(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線吸収性の透明基材フィルム上に、光重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物を適用して紫外線硬化性層を形成し、形成後、前記紫外線硬化性層上を該紫外線硬化性層に対して付着の生じない酸素不透過性素材で被覆し、被覆後、前記透明基材フィルム側より紫外線を照射して前記紫外線硬化性層を硬化させてなるハードコート層が積層されており、
前記光重合開始剤は、前記透明基材フィルムが吸収する紫外波長域以外の紫外波長域で光重合を開始し得る光重合開始剤である
ことを特徴とするハードコート層を有するフィルム。
【請求項２】
前記透明基材フィルムが波長３５０ｎｍ未満の紫外線を吸収するものであり、前記光重合開始剤が波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を吸収するものであることを特徴とする請求項１記載のハードコート層を有するフィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層の表面に微細な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載のハードコート層を有するフィルム。
【請求項４】
前記透明基材フィルムと前記ハードコート層との間にプライマー層が積層されていることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載のハードコート層を有するフィルム。
【請求項５】
前記透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載のハードコート層を有するフィルム。
【請求項６】
最表層に防汚層が積層されていることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載のハードコート層を有するフィルム。
【請求項７】
請求項１〜５いずれか記載のハードコート層を有するフィルムの前記ハードコート層上に、高屈折率層、および低屈折率層が順に積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１〜５いずれか記載のハードコート層を有するフィルムの前記ハードコート層上に、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層が順に積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１〜５いずれか記載のハードコート層を有するフィルムの前記ハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層が順に積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項７および８における前記高屈折率層、並びに請求項９における中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる薄膜、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した樹脂膜からなり、請求項７〜９における低屈折率層が、ＳｉＯ２からなる薄膜、ＳｉＯ２ゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化膜であり、請求項９における高屈折率層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属薄膜、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した樹脂膜であることを特徴とする請求項７〜９いずれか記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
請求項７および８における前記高屈折率層、並びに請求項９における中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる薄膜からなり、請求項７〜９における低屈折率層が、ＳｉＯ２からなる薄膜であり、請求項９における高屈折率層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属薄膜であることを特徴とする請求項７〜９いずれか記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】
請求項７および８における前記高屈折率層、並びに請求項９における中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる超微粒子が分散した樹脂膜からなり、請求項７〜９における低屈折率層が、ＳｉＯ２ゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化膜であり、請求項９における高屈折率層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた超微粒子が分散した樹脂膜からなることを特徴とする請求項７〜９いずれか記載の反射防止フィルム。
【請求項１３】
最表層の低屈折率層の表面に、さらに防汚層が積層されていることを特徴とする請求項７〜１２いずれか記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
紫外線吸収性の透明基材フィルム上に、光重合開始剤含有する紫外線硬化性樹脂組成物を適用して紫外線硬化性層を形成し、形成後、前記紫外線硬化性層上を該紫外線硬化性層に対して付着の生じない酸素不透過性素材で被覆し、被覆後、透明基材フィルム側より紫外線を照射して前記紫外線硬化性層を硬化させるものであり、前記光重合開始剤は、前記透明基材フィルムが吸収する紫外波長域以外の紫外波長域で光重合を開始し得る光重合開始剤であることを特徴とするハードコート層を有するフィルムの製造方法。
【請求項１５】
前記透明基材フィルムが波長３５０ｎｍ未満の紫外線を吸収するものであり、前記光重合開始剤が波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を吸収するものであることを特徴とする請求項１４記載のハードコート層を有するフィルムの製造方法。
【請求項１６】
前記酸素不透過性素材として、その前記紫外線硬化性層に接する側が、微細な凹凸を有するものであるものを使用することを特徴とする請求項１４または１５記載のハードコート層を有するフィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記透明基材フィルム上に、前記紫外線硬化性層を形成するのに先立って、プライマー層を形成することを特徴とする請求項１４〜１６いずれか記載のハードコート層を有するフィルムの製造方法。
【請求項１８】
前記透明基材フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルムを使用することを特徴とする請求項１４〜１７いずれか記載のハードコート層を有するフィルムの製造方法。
【請求項１９】
請求項１４〜１８いずれか記載のハードコート層を有するフィルムの製造方法に続けて、前記ハードコート層上に、高屈折率層、および低屈折率層を順に積層する、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層を順に積層する、もしくは中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層を順に積層することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２０】
前記中屈折率層の形成および前記中屈折率層の無い場合の前記高屈折率層を、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる素材を用いて気相で薄膜形成するか、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成し、前記低屈折率層を、ＳｉＯ２を用いて気相で薄膜形成するか、もしくはＳｉＯ２ゾルを用いてゲル膜を形成するか、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して紫外線を照射することにより形成し、前記中屈折率層上に形成する前記高屈折率層を、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属を用いて気相で薄膜形成するか、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成することを特徴とする請求項１９記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２１】
