(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１、第２及び第３画素領域を定義し、前記第１、第２及び第３画素領域を除く前記基板上に、一定の間隔でブラックマトリクス層を形成する段階と、
前記基板の上方に、第１カラーフィルタ層用転写層、第１オーバーコート層及び光熱変換層を含む第１転写フィルムを配置する段階と、
前記第１転写フィルムの前記第１画素領域に対応する部分へ光を照射し、前記第１画素領域に第１カラーフィルタ層及び前記第１オーバーコート層を形成する段階と、
前記第１カラーフィルタ層及び前記第１オーバーコート層が形成された基板の上方に、第２カラーフィルタ層用転写層、第２オーバーコート層及び光熱変換層を含む第２転写フィルムを配置する段階と、
前記第２転写フィルムの前記第２画素領域に対応する部分へ光を照射し、前記第２画素領域に第２カラーフィルタ層及び前記第２オーバーコート層を形成する段階と、
前記第２カラーフィルタ層及び前記第２オーバーコート層が形成された基板の上方に、第３カラーフィルタ層用転写層、第３オーバーコート層及び光熱変換層を含む第３転写フィルムを配置する段階と、
前記第３転写フィルムの前記第３画素領域に対応する部分へ光を照射し、前記第３画素領域に第３カラーフィルタ層及び前記第３オーバーコート層を形成する段階と
を備えることを特徴とする液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法。
【請求項２】
前記第１、第２及び第３カラーフィルタ層及び前記第１、第２及び第３オーバーコート層が形成された基板を硬化する段階をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法。
【請求項３】
前記基板を硬化する段階の後に、前記第１、第２及び第３カラーフィルタ層及び前記第１、第２及び第３オーバーコート層が形成された基板の全面に共通電極層を形成する段階をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法。
【請求項４】
基板上に複数個の画素領域を定義し、前記複数個の画素領域を除く前記基板上にブラックマトリクス層を形成する段階と、
前記基板の上方にカラーフィルタ層用転写層、オーバーコート層及び光熱変換層を含む転写フィルムを配置する段階と、
前記転写フィルムの、前記複数個の画素領域のうちいずれか一つの画素領域に対応する部分へ光を照射し、該当する前記画素領域にカラーフィルタ層及び前記オーバーコート層を形成する段階と
を備えることを特徴とする液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法。
【請求項５】
前記カラーフィルタ層及び前記オーバーコート層が形成された基板を硬化する段階をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法。
【請求項６】
前記基板を硬化する段階の後に、前記カラーフィルタ層及び前記オーバーコート層が形成された基板の全面に共通電極層を形成する段階をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、より詳細には、液晶表示装置におけるカラー表示手段である液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会の発展に伴い、様々な表示装置へのニーズが増加している。これらのニーズに応じて、近来、液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ：Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、蛍光表示管（ＶＦＤ：Ｖａｃｃｕｍ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等、種々の平板表示装置が研究開発されている。これらの平板表示装置の一部は、既に各種機器において表示装置として活用されている。
【０００３】
なかでも液晶表示装置は、高画質、軽量、薄型、低消費電力という長所を有することから、ブラウン管（ＣＲＴ：Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）に取って代わるものとして最も多用されている。さらには、ノート型コンピュータのモニタのようなモバイル型の液晶表示装置の外に、放送信号を受信して表示するテレビ及びコンピュータのモニタ等としても多様に開発されている。
【０００４】
一般的な液晶表示装置は、大きく分けて、画像を表示する液晶パネルと、液晶パネルに駆動信号を印加するための駆動部とからなる。液晶パネルは、所定の空隙をおいて互いに貼り合わせられた第１及び第２ガラス基板と、第１及び第２ガラス基板の間に注入された液晶層とで構成される。
【０００５】
ここで、第１ガラス基板（ＴＦＴアレイ基板）には、一定の間隔で一方向に配列される複数本のゲート配線と、ゲート配線に対して垂直な方向に一定の間隔で配列される複数本のデータ配線と、複数本のゲート配線と複数本のデータ配線とが交差して定義された複数の画素領域に、それぞれマトリクス形状に形成される複数個の画素電極と、ゲート配線の信号によってスイッチングされ、データ配線の信号をそれぞれの画素電極に伝達する複数個の薄膜トランジスタとが形成されている。
【０００６】
また、第２ガラス基板（カラーフィルタ基板）には、第１ガラス基板の画素領域以外の部分からの光を遮断するためのブラックマトリクス層と、種々のカラーを表示するための赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層と、画像を表示するための共通電極とが形成されている。
