(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
上記透明基板上に形成された電極膜と、
上記電極膜上に形成されたアノードとなる透明電極膜と、
上記透明電極膜上に形成され、当該透明電極膜上に開口部を有する第１の絶縁膜と、
上記第１の絶縁膜の開口部から露出する透明電極膜上に、当該開口部よりも大きく第１の絶縁膜上に亘って形成された有機電界発光膜と、
上記有機電界発光膜上に形成されたカソード電極膜と、
上記カソード電極膜上に、上記有機電界発光膜及びカソード電極膜よりも大きく形成された第２の絶縁膜とを備え、
上記第１及び第２の絶縁膜はガスバリア性を有するとともに、上記開口部は、透明電極膜側から離れるにつれて開口大きさが大きくなるテーパー形状とされており、
上記透明電極膜は、上記第１及び第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出して形成された第１の電極と上記電極膜を介して電気的に接続され、上記カソード電極膜は、第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出して形成された第２の電極と電気的に接続されている有機電界発光素子。
【請求項２】
上記透明基板の少なくとも一方の面にガスバリア膜が配されている請求項１記載の有機電界発光素子。
【請求項３】
上記ガスバリア膜は、反射防止特性を有する請求項２記載の有機電界発光素子。
【請求項４】
上記電極膜は、櫛状又は梯子状に形成されている請求項１記載の有機電界発光素子。
【請求項５】
上記有機電界発光膜は、正孔輸送層と発光層とを備えた多層構造である請求項１記載の有機電界発光素子。
【請求項６】
上記カソード電極膜が、ガスバリア性を有する請求項１記載の有機電界発光素子。
【請求項７】
透明基板上に電極膜を形成する電極膜形成工程と、
上記電極膜上にアノードとなる透明電極膜を形成する透明電極膜形成工程と、
上記透明電極膜上にガスバリア性を有する第１の絶縁膜を形成する第１の絶縁膜形成工程と、
上記第１の絶縁膜に開口部を形成して透明電極膜を露出させる開口部形成工程と、
上記第１の絶縁膜の開口部から露出する透明電極膜上に、当該開口部よりも大きく第１の絶縁膜上に亘って有機電界発光膜を形成する有機電界発光膜形成工程と、
上記有機電界発光膜上にカソード電極膜を形成するカソード電極膜形成工程と、
上記カソード電極膜上に、上記有機電界発光膜及びカソード電極膜よりも大きく、ガスバリア性を有する第２の絶縁膜を形成する第２の絶縁膜形成工程と、
上記第１及び第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出する第１の電極を形成するとともに、当該第１の電極と上記透明電極膜とを上記電極膜を介して電気的に接続する第１の電極形成工程と、
上記第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出する第２の電極を形成するとともに、当該第２の電極と上記カソード電極膜とを電気的に接続する第２の電極形成工程と、
駆動回路を、上記第１の電極及び／又は第２の電極と接続するとともに、駆動回路を、当該駆動回路と電気的に接続した電極上に配する駆動回路接続工程とを備え、
上記開口部形成工程において、透明電極膜側から離れるにつれて開口大きさが大きくなるように、当該開口部を形成する有機電界発光素子の製造方法。
【請求項８】
上記透明基板の少なくとも一方の面にガスバリア膜を配する請求項７記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項９】
上記ガスバリア膜として、反射防止特性を有するものを用いる請求項８記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１０】
上記電極膜形成工程において、電極膜を、櫛状又は梯子状に形成する請求項７記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１１】
上記有機電界発光膜形成工程において、正孔輸送層と発光層とを積層形成して当該有機電界発光膜とする請求項７記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１２】
上記カソード電極膜形成工程において、当該カソード電極膜として、ガスバリア性を有するものを用いる請求項７記載の有機電界発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機電界発光素子及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、有機電界発光素子（以下、有機ＥＬ素子と称する）を発光素子として用いた有機ＥＬディスプレイが注目を集めている。