前記中屈折率層の形成および前記中屈折率層の無い場合の前記高屈折率層を、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる素材を用いて気相で薄膜形成し、前記低屈折率層を、ＳｉＯ２を用いて気相で薄膜形成し、前記中屈折率層上に形成する前記高屈折率層を、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属を用いて気相で薄膜形成することを特徴とする請求項２０記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２２】
前記中屈折率層の形成および前記中屈折率層の無い場合の前記高屈折率層を、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成し、前記低屈折率層を、ＳｉＯ２ゾルを用いてゲル膜を形成するか、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して紫外線を照射することにより形成し、前記中屈折率層上に形成する前記高屈折率層を、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成することを特徴とする請求項２０記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２３】
請求項１、２、３、４、５若しくは６記載のハードコート層を有するフィルム、又は、請求項７、８、９、１０、１１、１２若しくは１３記載の反射防止フィルムを用いてなることを特徴とするディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、種々のプラスチックフィルム等の表面に塗装を施し、耐擦傷性等の硬度や耐汚染性等の、物理的および化学的な性状を向上させ耐久性の高いハードコート層を有するフィルム、および製造方法に関するものである。
また、本発明は、ハードコート層を有するフィルムを利用した、液晶ディスプレイ、ＣＲＴ（陰極線管）ディスプレイ、もしくはプラズマディスプレイパネル等のディスプレイの前面に貼る等して使用するための反射防止フィルム、および製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ハードコート層を有するフィルムは、種々の物品に貼って使用され、その物品の外観、表示機器に貼る場合であれば、その表示内容が見えるよう、全体としては無色透明、もしくは有色透明であり、かつ、表面には耐久性の高い硬化性樹脂の硬化皮膜を有したものである。
【０００３】
こうしたハードコート層を有するフィルムは、熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂を用いて形成された塗膜に、前者にあっては加熱を施し、また後者にあっては紫外線の照射を行なって、塗膜を架橋させ、必要な耐久性を付与して製造しており、最近では、製造時の処理速度の点から、紫外線硬化性樹脂を用いて形成された塗膜に、紫外線の照射を行なって、製造することが多い。
【０００４】
紫外線がよく利用されるのは、紫外線光源が電子線源にくらべて、コンパクトで、安全であり、かつ安価に入手できる等の理由によるが、紫外線が物質を透過する能力は電子線にくらべて劣るため、紫外線吸収性の物質が介在すると、照射の効率が低下し、充分な硬化度合いが得られないことから、耐久性が今一つであり、一層の向上が求められている。
【０００５】
また、ハードコート層を形成する際に、透明基材フィルム上に紫外線硬化性塗膜を形成した後、透明基材フィルム側から紫外線を照射しようとすると、透明基材フィルムとして使用するプラスチックフィルムには、フィルム自身を紫外線による劣化から守るため、紫外線吸収剤が練り込まれているものが多く、事実上、透明基材フィルム側からの紫外線の照射による塗膜の硬化は難しい。
例えば、可視光に対する透明性がよく、光学的用途によく使用されるトリアセチルセルロースフィルムは、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収剤を含んでおり、３４０ｎｍ〜３５０ｎｍ前後の範囲の紫外線を吸収する。
【０００６】
そこで、紫外線硬化性塗膜側から紫外線を照射すれば、透明基材フィルムにより紫外線が吸収される問題は解消するが、塗膜側を被覆せずに紫外線を照射すると、空気中の酸素の存在により、重合が阻害され、重合度が充分に向上せず、ハードコート層としての充分な耐久性が得られない不利が避けられないし、また、塗膜側を透明プラスチックフィルム等で被覆しようとすると、塗膜が付着しやすいため、被覆材の透明プラスチックフィルムが消耗品となってしまい、素材の無駄になる。
【０００７】
ところで、ハードコート層を有するフィルムには、ハードコート層上に屈折率の異なる金属薄膜等を複数層積層して、反射防止フィルムとし、各種のディスプレイの表面に貼って使用することがある。
このディスプレイ用の反射層防止フィルムの場合、表側からの入射光線の反射は、複数層積層した金属薄膜により防止されるが、裏側からのディスプレイによる光が、特定の箇所で高輝度になって見えることを防止する意味で、光拡散剤を練り込むか、ハードコート層に微細な凹凸を形成する必要がある。
【０００８】
前者の光拡散剤を練り込む方法においては、光拡散剤を絶えず一定の割合で使用することが、製造管理上難しい。
後者においては、透明な凹凸フィルムを紫外線硬化性塗膜上にかぶせ、凹凸フィルム側から紫外線を照射することにより、凹凸を賦型できるが、やはり、凹凸フィルムに塗膜の素材が付着しやすく、消耗品となるため、資材の無駄がある。
そこで、一旦、塗膜を硬化させてからエンボス版を使用して凹凸を賦型するようにすれば、凹凸フィルムが消耗品となる不利はなくなるが、塗膜がすでに硬化しているので、賦型による凹凸の再現性が不十分となる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明においては、ハードコート層を有するフィルムとして、製造時に、塗膜に付着しやすい透明プラスチックフィルムが不要で、耐久性の高いものを提供すること、製造時に、塗膜に付着しやすいフィルムが不要でありながら、表面が平坦であるか、もしくはエンボスが施され、しかも充分に型面の凹凸を再現した凹凸が付与されたものを提供することを課題とするものである。
また、本発明においては、上記のフィルムのハードコート層上に、気相で薄膜形成するか、もしくは超微粒子を分散した塗料組成物を用いて塗布することにより、ディスプレイ上に設置した際にディスプレイからの光が特定の箇所で高輝度になって見えることが防止され、凹凸付与の際の再現性を高めた反射防止フィルムを提供することを課題とするものである。
【００１０】
【課題を解決する手段】
本発明においては、透明基材フィルム上に積層する紫外線硬化性組成物中に、光重合開始剤として、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域で有効な光重合開始剤を含有させて使用することにより、上記の課題を解決することができた。
【００１１】
第１〜第６の発明は、ハードコート層を有するフィルムに関するものである。第１の発明は、紫外線吸収性の透明基材フィルム上に、光重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物を適用して紫外線硬化性層を形成し、形成後、前記紫外線硬化性層上を該紫外線硬化性層に対して付着の生じない酸素不透過性素材で被覆し、被覆後、前記透明基材フィルム側より紫外線を照射して前記紫外線硬化性層を硬化させてなるハードコート層が積層されており、前記光重合開始剤は、前記透明基材フィルムが吸収する紫外波長域以外の紫外波長域で光重合を開始し得る光重合開始剤であることを特徴とするハードコート層を有するフィルムに関するものである。第２の発明は、第１の発明において、前記透明基材フィルムが波長３５０ｎｍ未満の紫外線を吸収するものであり、前記光重合開始剤が波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を吸収するものであることを特徴とするハードコート層を有するフィルムに関するものである。第３の発明は、第１または第２の発明において、前記ハードコート層の表面に微細な凹凸が形成されていることを特徴とするハードコート層を有するフィルムに関するものである。第４の発明は、第１〜第３いずれかの発明において、前記透明基材フィルムと前記ハードコート層との間にプライマー層が積層されていることを特徴とするハードコート層を有するフィルムに関するものである。第５の発明は、第１〜第４いずれかの発明において、前記透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とするハードコート層を有するフィルムに関するものである。第６の発明は、第１〜第５いずれかの発明において、最表層に防汚層が積層されていることを特徴とするハードコート層を有するフィルムに関するものである。
