(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートと、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は（Ｃ）エポキシ（メタ）アクリレート、及び光重合開始剤（Ｄ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層を有する光ディスク。
【請求項２】
硬化物層が、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）５〜５５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）５〜５５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
硬化物層が、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）１０〜４５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）１０〜４５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化層である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項４】
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートである請求項１に記載の光ディスク。
【請求項５】
光重合開始剤（Ｄ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン及びオリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]からなる群から選択される１種もしくは２種以上である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項６】
ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートから成る反応物である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項７】
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートであり、そしてウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートの反応物である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項８】
硬化物層が、青色レーザーにより記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層用保護コート層である請求項１〜７のいずれか一項に記載の光ディスク。
【請求項９】
紫外線硬化型樹脂組成物が、更に反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）を含有するものであり、該樹脂の硬化物層の表面にハードコート層を有さないことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光ディスク。
【請求項１０】
硬化物層が、銀又は銀合金からなる（半透明）反射膜を備えた光ディスクの光透過層用保護コート層である請求項１〜７のいずれか一項に記載の光ディスク。
【請求項１１】
（Ａ）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートと、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は（Ｃ）エポキシ（メタ）アクリレート、及び光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１２】
樹脂組成物中に、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）５〜５５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）５〜５５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１３】
樹脂組成物中に、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）１０〜４５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）１０〜４５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１４】
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートである請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１５】
光重合開始剤（Ｄ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン及びオリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]からなる群から選択される１種もしくは２種以上である請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１６】
ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、(i)ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、(ii)ジイソシアネート、及び(iii)２−ヒドロキシエチルアクリレートから成る反応物である請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１７】
紫外線硬化型樹脂組成物が、更に反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）を含有する請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１８】
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートであり、そしてウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートの反応物である請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項１９】
樹脂組成物全体に対して、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）０〜６０重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）０〜７０重量％で、かつウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）とエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）の合計量が４６〜７０重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項２０】
樹脂組成物全体に対して、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）と、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｆ）に含まれないアクリレートモノマー（Ｅ）の合計含量が３０〜６０重量％であり、かつ（Ｅ）成分含量が０〜３０重量％であり、光重合開始剤（Ｄ）の含量が２〜１５重量％であり、反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）の含量が０〜５重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）及びエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）のいずれか１種若しくは両者が２０〜６８重量％である請求項１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項２１】
