本発明の光学フィルムは、波長４００ｎｍと７００ｎｍでのＲｅ、Ｒｔｈの差、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜が小さいことが好ましく、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５であることが好ましい。より好ましくは、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦５かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦２５であり、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦３かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦１５であることが特に好ましい。
【００５８】
（フィルムの厚さ）
本発明の光学フィルムの厚さは、２０〜１２０μｍであることが好ましく、３０〜７５μｍであることがよりに好ましく、５５〜７５μｍであることがさらに好ましく、６５〜７５μｍであることが特に好ましい。
【００５９】
（フィルムの平衡含水率）
本発明の光学フィルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、４％以下であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。４％より大きい平衡含水率であると、光学補償フィルムの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率の測定法は、本発明の光学フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【００６０】
（フィルムの透湿度）
本発明の光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上、２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ2・２４ｈを越えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度
依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、本発明の光学フィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償フィルムや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、光学フィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ2・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、光学フィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
【００６１】
光学フィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明の光学フィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。
【００６２】
（フィルムのヘイズ）
本発明の光学フィルムのヘイズは０．０１〜２．０％であることがのぞましい。よりのぞましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらにのぞましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、本発明の光学フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定した。
【００６３】
［光学フィルムの材質］
本発明の光学フィルムを形成する樹脂素材としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましく、上述のＲｅ、Ｒｔｈが、上述した範囲であればどのような材料を用いても良い。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーを混合したポリマーも例として挙げられる。また本発明の光学フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００６４】
また、本発明の光学フィルムを形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることができる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。
【００６５】
また、本発明の光学フィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきたセルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることができる。セルロースアシレートの代表例としては、トリアセチルセル
ロースが挙げられる。以下にセルロースアシレートについて詳細を説明する。
【００６６】
（セルロースアシレート原料綿）
本発明の光学フィルムに用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）等があり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載があり、これらに記載されているセルロースを用いることができる。
【００６７】
（セルロースアシレート置換度）
セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたものであり、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。セルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度は、特に限定されないが、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７５〜３．００であることがより好ましく、２．８５〜３．００であることがさらに好ましい。
セルロースの水酸基への置換度は、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。結合度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００６８】
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、特に限定されず、脂肪族基でも芳香族基でもよく、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステル等であり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００６９】
上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基が、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基から選ばれる少なくとも２種類である場合において、その全置換度が２．５０〜３．００であるとセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下できるため、好ましい。この場合のより好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらにのぞましくは２．６５〜３．００である。
【００７０】
（セルロースアシレートの重合度）
セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、セルロースアセテートを用いる場合は、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になることがある。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまうことがある。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００７１】
本発明の光学フィルムとして特に好ましいセルロースアシレートは、アシル置換基が、実質的にアセチル基のみからなり、平均重合度が１８０〜５５０であるセルロースアシレートであり、このようなセルロースアシレートを用いることによって、光学異方性をより低下できる。
【００７２】
セルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価することができ、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）は、１．０〜５．０であることが好ましく、１．５〜４．０であることがさらに好ましく、２．０〜３．５であることが最も好ましい。
【００７３】
低分子成分の少ないセルロースアシレートは、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。この低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。
【００７４】
セルロースアシレートの含水率は２質量％以下であることが好ましく、１質量％以下であることがより好ましく、０．７質量％以下であることがさらに好ましい。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており、その含水率は２．５〜５質量％であることが知られている。上記のようにセルロースアシレートの含水率を小さくするために、セルロースアシレートを乾燥させることが好ましく、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。
【００７５】
以上のセルロースアシレートの調製方法については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
また、セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００７６】
（波長分散調整剤）
本発明の光学フィルムは、ＲｅおよびＲｔｈの波長による依存性、すなわち波長分散が小さいことが望ましい。この、波長分散を低下させる手段として、本発明においては光学フィルムに対して波長分散を調整する化合物（以下波長分散調整剤ともいう）を添加することが有効である。
波長分散調整剤としては、下記式（ｃ）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物であることが好ましく、本発明の光学フィルムは、この化合物を下記式（ｄ）、（ｅ）をみたす範囲で少なくとも１種含有することが好ましい。
（ｃ）ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜
（ｄ）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
（ｅ）０．０１≦Ｂ≦３０
