(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、浸漬塗布法により円筒状基材に塗膜形成処理を施す塗膜形成工程を含む電子写真感光体の製造方法であって、
前記塗膜形成処理後に、前記円筒状基材の少なくとも一方の端部に形成された余剰塗膜を、有機溶剤を用いて除去する余剰塗膜除去処理を施し、
前記余剰塗膜が形成された領域よりも鉛直方向で下方側で、前記有機溶剤の蒸気を排気する排気処理を施し、前記余剰塗膜除去処理を施す際の前記円筒状基材の画像形成領域端部の外表面より３〜１０ｍｍにおける前記有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とすることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
塗膜が形成された円筒状基材を支持する支持手段と、前記支持体手段により前記円筒状基材の少なくとも一方の端部が挿脱可能で、前記少なくとも一方の端部に形成された余剰塗膜を除去する余剰塗膜除去手段と、を具備する余剰塗膜除去装置であって、
前記塗膜除去手段が有機溶剤供給手段を有し、
前記余剰塗膜が形成された領域よりも鉛直方向で下方側で、前記有機溶剤の蒸気を排気し、前記余剰塗膜を除去する際の前記円筒状基材の画像形成領域端部の外表面より３〜１０ｍｍにおける前記有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とする蒸気濃度調整手段をさらに有することを特徴とする余剰塗膜除去装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法および余剰塗膜除去装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真感光体は、円筒状基材に感光層を形成することによって製造することができる。円筒状基材に感光層を形成するには、円筒状基材を感光層形成用塗布液に浸漬し、円筒状基材を塗布液に対して相対的に引き上げる浸漬塗布法が広く採用されている。
【０００３】
この浸漬塗布法は、円筒状基材に一定の膜厚を効率よく形成できるという利点を有するが、浸漬する際は下端部から塗布液中に浸漬するため、下端部には必然的に塗膜、液溜りが形成されてしまう。それらの余剰塗膜、液溜りの存在により、感光体ドラムとして電子写真画像形成装置に組み込まれた時に種々の問題を生じる。
【０００４】
例えば、感光体ドラムの端部にフランジを嵌合させたり、導通を取る場合、下端部内面に塗膜が形成されていると、感光ドラムの変形、フランジ接着強度不足、寸法精度の低下、導通不良等が生じてしまう可能性がある。また、高成膜性を得るために、例えば、特許文献１の技術を用いた場合、下端部内面に塗膜が形成される量が増加し、上記問題（感光ドラムの変形、フランジ接着強度不足、寸法精度の低下、導通不良）が顕著になる。
【０００５】
上記課題を解決するために、例えば、塗液・溶剤浸漬法として、特許文献２〜特許文献６には、塗膜を溶解する塗液・溶剤中に基体を特定の条件で浸漬し塗膜を除去する方法が提案されている。また、溶剤洗浄として、特許文献７にはノズルにて溶剤を散布し塗膜を溶解洗浄することが示されている。掻き取り除去法として、例えば、特許文献８には、ブレードを接触させた塗膜除去法が開示されている。
【０００６】
特許文献９には内面塗膜をブラシで除去することや端面の除去法が、特許文献１０には内面塗膜及び外面塗膜をブラシで除去することが示されている。また、特許文献１１には不職布に接触させる除去法が示されており、特許文献１２では、基体の余剰塗膜を溶剤を含有した多孔質スポンジで接触除去させる方法が報告されている。
【０００７】
前述した特許文献２〜１２はすべて余剰塗膜を溶解し得る有機溶剤を用いて余剰塗膜を除去している。一方、近年電子写真装置等のマシンの発展から、これらのマシンに搭載される円筒状基材も高品質なものが求められ、有機溶剤を利用して行う余剰塗膜除去方式にて発生する画質欠陥（ハーフトーンの色むら）の改良が求められている。
【特許文献１】特公昭６２−４１８７号公報
【特許文献２】特公平０４−７３７７８号公報
【特許文献３】特開平０６−２０２３５２号公報
【特許文献４】特開平０５−１７３３３９号公報
【特許文献５】特開平０１−９００６５号公報
【特許文献６】特開平０１−９００６６号公報
【特許文献７】特開平０１−１６８３８０号公報
【特許文献８】特公平０４−０４１８１５号公報
【特許文献９】特開平０９−１５２７２４号公報
【特許文献１０】特開平０９−１５２７２５号公報
【特許文献１１】特開平０８−３０５０５０号公報
【特許文献１２】特開平１−２７４８６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、電子写真感光体の余剰塗膜を有機溶剤を用いて除去し、製造した電子写真感光体を電子写真方式に用いた場合に発生する画質欠陥（ハーフトーンのむら）を抑制できる電子写真感光体の製造方法および余剰塗膜除去装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者らは、下記本発明により当該課題が解決できることを見出した。すなわち、本発明は、少なくとも、浸漬塗布法により円筒状基材に塗膜形成処理を施す塗膜形成工程を含む電子写真感光体の製造方法であって、前記塗膜形成処理後に、前記円筒状基材の少なくとも一方の端部に形成された余剰塗膜を、有機溶剤を用いて除去する余剰塗膜除去処理を施し、前記余剰塗膜除去処理を施す際の前記円筒状基材の画像形成領域端部の前記有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とすることを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【００１０】
本発明の電子写真感光体の製造方法は、下記第１〜第３の態様のうち、少なくとも第２の態様を具備し、さらに第１及び第３の態様の少なくとも１の態様を具備することが好ましい。
【００１１】
（１）第１の態様は、前記余剰塗膜除去処理が、前記余剰塗膜が形成された領域に前記有機溶剤を供給する処理であり、前記有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とするために、前記有機溶剤の蒸気を排気する排気処理を施す態様である。
（２）第２の態様は、前記排気処理が、前記余剰塗膜が形成された領域よりも鉛直方向で下方側で施される態様である。
（３）第３の態様は、余剰塗膜除去処理が、少なくとも、前記余剰塗膜が形成された領域を有機溶剤で湿潤した部材を用いて施される態様である。
【００１２】
また、本発明は、塗膜が形成された円筒状基材を支持する支持手段と、前記支持体手段により前記円筒状基材の少なくとも一方の端部が挿脱可能で、前記少なくとも一方の端部に形成された余剰塗膜を除去する余剰塗膜除去手段と、を具備する余剰塗膜除去装置であって、前記塗膜除去手段が有機溶剤供給手段を有し、前記余剰塗膜を除去する際の前記円筒状基材の画像形成領域端部における前記有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とする蒸気濃度調整手段をさらに有することを特徴とする余剰塗膜除去装置である。
【００１３】
本発明の余剰塗膜除去装置は、有機溶剤供給手段を具備する塗膜除去手段により余剰塗膜を除去しながら、蒸気濃度調整手段により有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とするため、過剰に存在する溶剤蒸気に起因する不良の発生を防ぐことができる。
【００１４】