Ｅ型粘度計で測定した２５℃での、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が４００〜６０００ｍＰａ・Ｓである請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項２２】
Ｅ型粘度計で測定した２５℃での、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が１２００〜３０００ｍＰａ・Ｓである請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項２３】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化物層を有する光ディスク及びそのための紫外線硬化型樹脂組成物（以下本樹脂組成物とも言う）に関し、特に硬化後の反りが少なく、透明性、耐久性に優れた光ディスクであり、次世代高密度光ディスクに適する。また、そのための樹脂組成物は、該光ディスクを効率的に生産するために適するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、実用化されている一般的な光ディスク記録媒体としてＣＤ（コンパクトディスク）、ＭＯ（光磁気ディスク）、ＣＤ−Ｒ（追記型コンパクトディスク）、ＣＤ−ＲＷ（書き換え型コンパクトディスク）等がある。これらは、１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に記録膜、反射膜を形成し、外的要因からこれらを保護する目的で紫外線硬化型のコート剤の硬化物層（保護層）が設けられている。また近年、さらなる記憶容量の向上のためにポリカーボネート基板の厚さを従来の厚さの半分の０．６ｍｍにし、２枚の基板を貼り合わせたＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷ等が実用化されている。これらの光ディスクでは２枚のポリカーボネート基板を貼り合わせることで、ポリカーボネート基板の複屈折の問題やレーザースポット径を小さくするといった課題をクリアーしている。これらは、何れも０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に記録膜、反射膜等を形成し、上記同様に保護、接着の目的で紫外線硬化型の保護層あるいは接着剤層が設けられている。
しかしながら、デジタル放送時代の大容量化に対応する記録媒体として、ＤＶＤ記録媒体では未だ容量不足である。そこで、次世代の高密度光ディスクとして基板上に記録層と、１００μｍの透明カバー層（保護層）を積層し、ポリカーボネート基板からではなく、透明カバー層側から青色レーザー光により書き込み、読み取りを行うタイプの光ディスクが提案（特許文献１）され、既に実用化されている。
このカバー層の形成方法としては、１００μｍ程度の透明なフィルムを貼り合せる方法と樹脂液をコート剤として用い、スピンコート法で塗布、ついで紫外線硬化によって形成する方法の2つがあり、後者用の樹脂液としてウレタン（メタ）アクリレート化合物とエポキシ（メタ）アクリレートを含む樹脂組成物が提案（特許文献２及び特許文献３）されている。【０００３】
【特許文献１】特開平１１−２７３１４７号公報
【特許文献２】特開２００２−２３０８３１号公報
【特許文献３】特開２００５−１７１１５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
スピンコート法で、透明カバー層を均一に１００μｍ程度の厚さに塗布を行う為には、コート剤の粘度変化が少ないことが非常に重要である。特に、スピンコート振り切り時のコート剤は、ミスト状に飛散し、吸気ブローにより回収タンクに集められ、脱泡工程を経て、再度新液と混合してリサイクル使用される。リサイクル使用されたコート剤は、希釈モノマーの構成比率が変化することにより、未使用のコート剤と比較して粘度が変化してしまう課題が残っている。結果として、最初に設定したスピンコートの条件では膜厚を一定に管理することができなくなるため、リサイクル使用による膜厚のコントロールが非常に困難となっている。
このため、硬化後の反りが少なく、透明性、耐久性に優れ、且つディスクの生産工程上、効率的に製造できるコート剤が未だ市場に提供されていない状況にある。
また、市場に提供されている光ディスクは、該カバーコート層の耐指紋性及び硬度等の問題から、該カバーコート層の表面に更に、ハードコート処理が施されており、工程が複数にまたがり製造工程上、複雑なものとなっている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、前記の課題を解決すべく鋭意検討の結果、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートを、ウレタン（メタ）アクリレート化合物とエポキシ（メタ）アクリレートと共に併用することにより、リサイクル使用での問題も解決されると共に、硬化後の反りが少なく、透明性、耐久性に優れ、且つディスクの生産工程も容易なカバーコート層を有する光ディスクが得られることを見出し、本発明を完成したものである。
すなわち本発明は、次の（１）〜（２３）に記載の発明に関するものである。
（１）（Ａ）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートと、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は（Ｃ）エポキシ（メタ）アクリレート、及び光重合開始剤（Ｄ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層を有する光ディスク。
（２）硬化物層が、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）５〜５５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）５〜５５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物層である上記（１）に記載の光ディスク。
（３）  硬化物層が、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）１０〜４５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）１０〜４５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の硬化層である上記（１）に記載の光ディスク。
（４）  エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートである上記（１）に記載の光ディスク。
（５）  光重合開始剤（Ｄ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン及び２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]からなる群から選択される１種もしくは２種以上である上記（１）に記載の光ディスク。【０００６】
（６）ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートから成る反応物である上記（１）に記載の光ディスク。
（７）  エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートであり、そしてウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートの反応物である上記（１）に記載の光ディスク。
