(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマクリーニング前の基板を上面に基板搬送路を有する可動ステージに載置する手順、
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有するプラズマクリーニング用の真空ケーシングを開き、真空ケーシングの内部に可動ステージを挿入し、真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極に接近させる手順、及び
基板を真空ケーシングの内部に向けて押送することにより可動ステージからＲＦ電極へ基板を移載する手順
を備えることを特徴とするプラズマクリーニング方法。
【請求項２】
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有する真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極上に基板を載置して該基板のプラズマクリーニングを行う手順、
基板のプラズマクリーニングの終了後、真空ケーシングを開き、真空ケーシングの内部に上面に基板搬送路を有する可動ステージを挿入し、ＲＦ電極に接近させる手順、及び
基板を可動ステージに向けて押送することによりＲＦ電極から可動ステージへ基板を移載する手順
を備えることを特徴とするプラズマクリーニング方法。
【請求項３】
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有する真空ケーシング、
真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極、
上面に基板搬送路を有し、基板を搬送可能に構成された可動ステージ、
可動ステージを、該可動ステージが真空ケーシング内に入り、ＲＦ電極に接近するように移動させるためのステージ移動手段、
可動ステージの基板搬送路に基板が載置され、真空ケーシングが開かれ、可動ステージがＲＦ電極に接近した状態にあるときに、基板を真空ケーシングの内部に向けて押送することにより、可動ステージからＲＦ電極へ基板を移載するための基板移載手段
を備えることを特徴とするプラズマクリーニング装置。
【請求項４】
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有する真空ケーシング、
真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極、
上面に基板搬送路を有し、基板を搬送可能に構成された可動ステージ、
可動ステージを、該可動ステージが真空ケーシング内に入り、ＲＦ電極に接近するように移動させるためのステージ移動手段、及び
ＲＦ電極に基板が載置されプラズマクリーニングが行われた後、真空ケーシングが開かれ、可動ステージがＲＦ電極に接近した状態にあるときに、基板を可動ステージに向けて押送することにより、ＲＦ電極から可動ステージへ基板を移載するための基板移載手段
を備えることを特徴とするプラズマクリーニング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品が実装される基板の表面をプラズマクリーニングする方法及びそのための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子部品が実装される基板の表面をクリーニングするための装置として特許第２８２８０６６号公報に記載のプラズマクリーニング装置が知られている。図５は同公報に記載の特許発明の一実施形態によるプラズマクリーニング装置の概略構成を示す垂直断面図、図６は同装置の一部の平面図である。この装置は、上ケース６１ａと下ケース６１ｂから成り上ケース６１ａが下ケース６１ｂに対して開閉自在な真空ケーシング６１と、上ケース６１ａの開閉手段（シリンダ６２及びロッド６３から成る）と、下ケース６１ｂの内部に設けられて基板６０のガイド部８７を備えた基板の支持手段６５と、この支持手段６５に電圧を印加してプラズマを発生させる電源部６６と、前記支持手段６５上の基板６０を前記真空ケーシング６１から前記真空ケーシング６１の側部に配設された基板ガイド７１へ送り出す送り出し手段とを備え、前記送り出し手段が、前記上ケース６１ａが上昇して開いている状態（上ケース６１ａが図５の破線で示した位置にある状態）で前記支持手段６５上の基板６０の後面に押当して基板６０を押送する押送子８０と、この押送子８０に前進・後退動作を行わせる駆動手段（モータ８３及び８６、ボールねじ８２及び８５、ナット８１及び８４から成る）を有することを特徴としている。更にこの装置は、複数の基板６０を段積みして収納するストッカー５１と、ストッカー５１を昇降させるための昇降機構（支持板５４、ナット５５、ボールねじ５６及びモータＭ１から成る）、ストッカー５１に収納された基板６０を１枚ずつ真空ケーシング６１内へ送り出すための第二の送り出し手段（シリンダ５７及びロッド５８から成る）を備えている。
