(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
大量の水素を吸蔵して低圧貯蔵しかつ常温付近で必要な圧力に昇圧した水素を放出可能な特性を有する水素吸蔵合金を具備した水素貯蔵部と、
水素を放出した水素貯蔵部に熱を加えて、その水素貯蔵部の水素吸蔵合金の温度を水素放出時の状態に回復させて維持するヒータ部と、水素を噴出させるノズルとを備えたことを特徴とするスラスタ。
【請求項２】
ヒータ部は、常温付近の環境下における平衡水素圧力の高低に応じて水素を吸蔵・放出する互いに異なる２種類の水素吸蔵合金を具備し、両水素吸蔵合金の各々の生成熱の差を水素貯蔵部に加えるべく配置した請求項１に記載のスラスタ。
【請求項３】
ヒータ部の２種類の水素吸蔵合金のうちの平衡水素圧力の低い一方の水素吸蔵合金を水素貯蔵部の水素吸蔵合金と相互に熱交換可能に設け、水素貯蔵部の水素吸蔵合金から水素が放出された段階において一方の水素吸蔵合金に発熱反応を生じさせるべく平衡水素圧力の高い他方の水素吸蔵合金から一方の水素吸蔵合金に対して水素を供給可能とすると共に、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に水素を再充填する段階においてヒータ部の一方の水素吸蔵合金に吸熱反応を生じさせるべく一方の水素吸蔵合金から水素を放出可能とし、ヒータ部の他方の水素吸蔵合金に水素を複数回充填可能とした請求項２に記載のスラスタ。
【請求項４】
水素貯蔵部及びヒータ部の各水素吸蔵合金を外殻から略離間させた状態でケースにそれぞれ収納してある請求項２又は３に記載のスラスタ。
【請求項５】
水素貯蔵部とノズルとの間に、その水素貯蔵部から放出された水素を所定のパルスを生じさせるのに必要な量だけ貯める気貯め部を設けた請求項１ないし４のいずれか１項に記載のスラスタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、宇宙航行体に装備されて、例えば、軌道上において人間の活動を支援する動力として使用するのに好適なスラスタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上記したスラスタとしては、例えば、ガスタンクに窒素ガスなどの不活性ガスを数１０Mpa(数百気圧)の高圧で圧縮貯蔵し、この高圧ガスをレギュレータおよび電磁弁で圧力や量の調節を行いながらノズルから噴出させるようにした構成をなすものがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記した従来のスラスタにおいて、構造はシンプルであるものの、ミッションに応じて設定された容積のガスタンクに実用上必要なガス量を貯蔵しようとすると、上述のように数１０Mpa(数百気圧)の高圧で圧縮しなくてはならないのに加えて、ガスを高圧で圧縮する都合上、とくに打ち上げ環境においてガスがリークしたりガスタンクが破損したりしないように、気密性および構造強度を高めなくてはならず、コストが上昇してしまうという問題があった。
【０００４】
また、ガスをガスタンクに充填する際には、高圧で圧縮充填する設備が必要であるうえ、この圧縮充填作業が危険を伴うことから、軌道上において再充填することが困難であり、まして、人間がハンドリングすることは不可能であるという問題を有しており、これらの問題を解決することが従来の課題となっていた。
【０００５】
【発明の目的】
本発明は、上記した従来の課題に着目してなされたもので、高圧ガスの取り扱いを前提とした気密性および高い構造強度を必要とすることがなく、その分だけ、小型軽量化を図ってコストを大幅に低減させることが可能であり、加えて、安全性の向上を実現でき、その結果、軌道上での人間によるハンドリングおよびガスの再充填が可能になるスラスタを提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載した発明は、大量の水素を吸蔵して低圧貯蔵するとともに、常温付近で必要な圧力に昇圧した水素を放出可能な特性を有する水素吸蔵合金を具備した水素貯蔵部と、水素を放出した水素貯蔵部に熱を加えて、その水素貯蔵部の水素吸蔵合金の温度を水素放出時の状態に回復させて維持するヒータ部と、水素を噴出させるノズルを備えたことを特徴としている。
