(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる光学特性を有する２種類の誘電体薄膜がその厚さに規則性をもって交互に積層された２つの誘電体多層膜と、該２つの誘電体多層膜の間に設けた磁性体薄膜とからなる一組の１次元磁性フォトニック結晶が、光学長がλ／４＋ｍλ／２（λは光の波長、ｍは０または正の整数）である所定光学長誘電体薄膜を介して複数積層されていることを特徴とする磁気光学体。
【請求項２】
前記２種類の誘電体薄膜の光学長が、いずれもλ／４であることを特徴とする請求項１記載の磁気光学体。
【請求項３】
前記２種類の誘電体薄膜は、それぞれの屈折率が大小異なるものであり、屈折率の小さい方の誘電体薄膜が磁性体薄膜と接することを特徴とする請求項１または請求項２記載の磁気光学体。
【請求項４】
磁性体薄膜の光学長がλ／２の整数倍であることを特徴とする請求項１記載から請求項３までのいずれかに記載の磁気光学体。
【請求項５】
１次元磁性フォトニック結晶は二組設けられ、二組の１次元磁性フォトニック結晶の磁性体薄膜の光学長は、λ／２の整数倍で、かつそれぞれ異なる大きさであることを特徴とする請求項１記載から請求項３までのいずれかに記載の磁気光学体。
【請求項６】
前記２種類の誘電体薄膜は、それぞれの屈折率が大小異なるものであり、前記所定光学長誘電体は、前記２種類の誘電体薄膜のうち屈折率が小さい方の誘電体薄膜と同等の物質からなることを特徴とする請求項１記載から請求項５までのいずれかに記載の磁気光学体。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の磁気光学体を、４５°ファラデー回転子として用いることを特徴とする光アイソレータ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバ通信、光計測システム等に用いられる光アイソレータの一構成部材である４５°ファラデー回転子に用いる磁気光学体及びこの磁気光学体を用いた光アイソレータに関する。ここで、光アイソレータは、偏光子と、検光子と、ファラデー効果等の磁気光学効果を有し偏光子及び検光子の間に設けられる４５°ファラデー回転子と、４５°ファラデー回転子に磁場を印加するための磁石とから構成され、光源（半導体レーザ）からの出射光を無損失で光ファイバ等の伝送路に伝送させる一方、光ファイバ等からの反射光を遮断して光源（半導体レーザ）に戻さないようにするものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体レーザを光源にする光ファイバ通信システム、特に高速ディジタル伝送やアナログ直接変調方式による光システムにおいては、光ファイバ回路中に使用している光コネクタ接続点や光回路部品等からの反射光が半導体レーザや光増幅器に戻ってくると、周波数特性の劣化や雑音の発生のために高品質な伝送が困難となる。この反射光を除去する目的で光アイソレータが使用されている。
【０００３】
図７に光アイソレータの構造を示し、図８にその動作原理を示す。
図７及び図８において、光アイソレータ１は、一定の偏波面の光のみを通過させる一対の偏光子２Ａ及び検光子２Ｂと、偏光子２Ａ及び検光子２Ｂの間に設けられ光の偏光面を４５度回転させる４５°ファラデー回転子３と、４５°ファラデー回転子３に磁場Ｈを印加する永久磁石４とから大略構成されている。
【０００４】
図８（I）に示す順方向から入射してくる光３０１は偏光していない光であるが、偏光子２Ａを通過すると偏光子２Ａの偏光方向の成分だけの光３０２になる。次に、４５°ファラデー回転子３を通過すると偏光方向が４５度回転した光３０３となる。この４５度回転した光の偏光方向と平行になるように検光子２Ｂの偏光方向をあわせると光は損失が最小の状態で検光子２Ｂを通過していく。
