(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材シートの少なくとも片側に染料受容層が形成された熱転写受像シートであって、基材シートと染料受容層との間に少なくとも１層の保存安定化層が形成され、この保存安定化層が複数の層から構成されてなり、この保存安定化層を構成する複数の層のそれぞれが紫外線吸収剤、光安定剤及び酸化防止剤から成る群から選ばれた１種の保存安定化剤を、保存安定化層を構成する物質のうち保存安定化剤以外の構成物質の集合の２５重量％以上の量で含み、かつ前記の保存安定化層を構成する複数の層のそれぞれが互いに異なる保存安定化剤を含むものであることを特徴とする熱転写受像シート。
【請求項２】
前記紫外線吸収剤が反応性紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項１記載の熱転写受像シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材シートの少なくとも片側に形成された染料受容層と基材シートとの間に少なくとも１層の保存安定化層が形成されていることを特徴とする、市場から要求される長期保存が可能な熱転写受像シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より種々の熱転写方法が提案されているが、昇華性染料を着色剤としこれをポリプロピレン等からなるシート状基材に担持させた熱転写シートと、昇華性染料の染着が良好な、熱可塑性樹脂等から成る染料受容層をプラスチックフィルム等の基材シートに形成した熱転写受像シートとを用いる所謂昇華転写方式がその中でも注目されている。この方式は、加熱手段としてサーマルヘッドを搭載したプリンターに熱転写シートと熱転写受像シートとを互いに対向させてセットし、サーマルヘッドからの極めて短時間の加熱によってシアン、マゼンタ、イエローの３色又はブラックを加えた４色の昇華性染料を熱転写シートから熱転写受像シートにドット形状に転移させ、多色ドットによるフルカラー画像を熱転写受像シート上に再現させる方式である。
昇華転写方式により得られる画像は染料で形成されているので、紫外線や酸化剤など染料に影響を及ぼす因子に曝露されると、顔料で形成された画像と比較して褪色、変色等が早いという問題点がある。この問題点は、熱転写受像シートの染料受容層に紫外線吸収剤や酸化防止剤等の保存安定化剤を含有させることで解決が図られてきた。
【０００３】
しかし、染料受容層におけるそのような保存安定化剤は、しばしば、昇華転写方式による画像記録にとって好ましくない影響を与える。たとえば、紫外線吸収剤が添加された染料受容層は、染料を染着する性質や皮膜性といった染料受容層として本来要求される特性や機能が低下する。また、一般に紫外線吸収剤は熱可塑性樹脂との相溶性が悪いので、熱可塑性樹脂から成る染料受容層に添加した場合、染料受容層の表面にブリードアウトし易い。その結果、他の物と接触して物理的に除去されてしまったり、熱によって揮散させられたり分解してしまい、同剤を添加した効果は一時的となってしまう。また、ブリードアウトした同剤の影響で印字部分が滲んでしまったりする。特開平５−２１２９７４号公報（特許文献１）には、反応性紫外線吸収剤を染料受容層に含有させることが提案されている。反応性紫外線吸収剤は、染料受容層を構成するバインダ樹脂や他の添加剤と反応し結合する紫外線吸収剤であり、非反応性の紫外線吸収剤と比較してブリードアウトしづらくそれ故熱転写受像シートの比較的長期保存が可能であるとされる。
【０００４】
添加剤を、染料受容層以外の層例えば染料受容層の表面側に設けた保護層や染料受容層と基材シートとの間に設けた中間層に添加することも一般的に行われてはいる。保護層を用いる場合は、昇華性染料の転写後に保護層を染料受容層の表面に付与することが一般的に行われている。中間層を用いた例としては、昇華性染料による高画質の記録像を得るため特定の重合度のポリビニルアルコール系樹脂を中間層に含有させた受像シートを開示した特開平５−２０８５６２号公報（特許文献２）が有る。同文献は、紫外線吸収剤や酸化防止剤等を中間層に添加することを開示している。
【特許文献１】特開平５−２１２９７４号公報
【特許文献２】特開平５−２０８５６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
反応性紫外線吸収剤は、通常の紫外線吸収剤に比較して上述したような長所を有するとしても、やはり熱可塑性樹脂との相溶性は悪いので、熱可塑性樹脂から成る染料受容層には多量に添加できない。特許文献１によれば、反応性紫外線吸収剤分を除いた染料受容層を形成する成分の重量を基準にして、反応性紫外線吸収剤は２０重量％程度の量しか染料受容層に添加できない。少量添加しかできないことから、市場から要求されるほどの長期保存は未だ達成されていない。このように、染料受容層において短所を有する保存安定化剤と置き換えられる別の保存安定化剤を見出すことは、一般的に言って難しい。この問題は、ポリビニルアルコール系樹脂を必須成分とする中間層に酸化防止剤や通常の紫外線吸収剤等を添加した特許文献２に開示の熱転写記録用受像シートであってもなんら解決になっていない。なぜならば、同受像シートの目的は昇華性染料による高画質の記録像を得ることであり、その中間層はその目的を達成するために特定の成分を含有させたものなので、そのような特定成分を有する中間層において画像記録に悪い影響を与えることがない添加剤のみが、中間層に添加されることを許されるからである。