［式中、ΔＲｔｈ（Ｂ）はＲｔｈの波長分散を調整する化合物をＢ％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、ΔＲｔｈ（０）はＲｔｈの波長分散を調整する化合物を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはポリマーの固形分質量を１００としたときの化合物の質
量（％）である。］
上記式（ｃ）、（ｄ）は
（ｃ1）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
（ｄ1）０．０５≦Ｂ≦２５
であることがより好ましく、
（ｃ2）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
（ｄ2）０．１≦Ｂ≦２０
であることがさらに好ましい。
【００７７】
上記の波長分散調整剤としては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムのΔＲｅ＝｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜およびΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物であることがより好ましく、このような化合物を少なくとも１種含むことによって、光学フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散をより効果的に調整することができる。
【００７８】
光学フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は長波長側よりも短波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身が光学フィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【００７９】
したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側ほど大きいと想定されるものを用いることによって、光学フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はポリマー固形分に十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【００８０】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。よって、波長分散調整剤を光学フィルムに添加する場合、分光透過率が優れたものを用いることが好ましい。波長分散調整剤の分光透過率としては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であることが好ましく、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがより好ましい。
【００８１】
波長分散調整剤は、光学フィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましいため、分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
【００８２】
波長分散調整剤の添加量は、ポリマーの固形分の０．０１ないし３０質量％であることが好ましく、０．１ないし２０質量％であることがより好ましく、０．２ないし１０質量％であることが特に好ましい。
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
【００８３】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン
系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【００８４】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（１０１）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（１０１）：  Ｑ1−Ｑ2−ＯＨ
（式中、Ｑ1は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ2は芳香族環を表す。）
【００８５】
Ｑ1は、含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５乃至７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５ないし６員の含窒素芳香族ヘテロ環である。例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
Ｑ1で表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００８６】
Ｑ2で表される芳香族環は、特に限定されず、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよいが、芳香族炭化水素環であることが好ましい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環としては、炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であることが好ましく、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であることがさらに好ましく、ナフタレン環、ベンゼン環であることが特に好ましく、ベンゼン環であることが最も好ましい。
【００８７】
芳香族ヘテロ環としては、特に限定されないが、好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。この芳香族ヘテロ環の具体例としては、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン等が挙げられる。中でも、ピリジン、トリアジン、キノリンが好ましい。
【００８８】
Ｑ2は、更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル等が挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２
〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル等が挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等が挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシ等が挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等が挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル等が挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ等が挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ等が挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等が挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオ等が挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ等が挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシル等が挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル等が挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等が挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミド等が挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられ、具体的にはイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズ
イミダゾリル、ベンズチアゾリル等が挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリル等が挙げられる）等が挙げられる。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００８９】
一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。
【００９０】
【化１６】
0004491353.tif 000021
【００９１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
【００９２】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ1およびＲ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００９３】
Ｒ2、およびＲ4として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９４】
Ｒ5およびＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９５】
Ｒ6およびＲ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００９６】
一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物である。
【００９７】
【化１７】
0004491353.tif 000022
【００９８】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ6およびＲ7は一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【００９９】
以下に、一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されない。
【０１００】
【化１８】
0004491353.tif 000023
【０１０１】
【化１９】
0004491353.tif 000024
【０１０２】
以上のベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずにセルロースアシレートフィルムを作製した場合、保留性の点で有利である。
【０１０３】
また、波長分散調整剤として用いられるベンゾフェノン系化合物としては、下記一般式（１０２）で示されるものが好ましい。
【０１０４】
【化２０】
0004491353.tif 000025
【０１０５】
（式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは、ＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子、又は硫黄原子を表す。）
【０１０６】
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
