(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置における基板（１８）の支持装置であって、
該支持装置において、該基板（１８）は、Ｘ−及びＹ−軸方向に移動可能な台（１）上にあり、
台表面（５）と基板（１８）の間には、露光器（２）に対する該基板（１８）の距離及び方向を調節するための距離及び方向規定手段が配置されており、
該露光器からは、粒子線が、Ｚ−軸方向に相応して、該基板表面に直角に照射される支持装置であって、
該距離及び方向規定手段は、該台（１）上に、該露光器（２）の方向でかつ該台表面（５）から異なる距離において、ＸＹ平面に平行に延在する２つの第一、第二支持プレート（３、１６）を有し
ａ）該第一の支持プレート（３）は、該台（１）に振動減衰要素（９）を介して固定要素（６）により結合し、
ｂ）該第二の支持プレート（１６）は、その固着機能がオン／オフ切替可能な少なくとも１つの保持装置を介して、該第一の支持プレート（３）と結合し、該第二の支持プレート（１６）は、露光器（２）に向かう側に、該基板（１８）のための載置面を形成すると共に基板寸法の異なった基板（１８）に対して着脱可能な保持装置を形成し、
ｃ）該台表面（５）と基板（１８）との間に介在する前記距離及び方向規定手段の全体は結合状態において、一体の結合ユニットとして構成され、温度、圧力又は機械的力により大きな影響を受けた場合にも、該基板（１０）の高精度な位置が保証されるよう、寸法及び材料特性における安定性の要求に適合するものである
こと、を特徴とする基板支持装置。
【請求項２】
前記第一の支持プレート（３）上には、保持装置として少なくとも１つの静電固定器（１１）が配置されており、
該静電固定器は、前記第一の支持プレート（３）上に固定された基体（１３）、前記第二の支持プレート（１６）のための載置面を形成する絶縁層（１５）、及び該基体（１３）と該絶縁層（１５）の間に配置された導電層（１４）を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載された支持装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの静電固定器（１１）は、スペーサとして構成されており、
両支持プレート（３、１６）は、該スペーサを介してＺ軸の方向に所与の距離で相互に位置する、
ことを特徴とする請求項２に記載された支持装置。
【請求項４】
前記第二の支持プレート（１６）に配置された前記基板（１８）のための載置面は、保持枠（１９）中に位置を固定された三つのボール（１７）により構成されている、
ことを特徴とする請求項１から３の一に記載された支持装置。
【請求項５】
前記第二の支持プレート（１６）の露光器（２）側の面上に、少なくとも１つの静電固定器（２３）が配置され、
該静電固定器（２３）は、該第二の支持プレート（１６）上に固定された基体（１３）、前記基板（１８）のための載置面を形成する絶縁層（１５）、及び該基体（１３）と該絶縁層（１５）の間に配置された導電層（１４）を有する、
ことを特徴とする請求項１から３の一に記載された支持装置。
【請求項６】
前記第二の支持プレート（１６）、前記静電固定器（１１、２３）の基体（１３）及び絶縁層（１５）並びに前記ボール（１７）は、熱膨張係数αＴ＝０＋０．０５×１０−６Ｋ−１及び弾性係数Ｅ≒９０．６ＧＰａのガラスセラミックスから製造されている、
ことを特徴とする請求項２から５の一に記載された支持装置。
【請求項７】
円筒状に形成された三つの静電固定器（１１）は、前記第一の支持プレート（３）上に配置され、かつ円弧上に半径対称に配置されている、
ことを特徴とする請求項１から６の一に記載された支持装置。
【請求項８】
相互に直角になるように配置された２つの鏡（２１、２２）が、前記基板のＸ、Ｙ軸に関する位置の決定及び監視のために配置されている、
ことを特徴とする請求項１から７の一に記載された支持装置。
【請求項９】
