(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液によって洗浄されて濡れた状態にある基板を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処理装置において、
上面が開口したカップ体と、
このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回転駆動される駆動軸と、
この駆動軸に設けられ上記基板を水平に保持して上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブルと、
上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設されるとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆動されてカップ体内が負圧となることで、上記カップ体の外部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導入して上記基板の中心部から周辺部に向かう空気流を生じさせる導入孔を有する板状の整流部材と、
この整流部材を上下方向に駆動して上記回転テーブルに保持された基板との対向間隔を調整し上記基板と整流部材との対向面間に上記導入孔から流入する外部の気体の流量を上記基板のサイズに係らず一定に維持させる上下駆動機構と、
上記カップ体の内部に設けられ上記回転テーブルが回転駆動されることでこのカップ体内で発生する空気流をカップ体の底部に向けてガイドする内カップと、
上記カップ体の底部に設けられ上記内カップによってガイドされた空気流を排出する排出口と
を具備したことを特徴とする特徴とするスピン処理装置。
【請求項２】
上記整流部材は、上記カップ体にこの上面開口を閉塞する状態で着脱自在に設けられることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は基板を回転テ−ブルに保持して回転させながら乾燥処理するスピン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば液晶表示装置の製造工程では、液晶用ガラス基板（以下、基板と省略する。）に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスでは上記基板の処理と洗浄とが繰り返して行われる。
【０００３】
たとえば、基板に露光処理を行ったなら、この基板をエッチング処理し、ついでその基板からレジストを剥離するアッシング処理を行う。つぎに、アッシング処理された基板を洗浄処理してから乾燥処理するという作業が繰り返して行われる。
【０００４】
上記洗浄処理と乾燥処理とはスピン処理装置によって連続して行われる。すなわち、スピン処理装置は上面が開口したカップ体を有する。このカップ体内には上記基板を保持して回転駆動される回転テ−ブルが設けられ、この回転テ−ブルによって基板を回転させながら洗浄液を吹き付けることで洗浄処理が行われ、洗浄処理後に洗浄液に代わり清浄空気や窒素などの乾燥ガスを吹き付けることで乾燥処理が行われる。
【０００５】
生産性の向上を計るために、各処理工程における処理時間を短縮することが要求され、乾燥処理工程においても処理時間を短縮することが要求されている。乾燥処理工程の処理時間を短縮するためには、基板に向けて吹き付ける乾燥ガスの流量（速度）を増大させることが考えられる。
【０００６】
しかしながら、基板に吹き付ける乾燥ガスの流量を増大させると、基板の上面やカップ体内における乾燥ガスの流れに乱れが生じ易くなる。そのため、基板を短時間で均一に乾燥させることができなくなったり、乾燥処理時に発生するミストや塵埃がカップ体内から確実に排出されず、基板に付着するという虞もある。
【０００７】
さらに、乾燥ガスの使用量が増大すると、それに比例してランニングコストが増大するということがあるばかりか、カップ体から排出される乾燥ガスの排出能力が一定の工場などにおいては乾燥ガスがカップ体内から円滑に排気できなくなるため、そのことによってもカップ体内で乱流が発生してミストや塵埃が基板に付着する虞がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
