(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と、分子中に２個以上の親水基を持ち分子量が300 以上の界面活性剤からなる研磨パッド用目詰まり防止剤と、一次粒子の平均粒径が１μｍ 以下のα−アルミナと、中間アルミナとを含有してなる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物であって、前記界面活性剤がジイソブチレンとマレイン酸の共重合体、酢酸ビニルとマレイン酸の共重合体及びこれらの塩からなる群より選ばれる、研磨パッド用目詰まり防止剤組成物。
【請求項２】
ニッケルを含有する被研磨物の研磨に用いられる請求項１記載の研磨パッド用目詰まり防止剤組成物。
【請求項３】
請求項１又は２記載の研磨パッド用目詰まり防止剤組成物を用いる被研磨基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、研磨パッド用目詰まり防止剤に関する。また、該研磨パッド用目詰まり防止剤を含有してなる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物及び該研磨パッド用目詰まり防止剤組成物を用いた被研磨基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハードディスクは、年々小型化、高容量化の一途をたどり、その高密度化が進み、最小記録面積が小さくなり、また磁気ヘッドの浮上量もますます小さくなってきていることから、ハードディスク基板の研磨工程で、表面粗さ、微少うねりの低減及びスクラッチ、ピット等の表面欠陥の低減が求められ、これに伴い孔径がより小さくまた硬い研磨パッドが用いられてきている。また、同様な理由により研磨材の平均粒径も小さくなっている。しかしながら、このような状況下の研磨パッドにおいては、従来の研磨液では研磨粒子や研磨カスがパッド孔に滞留、付着しやすく、連続した研磨においてパッド目詰まりを引き起こし、研磨速度の低下、ピット等の表面欠陥の発生等を引き起こすため、パッドドレッシングを頻繁に行う必要がある。これにより作業性、生産性が低下するため、このような研磨パッドの目詰まりを防止することが求められている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、研磨で生じる研磨パッドの目詰まりを防止することにより、目詰まり発生により生ずる連続研磨時の研磨速度の低下、ピット等の表面欠陥発生の防止を解決し、ドレッシング頻度の低減、作業性及び生産性を向上させる研磨パッド用目詰まり防止剤、及びこの研磨パッド用目詰まり防止剤を含有してなる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物及び該研磨パッド用目詰まり防止剤組成物を用いた被研磨基板の製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の要旨は、
（１）  水と、分子中に２個以上の親水基を持ち分子量が300 以上の界面活性剤からなる研磨パッド用目詰まり防止剤と、一次粒子の平均粒径が１μm 以下のα−アルミナと、中間アルミナとを含有してなる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物、
（２）  ニッケルを含有する被研磨物の研磨に用いられる前記（１）記載の研磨パッド用目詰まり防止剤組成物、及び
（３）  前記（１）又は（２）記載の研磨パッド用目詰まり防止剤組成物を用いる被研磨基板の製造方法、
に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられる研磨パッド用目詰まり防止剤（以下、目詰まり防止剤という）は、分子中に２個以上の親水基を持ち、分子量が300 以上の界面活性剤からなるものである。
【０００６】
本発明で使用される分子中に２個以上の親水基を持つ界面活性剤とは、分散質（研磨材、研磨クズ等の固形物）の界面に作用し、分散媒への分散質の分散性を向上させる化合物である。親水基の数はパッド目詰まり防止の観点から、２個以上である。しかし、研磨カス（研磨材、被研磨物の小片等のクズ）が研磨パッドの目詰まりを引き起こさないようにする、つまり研磨カス表面間の静電反発や立体障害反発により研磨カスの分散安定性を保持するという観点から、親水基の数は１０個以上が好ましく、かつ界面活性剤による粒子間相互作用由来の不安定化（架橋等による）を防止するという観点から、親水基の数は３０００個以下が好ましい。より好ましくは１０〜２０００個、更に好ましくは２０〜１５００個である。特に好ましくは２０〜１０００個である。
