(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
0004573453.tif 000013
（式（１）中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい）
で表される環状イミド骨格を有するイミド化合物を含む触媒と、バナジウム化合物、モリブデン化合物、マンガン化合物及びコバルト化合物から選択された少なくとも１種の金属化合物の存在下、（Ａ）非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物と、（Ｂ）下記式（３′）
【化２】
0004573453.tif 000014
（式（３′）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換若しくは無置換シリル基を示す。Ｒe、Ｒf、Ｒgは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基または置換若しくは無置換シリル基を示す）
で表される化合物から選択されたシリルラジカルを生成可能なシラン系化合物と、（Ｃ）酸素とを反応させて、前記有機化合物（Ａ）における非芳香族性炭素−炭素二重結合を形成する一方の炭素原子にヒドロキシル基が導入され、他方の炭素原子にシリル基が導入された有機化合物を得ることを特徴とする有機化合物の製造方法。
【請求項２】
非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）が、下記式（２′）で表されるオレフィンである請求項１記載の有機化合物の製造方法。
【化３】
0004573453.tif 000015
（式（２′）中、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭化水素基、複素環式基、ハロゲン原子、置換オキシカルボニル基、保護基により保護されていてもよいカルボキシル基、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸基、硫黄酸エステル基、アシル基、アシルオキシ基、保護基により保護されていてもよいヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、又はＮ−置換又は無置換アミノ基を示す。Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形成していてもよい）
【請求項３】
非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）が、脂肪族不飽和炭化水素、脂環式不飽和炭化水素、α，β−不飽和エステル類、α，β−不飽和ケトン類、α，β−不飽和アルデヒド類、α，β−不飽和ニトリル類、α，β−不飽和カルボン酸類、α，β−不飽和カルボン酸アミド類、α，β−不飽和イミン類、ビニルエステル類、ビニルエーテル類、ビニルアルコール類又は共役ジエン類である請求項１又は２記載の有機化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物を触媒として用いて、ヒドロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ケイ素化合物は、合成材料の中間体として重要な化合物であり、様々な合成方法が開発されている。なかでもアルケンのヒドロキシシリル化反応は、炭素−ケイ素結合の形成として最も代表的な方法であり、広く検討されている。このようなヒドロキシル基とともに、シリル基を有する有機化合物を、温和な条件下であっても効率よく製造することができる方法が求められている。
【０００３】
また、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等のイミド化合物は、分子状酸素による酸化、カルボキシル化、ニトロ化、スルホン化、炭素−炭素結合生成反応（アシル化、ラジカルカップリング反応等）などの諸反応を温和な条件下で円滑に進行させる触媒として注目されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記イミド化合物を触媒とし、非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物を用いて、ヒドロキシシリル化反応を行う方法は知られていない。
【０００５】
従って、本発明の目的は、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物触媒を用いて、非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物から、ヒドロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物を製造できる方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、温和な条件下であっても、効率よく、オレフィンからヒドロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物を製造できる方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討した結果、イミド化合物触媒を用いて、非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物を、特定のシラン系化合物と酸素と反応させると、温和な条件下であっても効率よく、ヒドロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物を製造できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
すなわち、本発明は、下記式（１）
【化４】
0004573453.tif 000002
（式（１）中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい）
で表される環状イミド骨格を有するイミド化合物を含む触媒と、バナジウム化合物、モリブデン化合物、マンガン化合物及びコバルト化合物から選択された少なくとも１種の金属化合物の存在下、（Ａ）非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物と、（Ｂ）下記式（３′）
【化５】
0004573453.tif 000003
（式（３′）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換若しくは無置換シリル基を示す。Ｒe、Ｒf、Ｒgは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基または置換若しくは無置換シリル基を示す）
で表される化合物から選択されたシリルラジカルを生成可能なシラン系化合物と、（Ｃ）酸素とを反応させて、前記有機化合物（Ａ）における非芳香族性炭素−炭素二重結合を形成する一方の炭素原子にヒドロキシル基が導入され、他方の炭素原子にシリル基が導入された有機化合物を得ることを特徴とする有機化合物の製造方法を提供する。
【０００８】
前記非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）には、下記式（２′）で表されるオレフィンが含まれる。
【化６】
0004573453.tif 000004
（式（２′）中、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭化水素基、複素環式基、ハロゲン原子、置換オキシカルボニル基、保護基により保護されていてもよいカルボキシル基、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸基、硫黄酸エステル基、アシル基、アシルオキシ基、保護基により保護されていてもよいヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、又はＮ−置換又は無置換アミノ基を示す。Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形成していてもよい）
【０００９】
前記非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）としては、脂肪族不飽和炭化水素、脂環式不飽和炭化水素、α，β−不飽和エステル類、α，β−不飽和ケトン類、α，β−不飽和アルデヒド類、α，β−不飽和ニトリル類、α，β−不飽和カルボン酸類、α，β−不飽和カルボン酸アミド類、α，β−不飽和イミン類、ビニルエステル類、ビニルエーテル類、ビニルアルコール類又は共役ジエン類を使用できる。
なお、本明細書では、上記発明のほか、［１］下記式（Ｉ）
【化７】
0004573453.tif 000005
［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］
で表される環状イミド骨格を有するイミド化合物を含む触媒の存在下、（Ａ）非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物と、（Ｂ）シリルラジカルを生成可能なシラン系化合物と、（Ｃ）酸素とを反応させて、対応するヒドロキシル基及びシリル基を有する有機化合物を得ることを特徴とする有機化合物の製造方法、［２］非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）が、下記式（２）
【化８】
0004573453.tif 000006
（式（２）中、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子又は有機基を示す。Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形成していてもよい）
で表されるオレフィンである上記［１］記載の有機化合物の製造方法、［３］シリルラジカルを生成可能なシラン系化合物（Ｂ）が、下記式（３）
【化９】
0004573453.tif 000007
