(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光された電磁照射で空間的配列を変える少なくとも１つのポリマー及び／またはオリゴマーアゾ染料、
式（ＩＶ）
【化１】
0004526191.tif 000023
［式中、
Ｒは水素またはメチルを表し、
Ｘ3′及びＸ4′は互いに独立に直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ5）−、−Ｃ    （Ｒ6Ｒ7）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ5）−、−（Ｓ    Ｏ2）−、−（ＳＯ2−Ｏ）−、−（ＳＯ2−ＮＲ5）−、−（Ｃ＝ＮＲ8）−、または    −（ＣＮＲ8−ＮＲ5）−を表し、
Ｒ5、Ｒ8及びＲ13は互いに独立に水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキ    ル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、Ｃ6−Ｃ10アリール、Ｃ1−Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−    、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ2−Ｃ20アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、    Ｃ6−Ｃ10アリール−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1−Ｃ20アルキル−（ＳＯ2）−、Ｃ3−Ｃ10シ    クロアルキル−（ＳＯ2）−、Ｃ2−Ｃ20アルケニル−（ＳＯ2）−、またはＣ6−Ｃ10    アリール−（ＳＯ2）−を表し、
Ｒ6及びＲ7は互いに独立に水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ1−Ｃ20アルコキ    シ、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2−Ｃ20アルケニル、またはＣ6−Ｃ10アリールを    表し、
Ｙは単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｃ    Ｈ3）−、−Ｎ（ＣＨ3）ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、または−Ｎ（ＣＨ3）−を表し    、
Ｚは式
【化２】
0004526191.tif 000024
の基を表し、但し
Ａは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＣ1−Ｃ4アルキル−を表し、
Ｘ4はＸ4′−Ｒ13を表し、
Ｘ4′−Ｒ13は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ＣＦ3、またはＣＣｌ3を表すこと    ができ、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ15は互いに独立に水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ20アル    キル、Ｃ1−Ｃ20アルコキシ、フェノキシ、Ｃ3−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2−Ｃ20ア    ルケニルまたはＣ6−Ｃ10アリール、Ｃ1−Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ6−Ｃ10    アリール−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1−Ｃ20アルキル−（ＳＯ2）−、Ｃ1−Ｃ20アルキル−    （Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、Ｃ1−Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ6−Ｃ10アリール−    （Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ1−Ｃ20アルキル−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1−Ｃ20アルキル−    ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−またはＣ6−Ｃ10アリール−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−を表し、
ｑ，ｒ及びｓは互いに独立に０−４の整数を表し、
