(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無金属フタロシアニン化合物またはチタニルオキシフタロシアニン化合物に、フタルイミドアンモニウム化合物、フタルイミドナトリウム化合物またはフタルイミド−１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン化合物を添加することにより電子写真用感光体材料を製造する方法。
【請求項２】
前記無金属フタロシアニン化合物またはチタニルオキシフタロシアニン化合物が、塩基性化合物で処理されたものでないことを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体材料を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真方式のプリンター、複写機、ファクシミリなどに用いられる電子写真用感光体材料、電子写真用感光体、およびそれらの製造方法に関する。
【０００２】
具体的には、添加剤の改良による、優れた表面電荷保持率を有する電子写真用感光体材料、電子写真用感光体、およびそれらの製造方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】
電子写真用感光体には、暗所で表面電荷を保持する機能、光を受容して電荷を発生する機能、光を受容して電荷を輸送する機能が要求され、一つの層でこれらの機能を併せ持ったいわゆる単層型感光体と、主として電荷発生に寄与する層と暗所での表面電荷の保持および光受容時の電荷輸送に寄与する層とに機能分離した層を積層したいわゆる積層型感光体がある。
【０００４】
これらの電子写真用感光体を用いた電子写真法による画像形成には、例えば、カールソン法が適用される。この方式での画像形成は暗所での感光体へのコロナ放電による帯電、帯電された感光体表面上への原稿の文字や絵などの静電画像の形成、形成された静電画像のトナーによる現像、現像されたトナー像の紙などの支持体への転写定着により行われ、トナー像転写後の感光体は除電、残留トナーの除去、光除電などを行った後、再使用に供される。
【０００５】
従来より、上述の電子写真用感光体の感光材料としては、セレン、セレン合金、酸化亜鉛あるいは硫化カドミウムなどの無機光導電性物質を樹脂結着剤中に分散させたものの他に、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、９，１０−アントラセンジオールポリエステル、ヒドラゾン、スチルベン、ブタジエン、ベンジジン、フタロシアニンまたはビスアゾ化合物などの有機光導電性物質を樹脂結着剤中に分散させたもの、あるいは真空蒸着または昇華させたものなどが利用されている。
【０００６】
電子写真関係でフタルイミド塩を用いる例としては特開昭５８−２１１１６１号、特開平２−２７２４６１号、特開平４−２９４３６８号、米国特許明細書５５１４５０５号、米国特許明細書５５６３０１４号等に記載があるが、これらの公知例はトナーおよび透明化剤に関するもののみである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、電子写真用感光体材料、電子写真用感光体、およびそれらの製造方法については種々検討されてきているが、優れた表面電荷保持率等を得るまでには至っていなかった。
【０００８】
本発明は、フタルイミド塩化合物が電子写真特性に与える影響に着目し、特に表面電荷保持率に優れた電子写真用感光体材料、電子写真用感光体、およびそれらの製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、電荷発生機能を有する電子写真用感光体材料にフタルイミド塩化合物を含有させるか、または電子写真用感光体の電荷発生物質を含有する感光層にフタルイミド塩化合物を含有させたところ、表面電荷保持率が大幅に向上することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明の電荷発生機能を有する電子写真用感光体材料は、フタルイミド塩化合物を含有することを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の電子写真用感光体は、導電性基体上に電荷発生物質を含有する感光層を有する電子写真用感光体において、当該感光層がフタルイミド塩化合物を含有することを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の電子写真用感光体材料の製造方法は、電荷発生物質にフタルイミド塩化合物を添加すること、または、フタロシアニン化合物を塩基性化合物で処理してフタルイミド塩化合物を生成させることを特徴とするものである。
【００１３】
さらに、本発明の電子写真用感光体の製造方法は、導電性基体上にフタルイミド塩化合物を含有した電子写真用感光体材料を含む塗布液を塗布して感光層を形成することを特徴とするものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の感光体の具体的構成を図面に基づいて説明する。
【００１５】
電子写真用感光体には、いわゆる負帯電積層型感光体、正帯電積層型感光体、正帯電単層型感光体などがある。以下に、負帯電積層型感光体を例にとり具体的に説明するが、フタルイミド塩化合物に関する以外の感光体の形成もしくは製造等のための物質・方法等は、公知の物質・方法等からも適宜好適なものを選択することができる。
【００１６】
図１は、代表的な電子写真用感光体の断面図であり、（ａ）は機能分離型電子写真用感光体であり、（ｂ）は単層型電子写真用感光体である。負帯電型電子写真用感光体では、導電性基体１の上に、下引層２、電荷発生機能を備えた電荷発生層３および電荷輸送機能を備えた電荷輸送層４からなる感光層５が、順次積層されている。正帯電単層型電子写真用感光体では、導電性基体１の上に、下引層２、電荷発生および電荷輸送の機能を兼ねた単一の感光層５が、順次積層されている。いずれの型においても下引層２は必ずしも必要ではない。これらの感光層５には受光して電荷を輸送する電荷輸送剤が含まれている。
【００１７】
