(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（３）−１
【化１】
0004495313.tif 000017
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリング反応せしめて下記式（２）−１
【化２】
0004495313.tif 000018
で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して下記式（１）−１
【化３】
0004495313.tif 000019
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製法。
【請求項２】
下記式（３）−２
【化４】
0004495313.tif 000020
で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリング反応せしめて下記式（２）−２
【化５】
0004495313.tif 000021
で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して下記式（１）−２
【化６】
0004495313.tif 000022
で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製法。
【請求項３】
下記式（２）−１
【化７】
0004495313.tif 000023
で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン。
【請求項４】
下記式（２）−２
【化８】
0004495313.tif 000024
で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン。
【請求項５】
下記式（３）−１
【化９】
0004495313.tif 000025
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセンニトリル。
【請求項６】
下記式（３）−２
【化１０】
0004495313.tif 000026
で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性ムスコン（３−メチルシクロペンタデカノン）の合成中間体として重要な、光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン、該化合物を高収率、高純度に製造できる新規な製法及び新規中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ムスコン（３−メチルシクロペンタデカノン）は、その光学異性体である（Ｒ）−（−）−体が天然麝香の主要香気成分として存在し、特に、この（Ｒ）−（−）−体は、（Ｓ）−（＋）−体に比べてより強く、拡散性が優れたボリューム感のある香気を有し、重要なムスク系合成香料である。
【０００３】
ムスコンの合成法としてはこれまで種々の提案がなされ、例えば、ドデカン−１，１２−ジアールを出発原料とする合成法（特開昭５５−１１１４３８号公報）、ノナジエン酸エステルからの合成法（Tetrahedron Lett.,2257(1979)）、シクロドデセンを出発原料とする合成法（J.Org.Chem.,52,3798-3806(1987)）などが提案されている。
【０００４】
また、光学活性ムスコンの合成法としては、例えば、３−メチル−２−シクロペンタデセン−１−オンにルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒として不斉水素化する方法（特開平６−１９２１６１号公報）、Ｒ体またはＳ体のシトロネラールと、ハロゲン化不飽和炭化水素を反応する方法（特開２０００−２６３６１号公報）などが提案されている。しかしながら、上記の特開平６−１９２１６１号公報で提案されている光学活性ムスコンの合成法は、使用されている触媒が再利用可能であること、および高収率であるなど有効な合成法であるが、出発原料が高価であるなどの問題がある。また、上記の特開２０００−２６３６１号公報で提案されている合成法は、光学活性シトロネラールとハロゲン化不飽和炭化水素を反応させ、得られる１１−ヒドロキシ−１３，１７−ジメチルオクタデカ−１，１６−ジエン誘導体とし、オゾン酸化を行った後、閉環して製造されており必ずしも工業的に有利な合成法とは言い難い。
【０００５】
一方、特開平６−１９２６８０号公報には３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンが香料化合物として有用であり、特にシス異性体がトランス異性体より有用であることが示されている。しかしながら、上記特許には該化合物の光学活性体については何ら記載も示唆もされていない。
【０００６】
さらに、（Ｓ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンはそのシス−、トランス−立体配位は記載されていないが、ムスコンの合成中間体として記載されている（Ｈｕａｘｕｅ  Ｘｕｅｂａｏ，５３（９），９０９−９１５，１９９５参照）。しかしながら、この化合物についての芳香特性については記述されていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンおよび該化合物を有効成分として含有するムスク様香気を有する香料組成物を提供することである。
【０００９】
また、本発明は安価な原料を使用して、かつ高収率で、更に簡便な方法により、工業的に有利に光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンを製造する方法を提供することである。
