(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
0004409087.tif 000023
[ 式中、
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ1はアニオン性リガンド；
Ｌ1は中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；及び
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｘ1、Ｌ1、Ｚ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む]
の一般式を有する化合物。
【請求項２】
Ｍはルテニウム；
Ｒは水素；
Ｒ1はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル及びアリールからなる群から選択される；
Ｌ1は式ＰＲ3Ｒ4Ｒ5のホスフィン（式中、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、アリール、Ｃ1−Ｃ10第１級アルキル、第２級アルキル及びシクロアルキルからなる群から選択される）；及びＸ1は、ハライド、ＣＦ3ＣＯ2、ＣＨ3ＣＯ2、ＣＦＨ2ＣＯ2、（ＣＨ3）3ＣＯ、（ＣＦ3）2（ＣＨ3）ＣＯ、（ＣＦ3）（ＣＨ3）2ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、及びトリフルオロメタンスルホネートからなる群から選択される；
であることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式
【化２】
0004409087.tif 000024
[ 式中、
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ1はクロライド；
Ｌ1は、−Ｐ（シクロヘキシル）3、−Ｐ（シクロペンチル）3、−Ｐ（イソプロピル）3、及び−Ｐ（フェニル）3からなる群から選択される；
Ｒは水素；
Ｒ1はフェニル又はビニル、ここで、フェニル又はビニルは場合によっては、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルからなる群から選択される１個以上の基で置換されている；
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；
Ｒ6とＲ7は一緒にアリール基又はヘテロアリール基を形成する；
Ｒ8は水素；
Ｒ9はアリール又はヘテロアリール；及び
Ｒ10は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている] の一般式を有する化合物。
【請求項４】
Ｒ6とＲ7は一緒にフェニル基を形成する；
Ｒ9はフェニル；
であることを特徴とする請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
式
【化３】
0004409087.tif 000025
[ 式中、
Ｘ1はアニオン性リガンド；
Ｌ1は中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｒ9は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｒ11は、アリール又はヘテロアリール、ここで、アリール又はヘテロアリールは場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｘ1、Ｌ1、Ｒ、Ｒ1、Ｒ9及びＲ11は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む]
を有する化合物。
【請求項６】
Ｘ1は、ハライド、ＣＦ3ＣＯ2、ＣＨ3ＣＯ2、ＣＦＨ2ＣＯ2、（ＣＨ3）3ＣＯ、（ＣＦ3）2（ＣＨ3）ＣＯ、（ＣＦ3）（ＣＨ3）2ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、及びトリフルオロメタンスルホネートからなる群から選択される；
Ｌ1は式ＰＲ3Ｒ4Ｒ5のホスフィン（式中、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、アリール、Ｃ1−Ｃ10第１級アルキル、第２級アルキル及びシクロアルキルからなる群から選択される）；
Ｒは水素；
Ｒ1はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル及びアリールからなる群から選択される；
であることを特徴とする請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｘ1はクロライド；
Ｌ1は、−Ｐ（シクロヘキシル）3、−Ｐ（シクロペンチル）3、−Ｐ（イソプロピル）3、及び−Ｐ（フェニル）3からなる群から選択される；
Ｒ1はフェニル又はビニル、ここで、フェニル又はビニルは場合によっては、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルからなる群から選択される１個以上の基で置換されている；
Ｒ9及びＲ11は各々アリール又はヘテロアリール；
であることを特徴とする請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ9及びＲ11は各々フェニルであることを特徴とする請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ9及びＲ11は両方とも、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されているフェニルである、ここで、Ｒ9及びＲ11基の各々は場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む；
であることを特徴とする請求項７に記載の化合物。
【請求項１０】
式
【化４】
0004409087.tif 000026
又は
【化５】
0004409087.tif 000027
を有することを特徴とする請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
式
【化６】
0004409087.tif 000028
を有する触媒の製造方法であって、
式
【化７】
0004409087.tif 000029
を有するシッフ塩基の塩を、
式
【化８】
0004409087.tif 000030
を有する化合物と接触させることを含むことを特徴とする方法
[ 式中、
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ及びＸ1は各々アニオン性リガンド；
Ｌ及びＬ1は各々中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；及び
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｘ1、Ｌ1、Ｚ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む] 。
【請求項１２】
シッフ塩基の塩はタリウム塩であることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
Ｍはルテニウム；
Ｒは水素；
Ｒ1はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル及びアリールからなる群から選択される；
Ｌ及びＬ1は式ＰＲ3Ｒ4Ｒ5のホスフィン（式中、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、アリール、Ｃ1−Ｃ10第１級アルキル、第２級アルキル及びシクロアルキルからなる群から選択される）；及び
Ｘ及びＸ1は、ハライド、ＣＦ3ＣＯ2、ＣＨ3ＣＯ2、ＣＦＨ2ＣＯ2、（ＣＨ3）3ＣＯ、（ＣＦ3）2（ＣＨ3）ＣＯ、（ＣＦ3）（ＣＨ3）2ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、及びトリフルオロメタンスルホネートからなる群から選択される；
であることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
式
【化９】
0004409087.tif 000031
を有する触媒の製造方法であって、
式
【化１０】
0004409087.tif 000032
を有するシッフ塩基のタリウム塩を、
式
【化１１】
0004409087.tif 000033
を有する化合物と接触させることを含むことを特徴とする方法
[ 式中、
Ｍはルテニウム；
Ｘ及びＸ1は各々クロライド；
Ｌ及びＬ1は各々、−Ｐ（シクロヘキシル）3、−Ｐ（シクロペンチル）3、−Ｐ（イソプロピル）3、及び−Ｐ（フェニル）3からなる群から選択される；
Ｒは水素；
Ｒ1はフェニル又はビニル、ここで、フェニル又はビニルは場合によっては、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルからなる群から選択される１個以上の基で置換されている；
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；
Ｒ6とＲ7は一緒にアリール基又はヘテロアリール基を形成する；
Ｒ8は水素；
Ｒ9はアリール又はヘテロアリール；及び
Ｒ10は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている] 。
【請求項１５】
Ｒ6とＲ7は一緒にフェニル基を形成する；
Ｒ9はフェニル；
であることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
式
【化１２】
0004409087.tif 000034
を有する触媒の製造方法であって、
式  Ｒ11（ＨＣ＝ＮＲ9）（Ｏ-）
を有するシッフ塩基の塩を
式
【化１３】
0004409087.tif 000035
を有する化合物と接触させることを含むことを特徴とする方法
[ 式中、
Ｘ及びＸ1は各々、アニオン性リガンド；
Ｌ及びＬ1は各々、中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｒ9は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｒ11は、アリール又はヘテロアリール、ここで、アリール又はヘテロアリールは場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｘ1、Ｌ1、Ｒ、Ｒ1、Ｒ9及びＲ11は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む] 。