Ｑ2は−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ5）−、−Ｃ（Ｒ6Ｒ7）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（    ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ5）−、−（ＳＯ2）−、−（ＳＯ2−Ｏ）−、−（Ｓ    Ｏ2−ＮＲ5）−、−（Ｃ＝ＮＲ8）−、−（ＣＮＲ8−ＮＲ5）−、−（ＣＨ2）p−、    Ｐ−またはｍ−Ｃ6Ｈ4−或いは式
【化３】
0004526191.tif 000025
の基を表し、
ｊは０−４の整数を表し、但しｊ＞１の時各Ｑ2は異なる意味を有していてよく、
Ｔ2は−（ＣＨ2）p−を表し、但しこの鎖には−Ｏ−、−ＮＲ9−、または−ＯＳｉＲ    102Ｏ−が介在してよく、
Ｓ2は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ9−を表し、
ｐは２−１２の整数を表し、
Ｒ9は水素、メチル、エチル、またはプロピルを表し、そして
Ｒ10はメチルまたはエチルを表す］
なる構造の、形態異方性を有する少なくとも１つのグルーピング、および
式（Ｖ）
【化４】
0004526191.tif 000026
［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして
Ｒ14は随時分岐していてもよいＣ1−Ｃ20アルキルを表し、または少くとも１つの更    なるアクリル単位を含む基を表す］
のアクリル酸またはメタクリル酸エステル、
を含んでなる、２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のための光記録材料であって、
染料の吸収最大が４００ｎｍから少くとも３０ｎｍ異なり、
染料が、４００ｎｍにおいてその最大吸収の高々６０％の光学濃度に達し、
化学光の偏光状態を変えることによって再書き込みの能力があり、削除／再書き込みサイクル後に元の値の少くとも８０％の強度が達成され、
その他の条件が同じで４００ｎｍにおいて、書き込み操作が５００ｎｍにおけるものと同程度に遅く進行し、またこの波長で誘導される複屈折値が５００ｎｍで誘導される複屈折値と１０％以上異ならず、
被覆層厚さが≧１ｍｍであり、
厚さ２５０ｎｍの固体状態において、３８０−４２０ｎｍの波長範囲の波長で、≦１の光学濃度を有し、
式
【化５】
0004526191.tif 000027
【化６】
0004526191.tif 000028
【化７】
0004526191.tif 000029
【化８】
0004526191.tif 000030
【化９】
0004526191.tif 000031
【化１０】
0004526191.tif 000032
【化１１】
0004526191.tif 000033
のポリマーの少くとも１つを含んでなり、コ及びターポリマーである場合、その組成はｘ＋ｙが合計で１００モル％までまたはｘ＋ｙ＋ｚが合計で１００モル％までの条件下に変化でき、ｐは１０〜１０００である、ことを特徴とする記録材料。
【請求項２】
染料の最大吸収（ＡＭ）が３７０ｎｍ以下である、請求項１の記録材料。
【請求項３】
染料の最大吸収が４５０ｎｍ以上である、請求項１の記録材料。
【請求項４】
少くとも１つの成分のＡＭが４５０ｎｍ以上であり且つ少くとも１つ
の成分のＡＭが３６０ｎｍ以下であるものを含んでなるコポリマーを含んでなる、請求項１の記録材料。
【請求項５】
電磁照射が３８０−４２０ｎｍの波長範囲のレーザー光である、請求項１−４のいずれか１つの記録材料。
【請求項６】
コポリマーの場合ｘ：ｙが１０：９０−９０：１０であり及び／またはターポリマーの場合ｘ＋ｙが１０モル％以上である、請求項１〜５のいずれか１つの記録材料。
【請求項７】
請求項１−６のいずれか１つの記録材料を含んでなる、記憶システム。
【請求項８】
記録材料がいずれか所望の形の１つまたはそれ以上の支持体のないものを含んでなる、請求項７の記憶システム。
【請求項９】
更に反射層を含んでなる、請求項８の記憶システム。
【請求項１０】
記憶媒体がスピンコーティングで適用される工程を含んでなる、請求項７〜９のいずれか１つの記憶システムの製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のための光記録材料、その製造法及びその波長約４００ｎｍにおける記憶材料としての使用法に関する。
【０００２】
（背景の技術）
アゾ染料を化学光に対するアンテナとして有する２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のための材料は過去の技術においてすでに存在している。特に、アゾ染料に加えて、形態異方性（ｆｏｒｍ  ａｎｉｓｏｔｒｏｐｙ）を有する成分も側鎖として使用されている側鎖ポリマ−種は、光で誘導できる複屈折の程度によって識別される。これらの材料において、染料は形態異方性を有する成分と組合わさって、適当な波長の偏光が照射された時に化学光（ａｃｔｉｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ）の場で配向し、光で誘導された複屈折が構築される。
