(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテルよりなる群から選ばれる化合物の一種又は二種以上と、
（ｂ）３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、およびジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテルよりなる群から選ばれる化合物の一種又は二種以上とを含有し、
（ａ）／（ｂ）の重量割合が４０／６０＜（ａ）／（ｂ）＜９５／５である引火点を持たない洗浄剤組成物。
【請求項２】
（ｂ）が３−メトキシブタノール、又は３−メチル−３−メトキシブタノールである請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、および下記一般式（５）および（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種以上を含有する請求項１又は２記載の洗浄剤組成物。
Ｒ18Ｏ―（Ｒ19Ｏ）2―Ｈ    （５）
（式中Ｒ18は炭素数１〜４のアルキル基、アルケニル基、Ｒ19は炭素数２〜３のアルキレン基を表す。）
Ｒ20Ｏ―（Ｒ21Ｏ）2― Ｒ22  （６）
（式中Ｒ20は炭素数１〜３のアルキル基、アルケニル基、Ｒ21は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ22は炭素数１〜２のアルキル基、アルケニル基を表す。）
【請求項４】
（ｃ）が、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのいずれかである請求項３記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類から選ばれる化合物の一種又は二種以上の組み合わせを含有する請求項１〜４のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種以上の化合物を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄する方法。
【請求項８】
フラックス洗浄において、請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄する方法。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄した後、（ｆ）４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる化合物を含有する組成物でリンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方法。
【請求項１０】
（ｆ）が、（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類から選ばれる化合物、および（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤から選ばれる化合物、よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする請求項９記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、精密機械部品、光学機械部品等の加工時に種々の加工油類、グリース類、ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用されるフラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
精密機械部品、光学機械部品等の加工時に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に行われている。
また、電子回路の接合方法としてはハンダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべき金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ濡れ性の改良の目的で、フラックスでハンダ付け面を予め処理することが通常行われている。ハンダ付けの方法としては溶液状のフラックス中に基板を浸漬する等により、フラックスを基板面に付着させた後、溶融ハンダを供給する方法や予めフラックスとハンダの粉末を混合してペースト状にしたものをハンダ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食や絶縁性の低下の原因となるため、ハンダ付け終了後、十分に除去する必要がある。
【０００３】
これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有することから、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しかしながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５という）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下ＨＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカーボンが提案されているが、これらについてもオゾン層破壊能があるために日本では２０２０年にその使用が禁止される予定である。
【０００４】
さらに、近年では塩素原子を全く含まないハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハイドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く単独では洗浄剤として使用できない。
また、特開平１０−３１６５９８号公報には環状のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗浄剤が提案されているが、このような洗浄剤は引火点を有し、不燃性溶剤として取り扱うことができない。また、特開平１０−３６８９４号公報、特開平１０−２１２４９８号公報および特開平１０−２５１６９２号公報にはＨＦＣやＨＦＥとグリコールエーテル類の併用についての記載がある。しかし、例えば，フラックス洗浄剤としては、フラックス成分であるロジンやイオン性残渣の原因となるアミンの塩酸塩や有機酸等の汚れおよびハンダ付け工程によって生成され、白色残渣の原因となる重合ロジンやロジンの金属塩等の汚れの全てを洗浄する必要があるが、前記洗浄剤では全ての汚れを充分に洗浄することができない。
【０００５】
以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品として、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能であってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、洗浄剤としての洗浄力が不足している等、洗浄剤として使用する上で多くの問題を抱えているのが現状である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、洗浄におけるあらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化を防止しつつ、低毒性で、引火点がなく、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を達成するための手段】
