(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁極面が長さ方向軸線を有する磁石の磁極面用のシムアセンブリにおいて、（ａ）非磁性シムトレイ、（ｂ）第１シムホルダおよび（ｃ）第１シムを備え、（ａ）非磁性シムトレイは磁極面近くに配置でき、前記シムトレイは、ほぼ円形の第１表面穴を有し、第１表面穴は、シムトレイを磁極面近くに配置するときに磁極面の長さ方向軸線にほぼ平行となる第１軸線を有し、またシムトレイを磁極面近くに配置するときに磁極面とは反対向きになる開口を有し、前記第１表面穴は、第１部分と長さ方向に隣接する第２部分とを有し、この第２部分は、シムトレイを磁極面近くに配置するときに第１部分よりも磁極面に近い側に位置し、さらに前記第２部分は、第１セグメントを含むほぼ円形の円周を有し、前記第１部分は、第１セグメントとほぼ同一な第１領域と、第１部分に隣接しかつ第１領域より第１軸線に近い側に配置された第２領域とを含む外周を有し、（ｂ）第１シムホルダはほぼ円形で、前記第１表面穴の第１部分の外周とほぼ同一な外周を有し、前記第１シムホルダは、第１表面穴の第２部分とほぼ同軸に心合わせでき、かつ第２部分内に配置でき、前記第１シムホルダおよび前記第１表面穴の第１部分それぞれの外周の第２領域は、第１軸線のまわりに回転によりずらすことができる、（ｃ）第１シムは前記第１シムホルダに着脱自在に取り付けることができることを特徴とする磁石の磁極面用のシムアセンブリ。
【請求項２】
前記第１シムホルダが非磁性シムホルダである、請求項１に記載のシムアセンブリ。
【請求項３】
前記第１シムホルダには、ほぼ円形の第１穴が設けられ、この第１穴は、前記第１シムホルダを前記第１表面穴の第２部分とほぼ同軸的に心合わせし、第２部分内に配置するとき、第１軸線にほぼ平行となる軸線を有し、前記第１シムはほぼ円筒形を有し、第１穴にプレスばめすることができる、請求項１に記載のシムアセンブリ。
【請求項４】
前記第１穴は底部リムを有し、第１シムを第１穴にプレスばめするときに、また第１シムホルダを第１表面穴の第２部分とほぼ同軸的に心合わせし、第２部分内に配置するとき、第１シムが長さ方向に底部リムに当接する、請求項３に記載のシムアセンブリ。
【請求項５】
前記第２領域が平坦領域である、請求項１に記載のシムアセンブリ。
【請求項６】
磁極面が長さ方向軸線を有する磁石の磁極面用のシムアセンブリにおいて、（ａ）非磁性シムトレイ、（ｂ）第１シムホルダおよび（ｃ）所定の第１シムを備え、（ａ）非磁性シムトレイは磁極面近くに配置され、前記シムトレイは、ほぼ円形の第１表面穴を有し、第１表面穴は、磁極面の長さ方向軸線にほぼ平行な第１軸線を有し、また磁極面とは反対向きの開口を有し、前記第１表面穴は、第１部分と長さ方向に隣接する第２部分とを有し、この第２部分は、第１部分よりも磁極面に近い側に位置し、さらに前記第２部分は、第１セグメントを含むほぼ円形の円周を有し、前記第１部分は、第１セグメントとほぼ同一な第１領域と、第１部分に隣接しかつ第１領域より第１軸線に近い側に配置された第２領域とを含む外周を有し、（ｂ）第１シムホルダはほぼ円形で、前記第１表面穴の第１部分の外周とほぼ同一な外周を有し、前記第１シムホルダは、第１表面穴の第２部分とほぼ同軸に心合わせされ、かつ第２部分内に配置され、前記第１シムホルダおよび前記第１表面穴の第１部分それぞれの外周の第２領域は、第１軸線のまわりに回転によりずれており、（ｃ）所定の第１シムは前記第１シムホルダに着脱自在に取り付けられたことを特徴とする磁石の磁極面用のシムアセンブリ。
【請求項７】
前記第１シムホルダが非磁性シムホルダである、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【請求項８】