前記鏡（２１、２２）は、基体を有し、該鏡は、請求項７に与えられたものと同じガラスセラミックスから製造されており、鏡面として構成された該基体の表面は、高反射材で被覆されている、
ことを特徴とする請求項８に記載された支持装置。
【請求項１０】
前記鏡（２１，２２）は、前記第一の支持プレート（３）に結合している、
ことを特徴とする請求項８又は９に記載された支持装置。
【請求項１１】
前記支持装置の部材及び構造体群の表面であって、基準面として機能する表面ではない表面は、導体で被覆されており、かつ該導体には電位が印加されている、
ことを特徴とする請求項１から１０の一に記載された支持装置。
【請求項１２】
前記導電層（１４）は、複数の相互に分離したセグメントの形式で、該基体（１３）及び該絶縁層（１５）の間に配置されている、
ことを特徴とする請求項２又は５に記載された支持装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置における基板支持装置に関する。この支持装置では、基板は、Ｘ、Ｙ軸内で移動（走行）可能な台（テーブル）上に載置され、かつ、台表面と基板の間には露光器に対する該基板の距離及び方向を調節する寸法（距離及び方向）規定手段（ないし位置調節手段）が配置されており、この露光器からは、粒子線が、Ｚ軸に相応して、基板表面に直角に照射される。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】
光学的、その中でも電子光学的露光装置による照射の際に使用される、基板、とりわけマスク及びウェーハの受承のための支持装置は、従来技術水準において、種種のタイプのものが知られている。通常、支持システムはＸ、Ｙの２つの軸内で移動（走行）可能な台上に載置され、かつ基板のための載置面を有している。該基板は、照射が開始される前に該載置面上に乗せられ、かつ該台がＸ及び／又はＹ方向にステップ毎に移動され、このとき時間的にも順々に所望の照射位置に運ばれる間中、該載置面上に固定される。この載置面は、大抵高度に平坦な載置平面から形成されているが、中には多数の点状載置要素から形成されているものもある。
【０００３】
基体、支持プレートなどは、その上に載置要素又は載置面が配置されているのであるが、通常、Ｚ軸内において基板の位置を調節するための寸法規定手段（位置決めないし位置調節装置）を介して台に機械的に固く結合している。このＺ軸は、基板表面上に直角になるように方向づけられた露光線経路の照射方向に相応している。
【０００４】
基板表面の位置決め精度、載置面の位置の調節、載置面の平坦さ及び特に支持システムの全ての部材及び群構造体の形状の安定性は、露光の際に得ようとした構造の品質と精巧さにとって重要である。それは、マイクロエレクトロニクス産業が、構造の幅を更に狭くしようと努力すればするほどより重要になる。
【０００５】
それゆえ、支持システムを適切に実現することにより、温度変化及び圧力変化の影響下にあっても、露光プロセスの間、寸法安定性及び形状安定性は保証されなければならない。更に支持システムを構築する場合には、露光光線が、磁性構造部材又は磁性粒子を含む材料から生じる磁場によっては、影響を受けないように顧慮しなければならない。更に露光光線は、支持システムの帯電によって意図せずに曲げられてはならない。更に機械的力は、その作用源は何であろうとも、変形及びそれによる精度の悪化に至りかねないので、支持システムの部材乃至構造体群を介して基板に作用してはならない。いずれにせよ、支持装置の製造コストは、経済的に許容できる範囲内に抑えなければならない。
【０００６】
この高い要求の観点から、従来技術において得られる支持システムは評価されなければならない。即ち例えば、米国特許5,535,090及び刊行物「セミコンダクターインターナショナル」Semiconducter International、シャーマン（Sherman）、Vol.20、No.8、p319-322から、静電固定器を備えた基板受承装置が公知である。固定器は、切断可能な電圧を端子を介して基板に対して印加しうる導電層を有する。印加の際には静電場が形成され、この静電場により基板は静電的に、導電層上に配置された平坦な絶縁層上に固定保持される。この時固定器（チャック装置）及び基板間の引力の大きさは、印加された電圧、（いわゆる固定器電極の）導電層の面積、並びに導電層と基板の間の絶縁層の厚さに依存している。
