(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物。
【請求項２】
Ｒｆが１‐ペルフルオロデカリル基である請求項１記載のペルフルオロデカリル基含有過酸化物。
【請求項３】
請求項１又は２記載のペルフルオロデカリル基含有過酸化物を有効成分とする、エチレン性重合基をもつモノマー用重合開始剤。
【請求項４】
請求項１又は２記載のペルフルオロデカリル基含有過酸化物からなるペルフルオロデカリル基導入化剤。
【請求項５】
一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）Ｘ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされるペルフルオロデカリンカルボン酸ハライドを過酸化水素、過酸化ナトリウム、過酸化カリウム及び過酸化バリウムの中から選ばれた少なくとも１種と反応させることを特徴とする請求項１又は２記載のペルフルオロデカリル基含有過酸化物の製造方法。
【請求項６】
一般式
ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2
及び
ＣＨ2＝ＣＲ3Ｒ4
｛式中、Ｒ1及びＲ3は同一であるかあるいは互い異なる、水素原子又はアルキル基を、Ｒ2及びＲ4は互いに異なるものであって、ピペリジノ基、１‐ピロリジニル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＳｉＲaＲa′Ｒa″（ここで、Ｒa、Ｒa′、Ｒa″は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜４の、アルコキシ基又はアルカノイルオキシ基、ハロゲン原子、又は水素原子を示す）、−ＣＯ2Ｒ5又は−ＣＯＮＲ6Ｒ7［ここで、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7は同一であるかあるいは互いに異なる、水素原子、炭素数１〜１８の、シクロアルキル基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、グリシジル基、−Ｄ−Ｑ（ここで、Ｄはウレタン結合、エステル結合、アミド結合、酸素原子又は窒素原子が介在していてもよい二価飽和炭化水素基を、Ｑはイソシアネート基（−ＮＣＯ）又はブロック化イソシアネート基をそれぞれ示す）、−(Ｙ1)a−（Ｙ2−Ｏ）b−Ｒ8〔ここで、Ｙ1、Ｙ2は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ8は水素原子、アルキル基又は−ＳｉＲbＲb′Ｒb″（ここで、Ｒb、Ｒb′、Ｒb″は同一であるかあるいは互いに異なる、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルカノイルオキシ基又は水素原子を示す）、ａは０又は１を、ｂは０〜２０の整数をそれぞれ示す〕、又は炭素数１〜２０の、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基又はジアルキルアミノアルキル基又はそれらのアンモニウム塩、シアノアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルキルホスホニウム基、ホスホアルキル基、又はグリシジルアルキル基をそれぞれ示し、さらにＲ6及びＲ7は互いに結合してそれらが結合するＮとともに複素環を形成してもよい］、−ＯＣＯＲ5（ここで、Ｒ5は前記と同じ意味を有する）、又は−Ｙ1−（Ｏ−Ｙ2）b−Ｒ9（ここで、Ｙ1、Ｙ2は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ9は水酸基又はアルコキシ基を、ｂは０〜２０の整数をそれぞれ示す）｝で表わされるモノマーの中から選ばれた少なくとも１種を一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させて、一般式
Ｒｆ−（ＣＨ2ＣＲ1Ｒ2）ｍ−（ＣＨ2ＣＲ3Ｒ4）ｎ−Ｒｆ
〔式中、Ｒｆ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同じ意味を有し、ｍ、ｎは０〜５０００（ただし、ｍ＋ｎ≠０）をそれぞれ示す〕
で表わされるペルフルオロデカリル基含有化合物を製造することを特徴とするペルフルオロデカリル基含有化合物の製造方法。
【請求項７】
ベンゼンを一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させて、一般式
Ａｒ−Ｒｆ
（式中、Ａｒはベンゼンの残基であり、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基で芳香環の炭素原子に結合している）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有化合物を製造することを特徴とするペルフルオロデカリル基含有化合物の製造方法。
【請求項８】
スチレンを一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させて、一般式
【化１】
0004601759.tif 000015
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基、ｘは０〜１００００の整数、ｙは１〜１００００の整数を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有化合物を製造することを特徴とするペルフルオロデカリル基含有化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なペルフルオロデカリル基含有過酸化物、その用途、それを用いて得たペルフルオロデカリル基含有化合物、及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ペルフルオロアルキル基を有する化合物が種々知られているが、そのうち有機過酸化物、例えばペルフルオロアルカノイルペルオキシド等は、フッ素系モノマーの重合触媒として多用されている。このような有機過酸化物としては、例えば、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロペンの共重合触媒用に過酸化ペルフルオロアルカノイルが知られている（特開昭４９−１０２９０号公報）。
【０００３】
また、ペルフルオロアルキル基を含有する安定な化合物については、耐候性、耐光性、撥水撥油性、さらには生理活性等の有用な性質を示すため近年注目を集めている。特に、ペルフルオロアルキル基含有重合体は、低表面張力性、低屈折性、低反射性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水性、撥油性、防曇性、防汚性、離型性、耐薬品性、潤滑性等の優れた特性を有しているため種々の分野、例えば表面処理剤、繊維処理剤、界面活性剤、塗料、ワックス添加剤、離型性付与剤などの分野で用いられ、特に、ガラス器具、光学レンズ、眼鏡用レンズ、眼内レンズ、プラスチックファイバー、分離膜、医療用材等の表面に撥水撥油性、防汚染性、乱反射防止性等を付与させるための表面処理剤として有用であると考えられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、このような事情の下、特定モノマーの重合開始剤や特定のペルフルオロ有機基導入化剤として有用な新規なペルフルオロ有機過酸化物及び該過酸化物を用いて得られる新規なペルフルオロ有機化合物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、新規なペルフルオロ有機化合物について鋭意研究を重ねた結果、ペルフルオロデカリル基を有する有機過酸化物、及びそれを用いて得られる新規な種々のペルフルオロデカリル基含有化合物がその目的に適合しうることを見出し、この知見に基づいて、本発明をなすに至った。
【０００６】
すなわち、本発明は、一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ      （Ｉ）
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物を提供するものである。
【０００７】
