(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スズ含有インジウム酸化物粒子を分散させた溶液に、レーザー光を照射して、該溶液中でスズ含有インジウム酸化物粒子にレーザーアブレーションを発生させ、該レーザー光の照射前のスズ含有インジウム酸化物粒子よりも平均粒径が小さく、かつ赤外線遮蔽性であるスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子を形成することを特徴とするスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子の製造方法。
【請求項２】
スズ含有インジウム酸化物粒子を分散させた溶液に、レーザー光を照射して、該溶液中でスズ含有インジウム酸化物粒子にレーザーアブレーション発生させ、該溶液の溶媒に該レーザー光の照射前のスズ含有インジウム酸化物粒子よりも平均粒径が小さく、かつ赤外線遮蔽性であるスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子を分散させることを特徴とするスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子分散溶液の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光領域で透明であり、赤外線遮蔽性にすぐれた特性を有するスズ含有インジウム酸化物のナノ粒子およびその分散溶液ならびにその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スズ含有インジウム酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、以下「ＩＴＯ」ともいう。）半導体の導電性物質は金属と同様にある波長よりも長波長の光を反射するという固有の性質を持っておりこの性質をプラズマ反射という。金属などの高い導電性を有する材料の場合はそのプラズマ反射が観測される波長は短く、可視光領域の光よりも長い波長の光を反射する。一方、ＩＴＯなどの半導体酸化物はプラズマ反射の立ち上がりは近赤外領域にあり、赤外線は反射し、可視光は透過することが知られている。効率よく赤外線を反射させるためにＩＴＯでは酸化インジウムに５から１０重量％の酸化スズを添加してキャリア濃度を増加させてその赤外反射効率を高めることも行われている。このようなＩＴＯを用いた薄膜やＩＴＯ粒子をコーティングしたフィルムなどが赤外線遮蔽材料として利用されている。
【０００３】
粒子を利用した赤外線遮蔽材料の場合、可視光に於いて高い透明性を確保するために、可視光領域における反射、吸収および散乱が少ないことが要求される。可視光での反射・吸収特性は材料固有の性質であることからＩＴＯの場合プラズマ反射の立ち上がりが近赤外領域にあることから可視光での透明性は確保される。一方、散乱については粒子のサイズと波長に依存しており回折散乱、ミー散乱、レイリー散乱により計算することができる。光の波長より十分小さい粒子による散乱であるレイリー散乱は、波長のおよそ二分の一の時に最大となり、それ以下では粒径の６乗に比例して急激に小さくなる。従って、可視光の波長が４００ｎｍ〜８００ｎｍであることから粒子サイズを１００ｎｍ以下にすることによって可視光の散乱を抑制することが可能となる。
【０００４】
このような赤外線遮蔽用スズ含有インジウム酸化物粒子はこれまで化学的な手法で製造されてきた。例えば、塩化インジウムおよび塩化スズの混合水溶液とアンモニウム炭酸塩とを混合し、温度５℃〜９５℃、最終ｐＨ２〜８の条件下でインジウムとスズの水酸化物を共沈させ、該沈殿を加熱分解することにより、超微粒低抵抗ＩＴＯ粉末を得る方法（特許文献１参照）、塩化インジウムと塩化スズの酸性混合水溶液にカリウム化合物の水溶液を加えることにより生成したインジウムとスズの水酸化物を、洗浄、乾燥し、還元ガスを含む不活性ガス中で焼成することによってスズドープ酸化インジウム粉末を製造する方法（特許文献２参照）、酸化スズおよび酸化インジウムの水和物を湿式解砕した後に加熱処理して、平均粒子径が４０ｎｍ以下であり、粒子径１０ｎｍ以下および粒子径５０ｎｍ以上の粒子の含有率がそれぞれ１５％以下であるスズ含有酸化インジウム微粒子粉体およびＩＴＯ微粒子の製造方法（特許文献３参照）、並びに、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ホウ素、およびアルカリ金属やアルカリ土類金属の酸化物からなる溶融物を急速冷却して非晶質物質とする工程と、前記非晶質物質からスズドープ酸化インジウム結晶を析出させる工程と、得られた結晶化物から前記スズドープ酸化インジウム結晶を分離する工程とを順に含むことを特徴とするスズドープ酸化インジウム微粒子の製造方法（特許文献４参照）などの化学的合成法が知られている。
