(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体及び該基体上の画像形成可能層を含む画像形成可能要素であって、
前記画像形成可能層が、画像形成可能な組成物及び該画像形成可能層の重量に基づいて０．１ｗｔ％〜２ｗｔ％のケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有し、
前記ケイ酸塩コーティングポリマー粒子が、１μｍ〜２０μｍの直径を有し、そして
前記画像形成可能要素が、光熱変換材料を含有する、画像形成可能要素。
【請求項２】
前記画像形成可能層が、該画像形成可能層の厚さの３〜６倍の間の直径を有するケイ酸塩コーティングポリマー粒子を１ｍｍ2あたり１０個〜５００個有する、請求項１に記載の画像形成可能要素。
【請求項３】
前記ケイ酸塩コーティングポリマー粒子が、３μｍ〜１０μｍの直径を有する、請求項１又は２に記載の画像形成可能要素。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像形成可能要素を、フォトマスクを使用せずに画像形成し、前記画像形成可能要素中に画像形成された領域及び相補的に画像形成されてない領域を形成する工程；及び
前記画像形成可能要素を現像液で現像し、前記画像形成された領域又は前記画像形成されてない領域のいずれかを除去する工程を含む、画像形成方法。
【請求項５】
スタックが、２０及び１０００個の間の請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像形成可能要素を含み、各画像形成可能要素の前記画像形成可能層が、前記スタック中の連続する各画像形成可能要素の前記基体と直接接している、画像形成可能要素のスタック。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平版印刷版前駆体として有用な画像形成可能要素に関する。具体例には、本発明は、画像形成可能層中にケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有する画像形成可能要素に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷では、画像領域として知られるインキ受容領域を親水性表面上に作成する。表面を水で湿らせ、インキを塗布すると、親水性領域は水を保持し、インキをはじき、インキ受容領域はインキを受け入れ、水をはじく。インキは、画像が再現される材料の表面に移る。典型的には、インキは介在するブランケットにまず移り、次いで該ブランケットが画像が再現される材料の表面にインキを移す。
【０００３】
平版印刷版として有用な画像形成可能要素（印刷版前駆体とも呼ばれる）は、典型的には、基体の親水性表面上に塗布される画像形成可能層を含む。画像形成可能層は、典型的には、好適な結合剤に分散することができる１つ以上の放射線感受性成分を含有する。あるいは、放射線感受性成分は結合剤材料であることもできる。画像形成後、画像形成可能層の画像形成された領域が現像プロセスで除去され基体の下に在る親水性表面を暴露する場合、印刷版前駆体はポジ型である。逆に、画像形成されてない領域が現像プロセスによって除去される場合、印刷版前駆体はネガ型である。各例において、残存する画像形成可能層の領域（すなわち、画像領域）はインキ受容性であり、現像プロセスによって暴露する親水性表面の領域は水及び水溶液、典型的には湿し水を受け入れ、インキをはじく。
【０００４】
印刷版前駆体は、使用前において、出荷及び保管の際に互いの上部に通常積み重ねられる。隣接する複数の前駆体はその間に、画像形成可能要素の表面と密接に接触して、前駆体がくっ付いて貼り合わさってしまうのを妨げる保護用間紙又はいくつかの他のタイプの差し込み紙を有する。この間紙は、画像形成前に画像形成可能層から除去される。
【０００５】
フォトマスクを通した露光によって画像形成される画像形成可能要素は、典型的には、画像形成の際にフォトマスクが画像形成可能要素にくっ付くのを妨げるために表面上に艶消層を有する。この艶消層は、間紙が間紙自動放出機械によって容易に放出することができるように、間紙が画像形成可能要素に強くくっ付きすぎることも妨げる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
フォトマスクを介した画像形成の必要性を不要にする印刷版前駆体のダイレクトデジタル画像形成は、印刷産業においてますます重要になっている。これらの画像形成可能要素はフォトマスクなしで画像形成されるので、画像形成可能層は艶消層を有さず、したがって画像形成可能層上に間紙を直接置かなければならないであろう。しかしながら、間紙を画像形成可能層上に置いた場合、画像形成可能層と間紙との間の接触領域はより大きくなり、シートが互いにくっ付いてしまう。間紙と画像形成可能層とが互いにくっ付くと、間紙自動放出機械でペーパージャムなどの問題が生じて間紙を間紙自動放出機械によって放出することが困難になる。しかしながら、間紙を省いた場合には、印刷版前駆体は互いにくっ付きがちであり、したがって、自動現像処理装置によって容易に扱うことができない。
【０００７】
したがって、自動現像処理装置によって容易に扱うことができるように、間紙を必要とせず、間紙を省いたときでも互いにくっ付かない平版印刷版前駆体として有用な画像形成可能要素が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
一態様では、本発明は、平版印刷版前駆体として有用な画像形成可能要素である。該要素は、基体及び該基体上に画像形成可能層を含み、画像形成可能層は画像形成可能な組成物及び画像形成可能層の重量に基づいて約０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％のケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有し、ケイ酸塩コーティングポリマー粒子は約１μｍ〜約２０μｍの直径を有し、画像形成可能要素は光熱変換材料を含有する。
【０００９】
別の態様では、本発明は、フォトマスクを使用せずに画像形成可能要素を画像形成し、画像形成可能要素中に画像形成された領域及び相補的画像形成されてない領域を形成する工程；及び画像形成可能要素を現像液で現像し、画像形成された領域又は画像形成されてない領域のいずれかを除去する工程を含む（ここで、画像形成可能要素は基体上に画像形成可能層を含み、画像形成可能層は画像形成可能な組成物及び画像形成可能層の重量に基づいて約０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％のケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有し、ケイ酸塩コーティングポリマー粒子は約１μｍ〜約２０μｍの直径を有する）、画像形成方法である。
【００１０】
別の態様では、本発明は、画像形成可能要素が各基体上に画像形成可能層を含み、画像形成可能層が画像形成可能な組成物及び画像形成可能層の重量に基づいて約０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％のケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有し、ケイ酸塩コーティングポリマー粒子が約１μｍ〜約２０μｍの直径を有し、スタックが、２０及び１０００個の間の画像形成可能要素を含み、各画像形成可能要素の画像形成可能層が、スタック中の連続する各画像形成可能要素の基体と直接接している、画像形成可能要素のスタックである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本明細書及び特許請求の範囲中において文脈で別に示さない限り、用語「ポリマー粒子」、「フェノール性ポリマー」、及び同様の用語は、そのような材料の混合物を包含する。特に断らない限り、パーセンテージはすべて、重量によるパーセンテージである。ポリマー粒子は、ポリスチレン、架橋ポリスチレン、ポリ（メタクリル酸メチル）、架橋ポリ（メタクリル酸メチル）、アクリレート及び／もしくはメタクリレートポリマー並びにコポリマーなどの有機ポリマーの粒子又はビーズをいう。
【００１２】
画像形成可能要素は、基体の表面上に画像形成可能層を含む。画像形成可能層は、画像形成可能な組成物及びケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有する。
【００１３】
画像形成可能層中のポリマー粒子の存在により、画像形成可能要素の搬送特性が向上する。画像形成可能層がポリマー粒子を含有する場合、間紙なしで積み重ねられても要素は互いにくっ付かない。画像形成可能要素が自動現像処理装置によって扱われる場合、一度にたった１つの画像形成可能要素だけが持ち上げられる。
【００１４】
しかしながら、画像形成可能要素を画像形成し、現像処理し、平版印刷版として用いる場合、ポリマー粒子の存在によりブランケット堆積が起きる場合がある。ブランケット堆積（印刷版の非画像（すなわち、非印刷）領域内でブランケット上にインキが蓄積すること）により、印刷材料の背景領域中に地汚れ（toning)が起きる場合がある。さらに、堆積問題があると、ブランケットの洗浄のために印刷機をより頻繁に停止する必要がある。コーティングされていないポリマー粒子が画像形成可能層に存在する場合にはブランケット堆積が発生するが、ケイ酸塩コーティングポリマー粒子が画像形成可能層に存在する場合にはブランケット堆積は起こらない。
【００１５】
ケイ酸塩コーティングポリマー粒子が小さすぎる場合、搬送性の向上におけるそれらの有効性は減少する。ケイ酸塩コーティングポリマー粒子が大きすぎる場合、画像分解能に悪影響を与える。ケイ酸塩コーティングポリマー粒子は、典型的には約１μｍ〜約２０μｍ、好ましくは約３μｍ〜約１０μｍ、より好ましくは約５μｍ〜約８μｍの直径を有する。好ましいケイ酸塩コーティングポリマー粒子直径は、画像形成可能層の厚さの約３〜約６倍の間である。
【００１６】
一般に、ケイ酸塩コーティングポリマー粒子は、画像形成可能層の重量に基づいて画像形成可能層の約０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％、典型的には約０．１ｗｔ％〜約２ｗｔ％、より典型的には約０．２ｗｔ％〜約１ｗｔ％を含有する。しかしながら、画像形成可能層に存在するケイ酸塩コーティングポリマー粒子の量は、典型的には、粒子サイズ及び画像形成可能層の厚さに依存する。画像形成可能層は、画像形成可能層１ｍｍ2あたり約１０個〜約５００個を含有することが好ましく、約２０個〜約２００個のケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有することがより好ましい。
