(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を保持することができる保持体と、
前記保持体に接続された回転軸と、
前記回転軸を回転駆動するモータと、
前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、
前記処理室内に処理液を供給する処理液吐出口と、
前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、
前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、
前記軸受けよりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつ常時シールする第１のシール構造と、
前記第１のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第２のシール構造であって、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第１状態とシールしていない第２状態とをとることができる第２のシール構造と、
前記第１のシール構造と前記第２のシール構造との間における前記軸ハウジングと前記回転軸との間の中間空間に接続され前記中間空間に流体を供給することができる供給路及び前記中間空間から流体を排出することができる排出路と、
前記供給路に接続された洗浄液供給源及び乾燥気体供給源と、
前記洗浄液供給源及び乾燥気体供給源のいずれかが前記供給路を介して前記中間空間と連通するようにする切替バルブと、
を備えた液処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液処理装置において、
前記軸ハウジングの内面若しくは前記回転軸の外周面に、前記中間空間を部分的に狭くする形状が与えられている
ことを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液処理装置において、
前記第２のシール構造は、その内部空間に作動気体を供給することにより膨らみ前記第１状態となる、可撓性を有する環状の中空シール部材を有することを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の液処理装置において、
前記第１のシール構造は、前記回転軸の軸線方向に間隔をおいて配置された一対のシール部材からなり、
前記一対のシール部材の間において前記軸ハウジングと回転軸との間にシール空間が画成され、
前記シール空間に、当該シール空間に流体を供給することができる供給路及び当該シール空間から流体を排出することができる排出路が接続されている
ことを特徴とする液処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液処理装置において、
前記シール空間に接続された前記供給路に乾燥用気体供給源が接続されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
請求項１に記載の液処理装置において、
前記洗浄液供給源から前記中間空間に接続された前記供給路を介して前記中間空間に洗浄液を供給することができる洗浄液供給系と、
前記乾燥気体供給源から前記中間空間に接続された前記供給路を介して前記中間空間に乾燥用気体を供給することができる乾燥用気体供給系と、
前記前記中間空間に接続された前記排出路を介して前記中間空間から流体を排出することができる流体排出系と、
前記第２のシール構造、前記洗浄液供給系、前記乾燥用気体供給系及び前記流体排出系を制御することができるコントローラであって、
前記回転軸が回転して前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときに、前記第２のシール構造が前記第２の状態となり、かつ、前記流体排出系を介して前記中間空間に侵入した処理液をそこから排出するように、前記第２のシール構造および前記流体排出系を制御し、
また、前記回転軸が回転しないで前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときに、前記第２のシール構造が前記第１の状態となり、かつ、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出されるように、前記第２のシール構造、前記洗浄液供給系及び前記流体排出系を制御するコントローラと、
を更に備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の液処理装置において、
前記コントローラは、前記回転軸が回転しないで前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理されているときに、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出された後に、前記乾燥用気体供給系を介して前記中間空間に乾燥用気体が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記乾燥用気体が排出されるように、前記乾燥気体供給系及び前記流体排出系を制御するように構成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項８】
請求項６に記載の液処理装置において、
前記コントローラは、前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記洗浄液の排出レートが、前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記処理液の排出レートよりも大きくなるように、前記流体排出系を制御するように構成されていることを特徴とする液処理装置。
【請求項９】
請求項６に記載の液処理装置において、
前記処理液は薬液であり、前記処理流体は乾燥用気体であることを特徴とする液処理装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の液処理装置において、
前記保持体は、前記回転軸に接続された回転基体と、被処理体を保持する一対の保持棒を有しており、
前記液処理装置は、前記回転軸の半径方向に前記保持棒が相互に近接する方向及び前記保持棒が相互に離間する方向に移動させる保持棒移動機構を更に備え、
前記保持棒移動機構は、前記回転基体に設けられて前記保持棒を移動させるシリンダアクチュエータと、前記保持棒が相互に近接する方向又は相互に離間する方向に前記保持棒を付勢するばね部材と、前記ばね部材に抗して前記保持棒を移動させるために前記シリンダアクチュエータに作動流体を供給する作動流体通路と、を有しており、
前記回転軸の内部空間及び前記回転基体内に形成された管路が、前記作動流体通路の一部を成している
