(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
0004463461.tif 000023
〔式中
Ｒ1は、水素、メチルまたはエチルであり、
Ｒ2は、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、シクロプロピル、シクロペンチル、アリル、プロパギルまたはｐ−クロロベンジルであり、そして
Ｈｅｔは、下記式
【化２】
0004463461.tif 000024
で表される基の一つである〕
の化合物の製造方法において、
式（ＩＩ）
【化３】
0004463461.tif 000025
〔式中、
Ｒ1、Ｒ2およびＨｅｔは上記に定義したとおりであり、そして
Ｒ4は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシル、フェニル、ベンジルまたはテトラヒドロフラニルメチルである〕
の化合物を、無水塩化水素と、または
式（ＩＩＩ）
【化４】
0004463461.tif 000026
〔式中、Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、アリールまたはアリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルであり、これらの基は、ＯＨ、ＳＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、アリール、フリルメチル、テトラヒドロフリルメチル、チエニルメチルまたはピリジルメチルにより一置換または多置換されていてもよい〕で表される化合物、並びに
三塩化ホウ素、三塩化アルミニウム、四塩化ケイ素、塩化オキサリル、トリクロロシラン、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、ニ塩化硫黄、四塩化チタン、三塩化チタン、三塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム（Ｖ）、塩化チオニルおよび塩化スルフリルから選ばれる化合物のから選ばれる塩化水素を発生可能な１種またはそれ以上の化合物と、無水有機溶剤である希釈剤の存在または不存在下において反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
式（Ｉ）におけるＲ１が水素であり、そしてＲ２がメチルである、請求項１記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、１，３−二置換２−ニトログアニジンの製造のための新規の形式の方法に関する。
【０００２】
欧州特許出願公開（ＥＰ−Ａ）第０４８３０６２号は、１，３−二置換２−ニトログアニジンの製造方法を開示している。これらは、相当する２−ニトロイミノ−１，３，５−トリアザシクロヘキサン誘導体の加水分解により得られる。加水分解は、好ましくは強無機酸または有機酸の存在下で行われる。
【０００３】
この方法の欠点は、長い反応時間および二次生成物の形成であり、これは所望の最終生成物の複雑な洗浄操作を行うことを必要とさせる。
【０００４】
さらに、公知のように、水性で強酸の存在下で操作すると、例えば反応器を腐食から保護するために経費がかかる手段を講じなければならない。
【０００５】
特開平０３−２９１２６７号、特開平１０−６７７６６号および特開平１０−１４７５８０号の各公報は、同様の方法に関する。
【０００６】
本発明の目的は、１，３−二置換２−ニトログアニジンの製造のための改善された方法を提供することにあった。
【０００７】
本発明は、式（Ｉ）
【０００８】
【化３】
0004463461.tif 000002
【０００９】
〔式中
Ｒ1は、水素またはアルキルであり、
Ｒ2は、水素、アルキル、シクロアルキルまたは−ＣＨ2Ｒ3であり、
Ｒ3は、アルケニル、アルキニル、またはそれぞれが場合により置換されていてもよいアリールもしくはヘテロアリールであり、
Ｈｅｔは、非置換または置換された芳香族または非芳香族、単環または二環の複素環式基であって、好ましくは
【００１０】
【化４】
0004463461.tif 000003
【００１１】
の組(series)からのものである〕
の化合物の製造方法であって
式（ＩＩ）
【００１２】
【化５】
0004463461.tif 000004
【００１３】
〔式中、
Ｒ1、Ｒ2およびＨｅｔは上記に定義したとおりであり、そして
Ｒ4は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロシクロアルキルであって、それぞれが非置換または置換されていてもよい〕
の化合物を、無水塩化水素とまたは塩化水素を発生可能な１種またはそれ以上の化合物と希釈剤の存在または不存在下において反応させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００１４】
式（Ｉ）の化合物は、−Ｎ＝Ｃ（２）結合に関する二重結合異性体の形およびこれらの互変異性体の形（式Ｉａ、Ｉｂ）であることもできる。
【００１５】
【化６】
0004463461.tif 000005
【００１６】
従って、式（Ｉ）は、これが相当する二重結合異性体および式（Ｉａ）および（Ｉｂ）を含むことを意味すると考えられる。
【００１７】
意外にも、本発明に従う方法は、選択的および高収率で、温和な反応条件下、短い反応時間の後に純粋の形で式（Ｉ）の最終生成物を生成する。
【００１８】
例えば、１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサンを出発物質として使用すると、本発明に従う方法の経過は、下記の式により表すことができる。
【００１９】
【化７】
0004463461.tif 000006
【００２０】
本発明に従う方法のための出発物質として必要な化合物は、式（ＩＩ）により一般的に定義される。
【００２１】
上記の式中に表記した基の好ましい置換基および範囲を以下に説明する。
Ｒ1は、好ましくは水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ2は、好ましくは水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキルまたは−ＣＨ2Ｒ3であり、