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、基材シートと染料受容層との間に保存安定化層を設けることにより、上記課題の解決を図った。すなわち、熱転写受像シートを長期間安定に保存するために必要な機能を備えた構成要素を、染料受容層中にはなく、保存安定化層として基材シートと染料受容層との間に設ければ、上記課題を解決できることを見出した。特に、紫外線吸収剤、光安定化剤及び酸化防止剤が、保存安定化層を構成する保存安定化剤として好適であることを、そして紫外線吸収剤としては反応型紫外線吸収剤が好適であることを見出した。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、基材シートの少なくとも片側に染料受容層が形成された熱転写受像シートであって、基材シートと染料受容層の間に少なくとも１層の保存安定化層が形成されていることを特徴とする熱転写受像シートである。保存安定化層は紫外線吸収剤、光安定化剤及び酸化防止剤から成る群から選ばれた少なくとも１ 種の保存安定化剤を、保存安定化層を形成する、保存安定化剤以外の成分（この、添加物量割合の基準となる、保存安定化層を構成する物質のうち割合を算出しようとする成分以外の構成物質の集合を、以下「保存安定化層形成成分」と言う）の２５重量％以上の量で含むものであることは望ましい。
紫外線吸収剤が反応性紫外線吸収剤であることはさらに望ましい。
【発明の効果】
【０００８】
（１） 保存安定化剤を含有する保存安定化層を基材シートと染料受容層との間に設けることで、基材シートの側から染料受容層に侵入しようとするオゾン、水蒸気などの物質、入射する光そして伝導する熱（以下「侵入因子」と言う）を保存安定化層で防止できる。また、保存安定化層に接していない側（以下「表面側」と言う）からの染料受容層への侵入因子に対しては、染料受容層を通過した侵入因子を保存安定化層が吸収や捕獲することで、保存安定化層から染料受容層への拡散や基材シートでの反射による染料受容層への侵入因子の戻り量を減少させることができる。その結果、染料受容層に保存安定化剤を全く添加しないでよいか又は染料受容層の特性を損ねない必要最低限の添加量で足りることになり、染料受容層本来の特性や機能を低下させることなく保存安定性が向上する。なお、表面側から侵入はしたが通過しないで染料受容層に留まり直接染料受容層に作用する侵入因子に対しては、表面側とは反対側に設けられる本発明の保存安定化層は、当然ながら効果は無い。
【０００９】
（２） 染料受容層の基材シート側に保存安定化層を設けることで、アルバム等の暗所に保存した場合でもオゾン、水蒸気もしくは熱の影響で長期的に褪色していく現象いわゆる暗褪色に対しても効果がある。
【００１０】
（３） 染料受容層に含める保存安定化剤が不要になる又はその量を減少できることにより、単純に添加剤の減量による染料受容層の透明性が向上されまた染料受容層中の保存安定化剤特に紫外線吸収剤の経時的黄変、褐変等が無くなる又は減少する。斯くして、保存安定化層の不透明度は上がるけれども染料受容層の透明度は向上し、記録された画像の鮮明性が向上する。
【００１１】
（４） 保存安定化層に大量に導入された紫外線吸収剤等保存安定化剤がたとえブリードアウトするにしてもそれは徐々におこるので、同剤の染料受容層への転移は緩慢に起こる。
したがって長期的に保存安定化が図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明の構成要素の具体的な好適例を挙げる。
本発明の保存安定化層は、熱転写受像シートの中間層の主構成要素として通常用いられている樹脂をその基材としていてよい。
【００１３】
上述したように、保存安定化層は、紫外線吸収剤、光安定化剤、あるいは酸化防止剤である少なくとも一種の保存安定化剤を含有していることが好ましい。紫外線吸収剤が反応性紫外線吸収剤であればさらに好ましい。
【００１４】
保存安定化剤には、老化防止剤が含有されていてもよい。
【００１５】
保存安定化剤の量は、保存安定化層形成成分の２５重量％以上の量が保存安定化剤に含有されていることが望ましい。２５重量％未満であると必要な保存安定性が得られない場合が有る。保存安定化層に含有させる保存安定化剤量の上限としては、他の材料例えば基材シートとの接着性を考慮に入れると保存安定化層形成成分の９０重量％以下、より好ましくは８０重量％以下が好適である。尚、本発明においては保存安定化層は表面に露出している層ではないので、保存安定化剤は保存安定化層を構成する樹脂（以下、本明細書では「保存安定化層ホスト樹脂」とも言う）と相溶していない状態で保存安定化層に含有していてもよく、それ故大量の保存安定化剤を保存安定化層に含有させることができる。
【００１６】
基材シートへの保存安定化層の塗布量は、保存安定化層中の保存安定化剤の量及び所望する保存安定化性に従って適宜決定することになるが、０．１ｇ／ｍ２ 以上６．０ｇ／ｍ２以下が好ましく、０．５ｇ／ｍ２ 以上２．０ｇ／ｍ２ 以下であることがより好ましい。範囲の下限未満であると所望の保存安定化が得られない虞があり、また範囲の上限を越えると画像濃度が悪くなる虞がある。
【００１７】
また本発明において保存安定化層は単一の層である必要はなく、例えば耐紫外線性を担う層、耐暗褪色性を担う層等複数の層から構成されていてもよい。その場合には、保存安定化層を構成する各層に含まれる保存安定化剤の合計量が、各保存安定化層形成成分の合計の２５重量％以上である必要がある。本発明における染料受容層は、熱転写受像シートの染料受容層を構成する従来からのバインダ樹脂で構成されていてよい。
【００１８】
