(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを照射することにより画像を記録する感光材料を含む層が基材上に形成された光記録媒体であって、該感光材料を含む層の厚さが１５ｎｍ以下である光記録媒体と、
パルス照射周期が１μ秒以下であり、デューティが１％以下のパルス光を順次出力する光源と、
前記光源から出力されたパルス光を画像信号により変調して前記感光材料を含む層に照射する変調手段と、
前記感光材料を含む層上で該パルス光を走査させることにより画像を記録する走査手段と、
を具備する光記録システム。
【請求項２】
光ビームを照射することにより画像を記録する感光材料を含む層が基材上に形成された光記録媒体であって、該感光材料を含む層の厚さが１５ｎｍ以下である光記録媒体と、
パルス光を順次出力する光源と、
前記光源から出力されたパルス光を画像信号により変調して前記感光材料を含む層に照射する変調手段と、
前記感光材料を含む層上で該パルス光を走査させることにより画像を記録する走査手段と、
を具備し、
１画素当りの記録時間が１μ秒以下であり、１画素を記録するためにパルス光を照射する期間が１画素当りの記録時間の１％以下であることを特徴とする光記録システム。
【請求項３】
前記光源が、１画素を記録するために単一あるいは複数のパルス光を出力する、請求項２項記載の光記録システム。
【請求項４】
前記光源が出力するパルス光のパルス幅が、１０ｐ秒以下である、請求項１〜３のいずれか１項記載の光記録システム。
【請求項５】
前記光源が、モードロックレーザとＱスイッチレーザと利得スイッチレーザとの内の１つである、請求項１〜４のいずれか１項記載の光記録システム。
【請求項６】
前記モードロックレーザが、パルス光を変調して出力する際に用いる同期信号を前記変調手段に出力する、請求項５記載の光記録システム。
【請求項７】
前記感光材料を含む層が、光−熱交換反応を用いている、請求項１〜６のいずれか１項記載の光記録システム。
【請求項８】
前記光記録媒体において感光材料を含む層が形成されている基板が、金属以外の材料によって形成される、請求項１〜７のいずれか１項記載の光記録システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高出力レーザ光を直接照射することにより平板印刷用の印刷版等に画像を記録する光記録システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
印刷分野におけるＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  ｔｏ  Ｐｌａｔｅ）あるいはＣＴＣ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  ｔｏ  Ｃｙｌｉｎｄｅｒ）製版システムにおいては、コンピュータ中に蓄積された画像情報をレーザスキャナー等を用いて感光性製版材料（感材）上に記録し、記録された画像を現像して印刷版（プレート）を製作する。このシステムによれば、旧来の写真製版工程における各色毎の焼付け用中間材フィルムが不要となる。そのため、コスト削減、迅速処理、品質向上等の利点を有するシステムとして注目されている。
【０００３】
ＣＴＰやＣＴＣ製版システムにおける光−熱変換を利用したレーザ光による描き込みにおいては、感材の感度が低く描き込み速度が遅いので、大出力の光を用いて記録する必要がある。そのため、アウタードラム型の感材固定・記録方式により、基材上に感材を形成したプレートをドラムの外側に巻き付け、ワット級の半導体レーザを数十本用いたアレイを使用して感材に並列描き込みを行うことが主に行われていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような光−熱変換を利用した記録方式においては、熱が周囲の媒質に逃げるため、並列描き込みでゆっくり記録するほど熱拡散により実効的な記録感度の低下を引き起こすという欠点があった。この現象は、「低照度不軌」と呼ばれており、ヘアー（Ｈａｒｅ）等の論文「レーザ感熱材の露出限界測定のための新方法（Ｎｅｗ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｌａｓｅｒ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．６，Ｎｏｖ．／Ｄｅｃ．１９９７，ｐ５８８−５９３に詳しく述べられている。特に、基材として一般的なアルミニウムを用いた場合には、熱拡散が大きいので、記録感度の低下も顕著であった。また、熱拡散により記録画像がぼけるという悪影響もあった。