ことを特徴とする液処理装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の液処理装置において、
前記処理容器は、その一端に前記被処理体が通過可能な開口を有するとともに他端が閉塞され、その軸線が概ね水平方向を向いた筒状の処理容器本体と、前記処理容器本体の前記開口を密閉する蓋体とを有している
ことを特徴とする液処理装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液処理装置において、
前記蓋体に前記軸ハウジングが結合されていることを特徴とする液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ及びＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体に処理液を供給して処理を施す液処理装置に係り、特にその回転機構のシール構造に関する。本発明は、更に液処理装置の運転方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体製造装置の製造工程においては、半導体ウエハ及びＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体を処理槽内に収容し、処理槽に薬液及びリンス液等の処理液を供給しつつ被処理体を処理液中に浸漬した状態で、被処理体に処理を施す液処理方法が広く採用されている。【０００３】
このような液処理方法を実施する液処理装置の一例が日本国特許公開公報ＪＰ１０−２２３５８５Ａに開示されている。この液処理装置は、処理液が貯留された処理槽内で複数の被処理体の下部を支持して当該被処理体を起立状態で回転させる複数の回転ロッドを備えている。回転ロッドの１つは、クランク及び連結ロッドを有する動力伝達機構を介してモータに接続されている。他の回転ロッドは駆動力伝達ギアを介して前記１つの連結ロッドに接続され、全ての回転ロッドが各々の中心軸線を中心同一方向に回転する。これにより、回転ロッドに接する被処理体は回転ロッド上を転動する。【０００４】
しかしながら、ＪＰ１０−２２３５８５Ａに開示された液処理装置においては、駆動力伝達ギアが処理槽内で処理液に晒されているため、ギアの摩耗によるパーティクルが処理液中に拡散するおそれがある。また、処理液に晒されている回転ロッドと被処理体との接触面においてもパーティクルが発生するおそれがある。【０００５】
ＪＰ１０−２２３５８５Ａには明記されていないが、回転ロッドの両端は軸受けにより回転自在に支持されているものと考えられる。この場合、軸受けへの処理液の侵入を防止して軸受けを処理液から保護するためにシール部材が配設されるであろう。しかし、回転軸をその回転を許容しつつシールする動的シール部材では、完全なシールは困難である。このため、シール部材と回転ロッドの間の隙間或いは軸受けまで処理液が侵入する場合がある。この侵入した処理液は、後に処理槽内に逆流して処理槽内の処理液を汚染するおそれがある。また、軸受け部分で生じたパーティクルが逆流する処理液とともに処理槽内に侵入するおそれがある。
【発明の開示】
【０００６】
本発明は上記の実情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、被処理体の保持体の回転軸の軸受け部分に発生するパーティクルが処理室に流入することを防止するとともに、回転軸周囲の狭い隙間に処理液が滞留することを防止することにある。
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、被処理体を保持することができる保持体と、前記保持体に接続された回転軸と、前記回転軸を回転駆動するモータと、前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、前記処理室内に処理液を供給する処理液吐出口と、前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、前記軸受けよりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつシールする第１のシール構造と、前記第１のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第２のシール構造であって、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第１状態とシールしていない第２状態とをとることができる第２のシール構造と、を備えた液処理装置を提供する。
【０００８】
前記液処理装置には、前記第１のシール構造と前記第２のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間に接続され前記中間空間に流体を供給することができる供給路及び前記中間空間から流体を排出することができる排出路を設けることができる。この場合、前記供給路に接続された洗浄液供給源及び乾燥気体供給源と、前記洗浄液供給源及び乾燥気体供給源のいずれかが前記供給路を介して前記中間空間と連通するようにする切替バルブとを更に設けることができる。
【０００９】
前記軸ハウジングの内面若しくは前記回転軸の外周面に、前記第１のシール構造と前記第２のシール構造との間における前記軸ハウジングと前記回転軸との間の中間空間を部分的に狭くする形状が与えることができる。
【００１０】
前記第２のシール構造は、その内部空間に作動気体を供給することにより膨らみ前記第１状態となる、可撓性を有する環状の中空シール部材を有することができる。
【００１１】
好適な一実施形態において、前記第１のシール構造は、前記回転軸の軸線方向に間隔をおいて配置された一対のシール部材からなり、前記一対のシール部材の間において前記軸ハウジングと回転軸との間にシール空間が画成され、前記シール空間に、当該シール空間に流体を供給することができる供給路及び当該シール空間から流体を排出することができる排出路が接続されている。この場合、前記供給路に乾燥用気体供給源を接続することができる。
【００１２】
好適な一実施形態において、液処理装置は、前記第１のシール構造と前記第２のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間に洗浄液を供給することができる洗浄液供給系と、前記中間空間に乾燥用気体を供給することができる乾燥用気体供給系と、前記中間空間から流体を排出することができる流体排出系と、前記第２のシール構造、前記洗浄液供給系、前記乾燥用気体供給系及び前記流体排出系を制御することができるコントローラであって、前記回転軸が回転して前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときに、前記第２のシール構造が前記第２の状態となり、かつ、前記流体排出系を介して前記中間空間に侵入した処理液をそこから排出するように、前記第２のシール構造および前記流体排出系を制御し、また、前記回転軸が回転しないで前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときに、前記第２のシール構造が前記第１の状態となり、かつ、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出されるように、前記第２のシール構造、前記洗浄液供給系及び前記流体排出系を制御するコントローラと、を更に備える。
