(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１パルス当たり０．１ジュール／ｃｍ2 よりも大きなエネルギーを発生するフラッシュランプまたは２０ワット／ｃｍ2 よりも大きなエネルギーを発生する連続式放射線供給源であるＵＶ放射線供給源を備える光エネルギー放射線システムにおいて、
選択的に光減衰性の材料であって、当該光減衰性の材料が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大させて、標的物に対する照射損傷を減少させる、選択的に光減衰性の材料と、
前記放射線供給源のための反射装置であって、前記光減衰性の材料が前記反射装置の一部であり、前記光減衰性の材料は酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムである、反射装置と、
を具備するシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記反射装置が楕円形状を有する拡散反射装置である、システム。
【請求項３】
請求項１または２に記載のシステムにおいて、
前記反射装置が、研磨処理したアルミニウム、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、および酸化マグネシウムから成る群から選択される反射性材料を含む、システム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のシステムにおいて、
前記光減衰性材料が、ランプエンベロープ、保護ウインドウ、フローチューブ、反射装置、通路、透明支持体、遮断要素、または取外し可能な固体材料内において前記システムに調合剤またはコーティング材として組み込まれる、システム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のシステムにおいて、
前記光減衰性コーティング材の厚さが０．１〜２５００μｍである、システム。
【請求項６】
請求項１または２に記載のシステムにおいて、
前記反射装置が、前記反射性材料および前記光減衰性材料を含む成形した固体材料を機械加工することにより形成される、システム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のシステムにおいて、
遮断要素をさらに具備する、システム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、
前記遮断要素が、前記光減衰性材料を含み、拡散反射表面を有している、システム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のシステムにおいて、
前記選択的に減衰性の材料を含む取外し可能な固体材料をさらに具備し、当該固体材料が放射線供給源と標的物との間に配置されている、システム。
【請求項１０】
請求項９に記載のシステムにおいて、
前記取外し可能な固体材料が、フィルム、ブロック、プレート、または、支持体内に詰め込まれたパウダーの形態を有している、システム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載のシステムにおいて、
標的物をさらに具備し、当該標的物が前記光減衰性材料を含む、システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は放射線供給源により与えられる標的物に対する所望の放射線の不所望の放射線に対する比率を高めるための材料を有するＵＶ放射線システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＵＶ滅菌処理または消毒の分野において、典型的な標的媒体は金属、セラミックまたは水や塩類溶液（saline）等の化学的に単純な溶液のような耐久性（非吸収性、非劣化性）の材料であり、使用されるエネルギーは一般に低く、１パルス当たりの全放射線で０．１ジュール／ｃｍ2 または連続的な放射線供給源の場合で２０ワット／ｃｍ2 以下である。
【０００３】
従来技術において微生物を不活性化するための高エネルギーで幅広いスペクトルの放射線供給源の使用が開示されている。すなわち、米国特許第５，７６８，８５３号、同第５，７８６，５９８号、同第５，０３４，２３５号、同第４，８７１，５５９号および同第５，９００，２１１号、およびＰＣＴ国際公開第ＷＯ９６／０９７７５号は食物、水および医療装置における微生物を不活性化するための幅広いスペクトルの放射線供給源の使用を開示している。このような幅広いスペクトルの放射線供給源を使用する場合に、食物、水および医療装置のような露光した物品に対する損傷はほとんど考慮されていなかった。米国特許第５，７６８，８５３号および同第５，９００，２１１号はフラッシュランプの周りの冷却流体を冷却用および／または所望のスペクトル透過率／吸光率特性を有する特定の液体溶液の使用によるスペクトルフィルター処理用の液体に置き換えることができることを示唆している。しかしながら、スペクトルフィルター処理液について水以外の材料は示唆されておらず、また、フィルター処理する範囲および／またはその目的については何ら述べられていない。また、米国特許第５，７６８，８５３号は記載している実施形態の一例において外側安全ガラスを開示しており、この安全ガラスが２００ナノメートル（ｎｍ）よりも短い波長を除去して当該安全ガラスの外側におけるオゾン形成を阻止しているが、このガラスの組成については何ら開示されていない。
【０００４】
また、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ  ９７／３３６２９号は生物血清および他の汚染流体を一定スペクトル範囲のＵＶ放射線に暴露することによる病原体の不活性化によりこれらの汚染流体を滅菌処理および精製する方法を開示している。このように精度良く調節された放射線スペクトルは病原体の分子構造に特異的に作用してこれらを殺菌するが、周囲の細胞、タンパク、およびその他の構成要素が未処理の状態で残る。この場合、生物血清は約２００ｎｍ乃至約２５０ｎｍのＵＶ放射線により照射される。一方、ウイルス、バクテリア等の微生物の最適な殺菌作用を与える特定の波長は３．０ｎｍ乃至約１０．０ｎｍ、好ましくは３ｎｍ乃至５ｎｍの狭い範囲内に決められている。トランスミッター／レギュレーター、回折格子等の光学フィルターを使用して波長の大きさおよび変化を調節できるが、報告された特定例は存在していない。血清を置く露光セルウインドウは石英、サファイア、またはＵＶ級溶融石英シリカにより形成されていて、ＵＶ放射線波長が減衰することなく通過できるポリテトラフルオロカーボンのような光透過性の材料によりコーティングできる。また、テフロンをＵＶ透過性の廃棄可能なライニングとして使用できる。
【０００５】
ＥＰＯ  ０２７７５０５  Ｂ１号は滅菌処理ボトルように使用されるＵＶ放射線ランプを開示している。このランプは誘電性コーティングを有する「ミラー（鏡）」として特許に記載されている反射装置を有している。この誘電性コーティング（二色性または干渉フィルター）はＵＶ放射線の選択的な反射を行うために使用されている。この反射装置はそれぞれが放射線波長の１／４の厚さを有している数十層の誘電層によりコーティングできる。このような誘電性コーティング材の適当な例として、ＡＬ2 Ｏ3 ／ＮａＦ、Ｓｃ2 Ｏ3 ／ＭｇＦ2 、ＴｈＦ4 ／Ｎａ2 ＡｌＦ6 、ＨｆＯ2 ／ＳｉＯ2 、およびＰｂＦ2 ／Ｎａ3 ＡｌＦ6 が含まれる。このような誘電性コーティングはＵＶ放射線の低エネルギー吸収に適しているが、高エネルギーシステムの需要に答えることはできず、このような高エネルギーシステムにおいては寿命が短くなる。さらに、誘電性フィルターは極めて角度依存性が大きく、フィルターにおいて入射角度を変更できる整形反射装置ほど効果的でない。
【０００６】
ランプ製造者はランプ内のランプエンベロープに調合剤を添加してランプの寿命を延ばす場合が多い。ランプおよびその使用目的により、例えば、レーザー用途において使用されるフラッシュランプのランプエンベロープ内の酸化セリウムのような特定の調合剤を選択してＵＶ放射線を完全に遮断する。また、別の調合剤を選択してオゾンを生成する１８０ｎｍ以下のＵＶ放射線の部分を遮断することもできる。このような調合剤を有するランプを「オゾンフリーバルブ」と呼ぶ。さらに、別の調合剤をランプエンベロープに添加してこのランプエンベロープを熱ショックに対して強化できる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、ポリマー製の医療装置に高エネルギーＵＶ放射線を供給する場合に放射線暴露による医療装置への損傷を考慮すべきであると考えた。すなわち、このような放射線はその目的とは無関係の悪影響を露光した医療装置に与える可能性があるからである。そこで、例えば、殺菌作用のある放射線であるＵＶ放射線の所望の部分を著しく減少することなく、ポリマー医療装置を損傷するＵＶ放射線の不所望な部分を減衰し得る材料をランプシステムに組み込むための材料および方法が必要である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は選択的光減衰性の材料から成るＵＶ放射線を発生する高エネルギー放射線システムを提供するものであり、この選択的光減衰性の材料は当該光減衰性材料に照射した１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の少なくとも３０％を選択的に減少し、さらに、当該光減衰性材料に照射した２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の５０％以上を透過することにより不所望の放射線に対する所望の放射線の比率を高めて標的物に対する放射線による損傷を減少する。
【０００９】