【０００３】
米国特許第５３８４２２１号は、偏光された電磁照射線の照射時に空間的配置を変える少くとも１つのポリマ−及び／またはオリゴマ−アゾ染料、及び随時形態異方性を有する少くとも１つのグル−ピング（ｇｒｏｕｐｉｎｇ）を含んでなる２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のための光記録材料を記述している。
【０００４】
しかしながら、これらの材料はすべての必要条件に適合せず、特にその４００ｎｍにおける吸収性（高すぎる光学濃度（ｏｐｔｉｃａｌ  ｄｅｎｓｉｔｙ））のために、データの記憶に使用できない。反射構造では、化学光が原子の数層後の記録層にすでに顕著に吸収されており、化学光が記録材料の全厚さに作用できない。一方これは、光情報の記憶中に、光の吸収のためにかなりの温度上昇が起こることを意味する。試料温度のかなりの上昇は、少くとも２０℃、更に正確には少くとも５０℃、特に１００℃以上、殊に特に少くとも１４０℃の温度上昇を意味するものとして理解される。この温度上昇は、例えばＩＲサ−マルヘッド  （ｔｈｅｒｍａｌ  ｈｅａｄ）［インフラメトリクス・サ−モカム（Ｉｎｆｒａｍｅｔｒｉｃｓ  Ｔｈｅｒｍｏｃａｍ）ＰＭ２９０］で測定できる。
【０００５】
一方高吸収は、書き込みのために使用された波長を用いる、光で誘導された情報の読取りを妨害する。記録材料から検知構造に達する光は弱すぎて、適切な信号／ノイズ比を持たない。検知される光の強度が大程度に散乱バックグランドから際立っている時に、適切な信号／ノイズ比は存在する。
【０００６】
これらの公知の材料は、再書き込みに適切な性能を示さない。線形偏光された光を照射した場合、先に誘導された複屈折は、化学光の偏光方向を例えば９０°回転させることにより削除できることがすでに示されている。他に、複屈折は、例えば円偏光された光によって減じることができる。しかしながら、円偏光された光の照射による再書き込み操作中、過去の技術では等方性試料への書き込みで達成されたような複屈折値は形成されない。
【０００７】
上述した理由（高すぎる光学濃度）のために、再書き込みは、特に約４００ｎｍにおいて可能でなかった。
【０００８】
しかしながら、４００ｎｍにおける書き込み性能は、青色レーザーダイオード（ＮＩＣＨＩＡ）が高記憶密度を発生させうるから、丁度商業的に得られるようになったこのレーザーダイオードを使用するのに非常に重要である。
【０００９】
従って青色レーザーダイオードの波長範囲において光データを記憶するために使用できる記録材料が必要とされる。この材料は青色スペクトル領域（約４００ｎｍ）に露呈した時、緑色スペクトル領域（約５１５ｎｍ）に露呈した時に匹敵する値の光で誘導された複屈折をプンクト（ｐｕｎｃｔｏ）に達成すべきである。更にそれは再書き込みできる性能を有すべきである。
【００１０】
驚くべきことに今回、本明細書に記述される記録材料は上述した必要条件に適合することが発見された。
【００１１】
（発明の説明）
本発明は、２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のために使用でき、照射時に空間的配列を変える少くとも１つのポリマ−及び／またはオリゴマ−アゾ染料、及び随時少くとも１つの形態異方性を有するグル−ピングを含んでなる、光記録材料を提供する。本記録材料は、
−染料の吸収最大が４００ｎｍから少くとも３０ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ異なり、
−染料が、４００ｎｍにおいてその最大吸収の高々６０％の光学濃度に達し、
−化学光の偏光状態を変えることによって再書き込みの能力があり、削除／再書き込みサイクル後に元の値の少くとも８０％の強度が達成され、そして
−その他の条件が同じで４００ｎｍにおいて、書き込み操作が５００ｎｍにおけるものと同程度に遅く進行し、またここに誘導された複屈折値が５００ｎｍで誘導された複屈折値と１０％以上異ならない、
ということが特徴である。
【００１２】
これは、例えば染料の最大吸収（ＡＭ）が３７０ｎｍ以下、好ましくは３６０ｎｍ以下であるポリマ−によって達成される。
【００１３】
しかしながら、染料の最大吸収が４５０ｎｍ以上であるポリマ−及び／またはオリゴマ−を使用することもできる。
【００１４】
非常に良好な結果は、記録材料が、少くとも１つの成分のＡＭが４５０ｎｍ以上であり且つ少くとも１つの成分のＡＭが３６０ｎｍ以下であるものを含んでなるコポリマ−を含んでなる場合に達成された。
【００１５】
特に有利な効果は最大吸収を持つ吸収帯が特に狭い場合に達成できる。
【００１６】
更に、本発明による記録材料が、厚さ２５０ｎｍの固体状態において、３８０−４２０ｎｍ、好ましくは３９０−４１０ｎｍ、特に好ましくは３９５−４０５ｎｍの波長範囲の波長で、≦１、好ましくは０．５以下またはそれに同じ、特に好ましくは０．３以下またはそれに同じ光学濃度を有することは、特に特記すべきことである。