【０００５】
このような化学的合成法の場合、中和、洗浄、乾燥や加熱処理等の非常に多くの工程が必要である。また、加熱処理を行った場合には、熱処理のために得られる粒子が凝集し、得られた粒子を基に塗料やコーティング液を調製する際に、形成された凝集粒子を超音波照射などによる機械的な分散化や界面活性剤等の添加による化学的な分散化を施しても、凝集が強い場合には凝集体が完全に壊れることがなく、その結果凝集粒子からの散乱による透明度の低下が起こることがある。また、このような化学合成で得られるＩＴＯナノ粒子の場合、所定の赤外線反射特性を出現するために、金属元素の含有量（スズの含有量）を調整の上、合成することから、一度合成した後にその赤外反射特性を向上させることは出来ない等の問題点があった。
【特許文献１】特開平５−２０１７３１号公報
【特許文献２】特開２００１−２２０１３７号公報
【特許文献３】特開２００１−２６１３３６号公報
【特許文献４】特開２００５−３５８８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、上記の問題点を解消し、非常に単純な工程で、平均粒径が小さく、赤外線遮蔽効果を有する結晶性あるいは非晶質ＩＴＯナノ粒子およびそれらの分散溶液、ならびにその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意研究を進めたところ、ＩＴＯ粒子を分散させた溶液に、溶液中でパルスレーザー光を集光照射すると、ＩＴＯ粒子がレーザーアブレーションにより溶液中に原子、イオン、クラスターとして解離したのち溶液中で反応し、レーザー照射前のＩＴＯ粒子よりも平均粒径が小さなＩＴＯナノ粒子を、熱処理等を必要とせずに、また副生成物の形成などもなく、非常に簡単な工程で製造しうることを見出した。また、得られたＩＴＯナノ粒子が分散する溶液は、レーザー照射前に比べて可視光領域の透過率を高くでき、また、得られたＩＴＯナノ粒子自身の赤外領域の反射特性も向上させることができることを見出した。本発明は、これらの知見に基づきなされたものである。
すなわち、本発明は、
（１）スズ含有インジウム酸化物（ＩＴＯ）粒子を分散させた溶液に、レーザー光を照射して、該溶液中でＩＴＯ粒子にレーザーアブレーションを発生させ、該レーザー光の照射前のＩＴＯ粒子よりも平均粒径が小さく、かつ赤外線遮蔽性であるＩＴＯナノ粒子を形成することを特徴とするＩＴＯナノ粒子の製造方法、
（２）（１）項記載の製造方法で製造されたＩＴＯナノ粒子、
（３）前記スズ含有インジウム酸化物ナノ粒子からなる薄膜が、該薄膜と同じ厚さの前記レーザー光の照射前のスズ含有インジウム酸化物粒子からなる薄膜に対し、１１００ｎｍ〜２５００ｎｍの波長領域の透過率が低いことを特徴とする（２）項記載のＩＴＯナノ粒子、
（４）平均粒径が２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることを特徴とする（２）または（３）項記載のＩＴＯナノ粒子、
（５）ＩＴＯ粒子を分散させた溶液に、レーザー光を照射して、該溶液中でＩＴＯ粒子にレーザーアブレーション発生させ、該溶液の溶媒に該レーザー光の照射前のＩＴＯ粒子よりも平均粒径が小さく、かつ赤外線遮蔽性であるＩＴＯナノ粒子を分散させたことを特徴とするＩＴＯナノ粒子分散溶液の製造方法、
（６）（５）記載の製造方法で製造されたＩＴＯナノ粒子分散溶液、
（７）前記レーザー光の照射前のスズ含有インジウム酸化物粒子を分散させた溶液に対し、該容液と同質量％かつ同溶媒において、４００ｎｍ〜８００ｎｍで波長領域の透過率が高いことを特徴とする（６）項記載のスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子分散溶液、および、