【０００７】
ここで、水素貯蔵部に用いる水素吸蔵合金は、低圧貯蔵した水素を常温付近で必要な圧力に昇圧して放出することができるといった特性を有しているので、水素の充填時において、水素吸蔵合金を低温にすれば、より低圧での水素の充填が可能になる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載したヒータ部が、常温付近の環境下における平衡水素圧力の高低に応じて水素を吸蔵・放出する互いに異なる２種類の水素吸蔵合金を具備し、両水素吸蔵合金の各々の生成熱の差を水素貯蔵部に加えるべく配置したものである。
請求項３に記載した発明は、請求項２に記載したヒータ部の２種類の水素吸蔵合金のうちの平衡水素圧力の低い一方の水素吸蔵合金を水素貯蔵部の水素吸蔵合金と相互に熱交換可能に設け、水素貯蔵部の水素吸蔵合金から水素が放出された段階において一方の水素吸蔵合金に発熱反応を生じさせるべく平衡水素圧力の高い他方の水素吸蔵合金から一方の水素吸蔵合金に対して水素を供給可能とすると共に、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に水素を再充填する段階においてヒータ部の一方の水素吸蔵合金に吸熱反応を生じさせるべく一方の水素吸蔵合金から水素を放出可能とし、ヒータ部の他方の水素吸蔵合金に水素を複数回充填可能としている。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項２又は３に記載した水素貯蔵部及びヒータ部の各水素吸蔵合金を外殻から略離間させた状態でケースにそれぞれ収納している。
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれか１項に記載した水素貯蔵部とノズルとの間に、その水素貯蔵部から放出された水素を所定のパルスを生じさせるのに必要な量だけ貯める気貯め部を設けたものである。
【００１０】
この場合、水素貯蔵部及びヒータ部の各水素吸蔵合金には、ランタン・ニッケル(LaNi5 )合金やランタンをミッシュ・メタル(Mm)に置き換えたMmNi5 系合金などの希土類系合金を採用することができるほか、比較的安価なチタン・鉄(TiFe)系合金を用いることができる。
【００１１】
また、水素貯蔵部及びヒータ部の各水素吸蔵合金には、いずれも粒径が２〜４０μｍ(好ましくは４〜１０μｍ)の粉末状をなしたものを使用し、熱伝導性を高めるために合金表面に銅を化学処理してコーティング(マイクロカプセル化)したものを用いることが望ましい。
【００１２】
【作用】
請求項１に記載したスラスタでは、上記した構成としているので、ノズルから水素を噴出させて１回目のスラストを生じさせると、水素貯蔵部の圧力が低下して水素吸蔵合金から水素が放出され、２回目のスラスト発生の準備がなされる。
【００１３】
このとき、水素貯蔵部の水素吸蔵合金から水素が放出されるのに伴って、この水素吸蔵合金の温度が低下するが、水素を放出した水素貯蔵部にはヒータ部から熱が加えられるので、水素貯蔵部の水素吸蔵合金の温度が水素放出時の状態に回復し、そして、この状態が維持されることとなる。
【００１４】
このように、本発明の請求項１に係わるスラスタでは、水素の貯蔵に水素吸蔵合金を採用しているので、スラスタ体積が小さくなり、その分だけ、宇宙への輸送および航行体への装備が容易になされることとなり、加えて、従来のような高圧圧縮を前提とした気密性および高い構造強度を必要としないので、コストの低減が図られることとなる。
【００１５】
また、請求項１に係わるスラスタでは、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に水素を再充填可能としているので、スラスタを地上に持ち帰ることなく再使用し得ることとなるのに加えて、大量の水素を低圧貯蔵可能な特性の水素吸蔵合金を用いているので、すなわち、高圧のガスを取り扱う必要がないので、水素を貯蔵した状態での安全性が高いものとなり、例えば、水素がリークするようなことがあっても、その際の吸熱反応で水素吸蔵合金の温度が下がってリークは自然に止まることから、人間がハンドリングや水素の再充填を行い得ることとなる。
【００１６】
