(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素弗化物の浄化剤層、該浄化剤層の破過時に該浄化剤層から流出する窒素弗化物と反応し金属弗化物を生成させるための珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填された反応層、及び該反応層から流出する該金属弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物を浄化する予備浄化剤層の３層を内蔵し、該３層を加熱する手段を有する浄化装置と、該浄化装置から排出されるガスを冷却する冷却部と、該冷却部から排出されるガスに含まれる該金属弗化物と反応して変色する検知剤が充填された検知部から構成されることを特徴とする窒素弗化物の浄化システム。
【請求項２】
検知部の後段に、珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、またはタングステンの弗化物を浄化するための浄化部を設けた請求項１に記載の窒素弗化物の浄化システム。
【請求項３】
窒素弗化物が、三弗化窒素、四弗化二窒素、二弗化二窒素、六弗化二窒素から選ばれる１種または２種以上である請求項１または請求項２に記載の窒素弗化物の浄化システム。
【請求項４】
予備浄化剤層に充填される予備浄化剤が、金属亜鉛、金属アルミニウム、ジルコニウム、ジルコニウム系合金、または酸化第一錫を有効成分とする浄化剤である請求項１または請求項２に記載の窒素弗化物の浄化システム。
【請求項５】
検知部に充填される検知剤が、遷移金属の水酸化物とコンゴーレッドを変色成分とする検知剤である請求項１または請求項２に記載の窒素弗化物の浄化システム。
【請求項６】
窒素弗化物を含むガスを、加熱するとともに、窒素弗化物の浄化剤層、該浄化剤層の破過時に該浄化剤層から流出する窒素弗化物と反応し金属弗化物を生成させるための珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填された反応層、及び該反応層から流出する該金属弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物を浄化する予備浄化剤層と順次接触させた後、冷却して該金属弗化物と反応して変色する検知剤と接触させることにより、該浄化剤層における窒素弗化物による破過を、該検知剤による該金属弗化物の検出で検知するとともに、該予備浄化剤層からの窒素弗化物の流出を防止することを特徴とする窒素弗化物の浄化方法。
【請求項７】
窒素弗化物を含むガスを、窒素弗化物の浄化剤層、反応層、予備浄化剤層、及び検知剤と接触させた後、さらに珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、またはタングステンの弗化物を浄化する浄化剤と接触させて、該窒素弗化物の浄化剤層の破過時に該反応層から流出する金属弗化物を浄化する請求項６に記載の窒素弗化物の浄化方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は窒素弗化物の浄化システム及び浄化方法に関する。さらに詳細には半導体製造工程等から排出される窒素弗化物を浄化する際に、浄化剤の破過を容易に検知し、窒素弗化物の下流への流出を防止することができ、効率よく窒素弗化物の浄化及び検知を実施可能な浄化システム及び浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造工業においては、シリコン、シリコン酸化物等のドライエッチングガスやＣＶＤ装置のチャンバークリーニングガスとして、三弗化窒素が使用されている。三弗化窒素は水に対する溶解度が小さく、酸やアルカリともほとんど反応しない等室温ではかなり安定であり、地球温暖化に対する影響が大きいことが認められているほか、許容濃度が１０ｐｐｍと報告されており、毒性が高く、大気にそのまま放出した場合は人体および環境に悪影響を与えるので、半導体製造工程で使用した後は浄化する必要がある。
【０００３】
また、三弗化窒素は常温、常圧では安定であるが、ドライエッチングやクリーニング工程中に熱、放電等により、四弗化二窒素、二弗化二窒素、六弗化二窒素等の窒素弗化物を生成する。これらのガスは三弗化窒素よりも毒性が強いため、三弗化窒素と同様に浄化しなければならない。さらに、三弗化窒素等の窒素弗化物を浄化処理した後は、大気に放出するに先立ってこれらが含まれていないことを確認する必要がある。
