(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のガス源にそれぞれ連通する複数の入力流路と、
各入力流路にそれぞれ接続された複数の入口開閉弁と、
各入口開閉弁の下流側に共通入力流路を介して接続されたマスフローコントローラと、
前記マスフローコントローラと出力流路とを接続した出口開閉弁と、
前記共通入力流路の上流側に接続された第１パージ弁と、を備えるとともに、
前記各入力流路と、各入口開閉弁、前記マスフローコントローラ、前記出口開閉弁、前記第１パージ弁が接続されたガス供給部を複数備え、
各ガス供給部は、
前記各入口開閉弁及び前記第１パージ弁を接続した前記共通入力流路と前記出口開閉弁との間に前記マスフローコントローラが接続されている一方、前記各入口開閉弁の上流側は、隣接する他のガス供給部に備えられる前記各入口開閉弁の上流側にそれぞれ接続されていること、
を特徴とするガス供給集積弁。
【請求項２】
請求項１に記載のガス供給集積弁であって、
各ガス供給部は、
前記第１パージ弁が、前記共通入力流路上であって、前記共通入力流路と前記各入口開閉弁とが接続する位置より上流側に配置されており、前記各入口開閉弁が閉状態でも前記共通入力流路は連通していることを特徴とするガス供給集積弁。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のガス供給集積弁であって、
前記出力流路へパージガスを直接供給するための第２パージ弁を設けたことを特徴とするガス供給集積弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置等で使用され、複数種類のガスを混合して供給するガス供給集積弁に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体製造工程において、薄膜生成装置、乾式エッチング装置などのプロセス機器へプロセスガスを供給するガス供給集積弁が使用されている。これらのプロセス機器では、プロセスガスの流量を精密に制御することが要求されるうえに、工程によって異なる種類のガスを供給する必要があり、また、工程によっては複数種のガスを混合して供給する場合もある。そのため、流量を正確に計測するためのマスフローコントローラが組み込まれて、各１種類のガスを所要量だけ供給するガス供給弁を、複数のガス源のそれぞれに設けている。そして、ガス源の数だけガス供給弁を組み合わせて、それらの出力流路をいずれも同じプロセス機器へ接続することで、所要のガスを所要量ずつ混合して供給できるようにしている。
【０００３】
従来のガス供給集積弁１００は、ガス源が８種である場合の例を図９に示すように、各ガス源に対応するガス供給弁１１１を組み合わせたものである。例えば、ガスＡを供給するガス供給弁１１１Ａは、ガスＡのガス源に接続され、その流路を開閉するための入口開閉弁１０３Ａと、出力流路１１０へ連通する流路を開閉する出口開閉弁１０６Ａと、それらの間に接続されたマスフローコントローラ１０５Ａ等が接続されて構成されている。さらに、各ガス供給弁１１１には、マスフローコントローラ１０５を機能させるために必要なレギュレータ１０１や圧力センサ１０２と、マスフローコントローラ１０５をパージするためのパージ弁１０４が接続されている。ガス供給集積弁１００は、各ガス源（ガスＡ〜ガスＨ）毎にガス供給弁１１１を設けて、それらの出力が同じ出力流路１１０へと接続されている。この出力流路１１０をプロセス機器に接続し、各工程に必要なガス源のガス供給弁１１１のみを駆動させることで、必要なガスを必要な流量だけ、適宜混合してプロセス機器に供給することが可能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来のガス供給集積弁１００では、一度に混合されるガスの種類は、供給されるガス源の数に比べて少ないものである。つまり、多数のマスフローコントローラ１０５のうち、同時に使用される数は少なく、交代で使用されている状況である。それにも関わらず、従来のガス供給集積弁１００ではガス源の数だけガス供給弁１１１が必要となり、各ガス供給弁１１１にはそれぞれマスフローコントローラ１０５等が必要となる。中でも、マスフローコントローラ１０５は高価な装置であり、そのマスフローコントローラ１０５がガス源数ずつ必要であるために、ガス供給集積弁１００が高価なものとなるという問題点があった。そのため、マスフローコントローラ１０５の使用数を減らすことが望まれていた。