（８）  硬化物層が、青色レーザーにより記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層用保護コート層である上記（１）〜（７）のいずれか一項に記載の光ディスク。
（９）  紫外線硬化型樹脂組成物が、更に反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）を含有するものであり、該樹脂の硬化物層の表面にハードコート層を有さないことを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれか一項に記載の光ディスク。
（１０）  硬化物層が、銀又は銀合金からなる（半透明）反射膜を備えた光ディスクの光透過層用保護コート層である上記（１）〜（７）のいずれか一項に記載の光ディスク。
（１１）  （Ａ）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートと、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は（Ｃ）エポキシ（メタ）アクリレート、及び光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１２）  樹脂組成物中に、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）５〜５５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）５〜５５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。【０００７】
（１３）  樹脂組成物中に、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）１０〜４５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）１０〜４５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１４）  エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートである上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１５）  光重合開始剤（Ｄ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン及びオリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]からなる群から選択される１種もしくは２種以上である上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１６）  ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、(i)ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、(ii)ジイソシアネート、及び(iii)２−ヒドロキシエチルアクリレートから成る反応物である上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１７）  紫外線硬化型樹脂組成物が、更に反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）を含有する上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１８）  エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）が、ビスフェノールA型エポキシジアクリレートであり、そしてウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びカプロラクトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種のポリオール、ジイソシアネート、及び２−ヒドロキシエチルアクリレートの反応物である上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（１９）  樹脂組成物全体に対して、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）０〜６０重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）０〜７０重量％で、かつウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）とエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）の合計量が４６〜７０％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（２０）  樹脂組成物全体に対して、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）と、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｆ）に含まれないアクリレートモノマー（Ｅ）の合計含量が３０〜６０重量％であり、かつ（Ｅ）成分含量が０〜３０重量％であり、光重合開始剤（Ｄ）の含量が２〜１５重量％であり、反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）の含量が０〜５重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）及びエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）のいずれか１種若しくは両者が２０〜６８％である上記（１１）に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（２１）  Ｅ型粘度計で測定した２５℃での、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が４００〜６０００ｍＰａ・Ｓである上記（１１）〜（１６）のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（２２）  Ｅ型粘度計で測定した２５℃での、紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が１２００〜３０００ｍＰａ・Ｓである上記（１１）〜（１６）のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
（２３）  上記（１１）〜（１６）のいずれか一項に記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のカバーコート層又は保護層を有する光ディスクは透明性、耐久性に優れ、生産工程も容易であり、次世代高密度光ディスクとしても適するものであり、それに使用する本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物は、硬化後の反りが少なく、透明性、耐久性に優れた次世代高密度光ディスクの提供を可能にし、且つ前記のリサイクルでの粘度変化の問題が解決されるので、膜厚のコントロールが容易になり、効率的な生産が可能となる。従って、本樹脂組成物は青色レーザーを用いて記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層を形成する光透過層用保護コート剤として極めて有用である。