本発明者は、上記課題を達成するため、塩素原子を含有しない含フッ素化合物の引火点を有さない特性を生かし、引火点の出現しない洗浄剤を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、塩素原子を含有しない含フッ素化合物に前記一般式（１）、（２）、（３）および（４）よりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせを加えることより、広範な種類の汚れを洗浄できる事を見出した。また、グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、前記一般式（５）および前記一般式（６）よりなる群から選ばれる１種以上の化合物を加えることより、より高い洗浄効果の得られることを見出すとともに、酸化防止剤等の添加により高温下で連続して使用できることを見出し、さらに、その洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置を見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、発明の第一は、（ａ）４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテルよりなる群から選ばれる化合物の一種又は二種以上と、
（ｂ）３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、およびジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテルよりなる群から選ばれる化合物の一種又は二種以上とを含有し、
（ａ）／（ｂ）の重量割合が４０／６０＜（ａ）／（ｂ）＜９５／５である引火点を持たない洗浄剤組成物である。
発明の第二は、（ｂ）が３−メトキシブタノール、又は３−メチル−３−メトキシブタノールであることを特徴とする発明の第一に記載の洗浄剤組成物である。
【０００９】
発明の第三は、（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式（５）および（６）で表されるよりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種以上を含有する発明の第一又は二に記載の洗浄剤組成物である。
発明の第四は、（ｃ）が、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのいずれかである発明の第三に記載の洗浄剤組成物である。
【００１０】
発明の第五は、（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類から選ばれる化合物の一種又は二種以上の組み合わせを含有する発明の第一〜四のいずれかに記載の洗浄剤組成物である。
発明の第六は、（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種以上を含有する発明の第一〜五のいずれかに記載の洗浄剤組成物である。
発明の第七は、発明の第一〜第六のいずれかに記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄する方法である。
発明の第八は、フラックス洗浄において、発明の第一〜第六のいずれかに記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄する方法である。
【００１１】
発明の第九は、発明の第一〜六のいずれかに記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄した後、（ｆ）４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれる化合物を含有する組成物でリンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方法である。
【００１２】
発明の第十は、（ｆ）が、（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類から選ばれる化合物、および（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤から選ばれる化合物、よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする請求項７記載の洗浄方法である。
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、洗浄とは被洗物に付着している汚れを次工程に影響のないレベルまで除去することである。また、リンスとは被洗物に付着している汚れ成分を含む洗浄剤を汚れ成分の含まれない溶剤に置換することである。さらに、蒸気洗浄とは被洗物表面にわずかに残留する汚れ成分を、被洗物と該被洗物が晒されている蒸気との温度差によって該被洗物表面で凝縮する蒸気成分からなる液体で除去することである。
【００１４】
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）に使用する（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物とは、炭化水素類やエーテル類の水素原子の一部がフッ素原子のみで置換され、塩素原子を含まないフッ素化合物であり、例えば、下記一般式（７）で特定される環状ＨＦＣ、（８）で特定される鎖状ＨＦＣ、又は（９）で特定されるＨＦＥの、塩素原子を含まない、炭素原子、水素原子、酸素原子、フッ素原子からなる化合物、及びこれらの中から選ばれる２種以上の化合物の組み合わせ等を挙げられる。
【００１５】
ＣnＨ2n-mＦm                        （７）
（式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す）
ＣxＨ2x+2-yＦy            （８）
（式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦２ｘ＋１の整数を示す）
ＣsＦ2s+1ＯＲ             （９）
（式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）
【００１６】
環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナフルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。
【００１７】
鎖状のＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン等を挙げることができる。
【００１８】
ＨＦＥの具体例としてはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル、メチルパーフルオロペンチルエーテル、メチルパーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロペンチルエーテル等を挙げることができる。
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）においては、これら（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物の中から選ばれる１種又は２種以上の化合物を組み合わせて用いることができるが、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類等の高極性溶剤に対する溶解性が高く地球温暖化係数の低い環状ＨＦＣまたはＨＦＥを挙げることができる。好ましくは、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、およびこれらの混合物を挙げることができる。より好ましくはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物（商品名：ＨＦＥ７２００、住友スリーエム（株）製）を挙げることができる。さらに好ましくはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）を挙げることができる。
