(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
除振台を支持する空気ばねアクチュエータと、前記除振台の振動を計測する振動計測手段と、前記除振台の位置を計測する位置計測手段とを有する複数台の能動的支持脚と、
前記振動計測手段の出力に基づく加速度フィードバックループと、前記位置計測手段の出力に基づく位置フィードバックループとを備えた空気ばね式除振装置において、
前記除振台の上に載置されたステージを駆動するための速度プロファイルを生成する速度プロファイラと、前記速度プロファイルに対する補償器としてＰＩ補償器とを備えて、
前記速度プロファイルを前記ＰＩ補償器に通して前記ＰＩ補償器の出力を前記空気ばね式除振装置にフィードフォワードすることによって前記除振台の上に載置された前記ステージの駆動によって発生する前記除振台を含めた本体構造体の傾きを補正することを特徴とするアクティブ除振装置。
【請求項２】
ウエハステージを有し、請求項１に記載のアクティブ除振装置を用いて、前記ウエハステージの駆動によって生じる本体構造体の傾きを補正することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と該露光したウエハを現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レチクルの回路パターンを半導体ウエハに焼き付ける半導体露光装置、または液晶基板製造装置あるいは電子顕微鏡等に用いられるアクティブ除振装置及びそれを使用した露光装置に関する。
【０００２】
より詳しくは、除振台に伝播してくる外部振動を抑制するとともに、除振台に搭載される精密機器自身が発生する振動を積極的に打ち消すことが可能なアクティブ除振装置であって、同装置に搭載されるステージの移動荷重に起因して発生する除振台の傾斜を補正することが可能なアクティブ除振装置及びそれを使用した露光装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】
電子ビームを使う電子顕微鏡、またはステッパ等に代表される半導体露光装置では、除振装置上にウエハステージが搭載されている。この除振装置は、空気ばね、コイルばね、防振ゴム等の振動吸収手段により振動を減衰させる機能を持つ。しかし、上述の如き振動吸収手段を備えた受動的除振装置において、床等から伝播する振動についてはある程度減衰できても、同装置上に搭載されているウエハステージ自身が発生する振動は有効に減衰できない、という問題がある。つまり、ウエハステージ自身の高速移動によって生じる反力は除振装置を揺らせることになり、この振動はウエハステージの位置決め整定性を著しく阻害するものであった。
【０００４】
さらに、受動的除振装置においては、床等から伝播する振動の絶縁（除振）とウエハステージ自身の高速移動で発生する振動の抑制（制振）性能の間にトレードオフの問題があった。これらの問題を解消するべく、近年は能動的除振装置（以下、アクティブ除振装置と呼ぶ）を使用する傾向にある。アクティブ除振装置は、可調整機構の範囲内で除振と制振のトレードオフが解消できるし、なによりもフィードフォワード制御を積極的に適用することによって受動的除振装置では達成できない性能を取得することができる。
【０００５】
さて、受動的除振装置に限らずアクティブ除振装置でも、除振台の上に搭載されたウエハステージがステップ・アンド・リピート、あるいはステップ・アンド・スキャン等した場合には、同ステージの移動に起因した重心変化が生じるので除振台は傾く。十分な時間が経過すると、もちろんこの傾きは復帰するが、ステップ・アンド・リピート、あるいはステップ・アンド・スキャン等は何れも高速に行われ、除振台の位置復帰動作が間に合わずに結局のところ、除振台は傾く。
【０００６】
このような傾きは、当然の物理現象であるが、半導体露光装置にとっては不利益をもたらす。 例えば、 本体構造体に備えられる不図示の機能ユニットが本体構造体の傾きによって振動してしまい、所定の性能が得られない等の障害を引き起こす。対策として、除振台の固有振動数を高くしてすなわち除振台を固くすることによって、外乱に対する応答を抑圧することが考えられる。しかし、この場合には、床等の振動を除振台の上へ伝え易くするため除振特性の劣化を招く。そこで、除振特性を損なうことなく本体構造体の傾きを矯正する技術が必要となっていた。
