(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学照射線吸収性化合物を全体に均一に分散した可撓性支持体層であって、３００〜４００ｎｍの波長範囲の化学照射線を８０〜９９％吸収する支持体層；支持体層上に配されている固体光硬化性物質層；及び固体光硬化性物質層上に配されている化学照射線を実質上通さず且つレーザーによって光削摩されうる光削摩性マスク層からなり、該固体光硬化性物質層が、酸素捕捉剤を含有させるか又は他の手段で処理して酸素阻害による影響にさからって光重合速度が高められていることを特徴とするＤＴＰフレキソ印刷要素。
【請求項２】
支持体層がポリエチレンテレフタレートからなる請求項１の印刷要素。
【請求項３】
光硬化性物質が酸素捕捉剤を含有する請求項１又は２の印刷要素。
【請求項４】
酸素捕捉剤がトリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリ−ｐ−トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、ジビニルフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−トリルホスフィン、ジアリルフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン及びジアリル−ｐ−トリルホスフィンからなる群から選ばれる請求項３の印刷要素。
【請求項５】
酸素捕捉剤が該固体光硬化性物質の０．０７５〜０．７５重量％の濃度で存在する請求項３又は４の印刷要素。
【請求項６】
固体光硬化性物質が複数の層からなる請求項１〜５のいずれか１項の印刷要素。
【請求項７】
固体光硬化性物質上に配されている固体光硬化性キャップをもつ請求項１〜６のいずれか１項の印刷要素。
【請求項８】
支持体層が３００〜４００ｎｍの波長範囲の化学照射線を８５〜９５％吸収する請求項１〜７のいずれか１項の印刷要素。
【請求項９】
固体光硬化性キャップが化学照射線吸収性染料をもつ請求項７又は８の印刷要素。
【請求項１０】
本質的にＵＶ吸収性をもつ可撓性支持体層であって、３００〜４００ｎｍの波長範囲の化学照射線を８０〜９９％吸収する支持体層；支持体層上に配されている固体光硬化性物質層；及び固体光硬化性物質層上に配されている化学照射線を実質上通さず且つレーザーによって光削摩されうる光削摩性マスク層からなることを特徴とするＤＴＰフレキソ印刷要素。
【請求項１１】
本質的にＵＶ吸収性をもつ支持体層がポリエチレンナフタレートからなる請求項１０の印刷要素。
【請求項１２】
光硬化性物質層が酸素捕捉剤を含有する請求項１０又は１１の印刷要素。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光減少化層をもつフレキソ印刷要素、直接像のフレキソ印刷要素上へのレリーフ像の形成、及びより具体的には、直接像フレキソ印刷要素の製造において均一フロアを達成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レリーフ像印刷板は、紙、波板、フィルム、箔及び積層体を含む種々の基材上に印刷を行うフレキソ印刷法及び活版印刷法の両方で使われている。レリーフ要素は典型的には支持体層と光硬化性ポリマーの１以上の層を固体シートの形で含む。典型的にはプリンターがこの要素からカバーシートをはがして光硬化性ポリマーを露出し、この光ポリマー上にハロゲン化銀写真ネガ又は他のマスク装置を配する。プリンターがネガを通してこのネガ担持要素を紫外（ＵＶ）線に露出してこの要素の露出部分を硬化又は架橋させる。この要素の非硬化部分を除き、硬化したポリマーをレリーフ印刷表面として残す。
【０００３】
これらの方法で用いうるネガはコストが問題であり、その製造に要する時間は、特にネガを自ら製造できない印刷業者にとってはかなりのものとなる。また印刷に用いるネガはほぼ完全なものであることを要する。小さな欠点でも各印刷物に現れてしまう。そこでネガを正確につくることを確実にする努力が払われている。またネガは一般に高価で廃棄時に環境汚染源となりうるハロゲン化銀化合物を用いてつくられている。
【０００４】
