(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと基板とを露光光に対して同期移動させて、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に走査露光する走査露光方法において、
前記基板の走査方向と直交する非走査方向に関して、前記露光光による前記基板上の露光領域の両端部のうち少なくとも一方の端部の位置を前記走査露光中に移動させることを特徴とする走査露光方法。
【請求項２】
請求項１に記載の走査露光方法において、
前記露光領域の前記少なくとも一方の端部の位置を前記非走査方向に移動させて、該露光領域の前記非走査方向の大きさを前記走査露光中に変更することを特徴とする走査露光方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の走査露光方法において、
前記露光領域の前記少なくとも一方の端部の位置を前記非走査方向に移動させる際の移動速度および移動方向の少なくとも一方を前記走査露光中に変更することを特徴とする走査露光方法。
【請求項４】
請求項３に記載の走査露光方法において、
前記移動速度および前記移動方向の少なくとも一方を前記走査露光中に複数回に亙って変更することを特徴とする走査露光方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の走査露光方法において、
前記基板上の前記露光領域に対応する前記マスク上の照明領域を設定する照明領域設定装置のうち、前記露光領域の前記少なくとも一方の端部に対応する前記照明領域の端部を設定する可動部を、前記非走査方向に対応する方向へ前記走査露光中に移動させることを特徴とする走査露光方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の走査露光方法において、
第１及び第２の走査露光を含む複数回の前記走査露光を行い、前記第１の走査露光における前記露光領域の前記非走査方向の一方の端部によって露光した前記基板上の領域を、前記第２の走査露光における前記露光領域の前記非走査方向の他方の端部によって重複して露光することを特徴とする走査露光方法。
【請求項７】
マスクと基板とを露光光に対して同期移動させて、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に走査露光する走査露光装置において、
前記基板の走査方向と直交する非走査方向に関して、前記露光光による前記基板上の露光領域の両端部のうち少なくとも一方の端部の位置を前記走査露光中に移動させる変更装置を備えることを特徴とする走査露光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の走査露光装置において、
前記変更装置は、前記露光領域の前記少なくとも一方の端部の位置を前記非走査方向に移動させて、該露光領域の前記非走査方向の大きさを前記走査露光中に変更することを特徴とする走査露光装置。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の走査露光装置において、
前記変更装置は、前記露光領域の前記少なくとも一方の端部の位置を前記非走査方向に移動させる際の移動速度および移動方向の少なくとも一方を前記走査露光中に変更することを特徴とする走査露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の走査露光装置において、
前記変更装置は、前記移動速度および前記移動方向の少なくとも一方を前記走査露光中に複数回に亙って変更することを特徴とする走査露光装置。
【請求項１１】
請求項７〜１０のいずれか一項に記載の走査露光装置において、
前記基板上の前記露光領域に対応する前記マスク上の照明領域のうち、前記露光領域の前記少なくとも一方の端部に対応する前記照明領域の端部を設定する可動部が設けられた照明領域設定装置を有し、
前記変更装置は、前記可動部を前記非走査方向に対応する方向へ前記走査露光中に移動させることを特徴とする走査露光装置。
【請求項１２】
請求項７〜１１のいずれか一項に記載の走査露光装置において、
第１及び第２の走査露光を含む複数回の前記走査露光を行う際に、前記変更装置は、前記第１の走査露光における前記露光領域の前記非走査方向の一方の端部によって露光した前記基板上の領域を、前記第２の走査露光における前記露光領域の前記非走査方向の他方の端部によって重複して露光させることを特徴とする走査露光装置。
【請求項１３】
パターンが形成された基板を加工してデバイスを製造するデバイス製造方法において、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の走査露光方法を用いて前記基板に前記パターンを露光することと、
前記パターンが露光された前記基板を該パターンに基づいて加工することと、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスクと基板とを所定方向に同期移動して、マスクに形成されたパターンを基板に露光する走査露光方法および走査型露光装置並びにデバイス製造方法に関し、特に、基板上で隣り合う複数の分割パターンをつなぎ合わせて露光する際に用いて好適な走査露光方法および走査型露光装置並びにデバイス製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パソコンやテレビ等の表示素子としては、薄型化を可能とする液晶表示パネルが多用されるようになっている。この種の液晶表示パネルは、平面視矩形状の感光基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターニングすることにより製造されている。そして、このフォトリソグラフィの装置として、マスク（レチクル）上に形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上のフォトレジスト層に露光する露光装置が用いられている。
【０００３】
上記の液晶表示パネル、例えばパーソナルコンピュータ用のパネルは、現在３０７．３４ｍｍ（１２．１インチ）タイプから３５８．１４ｍｍ（１４．１インチ）タイプの大型のものが主流になっている。これらのデバイスを露光する場合、パターン精度の高いレチクルは、１５２．４ｍｍ（６インチ）タイプが一般的に使用されている。また、これ以上のサイズでは、およそ３５０ｍｍ×４５０ｍｍもしくは４００ｍｍ×６００ｍｍの大型マスクが使用される。このような大型マスクでは、高速なスループットが得られるが、上記レチクルに比較するとパターン精度が通常低いため、いわゆる高精細デバイス用の高精度マスクを得るにはコストが膨大となり現実的ではない。