この過酸化物は、文献未載の新規化合物であって、一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）Ｘ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされるペルフルオロデカリンカルボン酸ハライドを過酸化水素、過酸化ナトリウム、過酸化カリウム及び過酸化バリウムの中から選ばれた少なくとも１種と反応させることにより製造することができる。
【０００８】
この過酸化物は、反応性に富み、種々の特性、用途を有し、特にそれを有効成分とするエチレン性重合基をもつモノマー用重合開始剤や該過酸化物からなるペルフルオロデカリル基導入化剤として有用である。
【０００９】
また、本発明は、このような過酸化物を用いて、以下の一般式（ＩＩ）〜（ＩＶ）で表わされる種々のペルフルオロデカリル基含有化合物の製造方法を提供するものである。
Ｒｆ−（Ａ）ｍ−（Ｂ）ｎ−Ｒｆ    （ＩＩ）
〔式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を、Ａ及びＢは互いに異なるエチレン性重合基をもつモノマー単位を、ｍ、ｎは０〜５０００（ただし、ｍ＋ｎ≠０）をそれぞれ示す〕
Ａｒ−Ｒｆ    （ＩＩＩ）
（式中、Ａｒは重合性を有しない芳香族化合物残基であり、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基で芳香環の炭素原子に結合している）
（Ａｒ′−Ｈ）ｘ（Ａｒ′−Ｒｆ）ｙ    （ＩＶ）
（式中、Ａｒ′は重合性を有する芳香族モノマー単位残基であり、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基で芳香環の炭素原子に結合し、ｘは０〜１００００の整数、ｙは１〜１００００の整数である）
【００１０】
これらのペルフルオロデカリル基含有化合物は、文献未載の新規化合物であって、次のようにして製造することができる。
本発明の前記一般式（ＩＩ）のペルフルオロデカリル基含有化合物は、１種又は２種以上のエチレン性重合基をもつモノマーを一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させることにより製造することができる。
また、本発明の前記一般式（ＩＩＩ）のペルフルオロデカリル基含有化合物は、一般式
Ａｒ−Ｈ
（式中、Ａｒは重合性を有しない芳香族化合物残基であって、その結合手は芳香環に位置する）
で表わされる芳香族化合物を一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させることにより製造することができる。
また、本発明の前記一般式（ＩＶ）のペルフルオロデカリル基含有化合物は、一般式
Ａｒ″−Ｈ
（式中、Ａｒ″は重合性を有する芳香族モノマー残基であって、その結合手は芳香環に位置する）
で表わされる重合性を有する芳香族モノマーを一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させることにより製造することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の前記式（Ｉ）で示されるペルフルオロデカリル基含有過酸化物〔以下、過酸化物（Ｉ）ともいう〕において、式中のＲｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基、換言すれば１‐ペルフルオロデカリル基及び２‐ペルフルオロデカリル基の一方又は両方、さらに言い換えれば１‐ペルフルオロデカリル基及び２‐ペルフルオロデカリル基の中から選ばれた少なくとも１種を示し、したがって過酸化物（Ｉ）はペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドということもできる。
過酸化物（Ｉ）の中でもＲｆが１‐ペルフルオロデカリル基であるビス（ペルフルオロデカリン‐１‐カルボニル）ペルオキシドが入手しやすいので好ましい。
【００１２】
過酸化物（Ｉ）すなわちペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドは、対応する酸ハロゲン化物（例えば、ペルフルオロデカリンカルボン酸フッ化物、ペルフルオロデカリンカルボン酸塩化物、ペルフルオロデカリンカルボン酸臭化物、ペルフルオロデカリンカルボン酸ヨウ化物）を原料化合物に用いて次の方法により製造することができる。
第一の方法は、上記酸ハロゲン化物を過酸化水素と反応させるものであって、反応は好ましくはアルカリ条件下、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムや、これらの混合物などのアルカリ成分の存在下に行われる。上記酸ハロゲン化物に対する他成分の好適用量比はモル比で過酸化水素で０．３〜２０、中でも０．５〜１０、アルカリ成分で０．３〜１０、中でも０．５〜７の範囲で選ばれる。この比が、過酸化水素で２０を超えると、またアルカリ成分で１０を超えると、目的物の過酸化物（Ｉ）の収率が低下するし、また過酸化水素で０．３未満となると、またアルカリ成分で０．３未満となると、反応時間が長くなり、しかも収率も低下する傾向が見られる。
第二の方法は、上記酸ハロゲン化物を過酸化ナトリウム、過酸化カリウム及び過酸化バリウムの中から選ばれた少なくとも１種の無機過酸化物と反応させるものである。上記酸ハロゲン化物に対する無機過酸化物の好適用量比はモル比で０．３〜２０、中でも０．５〜１５の範囲で選ばれる。この比が２０を超えると目的物の過酸化物（Ｉ）の収率が低下するし、また０．３未満となると反応時間が長くなり、しかも収率も低下する傾向が見られる。
これらの方法で用いられるアルカリ成分及び無機過酸化物については水溶液として用いるのが好ましく、濃度はいずれも１〜６０重量％、中でも５〜３０重量％の範囲であるのが好ましい。濃度が６０重量％を超えると目的物の過酸化物（Ｉ）の収率が低下するし、また１重量％未満では反応時間が長くなり、しかも収率も低下する傾向が見られる。
【００１３】
これらの方法における反応条件については、各種原料の種類や使用割合などにより変動するが、通常、圧力は常圧が用いられ、反応温度は−３０〜５０℃、好ましくは−２０〜１０℃の範囲が用いられる。この反応温度が−３０℃未満では反応時間が長くなるし、また５０℃を超えると反応時の圧力が高くなりすぎるなど反応系の制御（反応操作）が困難となるので好ましくない。また、反応時間は通常０．５〜２０時間の範囲で選ばれるが、実用的には０．５〜１０時間となるように条件を設定するのが望ましい。
【００１４】
また、これらの方法においては、過酸化物（Ｉ）に対応する酸ハロゲン化物を溶解しうる有機溶媒を用いるのが好ましい。
このような有機溶媒としてはハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒が特に好ましい。具体的には例えば、塩化メチレン、クロロホルム、２‐クロロ‐１，２‐ジブロモ‐１，１，２‐トリフルオロエタン、１，２‐ジブロモヘキサフルオロプロパン、１，２‐ジブロモテトラフルオロエタン、１，１‐ジフルオロテトラクロロエタン、１，２‐ジフルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ‐２，３，３‐トリクロロブタン、１，１，１，３‐テトラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，１‐トリクロロペンタフルオロプロパン、１，１，２‐トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパン、１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロキシレン、ペンタフルオロベンゼン等を挙げることができ、特に工業的には１，１，２‐トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパン、１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、あるいはこれらを任意の割合で混合した混合溶媒〔例えば旭硝子社製、ＡＫ−２２５（１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパンと１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパンとの混合溶媒）〕が好適である。
【００１５】