さらに、本発明の他の目的は、光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製造のために有用な新規中間体を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、上記式（１）−１および／または上記式（１）−２で表される（Ｒ）−（−）または（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンがムスク様の香料として有用であること、また、（Ｒ）−（−）−または（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルを出発原料として１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライドと反応し、閉環するという簡便な方法で、且つ高収率で光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンが得られることを見出し本発明を完成した。
【００１１】
従って、本発明は下記式（１）−１
【００１２】
【化１１】
0004495313.tif 000002
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製法である。式中、波線はシス−、トランス−異性体の存在を示す。
【００１３】
また本発明は下記式（１）−１
【化１２】
0004495313.tif 000003
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンおよび／または下記式（１）−２
【００１５】
【化１３】
0004495313.tif 000004
で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンを有効成分として含有することを特徴とする香料組成物の製法である。
【００１６】
また本発明は下記式（３）−１
【００１７】
【化１４】
0004495313.tif 000005
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリング反応せしめて下記式（２）−１
【００１８】
【化１５】
0004495313.tif 000006
で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して下記式（１）−１
【００１９】
【化１６】
0004495313.tif 000007
で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製法である。
【００２０】
また本発明は下記式（３）−２
【００２１】
【化１７】
0004495313.tif 000008
で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリング反応せしめて下記式（２）−２
【００２２】
【化１８】
0004495313.tif 000009
で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して下記式（１）−２
【００２３】
【化１９】
0004495313.tif 000010
で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製法である。
【００２４】
上記式（２）−１、式（２）−２、式（３）−１および式（３）−２で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン、（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン、（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルおよび（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルは文献未記載の新規化合物である。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明の製法に従って、式（３）−１の化合物から式（１）−１の化合物を合成する態様を反応行程［以下、（Ａ）製法と称す］で示すと、以下の如くになる。
（Ａ）製法
【００２６】
【化２０】
0004495313.tif 000011
また、本発明の製法に従って、式（３）−２の化合物から式（１）−２の化合物を合成する態様を反応行程［以下、（Ｂ）製法と称す］で示すと、以下の如くとなる。
（Ｂ）製法
【００２７】
【化２１】
0004495313.tif 000012
本発明の光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製法は上記の（Ａ）製法および（Ｂ）製法に従って合成することができる。本発明の出発原料である式（３）−１の化合物および式（３）−２の化合物は、特に限定されないが、例えば、式（３）−１の化合物は下記式（９）−１の化合物から容易に合成することができる。式（９）−１の化合物から式（３）−１の化合物を合成する態様を反応行程［以下、（Ｃ）製法と称す］で示すと、以下の如くとなる。
（Ｃ）製法
【００２８】
【化２２】
0004495313.tif 000013
［式中、Ｔｓはトシル基、ＤＩＢＡＨはジイソブチルアルミニウムハイドライドを示す］
また例えば、式（３）−２の化合物は下記式（１８）−２の化合物から容易に合成することができる。式（１８）−２の化合物から式（３）−２の化合物を合成する態様を反応行程［以下、（Ｄ）製法と称す］で示すと、以下の如くとなる。
（Ｄ）製法
【００２９】
【化２３】
0004495313.tif 000014
［式中、ＴＨＰはテトラヒドロピラピラニル基、Ｔｓはトシル基、Ｂｎはベンジル基を示す］
以下、上記の（Ａ）製法及び（Ｂ）製法に従い、各工程別に詳細に説明する。
（Ａ）製法
（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ペンタデカジエン−６−オン［式（２）−１の化合物］の合成（第１行程）