Ｑ1およびＱ2で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ1およびＱ2であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
Ｑ1およびＱ2は更に置換基を有してもよく、前述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１０７】
ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表す。ＸがＮＲである場合、Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。Ｘとして好ましくは、ＮＲまたは酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。
【０１０８】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは
炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム
酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１０９】
一般式（１０２）として好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。
【０１１０】
【化２１】
0004491353.tif 000026
【０１１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
【０１１２】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１１３】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１１４】
Ｒ2として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１１５】
Ｒ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１１６】
一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。
【０１１７】
【化２２】
0004491353.tif 000027
【０１１８】
（式中、Ｒ10は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
【０１１９】
Ｒ10は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ10として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１２０】
一般式（１０２）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されない。
【０１２１】
【化２３】
0004491353.tif 000028
【０１２２】
【化２４】
0004491353.tif 000029
【０１２３】
【化２５】
0004491353.tif 000030
【０１２４】
また、波長分散調整剤として用いられるシアノ基を含む化合物としては、下記一般式（１０３）で示されるものが好ましい。
【０１２５】
【化２６】
0004491353.tif 000031
【０１２６】
（式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ1およびＸ2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つは少なくともどちらか１つはシアノ基を表す。）
Ｑ1およびＱ2であらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１２７】
芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
【０１２８】
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１２９】
Ｑ1およびＱ2であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ1およびＱ2は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば
メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１３０】
Ｘ1およびＸ2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基を表す。Ｘ1およびＸ2で表される置換基は前述の置換基Tを適用することができる。また、Ｘ1およびＸ2はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ1およびＸ2はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１３１】
Ｘ1およびＸ2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの））である。
【０１３２】
一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物である。
【０１３３】
【化２７】
0004491353.tif 000032
【０１３４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ1およびＸ2は一般式（２０）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【０１３５】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１３６】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9およびＲ10として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１３７】
Ｒ3およびＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１３８】
一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物である。
【０１３９】
【化２８】
0004491353.tif 000033
【０１４０】
（式中、Ｒ3およびＲ8は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ3は水素原子または置換基を表す。）
【０１４１】
Ｘ3は水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
【０１４２】
一般式（１０３）として更に好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である。
【０１４３】
【化２９】
0004491353.tif 000034
【０１４４】
（式中、Ｒ3およびＲ8は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ21は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）
【０１４５】
Ｒ21として好ましくは、Ｒ3およびＲ8が両方とも水素原子である場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０１４６】
Ｒ21として好ましくは、Ｒ3およびＲ8が水素以外の場合には、一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０１４７】
一般式（１０３）で表される化合物は、Journal  of  American Chemical Society ６３巻  ３４５２頁（１９４１）に記載の方法によって合成できる。
【０１４８】
以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に限定されない。
【０１４９】
【化３０】
0004491353.tif 000035
【０１５０】
【化３１】
0004491353.tif 000036
【０１５１】
【化３２】
0004491353.tif 000037
【０１５２】
（剥離剤）
本発明に使用される樹脂素材、例えばセルロースアシレートフィルムには、剥離時の荷重を小さくするために剥離剤を添加することが好ましい。
剥離剤としては、公知の界面活性剤を用いることが有効である。この界面活性剤としては、リン酸系、スルホン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系等の界面活性剤を用いることができ、特に限定されない。ここで用いることができる界面活性剤の例としては、例えば特開昭６１−２４３８３７号公報等に記載されている。
【０１５３】
なお、剥離剤に関しては、特開２００３−０５５５０１号公報に、セルロースアシレート溶液の白濁を防止し、フィルム製造剥離性とフィルム面状を改良するため、非塩素系溶剤に溶解したセルロースアシレート溶液で、酸解離指数ｐKAが1.93〜4.5の多塩基酸部分エステル体、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩から選ばれる添加剤を含有するセルロ
ースアシレート溶液について記載がある。
なお、添加剤に関しては特開２００３−１２８８３８号公報には、剥ぎ取り性、面状、膜強度を良化させるために、少なくとも一種類の活性水素と反応する基を2個以上有する架橋剤をセルロースアシレートに対して0.1〜10質量%含有するセルロースアシレートドープ溶液についての記載がある。
また、特開２００３−１６５８６８号公報には、添加剤を添加し、良好な透湿度を有し、寸法安定性に優れたフィルムを提案している。
本発明では、上記公報に記載されている剥離剤を用いることができる。
【０１５４】
[マット剤微粒子] 
本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１５５】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０１５６】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１５７】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖは、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１５８】
本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有する光学フィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行ない、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合
して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０１５９】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１６０】