（８）スズ含有インジウム酸化物ナノ粒子分散溶液を満たした容器と、該容器中の溶液にスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子がアブレーション現象を発現させることが可能な照射強度のレーザー光を照射するレーザー装置とを備えたスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子製造装置、および、
（９）集光レンズを備え、前記レーザー光の集光点が前記スズ含有インジウム酸化物ナノ粒分散溶液中に存在することを特徴とする（８）項記載のスズ含有インジウム酸化物ナノ粒子製造装置
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によりレーザー照射前のＩＴＯ粒子よりも平均粒径が小さなＩＴＯナノ粒子を、熱処理等を必要とせずに、また副生成物の形成などもなく非常に簡単な工程で製造することができる。また、本発明のＩＴＯナノ粒子分散溶液は、レーザー照射前に比べて可視光領域の透過率が高く、また本発明のＩＴＯナノ粒子自身の赤外領域の反射特性も向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１に本発明のＩＴＯナノ粒子およびその分散溶液の製造装置の一例を概略断面図により示した。この装置では、レーザー装置１からレーザー光反射ミラー２、集光レンズ４を介して、ガラスセル６からなる容器に満たされたＩＴＯ粒子を分散させた溶液５にレーザー光３を照射する。レーザー光照射中はガラスセル６内の底部に設置した、テフロン（登録商標）製回転子７を、マグネチックスターラー８を介して回転させて、ＩＴＯ粒子分散溶液を攪拌する。
【００１０】
本発明において用いることのできるレーザーの種類は、高強度のパルス光を発生できるレーザーであれば良く、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、Ｔｉサファイアレーザーを用いることができ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーが好ましい。レーザー光の照射強度は溶液中のＩＴＯ粒子がレーザー光照射をうけてアブレーションができるのに十分に足りる強度があれば良く、１パルスあたりの強度としては１０ｍＪ（１０ｍＪ／ｐｕｌｓｅ）以上あれば十分であり、望ましくは５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅ〜５００ｍＪ／ｐｕｌｓｅである。また、レーザー光のパルス幅は限定されないが１ｎｍ〜２０ｎｓが好ましく、せん頭値（ピークパワー）は０．５〜５００ＭＷが好ましい。また、レーザーの発振周波数（パルス周期）は限定されないが、１０〜６０Ｈｚが好ましく、平均パワーは、０．１〜３０Ｗが好ましい。
【００１１】
本発明において溶液の溶媒として水あるいはアルコールやヘキサンなどの有機溶媒を使用することができ、その溶媒はとくに制限されない。好ましくは、照射するレーザー光の波長に対して強い光吸収を有していない液体が望ましい。例えば、２６６〜１０６４ｎｍの波長のＮｄ：ＹＡＧレーザー光を用いる場合には、脱イオン水、エタノール、メタノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、プロピルアルコールが好ましい。また、溶液中には各種の界面活性剤あるいは金属塩、酸、アルカリ等の物質を添加剤として加えることができるが、溶液中に完全に溶解されればその物質は制限されない。溶液と同様に照射するレーザー光の波長に対して強い光吸収が無い物質を添加剤として用いることが特に望ましい。例えば、２６６〜１０６４ｎｍの波長のＮｄ：ＹＡＧレーザー光を用いる場合には、両イオン性界面活性剤や陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤等の添加剤を用いることが好ましい。
【００１２】
レーザー光の波長は、溶液の溶媒として脱イオン水を使用した場合には特に限定されないが、２６６〜１０６４ｎｍが好ましい。有機溶媒あるいは界面活性剤を用いた場合には、有機溶媒あるいは界面活性剤に対して強い吸収が無い波長が望ましく、３５５〜１０６４ｎｍがさらに好ましい。例えば、脱イオン水、またはエタノール、メタノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、プロピルアルコールなどのアルコールの場合、ナノ秒パルス幅を有するＮｄ:ＹＡＧレーザーの基本波（波長：１０６４ｎｍ）、第二高調波（波長：５３２ｎｍ）、第三高調波（波長：３５５ｎｍ）、第四高調波（波長：２６６ｎｍ）などが利用できる。