【０００４】
従来から、窒素弗化物の浄化剤としては、カルシウム及び／またはマグネシウムを有効成分とする浄化剤（特開平６−９９０３３号公報）、金属亜鉛、金属アルミニウムまたは両者の混合物を主成分とする浄化剤（特開平６−１３４２５６号公報）、ジルコニウムまたはジルコニウム系合金から成る浄化剤（特開平６−２３８１２８号公報）、酸化第一錫を有効成分とする浄化剤（特開平１１−５０１８号公報）等が開発されている。これらの窒素弗化物は常温で安定であるため、いずれの浄化剤を使用する場合においても、加熱して浄化処理されている。
【０００５】
また、窒素弗化物の検知剤については、これを直接検知できるものは現在のところ開発されていない。しかし、窒素弗化物を他の化合物に変換し、これを検出することで間接的に窒素弗化物を検知する装置及び方法が開発されている。例えば、三弗化窒素を含むガスを、約６００℃でシリコンと反応させて、９９％以上の変換効率で四弗化珪素に変換し、更に、四弗化珪素の９９％以上を空気中の水分と反応させてＨＦに変換した後、ＨＦ検知素子によりこの変換したＨＦを検出することで、前記ガス中の三弗化窒素を検知する装置及び方法（特開平７−１２８２８０号公報）がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記の浄化剤と検知装置を組み合せた窒素弗化物の浄化システムあるいは浄化方法では、空気導入管、定電圧回路を有する検知部等が必要であり、装置が複雑になるほか、浄化剤が破過し検知装置で窒素弗化物を検知した時点で窒素弗化物が下流へ流出してしまい、流出ガスを再度加熱して窒素弗化物を浄化しなければならないという不都合があった。
従って、本発明が解決しようとする課題は、浄化剤の破過を容易に検知し、窒素弗化物の下流への流出を防止することができ、効率よく窒素弗化物の浄化及び検知を実施可能な窒素弗化物の浄化システム及び浄化方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、これらの課題を解決すべく鋭意検討した結果、浄化剤の破過により流出した窒素弗化物を金属弗化物に変換し、これを以前出願人が開発した検知剤で検出することにより容易に窒素弗化物を検知できること、金属弗化物を生成させるための金属または金属化合物が充填された反応層と金属弗化物の検知剤の間に、金属弗化物との反応性が小さく窒素弗化物を効率よく浄化する予備浄化剤層を設けることにより、下流への窒素弗化物の流出を防止できること、及び窒素弗化物の浄化剤層、金属または金属化合物が充填された反応層、予備浄化剤層をこの順序で配置することにより、効率よく窒素弗化物の浄化及び検知を実施できることを見い出し、本発明の窒素弗化物の浄化システム及び浄化方法に到達した。
【０００８】
すなわち本発明は、窒素弗化物の浄化剤層、該浄化剤層の破過時に該浄化剤層から流出する窒素弗化物と反応し金属弗化物を生成させるための珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填された反応層、及び該反応層から流出する該金属弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物を浄化する予備浄化剤層の３層を内蔵し、該３層を加熱する手段を有する浄化装置と、該浄化装置から排出されるガスを冷却する冷却部と、該冷却部から排出されるガスに含まれる該金属弗化物と反応して変色する検知剤が充填された検知部から構成されることを特徴とする窒素弗化物の浄化システムである。
【０００９】
また、本発明は、窒素弗化物を含むガスを、加熱するとともに、窒素弗化物の浄化剤層、該浄化剤層の破過時に該浄化剤層から流出する窒素弗化物と反応し金属弗化物を生成させるための珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填された反応層、及び該反応層から流出する該金属弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物を浄化する予備浄化剤層と順次接触させた後、冷却して該金属弗化物と反応して変色する検知剤と接触させることにより、該浄化剤層における窒素弗化物による破過を、該検知剤による該金属弗化物の検出で検知するとともに、該予備浄化剤層からの窒素弗化物の流出を防止することを特徴とする窒素弗化物の浄化方法でもある。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の窒素弗化物の浄化システム及び浄化方法は、窒素、アルゴン、ヘリウム等のガス中に含まれる三弗化窒素、四弗化二窒素、二弗化二窒素、六弗化二窒素等の窒素弗化物の浄化及び検知に適用される。