［可塑剤、劣化防止剤] 
上記の光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤などの他に、本発明の光学フィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１６１】
［フィルムの作製法]
本発明の光学フィルムは、熱可塑性のポリマー樹脂を熱溶融して製膜しても良いし、ポリマーを均一に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜しても良いが、ソルベントキャスト法によってフィルムを作製することが好ましい。以下、ソルベントキャスト法について説明する。
【０１６２】
（ソルベントキャスト法によるフィルム作製方法）
ソルベントキャスト法を用いて光学フィルムを製造するには、まず、フィルム原料のポリマーを適当な有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を調製し、このドープを適当な基材（好ましくは金属の基材）の上に流延する。その後溶剤を乾燥させ、フィルムがゲル化したところで基材から剥ぎ取り、さらにフィルムから溶剤を十分に乾燥させて、光学フィルムを形成する。
【０１６３】
［セルロースアシレート溶液の有機溶媒] 
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定
範囲内であればよい。
【０１６４】
以上本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
【０１６５】
その他、本発明のセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−６０７５２、特開平１１−６０７５２号の各公報などに記載されている。これらの特許によると本発明のセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【０１６６】
［セルロースアシレートフィルムの製造工程] 
（溶解工程）
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、濾過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０１６７】
（ドープ溶液の透明度）
本発明のセルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることがのぞましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることがのぞましい。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出した。
【０１６８】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明の光学フィ
ルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
【０１６９】
（揮発分量）
本発明では、揮発分量は、次式で表される。なお、残存揮発分質量はフィルムを１２０℃で２時間加熱処理したときに、加熱処理前のフィルム質量から加熱処理後のフィルム質量を引いた値である。
揮発分量＝残存揮発分質量／加熱処理後フィルム質量×１００（％）
【０１７０】
（フィルム搬送時にかかるテンション）
基材から剥離した後の乾燥工程では、溶剤の蒸発によってフィルムは一般的に巾方向（機械方向に垂直な方向）に収縮しようとする。本発明の光学フィルムの作製においては、機械方向とそれに垂直な方向のどちらの方向にもフィルムが強く延伸されることのないよう制御することが好ましい。具体的には、機械方向へのフィルム搬送時においてはフィルム搬送用ロールからフィルムの機械方向にかかるテンションの強さを１０〜５０ｋｇｆ／ｍ（９８Ｎ／ｍ〜４９０Ｎ／ｍ）とすることが好ましい。一方、機械方向と垂直な方向にかかるテンションの強さも同様の強さとすることが好ましい。この場合垂直方向でフィルムを保持し、かつテンションを調整するためにテンタークリップを用いたテンター方式も好ましく用いることができる。例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているような乾燥全工程或いは一部の工程を幅方向にクリップでウェブの巾両端を巾保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式）を好ましく用いることができる。
【０１７１】
［フィルム物性評価]
［高湿度処理後のフィルムの光学性能変化] 
本発明の光学フィルムの環境変化による光学性能の変化については、６０℃９０％ＲＨに２４０時間処理したフィルムのＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることがのぞましい。よりのぞましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらにのぞましい。
【０１７２】
［高温度処理後のフィルムの光学性能変化] 
また、８０℃２４０時間処理したフィルムのＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることがのぞましい。よりのぞましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらにのぞましい。
【０１７３】
［フィルム加熱処理後の化合物揮散量] 
本発明の光学フィルムにのぞましく用いることができる、Ｒｔｈを低下させる化合物と、ΔＲｔｈを低下させる化合物は、８０℃２４０時間処理したフィルムからの化合物の揮散量が３０％以下であることがのぞましい。よりのぞましくは２５％以下であり、２０％以下であることがさらにのぞましい。
なお、フィルムからの揮散量は、８０℃２４０時間処理したフィルムおよび未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に溶かし出し、液体高速クロマトグラフィーにて化合物を検出し、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記式により算出した。
揮散量（％）＝ ｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝/（未処理品中の残存化合物量）×１００
【０１７４】
［フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性] 
本発明の光学フィルムの正面レターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）の絶対値が０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。
【０１７５】
［フィルムの寸度変化] 
本発明の光学フィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０.５％以下であることがのぞましい。
よりのぞましくは０.３％以下であり、さらにのぞましくは０.１５％以下である。
具体的な測定方法としては、光学フィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変化率を求めた。
【０１７６】
［フィルムの弾性率] 
本発明の光学フィルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ/ｍｍ2（１．９６〜４．９０ＧＰａ）であることが好ましい。より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ/ｍｍ2（２．３５〜４．６１ＧＰａ）であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ/ｍｍ2（２．６５〜４．３１ＧＰａ）である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン製万能引っ張り試験機ＳＴＭ  Ｔ５０ＢＰを用い、２３℃・７０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めた。
【０１７７】
［フィルムの光弾性係数] 
本発明の光学フィルムの光弾性係数は、５０×１０-13ｃｍ2/ｄｙｎｅ（５×１０-13Ｎ／ｍ2）以下であることが好ましい。３０×１０-13ｃｍ2/ｄｙｎｅ（３×１０-13Ｎ／ｍ2）以下であることがより好ましく、２０×１０-13ｃｍ2/ｄｙｎｅ（２×１０-13Ｎ／ｍ2）以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法としては、光学フィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。
【０１７８】
［延伸前後における正面レターデーション変化、遅相軸の検出]
試料１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）または垂直方向（ＴＤ方向）に延伸を行った。延伸前後における各試料の正面レターデーションは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定した。遅相軸の検出は上記のレターデーション測定の際に得られる配向角から決定した。延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ(ｎ)をｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ(０)を延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)としたときに、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０を有することが好ましく、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦０．３以下がさらに好ましい。
【０１７９】
［遅相軸を有する方向]
本発明の光学フィルムを偏光膜の保護フィルムに用いる場合、偏光膜が機械搬送方向（ＭＤ方向）に吸収軸を持つため、光学フィルムは遅相軸がＭＤ方向近傍またはＴＤ近傍にあることがのぞましい。遅相軸が偏光膜と平行または直交させることにより光漏れや色味変化を低減できる。近傍とは、遅相軸とＭＤまたはＴＤ方向が０〜１０°、好ましくは０〜５°の範囲にあることを表す。
【０１８０】
［固有複屈折が正であるセルロースアシレートフィルム]
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム面内において、遅相軸を有する方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが大きくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが小さくなる。このことは固有複屈折が正であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには遅相軸と垂直方向に延伸することが有効である。この方法としては例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合にＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を用いて正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合にはＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。