【００１７】
ケイ酸塩コーティングポリマー粒子の調製方法は当業者に周知である。例えば、好適なサイズのポリマー粒子をコロイド状シリカ粒子の流動床又は加熱された移動式若しくは回転式流動床に通すことができ、床の温度は高分子粒子表面を軟化させる温度であり、それによってコロイド状シリカ粒子をポリマー粒子表面に接着させる。コロイド状シリカの層によって取り囲まれるポリマー粒子の調製に好適な別の技法は、好適な溶媒中の高分子材料の溶液から粒子を噴霧乾燥し、次いでコロイド状シリカの層による粒子のコーティングが起こるコロイド状シリカの帯域にポリマー粒子をポリマー粒子が完全に凝固する前に通すことである。
【００１８】
限定凝集によるケイ酸塩コーティングポリマー粒子の調製には、「懸濁重合」技法及び「ポリマー懸濁」技法が含まれる。「懸濁重合」技法では、付加重合可能なモノマー又は付加重合可能なモノマーの混合物をコロイド状シリカの粒状懸濁物を含有する水性媒体に添加し、連続（水）相中に不連続（油滴）相を形成する。攪拌、ホモジネートなどによって混合物に剪断力を施し、小滴のサイズを小さくする。剪断を停止した後、小滴表面を被覆するコロイド状シリカ安定剤の定化作用に因り、油滴は平衡サイズに到達する。重合を完了して、ポリマー粒子上にコロイド状シリカの均一な層を有するポリマー粒子の水性懸濁液が水相中に形成される。このプロセスは、Wiley、米国特許第２，９３２，６２９号；Bayley、米国特許第４，１４８，７４１号、及びWernli、米国特許第４，２４８，７４１号に記載されている。
【００１９】
ポリマー粒子は、例えば、慣用的なラジカル重合開始剤を付加重合可能なモノマー又は付加重合可能なモノマーの混合物に有機溶媒中で添加し、続いて熱重合することによって生成することができる。典型的な付加重合可能なモノマーは、アクリル酸；メタクリル酸；アクリル酸及びメタクリル酸メチル、アクリル酸及びメタクリル酸エチル、アクリル酸及びメタクリル酸プロピル、アクリル酸及びメタクリル酸ブチル、２−エチルヘキシルアクリレート及びメタクリレート、アクリル酸及びメタクリル酸オクチル、及び２−ヒドロキシエチルアクリレート及びメタクリレートなどのアクリレート類及びメタクリレート類；ビニルナフタレン；安息香酸ビニル；酢酸ビニル；ビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル、及びビニルエチルエーテルなどのビニルエーテル類；アルファメチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ｐ−クロロスチレンなどのスチレン類；並びにスチレンである。
【００２０】
架橋モノマー又は架橋モノマーの混合物も、ポリマーを架橋するために存在してもよい。存在する場合、典型的には約０．５ｗｔ％〜５０ｗｔ％、より典型的には約２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％の架橋モノマー又は架橋モノマーの混合物がモノマー混合物に存在する。典型的な架橋モノマーは、エチレングリコールジアクリレート及びジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート及びジメタクリレート、ジビニルエーテル、並びにジビニルベンゼンである。典型的な熱開始剤は、過硫酸塩；過酸化ジベンゾイルなどの過酸化物；及びアゾ−ビス−イソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）などのアゾ化合物である。
【００２１】
「ポリマー懸濁」技法では、好適なポリマーを溶媒に溶解し、安定剤としてコロイド状シリカを含有する水性溶液中にこの溶液を水不混和性の微小液滴として分散する。典型的には、この技法において用いられるポリマーは架橋されていない。平衡に到達し、蒸発又は他の好適な技法によって液滴から溶媒を除去して、コロイド状シリカゲルの均一なコーティングを粒子上に有する高分子粒子を生成する。このプロセスは、Nair、米国特許第４，８３３，０６０号に記載されている。有用な溶媒は、ポリマーを溶解し、水と不混和性であり、かつ、例えば、塩化メチレン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、トリクロロメタン、塩化エチレン、トリクロロエタン、シクロヘキサノン、トルエン、及びキシレンなどのポリマー小滴から容易に除去される溶媒である。特に有用な溶媒は塩化メチレンであるが、その理由は、それが多くのポリマーに良好な溶媒であり、水と不混和性であり、蒸発によって容易に除去することができるためである。
【００２２】
成分の量及びそれらの相互の相対関係は、広範に変わることができる。しかしながら、典型的には、溶媒に対するポリマーの比は、ポリマーと溶媒とを合わせた重量の約１〜約８０重量％であるのがよい。ポリマーと溶媒とを合わせた重量は、添加した水の約２５〜約５０重量％であるのがよい。コロイド状シリカのサイズ及び量は、コロイド状シリカの粒子のサイズ及び所望のポリマー小滴粒子のサイズに依存する。したがって、ポリマー／溶媒小滴のサイズは高剪断攪拌によって小さくなると、固体コロイドの量は、小滴の制御されない凝集を妨げ、得られたポリマー粒子の均一なサイズ及び狭いサイズ分布を達成するように変動する。
【００２３】
画像形成可能な組成物は、ポジ型又はネガ型であることができ、光画像形成可能である（すなわち、適当なレーザー又はデジタル光プロセッサーによる露光による紫外線及び／又は可視光線によって画像形成可能である）ことができ、あるいは感熱画像形成可能である（すなわち、赤外線によってあるいはサーマルヘッド又はサーマルヘッドのアレイによるなどの熱体によって画像形成可能である）ことができる。画像形成可能層は基体上に存在することができ、あるいは下引き層又は吸収層などの他の層が画像形成可能層と基体との間に存在してもよい。典型的には、画像形成可能層の上に層はない。したがって、間紙が介在することなく第１の画像形成可能要素上に第２の画像形成可能要素が積み重ねられると、第１の画像形成可能要素の画像形成可能層の表面は第２の画像形成可能要素の基体の表面と接する。
【００２４】
赤外線で画像形成される要素は、光熱変換材料を含有する。下引き層を含まない要素では、光熱変換材料は、画像形成可能層中及び／又は画像形成可能層と基体との間の別個の吸収層中にある。下引き層も含む要素では、光熱変換材料は、画像形成可能層中、及び／又は下引き層中、及び／又は画像形成可能層と下引き層との間の別個の吸収層中にあることができる。
【００２５】
光熱変換材料は放射線を吸収し、それを熱に変換する。光熱変換材料は、紫外線、可視光、及び／又は赤外線を吸収し、それを熱に変換することができる。下引き層中の高分子材料はそれ自体で吸収部分、すなわち、光熱変換材料を含むことができるが、典型的には、光熱変換材料は別個の化合物である。
【００２６】
画像形成放射線吸収剤は、スクワリリム、メロシアニン、インドリジン、ピリリウム、又は金属ジチオレンクラスの染料又は顔料などの、染料又は顔料であることができる。吸収顔料の例は、プロジェクト９００、プロジェクト８６０、及びプロジェクト８３０（ゼネカ社（Zeneca Corporation）からすべて市販されている）、及びカーボンブラックである。染料、特に７５０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲で高い吸光係数を有する染料が好ましい。吸収染料は、多数の公報、例えば、Nagasaka、欧州特許第０，８２３，３２７号；DeBoer、米国特許第４，９７３，５７２号；Jandrue、米国特許第５，２４４，７７１号；及びChapman、米国特許第５，４０１，６１８号に開示されている。有用な吸収染料の例には、ＡＤＳ−８３０Ａ及びＡＤＳ−１０６４（アメリカン・ダイ・ソース社（American Dye Source）、モントリオール、カナダ）、ＥＣ２１１７（ＦＥＷ、ウォルフェン、ドイツ）、シアソーブ（Cyasorb）ＩＲ９９及びシアソーブ（Cyasorb）ＩＲ１６５（グレンダール・プロジェクティブ・テクノロジー社（Glendale Protective Technology）、エポライト（Epolite）ＩＶ−６２Ｂ及びエポライト（Epolite）１１１−１７８（エポリン社（Epoline））、ＰＩＮＡ−７８０（アライド・シグナル社（Allied Signal））、スペクトル（Spectral）８３０Ａ、スペクトル（Spectral）８４０Ａ（スペクトル・カラーズ社（Spectra Colors））、並びにＩＲ染料Ａ、ＩＲ染料Ｂ、及びＩＲ染料Ｃが含まれる。
【００２７】
【化１】
0004546453.tif 000002
【００２８】
画像形成可能要素中の光熱変換材料の量は、一般的には少なくとも０．０５の光学濃度、好ましくは約０．５〜約２の光学濃度を画像形成波長のところで与えるのに十分なものである。当業者に周知の通り、特定の光学濃度を生ずるのに必要な吸収剤の量は、層の厚さ及び画像形成に用いられる波長のところでの吸収剤の吸光係数からベールの法則を用いて決定することができる。
【００２９】
［ネガ型の画像形成可能な組成物］
ネガ型の画像形成可能な組成物は、光熱変換材料、酸生成剤、酸活性化可能な架橋剤、及び高分子結合剤を含んで成ることができる。ネガ型の画像形成可能な組成物の慣用的な成分である他の成分も存在することができる。これらの組成物は、例えば、Haley、米国特許第５，３７２，９０７号；Nguyen、米国特許第５，９１９，６０１号；Kobayashi、米国特許第５，９６５，３１９号；及びBusman、米国特許第５，７６３，１３４号に開示されている。
【００３０】
酸生成剤は、熱により開始される分解によってブレンステッド酸を形成する前駆体である。例えば、非イオン性の酸生成剤には、例えばSmith、米国特許第３，７７９，７７８号に記載されるハロアルキル置換ｓ−トリアジンが含まれる。ハロアルキル置換ｓ−トリアジンは、１〜３個のＣＸ3基（Ｘはブロモであり、好ましくはクロロである）で置換されたｓ−トリアジンである。例には、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、及び２−［４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル］−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン）が含まれる。