【００１１】
本発明の窒素弗化物の浄化システムは、窒素弗化物の浄化剤層、珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填された反応層、及びこれらの金属の弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物を浄化する予備浄化剤層の３層を内蔵し、これらの３層を加熱する手段を有する浄化装置と、浄化装置から排出されるガスを冷却する冷却部と、冷却部から排出されるガスに金属弗化物が含まれている場合これと反応して変色する検知剤が充填された検知部から構成される浄化システムである。
【００１２】
また、本発明の窒素弗化物の浄化方法は、窒素弗化物を含むガスを、加熱するとともに、窒素弗化物の浄化剤層、珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填された反応層、及びこれらの金属の弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物を浄化する予備浄化剤層と順次接触させた後、冷却して金属弗化物と反応して変色する検知剤と接触させることにより、浄化剤層における窒素弗化物による破過を、検知剤による金属弗化物の検出で検知するとともに、予備浄化剤層からの窒素弗化物の流出を防止する浄化方法である。
【００１３】
次に本発明の窒素弗化物の浄化システムについて、図１及び図２を用いて詳細に説明するが、本発明がこれらに限定されるものではない。
図１は本発明の窒素弗化物の浄化システムの一例を示す構成図であり、図２は本発明における浄化装置の一例を示す断面図である。
本発明の窒素弗化物の浄化システムは、図１に示すように、浄化装置１、冷却部２、及び検知部３から構成されるものである。さらに、浄化装置１の内部には、図２に示すように、窒素弗化物を含むガスの入口側から出口側に向かって、窒素弗化物の浄化剤層４、反応層５、予備浄化剤層６がこの順序で配置される。また、浄化装置１には前記３層を加熱するためにヒーター７等の加熱手段が設置される。
【００１４】
本発明において、窒素弗化物の浄化剤層４に充填される浄化剤は、窒素弗化物との接触により新たな揮発性の弗化物を生成することなく、また激しい反応や爆発の危険を伴うことなく、窒素弗化物を浄化することが可能なものであれば特に制限はなく、例えば、カルシウム及び／またはマグネシウムを有効成分とする浄化剤（特開平６−９９０３３号公報）、金属亜鉛、金属アルミニウムまたは両者の混合物を主成分とする浄化剤（特開平６−１３４２５６号公報）、ジルコニウムまたはジルコニウム系合金から成る浄化剤（特開平６−２３８１２８号公報）、酸化第一錫を有効成分とする浄化剤（特開平１１−５０１８号公報）等を挙げることができる。
【００１５】
本発明において、反応層５には珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、タングステン、またはこれらの金属の化合物が充填される。金属化合物としては、例えば、これらの金属の窒化物、酸化物、塩化物等を挙げることができる。しかし、窒素弗化物との反応で窒素酸化物等の金属弗化物以外のガスを生じる虞がない金属単体を使用することが好ましい。これらの金属または金属化合物は、浄化剤層４の破過時に、浄化剤層４から流出する窒素弗化物と接触させて、四弗化珪素、四弗化ゲルマニウム、三弗化リン、五弗化リン、六弗化モリブデン、または六弗化タングステン等を生成させ、後段の金属弗化物の検知部３で検出することにより、窒素弗化物による浄化剤層４の破過を検知するためのものである。
【００１６】
また、本発明において、予備浄化剤層６には、前記の珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、またはタングステンの弗化物の少なくとも一部が反応せずに流通し、窒素弗化物が浄化される浄化剤が充填される。すなわち、予備浄化剤層に充填される浄化剤は、これらの金属弗化物と多少反応するものでもよく、金属弗化物を含むガスが予備浄化剤層を流通した際に、後段の金属弗化物の検知部３により検出できる程度に金属弗化物との反応性が小さい窒素弗化物の浄化剤であれば特に制限されることはない。
