(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有し、硬化後の屈折率が１．５０以上であることを特徴とする高屈折率膜用硬化性組成物。
（Ａ）平均粒子径が０．１μｍ以下の金属酸化物粒子
（Ｂ）ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂及びフェノキシ樹脂からなる群から選択される一種以上
（Ｃ）メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール（Ｃ１〜Ｃ１２）縮合物と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物
（Ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
（Ｅ）成分として、アクリレート化合物（（Ｃ）成分中のアクリレート化合物を除く。）をさらに含有することを特徴とする請求項１に記載の高屈折率膜用硬化性組成物。
【請求項３】
（Ｆ）成分として、熱酸発生剤をさらに含有することを特徴とする請求項１または２に記載の高屈折率膜用硬化性組成物。
【請求項４】
（Ｇ）成分として、アルコール系溶剤と、ケトン系溶剤からなる混合溶剤をさらに含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の高屈折率膜用硬化性組成物。
【請求項５】
前記（Ｄ）成分の光重合開始剤が、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤との組み合わせからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の高屈折率膜用硬化性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の高屈折率膜用硬化性組成物を硬化してなる高屈折率膜。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の高屈折率膜用硬化性組成物を硬化してなる高屈折率膜を含むことを特徴とする反射防止用積層体。
【請求項８】
前記高屈折率膜上に、下記(i)成分および(ii)成分を含有した低屈折率膜用硬化性組成物を熱硬化してなる低屈折率膜を設けるとともに、当該低屈折率膜の屈折率を１．５０未満の値とすることを特徴とする請求項７に記載の反射防止用積層体。
(i)水酸基を有する含フッ素共重合体
(ii)水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
【請求項９】
前記低屈折率膜用硬化性組成物を熱硬化させる際に、当該低屈折率膜用硬化性組成物と、前記高屈折率膜の一部とを反応してなることを特徴とする請求項７または８に記載の反射防止用積層体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高屈折率膜用硬化性組成物、高屈折率膜、および反射防止用積層体に関する。より詳細には、光硬化可能な高屈折率膜用硬化性組成物、およびそれを用いた高屈折率膜、ならびに反射防止性に優れた反射防止用積層体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止膜の形成材料として、例えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭６１−２４７７４３号公報、特開平６−２５５９９号公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０−２３２３０１号公報等に開示されている。
しかしながら、かかる熱硬化型ポリシロキサン組成物から得られる反射防止膜は、高温で、長時間にわたって加熱処理をする必要があり、生産性が低かったり、あるいは適用基材の種類が限定されるという問題が見られた。また、かかる熱硬化型ポリシロキサン組成物は保存安定性に乏しいため、一般的に主剤と硬化剤とが分離した二液性タイプとしてあり、取り扱いが煩雑であるという問題が見られた。
【０００３】
そこで、特開平８−９４８０６号公報に開示されているように、基材上に、微粒子を高屈折率バインダー樹脂中に極在化させた高屈折率膜と、フッ素系共重合体からなる低屈折率膜とを順次に積層した光学機能性フィルムが提案されている。
より具体的には、高屈折率膜を形成するのに、２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子等の微粒子層を工程紙上に予め形成しておき、それを基材上の高屈折率バインダー樹脂に対して圧接することにより、高屈折率バインダー樹脂中に微粒子層を埋設して、極在化させている。
また、低屈折率膜については、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％およびヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部と、これらの合計量を１００重量部としたときに、０．５〜１０重量部の重合開始剤とからなる樹脂組成物を硬化して、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜としている。
【０００４】
しかしながら、特開平８−９４８０６号公報に開示された光学機能性フィルムは、高屈折率膜の製造工程が複雑であり、結果として安定した光学機能性フィルムを作成することが困難であった。また、高屈折率膜用硬化性組成物において、使用する高分子体の種類や硬化剤の種類が適当でないために、保存安定性が乏しいという問題点が見られた。さらに、かかる光学機能性フィルムは、低屈折率膜と、高屈折率膜との相性が良好でなく、反射防止性が不十分であったり、あるいは低屈折率膜と高屈折率膜との界面で容易に剥離するという問題点が見られた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の発明者らは鋭意検討した結果、高屈折率膜用硬化性組成物において、特定の平均粒子径を有する金属酸化物粒子と、水酸基含有重合体と、水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物と、光重合開始剤とを混合して組成することにより、上述した問題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、光硬化性に優れた高屈折率膜用硬化性組成物、およびそれを用いた高屈折率膜、あるいは優れた反射防止性を有する反射防止用積層体を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有し、硬化後の屈折率が１．５０以上であることを特徴とする高屈折率膜用硬化性組成物が提供され、上述した問題を解決することができる。
（Ａ）平均粒子径が０．１μｍ以下の金属酸化物粒子
（Ｂ）ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂及びフェノキシ樹脂からなる群から選択される一種以上
（Ｃ）メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール（Ｃ１〜Ｃ１２）縮合物と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物
（Ｄ）光重合開始剤
このように構成することにより、（Ｃ）成分が有する光重合可能な官能基を迅速に光硬化させることができる。したがって、プラスチック基材等の非耐熱性材料に対しても、高屈折率膜を容易に形成することができる。また、このように形成された高屈折率膜であれば、低屈折率膜を表面に設けて反射防止用積層体を構成した場合に、高屈折率膜と低屈折率膜との間で、優れた密着力を得ることができる。すなわち、（Ｃ）成分が有する水酸基と反応し得る官能基を利用して、低屈折率膜との間で、強固な密着力を得ることができる。
【０００７】
また、本発明の高屈折率膜用硬化性組成物を構成するにあたり、（Ｅ）成分として、アクリレート化合物（（Ｃ）成分中のアクリレート化合物を除く。）をさらに含有することが好ましい。
このようにアクリレート化合物を含むことにより、高屈折率膜の機械的特性を改良したり、光硬化特性を調節することができる。
【０００８】
また、本発明の高屈折率膜用硬化性組成物を構成するにあたり、（Ｆ）成分として、熱酸発生剤をさらに含有することが好ましい。
このように熱酸発生剤を含むことにより、加熱処理して、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分との反応を進めることができる。
【０００９】
また、本発明の高屈折率膜用硬化性組成物を構成するにあたり、（Ｇ）成分として、アルコール系溶剤と、ケトン系溶剤からなる混合溶剤をさらに含有することが好ましい。
このように構成することにより、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性を高めたり、均一な厚さを有する高屈折率膜を得ることができる。
【００１０】
また、本発明の高屈折率膜用硬化性組成物を構成するにあたり、（Ｄ）成分の光重合開始剤が、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤との組み合わせからなることが好ましい。
このように構成することにより、光ラジカル開始剤によって、（Ｃ）成分に含まれる光重合可能な官能基を反応させることができるとともに、光酸発生剤によって、（Ｃ）成分に含まれる水酸基と反応し得る官能基と、（Ｂ）成分との間の反応をすすめることができる。
【００１１】
また、本発明の別の態様は、上述した高屈折率膜用硬化性組成物のいずれかを光硬化してなる高屈折率膜、あるいは当該高屈折率膜を含む反射防止用積層体である。
このように高屈折率膜や、当該高屈折率膜を含む反射防止用積層体を構成することにより、低屈折率膜と組み合わせた場合に、優れた反射防止性を得ることができる。
また、高屈折率膜の形成に光硬化反応を用いているため、高屈折率膜上に、仮に低屈折率膜を熱硬化により形成したとしても、全体として熱処理条件を緩和することができる。したがって、従来のように、高屈折率膜および低屈折率膜の形成をいずれも熱硬化した場合と比較して、耐熱性に比較的乏しい基材を用いた場合であっても、これらの基材に対する熱劣化を低減することができる。
【００１２】
また、本発明の反射防止用積層体を構成するにあたり、高屈折率膜上に、下記(i)成分および(ii)成分を含有した低屈折率膜用硬化性組成物を熱硬化してなる低屈折率膜を設けることが好ましい。
