(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する樹脂組成物からなる隔壁とを少なくとも有する光学素子の製造方法であって、
支持基板上の隔壁で囲まれる領域にアルカリ可溶性のポジ型レジストでレジストパターンを形成する工程と、
上記形成したレジストパターンにフッ素化処理を施す工程と、
上記フッ素化処理を施したレジストパターンの間隙にインクジェット方式により樹脂組成物を付与して隔壁を形成する工程と、
上記レジストパターンを残したまま上記隔壁上面にフッ素化処理を施す工程と、
上記レジストパターンをアルカリ水溶液により溶解して除去する工程と、
インクジェット方式により上記隔壁で囲まれた領域にインクを付与して画素を形成する工程と、
を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
上記フッ素化処理が、少なくともフッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照射を行うプラズマ処理である請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
上記隔壁を、遮光剤を含有する樹脂組成物で形成する請求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
上記遮光剤がカーボンブラックである請求項３に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
上記インクが少なくとも硬化成分、水、有機溶剤を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記フッ素化処理を施したレジストパターンの間隙にインクジェット方式により付与される樹脂組成物が、感光性樹脂を含有するものである請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
上記インクが着色剤を含有し、画素が着色部であるカラーフィルタを製造する請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
上記画素が発光層であるエレクトロルミネッセンス素子を製造する請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶素子の製造方法であって、
一方の基板として、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法により製造された光学素子を用いることを特徴とする液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台に使用されているカラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタ、及び、複数の発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して製造する製造方法に関し、さらには、該製造方法により製造される光学素子、及び該光学素子の一つであるカラーフィルタを用いてなる液晶素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータの発達、特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のためにはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高まっている。
【０００３】
従来から、カラーフィルタの要求特性を満足しつつ上記の要求に応えるべく、種々の方法が試みられているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
【０００４】
第一の方法は染色法である。染色法は、先ず透明基板上に染色用の材料である、水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する。
【０００５】
第二の方法は顔料分散法であり、近年最も盛んに行われている。この方法は、先ず透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより、単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する。
【０００６】
第三の方法としては電着法がある。この方法は、先ず透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
【０００７】
第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。いずれの方法においても、着色層の上に保護層を形成するのが一般的である。
【０００８】
これらの方法に共通している点は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になることである。また、工程数が多い程、歩留まりが低下するという問題も有している。さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ型（ＴＦＴ、即ち薄膜トランジスタをスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス駆動方式）の液晶素子の構成には適用困難である。
【０００９】
また、印刷法は解像性が悪いため、ファインピッチのパターン形成には不向きである。
【００１０】
上記のような欠点を補うべく、近年、インクジェット方式を利用したカラーフィルタの製造方法が盛んに検討されている。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
【００１１】
一方、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子の製造にも応用が可能である。
【００１２】
エレクトロルミネッセンス素子は、蛍光性の無機及び有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、上記薄膜に電子及び正孔（ホール）を注入して再結合させることにより励起子を生成させ、この励起子が失活する際の蛍光の放出を利用して発光させる素子である。このようなエレクトロルミネッセンス素子に用いられる蛍光性材料を、例えばＴＦＴ等素子を作り込んだ基板上にインクジェット方式により付与して発光層を形成し、素子を構成することができる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように、インクジェット方式は製造プロセスの簡略化及びコスト削減を図ることができることから、カラーフィルタやエレクトロルミネッセンス素子といった光学素子の製造へ応用されている。しかしながら、このような光学素子の製造において、インクジェット方式特有の問題として、「混色」及び「白抜け」と言った問題がある。以下、カラーフィルタを製造する場合を例に挙げて説明する。
【００１４】
