(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートを製造するための塗布組成物であって、該塗布組成物中に下記一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーラテックスを含有することを特徴とする感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［１］
【化１】
0004468908.tif 000014
（一般式［１］において、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ1は２価の連結基を表し、Ｚは炭素数８〜５０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基を表す。）
【請求項２】
前記一般式［１］で表されるモノマーが、下記一般式［２］で表されるモノマーであることを特徴とする請求項１に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［２］
【化２】
0004468908.tif 000015
（一般式［２］において、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒc）−を表し、Ｚ2は炭素数１２〜４０の直鎖もしくは分岐の炭化水素基を表す。ここで、Ｒcは水素原子または置換基を有していてもよい炭素
数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項３】
前記一般式［１］で表されるモノマーが、下記一般式［３］で表されるモノマーであることを特徴とする請求項１に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［３］
【化３】
0004468908.tif 000016
（一般式［３］において、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒc）−を表し、ｎは２０〜３０の整数を表す。ここで、Ｒcは水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項４】
前記ポリマーラテックスが、さらに下記一般式［４］で表される繰り返し単位を含む共重合体を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［４］
【化４】
0004468908.tif 000017
（一般式［４］において、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホリル基（−ＯＰＯ3Ｈ）またはその塩を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ15）−、アルキレン基、アリーレン基（Ｒ14は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。Ｒ15はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。）
【請求項５】
前記塗布組成物が、受容層用の塗布組成物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
【請求項６】
支持体上に少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートであって、該受容層が下記一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含む重合体を含有することを特徴とする感熱転写受像シート。
一般式［１］
【化５】
0004468908.tif 000018
（一般式［１］において、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ1は２価の連結基を表し、Ｚは炭素数８〜５０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基を表す。）
【請求項７】
前記支持体と前記受容層の間に、中空粒子を含有する断熱層を有することを特徴とする請求項６に記載の感熱転写受像シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感熱転写受像シートに関し、詳しくは高感度で画像欠陥が少ない感熱転写受像シートに関する。また本発明は、感熱転写受像シート製造用の塗布組成物にも関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている（例えば、非特許文献１および２参照）。しかも、銀塩写真に比べてドライであり、デジタルデータから直接可視像化でき、複製が簡単であるなどの利点を持っている。
【０００３】
この染料拡散転写記録方式では、色素を含有する感熱転写シート（以下、インクシートという。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００４】
この方式に用いる受像シートの支持体には、通常の紙を用いることができ、低コストで製造することができる。このような紙を支持体に用いた受像シートは、支持体のクッション性を補うために、通常、支持体と受容層との間にクッション性の高い層、例えば樹脂と発泡剤からなる発泡層を形成してクッション性を付与し、受像シートとインクシートとの密着性を高めている。しかし、従来の受像シートは、有機溶剤系の樹脂塗工液を用いて製造していたため、該塗工液が発泡層の気泡・空隙を潰してしまい、所望のクッション性が得られなかった。このため、画像形成の際に白抜けや濃度ムラが発生してしまったり、発泡層の断熱性が低下して染料の転写に必要な熱量が受像シートの裏面方向に拡散して印字時の感度の低下を招いたりするという問題を生じていた。
【０００５】
これに対して、水分散性エマルジョンを支持体上に塗工する方法を用いれば、受容層中の発泡層等の微妙な凹凸をそのまま受容層の表面形状に反映させることが可能である。例えば、特許文献１および特許文献２には、水分散性エマルジョンを用いて形成した受容層の記載があり、地球環境に対する付加が小さく、材料自体も比較的安価というメリットがある。しかしながら、これらの水分散性エマルジョンを用いると、鮮鋭性が低下してしまうという問題があった。
【特許文献１】特開平２−２６５７８９号公報
【特許文献２】特開２００５−６２８２９号公報
【非特許文献１】「情報記録（ハードコピー）とその材料の新展開」，(株)東レリサーチセンター発行，１９９３年，ｐ．２４１−２８５
【非特許文献２】「プリンター材料の開発」，(株)シーエムシー発行，１９９５年，ｐ．１８０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、高感度で画像欠陥が少なく、鮮鋭性が高い感熱転写受像シートを提供することを目的とする。また本発明は、そのような特徴を有する感熱転写受像シートを簡便に製造することができる塗布組成物を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従来技術の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、本発明者は、特定のポリマーラテックスを含有する塗布組成物を用れば、受容層表面に凹凸を形成することなく、高感度で画像欠陥が少ない受像シートを形成できることを見い出した。本発明はこのような知見に基づいて提供されるに至ったものである。
【０００８】
上記課題は下記の手段により達成された。
１）支持体上に少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートを製造するための塗布組成物であって、該塗布組成物中に下記一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーラテックスを含有することを特徴とする感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［１］
【０００９】
【化１】
0004468908.tif 000002
一般式［１］において、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ1は２価の連結基を表し、Ｚは炭素数８〜５０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基を表す。
【００１０】
２）前記一般式［１］で表されるモノマーが、下記一般式［２］で表されるモノマーであることを特徴とする１）に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［２］
【００１１】
【化２】
0004468908.tif 000003
一般式［２］において、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒc）−を表し、Ｚ2は炭素数１２〜４０の直鎖もしくは分岐の炭化水素基を表す。ここで、Ｒcは水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【００１２】
３）前記一般式［１］で表されるモノマーが、下記一般式［３］で表されるモノマーであることを特徴とする１）に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［３］
【００１３】
【化３】
0004468908.tif 000004
一般式［３］において、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒc）−を表し、ｎは２０〜３０の整数を表す。ここで、Ｒcは水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【００１４】
４）前記ポリマーラテックスが、さらに下記一般式［４］で表される繰り返し単位を含む共重合体を含有することを特徴とする１）〜３）のいずれか１項に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
一般式［４］
【００１５】
【化４】
0004468908.tif 000005
一般式［４］において、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホリル基（−ＯＰＯ3Ｈ）またはその塩を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ15）−、アルキレン基、アリーレン基（Ｒ14は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。Ｒ15はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。）
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホリル基（−ＯＰＯ3Ｈ）またはその塩を表す。
【００１６】
５）前記塗布組成物が、受容層用の塗布組成物であることを特徴とする１）〜４）のいずれか１項に記載の感熱転写受像シート製造用塗布組成物。
【００１７】
６）支持体上に少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートであって、該受容層が上記一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含む重合体を含有することを特徴とする感熱転写受像シート。
【００１８】
７）前記支持体と前記受容層の間に、中空粒子を含有する断熱層を有することを特徴とする６）に記載の感熱転写受像シート。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の感熱転写受像シートは、高感度で画像欠陥少なく、鮮鋭性も高い。また、本発明の塗布組成物を用いれば、そのような特徴を有する感熱転写受像シートを簡便に作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下において、本発明の感熱転写受像シートやそれを製造するための塗布組成物等について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００２１】
（感熱転写受像シートの層構成）
本発明の感熱転写受像シートは、支持体上に染料の受容層が形成されている。受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。また、下地層と支持体との間には断熱層が形成されていることが好ましい。本発明では、支持体と受容層との間にある各層を単に「中間層」といい、上述の下地層や断熱層が含まれる。本発明の感熱転写受像シートは、少なくとも１層の受容層および少なくとも１層の中間層を含有することが好ましく、また支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましく、さらにはこれらの層が組み合わせて形成されていることがより好ましい。
【００２２】
（感熱転写受像シート製造用塗布組成物）
本発明の感熱転写受像シート製造用塗布組成物は、上記一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーラテックスを含有することを特徴とする。本発明の感熱転写受像シート製造用塗布組成物は、特に受容層の形成に用いられることが好ましい。
【００２３】
＜ポリマーラテックス＞
以下において、一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーラテックス（以下、本発明のポリマーラテックスという）について説明する。
一般式［１］において、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。Ｌ1は２価の連結基を表し、酸素原子、窒素原子またはイオウ原子のいずれかを含む連結基が好ましい。Ｚは炭素数８〜５０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基を表し、炭素数８〜５０の直鎖、分岐の炭化水素基が好ましい。
【００２４】
本発明の一般式［１］で表されるモノマーは、上記一般式［２］で表されるモノマーであることが好ましい。
一般式［２］において、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子またはメチル原子が好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒc）−を表し、酸素原子であることが最も好ましい。Ｚ2は炭素数１２〜４０の直鎖もしくは分岐の炭化水素基を表し、炭素数１２〜４０の直鎖もしくは分岐の炭化水素基が好ましい。ここで、Ｒcは水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【００２５】
本発明の一般式［１］で表されるモノマーは、上記一般式［３］で表されるモノマーであることがより好ましい。
一般式［３］において、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒc）−を表し、酸素原子であることが好ましい。ｎは２０〜３０の整数を表す。ここで、Ｒcは水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【００２６】
本発明のポリマーラテックスは、前記繰り返し単位に加え、上記一般式［４］で表される繰り返し単位を有する共重合体であることが好ましい。
一般式［４］において、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ15）−、アルキレン基、アリーレン基（Ｒ14は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。Ｒ15はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。）
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホリル基（−ＯＰＯ3Ｈ）またはその塩を表す。
【００２７】
前述の各一般式中で使用される置換基、もしくは「置換基を有していてもよい」における置換基としては下記に例示した置換基群から選ばれる置換基が好ましい。
【００２８】
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基などが挙げられる）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０、より好ましくは炭素数５〜２０、特に好ましくは炭素数５〜１２のシクロアルキル基であり、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２９】
一般式［４］において、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましく、水素原子、炭素数１または２のアルキル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。
なお、上記のアルキル基の炭素数には、置換基の炭素原子は含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【００３０】
Ｌは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＰＯ（ＯＲ15）−、アルキレン基、アリーレン基またはこれらを組み合わせて形成される２価の連結基を表す。ここでＲ14は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。Ｒ15はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基、アリーレン基を含むことが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ14−、アルキレン基、またはアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。
【００３１】
Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
Ｌがアリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフタレン基等が挙げられる。
Ｌがアルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。
【００３２】
Ｌとして挙げられた基は置換基を有していてもよい。このような置換基としては前述の置換基群として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明で採用することができるＬの構造はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００３３】
【化５】
0004468908.tif 000006
【００３４】
【化６】
0004468908.tif 000007
【００３５】
Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホリル基、またはホスホリル基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくは、カルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのはカルボキシル基またはスルホ基である。
【００３６】
ポリマーラテックス中に含まれる前記一般式［４］で表される繰り返し単位は、１種単独でも構わないし、２種以上の繰り返し単位が同時に存在していてもよい。
一般式［１］、一般式［２］、または一般式［３］で表されるモノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明で採用することができるモノマーはこれらの具体例に限定されるものではない。
【００３７】
【化７】
0004468908.tif 000008
【００３８】
【化８】
0004468908.tif 000009
【００３９】
本発明のポリマーラテックスは、一般式［１］で表されるモノマーと、該モノマーと共重合可能な他の種類のモノマーとの共重合体であってもよい。このようなモノマーとしては、特に制限はなく、通常のラジカル重合またはイオン重合法で重合可能なものでは、以下に示すモノマー群（ａ）〜（ｉ）を好適に用いることができる。これらモノマーを自由に組み合わせて選択し、ポリマーを合成することができる。
【００４０】
（ａ）共役ジエン類：１，３−ペンタジエン、イソプレン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、シクロペンタジエン等。
【００４１】
（ｂ）  オレフィン類：エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、６−ヒドロキシ−１−ヘキセン、４−ペンテン酸、８−ノネン酸メチル、ビニルスルホン酸、トリメチルビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２，５−トリビニルシクロヘキサン等
【００４２】
（ｃ）  α，β−不飽和カルボン酸エステル類：アルキルアクリレート（例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート等）、置換アルキルアクリレート（例えば、ベンジルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート等）、アルキルメタクリレート（例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリ−レート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート等）、置換アルキルメタクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、グリセリンモノメタクリレート、２−アセトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート（ポリオキシプロピレンの付加モル数＝２〜１００のもの）、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、２−カルボキシエチルメタクリレート、３−スルホプロピルメタクリレート、４−オキシスルホブチルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート等）、不飽和ジカルボン酸の誘導体（例えば、マレイン酸モノブチル、マレイン酸ジメチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸ジブチル等）、多官能エステル類（例えばエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラメタクリレート等）。
