(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板、第２基板、これら両基板間に形成された液晶層、及び前記両基板間で前記液晶層を囲んで形成されたシール材を備えてなる液晶セルを用意する工程と、
前記液晶セルに第１圧力を加える工程と、
前記第１圧力の加えられた状態で前記液晶セルに液晶の入出口を形成する工程と、
前記入出口を介して液晶量を調節する工程と、
前記入出口を封入する工程と、
を含んでなり、
前記入出口を封入する工程は、仕上げ剤を入出口に投入する工程及び前記仕上げ剤を硬化する工程からなることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
前記液晶セルを用意する工程は、
第１基板及び第２基板を用意する工程と、
前記両基板のうちいずれかの基板上にシール材を形成する工程と、
前記両基板のうちいずれかの基板上に所定量の液晶を滴下する工程と、
前記両基板を合着する工程と、
を含んでなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
前記液晶セルに第１圧力を加える工程は、空気圧又はプレス装備を用いて行うことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
前記液晶セルに液晶の入出口を形成する工程は、前記シール材の所定の部分を除去する工程からなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
前記所定の部分のシール材を除去する工程は、レーザー照射を用いて行うことを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
前記所定の部分のシール材を除去する工程は、所定の部分のシール材の幅を全部除去して開口部形態の入出口を形成する工程からなることを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
前記開口部形態の入出口を形成する工程は、所定の部分のシール材を完全に除去する工程からなることを特徴とする、請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】
前記開口部形態の入出口を形成する工程は、所定の部分のシール材を完全に除去せず、第１基板又は第２基板と隔たってシール材が残存するようにする工程からなることを特徴とする、請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
前記所定の部分のシール材を除去する工程は、所定の部分のシール材の幅を減らして薄い膜形態の入出口を形成する工程からなることを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
前記膜形態の入出口は、液晶量調節工程時に液晶セル内部の液晶によって破れる程度の幅長を有することを特徴とする、請求項９に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１１】
前記膜形態の入出口の幅長は、０．２５〜０．６ｍｍの範囲であることを特徴とする、請求項１０に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１２】
前記液晶セルに液晶の入出口を形成する工程は、前記第１基板及び第２基板のうち少なくとも一つの基板上に穴を形成する工程からなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１３】
前記穴を形成する工程は、画素領域外周のダミー領域に穴を形成する工程からなることを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１４】
前記穴を形成する工程は、ドリル装備、超音波装備、又はレーザー装備を用いて行うことを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１５】
前記液晶量を調節する工程は、過充填された液晶を所定の量だけ外部に排出する工程からなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１６】
前記過充填された液晶を外部に排出する工程は、液晶セルに第２圧力を加えて行うことを特徴とする、請求項１５に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１７】
前記液晶セルに第２圧力を加える工程は、前記入出口形成時に液晶セルに加える第１圧力と同じ圧力を加えることを特徴とする、請求項１６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１８】