【００１２】
第７〜第１３の発明は、反射防止フィルムに関するものである。
第７の発明は、第１〜第５いずれかの発明のハードコート層を有するフィルムの前記ハードコート層上に、高屈折率層、および低屈折率層が順に積層されていることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
第８の発明は、第１〜第５いずれかの発明のハードコート層を有するフィルムの前記ハードコート層上に、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層が順に積層されていることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
第９の発明は、第１〜第５いずれかの発明のハードコート層を有するフィルムの前記ハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層が順に積層されていることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
第１０の発明は、第７〜第９いずれかの発明において、第７および第８の発明における前記高屈折率層、並びに第９の発明における中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＨｆＯ2、およびＺｒＯ2からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる薄膜、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した樹脂膜からなり、第７〜第９の発明における低屈折率層が、ＳｉＯ2からなる薄膜、ＳｉＯ2ゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化膜であり、第９の発明における高屈折率層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属薄膜、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した樹脂膜であることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
第１１の発明は、第７〜第９いずれかの発明において、第７および第８の発明における前記高屈折率層、並びに第９の発明における中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＨｆＯ2、およびＺｒＯ2からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる薄膜からなり、第７〜第９の発明における低屈折率層が、ＳｉＯ2からなる薄膜であり、第９の発明における高屈折率層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属薄膜であることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
第１２の発明は、第７〜第９いずれかの発明において、第７および第８の発明における前記高屈折率層、並びに第９における中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＨｆＯ2、およびＺｒＯ2からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる超微粒子が分散した樹脂膜からなり、第７〜第９の発明における低屈折率層が、ＳｉＯ2ゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化膜であり、第９の発明における高屈折率層が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた超微粒子が分散した樹脂膜からなることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
第１３の発明は、第７〜第１２いずれかの発明において、最表層の低屈折率層の表面に、さらに防汚層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルムに関するものである。
【００１３】
第１４〜第１８の発明は、ハードコート層を有するフィルムの製造方法に関するものである。第１４の発明は、紫外線吸収性の透明基材フィルム上に、光重合開始剤含有する紫外線硬化性樹脂組成物を適用して紫外線硬化性層を形成し、形成後、前記紫外線硬化性層上を該紫外線硬化性層に対して付着の生じない酸素不透過性素材で被覆し、被覆後、透明基材フィルム側より紫外線を照射して前記紫外線硬化性層を硬化させるものであり、前記光重合開始剤は、前記透明基材フィルムが吸収する紫外波長域以外の紫外波長域で光重合を開始し得る光重合開始剤であることを特徴とするハードコート層を有するフィルムの製造方法に関するものである。第１５の発明は、第１４の発明において、前記透明基材フィルムが波長３５０ｎｍ未満の紫外線を吸収するものであり、前記光重合開始剤が波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を吸収するものであることを特徴とするハードコート層を有するフィルムの製造方法に関するものである。第１６の発明は、第１４または第１５の発明において、前記酸素不透過性素材として、その前記紫外線硬化性層に接する側が、微細な凹凸を有するものであるものを使用することを特徴とするハードコート層を有するフィルムの製造方法に関するものである。第１７の発明は、第１４〜第１６いずれかの発明において、前記透明基材フィルム上に、前記紫外線硬化性層を形成するのに先立って、プライマー層を形成することを特徴とするハードコート層を有するフィルムの製造方法に関するものである。第１８の発明は、第１４〜第１７いずれかの発明において、前記透明基材フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルムを使用することを特徴とするハードコート層を有するフィルムの製造方法に関するものである。
【００１４】
第１９〜第２２の発明は、反射防止フィルムの製造方法に関するものである。第１９の発明は、第１４〜第１８いずれかの発明のハードコート層を有するフィルムの製造方法に続けて、前記ハードコート層上に、高屈折率層、および低屈折率層を順に積層する、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層を順に積層する、もしくは中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層を順に積層することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法に関するものである。第２０の発明は、第１９の発明において、前記中屈折率層の形成および前記中屈折率層の無い場合の前記高屈折率層を、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる素材を用いて気相で薄膜形成するか、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成し、前記低屈折率層を、ＳｉＯ２を用いて気相で薄膜形成するか、もしくはＳｉＯ２ゾルを用いてゲル膜を形成するか、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して紫外線を照射することにより形成し、前記中屈折率層上に形成する前記高屈折率層を、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属を用いて気相で薄膜形成するか、もしくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成することを特徴とする請求項１９記載の反射防止フィルムの製造方法に関するものである。第２１の発明は、第２０の発明において、前記中屈折率層の形成および前記中屈折率層の無い場合の前記高屈折率層を、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる素材を用いて気相で薄膜形成し、前記低屈折率層を、ＳｉＯ2 を用いて気相で薄膜形成し、前記中屈折率層上に形成する前記高屈折率層を、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属を用いて気相で薄膜形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法に関するものである。第２２の発明は、第２０の発明において、前記中屈折率層の形成および前記中屈折率層の無い場合の前記高屈折率層を、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、酸化インジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、およびＺｒＯ２からなる群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成し、前記低屈折率層を、ＳｉＯ２ゾルを用いてゲル膜を形成するか、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して紫外線を照射することにより形成し、前記中屈折率層上に形成する前記高屈折率層を、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ���Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた超微粒子が分散した塗料組成物を用いて塗布することにより形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法に関するものである。