【０００７】
より詳細な理解を得るべく、除振台の上にウエハステージを搭載するアクティブ除振装置の機械構成を参照しながら上述の内容を説明する。図２は、アクティブ除振装置の機械構成の一例を示す斜視図である。図中、２１は除振台２２に搭載されたウエハステージを、２３−１，２３−２，２３−３は除振台２２を支える能動的支持脚を示す。１脚の能動的支持脚２３の中には、鉛直方向と水平方向の２軸を制御するために必要な個数の加速度センサＡＣ、位置センサＰＯ、圧力センサＰＲ、サーボバルブＳＶ、空気ばねアクチュエータＡＳが内蔵されている。ここで、ＡＣ，ＰＯ等の次に付けた記号は、図中の座標系に従う方位と能動的支持脚２３の配置場所を示す。例えば、Ｙ２とはＹ軸方向であって左側に配置した能動的支持脚２３−２の中にあるものを指す。
【０００８】
ここで、ウエハステージ２１のＹステージが、図中に示すＹ軸方向に、ある距離移動して停止した場合の現象を説明する。ＹステージのＹ軸方向への移動は能動的支持脚２３にとっては、除振台全体の重心変化となり、除振台２２の水平姿勢を維持するために必要な各能動的支持脚２３内の鉛直方向アクチュエータが発生すべき推力は唯一に定まる。Ｙステージが移動して静止状態にあるとき、十分な時間経過の後には、位置制御がかけられているので重心変化に見合う推力を能動的支持脚２３が発生して除振台２２の傾きは復帰する。
【０００９】
すなわち、除振台２２の水準は保たれる。しかしながら、Ｙステージが連続的にステップ・アンド・リピート、あるいはステップ・アンド・スキャン等を行った場合には事情が異なる。連続的にＹステージが移動することによって重心位置も連続的に変化するために、能動的支持脚２３の予め設定した位置への復帰動作が間に合わず、徐々に除振台２２は傾く。Ｘステージがステップ・アンド・リピート、あるいはステップ・アンド・スキャン等した場合も同様の理由により、Ｙ軸回りの回転（傾き）を発生させることになる。このような除振台２２の傾きは、不図示の計測装置の計測精度を劣化させたり、ステージ自身の位置決め整定性を劣化させる要因となり、半導体露光装置の生産性を損なう一原因となっていた。そこで、ステージ移動による重心変化に原因した除振台の傾きを矯正する技術が必要となっていた。
【００１０】
上述の課題を解決するため、従来の技術に係る公知例として、特開平９−１３４８７６号（除振装置及び露光装置）が知られている。ステージ移動時の重心変化により生じる除振台の傾きを、ステージの位置検出手段（レーザ干渉計）の出力に基づいて予測し、この傾きを矯正するような指令値を除振装置の振動制御系にフィードフォワード入力している。アクチュエータは、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）であり、ステージ移動によって生じる除振台の傾きを矯正する定常的な電流を通電している。容易にわかるように、定常的な電流の通電によってもたらされる弊害は以下の通りである。
（１）ＶＣＭ駆動電源の大型化を招く。
（２）ＶＣＭ及びそれを駆動する電力アンプが発熱する。
（３）ＶＣＭ及び電力アンプの発熱回収用の冷却装置を備えねばならない。
（４）半導体露光装置全体に対する温度調節装置の大型化を招来する。
【００１１】
したがって、半導体露光装置のような大型の本体構造体に対する除振・制振用のＶＣＭには直流電流を通電しないことが望ましい。力が必要な仕事は、サーボバルブ開閉によって大重量を支持できる空気ばねアクチュエータに任せるべきである。すなわち、ステージ移動に伴う荷重偏在によって生じる除振台の傾きは、空気ばねアクチュエータによって矯正されることが望ましい。
【００１２】
しかし、移動荷重補正を実現せんとしたときの技術上の課題は存在する。それは、サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータの特性が概ね積分特性であることによる。サーボバルブを駆動する信号が積分されたものが、実際に発生する駆動力となることに起因する。
【００１３】
そこで、本発明者等によって、空気ばねアクチュエータを駆動することによって移動荷重を補正する技術が幾つか発明されている。
【００１４】