【０００７】
前述の配置の場合には、基板のための載置部材材料としてサファイアが見込まれている。このとき、全体で８インチ大の載置面をサファイアで覆うのではなく、ニオブの中間層を介して、複数の表面が基板のための載置面を形成する数枚の２インチ大ほどのサファイア板が配置されるのみである。これの欠点は、数枚からなる載置面の手間の掛かる製造方法は、それ自体高価なサファイア材料に加えて更に高い費用が掛かることである。
【０００８】
米国特許5,600,530には、基板のための他の受承装置が記載されており、これにも静電固定器が装備されている。ただしここでは絶縁層の材料として酸化アルミニウムが使用されている。同時に、その酸化アルミニウム層を、逆に薄くする加工処理により、基板の位置決めのために必要な寸法にする方法が述べられている。
【０００９】
しかし、酸化アルミニウムの使用は、その不利な熱膨張係数に基づく問題が生じるという欠点がある。それゆえ、酸化アルミニウムの使用は、この欠点を補い、かつ温度が変動した場合に許容しうる寸法を超える基板の位置変化及び／又は形状変化を阻止する措置を必然的に必要とする。この問題の解決策は、前述の文献からは出てこない。
【００１０】
公知の従来技術の他の本質的欠点は、支持システムが常に規定の大きさの基板のためにのみ構成されていることである。様々な大きさの基板を個々に又は連続的に露光するために使用するには、公知の支持システムは適合性がないか又は限定的にしか適合せず、場合によっては極めて高価な組立費用及び調節費用の制約下においてのみ適合する。
【００１１】
電子線装置において使用される他の基板用受承装置が、米国特許5,644,137に開示されている。この装置は、Ｘ、Ｙ軸内で移動する際の台乃至基板の位置決定及び位置監視のための干渉計を備えている。ここでは、露光器に対する基板の位置の安定化は、支持装置のいくつかの部材及び干渉鏡が同じ膨張能を持つ材料から作られていることにより成し遂げられ、これによりＸ及びＹ方向でのより高い位置決め精度が実現する。もっとも、この文献ではＺ軸での膨張に関する問題及びそれと結びついた精度の悪化の問題は解決されていない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、前述の支持装置を、基板のための複数の載置要素を迅速かつ簡単に相互に交換可能にし、かつそれにもかかわらずその時高い位置決め精度を実現するように、発展形成することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この課題は本発明において以下のように解決される。即ち、台上に、露光器の方向でかつ台表面から異なる距離で、ＸＹ平面に平行に延在する２つの支持プレートが取り付けられており、その内第一の支持プレートは台に直接結合し、第二の支持プレートは、その固着機能をオン／オフ切替できる少なくとも１つの保持装置を介して該第一の支持プレートと結合しており、該第二の支持プレートの露光器に向かう側に基板のための載置面が形成されている基板支持装置により解決される。
即ち、本発明の一視点によれば下記の露光装置における基板の支持装置が提供される。この支持装置は、
該支持装置において、該基板は、Ｘ−及びＹ−軸方向に移動可能な台上にあり、
台表面と基板の間には、露光器に対する該基板の距離及び方向を調節するための距離及び方向規定手段が配置されており、
該露光器からは、粒子線が、Ｚ−軸方向に相応して、該基板表面に直角に照射される支持装置であって、
ａ）該距離及び方向規定手段は、該台上に、該露光器の方向でかつ該台表面から異なる距離において、ＸＹ平面に平行に延在する２つの第一、第二支持プレートを有し、
該第一の支持プレートは、該台（１）に振動減衰要素を介して固定要素により結合し、