本発明の放射線を選択的に減衰する光減衰性材料から成る放射線システムは１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍのＵＶ放射線に感応する高エネルギーＵＶ放射線標的に対して露光できる。高エネルギー放射線システムは不所望および所望の放射線を生じる。光の減衰がなければ、所望のＵＶ放射線の供給と共に、不所望なＵＶ放射線が材料を損傷したり標的物の諸特性を変化する。この標的物はＵＶ感応性の組成物から成る任意の材料とすることができる。なお、標的物に対する損傷には、有機性または無機性色素の変色、ポリマー等の有機性材料の分子鎖開裂または機械的特性の変化、あるいは有機性材料の酸化等が含まれる。そこで、不所望な放射線を選択的に減衰することにより、放射線により損傷する可能性のある有機性の製品および無機性の製品を含む製品に高エネルギーＵＶ放射線システムを使用することが可能になり、不所望な放射線により処理された場合に損傷を受けやすいものが含まれる広範囲な材料を処理することが可能になる。また、本発明はＵＶ感応性の標的物に暴露するために使用される放射線システムのためのプロセス制御を簡単にする。この理由は、減衰された後に供給される不所望な放射線の量を標的物に損傷を与える閾値よりも低くまたははるかに低く調節できるので、供給できる放射線の量の裕度をさらに高めることができるからである。好ましい実施形態において、本発明はポリマーパッケージにおける溶液内のポリマー製コンタクトレンズを処理するために使用される。このＵＶ放射線はコンタクトレンズポリマー、コンテナポリマーおよび溶液添加物を損傷する。なお、以下において本発明をポリマー製の標的材料について説明するが、別のＵＶ感応性の標的材料も本発明の方法により処理可能であることが理解されると考える。本発明の重要な用途はレーザー用のランプシステムにおける使用であり、この場合に、標的の材料は、例えば、ＵＶ放射線に感応するレーザー色素または他の有機媒体である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の放射線システムは高エネルギーＵＶ放射線供給源により構成されている。この放射線システムにおいて使用できるＵＶ放射線供給源はフラッシュランプ、アークランプ（連続式または非連続式）、重水素ランプ、または例えばキセノンガスまたは水銀蒸気光供給源等の持続波光供給源のような連続性または不連続性の非干渉性ランプを含む。ＵＶ放射線供給源は高エネルギー、すなわち、これらはフラッシュランプにおいて１パルス当たり０．１ジュール／ｃｍ2 または連続式放射線供給源において２０ワット／ｃｍ2 よりも大きなエネルギーを発生し、好ましくはその放射線の少なくとも１％が２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍである。なお、現在において好ましいと思われるＵＶ放射線供給源はフラッシュランプであり、このランプは少なくとも１フラッシュ当たり１ジュール／ｃｍ2 の幅広いスペクトルの放射線（２００ｎｍ乃至３０００ｎｍ）を発生し、この内の少なくとも１フラッシュ当たり１０ミリジュール／ｃｍ2 はＵＶ放射線である。好ましい用途は滅菌処理、特に、コンタクトレンズ（標的物）の滅菌処理である。滅菌処理の場合に、所望の放射線は殺菌作用を有する放射線であり、２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線を含み、多くの文献は２５４ｎｍが殺菌作用範囲のピーク値であると示しているが、コンタクトレンズポリマーの破壊が３２０ｎｍ以下で約１００ｎｍ（非イオン化ＵＶ放射線）までの放射線への暴露時に生じる。既に参考文献として示した「滅菌処理方法」と題する米国特許出願第０９／２５９，７５８号（代理人整理番号：ＶＴＮ０３８８）は３２０ｎｍ以下の波長の放射線はコンタクトレンズポリマーにより吸収されて、ポリマー内の分子鎖開裂を生じることを開示している。最も損傷性の高い放射線は１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの範囲である。（この場合の「乃至」はこの特定範囲の中にその端点が含まれないことを意味する。）そこで、ＵＶ放射線による分子鎖開裂や他の機構による例えばコンテナや医療装置等の標的物のポリマーに対する損傷または破壊を防ぐために、本発明は光減衰性の材料を提供し、かつ、この材料を放射線システムに組み込んで標的物に損傷性の放射線が到達する前にこの損傷性の放射線の線量の不所望な波長部分を少なくとも部分的に減衰する方法を提供する。さらに、米国特許出願第０９／２５９，７５８号は微生物に対する放射線（２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍ）のエネルギーが少なくとも１８ミリジュール／ｃｍ2 必要であると開示している。
【００１１】
ポリマー標的物を保護するためには、１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍ、または少なくとも２００ｎｍ以上で２４０ｎｍまでの放射線の少なくとも一部分を減衰することが好ましい。しかしながら、特定の用途においては、１８０ｎｍ乃至２５０ｎｍの放射線の少なくとも一部分を減衰ことがさらに好ましい場合がある。また、不所望の放射線を減衰してポリマー標的物を損傷から保護したりオゾン形成を防止するために、１００ｎｍ乃至２４０ｎｍの不所望な放射線を減衰することが有利である。不所望な波長における全ての放射線を１００％減衰することが理想的であるが、この不所望な放射線の波長範囲における僅かな割合の減衰処理でも有効である。この理由は、この減衰処理により、例えばポリマー製のコンテナおよび／または製品のような標的物に到達する、所望の（例えば殺菌効果を有する）放射線の不所望な（例えば損傷性を有する）放射線に対する比率が増加するからである。さらに、この殺菌効果のある放射線の損傷性のある放射線に対する比率を増加することにより、滅菌処理において必要な場合に、全体の放射線の線量が増加でき、ポリマーの損傷の閾値が滅菌処理のための線量よりもはるかに低い場合にシステムを制御することが容易になる。
【００１２】
好ましくは、本発明の光減衰性材料は不所望な放射線の全体における３０％以上の減少、さらに好ましくは６０％以上の減少、最も好ましくは、当該光減衰性材料に照射する不所望放射線の全体の９０％の減少を生じる。好ましい実施形態において、上記の不所望な放射線は１００ｎｍ乃至２４０ｎｍ、少なくとも１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍ、さらに少なくとも２００ｎｍ以上で２４０ｎｍまでの範囲である。また、この特定範囲における特定の放射線の波長の少なくとも一部分を減衰するのが好ましい。一般に、上記の光減衰性材料は単一の存在率で任意の範囲の波長の全てを減衰するわけではなく、それゆえ、特定の光減衰性材料がある用途においては好適であるが他の用途には適さないことがあり、あるいは、これらの光減衰性の材料の混合物により不所望な波長の一定または全ての範囲における減少度が改善できる場合がある。この混合物の一例がクロロホルムと無水エタノールである。上記の光減衰性材料は不所望な放射線を減衰して、所望の放射線を標的物に照射するのが好ましい。すなわち、この光減衰性材料は当該光減衰性材料に照射した放射線供給源からの所望の放射線を透過および／または反射するか、所望の放射線の範囲内の放射線として吸収した不所望な放射線を再発光することにより所望の放射線を標的物に当てることができる。また、この光減衰性材料は所望の放射線を直接的または間接的に標的物に当てることができる、すなわち、所望の放射線は標的物を照射する前に、例えば、反射装置、ミラー、光ファイバー等の別の装置を照射することもある。好ましくは、この光減衰性材料は当該光減衰性材料を照射する所望の放射線の５０％以上、さらに好ましくは７５％以上、最も好ましくは９０％以上を標的物に当てる。なお、滅菌処理の場合は、所望の放射線は２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍである。（光減衰性材料が標的物に対して所望の放射線を例えば透過、反射および／または再発光により当てたか否かは当該光減衰性材料の放射線供給源および標的物に対する位置により決まる。）好ましくは、特定範囲内の不所望な放射線の全ての波長の少なくとも一部分が光減衰性材料により透過、反射または再発光される。好ましい材料は不所望な放射線を３０％以上減衰して所望の放射線を５０％以上照射するものである。さらに、好ましい光減衰性材料は当該光減衰性材料に照射する１００ｎｍ乃至２４０ｎｍの全放射線の５０％以上を減衰して２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの全放射線の９０％以上を照射し、２００ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の少なくとも一部分を減衰して、好ましくは当該２００ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の３０％以上、さらに好ましくは６０％以上、最も好ましくは９０％以上が減衰される。好ましくは、上記の特定範囲内の不所望な放射線の全ての波長の少なくとも一部分が減衰され、上記の特定範囲内の所望の放射線の全ての波長の少なくとも一部分が照射される。
【００１３】
好ましくは、上記の光減衰性材料は１．２以上、好ましくは１．８以上、最も好ましくは２．５以上の減衰比率を示す。この減衰比率は光減衰性材料により吸収された不所望な放射線の％値で割った当該光減衰性材料により照射された所望の放射線の％値として定義される。例えば、酸化ランタンの反射装置の減衰比率は３になる（表１参照）。
【００１４】
光減衰性の材料としては、液体、固体または気体（ガス）が含まれる。このような光減衰性の一例として例えば空気中の１０ｐｐｍオゾンのようなオゾンガスがある。また、液体の光減衰性材料としては、アルキルアルコールのようなポリオール、さらに好ましくは２００乃至１，０００の重量平均分子量を有するプロピレングリコール、最も好ましくは２００の重量平均分子量を有するプロピレングリコールが含まれる。また、ポリエチレングリコールの例として、Aldrich Chemical社のＰＥＧ２００，ＰＥＧ４００，ＰＥＧ６００が含まれる。さらに、他の有用な光減衰性材料として、フルオロカーボン、クロロカーボン、クロロホルムのようなハロゲン化炭素化合物があり、さらに好ましくは完全にハロゲン化した炭素化合物があり、これらはフレオンのように安定性が比較的高い。なお、フルオリナート（fluorinerts)も完全にハロゲン化されていないが例外的にさらに好ましい。このフルオリナートの例として、３Ｍから市販され、Aldrich Chemical社により入手可能なＦＣ−４０，ＦＣ−４３，ＦＣ−７０等がある。なお、好ましいフルオリナートはその組成中に窒素を含有している。さらに別の光減衰性材料として、有機カーボネート、好ましくはプロピレンカーボネートのような脂肪族カーボネートがある。また、他の有用な液体の光減衰性材料として、ソジウムシリケートのようなシリコン化合物、さらに好ましくはポリジメチルシロキサンのようなポリシロキサン化合物、最も好ましくは水素化物−末端シリコンオイルが含まれる。上記の液体の混合物もまた液体光減衰性材料として使用できる。好ましい混合物はハロゲン化炭素化合物および有機カーボネート、さらに好ましくはクロロホルムおよびプロピレンカーボネートである。このような液体の光減衰性材料を放射線システム内に組み込んで放射線を減衰する方法を以下に説明する。一般に、上記の液体光減衰性材料は放射線供給源または放射線の標的物の中または周りにポンプ送給する必要があるので、好ましくは、この液体光減衰性材料は１ｃｐｓ乃至１，０００ｃｐｓ、さらに好ましくは１乃至５００ｃｐｓ、最も好ましくは１ｃｐｓ乃至１００ｃｐｓの粘度を有している。さらに、ポンプ送給処理が最も容易な液体光減衰性材料は１ｃｐｓ乃至１０ｃｐｓの粘度を有している。また、この液体光減衰性材料は適当な液体キャリヤ、好ましくは非イオン性の液体中で使用でき、また、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）またはエチレングリコールジメタクリレート（ＥＤＧＭＡ）および水から成る適当な液体キャリヤにおいて固体の分散液またはコロイドを形成する固体の光減衰性材料により構成できる。