【０００７】
また、分子中に存在する親水基の種類は、同種でも異種でもよく、特に限定はない。親水基の種類としてはエーテル基（オキシエチレン基等）、水酸基等に代表される非イオン性基、カルボン酸基、スルフォン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基等のイオン性基に代表されるアニオン性基及び４級アンモニウム塩に代表されるカチオン性基が挙げられる。これらの内、研磨パッドの目詰まり防止の観点からアニオン性基やカチオン性基のようなイオン性親水基の方が好ましい。
【０００８】
前記界面活性剤の分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーでのポリスチレンスルフォン酸ナトリウム換算重量平均分子量をいう。該分子量は、パッド目詰まり防止性の観点から、300 以上であるが、好ましくは300 〜100 万、より好ましくは500 〜50万、さらに好ましくは1000〜10万、特に好ましくは1000〜５万である。
【０００９】
本発明に用いられる研磨パッド用目詰まり防止剤である分子中に２個以上の親水基を持つ界面活性剤の具体例を以下に述べる。なお、かぎ括弧で表した名称は、いずれも商品名を示す。親水基が非イオン性基である界面活性剤の例としては「プルロニックL44 」（旭電化工業製）に代表されるポリプロピレングリコールの両末端ポリエチレンオキサイド付加物、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリエチレングリコール（メタ）アクリル酸エステル重合体及びその共重合体等が挙げられる。
【００１０】
また、親水基がアニオン性基である界面活性剤の例としては「UC3120」（東亜合成（株）製）、「ポイズ５３０」（花王（株）製）等に代表される（メタ）アクリル酸（塩）重合体及びその共重合体、マレイン酸（塩）重合体及びその共重合体、「デモールＮ」（花王（株）製）、「デモールＡＳ」（花王（株）製）等に代表されるポリナフタレンスルフォン酸（塩）、「メルフロー」（三井化学（株）製）等に代表されるポリメラミンスルフォン酸（塩）、スルフォン化スチレン（塩）重合体及びその共重合物、アルギン酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロース等に代表される多糖類及びその誘導体等が挙げられる。
【００１１】
親水基がカチオン性基である界面活性剤の例としては、「マーコート１００」（マツモト交商製）、「マーコート５５０」（マツモト交商製）に代表される４級アンモニウム単量体の重合体及びその共重合体、（トリメチルアンモニウムクロライド）エチル（メタ）アクリル酸エステル類の重合体及びその共重合体等が挙げられる。
【００１２】
更に親水基が２種以上混在した界面活性剤の例としては、「C-506 」（クラレ製）、「CM-308」（クラレ製）、「KL318 」（クラレ製）、「SS2217」（クラレ製）等に代表される親水基単量体変性ポリビニルアルコール、「アロンA6016 」（東亜合成（株）製）、「FC-900」（日本触媒製）等に代表される親水基単量体と（メタ）アクリル酸（塩）の共重合物、「マーコート２８０」等に代表される親水基単量体と４級アンモニウム単量体の共重合物等が挙げられる。これらの内、目詰まり防止の観点から、好ましくは親水基としてイオン性基を持つものが好ましく、更に好ましくはアニオン性基を持つものが好ましい。
【００１３】
また、これらのアニオン性基の対イオンとしては、特に限定はなく、具体的には、金属、アンモニウム、アルキルアンモニウム、有機アミン等との塩が挙げられる。金属の具体例としては、周期律表（長周期型）１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂ、４Ａ、６Ａ、７Ａ又は８族に属する金属が挙げられる。これらの金属の中でも、目詰まり低減の観点から１Ａ、３Ａ、３Ｂ、７Ａ又は８族に属する金属が好ましく、１Ａ、３Ａ又は３Ｂ族に属する金属が更に好ましく、１Ａ族に属するナトリウム、カリウムが最も好ましい。
