(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（I）：
0004577751.tif 000105
（式中、Ｙは−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子；Ｒ３は酸素原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、置換されていてもよいテトラゾリル、置換されていてもよいトリアゾリル、置換されていてもよいチアゾリル、置換されていてもよいイソキサゾリル、置換されていてもよいピラジニル、置換されていてもよいイミダゾリル、置換されていてもよいピリミジニル、または置換されていてもよいピリジル；
Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；
Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＮＨＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＯ−； 
Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリール；
ｐは０〜２（ｐ＝２のとき、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基は、それぞれ異なっていてもよい）；
Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環である）
で示される化合物、その互変異性体、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤。
【請求項２】
式（Ｉ）の式：−ＣＨ＝Ｃ（ＯＨ）−Ｙで示される基がＡ環を構成するヘテロ原子に隣接する原子に置換している、請求の範囲第１項記載のインテグラーゼ阻害剤。
【請求項３】
Ａ環が置換されていてもよいピリジン、置換されていてもよいピラジン、置換されていてもよいピリミジン、置換されていてもよいオキサゾール、置換されていてもよいチアジアゾール、置換されていてもよいキノリン、置換されていてもよいイソキノリン、置換されていてもよいプリン、置換されていてもよいベンゾオキサゾールまたは置換されていてもよいベンズイミダゾールである、請求の範囲第１項または第２項記載のインテグラーゼ阻害剤。
【請求項４】
ｐ＝１であり、
Ｚ１およびＺ３がそれぞれ独立して単結合またはアルキレンであり、
Ｚ２が単結合、アルキレンまたは−Ｏ−であり、
Ｒ１が置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである、請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載のインテグラーゼ阻害剤。
【請求項５】
式（XIIc）：
0004577751.tif 000106
（式中、Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；
Ｒ１環はヘテロアリールまたはアリール；
Ｐはヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ、ニトソロ、アミノ、アルキル置換アミノ、アシル置換アミノ、アジド、アリール、アラルキル、アミノ保護基、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、ヒドロキシアミノ、メルカプト、アルキルチオ、アルキル置換スルホニル、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル、スルファモイル、アシル、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、メルカプト、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノまたはグアニジノ；
ｔは０〜５である）
で示される化合物。
【請求項６】
請求の範囲第５項記載の化合物、その互変異性体、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬組成物。
【請求項７】
請求の範囲第５項記載の化合物、その互変異性体、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する抗ウイルス薬。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、芳香族ヘテロ環誘導体を含有するインテグラーゼ阻害剤、更に詳しくは、芳香族ヘテロ環誘導体を含有するＨＩＶインテグラーゼ阻害剤に関する。
背景技術
ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）は、後天性免疫不全症候群（エイズ）の原因となることが知られている。エイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤（ＡＺＴ、３ＴＣ等）とプロテアーゼ阻害剤（インディナビル等）が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬の開発が期待されている。
このような状況下、最近、動物細胞染色体へのウイルスＤＮＡの配列特異的組換え反応に関与する酵素であるインテグラーゼが注目されており、該酵素阻害作用に基づく抗ＨＩＶ薬の研究も行われている（（１）ＫＯＵＲＩＬＳＫＹ  Ｐ  ｅｔ  ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ，１９６８，６１（３），ｐ１０１３−１０２０．；（２）Ｆ  Ｂａｒｉｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．ＶＩＲＯＬ．ＭＥＴＨＯＤＳ（ＮＥＴＨＥＲＬＡＮＤＳ），１９８７，１７／１−２，ｐ５５−６１．；（３）Ｆｅｓｅｎ．ＭＲ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ  １９９３，９０，ｐ２３９９．；（４）ＤｅＮｏｏｎ，ＤＪ．，ＣＤＣ  ＡＩＤＳ  Ｗｅｅｋｌｙ  Ｐａｇｉｎａｔｉｏｎ，１９９０，２．）。また最近報告されたインテグラーゼ阻害剤としては、例えば、ＵＳＰ５，５７８，５７３に記載のペプチド誘導体、ＧＢ  ２３０６４７６Ａに記載のテトラヒドロナフチル誘導体、ＷＯ９７／３８９９９に記載のアクリドン誘導体等がある。
なお、文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，（２６），ｐ４４４１．）には、オキソプロパン酸が置換したピリジン誘導体が記載されている。文献（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９０，２３，ｐ１６７５−１６７６．）には、オキソプロパン酸エステルが置換したキノキサリンが記載されている。文献（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，１９８９，２９，ｐ１５５９．）には、オキソプロパン酸エステルが置換したピラゾールが記載されている。文献（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９２，２２（１５），ｐ２２４５−２２５１．）には、オキソプロパン酸エステルが置換したピリジン、ベンゾチアゾール、およびピラジンが記載されている。しかし、上記文献には、それらの化合物が抗ＨＩＶ活性、抗インテグラーゼ活性を有することについては何ら記載されていない。
後天性免疫不全症候群の治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている（Ｂａｌｚａｒｉｎｉ，Ｊ．ｅｔ  ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ  １９９６，９３，ｐ１３１５２−１３１５７．）。現在、抗ＨＩＶ薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤の２種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば拮抗的または付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗ＨＩＶ薬の開発、特にインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されている。
発明の開示
上記の状況下、新規なインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されていた。本発明者らは鋭意、研究した結果、新規な芳香族ヘテロ環誘導体、すなわち下記一般式（Ｉ）で示される化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物がインテグラーゼの阻害作用を有し、抗ウイルス薬、特に抗ＨＩＶ薬として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
１）  式（Ｉ）：
0004577751.tif 000002
（式中、Ｘはヒドロキシまたは置換されていてもよいアミノ；Ｙは−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３は酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ６−Ｒ７（Ｒ６は酸素原子またはＮ−Ｒ７；Ｒ７はそれぞれ独立して水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは１または２を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ８（Ｒ８は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは前記と同意義である）、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はそれぞれ独立して水素または置換されていてもよいアルキル）、ハロゲン化アルキルまたは置換されていてもよいヘテロアリール；Ｚは水素、置換されていてもよいアルキルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＣＯ−、−ＣＯＮＲ１０−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＯ−；Ｒ１０は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリール；ｐは０〜２（ｐ＝２のとき、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基は、それぞれ異なっていてもよい）；Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環である）で示される化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤、
２）  式（Ｉ）の式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙで示される基がＡ環を構成するヘテロ原子に隣接する原子に置換している上記１）記載のインテグラーゼ阻害剤、
３）  Ｙが置換されていてもよいヘテロアリールであり、該ヘテロアリールを構成するヘテロ原子に隣接する原子に結合手を有する上記１）または２）記載のインテグラーゼ阻害剤、
４）  Ｘがヒドロキシであり、Ｙが−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子；Ｒ３は酸素原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、置換されていてもよいテトラゾリル、置換されていてもよいトリアゾリル、置換されていてもよいチアゾリルであり、置換されていてもよいイソキサゾリルであり、置換されていてもよいピラジニルであり、置換されていてもよいイミダゾリル、置換されていてもよいピリミジニル、または置換されていてもよいピリジルである上記１）または２）記載のインテグラーゼ阻害剤、
５）  Ａ環が置換されていてもよいピリジン、置換されていてもよいピラジン、置換されていてもよいピリミジン、置換されていてもよいオキサゾール、置換されていてもよいチアジアゾール、置換されていてもよいキノリン、置換されていてもよいイソキノリン、置換されていてもよいプリン、置換されていてもよいベンゾオキサゾールまたは置換されていてもよいベンズイミダゾールである上記１）〜４）のいずれかに記載のインテグラーゼ阻害剤、
６）  ｐ＝１であり、Ｚ１およびＺ３がそれぞれ独立して単結合またはアルキレンであり、Ｚ２が単結合、アルキレンまたは−Ｏ−であり、Ｒ１が置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである上記１）〜５）のいずれかに記載のインテグラーゼ阻害剤、
７）  式（Ｉ）：
0004577751.tif 000003
（式中、Ｘはヒドロキシまたは置換されていてもよいアミノ；Ｙは−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３は酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ６−Ｒ７（Ｒ６は酸素原子またはＮ−Ｒ７；Ｒ７はそれぞれ独立して水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは１または２を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ８（Ｒ８は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは前記と同意義である）、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はそれぞれ独立して水素または置換されていてもよいアルキル）、ハロゲン化アルキルまたは置換されていてもよいヘテロアリール；Ｚは水素、置換されていてもよいアルキルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＣＯ−、−ＣＯＮＲ１０−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＯ−；Ｒ１０は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ１は置換されていてもよい分枝状のアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリール；ｐは１〜２（ｐ＝２のとき、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基は、それぞれ異なっていてもよい）；Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙで示される基はＡ環を構成するヘテロ原子に隣接する原子に置換している；但し、Ｘがヒドロキシであり、Ｙが−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子；Ｒ３は酸素原子；Ｒ４は水素、メチルまたはエチルを表わす。）であり、Ｚが水素であり、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が単結合であり、Ｒ１が非置換フェニルであり、ｐが１であり、かつＡ環が置換されていてもよいピリジンまたは置換されていてもよいピラゾールである場合を除く。）で示される化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
８）  Ｙが置換されていてもよいヘテロアリールであり、該ヘテロアリールを構成するヘテロ原子に隣接する原子に結合手を有する上記７）記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
９）  Ｘがヒドロキシであり、Ｙが−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子；Ｒ３は酸素原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、置換されていてもよいテトラゾリル、置換されていてもよいトリアゾリル、置換されていてもよいチアゾリルであり、置換されていてもよいイソキサゾリルであり、置換されていてもよいピラジニルであり、置換されていてもよいイミダゾリル、置換されていてもよいピリミジニル、または置換されていてもよいピリジルである上記７）または８）記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１０）  Ａ環が置換されていてもよい含窒素芳香族ヘテロ環である上記７）〜９）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１１）  Ａ環が置換されていてもよいピリジン、置換されていてもよいピラジン、置換されていてもよいピリミジン、置換されていてもよいオキサゾール、置換されていてもよいチアジアゾール、置換されていてもよいキノリン、置換されていてもよいイソキノリン、置換されていてもよいプリン、置換されていてもよいベンゾオキサゾールまたは置換されていてもよいベンズイミダゾールである上記７）〜１０）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１２）  Ｚ２が単結合、アルキレンまたは−Ｏ−である上記７）〜１１）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１３）  Ｚ１およびＺ３がそれぞれ独立して単結合またはアルキレンであり、Ｒ１が置換されていてもよい分枝状のアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである上記７）〜１２）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１４）  Ｚ１が単結合であり、Ｚ２がアルキレンまたは−Ｏ−であり、Ｚ３が単結合またはアルキレンであり、Ａ環が置換されていてもよいピリジンである上記７）〜１３）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１５）  式（ＸＩＩｃ）：
0004577751.tif 000004
（式中、Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；Ｒ１はヘテロアリールまたはアリール；Ｐはヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ、アジド、アリール、アラルキル、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ、アルキルスルホニル、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、メルカプト、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノまたはグアニジノ；ｔは０〜５である）で示される化合物。
１６）  上記１５）記載の化合物のライブラリー。
１７）  上記７）〜１５）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬組成物、
１８）  上記７）〜１５）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する抗ウイルス薬、
１９）  上記７）〜１５）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する抗ＨＩＶ薬、
２０）  上記７）〜１５）のいずれかに記載の化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、もしくはそれらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤、
２１）  上記１）〜６）および２０）のいずれかに記載のインテグラーゼ阻害剤に、逆転写酵素阻害剤および／またはプロテアーゼ阻害剤を組み合わせてなる抗ＨＩＶ用合剤、
２２）  逆転写酵素阻害剤および／またはプロテアーゼ阻害剤の抗ＨＩＶ活性を上昇させる活性を有する上記１）〜６）および２０）のいずれかに記載のインテグラーゼ阻害剤、
２３）  上記１）〜６）または２０）のいずれかに記載のインテグラーゼ阻害剤を投与することを特徴とするエイズまたはエイズ関連合併症の治療方法、
２４）  インテグラーゼ阻害剤を製造するための上記１）〜６）または２０）のいずれかに記載の化合物の使用、
に関する。
発明を実施するための最良の形態
式（Ｉ）で示される化合物の構造上の特徴の一つは、Ａ環が置換されていてもよい芳香族ヘテロ環であり、該芳香族ヘテロ環が、式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙ（式中、Ｘはヒドロキシまたは置換されていてもよいアミノ、Ｙは−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３は酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ６−Ｒ７（Ｒ６は酸素原子またはＮ−Ｒ７；Ｒ７はそれぞれ独立して水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは１または２を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ８（Ｒ８は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは前記と同意義である）、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はそれぞれ独立して水素または置換されていてもよいアルキル）、ハロゲン化アルキルまたは置換されていてもよいヘテロアリール；Ｚは水素、置換されていてもよいアルキルまたは置換されていてもよいアラルキル）で示される基で置換されている点である。
特に、式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙ（式中、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義である）で示される基が、Ａ環を構成するヘテロ原子に隣接する原子に置換している場合が好ましい。例えば、以下に示すような場合を意味する。
0004577751.tif 000005
（式中、ＨｅｔはＡ環を構成するヘテロ原子であり、Ａ１はＡ環を構成するヘテロ原子に隣接する原子であり、破線は結合の存在または不存在を意味する。他の語は前記と同意義である。なお、Ａ環はＨｅｔ以外のヘテロ原子を有していてもよい。）
また、Ｙが置換されていてもよいヘテロアリールである場合は、該ヘテロアリールを構成するヘテロ原子に隣接する原子に結合手を有する場合が好ましい。例えば、以下に示すような場合を意味する。
0004577751.tif 000006
（式中、Ｈｅｔはヘテロアリールを構成するヘテロ原子であり、Ｙ１はヘテロアリールを構成するヘテロ原子に隣接する原子であり、式：
0004577751.tif 000007
で示される基はＹを意味し、破線は結合の存在または不存在を意味する。他の語は前記と同意義である。なお、ＹはＨｅｔ以外のヘテロ原子を有していてもよい。）
また、Ｙが−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ６−Ｒ７、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ８または−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（各語は前記と同意義）である場合も、上記に示されるヘテロアリールを構成するヘテロ原子の位置に、それぞれ、酸素原子や窒素原子が位置し、高いインテグラーゼ阻害活性を示すため好ましい。
また、式（Ｉ）で示される化合物の構造上の特徴の一つは、該芳香族ヘテロ環（Ａ環）が、上記の式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙ（式中、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義である）で示される基以外に、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＳＯ２−Ｏ−、−ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＣＯ−、−ＣＯＮＲ１０−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−またはＣＯ−；Ｒ１０は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される基で置換されていてもよい点である。
式（Ｉ）で示される化合物のより好ましいものとしては、例えば、下記のもの等を挙げることができる。