また、第２３の発明は、第１〜第６いずれかの発明のハードコート層を有するフィルム、又は、第７〜１３いずれかの発明の反射防止フィルムを用いてなるディスプレイに関するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１を引用して説明すると、本発明のハードコート層を有するフィルム１は、基本的には、透明基材フィルム２上に、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層４が積層された構造からなるもので、好ましくは、図１に示すように、プライマー層３を介したものである。
ハードコート層を有するフィルム１は、ハードコート層４の表面に種々の目的に合せた凹凸（もしくは微細な凹凸）９を有していてもよく、また、凹凸９を有しているか有していないかにかかわらず、さらに最表面に、汚染を防ぐための防汚層５が積層されていてもよい。
【００１６】
本発明のハードコート層を有するフィルム１の透明基材フィルム２は、紫外線による劣化を防止する目的で、紫外線吸収性とされたもので、具体的には紫外線吸収剤が練り込まれたものである。
また、ハードコート層４は、透明基材フィルム２が吸収する紫外波長域以外の紫外波長域で光重合を開始し得る光重合開始剤を含有した紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が紫外線の照射を受けて硬化したもので構成されており、好ましくは、この紫外線の照射は、透明基材フィルム側から行なわれ、また、紫外線の照射は、塗膜が金属板等の酸素不透過性素材で被覆された状態で行なわれたものである。
【００１７】
透明基材フィルム２としては、視覚的な意味での透明性、平滑性を備え、異物の混入のないものが好ましく、また、加工上および使用上の理由で機械的強度があるものが好ましい。ディスプレイの前面に貼る等の場合、ディスプレイの熱が伝わって来るような場合には、耐熱性があるものであることが好ましい。
一般的に透明基材フィルム２として好ましいものは、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、もしくはセルロースアセテートブチレート等のセルロース樹脂系、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、もしくはポリウレタン等の熱可塑性樹脂のフィルムである。
【００１８】
透明基材フィルム２としては、写真用乳剤を塗布した写真用フィルムの場合に、よく用いられるポリエステル樹脂フィルムや、透明性が高く光学的に異方性がないので、やはり写真用フィルムによく用いられるセルローストリアセテート（＝トリアセチルセルロース）フィルム等を使用することが、通常、特に好ましい。
なお、これらの熱可塑性樹脂のフィルムはフレキシブルで使いやすいが、取り扱い時も含めて曲げる必要が全くなく、硬いものが望まれるときは、上記の樹脂の板やガラス板等の板状のものも使用できる。
厚みとしては、８〜１０００μｍ程度が好ましいが、板状のものの場合には、この範囲を超えてもよい。
【００１９】
ところで、これらの透明基材フィルム２用の熱可塑性樹脂フィルムは、その多くが、自身の耐候性を向上させる目的で、紫外線吸収剤を含有しており、代表的な紫外線吸収剤であるベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は、波長が３４０ｎｍ未満の紫外線を吸収し、この波長域は一般的な光重合開始剤に重合を開始させるのに有効な波長域と重なるので、透明基材フィルム側からの紫外線照射の妨げとなる。
本発明においては、これら波長域よりも長波長側で有効な光重合開始剤を使用するので、実際には、上記の熱可塑性樹脂のフィルムとしては、市販のものが使用できるが、紫外線吸収剤として、波長が３４０ｎｍより長波長側の紫外線を吸収する吸収剤を含有するものの使用を避けることが好ましい。
【００２０】
上記の透明基材フィルム２には、その上に形成する層との接着性の向上のために、通常、行なわれ得る各種の処理、即ち、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってプライマー層３を形成しておいてもよい。
【００２１】
ハードコート層４は、本発明のハードコート層を有するフィルムの表面の傷付きが起きないよう、また、後述する、反射防止フィルムの表面の傷付きが起きないよう、耐擦傷性を向上させるためのものである
傷が付くのは、傷の原因となる物質との硬度の差によるためであり、場合によっては熱可塑性の樹脂を樹脂成分とする組成物で構成してもよいが、一般的には熱硬化性樹脂を樹脂成分とする組成物を硬化させたもので構成することがより好ましく、フレキシブルさを備えている点でポリウレタン樹脂等を樹脂成分とする組成物等を用いて構成することも可能である。
【００２２】
より一層の効果を望む場合には、紫外線硬化性樹脂組成物を紫外線の照射によって架橋硬化させたもので構成することが好ましい。
ハードコート層２のハードさとしては、ＪＩＳ  Ｋ５４００で示す鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
【００２３】
紫外線硬化性樹脂組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。
【００２４】
紫外線硬化性樹脂組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
【００２５】
紫外線硬化性樹脂組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等が挙げられる。
【００２６】
通常、紫外線硬化性樹脂組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、紫外線硬化性樹脂組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。
【００２７】
紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、紫外線硬化性樹脂組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げられる。
【００２８】
紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、紫外線硬化性樹脂組成物に、紫外線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。
【００２９】
一般的な紫外線硬化性樹脂組成物には、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、一般的には、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。
光重合開始剤の配合量は、紫外線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部である。ハードコート層４の厚みにもよるが、過度に配合すると、透明基材フィルム２とハードコート層４との密着性を低下させることもある。
なお、光重合開始剤をプライマー層３に配合することにより、透明基材フィルム２とハードコート層４との密着性をさらに向上させることもできる。
【００３０】
本発明においては、光重合開始剤としては、３４０ｎｍ以上、好ましくは３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域で反応し得るものを使用することが好ましい。