【００１７】
光学濃度は、市販のＵＶ／ＶＩＳ分光計［例えば、カリ−（ＣＡＲＹ）４Ｇ型ＵＶ／ＶＩＳ分光計］で決定できる。
【００１８】
このことが保証されるならば、記録材料を好ましくは３８０−４２０ｎｍ、特に好ましくは３９０−４１０ｎｍ、殊に好ましくは３９５−４０５ｎｍのレーザー波長範囲の電磁照射（光）で処理することにより、本発明による効果は有利な具合に達成できる。
【００１９】
最も有利な場合には、読取り過程が同一の波長の光で行えるべきである。これがいくつかの場合に可能でないならば、その波長はより長くなるが、好ましくは僅かだけより長くなるべきである。
【００２０】
化学光への露呈後の染料の再配列は、例えば偏光された吸収分光学的研究で分かる。化学光に予め露呈した試料を、染料の吸収スペクトル領域において、ＵＶ／ＶＩＳ分光計［例えば、カリ−（ＣＡＲＹ）４Ｇ型ＵＶ／ＶＩＳ分光計］により２つの偏光子（ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）間で検討する。試料をそれに垂直な方向で回転させた時並びに偏光子を、例えば交差状態の適当な位置で用いた場合、染料の再配列は試料の角度の関数として吸光強度過程から引き続き起こり、結果としてそれが明白に決定できる。
【００２１】
以下において、よりしばしば重要となる重要な因子は、分子の長軸の配向である。分子の長軸は、例えば分子模型（例えばセリウス（ＣＥＲＩＵＳ2 ））による分子の形の助けを借りて決定することができる。
【００２２】
本発明による染料の重要な因子は、書き込み操作後の化学光への感度である。
【００２３】
例えばホログラフィ−記録の感度は、化学光に対する分子の感度の尺度である。それは、例えばホログラフィー生長曲線から、即ち書き込み光線により付与されたエネルギーの関数としての、回折効率（＝読取りレーザーの入射強度に関する回折された強度）の発生から計算される。この強度は付与されたエネルギーによる回折効率の平方根の増加として定義され、記憶媒体の厚さに対して規格化される。
【００２４】
顕微鏡的レベルにおいて、感度はフォトンが分子を電子の基底状態から、概してシス型で記述される励起状態へ変える確率を意味する。
【００２５】
染料は、例えば化学光の偏光の方向に対して垂直な方向で折重なることにより、また長軸が化学光の偏光の方向に対して１０−９０°、好ましくは５０−９０°、特に好ましくは７５−９０°、殊に好ましくは８５−９０°の角度で存在するようになることにより、その吸収性、特にその化学光に対する感度を減じる。この時そのような染料は偏光性（ｐｏｌａｒｉｚａｂｉｌｉｔｙ）テンソルの成分がもはや化学光と反応しないならばもはや書き込み操作には関与せず、そして削除操作後の再新の書き込み時に、前の書き込み中に達成された複屈折がもはや達成されない。そのような染料は例えばその偏光性テンソルが長軸を有するということで特徴付けられる。
【００２６】
誘導された複屈折が書き込まれた後の本発明による染料の化学光に対する感度が最終値に保持され、そしてこの感度が分子の長軸が化学光の偏光方向に対して垂直であるとき元の値の少くとも５％、好ましくは１０％、好ましくは１５％、好ましくは２０％であるということは、本発明にとって必須である。
【００２７】
記録材料への数回の再書き込みはこのようにして可能である。削除操作後に達成される光で誘導された複屈折値は、先の値から、高々２０％、好ましくは１０％、特に好ましくは５％、殊に好ましくは高々１％しか違わない値を達成する。
【００２８】
数回再書き込みできる性能とは、少くとも２回、好ましくは少くとも１０回、特に好ましくは少くとも１００回、殊に好ましくは少くとも１０００回の書き込み／削除サイクルが行えることを意味すると理解される。
【００２９】
電磁照射と相互作用する基は、アゾ染料である。結果として本発明による材料は少くとも１つのアゾ染料を含んでなる。
【００３０】
アゾ染料は、例えば次の式（Ｉ）
【００３１】
【化６】
0004526191.tif 000002
【００３２】
［式中、Ｒ1 及びＲ2 は互いに独立に水素または非イオン性置換基を表し、そ
して
ｍ及びｎは互いに独立に０−４、好ましくは０−２の整数を表し、但し
Ｘ1 及びＸ2 はＸ1´−Ｒ3 またはＸ2´−Ｒ4 を示し、
Ｘ1´及びＸ2´は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ5 ）−、−Ｃ（Ｒ
6Ｒ7 ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ5 ）−、
−（ＳＯ2 ）−、−（ＳＯ2 −Ｏ）−、−（ＳＯ2 −ＮＲ5 ）−、−（Ｃ＝
ＮＲ8 ）−、または−（ＣＮＲ8 −ＮＲ5 ）−を表し、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ8 は互いに独立に水素、Ｃ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ3
−Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル、Ｃ1
−Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）−
、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）
−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（ＳＯ2 ）−、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル−（Ｓ
Ｏ2 ）−、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル−（ＳＯ2 ）−、またはＣ6 −Ｃ10アリ−
ル−（ＳＯ2 ）−を表し、或いは
Ｘ1´−Ｒ3 及びＸ2´−Ｒ4 は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ＣＦ3 、
またはＣＣｌ3 を表すことができ、
Ｒ6 及びＲ7 は互いに独立に水素、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ1 −
Ｃ20アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル、また
はＣ6 −Ｃ10アリ−ルを表す］
の構造を有する。
【００３３】
非イオン性置換基は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ1 −Ｃ20アルコキシ、フェノキシ、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニルまたはＣ6 −Ｃ10アリ−ル、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（ＳＯ2 ）−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−またはＣ6 −Ｃ10アリ−ル−ＮＨ−  （Ｃ＝Ｏ）−を意味するものとして理解すべきである。
【００３４】
アルキル、シクロアルキル、アルケニル及びアリ−ル基は、順次ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ1 −Ｃ20アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニルまたはＣ6 −Ｃ10アリ−ルからなる群からの３つまでの基で置換されていてもよく、このアルキル及びアルケニル基は直鎖または分岐鎖であってよい。
【００３５】
ハロゲンはフッ素、塩素、臭素及びヨウ素、特にフッ素及び塩素を意味するものと理解すべきである。
【００３６】
本発明による記録材料は、好ましくはポリマ−またはオリゴマ−の有機非晶性材料、特に好ましくは側鎖ポリマ−である。
【００３７】
側鎖ポリマ−の主鎖は、次の基本的構造に由来する：ポリアクリレ−ト、ポリメタクリレ−ト、ポリシロキサン、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステルまたはセルロース。ポリアクリレ−ト及びポリメタクリレ−トは好適である。
【００３８】
染料、特に式（Ｉ）のアゾ染料は、概してスペ−サ−を介してこれらのポリマ−マトリックスに共有結合している。例えばこの時Ｘ1 （またはＸ2 ）は、特に式
Ｘ1´−（Ｑ1 ）i −Ｔ1 −Ｓ1 −
［式中、Ｘ1´は上述した意味を有し、
Ｑ1 は−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ5 ）−、−Ｃ（Ｒ6 Ｒ7 ）−、−（Ｃ＝
Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ5 ）−、−（ＳＯ2 ）−、−
（ＳＯ2 −Ｏ）−、−（ＳＯ2 −ＮＲ5 ）−、−（Ｃ＝ＮＲ8 ）−、または
−（ＣＮＲ8 −ＮＲ5 ）−、−（ＣＨ2）p −、ｐ−またはｍ−Ｃ6 Ｈ4 −
或いは式
【００３９】
【化７】
0004526191.tif 000003
【００４０】
の２価の基を表し、
ｉは０−４の整数を表し、但しｉ＞１の時各Ｑ1 は異なる意味を有すること
ができ、
Ｔ1 は−（ＣＨ2）p −を表し、但しこの鎖は−Ｏ−、−ＮＲ9 −または−
ＯＳｉＲ102 Ｏ−が介在していてよく、
Ｓ1 は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ9 −を表し、
ｐは２−１２、好ましくは２−８、特に２−４の整数を表し、
Ｒ9 は水素、メチル、エチルまたはプロピルを表し、
Ｒ10はメチルまたはエチルを表し、そして
Ｒ5 −Ｒ8 は上述した意味を有する］
を意味する場合、そのようなスペ−サ−を表す。
【００４１】
ポリアクリレ−トまたはメタクリレ−トに対する好適な染料モノマ−は、式  （II）