一方、図８（II）のように、光ファイバなどから反射し逆方向に進んできた光３０５のうち、検光子２Ｂの偏光方向の成分３０６だけがここを通過し、４５°ファラデー回転子３に逆方向から入射する。この光はファラデー効果特有の非相反性により、順方向の場合と同じ向きにさらに４５度回転する。その結果、４５°ファラデー回転子３を通過したあとは偏光子２Ａの偏光方向と直交した光３０７となり光は遮断されて光源には戻らない。
【０００５】
光アイソレータ１の構成部材のうち、光アイソレータ１の性能に大きく影響するのは４５°ファラデー回転子３である。そして、４５°ファラデー回転子３には、偏光面を４５度回転させるのに必要な素子長が短いこと及び光透過率が大きいことが要求される。これまで、４５°ファラデー回転子３として用いられる磁気光学体の一例として、イットリウム鉄ガーネット(YIG) バルク単結晶（厚さが約２ｍｍ）からなるもの、及びイットリウムの一部を磁気光学性能指数の大きいビスマスで置換したビスマス置換希土類鉄ガーネット(BiYIG)厚膜単結晶（厚さが数百μｍ）からなるもの等がある。最近では、磁気光学体としては、光アイソレータの小型化に有利であることから、BiYIG厚膜単結晶が多く使用されている。
【０００６】
このBiYIG厚膜単結晶は、液相エピタキシャル（ＬＰＥ）成長法で作製されるが、安定した液相エピタキシャル成長を行なうには、多くの作製パラメータを正確に制御する必要があり、大面積にわたって均一な単結晶を歩留りよく成長させることが困難であった。また、結晶成長に２０時間以上を要すること、及び基板に高価な非磁性GGG（ガドリニウム・ガリウム・ガーネット）単結晶ウェーハを用いる必要があることから、低コスト化の妨げとなっていた。
【０００７】
上述したような状況で、本発明者らは、上記の液相エピタキシャル成長法で作製する磁気光学体の問題点を解決するために、光の局在による磁気光学効果（なお、前記ファラデー効果はこの磁気光学効果の一種である。）のエンハンスメントをおこす１次元磁性フォトニック結晶からなる磁気光学体（４５°ファラデー回転子）を、例えば特願平１１−２８３５１２等で提案している。そして、本発明者らが提案した上述した１次元磁性フォトニック結晶からなる磁気光学体は、数μｍ厚の多結晶体でありながら、大きなファラデー回転角を得ることができるものである。
【０００８】
なお、１次元磁性フォトニック結晶に関しては、日本応用磁気学会誌、２３、1861−1866（1999）にも述べられている。１次元磁性フォトニック結晶の構成としては、磁性体と誘電体との各層の厚さを不規則にして薄膜状に形成したものや、誘電体がその厚さに規則性を持って交互に積層された２つの誘電体多層膜と磁性体からなる不規則層（欠陥層）とを備えたものがある。
【０００９】
上記のうち、後者はファブリペロー共振器構造として古くから知られている構造と同一であり、作製が容易な膜構造でありながら大きなエンハンスメントが得られることがわかっている。この一例として図９に示す１次元磁性フォトニック結晶からなる磁気光学体１０がある。
この１次元磁性フォトニック結晶からなる磁気光学体１０は、２種類の誘電体（誘電体薄膜）１１，１２がその厚さに規則性をもって交互に積層された２つの周期的誘電体多層膜１３，１４と、該２つの周期的誘電体多層膜１３，１４の間に設けた磁気光学薄膜１５（磁性体）とからなっている。
【００１０】
周期的誘電体多層膜１３，１４は、ファブリペロー共振器の反射鏡の役割を果たすものであるが、この周期的誘電体多層膜１３，１４としては、（Ta2O5/SiO2）系が一般的であるが、（Ta2O5/SiO2）系よりも少ない積層数で大きなファラデー回転角が得られる(Si/SiO2) 系も提案されている。各誘電体（誘電体薄膜）１１，１２の膜厚は、光学長（実膜厚×屈折率）がλ／４（λは光の波長）となるように設計する必要がある。