Ｒ3は、好ましくはＣ2〜Ｃ5−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ5−アルキニル、フェニル、シアノフェノル、ニトロフェニル、ハロゲン原子１〜３個を有するハロゲノフェニル、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルにより置換されたフェニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシまたはハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、３−ピリジル、５−チアゾリル；Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、シクロプロピル、ハロゲノシクロプロピル、Ｃ2〜Ｃ3−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ3−アルキニル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシ、ハロゲン原子１〜４個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルケニル、ハロゲン原子１〜３個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルキニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルチオ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキルチオ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、アリルチオ、プロパルギルチオ、ハロゲノアリルオキシ、ハロゲノアリルチオ、ハロゲン、シアノおよびニトロから成る群よりの置換基１〜２個（好ましくは１個）により置換された５−チアゾリル；またはハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、シクロプロピル、ハロゲノシクロプロピル、Ｃ2〜Ｃ3−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ3−アルキニル、ハロゲン原子１〜４個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルケニル、ハロゲン原子１〜３個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルキニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルチオ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキルチオ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、アリルチオ、プロパルギルチオ、ハロゲノアリルオキシ、ハロゲノアリルチオ、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシおよびハロゲンから成る群よりの基１〜４個（好ましくは１個）により置換された３−ピリジルであり、
Ｈｅｔは、好ましくは非置換または置換された芳香族または非芳香族、単環または二環の複素環式基、好ましくは
【００２２】
【化８】
0004463461.tif 000007
【００２３】
の組からのものであり、これらは、複素環の種類に応じて、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、シクロプロピル、ハロゲン原子１〜３個を有するハロゲノシクロプロピル、Ｃ2〜Ｃ3−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ3−アルキニル、ハロゲン原子１〜４個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルケニル、ハロゲン原子１〜３個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルキニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルチオ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキルチオ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、アリルチオ、プロパルギルチオ、ハロゲノアリルオキシ、ハロゲノアリルチオ、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシおよびハロゲンから成る群よりの置換基１個または２個を含むことができる。
【００２４】
Ｒ4は、好ましくはＣ1〜Ｃ10−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル；ハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ハロゲン原子１〜９個を有するＣ1〜Ｃ4−ハロゲノアルコキシ、ジ（Ｃ1〜Ｃ4）−アミノおよびＣ1〜Ｃ5−アルコキシカルボニルからなる群よりの基１〜６個により置換されたＣ1〜Ｃ10−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルおよびハロゲンの組よりの基１〜４個により置換されたＣ3〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン原子１〜９個を有するＣ1〜Ｃ4−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ハロゲン原子１〜９個を有するＣ1〜Ｃ4−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、ニトロもしくはシアノからなる群よりの環置換基１〜３個により置換されたフェニルもしくはベンジル、または複素環が、窒素、酸素および硫黄の組よりのヘテロ原子１個または２個（好ましくは１個）を有する不飽和もしくは飽和の５員もしくは６員複素環（特にはフリル、テトラヒドロフリル、チエニルまたはピリジル）であるヘテロシクリルメチルである。
【００２５】
Ｒ1は、特に好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピルであり、