前記第１シムホルダには、第１軸線にほぼ平行な軸線を有するほぼ円形の第１穴が設けられ、前記第１シムはほぼ円筒形を有し、第１穴にプレスばめされた、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【請求項９】
前記第１穴は底部リムを有し、第１シムが長さ方向に底部リムに当接する、請求項８に記載のシムアセンブリ。
【請求項１０】
さらに所定の第２シムを備え、前記第１シムホルダには、第１軸線にほぼ平行な軸線を有するほぼ円形の第２穴が設けられ、前記第２シムはほぼ円筒形を有し、第２穴にプレスばめされた、請求項８に記載のシムアセンブリ。
【請求項１１】
前記第１シムが第１直径を有し、前記第２シムが前記第１直径より小さい第２直径を有する、請求項１０に記載のシムアセンブリ。
【請求項１２】
前記第１シムホルダには、複数個のほぼ円形の追加の穴が設けられ、前記第１穴および追加の穴が前記第１軸線のまわりに軸対称に配列され、前記シムアセンブリはさらに少なくとも１個の追加の所定のシムを含み、前記第１シムおよび追加の所定シムは前記第１穴および追加の穴のいくつかに互いに非軸対称に配列された、請求項８に記載のシムアセンブリ。
【請求項１３】
さらに、前記第１シムホルダの外周とほぼ同一な外周を有する少なくとも１個の追加のほぼ円形なシムホルダを備え、この追加のほぼ円形なシムホルダは前記磁極面と前記第１表面穴の第１部分との間に挟まれた第１表面穴の第２部分に配置された、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【請求項１４】
前記第１シムホルダは長さ方向第１厚さを有し、前記追加のほぼ円形なシムホルダそれぞれが前記長さ方向第１厚さとほぼ同一な長さ方向厚さを有し、前記第１表面穴の第２部分が前記第１長さ方向厚さの整数倍にほぼ等しい長さ方向長さを有する、請求項１３に記載のシムアセンブリ。
【請求項１５】
前記第１表面穴の第２部分が長さ方向に前記磁極面まで延在する、請求項１４に記載のシムアセンブリ。
【請求項１６】
前記シムトレイには、前記第１表面穴とほぼ同一な複数個のほぼ円形な追加の表面穴が設けられ、前記シムアセンブリは前記第１シムホルダとほぼ同一なほぼ円形な追加のシムホルダを備え、前記第１表面穴および追加の表面穴は前記磁極面の長さ方向軸線のまわりにほぼ軸対称に配列され、前記シムアセンブリは、複数個の所定の追加のシムを備え、前記追加のシムが前記追加のシムホルダに着脱自在に取り付けられ、前記追加のシムホルダが前記追加の表面穴のいくつかに配置された、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【請求項１７】
前記第２領域が平坦領域である、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【請求項１８】
前記第１部分の外周が、前記第２領域とほぼ同一であり、第２領域とは直径方向反対側に配置された第３領域を含み、この第３領域が前記第１領域に隣接する、請求項１７に記載のシムアセンブリ。
【請求項１９】
前記磁極面は中央円形領域と隣接する環状周囲領域とを有し、前記中心円形領域は前記隣接する環状周囲領域に対して長さ方向に凹んでおり、前記シムトレイが中心円形領域に取り付けられた、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【請求項２０】
前記シムアセンブリは前記磁極面に取り付けられ、前記磁石は超電導磁気共鳴断層撮影用磁石である、請求項６に記載のシムアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
