(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
−ポリチオフェン、
ポリアニオン化合物、及び
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリドン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラメチレンスルホン又はそれらの混合物より選ばれるε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物
を含有する水性組成物を準備し；
−該組成物を物体上に適用して層を形成せしめ；
−該層を乾燥して該物体上に導電性ポリマー層を形成せしめる
段階を含んでなり、該物体及び該層を１００℃未満の温度に保ち、該導電性ポリマー層が最高で２ｋΩ／□の抵抗率を有することを特徴とする物体上に導電性ポリマー層を形成するための方法。
【請求項２】
ディスプレー及びエレクトロルミネセンス装置における透明電極としての請求項１に記載の方法により形成された導電性ポリマー層の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明は物体上にポリマー性導電層を形成するための方法に関する。本発明は特定的にはポリチオフェン及び誘導体のポリマー性導電層を形成するための方法に関する。
【０００２】
【発明の背景】
導電性ポリマーの製造及び使用は当該技術分野において周知である。ＤＥ−Ａ−４１  ３２  ６１４において、ピロール、チオフェン、フラン又は芳香族アミン（あるいはそれらの誘導体）の陽極酸化によるフィルム−形成性導電性ポリマーの製造が電解質溶液中に存在するスルホン化合物を用いて行われている。ＵＳ−Ａ−５  ２５４  ６４８には導電性ポリチオフェンの製造が記載されている。ＵＳ−Ａ−５  ２３６  ６２７にはポリピロールの製造法が記載されている。そのようなポリマーに関するいくつかの用途があり、例えばＥＰ−Ａ−８０３  ８８６に開示されているように、コンデンサーにおける電極としてそれを用いることができ、例えばＷＯ−Ａ−９６／２６６３５５に開示されているように、それらは静電放電除去（ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ  ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  ｅｌｉｍｉｎａｔｉｏｎ）及び電磁遮蔽における金属導体のための代替え品として有用である。導電性ポリマーの層は通常の写真平版法を用いて「ワイア」（“ｗｉｒｅｓ”）又はチャネル（ｃｈａｎｎｅｌｓ）に成形することができ、次いでそれを抵抗性「チャネル」の制御された抵抗を必要とする装置、非線形光学素子などにおいてマイクロチップ二次加工のための相互接続具として用いることができる。「ワイア」又はチャネルへの導電性ポリマーのそのような成形はＵＳ−Ａ−５
【０００３】
５６１  ０３０に開示されている。ＷＯ−Ａ−９７／１８９４４にも導電性ポリマー層の型押しのための方法が開示されている。
【０００４】
導電性ポリマーの多くは水溶液から物体に適用することができず、有機溶媒を用いる組成物から適用しなければならず、例えば、ポリアニリンは多くの場合クレゾール中の溶液から加工される。生態学的要求の観点で、有機溶媒を用いる必要は欠点であり、導電性ポリマーの一般的な使用を妨げ得る。ＥＰ−Ａ−４４０９５７には、水性環境においてポリチオフェンを製造し、水溶液からポリチオフェンを適用するための方法が記載されている。そのような溶液はこれまでほとんど、例えばＵＳ−Ａ−５  ３１２  ６８１、ＵＳ−Ａ−５  ３５４  ６１３及びＵＳ−Ａ−５  ３９１  ４７２に開示されているように、写真材料において用いられている。
【０００５】
導電性ポリマーの使用における他の制限因子は、良好な導電率に導く量でポリマーを適用すると層がしばしば着色し、それはこれらのポリマー層をＬＣＤ又はエレクトロルミネセント装置における透明電極として用いるべき場合に望ましくないという事実である。従って、着色を増加させずにポリマーの導電率を向上させ、高い導電率を有する薄くてほとんど無色の導電性ポリマーの層を適用できるようにするために多くの努力がなされている。
【０００６】
ＥＰ−Ａ−６８６  ６６２において、水性組成物からコーティングされる高い導電率を有するポリチオフェンの層を形成できることが開示されている。従って、ポリチオフェンの水性組成物はさらにジ−もしくはポリヒドロキシ化合物を含んでなり、該組成物をコーティングして層を乾燥した後、別の製造段階において１５０〜２５０℃の温度で層を処理しなければならない。ＥＰ−Ａ−６８６  ６６２に開示されている層は、約３００Ω／平方及びそれ未満の低い抵抗率を有するが、もっと低い温度でそして別のアニーリング段階の必要なく低い抵抗率を達成できる方法に対する要求が依然として存在する。
【０００７】
【本発明の目的及び概略】
