(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータに流れる電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記電流値Ｘ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記電流値Ｘ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の電流閾値Ｘｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｘｆ（ｔ）＝Ｍｘ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記電流閾値Ｘｆ（ｔ）と前記電流値Ｘ（ｔ）とを比較することにより前記電流値Ｘ（ｔ）が前記電流閾値Ｘｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、超えることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする射出成形機の制御装置。
【請求項２】
開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度値又は位置値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の速度値又は位置値の閾値Ｙｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記閾値Ｙｆ（ｔ）と前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）とを比較することにより前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）が前記閾値Ｙｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、下回ることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする射出成形機の制御装置。
【請求項３】
開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータに流れる電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記電流値Ｘ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記電流値Ｘ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記電流値Ｘ（ｔ）を標準化値Ｚｘ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｘ（ｔ）＝｛Ｘ（ｔ）−Ｍｘ（ｔ）｝／｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｘ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ′（＞２）を越えるか否かを判断した後、越えている場合、前記標準化値Ｚｘ（ｔ）が前記標準化値Ｚｘ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｘ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ′を超えることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする射出成形機の制御装置。
【請求項４】
開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又は位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記速度値Ｙ（ｔ）を標準化値Ｚｙ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｙ（ｔ）＝｛Ｙ（ｔ）−Ｍｙ（ｔ）｝／｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値−Ｎ′（Ｎ′＞２）を下回るか否かを判断した後、下回る場合、前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が前記標準化値Ｚｙ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｙ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ′を下回ることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする射出成形機の制御装置。
【請求項５】
開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、
前記モータの回転位置を検出位置として求める検出手段と、
位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいて前記モータを制御する制御手段と、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記閉成指令信号に同期して、多数時点の該時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｅｆ（ｔ）＝Ｍｅ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）と前記位置偏差値Ｅ（ｔ）とを比較することにより前記位置偏差値Ｅ（ｔ）が前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、越えることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする射出成形機の制御装置。
【請求項６】
開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、
前記モータの回転位置を検出位置として求める検出手段と、
位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御する制御手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記位置偏差値Ｅ（ｔ）を標準化値Ｚｅ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｅ（ｔ）＝｛Ｅ（ｔ）−Ｍｅ（ｔ）｝／｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ′（＞２）を越えるか否かを判断した後、越える場合、前記標準化値Ｚｅ（ｔ）が前記標準化値Ｚｅ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｅ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ′を越えることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする射出成形機の制御装置
【請求項７】
前記モータの回転位置を検出位置として検出する検出手段と、
前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、
位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御する制御手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｅｆ（ｔ）＝Ｍｅ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）と前記位置偏差値Ｅ（ｔ）とを比較することにより前記位置偏差値Ｅ（ｔ）が前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、越えることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする請求の範囲１又は３に記載の射出成形機の制御装置。
【請求項８】
前記モータの回転位置を検出位置として検出する検出手段と、
前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、
位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御する制御手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記位置偏差値Ｅ（ｔ）を標準化値Ｚｅ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｅ（ｔ）＝｛Ｅ（ｔ）−Ｍｅ（ｔ）｝／｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ′（＞２）を越えるか否かを判断した後、越える場合、前記標準化値Ｚｅ（ｔ）が前記標準化値Ｚｅ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｅ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ′を越えることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする請求の範囲１又は３に記載の射出成形機の制御装置。