【００１５】
図１に光減衰性材料として使用できる液体の例を示す。図１における各曲線は分光光度計内にサンプル液体で満たした１０ｍｍの経路長を有するキュベットを置くことによりそれぞれ得たものであり、各サンプルを通った光を記録している。
【００１６】
液体の光減衰性材料は所定の放射線を減衰するために種々の場所において使用できる。このような液体の光減衰性材料を使用する実施形態の第１の組を図２において説明する。図２は従来のフラッシュランプ１０の断面を示している図である。なお、アークランプ（連続式または非連続式）、重水素ランプ、または１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍまたは２００ｎｍ以上２４０ｎｍまでの少なくとも一部分、および２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの少なくとも一部分、および最も好ましくは１００ｎｍ乃至４００ｎｍを連続的に生じる任意の他の光供給源のような、既に説明した他の放射線供給源も本発明の放射線システムにおいて使用できる。このフラッシュランプ１０は、それぞれ中空のランプエンベロープ１２の端部に接続している２個の電極（図示せず）により構成されているランプ１１を備えている。このランプエンベロープ１２はガラス、石英、またはサファイア等の高温および熱ショックに耐える耐久性の高い透明な材料により形成されている。このランプはアーク放電が電気的な接続部の間に形成されるときに放射線を発生する。このランプエンベロープ１２は図示のようにフローチューブ（流通管）１３の内側に配置されている。このフローチューブ１３はランプエンベロープ１２を保護する。一般に、冷却水がランプエンベロープ１２とフローチューブ１３との間に形成された通路１６内にポンプ送給されてランプ１１により発生した熱を消散する。本発明の一実施形態において、１個以上の液体の光減衰性材料をフローチューブ１３とランプエンベロープ１２との間の通路１６の中の冷却水の代わりに使用して所定の波長を減衰すると共にランプ１１を冷却することができる。このような実施形態において、これらの光減衰性材料はランプエンベロープ１２とフローチューブ１３との間の通路１６の中にポンプ送給される。このランプエンベロープとフローチューブとの間にポンプ送給された光減衰性材料は、ランプ内の短絡の可能性を考慮して、好ましくは１メガオーム以上、さらに好ましくは１０メガオーム以上、最も好ましくは１８メガオーム以上の高抵抗性である必要がある。
【００１７】
本発明の別の実施形態を図３に示す。この図３におけるフラッシュランプ１０は図２に示すフラッシュランプと同様であり、反射装置１４および保護ウインドウ１５（図２および図３においては、同一または類似の構成要素を同一参照番号で示す）を備えている。ただし、通路２８および２９が反射装置１４または保護ウインドウ１５の近くに付加されていて、これらを通して液体の光減衰性材料が供給またはポンプ送給されて放射線の所定の波長を減衰する。これらの通路はガラス、石英、サファイア等により構成できる。これら両方の通路２８，２９は単独で使用して光減衰性材料を保持することにより不所望な放射線を減衰できる。
【００１８】
この液体の光減衰性材料の放射線に対する感度は当該液体光減衰性材料の放射線に対する暴露量により決まる。この液体光減衰性材料の放射線を吸収または減衰する能力が放射線に対する１回の暴露の後に低下する場合は、このような液体光減衰性材料を各通路を通して連続的にポンプ送給して放射線に１回だけ暴露した後に廃棄できる。また、放射線に対する感度が低い場合は、この液体光減衰性材料を数回のフラッシュに暴露してから廃棄でき、また、放射線に１回暴露してから付加的な液体光減衰性材料を取り出して暴露することのできる液だめの中の材料と混合することも可能である。さらに、液だめの液を廃棄して新鮮な液体光減衰性材料と交換する段階まで液だめ内の液体光減衰性材料の放射線を減衰する能力が低下したと決定されるまで、このような処理を繰り返すことができる。この液体光減衰性材料の減衰能力は分光光度計によりモニターできる。液体光減衰性の材料を保持する各通路の組成および個々の液体光減衰性材料の不所望な放射線を減衰する能力は当該液体光減衰性材料を保持する各通路（波長および経路長）の厚さを決定する場合の考慮点になる。
【００１９】
固体の光減衰性材料としては、アルカリ金属化合物（酸化物およびハロゲン化物）、重金属酸化物（例えば、バリウム）、２価金属酸化物（例えば、マグネシウム）、および多価金属酸化物（例えば、イッテルビウムまたはアルミニウム）等が含まれるがこれらに限らない。さらに、固体の光減衰性材料は組成式Ｍa Ｏb Ｘc Ｈd に従って選択することができ、この式において、Ｍは単一または混合の金属、好ましくは希土類金属であり、Ｏは酸素、Ｘは硫黄、窒素、およびリン等のヘテロ原子、およびＨはハロゲン化物、好ましくはフッ素であり、ａは１乃至２０、好ましくは１乃至１２、ｂは０乃至２０、好ましくは０乃至１２、ｃは０乃至２０、好ましくは０乃至１２、およびｄは０乃至２０、好ましくは０乃至１２であり、少なくともｂ，ｃまたはｄは１とする。これらの材料は不純物の量が反射装置の特性を低下しない程度に十分な純度を有する必要がある。好ましくは、これらの材料の純度は９９．９％以上であり、さらに好ましくは９９．９９％以上である。表１に有用な固体の材料の例を示す。また、表１には固体の光減衰性材料の平均屈折能の％値を示している。これらの屈折能の％値はキュベット内に固体材料サンプルの乾燥パウダーを詰めて、このキュベットをサンプルから反射した放射線を測定する一体の球面を有する分光光度計内に入れることにより決定した。
0004526665.tif 000002
【００２０】
上記の固体光減衰性材料の組成式において、ａが１乃至６、ｂが１乃至１１、およびｃおよびｄが０の場合に、この固体光減衰性材料は酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2 ）、酸化ランタン（Ｌａ2 Ｏ3 ）、酸化鉄（Ｆｅ3 Ｏ4 ）、酸化テルビウム（Ｔｂ4 Ｏ7 ）、酸化プラセオジミウム（Ｐｒ6 Ｏ11）、およびチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3 ）のような金属酸化物になる。ａが１で、ｄが２で、ｂおよびｃが０である固体光減衰性材料の一例はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）である。別の固体の光減衰性材料として、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3 ）、酸化ホルミウム（Ｈｏ2 Ｏ3 ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ランタン（Ｌａ2 Ｏ3 ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ2 ）、酸化テルビウム（ＴｅＯ2 ）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ2 Ｏ3 ）、酸化エルビウム（Ｅｒ2 Ｏ3 ）、酸化ネオジミウム（Ｎｄ2 Ｏ3 ）、酸化サマリウム（Ｓｍ2 Ｏ3 ）、酸化イッテルビウム（Ｙｂ2 Ｏ3 ）、酸化イットリウム（Ｙ2 Ｏ3 ）、および酸化ジスプロジウム（Ｄｙ2 Ｏ3 ）が含まれる。さらに別の例として、他の希土類元素の無反応性酸化物、希土類ハロゲン化物、および金属混合酸化物が含まれる。好ましい光減衰性材料は酸化マグネシウム、酸化エルビウム、酸化ホルミウム、酸化サマリウム、酸化テルビウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムであり、酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムが最も好ましい。
【００２１】
上記の固体光減衰性材料は放射線供給源（例えば、ランプエンベロープ、保護ウインドウまたはフローチューブ）の中に組み込んで損傷性の放射線が露光されるポリマー、製品および／またはパッケージのような目的物に到達するのを防ぐ。既に述べたように、放射線供給源の例はパルス化した光供給源（例えば、キセノンガス）または連続波光供給源（例えば、水銀蒸気）を含む。これらの固体光減衰性材料はランプエンベロープおよび／またはフローチューブおよび／または保護ウインドウの製造中にガラス（例えば、サファイア、石英、ガラス、結晶材料等）を作成する供給材料に、ガラス工業において一般に称される調合物として、添加される。さらに、フローチューブまたはランプエンベロープ用の調合剤を適正に選択することにより、熱ショック、ソラリゼーション、蛍光、燐光を減少してランプの性能を向上すると共に吸収または吸収および所望または少なくとも不所望でない波長における再発光により不所望な放射線を減少できる。とりわけ、不所望な波長において放射線を吸収して所望の波長において再発光できる減衰性の材料が好ましい。
【００２２】
上記の光減衰性材料は放射線が標的物を照射する前に通過して標的物に到達する前に不所望な波長を減衰するフィルターを形成するために使用でき、あるいは、パッケージ材料に添加することができる。なお、これらの実施形態については、以下に詳述する。
【００２３】