【００１３】
一実施形態において、前記処理液は薬液であり、前記処理流体は乾燥用気体である。
【００１４】
好適には、前記コントローラは、前記回転軸が回転しないで前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理されているときに、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出された後に、前記乾燥用気体供給系を介して前記中間空間に乾燥用気体が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記乾燥用気体が排出されるように、前記乾燥気体供給系及び前記流体排出系を制御するように構成されている。
【００１５】
好適には、前記コントローラは、前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記洗浄液の排出レートが、前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記処理液の排出レートよりも大きくなるように、前記流体排出系を制御するように構成されている。
【００１６】
好適な一実施形態において、前記保持体は、前記回転軸に接続された回転基体と、被処理体を保持する一対の保持棒を有しており、前記液処理装置は、前記回転軸の半径方向に前記保持棒が相互に近接する方向及び前記保持棒が相互に離間する方向に移動させる保持棒移動機構を更に備え、前記保持棒移動機構は、前記回転基体に設けられて前記保持棒を移動させるシリンダアクチュエータと、前記保持棒が相互に近接する方向又は相互に離間する方向に前記保持棒を付勢するばね部材と、前記ばね部材に抗して前記保持棒を移動させるために前記シリンダアクチュエータに作動流体を供給する作動流体通路と、を有しており、前記回転軸の内部空間及び前記回転基体内に形成された管路が、前記作動流体通路の一部を成している。
【００１７】
好適な一実施形態において、前記処理容器は、その一端に前記被処理体が通過可能な開口を有するとともに他端が閉塞され、その軸線が概ね水平方向を向いた筒状の処理容器本体と、前記処理容器本体の前記開口を密閉する蓋体とを有している。
【００１８】
好適な一実施形態において、前記蓋体に前記軸ハウジングが結合されている。
【００１９】
本発明は更に、被処理体を保持することができる保持体と、前記保持体に結合された回転軸と、前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、前記軸受けよりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつシールする第１のシール構造と、前記第１のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第２のシール構造であって、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第１状態とシールしていない第２状態とをとることができる第２のシール構造と、を備えた液処理装置を運転する方法を提供する。この方法は、前記処理室内で被処理体を前記保持体により保持した状態で回転させるとともに前記処理室内に処理液を供給し、これにより前記処理液により前記被処理体を液処理する液処理工程と、前記液処理工程の後、前記被処理体の回転を停止した状態で前記処理室内に処理流体を供給し、これにより前記処理流体により前記被処理体を処理する流体処理工程と、を備え、前記液処理工程を実施しているときに、前記第２のシール構造は前記第２状態とされ、かつ、前記第１のシール構造と前記第２のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間から、前記処理室から前記中間空間に侵入した処理液が排出され、前記流体処理工程を実施しているときに、前記第２のシール構造は前記第１状態とされ、かつ、前記中間空間に洗浄液を供給しながら供給した洗浄液を前記中間空間から排出することにより前記中間空間が洗浄され、その後、前記中間空間に乾燥用気体を供給しながら供給した乾燥用気体を前記中間空間から排出することにより前記中間空間が乾燥させられる。
【００２０】
好ましくは、前記流体処理工程を実施しているときにおいて前記中間空間から排出される処理液の排出レートは、前記液処理工程を実施しているときにおいて前記中間空間から排出される洗浄液の排出レートよりも高い。
【００２１】
一実施形態において、前記液処理工程にて用いられる処理液が薬液であり、前記流体処理工程にて用いられる処理流体が前記被処理体を乾燥させるための乾燥用気体である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明による液処理装置を具備する処理システムの一例を概略的に示す平面図である。
【図２】図１に示す処理システムの要部を概略的に示す縦断面図である。
【図３】液処理装置の処理容器を構成する処理容器本体及び蓋体並びにこれに関連する部品を概略的に示す斜視図である。
【図４】液処理装置の配管系統図である。
【図５】液処理装置の処理容器の縦断面図である。
【図６】液処理装置の軸線方向に沿った縦断面図である。
【図７】図６の一部を拡大して示す図である。
【図８】液処理装置のウエハ保持機構の要部を概略的に示す斜視図である。
【図９】図５に示すノズルの軸線方向に沿った断面図である。
【符号の説明】
【００２３】
１０  処理容器
１０ａ  処理室
１１  蓋体
１２  処理容器本体
１７，１７Ａ  排液口
１８  空気抜き口
１９  乾燥用気体供給口
２０  ウエハ回転モータ
２１  回転軸
２１ａ  回転軸の内部空間
２２  軸ハウジング
２４  シール部材（第１のシール構造）
２４ａ  シール空間
２４ｂ  給気口
２４ｃ  排気口
２５  周突起
２６  第２のシール構造
２６ａ  中空シール部材
２６ｂ  中空シール部材の内部空間
２６ｄ  中間空間
２６ｅ，２７Ａ，２８ｃ，Ｖ０  中間空間のための洗浄液供給系
２６ｅ，２７，２８ｃ，Ｖ０  中間空間のための乾燥気体供給系
２６ｆ，２９ａ，２９ｂ，Ｖ２，Ｖ３  中間空間のための流体排出系
２７  Ｎ２ガス（乾燥気体）供給源
２７Ａ  純水（洗浄液）供給源
３０  ウエハ保持体