導電性基体１は、感光体の電極としての役目と同時に他の各層の支持体としての役目も持っており、円筒状、板状、フィルム状のいずれでもよく、材質的にはアルミニウム、ステンレス鋼、ニッケルなどの金属、あるいはガラス、樹脂などの上に導電処理を施したものでもよい。
【００１８】
下引層２には、アルコール可溶ポリアミド、溶剤可溶芳香族ポリアミド、熱硬化型ウレタン樹脂などを用いることができる。アルコール可溶ポリアミドとしては、ナイロン６、ナイロン８、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２などの共重合化合物や、Ｎ−アルキル変性またはＮ−アルコキシアルキル変性ナイロンなどが好ましい。これらの具体的な化合物として、アミランＣＭ８０００（東レ（株）製、６／６６／６１０／１２共重合ナイロン）、エルバマイド９０６１（デュポン・ジャパン（株）製、６／６６／６１２共重合ナイロン）、ダイアミドＴ−１７０（ダイセル・ヒュルス（株）製、ナイロン１２主体共重合ナイロン）などを挙げることができる。
【００１９】
さらに、下引層２には、ＴｉＯ2、アルミナ、炭酸カルシウム、シリカ等の無機微粉末を添加することができる。
【００２０】
電荷発生層３は、電荷発生物質の粒子をそのまま、または樹脂結着剤を用いて溶剤に分散させた材料を塗布して形成され、光を受容して電荷を発生する。電荷発生層３は、その電荷発生効率が高いことと同時に発生した電荷の電荷輸送層４への注入性が重要で、電界依存性が少なく低電界でも注入の良いことが望ましい。
【００２１】
電荷発生物質としては各種フタロシアニン、アゾ、キノン、インジゴ、シアニン、スクアリリウム、アズレニウム化合物などの顔料や染料などを挙げることができる。
【００２２】
電荷発生層３は電荷輸送層４が積層されるため、その膜厚は電荷発生物質の光吸収係数より決まり、好適には５μm以下であり、より好適には１μm以下である。
【００２３】
電荷発生層３は電荷発生物質を主体としてこれに電荷輸送物質などを添加して使用することも可能である。電荷発生層用の樹脂結着剤としては、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ、ポリビニルブチラール、フェノキシ、シリコーン、メタクリル酸エステル、塩化ビニル、ケタール、酢酸ビニルなどの重合および共重合体、およびこれらのハロゲン化合物、シアノエチル化合物などを適宜組み合わせて使用することが可能である。なお、電荷発生物質の使用量は、かかる樹脂結着剤１００重量部に対し、１０〜５０００重量部が好ましく、より好ましくは５０〜１０００重量部である。
【００２４】
電荷輸送層４は、樹脂結着剤中に電荷輸送物質、例えば、各種ヒドラゾン系化合物、スチリル系化合物、アミン系化合物およびこれらの誘導体を単独または組合せたものなどを溶解させた材料からなる塗布膜であり、暗所では絶縁体層として感光体の電荷を保持し、光受容時には電荷発生層から注入される電荷を輸送する機能を有する。電荷輸送層用の樹脂結着剤としては、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、メタクリル酸エステルの重合体および共重合体などが用いられるが、機械的、化学的および電気的安定性、密着性などのほかに電荷輸送物質との相溶性が重要である。電荷輸送物質の使用量は、好ましくは樹脂結着剤１００重量部に対し、２０〜５００重量部、より好ましくは３０〜３００重量部である。
【００２５】
電荷輸送層の膜厚は、実用的に有効な表面電荷を保持するためには３〜５０μmの範囲が好ましく、より好適には１５〜４０μmである。
【００２６】
フタルイミド塩化合物としては、フタルイミドアンモニウム（式１）、フタルイミドナトリウム（式２）、フタルイミドカリウム（式３）、フタルイミド−１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（式４、以下フタルイミドＤＢＵと略称）、およびフタルイミド−１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（式５、以下フタルイミドＤＢＮと略称）等が好ましい。
【００２７】
【化１】
0004423433.tif 000002
【００２８】
【化２】
0004423433.tif 000003
【００２９】
【化３】
0004423433.tif 000004
【００３０】
【化４】
0004423433.tif 000005
【００３１】
【化５】
0004423433.tif 000006
【００３２】
フタルイミド塩化合物は市販のものを用いる。また、フタロシアニン化合物を塩基性化合物で分解することにより生成させることもできる。
【００３３】
フタルイミド塩化合物の使用量は要求される電子写真特性により適宜調節することができる。使用量は電荷発生機能を有する電子写真用感光体材料に対し、好ましくは０．０００００１〜５重量％、より好ましくは０．００００１〜１重量％である。
【００３４】
このようにすることで、保持率が大幅に向上する機構としては、以下のようなものが考えられる。
即ち、フタルイミド塩化合物は電荷発生機能を有する電子写真用感光体材料の結晶の成長を適度に阻害するとともに、一方で結晶の分散を向上させることにより、保持率が向上していると考えることもできる。
【００３５】
なお、本発明の電子写真用感光体における前記フタルイミド塩化合物を含有する感光層は、単層型および積層型の双方を含むものであり、いずれかに限定されるものではない。
【００３６】
また、本発明の製造方法における前記塗布液は、浸漬塗布法または噴霧塗布法等の種々の塗布方法に適用することが可能であり、いずれかの塗布方法に限定されるものではない。
【００３７】
【実施例】
合成実施例１
反応容器にｏ−フタロジニトリル（東京化成工業（株）製）６００ｇ、ホルムアミド（関東化学（株）製）３００ｇ，ナトリウムメトキシド（関東化学（株）製）１００ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（関東化学（株）製）１．０Ｌを加えて窒素雰囲気下で攪拌した。この後１８０℃で１５時間加熱・攪拌した。
【００３８】