Ｒ2は、特に好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピルまたはｎ−ブチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたは−ＣＨ2Ｒ3であり、
Ｒ3は、特に好ましくはＣ2〜Ｃ5−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ5−アルキニル、フェニル、シアノフェニル、ニトロフェニル、ハロゲン原子１〜３個を有するハロゲノフェニル、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルにより置換されたフェニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシまたはハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、３−ピリジル、５−チアゾリル；またはＣ1〜Ｃ3−アルキル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、シクロプロピル、ハロゲノシクロプロピル、Ｃ2〜Ｃ3−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ3−アルキニル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシ、ハロゲン原子１〜４個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルケニル、ハロゲン原子１〜３個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルキニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルチオ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキルチオ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、アリルチオ、プロパルギルチオ、ハロゲノアリルオキシ、ハロゲノアリルチオ、ハロゲン、シアノおよびニトロから成る群よりの置換基１個もしくは２個（好ましくは１個）により置換された５−チアゾリル；またはハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、シクロプロピル、ハロゲノシクロプロピル、Ｃ2〜Ｃ3−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ3−アルキニル、ハロゲン原子１〜４個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルケニル、ハロゲン原子１〜３個を有するＣ2〜Ｃ3−ハロゲノアルキニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルチオ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキルチオ、アリルオキシ、プロパルギルオキシ、アリルチオ、プロパルギルチオ、ハロゲノアリルオキシ、ハロゲノアリルチオ、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシもしくはハロゲンから成る群よりの基１〜２個（好ましくは１個）により置換された３−ピリジルである。
Ｈｅｔは、特に好ましくは非置換または一または二置換（好ましくは一置換）された
【００２６】
【化９】
0004463461.tif 000008
【００２７】
の組からの複素環基であり、特には
【００２８】
【化１０】
0004463461.tif 000009
【００２９】
の組からのものであり、
ここで置換基は、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシおよびエトキシの組より選ばれる。
Ｒ4は、特に好ましくは、場合によりハロゲン（特にはフッ素または塩素）により置換されたＣ1〜Ｃ4−アルキル、またはそれぞれがハロゲン（特にはフッ素または塩素）もしくはＣ1〜Ｃ4−アルキルにより置換されてもよいＣ3〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはヘテロシクリルメチルであり、ここでヘテロシクリルメチルは、窒素、酸素および硫黄の組からの１個またはそれ以上のヘテロ原子を有する不飽和または飽和の５員または６員複素環（特にはチエニル、ピリジル、フリルまたはテトラヒドロフリル）である。
【００３０】
Ｒ1は、非常に特に好ましくは水素、メチルまたはエチルであり、
Ｒ2は、非常に特に好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたは基−ＣＨ2Ｒ3であり、
Ｒ3は、非常に特に好ましくはＣ2〜Ｃ5−アルケニル、Ｃ2〜Ｃ5−アルキニル、フェニル、シアノフェニル、ニトロフェニル、ハロゲン原子１〜３個を有するハロゲノフェニル、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルにより置換されたフェニル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシまたはハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、３−ピリジル、５−チアゾリル；またはそれぞれの場合にＣ1〜Ｃ3−アルキル、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキル、Ｃ1〜Ｃ3−アルコキシ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3−アルキルチオ、ハロゲン原子１〜７個を有するＣ1〜Ｃ3−ハロゲノアルキルチオ、ハロゲン、シアノまたはニトロから成る群よりの置換基１個または２個（好ましくは１個）により置換された５−チアゾリルもしくは３−ピリジルであり、
Ｒ4は、非常に特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル、ハロゲンにより置換されたＣ1〜Ｃ4−アルキル、それぞれの場合にメチル、エチル、フッ素および塩素の組からの基１個または２個により置換されたＣ3〜Ｃ6−シクロアルキルであり、フェニル、ベンジルまたはそれぞれの場合にメチル、エチル、フッ素および塩素の群よりの環置換基１個または２個により置換されたフェニル、ベンジル、フリルメチル、テトラヒドロフリルメチル、チエニルメチルもしくはピリジルメチルである。