前記液晶セルに第２圧力を加える工程は、前記入出口形成時に液晶セルに加える第１圧力と異なる圧力を加えることを特徴とする、請求項１６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１９】
前記液晶量を調節する工程は、未充填の液晶を所定の量だけ内部に投入する工程からなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項２０】
前記液晶セルを用意する工程の後に、液晶セルに形成された液晶量を検査する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子に係り、より具体的には、液晶滴下方法によって製造される液晶表示素子において液晶量を調節できる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示画面の厚さが数センチメートル（ｃｍ）に過ぎない超薄型の平板表示素子、なかでも液晶表示素子は、動作電圧が低いために消費電力が少なく且つ携帯用に向いている点から、ノートブックコンピュータ、モニタ、宇宙船、航空機などにいたるまで広範で多様な分野に応用されている。
【０００３】
以下、かかる液晶表示素子を、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【０００４】
図１は、従来の液晶表示素子を概略的に示す断面図である。
【０００５】
図１に示すように、従来の液晶表示素子は、所定間隔をおいて相対向している下部基板１０及び上部基板２０と、これら両基板１０，２０間においてシール材３０によって封じられた液晶層４０とを備えて構成される。
【０００６】
図示してはいないが、下部基板１０上には、互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲートラインとデータラインが形成されており、ゲートラインとデータラインとの交差領域には、スイッチング素子として薄膜トランジスタが形成されており、この薄膜トランジスタと接続される画素電極が画素領域に形成されている。
【０００７】
図示してはいないが、上部基板２０上には、画素領域以外の領域から光が漏れるのを防ぐための遮光層が形成されており、画素領域に対応する部分に、色を表現するための赤色Ｒ、緑色Ｇ及び青色Ｂのカラーフィルタ層が形成されており、該カラーフィルタ層の上部に共通電極が形成されている。
【０００８】
このような液晶表示素子は、下部基板及び上部基板を用意する工程、及び用意した両基板間に液晶層を形成する工程によって製造される。ここで、両基板間に液晶層を形成する工程には、真空注入方法及び液晶滴下方法がある。
【０００９】
真空注入方法は、用意した両基板のいずれか一つの基板に、注入口を有するシール材を形成し、両基板を合着した後に、注入口から液晶を両基板の間に注入する方法である。
【００１０】
液晶滴下方法は、用意した両基板のいずれか一つの基板に、注入口のないシール材を形成し、該注入口のないシール材が形成された基板上に液晶を滴下した後に両基板を合着する方法である。
【００１１】
基板の大型化に伴って液晶滴下方法が多く用いられているが、これは、真空注入方法によって液晶を注入すると、液晶注入に長い時間がかかり生産性が落ちるためである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、液晶滴下方法では、適正の液晶量を算出することが大きな難題とされている。
【００１３】
すなわち、真空注入方法では、両基板を合着してから液晶を注入するので、合着基板中に注入される液晶量をあらかじめ算出する必要がないが、液晶滴下方法では、液晶を滴下してから両基板を合着するので、液晶量をあらかじめ算出しなければならない。
【００１４】
現在、液晶滴下方法では、セルの広さ及び高さなどを考慮して液晶量をあらかじめ算出してはいるものの、種々の要因によって液晶量を正確に算出するのは現実的に不可能な実情である。
【００１５】
例えば、液晶量が少なく算出されると、液晶パネル内部に液晶未充填領域が発生し、液晶量が過度に算出されると、液晶パネル内部に液晶過充填領域が発生してしまい、表示クォリティーが低下するという問題につながる。
【００１６】
そこで、現在、液晶の未充填または過充填の発生を最小化すべく最適の液晶量を算出するための研究が多方面で行われているが、いったん液晶の未充填または過充填が発生すると、その後の何ら治癒方法もないがために、不良度合が酷い場合には廃棄処分しなければならず、不経済的である。
【００１７】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その第１の目的は、液晶の未充填または過充填が発生しても、液晶量の事後調節によって未充填または過充填を治癒できる液晶表示素子の製造方法を提供することにある。