この反応液を１３０℃まで放冷してから濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌで洗浄した。このウエットケーキを窒素雰囲気下Ｎ−メチル−２−ピロリジノン１．０Ｌで１２０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌ、アセトン（関東化学（株）製）１Ｌ、および温純水４Ｌで順次洗浄しウエットケーキとした。
【００３９】
このウエットケーキをさらに水４Ｌ・３６％塩酸（関東化学（株）製）３６０ｍＬの希塩酸で８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温純水４Ｌで洗浄したのち乾燥して、粗製の無金属フタロシアニンとした。
【００４０】
−５℃の９６％硫酸（関東化学（株）製）４ｋｇに、液温が−５℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記の無金属フタロシアニン２００ｇを加えた。−５℃に保持して１時間冷却・攪拌した。さらに水３５Ｌ・氷５ｋｇに、液温が１０℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記の硫酸溶液を加えて１時間冷却・攪拌した。これを濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００４１】
このウエットケーキをさらに水１０Ｌ・３６％塩酸７７０ｍＬの希塩酸と混合し８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００４２】
このウエットケーキとｏ−ジクロロベンゼン（関東化学（株）製）１．５Ｌをボールミル装置でミリングした。これをアセトン１．５Ｌ、メタノール１．５Ｌで取り出し濾過し、純水１．５Ｌで洗浄したのち乾燥して粉末とした。
【００４３】
この粉末にフタルイミドアンモニウムを０．０００００１重量％添加したのち混合して、無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例２
フタルイミドアンモニウムを０．００１重量％添加したのち混合した以外は、合成実施例１と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例３
フタルイミドアンモニウムを５重量％添加したのち混合した以外は、合成実施例１と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例４
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドナトリウムに変えた以外は、合成実施例１と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例５
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドナトリウムに変えた以外は、合成実施例２と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例６
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドナトリウムに変えた以外は、合成実施例３と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例７
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドＤＢＵ（米国アルドリッチ社製）に変えた以外は、合成実施例１と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例８
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドＤＢＵ（米国アルドリッチ社製）に変えた以外は、合成実施例２と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例９
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドＤＢＵ（米国アルドリッチ社製）に変えた以外は、合成実施例３と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成参考例１
反応容器にｏ−フタロジニトリル６００ｇ、ホルムアミド３００ｇ、ナトリウムメトキシド１００ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン１．０Ｌを加えて窒素雰囲気下で攪拌した。この後１８０℃で１５時間加熱・攪拌した。
【００４４】
この反応液を１３０℃まで放冷してから濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌで洗浄した。このウエットケーキを窒素雰囲気下Ｎ−メチル−２−ピロリジノン１．０Ｌで１２０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌ、アセトン１Ｌ、および温純水４Ｌで順次洗浄しウエットケーキとした。
【００４５】
このウエットケーキをさらに水４Ｌ・３６％塩酸３６０ｍＬの希塩酸で８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温純水４Ｌで洗浄したのち乾燥して、粗製の無金属フタロシアニンとした。
【００４６】
−５℃の９６％硫酸４ｋｇに、液温が−５℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記の無金属フタロシアニン２００ｇを加えた。−５℃に保持して１時間冷却・攪拌した。さらに水３５Ｌ・氷５ｋｇに、液温が１０℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記の硫酸溶液を加えて１時間冷却・攪拌した。これを濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００４７】