また、反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）を含む本樹脂組成物の硬化物層は、耐指紋性にも優れるので、カバーコート層の上にハードコート層を形成する必要がない。そのため生産効率を高めることが可能となり、生産工程上の点でも極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の硬化物層を有する光ディスクは、青色レーザーを用いた次世代高密度光ディスクとして適するものであるが、従来の赤色レーザーを用いた光ディスクとしても適するものである。また、本発明では該硬化物層用の紫外線硬化型樹脂組成物をも提供するもので、該樹脂組成物は光透過層用保護コート剤として適すると共に、赤色レーザーを用いた光ディスクの保護層としても使用できるので、光ディスクの保護コート剤として幅広く適用することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本樹脂組成物は、（Ａ）ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートと、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は（Ｃ）エポキシ（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有する。【００１０】
本樹脂組成物では、希釈成分として、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）を必須成分として使用する。ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートとしては、日立化成工業社製の商品名ＦＡ−５１２Ａ、ＦＡ−５１２ＡＳなどが挙げられる。特に、ＦＡ−５１２ＡＳはエステル交換法により製造され、既存の製法に比べて容易に入手し易いため、エステル交換法で製造したジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートが好ましい。組成物中の使用量としては組成物全体に対して、５〜６０重量％（以下％は特に断らない限り重量％を示す）、好ましくは１５〜６０％、より好ましくは２５〜６０％、更に好ましくは３０％より多く、例えば３１％以上、６０％以下である。
この（Ａ）成分は、後記する（Ｅ）成分と併用することができ、本樹脂組成物中に、（Ａ）成分と（Ｅ）成分の合計含量で３０〜６０％含まれるのが好ましい。【００１１】
本樹脂組成物に含有されるウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）は、分子中に２個以上の水酸基を有する多価アルコールと有機ポリイソシアネート化合物及びヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物を反応させることによって得られる。
多価アルコールとしては例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１、５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１、６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−〔ヒドロキシメチル〕−シクロヘキサン等、これら多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール、多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるポリカプロラクトンポリアルコール、ポリカーボネートポリオール（例えば１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）又はポリエーテルポリオール（例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等）等が挙げられる。通常、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びポリカプロラクトンポリアルコールからなる群から選ばれる多価アルコールが使用される。より好ましくはポリエーテルポリオール又はポリカプロラクトンポリアルコールである。ポリエーテルポリオールとしてはポリＣ２−Ｃ４エーテルジオールが好ましく、ポリプロピレン又はポリテトラメチレングリコールがより好ましい。ポリカプロラクトンポリアルコールとしてはポリカプロラクトンジオールがより好ましい。
通常これらの分子量は４００〜４０００程度が好ましく、より好ましくは５００〜２０００程度、更に好ましくは５００〜１５００程度である。【００１２】
有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート又はジシクロペンタニルイソシアネート等が挙げられる。イソホロンジイソシアネート又はトリレンジイソシアネートが好ましい。
ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等のヒドロキシＣ２〜Ｃ７アルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらのなかでヒドロキシエチル（メタ）アクリレートがより好ましい。
反応は以下のようにして行う。即ち、多価アルコールにその水酸基１当量あたり有機ポリイソシアネートをそのイソシアネート基が好ましくは１．１〜２．０当量になるように混合し、反応温度を好ましくは７０〜９０℃で反応させ、ウレタンオリゴマーを合成する。次いでウレタンオリゴマーのイソシアネート基１当量あたり、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物をその水酸基が好ましくは１〜１．５当量となるように混合し、７０〜９０℃で反応させて目的とするウレタン（メタ）アクリレートを得ることができる。【００１３】
好ましいウレタン（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールとしてポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール及びポリカプロラクトンポリアルコールからなる群から選ばれる多価アルコール、より好ましくはポリエーテルポリオール（好ましくはポリＣ２〜Ｃ４エーテルジオール）又はポリカプロラクトンジオールを使用し、有機ポリイソシアネートとしてはイソホロンジイソシアネート又はトリレンジイソシアネートを使用し、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、ヒドロキシＣ２〜Ｃ７アルキル（メタ）アクリレート、より好ましくはヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを使用して得られたウレタン（メタ）アクリレートである。
上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）は１種又は２種以上を任意の割合で混合使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）の本組成物中の含量は、エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）の含量により、ゼロであってもよく、通常本組成物全体に対して、０〜６０％程度であり、好ましくは５〜６０％、より好ましくは５〜５５％程度であり、場合により５〜４５％、好ましくは７〜４０％である。また、場合により、１０〜４５％、好ましくは１５〜４０％である。ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）の分子量としては４００〜１００００が好ましく、より好ましくは５００〜８０００程度である。【００１４】