一つ目の手段は、 特開平１０−２５６１４１号（能動的除振装置）の中で開示した圧力フィードバックを有益に使い、かつステージの移動位置情報に基づいて除振台の傾きを補正する装置構成を与えるものである。特開平１１−３２７６５７号（アクティブ除振装置及び露光装置）に公開している。
【００１５】
二つ目の手段は、圧力フィードバックを掛けることを前提にしないものであり、特開平１１−２６４４４４号（空気ばね式除振装置）に開示している。ここでは、空気ばねの駆動特性がほぼ積分特性であることを前提にする。除振台に搭載されているステージ等の移動荷重を駆動するときの目標値としての速度プロファイルを、空気ばねアクチュエータの弁を開閉するサーボバルブを駆動する電圧電流変換器の前段にフィードフォワードしている。速度プロファイルが空気ばねアクチュエータの積分特性によって１回積分されて位置相当の駆動力を発生することになるので、移動荷重の位置に応じた駆動力を発生させることができて傾斜が補正できるのである。
【００１６】
前者の特開平１１−３２７６５７号では、空気ばねアクチュエータに対して圧力フィードバックを投入するという条件下で、移動荷重の変化に応じて圧力を増減させることによって除振台の傾斜を補正することができた。しかしながら、圧力フィードバックの付加は、圧力計の装着が必要となり、さらにはフィードバック系の調整を厳密に実施する必要がある等、コストを押し上げてしまうことが問題であった。
【００１７】
また、後者の特開平１１−２６４４４４号は、圧力フィードバックの実装を前提にしないので、簡易な移動荷重補正であることが特徴となる。空気ばねアクチュエータの特性が完全な積分特性であれば、そこに速度信号を入力すると位置に応じた駆動力が発生できる。しかしながら、空気ばねアクチュエータの特性は厳密には積分特性ではない。実際には、極低周波域で折点を有する疑似積分特性である。したがって、そのような特性に速度信号を入力しても、厳密に移動荷重の位置に応じた駆動力を発生させることはできない。
【００１８】
実際に、移動荷重補正のためのフィードフォワード入力がない場合と比較すれば、移動荷重に対する除振台の傾斜をある程度は矯正することができるが、なお傾斜を残留させてしまうという欠点があった。
【００１９】
本発明では、圧力フィードバックの実装を前提にしない移動荷重補正を提供するものである。すなわち、特開平１１−２６４４４４号が実施できる移動荷重補正の効果に比較して、より補正の効果を増進したアクティブ除振装置を提供せんとするものである。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
露光装置では、過大な加減速を行うステージがアクティブ除振装置上に搭載されているという機械構成が採用されている。同ステージの移動に伴って、アクティブ除振装置によって支えられる本体構造体の重心は移動する。このとき、アクティブ除振装置における位置制御の機能によって、本体構造体は所定の位置へと復帰させるよう動作する。しかし、ステージの移動量が大きく、移動時間が短く、かつ頻繁な移動が繰り返される場合には、本体構造体の所定位置への復帰が間に合わなくなり、除振台はウエハステージの高速移動によって傾く。本体構造体の傾きは、ステージの位置決め特性を移動場所ごとにばらつかせる要因となる等、生産性を劣化させる問題を引き起こす。
【００２１】
この問題を解決するために、既に、ステージの高速移動に起因する本体構造体の傾斜を矯正する移動荷重補正を実装したアクティブ除振装置及びこのアクティブ除振装置を組み込んだ露光装置が提供されていた。
【００２２】
しかしながら、空気ばねをアクチュエータとするアクティブ除振装置の場合には、圧力フィードバックを施すことが前提であった。圧力フィードバックは、空気ばねの内圧を計測する圧力計の装着を必須とすることは勿論のこと、これを含むフィードバック系の調整は煩雑であった。そのため、高精度な制御を要しない場合には、圧力計を装着しないアクティブ除振装置が露光装置内で稼働している。この場合でも、ステージの高速移動に起因した本体構造体の傾斜は抑制せねばならない。
【００２３】