（式（３）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換若しくは無置換シリル基を示す。Ｒe、Ｒf、Ｒgは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、有機基または置換若しくは無置換シリル基を示す）
で表されるシラン系化合物である上記［１］又は［２］記載の有機化合物の製造方法、［４］イミド化合物が前記式（１）で表される化合物である［１］〜［３］の何れかに記載の有機化合物の製造方法、についても説明する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
［イミド化合物］
本発明では、触媒として、前記式（Ｉ）で表される環状イミド骨格を有するイミド化合物を用いている。すなわち、イミド化合物の使用量は触媒量である。
【００１１】
式（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二重結合である。前記イミド化合物は、分子中に、式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を複数個有していてもよい。また、このイミド化合物は、前記Ｘが−ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の保護基である場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合していてもよい。
【００１２】
式（Ｉ）中、Ｒで示されるヒドロキシル基の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシル基の保護基を用いることができる。このような保護基として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブチル基などのＣ1-4アルキル基など）、アルケニル基（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロモベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシメチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基など）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエチル、２，２，２−トリクロロエチル基など）、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒドロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニルメチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル基などのＣ1-6脂肪族アシル基；アセトアセチル基；ベンゾイル、ナフトイル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコキシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノチオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。
【００１３】
また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スクシニル、グルタリル、フタロイル、イソフタロイル、テレフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。
【００１４】
Ｒとしては、アルキル基（メチル基など）以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水分解により脱離可能な加水分解性保護基が好ましい。
【００１５】
前記イミド化合物の代表的な例として、下記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。
【００１６】
【化８】
0004573453.tif 000008
（式（１）中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい）
【００１７】
このイミド化合物において、置換基Ｒ1及びＲ2のうちハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素原子が含まれる。アルキル基には、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数１〜１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれる。好ましいアルキル基としては、例えば、炭素数１〜６程度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキル基が挙げられる。
【００１８】
アリール基には、フェニル、ナフチル基などが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
【００１９】
アルコキシカルボニル基には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基などの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
【００２０】
前記置換基Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及びＲ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化水素環である場合が多い。このような環には、例えば、非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環など）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していてもよい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよい。
【００２１】
前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成する場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
【００２２】
好ましいイミド化合物には、下記式で表される化合物が含まれる。
【化９】
0004573453.tif 000009
（式中、Ｒ3〜Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい）
【００２３】
置換基Ｒ3〜Ｒ6において、アルキル基には、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度のハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアルコキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシカルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、アシル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。
置換基Ｒ3〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級アルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子である場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２員環が好ましい。
【００２４】
好ましいイミド化合物の代表的な例として、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキシコハク酸イミド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、Ｎ−アセトキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジアセトキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ−アセトキシハイミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジアセトキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジアセトキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがアセチル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオキシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオキシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがスルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又はホウ酸エステルなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸からＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。
【００２５】