請求項２に係わるスラスタでは、上記した構成としているため、水素を放出した水素貯蔵部を温めるのに、例えば、電熱ヒータを用いる必要がなく、したがって、消費電力の大幅な節約がなされることとなる。
請求項３に係わるスラスタでは、請求項２に係わるスラスタと同様に消費電力の大幅な節約がなされるのに加えて、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に水素を再充填する段階においてヒータ部の一方の水素吸蔵合金から水素を放出可能としているので、このヒータ部の一方の水素吸蔵合金によって水素貯蔵部の水素吸蔵合金から熱が効率よく除去されることとなり、その結果、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に対する水素の再充填作業が迅速になされることとなる。
【００１７】
請求項４に係わるスラスタでは、上記した構成としたから、水素貯蔵部の水素吸蔵合金の温度を水素放出時の状態に回復させて維持する際や、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に水素を再充填する際において、水素貯蔵部の水素吸蔵合金と、ヒータ部の水素吸蔵合金との間における熱の授受が効率よくなされることとなる。
請求項５に係わるスラスタでは、上記した構成としたため、水素貯蔵部から放出された水素を気貯め部に一旦貯めることで、ノズルから噴射する水素の量が必要量確保されて、したがって、より安定したパルスを短い間隔で生じさせ得ることとなる。
【００１８】
【発明の効果】
本発明の請求項１に係わるスラスタでは、上記した構成としたため、宇宙への輸送および航行体への装備を簡単に行うことができるうえ、従来のスラスタと比較してコストの大幅な低減を実現することができる。
【００１９】
また、本発明の請求項１に係わるスラスタでは、再使用することができるのに加えて、軌道上において人間がハンドリングしたり水素を再充填したりすることが可能になるという非常に優れた効果がもたらされる。
【００２０】
請求項２に係わるスラスタによれば、上記した構成としたから、消費電力を格段に少なく抑えることが可能であるという非常に優れた効果がもたらされる。
請求項３に係わるスラスタでは、請求項２に係わるスラスタと同じ効果が得られるうえ、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に対する水素の再充填作業を迅速に行うことができるという非常に優れた効果がもたらされる。
【００２１】
請求項４に係わるスラスタは、上記した構成としているため、水素貯蔵部の水素吸蔵合金の温度を水素放出時の状態に回復維持する段階、および、水素貯蔵部の水素吸蔵合金に水素を再充填する段階における水素貯蔵部の水素吸蔵合金とヒータ部の水素吸蔵合金との間での熱の授受を効率よく行うことが可能である。
請求項５に係わるスラスタでは、上記した構成としたため、ノズルから噴射する水素を必要量確保することができ、その結果、より安定したパルスを短い間隔で発生させることが可能であるという非常に優れた効果がもたらされる。
【００２２】
【実施例】
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
【００２３】
図１〜図６は本発明に係わるスラスタの一実施例を説明する図である。
【００２４】
図１および図２に示すように、このスラスタ１は、円筒形状をなすケース２と、このケース２の一方の開口端部(図示左端部)にねじ込んで連結された有底円筒形状をなすキャップ３と、このキャップ３の中心に設置したノズル４と、ケース２の他方の開口端部(図示右端部)を閉塞するエンドキャップ５を備えており、ケース２の内部には水素貯蔵部６及びヒータ部７が設けてある。
【００２５】
ケース２の一方の開口端部には、熱伝導効率を高めるための環状リブ２１ａ及び放射状リブ(図示省略)で区切られた複数の分割空間２１ｂを有する浅底円筒容器２１がケース外殻２ａと間隔をおいて一体で形成されていて、水素貯蔵部６は、この浅底円筒容器２１の複数の分割空間２１ｂに、粉末状をなす水素吸蔵合金の表面に銅をコーティングしてなる多数のマイクロカプセル６１を詰め込んでなっており、この浅底円筒容器２１内のマイクロカプセル６１を覆うフィルタ６２と、ケース２の一方の開口端部をガスケット２２を介して閉塞する隔壁２３との間の空間は、水素を供給可能としたシャットオフバルブ６３と配管６４を介して連通する圧縮室６５として形成してある。