【００４３】
（ｄ）  β−不飽和カルボン酸のアミド類：例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−オクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、イタコン酸ジアミド、Ｎ−メチルマレイミド、２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、メチレンビスアクリルアミド、ジメタクリロイルピペラジン等
【００４４】
（ｅ）  不飽和ニトリル類：アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
【００４５】
（ｆ）  スチレンおよびその誘導体：スチレン、ビニルトルエン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム塩、ｐ−スチレンスルフィン酸カリウム塩、ｐ−アミノメチルスチレン、１，４−ジビニルベンゼン等。
【００４６】
（ｇ）  ビニルエーテル類：メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル等。
【００４７】
（ｈ）  ビニルエステル類：酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル等。
【００４８】
（ｉ）  その他の重合性単量体：Ｎ−ビニルイミダゾール、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリン、ジビニルスルホン等。
【００４９】
本発明のポリマーラテックスに含まれる重合体の数平均分子量は、通常５０００〜１００００００であり、好ましくは１００００〜５０００００である。
【００５０】
＜ポリマーラテックス＞
ポリマーラテックスは、水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としては、ポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどのいずれでもよい。なおポリマーラテックスについては、奥田平，稲垣寛編集，「合成樹脂エマルジョン」，高分子刊行会発行（１９７８年）；杉村孝明，片岡靖男，鈴木聡一，笠原啓司編集，「合成ラテックスの応用」，高分子刊行会発行（１９９３年）；室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（１９７０年）；三代澤良明監修，「水性コーティング材料の開発と応用」，シーエムシー出版（２００４年）および特開昭６４−５３８号公報などに記載されている。分散粒子の平均粒子サイズは、好ましくは１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲である。分散粒子の粒子サイズ分布に関しては特に制限は無く、広い粒子サイズ分布を持つものでも単分散の粒子サイズ分布を持つものでもよい。
【００５１】
ポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックスであって、いわゆるコア／シェル型のラテックスであってもよい。後者を採用するときは、コアとシェルでガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。本発明で用いるポリマーラテックスのガラス転移温度は、−３０℃〜１００℃が好ましく、０℃〜８０℃がより好ましく、１０℃〜７０℃がさらに好ましく、１５℃〜６０℃が特に好ましい。
【００５２】
本発明で用いるポリマーラテックスは、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの数平均分子量は、通常５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜５０００００である。分子量が小さすぎるものはラテックスを含有する層の力学強度が不十分であることがあり、大きすぎるものは成膜性が悪くなることがある。また、架橋性のポリマーラテックスも好ましく使用される。
【００５３】
以下に、本発明に用いることができる重合体の具体的な構造例を示すが、本発明で用いることができる重合体はこれらの具体例によって制限されるものではない。なお式中の数字は、各モノマー成分の質量比率を示す。ここで、Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００５４】
【化９】
0004468908.tif 000010
【００５５】
【化１０】
0004468908.tif 000011
【００５６】
【化１１】
0004468908.tif 000012
【００５７】
本発明においては、必要に応じて２種以上のポリマーラテックスをブレンドして用いてもよい。
【００５８】
本発明でブレンドできるポリマーラテックスは市販もされており、以下に例示するもの等が利用できる。
【００５９】
アクリル系ポリマーの例としては、ダイセル化学工業(株)製セビアンA−4635,4718，4601、日本ゼオン(株)製Nipol  Lx811、814、821、820、855（P−17：Tg36℃）、857x2（P−18：Tg43℃）、大日本インキ化学(株)製Voncoat  R3370（P−19：Tg25℃）、4280（P−20：Tg15℃）、日本純薬(株)製ジュリマーET−410（P−21：Tg44℃）、ＪＳＲ(株)製AE116（P−22：Tg50℃）、AE119（P−23：Tg55℃）、AE121（P−24：Tg58℃）、AE125(P−25：Tg60℃)、AE134（P−26：Tg48℃）、AE137（P−27：Tg48℃）、AE140（P−28：Tg53℃）、AE173（P−29：Tg60℃）、東亞合成(株)製アロンA−104（P−30：Tg45℃）、高松油脂(株)製NS−600X、NS−620X、日信化学工業(株)製ビニブラン2580、2583、2641、2770、2770H、2635、2886、5202C、2706などが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６０】
ポリエステル類の例としては、大日本インキ化学(株)製FINETEX  ES650、611、675、850、イーストマンケミカル製WD−size、WMS、高松油脂(株)製A−110、A−115GE、A−120、A−121、A−124GP、A−124S、A−160P、A−210、A−215GE、A−510、A−513E、A−515GE、A−520、A−610、A−613、A−615GE、A−620、WAC−10、WAC−15、WAC−17XC、WAC−20、S−110、S−110EA、S−111SL、S−120、S−140、S−140A、S−250、S−252G、S−250S、S−320、S−680、DNS−63P、NS−122L、NS−122LX、NS−244LX、NS−140L、NS−141LX、NS−282LX、東亞合成(株)製アロンメルトPES−1000シリーズ、PES−2000シリーズ、東洋紡(株)製バイロナールMD−1100、MD−1200、MD−1220、MD−1245、MD−1250、MD−1335、MD−1400、MD−1480、MD−1500、MD−1930、MD−1985、住友精化(株)製セポルジョンESなどが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６１】
ポリウレタン類の例としては、大日本インキ化学(株)製HYDRAN  AP10、AP20、AP30、AP40、101H、Vondic  1320NS、1610NS、大日精化(株)製D−1000、D−2000、D−6000、D−4000、D−9000、高松油脂(株)製NS−155X、NS−310A、NS−310X、NS−311X、第一工業製薬(株)製エラストロンなどが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６２】
ゴム類の例としては、LACSTAR  7310K、3307B、4700H、7132C(以上、大日本インキ化学(株)製)、Nipol  Lx416、LX410、LX430、LX435、LX110、LX415A、LX438C、2507H、LX303A、LX407BPシリーズ、V1004、MH5055(以上日本ゼオン(株)製)などが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６３】
ポリ塩化ビニル類の例としては、日本ゼオン(株)製G351、G576、日信化学工業(株)製ビニブラン240、270、277、375、386、609、550、601、602、630、660、671、683、680、680S、681N、685R、277、380、381、410、430、432、860、863、865、867、900、900GT、938、950などが挙げられる（いずれも商品名）。ポリ塩化ビニリデン類の例としては、旭化成工業(株)製L502、L513、大日本インキ化学(株)製D−5071など挙げられる（いずれも商品名）。ポリオレフィン類の例としては、三井石油化学(株)製ケミパールS120、SA100、V300（P−40：Tg80℃）、大日本インキ化学(株)製Voncoat  2830、2210、2960、住友精化(株)製ザイクセン、セポルジョンG、共重合ナイロン類の例としては、住友精化(株)製セポルジョンPA、などが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６４】
ポリ酢酸ビニル類の例としては、日信化学工業(株)製ビニブラン1080、1082、1085W、1108W、1108S、1563M、1566、1570、1588C、A22J7−F2、1128C、1137、1138、A20J2、A23J1、A23J1、A23K1、A23P2E、A68J1N、1086A、1086、1086D、1108S、1187、1241LT、1580N、1083、1571、1572、1581、4465、4466、4468W、4468S、4470、4485LL、4495LL、1023、1042、1060、1060S、1080M、1084W、1084S、1096、1570K、1050、1050S、3290、1017AD、1002、1006、1008、1107L、1225、1245L、GV−6170、GV−6181、4468W、4468Sなどが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６５】
ポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は、好ましくは−３０℃〜９０℃、より好ましくは０℃〜７０℃である。最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は一時可塑剤ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)で、例えば室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（1970年）に記載されている。好ましい造膜助剤は以下の化合物であるが、本発明で用い得る造膜助剤は以下の具体例に限定されるものではない。
【００６６】
Ｚ−１：ベンジルアルコール
Ｚ−２：２，２，４−トリメチルペンタンジオール−１，３−モノイソブチレート
Ｚ−３：２−ジメチルアミノエタノール
Ｚ−４：ジエチレングルコール
【００６７】
本発明では、上記のポリマーラテックスとともに、本発明の効果を過度に阻害しない範囲内においていかなるポリマーを併用してもよい。併用することのできるポリマーとしては、透明または半透明で、無色であることが好ましく、天然樹脂やポリマーおよびコポリマー、合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ポリビニルアルコール類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリビニルピロリドン類、カゼイン、デンプン、ポリアクリル酸類、ポリメチルメタクリル酸類、ポリ塩化ビニル類、ポリメタクリル酸類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール類（例えば、ポリビニルホルマールおよびポリビニルブチラール）、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリオレフィン類、ポリアミド類が挙げられる。
【００６８】
本発明に用いられる重合体は、加工脆性と画像保存性の点でガラス転移温度（Ｔｇ）が−３０℃〜７０℃の範囲のものが好ましく、より好ましくは−１０℃〜５０℃の範囲、さらに好ましくは０℃〜４０℃の範囲である。２種以上の重合体をブレンドして用いる場合は、組成分を考慮し加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。また、相分離した場合やコア−シェル構造を有する場合には加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【００６９】
このガラス転移温度（Ｔｇ）は下記式で計算することができる。
1／Tg＝Σ(Xi／Tgi)
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率（ΣXi=1）、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。なお、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Tgi）は「Polymer  Handbook(3rd Edition)」(J.Brandrup,  E.H.Immergut著(Wiley−Interscience、1989))の値を採用できる。
【００７０】
本発明に用いる重合体は、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、分散重合法、アニオン重合法、カチオン重合等により容易に得ることができるが、ラテックスとして得られる乳化重合法を用いることが最も好ましい。また、重合体を溶液中で調製し、中和するか乳化剤を添加後に水を加え、強制的に撹拌により水分散体を調製する方法も好ましい。乳化重合法は、例えば、水、或いは、水と水に混和し得る有機溶媒（例えばメタノール、エタノール、アセトン等）との混合溶媒を分散媒とし、分散媒に対して５〜１５０質量％のモノマー混合物と、モノマー総量に対して乳化剤と重合開始剤を用い、３０〜１００℃程度、好ましくは６０〜９０℃で３〜２４時間、攪拌下で重合させることにより行われる。分散媒、モノマー濃度、開始剤量、乳化剤量、分散剤量、反応温度、モノマー添加方法等の諸条件は、使用するモノマーの種類を考慮し、適宜設定される。また、必要に応じて分散剤を用いることが好ましい。
【００７１】
乳化重合法は、一般的には、奥田平，稲垣寛編集，「合成樹脂エマルジョン」，高分子刊行会発行（1978年）；杉村孝明，片岡靖男，鈴木聡一，笠原啓司編集，「合成ラテックスの応用」，高分子刊行会発行（1993年）；室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（1970年）などに記載される方法で行うことができる。本発明のポリマーラテックスを合成する乳化重合法としては、一括重合法、モノマー（連続・分割）添加法、エマルジョン添加法、シード重合法などを選択することができ、ラテックスの生産性の観点から一括重合法、モノマー（連続・分割）添加法、エマルジョン添加法が好ましい。
【００７２】
前記重合開始剤としてはラジカル発生能があればよく、過硫酸塩や過酸化水素などの無機過酸化物、日本油脂(株)有機過酸化物カタログなどに記載の過酸化物および和光純薬工業(株)アゾ重合開始剤カタログなどに記載のアゾ化合物を用いることができる。その中でも、過硫酸塩などの水溶性過酸化物および和光純薬工業(株)アゾ重合開始剤カタログなどに記載の水溶性アゾ化合物が好ましく、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）塩酸塩、アゾビス（２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド）、アゾビスシアノ吉草酸がより好ましく、特に、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなどの過酸化物が画像保存性、溶解性、コストの観点から好ましい。
【００７３】
前記重合開始剤の添加量は、モノマー総量に対して０．３質量％〜２．０質量％であることが好ましく、０．４質量％〜１．７５質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜１．５質量％であることが特に好ましい。
【００７４】
前記重合乳化剤としては、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤のいずれも用いることができるが、アニオン性界面活性剤が分散性と画像保存性の観点から好ましく、少量で重合安定性が確保でき、加水分解耐性もあることからスルホン酸型アニオン界面活性剤がより好ましく、ペレックスＳＳ−Ｈ(花王(株))に代表される長鎖アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩がさらに好ましく、パイオニンＡ−４３−Ｓ（竹本油脂(株)）のような低電解質タイプが特に好ましい。
【００７５】
前記重合乳化剤として、スルホン酸型アニオン界面活性剤がモノマー総量に対して０．１質量％〜１０．０質量％使用されていることが好ましく、０．２質量％〜７．５質量％使用されていることがより好ましく、０．３質量％〜５．０質量％使用されていることが特に好ましい。
【００７６】
本発明のラテックスの製造には、キレート剤を使用するのが好ましい。キレート剤は、鉄イオンなど金属イオンやカルシウムイオンなどのアルカリ土類金属イオンなどの多価イオンを配位（キレート）できる化合物であり、特公平６−８９５６号公報、米国特許第５０５３３２２号、特開平４−７３６４５号、特開平４−１２７１４５号、特開平４−２４７０７３号、特開平４−３０５５７２号、特開平６−１１８０５号、特開平５−１７３３１２号、特開平５−６６５２７号、特開平５−１５８１９５号、特開平６−１１８５８０号、特開平６−１１０１６８号、特開平６−１６１０５４号、特開平６−１７５２９９号、特開平６−２１４３５２号、特開平７−１１４１６１号、特開平７−１１４１５４号、特開平７−１２０８９４号、特開平７−１９９４３３号、特開平７−３０６５０４号、特開平９−４３７９２号、特開平８−３１４０９０号、特開平１０−１８２５７１号、特開平１０−１８２５７０号、特開平１１−１９０８９２号の各公報または明細書に記載の化合物を用いることができる。
【００７７】
前記キレート剤としては、無機キレート化合物（トリポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナトリウム等）、アミノポリカルボン酸系キレート化合物（ニトリロトリ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸等）、有機ホスホン酸系キレート化合物（Research  Disclosure１８１７０号、特開昭５２−１０２７２６号、同５３−４２７３０号、同５６−９７３４７号、同５４−１２１１２７号、同５５−４０２４号、同５５−４０２５号、同５５−２９８８３号、同５５−１２６２４１号、同５５−６５９５５号、同５５−６５９５６号、同５７−１７９８４３号、同５４−６１１２５号、および西独特許１０４５３７３号の各公報または明細書などに記載の化合物）、ポリフェノール系キレート剤、ポリアミン系キレート化合物など好ましく、アミノポリカルボン酸誘導体が特に好ましい。
【００７８】
前記アミノポリカルボン酸誘導体の好ましい例としては、「ＥＤＴＡ（−コンプレキサンの化学−）」（南江堂、１９７７年）の付表の化合物が挙げられ、またこれら化合物のカルボキシル基の一部がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属塩やアンモニウム塩など置換された化合物も挙げられる。特に好ましいアミノカルボン酸誘導体としては、イミノ二酢酸、Ｎ−メチルイミノ二酢酸、Ｎ−（２−アミノエチル）イミノ二酢酸、Ｎ−（カルバモイルメチル）イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二酢酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ジ−α−プロピオン酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ジ−β−プロピオン酸、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（α−ｏ−ヒドロキシフェニル）グリシン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二酢酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二酢酸−Ｎ，Ｎ’−ジアセトヒドロキサム酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−三酢酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１，２−プロピレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｄ，ｌ−２，３−ジアミノブタン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｍｅｓｏ−２，３−ジアミノブタン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１−フェニルエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｄ，ｌ−１，２−ジフェニルエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１，４−ジアミノブタン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｔｒａｎｓ−シクロブタン−１，２−ジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｔｒａｎｓ−シクロペンタン−１，２−ジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，２−ジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｃｉｓ−シクロヘキサン−１，２−ジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、シクロヘキサン−１，３−ジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、シクロヘキサン−１，４−ジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｏ−フェニレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｃｉｓ−１，４−ジアミノブテン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、ｔｒａｎｓ−１，４−ジアミノブテン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、α，α’−ジアミノ−ｏ−キシレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、２−ヒドロキシ−１，３−プロパンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、２，２’−オキシ−ビス（エチルイミノ二酢酸）、２，２’−エチレンジオキシ−ビス（エチルイミノ二酢酸）、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二酢酸−Ｎ，Ｎ’−ジ−α−プロピオン酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二酢酸−Ｎ，Ｎ’−ジ−β−プロピオン酸、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラプロピオン酸、ジエチレントリアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−五酢酸、トリエチレンテトラミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’，Ｎ’’’−六酢酸、１，２，３−トリアミノプロパン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’，Ｎ’’’−六酢酸が挙げられ、またこれら化合物のカルボキシル基の一部がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属塩やアンモニウム塩など置換されたものも挙げることができる。
【００７９】
前記キレート剤の添加量は、モノマー総量に対して０．０１質量％〜０．４質量％であることが好ましく、０．０２質量％〜０．３質量％であることがより好ましく、０．０３質量％〜０．１５質量％であることが特に好ましい。キレート剤量が０．０１質量％未満であると、ポリマーラテックスの製造工程で混入する金属イオンの捕捉が不十分となり、ラテックスの凝集に対する安定性が低下し、塗布性を悪化させることがある。また、０．４％を超えると、ラテックスの粘度が上昇し塗布性を低下させることがある。
【００８０】
本発明のポリマーラテックスの製造には、連鎖移動剤を使用することが好ましい。連鎖移動剤としては、「Polymer  Handbook，第３版」（Wiley−Interscience，1989）に記載されているものが好ましい。硫黄化合物は連鎖移動能が高く、少量で用いることで済むことからより好ましい。ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタンやｎ−ドデシルメルカプタン等疎水的なメルカプタン系の連鎖移動剤が特に好ましい。
【００８１】
前記連鎖移動剤量は、モノマー総量に対して０．２質量％〜２．０質量％が好ましく、０．３質量％〜１．８質量％がより好ましく、０．４質量％〜１．６質量％が特に好ましい。
【００８２】
乳化重合では、上記化合物以外に、電解質、安定化剤、増粘剤、消泡剤、酸化防止剤、加硫剤、凍結防止剤、ゲル化剤、加硫促進剤など合成ゴムハンドブック等に記載の添加剤を使用してもよい。
【００８３】
＜溶媒＞
本発明の塗布組成物は、溶媒として、水系溶媒を用いることができるが、水混和性の有機溶媒を併用してもよい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミド、、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オキシエチルフェニルエーテル等を挙げることができる。これら有機溶媒の添加量は、溶媒の５０％以下、より好ましくは３０％以下であることが好ましい。本発明の感熱転写受像シートの構成層、特に受容層は、水系の塗布液を塗布後乾燥して形成することが好ましい。ここで言う「水系」とは、塗布液の溶媒（分散媒）の６０質量％以上が水であることをいう。
【００８４】
また、本発明のポリマーラテックスでは、ポリマーの濃度がラテックス液に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、さらに２０〜６０質量％、特に３０〜５５質量％であることが好ましい。
【００８５】
なお、本発明の受像シートにおける重合体は、本発明のポリマーラテックスを含む塗布組成物を塗布した後に溶媒の一部を乾燥させることにより形成されるゲルまたは乾燥皮膜の状態を含むものである。
【００８６】
次に、本発明の塗布組成物を用いて製造されるインクシートについて説明する。
【００８７】
（受容層）
受容層は、インクシートから移行してくる染料を受容し、形成された画像を維持する役割を果たす。そのため受容層には染着しやすい樹脂（染着性受容ポリマー）が用いられる。
【００８８】
色素の染着性の程度については以下のようにして定義される。受像シートにイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色を２５６階調のベタ画像を形成するよう出力し、得られた画像の反射濃度を測定して、反射濃度の高いものを染着性が良い受容ポリマーと定義する。なお、受容ポリマーの染着性は、プリンター、インクシートによって異なり得るので注意が必要である。
【００８９】
具体的には、本発明の塗布組成物に用いられるポリマーラテックスを好ましい例として挙げることができる。
【００９０】
＜紫外線吸収剤＞
また、本発明では耐光性を向上するために受容層に紫外線吸収剤が添加してもよい。このとき、紫外線吸収剤を高分子量化することで受容層に固定でき、インクシートへの拡散や加熱による昇華・蒸散などを防ぐことができる。
【００９１】
紫外線吸収剤としては、情報記録分野において広く知られている各種紫外線吸収剤骨格を有する化合物を使用することができる。具体的には、２−ヒドロキシベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤、２−ヒドロキシベンゾトリアジン型紫外線吸収剤、２−ヒドロキシベンゾフェノン型紫外線吸収剤骨格を有する化合物を挙げることができる。紫外線吸収能（吸光係数）・安定性の観点では、ベンゾトリアゾール型、トリアジン骨格を有する化合物が好ましく、高分子量化・ラテックス化の観点ではベンゾトリアゾール型、ベンゾフェノン型の骨格を有する化合物が好ましい。具体的には、特開２００４−３６１９３６号公報などに記載された紫外線吸収剤を用いることができる。
【００９２】
紫外線吸収剤は、紫外域に吸収をもち、可視領域に吸収端がかからないことが好ましい。具体的には、受容層に添加して感熱転写受像シートを形成したとき、３７０ｎｍの反射濃度がＡｂｓ０．５以上になることが好ましく、３８０ｎｍの反射濃度がＡｂｓ０．５以上になることがさらに好ましい。また、４００ｎｍの反射濃度がＡｂｓ０．１以下であることが好ましい。なお、４００ｎｍを超える範囲での反射濃度が高いと画像が黄ばむため好ましくない。
【００９３】
本発明では、紫外線吸収剤は高分子量化され、質量平均分子量１００００以上が好ましく、質量平均分子量１０００００以上がさらに好ましい。高分子量化する手段としては、紫外線吸収剤をポリマーにグラフトすることが好ましい。主鎖となるポリマーとしては、併用する受容ポリマーより色素の染着性が劣るポリマー骨格を有することが好ましい。また、製膜した際に十分な皮膜強度を有することが好ましい。ポリマー主鎖に対する紫外線吸収剤のグラフト率は、５〜２０質量％が好ましく、８〜１５質量％がより好ましい。
【００９４】
また、紫外線吸収剤をグラフトしたポリマーはラテックス化することがさらに好ましい。ラテックス化することにより水分散系の塗布液を塗布製膜することにより受容層を形成することができ、製造コストを軽減することが可能である。ラテックス化する方法は例えば特許第３４５０３３９号明細書などに記載された方法を用いることができる。ラテックス化された紫外線吸収剤としては、例えば一方社油脂工業株式会社製ＵＬＳ−７００、ＵＬＳ−１７００、ＵＬＳ−１３８３ＭＡ、ＵＬＳ−１６３５ＭＨ、ＸＬ−７０１６、ＵＬＳ−９３３ＬＰ、ＵＬＳ−９３５ＬＨ、新中村化学製Ｎｅｗ  Ｃｏａｔ  ＵＶＡ−１０２５Ｗ、Ｎｅｗ  Ｃｏａｔ  ＵＶＡ−２０４Ｗ、Ｎｅｗ  Ｃｏａｔ  ＵＶＡ−４５１２Ｍ（いずれも商品名）など市販の紫外線吸収剤を使用することもできる。
紫外線吸収剤をグラフトしたポリマーをラテックス化する場合、前記の染着性受容ポリマーのラテックスと混合してから塗布することで紫外線吸収剤が均一に分散した受容層を形成することができる。
【００９５】
紫外線吸収剤をグラフトしたポリマーまたはそのラテックスの添加量は、受容層を形成する染着性受容ポリマーラテックスに対して５〜５０質量部が好ましく、１０〜３０質量部がより好ましい。
【００９６】
＜離型剤＞
また、受容層には、画像形成時にインクシートとの熱融着を防ぐために、離型剤を配合することもできる。離型剤は、シリコーンオイル、リン酸エステル系可塑剤フッ素系化合物を用いることができるが、特にシリコーンオイルが好ましく用いられる。シリコーンオイルとしては、エポキシ変性、アルキル変性、アミノ変性、カルボキシル変性、アルコール変性、フッ素変性、アルキルアラルキルポリエーテル変性、エポキシ・ポリエーテル変性、ポリエーテル変性等の変性シリコーンオイルが好ましく用いられるが、中でもビニル変性シリコーンオイルとハイドロジェン変性シリコーンオイルとの反応物がよい。離型剤の添加量は、受容ポリマーに対して０．２〜３０質量部が好ましい。
【００９７】
受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ2（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。受容層の膜厚は１〜２０μｍであることが好ましい。
【００９８】
（中間層）
受容層と支持体との間には、中間層が形成されていてもよい。中間層としては、以下に説明する下地層や断熱層などが挙げられる。中間層は、ゼラチンを含むことが好ましい。中間層の塗工液に占めるゼラチンの量は０．５〜１４質量％が好ましく、１〜６質量％が特に好ましい。
【００９９】
＜下地層＞
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号明細書、特許第２９２５２４４号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【０１００】
＜断熱層＞
断熱層（発泡層）は、サーマルヘッドを用いた加熱転写時における熱から支持体を保護する役割を果たす。また、高いクッション性を有するので、基材として紙を用いた場合であっても、印字感度の高い熱転写受像シートを得ることができる。