(i)水酸基を有する含フッ素共重合体
(ii)水酸基と反応し得る官能基を有する硬化剤
このような屈折率を有する低屈折率膜と、高屈折率膜とを組み合わせることにより、より優れた反射防止性を得ることができる。また、このような構成成分からなる低屈折率膜であれば、高屈折率膜の構成成分である（Ｃ）成分が有する水酸基と反応し得る官能基と、(i)成分の水酸基を有する含フッ素共重合体とを反応させることができる。また、同様に、高屈折率膜の構成成分である（Ｂ）成分が有する水酸基と、(ii)成分の水酸基と反応し得る官能基とを反応させることができる。よって、相互に反応させることができるため、高屈折率膜と低屈折率膜との間で、強固な密着力を得ることができる。
【００１３】
また、本発明の反射防止用積層体を構成するにあたり、低屈折率膜用硬化性組成物を熱硬化させる際に、当該低屈折率膜用硬化性組成物と、高屈折率膜の一部とを反応してあることが好ましい。このように構成することにより、高屈折率膜の構成成分である（Ｃ）成分が有する水酸基と反応し得る官能基と、(i)成分の水酸基を有する含フッ素共重合体とを反応させてあり、また、高屈折率膜の構成成分である（Ｂ）成分が有する水酸基と、(ii)成分の水酸基と反応し得る官能基とを反応させてあるため、低屈折率膜と、高屈折率膜との間で、より強固な密着力を確実に得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の高屈折率膜用硬化性組成物に関する実施の形態（第１の実施形態）および反射防止用積層体に関する実施の形態（第２および第３の実施形態）を具体的に説明する。
なお、第２の実施形態は、図１に示すように、基材上１２に、高屈折率膜１０と低屈折率膜１４とを順次に含む反射防止用積層体１６である。また、第３の実施形態は、図２に示すように、基材１２と高屈折率膜２０との間にハードコート層１８を介在させた構成であり、すなわち、基材１２上に、ハードコート層１８と、高屈折率膜２０と、低屈折率膜２２とを順次に含む反射防止用積層体２４である。
【００１５】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態は、以下の（Ａ）〜（Ｇ）成分からなる高屈折率膜用硬化性組成物に関し、硬化後の屈折率を１．５０以上の値としてある。
なお、ここで屈折率とは、Ｎａ−Ｄ線の屈折率を２５℃において測定したものをいう。
（Ａ）平均粒子径が０．１μｍ以下の金属酸化物粒子
（Ｂ）水酸基含有重合体
（Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物
（Ｄ）光重合開始剤
（Ｅ）アクリレート化合物
（Ｆ）熱酸発生剤
（Ｇ）有機溶剤
【００１６】
（１）（Ａ）成分
（Ａ）成分としての、金属酸化物粒子の平均粒子径を０．１μｍ以下の値とする必要がある。この理由は、金属酸化物粒子の平均粒子径が０．１μｍを超えると、高屈折率膜用硬化性組成物において金属酸化物粒子を均一に分散させることが困難となり、また、金属酸化物粒子が沈降しやすくなり、保存安定性に欠けるためである。さらには、金属酸化物粒子の平均粒子径が０．１μｍを超えると、得られる反射防止膜の透明性が低下したり、濁度（Ｈａｚｅ値）が上昇する場合があるためである。
したがって、金属酸化物粒子の平均粒子径を０．０８μｍ以下の値とするのがより好ましく、０．０５μｍ以下の値とするのがより好ましい。
なお、金属酸化物粒子の平均粒子径は、電子顕微鏡によって測定される粒径の平均値である。
【００１７】
また、（Ａ）成分である金属酸化物粒子の種類は、屈折率の調整の容易さを考慮して決定することが好ましいが、より具体的には、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2、屈折率２．０５）、酸化スズ（ＳｎＯ2、屈折率２．００）、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ、屈折率１．９５）、酸化チタン（ＴｉＯ2、屈折率２．３〜２．７）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率１．９０）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、屈折率１．９５）、酸化セレン（ＳｅＯ2、屈折率１．９５）、酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5、屈折率１．７１）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3、屈折率１．６３）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3、屈折率１．８７）等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ただし、これらの金属酸化物粒子のうち、比較的少量の添加で硬化後の屈折率の値を１．５０以上の値に容易に調節することができることから、屈折率が１．９０以上の金属酸化物粒子を使用することが好ましい。具体的には、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アンチモンスズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化セレン等が該当するが、さらに、透明性が高くて、着色性が少ないことから、酸化ジルコニウムや酸化アンチモンスズが最も好ましい。
【００１８】
また、金属酸化物粒子の表面をカップリング剤処理することが好ましい。このようにカップリング剤処理することにより、金属酸化物粒子の分散性を向上させ、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性をより向上させることができる。
ここで、カップリング剤処理を実施する際に好ましいカップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシチタン、γ−アミノプロピルトリエトキシアルミニウム等が挙げられる。
【００１９】
（２）（Ｂ）成分
（Ｂ）成分としての、水酸基含有重合体としては、分子内に水酸基を有する重合体であれば、好適に使用することができる。より具体的には、ポリビニルアセタール樹脂（ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂、フェノキシ樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ただし、これらの水酸基含有重合体のうち、基材に対する密着力や機械的特性に優れており、しかも、金属酸化物粒子の均一分散が比較的容易な点から、ポリビニルブチラール樹脂（変性ポリビニルブチラール樹脂を含む。）が最も好ましい。また、ポリビニルブチラール樹脂のうちでも、平均重合度が１，０００以下であり、一分子中のポリビニルアルコール単位が１８重量％以上であり、かつ、ガラス転移点が７０℃以上の物性を有するものがより好ましい。
【００２０】
また、（Ｂ）成分の添加量を、（Ａ）成分の金属酸化物粒子１００重量部に対して、１〜１００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、（Ｂ）成分の添加量が１重量部未満となると、得られる高屈折率膜の基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、（Ｂ）成分の添加量が１００重量部を超えると、相対的に金属酸化物粒子量が減少し、硬化後における反射防止膜の屈折率の調整が困難となる場合があるためである。
したがって、（Ａ）成分１００重量部に対し、（Ｂ）成分の添加量を３〜７０重量部の範囲内の値とするのがより好ましく、５〜５０重量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００２１】
（３）（Ｃ）成分
（Ｃ）成分としての、水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物（以下、併有化合物と称する場合がある。）としては、水酸基と反応し得る官能基（以下、水酸基反応性官能基と称する場合がある。）と、光重合可能な官能基（以下、光重合性官能基と称する場合がある。）とをそれぞれ有する化合物であれば、好適に使用することができる。
【００２２】
▲１▼官能基の種類
（Ｃ）成分が有する水酸基反応性官能基としては、例えば、アミノ基、イソシアナート基、カルボキシル基、酸無水物基、アルデヒド基、ハロゲン等が挙げられる。
また、同様に、（Ｃ）成分が有する光重合性官能基としては、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニル基等が挙げられる。
なお、これらの両官能基は、化合物中にそれぞれ一種単独または二種以上を組み合わせて含むことが好ましい。
【００２３】
▲２▼具体例
（Ｃ）成分の具体例としては、t−ブチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−メタクリロキシ−Ｎ，Ｎ−ジカルボキシメチル−ｐ−フェニレンジアミン、メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール（Ｃ１〜Ｃ１２）縮合物と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物、２−［ｏ−（１’メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチルアクリレート、２，３−ジブロモプロピルアクリレート、２，３−ジブロモプロピルメタクリレート、メタクリロキシエチルフタレート、Ｎ−メタクリロキシ−Ｎ−カルボキシメチルピペリジン、４−メタクリロキシエチルトリメリット酸、アクリロキシエチルテレフタラート、ＥＯ変性フタル酸アクリレート、ＥＯ変性コハク酸アクリレート、４−メタクリロキシエチル無水トリメリット酸等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、これら（Ｃ）成分の併有化合物のうち、高屈折率膜用硬化性組成物においてより優れた保存安定性が得られる一方、低温硬化が可能なことから、メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール（Ｃ１〜Ｃ１２）縮合物と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物がより好ましい。