【０００７】
また、第１及び第２ガラス基板は、スペーサ（ｓｐａｃｅｒ）を介して一定の空隙を維持しながらシール材（ｓｅａｌａｎｔ）によって互いに貼り合わせられる。その後、両基板間には液晶が注入され、液晶層が形成される。
【０００８】
ここで、カラーフィルタ層は、画像をカラー化するための手段として機能し、特定波長領域の光を透過する３色のフィルタで構成されている。
【０００９】
すなわち、カラーを表示する第１ドットに相当するそれぞれの画素領域は、３個の単位画素に分割される。ここで、それぞれの単位画素に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層を配置することによって、フルカラー（ｆｕｌｌ  ｃｏｌｏｒ）表示を実現する。
【００１０】
カラーフィルタ層の製造方法には、顔料分散法、印刷法、電着法、熱転写法のような方法がある。顔料分散法は、カラーの実現性及び精巧性には優れているが、製造工程が長く且つ複雑であるという問題点がある。そして、印刷法は、製造工程が簡便であるが、この方法によって製造されたカラーフィルタ層は精巧性に劣るので、大型の表示装置には適用し難いという問題点がある。また、電着法によって製造されたカラーフィルタ層は、厚さの違いが無く平滑性には優れているが、画質が劣っているという問題点がある。
【００１１】
このような問題点を解消するために、カラーフィルタ層の製造には、熱転写法が用いられている。
【００１２】
熱転写法は、ドライエッチング工程に相当する。熱転写法は、基板上に色材を含む転写フィルムを配置した後、基板に対してレーザー光のような光源を照射し、基板上に転写フィルムの色材を転写させる方法である。
【００１３】
ここで、転写フィルムは、色材によって、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の転写フィルムにそれぞれ区分される。
【００１４】
以下、従来技術による液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法のうち、熱転写法による製造方法について説明する。
【００１５】
図１Ａに示すように、基板１０上の所定領域に、ブラックマトリクス層１２が形成される。次に、ブラックマトリクス層１２の形成された基板１０から所定間隔を隔てた位置に、第１カラーフィルタ層を形成するための転写フィルム１４が配置される。ここで、転写フィルム１４は、支持層１４ａと、光エネルギーを熱エネルギーに変換する光熱変換層１４ｂと、第１色転写層１４ｃとを含んでいる。続いて、基板１０と転写フィルム１４とを真空状態で密着させる。
【００１６】
続いて、転写フィルム１４の支持層１４ａに光源が照射されると、光熱変換層１４ｂは、光を吸収して熱を放出する。光熱変換層１４ｂから放出された熱によって、第１色転写層１４ｃが基板１０上に転写される。これで、第１カラーフィルタ層１６ａが基板１０上に形成される。
【００１７】
上記光源にはレーザー光を用い、レーザー光は、レーザーヘッドから放射される。
【００１８】
図１Ｂに示すように、上記の工程を、第２色及び第３色に対してもそれぞれ反復実施することによって、最終的に第１、第２及び第３カラーフィルタ層１６ａ、１６ｂ、１６ｃが形成される。続いて、第１、第２及び第３カラーフィルタ層１６ａ、１６ｂ、１６ｃを２００℃〜３００℃で硬化させる。
【００１９】
図１Ｃに示すように、硬化工程の完了した基板１０上に、オーバーコート（ｏｖｅｒｃｏａｔ）層１８が形成される。続いて、スパッタリングやＥ−ビーム（電子ビーム）を用いて、オーバーコート層１８の上部に共通電極層２０が形成される。
【００２０】
このとき、オーバーコート層１８は、第１及び第２ガラス基板を貼り合わせるシール材の外側の非表示領域を除いた、基板１０上のシール材内側の画像表示領域に形成される。また、オーバーコート層１８は、有機絶縁材料が基板１０の全面に塗布され、塗布された有機絶縁材料がフォトリソグラフィ工程でパターニングされて形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
しかしながら、上記の領域にオーバーコート層１８を形成するためには、複雑なフォトリソグラフィ工程を行わなければならないので、製造コストが上昇するという問題点があった。
【００２２】
そこで、製造工程を簡素化し、製造コストを低減できる方法が望まれている。
【００２３】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、製造工程を簡素化することができる液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
上記目的を達成するための本発明に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法は、基板上に第１、第２及び第３画素領域を定義し、第１、第２及び第３画素領域を除く基板上に、一定の間隔でブラックマトリクス層を形成する段階と、基板の上方に、第１カラーフィルタ層用転写層、第１オーバーコート層及び光熱変換層を含む第１転写フィルムを配置する段階と、第１転写フィルムの第１画素領域に対応する部分へ光を照射し、第１画素領域に第１カラーフィルタ層及び第１オーバーコート層を形成する段階と、第１カラーフィルタ層及び第１オーバーコート層が形成された基板の上方に、第２カラーフィルタ層用転写層、第２オーバーコート層及び光熱変換層を含む第２転写フィルムを配置する段階と、第２転写フィルムの第２画素領域に対応する部分へ光を照射し、第２画素領域に第２カラーフィルタ層及び第２オーバーコート層を形成する段階と、第２カラーフィルタ層及び第２オーバーコート層が形成された基板の上方に、第３カラーフィルタ層用転写層、第３オーバーコート層及び光熱変換層を含む第３転写フィルムを配置する段階と、第３転写フィルムの第３画素領域に対応する部分へ光を照射し、第３画素領域に第３カラーフィルタ層及び第３オーバーコート層を形成する段階とを備える。
