(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
合い口を持った環状の試験片の外周面に皮膜を被覆したときの被覆前後における合い口隙間の変化量を測定し、合い口隙間の変化量から皮膜の残留応力を測定する皮膜の残留応力測定方法であって、
試験片のヤング率：Ｅs（ＧＰa）、試験片のポアソン比：υs、試験片の外径：Ｆ（ｍ）、試験片の半径方向厚さ：ｄs（ｍ）、被覆前における試験片の中心軸の曲率半径：Ｒb（ｍ）、被覆後における試験片の中心軸の曲率半径：Ｒa（ｍ）、皮膜の厚さ：ｄf（ｍ）、被覆前後の合い口隙間の変化量：δ（ｍ）としたとき、皮膜の残留応力：σ（ＧＰa）を次の式（１）、（２）及び（３）により算出する
【数１】
0004548975.tif 000005
ことを特徴とする皮膜の残留応力測定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、環状の基材の外周面に被覆した皮膜の残留応力を簡便に測定できる皮膜の残留応力測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近のエンジンの高出力化、排ガス対策からエンジンの摺動部品は益々苛酷な潤滑状況下にあり、特にピストンリングにおいては高い耐摩耗性や耐焼付性が要求され、その摺動面にはＰＶＤ等の硬質皮膜を被覆されているものがある。それらの硬質皮膜は、耐摩耗性や耐焼付性は優れるものの、ピストンリング外周面に被覆した際に高い残留応力が発生し、皮膜の剥離に影響する。従って、残留応力を測定する必要がある。特に新しい皮膜を開発する際はヤング率やポアソン比が未知で、しかも数多く測定する必要があるため、皮膜の残留応力を簡便に測定できる測定方法及び試験片が求められる。
【０００３】
皮膜の残留応力の代表的な測定方法としては、Ｘ線回折を利用したＸ線回折法、短冊状の薄板の片面に被覆して薄板のたわみ量から求めるたわみ法、旋削や腐食により逐次薄層を除去していく薄層除去法等がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、環状の基材に被覆した皮膜の残留応力を測定する場合、薄板のたわみ法は実態と異なるため、主にＸ線回折法や薄層除去法が用いられている。
しかし、Ｘ線回折法は測定装置が高価で、測定にも時間がかかり、特にヤング率及びポアソン比が未知な皮膜の測定には時間がかかる。また、対象とするＸ線回折ピークは単独なピークでなければならず、２つ以上の相が重なったＸ線回折ピークをもつ皮膜には適用できない等の欠点がある。一方、薄層除去法も加工方法が困難で時間がかかる等、実用的ではない。
【０００５】
本発明は上記点に鑑みてなされたものであり、その課題は、皮膜の残留応力を安価で容易に測定でき、また、ヤング率及びポアソン比が未知な皮膜や２つ以上の相が重なったＸ線回折ピークをもつ皮膜にも適用できる皮膜の残留応力測定方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために、次の手段を採る。すなわち、
本発明は、合い口を持った環状の試験片の外周面に皮膜を被覆したときの被覆前後における合い口隙間の変化量を測定し、合い口隙間の変化量から皮膜の残留応力を測定することを特徴とする。
【０００７】
皮膜に残留応力が存在すると、その程度に応じて基板（試験片）は変形する。
従って、上記本発明のように、合い口を有する環状の試験片を用い、外周に皮膜を被覆したときの合い口隙間の変化量を測定することで、被覆後の試験片の曲率半径が求められ、被覆前の試験片の曲率半径と被覆後の曲率半径から皮膜の残留応力を容易に測定することができる。なお、被覆前後における合い口隙間の変化量は、被覆前と被覆後の変化量の他、皮膜が剥離可能なものであれば剥離前と剥離後の変化量でもよい。
【０００８】
試験片のヤング率：Ｅs（ＧＰa）、試験片のポアソン比：υs、試験片の外径：Ｆ（ｍ）、試験片の半径方向厚さ：ｄs（ｍ）、被覆前における試験片の中心軸の曲率半径：Ｒb（ｍ）、被覆後における試験片の中心軸の曲率半径：Ｒa（ｍ）、皮膜の厚さ：ｄf（ｍ）、被覆前後の合い口隙間の変化量：δ（ｍ）としたとき、皮膜の残留応力：σ（ＧＰa）の算出式を下記に示す。なお、上記試験片の中心軸は、試験片において断面の中心を連ねた軸線である。また、上記試験片の外径Ｆ及び半径方向厚さｄsは、皮膜被覆前あるいは皮膜が剥離可能なものであれば剥離後の寸法を使用する。
【０００９】
【数２】
0004548975.tif 000002
【００１０】
上記によれば、高価な機械を使用したりせず、また、歪みゲージを貼る等の手間や時間をかけずに皮膜の残留応力を測定できる。また、周方向の長さの変化を測定するために変化量が大きく、比較的精度よく測定できる。また、ヤング率及びポアソン比が未知な皮膜や２つ以上の相が重なったＸ線回折ピークをもつ皮膜にも適用できるので、新しい皮膜の開発に最適である。
【００１１】
