(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉本体と、前記炉本体下部に設けられた炉床と、前記炉床に載置され被熱処理物を収納する匣と、前記炉本体内部に設けられたヒータと、前記炉本体に配設されたガス排気管と、前記炉本体を平面視したときに側壁と前記匣との間に形成される環状空間に配設された複数のガス供給管とを備える熱処理炉であって、
前記ガス供給管に設けられたガス吐出口は、前記環状空間の周回方向に向かって開口しており、かつ、前記炉本体内部にて複数の異なる向きのガス循環流を形成するように前記環状空間において向かい合わせとなって開口していることを特徴とする熱処理炉。
【請求項２】
前記ガス供給管は、雰囲気ガス供給管およびキャリアーガス供給管からなることを特徴とする請求項１に記載の熱処理炉。
【請求項３】
前記炉本体の側壁は、その内周面から突起した障壁を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の熱処理炉。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の熱処理炉において、複数の前記ガス供給管から前記環状空間の周回方向に向かってガスを供給し、前記環状空間を循環する異なる向きのガス循環流を形成することを特徴とする熱処理炉のガス供給方法。
【請求項５】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の熱処理炉において、複数の前記ガス供給管から前記環状空間の周回方向に向かってガスを供給し、前記炉本体内部で複数のガス流を衝突させて、前記ガス流の方向を変えることを特徴とする熱処理炉のガス供給方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は熱処理炉、および熱処理炉のガス供給方法に関し、詳しくは、バッチ式の雰囲気熱処理炉、およびそのガス供給方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
セラミック電子部品の製造工程において、所望の電気的特性を実現するために、焼成前のセラミック成形体を一定の雰囲気下で熱処理することが行われている。このような場合、焼成後のセラミック電子部品に特性のバラツキがでないように、熱処理炉内の雰囲気を均一にする必要がある。
【０００３】
特開平７−２３４０７９号公報では、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１８に示すような熱処理炉が開示されている。この熱処理炉４１は、内部に熱処理空間４２ａを有する炉本体４２と、炉本体４２下部に設けられた炉床４３と、炉本体４２内部に設けられたヒータ（図示せず）と、炉本体４２に配設されたガス排気管４６およびガス供給管４７と、ガス管回転駆動手段４８とを備える。熱処理炉４１では、ガス管回転駆動手段４８によってガス排気管４６およびガス供給管４７を回転駆動させながら雰囲気ガスの供給・排気を行い、匣４４内の被熱処理物に対する雰囲気ガスの供給効率を高めている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、熱処理炉４１においては、ガス供給管４７を回転駆動させる際、被熱処理物に雰囲気ガスが直接吹き付けられて、被熱処理物が局所的に冷やされるという問題があった。このような温度バラツキが生じると、所望の特性が得られなかったり、特性バラツキが生じたりする。また、ガス管回転駆動手段４８を設けることにより熱処理炉４１の構造が複雑となり、熱処理炉４１を製造する際のコストもかかる。
【０００５】
本発明は、被熱処理物の温度バラツキや特性バラツキを抑えることができる熱処理炉、および熱処理炉のガス供給方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
第１の発明に係る熱処理炉は、炉本体と、炉本体下部に設けられた炉床と、炉床に載置され被熱処理物を収納する匣と、炉本体内部に設けられたヒータと、炉本体に配設されたガス排気管と、炉本体を平面視したときに側壁と匣との間に形成される環状空間に配設された複数のガス供給管とを備える熱処理炉であって、ガス供給管に設けられたガス吐出口は、環状空間の周回方向に向かって開口しており、かつ、前記炉本体内部にて複数の異なる向きのガス循環流を形成するように前記環状空間において向かい合わせとなって開口していることを特徴とする。
【０００７】
このような構成にすることにより、雰囲気ガスが被熱処理物に直接吹き付けられるのを防ぐことができる。すなわち、雰囲気ガスは環状空間で温められてから間接的に被熱処理物に到達する。