【０００４】
そこで、１つの液晶表示パネルのパターンを複数の領域に分割して画面合成する技術が必須になっている。ところが、画面合成では、パターン継ぎ部においてレチクルのパターン描画誤差、投影光学系の光学収差やガラス基板を移動させるステージの位置決め誤差等に起因して段差が発生し、デバイスの特性が損なわれたりする。さらに、パターン合成されたものを多層に重ね合わせた場合、各層の露光領域の重ね誤差やパターンの線幅差がパターンの継ぎ目部分で不連続に変化し、液晶表示パネルを点灯したときに継ぎ目部で色ムラが発生する等、デバイスの品質が低下するという問題があった。
【０００５】
この問題を解消しつつ、大型のガラス基板に露光するための走査型露光装置では、レチクルを保持するレチクルステージおよびガラス基板を保持する基板ステージを同期移動して走査露光を行った後に、レチクルステージおよび基板ステージを同期移動と直交する非走査方向にステップ移動して、後の露光領域を先の露光領域と一部重複させて、且つ重複部の露光量（露光エネルギ量）が非重複部の露光量と同一になるように走査露光を行う工程を一回または数回繰り返すことにより、複数の分割パターンを滑らかにつなぎ合わせて大きなガラス基板上に転写することが行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来の走査露光方法および走査型露光装置には、以下のような問題が存在する。
上記のように、露光領域を一部重複させて高精度デバイスを走査露光する場合、デバイスパターンの分割パターンを有する複数のレチクルを用いて画面合成を行っているが、この場合、レチクル製造誤差を含めた様々の誤差を管理する必要があり、補正作業が繁雑になったり、補正誤差が残存して良好な画面合成精度を得ることが困難である。
【０００７】
そのため、一枚のレチクルを用いてデバイスパターンを画面合成することが望ましいが、この場合でもレチクルに対する露光スポット（照明領域）を調整して複数の分割パターンを設定し、これらの分割パターンをガラス基板上でつなぎ合わせる必要が生じる。ところが、最近では、液晶表示パネルの大面積化に対する要求が更に強まり、より大きなガラス基板に露光する必要が生じている。そのためには、分割パターンを縦横につなぎ合わせて画面合成する方法が考えられるが、従来では走査方向（同期移動方向）に滑らかに分割パターンをつなぎ合わせることができず、非走査方向と同様に走査方向につなぎ合わせても、デバイスの品質を維持できる画面合成の方法が望まれていた。
【０００８】
一方、上記のように、一枚のレチクルを使用してガラス基板上で分割パターンをつなぎ合わせる場合、デバイスパターンが有する画素パターンのようにパターンの繰り返し性という特長を用いて、ガラス基板の位置を変更することにより、レチクルのパターンのうち繰り返しパターンで重複させながら複数の露光領域に露光している。
【０００９】
ところが、この画素パターンは、デバイスパターンに対して０°あるいは９０°方向（Ｘ方向あるいはＹ方向）に配列される。そして、ガラス基板上での分割パターン同士の重複部（画面合成ライン）も、画素パターンと同様に０°あるいは９０°方向に沿って設定されることが多い。液晶デバイスにおいて、画面合成時に発生する表示品質上の問題の一つに駆動用トランジスタ製造時の重ね合わせ精度差がある。これは、画面合成ラインを挟んで、例えば左右のパターンの重ね合わせ精度差が引き起こす駆動用トランジスタの制御誤差が、駆動用トランジスタの性能と使用される液晶材料により決定される階調の最小分解能とを上回ることが主な原因である。
【００１０】
しかも、画面合成ラインが延びる方向と、画素パターンの配列方向とが同じであると、画面合成ラインに隣接する駆動用トランジスタは、全て同じゲート線あるいは信号線に接続されるため同じタイミングで駆動される。その結果、画面合成により発生する重ね合わせ精度差が表示品質に及ぼす影響が直線上に並ぶことになる。通常、誤差が大きくても誤差部分が点在する場合はさほど目立たないが、誤差が小さくても誤差部分が整然と並ぶと視認性が上がるため、重ね合わせ精度差の影響が直線上に並ぶことで表示品質が低下するという問題があった。
【００１１】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、マスクと基板とを同期移動させて基板上でパターンをつなぎ合わせて画面合成を行う際に、同期移動方向で隣り合う分割パターン同士を滑らかにつなぎ合わせることが可能な走査露光方法および走査型露光装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、画面合成により発生する重ね合わせ精度差がデバイスの表示品質に悪影響を及ぼすことを防止する走査露光方法および走査型露光装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１５に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の走査露光方法は、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）とを有したマスク（Ｒ）と基板（Ｐ）とを同期移動して、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）とを基板（Ｐ）に露光する走査露光方法において、基板（Ｐ）の同期移動方向に沿って第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）とを露光する際に、第１パターン（Ｐ１）の一部と第２パターン（Ｐ２）の一部とを重複して露光し、重複露光するときのマスク（Ｒ）と基板（Ｐ）との同期移動速度を、重複露光しないときのマスク（Ｒ）と基板（Ｐ）との同期移動速度とは異ならせることを特徴とするものである。
【００１３】
従って、本発明の走査露光方法では、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）との重複部における露光量（露光エネルギ量）を非重複部における露光量と異なるように設定することができる。そこで、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）を同期移動方向に沿って露光する際に、各パターン（Ｐ１、Ｐ２）同士の重複部（ＪＹ１）において露光量（露光エネルギ量）を境界へ向けて比例的に減少させることによって、重複して露光した際にこの部分の露光量を非重複部の露光量と略一致させることができる。そのため、第１パターン（Ｐ１）と第２パターン（Ｐ２）とは、マスク（Ｒ）のパターン描画誤差、投影光学系（ＰＬ）の光学収差や基板を移動させるステージ（５、６）の位置決め誤差等が存在しても、重複部（ＪＸ１）で段差が滑らかに変化し、デバイス特性が低下することを防止できる。