本発明の目的は、高められた温度における追加のアニーリング段階の必要なく物体上に導電性ポリマーの高度に導電性の層を形成するための方法を提供することである。
【０００８】
本発明の他の目的は、物体上に高度に導電性の層を与えるために用いることができる導電性ポリマーの水性組成物を提供することである。
【０００９】
本発明のさらなる目的は、ディスプレー、例えばＬＣＤ’ｓ、エレクトロルミネセンス装置、コンデンサーなどにおける電極として用いることができる導電性ポリマーの高度に導電性の層を有しているポリマーフィルムを提供することである。
【００１０】
本発明の目的は、
−ポリチオフェン、
ポリアニオン化合物及び
ε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物
を含有する水性組成物を準備し；
−該組成物を物体上に適用して層を形成し；そして、該層を乾燥して該物体上に導電性ポリマー層を形成する
段階を含んでなり、該物体及び該層を１００℃未満の温度に保ち、該導電性ポリマー層が最高で２ｋΩ／平方の抵抗率を有することを特徴とする物体上にポリマー性導電層を形成するための方法を提供することにより実現される。
【００１１】
好ましくは該ポリチオフェンは式
【００１２】
【化１】
0004491098.tif 000002
［式中、Ｒ1及びＲ2のそれぞれは独立して水素又はＣ1-4アルキル基を示すかあるいは一緒になって場合により置換されていることができるＣ1-4アルキレン基又はシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていることができるメチレン基、場合によりＣ1-12アルキル−もしくはフェニル−置換されていることができる１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基又は１，２−シクロヘキシレン基を示す］
を有する。
【００１３】
本発明の目的はさらに
−式
【００１４】
【化２】
0004491098.tif 000003
［式中、Ｒ1及びＲ2のそれぞれは独立して水素又はＣ1-4アルキル基を示すかあるいは一緒になって場合により置換されていることができるＣ1-4アルキレン基又はシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていることができるメチレン基、場合によりＣ1-12アルキル−もしくはフェニル−置換されていることができる１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基又は１，２−シクロヘキシレン基を示す］
を有するポリチオフェン、
−ポリアニオン化合物及び
−スルホン、スルホキシド、有機リン酸エステル、有機ホスホネート、有機ホスファミド、尿素、尿素の誘導体及びそれらの混合物から成る群より選ばれるε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物
を含有する水性組成物を提供することにより実現される。
【００１５】
【発明の詳細な記述】
実験の後、ポリチオフェン及びジ−もしくはポリヒドロキシ化合物を含有する層の導電率を向上させるために必要なアニーリング段階は省略できることが見いだされた。そのようなジ−もしくはポリヒドロキシ化合物の代わりに、ε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物（本明細書において非プロトン性はヒドロキシルもしくはカルボキシル基を有していない化合物を示すために用いられる）を用いると、ポリチオフェン及び該非プロトン性化合物（以下、化合物Ａ）を有する水性組成物を物体に適用し、それを１００℃未満もしくはより好ましくは９０℃未満の温度で単に乾燥することにより、物体に適用された２ｋΩ／平方未満の抵抗率を有するポリチオフェンの層を形成することができた。５０℃未満の温度で乾燥を行った場合でも非常に低い抵抗率を達成することができた。５０℃未満の温度で層を単に乾燥することにより、５００Ω／平方未満の抵抗率を有する層を形成することが可能であった。かくして特別な別のアニーリング段階は必要でなく、それはポリマー性導電層の形成法を簡単にし、本発明の方法では導電層の形成に用いなければならないカロリーがより低いのでその方法をより安価且つより生態学的なものとするので有利である。さらに、高温におけるアニーリング段階がないことは、１２０又は１５０℃より高温で処理されると収縮したりカールしたりする危険のある延伸ポリマーフィルム、例えば延伸ポリエステル上に導電層を適用するために本発明の方法を用いることを可能にする。かくして、本発明の方法を非−熱安定性ポリマー性物体上に導電性ポリマー層を適用するためにも用いることができる。
【００１６】