【０００５】
これを改善するために、日本国特許出願公開公報（特開）平１０−１４６９９６号には、レーザビームの走査スピードを高速化して実効的な記録感度を上げる方法が掲載されている。
また、特開平１１−２５４７４１号には、レーザビームの感材上における形状を主走査方向に狭くして偏平な形状とすることにより、感材表面上の各点におけるレーザビームの照射時間を短くして実効的な記録感度を上げる方法が掲載されている。
【０００６】
一方、インナードラム型の感材固定・記録方式により、基材上に感材を形成したプレートをドラムの内側に巻き付け、１０ワット程度以上の連続発振高出力ＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ  Ａｌｍｉｎｕｍ  Ｇａｒｎｅｔ）レーザを用いて感材に描き込みを行うことも行われていた。この場合には、ＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ：音響光学変調器）等の外部変調器と、高速回転ミラーによるレーザビームの走査とを組み合わせることにより記録を行う。このようなインナードラム型の感材固定・記録方式によれば、感材表面上の各点におけるレーザビームの照射時間を短くして実効的な記録感度を上げることができるが、これは、１つの光源を用いて高速に記録する必要性から派生した効果であり、それ以上の感度上昇は実現されていない。
【０００７】
そこで、以上述べたようなインナードラム型の感材固定・記録方式や、アウタードラム型の感材固定・記録方式における改善手法を用いるにしても、更なる記録感度の上昇が望まれている。
上記の点に鑑み、本発明は、感材に対する画像情報の記録における実効的な記録感度を上昇させることにより、記録に必要なエネルギー（レーザパワー）を下げたり、記録速度を改善して生産性を向上させることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するため、本発明に係る光記録システムは、光ビームを照射することにより画像を記録する感光材料を含む層が基材上に形成された光記録媒体であって、該感光材料を含む層の厚さが１５ｎｍ以下である光記録媒体と、パルス照射周期が１μ秒以下であり、デューティが１％以下のパルス光を順次出力する光源と、光源から出力されたパルス光を画像信号により変調して感光材料を含む層に照射する変調手段と、感光材料を含む層上で該パルス光を走査させることにより画像を記録する走査手段とを具備する。
また、本発明に係る他の光記録システムは、１画素当りの記録時間が１μ秒以下であり、１画素を記録するためにパルス光を照射する期間が１画素当りの記録時間の１％以下であることを特徴とする。
【００１０】
上記のように構成した本発明によれば、パルス照射周期が１μ秒以下であり、デューティが１％以下のパルス光を用い、感光材料を含む層の厚さが１５ｎｍ以下である記録材料に画像を記録することにより、光記録における実効的な記録感度を向上させることができる。あるいは、１画素当りの記録時間が１μ秒以下であり、１画素当りの記録時間の１％以下の期間のパルス光を用いて画像を記録することにより、光記録における実効的な記録感度を向上させることができる。従って、記録に必要なトータルエネルギーを下げたり、記録速度を改善して生産性を向上させることが可能である。さらに、記録のためのエネルギーを下げることにより、熱拡散による記録画像のぼけを改善して、シャープネスを向上させることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基いて本発明の実施の形態について説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
本発明の一実施形態に係る光記録システムについて、図１〜図３を参照しながら説明する。本実施形態に係る光記録システムは、超薄膜化された感材（感光感光材料を含む層、感光層）に対して短パルス光によって露光することにより、感材にエネルギを供給するときの損失を低減し、吸収光エネルギを有効利用するものである。
【００１２】