このように、洗浄された基板を乾燥処理する場合、その処理時間を短縮するために乾燥ガスの吹き付け量を単に増大させると、カップ体内における乾燥ガスの流れに乱れが生じ、基板を短時間で均一に乾燥させることができなかったり、乾燥処理時に発生するミストや塵埃がカップ体内から確実に排出されず、基板に付着するということもある。
【０００９】
この発明の目的は、基板を乾燥させるために、乾燥専用の乾燥ガスを用いることなく、乾燥処理を短時間で行え、しかもその乾燥処理時に基板にミストや塵埃が付着するようなことがないようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、洗浄液によって洗浄されて濡れた状態にある基板を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処理装置において、
上面が開口したカップ体と、
このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回転駆動される駆動軸と、
この駆動軸に設けられ上記基板を水平に保持して上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブルと、
上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設されるとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆動されてカップ体内が負圧となることで、上記カップ体の外部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導入して上記基板の中心部から周辺部に向かう空気流を生じさせる導入孔を有する板状の整流部材と、
この整流部材を上下方向に駆動して上記回転テーブルに保持された基板との対向間隔を調整し上記基板と整流部材との対向面間に上記導入孔から流入する外部の気体の流量を上記基板のサイズに係らず一定に維持させる上下駆動機構と、
上記カップ体の内部に設けられ上記回転テーブルが回転駆動されることでこのカップ体内で発生する空気流をカップ体の底部に向けてガイドする内カップと、
上記カップ体の底部に設けられ上記内カップによってガイドされた空気流を排出する排出口と
を具備したことを特徴とする特徴とする。
【００１１】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、上記整流部材は、上記カップ体にこの上面開口を閉塞する状態で着脱自在に設けられることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１の発明において、上記整流部材は、上下駆動機構によって上記回転体に保持された基板との対向間隔の調整自在に設けられていることを特徴とする。
【００１３】
請求項１ないし請求項３の発明によれば、基板を乾燥処理するために回転テ−ブルを回転駆動すると、その回転によって発生する気流で整流部材に形成された導入孔から基板と整流部材との対向面間に外気が導入されるから、その外気の流れによって基板を短時間で確実に乾燥させることが可能となる。
【００１４】
また、この発明によれば、整流部材を上下駆動機構によって上下動させることで、この整流部材と基板との対向間隔を調整できるから、これらの対向面間に導入される外気の流量を設定することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の第１の実施の形態を図１と図２を参照して説明する。図１に示すスピン処理装置は、たとえば液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの基板２０を洗浄処理および乾燥処理するためにクリ−ンル−ムに設置されていて、その装置はカップ体２１を備えている。このカップ体２１は下カップ２２ａ、上カップ２２ｂおよび内カップ２２ｃから構成されている。下カップ２２ａは上面が開放したお椀状をなしていて、その上端縁にはシ−ルパッキング２３が取着され、底壁中心部には通孔２４が形成されている。
【００１７】
上記通孔２４には、モ−タ２５の駆動軸２６が挿通され、カップ体２１内に突出した上記駆動軸２６の上端は回転テ−ブル２７の下面に設けられた円盤状の連結部材２８に連結されている。この連結部材２８の下面周辺部には円周溝２９が形成され、この円周溝２９には上記通孔２４の周縁部を形成する周壁２４ａの上端部が挿入されている。