この下限値は、透明基材フィルム２が含有する紫外線吸収剤による吸収を考慮したものであり、３４０ｎｍ未満で反応し得る光重合開始剤を使用すると、反応が充分起こらない。また上限値を超えるものは、人間の目に見える吸収を持つために、ハードコート層４が着色して見える恐れがあるためである。
例えば２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドは、上記した範囲の配合割合であれば、波長が３６０ｎｍの紫外線を利用して光重合を開始し得る光重合開始剤であり、特に好ましいものである。
なお、上記の特に好ましい光重合開始剤に、その光重合開始機能を阻害しない範囲で、他の波長域で光重合を開始させる光重合開始剤を添加して併用することもできる。併用により硬化速度が上昇する等の利点が生じるからである。
【００３１】
紫外線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。例えば、その１は、一般式ＲmＳｉ（ＯＲ’）nで表せるもので、ＲおよびＲ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＲ’の添え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数であり、有機反応性ケイ素化合物の２は、シランカップリング剤であり、また、有機反応性ケイ素化合物の３は、紫外線硬化性ケイ素化合物であり、さらにこれら以外のものもある。
【００３２】
有機反応性ケイ素化合物の１である一般式ＲmＳｉ（ＯＲ’）nで表せるものとしては、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００３３】
有機反応性ケイ素化合物の２のシランカップリング剤としては、具体的には、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
【００３４】
紫外線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物の３の紫外線硬化性ケイ素化合物としては、具体的には、紫外線の照射によって反応し架橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５，０００以下の有機ケイ素化合物が挙げられ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、もしくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
【００３５】
より具体的には、次のような化合物である。
【００３６】
【化１】
0004521957.tif 000002
【００３７】
その他、紫外線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。
【００３８】
ハードコート層４は、以上のような組成物を用いて、公知のコーティング法により、透明基材フィルム２上に塗布し、塗布後、紫外線を選択して照射し、塗膜を架橋硬化させる。
なお、必要に応じ、ハードコート層４に紫外線による劣化を防止する目的で、光重合の開始を阻害しない範囲で、紫外線吸収剤を配合してもよい。
【００３９】
ハードコート層４の厚みは、好ましくは０．５〜３０μｍ、より好ましくは２〜１５μｍである。
ハードコート層を有するフィルム１の場合においても、また、反射防止フィルムの場合においても、ハードコート層４の厚みが薄すぎると、得られる表面の硬度や耐汚染性等の耐久性が不十分であり、また、厚すぎると、全体のフレキシブルさを低下させ、また、硬化に時間がかかる等、生産効率の低下をまねく。
【００４０】
ハードコート層４の上面には、図１に示すように、凹凸９を形成することにより、表面の質感、もしくは反射防止性等を付与し、あるいは、反射防止フィルムの場合には、透明基材フィルム２側からのディスプレイの入射光を散乱させ、反射防止フィルムの特定の部分の輝度が高くなって不自然な「ぎらつき」を起こすのを緩和させることができる。
なお、図２〜図４においては、作図の都合上、ハードコート層４上面の凹凸を描いてないが、ハードコート層４上には凹凸を有している。
【００４１】
凹凸９の形成は、ハードコート層４を透明基材フィルム２上に塗布形成する際に、凹凸を有する型付け用フィルムで塗膜を被覆したまま固化させるか、形成された塗膜に型付け用ロール等の型付け手段を、必要に応じて加熱しつつ押し付けて行なうか、あるいは、剥離面に凹凸を有する剥離性基材上にハードコート層３を塗布形成して転写シートを作成し、その転写シートを用いて転写する等によればよいが、好ましくは、金属製等で、ハードコート層４を形成する際に、紫外線硬化性樹脂組成物が付着しない性質のエンボス板、もしくはエンボスロールを用いて行なうことが好ましい。
本発明においては、凹凸を付与する場合も、凹凸ではなく平坦な、極端な場合にはミラー面を形成する場合にも、酸素不透過性素材で塗膜を被覆しつつ、透明基材フィルム側から紫外線を照射することが好ましい。
【００４２】
酸素不透過性素材としては、金属、プラスチック、等を表面とし、適宜に裏打した板状、もしくはロール状のものが使用でき、好ましくは薄いプラスチックフィルム以外のものである。
塗膜に凹凸を付与する際の凹凸の程度は、凹凸の高低差が０．２〜１０μｍ、ピッチが２０〜２００μｍ程度がよく、Ｒａが０．１０〜０．４０μｍ、Ｒｚが１．１０〜６．００μｍ、Ｓｍが１０〜７０μｍがより好ましい。
【００４３】
上記したように、本発明においては、透明基材フィルムが紫外線吸収剤を含有していても、透明基材フィルム側からの紫外線照射が可能であるため、金属製のエンボス板、もしくは金属製のエンボスロール等の酸素不透過性素材に密着させ、即ち酸素を遮断した状態で紫外線を照射でき、塗膜の硬化を高度に進めることができる。また、金属製のエンボス板、もしくは金属製のエンボスロールを使用すると、塗膜の付着が生じないので、プラスチックフィルムを使用して被覆した上から紫外線を照射する際のように、プラスチックフィルムが消耗品となる無駄も生じない利点がある。
【００４４】
本発明のハードコート層４を有するフィルム１のハードコート層４上には、さらに屈折率の異なる複数の層を積層して、ディスプレイ等の表面にセットして使用する反射防止フィルムとすることができる。
【００４５】
図２〜図４は、そのような反射防止フィルムの代表例を示す断面図である。
まず、図２に示す反射防止フィルム１１は、下側から、透明基材フィルム２、プライマー層３、およびハードコート層４を有しており、ここまでの構造、各層の素材、形成方法は、図１を引用して説明したハードコート層を有するフィルム１におけるものと同じである。プライマー層３は省略し得る。以降の図３および図４を引用して説明するケースにおいても同様である。
図２に示す反射防止フィルム１１においては、ハードコート層４上に、さらに高屈折率層６、および低屈折率層７が順に積層されており、好ましくは、防汚層５が最表面に積層されている。
【００４６】
図３に示す反射防止フィルム１１は、上記の図２を引用して説明した反射防止フィルム１１における、高屈折率層６、および低屈折率層７をさらに繰返して積層したものであり、好ましくは、防汚層５が最表面に積層されたものである。
【００４７】
図４に示す反射防止フィルム１１においては、ハードコート層４上に、さらに、中屈折率層８、高屈折率層６、および低屈折率層７の各層が積層されており、やはり、好ましくは、防汚層５が最表面に積層されている。
【００４８】
図４に示すものは、図２および図３に示すものと異なる点があるので、まず、図２および図３における高屈折率層６および低屈折率層７について説明する。
【００４９】
高屈折率層６は、超微粒子、好ましくは屈折率が１．５以上の超微粒子が、バインダー樹脂中に分散した層からなるものか、もしくは同じ材料を用いてなる薄膜である。
屈折率が１．５以上の超微粒子とは、素材的としては、例えばＺｎＯ（屈折率１．９０、以下カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＴｉＯ2（２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（１．７１）、ＳｎＯ2（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、アンチモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ2Ｏ3（２．００）、Ｙ2Ｏ3（１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（１．９５）、Ａｌ2Ｏ3（１．６３）、ＨｆＯ2（２．００）、もしくはＺｒＯ2（２．０５）等の酸化物である。
列挙した超微粒子のうち、ＴｉＯ2を用いると、屈折率の制御のために必要な超微粒子の添加量が少なくて済むと共に、バインダー樹脂分を相対的に増やせるので、高屈折率層の形成上、および得られる高屈折率層の硬度の点でも有利である。