３１  回転基体
３２  保持棒
４０  処理液供給バルブ
４３  吐出口
６０  伸縮移動機構（保持棒移動機構）
６３  ばね（ばね部材）
６４  シリンダアクチュエータ
６５  保持棒移動機構用の空気（作動流体）供給系
１１０  ＣＰＵ（コントローラ）
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
Ｖ０  切換バルブ
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。【００２５】
図１及び図２に示すように、処理システムは、搬入・搬出部１と、ピッチ変換・搬送部３と、キャリア搬入・搬出部１とピッチ変換・搬送部３との間に位置するウエハ搬送部５と、本発明に係る液処理装置６を備えた処理部と、を備えている。半導体ウエハＷすなわち被処理体を収容するキャリアＣが、搬入・搬出部１を介して、この処理システムに受け入れられ、またこの処理システムから払い出される。キャリアＣ内には、複数枚例えば２５枚の半導体ウエハＷが、上下方向に所定の間隔例えば１０ｍｍの間隔を空けて、水平に保持される。ピッチ変換・搬送部３には、２台のウエハホルダ２ａ，２ｂが配設されている。各ウエハホルダ２ａ，２ｂは、複数枚例えば２５枚のウエハＷを上下方向に所定の間隔例えば３ｍｍの間隔を空けて保持するように構成されている。ウエハ搬送部５には、水平方向（Ｘ，Ｙ方向）、鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能で、かつ鉛直軸線周りに回転（θ）可能なウエハ搬送アーム４が設けられている。ウエハ搬送アーム４は、搬入・搬出部１にあるキャリアＣ内のウエハＷをウエハホルダ２ａ，２ｂに、或いはその逆に、搬送することができる。処理部には、処理容器本体１２が配置されており、処理容器本体１２は、ピッチ変換・搬送部３に配設される蓋体１１と結合されて密閉の処理容器１０を構成する。【００２６】
ピッチ変換・搬送部３に配設される蓋体１１は、Ｙ方向（図１参照）に並んだ２台のウエハホルダ２ａ，２ｂの中間に位置している。図３に示すように、蓋体１１は、姿勢変換・移動機構７に取り付けられている。蓋体１１には、後に詳述するウエハ保持体３０が設けられている。ウエハ保持体３０は、複数枚例えば２５枚のウエハＷを等間隔例えば３ｍｍ間隔（ウエハホルダ２ａ，２ｂのウエハ保持間隔と同じ）で保持することができる。ウエハ保持体３０がウエハＷを保持した状態で、姿勢変換・移動機構７を作動させることにより、ウエハＷおよび蓋体１１を鉛直に起立した状態とし、更に蓋体１１が処理容器本体１２に向かって進めて処理容器本体１２の開口１３を閉塞することができる。【００２７】
液処理装置６は、ウエハＷを起立状態に保持することができるウエハ保持体３０と、このウエハ保持体３０によって保持されたウエハＷを収容する処理室１０ａを有する密閉式の処理容器１０と、処理容器１０内に処理液を供給する処理液供給系の一部を成す処理液供給ノズル４０（図５参照）と、処理液供給ノズル４０を正逆回転可能なノズル回転モータ５０（図９参照）と、ウエハ保持体３０を回転駆動するウエハ回転モータ２０（図６参照）と、を具備している。ウエハ回転モータ２０は、ウエハ保持体３０の回転軸２１を回転駆動することにより、ウエハ保持体３０により保持されたウエハＷを該ウエハＷの中心を回転中心として回転させることができる。【００２８】
図６に示すように、処理容器本体１２は、その中心軸線が水平方向を向いた円筒形状を有しており、処理容器本体１２の一方の側面（すなわち円筒の底面）は側壁により閉塞されており、他方の側面は開放されて開口１３をなしている。図５に示すように、処理容器本体１２の周壁の一側（図５では左側）の側部から下部にわたって処理液供給ノズル４０はを収容するための収容部１４が設けられている。処理液供給ノズル４０外周面と収容部１４の内面との間には隙間１５がある。収容部１４の内部空間は、連通口１６を介して処理室１０ａと連通している。処理容器本体１２の周壁の下端部には、急速排液口１７Ａが設けられている。処理容器本体１２の周壁の上部には、空気抜き口１８及び乾燥用気体供給口１９が設けられている【００２９】
図３及び図６に示すように、蓋体１１は、処理容器本体１２の開口１３を閉塞すべく円板状に形成されている。蓋体１１の開口１３に対向する面に、Ｏリング１１ａが装着されている。従って、姿勢変換・移動機構７により蓋体１１を処理容器本体１２の開口端に押しつけることにより、蓋体１１は処理容器本体１２に気水密に係合し、これにより密閉された処理室１０ａが形成される。【００３０】
図６乃至図８に示すように、ウエハ保持体３０は、蓋体１１を貫通する回転軸２１に連結された回転基体３１を有する。回転基体３１は、概ね直方体形状を有し、回転軸２１と直交する方向に、すなわちウエハＷの半径方向に延びている。回転基体３１の両端部に、ウエハＷ半径方向に移動可能な可動部材３５が接続されており、各可動部材３５の先端から、保持棒３２が回転軸２１と平行に延びている。ウエハＷの外周縁部を保持するために、各保持棒３２の内側面には、複数の保持溝３３が所定の間隔を空けて刻設されている。ウエハ保持体３０には、伸縮移動機構６０すなわち保持棒移動機構が設けられている。伸縮移動機構６０を動作させることにより、一対の保持棒３２を、これらが相互に近接してウエハＷを保持する近接位置と、これらが相互に離間してウエハＷを解放する離間位置との間で移動させることができる。【００３１】
図６に示すように、ウエハ保持体３０の回転軸２１は、中空である。回転軸２１は、複数の構成部品を回転軸２１の軸線方向に連結することにより構成された軸ハウジング２２の内部空間に収容されている。軸ハウジング２２の蓋体１１側の端部は、蓋体１１に設けられた貫通孔１１ｂの周りに接続され、これにより軸ハウジング２２の内部空間と処理室１０ａが連通している。軸ハウジング２２と蓋体１１の間は、パッキン２２ａにより気水密にシールされている。回転軸２１は、蓋体１１から遠い側の回転軸２１の端部において、ベアリング２３を介して軸ハウジング２２に回転自在に支承されている。蓋体１１から遠い側の回転軸２１の端には従動プーリ２１ｂが装着されている。従動プーリ２１ｂとウエハ回転モータ２０の駆動軸２０ａに装着された駆動プーリ２０ｂとの間には、タイミングベルト２０ｃが掛け渡されている。【００３２】
ウエハ回転モータ２０は、姿勢変換・移動機構７によって、蓋体１１及びウエハ保持体３０と一緒に移動可能である。図３において、蓋体１１の下方にある軸ハウジング２２及びウエハ回転モータ２０等の構成部品については、図面の簡略化のため表示が省略されていることに注意されたい。ウエハ回転モータ２０は、図６にＣＰＵ１１０（中央演算処理装置）として表示されているコントローラに電気的に接続されている。ＣＰＵ１１０からの制御信号に基づいて、ウエハ回転モータ２０の回転方向、並びにウエハ回転モータ２０の回転数（例えば１〜６０ｒｐｍ）が制御される。前述したウエハホルダ２ａ，２ｂとウエハ保持体３０との間でウエハＷの受け渡しが行われる際には、ウエハ保持体３０は、ウエハ回転モータ２０の駆動により、ウエハＷの受け渡しに適した角度位置に位置決めされる。【００３３】