本明細書文書における抵抗率はすべて以下の方法に従って測定される：導電性ポリマーがコーティングされた基質のストリップを採取する。このストリップは２７．５ｃｍの長さ及び３５ｍｍの幅を有する。ストリップの幅にわたって電極を、互いに１０ｃｍの距離で適用する。電極はＥｍｅｒｓｏｎ  ＆  Ｃｕｍｍｉｎｇ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ｐｏｌｙｍｅｒｓから入手可能な導電性ポリマーであるＥＣＣＯＣＯＡＴ  ＣＣ−２から作られている。該電極上に１Ｖの一定の電位を適用する。回路を流れる電流をＰｉｃｏ−アンペアメーターＫＥＩＴＨＬＥＹ  ４８５上で測定する。電位及び電流から、測定の幾何学を考慮に入れてΩ／平方における抵抗率を算出する。好ましくは、化合物Ａはラクタム、アミド、スルホン、スルホキシド、有機リン酸エステル、有機ホスホネート、有機ホスファミド、尿素、尿素の誘導体及びそれらの混合物の群から選ばれる非プロトン性溶媒である。典型的な有用な化合物Ａは、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、２  ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリドン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラメチレンスルホン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスファミドなどである。
【００１７】
非−置換もしくは置換などのいずれのチオフェン誘導体の重合により製造されるポリチオフェンも本発明の方法で用いることができるが、ポリチオフェンは好ましくは式
【００１８】
【化３】
0004491098.tif 000004
［式中、Ｒ1及びＲ2のそれぞれは独立して水素又はＣ1-4アルキル基を示すかあるいは一緒になって場合により置換されていることができるＣ1-4アルキレン基又はシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていることができるメチレン基、場合によりＣ1-12アルキル−もしくはフェニル−置換されていることができる１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基又は１，２−シクロヘキシレン基を示す］
を有する。さらに好ましくは、Ｒ1及びＲ2が一緒になって−ＣＨ2−ＣＨ2−基を形成しているポリチオフェンを用いる。そのようなポリチオフェンの製造及び該ポリチオフェンを含有する水性ポリチオフェンポリマー性ポリアニオン分散液の調製は、ＥＰ−Ａ−４４０  ９５７及び対応するＵＳ−Ａ−５，３００，５７５に記載されている。基本的には、該ポリチオフェンの製造は該ポリマー性ポリアニオン化合物の存在下で、ピロールの酸化的重合に典型的に用いられる酸化剤を用いて及び／又は該ポリ酸の存在下で酸素又は空気を用いて、好ましくは場合によりある量の有機溶媒を含有していることができる水性媒体中で、０〜１００℃の温度において次式（ＩＩ）
【００１９】
【化４】
0004491098.tif 000005
［式中：
Ｒ1及びＲ2は上記で定義した通りである］
に従う３，４−ジアルコキシチオフェン又は３，４−アルキレンジオキシチオフェンを酸化的に重合させることにより行われる。
【００２０】
酸化的重合によりポリチオフェンは正の電荷を得、該電荷の位置及び数は確実には決定できず、従ってポリチオフェンポリマーの繰り返し単位の一般式においてそれは言及されない。
【００２１】
酸化剤として空気又は酸素を用いる場合、その導入はチオフェン、ポリ酸及び場合により触媒量の金属塩を含有する溶液中に重合が完了するまで行われる。
【００２２】
ピロールの酸化的重合に適した酸化剤は、例えばＪ．Ａｍ．Ｓｏｃ．８５，４５４（１９６３）に記載されている。鉄（ＩＩＩ）塩、例えばＦｅＣｌ3、Ｆｅ（ＣｌＯ4）3ならびに有機酸及び有機残基を含有する無機酸の鉄（ＩＩＩ）塩、同様にＨ2Ｏ2、Ｋ2Ｃｒ2Ｏ7、過硫酸アルカリもしくはアンモニウム、過ホウ酸アルカリ、過マンガン酸カリウム及びテトラフルオロホウ酸銅などの銅塩のような安価で取り扱いが容易な酸化剤が好ましい。
【００２３】
理論的には、チオフェンのモル当たり２．２５当量の酸化剤がその酸化的重合に必要である［Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐａｒｔ  Ａ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．２６，ｐ．１２８７（１９８８）を参照されたい］。しかしながら、実際には、酸化剤はある程度過剰で、例えばチオフェンのモル当たり０．１〜２当量の過剰で用いられる。
【００２４】
重合のためには、上記の式に対応するチオフェン、ポリ酸及び酸化剤を有機溶媒又は好ましくは水中に溶解又は乳化し、得られる溶液又は乳液を意図されている重合温度で重合反応が完了するまで撹拌する。その方法により０．０５〜５５重量％そして好ましくは０．１〜１０重量％の固体含有率を有する安定な水性ポリチオフェン分散液が得られる。
【００２５】