また、ＺｒＯ2を用いると、ＺｒＯ2は光学不活性であるため、高屈折率層６の耐光性および耐湿熱性が非常に良好となり、特に好ましい。
【００５０】
上記の屈折率が１．５以上の酸化物の超微粒子は、その平均粒径が２〜１００ｎｍのものが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍである。
【００５１】
高屈折率層６は、前述したように、上記の超微粒子を、バインダー樹脂中に分散した層からなるものであり、具体的には、超微粒子をバインダー樹脂と共に塗料化してハードコート層４上に塗布するか、もしくは別体の転写シート上に転写層として構成しておき、ハードコート層４上に転写することにより積層する。
【００５２】
バインダー樹脂としては、ハードコート層４を形成するための組成物中の樹脂成分を構成する樹脂として、先に挙げたものと同様、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは紫外線硬化性樹脂（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用すればよい。
バインダー樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用可能であるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、もっと好ましいのが、紫外線硬化性樹脂を含む紫外線硬化性組成物を使用して塗料を構成する場合である。
【００５３】
超微粒子、およびバインダー樹脂は、この他の添加剤と共に、必要に応じて、溶剤、希釈剤と共に混練して、塗料組成物を調製し、得られた塗料組成物を用いて、任意の塗布方法によりハードコート層４上、もしくは転写シート上に塗膜を形成し、組成物に応じた硬化の手段により硬化させる。
なお、塗料組成物の調製の際に、超微粒子の分散性向上の目的で、界面活性剤や分散性モノマー、ポリマー等を添加してもよい。
【００５４】
高屈折率層６の好ましい厚みは、高屈折率層６中の超微粒子の種類、および後記する高屈折率層６を構成する金属の種類によって多少変動するが、全体としては６０〜１８０ｎｍ程度が適当である。
高屈折率層６の厚みが過大であっても、あるいは過小であっても、目的とする反射防止性が得られなくなるため、好ましくない。
【００５５】
高屈折率層６中における超微粒子／バインダー樹脂比（質量比）は、層６の屈折率として予め予定された値を実現するよう決定する。前段落で挙げたより好ましい具体例においては、ＺｒＯ2の屈折率が２．０５であり、バインダー樹脂として屈折率が１．５２のものを使用したとき、超微粒子／バインダー樹脂比は、１／１．２とすればよい。
この所定の比よりも超微粒子の割合が過小であると、得たい屈折率を実現できなくなり、反射防止性能を発揮することができないし、多すぎると、中屈折率層の塗膜の硬度が不足する。特に多すぎる場合の支障が大きいので、もし、得たい屈折率の値が大きいときは、超微粒子の割合を増やすよりも、より屈折率の高い超微粒子を選択して使用する方がよい。
【００５６】
また、高屈折率層６は、前記した屈折率が１．５以上の超微粒子の素材と同じものを蒸発源として使用し、スパッタリング、蒸着等の気相で薄膜形成したものであってもよい。
【００５７】
低屈折率層７は、ＳｉＯ2からなる薄膜であり、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により形成されたものであるか、またはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成されたものであるか、またはフッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して紫外線を照射することにより、上記の高屈折率層５上に形成されたものであって、これらの形成方法を併用して形成されたものであってもよい。
なお、低屈折率層７は、ＳｉＯ2以外にも、ＭｇＦ2の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ2薄膜を使用することが好ましい。
上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体である、高屈折率層６までを積層したフィルムをできるだけ低温度に維持することが好ましい。
【００５８】
低屈折率層７の厚みは、５０〜１１０ｎｍ程度が好ましく、より好ましくは、８０〜１１０ｎｍであり、この範囲より薄すぎても厚すぎても、反射防止機能が十分でないので、効果的な反射防止機能を得るため、この範囲であることが望ましい。
【００５９】
ＳｉＯ2からなる低屈折率層７には、未分解の有機シロキサンを含み、ケイ素に対して炭素が０．１〜０．２残存するようにすることにより、反射防止フィルムの取り扱い上、好ましいフレキシビリティを有し、また下層との接着性の優れたものとすることができる。
このようにして形成された低屈折率層７は、水に対する表面の接触角が４０〜１８０度のＳｉＯ2からなり、粉塵の付着を防止する防汚効果の点でも好ましいものである。
【００６０】
ところで、図４に示すものは、反射防止性をより効果的に与えるために、下側から中屈折率層８、高屈折率層６、および低屈折率層７が順に積層されたものである。
積層された三層の「中屈折率」、「高屈折率」、および「低屈折率」とは、相対的なもので、図４における「中屈折率」は、図２および図３を引用して説明した反射防止フィルム１１における「高屈折率」に相当し、図４における「高屈折率」は、図２および図３を引用して説明した反射防止フィルム１１における「高屈折率」よりも屈折率の高い、いわば「高々屈折率」に相当する。
【００６１】
従って、図４を引用しての以下の説明における中屈折率層８は、図２および図３を引用して説明した反射防止フィルム１１における高屈折率層６と構成が同じであり、また、図４を引用しての以下の説明における低屈折率層７は、図２および図３を引用して説明した反射防止フィルム１１における低屈折率層７と構成が同じであるので、いずれも説明を省略する。
【００６２】
そこで、図４を引用しての説明における高屈折率層７について説明する。この図４における高屈折率層７は、合金の薄膜から構成されるか、もしくは同じ合金の超微粒子が、バインダー樹脂中に分散した層からなるものである。
ここで、合金を構成する金属としては、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、もしくはＴａを用いる。
【００６３】
高屈折率層７は、合金を素材とするため、導電性を有しており、反射防止フィルムに帯電防止性を与える。また、これら合金の薄膜は可視光を吸収し、過度に厚いと光の透過度を低下させるので、厚みとしては１ｎｍ〜１０ｎｍが好ましい。
高屈折率層７は、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により形成することができる。
【００６４】
以上の説明における高屈折率層６、低屈折率層７、および中屈折率層８の各層の形成は、大別すると、蒸着やスパッタリング等の気相で薄膜形成する手法か、もしくはそれ以外の手法、特にコーティングによって行なわれる。
高屈折率層６を気相で薄膜形成し、低屈折率層７をコーティングによる等、各々の層を異なる手法で形成してもよいが、いずれの層も気相で薄膜形成すれば、性能のよい反射防止フィルムを得ることができるし、また、いずれの層もコーティングで形成すれば、気相で薄膜形成するのにくらべ、はるかに効率良く、安価な装置を用いての形成が可能になる。
なお、コーティングによる形成のうちには、直接、対象物にコーティングする以外に、一旦、別の仮基材上にコーティングして得られる皮膜を、転写により積層することもできる。
【００６５】
本発明のハードコート層を有するフィルム１、および反射防止フィルム１１は、最上層に防汚層５を有していてもよい。
防汚層５は、これらフィルム１、もしくは１１の表面に、ごみや汚れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される。
具体的には、透明性や反射防止機能を低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥離剤、もしくはワックス等をごく薄く、光学性能を変えない程度に塗布する。余剰分を拭い除去してもよい。
防汚層５は、恒久的な層として形成してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。
防汚層の厚みとしては、１〜２０ｎｍ程度が好ましい。
【００６６】
【実施例】
（実施例１）
基材として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用い、アクリル樹脂系のプライマー塗装を施してプライマー層を形成した。このトリアセチルセルロースフィルムには、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が練り込んであり、波長３９０ｎｍ〜３８０ｎｍでは５０％以上の光を、また、波長３８０ｎｍ未満では９０％以上の光を、吸収するものである。