【００３１】
イオン酸生成剤にはオニウム塩が含まれ、例えば、オニウムカチオンがヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、オキシスルホキソニウム、オキシスルホニウム、スルホキソニウム、アンモニウム、ジアゾニウム、セレノニウム、又はアルソニウムであり、アニオンがテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、トリフレート、テトラキス（ペンタフルオロ−フェニル）ボレート、ペンタフルオロエチルスルホネート、ｐ−メチル−ベンジルスルホネート、スルホン酸エチル、酢酸トリフルオロメチル、及び酢酸ペンタフルオロエチルなどの非求核性アニオンである。典型的なオニウム塩には、例えば、塩化ジフェニルヨードニウム、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、塩化４，４’−ジクミルヨードニウム、４，４’−ジクミルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−メトキシ−α−ピコリニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシベンゼン−ジアゾニウムテトラフルオロボレート、４，４’−ビス−ドデシルフェニルヨードニウム−ヘキサフルオロホスフェート、塩化２−シアノエチル−トリフェニルホスホニウム、ビス−［４−ジフェニルスルホニオフェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、ビス−４−ドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、２−メトキシ−４−アミノフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、フェノキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、及びアニリノフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネートが含まれる。
【００３２】
有用なイオン酸生成剤には、アニオンが、例えば、メチルスルフェート又はチオスルフェート、エチルスルフェート又はチオスルフェート、ヘキシルスルフェート又はチオスルフェート、オクチルスルフェート又はチオスルフェート、デシルスルフェート又はチオスルフェート、ドデシルスルフェート又はチオスルフェート、トリフルオロメチルスルフェート又はチオスルフェート、ベンジルスルフェート又はチオスルフェート、ペンタフルオロフェニルスルフェート又はチオスルフェートなどの有機スルフェート又はチオスルフェートであるヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びジアゾニウム塩が含まれる。典型的な酸生成剤には、例えば、ジフェニルヨードニウムオクチルスルフェート、ジフェニルヨードニウムオクチルチオスルフェート、トリフェニルスルホニウムオクチルスルフェート、４，４’−ジクミルヨードニウムｐ−トリルスルフェート、２−メトキシ−４−（フェニルアミノ）−ベンゼンジアゾニウムオクチルスルフェート、２−メトキシ−４−（フェニルアミノ）−ベンゼンジアゾニウムヘキサデシルスルフェート、２−メトキシ−４−（フェニルアミノ）−ベンゼンジアゾニウムドデシルスルフェート、及び２−メトキシ−４−（フェニルアミノ）−ベンゼンジアゾニウムビニルベンジルチオスルフェートが含まれる。これらの酸生成剤は、アルコールなどの親水性溶媒を含む水又は水性溶媒中で所望のカチオンを含有するオニウム塩化物、臭化物、又は重硫酸塩などのオニウム塩を所望のアニオンを含有するナトリウム又はカリウム塩、すなわち、所望のアルキル又はアリールスルフェート又はチオスルフェートと混合することによって調製することができる。
【００３３】
酸活性化可能な架橋剤は、芳香族環に結合したヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、エポキシ基、及びビニルエーテル基などの酸活性化可能な反応性基を少なくとも２つ含有することができる。例には、メチロールメラミン樹脂、レゾール樹脂、エポキシ化ノボラック樹脂、及び尿素樹脂が含まれる。他の例は、少なくとも２つのアルコキシメチル基を有するアミノ樹脂（例えば、アルコキシメチル化メラミン樹脂、アルコキシメチル化グリコールウリル、及びアルコキシメチル化ベンゾグアナミン）である。ヒドロキシメチル基及び／又はアルコキシメチル基などの基を少なくとも２つ含有するフェノール誘導体は、画像が形成されるときに画像部内で良好な固着を与える。フェノール誘導体の例には、レゾール樹脂が含まれる。レゾール樹脂には、例えば、ＧＰ６４９Ｄ９９レゾール（ジョージア・パシフィック社（Georgia Pacific））及びＢＫＳ−５９２８レゾール樹脂（ユニオン・カーバイド社（Union Carbide））が含まれる。
【００３４】
ノボラック樹脂は、典型的には、フェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノールとホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド又はアセトンなどのケトンとの酸触媒の存在下での縮合によって調製される。典型的には、溶媒縮合プロセス及びホットメルト縮合プロセスの２つのプロセスのうちの１つを用いる。重量平均分子量は、典型的には、約１，０００〜１５，０００である。特に有用なノボラック樹脂は、ｍ−クレゾール、ｍ−クレゾール及びｐ−クレゾールの混合物、又はフェノールと、ホルムアルデヒドとの慣用的な条件を用いた反応によって調製される。
【００３５】
レゾール樹脂は、フェノール化合物とアルデヒドとの反応によって得られるが、ノボラック樹脂の生成条件とは異なる反応条件下で得られる。ノボラック樹脂とともに有用なレゾール樹脂の典型例は、ビス−フェノールＡ及びホルムアルデヒドから調製されるレゾール樹脂である。
【００３６】
組成物中に用いられる酸活性化可能な架橋剤は、高分子結合剤に依存することができる。反応して画像形成条件下で結合剤の架橋を形成する酸活性化可能な架橋剤及び高分子結合剤の任意の組み合わせを用いることができる。高分子結合剤及び酸活性化可能な架橋剤の種々の組み合わせが知られている。一般に、結合剤は、画像形成可能要素を６０〜２２０℃に加熱したときに架橋剤と酸触媒縮合反応を行うことが可能なポリマー又はポリマーの混合物である。典型的には、画像形成可能な組成物が、ポリマー、酸生成剤、及び酸活性化可能な架橋剤を含んで成る画像形成可能要素を、画像形成後であるが現像処理前に約１１０℃〜１５０℃に加熱する。
【００３７】
例えば、Haley、米国特許第５，３７２，９０７号は、紫外線／可視光及び赤外線に感度を有する放射線感受性組成物を開示している。該組成物は、レゾール樹脂及びノボラック樹脂を含有する。これらの組成物では、ノボラック樹脂は高分子結合剤であり、レゾール樹脂は酸活性化可能な架橋剤である。Nguyen、米国特許第５，９１９，６０１号は、赤外線及び紫外線／可視光によって画像形成可能である放射線感受性組成物を開示している。これらの組成物は、ヒドロキシ、カルボン酸、スルホンアミド、及びアルコキシメチルアミドから選択される反応性ペンダント基を含む高分子結合剤、並びにレゾール樹脂、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシメチルメラミン又はグリコールウリル樹脂、ポリ（Ｃ1〜Ｃ5−アルコキシ−メチルスチレン）、ポリ（Ｃ1〜Ｃ5−アルコキシメチルアクリルアミド）、それらの誘導体、又はそれらの組み合わせを含有する。架橋樹脂は、Ｃ1〜Ｃ5アルキルフェノール及びホルムアルデヒドから調製されるレゾール樹脂；テトラＣ1〜Ｃ5−アルコキシメチルグリコールウリル；（４−メトキシメチルスチレン）のポリマー；（Ｎ−メトキシメチル）アクリルアミドのポリマー；（Ｎ−ｉ−ブトキシメチル）アクリルアミドのポリマー；又はブチル化フェノール樹脂であることが好ましい。Kobayashi、米国特許第５，９６５，３１９号は、ベンゼン環に結合した少なくとも２つのヒドロキシメチル又はアルコキシメチル基を好ましくは有する酸活性化可能な架橋剤及びノボラック樹脂などのアルカリ可溶性基を有するポリマー化合物を含有するネガ型の記録材料を開示している。典型的な架橋剤は、フェノールとホルムアルデヒドとの縮合によって調製されるヒドロキシメチル基を含有するフェノールである。Busman、米国特許第５，７６３，１３４号は、１，３，５−トリヒドロキシメチルベンゼン、１，３，５−トリアセトキシメチルベンゼン、及び１，２，４，５−テトラアセトキシメチルベンゼンなどの活性可能な架橋剤を開示している。他の高分子結合剤及び酸活性化可能な架橋剤は当業者に明らかであろう。
【００３８】
画像形成可能な組成物は、画像形成可能な組成物の慣用的な成分である染料及び界面活性剤などの他の成分も含有することができる。界面活性剤は、例えばコーティング補助剤として画像形成可能な組成物中に存在することができる。染料は、露光されそして／又は現像された要素の目視検査の助けとなるために存在することができる。焼出し染料は、現像処理の際に露光領域を非露光領域から区別する。対比染料は、現像された画像形成可能要素中において非画像形成領域を画像形成領域から区別する。染料は、画像形成放射線を吸収しないことが好ましい。エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリーン、ビクトリアブルーＢ、ビクトリアブルーＲ、及びビクトリアピュアブルーＢＯなどのトリアリールメタン染料は、対比染料として働くことができる。
【００３９】
これらの組成物は、組成物の全重量に基づいて、典型的には約０．１〜１０重量％、より好ましくは約０．５〜１０重量％の光熱変換材料を含有する。画像形成可能な組成物は、組成物の全重量に基づいて、典型的には約０．０１〜５０重量％、好ましくは約０．１〜２５重量％、より好ましくは約０．５〜２０重量％の酸生成剤を含有する。画像形成可能な組成物は、組成物の全重量に基づいて、典型的には約５〜７０重量％、好ましくは約１０〜６５重量％の架橋剤を含有する。画像形成可能な組成物は、組成物の全重量に基づいて、典型的には約１０〜９０重量％、好ましくは約２０〜８５重量％、より好ましくは約３０〜８０重量％のポリマーを含有する。
【００４０】