本発明の余剰塗膜除去装置は、下記第１〜第７の態様のうち、少なくとも第２の態様を具備し、さらに第１及び第３〜第７の態様の少なくとも１以上の態様を具備することが好ましい。
【００１５】
（１）第１の態様は、前記余剰塗膜除去手段が、前記余剰塗膜が形成された領域に前記有機溶剤を供給する有機溶剤供給手段を有し、前記蒸気濃度調整手段が、前記有機溶剤の蒸気を排気する排気手段である態様である。
（２）第２の態様は、前記排気手段が、前記余剰塗膜が形成された領域よりも鉛直方向で下方側に配置される溶剤蒸気排出口である態様である。
（３）第３の態様は、余剰塗膜除去手段が、少なくとも、前記余剰塗膜が形成された領域を有機溶剤を湿潤状態で保持する有機溶剤保持手段を有する態様である。
【００１６】
（４）第４の態様は、前記溶剤蒸気排気口に溶剤蒸気制御機構を設け、当該溶剤蒸気制御機構から排出される溶剤蒸気を凝集させて、凝集後の有機溶剤を再利用する態様である。
（５）第５の態様は、溶剤蒸気制御機構がエアーエジェクター効果を利用する態様である。
（６）第６の態様は、前記溶剤蒸気を凝集させる機構が、当該溶剤蒸気の飽和蒸気圧を利用する態様である。
（７）第７の態様は、前記溶剤蒸気を凝集させる機構が溶剤蒸気を冷却させる態様である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、電子写真感光体を製造する際に生じる余剰塗膜を有機溶剤を用いて除去し、製造した電子写真感光体を電子写真方式に用いた場合に発生する画質欠陥（ハーフトーンのむら）を抑制できる電子写真感光体の製造方法および余剰塗膜除去装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
［１］電子写真感光体の製造方法：
本発明の電子写真感光体の製造方法は、少なくとも、浸漬塗布法により円筒状基材に塗膜形成処理を施す塗膜形成工程を含む。当該工程を経て製造される電子写真感光体は、その塗膜構成の種類により、塗膜に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含む単層型のものと、塗膜が電荷発生層と電荷輸送層からなる積層型に大別されるが、本発明は特に限定されるものではない。
【００１９】
電荷発生層および電荷輸送層は、浸漬塗布法により円筒状基材に塗膜形成処理を施す塗膜形成工程を経て形成される。当該塗膜形成工程を経た後の円筒状基材の端部には、画像形成には関与しない余剰塗膜が残留している。そこで、通常、電荷発生層および電荷輸送層がそれぞれ形成された後で、少なくとも一方の端部に形成された当該余剰塗膜に対し、有機溶剤を用いてこれを除去する余剰塗膜除去処理を施す。このようにして製造した電子写真感光体を電子写真方式に用いた場合、ハーフトーンの色むらをはじめとした画質欠陥を生じてしまう。
【００２０】
そして、余剰塗膜除去処理を施す際の円筒状基材の画像形成領域端部の有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とする。有機溶剤の蒸気濃度が３％を超えると、電子写真感光体を電子写真方式に用いた場合、画質欠陥（ハーフトーンのむら）が発生してしまう。有機溶剤の好ましい蒸気濃度は、１％以下である。画像形成領域端部については、後述する。
【００２１】
余剰塗膜除去処理としては、余剰塗膜が形成された領域に有機溶剤を供給する処理、あるいは、余剰塗膜が形成された領域を有機溶剤で湿潤した部材で施されることが好ましい。具体的には後述するが、溶媒を余剰塗膜に吹き付ける方法、スポンジ等に溶剤を湿潤させて拭きとる方法、ブラシやブレードで溶媒を供給しながら拭き取る方法等が挙げられる。
【００２２】
有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とするための手段としては、有機溶剤の蒸気を排気する排気処理を適用する。当該排気処理に関しては後述する。また、排気処理は、余剰塗膜が形成された領域よりも鉛直方向の下方側で施される。
【００２３】
ここで、電子写真感光体の感光層である電荷発生層および電荷輸送層について説明し、さらに、下引き層や円筒状基材について説明する。
【００２４】
電子写真感光体の電荷発生材料としては、公知の電荷発生材料を特に制限なく使用することができるが、中でも金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましく用いられ、特定の結晶を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニンが特に好ましく用いられる。
【００２５】
電荷発生層において好ましく用いられる電荷発生材料は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、及びニーダー等を用いて機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、及びニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００２６】
湿式粉砕処理において使用される溶剤は、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、又はこれらの数種の混合系、あるいは水とこれら有機溶剤との混合系が挙げられる。これら溶剤の使用量は、顔料結晶１質量部に対して１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部が望ましい。
【００２７】
また、湿式粉砕処理における処理温度は、０℃以上で溶剤の沸点以下、好ましくは１０〜６０℃である。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いてもよい。磨砕助剤は、顔料に対して０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍（いずれも質量換算値）用いればよい。さらに、公知の方法で製造される顔料結晶について、アシッドペースティング又はアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕又は湿式粉砕との組み合わせによって結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、この硫酸の濃度は７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％の濃度のものが使用される。この濃硫酸の量は、顔料結晶の質量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍（いずれも質量換算値）の範囲に設定される。
【００２８】
また、溶解温度は、−２０〜１００℃、好ましくは０〜６０℃の範囲に設定される。結晶を酸から析出させる際の溶剤としては、水、或いは水と有機溶剤の混合溶剤を任意の量で使用できる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。これらの電荷発生材料は、加水分解性基を有する有機金属化合物又はシランカップリング剤で被覆処理してもよい。かかる被覆処理によって電荷発生材料の分散性や電荷発生層用塗布液の塗布性が向上し、平滑で分散均一性の高い電荷発生層２を容易に且つ確実に成膜することができ、その結果、カブリやゴースト等の画質欠陥が防止され、画質維持性を向上させることができる。また、電荷発生層用塗布液の保存性も著しく向上するので、ポットライフの延長の点でも効果的であり、感光体のコストダウンも可能となる。上記加水分解性基を有する有機金属化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【００２９】
