(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル面に形成されたノズルよりインク滴を吐出させるインクジェットプリンタヘッドにおいて、
前記ノズル面上に形成される金属を含む金属層と、
当該金属層上に形成される多環系チオール化合物から成る自己組織化膜層と、を有することを特徴とするインクジェットプリンタヘッド。
【請求項２】
前記ノズル面を形成する部材と前記金属層との間に、ニッケル、クロム、タンタルまたはチタンのいずれか、あるいはそれらの合金からなる中間層を備えたことを特徴とする請求項１に記載のインクジェットプリンタヘット。
【請求項３】
前記ノズルが、前記ノズル面に設けられた凹部の内部に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項４】
インクを充填するキャビティと、
当該キャビティに体積変化を及ぼす加圧装置と、を備え、
前記キャビティの体積変化によりノズルからインク滴を吐出させることを特徴とする請求項１又は２に記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項５】
前記加圧装置は、圧電素子から構成されることを特徴とする請求項４に記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項６】
前記加圧装置は、発熱素子により構成されることを特徴とする請求項４に記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項７】
前記多環系チオール化合物が、下記一般式（Ｉ）又は(ＩＩ)で表される化合物であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のインクジェットプリンタヘッド。
【化１】
0004438918.tif 000006
【請求項８】
前記一般式（Ｉ）又は(ＩＩ)において、ＣｆがＣＦ3（ＣＦ2）n又はＣＦ3（ＣＦ2）n（ＣＨ2）mであり、ｎが０〜１５であり、ｍが１〜２０であり、ｋが３又は４であり、ｐが１〜２０であり、ｌが１〜４である請求項７記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項９】
前記一般式（Ｉ）又は(ＩＩ)において、Ｃｆが（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）n又は（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）n（ＣＨ2）mであり、ｎが０〜１５であり、ｍが１〜２０であり、ｋが３又は４であり、ｐが１〜２０であり、ｌが１〜４である請求項７記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項１０】
前記一般式（Ｉ）又は(ＩＩ)において、
Ｃｆが（ＣＦ3）3Ｃ（ＣＦ2）n又は（ＣＦ3）3Ｃ（ＣＦ2）n（ＣＨ2）mであり、ｎが０〜１５であり、ｍが１〜２０であり、ｋが３又は４であり、ｐが１〜２０であり、ｌが１〜４である請求項７記載のインクジェットプリンタヘッド。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れかに記載のインクジェットプリンタヘッドを製造する方法であって、
ノズル部材のノズル面上に金属層を形成する工程と、
前記金属層を形成した基材を、多環系チオール化合物を溶解した溶液に浸漬する工程と、
を備えることを特徴とするインクジェットプリンタヘッドの製造方法。
【請求項１２】
下記一般式（Ｉ）又は(ＩＩ)で表される多環系チオール化合物。
【化２】
0004438918.tif 000007
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はインクジェットプリンタヘッドに係り、特に、インク滴を選択的に記録媒体に付着させるインクジェットプリンタヘッドのノズル面の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
インクジェットプリンタには、高速印字、低騒音、高印字品位等が要求されるようになった。インクジェットプリンタヘッドにも高性能が要求される。これらの要求を満たすためには、インクジェットプリンタヘッドのノズル面の状態が非常に重要である。
【０００３】
ノズル面には、インク、紙の粉等が付着することがある。これら付着物があると、ノズルからインク滴を吐出する際に、インク滴がこれら付着物に引かれて、本来の吐出方向でない方向に吐出される。付着物の付着量が大きくなると、インク滴が形成されない。これらの弊害を取り除くためには、ノズル面にインクをはじく性質、撥インク性（すなわち撥水性）を与えることが重要であるとされてきた。ノズル面に撥インク性を付与することにより、インク、紙粉等の付着を少なくできる。また、インクジェットプリンタヘッドにおいては、インク滴の吐出性能が劣化しにくいことも重要である。