【００１３】
また、望ましくはレーザー光を、集光レンズを介して照射するが、レーザー光の強度が十分に強い場合は集光レンズを除外することも可能である。使用する集光レンズの焦点距離は５０ｃｍ〜３ｃｍが好ましく、さらに好ましくは１０ｃｍ〜５ｃｍである。また、レーザー光の集光点は液体表面近傍、特に望ましくは液体中に存在すればよい。
【００１４】
溶液に分散させるＩＴＯ粒子は公知の方法で合成された粒子であれば良く、スズおよびインジウム以外にアルミニウム、亜鉛や銀、アンチモンなどをドーピングしたＩＴＯ粒子でも良く、これらのものも本発明に包含する。使用するＴＩＯ粒子の平均粒径は２０ｎｍ以上１０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０ｎｍ以上１μｍ以下である。またその濃度は、１０ｇ／Ｌ以下が好ましく、望ましくは０．０２ｇ／Ｌ以下、特に望ましくは０．００５ｇ／Ｌ以上０．０１ｇ／Ｌ以下である。
なお、本発明において平均粒径とは、個数分布に基づく平均粒径をいう。また、本発明においては、２００個の平均径である。
【００１５】
ＩＴＯ粒子がレーザーアブレーションにより溶液中に原子、イオン、クラスターとして解離したのち溶液中で反応し、レーザー照射前のＩＴＯ粒子よりも平均粒径が小さなＩＴＯナノ粒子が形成される。溶液中で、アブレーションができたことは、例えば、アブレーションプラズマからの発光により確認することができる。
【００１６】
ＩＴＯ粒子分散液が満たされる容器は、公知の容器の材質、形状などから適宜選択して用いることができる。
また、レーザー光照射中は容器内の底部に設置した、撹拌手段を用いてＩＴＯ粒子分散溶液を攪拌することが好ましい。撹拌手段としては、公知のものを用いることができ、例えばマグネチックスターラーを介して設けられたテフロン（登録商標）製回転子などが挙げられる。撹拌速度は特に限定はないが５０〜５００ｒｐｍが好ましい。
また、レーザー光を照射する直前のＩＴＯ分散液の温度は２０〜３５℃が好ましい。また、レーザー光照射中の溶液の温度は２５〜４０℃が好ましい。
【００１７】
上記条件でのレーザー光照射後、ＩＴＯナノ粒子を透過電子顕微鏡により観察するとレーザー照射後のＩＴＯナノ粒子分散溶液中の粒子の平均粒径は、好ましくは１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、より好ましくは２ｎｍ以上１５ｎｍ以下である。また、レーザー照射後のＩＴＯナノ粒子の結晶性を電子線回折によって評価すると、レーザー照射条件によっては非晶質化したＩＴＯナノ粒子が得られる場合もある。このようにレーザー照射後に得られるＩＴＯナノ粒子が分散した溶液は、結晶性もしくは非晶質のＩＴＯナノ粒子が分散した溶液であり、このＴＩＯナノ粒子分散溶液は、このまま保存して、あるいは濃縮して必要に応じて希望する用途に適用できる。
【００１８】
さらにレーザー照射後のＩＴＯナノ微粒子が分散した溶液の２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域における光散乱について、紫外−可視透過スペクトルから評価すると可視光（４００〜８００ｎｍ）における光散乱が抑制され、透過率を向上させることができる。さらに、溶液中のＴＩＯナノ粒子を石英ガラス上にキャストしてＩＴＯナノ粒子から成る薄膜を形成させ、その紫外−可視−赤外透過スペクトルを測定しＩＴＯの１１００ｎｍから１２００ｎｍ以上（好ましくは、１１００ｎｍ〜２５００ｎｍ）で観測されるプラズマ反射を評価すると、レーザー光の照射前と比較してそのプラズマ反射も向上し、透過率を減少させることができる。
【００１９】
以上のように本発明によりＩＴＯ粒子の分散溶液にパルスレーザー光を照射するだけで、その粒子サイズを小さくすることができるばかりでなく、本発明のＩＴＯナノ粒子からなる薄膜は、赤外反射特性が大幅に改善し、また、本発明のＩＴＯナノ粒子を用いた塗料やフィルムは赤外線遮蔽性を大幅に向上させることができる。
【００２０】
本発明では上記のようにＴＩＯ粒子へ溶液中でレーザー光を照射するといった極めて簡単な工程だけで粒子のサイズを小さく、またその赤外反射特性を向上させることができる。そこで本発明によるＩＴＯナノ粒子やその分散溶液をコーティングやフィルムにそのまま利用するばかりでなく、化学合成によって合成されたＩＴＯ粒子を原料にして本発明の製造方法により赤外線遮蔽用ＩＴＯナノ粒子を製造し、赤外遮蔽用の塗料やフィルムを製造する工程の途中に導入することもできる。