Ｒｐ−Ｍ−Ｙｑ・・・一般式（Ｉ）
【００３０】
なお、上記一般式（Ｉ）中、Ｒは有機基を表し、Ｍはアルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子を表し、Ｙは加水分解性基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１〜４の整数であり、ｐとｑとの和はＭの原子価に相当する。
【００３１】
一般式（Ｉ）中、Ｒで表される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリールアルキル基、スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエニル基、ピロリジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基等の複素環残基等が挙げられる。
【００３２】
これらの有機基は１または２種以上の各種の置換基を有していてもよい。また、一般式（Ｉ）中、Ｙで表される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジロキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジロキシカルボニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。また、一般式（Ｉ）中、Ｍはアルカリ金属以外であれば特に制限されるものではないが、好ましくはチタン原子、アルミニウム原子、ジルコニウム原子又はケイ素原子である。
【００３３】
当該電子写真感光体においては、上記の有機基や加水分解性の官能基を置換した有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物、さらにはシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００３４】
上記シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００３５】
これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
【００３６】
また、上記の有機金属化合物及びシランカップリング剤の加水分解生成物も使用することができる。この加水分解生成物としては、上記一般式（Ｉ）で示される有機金属化合物のＭ（アルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子）に結合するＹ（加水分解性基）やＲ（有機基）に置換する加水分解性基が加水分解したものが挙げられる。なお、有機金属化合物及びシランカップリング剤が加水分解性基を複数含有する場合は、必ずしも全ての官能基を加水分解する必要はなく、部分的に加水分解された生成物であってもよい。
【００３７】
これらの有機金属化合物及びシランカップリング剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上混合して使用してもよい。上記の加水分解性基を有する有機金属化合物及び／又はシランカップリング剤（以下、単に「有機金属化合物」という）を用いてフタロシアニン顔料を被覆処理する方法としては、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で該フタロシアニン顔料を被覆処理する方法、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散時に有機金属化合物を混合処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散後に有機金属化合物で更に分散処理する方法等が挙げられる。
【００３８】
より具体的には、顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法としては、有機金属化合物と結晶が整う前のフタロシアニン顔料とを混合した後加熱する方法、有機金属化合物を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し機械的に乾式粉砕する方法、有機金属化合物の水または有機溶剤中の混合液を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し湿式粉砕処理方法等が挙げられる。
【００３９】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法としては、有機金属化合物、水又は水と有機溶剤との混合液、並びにフタロシアニン顔料を混合して加熱する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料に直接噴霧する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料と混合する方法等がある。また、分散時に混合処理する方法としては、分散溶剤に有機金属化合物、フタロシアニン顔料、結着樹脂を順次添加しながら混合する方法、これらの電荷発生層２形成成分を同時に添加し混合する方法等が挙げられる。フタロシアニン顔料を結着樹脂中に分散した後に有機金属化合物で更に分散処理する方法としては、例えば溶剤で希釈した有機金属化合物を分散液に添加し攪拌しながら分散する方法が挙げられる。
【００４０】
かかる分散処理の際、より強固にフタロシアニン顔料に付着させるために、触媒として硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。これらの中でも、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法、又はフタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法が好ましい。電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。
【００４１】
好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸との重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷発生材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００４２】
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料及び結着樹脂を含む塗布液の塗布により形成される。塗布液の溶媒としては、結着樹脂を溶解することが可能であれば特に制限なく使用することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独で又は２種以上混合して用いることができる。電荷発生材料及び結着樹脂を溶媒に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって電荷発生材料の結晶型が変化しない条件で行うことが好ましい。また、この分散の際、電荷発生材料を好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。
【００４３】
次に、電荷輸送層について説明する。電荷輸送層は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含んで構成されるものである。電荷輸送層に用いる電荷輸送材料としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質；クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質；あるいは上記化合物から水素原子等を除いた残基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。
