(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒の存在下、脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物をアンモニアと気相接触反応せしめてピリジン塩基類を製造する方法において、触媒としてチタンに対するケイ素の原子比が約５〜約１０００のチタノシリケート又はコバルトに対するケイ素の原子比が約５〜約１０００のコバルトシリケートを使用することを特徴とするピリジン塩基類の製造法。
【請求項２】
チタノシリケート又はコバルトシリケートの結晶構造が、ＭＦＩ構造又はＭＥＬ構造である請求項１記載の方法。
【請求項３】
触媒が、チタノシリケート又はコバルトシリケートに１〜１７族元素からなる群より選ばれる１種以上の元素のイオン及び／又は化合物を含有せしめたものである請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
アセトアルデヒドをアンモニアと気相接触反応せしめて、主生成物としてα―ピコリン及びγ―ピコリンを製造する請求項１、２又は３記載の方法
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、触媒の存在下、脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物をアンモニアと気相接触反応せしめてピリジン塩基類を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
触媒の存在下、脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物をアンモニアと気相接触反応せしめてピリジン塩基類を製造する方法は公知であり、触媒として不定形シリカ−アルミナを使用する方法やアルミノシリケート等のゼオライトを使用する方法等、種々報告されている。なかでもゼオライトは耐熱性に優れており、高温条件下での気相反応が実施されるピリジン塩基類製造の触媒として好適である。
【０００３】
ピリジン塩基類の製造に触媒として使用されるゼオライトとしては、例えば、アルミノシリケートのほか、フェロシリケート、ボロシリケート及びガロシリケートのヘテロシリケートが知られており、これらゼオライトはそれらを単独で又はさらに銅、亜鉛、カドミウム、ビスマス、クロム、モリブデン、タングステン、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム及び／又はイリジウム等の種々の元素のイオン及び／又は化合物を含有せしめて触媒として使用される。
【０００４】
そして、ピリジン塩基類の製造においては、原料の脂肪族アルデヒド及び／又は脂肪族ケトンの組み合わせにより、生成するピリジン塩基類の主たる化合物が決定されることが知られている。これらの代表例を表１に示す。
【０００５】
【表１】
0004427116.tif 000002
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記のとおり、触媒としてのゼオライトの存在下、脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物をアンモニアと気相接触反応せしめることにより種々のピリジン塩基類が製造できる。しかしながら、従来法により製造されるピリジン塩基類の収率は未だ低く、更なる収率の向上が望まれている。
例えば、アセトアルデヒドをアンモニアと反応させると主生成物としてα−ピコリン及びγ−ピコリンが製造されるが、本発明者が上記従来法におけるゼオライト、即ちアルミノシリート、フェロシリケート等を触媒として用いて、α−ピコリン及びγ−ピコリンの製造を行ったところ、後述の比較例に記載するとおり、α−ピコリン及びγ−ピコリンの収率は、アルミノシリケートを用いたときには１７．６％及び１８．５％、フェロシリケートを用いたときには１８．６％及び１７．５％、ガロシリケートを用いたときには１７．３％及び１９．３％であった。
このように従来の方法によると目的物とするピリジン塩基類の収率は未だ満足できるものではない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、さらに高い収率でピリジン塩基類を製造できる方法を見出すべく鋭意検討した。その結果、触媒の存在下に、脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物をアンモニアと気相接触反応せしめてピリジン塩基類を製造するにあたり、触媒としてチタン及び／又はコバルト並びにケイ素をゼオライトの構成元素として含有し、チタン及び／又はコバルトに対するケイ素の原子比が約５〜約１０００、かつ制御指数が約０．