(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面基板上にアドレス電極を形成する段階と、
前記基板上のアドレス電極を覆って誘電層形成用組成物から製造される第１グリ−ンシートを形成して第１誘電層を形成する段階と、
前記第１クリーンシート上に感光性誘電層形成用組成物から製造される第２グリーンシートを形成する段階と、
前記第２グリ−ンシートを露光、現像及び焼成して複数の誘電層パターンを含む第２誘電層を形成する段階と、
前記誘電層パターン内に表示電極形成用組成物を充填、焼成して維持電極及び走査電極を含む表示電極パターンを形成する段階と、
前記表示電極パターンを覆うように第３誘電層を形成して前面基板を製造する段階と、を含み、
背面基板にパターン化された隔壁及び蛍光層を順次形成する段階と、
前記背面基板と先に製造された前面基板を相互縫着、排気及び密封する段階と、を含む
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記誘電層形成用組成物は、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＳｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３及びＢｉ２Ｏ３で構成される群より選択される１種以上を含むガラス粉末を含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記ガラス粉末は、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、及び酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３で構成される群より選択される１種以上を含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記ガラス粉末は，１族乃至５族金属元素の酸化物、ランタン系元素の酸化物及び１族金属元素のフッ化物で構成される群より選択される１種以上をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記ガラス粉末は、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｌｕ２Ｏ３、ＬｉＦ、ＮａＦ及びＫＦで構成される群より選択される１種以上をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記ガラス粉末は、０．１乃至５μｍの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記ガラス粉末は、０．５乃至２μｍの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記ガラス粉末は、誘電層形成用組成物総重量に対して５０乃至７０重量％が含まれることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記ガラス粉末は、誘電層形成用組成物総重量に対して５５乃至６５重量％が含まれることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前記感光性誘電層形成用組成物は、ガラス粉末と、
感光性バインダーと、
少なくとも２以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーと、
光重合開始剤と、
溶媒と、を含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記ガラス粉末は、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＳｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３及びＢｉ２Ｏ３で構成される群より選択した１種以上を含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記ガラス粉末は、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、及び酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）で構成される群より選択される１種以上を含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記ガラス粉末は，１族乃至５族金属元素の酸化物、ランタン系元素の酸化物、及び１族金属元素のフッ化物で構成される群より選択される１種以上をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記ガラス粉末は，Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｌｕ２Ｏ３、ＬｉＦ、ＮａＦ及びＫＦで構成される群より選択される１種以上をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記ガラス粉末は、０．１乃至５μｍの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記ガラス粉末は、０．５乃至２μｍの平均粒子直径を有することを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記ガラス粉末は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して５０乃至６５重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記ガラス粉末は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して５５乃至６０重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記感光性バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂及びポリエステル樹脂で構成される群より選択した１種以上のものを含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記感光性バインダーは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、琥珀酸モノ２−（メト）アクリロイルオキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メト）アクリレート、（メト）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メト）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メト）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、Ｏ−ヒドロキシスチレン、Ｍ−ヒドロキシスチレン、Ｐ−ヒドロキシスチレン、（メト）アクリル酸エステル類、芳香族ビニル系モノマー類、共役ジエン類、重合体鎖の一側の末端に（メト）アクリロイル基の重合性不飽和基を有するマクロモノマー類で構成される群より選択される１種を含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】
前記感光性バインダーは、５、０００乃至５０、０００の数平均分子量を有することを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】
前記感光性バインダーは、２０乃至１００ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有することを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記感光性バインダーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して５乃至１０重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記感光性バインダーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して５乃至７重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記少なくとも２つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、アクリレート類と、前記アクリレートに対応するメタクリレート類と、多塩基酸と、ヒドロキシアルキル（メト）アクリレートを反応させて、得られたエステル類で構成される群より選択される１種以上を含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２６】
