(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転して、シール材を塗布するロールと、
前記ロールの内部に形成されたシール材収容溝と、
前記ロールの周囲に沿って,前記ロールの表面に備わった突出部内に形成され,前記シール材収容溝に連結されたシール材排出口と、
前記ロールの軸方向に形成され,前記シール材収容溝に連結されたシール材投入口と、を含んで構成されるシール材塗布装置。
【請求項２】
前記シール材収容溝は、
前記シール材排出口に連結される第１収容溝と、
前記第１収容溝に連結される第２収容溝と、を含んで構成される請求項１に記載のシール材塗布装置。
【請求項３】
前記第１収容溝は、二つ形成されることを特徴とする請求項２に記載のシール材塗布装置。
【請求項４】
前記第２収容溝は、前記シール材投入口に連結されることを特徴とする請求項２に記載のシール材塗布装置。
【請求項５】
前記ロールの周りに沿って形成されたシール材排出口は、連続的な溝の形態で形成されることを特徴とする請求項1に記載のシール材塗布装置。
【請求項６】
前記ロールの周りに沿って形成されたシール材排出口は、不連続的なホールの形態で形成されることを特徴とする請求項1に記載のシール材塗布装置。
【請求項７】
前記不連続的なホールの形態で形成されたシール材排出口は、円状または多角形状であることを特徴とする請求項６に記載のシール材塗布装置。
【請求項８】
第１基板及び第２基板を準備する工程と、
前記第１基板または第２基板のうちいずれか一つの基板にシール材を塗布する工程と、
前記第１基板または第２基板のうちいずれか一つの基板上に液晶を滴下する工程と、
前記両基板を合着する工程と、を含んで構成され、
前記第１及び第２基板のうちいずれか一つの基板にシール材を塗布する工程は、請求項１乃至７のうちいずれか１項のシール材塗布装置を用いてシール材を塗布する工程からなることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
前記請求項１乃至請求項７のうちいずれか１項のシール材塗布装置を用いてシール材を塗布する工程は、
前記シール材塗布装置にシール材を投入する工程と、
前記ロールを前記第１基板または第２基板上で回転させる工程と、
空気またはシール材で前記シール材投入口に圧力を加えることで、前記シール材排出口を通してシール材を排出する工程と、からなることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
前記ロールを前記第１基板または第２基板上で回転させる工程は、
前記ロールを前記第１基板または第２基板上で一方向に回転させる工程と、
前記ロールを回転させた基板上で、前記回転方向と垂直方向に回転させる工程と、からなることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子に関するもので、詳しくは、液晶表示素子のシール材塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表示画面の厚さが数センチメートル（cm）に過ぎない超薄型の平板表示素子のうち液晶表示素子は、低い動作電圧によって消費電力が少なく、携帯用として用いられるなどの利点により、ノートブックコンピュータ、モニター、宇宙船、航空機などの分野に幅広く応用されている。
【０００３】
以下、従来の液晶表示素子に対し、図面に基づいて説明する。
【０００４】
図１は、液晶表示素子を概略的に示した断面図である。
【０００５】
図１に示すように、前記液晶表示素子は、下部基板１０、上部基板２０及び前記両基板１０，２０の間に形成された液晶層３０を含んで構成される。
【０００６】
図示してないが、前記下部基板１０上には、互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲート配線及びデータ配線が形成される。また、これらゲート配線とデータ配線との交差領域には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタが形成される。また、画素電極は、前記下部基板１０上に形成されて薄膜トランジスタに連結される。
【０００７】
また、上部基板２０上には、前記ゲート配線、データ配線及び薄膜トランジスタ領域から光が漏れることを遮断するための遮光層が形成され、この遮光層上には、カラーフィルタ層が形成され、このカラーフィルタ層の上部には、共通電極が形成される。
【０００８】
このとき、前記下部基板１０または上部基板２０のうち少なくとも一つの基板には、配向膜が形成される。
【０００９】