【０００３】
この装置では、次のような手順で基板のクリーニングが行われる。まず、開閉手段６２、６３により真空ケーシング６１の上ケース６１ａを開き、第二の送り出し手段５７、５８によりストッカー５１から基板６０を真空ケーシング６１内へ送り出し、支持手段６５上に載せる。次に、開閉手段６２、６３により上ケース６１ａを閉じて真空ケーシング６１内を真空状態にし、電源部６６から支持手段６５に電圧を印加する。すると、真空ケーシング６１内にプラズマが発生し、プラズマの分子やイオンが基板６０の表面に衝突してその汚れを除去する。クリーニングが終了したら、開閉手段６２、６３により真空ケーシング６１を開き、押送子８０に前進動作を行わせて支持手段６５上の基板６０を基板ガイド７１の上へ押送する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記装置では、ストッカー５１から支持手段６５まで基板６０の搬送経路上にギャップＧ（基板６０を下から支持する部材の存在しない区間）があるが、このギャップＧが基板６０の搬送に支障を来すことがある。例えば、基板６０がフィルム状のたわみやすいものである場合、ストッカー５１から押し出された基板６０がギャップＧにさしかかったときに基板６０の前端が下方にたわみ、支持手段６５の上面に載らなくなるという問題が生じる。また、ギャップＧは支持手段６５と基板ガイド７１との間にも存在しているため、クリーニング後の基板６０を支持手段６５から基板ガイド７１の上へ移載する際にも同様の問題が生じうる。本発明はこのような課題を解決するために成されたものであり、その目的とするところは、真空ケーシングを用いた基板のプラズマクリーニングにおいて、真空ケーシングへの基板の搬入及び／又は真空ケーシングからの基板の搬出をスムーズに行うことができるようにするための技術を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために成された本発明に係る第一のプラズマクリーニング方法は、
プラズマクリーニング前の基板を上面に基板搬送路を有する可動ステージに載置する手順、
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有するプラズマクリーニング用の真空ケーシングを開き、真空ケーシングの内部に可動ステージを挿入し、真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極に接近させる手順、及び
基板を真空ケーシングの内部に向けて押送することにより可動ステージからＲＦ電極へ基板を移載する手順
を備えることを特徴とする。
【０００６】
また、本発明に係る第二のプラズマクリーニング方法は、
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有する真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極上に基板を載置して該基板のプラズマクリーニングを行う手順、
基板のプラズマクリーニングの終了後、真空ケーシングを開き、真空ケーシングの内部に上面に基板搬送路を有する可動ステージを挿入し、ＲＦ電極に接近させる手順、及び
基板を可動ステージに向けて押送することによりＲＦ電極から可動ステージへ基板を移載する手順
を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明に係る第一のプラズマクリーニング装置は、
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有する真空ケーシング、
真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極、
上面に基板搬送路を有し、基板を搬送を載置可能に構成された可動ステージ、
可動ステージを、該可動ステージが真空ケーシング内に入り、ＲＦ電極に接近するように移動させるためのステージ移動手段、及び