「混色」は、隣接する異なる色の画素（着色部）間においてインクが混ざり合うことにより発生する障害である。ブラックマトリクスを隔壁として、該ブラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラックマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の体積を有するインクを付与する必要がある。インク中に含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合においては、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持することができるため、付与されたインクがブラックマトリクスを乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達することはない。しかしながら、インク中の固形分濃度が低い場合、即ち多量のインクを付与する必要がある場合には、隔壁となるブラックマトリクスを超えてインクがあふれてしまうため、隣接する着色部間で混色が発生してしまう。特に、インクジェットヘッドのノズルより安定して吐出可能なインクの粘度には限界があり、インク中に含有される固形分の濃度にも限界があるため、混色を回避するための技術が必要である。
【００１５】
そこで、着色部と隔壁との間におけるインクの濡れ性の差を利用して混色を防止する方法が提案されている。例えば、特開昭５９−７５２０５号においては、インクが目的領域外へ広がることを防止するため、濡れ性の悪い物質で拡散防止パターンを形成する方法が提案されているが、具体的な技術は開示されていない。一方、特開平４−１２３００５号においては、具体的な手法として、撥水、撥油作用の大きなシリコーンゴム層をパターニングして混色防止用の仕切壁とする方法が提案されている。さらに、特開平５−２４１０１１号や特開平５−２４１０１２号においても同様に、遮光層となるブラックマトリクス上にシリコーンゴム層を形成し、混色防止用の隔壁として用いる手法が開示されている。
【００１６】
これらの方法によれば、隔壁の高さをはるかに超える量のインクを付与した場合においても、隔壁の表面層が撥インク性を示すためにインクがはじかれ、隔壁を超えて隣接する着色部にまで及ぶことがなく、有効に混色を防止することができる。
【００１７】
図３にその概念図を示す。図中、３１は透明基板、３３は隔壁を兼ねたブラックマトリクス、３６はインクである。ブラックマトリクス３３の上面が撥インク性を有する場合には、図３（ｂ）に示すように、付与されたインク３６がブラックマトリクス３３の開口部中に保持され、隣接する着色部にまで達することはない。しかしながら、ブラックマトリクス３３の上面の撥インク性が低い場合には、図３（ａ）に示すように、付与されたインク３６がブラックマトリクス３３上にまで濡れ広がり、隣接する開口部に付与されたインクと混じり合ってしまう。
【００１８】
また、一般的にはシリコン化合物を用いるよりも、フッ素化合物を用いる方がより優れた撥インク性を得ることができる。例えば、特開２０００−３５５１１号において、遮光部上にポジ型のレジストパターンを形成し、さらに該パターン上に撥インク化処理剤を塗布する方法が開示されており、撥インク化処理剤としては、フッ素化合物を用いることが開示されている。しかしながら、この方法の場合、遮光部上に設けられたポジ型レジストパターンを着色部形成後に除去する必要があるが、レジストパターンを除去する際に画素の溶解、剥離、膨潤といった問題を生じる場合がある。
【００１９】
また、樹脂層の表面をフッ素化する手法としては、特開平６−６５４０８号にフッ素化合物の反応ガスをプラズマ化して処理する方法が提案されている。さらに、この技術をカラーフィルタに適用した例としては、特開平１１−２７１７５３号において、隔壁をインクに対して親和性を有する下層と、非親和性を有する上層の多層構造とし、上層をインクに対して非親和性とする手法として、フッ素化合物を含むガスによりプラズマ処理する方法が開示されている。
【００２０】
しかしながら、上述した手法はいずれも隔壁を多層化するものであり、フォトリソグラフィ工程を複数回実施する必要があることから、プロセスの複雑化、コストアップ、ひいては歩留まり低下を招くという問題がある。
【００２１】
一方、「白抜け」は、主に付与されたインクが隔壁によって囲まれた領域内に十分且つ均一に拡散することができないことに起因して発生する障害であり、色ムラやコントラストの低下といった表示不良の原因となる。
【００２２】
図４に、白抜けの概念図を示す。図中、図３と同じ部材には同じ符号を付した。また、３８は白抜け部分である。
【００２３】
近年、ＴＦＴ型液晶素子用のカラーフィルタにおいては、ＴＦＴを外光から保護する目的で、或いは、開口率を大きくして明るい表示を得る目的で、ブラックマトリクス３３の開口部形状が複雑になっており、複数のコーナー部を有するものが一般的に使用されているため、図４（ａ）に示すように、該コーナー部に対してインク３６が十分に拡散しないという問題が発生する。また、ブラックマトリクス３３を形成する際には、一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ工程が使用されており、レジストに含まれる種々の成分により透明基板３１の表面に汚染物が付着して、インク３６の拡散の妨げとなる場合がある。さらに、透明基板３１の表面に比べて、ブラックマトリクス３３の側面の撥インク性が極端に高い場合、図４（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス３３の側面でインク３６がはじかれてしまうため、インク３６とブラックマトリクス３３が接する部分で色が薄くなるという問題が発生する場合もある。
【００２４】
このような混色や白抜けの問題を解決する手法として、特開平９−２０３８０３号においては、ブラックマトリクス（凸部）に囲まれた領域（凹部）が、水に対して２０°以下の接触角となるよう親インク化処理された基板を用いることが提案されている。親インク性を付与する方法としては、水溶性のレベリング剤や水溶性の界面活性剤が例示されている。さらに、上述した混色に対する問題を同時に解決するために、凸部の表面を予め撥インク化処理剤で処理して撥インク性を付与する手法が開示されており、撥インク化処理剤としてフッ素含有シランカップリング剤を用い、フッ素系の溶剤でコートする方法が例示されている。また、この際、凸部の表面層のみを選択的に撥インク化し、凸部の側面を撥インク化しないための手法として、
▲１▼凸部自体がそのような性質を生じるよう２種類の材料を積層する、
▲２▼凸部以外の部分をレジストで覆って、凸部の上面のみを撥インク化処理する、▲３▼透明基板上にレジスト層を形成し、全面を撥インク化処理した後、フォトリソ工程によりレジスト層をパターニングして凸部を形成する、等の方法が例示されている。
【００２５】
また、特開平９−２３０１２９号においては、同様に、凹部を親インク化処理する方法として、エネルギー線を照射する方法が開示されている。この場合にも、凸部の表面層のみを撥インク化処理する方法として、ガラス基板上に凸部形成用の感光性材料を塗布し、全面を撥インク化処理剤にて処理した後、フォトリソグラフィ工程により感光性材料をパターニングする手法が例示されている。その後、エネルギー線の照射により凸部と凹部を同時に、もしくはどちらかを選択的に親インク化処理するものである。
【００２６】
しかしながら、これらの方法はいずれも凸部の表面を撥インク化処理した後に凹部を親インク化処理するものであることから、親インク化処理を行う際に撥インク化処理された凸部の表面の撥インク性を低下させてしまうという問題がある。そのため、透明基板表面及びブラックマトリクスの側面においては十分な親インク性を、ブラックマトリクスの上面においては十分な撥インク性をそれぞれ得ることは困難である。