【０００４】
この撥インク性を付与し、インク滴の吐出性能の劣化を抑制する技術として、ノズル面に金属層と硫黄化合物層とを備える撥水層が形成されたインクジェットプリンタヘッドが提案されている（国際公開番号；ＷＯ９７／２７０５９の公報）。
【０００５】
しかしながら、前記公報に記載のインクジェットプリンタヘッドには、硫黄化合物層を形成する硫黄化合物として、アルカンチオール化合物や１つの芳香環を有するジチオール化合物等が用いられている。このため、層を形成する前記化合物の分子間凝集力に起因して、機械的摩擦等の外的要因によって層が劣化し、その機能が低下するおそれがあるため、プリンタヘッドとしての信頼性の点で問題があった。
従って、本発明の目的は、撥水性を備え、インク滴の吐出性能の劣化が少なく、しかも高い耐摩擦特性を有する、信頼性に優れたインクジェットプリンタヘッドおよびその製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、種々検討を重ねた結果、プリンタヘッドのノズル面上に形成される金属層上に、特定の構造を有するチオール化合物からなる層を形成したインクジェットプリンタヘッドが、前記目的を達成し得るものであることを知見した。
【０００７】
本発明は、前記知見に基づきなされたもので、ノズル面に形成されたノズルよりインク滴を吐出させるインクジェットプリンタヘッドにおいて、前記ノズル面上に形成される金属を含む金属層と、当該金属層上に形成される多環系チオール化合物から成る自己組織化膜層とを有することを特徴とするインクジェットプリンタヘッドを提供するものである。
【０００８】
また、本発明は、前記インクジェットプリンタヘッドを製造する方法であって、ノズル部材のノズル面上に金属層を形成する工程と、前記金属層を形成した基材を、多環系チオール化合物を溶解した溶液に浸漬する工程と、を備えることを特徴とするインクジェットプリンタヘッドの製造方法を提供するものである。
【０００９】
また、本発明は、下記一般式（Ｉ）又は(II)で表される多環系チオール化合物を提供するものである。
【００１０】
【化３】
0004438918.tif 000002
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施するための最良の形熊を、図面を参照して説明する。
（実施形態１）
図１に、本実施形態のインクジェットプリンタヘッドが用いられるプリンタの斜視図を示す。同図に示すように、本実施形態のインクジェットプリンタ１００は、本体１０２が、本発明に係るインクジェットプリンタヘッド１０１、トレイ１０３等を備えて構成される。用紙１０５は、トレイ１０３に載置される。図示しないコンピュータから印字用データが供給されると、図示しない内部ローラが用紙１０５を本体１０２に取り入れる。用紙１０５は、ローラの近傍を通過するとき、同図矢印方向に駆動されるインクジェットプリンタヘッド１０１により印字され、排出口１０４から排出される。インクジェットプリンタヘッド１０１からのインク滴の吐出が正確に行われないと、用紙１０５に印字される文字等が汚れたり薄くなったりする。
【００１２】
図２に、本実施形態のインクジェットプリンタヘッドの構造を説明する斜視図を示す。同図に示すように、インクジェットプリンタヘッド１０１は、ノズル１１の設けられたノズル板１、および振動板３の設けられた流路基板２を、筐体５に嵌め込んで構成される。流路基板２は加圧室基板とも呼ばれ、キャビティ（加圧室）２１、側壁２２およびリザーバ２３等が形成される。本発明の特徴は、このインクジェットプリンタヘッドのノズル板の表面の加工に関する。 なお、本実施形態では、インクを溜めるリザーバが流路基板に設けられているが、ノズル板を多層構造にし、その内部にリザーバを設けるものでもよい。
【００１３】
図３に、ノズル板１、流路基板２および振動板３を積層して構成されるインクジェットプリンタヘッドの主要部の構造の斜視図を示す。理解を容易にするため、部分断面を示す。同図に示すように、インクジェットプリンタヘッドの主要部は、流路基板３をノズル板１と振動板３で挟み込んだ構造を備える。流路基板３は、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が加圧室として機能するキャビティ２１が複数設けられる。各キャビティ２１の間は側壁２２で分離される。各キャビティ２１は、供給口２４を介してリザーバ２３に繋がっている。ノズル板１には、流路基板３のキャビティ２１に相当する位置にノズル１１が設けられている。振動板３は、例えば熱酸化膜等により構成される。振動板３上のキャビティ２１に相当する位置には、圧電素子４が形成されている。また、振動板３にはインクタンク口３１も設けられている。圧電素子４は、例えばＰＺＴ素子等を上部電極および下部電極（図示せず）とで挟んだ構造を備える。