【００２６】
この場合、キャップ３の開口側は、ガスケット２２を介して隔壁２３により閉塞されて気貯め室(気貯め部)３１として機能するように形成されており、この気貯め室３１は、隔壁２３に設けたリリーフバルブ２４を介して圧縮室６５と連通していると共に、配管３２および電磁弁３３で開閉制御されるマニホルド３４を介してノズル４と連通していて、気貯め室３１および圧縮室６５の各内部圧力は、キャップ３および隔壁２３にそれぞれ設置した圧力センサ２５，２５でモニタするようになっている。
【００２７】
一方、ヒータ部７は、水素貯蔵部６の浅底円筒容器２１に底部を密接させた状態でかつケース外殻２ａと間隔をおいた状態で固定されるヒータ側第１浅底円筒容器７１と、ケース２の他方の開口端部寄りの部分にブラケット２６を介して固定されたヒータ側第２浅底円筒容器７２を具備しており、水素貯蔵部６の浅底円筒容器２１とほぼ同一構成をなすヒータ側第１浅底円筒容器７１の分割空間７１ｂに、粉末状をなす水素吸蔵合金の表面に銅をコーティングしてなる多数のマイクロカプセル７３を詰め込むと共に、ヒータ側第２浅底円筒容器７２に、粉末状をなす水素吸蔵合金の表面に銅をコーティングしてなる多数のマイクロカプセル７４を詰め込んでなっている。
【００２８】
ヒータ側第１浅底円筒容器７１はフィルタ７５を間に介在させてキャップ７６で閉塞してあって、電磁弁７７を介してヒータ側第２浅底円筒容器７２と連通していると共に、配管７８を通してシャットオフバルブ７９と連通し、ヒータ側第２浅底円筒容器７２は配管８１を通して水素供給用のシャットオフバルブ８０と連通している。
【００２９】
この実施例において、水素貯蔵部６における浅底円筒容器２１の複数の分割空間２１ｂに詰め込まれる水素吸蔵合金には、大量の水素を吸蔵して低圧貯蔵可能でかつ常温付近で必要な圧力に昇圧した水素を放出可能な特性を有するMmNi4.5 Cr0.5 を採用し、一方、ヒータ部７におけるヒータ側第１浅底円筒容器７１の分割空間７１ｂに詰め込まれる水素吸蔵合金には、常温付近の環境下における平衡水素圧力の高低に応じて水素を吸蔵・放出する特性を有するTiFe0.8 Ni0.15 V0.05を採用していると共に、ヒータ側第２浅底円筒容器７２に詰め込まれる水素吸蔵合金には、同じく常温付近の環境下における平衡水素圧力の高低に応じて水素を吸蔵・放出しかつTiFe0.8 Ni0.15 V0.05 よりも平衡水素圧の高いLaNi5 を採用している。
【００３０】
そこで、常温(20℃)下において、圧縮室６５の圧力を0.5MPa(5atm)、気貯め室３１の圧力を0.1MPa(1atm)、ヒータ部７のヒータ側第１浅底円筒容器７１に詰め込まれる水素吸蔵合金(７３)の平衡圧力を0.008MPa(0.08atm)、ヒータ部７のヒータ側第２浅底円筒容器７２に詰め込まれる水素吸蔵合金(７４)の平衡圧力を0.12MPa(1.2atm)とした状態量の上記スラスタ１の動作を説明する。
【００３１】
まず、スラストの発生指令がこのスラスタ１に与えられると、ノズル４側の電磁弁３３がオン作動するのに続いてオフ作動して、図３の矢印に示すように、ノズル４から気貯め室３１内の水素が噴出し、これにより１回目のスラストが生じることとなり、これによる気貯め室３１の圧力低下に伴って、リリーフバルブ２４が開いて圧縮室６５の圧力が低下し、これを補うために水素貯蔵部６の浅底円筒容器２１内の水素吸蔵合金(６１)から水素が放出される。
【００３２】
このとき、圧力センサ２５が気貯め室３１及び水素貯蔵部６の圧縮室６５の圧力をモニタしており、両室３１，６５の圧力が低下して水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)から水素が放出されていることを検出すると、ヒータ部７側の電磁弁７７が開いて、ヒータ側第２浅底円筒容器７２内の平衡圧力が高い方の水素吸蔵合金(７４)から放出された水素がヒータ側第１浅底円筒容器７１内の平衡圧力が低い方の水素吸蔵合金(７３)に吸蔵され、この間、図３の白抜き矢印および図４に示すように、ヒータ側第１浅底円筒容器７１内の水素吸蔵合金(７３)の発熱反応による生成熱(この実施例では45.2kJ/molH2 )の一部の熱(−25.5kJ/molH2 )が、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)に加えられ、残りの熱が吸熱反応しているヒータ側第２浅底円筒容器７２内の水素吸蔵合金(７４)に戻されると共に、ケース２内の保温用として使用される。