前記少なくとも２つのエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは１、４−ブタンジオールジアクリレート、１、３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、１、４−ブタンジオールジメタクリレート、１、３−ブチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート誘導体、トリメチルプロパントリメタクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリメタクリレート、及びジペンタエリスリトールポリメタクリレートで構成される群より選択される１種以上のものを含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記少なくとも２つのエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して１乃至１５重量％に含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２８】
前記少なくとも２つのエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して３乃至１０重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２９】
前記光重合開始剤は、ベンゾイン類、ベンゾインアルキルエーテル類、アセトフェノン類、アミノアセトフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、アセタール類、ベンゾフェノン類、キサントン類、トリアジン類、イミダゾール類、ホスフィンオキシド類及びパーオキシド類で構成される群より選択される１種以上のものを含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３０】
前記光重合開始剤は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエチル、アセトフェノン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２、２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１、１−ジクロロアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルホリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２、４−ジメチルチオキサントン、アセトフェノンジメチルアセタール、べンジルジメチルアセタール、ベンゾフェノン、キサントン、トリアジン、イミダゾール、（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−ペンチルホスフィンオキシド、ビス（２、４、６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、２、４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド及びエチル−２、４、６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイトで構成される群では選択される１種以上のものを含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３１】
前記光重合開始剤は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して０．１乃至８重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３２】
前記光重合開始剤は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して０．３乃至５重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３３】
前記溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類及びエーテル系エステル類で構成される群より選択される１種以上のものを含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３４】
前記溶媒は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して４乃至３０重量％が含まれることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３５】
前記感光性誘電層形成用組成物は、増感剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸光剤、消泡剤、分散剤、平坦化剤及び可塑剤で構成される群から選択した１種以上の添加剤をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３６】
前記第１グリーンシートと第２グリーンシートは、３：１乃至４：１の厚さ比を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３７】
前記第２グリーンシートは、５乃至３０μＭの厚さを有することを特徴とする請求項１
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３８】
前記グリーンシートに対する露光段階は、フォトマスクを利用した露光方式または直接露光方式を利用して、実施されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３９】
前記グリーンシートに対する現像段階は、塩基を含む水溶液を噴霧したりまたは前記塩基を含む水溶液に浸漬して、実施されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４０】
前記塩基を含む水溶液は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン及びエタノールアミンで構成される群より選択した１種以上のものを含むことを特徴とする請求項３９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４１】
前記塩基を含む水溶液は０．１乃至１％の濃度を有することを特徴とする請求項３９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４２】
前記塩基を含む水溶液は、２５℃乃至５５℃の温度を有することを特徴とする請求項３９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４３】
前記グリーンシートに対する現像段階後、不要な現像液の除去のために水洗いや酸中和を行う段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４４】
前記グリーンシートに対する焼成段階は、４８０乃至６２０℃の温度で実施されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４５】
前記表示電極パターンに誘電層を形成した後、前記誘電層を覆うように保護膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４６】
前記保護膜はフッ化物膜及び酸化物膜からなる群より選択される１層以上の構造を有することを特徴とする請求項４５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４７】
前記保護膜は、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＳｉＯ２及びＬａ２Ｏ３で構成される群より選択される１層以上の構造を有することを特徴とする請求項４５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、特に２層構造のグリーンシートを利用して、アドレス電極形成後の誘電層形成工程及び表示電極を覆う誘電層形成工程を単純化し、製造工程数、工程時間及び不良率を減少させられるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、気体放電を通して得られたプラズマから放射される真空紫外線（ＶＵＶ）が蛍光体を励起させることによって発生する可視光を利用して、映像を実現するディスプレイ素子である。このようなプラズマディスプレイパネルは、６０インチ以上の超大型画面をわずか１０ｃｍ以内の厚さに実現できて、ＣＲＴのような自発光ディスプレイ素子であるため、色再現力が優れていて視野角に応じた歪曲現像がない特性を有する。またプラズマティスプルレパネルは、ＬＣＤなどに比べて製造工法が単純で、生産性及び原価側面からも長点を有するため、次世代産業用平板ディスプレイ及び家庭用ＴＶディスプレイとして脚光を浴びている。
【０００３】