【００２１】
また、本発明によって得られるＩＴＯナノ粒子は、粒径を１０ｎｍよりも小さくでき、またキャリア濃度を増加させることもできることから、ＩＴＯナノ粒子の高い導電性を利用した導電材料やセンサ材料としても利用が可能である。
【実施例】
【００２２】
以下に、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２３】
図１で示される装置を用いてＩＴＯナノ粒子を製造した。まず、平均粒径が３０ｎｍのＩＴＯ粒子（Ｓｎ：Ｉｎ比＝１：９）を脱イオン水中に０．００５ｇ／Ｌ分散させてＩＴＯ粒子分散溶液を調製した。２５℃、４０ｍｌの分散溶液をガラスセル６（内径３０ｍｍ、胴径３５ｍｍ、高さ８０ｍｍのバイアルびん）中に分取し、そこへレーザー装置１である高出力ナノ秒Ｎｄ：ＹＡＧパルスレーザー（スペクトラ・フィジックス社製、ＬＡＢ−１５０−１０）の第三高調波（波長：３５５ｎｍ、発振周波数：１０Ｈｚ、パルス幅：７ｎｓ）の２０，５０，１００，および１５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅのレーザー光を集光レンズ４である焦点距離が５０ｍｍの合成石英製平凸レンズを介してそれぞれ照射した。レーザー光の集光位置は、溶液中になるように集光レンズ１とガラスセル６との距離を調整した。この際、脱イオン水だけをガラスセル中に溜めてレーザー光を照射すると、脱イオン水が集光点における強い電場強度よってブレイクダウンして、その結果形成されるプラズマからの発光が観測されることを確認した。また、マグネチックスターラー８（東京硝子器機社製、ＦＳ−０５）を介してテフロン（登録商標）製回転子７（東京硝子器械社製）を回転（２００ｒｐｍ）させて、ＩＴＯ粒子分散溶液を攪拌しながら上記レーザー光を６０分間照射した。このような操作によって、平均粒径が３〜１５ｎｍのＩＴＯナノ粒子が分散した溶液が熱処理等の工程を必要とせずに、極めて簡単に得られた。
【００２４】
得られたＩＴＯナノ粒子の構造解析を透過電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ−２００ＦＸII）による観察ならびに電子線回折により行った。
図２−１にレーザー光を照射する前後のＩＴＯ粒子および図２−２〜２−５にそれぞれ２０，５０，１００，または１５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅのレーザー光を６０分間照射した後のＩＴＯナノ粒子を倍率２０万倍で撮影した透過電子顕微鏡写真、ならびにそれぞれの図の右上に電子線回折パターンを合わせて示した。また、図２−１〜２−５においては、長さ３０ｎｍを示すバーも記してある。図２−１〜２−５に示されるように、レーザー光の照射後に得られたＩＴＯナノ粒子のサイズは明らかにレーザー光を照射する前のＩＴＯ粒子と比較して小さくり、また、レーザー照射強度が大きくなるに従い、得られたＩＴＯナノ粒子の粒径は小さくなっていることが分かる。また、電子線回折パターンから１５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅのレーザー強度のレーザー光を照射した場合（図２−５）には、ＩＴＯ結晶基づく回折リングが認められずハロー・パターンとなっており、この場合レーザー光照射後のＩＴＯナノ粒子が非晶質化していることを示している。
図３にレーザー照射強度と得られたＩＴＯナノ粒子の平均粒径の関係を示した。レーザー照射強度が大きくなるに従い、得られたＩＴＯナノ粒子の平均粒径は小さくなっており、１５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅのレーザー強度のレーザー光を照射した場合には、平均粒径が３ｎｍと極めて小さなナノ粒子が得られた。
【００２５】
得られたＩＴＯナノ粒子が分散した溶液は特別な処理をすることなく、そのままの状態で紫外−可視透過スペクトルを紫外線・可視分光光度計（島津製作所製ＵＶ１２００ＰＣ）により測定した。