図１は、本実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置を原理的に表す図である。この光記録装置は、パルス状のレーザ光を発生するための受動モードロックレーザ１を有している。受動モードロックレーザ１から、各々のパルス光に同期した同期信号が取り出され、画像信号処理回路２に印加される。画像信号処理回路２は、画像信号に基づいて、パルス光を変調するための変調信号を作成し、同期信号に同期して変調信号を光シャッタ３に供給する。光シャッタ３は、この変調信号に従って、受動モードロックレーザ１が発生するパルス光を変調する。
【００１３】
光シャッタ３によって変調されたパルス光は、ドラム４の内部に設置された回転ミラー５によって反射され、ドラム４の内面に巻きつけられたプレート６に照射される。プレート６は、アルミニウム等を材料とする基材７と、基材７上に形成された感材８とを含んでおり、感材８の上にさらにオーバーコート（カバー）層を設けても良い。回転ミラー５が所定の回転数で回転することにより、反射光が感材８の表面を走査して画像が記録される。
【００１４】
図２に、受動モードロックレーザから発生されるパルス状のレーザ光の波形を示す。画像全体の記録時間を短くするために、１画素当りの記録時間（以下、１画素形成時間という）は１μ秒以下とすることが望ましい。さらに好ましくは、１画素形成時間を２００ｎ秒以下とする。本実施形態においては、１画素形成時間を２０ｎ秒（周波数にして５０ＭＨｚ）としている。なお、各画素において「１」又は「０」の２つの階調しか存在しない場合には、１画素の記録情報は画像信号の１ビットに相当する。
【００１５】
従来は、１画素形成時間の全体に渡って、レーザ光を連続的に照射していた。これに対し、本発明においては、レーザのトータルパワーを低減させると共に、光記録における実効的な記録感度を向上させるため、デューティが５０％以下の短パルス光を用いて記録を行う。この短パルス光は、単一のレーザから出力される単一のパルス光であっても良く、あるいは、所定の方向に並べられた複数のレーザから出力される複数のパルス光であっても良い。また、１画素を記録するための期間におけるレーザパルスの数は、１つでも良いし、あるいは、複数でも良い。例えば、１画素形成時間が２０ｎ秒である場合に、パルス幅が１０ｎ秒の１個のレーザパルスにより露光しても良いし、パルス幅が５ｎ秒のレーザ光を２回オン／オフさせて２個のレーザパルスにより露光しても良い。
【００１６】
このようにレーザ光をパルス状に照射することにより、レーザのトータルパワーを低減させることができる。その結果、従来よりも定格出力の小さいレーザを使用することが可能となる。これは、レーザの定格出力が定常的な出力パワーによって主に定まっているので、デューティを小さくすることによってレーザの瞬間的な出力を定格出力よりも大きくとれるからである。例えば、レーザ光のデューティを５０％にすれば、理論上レーザの瞬間的な出力を定格出力の２倍程度にすることができる。一方、光記録における実効的な記録感度は、前述したように、各画素におけるレーザ光の照射時間（露光時間）を短くすることにより改善される。このような理由から、画像情報の光記録においてパルス光を用いることが有効である。
【００１７】
受動モードロックレーザは、数ｐ秒（１０ｐ秒以下）〜１ｎ秒の短パルス光を発生することが可能である。これを利用して、光記録における実効的な記録感度をさらに上昇させるために、レーザ光のデューティをさらに小さくすることが考えられる。例えば、レーザパルスの照射期間を２００ｐ秒（１画素形成時間２０ｎ秒の１％）以下として、レーザ光のデューティを１％以下とする。本実施形態においては、１画素形成時間中におけるレーザパルスの照射期間を１００ｐ秒×２回としており、このためにデューティが１％のレーザパルスを用いている。
【００１８】
図３は、本実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる記録材料を模式的に示す図である。この記録材料は、基板の上に、１ｎｍ以上、さらに望ましくは５ｎｍ以上であって、１５ｎｍ以下、さらに望ましくは１０ｎｍ以下の厚さを有する感材（感光層）を設けたものである。基板の材料としては、アルミニウム（熱伝導率：２．３７Ｊ／ｓｅｃ・ｃｍ・Ｋ）等の金属やＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート、熱伝導率：０．００２８Ｊ／ｓｅｃ・ｃｍ・Ｋ）等の合成樹脂を用いることができる。感光層の上には、さらに、断熱や保護のためにＰＥＴ等によるオーバーコート（カバー）層を設けても良い。
