(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面がフッ化物層(12)で覆われた多結晶体(11)，焼結体又は単結晶体により形成されたＦＰＤの保護膜用蒸着材であって、
前記多結晶体(11)，焼結体又は単結晶体が、ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかにより形成され、
前記フッ化物層(12)がガス状フッ素化剤とＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかとの反応によって得られたことを特徴とするＦＰＤの保護膜用蒸着材。
【請求項２】
ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかの多結晶体(11)，焼結体又は単結晶体を形成する工程と、
前記多結晶体(11)，焼結体又は単結晶体をガス状フッ素化剤にて表面処理することにより前記多結晶体(11)，焼結体又は単結晶体の表面にフッ化物層(12)を形成する工程と
を含むＦＰＤの保護膜用蒸着材の製造方法。
【請求項３】
ガス状フッ素化剤がフッ素ガス、フッ化水素ガス、ＢＦ3、ＳｂＦ5又はＳＦ4のいずれかである請求項２記載のＦＰＤの保護膜用蒸着材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＰＤＰ（Plasma Display Panel：プラズマディスプレイパネル）、ＰＡＬＣ（Plasma Addressed Liquid Crystal display）等のＦＰＤ（Flat Panel Display）の保護膜を成膜するのに好適な蒸着材及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ここ数年、液晶（Liquid Crystal Disply：以下、ＬＣＤという）をはじめとして、各種の平面ディスプレイの研究開発と実用化はめざましく、その生産も急増している。カラープラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）についても、その開発と実用化の動きが最近活発になっている。ＰＤＰは大型化し易く、ハイビジョン用大画面壁掛けテレビの最短距離にあり、既に対角４０インチクラスのＰＤＰの試作が進められている。このようなＰＤＰを含むＦＰＤでは、ガラス誘電体層が直接放電にさらされ、イオン衝撃のスパッタリングにより誘電体層表面が変化して、放電開始電圧が上昇していた。そのため、高い昇華熱を持つ種々の酸化物を保護膜とすることが行われる。
【０００３】
従来、この保護膜を形成する方法として、電子ビーム蒸着法，スパッタリング法，イオンプレーティング法などの真空プロセスを用いてＦＰＤの保護膜を形成する方法が知られている。電子ビーム蒸着法及びイオンプレーティング法では、保護膜を形成するための原料である蒸着材と、保護膜を形成させるＦＰＤを真空容器内に設置し、高真空下において蒸着材を加熱、又は電子ビームやプラズマ等を用いて蒸発させ、その蒸気をＦＰＤの表面に薄膜として凝着させている。
一方、ＰＤＰの保護膜は直接、放電空間に接しているため、放電特性に最も重要な役割を担うキーマテリアルであり、従来より２次電子放出能が高く、耐スパッタ性，光透過性及び絶縁性に優れた膜を形成すべく、保護膜を形成するための原料としてアルカリ土類金属酸化物を蒸着材として使用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このアルカリ土類金属酸化物は蒸着材として使用される以前に大気中に曝されると、容易にＣＯ2やＨ2Ｏと反応して変質することから、アルカリ土類金属酸化物からなる蒸着材を真空容器内部に設置した後、真空加熱下での長時間の脱ガス排気処理が必要であることが知られている。即ち、比較的長い時間をかけて脱ガス排気処理を行わないと、蒸着材の変質した表面から多量に生じるＨ2Ｏ，Ｈ2，Ｏ2，ＣＯ，ＣＯ2，Ｎ2等の不純物ガスが得られた保護膜の特性に不具合を生じさせることが知られている。