この要求に応えるために、空気ばねの駆動特性が概ね積分器であるということを前提に、ステージの速度プロファイルに適切なゲインを掛けて空気ばねをフィードフォワード的に駆動することによって、ステージの位置に対応する駆動力を空気ばねに発生させて移動荷重補正を行っていた。このフィードフォワードを投入したとき、本体構造体の傾斜は概ね抑制できるものの補正しきれない成分を残すものとなっていた。アクティブ除振装置及びこれを使った露光装置の性能向上を図るためには、残留させている本体構造体の傾斜をより抑えねばならないという目的が残されていた。
【００２４】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、アクティブ除振装置及びこれを使った露光装置の性能向上を図るために、残留させている本体構造体の傾斜を従来より抑えることを課題とする。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のアクティブ除振装置は、除振台を支持する空気ばねアクチュエータと、前記除振台の振動を計測する振動計測手段と、前記除振台の位置を計測する位置計測手段とを有する複数台の能動的支持脚と、前記振動計測手段の出力に基づく加速度フィードバックループと、前記位置計測手段の出力に基づく位置フィードバックループとを備えた空気ばね式除振装置において、前記除振台の上に載置されたステージを駆動するための速度プロファイルを生成する速度プロファイラと、前記速度プロファイルに対する補償器としてＰＩ補償器とを備えて、前記速度プロファイルを前記ＰＩ補償器に通して前記ＰＩ補償器の出力を前記空気ばね式除振装置にフィードフォワードすることによって前記除振台の上に載置された前記ステージの駆動によって発生する前記除振台を含めた本体構造体の傾きを補正することを特徴とする。
【００２７】
【実施例】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
［実施例１］
図１は、本発明の一実施例に係るアクティブ除振装置のブロック図である。同図において、位置センサＰＯ−Ｚ１，ＰＯ−Ｚ２，ＰＯ−Ｚ３，ＰＯ−Ｘ１，ＰＯ−Ｙ２，ＰＯ−Ｙ３は位置計測手段であり、その出力は位置目標値出力部１の出力である（Ｚ10，Ｚ20，Ｚ30，Ｘ10，Ｙ20，Ｙ30）と比較されて、 各軸の位置偏差信号（ｅz1，ｅz2，ｅz3，ｅx1，ｅy2，ｅy3）となる。これらの偏差信号は、除振台２２の並進運動と各軸回りの回転運動の合計６自由度の運動モード位置偏差信号（ｅx ，ｅy ，ｅz ，ｅθx ，ｅθy ，ｅθz ）を演算出力する位置信号に関する運動モード抽出演算手段２に導かれる。これらの出力信号は、運動モードごとにほぼ非干渉で、位置の特性を調整する位置に関するＰＩ補償器３に導かれる。ここで、Ｐは比例動作を、Ｉは積分動作を意味し、このループを位置フィードバックループと称する。
【００２８】
次に、振動計測手段の代表である加速度センサＡＣ−Ｚ１，ＡＣ−Ｚ２，ＡＣ−Ｚ３，ＡＣ−Ｘ１，ＡＣ−Ｙ２，ＡＣ−Ｙ３の出力は、高周波ノイズを除去する等の適切なフィルタリング処理が施されて、即座に加速度に関する運動モード抽出演算手段４への入力となる。その出力は、運動モード加速度信号（ａx ，ａy ，ａz ，ａθx ，ａθy ，ａθz ）である。運動モードごとに最適なダンピングを設定するために、運動モード加速度信号（ａx ，ａy ，ａz ，ａθx ，ａθy ，ａθz ）は、次段の加速度信号に関するゲイン補償器５に導かれる。このゲインを調整することによって、運動モードごとに最適なダンピング特性が得られる。このループを加速度フィードバックループと称する。
【００２９】
位置に関するＰＩ補償器３の出力と、加速度に関するゲイン補償器５の出力である負帰還信号は加算されて運動モード別駆動信号（ｄx ，ｄy ，ｄz ，ｄθx ，ｄθy ，ｄθz ）となる。次いで、運動モード別駆動信号は、各軸の空気ばねアクチュエータを駆動する入力信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）を生成するための運動モード分配演算手段６への入力となり、運動モード分配演算手段６の出力（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）によって、空気ばねの動作流体である空気を出し入れするサーボバルブＳＶの弁開閉をつかさどる電圧電流変換器（Ｖ１変換器）７が励磁される。