式（３）−１の化合物を有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライドとカップリング反応させる第１行程により式（２）−１の化合物を容易に製造できる。
【００３０】
この反応の反応温度および反応時間は、例えば、約−２０℃〜約７０℃程度、より好ましくは約２０℃〜約４０℃の温度範囲で、約１時間〜約２時間程度を採用することができる。使用する１０−ウンデセニル−１−マグネシウムハライドのハロゲン原子の種類としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができ、その使用量は式（３）−１の化合物１モルに対して、例えば、約１モル以上、より好ましくは約１．２モル〜約２モル程度の範囲を例示できる。
【００３１】
また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエンなどを示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例えば、式（３）−１の化合物１重量部に対して約１〜約１０重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に式（２）−１の化合物が得られる。
【００３２】
（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン［式（１）−１の化合物］の合成（第２行程）
式（２）−１の化合物をオレフィンメタセシス反応による第２行程により式（１）−１の化合物を容易に製造できる。
【００３３】
この反応の反応温度および反応時間は、例えば、約−１０℃〜約１００℃程度、より好ましくは約４０℃〜約５０℃の温度範囲で、約１時間〜約３時間程度を採用することができる。この反応で使用できる触媒としては、例えば、下記式（ａ）及び（ｂ）
【００３４】
【化２４】
0004495313.tif 000015
【００６３】
【化２５】
0004495313.tif 000016
［式中、Ｃｙはシクロヘキシルを、Ｐｈはフェニルを意味する］
で表される化合物を挙げることができ、その使用量は式（２）−１の化合物１モルに対して、約０．０１モル〜約０．１０モル程度を採用することができる。また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などを示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例えば、式（２）−１の化合物１重量部に対して約１０〜約１０００重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に式（１）−１の化合物が得られる。
【００３５】
このようにして得られる式（１）−１で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンは、それ自体香料組成物として有用であるが、該化合物のオレフィンを水素化することにより（Ｒ）−（−）−ムスコンを容易に製造できる。この反応の反応温度および反応時間は、例えば、約１０℃〜約１００℃程度、より好ましくは約３０℃〜約５０℃の温度範囲で、約１時間〜約３時間程度を採用することができる。この反応で使用できる触媒としては、例えば、Ｐｄ−Ｃ、Ｐｄ−Ａｌｕｍｉｎａ、Ｒｕ−Ｃ、Ｒｕ−Ａｌｕｍｉｎａ、Ｐｔ−Ｃを挙げることができ、その使用量は式（１）−１の化合物１モルに対して、約０．０２モル〜約０．１モル程度を採用することができる。また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエン、エタノール、ヘキサンなどを示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例えば、式（１）−１の化合物１重量部に対して約１〜約１０重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に（Ｒ）−（−）−ムスコンが得られる。
【００３６】
次に、式（１）−２の化合物の合成法について、（Ｂ）製法に従って説明する。
（Ｂ）製法
本発明のもう一方の目的化合物である式（１）−２で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンは、鏡像関係にある式（１）−１で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの合成法に準じて製造することができる。
【００３７】
即ち、前記反応行程図の（Ｂ）製法において、式（２）−２で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オンを合成する第３行程は、前記（Ａ）製法の式（３）−１の化合物を式（３）−２の化合物に変える以外は（Ａ）製法と同様に合成することができる。以下同様にして、式（１）−２の化合物を合成する第４行程は、該行程に対応する第２行程の製造方法と同じ操作を行うことにより、目的とする式（１）−２で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンを高収率、高純度で合成することができる。
【００３８】
このようにして得られる式（１）−２で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンは、それ自体香料組成物として有用であるが、該化合物のオレフィンを水素化することにより（Ｓ）−（＋）−ムスコンを容易に製造できる。この反応の反応条件は、前記した式（１）−１で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンから（Ｒ）−（−）−ムスコンを製造する方法に準じて製造することができる。
【００３９】
【実施例】
以下に本発明について実施例、参考例を挙げて更に詳細に説明する。
【００４０】
参考例１：（Ｒ）−３−メチル−γ−ブチロラクトン［式（７）−１の化合物］の合成