【００１４】
アルキルアンモニウムの具体例としては、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム等が挙げられる。
【００１５】
有機アミン等の具体例としては、ジメチルアミン、トリメチルアミン、アルカノールアミン等が挙げられる。
【００１６】
これらの塩の中では、アンモニウム塩、ナトリウム塩及びカリウム塩が特に好ましい。
【００１７】
本発明の目詰まり防止剤は、水、必要であれば研磨材と混合することで、研磨パッド用目詰まり防止剤組成物（以下、目詰まり防止剤組成物ともいう）として使用することができる。即ち、本発明の目詰まり防止剤組成物は、前記目詰まり防止剤と、研磨材や水等を含有してなるものである。
【００１８】
目詰まり防止剤組成物中における目詰まり防止剤の含有量は、目詰まりを防止する観点及び研磨速度を向上させる観点から、0.0001重量％以上が好ましく、また、経済的な観点、面質を向上させる観点及び研磨液の発泡を抑える観点から、5 重量％以下が好ましい。より好ましくは0.0005〜3 重量％、さらに好ましくは0.001 〜1.5 重量％、もっとも好ましくは0.005 〜0.5 重量％である。なお、目詰まり防止剤は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００１９】
本発明に用いられる研磨材は、研磨用に一般に使用されている研磨材を使用することができる。該研磨材の例としては、金属；金属又は半金属の炭化物、窒化物、酸化物、ホウ化物；ダイヤモンド等が挙げられる。金属又は半金属元素は、周期律表（長周期型）の２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂ、５Ａ、６Ａ、７Ａ又は８族由来のものである。研磨材の具体例として、α−アルミナ粒子、中間アルミナ粒子、炭化ケイ素粒子、ダイヤモンド粒子、酸化マグネシウム粒子、酸化亜鉛粒子、酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、コロイダルシリカ粒子、ヒュームドシリカ粒子等が挙げられ、これらを１種以上使用することは、研磨速度を向上させる観点から好ましい。用途別ではNi-Pメッキされたアルミニウム合金基板の粗研磨はα−アルミナ粒子、中間アルミナ粒子等のアルミナ粒子が、また、Ni-Pメッキされたアルミニウム合金基板の仕上げ研磨はコロイダルシリカ粒子、ヒュームドシリカ粒子等のシリカ粒子が好ましい。ガラス材質の研磨には酸化セリウム粒子及びアルミナ粒子が好ましい。半導体ウェハや半導体素子等の研磨では酸化セリウム粒子、アルミナ粒子及びシリカ粒子が好ましい。
【００２０】
研磨材の一次粒子の平均粒径は、研磨速度を向上させる観点から、好ましくは0.01〜１μm 、さらに好ましくは0.01〜0.8 μm 、特に好ましくは0.02〜0.5 μm である。さらに、一次粒子が凝集して二次粒子を形成している場合は、同様に研磨速度を向上させる観点及び被研磨物の表面粗さを低減させる観点から、その二次粒子の平均粒径は、好ましくは0.02〜3 μm 、さらに好ましくは0.05〜1.5 μm 、特に好ましくは0.1 〜1.2 μm である。特に大きな粒径粒子と比較して、分散が不安定となりやすい一次粒子の平均粒径が１μm 以下の研磨材を用いた場合に本発明の使用効果が大きい。研磨材の一次粒子の平均粒径は、走査型電子顕微鏡で観察（好適には3000〜30000 倍）又は透過型電子顕微鏡で観察（好適には10000 〜300000倍）して画像解析を行い、粒径を測定することにより求めることができる。また、二次粒子の平均粒径はレーザー光回折法を用いて体積平均粒径として測定することができる。
【００２１】
研磨材の比重は、分散性及び研磨装置への供給性や回収再利用性の観点から、その比重は２〜６であることが好ましく、２〜５であることがより好ましい。
【００２２】
研磨材の含有量は、経済性及び表面粗さを小さくし、効率よく研磨することができるようにする観点から、目詰まり防止剤組成物中において好ましくは1 〜40重量％、より好ましくは2 〜30重量％、さらに好ましくは3 〜15重量％である。
【００２３】
