(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光工程とアルカリ現像工程との間に、溶媒を用いてレジスト塗料を剥離するレジスト剥離工程を行い、
前記レジスト剥離工程で生じる廃液中から、レジスト塗料を分離、精製して、塗布工程において再利用することを特徴とするフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法。
【請求項２】
前記廃液中から分離した溶媒を、前記レジスト剥離工程で再利用することを特徴とする請求項１に記載のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法。
【請求項３】
レジスト塗料中に含まれている溶媒と、レジスト剥離工程において用いられる溶媒とが同一の溶媒であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法。
【請求項４】
形成されるパターンが、カラーフィルタにおいて用いられる着色パターンであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかの請求項に記載のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法。
【請求項５】
基材上にレジスト塗料を塗布するための塗布装置と、
基材上に塗布されたレジスト塗料を露光するための露光装置と、
基材上のレジスト塗料中の未露光部分のレジスト塗料を溶媒を用いて剥離するためのレジスト剥離装置と、
レジスト塗料が剥離された基材を、アルカリ現像液を用いて現像するためのアルカリ現像装置と、を少なくとも有するパターン形成装置であって、
前記レジスト剥離装置とアルカリ現像装置とには、それぞれ揺動ローラーが設けられており、かつレジスト剥離装置には、廃液回収口が設けられていることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項６】
基材上にレジスト塗料を塗布するための塗布装置と、
基材上に塗布されたレジスト塗料を露光するための露光装置と、
基材上のレジスト塗料中の未露光部分のレジスト塗料を溶媒を用いて剥離し、さらに、レジスト塗料が剥離された基材を、アルカリ現像液を用いて現像するための剥離現像装置と、を有するパターン形成装置であって、
前記剥離現像装置には、基板を回転させるためのスピンテーブルと、未露光部分のレジスト塗料を溶媒を用いて剥離する際に生じる廃液を回収することができ、アルカリ現像液を用いて現像する際に生じる廃液は回収しない位置へ移動可能な廃液回収トレイと、が設けられていることを特徴とするパターン形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトリソグラフィー法を用いたパターン形成方法に関し、例えば、液晶ディスプレイ等に用いられるカラーフィルタにおいて用いられる着色パターンの形成方法およびパターン形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、基材上に所望のパターンを形成する際には、図４に示すように、塗布工程Ｓ１００、乾燥工程Ｓ１１０、露光工程Ｓ１２０、アルカリ現像工程Ｓ１３０からなるフォトリソグラフィー法が用いられている。当該フォトリソグラフィー法においては、塗布工程Ｓ１００において、一旦、基材表面全体にレジスト塗料を塗布し、その後乾燥工程Ｓ１１０を経て、露光工程Ｓ１２０により、所望のマスク材の上から露光することにより、前記基材表面全体に塗布されたレジスト塗料中の所望の部分のみを硬化させ、最後にアルカリ現像液を用いて、レジスト塗料中の硬化していない部分、つまり未露光部分を洗い流すことにより基材上にパターンを形成する。
【０００３】
ここで、前記未露光部分が小さい場合には、基材上にレジスト塗料が多く残るということ、つまり洗い流すレジスト塗料が少ないということであり、塗布工程において塗布されたレジスト塗料が大量に無駄にされることもなく、また、現像に用いられるアルカリ現像液の量も比較的少量で済むため、特に問題は生じていない。
【０００４】