本発明の過酸化物（Ｉ）すなわちペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドは、ペルフルオロデカリル基を有するため１０時間選定半減期温度が通常のフッ素系の有機過酸化物に比べて低いのでラジカル反応活性が非常に高く、エチレン性重合基をもつモノマー、中でもビニル基、そのアルキル置換体、そのハロゲン置換体などのα，β‐エチレン性不飽和結合を有する基をもつモノマー、特に後記一般式（ＶＩ）や一般式（ＶＩＩ）のモノマーの重合開始剤、特にラジカル重合開始剤として有用である。
【００１６】
そして、このようなモノマーを１種又は２種以上用い、これをペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドと反応させ、好ましくはさらに重合させることによって通常前記一般式（ＩＩ）で表わされる、両末端にペルフルオロデカリル基をもつ化合物、好ましくはホモポリマー又はコポリマーからなる重合体を製造することができる。この際、片方の末端にペルフルオロデカリル基をもつ化合物が副生することもある。
【００１７】
この一般式（ＩＩ）の化合物の中でも、特に一般式
Ｒｆ−（ＣＨ2ＣＲ1Ｒ2）ｍ−（ＣＨ2ＣＲ3Ｒ4）ｎ−Ｒｆ    （Ｖ）
｛式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を、Ｒ1及びＲ3は同一であるかあるいは互いに異なる、水素原子又はアルキル基を、Ｒ2及びＲ4は互いに異なるものであって、ピペリジノ基、１‐ピロリジニル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＳｉＲaＲa′Ｒa″（ここで、Ｒa、Ｒa′、Ｒa″は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜４の、アルコキシ基又はアルカノイルオキシ基、ハロゲン原子、又は水素原子を示す）、−ＣＯ2Ｒ5又は−ＣＯＮＲ6Ｒ7［ここで、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7は同一であるかあるいは互いに異なる、水素原子、炭素数１〜１８の、シクロアルキル基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、グリシジル基、−Ｄ−Ｑ（ここで、Ｄはウレタン結合、エステル結合、アミド結合、酸素原子又は窒素原子が介在していてもよい二価飽和炭化水素基を、Ｑはイソシアネート基（−ＮＣＯ）又はブロック化イソシアネート基をそれぞれ示す）、−(Ｙ1)a−（Ｙ2−Ｏ）b−Ｒ8〔ここで、Ｙ1、Ｙ2は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ8は水素原子、アルキル基又は−ＳｉＲbＲb′Ｒb″（ここで、Ｒb、Ｒb′、Ｒb″は同一であるかあるいは互いに異なる、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルカノイルオキシ基又は水素原子を示す）、ａは０又は１を、ｂは０〜２０の整数をそれぞれ示す〕、又は炭素数１〜２０の、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基又はジアルキルアミノアルキル基又はそれらのアンモニウム塩、シアノアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルキルホスホニウム基、ホスホアルキル基、又はグリシジルアルキル基をそれぞれ示し、さらにＲ6及びＲ7は互いに結合してそれらが結合するＮとともに複素環を形成してもよい］、−ＯＣＯＲ5（ここで、Ｒ5は前記と同じ意味を有する）、又は−Ｙ1−（Ｏ−Ｙ2）b−Ｒ9（ここで、Ｙ1、Ｙ2は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ9は水酸基又はアルコキシ基を、ｂは０〜２０の整数をそれぞれ示す）を、ｍ、ｎは０〜５０００（ただし、ｍ＋ｎ≠０）をそれぞれ示す｝
で表わされるもの（以下、化合物Ｐともいう）が好ましい。
【００１８】
上記一般式（Ｖ）における符号中、Ｙ1のアルキレン基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基などの炭素数１〜３のアルキレン基が、Ｙ2のアルキレン基としてはエチレン基、プロピレン基がそれぞれ好ましく、式：−(Ｙ1)a−（Ｙ2−Ｏ）b−Ｒ8で示される基としては−ＳｉＲbＲb′Ｒb″や、−Ｙ1−ＳｉＲbＲb′Ｒb″や、−（Ｙ2−Ｏ）d−Ｒ8（ここで、ｄは１〜２０の整数である）、中でもポリ（オキシエチレン）基、ポリ（オキシプロピレン）基又はポリ（混合オキシエチレン−オキシプロピレン）基やこれらの末端水酸基を−ＯＳｉＲbＲb′Ｒb″又はアルコキシ基で置換した基が、式：−Ｙ1−（Ｏ−Ｙ2）b−Ｒ9で示される基としてはＹ1がメチレン基であり、残基はポリ（オキシエチレン）基、ポリ（オキシプロピレン）基又はポリ（混合オキシエチレン−オキシプロピレン）基である基やその末端水酸基をアルコキシ基で置換した基がそれぞれ好ましい。
【００１９】
また、式：−Ｄ−Ｑで示される基は、ウレタン結合、酸素原子又は窒素原子が介在していてもよい、イソシアネート基で置換された飽和炭化水素基や、そのイソシアネート基がイソシアネートブロック剤でブロック化されたものであって、Ｄにおける二価飽和炭化水素基としてはアルキレン基が好ましく、このようなものとしてはウレタン結合、酸素原子又は窒素原子が介在していてもよい、イソシアナトアルキル基やブロック化イソシアナトアルキル基、中でもイソシアナトアルキル基や、イソシアナトアルキルアミノカルボニルオキシアルキル基（例えば式；
−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＯ−ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＮＣＯ
で表わされる基など）や、それらのブロック化されたものなどが挙げられる。
【００２０】
イソシアネートブロック剤は、遊離のイソシアネート基に作用してその反応性を抑制しうるもの、例えばイソシアネート基と反応して遊離のイソシアネート基をなくするものなどであって、適当な条件下、例えば加熱条件下や触媒存在下で、イソシアネート基を生成させるなどしてイソシアネート基の反応性を復元させるものであれば特に限定されないが、好ましくはフェノール系、アルコール系、イミン系、オキシム系、ラクタム系、活性メチレン系の活性水素基含有化合物が用いられる。
【００２１】
また、−ＳｉＲaＲa′Ｒa″や−ＳｉＲbＲb′Ｒb″としては、例えばオルガノシラン、オルガノハロゲンシラン、オルガノシラノール、オルガノアルコキシシラン、オルガノシロキサン、オルガノシリコンエステル、オルガノシラザンなどの有機ケイ素化合物の残基等が挙げられるが、中でもオルガノシリル基、オルガノハロゲノシリル基、オルガノシロキシ基が好ましい。
【００２２】
化合物Ｐは、一般式
ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2      （ＶＩ）
及び
ＣＨ2＝ＣＲ3Ｒ4      （ＶＩＩ）
｛式中、Ｒ1及びＲ3は同一であるかあるいは互いに異なる、水素原子又はアルキル基を、Ｒ2及びＲ4は互いに異なるものであって、ピペリジノ基、１‐ピロリジニル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＳｉＲaＲa′Ｒa″（ここで、Ｒa、Ｒa′、Ｒa″は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜４の、アルコキシ基又はアルカノイルオキシ基、ハロゲン原子、又は水素原子を示す）、−ＣＯ2Ｒ5又は−ＣＯＮＲ6Ｒ7［ここで、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7は同一であるかあるいは互いに異なる、水素原子、炭素数１〜１８の、シクロアルキル基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、グリシジル基、−Ｄ−Ｑ（ここで、Ｄはウレタン結合、エステル結合、アミド結合、酸素原子又は窒素原子が介在していてもよい二価飽和炭化水素基を、Ｑはイソシアネート基（−ＮＣＯ）又はブロック化イソシアネート基をそれぞれ示す）、−(Ｙ1)a−（Ｙ2−Ｏ）b−Ｒ8〔ここで、Ｙ1、Ｙ2は