【０００５】
また、マスフローコントローラ１０５は一般的な開閉弁等と比較して床占有面積が大きく、マスフローコントローラ１０５の数が多いことはガス供給集積弁１００の床占有面積を大きいものとしている。このガス供給集積弁１００は、ガスの供給対象である各プロセス機器毎に必要であり、半導体製造工程等で複数のプロセス機器をロボットの周囲に配設した場合、付属するガス供給集積弁１００が大きいことは作業等の邪魔となるので、より床占有面積の小さいガス供給集積弁が望まれていた。
【０００６】
そこで、本発明は上述した問題点を解決するためになされたものであって、高価で大きい装置であるマスフローコントローラの使用数を減らし、コストを低下させるとともに床占有面積を小さくすることを可能にしたガス供給集積弁を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するためになされた請求項１に係る発明は、複数のガス源にそれぞれ連通する複数の入力流路と、各入力流路にそれぞれ接続された複数の入口開閉弁と、各入口開閉弁の下流側に接続されたマスフローコントローラと、前記マスフローコントローラと出力流路とを接続した出口開閉弁と、前記マスフローコントローラの上流側に接続された第１パージ弁と、を備えるとともに、前記入力流路と、各入口開閉弁、前記マスフローコントローラ、前記出口開閉弁、前記第１パージ弁が接続されたガス供給部を複数備え、各ガス供給部は、各入口開閉弁及び前記第１パージ弁を接続した共通入力流路と前記出口開閉弁との間に前記マスフローコントローラが接続されている一方、各入口開閉弁の上流側は、隣接する他のガス供給部に備えられる各入口開閉弁の上流側にそれぞれ接続されていること、を特徴とする。
【０００８】
このような特徴を有する本発明のガス供給集積弁では、ガス供給部は、複数種のガス源に連通する入力流路と、各入力流路にそれぞれ接続された入口開閉弁、マスフローコントローラ、出口開閉弁、第１パージ弁とが接続されて構成される。このうち、各入口開閉弁及び第１パージ弁を接続した共通入力流路と出口開閉弁との間にマスフローコントローラが接続されているので、入口開閉弁によってガス源から共通入力流路へ入力されたガスは、マスフローコントローラによって流量を制御され、出口開閉弁を介して出力流路へと導かれる。従って、所要のガスを所要の流量だけ出力流路へ供給できる。さらに、このガス供給部が複数備えられることから、それぞれのガス供給部が異種のガスを同時に供給することで、所要のガスを所要の流量ずつ混合して出力流路へ供給することができる。
【０００９】
また、マスフローコントローラの上流側には第１パージ弁が接続されているので、マスフローコントローラにパージガスを導入してパージすることができる。これによって、供給するガスの種類を変更する前に前回のガスをパージすれば、同じガス供給部を使用して、同じマスフローコントローラに異種のガスを交代に入力することができる。このことから、備えられるガス供給部の数は、ガス源の数に拘わらず、同時に使用される数である混合するガス種数だけあれば良く、各ガス供給部に１台のマスフローコントローラがあればよい。従って、従来のガス供給集積弁では、ガス源の数だけマスフローコントローラが必要であったのに対し、本発明のガス供給集積弁では、それよりずっと少ない混合されるガス種数だけあればよい。
【００１０】
すなわち、従来のガス供給集積弁に比較して、高価で床占有面積の大きいマスフローコントローラの数を減少することができるので、ガス供給集積弁のコスト低下をはかることができる。また、従来のガス供給集積弁に比較して入口開閉弁の数は（ガス種数×混合種数）まで増えるものの、大きなマスフローコントローラの数が減少し、他の開閉弁の数も減るので、全体としてガス供給集積弁の床占有面積を減少させることもできる。
【００１１】
