(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングと、該ハウジングの内面に取り付けられた軸受メタルとを備えたすべり軸受において、
上記ハウジングの内面及び上記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの小さい方には、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とするすべり軸受。
【請求項２】
前記硬質皮膜の硬度の上限はＨｖ９０００であることを特徴とする請求項１記載のすべり軸受。
【請求項３】
前記ハウジングの内面及び前記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの大きい方には、硬質皮膜が形成されていないことを特徴とする請求項１又は２記載のすべり軸受。
【請求項４】
前記ハウジングの内面及び前記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの大きい方には、Ｈｖ１０００未満の硬度をもつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のすべり軸受。
【請求項５】
前記硬質皮膜はＤＬＣ膜であることを特徴とする請求項１〜４のうちのいずれか一つに記載のすべり軸受。
【請求項６】
前記ＤＬＣ膜は、フッ素、ケイ素及びチタンのうちの少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項５記載のすべり軸受。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハウジングと、該ハウジングの内面に取り付けられた軸受メタルとを備えたすべり軸受に関する。本発明のすべり軸受は、例えば車両用エンジンのコンロッドやクランク軸受部に利用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
自動車の内燃機関用部品としてのコンロッドは、棒状のロッド本体部と、このロッド本体部の一端に設けられた第１取付孔を有する大端部と、ロッド本体部の他端に設けられた第２取付孔を有する小端部とを備えている。そして、大端部の第１取付孔には通常軸受メタルを介してクランクシャフトが回動可能に取り付けられ、小端部の第２取付孔にはピストンピンが回動可能に取り付けられる。
【０００３】
ここに、例えば大端部の第１取付孔とクランクシャフトとの間に介在された軸受メタルは、その内面にアルミニウム合金等の軸受層が形成されている。そして、この軸受メタルとハウジングとしての大端部との間におけるフレッティング摩耗を防止すべく、軸受メタルの背面及び大端部の内面に摩耗防止皮膜を形成することが行われている。
【０００４】
例えば、特開平６−３２３３２７号公報には、厚さ１０μｍ以上の硬質のＮｉ−Ｐメッキ層を大端部の内面に形成したアルミニウム合金製コンロッドが開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記Ｎｉ−Ｐメッキ層を設けたコンロッドでは、初期のフレッティング特性は良好であるが、例えば１８０時間以上の長時間の耐久試験後においてはフレッティング摩耗によりＮｉ−Ｐメッキ層が摩滅し、十分な耐フレッティング性が得られないという問題があった。
【０００６】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、ハウジングと軸受メタルとの間におけるフレッティング摩耗を長期間にわたって効果的に防止しうるすべり軸受を提供することを解決すべき技術課題とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明のすべり軸受は、ハウジングと、該ハウジングの内面に取り付けられた軸受メタルとを備えたすべり軸受において、上記ハウジングの内面及び上記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの小さい方には、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とするものである。好ましくは、前記硬質皮膜の硬度の上限はＨｖ９０００である。また、前記すべり軸受において、好ましくは、前記ハウジングの内面及び前記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの大きい方には、硬質皮膜が形成されていない。又は前記ハウジングの内面及び前記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの大きい方には、Ｈｖ１０００未満の硬度をもつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