ｂ）該第二の支持プレートは、その固着機能がオン／オフ切替可能な少なくとも１つの保持装置を介して、該第一の支持プレートと結合し、該第二の支持プレートは露光器に向かう側に、該基板のための載置面を形成すると共に、基板寸法の異なった基板（１８）に対して着脱可能な保持装置を形成し、
ｃ）該台表面と基板との間に介在する前記距離及び方向規定手段の全体は、結合状態において一体の結合ユニットとして構成され、温度、圧力又は機械的力により大きな影響を受けた場合にも、該基板の高精度な位置が保証されるよう、寸法及び材料特性における安定性要求に適合するものである
こと、を特徴とする。（形態１）
なお、特許請求の範囲に付記した図面参照符号は、専ら理解を助けるためのものであり、本発明を図示の態様に限定することを意図するものではない。
【００１４】
【発明の効果】
それと同時に有利に以下のことが達成される。即ち、基板用の載置面を備えた第二の支持プレートが、第一の支持プレートの保持機能の解除に従って解放可能であり、それにより単純かつ容易な方法で相互に大きさが異なる基板のための載置面を備えた支持プレートの交換が可能になる。両支持プレートが相互に平行に位置しており、また両支持プレート乃至保持装置に基準面が形成されているため、各交換後に基板のための正確な露光位置も保証される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明において、以下の展開形態が可能である。
（形態１）前述のとおり。
（形態２）
第一の支持プレート上には、保持装置として少なくとも１つの静電固定器が配置されており、
該静電固定器は、前記第一の支持プレート上に固定された基体、第二の支持プレートのための載置面を形成する絶縁層、及び該基体と該絶縁層の間に配置された導電層（を有することが好ましい。
（形態３）
少なくとも１つの静電固定器は、スペーサとして構成されており、
両支持プレートは、該スペーサを介してＺ軸の方向に所与の距離で相互に位置することが好ましい。
（形態４）
第二の支持プレートに配置された基板のための載置面は、保持枠中に位置を固定された三つのボールにより構成されていることが好ましい。
（形態５）
第二の支持プレートの露光器（２）側の面上に、少なくとも１つの静電固定器が配置され、
該静電固定器は、該第二の支持プレート上に固定された基体、基板のための載置面を形成する絶縁層、及び該基体と該絶縁層の間に配置された導電層を有することが好ましい。
（形態６）
第二の支持プレート、静電固定器の基体及び絶縁層並びにボールは、熱膨張係数αＴ＝０＋０．０５×１０−６Ｋ−１及び弾性係数Ｅ≒９０．６ＧＰａのガラスセラミックスから製造されていることが好ましい。
（形態７）
円筒状に形成された三つの静電固定器は、第一の支持プレート上に配置され、かつ円弧上に半径対称に配置されていることが好ましい。
（形態８）
相互に直角になるように配置された２つの鏡が、基板のＸ、Ｙ軸に関する位置の決定及び監視のために配置されていることが好ましい。
（形態９）
鏡は、基体を有し、該鏡は、請求項７に与えられたものと同じガラスセラミックスから製造されており、鏡面として構成された該基体の表面は、高反射材で被覆されていることが好ましい。
（形態１０）
鏡は、好ましくは中間梁を介して、第一の支持プレートに結合していることが好ましい。
（形態１１）
支持装置の部材及び構造体群の表面であって、基準面として機能する表面ではない表面は、導体で被覆されており、かつ該導体には電位が印加されていることが好ましい。
（形態１２）
導電層（１４）は、複数の相互に分離したセグメントの形式で、該基体及び該絶縁層の間に配置されていることが好ましい。
本発明の好ましい形態では、第一の支持プレートは振動減衰要素を介して台と結合しており、かつ第二の支持プレートを支持するために第一の支持プレート上に配置され、同時にスペーサとして構成されている切替可能な保持装置は、Ｚ軸方向に所与の距離で両支持プレート間に配置され両支持プレート間に自由空間を形成する。この自由空間へは、例えばロボットアームに結合した昇降装置が導入され、この昇降装置と共に第二の支持プレートが取り外されるか乃至は大きさが異なる載置面を有する第二の支持プレートと交換される。