光重合（すなわち、光重合可能な組成物）に基づくネガ型の組成物は、例えば、"光反応性ポリマー：レジストの科学と技術",A. Reiser, Wiley, New York, 1989, pp. 102-177に; B. M. Monroe の"光ポリマー：放射線硬化性画像形成システム", "放射線硬化: 科学と技術", S. P. Pappas 編., Plenum, New York, 1992, pp. 399-440に；及びA. B. Cohen and P. Walkerの"ポリマー画像形成", "画像形成プロセス及び材料", J. M. Sturge等編, Van Nostrand Reinhold, New York, 1989, pp. 226-262に記載されている。これらの組成物は、一般にモノマー、結合剤、及びフリーラジカル生成系として既知であるフリーラジカル開始重合を行う少なくとも１つのエチレン系不飽和化合物を含有する。典型的な組成物は、２５〜９０重量％、好ましくは４５〜７５重量％の結合剤（複数種可）；５〜６０重量％、好ましくは１５〜５０重量％のモノマー（複数種可）；０．０１〜１０重量％、好ましくは、０．１〜５重量％の光開始剤系；及び０〜５重量％、典型的には０〜４重量％の他の成分である。
【００４１】
これらのモノマーは典型的には多官能性であり、すなわち、それらは２つ以上のエチレン系不飽和フリーラジカル重合可能基を含有する。典型的な多官能性モノマーは、アルコールの不飽和エステル、好ましくはポリオールのアクリル酸及びメタクリル酸エステルである。ウレタンアクリレート及びメタクリレート、エポキシアクリレート及びメタクリレート、ポリエステルアクリレート及びメタクリレート、ポリエーテルアクリレート及びメタクリレートなどのオリゴマー及び／又はプレポリマー又は不飽和ポリエステル樹脂を用いることができる。フリーラジカル開始重合で重合可能であり、かつ光重合可能組成物において有用である多数の他の不飽和のモノマーが当業者に既知である。
【００４２】
画像形成可能な組成物は、結合剤として既知である少なくとも１つの予め形成された高分子量ポリマー材料を含有する。代表的な結合剤は、ポリ（メタクリル酸メチル）並びにメタクリル酸メチルとアクリル酸エチルなどの他のアルキルアクリレート、メタクリル酸エチルなどのアルキルメタクリレート、メタクリル酸、及び／又はアクリル酸とのコポリマーである。光重合可能組成物において有用な多数の他の結合剤が当業者に既知である。
【００４３】
光開始系として既知である紫外線、可視光、又は赤外線によって活性可能なフリーラジカルを生成する開始系が、重合可能なモノマーの重合を促進するために存在する。光開始系は、単一化合物又は化合物の混合物であることができる。好適な光開始系は、B. M. Monroe and G. C. Weedによる"フリーラジカル開始光画像形成システム", Chem. Rev., 93, 435-448 (1993)及びK. K. Dietlikerによる"フリーラジカル重合", Chemistry and Technology of UV and EB Formulation for Coatings, Inks, and Paints, P. K. T. Oldring 編, SITA Technology Ltd., London, 1991, Vol. 3, pp. 59-525に開示されている。典型的なフリーラジカル光開始化合物には、ミヒラーケトン／ベンゾフェノン；ベンゾフェノン；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド；２−イソプロピルチオキサントン；２−クロロチオキサントン；２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン；ビス（２，６−ジメトキシベンゾリル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキシド；及びそれらの組み合わせが含まれる。
【００４４】
ネガ型の系は、典型的には少なくとも１つの結合剤及び照射の際に結合剤を架橋する少なくとも二官能性の光活性化架橋剤を含有する光架橋可能系も含む。有機アジド類は、結合剤を架橋するのに用いられている。４，４’−ジアジドスチルベンのジスルホネート化誘導体などのジアジド化合物が、光架橋用の好ましいアジド類である。
【００４５】
基体上に画像形成可能な組成物の層を含んで成る画像形成可能要素は当業者に周知であり、例えば、Shimazu、米国特許第６，２９４，３１１号；Parsons、米国特許第６，２８０，８９９号；Patel、米国特許第６，３５２，８１１号；Shimazu、米国特許第６，３５２，８１２；Savariar-Hauck、米国特許第６，３５８，６６９号；及びJarek、米国特許第６，４７５，６９２号に記載されている。
【００４６】
ポジ型の光画像形成可能要素は周知である。それらは、例えば、"光反応性ポリマー": the Science and Technology of Resists, A. Reiser, Wiley, New York, 1989, pp. 1780-225の第５章に記載されている。画像形成可能層は、水不溶性かつアルカリ可溶性の結合剤及び感光性部分を含む材料を含有する感光性組成物を含有する。感光性部分は結合剤に結合することができ、そして／又はそれは別個の化合物であることができる。
【００４７】
感光性部分は、典型的には、ｏ−ベンゾキノンジアジド部分又はｏ−ジアゾナフトキノン部分である。ｏ−ジアゾナフトキノン部分を含有する化合物（すなわち、キノンジアジド）、好ましくは、少なくとも１５００であるが約５０００未満の分子量を有するバラスト部分に結合したｏ−ジアゾナフトキノン部分を含む化合物が好ましい。典型的には、これらの化合物は、４位又は５位にハロゲノスルホニル基、典型的には塩化スルホニル基を有する１，２−ナフトキノンジアジドと、モノヒドロキシ又はポリヒドロキシベンゾフェノンなどのモノヒドロキシ又はポリヒドロキシフェニル化合物との反応によって調製される。
【００４８】
有用な化合物には、２，４−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン；２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ−２，２−ビスヒドロキシフェニルプロパンモノエステル； ２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホン酸のヘキサヒドロキシベンゾフェノンヘキサエステル；２，２’−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，２’，４，４’−テトラキス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，３，４−トリス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン；２，４−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン；２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレンスルホニルオキシ−２，２−ビスヒドロキシフェニルプロパンモノエステル； ２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレンスルホン酸のヘキサヒドロキシベンゾフェノンヘキサエステル；２，２’−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，２’，４，４’−テトラキス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，３，４−トリス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン；及び当業者に既知である他のもの、例えば、Mizutani、米国特許第５，１４３，８１６号に記載されるものが含まれるが、これらに限定するものではない。
【００４９】
あるいは又はさらに、画像形成可能層は、高分子ジアゾナフトキノン化合物を含有することができる。高分子ジアゾナフトキノン化合物には、ジアゾナフトキノン部分を含有する反応性誘導体と、ヒドロキシル又はアミノ基などの好適な反応性基を含有する高分子材料との反応によって形成される誘導体化樹脂が含まれる。これらの誘導体化樹脂の形成に好適な高分子材料には、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール、ヒドロキシスチレンなどのヒドロキシ含有モノマーのアクリル酸及びメタクリル酸コポリマーが含まれる。代表的な反応性誘導体には、ジアゾナフトキノン部分のスルホン酸及びカルボン酸、エステル、又はアミド誘導体が含まれる。ジアゾナフトキノン部分を含有する化合物によるフェノール樹脂の誘導体化は当業者に既知であり、例えば、West、米国特許第５，７０５，３０８号及び５，７０５，３２２号に記載されている。ジアゾナフトキノン部分を含有する化合物で誘導体化されたポリマーの例は、ピロガロール／アセトン樹脂のナフトキノンジアジドであるＰ−３０００である（ＰＣＡＳ社（ロンジュモー、フランス）から市販されている）。それらは、画像形成可能層中で単独で用いることができるし、あるいは他の高分子材料及び／又は溶解抑制剤と組み合わせることができる。
【００５０】
ポジ型の光画像形成可能要素では、結合剤は、ポリマー骨格上あるいはペンダント基上に非常に多数のカルボキシル、無水カルボン酸、又はフェノール性ヒドロキシル基、好ましくはフェノール性ヒドロキシル基を有する光安定性、水不溶性、水性アルカリ現像液に可溶性又は除去可能、かつ、フィルムを形成する高分子材料である。これらの基により、水性アルカリ現像液溶解性が画像形成可能層に与えられる。ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ペンデントフェノール基を含有するアクリル樹脂、及びポリビニルフェノール樹脂は、好ましいフェノール樹脂である。
【００５１】