また、光の局在が生じる磁性体（磁気光学薄膜１５）からなる不規則層（欠陥層）の光学長は、ｍλ／２（ｍは正の整数）とするのが一般的である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、（Ta2O5/SiO2）系の一例である（Ta2O5/SiO2）n/BiYIG/（SiO2/Ta2O5）n構造（積層数ｎ＝６，７，８）の１次元磁性フォトニック結晶（磁気光学体１０）の光透過率とファラデー回転角の波長依存性を図１０に示す。また、(Si/SiO2) 系の一例である(Si/SiO2)n/BiYIG/(SiO2/Si)n構造（積層数ｎ＝３，４，５）の１次元磁性フォトニック結晶（磁気光学体１０）の光透過率とファラデー回転角の波長依存性を図１１に示す。光の波長は１．３μｍとし、磁気光学薄膜１５（磁性体）の光学長はλ／２とした。
【００１２】
図１０及び図１１から明らかなように、（Ta2O5/SiO2）系及び(Si/SiO2) 系のいずれの系においても、積層数ｎが大きくなるほどファラデー回転角が大きくなり、ファラデー回転角の増大に伴い光透過率が大きく低下することが分かる。光透過率が低下することは、光ファイバを伝わるレーザ光の伝送可能な距離が短くなることを意味し、システムを構築する上で、大きな障害となる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、良好な光透過率を確保できる磁気光学体及びこの磁気光学体を用いた光アイソレータを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、異なる光学特性を有する２種類の誘電体薄膜がその厚さに規則性をもって交互に積層された２つの誘電体多層膜と、該２つの誘電体多層膜の間に設けた磁性体薄膜とからなる一組の１次元磁性フォトニック結晶が、光学長がλ／４＋ｍλ／２（λは光の波長、ｍは０または正の整数）である所定光学長誘電体薄膜を介して複数積層されていることを特徴とする。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の構成において、前記２種類の誘電体薄膜の光学長が、いずれもλ／４であることを特徴とする。
請求項３記載の発明は、請求項１または請求項２記載の構成において、前記２種類の誘電体薄膜は、それぞれの屈折率が大小異なるものであり、屈折率の小さい方の誘電体薄膜が磁性体薄膜と接することを特徴とする。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項１記載から請求項３までのいずれかに記載の磁気光学体において、磁性体薄膜の光学長がλ／２の整数倍であることを特徴とする。
請求項５記載の発明は、請求項１記載から請求項３までのいずれかに記載の磁気光学体において、１次元磁性フォトニック結晶は二組設けられ、二組の１次元磁性フォトニック結晶の磁性体薄膜の光学長は、λ／２の整数倍で、かつそれぞれ異なる大きさであることを特徴とする。
請求項６記載の発明は、請求項１記載から請求項５までのいずれかに記載の磁気光学体において、前記２種類の誘電体薄膜は、それぞれの屈折率が大小異なるものであり、前記所定光学長誘電体は、前記２種類の誘電体薄膜のうち屈折率が小さい方の誘電体薄膜と同等の物質からなることを特徴とする。
【００１５】
請求項７記載の発明は、光アイソレータにおいて、請求項１から請求項６までのいずれかに記載の磁気光学体を、４５°ファラデー回転子として用いることを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の第１実施の形態に係る磁気光学体１０Ａを図１ないし図３に基づいて説明する。
この磁気光学体１０Ａは、図１に示すように、二組の１次元磁性フォトニック結晶２１，２２を有し、二組の１次元磁性フォトニック結晶２１，２２を、光学長がλ／４（λは光の波長）である低屈折率誘電体薄膜２３（所定光学長誘電体薄膜）を介して積層したものになっている。低屈折率誘電体薄膜２３は、SiO2膜（屈折率１．４１５）とされている。