好適な態様において、前記硬質皮膜はＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜であり、特にフッ素、ケイ素及びチタンのうちの少なくとも一種を含有するＤＬＣ膜であることが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明のすべり軸受は、ハウジングと、該ハウジングの内面に取り付けられた軸受メタルとを備えている。
【００１０】
上記ハウジング及び軸受メタルの形状は特に限定されるものではなく、本発明を適用しようとする製品形状に応じて適宜設定可能である。ただし、軸受メタルはハウジングの内面に取り付けられるものであり、ハウジングの内面及び軸受メタルの背面同士が整合して当接し合うように、ハウジングの内面形状及び軸受メタルの背面形状は対応した形状とされる。
【００１１】
また、軸受メタルの内面には、アルミニウム合金等の所定の軸受合金層が必要に応じて形成される。
【００１２】
そして、本発明のすべり軸受では、上記ハウジングの内面及び上記軸受メタルの背面のうちの表面粗さの小さい方に、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質皮膜が形成されていることを特徴とする。
【００１３】
上記硬質皮膜は、ハウジングの内面及び軸受メタルの背面間におけるフレッティング摩耗を防止するためのものである。この硬質皮膜が直接形成されて該硬質皮膜により覆われた面は、Ｈｖ１０００以上と硬度が高く摩滅もし難い硬質皮膜により、長期間にわたって摩耗が確実に防止される。なお、この硬質皮膜の硬度がＨｖ１０００未満であると、硬質皮膜自身が摩滅し易くなることから、該硬質皮膜で覆われた面における耐摩耗性を長期間にわたって十分に高く維持することが困難となる。一方、硬質皮膜の硬度が極端に高くなると、相手攻撃性の増大による不都合が生じるため、硬質皮膜の硬度の上限はＨｖ９０００程度とすることが好ましい。
【００１４】
このように硬質皮膜により覆われた面における耐摩耗性を長期間にわたって高く維持する観点からは、該硬質皮膜の硬度はより高い方が好ましく、硬質皮膜自身がより摩滅し難いものであることが好ましい。しかし、硬質皮膜の硬度が高くなると、硬質皮膜自身の相手攻撃性が大きくなって、硬質皮膜の形成されていない相手側の面が該硬質皮膜により攻撃されて摩耗し易くなるという懸念を生ずる。
【００１５】
そこで、本発明のすべり軸受では、硬度の高い硬質皮膜であっても該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃性を抑えるべく、ハウジングの内面及び軸受メタルの背面のうちの表面粗さの小さい方の面にＨｖ１０００以上と極めて硬度の高い硬質皮膜を形成している。このように表面粗さの小さい面に形成された硬質皮膜は、この硬質皮膜自身の表面粗さも形成される面の表面粗さに応じて小さくなり、その結果該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃性も小さくなる。
【００１６】
したがって、本発明のすべり軸受では、硬質皮膜で覆われた面及び硬質皮膜の形成されていない相手側の面の双方における耐摩耗性を長期間にわたって高く維持することができる。よって、本発明のすべり軸受では、ハウジングと軸受メタルとの間におけるフレッティング摩耗を長期間にわたって効果的に防止することが可能となる。
【００１７】