可動ステージに基板が載置され、真空ケーシングが開かれ、可動ステージがＲＦ電極に接近した状態にあるときに、基板を真空ケーシングの内部に向けて押送することにより、可動ステージからＲＦ電極へ基板を移載するための基板移載手段
を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明に係る第二のプラズマクリーニング装置は、
開閉自在に構成された上ケース及び下ケースから成り、該上ケースと下ケースの間をシールするＯリングを有する真空ケーシング、
真空ケーシングの内部に配置されたＲＦ電極、
上面に基板搬送路を有し、基板を搬送可能に構成された可動ステージ、
可動ステージを、該可動ステージが真空ケーシング内に入り、ＲＦ電極に接近するように移動させるためのステージ移動手段、及び
ＲＦ電極に基板が載置されプラズマクリーニングが行われた後、真空ケーシングが開かれ、可動ステージがＲＦ電極に接近した状態にあるときに、基板を可動ステージに向けて押送することにより、ＲＦ電極から可動ステージへ基板を移載するための基板移載手段
を備えることを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態及び発明の効果】
特許第２８２８０６６号公報に記載のプラズマクリーニング装置において、プラズマクリーニング後の基板の移載先である基板ガイドは、真空ケーシングの側部に固定的に配設されている。このため、支持手段（本発明のＲＦ電極に相当する）と基板ガイドとの間には少なくとも真空ケーシングの側壁の厚さ分のギャップを設けざるを得ず、先に述べたような問題の発生は不可避であった。このことに鑑み、本発明に係る方法及び装置においては、プラズマクリーニング用の真空ケーシング内への基板の搬入及び／又は同真空ケーシングからの基板の搬出に可動ステージを用いるようにしている。この可動ステージは、通常は真空ケーシングの外に配置されているが、真空ケーシングが開いた状態にあるときには、可動ステージを真空ケーシング内に挿入し、その中に配置されたＲＦ電極の側縁部に接近させることができる（当接させることを含む）。可動ステージの上面の高さは、可動ステージをＲＦ電極に接近させたときに、可動ステージの上面及びＲＦ電極の上面が一体となって搬送面を形成するように決定されている。この搬送面において、可動ステージとＲＦ電極との間のギャップは、そこで基板のたわみが生じ得ない程度に小さく、また、可動ステージの上面とＲＦ電極の上面との間の段差はほとんどない（基板の厚さに比べて無視し得る程度に小さい）。なお、段差については完全にこれを無くす必要は必ずしもなく、例えば、基板の移載元部材（ａ：可動ステージ又はｂ：ＲＦ電極）の上面が移載先部材（ａ：ＲＦ電極又はｂ：可動ステージ）の上面よりわずかに高いような段差であれば、基板の搬送に何ら支障を来すことはない。以上のような搬送面上で基板を押送することにより、たとえ基板がフィルム状のたわみやすいものであっても、可動ステージからＲＦ電極へ又はその逆方向にスムーズに基板を移載することができる。
【００１０】
【実施例】
図１に本発明の一実施例であるプラズマクリーニング装置の概略構成を示す。本実施例のプラズマクリーニング装置１は、上ケース１０ａ及び下ケース１０ｂから成る真空ケーシング１０を有する。上ケース１０ａはシリンダ１２ａ及びロッド１２ｂを有する昇降機構１２により上下方向に駆動される。下ケース１０ｂにはＲＦ電源１４に接続されたＲＦ電極１６が取り付けられている。ＲＦ電極１６は上部に矩形板状の基板載置部１６ａを有しており、この上にプラズマクリーニングすべき基板１８が載置される。また、下ケース１０ｂの側壁の上端面にはＯリング２０が定着されている。更に、下ケース１０ｂには排気制御弁２２及び真空ポンプ２４の配設された排気管２６が接続されている。
【００１１】
更に、本実施例の装置１には２つの可動ステージ３０、３２が備えられている。第一の可動ステージ３０は、プラズマクリーニングすべき複数の基板１８が段積み収納されたストッカー３４と真空ケーシング１０との間に配設されており、第二の可動ステージ３２は真空ケーシング１０を挟んで第一の可動ステージ３２とは反対側に配設されている。２つの可動ステージ３０及び３２は基板１８の搬送ラインに沿って両方向に移動可能である。なお、ストッカー３４には、所定の高さにある基板１８を第一の可動ステージ３０の方向へ送り出すための送り出し機構（例えば、図５の装置に備えられた第二の送り出し手段５７、５８と同様に構成されてもの）が備えられているが、これは図示しない。
【００１２】