【００４２】
【化８】
0004526191.tif 000004
【００４３】
［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして
他の基は上述した意味を有する］
を持つ。
【００４４】
特に好適な染料モノマ−は式（IIａ）
【００４５】
【化９】
0004526191.tif 000005
【００４６】
［式中、Ｘ3 はＣＮ及び他のすべての公知の電子吸引性置換基を示し、またそ
の時Ｒ1 も好ましくはＣＮであり、そして
基Ｒ、Ｓ1 、Ｔ1 、Ｑ1 、Ｘ1´、及びＲ2 、並びにｉ、ｍ、及びｎは上述
の意味を有する］
のものである。
【００４７】
本発明によるポリマ−またはオリゴマ−の有機非晶性材料は、例えば式（Ｉ）の染料の他に、形態異方性を有するグル−ピングを持つことができる。これらも、概してスペ−サ−を通してポリマ−マトリックスに共有結合している。
【００４８】
形態異方性を有する基は、例えば式（III）
【００４９】
【化１０】
0004526191.tif 000006
【００５０】
［式中、Ｚは式
【００５１】
【化１１】
0004526191.tif 000007
【００５２】
の基を表し、但し
Ａは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＣ1 −Ｃ4 アルキル−を表し、
Ｘ3 は−Ｘ3´−（Ｑ2 ）j −Ｔ2 −Ｓ2 −を表し、
Ｘ4 はＸ4´−Ｒ13を表し、
Ｘ3´及びＸ4´は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ5 ）−、−Ｃ（Ｒ
6Ｒ7）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ5 ）−、−
（ＳＯ2）−、−（ＳＯ2 −Ｏ）−、−（ＳＯ2 −ＮＲ5 ）−、−（Ｃ＝Ｎ
Ｒ8 ）−、または−（ＣＮＲ8 −ＮＲ5 ）−を表し、
Ｒ5 、Ｒ8 及びＲ13は互いに独立にＣ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ3 −Ｃ10シクロ
アルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル、Ｃ1 −Ｃ20アルキ
ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ2 −Ｃ20
アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1 −Ｃ
20アルキル−（ＳＯ2 ）−、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル−（ＳＯ2 ）−、Ｃ
2 −Ｃ20アルケニル−（ＳＯ2 ）−、またはＣ6 −Ｃ10アリ−ル−（ＳＯ2
）−を表し、或いは
Ｘ4´−Ｒ13は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ＣＦ3 、またはＣＣｌ3
を表すことができ、
Ｒ6 及びＲ7 は互いに独立に水素、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ1 −
Ｃ20アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル、また
はＣ6 −Ｃ10アリ−ルを表し、
Ｙは単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ
ＯＮ（ＣＨ3 ）−、−Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、または−Ｎ
（ＣＨ3 ）−を表し、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ15は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1 −Ｃ20アルキル
、Ｃ1 −Ｃ20アルコキシ、フェノキシ、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −
Ｃ20アルケニルまたはＣ6 −Ｃ10アリ−ル、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ
）−、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（ＳＯ2
）−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−（Ｃ
＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ1 −Ｃ20ア
ルキル−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ1 −Ｃ20アルキル−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−また