【０００８】
第２の発明に係る熱処理炉は、第１の発明に係る熱処理炉において、雰囲気ガス供給管およびキャリアーガス供給管からなることを特徴とする。
【０００９】
被焼成物の焼成条件によっては、供給する雰囲気ガスの量が少ない場合も想定される。このような場合においては、キャリアーガスを供給すれば、雰囲気ガスを炉内の隅々まで行き渡らせることができる。
【００１０】
第３の発明に係る熱処理炉は、第１の発明または第２の発明に係る熱処理炉において、炉本体の側壁が、その内周面から突起した障壁を有することを特徴とする。
【００１１】
環状空間を流れるガスは、この障壁に衝突して方向を変え、匣に向かって流れ被熱処理物に到達する。
【００１２】
第４の発明に係る熱処理炉のガス供給方法は、第１の発明から第３の発明のいずれかに係る熱処理炉において、複数のガス供給管から環状空間の周回方向に向かってガスを供給し、環状空間を循環する異なる向きのガス循環流を形成することを特徴とする。
【００１３】
このように環状空間にガスを循環させることによって、投入したガス流量の数倍〜数十倍に増幅された流れの速いガス流が形成されるという効果が得られる。
【００１４】
第５の発明に係る熱処理炉のガス供給方法は、第１の発明から第３の発明のいずれかに係る熱処理炉において、複数のガス供給管から環状空間の周回方向に向かってガスを供給し、炉本体内部で複数のガス流を衝突させて、ガス流の方向を変えることを特徴とする。
【００１５】
環状空間に供給されたガスによって形成されるガス流は、周回方向の同じガス流と合流し、周回方向の異なるガス流とは衝突する。衝突したガス流どうしは方向を変えて合流し、匣方向へのガス流となって被熱処理物に到達する。匣を通過したガス流は炉本体の側壁に突き当たって分流する。また、ガスの衝突の際にはガスの拡散、混合が生じるため、均一な雰囲気形成を実現することができる。このように、炉内でガスの衝突、合流、分流が繰り返されることによって炉内に流れの速い循環流がいくつか形成されるため、均一な雰囲気ガスを匣内に供給することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
（参考例）
HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１は、本参考例における熱処理炉の縦断面図を示しており、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図２は、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１中のＬ−Ｌ線に沿った断面図である。この熱処理炉１は、炉本体２と、炉本体２下部に設けられた炉床３と、炉床３に載置され被熱処理物を収納する匣４と、炉本体２内部に設けられたヒータ５と、炉本体２に配設されたガス排気管６と、炉本体２の側壁２ａと匣４との間に形成される環状空間Ｓに配設されたガス供給管７とを備える。
【００１７】
炉本体２は、アルミナ、シリカなどの耐熱材からなっており、円筒形の構造をなしている。熱処理炉の形状は問わないが、後述するように環状空間Ｓにガスを循環させるため、円筒形や多角形の構造が好ましい。
【００１８】
炉床３は、回転昇降台８に固定され、油圧シリンダもしくはスクリュー（図示せず）によって上下に昇降する。炉床３上には、匣４を載置するための載置台９が固定されており、炉床３が昇降することによって、被熱処理物が出し入れされる。また、炉内での水平方向の温度均一性を確保するために、炉床３をモーター（図示せず）などで回転させてもよい。炉床３の材質としては、アルミナ、シリカなどの耐熱材を用いることができる。
【００１９】
匣４は、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図３に示すように扇形の一部を切り取った形状をしており、側壁４ａを有する。本参考例においては、４枚の匣４を組み合わせて円板状にしたものを１段とし、これを複数段積み重ねている。匣４の材質としては、アルミナ、シリカ、ＳｉＣ、ムライトなどの耐熱材を用いることができる。
【００２０】