【０１０１】
断熱層は中空ポリマーを含むことが好ましい。
本発明における中空ポリマーとは、粒子内部に独立した気孔を有するポリマー粒子であり、例えば、１）ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水が入っており、塗布乾燥後、粒子内の水が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空粒子、２）ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれかまたはそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、３）上記の２）をあらかじめ過熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。
【０１０２】
これらの中空ポリマーは、中空率が２０〜７０％程度のものが好ましく、必要に応じて２種以上混合して使用することができる。前記１）の具体例としてはローアンドハース社製ローペイク１０５５、大日本インキ社製ボンコートＰＰ−１０００、ＪＳＲ社製ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製ニッポールＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。前記２）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０、Ｆ−５０（いずれも商品名）などが挙げられる。前記３）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０Ｅ、日本フェライト社製エクスパンセル４６１ＤＥ、５５１ＤＥ、５５１ＤＥ２０（いずれも商品名）が挙げられる。
【０１０３】
中空ポリマーを含む中間層中には、バインダー樹脂として水分散型樹脂または水溶解型樹脂を含有する。本発明で使用されるバインダー樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、スチレンーブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニリデン樹脂、セルロース誘導体、カゼイン、デンプン、ゼラチンなどの公知の樹脂を挙げることができる。またこれらの樹脂は単独または混合して用いることができる。
【０１０４】
中間層における中空ポリマーの固形分含有量は、バインダー樹脂の固形分含有量を１００質量部としたとき５〜２０００質量部であることが好ましい。また、中空ポリマーの固形分の塗工液に対して占める質量比は、１〜７０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。中空ポリマーの比率が少なすぎると十分な断熱性を得ることができない場合があり、中空ポリマーの比率が多すぎると中空ポリマー同士の結着力が低下し、処理中に粉落ち、または膜はがれなどの問題を生じる場合がある。
【０１０５】
中空ポリマーの粒子サイズは０．１〜２０μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましく、０．１〜１μｍが特に好ましい。また、中空ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は７０℃以上であることが好ましく、１００℃以上であることがより好ましい。
【０１０６】
また、断熱層は樹脂と発泡剤とから形成されていてもよい。断熱層の樹脂としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、変性オレフィン樹脂等公知の樹脂、あるいはそれらをブレンドしたものが使用できる。これらの樹脂を有機溶剤または水に溶解および／または分散させたものを塗工することにより断熱層を形成するが、断熱層塗工液は、発泡剤に影響を与えない水系塗工液であるのが好ましく、例えば、水溶性、水分散性、もしくはＳＢＲラテックス、ウレタン系エマルジョン、ポリエステルエマルジョン、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョン、塩化ビニルエマルジョン等のエマルジョン、またはこれらのディスパージョン等を用いることができる。発泡剤として、後述するマイクロスフェアを使用する場合には、上述の樹脂中、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョンを使用するのが好ましい。
【０１０７】
これらの樹脂は、共重合させるモノマーの種類およびその配合比を変化させることにより、ガラス転移温度や柔軟性、造膜性を容易にコントロールすることができるため、可塑剤や造膜助剤を添加しなくても所望する物性が得られる点、膜形成後の各種環境においての保存時に色の変化が少ない点、物性の経時変化が少ない点で適している。また、上述の樹脂中、ＳＢＲラテックスは、一般にガラス転移温度が低くブロッキングを起こしやすく、膜形成後や保存中に黄変が生じやすいために好ましくない。ウレタン系エマルジョンは、ＮＭＰ、ＤＭＦ等の溶剤を含むものが多く、発泡剤に悪影響を与えやすいため好ましくない。ポリエステルエマルジョンまたはディスパージョンや塩化ビニルエマルジョンは、一般にガラス転移温度が高く、マイクロスフェアの発泡性が悪くなるため好ましくない。また柔らかいものもあるが、これらは可塑剤の添加によって柔軟性を付与しているため、好ましくは使用されることがない。
【０１０８】
発泡剤の発泡性能は、樹脂の硬さに大きく影響される。発泡剤が望ましい発泡倍率まで発泡するためには、ガラス転移温度が−３０〜２０℃、または、最低造膜温度が２０℃以下のものが望ましい。ガラス転移温度が２０℃以上のものは、柔軟性が不足し発泡剤の発泡性能が低下してしまうことがある。また、ガラス転移温度が−３０℃以下のものは、粘着性に起因するブロッキング（発泡層形成後の基材を巻き取った際に発泡層と基材の裏面にて発生）を起こしたり、熱転写受像シートをカットする際に、不良（受像シートを裁断する際に、カッターの刃に発泡層の樹脂がこびりついて、外観が悪くなる、また、裁断の寸法にくるいが生じる等）が発生したりすることがある。また、最低造膜温度が２０℃以上のものは、塗工・乾燥時に造膜不良を起こし、表面のヒビ割れなどの不具合が生じることがある。
【０１０９】
発泡剤としては、加熱により分解して、酸素、炭酸ガス、窒素等のガスを発生するジニトロペンタメチレンテトラメン、ジアゾアミノベンゼン、アゾビスイソブチロニトリル、アゾジカルボアミド等の分解型発泡剤、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェア等公知の発泡剤が挙げられる。これらの中でも、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェアが好ましく使用される。これらの発泡剤は、発泡層形成後加熱により発泡し、発泡後は高いクッション性および断熱性を有する。これら発泡剤の使用量は、発泡層を形成する樹脂１００質量部当たり０．５〜１００質量部の範囲が好ましい。０．５質量部以下では、発泡層のクッション性が低く発泡層形成の効果が得られないことがある。１００質量部以上では、発泡後の中空率が大きくなりすぎ、発泡層の機械的強度が低下して、通常の取扱いに耐えられなくなることがある。また、発泡層表面が平滑さを失い、外観、印画品質に悪影響を及ぼすこともある。また発泡層全体の厚さは、３０〜１００μｍが好ましい。３０μｍ以下の場合は、クッション性や断熱性が不足することがあり、１００μｍ以上の場合は、発泡層の効果が向上せずに強度が低下してしまうことがある。また、発泡剤の粒子サイズとしては、発泡前の体積平均粒子サイズが５〜１５μｍ程度のものが好ましく、発泡後の粒子サイズが２０〜５０μｍのものがより好ましい。発泡前の体積平均粒子サイズが５μｍ以下、発泡後の粒子サイズが２０μｍ以下のものは、クッション効果が低いことがあり、発泡前の体積平均粒子サイズが１５μｍ以上、発泡後の粒子サイズが２０〜５０μｍ以上のものは、発泡層表面を凹凸にし、ひいては形成された画像の画像品質に悪影響を及ぼすことがある。
【０１１０】
発泡剤については、隔壁の軟化温度および発泡開始温度が１００℃以下、最適発泡温度（加熱時間１分間で、最も発泡倍率が高くなる温度）が１４０℃以下の低温発泡型のマイクロスフェアを用いて、発泡時の加熱条件をなるべく低いものとするのが好ましい。発泡温度の低いマイクロスフェアを用いることにより、発泡時の基材の熱シワやカールを防止することができる。この発泡温度の低いマイクロスフェアは、隔壁を形成するポリ塩化ビニリデンやポリアクリロニトリルなどの熱可塑性樹脂の配合量を調節することにより得ることができる。体積平均粒子サイズは通常５〜１５μｍである。このマイクロスフェアを用いた発泡層は、発泡により得られる気泡が独立気泡であること、加熱のみの簡単な工程で発泡すること、マイクロスフェアの配合量で発泡層の厚さが容易に制御できることなどの利点がある。
【０１１１】
しかし、このマイクロスフェアは有機溶剤に弱く、発泡層として有機溶剤を使用した塗工液を使用すると、マイクロスフェアの隔壁が侵食されてしまい、発泡性が低下してしまう。従って、上記の様なマイクロスフェアを使用した場合には、隔壁を侵すような有機溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル系、メタノール、エタノール等の低級アルコール等の有機溶剤を含まない水系の塗工液を使用するのがよい。従って水系の塗工液、具体的には、水溶性か水分散性の樹脂を使用したもの、もしくは樹脂のエマルジョン、好ましくはアクリルスチレンエマルジョンや変性酢酸ビニルエマルジョンを用いるのがよい。また、水系の塗工液にて発泡層を形成しても、助溶剤や造膜助剤、可塑剤としてＮＭＰ、ＤＭＦ、セロソルブ等の高沸点高極性溶媒を添加したものは、マイクロスフェアに影響を与えることがあるので、使用する水性樹脂の組成、高沸点溶媒添加量を把握し、マイクロカプセルに悪影響がないか確認する等の注意が必要である。
【０１１２】
中間層における前記中空ポリマーの塗布量は１〜１００ｇ／ｍ2が好ましく、５〜２０ｇ／ｍ2がより好ましい。
【０１１３】
中空ポリマーを含む中間層の厚みは５〜５０μｍであることが好ましく、５〜４０μｍであることがより好ましい。
【０１１４】
（支持体）
本発明の感熱転写受像シートの支持体には、コート紙やＷＰ紙（両面ラミネート紙）等を用いることができる。
【０１１５】
＜コート紙＞
前記コート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴムラテックスまたは高分子材料を片面または両面に塗工した紙であり、用途に応じて、塗工量が異なる。このようなコート紙としては、例えば、アート紙、キャストコート紙、ヤンキー紙等が挙げられる。
【０１１６】
前記原紙等の表面に塗工する樹脂としては、熱可塑性樹脂を使用することが適当である。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、以下の（イ）〜（チ）の熱可塑性樹脂を例示することができる。
【０１１７】
（イ）ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂や、エチレンやプロピレン等のオレフィンと、他のビニルモノマーとの共重合体樹脂や、アクリル樹脂等が挙げられる。
【０１１８】