【００１４】
また、本発明の走査露光方法は、マスクと基板とを露光光に対して同期移動させて、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に走査露光する走査露光方法において、前記基板の走査方向と直交する非走査方向に関して、前記露光光による前記基板上の露光領域の両端部のうち少なくとも一方の端部の位置を前記走査露光中に移動させることを特徴とするものである。
【００１５】
さらに、本発明の走査型露光装置は、マスクと基板とを露光光に対して同期移動させて、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に走査露光する走査露光装置において、前記基板の走査方向と直交する非走査方向に関して、前記露光光による前記基板上の露光領域の両端部のうち少なくとも一方の端部の位置を前記走査露光中に移動させる変更装置を備えることを特徴とするものである。
また、本発明のデバイス製造方法は、パターンが形成された基板を加工してデバイスを製造するデバイス製造方法において、本発明の走査露光方法を用いて前記基板に前記パターンを露光することと、前記パターンが露光された前記基板を該パターンに基づいて加工することと、を含むものである。
【００１６】
従って、本発明の走査露光方法および走査型露光装置では、照明領域（Ｓ）の端部の軌跡が同期移動方向と異なる方向に延びることになる。そこで、基板（Ｐ）上で重複露光されるパターン（Ｐ１、Ｐ３）を照明領域（Ｓ）の端部で照明することで、基板（Ｐ）上でつなぎ合わされるパターン同士の重複部（ＪＹ１）を同期移動方向と異なる方向に延在させることができる。そのため、画素パターン等の単位パターン（２２）が同期移動方向に沿って配列されていても、画面合成ラインに隣接する駆動用トランジスタは異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ精度であっても表示品質に及ぼす影響を小さくすることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の走査露光方法および走査型露光装置の第１の実施の形態を、図１ないし図１１を参照して説明する。ここでは、基板として液晶表示パネル製造に用いられる角形のガラス基板を用い、レチクルに形成された液晶表示デバイスの回路パターンをステップ・アンド・スキャン方式の露光装置によりガラス基板に正立等倍で画面合成する場合の例を用いて説明する。
【００１８】
図１は、走査型露光装置１の光学系構成を示す概略図である。
走査型露光装置１は、レチクル（マスク）Ｒに形成されたパターン（例えば、液晶表示デバイスパターン）をレジスト等が塗布された感光性のガラス基板（基板）Ｐ上へ投影転写するものであって、光源２、照明光学系３、投影光学系ＰＬ、レチクルステージ５および基板ステージ６から概略構成されている。なお、レチクルＲおよびガラス基板ＰがＸＹ平面に沿って配置され、ＸＹ平面のうち走査方向（同期移動方向）をＸ方向（図１中、左右方向）、Ｘ方向と直交する非走査方向をＹ方向（図１中、紙面に直交する方向）とし、ＸＹ平面に直交する光軸方向をＺ方向として説明する。
【００１９】
光源２は、露光光としてのビームＢを発するものであり、超高圧水銀ランプ等で構成されている。この光源２には、回転楕円面からなる反射面を有し、光源２が発する露光光を集光する楕円鏡２ａが付設されている。そして、光源２は、楕円鏡２ａの第１焦点位置に位置決めされている。したがって、光源２から射出された照明ビームＢは、反射ミラー７を介して楕円鏡２ａの第２焦点位置に光源像を形成する。この第２焦点位置の近傍には、シャッタ（不図示）が設けられており、ビームＢに対するシャッタの開閉により露光状態と非露光状態との切り換えを行う構成になている。
【００２０】
照明光学系３は、反射ミラー７、８、波長選択フィルタ（不図示）、フライアイレンズ等のオプティカルインテグレータ９、レチクルブラインド（照明領域設定装置）１０およびレンズ系１１から概略構成されている。そして、第２焦点位置に収れんした後に発散したビームＢは、ほぼ平行な光束に変換された後、所望の波長域の光束のみを透過させる波長選択フィルタに入射する。波長選択フィルタを介して選択された露光波長のビームＢ（例えば、ｇ線またはｉ線等）は、オプティカルインテグレータ９に入射する。
【００２１】
オプティカルインテグレータ９は、多数の正レンズエレメントをその中心軸線が光軸に沿って延びるように縦横に配列することにより構成されている。したがって、フライアイインテグレータ９に入射したビームＢは、多数のレンズエレメントにより波面分割され、フライインテグレータ９の射出面近傍にレンズエレメントの数と同数の光源像からなる二次光源を形成する。すなわち、フライアイインテグレータ９の射出側には、実質的な面光源が形成される。
【００２２】
二次光源からのビームＢは、レチクルブラインド１０を照明する。レチクルブラインド１０は、光源２とレチクルＲとの間に配設されレチクルＲの露光スポット（照明領域）を設定するものであって、レチクルＲと光学的にほぼ共役な位置に配置されている。なお、レチクルブラインド１０の構成および作用については後述する。
【００２３】
レチクルステージ５は、レチクルＲを保持するものであって、一次元の走査露光を行うべくＸ方向に長いストロークと、走査方向と直交するＹ方向に数ｍｍ程度の微小量のストロークとを有している。レチクルステージ５上には、不図示の移動鏡が設けられており、レーザ干渉計（不図示）から射出されたレーザ光が移動鏡で反射し、その反射光と入射光との干渉に基づいて移動鏡とレーザ干渉計との間の距離、すなわちレチクルステージ５の位置（ひいてはレチクルＲの位置）が検出される構成になっている。このレチクルステージ５の駆動は、ステージ制御部１２によって制御される。
【００２４】
投影光学系ＰＬは、露光スポットに存在するレチクルＲのパターンの像をガラス基板Ｐ上に等倍正立で結像させるものである。
【００２５】
基板ステージ６は、ガラス基板Ｐを保持するものであって、レチクルステージ５と同様に、一次元の走査露光を行うべくＸ方向に長いストロークと、走査方向と直交するＹ方向にステップ移動するための長いストロークとを有している。基板ステージ６上にも、移動鏡（不図示）が設けられており、レーザ干渉計（不図示）によって移動鏡とレーザ干渉計との間の距離、すなわち基板ステージ６の位置（ひいてはガラス基板Ｐの位置）が検出される構成になっている。この基板ステージ６の駆動も、ステージ制御部１２によって制御される。