８〜約１２のゼオライトを使用すると、意外にも、ピリジン塩基類製造用触媒として従来公知のアルミノシリケート、フェロシリケート等のゼオライトを用いたときに比べてピリジン塩基類をより高い収率で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明は、触媒の存在下、脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物をアンモニアと気相接触反応せしめてピリジン塩基類を製造する方法において、触媒としてチタン及び／又はコバルト並びにケイ素をゼオライトの構成元素として含有し、チタン及び／又はコバルトに対するケイ素の原子比が約５〜約１０００、かつ制御指数が約０．８〜約１２のゼオライトを使用することを特徴とするピリジン塩基類の製造法に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明のピリジン塩基類の製造は、目的とするピリジン塩基類に応じた脂肪族アルデヒド、脂肪族ケトン又はそれらの混合物を用い、それらを本発明の触媒の存在下にアンモニアと気相接触反応せしめることによって行われる。
【００１０】
脂肪族アルデヒドは、好ましくは炭素数１〜５の脂肪族アルデヒドであり、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等の飽和脂肪族アルデヒド、アクロレイン、メタクロレイン、クロトンアルデヒド等の不飽和脂肪族アルデヒドが挙げられる。また、脂肪族ケトンは、好ましくは炭素数３〜５の脂肪族ケトンであり、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等が挙げられる。脂肪族アルデヒド及び脂肪族ケトンは、それらのモノマーを発生するようなダイマー、トリマー、その他のオリゴマー及びポリマーを用いることもできる。原料の脂肪族アルデヒド及び／又は脂肪族ケトンの組み合わせと、主生成物であるピリジン塩基類の例は上記表１に示したとおりである。
【００１１】
本発明には、触媒としてチタン及び／又はコバルト並びにケイ素をゼオライトの構成元素として含有し、チタン及び／又はコバルトに対するケイ素の原子比が約５〜約１０００、かつ制御指数が約０．８〜約１２のゼオライトを使用する。例えば、チタン及びケイ素をゼオライトの構成元素として含有するチタノシリケート、コバルト及びケイ素をゼオライトの構成元素として含有するコバルトシリケートのほか、チタン、コバルト及びケイ素をゼオライトの構成元素として含有するゼオライトが挙げられ、本発明の反応には、これらの１種又は２種以上を触媒として使用することができる。以下、本発明の触媒である上記ゼオライトをチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトと称する。本発明のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトにおけるチタン及び／又はコバルトに対するケイ素の原子比は、好ましくは約１０〜約５００である。尚、ここで言う「制御指数」とは、例えばＦｒｉｌｌｅｔｔｅ等のＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，６７，２１８（１９８１）で定義されている触媒の細孔特性を表わすものである。この値は測定の方法により若干の幅があるが、Ｆｒｉｌｌｅｔｔｅ等の測定の結果を次の表２に示す。
【００１２】
【表２】
0004427116.tif 000003
【００１３】
本発明の触媒は、従来公知の方法によって調製することができ、チタン及び／又はコバルトに対するケイ素の原子比並びに結晶構造等が異なる種々のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを容易に得ることができる。例えば、特開昭６３−５４３５８号公報、特開昭６０−１２１３５号公報、特開昭５６−９６７２０号公報、特開昭５５−７５９８号公報、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，１３０，４４０（１９９１）、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ａ：Ｇｅｎｅｒａｌ，１２６，５１（１９９５）、Ｚｅｏｌｉｔｅ，１７（４），３５４（１９９６）等に記載の方法と同様にして調製すればよい。
【００１４】
本発明の触媒の結晶構造に特に制限はないが、ペンタシル型の結晶構造を有するものが好ましく、中でもＭＦＩ型又はＭＥＬ型の結晶構造を有するものがより好ましい。
【００１５】