【００１６】
本発明の配置により、有利な構造形態が得られる。即ち、個々の支持プレートに種々の基準面が対応して配され、これにより同時に、これら支持プレートの各々の上に別個の保持装置乃至構造部材を配置するための本質的な前提条件が達成されている。これらの保持装置等は、寸法安定性及び材料特性を顧慮した特別な要求を充足しているので、温度、圧力又は機械力による大きな影響を受けた場合にも基板の高精度の露光が保証されている。
【００１７】
かくて、本発明の一形態においては、例えば、少なくとも、その上に基板のための載置面が配置されている第二の支持プレートは、その材料特性、寸法及び形状的構成に関して、例えば温度変化による材料の膨張又は機械的衝突により生じかつ許容しうる限度を超えた基板の形状変化を与えかねない大きさの力が基板に伝達しないように構成されている。これに関連して、本発明によれば、支持プレートの製造のため、力の作用（影響）による塑性変形をしないもろくて硬い材料を用いる。
【００１８】
そのため、基板が露光の前でも露光の最中でも、露光時に精度の悪化が生じかねない程度の変形が起こらないことが確実に保証されている。
【００１９】
第一の支持プレートと台の結合は、本発明によれば離隔要素（スペーサ）により行われる。この隔離要素は、一方では機械的に固く台表面に結合しており、他方では、例えばフッ素系弾性プラスチック（フッ素エラストマ）からなる弾性中間層を介して第二の支持プレートに結合している。
【００２０】
本発明の特に好ましい一変形形態は、保持装置として両支持プレート間に複数の静電固定器（静電式チャック装置）を備えることである。これら静電固定器はそれぞれ、電気的に不導性の材料から作られた基体、その上に例えばニッケル又はクロムからなる導電層、そして更に導電層の上に絶縁層が配置されたものからできている。この導電層はその平面での膨張を顧慮して有利には個々のセグメントに分割されており、セグメントはそれぞれ独立に電圧をかけることができる。
【００２１】
ここでは、絶縁層の露光器側の面は第二の支持プレートのための載置面として構成されている。この固定器は、そのため第二の支持プレートのための固着機能の他に更に第二の支持プレートの位置合わせ、従って前述のごとく第二の支持プレート上に配置されている基板の位置合わせのための基準面を形成する機能を有する。
【００２２】
本発明の支持装置の一形態においては、基板のための載置面は三つのボールから構成されており、このボールは例えば保持枠により第二の支持プレート上に固定されるか又は第二の支持プレート上に貼り付けられている。これらボールは、基板のための三点支持機構を形成し、円弧上に半径に関し対称状（radialsymmetrisch）に配置されている。しかしそれに代わり、第二の支持プレート上に（第二の支持プレートを固定するのに役立つ固定器に加えて）、表面に基板のための載置面が形成されかつ基板を第二の支持プレート上に静電的に固定するのに使用される一又は二以上の静電固定器を配することもできる。ここでは、この固定器の基体は、例えば撒布（散布）又は貼り付けにより第二の支持プレート上に固定されている。
【００２３】
固定器は全て、接触端子を有する導電層がある。静電気力を発生させるために、電圧が一方では当該固定器の導電層にそれぞれ印加され、他方絶縁層上に載置された構造体群（第二の支持プレート）乃至載置された部材（基板）に印加される。
【００２４】
本発明の特に好ましい一形態は、第二の支持プレート、更に固定器の基体及び絶縁層が、熱膨張係数αT＝０±０．０５×１０-6Ｋ-1及び弾性係数Ｅ≒９０．６ＧＰａの非磁性ガラスセラミックスから製造されているものである。そのようなガラスセラミックスは、「ＺＥＲＯＤＵＲ」の名称で市販されている。
【００２５】