【００４４】
これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹脂、ビスフェノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４５】
電荷輸送層の形成に使用される溶媒としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤；メタノール、エタノール、ｎ―ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤；アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状あるいは直鎖状エーテル系溶剤；あるいはこれらの混合溶剤等を用いることができる。
【００４６】
塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、グラビアコータ塗布法等が挙げられる。また、電荷輸送層の膜厚は一般に５〜６０μｍであり、好ましくは１０〜５０μｍの範囲に設定される。表面の耐擦性および電荷保持性能の点から上記範囲が好適に選択される。
【００４７】
ここで、電荷発生層および電荷輸送層を形成するための好ましい装置の態様を説明する。
【００４８】
図３は多本同時浸漬塗布装置の一例を示すものであり、円筒状基材を塗布液槽から引上げ途中の状態を示すものである。塗布液１１４を貯留するリザーバータンク１１５から供給配管１１６を通してポンプ１１７によって圧送され、フィルター１１８を介して塗布液槽１１９内に供給される。
【００４９】
布液槽１１９は槽内塗布液流速均一性を得るために下部にメッシュ１２０を挿入してある。塗布液槽１１９内に供給された塗布液はオーバーフローし、塗布液槽１１９の上端周辺に設けられた塗布液受け槽１２１で補集されオーバーフロー管１２２の上部１２７に流出し塗布液受けタンク１１５に回収される。この浸漬塗布装置を用いて浸漬塗布を行う場合、円筒状基材１２３が塗布液槽１１９に浸漬され、その後、引き上げられた時、塗布液槽液面１２４を一定に保持する目的で、常にオーバーフローするように塗布液を循環する。さらに、オーバーフロー管１２２の途中に溶剤蒸気を排出する排出口１２６が設けられているが、排出口１２６は、塗布液槽液面１２４より低い位置に設けられているのが好ましい。排出口１２６から強制的に溶剤蒸気を吸引する事で膜厚ムラを抑制する。
【００５０】
排出口はＡからエアーを供給し、Ｂから排出することでＣ吸引室が減圧になり、溶剤蒸気を強制的に排出する即ち、エアーエジェクター効果を利用し排出するものである。手段としては、電動式またはエアー式真空ポンプ等の利用でも問題ないが、微細な圧力コントロールが必要なため、エアーエジェクター方式を採用することが好ましい。Ｃの真空度を表示する圧力計１２８を具備するのが好ましい。エアーエジェクター効果を利用し排出された溶剤蒸気は配管１３０を通り、リザーバータンク１１５に排出される。その際、溶剤蒸気冷却機１２９及び１３２にて冷却され、有機溶剤蒸気の飽和蒸気圧が下がり、有機溶剤が凝集する。溶剤蒸気冷却機１２９には冷却温度を測定する温度計１３１を具備するのが好ましい。凝集した有機溶剤は配管１３０を伝わり、重力によってリザーバータンク１１５内の塗液１１４に混ざる。
【００５１】
溶剤蒸気を冷却する手段として、ここでは冷却水を配管１３０に接触させる方法を記載したが、本発明はこれに限られたものではない。また、本例では排出された溶剤蒸気を配管１３０を通してリザーバータンク１１５につないでいるが、別の装置に繋いでも良い。また、リザーバータンク１１５内の圧力が高くならないように、エアー抜き機構１３４を設けた方が好ましい。
【００５２】
ここでは溶剤蒸気制御機構にてエアーエジェクター効果を利用しているが、従来の技術を用いることもできる。ただし、エアーエジェクター効果を利用した方が溶媒蒸気冷却機１２９の表面に接触する溶剤蒸気が常にリフレッシュされるため、溶剤蒸気を凝集させる効率があがり好ましい。
【００５３】
塗布液槽１１９の上部には、外部のエアー流れの影響を防止するためのフード１２５を具備している。ここで、排出口１２６を設けない場合や、排出口１２６を塗布液槽液面１２４より高い箇所に設定した場合は、円筒状基材１２３に形成される塗布膜から蒸発する溶剤蒸気、及び塗布液槽液面１２４より蒸発する溶剤蒸気は、外部のエアー流れに影響を受けないようフード１２５を具備していることも影響し、円筒状基材周辺に滞留する。厚膜塗布では更に塗布膜からの蒸発溶剤蒸気量が増加するため、自然排出では溶剤蒸気の排出不足が発生し、円筒状基材１２３に形成される塗布膜の指触乾燥速度ムラを発生させる。しかしながら、本態様では、溶剤蒸気を排出する排出口１２６に強制的に吸引する手段を具備する事で、すなわち、円筒状基材周辺の指触乾燥領域の溶剤蒸気を均一に且つ、厚膜塗布時でも優れ、膜厚ムラの少ない電子写真感光体を得ることが可能となる。
【００５４】
ここで、強制的に吸引する場合は、吸引する箇所がオーバーフロー管の途中にあることが好ましいが、その他の箇所でも円筒状基材周辺の溶剤蒸気を均一に排出することができるよう吸引条件が設定できれば問題無い。
【００５５】
電子写真感光体に使用する円筒状基材としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄などの導電性金属、その他に、表面に金属を蒸着するか導電粉を分散した塗膜を形成するなどにより、導電化処理されたプラスチックや紙等の筒状のものを用いることができる。基材の表面には、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング、着色処理等の処理を施したものを用いることが好ましい。表面処理により基材表面を粗面化することで、レーザビームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。
【００５６】
下引層は、積層構造を有する感光層の帯電の際に、導電性支持体から感光層への電荷の注入を阻止するとともに、感光層を導電性支持体に対して一体的に接着保持せしめる接着層としての作用を有するものである、また、下引層は、場合によっては導電性支持体の光の反射防止作用等示すことができる。かかる効果を有し、高画質な画像を維持する観点から、本発明にかかる電子写真感光体は、下引層を備えていることが好ましい。
【００５７】
下引層の材料としては、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等が挙げられる。また、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いることができる。これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。中でも上層（例えば、電荷発生層２）形成用塗布液に含まれる溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。更に、ジルコニウムキレート化合物、シランカップリング剤は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。