【００１７】
予備浄化剤層６の浄化剤として使用可能なものは、例えば、前述の窒素弗化物の浄化剤の中では、金属亜鉛、金属アルミニウムまたは両者の混合物を主成分とする浄化剤（特開平６−１３４２５６号公報）、ジルコニウムまたはジルコニウム系合金から成る浄化剤（特開平６−２３８１２８号公報）、及び酸化第一錫を有効成分とする浄化剤（特開平１１−５０１８号公報）である。カルシウム及び／またはマグネシウムを有効成分とする浄化剤（特開平６−９９０３３号公報）は、金属弗化物との反応性が高いので、予備浄化剤層の浄化剤として好ましくない。
【００１８】
このように、本発明の窒素弗化物の浄化システムにおいては、予備浄化剤層６により、浄化剤層４の破過の際に、金属弗化物の流通を妨げることなく、窒素弗化物の下流への流出を防止することができる。予備浄化剤層を金属弗化物の検知部の後段に設けて、窒素弗化物の流出を防止することもできるが、一旦金属弗化物の検知のために冷却したガスを再度加熱する必要があり、効率が悪くなるという不都合を生じる。尚、窒素弗化物の検知のために生成させた金属弗化物は、後述の通り常温で浄化することが可能である。
【００１９】
図２に示す浄化装置は、１個の筒に浄化剤層、反応層、予備浄化剤層を充填しているが、例えば筒を３個とし、それぞれの筒に浄化剤、金属等を充填することもできる。各々の層の充填長は、処理対象ガス中の窒素弗化物の濃度、流量等により異なり一概に特定できないが、実用上通常は、浄化剤層は５０〜１５００ｍｍであり、反応層及び予備浄化剤層は、浄化剤層の充填長の１／１００〜１／３である。また、加熱手段としては、例えば処理対象ガスと３層の接触温度が３００〜７００℃程度となるようにコントロール可能なヒーターが使用される。
【００２０】
本発明の窒素弗化物の浄化システムにおいて、冷却部２には前記浄化装置で加熱された処理対象ガスを、常温または常温付近の温度（通常は１００℃以下）まで冷却して、後段の検知部で金属弗化物の検知を行なえるようにするための冷却装置が用いられる。このような冷却装置としては、従来から使用されているものが使用可能であり、冷却水を熱媒体とする冷却装置を例示することができる。
【００２１】
本発明の窒素弗化物の浄化システムにおいて、検知部３に用いられる金属弗化物と反応して変色する検知剤は通常固体であり、このような検知剤としては、例えば遷移金属の水酸化物とコンゴーレッドを変色成分とする検知剤（特開平１０−１１５６０８号公報）がある。検知部３は、金属弗化物の検知剤が処理対象ガスと接触するとともに、検知剤の変色を観測できるような構成のものとされる。例えば、処理対象ガスが流通する透明な覗き窓部を設けた検知筒に、前記のような検知剤を充填した構成、ガラス製あるいはプラスチック製の透明管に検知剤を充填し、これを検知対象ガスの配管のバイパス管に設置した構成、あるいはガス採取口を設け、検知剤を充填した検知管に吸引することができるようにした構成とされる。
【００２２】
さらに、本発明の窒素弗化物の浄化システムにおいては、通常は、反応層５で生成した金属弗化物を浄化するために、検知部の後段に、金属弗化物を浄化するための浄化部が設けられる。浄化部に使用される浄化剤としては、例えば、酸化亜鉛、酸化アルミニウムおよびアルカリ化合物より構成される浄化剤（特開平５−２３７３２４号公報）、二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物の３成分を主成分とする浄化剤（特開平９−２６７０２７号公報）、あるいは、水酸化ストロンチウムを主成分とし、成形剤として有機系粘着剤及び成形助剤として水酸化ストロンチウム以外のアルカリ土類金属を用いた浄化剤（特開平９−９９２１６号公報）を挙げることができる。これらの浄化剤は、前述の検知剤とともに１個の筒に充填して本発明における検知部及び浄化部としたり、検知剤とは別の筒に充填して浄化部とすることもできる。尚、これらの浄化剤は、金属弗化物を含むガスを常温で浄化することができる。
【００２３】
次に本発明の窒素弗化物の浄化方法について、図１及び図２を用いて詳細に説明するが、本発明がこれらに限定されるものではない。
本発明の窒素弗化物の浄化方法は、窒素弗化物を含むガスを前述の浄化システムに流通させて、浄化剤層における窒素弗化物による破過を、検知剤による金属弗化物の検出で検知するとともに、予備浄化剤層からの窒素弗化物の流出を防止する浄化方法である。