【００３０】
上述のアクティブ除振装置によって支持される本体構造体には、急激な加減速を行うウエハステージ２１（図２）が載置されている。このステージが駆動されると、除振台２２（図２）を含む本体構造体の重心が変化して、同本体構造体は傾斜する。この傾斜を矯正するために、本実施例では、ウエハステージ２１を駆動する速度プロファイルをＹスキャン速度プロファイラ８及びＸステップ速度プロファイラ９にて生成する。すなわち、ここではウエハステージ２１がＹ軸方向にスキャン駆動され、Ｘ軸方向にはステップ駆動されるものとし、各速度プロファイラ８及び９からウエハステージ２１を駆動する速度プロファイルが出力される。
【００３１】
図５は、加速度プロファイル及び速度プロファイル並びに位置プロファイルの一例を示す図である。速度プロファイルとしては、例えば図５の中段に示される台形状の速度プロファイルである。続いて、速度プロファイルの出力信号は移動荷重補正に関するＰＩ補償器１０Ｘと１０Ｙに導かれて、運動モード駆動信号が流れる箇所にフィードフォワードする。
【００３２】
より具体的に、ウエハステージ２１がＹ軸方向にスキャンする場合、主に除振台２２を含む本体構造体は、Ｘ軸回りに回転することによって傾く。そこで、ウエハステージ２１のＹ軸方向へとスキャンさせるときの速度プロファイルをＹスキャン速度プロファイラ８にて生成し、これを移動荷重補正に関するＰＩ補償器１０Ｙを介して運動モード駆動信号ｄθx の箇所に加算する。ウエハステージ２１（図２）がＸ軸方向にステップ駆動されると、除振台２２（図２）を含む本体構造体はＹ軸回りに回転することによって傾く。したがって、ウエハステージ２１をＸ軸方向にステップ駆動する速度プロファイルをＸステップ速度プロファイラ９にて生成し、これを移動荷重補正に関するＰＩ補償器１０Ｘを介して運動モード駆動信号ｄθy の箇所に加算する。
【００３３】
さて、従来の技術（特開平１１−２６４４４４号等）では、速度プロファイルをＰ補償器を介して、すなわち速度プロファイルの出力に適切なゲインを掛けて、傾斜を矯正したい運動モード駆動信号の箇所に加算していた。本実施例では、Ｐ補償器に替えてＰＩ補償器を用いることを特徴とする。Ｐ補償器からＰＩ補償器への変更ではあるが、移動荷重補正の効果は格段に優れる。
【００３４】
そこで、本実施例の効果を比較において明らかとなす実験結果である単発スキャン動作における本体構造体の傾斜を図３に示す。図３（ａ）は、ステージの速度プロファイルを適切なゲインを掛けて空気ばねをアクチュエータとするアクティブ除振装置にフィードフォワード入力したときの除振台の傾きを示す信号である。
【００３５】
図示しないが、このフィードフォワードを掛けないときに比べれば、除振台の傾斜は大きく抑制できている。しかしながら、低周波の揺らぎはまだ存在している。つまり、フィードフォワード信号の印加によって、概ね除振台２２（図２）を含めた本体構造体の傾斜は抑制されるものの、傾斜の矯正はまだ不十分であった。そこで、本実施例のように、ウエハステージ２１（図２）のＹ軸方向ヘスキャンさせたときの速度プロファイルをＰＩ補償器１０Ｙに通してフィードフォワードした。この結果は、図３（ｂ）に示される。加減速期間を除外したステージの等速運動期間の除振台の傾斜に、低周波の揺らぎは観測されない。つまり、除振台２２を含めた本体構造体の傾斜（Ｘ軸回りの回転）は、きれいに矯正できている。
【００３６】
次に、ウエハステージ２１（図２）を連続的にスキャンさせたときにおける、従来の移動荷重補正と本実施例に係る移動荷重補正をおこなったときの除振台２２（図２）を含めた本体構造体の傾斜（Ｘ軸回りの回転）を図４に示す。同図（ａ）は従来の移動荷重補正を施した場合、（ｂ）は本実施例に係る移動荷重補正を施した場合の除振台の傾斜を表す偏差信号である。本実施例の方が、除振台の傾斜を矯正していることが分かる。
【００３７】
［実施例２］
実施例１では、ウエハステージ２１を駆動する速度プロファイルをアクティブ除振装置に対するフィードフォワード信号となし、これを移動荷重補正に関するＰＩ補償器１０Ｘ，１０Ｙに通して空気ばねアクチュエータを駆動した。このようなフィードフォワードと等価な効果は、別の手段によっても実施することができる。より具体的に、ウエハステージ２１（図２）を駆動するときのプロファイルとして、速度プロファイルのみならず位置プロファイルも出力するようにする。速度プロファイル及び位置プロファイルの出力に適切なゲインを掛けて合算し、合算した信号を使って空気ばねアクチュエータを駆動する。このとき、実施例１に基づく図３と図４の効果が同様に得られる。