【００１９】
本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れに対する洗浄力の向上を目的に（ｂ）前記一般式（１）、（２）、（３）および（４）よりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせを使用する必要がある。
一般式（１）で表されるものの具体例としては、３−メチル−３−メトキシブタノール、３−メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等が挙げられる。より好ましくは３−メチル−３−メトキシブタノール、３−メトキシブタノールが挙げられる。さらに好ましくは３−メチル−３−メトキシブタノールが挙げられる。
【００２０】
一般式（２）で表されるものの具体例としては、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−ペンチルエーテル等が挙げられる。より好ましくはジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテルが挙げられる。
一般式（３）で表されるものの具体例としてはトリエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
【００２１】
一般式（４）で表されるものの具体例としてはジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ペンチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル等が挙げられる。
本発明における洗浄剤は、上記成分（ａ）、（ｂ）を含有する引火点を持たない洗浄剤である。ここでいう、「引火点を持たない」とは、ＪＩＳ Ｋ ２２６５等の一般的な引火点評価試験により、洗浄剤に引火点なしと認められることを意味する。
【００２２】
本発明の洗浄剤においては、広範な種類の汚れに対する洗浄力の向上を目的に（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、前記一般式（５）および（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる１種以上の化合物を併用することができる。
ここでいうグリコールエーテルアセテート類とは、水酸基を有するグリコールエーテル類をアセテート化した化合物である。ここでいう水酸基を有するグリコールエーテル類とは２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物において、該水酸基のうちいずれか１個の水酸基の水素原子のみが炭化水素残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換されている化合物である。例えば、下記一般式（１０）で特定されるグリコールエーテルアセテート類を挙げることができる。
【００２３】
【化４】
0004601124.tif 000002
【００２４】
（式中Ｒ23は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基、またはシクロアルキル基、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26は水素またはメチル基、ｅは０〜１の整数、ｆは１〜４の整数を表す。）
【００２５】
グリコールエーテルアセテート類の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコール等に対応するモノアルキルエーテルのアセテート、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート等を挙げることができる。
【００２６】
また、本発明の洗浄剤に使用するヒドロキシカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエステル化合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エステル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコールモノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリンジエステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を挙げることができる。
これらの中でも、特に好ましいヒドロキシカルボン酸エステル類としては下記一般式（１１）で特定される乳酸エステル類を挙げることができる。
【００２７】
【化５】
0004601124.tif 000003
【００２８】
（式中、Ｒ27は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。）乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることができる。
【００２９】
一般式（５）で表されるものの具体例としては、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルが挙げられる。
【００３０】
一般式（６）で表されるものの具体例としてはジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。
上記成分（ｃ）化合物の、少なくとも一種が、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのいずれかである時に、より良好なフラックス溶解性、基板洗浄性が実現できる。
【００３１】
さらに、成分（ｂ）および成分（ｃ）の蒸気圧は、特に引火点を有さない洗浄剤組成とするために、２０℃において１．３３×１０3Ｐａ未満が好ましく、より好ましくは６．６６×１０2Ｐａ以下であり、さらに１．３３×１０2Ｐａ以下が好ましい。
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）には、１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃で、請求項１記載の成分（ａ）、成分（ｂ）および成分（ｃ）とは異なる化合物である、成分（ｄ）から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせを洗浄力改良剤、安定剤、融点降下剤等の添加成分として添加し、成分（ｂ）および成分（ｃ）の添加量の抑制、洗浄性の向上、蒸気洗浄時の気相での金属安定性の向上および冷却時の洗浄剤の凝固防止等を図ることもできる。
【００３２】
成分（ｄ）としては、例えば、以下に示す溶剤の種類ごとに例示することができる。
炭化水素類としては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、２−メチルペンタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、イソオクタン等が挙げられる。
アルコール類としてはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等を挙げることができる。
ケトン類としてはアセトン，メチルエチルケトンを挙げることができる。
エステル類としてはギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等を挙げることができる。
【００３３】
成分（ｄ）の沸点は２０℃〜１００℃であり、かつ、使用中の組成変動を少なくするために（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物の沸点の±４０℃の範囲に入ることが好ましく、さらに好ましくは±３０℃である。