【請求項１７】
シッフ塩基の塩はタリウム塩であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
Ｘ及びＸ1は各々、ハライド、ＣＦ3ＣＯ2、ＣＨ3ＣＯ2、ＣＦＨ2ＣＯ2、（ＣＨ3）3ＣＯ、（ＣＦ3）2（ＣＨ3）ＣＯ、（ＣＦ3）（ＣＨ3）2ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、及びトリフルオロメタンスルホネートからなる群から選択される；
Ｌ及びＬ1は各々、式ＰＲ3Ｒ4Ｒ5のホスフィン（式中、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、アリール、Ｃ1−Ｃ10第１級アルキル、第２級アルキル又はシクロアルキル）；
Ｒは水素；
Ｒ1はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル及びアリールからなる群から選択される；
であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
Ｘ及びＸ1は各々クロライド；
Ｌ及びＬ1は各々、−Ｐ（シクロヘキシル）3、−Ｐ（シクロペンチル）3、−Ｐ（イソプロピル）3、及び−Ｐ（フェニル）3である；
Ｒ1はフェニル又はビニル、ここで、フェニル又はビニルは場合によっては、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルからなる群から選択される１個以上の基で置換されている；
Ｒ9及びＲ11は各々アリール又はヘテロアリール；
であることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
Ｒ9及びＲ11は各々フェニルであることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
Ｒ9及びＲ11は両方とも、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されているフェニルである、ここで、Ｒ9及びＲ11基の各々は場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む；
であることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
触媒は、
式
【化１４】
0004409087.tif 000036
又は
【化１５】
0004409087.tif 000037
を有することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
オレフィンを、
式
【化１６】
0004409087.tif 000038
[ 式中、
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ1はアニオン性リガンド；
Ｌ1は中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；及び
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｘ1、Ｌ1、Ｚ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む]
を有する触媒と接触させることを含むことを特徴とするメタセシス反応の実施方法。
【請求項２４】
オレフィンは環状オレフィンであることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
物品を成型する方法であって、
（ｉ）室温で型に、オレフィンと、
式
【化１７】
0004409087.tif 000039
[ 式中、
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ1はアニオン性リガンド；
Ｌ1は中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；及び
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
Ｘ1、Ｌ1、Ｚ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む]
を有する触媒を加える工程と、
（ｉｉ）型の温度を最低４０℃にする工程とを
含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
米国政府は、国立科学財団(the National Science Foundation) によって与えられた補助金第CHE892272 号に基づき本発明にある種の権利を有する。
【０００２】
（背景）
オレフィンを開始することができる多数の触媒系が導入されてきた。しかし、オレフィンにおける最初期の研究は、明瞭ではない多成分触媒系を用いてなされた。明瞭な単一成分の金属カルベン錯体が製造され、オレフィンメタセシスにおいて広範に使用されたのは、ほんの最近のことである。
【０００３】
効率的な触媒系の出現によって、オレフィンメタセシスは、化学におけるＣ−Ｃ結合の生成の強力な道具として登場した。明瞭な触媒系のなかで、Schrock 及び共同研究者によって開発されたアルコキシイミドモリブデン系１と、Grubbs及び共同研究者によって開発されたベンジリデンルテニウムカルベン錯体２、３は重要である。
【０００４】
【化１４】
0004409087.tif 000002
【化１５】
0004409087.tif 000003
特に、ルテニウムカルベン触媒系が多いに注目された。その理由は、該触媒系は、温和な条件下で、種々のメタセシスプロセスのために高い反応性を示すからばかりではなく、多数の有機官能基の顕著な耐性の故でもあった。しかし、これらのルテニウムカルベン触媒（特に、錯体２及び３）は多様なオレフィンメタセシス反応に使用され、顕著な成功を修めた。しかし、更なる改良、例えば、より良好な温度安定性、極性のプロトン性溶媒における高活性、並びにキラル及びシス／トランス選択性などが、商業上の可能性をより十分に開発するために必要である。
【０００５】
（発明の概要）
本発明は一般的に、オレフィンメタセシス反応で使用するためのルテニウム及びオスミウムカルベン触媒に関する。より詳細には、本発明は、ルテニウム及びオスミウムカルベン触媒のシッフ塩基誘導体と、該誘導体の製造方法に関する。
【０００６】
該シッフ塩基触媒は、一般式
【０００７】
【化１６】
0004409087.tif 000004
[ 式中
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ1はアニオン性リガンド；
Ｌ1は中性電子供与体；
Ｒ及びＲ1は各々、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基、ここで、置換基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
【０００８】
Ｚは、酸素、硫黄、−ＮＲ10及び−ＰＲ10からなる群から選択される；及び
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される、ここで、各々の非水素基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている；
【０００９】
Ｘ1、Ｌ1、Ｚ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9は各々場合によっては、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンからなる群から選択される１個以上の官能基を含む]
【００１０】
を有する。
シッフ塩基リガンドは、式
【００１１】
【化１７】
0004409087.tif 000005
を有するシッフ塩基の塩を、式
【００１２】
【化１８】
0004409087.tif 000006
を有する化合物と接触させることを含む縮合によって製造される
[ 式中
M 、X1、L1、Z 、R 、R1、R6、R7、R8、及びR9は上記の通りである；
【００１３】
X はアニオン性リガンド；及び
L は中性電子供与体] 。
本発明のシッフ塩基触媒は予想に反して、非修飾のルテニウム及びオスミウム触媒に対し熱安定性の改良を示し、極性のプロトン性溶媒においてさえ、高メタセシス活性を維持する。本発明の触媒はメタセシス反応全てに使用されることができるが、閉環メタセシス（“ＲＣＭ”）反応が特に好ましい。その理由は、より高温では、他の競合反応に対しＲＣＭ反応は促進されるからである。更に、シッフ塩基誘導体は、更なる機能性を含むための便利な経路を提供するので、キラル及び／又はシス／トランス選択的メタセシス触媒の設計に主要な役割を果たしうる。
【００１４】
（発明の詳細な説明）
本発明は一般的に、オレフィンメタセシス反応で使用するためのルテニウム及びオスミウムカルベン触媒に関する。より詳細には、本発明は、ルテニウム及びオスミウムカルベン触媒のシッフ塩基誘導体と、該誘導体の製造方法に関する。
【００１５】
非修飾のルテニウム及びオスミウムカルベン錯体は、米国特許第５，３１２，９４０号、第５，３４２，９０９号、第５，７２８，９１７号、第５，７５０，８１５号、第５，７１０，２９８号（以上の特許全てが引用により本明細書に含まれるものとする）に記載されている。これら全てにおいて開示されたルテニウム及びオスミウムカルベン錯体は、形式的に酸化状態＋２であり、電子数１６を有し、配位数５の金属中心を有する。これらの触媒は、一般式
【００１６】
【化１９】
0004409087.tif 000007
[ 式中
Ｍはルテニウム又はオスミウム；
Ｘ及びＸ1は各々独立に、アニオン性リガンド；
Ｌ及びＬ1は各々独立に、中性電子供与体リガンド；
Ｒ及びＲ1は各々独立に、水素、又はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル及びＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニルからなる群から選択される置換基である。ここで、Ｒ又はＲ1置換基の各々は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されていてもよく、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールの各々は、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ及びフェニルから選択される１個以上の基で更に置換されていてもよい。更に、触媒リガンドの任意のものは更に１個以上の官能基を含んでもよい。適切な官能基の例は、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、及びハロゲンを含むが、それらに限定されない。] を有する。