さらに、各入口開閉弁が隣接する他のガス供給部の入口開閉弁と、それらの上流側で接続されているので、ガス源に連通する入力流路に接続された入口開閉弁から他のガス供給部へも連通される。これにより、ガス源と接続されるポートの数はガス源の数でよく、１つのポートからそれぞれ隣接する他のガス供給部へもガスが入力される。従って、余計なガス管が必要となったり、ポート等の突出部の数が増えることがない。
【００１２】
また、請求項２に係る発明は、請求項１に記載のガス供給集積弁であって、各ガス供給部は、前記第１パージ弁が、各入口開閉弁の上流側に配置されており、各入口開閉弁が閉状態でも前記共通入力流路は連通していることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明のガス供給集積弁において、第１パージ弁が、各入口開閉弁の上流側に配置されて、各入口開閉弁が閉状態でも共通入力流路は連通していれば、第１パージ弁の開放によって入力されたパージガスは、その共通入力流路に接続された全ての入口開閉弁及びマスフローコントローラを経由して出力流路へと供給される。従って、ガスの滞留が発生せず、マスフローコントローラをパージすると同時に共通入力流路や各入口開閉弁近傍をパージすることができるので、パージ効率がよい。
【００１４】
また、請求項３に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載のガス供給集積弁であって、前記出力流路へパージガスを直接供給するための第２パージ弁を設けたことを特徴とする。
【００１５】
また、本発明のガス供給集積弁において、第２パージ弁を設ければ、各入口開閉弁やマスフローコントローラが接続された共通入力流路を経ることなく、直接出力流路へパージガスを供給することができる。従って、本発明のガス供給集積弁が接続されたプロセス機器を、すばやくパージすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照にして詳細に説明する。図１は、本実施の形態のガス供給集積弁の平面図であり、図２は、その側面図であり、図３は、その構成を示す回路図である。ガス供給集積弁１は、供給ガスとしてガスＡ〜ガスＨの８種類を入力し、最大３種まで混合して出力することを可能にしたものである。
【００１７】
このガス供給集積弁１は、図３に示すように、図示しない各ガス源（ガスＡ〜ガスＨ）からの入力ポート１１Ａ〜１１Ｈに連通された入力流路５５Ａ〜５５Ｈには、それぞれ３個の入口開閉弁１２Ａ，１３Ａ，１４Ａ等が接続されている。さらに、図示しないパージガス源に接続されるパージガス入力ポート２１には、３個の第１パージ弁２２，２３，２４が接続されている。また、各入力ポート１１Ａ〜１１Ｈに接続された各１つの入口開閉弁と１つの第１パージ弁（例えば、入口開閉弁１２Ａ〜１２Ｈと第１パージ弁２２）が互いに接続されて、それらを連通する３つの共通入力流路２０，３０，４０が設けられている。
【００１８】
また、各共通入力流路２０，３０，４０には、入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈの下流側に、レギュレータ４２〜４４、圧力センサ５２〜５４、マスフローコントローラ３２〜３４がそれぞれ１つずつ直列に接続されている。そして、マスフローコントローラ３２〜３４の下流側は、出口開閉弁６２〜６４及び出力流路６５を経て出力ポート６１へと連通されている。出力ポート６１は、図示しないプロセス機器等に接続されて、このガス供給集積弁１から供給される出力ガスの流路を構成する。
【００１９】
この図３中の横１列分の部品の組（例えば、第１パージ弁２２、入口開閉弁１２Ａ〜１２Ｈ、レギュレータ４２、圧力センサ５２、マスフローコントローラ３２、出口開閉弁６２の組）は互いに連通され、１つのガス供給部１７が構成されている。同様に、第１パージ弁２３を含む同じ構成の部品の列でガス供給部１８が、第１パージ弁２４を含む列でガス供給部１９が構成されている。さらに、これらのガス供給部１７〜１９を経由しないでパージガス入力ポート２１に連通する第２パージ流路２６が形成され、第２パージ流路２６と出力流路６５との間に第２パージ弁２５が設けられている。
【００２０】