また、成分（ｄ）は、併用する（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物と共沸組成物あるいはそれに近似する組成の共沸様組成物であることが好ましい。
また、洗浄剤および組成物（ｆ）の酸化劣化を防ぐ目的で成分（ｅ）を添加することができる。成分（ｅ）としては、例えば、以下に示す種類ごとに例示することができる。
【００３４】
フェノール系酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メチル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等の化合物を挙げることができる。
【００３５】
アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等の化合物を挙げることができる。
リン系酸化防止剤としては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジイソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物を挙げることができる。
イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル等の化合物を挙げることができる。
【００３６】
紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。
【００３７】
これら例示された化合物のなかで、フェノール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用することによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制することが可能となる。
【００３８】
本発明の洗浄剤は、上述した（ａ）〜（ｅ）各成分を定法に従って混合し均一化して得られる。
各成分の重量割合については、本発明の洗浄剤の特徴である、高洗浄性、低毒性、低引火性が損なわれない範囲であれば、特に制限はないが、成分（ａ）／成分（ｂ）の重量割合（ａ）／（ｂ）の範囲が４０／６０＜（ａ）／（ｂ）＜９５／５であることがより好ましい。成分（ｂ）の重量割合が５より大きいときに、各種汚れに対するより好ましい溶解力改善効果が得られ、６０より小さいときにより好ましい低引火性が達成される。洗浄剤の洗浄性と低引火性のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）／成分（ｂ）の重量割合の範囲は５０／５０＜（ａ）／（ｂ）＜９０／１０であり、いっそう好ましくは６０／４０＜（ａ）／（ｂ）＜８０／２０である。
【００３９】
成分（ｃ）をさらに添加する場合には、成分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝の範囲が４０／６０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜９５／５であることがより好ましい。｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合が５より大きいときに、各種汚れに対するより好ましい溶解力改善効果が得られ、６０より小さいときにより好ましい低引火性を達成できる。洗浄剤の洗浄性と低引火性のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合の範囲は５０／５０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜９０／１０であり、いっそう好ましくは６０／４０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜８０／２０である。
【００４０】
成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合（ｂ）／（ｃ）の範囲は１０／９０＜（ｂ）／（ｃ）＜９０／１０であることがより好ましい。成分（ｃ）の重量割合が１０より大きいときに、より好ましいフラックス溶解性が得られ、９０より小さいときに、重合ロジンやロジンの金属塩に対するより好ましい洗浄性が得られる。洗浄剤のフラックスに対する溶解性と重合ロジン等の白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合の範囲は２０／８０＜（ｂ）／（ｃ）＜８０／２０である。
【００４１】
成分（ｄ）を添加する場合には重量割合｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）の範囲が９０／１０＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）＜９９．９／０．１であることがより好ましい。（ｄ）の重量割合が１０より小さいときにより好ましい低引火性を達成でき、０．１より大きいときに安定剤、融点降下剤としてのより好ましい効果が得られる。さらに好ましい重量割合の範囲は９３／７＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）＜９９／１である。
【００４２】
成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。
また、組成物（ｆ）は上述した成分（ａ）単独、または（ａ）、（ｄ）及び（ｅ）の各成分を定法に従って混合し均一化して得られる。
組成物（ｆ）において、成分（ａ）に成分（ｄ）を添加する場合には（ａ）／（ｄ）の重量割合の範囲が９０／１０〜９９．９／０．１あることがより好ましい。（ｄ）の重量割合が１０よい小さいときにより好ましい低引火性を達成でき、０．１より大きいときに安定剤、融点降下剤としてのより好ましい効果が得られる。さらに好ましい重量割合の範囲は９３／７〜９９／１である。
【００４３】
組成物（ｆ）において成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）の融点は１５℃以下が好ましいが、冬期使用することも考慮すると１０℃以下がより好ましく，さらに好ましくは５℃以下である。
また、本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対して優れた洗浄性を示すが、特にフラックスなどの樹脂類の洗浄に適している。
【００４４】
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）には、必要に応じて各種助剤、例えば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じて添加しても良い。
以下に本発明の洗浄剤に添加できる添加剤の具体例を例示する。
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面活性剤を添加しても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数が６〜２０の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノール、炭素数が８〜１８の直鎖または分岐の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサイドのブロックポリマー等が挙げられる。両性界面活性剤としては，ベタイン型、アミノ酸型等が挙げられる。
【００４５】
安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポキシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエタノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等が挙げられる。