【００５８】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【００５９】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６０】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６１】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６２】
下引層中には、当該下引層を厚膜化するために、導電性物質等の金属酸化物を含有させると良い。金属酸化物としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等が挙げられるが、所望の感光体特性が得られるのであれば、公知のいかなるものでも使用することができる。下引層を厚膜化、特に１５μｍ以上の膜厚にすることにより、基体表面上の異物等の隠蔽効果が増し、上層に塗布する電荷発生層等の表面性向上につながる。
【００６３】
上記金属酸化物には表面処理を施すことができる。表面処理を施すことで、抵抗値の制御、分散性制御、感光体特性向上を図ることができる。表面処理剤としては、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。これらの化合物は単独あるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。中でもシランカップリング剤は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ない、画質特性に優れるなど性能上優れている。
【００６４】
シランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物の例としては前述した例と同じ物質が挙げられる。
【００６５】
表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。乾式法により表面処理を施す場合、金属酸化物微粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、シランカップリング剤を直接又は有機溶媒に溶解させて滴下し、それらの混合物を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって、均一な表面処理が行われる。シランカップリング剤の滴下及び混合物の噴霧は、使用する溶剤の沸点以下の温度で行うことが好ましい。滴下又は噴霧を溶剤の沸点以上の温度で行うと、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的に凝集して均一な処理ができにくくなる傾向がある。このようにして表面処理された金属酸化物粒子について、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００６６】
湿式法としては、金属酸化物微粒子を溶剤中に攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加して、攪拌又は分散した後、溶剤を除去することで均一に処理される。溶剤は蒸留により留去することが好ましい。なお、ろ過による除去方法では未反応のシランカップリング剤が流出しやすく、所望の特性を得るためのシランカップリング剤量をコントロールしにくくなる傾向がある。溶剤除去後には更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては金属酸化物微粒子含有水分除去法として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等を用いることもできる。
【００６７】
下引層中の金属酸化物微粒子に対するシランカップリング剤の量は、所望の電子写真特性が得られる量であればいかなる量でも用いることができる。また、下引層中に用いられる金属酸化物微粒子と樹脂との割合は、所望の電子写真特性が得られる割合であれば任意に設定できる。
【００６８】
下引層中には、光散乱性の向上等の目的により、各種の有機もしくは無機微粉末を混合することができる。かかる微粉末の好ましい例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料や、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料や、テフロン（登録商標）樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子等が挙げられる。これらの微粉末の粒径は、０．０１〜２μｍであることが好ましい。微粉末は必要に応じて添加される成分であるが、添加する場合の配合量は、下引層１に含まれる固形分に対して、質量比で１０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましい。
【００６９】
また、下引層の形成に用いられる塗布液（下引層形成用塗布液）には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料等が挙げられる。
【００７０】
下引層形成用塗布液を調製するに際し、前述の導電性物質や光散乱物質等の微粉末を混入させる場合には、樹脂成分を溶解した溶液中に微粉末を添加して分散処理が行うことが好ましい。微粉末を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の方法を用いることができる。
【００７１】
［２］余剰塗膜除去装置：
本発明の余剰塗膜除去装置の一例を、図１に示す。塗膜（不図示）が形成された円筒状基材１０を支持する支持手段１５と、支持体手段１５により円筒状基材１０の少なくとも一方の端部が挿脱可能で、少なくとも一方の端部に形成された余剰塗膜を除去する余剰塗膜除去手段としての端部塗膜除去部材２０と、を具備する。
【００７２】
支持手段１５は、円筒状基材１０の上端部１０ｂの内壁に当接し円筒状基材１０を支持する支持体１４と、支持体１４に設けられ浸漬塗布法により塗膜を形成した円筒状基材１０を該円筒状基材１０の軸心方向に略鉛直方向に支持して保持する支持軸１６とを有する。また、塗膜除去手段には、円筒状基材１０の下端部１０ａに接触し余剰塗膜を除去する端部塗膜除去部材２０と、端部塗膜除去部材２０が載置された基台２２と、基台２２を支持するとともに回転モータ（不図示）の駆動により回動可能な回転軸２４とを有する。
【００７３】
さらに、円筒状基材の余剰塗膜除去装置１００には、円筒状基材１０の下端部１０ａの余剰塗膜を除去するために用いた端部塗膜除去部材２０に含浸された溶剤を回収する使用済み溶剤回収槽３０と、使用済み溶剤回収槽３０に設けられ排出口３２から排出される使用済み溶剤を（配管５１を通じて）貯留する溶剤貯留槽３４と、溶剤貯留槽３４から溶剤を送液する送液ポンプ３６と、送液ポンプ３６からの送液流量を調整する流量計（不図示）と、基台２２と回転軸２４とを貫通して設けられ、送液される溶剤を余剰塗膜除去部材２０に供給する溶剤流路２６とが設けられている（有機溶剤供給手段）。なお、溶剤中の異物を除くためのフィルターを適宜設けても良い。
【００７４】
上記支持軸１６は、円筒状基材１０の軸心方向に沿って鉛直方向に複数回往復運動することができるように支持されている。また、支持軸１６を回転可能に支持してもよく、かかる場合、円筒状基材１０を該円筒状基材１０の軸中心に回転させることができる。
【００７５】
溶剤貯留槽３４に貯留される溶剤は、円筒状基材１０に形成する塗膜を溶解な能な溶剤であれば、いかなる溶剤も用いることができるが、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が好適である。
【００７６】
次に、上記円筒状基材の端部塗膜除去装置１００の動作について、図１を用いて以下に説明する。
【００７７】