本発明の目詰まり防止剤組成物中の水は、媒体として使用されるものであり、その含有量は被研磨物を効率良く研磨する観点から、好ましくは55〜98.9999 重量％、より好ましくは60〜97.5重量％、さらに好ましくは70〜96.8重量％である。
【００２４】
また、本発明の目詰まり防止剤組成物には、目的に応じて他の成分を配合することができる。例えば、研磨速度向上剤の添加、表面粗さ低減剤の添加、ロールオフ低減剤の添加等を行った場合にもその効果を低下させずに目詰まりを防止することも可能である。
【００２５】
研磨速度向上剤としては、水酸基又はチオール基を有しない、炭素数４以上の多価カルボン酸、炭素数２以上のアミノカルボン酸、炭素数２以上のアミノ酸及びその塩が挙げられる。表面粗さ低減剤としてはγ−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、η−アルミナ、κ−アルミナ等の中間アルミナやアルミナゾルが挙げられる。ロールオフ低減剤としては、水酸基又はチオール基を有する、炭素数２〜２０のカルボン酸、炭素数２〜３のジカルボン酸、炭素数１〜２０のモノカルボン酸及びそれらの塩等が挙げられる。
【００２６】
また、他の成分としては、無機酸及びその塩、酸化剤、増粘剤、防錆剤、塩基性物質等が挙げられる。無機酸及びその塩、並びに酸化剤の具体例としては、特開昭62-25187号公報2 頁右上欄3 〜11行目、特開昭63-251163 号公報２頁左下欄７行〜14行、特開平1-205973号公報3 頁左上欄11行〜右上欄2 行、特開平3-115383号公報2 頁右下欄16行〜3 頁左上欄11行、特開平4-275387号公報2 頁右欄27行〜3 頁左欄12行等に記載されているものが挙げられる。
【００２７】
これらの成分は単独で用いても良いし、２種以上を混合して用いても良い。また、その含有量は、それぞれの機能を発現させる観点及び経済性の観点から、好ましくは目詰まり防止剤組成物中０．０５〜２０重量％、より好ましくは０．０５〜１０重量％、さらに好ましくは０．０５〜５重量％である。
【００２８】
尚、前記目詰まり防止剤組成物中の各成分の濃度は、研磨する際の好ましい濃度であるが、該組成物の製造時の濃度であって良い。通常、組成物は濃縮液として製造され、これを使用時に希釈して用いる場合が多い。
【００２９】
目詰まり防止剤組成物のｐＨは、被研磨物の種類や要求品質等に応じて適宜決定することが好ましい。例えば、目詰まり防止剤組成物のｐＨは、被研磨物の洗浄性及び加工機械の腐食防止性、作業者の安全性の観点から、2 〜12が好ましい。また、顕著なパッド目詰まり防止の観点からｐＨは２〜１１、好ましくは３〜１０、更に好ましくは４〜９、特に好ましくは５〜８である。また被研磨物がNi-Pメッキされたアルミニウム合金基板等の金属を主対象とした精密部品用基板である場合、研磨速度の向上と表面品質の向上、パッド目詰まり防止の観点から、ｐＨは２〜１０が好ましく、２〜９がより好ましく、更に２〜７が好ましく、特に好ましくは２〜５である。さらに、半導体ウェハや半導体素子等の研磨、特にシリコン基板、ポリシリコン膜、SiO2膜等の研磨に用いる場合は、研磨速度の向上と表面品質の向上の観点から、7 〜１２が好ましく、8 〜１１がより好ましく、9 〜１１が特に好ましい。該ｐＨは、必要により、硝酸、硫酸等の無機酸、オキシカルボン酸、多価カルボン酸やアミノポリカルボン酸、アミノ酸等の有機酸、及びその金属塩やアンモニウム塩、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミン等の塩基性物質を適宜、所望量で配合することで調整することができる。
【００３０】
本発明の対象である被研磨基板に代表される被研磨物の材質は、例えば、シリコン、アルミニウム、ニッケル、タングステン、銅、タンタル、チタン等の金属又は半金属、及びこれらの金属を主成分とした合金、ガラス、ガラス状カーボン、アモルファスカーボン等のガラス状物質、アルミナ、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒化タンタル、窒化チタン等のセラミック材料、ポリイミド樹脂等の樹脂等が挙げられる。これらの中では、アルミニウム、ニッケル、タングステン、銅等の金属及びこれらの金属を主成分とする合金が被研磨物であるか、又はそれらの金属を含んだ半導体素子等の半導体基板が被研磨物であることが好ましく、特に金属として、ニッケルを含有する被研磨物が研磨カスの目詰まり防止性が高いため、より好ましい。特に、Ni-Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板が、研磨する際に本発明の目詰まり防止剤を用いた場合、目詰まりを特に防止することができるので好ましい。