ベアリング２３より処理室１０ａに近い位置において、軸ハウジング２２には、間隔をおいて配置された一対のリング状のシール部材２４を具備する第１のシール構造が設けられている。シール部材２４は、回転軸２１の回転を許容しつつ回転軸２１の周面を気水密にシールして、軸ハウジング２２内におけるシール部材２４よりも処理室１０ａに近い側の空間とシール部材２４よりもベアリング２３に近い側の空間とを隔離する。【００３４】
シール部材２４すなわち第１のシール構造より処理室１０ａに近い位置において、軸ハウジング２２の内周面には周突起２５が設けられており、この周突起と回転軸２１の周面との間に狭小隙間が画成されている。この狭小隙間は「絞り」のように作用してそこを通る流体の流れを制限し、シール部材２４の負担を軽減する。狭小隙間は、後述の第２のシール構造２６に近い位置に設けることが好ましい。なお、製造上可能であるならば、狭小隙間を画成するために回転軸２１に周突起を設けてもよい。【００３５】
狭小隙間より処理室１０ａに近い位置において、軸ハウジング２２内には、可変式のシール構造２６、すなわち第２のシール構造が設けられている。シール構造２６は、処理室１０ａと軸ハウジング２２の内部空間とを気水密に隔離する隔離状態と、両者間での流体の通流を許容する連通状態とをとることができる。【００３６】
なお、回転軸２１及び軸ハウジング２２は、耐薬品性及び耐食性に富む材質、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の合成樹脂にて形成されている。【００３７】
第２のシール構造２６は、軸ハウジング２２に装着される可撓性を有する環状の中空シール部材２６ａと、このシール部材２６ａの内部空間２６ｂに作動気体例えば窒素（Ｎ２）ガスを供給する作動気体供給系とを有している。作動気体供給系は、Ｎ２ガス供給源２７と、このＮ２ガス供給源２７に接続されるとともに開閉バルブＶ１が介設された第１のＮ２ガス供給管路２８ａと、この第１のＮ２ガス供給管路２８ａと中空シール部材２６ａの内部空間２６ｂとを接続するために軸ハウジング２２内に設けられた連通路２６ｃと、を具備している。中空シール部材２６ａは、耐薬品性及び耐食性に富む軟質の材質例えばフッ素系樹脂にて形成されている。【００３８】
開閉バルブＶ１を開放してＮ２ガス供給源２７からＮ２ガスを中空シール部材２６ａの内部空間２６ｂ内に供給すると、中空シール部材２６ａが膨張する。これにより、中空シール部材２６ａが回転軸２１の外周面に密接して、中空シール部材２６ａよりも処理室１０ａから遠い軸ハウジング２２の内部空間を、処理室１０ａから隔離することができる（第２のシール構造２６の「隔離状態」）。一方、開閉バルブＶ１を閉じると、中空シール部材２６ａの内部空間２６ｂ内にはＮ２ガスが供給されないので、中空シール部材２６ａは萎んだ状態となり、軸ハウジング２２の内部空間と処理室１０ａとが連通する（第２のシール構造２６の「連通状態」）。【００３９】
シール部材２４（第１のシール構造）と中空シール部材２６ａ（第２のシール構造）との間における軸ハウジング２２内面と回転軸２１の周面との間に中間空間２６ｄが画成される。軸ハウジング２２には、この中間空間２６ｄの上部及び下部にそれぞれ開口する供給路２６ｅ及び排出路２６ｆが設けられている。供給路２６ｅには、切換手段である切換バルブＶ０を介設した供給管路２８ｃを介して、洗浄液供給源である純水供給源２７Ａ及び乾燥気体供給源であるＮ２ガス供給源２７が接続されている。図示された実施形態においては、純水供給源２７Ａ、供給管路２８ｃ、切換バルブＶ０及び供給路２６ｅが中間空間２６ｄのための洗浄液供給系を成し、Ｎ２ガス供給源２７、供給管路２８ｃ、切換バルブＶ０及び供給路２６ｅが中間空間のための乾燥用気体供給系を成す。排出路２６ｆには、排液及び排気用のドレーン管路２９ａが接続されている。このドレーン管路２９ａには、開閉バルブＶ２が介設されている。ドレーン管路２９ａにはさらに、開閉バルブＶ２を迂回する分岐管路２９ｂが開閉バルブＶ２の上流側及び下流側にて接続されており、分岐管路２９ｂには開閉バルブＶ３が介設されている。これらは中間空間２６ｄのための流体排出系を成す。【００４０】
切換バルブＶ０を切換操作して中間空間２６ｄ内に純水及びＮ２ガスを中間空間２６ｄに順次供給することにより、回転軸２１及びこれに面する軸ハウジング２２を洗浄及び乾燥することができる。第２のシール構造２６が連通状態のときには、開閉バルブＶ２，Ｖ３のうちの一方（Ｖ２）のみが開放され、軸ハウジング２２と回転軸２１との間の隙間に侵入した処理液（薬液又は純水）が比較的小流量（小さい排出レート）ドレーン管路２９ａを介して排液される。また、第２のシール構造２６が隔離状態のときは、開閉バルブＶ２及びＶ３の双方が開放され、回転軸２１の洗浄に供された純水が比較的大流量（大きな排出レート）で排出される。【００４１】
一対のシール部材２４間に空間が画成されており、この空間はシール空間２４ａと称される。軸ハウジング２２には、このシール空間２４ａの上部及び下部にそれぞれ開口する給気路２４ｂと排気路２４ｃが設けられている。給気路２４ｂには、開閉バルブＶ４が介設された第２のＮ２ガス供給管路２８ｂを介して、Ｎ２ガス供給源２７が接続されている。また、排気路２４ｃには、開閉バルブＶ５が介設されたドレーン管路２９ｃが接続されている。【００４２】
万一、処理室１０ａ側からシール空間２４ａ内に処理液が浸入しても、シール空間２４ａ内にＮ２ガスを供給しつつそこから排出することにより、Ｎ２ガスによって液滴を除去して回転軸２１を速やかに乾燥することができる。【００４３】
伸縮移動機構６０について図６及び図８を参照して詳細に説明する。伸縮移動機構６０は、ウエハ保持体３０の回転基体３１に設けられたシリンダ体６１と、シリンダ体６１に摺動可能に設けられたピストンロッド６２と、ピストンロッド６２を短縮方向に付勢するるばね６３とを有するシリンダアクチュエータ６４と、このシリンダアクチュエータ６４のシリンダ体６１に作動流体例えば空気を供給する空気供給システム６５すなわち作動流体供給システムとを備えている。シリンダ体６１に空気が供給されていないとき（開閉バルブＶ６が閉じているとき）、一対の保持棒３２は、ばね６３により相互に近づく方向に付勢されており、ばね６３の弾性力によりウエハＷをしっかりと保持することができる。シリンダ体６１に空気が供給されると（開閉バルブＶ６が開いているとき）、ばね６３の弾性力に打ち勝ってピストンロッド６２が伸張方向に移動し、一対の保持棒３２は相互に離間し、ウエハＷを解放する。蛇腹等の伸縮部材３４が各シリンダアクチュエータ６４を囲んでおり、各伸縮部材３４の両端は回転基体３１及び可動部材３５に気水密に連結されている。伸縮部材３４は回転基体３１及び可動部材３５の相対的変位を許容しつつ、シリンダアクチュエータ６４を処理液から保護し、かつ、シリンダアクチュエータ６４で生じうるパーティクルが処理室１０ａ内に侵入することを防止している。【００４４】