前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮＨ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物には、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸などの飽和又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸（１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物）、１，２，３，４−シクロヘキサンテトラカルボン酸１，２−無水物などの飽和又は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂環式多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイミック酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環式多価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニトロフタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれる。
【００２６】
前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所望の保護基を導入することにより調製することができる。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより得ることができる。
【００２７】
特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、なかでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシピロメリット酸イミド）；及び該Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキシル基に保護基を導入することにより得られる化合物などが含まれる。
【００２８】
式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を有するイミド化合物は、反応において、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。前記イミド化合物は反応系内で生成させてもよい。
【００２９】
前記イミド化合物は、担体に担持した形態で用いてもよい。担体としては、活性炭、ゼオライト、シリカ、シリカ−アルミナ、ベントナイトなどの多孔質担体を用いる場合が多い。前記イミド化合物の担体への担持量は、担体１００重量部に対して、例えば０．１〜５０重量部、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部程度である。
【００３０】
前記イミド化合物の使用量は、広い範囲で選択でき、例えば、反応成分（基質）１モルに対して０．００００００１〜１モル、好ましくは０．００００１〜０．５モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．４モル程度であり、０．００１〜０．３５モル程度である場合が多い。
【００３１】
［助触媒］
本発明では、前記イミド化合物からなる触媒に加えて助触媒を用いることもできる。助触媒として金属化合物が挙げられる。前記触媒と金属化合物とを併用することにより反応速度や反応の選択性を向上させることができる。助触媒は一種又は二種以上組み合わせて用いることができる。
【００３２】
金属化合物を構成する金属元素としては、特に限定されないが、周期表２〜１５族の金属元素を用いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Ｂも金属元素に含まれるものとする。例えば、前記金属元素として、周期表２族元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなど）、３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元素、アクチノイド元素など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆなど）、５族元素（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗなど）、７族元素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆｅ、Ｒｕなど）、９族元素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔなど）、１１族元素（Ｃｕなど）、１２族元素（Ｚｎなど）、１３族元素（Ｂ、Ａｌ、Ｉｎなど）、１４族元素（Ｓｎ、Ｐｂなど）、１５族元素（Ｓｂ、Ｂｉなど）などが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素（周期表３〜１２族元素）が含まれる。なかでも、周期表５〜１１族元素、特に５族〜９族元素が好ましく、とりわけＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏなどが好ましい。金属元素の原子価は特に制限されず、例えば０〜６価程度である。
【００３３】
金属化合物としては、前記金属元素の単体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキソ酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩などの無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など）、錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成する配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコキシ（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど）、アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコキシカルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン化合物、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合物などが挙げられる。
【００３４】
金属化合物の具体例としては、例えば、コバルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コバルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトなどの有機酸塩；コバルトアセチルアセトナトなどの錯体等の２価又は３価のコバルト化合物などが挙げられる。また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウムなどの無機化合物；バナジウムアセチルアセトナト、バナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の２〜５価のバナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合物としては、前記コバルト又はバナジウム化合物に対応する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。
【００３５】
前記金属化合物の使用量は、例えば、反応成分（基質）１モルに対して、０．０００００１〜０．１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０１モル程度である。また、前記金属化合物の使用量は、前記イミド化合物１モルに対して、例えば、０．００１〜１０モル程度、好ましくは０．００５〜３モル程度である。
【００３６】
本発明では、また、助触媒として、少なくとも１つの有機基が結合した周期表１５族又は１６族元素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンターイオンとで構成された有機塩を用いることもできる。助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度や反応の選択性を向上させることができる。
【００３７】
前記有機塩において、周期表１５族元素には、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉが含まれる。周期表１６族元素には、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅなどが含まれる。好ましい元素としては、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓが挙げられ、特に、Ｎ、Ｐ、Ｓなどが好ましい。
【００３８】
前記元素の原子に結合する有機基には、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換オキシ基などが含まれる。炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリルなどの炭素数１〜３０程度（好ましくは炭素数１〜２０程度）の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基（アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基）；シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素数３〜８程度の脂環式炭化水素基；フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１４程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭化水素基が有していてもよい置換基として、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、アルキル基（例えば、メチル、エチル基などのＣ1-4アルキル基など）、シクロアルキル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基など）、複素環基などが例示できる。好ましい炭化水素基には、炭素数１〜３０程度のアルキル基、炭素数６〜１４程度の芳香族炭化水素基（特に、フェニル基又はナフチル基）などが含まれる。前記置換オキシ基には、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基などが含まれる。