しかしながら、未露光部分が大きい場合には、基材上に塗布されたレジスト塗料の殆どの部分が洗い流されるということであり、これは塗布工程において塗布されたレジスト塗料の大半を無駄にしていることとなり、また、この際に用いられるアルカリ現像液の量も大量に必要となることから、資源の節約、これに伴うコスト等の観点から改善の余地がある。特に、カラーフィルタにおける着色パターンを形成する際においては、通常３色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の着色パターンを基材上に形成するために、塗布工程と現像工程とが３回繰り返して行われるが、この場合、各色のレジスト塗料中の約２／３は、現像工程において洗い流されており（残りの１／３が基材上に残ることとなる）、当該カラーフィルタを用いた液晶ディスプレイ等の低コスト化を困難とする要因の一つとなっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、現像工程で除去されていた未露光部分のレジスト塗料を再利用することにより、当該フォトレジスト塗料の無駄を小さく抑えるとともに、当該フォトレジスト塗料を洗い流すために用いられているアルカリ現像液の消費量も低下させることが可能なフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法、およびパターン形成装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、請求項１において、露光工程とアルカリ現像工程との間に、溶媒を用いてレジスト塗料を剥離するレジスト剥離工程を行い、前記レジスト剥離工程で生じる廃液中から、レジスト塗料を分離、精製して、塗布工程において再利用することを特徴とするフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法を提供する。
【０００７】
従来の方法においては、レジスト塗料を基材上から洗い流すことにより現像を行う際には、アルカリ現像液を使用していたためこの際に生じる廃液中からレジスト塗料を分離することは不可能であった。
【０００８】
本発明の方法においては、露光工程後であって、前記のアルカリ現像工程を行う前に、予め溶媒を用いて未露光部分のレジスト塗料を剥離するレジスト剥離工程を行い、かつ、この際に生じる廃液（溶媒中にレジスト塗料が溶解しているもの）を回収し、当該廃液中からレジスト塗料のみを分離、精製することにより、前記従来の方法においてはアルカリ現像液とともに廃棄されていたレジスト塗料を再利用することが可能となる。前記レジスト剥離工程後においては、従来からのアルカリ現像工程が行われる。これは、溶媒を用いたレジスト剥離工程のみでは、未露光部分のレジスト塗料を完全に除去することは困難であり、したがって完全な現像をすることができない場合があるからである。
【０００９】
しかしながら、このような場合であっても、本発明においては、当該アルカリ現像工程において洗い流すレジスト塗料は、従来の方法に比べ、極少量のみで足りる。これは、前記レジスト剥離工程において大部分のレジスト塗料は溶媒中に溶解済みであり、アルカリ現像液で洗い流さなければならないレジスト塗料が微量しか存在していないからである。したがって、この際に使用するアルカリ現像液の量は少量で済み、従来の方法に比べ当該アルカリ現像液を節約することができる。
【００１０】
また、前記請求項１に記載の発明においては、請求項２に記載するように、前記廃液中から分離した溶媒を、前記レジスト剥離工程で再利用することが好ましい。
【００１１】
本発明の方法における前記レジスト剥離工程において生じる廃液は、溶媒と、当該溶媒により基材上から剥離せしめられたレジスト塗料とをその主成分としている。そして、前記請求項１に記載するように、当該廃液中からレジスト塗料を分離、精製し再利用した場合においては、当該廃液中には溶媒が残存することになる。本発明においては前記廃液中に残存した溶媒をレジスト剥離工程において再利用することにより溶媒の使用量を減少せしめることができる。
【００１２】
さらに、前記請求項１または請求項２に記載の発明においては、請求項３に記載するように、前記レジスト塗料中に含まれている溶媒と、レジスト剥離工程において用いられる溶媒とが同一の溶媒であることが好ましい。
【００１３】
前述のように、本発明の方法においては、レジスト剥離工程において生じる廃液（レジスト塗料と溶媒の混合物）から、レジスト塗料を分離、精製することにより、当該レジスト塗料を再利用することを特徴としている。ここで、用いられるレジスト塗料中に含まれている溶媒（以下、「レジスト用溶媒」とする場合がある。）と、レジスト剥離工程において用いられる溶媒（以下、「剥離用溶媒」とする場合がある。）とが同一の溶媒であれば、レジスト塗料の分離、精製をする際に完全に剥離用溶媒を分離しきれず、分離したレジスト塗料中に剥離用溶媒が残存する場合であっても、その後レジスト塗料として再利用する際においては、当該残存する剥離用溶媒は、もとのレジスト塗料中に含有せしめられているレジスト用溶媒と同一の溶媒であるため、再利用の際に問題が生じることがないからである。