フレキソ印刷分野では、この種ネガを用いない方法が開発され、コスト効率、環境問題、便利さ及び像品質等で従来法より有利となっている。多くのこれらの方法はダイレクト・ツー・プレート（ＤＴＰ）法と称されている。ＤＴＰ法の一つは米国特許第５，８４６，６９１号に開示されている。そこにはインクジェットプリントヘッドからネガ形成性インクを直接印刷要素上に射出することによって感光性印刷要素上にコンピュータによるネガを形成する技術が開示されている。また米国特許第５，９２５，５００号にはスリップフィルムをＵＶ吸収剤で改質し、このスリップフィルムを選択的に削摩するためにレーザーを用いることによるレーザー像印刷板が開示されている。この方法ではスリップフィルムは硬化されるべき感光性ポリマーの部分だけが化学照射線に露出されてネガとなる。米国特許第５，２６２，２７５号に開示されている別のＤＴＰ法はレーザー削摩性で赤外線感応性の材料の層を印刷要素の表面上に配している。
【０００５】
ＤＴＰ技術は多くの点で従来型の印刷板製造技術とは顕著に異なる。たとえば、ＤＴＰ板は典型的には板上に直接光削摩性マスクを有する。またＤＴＰ技術では、面露出、即ちレリーフをもつ（か又は最終的にもつ）側の光重合性層の化学照射線へのブランケット露出は空気中で（酸素の存在下に）行われるが、従来型の印刷板での露出は典型的には真空中で行われる。
【０００６】
面露出を酸素の存在下に行うため、マスク層が除かれている部分で光硬化性層が酸素に過度に露出する恐れがある。酸素は遊離基捕捉剤として知られているので酸素の存在下では多くの物質の光重合の挙動は酸素非存在下とは異なるという問題がある。つまり酸素は光硬化性物質の重合を阻害する作用をもち、より長い露出時間を必要とする。また酸素はＵＶスクリーン剤としての作用ももっており化学照射線を弱める結果をもたらす。一般的にはこの現象を「酸素阻害」と称している。
【０００７】
酸素阻害はいわゆる「キャップした」光硬化性印刷要素を用いるときに典型的に大きくなる。キャップした光硬化性要素は光硬化性物質の本体上に配された薄い光硬化性キャップをもつ。典型的には、これらの要素を用いてつくられるレリーフ像はこのキャップ層からの光硬化性物質を包含する。キャップされた印刷要素はＤＴＰ法においてキャップされていない要素に比しいくつかの顕著な利点をもつ。たとえば、キャップは典型的にはインク受容層として作用しうる粗面をもっており、印刷基材上により高いインク密度をもたらす。またキャップした板は、より長い露出時間を要するため、使用者がドット形状をかえることも可能であり、より小さいがよりしっかりしたドットをつくりうる。キャップ層はまた登録された像の検知の助けとなる像コントラスト（たとえば緑）染料を含有しうる。しかし、キャップ自体は、染料（及び他の化合物）が存在するので、化学照射線吸収性層として機能する。従って、微細ではっきりしたドット（即ち１５０線に１％ドット）を保持するために比較的長いフロント露出時間が必要とされる範囲でキャップされた光硬化性印刷要素を像化するときに酸素阻害の現象が増幅される。
【０００８】
印刷要素をＤＴＰ法で処理するときのフロント露出時間を従来型の印刷要素に匹敵しうる時間に短縮するために、典型的には、光速度（即ち光重合速度）を酸素阻害の影響に逆らうよう増加させる。その一つの方法は、たとえばトリフェニルホスフィン及びトリフェニルホスファイド等の酸素捕捉剤をポリマー組成物中に加えることである。しかし、ポリマー組成物への酸素阻害剤の添加はフロント露出時間を短縮するだけでなく、バック露出時間も短縮する。
【０００９】
ここで「バック露出」とは、レリーフをもつ（又は最終的にもつ）側と反対側上の光重合性層の化学照射線照射へのブランケット露出をいう。これは典型的には透明支持体層を通して行われる。この露出は典型的には、重合した物質の浅い層（「フロア」と称する）を光重合性層の支持体側上につくるために用いられる。フロアをつくる目的は一般に光重合性層を感応化することとレリーフの深さを確保することである。典型的には、バック露出時間は１５〜３０秒より長いことが望ましい。しかし、ＤＴＰ法では、前記したように光速度が増すとしばしばバック露出時間が３０秒以下となる。このような短いバック露出時間は、後記するように、フロアの厚さの変化が観察されることから望ましいことではない。また均一でないフロアは典型的には板を横切るレリーフが変化するため不均質な印刷をもたらしうる。