プラズマディスプレイパネルの構造は、１９７０年代から長期間に亘って発展してきたが、現在一般に知られている構造は、３電極面放電型構造である。３電極面放電型構造は、同一面上に位置した二つの電極を含む１個の基板と、これから一定の距離をおいて離隔して垂直方向につながるアドレス電極を含む他の基板とで構成され、その間に放電ガスが封入された構造である。一般に放電の有無は、各画素行の駆動線に連結されて独立的に制御される走査電極と、この走査電極に対向しているアドレス電極のアドレス放電によって決定されて、輝度を表示する維持放電は同一面上に位置した二つの電極群によって行われる。
【０００４】
一般的な３電極面放電型構造を有するＡＣプラズマディスプレイパネルでは、背面基板上に一方向に沿ってアドレス電極が形成されて、このアドレス電極を覆いながら、背面基板の前面に誘電層が形成される。この誘電層の上に隔壁が形成されて放電空間が区画される。これらの隔壁によって、形成される放電空間内には、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色の蛍光体層が形成される。そして背面基板に対向する前面基板の一面には、アドレス電極と交差方向に沿って一対の透明電極とバス電極に構成される表示電極が形成され、この表示電極を覆いながら、前面基板全体に誘電層とＭｇＯ保護膜が順次形成される。前記背面基板上のアドレス電極と前面基板上の一対の表示電極が交差する地点が放電空間と対応する。
【０００５】
このような構造を有するプラズマディスプレイパネル内の金属電極等は、一般にパターン印刷法によって、形成される。パターン印刷法は、工程が比較的に簡単で狭い間隔で金属電極を形成することができるが、電極幅をある限界以上微細にできないため、ＰＤＰの高解像度に必須である大面積／高精細に対応することが困難な問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、製造工程数、工程時間及び不良率を減少させられるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明の一実施例によると、前面基板上にアドレス電極を形成する段階、前記基板上アドレス電極を覆うようにグリーンシートを形成する段階、前記グリーンシートを露光、現像及び焼成して誘電層パターンを形成する段階、前記誘電層パターン内に表示電極形成用組成物を充填し、焼成して表示電極パターンを形成する段階、及び前記表示電極パターンを覆うように誘電層を形成して、前面基板を製造する段階を含めて、前記グリ−ンシートは誘電層形成用組成物から製造される第１グリーンシート、及び前記第１グリーンシートの上に形成されて、感光性誘電層形成用組成物から製造される第２グリーンシートを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【０００８】
前記誘電層形成用組成物は、組成物の総重量に対して５０乃至７０重量％のガラス粉末を含むものが好ましい。
【０００９】
前記ガラス粉末は、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＳｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３及びＢｉ２Ｏ３で構成される群より選択される１種以上のものを含むのが好ましく、また前記ガラス粉末は、１族乃至５族金属元素の酸化物、ランタン系元素の酸化物、及び１族金属元素のフッ化物で構成される群より選択される１種以上のものをさらに含むこともできる。
【００１０】
前記感光性誘電層形成用組成物は、ガラス粉末、感光性バインダー、少なくとも２以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー、光重合開始剤及び溶媒を含むのが好ましい。
【００１１】
本発明の他の一実施例によると、前面基板上にアドレス電極を形成する段階、前記基板上アドレス電極を覆うようにグリ−ンシートを形成する段階、前記グリ−ンシートを露光、現像及び焼成して誘電層パターンを形成する段階、前記誘電層パターン内に表示電極形成用組成物を充填、焼成して表示電極パターンを形成する段階、前記表示電極パターンを覆うように誘電層を形成して、前面基板を製造する段階、背面基板上にパターン化された隔壁を形成する段階、前記隔壁内に蛍光層を形成して、背面基板を形成する段階、及び前記前面基板と背面基板を相互縫着、排気及び密封する段階を含み、前記グリ−ンシートは誘電層形成用組成物から製造される第１グリーンシート、及び前記第１グリーンシートの上に形成されて感光性誘電層形成用組成物から製造される第２グリーンシートを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のプラズマディスプレイパネル製造方法によって、アドレス電極形成後の誘電層形成工程及び表示電極を囲む誘電層形成工程を単一工程化することによって、製造工程数、工程時間及び不良率を減少させられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００１４】
プラズマディスプレイパネルの製造時に、一般に印刷法を利用して、一定の高さの電極を形成する。しかし印刷法で一定の高さ以上の構造を形成するためには、印刷及び乾燥工程を何回も繰り返す必要がある。そのため、工程数が増え、それぞれの印刷工程が不均一になって望む電極パターンを得ることが困難な問題がある。
【００１５】
これに対して本発明では、誘電層形成用組成物から製造された第１グリーンシート及び前記第１グリーンシート上に形成されて感光性誘電層形成用組成物から製造された第２グリーンシートを含む２層構造のグリーンシートを使い、状況に応じて第２グリーンシートの上に第３グリーンシートを重ねた３層構造を使うことによって、アドレス電極形成後の誘電層形成工程及び表示電極を囲む誘電層形成工程を単純化し、また同じ高さ及び形状を有する表示電極を容易に製造することができる。なお、単にグリーンシートと記すときには、第１乃至第３グリーンシートのうち、少なくとも１種からなる物を意味する。
【００１６】
詳しくは本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面基板上にアドレス電極を形成する段階（Ｓ１）；前記基板上アドレス電極を覆うようにグリーンシートを形成する段階（Ｓ２）；前記グリ−ンシートを露光、現像及び焼成して誘電層パターンを形成する段階（Ｓ３）；前記誘電層パターン内に表示電極形成用組成物を充填、焼成して表示電極パターンを形成する段階（Ｓ４）；及び前記表示電極パターンを覆うように誘電層を形成して、前面基板を製造する段階（Ｓ５）を含めて、前記グリ−ンシートは誘電層形成用組成物から製造される第１グリーンシート、及び前記第１グリーンシートの上に形成されて感光性誘電層形成用組成物から製造される第２グリーンシートを含むことである。
【００１７】
図１は、本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を示すフローチャートである。
【００１８】
図１を参照してより詳しく説明すると、まず、前面基板２０の上にアドレス電極３２を形成する（Ｓ１）。
【００１９】
前記基板２０の材料としては、絶縁基板、例えば、ガラス、シリコン、アルミナなどで構成される板形部材を用いることができ、好ましくはガラス基板を使用することができる。また必要に応じて前記絶縁基板にシランカップリング剤などによる薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法または真空蒸着法などによる薄膜形成処理のような適切な前処理を施すことができる。
【００２０】
前記アドレス電極３２は、突出電極３２ａとバス電極３２ｂを含むのが好ましい。前記突出電極３２ａは、パネルの開口率確保のために透明電極、一例としてＩＴＯ（インジウム錫酸化物）電極で形成されるのが好ましく、前記バス電極３２ｂは透明電極の高い抵抗を補償して、通電性を良くするためにＡｇなどのような金属電極で形成されるのが好ましい。
【００２１】
前記突出電極及びバス電極は、通常の製造方法によって、形成されることができる。
【００２２】
一例として、前記突出電極３２ａは、フォトエッチング法によって形成されることが好ましいが、詳しくはスパッタリング法によって、基板上にＩＴＯを基板上に形成した後、ドライフィルムレジスト（ 以下、'ＤＦＲ'）を積み重ね、露光及び現像してＤＦＲを突出電極の形態にパターニングする。その後、エッチングして、ＤＦＲパターンの部分を剥離した後、焼成して突出電極３２ａを形成することができる。
【００２３】
また前記バス電極３２ｂの場合、感光性ペースト法によって形成されるのが好ましい。より詳しくはＡｇを含む感光性バス電極形成用ペーストを塗布した後、表面を平坦化して乾燥する。その後、フォトマスクを利用した間接露光または直接露光によって、露光する。前記乾燥と露光工程を３回以上反復実施した後、現像及び焼成して所定パターンを有するバス電極３２ｂを形成することができる。
【００２４】
次にアドレス電極３２が形成された基板２０の上に前記アドレス電極を覆うようにグリーンシート２８０を形成する（Ｓ２）。
【００２５】