また、プライマー層は、紫外線吸収剤、および光重合開始剤は含んでいない。ハードコート層形成用組成物として、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）／ＤＰＰＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート）／ＰＥＴＡ（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）＝３／２／５（質量比）のモノマー混合物に対し、光重合開始剤として、２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを、上記モノマー混合物／光重合開始剤＝１００／１になるよう配合したものを用い、上記基材のプライマー層を形成した上に、リバースロールコーティング法により、厚みが１０μｍになるよう塗布した。
【００６７】
塗布後、塗布面に、Ｃｒ製で、表面に微細凹凸を有するエンボス版を、その微細凹凸面側が接するようにして重ね、重ねた状態で、基材側より、紫外線を１０００ｍＪ照射して、塗膜を硬化させ、その後、エンボス版を剥離して除去したところ、表面に微細な凹凸が再現されたハードコート層を有するフィルムを得た。
【００６８】
（実施例２〜８）
ハードコート層形成用組成物における光重合開始剤の配合量を、２〜８質量部の範囲で１質量部毎に変更した以外は、実施例１と同様にした。
【００６９】
（実施例９）
ハードコート層形成用組成物における光重合開始剤の配合量を４質量部とし、また、同じ光重合開始剤をプライマー層形成用組成物１００質量部に対し２質量部の割合で配合したものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【００７０】
（比較例１）
光重合開始剤として、２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを２質量部、および１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを２質量部を併用した以外は、実施例１と同様にした。
【００７１】
（比較例２）
光重合開始剤として、２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを２質量部、および２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパノン−１を４質量部を併用した以外は、実施例１と同様にした。
【００７２】
（比較例３）
光重合開始剤として、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキサイドを２質量部、および１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを１０質量部を併用した以外は、実施例１と同様にした。
【００７３】
（比較例４）
光重合開始剤として、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパノン−１を４質量部を使用した以外は、実施例１と同様にした。
【００７４】
（比較例５）
ハードコート層形成用組成物における光重合開始剤として、２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを４質量部を使用し、また、プライマー層形成用組成物１００質量部に対し、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを２質量部の割合で配合したものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【００７５】
（比較例６）
ＰＥＴＡ（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）／ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）＝８／２（質量比）のモノマー混合物１００質量部に対し、粒径１μｍのシリカを３質量部、および１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを３質量部の割合で配合したものを、トルエン／メチルエチルケトン＝２／１の配合比（質量比）の混合溶剤で、固形分が３５％となるよう希釈して、ハードコート層形成用組成物とした。
このハードコート層形成用組成物をグラビアコーティングにより、実施例１と同様の基材に塗布した後、塗布面側より紫外線を１００ｍＪ照射して、厚みが５μｍの防眩性ハードコート層を有するフィルムを得た。
【００７６】
（比較例７）
比較例６で用いたのと同じモノマー混合物１００質量部に、光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを３質量部、および２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパノン−１を２質量部を配合したものを、トルエン／メチルエチルケトン＝２／１の配合比（質量比）の混合溶剤で、固形分が３５％となるよう希釈して、ハードコート層形成用組成物とした。
このハードコート層形成用組成物をグラビアコーティングにより、実施例１と同様の基材に塗布して乾燥させ、乾燥後、塗布面にマットフィルム（ポリエステル樹脂製）の、マット面を重ね、マットフィルム側より紫外線を１５０ｍＪ照射して、厚みが５μｍの防眩性ハードコート層を有するフィルムを得た。
【００７７】
（比較例８）
光重合開始剤として、２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを０．５質量部を使用した以外は、実施例１と同様にした。
【００７８】
（比較例９）
光重合開始剤として、２，４，６−（トリメチルベンゾイル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを９質量部を使用した以外は、実施例１と同様にした。
【００７９】
各実施例および比較例で得られたハードコート層を有するフィルムについて、耐擦傷性、初期密着性、耐光性試験後の密着性の各試験を行なって評価した結果を「表１」に示す。
【００８０】
ただし、耐擦傷性は、＃００００のスチールウールを２ｋｇ／ｃｍ2の荷重をかけて往復させたときに、外観の変化が生じない往復回数で示したものである。
初期密着性は、表面に縦横共１ｍｍ間隔の切り目を設けて、合計１００個のマス目を形成した上にセロハン粘着テープを貼って、連続５回剥離を行なった後、マス目ごとに残存しているものの数を数えて示したものである。
また、耐光性試験後の密着性は、フェードメータを用い、ブラックパネル温度；６３℃の条件で紫外線にさらした後、上記の初期密着性と同様な方法により評価した際に剥離が全く見られない場合の、耐光性試験の時間（ｈ）で示す。
【００８１】
【表１】
0004521957.tif 000003
【００８２】
（実施例１０）
実施例１と同様にしてハードコート層を有するフィルムを得た後、ハードコート層上に、ＺｒＯ2超微粒子が紫外線硬化性樹脂および溶剤中に分散し、得られる塗膜の光の屈折率が１．７６になるよう、ＺｒＯ2超微粒子および紫外線硬化性樹脂の配合比を定めた組成物を用いて、グラビアコーティング法により、コーティングを行ない、コーティング面側より１００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、厚み８０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【００８３】
上記の高屈折率層の上に、フッ化ビニリデンを含有するフッ素系紫外線硬化性樹脂（屈折率；１．４５）を樹脂成分とする樹脂溶液を用いて、コーティングを行ない、コーティング面側より５００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成し、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域（人間が眩しいと感じる波長領域）での平均反射率が０．３％の反射防止フィルムを得た。
なお、この反射防止フィルムは、フッ素系紫外線硬化性樹脂を用いて、表面の低屈折率層を形成しているので、表面の防汚性を有している。
【００８４】
（実施例１１）
実施例１と同様にしてハードコート層を有するフィルムを得た後、ハードコート層上に、ＴｉＯ2超微粒子が紫外線硬化性樹脂および溶剤中に分散し、得られる塗膜の光の屈折率が１．７６になるよう、ＺｒＯ2超微粒子および紫外線硬化性樹脂の配合比を定めた組成物を用いて、グラビアコーティング法により、コーティングを行ない、コーティング面側より１００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、厚み８０ｎｍの中屈折率層を形成した。