【００１９】
一般に、感材の総量が多い場合には、感度は感材の量によって左右される。例えば、サーマルモードによる記録においては、感材を加熱するのに必要なエネルギが大きくなるため、感度が感材の量によって律速される。そこで、本発明においては、光吸収層を超薄膜化することにより、吸収光エネルギの有効利用を図っている。
【００２０】
従来のサーマル記録においては、数百ｎ秒〜１０μ秒程度の長パルス光を用いて露光エネルギ量を大きく取り、１画素当たりの記録に必要な最大時間の５０％以上、通常は９０％以上の時間を費やして記録を行っていた。このように、時間をかけて感材を加熱すると、特に、パルス光が熱に変換された後での熱拡散によるエネルギの損失が大きい。従って、感材の厚さを薄くすることによって感材の加熱エネルギを抑えたとしても、それ以上に熱拡散によるエネルギ損失が生じてしまうので、感材を薄膜化する効果は薄い。しかしながら、本実施形態に係る光記録システムにおけるように、短パルス光を用いて露光時間を短縮すれば、パルス光が熱に変換された後での熱拡散の程度が低減されて無視できる程度となるため、感材を薄膜化することによって感材を加熱するのに必要なエネルギを抑える効果が顕著となる。この効果は、感光層が２原子層程度（厚さ約１ｎｍ）あれば確認できるが、ＣＴＰプレートとしての耐摩耗性を考慮すると、感光層の厚さは５ｎｍ程度必要であろう。
【００２１】
図３に示す基板と感材（感光層）とカバー層とから構成される記録材料を用い、感光層の厚さを変えて加熱シミュレーションを行った。このシミュレーションにおいては、感光層に金属チタンを用い、層の厚さを３ｎｍ〜３０ｎｍの範囲で変化させた。また、基板にＰＥＴ（熱伝導率：０．００２８Ｊ／ｓｅｃ・ｃｍ・Ｋ）を用いた。さらに、感光層の上には、断熱のために、ＰＥＴによるカバー層を設けた。照射レーザ光の５０％が、チタン感光層に吸収されると仮定し、以下の２つの異なるレーザパルス照射条件の下で、感材が達する最高温度を計算した。
（１）長パルス幅露光（パワー密度３０ｋＷ／ｃｍ2、パルス幅７μ秒）
（２）短パルス幅露光（パワー密度３０ＧＷ／ｃｍ2、パルス幅７ｐ秒）
ただし、１つのレーザパルスのトータルのエネルギ量は一定である。図４は、照射条件（２）におけるパルス状のレーザ光の波形を示している。
【００２２】
このシミュレーションの結果を図５に示す。図５において、横軸は、チタン感光層の厚さを示しており、縦軸は、感材の最大上昇温度を示している。
図５に示すように、照射条件（１）の長パルス幅露光の場合には、上昇温度は感光層の厚さに依存せず、ほぼ一定である。これは、熱の拡散により、感光層だけでなく周囲の層も加熱されてしまうからである。
【００２３】
これに対して、照射条件（２）の短パルス幅露光の場合には、感光層の厚さに関わらず１万度を超える高温が得られ、感光層の厚さを薄くするほど温度が上昇している。これは、感光層の厚さが１５ｎｍ以下の範囲において顕著であり、特に、感光層の厚さが１０ｎｍ以下の範囲においては、厚さが３０ｎｍの場合と比較して、１．５倍〜９倍程度の温度上昇が見られる。その理由として、短パルス幅露光時には、熱拡散によるエネルギ損失の影響が小さいため、感光層の厚さを減らすことにより感光層自体の熱容量が減るので、温度上昇が大きくなると考えられる。
【００２４】
図６に、厚さ１０ｎｍの様々な種類の金属薄膜を融点まで温度上昇させるために必要なエネルギと融解熱との関係を示す。横軸は、融点まで加熱するために必要な単位面積当たりのエネルギを示し、縦軸は、単位面積当たりの融解熱を示している。
例えば、印刷におけるアブレーションモードで記録するためには、感光層の材料である金属を融点まで加熱したり、融解するためのエネルギが必要であるが、図６に示すように、金属感光層の厚さが１０ｎｍ以下であれば、これらのエネルギは１０ｍＪ／ｃｍ2以下で済むことになる。
【００２５】
従って、１０ｎｍまで薄膜化された感光層に対して短パルス幅露光を行うことにより、従来よりも１桁以上高感度な数ｍＪ／ｃｍ2の感度を有するサーマルモードの記録が可能となる。このように記録感度を上げることにより、記録速度を向上させたり、より低いエネルギの露光用レーザを採用することができるため、低コスト化が可能となる。