（Ａ−１）  ３−（５−ベンジルオキシピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−２）  ３−（５−ベンジルオキシピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−３）  ３−（３−イソプロポキシピラジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−４）  ３−［６−（２−フェニルエチル）ピリミジン−４−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−５）  ３−［６−（２−フェニルエチル）ピリミジン−４−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−６）  ３−［５−（２−フェニルエチル）［１，３，４］チアジアゾール−２−イル）−２．ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−７）  ３−［５−（２−フェニルエチル）［１，３，４］チアジアゾール−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−８）  ３−（４−ベンジルオキシピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−９）  ３−（４−ベンジルオキシピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−１０）  ３−（５−イソペントキシピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−１１）  ３−［５−（シクロヘキシルメトキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−１２）  ３−［５−（２−フェニルエトキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−１３）  ３−［５−（２−フェニルエチル）ピラジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−１４）  ３−［５−（２−フェニルエチル）ピラジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−１５）  ３−（イソキノリン−３−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−１６）  ３−（５−ヒドロキシピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−１７）  ３−［５−（４−トリフルオロメチルベンジルオキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−１８）  ３−［５−（４−トリフルオロメチルベンジルオキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−１９）  ３−［５−（２，４−ジフルオロベンジルオキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−２０）  ３−［５−（２，４−ジフルオロベンジルオキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−２１）  ３−［５−（２−ナフチルメトキシ）ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸  エチルエステル
（Ａ−２２）  ３−［５−（３−カルボキシオギザリル−２，４−ジフルオロ−ベンジルオキシ）−ピリジン−２−イル］−２−ヒドロキシアクリル酸
（Ａ−２３）  ２−（５−ベンジルオキシ−ピリジン−２−イル）−１−（１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−イル）エテノール
（Ａ−２４）  ２−（５−ベンジルオキシ−ピリジン−２−イル）−１−チアゾール−２−イルエテノール
（Ａ−２５）  ３−（ベンゾオキサゾール−２−イル）−２−ヒドロキシ−２−プロパン酸
本発明は、式（Ｉ）で示される化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、それらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物、それらを有効成分として含有する医薬組成物、抗ウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、インテグラーゼ阻害剤、抗ＨＩＶ用合剤を提供するものであるが、これらは、抗ＨＩＶ薬としてのみならず、抗ＡＩＤＳ薬、すなわち、エイズおよびその関連臨床的症状、例えばエイズ関連合併症（ＡＲＣ）、進行性全身化リンパ節症（ＰＧＬ）、カポジ肉種、カリニ肺炎、突発性血小板減少性紫斑病、エイズ関連神経学的症状、例えば、エイズ痴呆症合併症、エイズ脳症、多発性硬化症または熱帯性不全対麻痺、並びにまた無症候患者におけるものを含めた抗ＨＩＶ抗体陽性およびＨＩＶ陽性症状の治療に特に有用である。
本明細書中で用いる用語を以下に説明する。各用語は単独でまたは他の用語と一緒になって同一の意義を有する。
Ａ環の定義における「芳香族ヘテロ環」は、酸素原子、硫黄原子、および／または窒素原子を環内に１〜４個含む５〜８員の芳香環、または１〜４個の５〜８員の芳香族炭素環もしくは他の５〜８員の芳香族ヘテロ環と縮合している前記芳香環であって、置換可能な任意の位置に結合手を有することができる。すなわち、「芳香族ヘテロ環」は、単環芳香族ヘテロ環および縮合芳香族ヘテロ環を意味する。
「単環芳香族ヘテロ環」は、酸素原子、硫黄原子、および／または窒素原子を環内に１〜４個含む５〜８員の芳香環であって、置換可能な任意の位置に結合手を有することができる。
「縮合芳香族ヘテロ環」は、酸素原子、硫黄原子、および／または窒素原子を環内に１〜４個含む５〜８員の芳香環が、１〜４個の５〜８員の芳香族炭素環もしくは他の５〜８員の芳香族ヘテロ環と縮合している環であって、置換可能な任意の位置に結合手を有することができる。
「芳香族ヘテロ環」には、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、フラザンまたはピラジン等の単環芳香族ヘテロ環や、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンズイミダゾール、ジベンゾフラン、ベンゾオキサゾール、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、キノリン、フタラジン、イソキノリン、プリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、インドール、イソインドールまたはフェナジン等の縮合芳香族ヘテロ環が挙げられる。
「芳香族ヘテロ環」の好ましい態様の一つとして「含窒素芳香族ヘテロ環」が挙げられる。「含窒素芳香族ヘテロ環」とは、１以上の窒素原子を環構成原子として含む「芳香族ヘテロ環」であり、例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリダジン、ピリミジン、フラザン、ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、キノリン、フタラジン、イソキノリン、プリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、インドール、イソインドールまたはフェナジン等が挙げられる。
また、特に、式（Ｉ）における式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙで示される基が、「芳香族ヘテロ環」（Ａ環）を構成するヘテロ原子に隣接する原子に置換している場合が好ましいが、この場合さらに、該ヘテロ原子が芳香環の共役に関わらない孤立電子対を有する場合が好ましい。このような芳香族ヘテロ環としては、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、フラザン、ピラジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、キノリン、フタラジン、イソキノリン、プリン、プテリジン、フェナントリジン等が挙げられる。
「芳香族ヘテロ環」として、特に好ましいのは、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、オキサゾール、チアジアゾール、キノリン、イソキノリン、プリン、ベンゾオキサゾール、ベンズイミダゾールである。
「ヘテロアリール」とは、上記「芳香族ヘテロ環」を構成する炭素原子または窒素原子から水素原子１個を除いてできる基を意味し、例えば、フリル（例えば、２−フリル、３−フリル）、チエニル（例えば、２−チエニル、３−チエニル）、ピロリル（例えば、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、イミダゾリル（例えば、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、ピラゾリル（例えば、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル）、トリアゾリル（例えば、１，２，４−トリアゾール−１−イル、１，２，４−トリアゾリール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−４−イル）、テトラゾリル（例えば、１−テトラゾリル、２−テトラゾリル、５−テトラゾリル）、オキサゾリル（例えば、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イソキサゾリル（例えば、３−イソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル）、チアゾリル（例えば、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル）、チアジアゾリル、イソチアゾリル（例えば、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル）、ピリジル（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピリダジニル（例えば、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル）、ピリミジニル（例えば、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル）、フラザニル（例えば、３−フラザニル）、ピラジニル（例えば、２−ピラジニル）、オキサジアゾリル（例えば、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）、ベンゾフリル（例えば、２−ベンゾ［ｂ］フリル、３−ベンゾ［ｂ］フリル、４−ベンゾ［ｂ］フリル、５−ベンゾ［ｂ］フリル、６−ベンゾ［ｂ］フリル、７−ベンゾ［ｂ］フリル）、ベンゾチエニル（例えば、２−ベンゾ［ｂ］チエニル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ［ｂ］チエニル、６−ベンゾ［ｂ］チエニル、７−ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンズイミダゾリル（例えば、１−ベンゾイミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、４−ベンゾイミダゾリル、５−ベンゾイミダゾリル）、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサリル（例えば、２−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル）、シンノリニル（例えば、３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル）、キナゾリル（例えば、２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル）、キノリル（例えば、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、８−キノリル）、フタラジニル（例えば、１−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル）、イソキノリル（例えば、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル、６−イソキノリル、７−イソキノリル、８−イソキノリル）、プリル、プテリジニル（例えば、２−プテリジニル、４−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル）、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル（例えば、１−アクリジニル、２−アクリジニル、３−アクリジニル、４−アクリジニル、９−アクリジニル）、インドリル（例えば、１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル）、イソインドリル、ファナジニル（例えば、１−フェナジニル、２−フェナジニル）またはフェノチアジニル（例えば、１−フェノチアジニル、２−フェノチアジニル、３．フェノチアジニル、４−フェノチアジニル）等が挙げられる。
Ｙの定義中のヘテロアリールとして好ましいのは、その環内に少なくとも１個のＮ原子を有する５または６員環であり、より好ましいのは、テトラゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソキサゾリル、ピラジニル、イミダゾリル、ピリミジニル、ピリジル、オキサゾリルまたはイソチアゾリルであり、特に、該ヘテロアリールを構成するヘテロ原子に隣接する原子に結合手を有するヘテロアリールが好ましい。具体的には、２Ｈ−テトラゾール−５−イル、１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−イル、チアゾール−２−イル、チアゾール−４−イル、イソキサゾール−３−イル、イソキサゾール−５−イル、ピラジン−２−イル、イミダゾール−２−イル、ピリミジン−２−イル、ピリジン−２−イル等が好ましい。
Ｒ１の定義中のヘテロアリールとしては、５員または６員のヘテロアリールが好ましく、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、フラザニル、ピラジニルが挙げられる。特に、ピリジル（ピリジン−２−イル、ピリジン−３−イル、ピリジン−４−イル）が好ましい。
「アリール」は、単環芳香族炭化水素基（フェニル）または多環芳香族炭化水素基（例えば、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル、９−フェナントリル等）を意味する。好ましくは、フェニルまたはナフチル（１−ナフチル、２−ナフチル）である。
「アルキレン」は、炭素数１〜６個の直鎖状または分枝状のアルキレン基を意味し、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、エチルエチレン、ペンタメチレンまたはヘキサメチレン等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜４個の直鎖状のアルキレン基であり、メチレン、エチレン、トリメチレンまたはテトラメチレンである。
「アルケニレン」は、上記「アルキレン」に１個またはそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜６個の直鎖状または分枝状のアルケニレン基を意味し、例えば、ビニレン、プロペニレンまたはブテニレンが挙げられる。好ましくは、炭素数２〜３個の直鎖状のアルケニレン基であり、ビニレンまたはプロペニレンである。
「アルキル」は、炭素数１〜８個の直鎖状または分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル等が挙げられる。
Ｒ１の定義中のアルキルとしては、分枝状のアルキルが好ましく、特に、炭素数３〜８個の分枝状のアルキル基（例えば、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソヘキシル等）が好ましい。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０の定義中のアルキルとしては、炭素数１〜８個の直鎖状のアルキル基（メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシルなど）が好ましい。
「アルケニル」は、上記「アルキル」に１個またはそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜８個の直鎖状または分枝状のアルケニル基を意味し、例えば、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、３−メチル−２−ブテニル等が挙げられる。
「アルキニル」とは、上記「アルキル」に１個またはそれ以上の三重結合を有する炭素数２〜８個のアルキニルを意味し、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル等が挙げられる。
「シクロアルキル」は、炭素数３〜１０の環状飽和炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。特に、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい。
「シクロアルケニル」は、炭素数３〜１０の環状の非芳香族炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロペニル（例えば、１−シクロプロペニル）、シクロブテニル（例えば、１−シクロブテニル）、シクロペンテニル（例えば、１−シクロペンテン−１−イル、２−シクロペンテン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イル）、シクロヘキセニル（例えば、１−シクロヘキセン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イル）、シクロヘプテニル（例えば、１−シクロヘプテニル）、シクロオクテニル（例えば、１−シクロオクテニル）等が挙げられる。特に、１−シクロヘキセン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルが好ましい。
「アラルキル」とは、１〜３個の上記「アリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル等）等が挙げられる。
「アルコキシ」のアルキル部分は、上記「アルキル」と同意義であり、「アルコキシ」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。特に、メトキシ、エトキシが好ましい。
「ハロゲン化アルキル」とは、１以上のハロゲンで置換された上記「アルキル」を意味する。特に、炭素数１〜３のハロゲン化アルキルが好ましく、例えば、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、１，１−ジクロロエチル、２，２，２−トリクロロエチルなどが挙げられる。
「非芳香族ヘテロ環式基」とは、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を少なくとも１以上環内に有する、置換可能な任意の位置に結合手を有する非芳香族複素環式基を意味し、例えば、１−ピロリニル、２−ピロリニル、３−ピロリニル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル、１−イミダゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、１−ピラゾリニル、３−ピラゾリニル、４−ピラゾリニル、１−ピラゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２−ピペリジル、３−ピペリジル、４−ピペリジル、１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、２−モルホリニル、３−モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル等が挙げられる。なお、「非芳香族複素環式基」は、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。
「アラルキル」のアルキル部分、「アルキル」、「アルケニル」、「アルキニル」、「シクロアルキル」、「シクロアルケニル」、「非芳香族ヘテロ環式基」が置換基を有する場合、それぞれ同一または異なる１〜４個の置換基で任意の位置が置換されていてもよい。
「アラルキル」のアリール部分、「アリール」、「ヘテロアリール」、「芳香族ヘテロ環」が置換基を有する場合、それぞれ同一または異なる１〜４個の置換基で任意の位置（例えば、オルト、メタおよび／またはパラ）が置換されていてもよい。
「アラルキル」のアリール部分およびアルキル部分、「置換されていてもよいアルキル」、「置換されていてもよいアルケニル」、「置換されていてもよいアルキニル」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基」、「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよい芳香族ヘテロ環」の置換基としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロゲン化アルキル（例えば、ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３等）、アルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等）、アルケニル（例えば、ビニル）、アルキニル（例えば、エチニル）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル）、シクロアルケニル（例えば、シクロプロペニル）、アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等）、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ（例えば、アルキルアミノ（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等）、アシルアミノ（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、アラルキルアミノ（例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ等）、アジド、アリール（例えば、フェニル等）、アラルキル（例えば、ベンジル等）、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ等）、アルキルスルホニル（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル（例えば、ホルミル、アセチル等）、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、メルカプト、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が挙げられる。
なお、式（Ｉ）で示される化合物のＡ環の定義における「置換されていてもよい芳香族ヘテロ環」の置換基には、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＲ１は前記と同意義である）で示される基以外にも、上記に例示した置換基も含まれる。
「置換されていてもよいアミノ」および「置換されていてもよいカルバモイル」の置換基としては、アルキル（例えば、メチル、エチル、ジメチル等）、アルコキシアルキル（例えば、エトキシメチル、エトキシエチル等）、アシル（例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、トルオイル等）、アラルキル（例えば、ベンジル、トリチル等）、ヒドロキシ等が挙げられる。
Ｘはヒドロキシまたは置換されていてもよいアミノであるが、好ましくは、ヒドロキシである。
ｐは０〜２を表わすが、特にｐ＝１が好ましい。