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ8は水素原子、アルキル基又は−ＳｉＲbＲb′Ｒb″（ここで、Ｒb、Ｒb′、Ｒb″は同一であるかあるいは互いに異なる、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルカノイルオキシ基又は水素原子を示す）、ａは０又は１を、ｂは０〜２０の整数をそれぞれ示す〕、又は炭素数１〜２０の、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基又はジアルキルアミノアルキル基又はそれらのアンモニウム塩、シアノアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルキルホスホニウム基、ホスホアルキル基、又はグリシジルアルキル基をそれぞれ示し、さらにＲ6及びＲ7は互いに結合してそれらが結合するＮとともに複素環を形成してもよい］、−ＯＣＯＲ5（ここで、Ｒ5は前記と同じ意味を有する）、又は−Ｙ1−（Ｏ−Ｙ2）b−Ｒ9（ここで、Ｙ1、Ｙ2は同一であるかあるいは互いに異なる、炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ9は水酸基又はアルコキシ基を、ｂは０〜２０の整数をそれぞれ示す）をそれぞれ示す｝
で表わされるモノマーの中から選ばれた少なくとも１種を一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させることにより製造することができる。
【００２３】
化合物Ｐの製造方法において用いられる前記一般式（ＶＩ）や一般式（ＶＩＩ）のモノマーとしては、ビニル系モノマー、中でも（メタ）アクリル酸又はそのエステルやアミドなどの酸誘導体が好ましい。（メタ）アクリレート型ビニル系モノマーとして遊離イソシアネート基を有するものも用いられるが、それよりはポットライフを延長させたり、使用時に一液化し取扱性を向上させるために、前記イソシアネートブロック剤、好ましくはフェノール系、アルコール系、イミン系、オキシム系、ラクタム系、活性メチレン系の活性水素基含有化合物と反応させてイソシアネート基をブロック化したものを用いるのが好ましい。
【００２４】
この一般式（ＶＩ）や一般式（ＶＩＩ）のモノマーとしては、例えば以下のものが挙げられる。
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、２‐エチルヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、アジピン酸モノビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、サリチル酸ビニル、ｍ‐ヒドロキシ安息香酸ビニル、ｐ‐ヒドロキシ安息香酸ビニル、ｐ‐ジメチルアミノ安息香酸ビニル、ｐ‐メチル安息香酸ビニル、ｎ‐吉草酸ビニル、イソ吉草酸ビニル、Ｄ，Ｌ‐２‐メチル酪酸ビニル、モノブロモ酢酸ビニル、２，２‐ジメチル酪酸ビニル、２，２‐ジメチルペンタン酸ビニル、２‐エチル‐２‐メチル酪酸ビニル、α‐ナフテン酸ビニル、β‐ナフテン酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニル、モノクロロ安息香酸ビニル、パーサティック酸ビニル、安息香酸ビニル、ｐ‐ｔ‐ブチル安息香酸ビニル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸‐ｔ‐ブチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸‐ｎ‐ブチル、（メタ）アクリル酸‐２‐エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸エチルカルビトール、（メタ）アクリル酸プロピルカルビトール、（メタ）アクリル酸ブチルカルビトール、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシ‐３‐フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシ‐３‐クロロプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタンモノ（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２‐（６‐ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，３‐エポキシプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ジクロロメチルビニルシラン、ジメチルクロロビニルシラン、ジメチルエトキシビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、トリアセトキシビニルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、トリクロロビニルシラン、トリメチルビニルシラン、トリエチルビニルシラン、トリ‐ｔ‐ブトキシビニルシラン、トリ（エトキシメトキシ）ビニルシラン、エトキシジエチルビニルシラン、（ビニルジメチルシリル）酢酸メチル、ジエチルメチルビニルシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルジアセトキシメチルシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリアセトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリメチルシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリ‐ｔ‐ブトキシシラン、３‐メタクリロイルオキ��プロピルエトキシジエチルシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルジエチルメチルシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルジアセトキシメチルシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリアセトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリメチルシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリ‐ｔ‐ブトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルエトキシジエチルシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルジエチルメチルシラン、Ｎ‐（３‐メタクリロイルオキシ‐２‐ヒドロキシプロピル）‐３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルジメチルエトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロイルオキシメチルトリメチルシラン、Ｏ‐メタクリロイルオキシ（ポリエチレンオキシ）トリメチルシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルジメチルクロロシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルメチルジクロロシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリクロロシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、（２‐アクリロイルオキシエトキシ）トリメチルシラン、Ｎ‐３‐（アクリロイルオキシ‐２‐ヒドロキシプロピル）‐３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルメチルジクロロシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリクロロシラン、アクリロイルオキシトリメチルシラン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、アクリロニトリル、臭化ビニル、Ｎ‐ビニルカプロラクタム、Ｎ‐ビニルカルバゾール、４‐ビニルピリジン塩酸塩、２‐ビニルピリジン塩酸塩、１‐ビニル‐２‐ピロリドン、Ｎ‐ビニルピペリドン、５‐エチル‐２‐ビニルピリジン塩酸塩、２‐メチル‐５‐ビニルピリジン塩酸塩、２‐イソプロペニルピリジン塩酸塩、アリルアルコール及びそのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、アリルアミン塩酸塩、グリセリンモノアリルエーテル、アミノエチル（メタ）アクリレート、プロピルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アミノプロピル（メタ）アクリレート、フェニルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミノメチルメタクリレート、Ｎ‐ビニルエチルアミン、Ｎ‐アセチルビニルアミン、アクリルアミン、２‐アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド、２‐ヒドロキシ‐３‐メタクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、Ｎ‐ア��リロイルトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、（メタ）アクリロイルモルホリン、アクリルアミド、Ｎ‐イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ‐ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ‐ジエチル（メタ）アクリルアミド、２‐アクリルアミド‐２‐メチルプロパンスルホン酸、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ‐２‐ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ‐２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、ｐ‐ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、α‐メチロール（メタ）アクリルアミド、トリ‐ｎ‐ブチル（２‐メタクリロイルオキシエチル）ホスホニウムクロリド、トリオクチル（４‐ビニル）ホスホニウムクロリド、２‐（メタ）アクリロイルエチルリン酸、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′‐テトラキス（β‐ヒドロキシエチル）エチレンジアミンアクリレート、イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、イソシアネートプロピル（メタ）アクリレート、イソシアネートブチル（メタ）アクリレート、イソシアネートペンチル（メタ）アクリレート、イソシアネートヘキシル（メタ）アクリレート、１‐メチル‐２‐イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、１，１‐ジメチル‐２‐イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、これらイソシアネートアルキル（メタ）アクリレートのブロック化付加物、活性水素基含有ビニル系モノマーと多官能イソシアネート化合物との反応生成物などを挙げることができる。
【００２５】
上記イソシアネートアルキル（メタ）アクリレートのブロック化付加物としては、例えばイソシアネートエチルメタクリレートブチルウレタン、イソシアネートエチルメタクリレートオクチルウレタン、イソシアネートエチルメタクリレート−カプロラクタム付加物、イソシアネートエチルメタクリレート−ブチロラクタム付加物、イソシアネートエチルメタクリレート−メチルエチルケトオキシム付加物（商品名、昭和電工社製、「カレンズＭＯＩ−ＢＭ」）などが挙げられる。
【００２６】
上記の活性水素基含有ビニル系モノマーと多官能イソシアネート化合物との反応生成物において、原料として用いられる活性水素基含有ビニル系モノマーとしては、好ましくは水酸基含有ビニル系モノマー、例えば２‐ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３‐ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシ‐３‐クロロプロピル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシ‐３‐フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチルセルロース（メタ）アクリレート、Ｎ‐２‐ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ‐２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、ｐ‐ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド等が用いられる。
その他、アミノ基含有ビニル系モノマー、メルカプト基含有ビニル系モノマーも用いることができる。
【００２７】
また、同じく原料として用いられる多官能イソシアネート化合物としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４‐トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ｐ‐フェニレンジイソシアネート、４，４′‐ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、３，３′‐ジメチルジフェニル‐４，４′‐ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、ｍ‐キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５‐ナフタレンジイソシアネート、トランス‐１，４‐シクロヘキシレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、ダイマー酸ジイソシアネート、イソプロピリデンビス（４‐シクロヘキシルイソシアネート）、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等のジイソシアシアネート化合物や、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネート、ジメチルトリフェニルメタンテトライソシアネート等の３個以上のイソシアシアネート基を有する化合物からなるモノマーや、そのポリマーなどが挙げられ、またこれらの各種変性体や付加物、例えばウレタン変性体、アロファネート変性体、ビウレット変性体、カルボジイミド変性体、ウレトニミン変性体、ウレトジオン変性体、イソシアヌレート変性体、アシル尿素変性体、トリメチロールプロパン付加物などが挙げられる。
これらの原料は単独で用いてもよいし、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記の活性水素基含有ビニル系モノマーと多官能イソシアネート化合物との反応生成物としては、例えば水酸基含有ビニル系モノマーとジイソシアネート化合物との反応生成物、中でもこれら原料をほぼ等モル比で反応させて得たウレタン結合含有化合物などが挙げられる。
【００２８】
前記一般式（ＩＩ）の化合物、中でも化合物Ｐの製法において、過酸化物（Ｉ）すなわちペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドと、エチレン性重合基をもつモノマー、中でも前記一般式（ＶＩ）のモノマー（以下モノマーＡともいう）及び／又は前記一般式（ＶＩＩ）のモノマー（以下モノマーＢともいう）とを反応させる際、モノマーは全体として過酸化物（Ｉ）に対しモル比で０．１〜５０００、特に０．５〜１０００の範囲とするのが好ましい。この比が０．１未満では過酸化物（Ｉ）の自己分解に起因する生成物が大量に発生するし、また５０００を超えると、目的化合物の収率が低下するので好ましくない。