上記のノボラック樹脂が、より好ましい。ノボラック樹脂は溶媒可溶性であることが好ましく、すなわち、塗布されて画像形成可能層を作成することができる塗布溶液を作るために十分に塗布溶媒に可溶性であることが好ましい。汎用の塗布溶媒には、例えば、アセトン、テトラヒドロフラン、及び１−メトキシプロパン−２−オールが含まれる。一態様では、ノボラック樹脂は、少なくとも１０，０００の重量平均分子量を有する溶媒可溶性のノボラック樹脂；少なくとも１０，０００の重量平均分子量を有し、極性基で官能化された溶媒可溶性のノボラック樹脂；ｐ−クレゾールを少なくとも１０モル％含有し、かつ少なくとも８，０００の重量平均分子量を有する溶媒可溶性のｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂；ｐ−クレゾールを少なくとも１０モル％含有し、かつ少なくとも８，０００の重量平均分子量を有し、ｏ−ベンゾキノンジアジド又はｏ−ジアゾナフトキノン部分を含有する基で官能化された溶媒可溶性のｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂；又はそれらの混合物である。一態様では、ノボラック樹脂は、溶媒縮合によって調製される。
【００５２】
結合剤として有用な他のフェノール樹脂には、フェノール性ヒドロキシル基を有するポリビニル化合物が含まれる。そのような化合物には、例えば、ポリヒドロキシスチレン及びヒドロキシスチレンの反復単位を含有するコポリマー、並びに置換ヒドロキシスチレンの反復単位を含有するポリマー及びコポリマーが含まれる。画像形成可能層の塗膜の重量は、典型的には約０．５〜５ｇ／ｍ2である。
【００５３】
画像形成可能要素が高分子材料及び溶解抑制剤を含んで成るポジ型の感熱画像形成可能要素が知られている。高分子材料は、上記の通り、水不溶性かつアルカリ可溶性の結合剤であり、典型的には、ノボラック樹脂などのフェノール樹脂である。溶解抑制剤は、感熱画像形成可能要素の画像形成に典型的に用いられる放射線の範囲である約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの範囲の放射線又は約８００ｎｍ〜約１２００ｎｍの範囲の放射線に対して光反応性ではないと信じられている。この要素は、典型的には、画像形成可能層及び基体の間に下引き層を含む。そのような系は、例えば、Parsons、米国特許第６，２８０，８９９号；Shimazu、米国特許第６，２９４，３１１号及び米国特許第６，３５２，８１２号；及びSavariar-Hauck、米国特許第６，３５８，６６９号に開示されている。
【００５４】
溶解抑制剤用の有用な極性基には、例えば、ジアゾ基；ジアゾニウム基；ケト基；スルホン酸エステル基；リン酸エステル基；トリアリールメタン基；スルホニウム、ヨードニウム、及びホスホニウムなどのオニウム基；窒素原子が複素環に導入されている基；及び正電荷を持つ原子、特に正電荷を持つ窒素原子、典型的には四級化窒素原子、すなわちアンモニウム基を含有する基が含まれる。溶解抑制剤として有用な正電荷を持つ（すなわち、四級化）窒素原子を含有する化合物には、例えば、テトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾリウム化合物が含まれる。エーテル、アミン、アゾ、ニトロ、フェロセニウム、スルホキシド、スルホン、及びジスルホンなどの他の極性基を含有する化合物も溶液抑制剤として有用であることができる。
【００５５】
四級化複素環式化合物は、溶解抑制剤として有用である。代表的なイミダゾリウム化合物には、モナゾリンＣ（Monazoline C）（ヤシ油脂肪酸イミダゾリン）、モナゾリンＯ（Monazoline O）（オレイン酸イミダゾリン）、及びモナゾリンＴ（Monazoline T）（トール油イミダゾリン）（ユニケマ社（Uniqema）、ウィルミントン、デラウェア、米国）が含まれる。代表的なキノリニウム溶解抑制剤には、ヨウ化１−エチル−２−メチルキノリニウム、ヨウ化１−エチル−４−メチルキノリニウム、及びキノリジン・ブルー（Quinoldine Blue）などのキノリニウム部分を含有するシアニン染料が含まれる。代表的なベンゾチアゾリウム化合物には、３−エチル−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾリリデン−２−メチル−１−（プロペニル）ベンゾチアゾリウムカチオン染料及びヨウ化３−エチル−２−メチルベンゾチアゾリウムが含まれる。好適なピリジニウム溶解抑制剤には、臭化セチルピリジニウム及びエチルビオローゲンジカチオン類が含まれる。ジアゾニウム塩は溶解抑制剤として有用であり、例えば、メトキシ置換ジフェニルアミンジアゾニウムヘキサフルオロボレートなどの置換及び無置換ジフェニルアミンジアゾニウム塩を含む。
【００５６】
溶解抑制剤の好ましい群は、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリーン、ビクトリアブルーＢ、ビクトリアブルーＲ、及びビクトリアブルーＢＯなどのトリアリールメタン染料である。これらの化合物は、現像された画像形成可能要素中において非画像形成領域を画像形成領域から区別する対比染料として働くこともできる。溶解抑制剤は、上述したように、ｏ−ベンゾキノンジアジド部分及び／又はｏ−ジアゾナフトキノン部分を含有する単量体及び／又は高分子化合物であることができる。溶解抑制剤は画像形成可能層中に存在し、その量は広範に変わることができるが、層の全乾燥組成物重量に基づいて、一般には少なくとも約０．１ｗｔ％、典型的には約０．５ｗｔ％〜約３０ｗｔ％、好ましくは約１ｗｔ％〜１５ｗｔ％である。
【００５７】
あるいは又はさらに、画像形成可能層中の高分子材料は、高分子材料中に存在するヒドロキシル基と結合する水素の受容部位として働く極性基を含有し、したがって、高分子材料及び溶解抑制剤の双方として働くことができる。高分子材料のヒドロキシル基の誘導体化により、その分子量が増加し、ヒドロキシル基の数が減少して、典型的には、現像液への高分子材料の可溶性及び溶解率の双方が減少する。誘導体化のレベルは、高分子材料が溶解抑制剤として働くほどに十分に高いことが重要であるが、感熱画像形成後において高分子材料が現像液に溶解できないほどに高くない方がよい。上記の通り、ジアゾナフトキノン部分を含有する化合物によるフェノール樹脂の誘導体化は周知である。必要な誘導体化の程度は、高分子材料の性質及び高分子材料に導入された極性基を含有する部分の性質に依存するが、典型的には約０．５モル％〜約５モル％、好ましくは約１モル％〜約３モル％のヒドロキシル基が誘導体化される。これらの誘導体化高分子材料は、高分子材料及び溶解抑制剤の双方として働くことができる。それらは、画像形成可能層中で単独で用いることができ、あるいは他の高分子材料及び／又は溶解抑制剤と組み合わせて用いることができる。
【００５８】
極性基を含有し、かつ、溶解抑制剤として機能する高分子材料の一群は、フェノールヒドロキシル基の一部がスルホン酸エステル、好ましくはフェニルスルホネート又はｐ−トルエンスルホネートに変換された誘導体化フェノール性高分子材料である。誘導体化は、第三級アミンなどの塩基の存在下での高分子材料を例えばｐ−トルエンスルホニルクロリドなどの塩化スルホニルと反応させることによって行うことができる。好ましい高分子材料は、約１モル％〜３モル％、好ましくは約１．５モル％〜約２．５モル％のヒドロキシル基がフェニルスルホネート又はｐ−トルエンスルホネート（トシル）基に変換された誘導体化ノボラック樹脂である。
【００５９】
極性基で誘導体化されたフェノール性ポリマー（例えば、いくつかのヒドロキシル基がスルホン酸エステル基又はベンゾキノンジアジド部分及び／又はジアゾナフトキノン部分を含有しない基で誘導体化されたポリマー）は水性アルカリ現像液に可溶性であるが、１種以上のこれらの材料を含んで成るか、あるいは該材料から本質的になる層が水性アルカリ現像液に「不溶性である」ことは当業者に十分に理解されている。これは、層の可溶性及び不溶性が、層の画像形成された領域及び画像形成されてない領域が現像液によって除去されるときの相対速度によって決定されるためである。１種以上のこれらの誘導体化フェノール性高分子材料を含んで成るかあるいは該材料から本質的になる層の像様熱暴露後に、層の暴露された領域は非暴露領域よりも速く水性アルカリ現像液によって除去される。現像工程が適切な時間行われると暴露領域は除去され、非暴露領域は残存し、その結果、非暴露領域からなる画像が形成される。したがって、暴露された領域は、水性現像液において「除去可能」かもしくは「可溶性」であり、非暴露領域は水性アルカリ現像液において「除去可能でない」かもしくは「不溶性である」。
【００６０】
画像形成可能要素が下引き層を含んで成る場合、下引き層中の高分子材料はアルカリ現像液に可溶性であることが好ましい。さらに、下引き層が溶解することなく下引き層上に画像形成可能層が塗布されるように、この高分子材料は画像形成可能層の塗布に用いられる溶媒に不溶性であることが好ましい。
【００６１】
下引き層に有用な高分子材料には、酸及び／又はフェノール官能基並びにそのような材料の混合物を含有する高分子材料が含まれる。有用な高分子材料には、カルボキシ官能性アクリル樹脂、酢酸ビニル／クロトン酸／ネオデカン酸ビニルコポリマー、スチレン無水マレイン酸コポリマー、フェノール樹脂、マレイン酸変性ウッドロジン、及びそれらの組み合わせが含まれる。湿し水及びアグレッシブ洗浄液の双方に対する耐性を与える下引き層は、Shimazu、米国特許第６，２９４，３１１号に開示されている。
【００６２】
特に有用な高分子材料は、Ｎ−置換マレイミド、特にＮ−フェニルマレイミド；ポリビニルアセタール；メタクリルアミド、特にメタクリルアミド；及びアクリル酸及び／又はメタクリル酸、特にメタクリル酸を含むコポリマーである。高分子材料に２つの官能基が存在することがより好ましく、高分子材料に３つの官能基のすべてが存在することが最も好ましい。このタイプの好ましい高分子材料は、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸のコポリマーであり、約２５〜約７５モル％、好ましくは約３５〜約６０モル％のＮ−フェニルマレイミド；約１０〜約５０モル％、好ましくは約１５〜約４０モル％のメタクリルアミド；及び約５〜約３０モル％、好ましくは約１０〜約３０モル％のメタクリル酸を含有するコポリマーがより好ましい。あるいは、いくつかの又はすべてのメタクリルアミドに代えて、ヒドロキシエチルメタクリレートなどの他の親水性モノマーを用いることができる。あるいは、いくつかの又はすべてのメタクリル酸に代えて、アクリル酸などの他のアルカリ可溶性モノマーを用いることができる。
【００６３】
これらの高分子材料は、アルカリ現像液に可溶性である。さらに、それらは、下引き層用の塗布溶媒として用いることができる乳酸メチル／メタノール／ジオキソラン（１５：４２．５：４２．５ｗｔ％）混合物に可溶性である。しかしながら、それらは、下引き層を溶解することなく下引き層の最上部に画像形成可能層を塗布するための溶媒として用いることができるアセトン及びトルエンなどの溶媒への溶解性に乏しい。