【００２４】
図１及び図２に示すような浄化システムにおいて、窒素弗化物を含むガスは、浄化装置１の入口から導入され、加熱されるとともに、浄化剤層４、反応層５、予備浄化剤層６と順次接触した後、浄化装置１の出口から排出される。その後、冷却部２で常温付近まで冷やされ、さらに検知部３を流通し、浄化システムから排出される。
窒素弗化物を含むガスは、浄化剤層４が破過するまでは、この浄化剤層４において窒素弗化物が除去され、反応層５に充填された金属または金属化合物、及び予備浄化剤層６に充填された浄化剤とは反応することなく浄化装置１から排出される。
【００２５】
しかし、浄化剤層４が破過した際には、反応層５において窒素弗化物と、金属または金属化合物が反応して金属弗化物が生成し、さらに予備浄化剤層６において未反応の窒素弗化物が除去されて浄化装置１から排出される。浄化装置１から排出された金属弗化物を含むガスは、冷却部２で冷やされた後、検知部３に導入され、検知部３に充填された検知剤の変色により窒素弗化物が検出されるので、浄化剤層４の破過を検知することができる。また、予備浄化剤層６においては、これが破過するまでは、窒素弗化物の浄化システムからの流出を防止することができる。
【００２６】
本発明において、窒素弗化物を含む処理対象ガスを、浄化剤層の浄化剤、反応層の金属または金属化合物、及び予備浄化剤層の浄化剤と接触させる際の温度は、処理対象ガスの種類、窒素弗化物の濃度、流量、浄化剤あるいは金属、金属化合物の種類等により異なり一概に特定できないが、通常は３００〜７００℃程度である。また、圧力にも特に制限はないが、通常は常圧で行なわれるほか、減圧乃至０．１ＭＰａＧのような加圧下で操作することも可能である。
【００２７】
本発明の窒素弗化物の浄化方法においては、通常は窒素弗化物を含むガスを、前述のように浄化剤層４、反応層５、予備浄化剤層６、及び検知部３の検知剤と接触させた後、さらに珪素、ゲルマニウム、リン、モリブデン、またはタングステンの弗化物を浄化する浄化剤と接触させて、窒素弗化物の浄化剤層の破過時に反応層５から流出するこれらの金属弗化物が浄化される。金属弗化物を含むガスと浄化剤を接触させる際の温度は、通常は常温である。また、圧力にも特に制限はないが、通常は常圧で行なわれるほか、減圧乃至０．１ＭＰａＧのような加圧下で操作することも可能である。
【００２８】
尚、本発明の浄化方法が適用される処理対象ガス中に含有する窒素弗化物の濃度及び流速には特に制限はないが、一般に濃度が高いほど流速を小さくすることが望ましい。窒素弗化物の濃度は通常は１％以下であるが、流量が小さい場合にはさらに高濃度の窒素弗化物の処理も可能である。
また、浄化装置は処理対象ガスの種類、窒素弗化物の濃度、流量等に応じて設計されるが、窒素弗化物の濃度が０．１％以下のような比較的低濃度では空筒線速度（ＬＶ）は０．５〜５０ｃｍ／ｓｅｃ、窒素弗化物の濃度が０．１〜１％程度ではＬＶは０．０５〜２０ｃｍ／ｓｅｃ、窒素弗化物の濃度が１％以上のような高濃度では１０ｃｍ／ｓｅｃ以下の範囲で設計することが好ましい。
【００２９】
【実施例】
次に、本発明の窒素弗化物の浄化システム及び浄化方法を、実施例により具体的に説明するが、本発明がこれらにより限定されるものではない。
【００３０】
（浄化システムの製作）
内径１５．７ｍｍ、長さ３００ｍｍのステンレス製の筒の側面にヒーターが設置された図２に示すような浄化装置、冷却水を熱媒体とする冷却装置から成る冷却部、及び内径８ｍｍ、長さ６５ｍｍのガラス製の検知筒から成り充填された検知剤の変色を確認できる検知部から構成された図１に示すような浄化システムの後段に、内径２０ｍｍ、長さ２００ｍｍのステンレス製の金属弗化物の浄化筒を設けた浄化システムを製作した。
【００３１】
（窒素弗化物の浄化剤Ａ〜Ｅの調製）
（１）市販のジルコニウム−鉄合金（ジルコニウム８０重量％、残部鉄）の破砕品（粒径０．５〜２ｍｍ）を浄化剤Ａとした。
（２）市販のジルコニウム（純度９９．５％以上）の破砕品（粒径０．５〜３．５ｍｍ）を浄化剤Ｂとした。
（３）市販の小粒状の金属亜鉛（純度９９．５％以上）を、粒径１〜２ｍｍの細粒状に破砕して浄化剤Ｃとした。
（４）市販の小粒状の金属アルミニウム（純度９９．５％以上）を粒径１〜４ｍｍの細粒状に破砕して浄化剤Ｄとした。