【００１８】
本発明の第２の目的は、液晶の未充填または過充填が発生しても、液晶量の事後調節によって未充填または過充填を治癒した液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記第１の目的を達成するために、本発明は、第１基板、第２基板、これら両基板間に形成された液晶層、及び前記両基板間で前記液晶層を囲んで形成されたシール材を備えてなる液晶セルを用意する工程と、前記液晶セルに第１圧力を加える工程と、前記第１圧力の加えられた状態で前記液晶セルに液晶の入出口を形成する工程と、前記入出口を介して液晶量を調節する工程と、前記入出口を封入する工程と、を含んでなる、液晶表示素子の製造方法を提供する。
【００２０】
本発明の第一の特徴は、液晶セルに液晶の入出ののための入出口を形成した後に、該入出口を介して液晶量を調節できるようにし、たとえ液晶の未充填または過充填が発生しても事後にその不良を治癒できるようにした点にある。
【００２１】
本発明の第二の特徴は、液晶セルに圧力を加えた状態で液晶の入出口を形成することによって、入出口の形成時に発生しうる異物が液晶セル内に侵入することを防止するようにした点にある。
【００２２】
前記液晶セルを用意する工程は、第１基板及び第２基板を用意する工程と、前記両基板のうちいずれかの基板上にシール材を形成する工程と、前記両基板のうちいずれかの基板上に所定量の液晶を滴下する工程と、前記両基板を合着する工程と、を含んでなることができる。
【００２３】
前記液晶セルに第１圧力を加える工程は、空気圧またはプレス装備を用いて行うことができる。
前記液晶セルに液晶の入出口を形成する工程は、前記シール材の所定の部分を除去する工程からなることができる。前記所定の部分のシール材を除去する工程は、所定の部分のシール材の幅を全部除去して開口部形態の入出口を形成する工程からなっても良く、所定の部分のシール材の幅を減らして薄い膜形態の入出口を形成する工程からなっても良い。
【００２４】
前記液晶セルに液晶の入出口を形成する工程は、前記第１基板及び第２基板のうち少なくとも一つの基板上に穴を形成する工程からなることができる。前記穴を形成する工程は、ドリル装備、超音波装備、またはレーザー装備を用いて画素領域外周のダミー領域に穴を形成する工程からなることが好ましい。
【００２５】
前記液晶量を調節する工程は、過充填された液晶を所定の量だけ外部に排出する工程からなることができる。前記過充填された液晶を外部に排出する工程は、液晶セルに第２圧力を加えて行うことができる。
【００２６】
前記液晶量を調節する工程は、未充填の液晶を所定の量だけ内部に投入する工程からなることができる。
【００２７】
前記液晶セルを用意する工程の後に、液晶セルに形成された液晶量を検査する工程をさらに含むことができる。
【００２８】
上記第２の目的を達成するために、本発明は、第１基板及び第２基板と、これら両基板間に形成された液晶層と、前記両基板間で前記液晶層を囲んで形成されたシール材と、を備えてなり、前記シール材の所定の部分に液晶の入出のための入出口が形成されており、前記入出口が仕上げ剤によって封入されていることを特徴とする液晶表示素子を提供する。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、次のような効果が得られる。
【００３０】
第一に、滴下される液晶量が正確でないため液晶の未充填または過充填領域が発生しても、液晶セルに穴を形成し、該穴から液晶量を調節でき、液晶量不良の治癒が可能になる。
【００３１】
第二に、液晶セルに圧力を加えた状態で液晶の入出口を形成するため、入出口形成時に発生しうる異物が液晶セル内に浸透することを防止することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、添付の図面を参照しつつ、本発明の好適な実施例について詳細に説明する。
【００３３】
１．液晶表示素子の製造方法
第１実施例
図２Ａ乃至図２Ｄは、本発明の第１実施例による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【００３４】
まず、図２Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、両基板１００，２００間に形成された液晶層（図示せず）、及び両基板１００，２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【００３５】
この液晶セルを用意する工程は、第１基板１００を用意する工程、第２基板２００を用意する工程、両基板１００，２００の間に、シール材３００で囲まれて密封される液晶層を形成する工程からなる。
【００３６】