【００２６】
従って、レチクルＲを透過したビームＢは、投影光学系ＰＬを介してガラス基板Ｐに結像する。そして、ガラス基板Ｐ上の露光領域には、レチクルＲの露光スポットにあるパターン像が形成される。そして、レチクルステージ５および基板ステージ６の位置を検出しつつ、ビームＢに対してレチクルステージ５および基板ステージ６を介してレチクルＲとガラス基板ＰとをＸ方向に同期移動させることにより、露光スポットに位置するレチクルＲのパターンをガラス基板Ｐ上に逐次転写することができる。
【００２７】
図２に示すように、レチクルブラインド１０は、一対のブラインド板１０ａ、１０ｂと一対の端部遮光ブラインド板１０ｃ、１０ｄとから構成されている。ブラインド板１０ａ、１０ｂは、レチクルＲの共役面を挟んで、且つこの共役面とほぼ平行に配置されており、図３に示すように、Ｙ方向の幅がＷ１に設定された等辺の三角形状の端部１３ａ、１３ｂと幅がＷ２に設定された矩形部１４ａ、１４ｂとからなる開口をそれぞれ有する左右対称になっている。また、各ブラインド板１０ａ、１０ｂは、それぞれ独立してＹ方向に移動自在な構成になっており、各ブラインド板１０ａ、１０ｂの位置をＸ方向で一致させることで、それぞれの開口が重なる領域によって、レチクルＲに対する六角形の露光スポットＳが幅Ｗ２をもって設定される。
【００２８】
従って、各ブラインド板１０ａ、１０ｂのＹ方向の位置を制御することで、非走査方向（Ｙ方向）の露光スポットの長さが任意に変更可能になっている。また、非走査方向の端部１３ａ、１３ｂが三角形状を呈していることで、この部分で走査露光された領域の照度傾斜が境界へ向けて１００〜０％に比例的に減少する。（なお、図２および図３で示した座標系は、便宜上レチクルＲ上の露光スポットに対応するように設定している）。
【００２９】
端部遮光ブラインド板１０ｃ、１０ｄはＹ方向にそれぞれ独立して移動自在な構成になっており、各端部ブラインド板１０ｃ、１０ｄの移動により、端部１３ａ、１３ｂを通過するビームＢを開放・遮光自在になっている。また、図１に示すように、これらブラインド板１０ａ、１０ｂおよび端部遮光ブラインド板１０ｃ、１０ｄの駆動は、ブラインド制御部（変更装置）１４によって制御される。ブラインド制御部１４には、該ブラインド制御部１４および上記ステージ制御部１２を統括的に制御する主制御部１５が接続されている。この主制御部１５には、露光量、レチクルステージ５および基板ステージ６の同期移動速度、レチクルブラインド１０で形成する露光スポットの位置・形状等の露光用ＪＯＢデータが予め入力されている。
【００３０】
続いて、本実施の形態の走査露光方法および走査型露光装置で用いられるレチクルＲおよびガラス基板Ｐについて説明する。
ガラス基板Ｐには、図４に示すように、略矩形状のＴＦＴ／ＬＣＤパターンＬＰが転写される。このＬＣＤパターンＬＰは、画素部１６と、例えばこの画素部１６の＋Ｘ方向および−Ｙ方向の側縁に沿って所定ピッチで配置された複数の周辺回路部１７とから構成されている。図５に示すように、画素部１６には、ゲート線１８、信号線１９、ドレイン２０、および画素電極２１からなる画素パターン２２が単位パターンとして、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで繰り返し配列される。周辺回路部１７には、画素パターン２２の電極を駆動するためのドライバ回路等が繰り返し配列される。
【００３１】
また、このようなＬＣＤパターンＬＰは、図４に示すように、１８個の分割パターンで画面を合成するように設定される。Ｙ方向に隣接する分割パターン同士は、露光スポットの端部１３ａ、１３ｂに対応するＸ方向に延びる幅Ｗ１の重複部ＪＹ１〜ＪＹ５において互いに重複し、Ｘ方向に隣接する分割パターン同士は、露光スポットのＸ方向の幅に対応するＹ方向に延びる幅Ｗ２の重複部ＪＸ１、ＪＸ２において互いに重複するように設定される。
【００３２】
一方、ガラス基板Ｐ上に上記のＬＣＤパターンＬＰを転写する際に用いられるレチクルＲを図６に示す。レチクルＲには、ＬＣＤパターンＬＰの画素部１６、周辺回路部１７に対応する画素部２３、周辺回路部２４がそれぞれ形成されている。そして、画素部２３及び周辺部２４の繰り返し性を生かして、レチクルＲに対する露光スポットを調整してレチクルＲ上のパターンを適宜選択することで、ＬＣＤパターンＬＰを構成する上記各分割パターンをそれぞれ設定可能になっている。なお、これら画素部２３、周辺回路部２４の周辺には、遮光帯（不図示）が形成されている。
【００３３】
続いて、上記の構成の走査型露光装置１によりガラス基板Ｐ上に分割パターンをつなぎ合わせ露光してＬＣＤパターンＬＰを画面合成する手順を説明する。ここでは、１８個の分割パターンの中、重複部ＪＸ１を挟んでＸ方向に隣接する分割パターン（第１パターン）Ｐ１、分割パターン（第２パターン）Ｐ２と、これら分割パターンＰ１、Ｐ２と重複部ＪＹ１を挟んでＹ方向に隣接し、且つ重複部ＪＸ１を挟んでＸ方向に互いに隣接する分割パターン（第３パターン）Ｐ３、分割パターンＰ４をつなぎ合わせる手順を代表的に説明する。
【００３４】
また、ここでは、重複部ＪＸ１、ＪＸ２がレチクルブラインド１０で設定される露光スポットの幅Ｗ２で重複露光され、重複部ＪＹ１〜ＪＹ５が露光スポットの端部の幅Ｗ１で重複露光されるものとする。なお、以下において、レチクルステージ５、基板ステージ６の駆動は、ステージ制御部１２を介して主制御部１５に制御されるものとし、レチクルブラインド１０（ブラインド板１０ａ、１０ｂ、端部遮光ブラインド板１０ｃ、１０ｄ）の駆動は主制御部１５の指示に基づいてブラインド制御部１４によって制御されるものとして説明する。
【００３５】
まず、レチクルＲとガラス基板Ｐとをアライメントして位置決めした後に、露光用ＪＯＢデータに基づいて、レチクルステージ５および基板ステージ６を駆動して、分割パターンＰ１の走査開始位置にレチクルＲおよびガラス基板Ｐを移動させる。このとき、レチクルブラインド１０においては、端部遮光ブラインド板１０ｃが開口の端部１３ａを遮光し、端部遮光ブラインド板１０ｄが端部１３ｂを開放することで、図６に示す五角形の露光スポット（照明領域）Ｓが形成される。
【００３６】