本樹脂組成物に含まれるエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、好ましくは分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられ、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応により得られる。通常エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して（メタ）アクリル酸を０．５〜２当量、より好ましくは０．７〜１．２当量程度の範囲、更に好ましくは１当量程度を酸価の値が、０．２〜１ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ程度、より好ましくは０．３〜０．７ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ程度、更に好ましくは０．４〜０．６ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ程度になるまで反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。原料となるエポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、カテコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル等のフェニルジグリシジルエーテル；ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｓ型エポキシ樹脂、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物；水素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、水素化ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、水素化ビスフェノール−Ｓ型エポキシ樹脂、水素化２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化合物等の水素化ビスフェノール型エポキシ化合物；臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂等のハロゲノ化ビスフェノール型エポキシ化合物；ＥＯ／ＰＯ変性ビスフェノール型エポキシ樹脂；シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル化合物等の脂環式ジグリシジルエーテル化合物；１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル等の脂肪族ジグリシジルエーテル化合物；ポリサルファイドジグリシジルエーテル等のポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物；ビフェノール型エポキシ樹脂；ポリエーテル型エポキシ樹脂；等が挙げられる。これらのなかでビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂が好ましい。【００１５】
これらエポキシ化合物の市販品としては、例えばｊＥＲ８２８、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１００４（いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）、エポミックＲＴＭＲ−１４０、エポミックＲ−３０１、エポミックＲ−３０４（いずれも三井化学株式会社製）、ＤＥＲ−３３１、ＤＥＲ−３３２、ＤＥＲ−３２４（いずれもダウ・ケミカル社製）、エピクロン８４０、エピクロン８５０（いずれも大日本インキ株式会社製）、ＵＶＲ−６４１０（ユニオンカーバイド社製）、ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製）等のビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ＵＶＲ−６４９０（ユニオンカーバイド社製）、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、ＹＤＦ−８１７０（いずれも東都化成株式会社製）、エピクロン８３０、エピクロン８３５（いずれも大日本インキ株式会社製）等のビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂；ＨＢＰＡ−ＤＧＥ（丸善石油化学製）、リカレジンＨＢＥ−１００（新日本理化製）等の水素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂；ＤＥＲ−５１３、ＤＥＲ−５１４、ＤＥＲ−５４２（いずれもダウ・ケミカル社製）等の臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂；エポライト３００２（共栄社化学製）等のＰＯ変性ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂；セロキサイドＲＴＭ２０２１（ダイセル製）、リカレジンＤＭＥ−１００（新日本理化製）、ＥＸ−２１６（ナガセ化成製）等の脂環式エポキシ樹脂；ＥＤ−５０３（旭電化製）、リカレジンＷ−１００（新日本理化製）、ＥＸ−２１２、ＥＸ−２１４、ＥＸ−８５０（いずれもナガセ化成製）等の脂肪族ジグリシジルエーテル化合物；ＦＬＥＰ−５０、ＦＬＥＰ−６０（いずれも東レチオコール製）等のポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物；ＹＸ−４０００（ジャパンエポキシレジン製）等のビフェノール型エポキシ化合物；エポライトＲＴＭ１００Ｅ、エポライト２００Ｐ（いずれも共栄社化学製）等のポリエーテル型エポキシ化合物が挙げられる。
上記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）は１種又は２種以上を任意割合で混合使用することができる。エポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）の本樹脂組成物中の含量はゼロであってもよく、組成物全体に対して、０〜６５％、５〜５５％、好ましくは５〜４５％、より好ましくは７〜４０％である。また、場合により、１０〜４５％、より好ましくは１５〜４０％であってもよい。【００１６】
本樹脂組成物に含有される光重合開始剤（Ｄ）としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュアーＲＴＭ１８４）、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュアー２９５９）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュアー１２７）、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（イルガキュア６５１）（以上チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）、オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]（エサキュアONE；ランバルティ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（ダロキュア１１７３；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（イルガキュアー９０７；チバスペシャリティーケミカルズ社製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ルシリンTPO：BASF社製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュアー８１９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。【００１７】