【請求項９】
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程において、前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度値又は位置値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の閾値Ｙｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記基準値Ｙｆ（ｔ）と前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）とを比較することにより前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）が前記閾値Ｙｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、下回ることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする請求の範囲１又は３に記載の射出成形機の制御装置。
【請求項１０】
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程において、前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、
前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又は位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、
前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記速度値Ｙ（ｔ）を標準化値Ｚｙ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｙ（ｔ）＝｛Ｙ（ｔ）−Ｍｙ（ｔ）｝／｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値−Ｎ′（Ｎ′＞２）を下回るか否かを判断した後、下回る場合、前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が前記標準化値Ｚｙ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｙ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ′を下回ることにより異常と判断する判断手段と、
を備えたことを特徴とする請求の範囲１又は３に記載の射出成形機の制御装置。
【請求項１１】
前記平均・分散算出手段は、過去最近Ｋ回の金型の閉成動作における電流値Ｘ（ｔ）、速度又位置の値Ｙ（ｔ）から求める、
ことを特徴とする請求の範囲１から１０の何れかに記載の射出成形機の制御装置
【請求項１２】
前記平均・分散算出手段は、今回の前記金型の閉成動作における前記電流値Ｘ（ｔ）、前記速度又前記位置の値Ｙ（ｔ）、位置偏差Ｅ（ｔ）と、前回の前記金型の閉成動作における前記平均値Ｍｘ（ｔ）、前記分散値Ｖｘ（ｔ）又は、前記平均値Ｍｙ（ｔ）、前記分散値Ｖｙ（ｔ）又は、前記平均値Ｍｅ（ｔ）、前記分散値Ｖｅ（ｔ）とから求める、
ことを特徴とする請求の範囲項１から１０の何れかに記載の射出成形機の制御装置。
【請求項１３】
複数の前記Ｎと前記ｍ又は前記Ｎ′と前記ｍ′との組み合わせを記憶する記憶手段と、
前記Ｎと前記ｍ又は前記Ｎ′と前記ｍ′との組み合わせに基づいて前記金型内の異物の有ことを検出する感度の高低を表示する検出感度表示手段と、
前記表示に基づいて前記高低を調整する調整手段と、
を備えたことを特徴とする請求の範囲１から１０の何れかに記載の射出成形機の制御装置。
【請求項１４】
前記電流値Ｘ（ｔ）と前記電流閾値Ｘｆ（ｔ）或いは、前記速度値または位置Ｙ（ｔ）と前記速度又は位置の閾値Ｙｆ（ｔ）或いは、前記位置偏差Ｅ（ｔ）と前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を視覚的に示す表示手段と、
を備えたことを特徴とする請求の範囲１から１０の何れかに記載の射出成形機の制御装置。
【請求項１５】
前記工程を複数回Ａ繰り返しては、前記金型に樹脂を流し込まない空金型の状態において前記工程を複数回Ｂ（Ｂ＜Ａ）と前記金型に樹脂を流し込んだ状態の前記工程を少なくとも一回行う、
ことを特徴とする請求の範囲１から１０の何れかに記載の射出成形機の制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  従来の射出成形機の制御装置として第１の従来技術として特許第２５１５３５５号公報、第２の従来技術として特許第３０８０６１７号公報に記載されたものがある。かかる第１の従来技術は、正常に金型閉成動作が終了すると、正常金型閉成時の各時点の電流を基準値とし、該基準値にオフセットを加えたものを閾値とする。次回金型閉成動作時において、前回の閾値と今回金型閉成動作時の電流とを比較し、今回金型閉成の電流のほうが大きければ金型内に異常が発生したと判定するものである。
第２の従来技術は、外乱オブザーバを組込み、各時点の外乱トルクを推定し、前正常時の複数回型締時外乱トルク平均値に、許容範囲を決めるシフト量Ｋを加えることにより閾値を得る。該閾値と、今回金型閉成動作時の推定外乱トルクとを比較し、閾値を今回の外乱トルクが越えたら異常ありと判定する。
しかしながら、上記第１及び第２の従来技術は、オフセット、シフト量の設定値によって、異物の感知性能が大きく変化する。すなわち、オフセット値を小さく設定しすぎると感度はよくなるが誤検出を招き、逆に大きく設定しすぎると誤検出は防げるが感度良く異物を検出できない。よって、適切なオフセット値を得るために基準値、平均値と検出電流値、推定外乱トルク値とをモニタ等で比較し、正常時の検出電流値や推定外乱トルクが閾値をこえないようオフセット、シフト量の調整を、手動で試行錯誤を繰返しながら行わなければならないという問題点があった。
また、金型の金型閉成動作指令パターン、金型によって最適なオフセット値が異なるため、金型閉成動作指令パターン又は金型を変えたときに再度オフセット量、シフト量を調整しなければならいという問題点もある。
さらに、従来技術は基準値、平均値から一様にオフセット、シフト量を設けているため、金型の種類などによって最適なオフセット、シフト量が時点ごとに変わるという問題点もある。
【発明の開示】
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、判定閾値を自動的に得、かつ、該閾値により金型間に異物があるかないかを正常か異常かを早く判定することができる射出成形機の制御装置を提供することを目的としている。
第１の発明に係る射出成形機の制御装置は、開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータに流れる電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記電流値Ｘ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記電流値Ｘ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の電流閾値Ｘｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｘｆ（ｔ）＝Ｍｘ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記電流閾値Ｘｆ（ｔ）と前記電流値Ｘ（ｔ）とを比較することにより前記電流値Ｘ（ｔ）が前記電流閾値Ｘｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、超えることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第２の発明に係る射出成形機の制御装置は、開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度値又は位置値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の速度値又は位置値の閾値Ｙｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記閾値Ｙｆ（ｔ）と前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）とを比較することにより前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）が前記閾値Ｙｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