(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素担持された硫化ロジウムからなる触媒を少なくとも一面に付与された電気伝導性のウエブを含む塩酸電解装置のガス拡散陰極。
【請求項２】
前記伝導性ウエブは両面に少なくとも１種のフッ素化重合体と少なくとも１種の電気伝導性炭素粉末を含む被覆物が付与され、そして一面に前記触媒と前記少なくとも１種のフッ素化重合体の混合物を更に被覆される、請求項１のガス拡散陰極。
【請求項３】
前記電気伝導性ウエブは一面に少なくとも１種のフッ素化重合体と少なくとも１種の伝導性炭素粉末を含む被覆物が付与され、そして同じ面に前記触媒と前記少なくとも１種のフッ素化重合体の混合物を更に被覆される、請求項１のガス拡散陰極。
【請求項４】
前記炭素担持された硫化ロジウムからなる触媒はロジウム化合物の溶液に硫化水素を散布し、生じた生成物を回収して乾燥し、この生成物を粉砕し、そしてこの粉砕された生成物を５５０〜７００℃で熱処理することにより製造される、請求項１〜３いずれかに記載のガス拡散陰極。
【請求項５】
ロジウム化合物の前記溶液は少なくとも１種の電気伝導性粉末を含む、請求項４のガス拡散陰極。
【請求項６】
ロジウム化合物の前記溶液は炭素粉末を含む、請求項４のガス拡散陰極。
【請求項７】
少なくとも一面に炭素担持された硫化ロジウムからなる触媒を付与されたイオン交換膜を含む膜電極アセンブリー。
【請求項８】
前記炭素担持された硫化ロジウムからなる触媒はロジウム化合物の溶液に硫化水素を散布し、生じた生成物を回収して乾燥し、この生成物を粉砕し、そしてこの粉砕された生成物を５５０〜７００℃で熱処理することにより製造される、請求項７の膜電極アセンブリー。
【請求項９】
ロジウム化合物の前記溶液は少なくとも１種の電気伝導性粉末を含む、請求項８の膜電極アセンブリー。
【請求項１０】
ロジウム化合物の前記溶液は炭素粉末を含む、請求項８の膜電極アセンブリー。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれか１つのガス拡散陰極の酸素の電解還元用としての使用。
【請求項１２】
請求項７〜１０のいずれか１つの膜電極アセンブリーの酸素の電解還元用としての使用。
【請求項１３】
陽極を含有する陽極区画室と陰極を含有する陰極区画室とを含み、これらが隔離板によって分離された電気化学セルであって、その改良は前記陰極が請求項１〜６のガス拡散陰極であることを含む前記電気化学セル。
【請求項１４】
前記隔離板はイオン交換膜である、請求項１３の電気化学セル。
【請求項１５】
陽極を含有する陽極区画室と陰極を含有する陰極区画室とを含み、これらが隔離板によって分離された電気化学セルであって、その改良は前記隔離板が請求項７〜１０の膜電極アセンブリーであることを含む前記電気化学セル。
【請求項１６】
請求項１３〜１５のいずれか１つの電気化学セル中において塩酸水溶液を塩素に電気分解する方法であって、塩酸水溶液を前記陽極区画室中に導入し、そして前記電気化学セルに直流電流を印加する間に酸素を前記陰極区画室中に導入することを含む前記方法。
【請求項１７】
上記塩酸は副生物の酸である、請求項１６の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
技術の状態
ＨＣｌ水溶液の電気分解は高価値の塩素ガスを回収するためによく知られた方法である。塩酸水溶液は、特に反応物として塩素を利用する化学プラントにおいて、豊富な化学副生物であり、この場合、電解槽の陽極区画室で発生した塩素は供給原料として化学プラントに再循環される。標準水素発生陰極がエネルギー消費の急激な低下に基づいて酸素消費ガス拡散電極と置換される場合、電気分解は極めて魅力的になる。これに関連して、良好に作動する前記ガス拡散電極の能力は触媒の性質及び性能に極めて依存するが、その他にガス拡散電極の構造にも依存する。
【０００２】