【０００３】
有機ＥＬディスプレイの一構成例を図１４及び図１５に示す。この有機ＥＬディスプレイ２０は、透明基板２１上に、陽極となる透明電極２２をストライプ状に形成し、さらに、正孔輸送層と発光層とからなる有機層２３を透明電極２２と直交するように形成し、有機層２３上に陰極２４を形成することで、透明電極２２と陰極２４とが交差する位置にそれぞれ有機ＥＬ素子を形成してこれら有機ＥＬ素子を縦横に配置した発光エリアＡを形成し、また、その周辺部に、発光エリアを外部回路又は内部駆動回路に接続させるための取り出し電極部Ｂを形成している。
【０００４】
なお、図示しないものの、このような有機ＥＬディスプレイ２０においては、通常、透明電極２２間に絶縁層が設けられており、これによって透明電極２２間の短絡、さらには透明電極２２と陰極２４との間の短絡が防止されている。
【０００５】
このような有機ＥＬディスプレイ２０において、透明電極２２と陰極２４とが交差する位置に構成される有機ＥＬ素子としては、例えば図１６に示すシングルヘテロ型の有機ＥＬ素子３０がある。この有機ＥＬ素子３０は、ガラス基板等の透明基板２１上にＩＴＯ（Indium tin oxide）等の透明電極２２からなる陽極が設けられ、その上に正孔輸送層２３ａ及び発光層２３ｂからなる有機層２３、アルミニウム等からなる陰極２４が、この順に設けられることにより構成されたものである。
【０００６】
そして、このような構成のもとに有機ＥＬ素子３０は、陽極に正の電圧、陰極２４に負の電圧が印加されると、陽極から注入された正孔が正孔輸送層２３ａを経て発光層２３ｂに、また陰極２４から注入された電子が発光層２３ｂにそれぞれ到達し、発光層２３ｂ内で電子−正孔の再結合が生じる。このとき、所定の波長を持った光が発生し、図１６中矢印で示すように透明基板２１側から外に出射する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、有機ＥＬ素子の発光層の材料である蛍光性の有機固体は、水分、酸素等に弱い。また、発光層上に設けられる陰極は、酸化により特性が劣化しやすい。このため、従来の有機ＥＬ素子を大気中で駆動させると、発光特性が急激に劣化してしまい、その部分は発光せず暗点となる。したがって、実用的な有機ＥＬ素子や有機ＥＬディスプレイを得るためには、有機光層に水分や酸素等が侵入しないように、また対向電極が酸化されないように、素子を封止して長寿命化を図る必要がある。
【０００８】
素子の封止の方法としては、例えば有機ＥＬ素子ディスプレイの裏面に、金属で作られたキャップの中に酸化バリウムなどの脱酸素剤を添付し、乾燥窒素を封入する方法が提案されている。しかしながら、この方法では素子封止のための工程が煩雑となり、製造上の問題となっていた。
【０００９】
さらに、有機ＥＬ素子で大画面化を考えた場合、従来のパッシブマトリックス方式では、表示装置の周辺に駆動回路を実装しているために、その駆動回路の配線抵抗による電圧降下などの理由により、パッシブマトリックス方式では、大画面化が困難であった。
【００１０】
本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、素子の封止を容易に行わしめるとともに、当該素子を発光素子として用いたディスプレイの大型化を可能とする有機電界発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の有機電界発光素子は、透明基板と、上記透明基板上に形成された電極膜と、上記電極膜上に形成されたアノードとなる透明電極膜と、上記透明電極膜上に形成され、当該透明電極膜上に開口部を有する第１の絶縁膜と、上記第１の絶縁膜の開口部から露出する透明電極膜上に、当該開口部よりも大きく第１の絶縁膜上に亘って形成された有機電界発光膜と、上記有機電界発光膜上に形成されたカソード電極膜と、上記カソード電極膜上に、上記有機電界発光膜及びカソード電極膜よりも大きく形成された第２の絶縁膜とを備える。
【００１２】
そして、本発明の有機電界発光素子は、上記第１及び第２の絶縁膜はガスバリア性を有するとともに、上記開口部は、透明電極膜側から離れるにつれて開口大きさが大きくなるテーパー形状とされており、上記透明電極膜は、上記第１及び第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出して形成された第１の電極と上記電極膜を介して電気的に接続され、上記カソード電極膜は、第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出して形成された第２の電極と電気的に接続されている。
【００１３】