本発明の目的は、容器内部に設置した直後の脱ガス排気処理時間を短縮し得るＦＰＤの保護膜用蒸着材及びその製造方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、特性が安定した均一な成膜が可能なＦＰＤの保護膜用蒸着材及びその製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、図１に示すように、表面がフッ化物層１２で覆われた多結晶体１１，焼結体又は単結晶体により形成されたＦＰＤの保護膜用蒸着材であって、多結晶体１１，焼結体又は単結晶体が、ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかにより形成され、フッ化物層１２がガス状フッ素化剤とＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかとの反応によって得られたことを特徴とする。
この請求項１に記載されたＦＰＤの保護膜用蒸着材では、多結晶体１１，焼結体又は単結晶体の表面がフッ化物層１２により被覆されるため、この蒸着材１０が大気中に長時間曝されても、多結晶体１１，焼結体又は単結晶体が大気中のＣＯ2ガスやＨ2Ｏガスと殆ど反応しない。この結果、容器内部にこの蒸着材１０を設置した後に発生する有害物質の量は従来より抑制され、この有害物質を除去するために従来から行われている脱ガス排気処理を短縮又はそのガス処理工程を省くことが可能になり、ＦＰＤの製造コストを従来より低減できる。更にこの蒸着材によれば、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法等により保護膜をＦＰＤに成膜する際に、Ｈ2Ｏ，Ｈ2，Ｏ2，ＣＯ，ＣＯ2，Ｎ2等の不純物ガスが発生させることなく蒸発するので、高速安定性膜が可能となり、かつ膜の緻密性は向上し、特性が安定した均一な成膜が可能になる。
【０００７】
請求項２に係る発明は、ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかの多結晶体１１，焼結体又は単結晶体を形成する工程と、その多結晶体１１，焼結体又は単結晶体をガス状フッ素化剤にて表面処理することにより多結晶体１１，焼結体又は単結晶体の表面にフッ化物層１２を形成する工程とを含むＦＰＤの保護膜用蒸着材の製造方法である。
この請求項２に記載されたＦＰＤの保護膜用蒸着材の製造方法では、大気中に長時間曝されても大気中のＣＯ2ガスやＨ2Ｏガスと殆ど反応しない蒸着材を比較的容易に得ることができる。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項２に係る発明であって、ガス状フッ素化剤がフッ素ガス、フッ化水素ガス、ＢＦ3、ＳｂＦ5又はＳＦ4のいずれかであるＦＰＤの保護膜用蒸着材の製造方法である。
この請求項３に記載されたＦＰＤの保護膜用蒸着材の製造方法では、多結晶体１１，焼結体又は単結晶体の表面にフッ化物層１２を比較的容易に形成することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に本発明の第１の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１に示すように、本発明のＦＰＤの保護膜用蒸着材１０は、表面がフッ化物層１２で覆われた多結晶体１１により形成される。多結晶体１１は、ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかの粉末を用いて形成される。多結晶体１１を得る方法は、特に限定しないが、粉末を成型し、焼結させる（焼結体）方法が一般的に広く知られている。図１には表面がフッ化物層１２で覆われた多結晶体１１により形成された保護膜用蒸着材１０を示すが、本発明のＦＰＤの保護膜用蒸着材１０は、表面がフッ化物層１２で覆われた単結晶体により形成しても良い。単結晶体の作製方法は特に限定しないが、アーク溶融法が一般的に広く知られている（J.Chem.Phys.35[8].p.3752-6.(1971)）。