また、レチクルＲ上の露光スポットＳは、Ｘ方向の位置がガラス基板Ｐにおける重複部ＪＸ１に対応する幅Ｗ２の仮想領域ＲＸ１上に設定される。また、露光スポットＳのＹ方向の位置は、−Ｙ側については周辺回路部２４の側縁にほぼ沿うように、＋Ｙ側については端部１３ｂがガラス基板Ｐにおける重複部ＪＹ１に対応する幅Ｗ１の仮想領域ＲＹ１上に位置するように設定される。このときの、ガラス基板Ｐ上での露光スポットを図４において符号Ｓ１で示す。なお、レチクルブラインド１０により露光スポットＳは形成されるものの、シャッタによりビームＢの光路は遮光されている。
【００３７】
そして、シャッタを開放すると同時に、レチクルＲとガラス基板Ｐとを−Ｘ方向に同期移動させる。ここで、本発明の走査型露光装置１では投影光学系ＰＬが等倍正立系であるので、レチクルＲとガラス基板Ｐとを互いに同じ方向に、且つ同じ速度で移動させる。このとき、走査露光開始から長さＷ２を走査する間に、適正露光量（エネルギ量）となる走査速度（同期移動速度）に到達するようにレチクルＲとガラス基板Ｐの駆動（加速度）を制御する。この結果、図７中のグラフ左側に示されるように、ガラス基板Ｐ上では、長さＷ２の範囲において０から適正値に向けて比例的に増加する照度傾斜の露光エネルギ量で露光される。
【００３８】
一方、走査露光が進み、露光スポットＳがレチクルＲの＋Ｘ側の周辺回路部２４を経て遮光帯まで達するとシャッタを閉じる。このように、非重複部ではパターンの最外周まで適正露光量で露光される。この結果、ガラス基板Ｐ上に分割パターンＰ１が露光される。
【００３９】
続いて、分割パターンＰ２を露光する際には、再度レチクルＲ上の仮想領域ＲＸ１に露光スポットＳが位置するようにレチクルＲをＸ方向に移動させる。この場合、レチクルＲの仮想領域ＲＸ１は、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ２に対応する。同時に、ガラス基板Ｐ上の露光スポットＳ１が重複部ＪＸ２に位置するようにガラス基板ＰもＸ方向に移動させる。このとき、露光スポットＳの端部１３ｂは、分割パターンＰ１を露光した際と同様に、レチクルＲ上では仮想領域ＲＹ１に、ガラス基板Ｐ上では重複部ＪＹ１上に位置しているため、レチクルＲおよびガラス基板ＰのＹ方向への移動、レチクルブラインド１０の駆動は実行しない。
【００４０】
そして、シャッタを開放すると同時に、レチクルＲとガラス基板Ｐとを−Ｘ方向に同期移動させる。ここでも、上記分割パターンＰ１を露光するときと同様に、走査露光開始から長さＷ２を走査する間に、適正露光量となる走査速度に到達するようにレチクルＲとガラス基板Ｐとの駆動を制御する。この結果、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ２も０から適正値に向けて比例的に増加する照度傾斜の露光エネルギ量で露光される。
【００４１】
そして、分割パターンＰ２の露光終了時には、重複部ＪＸ１において長さＷ２を走査する間に露光エネルギ量が適正値から比例的に０になるように走査速度を制御するとともに、重複部ＪＸ１と露光スポットＳ１とが一致したところでシャッタを閉じてビームＢを遮光する。この走査露光により、重複部ＪＸ１では、図７中のグラフ右側に示されるように、長さＷ２の範囲において＋Ｘ方向に適正値から０に向けて比例的に減少する照度傾斜の露光エネルギ量で露光される。従って、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ１においては、分割パターンＰ１、Ｐ２を走査露光した際に二回重複して露光される結果、合計の露光量が非重複部と同じ適正露光量となる。
【００４２】
なお、このとき、走査開始位置として、重複部ＪＸ２ではなく重複部ＪＸ１を選択し（露光スポットＳはレチクルＲ上では、仮想領域ＲＸ２上に設定される）、レチクルＲとガラス基板Ｐとを露光スポットＳに対して＋Ｘ方向に同期移動させてもよい。この場合も、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ１は、図７中のグラフ右側に示されるように、＋Ｘ方向に適正値から０に向けて比例的に減少する照度傾斜の露光エネルギ量で露光され、上記と同じ結果になる。
【００４３】
続いて、分割パターンＰ３を露光する際には、まず、レチクルブラインド１０において、端部遮光ブラインド板１０ｃを移動させ、端部１３ａの光路も開放するとともに、端部１３ａ、１３ｂがガラス基板Ｐ上の重複部ＪＹ１、ＪＹ２にそれぞれ位置するように、ブラインド板１０ａ、１０ｂを駆動する。これにより、図８に示す六角形の露光スポット（照明領域）Ｓ’が形成される。
【００４４】
このレチクルブラインド１０の駆動と並行してレチクルステージ５および基板ステージ６をＹ方向にステップ移動して、分割パターンＰ３の走査開始位置にレチクルＲおよびガラス基板Ｐを移動させる。このとき、レチクルＲ上の露光スポットＳ’は、Ｘ方向の位置が重複部ＪＸ１に対応する上記仮想領域ＲＸ１上に設定される。また、露光スポットＳ’のＹ方向の位置は、端部１３ａ、１３ｂがガラス基板Ｐにおける重複部ＪＹ１、ＪＹ２にそれぞれ対応する幅Ｗ１の仮想領域ＲＹ１、ＲＹ２上に位置するように設定される。このときの、ガラス基板Ｐ上での露光スポットを図４において符号Ｓ２で示す。
【００４５】
そして、分割パターンＰ１に対する走査露光と同様に、シャッタを開く同時に、レチクルＲとガラス基板Ｐとを加速しながら−Ｘ方向に同期移動させた後に、非重複部では等速移動させることで、ガラス基板Ｐ上に分割パターンＰ３を走査露光する。この後、レチクルＲとガラス基板ＰとをＸ方向に移動させ、分割パターンＰ２と同様の手順で分割パターンＰ４を走査露光する。
【００４６】
上記分割パターンＰ１〜Ｐ４の走査露光の中、分割パターンＰ１、Ｐ２の露光により、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＹ１は、端部１３ｂによって＋Ｙ方向へ向けて１００〜０％に比例的に減少する、図９中、符号ｍで示す照度傾斜で露光される。一方、この重複部ＪＹ１は、端部１３ａによって＋Ｙ方向に向けて０〜１００％に比例的に増加する、図９中、符号ｎで示す照度傾斜で露光される。従って、ガラス基板Ｐ上の重複部ＪＸ１においては、分割パターンＰ１〜Ｐ４を走査露光した際に二回重複して露光される結果、合計の露光量が非重複部と同じ適正露光量となる。
【００４７】
ここで、上記のように分割パターンＰ１〜Ｐ４が露光された結果、重複部ＪＸ１、ＪＹ１の矩形状の交叉部が四回重複して露光されるため、この部分の露光量分布について簡単に検証する。ここでは、図１０および図１１に示すように、交叉部の左下端部をｘ＝ｙ＝０とし、また交叉部が０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１の範囲になるように正規化するものとする。また、この範囲における露光量をｚで示し、非重複部における露光量をｚ＝１とする。