３００ｍｌ４径フラスコ中に（Ｒ）−３−カルボキシブチリックアシッド  ｔ−ブチルエステル［式（９）−１の化合物］２５ｇ（０．１３３モル）、テトラヒドロフラン５０ｍｌを仕込み、−１０〜−２０℃に冷却する。そこへ、１Ｍボランテトラヒドロフラン溶液１３５ｍｌ（０．１３５モル）を同温下に１．５時間で滴下した。滴下終了後、徐々に温度を上げ室温下に一夜攪拌した。ＧＬＣで未反応の消失を確認後、水１０ｍｌと酢酸１０ｍｌの混合液を滴下し、テトラヒドロフランをエバポレーターで濃縮する。酢酸エチルで抽出し、ソーダ灰洗浄、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮し、式（８）−１で表される化合物の粗製２１．０５ｇを得、パラトルエンスルホン酸０．４ｇとトルエン２００ｍｌを加え、加熱しながらラクトン化を行った。反応終了後、これに水を加え、有機層をソーダ灰水洗、ブライン洗浄後、溶剤回収、減圧蒸留し、式（７）−１の化合物８．６ｇを得た（収率；６５％，ｂｐ：９２℃／２．４ＫＰａ）。
【００４１】
参考例２：（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテン−１−オール［式（５）−１の化合物］の合成
１００ｍｌ３径フラスコ中に（Ｒ）−３−メチル−γ−ブチロラクトン［式（７）−１の化合物］３．０ｇ（３０ミリモル）、乾燥ジクロルエタン２０ｍｌを仕込み、−６５〜−６０℃下に１Ｍジイソブチルアルミニウムハイドライドトルエン溶液３６ｍｌ（３６ミリモル）を３０分で加え、同温下に１．５時間反応させた後、塩化アンモニウム水溶液５ｍｌを加え、昇温し、エーテルで希釈し、室温下に３０分攪拌した。常温下に溶剤回収し式（６）−１で表される化合物の粗製を得た。次いで、２００ｍｌ反応フラスコにアルゴン下、６０％水素化ナトリウム２．２ｇ（０．０９モル）、ジメチルスルホキシド５０ｍｌを仕込み、室温下に１時間反応を行った。メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド３５．７ｇ（０．１モル）、ジメチルスルホキシド２０ｍｌを加え攪拌し、式（６）−１の粗製、ジメチルスルホキシド３０ｍｌを加え、室温下に一夜放置した。水を加え攪拌し、エーテル抽出、溶剤回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、式（５）−１の（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテン−１−オール１．３ｇを得た（収率４４．４％）。
【００４２】
参考例３：（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテン−１−イル  ｐ−トルエンスルホネート［式（４）−１の化合物］の合成
１００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテン−１−オール［式（５）−１の化合物］１．３ｇ（１３．２ミリモル）、乾燥ピリジン４０ｍｌを仕込み、氷冷下０℃でパラトルエンスルホニウムクロリド３．３ｇ（１７．６ミリモル）を加え、冷蔵庫に一夜放置する。反応終了後、水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、硫酸銅水洗浄、ブライン洗浄、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、式（４）−１の粗製２．７ｇを得た（収率８１．１％）。
【００４３】
実施例１：（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセンニトリル［式（３）−１の化合物］の合成
１００ｍｌフラスコ中に粗製の（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテン−１−イル  ｐ−トルエンスルホネート［式（４）−１の化合物］２．７ｇ（１０．７ミリモル）、ジメチルスルホキシド１０ｍｌ、シアン化ナトリウム０．８ｇ（１７．１ミリモル）を仕込み、一夜攪拌した。水を加え、エーテル抽出後、溶剤を常圧回収し、減圧下に蒸留して式（３）−１の化合物１．０ｇを得た（収率８７．６％、ｂｐ：７９〜８１℃／４．５５ｋＰａ）。
［α］２０Ｄ＝−１２．９３（ｃ＝０．７１５０、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ（ｐｐｍ）５．７３（１Ｈ、ｄｄｔ、Ｊ＝１７．３Ｈｚ、１０．３Ｈｚ、３．４Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１７．３Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ）、２．３６〜２．２３（２Ｈ、ｍ）、２．１５〜２．０８（２Ｈ、ｍ）、２．０１〜１．８９（２Ｈ、ｍ）、１．１０（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
【００４４】
実施例２：（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン［式（２）−１の化合物］の合成
３０ｍｌフラスコ中にマグネシウム０．８ｇ（３１．３ミリモル）、乾燥エーテル２ｍｌを仕込み、ブロモ−１０−ウンデセン６．１ｇ（２６ミリモル）を滴下した。室温下に１時間攪拌後、同温下に（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセンニトリル［式（３）−１の化合物］１．０ｇ（９．２ミリモル）を滴下した。同温下に２時間反応し、原料の消失を確認後、５０％塩酸水溶液１３ｍｌを冷却下に加え、室温に戻し２時間攪拌した。エーテル抽出、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し式（２）−１の化合物を１．６ｇ得た（収率６５．４％）。