【００１０】
バック露出時間はＤＴＰ法では、光重合性層と支持体層（又は裏打ち層）の間にＵＶ吸収性化合物の薄い（即ち１〜２ミクロン）被覆を設けることによって増大させうる。しかし、この方法はＵＶ吸収性被覆を均一に塗布することがむづかしいという問題がある。もちろんこれはフロアの厚さ変化ももたらす。またこの被覆はレーザーに反応して接着上の問題も生じうる。
従って、当該分野では、直接像化した、キャップされた及びキャップされないフレキソ印刷板の改良製造法が求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、フロント露出時間とバック露出時間の両方が製造業者にとって経済的に有利である直接像化フレキソ印刷要素の製造法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は支持体層上に配した所望により酸素捕捉剤を含有する固体光硬化性物質の層をもつ固体光硬化性要素を提供する。支持体層は露出中に少なくとも幾分かの化学照射線を吸収するように全体に均一に一体的に分散させた化学照射線吸収性化合物をもつ。この固体光硬化性要素はまた固体光硬化性層の上に配した光削摩性マスク層も有する。このマスクは化学照射線に対して実質的に不透明であり且つレーザーによって光削摩されうるものである。
【００１３】
本発明の方法はコンピュータからの表示（グラフィック）データを、コンピュータと連結しているレーザーを用いて光削摩性マスク層の選択された部分を光削摩して削摩した部分と削摩しない部分で像を形成することによって、上記した固体光硬化性要素に移すことからなる。削摩された部分が最終的にレリーフとなる固体光硬化性層を露出する。「フロア」即ちシャロー層はまた支持体層を通して光硬化性層を露出することによってつくられる。光削摩性マスク層の削摩された部分を通して露出される固体光硬化性物質は次いで固体光硬化性物質を硬化するのに有効な化学照射線に露出し、未硬化の削摩していない部分の下に固体光硬化性要素を残す。次いで未硬化の固体光硬化性物質と該光削摩性マスク層の削摩されていない部分を除く。
【００１４】
本発明の別の態様において、固体光硬化性印刷要素はさらに固体光重合性キャップ層をもつ。この態様では、光削摩性マスク層が直接キャップ層上に配されて上記の方法が行われる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、フロント露出時間とバック露出時間の両方が改善された直接像化フレキソ印刷要素が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明において、「光硬化性物質」とは、化学照射線に応答して重合、架橋又は他の何らかの硬化反応を受ける固体物質をいい、この物質の非露出部分が露出（硬化）部分から選択的に分離及び除去されて硬化物質の３次元的な又はレリーフパターンを形成する。
非露出部分の分離及び除去は空気ジェット（「エアナイフ」）、ブラッシング、適当な現像溶媒又は洗剤溶液への選択的溶解又は分散、スキージ、それらの組合せ、又は他の適当な現像手段を用いて行いうる。
【００１７】
図１及び２は本発明の印刷要素の例を示す断面図であり、同じ部材は同じ番号で示してある。ＤＴＰ法で用いる好ましい光硬化性要素１０は、支持体層１２、少なくとも１の光硬化性層１４、任意の第２の光硬化性層１６及び光削摩性マスク層１８からなる。好ましい光硬化性要素はまた「キャップ」層１７（図２）をもちうる。図１及び２に示す光硬化性要素１０はまた光硬化性層１４と支持体層１２（図示せず）の間に接着剤層をもちうる。本発明の光硬化性要素は好ましくは少なくとも約０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）の厚さをもつ実質上平坦な固体要素である。
【００１８】
典型的には、ＤＴＰ法において、カバーシート（図示せず）が除去されて、光削摩性マスク層を露出する。次いでコンピュータがコンピュータと連結しているレーザーを介して光削摩性マスク層にデジタル情報を送り、硬化すべき光削摩性マスク層の部分即ち最終的にレリーフ層となる部分を削摩（即ち除去）する。次いでこの板をバック露出してフロアをつくり、そのままのマスクを介してフェース露出し、次いで溶媒プロセッサで処理する。削摩されなかったマスクの部分は光ポリマーが硬化するのを防ぎそして後の処理工程で除去される。