図４にＩＴＯ粒子あるいはＩＴＯナノ粒子が分散した溶液の紫外−可視透過スペクトルを示した。レーザー光照射後のＩＴＯナノ微粒子が分散した溶液の２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域における透過率は、レーザー光照射前のＩＴＯ粒子分散溶液と比較して２％〜２０％ほど向上しており、これは、レーザー光を照射することによって溶液中のＩＴＯ粒子がより小さなＩＴＯナノ粒子に変換されて可視光に対する散乱が少なくなったことを示している。
【００２６】
さらに、溶液中のＩＴＯナノ粒子（８ｎｍ）を遠心分離によって濃縮した後、石英ガラス基板上にキャスト、乾燥させてＩＴＯナノ粒子から成る薄膜（厚さ約２００ｎｍ）を調製できた。得られた薄膜の紫外−可視−赤外透過スペクトルを紫外・可視・赤外分光光度計（バリアン社製、Ｃｒａｙ５０００）により記録した。図５に、各レーザー光照射による微細化により得られたＩＴＯナノ粒子から成る薄膜の紫外−可視−赤外透過スペクトルを示した。レーザー光照射前のＩＴＯ粒子と比較してレーザー光照射後のＩＴＯナノ粒子の場合、１１００ｎｍから１２００ｎｍ以上で観測されるＩＴＯのプラズマ反射に基づく透過率の減少幅が１０％から最大で４０％増えた。この結果はレーザー照射によって形成されたＩＴＯナノ粒子の赤外反射効率が大幅に向上していることを示している。
【００２７】
一般にＩＴＯ中のキャリア濃度を増やすとＩＴＯのプラズマ反射特性が向上することがよく知れている。ＩＴＯのキャリア濃度を増加させるには、スズの含有量の増加または、銀やアルミといった第三成分あるいは第四成分をドーピングすることによって可能である。さらにＩＴＯ中の酸素欠陥の数を増加させることによってもキャリア濃度は増加する。本実施例のレーザー照射後のＩＴＯナノ粒子のＳｎ：Ｉｎ比を調べると、レーザー光照射前のＳｎ：Ｉｎ比＝１：９と同じであった。この結果は、レーザー光照射によるＩＴＯナノ粒子の赤外反射効率の大幅な向上は、レーザー照射によるＴＩＯ粒子の微細化と同時に粒子中へ酸素欠陥が導入されることによって発現していることを示している。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明のＩＴＯナノ粒子およびその分散溶液の製造装置の１例を示す概略断面図である。
【図２−１】レーザー照射前のＩＴＯ粒子の透過電子顕微鏡写真および電子線回折パターンを示す図である。
【図２−２】２０ｍＪ／ｐｕｌｓｅの強度のレーザー照射によって得られたＩＴＯ粒子ナノの透過電子顕微鏡写真および電子線回折パターンを示す図である。
【図２−３】５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅの強度のレーザー照射によって得られたＩＴＯ粒子ナノの透過電子顕微鏡写真および電子線回折パターンを示す図である。
【図２−４】１００ｍＪ／ｐｕｌｓｅの強度のレーザー照射によって得られたＩＴＯ粒子ナノの透過電子顕微鏡写真および電子線回折パターンを示す図である。
【図２−５】１５０ｍＪ／ｐｕｌｓｅの強度のレーザー照射によって得られたＩＴＯ粒子ナノの透過電子顕微鏡写真および電子線回折パターンを示す図である。
【図３】レーザー照射強度と得られたＩＴＯ粒子ナノの平均粒子サイズの関係を示すグラフである。
【図４】ＩＴＯ粒子およびＩＴＯナノ粒子が分散した溶液の可視紫外スペクトルを示すグラフである。
【図５】溶液中に分散したＩＴＯナノ粒子を石英ガラス上にキャストして作製したＩＴＯナノ粒子から成る薄膜の紫外−可視−赤外透過スペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【００２９】
１  レーザー装置
２  レーザー光反射ミラー
３  レーザー光
４  集光レンズ
５  ＩＴＯ粒子分散溶液
６  ガラスセル
７  テフロン（登録商標）製回転子
８  マグネチックスターラー
【図１】
0004524405.tif 000002
【図３】
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【図４】
0004524405.tif 000004
【図５】
0004524405.tif 000005
【図２−１】
0004524405.tif 000006
【図２−２】
0004524405.tif 000007
【図２−３】
0004524405.tif 000008
【図２−４】
0004524405.tif 000009
【図２−５】
0004524405.tif 000010