本発明には、チタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトをそのまま使用することができるが、チタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトに、さらに１〜１７族元素からなる群より選ばれる１種以上の元素のイオン及び／又は化合物を含有させたものを用いると、ピリジン塩基類の収率が向上する。
【００１６】
本発明における１〜１７族元素とは、１８族型元素周期律表に掲げられる元素であり、具体的には、１族元素としてはＬｉ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓ、２族元素としてはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａ、３族元素としてはＳｃ、Ｙ及びランタノイド元素（Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｅｒ及びＹｂ）、４族元素としてはＴｉ、Ｚｒ及びＨｆ、５族元素としてはＶ、Ｎｂ及びＴａ、６族元素としてはＣｒ、Ｍｏ及びＷ、７族元素としてはＭｎ、Ｔｃ及びＲｅ、８族元素としてはＦｅ、Ｒｕ及びＯｓ、９族元素としてはＣｏ、Ｒｈ及びＩｒ、１０族元素としてはＮｉ、Ｐｄ及びＰｔ、１１族元素としてはＣｕ及びＡｇ、１２族元素としてはＺｎ及びＣｄ、１３族元素としてはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ及びＴｌ、１４族元素としてはＧｅ、Ｓｎ及びＰｂ、１５族元素としてはＳｂ及びＢｉ、１６族元素としてはＰｏ、１７族元素としてはＦ、Ｃｌが挙げられる。好ましくは、Ｔｌ、Ｐｂ及びＣｏである。
【００１７】
これら１〜１７族元素のイオン及び／又は化合物としては、それら元素のイオン、酸化物、ハロゲン化物、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、水酸化物、硫化物、ケイ酸塩、チタン酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩等が挙げられ、これらの１種或いは２種以上を含有することができる。これらの元素のイオン及び／又は化合物を、チタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトに含有せしめる方法としては、イオン交換法、混練法、含浸法、浸漬法、沈着法又は蒸発乾固法等が挙げられるが、これらの方法に限定されるものではない。具体的には、例えば、▲１▼イオン交換法により含有させるときには、上記元素の可溶性塩（例えば、塩化物、硝酸塩或いは酢酸塩等）を０．０１〜２グラムイオン／リットルの濃度で水に溶解し、当該水溶液にアルカリイオン型、アンモニウムイオン（ＮＨ４+）型又はプロトン（Ｈ+）型のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライト、好ましくはＮＨ４+型チタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを浸し、所定温度で攪拌した後、濾過する工程を繰り返し、最終的に得られた濾滓を水で洗浄する。こうして得られた上記元素のイオンを含有するチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを、乾燥し、必要に応じて焼成すればよい。▲２▼混練法により上記元素のイオン及び／又は化合物を含有させるときは、上記元素の化合物を、Ｈ+型或いはＮＨ４+型のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトと、必要に応じて水と共に混練した後、乾燥し、必要ならば焼成すればよい。▲３▼浸漬法により上記元素のイオン及び／又は化合物を含有させるときは、上記元素の可溶性塩を水に溶解し、得られた溶液にＮＨ４+型或いはＨ+型のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライト、好ましくはＮＨ４+型チタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを浸した後、乾燥し、必要ならば焼成すればよい。▲４▼沈着法により含有させるときは、上記元素の可溶性塩の水溶液にＮＨ４+型或いはＨ+型のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを分散させ、この混合物中にアンモニア水溶液を加えることによりＮＨ４+型或いはＨ+型のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトの表面に上記元素の水酸化物を沈着させ、濾過した後、水で洗浄して乾燥し、必要ならば焼成すればよい。▲５▼蒸発乾固法により含有させるときは、上記元素の化合物並びにＮＨ４+型或いはＨ+型のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを水中で攪拌、混合し、蒸発乾固した後、必要ならば焼成すればよい。いずれの方法においても、焼成を行うときには、通常空気、窒素及び／又は二酸化炭素等の雰囲気下に、３５０〜８００℃で数時間行われるが、触媒は気相接触反応時に反応器内で加熱されるため必ずしも触媒の焼成は必要でない。