【００２６】
上記の例では、感光層に金属を用いたが、この他に、酸化チタン（ＴｉＯX）や窒化チタン（ＴｉＮX）等の酸化物や窒化物、或いは、有機光吸収層等を用いることも可能である。
また、感光層の厚さが１０ｎｍ以下となると、短時間における熱拡散の影響が無視できなくなる。このような場合には、基板に熱伝導率の小さい合成樹脂等を用いることにより、熱拡散を抑え、効率的に感光層の温度を上昇させることができる。本実施形態においては、基板やカバー層に用いる合成樹脂としてＰＥＴを挙げたが、この他にも様々な合成樹脂材料を用いることができる。
【００２７】
次に、図７及び図８を参照しながら、本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置について詳しく説明する。
図７は、本実施形態に係るインナードラム型の光記録装置の一部を示す斜視図である。インナードラム型の光記録装置２１は、内面が円筒形状のドラム２５を有している。ドラム２５の内側には、アルミニウム等の基材上に感材が形成されたプレート６が固定されている。ドラム２５は、ドラム移動機構２７に駆動されて、ドラム軸芯に沿った方向（図中のＺ方向）に移動する。
【００２８】
光記録装置２１の光学系２２は、受動モードロックレーザ１と、光シャッタ３と、回転ミラー５とを含んでいる。さらに、集光レンズ２３を設けても良い。受動モードロックレーザ１が発生するパルス光は、画像信号に従って開閉する光シャッタ３によって変調される。光シャッタ３を通過したパルス光は、集光レンズ２３によって集束される。集束の焦点は、プレート６の感材の表面近傍に位置するように調整されている。
【００２９】
集光レンズ２３を出たパルス光は、回転ミラー５に入射する。回転ミラー５の集光レンズ２３側の面は、軸芯に対して４５°傾いている。この面に当ったレーザ光は、プレート６の感材の表面にほぼ垂直に入射する。回転ミラー５は、モータ２４に駆動されて、ドラム軸芯と同じ軸を中心にして高速回転する。回転ミラー５の回転によって、レーザ光が感材に当る位置が変化し、レーザ光は主走査方向（図中のＸ方向）に走査される。なお、プレート６はドラム軸芯に沿った方向（図中のＺ方向）に移動するので、レーザ光は主走査方向及び副走査方向において２次元的に走査される。
【００３０】
図８は、図７に示す光記録装置において使用する受動モードロックレーザを原理的に示す図である。受動モードロックレーザ１は、反転分布を利用してレーザ光を増幅するレーザ媒質３１を含んでいる。レーザ媒質３１としては、イットリウム・アルミニウム・ガーネット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12）に不純物としてネオジム（Ｎｄ）をドープした結晶を用いたＮｄ：ＹＡＧ媒質を使用することができる。あるいは、Ｎｄ：ＹＡＧ媒質の替わりにＮｄ：ＹＬＦ（ＹＬｉＦ4）媒質やＮｄ：ＹＶＯ4媒質等を使用しても良い。
【００３１】
レーザ媒質３１の両側には、レーザ媒質によって増幅された光を反射する２枚のミラー３２、３３が置かれている。さらに、ミラー３２と過飽和吸収体３５との間で光を反射するミラー３４と、ミラー３３から入射した光の一部を反射し一部を出射する出射ミラー３６とが設けられている。これにより、受動モードロックレーザ１は、周波数が異なる複数のモードで発振する。過飽和吸収体３５は、ミラー３４から入射した光の一部を吸収することにより、複数の発振モードの位相を揃える。
【００３２】
本実施形態に係る光記録システムにおいては、この他にも様々な光記録装置を用いることができる。
図９は、本実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第１の変形例を示している。この光記録装置は、受動モードロックレーザ１から各々のパルス光に同期した同期信号を取り出す替わりに、受動モードロックレーザ１から出力されたパルス光をビームスプリッタ９により分光し、その一部を光検出器１０に入射することにより同期信号を得ている。その他の点は、図１に示す光記録装置と同一である。
【００３３】
図１０は、本実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第２の変形例を示している。この光記録装置は、受動モードロックレーザの替わりに、能動モードロックレーザ１１を用いている。能動モードロックレーザ１１は、外部から印加される同期信号に同期してパルス光を出力することができるので、画像信号処理回路１２において同期信号を作成し、これを能動モードロックレーザ１１に印加することにより、所望のパルス光を得ることができる。