式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基としては、例えば、式：−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ１、式：−Ｓ−Ｒ１、式：−ＳＯ−Ｒ１、式：−ＳＯ２−Ｒ１、式：−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＳＯ２−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｒ１、式：−ＮＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＯＮＨ−Ｒ１、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１、式：−ＣＯ−Ｒ１、式：−Ｃ２Ｈ４−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｓ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＳＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＮＨＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＳＯ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯ−Ｒ１、式：−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｓ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＳＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＮＨＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＯＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−Ｃ３Ｈ６−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−Ｃ２Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＳＯ２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＮＨＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ２−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ２Ｈ４−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＳＯ２−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＮＨＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ１、式：−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｒ１または式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１（式中、Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである。）で示される基等が挙げられる。
式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である。）で示される基として好ましいのは、▲１▼Ｚ１が単結合またはアルキレンである場合、▲２▼Ｚ１が単結合である場合、▲３▼Ｚ２が単結合、アルキレン、−ＳＯ２−または−Ｏ−である場合、▲４▼Ｚ２が単結合、アルキレンまたは−Ｏ−である場合、▲５▼Ｚ２がアルキレンまたは−Ｏ−である場合、▲６▼Ｚ３が単結合またはアルキレンである場合、▲７▼Ｒ１が置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである場合、▲８▼Ｒ１が置換されていてもよい分枝状のアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである場合、▲９▼Ｒ１が置換されていてもよい分枝状のアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていても
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場合またはそれらの組み合わせである。
式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＲ１は前記と同意義である。）で示される基の好ましい具体例としては、フェニル、２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、２，６−ジフルオロフェニル、２，５−ジフルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−メチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−ブロモフェニル、４−ビフェニル、ベンジル、２−フルオロベンジル、３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、２，６−ジフルオロベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、３，４−ジフルオロベンジル、３，６−ジフルオロベンジル、４−メチルベンジル、３−トリフルオロメチルベンジル、４−トリフルオロメチルベンジル、４−ヒドロキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−ブロモベンジル、４−フェニルベンジル、２−フェニルエチル、２−（２−フルオロフェニル）エチル、２−（３−フルオロフェニル）エチル、２−（４−フルオロフェニル）エチル、２−（２−クロロフェニル）エチル、２−（３−クロロフェニル）エチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル、２−（２，５−ジフルオロフェニル）エチル、２−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（４−メチルフェニル）エチル、２−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、２−（４−ブロモフェニル）エチル、２−（４−ビフェニリル）エチル、ベンゼンスルホニル、２−フルオロベンゼンスルホニル、３−フルオロベンゼンスルホニル、４−フルオロベンゼンスルホニル、２−クロロベンゼンスルホニル、３−クロロベンゼンスルホニル、４−クロロベンゼンスルホニル、２，４−ジフルオロベンゼンスルホニル、２，６−ジフルオロベンゼンスルホニル、２，５−ジフルオロベンゼンスルホニル、３，４−ジフルオロベンゼンスルホニル、４−メチルベンゼンスルホニル、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、４−ヒドロキシベンゼンスルホニル、４−メトキシベンゼンスルホニル、４−ブロモベンゼンスルホニル、４−フェニルベンゼンスルホニル、ベンゼンスルフェニル、４−フルオロベンゼンスルフェニル、フェニルチオ、２−フルオロフェニルチオ、３−フルオロフェニルチオ、４−フルオロフェニルチオ、２−クロロフェニルチオ、３−クロロフェニルチオ、４−クロロフェニルチオ、２，４−ジフルオロフェニルチオ、２，６−ジフルオロフェニルチオ、２，５−ジフルオロフェニルチオ、３，４−ジフルオロフェニルチオ、４−メチルフェニルチオ、３−トリフルオロメチルフェニルチオ、４−トリフルオロメチルフェニルチオ、４−ヒドロキシフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ、４−ブロモフェニルチオ、４−ビフェニリルチオ、フェノキシ、２−フルオロフェノキシ、３−フルオロフェノキシ、４−フルオロフェノキシ、２−クロロフェノキシ、３−クロロフェノキシ、４−クロロフェノキシ、２，４−ジフルオロフェノキシ、２，６−ジフルオロフェノキシ、２，５−ジフルオロフェノキシ、３，４−ジフルオロフェノキシ、４−メチルフェノキシ、３−トリフルオロメチルフェノキシ、４−トリフルオロメチルフェノキシ、４−ヒドロキシフェノキシ、４−メトキシフェノキシ、４−ブロモフェノキシ、４−フェニルフェノキシ、ベンゾイル、２−フルオロベンゾイル、３−フルオロベンゾイル、４−フルオロベンゾイル、２−クロロベンゾイル、３−クロロベンゾイル、４−クロロベンゾイル、２，４−ジフルオロベンゾイル、２，６−ジフルオロベンゾイル、２，５−ジフルオロベンゾイル、３，４−ジフルオロベンゾイル、４−メチルベンゾイル、３−トリフルオロメチルベンゾイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、４−ヒドロキシベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、４−フェニルベンゾイル、２−チエニル、３−チエニル、フルフリル、３−フリルメチル、（２−クロロチオフェン−３−イル）メチル、２−ピコリル、３−ピコリル、４−ピコリル、（２−フルオロピリジン−３−イル）メチル、（２−フルオロピリジン−５−イル）メチル、（５−フルオロピリジン−２−イル）メチル、ベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ、メチル、エチル、イソプロピル、イソペンチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、イソペントキシ、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルメトキシ、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフチル）エチル、４−トリフルオロベンジルオキシ、２，４−ジフルオロベンジルオキシ、２−ナフチルメトキシ等が挙げられる。
特に好ましい具体例としては、フェニル、ベンジル、２−フルオロベンジル、３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、２，６−ジフルオロベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、３，４−ジフルオロベンジル、４−メチルベンジル、３−トリフルオロメチルベンジル、４−トリフルオロメチルベンジル、４−ヒドロキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−ブロモベンジル、４−フェニルベンジル、２−フェニルエチル、２−（２−フルオロフェニル）エチル、２−（３−フルオロフェニル）エチル、２−（４−フルオロフェニル）エチル、２−（２−クロロフェニル）エチル、２−（３−クロロフェニル）エチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル、２−（２，５−ジフルオロフェニル）エチル、２−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（４−メチルフェニル）エチル、２−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、２−（４−ブロモフェニル）エチル、２−（４−ビフェニリル）エチル、ベンゼンスルホニル、２−フルオロベンゼンスルホニル、３−フルオロベンゼンスルホニル、４−フルオロベンゼンスルホニル、２−クロロベンゼンスルホニル、３−クロロベンゼンスルホニル、４−クロロベンゼンスルホニル、２，４−ジフルオロベンゼンスルホニル、２，６−ジフルオロベンゼンスルホニル、２，５−ジフルオロベンゼンスルホニル、３，４−ジフルオロベンゼンスルホニル、４−メチルベンゼンスルホニル、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、４−ヒドロキシベンゼンスルホニル、４−メトキシベンゼンスルホニル、４−ブロモベンゼンスルホニル、４−フェニルベンゼンスルホニル、ベンゼンスルフェニル、４−フルオロベンゼンスルフェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ、メチル、エチル、イソプロピル、イソペンチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、イソペントキシ、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルメトキシ、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフチル）エチル、４−トリフルオロベンジルオキシ、２，４−ジフルオロベンジルオキシ、２−ナフチルメトキシ等が挙げられる。
さらに好ましい具体例としては、フェニル、ベンジル、２−フェニルエチル、２−フルオロベンジル、３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−（２−フルオロフェニル）エチル、２−（３−フルオロフェニル）エチル、２−（４−フルオロフェニル）エチル、ベンゼンスルホニル、２−フルオロベンゼンスルホニル、３−フルオロベンゼンスルホニル、４−フルオロベンゼンスルホニル、２−クロロベンゼンスルホニル、３−クロロベンゼンスルホニル、４−クロロベンゼンスルホニル、ベンゼンスルフェニル、４−フルオロベンゼンスルフェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ、メチル、エチル、イソプロピル、イソペンチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、イソペントキシ、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルメトキシ、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフチル）エチル、４−トリフルオロベンジルオキシ、２，４−ジフルオロベンジルオキシ、２−ナフチルメトキシ、２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル等が挙げられる。
式（Ｉ）で示される化合物（Ｚが水素の場合）は、通常、溶液中等で以下に示す化学平衡を取り得る。以下に例を示す。
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（式中、Ａは置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；Ｘはヒドロキシまたは置換されていてもよいアミノ；Ｙは−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３は酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ６−Ｒ７（Ｒ６は酸素原子またはＮ−Ｒ７；Ｒ７はそれぞれ独立して水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは１または２を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ８（Ｒ８は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは前記と同意義である）、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はそれぞれ独立して水素または置換されていてもよいアルキル）、ハロゲン化アルキルまたは置換されていてもよいヘテロアリール；Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ１０、−ＮＲ１０ＣＯ−、−ＣＯＮＲ１０−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＯ−；Ｒ１０は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリール；ｐは０〜２（ｐ＝２のとき、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基は、それぞれ異なっていてもよい）；Ｒ１１は水素またはイミノ基上の置換基（アルキル、アルコキシアルキル、アシルまたはアラルキル）である。）
上記の化学平衡において、化合物（Ｉ’，但し、Ｚ＝Ｏ）は化合物（Ｉ，但し、Ｘ＝ＯＨ）のケト体であり、また化合物（Ｉ”）と化合物（Ｉ）は、式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙのオレフィン部分において互いに、シス体・トランス体の関係にある。これらの化合物を含めて化合物（Ｉ）の理論上可能なすべての互変異性体および幾何異性体は、本発明の範囲内である。以下、本明細書においては、化合物（Ｉ）およびそのすべての互変異性体、幾何異性体を総称して、単に化合物（Ｉ）ということもある。なお、ＮＭＲ測定時（ＣＤＣｌ３，ｄ６−ＤＭＳＯ中）においても上記互変異性体が混在しているが、主としては（Ｉ）型であるため、後述の実施例におけるＮＭＲデータの大部分は、上記（Ｉ）型の値を記載する。
また、「芳香族ヘテロ環」や「ヘテロアリール」の中にも互変異性体が存在する。例えば、トリアゾリル、テトラゾリル等においても以下の互変異性体を生じるが、特に特定の構造に限定したものではない。すべて本発明に包含される。
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プロドラッグは、化学的または代謝的に分解できる基を有する本発明化合物（式（Ｉ）で示される化合物）の誘導体であり、加溶媒分解によりまたは生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えばＤｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ  １９８５に記載されている。
ＨＩＶは無症候期においても、リンパ節で盛んに増殖していることが知られており、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、リンパ指向性プロドラッグが好ましい。また、ＨＩＶにより引き起こされる疾患としてエイズ脳症があり、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、脳指向性プロドラッグが好ましい。
これらリンパ指向性プロドラッグおよび脳指向性プロドラッグとしては、下記のように脂溶性を高めたプロドラッグが好ましい。
式（Ｉ）で示される化合物がカルボキシを有する場合は、もとになる酸性化合物と適当なアルコールを反応させることによって製造されるエステル誘導体、またはもとになる酸性化合物と適当なアミンを反応させることによって製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいエステルとしては、メチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチルエステル、イソブチルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステル、モルホリノエチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジエチルグリコールアミドエステル等が挙げられる。
式（Ｉ）で示される化合物がヒドロキシを有する場合は、例えばヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライドまたは適当な酸無水物とを反応させることに製造されるアシルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアシルオキシとしては、−Ｏ（＝Ｏ）−ＣＨ３、−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｃ２Ｈ５、−ＯＣ（＝Ｏ）−（ｔｅｒｔ−Ｂｕ）、−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｃ１５Ｈ３１、−ＯＣ（＝Ｏ）−（ｍ−ＣＯＯＮａ−Ｐｈ）、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ（ＮＨ２）ＣＨ３、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）２等が挙げられる。
式（Ｉ）で示される化合物がアミノを有する場合は、アミノを有する化合物と適当な酸ハロゲン化物または適当な混合酸無水物とを反応させることにより製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアミドとしては、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−（ＣＨ２）２０ＣＨ３、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−ＣＨ（ＮＨ２）ＣＨ３等が挙げられる。
式（Ｉ）で示される化合物の製薬上許容される塩としては、塩基性塩として、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ブロカイン塩等の脂肪族アミン塩；Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩；ピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等のヘテロ環芳香族アミン塩；テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩；アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。酸性塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩；酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩；メタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸等が挙げられる。
また式（Ｉ）で示される化合物の溶媒和物、各種溶媒和物も本発明の範囲内であり、例えば、一溶媒和物、二溶媒和物、一水和物、二水和物等が挙げられる。
「阻害」なる用語は、式（Ｉ）で示される化合物が、インテグラーゼの働きを抑制することを意味する。
「製薬上許容される」なる用語は、予防上または治療上有害ではないことを意味する。
式（Ｉ）で示される化合物の代表的な一般的製造法（合成ルート［Ａ］〜［Ｉ］）を以下に説明する。
式（Ｉ）で示される化合物は新規芳香族ヘテロ環誘導体であり、該芳香族ヘテロ環（Ａ環）として、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、フラザンまたはピラジン等の単環芳香族ヘテロ環や、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンズイミダゾール、ジベンゾフラン、ベンゾオキサゾール、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、キノリン、フタラジン、イソキノリン、プリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、インドール、イソインドールまたはフェナジン等の縮合芳香族ヘテロ環が挙げられる。これらの芳香族ヘテロ環化合物は、芳香族性を示す化合物一般について知られている反応や、各芳香族ヘテロ環に特有の反応を用いて、各種の官能基を導入することができる。また、所望の置換基を有した芳香族ヘテロ環化合物を合成することもできる。例えば、各種芳香族ヘテロ環化合物に関する一般的な有機合成について（１）  Ａｌａｎ  Ｒ．Ｋａｔｒｉｓｚｌｙ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  （２）  Ａｌａｎ  Ｒ．Ｋａｔｒｉｓｚｌｙ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＩＩ  （３）  ＲＯＤＤ’Ｓ  ＣＨＥＨＩＳＴＲＹ  ＯＦ  ＣＡＲＢＯＮ  ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ  ＶＯＬＵＭＥ  ＩＶ  ＨＥＴＥＲＯＣＹＣＬＩＣ  ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ等を参考にすることができる。式（Ｉ）で示される化合物は、以下に示すように、市販の芳香族ヘテロ環化合物またはその誘導体に、周知の化学反応を適用することにより容易に合成し得る。
芳香族ヘテロ環化合物への式：−Ｃ（Ｈ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙ（式中、ＸおよびＹは前記と同意義である）で示される基の導入については、以下の合成ルート［Ａ］でおこなうことができる。
合成ルート［Ａ］
0004577751.tif 000011