【００１０】
一方フッ化物層１２は、多結晶体１１を形成するＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかと、ガス状フッ素化剤との反応によって得ることができる。ガス状フッ素化剤としては反応性の高さや汎用性の観点からフッ素ガス、フッ化水素ガス、ＢＦ3、ＳｂＦ5又はＳＦ4のいずれか、特にフッ素ガス又はフッ化水素ガスを用いることが好ましい。またフッ化物層１２の厚さはＭｇＯ等のＣＯ2ガスやＨ2Ｏガスとの反応阻止向上と、ＭｇＯ等とガス状フッ素化剤との反応時間とのバランスにより決定され、好ましくは０．１ｎｍ〜１００μｍの範囲内、更に好ましくは１ｎｍ〜１μｍの範囲内に形成される。フッ化物層１２の厚さを０．１ｎｍ〜１００μｍの範囲内に限定したのは、１００μｍを越えると、ＭｇＯ等とガス状フッ素化剤との反応時間が長くなって作業性が悪くなるためである。
【００１１】
次にこのＦＰＤの保護膜用蒸着材１０の製造方法を説明する。
このＦＰＤの保護膜用蒸着材１０の製造方法は、ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかの粉末を用いて多結晶体１１を形成する工程と、その多結晶体１１をガス状フッ素化剤にて表面処理することによりその多結晶体１１の表面にフッ化物層１２を形成する工程とを含む。
【００１２】
［１］多結晶体１１の形成
ここでは、多結晶体１１を得る方法として、焼結により得る方法を示すが、本発明の内容を限定するものではない。多結晶体１１を形成する工程では、先ずＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，又はアルカリ土類複合酸化物のいずれかの粉末を所定量準備する。この準備する粉末の平均粒径は０．０１〜１００μｍの範囲内にあることが好ましい。粉末の平均粒径が０．０１μｍ未満では、粉末が細かすぎて凝集するため、粉末のハンドリングが悪くなり、高濃度スラリーを調製することが困難となるためであり、１００μｍを越えると、微細構造の制御が難しく、緻密な多結晶体１１が得られないからである。またＭｇＯ等の粉末の平均粒径を上記範囲に限定すると、焼結助剤を用いなくても所望の多結晶体１１が得られる利点もある。
【００１３】
次に、それらのいずれかの粉末とバインダと有機溶媒とを混合してスラリーを調製する。この時のスラリーの濃度は４０〜７０重量％であることが好ましく、７０重量％を越えると上記スラリーが非水系であるため、安定した造粒が難しい問題点があり、４０重量％未満では均一な組織を有する緻密な多結晶体１１が得られいないからである。即ち、スラリー濃度を上記範囲に限定すると、スラリーの粘度が２００ｃｐｓ以下となり、例えばスプレードライヤによる粉末の造粒を安定して行うことができ、更には成形体の密度が高くなって緻密な多結晶体１１の製造が可能になる。
【００１４】
また粉末とバインダと有機溶媒との湿式混合、特に粉末と分散媒である有機溶媒との湿式混合は、湿式ボールミル又は撹拌ミルにより行われる。湿式ボールミルでは、ＺｒＯ2製ボールを用いる場合には、直径５〜１０ｍｍの多数のＺｒＯ2製ボールを用いて８〜２４時間、好ましくは２０〜２４時間湿式混合される。ＺｒＯ2製ボールの直径を５〜１０ｍｍと限定したのは、５ｍｍ未満では混合が不十分となることからであり、１０ｍｍを越えると不純物が増大する不具合があるからである。また混合時間が最長２４時間と長いのは、長時間連続混合しても不純物の発生が少ないからである。一方、湿式ボールミルにおいて、鉄芯入りの樹脂製ボールを用いる場合には、直径１０〜１５ｍｍのボールを用いることが好ましい。
【００１５】