【０１８１】
［固有複屈折が負であるセルロースアシレートフィルム]
本発明のセルロースアシレートフィルムは、遅相軸を有する方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが小さくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが大きくなる場合もある。このことは固有複屈折が負であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには遅相軸と同一の方向に延伸することが有効である。この方法としては例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合にＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合にはＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を用いて正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。
【０１８２】
［本発明の光学フィルムの評価方法] 
本発明の光学フィルムの評価に当たって、以下の方法で測定して実施した。
【０１８３】
（正面レターデーション値Ｒｅ、膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅ(λ)は自動複屈折計KOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)と、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、平均屈折率および膜厚を入力し算出した。
【０１８４】
（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメーターＭ−１５０(日本分光（株）製)において波長７８０ｎｍから３８０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより各波長でのＲｅをもとめ、Ｒｅの波長分散を測定した。また、Ｒｔｈの波長分散については、前記Ｒｅ、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から７８０〜３８０ｎｍの波長の光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長７８０〜３８０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率および膜厚を入力して算出した。
【０１８５】
（分光特性）
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）日立製作所）にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍおよび３５０ｎｍの透過率を評価した。
【０１８６】
［フィルム表面の性状] 
本発明の光学フィルムの表面は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することが出来る。
【０１８７】
［光学フィルムのレターデーションの面内ばらつき] 
本発明の光学フィルムは次の式を満たすことがのぞましい。
｜Ｒｅ(MAX)−Ｒｅ(MIN)｜≦3かつ｜Ｒｔｈ(MAX)−Ｒｔｈ(MIN)｜≦5 
［式中、Ｒｅ(MAX)、Ｒｔｈ(MAX)−は任意に切り出した1ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ(MIN)、Ｒｔｈ(MIN)は最小値である。］
【０１８８】
［フィルムの保留性] 
本発明の光学フィルムにおいては、フィルムに添加した各種化合物の保留性が要求される。具体的には、本発明の光学フィルムを８０℃／９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合のフィルムの質量変化が、０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
〈保留性の評価方法〉
試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の方法で保留性を計算した。
保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００
【０１８９】
［フィルムの力学特性] 
（引裂き強度）
ＪＩＳＫ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基づく引裂き強度（エルメンドルフ引裂き法）が、本発明の光学フィルムの膜厚が２０〜８０μｍの範囲において、２ｇ以上が好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。又、６０μｍ換算で８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【０１９０】
［フィルムの残留溶剤量］
本発明の光学フィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。
【０１９１】
［フィルムの吸湿膨張係数] 
本発明の光学フィルムの吸湿膨張係数は３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において
相対湿度を変化させた時の試料長の変化率を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、本発明の光学フィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【０１９２】
［表面処理］
本発明の光学フィルムは、場合により表面処理を行なうことによって、光学フィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３３〜２６６０Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０１９３】
［アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角］
本発明の光学フィルムを偏光板の透明保護フィルムとして用いる場合の表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が上げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることがのぞましい。よりのぞましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらにのぞましい。接触角の評価法はアルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角をもとめる通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。
【０１９４】
（耐光性）
本発明の光学フィルムの光耐久性指標として、スーパーキセノン光を２４０時間照射したフィルムの色差ΔＥ*ａｂが２０以下であることがのぞましい。よりのぞましくは１８以下であり、１５以下であることがさらにのぞましい。色差の測定は、ＵＶ3100（島津製作所製）を用いた。測定の仕方は、フィルムを２５℃６０％ＲＨに２時間以上調湿した後にキセノン光照射前のフィルムのカラー測定を行ない初期値（L0*、a0*、b0*）を求めた。その後、フィルム単体で、スーパーキセノンウェザーメーターSX-75（スガ試験機（株）製）にて、１５０Ｗ/ｍ2、６０℃５０％ＲＨ条件にてキセノン光を２４０時間照射した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃６０％ＲＨに２時間調湿した後に、再びカラー測定を行ない、照射経時後の値（L1*、a1*、b1*）を求めた。これらから、色差色差ΔE*ab＝（(L0*-L1*)2＋(a0*-a1*)2＋(b0*-b1*)2）0.5を求めた。
【０１９５】
［機能層］
本発明の光学フィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、および該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
その際に前述の光学用途に本発明の光学フィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本発明の光学フィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（
公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０１９６】
［用途（偏光板）］
本発明の光学フィルムの用途について説明する。
本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号の各公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光膜を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光膜及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。
【０１９７】
［用途（光学補償フィルム）］
本発明の光学フィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償フィルムなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明において好ましく用いられる光学フィルムはＲｅおよびＲｔｈが０≦Ｒｅ≦１０ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜≦２５ｎｍと光学異方性が小さく、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５と波長分散が小さいため、余計な異方性を生じず、複屈折を持つ光学異方性層を併用すると光学異方性層の光学性能のみを発現することができる。
【０１９８】
本発明の光学フィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合、併用する光学異方性層のＲｅ(630)が０ 〜２００ｎｍであり、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜が０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学異方性層でも良い。本発明の光学フィルムが使用される液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成しても良い。