この発明は、磁石（マグネット）、特に磁極片を有する磁石において磁界不均質性を低減するためのシムアセンブリに関する。
【０００２】
【従来技術】
互いに向かい合う第１および第２磁極面を有する第１および第２磁極片が互いに離間した磁石、たとえばＣ形状の磁石が知られている。医療診断用磁気共鳴断層撮影（ＭＲＩ）のような磁石用途では、超電導磁石を用いて、両磁極片間に配置された作像空間に高強度の磁界を発生する。高品位の作像を実現するためには、作像空間の磁界不均質性が低くなければならない。作像空間における磁界不均質性を低減する方法としては、シム調節（ｓｈｉｍｍｉｎｇ）リングを各磁極面に取り付けて軸対称な磁界不均質性を低減し、またシム調節リングに取り付けたシムトレイにシムを接着剤で結合して、三次元（３Ｄ）磁界不均質性（非軸対称不均質性および残りのあらゆる軸対称不均質性を含む）を低減する方法が知られている。磁極面上のシムの数、質量および位置を、当業者に周知のシム調節法により算定する。シムをシムトレイに接着剤で結合する工程は、接着剤が固まるまで、磁界に抗してシムを手で所定位置に保持していなければならないので、時間がかかる。磁石を再シム調節するには、取り付けたシムの接着を解除し、取り外したシムと磁極面上の取り付け区域を清浄にする必要がある。
【０００３】
シムをもっと迅速にかつ簡単に着脱できる、磁石の磁極面用のシムアセンブリが必要とされている。
【０００４】
【発明の概要】
第一の発明は、非磁性シムトレイ、ほぼ円形の第１シムホルダおよび第１シムを備える、シムアセンブリを提供する。非磁性シムトレイは磁極面近くに配置でき、前記シムトレイは、ほぼ円形の第１表面穴を有し、第１表面穴は、シムトレイを磁極面近くに配置するときに磁極面の長さ方向軸線にほぼ平行となる第１軸線を有し、またシムトレイを磁極面近くに配置するときに磁極面とは反対向きになる開口を有する。前記第１表面穴は、第１部分と長さ方向に隣接する第２部分とを有し、この第２部分は、シムトレイを磁極面近くに配置するときに第１部分よりも磁極面に近い側に位置し、さらに前記第２部分は、第１セグメントを含むほぼ円形の円周を有する。前記第１部分は、第１セグメントとほぼ同一な第１領域と、第１部分に隣接しかつ第１領域より第１軸線に近い側に配置された第２領域（例えば平坦領域）とを含む外周を有する。第１シムホルダは、前記第１表面穴の第１部分の外周とほぼ同一な外周を有し、前記第１シムホルダは、第１表面穴の第２部分とほぼ同軸に心合わせでき、かつ第２部分内に配置できる。前記第１シムホルダおよび前記第１表面穴の第１部分それぞれの外周の第２領域は、第１軸線のまわりに回転によりずらすことができる。第１シムは前記第１シムホルダに着脱自在に取り付けることができる。１実施例では、前記第１シムホルダには、ほぼ円形の第１穴が設けられ、前記第１シムはほぼ円筒形を有し、第１穴にプレスばめすることができる。
【０００５】
第二の発明は、非磁性シムトレイ、ほぼ円形の第１シムホルダおよび所定の第１シムを備える、磁石の磁極面用のシムアセンブリを提供する。非磁性シムトレイは磁極面近くに配置され、前記シムトレイは、ほぼ円形の第１表面穴を有し、第１表面穴は、磁極面の長さ方向軸線にほぼ平行な第１軸線を有し、また磁極面とは反対向きの開口を有する。前記第１表面穴は、第１部分と長さ方向に隣接する第２部分とを有し、この第２部分は、第１部分よりも磁極面に近い側に位置し、さらに前記第２部分は、第１セグメントを含むほぼ円形の円周を有する。前記第１部分は、第１セグメントとほぼ同一な第１領域と、第１部分に隣接しかつ第１領域より第１軸線に近い側に配置された第２領域（たとえば、平坦領域）とを含む外周を有する。第１シムホルダは、前記第１表面穴の第１部分の外周とほぼ同一な外周を有し、前記第１シムホルダは、第１表面穴の第２部分とほぼ同軸に心合わせされ、かつ第２部分内に配置されている。前記第１シムホルダおよび前記第１表面穴の第１部分それぞれの外周の第２領域は、第１軸線のまわりに回転によりずれている。所定の第１シムは前記第１シムホルダに着脱自在に取り付けられている。１実施例では、前記第１シムホルダには、ほぼ円形の第１穴が設けられ、前記第１シムはほぼ円筒形を有し、第１穴にプレスばめされている。別の実施例では、追加の所定シムが、シムトレイの追加の表面穴にそれぞれ配置された追加のシムホルダに着脱自在に取り付けられている。