【００１８】
１〜１７族元素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素のイオン及び／又は化合物の含有量は、チタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトによって或いは含有させる元素の種類又はその形態によって好ましい範囲が異なるが、通常０．０００５〜１０ｍｇ当量／ゼオライトｇである。
【００１９】
本発明のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトは、そのまま又はシリカ、硅藻土、カオリン、ベントナイト、アルミナ及び／或いはシリカアルミナ等のバインダーや水、ポリビニルアルコール、酢酸ビニルを加えた後、打錠機又は押し出し機で円柱状、円筒状等の所望の形状に成型して固定床触媒として使用することができる。またチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトを、シリカ、硅藻土、カオリン、ベントナイト、アルミナ及び／又はシリカアルミナ等のバインダー並びに水と混合してスラリーとし、これを噴霧乾燥して、球状のマイクロビーズにして流動床触媒として使用することができる。本発明のチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトが、１〜１７族元素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素のイオン及び／又は化合物を含有するものであるときは、上記のようにして所望の形状成型したチタン及び／又はコバルトシリケートゼオライトに、上記イオン交換法、含浸法、浸漬法等により、１〜１７族元素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素のイオン及び／又は化合物を含有させて、固定床触媒又は流動床触媒としてもよい。いずれの方法においても、空気、窒素及び二酸化炭素等の雰囲気下に、３５０〜８００℃で数時間焼成して、成型品に強度を賦与し、バインダー等に含まれる揮発成分を除去する。しかし、触媒は気相接触反応時に反応器内で加熱されるため、この成形された触媒についても必ずしも焼成は必要でない。
【００２０】
本発明のピリジン塩基類の製造は、固定床触媒反応器、流動床触媒反応器又は移動床触媒反応器で行うことができる。
本発明を固定床触媒反応器を用いて行う場合を例にとり以下に説明する。
本発明の触媒を反応管に充填し、当該反応管に脂肪族アルデヒド及び／又は脂肪族ケトン並びにアンモニアの混合ガスを導入して気相接触反応させる。脂肪族アルデヒド及び／又は脂肪族ケトン並びにアンモニアの混合ガスは、水、窒素等の不活性ガス及び／又はメタノールと共に供給しても、特に支障なく反応を行うことができる。脂肪族アルデヒド及び／又は脂肪族ケトンの組み合わせ、並びにそれらとアンモニアの使用割合は、目的とするピリジン塩基類に応じて適宜選択すればよい。例えば、ピリジン及びβ−ピコリンを主生成物として製造する場合は、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド及びアンモニアを用い、アセトアルデヒド：ホルムアルデヒド：アンモニアのモル比を好ましくは１：０．３〜３：０．５〜５とする。この際、さらにメタノールを用いるときは、アセトアルデヒド１モルに対してメタノールを０．５モル以下にすることが好ましい。ホルムアルデヒドは、ホルマリンの形態で反応に使用することができる。また、α−ピコリン及びγ−ピコリンを主生成物として製造する場合は、アセトアルデヒド及びアンモニアを用い、アセトアルデヒド：アンモニアのモル比を好ましくは１：０．８〜３とする。尚、本発明の方法によってアセトアルデヒド及びアンモニアを反応させると、特にα−ピコリンの選択性が向上する。
【００２１】
そして脂肪族アルデヒド及び／又は脂肪族ケトン、アンモニア並びに所望により水、窒素等の不活性ガス及び／又はメタノールの混合ガスを、空間速度（ＳＶ）１００〜１００００ｈｒ-1、好ましくは３００〜３０００ｈｒ-1で触媒上に通じる。反応温度は３００〜７００℃であり、３５０〜６００℃が好ましい。また反応の圧力は、大気圧以下から数気圧まで用いることができるが、通常大気圧から２気圧付近が至便である。
【００２２】
