(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された端子部を清掃する基板清掃装置において、
基板の端子部に当接する端子清掃体と、
前記端子清掃体に対して清掃用溶剤を塗布する溶剤塗布ユニットと、
前記端子清掃体と前記基板とを相対的に移動させる移動装置と、
前記溶剤塗布ユニットにより前記端子清掃体に対して所定量の清掃用溶剤を塗布するとともに、この清掃用溶剤が塗布された端子清掃体により前記基板に形成された端子部を清掃するよう、前記溶剤塗布ユニットおよび前記移動装置を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記端子清掃体により前記基板の前記端子部を複数回に分けて清掃するよう、前記溶剤塗布ユニットおよび前記移動装置を制御するとともに、
前記制御装置は、前記端子清掃体により清掃される各回の清掃領域をその直前の清掃領域と重ねるために、当該直前の清掃が終了した後、清掃時の移動方向とは逆方向に、前記端子清掃体と前記基板とを相対的に移動させるよう、前記溶剤塗布ユニットおよび前記移動装置を制御することを特徴とする基板清掃装置。
【請求項２】
基板に形成された端子部を清掃する基板清掃方法において、
端子清掃体に対して所定量の清掃用溶剤を塗布する塗布ステップと、
この清掃用溶剤が塗布された端子清掃体を基板の端子部に当接させた状態で、当該端子清掃体と前記基板とを相対的に移動させ、前記基板に形成された端子部を清掃する清掃ステップとを含み、
前記端子清掃体により前記基板の前記端子部を複数回に分けて清掃するよう、前記塗布ステップおよび前記清掃ステップを複数回にわたって繰り返すとともに、
前記端子清掃体により清掃される各回の清掃領域をその直前の清掃領域と重ねるために、当該直前の清掃ステップの後、清掃時の移動方向とは逆方向に、前記端子清掃体と前記基板とを相対的に移動させるよう、前記塗布ステップおよび前記清掃ステップを複数回にわたって繰り返すことを特徴とする基板清掃方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイを製造するための部品実装装置に係り、とりわけ、フラットパネルディスプレイ用の基板に形成された端子部を清掃する基板清掃装置およびその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイを製造する部品実装装置においては、基板の縁部に形成された端子部（電子部品が実装される電極部分）を清掃する装置として基板清掃装置が用いられている。
【０００３】
図３はこのような従来の基板清掃装置を説明するための図である。図３に示すように、従来の基板清掃装置３０は、基板２０を挟んでその上面側および下面側にそれぞれ設けられたローラ１１ａ，１１ｂと、ローラ１１ａ，１１ｂにそれぞれ掛け回されるとともに基板２０の縁部上面および縁部下面にそれぞれ当接する清掃布１２ａ，１２ｂと、清掃布１２ａ，１２ｂのそれぞれに対して清掃用溶剤を塗布する溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂとを有している。
【０００４】
図３に示す基板清掃装置３０においては、まず、基板２０の上面側および下面側にそれぞれ位置する清掃布１２ａ，１２ｂに対して溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂにより清掃用溶剤を塗布し、次いで、清掃布１２ａ，１２ｂをローラ１１ａ，１１ｂ上で送り、清掃布１２ａ，１２ｂのうち清掃用溶剤が塗布された部位をローラ１１ａの最下点およびローラ１１ｂの最上点（基板２０に当接する位置）に移動させる。
【０００５】
そして、エアシリンダ等の駆動装置（図示せず）により、ローラ１１ａ，１１ｂをそれぞれ下方および上方へ移動させて基板２０を挟み込み、清掃布１２ａ，１２ｂをそれぞれ基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面に当接させる。
【０００６】
その後、移動装置（図示せず）により、清掃布１２ａ，１２ｂをローラ１１ａ，１１ｂおよび溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂとともに基板２０の縁部に沿って相対的に移動させ、基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面を清掃する。
【０００７】
最後に、このようにして基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面の清掃が終了した後、両ローラ１１ａ，１１ｂを基板２０から離間させる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来の基板清掃装置３０では、基板２０の縁部に形成された端子部２１の清掃は基板２０の一辺分の縁部を一回で拭き取る方法により行われていた。
【０００９】
しかしながら、近年、液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイはそのパネルサイズが大型化する傾向にあり、これに伴って基板２０の大きさも大きくなっている。このため、上述したような従来の方法により清掃を行うと、清掃の途中で清掃布１２ａ，１２ｂが乾燥してしまって拭き残りが生じることがあり、基板２０の縁部に形成された端子部２１を良好に清掃することができなくなる、という問題がある。