（式中、Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＣＯ−、−ＣＯＮＲ１０−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＯ−；Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリール；ｐは０〜２（ｐ＝２のとき、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１で示される基は、それぞれ異なっていてもよい）；Ｘはヒドロキシまたは置換されていてもよいアミノ；Ｙは−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３は酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ６−Ｒ７（Ｒ６は酸素原子またはＮ−Ｒ７；Ｒ７はそれぞれ独立して水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは１または２を表わす）、−Ｓ（＝Ｏ）ｑ−Ｒ８（Ｒ８は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；ｑは前記と同意義である）、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はそれぞれ独立して水素または置換されていてもよいアルキル）、ハロゲン化アルキルまたは置換されていてもよいヘテロアリール；Ｌは脱離基（例えば、ハロゲンまたはＯＲ１２（Ｒ１２はアルキル等）等）である。）
（１）  式（Ｉ）で示される化合物のＸがＯＨの場合
メチル基を有する芳香族ヘテロ環誘導体（式（ＩＩ）で示される化合物）は、▲１▼市販されている化合物を使用するか、▲２▼芳香族ヘテロ環化合物にＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応をおこなう等により得ることができる。
例えば、式（ＩＩ）で示される化合物に、好ましくは塩基存在下で、式（ＩＩＩ）で示される化合物を反応させることにより、式（Ｉ）で示される化合物を得ることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジエチルエーテル等が挙げられる。塩基としては、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウムビストリメチルシリルアミド（ＬＨＭＤＳ）、ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−７０〜６０℃である。
式（ＩＩＩ）で示される化合物としては、例えば、シュウ酸ジメチル（ジエチル）、メチル（エチル）オキザリルクロリド、２−トリチル−２Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸エチルエステル、１−トリチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル、１−トリチルイミダゾール−２−カルボン酸  エチルエステル、２−トリチル−２Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸  メチルエステル、１−トリチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸  メチルエステル、１−トリチルイミダゾール−２−カルボン酸  メチルエステル、２−テトラヒドロピラニル−２Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸  エチルエステル、１−テトラヒドロピラニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル、１−テトラヒドロピラニルイミダゾール−２−カルボン酸  エチルエステル、２−テトラヒドロピラニル−２Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸メチルエステル、１−テトラヒドロピラニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸  メチルエステル、１−テトラヒドロピラニルイミダゾール−２−カルボン酸  メチルエステル、無水フタル酸、オルトメトキシベンゾイルクロリド、チアゾール−２−カルボン酸  エチルエステル、チアゾール−２−カルボン酸  メチルエステル等が挙げられる。
式（ＩＩ）で示される化合物の具体例としては、２−メチルピリジン、６−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン、５−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン、４−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン、３−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン、６−ベンジル−２−メチルピリジン、５−ベンジル−２−メチルピリジン、４−ベンジル−２−メチルピリジン、３−ベンジル−２−メチルピリジン、６−（２−フェニル）エチル−２−メチルピリジン、５−（２−フェニル）エチル−２−メチルピリジン、４−（２−フェニル）エチル−２−メチルピリジン、３−（２−フェニル）エチル−２−メチルピリジン、６−シクロヘキシルメトキシ−２−メチルピリジン、５−シクロヘキシルメトキシ−２−メチルピリジン、４−シクロヘキシルメトキシ−２−メチルピリジン、３−シクロヘキシルメトキシ−２−メチルピリジン、６−イソペントキシ−２−メチルピリジン、５−イソペントキシ−２−メチルピリジン、４−イソペントキシ−２−メチルピリジン、３−イソペントキシ−２−メチルピリジン、６−（２−フェニル）エチルオキシ−２−メチルピリジン、５−（２−フェニル）エチルオキシ−２−メチルピリジン、４−（２−フェニル）エチルオキシ−２−メチルピリジン、４−ベンジルオキシ−２−メチリキノリン、３−（２−フェニル）エチルオキシ−２−メチルピリジン、５−ベンジル−２−メチルフラン、２−メチル−５−（４−メチルベンジル）フラン、２−メチル−５−（４−メトキシベンジル）フラン、２−メチル−５−（４−フルオロベンジル）フラン、２−メチル−５−（４−クロロベンジル）フラン、２−メチル−５−（３−メチルベンジル）フラン、２−メチル−５−（３−メトキシベンジル）フラン、２−メチル−５−（３−フルオロベンジル）フラン、２−メチル−５−（３−クロロベンジル）フラン、３−メチル−１−ベンジル−５−エトキシカルボニルピロール、２−メチル−１−（４−フルオロベンジル）ピロール、３−メチル−１−（４−フルオロベンジル）ピロール、３−メチル−１−ベンジル−５−（２−メトキシカルボニルビニル）ピロール、２−メチル−１−ベンジル−（２−カルボキシルエチル）ピロール、３−メチル−１−ベンゼンスルホニル−４−（４−フルオロベンジル）ピロール、３−メチル−１−ベンジルピロール、２−メチル−５−（４−フルオロベンジル）ピロール等が挙げられる。
なお、Ｙが−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３はＮ−Ｒ５；Ｒ４は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニルまたは置換されていてもよいアラルキル；Ｒ５は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいアルコキシ、置換されていてもよいシクロアルキルもしくは置換されていてもよいアラルキル、またはＲ４およびＲ５は隣接する窒素原子と一緒になって、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基を表わす）である式（Ｉ）で示される化合物は、Ｙが−Ｃ（＝Ｒ２）−Ｒ３−Ｒ４（Ｒ２は酸素原子または硫黄原子；Ｒ３は酸素原子；Ｒ４は水素である）である式（Ｉ）で示される化合物とＲ４Ｒ５ＮＨを通常のペプチド合成の手法を用いて縮合させることにより合成することができる。この縮合は、例えば、ＨＯＢｔおよびＷＳＣＤ（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ）の存在下で行うことができる。
また、Ｙが−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はそれぞれ独立して水素または置換されていてもよいアルキル）である式（Ｉ）で示される化合物は、式（ＩＩＩ）で示される化合物として、Ｐｈｅｎｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ  ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｃ  ａｃｉｄ  ｄｉｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ（ＰｈＯＯＣ−ＰＯ（ＯＥｔ）２）を使用し、合成ルート［Ａ］同様の反応を行うことにより、Ｙが−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ９）２（Ｒ９はエチルである）である式（Ｉ）で示される化合物を合成し、次いでトリメチルシリルブロマイド（ＴＭＳＢｒ）等を用いて加水分解することにより得ることができる。
（２）  式（Ｉ）で示される化合物のＸが置換されていてもよいアミノ（ＮＨＲ１１）の場合
0004577751.tif 000012
（式中、Ａ、Ｒ１、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｙ、およびｐは前記と同意義；Ｒ１１はアルキル、アルコキシアルキル、アシルまたはアラルキルである）
例えば、上記化合物（Ｉ−１）に、式：Ｒ１１ＮＨ２（式中、Ｒ１１はアルキル（例えば、メチル、エチル等）、アルコキシアルキル（例えば、エトキシメチル、エトキシエチル等）、アシル（例えば、ホルミルアセチル等）またはアラルキル（例えば、ベンジル等）である）で示される化合物またはその酸付加塩を反応させることにより、化合物（Ｉ−２）を得ることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール等が挙げられる。反応温度は約−１０〜１００℃、好ましくは室温〜１００℃である。
芳香族ヘテロ環化合物への式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基の導入については、以下の合成ルート［Ｂ］〜［Ｉ］等でおこなうことができる。
なお、
0004577751.tif 000013
は、ぞれぞれ、芳香族ヘテロ環を構成する炭素原子、窒素原子、およびそれらの原子に結合している水素原子を表す。
合成ルート［Ｂ］
0004577751.tif 000014
（式中、Ａは置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；式：−ＲＸで示される基は式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１およびＺ３はそれぞれ独立して単結合、アルキレンまたはアルケニレン；Ｚ２は単結合、アルキレン、アルケニレン、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＮＲ１０−、−ＮＲ１０ＣＯ−、−ＣＯＮＲ１０−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＯ−；Ｒ１０は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアラルキル；Ｒ１は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアルキニル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよい非芳香族ヘテロ環式基、置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールである）で示される基；Ｌは脱離基（例えば、ハロゲン等）である。）
例えば、式（ＩＶａ）で示される化合物に、所望により塩基存在下、式（ＩＶｂ）で示される化合物または、ＲＸとして導入され得るイソシアネート類等を反応させて、式（ＩＶｃ）で示される化合物を得ることができる。
塩基としては、ＮａＨ、Ｋ２ＣＯ３等が挙げられる。溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等が挙げられる。
式（ＩＶｂ）で示される化合物としては、各種スルホニルクロリド（例えば、（置換）ベンゼンスルホニルクロリド、２−チオフェンスルホニルクロリド、（置換）アミノスルホニルクロリド、アルキルスルホニルクロリド等）、ハロゲン化アルキル（例えば、ヨードメチル、臭化ブチル、臭化シクロプロピル等）、ハロゲン化アラルキル（例えば、（置換）ベンジルクロリド、ピコリルクロリド、ナフチルクロリド、ビフェニルメチルクロリド等）、カルバモイルクロリド（例えば、ジメチルカルバモイルクロリド等）またはハロゲン化アシル（例えば、４−フルオロベンゾイルクロリド等）等が挙げられる。
イソシアネート類としては、（置換）アリールイソシアネート（例えば、フェニルイソシアネート等）等が挙げられる。
反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−２０℃〜６０℃である。
合成ルート［Ｃ］
0004577751.tif 000015
（式中、Ａは前記と同意義；式：−ＣＨ（ＯＨ）−ＲＸで示される基、式：−ＣＨ２−ＲＸで示される基、式：−Ｚ１−ＣＨ（ＯＨ）−ＲＸで示される基、および式：−Ｚ１−ＣＨ２−ＲＸで示される基は、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基である。）
例えば、式（Ｖａ）または式（Ｖａ）で示される化合物に塩基（例えば、ｎ−ＢｕＬｉ、ＬＤＡ等）を反応させてリチオ化し、次に式（Ｖｂ）で示されるアルデヒドを反応させ、式（Ｖｃ）または式（Ｖｃ’）で示される化合物を得ることができる（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７９，５１，ｐ４６９）。ＬＤＡは、市販のものを用いても、ｎ−ＢｕＬｉと（ｉ−Ｐｒ）２ＮＨにより反応時に調製して用いてもよい。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジエチルエーテル等が挙げられる。式（Ｖｂ）で示される化合物としては、（置換）ベンズアルデヒド（例えば、ベンズアルデヒド、４−フルオロベンズアルデヒド、４−クロロベンズアルデヒド、２，４−ジフルオロベンズアルデヒド、４−トリフルオロメチルベンズアルデヒド等）、アルカナール（例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、イソバレルアルデヒド等）、フルフラール、３−フランアルデヒド、２−チオフェンアルデヒド、３−チオフェンアルデヒド等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−７０〜５０℃である。
還元反応により、式（Ｖｃ）または式（Ｖｃ’）で示される化合物から、式（Ｖｄ）または式（Ｖｄ’）で示される化合物を得ることができる。還元反応としては、▲１▼トリメチルクロロシランおよびヨウ化ナトリウムを−２０〜５０℃で反応させる方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９９５，５１，ｐ１１０４３）、▲２▼フェニルクロロチオノフォーメートでチオエステルに誘導後、トリブチルチンハイドライド、ＡＩＢＮ（アゾジイソブチロニトリル）とトルエン等の溶媒中で加熱することによりラジカル的に還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，５８，ｐ２５５２）等が挙げられる。
式（Ｖｂ）で示されるアルデヒドのかわりに、ケトン（例えば、式：Ｒｘ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｍｅで示される化合物等）も使用することができる。この場合、上記の式：−Ｃ（ＯＨ）Ｈ−ＲＸで示される基や式：−ＣＨ２−ＲＸで示される基の代わりに、式：−Ｃ（ＯＨ）Ｍｅ−ＲＸで示される基や式：−ＣＨＭｅ−ＲＸで示される基を導入することができる。
合成ルート［Ｄ］
0004577751.tif 000016
（式中、Ａは前記と同意義；式：−ＣＯ−ＲＸで示される基および式：−ＣＨ２−ＲＸで示される基は、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基；Ｌは脱離基（例えば、ハロゲンまたは−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ１３（Ｒ１３はアルキル等）等）である。）
式（ＶＩａ）で示される化合物にＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応を行い、式（ＶＩｂ）で示される化合物を反応させることにより、式（ＶＩｃ）で示される化合物を合成することができる。Ｆｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応は、ルイス酸存在下におこなうが、反応時に使用するルイス酸の種類を選択することによって、所望の位置に式：−（Ｃ＝Ｏ）−ＲＸで示される基を導入することができる。例えば、Ａ１がピロールである場合は、塩化アルミニウムを用いると３位に、ＢＦ３／ｅｔｈｅｒを用いると２位に、アシル基を導入することができる。式（ＶＩｂ）で示される化合物としては、アセチルクロライド、無水酢酸、シクロヘキシルカルボニルクロライド、（置換）ベンゾイルクロライド（例えば、４−フルオロベンゾイルクロライド、４−フルオロベンゾイルブロマイド、４−クロロベンゾイルクロライド、２，４−ジフルオロベンゾイルクロライド、４−トリフルオロメチルベンゾイルクロライド等）等が挙げられる。反応溶媒としては、二硫化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−５０〜５０℃、さらに好ましくは−２０〜３０℃である。
還元反応により、式（ＶＩｃ）で示される化合物から、式（ＶＩｄ）で示される化合物を得ることができる。還元反応としては、▲１▼トリエチルシラン（Ｅｔ３ＳｉＨ）を用いる方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９７８，４３，ｐ３７４）や、▲２▼塩化アルミニウム存在下、式（ＶＩｃ）で示される化合物をボラン・ｔｅｒｔ−ブチルアミン  コンプレックスで還元する方法等が挙げられる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、エーテル等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−３０〜３０℃である。
合成ルート［Ｅ］
0004577751.tif 000017
（式中、Ａは前記と同意義；式：−Ｓ−ＲＸで示される基、式：−ＳＯ−ＲＸ示される基、および式：−ＳＯ２−ＲＸで示される基は、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基；Ｌはハロゲン等である。）
合成ルート［Ｃ］と同様に芳香族ヘテロ環をリチオ化した後、式（ＶＩＩｂ）で示される化合物を反応させ、スルフェニル体（式（ＶＩＩｃ）で示される化合物）を得る。反応溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−７０〜５０℃である。式（ＶＩＩｂ）で示される化合物としては、ジスルフィド（例えば、（置換）ジフェニルジスルフィド、ジメチルジスルフィド等）、（置換）フェニルスルフェニルクロライド（例えば、４−フルオロフェニルスルフェニルクロライド等）等が挙げられる。
得られたスルフェニル体（式（ＶＩＩｃ）で示される化合物）の酸化反応によって、酸化段階の異なるスルフィニル体（式（ＶＩＩｄ）で示される化合物）、スルホニル体（式（ＶＩＩｅ）的で示される化合物）を得る。酸化剤としては、オキソン、ｍ−クロロ過安息香酸等を用いる。反応溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−５０〜５０℃、さらに好ましくは−２０〜３０℃である。
合成ルート［Ｆ］
0004577751.tif 000018
（式中、Ａは前記と同意義；式：−ＣＨ＝ＣＨ−ＲＸで示される基および式：−Ｃ２Ｈ４−ＲＸで示される基は、式：−Ｚ１−Ｚ２−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基；Ｌは−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＥｔ）２または＝ＰＰｈ３等である。）
ホルミル基を有する芳香族ヘテロ環誘導体（式（ＶＩＩＩａ）で示される化合物）は、▲１▼市販されている化合物を使用するか、▲２▼芳香族ヘテロ環化合物にＶｉｌｓｍｅｉｅｒ反応やＲｅｉｍｅｒ−Ｔｉｅｍａｎｎ反応等によりホルミル基を導入することにより得ることができる。
式（ＶＩＩＩａ）で示される化合物に、所望により塩基存在下、式（ＶＩＩＩｂ）で示される化合物を反応させ、Ｗｉｔｔｉｇ反応またはＨｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍｏｎｓ反応等を行うことにより、オレフィン体（式（ＶＩＩＩｃ）で示される化合物）を得ることができる。
式（ＶＩＩＩｂ）で示される化合物としては、イリド化合物（例えば、（カルベトキシ）トリフェニルホスホラン等）、ホスホリル化合物（例えば、メチルジエチルホスフォノアセテート、ジエチルベンジルホスホネート等）等が挙げられる。反応溶媒としては、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１５０℃、好ましくは−２０〜１００℃である。
オレフィン体（式（ＶＩＩＩｃ）で示される化合物）を還元することにより、式（ＶＩＩＩｄ）で示される化合物を得ることができる。還元方法としては、接触還元等が挙げられる。触媒としては、パラジウムカーボン等が挙げられる。反応溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、エタノール等が挙げられ、好ましくは、エタノールとテトラヒドロフランの混合溶媒である。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−２０〜３０℃である。
合成ルート［Ｇ］
0004577751.tif 000019
（式中、ＡおよびＺ１は前記と同意義；式：−ＲＸで示される基および式：−ＣＨ２−ＲＸで示される基は、式：−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基；Ｌは脱離基（例えば、ハロゲン、ヒドロキシ、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ１４（Ｒ１４はアルキル等）等）である）
本ルートは、Ｚ２が−ＮＲ１０ＣＯ−または−ＮＲ１０−（Ｒ１０は前記と同意義である）である式（Ｉ）で示される化合物の製造法である。
アミノ基を有する芳香族ヘテロ環誘導体（式（ＩＸａ）で示される化合物）は、▲１▼市販されている化合物を使用する、▲２▼対応するハロゲン体にＲ１０ＮＨ２を反応させるまたは▲３▼ニトロ化反応によりニトロ基を導入し、次いで還元する等により容易に得ることができる。
例えば、式（ＩＸａ）で示される化合物に、好ましくは塩基存在下で、式（ＩＸｂ）で示される化合物を反応させることにより、式（ＩＸｃ）で示される化合物を得ることができる（新実験化学講座１４巻１７８７頁（１９７８）；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ｐ８５２−８５４（１９８６）；新実験化学講座２２巻１１５頁（１９９２））。また、式（ＩＸｂ）で示される化合物がカルボン酸である場合は、縮合剤等を用いて縮合反応をすることにより、式（ＩＸｃ）で示される化合物を合成することができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等が挙げられる。塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。縮合剤としては、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＥＤＣ等が挙げられる。反応温度は、約−１００〜１００℃、好ましくは−７０〜６０℃である。
式（ＩＸｃ）で示される化合物を還元することにより、式（ＩＸｄ）で示される化合物を得ることができる。還元方法は、リチウムアルミニウムハイドライドやボランメチルスルフィドコンプレックス等を用いておこなうことができる。