空気供給システム６５において、空気供給源６７からシリンダ体６１に空気を供給する空気供給路は、回転基体３１内に設けられた第１の空気供給管路６６ａと、この第１の空気供給管路６６ａに接続される回転軸２１の内部空間２１ａと、この内部空間２１ａに接続されるとともに開閉バルブＶ６が介設された第２の空気供給管路６６ｂと、から構成されている。【００４５】
なお、ばね６３は、保持棒３２を相互に離間するように付勢するものであってもよい。この場合、シリンダアクチュエータ６４は、空気が供給されたときに保持棒３２を相互に近接させるように作用するように構成される。【００４６】
本実施形態における伸縮移動機構６０は、シリンダアクチュエータ６４が回転基体３１に組み込まれており、また、シリンダアクチュエータ６４に作動空気を供給する空気供給路が回転基体３１及び回転軸２１に組み込まれているため、占有スペースが小さく、液処理装置６の小型化に寄与している。【００４７】
処理前のウエハＷを保持したウエハホルダ２ａ（２ｂ）からウエハ保持体３０にウエハＷが渡されるときには、まず、伸縮移動機構６０により保持棒３２をウエハＷ半径方向外側に移動した状態で、ウエハＷを保持したウエハホルダ２ａを一対の保持棒３２の間に侵入させる。次いで、伸縮移動機構６０によって保持棒３２をウエハＷ半径方向内側に移動させると、保持棒３２がウエハＷを把持する。次いで、ウエハホルダ２ａはウエハＷを離し、ウエハ保持体３０から遠ざかる。その後、姿勢変換・移動機構７によって、ウエハＷが起立して鉛直姿勢とされた後、ウエハＷは、処理容器本体１２内に収容される。処理容器１０内で処理されたウエハＷは、上記と逆の手順でウエハホルダ２ｂ（２ａ）に戻される。すなわち、処理済みのウエハＷは、姿勢変換・移動機構７によって処理容器本体１２から取り出された後に水平姿勢とされる。次いで、一対の保持棒３２間にウエハホルダ２ｂ（２ａ）が挿入され、伸縮移動機構６０によって保持棒３２がウエハＷ半径方向外側に移動される。これにより、ウエハＷはウエハホルダ２に渡される。【００４８】
次に、処理液供給ノズル４０（以下に単に「ノズル４０」という）について図５及び図９を参照して詳述する。ノズル４０は、中心部に処理液供給路４１を有する略円筒状のノズル本体４２に、その周面に開口するノズル本体４２の軸線方向に延びる単一のスリット状の吐出口４３、或いはノズル本体４２の軸線方向に間隔をおいて一列に並んだ複数の吐出口４３を設けることにより形成されている。ノズル４０は、処理容器本体１２に取り付けられたノズルケース４４のノズル収容部１４内に収容されている。ノズル収容部１４の内面とノズル本体４２の外周面との間には隙間１５が設けられている。ノズル本体４２の一側側面からノズル回転軸５３が突出している。ノズル回転軸５３は、ノズルケース４４と一体の案内筒４５内に隙間を空けて挿入されている。ノズル回転モータ５０を駆動することにより、ノズル４０は、処理容器本体１２（実際にはノズルケース４４のノズル収容部１４）に対して非接触に回転及び／又は揺動可能である。図５に二点鎖線で示すように、ノズル４０の吐出口４３と異なる１又は複数の角度位置（図示例では３箇所）に、貫通孔４６を設けることが好適である。貫通孔４６から処理液を隙間１５内に吐出することにより、隙間１５内に処理液が滞留することを防止することができる。【００４９】
図９に示すように、ノズル回転モータ５０は、案内筒４５の外周面に嵌装される有底筒状のノズルモータ本体５０ａ、すなわちステーター部を具備している。このノズルモータ本体５０ａの先端部及び基端部には浮上用電磁石５１が埋設され、両浮上用電磁石５１の間には回転用電磁石５２が埋設されている。ノズル回転軸５３には磁石５４が埋設されている。浮上用電磁石５１を通電して励磁することによりノズル回転軸５３の外周面を案内筒４５の内周面から離すことができ、また、回転用電磁石５２に通電して励磁することにより、ノズル回転軸５３およびこれに接続されたノズル本体４２を回転させることができる。この構成においてはノズル回転軸５３の回転によりノズル回転軸５３が他の部材と摺動することがないため、摩耗粉由来のパーティクルによる処理液の汚染を防止することができる。ノズルモータ本体５０ａ及びノズル回転軸５３は、耐薬品性及び耐食性に富む材質例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の合成樹脂にて形成されている。ノズル回転モータ５０は、図６に示すＣＰＵ１１０からの制御信号により、その回転動作及び／又は揺動動作が制御される。【００５０】
以下に図４を参照して、液処理装置６に付属する配管系統について説明する。ノズル４０の処理液供給路４１（図５参照）には、処理液供給用の第１の開閉バルブＶ７を介して主供給管路７０の一端が接続されている。主供給管路７０の他端には純水供給源７１が接続されている。主供給管路７０には、純水供給源７１側から順に、第２の開閉バルブＶ８、フィルタＦ１、流量計ＦＭ１及び処理液の温度を所定の処理温度に調整する加熱機構Ｈが介設されている。第２の開閉バルブＶ８、フィルタＦ１、流量計ＦＭ１及び加熱機構Ｈを迂回する分岐管路７２が、バルブＶ８の上流側部分において主供給管路７０から分岐し、加熱機構Ｈの下流側部分において主供給管路７０に再び合流している。分岐管路７２には純水供給源側から順に、第３の開閉バルブＶ９、フィルタＦ２及び流量計ＦＭ２が介設されている。【００５１】
主供給管路７０の途中には、切換供給バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄが介設された薬液供給管路７３ａ，７３ｂ，７３ｃ，７３ｄをそれぞれ介して、薬液タンク７４ａ，７４ｂ，７４ｃ，７４ｄがそれぞれ接続されている。薬液タンク７４ａ，７４ｂ，７４ｃ，７４ｄ内には、種類の異なる薬液、例えばアンモニア（ＮＨ４ＯＨ），塩酸（ＨＣｌ），フッ酸（ＨＦ）等が貯留されている。処理の目的に応じて切換供給バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄのいずれかが開放され、これにより前記の薬液の一つが主供給管路７０内を流れる純水と混合され、ノズル４０から処理容器１０内に供給される。【００５２】
ノズルケース４４のノズル収容部１４には、排液口７６（図５参照）が設けられている。この排液口７６には、開閉バルブＶ１０が介設されれた排出管路７５が接続されている。この排出管路７５は、排液管路７８Ａに接続されている。【００５３】
処理容器本体１２の排液口１７（図５参照）には、開閉バルブＶ１１が介設された排液管路７８が接続されている。この排液管路７８には、純水用ドレーンバルブＤＶ１及び薬液用ドレーンバルブＤＶ２，ＤＶ３，ＤＶ４がそれぞれ介設された４つのドレーン管路７９が並列に接続されている。【００５４】