本発明の熱転写受像シートは、染料受容層と保存安定化層との間にて紫外線を透過させないなど本発明の効果を極端に損なうものでなければ、裏面層、表面層、中間層等その他の層を必要に応じて設けてよい。
【００１９】
本発明に係る保存安定化剤を構成する紫外線吸収剤の例としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、4-ドデシルオキシ- 2-ヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ-4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,2′,1,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ2′−カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ- 4-オキシベンジルベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-クロロベンゾフェノン、2-ヒドロキシ- 5-クロロベンゾフェノン、2-ヒドロキシ- 4-メトキシ-4′-メチルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系紫外線吸収剤、2- (2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェノン)ベンゾトリアゾール、2- (2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ−ｔ−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2- (2′-ヒドロキシ- 3′-ｔ−ブチル- 5′-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2- (2′-ヒドロキシ- 4′-オクトキシ)ベンゾトリアゾール、2-(3′-ｔ−ブチル-2′-ヒドロキシ- 5′-メチルフェニル) 5-クロロベンゾトリアゾール、2- (2′-ヒドロキシ-3′- (1-メチル- 1-フェニルエチル) - 5' - (1, 1, 3, 3-テトラメチルブチル) )ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、フェニルサリシレート、P-オクチルフェニルサリシレート、P-ｔ−ブチルフェニルサリシレート、カルボキシルフェニルサリシレート、メチルフェニルサリシレート等のサリチル酸フェニルエステル系紫外線吸収剤、そして、従来公知の非反応性紫外線吸収剤に付加重合性二重結合、アルコール性水酸基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、イソシアネート基等の反応基を従来公知の導入方法で導入した反応性紫外線吸収剤が挙げられる。反応性紫外線吸収剤の例を一般式（Ｉ）乃至（ＩＩＩ）に示す。
【化１】
0004441454.tif 000002
Ａは直接結合するか置換基を有していてもよいメチレン基、アルキレン基、−Ｏ− 、−ＮＨ− 、−Ｓ− 、−ＳＯ− 、−ＳＯ２− 、を示す。Ｒ１、Ｒ２は水酸基、ヒドロキシアルキル基を示す。Ｒ３ 、Ｒ４ は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、ハロゲン原子を示す。
【化２】
0004441454.tif 000003
ＲはＨ又はＣＨ３ 、Ａは−ＯＣＨ２ＣＨ２− 又は−ＣＨ２ＣＨ (ＯＨ)ＣＨ２− を示す。
【化３】
0004441454.tif 000004
ＲはＨ又はＣＨ３ 、Ａは−ＣＨ２ＣＨ２− 又は−ＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２−を表す。
これらの紫外線吸収剤は単独でも二種以上を混合しても使用することができる。
【００２０】
反応性紫外線吸収剤を、保存安定化層を構成する樹脂等の基材に反応固定するには、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、高周波型、ダイナミトロン型、直線型等の各種電子線加速器から放出される電子線を照射する、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハイドランプ等の光源から発する紫外線を照射する等、公知の技術がそのまま使用できる。電子線照射の条件は３０乃至１５００ｋｅＶ 、好ましくは１００乃至３００ｋｅＶ であり、紫外線の照射条件は積算光量で１００乃至２５００ｍJ／ｃｍ２ 、好ましくは５００乃至１８００ｍJ／ｃｍ２ であるが、必要照射量は保存安定化層に添加されている顔料その他添加剤によって変化するため、適宜決定すべきである。
【００２１】