【０００６】
本発明には以下のような効果と利点がある。シムをシムホルダの穴にプレスばめするなどにより、シムをすばやくシムホルダに取り付けることができる。シムホルダおよび表面穴の第１部分それぞれの外周の第２領域（たとえば、平坦領域）を回転させて位置合わせし、ついでシムホルダを長さ方向に第１部分を通して第２部分に挿入し、その後シムホルダおよび表面穴の第１部分それぞれの外周の第２領域（たとえば、平坦領域）を回転させてずらすことにより、シムホルダをシムトレイにすばやく装填することができる。逆の順序で、シムホルダをすばやく取り外すことができる。対向する磁極片を有する磁石をシム調節するのに要する時間を約４０時間から約８時間に短縮できると予測される。
【０００７】
【好適な実施態様】
以下、図面を参照しながらこの発明の好適な実施態様について説明する。図面中同一な符号は同じ部材を示す。図１〜図７に、本発明の第１実施例によるシムアセンブリ１０を示す。このシムアセンブリ１０は、磁石（マグネット）１６の磁極片１４の磁極面１２用のものである。磁極面１２は長さ方向軸線１５を有する。磁極面を１つしかもたないテーブル型ＭＲＩ（磁気共鳴断層作像）磁石設計（図示せず）が知られている。しかし、代表的には、磁石１６には、ほぼ同一な磁極面２０を有する第２の向かい合うほぼ同一な磁極片１８と、第２シムアセンブリ２２とが存在する。ほかに、さらに追加の磁極面を有する追加の磁極片を有する磁石設計（図示せず）も知られており、当業者には明らかなように、かかる追加の磁極面には追加のシムアセンブリが収容される。具体的に説明するために、図１に示す磁石１０は、磁極面１２および２０間に配置され、代表的には長さ方向軸線１５にセンタリングされた作像空間を有する超電導ＭＲＩ（磁気共鳴断層撮影）磁石として説明する。しかし、本発明のシムアセンブリ１０は、磁極面を有する磁石であればどのような磁石にも用いることができ、超電導磁石やＭＲＩ撮影システムの一部である磁石に限定されない。
【０００８】
この磁石１６は、内部に超電導コイル２６を収容し、磁極片１４を包囲する真空エンクロージャ２４を備え、また内部に第２超電導コイル３０を収容し、第２磁極片１８を包囲する第２真空エンクロージャ２８を備える。コイル支持部、追加の超電導コイル（主コイル、バッキングコイルおよび遮蔽コイルを含む）および１個または複数個の熱シールドは、図示の便宜上すべて図面から省略してあるが、当業者によく知られているように、これらを真空エンクロージャ２４および２８内に配置することができる。超電導コイルは低温液体（クライオジェン）、たとえば液体ヘリウムまたはクライオクーラのコールドヘッドにより冷却されるが、このような冷却は当業者に周知であるので図面には示していない。非磁性支持部材３２（たとえば非磁性ステンレス鋼支持部材）により、磁極片１４および真空エンクロージャ２４を第２磁極片１８および第２真空エンクロージャ２８と連結する。
【０００９】
シムアセンブリ１０は、非磁性（非磁化性）シムトレイ３４、ほぼ円形の第１シムホルダ３６および所定の第１シム３８を含む。シムトレイ３４は、磁極面１２に近接して配置され、必ずしも必要ではないが、磁極面１２に取り付けるのが好ましい。このような取付は、磁極面製造時に行ってもよいし、あるいは現存する磁極面にシムアセンブリを後付けしてもよい。このような取付としては、当業者に周知のように、適当なボルト締め、接着剤結合などがある。なお、上記以外に、シムトレイを支持部材に取り付けたり、磁極片のどこかに取り付けてもよく、あるいは床などに取り付けてもよい。