前記グリーンシート２８０は、第１誘電層形成用組成物から製造される第１グリーンシート２８０ａ、及び前記第１グリーンシートの上に形成されて感光性誘電層形成用組成物から製造される第２グリーンシート２８０ｂを含む２層構造を有することが好ましい。
【００２６】
前記誘電層形成用組成物は、通常誘電層形成用組成物に使用されることであれば特に限定されなく、環境及び人体に対する汚染の恐れがない無鉛系のガラス粉末を使用するのが好ましい。具体的には前記ガラス粉末は、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＳｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３及びＢｉ２Ｏ３で構成される群より選択される１種以上を含むのが好ましく、より好ましくは、酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、
酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、
酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、
酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）、
酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、及び酸化ビスマス−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アーをミニュムゲ（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３）で構成される群より選択される１種以上を含める。
【００２７】
また前記ガラス粉末は、１族乃至５族金属元素の酸化物、ランタン系元素の酸化物、及び１族金属元素のフッ化物で構成される群より選択される１種以上のものをさらに含むことができ、より好ましくは、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｌｕ２Ｏ３、ＬｉＦ、ＮａＦ及びＫＦで構成される群より選択される１種以上をさらに含むことができる。前記１族乃至５族は、新たなＩＵＰＡＣに応じたものであって、それぞれ周基律表でＬｉ、Ｂｅ、Ｓｃ、Ｔｉ及びＶをそれぞれ含む元素族を意味する。
【００２８】
前記ガラス粉末は、ガラス粉末の構成成分を全て混合した後、溶融、乾式冷却、乾式粉砕及び解砕する方法で製造されるのが好ましく、前記方法により製造されるガラス粉末は緻密度及び色に優れている。
【００２９】
このようなガラス粉末は、その形状は特に限定されないが、球形が好ましく、また、平均粒子直径が０．１乃至５μｍが好ましく、０．５乃至２μｍがさらに好ましい。前記ガラス粉末の平均粒子直径が前記範囲外の場合、焼成後形成された誘電層パターンの表面が不均一となり、直進性が低下する恐れがあって好ましくない。
【００３０】
前記誘電層形成用組成物は、組成物総重量に対してガラス粉末を５０乃至７０重量％含むのが好ましく、より好ましくは５５乃至６５重量％含める。誘電層形成用組成物中のガラス粉末を有する量が５０重量％未満の場合、より多量の結合剤及び可塑剤を必要とするため焼結特性が悪くなる恐れがあって好ましくなく、７０重量％を超える場合は、相対的に結合剤及び可塑剤の量が少なくなって、取り扱い性及び加工性が悪くなる恐れがあって好ましくない。
【００３１】
前記誘電層形成用組成物は、前記ガラス粉末以外に通常誘電層形成に使用される溶媒、結合剤または可塑剤などをさらに含むことができる。
【００３２】
また、前記感光性誘電層形成用組成物はｉ）ガラス粉末、ｉｉ）感光性バインダー、ｉｉｉ）少なくとも２以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー、ｉｖ）光重合開始剤及びｖ）溶媒を含むことが好ましい。
【００３３】
前記ｉ）ガラス粉末は、先に誘電層形成用組成物で説明したのと同じ物を使用することができる。
【００３４】
前記ガラス粉末は、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して５０乃至６５重量％に含まれるのが好ましくて、より好ましくは５５乃至６０重量％に含まれる。ガラス粉末の含有量が５０重量％未満の場合、焼結特性が悪くなって好ましくなく、６５重量％を超える場合、取扱性及び加工性が悪くなって好ましくない。
【００３５】
前記ｉｉ）感光性バインダーでは、光開始剤によって、架橋が可能で、誘電層パターン形成時の現像工程によって、簡単に除去できる高分子を使用することが好ましい。
【００３６】
このような感光性バインダーでは、フォトレジスト組成分野で通常使用されるアクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂及びポリエステル樹脂などを用いることができ、好ましくは下記のカルボキシル基を有するモノマー（ａ）、ＯＨ基を有するモノマー（ｂ）及びその他の共重合可能なモノマー（ｃ）の中より選択した１種以上の重合体が可能である：
ａ）カルボキシル基含有モノマー類
前記カルボキシル基含有モノマーでは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、琥珀酸（モノ２−（メト）アクリロイルオキシエチル）、またはω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メト）アクリレートが挙げられる。
【００３７】
ｂ）ＯＨ基含有モノマー類
前記ＯＨ基含有モノマーでは、（メト）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メト）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メト）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどのＯＨ基含有単量体類；Ｏ−ヒドロキシスチレン、Ｍ−ヒドロキシスチレン、Ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性ＯＨ基含有モノマー類が挙げられる。
【００３８】
ｃ）その他の共重合可能なモノマー類
前記その他の共重合可能なモノマーでは、（メト）アクリル酸メチル、（メト）アクリル酸エチル、（メト）アクリル酸ｎ−ブチル、（メト）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メト）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メト）アクリレート、ジシクローペンタニル（メト）アクリレート、ホスフェートアクリレートなどの（メト）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリ（メト）アクリル酸メチル、ポリ（メト）アクリル酸エチル、ポリ（メト）アクリル酸ベンジルなどの重合体鎖の一方の末端に（メト）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類が挙げられる。
【００３９】
前記感光性バインダーは基板上に感光性誘電層形成用組成物を塗布する場合、適切な粘度で、現像工程で分解されるように、数平均分子量（Ｍｎ）が５、０００乃至５０、０００であるものを使うのがより好ましい。前記感光性バインダーの分子量が５、０００未満の場合、現像時感光性誘電層の密着性に悪影響を及ぼす可能性もあり、５０、０００を超える場合、現像不良が生じやすいため好ましくない。また前記感光性バインダーは、２０乃至１００ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有するものが好ましい。また酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の場合、アルカリ水溶液に対する溶解性が不充分で、現像不良が生じやすく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇを超える場合、現像時感光性誘電層の密着性低下や露光部の溶解ができるため好ましくない。
【００４０】
前記感光性バインダーは、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して、５乃至１０重量％、好ましくは５乃至７重量％に含まれる。その含有量が５重量％未満の場合、印刷性が低下し、これとは逆に１０重量％を超過する場合、現像性が不良だったり、焼成後製造された誘電層周辺に残留物が発生される問題があるため、前記範囲内で使用するのが好ましい。
【００４１】