白金は広範囲の条件の下で酸素を電解還元する最も有効な触媒として一般に知られており、白金ベースの触媒を用いたガス拡散電極の活性化はこの技術分野でよく知られており、また多種類の燃料電池と電解槽に幅広い用途が知られている。しかしながら、ＨＣｌ水溶液の電気分解の場合、陰極触媒として白金を使用すると、重大な欠点を生じる。その理由としては、ガス拡散電極は塩素イオンと溶解塩素を含有する液体電解質と少なくとも部分的に接触することが避けられないからである。先ず第一に、白金は酸素還元のための活性度に悪影響を及ぼす塩素イオンの毒作用に影響され易い。更に重要なことは、塩酸と溶解塩素ガスとが組み合わされた複合作用により、白金金属を溶解塩に変化させて溶出させ、その結果この白金金属がガス拡散電極に使用されることを不適当にする。
【０００３】
他の白金族金属も同じ運命をたどるであろう。例えば、“水溶液中の電気化学平行のPourbaix図表集”に従えば、微粉砕されたロジウム金属は熱濃硫酸、王水、及び酸素化塩酸に溶解する。同様に、（水和）Ｒｈ2Ｏ3・５Ｈ2Ｏは容易にＨＣｌ及び他の酸に溶解する。これらの問題は米国特許出願Ｎｏ．０９／０１３，０８０に記述されているロジウム／酸化ロジウムに基づく触媒の開示によって部分的に軽減される。特に、ロジウム／酸化ロジウムの系は、白金よりも酸素還元のための活性がわずかに少ないが、塩素イオンにより毒されない。また少量の溶解塩素を有する塩酸水溶液に対する化学的耐性は白金に関して著しく高められる。しかしながら、活性化工程はこの触媒の十分に活性で安定な状態を得るために必要であり、このような触媒をガス拡散電極に組み込むことが必要な場合、多少の制限が発生する。即ち、この触媒の化学的及び電気的状態は、この分野でガス拡散電極の調製において一般的な工程である空気中での焼成工程により変化する。この工程を交換するか、又は米国特許出願Ｎｏ．０９／０１３，０８０に記述されているように、後で触媒の活性で安定した状態を復活させるために、面倒で及び／又は高価な操作を実行する必要がある。更に、所望の化学的安定性は電気分解操作に特有の電位範囲においてのみ発揮され、電解槽の定期的な運転停止(shut-downs)を通じて極めて注意深い予防措置を取る必要がある。さもなければ、陰極電位が極めて攻撃的な化学環境と組み合わされて、急激に変化し、その結果、かなりの量の触媒が分解されて、残留部分の触媒を部分的に失活させる。電解槽を計画的に運転停止する方法も立案できるが、しかしながら、余分なコストが生じ、予測できない原因（例えば、電気回路網における電力不足）により突然の制御不可能な運転停止が生じた場合には、ほとんど対策がない。
【０００４】
発明の目的
本発明の目的は極めて腐蝕性の媒体に対して望ましく且つ予想できない化学的安定性を有する酸素還元用の新規な触媒を提供することである。
【０００５】
本発明のその他の目的は望ましく且つ予想できない電気触媒特性を有する新規な触媒を内部に有する新規なガス拡散電極を提供することである。
本発明のその他の目的は本発明のガス拡散電極を含有する新規な電解槽を提供すること、及び塩酸を塩素に電気分解する改良された方法を提供することである。
【０００６】
本発明のこれら及びその他の目的及び利点は下記の詳細な説明から明白になるであろう。
発明
本発明の新規な電気化学触媒は硫化ロジウムから構成され、これは伝導性不活性キャリヤー上に担持されてもよく、又は担持されなくてもよい。この触媒は使用前に活性化工程を必要とせず、また驚いたことに、塩素イオン及び有機分子の存在下で酸素還元に対する電気触媒活性度の全てを維持する。更に、この触媒は驚いたことに、塩酸水溶液／塩素混合物の複合作用により溶解せず、その結果、塩酸電解槽中で使用される場合、運転停止を通じて特別な予防策を必要としない。この触媒は好ましくはウエブの少なくとも一面に被覆され、また結合剤を用いて単独で使用されるか、伝導性担体と結合剤を混合されるか、又は担体上に担持され、そして結合剤で結合されてもよい。この結合剤は疎水性又は親水性であってもよく、またこの混合物はウエブの片面又は両面に被覆できる。このウエブは織られても織られなくてもよく、又は炭素布、炭素紙、又はどのような伝導性金属メッシュから作られてもよい。
【０００７】