【００１７】
これらの触媒の好適な実施の形態において、Ｒ置換基は水素、Ｒ1置換基は、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、及びアリールからなる群から選択される。より一層好適な実施の形態では、Ｒ1置換基は、フェニル又はビニルであり、フェニル又はビニルは場合によっては、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、フェニル、及び官能基からなる群から選択される１個以上の基で置換されている。特に好適な実施の形態では、Ｒ1は、クロライド、ブロマイド、ヨーダイド、フルオライド、−ＮＯ2、−ＮＭｅ2、メチル、メトキシ及びフェニルからなる群から選択される１個以上の基で置換されているフェニル又はビニルである。最適な実施の形態では、Ｒ1置換基はフェニルである。
【００１８】
これらの触媒の好適な実施の形態では、Ｌ及びＬ1は各々独立に、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスファイト、ホスフィニト、ホスホニト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、イミン、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン及びチオエーテルである。より好適な実施の形態では、Ｌ及びＬ1は各々、式ＰＲ3Ｒ4Ｒ5[ 式中、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立にアリール又はＣ1−Ｃ10アルキル、特に第１級アルキル、第２級アルキル又はシクロアルキル] を有するホスフィンである。最適の実施の形態では、Ｌ及びＬ1リガンドは各々、−Ｐ（シクロヘキシル）3、−Ｐ（シクロペンチル）3、−Ｐ（イソプロピル）3、及び−Ｐ（フェニル）3からなる群から選択される。
【００１９】
これらの触媒の好適な実施の形態では、Ｘ及びＸ1は各々独立に、水素、ハライド、又は以下の基の一つである。：Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、Ｃ1−Ｃ20アルコキシド、アリールオキシド、Ｃ3−Ｃ20アルキルジケトネート、アリールジケトネート、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、アリールスルホネート、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホネート、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル、又はＣ1−Ｃ20アルキルスルフィニル。場合によっては、Ｘ及びＸ1は、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されていてもよい。Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールは各々、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルから選択される１個以上の基で更に置換されていてもよい。より好適な実施の形態では、Ｘ及びＸ1は、ハライド、ベンゾエート、Ｃ1−Ｃ5カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ5アルキル、フェノキシ、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオ、アリール、及びＣ1−Ｃ5アルキルスルホネートである。より一層好適な実施の形態では、Ｘ及びＸ1は各々、ハライド、ＣＦ3ＣＯ2、ＣＨ3ＣＯ2、ＣＦＨ2ＣＯ2、（ＣＨ3）3ＣＯ、（ＣＦ3）2（ＣＨ3）ＣＯ、（ＣＦ3）（ＣＨ3）2ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、又はトリフルオロメタンスルホネートである。最適な実施の形態では、Ｘ及びＸ1は各々クロライドである。
【００２０】
本発明の触媒は、Ｘ及びＬが一般式
【００２１】
【化２０】
0004409087.tif 000008
[ 式中
Ｎ及びＺは金属中心Ｍに配位している；
Ｚは、Ｏ（“酸素”）、Ｓ（“硫黄”）、ＮＲ10、及びＰＲ10からなる群から選択される；及び
【００２２】
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々独立に、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、アリール、及びヘテロアリールからなる群から選択される。各々の非水素基は、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されていてもよい。Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、及びアリールは各々、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルから選択される１個以上の基で更に置換されていてもよい。]
【００２３】
を有するシッフ塩基リガンドによって同時に置換されているということを除いて上記触媒と同様である。
“アルキル”という用語は包括的であるものとし、第１級、第２級、第３級、及びシクロアルキル基を含むようなアルキル基の全ての形態を含む。アリール基及びヘテロアリール基の例は、アントラシル、アダマンチル、フリル、イミダゾリル、イソキノリル、フェニル、ナフチル、フェナントラシル、ピリジル、ピリミジル、ピリル、及びキノリルを含むが、それらに限定されない。更に、隣接Ｒ基であるＲ6及びＲ7は一緒に、置換された、又は非置換の環状基（即ち、アリール、シクロアルキル、又はヘテロアリール）を形成してもよい。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10の各々は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10及びアリールからなる群から選択される１個以上の基で置換されていてもよい。更にシッフ塩基リガンドは１個以上の官能基を含んでもよい。適切な官能基の例は、ヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィッド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンを含むが、それらに限定されない。
【００２４】
得られる触媒は、一般式
【００２５】
【化２１】
0004409087.tif 000009
[ 式中
Ｍ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｚ、Ｘ1及びＬ1は上記定義の通りである]
【００２６】
を有する。
好適な実施の形態において、Ｍはルテニウム；Ｒは水素；Ｒ1はＣ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル及びアリールからなる群から選択される；Ｌ1は式ＰＲ3Ｒ4Ｒ5のホスフィン（式中、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、アリール、Ｃ1−Ｃ10第１級アルキル、第２級アルキル及びシクロアルキルからなる群から選択される）；及びＸ1は、ハライド、ＣＦ3ＣＯ2、ＣＨ3ＣＯ2、ＣＦＨ2ＣＯ2、（ＣＨ3）3ＣＯ、（ＣＦ3）2（ＣＨ3）ＣＯ、（ＣＦ3）（ＣＨ3）2ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、及びトリフルオロメタンスルホネートからなる群から選択される。
【００２７】
より好適な実施の形態では、本発明の触媒は、一般式
【００２８】
【化２２】
0004409087.tif 000010
[ 式中
Ｒ、Ｒ1、Ｒ9、Ｘ1及びＬ1は上記定義の通りであり、Ｒ11は、アリール基又はヘテロアリール基、ここで、アリール基又はヘテロアリール基は場合によっては、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ及びアリールからなる群から選択される１個以上の基によって置換されている]
【００２９】
を有する。シッフ塩基触媒誘導体の一般式に関し、Ｍはルテニウム；Ｚは酸素；Ｒ8は水素、Ｒ11は、Ｒ6とＲ7の結合によって形成されるアリール基又はヘテロアリール基である。
【００３０】
シッフ塩基錯体の一層好適な実施の形態において
Ｘ1はクロライド；
Ｌ1は、−Ｐ（シクロヘキシル）3、−Ｐ（シクロペンチル）3、−Ｐ（イソプロピル）3、及び−Ｐ（フェニル）3からなる群から選択される；
Ｒは水素；
Ｒ1はフェニル又はビニル、ここで、フェニル又はビニルは場合によっては、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシ、及びフェニルからなる群から選択される１個以上の基で置換されている；
【００３１】
Ｒ9はその芳香族環上で最低１個の基で置換されているアリール又はヘテロアリール；及び
Ｒ11は最低１個の電子吸引基で置換されているアリール又はヘテロアリール。特に好適な実施の形態では、Ｒ9は、最低１個の嵩高い置換基と最低１個の電子吸引基で置換されているフェニルであり、Ｒ11は、最低１個の電子吸引基で置換されているフェニルである。電子吸引基の適切な例は、ハライド、１個以上のハライドで置換されているＣ1−Ｃ10アルキル、及びニトロを含むが、それらに限定されない。嵩高い置換基の適切な例は、第３級Ｃ3−Ｃ10アルキル及びアリールを含むが、それらに限定されない。
【００３２】
本発明の最適な実施の形態の２つは
【００３３】
【化２３】
0004409087.tif 000011
及び
【００３４】
【化２４】
0004409087.tif 000012
である。
それら自身の正確さにおいて価値あることに加えて、本発明のシッフ塩基化合物のキレート構造は、キラル及び／又はシス／トランス選択的メタセシス触媒の設計のために十分に硬い構造を提供する。例えば、反応の性質に依存して、触媒をキラル又はプロキラルであるようにさせることは望ましくありうる。このような化合物の例示的使用には、キラルオレフィンの速度論分割や、プロキラルトリエン閉環反応における非対称誘導がある。シス／トランス選択性は、異なる生成物に至る反応中間体の相対的エネルギーに影響を与えるリガンドの立体的大きさを制御することによって達成されることができる。