撹拌ミルでは、直径１〜３ｍｍのＺｒＯ2製ボールを用いて０．５〜１時間湿式混合される。ＺｒＯ2製ボールの直径を１〜３ｍｍと限定したのは、１ｍｍ未満では混合が不十分となることからであり、３ｍｍを越えると不純物が増える不具合があるからである。また混合時間が最長１時間と短いのは、１時間を越えると原料の混合のみならず粉砕の仕事をするため、不純物の発生の原因となり、また１時間もあれば十分に混合できるからである。
【００１６】
次に上記スラリーを噴霧乾燥して平均粒径が５０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍの造粒粉末を得た後、この造粒粉末を所定の型に入れて所定の圧力で成形する。ここで、造粒粉末の平均粒径を５０〜３００μｍと限定したのは、５０μｍ未満では成形性が悪い不具合があり、３００μｍを越えると成形体密度が低く強度も低い不具合があるからである。上記噴霧乾燥はスプレードライヤを用いて行われることが好ましい。またペレットの成形には、メカニカルプレス法、タブレットマシン法又はブリケットマシン法のいずれかの金型プレス法を用いて行われることが好ましい。
【００１７】
図２に一例としてメカニカルプレス法に使用されるメカニカルプレス装置１３を示す。この装置１３は、円筒状の型１３ａと、この型１３ａに下方から挿入される下ポンチ１３ｂと、型１３ａに上方から挿入される上ポンチ１３ｃとを備える。この装置１３で造粒粉末１４を成形するには、先ず円筒状の型１３ａに円柱状の下ポンチ１３ｂを下方から挿入した状態で造粒粉末１４を上記型１３ａ内に投入し（図２（ａ））、上ポンチ１３ｃを型１３ａに上方から挿入して造粒粉末１４の圧密を行う（図２（ｂ））。次に上ポンチ１３ｃを抜いた後、下ポンチ１３ｂによりペレット状の成形体１６を突上げてこの成形体１６を取出す（図２（ｃ））。また上記メカニカルプレス法によるプレス圧力は３００〜２０００ｋｇ／ｃｍ2、好ましくは５００〜１０００ｋｇ／ｃｍ2である。プレス圧を上記範囲に限定したのは、３００ｋｇ／ｃｍ2未満では所定の密度が得られず、２０００ｋｇ／ｃｍ2を越えると割れや欠けの原因となる層状の亀裂（ラミネーション）が発生するからである。また高圧プレスを用いると、高強度の金型を必要とし成形装置が大型化するため、成形コストが上昇し好ましくない。この原料粉末にはバインダが混合されているため、比較的小さな圧力でも十分に強度が高くかつ密度の大きい成形体１６を得ることができる。
【００１８】
更にペレット状の成形体１６を所定の温度で焼結する。焼結する前に成形体１６を３５０〜６２０℃の温度で脱脂処理することが好ましい。この脱脂処理は成形体１６の焼結後の色むらを防止するために行われ、時間をかけて十分に行うことが好ましい。焼結は１５００℃〜１７００℃の温度で行うことが好ましい。焼結温度を１５００℃〜１７００℃に限定したのは、１５００℃未満では緻密な焼結体が得られず、１７００℃を越えると粒成長が著しく速く、特性が低下するからである。また、成形体を不活性ガス雰囲気中で焼結する場合には、不活性ガスとしてアルゴンガスを用いることが好ましい。このようにして相対密度が９５％以上の緻密な多結晶体１１が得られる。
【００１９】
［２］フッ化物層１２の形成
次に、上述したようにして得られた多結晶体１１の表面にフッ化物層１２を形成する。このフッ化物層１２の形成は、その多結晶体１１をガス状フッ素化剤雰囲気中（温度１０〜１００℃）に０．１〜１２０分間保持して多結晶体１１の表面を改質し、多結晶体１１の表面にフッ化物層１２を形成する。上記ガス状フッ素化剤としてはフッ素ガス、フッ化水素ガス、ＢＦ3、ＳｂＦ5又はＳＦ4のいずれか、特にフッ素ガス又はフッ化水素ガスを用いることが好ましく、このガス状フッ素化剤の圧力は好ましくは１〜７６０Ｔｏｒｒ、更に好ましくは１０〜３００Ｔｏｒｒの範囲内に設定される。ガス状フッ素化剤の圧力を１〜７６０Ｔｏｒｒの範囲内に限定したのは反応進行度、即ちフッ化物層１２の厚さの制御を容易にするためである。
【００２０】