ガラス、石英またはサファイアフローチューブ、ランプエンベロープまたは保護ウインドウに添加し、放射線がポリマー標的物を照射する前に通過するフィルターやパッケージ材料の形成に使用し、さらに、以下に述べるような他の実施形態において使用する調合材の量を概算するために、以下のベール−ランバートの式により特定の調合剤または光減衰材による放射線の吸収量を定量化する。
I（λ）／I0 （λ）＝ｅｘｐ（−α（λ）ｃｘ）
この式において、I（λ）は波長（λ）の関数としての減衰した放射線の強度であり、I0 （λ）は波長の関数としての初期の放射線強度であり、α（λ）は波長の関数としての調合剤（光減衰性材料）のモル吸光度であり、ｃは調合剤の濃度、およびｘは放射線が通過する経路長（調合剤が存在する物質の厚さ）である。α（λ）は表２におけるデータを生じるために説明するような分光吸光測定等の方法により決定できる。
【００２４】
本発明の別の実施形態は、例えば、図４および図５に基づいて説明するような反射装置の部分のような放射線供給源の別の部分に固体の光減衰性材料を添加することである。図４において、図２に示すものと同様の（同一または類似の構成要素を同一参照番号で示す）フラッシュランプ１０の断面が示されている。さらに、図４は反射装置１４の一部分として減衰性コーティング３６を示している図である。この反射装置１４はまた反射装置支持体３５により構成されている。この減衰性コーティングは塗布、スプレー、プラズマコーティング、浸漬、キャステイング、コンバージョンコーティング、ゲルコーティング、エッチング、化学蒸着、スパッタリング、または、例えば、減衰性材料から成るフィルムを反射装置支持体３５に接着する等の化学的または機械的結合により適用できる。なお、この光減衰性コーティングの好ましい適用方法は当該減衰性材料を反射装置支持体３５に塗布またはスプレーすることである。この材料を支持体３５に塗布またはスプレーするためには、光減衰性材料および結合剤から成る水性または非水性の懸濁液を形成するのが好ましい。有用な結合剤はポリマー、無機物、またはゾル−ゲルであり、さらに好ましくは無機物またはゾル−ゲル、最も好ましくは無機物である。また、好ましい懸濁液は０．１％乃至５０％の結合剤、０．１％乃至９９．９％の光減衰性材料、および０．１％乃至９０％のキャリヤにより構成されている。このキャリヤはコーティングとして適用できるように光減衰性材料および結合剤の希釈液を形成するために使用される液体である。有用なキャリヤの例は水、アルコール、アルカン、フレオン等であり、水が最も好ましい。
【００２５】
また、光減衰性材料から成るコーティングを作成するのに有用なポリマー結合材の例はポリビニルアルコール、シアノアクリレート、アクリル樹脂、およびシリコーンである。現在において、ポリマー結合剤は高エネルギーＵＶ放射線において劣化する傾向があるのでその使用が制限されている。また、光減衰性材料から成るコーティングを作成するのに有用な無機結合剤の例はケイ酸ナトリウム、低温焼結ガラス、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムおよびケイ酸リチウムのようなアルカリ酸化物ケイ酸塩である。さらに、光減衰性材料から成るコーティングを作成するのに有用なゾル−ゲル結合剤前駆体の例はアルミニウムターシャリーブトキシド、ケイ酸ナトリウム、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、金属イソプロポキシド、イソプロパノール中におけるジスプロジウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるジスプロジウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるジスプロジウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるジスプロジウム２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中におけるエルビウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるエルビウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるエルビウムイソプロポキシド、イソプロパノール中におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるホルミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、エタノール中におけるマグネシウムエトキシド、メタノール中におけるマグネシウムメトキシド、２−メトキシエタノール中におけるマグネシウム２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中におけるネオジミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるネオジミウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるネオジミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるネオジミウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド、ヘキサン中におけるサマリウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるサマリウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド等がある。さらに、好ましいゾル−ゲル前駆体はイソプロパノール中におけるエルビウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるエルビウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるエルビウムイソプロポキシド、イソプロパノール中におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるホルミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、エタノール中におけるマグネシウムエトキシド、メタノール中におけるマグネシウムメトキシド、２−メトキシエタノール中におけるマグネシウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド、ヘキサン中におけるサマリウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるサマリウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドである。さらに好ましいゾル−ゲル前駆体は酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドである。
【００２６】
上記結合剤の幾つかは光減衰性材料として単独で使用でき、特に、懸濁液において上述したように適用可能で焼結されることにより固体の減衰性材料を形成できるゾル−ゲルとして使用できる。光減衰性材料として単独で使用できる結合材の例として、ジスプロジウムイソプロポキシド、イソプロパノール中におけるジスプロジウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるジスプロジウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるジスプロジウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるジスプロジウム２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中におけるエルビウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるエルビウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるエルビウムイソプロポキシド、イソプロパノール中におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるホルミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、エタノール中におけるマグネシウムエトキシド、メタノール中におけるマグネシウムメトキシド、２−メトキシエタノール中におけるマグネシウム２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中におけるネオジミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるネオジミウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるネオジミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるネオジミウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド、ヘキサン中におけるサマリウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるサマリウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドが含まれる。
【００２７】
本明細書に開示する光減衰性材料は薄層内および／または誘電フィルターとしても呼ばれる２色フィルターと同様の異なる減衰性材料から成る多層内において使用できるが、本明細書に開示する光減衰性材料は誘電フィルターと同一の機構により作用しない。すなわち、これらの材料は異なる屈折率を有する交互の材料から成る構造に依存しない。すなわち、本発明の材料は放射線を選択的に減衰するための吸光または吸収機構を用いている。
【００２８】