モノマーＡとモノマーＢ（少なくとも２種、好ましくは２種のモノマー）を用いる場合には各モノマーの使用割合については任意としうるが、モノマーＢのみがイソシアネート基やトリアルコキシシリル基等の反応活性基をもつ場合には、モノマーＡがモノマーＢに対しモル比で１００を超えない範囲、中でも２０を超えない範囲とするのが好ましい。この比が１００を超えると、化合物中に導入される活性基の割合が小さくなり、基材、特にその表面への結合力や吸着性が低下するからである。
【００２９】
また、この過酸化物に対するモノマーのモル比を調整することにより、得られる生成物の分子量を約９００〜１，０００，０００、好ましくは約９５０〜１００，０００に調節することができる。すなわち、例えばこの比を小さくして、仕込みモル量について過酸化物の方をモノマーより高くすると低分子量の目的化合物を得ることができるし、またこの比を大きくして、仕込みモル量について過酸化物の方をモノマーより低くすると高分子量の目的化合物を得ることができる。
【００３０】
上記方法における反応条件については、各種原料の種類や使用割合などにより変動するが、通常、圧力は常圧が用いられ、反応温度は−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃の範囲が用いられる。この反応温度が−２０℃未満では反応時間が長くなるし、また１５０℃を超えると反応時の圧力が高くなりすぎて反応系の制御（反応操作）が困難となるので好ましくない。また、反応時間は通常０．５〜２０時間の範囲で選ばれるが、実用的には１〜１０時間となるように条件を設定するのが望ましい。
【００３１】
このようにして、ペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドと前記モノマーを反応させることにより、目的のペルフルオロデカリル基含有化合物を直接一段階反応で得ることができるが、反応をより円滑に行うために有機溶媒を用いるのが好ましい。
【００３２】
このような有機溶媒としてはハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒が特に好ましい。具体的には例えば、塩化メチレン、クロロホルム、２‐クロロ‐１，２‐ジブロモ‐１，１，２‐トリフルオロエタン、１，２‐ジブロモヘキサフルオロプロパン、１，２‐ジブロモテトラフルオロエタン、１，１‐ジフルオロテトラクロロエタン、１，２‐ジフルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ‐２，３，３‐トリクロロブタン、１，１，１，３‐テトラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，１‐トリクロロペンタフルオロプロパン、１，１，２‐トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパン、１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロキシレン、ペンタフルオロベンゼン等を挙げることができ、殊に工業的には１，１，２‐トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパン、１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、あるいはこれらを任意の割合で混合した混合溶媒〔例えば旭硝子社製、ＡＫ−２２５（１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパンと１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパンとの混合溶媒）〕が好適である。
前記溶媒を使用する場合には、通常溶媒中のペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドの濃度が０．１〜５０重量％、中でも０．１〜３０重量％であるのが望ましい。
【００３３】
上記方法により得られる前記一般式（ＩＩ）の化合物、中でも化合物Ｐは、蒸留法、再結晶法、再沈殿法、カラムクロマトグラフィー法、透析法等の公知の方法で精製することができる。
【００３４】
また、本発明の過酸化物（Ｉ）は、上記反応の他、種々の反応性化合物、中でも芳香族化合物と反応させてペルフルオロデカリル基を導入させることができる。
こうして得られるもののうち、前記一般式（ＩＩＩ）で示されるペルフルオロデカリル基含有化合物については、芳香族残基は重合性を有しない芳香族化合物の残基であれば特に制限されないが、好適なものとしては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ビフェニル、ビベンジル、ナフタレン、インデン、フェナントレン、チオフェン、フラン、ピロール、ルチジン又はベンゾフランの残基、中でもベンゼン、チオフェン、フラン、トルエン、キシレン又はナフタレンなどが挙げられる。
【００３５】
また、前記一般式（ＩＶ）で示されるペルフルオロデカリル基含有化合物については、芳香族残基は重合性を有する芳香族化合物またはその重合体の残基であれば特に制限されないが、好適なものとしては、例えば分子量２００〜２，０００，０００のポリスチレンの残基等が挙げられる。
【００３６】
これらのペルフルオロデカリル基含有化合物の製法においては、ペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドに対する芳香族化合物の仕込みモル比については任意の割合とすることが可能であるが、好ましくは１：０．０１〜１００の範囲であり、特に１：０．５〜５０の範囲とするのが好ましい（なお、ポリスチレンにおいてはモノマー換算のモル比とする）。
前記原料の芳香族化合物の仕込みモル比が０．０１未満では過酸化物の自己分解に起因する生成物が多量に生成するし、また１００を超えると未反応物が多量に残存するので好ましくない。
【００３７】
前記反応は常圧で行うことが可能であり、反応温度は−２０〜１５０℃で、好ましくは０〜１００℃の範囲であることが望ましい。この反応温度が−２０℃未満では反応時間が長くなるし、また１５０℃を超えると反応時の圧力が高くなりすぎて反応系の制御（反応操作）が困難となるので好ましくない。また、反応時間は通常０．５〜２０時間の範囲で選ばれるが、実用的には１〜１０時間となるように条件を設定するのが望ましい。
【００３８】
このようにして、ペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドと前記芳香族化合物を反応させることにより、目的のペルフルオロデカリル基含有化合物を直接一段階反応で得ることができるが、反応をより円滑に行うために有機溶媒を用いるのが好ましい。
【００３９】
このような有機溶媒としてはハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲン化芳香族溶媒が特に好ましい。具体的には例えば、塩化メチレン、クロロホルム、２‐クロロ‐１，２‐ジブロモ‐１，１，２‐トリフルオロエタン、１，２‐ジブロモヘキサフルオロプロパン、１，２‐ジブロモテトラフルオロエタン、１，１‐ジフルオロテトラクロロエタン、１，２‐ジフルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ‐２，３，３‐トリクロロブタン、１，１，１，３‐テトラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，１‐トリクロロペンタフルオロプロパン、１，１，２‐トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパン、１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロキシレン、ペンタフルオロベンゼン等を挙げることができ、殊に工業的には１，１，２‐トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパン、１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、あるいはこれらを任意の割合で混合した混合溶媒〔例えば旭硝子社製、ＡＫ−２２５（１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパンと１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパンとの混合溶媒）〕が好適である。