本発明に係る保存安定化剤を構成する酸化防止剤および老化防止剤の例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、スチレン化フェノール、２，２ ′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ− ブチルフェノール）、４，４ ′−イソプロピリデンビスフェノール、２，６−ビス（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、４，４′−チオビス−（３−メチル−６−ｔ− ブチルフェノール）、テトラキス−｛ メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシハイドロシンナメート）｝メタン、パラヒドロキシフェニル−３−ナフチルアミン、２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、チオビス（β−ナフトール）、メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンズイミダゾール、アルドール−２−ナフチルアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セパケート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ジラウリル−３，３ ′チオジプロピオネート、ステアリル−β−（３ ，５−ジ−ｔ−ブチル−４− ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル−３，３′−チオジブロミネート、トリス（４−ノニルフェノール） ホスファイトが挙げられる。これらの酸化防止剤や老化防止剤は、単独でも、２種以上を混合しても使用することができる。
【００２２】
保存安定化剤を構成する光安定剤の例としてはヒンダードアミン系光安定剤が挙げられ
る。具体的には、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４− ピペリジル）セバケート（三共製：ＳＡＮＯＬＬＳ  ７７０）、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート（三共製：ＳＡＮＯＬ  ＬＳ７６５）、１−｛２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル｝−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（三共製：ＳＡＮＯＬ  ＬＳ２６２６）、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（三共製：ＳＡＮＯＬ  ＬＳ７４４）、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕デカン−２，４−ジオン（三共製：ＳＡＮＯＬ  ＬＳ４４０） 、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４− ピペリジル）（チバガイギー製：ＴＩＮＵＶＩＮ  １４４） 、コハク酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル） エステル（ チバガイギー製： ＴＩＮＵＶＩＮ ７８０ＦＦ） 、コハク酸ジメチルと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの重縮合物（チバガイギー製：ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２ＬＤ） 、ポリ｛〔６−１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２ ，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） イミノ〕｝（チバガイギー製：ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ＬＤ） 、Ｎ，Ｎ ′−ビス（３−アミノプロピル） エチレンジアミンと２ ，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジンの重縮合物（チバガイギー製：ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ １１９ＦＬ） 、ＨＡ−７０Ｇ （三共製） 、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブ ＬＡ−５７、アデカスタブ ＬＡ−６２、アデカスタブ ＬＡ−６７、アデカスタブ ＬＡ−６３、アデカスタブ ＬＡ−６８、アデカスタブ ＬＡ−８２、アデカスタブ ＬＡ−８７ （いずれも旭電化工業製）等が挙げられる。
【００２３】
これらのヒンダードアミン系光安定剤は、単独でも、２種以上を混合しても使用することができるが、耐光性向上効果を考慮すると、前述の紫外線吸収剤と併用することが好ましい。
【００２４】
保存安定化層を構成する樹脂の例としては、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ハロゲン化ポリマー、ビニルポリマー、セルロース系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、オレフィンと他のビニルモノマーとの共重合体系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂が挙げられるが、基材との接着性の観点からポリウレタン系樹脂が好ましい。紫外線吸収剤として反応性紫外線吸収剤を使用する場合には、必要により、付加重合性モノマーやオリゴマーを添加するのも好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーの例としては、単官能（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレートモノマー、そして多官能（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。これらの（メタ）アクリレート化合物は、１種を単独で使用できまたは２種以上を併用してもよい。