この材料を使用することにより、温度変化に対する感受性が非常に小さい構造が可能になる。露光装置内部での温度の影響は、露光過程の間回避することは殆んどできず、この系の内部での熱伝導及び／又は熱放射に起因しうるものであるが、基板の露光によっても引き起こされうる。しかし、提案された構成によって、煩わしい温度の影響の不利な結果は、露光装置内部での乃至基板の近傍での温度安定化のための必要（ないし費用）を最少にできる程度に減じることができる。
【００２６】
他の長所の一つは、使用するガラスセラミックスが、伝統的な光学加工技術により効果的に、かつ極めて高い寸法安定性をもって加工できることである。これはとりわけ平面の製造に関するが、平行性及び角度の遵守にも関する。これによりマイクロメートル単位及び（角度の）秒単位での製造公差が可能になる。ガラスセラミックスのもろい固さのため、平面上の可塑的な変形が排除される。そのため、既に上述したように、制御できない基板の変形が避けられる。
【００２７】
他の本質的な長所の１つは、従来技術によってガラスセラミックスからできた部材に被覆をすることができることである。このような被膜は、例えば干渉計鏡用の鏡層でありえ、又は電圧をかけるために役立つ導電層でもありうる。後者は、その他に例えば露光中に帯電粒子が絶縁表面に当たるとき生じうる不所望の場所での帯電を避けることにも役立つ。この層には、第一及び第二の支持プレート間での静電固定器の固着力を発生させるための電圧も印加されうる。
【００２８】
この使用されるガラスセラミックスは非磁性であるので、露光光線経路が、金属乃至磁性粒子が混合した材料からなる構造部材から生じうる磁場の影響を受けないですむことが確保されている。
【００２９】
静電気力を発生させるため、５０００Ｖ以下の電圧が備えられている。この電圧は切替可能であり、そのため保持（固着）力は必要に応じてオン／オフできる。
【００３０】
本発明の非常に好ましい一形態は、第一の支持プレート上に円筒状基体でそれぞれ作られた三つの固定器が固定されており、それらが共同で第二の支持プレートのための載置面を形成することである。この固定器は、例えば、一円弧上に相互に半径対称に配置されうる。Ｚ軸方向におけるそれらの寸法及びＸ、Ｙ軸内でのそれらの相対距離は、固定器間並びに第一及び第二の支持プレート間に十分に自由空間が残るように取られるが、それは、ロボットアームと連結した昇降装置が導入されこれによって第二の支持プレートが下から把み取られ、載置面から持ち上げられ、露光装置から除去され、異なる大きさの基板を受承するために構成されている支持プレートを交換できるようにするためである。
【００３１】
上述の基板支持装置は、更に度量衡（ないし位置計測）システムを備え付けることができる。これは、露光の際にＸ、Ｙ軸内で基板の位置の決定及び監視に役立つものであり、かつ干渉計の測定装置のための基準（参照）として役立つ相互に直角に配置された２つの鏡が備え付けられている。本発明によれば、両鏡は、直接第一の支持プレートに載置するか、或いは第一の支持プレートに結合している中間梁に載置することができる。後者の場合には、中間梁は、Ｚ軸方向における鏡の位置の調節のためのスペーサの働きをする。
【００３２】
この場合も、支持プレート、中間梁及び鏡の基体間の結合は、撒布又は貼り付けにより行うことができる。同様に有利なのは、同じガラスセラミックスからなる鏡が前述のように作られ、その結果、温度影響下当該部材乃至構造体群の一様な膨張態様が生じることである。この鏡面を実現するために鏡の基体上には、例えば酸化被膜を持つアルミニウムからなる高反射率の被覆がなされうる。
【００３３】
この鏡に関しては次のような一変形形態が考えうるのは自明である。即ち、Ｌ字型に相互に直交して載置された鏡が一部品で構成され、かつ同時に第一の支持プレート上又は中間梁を介して第一の支持プレート上に固定される形態である。
【００３４】
【実施例】
本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。
【００３５】
図１には台（テーブル）１が描かれており、該台はＸ、Y軸内で露光光学系（露光器）２に関して移動（走行）可能になっている。露光器２は、例えば電子光学的露光装置のことであり、それから露光光線は、Ｚ軸に従って、該台に直角に向けられている。