【００２７】
上記問題は、インクジェット方式によりエレクトロルミネッセンス素子を製造する場合にも同様に生じる。即ち、エレクトロルミネッセンス素子において、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各光を発光する有機半導体材料をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該インクを付与して画素（発光層）を形成する際に、隣接する発光層間でインクが混じり合った場合、当該発光層では所望の色、輝度の発光が得られないという問題が生じる。また、単一色の発光層であっても、隔壁内に充填するインク量を均一化しているため、隣接画素へインクが流入すると、インク量に不均一性が生じ、輝度ムラとして認識され、問題となる。また、隔壁で囲まれた領域内に十分にインクが拡散しなかった場合には、発光層と隔壁との境界部分で十分な発光輝度が得られないという問題を生じる。尚、以下の記述においては、便宜上、エレクトロルミネッセンス素子を製造する場合においても、隣接する発光層間でのインクの混じり合いを「混色」、発光層と隔壁の境界部でのインクの反発による発光輝度ムラの発生を「白抜け」と記す。
【００２８】
本発明の課題は、カラーフィルタやエレクトロルミネッセンス素子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して簡易なプロセスで安価に製造するに際して、上記問題を解決し、信頼性の高い光学素子を歩留まり良く提供することにある。具体的には、隔壁で囲まれた領域内にインクを付与する際に、隣接する画素間での混色を防止し、且つ、該領域内でインクを十分に拡散させて白抜けのない画素を形成することにある。本発明ではさらに、該製造方法によって得られた光学素子を用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子をより安価に提供することを目的とする。
【００２９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一は、支持基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する樹脂組成物からなる隔壁とを少なくとも有する光学素子の製造方法であって、
支持基板上の隔壁で囲まれる領域にアルカリ可溶性のポジ型レジストでレジストパターンを形成する工程と、
上記形成したレジストパターンにフッ素化処理を施す工程と、
上記フッ素化処理を施したレジストパターンの間隙にインクジェット方式により樹脂組成物を付与して隔壁を形成する工程と、
上記レジストパターンを残したまま上記隔壁上面にフッ素化処理を施す工程と、
上記レジストパターンをアルカリ水溶液により溶解して除去する工程と、
インクジェット方式により上記隔壁で囲まれた領域にインクを付与して画素を形成する工程と、
を有することを特徴とする光学素子の製造方法である。
【００３０】
上記本発明は、上記フッ素化処理が、少なくともフッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照射を行うプラズマ処理であること、上記隔壁を、遮光剤を含有する樹脂組成物で形成すること、該遮光剤がカーボンブラックであること、上記インクが少なくとも硬化成分、水、有機溶剤を含有すること、上記フッ素化処理を施したレジストパターンの間隙にインクジェット方式により付与される樹脂組成物が、感光性樹脂を含有するものであること、上記インクが着色剤を含有し、画素が着色部であるカラーフィルタを製造すること、上記画素が発光層であるエレクトロルミネッセンス素子を製造すること、を好ましい態様として含むものである。
【００３３】
さらに本発明の第二は、一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶素子の製造方法であって、一方の基板として、上記本発明の光学素子の製造方法により製造された光学素子を用いることを特徴とする液晶素子の製造方法である。
【００３４】
【発明の実施の形態】
本発明の光学素子の製造方法は、支持基板上に隔壁を形成する工程において、支持基板上にレジストパターンを形成してその間隙に樹脂組成物を付与して隔壁を形成し、フッ素化処理を施して隔壁上面の撥インク性を増大させた後にレジストパターンを除去し、インクジェット方式によりインクを付与して画素を形成することに特徴を有する。そのため本発明においては、インクを付与した際に、隔壁上面の撥インク性によって、多量のインクでも十分に保持して混色を防止する一方、隔壁側面及び支持基板表面は親インク性が高く、速やかにインクが濡れ広がり、白抜けが防止される。
【００３５】
尚、本発明において上記「インク」とは、乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能性を有する液体を総称し、従来用いられていた着色材料に限定されるものではない。
【００３６】
本発明の製造方法で製造される本発明の光学素子としては、カラーフィルタ及びエレクトロルミネッセンス素子が挙げられる。先ず、本発明の光学素子について実施形態を挙げて説明する。
【００３７】
図８に、本発明の光学素子の一実施形態であるカラーフィルタの一例の断面を模式的に示す。図中、１０１は支持基板としての透明基板、１０２は隔壁を兼ねたブラックマトリクス、１０３は画素である着色部、１０４は必要に応じて形成される保護層である。本発明のカラーフィルタを用いて液晶素子を構成する場合には、着色部１０３上或いは、着色部１０３上に保護層１０４を形成したさらにその上に、液晶を駆動するためのＩＴＯ（インジウム・チン・オキサイド）等透明導電材からなる透明導電膜が形成されて提供される場合もある。
【００３８】
図９に、図８のカラーフィルタを用いて構成された、本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図を示す。図中、１０７は共通電極（透明導電膜）、１０８は配向膜、１０９は液晶、１１１は対向基板、１１２は画素電極、１１３は配向膜であり、図８と同じ部材には同じ符号を付して説明を省略する。
【００３９】
カラー液晶素子は、一般的にカラーフィルタ側の基板１０１と対向基板１１１とを合わせ込み、液晶１０９を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基板１１１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と画素電極１１２がマトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ側の基板１０１の内側には、画素電極１１２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着色部１０３が形成され、その上に透明な共通電極１０７が形成される。さらに、両基板の面内には配向膜１０８，１１３が形成されており、液晶分子を一定方向に配列させている。これらの基板は、スペーサー（不図示）を介して対向配置され、シール材（不図示）によって貼り合わされ、その間隙に液晶１０９が充填される。
【００４０】