【００３３】
上記した水素及び熱の流れによって、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)の温度が水素放出時の状態に回復して、２回目のスラスト発生の準備がなされると、電磁弁７７が一旦閉じ、この後、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)の温度が低下する毎に電磁弁７７が開閉を繰り返すことで、上記の状態が維持されることとなる。
【００３４】
次に、上記スラスタ１に、常温環境下において水素を再充填する要領を説明する。
【００３５】
まず、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)に対して、図５の矢印に示すように、シャットオフバルブ６３を介して水素を圧力0.5MPaで供給して充填するのと同時に、シャットオフバルブ７９を開いてヒータ部７のヒータ側第１浅底円筒容器７１内の水素吸蔵合金(７３)から水素を放出させる。この際、水素吸蔵合金(７３)から放出される水素を真空引きしてもよい。
【００３６】
そして、リリーフバルブ２４の開放圧力を0.4MPaに設定しておくと、圧力0.5MPaで供給された水素は、まず、リリーフバルブ２４を通して気貯め室３１に流れ込み、その室内圧が0.1MPaに回復するのに続いて、水素吸蔵合金(６１)に対する充填が完了することとなる。
【００３７】
一方、ヒータ部７のヒータ側第２浅底円筒容器７２内の水素吸蔵合金(７４)に対して、シャットオフバルブ８０を介して水素を圧力0.5MPaで供給して充填すると、図５の白抜き矢印および図６に示すように、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)およびヒータ側第２浅底円筒容器７２内の水素吸蔵合金(７４)の各発熱反応による生成熱がヒータ側第１浅底円筒容器７１内の水素吸蔵合金(７３)に伝わって吸熱反応を引き起こすことから、シャットオフバルブ７９を通してなされる水素吸蔵合金(７３)内の水素の放出が促進されることとなる。この際、水素が充填された水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)が体積変化することによって生じる浅底円筒容器２１の歪みを計測したり、水素吸蔵合金(６１)に吸蔵された水素の量を計測したりすることで、水素の再充填が完了したことを認識するようにしている。
【００３８】
このように、上記したスラスタ１では、水素の貯蔵に水素吸蔵合金(６１)を採用しているため、スラスタ体積が小さくなる分だけ、宇宙への輸送および航行体への装備が容易になされることとなり、加えて、従来のような高圧圧縮を前提とした気密性および高い構造強度を必要としないことから、低コスト化が図られると共に、人間のハンドリングが可能となる。
【００３９】
また、上記したスラスタ１では、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)や、ヒータ部７のヒータ側第２浅底円筒容器７２内の水素吸蔵合金(７４)に水素を再充填可能としているので、スラスタ１を再使用し得ることとなるうえ、常温付近で高圧ガスの取り扱いをしなくても済む水素吸蔵合金(６１)，(７４)を用いるようにしていることから、水素を貯蔵した状態での安全性が極めて高いものとなって、人間がハンドリングや水素の再充填を行い得ることとなる。
【００４０】
さらに、この実施例におけるスラスタ１では、常温付近の環境下における平衡水素圧力の高低に応じて水素を吸蔵・放出する互いに異なる２種類の水素吸蔵合金(７３)，(７４)でヒータ部７を構成し、両水素吸蔵合金(７３)，(７４)の各々の生成熱の差を水素貯蔵部６に加えるようにしているので、水素を放出した水素貯蔵部６を温めるのに、例えば、電熱ヒータを用いる必要がなく、したがって、消費電力の大幅な節約がなされることとなる。
【００４１】