前記ｉｉｉ）少なくとも２ケ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーは、光開始剤によって、ラジカル重合反応ができる化合物ならば特に限定せず使えるが、具体的にはアクリレート類；前記アクリレートに対応するメタクリレート類；またはフタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、トリメリト酸、テレフタル酸などの多塩基酸とヒドロキシアルキル（メト）アクリレートを反応させて、得られたモノ−、ジ−、トリ−またはそれ以上のエステル類などが挙げられるが、これらを単独でまたは２種以上を組み合わせて、使用することができる。より好ましくは１、４−ブタンジオールジアクリレート、１、３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、１、４−ブタンジオールジメタクリレート、１、３−ブチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート誘導体、トリメチルプロパントリメタクリレート、エチレンオキシド付加型トリメチルプロパントリメタクリレート、またはジペンタエリスリトールポリメタクリレートなどがあって、これらの中で選択される１種以上であるのが好ましい。
【００４２】
前記架橋性モノマーは、感光性バインダーの含有量に対して一定の比になるよう添加されるのが好ましく、より好ましくは感光性バインダー１００重量部に対して２０乃至１５０重量部の量で含まれる。これを感光性誘電層形成用組成物に対する含有量に換算すれば、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して１乃至１５重量％であり、より好ましくは３乃至１０重量％含まれる。この時前記架橋性モノマーの含有量が１重量％未満の場合、誘電層形成時に露光工程で露光感度が低下して現像工程時に誘電層パターンに欠陥ができる傾向があり、これとは逆に１５重量％を超える場合、硬化度が高くて、現像時パターンの局部剥がれ現象が激しくなって、パターンの直進性が低下される。
【００４３】
また前記ｉｖ）光重合開始剤は、露光工程においてラジカルを発生させ、前記架橋性モノマーの架橋反応を開始できる化合物であれば特に限られない。代表的にはベンゾイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエチルなどのベンゾインアルキルエーテル類；アセトフェノン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２、２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１、１−ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン類；α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルホリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１などのアミノアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノンなどのアントラキノン類；２、４−ジメチルチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタル、ベンジルジメチルケタルなどのケタル類；ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；キサントン類；トリアジン類；イミダゾール類；（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−ペンチルホスフィンオキシド、ビス（２、４、６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、２、４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、エチル−２、４、６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイトなどのホスフィンオキシド類；または各種パーオキシド類などを用いることができ、好ましくはα−アミノアセトフェノン（英名:α−Ａｍｉｎｏ  Ａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７(登録商標)チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）がある。
【００４４】
前記光重合開始剤は、前記架橋性モノマーの含有量に対して一定の比に含まれるのが好ましく、より好ましくは架橋性モノマー１００重量部に対して１０乃至５０重量部の量で含まれる。これを感光性誘電層形成用組成物に対する含有量で換算すれば、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して０．１乃至８重量％であり、より好ましくは０．３乃至５重量％に含まれる。この時、前記光重合開始剤の含有量が０．１重量％未満の場合、低い感度によって正常的なパターンの実現が難しくなって、パターンの直進性も悪くなり、８重量％を超過する場合、保存安定性に問題が発生できて、高い硬化度によって現像時パターンの毟り現象が激しくなる。
【００４５】
前記感光性誘電層形成用組成物は、被覆性向上のためのｖ）溶媒を含む。
【００４６】
前記ｖ）溶媒では、前記感光性誘電層形成用組成物になる各成分の溶解性及び被覆性により適切に選択して、用いることができ、具体的な例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；Ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−Ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−Ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオン酸塩、２、２、４−トリメチル−１、３−ペンタンジオールモノ（２−メチルプロパノエイト）（英名：２、２、４−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌ−１、３−ｐｅｎｔａｎｅｄｉｏｌｍｏｎｏ（２−ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐａｎｏａｔｅ））などのエーテル系エステル類などを例示することができて、これらは単独または２種以上を混合して、用いることができる。
【００４７】
前記溶媒は、前記感光性誘電層形成用組成物に残部の量として含まれながら、好ましくは適切な粘度で感光性誘電層を形成することができるように、感光性誘電層形成用組成物の総重量に対して４乃至３０重量％、１０乃至２５重量％含まれるのが最も好ましい。
【００４８】
前記感光性誘電層形成用組成物は、また、前記組成外にそれぞれの目的に応じて添加剤をさらに含むことができる。
【００４９】
このような添加剤としては、感度を向上させる増感剤；リン酸、リン酸エステル、カルボン酸含有化合物など被覆組成物の保存性を向上させる重合禁止剤；酸化防止剤；解像度を向上させる紫外線吸光剤；シリコン系またはアクリル系化合物などのペースト内の気泡を減らす消泡剤；分散性を向上させる分散剤；ポリエステル変成ジメチルポリシロキサン、ポリヒドロキシカルボン酸アミド、シリコン系ポリアクリレート共重合体またはフッ素系パラフィン化合物など印刷時の膜平坦性を向上させるための平坦化剤；または窯変特性をあたえる可塑剤などがある。
【００５０】
これらの添加剤は、必ず使用されるものではなく、必要に応じて選択的に用いられ、添加時には一般に知られた量を適切に調節して使用する。
【００５１】
前記感光性誘電層形成用組成物は、ガラス粉末、感光性バインダー、少なくとも２以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー、及び光重合開始剤を溶媒に分散させて、製造することができる。この時、感光性バインダーと光重合開始剤をまず混合した後、ガラス粉末、架橋性モノマー及び溶媒を添加して分散させて、感光性誘電層形成用組成物を製造することもできる。
【００５２】
前記製造された誘電層形成用組成物及び感光性誘電層形成用組成物を、それぞれナイフコーティング法またはダイコーティング法などの通常の被覆方法によって、ポリエチレンテレフタレイト製フィルムなどの支持体上に塗布し乾燥させて、溶媒を除去することによってフィルム状の第１グリーンシート２８０ａ及び第２グリーンシート２８０ｂを製造することができる。その後、製造された第１グリーンシート２８０ａ及び第２グリーンシート２８０ｂを積層して、グリーンシート２８０を製造する。
【００５３】
前記第１グリーンシート２８０ａの厚さは、第２グリーンシート２８０ｂより厚いことが好ましく、前記第１グリーンシート２８０ａと第２グリーンシート２８０ｂは、３：１乃至４：１の厚さ比を有するのがより好ましい。第１グリーンシート２８０ａより第２グリーンシート２８０ｂが厚い場合、費用面でも好ましくないのみならず高精細のパターン形成が容易でない。
【００５４】
そのため、前記第２グリーンシート２８０ｂは、プラズマディスプレイパネルを構成する表示電極で要求される厚さを考慮して、５乃至３０μｍ、より好ましくは８乃至２５μｍ、最も好ましくは１０乃至２０μｍの厚さを有する方が良い。
【００５５】
製造されたグリーンシート２８０をアドレス電極３２が形成された基板２０上に積み重ね、基板上に形成されたグリーンシート２８０を露光、現像及び焼成して誘電層２８パターンを形成する（Ｓ３）。