表面積が大きい担体の例はグラファイト、種々の形状の炭素及び他の微粉砕された担体を含むが、カーボンブラックが好ましい。
このような触媒が被覆されたウエブは、特に副生物の塩酸の電気分解の場合のような極めて侵略的な環境で使用される場合、正常な運転状況下では得られないような電池電圧、電流密度、及び寿命を示すガス拡散陰極として採用できる。
【０００８】
この触媒は水溶性ロジウム塩の水溶液中に硫化水素ガスを散布することにより容易に調製できる。窒素ガスが硫化水素のキャリヤーとして使用されてもよく、また純粋な窒素が反応が終了すると直ちに過剰の硫化水素をパージするために有利に使用できる。生じた固体は濾過により回収され、洗浄され、そして、例えば、１２５℃で恒量まで乾燥される。このようにして得られた硫化ロジウムは担持されない（不担持触媒）。しかしながら、水溶性ロジウム塩の水溶液が適当な伝導性担体の懸濁液を含有する場合には、この硫化ロジウムは小粒子として伝導性粒子（担体触媒）の表面に優先的に堆積する。得られた水和物の形状の硫化ロジウムは不活性雰囲気中で５５０〜６５０℃、好ましくは６００℃以上に加熱されて、無水の形態の硫化ロジウム触媒を形成する。触媒は、ロジウム化合物の溶液に硫化水素を散布し、生じた生成物を回収して乾燥し、この生成物を粉砕し、そしてこの粉砕された生成物を５５０〜７００℃で熱処理することを含む方法により製造できる。加熱はバッチの寸法に応じて数時間実施でき、またこの温度の選択は十分に安定した触媒を形成するのに極めて重要である。
【０００９】
加熱温度が３００℃のように低すぎると、生じるクリスタリットは輪郭が不明確となり、触媒の安定性が不十分になる。温度が、例えば、７２５℃と高すぎると、不担持の触媒は優れた酸安定性を有するが、電気的伝導性が不十分になる。
【００１０】
以下の実施例において、本発明を説明するいくつかの好ましい実施態様が記述される。しかしながら、本発明はこの特定の実施態様に限定されないことが理解されるであろう。
【００１１】
実施例１
１００グラムの担持された硫化ロジウムを下記の方法により調製した。即ち、５７．３グラムのＲｈＣｌ3・ｘＨ2Ｏ（ロジウム金属として与えられた３９．８８％）を、ｐＨ調整を行うことなく、２リットルの脱イオン（Ｄ．Ｉ．）水に溶解した。５３．４グラムのVulcan XC-72活性炭を添加し、次いでこの混合物を電磁撹拌機を用いてスラリー化した。
【００１２】
次いで図１の図解に従って、キャリヤーガスとして窒素を使用し、周囲温度で硫化水素ガスを前記スラリー中に散布した。この混合物を上述したように７時間反応させた。反応の終了後直ちに、残留Ｈ2Ｓを除去するために窒素を前記装置にパージした。残りの溶液を減圧濾過して前記固体を単離し、次いでこの固体を脱イオン水で洗浄し、そして１２５℃で乾燥して恒量とした。
【００１３】
生じた触媒ケークを最終的に微粉末に粉砕し、そしてアルゴンを流しながら６５０℃まで２時間加熱した。炭素に与えられる触媒の量は、ロジウム金属として３０％であった。
【００１４】
既に述べたように、この最後の熱処理は望ましい安定した活性な硫化金属の調製において極めて重要な工程である。図２は上述したような硫化ロジウムの調製の進歩を処理温度の関数として示す。即ち、図２は、それぞれ（ａ）濾過及び乾燥後の担持触媒、（ｂ）アルゴン中３００℃に加熱した後の（ａ）の担持触媒、及び（ｃ）６５０℃に加熱した後の（ｂ）の担持触媒、に対する粉末サンプルＸＲＤスキャンの結果を示す。これらのスキャンにおける数の増加とピークの明瞭さはロジウム及び硫黄を含有する明確に示されたクリスタリットの形成を示す。温度処理により前記ＸＲＤ分光写真器に誘導されたこれらの変化は触媒安定性の対応する実質的な増加を示す。
【００１５】
実施例２