上記合成ルート［Ｇ］において、式：ＲＸ（Ｃ＝Ｏ）Ｌで示される化合物を用いる代わりに、式：ＲＸ（ＳＯ２）Ｌ（式中、ＲＸ前記と同意義；Ｌはハロゲン等）で示される化合物を用いることにより、スルホンアミド体（Ｚ２が−ＮＲ１０ＳＯ２−である式（Ｉ）で示される化合物）を合成することができる。また、原料としてカルボキシル基等を有する芳香族ヘテロ環化合物（式：−ＮＨＲ１０で示される基が式：−ＣＯＬ（式中、Ｌは脱離基（例えば、ハロゲン、ヒドロキシ、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ１４（Ｒ１４はアルキル等）等）である）で示される基である式（ＩＸａ）で示される化合物）が入手または合成できる場合は、式（ＩＸｂ）で示される化合物の代わりに式：ＲＸＮＨ２で示される化合物を用いて上記合成ルート［Ｇ］と同様に縮合等を行うことによって、式（ＩＸｃ）および式（ＩＸｄ）で示される化合物のＮＨとＣ＝Ｏが逆転した化合物（Ｚ２が−ＣＯＮＲ１０−である式（Ｉ）で示される化合物）を合成することができる。また、原料として式：−（ＳＯ２）Ｌ（Ｌはハロゲン等）で示される基を有する芳香族ヘテロ環化合物が入手または合成できる場合は、式：ＲＸＮＨ２で示される化合物を用いてスルホンアミド体（上記スルホンアミド体のＮＨとＳＯ２が逆転した化合物（Ｚ２が−ＳＯ２ＮＲ１０−である式（Ｉ）で示される化合物））を得ることができる。
合成ルート［Ｈ］
0004577751.tif 000020
（式中、ＡおよびＺ１は前記と同意義；Ｌはハロゲン；式：−ＲＸで示される基は式：−Ｚ３−Ｒ１（式中、Ｚ３およびＲ１は前記と同意義である）で示される基である）
本ルートは、Ｚ２が−Ｏ−である式（Ｉ）で示される化合物の製造法である。
式（Ｘａ）で示される化合物としては、６−ヒドロキシ−２−メチルピリジン、５−ヒドロキシ−２−メチルピリジン、４−ヒドロキシ−２−メチルピリジン、３−ヒドロキシ−２−メチルピリジン、８−ヒドロキシ−２−メチルキノリン、７−ヒドロキシ−２−メチルキノリン、６−ヒドロキシ−２−メチルキノリン、５−ヒドロキシ−２−メチルキノリン、４−ヒドロキシ−２−メチルキノリン、３−ヒドロキシ−２−メチルキノリン、８−ヒドロキシ−１−メチルイソキノリン、７−ヒドロキシ−１−メチルイソキノリン、６−ヒドロキシ−１−メチルイソキノリン、５−ヒドロキシ−１−メチルイソキノリン、４−ヒドロキシ−１−メチルイソキノリン、３−ヒドロキシ−１−メチルイソキノリン、８−ヒドロキシ−３−メチルイソキノリン、７−ヒドロキシ−３−メチルイソキノリン、６−ヒドロキシ−３−メチルイソキノリン、５−ヒドロキシ−３−メチルイソキノリン、４−ヒドロキシ−３−メチルイソキノリン、１−ヒドロキシ−３−メチルイソキノリン、３−ヒドロキシ−２−メチルピラジン、５−ヒドロキシ−２−メチルピラジン、６−ヒドロキシ−２−メチルピラジン等が挙げられる。
塩基としては、ＮａＨ、ＮａＯＨ、ＬｉＨ、ＣａＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３等が挙げられる。
反応温度は、室温〜１００℃で行うのが好ましく、反応溶媒は、ＤＭＦ等が挙げられる。
式（Ｘｂ）で示される化合物としては、例えば、ベンジルブロミド、ベンジルクロリド、シクロヘキシルメチルブロミド、シクロヘキシルメチルクロリド、イソペンチルクロリド、イソペンチルブロミド、２−フェニルエチルクロリド、４−フルオロベンジルクロリド、４−フルオロベンジルブロミド、２−（４−フルオロフェニル）エチルクロリド、２，４−ジフルオロベンジルクロリド、２，４−ジフルオロベンジルブロミド、イソプロピルクロリド、イソプロピルブロミド、ヨウ化メチル、４−トリフルオロメチルベンジルクロリド、４−トリフルオロメチルベンジルブロミド、２−ナフチルメチルクロリド、２−ナフチルメチルブロミド、３，５−ジフルオロベンジルクロリド、３，５−ジフルオロベンジルブロミド等が挙げられる。
また、芳香族ヘテロ環（Ａ環）が、式：−Ｚ１−ＳＨ（式中、ＲＸは前記と同意義である）で示される基を有する場合は、式（Ｘｂ）で示される化合物を反応させることにより、Ｚ２が−Ｓ−である式（Ｉ）で示される化合物を合成することができる。
また、芳香族ヘテロ環（Ａ環）が、式：−Ｚ１−Ｌ（式中、Ｚ１は前記と同意義；Ｌはハロゲン等である）で示される基を有する場合は、式（Ｘｂ）で示される化合物の代わりに、式：ＲＸ−ＯＨ（式中、ＲＸは前記と同意義である）で示される化合物を反応させることによっても、式（Ｘｃ）で示される化合物を得ることができる。
合成ルート［Ｉ］
0004577751.tif 000021
（式中、Ａ、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＲ１は前記と同意義；Ｚ２１、Ｚ２２、Ｚ４１、およびＺ４２はそれぞれ独立して、−ＣＨＯ、−ＣＨ２Ｌｉ、−ＳＨ、−ＳＯ２Ｌ、−ＭｇＬ、−Ｌｉ、−ＮＨＲ１０、−ＯＨ、−Ｌ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＬ、−Ｂ（ＯＨ）２または−ＯＴｆ等；Ｌはハロゲン等である）
上記の合成ルート［Ｂ］〜［Ｈ］は、主に芳香族ヘテロ環上に置換基を直接入れる反応であるが、本合成ルート［Ｉ］によって、芳香族ヘテロ環上にすでに結合している官能基（例えば、式：−Ｚ１−Ｚ２１で示される基）に、さらなる反応を行い、式（ＸＩｃ）で示される化合物を合成することができる。
例えば、Ｚ２１とＺ２２の組合せにより、以下のＺ２を形成することができる。（−Ｚ２１＋−Ｚ２２→−Ｚ２−）
−ＣＨＯ＋−ＭｇＬ→−ＣＨ（ＯＨ）−
−ＣＨＯ＋−Ｌｉ→−ＣＨ（ＯＨ）−
−ＣＨ２Ｌｉ＋−Ｌ→−ＣＨ２−
−ＣＨ（ＯＨ）−→−ＣＯ−
−ＣＨ（ＯＨ）−→−ＣＨ２−
−ＳＨ＋−Ｌ→−Ｓ−→−ＳＯ−→−ＳＯ２−
−ＯＨ＋−Ｌ→−Ｏ−
−ＮＨＲ１０＋−Ｌ→−ＮＲ１０−
−ＳＯ２Ｌ＋−ＮＨＲ１０→−ＳＯ２ＮＲ１０−または−ＮＲ１０ＳＯ２−
−ＣＯＬ＋−ＮＨＲ１０→−ＣＯＮＲ１０−または−ＮＲ１０ＣＯ−
−ＣＯＯＨ＋−ＮＨＲ１０→−ＣＯＮＲ１０−または−ＮＲ１０ＣＯ−
−ＣＯＬ＋＋−ＯＨ→−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
−ＣＯＯＨ＋−ＯＨ→−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
−Ｂ（ＯＨ）２＋−Ｌ→−（単結合）
−ＯＴｆ＋−Ｌ→−（単結合）
これらの反応は、よく知られた有機化学反応であり、通常の公知の方法、条件（反応温度、溶媒等）に従って行うことができる。
上記の反応［Ａ］〜［Ｉ］は、芳香族ヘテロ環誘導体の性質、置換基の導入の位置等に応じて、適宜、反応順序を入れ替えて行う。また、所望により当業者に周知の方法に従い、官能基に対して保護反応を行い、また反応後、脱保護を行えばよい。例えば、カルボニル基をアセタールで保護することや、カルボン酸をエステル残基で保護すること等が含まれる。
本発明化合物を製造するに際し、下記の固相合成を行うことができる。
0004577751.tif 000022
（式中、Ｈａｌはハロゲン；Ａ環は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環；Ｒ１はヘテロアリールまたはアリール；Ｐはヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ、アジド、アリール、アラルキル、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ、アルキルスルホニル、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、メルカプト、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノまたはグアニジノ；ｔは０〜５である）
まず、式（ＸＩＩａ）で示される化合物を、固相粒子（例えば、Ｗａｎｇ  Ｒｅｓｉｎ）に結合させる。反応は、ＤＭＦ中ＨＯＢｔ、Ｎ−メチルモルホリンおよびＰｙＢｏｐの存在下で行えばよい。得られた固相粒子を、ＤＭＦ、水、メタノールおよび／または塩化メチレンで洗浄し、減圧下乾燥し、Ｒｅｓｉｎ  Ａを得る。
次に、Ｒｅｓｉｎ  ＡをＴＨＦ中９−ＢＢＮ存在下、室温で攪拌し、その後炭酸カリウム水溶液を加え、さらに式（ＸＩＩｂ）で示される化合物およびＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）を加える。約５０℃で数時間〜数十時間反応させ、その後、固相粒子をＤＭＦ、水、メタノールおよび／または塩化メチレンで洗浄し、Ｒｅｓｉｎ  Ｂを得る。
なお、式（ＸＩＩｂ）で示される化合物は、市販の化合物を使用してもよいし、別途合成してもよい。本製法は、固相合成であるため、精製作業としては固相粒子の洗浄を行えばよく、実験操作としてもほとんどルーチンで行うことができ、短期間に多くの化合物を製造することができ、有用である。従って、多くの種類の置換基を有する式（ＸＩＩｂ）で示される化合物を使用して本製法を行うことができる。
最後に、得られたＲｅｓｉｎ  Ｂを酸性溶液（例えば、ＴＦＡ−塩化メチレン溶液など）中で攪拌し、Ｒｅｓｉｎ  Ｂから式（ＸＩＩｃ）で示される化合物を切り出す。なお、本製法は工程数も少ないため、得られた式（ＸＩＩｃ）で示される化合物の純度も高く、通常の液相合成で得られた化合物と同様に使用することができる。
なお、本固相合成は、いかなるＡ環、Ｒ１、置換基Ｐ、置換基数ｔであっても行うことができるが、特に、Ａ環がピリジンまたはピリミジンである場合が好ましい。また、Ｒ１はアリール（特にフェニル）が好ましい。
固相合成の利点を生かして、Ａ環をピリジンまたはピリミジンに固定し、様々な種類の式（ＸＩＩｂ）で示される化合物を使用し、Ｒ１上に様々な置換基を有する式（ＸＩＩｃ）で示される化合物を作ることができる。
また、本製法により、式（ＸＨｃ）で示される化合物のライブラリーを製造することができる。この際、スプリット合成を利用してもよいし、パラレル合成で行ってもよい。ここで化合物のライブラリーとは、固相合成により製造された、共通の部分構造を有する、化合物の集合を意味する。式（ＸＩＩｃ）で示される化合物の共通の部分構造としては、式：−Ｃ（Ｈ）＝Ｃ（ＯＨ）ＣＯＯＨで示される基がＡ環に置換している点、Ａ環とＲ１が式：−Ｃ２Ｈ４−で示される基を介して結合している点を挙げることができる。このような共通の部分構造を有する化合物は、インテグラーゼ阻害活性を有しており、それらの化合物を含有する医薬組成物は、抗ウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、インテグラーゼ阻害剤、抗ＨＩＶ用合剤として使用することができる。
また、本化合物のライブラリーは、高活性のインテグラーゼ阻害剤の探索のみならず、他の医薬用途の探索を目的としたスクリーニングにも使用することができる。
次に本発明化合物の使用方法について説明する。
式（Ｉ）で示される化合物は、例えば抗ウイルス薬等の医薬として有用である。式（Ｉ）で示される化合物は、ウイルスのインテグラーゼに対して顕著な阻害作用を有する。よって式（Ｉ）で示される化合物は、動物細胞内で感染時に少なくともインテグラーゼを産出して増殖するウイルスに起因する各種疾患に対して、予防または治療効果が期待でき、例えば、レトロウイルス（例、ＨＩＶ−１、ＨＩＶ−２、ＨＴＬＶ−１、ＳＩＶ、ＦＩＶ等）に対するインテグラーゼ阻害剤として有用であり、抗ＨＩＶ薬等として有用である。
また、式（Ｉ）で示される化合物は、逆転写酵素阻害剤および／またはプロテアーゼ阻害剤等の異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬と組み合わせて併用療法に用いることもできる。特に現在、抗インテグラーゼ阻害剤は上市されておらず、式（Ｉ）で示される化合物と逆転写酵素阻害剤および／またはプロテアーゼ阻害剤とを組み合わせて併用療法に用いることは有用である。
さらに、上記の使用としては、抗ＨＩＶ用合剤としてのみならず、カクテル療法等のように、他の抗ＨＩＶ薬の抗ＨＩＶ活性を上昇させるような併用剤としての使用も含まれる。
また、式（Ｉ）で示される化合物は、遺伝子治療の分野において、ＨＩＶやＭＬＶをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、式（Ｉ）で示される化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
式（Ｉ）で示される化合物は、経口的または非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤；水剤；油性懸濁剤；またはシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、式（Ｉ）で示される化合物は、水性または油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。なお、抗ＨＩＶ薬としては、特に経口剤が好ましい。
本発明の製剤は、治療有効量の式（Ｉ）で示される化合物を製薬上許容される担体または希釈剤とともに組み合わせる（例えば混合する）ことによって製造される。式（Ｉ）で示される化合物の製剤は、周知の、容易に入手できる成分を用いて既知の方法により製造される。
式（Ｉ）で示される化合物の医薬組成物を製造する際、活性成分は担体と混合されるかまたは担体で希釈されるか、カプセル、サッシェー、紙、あるいは他の容器の形態をしている担体中に入れられる。担体が希釈剤として働く時、担体は媒体として働く固体、半固体、または液体の材料であり、それらは錠剤、丸剤、粉末剤、口中剤、エリキシル剤、懸濁剤、エマルジョン剤、溶液剤、シロップ剤、エアロゾル剤（液体媒質中の固体）、軟膏にすることができ、例えば、１０％までの活性化合物を含む。本発明化合物は投与に先立ち、製剤化するのが好ましい。
当業者には公知の適当な担体はいずれもこの製剤のために使用できる。このような製剤では担体は、固体、液体、または固体と液体の混合物である。例えば、静脈注射のために本発明化合物を２ｍｇ／ｍｌの濃度になるよう、４％デキストロース／０．５％クエン酸ナトリウム水溶液中に溶解する。固形の製剤は粉末、錠剤およびカプセルを包含する。固形担体は、香料、滑沢剤、溶解剤、懸濁剤、結合剤、錠剤崩壊剤、カプセル剤にする材料としても役立つ１またはそれ以上の物質である。経口投与のための錠剤は、トウモロコシデンプン、アルギン酸などの崩壊剤、および／またはゼラチン、アカシアなどの結合剤、およびステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸、滑石などの滑沢剤とともに炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ラクトース、リン酸カルシウムなどの適当な賦形剤を含む。
粉末剤では担体は細かく粉砕された活性成分と混合された、細かく粉砕された固体である。錠剤では活性成分は、適当な比率で、必要な結合性を持った担体と混合されており、所望の形と大きさに固められている。粉末剤および錠剤は約１〜約９９重量％の本発明の新規化合物である活性成分を含んでいる。適当な固形担体は、炭酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、滑石、砂糖、ラクトース、ペクチン、デキストリン、デンプン、ゼラチン、トラガカントゴム、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、低融点ワックス、ココアバターである。
液体製剤は懸濁剤、エマルジョン剤、シロップ剤、およびエリキシル剤を含む。活性成分は、滅菌水、滅菌有機溶媒、または両者の混合物などの製薬上許容し得る担体中に溶解または懸濁することができる。活性成分はしばしば適切な有機溶媒、例えばプロピレングリコール水溶液中に溶解することができる。水性デンプン、ナトリウムカルボキシメチルセルロース溶液、または適切な油中に細かく砕いた活性成分を散布することによってその他の組成物を製造することもできる。
式（Ｉ）で示される化合物の投与量は、投与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によっても異なるが、通常、経口投与の場合、成人１日あたり約０．０５ｍｇ〜３０００ｍｇ、好ましくは、約０．１ｍｇ〜１０００ｍｇを、要すれば分割して投与すればよい。また、非経口投与の場合、成人１日あたり約０．０１ｍｇ〜１０００ｍｇ、好ましくは、約０．０５ｍｇ〜５００ｍｇを投与する。
さらに、式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙ（式中、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義である。）で示される基を有することを特徴とする各種の芳香族ヘテロ環誘導体は、式（Ｉ）で示される化合物と同様に抗ウイルス薬等の医薬としての利用が期待される。該芳香族ヘテロ環誘導体においては、式：−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｘ）Ｙで示される基以外の部分構造としては、所望の薬理活性に悪影響を及ぼさない限りにおいて、種々の置換基が広範囲に選択され得る。またその合成法は、上記式（Ｉ）で示される化合物の合成法に準じればよい。
式（Ｉ）で示される化合物は、また医薬の合成中間体、合成原料等としても有用である。例えば、式（Ｉ）で示される化合物において、Ｙの定義におけるＲがエステル残基である化合物等は、脱保護することにより容易に、Ｒが水素である化合物に誘導することが可能である。
実施例
以下に本発明の実施例を示す。反応は通常、窒素気流中で行い、また反応溶媒には、モレキュラーシーブス等で乾燥したものを用いた。抽出液の乾燥は、硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシウム等で行なった。
（試薬）
ｎ−ブチルリチウム＝１，５ｍｏｌ／ｌヘキサン溶液
水素化ナトリウム＝６０％オイルサスペンジョン
（略号）
Ｅｔ＝エチル；ＭｅＯＨ＝メタノール；ＥｔＯＨ＝エタノール；ＤＭＦ＝Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン；ＤＭＳＯ＝ジメチルスルホキシド；ＨＯＢｔ＝１−ヒドロキシベンゾトリアゾール；ＷＳＣＤ＝１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
（参考例）
本発明において使用する２−トリチル−２Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸  エチルエステル、１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル、および２−トリチル−２Ｈ−［１，２，４］−トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステルは以下の（Ａ）〜（Ｃ）に記載の方法で製造した。なお、１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステルと２−トリチル−２Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステルは、保護基（トリチル）の位置の違う化合物であるが、式（Ｉ）および式（ＩＩ）で示される化合物の製造においては、共に使用することができる。
（Ａ）２−トリチル−２Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸  エチルエステル
（１）トリメチルスズアジド（６．１７ｇ，３０ｍｍｏｌ）のピリジン（２０ｍｌ）溶液にシアノギ酸エチル（３．３０ｇ，３３ｍｍｏｌ）を室温下、１５分かけて滴下した。反応液は約４５℃に上昇した。反応液を徐々に室温に戻し、１時間攪拌後、６０℃で１８時間加熱、攪拌、放冷した。次いで反応液を減圧下に濃縮した。残留物に濃塩酸（５ｍｌ）を加え、室温下、１５分間攪拌後、飽和食塩水（２０ｍｌ）を加えた。酢酸エチルで２回抽出し、飽和食塩水で洗浄、乾燥した。溶媒を留去し、得られる結晶をヘキサンで洗浄すると１Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸  エチルエステル３．４７ｇ（収率：８１％）を与えた。
（２）１Ｈ−テトラゾール−５−カルボン酸  エチルエステル（３．４７ｇ，２４．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍｌ）に溶かし、トリエチルアミン（３．７０ｇ，３６．６ｍｍｏｌ）を加え、次いでトリチルクロリド（７．１４ｇ，２５．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温下、１時間攪拌後、減圧下に濃縮し、残留物を酢酸エチル−水に分配した。酢酸エチル層を飽和重曹水で洗浄、水洗、乾燥した。溶媒を留去し、得られた結晶をヘキサンで洗浄すると標題化合物８．１５ｇ（収率：８７％）を得た。
融点：１６２℃（分解）
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０８−７．１２（６Ｈ，ｍ），７．２９−７．４１（９Ｈ，ｍ）．
（Ｂ）１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル
（１）文献（Ｃｏｌｌｅｃｔ．Ｃｚｅｃｈ  Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９８４，４９，ｐ２４９２）に従い、エチルチオオキサメート（１０．５５ｇ，７９．２ｍｍｏｌ）とホルミルヒドラジン（５．００ｇ，８３．２ｍｍｏｌ）の混合物を６５℃で３０分間加熱、攪拌した。放冷後、析出結晶を濾取し、エタノールで洗浄すると（Ｎ−ホルミルヒドラジノ）−イミノ酢酸  エチルエステル９．６２ｇ（収率：７６％）を得た。
（２）（Ｎ−ホルミルヒドラジノ）−イミノ酢酸  エチルエステル９．６２ｇ（６０．４ｍｍｏｌ）をジグリム（４０ｍｌ）に懸濁し、３０分間加熱、還流した。冷却後、析出結晶を濾取し、ヘキサンで洗浄すると１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル７．２８ｇ（収率：８５％）を得た。
（３）１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル７．６２ｇ（５４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６０ｍｌ）に溶解し、室温下、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１４ｇ，１０８ｍｍｏｌ）を加え、次いでトリチルクロリド（１５．８ｇ，５６．７ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応液に水（３００ｍｌ）と酢酸エチル（３００ｍｌ）を加え、結晶を濾取し、クロロホルム（１５０ｍｌ）に溶解、水洗、乾燥した。溶媒を留去後、残留物をエーテルで結晶化すると標題化合物８．９１ｇを得た。さらに酢酸エチル層を水洗、乾燥し、溶媒を留去後、エーテルで結晶化すると標題化合物４．７３ｇを得た。合わせて標題化合物１３．６４ｇ（収率：６６％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１１−７．１３（６Ｈ，ｍ），７．３２−７．３６，８．０１（１Ｈ，ｓ）．
（Ｃ）２−トリチル−２Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル
（１）水素化ナトリウム（６０％，ミネラルオイル）１３．８ｇ（３４５ｍｍｏｌ）をヘキサンで洗浄後、ＤＭＦ（１５０ｍｌ）に懸濁する。氷冷下、１，２，４−トリアゾール２０．７ｇ（３００ｍｍｏｌ）を４回に分けて加えた。攪拌３０分後、トリチルクロリド（８３．７ｇ，３００ｍｍｏｌ）を７回に分けて加え、さらにＤＭＦ（５０ｍｌ）を追加した。室温下、１．５時間攪拌後、反応液に水（６００ｍｌ）を加え、生ずる析出物を濾取し、水洗後、クロロホルム（８００ｍｌ）に溶解、乾燥した。溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−クロロホルム（１：２，ｖ／ｖ）で溶出した。目的物の画分を濃縮すると４３．９ｇ（収率：４７％）の１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾールを得た。
（２）１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール（１０．５ｇ，３３．６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３００ｍｌ）に溶解し、−７０℃以下に冷却し、次いで１．５４Ｍのｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（２４ｍｌ，３６．９ｍｍｏｌ）を−７２〜−６８℃を保ちながら滴下した。さらに反応液を徐々に−２５℃に上げてから、再び−６０℃に冷却後、クロロぎ酸エチル（７．２９ｇ，６７．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液を滴下した。反応液を徐々に室温に戻し、１．５時間攪拌した。反応液を減圧下に濃縮後、酢酸エチル（７００ｍｌ）を加えた。析出した結晶を濾取し、水洗後、ＴＨＦ（２００ｍｌ）に溶解、乾燥した。溶媒を留去し、得られた結晶を酢酸エチルで洗浄すると標題化合物２．９０ｇを得た。一方、酢酸エチル層は２％アンモニア水溶液で洗浄後、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し精製した。ヘキサン−酢酸エチル−クロロホルム（２：１：２，ｖ／ｖ／ｖ）で溶出することにより、標題化合物３．６５ｇを得た。合わせて標題化合物６．５５ｇ（収率：５１％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．７６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１２−７．１４（６Ｈ，ｍ），７．２８−７．３３，７．９９（１Ｈ，ｓ）．