【００５６】
露光工程は、感光性を有する第２グリーンシート２８０ｂのみに対して実施されるのが好ましい。露光工程は、第２グリーンシート２８０ｂの上に一般に使用される所望のパターンを有するフォトマスクを通して、ＵＶ光を選択的に透過・露光させるなど、直接露光方式によって実施できる。
【００５７】
露光光源には、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レーザー光、メタルハロゲンランプ、ブラックランプ、無電極ランプなどが用いることができる。露光量としては５０乃至１０００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましい。
【００５８】
露光後現像液を噴霧、または前記現像液に浸漬して現像する。前記現像液として塩基を含む水溶液を用いることができ、また、前記塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物で構成される群より選択した１種以上を使用することができる。
【００５９】
現像液の濃度は０．１乃至１％であるのが好ましくて、さらに好ましくは０．２乃至０．６％である。濃度が０．２％未満の場合、パターンを形成する時間が長くなり、１％を超える場合、パターンの均一性が低下して好ましくない。
【００６０】
また現像液の温度は２５℃乃至５５℃であるのが好ましくて、さらに好ましくは３０℃乃至４５℃である。温度が２５℃未満の場合、現像時間が長くなり、４０℃を超える場合、パターン形成のための工程マージンが短くなって好ましくない。
【００６１】
露光工程によって、光重合開始剤が紫外線に露出されると分解して、自由な活性ラジカルを形成し、この活性ラジカルが架橋性モノマーの二重結合を攻撃して、重合反応を起こす。この時、架橋性モノマーは、一つの分子内に二重結合が二以上であるため、重合反応が進められると３次元網状構造の重合体を形成するようになって現像液に現像されない。
【００６２】
一方、露光されていない部分は、アルカリ水溶液を溶媒とした現像工程で感光性バインダーが溶け出る時、ガラス粉末及び反応しない架橋性モノマーなどと共に除去されることにより、露光された部分と区分されて、第２誘電層２８ｂのパターンを形成するようになる。
【００６３】
前記現像工程後、不要な現像液の除去のために水洗いや酸中和を行うこともできる。
【００６４】
その後、焼成して所定の第２誘電層２８ｂのパターンを形成する。そのために第２誘電層２８ｂには表示電極形成空間２１'及び２３'及び放電空間１８'が同時に形成される。
【００６５】
この時、前記焼成工程は、４８０℃乃至６２０℃、より好ましくは５００℃乃至５８０℃の焼成温度範囲内で実施するのが好ましい。また焼成は３乃至６時間、より好ましい温度ならば４乃至５時間の間、実施することが好ましい。焼成温度及び時間が前記範囲外の場合、加熱不十分または表面過熱による蒸発経路阻害で水分の完全除去が難しくなって、バインダーが完全に除去されない問題がある。
【００６６】
次に、前記誘電層パターン内に表示電極形成用組成物を充填、焼成して表示電極パターンを形成する（Ｓ４）。
【００６７】
つまり、前記第２誘電層２８ｂパターンの間の表示電極形成空間２１'及び２３'に表示電極形成用組成物を充填、焼成して維持電極２１及び走査電極２３を含む表示電極２５を形成する。
【００６８】
前記表示電極形成用組成物は、通常の表示電極形成用組成物に使用されることならば、特に制限されることなく用いることができ、好ましくは銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミ（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）及び銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）で構成された群より選択される１種以上の金属を使用することができる。
【００６９】
表示電極パターン形成時の焼成工程は、５００℃乃至６００℃で実施されることが好ましく、より好ましくは５５０℃乃至５８０℃である。また焼成時間は３乃至６時間が好ましく、より好ましい温度で４乃至５時間実施することが更に好ましい。前記焼成工程時の温度及び時間が前記範囲外の場合、気孔が生じる恐れがあって好ましくない。
【００７０】
前記表示電極パターンの形成後、表示電極を覆うように誘電層を形成する工程を実施する（Ｓ５）。
【００７１】
詳しくは、表示電極２５を覆うように第３誘電層形成用組成物を塗布し焼成して第３誘電層２８ｃを形成する。好ましくは、第３誘電層２８ｃは、前記表示電極２５と共に第２誘電層２８ｂまで覆えるように延長形成されることができる。
【００７２】
さらに、第３誘電層は第３グリーンシートで形成できるが、第３誘電層形成用組成物及び形成方法は、通常の誘電層を形成するための組成物及び方法を用いることができ、より好ましくは前述した誘電層形成用組成物と同一のものを使用することができる。
【００７３】
その後、選択的に、前記電極パターン形成後表示電極上に形成された誘電体層を覆うように保護膜をさらに形成することもできる。
【００７４】
前記保護膜は、フッ化物膜、及び酸化物膜で構成された群より選択される１層以上の構造を有することができ、具体的には前記保護膜は、ＭｇＦ２、ＣａＦ２またはＬｉＦのようなフッ化物膜；及びＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＳｉＯ２またはＬａ２Ｏ３のような酸化物膜で構成された群より選択される１層以上の構造を有することもできる。
【００７５】
前記保護膜の形成方法も特に限定されないが、ペーストを利用した厚膜印刷法またはプラズマを利用した蒸着法で形成でき、この中で蒸着法で作られたものは、イオンの衝撃によるスパッタリングに相対的に強くて、２次電子放出による放電維持電圧と放電開示電圧を減少させられるため好ましい。
【００７６】
前記プラズマ蒸着法で保護膜を形成する方法は、マグネトロンスパッタリング法、電子ビーム蒸着法、ＩＢＡＤ（イオンビーム支援堆積法）、ＣＶＤ（化学気相蒸着法）、イオンプレーティング法等を使用することができる。
【００７７】
次に通常の方法により、別途の背面基板にパターン化された隔壁及び蛍光層を順次形成する。
【００７８】
次に前記背面基板と先に製造された前面基板を相互縫着、排気及び密封して、プラズマディスプレイパネルを製造する。
【００７９】
前記のようなプラズマディスプレイパネルの製造方法によって、２層構造のグリーンシートを利用して、アドレス電極形成後の誘電層形成工程及び表示電極を囲む誘電層形成工程を単一工程化することによって、製造工程数、工程時間及び不良率を減少させられる。
【００８０】
本発明はまた、前記製造方法によって製造されたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【００８１】
図２は、本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルを概略的に示した分解斜視図である。本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルは、基本的に背面基板１０と前面基板２０が所定の間隔をおいて互いに対向配置され、両基板１０、２０の間の空間には多数の放電空間１８、１８'が隔壁１６によって区画される。放電空間１８、１８'内には紫外線を吸収して、可視光を放出する蛍光体層１９が隔壁面と底面に沿って形成され、プラズマ放電を起こせるように放電ガス（一例としてキセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）等を含む混合ガス）が詰められる。
【００８２】
前面基板２０の背面基板１０の対向面には、一方向（図面のＹ軸方向）に沿ってアドレス電極３２が並んで形成され、これらアドレス電極３２を覆いながら、前面基板２０の内側面全体に前面誘電層２８が形成される。アドレス電極３２は、隣接したものと所定の間隔を維持しながら、互いに並んで形成される。
【００８３】
前記アドレス電極３２は、放電空間１８、１８'の一側周縁に長く連結されるバス電極３２ｂとこのバス電極３２ｂから対向側周縁に向かって延長される突出電極３２ａを含む。プラズマディスプレイパネルの製造方法で前述した通り、突出電極３２ａは、パネルの開口率確保のために透明電極、一例としてＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）電極で形成されることができ、バス電極３２ｂは、前記透明電極の高い抵抗を補償して、通電性を良くするために金属電極で構成されることが好ましい。本実施形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて突出電極３２ａは長方形状の平面形状を有する。
【００８４】
アドレス電極３２の上にはこれらと離隔して表示電極２５が形成されるが、これら表示電極２５は、アドレス電極３２と前面誘電層２８を間において離隔することによって、電気的に区分されるように形成される。
【００８５】