以下、便宜上、適宜、二組の１次元磁性フォトニック結晶２１，２２のうち図１下側のものを第１組１次元磁性フォトニック結晶２１といい、図１上側のものを第２組１次元磁性フォトニック結晶２２という。
【００１７】
第１組１次元磁性フォトニック結晶２１は、異なる光学特性を有する２種類の誘電体薄膜〔以下、第１誘電体薄膜２４及び第２誘電体薄膜２５という。〕がその厚さに規則性をもって交互に積層された２つの周期的誘電体多層膜（誘電体多層膜）２６，２７と、該２つの周期的誘電体多層膜２６，２７の間に設けた磁気光学薄膜２８〔磁性体薄膜、ビスマス置換希土類鉄ガーネット（BiYIG）膜（屈折率２．３６）〕とからなっている。
同様に、第２組１次元磁性フォトニック結晶２２は、異なる光学特性を有する２種類の誘電体薄膜〔第１誘電体薄膜２４及び第２誘電体薄膜２５〕がその厚さに規則性をもって交互に積層された２つの周期的誘電体多層膜（誘電体多層膜）２９，３０と、該２つの周期的誘電体多層膜２９，３０の間に設けた磁気光学薄膜３１〔磁性体薄膜、ビスマス置換希土類鉄ガーネット（BiYIG）膜（屈折率２．３６）〕とからなっている。本実施の形態では、第１誘電体薄膜２４はTa2O5膜（屈折率２．１４）、第２誘電体薄膜２５は、SiO2膜（屈折率１．４１５）で構成されている。
磁気光学薄膜２８，３１の光学長はλ／２とされている。
【００１８】
より具体的には、磁気光学体１０Ａは、その膜構造が、（Ta2O5/SiO2）n/BiYIG/（SiO2/Ta2O5）n/（SiO2）/（Ta2O5/SiO2）n/BiYIG/（SiO2/Ta2O5）n（積層数ｎ＝６，７，８）とされている。
【００１９】
また、第１組、第２組１次元磁性フォトニック結晶２１，２２がファブリペロー共振器構造をなしており、それぞれ（Ta2O5/SiO2）n/BiYIG/（SiO2/Ta2O5）n構造〔Ｓ．Ｈ．Ｗ（Single Half Wave）構造という。〕とされている。そして、この磁気光学体１０Ａは、第１組、第２組１次元磁性フォトニック結晶２１，２２を、低屈折率誘電体薄膜２３（SiO2膜）を介して積層した構造(以下、Ｄ．Ｈ．Ｗ（Double Half Wave）構造という。〕になっている。
【００２０】
第１組１次元磁性フォトニック結晶２１の２つの周期的誘電体多層膜２６，２７のうち、図１下側のものを第１組下側の周期的誘電体多層膜２６〔（Ta2O5/SiO2）n膜〕といい、図１上側のものを第１組上側の周期的誘電体多層膜２７〔（SiO2/Ta2O5）n膜〕という。
また、第２組１次元磁性フォトニック結晶２２の２つの周期的誘電体多層膜２９，３０のうち、図１下側のものを第２組下側の周期的誘電体多層膜２９〔（Ta2O5/SiO2）n膜〕といい、図１上側のものを第２組上側の周期的誘電体多層膜３０〔（SiO2/Ta2O5）n膜〕という。
【００２１】
本実施の形態では、第１組下側の周期的誘電体多層膜２６の第１誘電体薄膜２４（Ta2O5薄膜）及び第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）の膜厚（光学長）をλ／４とし、第１組上側の周期的誘電体多層膜２７の第１誘電体薄膜２４（Ta2O5薄膜）及び第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）の膜厚（光学長）をλ／４とし、第２組下側の周期的誘電体多層膜２９の第１誘電体薄膜２４（Ta2O5薄膜）及び第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）の膜厚（光学長）をλ／４とし、また、第２組上側の周期的誘電体多層膜３０の第１誘電体薄膜２４（Ta2O5薄膜）及び第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）の膜厚（光学長）をλ／４としている。このように第１誘電体薄膜２４及び第２誘電体薄膜２５の膜厚（光学長）をλ／４とすることにより、大きなファラデー回転角を得ることができるようにしている。