［α］２０Ｄ＝３．１５（ｃ＝０．７５８２、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ（ｐｐｍ）５．６９（２Ｈ、ｍ）、４．９４〜４．８２（４Ｈ、ｍ）、２．３３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ、５．６Ｈｚ）、２．２７（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．１４〜１．８６（６Ｈ、ｍ）、１．５３〜１．２０（１４Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）。
【００４５】
実施例３：（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン［式（１）−１の化合物］の合成
２００ｍｌフラスコ中にルテニウム触媒０．２３ｇ（０．２８ミリモル）を仕込み、系内をアルゴン置換する。（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン［式（２）−１の化合物］１．５ｇ（５．６８ミリモル）、アルゴン下で蒸留した塩化メチレン１５００ｍｌ溶液を加え、４１℃で４時間反応を行った。減圧下に溶媒を回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、シス異性体０．４７ｇ、トランス異性体０．１５ｇを得た（収率４６．２％）。
シス異性体
［α］２０Ｄ＝−１１．５６（ｃ＝０．７５４４、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ（ｐｐｍ）５．３９〜５．２９（２Ｈ、ｍ）、２．５〜２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）１３２．７、１２９．７（オレフィン）
香気特性：強く、ピュアーなムスク様、若干暖かみがあり、肌くさい、ふくよかな匂い。
トランス異性体
［α］２０Ｄ＝−４．２２（ｃ＝０．８６５４、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ（ｐｐｍ）５．４７〜５．３６（２Ｈ、ｍ）、２．５〜２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９９（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）１３２．０、１２７．２（オレフィン）
香気特性：強く、ピュアーなムスク様の匂い。
【００４６】
参考例４：（Ｓ）−メチル３−テトラヒドロピラニロキシ−２−メチルプロピオネート［式（１７）−２の化合物］の合成
３００ｍｌ４径フラスコ中に（Ｓ）−メチル３−ヒドロキシ−２−メチルプロピオネート［式（１８）−２の化合物］２３．６ｇ（０．２０モル）、エーテル１００ｍｌ、ジヒドロピラン２０．２ｇ（０．２４モル）およびパラトルエンスルホン酸０．５ｇ（２ミリモル）を仕込み、室温下に１６時間攪拌する。反応液を重ソー水中に注ぎ分液する。有機層をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒回収後、減圧下に蒸留し、式（１７）−２の化合物を３４．５ｇ得た（収率８５．４％、ｂｐ：８３〜８８℃／０．３９ｋＰａ）
参考例５：（Ｒ）−３−テトラヒドロピラノロキシ−２−メチルプロパノール［式（１６）−２の化合物］の合成
１Ｌ４径フラスコ中にリチウムアルミニウムハイドライド６．４ｇ（０．１７モル）および乾燥エーテル４００ｍｌを仕込み、氷水冷却下、５〜１０℃／１時間で（Ｓ）−メチル３−テトラヒドロピラニロキシ−２−メチルプロピオネート［式（１７）−２の化合物］３４．０ｇ（０．１７モル）の乾燥エーテル１５０ｍｌ溶液を滴下する。滴下後、室温下に４時間攪拌し、ＧＬＣで未反応の消失を確認後、再び冷却し、硫酸ナトリウム水を少しずつ滴下してクエンチする。固形物をろ別し、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（１６）−２を２３．６ｇ得た（収率８０．６％、ｂｐ：９７〜９９℃／０．４６ｋＰａ）。
【００４７】
参考例６：（Ｓ）−３−ベンジロキシ−２−メチルプロパノール［式（１４）−２の化合物］の合成
５００ｍｌ４径フラスコ中に６０％水素化ナトリウム３．９ｇ（９８モル）、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、ジメチルホルムアミド９０ｍｌを仕込み加熱する。６０〜７０℃で（Ｒ）−３−テトラヒドロピラニロキシ−２−メチルプロパナール［式（１６）−２の化合物］１３．０ｇ（７５ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを滴下し、滴下後同温下に1時間撹拌する。次に同温下にベンジルブロミド１４．１ｇ（８２ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを滴下し、さらに1時間撹拌する。反応液を冷却後、メタノール９．５ｍｌを加えてクエンチし、反応液を減圧下に濃縮する。残さをエーテルで希釈し、水、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルをエバポレーターで濃縮し、式（１５）−２で表される化合物の粗製２２．０ｇを得る。この粗製に、メタノール２００ｍｌを加えて希釈し、さらにパラトルエンスルホン酸１．０ｇを加えて室温下に１６時間撹拌する。反応液に重ソー粉末２ｇ加え、溶媒回収後水を加え、エーテル抽出した。ブライン洗浄後、減圧蒸留し、式（１４）−２の化合物を１２．５ｇ得た（収率９７．８％、ｂｐ：１１５〜１２０℃／０．６５ｋＰａ）。
【００４８】
参考例７：（Ｒ）−３−ベンジロキシ−２−メチルプロピル  ｐ−トルエンスルホネート［式（１３）−２の化合物］の合成