前記液晶層３０は、前記両基板１０，２０の間でシール材４０によって密封されるもので、このシール材４０によって下部基板１０と上部基板２０とが合着される。
【００１０】
前記下部基板１０と上部基板２０とを合着するためのシール材４０塗布方法には、スクリーンマスク印刷法及びシーラントディスペンス法がある。
【００１１】
以下、従来のスクリーンマスク印刷法及びシーラントディスペンス法に対し、図面に基づいて説明する。
【００１２】
図２は、従来のスクリーンマスク印刷法によってシール材を塗布する工程を示した工程断面図である。
【００１３】
まず、図２に示すように、配向膜５０が形成された基板１０，２０上に、所定パターンのスクリーンマスク６０を位置させる。
【００１４】
その後、シール材４０が塗布された印刷ロール７０を回転させ、シール材４０を前記所定パターンのスクリーンマスク６０上に塗布することで、シール材４０を前記基板１０，２０上に所定パターンで塗布する。
【００１５】
しかしながら、前記スクリーンマスク印刷法においては、比較的高価な所定パターンのマスクを使用すべきであり、その分製造原価が上昇し、かつ、スクリーンマスクと配向膜との接触によって配向膜に影響を与えるという問題があった。
【００１６】
図３は、従来のシーラントディスペンス法によってシール材を塗布する工程を示した工程断面図である。
【００１７】
図３に示すように、シール材ディスペンサー８０を用いて下部基板１０または上部基板２０上の塗布しようとする部分にシール材４０を噴射し、シール材４０を塗布する。
【００１８】
しかしながら、前記シーラントディスペンス法においては、シール材ディスペンサーが塗布しようとする部分に沿ってシール材を噴射するので、工程時間の増加により生産性が相対的に低下するという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
以上説明したように、従来のスクリーンマスク印刷法においては、比較的高価な所定パターンのマスクを使用するため、その分製造原価が上昇し、かつ、スクリーンマスクと配向膜との接触によって配向膜に影響を与えるという問題があった。
【００２０】
また、従来のシーラントディスペンス法においては、シール材ディスペンサーが塗布しようとする部分に沿ってシール材を噴射するので、工程時間の増加により生産性が相対的に低下するという問題があった。
【００２１】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、第一の目的は、液晶表示素子を低廉な費用で一層短縮した工程時間内に製造できる新しいシール材塗布装置を提供することにある。
【００２２】
本発明の第二の目的は、前記シール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記第一の目的を達成するための本発明に係るシール材塗布装置は、ロールと、前記ロールの内部に形成されたシール材収容溝と、前記シール材収容溝に連結されたシール材排出口と、前記シール材収容溝に連結されたシール材投入口と、を含んで構成される。
【００２４】
すなわち、シール材を内部に収容できるロールを用いてシール材を塗布するので、所定パターンのスクリーンマスクが必要でなくなり、製造原価を節減できるとともに、従来のシーラントディスペンス法による塗布工程に比べて工程時間が短縮されるため、生産性を増大できる。
【００２５】
ここで、前記シール材収容溝は、前記シール材排出口に連結される第１収容溝と、前記第１収容溝に連結される第２収容溝と、を含んで構成される。
【００２６】
このとき、前記第１収容溝は、一つ以上形成される。
【００２７】
また、前記第２収容溝は、前記シール材投入口に連結される。
【００２８】
前記シール材排出口は、前記ロールの表面に備わった突出部内に形成される。
【００２９】
また、前記シール材排出口は、前記ロールの周りに沿って形成される。
【００３０】
このとき、前記ロールの周りに沿って形成されたシール材排出口は、連続的な溝の形態で形成される。
【００３１】
また、前記ロールの周りに沿って形成されたシール材排出口は、不連続的なホールの形態で形成される。
【００３２】
このとき、前記不連続的なホールの形態で形成されたシール材排出口は、円状または多角形状である。
【００３３】
前記シール材投入口は、前記ロールの軸方向に形成される。
【００３４】
また、上記第二の目的を達成するための本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、本第１基板及び第２基板を準備する工程と、前記第１基板または第２基板のうちいずれか一つの基板にシール材を塗布する工程と、前記シール材が塗布された基板上に液晶を滴下する工程と、前記両基板を合着する工程と、を含んで構成され、前記第１及び第２基板のうちいずれか一つの基板にシール材を塗布する工程は、上述したシール材塗布装置を用いてシール材を塗布する工程からなることが好ましい。