消泡剤としては、自己乳化シリコーン、シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレングリコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活性剤等が挙げられる。
【００４６】
本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）は、以下に示す洗浄方法及び洗浄装置を利用することによって、最も効果的な洗浄を行うことができる。
本発明の洗浄方法は、被洗物に付着したあらゆるタイプの汚れを（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物に化合物（ｂ）を含有し、必要に応じて化合物（ｃ）、（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分および（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤を添加することによって、優れた洗浄性を示し、かつ、引火点を有さない洗浄剤で洗浄したのち、汚れ成分等を発明の第七に記載の組成物（ｆ）または発明の第八に記載の組成物（ｆ）で被洗物をリンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴としている。
【００４７】
組成物（ｆ）は少なくとも１種の成分(ａ)を含有する組成であれば、いかなる組成でもよいが、必要に応じて組成を使い分けることができ、例えば、被洗物表面での洗浄剤成分の残留やシミの抑制を重視する場合には揮発性の高い成分（ａ）のみからなる組成が好ましく、イオン性残渣洗浄性を重視する場合には成分（ａ）に（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を添加することが好ましい。洗浄工程及びリンス工程には洗浄性、リンス性を向上することを目的とした手拭き、浸漬、スプレー、シャワー等の物理的な方法を組み合わせることにより、効果的な洗浄が可能となる。本発明の洗浄方法は本発明の洗浄剤を使用する上で、洗浄性及び乾燥性に優れ、被洗物の材質に対する影響も少なく、最も適した洗浄方法と言える。
【００４８】
本発明の洗浄方法を実施する装置としては、これまでトリクロロエタン，ＣＦＣ１１３等の塩素系洗浄剤で使用されていた３槽式洗浄機等の一般的な洗浄機であれば使用することが可能であり、洗浄装置を限定するものではないが、具体的な洗浄装置の事例として、図１に示した本発明の第九に記載の洗浄装置、図２に示した本発明の第十に記載の洗浄装置および図３に示した本発明の第十一に記載の洗浄装置を挙げることができる。
【００４９】
以下に本発明の洗浄方法及び洗浄装置を添付図面によって具体的に説明する。
図１に示す洗浄装置は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１、組成物（ｆ）を入れるリンス槽（Ｂ）２及び蒸気発生槽３、組成物（ｆ）の蒸気に満たされる蒸気ゾーン４、蒸発した組成物（ｆ）を冷却管９によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）５からなる。実際の洗浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽（Ａ）１、リンス槽（Ｂ）２、蒸気ゾーン４の順に通過させながら洗浄を完了させる。
【００５０】
洗浄槽（Ａ）１では、本発明の洗浄剤をヒーター７で加熱昇温し、一定温度にコントロールしながら被洗物に付着した汚れを超音波振動子８により発生したキャビテーションで洗浄除去する。この時，物理的な力としては超音波以外に揺動や洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されているいかなる方法を使用しても良い。本洗浄装置においては被洗物を洗浄槽（Ａ）１からリンス槽（Ｂ）２に移動する時、洗浄剤成分が被洗物表面に付着していることにより、被洗物表面での乾燥による汚れ成分の固着を防止しつつ、リンス槽（Ｂ）２へ移動することが可能となる。
【００５１】
リンス槽（Ｂ）２では、被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している汚れ成分を本発明の組成物（ｆ）で除去する。組成物（ｆ）は、リンス槽（Ｂ）２からオーバーフロー配管１１、１６、１２を通って蒸気発生槽３に入り、蒸気発生槽３のヒーター６で加熱沸騰され、その組成物の一部または全部が蒸気となって矢印１３のように冷却管９で凝
縮された後、配管１４から水分離槽（Ｃ）５に集まり水と分離された上で、配管１５を通ってリンス槽（Ｂ）２に戻る。
この組成物（ｆ）を洗浄装置内で液体や気体に状態変化させながら循環することによって、リンス槽（Ｂ）２に持ち込まれた洗浄剤成分や汚れ成分を連続的に蒸気発生槽３に蓄積し，リンス槽（Ｂ）２の清浄度の維持や蒸気ゾーン４における蒸気洗浄が可能となる。
【００５２】
蒸気発生槽３で発生した蒸気に満たされた蒸気ゾーン４で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝縮することによりできた液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。さらに、洗浄効果を高めるためには、リンス槽（Ｂ）２の冷却管１０で組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、浸漬する被洗物温度を低く抑制することによって，蒸気温度との温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的である。
【００５３】
本発明の洗浄装置では、洗浄剤と組成物（ｆ）の２種類の液を使用するために独立した浸漬槽構造となっているが、各槽上部の空間を蒸気ゾーンとして共通に使用することにより，洗浄剤からの（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物の蒸発ロスを抑制し、結果として洗浄剤の組成変動を減少し、長期連続使用することが可能となる。
次に図２に示す洗浄装置は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１７、組成物（ｆ）を入れるリンス槽（Ｂ）１８、洗浄剤の蒸気に満たされる蒸気ゾーン（Ｄ）１９、蒸発した洗浄剤を冷却管２３によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）２０からなる。実際の洗浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽（Ａ）１７、リンス槽（Ｂ）１８、蒸気ゾーン（Ｄ）１９の順に通過させながら洗浄を完了させる。リンス槽数については精密洗浄等の高い清浄度が求められる場合には必要に応じて２槽以上に増やしても良い。
【００５４】
洗浄槽（Ａ）１７では、本発明の洗浄剤をヒーター２１で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されている物理的な力であればいかなる方法を使用しても良い。本洗浄装置では、被洗物を洗浄槽（Ａ）１７からリンス槽（Ｂ）１８に移動する時、洗浄剤成分が被洗物表面に付着することにより、被洗物表面での乾燥による汚れ成分の固着を防止しつつ，リンス槽（Ｂ）１８へ移動することが可能となる。
【００５５】
リンス槽（Ｂ）１８では、本発明の組成物（ｆ）で被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している汚れ成分を除去する。
洗浄剤は、洗浄槽（Ａ）１７のヒーター２１で加熱沸騰され、その組成の一部または全部が蒸気となって矢印２５のように蒸気ゾーン（Ｄ）１９を満たした後、冷却管２３で凝縮された後、配管２６から水分離槽（Ｃ）２０に集まり水と分離された上で、配管２７を通って、一旦リンス槽（Ｂ）１８に戻された後、該リンス槽（Ｂ）１８からオーバーフローして矢印２８のように最終的に洗浄槽（Ａ）に戻される。