実施例１
0004577751.tif 000023
２−メチルピリジン（４６６ｍｇ，５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（５ｍｍｏｌ）を滴下した。次にシュウ酸ジエチル（７．３ｇ，５０ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮、減圧下乾燥し、化合物（Ｉ−１）（５０４ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１），６．５５（１Ｈ，ｓ），７．１４−７．２４（２Ｈ，ｍ）．
実施例２、３
0004577751.tif 000024
５−ヒドロキシ−２−メチルピリジン（２．１８ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１５ｍｌ）溶液に、氷冷下ベンジルブロミド（４．００ｇ，２４ｍｍｏｌ）および炭酸カルシウム（３．３０ｇ，２４ｍｍｏｌ）を加え、室温下２時間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し、５−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン（２．０４ｇ）を得た。
５−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン（５９８ｍｇ，３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（３ｍｍｏｌ）を滴下した。次にシュウ酸ジエチル（４．５ｇ，３０ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮した。得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して、化合物（Ｉ−２）（１０１ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５，１４（２Ｈ，ｓ），６．５８（１Ｈ，ｓ），７．１８−７．４３（７Ｈ，ｍ）８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−２）（７１ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）のメタノール溶液に水酸化リチウム水溶液（１Ｎ，０．２９ｍｌ）を加え室温下６時間攪拌した。メタノールを減圧下留去し、水を加えた。水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−３）（３０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：５．２３（２Ｈ，ｓ），６．６６（１Ｈ，ｓ），７．３０−７．６５（７Ｈ，ｍ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）．
実施例４−１２
実施例１〜３同様に行った。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000025
0004577751.tif 000026
実施例１３、１４
0004577751.tif 000027
５−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン（３９９ｍｇ，２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（２ｍｍｏｌ）を滴下した。次に１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸  エチルエステル（７６７ｍｇ，２ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮した。得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して、化合物（Ｉ−１３）（４２ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．５０（２／３Ｈ，ｓ），５．０７（２／３Ｈ，ｓ），５．１２（４／３Ｈ，ｓ），６．５０（２／３Ｈ，ｓ），７．０５−７．４６（２２Ｈ，ｍ），８．９６（２／３Ｈ，ｓ），８．０４（１／３Ｈ，ｓ），８．１７（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），８．２９（１／３Ｈ，ｂｓ）．
化合物（Ｉ−１３）（２８ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジオキサン（５ｍｌ）溶液に１Ｎ−ＨＣｌ水溶液（１．５ｍｌ）を加え５０℃で３０分攪拌した。その後室温下において１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液（１．５ｍｌ）を加え酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１４）（１１ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：５．１８（２Ｈ，ｓ），６．６２（１Ｈ，ｓ），７．２０−７．５０（６Ｈ，ｍ），８．１０−８．５０（２Ｈ，ｍ）．
実施例１５
0004577751.tif 000028
５−ベンジルオキシ−２−メチルピリジン（２９９ｍｇ，２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（２ｍｍｏｌ）を滴下した。次にチアゾール−２−カルボン酸エチルエステル（３１４ｍｇ，２ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮した。得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１５）（５１ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．６２（２／３Ｈ，ｓ），５．０９（２／３Ｈ，ｓ），５．１４（４／３Ｈ，ｓ），６．６０（２／３Ｈ，ｓ），７．１６（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３３−７．４８（７Ｈ，ｍ），７．６９（１／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），７．８７（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），８．０４（１／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），８．１６（２／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３，５Ｈｚ），８．３４（１／３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ）．
実施例１６、１７
0004577751.tif 000029
５−（２，４−ジフルオロベンジルオキシ）−２−メチルピリジン（７０６ｍｇ，３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（３ｍｍｏｌ）を滴下した。次にシュウ酸ジエチル（２．２ｇ，１５ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮した。得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して、化合物（Ｉ−１６）（４２ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３５．１．４５（６Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．４３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．１７（２Ｈ，ｓ），６．５７（１Ｈ，ｓ），７．０７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４，９．７Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，２．９Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝１．４，９．７Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−１６）（５０ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）のメタノール（３ｍｌ）溶液に水酸化リチウム水溶液（１Ｎ，０．３３ｍｌ）を加え７０℃で１時間攪拌した。メタノールを減圧下留去し、水を加えた。水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１７）（２２ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：６．３０（２Ｈ，ｓ），６，６０（１Ｈ，ｓ），７．３７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，９．８Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝１．５，９．８Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）．
実施例１８、１９
0004577751.tif 000030
水素化ナトリウム（３．２ｇ，８０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍｌ）溶液に、氷冷下ベンジルアルコール（８．６ｇ，８０ｍｍｏｌ）を加えた。次に２，４−ジクロロ−６−メチルピリミジン（３．２ｇ，２０ｍｍｏｌ）を加え室温下で１時間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し２，４−ビスベンジルオキシ−６−メチルピリミジン（３．５ｇ）を得た。
上記得られた２，４−ビスベンジルオキシ−６−メチルピリミジンに対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−１８）、化合物（Ｉ−１９）を得た。
化合物（Ｉ−１８）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．３９（２Ｈ，ｓ），５．４１（２Ｈ，ｓ），６．２４（１Ｈ，ｓ），６．３８（１Ｈ，ｓ），７．３０−７．５０（１０Ｈ，ｍ）．
化合物（Ｉ−１９）
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：５．４１（２Ｈ，ｓ），５．４２（２Ｈ，ｓ），６．４２（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｓ），７．３０−７．５５（１０Ｈ，ｍ）．
実施例２０−２３
上記同様に行った。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000031
実施例２４、２５
0004577751.tif 000032
４，６−ジメチルピリミジン（１．０８ｇ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム溶液を滴下した。次にベンジルブロミド（１．７１ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加え、０℃に昇温し３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し４−メチル−６−フェネチルピリミジン（１．７ｇ）を得た。
上記得られた４−メチル−６−フェネチルピリミジンに対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−２４）、化合物（Ｉ−２５）を得た。
化合物（Ｉ−２４）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．０６（４Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．３９（１Ｈ，ｓ），６．８６（１Ｈ，ｓ），７．１２−７．３５（６Ｈ，ｍ），８．９５（１Ｈ，ｓ）．
化合物（Ｉ−２５）
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：３．００（４Ｈ，ｓ），６．２９（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．４０（６Ｈ，ｍ），８．９２（１Ｈ，ｓ）．
実施例２６−３５
上記同様の反応により合成した。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000033
0004577751.tif 000034
実施例３６−４３
市販化合物に対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、以下の化合物を得た。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000035
0004577751.tif 000036
実施例４４
0004577751.tif 000037
２−メチルイソキノリン（２８６ｍｇ，２ｍｍｏｌ）とシュウ酸ジエチル（２９２ｍｇ，２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液に、ｔ−ＢｕＯＫ（２２４ｍｇ，２ｍｍｏｌ）加え５０℃で２時間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた粗生成物のメタノール（５ｍｌ）溶液に水酸化リチウム水溶液（１Ｎ，１ｍｌ）を加え室温下６時間攪拌した。メタノールを減圧下留去し、水を加えた。水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジイソプロピルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−４４）（１０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：６．７２（１Ｈ，ｓ），７．６７−７．７３（１Ｈ，ｍ），７．８２−７．８７（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．００（２Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），９．３８（１Ｈ，ｓ）．
実施例４５、４６、４７
0004577751.tif 000038
５−ヒドロキシ−２−メチルピリジン（１．０９ｇ，１０ｍｍｏｌ））のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（２０ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃まで昇温し１０分攪拌した後−７８℃に冷却した。次にシュウ酸ジエチル（７．０ｇ，５０ｍｍｏｌ）を加え１０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノールで溶出する画分を濃縮した。得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−４５）（４５０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３５−１．４２（３Ｈ，ｍ），４．３２−４．３９（２Ｈ，ｍ），６．５５（１Ｈ，ｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），８．１７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
水素化ナトリウム（８０ｍｇ，２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３ｍｌ）溶液に、氷冷下化合物（Ｉ−４５）（２０９ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を加えた。次に２，４−ジフルオロベンジルブロミド（２０７ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を加え３時間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた析出結晶をジイソプロピルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−４６）（１０４ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．１４（２Ｈ，ｓ），６．５６（１Ｈ，ｓ），６．８４−６．９６（２Ｈ，ｍ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ），７．４２−７．５０（１Ｈ，ｍ），８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）．
実施例４７
化合物（Ｉ−４６）に対し、実施例３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−４７）（５０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：５．２４（２Ｈ，ｓ），６．５８（１Ｈ，ｓ），７．１０−７．１９（１Ｈ，ｍ），７．２９−７．３７（１Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６２−７．７０（１Ｈ，ｍ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）．
実施例４８−５０
以下の化合物も同様の反応を用いて合成した。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000039
実施例５１、５２、５３
0004577751.tif 000040
６−メチルプリン（２５０ｍｇ，１．８６ｍｍｏｌ））のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（３．７３ｍｍｏｌ）を滴下した。室温まで昇温し１時間攪拌した後−７８℃に冷却した。次にシュウ酸ジエチル（１．４ｇ，９．３ｍｍｏｌ）を加え１０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、得られた析出結晶を水および酢酸エチルにて洗浄、減圧下乾燥して、化合物（Ｉ−５１）（１０３ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．２５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｓ），８．４５（１Ｈ，ｓ），８．５６（１Ｈ，ｓ）．
水素化ナトリウム（２８ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３ｍｌ）溶液に、氷冷下化合物（Ｉ−５１）（８０ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）を加えた。次にベンジルブロミド（５９ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）を加えた。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、得られた析出結晶を水および酢酸エチルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−５２）（５３ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：１．２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．２４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．４６（２Ｈ，ｓ，），６．４９（１Ｈ，ｓ），７．３２−７．３６（５Ｈ，ｍ），８．５７（１Ｈ，ｓ），８．６０（１Ｈ，ｓ）．
実施例５３
化合物（Ｉ−５２）に対し、実施例３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−５３）（９ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：５．４５（２Ｈ，ｓ），６．５４（１Ｈ，ｓ），７．２５−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．５７（１Ｈ，ｓ），８．６１（１Ｈ，ｓ）．
実施例５４、５５
以下の化合物も上記同様の反応を用いて合成した。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000041
実施例５６、５７、５８、５９
0004577751.tif 000042
３，４−ジアミノベンゾフェノン（６．３６ｇ，３０ｍｍｏｌ）の酢酸（３０ｍｌ）溶液に、無水酢酸（２ｍｌ）を加え、１００℃で２時間攪拌した。酢酸を留去し水及び炭酸水素ナトリウムを加えた。酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去して得られる析出結晶を酢酸エチルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物１（６．０ｇ）を得た。
化合物１（４．７ｇ，２０ｍｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸（７０ｍｌ）溶液に、トリエチルシラン（７．０ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加え、室温下１５時間攪拌した。溶媒を留去し、水および炭酸水素ナトリウムを加えた。酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥した。溶媒を留去して得られる残留物をｎ−ヘキサンにて洗浄、減圧下乾燥して化合物２の粗生成物（４．８ｇ）を得た。
上記得られた化合物２の粗生成物（４．８ｇ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に、トリエチルアミン（３．０ｇ，３０ｍｍｏｌ）及びクロロメトキシメタン（２．４ｇ，３０ｍｍｏｌ）を加え、室温下１時間攪拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し化合物３と化合物４の混合物（１：１）（３．１ｇ）を得た。
化合物３と化合物４の混合物（１：１）に対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−５６）と化合物（Ｉ−５７）の混合物（１：１）、及び化合物（Ｉ−５８）と化合物（Ｉ−５９）の混合物（１：１）を得た。
化合物（Ｉ−５６）と化合物（Ｉ−５７）の混合物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．３３，３．３４（３Ｈ，ｓ），４．０９，４．１１（２Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．４２，５．４３（２Ｈ，ｓ），６．３７，６．３９（１Ｈ，ｓ），７．１２−７．４５（８Ｈ，ｍ）．ｒｅｇｉｏ  ｉｓｏｍｅｒ  ｍｉｘｔｕｒｅ
化合物（Ｉ−５８）と化合物（Ｉ−５９）の混合物
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：３．２４，３．２６（３Ｈ，ｓ），４．０４，４．０５（２Ｈ，ｓ），５．５６（２Ｈ，ｓ），６．２４，６．２７（１Ｈ，ｓ），７．１３−７．６０（８Ｈ，ｍ）．ｒｅｇｉｏ  ｉｓｏｍｅｒ  ｍｉｘｔｕｒｅ
実施例６０、６１
0004577751.tif 000043
化合物（Ｉ−２５）（１３５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）のクロロホルム（６ｍｌ）とアセトニトリル（２ｍｌ）の混合溶液に、グリシンエチルエステル（１４０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１３５ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、及びＷＳＣＤ（１５５ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を加え室温下１時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物にジオキサン（５ｍｌ）を加え、さらに３Ｎ塩酸（１ｍｌ）を加えた。室温下３０分攪拌した後水を加え、水溶液がアルカリ性を示すまで炭酸水素ナトリウムを加えた。その後、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥し、溶媒を留去して得られる析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−６０）（１１０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．０５（４Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．２５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．３２（５Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｓ），８．８２（１Ｈ，ｓ）．