上記の光減衰性のコーティングは好ましくは０．１ミクロン乃至２５００ミクロンの厚さ、さらに好ましくは０．５ミクロン乃至２５００ミクロンの厚さを有するコーティングの形態で適用される。（２５００ミクロンよりも厚いコーティングは材料のブロックとして考えられる。）このようなコーティングは同一で単一または複数の光減衰性材料の多数層、好ましくは同一のコーティング成分の多数層の形態で適用される。この反射装置における光減衰性材料から成るコーティングは当該光減衰性材料に２回照射する（１回は反射装置に向かう放射線で他の１回は反射装置から反射する放射線）不所望な放射線を減少する。このことは反射装置に適用する光減衰性材料を配合する場合、および、光減衰性材料の有効寿命を推定する場合（特に、液体の光減衰性材料を反射装置の前方における通路内に配置する場合）に考慮すべき点である。さらに、放射線供給源における１個以上の反射装置の形状に応じて、放射線の多くが標的物に到達する前に多数回にわたって反射装置から反射される。
【００２９】
光減衰性材料から成るコーティング３６により構成されている反射装置１４は反射性材料、あるいは反射性コーティング（フィルム状または金属箔のいずれでもよい）が保持される非反射性または反射性の反射装置支持体３５により構成できる。この反射性材料の例は金属である。また、反射性の反射装置支持体３５の例は固体の研磨処理したアルミニウムであり、この材料はその形状を保持できる程度に十分厚く、ランプ１１の周囲にボルトまたは他の手段により取り付けられる。
【００３０】
さらに、反射装置支持体３５として単独で使用できる他の反射性材料の例は硫酸バリウム、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、および酸化マグネシウムの成形固体材料である。この成形固体材料は上記の反射性材料を金属酸化物またはパウダー化したガラスと混合してこれらを焼結することにより反射性の支持体を形成するか、反射性材料を結合剤と混合して支持体の形状に成形するかまたは機械加工することにより形成できる。さらに、反射性または非反射性の反射装置支持体３５に適用または取り付けできる反射性材料から成るコーティングの例として、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、硫酸バリウム、および酸化アルミニウムがあり、反射装置支持体３５に取り付けできるアルミニウム、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、硫酸バリウム、および酸化マグネシウムの薄いシートが含まれる。これらのコーティングまたはフィルムは反射性材料をガラス組成物と共に焼結するか、結合剤により反射性材料のフィルムを形成することにより作成できる。なお、非反射性の反射装置支持体３５として使用できる材料の例として木材、ポリマー、金属およびセラミックが含まれる。
【００３１】
この反射装置支持体３５の反射性コーティングは塗布、プラズマコーティング、スプレー、浸漬、キャステイング、コンバージョンコーティング、ゲルコーティング、エッチング、化学蒸着、スパッタリング、または、例えば、反射性材料の薄膜または箔を反射性または非反射性の支持体に機械的または機械的に結合することにより形成できる。好ましい反射装置１４の一部分であるこの反射性材料の適用方法はこれらを反射装置支持体３５に塗布またはスプレーすることである。なお、支持体３５にこれらの材料を塗布またはスプレーするためには、水性または非水性の懸濁液を結合剤と共に形成するのが好ましい。好ましい結合剤はポリマー、無機物、またはゾル−ゲルであり、さらに好ましいのは無機物またはゾル−ゲルである。ポリマー結合剤の例はポリビニルアルコール、シアノアクリレート、アクリル樹脂およびシリコーンである。なお、現在においてポリマー結合剤は、ＵＶ放射線がこれらを劣化させやすいと考えられるために、最も好まれていない。また、無機物の結合剤の例はケイ酸ナトリウム、低温焼結ガラス、ナトリウム、カリウムおよびリチウムケイ酸化物のようなアルカリ酸化物のケイ酸化物である。さらに、ゾル−ゲル前駆体の例は上記の光減衰性材料において記載したものである。
【００３２】
光減衰性コーティング組成物の一例は１部のケイ酸ナトリウム（結合剤）、１０部の酸化ランタン（光減衰材料）および１０の水（キャリヤ）により構成されている。さらに、この懸濁液から成る１０個の層が硫酸バリウムコーティング（反射性材料）を有するアルミニウム基板（反射装置支持体）により構成された反射装置の上にスプレーにより形成される。この硫酸バリウムコーティングは１部のケイ酸ナトリウム（結合剤）、１０部の硫酸バリウム（反射性材料）および１０部の水（キャリヤ）から成る組成物の２０個の層をアルミニウム基板にスプレーすることにより形成されている。なお、各コーティングはコーティング形成処理の間に空気乾燥した。
【００３３】
また、別の実施形態においては、上記の反射性材料および光減衰性材料および選択的な結合剤を混合して反射性または非反射性の反射装置支持体３５に適用することにより、所望の例えば殺菌作用のある放射線を反射して不所望な放射線を減衰する単一のコーティングを形成することができる。この光減衰性材料は反射性材料の結合剤として作用することができ、それゆえ、組成物中に結合剤を添加する必要がなくなる。このような結合剤および光減衰性材料として作用し得る材料の例はジスプロジウムイソプロポキシド、ポリシロキサン、上記のおよび全てのゾルゲルである。また、上記の光減衰性材料および反射性材料を焼結して放射線減衰特性を有する反射装置コーティング３６の組成物を形成できる。この焼結材料として使用できる材料の例は低融点ガラス組成物であり、この材料に上記の光減衰性材料および反射性材料を添加できる。このようなコーティングは０．１乃至２５００ミクロンの厚さを有するのが好ましい。
【００３４】
あるいは、図１に示すものと同様の反射装置１４が光減衰性材料、反射性材料および選択的結合剤から成る成形固体材料により形成できる。すなわち、この組成物は反射装置１４の形状に成形されるか、あるいは、反射装置１４が光減衰性材料、反射性材料、および選択的な結合剤から成る成形固体材料により機械加工できる。さらに、上記の光減衰性材料は金属酸化物またはパウダー化ガラスおよび反射性材料と混合して焼結することにより光減衰性および反射特性を有する図１に示すものと同様の反射装置１４を形成できる。なお、ここで説明している成形固体材料は２５００ミクロン以下の厚さを有している。
【００３５】
なお、現在において、反射性材料と光減衰性材料を混合することは好まれていない。この理由は、混合されている光減衰性材料が不所望な波長を吸収する前にこの不所望な波長における放射線が反射性材料により反射される可能性があるからである。
【００３６】
好ましい光減衰性材料は１００ｎｍ乃至２４０ｎｍの不所望な放射線を吸収し、２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの所望な放射線を反射して、単独あるいは選択的な結合剤および／または添加物と共に使用されて上記の実施形態のいずれかにおける反射装置を形成することができる。このような光減衰性材料の例は酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムである。これらの反射性／光減衰性の材料により反射装置または反射装置支持体用のコーティングを形成することが本発明の最も好ましい実施形態である。反射装置の一部分として光減衰性材料を添加すると、標的物に到達する前にまず反射装置を照射しない不所望な放射線が減衰されない。必要であれば、ランプから直接に標的物に照射する放射線から標的物をさらに保護するために、反射性の遮断要素を用いて不所望な放射線を減衰した反射された放射線のみが標的物に照射するようにできる。この反射性の遮断要素３９が図４に示されている。このような反射性遮断要素は単純な形態であるのが好ましく、さらに好ましくは光学的に集中性のある形態、最も好ましくは反射光学素子の一体の形態を有している。有用な形状の例は三角形（図４参照）および半円形である。この反射性の遮断要素は本出願において記載した反射性組成物の任意のものより構成でき、光減衰性材料または光減衰性材料のコーティングを伴っていてもいなくてもよい。好ましくは、上記の反射性遮断要素は光減衰性材料により構成されており、液体または固体の光減衰性材料のいずれかにより構成されているのがさらに好ましい。また、この反射性遮断要素は拡散反射面を備えているのが好ましい。さらに、この遮断要素は放射線供給源から標的物に向かうあらゆる放射線を遮る大きさであるのが好ましい。
【００３７】
図５は本発明の別の実施形態を示している図である。図５において、反射装置１４は反射装置支持体３５、材料層４７、および透明支持体４６により構成されている。この透明支持体４６は当該支持体を照射する放射線の少なくとも一部分に対して透過性を有している。反射装置支持体３５は反射性または非反射性の支持体、あるいは、上記のような支持体上のコーティングの組合せのいずれかにより構成できる。また、材料層４７は１種類以上の固体光減衰性材料により構成でき、また、図４において説明したような光減衰性材料から成る組成物のいずれかとすることができるが、この実施形態は詰め込んだパウダーのような透明支持体４６の存在がなくては保持されない固体の光減衰性材料に特に適している。この材料層４７は、詰め込んだパウダーとすることができる点を除いて、単独の光減衰性材料、反射性材料および光減衰性材料の混合物、または図４において説明したような所望の放射線を反射することもできる光減衰性材料により構成できる。この反射装置が分離している光減衰性材料および反射性材料により構成されている場合は、この光減衰性材料が反射性材料と放射線供給源との間に位置しているのが好ましく、これによって、所望の例えば殺菌作用のある放射線が反射性材料により反射されて標的物に向かう前に、光減衰性材料により不所望な放射線が減衰できる。この材料層４７は０．１ミクロン乃至２５００ミクロンの厚さを有しているのが好ましい。
【００３８】
透明支持体４６はこの支持体を照射する波長の大部分または全てに対して完全に透明でるか、１種類以上の放射線の不所望な波長を減衰する固体の光減衰性材料により構成できる。あるいは、この透明支持体４６は液体光減衰性材料をポンプ送給できる、または、内部（図示せず）に保持できる通路を有することができる。この透明支持体４６はフローチューブ１３、ランプエンベロープ１２、および／または保護ウインドウ１５用の上記のガラス、石英またはサファイア材により構成されているのが好ましい。なお、固体の光減衰性材料を透明支持体４６を形成するのに使用する供給材料における調合剤として当該透明支持体４６に添加できる。あるいは、光減衰材料を透明支持体４６の片面または両面上のコーティングとして適用できる。この光減衰材料を透明支持体４６の片面に適用する場合は、この面はランプから最も遠い方の面４９であるのが好ましい。なお、このようなコーティングを適用する方法は上記の実施形態において既に説明した方法と同様である。あるいは、必要であれば、反射性材料をコーティングとしてランプから最も遠い透明支持体４６の面４９に適用して、固体の光減衰性材料を当該透明支持体の反対側の面４８に適用することもできる。このような実施形態においては、材料層４７および反射装置支持体３５（図示せず）必要なくなる。存在する場合に、透明支持体４６上の上記コーティングは０．１ミクロン乃至２５００ミクロンであるのが好ましい。