【００３９】
前記有機塩の代表的な例として、有機アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩などの有機オニウム塩が挙げられる。有機アンモニウム塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリエチルフェニルアンモニウムクロリド、トリブチル（ヘキサデシル）アンモニウムクロリド、ジ（オクタデシル）ジメチルアンモニウムクロリドなどの第４級アンモニウムクロリド、及び対応する第４級アンモニウムブロミドなどの、窒素原子に４つの炭化水素基が結合した第４級アンモニウム塩；ジメチルピペリジニウムクロリド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、メチルキノリニウムクロリドなどの環状第４級アンモニウム塩などが挙げられる。また、有機ホスホニウム塩の具体例としては、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムクロリド、トリブチル（ヘキサデシル）ホスホニウムクロリド、トリエチルフェニルホスホニウムクロリドなどの第４級ホスホニウムクロリド、及び対応する第４級ホスホニウムブロミドなどの、リン原子に４つの炭化水素基が結合した第４級ホスホニウム塩などが挙げられる。有機スルホニウム塩の具体例としては、トリエチルスルホニウムイオジド、エチルジフェニルスルホニウムイオジドなどの、イオウ原子に３つの炭化水素基が結合したスルホニウム塩などが挙げられる。
【００４０】
また、前記有機塩には、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、オクタンスルホン酸塩、ドデカンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩（例えば、Ｃ1-18アルキルスルホン酸塩）；ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、デシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよいアリールスルホン酸塩（例えば、Ｃ1-18アルキル−アリールスルホン酸塩）；スルホン酸型イオン交換樹脂（イオン交換体）；ホスホン酸型イオン交換樹脂（イオン交換体）なども含まれる。
【００４１】
前記有機塩の使用量は、例えば、反応成分（基質）１モルに対して、０．０００００１〜０．１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０１モル程度である。また、前記有機塩の使用量は、前記イミド化合物１モルに対して、例えば、０．００１〜０．１モル程度、好ましくは０．００５〜０．０８モル程度である。
【００４２】
また、本発明の方法では、系内に、ラジカル発生剤やラジカル反応促進剤を存在させてもよい。このような成分として、例えば、ハロゲン（塩素、臭素など）、過酸（過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸など）、過酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）等のヒドロペルオキシドなど）、ラジカル開始剤（アゾビスイソブチロニトリルなど）、安息香酸、ベンズアルデヒドなどが挙げられる。これらの成分を系内に存在させると、反応が促進される場合がある。前記成分の使用量は、前記イミド化合物１モルに対して、通常０．００１〜０．１モル程度であるが、添加剤の種類によってはそれ以上用いてもよい。
【００４３】
［有機化合物（Ａ）］
非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）（単に「有機化合物（Ａ）」と称する場合がある）としては、非芳香族性炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有する有機化合物であれば特に制限されない。有機化合物（Ａ）は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。なお、有機化合物（Ａ）は基質として用いることができる。
【００４４】
前記非芳香族性炭素−炭素二重結合としては、脂肪族性炭素−炭素二重結合（アルケニル基を構成する炭素−炭素二重結合）、脂環族性炭素−炭素二重結合（シクロアルケニル基を構成する炭素−炭素二重結合）などが挙げられる。
【００４５】
前記アルケニル基には、例えば、ビニル（エテニル）、１−プロペニル、アリル（２−プロペニル）、イソプロペニル（１−メチルビニル；１−メチルエテニル）、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、６−ヘプテニル、７−オクテニル、８−ノネニル、９−デセニル基などの直鎖又は分岐鎖状アルケニル基が挙げられる。また、前記シクロアルケニル基としては、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル基などが挙げられる。なお、アルケニル基やシクロアルケニル基において、炭素−炭素二重結合の位置は特に制限されない。アルケニル基やシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよい。
【００４６】
より具体的には、有機化合物（Ａ）としては、例えば、下記式（２）で表されるオレフィンなどが挙げられる。
【化１０】
0004573453.tif 000010
（式（２）中、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子又は有機基を示す。Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形成していてもよい）
【００４７】
前記式（２）において、有機基としては、シリルラジカルを生成可能なシラン系化合物（Ｂ）との反応を阻害しないような有機基（例えば、本発明の方法における反応条件下で非反応性の有機基）であればよく、例えば、炭化水素基、複素環式基、ハロゲン原子、置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基など）、カルボキシル基、置換又は無置換カルバモイル基（Ｎ−置換又は無置換アミド基など）、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸基（スルホン酸基、スルフィン酸基など）、硫黄酸エステル基（スルホン酸エステル基、スルフィン酸エステル基など）、アシル基、アシルオキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、Ｎ−置換又は無置換アミノ基などが挙げられる。前記有機基において、カルボキシル基、ヒドロキシル基やアミノ基などは慣用の保護基により保護されていてもよい。
【００４８】
前記炭化水素基には、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が含まれる。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリルなどの炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１〜６）程度の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基（アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基）などが挙げられる。脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロオクチル、シクロデシル、シクロドデシル基などの炭素数３〜２０（好ましくは炭素数３〜１５）程度の脂環式炭化水素基（シクロアルキル基、シクロアルケニル基等）などが挙げられる。また、芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル、ナフチル基などの炭素数６〜１４程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。また、炭化水素基としては、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜６程度（特に、炭素数１〜４程度）のハロアルキル基も用いることができる。
【００４９】
また、複素環式基を構成する複素環には、芳香族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。このような複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環（例えば、フラン、テトラヒドロフラン、オキサゾール、イソオキサゾールなどの５員環、４−オキソ−４Ｈ−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホリンなどの６員環、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、４−オキソ−４Ｈ−クロメン、クロマン、イソクロマンなどの縮合環など）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環（例えば、チオフェン、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾールなどの５員環、４−オキソ−４Ｈ−チオピランなどの６員環、ベンゾチオフェンなどの縮合環など）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環（例えば、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾールなどの５員環、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジンなどの６員環、インドール、インドリン、キノリン、アクリジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリンなどの縮合環など）などが挙げられる。