上記液晶素子は、透過型の場合には、基板１１１及び画素電極１１２を透明素材で形成し、それぞれの基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバックライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。また、反射型の場合には、基板１１１或いは画素電極１１２を反射機能を備えた素材で形成するか、或いは、基板１１１上に反射層を設け、透明基板１０１の外側に偏光板を設け、カラーフィルタ側から入射した光を反射して表示を行う。
【００４１】
また、図７に、本発明の光学素子の他の実施形態である、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「ＥＬ素子」と記す)の一例の断面模式図を示す。図中、９１は支持基板である駆動基板、９２は隔壁、９３は画素である発光層、９４は透明電極、９６は金属層である。この図では、簡略化のために一つの画素領域のみを示している。
【００４２】
駆動基板９１には、ＴＦＴ（不図示）、配線膜及び絶縁膜等が多層に積層されており、金属層９６及び発光層９３毎に配置した透明電極９４間に発光層単位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板９１は公知の薄膜プロセスによって製造される。
【００４３】
本発明の有機ＥＬ素子の構造については、少なくとも一方が透明または半透明である一対の陽極及び陰極からなる電極間に、樹脂組成物からなる隔壁内に少なくとも発光材料を充填されてなる構成であれば、特に制限はなく、その構造は公知のものを採用することができ、また本発明の主旨を逸脱しない限りにおいて各種の改変を加えることができる。
【００４４】
その積層構造は、例えば、
（１）電極（陰極）／発光層／正孔注入層／電極（陽極）
（２）電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極（陰極）
（３）電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注入層／電極（陰極）
（４）電極（陽極または陰極）／発光層／電極（陰極または陽極）
があるが、本発明は上記のいずれの構成の有機化合物層を設けた積層構造体を有するＥＬ素子に対しても適用することができる。
【００４５】
上記（１）は２層構造、（３）は３層構造、（４）は単層構造と称されるものである。本発明の有機ＥＬ素子はこれらの積層構造を基本とするが、これら以外の（１）から（４）を組み合わせた構造やそれぞれの層を複数有していてもよい。また、カラーフィルタと組み合わせることによって、フルカラー表示を実現しても良い。これらの積層構造からなる本発明の有機ＥＬ素子の形状、大きさ、材質、製造方法等は該有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜選択され、これらについては特に制限はない。
【００４６】
本発明の有機ＥＬ素子の発光層に用いられる発光材料は特に限定されず、種々のものを適用することができる。具体的には、低分子蛍光体や高分子蛍光体が好ましく、高分子蛍光体がさらに好ましい。
【００４７】
例えば、低分子有機化合物としては、特に限定はないが、ナフタレン及びその誘導体、アントラセン及びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘導体等を用いることができる。具体的には、例えば、特開昭５７−５１７８１号、特開昭５９−１９４３９３号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。
【００４８】
また、発光材料として使用可能な高分子有機化合物としては、特に限定はないが、ポリフェニレンビニレン、ポリアリレン、ポリアルキルチオフェン、ポリアルキルフルオレン等を挙げることができる。
【００４９】
尚、本発明の有機ＥＬ素子に用いる高分子蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共重合体が好ましい。また本発明の有機ＥＬ素子は、薄膜からの発光を利用するので該高分子蛍光体は、固体状態で蛍光を有するものが用いられる。
【００５０】
該高分子蛍光体に対する良溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの溶媒に０．１重量％以上溶解させることができる。
【００５１】
本発明の有機ＥＬ素子において、発光材料を含む層と陰極との間にさらに電子輸送層を設ける場合の電子輸送層中に使用する、或いは正孔輸送材料及び発光材料と混合使用する電子輸送性材料は、陰極より注入された電子を発光材料に伝達する機能を有している。このような電子輸送性材料について特に制限はなく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
【００５２】
該電子輸送性材料の好ましい例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、複素環テトラカルボン酸無水物、或いはカルボジイミド等を挙げることができる。
【００５３】
さらに、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン誘導体及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等を挙げることができる。また、発光層を形成する材料として開示されているが、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体等も電子輸送材料として用いることができる。
【００５４】
次に、本発明の一例である積層構造を有する有機ＥＬ素子の代表的な作製方法について述べる。陽極及び陰極からなる一対の電極で、透明または半透明な電極としては、例えば、透明ガラス、透明プラスチック等の透明基板の上に、透明または半透明の電極を形成したものが用いられる。
【００５５】
本発明のＥＬ素子において、発光層は一般には適当な結着性樹脂と組み合わせて薄膜を形成する。上記結着剤としては広範囲な結着性樹脂より選択でき、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独または共重合体ポリマーとして１種または２種以上混合して用いても良い。陽極材料としては仕事関数がなるべく大きなものが良く、例えば、ニッケル、金、白金、パラジウム、セレン、レニウム、イリジウムやこれらの合金、或いは酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、ヨウ化銅が好ましい。またポリ（３−メチルチオフェン）、ポリフェニレンスルフィド或いはポリピロール等の導電性ポリマーも使用出来る。
【００５６】
一方、陰極材料としては仕事関数が小さな銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、マンガン、インジウム、クロム或いはこれらの合金が用いられる。
【００５７】
以下に、図面を参照して本発明の光学素子の製造方法について説明する。
【００５８】
図１、図２は本発明の光学素子の製造方法を模式的に示す工程図である。以下に各工程について説明する。尚、以下の工程（ａ）〜（ｈ）は図１、図２の（ａ）〜（ｈ）に対応する。また、図１、図２の各工程において紙面左側の（ａ−１）〜（ｈ−１）は上方より見た平面模式図、紙面右側の（ａ−２）〜（ｈ−２）は（ａ−１）〜（ｈ−１）のＡ−Ｂ断面模式図である。図中、１は支持基板、３は隔壁、４は隔壁３の開口部、５はレジストパターン、６はインクジェットヘッド、７はインク、８は画素、９は隔壁３を形成する樹脂組成物である。