上述したような本発明に係る有機電界発光素子では、上記第１及び第２の絶縁膜がガスバリア性を有しているので、素子を封入することなく、簡単な構成で、素子内部への水分や酸素の侵入が防止される。さらに、この有機電界発光素子では、上記第１及び第２の電極が、透明基板と反対側の面に露出しているので、当該基板を駆動させる駆動回路基板を、素子の裏面側に配することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、透明基板上に電極膜を形成する電極膜形成工程と、上記電極膜上にアノードとなる透明電極膜を形成する透明電極膜形成工程と、上記透明電極膜上にガスバリア性を有する第１の絶縁膜を形成する第１の絶縁膜形成工程と、上記第１の絶縁膜に開口部を形成して透明電極膜を露出させる開口部形成工程と、上記第１の絶縁膜の開口部から露出する透明電極膜上に、当該開口部よりも大きく第１の絶縁膜上に亘って有機電界発光膜を形成する有機電界発光膜形成工程と、上記有機電界発光膜上にカソード電極膜を形成するカソード電極膜形成工程と、上記カソード電極膜上に、上記有機電界発光膜及びカソード電極膜よりも大きく、ガスバリア性を有する第２の絶縁膜を形成する第２の絶縁膜形成工程と、上記第１及び第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出する第１の電極を形成するとともに、当該第１の電極と上記透明電極膜とを上記電極膜を介して電気的に接続する第１の電極形成工程と、上記第２の絶縁膜を貫通して第２の絶縁膜上に露出する第２の電極を形成するとともに、当該第２の電極と上記カソード電極膜とを電気的に接続する第２の電極形成工程と、駆動回路を、上記第１の電極及び／又は第２の電極を接続するとともに、駆動回路を、当該駆動回路と電気的に接続した電極上に配する駆動回路接続工程とを備え、上記開口部形成工程において、透明電極膜側から離れるにつれて開口大きさが大きくなるように、当該開口部を形成する。
【００１５】
上述したような本発明に係る有機電界発光素子の製造方法では、上記第１及び第２の絶縁膜としてガスバリア性を有するものを用いているので、素子を封入することなく、簡単な構成で、素子内部への水分や酸素の侵入が防止された素子が得られる。さらに、この有機電界発光素子の製造方法では、上記第１及び第２の電極を、透明基板と反対側の面に露出させているので、当該基板を駆動させる駆動回路基板を、素子の裏面側に配することが可能となる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００１７】
本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１の一構成例を図１に示す。
【００１８】
この有機ＥＬ素子１は、両面にガスバリア膜２が形成された透明基板３と、透明基板３の一方の面に形成された電極膜４と、電極膜４上に形成された透明電極膜５と、透明電極膜５上に形成された第１の絶縁膜６と、第１の絶縁膜６及び透明電極膜５上に形成された有機ＥＬ膜７と、有機ＥＬ膜７上に形成されたカソード電極膜８と、第２の絶縁膜９とから構成される。
【００１９】
透明基板３は、表示装置としての機能を満たすものであれば特に限定されることはなく、例えば可視光に対して透明なガラス板やプラスチック板、プラスチックフィルムなど公知の材料が利用できる。
【００２０】
なお、図１に示す有機ＥＬ素子１では、透明基板３の両面に、水分や酸素などのガスに対してのガスバリア膜２が配されている。透明基板３の両面にガスバリア膜２を配することで、素子内部への水分や酸素などの侵入を防ぎ、有機ＥＬ材料の劣化を防止することができる。さらに、このガスバリア膜２には反射防止特性が付与されていることが好ましい。ガスバリア膜２に反射防止特性を付与することで、発生した光の透明基板３での反射を抑え、透過率の高い、優れた有機ＥＬ素子１を構成することができる。
【００２１】
電極膜４は、透明基板３上に、例えば図２に示すようにいわゆる櫛状、又は図３に示すようにいわゆる梯子状に形成されている。そして、この電極膜４は、第１の絶縁膜６及び第２の絶縁膜９を貫通して形成された第１の電極１０と接続されている。この第１の電極１０は有機ＥＬ素子１の外部アノードとなる。すなわち、この電極膜４は、当該電極膜４上に形成された透明電極膜５に電流を供給するための補助電極となる。
【００２２】
ここで、当該有機ＥＬ素子１を発光素子として用いてディスプレイを構成する場合に、例えば従来のパッシブマトリックス方式では、当該有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路を素子の側方に配置しなければならず、当該駆動回路の配線抵抗による電圧降下などの理由により、ディスプレイの大型化における障害となっていた。
【００２３】