【００４８】
まず、分割パターンＰ１、Ｐ２は、図１０に示すように、交叉部が端部１３ｂで露光されるが、分割パターンＰ１の露光時には下式の関数で示される露光量分布で露光される。
ｘ＜０．５×ｙのとき、                          ｚ＝０
ｘ≧０．５×ｙ、かつｘ≦−０．５ｙ＋１のとき、  ｚ＝ｘ−０．５×ｙ
ｘ＞−０．５ｙ＋１のとき、                      ｚ＝１−ｙ    …（１）
【００４９】
また、分割パターンＰ２の露光時には、交叉部が下式の関数で示される露光量分布で露光される。
ｘ＜０．５×ｙのとき、                          ｚ＝１−ｙ
ｘ≧０．５×ｙ、かつｘ≦−０．５ｙ＋１のとき、  ｚ＝１−ｘ−０．５×ｙ
ｘ＞−０．５ｙ＋１のとき、                      ｚ＝０        …（２）
【００５０】
一方、分割パターンＰ３、Ｐ４は、図１１に示すように、交叉部が端部１３ａで露光されるが、分割パターンＰ３の露光時には下式の関数で示される露光量分布で露光される。
ｘ＜−０．５×ｙ＋０．５のとき、        ｚ＝０
ｘ≧−０．５×ｙ＋０．５、かつｘ≦−０．５ｙ＋０．５のとき、
ｚ＝ｘ＋０．５×ｙ−０．５
ｘ＞−０．５ｙ＋０．５のとき、          ｚ＝ｙ                …（３）
【００５１】
また、分割パターンＰ４の露光時には、交叉部が下式の関数で示される露光量分布で露光される。
ｘ＜−０．５×ｙ＋０．５のとき、        ｚ＝ｙ
ｘ≧−０．５×ｙ＋０．５、かつｘ≦−０．５ｙ＋０．５のとき、
ｚ＝−ｘ＋０．５×ｙ＋０．５
ｘ＞−０．５ｙ＋０．５のとき、          ｚ＝０                …（４）
【００５２】
従って、分割パターンＰ１、Ｐ２の露光時に、端部１３ｂで露光された交叉部の露光量分布は、上記関数（１）、（２）の総和であるｚ＝１−ｙの関数で示される滑らかな傾斜になる。また、分割パターンＰ３、Ｐ４の露光時に、端部１３ａで露光された交叉部の露光量分布は、上記関数（３）、（４）の総和であるｚ＝ｙの関数で示される滑らかな傾斜になる。以上のことから、分割パターンＰ１〜Ｐ４を露光することにより、重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部における総露光量は関数（１）〜（４）の総和であるｚ＝１となり、非重複部と同一になる。
【００５３】
そして、上記と同様の手順で、レチクルＲ上の露光スポットを適宜選択しながらガラス基板Ｐ上の分割パターンを順次露光することにより、ＬＣＤパターンＬＰが同一の露光量分布で画面合成される。なお、分割パターンの中、図４中、＋Ｙ側の端部に位置する分割パターンを露光する際には、分割パターンＰ１、Ｐ２の場合と逆に、端部遮光ブラインド板１０ｄが開口の端部１３ｂを遮光し、端部遮光ブラインド板１０ｃが端部１３ａを開放することで、左右対称の五角形の露光スポットが形成される。なお、各分割パターンの露光順序は、レチクルステージ５および基板ステージ６の移動距離（移動時間）が最短になる経路に基づいて設定することが好ましい。
【００５４】
本実施の形態の走査露光方法および走査型露光装置では、レチクルＲとガラス基板Ｐとの同期移動方向でも分割パターン同士を滑らかな露光量分布をもって一部重複させているので、これら分割パターンを滑らかにつなぎ合わせることが可能になり、品質を低下させることなく液晶表示デバイスの高精細大面積化に容易に対応することができる。特に、本実施の形態では、重複部と非重複部との露光量を、分割パターン同士の重複部を露光する際の走査速度と非重複部を露光する際の走査速度とを異ならせるという簡単な動作で制御しているので、装置の大型化および高価格化も防ぐことができる。
【００５５】
また、本実施の形態の走査露光方法および走査型露光装置では、一枚のレチクルＲの照明領域を調整することで、一層のＬＣＤパターンＬＰを画面合成できるので、小型のレチクルＲを使用することができ、レチクルＲ自体の誤差を低く抑えることができる。さらに、複数枚のレチクルＲを使用する際に生じるレチクル交換作業の削減、レチクル間の補正作業および誤差の積み重ねの低減等を実現することが可能になり、より高精度のつなぎ合わせ露光を実施することができる。
【００５６】
図１２および図１３は、本発明の走査露光方法および走査型露光装置の第２の実施の形態を示す図である。これらの図において、図１ないし図１１に示す第１の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第２の実施の形態と上記の第１の実施の形態とが異なる点は、走査露光中に露光スポットＳの大きさを変更することである。
【００５７】
すなわち、本実施の形態では、分割パターンＰ１を露光する際に、上記第１の実施の形態と同様に、レチクルＲ上の仮想領域ＲＸ１上に露光スポットＳを設定した後、レチクルＲとガラス基板Ｐとを−Ｘ方向に同期移動して走査露光を開始すると同時にレチクルブラインド１０のブラインド板１０ｂを一定速度Ｖで＋Ｙ方向に移動させる。このとき、端部遮光ブラインド板１０ｄをブラインド板１０ｂと同期移動させてもよいし、端部遮光ブラインド板１０ｄが端部１３ｂを遮光しない位置にある場合は移動させなくてもよい。なお、ブラインド板１０ａおよび端部遮光ブラインド板１０ｃは、Ｘ方向に沿った周辺回路部２４を照明するため、Ｙ方向への移動は行わない。
【００５８】
この結果、露光スポットＳは走査露光中に＋Ｙ方向に拡大され、端部１３ｂの移動軌跡として形成されるレチクルＲ上の仮想領域ＲＹ１は、走査速度およびブラインド板１０ｂの移動速度が合成されることによって、Ｘ方向に対して傾きを有することになる。従って、ガラス基板Ｐ上に露光される分割パターンＰ１は、図１３に示すように、分割パターンＰ３との重複部ＪＹ１がＸ方向とは異なる方向に沿って形成される。
【００５９】
そして、分割パターンＰ２を露光する際には、走査露光開始時に露光スポットＳの端部１３ｂを重複部ＪＹ１の延長上で且つ重複部ＪＸ２上に位置させて、上記分割パターンＰ１と同一の移動速度Ｖでブラインド板１０ｂを＋Ｙ方向に移動させる（このとき、レチクルＲとガラス基板Ｐとの走査速度も分割パターンＰ１を露光するときと同一にする）。
【００６０】
