(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
図形を描画して視覚的に表示する描画装置において、
対象図形に基づいて、前記対象図形をマスクするとともに前記対象図形の外側をマスクし、さらに前記対象図形の内側を第１の画素幅だけマスクしたマスクフィルタを生成するマスク生成手段と、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形の内側の外郭をその内側に前記第１の画素幅より広い第２の画素幅だけ拡張した描画用画像を生成する描画用画像生成手段と、
前記対象図形が描かれた画像上に、前記マスク生成手段が生成した前記マスクフィルタを介して、前記描画用画像生成手段が生成した前記描画用画像を描画する描画手段とを具備することを特徴とする描画装置。
【請求項２】
画素幅ａの線分で構成される対象図形に基づいて、この対象図形のｄ画素だけ内側に画素幅ｂの線分で構成される図形を描画する描画装置において、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形をマスクするとともに前記対象図形の外側をマスクした基マスクフィルタを生成する基マスク生成手段と、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形を構成する線分を、その中心より画素幅ａ＋２＊ｄで描画した調整マスクフィルタを生成する調整マスク生成手段と、
前記基マスク生成手段が生成した基マスクフィルタに、前記調整マスク生成手段が生成した調整マスクを合成して、描画用マスクフィルタを生成する描画用マスク生成手段と、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形を構成する線分を、その中心より画素幅ａ＋２＊（ｄ＋ｂ）で描画した描画用画像を生成する描画用画像生成手段と、
前記対象図形が描かれた画像上に、前記描画用マスク生成手段が生成した描画用マスクフィルタを介して、前記描画用画像生成手段が生成した前記描画用画像を描画する描画手段とを具備することを特徴とする描画装置。
【請求項３】
図形を描画して視覚的に表示する描画装置のプログラムにおいて、
対象図形に基づいて、前記対象図形をマスクするとともに前記対象図形の外側をマスクし、さらに前記対象図形の内側を第１の画素幅だけマスクしたマスクフィルタを生成するマスク生成手段と、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形の内側の外郭をその内側に前記第１の画素幅より広い第２の画素幅だけ拡張した描画用画像を生成する描画用画像生成手段と、
前記対象図形が描かれた画像上に、前記マスク生成手段が生成した前記マスクフィルタを介して、前記描画用画像生成手段が生成した前記描画用画像を描画する描画手段として前記描画装置を機能させるためのプログラム。
【請求項４】
画素幅ａの線分で構成される対象図形に基づいて、この対象図形のｄ画素だけ内側に画素幅ｂの線分で構成される図形を描画する描画装置のプログラムにおいて、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形をマスクするとともに前記対象図形の外側をマスクした基マスクフィルタを生成する基マスク生成手段と、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形を構成する線分を、その中心より画素幅ａ＋２＊ｄで描画した調整マスクフィルタを生成する調整マスク生成手段と、
前記基マスク生成手段が生成した基マスクフィルタに、前記調整マスク生成手段が生成した調整マスクを合成して、描画用マスクフィルタを生成する描画用マスク生成手段と、
前記対象図形に基づいて、前記対象図形を構成する線分を、その中心より画素幅ａ＋２＊（ｄ＋ｂ）で描画した描画用画像を生成する描画用画像生成手段と、
前記対象図形が描かれた画像上に、前記描画用マスク生成手段が生成した描画用マスクフィルタを介して、前記描画用画像生成手段が生成した前記描画用画像を描画する描画手段として前記描画装置を機能させるためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、任意の図形の内側に閉じたループ線を描画する描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、本発明者らによって図形に平行した閉じたループ線を描画する描画装置の開発が行われている（例えば、特許文献１参照）。従来の描画装置では、図形の内側だけにループ線を描画する場合、多くの計算を行う必要があり、このため多くの時間を要するという問題があった。
【０００３】