（ロ）エステル結合を有する熱可塑性樹脂である。例えば、ジカルボン酸成分（これらのジカルボン酸成分にはスルホン酸基、カルボキシル基等が置換していてもよい）と、アルコール成分（これらのアルコール成分には水酸基などが置換されていてもよい）との縮合により得られるポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル樹脂またはポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリレート樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂、ビニルトルエンアクリレート樹脂等が挙げられる。
具体的には、特開昭５９−１０１３９５号公報、同６３−７９７１号公報、同６３−７９７２号公報、同６３−７９７３号公報、同６０−２９４８６２号公報などに記載のものを挙げることができる。
また、市販品としては、東洋紡製のバイロン２９０、バイロン２００、バイロン２８０、バイロン３００、バイロン１０３、バイロンＧＫ−１４０、バイロンＧＫ−１３０；花王製のタフトンＮＥ−３８２、タフトンＵ−５、ＡＴＲ−２００９、ＡＴＲ−２０１０；ユニチカ製のエリーテルＵＥ３５００、ＵＥ３２１０、ＸＡ−８１５３、ＫＺＡ−７０４９、ＫＺＡ−１４４９；日本合成化学製のポリエスターＴＰ−２２０、Ｒ−１８８；星光化学工業社製のハイロスシリーズの各種熱可塑性樹脂（いずれも商品名）等が挙げられる。
【０１１９】
（ハ）ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
（ニ）ポリアミド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
（ホ）ポリスルホン樹脂等が挙げられる。
【０１２０】
（ヘ）ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられる。
（ト）ポリビニルブチラール等の、ポリオール樹脂、エチルセルロース樹脂、酢酸セルロース樹脂等のセルロース樹脂等が挙げられる。
【０１２１】
（チ）ポリカプロラクトン樹脂、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
【０１２２】
なお、上記の熱可塑性樹脂は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１２３】
また、熱可塑性樹脂には、増白剤、導電剤、填料、酸化チタン、群青、カーボンブラック等の顔料や染料等を必要に応じて含有させておくことができる。
【０１２４】
＜ラミネート紙＞
前記ラミネート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴムまたは高分子シートまたはフィルム等をラミネートした紙である。前記ラミネート材料としては、例えば、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これらの樹脂は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１２５】
前記ポリオレフィンは、一般に低密度ポリエチレンを用いて形成することが多いが、支持体の耐熱性を向上させるために、ポリプロピレン、ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンド、高密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンド等を用いるのが好ましい。特に、コストや、ラミネート適性等の点から、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いるのが最も好ましい。
【０１２６】
前記高密度ポリエチレンと、前記低密度ポリエチレンとのブレンドは、例えば、ブレンド比率（質量比）１／９〜９／１で用いられる。該ブレンド比率としては、２／８〜８／２が好ましく、３／７〜７／３がより好ましい。該支持体の両面に熱可塑性樹脂層を形成する場合、支持体の裏面は、例えば、高密度ポリエチレン、或いは高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いて形成されるのが好ましい。ポリエチレンの分子量としては、特に制限はないが、メルトインデックスが、高密度ポリエチレンおよび低密度ポリエチレンのいずれについても、１．０〜４０ｇ／１０分の間のものであって、押出し適性を有するものが好ましい。
なお、これらのシートまたはフィルムには、白色反射性を与える処理を行ってもよい。このような処理方法としては、例えば、これらのシートまたはフィルム中に酸化チタンなどの顔料を配合する方法が挙げられる。
【０１２７】
前記支持体の厚みとしては、２５μｍ〜３００μｍが好ましく、５０μｍ〜２６０μｍがより好ましく、７５μｍ〜２２０μｍがさらに好ましい。該支持体の剛度としては、種々のものがその目的に応じて使用することが可能であり、写真画質の電子写真用受像シート用の支持体としては、カラー銀塩写真用の支持体に近いものが好ましい。
【０１２８】
（カール調整層）
支持体がそのまま露出していると環境中の湿度・温度により感熱転写受像シートがカールしてしまうことがあるため、支持体の裏面側にカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層は、受像シートのカールを防止するだけでなく防水の役割も果たす。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【０１２９】
（筆記層・帯電調整層）
筆記層・帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【０１３０】
（感熱転写受像シートの製造）
本発明の感熱転写受像シートは、少なくとも１層の中間層および受容層を支持体上に同時重層塗布することで形成することが好ましい。
支持体上に複数の機能の異なる複数の層（気泡層、断熱層、中間層、受容層など）からなる多層構成の受像シートを製造する場合、特開２００４−１０６２８３号、同２００４−１８１８８８号、同２００４−３４５２６７号等の各公報に示されているように各層を順次塗り重ねていくか、あらかじめ各層を支持体上に塗布したものを張り合わせることにより製造することが知られている。一方写真業界では、例えば複数の層を同時に重層塗布することにより生産性を大幅に向上させることが知られている。例えば米国特許第２，７６１，７９１号、同第２，６８１，２３４号、同第３，５０８，９４７号、同第４，４５７，２５６号、同第３，９９３，０１９号、特開昭６３−５４９７５号、特開昭６１−２７８８４８号、同５５−８６５５７号、同５２−３１７２７号、同５５−１４２５６５号、同５０−４３１４０号、同６３−８０８７２号、同５４−５４０２０号、特開平５−１０４０６１号、同５−１２７３０５号、特公昭４９−７０５０号の各公報または明細書やEdgar  B.  Gutoffら著，「Coating  and  Drying  Defects：Troubleshooting  Operating  Problems」，John  Wiley＆Sons社，1995年，101〜103頁などに記載のいわゆるスライド塗布（スライドコーティング法）、カーテン塗布（カーテンコーティング法）といわれる方法が知られている。本発明では、これらの方法を適宜選択および最適化して用いることができる。
【０１３１】
本発明においては、支持体上に形成される複数の層は樹脂を主成分として構成される。各層を形成するための塗布液は、水分散ラテックスであることが好ましい。各層の塗布液に占めるラテックス状態の樹脂の固形分質量は５〜８０％の範囲が好ましく、２０〜６０％の範囲が特に好ましい。上記水分散ラテックスに含まれる樹脂の平均粒子サイズは、好ましくは５μｍ以下であり、１μｍ以下が特に好ましい。上記水分散ラテックスは必要に応じて界面活性剤、分散剤、バインダー樹脂など公知の添加剤を含んでいてもよい。
【０１３２】
本発明では、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の方法で支持体上に複数の層の積層体を形成した後、速やかに固化させることが好ましい。一例として、樹脂により固化する多層構成の場合、支持体上に複数の層を形成した後すばやく温度を上げることが好ましい。またゼラチンなど低温でゲル化するバインダーを含む場合には支持体上に複数の層を形成した後すばやく温度を下げることが好ましい場合もある。
本発明においては多層構成を構成する１層あたりの塗布液の塗布量は、１ｇ／ｍ2〜５００ｇ／ｍ2が好ましい。多層構成の層数は２以上で任意に選択できる。受容層は支持体から最も遠く離れた層として設けられることが好ましい。
【０１３３】
熱転写画像形成の際に、上述した本発明の感熱転写受像シートと併せて使用されるインクシートは、支持体上に拡散転写染料を含む色素層を有するものであり、任意のインクシートを使用することができる。熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ2程度の熱エネルギーを付与することによって所期の目的を十分に達成することができる。
また、本発明の感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【実施例】
【０１３４】
以下に実施例と試験例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１３５】
実施例１
（ポリマーラテックスの調製）
（１−１）重合体Ｐ−１のラテックスの調製
攪拌機と還流冷却器を備えた反応器に、蒸留水を５００ｇ、モノマーＡ−４を１２０ｇ、メチルアクリレートを１７４ｇ、アクリル酸を６ｇ、サンデッドＢＬ（三洋化成（株）製）を１５ｇ、ＡＰＳ（過硫酸アンモニウム）を２．２５ｇ加えて、窒素雰囲気下で６時間７０℃に加熱して反応を完結させ、重合体Ｐ−１のラテックスを得た。質量平均分子量は３．０×１０5であった。
【０１３６】
（１−２）重合体Ｐ−６のラテックスの調製
攪拌機と還流冷却器を備えた反応器に、蒸留水を５００ｇ、モノマーＡ−８を２１０ｇ、オクチルアクリレートを９０ｇ、サンデッドＢＬを１５ｇ、ＡＰＳを２．２５ｇ加えて、窒素雰囲気下で６時間７０℃に加熱して反応を完結させ、重合体Ｐ−６のラテックスを得た。質量平均分子量は１．９×１０5であった。
【０１３７】
（１−３）重合体Ｐ−１２のラテックスの調製
攪拌機と還流冷却器を備えた反応器に、蒸留水を５００ｇ、Ａ−１６を１８０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレートを１１４ｇ、アクリル酸を６ｇ、サンデッドＢＬを１５ｇ、ＡＰＳを２．２５ｇを加えて、窒素雰囲気下で６時間７０℃に加熱して反応を完結させ、重合体Ｐ−１２のラテックスを得た。質量平均分子量は３．０×１０5であった。
【０１３８】
（１−４）重合体Ｐ−１６のラテックスの調製
攪拌機と還流冷却器を備えた反応器に、蒸留水を５００ｇ、Ａ−２６を６０ｇ、メチルメタクリレートを２４０ｇ、サンデッドＢＬを１５ｇ、ＡＰＳを２．２５ｇを加えて、窒素雰囲気下で６時間７０℃に加熱して反応を完結させ、重合体Ｐ−１６のラテックスを得た。質量平均分子量は３．０×１０5であった。
【０１３９】
（受層シートの作製）
（２−１）試料１０１（比較例）の作製