光重合開始剤（Ｄ）として、好ましくは、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュアー１８４）、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュアー２９５９）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュアー１２７）（以上チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）、オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]（エサキュアONE；ランバルティ社製）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（イルガキュアー９０７；チバスペシャリティーケミカルズ社製）、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ルシリンTPO：BASF製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュアー８１９；チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）が挙げられる。【００１８】
これらの光重合開始剤は１種類を単独で用いても、複数のものを任意の割合で混合して使用してもよい。通常光重合剤のみでよいが、場合により、アミン類等の光重合開始助剤と併用することも可能である。
本樹脂組成物中の光重合開始剤（Ｄ）の含有量としては２〜１５％が好ましく、特に好ましくは３〜１０％である。
本発明で使用しうるアミン類等の光重合開始助剤としては、例えば、ジエタノールアミン、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。光重合開始助剤を併用する場合、本発明の紫外線硬化型樹脂組成物中の含有量としては０〜５％、好ましくは０．０５〜５％が好ましく、特に好ましくは０．１〜３％である。【００１９】
本樹脂組成物では希釈成分として、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）を一定以上使用するのが好ましく、単独で使用してもよいが、場合により、それ以外の希釈成分（Ｅ）として、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｆ）に属しないエチレン性不飽和化合物（通常常温液状のもの）を併用することもできる。該エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレートモノマー及びアクリレートオリゴマー等を挙げることができ、（メタ）アクリレートモノマーがより好ましい。それらは、任意に使用しても良い。【００２０】
該（Ｅ）成分（希釈成分）としての（メタ）アクリレートモノマーは、分子中に１個の（メタ）アクリレート基を有する単官能モノマーと分子中に２個以上の（メタ）アクリレート基を有する多官能モノマーに分類できる。本発明においては何れも好適に使用することができる。
分子中に１個の（メタ）アクリレート基を有する単官能モノマーとしては、例えばトリシクロデカン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、４−アクリロイルモルホリン 、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルジオキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、モルフォリン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート等が挙げられる。【００２１】
また、分子中に２個以上（メタ）アクリレート基を有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。【００２２】
該希釈成分（Ｅ）の（メタ）アクリレートモノマーとしては、下記式
（ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯ）ｎＲ２
（式中Ｒ１は水素又はメチル、ｎは１〜４（好ましくは１〜２）、Ｒ２はエステル残基を示し、ヒドロキシ置換を有してもよい炭素原子５〜１５個、好ましくは５〜１２個及び、炭素原子を連結するエーテル性酸素原子を０〜５個を含む脂肪族若しくは芳香族エステル残基を表す）
で表されるエステル及びその変性体を含む（メタ）アクリレートモノマーが好ましく、上記例示化合物の中で、上記式に含まれるものはより好ましい化合物である。また、上記式のエステル化合物の変性体としては、Ｃ１〜Ｃ３アルキレンオキサイドでの変性体が好ましい。
また、生産性の安定等の観点から、フェニルジオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートまたは分子量の大きい２官能以上の（メタ）アクリレートモノマー、例えば４モルエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレート等が好ましい。
（Ｅ）成分としての（メタ）アクリレートモノマーは１種を用いても、また、２種以上を任意の割合で併用してもかまわない。この（Ｅ）成分の本樹脂組成物における含量は、組成物全体に対して、通常０〜３０％程度であり、好ましくは、０〜２０％程度である。（Ｅ）成分を使用する時は、組成物全体に対して、好ましくは１％以上、より好ましくは２％以上であり、上限は上記の通りである。【００２３】
本樹脂組成物においては、上記（Ａ）〜（Ｅ）以外の成分として、反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物（Ｆ）を含むことができる。この場合、例えば耐指紋性等においてより好ましい効果を達成するものであり、より好ましい。
該反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物（Ｆ）としては、光重合反応時に一緒に架橋するものであれば何でも良い。該Ｆ成分におけるそのような反応性不飽和基として好ましいものは、エチレン性不飽和基を挙げ得ることができ、好ましいものとしては、（メタ）アクリロイル基又は（メタ）アクリルアミド基を挙げることができる。従って好ましい該Ｆ成分としては、それらの基を（ポリ）ジメチルシロキサン骨格に結合した化合物である。即ち、好ましくはエチレン性不飽和基を結合した（ポリ）ジメチルシロキサン化合物であり、更に好ましくは（メタ）アクリロイル基又は（メタ）アクリルアミド基を結合した（ポリ）ジメチルシロキサンである。最も好ましくは（メタ）アクリロイル基を結合した（ポリ）ジメチルシロキサン化合物である。メタクリロイル基とアクリロイル基では何れでもよいが場合によりアクリロイル基が好ましい。
エチレン性不飽和基を有する（ポリ）ジメチルシロキサン化合物としては、例えばビックケミー社のＢＹＫ−ＵＶ−３５００、ＢＹＫ−ＵＶ−３５３０及びＢＹＫ−ＵＶ−３５７０、及び信越化学工業株式会社製のＦＫ−３５３、Ｘ−２２−１６０２、Ｘ−２２−１６０３、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−２４５７、Ｘ−２２−２４５８、Ｘ−２２−２４５９、Ｘ−２２−４２７２及びＸ−２２−６２６６などが挙げられる。
上記（Ｆ）成分は１種で使用しても、又、２種以上を任意の割合で混合使用してもよい。本樹脂組成物中における組成物全体に対する含量は０〜５％程度であり、好ましくは０．０５〜５％、更に好ましくは０．１〜３％、最も好ましくは０．３〜２％程度である。
該（Ｆ）成分を含有する本樹脂組成物の紫外線硬化層は、高い耐指紋性を有するので、光ディスクのカバーコート層として使用したとき、従来のカバーコート層の場合のように、更にその表面にハードコート層を設ける必要がなく、光ディスクの製造をより容易にすることができる。【００２４】
本樹脂組成物には、通常は含有する必要は無いが必要に応じて高分子ポリマーとして、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリビニル系樹脂を含有することもできる。さらに、必要に応じて、有機溶剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、充填剤などの添加剤も併用することができる。
本樹脂組成物の好ましい組成としては、下記の組成を挙げることができる。