【００３５】
本発明の別の実施の形態において、シッフ塩基錯体の製造方法が提出される。一般的に、該方法では、一般式
【００３６】
【化２５】
0004409087.tif 000013
を有するシッフ塩基の塩を、一般式
【００３７】
【化２６】
0004409087.tif 000014
を有する触媒と反応させる
[ 式中
Ｍ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｘ、Ｘ1、Ｌ及びＬ1は上記定義の通りである] 。
【００３８】
任意の塩を形成することができるが、タリウム塩が特に有効であると知見された。
好適な実施の形態では、シッフ塩基は、一般式
【００３９】
【化２７】
0004409087.tif 000015
を有するアルデヒド又はケトンと、一般式Ｈ2ＮＲ9を有するアミンとの縮合から製造される。
【００４０】
より好適な実施の形態では、縮合反応は、アルデヒドＲ11（ＨＣ＝Ｏ）（ＯＨ）、及びアミンＨ2ＮＲ9の間で起り、一般式
【００４１】
【化２８】
0004409087.tif 000016
[ 式中、Ｘ1、Ｌ1、Ｒ、Ｒ1、Ｒ9、Ｒ11は上記定義の通りである]
を有する触媒を得る。特に好適なアルデヒドは、置換された、及び非置換のサリチルアルデヒドである。
【００４２】
明瞭化を目的として、ルテニウム及びオスミウム触媒のシッフ塩基誘導体類の合成を、具体的な触媒としてルテニウム錯体２又は３を例にとって説明する。しかしながら、これから説明する方法は、一般に応用可能であることは理解されるべきである。
【００４３】
スキーム１
【００４４】
【化２９】
0004409087.tif 000017
スキーム１で示されるように、サリチルアルジミン（ｓａｌｉｃｙｌａｌｄｉｍｉｎｅ）配位子６ａ−ｈは、サリチルアルデヒド類４と脂肪族又は芳香族アミン誘導体類５との単純な縮合により極めて高い収率で調製された。サリチルアルジミン（ｓａｌｉｃｙｌａｌｄｉｍｉｎｅ）配位子は、タリウムエトキシドで処理することにより、対応するタリウム塩に定量的に転化された。得られるシッフ塩基配位子は、錯体２又は３におけるＸ及びＬ配位子を置換したものである。
【００４５】
所望のシッフ塩基触媒８ａ−ｈを得る置換反応の効率は、配位子における置換基の大きさ（ｂｕｌｋ）に依存して変化した。例えば、フェノキシ部分の６位にメチル基を持つ配位子のタリウム塩（７ｆ）は錯体２又は３で容易に置換されるが、同位置に大きな置換基（例えばｔ−ブチル基）を持つ配位子の反応は、各種置換条件下において低い転化率であった。錯体３は、第２位及び第６位に置換基を持つアニリン類から誘導された配位子と反応して、複数の錯体を生成する。しかしながら、おそらく立体的な理由から、ベンゾイミンの第２位及び第６位に非常に大きな置換基（例えばトリイソプロピルシリルオキシ基）を持つ配位子は、錯体３との反応において非常に低い反応性を呈した。このことにも拘らず、上記のシッフ塩基配位子置換は、驚くほど強力であり、多様なシッフ塩基触媒の合成を可能にするものである。
【００４６】
あらゆる場合のシッフ塩基ルテニウム錯体への錯体３の定量的転化（ＮＭＲにより確認）に拘らず、殆どの有機溶媒に対する生成錯体の高い溶解性に起因して、単離再結晶収率は低かった。ルテニウムシッフ塩基ベンジリデン種８ａ−ｈは、空気又は湿気に対して非常に安定な固体であり、幾つかの場合には、シリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィーにより更に精製することが可能である。更に、該錯体は、８５℃の高温に加熱された場合においてさえも、溶液（ＣＨ2Ｃｌ2又はＣ6Ｈ6）中において無視しうる程度の分解しか示さない。例えば、表１に示されるように、ルテニウム錯体３（既に述べたルテニウムメタセシス触媒の代表例）は、８５℃においてたった３０分後に著しく分解したが、本発明の錯体８ｂは実質的に変化しなかった。
【００４７】
【表１】
0004409087.tif 000018
以下で更に詳細に説明するが、前記のルテニウム及びオスミウムメタセシス触媒に勝るこれら触媒の熱安定性は予想外に大きく、このことによりこれら触媒は産業分野への利用が更に見込まれる。
【００４８】
シッフ塩基置換されたルテニウム錯体の構造解析
ホスフィン一つと塩素配位子一つとのシッフ塩基配位子による置換は、全ての置換反応（スキーム1 における７→８）に関して、特有のＮＭＲスペクトル変化により明瞭に確認された。配位結合したホスフィンとカルベンプロトンＨαとの間の結合定数は、カルベンフラグメントの原子によって規定される平面の相対的配向並びにＰ−Ｒｕ−Ｐ平面の相対的配向に対して感受性のあることが確認された。カルベン平面がＰ−Ｒｕ−Ｐ平面に対して９０度であるとき、結合定数ＪPH＝０であり、それらが同一平面となる場合は結合定数ＪPH＞１０である。
【００４９】
錯体3 に対して（シングレット、２０．１ｐｐｍ、ＣＤ2Ｃｌ2溶媒）、化合物８ａ−ｈにおけるベンジリデンプロトンの化学シフトは、１９．８ｐｐｍから１８．７ｐｐｍの間にダブレットとして現れた（表２）。予期される通り、電子吸引性の大きな置換基を持つ配位子を有してなる錯体は、より低磁場へシフトしていた。プロトン−リン結合もまた、シッフ塩基配位子の性質によって変化した。特筆すべきことは、結合定数ＪPHが、シッフ塩基配位子上の置換基の電子供与に対してよりも立体的な大きさに対して感受性が高いことである。このことは、ルテニウム金属中心を取り巻く配位結合は類似していても、各化学種の相対的な結合配置は、各配位子が必要とする立体空間に依存して微妙に変化することを示唆している。例えば、立体的に密な配位子が小さな結合定数ＪPH（例えば８ｆの場合２．７Ｈｚ）を示すとき、この値はシッフ塩基が必要とする立体空間が減少することにより増加する（例えば８ｄにおいて４．８Ｈｚ）。プロトンＮＭＲスペクトル法により確認されるように、８ａ−ｈにおける配位結合したホスフィン配位子に関する31Ｐスペクトルもまた、シッフ塩基配位子の電子特性に依存する。例えば、リンの化学シフトがアニリン誘導型配位子に関して５１乃至５４ｐｐｍの範囲にあるとき、その値は化合物８ｈに関しては上磁場（３９ｐｐｍ）にシフトする。
【００５０】
【表２】
0004409087.tif 000019
錯体８ａ−ｈを代表して、シッフ塩基置換されたベンジリデン種８ｂの構造を単結晶Ｘ線解析により更に同定した。Ｘ線構造解析に好適な結晶は濃縮させたジイソプロピルエーテル溶液から−２０℃で単離させた。この解析によるデータ収集及び精密化データを表３にまとめた。尚、選択した結合距離及び結合角度を表４に記載した。
【００５１】
【表３】
0004409087.tif 000020
【表４】
0004409087.tif 000021
固体状態において、分子は歪んだ３角両錐の配位形態をとる。嵩高い２，６−ジイソプロピルベンゾイミン（２，６−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌ  ｂｅｎｚｉｍｉｎｅ）は、トリシクロヘキシルホスフィンに対してアキシアルなトランス位を占め、フェノキシ部分は、Ｏ１−Ｒｕ−Ｃｌ結合角がほぼ線状（１７３．０°）なエカトリアル位にある。シッフ塩基配位子の二つの芳香族環は、互いに対して８０．１°の角度で位置している。錯体３におけるベンジリデン部分が、Ｐ１−Ｒｕ−Ｐ２平面に対して垂直である場合、８ｂ構造中のカルベンユニットのＰ−Ｒｕ−Ｎ１平面に対する角度は８７．１４°である。カルベン平面のこの歪みは、８ｂに関するＪPHの値がゼロではないことと一致する。Ｒｕ−Ｃ１（カルベン炭素）結合距離［１．８５０（６）Å］は、以下の関連化合物ＲｕＣｌ2（＝ＣＨＣＨ＝ＣＰｈ2）ＰＣｙ3［ｄ（Ｒｕ−Ｃ），１．８５１（２１）Å］、〔ＲｕＣｌ（＝Ｃ（ＯＭｅ）−（ＣＨ＝ＣＰｈ2）（ＣＯ）（Ｐｉ−Ｐｒ3）2〕〔ＢＦ4〕［ｄ（Ｒｕ−Ｃ），１．８７４（３）Å］又はＲｕＣｌ2（＝ＣＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4Ｃｌ）（ＰＣｙ3）2［ｄ（Ｒｕ−Ｃ），１．８３８（３）Å］における結合距離と類似している。
【００５２】
メタセシス反応におけるシッフ塩基誘導体類の利用
本発明に係るシッフ塩基触媒は、どのようなメタセシス反応にも利用可能である。一般に、メタセシス反応を実施する方法は、少なくとも一の本発明触媒をオレフィンと接触させることからなる。本発明の実施は、溶媒があってもなくても可能である。無溶媒反応の場合、本発明の触媒は典型的に、反応を引き起こされるオレフィン中に溶解する。ここで使用される場合の用語「オレフィン」とは、少なくとも一の炭素−炭素二重結合を持つ未置換又は置換炭化水素である。炭化水素は直鎖、分岐又は環状化合物である。炭化水素置換基の代表例としては、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ2−Ｃ20アルキニル、アリール、Ｃ1−Ｃ20カルボキシレート、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、Ｃ2−Ｃ20アルケニルオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ2−Ｃ20アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ20アルキルスルフィニル、並びに、以下の群すなわちヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カルボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択された官能基を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００５３】
特に重要なメタセシス反応の一つは、環状オレフィンの開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）である。ＲＯＭＰを行う環状オレフィンの代表例としては、ノルボレン、シクロブテン、ノルボルナジエン、シクロペンテン、ジシクロペンタジエン、シクロヘプテン、シクロオクテン、７−オキサノルボルネン、７−オキサノルボルナジエン、シクロオクタジエン及びシクロドデセンを挙げることができるが、これらに限定されない。もう一つの重要なメタセシス反応は、閉環メタセシス（ＲＣＭ）である。ＲＣＭにおいて、非環状ジエン（二つの炭素−炭素二重結合を持つオレフィン）は、少なくとも一の本発明触媒と接触して、環状オレフィンとなる。本発明触媒はどのようなメタセシス反応にも利用できるが、高温において競合反応に打ち勝つことからＲＣＭ反応における利用が特に好適である。