【００３４】
図１１は、図１０に示す光記録装置において使用する能動モードロックレーザを原理的に示す図である。能動モードロックレーザ１１は、レーザ媒質３１として、例えばＮｄ：ＹＡＧ媒質を用いている。レーザ媒質３１の両側には、レーザ媒質によって増幅された光を反射する２枚のミラー３２、３３が置かれている。さらに、ミラー３２からＡＯＭ（音響光学変調器）３７を介して入射した光を反射するミラー３４と、ミラー３３から入射した光の一部を反射して一部を出射する出射ミラー３６とが設けられている。これにより、能動モードロックレーザ１１は、周波数が異なる複数のモードで発振する。ＡＯＭ３７は、変調信号発生器３８から出力される変調信号に従って入射光を変調することにより、複数の発振モードの位相を揃える。
【００３５】
図１２は、本実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第３の変形例である。この光記録装置は、Ｑスイッチレーザ１３を用いている。Ｑスイッチレーザ１３は、外部から印加される同期信号に同期してパルス光を出力することができるので、画像信号処理回路１２において同期信号を作成し、これをＱスイッチレーザ１３に印加することにより、所望のパルス光を得ることができる。Ｑスイッチングによる固体レーザやファイバレーザは、数ｎ秒〜数十ｎ秒の短パルス光を発生することが可能であり、例えば、１画素形成時間２０ｎ秒中におけるレーザパルスの照射期間を８ｎ秒としており、これは、１画素形成時間の４０％に相当する。
【００３６】
図１３は、図１２に示す光記録装置において使用するＱスイッチレーザを原理的に示す図である。Ｑスイッチレーザ１３のレーザ媒質４１については、固体レーザ媒質として、Ｎｄ：ＹＡＧ媒質、Ｎｄ：ＹＬＦ媒質、Ｎｄ：ＹＶＯ4媒質等の種々の媒質を使用することができる。レーザ媒質４１の両側には、レーザ媒質によって増幅された光を反射する全反射ミラー４２と部分反射ミラー４３とが置かれている。これにより、Ｑスイッチレーザ１３は、周波数が異なる複数のモードで発振する。ここで、レーザ媒質４１とミラー４３との間には、レーザ光の損失又は利得を調節するための手段として、変調器４４が設けられている。変調器４４は、例えばＡＯＭ（音響光学変調器）で構成され、変調信号発生器４５から入力する変調信号に従って入射光を変調することにより、複数の発振モードの位相を揃える。変調器４４としては、ＡＯＭ以外に、ＥＯ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ）変調器等の種々のものを使用することができる。
【００３７】
また、同様の構成で、レーザ媒質としてＮｄやＹｂ（イッテルビウム）等を添加した光ファイバを用いたファイバレーザとすることも可能である。さらに、半導体を利得調節手段として用いた利得スイッチレーザを使用しても良い。通常の電流注入型の半導体レーザにおいては、注入電流を変調する利得スイッチングによるパルス光の発生が可能である。利得スイッチレーザは、数十ｐ秒〜数ｎ秒の短パルス光を発生することが可能である。
【００３８】
次に、本実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第４の変形例について、図１４を参照しながら説明する。図１４に示すように、この光記録装置は、アウタードラム型の感材固定・記録方式を採用しており、その他の点に関しては先に説明した光記録装置と同一である。ここでは、受動モードロックレーザを用いた例について説明する。
【００３９】
アウタードラム型の光記録装置５１は、外面が円筒形状のドラム５５を有している。ドラム５５の外側には、アルミニウム等の基材上に感材が形成されたプレート６が固定されている。ドラム５５は、モータや減速器等を含む回転機構５７に駆動されて、ドラムの円周に沿った方向（図中のＸ方向）に回転する。
【００４０】
２系列設けられた光学系５２の各々は、受動モードロックレーザ１と、光シャッタ３とを含んでいる。さらに、集光レンズ２３を設けても良い。受動モードロックレーザ１が発生するパルス光は、画像信号に従って開閉する光シャッタ３によって変調される。光シャッタ３を通過したパルス光は、集光レンズ２３によって集束される。集束の焦点は、プレート６の感材の表面近傍に位置するように調整されている。集光レンズ２３を出たパルス光は、プレート６の感材の表面にほぼ垂直に入射する。