【００１０】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基板に形成された端子部を良好に清掃することができる基板清掃装置およびその方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、その第１の解決手段として、基板に形成された端子部を清掃する基板清掃装置において、基板の端子部に当接する端子清掃体と、前記端子清掃体に対して清掃用溶剤を塗布する溶剤塗布ユニットと、前記端子清掃体を前記基板とを相対的に移動させる移動装置と、前記溶剤塗布ユニットにより前記端子清掃体に対して所定量の清掃用溶剤を塗布するとともに、この清掃用溶剤が塗布された端子清掃体により前記基板に形成された端子部を清掃するよう、前記溶剤塗布ユニットおよび前記移動装置を制御する制御装置とを備え、前記制御装置は、前記端子清掃体により前記基板の前記端子部を複数回に分けて清掃するよう、前記溶剤塗布ユニットおよび前記移動装置を制御することを特徴とする基板清掃装置を提供する。
【００１２】
なお、上述した第１の解決手段において、前記制御装置は、前記端子清掃体により清掃される各回の清掃領域がその直前の清掃領域と重なるよう、前記溶剤塗布ユニットおよび前記移動装置を制御することが好ましい。
【００１３】
本発明は、その第２の解決手段として、基板に形成された端子部を清掃する基板清掃方法において、端子清掃体に対して所定量の清掃用溶剤を塗布する塗布ステップと、この清掃用溶剤が塗布された端子清掃体を基板の端子部に当接させた状態で、当該端子清掃体と前記基板とを相対的に移動させ、前記基板に形成された端子部を清掃する清掃ステップとを含み、前記端子清掃体により前記基板の前記端子部を複数回に分けて清掃するよう、前記塗布ステップおよび前記清掃ステップを複数回にわたって繰り返すことを特徴とする基板清掃方法を提供する。
【００１４】
なお、上述した第２の解決手段においては、前記端子清掃体により清掃される各回の清掃領域がその直前の清掃領域と重なるよう、前記塗布ステップおよび前記清掃ステップを複数回にわたって繰り返すことが好ましい。
【００１５】
本発明によれば、基板に形成された端子部を複数回に分けて清掃するので、各回の清掃において清掃用溶剤をその都度供給することが可能となり、清掃用溶剤の切れ等を生じさせることなく、基板に形成された端子部を良好に清掃することができる。
【００１６】
また、本発明によれば、端子清掃体により清掃される各回の清掃領域がその直前の清掃領域と重なるようにすることにより、各回の清掃領域の境目での清掃状態を良好に維持することができ、また端子清掃体により清掃の途中で拭き取られたゴミが各回の清掃領域の境目に残されることを効果的に防止することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１および図２は本発明による基板清掃装置の一実施の形態を説明するための図である。
【００１８】
図１に示すように、本実施の形態に係る基板清掃装置１は、基板搬送ステージ１５上に載置された基板２０の縁部に形成された端子部２１を清掃するものであり、端子清掃ユニット１０と、端子清掃ユニット１０を制御する制御装置１４とを備えている。なお、基板２０としては、液晶表示装置用の基板や、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用の基板等の各種の基板を用いることができる。
【００１９】
このうち、端子清掃ユニット１０は、基板２０を挟んでその上面側および下面側にそれぞれ設けられたローラ１１ａ，１１ｂと、ローラ１１ａ，１１ｂにそれぞれ掛け回されるとともに基板２０の縁部上面および縁部下面にそれぞれ当接する清掃布１２ａ，１２ｂと、清掃布１２ａ，１２ｂのそれぞれに対して清掃用溶剤を塗布する溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂとを有している。なお、基板２０の上面側に設けられたローラ１１ａおよび清掃布１２ａにより端子清掃体が構成されている。また、端子清掃ユニット１０には移動装置（図示せず）が設けられており、端子清掃ユニット１０のローラ１１ａ，１１ｂおよび清掃布１２ａ，１２ｂを基板２０の縁部に沿って移動させることができるようになっている。
【００２０】
ここで、基板２０はその縁部上面に端子部２１が形成されており、基板２０の上面側に位置する清掃布１２ａにより、基板２０の縁部上面に形成された端子部２１が清掃されるようになっている。端子部２１は、複数の端子が並列に配置されて構成された端子列や、その端子列が複数並設されて構成された端子列群等として構成される。また、基板２０の下面側に位置する清掃布１２ｂにより、基板２０の縁部下面が清掃されるようになっている。なお、ローラ１１ａにはエアシリンダ等の駆動装置（図示せず）により清掃布１２ａを所定の押し付け力で基板２０の縁部上面（端子部２１）に押し付けるよう所定の加圧力が加えられ、ローラ１１ｂにはエアシリンダ等の駆動装置（図示せず）により、基板２０の縁部下面を支持するようローラ１１ａに付与される加圧力よりも大きな加圧力が加えられるようになっている。ここで、ローラ１１ｂは、最上点位置が基板２０の縁部下面に当接する高さに設定されており、基板２０は、ローラ１１ｂ上で支持された状態で、ローラ１１ａによる上方からの押圧力を受けながら清掃されることとなる。
【００２１】
一方、制御装置１４は、溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂにより清掃布１２ａ，１２ｂに対して所定量の清掃用溶剤を塗布するとともに、この清掃用溶剤が塗布された清掃布１２ａ，１２ｂにより基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面を清掃するよう、端子清掃ユニット１０の溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂおよび移動装置（図示せず）を制御するようになっている。なお、制御装置１４は、清掃布１２ａ，１２ｂにより基板２０の縁部を複数回に分けて清掃するよう、溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂおよび移動装置（図示せず）を制御するようになっている。また、制御装置１４は、清掃布１２ａ，１２ｂにより清掃される各回の清掃領域がその直前の清掃領域と重なるよう、溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂおよび移動装置（図示せず）を制御するようになっている。