、下回ることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第３の発明に係る射出成形機の制御装置は、開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータに流れる電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記電流値Ｘ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記電流値Ｘ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記電流値Ｘ（ｔ）を標準化値Ｚｘ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｘ（ｔ）＝｛Ｘ（ｔ）−Ｍｘ（ｔ）｝／｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｘ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ´（＞２）を越えるか否かを判断した後、越えている場合、前記標準化値Ｚｘ（ｔ）が前記標準化値Ｚｘ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｘ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ´を超えることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第４の発明に係る射出成形機の制御装置は、開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又は位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記速度値Ｙ（ｔ）を標準化値Ｚｙ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｙ（ｔ）＝｛Ｙ（ｔ）−Ｍｙ（ｔ）｝／｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値−Ｎ´（Ｎ´＞２）を下回るか否かを判断した後、下回る場合、前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が前記標準化値Ｚｙ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｙ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ´を下回ることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第５の発明に係る射出成形機の制御装置は、開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、前記モータの回転位置を検出位置として求める検出手段と、位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいて前記モータを制御する制御手段と、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記閉成指令信号に同期して、多数時点の該時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｅｆ（ｔ）＝Ｍｅ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）と前記位置偏差値Ｅ（ｔ）とを比較することにより前記位置偏差値Ｅ（ｔ）が前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、越えることにより異常と判断する判断手段と、を備えたことを特徴とするものである。
第６の発明に係る射出成形機の制御装置は、開放・閉成指令信号に基づいてモータを駆動して金型を開閉する射出成形機の制御装置において、前記モータの回転位置を検出位置として求める検出手段と、位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御する制御手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記位置偏差値Ｅ（ｔ）を標準化値Ｚｅ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｅ（ｔ）＝｛Ｅ（ｔ）−Ｍｅ（ｔ）｝／｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ´（＞２）を越えるか否かを判断した後、越える場合、前記標準化値Ｚｅ（ｔ）が前記標準化値Ｚｅ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｅ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ´を越えることにより異常と判断する判断手段と、を備えたことを特徴とするものである。
第７の発明に係る射出成形機の制御装置は、第１又は第３の発明において、前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、モータの回転位置を検出位置として検出する検出手段と、位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御する制御手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｅｆ（ｔ）＝Ｍｅ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）と前記位置偏差値Ｅ（ｔ）とを比較することにより前記位置偏差値Ｅ（ｔ）が前記位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、越えることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第８の発明に係る射出成形機の制御装置は、第１又は第３の発明において、前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、モータの回転位置を検出位置として検出する検出手段と、位置指令と前記検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御する制御手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記位置偏差値Ｅ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記位置偏差値Ｅ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記位置偏差値Ｅ（ｔ）を標準化値Ｚｅ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｅ（ｔ）＝｛Ｅ（ｔ）−Ｍｅ（ｔ）｝／｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ´（＞２）を越えるか否かを判断した後、越える場合、前記標準化値Ｚｅ（ｔ）が前記標準化値Ｚｅ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｅ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ´を越えることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第９の発明に係る射出成形機の制御装置は、第１又は第３の発明において、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程において、前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度値又は位置値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に対応する前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の閾値Ｙｆ（ｔ）を求める閾値算出手段と、
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎは、定数で≧３