（Ｉ）  樹脂組成物中に、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）５〜５５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）５〜５５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
（ＩＩ）樹脂組成物中に、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）１０〜４５重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）１０〜４５重量％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
（ＩＩＩ）樹脂組成物全体に対して、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）５〜６０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）０〜６０重量％及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）０〜７０重量％で、かつウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）とエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）の合計量が４６〜７０％、及び光重合開始剤（Ｄ）２〜１５重量％の割合で含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
（ＩＶ）樹脂組成物全体に対して、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（Ａ）と、（Ａ）〜（Ｃ）及び（Ｆ）に含まれないアクリレートモノマー（Ｅ）の合計含量が３０〜６０重量％であり、かつ（Ｅ）成分含量が０〜３０重量％であり、光重合開始剤（Ｄ）の含量が２〜１５重量％であり、反応性不飽和基を有するジメチルシリコーン化合物成分（Ｆ）の含量が０〜５重量％、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）及びエポキシ（メタ）アクリレート（Ｃ）のいずれか１種若しくは両者が２０〜６８％である光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物、
等を挙げることができる。【００２５】
本樹脂組成物は、前記した各成分を２０〜８０℃で撹拌混合して、溶解することにより得ることができる。得られた組成物は必要に応じて、濾過してもよい。
得られた本樹脂組成物はＥ型粘度計で測定した２５℃の粘度が４００〜６０００ｍＰａ・Ｓであることが好ましい。より好ましい粘度は１２００〜６０００ｍＰａ・Ｓ、更に好ましくは１２００〜３０００ｍＰａ・Ｓ、程度である。
得られた本樹脂組成物は、通常、光ディスク用のコーティング剤などとして使用することができる。
本樹脂組成物の光硬化は、紫外線又は可視光線などの光線を本樹脂組成物に、照射する事により行うことができる。該光硬化により、本樹脂組成物の硬化物を得ることができる。
本樹脂組成物を光ディスク用のコーティング剤として使用する場合は、光ディスク上、例えば光ディスクの記録層上若しくは反射膜上に、本樹脂組成物をコーティングすればよい。コーティングにより得られた本樹脂組成物の薄膜又は薄層に、上記した光を照射することにより本樹脂組成物の硬化物層（又は膜）を有する本発明の光ディスクを得ることができる。得られた光ディスク上の硬化膜は、そのままカバーコート層又は/及び保護膜等として機能する。そのようにして得られた本樹脂組成物の硬化物層（又は膜）は、ハードコート層の役割も果たすことができるので、通常、本樹脂組成物の硬化物層（又は膜）上にハードコート層を設ける必要性はないが、必要に応じて、該硬化物層上に更にハードコート層を設けてもよい。【００２６】
本樹脂組成物を硬化させるための光の照射は、紫外〜近紫外の光線を照射できるランプを光源として、行えばよい。そのようなランプとしては、例えば、低圧、高圧又は超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、（パルス）キセノンランプ、また無電極ランプなどが挙げられる。【００２７】
本樹脂組成物を光ディスク用のコーティング剤とする場合、光透過層用保護コート剤として使用するのが好ましい。光ディスク上にコーティングする場合、硬化後の膜厚が１０〜２００μｍ、好ましくは５０〜１００μｍとなるようにコーティングするのが好ましい。塗工方法は問わないが、例えば、一般的な方法としてスピンコート法、２Ｐ法、ロールコート法又はスクリーン印刷法等が挙げられる。通常スピンコート法が好ましい。【００２８】
また、次世代の高密度光ディスクには読み取り及び／又は書き込みに４００ｎｍ前後の青色レーザーが使用されることから、膜厚９０−１００μｍの硬化物において４０５ｎｍの透過率が８０％以上であることが好ましい。
更には、本発明による光ディスクにおいては、本樹脂組成物の硬化物層が光ディスクの記録層又は反射層よりも、記録光及び／又は再生光の入射側に、存在するのが好ましい。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明について実施例を用いて詳細に説明する。
（１）本樹脂組成物及び比較例組成物の製造：
後記表１〜３に示す組成割合において、（Ａ）〜（Ｆ）の各成分を任意の順序で攪拌機付きの容器中に加え、室温において、均一な溶液になるまで撹拌混合し、本樹脂組成物を得た。
また、比較例用の組成物も同様にして製造した。
実施例１−５及び比較例１−２の樹脂組成物につき、その成分及び組成を表１に示した。また、実施例６−１０につき、その成分及び組成を表２に、更に実施例１１〜１３及び比較例３につき、その成分及び組成を表３に示した。
なお、本実施例で得られた各樹脂組成物の２５℃におけるＥ型粘度計での測定粘度は表１〜３の初期粘度個所に記載した。       【００３０】
（２）本発明の光ディスク及び比較用の光ディスクの製造：
１．２ｍｍ厚のポリカーボネート基板上に１００nmの銀合金をスパッタ処理して得られた光ディスクの銀合金反射膜上に、上記実施例で得られた本樹脂組成物をスピンコート法で、硬化後の厚さが９０−１００μｍとなるように塗布した。得られた塗膜をＦｕｓｉｏｎランプＤバルブで１Ｊ／ｃｍ2の積算光量で硬化させ、銀合金反射膜上に９０−１００μｍの本樹脂組成物の硬化物層を有する本発明の光ディスクを得た。
また、比較用のディスクを上記と全く同様にして製造した。【００３１】
以下に、評価試験方法について詳しく説明する。
（１）風当て試験
リサイクル時における粘度変化の状態を見るために下記の風当て試験を行った。
プラスチック容器（内径４８ｍｍ、高さ３０ｍｍ）に、上記実施例及び比較例で得られた樹脂組成物を容器別にそれぞれ５ｇを入れ、その容器を６０℃に設定した送風乾燥機中に６０分間放置した。６０分後該容器中の液（樹脂組成物）をガラス棒で攪拌し、均一にした後の粘度を測定した。
試験前に測定した樹脂組成物の初期粘度及び上記で測定した粘度の値から下記の計算式（i）により粘度の増加率を算出した。
（i）粘度の増加率（％）＝（試験後の粘度−初期粘度）×１００／初期粘度
なお、風当て試験の粘度測定にはＥ型粘度計を使用した。
また、風当て試験の判定は下記基準で判定を行った。
○・・・粘度変化率 ＜ １５％
×・・・粘度変化率 ≧ １５％
上記の風当て試験の結果及び判定結果を表１〜３に示した（表中では「風当試験」と表示）。【００３２】
（２）耐久性試験
本発明の光ディスク及び比較対照光ディスクを８０℃、湿度８０％RHの環境下に９６時間放置し、試験前後における反りと外観変化を観察した。
硬化物層の膜厚と反りの測定は、ドクターシェンクプロメテウスＭＴ−１４６を用い、硬化物層を下側にして行った。
ディスク内径２４ｍｍ、３８ｍｍ、４５ｍｍ及び５８ｍｍの４ポイントにおいて測定し、その平均値を元に算出した。
表中の初期の反り及び耐久試験後の反りは、樹脂組成物を光ディスクに塗布する前の光ディスクの反り、樹脂組成物を光ディスクに塗布し、塗布層を光硬化した後の光ディスクの反り、及び耐久試験後の光ディスクの反りをそれぞれ測定し、それらをもとに、下記計算式(ii)及び計算式(iii)により算出した。