化合物（Ｉ−６０）（１１０ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液に水酸化リチウム水溶液（１Ｎ，０．３１ｍｌ）を加え室温下３０分攪拌した。メタノールを減圧下留去し、水を加えた。水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−６１）（９０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．８８−３．０２（４Ｈ，ｍ），３．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．１７（１Ｈ，ｓ），７．１０（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．３０（５Ｈ，ｍ），８．５５（１Ｈ，ｓ），８．７６（１Ｈ，ｓ）．
実施例６２−８６
上記同様の反応により合成した。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000044
0004577751.tif 000045
0004577751.tif 000046
0004577751.tif 000047
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実施例８７
0004577751.tif 000049
化合物  （Ｉ−２４）（１３５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）に、アンモニア−エタノール溶液（２．３Ｎ，１０ｍｌ）を加え、３日間攪拌した。その後水を加え、クロロホルムで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−メタノールで溶出する画分を濃縮し、析出結晶をヘキサンにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−８７）（７０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．００−３．０５（４Ｈ，ｍ），５．７０（１Ｈ，ｂｓ），６．４１（１Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｂｓ），７．１５−７．３５（５Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）．
実施例８８、８９、９０
0004577751.tif 000050
２，４−ルチジン（１．０７ｇ，１０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１６ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下９−ＢＢＮＯＴｆ（０．５Ｍ  ｉｎ  ｎ−ｈｅｘａｎｅ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。次にジイソプロピルエチルアミン（１．５５ｇ，１２ｍｍｏｌ）、及びベンズアルデヒド（１．０６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。室温下４時間攪拌し、反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮して、化合物５（１．４８ｇ）を得た。
ヨウ化ナトリウム（２．７ｇ，１８ｍｍｏｌ）およびトリメチルシリルクロリド（２．０ｇ，１８ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１０ｍｌ）溶液に、化合物５（６４０ｍｇ，３ｍｍｏｌ）を加え、室温化３時間攪拌した。その後炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄し、減圧下乾燥して、化合物６（４００ｍｇ）を得た。
化合物５（８５３ｍｇ，４ｍｍｏｌ）の酢酸溶液に、触媒量のパラジウム炭素を加え、水素雰囲気下３８時間攪拌した。反応液をろ過、溶媒を留去して、化合物７（５６０ｍｇ）を得た。
上記得られた化合物６、及び化合物７に対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−８８）、化合物（Ｉ−８９）、化合物（Ｉ−９０）を得た。
化合物（Ｉ−８８）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．６９（１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），７．３０−７．５０（６Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｓ），７．５８（１Ｈ，ｓ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−８９）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．９８（４Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｓ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．２０−７．３４（５Ｈ，ｍ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−９０）
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．９４（４Ｈ，ｓ），６．４０（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．３３（７Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５，４Ｈｚ）．
実施例９１、９２、９３、９４
0004577751.tif 000051
４−メチル−６−フェネチルピリミジン（１．９８ｇ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（１０ｍｍｏｌ）を滴下した。次にベンジルブロミド（１．７１ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温し３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し化合物８（４７８ｍｇ）、及び化合物９（１．６１ｇ）を得た。
上記得られた化合物８に対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−９１）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．９０−３．１０（５Ｈ，ｍ），６．１２（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｓ），７．０２−７．２４（１０Ｈ，ｍ），８．９０（１Ｈ，ｓ）．
上記得られた化合物９に対し、実施例２と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−９２）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．８０−３．００（４Ｈ，ｍ），３．８９（２Ｈ，ｓ），４．３０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），７．００−７．３０（１０Ｈ，ｍ），８．８４（１Ｈ，ｓ）．
化合物９（８６５ｍｇ，３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（３ｍｍｏｌ）を滴下した。次にシュウ酸ジ−ｔ−ブチル（３．０ｇ，１５ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮して、化合物（Ｉ−９３）（７８０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４７（９Ｈ，ｓ），２．９１（４Ｈ，ｓ），３．７９（２Ｈ，ｓ），６．６９（１Ｈ，ｓ），７．０４−７．３０（１０Ｈ，ｍ），８．７７（１Ｈ，ｓ）．
化合物（Ｉ−９３）（１００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２ｍｌ）溶液にＴＦＡ（１ｍｌ）を加え、室温下５時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し析出結晶を酢酸エチルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−９４）（８０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．８８（４Ｈ，ｓ），３．７８（２Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．０５−７．３０（１０Ｈ，ｍ），８．８１（１Ｈ，ｓ）．
実施例９５
0004577751.tif 000052
４−メチル−６−フェネチルピリミジン（５９５ｍｇ，３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（３ｍｍｏｌ）を滴下した。次に１−トリチル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボン酸エチルエステル（１．１５ｇ，３ｍｍｏｌ）を加え，その後０℃に昇温し３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して、化合物１０（９０６ｍｇ）を得た。
化合物１０（２００ｍｇ，０．３７ｍｍｏｌ）のジオキサン（５ｍｌ）溶液に１Ｎ−ＨＣｌ水溶液（１ｍｌ）を加え５０℃で３０分攪拌した。その後室温下において１Ｎ−ＮａＯＨ水溶液（１ｍｌ）を加え酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−９５）（６４ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．９０−３．０５（４Ｈ，ｍ），６．２９（１Ｈ，ｓ），７．０８（１Ｈ，ｓ），７．１８−７．３５（５Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｂｓ），８．７５（１Ｈ，ｓ）．
実施例９６
上記同様の反応により合成した。化合物の構造およびデータを以下に示す。
0004577751.tif 000053
実施例９７
0004577751.tif 000054
４−メチル−６−フェネチルピリミジン（５９５ｍｇ，３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（３ｍｍｏｌ）を滴下した。次にチアゾール−２−カルボン酸エチルエステル（４７２ｍｇ，３ｍｍｏｌ）を加え、その後０℃に昇温して３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−９７）（５０２ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．００−３．０７（４Ｈ，ｍ），６，４４（１Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ．ｓ），７．１８−７．２９（５Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｓ）．
実施例９８−１０５
上記同様の反応により合成した。用いられたエステル誘導体の各構造、並びに化合物の各構造、およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000055
0004577751.tif 000056
実施例１０６
0004577751.tif 000057
化合物（Ｉ−９８）（１００ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍｌ）溶液に、３Ｎ塩酸（１ｍｌ）を加え、室温下３時間攪拌した。反応液に水を加え、水溶液がアルカリ性を示すまで炭酸水素ナトリウムを加えた。酢酸エチルで洗浄した後、水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を減圧下留去し得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１０６）（４４ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．９１−３．０１（４Ｈ，ｍ），６．０１（１Ｈ，ｓ），６．４１（１Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｓ），７．１８−７．２８（５Ｈ，ｍ），８．７２（１Ｈ，ｓ）．
実施例１０７
0004577751.tif 000058
化合物（Ｉ−１００）（４０ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２ｍｌ）溶液に、トリメチルシリルブロミド（１３５ｍｇ，０．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温下６時間攪拌した。溶媒および残留試薬を減圧下留去し得られた析出塩をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１０７）（４１ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：３．０１（３Ｈ，ｓ），６．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．２０−７．３０（６Ｈ，ｍ），８．９５（１Ｈ，ｓ）．
実施例１０８
0004577751.tif 000059
４−メチル−６−フェネチルピリミジン（２９３ｍｇ，１．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（１．４８ｍｍｏｌ）を滴下した。次に化合物１１（４００ｍｇ，１．４８ｍｍｏｌ）を加え、その後０℃に昇温して３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し化合物１２の粗生成物を得た。この化合物１２の粗生成物のジオキサン（３ｍｌ）溶液に、３Ｎ塩酸（２ｍｌ）を加え、７０℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し水を加えて、水溶液がアルカリ性を示すまで炭酸水素ナトリウムを加えた。酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥し、溶媒を減圧下留去し得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１０８）（１０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．９０−３．１０（４Ｈ，ｍ），６．５６（１Ｈ，ｓ），６．６９（１Ｈ，ｓ），７．１０−７．３０（５Ｈ，ｍ），８．５６（１Ｈ，ｓ），９．０９（１Ｈ，ｓ）．
実施例１０９
0004577751.tif 000060
４，６−ジメチルピリミジン（２．９５ｇ，２７．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム溶液を滴下した。次にｐ−フルオロベンジルブロミド（５．１５ｇ，２７．２ｍｍｏｌ）を加え、０℃に昇温し３０分攪拌した。反応液に水を加え水溶液が酸性を示すまで塩酸を加えた。水溶液をｎ−ヘキサンで洗浄した後、水溶液がアルカリ性を示すまで、水酸化ナトリウム水溶液を加えた。ジエチルエーテルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を減圧下留去し化合物１３（４．０３ｇ）を得た。
化合物１３（４３０ｍｇ，２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）溶液に、氷冷下化合物１４（２８０ｍｇ，２ｍｍｏｌ）およびｔ−ブトキシカリウム（４５０ｍｇ，４ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１０分間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１０９）（２５０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：３．００−３．０６（４Ｈ，ｍ），６．８６−７．０２（４Ｈ，ｍ），７．１０−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．２９−７．３４（１Ｈ，ｍ），８．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｓ）．
実施例１１０、１１１
４−メチル−６−フェネチルピリミジンに対し、実施例１０９と同様の合成法を用いて合成した。化合物の各構造およびデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000061
実施例１１２、１１３、１１４
0004577751.tif 000062
４−メチル−６−フェネチルピリミジン（８．８ｇ，４４．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２２０ｍｌ）溶液に、氷冷下化合物１５（１０．０ｇ，４４．４ｍｍｏｌ）およびｔ−ブトキシカリウム（１０．５ｇ，９３．６ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１０分間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し化合物（Ｉ−１１２）（７．３８ｇ）及び化合物（Ｉ−１１３）（５８０ｍｇ）を得た。
化合物（Ｉ−１１２）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．００−３．０６（４Ｈ，ｍ），４．４４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７，１６−７．３０（６Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ）９．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，０．９Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−１１３）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．６２（９Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７．１６−７．３０（６Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．６Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ），９．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，０．９Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−１１２）（１．３８ｇ，３．６８ｍｍｏｌ）のメタノール（５０ｍｌ）溶液に水酸化リチウム水溶液（１Ｎ，１４ｍｌ）を加え、加熱還流下１時間攪拌した。メタノールを減圧下留去し、水を加えた。水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥した。減圧下溶媒を留去し析出結晶をジエチルエーテルにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１１４）（９５０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：６．８１（１Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．１６−７．３５（６Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｍ），８．８８（１Ｈ，ｓ），９．１０（１Ｈ，ｍ）．実施例１１５
0004577751.tif 000063
４−メチル−６−フェネチルピリミジン（１．３ｇ，６．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液に、−７８℃の冷却下ｎ−ブチルリチウム（６．６ｍｍｏｌ）を滴下した。次にＮ−フルオロベンゼンスルホンイミド（２．３ｇ，７．２ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温した後３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し、化合物１６および化合物１７の混合物（１．３ｇ）を得た。
上記得られた混合物に対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−１１５）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：３．１０−３．４１（２Ｈ，ｍ），５．７７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．２，８．７，４８．６Ｈｚ），６．３８（１Ｈ，ｓ），７．２１−７．３２（５Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｓ），８．９８（１Ｈ，ｓ）．
実施例１１６、１１７
0004577751.tif 000064
Ｎ−アセチルグリシン（３．５１ｇ，３０ｍｍｏｌ）のクロロホルム（３０ｍｌ）とアセトニトリル（１０ｍｌ）の混合溶液に、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（３．２２ｇ，３３ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（４．４６ｇ，３０ｍｍｏｌ）、ＷＳＣＤ（５．５９ｇ，３６ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（３．３４ｇ，３３ｍｍｏｌ）を加え室温下３時間攪拌した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノールで溶出する画分を濃縮して、化合物１８（４．１０ｇ）を得た。
化合物１８（４．４０ｇ，２７．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液に、氷冷下フェネチルマグネシウムブロミド（１Ｍ  ｉｎ  ＴＨＦ，６０ｍｍｏｌ）を加え、その後室温に昇温し３０分攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノールで溶出する画分を濃縮し化合物１９（３．５６ｇ）を得た。
化合物１９（１．５ｇ，７．３ｍｍｏｌ）のトルエン溶液に、オキシ塩化リン（３ｇ）を加え、１時間加熱還流した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し化合物２０（１．１ｇ）を得た。
上記得られた化合物２０に対し、実施例２と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−１１６）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．９９（４Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．５３（１Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｓ），７．１３−７．３５（５Ｈ，ｍ）．
化合物（Ｅ−１）（５０ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）のジオキサン（３ｍｌ）溶液に、３Ｎ塩酸（３ｍｌ）を加えた。５０℃に加温し３時間攪拌した後、水を加え、水溶液がアルカリ性を示すまで炭酸水素ナトリウムを加えた。その後、クロロホルムで洗浄し、水溶液が酸性を示すまでクエン酸を加えた。酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥し、溶媒を留去して化合物（Ｉ−１１７）（３１ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．８５−３．０５（４Ｈ，ｍ），６．３７（１Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｓ），７．１０−７．３２（５Ｈ，ｍ）．実施例１１８、１１９