【００１４】
以下、図３のＡ−Ａの線におけるインクジェットプリンタヘッドの断面図に基づいて説明する。 図４を参照して、インクジェットプリンタヘッドの動作原理を示す。インクは、筐体５のインクタンクから、振動板３に設けられたインクタンク口３１を介してリザーバ２３内に供給される。このリザーバ２３から供給口２４を通して、各キャビティ２１にインクが流入する。圧電素子４は、その上部電極と下部電極との間に電圧を加えると、その体積が変化する。この体積変化が振動板３を変形させ、キャビティ２１の体積を変化させる。電圧を加えない状態では振動板３の変形がない。ところが、電圧を加えると、同図の破線で示す変形後の振動板３ｂや変形後４ｂの圧電素子の位置まで変形する。キャビティ２１内の体積が変化すると、キャビティに満たされたインク６の圧力が高まり、ノズル１１からインク滴６１が吐出するのである。
【００１５】
図５に、本実施形態におけるノズル板の層構造の断面図を示す。同図は、図３および図４のノズル近傍を拡大した断面図である。符号１ａは、本形態のノズル板であることを示す。ノズル板１ａは、ノズル部材１２のインク滴吐出側に、金属層１３および自己組織化膜層１４を積層して構成される。図２および図３と同様の構成には同一の符号を付す。ノズル１１ａには、インクの界面張力によりインクのメニスカス（meniscus）６２ａが生じている。すなわち、キャビティ２１に満たされたインクは、自己組織化膜層１４の撥インク性により、ノズル板１ａの表面に広がらず、ノズル１１ａにメニスカス６２ａを生ずるに留まる。 ノズル部材１２としては、金属層との間に一定の結合力を備えるものであれば何でもよい。例えば、ガラスや金属板を用いることができる。製造原価を下げ、ノズル穴等の微細加工を容易にするには、シリコンやセラミックスを用いるのが好ましい。なお、シリコンやセラミックスを用いる場合は、本実施形態において後述するように、中間層を設けるのが好ましい（図１１参照）。 金属層１３の組成は、化学的・物理的な安定性から金（Ａｕ）が好ましい。その他、チオール化合物を化学的に吸着する銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム−砒素（Ｇａ−Ａｓ）等の金属であってもよい。ノズル部材１２上への金属層１３の形成は、スパッタ法、蒸着法、メッキ法等の公知の技術が使用できる。金属の薄膜を一定の厚さ（例えば０．１μｍ）で均一に形成できる成膜法であれば、その種類に特に限定されるものではない。 金属層１３の上には、自己組織化膜層１４を形成する。自己組織化膜層１４の形成は、多環系チオール化合物を溶解して溶液にし、この中に金属層１３を形成したノズル板１ａを浸漬（immersion）することにより行われる。
【００１６】
ここで、多環系チオール（Thiol）化合物とは、メルカプト基（−ＳＨ）を持つ有機化合物のなかで、芳香環等の環状の官能基を２以上含む化合物の総称をいう。これら多環系チオール化合物は、溶液中または揮発条件の下で、金等の金属表面状に自発的に化学吸着し、２次元の結晶構造に近い単分子膜を形成する。この自発的な化学吸着によって作られる分子膜を自己集合化膜、自己組織化膜またはセルフアセンブリ（self assembly）膜とよび、現在基礎研究およびその応用研究が進められている。本実施の形態では、特に金（Ａｕ）を想定するが、前記他の金属表面にも同様に自己集合化膜が形成できる。
【００１７】
このような多環系チオール化合物を用いることにより、その多環構造に起因して分子間凝集力が強まり、従来のアルカンチオール化合物や１つの芳香環を有するジチオール化合物等を用いた場合よりも分子間凝集力が強いものとなる。このため、機械的摩擦等の外的要因によっても層が劣化せずにその機能が維持できるという耐摩擦特性を有し、信頼性に優れたインクジェットプリンタヘッドを得ることができる。また、この多環系チオール化合物を用いて形成された自己組織化膜層は、撥水性を備え、インク滴の吐出性能の劣化が少ないものでもある。また、この多環系チオール化合物は、高い耐熱特性をも有するものであり、特に加熱等の外的要因にも劣化しないという性能を有する。
【００１８】
また、多環系チオール化合物としては、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される化合物が好ましい。
【００１９】
【化４】
0004438918.tif 000003