なお、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質皮膜は、ハウジングの内面及び軸受メタルの背面のうちの表面粗さの小さい方に形成すれば、上記した本発明の作用効果を発揮しうる。ただし、必要に応じて表面粗さの大きい（粗い）方の面にも所定の硬質皮膜を形成してもよい。この表面粗さの粗い方の面に形成される硬質皮膜は、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつものでも、Ｈｖ１０００未満の硬度をもつものでも、いずれでもよいが、表面粗さの小さい方の面に形成された硬質皮膜に対する相手攻撃性を抑えるべくＨｖ１０００未満（望ましくはＨｖ３００〜７００程度）の硬度をもつものとすることが好ましい。このように表面粗さの大きい方の面にも硬質皮膜を形成すれば、表面粗さの小さい方の面に形成された硬質皮膜による攻撃から該表面粗さの大きい方の面を護ることができ、該表面粗さの大きい方の面における耐摩耗性をより向上させることが可能となる。
【００１８】
ハウジングの内面及び軸受メタルの背面のうちの表面粗さの小さい方に形成される、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ上記硬質皮膜の好適な態様は、以下のとおりである。
【００１９】
この硬質皮膜を構成する材料としては、特に限定されず、ＴｉＮ、ＣｒＮ、Ｃｒ2 ＮやＷＣ等を採用することもできるが、炭素系のものを採用することが好ましい。炭素系の硬質皮膜であれば、ＴｉＮやＣｒＮ等と比べて、鉄系の相手材との凝着が起こり難いので、硬質皮膜自身の摩滅をより抑えることができると考えられる。
【００２０】
また、この炭素系硬質皮膜には、結晶性のダイヤモンド膜や、非晶質炭素よりなるＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜があるが、これらのうちではＨｖ１０００〜５０００程度のＤＬＣ膜が特に好ましい。ＤＬＣ膜は、鉄系の相手材との凝着が起こり難く、またＤＬＣ膜自身の表面粗さが該ＤＬＣ膜を形成する面の表面粗さとなる。すなわち、ＤＬＣ膜の成膜処理の前後で表面粗さが変化せず、ＤＬＣ膜を形成する面を研磨等して表面粗さを小さくしておけば、その面に形成されるＤＬＣ膜自身の表面粗さもそれと同等に小さくなる。したがって、ＤＬＣ膜によれば、相手攻撃性を小さくすることができるとともに、相手材の摩耗粉等によりＤＬＣ膜自身が摩滅することもより抑えるができる。なお、このようなＤＬＣ膜は化学蒸着（ＣＶＤ）法、プラズマＣＶＤ法やイオンビーム形成法等により成膜することができる。これに対し、結晶性のダイヤモンド膜は、硬度がＨｖ７０００〜８０００程度と極端に高くなるとともに、結晶相の成長によりダイヤモンド膜自身の表面粗さが大きくなることから、相手攻撃性が大きくなる。
【００２１】
また、硬質皮膜としてＤＬＣ膜を採用した場合は、フッ素、ケイ素及びチタンのうちの少なくとも一種を含有させることが好ましい。ＤＬＣ膜にこれらの成分を添加することにより、鉄系の相手材に対する耐凝着性をさらに向上させることができ、耐フレッティング特性をより向上させることが可能となる。なお、フッ素、ケイ素及びチタンの合計の含有量は、硬質皮膜全体を１００ｖｏｌ％としたとき、０．５〜３０ｖｏｌ％とすることが好ましい。フッ素、ケイ素及びチタンの合計の含有量が０．５ｖｏｌ％よりも少ないと、これらの成分を添加することによる効果が得られず、３０ｖｏｌ％よりも多いと、十分な硬さが得られなくなる。
【００２２】
上記硬質皮膜の膜厚としては、０．５〜５μｍ程度とすることが好ましい。膜厚が０．５μｍよりも薄いと均一な硬質皮膜の形成が困難となり、膜厚が５μｍよりも厚いと剥離し易くなる。
【００２３】
また、上記硬質皮膜が形成される面の表面粗さの大きさは、この面に形成される硬質皮膜自身の表面粗さの大きさに影響を及ぼす。このため、ハウジングの内面及び軸受メタルの背面のうち、硬質皮膜が形成される表面粗さの小さい方の面は、１０μｍＲｚ以下の表面粗さとすることが好ましく、５μｍＲｚ以下の表面粗さとすることが特に好ましい。
【００２４】
【実施例】
以下、本発明の具体的な実施例について、図面を参照しつつ説明する。
【００２５】
本実施例は、自動車の内燃機関用部品としてのコンロッドの大端部におけるすべり軸受部に本発明を適用したものである。
【００２６】
（実施例１）
図１に示すコンロッドは、Ｈｖ２４０の硬度をもつＳ４５Ｃ調質材よりなり、棒状のロッド本体部１と、このロッド本体部１の一端に設けられた大端部２と、ロッド本体部１の他端に設けられた小端部３とを備えている。
【００２７】