前記表示電極２５は、各放電空間１８、１８'に対応する維持電極２１と走査電極２３を含み、これら維持電極２１及び走査電極２３は、アドレス電極３２と交差方向（図面のＸ軸方向）に沿ってそれぞれ長く連結形成される。このような表示電極２５の中、維持電極２１は、主に維持期間の放電に必要な電圧を印加するための電極の役割を果たし、走査電極２３は、リセット期間、アドレス期間及び維持期間にそれぞれ必要な電圧を印加するための電極の役割を果たす。従って走査電極２３は、リセット期間、アドレス期間及び維持期間の放電に全て関わり、維持電極２１は、主に維持期間の放電に関わるようになる。しかし、各電極に印加される放電電圧によりその役割を分けることができるため、これに限定される必要はない。
【００８６】
図２では、放電空間毎に維持電極と走査電極がそれぞれ別々に対応していることを示したが、隣接した放電空間の境界を超える維持電極または走査電極が両側放電空間に共有配置されることもできる。
【００８７】
本実施形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて、維持電極２１と走査電極２３は前面基板２０から遠くなる方向（図面の−Ｚ軸方向）に前記背面基板１０に向かって突き出されて、その間に空間をおいて互いに対向形成される。このように形成される空間は、互いに対向する維持電極２１と走査電極２３の間で対向放電を誘導することができる。
【００８８】
また、維持電極２１及び走査電極２３は、アドレス電極３２が形成される層と互いに異なる層に形成され、同時に電気的に分離されている。このため、前面誘電層２８は、第１誘電層２８ａと第２誘電層２８ｂ及び第３誘電層２８ｃに区分される。つまり、第１誘電層２８ａは、前面基板２０でアドレス電極３２の上にこれらを覆うように形成され、第２誘電層２８ｂは、第１誘電層２８ａの上に維持電極２１と走査電極２３を含む表示電極２５を囲むように形成される。また第３誘電層２８ｃは、放電空間に向かう表示電極面を覆うように形成される。
【００８９】
前記第１誘電層２８ａは、誘電層形成用組成物によって、製造された第１グリーンシートによって形成され、第２誘電層２８ｂは、感光性誘電層形成用組成物によって製造された第２グリーンシートから形成される。第１グリーンシート上に第２グリーンシートを形成した後、グリーンシートを露光、現像、焼成すると、第２グリーンシート内の感光性成分だけが反応して、誘電層パターンを形成するようになる。その後、形成された誘電層パターンの内に表示電極形成用組成物を充填して、表示電極パターンを形成するようになる。
【００９０】
その後、放電空間に向かう表示電極面を覆うように第３誘電層２８ｃをさらに形成することができる。前記第３誘電層２８ｃは、第１誘電層２８ａと同一の誘電層形成用組成物を利用して、通常の製造方法で製造されることができる。
【００９１】
第１誘電層２８ａと第２誘電層２８ｂ及び第３誘電層２８ｃの上には、ＭｇＯ保護膜２９が形成されて、プラズマ放電時電離された原子のイオンの衝突から誘電層を保護する役割を果たす。このようなＭｇＯ保護膜２９は、イオンが衝突する時、二次電子の放出係数も高いため、放電効率を挙げることができる。
【００９２】
背面基板１０の上には、パターン化された隔壁１６が形成されるが、本実施例で隔壁１６はアドレス電極３２と並んだ方向に長く連結される第１隔壁部材１６ａと、この第１隔壁部材１６ａと交差形成しながらそれぞれの放電空間１８、１８'を独立的な放電空間に区画する第２隔壁部材１６ｂで構成される。このような隔壁構造は、前記説明した構造に限定されるものではなく、アドレス電極と並んだ隔壁部材のみで形成されるストライプ状の隔壁構造も本発明に適用されて、各放電空間を独立的な放電空間に区画するマトリックス状の隔壁構造も可能で、これも本発明の範囲に属する。
【００９３】
また図２に示されているように、本発明の他の例によって、背面基板１０の上に背面誘電層１４が形成されることもある。
【００９４】
本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルによると、アドレス電極３２を前面基板２０に配置することによって、放電空間１８、１８'の内での放電に関与する電極が全部前面基板２０に位置するようになり、従って背面基板１０に形成される隔壁１６によって、設定される放電空間がもっと大きく確保される。これは、蛍光体が塗布される部分の面積が広がることによって、放電効率が増加する可能性があることを意味する。また、蛍光体の上に電荷が積もりながら、イオンスパッタリングなどによって、蛍光体の寿命が短くなることを防止することができる。
【００９５】
以下、本発明の好ましい実施例及び比較例を記載する。しかし下記の実施例は、本発明の好ましい一実施例であり、本発明が下記の実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００９６】
製造例１：グリーンシートの製造
１μｍの平均粒子直径を有するＳｉＯ２−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３のガラス粉末（６９．８重量％のＳｉＯ２、２８．４重量％のＺｎＯ及び１．８重量％のＢ２Ｏ３）を含む誘電層形成用組成物をポルリエチレンテレフタレイト製支持体に塗布または印刷などにより被覆した後乾燥させて、４５μｍの厚さを有する第１グリーンシートを製造した。
【００９７】
これとは別途にアクリレート共重合樹脂８重量％（全体モノマーに対してベンジルメタクリレート２２重量％、メタクリル酸２５重量％、ホスフェートアクリレート７重量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０重量％、メチルメタクリレート２６重量％）、ＴＭＰ（ＥＯ）３ＴＡ１０重量％及びＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（シバスペシャルティケミカルサ剤）の２重量％をＰＧＭＥＡ２０重量％に溶解した後、ＳｉＯ２−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３のガラス粉末６０重量％を分散させた感光性誘電層形成用組成物をポルリエチレンテレフタレイト製支持体上に被覆した後乾燥させて、１５μｍの厚さを有する第２グリーンシートを製造した。
【００９８】
前記製造された第１グリーンシートと第２グリーンシートを重ね合わせて、グリーンシートを製造した。
【００９９】
ＴＭＰ（ＥＯ）３ＴＡ：エチレンオキシド付加型トリメチロールプロパントリアクリレート（英名:Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ  ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ、ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｗｉｔｈ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ、（株）日本化薬社製）Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製造ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（英名:ｐｒｏｐｙｌｅｎｇｌｙｃｏｌ  ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ  ａｃｅｔａｔｅ）
製造例２：グリーンシートの製造
前記製造例１でのＳｉＯ２−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３のガラス粉末の代わりに０．１μｍの平均粒子直径を有するＢ２Ｏ３−ＢａＯ−ＺｎＯのガラス粉末（７０重量％のＢ２Ｏ３、１５重量％のＢａＯ、１０重量％のＺｎＯ）を使って、グリーンシートを製造したことを除いて、前記製造例１と同様な方法で実施してグリ−ンシートを製造した。
【０１００】
製造例３：グリーンシートの製造
前記製造例１でのＳｉＯ２−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３のガラス粉末の代わりに５μｍの平均粒子直径を有するＢｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ−ＭｇＯのガラス粉末（２５重量％のＢｉ２Ｏ３、２５重量％のＢ２Ｏ３、３０重量％のＳｉＯ２、１５重量％のＡｌ２Ｏ３、２重量％のＮａ２Ｏ、及び３重量％のＭｇＯ）を使って、グリーンシートを製造することを除いて、前記製造例１と同様な方法で前記製造例１と同様な方法で実施してグリ−ンシートを製造した。
【０１０１】
実施例１：プラズマディスプレイパネルの製造
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物をスパッタリングした後、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を積み重ねた。前記ＤＦＲの上にパターン形成されたフォトマスクをさらに積み重ねた後、高圧水銀灯を利用して露光して、Ｎａ２ＣＯ３  ０．４％アルカリ水溶液を利用して現像して乾燥して、突出電極形状にＤＦＲをパターニングした。その後、塩酸と硝酸を利用して、エッチングした後、５．０％のＮａＯＨ水溶液を利用してＤＦＲパターン部分を剥離した後、焼成して突出電極を形成した。