【００２２】
また、第１組１次元磁性フォトニック結晶２１において、磁気光学薄膜２８に対し第１組下側の周期的誘電体多層膜２６が接しているが、磁気光学薄膜２８に接しているのは、第１組下側の周期的誘電体多層膜２６を構成する第１誘電体薄膜２４及び第２誘電体薄膜２５のうち屈折率が小さい方の第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）になっている。同様に、第１組上側の周期的誘電体多層膜２７についても、屈折率が小さい方の第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）が磁気光学薄膜２８に接している。
また、同様に、第２組下側及び第２組上側の周期的誘電体多層膜２９，３０についても、屈折率が小さい方の第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）が磁気光学薄膜３１に接している。
【００２３】
このように構成したＤ．Ｈ．Ｗ構造の磁気光学体１０Ａの光透過率及びファラデー回転角の積層数依存性を調べたところ図２に示す結果が得られた。
そして、磁気光学体１０Ａのファラデー回転角について、図１０に示すＳ．Ｈ．Ｗ構造の磁気光学体のファラデー回転角と比較すると、全ての積層数（積層数ｎ＝６，７，８）でファラデー回転角が向上していることがわかる。このようにファラデー回転角が向上することは、磁気光学薄膜２８（BiYIG膜）が２倍存在してその総計の膜厚が２倍になっていることからである。
【００２４】
上述したように、第１組及び第２組１次元磁性フォトニック結晶２１，２２が、光学長がλ／４（λは光の波長）である低屈折率誘電体薄膜２３（所定光学長誘電体薄膜）を介して積層されて構成される本実施の形態では、図２に示されるように、光透過率を低下させることなく大きなファラデー回転角を得ることができる。
【００２５】
ここで、注目すべきことは、積層数ｎが８である場合に、Ｓ．Ｈ．Ｗ構造の磁気光学体では、８０％であった光透過率が、Ｄ．Ｈ．Ｗ構造とすることによりほぼ１００％まで向上している点である。本来ならば、２つのファブリペロー共振器をディスクリートに２つ接続した場合には、その光透過率は１つのファブリペロー共振器の光透過率をＴ（Ｔ＜１）とすると、Ｔ2となる。
【００２６】
Ｔは１以下であるから、ファブリペロー共振器を２つ縦列接続した場合には、光透過率はファブリペロー共振器が１つである場合に比して低下するはずであるが、逆に光透過率が大きくなった。この特異な現象のメカニズムはまだ十分には解明されていないが、２つのファブリペロー共振器をつなぎ合わせるλ／４厚さのSiO2膜（所定光学長誘電体薄膜、低屈折率誘電体薄膜２３）の存在が透過特性に大きな影響を及ぼしていると推測される。なお、所定光学長誘電体薄膜の光学長を３λ／４（＝λ／４＋λ／２）としても同様の効果が得られた。
【００２７】
本実施の形態では、磁気光学薄膜２８，３１の光学長はλ／２とされているが、λ／２の整数倍（１を除く）となるように構成してもよい。このように、磁気光学薄膜２８，３１の光学長について、本実施の形態のλ／２を含め、λ／２の整数倍となるように構成することにより、光の局在を得ることが可能となる。
【００２８】
本実施の形態では、上述したように第１組下側、第１組上側、第２組下側及び第２組上側の周期的誘電体多層膜２６，２７，２９，３０の第１誘電体薄膜２４（Ta2O5薄膜）及び第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）の膜厚（光学長）をそれぞれλ／４としている。このように構成することにより、作製しやすくなり、生産性の向上を図ることができる。