８グラムの担持されない硫化ロジウムを下記の方法により調製した。即ち、１２．１グラムのＲｈＣｌ3・ｘＨ2Ｏ（ロジウム金属として与えられた３９．８８％）を、ｐＨ調整を行うことなく、７００ミリリットルの脱イオン水に溶解した。次いで図１の図解に従って、キャリヤーガスとして窒素を使用し、周囲温度で硫化水素ガスを前記スラリー中に散布した。この混合物を上述したように４時間反応させた。反応の終了後直ちに、残留Ｈ2Ｓを除去するために窒素を前記装置にパージした。残りの溶液を減圧濾過して前記固体を単離し、次いでこの固体を脱イオン水で洗浄し、そして１２５℃で乾燥して恒量とした。生じた触媒ケークを最終的に微粉末に粉砕し、そしてアルゴンを流しながら６５０℃まで２時間加熱した。
【００１６】
比較の実施例１
Vulcan XC-72活性炭上の酸化ロジウム／ロジウム触媒を、米国特許出願Ｎｏ．０９／０１３，０８０（９８年２月２６日）に開示され、そして以下に繰り返す方法に従って調製した。９．４３グラムのＲｈＣｌ3・ｘＨ2Ｏ（ロジウム金属として与えられた３９．８８％）を２リットルの脱イオン水に室温で溶解し、そして生じた溶液を８．７５グラムのVulcan XC-72と５００ミリリットルの脱イオン水からなる分散液に添加した。この混合物を撹拌して均一な炭素スラリーを維持し、この間に水酸化アンモニウムの０．５モル溶液をゆっくりと（２〜３ミリリットル／分）添加した。Ｒｈ（ＯＨ）3を生成するのに理論的に必要な２２０ミリリットルの水酸化アンモニウムに加えて、２０％過剰の水酸化アンモニウムを塩基性環境を維持するために添加した。次いでこの塩基性スラリーを６０〜７０℃で３０〜６０分間撹拌し、そして濾過した。この濾過ケークを約２００ミリリットルの脱イオン水を用いて６０〜７０℃で洗浄し、そして１２５℃で１５時間空気中で乾燥した。
【００１７】
生じた触媒ケークを次いで微粉末に粉砕し、そしてアルゴンを流しながら６５０℃まで加熱して、前記触媒を脱水し安定化した。炭素に与えられる触媒の量は、ロジウム金属として３０％であった。この触媒粉末を水素ガスを流しながら５００℃で３０分間加熱していくつかの酸化ロジウムをロジウム金属に還元する還元工程を更に実施する。前記米国特許出願Ｎｏ．０９／０１３，０８０（９８年２月２６日）において強調されるように、ロジウム‐酸化ロジウム触媒の活性化はこの触媒の最も活性な形態を得るために必須である。
【００１８】
比較の実施例２
１００グラムの担持された硫化白金が上述の実施例１の方法に従って調製され、ここでクロロ白金酸の溶液が硫化ロジウム塩の代わりに採用された。
【００１９】
実施例３
上述の全ての実施例の触媒は商業的に利用できる（例えば、E-TEK社からの）Vulcan XC-72上の白金と共に種々の異なる形状で利用できる。本発明の触媒はガス拡散電極の構造に限定されない。例えば、この実施例では、上記実施例と比較の実施例のそれぞれの触媒は４種の異なるタイプの電極構造物に組み込まれ、これにより以下の方法に従って１６種のサンプルを得る。
【００２０】
ａ）ＥＬＡＴ：  縦糸と横糸の比が一単位であり、インチ当り約２５〜５０ヤーンであり、そして９７〜９９％の炭素含量を有する炭素布のウエブを１０〜１５ミルの厚さを有する商業的に利用できる製品から選択した。５〜５０ミルの厚さを有する炭素布もこの目的のためには有利に使用されるであろう。フッ素化重合体（ポリテトラフルオロエチレン、Ｐ．Ｔ．Ｆ．Ｅ．，デュポン社からテフロン（登録商標）の登録商標で商品化された）とCabot社から商品化されたShawiniganアセチレンブラック（ＳＡＢ）炭素との混合物を前記炭素布の両面に被覆し、合計の被覆量が８〜１０ｍｇ／ｃｍ2に到達するまで、各面の被覆後に室温で空気乾燥した。次いで平方ｃｍ当り０．５〜２ｍｇの層が生じるまで、前記粉末化触媒とテフロン（登録商標）の混合物を前記炭素ウエブの片面に多重に被覆した。最終被覆の後に、前記炭素布を３４０℃まで２０分間加熱した。
【００２１】
ｂ）単一側面のＥＬＡＴ：  前記ＳＡＢ／テフロン（登録商標）の混合物を４〜５ｍｇ／ｃｍ2の被覆量で前記炭素布の片面のみに付与したことを除いては上述のＥＬＡＴの調製方法を繰り返した。この触媒被膜は同じ側の記ＳＡＢ／テフロン（登録商標）の層の表面に付与された。
【００２２】