なお、このようなメラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール（Ｃ１〜Ｃ１２）縮合物と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物は、市販の商品名ニカラックＭＸ−３０２（三和ケミカル（株）製）等として入手することができる。
【００２４】
▲３▼添加量
また、（Ｃ）成分の添加量を、（Ａ）成分の金属酸化物粒子１００重量部に対して、１０〜３００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
この理由は、かかる（Ｃ）成分の添加量が１０重量部未満となると、（Ｂ）成分の水酸基含有重合体の硬化が不十分となる場合があるためであり、一方、（Ｃ）成分の添加量が３００重量部を超えると、得られる高屈折率膜の屈折率が低下する場合があるためである。
したがって、かかる（Ｃ）成分の添加量を（Ａ）成分１００重量部に対して、２０〜２００重量部の範囲内の値とするのがより好ましく、５０〜１５０重量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００２５】
（４）（Ｄ）成分
（Ｄ）成分としての光重合開始剤には、以下の光ラジカル開始剤や、光酸発生剤を含むことが好ましい。
また、これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で使用することもできるが、併用することがより好ましい。この理由は、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを併用することにより、上述した（Ｃ）成分である併有化合物、例えば、メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール（Ｃ１〜Ｃ１２）縮合物と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物を使用した場合における、当該併有化合物に含まれる官能基をより反応させることができるためである。
【００２６】
▲１▼光ラジカル開始剤
光ラジカル開始剤は、光等のエネルギー線を照射することにより、（Ｃ）成分である併有化合物を光硬化（架橋）可能なラジカル物質を生成することができる化合物と定義される。
このような光ラジカル開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどの一種単独または二種以上の組み合わせを挙げることができる。
これらの光ラジカル開始剤のうち、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンがより好ましい。
なお、例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンは、市販の商品名イルガキュア９０７等として入手することができ、同様に、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンは、市販の商品名イルガキュア１８４（いずれもチバスペシャルティケミカルズ（株）製）等として入手することができる。
【００２７】
また、光ラジカル開始剤の使用量も特に制限されるものではないが、例えば、（Ｃ）成分１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
この理由は、光ラジカル開始剤の使用量が０．１重量部未満となると、（Ｃ）成分の硬化が不十分となる場合があるためである。一方、光ラジカル開始剤の使用量が２０重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、光ラジカル開始剤の使用量を、（Ｃ）成分１００重量部に対して、０．５〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００２８】
▲２▼光酸発生剤
また、光酸発生剤は、光等のエネルギー線を照射することにより、（Ｃ）成分である併有化合物を光硬化（架橋）可能な酸性活性物質を放出することができる化合物と定義される。
なお、光酸発生剤および上述した光ラジカル開始剤を分解させて、酸性活性物質やラジカルを発生するするために照射する光エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を挙げることができる。ただし、一定のエネルギーレベルを有し、硬化速度が速く、しかも照射装置が比較的安価で、小型な観点から、紫外線を使用することが好ましい。
【００２９】
また、このような光酸発生剤としては、一般式（１）で表される構造を有するオニウム塩（第１群の化合物）や一般式（２）で表される構造を有するスルホン酸誘導体（第２群の化合物）を挙げることができる。
【００３０】
［Ｒ1aＲ2bＲ3cＲ4dＷ］+m［ＭＺm+n］-m    （１）
［一般式（１）中、カチオンはオニウムイオンであり、ＷはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌまたは−Ｎ≡Ｎであり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または異なる有機基であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）はＷの価数に等しい。また、Ｍはハロゲン化物錯体［ＭＸm+n］の中心原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えばＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏである。Ｚは、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子またはアリール基であり、ｍはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｎはＭの原子価である。］
【００３１】
Ｑs−〔Ｓ（＝Ｏ）2−Ｒ5〕t    （２）
［一般式（２）中、Ｑは１価もしくは２価の有機基、Ｒ5は炭素数１〜１２の１価の有機基、添え字ｓは０又は１、添え字ｔは１又は２である。］
【００３２】
一般式（１）におけるアニオン［ＭＺm+n］の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4-）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ6-）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ6-）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ6-）、ヘキサクロルアンチモネート（ＳｂＣｌ6-）、テトラフェニルボレート、テトラキス（トリフルオロメチルフェニル）ボレート、テトラキス（ペンタフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。
また、一般式（１）におけるアニオン［ＭＺm+n］の代わりに、一般式［ＭＺnＯＨ-］で表されるアニオンを使用することも好ましい。さらに、過塩素酸イオン（ＣｌＯ4-）、トリフルオロメタンスルホン酸イオン（ＣＦ3ＳＯ3-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ3-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸アニオン、トリニトロトルエンスルホン酸アニオン等の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。
【００３３】
また、上述した第１群の化合物のうち、より有効なオニウム塩は、芳香族オニウム塩であり、特に好ましくは下記一般式（３）で表されるジアリールヨードニウム塩あるいはトリアリールヨードニウム塩である。
［Ｒ6−Ａｒ1−Ｉ+−Ａｒ2−Ｒ7］［Ｙ-］        （３）
［一般式（３）中、Ｒ6およびＲ7は、それぞれ１価の有機基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一方は、炭素数が４以上のアルキル基を有しており、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ芳香族基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｙ-は１価の陰イオンであり、周期律表３族、５族のフッ化物陰イオンもしくは、ＣｌＯ4-、ＣＦ3−ＳＯ3-から選ばれる陰イオンである。］
【００３４】
このようなジアリールヨードニウム塩としては、具体的に、（４−ｎ−デシロキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムトリフルオロスルホネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメチルスルホネート等の一種または二種以上の組み合わせを挙げることができる。
なお、例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロスルホネートは、市販の商品名ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）等として入手することができる。
【００３５】
また、光酸発生剤の第２群の化合物のうち、一般式（２）で表されるスルホン酸誘導体の例を示すと、ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類、１−オキシ−２−ヒドロキシ−３−プロピルアルコールのスルホネート類、ピロガロールトリスルホネート類、ベンジルスルホネート類を挙げることができる。
また、一般式（２）の中でより好ましくはイミドスルホネート類であり、さらに好ましくはイミドスルホネートのうち、トリフルオロメチルスルホネート誘導体である。
【００３６】