【０１０２】
突出電極上にＡｇを含む感光性バス電極形成用ペーストを塗布した。塗布されたＡｇ含有感光性ペーストを平坦化し乾燥後に、直接露光器を利用して露光した。前記乾燥と露光工程を５回反復実施した後、０．４％のＮａ２ＣＯ３アルカリ水溶液を利用して現像して焼成して、ストライプ状にバス電極を形成することによって前記突出電極及びバス電極を含むアドレス電極を製造した。
【０１０３】
次に、前記製造例１で製造されたグリーンシートを前記アドレス電極が形成された基板の上に積み重ね、直接露光器を利用して、１００ｍＪ／ｃｍ２露光後、０．４％のＮａ２ＣＯ３アルカリ水溶液を噴霧して現像して、５００℃で４時間焼成して誘電層パターンを形成した。
【０１０４】
前記誘電層パターン内にＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒを含む表示電極形成用組成物を充填し、５５０℃で４時間焼成して表示電極パターンを形成した。
【０１０５】
前記表示電極パターンの上にＳｉＯ２−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３のガラス粉末（６９．８重量％のＳｉＯ２、２８．４重量％のＺｎＯ及び１．８重量％のＢ２Ｏ３）を含む誘電層形成用組成物をさらに塗布し、乾燥及び焼成して誘電層を形成した。
【０１０６】
それとは別途に、背面基板にパターン化された隔壁及び蛍光体層を形成し、これを前記アドレス電極、表示電極、及び誘電層が形成された前記前面基板と縫着し放電空間内の空気を排気した後、４００Ｔｏｒｒの条件で放電ガスを注入して、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１０７】
実施例２：プラズマディスプレイパネルの製造
前記製造例２で製造されたグリーンシートを使うことを除いて、前記実施例１と同様な方法で実施して、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１０８】
実施例３：プラズマディスプレイパネルの製造
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物をスパッタリングした後、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を積み重ねた。前記ＤＦＲの上にパターン形成されたフォトマスクをさらに積み重ねた後、高圧水銀灯を利用して露光を行い、０．４％のＮａ２ＣＯ３アルカリ水溶液を利用して現像して乾燥して、突出電極形状にＤＦＲをパターニングした。その後、塩酸と硝酸を利用して、エッチングした後、５．０％のＮａＯＨ水溶液を利用してＤＦＲパターンの部分を剥離した後、焼成して突出電極を形成した。
【０１０９】
前記突出電極が形成された前面基板上にＡｇを含む感光性バス電極形成用ペーストを塗布した。塗布されたＡｇ含有感光性ペーストを平坦化し乾燥後、直接露光器を利用して露光した。前記乾燥と露光工程を５回反復実施した後、Ｎａ２ＣＯ３０．４％アルカリ水溶液を利用して現像して焼成して、ストライプ状にバス電極を形成することによって前記突出電極及びバス電極を含むアドレス電極を製造した。
【０１１０】
次に、前記製造例３で製造されたグリーンシートを前記アドレス電極が形成された基板上に積み重ね、直接露光器を利用して、１００ｍＪ／ｃｍ２露光後、Ｎａ２ＣＯ３０．４％アルカリ水溶液を利用して現像して、５００℃で４時間焼成して誘電層パターンを形成した。
【０１１１】
前記誘電層パターン内にＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒを含む表示電極形成用組成物を充填し、５５０℃で４時間焼成して表示電極パターンを形成した。
【０１１２】
前記表示電極パターンの上にＢｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ−ＭｇＯのガラス粉末を含む誘電層形成用組成物をさらに塗布し、乾燥及び焼成して誘電層を形成した。
【０１１３】
次に前記誘電層が形成された基板を保護膜蒸着室に入れてイオンプレーティング法を利用してＭｇＯを含む保護膜を蒸着形成して、前面基板を製造した。蒸着室内部の基本圧力を１×１０−４Ｐａに、蒸着形成時の圧力を５．３×１０−２Ｐａにして、酸素を１００ｓｃｃｍ（流量体積単位）に供給しながら基板の温度を２００±５℃に維持した。
【０１１４】
それとは別途に、背面基板にパターン化された隔壁及び蛍光体層を形成し、これを前記アドレス電極、表示電極、及び誘電層が形成された前記前面基板と縫着し放電空間内の空気を排気した後、４００Ｔｏｒｒの条件で放電ガスを注入して、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１１５】
比較例１：プラズマディスプレイパネルの製造
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物をスパッタリングした後、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を積み重ねた。前記ＤＦＲの上にパターン形成されたフォトマスクをさらに積み重ねた後、高圧水銀灯を利用して露光して、０．４％のＮａ２ＣＯ３アルカリ水溶液を利用して現像及び乾燥して、突出電極形状にＤＦＲをパターニングした。その後、塩酸と硝酸を利用して、エッチングした後、５．０％のＮａＯＨ水溶液を利用してＤＦＲパターン部分を剥離した後、焼成して突出電極を形成した。
【０１１６】
突出電極上にＡｇを含む感光性バス電極形成用ペーストを塗布した。塗布されたＡｇ含有感光性ペーストを平坦化し、乾燥後に、直接露光器を利用して露光した。前記乾燥と露光工程を５回以上繰り返して実施した後、０．４％のＮａ２ＣＯ３アルカリ水溶液を利用して現像及び焼成して、ストライプ状にバス電極を形成することによって前記突出電極及びバス電極を含むアドレス電極を製造した。
【０１１７】
次に、前記Ｐｂｏ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２のガラス粉末を含む第１誘電層形成用組成物を前記アドレス電極が形成された基板上に被覆して乾燥後に、焼成して第１誘電層を形成した。
【０１１８】
前記誘電層上にＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒを含む表示電極形成用組成物をスクリーン印刷法で被覆を行い、乾燥した。その後、前記被覆及び乾燥工程を１０回繰り返し実施した後、焼成によって表示電極を形成した。
【０１１９】
前記表示電極を覆うようにアクリレート共重合樹脂８重量％（全体モノマーに対してベンジルメタクリレート２２重量％、メタクリル酸２５重量％、ホスフェートアクリレート７重量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０重量％、メチルメタクリレート２６重量％）、ＴＭＰ（ＥＯ）３ＴＡ１０重量％及びＩｒｇａｃｕｒｅ９０７の２重量％をＰＧＭＥＡ２０重量部に溶解した後、Ｐｂｏ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２のガラス粉末６０重量％を分散させた感光性誘電層形成用組成物を被覆して、乾燥、露光、現像及び焼成して誘電層パターンを形成した。
【０１２０】
それとは別途に、背面基板に背面誘電層、隔壁及び蛍光体層を形成し、これを前記アドレス電極、表示電極、及び誘電層が形成された前記前面基板と縫着し放電空間内の空気を排気した後、４００Ｔｏｒｒの条件で放電ガスを注入して、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１２１】
前記比較例１の製造方法に比べて、前記実施例１乃至３のプラズマディスプレイパネルの製造方法によって、プラズマディスプレイ製造時に、その工程時間を顕著に短縮することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を簡略に示すフローチャートである。
【図２】本発明の一実施形態によるプラズマディスプレイパネルを概略的に示した分解斜視図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１８、１８’    放電空間
２０            前面基板
２１            維持電極
２１’、２３’  表示電極形成空間
２３            走査電極
２５            表示電極
２８            誘電層
３２            アドレス電極
３２ａ          突出電極
３２ｂ          バス電極
２８０          グリーンシート
２８０ａ        第１グリーンシート
２８０ｂ        第２グリーンシート
２８０ｃ        第３グリーンシート
【図１】
0004416773.tif 000002
【図２】
0004416773.tif 000003