上記のようにして反応を行った後、反応管から流出する反応ガスを、そのまま又は適当な溶媒と接触させて、反応ガスに含まれるピリジン塩基類等を凝縮及び／又は溶媒に溶解させる。得られた凝縮物及び／又は溶液を蒸留すれば、ピリジン塩基類が回収できる。
【００２３】
また、反応を長時間実施すると触媒の劣化が生じる場合があるが、このようなときには従来の触媒再生方法に準じた方法、即ち、触媒の耐熱温度以下の高温、好ましくは、３５０〜８００℃の温度で空気を触媒層に通じて触媒上の析出炭素を焼却する。必要ならば、空気を水蒸気、窒素、二酸化炭素等で希釈してもよい。
【００２４】
【実施例】
以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００２５】
触媒調製例１
チタノシリケートを、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，１３０，４４０（１９９１）に記載の方法に基づき、次のとおりにして合成した。
攪拌機及び滴下ロートを備えたパイレックス製反応器中の２０重量％水酸化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムのメタノール溶液５６６ｇ（水酸化ｎ−テトラブチルアンモニウム０．４３６モル）及びオルトケイ酸テトラエチル４５５ｇ（２．１８モル）の混合物に、攪拌下、０．５重量％チタン酸テトラブチルのイソプロピルアルコール溶液２３００ｇ（チタン酸テトラブチル０．０３３モル）を滴下ロートから滴下しながら混合した後、約３０分攪拌を続けた。得られた混合物に、攪拌下、蒸留水７９０ｇを加えて７５〜８０℃でアルコールを除去しながら２時間反応を行った。得られた反応物を冷却してオートクレーブに移し、攪拌しながら１７０℃に２日間保持した。次いでオートクレーブを冷却し、内容物を濾過して生成した結晶を濾別した後、イオン交換水で洗浄し、１００℃で８時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で１６時間焼成した。得られた焼成物は、分析の結果、ＭＥＬ型の結晶構造を有するチタノシリケートであり、Ｓｉ／Ｔｉ（原子比）＝５０であった。
得られたチタノシリケートを、５％の塩化アンモニウム水溶液１リットル中に加えて、５０〜６０℃で１時間攪拌した後、濾過する方法によりイオン交換を行った。濾過により得られる濾滓について上記イオン交換をさらに３回繰り返した後、最終的に得られた濾滓を洗液中のＣｌ-イオンが１ｐｐｍ以下になるまで水洗し、次いで１１０℃で１６時間乾燥してＮＨ４+型チタノシリケートを得た。さらに空気中、５５０℃で６時間焼成を行いＨ+型チタノシリケートを得た。
【００２６】
触媒調製例２
コバルトシリケートを、特開昭６３−５４３５８号公報の記載に基づき、次のとおりにして合成した。
オートクレーブ中でオルトケイ酸テトラエチル１００ｇ（０．４８モル）、１０重量％水酸化テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム水溶液２１７．５ｇ（水酸化テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム０．９６モル）を混合した。得られた混合物に、攪拌下、コバルト（III）アセチルアセトナート５．７ｇ（０．０１６モル）及びエチレングリコールの混合溶液を加えた後、約３０分攪拌を続け、次いで、１０５℃に昇温し、同温度で１２０時間攪拌して水熱合成を行った。オートクレーブを冷却し、内容物を濾過して生成した結晶を濾別した後、結晶をイオン交換水で洗液のｐＨが７．３になるまで洗浄した。その後、１２０℃で１６時間乾燥し、空気気流中、５５０℃で４時間焼成した。得られた焼成物は、分析の結果、ＭＦＩ型の結晶構造を有するコバルトシリケートであり、Ｓｉ／Ｃｏ（原子比）＝２５であった。
得られたコバルトシリケートについて、触媒調製例１と同様にしてイオン交換、水洗、乾燥及び焼成を行い、ＮＨ４+型コバルトシリケート及びＨ+型コバルトシリケートを得た。
【００２７】
触媒調製例３
アルミノシリケートを特開平２−２０９８６７号公報の記載に基づき、次のとおりにして合成した。
蒸留水４３３．４ｇ、硫酸アルミニウム４．６ｇ、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムブロミド５５．８ｇ及び硫酸４０ｇを混合し、Ａ液とした。蒸留水３２０ｇ及び３号ケイ酸ソーダ４５３ｇを混合し、Ｂ液とした。蒸留水７５４ｇ及び食塩１８９ｇを混合し、Ｃ液とした。ステンレス製オートクレーブにＣ液を投入し、激しく攪拌しながら、Ａ、Ｂ両液を滴下混合した。混合物のｐＨが９．５〜１１に保たれるように調節した。オートクレーブを密閉し、１６０℃に昇温、攪拌を継続し、２０時間水熱合成を行った。この時ゲージ圧は、０．５〜０．６ＭＰａ（５〜６ｋｇ／ｃｍ2）を示した。反応終了後、室温まで冷却し、オートクレーブ内容物を濾過して生成した結晶を濾別した。得られた結晶を蒸留水中に投入し、攪拌して洗浄後、濾過した。濾液中のＣｌ-イオン濃度が１ｐｐｍ以下になるまで上記洗浄、濾過を繰り返し、１１０℃で１６時間乾燥した後、空気気流中、５３０℃で４時間焼成した。得られた焼成物は、分析の結果、ＭＦＩ型の結晶構造を有するＮａ+型アルミノシリケートであり、Ｓｉ／Ａｌ（原子比）＝１００であった。