前記時点毎における前記閾値Ｙｆ（ｔ）と前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）とを比較することにより前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）が前記閾値Ｙｆ（ｔ）を予め定められた回数ｍを、下回ることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第１０の発明に係る射出成形機の制御装置は、第１又は第３の発明において、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程において、前記電流が予め定められた制限電流値に達すると、前記モータに流れる電流を制限する電流制限手段と、前記金型の開放から閉成に至るまでの工程における、前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの速度又は位置の値Ｙ（ｔ）を検出する検出手段と、前記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記速度又は位置の値Ｙ（ｔ）の前記時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、（Ａ−１）回までの任意の回数における前記平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして前記時点毎の前記速度値Ｙ（ｔ）を標準化値Ｚｙ（ｔ）とする標準化算出手段と、
Ｚｙ（ｔ）＝｛Ｙ（ｔ）−Ｍｙ（ｔ）｝／｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
前記時点毎における前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め定められた数値Ｎ´（＞２）を下回るか否かを判断した後、下回る場合、前記標準化値Ｚｙ（ｔ）が前記標準化値Ｚｙ（ｔ）よりも一つ前の標準化値Ｚｙ（ｔ−１）を、予め定められた回数ｍ´を下回ることにより異常と判断する判断手段と、を備えたものである。
第１１の発明に係る射出成形機の制御装置における平均・分散算出手段は、過去最近Ｋ回の金型の閉成動作における電流値Ｘ（ｔ）、速度又位置の値Ｙ（ｔ）、位置偏差Ｅ（ｔ）から求める、ことを特徴とするものである。
第１２の発明に係る射出成形機の制御装置における平均・分散算出手段は、今回の金型の閉成動作における電流値Ｘ（ｔ）、速度又位置の値Ｙ（ｔ）と、位置偏差の値Ｅ（ｔ）と、前回の金型の閉成動作における平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）又は、平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）又は、平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）とから求める、ことを特徴とするものである。
第１３の発明に係る射出成形機の制御装置は、複数の前記Ｎとｍ又はＮ´と前記ｍ´との組み合わせを記憶する記憶手段と、前記Ｎと前記ｍ又は前記Ｎ´と前記ｍ´との組み合わせに基づいて金型内の異物の有ことを検出する感度の高低を表示する検出感度表示手段と、前記表示に基づいて前記高低を調整する調整手段と、を備えたことを特徴とするものである。
第１４の発明に係る射出成形機の制御装置は、電流値Ｘ（ｔ）と電流閾値Ｙｆ（ｔ）又は、前記速度値Ｙ（ｔ）と前記速度又は位置の閾値Ｙｆ（ｔ）を視覚的に示す表示手段と、を備えたことを特徴とするものである。
第１５の発明に係る射出成形機の制御装置は、第１から第１０の発明における前記閉成指令信号に同期して、多数の時点の前記モータの代わりに、閉成位置指令信号に基づく多数の位置の前記モータにする、ことを特徴とするものである。
第１６の発明に係る射出成形機の制御装置は、第１から第１０の発明において、工程を複数回Ａ繰り返しては、金型に樹脂を流し込まない空金型の状態において前記工程を複数回Ｂ（Ｂ＜Ａ）と前記金型に樹脂を流し込んだ状態の前記工程を少なくとも一回行う、ことを特徴とするものである。
第１又は第２の発明によれば、電流値Ｘ（ｔ）又は速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に基づいて平均値Ｍｘ（ｔ），Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ），Ｖｙ（ｔ）を求め、平均値Ｍｘ（ｔ），Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ），Ｖｙ（ｔ）に基づいて電流閾値Ｘｆ（ｔ）又は速度等の閾値Ｙｆ（ｔ）を自動的に得ると共に、該電流閾値Ｘｆ（ｔ）又は速度等の閾値Ｙｆ（ｔ）に基づいて金型間に異物の有無を判定したので、作業者は閾値を決定するために平均値からの許容範囲となるオフセット、シフト量を、試行錯誤して設定する作業が不要になると共に、金型内の異物の判定を精度よくできるという効果がある。
第３又は第４の発明によれば、電流値Ｘ（ｔ）又は速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に基づいて平均値Ｍｘ（ｔ），Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ），Ｖｙ（ｔ）を求め、平均値Ｍｘ（ｔ），Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ），Ｖｙ（ｔ）に基づいて標準化値Ｚｘ（ｔ），Ｚｙ（ｔ）を自動的に得ると共に、該標準化値Ｚｘ（ｔ），Ｚｙ（ｔ）に基づいて金型内に異物の有無を判定したので、作業者は基準値を決定するために平均値からの許容範囲となるオフセット、シフト量を、物理量として試行錯誤して設定する作業が不要になると共に、金型内の異物の判定を精度よくできるという効果がある。
第５又は第６の発明によれば、位置偏差値Ｅ（ｔ）に基づいて平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求め、平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）に基づいて位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）又は標準化値Ｚｅ（ｔ）を自動的に得ると共に、位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）又は標準化値Ｚｅ（ｔ）に基づいて金型内に異物の有無を判定したので、作業者は基準値を決定するために平均値からの許容範囲となるオフセット、シフト量を、物理量として試行錯誤して設定する作業が不要になると共に、金型内の異物の判定を精度よくできるという効果がある。
第７又は第８の発明によれば、電流制限手段が動作しても、位置偏差の値Ｅ（ｔ）に基づいて平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）を求め、平均値Ｍｅ（ｔ）、分散値Ｖｅ（ｔ）に基づいて閾値Ｅｆ（ｔ）又は標準化値Ｚｅ（ｔ）を自動的に得ると共に、該閾値Ｅｆ（ｔ）又は標準化値Ｚｅ（ｔ）に基づいて金型内の異物の有無を判定したので、作業者は閾値を決定するために平均値からの許容範囲となるオフセット、シフト量を、試行錯誤して設定する作業が不要になると共に、金型内の異物の判定を精度よくできるという効果がある。
第９又は第１０の発明によれば、電流制限手段が動作しても、速度又は位置の値Ｙ（ｔ）に基づいて平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求め、平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）に基づいて閾値Ｙｆ（ｔ）又は標準化値Ｚｙ（ｔ）を自動的に得ると共に、該閾値Ｙｆ（ｔ）又は標準化値Ｚｙ（ｔ）に基づいて金型内の異物の有無を判定したので、作業者は閾値を決定するために平均値からの許容範囲となるオフセット、シフト量を、試行錯誤して設定する作業が不要になると共に、金型内の異物の判定を精度よくできるという効果がある。
第１１の発明によれば、過去最近Ｋ回の金型の閉成動作における電流値Ｘ（ｔ）、速度又位置の値Ｙ（ｔ）から平均・分散値を求めたので、周囲温度、機械摩擦等の変化により電流値Ｘ（ｔ）、速度又位置の値Ｙ（ｔ）が変化しても、過去最近Ｋ回分のみの電流値Ｘ（ｔ）、速度又位置の値Ｙ（ｔ）から該閾値又は標準化値を得る。したがって、周囲温度、機械摩擦等の変化を受けにくいという効果がある。
第１２の発明によれば、第９の発明の効果に加えて、記憶手段の記憶容量を少なくできるという効果がある。
第１３の発明によれば、Ｎとｍ又はＮ´とｍ´との組合わせに基づいて金型内の異物の有ことを検出する感度の高低を表示する検出感度表示手段と、前記表示に基づいて前記高低を調整する調整手段とを備えたので、作業者が検出感度を容易に設定することができるという効果がある。
第１４の発明によれば、表示手段は電流値Ｘ（ｔ）と電流閾値Ｘｆ（ｔ）又は、前記速度値Ｙ（ｔ）と前記速度又は位置の閾値Ｙｆ（ｔ）を視覚的に示す表示手段したので、作業者が金型閉成動作における異物の検出状況を視認できるという効果がある。
第１５の発明によれば、閉成位置指令信号に基づく多数の位置のモータに流れる電流又は、モータの速度、位置の値などを用いて、判断手段が異常を判定したので、閉成指令信号に同期した多数時点の時間の代わりに、閉成位置指令信号を用いても、第１から第１０の発明と同様の効果を奏する。
第１６の発明によれば、工程を複数回Ａ繰り返しては、金型に樹脂を流し込まない空金型の状態も含むから、樹脂を金型に流し込んで金型に異物が挟まったことを早期に検出できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】  図１は本発明の一実施例による射出成形機の金型閉成機構及び制御装置のブロック図である。