支持体１４により支持され、浸漬法により塗膜（例えば、電荷発生層および電荷輸送層）が形成された円筒状基材１０を、支持軸１６を用いて該円筒状基材１０の軸心方向に鉛直に移動させ、端部塗膜除去部材２０に接触させる。このとき、円筒状基材１０の下端部１０ａの内面塗膜高さより高い位置まで、端部塗膜除去部材２０を、円筒状基材１０の内面に接触させる。
【００７８】
また、溶剤蒸気排出口５０を開いて、円筒状基材の画像形成領域端部の有機溶剤の蒸気濃度を３％以下とし、好ましくは１％以下とする。蒸気濃度を３％以下とするには、溶剤蒸気排出口５０の開放量を調整したり、溶剤蒸気排出口５０を複数設けそれらのいくつかを開くなどすればよい。ここで、「画像形成領域端部の有機溶剤の蒸気濃度」の測定領域とは、特に、余剰塗膜が除去される端部側（画像形成領域下端）で、画像形成領域（図１におけるＡ）と非画像形性領域（図１におけるＢ）との境界部分で、円筒状基材の外表面より３〜１０ｍｍの領域をいう。
【００７９】
なお、有機溶剤蒸気濃度はニューリー・インスツルメンツ株式会社製高性能ガス質量分析装置を用いて余剰塗膜除去時の電子写真感光体の画像下端領域の空気を吸引して測定することができる。また、画像形成領域とは、電子写真プロセスにて画像形成に実質的に寄与する領域で、用いる円筒状基材の大きさ、電子写真感光体として用いられる画像形成装置、画像形成プロセスにより異なるため、一概に言えないが、図１における円筒状基材１０の両端部から基材の長手方向全長の１．０〜１０．０％程度の範囲を除いた領域をいう。
【００８０】
一方、端部塗膜除去部材２０には、溶剤貯留槽３４より送液ポンプ３６、流量計を介して所定量の溶剤が溶剤流路２６を通して送液される。これにより、端部塗膜除去部材２０に溶剤が含浸される。この溶剤が含浸された端部塗膜除去部材２０は、回転モータの駆動により回転軸２４が回転し、この回転軸２４の回転によって基台２２が回転することにより回転する。この端部塗膜除去部材２０が回転することによって、円筒状基材１０の下端部１０ａの余剰塗膜を除去することができる。なお、溶剤が十分に端部塗膜除去部材２０に含浸されていれば、塗膜除去中に溶剤を供給する必要はない。
【００８１】
ここで、支持軸１６を用いて円筒状基材１０を複数回端部塗膜除去部材２０の上述した所定の位置に往復移動させ、端部塗膜除去部材２０を回転させながら余剰塗膜を除去してよい。
【００８２】
一方、端部塗膜除去部材２０に含浸された溶剤は、円筒状基材１０の下端部１０ａに接触して塗膜を溶解したのち、使用済み溶剤回収槽３０に回収される。また、使用済み溶剤回収槽３０に回収された使用済み溶剤は、排出口３２を介して溶剤貯留槽３４に送液され、再度送液ポンプ３６、流量計３８、溶剤流路２６を介して端部塗膜除去部材２０に送液され、複数回循環することとなる。すなわち、端部塗膜除去装置１００は循環流路を備えていることになる。
【００８３】
なお、使用済み溶剤中の塗料量が所定値を超えた場合には、溶剤貯留槽３４から一部使用済み溶剤を抜き取り新たな溶剤が補充されることが望ましい。また、限外ろ過装置（日本ポール株式会社製）や減圧加熱蒸留装置（ＦＯＲＭＥＣＯ社製）にて使用済み溶剤を再生し、再利用してもよい。
【００８４】
溶剤蒸気排出口５０は、円筒状基材の余剰塗膜除去時の画像領域最下端の位置よりも低い位置に設置される。これにより、溶剤蒸気濃度をより低く制御することができる。溶剤蒸気排出口５０の最上部と、円筒状基材の余剰塗膜除去時の画像領域最下端（図面上、下側の符号Ｂで表される領域の最上部）との距離Ｘが、１０〜１０００ｍｍであることが好ましく、２０〜２００ｍｍであることがより好ましい。距離Ｘが１０〜１０００ｍｍであることで、溶剤蒸気の排出が良好となり、円筒状基材の周りの溶剤蒸気濃度を本発明の範囲に制御することを容易にすることができる。
【００８５】
本発明の余剰塗膜除去装置の他の実施態様を図２に示す。なお、図２中、図１と同一符号のものは、同一の作用効果を示すため、説明を省略する。
【００８６】
図２に示す余剰塗膜除去装置２００は、溶剤蒸気排出口５０にエアーエジェクター機能を付与した以外は、図１に示す余剰塗膜除去装置と同様である。すなわち、溶剤蒸気排出口５０はＤからエアーを供給し、Ｅから排出することで吸引室Ｆが減圧になり、溶剤蒸気を強制的に排出する。即ち、エアーエジェクター効果を利用し排出するものである。手段としては、電動式またはエアー式の真空ポンプ等の利用でも問題ないが、微細な圧力コントロールが必要なため、エアーエジェクター方式を採用することが好ましい。図２に示したように、溶剤蒸気排出口５０から強制的に溶剤蒸気を吸引する事で、有機溶剤蒸気濃度をより確実に３％以下とすることができる。
【００８７】
吸引室Ｆの真空度を表示する圧力計を具備するのが好ましい。図２に示したようにエアーエジェクター効果を利用し排出された溶剤蒸気は配管５２を通り、溶剤貯留槽３４に排出される。その際、溶剤蒸気冷却機５３にて冷却され、有機溶剤蒸気の飽和蒸気圧が下がり、有機溶剤が凝集する。溶剤蒸気冷却機５３には冷却温度を測定する温度計を具備することが好ましい。
【００８８】
凝集した有機溶剤は配管を伝わり、重力によって溶剤貯留槽３４内の液中に混ざる。溶剤蒸気を冷却する手段として、ここでは冷却水を配管５２に接触させる方法を記載したが、本発明はこれに限られたものではない。また、本例では排出された溶剤蒸気を、配管を通して溶剤貯留槽３４につないでいるが、別の装置に繋いでも良い。また、リザーバータンク内の圧力が高くならないように、エアー抜き機構を設けた方が好ましい。ここでは、溶剤蒸気制御機構にてエアーエジェクター効果を利用しているが、従来の技術を用いることもできる。ただし、エアーエジェクター効果を利用した方が溶媒蒸気冷却機の表面に接触する溶剤蒸気が常にリフレッシュされるため、溶剤蒸気を凝集させる効率があがり好ましい。
【実施例】
【００８９】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、下記記載で、「部」とは「質量部」を意味する。
【００９０】
［実施例１］
（基材）
１ｍｍ厚×３０ｍｍφ×３２７．５ｍｍＬのアルミニウムパイプ（円筒状基材）にダイヤモンドバイトを用いた鏡面旋盤により鏡面切削加工を行い、表面粗さ（Ｒａ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に規定されている中心線平均粗さ）：０．０２μｍ、Ｒｍａｘ：０．２μｍ）の平滑面に仕上げた。
【００９１】
（洗浄処理）
次に、循環型処理装置にて、電気分解アルカリ性水を用いて基材を洗浄（電気分解アルカリ性水処理）した。処理槽に供給・循環される電気分解アルカリ性水としては、水以外のイオンを３．４ｗｔ％含む原液（商品名：ルミックＥＫＯ−１３ＡＬ、日本電子アクティブ社製）を、イオン交換水にて３倍に希釈したもの（ｐＨ１１）を用いた。電気分解アルカリ性水の原液を希釈するためのイオン交換水としては、比抵抗５（ＭΩ・ｃｍ）のものを用いた。また、電気分解アルカリ性水の温度は３５℃に設定され、上下揺動回数１５回／ｍｉｎで、３０ｓｅｃ間、基材を洗浄した。なお、処理槽で照射した超音波の周波数は１３３ｋＨｚであった。
【００９２】
また、使用済み電気分解アルカリ性水に含まれる油分は、油水分離装置として超極細繊維フィルター（商品名：ユーテックＴＨ、旭化成社製）を用いて分離した。次に、濯ぎ処理を行った。濯ぎ処理に用いた循環型濯ぎ装置における濯ぎ槽では、比抵抗５（ＭΩ・ｃｍ）のイオン交換水を使用した。また、イオン交換水の温度は３５℃に設定された。また、濯ぎ処理の際には、上下揺動回数１５回／ｍｉｎで、３０ｓｅｃ間、基材を濯いだ。なお、濯ぎ槽で照射した超音波の周波数は１３３ｋＨｚであった。最後に、水切り処理を行った。水切り処理に用いた循環型水切り装置における水切り槽では、比抵抗５（ＭΩ・ｃｍ）のイオン交換水を、液温５０℃に設定して使用した。基材を水切り槽２５ｂ内に３０ｓｅｃ浸漬した後、３００ｍｍ／ｍｉｎで引き上げた。その後、露点が１０℃以下の６０℃の熱風で乾燥した。