なお、ループ線の描画は、例えば航空機の経路誘導などに用いられ、飛行可能空域や飛行禁止空域などを示すのに有効であり、高速で飛行する航空機にとって迅速な描画処理は非常に重要な技術である。
【特許文献１】特願２００３−３８８１１７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の描画装置では、図形の内側にループ線を描画する場合、多くの計算を行う必要があり、このため多くの時間を要するという問題があった。  
この発明は上記の問題を解決すべくなされたもので、少ない計算量で図形の内側にループ線を迅速に描画することが可能な描画装置およびそのプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するために、この発明は、図形を描画して視覚的に表示する描画装置において、対象図形に基づいて、対象図形をマスクするとともに対象図形の外側をマスクし、さらに対象図形の内側を第１の画素幅だけマスクしたマスクフィルタを生成するマスク生成手段と、対象図形に基づいて、対象図形の内側の外郭をその内側に第１の画素幅より広い第２の画素幅だけ拡張した描画用画像を生成する描画用画像生成手段と、対象図形が描かれた画像上に、マスク生成手段が生成したマスクフィルタを介して、描画用画像生成手段が生成した描画用画像を描画する描画手段とを具備して構成するようにした。
【発明の効果】
【０００６】
以上述べたように、この発明では、対象図形をマスクするとともに対象図形の外側をマスクし、さらに対象図形の内側を第１の画素幅だけマスクしたマスクフィルタを生成し、このマスクフィルタを介して、対象図形の内側の外郭をその内側に上記第１の画素幅より広い第２の画素幅だけ拡張した描画用画像を描画するようにしている。
【０００７】
したがって、この発明によれば、対象図形に基づいて簡易な描画を繰り返すだけで、図形の内側にループ線を描画することができるので、必要とされる計算量が少なく迅速に描画を行うことが可能な描画装置およびそのプログラムを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照して、この発明の一実施形態について説明する。  
図１は、この発明の一実施形態に係わる描画装置の構成を示すものである。この描画装置は、入力部１０と、記憶部２０と、表示部３０と、プリント部４０と、制御部５０とを備えている。
【０００９】
入力部１０は、オペレータからの要求を受け付けるものであって、キーボードや、マウスなどのポインティングデバイスや、タブレットなどを用いたペン型入力装置などが考えられる。
【００１０】
記憶部２０は、制御部５０の制御プログラム、描画プログラム、制御データや地図データをはじめとする種々のデータを記憶するものである。上記地図データは、地図を描画するためのデータであり、データ形式は、ラスタ型のデータであっても、ベクタ型のデータであってもよい。
【００１１】
表示部３０は、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）やＬＣＤ（Liquid Crystal Display）などを用いた表示手段であって、制御部５０の指示にしたがって、地図などの図形をはじめとする種々の情報を視覚的に表示するものである。  
プリント部４０は、制御部５０の指示にしたがって、地図などの図形をはじめとする種々の情報を紙媒体などに印刷するものである。
【００１２】
制御部５０は、当該描画装置の各部を統括して制御するものであって、記憶部２０に記憶される描画プログラムにしたがって、地図などの図形を描画し、描いた図形を表示部３０に表示出力したり、プリント部４０を通じて紙媒体などに印刷する制御機能を備える。また制御部５０は、データ処理を行うための作業領域として用いるメモリを備える。
【００１３】
次に、上記構成の描画装置の動作について説明する。以下の説明では、対象図形の内側にループ線を描画する処理について説明する。この処理は、制御部５０が入力部１０を通じたオペレータからの要求に応じて、記憶部２０から描画プログラムを読み込んで、この読み込んだ描画プログラムにしたがって実行されるものである。図２に上記処理のフローチャートを示す。
【００１４】
なお、ここでは、上記処理の説明を簡明にするために、対称図形として図３に示すような幾何学的な図形を用いる。そして、図４に示すように、上記対称図形の内側にループ線を加えた図形を作成する。対称図形とループ線の関係を図５に示す。すなわち、対称図形の線幅はａ画素であり、ループ線の線幅はｂ画素で、対称図形とループ線の間はｄ画素だけ離れている。
【００１５】
まず、ステップ２ａにおいて制御部５０は、記憶部２０から図３に示す対称図形の画像データを読み出し、これに基づいて図６に示すような基マスクフィルタの画像データを生成し、これを制御部５０内のメモリに記憶し、ステップ２ｂに移行する。なお、上記基マスクフィルタは、上記対称図形と、その外側を塗りつぶしたもので構成される。