【００８５】
上記の中屈折率層の上に、やはり、ＴｉＯ2超微粒子が紫外線硬化性樹脂および溶剤中に分散し、得られる塗膜の光の屈折率が１．８９になるよう、ＴｉＯ2超微粒子および紫外線硬化性樹脂の配合比を定めた組成物を用いて、グラビアコーティング法により、コーティングを行ない、コーティング面側より１００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、厚み９０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【００８６】
上記の高屈折率層の上に、フッ化ビニリデンを含有するフッ素系紫外線硬化性樹脂（屈折率；１．４２）を樹脂成分とする樹脂溶液を用いて、コーティングを行ない、コーティング面側より５００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成し、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域（人間が眩しいと感じる波長領域）での平均反射率が０．５％の反射防止フィルムを得た。
この反射防止フィルムも、フッ素系紫外線硬化性樹脂を用いて、表面の低屈折率層を形成しているので、表面の防汚性を有している。
【００８７】
（実施例１２）
実施例１と同様にしてハードコート層を有するフィルムを得た後、ハードコート層上に、スパッタリング法により、ＴｉＯ2（屈折率；２．４）およびＳｉＯ2（屈折率；１．４７）の薄膜を、ＴｉＯ2（厚み；２０ｎｍ）、ＳｉＯ2（厚み；４０ｎｍ）、ＴｉＯ2（厚み；３０ｎｍ）、およびＳｉＯ2（厚み；１００ｎｍ）の順に形成し、さらに、フッ素樹脂系の防汚剤を厚みが２ｎｍになるよう塗布して防汚層とし、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域（人間が眩しいと感じる波長領域）での平均反射率が０．２％の反射防止フィルムを得た。
【００８８】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、紫外線吸収性の透明基材フィルム上に、透明基材フィルムが吸収する紫外波長域以外の紫外波長域で光重合を開始し得る光重合開始剤を使用したので、表面の硬度等の耐久性が高いハードコート層を有するフィルムを提供できる。
請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、透明基材フィルムの吸収波長域と光重合開始剤が光重合を開始し得る波長域を３５０ｎｍを境に分けたので、例えば３６０ｎｍの波長の紫外線を透明基材フィルム側から照射して製造するのに適したハードコート層を有するフィルムを提供できる。
請求項３の発明によれば、請求項１または２の発明の効果に加え、表面の質感、もしくは反射性の調整されたハードコート層を有するフィルムを提供できる。請求項４の発明によれば、請求項１〜３いずれかの発明の効果に加え、プライマー層を介在させたので、透明基材フィルムとハードコート層との密着性の向上したハードコート層を有するフィルムを提供できる。
請求項５の発明によれば、請求項１〜４いずれかの発明の効果に加え、基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いたので、光学特性が優れ、また、偏光板の表面材として使用するのに特に適したハードコート層を有するフィルムを提供できる。
請求項６の発明によれば、請求項１〜５いずれかの発明の効果に加え、最表層に防汚層を有しているので、表面が汚染しにくい、もしくは汚染しても拭き取り等が容易なハードコート層を有するフィルムを提供できる。
請求項７〜９の発明によれば、ハードコート層を有するフィルムの表面に、反射性を低下させるための複数の層が積層されているので、表面の硬度等の耐久性が高い反射防止フィルムを提供できる。ハードコート層の表面に凹凸を有するものを使用するときは、ディスプレイの前面にセットした際に、ディスプレイ表面に映り込む、蛍光灯等の反射光を凹凸により拡散させ、視認性を向上し得る反射防止フィルムを提供できる。
請求項１０の発明によれば、請求項７〜９いずれかの発明の効果に加え、入手しやすく、取扱いやすい素材を用いてなる、反射防止フィルムを提供できる。
請求項１１の発明によれば、請求項７〜９いずれかの発明の効果に加え、反射防止のための複数の層を、薄膜で構成するので、反射防止性能が高く、品質が安定した反射防止フィルムを提供できる。
請求項１２の発明によれば、請求項７〜９いずれかの発明の効果に加え、反射防止のための複数の層を、コーティング皮膜で構成するので、それら複数の層の積層を短時間で簡易な装置で行なうことが可能な反射防止フィルムを提供できる。
請求項１３の発明によれば、請求項７〜１２いずれかの発明の効果に加え、最表層に防汚層を有しているので、表面が汚染しにくい、もしくは汚染しても拭き取り等が容易な反射防止フィルムを提供できる。
請求項１４の発明によれば、透明基材フィルムと紫外線硬化性樹脂組成物中の光重合開始剤の吸収波長域を分け、塗膜を酸素不透過性素材で被覆し、透明基材フィルム側から紫外線の照射を可能にしたので、表面の硬度等の耐久性が高く、酸素不透過性素材の表面を反映した表面を有するものを得る事が可能な、ハードコート層を有するフィルムの製造方法を提供できる。
請求項１５の発明によれば、請求項１４の発明の効果に加え、透明基材フィルムおよび光重合開始剤として紫外吸収波長域を３５０ｎｍを境に分けたので、例えば３６０ｎｍの波長の紫外線を透明基材フィルム側から照射することにより、基材の耐光性を維持しつつ、有効な硬化を行なわせることが可能なハードコート層を有するフィルムの製造方法を提供できる。
請求項１６の発明によれば、請求項１４または１５の発明の効果に加え、酸素不透過性素材として微細な凹凸を有するものを使用するので、その凹凸を忠実に再現したハードコート層を有するフィルムの製造方法を提供できる。
請求項１７の発明によれば、透明基材フィルムにハードコート層の形成に先立って、プライマー層を形成するので、透明基材フィルムとハードコート層との間の密着強度の向上したハードコート層を有するフィルムの製造方法を提供できる。
請求項１８の発明によれば、請求項１４〜１７いずれかの発明の効果に加え、基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いるので、光学特性が優れ、また、偏光板の表面材として使用するのに特に適したハードコート層を有するフィルムの製造方法を提供できる。
請求項１９の発明の発明によれば、請求項１４〜１８いずれかのハードコート層を有するフィルムの製造方法に加えて、反射防止のための複数の層の積層を行なうので、表面の硬度等の耐久性が高い反射防止フィルムの製造方法を提供できる。また、ハードコート層の表面に凹凸を有するものを使用するときは、ディスプレイの前面にセットした際に、ディスプレイに映り込む蛍光灯等の反射光を凹凸によって拡散させ、視認性を向上し得るものが得られる反射防止フィルムの製造方法を提供できる。
請求項２０の発明によれば、請求項１９の発明の効果に加え、入手しやすく、取扱いやすい素材を用いて行なえる反射防止フィルムの製造方法を提供できる。請求項２１の発明によれば、請求項２０の発明の効果に加え、反射防止のための複数の層を、気相での薄膜形成により形成するので、性能が高く、品質が安定したものが得られる反射防止フィルムの製造方法を提供できる。
請求項２２の発明によれば、請求項２０の発明の効果に加え、反射防止のための複数の層を、コーティング手法で形成するので、それら複数の層の積層を短時間で簡易な装置により行なえる反射防止フィルムの製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ハードコート層を有するフィルムの断面図である。
【図２】高屈折率層および低屈折率層を形成した反射防止フィルムの断面図である。
【図３】高屈折率層および低屈折率層をくり返し形成した反射防止フィルムの断面図である。
【図４】中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層を形成した反射防止フィルムの断面図である。
【符号の説明】
１    ハードコート層を有するフィルム
２    透明基材フィルム
３    プライマー層
４    ハードコート層
５    防汚層
６    高屈折率層
７    低屈折率層
８    中屈折率層
９    凹凸
【図１】
0004521957.tif 000004
【図２】
0004521957.tif 000005
【図３】
0004521957.tif 000006
【図４】
0004521957.tif 000007