【００５４】
スキーム２は、あるＲＣＭ反応におけるシッフ塩基ルテニウムカルベン錯体８ａ−ｈの利用を示している。
スキーム２
【００５５】
【化３０】
0004409087.tif 000022
一般に、本発明化合物は、既に記載のルテニウム及びオスミウムカルベン錯体に比べ室温での反応性に乏しい傾向がある。しかしながら、高温においては反応性は著しく向上する。例えば、ジアリルマロン酸ジエチルエステル９の閉環は、錯体８ｇ（８ｍｏｌ％、ＣＨ2Ｃｌ2）の存在下で、室温において１２時間の内に進行するが、７０℃においては同一カルベン触媒（３ｍｏｌ％、Ｃ6Ｈ6）の存在下で、反応は１時間の内に完了する。もう一つの例として、錯体８ｂを使用すると、反応が５５℃で実施される場合、収率は１００％に近く、その温度で２日経過した後でさえも触媒分解の形跡は見られなかった。ジエン反応物においては多くの競合経路があることから、この高収率は驚異的な予期せぬ結果である。
【００５６】
室温と高温との間における反応性の顕著な差は、これら触媒の産業上の利用に関し幾つかの利点をもたらすものである。例えば、本発明のシッフ塩基触媒を利用することにより、重合反応混合物の可使時間（モノマー／触媒混合物が機能する時間）を調整する簡潔で単純な方法が提供される。温度依存性の重合反応速度を利用して、成形部分を作製する予備重合工程（すなわちオレフィンモノマーを触媒と混合し、反応混合物を型内にキャスティング／射出／注入する）を全て、室温において行うことができる。本発明の触媒はこの温度においてはそれほど活性がないので、早期重合の心配なく該予備工程を実施することができる。反応の進行準備が整ったら、混合物を所望の温度まで加熱して所望の速度で重合反応を生じさせることができる。好適な温度は個々の本発明触媒に依存する。しかしながら、高温とは典型的に少なくとも約４０℃である。
【００５７】
他の一例として、本発明の触媒は、大型成形品の製造にも利用できる。肉厚部の重合は、発熱反応であることに起因して重合反応の途中で前記メタセシス触媒が失活する傾向にあることから、特に問題視されていた。結果として、上記成形品の重合は、肉厚部分の中心部が不完全な重合の影響を特に受けやすい不均質なものとなる傾向にあった。対照的に、本発明触媒は熱安定性が大きなことから、上記問題は本発明触媒を利用することにより回避することができる。
【００５８】
本発明の触媒における更に別な特徴の一つは、極性プロティック溶媒中においてさえも触媒活性を維持する能力にある。極性プロティック溶媒の利用は、特に所望基質が一般的な非極性溶媒に不溶である場合に不可欠である。例えば、一般的な非極性溶媒に不溶なジアリルアミン塩酸塩１０は、錯体８ａの存在下でメチルアルコール中で見事に環状化した（５ｍｏｌ％、４０℃、１２時間）。
【００５９】
以上をまとめると、ルテニウム及びオスミウム錯体のシッフ塩基誘導体類は、高い熱安定性と高いメタセシス活性（極性プロティック溶媒中においてさえも）とを示すそれ自身重要な触媒である。加えて、それらは付加的な官能基を取り入れる簡便な経路を提供することから、シッフ塩基誘導体類は、キラル又はシス／トランス選択性のオレフィンメタセシス触媒設計における重要な役割を演ずることが可能である。
【００６０】
（実施例）
特に断りのない場合、全操作は標準的なシュレンク法（Ｓｃｈｌｅｎｋ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ）又はドライボックス法（ｄｒｙ−ｂｏｘ  ｐｒｏｃｅｄｕｒｅｓ）を採用して実施した。アルゴンはバスフ（ＢＡＳＦ）製Ｒ３−１１触媒（Ｃｈｅｍａｌｏｇ）及び４Åモレキュラーシーブ（Ｌｉｎｄｅ）からなるカラムを通過させて精製した。固体有機金属化合物は、窒素充填したバキュームアトモスフィアーズ（Ｖａｃｕｕｍ  Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｓ）製ドライボックス中に移し保管した。1Ｈ−ＮＭＲ（３００．１ＭＨｚ）及び13Ｃ−ＮＭＲ（７５．４９ＭＨｚ）のスペクトルを、ジェネラルエレクトリック（Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ）製ＱＥ−３００スペクトロメーターで記録した。31Ｐ−ＮＭＲ（１６１．９ＭＨｚ）スペクトルを、ＪＥＯＬ（日本電子）製ＧＸ−４００スペクトロメーターで記録した。ＮＭＲの化学シフトは、テトラメチルシラン（英明細書；ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｓｕｌａｎｅ）（ＴＭＳ）から低磁場側をｐｐｍで記録し（δスケール）、ここでＴＭＳはプロトンスペクトルの内部溶媒として使用し、リン酸はリンスペクトルの内部溶媒として使用した。高分解能質量スペクトル（ＨＲＭＳ）は、カリフォルニア大学内（Ｒｉｖｅｒｓｉｄｅ所在）サザーンカリフォルニアマススペクトロメトリーファシリティー（Ｓｏｕｔｈｅｒｎ  Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ  Ｆａｃｉｌｉｔｙ）より提供された。分析用薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）は、シリカゲル６０Ｆ２５４でプレコートされたプレート（厚さ０．２５ｍｍ）を蛍光指示薬と共に使用して実施した。フラッシュカラムクロマトグラフィーは、ＥＭサイエンス（ＥＭ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）製シリカゲル６０（２３０−４００メッシュ）を使用して実施した。全ての溶媒は１８Ｌの容器内で厳密に脱気し、二つの連続精製カラムに通した。錯体３及び２，６−ジメチル−４−メトキシアニリンは、ＮｇｕｙｅｎらによるＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１５号、第９８５８乃至９８５９頁（１９９３年）、Ｓｏｎｅらによる日本化学会誌７号第１２３７乃至１２４０頁（１９８２年）に記載の手順に従って調製した。特に断りのない場合、他の全ての化合物はアルドリッチケミカルカンパニー（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から購入し、一般的な方法で使用した。
【００６１】
シッフ塩基（６ａ−ｈ）調製の一般的手順
サリチルアルデヒドと脂肪族又は芳香族アミン誘導体類との縮合は、８０℃のエチルアルコール内で２時間かけて攪拌しながら実施した。０℃に冷却することにより、黄色固体が反応混合物から析出した。この固体を濾過し、冷エチルアルコールで洗浄し、更に真空中で乾燥させ、所望のサリチルアドイミン（ｓａｌｉｃｙｌａｄｉｍｉｎｅ）配位子を極めて高い収率で得た。変更点は各反応に関して記載する。
【００６２】
シッフ塩基６ａ（Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝２，６−ｉ−ＰｒＣ6Ｈ3）
サリチルアルデヒト（０．３７ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、２，６−ジイソプロピルアニリン（０．５３ｇ、３．０ｍｍｏｌ）及びエタノール（１５ｍＬ）から、表題の化合物０．７６ｇ（９０％）を黄色固体として得た。蟻酸を滴下し、縮合反応を加速させた。融点ｍｐ．６０−６１℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１３．１６（ｓ，１Ｈ）、８．３４（ｓ，１Ｈ）、７．４６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．４０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．２２（ｂｓ，３Ｈ）、７．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）、６．９９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、３．２０（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、１．２０（ｄ，ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６６．４、１６１．０、１４５．９、１３８．４、１３３．０、１３２．０、１２５．３、１２３．０、１１８．８、１１８．４、１１７．１、２７．９、２３．３、Ｃ19Ｈ23ＮＯ［Ｍ］+２８１．１７８０に対するＨＲＭＳ（ＥＩ）値２８１．１７８６。
【００６３】
シッフ塩基６ｂ（Ｒ1＝４−ＮＯ2、Ｒ2＝２，６−ｉ−ＰｒＣ6Ｈ3）
５−ニトロサリチルアルデヒド（１．１０ｇ、６．６０ｍｍｏｌ）、２，６−ジイソプロピルアニリン（１．２０ｇ、６．６０ｍｍｏｌ）及びエタノール（２５ｍＬ）から、表題の化合物２．０ｇ（９３％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１２２−１２４℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１４．３５（ｓ，１Ｈ）、８．４３（ｓ，１Ｈ）、８．３８（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．３２（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．２５（ｂｓ，３Ｈ）、７．１５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、２．９７（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、１．２２（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６６．８、１６５．２、１４４．４、１３９．７、１３８．４、１２８．３、１２８．２、１２６．１、１２３．３、１１８．３、１１７．３、２８．１、２３．３、Ｃ19Ｈ23Ｎ2Ｏ3［Ｍ＋Ｈ］+３２７．１７０９に対するＨＲＭＳ（ＣＩ）値３２７．１７０８。
【００６４】
シッフ塩基６ｃ（Ｒ1＝４−ＮＯ2、Ｒ2＝２，６−Ｍｅ−４−ＭｅＯＣ6Ｈ2）