前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
【０１９９】
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓ
ｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。
【０２００】
光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。
【０２０１】
（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【０２０２】
光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。
【０２０３】
（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層はポリマーフィルムから形成してもよい。ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル（例、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。
【０２０４】
ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸または二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合せての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１
００μｍであることが最も好ましい。
【０２０５】
また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、上記ポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明の光学フィルムは上記基材として好ましく用いることができる。また、上記ポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを基材から剥離させたのちに本発明の光学フィルムと貼合し、あわせて光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。
【０２０６】
［用途（液晶表示装置）］
本発明の液晶表示装置は、例えば、２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セルと、少なくともその一方に、偏光膜と少なくとも１枚の保護フィルムからなる偏光板を配するものである。
液晶表示装置には、液晶セルと偏光膜の間に少なくとも１枚の光学補償フィルムが配置されていることが好ましく、本発明の光学フィルムを偏光膜の保護フィルム、光学補償フィルムの支持体として用いることができる。本発明の光学フィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光膜の透過軸と、透明フィルムを備えた光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。
なお、本発明の液晶表示装置に用いられる液晶セルの液晶層は、通常は、２枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリア層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０２０７】
（液晶表示装置の種類）
本発明の光学フィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  ＢｉＲｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。中でも、液晶モードがＶＡ方式またはＩＰＳ方式であることが好ましい。
【０２０８】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊ
ｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【０２０９】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０２１０】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムのＲｅを０乃至１５０ｎｍとし、Ｒｔｈを７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅは、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈは１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０２１１】
（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明において好ましく用いられる光学異方性の小さい光学フィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下に配置される前記偏光板保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に光学異方性の小さい光学フィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
【０２１２】
（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償フィルムの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムの光学的性質も、光学異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
【０２１３】
（反射型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ
）型の反射型液晶表示装置の光学補償フィルムとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。
【０２１４】
（その他の液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ  ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，ＳＩＤ  ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９（１９９８））に記載がある。
【０２１５】
（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明の光学フィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明の光学フィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明の光学フィルムを好ましく用いることができる。
【０２１６】
（写真フィルム支持体）
さらに本発明の光学フィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該特許に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明の光学フィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。
【０２１７】
（透明基板）
本発明において好ましく用いられる光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムは、光学異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリア性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明の光学フィルムの表面にガスバリア層を設けてもよい。ガスバリア層の形態や材質は特に限定されないが、本発明の光学フィルムの少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリア性の高いポリマーのコート層を設けたりする方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明の光学フィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９や特開２０００−２２７６０３などに公開されている。
【実施例】
【０２１８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の技術思想から逸脱しない限り適宜変更することができ、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
【０２１９】
［例１］
１．光学フィルムの作製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解・分散し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
【０２２０】
＜セルロースアシレート溶液Ａ組成＞
アシル置換度２．８７のセルロースアセテート                  １００質量部
メチレンクロライド                                          ３００質量部
メタノール                                                    ５４質量部
１−ブタノール                                                １１質量部
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液                          ０．２質量部
エステル混合物（モノエチルエステル、ジエチルエステル、
トリエチルエステル混合物、混合比率２０：８０：１）            ０．１質量部
【０２２１】
別のミキシングタンクに、下記表１の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−１〜Ｂ−８を調製した。
【０２２２】
【表１】
0004491353.tif 000038
【０２２３】
＜光学フィルム試料００１の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−１の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調整した。ドープを流延口から冷却した金属支持体バンド上に流延した。揮発分量８２質量％のところで４３ｍ／分の速度で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のテンター）で固定し、溶媒含有率が２０乃至４８質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ、その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、１３０℃で２４分乾燥し、厚み８０μｍの光学フィルム試料００１を作製した。光学フィルム試料００１の残留溶剤量は０．３％であった。