【００２５】
また、上記目的を達成するための本発明に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法は、基板上に複数個の画素領域を定義し、複数個の画素領域を除く基板上にブラックマトリクス層を形成する段階と、基板の上方にカラーフィルタ層用転写層、オーバーコート層及び光熱変換層を含む転写フィルムを配置する段階と、転写フィルムの、複数個の画素領域のうちいずれか一つの画素領域に対応する部分へ光を照射し、該当する画素領域にカラーフィルタ層及びオーバーコート層を形成する段階とを備える。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法によれば、例えば第１転写フィルムにおいて、光熱変換層と第１カラーフィルタ層用転写層との間に第１オーバーコート層が形成される。また、第１カラーフィルタ層の形成時に光熱変換層で変換された熱エネルギーは、第１オーバーコート層を通って第１カラーフィルタ層用転写層に伝達される。なお、第２及び第３転写フィルムについても同様のことが言える。その結果、第１、第２及び第３オーバーコート層が形成される。そのため、従来のようなオーバーコート層を形成するための複雑なフォトリソグラフィ工程を省略することができ、製造工程の簡素化とそれによる製造コストの低減とを図ることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。ただし、本発明は、下記の実施の形態に限定されるものではなく、種々の形態に具体化することが可能である。すなわち、以下に紹介される実施の形態は、本発明の技術的思想が徹底的且つ完全に開示されるように、そして当業者に本発明の思想を十分に理解してもらうために例示されるものである。
なお、全図において、各層領域の厚さは、説明をより明確にすべく誇張して示されている。また、ある層が、他の層または基板の「上」にあると説明される場合には、ある層は、他の層または基板上に直接形成されてもよく、また、ある層と他の層または基板との間に第３層が介在してもよい。なお、明細書全体において同一の符号は、同一の構成要素を表す。
【００２８】
実施の形態１．
図２〜図５は、本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を説明するための断面図である。
【００２９】
まず、図２に示すように、基板３０上の所定領域にブラックマトリクス層３２が形成される。
【００３０】
ブラックマトリクス層３２の形成方法を詳細に説明すると次の通りである。
【００３１】
まず、基板３０が洗浄される。続いて、この洗浄済みの基板３０の全面にスパッタリングにより、ブラックマトリクス層３２の材料とされるクロム（Ｃｒ）系の無機材料またはカーボン（Ｃａｒｂｏｎ）系の有機材料が堆積される。その後、ブラックマトリクス層３２の材料が堆積された基板３０上に、フォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）（図示せず）が塗布され、フォトレジストの塗布された基板３０の上方に、所定間隔を隔てて、ブラックマトリクス層３２のパターンが形成されたマスク（ｍａｓｋ）（図示せず）が配置される。そして、このマスクを通して基板３０に紫外線（ＵＶ）のような光が照射されると、マスクに形成されたパターンに基づいて、紫外線が照射されるフォトレジスト及びフォトレジストの下部に形成されたブラックマトリクス層３２の材料が除去される。続いて、基板３０を洗浄し、残留するフォトレジストを除去することによって、基板３０上には、マスクのパターンと一致するブラックマトリクス層３２が一定の間隔で形成される。
【００３２】
続いて、図３に示すように、ブラックマトリクス層３２の形成された基板３０に対向するように第１転写フィルム３４が配置される。
【００３３】
第１転写フィルム３４は、支持層３４ａ、光熱変換層３４ｂ、第１オーバーコート層３６及び第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃで構成される。第１転写フィルム３４は、巻き取り製造（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）方式を用いて、１層をコーティングしてから乾燥し、その上部にもう１層をコーティングしてから乾燥することで、多層構造で形成される。
【００３４】
支持層３４ａは、第１転写フィルム３４を支持する役割を担う層で、通常、透明性に優れた例えばポリエステル、ポリアクリレート、エポキシ樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの高分子化合物からなる。
【００３５】
光熱変換層３４ｂは、レーザー光を吸収し、レーザー光の光エネルギーを熱エネルギーに変換する役割を担う層である。光熱変換層３４ｂは、紫外線及び赤外線領域の光を吸収する性質に優れ、光エネルギーを熱エネルギーに変換する能力が高い物質、例えば、カーボンブラック、黒鉛顔料またはＩＲ染料のような有機化合物、アルミニウム（Ａｌ）、スズ（Ｓｎ）またはチタン（Ｔｉ）のような金属、あるいはこれらの金属の酸化物及びそれらの化合物からなる。