このウエットケーキをさらに水に１０Ｌ・３６％塩酸７７０ｍＬの希塩酸と混合し、８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００４８】
このウエットケーキをさらに水１０Ｌ・水酸化ナトリウム（関東化学（株）製）１０００ｇの水酸化ナトリウム水溶液で８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温純水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００４９】
このウエットケーキとｏ−ジクロロベンゼン１．５Ｌをボールミル装置でミリングした。これをアセトン１．５Ｌ、メタノール１．５Ｌで取り出し濾過し、純水１．５Ｌで洗浄したのち乾燥して、無金属フタロシアニンを製造した。
【００５０】
この無金属フタロシアニンをイオンクロマトグラフ装置で分析したところ、フタルイミドナトリウムを０．０２重量％含有していた。
合成比較例１
フタルイミドアンモニウムを添加しないこと以外は、合成実施例１と同様に無金属フタロシアニンを製造した。
合成実施例１１
反応容器にｏ−フタロジニトリル８００ｇ、キノリン（関東化学（株）製）１．８Ｌを加えて攪拌した。窒素雰囲気下四塩化チタン（キシダ化学（株）製）２９７ｇを滴下し攪拌した。滴下後、１８０℃１５時間加熱・攪拌した。
【００５１】
この反応液を１３０℃まで放冷してから濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌで洗浄した。このウエットケーキを窒素雰囲気下Ｎ−メチル−２−ピロリジノン１．８Ｌで１６０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌ、アセトン２Ｌ、メタノール２Ｌ、および温水４Ｌで順次洗浄しウエットケーキとした。
【００５２】
このウエットケーキをさらに水４Ｌ・３６％塩酸３６０ｍＬの希塩酸で８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温水４Ｌで洗浄したのち乾燥した。
【００５３】
−５℃の９６％硫酸４ｋｇに、液温が−５℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記のチタニルオキシフタロシアニン２００ｇを加えた。−５℃に保持して１時間冷却・攪拌した。さらに水３５Ｌ・氷５ｋｇに液温が１０℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記の硫酸溶液を加えて１時間冷却・攪拌した。これを濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００５４】
このウエットケーキをさらに水１０Ｌ・３６５塩酸７７０ｍＬの希塩酸と混合し８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００５５】
このウエットケーキとｏ−ジクロロベンゼン１．５Ｌをボールミル装置でミリングした。これをアセトン１．５Ｌ、メタノー１．５Ｌで取り出し濾過し、純水１．５Ｌで洗浄したのち乾燥し粉末とした。
【００５６】
この粉末にフタルイミドアンモニウムを０．０００００１重量％添加したのち混合して、チタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１２
フタルイミドアンモニウムを０．００１重量％添加したのち混合した以外は、合成実施例１１と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１３
フタルイミドアンモニウムを５重量％添加したのち混合した以外は、合成実施例１１と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１４
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドナトリウムに変えた以外は、合成実施例１１と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１５
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドナトリウムに変えた以外は、合成実施例１２と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１６
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドナトリウムに変えた以外は、合成実施例１３と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１７
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドＤＢＵに変えた以外は、合成実施例１１と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１８
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドＤＢＵに変えた以外は、合成実施例１２と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成実施例１９
フタルイミドアンモニウムをフタルイミドＤＢＵに変えた以外は、合成実施例１３と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
合成参考例２
反応容器にｏ−フタロジニトリル８００ｇ、キノリン（関東化学（株）製）１．８Ｌを加えて攪拌した。窒素雰囲気下四塩化チタン（キシダ化学（株）製）２９７ｇを滴下し攪拌した。滴下後１８０℃１５時間加熱・攪拌した。
【００５７】
この反応液を１３０℃まで放冷してから濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌで洗浄した。このウエットケーキを窒素雰囲気下Ｎ−メチル−２−ピロリジノン１．８Ｌで１６０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３Ｌ、アセトン２Ｌ、メタノール２Ｌおよび温水４Ｌで順次洗浄しウエットケーキとした。