図２は実施例による各サンプリング時間に対応した検出電流値、平均値、分散値をメモリの記憶状況を示す記憶状態図である。
図３は実施例による射出成形機の時間対電流曲線図（ａ）、時間対速度曲線図（ｂ）である。
図４は実施例による射出成形機の動作示すフローチャートである。
図５は、図４に示す空金型状態での金型閉成動作時における閾値の更新の詳細フローチャートである。
図６は、図４におけるステップＳ１０７の詳細動作示すフローチャートである。
図７は、図４におけるステップＳ１１１の詳細動作示すフローチャートである。
図８は、他の実施例による平均、分散の更新手順を示したフローチャートである。
図９は、他の実施例による射出成形機の動作示すフローチャートである。
図１０は、図９におけるステップＳ３０７の詳細動作示すフローチャートである。
図１１は、図９におけるステップＳ３１１の詳細動作示すフローチャートである。
図１２は、実施例による射出成形機の時間対電流標準化値（ａ）、時間対速度標準価値（ｂ）を示す図である。
図１３は、他の実施例における平均、分散を更新するのに必要なメモリの記憶状況を示す記憶状態図である。
図１４は、他の実施例のおける平均、分散の更新手順を示したフローチャートである。
図１５は、他の実施例による金型保護感度設定画面を示す画面図である。
図１６は、他の実施例による時間対電流（ａ）、時間対速度（ｂ）の画面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【実施例１】本発明の一実施例を図１乃至図３によって説明する。図１は射出成形機の金型閉成動作機構及び制御装置のブロック図、図２は各サンプリング時間に対応した検出電流値、平均値、分散値をメモリに記憶した状態を示す記憶状態図、図３は射出成形機の時間対電流曲線図（ａ）、時間対速度曲線図（ｂ）である。
図１において、射出成形機は、ｄ軸電流及びｑ軸電流を流すように制御されるモータ３と、モータ３の回転をタイミングベルト５によりボールネジを有する回転軸に伝達するように形成されている。
モータ３の回転運動を直線運動に変換すると共に、一端部が固定され、他端部を有するトグル機構７と、他端部が可動金型９に固定され、可動金型９に対向して固定金型１１とが設けられており、可動金型９と固定金型１１とにより金型１０を成している。
制御装置は、金型１０の閉成指令信号に同期して、多数の時点としての各サンプリング時刻（時点、時間）毎にモータ３の速度値又は位置Ｙ（ｔ）を検出する検出手段としてのエンコーダ２１と、モータ３に流れるｑ軸電流を各サンプリング時刻毎に電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出手段としての電流検出回路２３と、作業者が金型の閉成指令及び開放指令等を入力する操作パネル２５と、操作パネル２５から入力された指令に基づいて金型１０の開閉指令信号を作成して発生する指令生成部２６と、指令信号およびエンコーダ２１により検出される位置、速度からモータ３に与える電流指令を求めて、該電流指令に基づいてモータ３にｄ軸電流及びｑ軸電流を流す駆動制御部２７と、モータ３に流れる電流が予め定められた電流を越えると、所定の電流に制限する電流制限手段としての電流リミッタ２８と、金型１０の閉成過程において検出した検出電流、検出速度に基づいて金型１０の間に異物があるか否かを判定する異物検出判定部２９と、金型１０の開閉情報を表示する表示部３１と、異物検出判定部２９が金型１０の閉じ動作において異物があったと判定した場合、金型１０の閉成動作を停止又は開放する指令信号を生成する異常指令部３３と、異物検出判定部２９が出力する信号ｅａに基づいて指令信号を、正常指令信号から異常指令信号に切換る指令切換部３５とを備えている。
異物検出判定部２９には、検出電流値Ｘ（ｔ）、検出速度値Ｙ（ｔ）などを記憶するＲＡＭから成るメモリ２９ｒを有している。
＜異物検出判定部２９＞
Ａ．検出電流
（１）．射出成形機は、同一の成型品を多数製作しており、金型１０の閉成を一周期とする工程を複数回Ａ繰り返して各サンプリング時刻毎に対応する検出電流値Ｘ（ｔ）をそれぞれ記憶する記憶手段としてのメモリ２９ｒと、
（２）．メモリ２９ｒから読み出した検出電流値Ｘ（ｔ）に対応する時点毎の平均値Ｍｘ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（３）．（Ａ−１）回までの任意の回数における電流平均値Ｍｘ（ｔ）、電流分散値Ｖｘ（ｔ）を用いて次式のようにして各サンプリング時刻毎の電流閾値Ｘｆ（ｔ）を求める基準値算出手段と、
Ｘｆ（ｔ）＝Ｍｘ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎ≧３
（４）．時点毎における電流閾値Ｘｆ（ｔ）と検出電流値Ｘ（ｔ）とを比較して検出電流値Ｘ（ｔ）が電流閾値Ｘｆ（ｔ）を越えた回数が予め定められた回数ｍを越えることにより異常と判断する判断手段とを備えている。
Ｂ．検出速度
（１）．上記工程を複数回Ａ繰り返して前記時点毎に対応する速度値Ｙ（ｔ）をそれぞれ記憶するメモリ２９ｒと、
（２）．メモリ２９ｒから読み出した速度値Ｙ（ｔ）に対応する時点毎の平均値Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｙ（ｔ）を求める平均・分散算出手段と、
（３）．（Ａ−１）回までの任意の回数における速度平均値Ｍｙ（ｔ）、速度分散値Ｖｙ（ｔ）を用いて次式のようにして各サンプリング時刻毎の速度閾値Ｙｆ（ｔ）を求める基準値算出手段と、
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｎ≧３
（４）．時点毎における速度閾値Ｙｆ（ｔ）と速度値Ｙ（ｔ）とを比較して速度値Ｙ（ｔ）が速度閾値Ｙｆ（ｔ）を越えた回数が予め定められた回数ｍを越えることにより異常と判断する判断手段とを備えている。
＜メモリ＞
メモリ２９ｒの記憶構造を図２によって説明する。図２（ａ）における各行は、一回の金型閉成動作において、Ｔ個のサンプリングデータを要し、各サンプリング時刻の検出電流値Ｘ（ｔ）を記憶し、各列は、各サンプリング時刻毎のＫ回分の検出電流値Ｘ（ｔ）を記憶している。検出電流値ｘｉ（ｔ）はｉ行目の金型の閉成におけるデータを示すものである。ｐ行目、ｐ−１行目、ｐ−２行目・・・、１行目、０行目、Ｋ−１、・・・、ｐ＋１行目の順に新しい金型の閉成における検出電流値を記憶しており、正常な金型閉成動作が終了するごとに、最も古いデータ行に、最も新しいデータを書き込んでいくリングバッファリングが実行されている。図２（ｂ）のポインタｐは、図２（ａ）の最新の検出電流値を示す行に記憶している。図２（ｃ）は、各サンプリング時刻における電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）と、下式で求められた電流の和Ｓｘ（ｔ）、電流の２乗和Ｕｘ（ｔ）が記憶されている。
0004438745.tif 000002
上記は、電流について説明したが、速度平均Ｍｙ（ｔ）、速度分散Ｖｙ（ｔ）、速度の和Ｓｙ（ｔ）、速度の２乗和Ｕｙ（ｔ）が記憶されている。
0004438745.tif 000003
ここで、検出速度値ｙｉ（ｔ）はｉ行目の金型の閉成におけるデータを示すものである。
＜電流閾値及び速度閾値＞
電流閾値及び速度閾値の設定を図３によって説明する。図３は、閾値の設定について説明する時間対電流曲線図（ａ）、時間対速度曲線図（ｂ）である。図３（ａ）において、電流平均値Ｍｘ（ｔ）、電流閾値Ｘｆ（ｔ）、Ｎ・（電流分散）１／２＝Ｎ・｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２の関係を示しており、時刻ｔ＝０で金型の閉成動作を開始してから終了するまでの時間Ｔ−１の間において、検出電流の検出タイミングは該時間Ｔ−１を多数分割した一定周期のサンプリング時間によって定まる。ここに、Ｔ−１は金型の閉成動作完了時間を指す。
サンプリング時間は短周期ほど、検出精度が向上する。しかし、サンプリング時間が短くなりすぎると、異物検出判定部２９の演算能力の制限、検出電流を記憶するメモリ２９ｒの記憶容量から、１００μｓｅｃ〜１０ｍｓｅｃ程度が適当なサンプリング周期となる。そして、金型１０に異物が挟まると、モータ３の電流を大きく流そうとするので、電流閾値は平均値より大きくなる方向に設ける。そして、電流閾値から検出電流が越えた回数を用いて異常の有無を判断する。
図３（ｂ）において、速度平均値Ｍｙ（ｔ）、速度閾値Ｙｆ（ｔ）、Ｎ・（速度分散）１／２＝Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２の関係を示しており、時刻ｔ＝０で型閉めが開始してから終了するまでの時間Ｔ−１の間において、サンプリング時間、検出速度をサンプリングする。そして、金型１０に異物が挟まると、異物がモータ３の動きを阻害してモータ３の速度が正常時よりも低くなるので、速度閾値は速度平均値よりも低くなる方向に設定する。そして、速度基準値から検出速度が下回る回数を用いて異常の有無を判断する。
＜射出成形機の制御装置の動作＞