【００２９】
上述した磁気光学体１０Ａの製造法を図３に基づいて説明する。
透光性に優れ光学研磨された基板４０に、高屈折率を持つλ／４の厚みの第１誘電体薄膜２４（Ta2O5薄膜）を形成し（ステップS1）、次に低屈折率を持つλ／４の厚みの第２誘電体薄膜２５（SiO2薄膜）を形成する(ステップS2)。この工程(ステップS1及びステップS2)をｎ回繰返して第１組下側の周期的誘電体多層膜２６〔（Ta2O5/SiO2）n膜〕を得る。この成膜方法としては、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ（化学的気相成長法）等の薄膜作製技術を適用できる。なお、成膜に際し、各膜の光学長が正確にλ／４となるように十分に制御する必要がある。
【００３０】
次に、第１組下側の周期的誘電体多層膜２６〔（Ta2O5/SiO2）多層膜〕の上にBiYIG膜（磁気光学薄膜２８）を所定膜厚〔光学長がλ／２となる膜厚〕形成する（ステップS3）。
BiYIG膜（磁気光学薄膜２８）は、成膜直後はアモルファス構造をなして磁性を持たないため、高温熱処理して結晶化する必要がある。このため、ステップS3に続いて、BiYIG膜（磁気光学薄膜２８）に対して高温熱処理して結晶化する（ステップS4）。この熱処理は、２種類の誘電体〔（Ta2O5薄膜）及び（SiO2薄膜）〕の組合せと熱処理温度によっては通常の電気炉によって行なうこともできるし、多層膜の周期構造の乱れが問題となる場合には、本発明者らが考案した赤外線ビーム加熱装置（特願平１１−２８３５１２）を用いればよい。
【００３１】
次に、磁気光学薄膜２８上に所定の積層数を有するもう一方の反射鏡をなす第１組上側の周期的誘電体多層膜２７〔（SiO2/ Ta2O5）n多層膜〕を形成し、これにより基板４０側に形成された第１組下側の周期的誘電体多層膜２６〔（Ta2O5/ SiO2）n多層膜〕及び磁気光学薄膜２８とともに第１組１次元磁性フォトニック結晶２１を形成する（ステップS5及びステップS6）。ステップS5及びステップS6では、磁気光学薄膜２８上に、図１に示すように、SiO2膜（第２誘電体薄膜２５）、Ta2O5膜（第１誘電体薄膜２４）の順に交互に積層される。
【００３２】
前記ステップS6に続いて、低屈折率誘電体薄膜２３（SiO2膜）をその光学長がλ／４となるように形成する（ステップS7）。この場合、低屈折率誘電体薄膜２３は、第１組上側の周期的誘電体多層膜２７〔（SiO2/ Ta2O5）n多層膜〕の最終層をなす第１誘電体薄膜２４〔Ta2O5膜〕よりも屈折率の小さいもの、すなわちSiO2膜〔第２誘電体薄膜２５〕にしている。なお、本実施の形態では、低屈折率誘電体薄膜２３は、周期的誘電体多層膜を構成するSiO2膜〔第２誘電体薄膜２５〕、Ta2O5膜〔第１誘電体薄膜２４〕のうち屈折率が低い方のSiO2膜〔第２誘電体薄膜２５〕と一致した素材となっており、作業性の向上を図ることができる。なお、このように両者を一致させなくてもよい。
【００３３】
続いて、これまで述べた手順に従い、順次、第２組下側の周期的誘電体多層膜２９〔（Ta2O5/SiO2）n多層膜〕の形成、ファラデー効果を有する磁気光学薄膜２８の形成、磁気光学薄膜２８の熱処理、第２組上側の周期的誘電体多層膜３０〔（SiO2/Ta2O5）n多層膜〕の形成を繰り返すことにより第２組１次元磁性フォトニック結晶２２を得、前記第１組１次元磁性フォトニック結晶２１及び低屈折率誘電体薄膜２３を含んで構成されるＤ．Ｈ．Ｗ構造の１次元磁性フォトニック結晶が完成する。
【００３４】
この場合、ファブリペロー共振気構造をなす多層膜を積層するために、上述したように、第１組１次元磁性フォトニック結晶２１に光学長λ／４の低屈折率誘電体薄膜２３を介して第２組１次元磁性フォトニック結晶２２を積層するようにしている。
【００３５】