はＣ6 −Ｃ10アリ−ル−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−を表し、
ｑ、ｒ及びｓは互いに独立に０−４、好ましくは０−２の整数を表し、
Ｑ2 は−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ5 ）−、−Ｃ（Ｒ6 Ｒ7 ）−、−（Ｃ＝
Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ5 ）−、−（ＳＯ2 ）−、−
（ＳＯ2 −Ｏ）−、−（ＳＯ2 −ＮＲ5 ）−、−（Ｃ＝ＮＲ8 ）−、−（Ｃ
ＮＲ8 −ＮＲ5 ）−、−（ＣＨ2 ）p −、ｐ−またはｍ−Ｃ6 Ｈ4 −或いは
式
【００５３】
【化１２】
0004526191.tif 000008
【００５４】
の基を表し、
ｊは０−４の整数を表し、但しｊ＞１の時各Ｑ1 は異なる意味を有していて
よく、
Ｔ2 は−（ＣＨ2 ）p −を表し、但しこの鎖には−Ｏ−、−ＮＲ9 −、また
は−ＯＳｉＲ102 Ｏ−が介在してよく、
Ｓ2 は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ9 −を表し、
ｐは２−１２、好ましくは２−８、特に２−４の整数を表し、
Ｒ9 は水素、メチル、エチル、またはプロピルを表し、そして
Ｒ10メチルまたはエチルを表す］
の構造を有する。
【００５５】
ポリアクリレ−トまたはメタクリレ−トに好適な形態異方性を有するそのようなグル−ピングを持つモノマ−は、式（IV）
【００５６】
【化１３】
0004526191.tif 000009
【００５７】
［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして
他の基は上述した基を有する］
を有する。
【００５８】
式（IV）の形態異方性を持つ特に好適なモノマ−は、例えば
【００５９】
【化１４】
0004526191.tif 000010
【００６０】
である。
【００６１】
アルキル、シクロアルキル、アルケニル及びアリ−ル基は、順次ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1 −Ｃ20アルキル、Ｃ1 −Ｃ20アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル、Ｃ2 −Ｃ20アルケニル、またはＣ6 −Ｃ10アリ−ルからなる群からの基で３つまで置換されていてもよい。但しこのアルキル及びアルケニル基は直鎖でも分岐鎖でもよい。
【００６２】
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素、特にフッ素及び塩素を意味するものと理解すべきである。
【００６３】
本発明によるオリゴマ−またはポリマ−は、これらの機能性単位の他に、主に機能性単位、特に染料単位のパーセント含量を低下させるのに役立つ単位を含んでいてもよい。それらは、この役割に加えて、オリゴマ−またはポリマ−の他の性質、例えばガラス転移イオン度、液晶性、フィルム形成性に関わる機能があってよい。
【００６４】
ポリアクリレ−トまたはポリメタクリレ−トの場合、そのようなモノマ−は式（Ｖ）
【００６５】
【化１５】
0004526191.tif 000011
【００６６】
［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして
Ｒ14は随時分岐していてもよいＣ1 −Ｃ20アルキルを表し、または少くとも    １つの更なるアクリル単位を含む基を表す］
のアクリル酸またはメタクリル酸エステルである。
【００６７】
しかしながら、他のコポリマ−も存在しうる。
【００６８】
この時、本発明によるポリアクリレ−トまたはポリメタクリレートは、反復単位として、好ましくは式（VI）のもの、好ましくは（VI）及び（VII）または式  （VI）及び（VIII）のもの或いは式（VI）、（VII）及び（VIII）のものを含んでなる：
【００６９】
【化１６】
0004526191.tif 000012
【００７０】
［式中、基は上述した意味を有する］。
【００７１】
式（VI）の反復単位及び／または式（VII）及び／または（VIII）の反復単位のいくつかが存在することも可能である。
【００７２】
VI、VII、及びVIII間の量比は所望の通りであってよい。好ましくはVIの濃度は、VIの吸光係数に依存して、その混合物に基づいて０．１−１００％である。VII及びVIII間の比は１００：０−１：９９、好ましくは１００：０−３０：７０、特に好ましくは１００：０−５０：５０である。
【００７３】
本発明によるポリマ−及びオリゴマ−は、好ましくは少くとも４０℃のガラス転移温度Ｔg を有する。このガラス転移温度は、例えばＢ．ボルマ−（Ｖｏｌｌｍｅｒ）、「高分子化学の基本」、４０６−４１０ページ、スプリンガ−出版  （Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ）、１９６２年の方法で決定できる。