また、このようなスルホネート類の具体例を挙げると、ジフェニルジスルホン、ジトシルジスルホン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（クロルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（キシリルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニルベンゾイルジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）メタン、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドメチルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトシルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドカンファースルホネート、コハク酸イミドフェニルスルホネート、コハク酸イミドトシルスルホネート、コハク酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、コハク酸イミドカンファースルホネート、フタル酸イミドトリフルオロスルホネート、シス−５−ノルボルネン−エンド−２，３−ジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、ベンゾイントシラート、１，２−ジフェニル−２−ヒドロキシプロピルトシラート、１，２−ジ（４−メチルメルカプトフェニル）−２−ヒドロキシプロピルトシラート、ピロガロールメチルスルホネート、ピロガロールエチルスルホネート、２，６−ジニトロフェニルメチルトシラート、オルト−ニトロフェニルメチルトシラート、パラ−ニトロフェニルトシラートを挙げることができる。
【００３７】
また、光酸発生剤の添加量は特に制限されるものではないが、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の合計を１００重量部としたときに、０．１〜１５重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
この理由は、光酸発生剤の添加量が０．１重量部未満となると、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との間の光硬化性が低下し、十分な硬度が得られない場合があるためである。一方、光酸発生剤の添加量が１５重量部を超えると、得られる硬化物の耐候性や耐熱性が低下する場合があるためである。
したがって、光硬化性と得られる硬化物の耐候性等とのバランスがより良好になることから、光酸発生剤の添加量を、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の合計を１００重量部としたときに、１〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００３８】
（５）（Ｅ）成分
▲１▼種類
（Ｅ）成分としてのアクリレート化合物は、（Ｃ）成分中のアクリレート化合物以外の（メタ）アクリレート化合物であって、分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有する化合物である。したがって、その種類は特に制限されるものではないが、例えば、単官能（メタ）アクリレート化合物および多官能（メタ）アクリレート化合物、あるいはいずれか一方の（メタ）アクリレート化合物である。特に、多官能（メタ）アクリレート化合物を添加することにより、硬化性樹脂組成物の反応性を向上させることができる。
【００３９】
このような（Ｅ）成分のうち、単官能（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；
メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート類；
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００４０】
また、（Ｅ）成分のアクリレート化合物のうち、多官能（メタ）アクリレート化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート類；
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレートのポリ（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）アクリレート類；
ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られる（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡの（メタ）アクリレート誘導体類；
３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロオクタンジ（メタ）アクリレート、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジ（メタ）アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素（メタ）アクリレート類等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートが特に好ましい。この理由は、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物であれば、特に光硬化性に優れているとともに、（Ｂ）成分や（Ｃ）成分との相溶性についても特に優れているためである。
【００４１】
▲２▼添加量
また、（Ｅ）成分の添加量についても特に制限されるものではないが、例えば、（Ａ）成分１００重量部あたり、０．０１〜１，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる（Ｅ）成分の添加量が０．０１重量部未満となると、高屈折率膜用硬化性組成物の反応性が低下する場合があるためであり、かかる（Ｅ）成分の添加量が１，０００重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。したがって、（Ｅ）成分の添加量をこのような範囲に制限することにより、均一に反応させることができるため、得られる硬化物の耐擦傷性、耐溶剤性、透明性等がさらに良好となる。
よって、高屈折率膜用硬化性組成物の反応性と保存安定性とのバランスがより良好となるため、（Ｅ）成分の添加量を、（Ａ）成分１００重量部あたり、０．１〜３００重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜２００重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４２】
（６）（Ｆ）成分
▲１▼種類
（Ｆ）成分としての熱酸発生剤としては、脂肪族スルホン酸、脂肪族スルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸塩、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、金属塩、リン酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ただし、これらの熱酸発生剤のうち、硬化速度をより向上させることができる点から、芳香族スルホン酸がより好ましい。なお、このような芳香族スルホン酸としては、市販の商品名キャタリスト４０５０（三井サイテック（株）製）等として入手することができる。
【００４３】
▲２▼添加量
また、（Ｆ）成分の熱酸発生剤の添加量についても特に制限されるものではないが、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との合計を１００重量部としたときに、当該熱酸発生剤の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、添加量が０．１重量部未満となると、熱酸発生剤の添加効果が発現しない場合があるためであり、一方、３０重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、かかる熱酸発生剤の添加量を０．５〜２０重量部の範囲内の値とするのがより好ましく、１〜１０重量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００４４】
（７）（Ｇ）成分
▲１▼種類
また、高屈折率膜用硬化性組成物中に、（Ｇ）成分としての、有機溶剤を添加することが好ましい。このように有機溶剤を添加することにより、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性を向上させるとともに、薄膜としての高屈折率膜を均一な厚さに形成することができる。
このような（Ｇ）成分としては、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ｔ−ブタノール、イソプロパノール等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、（Ｇ）成分として、アルコール系溶剤と、ケトン系溶剤からなる混合溶剤を使用することにより、高屈折率膜用硬化性組成物の塗布性が良好となり、得られる高屈折率膜の反射防止性や透明性が優れたものとなる。
【００４５】
▲２▼添加量
また、（Ｇ）成分の添加量についても特に制限されるものではないが、（Ａ）成分の金属酸化物粒子１００重量部に対し、当該有機溶剤の添加量を５０〜２０，０００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
この理由は、（Ｇ）成分の添加量が５０重量部未満となると、高屈折率膜用硬化性組成物の粘度調整が困難となる場合があるためであり、一方、（Ｆ）成分の添加量が２０，０００重量部を超えると、高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下したり、あるいは粘度が低下しすぎて取り扱いが困難となる場合があるためである。
したがって、（Ａ）成分１００重量部に対し、（Ｇ）成分の添加量を１００〜１０，０００重量部の範囲内の値とするのがより好ましく、２００〜５，０００重量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００４６】
（８）添加剤
高屈折率膜用硬化性組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることも好ましい。
【００４７】
（９）屈折率
高屈折率膜用硬化性組成物から硬化膜を形成した後における屈折率、すなわち、高屈折率膜の屈折率を１．５０以上の値とする必要がある。