上述したようにＤ．Ｈ．Ｗ構造の１次元磁性フォトニック結晶を作製した後、必要に応じて基板４０の多層膜が形成されていない側（図１下側）に無反射コーティングを施し、ダイシングマシンなどを用いて所定の大きさに成形することにより磁気光学体１０Ａ（４５°ファラデー回転子）を完成する。
【００３６】
次に、本発明の第２実施の形態に係る磁気光学体１０Ｂを図４及び図５に基づき、図１を参照して説明する。
この磁気光学体１０Ｂは、(Si/SiO2)n/BiYIG/(SiO2/Si)n/（SiO2）/(Si/SiO2)n /BiYIG/(SiO2/Si)n構造（積層数ｎ＝３，４，５）となっている．そして、ファブリペロー共振器構造をなす周期的誘電体多層膜〔(Si/SiO2)n/BiYIG/(SiO2/Si)n〕を二組、光学長λ／４であるSiO2膜（所定光学長誘電体薄膜）を介して積層したＤ．Ｈ．Ｗ構造になっている。
【００３７】
すなわち、この第２実施の形態に係る磁気光学体１０Ｂでは、第１組１次元磁性フォトニック結晶２１は、(Si/SiO2)n/BiYIG/(SiO2/Si)n構造で、第２組１次元磁性フォトニック結晶２２は、(Si/SiO2)n/BiYIG/(SiO2/Si)n構造とされている。
また、第１組下側の周期的誘電体多層膜２６は、(Si/SiO2)n膜で、第１組上側の周期的誘電体多層膜２７は、(SiO2/Si)n膜で、第２組下側の周期的誘電体多層膜２９は、(Si/SiO2)n膜で、第２組上側の周期的誘電体多層膜３０は、(SiO2/Si)n膜とされている。
【００３８】
また、周期的誘電体多層膜を構成するSiO2膜は、屈折率が１．４１５とされ、Si膜は、屈折率が３．１１とされている。
また、磁気光学薄膜２８は、ビスマス置換希土類鉄ガーネットBiYIG膜（屈折率２．３６）で構成され、その光学長はλ／２とされている。
【００３９】
このように構成したＤ．Ｈ．Ｗ構造の磁気光学体１０Ｂについて、その光透過率及びファラデー回転角の積層数依存性を調べたところ、図５に示す結果が得られた。
そして、磁気光学体１０Ｂの光透過率及びファラデー回転角について、図１１に示すＳ．Ｈ．Ｗ構造の磁気光学体のファラデー回転角と比較すると、積層数ｎが４の場合に、光透過率及びファラデー回転角が向上していることがわかる。
【００４０】
この第２実施の形態に係る磁気光学体１０Ｂに対して、２つ設けられている磁気光学薄膜２８のうち一方の磁気光学薄膜２８〔例えば第１組１次元磁性フォトニック結晶２１の磁気光学薄膜２８。BiYIG 薄膜〕の光学膜厚をλ／２とし、もう一方の磁気光学薄膜３１〔第２組１次元磁性フォトニック結晶２２の磁気光学薄膜３１。BiYIG 薄膜〕の光学膜厚をλとして、さらに光学的特性を調べた。この結果、光透過率を９０％以上に保ったままでファラデー回転角を３割大きくできることがわかった。そして、このように、第１組１次元磁性フォトニック結晶２１の磁気光学薄膜２８の光学膜厚と第２組１次元磁性フォトニック結晶２２の磁気光学薄膜３１の光学膜厚を異なる大きさにすることにより、光透過率を大きい値に保ったままでファラデー回転角を向上できることを確認することができた。
【００４１】
なお、この第２実施の形態の磁気光学体１０Ｂも、前記第１実施の形態に係る磁気光学体１０Ａと同様に、図３に示すようにして製造される。
【００４２】
また、前記第１実施の形態に係る磁気光学体１０Ａを用いて、図６に示すように光アイソレータ１Ａ（第３実施の形態）を構成することができる。
図６に示す光アイソレータ１Ａは、一定の偏波面の光のみを通過させる一対の偏光子２Ａ及び検光子２Ｂと、偏光子２Ａ及び検光子２Ｂの間に設けられ光の偏光面を４５度回転させる磁気光学体１０Ａ（４５°ファラデー回転子）と、磁気光学体１０Ａに磁場Ｈを印加する永久磁石４とから大略構成されており、光源（半導体レーザ）からの出射光を無損失で光ファイバ等の伝送路に伝送させる一方、光ファイバ等からの反射光を遮断して光源（半導体レーザ）に戻さないようにしている。
【００４３】