【００２５】
単官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２ −エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ） アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール／ ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、脂環式変性ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ブトキシ化リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、スルホン酸ナトリウムエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性コハク酸（メタ） アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性フタル酸（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸アミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ'−ジメチルア���ノエチル、（メタ）アクリル酸があげられる。
【００２６】
これらの単官能（メタ）アクリレートモノマーの中でも、（メタ）アクリル酸、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸アミド、グリシジル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどを好ましく使用できる。
【００２７】
多官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性−１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性−１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ） アクリレート、エピクロルヒドリン変性ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ） アクリレート、エピクロルヒドリン変性ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝イソシアヌレート、亜鉛（メタ）アクリレートなどがあげられる。また、ヘ���サ｛（メタ）アクリロイルオキシエトキシ｝シクロトリホスファゼン、オクタ｛（メタ）アクリロイルオキシエトキシ｝シクロテトラホスファゼンのような（メタ）アクリロイルオキシ基を有するホスファゼン化合物があげられる。これらはグリセロール（メタ）アクリレートのようなアクリレート／メタクリレートの混合物であってもよい。
【００２８】
これらの多官能（メタ）アクリレートモノマーの中でも、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどを好ましく使用できる。
【００２９】
多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、１ 分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する、多官能ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー、多官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、多官能エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、多官能エーテル（メタ）アクリレートオリゴマーなどがあげられる。これらのオリゴマーは、耐候性向上のために脂肪族又は脂環式化合物から製造されたものを好ましく使用できる。これらのオリゴマーの具体例を以下に挙げる。  多官能ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーの具体例は、（メタ）アクリル酸、多価アルコール及び多塩基酸（無水物） から合成した化合物があげられる。多価アルコールの具体例は、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブチリオン酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、グリセリンがあげられる。多塩基酸（無水物）の具体例は、マロン酸、（無水）コハク酸、アルケニルコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コルク酸、アゼライン酸、セバチン酸、イソセバチン酸、（無水）マレイン酸、フマル酸、（無水）イタコン酸、（無水）フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、（無水）トリメリット酸があげられる。
【００３０】
多官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、たとえばポリイソシアネート、ポリオール及びヒドロキシ（メタ）アクリレートの反応によって得られる化合物があげられる。
【００３１】