【００１０】
シムトレイ３４にはだいたい円形の第１表面穴４０が開けられ、この穴４０はその第１軸線４１が長さ方向軸線１５にほぼ平行であり、また磁極面１２とは反対向きの開口４２を有する。第１表面穴４０は、第１部分４４と、第１部分４４より磁極面１２に近くかつ第１部分と長さ方向に隣接した第２部分４６を有する。図３に示す第２部分４６は、図５に示すように、第１セグメント４８を含むほぼ円形の円周を有する。図３に示す第１部分４４は、図４に示すように、第１セグメント４８とほぼ同じ第１領域５０を含む外周を有し、また第１領域５０に隣接しかつ第１領域５０より第１軸線４１に近い第２領域５２を含む。１構成例では、第２領域５２は図４に示すように平坦領域である。別の構成例では、第１部分４４の外周が、（図４に示すように）第２領域５２とほぼ同一でかつ第２領域５２とは直径方向反対側に位置する第３領域５４を含み、そしてこの第３領域５４が第１領域５０に隣接している。代表的な構成例では、第１表面穴４０の第２部分４６は長さ方向に磁極面１２まで延在する。
【００１１】
１設計例では、磁極面１２は、中心領域５６および隣接する環状周囲領域５８を有する。円形の中心領域５６は、隣接する環状周囲領域５８に対して長さ方向に凹んでいる。シムトレイ３４はこの中心円形領域５６に取り付けられる。なお、磁極片１４は、中実な鉄製としたり、中実な鉄基板をアモルファス鋼およびエポキシ交互積層物で被覆したものとすることができるが、これらに限定されない。１構成例では、シムトレイ３４はＦＲＰ（繊維強化プラスチック、たとえばガラス繊維強化エポキシ樹脂）から構成し、この場合、当業者に明らかなように、たとえばプラグを用い、エポキシの硬化後にプラグを引き抜くことにより第１表面穴４０を形成する。代表的な構成例では、シムトレイ３４に、第１表面穴４０とほぼ同一なだいたい円形の追加の表面穴６０を複数個設け、この場合、図２に示すように、第１表面穴４０および追加の表面穴６０を長さ方向軸線１５のまわりにほぼ軸対称に配列する。
【００１２】
第１シムホルダ３６は、図６から明らかなように、第１表面穴４０の第１部分４４の外周とほぼ同一な外周を有する。第１シムホルダ３６は、図７に示すように、第１表面穴４０の第２部分４６とほぼ同軸に心合わせされ、第２部分４６内に配置されている。第１シムホルダ３６および第１表面穴４０の第１部分４４それぞれの外周の第２領域５２は第１軸線４１のまわりに回転によりずらされる（図６および図４の平坦領域間の回転によるずれを比較）。１構成例では、第１シムホルダ３６は、ＮＯＲＹＬ−７３１樹脂などのプラスチックを射出成形して得られる非磁性シムホルダである。
【００１３】
第１シム３８は第１シムホルダ３６に着脱自在に取り付けられている。１構成例では、シムは低炭素鋼を鋳造して得られるシムである。１設計例では、第１シムホルダ３６に、第１軸線４１にほぼ平行な軸線６３を有するほぼ円形の第１穴６２が設けられ、一方第１シム３８はほぼ円筒形を有し、第１穴６２にプレスばめされる。別の構成例では、第１穴６２が底部リム６４を有し、第１シム３８が長さ方向に底部リム６４に当接する。
【００１４】