この理由は、高屈折率膜の屈折率が１．５０未満となると、低屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。したがって、高屈折率膜の屈折率を１．５５〜２．２０の範囲内の値とすることがより好ましい。すなわち、高屈折率膜用硬化性組成物の硬化後の屈折率が２．２０を超えると、使用可能な材料の種類が過度に制限される場合があるためである。
なお、高屈折率膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していれば良く、したがって、その場合、他の高屈折率膜は１．５０未満の値を有していても良い。
【００４８】
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態は、図１に示すように、基材上１２に、高屈折率膜用硬化性組成物から得られた高屈折率膜１０と、低屈折率膜用硬化性組成物から得られた低屈折率膜１４とを順次に含む反射防止用積層体１６である。
なお、この反射防止用積層体１６の例においては、ハードコート層を設けておらず、高屈折率膜１０自体がハードコート層の機能を有している。したがって、反射防止用積層体１６の構成がシンプルとなり、しかも反射防止用積層体１６を精度良く形成することができる。
以下、第２の実施形態について具体的に説明する。
【００４９】
（１）高屈折率膜用硬化性組成物
第２の実施形態に使用する高屈折率膜用硬化性組成物およびそれから得られた高屈折率膜における屈折率等は、第１の実施形態の内容と同様である。したがって、ここでの具体的な説明は省略する。
【００５０】
（２）低屈折率膜用硬化性組成物
また、低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物は、
▲１▼水酸基を有する含フッ素共重合体
▲２▼水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
から構成されており、好ましくはさらに、
▲３▼熱酸発生剤
▲４▼有機溶剤
を含み、かつ、硬化後の屈折率を１．５０未満の値としてある。
【００５１】
▲１▼水酸基を有する含フッ素共重合体
水酸基を有する含フッ素共重合体としては、分子内に水酸基を有する含フッ素共重合体であれば、好適に使用することができる。より具体的には、フッ素原子を含有する単量体（ａ成分）と、水酸基またはエポキシ基を含有する単量体（ｂ成分）とを共重合して得ることができる。また、必要に応じて、ａ成分およびｂ成分以外のエチレン性不飽和単量体（ｃ成分）を添加することが好ましい。
ａ成分であるフッ素原子を含有する単量体としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）、パーフルオロ（アルコキシビニルエーテル）、フッ素含有（メタ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、水酸基を有する含フッ素共重合体におけるａ成分の配合量は特に制限されるものではないが、例えば、１０〜９９モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好ましくは、１５〜９７モル％の範囲内の値である。
【００５２】
また、ｂ成分である水酸基またはエポキシ基を含有する単量体としては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、水酸基を有する含フッ素共重合体におけるｂ成分の配合量は特に制限されるものではないが、例えば、１〜２０モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好ましくは、３〜１５モル％の範囲内の値である。
【００５３】
次に、水酸基を有する含フッ素共重合体の重合度について説明する。かかる重合度は、低屈折率膜の機械的強度や塗布性を考慮して定めることが好ましいが、例えば、固有粘度（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶剤使用、測定温度２５℃）を０．０５〜２．０ｄｌ／ｇの範囲内の値とするのが好ましく、０．１〜１．５ｄｌ／ｇの範囲内の値とするのがより好ましい。この理由は、固有粘度をこのような範囲内の値とすることにより、低屈折率膜において、優れた機械的強度や塗布性を得ることができるためである。
なお、このような固有粘度を得るための重合方法については、特に制限されるものでなく、ラジカル重合開始剤を用いた溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等を採用することができる。
【００５４】
▲２▼水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤（以下、単に熱硬化剤と称する場合がある。）としては、分子内にメチロール基およびアルコキシ化メチル基あるいはいずれか一方を２個以上有するメラミン化合物を使用することが好ましい。
より具体的には、メラミン化合物、尿素化合物、グアナミン化合物、フェノール化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、多塩基酸等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ただし、これらの熱硬化剤のうち、保存安定性に比較的優れている一方、比較的低温硬化が可能な点から、分子内にメチロール基およびアルコキシ化メチル基あるいはいずれか一方を２個以上有するメラミン化合物が最も好ましい。
また、これらのメラミン化合物のうちでも、ヘキサメチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラミン化合物等のメチル化メラミン化合物がより好ましい。
なお、かかる熱硬化剤として、高屈折率膜用硬化性組成物における水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物を使用することも好ましい。このように、低屈折率膜用硬化性組成物において、高屈折率膜用硬化性組成物と同種の化合物を使用することにより、形成後の高屈折率膜と、低屈折率膜との相性がより良好となり、さらに優れた反射防止性や密着力を得ることができる。
また、熱硬化剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、１〜７０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる熱硬化剤の添加量が、１重量部未満となると、水酸基を有する含フッ素共重合体の硬化が不十分となる場合があるためであり、一方、７０重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
【００５５】
▲３▼熱酸発生剤
熱酸発生剤としては、水酸基含有重合体と熱硬化剤との間の反応を促進するものであれば、好適に使用することができるが、高屈折率膜用硬化性組成物における熱酸発生剤と同様の熱酸発生剤を使用することが好ましい。
【００５６】
また、熱酸発生剤の添加量についても特に制限されるものでは無いが、上述した▲１▼水酸基を有する含フッ素共重合体と、▲２▼水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤との合計量を１００重量部としたときに、当該熱酸発生剤の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、添加量が０．１重量部未満となると、熱酸発生剤の添加効果が発現しない場合があるためであり、一方、３０重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、かかる熱酸発生剤の添加量を０．５〜２０重量部の範囲内の値とするのがより好ましく、１〜１０重量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００５７】
▲４▼有機溶剤
低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤としては、高屈折率膜用硬化性組成物における有機溶剤と同様の種類を使用することが好ましい。
また、有機溶剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、１００〜１０，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる有機溶剤の添加量が１００重量部未満となると、均一な厚さを有する低屈折率膜を形成することが困難となる場合があるためであり、一方、１０，０００重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。
【００５８】
（３）低屈折率膜の屈折率
低屈折率膜における屈折率の値（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）は低い程、高屈折率膜と組み合わせた場合に優れた反射防止効果が得られるものの、１．５０未満の値とするのがより好ましい。この理由は、屈折率が１．５０を超えると、高屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。したがって、低屈折率膜の屈折率を、より好ましくは１．２５〜１．４５の範囲内の値とすることであり、１．３０〜１．４２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。なお、低屈折率膜の屈折率が１．２５未満となると、使用可能な材料の種類が過度に制限される場合がある。
また、低屈折率膜を複数設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していれば良く、したがって、その他の低屈折率膜は１．５０を超える場合があっても良い。
【００５９】
また、低屈折率膜を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、高屈折率膜との間の屈折率差を０．０５以上の値とするのが好ましい。この理由は、低屈折率膜と、高屈折率膜との間の屈折率差が０．０５未満の値となると、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜と、高屈折率膜との間の屈折率差を０．１０〜０．５０の範囲内の値とするのがより好ましく、０．１５〜０．５０の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００６０】