【００５６】
このように図２に示す洗浄装置は図１に示した洗浄装置と異なり、洗浄剤と組成物（ｆ）が洗浄槽（Ａ）１７において混合することを特徴とし、洗浄剤と組成物（ｆ）に含まれる（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物と（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分は同一成分とすることが好ましい。
【００５７】
この洗浄剤と組成物（ｆ）に含まれる（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物と（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を洗浄装置内で循環させ、且つ、リンス相（Ｂ）１８内の組成物の一部を洗浄槽（Ａ）１７にオーバーフローさせることによって、蒸気ゾーン（Ｄ）１９における蒸気洗浄が可能となるのみならず、被洗物によりリンス槽（Ｂ）１８に持ち込まれた洗浄剤中の（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）、および（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる一種、または二種以上の化合物、（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、および一般式（５）および（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる一種、または二種以上の化合物及び（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤を連続的に洗浄槽（Ａ）１７に戻すことが可能となり、洗浄槽（Ａ）１７内の洗浄剤、及びリンス槽（Ｂ）１８内の組成物（ｆ）の組成を一定に保つことができる。  洗浄槽（Ａ）１７で発生した蒸気に満たされた蒸気ゾーン（Ｄ）１９で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝縮したことによりできた液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。さらに、洗浄効果を高めるためには、リンス槽（Ｂ）１８の冷却管２４で組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、被洗物温度を低くすることによって、蒸気温度との温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的である。
【００５８】
次に図３に示す洗浄装置は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）２９、洗浄剤の蒸気に満たされる蒸気ゾーン（Ｄ）３０、蒸発した洗浄剤を冷却管３４によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）３１，水分離槽（Ｃ）３１で静置分離された凝縮液をシャワーリンスするためのポンプ３３とからなる。実際の洗浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽（Ａ）２９、蒸気ゾーン（Ｄ）３０の順に通過させながら洗浄を完了させる。
【００５９】
洗浄槽（Ａ）２９では、本発明の洗浄剤をヒーター３２で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されている物理的な力であれば、いかなる方法を使用しても良い。
蒸気ゾーン（Ｄ）３０では、主に本発明の洗浄剤に含まれる（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物や（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分等の蒸気圧の高い成分の蒸気を冷却管３４で凝縮させ水分離槽（Ｃ）３１に集めた後、これら凝縮液をポンプ３３で配管３８、３９に送液し、シャワーノズル４０，４１から被洗物にシャワーすることによって，被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している汚れ成分を除去する。凝縮液は、水分離槽（Ｃ）３１に集められた後、配管３７およびポンプ３３から洗浄槽（Ａ）２９に入りヒーター３２で加熱沸騰され、その組成の一部または全部が蒸気となって矢印３５のように冷却管３４で凝縮された後、配管３６から水分離槽（Ｃ）３１に戻る。
【００６０】
洗浄槽（Ａ）２９で発生した蒸気に満たされた蒸気ゾーン（Ｄ）３０で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝縮することによりできた液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。
本発明の洗浄装置では、洗浄剤に含まれる（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物や（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃等の蒸気圧の高い成分が主に洗浄装置内で液体や気体に状態変化させながら循環することによって、被洗物に付着しているわずかに残留している可能性の有る汚れ成分を組成物（ｆ）及びリンス槽（Ｂ）を使用せずにリンス及び蒸気洗浄が可能である。
【００６１】
前記図１〜３に示した各洗浄装置はその目的や用途によって使い分けることができ、高清浄度が求められるような精密洗浄等では、洗浄槽（Ａ）およびリンス槽（Ｂ）を１槽または２槽以上にした洗浄装置がより好ましい。
【００６２】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のようにして測定、評価した。
［実施例１〜１２及び比較例１〜４］
（１）引火点
ＪＩＳ  Ｋ  ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタグ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。
○：引火点なし
×：引火点あり
【００６３】
（２）融点測定
サンプルビンに洗浄剤５ｍｌを入れ、１５℃にコントロールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目視評価した。評価は以下の基準による。
○：均一な液体
×：完全に凝固
【００６４】
（３）フラックス溶解性試験
フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成する。これを６０℃の洗浄剤５ｍｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）し、メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）でリンスした後、エアーブローして乾燥する。溶解性は試験の前後にペレットの重量を測定し、以下の計算式で計算する。
フラックス溶解性（％）
＝［（試験前重量−試験後重量）／試験前重量］×１００
評価は以下の基準による。
◎：４０％以上
○：３０％以上４０％未満
×：３０％未満
試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ（（株）弘輝製）
【００６５】
（４）基板洗浄性試験
重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄剤の洗浄性を、以下の操作により測定した。
ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験片を６０℃の洗浄剤５０ｍｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）し、メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）でリンスおよび蒸
気洗浄して乾燥する。洗浄性は基板表面の外観を目視評価する。評価は以下の基準による。
◎：白色残渣全くなし（白色残渣がなく、かつハンダ面に光沢がある。）
○：白色残渣なし（白色残渣はないが、ハンダ面に光沢がない。）
×：白色残渣あり
試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ（（株）弘輝製）
【００６６】
【実施例１〜１１、参考例１】
表１に記載の組成で各成分を混合し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評価試験を行ない、結果を表１にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせを均一混合することにより、引火点を消去した上で、ロジン、重合ロジン、ロジンの金属塩、アミンの塩酸塩および有機酸等のフラックス成分およびハンダ付け工程において生成されたあらゆる汚れを洗浄できることが確認された。
【００６７】
さらに（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式（５）および（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる一種以上の化合物を併用して添加することにより、より高い洗浄効果の得られることが確認された。
また、（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の成分を添加することによって、成分（ｂ）や成分（ｃ）の添加量を抑制した上で、優れた洗浄性が得られるとともに、融点が改善された。
【００６８】
【比較例１〜４】
表２に記載の溶剤について実施例と同じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテルとエチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物、および２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン単独ではフラックス溶解性および基板洗浄性のいずれも不充分であった。
【００６９】
【比較例５〜１０】
表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物に成分（ｃ）として用いたジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルおよびジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル各々の単独添加、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルおよびジプロピレングリコールモノメチルエーテルの併用添加、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル各々の単独添加ではいずれもフラックス溶解性または基板洗浄性が不充分であった。
【００７０】
［実施例１３〜１４及び比較例１１］
（５）実機洗浄試験１
図１に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１に所定の組成の洗浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）２、蒸気発生槽３および水分離槽（Ｃ）５に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件により測定した。
【００７１】
操作
・フラックス洗浄性評価
ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定し、その測定値を「β」する。評価は以下の基準による。
◎：β≦７
○：７＜β≦１４
×：β＞１４
試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ（（株）弘輝製）
【００７２】
・脱脂洗浄性評価
３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は目視評価する。評価は以下の基準による。
○：加工油の残留なし
△：一部に加工油の残留あり
×：加工油の残留あり
試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整し、試験用金属加工油とした。
【００７３】
洗浄条件
洗浄槽（Ａ）１    ：４０℃、２分間超音波洗浄（出力：１１０ｗ、周波数：２８ｋＨｚ）
リンス槽（Ｂ）２  ：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回／分）
蒸気ゾーン４      ：２分間静置
【００７４】
【実施例１３、１４】
表３に記載の組成で各成分を混合し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤および組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果を表３にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物を均一混合した洗浄剤と（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）で洗浄することにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が確認された。また、組成物（ｆ）において（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の成分を添加することによって、イオン性残渣量が低減された。
【００７５】
【比較例１１】
表３に記載の洗浄剤及び組成物（ｆ）について実施例１３、１４と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。
［実施例１５〜１６及び比較例１２］
（６）実機洗浄試験２
図２に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１７に所定の組成の洗浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）１８および水分離槽（Ｃ）２０に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件により測定した。
操作
・フラックス洗浄性評価
ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評価は以下の基準による。
◎：β≦７
○：７＜β≦１４
×：β＞１４
試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ（（株）弘輝製）
【００７６】
・脱脂洗浄性評価
３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は目視評価する。評価は以下の基準による。
○：加工油の残留なし
△：一部に加工油の残留あり
×：加工油の残留あり
試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整し、試験用金属加工油とした。
【００７７】
洗浄条件
洗浄槽（Ａ）１７    ：２分間沸騰洗浄
リンス槽（Ｂ）１８  ：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回／分）
蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間静置
【００７８】
【実施例１５、１６】
表３に記載の組成で各成分を混合し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤および組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果を表３にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物を均一混合した洗浄剤、（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）および該洗浄剤を沸騰することによって発生する蒸気および凝縮液で洗浄することにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が確認された。また、組成物（ｆ）おいて、（ｄ）１．０１３×１０5Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の成分を添加することによって、イオン性残渣量が低減された。
【００７９】
【比較例１２】
表３に記載の洗浄剤及び組成物（ｆ）について実施例１５，１６と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。
【００８０】
［実施例１７及び比較例１３］
（７）実機洗浄試験３
図３に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）２９及び水分離槽（Ｃ）３１に所定の組成の洗浄剤を入れ、洗浄槽（Ａ）の洗浄剤をヒーター３２により加熱沸騰させ、１時間空運転を行い水分離槽（Ｃ）３１の洗浄剤に含まれる成分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｅ）の中で蒸気圧の低い成分の濃度を低下させた上で、重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件により測定した。
【００８１】
操作
・フラックス洗浄性評価
ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、該洗浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評価は以下の基準による。
◎：β≦７
○：７＜β≦１４
×：β＞１４
試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ（（株）弘輝製）
【００８２】
・脱脂洗浄性評価
３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、該洗浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は目視評価する。評価は以下の基準による。
○：加工油の残留なし
△：一部に加工油の残留あり
×：加工油の残留あり
試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整し、試験用金属加工油とした。
【００８３】
洗浄条件
洗浄槽（Ａ）１７    ：２分間沸騰洗浄
蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間シャワーリンス（５Ｌ／分）後，２分間静置
【００８４】
【実施例１７】
表３に記載の組成で各成分を混合し、目的の洗浄剤を得た。洗浄剤を用いて上記評価試験を行ない、結果を表３にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物を均一混合した洗浄剤と該洗浄剤を沸騰することによって発生する蒸気および凝縮液で洗浄することにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が確認された。また、該洗浄剤を沸騰することによって発生する蒸気および凝縮液中には成分（ｂ）および成分（ｃ）をほとんど含まず、該凝縮液でシャワーリンスすることによって充分なリンス性が得られた。
【００８５】
【比較例１３】
表３に記載の洗浄剤について実施例１７と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。
【００８６】
【表１】
0004601124.tif 000004
【００８７】
【表２】
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【００８８】
【表３】
0004601124.tif 000006
【００８９】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有するとともに引火点がなく安全である。
すなわち、引火点を有さないものの、フラックス等の汚れに対する溶解性に劣る塩素原子を含有しない含フッ素化合物単体に、一般式（１）、（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせを併用することによって、引火点を有さないという塩素原子を含有しない含フッ素化合物の特性をそのままに、優れた洗浄性を有する。
【００９０】
さらにグリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式（５）および、一般式（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる一種以上の化合物を添加することより、基板表面に残留する重合ロジン、ロジンの金属塩およびイオン性物質等に対する優れたフラックス洗浄性を有する洗浄剤を提供できる。洗浄剤が引火点を有さないので、引火の危険性が低減され、洗浄機等の設備上、引火，爆発等を防ぐための防爆構造とする必要がなく、かつ、既存の洗浄設備をそのまま使用できるため低コストの洗浄システムを確立することが可能となる。また、酸化防止剤や１．０１３×１０5Ｐａにおいて沸点が２０℃〜１００℃の添加成分により、蒸気洗浄時の金属安定性及び酸化劣化抑制効果の向上、洗浄剤の凝固防止等が可能となる。
【００９１】
本発明の組成物によれば、引火の危険を全く心配せずにあらゆるタイプの汚れを容易に被洗物表面から溶解洗浄する事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄装置の一例である。
【図２】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄装置の一例である。
【図３】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄装置の一例である。
【符号の説明】
１  洗浄槽（Ａ）
２  リンス槽（Ｂ）
３  蒸気発生槽
４  蒸気ゾーン
５  水分離槽（Ｃ）
６  ヒーター
７  ヒーター
８  超音波振動子
９  冷却管
１０冷却管
１１オーバーフロー配管
１２オーバーフロー配管
１３蒸気の流れ
１４凝縮液用配管
１５水分離後の凝縮液用配管
１６オーバーフロー液用配管
１７洗浄槽（Ａ）
１８リンス槽（Ｂ）
１９蒸気ゾーン（Ｄ）
２０水分離槽（Ｃ）
２１ヒーター
２２超音波振動子
２３冷却管
２４冷却管
２５蒸気の流れ
２６凝縮液用配管
２７水分離後の凝縮液用配管
２８組成物（ｆ）の流れ
２９洗浄槽（Ａ）
３０蒸気ゾーン（Ｄ）
３１水分離槽（Ｃ）
３２ヒーター
３３ポンプ
３４冷却管
３５蒸気の流れ
３６凝縮液用配管
３７水分離後の凝縮液配管
３８シャワー用の凝縮液配管
３９シャワー用の凝縮液配管
４０シャワーノズル
４１シャワーノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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