１構成例では、シムアセンブリ１０はさらに、所定の第２シム６６も含む。第１シムホルダ３６には、第１軸線４１にほぼ平行な軸線を有するほぼ円形の第２穴６８が設けられ、一方第２シム６６はほぼ円筒形を有し、第２穴６８にプレスばめされる。第２の構成例では、第１シム３８の直径を第１直径、第２シム６６の直径を第２直径としたとき、図６から分かるように第２直径が第１直径より小さい。別の構成例では、第１シムホルダ３６に複数個のほぼ円形の追加の穴７０を設け、第１穴６２および追加の穴７０を第１軸線４１のまわりに軸対称に配列する。この場合、シムアセンブリ１０は１個以上の追加の所定シム７２も含み、第１シム３８および追加の所定シム７２を第１穴６２および追加の穴７０のいくつかに非軸対称に配列する。
【００１５】
１設計例では、シムアセンブリ１０は、第１シムホルダ３６の外周とほぼ同一な外周を有する少なくとも１個の（図示例では２個の）追加のほぼ円形のシムホルダ７４および７６も含む。この場合、追加のほぼ円形のシムホルダ７４および７６は、図７に示すように、磁極面１２と第１表面穴４０の第１部分４４との間にはさまれた第１表面穴４０の第２部分４６内に配置される。１構成例では、第１シムホルダ３６は長さ方向第１厚さを有し、追加のほぼ円形のシムホルダ７４および７６は長さ方向第１厚さとほぼ等しい長さ方向厚さを有する。この場合、第１表面穴４０の第２部分４６の長さ方向長さは、長さ方向第１厚さの整数倍にほぼ等しい。
【００１６】
１実施例では、シムアセンブリ１０は、第１シムホルダ３６とほぼ同一なほぼ円形の追加のシムホルダ７８および８０を有し、また複数個の追加の所定シム８２および８４も有する。追加のシム８２および８４は追加のシムホルダ７８および８０に着脱自在に取り付けられている。図２から分かるように、追加のシムホルダ７８および８０は追加の表面穴６０のいくつかに配置されている。
【００１７】
第２シムアセンブリ２２は上述した第１シムアセンブリ１０と同一であるが、代表的には、シムの数、質量および位置が異なり、また使用シムホルダの数が異なる。このことは、磁石のシム調整技術に携わる技術者には明らかである。いったんシムの要件を計算し終わったら、それらを所定のシムと呼ぶ。つぎに、所定のシムをシムホルダに取り付ける。シムを取り付けたシムホルダを装填済みシムホルダと呼ぶ。つぎに、各装填済みシムホルダ（そして表面穴にスペーサとして用いられる未装填シムホルダ）を対応する表面穴にはこび、表面穴の軸線と同軸に心合わせし、装填済みシムホルダの平坦領域が表面穴の第１部分の平坦領域と合致するように回転する。つぎに、（たとえばピンセット様の工具（図示せず）を用い、これをシムホルダのスロット８６に差し込んで、）装填済みシムホルダを表面穴の第１部分を通して第２部分中へ挿入する。最後に、装填済みシムホルダを（ピンセット様の工具で）回転して、装填済みシムホルダの平坦領域を表面穴の第１部分の平坦領域からずらし、シムホルダを表面穴内に保持する。分解は上記とは反対の順序に行う。対向する磁極片を有する磁石をシム調節するのに要する時間を、約４０時間から約８時間に短縮できると予測される。
【００１８】
以上、本発明のシムアセンブリ１０を、完全に組み立てた状態について、また、シムトレイ３４が磁極片１２近くに配置され、必ずしも必要ではないが、好ましくは磁極片１２に固着され、また第１シムホルダ３６が第１表面穴４０内に配置され、そして第１シム３８が第１シムホルダ３６に着脱自在に取り付けられた状態で、磁石１６に組み込まれるものとして説明した。以下では、本発明のシムアセンブリ１０を組み込まれていない、分解された状態について記述する。なお、当業者に明らかなように、シムトレイ３４は磁極片１４とともに製造しても、現存する磁極片１４に後付けしてもよい。
【００１９】