さらに、分割パターンＰ３を露光する際には、ガラス基板Ｐ上において、露光スポットの端部１３ａを重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部に、端部１３ｂを重複部ＪＸ１、ＪＹ２の交叉部にそれぞれ位置させておいて、走査露光開始と同時にブラインド板１０ａ、１０ｂの双方を＋Ｙ方向に速度Ｖで移動させる。また、分割パターンＰ４を露光する際には、露光スポットの端部１３ａを重複部ＪＸ２、ＪＹ１の交叉部に、端部１３ｂを重複部ＪＸ２、ＪＹ２の交叉部に位置させておいて、走査露光開始と同時にブラインド板１０ａ、１０ｂの双方を＋Ｙ方向に速度Ｖで移動させる。
【００６１】
他の分割パターンも同様の手順でブラインド板を＋Ｙ方向に移動させながら走査露光を行うが、図１３中、＋Ｙ側の端部に位置する分割パターンを露光する際には、分割パターンＰ１、Ｐ２の場合と逆に、端部遮光ブラインド板１０ｄが開口の端部１３ｂを遮光し、端部遮光ブラインド板１０ｃが端部１３ａを開放する状態で、ブラインド板１０ａのみを露光中に＋Ｙ方向に移動させる。なお、重複部ＪＸ１、ＪＸ２における走査速度の制御は、第１の実施の形態と同様である。これにより、図１３に示すように、ガラス基板Ｐ上には、Ｘ方向に対して傾きを有する重複部ＪＹ１〜ＪＹ４で分割パターンが重複するように画面合成されたＬＣＤパターンＬＰが形成される。
【００６２】
本実施の形態の走査露光方法および走査型露光装置では、上記第１の実施の形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、画素パターン２２の配列方向と重複部ＪＹ１〜ＪＹ４の延在する方向とが異なるため、完成した液晶表示デバイスでは、重複部ＪＹ１〜ＪＹ４に隣接する画素パターン２２内の駆動用トランジスタが異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ精度であっても誤差部分が整然と並ぶことがなく、表示品質に及ぼす影響を小さくすることができる。
【００６３】
なお、上記第２の実施の形態において、ブラインド板１０ａ、１０ｂを露光中に同じ速度で移動させる構成としたが、これに限定されるものではなく、各重複部ＪＹ１〜ＪＹ５において、露光時の移動速度が同一であれば、互いに異なる移動速度で移動させてもよい。また、各重複部ＪＹ１〜ＪＹ４を露光する際に、ブラインド板１０ａ、１０ｂの移動速度を複数回に亙って変更してもよい。例えば、図１４に示すように、分割パターンＰ１を走査露光中に、ブラインド板１０ａの移動方向を＋Ｙ方向から−Ｙ方向へ変更してもよい。同様に、分割パターンＰ３を走査露光中には、ブラインド板１０ａ、１０ｂの移動方向を＋Ｙ方向から−Ｙ方向へ変更する（＋Ｙ側の端部に位置する分割パターンを露光する際には、端部遮光ブラインド板１０ｄが端部１３ｂを遮光した状態で、ブラインド板１０ａの移動方向のみを露光中に＋Ｙ方向から−Ｙ方向に変更する）ことで、図１５に示すように、ガラス基板Ｐ上には、ジグザグ状に屈曲する重複部ＪＹ１〜ＪＹ４を形成することができ、駆動用トランジスタを駆動するための信号線が一層分散され、表示品質に及ぼす影響をより小さくすることができる。この場合、ブラインド板１０ａ、１０ｂの移動方向を変更せずに移動速度Ｖのみを変更したり、移動方向および移動速度の双方を変更してもよい。
【００６４】
また、上記実施の形態では、重複部ＪＸ１、ＪＸ２の幅を露光スポットＳと同一の幅Ｗとする構成としたが、二重露光することで重複部と非重複部との露光量が同一になれば、重複部の幅はこれに限定されるものではない。露光スポットの形状も、六角形に限定されるものではなく、台形状や平行四辺形の四角形であってもよい。
【００６５】
また、上記実施の形態では、分割パターンＰ３、Ｐ４を露光する際にブラインド板１０ａ、１０ｂを移動させることで重複部ＪＹ１、ＪＹ２の延在する方向をＸ方向に対して傾きをもたせたが、これに限られるものではなく、露光スポットの大きさが変わらない場合にはレチクルＲおよびガラス基板ＰをＸ方向から傾く方向に同期移動させてもよい。
【００６６】
なお、レチクルＲとガラス基板Ｐとの同期移動速度を重複部と非重複部とで異ならせることで、同期移動方向で隣接する重複部の露光量を非重複部の露光量を一致させる場合、投影光学系ＰＬが複数の投影系モジュールから構成され、隣り合う投影系モジュールの投影領域の端部同士がＹ方向で重複するように並列配置され、Ｘ方向に走査露光したときの露光量が等しくなるように設定された、いわゆるマルチレンズ構成であっても適用可能である。
【００６７】
なお、本実施の形態の基板としては、液晶表示デバイス用のガラス基板Ｐのみならず、半導体デバイス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００６８】
走査型露光装置１の種類としては、ガラス基板Ｐに液晶表示デバイスパターンを露光する液晶表示デバイス製造用の露光装置に限られず、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００６９】
また、光源２として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ2レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ6）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００７０】
投影光学系ＰＬの倍率は、等倍系のみならず縮小系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ2レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、レチクルＲとガラス基板Ｐとを密接させてレチクルＲのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００７１】
基板ステージ６やレチクルステージ５にリニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ５、６は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００７２】
各ステージ５、６の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ５、６を駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ５、６に接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方を各ステージ５、６の移動面側（ベース）に設ければよい。
【００７３】