Ｈｅｔは、非常に特に好ましくはチアゾリル、ピリジルまたはテトラヒドロフラニルであり、これらのそれぞれは、非置換または一置換もしくは二置換（特には一置換）されてもよく、置換基はフッ素、塩素、メチルおよびメトキシの組より選ばれる。
【００３１】
定義中で、別途に断らない限り、ハロゲン（原子）は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉであり、好ましくはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、特にはＦ、Ｃｌである。
Ｒ1は、非常に特に好ましくは水素、メチルまたはエチル、特には水素であり、Ｒ2は、非常に特に好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、シクロプロピル、シクロペンチル、アリル、プロパルギルまたはｐ−クロロベンジル、特にはメチルである。
Ｒ4は、非常に特に好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジルまたはテトラヒドロフリルメチルであり、
Ｈｅｔは、非常に特に好ましくは基
【００３２】
【化１１】
0004463461.tif 000010
【００３３】
の一つである。
【００３４】
本発明に従う方法のための特に好ましい出発物質は、式（ＩＩａ）
【００３５】
【化１２】
0004463461.tif 000011
【００３６】
〔式中、
Ｒ4は、メチル、エチル、シクロプロピル、シクロペンチル、ベンジルまたはテトラヒドロフリルメチルであり、ここで、これらの中から、メチル、ベンジルおよびテトラヒドロフリルメチルがなかでも好ましい〕
の化合物である。
【００３７】
本発明に従う方法のための特に好ましい出発物質は、式（ＩＩｂ）および（ＩＩｃ）
【００３８】
【化１３】
0004463461.tif 000012
【００３９】
〔式中、
Ｒ4は、式（ＩＩａ）の化合物のために定義したものである〕
の化合物である。
【００４０】
本発明に従う方法の最終製品は、式（ＩＩａ）の化合物を使用する場合には、下記の化合物
【００４１】
【化１４】
0004463461.tif 000013
【００４２】
式（ＩＩｂ）の化合物を使用する場合には、下記の化合物
【００４３】
【化１５】
0004463461.tif 000014
【００４４】
式（ＩＩｃ）の化合物を使用する場合には、下記の化合物
【００４５】
【化１６】
0004463461.tif 000015
【００４６】
である。
【００４７】
上記の一般用語内に記載し、または好ましい範囲内に表示した基の定義および説明は、所望のように互いに、すなわちそれぞれの範囲および好ましい範囲の間で組合わせることができる。これは最終製品にもそして前駆体および中間体にも該当する。
【００４８】
用語アルキルは、分枝状異性体、例えばＣ4−アルキルの場合のｔ−ブチルも意味する。
【００４９】
好ましくは、上記の好ましい意味の組合せを本発明に従う方法内に有する式（ＩＩ）のこれらの化合物の使用である。
【００５０】
特に好ましくは、上記の特に好ましい意味の組合せを本発明に従う方法内に有する式（ＩＩ）のこれらの化合物の使用である。
【００５１】
非常に特に好ましくは、上記の非常に特に好ましい意味の組合せを本発明に従う方法内に有する式（ＩＩ）のこれらの化合物の使用である。
【００５２】
式（ＩＩ）の出発物質は、公知であるかまたは公知の方法により製造できる（例えばＥＰ−Ａ０４８３０６２、特開平０３−２９１２６７号、ＥＰ−Ａ０４８３０５５、ＥＰ−Ａ０４２８９４１、ＥＰ−Ａ０３８６５６５、ＷＯ９８／４２６９０参照）
本発明に従う方法は、式（ＩＩ）の化合物を塩化水素とまたはプロトン性溶剤、特にはアルコールまたはカルボン酸、を用いて塩化水素を発生可能な化合物と反応させて行われる。
【００５３】
塩化水素を発生可能な化合物は、例えば酸塩化物、特には式（ＩＩＩ）（群Ａ）
【００５４】
【化１７】
0004463461.tif 000016
【００５５】
〔式中、
Ｒ５は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキルまたはヘテロシクロアルキルであって、そのそれぞれは置換されていてもよい。
Ｒ５は、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、アリール−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、特にはフェニル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、そのそれぞれは一置換または多置換されてもよく、ここで適当な置換基はＯＨ、ＳＨ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキルおよびアリール、特にはフェニル、またはヘテロシクリルメチルであって、ここでヘテロシクリルは、窒素、酸素、硫黄の組からのヘテロ原子１個または２個（好ましくは１個）を有する不飽和または飽和の５員または６員複素環、特にはフリル、テトラヒドロフリル、チエニルまたはピリジルである。〕
の化合物を含む。
【００５６】
ここで、ハロゲン（原子）は、好ましくはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉであり、特にはＦ、Ｃｌ、Ｂｒであり、そして特別にはＦ、Ｃｌである。
【００５７】
Ｒ5は、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、ベンジルまたはフェニルエチル、そのそれぞれは一置換から五置換されてもよく（好ましくは一置換から三置換、特に好ましくは一置換または二置換）、ここで適当な置換基はＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルおよびアリール、特にはフェニル；またはヘテロシクリルメチルであって、ここで複素環は、特にフリル、テトラヒドロフリル、チエニルまたはピリジルである。
Ｒ5は、非常に特に好ましくは反応すべき式（ＩＩ）の化合物のそれぞれの基Ｒ4またはベンジル、ＨＯ−ＣＨ2−ＣＨ2−、ｎ−ヘキシルまたはシクロヘキシルの組からの基の一つである。
【００５８】
式（ＩＩＩ）の化合物は公知であり、市場で入手できるかまたは公知の方法により容易に製造できる。