ｃ）フロースルー(Flow-through)電極：  前記ＥＬＡＴ電極と同じ仕様を有する炭素布を選択し、また触媒粉末とテフロン（登録商標）との混合物の２〜５層を炭素布の片側に被覆した。この被覆した織物を次いで３４０℃で約２０分間加熱して、１．０３ｍｇ／ｃｍ2のロジウム金属を得た。この最終加熱工程又は燒結工程はテフロン（登録商標）を溶融してこれを前記炭素触媒中に分配すると考えられる。しかしながら、この燒結工程はこの電極に関しては不都合なく省略できる。
【００２３】
ｄ）膜電極アセンブリ：  約３部の触媒と１部（乾燥重量として）のイオノマーから成るインクを、メタノール、プロパノール、及び／又はブタノールのような低級脂肪族アルコールと水との混合物中の懸濁液として、調製した。前記イオノマーは、例えば、Solutions Technology社（Mendenhall、ペンシルベニア州）から販売されるNafion（登録商標）イオノマーである。このインクは、デュポン社から商品化されたNafion（登録商標）３２４イオン交換膜であって、加熱された真空テーブルで固定されたイオン交換膜に塗布又は噴霧によって付与された。公知のその他のイオン交換膜が代わりに利用されてもよい。０．０５〜１ｍｇ金属／触媒のｍ2を堆積するまで、インクの層を積層させた。このアセンブリを更に加熱して溶媒を除去し、そして米国特許出願Ｎｏ．０９／１８４，０８９（９８年１０月３０日）に開示されるような適当な電極担体を用いて組み立てた。前記触媒インクを電極担体に付与し、次いで加熱して溶媒を除去し、そしてイオン交換膜を用いて組立ることにより、膜電極アセンブリを形成した。
【００２４】
実施例４
ガス拡散電極に組み込む前に、ＨＣｌ／Ｃｌ2の沸騰溶液のような腐蝕性媒体に対する本発明の触媒の耐性を簡単に決定し、そして従来技術の触媒及び種々の温度で調製された硫化ロジウムと比較した。表１の１〜５グラムの触媒を塩素で飽和した１３０グラム／リットルのＨＣｌを含有する２５０ミリリットルのビーカーに入れて、沸騰するまで加熱した。濃い色の発生は触媒からの金属の溶解を示し、従って触媒がＨＣｌ水溶液から塩素を回収する装置に用いられるのが適切かどうかを証明する。
【００２５】
【表１】
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【００２６】
この表から、硫化ロジウムの安定した状態を得るためには、多少の熱処理工程が必須であることが証明される。また貴金属の硫化物の全てが必ずしもこれらの条件下で安定するのではなく、更に、担持された硫化白金が不安定であることを考慮すると、これらの条件下において担持硫化ロジウムは比較的不活性であることが判明したことは驚くべきことである。
【００２７】
実施例５
図３の図表に従って、実施例３の電極に電気分解の実験室試験を実施した。陰極と陽極との間には３ｍｍの隙間が存在した。しかしながら、同じ結果が“隙間がゼロ”に調整して得られ、この場合、陰極と陽極は共に膜を介して押しつけられた。露出した電極表面積は６．４５ｃｍ2であり、膜Nafion 324であった。陽極は酸化ルテニウム触媒で活性化されたチタンメッシュであった。酸素が４５〜５０ミリバールの圧力にて理論量の５倍過剰の割合で陰極に供給され、そして１７％塩酸水溶液（１８４±１０グラム／リットル）を陽極に供給した。化学プラントから送られる副生物の酸をマスター３３％溶液として使用した。この電解液を前記塩化水素の５０％が消耗し、次いで新鮮な電解液が添加されるまで再循環させた。この５０％の消耗によりセル電圧が一次的に増加し、そして時間に対する電圧のグラフ上に“スパイク”として示された。電解液の流速は毎分４ミリリットル、即ち、１２０ミリバールの背圧で０．３７２ｍ3／時間／ｍ2であった。特に述べない限り、セルは３ｋＡ／ｍ2で駆動され、また全ての電圧は電流コレクタ抵抗に対し補正されなかった。セル及び電解液の温度はセル金属端板及び空調装置に与えられる加熱テープを用いて５５℃±５℃に保持された。
【００２８】