【０２２４】
＜光学フィルム試料００２、１０１〜１０８の作製＞
光学フィルム００１の作製において添加剤溶液、及び厚みを表２のものに変更した以外は光学フィルム試料００１と同様にして光学フィルム試料００２、１０１〜１０８を作製した。これら試料の波長３８０ｎｍおよび波長３５０ｎｍにおける分光透過率を測定したところ、いずれの試料でも波長３８０ｎｍの透過率が４５％以上９５％以下となるが、波長分散調整剤を添加した試料でのみ波長３５０ｎｍにおいて透過率が１０％以下であることがわかった。
【０２２５】
作製した本発明の光学フィルム試料および比較試料について、フィルム面内の遅相軸方向、フィルム正面レターデーション値Ｒｅ及びフィルム膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿した後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株）を用いて測定した。
ＭＤ方向及びそれに垂直なＴＤ方向に３５ｍｍ×３ｍｍのサイズでサンプリングし、２５℃６０％ＲＨで２時間調湿した後、カール値ＣMD,60及びＣTD,60を測定した。また、２５℃１０％ＲＨの環境に２時間調湿した後、カール値ＣMD,10及びＣTD,10を測定し、また、別に、２５℃８０％ＲＨの環境に２時間調湿した後、カール値ＣMD,80及びＣTD,80を測定し、２５℃１０％ＲＨと２５℃８０％ＲＨとのカール値の差Δ（ＣMD,80−ＣMD,10）及びΔ（ＣTD,80−ＣTD,10）を算出した。以上の測定結果を表２に示した。
【０２２６】
本発明の添加剤の代わりに可塑剤ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）を添加した比較試料００２、ＢＤＰを添加しなかった００１においては、カール値はその絶対値が１５／ｍを上回ることあるいは８０％ＲＨでの値と１０％ＲＨでの値との差の絶対値が１０／ｍを上回ることがあった。これに対し、本発明の光学フィルムのカール値はその絶対値が１４／ｍ以下、８０％ＲＨと１０％ＲＨでの差の絶対値が９／ｍ以下であり、カール値およびその湿度依存性が小さく抑えられていることが確認できた。
【０２２７】
【表２】
0004491353.tif 000039
【０２２８】
光学フィルム００２、１０１、１０５の添加剤の深さ方向分布をＩＯＮ―ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ  ＩＶを使用（一次イオンとしてＡｕ1+、２５ｋｅＶ）して測定した。フィルム流延時のバンド面から空気表面（反バンド面）へ膜厚方向に１０等分した各層の添加剤強度を算出し、表３に示した。
可塑剤ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）を添加した比較試料００２は、バンド面側から２層目、３層目および９層目の添加剤比率が所望の範囲の外にあるのに対し、本発明の光学フィルム１０１、１０５は添加剤比率が平均添加剤量の８０％〜１２０％の範囲にあることが確認できた。
【０２２９】
【表３】
0004491353.tif 000040
【０２３０】
［例２］
アシル置換度１．７、プロピオニル置換度１．０、未置換ＯＨ比率０．３のセルロースアシレートを例１のアシル置換度２．８７のセルロースアセテートのかわりに用いたこと以外は例１と同様にしてセルロースアシレート溶液Ｃを調整した。
【０２３１】
別のミキシングタンクに、下記表４の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−９〜Ｂ−１６を調製した。
【０２３２】
【表４】
0004491353.tif 000041
【０２３３】
セルロースアシレート溶液Ｃの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−９〜１６の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調整した。ドープを０℃に冷却した金属ドラム上に流延して厚み６０μｍの光学フィルム試料００３〜００４、１０９〜１１４を作製した。これら試料について、例１と同様にカール値ＣMD,60、ＣTD,60、ＣMD,10、ＣTD,10、ＣMD,80、ＣTD,80及びカールの差Δ（ＣMD,80−ＣMD,10）、Δ（ＣTD,80−ＣTD,10）を測定及び算出した。表５に示したように、本発明に好適な光学異方性を低下させる化合物を含む試料１０９〜１１４は、比較試料００３、００４と比較していずれもカール値が良化していることが確認できた。
【０２３４】
【表５】
0004491353.tif 000042
【０２３５】
光学フィルム００４及び１１１の添加剤の膜厚方向の分布を例１と同様に測定した。フィルム流延時のドラム面から空気表面（反ドラム面）へ膜厚方向に１０等分した各層の添
加剤強度を算出し、表６に示した。
比較例の光学フィルム００４は、バンド面側から９層目の添加剤存在量が所望の範囲の外にあるのに対し、本発明の光学フィルム１１１は添加剤存在量が平均添加剤存在量の８０％〜１２０％の範囲にあることが確認できた。
【０２３６】
【表６】
0004491353.tif 000043
【０２３７】
作製した本発明の光学フィルム試料および比較試料について、測定波長を６３０ｎｍでの正面レターデーションＲｅ(630)及び膜厚方向のレターデーションＲｔｈ(630)を、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿した後、測定した。また、４００ｎｍ及び７００ｎｍでのＲｅ値、及びＲｔｈ値から（Ｒｅ(400) −Ｒｅ(700)）及び（Ｒｔｈ(400) −Ｒｔｈ(700)）を算出した。また、フィルムのヘイズ、透湿度についても調べた。測定結果を表７に示した。
【０２３８】
【表７】
0004491353.tif 000044
【０２３９】
本発明に好適な光学異方性を低下させる化合物の代わりに可塑剤ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）を添加した比較試料００３、００４においては｜Ｒｔｈ(630)｜が３０ｎｍ以下にならず、また、Ｒｔｈの波長分散性が大きかった。一方、本発明に好適な光学異方性を低下させる化合物を含む試料１０９〜１１４においては｜Ｒｔｈ(630)｜が０から２５ｎｍ以下の範囲にあり、また、波長分散性も低下（良化）していることが確認できた。
また、これら試料の２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率を測定したところ、比較試料００３以外にはいずれも４％以下であり本発明に好適な光学異方性を低下させる化合物や波長分散調整剤の添加によりセルロースアシレートフィルムが疎水化されていることが確認できた。
さらにこれら試料の６０℃、９５％ＲＨ、２４ｈｒの透湿度（８０μｍ換算）を測定したところ、比較試料００３以外においてはいずれも４００ｇ/ｍ2・２４ｈｒ以上２０００ｇ/ｍ2・２４ｈｒ以下であり、また比較試料と比較して本発明に好適な光学異方性を低下させる化合物や波長分散調整剤を添加した試料１０９〜１１４はいずれも透湿度が良化していることが確認できた。
【０２４０】
［例３］
例１に記載の方法によりセルロースアシレート溶液Ａおよび添加剤溶液Ｂ−７を調整した。また、添加剤溶液Ｂ−７のＡ−１９添加剤量を２０．８質量部、ＵＶ−２１添加剤量を５．２質量部として添加剤溶液Ｂ−１７を調整した。
【０２４１】
＜透明フィルム試料１１５の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−７の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープＣを調整した。  セルロースアシレート溶液Ａの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−１７の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープＤを調整した。ドープＣをドープＤで挟むように、冷却した金属支持体バンド上に共流延した。溶媒含有率５８質量％のところで５３ｍ／分の速度で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のテンター）で固定し、溶媒含有率が１５乃至３５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ、その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、１３５℃で２０分乾燥した。厚み８０μｍの光学フィルム試料１１５を作製した。ドープＣとバンド面側ドープＤおよび空気面側ドープＤの流延量は９０：５：５となるようにした。
【０２４２】
作製した本発明の光学フィルム試料１１５について、例１と同様に、カール値ＣMD,60、ＣTD,60、ＣMD,10、ＣTD,10、ＣMD,80、ＣTD,80を及びカール値の差Δ（ＣMD,80−ＣMD,10）及びΔ（ＣTD,80−ＣTD,10）を測定及び算出した。結果を表８に示した。
また、光学フィルム試料１１５の添加剤の膜厚方向分布を例１と同様に測定した。結果を表９に示した。
共流延法により作製した本発明の光学フィルム試料１１５は共流延法によらない光学フィルム試料１０５よりも、８０％ＲＨと１０％ＲＨでのカールの差を小さく抑えられることが確認できた。
また、添加剤の膜厚方向の分布も、より狭い範囲に収めることが確認できた。
【０２４３】
【表８】
0004491353.tif 000045
【０２４４】
【表９】
0004491353.tif 000046
【０２４５】
［例４］
例２に記載の方法によりセルロースアシレート溶液Ｃおよび添加剤溶液Ｂ−１０を調整した。また、添加剤溶液Ｂ−１０のＢＤＰ添加剤量を８０重量部、ＵＶ−７添加剤量を１２重量部として添加剤溶液Ｂ−１８を調整した。
【０２４６】
＜透明フィルム試料１１６の作製＞
セルロースアシレート溶液Ｃの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−１０の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープＥを調整した。  セルロースアシレート溶液Ａの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−１８の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープＦを調整した。ドープＥをドープＦで挟むように、冷却した金属支持体バンド上に共流延した。溶媒
含有率８２質量％のところで５３ｍ／分の速度で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のテンター）で固定し、溶媒含有率が２０乃至４８質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ、その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、１３０℃で２５分乾燥した。厚み８０μｍの透明フィルム試料１１６を作製した。ドープＥとバンド面側ドープＦおよび空気面側ドープＦの流延量は９０：５：５となるようにした。
【０２４７】