【００５９】
塩化水素を発生可能な化合物は、下記も含む（群Ｂ）：
反応性非金属および金属塩化物、および反応性非金属および金属オキシ塩化物、好ましくは三塩化ホウ素、三塩化アルミニウム、四塩化ケイ素、塩化オキサリル、トリクロロシラン、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、二塩化硫黄、四塩化チタン、三塩化チタン、三塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム（Ｖ）、塩化チオニルおよび塩化スルフリル、特に好ましくは塩化アルミニウム、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化チオニル、塩化スルフリルおよび塩化オキサリル、非常に特に好ましくは塩化チオニル、塩化スルフリル、オキシ塩化リンおよび塩化オキシリル。
【００６０】
群Ｂの化合物は公知の化合物であり、これらはこれら自体が市場で入手できるかまたは公知の方法により製造できる。
【００６１】
本発明による方法は、場合により希釈剤の存在下で行われる。
【００６２】
塩化水素を用いる場合の適当な希釈剤は、有機溶剤、極性プロトン、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノールまたはｉ−ブタノール、および極性、非プロトン溶剤、例えばアセトン、アセトニトリルおよび酢酸エステル（例えば酢酸エチル）、エーテルおよび環状エーテル、例えばジエチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン、または非極性の非プロトン溶剤、例えば炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、クロロベンゼンまたはｏ−ジクロロベンゼンでもある。
【００６３】
該溶剤の混合物を使用することも可能である。
【００６４】
群（Ａ）または（Ｂ）の化合物を用いる場合の適当な溶剤は、極性のプロトン溶剤、例えばアルコールまたはカルボン酸である。
【００６５】
特に適当なものは、アルコール、特にはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノールである。
【００６６】
別の希釈剤を反応混合物に加えることも有利なことがある。適当な溶剤は、エーテル、例えばジブチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン、グリコールジメチルエーテルまたはジグリコールジメチルエーテル、および炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、クロロベンゼンまたはｏ−ジクロロベンゼン、ニトリル、例えばアセトニトリル、カルボン酸エステル、例えば酢酸エチルまたはケトン、例えばアセトンまたはメチルイソプロピルケトンでもある。
【００６７】
該溶剤の混合物を使用してもよい。
【００６８】
本発明に従う方法は、一般に０℃〜２００℃、好ましくは４０℃〜１５０℃の温度で実施される。
【００６９】
本方法は、好ましくは大気圧下で実施されそして、特に低沸点希釈剤の場合には、これは場合により加圧下で実施することもできる。
【００７０】
無水塩化水素および式（ＩＩＩ）または群（Ｂ）の化合物は、一般に、式（ＩＩ）の出発化合物に基づいて０．５：１〜１０：１、好ましくは１：１〜５：１のモル比で使用される。
【００７１】
反応は、一般に式（ＩＩ）の出発物質、および塩化水素または式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物を、場合により希釈剤中および場合により溶剤中で所望の温度に加熱して実施される。塩化水素または式（ＩＩＩ）または群Ｂの化合物を反応の過程の間に順に計量して添加することも可能である。
【００７２】
仕上処理として、冷却の後、水を場合によりにより加え、そして最終生成物を、場合により混合物を蒸発させた後に、例えば濾過または抽出により単離する。
【００７３】
反応は、好ましくは、反応混合物が冷却される場合には、最終生成物が直接晶出されて簡単な方法、例えば濾過により単離できる溶剤中で実施される。この目的に適当な希釈剤は、アルコール、特にはメタノール、エタノール、プロパノール、ｉ−プロパノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノールである。
【００７４】
反応混合物を水を用いないで仕上処理することも可能であり、反応が完了した時点で、適合する場合には希釈剤および適合する場合には溶剤を蒸留除去しそして適当な抽出剤を用いて残留した残留物を抽出して行われる。適当な抽出剤は、原理的には、最終生成物に関して不活性でありそして最終生成物が十分に溶解性であるすべての溶剤である。
【００７５】
これらの例は、脂肪族炭化水素、例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ハロゲン化脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレンまたはクロロホルム、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン、ハロゲン化芳香族炭化水素、例えばクロロベンゼンまたはｏ−ジクロロベンゼンまたはその他、例えばメチル−ｔ−ブチルエーテルを含む。
【００７６】
最終生成物は、場合により抽出剤を蒸発除去した後に晶出し、そして濾過により単離できるか、または抽出剤を完全にまたは実質的に完全に除去しそして、必要な場合には、残留物を例えば再結晶により精製する。
【００７７】
本発明により製造された式（Ｉ）の化合物は、有害生物除去における有効成分として有用である。特に、式（Ｉ）の化合物は、昆虫およびクモ類の除去に適し、これらには農業における実用的および鑑賞用植物、特には、ワタ、野菜および果物栽培において、森林において、貯蔵製品および物質の保護においておよび衛生分野において、特にはペットおよび実用的動物上で遭遇する（例えばＥＰ−Ａ０３７６２７９、ＥＰ−Ａ０３７５９０７、ＥＰ−Ａ０３８３０９１参照）。
【００７８】
【実施例】
実施例１
１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−３−メチルグアニジン
【００７９】
【化１８】
0004463461.tif 000017
【００８０】
の製造