【００２０】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、複数の芳香環を含み、その末端の芳香環のパラ位にパーフルオロカーボン鎖を有するチオール化合物である。また、前記一般式（II）で表される化合物は、前記一般式（Ｉ）における複数の芳香環が１〜４つのフッ素原子で置換されている以外は前記一般式（Ｉ）で表される化合物と同じである。このような化合物を用いると、前記の耐摩擦特性を有するとともに、該化合物のテールグループ（層表面に現れる化学官能基）であるパーフルオロカーボン基に起因して、形成される自己組織化膜層の表面が低表面エネルギー状態となるため、ノズル面が一層撥水性に優れたものとなる。また、前記一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物は、耐熱特性にも優れたものである。
【００２１】
前記一般式（Ｉ）又は（II）で表される化合物の中でも、ＣｆがＣＦ３（ＣＦ２）ｎ又はＣＦ３（ＣＦ２）ｎ（ＣＨ２）ｍであり、ｎが０〜１５であり、ｍが１〜２０であり、ｋが３又は４であり、ｐが１〜２０であり、ｌが１〜４である化合物が好ましい。また、Ｃｆが（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）ｎ又は（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）ｎ（ＣＨ２）ｍであり、ｎが０〜１５であり、ｍが１〜２０であり、ｋが３又は４であり、ｐが１〜２０であり、ｌが１〜４である化合物も好ましい。また、Ｃｆが（ＣＦ３）３Ｃ（ＣＦ２）ｎ又は（ＣＦ３）３Ｃ（ＣＦ２）ｎ（ＣＨ２）ｍであり、ｎが０〜１５であり、ｍが１〜２０であり、ｋが３又は４であり、ｐが１〜２０であり、ｌが１〜４である化合物も好ましい。
【００２２】
ここで、多環系チオール化合物の合成法としては、例えば、下記〔化５〕に示す合成ルートによる方法等が挙げられる。尚、ここでは、多環系チオール化合物として、４−トリフルオロメチルターフェニルメチルチオールの合成ルートを例として示す。
【００２３】
【化５】
0004438918.tif 000004
【００２４】
前記合成ルートに示すように、まず、４−ブロモ−４’−メチルビフェニル、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラディウム、脱気したベンゼンに、２規定の炭酸ナトリウムを加えた後、エタノールに溶解された４-トリフルオロメチルベンゼンボロン酸を滴下し反応させて、化合物（１）を合成する。次に、得られた化合物（１）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、四塩化炭素、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を混合し、反応させて化合物（２）を合成する。チオ酢酸カリウム、脱気されたＤＭＦを攪拌した後、化合物（２）を脱気されたＤＭＦに溶かして、攪拌中のチオ酢酸カリウム、ＤＭＦ溶液に滴下し、反応させて化合物（３）を合成する。エタノール、化合物（３）により生成する懸濁液に、水酸化カリウムを入れて反応させて化合物（４）〔目的の（４−トリフルオロメチル−［１，１‘；４’、１“］ターフェニル−４”−イル）メタンチオール〕を合成する。
【００２５】
また、前記〔化５〕に示す合成ルートにおける各段階の化合物の合成例の詳細を以下に示す。
【００２６】
化合物（１）：
４−ブロモ−４’−メチルビフェニル６．０ｇ（２４．４８ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラディウム１．２ｇ（１．０４ｍｍｏｌ）、脱気したベンゼン８０ｍｌをフラスコ中に入れ、窒素気流下、室温にて攪拌する。さらに２規定の炭酸ナトリウム８０ｍｌを加えてしばらく攪拌させる。その後、同じく脱気されたエタノール５０ｍｌに溶解された４-トリフルオロメチルベンゼンボロン酸４．６５ｇ（２４．４８ｍｍｏｌ）を窒素気流下で少しずつ滴下する。滴下終了後、反応混合物は窒素気流下で還流攪拌させる。還流１時間後、黄色結晶物が反応混合物中のベンゼン相中に現れる。還流攪拌６時間後、室温に戻し、一晩攪拌放置する。反応物を吸引ろ過して薄黄色板状結晶を得る。ベンゼン、エタノールで繰り返し洗浄し、さらにアセトンで洗浄した後、乾燥させると、無色の板状結晶（収量６．４５ｇ、収率９０％）を得る。得られた結晶の融点及び１Ｈ−ＮＭＲは、次の通りであった。
【００２７】
融点：２６８〜２７０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３５（ｓ，３Ｈ，ＡｒＣＨ３）、７．５０（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-３”，Ｈ-５”）、７．６３（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-２”，Ｈ-６”）、７．６９−７．７３（ｍ，８Ｈ，Ｈ-２’-Ｈ-６’，Ｈ-２-Ｈ-６）