処理容器本体１２の空気抜き口１８（図５参照）には、開度調整可能な開閉バルブＶｌ２が介設された排気管路８０が接続されている。空気抜き口１８を介して、例えば、処理室１０ａ内に満たされる処理液中に含まれうる気泡を排出することができる。排気管路８０は、排液管路７８に接続されている。【００５５】
処理容器本体１２の乾燥用気体供給口１９（図５参照）には、開閉バルブＶ１３を介して乾燥用気体（媒体）の供給管路、例えばクールＮ２ガス供給管路８１、ホットＮ２ガス供給管路８２及びイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）供給管路８３が接続されている。必要に応じて、図示しないＮ２ガス供給源或いはＩＰＡ供給源から、クール又はホットＮ２ガス或いはＩＰＡ蒸気が処理容器１０内に供給される。【００５６】
なお、供給管路８１，８２，８３に接続される供給管路８４に分岐管路を接続し、当該分岐管路から切換バルブＶ０（図６参照）を介して前述したシール部材２４とシール構造２６との間に形成される中間空間２６ｄ内に乾燥用気体を供給できるようにしてもよい。【００５７】
処理容器本体１２の急速排液口１７Ａ（図５参照）には、開閉バルブＶ１４を介設した大口径の排液管路７８Ａが接続されている。処理容器１０内でのウエハＷの液処理が終了した後に開閉バルブＶ１３を開放することによって、処理容器１０内での液処理に供された処理液（薬液又は純水）を、短時間で排液管路７８Ａを介して処理容器１０外に排出できる。【００５８】
排液管路７８Ａから分離独立した排液管路７８Ｂが設けられている。この排液管路７８Ｂには、排液管路７８及び戻り管路８４が接続されている。戻り管路８４には、切換バルブＶＡが介設されている。【００５９】
再度図５を参照すると、処理容器１０の処理室１０ａの上部の左右２箇所には、倒れ防止機構９０が設けられている。倒れ防止機構９０は、特に急速排液口１７Ａからの液排出時に、ウエハ保持体３０によって保持された隣接するウエハＷ同士が接触することを防止する。倒れ防止機構９０は、櫛歯状に配列された複数の支持片９１を有する倒れ防止部材９２と、この倒れ防止部材９２の角度位置を変更する図示しない回転機構と、を備えている。回転機構の駆動により、倒れ防止部材９２の位置を、各支持片９１が隣接するウエハＷ間の隙間に挿入されてウエハＷに係合する係合位置と、図５に示すように各支持片９１がウエハＷ間の隙間から離脱している非係合位置との間で切り替えることができる。【００６０】
図５に示すように、処理容器本体１２の上部の周面に、超音波振動子１００を装着してもよい。超音波振動子１００により処理室１０ａを満たす処理液に超音波振動を付与して、ウエハＷを超音波洗浄することができる。【００６１】
切換バルブＶ０と開閉バルブＶｌ〜Ｖｌ４は、ＣＰＵ１１０すなわちコントローラに電気的に接続されており、ＣＰＵ１１０からの制御信号に基づいて切換若しくは開閉制御される。【００６２】
次に、液処理装置６の作用について説明する。
搬送アーム４が、搬入・搬出部１に載置されたキャリアＣからウエハＷを取り出し、ウエハホルダ２ａに渡す。これを繰り返すことにより、キャリアＣ内の複数枚のウエハをウエハホルダ２ａに移載する。例示的な実施形態において、キャリアＣは隣接するウエハＷの間隔が１０ｍｍとなるようにウエハＷを保持するように構成され、ウエハホルダ２ａは隣接するウエハＷの間隔が３ｍｍとなるようにウエハＷを保持するように構成されているため、搬送アーム４によりキャリアＣからウエハホルダ２ａにウエハＷを移載すると、その結果としてウエハＷのピッチが変換（１０ｍｍから３ｍｍに）される。【００６３】
次に、ウエハホルダ２ａによって保持された複数枚のウエハＷを、蓋体１１に装着されたウエハ保持体３０の保持棒３２に渡す。ウエハＷがウエハ保持体３０に渡された後、ウエハホルダ２ａはウエハ保持体３０から退避する。姿勢変換・移動機構７が作動して、蓋体１１及びウエハ保持体３０に保持されたウエハＷを水平姿勢から垂直姿勢に姿勢変換するとともに、処理容器本体１２に向かって移動する。これにより、ウエハＷが処理容器本体１２内に搬入されるとともに、蓋体１１が処理容器本体１２の開口１３を密閉する。【００６４】
処理容器１０内にウエハＷを垂直姿勢で収容した状態で、開閉バルブＶ８を開放して純水供給源７１から主供給管路７０に処理温度に温調された純水を流すとともに、切換開閉バルブＶａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄのうちの選択された１つを開放して薬液を純水に混合して、温調された希釈薬液をノズル４０に供給する。希釈薬液の供給開始時には、ノズル４０の吐出口４３は処理室１０ａの下部空間を向いている。希釈薬液の供給開始後に、ノズル回転モータ５０によりノズル４０の吐出口４３が徐々に上を向くように回転し、希釈薬液のしぶきがウエハＷに飛散するのを防止しながら、処理容器１０内に混合薬液を供給する。また、薬液の供給と同時に、ウエハ回転モータ２０によりウエハ保持体３０及びこれに保持されたウエハＷが、ウエハＷの中心を中心としてゆっくりと回転する。ノズル４０からの薬液供給時には、空気抜き口１８に接続する排気管路８０に介設された開閉バルブＶ１２が開放されている。このため処理室１０ａに供給される薬液の液流は円滑になる。このように、処理容器１０の下部に配設されたノズル４０を回転又は揺動させながら、或いはノズル４０を数回揺動させた後に回転させながら、回転するウエハＷに向けて吐出口４３から薬液を吐出させることにより、薬液はウエハＷの全面に満遍なく行き渡り、均一な薬液処理例えばエッチング処理が施される。【００６５】
なお、吐出口４３の向きが図５の二点鎖線矢印方向を向いている時間を長くすることにより、ウエハＷ周辺部をより多くエッチングすることもできる。【００６６】
薬液処理中において、処理室１０ａ内は薬液で満たされ、ノズル４０から処理室１０ａ内に薬液が供給されると同時に、処理室１０ａから薬液が排液口１７を介して排液される。【００６７】
なお、ノズル４０を３６０度回転させながら収容部１４の内面とノズル４０の外周面との間の隙間１５に吐出口４３から薬液を吐出させることにより、当該隙間１５に滞留する薬液を新規な薬液により追い出すことができる。このため、隙間１５に滞留する古い薬液により液処理への悪影響が生じることはない。【００６８】
薬液処理時には、開閉バルブＶ１は閉じており中空シール部材２６ａの内部空間２６ｂにＮ２ガスは供給されないため、第２のシール構造２６は連通状態にある。このため、処理室１０ａを満たす薬液は、シール構造２６と回転軸２１との間の隙間を通って、シール構造２６とシール部材２４（第１のシール構造）との間における軸ハウジング２２と回転軸２１との間の中間空間２６ｄに侵入する。このとき、開閉バルブＶ２，Ｖ３のうちの一方の開閉バルブＶ２のみが開放しており、中間空間２６ｄ内に侵入した薬液は、ドレーン管路２９ａを介して排液される。このため、中間空間２６ｄ内に薬液が滞留することにより生じうる薬液処理への悪影響は生じない。また、２つのシール部材２４のうちの処理室１０ａ側のシール部材２４と回転軸２１とのシール面を通って、薬液がシール空間２４ａに入ることが防止される。【００６９】