本発明の一実施例を示す射出成形機の制御装置の動作を、図１乃至図４を用いて説明する。まず、金型１０に樹脂を流し込まない（以下、空金型という）状態において、作業者が操作パネル２５に金型の開閉指令信号を入力し、指令生成部２６が開閉指令信号を生成して指令切換え部３５を介して駆動制御部２７に入力する。駆動制御部２７は該開閉指令信号に基づいて電流をモータ３に流して、エンコーダ２１により検出したモータ３の位置検出値、速度検出値と、電流検出器２３から検出される検出電流値とに基づいてモータ３をフィードバック制御しながら駆動する。かかるモータ３の回転運動がタイミングベルト５を介してトグル機構７により直線運動に変換され、空金型の開閉を数回行い閾値の更新をする（ステップＳ１０１）。ここで、ステップＳ１０１を設けたのは、金型１０に樹脂を流した状態における金型１０の金型閉成動作の開始から早期に異物の判定を行うためである。かかるステップＳ１０１における詳細を図５のフローチャートによって説明する。時刻を表すパラメータｔ＝０と設定する（ステップＳ１１）。異常検出判定部２９は空金型動作時の各サンプリング時刻の検出電流値、検出速度を検出し、メモリ２９ｒに記憶する（ステップＳ１５）。金型閉成動作が完了したかどうかを確認し（ステップＳ２１）、完了していなければ、ｔ＝ｔ＋１とし（ステップＳ２３）、ステップＳ１５を再度実行する。
一方、ステップＳ２１において、金型閉成動作が完了していれば、異常検出判定部２９はメモリ２９ｒに記憶された直前の金型閉成動作時の検出電流値、検出速度値を用いて、電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）、速度平均Ｍｙ（ｔ）、速度分散Ｖｙ（ｔ）を更新し（ステップＳ２７）、各サンプリング時刻における電流閾値Ｘｆ（ｔ）、速度閾値Ｙｆ（ｔ）を更新し（ステップＳ２９）、所定の空金型状態での金型閉成動作回数が終了したかをチェックする（ステップＳ３１）。所定の空金型状態での金型閉成動作が実行されていると、ステップＳ１０１を終了する。ここで、所定の空金型状態での金型閉成動作が実行されていないと、上記ステップＳ１１〜Ｓ３１を実行する。
次に、所望の成形品を得るために金型１０に樹脂を流し込む成形サイクルが開始され、時刻を示すパラメータｔ＝０と設定する（ステップＳ１０３）。異常検出判定部２９は、金型１０の開閉動作の工程において、各サンプリング時刻における検出電流値、検出速度値を、電流検出回路２３、エンコーダ２１によりそれぞれ検出してメモリ２９ｒに記憶する（ステップＳ１０５）。これによりメモリ２９ｒには、金型１０の開閉動作の工程を複数回Ａ繰り返して各サンプリング時間に対応する検出電流値、検出速度値を記憶したことになる。ここで、上記複数回Ａとは、図５のステップＳ３１における初期空型締め回数と、樹脂を入れて金型１０を開閉した回数との和をいう。異常検出判定部２９は、（Ａ−１）回までの金型閉成動作における電流閾値Ｘｆ（ｔ）を上記のようにして求め、各サンプリング時刻における検出電流値Ｘ（ｔ）と電流閾値Ｘｆ（ｔ）とを比較することにより異常か否かを判定する（ステップＳ１０７）。
図６は、図４のステップＳ１０７を詳細に説明した図である。同サンプリング時刻における検出電流値Ｘ（ｔ）と電流閾値Ｘｆ（ｔ）とを比較して検出電流値Ｘ（ｔ）が電流閾値Ｘｆ（ｔ）を越えているか否かを判定する（ステップＳ１３１）。越えていると、電流異常カウンタＣｘを＋１インクリメントとする（ステップＳ１３３）。異物検出判定部２９は、電流異常カウンタが予め設定された回数ｍに達しているか否かを判定する（ステップＳ１３７）。ｍ回に達していれば、検出電流の異常と判定して異常信号を発生する（ステップＳ１３８）。
該異常信号ｅａを表示部３１に入力して表示部３１が金型１０に異常が発生した旨を文字等によって表示する。同時に、異常信号ｅａを指令切換部３５に入力してスイッチを上側に倒して異常指令部３３からの指令に切換える。異常指令部３３は、金型１０の停止指令を発生し、該停止指令信号を、指令切換部３５を介して駆動制御部２７に入力する。駆動制御部２７はモータ３への電圧の印加を停止する。したがって、金型１０に異物を挟み込んだと感知した時点で直ちに可動金型９の動作を停止する（ステップＳ１０９）。
一方、ステップＳ１３１において越えていなければ、電流異常カウンタＣｘを０にクリアし（ステップＳ１３５）、検出電流の異常無と判定する（ステップＳ１３９）。同様に、ステップＳ１３７において、電流異常カウンタがｍに達しなければ検出電流の異常無と判定する（ステップＳ１３９）。
すなわち、サンプリング時刻において連続ｍ回検出電流が、電流閾値を超えていれば検出電流の異常と判定する。これにより、異物の挟み込みによる金型１０の損傷を防止することができる。
なお、上記実施例では、異常信号ｅａにより可動金型９を停止させたが、可動金型９を後退させても良い。
次に、異常検出判定部２９は、（Ａ−１）回までの金型閉成動作における電流閾値Ｘｆ（ｔ）を上記のようにして求め、各サンプリング時刻の検出速度値Ｙ（ｔ）と速度閾値Ｙｆ（ｔ）とを比較することにより異常か否かを判定する（ステップＳ１１１）。
図７は、図４のステップＳ１１１を詳細に説明した図である。同サンプリング時刻における検出速度値Ｙ（ｔ）と速度閾値Ｙｆ（ｔ）とを比較して検出速度値が速度閾値よりも低いか否かを判定し（ステップＳ１４１）、低いと、速度異常カウンタＣｙを＋１インクリメントとする（ステップＳ１４３）。これは、金型１０に異物が挟まると、モータ３の速度は低くなるので、検出速度値が速度閾値よりも低いと異常と判断するためである。
電流異常カウンタＣｙが予め設定された回数ｍに達しているか否かを判定する（ステップＳ１４７）。ｍ回に達していれば、検出速度の異常と判定して異常信号を発生する（ステップＳ１４８）。該異常信号ｅａに基づいて上記ステップ１０９と同様な異常処理を実行する（ステップＳ１１３）。
一方、ステップＳ１４１において速度閾値の方が検出速度値よりも高ければ、速度異常カウンタＣｘを０にクリアし（ステップＳ１４５）、検出速度の異常無と判定する（ステップＳ１４９）。同様に、ステップＳ１４７において、速度異常カウンタがｍ回に達しなければ検出速度の異常無と判定する（ステップＳ１４９）。
すなわち、サンプリング時刻において連続ｍ回検出速度が、速度閾値よりも低ければ検出速度の異常と判定する。
ステップＳ１１１において、異常がなければ、金型閉成動作が完了したか否かを判定し（ステップＳ１１５）、完了していなければ、サンプリング時刻を＋１し（ステップＳ１２３）、上記ステップＳ１０５〜Ｓ１１５を再度実行する。
一方、ステップＳ１１５において金型閉成動作が完了していれば、メモリ２９ｒから直前の金型閉成動作の検出電流値、検出速度値を読み出して、それぞれの各サンプリング時刻の電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）、速度平均Ｍｙ（ｔ）、速度分散Ｖｙ（ｔ）を更新する（ステップＳ１１７）。上記で更新した電流平均、電流分散、速度平均、速度分散、および予め設定されたＮを用いて、各サンプリング時刻における電流閾値Ｘｆ（ｔ）、速度閾値Ｙｆ（ｔ）を下式により求める（ステップＳ１１９）。
Ｘｆ（ｔ）＝Ｍｘ（ｔ）＋Ｎ×（Ｖｘ（ｔ））１／２
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ×（Ｖｙ（ｔ））１／２
ここで、Ｎは３以上の数値を用い、好ましくは３＜Ｎ＜１０の数値である。Ｎが３以下では、誤動作することが実験により確認されているからである。
異物検出判定部２９は、所望の回数成形サイクルに達したか否かを判定し（ステップＳ１２１）、達しなければ、上記ステップＳ１０３〜Ｓ１１９を実行する。一方、達しておれば、終了する。
なお、正の値を有する電流、速度について説明したが、電流値Ｘ（ｔ）、速度値Ｙ（ｔ）が負の値をとる場合、閾値は下式のように設定する。
Ｘｆ（ｔ）＝Ｍｘ（ｔ）−Ｎ×（Ｖｘ（ｔ））１／２
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）＋Ｎ×（Ｖｙ（ｔ））１／２
さらに、上記ステップＳ１３１、Ｓ１４１において、検出電流値、検出速度値が負の値をとる場合には、Ｘ（ｔ）＜Ｘｆ（ｔ）、Ｙ（ｔ）＞Ｙｆ（ｔ）をチェックすることにとなる。
上記のように、電流値Ｘ（ｔ）又は速度値Ｙ（ｔ）に基づいて平均値Ｍｘ（ｔ），Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ），Ｖｙ（ｔ）を求め、平均値Ｍｘ（ｔ），Ｍｙ（ｔ）、分散値Ｖｘ（ｔ），Ｖｙ（ｔ）に基づいて電流閾値Ｘｆ（ｔ）又は速度等の閾値Ｙｆ（ｔ）を自動的に得ると共に、該電流閾値Ｘｆ（ｔ）又は速度等の閾値Ｙｆ（ｔ）に基づいて金型１０内の異物の有無を判定したので、作業者は閾値を決定するために平均値からの許容範囲となるオフセット、シフト量を、試行錯誤して設定する作業が不要になると共に、金型内の異物の判定を精度よくできる。
金型、特にスライドコア付の金型のような複雑な構造の金型を閉成する際、電流や速度の時点ｔごとのばらつきが、大きい時点と小さな時点が存在することがある。本実施例によれば、電流や速度のばらつきが大きい時点では、分散Ｖｘ（ｔ）、Ｖｙ（ｔ）は大きな値をとるので、閾値はより大きくなるという性質がある。この性質から、ばらつきの大きい時点では、感度を鈍くすることにより正常時であっても異物があると判断してしまう誤検出現象を防ぐという効果がある。一方、ばらつきが小さい時点ではＶｘ（ｔ）、Ｖｙ（ｔ）は小さな値をとるので、閾値がより小さくなるという性質がある。この性質から、ばらつきの小さい時点では、感度を鋭くすることにより精度よく異物を検出しようとする効果がある。