第１基板１００を用意する工程は、図示してはいないが、透明な基板上に互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲートラインとデータラインを形成する工程、これらゲートラインとデータラインの交差点に、スイッチング素子として薄膜トランジスタを形成する工程、及び該薄膜トランジスタと電気的に連結されるように画素領域に画素電極を形成する工程と、を含んでなる。
【００３７】
第２基板２００を用意する工程は、図示してはいないが、透明な基板上に光の漏れを防ぐための遮光層を形成する工程、遮光層間の領域にカラーフィルタ層を形成する工程、及びカラーフィルタ層の上部に共通電極を形成する工程を含んでなる。ただし、いわゆるＩＰＳ（In-Plane Switching）モード液晶表示素子では、共通電極を第２基板２００に形成するのではなく、第１基板１００上で画素電極と平行に形成する。
【００３８】
両基板１００，２００間に液晶層を形成する工程は、液晶滴下方法によって行われる。すなわち、両基板１００，２００のいずれかの基板上に所定量の液晶を滴下した後、両基板１００，２００を合着する工程からなる。
【００３９】
以上説明した液晶セルの用意工程においてそれぞれの構成要素の材料及び形成方法などは、当業界における様々な公知の方法によって変更可能である。
【００４０】
その後、図示してはいないが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【００４１】
液晶セルの液晶量を検査する方法は、通常の肉眼検査方法によって行うことができ、その他当業界における公知の検査方法によって行えば良い。液晶量検査の結果、適正量の液晶が滴下されていないと判断される場合（すなわち、液晶量が不足して未充填領域が発生した場合や、液晶量が多すぎて過充填領域が発生した場合）には、以下の工程によって未充填や過充填を治癒する。
【００４２】
その後、未充填領域または過充填領域が発生した場合には、図２Ｂに示すように、液晶セルに第１圧力を加え、第１圧力の加えられた状態で、シール材３００に液晶の入出口３５０を形成する。
【００４３】
ここで、液晶セルに第１圧力を加える工程は、液晶セルを所定のチャンバー内に配置した後、空気圧を用いて行っても良く、所定のプレス装備を用いて行っても良い。
【００４４】
シール材３００に入出口３５０を形成する工程では、レーザー照射などの方法でシール材３００の所定の部分を除去する。
【００４５】
ここで、所定の部分のシール材３００を除去して形成した入出口３５０は、所定の部分のシール材３００の幅を全部除去して開口部の形態にしても良く、所定の部分のシール材３００の幅を一部のみ除去して薄い膜の形態にしても良い。
【００４６】
図３Ａ乃至図３Ｃは、本発明の一実施例による入出口３５０の様々な形態を示す図で、図３Ａ及び図３Ｂは断面図で、図３Ｃは平面図である。
【００４７】
すなわち、入出口３５０は、図３Ａ及び図３Ｂのように開口部３５０ａの形態にしても良く、図４Ｃのように薄い膜３５０ｂの形態にしても良い。
【００４８】
入出口３５０を開口部３５０ａの形態にする場合には、図３Ａのように所定の部分のシール材３００を完全に除去しても良く、図３ｂのように所定の部分のシール材３００を完全に除去せずに、第１基板１００または第２基板２００と隔たる残存シール材３６０が形成されるようにしても良い。
【００４９】
入出口３５０を薄い膜３５０ｂの形態にする場合には、薄い膜３５０ｂが、後述する液晶量調節工程時に液晶セル中の液晶によって破れなければならず、これが可能な程度の幅長を持つように形成しなければならない。幅長は、好ましくは、０．２５〜０．６ｍｍ範囲にする。
【００５０】
このように、液晶セルに第１圧力を加えた状態で、シール材３００に液晶の入出口３５０を形成することによって、入出口３５０の形成時に除去されるシール材３００の屑が、加えられた第１圧力によって液晶セル内に浸透できなくなる。また、図３Ｃに示すように、入出口３５０を薄い膜の形態にする場合には、液晶セルに加えられる第１圧力に関わらず、シール材３００の屑が液晶セル内に浸透することが防止される。
【００５１】
その後、図２Ｃに示すように、液晶セルに第２圧力を加え、入出口３５０から過充填された液晶を所定の量だけ外部に排出する。
【００５２】
この液晶セルに加える第２圧力の大きさ及び時間によって、外部へ排出される液晶の量が変わるので、過充填された液晶量に基づいて適度の第２圧力及び時間を選択する。
【００５３】
液晶セルに第２圧力を加える工程では、図２Ｂにおいて入出口形成時に液晶セルに加える第１圧力と同圧力を加えると良い。すなわち、液晶の排出量を考慮して所定の圧力を液晶セルに加え、圧力の加えられた状態でシール材３００に入出口３５０を形成し、加えられた圧力を所定の時間だけ保持すると、液晶セルの外部に所望する量の液晶が排出され、圧力変更無しにシール材の屑が液晶セル内に浸透するのを防ぎながら、所望する液晶の量を液晶セルの外部に排出することが可能になる。