ポリイソシアネートの具体例は、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、芳香族イソシアネートを水素添加して得られるジイソシアネート（たとえば水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなど）、トリフェニルメタントリイソシアネート、ジメチレントリフェニルトリイソシアネートなどのジ− 及びトリ− イソシアネート、該ジ− 及びトリ− イソシアネートを多量化させて得られるポリイソシアネートがあげられる。ポリオールの具体例は、脂肪族、脂環式及び芳香族のポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールがあげられる。脂肪族及び脂環式ポリオール並びにポリエーテルポリオールの具体例としては、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブチリオン酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、グリセリン、水素添加ビスフェノールＡなどがあげられる。芳香族のポリオールとしては、たとえばエトキシ化ビスフェノールＡ 、エトキシ化ビスフェノールＳなどがあげられる。ポリエステルポリオールの具体例としては、たとえばカプロラクトン変性ジオールなどがあげられる。
【００３２】
ヒドロキシ（メタ）アクリレートの具体例は、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどがあげられる。
多官能エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーの例としては、ポリグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との付加反応によって得られる化合物が挙げられる。ポリグリシジルエーテルとしては、たとえばエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１， ６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルなどがあげられる。
【００３３】
多官能エーテル（メタ）アクリレートオリゴマーの例としては、ポリオールとエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドなどを反応して得られるポリエーテルと、エチル（メタ）アクリレートとのエステル交換によって得られる化合物を挙げることができる。ここでのポリオールの具体例は、グリセリン、ヘキサントリオールがあげられる。
【００３４】
基材シートの材料としては、昇華受像シートの基材シートとして使用できるものであれば特に限定されない。たとえば、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、合成樹脂含浸紙、合成紙等の紙類、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート等の各種プラスチックシートが挙げられる。またこれらの材料に使用される合成樹脂に白色顔料や各種充填材を添加し成膜した発泡シート、不透明シート、またこれらの任意の組み合わせによる複合シートも使用できる。
【００３５】
基材シートの厚みは特に限定されないが１０乃至３００μｍ 程度のものが一般的に使用されている。
【００３６】
染料受容層のバインダ樹脂の例としては、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ハロゲン化ポリマー、ビニルポリマー、セルロース系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、オレフィンと他のビニルモノマーとの共重合体系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が挙げられる。
【００３７】
染料受容層には本発明の目的を逸脱しない範囲において、熱転写シートとの離型性を付与するための離型剤、例えばシリコーンオイル、フッ素系界面活性剤、リン酸エステル等、従来公知の非反応型紫外線吸収剤、反応型紫外線吸収剤、酸化防止剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、微粉末シリカ等の顔料や充填材等を添加することができる。
【００３８】
以下の実験例の記述中、「部」は全て重量部を意味する。
【参考例１】
【００３９】
−   熱転写受像シートの作成  −
[基材シートの作成]
コート紙（Ａ−２、三菱製紙製、厚さ１６５μｍ）上にウレタン系接着剤を塗布量５ｇ／ｍ２ で塗布し、その上に無延伸ポリプロピレンフィルム（ バイロンフィルム− ＣＴ   Ｐ１１２８ 、東洋紡績製、厚さ３０μｍ）をドライラミネーションして積層させて、基材シートとした。
【００４０】
[保存安定化層の形成]
以下の組成を混合しその樹脂成分を溶解させて、均一な溶液からなる、保存安定化層を形成するための塗工液を調製した。
ウレタン樹脂（レザミン８８８３ＨＶ、大日精化製）                   １０部
ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０７６  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）       ２部