商業的な電気化学的プラントにおいては、２種類の普通の一時的運転形態が行われており、これらにより使い古された部品の予定され、又は予定されない修理又は交換が行われる。予定された運転停止に関しては、“管理された”方法を実施することができ、これによりプラントの構成要素は組織的に停止されるか又は低い運転水準まで弱められる。特に、塩素は陽極側で脱ガスされ、また酸素は陰極側で窒素と置換される。反対に、予定されない故障（“管理されない”運転停止）を通じて、プラントの構成要素は典型的に最も厳しい運転状態に置かれる。特に、塩素と酸素はセル内に残され、その結果、厳しい腐蝕状態が生じる。本発明の目的は電気化学プラントで運転できる触媒及びガス拡散電極を提供することであるため、この触媒‐電極の集成体はシミュレートされ管理され、また管理されない運転停止において試験された。
【００２９】
これらの２種類の手段は種々の構成要素を停止する方法において相違する。管理された運転停止に対しては、不活性ガスは陰極に供給され、そしてその整流器電流は徐々に低下し、次いで整流器が停止した。整流器が停止すると、ポンプが停止した。管理されない運転停止に対しては、陰極への酸素流が停止され、一方、電流又は流速が徐々に低下することなく、整流器とポンプの回路が突然に切断された。
【００３０】
本発明の触媒を管理されない運転停止の下で試験し、そして公知の触媒と比較した。図４はＥＬＡＴ（商標）電極中の典型的な白金触媒を示す。操作電圧が１．１５ボルトである限り、管理されない運転停止により触媒は電解液の十分な腐蝕力を受けて、セル電位は５００ｍＶを超えて増大する。図５は実施例３のパラグラフ（ｂ）に記述されたように、単一側面のＥＬＡＴに組み込まれた比較の実施例１のロジウム／酸化ロジウムの事例を示す。ここで、最初の安定した状態の電圧はちょうど１．２Ｖを超えており、そして活性化が行われた直後に、電圧は１．２Ｖの下の約１．１８Ｖまで低下する。図６は実施例３のパラグラフ（ｂ）に記述されたように、実施例１の硫化ロジウム触媒で作られた単一側面のＥＬＡＴの事例を示す。１．１５Ｖの安定した状態の電圧が、電極内に組み込む前に、又は実験室試験装置内の運転中に、触媒の活性化を行うことなく、得られた。図６はこの新規な触媒は更なる活性化工程を行うことなく所望の性能を得ることができ、またこの触媒の活性度はＨＣｌ／Ｃｌ2の溶液の十分な腐蝕力に曝された後に維持されることを示す。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は担持され、又は担持されない硫化ロジウムを生成させるための反応構成を示す図。
【図２】図２は炉温度の関数として硫化ロジウム前駆体のＸ線回折パターンを示す。トレース１：１２５℃で乾燥され、炭素に担持された３０％ＲｈｘＳｘ。トレース２：アルゴン中３００℃で乾燥され、炭素に担持された３０％ＲｈｘＳｘ。トレース３：アルゴン中６５０℃で乾燥され、炭素に担持された３０％ＲｈｘＳｘ。
【図３】酸素減極ガス拡散電極を用いてＨＣｌからＣｌ2を発生させるためのフローシステムの図である。
【図４】図４は代表的な白金触媒のデータを示す。この触媒は標準ＥＬＡＴ（商標）構造物に組み込まれ、３０％Ｐｔ／Ｃ、１．１ｍｇ／ｍ2を有し、０．７０ｍｇ／ｍ2Ｎａｆｉｏｎで被覆され、ＨＣｌ／Ｃｌ2溶液中３ｋＡ／ｍ2で運転される。ＥＬＡＴはＥ‐Ｔｅｋ，Ｎａｔｉｃｋ（ＭＡ）、米国の商標であって、炭素ウエブを含み、そして触媒とこれに添加されたフッ素化結合剤の混合物を含むガス拡散電極を意味する。
【図５】図５はロジウム‐酸化ロジウムを用いて得られたデータを示す。このロジウム‐酸化ロジウムは単一側面のＥＬＡＴ（商標）構造物に組み込まれ、３０％Ｒｈ／Ｃ、１．０１ｍｇ／ｍ2を有し、０．７０ｍｇ／ｍ2Ｎａｆｉｏｎで被覆され、ＨＣｌ／Ｃｌ2溶液中３ｋＡ／ｍ2で運転される。
【図６】図６は３０％ＲｈｘＳｘ／Ｃを用いて得られたデータを示す。この３０％ＲｈｘＳｘ／Ｃは単一側面のＥＬＡＴ（商標）構造物に組み込まれ、３０％Ｒｈ／Ｃ、１ｍｇ／ｍ2を有し、０．７０ｍｇ／ｍ2Ｎａｆｉｏｎで被覆され、ＨＣｌ／Ｃｌ2溶液中３ｋＡ／ｍ2で運転される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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