【００５４】
ただし、第２圧力を必ずしも第１圧力と同一に設定する必要はなく、第２圧力を第１圧力よりも小さく設定しても良く、第２圧力を第１圧力よりも大きく設定しても良い。特に、図３Ｃに示すように、入出口３５０を薄い膜３５０ｂの形態にした場合には、第１圧力よりも大きい第２圧力を液晶セルに加えなければならなく、この第２圧力を加えることで薄い膜３５０ｂが破れて液晶が排出される。
【００５５】
一方、図２Ｃは、液晶が過充填された場合を例示したもので、液晶が未充填の場合には、入出口３５０から所定量の液晶を液晶セル内に投入する。もちろん、液晶が未充填の場合には、入出口３５０の形態を、図３Ａ及び図３Ｂのように開口部３５０ａの形態にしなければならない。
【００５６】
その後、図２Ｄに示すように、入出口３５０を封入する。
【００５７】
入出口を封入する工程は、仕上げ剤５００を入出口３５０に投入した後、硬化させる工程からなる。
【００５８】
仕上げ剤５００を硬化させる工程は、仕上げ剤５００が熱硬化樹脂である場合には、加熱工程によって、仕上げ剤５００がＵＶ硬化型の樹脂である場合には、ＵＶ照射工程によって行う。
【００５９】
第２実施例
図４Ａ乃至図４Ｄは、本発明の第２実施例による液晶表示素子の製造方法を示す断面図である。
【００６０】
まず、図４Ａに示すように、第１基板１００、第２基板２００、これら両基板１００，２００間に形成された液晶層（図示せず）、及び両基板１００，２００間で液晶層を囲んで形成されるシール材３００を備えてなる液晶セルを用意する。
【００６１】
液晶セルを用意する工程は、第１基板１００を用意する工程、第２基板２００を用意する工程、及び両基板１００，２００間にシール材３００で囲まれて密封される液晶層を形成する工程からなる。それぞれの工程の具体的な内容は、上記第１実施例と同様なので、その具体的な説明は省略する。
【００６２】
その後、図示せぬが、液晶セル中の液晶量を検査し、液晶の未充填または過充填を判別する。
【００６３】
その後、未充填領域または過充填領域が発生した場合には、図４Ｂに示すように、液晶セルに第１圧力を加え、第１圧力の加えられた状態で、第２基板２００に液晶の入出口２５０を形成する。
【００６４】
液晶セルに第１圧力を加える工程は、液晶セルを所定のチャンバー内に配置した後、空気圧を用いて行っても良く、所定のプレス装備を用いて行っても良い。
【００６５】
入出口２５０は、第２基板２００の所定の部分を除去して穴の形態にする。図面には入出口２５０が第２基板２００に形成された様子を例示したが、入出口２５０は、第１基板１００に形成しても良く、第１基板１００及び第２基板２００の両方に形成しても良い。また、入出口２５０を、第１基板１００または第２基板２００に複数個形成しても良い。
【００６６】
穴の形態を有する入出口２５０は、ドリル装備、超音波装備、またはレーザー装備を用いて形成可能である。
【００６７】
穴の形態を有する入出口２５０は、画素領域外周のダミー領域に形成することが、画像への影響を最小化する点から好ましい。
【００６８】
このように、液晶セルに第１圧力を加えた状態で基板に液晶の入出口３５０を形成することによって、入出口３５０形成時に除去される基板の屑が液晶セル内に浸透することを防止できる。
【００６９】
その後、図４Ｃに示すように、液晶セルに第２圧力を加え、入出口３５０から過充填された液晶を所定の量だけ外部に排出する。
【００７０】
液晶セルに第２圧力を加える工程では、図４Ｂで入出口形成時に液晶セルに加える第１圧力と同じ圧力を加えても良く、異なる圧力を加えても良い。
【００７１】
一方、図４Ｃは、液晶が過充填された場合を例示しているが、液晶が未充填の場合には、入出口３５０から所定量の液晶を液晶セル内に投入すれば良い。
【００７２】
その後、図４Ｄに示すように、入出口３５０を封入する。
【００７３】
入出口を封入する工程は、仕上げ剤５００を入出口３５０に投入した後、硬化させる工程からなる。
【００７４】
２．液晶表示素子
第３実施例
図５は、本発明の第３実施例による液晶表示素子を概略的に示す平面図で、図２Ａ乃至図２Ｄに示す本発明の第１実施例による液晶表示素子の製造方法によって製造された液晶表示素子である。したがって、以下に説明される内容の詳細は、本発明の第１実施例を参照するとより明確に理解できる。
【００７５】
図５に示すように、本発明の第３実施例による液晶表示素子は、第１基板１００及び第２基板２００、両基板１００，２００間に形成された液晶層（図示せず）、両基板１００，２００間で液晶層を囲んで形成されたシール材３００、シール材３００の所定の箇所に形成された入出口３５０、及び入出口３５０を封入している仕上げ剤５００を備えてなる。