【００５８】
このウエットケーキをさらに水４Ｌ・３６％塩酸３６０ｍＬの希塩酸で８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温水４Ｌで洗浄したのち乾燥した。
【００５９】
−５℃の９６％硫酸４ｋｇに、液温が−５℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記のチタニルオキシフタロシアニン２００ｇを加えた。−５℃に保持して１時間冷却・攪拌した。さらに水３５Ｌ・氷５ｋｇに、液温が１０℃を超えないように冷却・攪拌しながら上記の硫酸溶液を加えて１時間冷却・攪拌した。これを濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００６０】
このウエットケーキをさらに水１０Ｌ・３６％塩酸７７０ｍＬの希塩酸と混合し８０℃１時間加熱・攪拌した。これを放冷・濾過し、温水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００６１】
このウエットケーキをさらに水１０Ｌ・水酸化ナトリウム１０００ｇの水酸化ナトリウム水溶液で８０℃１時間加熱・濾過した。これを放冷・濾過し、温純水１０Ｌで洗浄しウエットケーキとした。
【００６２】
このウエットケーキとｏ−ジクロロベンゼン１．５Ｌをボールミル装置でミリングした。これをアセトン１．５Ｌ、メタノール１．５Ｌで取り出し濾過し、純水１．５Ｌで洗浄したのち乾燥して、チタニルオキシフタロシアニンを製造した。
【００６３】
このチタニルオキシフタロシアニンをイオンクロマトグラフ装置で分析したところ、フタルイミドナトリウムを０．０３重量％含有していた。
合成比較例２
フタルイミドアンモニウムを添加しないこと以外は、合成実施例１１と同様にチタニルオキシフタロシアニンを製造した。
実施例１
ポリアミド樹脂（東レ（株）製アミランＣＭ８０００）７０重量部、メタノール（和光純薬工業（株）製９３０重量部を混合し、下引層塗布液を作製した。この下引層塗布液をアルミニウム基体上に浸漬塗布法により塗布し、乾燥後の膜厚が０．５μｍの下引層を形成した。
【００６４】
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニン２０重量部、ジクロロメタン（和光純薬工業（株）製）６７６重量部、１，２−ジクロロエタン（和光純薬工業（株）製）２９４重量部、塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン（株）製ＭＲ−１１０）１０重量部を混合し、超音波分散して電荷発生層塗布液を作製した。この電荷発生層塗布液を上記の下引層上に浸漬塗布法により塗布し、乾燥後の膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【００６５】
４−（ジフェニルアミノ）ベンズアルデヒド  フェニル（２−チエニルメチル）ヒドラゾン（富士電機（株）製）１００重量部、ポリカーボネート樹脂（帝人化成（株）製パンライトＫ−１３００）１００重量部、ジクロロメタン８００重量部、シランカップリング剤（信越化学工業（株）製ＫＰ−３４０）１重量部、および２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシジフェニルホスフィン（富士電機（株）製）４重量部を混合し、電荷輸送層塗布液を作製した。この電荷輸送層塗布液を上記の電荷発生層上に浸漬塗布法により塗布し、乾燥後の膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真用感光体を製造した。
実施例２
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例２で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例３
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例３で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例４
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例４で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例５
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例５で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例６
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例６で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例７
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例７で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例８
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例８で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例９
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成実施例９で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
参考例１
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成参考例１で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
比較例１