【００２８】
化合物（２）：
化合物（１）３．０ｇ（１０．２６ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド２．０ｇ（１１．１１ｍｏｌ）、四塩化炭素１５０ｍｌ、アゾビスイソブチロニトリル１５ｍｌをフラスコ中で混合させた後、１時間ほど攪拌還流させる。シリカゲル薄層クロマトグラフィで反応が完結したことを確認して、反応混合物を室温にまで冷却させる。混合物をろ過して、コハク酸イミドを除去した後、ろ液を真空濃縮して、四塩化炭素を除き、薄黄色固体が得られる。この粗製物を塩化メチレンに溶かし、カラムクロマト用シリカゲルで覆われた吸引ろ過用フィルターに入れて、無色透明の塩化メチレン溶液を得る。これを真空濃縮させると、白色結晶（収量３．２３ｇ、収率８０％）が得られる。得られた結晶の融点及び１Ｈ−ＮＭＲは、次の通りであった。
【００２９】
融点：３００℃以上で熱分解
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：４．５７（ｓ，２Ｈ，ＡｒＣＨ２Ｂｒ）、７．５０（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-３”，Ｈ-５”）、７．６３（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-２”，Ｈ-６”）、７．６９−７．７３（ｍ，８Ｈ，Ｈ-２’-Ｈ-６’，Ｈ-２-Ｈ-６）
【００３０】
化合物（３）：
チオ酢酸カリウム１．７５ｇ（１５．３２ｍｍｏｌ）、脱気されたＤＭＦ２０ｍｌを窒素気流下でフラスコに入れて室温で攪拌する。その後、化合物（２）３．０ｇ（７．６５ｍｍｏｌ）を脱気されたＤＭＦ４５ｍｌに溶かして、攪拌中のチオ酢酸カリウム、ＤＭＦ溶液に滴下する。滴下終了後、室温で３時間攪拌させた後、温度７０℃まで上昇させて約３０分窒素気流下、加熱攪拌させる。反応終了後、混合物をろ過して臭化カリウムを除き、ろ液を減圧濃縮してＤＭＦを除く。その後、水、塩化メチレンを入れ抽出し、塩化メチレン相を数回水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させる。ろ過して硫酸マグネシウムを除いた後、塩化メチレンを減圧濃縮して除き灰色状の粗製物を得る。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（Ｗａｋｏ−ｇｅｌ  １００，溶媒：塩化メチレン／へキサン＝１）で精製させると薄黄色の固体を得る。これをヘキサン、エーテルの混合溶媒で軽く洗浄した後、乾燥させ薄黄色の結晶（収量１．４１ｇ、収率５０％）が得られる。得られた結晶の融点及び１Ｈ−ＮＭＲは、次の通りであった。
【００３１】
融点：１９０〜１９２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３８（ｓ，３Ｈ，ＣＯＣＨ３）、４．１８（ｓ，２Ｈ，ＡｒＣＨ２ＳＣＯ）７．４０（ｄ，９Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-３”，Ｈ-５”）、７．５９（ｄ，９Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-２”，Ｈ-６”）、７．６８−７．７３（ｍ，８Ｈ，Ｈ-２’-Ｈ-６’，Ｈ-２-Ｈ-６）
【００３２】
化合物（４）：
フラスコ中にエタノール１００ｍｌ、化合物（３）０．６ｇ（１．６３８ｍｍｏｌ）を入れて、生成する懸濁液をそのまま攪拌加熱（９０℃）する。そこに、水酸化カリウムのペレット０．５ｇを入れると、懸濁液の濁りが消失し、透明の溶液となる。その混合物をそのまま、温度９０℃で約５時間ほど加熱攪拌する。その後、反応混合物を室温まで冷却させた後、塩酸（３０％）１５ｍｌほど加え、引き続き４０ｍｌの水を加えて約３０分ほど攪拌させる。生成した不溶物をろ過して、蒸留水で数回洗浄し、乾燥させる。精製した結晶をさらにエーテル、ヘキサン混合溶媒で軽く洗浄し乾燥させると、薄黄色の結晶（収量０．３６５ｇ、収率６５％）が得られる。得られた結晶の融点及び１Ｈ−ＮＭＲは、次の通りであった。
【００３３】
融点：２２０〜２２２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．８２（ｔ，６．７Ｈｚ，１Ｈ，ＳＨ）、３．８１（ｄ，６．７Ｈｚ，２Ｈ，ＡｒＣＨ２Ｓ）、７．４３（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-３”，Ｈ-５”）、７．６１（ｄ，８．７Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ-２”，Ｈ-６”）、７．６９−７．７３（ｍ，８Ｈ，Ｈ-２’-Ｈ-６’，Ｈ-２-Ｈ-６）