【００３５】
このとき、前記第１基板または第２基板のうち少なくとも一つの基板には、配向膜が形成される。
【発明の効果】
【００３６】
本発明においては、シール材ディスペンサーが内部に形成されたロールを用いてシール材を塗布するので、所定パターンの比較的高価なスクリーンマスクが必要でなくなり、製造原価を節減できるという効果がある。
【００３７】
また、シール材の排出口が前記ロールの表面に備わった突出部内に形成されることで、スクリーンマスク印刷法と異なって配向膜との接触を避けられるので、配向膜の損傷を防止できるという効果がある。
【００３８】
また、ロールを用いることで、従来のディスペンサーによる塗布工程に比べて工程時間が短縮されるため、生産性を増大できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明の好適な実施形態について、添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００４０】
図４Ａ乃至図４Ｂは、本発明の一実施形態に係るシール材塗布装置を概略的に示した斜視図で、図４Ｃは、図４ＡのＡ―Ａ'線断面図で、図４Ｄは、図４ＡのＢ―Ｂ'線断面図である。
【００４１】
図４Ａ乃至図４Ｄに示すように、本発明に係るシール材塗布装置は、ロール７００と、このロール７００の内部に形成されたシール材収容溝８１０，８２０と、これらシール材収容溝８１０，８２０に連結されたシール材排出口８３０と、前記シール材収容溝８１０，８２０に連結されたシール材投入口８４０と、を含んで構成される。
【００４２】
以下、前記シール材収容溝８１０，８２０を具体的に説明する。
【００４３】
前記シール材収容溝８１０，８２０は、図４Ｃに示すように、第１収容溝８１０及び第２収容溝８２０からなり、前記第１収容溝８１０は、前記シール材排出口８３０に連結され、前記第２収容溝８２０は、前記第１収容溝８１０及びシール材投入口８４０に連結される。
【００４４】
このとき、前記第１収容溝８１０は、二つ形成されることが好ましい。前記第１収容溝８１０は、シール材排出口８３０に連結されるため、二つ形成される場合、シーラントを一度に二つのラインに塗布することで工程時間を短縮できる。
【００４５】
次に、前記シール材排出口８３０を具体的に説明する。
【００４６】
前記シール材排出口８３０は、図４Ａ乃至図４Ｃに示すように、前記ロール７００の表面に備わった突出部７５０内に形成される。
【００４７】
上記のように、前記シール材排出口８３０が前記ロール７００の表面に備わった突出部７５０内に形成されることで、スクリーンマスク印刷法と異なって配向膜との接触を避けられるので、配向膜の損傷を防止できる。
【００４８】
また、前記シール材排出口８３０は、前記ロール７００の周りに沿って形成される。すなわち、前記シール材排出口８３０は、図４Ａに示すように、不連続的なホールの形態で形成されるか、図４Ｂに示すように、連続的な溝の形態で形成される。
【００４９】
このとき、前記不連続的なホールの形態で形成されたシール材排出口８３０は、円状または多角形状をなしており、ロール７００の表面に備わった突出部７５０に露出される。
【００５０】
次に、前記シール材投入口８４０を具体的に説明する。
【００５１】
前記シール材投入口８４０は、図４Ａ乃至図４Ｃに示すように、前記ロール７００の軸方向に形成され、ロール７００内部の第２収容溝８２０に連結される。
【００５２】
以下、上記のようなシール材塗布装置の原理を説明する。
【００５３】
まず、前記シール材投入口８４０を通してシール材４００を投入すると、シール材収容溝８１０，８２０にシール材が収容される。
【００５４】
その後、空気またはシール材を用いて前記シール材投入口８４０に圧力を加えると、シール材排出口８３０を通してシール材４００が排出される。したがって、前記ロール７００を前記基板上で回転させると、シール材４００を塗布できる。
【００５５】
図５Ａ乃至図５Ｅは、本発明に係るシール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製作する工程を示した工程断面図である。
【００５６】
まず、図５Ａに示すように、第１基板１００及び第２基板２００を準備する。
【００５７】
図示してないが、前記第１基板１００上には、互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲート配線及びデータ配線が形成される。そして、前記ゲート配線とデータ配線との交差領域には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタが画素電極に連結されており、この画素電極と平行に離隔されて横電界を発生する共通電極が形成される。