作製した本発明の透明フィルム試料１１６について、実施例１と同様に、カール値ＣMD,60、ＣTD,60、ＣMD,10、ＣTD,10、ＣMD,80、ＣTD,80を及びカールの差Δ（ＣMD,80−ＣMD,10）及びΔ（ＣTD,80−ＣTD,10）を測定及び算出した。結果を表１０に示した。
また、透明フィルム試料１１６の添加剤の深さ方向分布を例１と同様に測定した。結果を表１１に示した。
共流延法により作製した本発明の透明フィルム試料１１６は共流延法によらない透明フィルム試料００４とは異なり、１０％ＲＨ下でのカール値および８０％ＲＨ下と１０％ＲＨ下でのカールの差を小さくして、所望の範囲とすることができることがわかった。
また、添加剤の深さ方向の分布も所望の範囲とすることできることがわかった。
【０２４８】
【表１０】
0004491353.tif 000047
【０２４９】
【表１１】
0004491353.tif 000048
【０２５０】
［例５］
【０２５１】
＜透明フィルム試料１１７の作製＞
セルロースアシレート溶液Ｃの４６５質量部に、添加剤溶液Ｂ−１０の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープＧを調整し、冷却した金属ドラム上に流延した。溶媒含有率６３質量％のところで６８ｍ／分の速度で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のテンター）で固定し、溶媒含有率が１８乃至３５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ、その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、１３７℃で１５分乾燥した。厚み８０μｍの透明フィルム試料１１７を作製した。
【０２５２】
作製した本発明の透明フィルム試料１１７について、例１と同様に、カール値ＣMD,60、ＣTD,60、ＣMD,10、ＣTD,10、ＣMD,80、ＣTD,80を及びカールの差Δ（ＣMD,80−ＣMD,10）及びΔ（ＣTD,80−ＣTD,10）を測定及び算出した。結果を表１２に示した。
また、透明フィルム試料１１７の添加剤の深さ方向分布を例１と同様に測定した。結果を表１２に示した。
製膜条件を最適化して作製した本発明の透明フィルム試料１１７は透明フィルム試料００４とは異なり、１０％ＲＨ下でのカール値および８０％ＲＨ下と１０％ＲＨ下でのカールの差を小さくして、所望の範囲とすることができることがわかった。
また、添加剤の深さ方向の分布も所望の範囲とすることできることが確認できた。
【０２５３】
【表１２】
0004491353.tif 000049
【０２５４】
【表１３】
0004491353.tif 000050
【０２５５】
［例６］
（偏光板の作製）
例１で得た本発明の光学フィルム試料１０１を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、光学フィルムの表面をケン化した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、アルカリけん化処理した光学フィルム試料１０１を２枚用意して偏光膜を間にして貼り合わせ、両面が光学フィルム１０１によって保護された偏光板を得た。この際両側の光学フィルム試料１０１の遅相軸が偏光膜の透過軸と平
行になるように貼り付けた。同様にして例１〜２の試料１０２〜１１４および例１の比較試料００２についても偏光板を作製した。本発明の光学フィルム試料１０１〜１１４、比較試料００２はいずれも延伸したポリビニルアルコールとの貼合性は十分であり、優れた偏光板加工適性を有していた。この偏光板を以下、偏光板１０１〜１１４、偏光板００２という。
【０２５６】
（比較例）
例６において、偏光膜の保護を本発明の光学フィルム２枚で行なう代わりに、市販のポリカーボネートフィルム「パンライトＣ１４００」（帝人化成製）２枚を用いて同様の操作で偏光板を作製した。しかし延伸したポリビニルアルコールとの貼合性が不十分であり、ポリカーボネートフィルムは偏光膜の保護フィルムとして機能できず、偏光板加工適性に問題があった。なお、パンライトＣ１４００は、本発明で規定する添加剤存在量が規定値に至っていない。
【０２５７】
（比較例）
例６において、偏光膜の保護を本発明の光学フィルム２枚で行なう代わりに、厚さ８０μｍのアートンフィルム（ＪＳＲ製）２枚を用いて同様の操作で偏光板を作製した。しかし延伸したポリビニルアルコールとの貼合性が不十分であり、アートンフィルムは偏光膜の保護フィルムとして機能できず、偏光板加工適性に問題があった。
なお、アートンフィルムは、本発明で規定する添加剤存在量が規定値に至っていない。
【０２５８】
（偏光板耐久性）
例１〜３で作製した本発明の光学フィルム試料１０１〜１１５および比較試料００２を用いた偏光板を６０℃９５％ＲＨの条件で５００時間放置した後の偏光度を評価したところ、試料１０１〜１１５を用いた偏光板の偏光特性は比較試料００２を用いた偏光板に対していずれも優れており、本発明の光学フィルムは偏光板加工した際の耐久性が向上していることが確認できた。
【０２５９】
［例７］（ＩＰＳ型液晶表示装置への実装評価）
例２で得た光学フィルムおよび例４で得た偏光板を用いて、液晶表示装置へ実装評価してその光学性能が十分であるか確認した。なお本例ではＩＰＳ型液晶セル、以下の例ではＶＡ型、ＯＣＢ型液晶セルを用いるが、本発明の光学フィルムを用いた偏光板または光学補償フィルムの用途は液晶表示装置の動作モードに限定されることはない。
例４で作製した偏光板のうち、偏光板１１０〜１１３および偏光板００３（比較試料００３で作製した偏光板）に対して、アートンフィルム(ＪＳＲ社製)を一軸延伸した光学補償フィルムを貼合して光学補償機能を持たせた。この際、光学補償フィルムの面内レターデーションの遅相軸を偏光板の透過軸と直交させることで、正面特性を何ら変えることなく視覚特性を向上させることができる。光学補償フィルムの正面レターデーションＲｅ(630)は２７０ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ(630)は０ｎｍでＮｚファクターは０．５のものを用いた。
上記の偏光板１１０と光学補償フィルムの積層体を２組作製し、光学補償フィルムが各々液晶セル側となるように、「偏光板１１０と光学補償フィルムの積層体＋ＩＰＳ型の液晶セル＋偏光板１１０と光学補償フィルムの積層体」の順番に重ね合わせて組み込んだ表示装置を作製した。この際、上下の偏光板の透過軸を直交させ、上側の偏光板の透過軸は液晶セルの分子長軸方向と平行（すなわち光学補償層の遅相軸と液晶セルの分子長軸方向は直交）とした。液晶セルや電極・基板はＩＰＳとして従来から用いられているものがそのまま使用できる。液晶セルの配向は水平配向であり、液晶は正の誘電率異方性を有しており、ＩＰＳ液晶用に開発され市販されているものを用いることができる。液晶セルの物性は、液晶のΔｎ：０．０９９、液晶層のセルギャップ：３．０μｍ、プレチルト角：５度、ラビング方向：基板上下とも７５度とした。
【０２６０】
以上のようにして作製した液晶表示装置において、装置正面からの方位角方向４５度、極角方向７０度における黒表示時の光漏れ率を測定した結果を表１４に記載した。
この値が小さいほど斜め４５度方向での光漏れが少なく、表示装置のコントラストが良いことを示し、液晶表示装置の視野角特性を評価できる。本発明の光学フィルムからなる偏光板１１０〜１１３を用いた場合は比較試料からなる偏光板００３を用いた場合と比較して、光漏れ率が１/４８から１/４といずれも小さくなった。また偏光板１１０〜１１３を用いた場合は偏光板００３を用いた場合と比較して、表示装置の色味変化が小さくなった。これは本発明の光学フィルム試料１１０〜１１３のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散性が優れている（波長依存性が小さい）ために、どの波長においても同様の光学補償性能を持つことを示している。以上のように本発明の光学フィルムを用いて作製した光学補償フィルムおよび偏光板が、視野角特性に優れ、表示色味を変化しにくいことがわかった。
【０２６１】
【表１４】
0004491353.tif 000051
【０２６２】
［例８］（ＶＡ型、ＯＣＢ型液晶表示装置への実装評価）
例１〜３で得た本発明の光学フィルム試料を用いて、特開平１０−４８４２０号公報の
実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載のＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載のＯＣＢ型液晶表示装置での評価をしたところ、いずれの場合においてもコントラスト視野角が良好な性能が得られた。
【０２６３】
［例９］
（光学補償フィルム性能）
例１〜３で得た本発明の光学フィルム試料を用いて、特開平７−３３３４３３号公報の実施例１に記載の方法により光学補償フィルム試料を作製した。得られたフィルターフィルムは左右上下に優れた視野角を有するものであった。したがって、本発明の光学フィルムが、光学的用途として優れたものであることが判った。
【０２６４】
［例１０］
（光学補償フィルム性能）
本発明の光学フィルム試料を用いて、特開２００３−３１５５４１号公報の実施例１に記載の方法に準じて光学補償フィルム試料を作製した。２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）から合成された、質量平均分子量（Ｍｗ）６万、△ｎが約０．０４のポリイミドを、溶媒にシクロヘキサノンを用い２８質量％に調製した溶液を、本発明の光学フィルム試料１１１（厚さ６４μｍ）に塗布した。その後１００℃で１０分熱処理後、１６０℃で１６％縦一軸延伸することにより厚さ６μｍのポリイミドフィルムが本発明の光学フィルムに塗布された光学補償フィルムを得た。この光学補償フィルムの光学特性は、Ｒｅ(630)＝７０ｎｍ、Ｒｔｈ(630)＝２１５ｎｍ、配向軸のズレ角度は±０．５度以内の光学補償フィルムであった。
【０２６５】
（比較例）
上記の例１０に用いた光学補償層を形成するための溶液を、例１にて作製した比較試料００１（厚さ８０μｍ）に塗布した以外は同様の操作により、厚さ６μｍのポリイミドフィルムが比較試料００１の光学フィルムに塗布された光学補償フィルムを得た。この光学補償フィルムの光学特性は、Ｒｅ(630)＝７５ｎｍ、Ｒｔｈ(630)＝２８０ｎｍであった。
【０２６６】
（ＶＡ型液晶表示装置への実装評価）
上記例１０および比較例で得られた光学補償フィルムの、ポリイミドフィルムを塗布していない側をアルカリ鹸化処理しポリビニルアルコール系接着剤で偏光膜と接着することにより、直接偏光膜と貼り合せた。この際光学補償フィルムの遅相軸方向と偏光板の吸収軸が直交するように貼り合せた。これら光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤でＶＡ液晶パネルに張り合わせた。なお、液晶セルの反対側には偏光板の吸収軸同士が直交するように偏光板のみを粘着剤を介してＶＡ液晶パネルに貼り合せた。以上のようにして得られた液晶表示装置の視野角特性を測定したところ、例１０で得られた本発明の光学フィルム試料１１１より得られた光学補償フィルムは比較試料００１から得た光学補償フィルムよりも左右上下に優れた視野角を有するものであった。したがって、本発明の光学フィルムが、ＶＡ用の位相差フィルムとして用いる際にも優れたものであることが判った。