【００３８】
さらに、高精度な移動荷重補正を実施するためには、実施例１で使った移動荷重補正に関するＰＩ補償器１０Ｘ，１０Ｙに替えてこれをＰＩＤ補償器にすることもできる。
【００３９】
ここで、Ｐは比例動作を、Ｉは積分動作を、そしてＤは微分動作を意味する。すなわち、実施例２の移動荷重補正を適用する際には、ウエハステージ２１（図２）の速度プロファイルと位置プロファイルに加えて加速度プロファイルを出力する。そして、それぞれのプロファイルを適切なＰ補償器に通して合算し、この信号に基づいて空気ばねアクチュエータをフィードフォワード駆動することになる。
【００４０】
したがって、本実施例の移動荷重補正のためのフィードフォワード構成は、図６のようになる。同図において、３０はそれぞれ各プロファイラであり、速度プロファイラ３０Ｖ、位置プロファイラ３０Ｐ、そして加速度プロファイラ３０Ａから構成されている。それぞれのプロファイラ３０Ｖ，Ｐ，Ａからは、例えば図５に示すようなプロファイルが出力される。そして、速度プロファイラ３０Ｖの出力はＰ補償器３１Ｖに、位置プロファイラ３０Ｐの出力はＰ補償器３１Ｐに、そして加速度プロファイラ３０Ａの出力はＰ補償器３１Ａにそれぞれ通すことによって加算されて空気ばねアクチュエータを駆動するフィードフォワード信号３２が生成される。フィードフォワード信号３２は、図１においては、運動モード別駆動信号のｄθx あるいはｄθy の箇所の加算されるものである。
【００４１】
なお、実施例１では図１において、移動荷重たるステージの速度プロファイルをフィードフォワードのための信号として用いた。そして、これをＰＩ補償器１０Ｘ，１０Ｙに通した信号を、空気ばねアクチュエータを駆動するＶＩ変換器７の前段部にフィードフォワードした。したがって、ＰＩ補償器１０Ｘ，１０Ｙはオープンで動作させている。これら補償器への入力にノイズ等が混入していると、これを積分して過大なフィードフォワード信号を生成してしまう。結果として、除振台２２（図２）を含めた本体構造体を無意味に傾かせてしまうことが懸念される。
【００４２】
しかしながら、本実施例では先にも述べたように図１において、ウエハステージ２１（図２）を駆動する速度プロファイルをＰＩ補償器１０Ｘ，１０Ｙに通している。ウエハステージ２１を駆動する閉ループの中から信号を取り出して、これを移動荷重補正のためのフィードフォワード信号として使った場合には、定常的なノイズ成分や、残留しているオフセッ卜信号をＰＩ補償器１０Ｘ，１０Ｙの積分器が積分していくことによって、無意味な移動荷重補正のための信号を生成してしまう。しかるに、本実施例では、ウエハステージ２１を駆動するための目標の速度プロファイルをフィードフォワード信号として使用する。したがって、ノイズ及び定常的なオフセット信号を積分することはありえない。つまり、移動荷重補正に誤動作を招く恐れはないという優れた特徴を持つ。そして、この特徴は実施例２でも同様に成立している。
【００４３】
さらに、実施例１と実施例２ともに、アクティブ除振装置に搭載されているステージは、半導体ウエハを載置するウエハステージ２１（図２）であった。しかしながら、回路パターンが描画されたレチクルを載置するレチクルステージと、同ステージを含めた本体構造体がアクティブ除振装置によって支持されている場合に対しても本実施例の適用は妨げられない。
【００４４】
すなわち、原版を載置するレチクルステージと、レチクルステージを支持する第１のアクティブ除振装置と、ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを支持する第２のアクティブ除振装置とを備える露光装置において、実施例１のように、レチクルステージを駆動する速度プロファイルを第１のＰＩ補償器を介して第１のアクティブ除振装置にフィードフォワードし、かつウエハステージを駆動する速度プロファイルを第２のＰＩ補償器を介して第２のアクティブ除振装置にフィードフォワードしてなる露光装置も本実施例に属する。もちろん、図６の構成を使って第１及び第２のアクティブ除振装置にフィードフォワードしてなる露光装置も本実施例に属する。