【００３６】
前記台１上には露光器２に向かう方向にまず第一の支持プレート３が配置されている。該支持プレート３の該露光器２側の面は、第一の基準面４として構成されている。この目的のために、この面は高度に平坦に構成され、かつＸ、Ｙ軸により形成される平面に正確に平行な位置に合わせられている。
【００３７】
前記支持プレート３は、例えば台表面５上で前記台１と圧嵌されるか又はネジ固定することができる固定要素６を介して該台１と機械的に結合している。該固定要素６と該支持プレート３の間の結合は、該固定要素６の相互に対応した（一対の）リング状拡径部（ないし大径部）７、８が、該支持プレート３にも互いに向かい合って位置することによりなされている。この時互いに向かい合ったリング状拡径部７、８間には、フッ素系弾性プラスチックからなる減衰要素９が配設されている。この減衰要素の役割は、該台１から該支持プレートへの振動、衝突及び／又は変形の伝播を減じること乃至妨げることである。
【００３８】
前記基準面４上には、円形の断面を持つ三つの静電固定器（チャック装置）１１が配置されている。該三つの固定器１１の露光器２側の面は、共同して第二の基準面１２を形成し、かつ同時に第二の支持プレート１６のための載置面を形成している。
【００３９】
前記固定器１１のそれぞれは、図５に描かれているように、基体１３を有し、該基体の上には露光器２の方向にクロム又はニッケルからなる導電層１４が、そして更に導電層の上に絶縁層１５が配置されている。この導電層１４は、相互に電気的に分離された複数のセグメントの形式で配置することができ、それにより個々のセグメントに異なる大きさの電圧を印加することができる。
【００４０】
本発明によれば、前記固定器１１の基体１３更に絶縁層１５は、同一の性質のガラスセラミックスから製造されており、そのため膨張態様における相違は最小限度に制限されるか、乃至は基準面１２の精度は温度の影響下でも維持される。有利なことに、既に記載されたガラスセラミックス「ＺＥＲＯＤＵＲ」がここで使用できる。
【００４１】
前記支持プレート１６の上面、即ち前記露光器２側の面には、三点支持機構を形成する、三つのボール１７が、基板１８のための載置要素として配置されている。該ボール１７は、該支持プレート１６上に貼り付けられている（図２参照）保持枠（ケージ）１９によりその位置を固定保持されている。
【００４２】
前記支持プレート１６及び前記ボール１７は、有利には前記基体１３及び前記絶縁層１５と同一のガラスセラミックスから作られている。その結果、Ｚ軸において基準面４より上にある寸法規定ないし位置決めに役立つ構造部材は、同一の材料から作られていることになる。
【００４３】
それゆえここでは、熱膨張態様の観点から、これにより温度変動が極めて広範に補償されるのであるが、有利であるだけではなく、ガラスセラミックスが非磁性であること、従って露光光線経路が、使用された材料から生じる磁場によっては影響を受けないという利点も生じる。その上、ガラスセラミックスでは、渦電流も生じず、即ち、これはそれと共に生ずる磁場により露光線経路に思いがけない影響を与えかねないものである。
【００４４】
支持プレート１６には、導電材からなる層１０が備えられている。そこで、一方で該層１０に、他方固定器１１の導電層１４に、例えば３０００Ｖの電圧を印加すると、静電気力が生じ、該支持プレート１６は図１に描かれた位置において前記支持プレート３上に固定保持される。
【００４５】
導電層１４への通電のために、それぞれ固定器１１の基体１３を貫通して電気接続端子２０が通じている。電圧は、スイッチ（図示していない）によりオン／オフ切替できるので、電圧を切ると静電気力が消滅し、支持プレート１６が基板１８のための載置要素と共に固定器１１から取り外すことができる。それにより、支持プレート１６の交換がいつでもできるようになり、様々な大きさの基板のための支持プレートを簡単な方法で交換することができる。
【００４６】