試験片の大きさは外径５０〜１５０ｍｍ、半径方向厚さ０．５〜６ｍｍ、軸方向幅０．５〜５ｍｍ、合い口隙間３〜２０ｍｍが好ましく、合口隙間と外径との比が０．０２〜０．４であることがより好ましい。０．０２未満であると、皮膜を被覆したときの変形で合い口端部が突き当たる場合があり、０．４を越えると、測定精度が悪くなる場合がある。外径の長径と短径の差は５ｍｍ以下が好ましい。５ｍｍを越えると、測定精度が悪くなる場合がある。ここで言う環状とは、外径が真円又は楕円形状をしていて、半径方向の厚さが略均一のものを言い、楕円の場合の外径は長径と短径の平均値を言う。
【００１２】
試験片の軸方向に切った断面は、断面の水平及び垂直の中心軸に対して対称形状が好ましい。非対称の場合は合い口隙間の変化で捻れが生じ、測定精度が悪くなる場合がある。
【００１３】
試験片の材質はステンレス鋼、炭素鋼、鋳鉄、チタン、チタン合金、又はマグネシウム合金が、皮膜の処理温度により耐熱性が必要な場合には好ましい。
【００１４】
試験片は加工時の残留歪みを３００〜８００℃の熱処理によって除去しておくことにより、被覆時の熱による変形をより小さくすることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の皮膜の残留応力測定方法を使用して皮膜の残留応力を測定した例を説明する。
【００１６】
（１）試験片の作製方法
矩形の断面形状に成形された材料を合い口を持った環状に加工し、５００℃で３時間の熱処理を実施後、外周面をラッピング加工にて仕上げる。
【００１７】
（２）残留応力測定方法
皮膜被覆前に、試験片１の外径：Ｆ（ｍ）、試験片１の半径方向厚さ：ｄs（ｍ）、合い口隙間Ｌb（ｍ）を工具顕微鏡で測定する（図１参照）。そして、試験片１の外周面に皮膜２を被覆し、合い口隙間Ｌa（ｍ）を工具顕微鏡で測定する（図２参照）。従って、被覆前後の合い口隙間の変化量：δ（ｍ）＝Ｌa−Ｌb（ｍ）である。また、合い口隙間の変化量は、両合い口端部近傍の中心軸上に付けた印Ｌc，Ｌdの間の距離の変化量（Ｌc−Ｌd）としてもよい。
次に、試験片の外径：Ｆ（ｍ）及び半径方向厚さ：ｄs（ｍ）から、前述の（１）式を使用して、被覆前における試験片の中心軸の曲率半径：Ｒb（ｍ）を算出する。また、試験片の外径：Ｆ（ｍ）、半径方向厚さ：ｄs（ｍ）、及び被覆前後の合い口隙間の変化量：δ（ｍ）から、前述の（２）式を使用して、被覆後における試験片の中心軸の曲率半径：Ｒa（ｍ）を算出する。次に、試験片のヤング率：Ｅs（ＧＰa）及びポアソン比：υsを使用し、前述の（３）式から、皮膜の残留応力：σ（ＧＰa）を算出する。
【００１８】
（３）測定結果
測定結果を表１に示す。測定結果に示されている通り、残留応力値のバラツキが少ない。
【００１９】
【表１】
0004548975.tif 000003
【００２０】
注１）試験片の材料はマルテンサイト系ステンレス鋼で、物理定数は次の数値を用いた。
ヤング率：Ｅs（ＧＰa）＝２００
ポアソン比：υs＝０．３４
２）試験片の外径：Ｆ（ｍ）と半径方向厚さ：ｄs（ｍ）は次の通りであった。
外径：Ｆ（ｍ）＝０．０９８５
半径方向厚さ：ｄs（ｍ）＝０．００３４
３）合い口隙間の変化量：δ（ｍ）における−記号は、合い口隙間が被覆前より被覆後に小さくなったことを示す。
４）残留応力（ＧＰa）における−記号は圧縮応力を示す。
５）皮膜の被覆はアークイオンプレーティング装置を使用し、バイアス電圧３０Ｖ、炉内圧力１．３３Ｐａ、ヒータ温度８７３ＫにてＣｒＮ皮膜を被覆した。
【００２１】
（４）Ｘ線回折法による比較
上記で使用した試験片をＸ線回折法にて比較測定した結果を表２に示す。測定結果に示されている通り、上記本発明による測定結果と略同様の結果であり、本発明の測定方法は検証された。
【００２２】
【表２】
0004548975.tif 000004
【００２３】
注１）応力測定法：Ψ０一定法（並傾法）、管球：Ｃｒ、
測定回折面：ＣｒＮ（３１１）
２）応力値は試験片の合い口部付近、合い口から９０度位置、合い口から１８０度位置の３箇所を測定した平均値
３）残留応力（ＧＰa）における−記号は圧縮応力を示す。
【００２４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の皮膜の残留応力測定方法によれば、皮膜の残留応力を安価で容易に測定できる。また、ヤング率及びポアソン比が未知な皮膜や２つ以上の相が重なったＸ線回折ピークをもつ皮膜についても皮膜の残留応力を安価で容易に測定できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】被覆前の試験片を示しており、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）図のＢ−Ｂ線断面図である。
【図２】被覆後の試験片を示しており、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）図のＢ−Ｂ線断面図である。
【符号の説明】
１  試験片
２  皮膜
Ｆ  試験片外径
ｄs  試験片の半径方向厚さ
ｄf  皮膜の厚さ
Ｒb  被覆前における試験片の中心軸の曲率半径
Ｒa  被覆後における試験片の中心軸の曲率半径
Ｌb  被覆前の合い口隙間
Ｌa  被覆後の合い口隙間
【図１】
0004548975.tif 000006
【図２】
0004548975.tif 000007