５−ニトロサリチルアルデヒド（６．６８ｇ、４０ｍｍｏｌ）、２，６−ジメチル−４−メトキシアニリン（６．６５ｇ、６．４４ｍｍｏｌ）及びエタノール（１４０ｍＬ）から、表題の化合物１１．５２ｇ（９６％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１２２−１２４℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１４．６７（ｓ，１Ｈ）、８．４１（ｓ，１Ｈ）、８．３３（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．２８（ｄｄ，Ｊ＝９．１，２．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．１０（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ）、６．６８（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｓ，３Ｈ）、２．２４（ｓ，６Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６７．６、１６５．０、１５７．３、１３０．２、１２８．３、１２８．２、１１８．５、１１７．５、１１３．９、５５．４、１８．９、Ｃ16Ｈ17Ｎ2Ｏ4［Ｍ＋Ｈ］+３０１．１１８８に対するＨＲＭＳ（ＣＩ）値３０１．１１９６。
【００６５】
シッフ塩基６ｄ（Ｒ1＝４−ＮＯ2、Ｒ2＝２，６−Ｍｅ−４−ＢｒＣ6Ｈ2）
５−ニトロサリチルアルデヒド（０．６７ｇ、４．０ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−２，６−ジメチルアニリン（０．８０ｇ、４．０ｍｍｏｌ）及びエタノール（１５ｍＬ）から、表題の化合物１．４１ｇ（９１％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１９４−１９６℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１３．９６（ｓ，１Ｈ）、８．４１（ｓ，１Ｈ）、８．３５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．３０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．２８（ｓ，２Ｈ）、７．１３（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、２．１９（ｓ，６Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６６．４、１６５．５、１４５．６、１３９．８、１３１．０、１３０．２、１２８．４、１２８．２、１１８．５、１１８．２、１１７．３、１８．１、ＭＳ（ＣＩ）３５０（１００）、３４８（９２）、２６８（２９）、１３１（９１）、１０４（２５）、７７（２９）。
【００６６】
シッフ塩基６ｅ（Ｒ1＝４−ＮＯ2、Ｒ2＝２，６−Ｃｌ−４−ＣＦ3Ｃ6Ｈ2）
５−ニトロサリチルアルデヒド（１．３０ｇ、８．０ｍｍｏｌ）、４−アミノ−３，５−ジクロロ三フッ化ベンゼン（１．８０ｇ、８．０ｍｍｏｌ）及びエタノール（２５ｍＬ）から、表題の化合物２．７０ｇ（９０％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１７３−１７４℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１２．９６（ｓ，１Ｈ）、８．６８（ｓ，１Ｈ）、８．４３（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．３６（ｄｄ，Ｊ＝９．３，２．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．７０（ｓ，２Ｈ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６８．７、１６６．１、１４５．７、１４０．１、１２９．４、１２９．１、１２７．６、１２５．８、１２５．７、１１８．５、１１６．９、Ｃ14Ｈ11Ｎ2Ｏ3Ｆ3Ｃｌ2［Ｍ＋Ｈ］+３７８．９８６４に対して計算したＨＲＭＳ（ＣＩ）値３７８．９８６６。
【００６７】
シッフ塩基６ｆ（Ｒ1＝６−Ｍｅ−４−ＮＯ2、Ｒ2＝２，６−ｉ−ＰｒＣ6Ｈ3）
３−メチル−５−ニトロサリチルアルデヒド（０．６３ｇ、３．４０ｍｍｏｌ）、２，６−ジイソプロピルアニリン（０．８０ｇ、３．４０ｍｍｏｌ）及びエタノール（２０ｍＬ）から、表題の化合物１．１０ｇ（９５％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１２０−１２１℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１４．５０（ｓ，１Ｈ）、８．３８（ｓ，１Ｈ）、８．２１（ｓ，１Ｈ）、７．２３（ｓ，４Ｈ）、２．９５（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、２．４２（ｓ，３Ｈ）、１．２０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６５．４、１４４．４、１３９．１、１３８．５、１３２．９、１２８．５、１２８．２、１２６．０、１２５．９、１２３．２、１１６．３、２８．０、２３．３、１５．４、Ｃ20Ｈ25Ｎ2Ｏ3［Ｍ＋Ｈ］+３４１．１８６５に対するＨＲＭＳ（ＤＣＩ）値３４１．１８７３。
【００６８】
シッフ塩基６ｇ（Ｒ1＝４−ＮＯ2、Ｒ2＝２，６−ｉ−Ｐｒ−４−ＮＯ2−Ｃ6Ｈ2）
５−ニトロサリチルアルデヒド（１．０ｇ、６．０ｍｍｏｌ）、２，６−ジイソプロピル−４−ニトロアニリン（１．３０ｇ、６．０ｍｍｏｌ）及びエタノール（２０ｍＬ）から、表題の化合物２．０ｇ（９１％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１１８−１２０℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１３．３４（ｓ，１Ｈ）、８．４３（ｓ，２Ｈ）、８．３３（ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．４Ｈｚ，１Ｈ）、８．０９（ｓ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）、３．００（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、１．２３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１６６．０、１６５．７、１５０．３、１４５．８、１４０．３、１３４．０、１２８．８、１２８．６、１１８．９、１１８．１、１１７．１、２８．３、２２．６、Ｃ19Ｈ22Ｎ3Ｏ5［Ｍ＋Ｈ］+３７２．１５５９に対するＨＲＭＳ（ＤＣＩ）値３７２．１５６０。
【００６９】
シッフ塩基６ｈ（Ｒ1＝４−ＮＯ2、Ｒ2＝１−アダマンタンメチル）
５−ニトロサリチルアルデヒド（０．８４ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、１−アダマンタンメチルアニリン（０．９０ｇ、５．０ｍｍｏｌ）及びエタノール（１５ｍＬ）から、表題の化合物１．４０ｇ（９２％）を黄色固体として得た。融点ｍｐ．１７８−１８０℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１５．１８（ｓ，１Ｈ）、８．２１（ｓ，１Ｈ）、８．１６（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ）、６．８６（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ）、３．２９（ｓ，２Ｈ）、２．００（ｓ，３Ｈ）、１．６５（ｍ，６Ｈ）、１．５５（ｂｓ，６Ｈ）、13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ値１７２．９、１６４．４、１３７．２、１２９．１、１２８．５、１２０．４、１１５．１、６８．４、４０．１、３３．９、２７．９、Ｃ18Ｈ23Ｎ2Ｏ3［Ｍ＋Ｈ］+３１５．１７０９に対するＨＲＭＳ（ＤＣＩ）値３１５．１７１０。
【００７０】
タリウム塩（７ａ−ｈ）調製の一般的手順
ベンゼン又はＴＨＦ（１０ｍＬ）に適切なシッフ塩基（６ａ−ｈ）を溶解させた溶液に、ベンゼン又はＴＨＦ（５ｍＬ）にタリウムエトキシドを溶解させた溶液を室温で滴下させて添加した。ガラスピペットを使用して、タリウムエトキシドのベンゼン又はＴＨＦ溶液を、グラスウール栓に通し、不純物を除去した。添加直後に、淡黄色の固体が生成し、この反応混合物を室温において２時間攪拌した。窒素又はアルゴン雰囲気の下で前記固体を濾過することにより、タリウム塩（７ａ−ｈ）各々を定量収率で得た。この塩は、更に精製することなく直ちに次の工程に使用した。
【００７１】
シッフ塩基置換されたルテニウム錯体（８ａ−ｈ）調製の一般的手順
ＴＨＦ（５ｍＬ）に適切なタリウム塩（７ａ−ｈ）を溶解させた溶液を、ＴＨＦ（５ｍＬ）にルテニウム錯体３を溶解させた溶液に添加した。この反応混合物を室温において３時間攪拌した。溶媒を蒸発させた後、残渣を必要最少量のベンゼンに溶解させ、０℃まで冷却した。塩化タリウム（反応副産物）を濾過により除去した。次いで、所望の錯体を冷ベンゼン（１０ｍＬ×３）で洗浄し、濾液を蒸発させた。固体残渣をペンタン（−７０℃）から再結晶させ、シッフ塩基置換されたルテニウム錯体（８ａ−ｈ）各々を程々に良好な収率で褐色固体として得た。変更点は各反応に関して以下に記載する。
【００７２】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ａ
ルテニウム錯体３（１．２０ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ａ（０．７８ｇ、１．６０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ）から、表題の化合物０．８９ｇ（７５％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１１９−１２２℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．６８（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ）、８．０６（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．９２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．３３−７．００（ｍ，８Ｈ）、６．６０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、３．３６（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ）、２．５１（ｑ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，３Ｈ）、２．１３（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ）、１．７９−１．５２（ｍ，２０Ｈ）、１．３８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）、１．２２（ｍ，１０Ｈ）、１．１１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、０．７５（ｄｄ，Ｊ＝２１．３，６．９Ｈｚ，６Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５２．２３、ＭＳ（ＦＡＢ）７８７（３）、３８６（１２）、３１５（２６）、２９７（１９）、２８１（４９）、２７９（１９）、２５５（８）、２３１（２０）、１５４（２３）、１１９（２３）、１１７（１００）。