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。さらに下記組成の中間層Ａ用塗布組成物をバーコーターにより塗布し乾燥した後、引き続いて下記組成の受容層Ａをバーコーターにより塗布し乾燥させた。バーコーター塗布は４０℃で行い、各層の乾燥は５０℃で１６時間行った。それぞれの乾燥時の塗布量が中間層Ａは１．０ｇ／ｍ2、受容層Ａは３．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
＜中間層Ａ用塗布組成物＞
ポリエステル樹脂（バイロン２００、商品名、東洋紡積(株)製）  １０質量部
蛍光増白剤（Ｕｖｉｔｅｘ  ＯＢ、商品名、チバガイギー社製）    １質量部
酸化チタン                                                  ３０質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                ９０質量部
＜受容層Ａ用塗布組成物＞
塩化ビニル-酢酸ビニル樹脂                                 １００質量部
（日信化学工業 （株）社製 、商品名、ソルバインＡ）
アミノ変性シリコーン                                          ５質量部
（信越化学工業（株）社製、商品名、Ｘ−２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン
（信越化学工業（株）社製、商品名、Ｘ−２２−３００Ｅ）      ５質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）              ４００質量部
【０１４０】
（２−２）試料１０２（比較例）の作製
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、下記の中間層Ｂ用塗布組成物、受容層Ｂ用塗布組成物を支持体側からこの順に積層させた状態で重層塗布した。塗布後すぐに、５０℃で１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量が、中間層Ｂは１５ｇ／ｍ2、中間層Ａは１．０ｇ／ｍ2、受容層Ａは３．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
＜中間層Ｂ用塗布組成物＞
中空ポリマーラテックス                                    ５６３質量部
（ＭＨ５０５５、商品名、日本ゼオン(株)製）
（外径０．５μｍ中空構造ポリマーの水分散体）
ゼラチン                                                  １２０質量部
＜受容層Ｂ用塗布組成物＞
塩化ビニル系ラテックス                                      ４８質量部
（ビニブラン６０９、商品名、日信化学工業(株)製）
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）      １０質量部
【０１４１】
（２−３）試料１０３（本発明）の作製
受容層Ｂ用塗布組成物を下記の受容層Ｃ用塗布組成物に代えたこと以外は試料１０２の作製と同様にして重層塗布を行った。塗布後すぐに、５０℃で１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量が、中間層Ｂは１５ｇ／ｍ2、受容層Ｂは３．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
＜受容層Ｃ用塗布組成物＞
重合体Ｐ−１                                                ４８質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）      １０質量部
【０１４２】
（２−４）試料１０４（本発明）の作製
受容層Ｂ用塗布組成物を下記の受容層Ｄ用塗布組成物に代えたこと以外は試料１０２の作製と同様にして重層塗布を行った。塗布後すぐに、５０℃で１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量が、中間層Ｂは１５ｇ／ｍ2、受容層Ｄは３．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
＜受容層Ｄ用塗布組成物＞
重合体Ｐ−６                                                ４８質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）      １０質量部
【０１４３】
（２−５）試料１０５（本発明）の作製
受容層Ｂ用塗布組成物を下記の受容層Ｅ用塗布組成物に代えたこと以外は試料１０２の作製と同様にして重層塗布を行った。塗布後すぐに、５０℃で１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量が、中間層Ｂは１５ｇ／ｍ2、受容層Ｇは３．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
＜受容層Ｅ用塗布組成物＞
重合体Ｐ−１２                                              ４８質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）      １０質量部
【０１４４】
（２−６）試料１０６（本発明）の作製
受容層Ｂ用塗布組成物を下記の受容層Ｆ用塗布組成物に代えたこと以外は試料１０２の作製と同様にして重層塗布を行った。塗布後すぐに、５０℃で１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量が、中間層Ｂは１５ｇ／ｍ2、受容層Ｇは３．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行った。
＜受容層Ｆ用塗布組成物＞
重合体Ｐ−１６                                              ４８質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）      １０質量部
【０１４５】
試験例
（インクシートの作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、(株)東レ製）を支持体として用いた。そのフィルム背面側に耐熱スリップ層（厚み１μｍ）を形成し、かつ表面側に下記組成のイエロー塗布組成物、マゼンタ塗布組成物、シアン塗布組成物を、それぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ2）した。
＜イエロー塗布組成物＞
染料（マクロレックスイエロー６Ｇ、商品名、バイエル社製）  ５．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                  ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                ９０質量部
＜マゼンタ塗布組成物＞
マゼンタ染料（ディスパーズレッド６０）                    ５．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                  ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                ９０質量部
＜シアン塗布組成物＞
シアン染料（ディスパーズレッド６３）                      ５．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                  ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                ９０質量部
【０１４６】
（画像形成）
上で作製したインクシートおよび前記試料１０１〜１０６の受像シートを、日本電産コパル社製昇華型プリンターＤＰＢ１５００（商品名）に装填可能なように加工し、高速プリントモードで最高濃度を得られる設定で黒色ベタの画像を出力した。
【０１４７】
（評価）
（１）相対転写濃度の測定
上記の条件で得られた黒画像のVisual濃度をPhotographic  Densitometer（X-Rite  incorporated社製）で測定した。測定値は、試料１０１の転写濃度を１００としたときの相対値で表した。
【０１４８】
（２）画像欠陥の評価
上記の条件で得られた黒画像上に目視で検知できる白抜け画像欠陥の個数を測定した。直径０．５ｍｍ以上の白抜け画像欠陥の個数を数えて、１２ｃｍ×１０ｃｍサイズの画像１枚あたりの個数に基づいて下記の基準で画像欠陥を評価した。
◎：  １２ｃｍ×１０ｃｍに１個以下
○：  １２ｃｍ×１０ｃｍに２個以上１０個未満
△：  １２ｃｍ×１０ｃｍに１０個以上１００個未満
×：  １２ｃｍ×１０ｃｍに１００個以上
【０１４９】
（３）画像鮮鋭性変化の評価
受像シートを２５℃・相対湿度５０％雰囲気下に１０日間保存してから上記の画像出力を行ったときの画像（Ａ）の鮮鋭度と、受像シートを５０℃・相対湿度８０％雰囲気下に１０日間保存してから上記の画像出力を行ったときの画像（Ｂ）の鮮鋭度を比較して、出力前の保存による鮮鋭性の変化を下記の基準で評価した。
１：  ほとんど変化が見られない。
２：  僅かに変化がみられるが、実用上問題ない。
３：  変化がみられ、色滲みが発生。
【０１５０】
（結果）
上記の測定と評価の結果を、表１に示す。
【０１５１】
【表１】
0004468908.tif 000013
【０１５２】
表１の結果から明らかなように、有機溶剤系の塗布組成物を塗布した試料１０１の相対転写濃度は低く、面状欠陥が認められた。塩化ビニル系ラテックスを含む塗布組成物を塗布した試料１０２では、試料１０１に比べて相対転写濃度の向上が見られたものの、画像鮮鋭性は低下した。
一方、本発明の試料１０３〜１０６は、いずれも相対転写濃度が高く高感度であった。また、面状欠陥が少なく、画像鮮鋭性も優れていた。このように、一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーラテックスを使用することにより、高感度で面状欠陥のない感熱転写受像シートが得られることが確認された。
【０１５３】
実施例２
紫外線吸収剤ポリマーラテックスをＵＬＳ１７００からＵＬＳ１６３５ＭＨ（商品名、一方社油脂工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして６種類の試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分が同じ質量部数になる量とした。実施例１と同様にして評価したところ、一般式［１］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むポリマーラテックスを使用することにより、高感度で面状欠陥のない感熱転写受像シートが得られることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１５４】
本発明の感熱転写受像シートは、高感度で画像欠陥が少なく、鮮鋭性が高い。また、本発明の塗布組成物を用いれば、このような特徴を有する感熱転写受像シートを簡便な方法で製造することができる。したがって、本発明は産業上の利用可能性が高い。