本発明に係る有機ＥＬ素子１では、外部から電流を取り入れる端子となる第１の電極１０及び後述する第２の電極１１を、第１の絶縁膜６又は第２の絶縁膜９を貫通して、透明基板３とは反対側の面に露出させているので、当該有機ＥＬ素子１を駆動する駆動回路を素子の側方からではなく、素子の裏面に配することができる。したがって、この有機ＥＬ素子１を用いたディスプレイでは、駆動回路の配線抵抗による電圧降下などの問題が発生することがないため、ディスプレイの大型化を可能とすることができる。
【００２４】
さらに、この電極膜４及び第１の電極１０は、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有している。電極膜４及び第１の電極１０にガスバリア性をもたせることで、素子内部への水分や酸素などの侵入を防ぎ、有機ＥＬ膜７の劣化を防止することができる。
【００２５】
透明電極膜５は、有機ＥＬ素子１のアノードとなるもので、例えばＩＴＯ（Indium tin oxide）からなる。なお、この透明電極膜５は、図４又は図５に示すように、櫛状又は梯子状に形成された電極膜４の開口部上に亘ってアイランド状に形成されており、当該電極膜４を介して第１の電極１０と接続されている。
【００２６】
第１の絶縁膜６は、透明電極膜５上に、当該透明電極膜５上に開口部６ａを有して形成されている。この第１の絶縁膜６は、素子間を分離する隔壁となる。
【００２７】
そして、この第１の絶縁膜６は、開口部６ａの開口形状が透明電極膜５側から離れるにつれて大きくなるいわゆる順テーパー形状とされている。第１の絶縁膜６をテーパー形状としない場合、電流を流して有機ＥＬ素子１を駆動させた際に、透明電極膜５、有機ＥＬ膜７及びカソード電極膜８の端部に電界が集中してしまい、絶縁を破って透明電極膜５とカソード電極膜８との間で短絡が発生してしまうおそれがある。第１の絶縁膜６を順テーパー形状とすることで、透明電極膜５と、有機ＥＬ膜７及びカソード電極膜８との間を隔離するとともに、透明電極膜５、有機ＥＬ膜７及びカソード電極膜８の端部における電界集中による、透明電極膜５とカソード電極膜８との短絡を防ぐことができる。
【００２８】
第１の絶縁膜６の材料としては、例えばＳｉＮ等が挙げられる。このＳｉＮは、絶縁性ばかりでなく、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有している。第１の絶縁膜６にガスバリア性をもたせることで、素子内部への水分や酸素の侵入を防ぎ、有機ＥＬ膜７の劣化を防止することができる。
【００２９】
有機ＥＬ膜７は、第１の絶縁膜６の開口部６ａから露出している透明電極膜５上に、開口部６ａよりも大きく第１の絶縁膜６上にも亘って形成されている。この有機ＥＬ膜７は、正孔輸送層と発光層とが積層されてなる多層構造である。透明電極膜５（アノード）−カソード電極膜８（カソード）間に電流が印加されると、カソード電極膜８から注入された正孔が正孔輸送層を経て発光層に、また透明電極膜５から注入された電子が発光層にそれぞれ到達し、発光層内で電子−正孔の再結合が生じる。このとき、所定の波長を持った光が発生する。この光は透明基板３側から外に出射する。
【００３０】
正孔輸送層の材料としては、公知の材料を用いることができるが、具体的には例えばＮ，Ｎ’−ジ（α−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等が挙げられる。
【００３１】
発光層の材料としては、公知の材料を用いることができるが、具体的には例えば４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニレン）ビフェニルや、４，４’−ビス（２−カルバゾールビニレン）ビフェニル等が挙げられる。
【００３２】
カソード電極膜８は、有機ＥＬ素子１のカソードとなるもので、有機ＥＬ膜７上に、当該有機ＥＬ膜７よりも大きめに形成されている。このカソード電極膜８は、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）等からなる。なお、このカソード電極膜８は、第２の絶縁膜９を貫通して形成された第２の電極１１と接続されている。
【００３３】
第２の絶縁膜９は、素子全面に亘って形成されている。第２の絶縁膜９の材料としては、例えばＳｉＮ、ＡｌＮ等が挙げられる。この第２の絶縁膜９は、絶縁性ばかりでなく、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有している。絶縁膜にガスバリア性をもたせることで、素子内部への水分や酸素の侵入を防ぎ、有機ＥＬ膜７の劣化を防止することができる。
【００３４】