【００１９】
光硬化性要素の光硬化性層１４，１６には適宜公知の光ポリマー、モノマー、開始剤、反応性希釈剤、フィラー及び染料を含有しうる。好ましい光硬化性物質はエラストマー状化合物、少なくとも１の末端エチレン基をもつエチレン性不飽和化合物及び光開始剤を含む。光硬化性物質の例はヨーロッパ特許出願０４５６３３６Ａ２（Ｇｏｓｓ等）及び０６４０８７８Ａ１（Ｇｏｓｓ等）、英国特許１，３６６，７６９、米国特許５，２２３，３７５（Ｂｅｒｒｉｅｒ等）、３，８６７，１５３（ＭａｃＬａｈａｎ）、４，２６４，７０５（Ａｌｌｅｎ）、４，３２３，６３６（Ｃｈｅｎ等）、４，３２３，６３７（Ｃｈｅｎ等）、４，３６９，２４６（Ｃｈｅｎ等）、４，４２３，１３５（Ｃｈｅｎ等）、３，２６５，７６５（Ｈｏｌｄｅｎ等）、４，３２０，１８８（Ｈｅｉｎｚ等）、４，４２７，７５９（Ｇｒｕｅｔｚｍａｃｈｅｒ等）、４，６２２，０８８（Ｍｉｎ）及び５，１３５，８２７（Ｂｏｈｍ等）に記載されている。
【００２０】
「キャップ」層１６は一般に光硬化性層に存在する光硬化性物質と同じか又はそれに類似する光硬化性物質からなる。キャップ層用として好ましい組成物は米国特許４，４２７，７５９及び４，４６０，６７５（Ｇｒｕｅｔｚｍａｃｈｅｒ等）に記載されている多層カバー要素のエラストマー状組成物として開示されているものである。キャップ層に存在する更なる成分としては被覆用溶媒、光硬化性層に存在する着色剤又は染料とコントラストのある色を与える非移行性染料又は顔料（任意だが好ましい）がある。所望により、キャップ層１６はまた１以上のエチレン性不飽和モノマー及び／又は光開始剤又は光開始剤系も含有しうる。コントラスト染料の例としてはアシドブルー９２や米国特許３，２１８，１６７等に開示されている染料がある。一般に、キャップの厚さは約０．００００１〜約０．００３インチ（約０．０００２５４〜約０．０７６２ｍｍ）である。好ましくは、キャップの厚さは約０．００００１５〜約０．００２５インチ（約０．０００３８１〜約０．０６３５ｍｍ）の範囲にある。前記したキャップした光ポリマー要素の例としてＦＬＥＸＬＩＧＨＴ  ＥＰＩＣ（商標）（ジョージア州アトランタのポリフィブロン・テクノロジーズ・インコーポレーテッド製）がある。
【００２１】
本発明で用いる光硬化性物質は架橋（硬化）して少なくともある化学照射線領域で硬くなるものであるべきである。ここで化学照射線とは照射部分に化学変化を起こしうる照射線をいう。化学照射線の例としては特にＵＶ及び赤外線波長領域で増幅した光（たとえばレーザー）、及び増幅していない光がある。好ましい化学線波長域は約２５０〜約４５０ｎｍ、より好ましくは約３００〜約４００ｎｍ、さらに好ましくは約３２０〜約３８０ｎｍである。
【００２２】
前記したように、ＤＴＰ法では酸素の存在のため光硬化性要素上に明瞭で微細な像を移行させるにはより長いフロント露出時間を一般に要する。それ故、たとえば酸素捕捉剤を光硬化性物質に加えて酸素の影響をなくして露出時間を減少（即ち光ポリマーの光速度を増加）させることが好ましい。
【００２３】
好ましい酸素捕捉剤はホスフィン化合物である。好ましいホスフィン化合物としてはトリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリ−ｐ−トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、ジビニルフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−トリルホスフィン、ジアリルフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン及びジアリル−ｐ−トリルホスフィンが挙げられる。トリフェニルホスフィンが特に好ましい。
【００２４】
好ましくは、ホスフィン化合物は、固体光硬化性物質当り、約０．０１〜約２．０重量％、より好ましくは約０．０５〜約１．０重量％、最も好ましくは約０．０７５〜約０．７５重量％の濃度で固体光硬化性物質中に存在させる。