（４）厚さ
まず、高屈折率膜の厚さは特に制限されるものではないが、例えば、５０〜３０，０００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。この理由は、高屈折率膜の厚さが５０ｎｍ未満となると、低屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが３０，０００ｎｍを超えると、光干渉が生じて逆に反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、高屈折率膜の厚さを５０〜１，０００ｎｍの範囲内の値とするのがより好ましく、６０〜５００ｎｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
また、より高い反射防止性を得るために、高屈折率膜を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを５０〜３０，０００ｎｍの範囲内の値とすれば良い。
なお、高屈折率膜と基材との間にハードコート層を設ける場合には、高屈折率膜の厚さを５０〜３００ｎｍの範囲内の値とすることができる。
【００６１】
また、低屈折率膜の厚さについても特に制限されるものではないが、例えば、５０〜３００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。この理由は、低屈折率膜の厚さが５０ｎｍ未満となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが３００ｎｍを超えると、光干渉が生じて反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の厚さを５０〜２５０ｎｍの範囲内の値とするのがより好ましく、６０〜２００ｎｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
なお、より高い反射防止性を得るために、低屈折率膜を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを５０〜３００ｎｍの範囲内の値とすれば良い。
【００６２】
（５）基材
次に、高屈折率膜、あるいは必要に応じてハードコート層等を設けるための基材について説明する。
かかる高屈折率膜等を設ける基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルアセテート樹脂（ＴＡＣ）、ノルボルネン系樹脂等からなる基材を挙げることができる。これらの基材を含む反射防止用積層体とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等の広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果を得ることができる。
なお、本発明においては、高屈折率膜等を設ける際に、熱硬化でなく、光硬化反応を利用しているため、耐熱性に比較的乏しい基材を使用できる。よって、基材として、例えば、アクリル系樹脂やトリアセチルアセテート樹脂（ＴＡＣ）等を用いた場合に、その効果を顕著に発揮することができる。
【００６３】
（６）形成方法１
▲１▼塗布
高屈折率膜用硬化性組成物や低屈折率膜用硬化性組成物からそれぞれ高屈折率膜や低屈折率膜を形成する場合、これらを基材（適用部材）に対して塗布（コーティング）することが好ましい。
このようなコーテイング方法としては、特に制限されるものでないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等の方法を用いることができる。
【００６４】
▲２▼高屈折率膜
また、第２の実施形態の反射防止用積層体を形成するにあたり、高屈折率膜については、高屈折率膜用硬化性組成物を光硬化して形成することになる。
この場合、紫外線照射装置（メタルハライドランプ等）を用い、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ2の光照射条件とすることが好ましい。
この理由は、このような照射条件であれば、十分硬化した高屈折率膜が得られる一方、製造時間が過度に長くなることが無いためである。
したがって、光照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることがより好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ2とすることがさらに好ましい。
【００６５】
▲３▼低屈折率膜
また、第２の実施形態の反射防止用積層体を形成するにあたり、低屈折率膜については、低屈折率膜用硬化性組成物を、高屈折率膜上で、熱硬化して形成することになる。
この場合、３０〜１２０℃で、１〜１８０分間加熱するのが好ましい。この理由は、このような加熱条件であれば、基材や形成される反射防止膜を損傷することなく、より効率的に反射防止性に優れた反射防止用積層体を得ることができるためである。
したがって、加熱条件としては、５０〜１００℃で、２〜１２０分間加熱するのがより好ましく、６０〜９０℃で、５〜６０分間加熱するのがさらに好ましい。
【００６６】
【実施例】
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
【００６７】
［実施例１］
（１）高屈折率膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付きの容器内に、以下の構成成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｇ１）および（Ｇ２）を収容した後、均一に混合分散して、溶剤分散型ＡＴＯ微粒子（固形分濃度３３重量％）１５０重量部を調製した。
0004419267.tif 000002
【００６８】
次いで、容器内を攪拌しながら、以下の構成成分（Ｃ）および（Ｄ）を添加し、さらに６０分間攪拌して、粘度１０ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度５０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（高濃度品：Ａタイプ）を得た。
0004419267.tif 000003
【００６９】
次いで、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ａタイプ）２００重量部を攪拌機付容器内に仕込み、攪拌しながらｔ−ブタノール４２０重量部と、ＭＩＢＫ６３０重量部とをさらに仕込んだ後、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度８．０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（低濃度品：Ｂタイプ）を得た。
【００７０】
（２）高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性評価
得られた高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）の保存安定性を、それぞれ以下の基準で評価した。得られた結果を表１に示す。
〇：高屈折率膜用硬化性組成物を、室温で、３０日間静置した後でも、金属酸化物粒子の沈降が観察されず、また、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）、光照射条件０．５Ｊ／ｃｍ2で光硬化することができる。
△：高屈折率膜用硬化性組成物を、室温で、３０日間静置した後に、金属酸化物粒子のわずかな沈降が観察されるが、上記照射条件で光硬化することができる。
×：高屈折率膜用硬化性組成物を、室温で、３０日間静置した後、金属酸化物粒子の顕著な沈降が観察される。あるいは、上記照射条件で光硬化することができない。
【００７１】
（３）高屈折率膜用硬化性組成物の塗布性評価
得られた高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）の塗布性を、それぞれ目視により、以下の基準で評価した。得られた結果を表１に示す。
〇：高屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、均一な厚さに塗工することができる。
△：高屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、ほぼ均一な厚さに塗工することができる。
×：高屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、均一な厚さに塗工することができない。
【００７２】
（４）高屈折率膜用硬化性組成物の屈折率測定
得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ｂタイプ）を、スピンコータ（回転数１，０００ｒｐｍ×２０秒間）を用いて、シリコンウエファ上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
次いで、上記メタルハライドランプを用いて、０．５Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を光硬化させ、０．３μｍの厚さの高屈折率膜を形成した。得られた高屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。得られた結果を表１に示す。
なお、Ａタイプの組成物の屈折率は、同組成のＢタイプの屈折率と同じとした。
【００７３】
（５）低屈折率膜用硬化性組成物の調製
内容積１．５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブ内を窒素ガスで十分に置換した後、酢酸エチル５００ｇと、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）５７．２ｇと、ヒドロキシブチルビニルエーテル（ＨＢＶＥ）１０．２ｇおよび過酸化ラウロイル３ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