【００６４】
下引き層中の高分子材料用の好ましい高分子材料の別の群は、Ishizuka、米国特許第５，７３１，１２７号などに開示される通り、側鎖に尿素結合（すなわち、ペンデント尿素基）を有するモノマーを含有する、アルカリ現像液に可溶性のコポリマーである。これらのコポリマーは、約１０〜８０ｗｔ％、好ましくは約２０〜８０ｗｔ％の以下の一般式で表される１つ以上のモノマーを含む：
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ
（式中、Ｒは、−Ｈ又は−ＣＨ3であり；Ｘは、二価の結合基であり；Ｙは、置換又は無置換二価芳香族基であり；Ｚは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である）。
【００６５】
Ｒは−ＣＨ3であることが好ましい。Ｘは、−（ＣＨ2）n−（式中、ｎは２〜８である）；１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、及び１，４−フェニレン；並びに１，４−ナフタレン、２，７−ナフタレン、及び１，８−ナフタレンなどの、置換若しくは無置換アルキレン基、置換若しくは無置換フェニレン［−（Ｃ6Ｈ4）−］基、又は置換若しくは無置換ナフタレン［−（Ｃ10Ｈ6）−］基であることが好ましい。Ｘは無置換であることがより好ましく、さらにはｎは２又は３であることがより好ましく、Ｘが−（ＣＨ2ＣＨ2）−であることが最も好ましい。Ｙは、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、及び１，４−フェニレン並びに１，４−ナフタレン、２，７−ナフタレン、及び１，８−ナフタレンなどの、置換若しくは無置換フェニレン基又は置換若しくは無置換ナフタレン基であることが好ましい。Ｙは、無置換であることが好ましく、無置換１，４−フェニレンであることが最も好ましい。Ｚは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2であり、−ＯＨであることが好ましい。好ましいモノマーは、
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ2−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4−Ｚ
（式中、Ｚは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2であり、−ＯＨであることが好ましい）である。
【００６６】
コポリマーの合成では、１つ以上の尿素基を含むモノマーを用いることができる。コポリマーは、マレイミド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルエステル、メタクリルエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、及びメタクリルアミドなどの他の重合可能なモノマーも２０〜９０ｗｔ％含む。アクリルアミド及び／又はメタクリルアミドに加えて６０モル％超かつ９０モル％以下のアクリロニトリル及び／又はメタクリロニトリルを含むコポリマーは、優れた物性を与える。アルカリ可溶性コポリマーは、３０〜７０ｗｔ％尿素基を含むモノマー；２０〜６０ｗｔ％のアクリロニトリル又はメタクリロニトリル、好ましくはアクリロニトリル；及び５〜２５ｗｔ％のアクリルアミド又はメタクリルアミド、好ましくはメタクリルアミドを含むことがより好ましい。
【００６７】
上記の高分子材料は、アルカリ現像液に可溶性である。さらに、それらは、下引き層用の塗布溶媒として用いることができるエチレングリコールモノメチルエーテルなどの極性溶媒に可溶性である。しかしながら、それらは、下引き層を溶解することなく下引き層上に画像形成可能層を塗布するのための溶媒として用いることができる２−ブタノン（メチルエチルケトン）などの極性がより小さい溶媒への可溶性に乏しい。
【００６８】
高分子材料のこれらの群は双方とも、当業者に周知であるフリーラジカル重合などの方法によって調製することができる。側鎖に尿素結合を有するコポリマーの合成は、例えば、Ishizuka、米国特許第５，７３１，１２７号に開示されている。
【００６９】
下引き層に有用である高分子材料の別の群には、約１０〜９０モル％のスルホンアミドモノマー単位、特にＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、及び／又は対応するアクリルアミドを含むものを含むアルカリ現像液に可溶性のコポリマーが含まれる。ペンデントスルホンアミド基を含むアルカリ現像液に可溶性の有用な高分子材料、その調製方法、及びその調製に有用なモノマーは、Aoshima、米国特許第５，１４１，８３８号に開示されている。特に有用な高分子材料は、（１）スルホンアミドモノマー単位、特にＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド；（２）アクリロニトリル及び／又はメタクリロニトリル；並びに（３）メタクリル酸メチル及び／又はアクリル酸メチルを含有する。
【００７０】
アルカリ現像液に可溶性の他の高分子材料は、下引き層に有用であることができる。Ｎ−置換環状イミド部分を含有するメチルビニルエーテル／無水マレイン酸コポリマーの誘導体及びＮ−置換環状イミド部分を含有するスチレン／無水マレイン酸コポリマーの誘導体は、必要とされる溶解特性を有する場合、有用であることができる。これらのコポリマーは、無水マレイン酸コポリマーをｐ−アミノベンゼンスルホンアミドなどのアミン又はｐ−アミノフェノールと反応させ、続いて酸によって環化反応を行うことにより、調製することができる。
【００７１】
基体は支持体を有し、支持体は、平版印刷版として有用な画像形成可能要素を調製するために慣用的に用いられる任意の材料であることができる。支持体は、強固で、安定性があり、かつ、フレキシブルであることが好ましい。それは、フルカラー画像において色記録を記録するような使用条件下で、寸法変化に耐性を有するのがよい。典型的には、それは、例えば、高分子フィルムなどのポリエチレンテレフタラートフィルム、セラミクス、金属、又は板紙、又はこれらの材料の任意の積層体を含む、任意の自己支持性材料であることができる。金属支持体には、アルミニウム、亜鉛、チタニウム、及びそれらの合金が含まれる。
【００７２】
典型的には、高分子フィルムは、表面特性を改変して表面の親水性を増大し、次に続く層への接着性を向上し、かつ、紙基体の平面性を向上させるためなどの一方又は双方の表面上にあるサブコーティングを含む。この層の性質は、基体及び次に続く塗布層の組成物に依存する。下塗り層の材料の例は、アルコキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及びエポキシ官能性ポリマーなどの接着を促進する材料、並びに写真フィルムのポリエステルベース上に用いられる慣用的な下塗り材料である。
【００７３】
アルミニウム支持体の表面は、物理的な砂目立て、電気化学的な砂目立て、化学的な砂目立て、及び陽極酸化を含む当業者に既知の技法によって処理することができる。基体は、印刷による損耗に耐えるために十分な厚さでなければならず、かつ、印刷体の周りをラッピングするために十分に薄くなければならず、典型的には、約１００〜約６００μｍである。典型的には、基体は、アルミニウム支持体及び画像形成可能層の間に中間層を含む。中間層は、支持体を、例えば、ケイ酸塩、デキストリン、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化物、ポリビニルホスホン酸（ＰＶＰＡ）、又はビニルホスホン酸コポリマーで処理することによって形成することができる。
【００７４】
基体の裏側（すなわち、下引き層及び画像形成可能層の反対側）は、画像形成可能要素の取り扱い及び「手触り」を向上させるために帯電防止剤及び／又は滑り層又は艶消層で塗布することができる。
【００７５】
画像形成可能要素中に他の層が存在してもよい。吸収層は、存在する場合には画像形成可能層と下引き層との間にある。吸収層は、光熱変換材料又は光熱変換材料の混合物、及び任意選択によりポリエトキシ化ジメチルポリシロキサンコポリマーなどの界面活性剤又は界面活性剤の混合物から本質的になる。具体的には、吸収層には下引き層中の高分子材料を実質的に有しない。界面活性剤は、塗布溶媒中での光熱変換材料の分散を助けるために存在することができる。
【００７６】
吸収層の厚さは、一般的に少なくとも９０％、好ましくは少なくとも９９％の画像形成放射線を吸収するほどに十分なものである。特定の量の放射線を吸収するために必要な光熱変換材料の量は、層の厚さ及び画像形成波長での光熱変換材料の吸光係数からベールの法則を用いて決定することができる。典型的には、吸収層は、約０．０２ｇ／ｍ2〜約２ｇ／ｍ2、好ましくは約０．０５ｇ／ｍ2〜約１．５ｇ／ｍ2のコーティング重量を有する。
【００７７】
画像形成可能要素の作成及び保管中の下引き層から画像形成可能層への光熱変換材料の移動を最小にするため、画像形成可能要素は下引き層と画像形成可能層との間にバリア層を含むことができる。バリア層は、現像液に可溶性である高分子材料を含有する。この高分子材料が下引き層中の高分子材料と異なる場合、それは下引き層中の高分子材料が不溶性である少なくとも１つの有機溶媒に可溶性であることが好ましい。バリア層用の好ましい高分子材料は、ポリビニルアルコールである。バリア層中の高分子材料が下引き層中の高分子材料と異なる場合、バリア層は、下引き層の厚さの約５分の１未満となるのがよく、下引き層の厚さの１０分の１であることが好ましい。
【００７８】
下引き層中の高分子材料及びバリア層中の高分子材料は同じ高分子材料であることができる。バリア層及び下引き層が同じ高分子材料を含有する場合、バリア層は下引き層の少なくとも半分の厚さであるのがよく、下引き層の厚さであることがより好ましい。
【００７９】
間紙を省いた場合に画像形成可能要素は互いにくっ付かず、それらは自動現像処理装置によって容易に扱うことができることとなる。すなわち、ある画像形成可能要素の基体がスタック中の次の要素の画像形成可能層と直接接触している場合、要素は互いにくっ付かない。したがって、画像形成可能要素のスタックが各画像形成可能要素間に間紙なしで出荷される場合では、顧客は間紙を放出する必要なく、かつ互いにくっ付いた要素によって引き起こされる問題を生ずることなく要素を用いることができる。
【００８０】