【００４５】
［デバイス生産方法の実施例］
次に、上記説明した露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
図７は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００４６】
図８は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
本実施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造することができる。
【００４７】
【発明の効果】
本発明の効果は以下の通りである。
（１）ステージの高速移動による重心変化に起因した本体構造体の傾きを、安価なアクティブ除振装置の構成下において抑制、または軽減することができる。
（２）従来、空気ばねアクチュエータの内圧を計測して、これをフィードバックするという圧力フィードバック（もしくは、荷重を検出してこれをフィードバックすることも含む）の実装を前提にして、ステージの移動距離に応じて空気ばねアクチュエータの内圧を増減させていた。しかし、本発明によれば、圧力フィードバックを実装しないアクティブ除振装置においても効果的な移動荷重補正が実施可能となる。したがって、圧力計が不要なことに伴い、その購入、能動的支持脚への組み込み、及び電気実装も不要となる。結果として、大幅なコストダウンが可能になるという効果がある。
（３）ステージの高速かつ連続的な移動にも拘らず、本体構造体の傾きが補正されてその量をほぼゼロにできるようになったので、本体構造体が傾くことに起因した外乱をステージに与えることはなくなる。つまり、ステージの移動場所によらず、常に安定した位置決め、あるいはスキャン性能を取得することができる。具体的には、ステージの位置決め調整をすることなく、単に本発明の移動荷重補正を投入するだけで、位置決め時間の短縮を図ることができる。
（４）もって、露光装置の生産性に寄与するところが大きい、という効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施例のアクティブ除振装置を示す図である。
【図２】  アクティブ除振装置の機械構成の一例を示す斜視図である。
【図３】  単発スキャン動作における本体構造体の傾斜を示す図である。
（ａ）従来の移動荷重補正を投入した場合の除振台の傾きを示す信号である。
（ｂ）本発明の移動荷重補正を投入した場合の除振台の傾きを示す信号である。
【図４】  連続スキャン動作における本体構造体の傾斜を示す図である。
（ａ）従来の移動荷重補正を投入した場合の除振台の傾斜を表す偏差信号である。
（ｂ）本発明の移動荷重補正を投入した場合の除振台の傾斜を表す偏差信号である。
【図５】  加速度、速度及び位置プロファイルの一例を示す図である。
【図６】  本発明の実施例２の移動荷重補正のためのフィードフォワード構成を示す図である。
【図７】  微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図８】  図７におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【符号の説明】
１：位置目標値出力部、２：位置信号に関する運動モード抽出演算手段、３：位置に関するＰＩ補償器、４：加速度に関する運動モード抽出演算手段、５：加速度信号に関するゲイン補償器、６：運動モード分配演算手段、７：電圧電流変換器（ＶＩ変換器）、８：Ｙスキャン速度プロファイラ、９：Ｘステップ速度プロファイラ、１０Ｘ：ＰＩ補償器、１０Ｙ：ＰＩ補償器、２１：ウエハステージ、２２：除振台、２３，２３−１，２３−２，２３−３：能動的支持脚、 ＡＣ：加速度センサ、ＰＯ：位置センサ、ＡＳ：空気ばねアクチュエータ、ＳＶ：サーババルブ、ＰＲ：圧力センサ、３０：各プロファイラ、３１Ｐ，Ｖ，Ａ：Ｐ補償器、３２：フィードフォワード信号。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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