上記大端部２は、二分割されており、ボルト４により一体化されている。この大端部２は、本発明に係るハウジングを構成するもので、円形断面の第１取付孔２ａが設けられている。そして、大端部２の第１取付孔２ａの内面には、それぞれが半円形断面をなす一対の軸受メタル５、５が取り付けられている。なお、この第１取り付け孔２ａには、各軸受メタル５、５を介して図示しないクランクシャフトが取り付けられる。また、この大端部２の第１取り付け孔２ａの内面（ハウジングの内面）は、表面粗さが１０μｍＲｚとされている。
【００２８】
上記軸受メタル５は、Ｈｖ１８０の硬度をもつ冷間圧延鋼板（ＳＰＣＣ）よりなり、背面及び内面における表面粗さが４μｍＲｚとされている。そして、図２に示すように、軸受メタル５の内面には、アルミニウム合金（Ａｌ−２０Ｓｎ）よりなる軸受合金層５１が形成されるとともに、軸受メタル５の背面には硬質皮膜６が形成されている。
【００２９】
すなわち、硬質皮膜６は、大端部２の第１取り付け孔２ａの内面（ハウジングの内面）及び軸受メタル５の背面のうちの表面粗さの小さい方に形成されている。この硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ３０００の硬度をもつＤＬＣ膜よりなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、成膜条件は、バイアス電圧：−１．０ｋＶ、電子ビーム電流：１００ｍＡ、真空度：０．３Ｐａとした。また、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされている。
【００３０】
上記小端部３には、図示しないピストンピンが回転可能に取り付けられる円形断面の第２取り付け孔３ａが設けられている。
【００３１】
（実施例２）
本実施例は、軸受メタル５の背面に形成する硬質皮膜６の硬度を変更すること以外は、前記実施例１と同様である。
【００３２】
すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ１３００の硬度をもつＤＬＣ膜よりなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、成膜条件は、バイアス電圧：−０．９ｋＶ、電子ビーム電流：１００ｍＡ、真空度：０．５Ｐａとした。また、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされている。
【００３３】
（実施例３）
本実施例は、軸受メタル５の背面に形成する硬質皮膜６をＴｉＮ膜とすること以外は、前記実施例１と同様である。
【００３４】
すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ２３００の硬度をもつＴｉＮ膜よりなり、アークイオンプレーティング法により成膜した。なお、成膜条件は、アーク電流：１００Ａ、バイアス電圧：１００Ｖとした。また、このＴｉＮ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが５μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さ４μｍよりも粗くなっている）とされている。
【００３５】
（実施例４）
本実施例は、軸受メタル５の背面に形成する硬質皮膜６をＣｒＮ膜とすること以外は、前記実施例１と同様である。
【００３６】
すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ１４００の硬度をもつＣｒＮ膜よりなり、アークイオンプレーティング法により成膜した。なお、成膜条件は、アーク電流：１００Ａ、バイアス電圧：９０Ｖとした。また、このＣｒＮ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４．５μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さ４μｍよりも若干粗くなっている）とされている。
【００３７】
（実施例５）
本実施例は、軸受メタル５の背面に形成する硬質皮膜６を結晶性ダイヤモンド膜とすること以外は、前記実施例１と同様である。
【００３８】
すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ８０００程度の硬度をもつ結晶性ダイヤモンド膜よりなり、ＣＶＤプラズマ成膜装置を用いたＣＶＤダイヤモンド合成法により成膜した。なお、成膜条件は、プラズマ：２．４５ＧＨｚ、２ｋＷ、成膜温度：７００℃とした。また、このダイヤモンド膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが５．５μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さ４μｍよりも粗くなっている）とされている。
【００３９】
（実施例６）
本実施例は、軸受メタル５の背面に形成する硬質皮膜６をフッ素及びケイ素を含有するＤＬＣ膜とすること以外は、前記実施例１と同様である。
【００４０】
すなわち、本実施例の硬質皮膜６は、膜厚が２μｍでＨｖ３０００の硬度をもち、硬質皮膜６全体を１００ｖｏｌ％としたときフッ素及びケイ素を合計で１０ｖｏｌ％含有するＤＬＣ膜よりなる。なお、フッ素及びケイ素は、マグネトロンスパッタリング装置を使用することにより、ＤＬＣ膜に含有させた。また、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされている。
【００４１】
（実施例７）
本実施例は、ハウジングの内面、すなわち大端部２の第１取り付け孔２ａの内面を軸受メタル５の背面よりも表面粗さを小さくし、軸受メタル５の背面ではなく、この第１取り付け孔２ａの内面に硬質皮膜６を形成するもので、その他の構成は前記実施例１と同様である。
【００４２】
すなわち、前記大端部２の第１取り付け孔２ａの内面の表面粗さを３μｍＲｚに仕上げて軸受メタル５の背面の表面粗さ（４μｍＲｚ）よりも小さくし、この第１取り付け孔２ａの内面に硬質皮膜６を形成した。
【００４３】
この硬質皮膜６は、前記実施例１と同様、膜厚が２μｍで、Ｈｖ３０００の硬度をもつＤＬＣ膜よりなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが３μｍＲｚ（第１取り付け孔２ａの内面における表面粗さと同等）とされている。
【００４４】
（比較例１）
この比較例は、軸受メタル５の背面に形成する硬質皮膜６の硬度を変更すること以外は、前記実施例１と同様である。
【００４５】
すなわち、この比較例の硬質皮膜６は、膜厚が２μｍで、Ｈｖ９００の硬度をもつＤＬＣ膜よりなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、成膜条件は、バイアス電圧：−０．９ｋＶ、電子ビーム電流：１００ｍＡ、真空度：１Ｐａとした。また、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされている。
【００４６】
（比較例２）
この比較例は、大端部２の第２取り付け孔２ａの内面（ハウジングの内面）及び軸受メタル５の背面のうち、表面粗さの大きい方の面に硬質皮膜６を形成するもので、その他の構成は前記実施例１と同様である。
【００４７】
すなわち、軸受メタル５の背面（表面粗さ４μｍＲｚ）ではなく、大端部２の第１取り付け孔２ａの内面（表面粗さ１０μｍＲｚ）に硬質皮膜６を形成した。
【００４８】
この硬質皮膜６は、前記実施例１と同様、膜厚が２μｍで、Ｈｖ３０００の硬度をもつＤＬＣ膜よりなり、イオンビーム形成法により成膜した。なお、このＤＬＣ膜よりなる硬質皮膜６は、表面粗さが１０μｍＲｚ（第１取り付け孔２ａの内面における表面粗さと同等）とされている。
【００４９】
（比較例３）
この比較例は、軸受メタル５の背面に硬質皮膜６の代わりにＮｉ−Ｐめっき膜を形成すること以外は、前記実施例１と同様である。
【００５０】
すなわち、この比較例では、無電界めっき処理を施すことにより、膜厚が１５μｍで、Ｈｖ７００の硬度をもつＮｉ−Ｐめっき膜を軸受メタル５の背面に成膜した。なお、成膜は、次亜リン酸塩を還元剤とする通常の方法で行った。また、このＮｉ−Ｐめっき膜は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされている。
【００５１】
（比較例４）
この比較例は、軸受メタル５の背面に硬質皮膜６の代わりにＰＴＦＥ含有のＮｉめっき膜を形成すること以外は、前記実施例１と同様である。
【００５２】