得られたＮａ+型アルミノシリケートについて、触媒調製例１と同様にしてイオン交換、水洗、乾燥及び焼成を行い、ＮＨ+型アルミノシリケート及びＨ+型アルミノシリケートを得た。
【００２８】
触媒調製例４
フェロシリケートを特開平２−２０９８６７号公報の記載に基づき、次のとおりにして合成した。
硝酸鉄（III）・九水和物１９ｇ、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムクロリド３４ｇ及び蒸留水からなる水溶液をＡ液とする。ヒュームシリカ７０ｇ及び蒸留水からなる懸濁液をＢ液とする。水酸化ナトリウム７．４ｇ及び蒸留水５０ｇからなる溶液をＣ液とする。ステンレス製オートクレーブにＣ液を投入し、攪拌下、Ａ、Ｂ両液を加えて混合した。オートクレーブを密閉し、１６０℃に昇温、攪拌を継続し、６０時間水熱合成を行った。ｐＨは１２．４から１１．４へ変化した。オートクレーブ内容物を濾過して固形物を濾別し、得られた固形物を洗液のｐＨが７．３になるまで蒸留水で洗浄した。得られた固形物は、分析の結果、ＭＦＩ型の結晶構造を有するＮａ+型フェロシリケートであり、Ｓｉ／Ｆｅ（原子比）＝２５であった。
得られたＮａ+型フェロシリケートについて、触媒調製例１と同様にしてイオン交換、水洗、乾燥及び焼成を行い、ＮＨ４+型フェロシリケート及びＨ+型フェロシリケートを得た。
【００２９】
触媒調製例５
触媒調製例４において硝酸鉄（III）・九水和物に代えて硝酸ガリウム（III）・八水和物１９ｇを使用した以外は触媒調製例４と同様に行い、Ｎａ+型ガロシリケート、ＮＨ４+型ガロシリケート及びＨ+型ガロシリケートを得た。尚、Ｎａ+型ガロシリケートの分析により、このものがＭＦＩ型の結晶構造を有し、Ｓｉ／Ｇａ（原子比）＝２５であることを確認した。
【００３０】
実施例１
触媒調製例１で得たＨ+型チタノシリケート（Ｈ+型Ｔｉ／Ｓｉ）を圧力３９ＭＰａにて押し固めた後、粉砕して粒径１．０〜１．７ｍｍ（１０〜１６メッシュ）に揃えたものを触媒として、ピリジン塩基類の製造を行った。
上記触媒６ｇを内径２０ｍｍのガラス製反応管に充填した。反応管の触媒充填部を３８０℃に加熱し、当該触媒充填部にアンモニアガス２７６０ｍｌ／ｈｒ及びアセトアルデヒド２．４８ｇ／ｈｒを供給した。アセトアルデヒド供給開始から３０分後、反応管から流出する反応ガスを２０分間水中に吹き込んで反応ガス中の可溶性成分を水に溶解した。得られた溶液をガスクロマトグラフィーにより分析した。結果を表３に示す。
【００３１】
尚、ピリジン塩基類の収率は、反応に供給したアセトアルデヒドの全炭素数を基準としたもので、次の計算式により求めた。
【００３２】
【数１】
0004427116.tif 000004
【００３３】
【数２】
0004427116.tif 000005
【００３４】
実施例２
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート（Ｈ+型Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表３に示す。
【００３５】
比較例１
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて触媒調製例３で得たＨ+型アルミノシリケート（Ｈ+型Ａｌ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表３に示す。
【００３６】
比較例２
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて触媒調製例４で得たＨ+型フェロシリケート（Ｈ+型Ｆｅ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表３に示す。
【００３７】
比較例３
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて触媒調製例５で得たＨ+型ガロシリケート（Ｈ+型Ｇａ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表３に示す。
【００３８】
【表３】
0004427116.tif 000006
【００３９】
実施例３
硝酸鉛１．６８ｇを水１８．１４ｇに溶解した溶液に、触媒調製例１で得たＨ+型チタノシリケート１３．９３ｇを加えて含浸した。これを１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して７重量％のＰｂを含有するチタノシリケートを得た。