【００１４】
また、前記請求項１乃至請求項３のいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項４に記載するように、形成されるパターンが、カラーフィルタにおける着色パターンであることが好ましい。
【００１５】
カラーフィルタの着色パターンをフォトリソグラフィー法により形成する場合、通常３色の着色パターン（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を形成するために、塗布工程と現像工程とを３回繰り返す必要があり、それぞれの現像工程において１／３づつしか基材上に現像されず、残りの２／３は無駄に洗い流しているため、レジスト塗料の使用量が多く、コスト面等から問題となっているからである。当該方法をカラーフィルタの着色パターンの形成の際に用いると、前記のように無駄に洗い流していた２／３のレジスト塗料を再利用することが可能であり、カラーフィルタ製造時のコストを低減することができる。
【００１６】
さらに、本発明は請求項５に記載するように、基材上にレジスト塗料を塗布するための塗布装置と、基材上に塗布されたレジスト塗料を露光するための露光装置と、基材上のレジスト塗料中の未露光部分のレジスト塗料を、溶媒を用いて剥離するためのレジスト剥離装置と、レジスト塗料が剥離された基材をアルカリ現像液を用いて現像するためのアルカリ現像装置と、を少なくとも有するパターン形成装置であって、前記レジスト剥離装置とアルカリ現像装置とには、それぞれ揺動ローラーが設けられており、かつレジスト剥離装置には、廃液回収口が設けられていることを特徴とするパターン形成装置を提供する。
【００１７】
本発明のパターン形成装置によれば、露光装置により露光されることで露光部分と未露光部分とが形成されたレジスト塗料をレジスト剥離装置によって溶媒を用いて剥離することができる。この際、本発明におけるレジスト剥離装置には揺動ローラーが設けられているため、レジストを剥離するための溶媒をレジスト塗料表面へ均一に広げることが可能となる。さらに当該レジスト剥離装置には廃液回収口も設けられているため、溶媒を用いて未露光部分のレジスト塗料を剥離した際に生じる廃液、つまりレジスト塗料が溶解している溶媒を効率よく回収することができ、当該廃液中のレジスト塗料および溶媒を再利用することが可能である。
【００１８】
また、当該パターン形成装置には、アルカリ現像装置が設けられているため、前記レジスト剥離装置において未露光部分のレジスト塗料が剥離された基材はそのままアルカリ現像液により現像される。この際、当該アルカリ現像装置内にも前記レジスト剥離装置と同様に揺動ローラーが設けられているため、基材上へアルカリ現像液を均一に広げることができる。
【００１９】
さらに、本発明は請求項６に記載するように、基材上にレジスト塗料を塗布するための塗布装置と、基材上に塗布されたレジスト塗料を露光するための露光装置と、基材上のレジスト塗料中の未露光部分のレジスト塗料を溶媒を用いて剥離し、さらに、レジスト塗料が剥離された基材をアルカリ現像液を用いて現像するための剥離現像装置と、を有するパターン形成装置であって、前記剥離現像装置には、基板を回転させるためのスピンテーブルと、未露光部分のレジスト塗料を溶媒を用いて剥離する際に生じる廃液を回収することができ、アルカリ現像液を用いて現像する際に生じる廃液は回収しない位置へ移動可能な廃液回収トレイと、が設けられていることを特徴とするパターン形成装置を提供する。
【００２０】
当該装置によれば、露光装置により露光されることにより露光部分と未露光部分とが形成されたレジスト塗料を剥離現像装置において、まず溶媒を用いて剥離し、さらに同一の装置、つまり当該剥離現像装置において、前記レジスト塗料が剥離された後の基材を、アルカリ現像液を用いて現像せしめることができる。この際、基材は当該装置内に設けられたスピンテーブルに設置され、回転せしめられているため、レジスト塗料を剥離する際に生じる廃液は、遠心力によりスピンテーブルの周りに飛散することとなるが、当該廃液を回収することができる位置に廃液回収トレイが設けられているため、飛散した廃液を効率よく回収せしめることができる。また、レジスト塗料剥離後においては、当該剥離現像装置内においてアルカリ現像液を噴霧して現像が行われる。この際においても、レジスト剥離後の基材は、前記スピンテーブル上で回転せしめられているため、前記溶媒と同様にアルカリ現像液は、周りに飛散することとなる。しかしながら、当該装置における廃液回収トレイは、移動が可能な構造となっているため、当該現像時には、前記アルカリ現像液を用いて現像する際に生じる廃液は回収しない位置へ移動することが可能であり、したがって、飛散する現像液を回収することはない。