(ii) 初期の反り＝塗布層の硬化後の光ディスクの反り−塗布前の光ディスクの反り
(iii) ９６ｈ後の反り量＝９６ｈ後の光ディスクの反り−硬化物層を有する光ディスクの初期の反り【００３３】
反りの単位は度で表示。下記基準で判定を行った。
○・・・初期反り ＞ −0.6  且つ、９６ｈ後の反り量 ＞ −0.6
×・・・初期反り ≦ −0.6  又は／且つ、９６ｈ後の反り量 ≦ −0.6【００３４】
外観の変化については、９６ｈ後の銀合金反射膜の腐食の程度を目視で観察し、銀合金反射膜の変色有無で判定した。評価は下記の通り行った。
○・・・銀合金反射膜に変色など異常が見られない。
×・・・銀合金反射膜に変色などの異常が確認できる。
上記の耐久試験結果及び判定結果を表１〜３に示した。【００３５】
（３）透過率試験
実施例で用いた樹脂組成物を塗布する前の銀合金をスパッタして得られた光ディスク（未塗布光ディスク）の、４０５ｎｍの波長の透過率及び前記実施例で得られた硬化物層を有する本発明光ディスクの４０５ｎｍの波長の透過率を測定し、
未塗布光ディスクの透過率を基準として、下記の基準で本発明の光ディスクの透過率を判定した。なお、透過率の測定は分光光度計（株式会社日立製作所製  Ｕ−３３１０）を用いて行った。
透過率の判定基準
○・・・４０５ｎｍの透過率が８０％以上。
×・・・４０５ｎｍの透過率が８０％未満。
上記の測定結果及び判定結果を表１〜３に示した。【００３６】
（４）耐指紋性試験
耐指紋性試験として、光ディスクの硬化物層表面の水及びオレイン酸での接触角を協和界面科学社製DCA-VZを用いて測定し、下記の基準で判定した。これらの接触角が高いほど指紋の付きにくいことを示す。
○・・・水の接触角が９０度以上且つ、オレイン酸の接触角が４０度以上。
△・・水の接触角及びオレイン酸の接触角の何れか一方が○の基準に満たない。
×・・・水の接触角が９０度未満且つ、オレイン酸の接触角が４０度未満。
上記の測定結果及び判定結果を表３に示した。
なお、表中における「部」は重量部を示す。【００３７】
0004536138.tif 000002
【００３８】
0004536138.tif 000003
【００３９】
0004536138.tif 000004
【００４０】
なお、表中に示した各組成の略号は下記の通りである。
ＦＡ−５１２ＡS：ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、日立化成工業製
ＵＡ−１：ポリカプロラクトンジオール（分子量８００）２モルとイソホロンジイソシアネート３モル反応後、２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応して得られたウレタンアクリレート。
ＵＡ−２：ポリテトラメチレングリコール（分子量８００）１モルとトリレンジイソシアネート２モル反応後、２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応して得られたウレタンアクリレート。
ＵＡ−３：ポリプロピレングリコール（分子量１０００）１モルとトリレンジイソシアネート２モルを反応後、２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応して得られたウレタンアクリレート。【００４１】
ＥＰＡ−１：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量：１８５ｇ／当量）をエポキシ基１モル当量とアクリル酸１モルを酸価０．５ｍｇ・ＫＯＨ／ｇまで反応して得られたエポキシアクリレート。
ＥＰＡ−２：総量中に対し、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートを３０％添加し、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量：４７５ｇ／当量）をエポキシ基１モル当量とアクリル酸１モルを酸価０．５ｍｇ・ＫＯＨ／ｇまで反応して得られたエポキシアクリレート。【００４２】
イルガキュアー１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティーケミカル社製  光重合開始剤
イルガキュアー２９５９：１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、チバ・スペシャルティーケミカル社製  光重合開始剤
イルガキュアー９０７：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティーケミカル社製  光重合開始剤
イルガキュアー１２７：２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、チバ・スペシャルティーケミカル社製  光重合開始剤
エサキュアONE-S：オリゴ[２−ヒドロキシ−２−メチル−１−[４−（１−メチルビニル）フェニル]プロパノン]、ランバルティ社製  光重合開始剤
ルシリンTPO：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、BASF社製  光重合開始剤
イルガキュアー８１９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  光重合開始剤【００４３】
ＡＭ−１：トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、日本化薬社製
ＡＭ−２：テトラヒドロフルフリルアクリレート、大阪有機社製
ＡＭ−３：２−エトキシエトキシエチルアクリレート
ＡＭ−４：イソボルニルアクリレート
ＡＭ−５：４モルエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジアクリレート
ＡＭ−６：トリプロピレングリコールジアクリレート
ＡＭ−７：４−アクリロイルモルホリン 
ＡＭ−８：フェニルジオキシエチル（メタ）アクリレート
ＡＭ−９：２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート
ＡＭ−１０：メトキシトリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート
ＡＭ−１１：メタクリル酸１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル
IRGANOX 1520L：紫外線吸収剤、チバ・スペシャルティーケミカル社製
BYK-UV-3570：反応型シリコーン、アクリル基含有ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、ビックケミー社製【００４４】
表１、２及び３から明らかなように本発明の光ディスクは、硬化後の反りが少なく、透明性、耐久性に優れた次世代高密度光ディスクの提供を可能にするものである。さらに、風当て試験での本発明の紫外線硬化型樹脂組成物の優位性から、スピンコート法での生産において、リサイクル使用による膜厚のコントロールが非常に容易となり、本発明の紫外線硬化型樹脂は、効率的に生産するためのリサイクル使用に耐えうることを可能にしたものである。よって、本発明は、青色レーザーを用いて記録及び／又は再生を行う光ディスクの光透過層を形成する光透過層用保護コート剤として極めて有用である。【００４５】
また、表３から明らかなように、実施例１１〜１３で得られる光ディスクはカバー層に要求される耐指紋汚染性が飛躍的に向上しており、本樹脂組成物の硬化物層の表面に、ハードコート層を形成する必要は無く、光ディスクの生産効率を高めることが可能である。生産工程上の点でも極めて有用である。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、硬化後の反りが少なく、透明性、耐久性に優れた次世代高密度光ディスクを効率的に生産することを可能とする青色レーザーを用いた次世代高密度光ディスクの光透過層用保護コート剤を提供するものであるが、その他、赤色レーザーを用いた光ディスク用材料にも適用することができる。