スタックは、少なくとも２個の画像形成可能要素、典型的には２〜約１０００個の画像形成可能要素、より典型的には少なくとも約２０個、さらにより典型的には少なくとも約１００個の画像形成可能要素を含む。さらにより典型的には、スタックは、約２００〜約８００個の画像形成可能要素を含む。一態様では、スタックは、約４００〜約６００個の画像形成可能要素、典型的には約５００個の画像形成可能要素を含む。感熱画像形成可能要素のスタック、特にポジ型の感熱画像形成可能要素は特に有用である。スタック中の画像形成可能要素の間に間紙はない。スタック中の各画像形成可能要素の画像形成可能層（画像形成可能層で画像形成可能要素が積み重なっている場合、スタック中の最上部の要素は除く）は、スタック中の各々の連続する画像形成可能要素の基体と直接に接触している。
【００８１】
画像形成可能要素は、慣用的な技法を用いて、基体の親水性表面上に下引き層を連続的に塗布し；存在する場合には吸収層又はバリア層を下引き層上に塗布し；次いで画像形成可能層を塗布することによって調製することができる。
【００８２】
「溶媒」及び「塗布溶媒」の用語には、溶媒の混合物を包含する。材料のいくつか又はすべてを溶液ではなくて溶媒に懸濁又は分散することができても、これらの用語を用いる。塗布溶媒の選択は、種々の層に存在する成分の性質に依存する。
【００８３】
下引き層は、塗布又は積層化などの任意の慣用的な方法によって塗布することができる。典型的には、成分を好適な塗布溶媒に分散又は溶解し、得られた混合物をスピンコーティング、バーコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、又はローラーコーティングなどの慣用的な方法によって塗布する。
【００８４】
画像形成可能層を基体に、下引き層上が存在する場合には下引き層上に塗布する。下引き層が存在する場合には、これらの層が溶解し混合するのを妨げるため、下引き層が本質的に不溶性である溶媒から画像形成可能層を塗布するべきである。したがって、画像形成可能層用の塗布溶媒は、画像形成可能層を形成することができるほど十分に画像形成可能層の成分が可溶性であり、かつ、任意の下に在る層が本質的に不溶性である溶媒でなければならない。典型的には、下に在る層を塗布するために用いる溶媒は、画像形成可能層を塗布するために用いる溶媒よりもより極性である。中間乾燥工程、すなわち、下引き層が存在する場合、画像形成可能層を下引き層上に塗布する前に塗布溶媒を除去するための下引き層を乾燥する工程を用いて、層の混合を妨げることもできる。あるいは、下引き層、画像形成可能層、又は双方の層を溶融混合物からの層成分の慣用的な押出しコーティング法によって塗布することができる。典型的には、そのような溶融混合物は揮発性有機溶媒を含有しない。
【００８５】
フォトマスクを通した露光が不必要であるダイレクトデジタル画像形成は、例えば、レーザー、サーマルヘッド、又はデジタル光プロセッサーによって行うことができる。レーザーを画像形成に用いる場合、画像形成可能要素の画像形成に有効な放射線を放出レーザーを用いる。例えば、５位で置換されたジアゾナフトキノン化合物は、典型的には３４５ｎｍ及び４００ｎｍで吸収する。４位で置換されたジアゾナフトキノン化合物は、典型的には３１０ｎｍ及び３８０ｎｍで吸収する。
【００８６】
デジタル光プロセッサーはデジタルスクリーン画像形成プロセスを用い、３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲のダイレクトデジタル画像形成の場合に用いることができる。マイクロ機械の電子制御式デジタルマイクロミラー装置の助けを借りて、紫外線を画像形成可能要素上に向ける。デジタル光プロセッサーには、例えば、ＵＶ−セッター（商標）５７、５７−Ｆ、７１０−Ｓ、及び１１６−ｆプロセッサー（ベーシスプリントGmbH社（basysPrint GmbH）、リューネブルク、ドイツ）が含まれる。
【００８７】
画像形成可能要素は、画像形成可能要素によって吸収される波長領域中の変調近赤外線又は赤外線を放つレーザー又はレーザーのアレイで感熱画像形成することができる。典型的には、赤外線、特に約８００ｎｍ〜約１２００ｎｍの範囲の赤外線を画像形成に用いる。画像形成は、約８３０ｎｍ、約１０５６ｎｍ、又は約１０６４ｎｍで放出するレーザーで好都合に行われる。好適な市販の画像形成装置には、クレオ・トレンドセッター（Creo Trendsetter）（CREO社、ブリティッシュコロンビア州、カナダ）及びガーバー・クレセント（Gerber Crescent）４２Ｔ（ガーバー社（Gerber））などの画像セッターが含まれる。
【００８８】
あるいは、画像形成可能要素は、感熱印刷ヘッドを含む慣用的な装置などの熱体を用いて感熱画像形成することができる。好適な装置には、少なくとも１つのサーマルヘッドが含まれるが、通常、感熱ファックス機及び昇華印刷機で用いるＴＤＫ型式番号ＬＶ５４１６などのサーマルヘッドアレイ又はＧＳ６１８−４００感熱プロッター（オーヨー・インスツルメンツ社（Oyo Instruments）、ヒューストン、テキサス州、米国）などのサーマルヘッドアレイが含まれる。
【００８９】
画像形成後、画像形成された画像形成可能要素を加熱してもよい。この任意選択による加熱工程は、放射、対流、例えばローラーによる加熱表面との接触によるか、あるいは例えば水のような不活性な液体を含有する加熱浴中での浸漬によって行うことができる。画像形成された画像形成可能要素をオーブン中で加熱することが好ましい。
【００９０】
加熱温度は、典型的には、画像形成可能要素のカブリ点によって決定される。カブリ点は、２分間の加熱時間で、感熱画像形成可能要素を現像処理できなくするのに必要な最低温度と定義される。酸生成剤を含むネガ型の要素では、温度は、２分間の加熱時間でカブリ点約２８℃（約５０°Ｆ）以下、２分間の加熱時間でカブリ点約１７℃（約３０°Ｆ）であることがより好ましく、２分間の加熱時間でカブリ点が約８℃（１５°Ｆ）を下回ることが最も好ましい。典型的には、加熱温度は、約１１０℃〜１５０℃（２３０°Ｆ〜３００°Ｆ）である。加熱時間は、加熱及びプロセスの他工程のために選択される方法に依存して大きく変わることができる。熱伝達媒体を用いる場合、加熱時間は約３０秒〜約３０分間あることが好ましく、約１分間〜約５分間であることがより好ましい。画像形成された画像形成可能要素をオーブン中で加熱する場合、加熱時間は約１分間〜約５分間であることが好ましい。
【００９１】
画像形成により画像形成要素が作られ、画像形成された領域及び画像形成されてない領域の潜像像を含む。画像を形成するための画像形成要素の現像は、画像形成された領域を除去し、下に在る基体の親水性表面を顕在化することにより、潜像を画像に変換する。
【００９２】
現像液は、相補的に画像形成されてない領域に実質的に影響を及ぼすことなく、浸透して画像形成可能層の画像形成された領域及び要素中に存在する任意の他の層を除去する。如何なる理論又は説明に拘束されるものではないが、画像の識別は動力学的効果に基づくと思われる。画像形成可能層の画像形成された領域は、現像液中で画像形成されてない領域よりも速やかに除去される。現像は、画像形成可能層の画像形成された領域、他の層又は要素の層の下に在る領域を除去するほど十分に長いが、画像形成可能層の画像形成されてない領域を除去するほど十分に長くない時間行われる。したがって、画像形成可能層は、画像化前において現像液に「不溶性である」と記述され、画像形成された領域は、現像液中で画像形成されてない領域よりも速やかに除去、溶解、及び／又は分散されるので、現像液に「可溶性である」か現像液によって「除去可能である」と記述される。典型的には、下引き層は現像液に溶解し、画像形成可能層は現像液中で分散される。
【００９３】
現像液の汎用成分は、界面活性剤；エチレンジアミンテトラ酢酸の塩などのキレート化剤；ベンジルアルコール及びフェノキシエタノールなどの有機溶媒；及び無機メタケイ酸塩、有機メタケイ酸塩、塩酸塩、又は重炭酸塩などのアルカリ成分である。典型的な界面活性剤は、アルキルナフタレンスルホネートのアルカリ金属塩；典型的には６〜９個の炭素原子を有する脂肪族アルコールのスルフェートモノエステルのアルカリ金属塩；及び典型的には６〜９個の炭素原子を有するアルカリ金属スルホン酸塩である。現像液は、ｐＨを比較的一定に保つために緩衝系を含有することもできる。多数の緩衝系が当業者に既知である。典型的には、緩衝系には、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、又はトリイソプロピルアミンなどの水溶性アミンとベンゼンスルホン酸又は４−トルエンスルホン酸などのスルホン酸との組み合わせ；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びＥＤＴＡのテトラナトリウム塩の混合物；モノアルカリホスフェートとトリアルカリホスフェートとの混合物などのリン酸塩の混合物；及びアルカリホウ酸塩及びホウ酸の混合物が含まれる。典型的には、水は現像液の残りを構成する。
【００９４】
高ｐＨ現像液は、典型的には、ポジ型の画像形成可能要素に用いられ、溶媒をベースとした現像液は、典型的には、ネガ型の画像形成可能要素に用いられる。高ｐＨ現像液は、典型的には少なくとも約１１、より典型的には少なくとも約１２、好ましくは約１２〜約１４のｐＨを有する。
【００９５】
高ｐＨ現像液は、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、及び／又はケイ酸カリウムなどの少なくとも１つのアルカリ金属ケイ酸塩を含有する。ケイ酸ナトリウム及びケイ酸カリウムが好ましく、ケイ酸カリウムが最も好ましい。所望する場合、アルカリ金属ケイ酸塩の混合物を用いることができる。特に好ましい高ｐＨ現像液は、少なくとも約０．３のＭ2Ｏ（Ｍはアルカリ金属である）に対するＳｉＯ2の重量比を有するアルカリ金属ケイ酸塩を含有する。該比は、約０．３〜約１．２であることが好ましく、約０．６〜約１．１であることがより好ましく、約０．７〜約１．０．あることが最も好ましい。
【００９６】
高ｐＨ現像液中のアルカリ金属ケイ酸塩の量は、典型的には現像液１０００ｇあたり少なくとも２０ｇのＳｉＯ2（すなわち、少なくとも約２ｗｔ％）であり、好ましくは現像液１０００ｇあたり約２０ｇ〜８０ｇのＳｉＯ2（すなわち、約２ｗｔ％〜約８ｗｔ％）である。現像液１０００ｇあたり約４０ｇ〜６５ｇのＳｉＯ2（すなわち、約４ｗｔ％〜約６．５ｗｔ％）であることがより好ましい。
【００９７】