【００２５】
露出時間を減少する更なる方法は化学照射線の強度を増加することである。しかし、高強度のランプは板のゆがみや像の劣化を生ずるような過度の熱を発生しやすい。
【００２６】
フロント露出時間を減少する上記の方法を用いることにより、特定の厚さのフロアをつくるに要するバック露出時間も減少する。たとえば、従来型のフレキソ印刷要素製造法（即ち真空中で酸素なし）では、０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）の要素は約０．０２９インチ（０．７４ｍｍ）の厚さのフロアをもつ。この厚さのフロアをつくるに要するバック露出時間は典型的には約１５〜６０秒である。一般的なＤＴＰ法（即ち酸素の存在下に削摩しまた光硬化性要素は酸素捕捉剤をもつ）で処理した同じ要素では、同じ厚さのフロアをつくるに要するバック露出時間は典型的には約１〜５秒である。
【００２７】
約１５〜２０秒以下のバック露出時間で均一なフロアをつくることはしばしば極めて困難である。その理由は主に典型的に用いられる蛍光ランプが光の列（バンク）を横切る強度が大きく異なりまたフィラメントの変動により光の列中のある与えられた光を横切る強度もしばしば大きく異なることにある。この化学照射線の不均一性はバック露出中のフロア形成の不均一性に直接に結びつく。バック露出が、一般的なＤＴＰ法で処理した板にみれらるように、短すぎると、この問題は一層深刻である。この時間が長いほどこの問題は少ない。不均一なフロアの形成は、印刷機が典型的にはあるレリーフに対して調節されるので、不均一な印刷をもたらす。より薄いレリーフをもつ部分は太い印刷をもたらす。より深いレリーフをもつ部分は低品質でゆがんだ印刷をもたらす。前記したように、支持体層又は裏打ち層を改質してＤＴＰ法におけるフロアの形成をよりよく制御しうる。
【００２８】
光硬化性要素の支持体層１２は好ましくは、可撓性のある透明な種々の物質からつくられる。これらの物質の例としてはセルロースフィルム又はプラスチック、たとえばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ポリエーテル、ポリエチレン、ポリアミド（Ｋｅｖｌａｒ）又はナイロンがある。支持体層の厚さは通常約０．００１〜約０．０１０インチ（０．０２５４〜０．２５４ｍｍ）、好ましくは約０．００５インチ（０．１２７ｍｍ）である。支持体層がＰＥＴ等のポリエステルフィルムである場合、その厚さはより好ましくは約０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）及びそれより厚い板用で典型的には約０．００５インチ（０．１２７ｍｍ）である。
【００２９】
本発明では、支持体層１２がＵＶ吸収性であり、これはＤＴＰ法における酸素阻害の影響に逆らうために用いられる酸素捕捉剤又は他の手段を用いることに伴う増大した光速度に逆らう。後記するようにこれは本質的にＵＶ吸収性である、即ち化学照射線自身を弱める物質で支持体層１２をつくるか又は支持体層１２をつくる物質にドーパントを加えることによって行うことができる。
【００３０】
本発明の一態様では、支持体層１２を本質的にＵＶ吸収性の物質からつくる。支持体層の形成に好ましいとして前記した物質のなかでは、ＰＥＮ（たとえばバージニア州ホープウエルのデュポンＰＥＴから市販されているＫａｌａｄｅｘ  １０３０及びＫａｌａｄｅｘ  ２０００）だけが本質的にＵＶ吸収性である。本発明者等は、本質的にＵＶ吸収性の支持体層を用いる場合には、吸収される化学照射線の割合は支持体層の厚さの関数であることを見出した。本発明者等は、たとえば厚さ約５ミル（１２７ミクロン）のＰＥＮ支持体層は約９７％の化学照射線を吸収し、厚さ約３ミル（７６．２ミクロン）のＰＥＮ支持体層は約９５％の化学照射線を吸収することを見出した。
【００３１】
本発明の別の態様では、支持体層１２はＤＴＰ法における酸素阻害に逆らうための酸素捕捉剤又は他の手段の使用からもたらされる増大した光速度に逆らうためにＵＶ吸収性物質を含有する。これは製造中に支持体層にＵＶ吸収性ドーパントを加えることによって行いうる。
【００３２】