【００３９】
透明支持体４６との組合せにおいて使用する材料層４７における好ましい光減衰性材料は上記の好ましい固体の光減衰性材料から成るパウダーの詰め込まれた層である。上記のように、最も好ましい固体の光減衰性材料は酸化ランタン、酸化イットリウムまたは酸化イッテルビウムまたはこれらのパウダーの混合物である。
【００４０】
別の好ましい実施形態は固体の光減衰性材料のコーティングの下の反射性材料（コーティング、固体ブロックまたはパウダーのいずれか）により構成されている。この好ましい実施形態における反射性材料および光減衰性材料の好ましい組合せは硫酸バリウム（反射性材料）および酸化ランタン（光減衰性材料）、またはフッ化マグネシウム（反射性材料）および酸化イットリウム（光減衰性材料）、または酸化マグネシウム（反射性材料）および酸化イッテルビウム（光減衰性材料）、または酸化アルミニウム（反射性材料）および酸化ランタン（光減衰性材料）、またはこれらの反射性材料および光減衰性材料の異なる組合せ、あるいは個々の反射性材料の混合物および個々の光減衰性材料の混合物の組合せである。
【００４１】
好ましい反射装置は拡散反射装置および／または楕円形反射装置であり、本明細書に参考文献として含まれる１９９９年７月１３日に出願された米国特許仮特許出願第６０／１４３，６０８号である「ＵＶ放射線供給源用の反射装置」に対応する本出願と同時に出願された米国特許出願第０４／５１５，１９１号（代理人整理番号：ＶＴＮ−０４６３）に開示および記載されている。好ましいランプシステムはそれぞれが整形反射装置であって、好ましくは楕円形反射装置である２個のランプにより構成されており、このシステムにおいて、標的物の放射線への暴露中に反射装置と標的物との間の空間が最適または最少になるように標的の体積（標的コンテナおよび／または製品により支配される体積）が調整されている。すなわち、標的物の面積または体積に近接する空間は放射線が標的物を通過することなく標的物のそばを通ることを可能にする。それゆえ、特に多数個のランプおよび／または反射装置の放射線システムにおいては、このような空間を最少にする必要がある。なお、拡散反射装置は標的物の面積または体積に対して均一のエネルギーを供給する。
【００４２】
本発明の別のシステムは放射線供給源および標的物の間に取外し可能な固体の光減衰性材料を有する放射線システムである。図６は取外し可能な固体の光減衰性材料がランプ１０の保護ウインドウ１５に近接して取り付けられているフィルム５６である実施形態を示している図である。この取外し可能な固体の光減衰性材料５６は上記の固体光減衰性材料の任意のものにより構成でき、これらの材料は結合剤と混合されて取外し可能な固体光減衰性材料５６を形成するか、付加的なガラスまたは金属酸化物と共に焼結されて固体を形成するか、乾燥パウダーを詰め込んでガラス支持体を形成するもののいずれかである。これらの取外し可能な固体材料５６および上記実施形態用の反射装置は、コーティングと同様に、極めて耐久性が高い。この取外し可能な固体の光減衰性材料５６はブロックまたはプレート材とすることができる。このブロックまたはプレート材は１００ミクロン乃至２５００ミクロンの厚さを有している。このような取外し可能な固体の光減衰性材料５６の別の実施形態は、好ましくは、例えば、ポリアミド（ナイロン）、またはポリプロピレンのようなポリオレフィン、好ましくはナイロン−６およびナイロン−６，６のようなナイロン等のポリマー材料により構成されているシートまたはフィルム材である。このシートまたはフィルム材は一時的な作用効果を有するのみであり、新しいまたは異なる部材片との交換や当該取外し可能な固体光減衰性材料の領域の取り替えを必要とする。好ましい実施形態において、上記の取外し可能な固体の光減衰性材料５６はロール（図示せず）上に巻かれたフィルムであり、ＵＶ放射線供給源による特定量の露光の後に、露光した取外し可能な固体の光減衰材料５６の領域がまだ露光していない部分に進行できる。好ましくは、このフィルムは１０ミクロン乃至１００ミクロンの厚さを有している。
【００４３】
ＵＶ放射線に対して露光される製品がコンテナ内に収容されている実施形態の場合において、別の変形例として、光減衰性材料をコンテナに添加するもの、またはコンテナを光減衰性材料により形成するもの、光減衰性材料を製品に添加するもの、または光減衰性材料を例えばコンタクトレンズ溶液のような製品を貯蔵する溶液に添加するものがある。上記の光減衰性材料、好ましくは固体の光減衰性材料は例えばコーティングや浸漬等の上記の全ての方法によりコンテナに適用でき、あるいは、当該光減衰性材料はコンテナを作成するために使用されるコンテナ配合物に含まれることができ、あるいは、当該コンテナ用の材料は不所望な放射線を減衰して所望の放射線を透過する能力により選択できる。例えば、好ましい実施形態において、コンテナは滅菌処理するコンタクトレンズを収容するために使用される。このコンテナはボウルおよび蓋材により構成されている。さらに、この蓋材はナイロン層および／または酸化ランタンのような光減衰性材料、またはアジピン酸（ヘキサン二酸）およびアジピン酸バリウム、アジピン酸カルシウム、アジピン酸マグネシウム、アジピン酸ナトリウム等の種々のアジピン酸塩、またはカルボン酸により構成でき、これらの材料は蓋材やボウルを射出成形する前に溶融ポリプロピレンまたはポリスチレンに添加できる。また、別の有用なコンテナ用の材料が本明細書に参考文献として含まれる「医療装置ようのパッケージ」と題するPeck他の米国特許出願第 号（代理人整理番号：ＶＴＮ−０４４５）に記載されている。
【００４４】
あるいは、ポリアミド（ナイロン）のような光減衰性材料をポリプロピレンと同時射出成形して損傷性の放射線を除去できる多層構造のボウルを形成することができる。
【００４５】
あるいは、光減衰性材料、例えばゾル−ゲルを蓋材に化学蒸着して製品をＵＶ放射線から保護して蓋材を通る水分量を制限することができる。酸化ランタンはこの目的に有用な光減衰性材料の一例である。また、蓋材に有用な別のゾル−ゲル前駆体として、バリウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、バリウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、ランタンアセチルアセトネート水和物、ランタン（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、マグネシウムアセチルアセトネート二水和物、マグネシウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、イッテルビウムアセチルアセトネート、イッテルビウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、イッテルビウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、イットリウムアセチルアセトネート、イットリウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、およびイットリウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）が含まれる。
【００４６】
好ましい光減衰性材料は不所望な放射線を減衰して所望の放射線を反射、透過または再発光する材料であり、不所望な放射線の吸収と所望の放射線の反射、透過または再発光との間に鋭い遷移特性を有している。好ましくは、放射線の所望の波長から不所望の波長に遷移する場所における放射線スペクトル領域において２％以上、さらに好ましくは３％以上、最も好ましくは４％以上で反射能／ｎｍが変化する。不所望な放射線が損傷性の放射線であり、所望の放射線が殺菌効果を有する放射線である好ましい実施形態の場合に、上記の鋭い遷移は２３０ｎｍ乃至２５０ｎｍで生じるのが好ましく、２３５ｎｍ乃至２４５ｎｍがさらに好ましく、２３９ｎｍ乃至２４０ｎｍが最も好ましい。
【００４７】
上記の実施形態の組合せもまた本発明の範囲内であり、不所望な放射線を減少する付加的な効果および所望な放射線の不所望な放射線に対する比率を高めるために構成される。この最も好ましい実施形態はモニターされるまたは取り替える場合の少ない耐久性の高い光減衰性の材料を使用するものである。このような光減衰性材料は不所望な放射線を減衰する能力が著しく変化するまでに好ましくは３ジュール／ｃｍ2 で１００パルス、さらに好ましくは１０，０００パルス以上、最も好ましくは３ジュール／ｃｍ2 で１，０００，０００パルス以上の使用回数に耐えることができる。好ましい実施形態は固体の光減衰性材料をランプエンベロープおよび／またはランプエンベロープの周囲のフローチューブに添加するか、当該光減衰性材料を反射装置に対するコーティングとして付加するものである。
【００４８】
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例１
処理したレンズ
それぞれ５００μｌのホウ酸塩バッファー化塩類溶液を満たしたポリプロピレンボウル内に入れてこのボウルに透明な蓋材をヒートシールした−１．００ＤのAcuvue（登録商標）（Etafilcon A)コンタクトレンズをPurePulseブライトライトシステムの空孔部内に６個同時にいれた。コンテナ内の各レンズに２個のキセノンフラッシュランプを同時に発光して４回フラッシュ光を当てて２００ｎｍ乃至３０００ｎｍの約１２ジュール／ｃｍ2 の放射線を供給し、この内の８５０ミリジュール／ｃｍ2 が２４０乃至２８０ｎｍの放射線であった。各コンタクトレンズを屈折率および重量法（GRAVIMETRIC）の両方により含水量について試験した。また、弾性率および基本曲線も測定した。測定結果を表２に示す。
【００４９】
光減衰性材料により処理したレンズ
上述のようにパッケージ化した−１．００ＤのAcuvue（登録商標）コンタクトレンズを上記のように処理した。ただし、１２μｍ厚のナイロンフィルムの部材片をコンテナのボウル側のコンテナの下方に配置した。上記と同じ測定を行ってその結果を表２にまとめた。
【００５０】
未処理のレンズ