【００１６】
ステップ２ｂにおいて制御部５０は、図７に示すように、対称図形の線幅をａ＋２＊ｄ画素で描画した画像データを生成し、これを調整マスクフィルタとして制御部５０内のメモリに記憶し、ステップ２ｃに移行する。
【００１７】
ステップ２ｃにおいて制御部５０は、ステップ２ａで生成した基マスクフィルタと、ステップ２ｂで生成した調整マスクフィルタとを合成して一体化し、図８に示すような描画用マスクフィルタのデータを生成し、これを制御部５０内のメモリに記憶し、ステップ２ｄに移行する。
【００１８】
ステップ２ｄにおいて制御部５０は、図９に示すように、対称図形の線幅をａ＋２＊（ｄ＋ｂ）画素で描画した画像データを生成し、これを閉ループ描画用画像として制御部５０内のメモリに記憶し、ステップ２ｅに移行する。
【００１９】
ステップ２ｅにおいて制御部５０は、記憶部２０から図３に示す対称図形の画像データを読み出し、これに基づいて対称図形を描画した後、この描画を行った画像上に、ステップ２ｃで生成した描画用マスクフィルタを介して、ステップ２ｄで生成した閉ループ描画用画像を描画する。
【００２０】
これにより、上記閉ループ描画用画像は、描画用マスクフィルタを介することで、図４に示すように、線幅ｂ画素の閉ループが対称図形の内側に平行して描かれることになる。このようにして制御部５０のメモリ上で描かれた図４に示すような画像は、制御部５０が表示部３０を制御することにより、映像としてオペレータに示される。
【００２１】
以上のように、上記構成の描画装置では、対称図形の外側すべてと、内側をｄ画素だけ狭めて覆った描画用マスクフィルタを生成し、このフィルタを介して、対称図形を基準とした線幅ａ＋２＊（ｄ＋ｂ）画素の画像を描画することで、対象画像よりｄ画素だけ内側に線幅ｂ画素の閉ループを描画するようにしている。
【００２２】
したがって、上記構成の描画装置によれば、対象図形の線分を元にして画素幅の異なる線を描画するという簡易な処理を繰り返すだけで、対象図形の内側に平行した閉ループを描画することができるので、制御部５０の処理負荷も少なく、対象図形が複雑な図形であっても、多くの時間を要することなく、対象図形の内側に平行した閉ループを描画することができる。
【００２３】
なお、この発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また上記実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって種々の発明を形成できる。また例えば、実施形態に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除した構成も考えられる。さらに、異なる実施形態に記載した構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００２４】
その一例として例えば、上記実施の形態では、対象図形を構成する線分に基づいて、各フィルタや閉ループ描画用画像を作成したが、対象図形が線分で構成されないものの場合には、その外郭に基づいて、各フィルタや閉ループ描画用画像を作成すれば、同様の効果を得られる。すなわち、対象図形が線分で構成されない、例えば面で構成されるものであっても、同様の効果が得られる。  
その他、この発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変形を施しても同様に実施可能であることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】この発明に係わる描画装置の一実施形態の構成を示す回路ブロック図。
【図２】図１に示した描画装置の描画処理を説明するためのフローチャート。
【図３】図２に示した描画処理の対象となる図形の一例を示す図。
【図４】図２に示した描画処理によって得られる図形の一例を示す図。
【図５】図２に示した描画処理によって得られる図形を説明するための図。
【図６】図２に示した描画処理の過程で用いられる基マスクフィルタの一例を示す図。
【図７】図２に示した描画処理の過程で用いられる調整マスクフィルタの一例を示す図。
【図８】図２に示した描画処理の過程で用いられる描画用マスクフィルタの一例を示す図。
【図９】図２に示した描画処理の過程で用いられる閉ループ描画用画像の一例を示す図。
【図１０】図２に示した描画処理を説明するための図。
【符号の説明】
【００２６】
１０…入力部、２０…制御部、３０…表示部、４０…プリント部、５０…制御部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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