本質的にＵＶ吸収性でない透明物質は本発明の支持体層１２にする際にＵＶ吸収剤を加える必要がある。このＵＶ吸収性ドーパントは支持体層１２の全体に亘って均一に分配されるべきである。これは、たとえばＵＶ吸収性物質が支持体層に可溶であるか又は支持体層１２の製造工程中に全体に均一に分散される場合に行うことができる。ここで「可溶」とは１の化合物が溶ける能力をいい、「分散」とは１の物質が別の物質中に全体に均一に分配されることをいう。工業的には、支持体層１２全体へのドーパントの均一分配は、典型的には、たとえばＰＥＴを横方向と機械方向の両方に延伸する過程でＵＶ吸収剤がＰＥＴ全体に均一に分配されるというようにその製造工程中で行うことができる。
【００３３】
本発明者が知っている市販のＵＶ吸収性ＰＥＴ製造としてはＭｅｌｉｎｅｘ  ９４３（バージニア州ホープウエルのデュポンＰＥＴ）、ＳｋｙｒｏｌポリエステルタイプＴＵ８４Ｂ（韓国スウオンのＳＫＣリミテッド）、Ｔｅｉｊｉｎ  ＴｅｏｎｅｘタイプＱ５１（帝人（株））及びＥａｓｔｍａｎ  ＰＥＴ  ９９２１Ｇ  ００７１（テネシー州キングスポートのイーストマン・ケミカルズ）がある。
【００３４】
多くの用途で用いられる投光露出ランプのスペクトル範囲は約３００〜４００ｎｍである。それ故ＵＶ吸収性ドーパントは典型的にはこの範囲で活性であるべきである。
好ましくは、ＵＶ吸収剤を存在させることにより、常態ではＵＶ透明性支持体層を、通過するＵＶ照射線の少なくとも１部を吸収する減衰機械にかえる。好ましくは、支持体層は約８０〜約９９％、より好ましくは約８５〜約９５％、最も好ましくは約８８％の化学照射線を吸収する。
【００３５】
フレキソ印刷板の硬化に用いる投光露出ランプの強度は典型的には約５〜２５ミリワット／ｃｍ2 の範囲だが、５０ミリワット／ｃｍ2 といった高い強度でも用いうる。それ故支持体層はＵＶ投光ランプからこれらの強度の照射光を吸収可能なものであるべきである。
【００３６】
光削摩性マスク層１８としては公知の適宜の光削摩性マスク層を用いうる。これらのマスク層には、たとえば典型的には約３００〜４００ｎｍの波長で操作されるＵＶ型のエキシマーレーザー、たとえば典型的には約１０，６４０ｎｍで操作されるＣＯ2 レーザー等のＩＲ型レーザー、典型的には約１０６４ｎｍの波長で操作されるＮｄ−ＹＡＧレーザー、及び典型的には約８３０ｎｍの波長で操作されるダイオードアレイレーザー等の当該分野で公知の適宜のタイプのレーザーで削摩されうるものが含まれる。このような光削摩性マスク層の例はたとえば米国特許５，９２５，５００（Ｙａｎｇ等）に開示されている。そこにはＵＶ吸収剤で改質したスリップフィルムがマスク層として開示されており、レーザーを用いてこの改質スリップフィルムを選択的に削摩しうる。米国特許５，２６２，２７５（Ｆａｎ）にも開示がある。
【００３７】
通常、本発明の方法は、フロント露出時間とバック露出時間の両方を印刷板の製造業者にとって経済的に有利になるように、光機械又は光マスクを用いることなしに、光硬化性要素１０の表面に像を移すことを包含する。これは典型的には少なくとも１の固体光硬化性要素１０を用意することによって行われる。この固体光硬化性要素は少なくとも１の固体光硬化性物質１４，１６、固体光重合性キャップ層１７（用いる場合）、光削摩性マスク層１８、及び露出中に少なくとも幾分かの化学照射線を吸収するように全体に均一に分配された化学照射線吸収性化合物を含む支持体層１２からなる。本発明では、光硬化性層１４，１６及びキャップ層（用いる場合）は酸素阻害の結果として起こるより長い露出時間を短くするために酸素捕捉剤を含有する。
【００３８】
固体光硬化性印刷要素を用いるとき、光削摩性マスクが削摩した部分がＵＶ光に露出したときに硬化しまた光削摩性マスクが削摩されなかった部分が未硬化のまま残るように、レーザーを用いて光削摩性マスク層を選択的に削摩するか又は除去する。フロアはＵＶ吸収剤入り支持体層を通してバック露出することによって固体光硬化性物質中につくられる。次いで未硬化板を固体光硬化性物質を硬化するに有効な一般的方法でＵＶ光にフロント露出する。光硬化性要素のこのいわゆる「フロント」露出を行うために多くの装置を用いうる。この例としてはＦＬＥＸＬＩＧＨＴ（商標）名のＵＶモジュール（ポリフィブロン・テクノロジー・インコーポレーテッド）やアンダーソン・ブリーランド（オハイオ州ブリアン）製の装置がある。