0004577751.tif 000065
４−フェニル−１−ブタナール（１．４８ｇ，１０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５０ｍｌ）溶液に、テトラブチルアンモニウムトリブロミド（４．８２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で３０分攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出、洗浄、乾燥した。溶媒を留去して化合物２１（２．２１ｇ）を得た。
化合物２１（１．０ｇ，４．４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１０ｍｌ）溶液に、チオアセトアミド（６６０ｍｇ，８．８ｍｍｏｌ）を加え２時間加熱還流した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出、洗浄、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し化合物２２（７５０ｍｇ）を得た。
化合物２２に対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて化合物（Ｉ−１１８）、化合物（Ｉ−１１９）を得た。
化合物（Ｉ−１１８）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．９７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．１６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．６９（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．３８（５Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｓ）．
化合物（Ｉ−１１９）
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），３．１２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．６３（１Ｈ，ｓ），７．１８−７．３８（５Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｓ）．
実施例１２０、１２１
0004577751.tif 000066
３０％ナトリウムメトキシド−メタノール溶液（２７５ｍｍｏｌ）に、メチル−３−アミノクロトネイト（１２．５ｇ，１１０ｍｍｏｌ）およびホルムアミド（５０ｇ，１．１ｍｏｌ）を加え、３時間加熱還流し、その後メタノールを留去した。ＴＨＦ（１００ｍｌ）を加え、上澄み液を除去した。この操作を３回行い、残留物にメタノール及び塩化アンモニウム（１６ｇ）を加え、不溶物をろ過した。減圧下溶媒を留去して化合物２３（１０．５ｇ）を得た。
化合物２３（１０．４５ｇ，９５ｍｍｏｌ）にオキシ塩化リン（５０ｇ）を加え、１１０℃で２０分攪拌した。反応液を氷水中にゆっくりと加え、その後、水溶液がアルカリ性になるまで水酸化ナトリウムを加えた。ジエチルエーテルで抽出、洗浄、乾燥し、溶媒を留去して化合物２４（８．３５ｇ）を得た。
化合物２４（６．９５ｇ，５４ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン溶液に、トリブチルビニル鈴（１８ｇ，５７ｍｍｏｌ）およびＰｄ（Ｐｈ３）４（３．１ｇ，２．７ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出、洗浄、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジエチルエーテルで溶出する画分を濃縮し、化合物２５（５．５１ｇ）を得た。
化合物２５に対し、実施例１１２、１１４と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−１２０）および化合物（Ｉ−１２１）を得た。
化合物（Ｉ−１２０）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，１．５Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，１．５Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，１０．８Ｈｚ），８．８９（１Ｈ，ｓ）．
化合物（Ｉ−１２１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：５．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，ｓ），６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，１７．０Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｓ），８．８２（１Ｈ，ｓ）．
実施例１２２、１２３、１２４
0004577751.tif 000067
リチウムアルミニウムハイドライド（２．５ｇ，６６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液に、氷冷下６−メチルニコチン酸メチルエステル（１０ｇ，６６ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１０分攪拌した。再び氷冷下にて酢酸エチル及び水を加え、水素の発生が終わるまで攪拌した。溶媒を留去した後、クロロホルムを加えてろ過、乾燥し、溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し、化合物２６（７．９ｇ）を得た。
化合物２６（７．９ｇ，６４ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１００ｍｌ）溶液に、二酸化マンガン（２７．９ｇ，３２１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。反応液をろ過し、溶媒を留去して化合物２７（７．１ｇ）を得た。
メチルトリフェニルホスホニウムブロミド（２２．０ｇ，６１．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）に、氷冷下ｎ−ブチルリチウム（６１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分攪拌した。その後化合物２７（７．１ｇ，５８．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液を滴下し、室温に昇温して１時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、洗浄、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し、化合物２８（８．０ｇ）を得た。
化合物２８（７．０ｇ，５８．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２００ｍｌ）溶液に、シュウ酸ジエチル（８５．７ｇ，５８．６ｍｍｏｌ）およびｔ−ブトキシカリウム（１３．２ｇ，５８．６ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下４時間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を留去し得られた析出結晶をｎ−ヘキサンにて洗浄、減圧下乾燥して化合物（Ｉ−１２２）（５．７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），５．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ），６．５６（１Ｈ，ｓ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，１７．６Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．０Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−１２２）に対し、実施例３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−１２３）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：５．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ），６．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ），６．５６（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．３，１７．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１，８．５Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−１２３）に対し、実施例６０と同じ合成法を用いて、化合物（Ｉ−１２４）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：４．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ），５．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ），６．６０（１Ｈ，ｓ），６．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，１７．７Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２０−７．４２（５Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．７Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
実施例１２５、１２６
0004577751.tif 000068
化合物２８（３３０ｍｇ，２．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液に、９−ＢＢＮ（０．５Ｍ  ｉｎ  ＴＨＦ，５．５ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で３時間攪拌した。その後室温に冷却し、ヨードベンゼン（１．７ｇ，８．３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム水溶液（３Ｍ，８．３ｍｍｏｌ）およびＰｄＣ１２（ｄｐｐｆ）（２２６ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥した。溶媒を留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出する画分を濃縮し、２−メチル−５−フェネチルピリジン（５４０ｍｇ）を得た。
上記得られた２−メチル−５−フェネチルピリジンに対し、実施例２、３と同様の合成法を用いて、化合物（Ｉ−１２５）、化合物（Ｉ−１２６）を得た。
化合物（Ｉ−１２５）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．５４（１Ｈ，ｓ），７．０８−７．３２（６Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，７．８Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
化合物（Ｉ−１２６）
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：２．９２（４Ｈ，ｓ），６．５２（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．３１（５Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．１Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
実施例１２７、１２８
２−イソプロピルヨードベンゼンを用い、上記同様の反応により合成した。化合物の各構造及びデータを以下の表に示す。
0004577751.tif 000069
実施例１２９
0004577751.tif 000070
Ｗａｎｇ  Ｒｅｓｉｎ（５．５９ｇ，０．６５ｍｍｏｌ／ｇ）にＤＭＦ（８０ｍｌ）を加え、更に化合物（Ｊ−２）（１．３９ｇ，７．２７ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（９８２ｍｇ，７．２７ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン（１．４７ｇ，１４．５ｍｍｏｌ）、及びＰｙＢｏｐ（３．７８ｇ，７．２７ｍｍｏｌ）を加え、室温下２４時間攪拌した。得られた固相をＤＭＦ、水、メタノール、及び塩化メチレンで洗浄し、減圧下乾燥して、Ｒｅｓｉｎ  Ａ（５．８４ｇ）を得た。
Ｒｅｓｉｎ  Ａ（３０ｍｇ）にＴＨＦ（０．４ｍｌ）を加え、更に９−ＢＢＮ（０．５Ｍ  ｉｎ  ＴＨＦ，０．４ｍｌ）を加えて、室温下４時間攪拌した。その後、炭酸カリウム水溶液（２Ｍ，０．１ｍｌ）を加え、２−アセチルヨードベンゼン（４１ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）、及びＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（３ｍｇ）を加えて、５０℃で２０時間攪拌した。得られた固相をＤＭＦ、水、メタノール、及び塩化メチレンで洗浄してＲｅｓｉｎ  Ｂを得た。
Ｒｅｓｉｎ  Ｂに２０％ＴＦＡ−塩化メチレン溶液を加え、室温下１時間攪拌した。反応液を減圧下溶媒留去し、化合物（Ｉ−１２９）の粗生成物を得た。生成物はＬＣ−ＭＳスペクトル分析により、［Ｍ＋Ｈ］＋が確認された。
実施例１３０−１７４
各種ハロゲン化物を用い、上記同様の反応を用いて合成した。用いた各ハロゲン化物、及び各化合物の構造を以下の表に示す。各生成物はＬＣ−ＭＳスペクトル分析により、［Ｍ＋Ｈ］＋が確認された。
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0004577751.tif 000072
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実施例１７５
ピリミジン誘導体についても、同様に固相合成を行うことができた。上記の式（Ｊ−２）で示される化合物の変わりに、３−（６−ビニルピリミジン−４−イル）−２−ヒドロキシアクリル酸を使用して行った。
上記の化合物と同様に、本発明化合物として、例えば、以下の化合物も合成することができる。
0004577751.tif 000079
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試験例
本発明化合物のインテグラーゼ阻害作用を以下に示すアッセイ法に基づき調べた。
（１）ＤＮＡ溶液の調製
アマシャムファルマシア社により合成された以下の各ＤＮＡを、ＫＴＥバッファー液（組成：１００ｍＭ  ＫＣｌ，１ｍＭ  ＥＤＴＡ，１０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−塩酸（ｐＨ７．６））に溶解させることにより、基質ＤＮＡ溶液（２ｐｍｏｌ／μｌ）およびターゲットＤＮＡ溶液（５ｐｍｏｌ／μｌ）を調製した。各溶液は、一旦煮沸後、ゆるやかに温度を下げて相補鎖同士をアニーリングさせてから用いた。
（基質ＤＮＡ配列）
0004577751.tif 000100
（ターゲットＤＮＡ配列）
0004577751.tif 000101
（２）阻害率（ＩＣ５０値）の測定
Ｓｔｒｅｐｔａｖｉｄｉｎ（Ｖｅｃｔｏｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）を０．１Ｍ炭酸バッファー液（組成：９０ｍＭ  Ｎａ２ＣＯ３，１０ｍＭ  ＮａＨＣＯ３）に溶かし、濃度を４０μｇ／ｍｌにした。この溶液、各５０μｌをイムノプレート（ＮＵＮＣ社製）のウエルに加え、４℃で一夜静置、吸着させる。次に各ウエルをリン酸バッファー（組成：１３．７ｍＭ  ＮａＣｌ，０．２７ｍＭ  ＫＣｌ，０．４３ｍＭ  Ｎａ２ＨＰＯ４，０．１４ｍＭ  ＫＨ２ＰＯ４）で２回洗浄後、１％スキムミルクを含むリン酸バッファー３００μｌを加え、３０分間ブロッキングした。さらに各ウエルをリン酸バッファーで２回洗浄後、基質ＤＮＡ溶液（２ｐｍｏｌ／μｌ）５０μｌを加え、振盪下、室温で３０分間吸着させた後、リン酸バッファーで２回、次いで蒸留水で１回洗浄した。
次に上記方法で調製した各ウエルに、バッファー（組成：１５０ｍＭ  ＭＯＰＳ（ｐＨ７．２），７５ｍＭ  ＭｎＣｌ２，５０ｍＭ  ２−ｍｅｒｃａｐｔｏｅｔｈａｎｏｌ，２５％  ｇｌｙｃｅｒｏｌ，５００  μ  ｇ／ｍｌ  ｂｏｖｉｎｅｓｅｒｕｍ  ａｌｂｕｍｉｎ−ｆｒａｃｔｉｏｎ  Ｖ）１２μｌ、ターゲットＤＮＡ（５ｐｍｏｌ／μｌ）１μｌおよび蒸留水３２μから調製した反応溶液４５μｌを加えた。さらに各ウエルに被検化合物のＤＭＳＯ溶液６μｌを加え、ポジティブコントロール（ＰＣ）としてのウエルには、ＤＭＳＯ６μｌを加える。次にインテグラーゼ溶液（３０ｐｍｏｌ）９μｌを加え、良く混合した。ネガティブコントロール（ＮＣ）としてのウエルには、希釈液（組成：２０ｍＭ  ＭＯＰＳ（ｐＨ７．２），４００ｍＭ  ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｇｌｕｔａｍｅｔｅ，１ｍＭ  ＥＤＴＡ，０．１％ＮＰ−４０，２０％  ｇｌｙｃｅｒｏｌ，１ｍＭ  ＤＴＴ，４Ｍ  ｕｒｅａ）  ９μｌを加えた。
各プレートを３０℃で１時間インキュベート後、反応液を捨て、リン酸バッファーで２回洗浄した。次にアルカリフォスファターゼ標識した抗ジゴキシゲニン抗体（ヒツジＦａｂフラグメント：ベーリンガー社製）を１００μｌ加え、３０℃で１時間結合させた後、０．０５％Ｔｗｅｅｎ２０を含むリン酸バッファーで２回、リン酸バッファーで１回、順次洗浄した。次に、アルカリフォスファターゼ呈色バッファー（組成：１０ｍＭパラニトロフェニルホスフェート（Ｖｅｃｔｏｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製），５ｍＭ  ＭｇＣｌ２，１００ｍＭ  ＮａＣｌ，１００ｍＭ  Ｔｒｉｓ−塩酸（ｐＨ９．５））を１５０μｌ加えて３０℃で２時間反応させ、１ＮＮａＯＨ溶液５０μｌを加え反応を止めた後、各ウエルの吸光度（ＯＤ４０５ｎｍ）を測定し、以下の計算式に従い阻害率を求めた。阻害率（％）＝１００［１−｛（Ｃａｂｓ．−ＮＣ  ａｂｓ，）／（ＰＣ  ａｂｓ，−ＮＣ  ａｂｓ，）｝］
Ｃ  ａｂｓ．；化合物のウエルの吸光度
ＮＣ  ａｂｓ．：ＮＣの吸光度
ＰＣ  ａｂｓ．：ＰＣの吸光度
阻害率５０％に相当する化合物濃度（ＩＣ５０）を以下の表に示す。なお、比較例として、以下に示す化合物（Ｘ−１〜３）を使用した。表中の化合物Ｎｏ．は実施例の化合物Ｎｏ．を示す。
0004577751.tif 000102
0004577751.tif 000103
上記に示した化合物以外にも高活性の化合物としては、化合物Ｉ−９１，９５，９７，１０３，１０９，１１０，１１１，１１４，１１５，１１７，１１９などが挙げられる。従って、本発明化合物において、特にこれらの化合物が好ましい。
製剤例
以下に示す製剤例１〜８は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。「活性成分」なる用語は、式（Ｉ）で示される化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、それらの製薬的に許容される塩またはそれらの溶媒和物を意味する。
0004577751.tif 000104
活性成分とエタノールを混合し、この混合物をプロペラント２２の一部に加え、−３０℃に冷却し、充填装置に移す。ついで必要量をステンレススチール容器へ供給し、残りのプロペラントで希釈する。バブルユニットを容器に取り付ける。
（製剤例４）
活性成分６０ｍｇを含む錠剤は次のように製造する：
活性成分                                          ６０ｍｇ
デンプン                                          ４５ｍｇ
微結晶性セルロース                                ３５ｍｇ
ポリビニルピロリドン（水中１０％溶液）              ４ｍｇ
ナトリウムカルボキシメチルデンプン                  ４．５ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム                            ０．５ｍｇ
滑石                                                １ｍｇ
合計                                            １５０ｍｇ
活性成分、デンプン、およびセルロースはＮｏ．４５メッシュＵ．Ｓ．のふるいにかけて、十分に混合する。ポリビニルピロリドンを含む水溶液を得られた粉末と混合し、ついで混合物をＮｏ．１４メッシュＵ．Ｓ．ふるいに通す。このようにして得た顆粒を５０℃で乾燥してＮｏ．１８メッシュＵ．Ｓ．ふるいに通す。あらかじめＮｏ．６０メッシュＵ．Ｓ．ふるいに通したナトリウムカルボキシメチルデンプン、ステアリン酸マグネシウム、および滑石をこの顆粒に加え、混合した後、打錠機で圧縮して各重量１５０ｍｇの錠剤を得る。
（製剤例５）
活性成分８０ｍｇを含むカプセル剤は次のように製造する：
活性成分                                          ８０ｍｇ
デンプン                                          ５９ｍｇ
微結晶性セルロース                                ５９ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム                            ２ｍｇ
合計                                            ２００ｍｇ
活性成分、デンプン、セルロース、およびステアリン酸マグネシウムを混合し、Ｎｏ．４５メッシュＵ．Ｓ．のふるいに通して硬質ゼラチンカプセルに２００ｍｇずつ充填する。
（製剤例６）
活性成分２２５ｍｇを含む坐剤は次のように製造する：
活性成分                                        ２２５ｍｇ
飽和脂肪酸グリセリド                          ２０００ｍｇ
合計                                          ２２２５ｍｇ
活性成分をＮｏ．６０メッシュＵ．Ｓ．のふるいに通し、あらかじめ必要最小限に加熱して融解させた飽和脂肪酸グリセリドに懸濁する。ついでこの混合物を、みかけ２ｇの型に入れて冷却する。
（製剤例７）
活性成分５０ｍｇを含む懸濁剤は次のように製造する：
活性成分                                          ５０ｍｇ
ナトリウムカルボキシメチルセルロース              ５０ｍｇ
シロップ                                            １．２５ｍｌ
安息香酸溶液                                        ０．１０ｍｌ
香料                                                ｑ．ｖ．
色素                                                ｑ．ｖ．
精製水を加え合計                                    ５ｍｌ
活性成分をＮｏ．４５メッシュＵ．Ｓ．のふるいにかけ、ナトリウムカルボキシメチルセルロースおよびシロップと混合して滑らかなペーストにする。安息香酸溶液および香料を水の一部で希釈して加え、攪拌する。ついで水を十分量加えて必要な体積にする。
（製剤例８）
静脈用製剤は次のように製造する：
活性成分                                        １００ｍｇ
飽和脂肪酸グリセリド                          １０００ｍｌ
上記成分の溶液は通常、１分間に１ｍｌの速度で患者に静脈内投与される。
産業上の利用可能性
式（Ｉ）で示される化合物は、インテグラーゼ阻害活性を有し、抗ウイルス薬、抗ＨＩＶ薬等として、エイズ等の治療に有効である。