合成実施例１で製造した無金属フタロシアニンを合成比較例１で製造した無金属フタロシアニンに変えた以外は、実施例１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１１
ポリアミド樹脂（東レ（株）製アミランＣＭ８０００）７０重量部、メタノール（和光純薬工業（株）製９３０重量部を混合し、下引層塗布液を作製した。この下引層塗布液をアルミニウム基体上に浸漬塗布法により塗布し、乾燥後の膜厚が０．５μｍの下引層を形成した。
【００６６】
合成実施例１１で製造した無金属フタロシアニン２０重量部、ジクロロメタン（和光純薬工業（株）製）６７６重量部、１，２−ジクロロエタン（和光純薬工業（株）製）２９４重量部、塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン（株）製ＭＲ−１１０）１０重量部を混合し、超音波分散して電荷発生層塗布液を作製した。この電荷発生層塗布液を上記の下引層上に浸漬塗布法により塗布し、乾燥後の膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【００６７】
４−（ジフェニルアミノ）ベンズアルデヒド  フェニル（２−チエニルメチル）ヒドラゾン（富士電機（株）製）１００重量部、ポリカーボネート樹脂（帝人化成（株）製パンライトＫ−１３００）１００重量部、ジクロロメタン８００重量部、シランカップリング剤（信越化学工業（株）製ＫＰ−３４０）１重量部、および２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシジフェニルホスフィン（富士電機（株）製）４重量部を混合し、電荷輸送層塗布液を作製した。この電荷輸送層塗布液を上記の電荷発生層上に浸漬塗布法により塗布し、乾燥後の膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真用感光体を製造した。
実施例１２
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１２で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１３
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１３で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１４
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１４で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１５
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１５で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１６
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１６で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１７
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１７で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１８
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１８で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
実施例１９
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成実施例１９で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
参考例２
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成参考例２で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
比較例２
合成実施例１１で製造したチタニルオキシフタロシアニンを合成比較例３で製造したチタニルオキシフタロシアニンに変えた以外は、実施例１１と同様に電荷発生層塗布液を作製し電子写真用感光体を製造した。
【００６８】
このようにして得られた実施例１〜２０、比較例１〜２の電子写真用感光体の電気特性を静電記録紙試験装置（（株）川口電機製作所製ＥＰＡ−８２００）を用いて測定した。
【００６９】
電子写真用感光体は暗所で−５ｋＶのコロナ放電を１０秒間おこなって表面を負に帯電させ、続いて５秒後の表面電荷保持率を測定した。
【００７０】
表１は各電子写真用感光体の５秒後の表面電荷保持率を示してある。
【００７１】
【表１】
0004423433.tif 000007
【００７２】
表１から明らかなように、実施例はいずれも５秒後の表面電荷保持率が大きく良好であるが、比較例は５秒後の表面電荷保持率が小さい。
【００７３】
【発明の効果】
本発明によれば、電荷発生機能を有する電子写真用感光体材料にフタルイミド塩化合物を含有させることにより、表面電荷保持率に優れた電子写真用感光体材料を得ることができる。
【００７４】
また、本発明によれば、導電性基体上に電荷発生物質を含有する電子写真用感光体において、当該感光層にフタルイミド塩化合物を含有させることにより、表面電荷保持率に優れた電子写真用感光体を得ることができる。
【００７５】
さらに、本発明によれば、導電性基体上にフタルイミド塩化合物を含有した電子写真用感光体材料を含む塗布液を塗布して感光層を形成することにより、表面電荷保持率に優れた電子写真用感光体の製造方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に関する電子写真用感光体の断面図
（ａ）機能分離型電子写真用感光体
（ｂ）単層型電子写真用感光体
【符号の説明】
１  導電性基体
２  下引層
３  電荷発生層
４ 電荷輸送層
１ 感光層
【図１】
0004423433.tif 000008