【００２２】
次に、図１および図２により、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。なお、図２は図１に示す基板清掃装置１の作用を説明するための図である。なお、図２においては、図面を簡略化するため、図１に示す端子清掃ユニット１０のうちローラ１１ａ，１１ｂのみが描かれている。また、基板搬送ステージ１５は省略されている。
【００２３】
まず、基板搬送ステージ１５上に載置された基板２０のアライメントを行い、基板２０の４辺の縁部のうち清掃対象となる縁部を端子清掃ユニット１０のローラ１１ａ，１１ｂの間に位置付ける。
【００２４】
この状態で、端子清掃ユニット１０において、基板２０の上面側および下面側にそれぞれ位置する清掃布１２ａ，１２ｂに対して溶剤塗布ユニット１３ａ，１３ｂにより所定量の清掃用溶剤を塗布し、次いで、清掃布１２ａ，１２ｂをそれぞれローラ１１ａ，１１ｂ上で送り、清掃布１２ａ，１２ｂのうち清掃用溶剤が塗布された部位をローラ１１ａの最下点およびローラ１１ｂの最上点（基板２０に当接する位置）に移動させる。
【００２５】
そして、エアシリンダ等の駆動装置（図示せず）により、ローラ１１ａ，１１ｂをそれぞれ下方および上方へ移動させて基板２０を挟み込み、清掃布１２ａ，１２ｂをそれぞれ基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面に当接させた状態で、移動装置（図示せず）により端子清掃ユニット１０を基板２０の縁部に沿ってａ［ｍｍ］だけ相対的に移動させ、基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面を清掃する（図２(a)）。
【００２６】
なお、このようにして基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面のａ［ｍｍ］分の清掃が終了した後、両ローラ１１ａ，１１ｂを基板２０から離間させ、清掃布１２ａ，１２ｂによる清掃領域がその直前の清掃領域と重なるよう、端子清掃ユニット１０を清掃方向とは逆方向にｂ［ｍｍ］だけ移動させる（図２(b)）。
【００２７】
その後、端子清掃ユニット１０において、同様にして、清掃布１２ａ，１２ｂに対する清掃用溶剤の塗布、清掃布１２ａ，１２ｂの送り、ローラ１１ａ，１１ｂによる基板２０の挟み込み、および端子清掃ユニット１０の基板２０に対する相対的な移動等を、基板２０の１辺分の縁部の清掃が終了するまで複数回にわたって繰り返し、清掃布１２ａ，１２ｂにより基板２０の縁部上面（端子部２１）および縁部下面を複数回に分けて清掃する。
【００２８】
なお、このようにして、基板２０の１辺分の縁部の清掃が終了した後、基板搬送ステージ１５のＸ，Ｙ，θの３軸の移動により、当該基板２０の他の辺の縁部を端子清掃ユニット１０のローラ１１ａ，１１ｂの間に位置付ける。なお、基板２０の他の辺の縁部についても、上述した手順と同様の手順により清掃が行われる。
【００２９】
このように本実施の形態によれば、基板２０の縁部に形成された端子部２１を複数回に分けて清掃するので、各回の清掃において清掃用溶剤をその都度供給することが可能となり、清掃用溶剤の切れ等を生じさせることなく、基板２０の縁部に形成された端子部２１を良好に清掃することができる。
【００３０】
また、本実施の形態によれば、清掃布１２ａ，１２ｂにより清掃される各回の清掃領域がその直前の清掃領域と重なるようにしているので、各回の清掃領域の境目での清掃状態を良好に維持することができ、また清掃布１２ａ，１２ｂにより清掃の途中で拭き取られたゴミが各回の清掃領域の境目に残されることを効果的に防止することができる。
【００３１】
なお、上述した実施の形態においては、移動装置（図示せず）により端子清掃ユニット１０を移動させることにより端子清掃ユニット１０と基板２０との相対的な移動を実現しているが、これに限らず、基板２０が載置された基板搬送ステージ１５を移動させることにより端子清掃ユニット１０と基板２０との相対的な移動を実現するようにしてもよい。
【００３２】
また、上述した実施の形態においては、基板２０の縁部上面に端子部２１が形成されている場合を例に挙げて説明したが、基板２０の縁部下面に端子部が形成されている場合にも同様にして適用することができる。
【００３３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、基板に形成された端子部を複数回に分けて清掃するので、基板に形成された端子部を良好に清掃することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による基板清掃装置の一実施の形態を示す概略図。
【図２】図１に示す基板清掃装置の作用を説明するための図。
【図３】従来の基板清掃装置を説明するための図。
【符号の説明】
１  基板清掃装置
１０  端子清掃ユニット
１１ａ，１１ｂ  ローラ
１２ａ，１２ｂ  清掃布
１３ａ，１３ｂ  溶剤塗布ユニット
１４  制御装置
１５  基板搬送ステージ
２０  基板
２１  端子部
【図１】
0004523195.tif 000002
【図２】
0004523195.tif 000003
【図３】
0004523195.tif 000004