【００３１】
これらの被研磨物の形状には特に制限がなく、例えば、ディスク状、プレート状、スラブ状、プリズム状等の平面部を有する形状や、レンズ等の曲面部を有する形状が本発明の目詰まり防止剤組成物を用いた研磨の対象となる。その中でも、ディスク状の被研磨物の研磨に特に優れている。
【００３２】
本発明の目詰まり防止剤組成物は、精密部品用基板の研磨に好適に用いられる。例えば、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク等の磁気記録媒体の基板、フォトマスク基板、光学レンズ、光学ミラー、光学プリズム、半導体基板等の研磨に適している。半導体基板の研磨は、シリコンウェハ（ベアウェハ）のポリッシング工程、埋め込み素子分離膜の形成工程、層間絶縁膜の平坦化工程、埋め込み金属配線の形成工程、埋め込みキャパシタ形成工程等において行われる研磨がある。本発明の目詰まり防止剤組成物は、特に磁気ディスク基板の研磨に適している。
【００３３】
本発明の目詰まり防止剤組成物を用いる被研磨基板の製造方法において、上記に挙げた被研磨基板を、本発明の目詰まり防止剤を含有した研磨液又は本発明の目詰まり防止剤組成物そのものを研磨液として用いて研磨することにより、パッド目詰まりを防止させ、連続研磨においても研磨速度の低下やピット等の表面欠陥の発生がなく、パッドドレッシングの頻度が低減でき、作業性、生産性を向上させることができる。
【００３４】
目詰まりを防止する対象物としては、被研磨物を研磨する際に使用する研磨パッド、あるいはパッド中に砥石を固定した研磨パッド等が挙げられ、特に不織布状あるいは多孔質の有機高分子からなる研磨パッドが好ましい。
【００３５】
本発明においてパッド目詰まり防止効果は、例えば、研磨後パッド表面の顕微鏡観察あるいは走査型電子顕微鏡観察することによって、あるいは、連続研磨した時の研磨速度低下割合によって見積もることができる。
【００３６】
また、精密部品用基板等の研磨工程において、本発明の目詰まり防止剤を用いることで、該パッドの目詰まりを顕著に低減させるだけでなく、研磨速度、ロールオフも向上させるという利点がある。
【００３７】
本発明の目詰まり防止剤組成物は、ポリッシング工程において特に効果があるが、これ以外の研磨工程、例えば、ラッピング工程等にも同様に適用することができる。
【００３８】
【実施例】
配合方法１
研磨材（一次粒子の平均粒径0.23μm 、二次粒子の平均粒径0.53μm のα−アルミナ（純度約99.9％））７重量部と、表１に示した目詰まり防止のために配合する化合物を所定量と、イオン交換水残部とを混合・攪拌し、表１に示すｐＨにアンモニア又は硝酸にて調整し、イオン交換水を加えて組成物１００重量部を得た。
【００３９】
配合方法２
研磨材（一次粒子の平均粒径0.23μm 、二次粒子の平均粒径0.53μm のα−アルミナ（純度約99.9％））７重量部、表面粗さ低減剤兼研磨速度向上剤として中間アルミナ（θ−アルミナ、平均粒径0.２μm 、比表面積150m2/g 、純度約99.9% ）１重量部、研磨速度向上剤としてフマル酸0.7 重量部、ロールオフ低減剤としてグリコール酸0.3 重量部と、表２に示した目詰まり防止のために配合する化合物を所定量と、イオン交換水残部とを混合・攪拌し、表２に示すｐＨにアンモニア又は硝酸にて調整し、イオン交換水を加えて組成物１００重量部を得た。
【００４０】
配合方法3
研磨材（一次粒子の平均粒径0.23μm 、二次粒子の平均粒径0.53μm のα−アルミナ（純度約99.9％））７重量部、表面粗さ向上剤兼研磨速度向上剤として中間アルミナ（θ−アルミナ、平均粒径0.2 μm 、比表面積150m2/g 、純度約99.9% ）を１重量部、研磨速度向上剤としてイタコン酸１重量部、ロールオフ低減剤としてクエン酸0.２重量部と、表２に示した研磨パッドの目詰まり防止のために配合する化合物を所定量と、イオン交換水残部とを混合・攪拌し、表２に示すｐＨにアンモニア又は硝酸にて調整し、イオン交換水を加えて組成物１００重量部を得た。
【００４１】