次に、図３の回路図を具体化したガス供給集積弁１は、図１，２に示すように、長方形のプレート１０上に入口開閉弁１２Ａ，…、マスフローコントローラ３２〜３４等の各部品が整列して配置されている。プレート１０の長手方向最前列には、図２中右から順に第１パージ弁２２、入口開閉弁１２Ｈ〜１２Ａ、レギュレータ４２、圧力センサ５２、マスフローコントローラ３２、出口開閉弁６２が直線上に配置されて、ガス供給部１７を形成している。そしてこの１列と同じ構成のガス供給部１８，１９がガス供給部１７に平行に設けられ、ガス供給集積弁１の主要部をなしている。
【００２１】
ここで、各入口開閉弁１２Ａ，…等の開閉弁と、レギュレータ４２〜４４及び圧力計５２〜５４とは、ともにその平面形がほぼ同じである略円柱状なので、スペースの無駄なく同列に並べることができる。一方、マスフローコントローラ３２〜３４は略角柱状であり、その平面形の短径が各開閉弁等の底面の径とほぼ等しいので、底面の長手方向がプレート１０の長手方向となるように配置すれば、すべての部品を無駄なく整列させることができる。
【００２２】
さらに、図１に示すように、出口開閉弁６４に隣接して第２パージ弁２５が設けられ、内部に第２パージ流路２６が形成された連通管２７によって第１パージ弁２４と接続されている。また、第１パージ弁２２、入口開閉弁１２Ａ〜１２Ｈ、出口開閉弁６２からは、それぞれ、パージガス入力ポート２１、各入力ポート１１Ａ〜１１Ｈ、出力ポート６１がガス供給集積弁１のいずれも正面側に突出し、図示しないガス源やプロセス機器等の他の装置と接続できるようにされている。
【００２３】
各部品は、図２，４に示すように、内部に流路が形成されたブロック１５上にネジ止めされてプレート１０に固定され、一体化されている。各ブロック１５は、図４，５の部分断面図に示すように、内部に屈折した流路が形成され、上面に２つの接続口が設けられている。また、図５に示したように、入口開閉弁１２Ａ，…は、１つの入力口と２つの出力口を有する開閉弁であり、閉弁時にも２つの出力口同士は連通している。開弁時には、１つの入力口と２つの出力口がすべて連通状態となる。これに対し、第１パージ弁２２〜２４と出口開閉弁６２〜６４は、それぞれ入力口と出力口を１つずつ備え、流路を開閉することができる一般的な開閉弁である。
【００２４】
各ブロック１５の２つの接続口は、プレート１０の長手方向に隣接する入口開閉弁１２Ａ，…のそれぞれ１つの出力口に接続され、２つの入口開閉弁１２Ａ，…の出力口同士を互いに連通するように、各ブロック１５内に流路が形成されている。従って、図４に示すように、入口開閉弁１２Ａ〜１２Ｈの開閉に拘わらず、第１パージ弁２２の出力口は、入口開閉弁１２Ａ〜１２Ｈのそれぞれ２つの出力口とそれらの間のブロック１５内の流路を経由して、レギュレータ４２へと常に連通されており、これによって図３に示した共通入力流路２０が構成されている。同様に、共通入力流路３０，４０も、入口開閉弁１３Ａ〜１３Ｈあるいは入口開閉弁１４Ａ〜１４Ｈによって常時連通状態に構成されている。
【００２５】
さらに、各ブロック１５の間には小ブロック１６が配置されている。小ブロック１６は、内部に逆Ｔ字型の連通路が設けられ、図１の上下方向に隣接して配置された入口開閉弁（例えば、入口開閉弁１２Ａと１３Ａとの間）を連通するための流路を形成する。Ｔ字の足部分に各入口開閉弁１２Ａ，…等の入力口が接続され、Ｔ字の横棒部分で他の小ブロック１６と接続されて連通路を形成する。同様に、第１パージ弁２２〜２４の間や、出口開閉弁６２〜６４の間にも小ブロック１６が設けられ、第１パージ弁２２〜２４の入力口同士を連通してパージガス入力ポート２１へ接続し、出口開閉弁６２〜６４の出力口同士を連通して出力ポート６１へ接続している。さらに、第２パージ弁２５と出口開閉弁６４との間にも、小ブロック１６が配置されている。
【００２６】
ここで、図４に示したのは、第１パージ弁２２及び入口開閉弁１２Ａ〜１２Ｈが閉弁されている状態であり、すべての開閉弁の入力口は閉止されてどのガスも入力されていないが、共通入力流路２０は連通している。よって、レギュレータ４２、圧力センサ５２、マスフローコントローラ３２の内部を介して、第１パージ弁２２の出力口から出口開閉弁６２の入力口までが連通状態となっており、第１パージ弁２２と出口開閉弁６２を開放すれば、第１パージ弁２２から図示しないプロセス機器までパージガスを導入できる。