【００２１】
つまり、本発明の装置において回収すべきは、レジスト塗料を剥離する際に生じる廃液（レジスト塗料が溶解している溶媒）であり、アルカリ現像液を用いて現像する際に生じる廃液（レジスト塗料が溶解しているアルカリ現像液）ではない。したがって、前記本発明の装置においては、まずスピンテーブルを用いて基材を回転せしめることにより、当該基材上に噴霧される溶液を基材上に均一に散布せしめ、かつその際生じる廃液を遠心力により、当該スピンテーブルの周りへ飛散せしめる。そして、この飛散する廃液が回収すべき廃液（つまり、レジスト塗料を剥離する際に生じる廃液）の場合には、廃液回収トレイが前記スピンテーブルの近傍へ移動することで、当該廃液を回収することができ、逆に飛散する廃液が回収する必要のない廃液（つまり、現像する際に生じる廃液）の場合には、廃液回収トレイがスピンテーブルから離れることで、当該廃液を廃棄することができる。
【００２２】
本発明の剥離現像装置を用いることにより、フォトリソグラフィー法によりパターンを形成するための装置の省スペース化を図ることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法について具体的に説明する。
【００２４】
本発明のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法は、露光工程とアルカリ現像工程との間に、溶媒を用いてレジスト塗料を剥離する剥離工程を有しており、かつ当該剥離工程において生じる廃液中に含まれるレジスト塗料を分離、精製することにより再度レジスト塗料として利用することに特徴を有している。
【００２５】
図１は、本発明のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法の一例を示すフローチャート図である。
【００２６】
図１に示すように、本発明の方法は、まず所定の基材上にフォトレジスト塗料を塗布するための塗布工程Ｓ１０が行われ、その後、前記塗布工程Ｓ１０で塗布されたフォトレジスト塗料を乾燥するための乾燥工程Ｓ２０が行われる。そして、前記乾燥工程Ｓ２０により乾燥されたフォトレジスト塗料表面を所望のパターンが形成されたマスク材によりマスクし、露光することによって露光された部分の塗料のみ硬化させるための露光工程Ｓ３０が行われる。
【００２７】
前記露光工程Ｓ３０までの工程については、従来から行われている公知のフォトリソグラフィー法と何ら変わりなく、本発明において特に限定されるものではない。
【００２８】
次いで、本発明においては、前記露光工程Ｓ３０において露光されなかった部分、つまり現像に際し不要なレジスト塗料を、溶媒を用いて基材から剥離するためのレジスト剥離工程Ｓ４０が行われる。
【００２９】
当該レジスト剥離工程Ｓ４０において用いる溶媒については、基材上の未露光部分のレジスト塗料を溶解せしめることが可能な溶媒であればいかなる溶媒をも用いることが可能であり、特に限定されるものではない。本発明の方法においては、従来公知の溶媒の中でも、水、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール類、飽和脂肪酸モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、オキシ酢酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキルエステル類、モノオキシモノカルボン酸アルキルエステル類、ケトン酸エステル類、セロソルブアセテート類、エーテル類、カルビトール類、ケトン類、等が好ましく、これらは、単独あるいは組合せで用いる。この中でも、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、等が特に好ましい。
【００３０】