アルカリ金属ケイ酸塩に加えて、例えば、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、及び／又は水酸化カリウムなどの好適な濃度の任意の好適な塩基によってアルカリ性を提供することができる。好ましい塩基は水酸化カリウムである。高ｐＨ現像液の任意選択による成分は、アニオン性、非イオン性、及び両性の界面活性剤（全組成物重量に基づいて最高で３％）、殺生剤（抗菌剤及び／又は抗カビ剤）、消泡剤又はキレート化剤（アルカリグルコン酸塩など）、及び粘稠化剤（グリセリン又はポリエチレングリコールなどの水溶性又は水分散性ポリヒドロキシ化合物）である。しかしながら、これらの現像液は、典型的には、有機溶媒を含有しない。典型的な市販の高ｐＨ現像液には、コダック・ポリクローム・グラフィクス社（Kodak polychrome Graphics）（ノーウォーク、コネチカット州、米国）からすべて市販されているゴールドスター（Goldstar）（商標）現像液、４０３０現像液、ＰＤ−１現像液、及びＭＸ現像液が含まれる。
【００９８】
溶媒をベースとしたアルカリ現像液は、有機溶媒又は有機溶媒の混合物を含有する。現像液は単一相である。このため、有機溶媒又は有機溶媒の混合物は、水と混和性であるか、あるいは相分離が起こらないほど十分に現像液に可溶性でなければならない。以下の溶媒及びそれらの混合物は、現像液での使用に好適である：エチレングリコールフェニルエーテル（フェノキシエタノール）などのフェノールと酸化エチレン及び酸化プロピレンとの反応生成物；ベンジルアルコール；エチレングリコールと及びプロピレングリコールと６個以下の炭素原子を有する酸とのエステル６個以下の炭素原子を有する酸とのエステル、及び２−エトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールなどのエチレングリコールと、ジエチレングリコールと、及びプロピレングリコールと６個以下の炭素原子を有するアルキル基とのエーテル。単一有機溶媒又は有機溶媒の混合物を用いることができる。有機溶媒は、典型的には現像液の重量に基づいて約０．５ｗｔ％〜約１５ｗｔ％の間、好ましくは現像液の重量に基づいて約３ｗｔ％及び約５ｗｔ％の間の濃度で現像液中に存在する。典型的な市販の溶媒をベースとする現像液には、コダック・ポリクローム・グラフィクス社（Kodak polychrome Graphics）（ノーウォーク、コネチカット州、米国）から市販されている９５６現像液及び９５５現像液が含まれる。
【００９９】
現像液は、典型的には、画像形成された領域を除去するほどの十分な力で要素を噴霧することによって画像形成された前駆体に塗布される。あるいは、浸漬タイプの現像用浴、水でリンスするための区画、ゴム化区画、乾燥区画、及び伝導率測定ユニットを備えるプロセッサー中で現像を行うことができ、あるいは画像形成された前駆体を現像液でブラッシングすることができる。各々の例において印刷版が製造される。８５ＮＳ（コダック・ポリクローム・グラフィクス社（Kodak polychrome Graphics））などの市販のスプレーを載せたプロセッサー中で現像を都合よく行うことができる。
【０１００】
現像後、印刷版を水でリンスし、乾燥する。乾燥は、赤外放射器によるか熱風で慣用的に行うことができる。乾燥後、印刷版をゴム化溶液で処理することができる。ゴム化溶液は、１つ以上の水溶性ポリマー、例えば、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸、ポリメタクリルアミド、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニルメチルエーテル、ゼラチン、及びデキストランなどの多糖、プルラン、セルロース、アラビアゴム、及びアルギン酸を含有する。好ましい材料はアラビアゴムである。
【０１０１】
現像及びゴム化された版をベーキングして刷りの長さを増加することもできる。ベーキングは、例えば、約２２０℃〜約２４０℃で約７〜１０分間又は１２０℃の温度で３０分間で行うことができる。
【０１０２】
［産業上の用途］
本発明の画像形成可能要素は、特に平版印刷版前駆体として特に有用である。一度、画像形成可能要素を画像形成して現像処理すれば、湿し水及び次いで平版用インキをその表面上に塗布することによって印刷を行うことができる。画像形成された領域、すなわち、画像化及び現像プロセスによって暴露された親水性基体の表面によって湿し水が受け入れられ、画像形成されてない領域、すなわち、現像プロセスによって除去されない画像形成可能層の領域によってインキが受け入れられる。次いで、インキはオフセット印刷ブランケットにより直接あるいは間接的に好適な受け取り材料（布、紙、金属、ガラス、又はプラスチックなど）に移り、所望の画像の刷りを該画像上に与える。
【０１０３】
本発明を例示するが限定するものではない以下の実施例を参照することにより、本発明の有利な特性を見ることができる。
【実施例】
【０１０４】
実施例では、「塗布溶液」とは、塗布される溶媒の混合物又は溶媒及び添加剤をいうが、いくつかの添加剤は溶液中ではなく懸濁液中に在ることができる。指摘した場合を除いて、示したパーセンテージは、塗布溶液中の全固体に基づく重量によるパーセンテージである。
【０１０５】
［用語の説明］
粒子Ａ      ケイ酸塩コーティング５０％メタクリル酸メチル／５０％エチレングリコールジメタクリレートポリマー粒子；８μｍ
粒子Ｂ      ケイ酸塩コーティング７０％スチレン／３０％ジビニルベンゼンポリマー粒子；６μｍ
ｍ−クレゾールノボラック樹脂      精製Ｎ−１３ノボラック樹脂；１００％ｍ−クレゾール；ＭＷ１３，０００（イーストマン・コダック社、ロチェスター、ニューヨーク、米国）
Ｄ１１      エタナミニウム、Ｎ−［４−［［４−（ジエチルアミノ）フェニル］［４−（エチルアミノ）−１−ナフタレニル］メチレン］−２，５−シクロヘキサジエン−１−イリデン］−Ｎ−エチル−、５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシベンゼンスルホン酸（１：１）との塩；着色染料（以下の構造を参照のこと）、青色染料（ＰＣＡＳ社（PCAS Corp）、ロンジュモー、フランス）
ＤＣ−１９０      シリコーン界面活性剤（ダウ・コーニング社（Dow Corning））
ＩＲ染料Ａ      赤外吸収化合物；ＩＲ染料Ａ（λｍａｘ＝８３０ｎｍ）；（上記の構造を参照のこと）
ＩＲ染料Ｄ      赤外吸収化合物（以下の構造を参照のこと）
メチル・セロソルブ（METHYL CELLOSOLVE）（商標）２−メトキシエタノール（ダウ社（Ｄｏｗ）、ミッドランド、ミシガン州、米国）
ＭＢ２０Ｘ−５      ポリ（メタクリル酸メチル−ｃｏ−１，４−ジビニルベンゼン；５μｍ（積水化成品工業株式会社、大阪、日本）
レゾール樹脂      ＺＦ−７２３４（大日本インキ化学工業株式会社、東京、日本）
ＢＸ−６      架橋ポリスチレン；６μｍ（積水化成品工業株式会社、大阪、日本）
【化２】
0004546453.tif 000003
【０１０６】
例１及び２並びに比較例１〜３
ケイ酸塩コーティング粒子Ａ及び粒子Ｂは、Sterman、米国特許第５，２８８，５９８号、及びSmith、米国特許第３，５７８，５７７号に記載される方法によって調製することができる。
【０１０７】
表１に示す成分を含有する塗布溶液（塗布溶液Ａ）を調製した。
【０１０８】
【表１】
0004546453.tif 000004
【０１０９】
粒子を含有する画像形成可能な組成物を表２に示す通りに調製した。比較実施例３の組成物には粒子を添加しなかった。
【０１１０】
【表２】
0004546453.tif 000005
【０１１１】
粒子を除くすべての成分を塗布溶液に添加し、各々の得られた溶液を３μｍフィルター通して濾過した。粒子を添加し、各々の得られた塗布溶液をコーティング前に１０μｍフィルターを通して濾過した。
【０１１２】
各々の塗布溶液を電気分解により細かくし、陽極酸化し、中間層材料としてローマー（Lomar）ＳＮ−ＰＷ（サン・ノプコ社（Sun Nopco））で処理したアルミニウムシートの基体上にロールコーティングした。得られた画像形成可能要素を１００℃で２分間乾燥した。画像形成可能層重量の乾燥コーティング重量は１．５ｇ／ｍ2であった。
【０１１３】
これらの画像形成可能要素を、８３０ｎｍで８Ｗ及び１５０ｒｐｍで放出するレーザーダイオードアレイを備えるクレオ・トレンドセッター（CREO Trendsetter）３２４４感熱暴露装置（クレオ・プロダクツ社（Creo products）、バーナビー、ＢＣ、カナダ）で画像形成した。画像形成された画像形成可能要素をウィスコンシン（Wisconsin）オーブン中、０．７６ｍ／分、約１４１℃（２７０°Ｆ）で予め加熱し、ＰＤ１Ｒアルカリ現像液（コダック・ポリクローム・グラフィクス社（Kodak polychrome Graphics））を有するＰＫ−９１０プロセッサー（コダック・ポリクローム・グラフィクス社（Kodak polychrome Graphics））中で３０℃において２５秒間現像し、水で１：１希釈したＰＦ２（コダック・ポリクローム・グラフィクス社（Kodak polychrome Graphics））ゴム溶液でコーティングし、平版印刷版を作成した。画像形成されてない領域は現像液によって除去され、画像形成された領域は現像液によって除去されなかった。
【０１１４】
ブランケット堆積について各々の印刷版を評価するため、各々の印刷版をローランド（Roland）２００印刷プレス（マン・ローランド社（Man Roland））上にマウントし、バリュー（Values)Ｇマゼンタインキ（大日本インキ化学工業株式会社）を用いて評価した。結果を表３に示し、「良好」（Ａ）の評点はブランケット堆積がほとんどないか全くないことを示している。
【０１１５】
【表３】
0004546453.tif 000006
【０１１６】
例１及び２ではブランケット堆積はほとんどあるいは全く観察されなかった。表３で示した結果は、ケイ酸塩コーティングを有する粒子は、粒子がケイ酸塩コーティングを有していなかった比較例１及び２では明白であるブランケット堆積の問題を引き起こさないことを実証している。
【０１１７】
【表４】
0004546453.tif 000007
【０１１８】
画像形成可能要素の搬送特性を評価するため、５０個の画像形成可能要素を各要素の間に間紙なしで積み重ねた。画像形成可能要素を自動現像処理装置で扱った。比較例３の２つ以上の画像形成可能要素は一度に持ち上げられた。例１及び２並びに比較例１及び２は良好な搬送特性を示し、すなわち、１つの画像形成可能要素だけが一度に持ち上げられた。