次いで、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１４６ｇを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は、５．２×１０5Ｐａを示した。その後、６０℃で２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１．５×１０5Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応ガスモノマーを放出し、オートクレーブを開放して固形分濃度が２８．１重量％であるポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールに投入し、ポリマーを析出させた後、さらにポリマーをメタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い１９３ｇの水酸基を有する含フッ素共重合体を得た。
【００７４】
得られた水酸基を有する含フッ素共重合体について、固有粘度（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶剤使用、測定温度２５℃）が０．２６ｄｌ／ｇであり、ガラス転移温度（ＤＳＣ測定、昇温速度５℃／分、窒素気流中）が２０℃であり、フッ素含量（アリザリンコンプレクソン法）が５３．４重量％であり、水酸基価（無水酢酸を用いたアセチル価法）が２７．１ｍｇＫＯＨ／ｇであることを確認した。
【００７５】
次いで、攪拌機付の容器内に、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部と、サイメル３０３（三井サイテック（株）製、アルコキシ化メチルメラミン化合物）１０重量部と、ＭＩＢＫ９００重量部とをそれぞれ添加し、攪拌しながら、１００℃、５時間の条件で、水酸基を有する含フッ素共重合体とサイメル３０３とを反応させた。
次いで、熱酸発生剤として、キャタリスト４０５０（三井サイテック（株）製、固形分濃度３２％）２重量部をさらに添加し、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）の低屈折率膜用硬化性組成物を得た。
【００７６】
なお、得られた低屈折率膜用硬化性組成物の屈折率を、高屈折率膜用硬化性組成物と同様に測定した。すなわち、低屈折率膜用硬化性組成物を、スピンコータ（回転数１，０００ｒｐｍ×２０秒間）を用いて、シリコンウエファ上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
次いで、上記メタルハライドランプを用いて、０．５Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を光硬化させ、０．３μｍの厚さの低屈折率膜を形成した。得られた低屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。得られた結果を表１に示す。
【００７７】
（６）反射防止用積層体の形成
得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ａタイプ）を、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、ポリメタクリルスチレン板（厚さ２ｍｍ、三菱ガス化学（株）製）上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。次いで、上記メタルハライドランプを用いて、０．５Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を光硬化させ、５μｍの厚さの高屈折率膜（Ａタイプ）を形成した。
また、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ｂタイプ）を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、ポリメタクリルスチレン板上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。次いで、上記メタルハライドランプを用いて、０．５Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を光硬化させ、０．３μｍの厚さの高屈折率膜（Ｂタイプ）を形成した。
【００７８】
次いで、低屈折率膜用硬化性組成物を、それぞれの高屈折率膜（ＡおよびＢタイプ）上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
次いで、オーブンを用いて８５℃、６０分の条件で加熱し、基板上の高屈折率膜（Ａタイプ）上に、厚さ１１０ｎｍの低屈折率膜を硬化形成した場合を、反射防止用積層体（Ｉタイプ）とし、基板上の高屈折率膜（Ｂタイプ）上に、厚さ１１０ｎｍの低屈折率膜を硬化形成した場合を、反射防止用積層体（IIタイプ）とした。
すなわち、高屈折率膜用硬化性組成物をハードコートとして使用する反射防止用積層体がＩタイプであり、高屈折率膜用硬化性組成物を光学薄膜として使用する反射防止用積層体がIIタイプである。
【００７９】
（７）反射防止用積層体の評価
得られた反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）における反射防止性、透明性、濁度（Ｈａｚｅ値）および硬度を下記に示す測定法に拠り測定した。また、併せて、反射防止膜と基材との間の密着性を以下の基準で評価した。
【００８０】
▲１▼反射防止性
得られた反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）における反射防止性を分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ磁気分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、波長３４０〜７００ｎｍの範囲で反射率を測定して評価した。
すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における反射防止用積層体（反射防止膜）の反射率を測定し、そのうち波長５５０ｎｍにおける光の反射率から以下の基準で反射防止性を評価した。結果を表１に示す。
◎：反射率が１％以下の値である。
○：反射率が２％以下の値である。
△：反射率が３％以下の値である。
×：反射率が３％を超える値である。
【００８１】
▲２▼透明性
得られた反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）における波長５５０ｎｍの光透過率（Ｔ％）を、分光光度計を用いて測定し、得られた光透過率から以下の基準で透明性を評価した。得られた結果を表１に示す。
○：光透過率が９５％以上の値である。
△：光透過率が８０〜９５％未満の値である。
×：光透過率が８０％未満の値である。
【００８２】
▲３▼濁度
得られた反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）における濁度（Ｈａｚｅ値）を、Ｈａｚｅ計を用いて測定した。得られた結果を表１に示す。
【００８３】
▲４▼硬度
基材の柔らかさが影響しないように、ポリメタクリルスチレン板の代わりに、硬度の値が高い石英板を用いて、下側から高屈折率膜および低屈折率膜を順次に積層して、硬度測定用の反射防止用積層体を作成した。得られた反射防止用積層体における鉛筆硬度をＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠して測定した。また、鉛筆硬度の判定は、傷の発生の有無を目視で観察することにより行った。得られた結果を表１に示す。
【００８４】
▲５▼密着性
得られた反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）の表面をペーパー（キムワイプ、クレシア（株）製）により、荷重１ｋｇ／ｃｍ2の条件でこすり、反射防止膜の耐擦傷性を以下の基準で評価した。得られた結果を表１に示す。
◎：１，０００回往復の条件でこすった場合でも、反射防止膜上の傷の発生や、反射防止膜の剥離が観察されない。
○：１，０００回往復の条件でこすった場合、反射防止膜上に微細な傷が観察されるが、反射防止膜の剥離は観察されない。あるいは、２００回往復の条件でこすった場合でも、反射防止膜上の傷の発生や、反射防止膜の剥離が観察されない。
△：２００回往復の条件でこすった場合、反射防止膜上に微細な傷が観察されるが、反射防止膜の剥離は観察されない。
×：２００回往復の条件でこすった場合、反射防止膜の剥離が観察される。
【００８５】
【表１】
0004419267.tif 000004
【００８６】
［実施例２］
実施例２では、アクリレート化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、多官能アクリレート、以下、ＤＰＨＡと略記する。）の添加効果を検討した。
すなわち、攪拌機付きの容器内に、実施例１と同様に調製した溶剤分散型ＡＴＯ微粒子１５０重量部を収容し、容器内を攪拌しながらニカラックＭＸ３０２  ３０重量部と、ＤＰＨＡ  １５重量部と、イルガキュア９０７  ５重量部とを順次添加し、６０分間攪拌して、粘度１０ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度５０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（高濃度品：Ａタイプ）を得た。
【００８７】
次いで、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ａタイプ）２００重量部を攪拌機付容器内に仕込み、攪拌しながらｔ−ブタノール４２０重量部と、ＭＩＢＫ６３０重量部とをさらに仕込んだ後、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度８．０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（低濃度品：Ｂタイプ）を得た。
【００８８】
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。
また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。得られた結果を表１に示す。
【００８９】
［実施例３］
実施例３では、熱酸発生剤として、キャタリスト４０５０の添加効果を検討した。
すなわち、攪拌機付きの容器内で、以下の構成成分を均一に混合分散して、溶剤分散型ＡＴＯ微粒子（固形分濃度３３．８重量％）１４７．８重量部を調製した。
ＡＴＯ微粒子                    ３５重量部