【００５９】
工程（ａ）
支持基板１を用意する。支持基板１は、図８に例示したカラーフィルタを製造する場合には透明基板１０１であり、一般にはガラス基板が用いられるが、液晶素子を構成する目的においては、所望の透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば、プラスチック基板なども用いることができる。
【００６０】
また、図７に例示したＥＬ素子を製造する場合には、支持基板１は透明電極９４を形成した駆動基板９１であり、図７の如く当該基板側から発光を観察する場合には、駆動基板９１にガラス基板などの透明基板を用いる。
【００６１】
該支持基板１には、予め親インク化処理を施しておくことが望ましい。親インク化処理としては、例えばアルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理等の方法が好適に用いられる。
【００６２】
工程（ｂ）
支持基板１上に、隔壁３をパターン形成するため、及び、後述する隔壁３上面のフッ素化処理において隔壁３の側面と支持基板１表面とを保護するためのレジストパターン５を形成する。レジストとしては、フッ素化処理後に除去しうる材料を用いる必要がある。当該レジストパターン５の形成方法としては、感光性レジストを所定パターンのマスクを介して露光、現像するフォトリソグラフィ法や、感光性もしくは非感光性材料を印刷或いはインクジェット法で直接パターン形成する方法、さらには、感光性レジストを介して非感光性材料をパターニングするリフトオフ法などが適用できるが、これらの方法に限定されるものではない。しかしながら、パターン解像度や容易さを加味して、フォトリソグラフィ法、さらには、光分解型のポジ型レジストを用いる方法が好ましい。特に、アルカリ可溶のポジ型レジストを用いた場合、該レジスト除去時のアルカリ洗浄によって、支持基板表面が親インク化されるため、インク付与時の濡れ性が高くなり、白抜け防止効果がより高まり、好ましい。
【００６３】
工程（ｃ）
好ましくは、レジストパターン５にフッ素化処理を施す。当該処理によって、レジストパターン５の表面は撥インク性を増大し、後述する工程においてインクジェットヘッドより樹脂組成物９をインクとしてレジストパターン５の間隙に付与して隔壁３を形成する際に、隔壁３の線幅よりも大きな液滴の樹脂組成物９を受けても、レジストパターン５表面の撥インク性によって間隙に樹脂組成物が速やかに流れ込むため、インクジェット方式においても解像度の高い隔壁パターンを形成することができる。
【００６４】
当該フッ素化処理としては、工程が簡単でありレジストパターン５表面を良好にフッ素化して撥インク性を増大させることができる方法として、少なくともフッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照射を行うプラズマ処理が好ましく用いられる。
【００６５】
当該工程において用いられる、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、ＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｃ2Ｆ6、ＳＦ6、Ｃ3Ｆ8、Ｃ5Ｆ8から選択されるハロゲンガスを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ5Ｆ8（オクタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０であると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（ＣＦ4：５万年、Ｃ4Ｆ8：３２００年）０．９８年と非常に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ2＝２とした１００年積算値）と、従来のガスに比べて（ＣＦ4：６５００、Ｃ4Ｆ8：８７００）非常に小さく、オゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
【００６６】
さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。本工程においては、上記ＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｃ2Ｆ6、ＳＦ6、Ｃ3Ｆ8、Ｃ5Ｆ8から選択されるハロゲンガスを１種以上とＯ2との混合ガスを用いると、本工程においてフッ素化処理されるレジストパターン５表面の撥インク性の程度を制御することが可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ2の混合比率が３０％を超えるとＯ2による酸化反応が支配的になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、Ｏ2混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージが顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ2の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。
【００６７】
また、プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いることができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができる。
【００６８】
図５、図６に、上記プラズマ処理工程に用いることが可能なプラズマ発生装置の模式図を示す。図中、５１は上部電極、５２は下部電極、５３は被処理基板、５４は高周波電極である。当該装置は平行平板の２極電極に高周波電圧を印加して、プラズマを発生させる。図５はカソードカップリング方式、図６はアノードカップリング方式の装置を示し、どちらの方式においても、圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件によって、レジストパターン５表面の撥インク性を所望の程度とすることができる。
【００６９】
図５、図６に示したプラズマ発生装置において、図５のカソードカップリング方式は処理時間を短くすることが可能であり、当該処理工程に有利である。また、図６のアノードカップリング方式では、必要以上に支持基板１にダメージを与えることがない点で有利である。よって、本工程に用いるプラズマ発生装置は、支持基板１やレジストパターン５の材料に応じて選択すればよい。
【００７０】
工程（ｄ）
インクジェットヘッド６より、樹脂組成物９をレジストパターン５の形成されていない領域（間隙）に付与して隔壁３を形成する。インクジェットとしては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能である。
【００７１】
本発明においては、当該工程においてインクジェット方式を用いることにより、樹脂組成物９はレジストパターン５の間隙に選択的に付与されるため、レジストパターン５の少なくとも一部を露出させておくことができ、一般的なリフトオフ法のように全面を樹脂組成物９で覆ってしまう場合に比べて、後工程におけるレジストパターン５の除去が容易になる。また、レジストパターン５上に樹脂組成物９がのってしまった場合でも、レジストパターン５の除去と同時に該樹脂組成物９も除去されるため、隔壁３のパターンには影響しない。