【００５０】
前記ハロゲン原子にはフッ素、塩素、臭素及びヨウ素原子などが含まれる。アルコキシカルボニル基には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ1-6アルコキシ−カルボニル基などが含まれる。アリールオキシカルボニル基には、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが含まれ、アラルキルオキシカルボニル基には、例えば、ベンジルオキシカルボニル基などが含まれる。また、シクロアルキルオキシカルボニル基としては、例えば、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル基などが挙げられる。
【００５１】
また、置換カルバモイル基には、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基などが含まれる。スルホン酸エステル基には、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル基などのスルホン酸Ｃ1-4アルキルエステル基などが含まれる。スルフィン酸エステル基には、スルフィン酸メチル、スルフィン酸エチル基などのスルフィン酸Ｃ1-4アルキルエステル基などが含まれる。アシル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル基などの脂肪族アシル基（例えば、Ｃ2-7脂肪族アシル基など）、ベンゾイル基などの芳香族アシル基などが挙げられる。アシルオキシ基としては、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ基などのＣ2-7脂肪族アシルオキシ基などが挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基などが挙げられる。シクロアルキルオキシ基には、例えば、シクロヘキシルオキシ基が含まれる。アリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基が挙げられる。Ｎ−置換アミノ基には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、ピペリジノ基などが含まれる。
【００５２】
好ましいＲa、Ｒb、Ｒc、Ｒdとしては、水素原子、炭化水素基［例えば、Ｃ1-6脂肪族炭化水素基（特にＣ1-4脂肪族炭化水素基など）、Ｃ6-14アリール基（フェニル基など）、シクロアルキル基（３〜８員程度のシクロアルキル基など）、ハロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基などのＣ1-6ハロアルキル基、特にＣ1-4ハロアルキル基）など］、複素環式基、置換オキシカルボニル基（例えば、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基など）、カルボキシル基、置換又は無置換カルバモイル基、アシルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸基、硫黄酸エステル基、アシル基などが含まれる。Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdとして特に好ましい基としては、水素原子、脂肪族炭化水素基、置換オキシカルボニル基、カルボキシル基、アシルオキシ基が挙げられる。
【００５３】
また、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒdのうち少なくとも２つが、互いに結合して形成された環には、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロドデカン環、デカリン環、アダマンタン環などの３〜２０員（好ましくは３〜１５員、さらに好ましくは５〜１５員、特に５〜８員）程度の非芳香族性炭素環（シクロアルカン環、シクロアルケン環、橋かけ炭素環）；インデン環、１，２−ジヒドロナフタレン環などの、シクロアルケン環に芳香族環（例えば、ベンゼン環など）が縮合した縮合炭化水素環；テトラヒドロフラン環、オキソラン環などの非芳香族性複素環などが含まれる。これらの環は、置換基（例えば、前記炭化水素基が有していてもよい置換基と同様の基）を有していてもよく、また他の環（非芳香族性環又は芳香族性環）が縮合していてもよい。
【００５４】
なお、前記式（２）における有機基（例えば、炭化水素基や複素環式基など）は、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子など）、ヒドロキシル基、オキソ基、置換オキシ基（アルコキシ基、アシルオキシ基など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基など）、置換カルバモイル基（モノ又はジアルキル置換カルバモイル基など）、無置換カルバモイル基、置換アミノ基（モノ又はジアルキルアミノ基や環状アミノ基など）、無置換アミノ基、アシル基、シアノ基、ニトロ基、複素環式基などが挙げられる。これらの置換基は、保護基により保護されていてもよく、前記保護基としては、有機合成の分野で慣用の保護基を使用できる。また、これらの置換基は互いに結合して隣接する１又は複数の炭素原子ととともに環を形成してもよい。
【００５５】
より具体的には、有機化合物（Ａ）としてのオレフィン（前記式（２）で表されるオレフィン等）としては、例えば、脂肪族不飽和炭化水素、脂環式不飽和炭化水素、α，β−不飽和エステル類、α，β−不飽和カルボニル化合物（α，β−不飽和ケトン類）、α，β−不飽和アルデヒド類、α，β−不飽和ニトリル類、α，β−不飽和カルボン酸類、α，β−不飽和カルボン酸アミド類、α，β−不飽和イミン類、ビニルエステル類、ビニルエーテル類、ビニルアルコール類、共役ジエン類（二重結合と三重結合とが共役している化合物も含む）などが挙げられる。
【００５６】
オレフィンにおいて、脂肪族不飽和炭化水素としては、例えば、エテン、プロペン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−オクテン−３−オール、１−ノネン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１，５−ヘキサジエン、１，６−ヘプタジエン、１，７−オクタジエン、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン、ビニルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサンなどのα−オレフィン類や、２−ブテン、イソブテン、２−ペンテン、２，４，４−トリメチル−２−ペンテン、２−ヘキセン、２，３−ジメチル−２−ブテン、３−ヘキセン、２−オクテン、３−オクテン、４−オクテン、２−ノネン、２，６−オクタジエンなどの内部オレフィン類などが挙げられる。
【００５７】
脂環式不飽和炭化水素には、例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン、シクロウンデセン、シクロドデセン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−シクロヘプタジエン、シクロデカジエン、シクロドデカジエン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどが含まれる。
【００５８】
α，β−不飽和エステル類には、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イコシルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニルなどの（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシルなどの（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルなどの（メタ）アクリル酸エステルなどが含まれる。また、（メタ）アクリル酸エステルには、（メタ）アクリル酸ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピルなどの（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；（メタ）アクリル酸グリシジル；（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルも含まれる。さらに、α，β−不飽和エステル類としては、例えば、クロトン酸メチル、クロトン酸エチルなどのクロトン酸アルキルエステル；３−メチル−２−ブテン酸メチル、３−メチル−２−ブテン酸エチル、２−ペンテン酸メチル、２−オクテン酸メチルなども用いることができる。
【００５９】
また、α，β−不飽和カルボニル化合物としては、例えば、３−ブテン−２−オン（ビニルメチルケトン）、３−メチル−３−ブテン−２−オン、４−ペンテン−３−オン（ビニルエチルケトン）、３−ペンテン−４−オン（メチル−１−プロペニルケトン）、５−ヘキセン−４−オン、４−メチル−３−ペンテン−２−オン、４−メチル−４−ペンテン−３−オン、ホロン（２，６−ジメチル−２，５−ヘプタジエン−４−オン）、２，６−ジメチル−５−ヘプテン−４−オン、１−アセチル−１−シクロヘキセン、４−フェニル−３−ブテン−２−オンなどの脂肪族α，β−不飽和カルボニル化合物；２−シクロペンテン−１−オン、２−シクロヘキセン−１−オン、２−（３−メチルシクロヘキセン）−１−オン、２−（３−メチルシクロペンテン）−１−オン、２−シクロヘプテン−１−オン、２−シクロオクテン−１−オンなどの脂環式α，β−不飽和カルボニル化合物などが挙げられる。
【００６０】