【００９３】
（下引き層用塗液の作製）
一方、酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製試作品）１００重量部をトルエン５００重量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学社製）１．５重量部を添加して２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行って表面処理が施された酸化亜鉛を得た。次に、表面処理を施した酸化亜鉛６０重量部、硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５重量部、及びブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５重量部をメチルエチルケトン８５重量部に溶解し、この溶液３８重量部とメチルエチルケトン２５重量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散処理を行い、分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５重量部を添加し、下引き層形成用塗布液を得た。
【００９４】
（下引き層の塗布）
この塗布液を浸漬塗布槽の手前の配管が内径２１ｍｍであり循環フィルタ−の目開きが絶対濾過精度で２５μｍであるフィルタ−を含む浸漬塗布循環機内で循環した。この浸漬塗布槽に円筒状基材６０本を一度に浸漬後毎分３２０ｍｍの引き上げ速度にて塗布し、図１に示した拭き取り装置を用い、以下の条件にて端部余剰塗膜除去を行った。図１に示す画像領域際下端の有機溶剤蒸気濃度は３．２％であった。溶剤はＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、図１に示すように溶剤供給を行った。内面塗膜除去部材として多孔性スポンジ（発泡率１５％）、外面塗膜除去部材は用いなかった。
【００９５】
・１回当たりの端部拭取時間            ：５ｓ
・端部拭き取り回数（往復移動回数）    ：３回
・スポンジ外径（溶剤含有状態）        ：３１ｍｍ
・円筒状基材内面軸心方向接触長さ（ｈ）：１０ｍｍ
・溶剤蒸気排出口開閉                  ：閉
・円筒状基材の余剰塗膜除去時に有機溶剤
の余剰塗膜除去部への供給              ：有
【００９６】
その後、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い平均膜厚２０μｍの下引き層を形成した。
【００９７】
（電荷発生層用塗液の作製）
次に、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイド社製）４部を酢酸−ｎ−ブチル１００部に溶解させた溶液とＩＩ型クロロガリウムフタロシアニン結晶４部を混合し、ガラスビーズとともに、１２時間ダイノーミルで分散し、酢酸−ｎ−ブチルで希釈して固形分濃度７．０重量％の電荷発生層形成用塗布液を調製した。
【００９８】
（電荷発生層の塗布）
この塗布液を浸漬塗布循環機内で循環した。この浸漬塗布槽に円筒状基材６０本を一度に浸漬後毎分１８０ｍｍの引き上げ速度にて塗布し、図１に示した拭き取り装置を用い、以下の条件にて端部余剰塗膜除去を行った。図１に示す画像領域下端の有機溶剤蒸気濃度は０．３％であった。溶剤としてはＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、図１に示すように溶剤供給を行った。内面塗膜除去部材として多孔性スポンジ（発泡率１５％）、外面塗膜除去部材は用いなかった。
【００９９】
・１回当たりの端部拭取時間                ：５ｓ
・端部拭き取り回数（往復移動回数）        ：１回
・スポンジ外径（溶剤湿潤状態）            ：３１ｍｍ
・円筒状基材内面軸心方向接触長さ（ｈ）    ：１０ｍｍ
・溶剤蒸気排出口開閉                      ：開
・画像領域最下端と溶剤蒸気排出口との距離Ｘ：１５０ｍｍ
・円筒状基材の余剰塗膜除去時に有機溶剤の
余剰塗膜除去部への供給                    ：無
【０１００】
その後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、０．２５μｍ厚の電荷発生層を形成した。
【０１０１】
（電荷輸送層用塗液の作製）
次に、下記式（１）で表される化合物２重量部、下記式（２）で表される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）３重量部をテトラヒドロフラン１５部／トルエン５部の混合溶剤に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１０２】
【化１】
0004506586.tif 000002
【０１０３】
（電荷輸送層の塗布）
この塗布液を浸漬塗布循環機内で循環した。この浸漬塗布槽に円筒状基材６０本を一度に浸漬後毎分１５０ｍｍの引き上げ速度にて塗布し、図１に示した拭き取り装置を用い、以下の条件にて端部余剰塗膜除去を行った。図１に示す画像領域際下端の有機溶剤蒸気濃度は１．５％であった。溶剤はＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、図１に示すように溶剤供給を行った。内面塗膜除去部材として多孔性スポンジ（発泡率１５％）、外面塗膜除去部材は用いなかった。
【０１０４】
・１回当たりの端部拭取時間                ：５ｓ
・端部拭き取り回数（往復移動回数）        ：３回
・スポンジ外径（溶剤含有状態）            ：３１ｍｍ
・円筒状基材内面軸心方向接触長さ（ｈ）    ：１０ｍｍ
・溶剤蒸気排出口開閉                      ：開
・画像領域最下端と溶剤蒸気排出口との距離Ｘ：１５０ｍｍ
・円筒状基材の余剰塗膜除去時に有機溶剤の
余剰塗膜除去部への供給                    ：有
【０１０５】
その後、１３５℃で４０分間加熱乾燥し、３７μｍ厚の電荷発生層を形成し電子写真感光体を６０本得た。
【０１０６】
［実施例２〜３および比較例１〜２］
電荷発生層の塗布で発生する余剰塗膜除去条件及び電荷輸送層の塗布で発生する余剰塗膜条件を下記表１のように変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を得た。
【０１０７】
【表１】
0004506586.tif 000003
【０１０８】
（評価）
得られた電子写真感光体を富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＰｒｉｎｔ  Ｃ６２６ＰＳを評価マシン用に改造した装置にて絵取り評価した。ハーフトーンでの色むら発生有無を絵取り初期時と２０００枚プリント後の２パターンで行った。結果を下記表２に示す。
【０１０９】
【表２】
0004506586.tif 000004
【０１１０】
表２の結果より、電荷発生層および電荷輸送層をそれぞれ形成し、それらの形成後に余剰塗膜を除去した実施例は、いずれも余剰塗膜を効率よく除去できていて、ハーフトーンでの色むらが発生しなかった。
【０１１１】
［実施例４］