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール(2- (2H-Benzotriazol- 2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol)（チヌビン９２８  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）                         ４部
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート（ [bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate ]）（チヌビン７７０ＤＦ  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）                                                   １部
トルエン                                                           ５０部
イソプロピルアルコール                                             ５０部
得られた保存安定化層形成用塗工液を、乾燥後の塗布量が０．５ｇ／ｍ２ となるように基材シート上にメイヤバーで塗工し、乾燥させて、保存安定化層を形成した。
【００４１】
[染料受容層の形成]
以下の組成を混合しその樹脂成分を溶解させて、均一な溶液からなる、染料受容層を形成するための塗工液を調製した。
ポリエステル樹脂（バイロン２００、東洋紡績製）          １０部
メチルエチルケトン：トルエン＝ １：１混合物             ９０部
得られた染料受容層形成用塗工液を、乾燥後の塗布量が５．０ｇ／ｍ２ となるように溶解液を保存安定化層上にメイヤバーで塗工し、乾燥させて、染料受容層を形成した。
斯くして熱転写受像シートを得た。
【実施例１】
【００４２】
−   熱転写受像シートの作成  −
[基材シートの作成]
参考例１と同様にして基材シートを作成した。
【００４３】
[保存安定化層の形成]
以下の組成を混合しその樹脂成分を溶解させて、均一な溶液からなる、１層目の保存安定化層（以下、本実施例では「第一保存安定層」と言う）を形成するための塗工液を調製した。
スチレンブタジエンラテックス（ニポール  ラテックス  ＬＸ４３０ 、日本ゼオン製）
１０部
ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０７６  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）      ３部
水                                                              １００部
イソプロピルアルコール                                            １０部
得られた第一保存安定化層形成用塗工液を、乾燥後の塗布量が０．２ｇ／ｍ２ となるように基材シート状にメイヤバーで塗工、乾燥させ第一保存安定化層を形成した。
【００４４】
以下の組成を混合しその樹脂成分を溶解させて、均一な溶液からなる、２層目の保存安定化層（以下、本実施例では「第二保存安定化層」と言う）を形成するための塗工液を調製した。
スチレンブタジエンラテックス（ニポール  ラテックス  ＬＸ４３０ 、日本ゼオン製）
１０部
アクリル樹脂成分：ベンゾトリアゾール系反応性紫外線吸収剤成分＝ ７：３（重量比）の混合物（一方社油脂工業製  ＵＬＳ−１３８３ＭＧ）               ２４部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（紫外線重合開始剤）（イルガキュア１８４ チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）                      ２部
水                                                             １５０部
イソプロピルアルコール                                           １５部
（（注）実施例１の第二保存安定化層において、反応性紫外線吸収剤の重量部は２４× （３ ／（７＋３））＝７．２重量部なので、同吸収剤以外の第二保存安定層形成成分は、ホスト樹脂であるスチレンブタジエンラテックス１０部＋（紫外線吸収剤混合物２４部− 反応性紫外線吸収剤７．２部）＋紫外線重合開始剤２部  ＝ ２８．８部となる。したがって、反応性紫外線吸収剤の割合は、（７．２／２８．８）×１００＝２５重量％となる。）
得られた第二保存安定化層形成用塗工液を、乾燥後の塗布量が０．４ｇ／ｍ２ となるように第一保存安定化層上にメイヤバーで塗工液を塗工し、乾燥させ、メタルハイドランプにて紫外線を照射して、第二保存安定化層を形成した。
【００４５】
[染料受容層の形成]
第二保存安定化層上に、参考例１と同様にして染料受容層を形成した。
斯くして熱転写受像シートを得た。
【参考例２】
【００４６】
−   熱転写受像シートの作成  −
実施例１の第二保存安定化層形成用塗工液の組成に、光安定化剤であるチヌビン７７０ＤＦを２部加えた以外は実施例１と同様にして、第一及び第二保存安定化層を有する熱転写受像シートを作成した。
【参考例３】
【００４７】
−   熱転写受像シートの作成  −
[基材シートの作成]
参考例１と同様にして基材シートを作成した。
【００４８】
[保存安定化層の形成]