２００ｍｌ４径フラスコ中に（Ｓ）−３−ベンジロキシ−２−メチルプロパノール［式（１４）−２の化合物］９．０ｇ（５０ミリモル）、乾燥ピリジン６０ｍｌを仕込み氷水冷する。パラトルエンスルホニルクロリド１２．４ｇ（６５ミリモル）を少しづつ加えて、さらに０℃で３時間撹拌する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置し、翌日、氷水中に注ぎエーテル抽出する。有機層を水洗、硫酸銅水洗、水洗、重ソー水洗、ブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルをエバポレーターで濃縮し、得られた粗製１５．０ｇをシリカゲルカラムクロマトにて精製し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）、式（１３）−２の化合物を１４．３ｇ得た（収率８５．５％）。
【００４９】
参考例８：（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３−メチルブタノニトリル［式（１２）−２の化合物］の合成
１００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｒ）−３−ベンジロキシ−２−メチルプロピル  ｐ−トルエンスルホネート［式（１３）−２の化合物］７．０ｇ（２１．０ミリモル）、ジメチルスルホキシド２０ｍｌ、シアン化ナトリウム１．８ｇ（３６．７ミリモル）を加え、室温下に一夜放置した。水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（１２）−２の化合物を３．８ｇ得た（収率９５．０％、ｂｐ：１３０〜１３２℃／０．３９ｋＰａ）。
【００５０】
参考例９：（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３−メチルブタナール［式（１１）−２の化合物］の合成
１００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３−メチルブタノニトリル［式（１２）−２の化合物］４．６ｇ（２４．４ミリモル）、乾燥 ジクロルエタン４６ｍｌを仕込み、アルゴン下に冷却した。−７８℃で１．０Ｍのジイソブチルアルミニウムハイドライドトルエン溶液２７ｍｌ（２７ミリモル）を３０分で加え室温まで昇温した。反応後、５％硫酸を加え３０分攪拌後、エーテル抽出、ソーダ灰洗浄、ブライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（１１）−２の化合物を３．８ｇ得た（収率８１．４％、ｂｐ：１１５〜１２０℃／０．６５ｋＰａ）。
【００５１】
参考例１０：（Ｓ）−５−ベンジロキシ−４−メチル−１−ペンテン［式（１０）−２の化合物］の合成
１００ｍｌ反応フラスコ中、アルゴン下に、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド１４．３ｇ（４０ミリモル）、乾燥テトラヒドロフラン５０ｍｌを仕込み、ｎ−ＢｕＬｉ／ヘキサン２２．５ｍｌ（３５．９ミリモル）を−２０〜−３０℃にて３０分で加え、同温下に３０分攪拌した。（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３−メチルブタナール［式（１１）−２の化合物］４．６ｇ（２４．０ミリモル）、乾燥テトラヒドロフラン２０ｍｌを加え、同温下に１時間攪拌した。水を加え、エーテル抽出、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（１０）−２の化合物を４．３ｇ得た（収率９３．８％、ｂｐ：８５〜８７℃／０．３９ｋＰａ）。
【００５２】
参考例１１：（Ｓ）−２−メチル−４−ペンテノール［式（５）−２の化合物］の合成
１Ｌ４径フラスコ中に液体アンモニア２５０ｍｌを仕込み、（Ｓ）−５−ベンジロキシ−４−メチル−１−ペンテン［式（１０）−２の化合物］４．３ｇ（２２．５ミリモル）の乾燥テトラヒドロフラン溶液４０ｍｌを加える。−５０〜−４０℃で金属ナトリウム１．９ｇ（８２．５ミリモル）を少しづつ加え、さらに−５０℃で１時間撹拌する。反応液に粉末塩化アンモニウム９．２ｇを加えてクエンチし、昇温してアンモニアを飛ばす。残さに塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（５）−２の化合物を２．０ｇ得た（収率８８．１％、ｂｐ：７２〜７５℃／４．５５ｋＰａ）。
【００５３】
参考例１２：（Ｓ）−２−メチル−４−ペンテン−１−イル  ｐ−トルエンスルホネート［式（４）−２の化合物］の合成
１００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｓ）−２−メチル−４−ペンテノール［式（５）−２の化合物］１．９ｇ（１９ミリモル）、乾燥ピリジン２０ｍｌを仕込み氷水冷する。パラトルエンスルホニウムクロリド５．４ｇ（２８ミリモル）を少しづつ加えて、さらに０℃で３時間撹拌する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置する。反応終了後、水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、硫酸銅水洗浄、ブライン洗浄、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し式（４）−２の化合物の粗製を４．８ｇ得た（収率１００．３％）。
【００５４】
実施例４：（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリル［式（３）−２の化合物］の合成
１００ｍｌフラスコに粗製の（Ｓ）−２−メチル−４−ペンテン−１−イル  ｐ−トルエンスルホネート［式（４）−２の化合物］４．８ｇ（１９．０ミリモル）、ジメチルスルホキシド２０ｍｌ、シアン化ナトリウム１．８ｇ（３６．７ミリモル）を仕込み一夜攪拌した。水を加え、エーテル抽出後、溶媒を常圧回収後、減圧下に蒸留し、式（３）−２の化合物を１．８ｇ得た（収率８７．６％、ｂｐ：７９〜８１℃／４．５５ｋｐＰａ）。