４８個の未処理の−１．００ＤのAcuvue（登録商標）コンタクトレンズの特性も測定してこれらの結果を表２にまとめた。
0004526665.tif 000003
【００５１】
この実施例からナイロンが不所望な放射線を減衰してコンタクトレンズポリマーを損傷から部分的に保護することが分かる。
【００５２】
実施例２
光減衰性材料なしで処理したレンズ
それぞれ５００μｌのホウ酸塩バッファー化塩類溶液を満たしたポリプロピレンボウル内に入れてこのボウルに透明な蓋材をヒートシールしたAcuvue（登録商標）（Etafilcon A)コンタクトレンズをPurepulseブライトライトシステムの空孔部内にいれた。コンテナ内の各レンズに２個のキセノンフラッシュランプを同時に発光して種々の量のエネルギーを供給した。異なるエネルギーレベルでの処理の後に、各コンタクトレンズのボウル側の含水率をアッベ（Abbe）法により測定した。（グラフ上の各点は１０個のコンタクトレンズの平均測定値を表す。）これらの測定値を図７にプロットした。
【００５３】
光減衰性材料により処理したレンズ
上述のようにパッケージ化したAcuvue（登録商標）コンタクトレンズを上記のように処理した。ただし、空孔部内における鏡面研磨したアルミニウムPurePulse 反射装置を使用する代わりに、鏡面反射装置を３０層の硫酸バリウムを塗布してから当該硫酸バリウム上の１０層の酸化ランタンを塗布して形成した。これらのコーティング材は室温でスプレーコーティングして、各塗膜の供給の間に乾燥処理を行った。硫酸バリウムコーティング材は１：１：０．１の重量比の硫酸バリウム、水およびケイ酸ナトリウムにより構成されている。また、酸化ランタンコーティング材は１：１：０．１の重量比の酸化ランタン、水およびケイ酸ナトリウムにより構成されている。これらの光減衰性材料による反射装置を有するシステムにより処理した各コンタクトレンズに対して上記と同一の測定を繰り返して、これらの測定結果を図７にプロットした。
【００５４】
図７により、各反射装置上の光減衰性コーティングがコンタクトレンズを損傷から保護することが分かり、このことは、反射装置に光減衰性材料を含まないシステムに比して反射装置に光減衰性材料を含むシステムにより処理した場合のコンタクトレンズにおける平衡含水量における減少変化により確認できる。
【００５５】
表３における各材料を表１における材料と同一の方法で測定した結果、これらの材料は本発明における光減衰性材料として有用でないと考えられる。
0004526665.tif 000004
【００５６】
以上本発明を特定の実施形態に基づいて説明したが、当該技術分野の通常の熟練者であれば、特許請求の範囲およびその実施態様に定める本発明の範囲および趣旨に逸脱することなく上記の実施形態の変形および変更が可能である。
【００５７】
本発明の実施態様は以下の通りである。
（Ａ）  ＵＶ放射線供給源から成る光エネルギー放射線システムにおいて、前記システムが選択的に光減衰性の材料により構成されており、当該光減衰性の材料が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大して、この光減衰性材料に照射する２００ｎｍ以上で２４０ｎｍまでの放射線の少なくとも３０％を選択的に減衰し、かつ、この光減衰性材料に照射する２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の５０％以上を透過することにより標的物に対する損傷を減少するシステム。
（１）前記選択的に減衰される放射線が１００ｎｍ乃至２４０ｎｍの範囲である実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（２）前記選択的に減衰される放射線が１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの範囲である実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（３）前記システムが１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の少なくとも６０％を選択的に減衰する実施態様（２）に記載のシステム。
（４）前記システムが１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の少なくとも９０％を選択的に減衰する実施態様（２）に記載のシステム。
（５）前記システムが２００ｎｍ以上で２４０ｎｍまでの放射線の少なくとも９０％を選択的に減衰する実施態様（Ａ）に記載のシステム。
【００５８】
（６）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の７５％以上を透過する実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（７）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の７５％以上を透過する実施態様（３）に記載のシステム。
（８）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の９０％以上を透過する実施態様（３）に記載のシステム。
（９）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の９０％以上を透過し、かつ、１００ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の少なくとも９０％を選択的に減衰する実施態様（１）に記載のシステム。
（１０）前記光減衰性材料が１．２の減衰比率を有している実施態様（Ａ）に記載のシステム。
【００５９】
（１１）前記光減衰性材料が１．８の減衰比率を有している実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（１２）前記光減衰性材料がガスにより構成されている実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（１３）前記光減衰性材料が液体により構成されている実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（１４）前記液体がポリオール、ハロゲン化炭素化合物、有機カーボネート、シリコン化合物、これらの液体の混合物、および液体キャリヤ中の固体の光減衰性材料から成る群から選択される実施態様（１３）に記載のシステム。
（１５）前記液体がアルキルアルコール、２００乃至１，０００の重量平均分子量を有するプロピレングリコール、フルオロカーボン、クロロカーボン、クロロホルム、完全ハロゲン化カーボン化合物、フレオン、フルオリナート、組成中に窒素を含有するフルオリナート、脂肪族カーボネート、プロピレンカーボネート、ケイ酸ナトリウム、ポリシロキサン化合物、ポリジメチルシロキサン、水素化物末端シリコーンオイル、およびこれらの液体の混合物から成る群から選択される実施態様（１３）に記載のシステム。
【００６０】
（１６）前記液体がクロロホルムおよびプロピレンカーボネートにより構成されている実施態様（１３）に記載のシステム。
（１７）前記液体の光減衰性材料の位置がランプエンベロープとフローチューブとの間、フローチューブと保護ウインドウとの間、反射装置の近くの通路内、保護ウインドウの近くの通路内、および標的物と前記放射線供給源との間に位置する通路内から成る群から選択される実施態様（１４）に記載のシステム。
（１８）前記光減衰性材料が固体により構成されている実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（１９）前記固体がアルカリ金属化合物、重金属酸化物、２価金属酸化物、および多価金属酸化物、希土類金属酸化物、希土類金属ハロゲン化物、およびこれらの金属酸化物の組合せから成る群から選択される実施態様（１８）に記載のシステム。
（２０）前記固体が組成式Ｍa Ｏb Ｘc Ｈd により構成されていて、Ｍが単一または混合の金属であり、Ｏが酸素であり、Ｘがヘテロ原子であり、およびＨがハロゲン化物であって、ａが１乃至２０、ｂが０乃至２０、ｃが０乃至２０、およびｄが０乃至２０であって、少なくともｂ、ｃまたはｄが１である実施態様（１８）に記載のシステム。
【００６１】
（２１）前記固体材料が９９．９％以上の純度を有している実施態様（１８）に記載のシステム。
（２２）前記固体材料が酸化カルシウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、酸化鉄、酸化テルビウム、酸化プラセオジミウム、チタン酸バリウム、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化バリウム、チタン酸バリウム、酸化ホルミウム、酸化カルシウム、酸化ランタン、酸化ゲルマニウム、酸化テルビウム、酸化ユーロピウム、酸化エルビウム、酸化ネオジミウム、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、酸化イットリウム、および酸化ジスプロジウムから成る群から選択される実施態様（１８）に記載のシステム。
（２３）前記固体材料が酸化マグネシウム、酸化エルビウム、酸化ホルミウム、酸化サマリウム、酸化テルビウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムから成る群から選択される実施態様（１８）に記載のシステム。
（２４）前記固体材料が酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムから成る群から選択される実施態様（１８）に記載のシステム。
（２５）前記光減衰性材料がランプエンベロープ、保護ウインドウ、フローチューブ、反射装置、通路、透明支持体、遮断要素または取外し可能な固体材料内において前記システムに調合剤として組み込まれる固体の光減衰性材料である実施態様（２）に記載のシステム。
【００６２】
（２６）前記光減衰性材料がランプエンベロープ、保護ウインドウ、フローチューブ、反射装置、通路、透明支持体、遮断要素または取外し可能な固体材料内において前記システムにコーティング材として組み込まれる固体の光減衰性材料である実施態様（２）に記載のシステム。
（２７）前記コーティング材が塗布、スプレー、プラズマコーティング、浸漬、キャスティング、コンバージョンコーティング、ゲルコーティング、エッチング、化学蒸着、スパッタリング、または化学的または機械的結合処理により適用できる実施態様（２６）に記載のシステム。