図２は２つの可動ステージ３０、３２及びＲＦ電極１６の平面図である。ＲＦ電極１６の基板載置部１６ａの上面には２対のガイド部１６ｂが設けられており、一度に２枚の基板１８を基板載置部１６ａに載置することができる。同様に、可動ステージ３０、３２にもそれぞれ２対のガイド部３０ａ、３２ａが設けられている。従って、本実施例の装置１には基板１８の搬送ラインが２本設けられていることになる。もちろん、ガイド部の数を変えることにより搬送ラインを１本としたり３本以上とすることも可能である。
【００１３】
再び図１において、本実施例の装置１には、２つの可動ステージ３０及び３２にそれぞれ対応する基板押送機構３６及び基板掻引機構３８が備えられている。基板押送機構３６及び基板掻引機構３８はそれぞれ基板１８の搬送方向に移動可能な押送子３７及び掻引子３９を有している。
【００１４】
真空ケーシング１０への基板１８の搬入動作について図１及び図３を参照しながら説明する。まず、図１に示したように第一の可動ステージ３０をストッカー３４に接近（又は当接）させ、図示せぬ送り出し機構によりストッカー３４内の基板１８を可動ステージ３０の上面へ送り出す。次に、上ケース１０ａを上昇させ、基板１８を載せた可動ステージ３０を基板１８の搬送方向に移動させて、ＲＦ電極１６の側端に当接させる（このとき、基板押送機構３６も可動ステージ３０と共に移動する）。すると、図３に示したように、可動ステージ３０の上面とＲＦ電極１６の基板載置部１６ａの上面とが略面一な搬送面を形成する。この状態で、押送子３７を搬送方向に移動させると、基板１８が押送子３７に押されて搬送面上を移動する。押送子３７が図３の破線で示した位置に達すると、基板１８は完全にＲＦ電極１６の上に載る。こうして、可動ステージ３０からＲＦ電極１６へ基板１８が移載される。
【００１５】
次に、真空ケーシング１０からの基板の搬出動作について図１及び図４を参照しながら説明する。まず、プラズマクリーニング処理の終了後、排気管２６を通じて真空ケーシング１０内に空気を導入することにより真空ケーシング１０の内圧を大気圧に戻す。次に、上ケース１０ａを上昇させ、第二の可動ステージ３２を基板１８の搬送方向とは逆方向に移動させて、ＲＦ電極１６の側端に当接させる（このとき、基板掻引機構３８も可動ステージ３２と共に移動する）。すると、図４に示したように、可動ステージ３２の上面とＲＦ電極１６の基板載置部１６ａの上面とが略面一な搬送面を形成する。この状態で、まず掻引子３９を搬送方向とは逆方向に一杯に延出させ、その先端をＲＦ電極１６上の基板１８の後端に引っ掛ける。そして、掻引子３９を搬送方向に移動させると、基板１８が掻引子３９の先端に押されて搬送面上を移動する。掻引子３９が図４の破線で示した位置に達すると、基板１８は完全に可動ステージ３２の上に載る。こうして、ＲＦ電極１６から可動ステージ３２へ基板１８が移載される。可動ステージ３２に移載された基板１８は、更に後段に設けられた各種機構（例えばワイヤボンディング機構）に送られる。
【００１６】
なお、上記実施例では可動ステージ３０、３２とＲＦ電極１６の上面とが略面一な搬送面を形成するものとしたが、この構成は本発明にとって必須ではない。例えば、第一の可動ステージ３０とＲＦ電極１６との高さ関係については、前者の上面を後者の上面よりもわずかに高くしてもよい。この場合、両者の間に段差ができるが、その段差の高さを基板１８の厚さよりも十分に小さくすれば、押送子３７による基板１８の押送動作に何ら支障を来すことはない。同様に、第二の可動ステージ３２の上面はＲＦ電極１６の上面よりもわずかに低くしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施例であるプラズマクリーニング装置の概略構成図。
【図２】  ２つの可動ステージ及びＲＦ電極の平面図。
【図３】  真空ケーシングへの基板の搬入動作を示す図。
【図４】  真空ケーシングからの基板の搬出動作を示す図。
【図５】  従来より知られているプラズマクリーニング装置の一例の概略構成を示す垂直断面図。
【図６】  図５の装置の一部の平面図。
【符号の説明】
１…プラズマクリーニング装置
１０…真空ケーシング
１０ａ…上ケース
１０ｂ…下ケース
１６…ＲＦ電極
１６ａ…基板載置部
１８…基板
３０、３２…可動ステージ
３６…基板押送機構
３７…押送子
３８…基板掻引機構
３９…掻引子
【図１】
0004489263.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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