【００７６】
第１基板１００及び第２基板２００の構成は、上記の同様なので、その具体的な説明は省略する。
【００７７】
入出口３５０は、所定の部分のシール材３００の幅が完全に除去された開口部の形態であっても良く、所定の部分のシール材３００の幅を減らして形成した薄い膜が破れて形成されたものであっても良い。
【００７８】
入出口３５０を開口部の形態にする場合、この開口部は、所定の部分のシール材が完全に除去されてなるものであっても良く、所定の部分のシール材が完全に除去されず、第１基板１００または第２基板２００と隔たって残存するものであっても良い。
【００７９】
仕上げ剤５００は、ＵＶ硬化型の樹脂または熱硬化樹脂からなり、シール材３００と同一の物質からなることができる。
【００８０】
第４実施例
図６は、本発明の第４実施例による液晶表示素子を概略的に示す断面図で、これは、図４Ａ乃至図４Ｄに基づく本発明の第２実施例による液晶表示素子の製造方法によって製造された液晶表示素子である。したがって、以下に説明される内容の詳細は、本発明の第２実施例を参照するとより明確に理解できる。
【００８１】
図６に示すように、本発明の第４実施例による液晶表示素子は、第１基板１００及び第２基板２００と、両基板１００，２００間に形成された液晶層（図示せず）と、両基板１００，２００間で液晶層を囲んで形成されたシール材３００と、第２基板２００の所定の箇所に形成された入出口２５０と、入出口３５０を封入している仕上げ剤５００とを備えてなる。
【００８２】
図面では入出口２５０が第２基板２００の所定の部分に穴の形態に形成されているが、入出口２５０は、第１基板１００に形成しても良く、第１基板１００及び第２基板２００の両方に形成しても良い。
【００８３】
この穴の形態を有する入出口２５０は、画素領域外周のダミー領域に形成することが好ましい。
【００８４】
仕上げ剤５００は、ＵＶ硬化型の樹脂または熱硬化樹脂からなり、シール材３００と同一の物質からなることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】従来の液晶表示素子を概略的に示す断面図である。
【図２Ａ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図２Ｂ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図２Ｃ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図２Ｄ】本発明の第１実施例による液晶表示素子の製造方法を示す平面図である。
【図３Ａ】本発明の一実施例による入出口の様々な形態を示す断面図である。
【図３Ｂ】本発明の一実施例による入出口の様々な形態を示す断面図である。
【図３Ｃ】本発明の一実施例による入出口の様々な形態を示す平面図である。
【図４Ａ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す断面図である。
【図４Ｂ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す断面図である。
【図４Ｃ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す断面図である。
【図４Ｄ】本発明の第２実施例による液晶表示素子の製造方法を概略的に示す断面図である。
【図５】本発明の第３実施例による液晶表示素子を概略的に示す平面図である。
【図６】本発明の第４実施例による液晶表示素子を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１００    第１基板
２００    第２基板
３００    シール材
２５０，３５０    入出口
４００    液晶層
５００    仕上げ剤
【図１】
0004571119.tif 000002
【図２Ａ】
0004571119.tif 000003
【図２Ｂ】
0004571119.tif 000004
【図２Ｃ】
0004571119.tif 000005
【図２Ｄ】
0004571119.tif 000006
【図３Ａ】
0004571119.tif 000007
【図３Ｂ】
0004571119.tif 000008
【図３Ｃ】
0004571119.tif 000009
【図４Ａ】
0004571119.tif 000010
【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５】
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【図６】
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