前記溶媒を使用する場合には、通常溶媒中のペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドの濃度が０．１〜５０重量％、中でも０．１〜３０重量％であるのが望ましい。
【００４０】
このようにして得られる前記一般式（ＩＩＩ）及び一般式（ＩＶ）で示されるペルフルオロデカリル基含有化合物は、蒸留法、再結晶法、再沈殿法、カラムクロマトグラフィー法、透析法等の公知の方法で精製することができる。
【００４１】
また、前記一般式（ＩＶ）の化合物としては、
一般式
【化２】
0004601759.tif 000002
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基、ｘは０〜１００００の整数、ｙは１〜１００００の整数を示す）
で表わされるものが好ましい。
この化合物は、スチレンを一般式
ＲｆＣ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｏ＝）ＣＲｆ
（式中、Ｒｆは１‐ペルフルオロデカリル基及び／又は２‐ペルフルオロデカリル基を示す）
で表わされるペルフルオロデカリル基含有過酸化物と反応させることにより製造することができる。
【００４２】
【発明の効果】
本発明のペルフルオロデカリンカルボニルペルオキシドは新規な化合物であり、それを有効成分とする、エチレン性重合基をもつモノマーの重合開始剤として、またそれ自体でペルフルオロデカリル基導入剤、換言すればペルフルオロデカリル化剤として有用である。
本発明の各種ペルフルオロデカリル基含有化合物も新規な化合物であり、ペルフルオロデカリル基がエステル結合のような長期間の安定性にやや難のある結合ではなく直接炭素−炭素結合により結合されているため、フッ素に起因した性質を長期間にわたり維持することができ、表面張力や屈折率が低く、耐候性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、防曇性、防汚性、耐薬品性等に優れ、従って、新規なフッ素系界面活性剤として有用であり、さらには表面処理剤や、塗料や、光学レンズ、プラスチック光ファイバー、眼鏡用レンズ、ガラス器具等の表面材料や、化粧品等の原料として用いられる。
また、本発明の製造方法により各種ペルフルオロデカリル基含有化合物が反応触媒や特殊な装置を使用せずに一段階反応で容易に短時間で収率良く得られる。
【００４３】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
化合物の分析手段については、ＩＲスペクトル分析には島津製作所製ＦＴ−ＩＲ８２００ＰＣ型を用い、ＮＭＲスペクトルにはバリアン社製Ｕｎｉｔｙｐｌｕｓ５００（５００ＭＨｚ）を用いた。
また、分子量測定には、島津製作所製高速液体クロマトグラフィーＬＣ−６ＡＤ（示差屈折率検出器：同ＲＩＤ−６Ａ、カラム：ＳＨＯＤＥＸ製ＧＰＣ  ＫＦ−８０２．５）を用いて標準プルランの校正曲線により化合物の分子量を測定した。
また、表面張力測定には協和界面化学製表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３型を用いた。
また、実施例３〜８で得られる重合体Ａ〜Ｆについては1Ｈ−ＮＭＲ測定に溶媒としてクロロホルム−ｄ1（重クロロホルム）（関東化学製、ＮＭＲ用、化合物Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｅ、Ｆに対し使用）又はジメチルスルホキシド−ｄ6（関東化学製、ＮＭＲ用、化合物Ｄに対し使用）を用いた。
なお、ＦＴ−ＩＲの測定単位はｃｍ-1、ＮＭＲの測定単位（δ）はｐｐｍである。
【００４４】
合成例１
蒸留装置を備えた２００ｍｌの反応器に、α‐ペルフルオロデカリンカルボン酸４８．９ｇ、三塩化ホスホリル１１．１ｇ及びジメチルホルムアミド３．７０ｇを仕込み、７０℃で２０分加熱しながら反応させたのち、冷却して反応を終了させた。
次いで、得られた反応液を再度加熱しながら減圧蒸留し、８７〜９０℃／１５ｍｍＨｇにおいて主留分を得たのち、これを硫酸マグネシウムで乾燥後、吸引ろ過してα‐ペルフルオロデカリンカルボン酸クロリド２２．８ｇ（収率４５％）を得た。このもののＩＲ吸収スペクトルでは、上記原料の−ＯＨ基に起因するものが消失し、また−Ｃ＝Ｏ基に起因するものは上記原料における１７８６ｃｍ-1から１８０５ｃｍ-1にシフトしていた。
【００４５】
合成例２
α‐ペルフルオロデカリンカルボン酸４８．９ｇをβ‐ペルフルオロデカリンカルボン酸４．８９ｇに、三塩化ホスホリル及びジメチルホルムアミドの用量をそれぞれ１．２ｇ及び０．４ｇに、反応条件を８０℃で１５０分の加熱に変えた以外は合成例１と同様にして反応させ、分離処理してβ‐ペルフルオロデカリンカルボン酸クロリド１．４５ｇ（収率２８％）を得た。このもののＩＲ吸収スペクトルでは、上記原料の−ＯＨ基に起因するものが消失し、また−Ｃ＝Ｏ基に起因するものは上記原料における１７８６ｃｍ-1から１８０３ｃｍ-1にシフトしていた。
【００４６】
実施例１
撹拌器、冷却器、温度制御装置を備えた３００ｍｌの反応器に、水酸化ナトリウム０．７２ｇ及び水６．５２ｇを加えて十分に溶解させたのち、これにＡＫ−２２５（旭硝子社製、１，１，１，２，２‐ペンタフルオロ‐３，３‐ジクロロプロパンと１，１，２，２，３‐ペンタフルオロ‐１，３‐ジクロロプロパンの混合溶媒）１００ｇを加えた。
この反応器を、塩化ナトリウムを添加した氷浴で−５℃に冷却したのち、これに−５℃に冷却した過酸化水素２．０４ｇを加え、次いで合成例１で得たα‐ペルフルオロデカリンカルボン酸クロリド５．０１ｇをＡＫ−２２５溶媒５．００ｇに完全に溶解し、−５℃に冷却した溶液を−９〜−３℃で７分間かけて滴下したのち、−５〜０℃で３０分間反応させた。反応液を冷水３００ｍｌで洗浄し、水を換えて同様の洗浄操作を数回繰り返して十分に洗浄したのち、分液漏斗により下層を分離して、式
【化３】
0004601759.tif 000003
で表わされるペルフルオロ有機過酸化物のビス（ペルフルオロデカリン‐１‐カルボニル）ペルオキシド（以下過酸化物Ｘという）２．１９ｇ（収率４５％）を得た。このもののＩＲ吸収スペクトルでは−Ｃ＝Ｏ基に起因するものが１８６５ｃｍ-1及び１８２７ｃｍ-1に検出された。
また、このものの熱分解速度は次のようにして測定した。
すなわち、このものを、窒素で十分に置換された反応管内において、一定時間、一定温度で熱分解し、次いでこれを飽和ヨウ化カリウム水溶液１ｍｌ、イソプロピルアルコール１０ｍｌ及び酢酸１ｍｌの混合液に加え３分間加熱したのち、０．０１Ｎチオ硫酸ナトリウム標準溶液で滴定し、過酸化物の残存量を測定した。その結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
0004601759.tif 000004
【００４８】
これより、本発明過酸化物は１０時間選定半減期温度が８．２℃であり、温和な条件でも効率的なα‐ペルフルオロデカリル基導入が可能であることが分った。
【００４９】
実施例２
合成例１で得たα‐ペルフルオロデカリンカルボン酸クロリド５．０１ｇを合成例２で得たβ‐ペルフルオロデカリンカルボン酸クロリド５．０１ｇに代えた以外は実施例１と同様に反応させ、分離処理して、式
【化４】
0004601759.tif 000005
で表わされるビス（ペルフルオロデカリン‐２‐カルボニル）ペルオキシド（以下過酸化物Ｙという）１．９５ｇ（収率４０％）を得た。このもののＩＲ吸収スペクトルでは−Ｃ＝Ｏ基に起因するものが１８６０ｃｍ-1及び１８２５ｃｍ-1に検出された。
【００５０】
実施例３
撹拌器、冷却器、温度制御装置を備えた３００ｍｌの反応器に、アクリル酸０．７７ｇを加え、これに実施例１で得られた過酸化物Ｘ１．０４ｇをＡＫ−２２５溶媒１００ｇに溶解した溶液を加え、窒素気流下、４５℃で５時間反応させた。得られた反応液を吸引ろ過し、真空乾燥して、式
【化５】
0004601759.tif 000006
で表わされる微黄色のペルフルオロデカリル基含有重合体（以下、化合物Ａという）０．９３ｇ（収率５４％）を得た。
このものの数平均分子量は、溶媒にテトラヒドロフランを用い、ゲルろ過法により求めると６０４０（２．９５）であった。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ；３２５０（ＯＨ），１７２６（Ｃ＝Ｏ），１２４３（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；１．４０〜２．１０（ＣＨ2），２．１０〜２．８２（ＣＨ）