α，β−不飽和アルデヒド類としては、例えば、プロペナール、クロトンアルデヒドなどが挙げられる。α，β−不飽和ニトリル類には、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトニルなどが含まれる。α，β−不飽和カルボン酸類には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸などが含まれる。α，β−不飽和カルボン酸アミド類には、例えば、（メタ）アクリルアミドなどが含まれる。α，β−不飽和イミン類には、例えば、Ｎ−（２−プロペニリデン）メチルアミン、Ｎ−（２−ブテニリデン）メチルアミンなどが含まれる。ビニルエステル類には、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニルなどが含まれる。ビニルエーテル類には、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなどが含まれる。ビニルアルコール類には、例えば、ビニルアルコール、１−メチルビニルアルコールなどが含まれる。共役ジエン類（二重結合と三重結合とが共役している化合物も含む）には、例えば、ブタジエン、イソプレン、２−クロロブタジエン、２−エチルブタジエン、ビニルアセチレン、シクロペンタジエン誘導体などが含まれる。
【００６１】
また、本発明では、有機化合物（Ａ）として、テルペン類を用いることもできる。テルペン類としては、例えば、リモネン（ｄｌ−リモネン）、テルピネン（α−，β−又はγ−テルピネン）、テルピノレン、フェランドレン（α−又はβ−フェランドレン）、１−ｐ−メンテン、３−ｐ−メンテン、カルベオール（ｃｉｓ体、ｔｒａｎｓ体）、α−テルピネオール、１−ｐ−メンテン−４−オール、ピノール＝ヒドラート、ｔｒａｎｓ−ソブレロール、カルベノン、カルボタナセトン、カルボン、ピペリトン、ジオスフェノール、ピノール、α−ピネン、２−ボルネン、α−セドレン、バレンセンなどの脂環族性炭素−炭素二重結合（環状の炭素−炭素二重結合）を有するテルペン系化合物；オシメン、ミルセン、ジヒドロミルセン、ゲラニオール、シトロネロール、ネロール、リナロオール、シトラール、シトロネラール、フェルネソール、ネロリドール、スクアレン、ジヒドロカルベオール、ｔｒａｎｓ−β−テルピネオール、イソプレゴン、ジヒドロカルボン、β−セリネンなどの脂肪族性炭素−炭素二重結合（鎖状の炭素−炭素二重結合）などが挙げられる。
【００６２】
［シラン系化合物（Ｂ）］
シリルラジカルを生成可能なシラン系化合物（Ｂ）（単に「シラン系化合物（Ｂ）」と称する場合がある）としては、シリルラジカルを安定的に生成することができるシラン系化合物であれば特に制限されない。シラン系化合物（Ｂ）は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００６３】
シラン系化合物（Ｂ）としては、例えば、下記式（３）で表されるシラン系化合物などが挙げられる。
【化１１】
0004573453.tif 000011
（式（３）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換若しくは無置換シリル基を示す。Ｒe、Ｒf、Ｒgは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、有機基または置換若しくは無置換シリル基を示す）
【００６４】
このような式（３）で表されるシラン系化合物は、基Ｘ（水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換シリル基）が解離して、安定なシリルラジカルを生成させることができる。なお、このようなシリルラジカルは、（ＲeＲfＲgＳｉ・）として表すことができる。
【００６５】
前記式（３）において、Ｘのハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素原子などが挙げられる。
【００６６】
また、Ｘにおける置換若しくは無置換シリル基としては、下記式（３ａ）で表される置換若しくは無置換シリル基を用いることができる。
【化１２】
0004573453.tif 000012
（式（３）中、Ｒh、Ｒi、Ｒjは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、有機基または置換若しくは無置換シリル基を示す）
【００６７】
Ｒh、Ｒi、Ｒjにおける有機基としては、前記式（２）において例示された有機基、例えば、炭化水素基（脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基など）、複素環式基、ハロゲン原子、置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基など）、カルボキシル基、置換又は無置換カルバモイル基（Ｎ−置換又は無置換アミド基など）、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸基（スルホン酸基、スルフィン酸基など）、硫黄酸エステル基（スルホン酸エステル基、スルフィン酸エステル基など）、アシル基、アシルオキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、Ｎ−置換又は無置換アミノ基などが挙げられる。Ｒh、Ｒi、Ｒjにおいて、有機基としては、炭化水素基（特にアルキル基などの脂肪族炭化水素基）、ハロゲン原子、アルコキシ基を好適に用いることができる。
【００６８】
また、Ｒh、Ｒi、Ｒjにおける置換シリル基としては、例えば、有機基により置換されたシリル基（以下「有機基置換シリル基」と称する場合がある）などが挙げられる。該有機基置換シリル基において、シリル基の置換に用いられる有機基としては、前記Ｒh、Ｒi、Ｒjにおける有機基と同様の有機基を用いることができる。
【００６９】
前記式（３）において、Ｒe、Ｒf、Ｒgにおける有機基としては、前記Ｒh、Ｒi、Ｒjにおける有機基と同様に、前記式（２）において例示された有機基を用いることができる。もちろん、これらのＲe、Ｒf、Ｒgにおける有機基は、置換基を有していてもよい。また、Ｒe、Ｒf、Ｒgにおける置換シリル基としては、Ｒh、Ｒi、Ｒjにおける置換シリル基と同様の有機基置換シリル基を用いることができる。
【００７０】
より具体的には、シラン系化合物（Ｂ）としては、例えば、モノシラン系化合物、ジシラン系化合物などが挙げられる。モノシラン系化合物には、例えば、シラン；テトラフルオロシラン、テトラクロロシラン、トリフルオロシラン、トリクロロシラン、ジフルオロシラン、ジクロロシラン、モノフルオロシラン、モノクロロシランなどのハロ系シラン；メチルシラン、エチルシラン、プロピルシラン、イソプロピルシラン、ブチルシラン、イソブチルシラン、ｔ−ブチルシラン、ジメチルシラン、ジエチルシラン、ジプロピルシラン、ジイソプロピルシラン、ジブチルシラン、ジイソブチルシラン、ジｔ−ブチルシラン、トリメチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、トリイソプロピルシラン、トリブチルシラン、トリイソブチルシラン、トリｔ−ブチルシランなどのアルキル系シラン；トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メトキシシラン、エトキシシランなどのアルコキシ系シラン；ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラン、ジクロロメチルシラン、ジクロロエチルシラン、クロロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラン、クロロジメチルシラン、クロロジエチルシラン、クロロメチルシラン、クロロエチル、ｔ−ブチルクロロジメチルシラン、ｔ−ブチルクロロジエチルシランなどのハロアルキル系シラン；ジメトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシエチルシラン、ジエトキシエチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、メトキシジエチルシラン、エトキシジエチルシランなどのアルコキシアルキル系シランなどが含まれる。
【００７１】
また、ジシラン系化合物としては、例えば、ジシラン；ヘキサクロロジシランなどのハロ系ジシラン；ヘキサメチルジシラン、ヘキサエチルジシラン、テトラメチルジシラン、ジメチルジシランなどのアルキル系ジシラン；ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、テトラメトキシジシラン、ジメトキシジシランなどのアルコキシ系ジシラン；メチルジクロロジシラン、エチルジクロロジシラン、メチルクロロジシラン、エチルクロロジシラン、ジメチルクロロジシラン、ジエチルクロロジシランなどのハロアルキル系ジシラン；ジメトキシメチルジシラン、ジメトキシエチルジシラン、メトキシジメチルジシラン、メトキシジエチルジシラン、メトキシメチルジシラン、メトキシエチルジシランなどのアルコキシアルキル系ジシランなどが挙げられる。
【００７２】
シラン系化合物（Ｂ）の使用量は、特に制限されず、例えば、基質（有機化合物（Ａ））１モルに対して１モル以上（例えば、１〜１００モル）、好ましくは２〜５０モル、さらに好ましくは３〜３０モル程度である。
【００７３】
［酸素（Ｃ）］
酸化に利用される酸素としては、発生期の酸素であってもよいが、分子状酸素を用いるのが好ましい。分子状酸素は純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や空気を用いることもできる。酸素の使用量は、例えば、基質（有機化合物（Ａ））１モルに対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、好ましくは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０モル程度である。基質に対して過剰モルの酸素を使用する場合が多い。
【００７４】
［反応］