電荷発生層および電荷輸送層の形成およびそれらの後の余剰塗膜除去処理を下記の通りとした以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を１２本作製した。
【０１１２】
（電荷発生層用塗液の作製）
次に、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイド社製）４部を酢酸−ｎ−ブチル１００部に溶解させた溶液とＩＩ型クロロガリウムフタロシアニン結晶４部を混合し、ガラスビーズとともに、１２時間ダイノーミルで分散し、酢酸−ｎ−ブチルで希釈して固形分濃度７．０重量％の電荷発生層形成用塗布液を調製した。
【０１１３】
（電荷発生層の塗布）
この塗布液を浸漬塗布循環機内で循環した。この浸漬塗布槽に円筒状基材１２本を一度に浸漬後毎分１８０ｍｍの引き上げ速度にて塗布し、図２に示した拭き取り装置を用い、以下の条件にて端部余剰塗膜除去を行った。図２に示す画像領域際下端の有機溶剤蒸気濃度は０．３％であった。溶剤はＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、図２に示すように溶剤供給を行った。内面塗膜除去部材として多孔性スポンジ（発泡率１５％）、外面塗膜除去部材は用いなかった。
【０１１４】
・１回当たりの端部拭取時間                ：５ｓ
・端部拭き取り回数（往復移動回数）        ：１回
・スポンジ外径（溶剤含有状態）            ：３１ｍｍ
・円筒状基材内面軸心方向接触長さ（ｈ）    ：１０ｍｍ
・溶剤蒸気排出口開閉                      ：開
・画像領域最下端と溶剤蒸気排出口との距離Ｘ：１５０ｍｍ
・円筒状基材の余剰塗膜除去時に有機溶剤の余剰塗膜除去部への供給：無
【０１１５】
図２における吸引室Ｆの真空度は圧力計で管理し、−５ｋＰａとなる様エアー流れの量（エジェクターエアー量）を調整し決定した。ここでの圧力（真空度）は塗布液物性、膜厚ムラ目標値等を考慮し任意に設定するパラメーターであるが、好ましくは。−０．１ｋＰａ〜−２０ｋＰａに設定されることが望ましい。溶剤蒸気冷却機の冷却水の温度は１０℃に設定した。ここでの冷却水の温度は、溶媒の凝集、再生量を考慮し任意に設定するパラメーターであるが、２０℃以下に設定されることが望ましい。その後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、０．２５μｍ厚の電荷発生層を形成した。
【０１１６】
（電荷輸送層用塗液の作製）
次に、上記式（１）で表される化合物２重量部、上記式（２）で表される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）３重量部をテトラヒドロフラン１５部／トルエン５部の混合溶剤に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
【０１１７】
（電荷輸送層の塗布）
この塗布液を浸漬塗布循環機内で循環した。この浸漬塗布槽に円筒状基材１２本を一度に浸漬後毎分１５０ｍｍの引き上げ速度にて塗布し、図２に示した拭き取り装置を用い、以下の条件にて端部余剰塗膜除去を行った。図２に示す画像領域際下端の有機溶剤蒸気濃度は１．５％であった。溶剤はＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、図２に示すように溶剤供給を行った。内面塗膜除去部材として多孔性スポンジ（発泡率１５％）、外面塗膜除去部材は用いなかった。
【０１１８】
・１回当たりの端部拭取時間                ：５ｓ
・端部拭き取り回数（往復移動回数）        ：３回
・スポンジ外径（溶剤含有状態）            ：３１ｍｍ
・円筒状基材内面軸心方向接触長さ（ｈ）    ：１０ｍｍ
・溶剤蒸気排出口開閉                      ：開
・画像領域最下端と溶剤蒸気排出口との距離Ｘ：１５０ｍｍ
・円筒状基材の余剰塗膜除去時に有機溶剤の余剰塗膜除去部への供給：有
【０１１９】
図２における吸引室Ｆの真空度は圧力計で管理し、−５ｋＰａとなる様エアー流れの量（エジェクターエアー量）を調整し決定した。ここでの圧力（真空度）は塗布液物性、膜厚ムラ目標値等を考慮し任意に設定するパラメーターであるが、好ましくは。−０．１ｋＰａ〜−２０ｋＰａに設定されることが望ましい。溶剤蒸気冷却機の冷却水の温度は１０℃に設定した。ここでの冷却水の温度は、溶媒の凝集、再生量を考慮し任意に設定するパラメーターであるが、２０℃以下に設定されることが望ましい。その後、１３５℃で４０分間加熱乾燥し、３７μｍ厚の電荷輸送層を形成し電子写真感光体を１２本得た。
【０１２０】
実施例１と同様の評価を行ったところ、実施例４の電子写真感光体も実施例１と同様に、余剰塗膜を効率よく除去できていて、ハーフトーンでの色むらが発生しなかった。また、本実施例では、他の実施例よりも溶剤蒸気の大気への排出を抑制することができた。
【０１２１】
［実施例５］
電荷輸送層の塗布において、図３に示す装置を用いた以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を１４本作製した。
【０１２２】
上記電荷輸送層の塗布方法は、塗布液を図３の多本同時浸漬塗布装置を用いて塗布するもので、円筒状基材を塗布液から引き上げる速度は１５０ｍｍ／ｍｉｎとし、同時塗布本数は１４本とした。この時の塗液温度は２７．５℃とした。排出口１２６の位置としては、図３に示す液受け槽からの距離ｅを６００ｍｍ、塗布液槽液面から排出口中央部までの高低差ｇを３００ｍｍとした。また、オーバーフロー管の径は、内径４４．６ｍｍφ、排出口の径ｆは内径１５ｍｍφとした。図３における吸引室Ｃの真空度は圧力計２８で管理し、−５ｋＰａとなる様エアー流れの量（エジェクターエアー量）を調整決定した。
【０１２３】
溶剤蒸気冷却機１２９の冷却水の温度は１０℃に設定した。ここでの冷却水の温度は、溶媒の凝集、再生量を考慮し任意に設定するパラメーターであるが、２０℃以下に設定されることが望ましい。
【０１２４】
塗布した円筒状基体は風乾した後、乾燥機に入れ、１３５℃において、４０分間加熱乾燥し、実施例１と同様にして、膜厚３２μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。その時の１４本それぞれの膜厚ムラ値を観察したところ、塗布膜上端から２０ｍｍ、５０ｍｍ、１６０ｍｍ、３００ｍｍのそれぞれの箇所の円周方向１６点（２２．５°間隔）、合計６４点の膜厚値の最大値と最小値との差が０．９５μｍと小さく、膜厚ムラが非所に少ないことが確認できた。また、実施例１と同様の評価を行ったところ、実施例１と同様に、余剰塗膜を効率よく除去できていて、ハーフトーンでの色むらが発生しなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明の余剰塗膜除去装置の一態様を示す概略図である。
【図２】本発明の余剰塗膜除去装置の他の一態様を示す概略図である。
【図３】多本同時浸漬塗布装置の一態様を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１２６】
１０・・・円筒状基材
１０ａ・・・下端部
１０ｂ・・・上端部
１４・・・支持体
１５・・・支持手段
１６・・・支持軸
２０・・・端部塗膜除去部材
２２・・・基台
２４・・・回転軸
２６・・・溶剤流路
３０・・・使用済み溶剤回収槽
３２・・・排出口
３４・・・溶剤貯留槽
３６・・・送液ポンプ
１００・・・余剰塗膜除去装置
【図１】
0004506586.tif 000005
【図２】
0004506586.tif 000006
【図３】
0004506586.tif 000007