加えて、この実施例におけるスラスタ１では、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)に水素を再充填する段階においてヒータ部７のヒータ側第１浅底円筒容器７１内の水素吸蔵合金(７３)から水素を放出可能としているので、このヒータ部７の水素吸蔵合金(７３)によって水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)から熱が効率よく除去されることとなって、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)に対する水素の再充填作業が迅速になされることとなる。
【００４２】
さらにまた、上記したスラスタ１では、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)を詰め込む浅底円筒容器２１をケース外殻２ａと間隔をおいて設けてあると共に、ヒータ部７の水素吸蔵合金(７３)を詰め込むヒータ側第１浅底円筒容器７１を同じくケース外殻２ａと間隔をおいた状態で設けているので、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)の温度を水素放出時の状態に回復させて維持する場合や、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)に水素を再充填する場合に、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)と、ヒータ部７の水素吸蔵合金(７３)との間における熱の授受が効率よくなされることとなる。
【００４３】
さらにまた、上記したスラスタ１では、水素貯蔵部６とノズル４との間に気貯め室３１を設けているので、水素貯蔵部６から放出された水素を気貯め室３１に一旦貯めることによって、ノズル４から噴射する水素の量が必要量確保されることとなって、より安定したパルスを短い間隔で生じさせ得ることとなる。
【００４４】
上記したスラスタ１では、水素貯蔵部６に設けた水素吸蔵合金(６１)が、大量の水素を吸蔵して低圧貯蔵する貯蔵機能と、常温付近で必要な圧力に昇圧した水素を放出する機能とを併せ持っている場合を示したが、これに限定されるものではなく、水素貯蔵部６に、貯蔵の役割を担う水素吸蔵合金と、この水素吸蔵合金よりも平衡水素圧力の高いコンプレッサの役割を担う水素吸蔵合金との２種類の水素吸蔵合金を設けることも可能である。
【００４５】
また、上記したスラスタ１では、水素貯蔵部６の水素吸蔵合金(６１)を詰め込む浅底円筒容器２１およびヒータ部７の水素吸蔵合金(７３)を詰め込むヒータ側第１浅底円筒容器７１に、熱伝導効率を高めるための環状リブ２１ａおよび放射状リブ(図示省略)で区切られた複数の分割空間２１ｂを設けた構成としているが、両容器２１，７１に、ハニカム状の分割空間を設ける構成とすることも可能である。
【００４６】
さらに、本発明に係わるスラスタの詳細な構成は、上記した実施例に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わるスラスタの一実施例を示す断面説明図である。
【図２】図１に示したスラスタの正面説明図(ａ)，側面説明図(ｂ)および背面説明図(ｃ)である。
【図３】図１のスラスタの作動時における水素および熱の流れを示す断面説明図である。
【図４】図１のスラスタの作動時における水素および熱の流れを説明する図である。
【図５】図１のスラスタの再充填時における水素および熱の流れを示す断面説明図である。
【図６】図１のスラスタの再充填時における水素および熱の流れを説明する図である。
【符号の説明】
１    スラスタ
２    ケース
２ａ  外殻
４    ノズル
６    水素貯蔵部
７    ヒータ部
３１  気貯め室（気貯め部）
６１  水素吸蔵合金
７３  一方の水素吸蔵合金
７４  他方の水素吸蔵合金
【図１】
0004600957.tif 000002
【図２】
0004600957.tif 000003
【図３】
0004600957.tif 000004
【図４】
0004600957.tif 000005
【図５】
0004600957.tif 000006
【図６】
0004600957.tif 000007