また、本発明の方法においては、前記塗布工程Ｓ１０において用いられるレジスト塗料中に含まれるレジスト用溶媒と同一の溶媒を当該レジスト剥離工程Ｓ４０において用いることが好ましい。同一溶媒を用いることにより、以下で詳細に説明するが、レジスト剥離工程Ｓ４０において生じる廃液（レジスト塗料と溶媒の混合物）から、レジスト塗料のみを分離、精製することにより、当該レジスト塗料を再利用する際に完全に剥離用溶媒を分離しきれず、分離、精製後のレジスト塗料中に剥離用溶媒が残存した場合であっても、当該剥離用溶媒がもとのレジスト塗料に含有せしめられているレジスト用溶媒と同一の溶媒であれば、再利用の際に特に問題となることはないからである。
【００３１】
このようにレジスト塗料中に含まれるレジスト用溶媒とレジスト剥離工程において用いられる剥離用溶媒とを同一の溶媒とし、本発明の方法によりカラーフィルタにおける着色パターン（赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ））を形成する場合においては、それぞれの染料や顔料、樹脂などの含有成分との相性を考慮して以下に示す溶媒を用いることが好ましい。
【００３２】
赤色パターンに用いる溶媒の例としては、３−メトキシプロピオン酸エチル又は３−エトキシプロピオン酸エチルが挙げられ、緑色パターンに用いる溶媒の例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は３−エトキシプロピオン酸エチルが挙げられる。さらに、青色パターンに用いる溶媒の例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は３−エトキシプロピオン酸エチルが挙げられる。
【００３３】
前記レジスト剥離工程Ｓ４０を行うことにより基材上の未露光部分に塗布されたレジスト塗料の殆どが溶媒中に溶解され、当該レジスト剥離工程Ｓ４０において用いられた溶媒は、一旦廃液となる。
【００３４】
なお、本発明の方法において、上記レジスト剥離工程Ｓ４０がされた基材は、従来のフォトリソグラフィー法と同様、アルカリ現像工程Ｓ５０により、完全に現像される。つまり、本発明における上記レジスト剥離工程Ｓ４０のみでは、未露光部分のレジスト塗料を完全に除去することは困難であるため、本発明の方法においては、当該アルカリ現像工程Ｓ５０が必要となる。しかしながら、従来の方法におけるアルカリ現像工程で使用するアルカリ現像液の使用量と比べ、本発明のアルカリ現像工程で使用するアルカリ現像液の使用量は、少量で済み（上記レジスト剥離工程Ｓ４０において、既に殆どのレジスト塗料を溶解除去しているから）、当該アルカリ現像液を節約することができる。
【００３５】
前記レジスト剥離工程Ｓ４０を行うことにより生じた廃液、つまり未露光部分のレジスト塗料が溶解している溶媒は、分離工程Ｓ６０においてレジスト塗料部分と、溶媒とに分離される。
【００３６】
本発明における分離工程Ｓ６０としては、溶媒部分を蒸気として分離する蒸留法や、限外フィルタ濾過法や、遠心分離法等の公知の分離工程を用いることができる。
【００３７】
当該分離工程Ｓ６０においてレジスト塗料部分と分離された溶媒は、図１に示すように、上述したレジスト剥離工程Ｓ４０において未露光部分のレジスト塗料を溶解するための溶媒として再利用される。
【００３８】
一方、当該分離工程Ｓ６０において分離されたレジスト塗料部分は、前記塗布工程Ｓ１０において用いられるレジスト塗料として再利用するための精製工程Ｓ７０により精製される。
【００３９】
本発明の方法において、当該精製工程Ｓ７０とは、前述してきたレジスト剥離工程Ｓ４０により一旦溶媒中に溶解し、分離工程Ｓ５０により再度溶媒と分離されたレジスト塗料部分に対して、前記塗布工程Ｓ１０において用いられるレジスト塗料として再利用するために行われる全ての工程をいい、特に限定されるものではない。
【００４０】
例えば、図１に示すように、前記分離工程Ｓ６０により溶媒と分離されたレジスト塗料部分は、分離工程により完全に溶媒と分離されていない場合があり、この場合、基材上に塗布されていた段階のレジスト塗料にくらべ若干希釈されているため、濃縮工程Ｓ７２を行ってもよい。当該濃縮工程Ｓ７２としては、蒸留法、フィルタ濾過法、遠心分離法、等を用いることができる。
【００４１】
また、前記濃縮工程Ｓ７２を行った後に、粘度調整工程Ｓ７４を行ってもよい。当該粘度調整工程Ｓ７４とは、分離工程Ｓ６０により溶媒中から分離され、濃縮工程Ｓ７２により濃縮されたレジスト塗料部分を前記塗布工程Ｓ１０において用いられるレジスト塗料として好適な程度の粘度とする工程をいう。
【００４２】
さらに、前記粘度調整工程Ｓ７４を行った後に、最終工程として不純物除去工程Ｓ７６を行ってもよい。当該不純物除去工程Ｓ７６とは、前記粘度調整工程Ｓ７４において塗布工程において用いることが可能な程度にまで粘度が調整されたレジスト塗料部分から最終的に不純物を除去してレジスト塗料とする工程をいい、例えば、遠心分離法や、フィルター濾過法等の公知の方法を用いることができる。