【００３６】
そして、第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃは、光熱変換層３４ｂで変換された熱エネルギーによって、基板３０に転写されて第１カラーフィルタ層４０を形成する色材からなっている。本発明で説明するカラーフィルタ層では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色材が用いられており、第１転写フィルム３４の第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃは、赤色（Ｒ）のカラーフィルタ層を形成するための転写層である。
【００３７】
第１オーバーコート層３６は、印刷性の改善のための成分が含まれたアクリル系の物質からなる。
【００３８】
続いて、レーザーヘッドから放射されるレーザー光３８が第１転写フィルム３４に照射される。
【００３９】
このレーザー光３８は、第１転写フィルム３４の支持層３４ａを通過して光熱変換層３４ｂに吸収され、光熱変換層３４ｂは、レーザー光３８の光エネルギーを熱エネルギーに変換する。この変換された熱エネルギーは、第１オーバーコート層３６及び第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃに伝達される。その結果、第１オーバーコート層３６は、光熱変換層３４ｂから分離され、同時に第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃの色材は、対向している基板３０に転写される。
【００４０】
レーザー光３８が照射されて変換された熱エネルギーは、第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃだけでなく第１オーバーコート層３６にも伝達される。このとき、図４に示すように、第１オーバーコート層３６及び第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃの、レーザー光３８が照射されて熱エネルギーが伝達された所定部分のみが基板３０上に残存する。すなわち、この残存した第１オーバーコート層３６（第１オーバーコート層３６ａ）は、残存した第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃ（第１カラーフィルタ層４０）の保護層として用いられ、レーザー光３８が照射されていない残りの領域、すなわち、熱エネルギーが伝達されていない領域の第１転写フィルム３４（第１オーバーコート層３６を含む）は除去される。
【００４１】
次に、図５に示すように、残りの第２及び第３転写フィルムに対しても、基板３０に上記の工程をそれぞれ繰り返し実施することによって、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層（第２カラーフィルタ層４２及び第３カラーフィルタ層４４）が形成される。このとき、第２カラーフィルタ層４２及び第３カラーフィルタ層４４の上部には、第２オーバーコート層３６ｂ及び第３オーバーコート層３６ｃがそれぞれ形成される。
【００４２】
より詳細に説明すると、前述の工程で第１転写フィルム３４が除去された後に、第２転写フィルム（図示せず）は、第１カラーフィルタ層４０が形成された基板３０上に配置され、上記の工程が繰り返し実施される。これにより、第１カラーフィルタ層４０が形成された基板３０に、緑色（Ｇ）の第２カラーフィルタ層４２が形成される。
【００４３】
第２転写フィルムもまた、第１転写フィルム３４と同様に、支持層、光熱変換層、第２オーバーコート層及び第２カラーフィルタ層用転写層で構成される。ただし、第２転写フィルムの第２カラーフィルタ層用転写層は、緑色（Ｇ）のカラーフィルタ層を形成する。
【００４４】
また、第１カラーフィルタ層４０及び第１オーバーコート層３６ａの形成工程と同様に、第２カラーフィルタ層４２の上部には、第２オーバーコート層３６ｂが形成される。
【００４５】
続いて、第１及び第２カラーフィルタ層４０、４２が形成された基板３０から第２転写フィルム（図示せず）を除去した後に、第３転写フィルム（図示せず）は、第１及び第２カラーフィルタ層４０、４２が形成された基板３０上に配置され、上記の工程が繰り返し実施されて、第３カラーフィルタ層４４が形成される。図５に示すように、基板３０上には、最終的にそれぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４が形成される。
【００４６】
第３転写フィルムもまた、第１転写フィルム３４と同様に、支持層、光熱変換層、第３オーバーコート層及び第３カラーフィルタ層用転写層で構成される。ただし、第３転写フィルムの第３カラーフィルタ層用転写層は、青色（Ｂ）のカラーフィルタ層を形成する。
【００４７】
また、第２カラーフィルタ層４２及び第２オーバーコート層３６ｂの形成工程と同様に、第３カラーフィルタ層４４の上部には、第３オーバーコート層３６ｃが形成される。
【００４８】
したがって、上記のように形成された第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃは、下部に形成されたそれぞれ第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４の保護層として用いられる。この第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃは、ＴＦＴアレイ基板である第１基板とカラーフィルタ基板である第２基板とを貼り合わせるシール材の外側の非表示領域を除いた、基板３０上のシール材内側の画像表示領域に形成される。