シムアセンブリ１０は、磁石１６の磁極面１２用のものである。磁極面１２は長さ方向軸線１５を有する。シムアセンブリは、磁極面１２近くに配置できる非磁性シムトレイ３４を含む。シムトレイ３４は、ほぼ円形の第１表面穴４０を有する。第１表面穴４０は、シムトレイ３４を磁極面１２近くに配置するときに長さ方向軸線１５にほぼ平行となる第１軸線４１を有し、またシムトレイ３４を磁極面１２近くに配置するときに磁極面とは反対向きになる開口４２を有する。第１表面穴４０は、第１部分４４と長さ方向に隣接する第２部分４６とを有し、第２部分４６は、シムトレイ３４を磁極面１２近くに配置するときに第１部分４４よりも磁極面１２に近い側に位置する。第２部分４６は、第１セグメント４８を含むほぼ円形の円周を有する。第１部分４４の外周は、第１セグメント４８とほぼ同一な第１領域５０と、第１部分５０に隣接しかつ第１領域５０より第１軸線４１に近い側に配置された第２領域５２とを含む。
【００２０】
シムアセンブリ１０はまた、第１表面穴４０の第１部分４４の外周とほぼ同一な外周を有するほぼ円形の第１シムホルダ３６を含む。第１シムホルダ３６は、第１表面穴４０の第２部分４６とほぼ同軸に心合わせでき、かつ第２部分４６内に配置できる。第１シムホルダ３６および第１表面穴４０の第１部分４４それぞれの外周の第２領域は、第１軸線４１のまわりに回転によりずらすことができる。
【００２１】
シムアセンブリ１０はさらに、第１シムホルダ３６に着脱自在に取り付けることのできる第１シム３８を含む。第１構成例では、第１シムホルダ３６には、ほぼ円形の第１穴６２が設けられ、この第１穴６２は、第１シムホルダ３６を第１表面穴４０の第２部分４６とほぼ同軸的に心合わせし、第２部分４６内に配置するとき、第１軸線４１にほぼ平行となる軸線６３を有する。この実施例では、第１シム３８はほぼ円筒形を有し、第１穴６２にプレスばめすることができる。別の構成例では、第１穴６２は底部リム６４を有する。この例では、第１シム３８を第１穴６２にプレスばめするときに、また第１シムホルダ３６を第１表面穴４０の第２部分４６とほぼ同軸的に心合わせし、第２部分４６内に配置するとき、第１シム３８が長さ方向に底部リム６４に当接する。
【００２２】
なお、シムトレイの磁極片への取り付けは、直接取り付けでも間接取り付けでもよく、磁石は、シムトレイと磁極片との間に配置される通常のシム調節リングおよび／またはコイル（図示せず）を含んでもよい。
【００２３】
以上、本発明の具体的な説明として、いくつかの好適な実施例を提示した。これらの実施例は本発明を網羅するものでも、本発明を開示形態に限定するものでもなく、以上の教示内容に鑑みて種々の変更や改変が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁石の磁極面に取り付けた本発明のシムアセンブリの第１実施例を、図示の便宜上、シムトレイの表面穴を一つだけと、表面穴からシムホルダを除いた状態で、示す断面図である。
【図２】図１の２−２線方向に見た、多数の表面穴を示す図１の磁極面の平面図である。
【図３】図１の表面穴の周囲部分の拡大断面図である。
【図４】図３の４−４線方向に見た、図３の表面穴の第１部分の外周を示す図である。
【図５】図３の５−５線方向に見た、図３の表面穴の第２部分の円周を示す図である。
【図６】シムホルダの平面図である。
【図７】３個のシムホルダをシムトレイの表面穴に装着し、各シムホルダの穴に１個のシムをプレスばめした状態を示す、図３と同じ断面図である。
【符号の説明】
１０  シムアセンブリ
１２  磁極面
１４  磁極片
１５  磁極面の長さ方向軸線
１６  磁石
３４  シムトレイ
３６  シムホルダ
３８  シム
４０  表面穴
４１  第１軸線
４４  表面穴の第１部分
４６  表面穴の第２部分
５０  第１領域
５２  第２領域
５６  中央領域
５８  環状周囲領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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