【００４３】
上記のような工程を順次行うことにより、レジスト剥離工程において生じる廃液中から、再利用可能なレジスト塗料と、溶媒とを効率よく分離、精製することができ、また当該方法により、アルカリ現像工程Ｓ５０において用いられるアルカリ現像液の使用量を低減することも可能である。
【００４４】
次に、上述してきた本発明の方法を利用したパターン形成装置について図面を用いて具体的に説明する。
【００４５】
図２は、レジスト剥離工程、及びアルカリ現像工程を行うためのレジスト剥離装置２とアルカリ現像装置３を示す概略断面図である。ここで、本発明のパターン形成装置には、図２に示すレジスト剥離装置２とアルカリ現像装置３の他に、基材上にレジスト塗料を塗布するための塗布装置、基材上に塗布されたレジスト塗料を露光するための露光装置とが設けられているが、これらの装置については従来公知の装置を用いることが可能であり、したがってここでの説明は省略する。
【００４６】
本発明のパターン形成装置においては、まず図中に示すＡの方向から露光装置により露光工程が行われた後の基板４がレジスト剥離装置２中に設けられた揺動ローラー５上に配置される。ここで前記揺動ローラー５とは、正逆両方の回転が可能なローラーのことをいい、公知の揺動ローラーの全てを用いることが可能である。当該レジスト剥離装置２中の前記揺動ローラー５の上方には、溶媒噴霧口６が設けられており、当該溶媒噴霧口６により、揺動ローラー上で揺動せしめられている基板４上へ溶媒が噴霧される。このように、レジスト剥離装置２において揺動ローラー５を用いることにより、基材上のレジスト塗料上に噴霧された溶媒を均一状態とすることができる。
【００４７】
基板上のレジスト塗料の中、露光により硬化しなかった部分、つまり未露光部分は当該噴霧された溶媒に溶解し、ここで廃液が生じる。そして、当該廃液（レジスト塗料が溶解した溶媒）は、前記揺動ローラー５の下方に設置された廃液回収口７から回収される。
【００４８】
ここで、当該廃液回収口７とは、レジスト剥離装置においてレジスト塗料を溶媒を用いて剥離した際に生じる廃液を回収するためのものをいい、形状等を特に限定されるものではない。
【００４９】
当該廃液回収口７により回収された廃液は、上述したように、レジスト塗料部分と溶媒とに分離され、それぞれ再利用がされる。
【００５０】
前記レジスト剥離装置２内において未露光部分のレジスト塗料が殆ど剥離された状態の基板４は、当該レジスト剥離装置２に隣接して設けられたアルカリ現像装置３内へ搬入される。
【００５１】
そして、当該アルカリ現像装置内においても、前記レジスト剥離装置２の場合と同様に基板４は揺動せしめられながら、当該揺動ローラー５上方に設けられたアルカリ現像液噴出口８から噴霧されるアルカリ現像液により、前記レジスト剥離装置２内で溶解しきらなかった未露光部分のレジスト塗料が洗い流される。
【００５２】
前記レジスト剥離装置２、およびアルカリ現像装置３を通過することにより現像された基板４は、図示しない純水洗浄装置へ搬入され純水により洗浄される。
【００５３】
上述したようなレジスト剥離装置２、およびアルカリ現像装置３が設けられたパターン形成装置を用いることにより一連の流れの中でレジスト剥離工程、及びアルカリ現像工程を行うことができ好ましい。
【００５４】
なお、上記の各装置において用いられる各構成部分（例えば、溶媒噴霧口６等）については、特に限定されるものではなく、当該作用を奏する公知のものを全て使用することが可能である。
【００５５】
図３は、前記図２に示す装置とは異なり、レジスト剥離工程、及びアルカリ現像工程を同一の空間で行うことができる剥離現像装置１０を示す概略断面図である。
【００５６】
なお、本発明のパターン形成装置においては、当該剥離現像装置１０の他に基材上にレジスト塗料を塗布するための塗布装置、基材上に塗布されたレジスト塗料を露光するための露光装置とが設けられており、これらの装置については前述したように、公知の装置を用いることができるのでここでの説明は省略する。
【００５７】
当該剥離現像装置１０においては、図３（ａ）に示すように、スピンテーブル１１上に図示しない露光装置により露光された後の基板１２が設置される。ここで前記スピンテーブル１１は、図中に示す矢印の方向に回転するように、図示されないモーターに接続されている。
【００５８】