【００４９】
従来技術において、オーバーコート層は、カラーフィルタ層の形成工程が完了した後に、基板の全面に塗布され、塗布されたオーバーコート層は、フォトリソグラフィ工程によってパターニングされる。その結果、オーバーコート層は、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材の外側の非表示領域を除いた、基板上のシール材内側の画像表示領域、すなわち、それぞれのカラーフィルタ層の上部にのみ形成される。しかしながら、この方法では、複雑なフォトリソグラフィ工程を行わなければならないので、製造コストを低減することが困難であった。
【００５０】
本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法によれば、例えば第１転写フィルム３４において、光熱変換層３４ｂと第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃとの間に第１オーバーコート層３６が形成される。また、第１カラーフィルタ層４０の形成時に光熱変換層３４ｂで変換された熱エネルギーは、第１オーバーコート層３６を通って第１カラーフィルタ層用転写層３４ｃに伝達される。なお、第２及び第３転写フィルムについても同様のことが言える。その結果、第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃは、それぞれ第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４の上部にのみ残存するように形成される。そのため、従来のようなオーバーコート層を形成するための複雑なフォトリソグラフィ工程を省略することができ、製造工程の簡素化及びそれによる製造コストの低減が図られる。
【００５１】
続いて、第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４と、第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃとが形成された基板３０を、２００℃〜３００℃程度の温度で硬化させる。この硬化工程において、縮合反応やラジカル反応によって第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４は硬化する。
【００５２】
硬化工程において、第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４を硬化させながら、同時に第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃも硬化させることができ、これにより、第１、第２及び第３カラーフィルタ層４０、４２、４４の保護膜である第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃが形成される。
【００５３】
続いて、図示してはいないが、第１、第２及び第３オーバーコート層３６ａ、３６ｂ、３６ｃの上部に、スパッタリングやＥ−ビーム（電子ビーム）を用いて、共通電極層（図示せず）が形成される。
【００５４】
以上で説明した本発明は、上述の実施の形態及び添付図面に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の置換、変形及び変更ができるということは、本発明の属する技術分野における通常の知識を持つ者にとっては明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１Ａ】従来技術による液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を説明するための断面図である。
【図１Ｂ】従来技術による液晶表示装置のカラーフィルタ基板形成方法を説明するための断面図である。
【図１Ｃ】従来技術による液晶表示装置のカラーフィルタ基板形成方法を説明するための断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を説明するための断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を説明するための断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を説明するための断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のカラーフィルタ基板製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
３０  基板、３２  ブラックマトリクス層、３４  第１転写フィルム、３４ａ  支持層、３４ｂ  光熱変換層、３４ｃ  第１カラーフィルタ層用転写層、３６、３６ａ  第１オーバーコート層、３６ｂ  第２オーバーコート層、３６ｃ  第３オーバーコート層、３８  レーザー光、４０  第１カラーフィルタ層、４２  第２カラーフィルタ層、４４  第３カラーフィルタ層。
【図１Ａ】
0004427040.tif 000002
【図１Ｂ】
0004427040.tif 000003
【図１Ｃ】
0004427040.tif 000004
【図２】
0004427040.tif 000005
【図３】
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【図４】
0004427040.tif 000007
【図５】
0004427040.tif 000008