【００３９】
光ポリマーの露出部分のフロント露出に続いて、未硬化光ポリマー、即ちレーザー削摩されていない光削摩性層の部分の下の光ポリマー、を除去する。その手段としては光硬化性要素を光硬化性物質が少なくともある程度可溶である有機溶媒及び／又は水性溶媒で洗う方法がある。この溶媒洗浄工程は典型的には該要素のブラッシング、ふきとり、又は他の温和な非破壊的研摩によって行われる。有用な洗浄装置の例としてはポリフィブロン・テクノロジー及びアンダーソン・アンド・ブリーランドから市販されている装置がある。
【００４０】
本発明の更なる目的及び特徴は非限定的な以下の実施例から一層明らかとなろう。
【００４１】
例１：キャップのないフレキソＤＴＰ板の製造
Ｆｌｅｘ−Ｌｉｇｈｔ  Ａｔｌａｓ  ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板（ジョージア州アトランタのポリフィブロン・テクノロジーズ・インコーポレーテッド）を次のようにして改質した：
イソプロパノールを用いてスリップフィルムを慎重に除いた。次いでこの板を乾燥し、カーボンブラック（ＣＢ）系のマスクを積層した。このＣＢマスクは（ａ）ＣＢ顔料、（ｂ）フィルム形成性のためのバインダー及び（ｃ）削摩に対する感応性を増大させるための自己酸化性のバインダーからなるものである。
積層後、カバーシートを除き廃棄した。この板をＭｉｓｏｍｅｘのＯｍｎｉＳｅｔｔｅｒ  ４０００又はＣｒｅｏのＴｈｅｒｍｏｆｌｅｘ  ５２８０等の市販のフレキソ板セッター上に配した。コンピュータからのデジタルファイルを削摩機構を介してＣＢマスク上に移した。次いでこの板を１７秒間バック露出し、１８分間フェース露出して、１３３ＬＰＩにて１％のドットを保持した。１８分間のフェース露出時間はキャップしていないＤＴＰ板にとっては長すぎるものであった。
【００４２】
例２：より短いフェース露出時間でのキャップのないフレキソＤＴＰ板の製造
ＦＬＥＸ−ＬＩＧＨＴ  ＡＴＬＡＳ（商標）０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板に１％トリフェニルホスフィンを加えた。ＤＴＰ法用の板構成は例１と同じである。しかし、同じレベルの記録を保持するために次のバック露出時間とフェース露出時間を用いなければならなかった。
バック露出時間：３〜５秒
フェース露出時間：５分
０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）フレキソ板にとって、フェース露出時間は許容しうるものだが、バック露出時間は短すぎるものであった。フロアはこの短い露出時間では不均質であった。
【００４３】
例３：ポリエチレンナフタレート裏打ち機を用いるキャップのないフレキソＤＴＰ板の製造
例２のドープ処理したＦＬＥＸ−ＬＩＧＨＴ  ＡＴＬＡＳ（商標）０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板を次にＵＶ吸収性裏打ち層として本質的にＵＶ吸収性の裏打ち物質であるポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を用いてつくった。ＰＥＮはデュポンＰＥＴ（バージニア州ホープウエル）から市販されている５ミル（１２７ミクロン）のＫａｌａｄｅｘ  １０３０である。他の板構成、レーザー像化及び板処理条件は例２で用いた板と同じにした。この例ではＵＶ吸収性裏打ち層が許容されるバック露出時間を可能とした。即ちバック露出時間は１２０秒であった。フェース露出時間はなお５分であった。この板のフロアは極めて均質であった。バック露出時間はキャップのないＤＴＰにとって許容されるものだが、０．０６９インチ（１．７０ｍｍ）板に通常用いられる約１５〜３０秒のバック露出時間を達成することが望ましい。これは次の例に記載したようにして達成される。
【００４４】
例４：キャップのないフレキソＤＴＰ板の最終的製造