すなわち、この比較例では、無電界めっき処理を施すことにより、膜厚が１０μｍで、Ｈｖ４００の硬度をもち、ＰＴＦＥを５ｗｔ％含有するＮｉめっき膜を軸受メタル５の背面に成膜した。なお、成膜は、ＰＴＦＥ粒径０．２〜０．３μｍ、硝酸ニッケル、次亜リン酸ソーダ、アルキルジカルボン酸（反応促進剤）、安定剤及びＰＨ調整剤よりなる浴温８５〜９０℃のめっき液に約３０分浸漬することにより行った。また、このＰＴＦＥ含有Ｎｉめっき膜は、表面粗さが４μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さと同等）とされている。
【００５３】
（比較例５）
この比較例は、軸受メタル５の背面に硬質皮膜６の代わりにリン酸マンガン処理膜を形成すること以外は、前記実施例１と同様である。
【００５４】
すなわち、この比較例では、通常のスリッパーディップ法によるリン酸マンガン処理を施すことにより、膜厚が１０μｍのリン酸マンガン処理膜を軸受メタル５の背面に成膜した。なお、このリン酸マンガン処理膜は、表面粗さが７μｍＲｚ（軸受メタル５の背面における表面粗さ４μｍよりも粗くなっている）とされている。
【００５５】
【表１】
0004447150.tif 000002
【００５６】
（評価）
前記実施例１〜７及び比較例１〜５で示したコンロッドについて、実機耐久試験を実施して、処理層の摩滅状況及びフレッティング摩耗の発生状況を調べた。なお、試験条件は、４気筒２０００ｃｃのガソリンエンジンを使用し、７６００ｒｐｍ×１８０時間×全負荷とした。
【００５７】
評価結果を表１に示すように、Ｈｖ１０００以上の硬度をもつ硬質皮膜６を表面粗さの小さい方の面に形成した本実施例１〜７では、１８０時間経過後においてもフレッティング摩耗が発生しなかった。
【００５８】
また、処理層、すなわち硬質皮膜６としてＴｉＮ、ＣｒＮ、ダイヤモンドを採用した実施例３、４、５では、１６０〜１７０時間経過後に処理層が摩滅したのに対し、処理層としてＤＬＣ膜を採用した実施例１、２、６、７では、１８０時間経過後においても処理層が摩滅せず、処理層の全体が残存していた。これは、ＤＬＣ膜は、ＴｉＮやＣｒＮと比べて相手材（Ｓ４５ｃ）に対する凝着性が低いこと、及びダイヤモンドと比べて相手攻撃性が小さいことに因るものと考えられる。なお、ダイヤモンドもＤＬＣと同様、相手材（Ｓ４５ｃ）に対する凝着性が低いものであるが、Ｈｖ８０００と極めて硬度が高く、しかもダイヤモンド膜の表面粗さが５．５μｍＲｚとＤＬＣ膜の表面粗さ（４μｍＲｚ）よりも粗くなっていることから、ダイヤモンド膜による相手攻撃性が増大する。このため、実施例５では、相手材の摩耗粉の影響により、処理層が摩滅したものと考えられる。
【００５９】
また、硬質皮膜６として、Ｆ及びＳｉ含有のＤＬＣを採用した実施例６では、Ｆ及びＳｉ成分により相手材（Ｓ４５Ｃ）に対する耐凝着性が向上し、耐フレッティング特性が一層向上した。
【００６０】
一方、比較例１〜５では、いずれも１３０時間経過以前に処理層が摩滅するとともに、１８０時間経過後にフレッティング摩耗が発生していた。処理層（ＤＬＣ）の硬度がＨｖ９００と低すぎる比較例１では、１２０時間経過後に処理層が摩滅した。また、表面粗さの大きい方の面に処理層（Ｈｖ３０００のＤＬＣ）を形成した比較例２では、試験初期段階から処理層による相手攻撃性が大きく、その結果１３０時間経過後に処理層が摩滅した。また、処理層の硬度がＨｖ７００以下と低すぎる比較例３〜５では、いずれも短時間のうちに処理層が摩滅した。
【００６１】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明のすべり軸受では、ハウジング内面及び軸受メタル背面のうちの表面粗さの小さい方に硬度の高い硬質皮膜を形成することにより、硬質皮膜で覆われた面及び硬質皮膜の形成されていない相手側の面の双方における耐摩耗性を長期間にわたって高く維持することができ、ハウジングと軸受メタルとの間におけるフレッティング摩耗を長期間にわたって効果的に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本実施例に係るコンロッドの平面図である。
【図２】  本実施例に係り、軸受メタルの背面に硬質皮膜を形成した状態を示す平面図である。
【符号の説明】
１…コンロッド本体部            ２…大端部（ハウジング）
５…軸受メタル                  ６…硬質皮膜
【図１】
0004447150.tif 000003
【図２】
0004447150.tif 000004