本発明では、前記イミド化合物を含む触媒の存在下、例えば、非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）を、シリルラジカルを生成可能なシラン系化合物（Ｂ）と、酸素（Ｃ）と反応させることにより、有機化合物（Ａ）のに、ヒドロキシル基とともに、置換又は無置換シリル基（「置換又は無置換シリル基」を単に「シリル基」と称する場合がある。）を導入して、前記有機化合物（Ａ）に対応するヒドロキシル基及びシリル基を有する有機化合物を生成させることができる。ヒドロキシル基及びシリル基を有する有機化合物としては、例えば、有機化合物（Ａ）における非芳香族性炭素−炭素二重結合を形成する一方の炭素原子にヒドロキシル基が導入され、他方の炭素原子にシリル基が導入された有機化合物などが例示できる。より具体的には、例えば、アクリル酸メチルを、前記イミド化合物の存在下、トリエチルシランと酸素と反応させると、α−ヒドロキシ−β−トリエチルシリルプロピオン酸メチル（２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチル）が生成する。また、メタクリル酸メチルを、トリエチルシランと酸素と反応させると、α−ヒドロキシ−β−トリエチルシリルイソ酪酸メチル（２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチル）が生成する。
【００７５】
従って、本発明の方法では、ヒドロキシル基とシリル基とを有機化合物に導入することができるので、このような反応を「ヒドロキシシリル化」反応と称することができる。
【００７６】
なお、有機化合物（Ａ）として、α，β−不飽和カルボニル化合物（α，β−不飽和ケトン類）を用いた場合、脱アシル化を伴い、β−ケトシリル化合物が生成する場合がある。例えば、基質としてビニルメチルケトンを用いて、トリエチルシラン及び酸素と反応させると、ヒドロキシシリル化及び脱アシル化により、２−トリエチルシリルエタナールが生成する場合がある。
【００７７】
有機化合物（Ａ）のヒドロキシシリル化反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行うことができる。前記溶媒としては、基質（有機化合物（Ａ））の種類等により適宜選択でき、例えば、酢酸、プロピオン酸などの有機酸；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；これらの混合溶媒などが挙げられる。溶媒としては、酢酸などの有機酸類、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリル類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、酢酸エチルなどのエステル類などを用いる場合が多い。
【００７８】
なお、本発明では、イミド化合物触媒は、反応開始前又は開始時に一括に添加して仕込んでもよく、反応開始前又は開始時から逐次添加してもよい。イミド化合物触媒を逐次添加する場合は、反応開始時から終了にかけて、反応系に連続的に添加してもよく、間欠的に添加してもよい。イミド化合物触媒は系内にそのまま添加してもよく、適当な溶媒に溶解若しくは分散させて添加してもよい。このように、イミド化合物触媒を反応系に逐次添加すると、反応系に一括添加した場合と比較して、原料化合物の転化率が向上したり、副反応が抑制されて目的化合物（ヒドロキシシリル化反応生成物）の選択率が向上する場合がある。また、基質濃度が高い場合に触媒活性が損なわれることがあるが、イミド化合物触媒を逐次添加することにより反応が円滑に進行し、目的化合物を高い収率で得ることができる。
【００７９】
なお、前記助触媒も反応系に逐次的に添加してもよい。
【００８０】
ヒドロキシシリル化反応において、反応温度は、基質の種類等に応じて適宜選択できるが、一般には０〜３００℃、好ましくは１０〜２５０℃、さらに好ましくは２０〜２００℃程度である。反応は常圧又は加圧下で行うことができ、加圧下で反応させる場合には、通常、１〜１００ａｔｍ（＝０．１０１〜１０．１ＭＰａ）［好ましくは、１．５〜８０ａｔｍ（＝０．１５２〜８．０８ＭＰａ）］程度である。
【００８１】
反応は回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行うことができる。
反応終了後、反応生成物等は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離精製手段やこれらの組み合わせにより、容易に分離精製できる。
【００８２】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物を触媒として、非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）を、シラン系化合物（Ｂ）と酸素（Ｃ）と反応させているので、温和な条件下であっても、効率よく、前記有機化合物（Ａ）に対応するヒドロキシル基及びシリル基を有する有機化合物を得ることができる。
【００８３】
【実施例】
以下に、実施例に基づいて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００８４】
（実施例１）
基質としてアクリル酸メチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で３時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は９７％であり、トリエチルシランの転化率は４３％であった。また、収率６２％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００８５】
（実施例２）
反応温度を６０℃に代えて５０℃とすること以外は、実施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は７５％であり、トリエチルシランの転化率は２５％であり、収率５４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００８６】
（実施例３）
溶媒としての酢酸エチルの使用量を２ｍｌに代えて１ｍｌとすること以外は、実施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は８１％であり、トリエチルシランの転化率は１６％であり、収率４４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００８７】
（実施例４）
反応時間を３時間に代えて２時間とすること以外は、実施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９１％であり、トリエチルシランの転化率は２８％であり、収率７０％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００８８】
（実施例５）
溶媒としての酢酸エチルの使用量を２ｍｌに代えて３ｍｌとすること以外は、実施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は８２％であり、トリエチルシランの転化率は１９％であり、収率６６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００８９】
（実施例６）
トリエチルシランの使用量を１５ミリモルに代えて３０ミリモルとすること以外は実施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は６８％であり、トリエチルシランの転化率は９％であり、収率５４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９０】
（実施例７）
溶媒としての酢酸エチルの使用量を２ｍｌに代えて５ｍｌとすること以外は、実施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９１％であり、トリエチルシランの転化率は３１％であり、収率６１％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９１】
（実施例８）
基質としてアクリル酸メチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．００３ミリモル（基質に対して０．１モル％）、コバルト（III）アセチルアセトナト：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は７１％であり、トリエチルシランの転化率は２０％であった。また、収率６６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９２】
（実施例９）
助触媒としてのコバルト（III）アセチルアセトナトの使用量を０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）に代えて０．０３ミリモル（基質に対して１モル）とすること以外は、実施例８と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９７％であり、トリエチルシランの転化率は３２％であり、収率６８％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９３】
（実施例１０）
助触媒としてのコバルト（III）アセチルアセトナトの使用量を０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）に代えて０．００３ミリモル（基質に対して０．１モル）とすること以外は、実施例８と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は８８％であり、トリエチルシランの転化率は３１％であり、収率７３％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９４】
（実施例１１）
基質としてアクリル酸メチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、ＺｒＯ（ＣＨ3ＣＯＯ）2：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は８７％であり、トリエチルシランの転化率は２９％であった。また、収率７３％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９５】