【００１８】
上記下カップ２２ａの底壁の上記通孔２４の周辺部には遮蔽リング３１が上記連結部材２８の外周面を覆う状態で設けられている。それによって、基板２０を後述するごとく乾燥させる際にカップ体２１内に飛散する液体が上記通孔２４を通ってモ−タ２５を濡らすのを防止するラビリンス構造となっている。
【００１９】
上記回転テ−ブル２７の上面には複数の支持ピン３２と、その支持ピン３２よりも径方向外方に位置する複数のガイドピン３３とが周方向に所定間隔で突設されている。支持ピン３２は回転テ−ブル２７の上面に供給される上記基板２０の下面を支持し、上記ガイドピン３３は上記基板２０の外周面に係合し、その基板２０が回転テ−ブル２７上でずれ動くのを阻止するようになっている。
【００２０】
上記下カップ２２ａの内底部には帯電することがないよう、導電性の材料によってリング状に形成された環状板３４が配設されている。この環状板３４には複数の導入口３５が周方向に所定の間隔で形成されている。上記環状板３４の上面の上記導入口３５の部分にはガイド板３６が設けられている。このガイド板３６は、導入口３５の上面側に位置する部分が所定の角度で曲げ起こされている。
【００２１】
つまり、ガイド板３６は、回転テ−ブル２７が所定方向に回転駆動されることで、この回転方向と同じ方向に生じる空気流Ｃが上記導入口３５に流入し易いように曲成されている。言い換えれば、上記導入口３５とガイド板３６とで、上記回転テ−ブル２７の回転によって生じる空気流Ｃを導入する方向に向かって開口した導入部３７を形成している。
【００２２】
上記環状板３４の下面には、周方向に１つおきの導入口３５と対応する部分に、それぞれ帯状板を平面形状がくの字状となるように曲成した支持部材３８（詳細な形状は図示せず）が設けられている。この支持部材３８は上記環状板３４を下カップ２２ａの内底部で所定の高さで支持するとともに、上記導入口３５に流入した空気流Ｃを環状板３４の下面側の周方向に沿ってガイドするようになっている。
【００２３】
上記下カップ２２ａの底部には、支持部材３８が設けられていない部分の導入口３５と対応する箇所に、それぞれ排出口３９が形成されている。各排出口３９には排出口体４０が接続されている。排出口体４０には排出管４１が接続され、各排出管４１はタンク４３に連通している。このタンク４３は上記カップ体２１からの気体と液体を分離し、所定の箇所に排出するようになっている。なお、タンク４３には気体をクリ−ンル−ムの外部に放散するための図示しない排気ポンプが接続される。
【００２４】
上記下カップ２２ａの上端部には上記上カップ２２ｂが着脱自在に取着されている。この上カップ２２ｂは上記回転テ−ブル２７と対応する部分が開放したリング状をなしていて、その下端部には上記下カップ２２ａの上端縁に設けられたパッキング２３の部分に液密かつ着脱自在に係合取着される係合部４４が形成されている。
【００２５】
上記内カップ２２ｃは外周面が凸曲面に形成されたリング状をなしていて、その下端部は上記上カップ２２ｂの内面周辺部に取着された断面クランク状の保持リング４５に係合保持されている。つまり、上記内カップ２２ｃは上記回転テ−ブル２７の周辺部分を覆う状態で設けられている。それによって、上記回転テ−ブル２７の回転によって生じる空気流Ｃは上記内カップ２２ｃの内面にガイドされて下カップ２２ａの底部方向へ流れるようになっている。
【００２６】
上記上カップ２２ｂの開口した上面には、周縁部に上記上カップ２２ｂの外周面に係合するフランジ５１ａが形成された整流部材としての蓋体５１が着脱自在に設けられる。この蓋体５１の径方向中心部分には所定の直径の導入孔５２が穿設されている。
【００２７】
上記カップ体２１内で上記回転テ−ブル２７が回転することで空気流Ｃが生じ、その空気流Ｃが排出口３９からタンク４３へと流れると、その流れによってカップ体２１内が負圧になる。それによって、上記蓋体５１の導入孔５２からカップ体２１内へは外気Ａが導入される。この外気Ａは基板２０の上面の中心部分に流入し、回転テ−ブル２７の遠心力によって発生する上記空気流Ｃによって基板２０の上面に沿って径方向外方へ流れ、排出口３９から排出されることになる。
【００２８】
つぎに、上記構成のスピン処理装置によって回転テ−ブル２７に供給された基板２０を乾燥処理する場合について説明する。