さらにデータのばらつき程度が金型閉成を繰り返すごとに変化していってもこれに追従してＶｘ（ｔ）、Ｖｙ（ｔ）が変化するという性質があり、適切な閾値を構成することができるという効果もある。
また、一般に、駆動制御部２７は指令信号と検出された現在値とを比較し、この差に応じて電流を出力するフィードバック制御が成されているため、たとえ金型間に異物が挟まっても発生できる電流に余裕がある限り、指令に追従しようと電流を大きく流そうとする。このため、異物が挟まった場合、まず電流に異常が現れ、次に速度や位置、位置偏差に異常が現れやすいという傾向がある。しかし、制御装置の電流リミッタ２８の制限値が小さく、かつ、電流リミッタ２８が動作すると、異物が金型に挟まっても検出電流に異常が生じにくいので、電流検出による異物の異常判定の精度が低下する。そこで、モータ３に流れる電流が増加して電流リミッタ２８が動作しても、異物判定部２９は、異常速度値Ｙ（ｔ）に基づいて判定するので、正確な異物判定ができるのである。
上記実施例は電流、速度の両方のデータを用いて異物の判定をしたが、電流制限値が大きい場合や、メモリ容量が限られている場合等には電流だけ、速度だけを用いて異物の有無を判定してもよい。
また、上記実施例のステップＳ１０７において、異物検出判定部２９は（Ａ−１）回までの金型閉成動作における電流閾値Ｘｆ（ｔ）を求めたが、（Ａ−１）回までの任意の回数、すなわち、（Ａ−２）回、（Ａ−３）回でも良い。
【実施例２】  同一の型閉成指令信号に従う金型の閉成過程における検出電流値、検出速度値でも、検出値のばらつき以外に周囲温度、機械摩擦等の原因により、金型閉成動作を繰り返していく毎に検出電流値、検出速度値が全サンプリング時刻において微小ながら、しだいに大きくなったり、小さくなったりという大域的な変化が生じることがある。したがって、金型の開閉サイクルの開始直後から最新の検出値すべてを用いて各サンプリング時刻の平均、分散から求めた閾値よりも、過去の最近数回における検出電流値、検出速度値のみの平均、分散から求めた閾値が適切な異常判定ができる。
かかる現象を考慮した本発明の実施例となる異常検出判定部２９の平均、分散算出手段について図８のフローチャートによって説明する。
図８は、図４の上記ステップＳ１１９、図５の上記ステップＳ２７における、検出電流、検出速度から、各サンプリング時刻における電流平均、電流分散、速度平均、速度分散の算出、更新に相当するものである。
異常検出判定部２９は、過去Ｋ＋１回前の検出値の影響を電流の和Ｓｘ（ｔ）、電流の２乗和Ｕｘ（ｔ）、速度の和Ｓｙ（ｔ）、速度の２乗和Ｕｙ（ｔ）から除去する（ステップＳ１５１）。最新の行を示す第ｐ行に直前に正常終了したときの金型閉成動作時の検出値時系列をメモリ２９ｒに書き込む（ステップＳ１５３）。該書き込んだ検出値の影響を電流の和Ｓｘ（ｔ），電流の２乗和Ｕｘ（ｔ）、速度の和Ｓｙ（ｔ）、速度の２乗和Ｕｙ（ｔ）に反映させるために図８に図示された演算処理を行い（ステップＳ１５５）、電流の和Ｓｘ（ｔ）、電流の２乗和Ｕｘ（ｔ）から、電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）を下式によって求める（ステップＳ１５７）。
0004438745.tif 000004
同様に、各サンプリング時刻における速度平均Ｍｙ（ｔ）、速度分散Ｖｙ（ｔ）を求める（ステップＳ１５９）。最新行を示すポインタをインクリメントする（ステップＳ１６１）、ポインタｐがＫかどうかをチェックし（ステップＳ１６３）、ポインタがＫに等しければ、ポインタｐを０にセットする（ステップＳ１６５）。
また、本実施例と上記実施例１を組み合わせて実施する場合、初期金型閉成回数は少なくてもＫ回以上とする。
【実施例３】  金型１０に異物が挟まると、モータ３に流れる電流、モータ３の速度ともに平均値から時刻経過ごとにより大きく離れていく傾向がある。これは、異物が挟まることにより金型１０の前進が阻害されるので、モータ３の速度がしだいに低くなる。さらに、金型１０間に異物が挟まると、フィードバック制御により金型１０の閉成動作をするため、駆動制御部２７の指令に追従しようとしてモータ３の電流が増大するためである。
かかる現象を利用して異物を早期に確実に検出する本発明の実施例を図９のフローチャートによって説明する。図９中、図４と同一符号は同一相当部分を示し、説明を省略する。
図９は、図４におけるステップＳ１０７、Ｓ１１１が、それぞれステップＳ３０７、Ｓ３１１に代わり、図４におけるステップＳ１１９が存在しないことである。
図１０は、図９のステップＳ３０７の詳細を説明したフローチャートである。異常検出判定部２９は各サンプリング時刻の平均、分散から電流標準化値を求める（ステップＳ３７１）。すなわち、検出電流Ｘ（ｔ）、電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）から、電流標準化値Ｚｘ（ｔ）を下式により求める。
Ｚｘ（ｔ）＝｛Ｘ（ｔ）−Ｍｘ（ｔ）｝／｛Ｖｘ（ｔ）｝１／２
電流標準化値Ｚｘ（ｔ）は、検出電流値の平均からのずれ具合を示す指標となり、０に近ければ近いほど平均値に近く、０から離れれば離れるほど平均値からのずれが大きいということになる。これを時間対電流標準化値、時間対速度標準化値を示した図１２によって説明する。図１２（ａ）によれば、時刻ｔ０付近で異物を挟みはじめると、時間の経過に伴って電流標準化値がおおきくなり予め設定された値Ｎ´を超えることになる。
異常検出判定部２９は、電流異常カウンタＣｘが０か否かを判定し（ステップＳ３７２）、前サンプリング時刻に初期閾値Ｎ´を超えることがあったかどうかをチェックする。電流異常カウンタＣｘがゼロなら、電流標準化値Ｚｘ（ｔ）と予め設定しておいた初期閾値Ｎ´とを比較する（ステップＳ３７６）。ここで、Ｎ´≧２の数であり、より好ましくは２．５＜Ｎ´＜８である。このＮ´の下限は、上記実施例１に示したＮよりも若干小さいというところから由来するものである。
異常検出判定部２９は、初期閾値Ｎ´を超えていなければ、電流異常カウンタＣｘをリセットする（ステップＳ３７８）。一方、もし超えていれば、電流異常カウンタＣｘに１をセットし（ステップＳ３７７）、検出電流の異常が無とする（ステップＳ３８１）。一方、ステップＳ３７２において、電流異常カウンタＣｘが０でなければ、前サンプリング時刻における電流標準化値Ｚｘ（ｔ−１）と現サンプリング時刻における電流標準化値Ｚｘ（ｔ）とを比較する（ステップＳ３７３）。ここで、電流標準化値Ｚｘ（ｔ）と電流標準化値Ｚｘ（ｔ−１）とを比較するのは、上記したように金型１０に異物が挟まると、モータ３に流れる電流が平均値から時刻経過ごとに大きくなるから、かかる現象を早期に検出するためである。
異常検出判定部２９は、現時刻における電流標準化値Ｚｘ（ｔ）のほうが大きければ電流異常カウンタを＋１し、電流異常カウンタが予め設定しておいたｍ´に達すれば、金型１０間に異物が挟まれたとして異常有と判定する（ステップＳ３７９）。ここで、ｍ´≧３なる数である。
ステップＳ３７３において、前時刻電流標準化値Ｚｘ（ｔ−１）のほうが現時刻の電流標準化値Ｚｘ（ｔ）より大きければ、電流異常カウンタをリセットする（ステップＳ３７５）。
図１１は、図９のステップＳ３１１の詳細を説明したフローチャートである。図１１のステップＳ９０における検出速度の異常判定について説明したものである。図１１と図１０はほとんど同じであるため詳細な説明は省略するが、図１１と図１０との違いは、速度に関する標準化データは、異物が挟まると平均値よりも小さくなるため、ステップＳ４７３において前時刻の速度標準化値Ｚｙ（ｔ−１）よりも現時刻の標準化値Ｚｙ（ｔ）が小さくなっているかどうかで異物有無を判定する点、および、ステップＳ４７６において速度標準化値Ｚｙ（ｔ）が予め設定された数値−Ｎ´を下回るかどうかを判定する点である。ここで、数値−Ｎ´がマイナスになるのは、金型１０に異物が挟まることにより速度が低下するからである。
図１２（ｂ）は、時刻ｔ０付近で異物を挟みはじめたときの、時間対速度標準化値のグラフを示したものである。
実施例１と同様は電流標準化値、速度標準化値を用いて異常か否かの判定をおこなったが、電流標準化値Ｚｘ（ｔ）又は、速度標準化値Ｚｙ（ｔ）のいずれか一方を用いて異常を判定してもよい。また、電流標準化値、速度標準化値に限らず位置に関する標準化値、位置偏差に関する標準化値などを用いて、異常を判定してもよい。
【実施例４】  上記実施例２では、メモリ２９ｒに金型閉成動作回数に応じた検出電流値、速度検出値を記憶していたので、金型閉成動作回数とサンプリング回数の積の記憶容量を必要としていた。本発明の実施例では、メモリ２９ｒの容量が少ない例を図１３によって説明する。
図１３はメモリ２９ｒの記憶構造を示すもので、図１３において、（ａ）が各サンプリング時刻の過去１回分の正常金型閉成動作時の検出電流値Ｘ（ｔ）、（ｂ）が各サンプリング時刻の電流平均Ｍｘ（ｔ）、（ｃ）が各サンプリング時刻の電流分散Ｖｘ（ｔ）を記憶している。