（５）市販の酸化第一錫（和光純薬（株）製）１０００ｇに、６５ｇの水を加えてかき混ぜた。得られたケーキを押し出し成形機によって１．６ｍｍφのノズル板より押し出し、得られた成形物を切断して長さ３〜５ｍｍ程度のペレットとした。このペレットを窒素雰囲気下で１２０℃に加熱しながら約１２時間乾燥することによって浄化剤６００ｇを調製して浄化剤Ｅとした。
【００３２】
（金属弗化物の検知剤の調製）
径１．５〜４ｍｍ、比表面積３００ｍ２／ｇの球状シリカゲル１００ｇに、硝酸コバルト６水和物５．０ｇを水１５３ｍｌに溶解させた水溶液を含浸させ、さらに１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌを加えてかき混ぜた後、ロータリーエバポレーターを用いて５０℃の温度で減圧乾燥させた。これにコンゴーレッド０．１ｇを水１００ｍｌに溶解させた水溶液を加えてかき混ぜ、再度ロータリーエバポレーターを用いて５０℃の温度で減圧乾燥させて金属弗化物の検知剤を調製した。
【００３３】
（金属弗化物の浄化剤の調製）
塩基性炭酸亜鉛５００ｇ、高濃度アルミナ（触媒化成（株）製、カタロイドＡＰ）５２．４ｇ、無水炭酸カリウム３０．２ｇを小型ニーダーに入れて３分間混合した後、水２８０ｇを加えて１時間混練した。このケーキを小型押出機によって１．９φのノズル板より押出して得たペレットをマルメライザーによって丸め、１１０℃にて２時間乾燥した。このものをマッフル炉に入れて３５０℃で１時間焼成することにより、密度１．１５ｇ／ｍｌの浄化剤を得た。
【００３４】
（浄化試験）
実施例１
前述の浄化システムにおいて、浄化装置にはガスの入口から出口に向かって窒素弗化物の浄化剤Ａ２９ｍｌ、粒径２〜５ｍｍの粒状珪素４．０ｍｌ、予備浄化剤として窒素弗化物の浄化剤Ａ６．０ｍｌを充填し、金属弗化物の検知筒には、前記の硝酸コバルトとコンゴーレッドを変色成分とする検知剤１．５ｍｌを充填し、金属弗化物の浄化筒には、前記の炭酸亜鉛、アルミナ及び炭酸カリウムから成る浄化剤３１ｍｌを充填した。
【００３５】
次に浄化装置のガス流通部を３００℃に昇温し、冷却装置に冷却水を流してガス流通部を５０℃以下に保持するとともに、１．０ｖｏｌ％の三弗化窒素を含有する窒素ガスを、空筒線速度５．０ｃｍ／ｓｅｃ（２０℃換算）で浄化装置に流通させて、金属弗化物の検知剤が赤色から青色に変色することにより、窒素弗化物の浄化剤の破過が確認できるまでの時間を測定した。また、窒素弗化物の浄化剤の破過が確認できてから３０分後に、金属弗化物の浄化筒から排出されるガスの一部をサンプリングして、三弗化窒素についてガスクロマトグラフ（検知下限１０ｐｐｍ）を用いて検知を行なった。これらの結果を表１に示する。
【００３６】
実施例２〜６
実施例１における粒径２〜５ｍｍの粒状珪素を、粒径２〜５ｍｍの粒状ゲルマニウム、粒径２〜１０ｍｍの粒状赤リン、タブレット状のモリブデン、タブレット状のタングステン、またはタブレット状の四窒化三珪素（Ｓｉ３Ｎ４）に替えたほかは実施例１と同様にして浄化試験を行なった。その結果を表１に示す。
【００３７】
実施例７〜１０
実施例１における窒素弗化物の浄化剤を、浄化剤Ｂ、浄化剤Ｃ、浄化剤Ｄ、または浄化剤Ｅに替えたほかは実施例１と同様にして浄化試験を行なった。その結果を表１に示す。
【００３８】
実施例１１〜１４
実施例１における窒素弗化物の予備浄化剤を、浄化剤Ｂ、浄化剤Ｃ、浄化剤Ｄ、または浄化剤Ｅに替えたほかは実施例１と同様にして浄化試験を行なった。その結果を表１に示す。
【００３９】
【表１】
0004409050.tif 000002
【００４０】
【発明の効果】
本発明の窒素弗化物の浄化システム及び浄化方法により、浄化剤の破過を容易に検知し、窒素弗化物の下流への流出を防止することができ、しかも効率よく窒素弗化物の浄化及び検知を実施することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の窒素弗化物の浄化システムの一例を示す構成図
【図２】本発明における浄化装置の一例を示す断面図
【符号の説明】
１  浄化装置
２  冷却部
３  検知部
４  窒素弗化物の浄化剤層
５  金属または金属化合物が充填された反応層
６  窒素弗化物の予備浄化剤層
７  ヒーター
８  窒素弗化物を含むガスの導入ライン
９  ブロワー
１０  排気ライン
１１  温度センサー
１２  処理対象ガスの入口側
１３  処理対象ガスの出口側
【図１】
0004409050.tif 000003
【図２】
0004409050.tif 000004