【００７２】
本発明において、隔壁３を形成するために用いられる樹脂組成物としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミドイミドを含むポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニル系樹脂などの感光性または非感光性の樹脂材料を用いることができるが、２５０℃以上の耐熱性を有することが好ましく、その点から、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂が好ましく用いられる。
【００７３】
また、かかる隔壁３を遮光層とする場合には、上記樹脂組成物９中に、遮光剤を分散せしめた黒色樹脂組成物を用いる。該遮光剤としては、後述するフッ素化処理によって隔壁３の上面により高い撥インク性が得られることから、カーボンブラックを用いることが望ましく、該カーボンブラックとしては、チャネルブラック、ローラーブラック、ディスクブラックと呼ばれているコンタクト法で製造されたもの、ガスファーネストブラック、オイルファーネストブラックと呼ばれているファーネスト法で製造されたもの、サーマルブラック、アセチレンブラックと呼ばれているサーマル法で製造されたものなどを用いることができるが、特に、チャネルブラック、ガスファーネストブラック、オイルファーネストブラックが好ましい。さらに必要に応じて、Ｒ、Ｇ、Ｂの顔料の混合物などを加えても良い。また、一般に市販されている黒色レジストを用いることもできる。必要に応じて高抵抗化した遮光層を用いても良い。
【００７４】
工程（ｅ）
レジストパターン５を支持基板１上に残したまま、フッ素化処理を施し、隔壁３の上面の撥インク性を増大させる。当該フッ素化処理は、先の工程（ｃ）のフッ素化処理と同様であり、少なくともフッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照射を行うプラズマ処理が好ましく用いられる。該プラズマ処理の条件及び用いられる装置についても、先の工程（ｃ）における説明と同様である。
【００７５】
工程（ｆ）
レジストパターン５を除去する。レジストの除去方法としては、用いられるレジストの材質に応じて異なるが、隔壁３の密着性、フッ素化処理された隔壁３上面の撥インク性に悪影響を与えない方法を用いる必要がある。例えば、アルカリ水溶液や有機溶剤により溶解する方法や、それに加えて紫外線エネルギー照射を併用する方法がある。
【００７６】
工程（ｇ）
インクジェット記録装置を用いて、インクジェットヘッド６より、インク７を隔壁３で囲まれた領域（開口部４）に付与する。インクジェットとしては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能である。また、インク７としては、カラーフィルタの場合には硬化後にＲ、Ｇ、Ｂの着色部を形成するように各色の着色剤を含むもの、ＥＬ素子の場合には、硬化後に電圧印加によって発光する発光層を形成する材料を用いる。いずれの場合も、インク７は硬化成分、水、溶剤を少なくとも含むものが好ましい。以下に、本発明の製造方法によってカラーフィルタを製造する場合に用いるインクの組成についてさらに詳細に説明する。
【００７７】
〔１〕着色剤
本発明でインク中に含有させる着色剤としては、染料系及び顔料系共に使用可能であるが、顔料を使用する場合には、インク中で均一に分散させるために別途分散剤の添加が必要となり、全固形分中の着色剤比率が低くなってしまうことから、染料系の着色剤が好ましく用いられる。また、着色剤の添加量としては、後述する硬化成分と同量以下であることが好ましい。
【００７８】
〔２〕硬化成分
後工程におけるプロセス耐性、信頼性等を考慮した場合、熱処理或いは光照射等の処理により硬化し、着色剤を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリマー等の成分を含有することが好ましい。特に、後工程における耐熱性を考慮した場合、硬化可能な樹脂組成物を用いることが好ましい。具体的には、例えば基材樹脂として、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミド基等の官能基を有するアクリル樹脂、シリコーン樹脂；またはヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体或いはそれらの変性物；またはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等のビニル系ポリマーが挙げられる。さらに、これらの基材樹脂を光照射或いは加熱処理により硬化させるための架橋剤、光開始剤を用いることが可能である。具体的には、架橋剤としては、メチロール化メラミン等のメラミン誘導体が、また光開始剤としては重クロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用可能である。また、これらの光開始剤を複数種混合して、或いは他の増感剤と組み合わせて使用することもできる。
【００７９】
〔３〕溶剤
本発明で使用されるインクの媒体としては、水及び有機溶剤の混合溶媒が好ましく使用される。水としては種々のイオンを含有する一般の水ではなく、イオン交換水（脱イオン水）を使用することが好ましい。
【００８０】
有機溶剤としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等の炭素数１〜４のアルキルアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトン、ジアセトンアルコール等のケトン類またはケトアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレングリコール、チオジグリコール、へキシレングリコール、ジエチレングリコール等のアルキレン基が２〜４個の炭素を含有するアルキレングリコール類；グリセリン類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコールの低級アルキルエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドン等の中から選択することが好ましい。
【００８１】
また、上記成分の他に、必要に応じて所望の物性値を持つインクとするために、沸点の異なる２種類以上の有機溶剤を混合して用いたり、界面活性剤、消泡剤、防腐剤等を添加しても良い。
【００８２】
工程（ｈ）
熱処理、光照射等必要な処理を施し、インク７中の溶剤成分を除去して硬化させることにより、画素８を形成する。
【００８３】
さらに、カラーフィルタの場合には、前記したように、必要に応じて保護層や透明導電膜を形成する。この場合の保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプ、或いは光熱併用硬化タイプの樹脂材料、或いは、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後の透明導電膜形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれば使用可能である。また、透明導電膜は、保護層を介さずに着色部上に直接形成しても良い。また、ＥＬ素子の場合には、金属層等必要な部材を画素上に形成する。
【００８４】
【実施例】
（参考実施例１）