上カップ２２ｂから蓋体５１を除去し、上記回転テ−ブル２７に洗浄液によって洗浄されて濡れた状態にある基板２０を供給したならば、上記蓋体５１によって上カップ２２ｂの開口を閉塞する。なお、上カップ２２ｂに対する蓋体５１の着脱は手動あるいは自動のどちらで行うようにしてもよい。
【００２９】
ついで、モ−タ２５に通電して上記回転テ−ブル２７を回転駆動する。それによって、基板２０に付着した洗浄液に遠心力が作用するから、その遠心力で洗浄液が基板２０の上面から径方向外方へ飛散し、基板２０が乾燥処理される。基板２０から除去された洗浄液は、内カップ２２ｃの内面に当たって滴下し、下カップ２２ａの内底部に設けられた環状板３４の導入口３５から排出口３９および排出管４１を通ってタンク４３へ排出される。
【００３０】
一方、回転テ−ブル２７が回転駆動されれば、そのときの遠心力によって上記回転テ−ブル２７の回転方向と同方向で、基板２０の中心部から径方向外方に沿う空気流Ｃが発生する。回転テ−ブル２７の回転によって生じた空気流Ｃは、図１に矢印で示すように内カップ２２ｃの内周面にガイドされて下方へ向かい、その流れ方向に向いて開口した導入部３７へ流入する。つまり、空気流Ｃは、その流れ方向に対して所定の角度で曲げ起こされたガイド板３６にガイドされて環状板３４に形成された導入口３５へ流入する。
【００３１】
導入口３５へ流入した空気流Ｃは環状板３４の下面の支持部材３８に沿って流れ、排出口３９から流出して排出管４１を通り、タンク４３を経て図示しない排気ポンプを介してクリーンルームの外部に放散される。
【００３２】
回転テ−ブル２７の回転によって空気流Ｃが生じると、その空気流によってカップ体２１内の少なくとも基板２０の上面側の部分が負圧になる。それによって、上カップ２２ｂの開口を閉塞した蓋体５１の導入孔５２からは外気Ａが導入される。
【００３３】
カップ体２１内に導入された外気Ａは基板２０の上面の中心部から径方向外方へ向かって流れ、回転テ−ブル２７の回転によって生じた空気流Ｃとともに内カップ２２ｃの内面にガイドされて排出口３９からタンク４３へと流れる。
【００３４】
したがって、上記導入孔５２からカップ体２１内へ導入される外気Ａが基板２０を乾燥させる乾燥ガスとして作用するから、上記基板２０を回転による遠心力と相俟って効率よく乾燥させることになる。
【００３５】
しかも、回転テ−ブル２７の回転によって生じる空気流Ｃと、導入孔５２から導入される外気Ａとは内カップ２２ｃの内面に沿って下カップ２２ａへ円滑にガイドされて排気される。
【００３６】
そのため、カップ体２１内で乱流が発生しにくいから、カップ体２１内で発生したミストが基板２０に付着したり、乾燥処理の前工程の洗浄工程でカップ体２１の内面に洗浄液に含まれた微粒子などの塵埃が付着していても、その塵埃が舞い上がって上記基板２０に再付着することが防止される。
【００３７】
上記カップ体２１内に導入される外気Ａの流速は、回転テ−ブル２７の回転速度が一定であれば、導入孔５２の大きさによって設定することができる。したがって、導入孔５２の内径寸法を変えたり、導入孔５２の数を変えるなどのことにより、外気の流速やカップ体２１内への導入位置など、基板２０の乾燥速度に影響を及ぼす条件を種々設定することができる。
【００３８】
なお、スピン処理装置はクリ−ンル−ムに設置されているから、蓋体５１の導入孔５２からカップ体２１内へ導入される外気に塵埃が含まれることはほとんどない。
【００３９】
下記の表１は、回転テ−ブル２７の回転数を1600rpm に設定し、上カップ２２ｂの上面開口を内径50mmの導入孔５２が穿設された蓋体５１で閉塞した状態と、蓋体５１で閉塞せずに、開放した状態とで基板２０の乾燥処理を行ったときの乾燥状態を比較したものである。なお、回転テ−ブル２７の外形寸法は500mm で、上カップ２２ｂの開口端における内径寸法は700mm である。
【００４０】
表１における保持時間は、回転テ−ブル２７の回転数が1600rpm に到達してからその回転数で回転させた時間である。なお、乾燥状態は目視によって確認した結果である。
【００４１】
【表１】
0004447673.tif 000002
【００４２】
表１から分かるように、蓋体５１を設けた場合には、保持時間が５sec であっても基板２０は確実に乾燥されていた。これに対して蓋体５１を設けない場合には、保持時間が10sec までは基板２０が確実に乾燥せず、保持時間を15sec とすることで、基板２０を確実に乾燥させることができた。
【００４３】