水性組成物は好ましくは組成物の合計重量に関して０．１〜４９重量％の該化合物Ａを含有する。より好ましくは、それは組成物の合計重量に関して１〜２０重量％の化合物Ａを含有する。
【００２６】
本発明の方法で用いられる水性組成物は１種もしくはそれより多い結合剤及び１種もしくはそれより多い界面活性剤も含むことができる。他の成分、例えばスペーシング粒子、ＵＶ−フィルター、ＩＲ−吸収剤なども、導電性ポリマー層の最終的用途にそのような成分の存在が必要な場合、水性組成物に加えることができる。
【００２７】
好ましくは乾燥された層においてｍ2当たり１０〜５０００ｍｇのポリチオフェンが存在する、好ましくは乾燥された層がｍ2当たり１００〜５００ｍｇのポリチオフェンを含むような量で水性組成物を該物体に適用する。
【００２８】
導電層を必要としているいずれの物体にも水性組成物を適用することができ、物体は例えばポリマーフィルムのように平らであることができ、あるいは例えばポリマー性ボトル、バッテリーのポリマー性部品などのように３次元的形を有していることができる。
【００２９】
平らな基質に導電性コーティングを適用するために本発明の水性組成物を最も有益に用いることができる。これらの基質は無機又は有機であることができる。用いることができる典型的なポリマーフィルムは、例えばポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリイミド、三酢酸セルロース、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニルなどから作られたフィルムである。無機基質にもポリチオフェン、ポリアニオン及び化合物Ａを含有する水性組成物をコーティングすることができ、適した基質は例えばＳｉ、セラミックス、酸化物、例えばインジウム−錫酸化物、ガラス、ポリマーフィルム強化ガラス、柔軟性ガラス／ポリマーフィルム積層体などである。後者は本発明の方法に従って形成される導電層のための非常に優れた支持体であり、それはそのような材料が非常に薄いことができ（１０〜４００μｍのオーダーでさえ）、それでもガラスの寸法安定性とポリマーフィルムの柔軟性の両方を与えるからである。ポリチオフェン、ポリアニオン及び化合物Ａを含有する水性組成物から形成される層をディスプレー、例えばＬＣＤ’ｓ及びエレクトロルミネセンス装置における透明電極としての用途のために用いる場合、電極のための支持体としてポリマーフィルム強化ガラスを用いるのが非常に有用である。
【００３０】
本発明の方法においては、当該技術分野において既知のいずれの手段によっても水性組成物を物体に適用することができる：それをスピン−コーティングすることができ、物体上に噴霧することができ、移動するウェブ上に溶液をコーティングするために用いられる連続コーティング法、例えば浸漬コーティング、ロッドコーティング（ｒｏｄ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ブレードコーティング（ｂｌａｄｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、逆ロールコーティング、押出コーティング、スライドコーティング及びカーテンコーティングのいずれによってもそれをコーティングすることができる。これらのコーティング法の概覧は“Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  ＤｒｙｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｅｄｗａｒｄ  Ｃｏｈｅｎ  ａｎｄ  Ｅｄｇａｒ  Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ  Ｅｄｉｔｏｒｓ，ＶＣＨ  ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，ＮＹ，１９９２に見いだすことができる。本発明の方法により形成される低い抵抗率を有する層を例えば正孔輸送層（ｈｏｌｅ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  ｌａｙｅｒ）又は電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  ｌａｙｅｒ）により覆わなければならない場合、複数の層の同時コーティングのために有用であるとして既知のコーティング法、例えばスライドコーティング、カーテンコーティングなどにより複数の層を同時にコーティングすることが可能である。
【００３１】
本発明の方法において印刷法、例えばインキ−ジェット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷などにより水性組成物を基質に適用することが可能である。この場合は組成物を直接電極パターンの形態で適用することができる。
【００３２】