デンカブチラール＃２０００−Ｌ  １５重量部
ＭＩＢＫ                        ５８．７重量部
ｔ−ブタノール                  ３９．１重量部
次いで、容器内を攪拌しながらニカラックＭＸ３０２  ３０重量部と、ＤＰＨＡ１５重量部と、イルガキュア９０７  ５重量部と、キャタリスト４０５０  ６．２５重量部（固形分３重量部）とを順次添加し、６０分間攪拌して、粘度１０ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度５０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（高濃度品：Ａタイプ）を得た。
【００９０】
次いで、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ａタイプ）２０４重量部を攪拌機付容器内に仕込み、攪拌しながらｔ−ブタノール４２８．９重量部（合計量４６８重量部）と、ＭＩＢＫ６４２．３重量部（合計量７０１重量部）とをさらに仕込んだ後、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度８．０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（低濃度品：Ｂタイプ）を得た。
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。得られた結果を表１に示す。
【００９１】
［実施例４］
実施例４では、光酸発生剤として、ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）の添加効果を検討した。
すなわち、攪拌機付きの容器内に、ＭＩＢＫを６０．５重量部とし、ｔ−ブタノールを４０．３重量部とした以外は実施例３と同様にして、溶剤分散型ＡＴＯ微粒子１５０．８重量部を収容した。次いで、容器内を攪拌しながらニカラックＭＸ３０２  ３０重量部と、ＤＰＨＡ１５重量部と、イルガキュア９０７  ５重量部と、キャタリスト４０５０  ６．２５重量部と、ＩＢＣＦ  ３重量部とを順次添加し、６０分間攪拌して、粘度１０ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度５０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（高濃度品：Ａタイプ）を得た。
【００９２】
次いで、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ａタイプ）２１０重量部を攪拌機付容器内に仕込み、攪拌しながらｔ−ブタノール４４０．７重量部（合計量４８１重量部）と、ＭＩＢＫ６６１．５重量部（合計量７２２．０重量部）とをさらに仕込んだ後、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度８．０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（低濃度品：Ｂタイプ）を得た。
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。得られた結果を表１に示す。
【００９３】
［実施例５］
実施例５では、有機溶剤の種類の影響を検討した。すなわち、有機溶剤として、表１に示すようにｔ−ブタノールのみを用いる以外は、実施例１と同様にして高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）を調製した。
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＡおよびＢタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。得られた結果を表１に示す。
【００９４】
［比較例１］
比較例１では、ＡＴＯ粒子の平均粒子径の影響を検討した。すなわち、金属酸化物粒子として、平均粒子径が２００ｎｍのアンチモンをドープした酸化錫粒子を用いたほかは、実施例１と同様にして高屈折率膜用硬化性組成物（ＣおよびＤタイプ）を調製した。すなわち、Ｃタイプが高濃度品であり、Ｄタイプが低濃度品である。
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＣおよびＤタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。
また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。すなわち、オーブンを用いて８５℃、６０分の条件で加熱し、基板上の高屈折率膜（Ｃタイプ）上に、厚さ１１０ｎｍの低屈折率膜を形成した場合を、反射防止用積層体（Ｉタイプ）とし、基板上の高屈折率膜（Ｄタイプ）上に、厚さ１１０ｎｍの低屈折率膜を形成した場合を、反射防止用積層体（IIタイプ）とした。それぞれ得られた結果を表２に示す。
【００９５】
【表２】
0004419267.tif 000005
【００９６】
［比較例２］
比較例２では、水酸基含有重合体の影響を検討した。すなわち、水酸基含有重合体を使用することなく、攪拌機付きの容器内に、ＡＴＯ微粒子（２０ｎｍ）３５重量部と、メチルイソブチルケトン６０重量部と、ｔ−ブタノール４０重量部とからなる溶剤分散型ＡＴＯ微粒子（固形分濃度２６重量％）１３５重量部を収容し、容器内を攪拌しながらニカラックＭＸ３０２  ６０重量部と、イルガキュア９０７  ５重量部とを順次添加し、６０分間攪拌して、粘度１０ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度５０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（高濃度品：Ｃタイプ）を得た。
【００９７】
次いで、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ｃタイプ）２００重量部を攪拌機付容器内に仕込み、攪拌しながらｔ−ブタノール４２０重量部（合計量４６０重量部）と、ＭＩＢＫ６３０重量部（合計量６９０重量部）とをさらに仕込んだ後、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度８．０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（低濃度品：Ｄタイプ）を得た。
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＣおよびＤタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。得られた結果を表２に示す。
【００９８】
［比較例３］
比較例３では、併有化合物の影響を検討した。すなわち、併有化合物を添加することなく、攪拌機付きの容器内に、ＡＴＯ微粒子（２０ｎｍ）３５重量部と、デンカブチラール＃２０００−Ｌ  １５重量部と、ＭＩＢＫ６０重量部と、ｔ−ブチルアルコール４０重量部とからなる溶剤分散型ＡＴＯ微粒子（固形分濃度３３重量％）１５０重量部を収容した。
次いで、容器内を攪拌しながらＤＰＨＡ  ４５重量部と、イルガキュア９０７５重量部とを順次添加し、６０分間攪拌して、粘度１０ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度５０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（高濃度品：Ｃタイプ）を得た。
【００９９】
次いで、得られた高屈折率膜用硬化性組成物（Ｃタイプ）２００重量部を攪拌機付容器内に仕込み、攪拌しながらｔ−ブタノール４２８．９重量部（合計量４６８重量部）と、ＭＩＢＫ６３０重量部（合計量６９０重量部）とをさらに仕込んだ後、１０分間攪拌して、粘度２ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）、固形分濃度８．０重量％の高屈折率膜用硬化性組成物（低濃度品：Ｄタイプ）を得た。
次いで、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物（ＣおよびＤタイプ）につき、実施例１と同様に、保存安定性等の評価を行った。また、それぞれの高屈折率膜用硬化性組成物から反射防止用積層体（ＩおよびIIタイプ）を形成し、反射防止性等を評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１００】
【発明の効果】
本発明の高屈折率膜用硬化性組成物によれば、光硬化反応を利用できるようになり、高屈折率膜を、迅速かつ、非加熱で形成できるようになった。したがって、従来、熱劣化しやすい基材に対しても、高屈折率膜を容易に形成することができるようになった。また、本発明の高屈折率膜用硬化性組成物によれば、硬化後に所定の屈折率を有しているため、低屈折率膜と組み合わせた場合に、優れた反射防止性が得られるようになった。
また、本発明の高屈折率膜によれば、特定の構成成分から構成されるとともに、特定の屈折率を有しており、低屈折率膜と組み合わせた場合に、優れた反射防止性が得られ、強固な密着力が得られるようになった。
さらに、本発明の反射防止用積層体によれば、特定の構成成分からなる高屈折率膜と、特定の構成成分からなる低屈折率膜とを組み合わせており、優れた反射防止性が得られるとともに、高屈折率膜と、低屈折率膜との間で、強固な密着力が得られるようになった。
【０１０１】
なお、本発明の反射防止用積層体によれば、高屈折率膜の形成に光硬化反応を用いているため、低屈折率膜を熱硬化したとしても、全体として熱処理条件が緩和されているという特徴がある。したがって、従来、高屈折率膜および低屈折率膜の形成をいずれも熱硬化した場合と比較して、耐熱性に比較的乏しい基材、例えば、アクリル系樹脂やトリアセチルアセテート樹脂（ＴＡＣ）等の基材を用いた場合にも、これらの基材に対する熱劣化を低減できるという効果も得られるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止用積層体の断面を示す図である（その１）。
【図２】本発明の反射防止用積層体の断面を示す図である（その２）。
【符号の説明】
１０、２０  高屈折率膜
１２  基材
１４、２２  低屈折率膜
１６、２４  反射防止用積層体
１８  ハードコート層
【図１】
0004419267.tif 000006
【図２】
0004419267.tif 000007