【００５１】
実施例４
過酸化物Ｘを過酸化物Ｙに代えた以外は実施例３と同様にして、式
【化６】
0004601759.tif 000007
で表わされる微黄色のペルフルオロデカリル基含有重合体（以下、化合物Ｂという）０．２６ｇ（収率１５％）を得た。
このものの数平均分子量は、溶媒にテトラヒドロフランを用い、ゲルろ過法により求めると４５６０（３．１１）であった。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ；３２４５（ＯＨ），１７２０（Ｃ＝Ｏ），１２３８（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；１．３８〜２．１５（ＣＨ2），２．１６〜２．８８（ＣＨ）
【００５２】
実施例５
アクリル酸０．７７ｇをジアセトンアクリルアミド〔Ｎ‐（１，１‐ジメチル‐３‐オキソブチル）アクリルアミド〕１．４０ｇ、過酸化物Ｘの仕込み量を０．８１ｇに変えた以外は実施例３と同様にして反応させた。得られた化合物をメタノール−水系で再沈殿させ、吸引ろ過し、真空乾燥して、式
【化７】
0004601759.tif 000008
で表わされる淡黄色のペルフルオロデカリル基含有重合体（以下、化合物Ｃという）１．９３ｇ（収率９０％）を得た。
このものの数平均分子量は、溶媒にテトラヒドロフランを用い、ゲルろ過法により求めると３７１０（２．３３）であった。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ；３３６９（ＮＨ），１７１１，１６５３（Ｃ＝Ｏ），１２５２（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；１．００〜２．０３（ＣＨ2），１．３４（ＣＨ3），２．０３〜２．７８（ＣＨ2，ＣＨ）
【００５３】
実施例６
アクリル酸０．７７ｇを３‐メタクリロキシ‐２‐ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド１．１０ｇに、過酸化物Ｘの仕込み量を０．３０ｇに変えた以外は実施例２と同様にして反応させた。得られた化合物をメタノール−アセトン系で再沈殿させ、吸引ろ過し、真空乾燥して、式
【化８】
0004601759.tif 000009
で表わされる淡黄色のペルフルオロデカリル基含有重合体（以下、化合物Ｄという）０．６４ｇ（収率４７％）を得た。
このものの数平均分子量は、溶媒にメタノールを用い、ゲルろ過法により求めると４９５０（１．９５）であった。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ（ｃｍ-1）；  ３３８８（ＯＨ），１７１２（Ｃ＝Ｏ），１２４９，１２１７（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；  ０．６０〜２．００（ＣＨ3，ＣＨ2，ＣＨ），２．８２〜３．３１（Ｎ+ＣＨ3），４．１４〜４．６０（ＣＨ2）
【００５４】
実施例７
アクリル酸０．７７ｇをジメチルアクリルアミド１．０６ｇに、過酸化物Ｘの仕込み量を１．０４ｇに変えた以外は実施例２と同様にして反応させた。得られた化合物をメタノール−水系で再沈殿させ、吸引ろ過し、真空乾燥して、式
【化９】
0004601759.tif 000010
で表わされる淡黄色のペルフルオロデカリル基含有重合体（以下、化合物Ｅという）１．７３ｇ（収率８６％）を得た。
このものの数平均分子量は、溶媒にテトラヒドロフランを用い、ゲルろ過法により求めると１２３０（２．１２）であった。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ（ｃｍ-1）；  ３４３０〔Ｃ（＝Ｏ）ＮＭｅ2〕，１６４３（Ｃ＝Ｏ），１２１１（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；  １．０４〜２．００（ＣＨ2），２．２６〜３．３６（ＣＨ3，ＣＨ）
【００５５】
実施例８
撹拌器、冷却器、温度制御装置を備えた３００ｍｌの反応器に、イソシアネートエチルメタクリレート−メチルエチルケトンオキシム付加物（商品名、昭和電工社製、「カレンズＭＯ１−ＢＭ」）７．２６ｇ及びジメチルアクリルアミド（商品名、興人社製、「ＤＭＡＡ」）２．９７ｇの混合物を仕込み、過酸化物Ｘ９．７４ｇをＡＫ−２２５溶媒１００ｇに溶解した溶液を加え、窒素気流下、４５℃で５時間反応させた。このようにして得られた化合物をメタノール−ヘキサン系で再沈殿させ、吸引ろ過し、真空乾燥して、式
【化１０】
0004601759.tif 000011
で表わされるペルフルオロデカリル基含有重合体（以下、化合物Ｆという）１２．９８ｇ（収率６８％）を得た。
このものの数平均分子量は、溶媒にテトラヒドロフランを用い、ゲルろ過法により求めると４１１０（２．８７）であった。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ；１６５８（Ｃ＝Ｏ），１７２６（−Ｎ＝Ｃ−），３３５０（ＮＨ），１２３５（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；４．１２，３．５２（ＣＨ2），０．８０〜３．２１（ＣＨ2，ＣＨ3）
また、共重合比を溶媒に重クロロホルムを用い、前記装置による1Ｈ−ＮＭＲにより算出した結果、ｘ：ｙ＝５３：４７であった。
【００５６】
実施例３〜８の結果より、本発明過酸化物のビス（ペルフルオロデカリンカルボニル）ペルオキシドがエチレン重合性の重合基を有する化合物のラジカル重合開始剤として有用であることが分る。
【００５７】
実施例３〜８で得られた化合物について、各種溶媒に対する溶解性を調べ、次の基準で評価した。その結果を表２に示す。
○：溶解する。
△：溶解するものの、白濁する。
×：溶解しない。
【００５８】
【表２】
0004601759.tif 000012
【００５９】
表２より、これらの重合体は幅広い溶媒に溶解することが分かった。
【００６０】
（２）表面張力特性
実施例３で得られた重合体Ａを下記の表に示すように種々の濃度で水に溶解し、２５℃における表面張力を前記装置を用いウィルヘルミー法により測定した。
その結果を表３に示す。
【表３】
0004601759.tif 000013
表３より、本発明化合物は、水の表面張力を効率よく低下させることが分かった。
【００６１】
実施例９
撹拌器、冷却器、温度制御装置を備えた３００ｍｌの反応器に、ベンゼン０．７８ｇを仕込み、過酸化物Ｘ１９．４８ｇをＡＫ−２２５溶媒１００ｇに溶解した溶液を加え、窒素気流下、４５℃で８時間反応させた。このようにして得られた化合物を水３００ｍｌ、５％炭酸ナトリウム水溶液３００ｍｌ、水３００ｍｌの順序で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧蒸留して、α‐ペルフルオロデカリルベンゼン１．８２ｇ（収率３５％）を得た。
このもののスペクトルデータを以下に示す。
ＦＴ−ＩＲ；７４２，３０００（ＣＨ），１２３５（ＣＦ2）
1Ｈ−ＮＭＲ；７．２１〜７．６６（Ｃ6Ｈ5）
本化合物は、新規なフッ素系溶媒として有用である。
【００６２】
実施例１０
過酸化物Ｘ０．４９ｇをＡＫ−２２５溶媒に溶解した溶液１０ｇを、ポリスチレン（０．５ｇ）（スチレンモノマー単位として５ミリモル）を塩化メチレンに溶解した溶液１０ｇに加え、窒素気流下４５℃で１０時間反応させた。得られた粗生成物を、水、５％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄したのち、硫酸マグネシウムで乾燥後、クロロホルム−メタノール系で再沈殿させて式
【化１１】
0004601759.tif 000014
で表わされるα‐ペルフルオロデカリル基が導入されたポリスチレン０．４０ｇを得た。
このものの数平均分子量は１１００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２１）、上記式中のｘ及びｙから次の数式
〔ｙ／（ｘ＋ｙ）〕×１００
により求めたペルフルオロデカリル基の導入化率は６％であった。
また、導入化後のＦＴ−ＩＲスペクトルデータには、ＣＦに起因する１２７８ｃｍ-1のピークが検出された。
これより、本発明の新規なビス（ペルフルオロデカリン‐１‐カルボニル）ペルオキシド）はα‐ペルフルオロデカリル基導入剤として有用であることが分る。