（２８）前記固体の光減衰性材料がポリビニルアルコール、シアノアクリレート、アクリル樹脂、シリコーンから成る群から選択される材料により構成されている実施態様（１８）に記載のシステム。
（２９）前記固体の光減衰性材料がケイ酸ナトリウム、低温焼結ガラス、ケイ酸ナトリウム、アルカリ酸化物ケイ酸塩、ナトリウム、カリウムおよびリチウムのケイ酸塩、ゾル−ゲル結合剤前駆体、アルミニウムターシャリーブトキシド、ケイ酸ナトリウム、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、金属イソプロポキシド、イソプロパノール中におけるジスプロジウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるジスプロジウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるジスプロジウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるジスプロジウム２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中におけるエルビウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるエルビウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるエルビウムイソプロポキシド、イソプロパノール中におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるホルミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、エタノール中におけるマグネシウムエトキシド、メタノール中におけるマグネシウムメトキシド、２−メトキシエタノール中におけるマグネシウム２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中におけるネオジミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるネオジミウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるネオジミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるネオジミウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド、ヘキサン中におけるサマリウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるサマリウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドから成る群から選択される材料により構成されている実施態様（２８）に記載のシステム。
（３０）前記固体の光減衰性材料が酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドから成る群から選択される材料により構成されている実施態様（２８）に記載のシステム。
【００６３】
（３１）前記光減衰性コーティング材の厚さが０．１ミクロン乃至２５００ミクロンである実施態様（２６）に記載のシステム。
（３２）前記反射装置がさらに研磨処理したアルミニウム、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、および酸化マグネシウムから成る群から選択される反射性材料により構成される実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（３３）前記反射装置が硫酸バリウムおよび酸化ランタンにより構成されている実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（３４）前記反射装置が前記反射性材料および前記光減衰性材料から成る成形した固体材料を機械加工することにより形成できる実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（３５）前記光減衰性材料が酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムから成る群から選択される実施態様（３３）に記載のシステム。
【００６４】
（３６）さらに、遮断要素から成る実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（３７）前記遮断要素が前記光減衰性材料により構成されており、拡散反射表面を有している実施態様（３６）に記載のシステム。
（３８）前記放射線供給源から直接的な放射線が全く標的物に照射しない実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（３９）さらに、前記放射線供給源用の少なくとも１個の反射装置から成り、当該反射装置が楕円形状を有する拡散反射装置である実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（４０）さらに、前記選択的に減衰性の材料により構成される取外し可能な固体材料から成り、当該固体材料が放射線供給源と標的物との間に配置されている実施態様（Ａ）に記載のシステム。
【００６５】
（４１）前記取外し可能な固体材料がフィルム、ブロック、プレート、および支持体内に詰め込まれたパウダーから成る群から選択される形態を有している実施態様（４０）に記載のシステム。
（４２）前記フィルムがポリアミドおよびポリオレフィンから成る群から選択されるポリマー材料により構成されている実施態様（４１）に記載のシステム。
（４３）さらに、標的物により構成されていて、当該標的物が前記光減衰性材料により構成されている実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（４４）前記標的物がナイロン、酸化ランタン、アジピン酸、アジピン酸バリウム、アジピン酸カルシウム、アジピン酸マグネシウム、アジピン酸二ナトリウム、カルボン酸、およびゾル−ゲル前駆体から成る群から選択される材料により構成されている実施態様（４３）に記載のシステム。
（４５）前記標的物がコンテナおよび製品により構成されており、当該コンテナがバリウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、バリウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、ランタンアセチルアセトネート水和物、ランタン（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、マグネシウムアセチルアセトネート二水和物、マグネシウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、イッテルビウムアセチルアセトネート、イッテルビウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、イッテルビウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、イットリウムアセチルアセトネート、イットリウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、およびイットリウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）から成る群から選択される材料により構成されている実施態様（４３）に記載のシステム。
（４６）前記光減衰性材料が２３０ｎｍ乃至２５０ｎｍの範囲で２％より大きな反射能／ｎｍで変化する実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（４７）前記光減衰性材料が２３５ｎｍ乃至２４５ｎｍの範囲で３％より大きな反射能／ｎｍで変化する実施態様（Ａ）に記載のシステム。
（Ｂ）  ＵＶ放射線供給源から成る光エネルギー放射線システムにおいて、前記システムが選択的に光減衰性の材料により構成されており、当該光減衰性の材料が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大して、この光減衰性材料に照射する２００ｎｍ以上で２５０ｎｍまでの放射線の少なくとも３０％を選択的に減衰し、かつ、この光減衰性材料に照射する２５０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線の５０％以上を透過することにより標的物に対する損傷を減少するシステム。
【００６６】
【発明の効果】
従って、本発明によれば、所望の放射線の部分を著しく減少することなく透過して、不所望な放射線の部分を選択的に減衰し得るための材料および方法と、当該材料により構成した放射線処理システムが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明において有用な種々の液体光減衰性材料における吸光度と波長の関係のグラフである。
【図２】光減衰性材料を有する本発明のフラッシュランプの断面図である。
【図３】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュランプの断面図である。
【図４】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュランプの断面図である。
【図５】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュランプの断面図である。
【図６】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュランプの断面図である。
【図７】本発明の光減衰性材料を有している、および有していないシステムの場合のポリマーに対する放射線線量の関数としてのコンタクトレンズポリマーの平衡含水量のグラフである。
【符号の説明】
１０  フラッシュランプ
１１  ランプ
１２  ランプエンベロープ
１３  フローチューブ１３
１４  反射装置
１５  保護ウインドウ
１６  通路
【図１】
0004526665.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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