本発明の方法により基質に適用される層は、例えばＵＳ−Ａ−５  ５６１  ０３０及びＷＯ−Ａ−９７／１８９４４に開示されているような通常の写真平版法を用いることによりパターン形成することができる。
【００３３】
本発明の方法により形成される低い抵抗率を有する層を、基質上の薄い電極、好ましくは透明電極が用いられるいずれの用途においても用いることができる。そのような用途には他の中でもディスプレー、例えばＬＣＤ’ｓ、エレクトロルミネセントディスプレー、ＬＥＤ’ｓなどが含まれる。
【００３４】
本発明は：
ポリチオフェン、
ポリアニオン化合物及び
スルホン、スルホキシド、有機リン酸エステル、有機ホスホネート、有機ホスファミド、尿素、尿素の誘導体及びそれらの混合物から成る群より選ばれるε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物
を含有する水性組成物も包含する。そのような組成物において、ポリチオフェンは好ましくは式
【００３５】
【化５】
0004491098.tif 000006
［式中、Ｒ1及びＲ2のそれぞれは独立して水素又はＣ1-4アルキル基を示すかあるいは一緒になって場合により置換されていることができるＣ1-4アルキレン基又はシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていることができるメチレン基、場合によりＣ1-12アルキル−もしくはフェニル−置換されていることができる１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基又は１，２−シクロヘキシレン基を示す］
を有する。
【００３６】
【実施例】
１  ポリチオフェン分散液（ＰＴ）（下記では分散液ＰＴと呼ぶ）の製造
ａ）４０，０００の数平均分子量（Ｍｎ）を有する１４ｇのポリスチレンスルホン酸（２１８ミリモルのＳＯ3Ｈ基）の水溶液の１０００ｍｌ中に１２．９ｇのペルオキソ二硫酸カリウム（Ｋ2Ｓ2Ｏ8）、０．１ｇのＦｅ2（ＳＯ4）3及び５．６８ｇの３，４−エチレンジオキシ−チオフェンを導入した。かくして得られる反応混合物を２０℃で２４時間撹拌し、脱塩に供した。
ｂ）上記で調製した５００ｍｌの反応混合物を５００ｍｌの水で希釈し、粒状化された弱塩基性イオン交換樹脂ＬＥＷＡＴＩＴ  Ｈ  ６００（Ｂａｙｅｒ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙの商品名）及び強酸性イオン交換体ＬＥＷＡＴＩＴ  Ｓ  １００（Ｂａｙｅｒ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙの商品名）の存在下で室温で６時間撹拌した。該処理の後、イオン交換樹脂を濾過し、カリウムイオン及び硫酸イオン含有率を測定し、それはそれぞれ１リットル当たり０．４ｇのＫ+及び０．１ｇの（ＳＯ4）2-であった。
【００３７】
実施例１
４１７ｍｌの分散液ＰＴ及び５０ｇのメチルピロリドン（化合物Ａ）を結合剤（８．５ｍｌのコ（塩化ビニリデン／アクリル酸メチル／イタコン酸  ８８／１０／２の３０％分散液）及び界面活性剤（０．５ｍｌのＦＬＵＯＲＡＤ  ＦＣ４３０，３Ｍの商品名）と混合し、混合物を蒸留水を用いて１０００ｍｌとした。
【００３８】
この混合物を、上に下塗層（写真材料のための支持体上における通常通り）が存在する１００μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上にコーティングした。混合物は４０ｍμの湿潤厚さでコーティングし、表１に示す条件下で乾燥した。乾燥層は２００ｍｇ／ｍ2のポリチオフェンを含有した。表１に挙げる抵抗率の値は上記の通りに測定した。層の正味の光学濃度はすべての試料の場合に０．０８〜０．１０であった。
【００３９】
【表１】
0004491098.tif 000007
実施例２
混合物を１００ｍμの湿潤厚さでコーティングする以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥し、それは５００ｍｇ／ｍ2のポリチオフェンを含有した。
【００４０】
上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは３３０Ω／平方であった。
【００４１】
実施例３
Ｎ−メチルピロリドンの代わりに１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンを用いる以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは８００Ω／平方であった。
【００４２】
実施例４
Ｎ−メチルピロリドンの代わりに２−ピロリドンを用いる以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは７００Ω／平方であった。
【００４３】
実施例５