更に、薬液処理時には、開閉バルブＶ４も開放されて、Ｎ２ガス供給源２７からＮ２ガスがシール部材２４間のシール空間２４ａ内に供給される。このとき、開閉バルブＶ５も開放され、シール空間２４ａ内に供給されたＮ２ガスはドレーン管路２９ｃを介して排出される。このため、万一、処理室１０ａ側のシール部材２４を超えて薬液がシール空間２４ａ内に侵入してきたとしても、シール空間２４ａ内を流れるＮ２ガスと一緒にシール空間２４ａから排出されるか、或いはＮ２ガスにより蒸発させられた後にＮ２ガスと一緒にシール空間２４ａから排出される。また、ベアリング２３の摩耗により発生するパーティクルが、２つのシール部材２４のうちのベアリング２３側のシール部材２４を超えてシール空間２４ａ内に侵入してきたとしても、シール空間２４ａ内を流れるＮ２ガスと一緒にシール空間２４ａから排出される。【００７０】
以上のように、薬液処理時には、２つのシール部材２４を備えた第１のシール構造により、薬液のベアリング２３側への侵入及びベアリング２３にて生じたパーティクルが処理容器１０側に侵入することが防止される。【００７１】
なお、シール空間２４ａ内の圧力を高めに維持しておくことも好ましい。そうすれば、シール空間２４ａ内への薬液およびパーティクル（ベアリング２３によるもの）の侵入をより効果的に防止することができる。シール空間２４ａ内の圧力を高くするには、ドレーン管路２９ｃの径を小さくするか或いはそこに絞りを設けることが考えられる。【００７２】
薬液処理を所定時間行った後、開いていた切換開閉バルブ（Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃ，Ｖｄのいずれか）を閉じて薬液の供給を停止し、回転するノズル４０から純水のみを処理容器１０内に供給してリンス処理を行う。このときには、開閉バルブＶ８を閉じるとともに開閉バルブＶ９を開放し、温調されていない純水を供給する。このリンス処理時においてもウエハ回転モータ２０によりウエハＷは回転しているので、回転するノズル４０から供給される純水はウエハＷの全面に満遍なく行き渡り、均一なリンス処理が施される。【００７３】
リンス処理時にもシール構造２６は連通状態となっているが、中間空間２６ｄに侵入した純水はドレーン管路２９ａを介して排液されると共に、２つのシール部材２４間のシール空間２４ａ内にＮ２ガスが供給される。これにより薬液処理時と同様の効果が達成される。【００７４】
リンス処理を所定時間行った後、ＣＰＵ１１０からの制御信号に基づいて、開閉バルブＶ９が閉じられて純水の供給が停止され、ノズル回転モータ５０の駆動が停止され、更にウエハ回転モータ２０の駆動が停止される。その後、開閉バルブＶ１４及びＶ１０を開放して、処理容器１０内の純水を、急速排液口１７Ａ及び排液口７６から、排液管路７８Ａを介して排出する。この純水の排液と同時に、乾燥用気体供給口１９から乾燥用気体例えばＮ２ガス又はＮ２ガスとＩＰＡの混合気体を所定時間にわたって処理容器１０内に供給して、ウエハＷに付着している液滴を除去して、ウエハＷを乾燥する。【００７５】
ウエハＷの乾燥が開始されるときに、ＣＰＵ１１０からの制御信号に基づいて開閉バルブＶ１が開放されて、Ｎ２ガス供給源２７からシール構造２６の中空シール部材２６ａの内部空間２６ｂにＮ２ガスが供給される。これにより、中空シール部材２６ａが膨隆し、回転軸２１の外周面に密接して、処理室１０ａと中間空間２６ｄとが隔離される。この状態において、中間空間２６ｄ及びこの中間空間２６ｄに臨む部材（軸ハウジング２２、回転軸２１、シール部材２４、中空シール部材２６ａ）の表面が洗浄される。【００７６】
すなわち、まず、切換バルブＶ０が純水供給源２７Ａ側に切り換わって、シール部材２４とシール構造２６との間の中間空間２６ｄ内に純水を供給して、中間空間２６ｄ及びこの中間空間２６ｄに臨む部材の表面を洗浄する。その後、切換バルブＶ０がＮ２ガス供給源２７側に切り換わって、中間空間２６ｄ内にＮ２ガスを供給して中間空間２６ｄ及びこの中間空間２６ｄに臨む部材の表面を乾燥する。この洗浄及び乾燥時には、開閉バルブＶ２及びＶ３は開放しており、純水及びＮ２ガスを大流量で中間空間２６ｄから排出することができるようにされている。この洗浄及び乾燥時においても、２つのシール部材２４間のシール空間２４ａ内にＮ２ガスが供給される。以上のように中間空間２６ｄ及びこの中間空間２６ｄに臨む部材の表面を洗浄することにより、この部分に薬液若しくはパーティクルが残留することが防止され、次の薬液処理時に、この部分から処理室１０ａ内に薬液及びパーティクルが入り込むおそれがない。【００７７】
ウエハＷの乾燥並びに中間空間２６ｄの洗浄及び乾燥の終了により、一連の液処理工程が終了する。【００７８】
次に、姿勢変換・移動機構７を駆動して、蓋体１１を処理容器本体１２から引き離し、、ウエハ保持体３０によって保持されたウエハＷを処理容器本体１２内から取り出し、そしてウエハＷの姿勢を垂直姿勢から水平姿勢に変換する。水平姿勢にされた処理済みウエハＷは、未処理ウエハＷを扱ったウエハホルダ２ａではなく、別のウエハホルダ２ｂに受け取られた後、ウエハ搬送アーム４によって空のキャリアＣ内に収容されて、他の処理装置に搬送される。【００７９】
以上図示された好適な実施形態に基づいて本発明について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、本発明による液処理装置として同時に複数枚のウエハＷを処理するバッジ式の液処理装置を例示したが、一度に１枚のみのウエハＷを処理する枚葉式の液処理装置であっても構わない。【００８０】
また、上記実施形態では、ウエハ保持体３０は蓋体１１に取り付けられていたが、処理容器本体１２にウエハ保持体３０を設けることも可能である。この場合、ウエハの搬送機構との受け渡しを処理容器本体１２内で行えるような構造が必要となる。【００８１】
また、上記実施形態では、被処理体は半導体ウエハであったが、被処理体は例えばＬＣＤ用ガラス基板またはディスク基板等であってもよい。
【図１】
0004451451.tif 000002
【図２】
0004451451.tif 000003
【図３】
0004451451.tif 000004
【図４】
0004451451.tif 000005
【図５】
0004451451.tif 000006
【図６】
0004451451.tif 000007
【図７】
0004451451.tif 000008
【図８】
0004451451.tif 000009
【図９】
0004451451.tif 000010