この第３実施の形態では、光アイソレータ１Ａに一般に用いられる４５°ファラデー回転子として、前記第１実施の形態に係る磁気光学体１０Ａを用いている。
【００４４】
この第３実施の形態の光アイソレータ１Ａでは、上述したように良好な光透過率及びファラデー効果を有する磁気光学体１０Ａを４５°ファラデー回転子として用いているので、伝送路からの反射光の遮断などその特性の向上を図ることができる。
【００４５】
【発明の効果】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の発明によれば、磁性体薄膜を有する一組の１次元磁性フォトニック結晶が、光学長がλ／４＋ｍλ／２（λは光の波長、ｍは０または正の整数）である所定光学長誘電体薄膜を介して複数積層されており、磁性体薄膜が複数存在してその膜厚が厚くなっているので、ファラデー回転角が大きくなるとともに、複数組（例えば２組）の１次元磁性フォトニック結晶をつなぎ合わせる（λ／４＋ｍλ／２）厚さの所定光学長誘電体薄膜が存在することから、大きな光透過率を得ることができる。
【００４６】
請求項２記載の発明によれば、２種類の誘電体薄膜の光学長が、いずれもλ／４であるので、大きなファラデー回転角を得ることができる。
請求項５記載の発明によれば、二組の１次元磁性フォトニック結晶の磁性体薄膜の光学長は、λ／２の整数倍で、かつそれぞれ異なる大きさであることから、光の局在を得ることが可能となるとともに、光透過率を大きい値に保ったままでファラデー回転角を向上できる。
請求項７記載の発明は、上述したように構成した良好な光透過率及びファラデー効果を有する磁気光学体を４５°ファラデー回転子として用いた光アイソレータであるから、伝送路からの反射光の遮断などその特性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態に係る磁気光学体を模式的に示す断面図である。
【図２】図１の磁気光学体の光透過率及びファラデー回転角を示す図である。
【図３】図１の磁気光学体の製造方法を示す図である。
【図４】本発明の第２実施の形態に係る磁気光学体を模式的に示す断面図である。
【図５】図４の磁気光学体の光透過率及びファラデー回転角を示す図である。
【図６】本発明の第３実施の形態に係る光アイソレータを模式的に示す断面図である。
【図７】従来の光アイソレータの一例を示す図である。
【図８】光アイソレータの動作原理を示す図である。
【図９】従来の磁気光学体の構造を模式的に示す断面図である。
【図１０】（Ta2O5/SiO2）系の磁気光学体の従来の一例における光透過率とファラデー回転角を示す図である。
【図１１】  (Si/SiO2) 系の磁気光学体の従来の他の例における光透過率とファラデー回転角を示す図である。
【符号の説明】
１Ａ      光アイソレータ
１０Ａ    磁気光学体
２１    第１組１次元磁性フォトニック結晶
２２    第２組１次元磁性フォトニック結晶
２３    低屈折率誘電体薄膜（所定光学長誘電体薄膜）
２４    第１誘電体薄膜（誘電体薄膜）
２５    第２誘電体薄膜（誘電体薄膜）
２６，２７，２９，３０    周期的誘電体多層膜
２８，３１    磁気光学薄膜
【図１】
0004521609.tif 000002
【図２】
0004521609.tif 000003
【図３】
0004521609.tif 000004
【図４】
0004521609.tif 000005
【図５】
0004521609.tif 000006
【図６】
0004521609.tif 000007
【図７】
0004521609.tif 000008
【図８】
0004521609.tif 000009
【図９】
0004521609.tif 000010
【図１０】
0004521609.tif 000011
【図１１】
0004521609.tif 000012