Ｎ−メチルピロリドンの代わりにＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素を用いる以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは１９００Ω／平方であった。
【００４４】
実施例６
Ｎ−メチルピロリドンの代わりにホルムアミドを用いる以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは７５０Ω／平方であった。
【００４５】
実施例７
Ｎ−メチルピロリドンの代わりにテトラメチレンスルホンを用いる以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは１５００Ω／平方であった。
【００４６】
実施例８
Ｎ−メチルピロリドンの代わりにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを用いる以外は実施例１を繰り返した。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。上記の通りにΩ／平方における抵抗率を測定し、それは１０００Ω／平方であった。
【００４７】
比較実施例
実施例１を繰り返したが、化合物Ａの代わりに２２．５ｍｇのソルビトールを加えた。層を３５℃の温度で４秒間乾燥した。抵抗率は＞１０6Ω／平方であった。２００℃で９０秒間アニーリングした後初めて１０００Ω／平方の抵抗率を達成した。
【００４８】
本発明の方法ではアニーリング段階を省略でき、それでも非常に低い抵抗率を達成できることが明らかである。
本発明の主たる特徴及び態様は以下の通りである。
【００４９】
１．−ポリチオフェン、
ポリアニオン化合物及び
ε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物
を含有する水性組成物を準備し；
−該組成物を物体上に適用して層を形成し；
−該層を乾燥して該物体上に導電性ポリマー層を形成する
段階を含んでなり、該物体及び該層を１００℃未満の温度に保ち、該導電性ポリマー層が最高で２ｋΩ／平方の抵抗率を有することを特徴とする物体上にポリマー性導電層を形成するための方法。
【００５０】
２．該ポリチオフェンが次式：
【００５１】
【化６】
0004491098.tif 000008
［式中、Ｒ1及びＲ2のそれぞれは独立して水素又はＣ1-4アルキル基を示すかあるいは一緒になって場合により置換されていることができるＣ1-4アルキレン基又はシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていることができるメチレン基、場合によりＣ1-12アルキル−もしくはフェニル−置換されていることができる１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基又は１，２−シクロヘキシレン基を示す］
を有する上記１項に記載の方法。
【００５２】
３．該物体及び該層を５０℃未満の温度に保つ上記１又は２項に記載の方法。
【００５３】
４．該ポリチオフェンにおいて、Ｒ1及びＲ2が一緒になって−ＣＨ2−ＣＨ2−基を形成している上記１〜３項のいずれかに記載の方法。
【００５４】
５．該非プロトン性化合物がラクタム、アミド、スルホン、スルホキシド、有機リン酸エステル、有機ホスホネート、有機ホスファミド、尿素、尿素の誘導体及びそれらの混合物の群より選ばれる上記１〜４項のいずれかに記載の方法。
【００５５】
６．該物体がポリマーフィルムである上記１〜５項のいずれかに記載の方法。
【００５６】
７．該物体が柔軟性ガラス／ポリマーフィルム積層体である上記１〜５項のいずれかに記載の方法。
【００５７】
８．該フィルム上に電極パターンを形成するために該ポリマー性導電層をさらにパターン形成する上記６又は７項に記載の方法。
【００５８】
９．ディスプレー及びエレクトロルミネセント装置における透明電極としての上記８項に記載のパターン形成された導電層の使用。
【００５９】
１０．−ポリチオフェン、
−ポリアニオン化合物及び
−スルホン、スルホキシド、有機リン酸エステル、有機ホスホネート、有機ホスファミド、尿素、尿素の誘導体及びそれらの混合物から成る群より選ばれるε≧１５の誘電率を有する非プロトン性化合物
を含有する水性組成物。
【００６０】
１１．該ポリチオフェンが次式：
【００６１】
【化７】
0004491098.tif 000009
［式中、Ｒ1及びＲ2のそれぞれは独立して水素又はＣ1-4アルキル基を示すかあるいは一緒になって場合により置換されていることができるＣ1-4アルキレン基又はシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていることができるメチレン基、場合によりＣ1-12アルキル−もしくはフェニル−置換されていることができる１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基又は１，２−シクロヘキシレン基を示す］
を有する上記１０項に記載の水性組成物。