【００５８】
また、図示してないが、前記第２基板２００上には、前記ゲート配線、データ配線及び薄膜トランジスタ領域から光が漏れることを遮断するための遮光層が形成され、この遮光層上には、カラーフィルタ層が形成される。
【００５９】
また、図示してないが、前記第１基板１００または第２基板２００のうち少なくとも一つの基板には、配向膜が形成される。
【００６０】
その後、図５Ｂに示すように、第１基板１００または第２基板２００のうちいずれか一つの基板上にシール材４００ａを塗布する。
【００６１】
このとき、前記第１基板１００または第２基板２００のうちいずれか一つの基板上にシール材４００ａを塗布する工程には、上述したシール材塗布装置が用いられる。
【００６２】
シール材塗布装置を用いてシール材４００を塗布する工程は、前記シール材塗布装置にシール材４００を投入する工程と、前記ロール７００を前記第１基板１００または第２基板２００上で回転させる工程と、空気またはシール材で前記シール材投入口８４０に圧力を加えることで、シール材排出口８３０を通してシール材４００を排出する工程と、からなる。
【００６３】
その後、図５Ｃに示すように、前記基板上に前記シール材４００ａの塗布方向と垂直方向にシール材４００ｂを塗布する。
【００６４】
このとき、前記基板上にシール材４００ｂを塗布する工程には、上述したシール材塗布装置が用いられる。
【００６５】
その後、図５Ｄに示すように、前記第１基板１００または第２基板２００上に液晶３００を滴下する。
【００６６】
その後、図５Ｅに示すように、前記両基板１００，２００を合着する。
【００６７】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上記した実施形態に限定されるものではなく、当業者にとって自明な範囲内で適宜変更して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】液晶表示素子を概略的に示した断面図である。
【図２】従来のスクリーンマスク印刷法によってシール材を塗布する工程を示した工程断面図である。
【図３】従来のシーラントディスペンス法によってシール材を塗布する工程を示した工程断面図である。
【図４Ａ】本発明の一実施形態に係るシール材塗布装置を概略的に示した斜視図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施形態に係るシール材塗布装置を概略的に示した斜視図である。
【図４Ｃ】図４ＡのＡ―Ａ'線断面図である。
【図４Ｄ】図４ＡのＢ―Ｂ'線断面図である。
【図５Ａ】本発明に係るシール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製作する工程を示した工程断面図である。
【図５Ｂ】本発明に係るシール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製作する工程を示した工程断面図である。
【図５Ｃ】本発明に係るシール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製作する工程を示した工程断面図である。
【図５Ｄ】本発明に係るシール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製作する工程を示した工程断面図である。
【図５Ｅ】本発明に係るシール材塗布装置を用いて液晶表示素子を製作する工程を示した工程断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１００  第１基板
２００  第２基板
７００  ロール
８１０  第１収容溝
８２０  第２収容溝
８３０  シール材排出口
８４０  シール材投入口
【図１】
0004489730.tif 000002
【図２】
0004489730.tif 000003
【図３】
0004489730.tif 000004
【図４Ａ】
0004489730.tif 000005
【図４Ｂ】
0004489730.tif 000006
【図４Ｃ】
0004489730.tif 000007
【図４Ｄ】
0004489730.tif 000008
【図５Ａ】
0004489730.tif 000009
【図５Ｂ】
0004489730.tif 000010
【図５Ｃ】
0004489730.tif 000011
【図５Ｄ】
0004489730.tif 000012
【図５Ｅ】
0004489730.tif 000013