次に、本実施例の各サンプリング時刻の電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）の算出、更新について図１４のフローチャートを参照して説明する。
図１４の処理は実施例１の図４に示すステップＳ１１７、図５に示すステップＳ２７における平均、分散の更新を、第２の実施例に代えて実行するものである。
異常判定部２９は、前回求めた各サンプリング時刻の電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）を下式に従って更新する（ステップＳ５０１）。
0004438745.tif 000005
ここで、α、βは定数で、０＜α、β＜１を満たす数で、より好ましくは、０．０１＜α、β＜０．３程度の数値である。
次に、同様の手順で速度に関する速度平均、速度分散を求める（ステップＳ５０３）。
上記（１）、（２）式に従って求めた電流平均Ｍｘ（ｔ）、電流分散Ｖｘ（ｔ）がそれぞれ一種の平均、分散となることを説明する。上記（１）式を再帰的に適用すると、下式となる。
0004438745.tif 000006
ここで、ｘ（ｊ）（ｔ）は、ｊ回前の金型の閉じ動作におけるサンプリング時刻ｔの検出電流値を示している。
また、α＋α（１−α）＋α（１−α）２＋…＝１となることから、上記（３）式により求めた値は、過去の複数のデータに重みをつけ加算した平均とみなすことができる。
また、上記（１）式により求めた平均は、最近の検出値ほど、より大きく反映させる平均となる。また、同様に上記（２）式を再帰的に適用すると下式となる。
0004438745.tif 000007
ここで、Ｍｘ（ｊ）（ｔ）は、ｊ回前に求めたサンプリング時刻ｔにおける平均を示す。上記のように、検出値は周温、機械摩擦等の変化により、微小ではあるが金型閉じる毎に全サンプリング時刻において除々に検出値が大きくなったり、小さくなったりすることがある。
しかしながら、かかる変化は金型の閉じ回数に対して極めて遅い変化であるため、各サンプリング時刻における該閉じ回数の近い検出値どうしは、非常に近い値をとる傾向がある。以上より、ｊを小さな数とした場合には、下式のように近似できる。
0004438745.tif 000008
よって、Ｖｘ（ｔ）は下式となる。
0004438745.tif 000009
ここで、ｊが大きくなるにつれて上記（５）式の近似が一般に成立しなくなるが、上記（６）式におけるβ（１−β）ｊの係数が小さくなり、近似からのずれが全体のＶｘ（ｔ）への影響は小さくなる。
先ほど同様、β＋β（１−β）＋β（１−β）２＋…  ＝１ということより、Ｖｘ（ｔ）は各サンプリング時刻の過去の検出電流と電流平均Ｍｘ（０）（ｔ）との差の２乗に重みをつけて足し合わせた量、すなわち一種の分散とみなすことができる。この分散もまた平均と同様、最近の検出値と平均との差が大きいほどより大きく反映させるものとなる。
上記式（１）、（２）で求めた平均は最近のデータほど影響が大きい平均、分散となる。これにより、周温、金型閉成動作回数によるデータの微妙な変化等に速く追従した平均、分散となる。該平均、分散から求めた閾値は、より異常判定に適した閾値となる。
かかる射出成形機の制御装置によれば、図１３で示すように前回金型閉成動作時に求めた平均、分散と今回検出された検出値のみを記憶しておけば、上記（１）、（２）式の演算ができるので、メモリ２９ｒの記憶容量を少なくできるという効果がある。
【実施例５】  上記実施例で説明したように、設定値Ｎ、電流異常カウンタｍは、予め設定しておくことも可能である。しかしながら、設定値Ｎ、電流異常カウンタｍの設定を現地の状況に応じて調整することが望ましいことがある。射出成形機の金型閉成機構の種類などによって最適な設定値Ｎ、電流異常カウンタｍの値が変更され得るからである。
本発明の他の実施例を図１５によって説明する。図１５（ａ）において、操作パネル部には、つまみ１２２が直線状なスライダーバー１２１上を移動するように設けており、つまみ１２２を直線方向に動かすマウスポインタ１２３を有している。スライダーバー１２１の一端部には金型１０の異物の検出する感度を「感度低」、同様に、スライダーバー１２１の他端部には「感度高」の表示がされることにより検出感度表示手段を成している。そして、スライダーバー１２１、つまみ１２２、マウスポインタ１２３により上記検出感度の高低を調整する調整手段を成している。ここで、設定値Ｎ、電流異常カウンタｍの値を小さくすればするほど金型１０の異物を検出する感度は良くなる。逆に大きくすればするほど感度は鈍くなる。
作業者が感度高く設定したい場合には（Ｎ，ｍ）＝（３，２）、感度を低く設定したい場合には（Ｎ、ｍ）＝（１０、２０）などとしておいて、つまみ１２２を高感度の付近にすれば（Ｎ，ｍ）を小さく、低感度の付近にすれば（Ｎ，ｍ）を大きく設定するものである。
また、上記のようにつまみ１２２を直線的に動作させるのみではなく、図１５（ｂ）のようにボリュームつまみ１３１を回転することにより感度低から感度高の間を移動しても良い。
かかる感度設定器によれば、設定値Ｎ、異常カウンタｍの値を作業者が視覚的、直感的に設定できるものである。
【実施例６】  図１６は、本発明の他の実施例を図によって説明する。図１６に示すように前述のようにして求めた電流閾値Ｘｆ（ｔ）と検出電流Ｘ（ｔ）、および、速度閾値Ｙｆ（ｔ）と検出速度Ｙ（ｔ）とをそれぞれ同時に、図１に示す表示部３１に表示する。これにより、作業者は、現在の金型閉成動作が正常に行われているかどうかを、検出値と閾値とを比較することにより簡単に確認することができる。また、上記実施例に示した電流または速度に関する標準化値を、予め設定されたＮ´とともにサンプリング時刻ごとに表示してもよい。
【実施例７】  上記実施例では、異物判定部２９は、金型１０の閉成動作における各サンプリング時間の検出電流値、検出速度値に基づいて異常の有無を判定したが、各サンプリング時間の検出位置でも良い。ここで、検出位置はエンコーダ２１から検出することにより得られる。
位置を用いた場合、異物が挟まった場合、異物が金型の閉成動作を阻害するので位置は正常時より行き足りなくなる。よって、位置閾値Ｙｆ（ｔ）は下式となる。
Ｙｆ（ｔ）＝Ｍｙ（ｔ）−Ｎ・｛Ｖｙ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｍｙ（ｔ）：位置平均値、Ｖｙ（ｔ）：位置分散値
位置閾値Ｙｆ（ｔ）を上記のように設定し、位置検出値が位置閾値を下回るかどうかにより、異物の有無を判定する。
【実施例８】  モータ３を位置指令に基づいて、金型１０を開閉動作させる制御装置において、位置指令と検出位置との差となる位置偏差に基づいてモータを制御している場合、各サンプリング時間に対応する位置偏差でも良い。
位置偏差を用いた場合は、異物が挟まった場合、目標位置に到達できなくなるので位置偏差は増大する。よって、位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）は下式となる。
Ｅｆ（ｔ）＝Ｍｅ（ｔ）＋Ｎ・｛Ｖｅ（ｔ）｝１／２
ここで、Ｍｅ（ｔ）：位置偏差平均値、Ｖｅ（ｔ）：位置偏差分散値
位置偏差閾値Ｅｆ（ｔ）を上記のように設定し、位置偏差検出値が位置偏差閾値を上回るかどうかにより、異物の有無を判定する。
【実施例９】  上記実施例では、電流値Ｘ（ｔ）等の検出タイミングを金型１０の閉成指令信号に同期した各サンプリング時間毎としたが、金型１０の閉成指令信号とし位置を用いた閉成位置指令信号としても良い。すなわち、上記実施例では、金型１０の閉成指令信号に同期して、各サンプリング時間毎にモータ３の速度値又は検出位置Ｙ（ｔ）を検出するエンコーダ２１と、モータ３に流れる電流を各サンプリング時間毎に電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出回路２３とを備えたが、上記サンプリング時間の代わりに、金型１０の閉成位置指令信号を用いて、該閉成指令信号における多数の位置毎のモータ３の速度値又は検出位置Ｙ（ｔ）を検出するエンコーダ２１と、モータ３に流れる電流を該閉成指令信号における多数の位置毎の電流値Ｘ（ｔ）を検出する電流検出回路２３を用いても、上記実施例と同様の作用効果を奏する。
【産業上の利用可能性】  以上のように、本発明に係る射出成形機の制御装置は、金型の異物を検出するのに適している。
【図１】
0004438745.tif 000010
【図２】
0004438745.tif 000011
【図３】
0004438745.tif 000012
【図４】
0004438745.tif 000013
【図５】
0004438745.tif 000014
【図６】
0004438745.tif 000015
【図７】
0004438745.tif 000016
【図８】
0004438745.tif 000017
【図９】
0004438745.tif 000018
【図１０】
0004438745.tif 000019
【図１１】
0004438745.tif 000020
【図１２】
0004438745.tif 000021
【図１３】
0004438745.tif 000022
【図１４】
0004438745.tif 000023
【図１５】
0004438745.tif 000024
【図１６】
0004438745.tif 000025