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＰｂ含有チタノシリケート（７％Ｐｂ−Ｔｉ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４０】
実施例４
硝酸鉛０．９６ｇを水１４．２ｇに溶解した溶液に、触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート１９．４ｇを加えて混合した後、１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して３重量％のＰｂを含有するコバルトシリケートを得た。
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＰｂを含有するコバルトシリケート（３％Ｐｂ−Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４１】
実施例５
タングステン酸アンモニウム、パラ［５（ＮＨ4）2Ｏ・１２ＷＯ3・５Ｈ2Ｏ］５９．５４ｇを水２００ｇに溶解した溶液に、触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート７．４４ｇを加えて混合した後、１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して７重量％のＷを含有するコバルトシリケートを得た。
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＷを含有するコバルトシリケート（７％Ｗ−Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４２】
実施例６
硝酸亜鉛・六水和物２．５５ｇを水１０．４ｇに溶解した溶液に、触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート７．４４ｇを加えて混合した後、１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して７重量％のＺｎを含有するコバルトシリケートを得た。
実施例１においてＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＺｎを含有するコバルトシリケート（７％Ｚｎ−Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４３】
実施例７
硝酸第一タリウム０．７３ｇを水１０．４ｇに溶解した溶液に、触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート７．４４ｇを加えて混合した後、１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して７重量％のＴｌを含有するコバルトシリケートを得た。
実施例１のＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＴｌを含有するコバルトシリケート（７％Ｔｌ−Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４４】
実施例８
硝酸ランタン・六水和物１．７５ｇを水１０．４ｇに溶解した溶液に、触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート７．４４ｇを加えて混合した後、１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して７重量％のＬａを含有するコバルトシリケートを得た。
実施例１のＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＬａを含有するコバルトシリケート（７％Ｌａ−Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４５】
実施例９
硫酸インジウム・九水和物３．３２ｇを水１０．４ｇに溶解した溶液に、触媒調製例２で得たＨ+型コバルトシリケート７．４４ｇを加えて混合した後、１２０℃で５時間乾燥し、次いで空気気流中、５５０℃で５時間焼成して、金属に換算して７重量％のＩｎを含有するコバルトシリケートを得た。
実施例１のＨ+型チタノシリケートに代えて上記で得たＩｎを含有するコバルトシリケート（７％Ｉｎ−Ｃｏ／Ｓｉ）を用いた以外は実施例１と同様にしてピリジン塩基類の製造を行った。結果を表４に示す。
【００４６】
【表４】
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