前記スピンテーブル１１の上方にはノズル１３が設けられており、当該ノズル１３により、スピンテーブル上に設置され回転せしめられている基板１２上へ溶媒が噴霧される。基板上のレジスト塗料中露光により硬化しなかった部分、つまり未露光部分は、当該噴霧された溶媒に溶解し、その廃液（レジスト塗料が溶解した溶媒）は、遠心力によりスピンテーブルの周りに飛散することとなる。
【００５９】
ここで、当該剥離現像装置１０には、スピンテーブル１１の周囲に当該スピンテーブルの軸方向に移動可能な廃液回収トレイ１４が設けられており、当該剥離現像装置１０でレジスト剥離工程を行う際には、前記回収トレイ１４はスピンテーブル１１の近傍にセッティングされているため（スピンテーブルの軸方向へ移動している）、前記遠心力により飛散する廃液の殆どは当該廃液回収トレイ１４により回収される（図３（ａ）参照）。
【００６０】
そして、回収された廃液は上述したように、レジスト塗料部分と溶媒とに分離され、それぞれ再利用がされる。
【００６１】
前記レジスト剥離工程において、未露光部分のレジスト塗料が殆ど剥離された状態の基板１２には、図３（ｂ）に示すように、そのまま前記ノズル１３からアルカリ現像液を噴霧することによりアルカリ現像工程が行われる。なお、アルカリ現像液を噴霧するために用いられるノズルは、前記レジスト剥離工程において溶媒を噴霧するために用いられたノズルを洗浄して用いてもよいし、当該装置内にそれぞれ別のノズルを設けてもよい。
【００６２】
この際、スピンテーブル１１は回転し続けているため、アルカリ現像液も前記溶媒と同様に飛散することとなるが、前述したように本装置に設けられている廃液回収トレイ１４はスピンテーブルの軸方向に移動が可能なため、スピンテーブル１１から一定の距離（アルカリ現像液がトレイ内に侵入しない距離）にセッティングされている状態とすることができ、従って飛散したアルカリ現像液を回収することはない。
【００６３】
本発明の方法において回収し再利用するのはレジスト剥離工程において生じる廃液であり、したがって、アルカリ現像工程において生じる廃液（つまり、アルカリ現像液とレジスト塗料の混合物）は回収する必要がない。このように廃液回収トレイ１４を移動可能とすることにより、前記２種類の廃液を選択して回収せしめることができる。
【００６４】
当該剥離現像装置１０を用いることにより、本発明の方法の特徴であるレジスト剥離工程とアルカリ現像工程とを同一の空間で行うことができ、装置の省スペース化を実現することが可能となる。また、当該剥離現像装置１０は、廃液回収トレイ１４が移動可能であることに特徴を有しており、このようにすることで廃液の分別回収、つまりレジスト剥離工程において生じる廃液のみを回収することができる。
【００６５】
なお、当該装置１０における各構成部分については、本発明の方法は特に限定するものではなく、公知の構成部分を全て使用することが可能である。
【００６６】
【発明の効果】
本発明の方法においては、露光工程後であって、前記のアルカリ現像工程を行う前に、予め溶媒を用いて未露光部分のレジスト塗料を剥離するレジスト剥離工程を行い、かつ、この際に生じる廃液（溶媒中にレジスト塗料が溶解しているもの）を回収し、当該廃液中からレジスト塗料のみを分離、精製することにより、前記従来の方法においてはアルカリ現像液とともに廃棄されていたレジスト塗料を再利用することが可能となる。
【００６７】
また、前記のように、一度レジスト剥離工程においてレジスト塗料を剥離しているため、アルカリ現像工程において洗い流すレジスト塗料は、従来の方法に比べ極少量でありしたがって使用するアルカリ現像液も少量で済む。
【００６８】
さらに、本発明においては、前記廃液中に含まれる溶媒についてもレジスト剥離工程において再利用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法の一例を示すフローチャート図である。
【図２】本発明のパターン形成装置に用いられるレジスト剥離装置、およびアルカリ現像装置の概略断面図である。
【図３】本発明のパターン形成装置に用いられる剥離現像装置の概略断面図である。
【図４】従来のパターン形成方法の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
２…レジスト剥離装置
３…アルカリ現像装置
５…揺動ローラー
７…廃液回収口
１０…剥離現像装置
１４…回収トレイ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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