〔レジストパターンの形成〕ガラス基板（コーニング製「１７３７」）上に、ポジ型レジスト（ヘキスト製「ＡＺ−４９０３」）をスピンコートにより塗布し、所定の露光、現像処理を行って、膜厚１０μｍ、７５μｍ×２２５μｍの長方形のレジストが２０μｍの間隔をおいて縦横に複数個配列されたレジストパターンを得た。
【００８５】
〔ブラックマトリクス（隔壁）の形成〕
吐出量４０ｐｌのインクジェットヘッドを具備するインクジェット記録装置を用いて、上記レジストパターンの間隙に黒色レジスト（新日鉄化学製「Ｖ−２５９ＢＫ」）を乾燥時膜厚２μｍとなるように充填した。その後、９０℃のホットプレート上で２分間加熱して黒色レジストを指触乾燥状態とし、次いで紫外線の全面露光により該黒色レジストに光硬化を施してブラックマトリクスを形成すると同時に、レジストパターンを光分解した。
【００８６】
〔ブラックマトリクスのフッ素化処理〕
上記ブラックマトリクスを形成したガラス基板（ブラックマトリクス基板）に、平行平板型のプラズマ処理装置を用いて、以下の条件にてプラズマ処理を施した。
【００８７】
使用ガス    ：ＣＦ4
ガス流量    ：８０ｓｃｃｍ
圧力        ：８Ｐａ
ＲＦパワー  ：１５０Ｗ
処理時間    ：６０ｓｅｃ
【００８８】
〔レジストパターンの除去〕
上記プラズマ処理を施したブラックマトリクス基板を水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ１１）で処理し、レジストパターンを除去した。次に十分に水洗し、水切りを経て２３０℃のオーブン中で３０分間加熱し、ブラックマトリクスを完全に硬化させた。
【００８９】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：１１８°
ガラス基板表面：１７°
であった。
【００９０】
〔インクの調整〕
下記に示す組成からなるアクリル系共重合体を熱硬化成分として用い、以下の組成にてＲ、Ｇ、Ｂの各インクを調製した。
【００９１】
硬化成分
メチルメタクリレート              ５０重量部
ヒドロキシエチルメタクリレート    ３０重量部
Ｎ−メチロールアクリルアミド      ２０重量部
【００９２】
Ｒインク
Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１４８    ３．５重量部
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９      ０．５重量部
ジエチレングリコール                ３０重量部
エチレングリコール                  ２０重量部
イオン交換水                        ４０重量部
上記硬化成分                          ６重量部
【００９３】
Ｇインク
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー２３        ２重量部
亜鉛フタロシアニンスルホアミド      ２重量部
ジエチレングリコール              ３０重量部
エチレングリコール                ２０重量部
イオン交換水                      ４０重量部
上記硬化成分                        ６重量部
【００９４】
Ｂインク
Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９      ４重量部
ジエチレングリコール              ３０重量部
エチレングリコール                ２０重量部
イオン交換水                      ４０重量部
上記硬化成分                        ６重量部
【００９５】
〔着色部の作製〕
吐出量２０ｐｌのインクジェットヘッドを具備したインクジェット記録装置を用い、上記ブラックマトリクス基板に対して、上記Ｒ、Ｇ、Ｂインクを開口部１個あたり２００〜８００ｐｌの範囲で１００ｐｌおきに量を変化させて付与した。次いで、９０℃で１０分間、引き続き２３０℃で３０分間の熱処理を行ってインクを硬化させて着色部（画素）とし、インク付与量の異なる７種類のカラーフィルタを作製した。
【００９６】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。また、このカラーフィルタに保護層、透明導電膜を設けて構成した液晶素子は、良好な表示品質であった。
【００９７】
（参考実施例２）
レジストパターンを光硬化型ネガレジスト（三洋化成製「ＰＶＰ−レジスト」）を用いて膜厚６μｍとなるように形成し、該レジストの除去にアルカリ水溶液（東京応化製「ＮＭＤ−３」）を用いた以外は参考実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。尚、樹脂組成物充填時にレジストパターンに樹脂組成物が一部かかった部分が生じたが、レジスト除去時に除去された。
【００９８】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：１１５°
ガラス基板表面：１１°
であった。
【００９９】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。
【０１００】
（参考実施例３）
レジストパターンを、モノメタクリレート樹脂（親中村化学製「ＮＫエステルＳＡ」）を用いて凹版オフセット印刷により直接パターン形成し、膜厚が４μｍとなるように形成し、このレジストの除去に水酸化ナトリウム水溶液を用いた以外は参考実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。尚、樹脂組成物充填時にレジストパターン上にも樹脂組成物がのってしまった部分を生じたが、レジスト除去時に除去された。
【０１０１】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：１２８°
ガラス基板表面：１３°
であった。
【０１０２】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。
【０１０３】
（比較例１）
レジストパターンを形成せずに直接ガラス基板上にブラックマトリクスパターンを形成した。パターンとして幅２０μｍ、高さ２μｍと設定したが、線幅が６０〜７０μｍとなってしまい、設計通りのブラックマトリクスが形成されなかった。
【０１０４】
（比較例２）
ブラックマトリクスのフッ素化処理を行わない以外は参考実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０５】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：７６°
ガラス基板表面：６５°
であった。
【０１０６】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、白抜けが観察され、インク付与量が３００ｐｌ以上のカラーフィルタにおいて混色が確認された。
【０１０７】
（実施例４）
レジストパターンの膜厚を５μｍとし、レジストパターンに対して以下の条件でプラズマ処理を施した以外は参考実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０８】
〔レジストパターンのフッ素化処理〕
使用ガス    ：ＣＦ4