ａ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン
【００８１】
【化１９】
0004463461.tif 000018
【００８２】
の１９．２ｇを無水トルエン１００ｍｌ中に溶かし、そして６５℃で、乾燥ＨＣｌガスを導入する。次いで混合物を５時間、６５℃で攪拌しそして生成物を濾過により単離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１６．２ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：７５％、選択率：９９％
粗生成物をブタノール５０ｍｌと一緒に５０℃で攪拌し、そして固体を２５℃で濾過分離しそして乾燥する。
収量：１０．５ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９８％
クロマトグラフィーおよび分光分析の結果によると、生成物は別の経路で得られた１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−３−メチルグアニジンの確証された試料と一致する。
ｂ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水アセトン１００ｍｌ中に溶かし、そして、２０℃で、乾燥ＨＣｌガスを導入する。次いで、混合物を５時間、２０℃で攪拌しそして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１９．８ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：６２％、選択率：９９％
ｃ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水酢酸エチル１００ｍｌ中に溶かし、そして、６５℃で、乾燥ＨＣｌガスを導入する。次いで、混合物を５時間、６５℃で攪拌しそして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１６．５ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：７５％、選択率：９９％
ｄ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かし、そして、２０℃で、乾燥ＨＣｌガスを導入する。次いで、混合物を１時間、２０℃で攪拌しそして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１４．２ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：７９％、選択率：９１％
ｅ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かす。４０℃で、塩化アセチル５．１ｇを２０分間で滴下して加え、そして混合物を３．５時間、４０℃で攪拌する。得られた懸濁液を０〜５℃に冷却し、そして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１１．１ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９９％
ｆ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かす。２５℃で、塩化チオニル７．７ｇを１５分間で滴下して加え、そして混合物を３時間、この温度で攪拌する。得られた懸濁液を０〜５℃に冷却し、そして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１０．８ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９８％
ｇ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かす。２５℃で、塩化オキサリル８．３ｇを２５分間で滴下して加え、そして混合物を５時間、４０℃で攪拌する。得られた懸濁液を０〜５℃に冷却し、そして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１０．４ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９８％
ｈ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かす。２５℃で、クロロギ酸メチル６．３ｇを１０分間で滴下して加え、そして混合物を５時間、４０℃で攪拌する。得られた懸濁液を０〜５℃に冷却し、そして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１０．９ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９８％
ｉ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かす。２５℃で、クロロアセチルクロリド７．３ｇを１０分間で滴下して加え、そして混合物を５時間、４０℃で攪拌する。得られた懸濁液を０〜５℃に冷却し、そして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：１０．９ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９８％
ｊ）１−（２−クロロチアゾール−５−イルメチル）−２−ニトロ−イミノ−５−ベンジル−３−メチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン１９．２ｇを無水メタノール１００ｍｌ中に溶かす。２５℃で、オキシ塩化リン１０ｇを３０分間で滴下して加え、そして混合物を１時間、４０℃で攪拌する。得られた懸濁液を０〜５℃に冷却し、そして生成物を濾過により分離する。次いで結晶を乾燥する。
収量：９．１ｇ、純度（ＨＰＬＣ）：９７．１％
同様の方法を用いて、下記の表に記載の式（Ｉ）の化合物を得ることもができる。
【００８３】
【表１】
0004463461.tif 000019
【００８４】
【表２】
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【００８５】
【表３】
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【００８６】
【表４】
0004463461.tif 000022