基板ステージ６の移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明はこのような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
レチクルステージ５の移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−３３０２２４号公報（US S/N 08/416,558）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明はこのような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００７４】
以上のように、本願実施形態の基板処理装置である走査型露光装置１は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７５】
液晶表示デバイスや半導体デバイス等のデバイスは、図１６に示すように、液晶表示デバイス等の機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクルＲ）を製作するステップ２０２、石英等からガラス基板Ｐ、またはシリコン材料からウエハを製作するステップ２０３、前述した実施の形態の走査型露光装置１によりレチクルＲのパターンをガラス基板Ｐ（またはウエハ）に露光するステップ２０４、液晶表示デバイス等を組み立てるステップ（ウエハの場合、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００７６】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る走査露光方法は、同期移動方向に沿って第１パターンの一部と第２パターンの一部とを重複して露光し、重複露光するときのマスクと基板との同期移動速度を重複しないときの同期移動速度とは異ならせる手順となっている。
これにより、この走査露光方法では、これら第１パターンおよび第２パターンを滑らかにつなぎ合わせることが可能になり、品質を低下させることなくデバイスの高精細大面積化に容易に対応することができるとともに、第１、第２パターン同士の重複部を露光する際の同期移動速度と非重複部を露光する際の同期移動速度とを異ならせるという簡単な動作で各部の露光量を制御しているので、装置の大型化および高価格化も防ぐことができるという効果が得られる。
【００７７】
請求項２に係る走査露光方法は、同期移動方向と直交する方向に隣接する第１パターンと第３パターンとを露光する際に、単位パターンの配列方向とは異なる方向に沿って重複させる手順となっている。
これにより、この走査露光方法では、完成したデバイスの単位パターンが異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ精度であっても誤差部分が整然と並ぶことがなく、表示品質に及ぼす影響を小さくできるという効果が得られる。
【００７８】
請求項３に係る走査露光方法は、同期移動方向とは異なる方向の照明領域の大きさを同期移動中に変更する手順となっている。
これにより、この走査露光方法では、完成したデバイスの単位パターンが異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ精度であっても誤差部分が整然と並ぶことがなく、表示品質に及ぼす影響を小さくできるという効果が得られる。
【００７９】
請求項４に係る走査露光方法は、照明領域の大きさを同期移動中に複数回に亙って変更する手順となっている。
これにより、この走査露光方法では、表示品質に及ぼす影響をより小さくできるという効果が得られる。
【００８０】
請求項５に係る走査型露光装置は、照明領域設定装置がマスクの照明領域を設定し、変更装置が同期移動方向とは異なる方向の照明領域の大きさを同期移動中に変更する構成となっている。
これにより、この走査型露光装置では、完成したデバイスの単位パターンが異なる信号線で駆動されることになり、同じ重ね合わせ精度であっても誤差部分が整然と並ぶことがなく、表示品質に及ぼす影響を小さくできるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】   本発明の第１の実施の形態を示す図であって、走査型露光装置の光学系構成を示す概略図である。
【図２】   同走査型露光装置を構成するレチクルブラインドの外観斜視図である。
【図３】   レチクルブラインドを構成するブラインド板の平面図である。
【図４】   本発明の走査露光方法により画面合成されるＬＣＤパターンの平面図である。
【図５】   ガラス基板上に構成されるＴＦＴ／ＬＣＤの表示画素の概略構成図である。
【図６】   ＬＣＤパターンの画面合成に用いられるレチクルの平面図である。
【図７】   ガラス基板上の位置とエネルギ量との関係を示す関係図である。
【図８】   分割パターンＰ２の走査露光開始位置に露光スポットが設定されたレチクルの平面図である。
【図９】   ガラス基板上の位置とエネルギ量との関係を示す関係図である。
【図１０】   重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部の露光量分布を説明するための説明図である。
【図１１】   重複部ＪＸ１、ＪＹ１の交叉部の露光量分布を説明するための説明図である。
【図１２】   本発明の第２の実施の形態を示す図であって、レチクル上の露光スポットが同期移動方向と直交する方向に移動する平面図である。
【図１３】   図１２に示すレチクルを用いて画面合成されるＬＣＤパターンの平面図である。
【図１４】   本発明の第３の実施の形態を示す図であって、レチクル上の露光スポットが同期移動方向と直交する方向に複数回移動する平面図である。
【図１５】   図１４に示すレチクルを用いて画面合成されるＬＣＤパターンの平面図である。
【図１６】   液晶表示デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
Ｂ  ビーム（露光光）
Ｐ  ガラス基板（基板）
Ｐ１  分割パターン（第１パターン）
Ｐ２  分割パターン（第２パターン）
Ｐ３  分割パターン（第３パターン）
Ｒ  レチクル（マスク）
Ｓ、Ｓ’  露光スポット（照明領域）
１  走査型露光装置
１０  レチクルブラインド（照明領域設定装置）
１４  ブラインド制御部（変更装置）
２２  画素パターン（単位パターン）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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