［α］２０Ｄ＝１３．２４（ｃ＝０．８９１０、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）５．７３（１Ｈ、ｄｄｔ、Ｊ＝１７．３Ｈｚ、１０．３Ｈｚ、３．４Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１７．３Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ）、２．３６〜２．２３（２Ｈ、ｍ）、２．１５〜２．０８（２Ｈ、ｍ）、２．０１〜１．８９（２Ｈ、ｍ）、１．１０（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
【００５５】
実施例５：（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン［式（２）−２の化合物］の合成
３０ｍｌフラスコにマグネシウム１．０ｇ（３９．１ミリモル）、乾燥エーテル２ｍｌを仕込み、ブロモ−１０−ウンデセン７．６ｇ（３２．４ミリモル）を滴下した。室温下に１時間攪拌後、同温下に（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリル［式（３）−２の化合物］１．８ｇ（１６．２ミリモル）を滴下した。同温下に２時間反応し原料の消失を確認後、５０％塩酸２０ｇを冷却下に加え、室温に戻し２時間攪拌した。エーテル抽出、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、式（２）−１の化合物を３．１ｇ得た（収率７２．８％）。
［α］２０Ｄ＝−２．３６（ｃ＝１．０９９２、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）５．６９（２Ｈ、ｍ）、４．９４〜４．８２（４Ｈ、ｍ）、２．３３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ、５．６Ｈｚ）、２．２７（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．１４〜１．８６（６Ｈ、ｍ）、１．５３〜１．２０（１４Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）。
【００５６】
実施例６：（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン［式（１）−２の化合物］の合成
３０００ｍｌフラスコ中にＲｕ−ｃａｔ．０．４７ｇ（０．５７ミリモル）を仕込み、系内をアルゴン置換する。（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン［式（２）−２の化合物］２．９５ｇ（１１．２ミリモル）、塩化メチレン溶液３０００ｍｌを加え、４１℃で４時間反応を行った。減圧下に溶媒を回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、式（１）−２の化合物を１．３６ｇ得た（収率５１．５％）。このものを更に中圧カラムによりシス異性体０．７８ｇ、トランス異性体０．２９ｇに分離した。
シス異性体
［α］２０Ｄ＝１０．１７（ｃ＝０．９６３４、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）５．３９〜５．２９（２Ｈ、ｍ）、２．５〜２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）１３２．７、１２９．７（オレフィン）
香気特性：弱い、ムスク様、ややウッディー感ある匂い。
トランス異性体
［α］２０Ｄ＝４．５１（ｃ＝０．９７４４、ＭｅＯＨ）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）５．４７〜５．３６（２Ｈ、ｍ）、２．５〜２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）１３２．０、１２７．２（オレフィン）
香気特性：弱い、ムスク様、ややウッディー感ある匂い。
【００５７】
実施例７：香料組成物の製造
実施例３および実施例６で調製した（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンまたは（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンを用い、下記処方のムスクタイプの石鹸用香料組成物を調製し、１０名の専門パネラーによる評価を行った。その結果、本発明の（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンまたは（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンを含有した香料組成物において嗜好性の高いパウダリームスク様香気が付与されることが確認された。
香料組成物
アミルサリシレート          ２００ｇ
シダー                      １６０
ゼラニウム                  １００
サンタール                    ９０
パチュリー                    ４０
クマリン                      ４０
ヘリオトロピン                ７０
ベチバー                      ４０
フェニルエチルアルコール      ９０
シクロペンタデカノリド        ３０
ペルーバルサム                ３０
ベルガモット                  ６０
ターピニルアセテート          ５０      
計                 １０００
【００５８】
【発明の効果】
本発明は、光学活性ムスコン（３−メチルシクロペンタデカノン）の合成中間体として重要な、光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン、該化合物を高収率、高純度に製造できるため極めて有用である。