ヒータ５は、炉本体２上部で固定されて炉本体２内部に吊り下げられ、匣４を囲むようにして環状空間Ｓ内に配設される。また、ヒータ５は、炉内の温度制御用熱電対（図示せず）から検出される炉内温度が所定のプロファイルになるように自動制御される。ヒータ５の形は棒状であり、材質としては、炭化ケイ素、モリブデンなどの抵抗加熱体を用いることができる。加熱の際に使われるエネルギーとしては、その他にガスなどが挙げられる。本参考例では、ヒータ５はガス供給管７とほぼ同じ周回上に設けられているが、炉本体２の側壁２ａに埋め込まれていてもよいし、マッフル炉のようにヒータ５がマッフルを介して環状空間Ｓの外側に設けられていてもよい。ヒータ５がガス供給管７と同じ周回上に設けられる場合は、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図４のように、断面が流線形状になっているヒータ５ａを用いることが好ましい。これにより、ガスの流れが円滑になる。
【００２１】
ガス排気管６は、炉本体２上方から挿入されて炉本体２中央に配設される。ガス排気管６の側面にはガス排出口６ａが設けられている。ガス排気管６の材質としては、アルミナ、シリカ、ムライトなどの耐熱材を用いることができる。
【００２２】
ガス供給管７は、炉本体２上方から挿入されて環状空間Ｓ内に配設される。
ガス供給管７の側面にはガス吐出口７ａが設けられている。なお、ガス供給管７は、必ずしも熱処理炉１の上方から挿入される必要はなく、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図５、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図６に示すように、熱処理炉１の側壁１ａから挿入されていてもよい。ガス吐出口７ａは、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図５ではガス供給管７の側面に、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図６ではガス供給管７の先端に設けられている。ガス供給管７の材質としては、アルミナ、シリカ、ＳｉＣ、ムライトなどの耐熱材を用いることができる。
【００２３】
また、本参考例においては、複数のガス吐出口７ａは１列に設けられているが、これは複数列設けられていてもよい。また、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図７に示すように、ガス供給管７の長手方向に沿ってスリット状のガス吐出口７ｂが設けられていてもよい。
【００２４】
ガス供給孔は７ａは、環状空間Ｓの周回方向に向かって設けられる。ただし、ガスが匣４内の被焼成物に直接吹き付けられないようにするには次のような構成にする。つまり、ガス吐出口７ａから供給されるガスの吐出角度は一定の範囲にすることである。この範囲は、ガス吐出地点における環状空間Ｓの周回方向の接線から炉中心側への角度をガスの吐出角度αとすると、以下の数式(1)を満たすことが好ましい。
−９０°＜α＜ｃｏｓ-1（ｒ／ｄ）    ……(1)
ｒ：匣の炉中心からの最大距離
ｄ：炉中心からガス吐出地点までの距離
HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図８は、本参考例の熱処理炉において数式(1)を説明するための説明図である。 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図８において、点Ａはガスの吐出地点であり、点Ｏは熱処理炉１の中心であり、点Ｂは点Ａから匣４に向けて引いた接線と匣４の外側壁面との接点である。点線Ｔ1は点Ｏおよび点Ａを通る線、点線Ｔ2は点Ｏを通り点線Ｔ2と直交する線、実線矢印はガスの方向を表す。本参考例においてはＯＡ＝ｄ、ＯＢ＝ｒであり、接線Ｔ2から炉中心方向へ向く角度がαであるから、数式(1)より、−９０°＜α＜ｃｏｓ-1（ＯＢ／ＯＡ）を満たすことが好ましい。
【００２５】
ガスの吐出角度αについて、−９０°＜α＜ｃｏｓ-1（ｒ／ｄ）を好ましい範囲としたのは次の理由による。つまり、α＝−９０°のときは、匣４内の被焼成物に直接ガスは吹き付けられないがガス循環流を形成しにくく、α≧ｃｏｓ-1（ｒ／ｄ）のときは、匣４内にガスが侵入してしまい、被焼成物に直接ガスが吹き付けられるおそれがある。ただし、これはガスを時計回り方向に供給する場合の範囲である。
【００２６】
次に、熱処理炉１においてガス循環流の実験を行なった。本参考例において、ガス供給管７にはφ１ｍｍのガス吐出口７ａが２０個設けられており、ガス吐出口７ａは、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図２に示すように、環状空間Ｓの同一周回方向に向かって開口している。まず、熱処理炉１の炉内温度を１０００℃に設定し、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図９（ヒータ５は図示せず）に示すように、２つのガス供給管７から図中の実線矢印方向に、１００リットル／分のＮ2ガスを２３ｍ／秒の速度で吐出した。（なお、この実験では、炉内のガスの流れや分布を検証するため、便宜上キャリアーガスであるＮ2ガスだけを用いている。）２つのガス流（図中白抜きの矢印）はいずれも環状空間Ｓを反時計回りに循環し、全体として反時計周りのガス循環流が形成された。