【００３４】
また、多環系チオール化合物としての４−トリフルオロメチルターフェニルメチルチオールの他の合成ルートとしては、下記〔化６〕に示す合成ルートが挙げられる。
【００３５】
【化６】
0004438918.tif 000005
【００３６】
前記〔化６〕に示す合成ルートでは、まず、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（０）及び炭酸ナトリウム水溶液の存在下、ｐ−ブロモベンゼンボロン酸とｐ−ブロモトルエンとをベンゼン・エタノール混合溶媒中で反応させて、４−ブロモ−４'−メチルビフェニルを合成する。次に、得られた４−ブロモ−４'−メチルビフェニルとｐ−トリフルオロメチルベンゼンボロン酸とを、前記と同様にテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（０）及び炭酸ナトリウム水溶液の存在下にてベンゼン・エタノール混合溶媒中で反応させて、４−トリフルオロメチル−４’−メチルターフェニルを合成する。次に、得られた４−トリフルオロメチル−４’−メチルターフェニルに、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）の存在下でＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）を加えて四塩化炭素溶媒中で反応させ、４−トリフルオロメチル−４’−ブロモメチルターフェニルを合成する。その後、得られた４−トリフルオロメチル−４’−ブロモメチルターフェニルにチオ尿素を無水エタノール中にて加えて反応させて塩とした後、塩酸で加水分解させて、目的の４−トリフルオロメチルターフェニルメチルチオールを合成する。
【００３７】
また、本発明は、前記一般式（Ｉ）又は(II)で表される多環系チオール化合物を提供するものである。かかる多環系チオール化合物としては、前述した自己組織化膜の形成材料として例示したものが好ましい。
【００３８】
図６に基づいて、多環系チオール化合物からなる自己組織化膜層の形成方法を説明する。本図は金属層として金を使用した場合である。多環系チオール化合物は、同図(a)に示すように、頭の部分がターフェニル基等であり、尾の部分がメルカプト基で示される。これを、１〜１０ｍＭのエタノール溶液で溶解する。この溶液で、同図(b)のように成膜された金の膜を浸漬する。このまま、室温で１時間程度放置すると、多環系チオール化合物が金の表面に自発的に集合してくる（同図(c)）。そして、金の表面に２次元的にチオール分子の単分子膜が形成される（同図(d)）。
【００３９】
図７に、多環系チオール化合物の単分子膜が形成された際の分子間結合の様子を示す。金属表面における硫黄原子の化学吸着の反応メカニズムは、完全には解明されていない。しかし、チオール化合物が、例えば金（０）の表面にて、Ａｕ（１）チオラート（ＲＳ−Ａｕ＋）となって吸着するという構造が考えられる。図７に示すように、金属層１３の金原子と自己組織化膜層１４の硫黄原子との結合は、共有結合に近く（４０〜４５kcal/mol）、非常に安定な分子膜が形成される。 なお、このような有機分子の自己組織化は、有機分子膜による個体表面機能化技術として、素材表面の光沢出し、潤滑、濡れ性、耐蝕、表面触媒作用等の分野への拡張が考えられる。また、分子素子、生物素子等のマイクロエレクトロニクス分野およびバイオエレクトロニクス分野への応用が、将来大いに期待されている。
【００４０】
図８に、金属層１３表面に形成された多環系チオール化合物の単分子膜の様子を示す。同図に示すように自己組織化膜層１４は、単分子で構成されるため、その膜厚は非常に薄い(例えば２ｎｍ程度)。この多環系チオール化合物は、非常に緻密に集合化するので、多環構造部分の凝集力により、前述したように機械的摩擦等の外的要因によって自己組織化膜層１４が容易に壊れることはない。即ち、自己組織化膜層１４は、高い耐摩擦特性を有する、信頼性に優れたものとなる。また、この多環系チオール化合物は、非常に緻密に集合化するので、水の分子が自己組織化膜層１４に入り込むことができない。このため、この自己組織化膜層１４は撥インク性（撥水性）を有することになる。特に、前記一般式（Ｉ）又は（II）で表されるチオール化合物から自己組織化膜層１４を形成した場合には、撥インク性は一層顕著なものとなる。
【００４１】
（自己組織化膜層の実施形態）