【００７３】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｂ
ルテニウム錯体３（１．６５ｇ、２．０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｂ（１．１０ｇ、２．１０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（４０ｍＬ）から、表題の化合物１．４０ｇ（８２％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１４０−１４５℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．７７（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ）、８．２７（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．１４（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ）、８．１０（ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．９４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．６０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．３０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．２１（ｍ，２Ｈ）、７．０９（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１．８Ｈｚ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ）、３．２６（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．５２（ｑ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，３Ｈ）、２．１１（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．７３（ｂｓ，２０Ｈ）、１．４０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）、１．２３（ｍ，１０Ｈ）、１．１５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、０．７８（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，６．９Ｈｚ，６Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５２．２３、Ｃ44Ｈ60ＣｌＮ2Ｏ3ＰＲｕ［Ｍ］+８３２．３０７４に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８３２．３１０４。
【００７４】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｃ
ルテニウム錯体３（０．２５ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｃ（０．１６ｇ、０．３２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（３ｍＬ）から、表題の化合物０．１３ｇ（５４％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１３９−１４２℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．４９（ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．２２（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ）、８．０８−８．０４（ｍ，３Ｈ）、７．９８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．３５（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．２７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ）、３．７９（ｓ，３Ｈ）、２．３８（ｓ，６Ｈ）、１．７５−１．２１（ｍ，３０Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５０．５１、Ｃ41Ｈ54ＣｌＮ2Ｏ4ＰＲｕ［Ｍ］+８０６．２５５３に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８０６．２５２０。
【００７５】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｄ
ルテニウム錯体３（０．４１ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｄ（．０３２ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２５ｍＬ）から、表題の化合物０．３５ｇ（８０％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１２８−１３１℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．４８（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）、８．２２（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．０７（ｄｄ，Ｊ＝９．３，２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．０３（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．９８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５８（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）、７．２８（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７（ｓ，１Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．４７（ｑ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，３Ｈ）、２．３７（ｓ，３Ｈ）、１．７８−１．６３（ｂｓ，２０Ｈ）、１．５０（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，３Ｈ）、１．３０−１．１６（ｍ，１０Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５０．６２、Ｃ40Ｈ51ＢｒＮ2Ｏ3ＰＲｕ［Ｍ］+８５６．１５３２に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８５６．１５７３。
【００７６】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｅ
ルテニウム錯体３（０．３４ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｅ（０．２６ｇ、０．４４ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ）から、表題の化合物０．３０ｇ（８５％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１４５−１４９℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．３９（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ）、８．２５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．０９（ｄｄ，Ｊ＝９．３，２．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．９９（ｍ，３Ｈ）、７．６９（ｄ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．５７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．３５（ｓ，１Ｈ）、７．２８（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）、７．０２（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．４８（ｑ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，３Ｈ）、１．７３−１．５４（ｍ，１５Ｈ）、１．３９（ｍ，５Ｈ）、１．２２（ｂｓ，１０Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５０．６５、Ｃ39Ｈ45
【００７７】
Ｃｌ3Ｆ3Ｎ2Ｏ3ＰＲｕ［Ｍ］+８８６．１１９９に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８８６．１１７９。