ガス流量    ：８０ｓｃｃｍ
圧力        ：８Ｐａ
ＲＦパワー  ：１５０Ｗ
処理時間    ：６０ｓｅｃ
【０１０９】
〔レジストパターン基板の撥インク性の評価〕
フッ素化処理の後レジストパターン基板の純水に対する接触角を測定したところ、
レジストパターン上面：１０５°
ガラス基板表面：１３°
であった。
【０１１０】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：１１８°
ガラス基板表面：１７°
であった。
【０１１１】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。
【０１１２】
（参考実施例５）
レジストパターンを光硬化型ネガレジスト（三洋化成製「ＰＶＰ−レジスト」）を用いて膜厚５μｍとなるように形成し、該レジストの除去にアルカリ水溶液（東京応化製「ＮＭＤ−３」）を用いた以外は実施例４と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１１３】
〔レジストパターン基板の撥インク性の評価〕
フッ素化処理の後レジストパターン基板の純水に対する接触角を測定したところ、
レジストパターン上面：１００°
ガラス基板表面：１５°
であった。
【０１１４】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：１１０°
ガラス基板表面：１０°
であった。
【０１１５】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。
【０１１６】
（比較例３）
レジストパターンのフッ素化処理、及び、ブラックマトリクスのフッ素化処理を行わない以外は実施例４と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１１７】
〔レジストパターン基板の撥インク性の評価〕
パターニング後レジストパターン基板の純水に対する接触角を測定したところ、
レジストパターン上面：７４°
ガラス基板表面：６３°
であった。
【０１１８】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：７３°
ガラス基板表面：６２°
であった。
【０１１９】
〔混色及び白抜けの評価〕
得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、白抜けは観察された。また、インク付与量が３００ｐｌ以上のカラーフィルタにおいて混色が確認された。
【０１２０】
（参考実施例６）
薄膜プロセスによって形成された、配線膜及び絶縁膜等が多層に積層されてなるＴＦＴ駆動基板上に画素（発光層）単位に、透明電極としてＩＴＯをスパッタリングにより厚さ４０ｎｍになるように形成し、フォトリソ法により、画素形状に従ってパターニングを行った基板を用い、参考実施例１と同様にしてレジストパターンの除去まで行った。
【０１２１】
〔ブラックマトリクス基板の撥インク性の評価〕
得られたブラックマトリクス基板の純水に対する接触角を測定したところ、
ブラックマトリクス上面：１２２°
ガラス基板表面：１５°
であった。
【０１２２】
〔インクの調整〕
電子輸送性２，５−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾオキサゾルイル）−チオフェン〔蛍光ピーク４５０ｎｍをもつ電子輸送性青色発光色素であり、発光中心形成化合物の１つである。以下、「ＢＢＯＴ」と記す〕３０重量％を、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール〔分子量１５０，０００、関東化学社製、以下、「ＰＶＫ」と記す〕よりなるホール輸送性ホスト化合物中に分子分散させることができるよう、両者をジクロロエタン溶液に溶解させた。該ＰＶＫ−ＢＢＯＴのジクロロエタン溶液にさらに、もう１つの発光中心形成化合物であるナイルレッドを０．０１５モル％となるように溶解し、インクを調整した。
【０１２３】
〔画素（発光層）の作成〕
インクジェット法により透明樹脂で囲まれた隔壁内に上記インクを充填、乾燥し、厚さ２００ｎｍの発光層を形成した。
【０１２４】
〔混色および白抜けの評価〕
各画素（発光層）は独立し、隔壁間で前記発光材料を含む溶液が隣接画素で混ざることはなかった。また、（白）抜けは確認されなかった。
【０１２５】
さらにこの上に、Ｍｇ：Ａｇ（１０：１）を真空蒸着させて厚さ２００ｎｍのＭｇ：Ａｇ陰極を作った。このようにして作ったＥＬ素子の各画素に１８Ｖの電圧を印加したところ、４８０ｃｄ／ｍ2の均一な白色発光が得られた。
【０１２６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、混色や白抜けのない画素を備えた信頼性の高い光学素子をインクジェット方式により簡易なプロセスによって歩留まり良く製造することができ、着色部内で濃度ムラのないカラーフィルタ、発光層内で発光輝度ムラのないＥＬ素子を歩留まり良く提供することができる。よって、上記カラーフィルタを用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子をより安価に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工程図である。
【図２】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工程図である。
【図３】インクジェット方式による光学素子の製造方法において発生する混色の概念図である。
【図４】インクジェット方式による光学素子の製造方法において発生する白抜けの概念図である。
【図５】本発明の製造方法において用いうるプラズマ発生装置の構成の一例を示す模式図である。
【図６】本発明の製造方法において用いうるプラズマ発生装置の他の構成を示す模式図である。
【図７】本発明の光学素子の一実施形態であるエレクトロルミネッセンス素子の一例の断面模式図である。
【図８】本発明の光学素子の他の実施形態であるカラーフィルタの一例の断面模式図である。
【図９】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図である。
【符号の説明】
１  支持基板
３  隔壁
４  開口部
５  レジストパターン
６  インクジェットヘッド
７  インク
８  画素
９  樹脂組成物
３１  透明基板
３３  ブラックマトリクス
３６  インク
３８  白抜け
５１  上部電極
５２  下部電極
５３  被処理基板
５４  高周波電極
９１  駆動基板
９２  隔壁
９３  発光層
９４  透明電極
９６  金属層
１０１  透明基板
１０２  ブラックマトリクス
１０３  着色部
１０４  保護層
１０７  共通電極
１０８  配向膜
１０９  液晶
１１１  対向基板
１１２  画素電極
１１３  配向膜
【図１】
0004521949.tif 000002
【図２】
0004521949.tif 000003
【図３】
0004521949.tif 000004
【図４】
0004521949.tif 000005
【図５】
0004521949.tif 000006
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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