【００４１】
画像記録中は、ドラム５５がドラムの円周に沿った方向（図中のＸ方向）に高速回転すると共に、光学系５２全体がドラムの軸心に平行な方向（図中のＺ方向）に移動する。従って、レーザ光は、主走査方向及び副走査方向において２次元的に走査される。Ｚ方向への走査は、ポリゴンミラーやガルバノミラー等の光学スキャナを用いることも可能である。以上述べたような光記録システムは、無処理の高速ＣＴＰの他に、プリント基板や光ディスクメモリの作製等に広く応用することが可能である。
【００４２】
【発明の効果】
以上述べた様に、本発明によれば、薄膜化された感材に対して短パルス幅露光を行うことにより、感度が飛躍的に向上し、より高速な画像形成が可能となり、印刷工程を短縮することができる。また、記録のためのエネルギーを下げることにより、熱拡散による記録画像のぼけを改善して、シャープネスを向上させることができる。
【００４３】
また、レーザ光を短パルス化することにより、定格出力の小さいレーザを用いることが可能となるので、レーザ光源のコストを下げることができる。例えば、受動モードロックによる固体レーザやファイバレーザにおける短パルス光の発生は、過飽和吸収体の挿入により簡単に実現できる。従って、レーザ光の短パルス化により低出力レーザを採用できる利点は大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置を原理的に示す図である。
【図２】図１の受動モードロックレーザから発生されるパルス状のレーザ光の波形を示す図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる記録材料を示す模式図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る光記録システムのシミュレーションを行うときに用いたパルス状のレーザ光の波形を示す図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る光記録システムについてのシミュレーション結果を示す図である。
【図６】金属薄膜を融点まで加熱するのに必要なエネルギと融解熱との関係を示す図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられるインナードラム型の光記録装置の一部を示す斜視図である。
【図８】図７の受動モードロックレーザを原理的に示す図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第１の変形例である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第２の変形例である。
【図１１】図１０の能動モードロックレーザを原理的に示す図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第３の変形例である。
【図１３】図１２のＱスイッチレーザを原理的に示す図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係る光記録システムにおいて用いられる光記録装置の第４の変形例である。
【符号の説明】
１  受動モードロックレーザ
２、１２  画像信号処理回路
３  光シャッタ
４、２５、５５  ドラム
５  回転ミラー
６  プレート
７  基材
８  感材
９  ビームスプリッタ
１０  光検知器
１１  能動モードロックレーザ
１３  Ｑスイッチレーザ
２１  インナードラム型の光記録装置
２２、５２  光学系
２３  集光レンズ
２４  モータ
２７  ドラム移動機構
３１  レーザ媒質
３２、３３、３４  ミラー
３５  過飽和吸収体
３６  出射ミラー
３７  ＡＯＭ（音響光学変調器）
３８  変調信号発生器
４２  全反射ミラー
４３  部分反射ミラー
４４  損失変調器
５１  アウタードラム型の光記録装置
５７  回転機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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