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｆ
ルテニウム錯体３（０．８２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｆ（０．６０ｇ、１．１０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（３５ｍＬ）から、表題の化合物０．６８ｇ（８０％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１５５−１５８℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．６９（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．１１（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．８９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）、７．５５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．３３（ｓ，１Ｈ）、７．２４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７（ｍ，３Ｈ）、７．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、３．２２（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．５８（ｑ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，３Ｈ）、２．３８（ｓ，３Ｈ）、１．９１（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．８０−１．５４（ｍ，２０Ｈ）、１．３６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）、１．１９（ｂｓ，１３Ｈ）、１．１０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）、０．８５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、０．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５３．５０、Ｃ45Ｈ62ＣｌＮ2Ｏ3ＰＲｕ［Ｍ］+８４６．３２３０に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８４６．３２７９。
【００７８】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｇ
ルテニウム錯体３（０．６６ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｇ（０．５１ｇ、０．８８ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（５０ｍＬ）から、表題の化合物０．５９ｇ（６７％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１６０−１６３℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１９．７２（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ）、８．３０（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．１３（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ）、８．１０（ｓ，２Ｈ）、８．０５（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．９５（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．９２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．６１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．３０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ）、３．２９（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．４８（ｑ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，２Ｈ）、２．１８（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、１．７２（ｂｓ，２０Ｈ）、１．４５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）、１．２０（ｍ，１３Ｈ）、０．８０（ｄｄ，Ｊ＝２１．０，６．６Ｈｚ，６Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値５２．５４、Ｃ44Ｈ59ＣｌＮ3Ｏ5ＰＲｕ［Ｍ］+８７７．２９２４に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８７７．２８８７。
【００７９】
ルテニウムシッフ塩基錯体８ｈ
ルテニウム錯体３（０．３３ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、タリウム塩７ｈ（０．２３ｇ、０．４４ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ）から、表題の化合物０．１８ｇ（５４％）を褐色固体として得た。融点ｍｐ．１６２−１６６℃、1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値１８．６８（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．９５（ｄｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．８９（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．７９（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．６４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．３８（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．３０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．９７（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ）、６．０９（ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，１Ｈ）、３．００（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，２．７Ｈｚ，２Ｈ）、２．２９（ｑ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，３Ｈ）、１．９９（ｂｓ，３Ｈ）、１．８４（ｂｓ，３Ｈ）、１．７３（ｍ，２０Ｈ）、１．５７（ｍ，１０Ｈ）、１．２５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，９Ｈ）、31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2）δ値３８．９５、Ｃ43Ｈ60ＣｌＮ2Ｏ3ＰＲｕ［Ｍ］+８２０．３０７４に対するＨＲＭＳ（ＦＡＢ）値８２０．３０７９。
【００８０】
ルテニウムシッフ塩基触媒８ａ−ｈを使用するジアリルマロン酸ジエチルの閉環メタセシスにおける一般的手順
全ての反応は空気雰囲気の実験台上で実施し、各触媒（８ａ−ｈ）を８ｍｏｌ％秤量して乾燥ＮＭＲ試料管に入れ、０．５ｍＬのＣＤ2Ｃｌ2又はＣ6Ｄ6に溶解させた。ＣＤ2Ｃｌ2又はＣ6Ｄ6（０．５ｍＬ）にジアリルマロン酸ジエチル（０．１ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液を添加した。次いで、試料管に蓋をし、パラフィンフィルムで包帯し、周期的に振盪した。反応中の触媒の活性及び安定性を調べるために、分析は室温及び高温（６５℃まで）において実施した。生成物の生成及びジエンの消失を、アリル基由来のメチレンピークを積分することによりモニターした。
【００８１】
ルテニウム錯体８ｂのＸ線構造
Ｘ線構造解析に好適な結晶は、イソプロピルエーテル溶液から−２０℃において数日かけて成長させた。データ収集に使用した褐色結晶は、０．１０ｍｍ×０．１３ｍｍ×０．４４ｍｍであった。データ収集は１６０Ｋにおいて実施した。合計１７１０６反射を収集し、この内７７４１は独立反射であった。データ収集パラメータを表２に一部まとめた。構造は、ジーメンス（Ｓｉｅｍｅｎｓ）製ＳＨＥＬＸＳ−８６プログラムを使用してダイレクトメソッドにより解析した。分子は等方的に精密化（ｒｅｆｉｎｅ）し（ジクロロメタン溶媒にＨ原子が乗った状態）、各溶媒分子に関する分数による母集団パラメータも精密化（ｒｅｆｉｎｅ）した。水素原子は本来計算された位置にある。最終的に、二点（Ｈ３８ａ及びＨ３８ｂ）以外の全座標を精密化（ｒｅｆｉｎｅ）し、Ｕisoを付着原子のＵeqの１．２倍に固定した。精密化（ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔ）はＳＨＥＬＸＬ−９３を使用するフルマトリックス最小二乗法によるものとした。
【００８２】
ルテニウム錯体３及び８ｂ存在下の分解実験
二つのＮＭＲ管試料をトルエン−ｄ８中で調製した。一つは４．０ｍｍｏｌの８ｂを含み、もう一つは４．２ｍｍｏｌの錯体３を含み、内部標準はアントラセンとした。試料を1Ｈ−ＮＭＲによって分析し、８５℃の油浴につけた。３０分後、試料を再び分析し、該油浴に戻した。更に３０分後、ＮＭＲによる最終分析を実施した。簡便な分析を目的として、ＮＭＲにおけるカルベンシグナルの強度をアントラセンシグナルに対して測定し、この値を使用して残りのカルベン触媒各々のモル濃度を計算した。