例えば、支持プレート３上に更に２つの鏡２１及び２２が備えられ、該鏡の各々が中間梁２４乃至２５を介して基準面１２と所定の間隔をおいて載置されている。該鏡２１及び２２は、レーザ測定系のための参照（基準）鏡、これに付いてはここでは詳しく言及しないが、として使用される。ここで該鏡２１、２２はそれぞれＸ、Ｙ軸に相当する。それゆえそれらは互いに直角に載置されている。該鏡は、ガラスセラミックスから製造された基体からできており、該基体は、測定方向において、例えば酸化被膜アルミニウムからできた高い反射性の層が備えられている。
【００４７】
レーザ測定系によって、露光の際のＸ、Ｙ軸内での前記台１の位置及びそれと共に前記基板１８の位置を算出確定すること、該台１の次の露光位置への移動をそれぞれ制御すること、及び場合によっては位置を修正することが可能になる。
【００４８】
図２は図１の装置の平面図である。ここでは、両鏡２１及び２２の直角の配置を見ることができ、同時に基板１８が載置されている固定器１１及びボール１７の位置を見ることができる。
【００４９】
本発明の他の一変形形態は、例えば図３に記載されているように、台１上の構造が、露光器２から支持プレート１６への方向に、前述の例と同様に構成されている。しかしここでは、基板１８のための、図１の変形形態では存在しているボールから形成される三点支持機構はなく、そのボールの位置に追加の静電固定器（ないし固着器）２３が存在する。
【００５０】
この固定器２３は、図５による前記固定器１１と同様に構成されている。即ち、基体１３の上に導電層１４が配置され、更にこの導電層の上に絶縁層１５が配置されている。該絶縁層１５は、高度に平坦に構成され、そのためその上に基板１８を載置することができ、かつそこで適切な状態に保つことができる。ここでも同じように、一方で導電層１４に及び他方で基板１８に電圧を印加することにより、静電気的保持力が発生する。この電圧も同様に切替可能であり、基板は、オン乃至オフ切替により、固定又は固定器２３からの解放が可能である。
【００５１】
この静電気的吸引力は、電圧の大きさ、固定器２３の表面積及び絶縁層１５の厚さに依存する。基板１８を容易に固定器の表面乃至絶縁層１５の上面から除去するために、有利には、絶縁層１５の外面乃至載置面はμｍ範囲の深さの表面プロフィル（凹凸形状）を形成すると、該基板は、絶縁層１５から、電圧を切ることにより容易に取り外すことができる。
【００５２】
図４は、固定器２３が円形に形成され、かつその直径において基板１８の寸法におおよそ適合されている図である。ここでもまた支持プレート１６を固定する固定器１１の位置が記載されている。
【００５３】
最後に、本発明の一変形形態においては、ガラスセラミックスから製造された構造部材は、その表面で、少なくとも、Ｚ軸方向の位置決め機構に関して機能を持たない表面の部分に、導電被膜が施されている。この方法により、構造部材の不所望な場所での帯電及びそれによる露光の精度の悪化に至りかねない露光光線経路に対する影響を避けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  基板のための三点支持機構を有する本発明の装置の基本構造。
【図２】  図１の平面図。
【図３】  基板を収容するための静電固定器を有する本発明の装置の基本構造。
【図４】  図３の平面図。
【図５】  静電固定器の基本構造。
【記号の説明】
１  台
２  露光器
３  第一の支持プレート
４  第一の基準面
５  台表面
６  固定要素
７  拡径部（径大部）
８  拡径部（径大部）
９  減衰要素
１０  導電層
１１  固定器（固着器）
１２  第二の基準面
１３  基体
１４  導電層
１５  絶縁層
１６  第二の支持プレート
１７  ボール
１８  基板
１９  保持枠（ケージ）
２０  電気接続部
２１、２２  長い鏡
２３  固定器
２４，２５  中間梁
【図１】
0004499293.tif 000002
【図２】
0004499293.tif 000003
【図３】
0004499293.tif 000004
【図４】
0004499293.tif 000005
【図５】
0004499293.tif 000006