以下の組成を混合しその樹脂成分を溶解させて、均一な溶液からなる、保存安定化層を形成するための塗工液を調製した。
ポリエステル樹脂（パイロン２００  東洋紡製）                     １０部
Ａがメチレン基、Ｒ１及びＲ２が水酸基、Ｒ３及びＲ４が水素原子である一般式（Ｉ）の化合物  
４部
ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０７６）                                        ２部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（紫外線重合開始剤）（イルガキュア１８３  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）                 １．５部
メチルエチルケトン：トルエン＝ １：１の混合物                  １００部
得られた保存安定化層形成用塗工液を、乾燥後の塗布量が０．７ｇ／ｍ２ となるように基材シート上にメイヤバーにて塗工し、乾燥させた。その後、メタルハイドランプにて紫外線を照射して、保存安定化層を形成した。
【００４９】
[染料受容層の形成]
保存安定化層上に、参考例１と同様にして染料受容層を形成した。
斯くして、熱転写受像シートを得た。
【００５０】
比較例１   −   熱転写受像シートの作成  −
保存安定化層を形成しない以外は参考例１と同様にして熱転写受像シートを得た。
【００５１】
比較例２   −   熱転写受像シートの作成  −
染料受容層形成用塗工液の組成を下記組成とした以外は比較例１と同様にして熱転写受像シートを得た。
ポリエステル樹脂（パイロン２００）                               １０部
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（チヌビン９２８）
２部
メチルエチルケトン：トルエン＝ １：１混合物                     ９０部
【００５２】
比較例３   −   熱転写受像シートの作成  −
保存安定化層形成用塗工液の組成を下記組成とした以外は参考例１ と同様にして熱転写受像シートを得た。
ウレタン樹脂（レザミン８８８３ＨＶ 、大日精化製）                 １０部
ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０７６ チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）       １部
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（チヌビン９２８  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）                                ０．５部
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル） セバケート（チヌビン７７０ＤＦ  チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）                    ０．５部
トルエン                                                          ５０部
イソプロピルアルコール                                            ５０部
【００５３】
−   印字サンプルの作成  −
実施例及び比較例で得られた熱転写受像シートを１００×１４０ｍｍサイズに切断した。昇華型熱転写プリンターCVP−G7（製品名、ソニー製） に同プリンター用昇華型熱転写リボンをセットして反射濃度（グレタグマクベス社製のマクベス濃度計  RD914（製品名） で測定）がほぼ１．０となるように調整しながら印字サンプルを各実施例及び比較例あたり２枚ずつ用意した。
【００５４】
−   評価試験  −
得られた印字サンプルに対して以下のように耐光性試験及び耐暗褪色性試験を行った。
結果を表１に示す。
【００５５】
[耐光性試験]
得られた印字サンプルのうち１枚をキセノンロングライフフェードメーター（Spectrolino、島津製作所製） を用いて４８時間曝露し曝露前後の反射濃度をマクベス濃度計（ＲＤ９１４ 、グレタグマクベス社製）で測定した。
耐光性は次式
濃度残存率（％）＝（暴露後の反射濃度／ 暴露前の反射濃度） ×１００
により計算した濃度残存率（％）で示す。数値が１００％に近いほど濃度変化が少なく、即ち耐光性が良好で、数値が０％に近くなるほど濃度変化が多く、即ち耐光性が悪いことを示している。
【００５６】
[耐暗褪色性試験]
印字サンプルの残り１枚を温度６０℃ 、湿度６０℃ の暗所に７日間放置し、放置前後の反射濃度をマクベス濃度計（ＲＤ９１４ グレタグマクベス社製）にて測定した。
暗褪色性は次式
濃度残存率（％） ＝ （放置後の反射濃度／ 放置前の反射濃度） × １００
により計算した濃度残存率（％）で示す。数値が１００％に近いほど濃度変化が少なく、即ち暗褪色性が良好であり、数値が０％に近くなるほど濃度変化が多く、即ち暗褪色性が悪いことを示している。
【００５７】
【表１】
0004441454.tif 000005
耐光性、耐暗褪色性とも残存率が８０％以上 ： ◎
７０〜８０％ ： ○
７０％未満 ： × とする。