以上のことから、蓋体５１を設けることで、設けない場合に比べて基板２０の乾燥処理時間を大幅に短縮できることが確認された。しかも、乾燥専用の乾燥ガスを用いることなく乾燥させることができるため、ランニングコストがほとんどかからず、経済的である。
【００４４】
図３はこの発明の第２の実施の形態を示す。なお、図１に示すスピン処理装置と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。つまり、この実施の形態のスピン処理装置に設けられる整流部材は、上記第１の実施の形態の蓋体５１に代わり、基板２０の対角寸法と同等あるいはそれ以上の直径寸法を有する円盤状の整流板６１からなり、この整流板６１の中心部分には所定の内径寸法の導入孔６２が穿設されている。
【００４５】
上記整流板６１は回転テ−ブル２７に保持される基板２０と対向して配置され、上下駆動機構６３によって図３に矢印で示す上下方向に駆動されるようになっている。
【００４６】
つまり、上下駆動機構６３は所定個所に固定して設けられたベ−ス板６４を有する。このベ−ス板６４の上面には架台６５が立設されている。この架台６５には上下端部がそれぞれ軸受６６によって回転自在に支持されたねじ軸６７と、上下端部が固定されたガイド軸６８とが軸線を平行にして設けられている。
【００４７】
上記ねじ軸６７の下端部は軸受６６から突出し、その端部には継手６９を介してモ−タ７１の回転軸７２に連結されている。このモ−タ７１は上記ベ−ス板６４の下面に設けられたブラケット７３に保持され、図示しない制御装置によって正転方向と逆転方向とに駆動されるようになっている。
【００４８】
上記ねじ軸６７にはナット体７４が螺合され、上記ガイド軸６８にはスライダ７５がスライド自在に設けられ、これらナット体７４とスライダ７５とは連結されている。したがって、上記モ−タ７１が作動してねじ軸６７が回転駆動されれば、その回転方向に応じて上記ナット体７４がねじ軸６７に沿って上下動するから、その動きにスライダ７５が連動するようになっている。
【００４９】
上記スライダ７５にはＬ字状のア−ム体７６の基端部が連結されている。このア−ム体７６の先端部は上記整流板６１の上面の一端部に連結されている。したがって、ア−ム体７６が上記スライダ７５と一体的に上下動し、その動きに上記整流板６１が連動することで、この整流板６１と基板２０との対向間隔を調整できるようになっている。
【００５０】
上記構成のスピン処理装置において、基板２０を乾燥処理する場合には、まず、上下駆動機構６３によって整流板６１と基板２０との対向間隔を設定する。ついで、モ−タ２５を作動させて基板２０とともに回転テ−ブル２７を回転させる。基板２０を回転させることで、その基板２０に付着した洗浄液が遠心力で飛散されるから、基板２０が乾燥処理される。
【００５１】
一方、回転テ−ブル２７を回転させれば、そのときの遠心力によって図３に矢印Ｃで示すように、基板２０の回転方向と同方向で、基板２０の中心部から周辺部に向かう空気流が生じる。この空気流Ｃが生じることで、基板２０と整流板６１との対向面間が負圧になるから、この対向面間には整流板６１に形成された導入孔６２から同図に矢印Ｄで示すように外気が導入される。外気Ｄは基板２０の上面中心部から径方向外方へ向かって流れ、回転テ−ブル２７の回転によって生じた空気流Ｃとともに内カップ２２ｃの内面にガイドされて排出口３９からタンク４３へと流れる。
【００５２】
したがって、この実施の形態によれば、上記第１の実施の形態と同様、外気Ｄが基板２０を乾燥させる乾燥ガスとして作用するから、基板２０をそれに作用する遠心力とで効率よく乾燥処理することができる。
【００５３】
上記整流板６１は上下駆動機構６３によって上下方向の位置決め、つまり基板２０との対向間隔を設定することができる。したがって、基板２０のサイズが変更され、その基板２０が回転することで発生する遠心力が変化しても、基板２０と整流板６１との対向間隔を調整することで、基板２０と整流板６１との対向面間に流入する外気Ｄの流量を一定に維持することができる。
【００５４】
たとえば、基板２０のサイズが大きくなると、この基板２０が回転テ−ブル２７によって回転されたときに発生する遠心力が大きくなる。遠心力が大きくなると、空気流Ｃの流量が増大するから、カップ体２１内への外気Ｄの流入量も増大する。それによって、排出管４１から排出される排気量も増大することになるが、通常、排気能力は一定であるから、外気Ｄの流入量が増大すると円滑に排気されなくなり、カップ体２１内での空気流が乱流となり、乾燥時に発生する塵埃やミストが舞い上がり、基板２０に付着する虞がある。