第２の電極１１は、アルミニウム等からなる。この第２の電極１１は、第２の絶縁膜９を貫通してカソード電極膜８と接続されており、有機ＥＬ素子１の外部カソードとなる。上述した第１の電極１０と同じように、第２の電極１１を表示画面の裏側から取り出すことで、当該有機ＥＬ素子１を用いたディスプレイの大型化を可能とすることができる。さらに、この第２の電極１１は、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有している。第２の電極１１にガスバリア性をもたせることで、素子内部への水分や酸素の侵入を防ぎ、有機ＥＬ膜７の劣化を防止することができる。
【００３５】
これら第１及び第２の電極１０，１１は、図６に示すように、それぞれ駆動回路基板１２に設けられた端子１３，１４とバンプなどの方法により接続される。そして、駆動回路基板１２より素子駆動用信号を伝達することで有機ＥＬ素子１の駆動が行われる。この駆動回路用基板１２には駆動回路ＩＣ１５などが実装されている。
【００３６】
上述したように、本発明に係る有機ＥＬ素子１では、有機ＥＬ膜７を、それぞれガスバリア性を有するガスバリア膜２及び第１の絶縁膜６と、カソード電極膜８及び第２の絶縁膜９とで両側から封止することで、素子内部への水分又は酸素の侵入をほぼ完全に防止し、有機ＥＬ膜７の劣化を抑えることができる。
【００３７】
また、この有機ＥＬ素子１では、当該有機ＥＬ素子１を構成する構成膜自体にガスバリア性を持たせているので、素子全体を外側から封止する従来の有機ＥＬ素子１に比べて素子構成を簡素化することができ、また、製造においても工程を簡素化することができる。
【００３８】
さらに、この有機ＥＬ素子１では、電極端子を表示画面の側方からではなく裏側から取り出す構成とされているので、当該有機ＥＬ素子１を駆動する駆動回路を素子の裏面に配することができ、有機ＥＬ素子１を発光素子として用いてディスプレイを構成する場合に、ディスプレイの大型化を可能とすることができる。
【００３９】
そして、このような有機ＥＬ素子１は、例えば次のようにして製造される。
【００４０】
まず、図７に示すように、両面にガスバリア膜２が配された透明基板３上に、金属膜を成膜して電極膜４とする。この電極膜４は、例えば図２に示すように櫛状、又は図３に示すように梯子状に形成される。
【００４１】
次に、図８に示すように、この電極膜４上にＩＴＯを成膜して透明電極膜５とする。この透明電極膜５は、例えば図４又は図５に示すように、櫛状又は梯子状に形成された電極膜４の開口部上に亘ってアイランド状に形成される。また、この透明電極膜５は有機ＥＬ素子１のアノードとして機能する。
【００４２】
次に、図９に示すように、透明基板３の全面に、例えばＳｉＮ等、絶縁性のほか、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有する材料を被着させて第１の絶縁膜６を成膜する。この第１の絶縁膜６は、隣り合う素子同士を分離するための隔壁となる。
【００４３】
次に、図１０に示すように、この第１の絶縁膜６に、エッチング等の方法により、透明電極膜５の成膜領域の内側に開口部６ａを形成する。このとき、開口部６ａの開口形状を、透明電極膜５側から離れるにつれて開口大きさが大きくなるいわゆる順テーパー形状とする。
【００４４】
次に、図１１に示すように、このエッチングによって形成された開口部６ａから露出する透明電極膜５上に、当該開口部６ａよりも大きく、第１の絶縁膜６上にも亘るように、正孔輸送層と発光層とを積層成膜して有機ＥＬ膜７を形成し、さらに有機ＥＬ膜７上に、例えばＬｉＦを被着させてカソード電極膜８を形成する。第１の絶縁膜６に順テーパーが形成されていることで、有機ＥＬ膜７及びカソードとなるカソード電極膜８と、アノードとなる透明電極膜５との短絡を防ぐ。
【００４５】
次に、図１２に示すように。カソード電極膜８の上に、当該カソード電極膜８よりも大きく全面に亘ってＳｉＮ、ＡｌＮ等、絶縁性のほか、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有する材料を被着させて第２の絶縁膜９を成膜する。
【００４６】
次に、図１３に示ように、第１の絶縁膜６及び第２の絶縁膜９にエッチング法等により孔６ａ，９ａを開け、この孔部分に例えばアルミニウムを被着させて、図１に示したように、電極膜４及び透明電極膜５と接続し外部アノードとなる第１の電極１０と、カソード電極膜８と接続し外部カソードとなる第２の電極１１とを形成する。
【００４７】
以上のようにして、本発明に係る有機ＥＬ素子１が製造される。なお、上述したような、有機ＥＬ素子１を構成する構成膜の成膜方法は特に限定されないが、真空蒸着法、ＣＶＤ法などによることが好ましい。
【００４８】
このようにして得られる有機ＥＬ素子１では、有機ＥＬ膜７を、それぞれガスバリア性を有するガスバリア膜２及び第１の絶縁膜６と、カソード電極膜８及び第２の絶縁膜９とで両側から封止することで、素子内部への水分又は酸素の侵入をほぼ完全に防止し、有機ＥＬ膜７の劣化を抑えることができる。