実施形態１のインクジェットプリンタヘッドにおける自己組織化膜層１４の形成材料として新規に合成された直鎖ベンゼン環をスペーサとするフッ素系チオール（本発明に係る多環系チオール化合物）を用い、金属層１３として金薄膜を用いることにより、金薄膜上に直鎖ベンゼン環をスペーサとするフッ素系チオールからなる自己組織化膜を形成した。また、本実施形態に対する比較形態として、自己組織化膜層１４の形成材料を、従来のアルカンチオール、及びメチレン鎖をスペーサとするフッ素系チオールに変えた以外は、本実施形態と同様にして自己組織化膜を形成した。そして、本実施形態及び２つの比較形態それぞれの熱劣化性について比較した。尚、本実施形態における多環系チオール化合物としては前記の合成ルートに従って合成した（４−トリフルオロメチル−［１，１‘；４’、１“］ターフェニル−４”−イル）メタンチオールを使用し、比較形態におけるアルカンチオールとしてはヘキサデカンチオール（和光純薬製）を使用し、別の比較形態におけるフッ素系チオールとしては１２，１２，１２−トリフルオロドデカンチオール（文献Journal  of  Fluorine  Chemistry  93（1999）107-115に基づいて合成）を使用し、それぞれ０．２ｍＭジクロロメタン溶液中に、金薄膜を有する基板（金基板）を２４時間浸せきさせて各自己組織化膜を作成した。熱劣化性の比較は、各自己組織化膜の表面濡れ性の変化を接触角度で追った。接触角度測定にはヘキサデカン溶液を使用した。熱劣化条件は各加熱温度にて、１時間恒温槽に放置した後に表面接触角度を測定した。各自己組織化膜の温度に対する接触角度の変化をプロットした（図１４参照）。図１４の結果から、直鎖ベンゼン環をスペーサとするフッ素系チオール（本発明に係る多環系チオール化合物）からなる自己組織化膜の熱劣化速度は、多環系チオール化合物以外の他の分子からなる自己組織化膜の熱劣化速度よりも遅い、つまり、熱劣化しにくいことが判る。また、これらの比較により、単分子膜のスペーサに直鎖芳香族環を導入することで、高い耐熱特性が得られることが判る。
【００４２】
図９に示すように、撥インク性のないインクジェットプリンタヘッドでは、ノズル面にインク６が周り込むことがあった。この場合、インク６の張力により吐出するインク滴６１ａがノズル板１’に平行な方向に引かれ、ノズル板に垂直に吐出されない場合があった。 これに対し、本発明を適用したインクジェットプリンタヘッドでは、ノズル面が撥インク性を有する。
【００４３】
図１０に示すように、インク６はノズル面で常にはじかれ、ノズル１１内にメニスカス６２として滞留する。このため、吐出するインク滴６１ｂがインクの張力により引かれることがなく、ノズル１１から垂直に吐出される。また、ノズル面が撥インク性を有するため、ノズル面に飛散したインクは、ノズル面に広がることなく粒となって滞留する。このため、ゴム等の弾性体を用いたワイピングにより、容易に不要なインク滴の除去が可能である。
【００４４】
（中間層の形成）
図１１に、中間層を設けたノズル板の層構造の断面図を示す。上述したように、基材であるノズル部材に、シリコンやセラミックスを用いた場合、ノズル部材と金属膜との間に中間層を設けた方が結合力が強くなる。同図において、図１０と同一の部材には、同一の符号を付し、その説明を省略する。 ノズル部材１２ｂは、シリコンまたはセラミックスで組成される。 中間層１５は、ノズル部材と金属膜との間の結合力を強める素材、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）のいずれか、あるいはそれらの合金であることが好ましい。中間層を設ければ、ノズル部材と金属層との結合力が増し、機械的な摩擦に対し、自己組織化膜層が一層剥離し難くなる。
【００４５】
（インク）
インクジェットプリンタヘッドに用いるインク６には、前記チオール化合物を混入しておくことが好ましい。前記チオール化合物を混入しておけば、物理的衝撃等により、万一自己組織化膜層の一部が欠損しても、インクに混入された前記チオール化合物が、欠損のあった箇所の金属層の表面に再結合する。すなわち、自己修復機能を持たせることができる。 このような自己修復性のある撥インク処理は例がなく、ユーザが特別な修復作業をしないで済む。このとき、本実施形態のように金属層を金で形成しておくのは好ましい。金は展性に優れ、傷をつけられても金の材料が消失することは少ない。さらに耐薬品性に優れるため、ノズル部材の耐薬品性をも向上するからである。
【００４６】
（実施形態２）