【００５５】
そこで、基板２０のサイズが変更になった場合には、上述したように基板２０と整流板６１との対向間隔を調整して外気Ｄの流入量が一定になるようにする。たとえば、基板２０のサイズが大きくなった場合には、基板２０と整流板６１との対向間隔を大きくして外気Ｄの流入量を少なくする。それによって、カップ体２１からの排気が円滑に維持され、そのカップ体２１内で乱流が発生するのを防止できるから、塵埃やミストが舞い上がって基板２０に付着するのを阻止することができる。
【００５６】
なお、基板２０のサイズが 600mm× 800mmで、回転テ−ブル２７の回転数が1400r.p.m の場合、基板２０と整流板６１との対向間隔は15〜50mm、導入孔６２の内径寸法は50〜150mm 程度に設定することで、基板２０に塵埃やミストが付着することなく乾燥処理できることが確認された。
【００５７】
基板２０と整流板６１との対向面間に流れる外気Ｄの流速は、これらの対向間隔だけによって決定されるものでなく、整流板６１に形成される導入孔６２の内径寸法によっても変化する。つまり、導入孔６２の内径寸法を小さくすれば、外気Ｄの流速が大きくなり、逆に導入孔６２を大きくすれば流速が小さくなる。
【００５８】
そのため、導入孔６２の内径寸法を小さくして基板２０と整流板６１との対向面間に流れる外気Ｄの流速量を速くすれば、基板２０の乾燥時間を短縮することができる。
【００５９】
したがって、上記整流板６１をア−ム体７６に対して着脱できる構成とし、基板２０の所定の内径寸法の導入孔５２が形成された整流板６１に交換できるようにすれば、乾燥時間を制御することができる。
【００６０】
なお、回転テ−ブル２７に基板２０を着脱する場合には、整流板６１を図３に鎖線で示すようにカップ体２１の上方へ退避させ、図示しないロボットのハンドをカップ体２１内へ出し入れして行うようにすればよい。
【００６１】
【発明の効果】
請求項１ないし請求項３の発明によれば、回転テ−ブルと対向して中心部分に導入孔が形成された整流部材を配置し、基板を乾燥処理するために回転テ−ブルを回転駆動すると、その回転によって発生する気流で上記導入孔から基板と整流部材との対向面間に外気が導入されるようにした。
【００６２】
そのため、上記導入孔から基板と整流板との対向面間に導入される外気の流れによって基板を短時間で確実に乾燥させることが可能となるばかりか、乾燥専用の乾燥ガスを必要としないから、ランニングコストの低減を計ることができる。
【００６３】
しかも、請求項３の発明によれば、整流部材を上下駆動機構によって上下動させることで、この整流部材と基板との対向間隔を調整できるようにしたから、たとえば基板のサイズが変更になった場合などに整流部材と基板との対向間隔を調整することで、カップ体内に導入される外気の量が排気能力以上になるのを抑制できる。
【００６４】
そのため、カップ体内からの排気が円滑に行われるため、カップ体内で乱流が生じてミストや塵埃が舞い上がり、基板に付着するの防止することができる。
請求項４の発明によれば、回転テ−ブルの回転によって上記カップ体内で発生する気流は、カップ体内に設けられた内カップによって底部の方向へガイドされて排出口から排出される。
【００６５】
そのため、カップ体内へ外気を導入しても、このカップ体内で乱流が生じるのが防止されるから、そのことによっても基板の乾燥効率を向上させることができ、さらにはカップ体の内面に塵埃が付着したり、乾燥処理時にミストが発生しても、それらが舞い上がって基板に付着するのが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態のスピン処理装置を示す断面図。
【図２】同じく蓋体の平面図。
【図３】この発明の第２の実施の形態のスピン処理装置を示す断面図。
【符号の説明】
２０…基板
２１…カップ体
２２ｃ…内カップ
２５…駆動源
２６…駆動軸
２７…回転テ−ブル
３９…排出口
５１…蓋体（整流部材）
５２、６２…導入孔
６１…整流板（整流部材）
６３…上下駆動機構
【図１】
0004447673.tif 000003
【図２】
0004447673.tif 000004
【図３】
0004447673.tif 000005