フッ化物層１２の形成は、多結晶体１１を真空中又は不活性ガス中で形成し、この多結晶体１１を大気に暴露させることなくガス状フッ素化剤にて表面処理することが好ましい。しかし、多結晶体１１を大気に暴露した場合には、その多結晶体１１を大気中で焼成して多結晶体１１を活性化させ、ガス状フッ素化剤にて表面処理することにより多結晶体１１の表面にフッ化物層１２を形成することが好ましい。この場合の多結晶体１１の大気中での焼成温度は２５０〜５５０℃、好ましくは３５０〜４５０℃であり、焼成時間は０．１〜２４時間、好ましくは０．２〜１時間である。上記範囲の温度及び時間で焼成することにより多結晶体１１が活性化される。このような処理を施すことにより、多結晶体１１の表面にＦＰＤに有害なＭｇＯ等の炭酸塩（ＭｇＣＯ3等）や水酸化物（Ｍｇ（ＯＨ）2等）が生成されても、多結晶体１１を大気中で焼成することにより多結晶体１１が活性化され、多結晶体１１の表面のＭｇＯ等の炭酸塩（ＭｇＣＯ3等）や水酸化物（Ｍｇ（ＯＨ）2等）がＣＯ2及びＨ2Ｏとして除去される。この状態で多結晶体１１の表面にフッ化物層１２を形成することにより、多結晶体１１の表面がフッ化物層１２により保護され、ＭｇＯ等の炭酸塩（ＭｇＣＯ3等）や水酸化物（Ｍｇ（ＯＨ）2等）の生成を防止或いは抑制することができる。
【００２１】
このように製造されたＦＰＤの保護膜用蒸着材１０では、多結晶体１１の表面がフッ化物層１２により被覆されるため、この蒸着材１０が大気中に長時間曝されても、多結晶体１１が大気中のＣＯ2ガスやＨ2Ｏガスと殆ど反応しない。この結果、真空成膜容器内部にこの蒸着材１０を設置した後行われる脱ガス排気処理を従来より短縮することが可能になり、ＦＰＤの製造コストを低減できる。
また、この蒸着材１０では多結晶体１１の表面が変質しないことから、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法等により保護膜をＦＰＤに成膜する際に、Ｈ2Ｏ，Ｈ2，Ｏ2，ＣＯ，ＣＯ2，Ｎ2等の不純物ガスを発生させることなく蒸着材１０が蒸発するので、高速安定性膜が可能となり、かつ膜の緻密性は向上する。また上記蒸着材１０を用いて成膜した基板をＰＤＰに組み込んだとき、放電時の耐スパッタ性を向上できる。従って、上記保護膜はＡＣ型ＰＤＰの保護膜の成膜に好適であり、また高機能セラミック材料の保護膜などにも適用できる。
【００２２】
【実施例】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。ここでは、多結晶体を用いた例を示すが、単結晶体でも同様であり、発明内容を限定するものではない。
＜比較例１〜２９＞
表３及び表４の材料欄に示すＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，アルカリ土類複合酸化物若しくは希土類酸化物，又はアルカリ土類酸化物及び希土類酸化物の複合酸化物のいずれかの粉末を準備した。この粉末にバインダとしてのポリビニールブチラールと分散剤としてのエタノールを添加し、撹拌ミルで１時間湿式混合し、濃度が５０％の混合スラリーに調製した。この混合スラリーをスプレードライヤで噴霧乾燥して造粒することにより造粒粉末を得た。この造粒粉末を金型（内径が６ｍｍで深さが３ｍｍの金型）に充填し、メカニカルプレスで成形して成形体を作製した。この成形体を大気雰囲気中、１６５０℃に昇温し、焼結炉（広築社製）で３時間焼結することにより直径が約５ｍｍの多結晶体１１を得た。これらの多結晶体１１単体から成り、フッ化物層１２を有しない蒸着材を比較例１〜２９とした。
【００２３】
＜実施例１〜２９＞
比較例１〜２９と同一の手順により比較例１〜２９と同一の複数種類の多結晶体１１を得た。これら複数種類の多結晶体１１を、圧力が３５ＴｏｒｒのＨＦガス雰囲気中（温度２５℃）に１０分間保持してそれぞれの多結晶体１１の表面を改質し、多結晶体１１の表面にフッ化物層１２をそれぞれ形成した。このように多結晶体１１の表面がフッ化物層１２で覆われた蒸着材１０を実施例１〜２９とした。この実施例１〜２９におけるそれぞれの多結晶体１１の材料を表１及び表２に示す。
【００２４】
＜比較試験１＞