【００２７】
従って、本実施の形態のガス供給集積弁１においては、所要のガス源に接続された入力ポート１１Ａ〜１１Ｈに対応する入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈの１つを開放することで、入力ポート１１Ａ〜１１Ｈから入力されたガスを共通入力流路２０，３０，４０の１つへ流通させることができる。そして、マスフローコントローラ３２〜３４で流量が制御され、出口開閉弁６２〜６４へと流されるので、出口開閉弁６２〜６４を開放すれば所要のガスを所要の流量だけ出力ポート６１へ出力することができる。さらに、同時に別の入力ポート１１Ａ〜１１Ｈに対応する入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈのうち、先と異なる共通入力流路２０，３０，４０に連通するものを開放し、同様に別のガスを所要の流量だけ出力すれば、２種あるいは３種の混合ガスが出力ポート６１へ出力される。
【００２８】
また、別の工程で異種のガスを同じ共通入力流路２０，３０，４０に入力する前には、その共通入力流路２０，３０，４０をパージする。そのために、その共通入力流路２０，３０，４０に接続されたすべての入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈを閉止し、第１パージ弁２２〜２４と出口開閉弁６２〜６４を開放する。これによって、パージガスが第１パージ弁２２〜２４から入力され、同一の共通入力流路２０，３０，４０を構成するすべての入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈの両出力口を経て、レギュレータ４２〜４４、圧力センサ５２〜５４、マスフローコントローラ３２〜３４を通って出口開閉弁６２〜６４から出力ポート６１へと流通される。
【００２９】
あるいは、各共通入力流路２０，３０，４０をパージするのでなく、出力ポート６１に接続された図示しないプロセス機器を直接パージする場合には、第２パージ弁２５を開放する。これによって、パージガス入力ポート２１から入力されたパージガスは、連通管２７の内部の第２パージ流路２６と第２パージ弁２５を介して、出力ポート６１へ出力され、図示しないプロセス機器を素早くパージすることができる。
【００３０】
ここで、従来のガス供給集積弁１００と本実施の形態のガス供給集積弁１との床占有面積を比較する。従来のガス供給集積弁１００では、８つのガス源にガス供給弁１１１が８台必要であったのに対し、本実施の形態のガス供給集積弁１では、１つの出口開閉弁６２〜６４に対応するガス供給部１７〜１９が３台必要となる。図９に示した従来のガス供給集積弁１００と図３に示した本実施の形態のガス供給集積弁１との比較では、マスフローコントローラが８台から３台へと減少し、一方、入口開閉弁が９台から２４台へ、出口開閉弁が８台から３台へ、第１パージ弁が８台から３台へ等と個数が変化している。また、レギュレータや圧力センサも減少する。
【００３１】
そこで、マスフローコントローラの床占有面積が一般的な開閉弁の約３倍であるとし、１個の開閉弁の床占有面積を基準として、ガス供給集積弁１，１００に使用されている部品の床占有面積の合計を比較すると、ガス供給集積弁１では約４６個分、ガス供給集積弁１００では約６８個分となる。従って、およそ３分の２程度まで床占有面積が小さくなっている。また、高価なマスフローコントローラの使用数が８個から３個へと減るので、ガス供給集積弁１は、従来のガス供給集積弁１００に比較して低コスト化されている。
【００３２】