例２のドープ処理したＦＬＥＸ−ＬＩＧＨＴ  ＡＴＬＡＳ（商標）０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板を次にデュポンＰＥＴ（バージニア州ホープウエル）から市販されているＵＶ吸収性ＰＥＴを用いてつくった。このＵＶ吸収性ＰＥＴは５００ゲージのＭｅｌｉｎｅｘ  ９４３である。他の板構成、レーザー像化及び板処理条件は例２で用いた板と同じにした。この例ではＵＶ吸収性ＰＥＴが許容されるバック露出時間を可能とした。即ちバック露出時間は２０〜２２秒であった。フェース露出時間はなお５分であった。この板のフロアは極めて均質であった。バック露出時間はキャップのないＤＴＰにとって許容されるものだった。
【００４５】
例５：キャップしたフレキソＤＴＰ板の製造
Ｆｌｅｘｌｉｇｈｔ  ＥＰＩＣ  ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板（ジョージア州アトランタのポリフィブロン・テクノロジー・インコーポレーテッド）のスリップフィルムを慎重に除いて光ポリマーベース上にグリーンキャップをのこした。次いでカバーシート上のカーボンブラック系マスクを乾燥した上記の板上に積層してキャップがマスクと密に接触するようにした。カバーシートを除いて廃棄した。この板をＭｉｓｏｍｅｘのＯｍｎｉ  Ｓｅｔｔｅｒ  ４０００又はＣｒｅｏのＴｈｅｒｍｏｆｌｅｘ  ５２８０等の市販のフレキソ板セッター上に配して、レーザーでの像化処理を行った。レーザーがマスクの選択部分を除いた。コンピュータからのデジタルファイルを削摩機構を介してＣＢマスク上に移した。次いでこの板を２０秒間バック露出し、６０分間フェース露出して、１３３ＬＰＩにて１％のドットを保持した。６０分間のフェース露出時間はキャップしたＤＴＰ板にとっては長すぎるものであった。
【００４６】
例６：より短いフェース露出時間でのキャップしたフレキソＤＴＰ板の製造
例５のＦｌｅｘｌｉｇｈｔ  ＥＰＩＣ  ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板（光ポリマー及びキャップ共）に０．１％トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ、公知の酸素捕捉剤）を加えた。キャップと下層の光ポリマーの両方のＴＰＰを同じレベルに保つことが必要であった。
この「ドープした」光ポリマーを「ドープした」キャップ上に押出した。ＣＢマスクをグリーンキャップ上に積層した。像化工程と処理工程の他の条件は例５と同じにした。しかし露出時間は下記するように大幅にかわった。
バック露出時間：３〜５秒
フェース露出時間：１５分
上記の露出時間は例５の板と同じレベルの記録及び同様のフロア厚を保持するために要した。フェース露出時間はキャップした板にとって許容されるものだが、バック露出時間は不均一なフロア厚をもたらした。従ってバック露出時間は均質のフロアを得るには短すぎた。
【００４７】
例７：キャップのあるフレキソＤＴＰフレキソ板の最終製造
例６に示したように、短すぎるバック露出時間以外はキャップしたＤＴＰフレキソ板はすべての要求を満足するものであった。バック露出時間を増加するためにＭｅｌｉｎｅｘ  ９４３（５００ゲージ）と称するデュポンＰＥＴから市販されているＵＶ吸収性ＰＥＴを用いることが必要であった。その他のキャップした板構成、即ち「ドープした」光ポリマー、「ドープした」キャップ及びＣＢマスクは例６の板と同じにした。レーザーによる像化処理及びその後の処理工程（ＢＥＸ時間は除く）も同じにした。ＵＶ吸収性ＰＥＴは２０〜２５秒の許容できるバック露出時間をもたらした。フェース露出時間は依然１５分であった。板のフロアは極めて均質であった。従って露出時間及びすべてのプロセス条件がキャップしたＤＴＰ板にとって許容されるものであった。
【００４８】
当業者は本発明の技術思想をかえることなく本発明の好ましい態様に種々の変化を付加しうるものであり、本発明はその特許請求の範囲と技術思想内のすべての均等的変化を包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の印刷要素の断面図。
【図２】本発明の印刷要素の別の態様の断面図。
【符号の説明】
【００５０】
１０    光硬化性要素
１２    支持体層
１４    光硬化性層
１６    光硬化性層
１８    光削摩性マスク層
【図１】
0004471157.tif 000002
【図２】
0004471157.tif 000003