【００２７】
次に、この条件で形成されたガス循環流の流速分布を計測した結果、循環流路を流れるガス流量は約２０００リットル／分に増幅されていることが確認された。
【００２８】
また、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図９のようにガス循環流を発生させる場合と、ガス供給管７ａを炉本体２の側壁２ａに向けてガス循環流を発生させない場合（数式(1)の範囲外：α＝−９０°）とで、昇温中の炉内上下温度の温度差を計ったところ、設定温度５００℃において、ガス循環流を発生させる場合は９℃であったのに対し、ガス循環流を発生させない場合は３０℃であった。以上から、ガスの循環によって炉内温度がより均一になっていることがわかる。
（実施形態１）
HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１０は、本実施形態の熱処理炉を示す横断面図である。この熱処理炉１１においては、ガス供給管１７に設けられたガス吐出口１７ａがそれぞれ環状空間Ｓの異なる周回方向に向かって開口しており、ガス排気管１６は炉本体１２の側壁１２ａの近傍に配置されている。なお、ヒータ１５は環状空間Ｓ内に配設されているが図示していない。その他の構成は参考例と同じであるので説明を省略する。
【００２９】
熱処理炉１１においても同様にガス循環流の実験を行なった。本実施形態において、ガス供給管１７にはφ１ｍｍのガス吐出口１７ａが２０個設けられており、ガス吐出口１７ａは、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１０に示すように、環状空間Ｓにおいて異なる周回方向に向かって開口している。まず、炉内温度を１０００℃に設定し、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１０に示すように、２つのガス供給管１７から図中の実線矢印方向に、１００リットル／分のＮ2とＨ2ＯとＨ2とからなる雰囲気ガスを２３ｍ／秒の速度で噴出した。
【００３０】
ガス供給管から吐出された雰囲気ガスはガス流を形成し、異なる向きのガス流どうしが衝突して、匣１４の方向に向きながら合流する。合流したガス流の一部は匣１４を通過した後にガス排気管１６から排気されるが、ガス流の大半は炉本体１２の側壁１２ａに突き当たって二手に分流し、再び元のガス流と合流する。このようにして、熱処理炉１１においては全体として２つのガス循環流が形成されることになる。
【００３１】
次に、この条件で形成されたガス循環流の流速分布を計測した結果、循環流路を流れるガス流量は約２０００リットル／分に増幅されていることが確認された。
【００３２】
また、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１０のようにガス循環流を発生させる場合と、ガス供給管１７を炉本体１２の側壁１２ａに向けてガス循環流を発生させない場合とで、それぞれ１１００℃の設定温度でセラミック成形体を熱処理し、セラミック部品を焼成した。それぞれの特性の分布を HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１１に示す。 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１１において、実線曲線はガス循環流を発生させた場合、点線曲線はガス循環流を発生させなかった場合を表す。 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１１から、炉内でガス循環流を形成すると、熱処理後のセラミック部品において特性のバラツキが少なくなることがわかる。なお、本実施形態においては、セラミック部品として積層コンデンサを用い、その静電容量をもって特性のバラツキを測定した。
（実施形態２）
HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１２は、本実施形態の熱処理炉を示す横断面図である。この熱処理炉２１においては、ガス供給管は、雰囲気ガス供給管２７ａとキャリアーガス供給管２７ｃとの２種類から構成されている。雰囲気ガスはガス吐出口２７ｂから HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１２中の実線矢印の方向に、キャリアーガスはガス吐出口２７ｄから HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１２中の二重線矢印の方向に吐出されている。また、熱処理炉２１は、炉本体２２の側壁２２ａの内周面から突起した障壁２２ｂを有する。また、ガス排気管２６は炉本体２２の側壁２２ａの近傍に配置されている。なお、ヒータ２５は環状空間Ｓ内に配設されているが図示していない。その他の構成は参考例と同じであるので説明を省略する。
【００３３】
キャリアーガスは、環状空間Ｓの同一周回方向に吐出された雰囲気ガスと合流してガス流を形成する。このガス流は環状空間Ｓで温められた後、障壁２２ｂに衝突して匣２４方向へのガス流となる。同様にして、反対側からもキャリアーガスと雰囲気ガスとが合流したガス流が、障壁２２ｂに衝突して匣２４方向へのガス流となる。これらの匣２４方向へのガス流どうしは、合流して匣２４を通過した後、再び障壁２２ｂと衝突して二手に分流し、ガスの一部はガス排気管２６から排気される。熱処理炉２１においては、全体として２つのガス循環流が形成されることになる。
【００３４】
障壁２２ｂは、ガス流の方向を変える役割を果たす。この場合、ガス流どうしを衝突させるときよりも、より円滑にガス流の方向を変えることができる。障壁２２ｂの材質としては、アルミナ、シリカ、ＳｉＣ、ムライトなどの耐熱材を用いることができる。
【００３５】
障壁２２ｂにおけるガス流との衝突面は、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１２に示すように平面であってもよいし、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１３に示すようにガス流に対して凹状に湾曲していてもよい。なお、衝突面が平面であるときは、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１４に示すように、障壁２２ｂにおけるガス流Ｇ（図中矢印）との衝突面２２ｃ（図中では線分ＰＱ）と、炉本体２２の側壁２２ａの内周面と障壁２２ｂとの接点Ｐにおける接線Ｔとがなす角度をβとしたとき、β≦９０°であることが好ましい。β＞９０°であると、障壁２２ｂがガス流の勢いを止めてしまうので、円滑なガス循環流形成が期待できないからである。また、衝突面２２ｃに衝突したガス流Ｇが匣２４に向かって流れるためには、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１５に示すように、接線Ｔ3と、点Ｐから匣２４の外側壁に引いた接線ＰＲとがなす角をγとしたとき、β≧γであることが好ましい。以上から角度βは、γ≦β≦９０°であることが好ましいといえる。すなわち、障壁２２ｂの衝突面２２ｃ（線分ＰＱ）は、 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１５に示す矢印の範囲にあることが好ましい。
【００３６】
HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１６は、障壁２２ｂの他の変形例を示す説明図である。この障壁２２ｂは、炉本体２２の側壁２２ａの内周面との接点Ｐに可動部２２ｄを設けており、これを支点として動く。したがって、上記の角度βを任意に変更できるため、匣２４内に流れるガスの量を調整することが可能となる。
（実施形態３）
HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１７は、本実施形態の熱処理炉を示す横断面図である。この熱処理炉３１においては、ガス供給管３７はガス吐出口３７ａを向かい合わせるようにして環状空間Ｓに配設されており、ガス排気管３６は炉本体の中央に配置されている。なお、ヒータ３５は環状空間Ｓ内に配設されているが図示していない。その他の構成は参考例と同じであるので説明を省略する。
【００３７】
熱処理炉３１では、ガス供給管３７から吐出されたガス流どうしが衝突して、匣３４の方向に向きながら合流する。一方、炉本体の反対側においても、ガス供給管３７から吐出されたガス流どうしが衝突して、匣３４の方向に向きながら合流する。次に、匣３４の方向に流れるガス流どうしが炉本体の中央で衝突し、一部はガス排気管３６から排気され、残りは二手に分流して炉本体の側壁３２ａの方向に流れる。次に、炉本体の側壁３２ａの方向に流れるガス流が炉本体の側壁３２ａに突き当たって二手に分流し、再び元のガス流と合流する。このようにして、熱処理炉３１においては全体として４つのガス循環流が形成されることになる。
【００３８】
【発明の効果】
本発明に係る熱処理炉は、炉本体と、炉本体下部に設けられた炉床と、炉床に載置され被熱処理物を収納する匣と、炉本体内部に設けられたヒータと、炉本体に配設されたガス排気管と、炉本体を平面視したときに側壁と匣との間に形成される環状空間に配設された複数のガス供給管とを備える熱処理炉であって、ガス供給管に設けられたガス吐出口は、環状空間の周回方向に向かって開口し、かつ、前記炉本体内部にて複数の異なる向きのガス循環流を形成するように前記環状空間において向かい合わせとなって開口している。
【００３９】
これにより、雰囲気ガスは被熱処理物に直接吹き付けられるのではなく、環状空間で温められてから間接的に被熱処理物に到達する。したがって、被熱処理物の温度バラツキや特性バラツキを抑えることができる。
【００４０】
また、キャリアーガス供給管を設けてキャリアーガスを吐出することにより、雰囲気ガスの量が少ない場合でも、雰囲気ガスを炉内に行き渡らせることができる。
【００４１】
また、上記炉本体の側壁は、その内周面から突起した障壁を設けることにより、環状空間で温められたガスは、この障壁に衝突して方向を変え、匣内の被焼成物に到達する。したがって、あらかじめ障壁の形状や、障壁とガスとの衝突面の角度を調整しておけば、ガスの流れを制御することができる。
【００４２】
また、本発明に係るガス供給方法は、上記熱処理炉において、複数のガス供給管から環状空間の周回方向に向かってガスを供給し、環状空間を循環する異なる向きのガス循環流を形成することを特徴とする。
【００４３】
このように環状空間にガスを循環させることによって、ガスを増幅させてから、ガスを被熱処理物に到達させることができる。したがって、雰囲気ガスの供給効率を高めることができる。
【００４４】
また、本発明に係るガス供給方法は、上記熱処理炉において、複数のガス供給管から環状空間の周回方向に向かってガスを供給し、炉本体内部で複数のガス流を衝突させて、ガス流の方向を変えることを特徴とする。
【００４５】
これによって、環状空間で温められたガス流どうしを衝突、合流、分流させて、炉内に循環流を形成し、増幅されたガスを匣内に供給することができる。また、ガスの衝突の際にはガスの拡散、混合が生じる。したがって、雰囲気ガスの供給効率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】参考例における熱処理炉を示す縦断面図。
【図２】 HYPERLINK "JavaScript:void(0)" 図１中のＬ−Ｌ線に沿った断面図。
【図３】参考例の熱処理炉における匣を示す斜視図。
【図４】参考例の熱処理炉における加熱手段の変形例を示す説明図。
【図５】参考例の熱処理炉におけるガス供給管の変形例を示す説明図。
【図６】参考例の熱処理炉におけるガス供給管の変形例を示す説明図。
【図７】参考例の熱処理炉におけるガス供給管のガス吐出口の変形例を示す部分斜視図。
【図８】参考例の熱処理炉におけるガスの吐出角度の説明図。
【図９】参考例の熱処理炉におけるガスの流れを示す説明図。
【図１０】実施形態１の熱処理炉の横断面、および炉内のガスの流れを示す説明図。
【図１１】実施形態１において、ガス循環流を発生させた場合（実線曲線）と、ガス循環流を発生させなかった場合（点線曲線）とのセラミック部品の特性の分布を示すグラフ。
【図１２】実施形態２の熱処理炉の横断面、および炉内のガスの流れを示す説明図。
【図１３】実施形態２の熱処理炉における障壁の変形例を示す部分断面図。
【図１４】実施形態２の熱処理炉における障壁を示す説明図。
【図１５】実施形態２の熱処理炉における障壁の衝突面の説明図。
【図１６】実施形態２の熱処理炉における障壁の変形例を示す説明図。
【図１７】実施形態３の熱処理炉の横断面、および炉内のガスの流れを示す説明図。
【図１８】従来の熱処理炉を示す縦断面図。
【符号の説明】
１、１１、２１、３１  熱処理炉
２                    炉本体
４、１４、２４、３４  匣
７、１７、３７        ガス供給管
７ａ、１７ａ          ガス吐出口
２２ｂ                障壁
２７ａ                雰囲気ガス供給管
２７ｂ                キャリアーガス供給管
Ｓ                    環状空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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