以上説明したようにこの実施の形態のガス供給集積弁１によれば、ガス供給部１７〜１９は、複数種のガス源に連通する入力流路５５Ａ〜５５Ｈと、各入力流路にそれぞれ接続された入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈ、マスフローコントローラ３２〜３４、出口開閉弁６２〜６４、第１パージ弁２２〜２４とが接続されて構成される。このうち、各入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈ及び第１パージ弁２２〜２４を接続した共通入力流路２０，３０，４０と出口開閉弁６２〜６４との間にマスフローコントローラ３２〜３４が接続されているので、入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈによってガス源から共通入力流路２０，３０，４０へ入力されたガスは、マスフローコントローラ３２〜３４によって流量を制御され、出口開閉弁６２〜６４を介して出力流路６５から出力ポート６１へと導かれる。従って、所要のガスを所要の流量だけ出力ポート６１へ供給できる。さらに、このガス供給部１７〜１９が複数備えられることから、それぞれのガス供給部１７〜１９が異種のガスを同時に供給することで、所要のガスを所要の流量ずつ混合して出力ポート６１へ供給することができる。
【００３３】
また、マスフローコントローラ３２〜３４の上流側には第１パージ弁２２〜２４が接続されているので、マスフローコントローラ３２〜３４にパージガスを導入してパージすることができる。これによって、供給するガスの種類を変更する前に前回のガスをパージすれば、同じガス供給部１７〜１９を使用して、同じマスフローコントローラ３２〜３４に異種のガスを交代に入力することができる。このことから、備えられるガス供給部１７〜１９の数は、ガス源の数に拘わらず、同時に使用される数である混合するガス種数だけあれば良く、各ガス供給部１７〜１９に１台のマスフローコントローラ３２〜３４があればよい。従って、従来のガス供給集積弁１００では、ガス源の数だけマスフローコントローラ１０５が必要であったのに対し、本実施の形態のガス供給集積弁１では、それよりずっと少ない混合されるガス種数だけあればよい。
【００３４】
すなわち、本実施の形態のガス供給集積弁１では、従来のガス供給集積弁１００に比較して、高価で床占有面積の大きいマスフローコントローラ３２〜３４の数を減少することができるので、ガス供給集積弁１のコスト低下をはかることができる。また、従来のガス供給集積弁１００に比較して入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈの数は（ガス種数×混合種数）まで増えるものの、大きなマスフローコントローラ３２〜３４の数が減少し、他の開閉弁の数も減るので、全体としてガス供給集積弁１の床占有面積が減少する。
【００３５】
さらに、各入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈが他のガス供給部１７〜１９の入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈと、それらの上流側で接続されているので、ガス源に連通する入力流路５５Ａ〜５５Ｈに接続された入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈから他のガス供給部１７〜１９へも連通される。これにより、ガス源と接続される入力ポート１１Ａ〜１１Ｈの数はガス源の数でよく、１つの入力ポート１１Ａ〜１１Ｈからそれぞれ隣接する他のガス供給部１７へもガスが入力される。従って、余計なガス管が必要となったり、ポート等の突出部の数が増えることがない。
【００３６】
また、本実施の形態のガス供給集積弁１では、第１パージ弁２２〜２４が、各入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈの上流側に配置されて、各入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈが閉状態でも共通入力流路２０，３０，４０は連通しているので、第１パージ弁２２〜２４の開放によって入力されたパージガスは、その共通入力流路２０，３０，４０に接続された全ての入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈ及びマスフローコントローラ３２〜３４を経由して出力流路６５から出力ポート６１へと供給される。従って、ガスの滞留が発生せず、マスフローコントローラ３２〜３４をパージすると同時に共通入力流路２０，３０，４０や各入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈ近傍をパージすることができるので、パージ効率がよい。