比較例１〜２９及び実施例１〜２９におけるそれぞれの蒸着材１０が得られた時点でその重量を測定し、その後７日間大気中に放置し、７日後の重量を再び測定し、重量の増加率（％）を計算した。この結果を表１〜表４に示す。
＜比較試験２＞
次に、７日間大気中に放置された比較例１〜２９及び実施例１〜２９におけるそれぞれの蒸着材１０を用い、電子ビーム蒸着法によりガラス基板２１に成膜した。なお、保護膜２４の成膜条件は、真空成膜容器内部に蒸着材１０を設置した後に蒸着材を加熱しながら脱ガス排気処理を１０分間実施し、その後加速電圧が１５ｋＶ、蒸着圧力が１×１０-2Ｐａ、蒸着距離が６００ｍｍの条件で成膜した。
これらガラス基板２０上の膜の成膜速度及び相対密度を以下の方法で測定した。即ち、成膜速度（Å／sec）は得られた膜の断面を高分解能ＳＥＭにより観察して、膜厚（Å）を求め、成膜時間（sec）で除して算出した。相対密度（％）は、材料の真密度（ｇ／ｃｍ3）との比より算出した。蒸着材が２成分の単純な混合物で構成される場合（例えばＭｇＯ＋ＣａＯ）、Ａ成分とＢ成分の存在比を求め、Ａ成分（真密度αｇ／ｃｍ3）がＸ、Ｂ成分（真密度βｇ／ｃｍ3）が（１−Ｘ）の場合膜の真密度を｛Ｘα＋（１−Ｘ）β｝（ｇ／ｃｍ3）として算出した。これらの結果を表１〜表４に示す。
【００２５】
【表１】
0004419343.tif 000002
【００２６】
【表２】
0004419343.tif 000003
【００２７】
【表３】
0004419343.tif 000004
【００２８】
【表４】
0004419343.tif 000005
【００２９】
表１〜表４から明らかなように、比較例１〜２９に比較してその比較例１〜２９に対応する実施例１〜２９の重量増加率は著しく低いことが判る。蒸着材の重量は、多結晶体が大気中にのＣＯ2やＨ2Ｏと反応して変質することにより増加するため、重量増加率が高い比較例１〜２９における蒸着材の表面はかなり変質したものと解される。一方、実施例１〜２９における蒸着材の重量増加率は著しく低いので、その多結晶体の変質の程度が比較例１〜２９に比較して低いことが判る。これは多結晶体の表面をフッ化物層で覆ったことに起因するものと考えられる。
また、実施例１〜２９の成膜速度は比較例１〜２９に比較して高く、かつ相対密度も高いことが判る。これは、保護膜２４の成膜に際に、実施例１〜２９の蒸着材１０は比較例１〜２９の蒸着材に比較して不純物ガスの発生が少ないことに起因していると考えられる。これにより本発明の蒸着材を用いて保護膜が形成されたＦＰＤでは、膜の耐スパッタ性が高くなり、その寿命が向上することが判る。
【００３０】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、多結晶体の表面をフッ化物層で覆ったので、大気中に長時間曝されても多結晶体が大気中のＣＯ2ガスやＨ2Ｏガスと反応することはない。この結果、真空成膜容器内部にこの蒸着材を設置した後の蒸着材からの有害物質の発生は従来より抑制され、この有害物質を除去するために従来から行われている脱ガス排気処理を短縮又は脱ガス処理工程を省くことが可能になり、ＦＰＤの製造コストを低減できる。
また、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法等により保護膜をＦＰＤに成膜する際に、Ｈ2Ｏ，Ｈ2，Ｏ2，ＣＯ，ＣＯ2，Ｎ2等の不純物ガスを発生させることなく蒸着材か蒸発するので、高速安定性膜が可能となり、かつ膜の緻密性は向上し、特性が安定した均一な成膜が可能になる。
更に上記蒸着材を用いてＦＰＤを製造すれば、ＦＰＤの製造工数を大幅に低減できるので、安価にＦＰＤを製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の蒸着材の断面図。
【図２】メカニカルプレス法により多結晶体を成形する工程図。
【符号の説明】
１０  蒸着材
１１  多結晶体
１２  フッ化物層
【図１】
0004419343.tif 000006
【図２】
0004419343.tif 000007