（実施例１２）
助触媒としてのＺｒＯ（ＣＨ3ＣＯＯ）2をＭｎ（ＣＨ3ＣＯＯ）2［使用量：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）］とすること以外は、実施例１１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は５８％であり、トリエチルシランの転化率は１７％であり、収率５２％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９６】
（実施例１３）
助触媒としてのＺｒＯ（ＣＨ3ＣＯＯ）2を水酸化銅（II）［使用量：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）］とすること以外は、実施例１１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は８３％であり、トリエチルシランの転化率は２２％であり、収率６９％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９７】
（実施例１４）
助触媒としてのＺｒＯ（ＣＨ3ＣＯＯ）2を亜鉛（III）アセチルアセトナト［使用量：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）］とすること以外は、実施例１１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は６９％であり、トリエチルシランの転化率は１７％であり、収率５４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９８】
（実施例１５）
基質としてアクリル酸メチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、酢酸マンガン（III）：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は８６％であり、トリエチルシランの転化率は３０％であった。また、収率７５％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【００９９】
（実施例１６）
反応時間を２時間に代えて３時間とすること以外は、実施例１５と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９６％であり、トリエチルシランの転化率は４３％であり、収率７０％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【０１００】
（実施例１７）
基質としてアクリル酸メチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、酢酸銅（II）：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は４９％であり、トリエチルシランの転化率は１５％であった。また、収率４９％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【０１０１】
（実施例１８）
反応時間を２時間に代えて３時間とすること以外は、実施例１７と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は６１％であり、トリエチルシランの転化率は１６％であり、収率６１％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【０１０２】
（実施例１９）
反応時間を２時間に代えて６時間とすること以外は、実施例１７と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９４％であり、トリエチルシランの転化率は４２％であり、収率５７％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。
【０１０３】
（実施例２０）
基質としてメタクリル酸メチル：２ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：２０ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．４ミリモル（基質に対して２０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１ミリモル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、メタクリル酸メチルの転化率は６９％であり、トリエチルシランの転化率は８％であった。また、収率４７％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチルが生成していた。
【０１０４】
（実施例２１）
反応時間を２時間に代えて６時間とすること以外は、実施例２０と同様の操作を行ったところ、メタクリル酸メチルの転化率は９９％であり、トリエチルシランの転化率は５４％であり、収率３６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチルが生成していた。
【０１０５】
（実施例２２）
反応温度を６０℃に代えて５０℃とするとともに、反応時間を２時間に代えて６時間とすること以外は、実施例２０と同様の操作を行ったところ、メタクリル酸メチルの転化率は５７％であり、トリエチルシランの転化率は１３％であり、収率５５％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチルが生成していた。
【０１０６】
（実施例２３）
反応温度を６０℃に代えて５０℃とするとともに、反応時間を２時間に代えて１０時間とすること以外は、実施例２０と同様の操作を行ったところ、メタクリル酸メチルの転化率は８６％であり、トリエチルシランの転化率は１９％であり、収率５９％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチルが生成していた。
【０１０７】
（実施例２４）
基質としてフマル酸ジエチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で１２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、フマル酸ジエチルの転化率は９５％であった。また、収率５１％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチル（３−トリエチルシリルリンゴ酸ジエチル）が生成していた。
【０１０８】
（実施例２５）
溶媒としての酢酸エチルに代えて酢酸とすること以外は、実施例２４と同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率は８５％であり、トリエチルシランの転化率は２３％であり、収率５３％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。
【０１０９】
（実施例２６）
溶媒としての酢酸エチルに代えてアセトニトリルとすること以外は、実施例２４と同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率は９９％以上であり、トリエチルシランの転化率は３６％であり、収率６４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。
【０１１０】
（実施例２７）
溶媒としての酢酸エチルに代えてアセトニトリルとするとともに、反応時間を１２時間に代えて１０時間とすること以外は、実施例２４と同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率は９９％以上であり、トリエチルシランの転化率は３８％であり、収率６４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。
【０１１１】
（実施例２８）
溶媒としての酢酸エチル：２ｍｌに代えてアセトニトリル：３ｍｌとすること以外は、実施例２４と同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率は９９％以上であり、トリエチルシランの転化率は４０％であり、収率６６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。
【０１１２】
（実施例２９）
基質としてフマル酸ジエチル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリモル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒としてアセトニトリル：２ｍｌの混合物を、窒素／酸素＝１／１（モル比）の雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で１２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、フマル酸ジエチルの転化率は９８％であり、トリエチルシランの転化率は２９％であった。また、収率５５％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。
【０１１３】
（実施例３０）
窒素／酸素＝１／１（モル比）の雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）に代えて、空気雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）とすること以外は、実施例２９と同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率は９９％であり、トリエチルシランの転化率は２１％であり、収率４６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。