【００３７】
また、本実施の形態のガス供給集積弁１では、第２パージ弁２５を設けたので、各入口開閉弁１２Ａ〜１４Ｈやマスフローコントローラ３２〜３４が接続された共通入力流路２０，３０，４０を経ることなく、直接出力流路６５から出力ポート６１へパージガスを供給することができる。従って、本実施の形態のガス供給集積弁１が接続された図示しないプロセス機器を、すばやくパージすることができる。
【００３８】
さらに、本実施の形態のガス供給集積弁１では、パージガス入力ポート２１、入力ポート１１Ａ〜１１Ｈ、出力ポート６１の各ガスポートが全て同一方向に突出しているので、設置場所の制約が少ない。
【００３９】
尚、この発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で以下のように変更して実施することもできる。
（１）前記実施の形態では、８種のガス源に対応して８つの入力ポート１１Ａ〜１１Ｈを有し、また、共通入力流路２０，３０，４０が３つ設けられたガス供給集積弁１としたが、各製造工程で使用されるガスの種類や、混合されるガス種の数に応じてこれらの数は変更できる。
（２）また、前記実施の形態では、マスフローコントローラ３２〜３４として同種のものを使用したが、３台のマスフローコントローラ３２〜３４のうちに制御範囲の異なるものを使用すれば、その組み合わせによって、ガスの流量をワイドレンジで制御することができる。従って、ガスの流量制御の精度を向上できる。
（３）また、前記実施の形態では、マスフローコントローラ３２〜３４として、レギュレータ４２〜４４と圧力センサ５２〜５４の必要な一般的なものを使用したが、図８に示すように、マスフローコントローラ３２〜３４を超音速流量コントローラ７２〜７４に交換すれば、レギュレータ４２〜４４と圧力センサ５２〜５４が不要となり、図６，７に示すように、さらに小型化することができる。
【００４０】
【発明の効果】
請求項１に係る発明のガス供給集積弁は、使用される高価で床占有面積の大きいマスフローコントローラの数を減らすことができるので、コストを低下させることができるとともに、床占有面積を減少させることもできる。
【００４１】
請求項２に係るガス供給集積弁では、ガスの滞留が発生せず、マスフローコントローラをパージすると同時に共通入力流路や各入口開閉弁近傍をパージすることができるので、パージ効率がよい。
【００４２】
請求項３に係るガス供給集積弁では、接続されたプロセス機器をすばやくパージすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス供給集積弁を示す平面図である。
【図２】本発明のガス供給集積弁を示す側面図である。
【図３】本発明のガス供給集積弁を示す回路図である。
【図４】本発明のガス供給集積弁を示す部分断面図である。
【図５】図４の部分拡大図である。
【図６】超音速流量コントローラを使用したガス供給集積弁を示す平面図である。
【図７】超音速流量コントローラを使用したガス供給集積弁を示す側面図である。
【図８】超音速流量コントローラを使用したガス供給集積弁を示す回路図である。
【図９】従来のガス供給集積弁を示す回路図である。
【符号の説明】
１  ガス供給集積弁
１１Ａ〜１１Ｈ  入力ポート
１２Ａ〜１４Ｈ  入口開閉弁
１７〜１９  ガス供給部
２０  共通入力流路
２２〜２４  第１パージ弁
２５  第２パージ弁
３０  共通入力流路
３２〜３４  マスフローコントローラ
４０  共通入力流路
５５Ａ〜５５Ｈ  入力流路
６１  出力ポート
６２〜６４  出口開閉弁
６５  出力流路
【図１】
0004554853.tif 000002
【図２】
0004554853.tif 000003
【図３】
0004554853.tif 000004
【図４】
0004554853.tif 000005
【図５】
0004554853.tif 000006
【図６】
0004554853.tif 000007
【図７】
0004554853.tif 000008
【図８】
0004554853.tif 000009
【図９】
0004554853.tif 000010