本発明の実施形態２は、ノズルの改良に関する。 図１２に、本実施形態２のノズル板におけるノズル近傍の拡大断面図を示す。前記実施形態１（図５）と同一の部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。図１２に示すように、本形態のノズル板１ｄは、ノズル１１ｄの周囲に段差部１７が設けられている。すなわち、ノズル１１ｄの径と同心円状に凹部１８が形成されている。段差部１７および凹部１８の内部にも、金属層１３および自己組織化膜層１４を形成する。 なお、金属層や自己組織化膜層の組成については、前記実施形態１と同様に考えられる。また、図１２では、金属層および自己組織化膜層を構成したが、図１１に示す中間層をノズル部材と金属層との間に設けてもよい。 本実施形態２によれば、ノズル１１ｄを段差部１７および凹部１８を設けることにより、ノズル板１ｄの表面に尖った物が接触しても、凹部１８内部の金属層１３および自己組織化膜層１４は損傷を受けない。したがって、インク６のメニスカス６２ｄには変化なく、インクの吐出性能も劣化しない。
【００４７】
（実施形態３）
発熱素子により動作するインクジェットプリンタヘッドの一例である。
【００４８】
図１３に、本実施形態のインクジェットプリンタヘッドの構造を説明する斜視図を示す。当該インクジェットプリンタヘッドは、大きくノズル板７、流路基板８および発熱素子基板９により構成される。 ノズル板７には、ノズル７１が設けられている。このノズル板７には、実施形態１で説明した金属層１３、自己組織化膜層１４および中間層１５、実施形態２で説明したノズルの段差１７および凹部１８のいずれも適応可能である。 流路基板８には、キャビティ８１、側壁８２、リザーバ８３および供給路８４が形成されている。これら構造は、前記実施形態１で説明した流路基板２の構造と同様に考えられる。複数のキャビテイ８１は印字密度に対応する一定の間隔で配列される。各キャビティ８１は側壁８２により分けられる。キャビテイ８１は、流路基板８の側壁とノズル板７と発熱素子基板９とに挟まれた構造となる。 発熱素子基板９には、各キャビティ８１に対応する位置に発熱素子９１が設けられている。また、インクをリザーバ８３に供給するためのインクタンク口９２が設けられている。 上記構成において、インクは、図示しないインクタンクからインクタンク口９２を介してリザーバ８３に導入される。リザーバ８３のインクは、さらに供給口８４を通してキャビティ８１に供給される。発熱素子９１に電圧が図示しない駆動回路より電気信号が供給されると、発熱素子９１は発熱する。その結果、発熱した発熱素子９１のキャビティ８１に満たされたインクが気化し、気泡が発生する。この気泡により、このキャビティ８１に対応して設けられたノズル７１からインクが吐出する。このとき、ノズル板７の吐出側の面は、実施形態１及び２に記載した構成を備えるので、高い耐摩擦特性を有し、信頼性に優れている。また、ノズル板７の吐出側の面は、撥インク性を有するため、ノズル面にインクが残り、吐出するインクをノズル面に平行な方向に引き、その吐出方向を曲げることがない。 上記したように、本実施形態３によれば、発熱素子で気泡を発生させてインクを吐出する形式のプリンタヘッドにも本発明を適用できる。このため、実施形態１及び２に記載した効果と同様の効果を奏する。
【００４９】
以上各実施形態において述べてきたように、本発明のインクジェットプリンタヘッド及びその製造方法によれば、高い耐摩擦特性のある自己組織化膜層を形成できるので、機械的摩擦等の外的要因によるプリンタヘッドの劣化を抑制することができる。
【００５０】
【発明の効果】
本発明によれば、撥水性を備え、インク滴の吐出性能の劣化が少なく、しかも高い耐摩擦特性を有する、信頼性に優れたインクジェットプリンタヘッドおよびその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】インクジェットプリンタの全体斜視図である。
【図２】インクジェットプリンタヘッドの構造を説明する斜視図である。
【図３】インクジェットプリンタヘッドの主要部斜視図（部分断面図）である。
【図４】インクジェットプリンタヘッドの動作原理図である。
【図５】実施形態１におけるノズル板の断面図である。
【図６】チオール分子と金との結合の説明図である。
【図７】硫黄原子と金原子との結合の説明図である。
【図８】金表面におけるチオール分子の配置の説明図である。
【図９】撥インク性のないインクジェットプリンタヘッドにおける吐出説明図である。
【図１０】撥インク性のあるインクジェットプリンタヘッドにおける吐出説明図である。
【図１１】実施形熊１における中間層を設けたノズル板の断面図である。
【図１２】実施形態２におけるノズルに段差を設けたノズル板の断面図である。
【図１３】実施形態３における発熱素子を用いたインクジェットプリンタヘッドの斜視図である。
【図１４】加熱温度と自己組織化膜の表面接触角度との関係をプロットした図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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