【００４９】
また、この有機ＥＬ素子１では、当該有機ＥＬ素子１を構成する構成膜自体にガスバリア性を持たせているので、素子全体を外側から封止する従来の有機ＥＬ素子１に比べて素子構成を簡素化することができ、また、製造においても工程を簡素化することができる。
【００５０】
さらに、この有機ＥＬ素子１では、電極端子を表示画面の側方からではなく裏側から取り出す構成とされているので、当該有機ＥＬ素子１を駆動する駆動回路を素子の裏面に配することができ、有機ＥＬ素子１を発光素子として用いてディスプレイを構成する場合に、ディスプレイの大型化を可能とすることができる。
【００５１】
なお、この有機ＥＬ素子１を駆動するには、図６に示すように第１の電極１０及び第２の電極１１を、駆動回路ＩＣ１５などが実装された駆動回路基板１２に設けられた第１の端子１３，第２の端子１４とバンプなどの方法によりそれぞれ接続する。そして、駆動回路基板１２より素子駆動用信号を伝達することで有機ＥＬ素子１の駆動が行われる。
【００５２】
【発明の効果】
本発明では、有機ＥＬ表示素子の製造並びに封止が従来の方法と異なり簡単に行うことができるようになる。さらに、金属キャップや脱酸素剤、乾燥窒素などを用いずに、有機ＥＬ素子を製造することができるために、製造装置を簡単にすることができ、真空一環生産が可能となる。
【００５３】
また、本発明では、有機ＥＬ素子駆動用の電極を背面側より取り出すことができるために、素子の高密度な集積が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る有機ＥＬ素子の一構成例を示す断面図である。
【図２】  図１に示す電極膜の形状の一例を示す平面図である。
【図３】  図１に示す電極膜の形状の一例を示す平面図である。
【図４】  図２に示した電極膜上に形成される透明電極膜の一例を示す平面図である。
【図５】  図３に示した電極膜上に形成される透明電極膜の一例を示す平面図である。
【図６】  本発明に係る有機ＥＬ素子の背面側に駆動回路基板を配する様子を示す断面図である。
【図７】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、透明基板上に電極膜を形成した状態を示す断面図である。
【図８】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、電極膜上に透明電極膜を形成した状態を示す断面図である。
【図９】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、透明電極膜上に第１の絶縁膜を形成した状態を示す断面図である。
【図１０】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、第１の絶縁膜に開口部を形成した状態を示す断面図である。
【図１１】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、第１の絶縁膜上に有機ＥＬ膜及びカソード電極膜を形成した状態を示す断面図である。
【図１２】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、有機ＥＬ膜及びカソード電極膜上に第２の絶縁膜を形成した状態を示す断面図である。
【図１３】  本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する図であり、第１の絶縁膜又は第２の絶縁膜に孔を形成したを形成した状態を示す断面図である。
【図１４】  従来の有機ＥＬディスプレイの一構成例を示す斜視図である。
【図１５】  従来の有機ＥＬディスプレイの一構成例を示す平面図である。
【図１６】  図１４及び図１５に示す有機ＥＬディスプレイに採用されている有機ＥＬ素子の一構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
１有機ＥＬ素子、  ２  ガスバリア膜、  ３  透明基板、  ４  電極膜、５  透明電極膜、  ６  第１の絶縁膜、  ７  有機ＥＬ膜、  ８  カソード電極膜、９第２の絶縁膜、  １０  第１の電極、  １１  第２の電極、  １２  駆動回路基板、  １３  第１の端子、  １４  第２の端子、  １５  駆動回路ＩＣ
【図１】
0004423767.tif 000002
【図２】
0004423767.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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