得られた組成物を用い、ランク・テーラーホブソン社製のタリーステップ（触針先端サイズ：25μm ×25μm 、ハイパスフィルター：80μm 、測定長さ：0.64mm）によって測定した中心線平均粗さRaが0.2 μm 、厚さ0.8 mm、直径3.5 インチ（8.89cm) のNi-Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板の表面を両面加工機により、以下の両面加工機の設定条件でポリッシングし、磁気記録媒体用基板として用いられるNi-Pメッキされたアルミニウム合金基板の研磨物を得た。
両面加工機の設定条件を下記に示す。
【００４２】
＜両面加工機の設定条件＞
両面加工機：スピードファーム（株）製、9B型両面加工機
加工圧力：9.8kPa
研磨パッド：ロデールニッタ（株）製「ＤＰＭ２０００」
定盤回転数：50rpm
研磨液組成物供給流量：100ml/min
研磨時間：5min
投入した基板の枚数：10枚
【００４３】
〔研磨速度〕
上記で用いたアルミニウム合金基板の厚さを膜厚計（ミツトヨ（株）製、レーザー膜厚計「Model LGH-110/LHC-11N 」）を用いて測定し、研磨前後のアルミニウム合金基板の厚さ変化から厚さの減少速度を求め、比較例１の１回目の研磨速度を基準として各実施例の１回目研磨速度の相対値を求めた。
【００４４】
〔目詰まり防止能〕
上記研磨条件にて、ドレッシングを使用することなく連続して２０回研磨し、１回目の研磨速度に対する２０回目の研磨速度の比を目詰まり防止能として目詰まり低減効果を見積もった。（１回目の研磨速度に対する２０回目の研磨速度が大きい値ほど目詰まり防止効果が高いことを示す）
【００４５】
〔表面粗さ〕
ランク・テーラーホブソン社製のタリーステップを用いて測定した中心線平均粗さＲａを表面粗さとした。
触針先端サイズ：25μm ×25μm
ハイパスフィルター：80μm
測定長さ：0.64mm
比較例６の１回目の表面粗さを基準として各実施例の１回目表面粗さの相対値を求めた。
【００４６】
〔ロールオフ〕
ミツトヨ社製「フォームトレーサーＳＶ−Ｃ６２４」を用いて以下の条件で測定した。
触針先端半径：２μm （コードＮｏ．１７８−３８１）
触針圧：０．７ｍＮ以下
速度：０．２ｍ／Ｓ
解析ソフト：ＳＶ−６００微細輪郭解析システムversion1.01
フィルター：ＬＰＦ（Ｇａｕｓｓｉａｎ）０．８００ｍｍ
【００４７】
上記の装置を用いて、ディスク中心から42.5mmから47.5mmまでのディスク端部の形状を測定し、Ａ、Ｂ及びＣ点の位置をディスク中心からそれぞれ43mm、47mm及び45mmにとり、解析ソフトを用いて前記測定方法により、Ｄを求めた。この求められたＤを研磨前後のディスク厚さの変化量の１／２で除した値をロールオフ値とした。
比較例６の１回目のロールオフを基準として各実験例の１回目ロールオフの相対値（相対ロールオフ）を求めた。
【００４８】
前記配合方法１で得られた目詰まり防止剤組成物（実施例１〜１０、比較例１〜３）を用いた場合の研磨の結果を表１に、前記配合方法２、３で得られた目詰まり防止剤組成物（実施例１１〜１６、比較例４〜７）の組成及び研磨結果を表２に示す。但し、実施例４、７〜１０、１２、１５〜１６は参考例である。
【００４９】
【表１】
0004424881.tif 000002
【００５０】
表１の結果より、実施例１〜１０で得られた目詰まり防止剤組成物は、いずれも比較例１〜３で得られた組成物に比べ、目詰まり防止能が著しく向上されていることがわかる。
【００５１】
【表２】
0004424881.tif 000003
【００５２】
表２の結果より、実施例１１〜１６で得られた目詰まり防止剤組成物は、いずれも比較例１、４〜７で得られた組成物に比べ、目詰まり防止能が著しく向上されていることがわかる。また、目詰まり防止剤が含有されている実施例１１〜１６は添加されていない比較例４、６のものと同等の表面粗さ、ロールオフを維持していることもわかる。
【００５３】
【発明の効果】
本発明の目詰まり防止剤を精密部品用基板等の研磨に用いることにより、該基板の目詰まりを著しく低減させることに加え、研磨速度も向上させることができるという効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、測定曲線とロールオフとの関係を示す図である。
【図１】
0004424881.tif 000004