【００７４】
本発明によるポリマ−及びオリゴマ−は、ゲルパ−ミエ−ションクロマトグラフィ−（ポリスチレンで較正）により重量平均として決定して、５０００−２００００００、好ましくは８０００−１５０００００の分子量を有する。
【００７５】
ポリマ−及びオリゴマ−の構造の結果として、式（VI）の構造要素の相互の或いは式（VII）及び（VIII）の相互の分子間相互作用は、整然とした液晶状態の形成が抑制され、また光学的に等方性で、透明な、非散乱性フィルム、ホイル、シート、または平行六面体ができるように形成される。一方それにもかかわらず分子間相互作用は、フォトクロミック及び非フォトクロミック側鎖基の光化学的に誘導された、協同的な、方向の向いた再配列過程が光の照射時に行えるのに十分強い。
【００７６】
好ましくは式（VI）の反復単位の側鎖基間または式（VI）及び（VII）のそれの間で起こる相互作用力は、式（VI）の側鎖基の光誘導された立体配座変化が、他の側鎖基（（VI）及び／または（VII））の同一方向での再配列、即ちいわゆる協同性を引き起こすのに十分である。
【００７７】
光学的異方性の非常に高い値は、光学的等方性の非晶性フォトクロミックポリマ−中に誘導することができる（０．４までのΔｎ）。
【００７８】
配列の状態は、化学光の作用により、ポリマ−またはオリゴマ−中に生じ、改変され、かくしてその光学的性質が変調される。
【００７９】
用いる光は偏光であり、その波長は吸収帯の領域、好ましくは式（VI）の反復単位の長波長ｎ−π* 帯の領域にある。
【００８０】
ポリマ−及びオリゴマ−は、文献から、例えばＤＤ第２７６２９７号、独国特許第３８０８４３０号、マクロモレキュラレ・ヘミ−（Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ  Ｃｈｅｍｉｅ）、１８７、１３２７−１３３４（１９８４）、ＳＵ第８８７５７４号、ヨ−ロプ・ポリム（Ｅｕｒｏｐ．Ｐｏｌｙｍ．）、１８、５６１（１９８２）、及びリク・クリスト（Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．）、２、１９５  （１９８７）から公知の方法で製造できる。
【００８１】
本発明による記録材料またはポリマ−の他の製造法は、少くとも１つのモノマ−を更なる溶媒なしに重合させる方法を含んでなる。この場合、それは好ましくは遊離基で重合せしめられ、また重合は特に好ましくは遊離基開始剤及び／またはＵＶ光及び／または熱で開始される。
【００８２】
反応は２０−２００℃、好ましくは４０−１５０℃、特に好ましくは５０−１００℃、殊に好ましくは約６０℃の温度で行われる。
【００８３】
特別な具体例において、ＡＩＢＮは遊離基開始剤として使用される。
【００８４】
他の、好ましくは液体のモノマ−を一緒に使用することはしばしば好ましいと判明した。これは反応温度において液体であり且つ好ましくはオレフィン性不飽和モノマ−であるモノマ−、特に好ましくはアクリル酸及びメタクリル酸に基づくもの、殊に好ましくはメタクリル酸メチルを意味するものと理解される。
【００８５】
コポリマ−中の式（II）のモノマ−の含量は、好ましくは０．１−９９．９重量％、特に好ましくは０．１−５０重量％、殊に好ましくは０．１−５重量％、最も好ましくは０．５−２重量％である。
【００８６】
特に適当な材料は、式ＸIII−ＸＸのポリマ−の少くとも１つを含んでなる。
【００８７】
【化１７】
0004526191.tif 000013
【００８８】
【化１８】
0004526191.tif 000014
【００８９】
【化１９】
0004526191.tif 000015
【００９０】
本発明は、実施例１．２に示す式に類似の適当なモノマ−に対する製造法も提供する。
【００９１】
この方法は、テレフタル酸ジクロリドを、不活性な溶媒、例えばジオキサン中、室温−１１０℃の温度で、アミノベンゼンまたは置換アミノベンゼンと少くとも等モル量で撹拌し、非対称の部分的アミドを定量的に生成させ、これを直ぐに吸引濾別することが特徴である。同業者は、置換アミノベンゼンも勿論適当であることが直ぐに分る。そして生成物を随時溶媒で再び洗浄する。随時置換された４−（カルボキシクロリド）−安息香酸（４´−フェニルアゾ）−ベンズアミドが得られる。
【００９２】
更に本発明は、そのような方法で製造される非対称テレフタルアミド、及び実施例１．２に従って製造できる随時置換された非対称テレフタルアミド及びそのアクリレ−ト及びメタクリレートも提供する。
【００９３】
【化２０】
0004526191.tif 000016
【００９４】
本発明は、本明細書の実施例１．３によるモノマ−も提供する。勿論それは置換形でも製造できる。
【００９５】
【化２１】
0004526191.tif 000017
【００９６】
フィルム、ホイル、シート及び平行六面体は、外部での場を使用する及び／または表面効果が必要である経費のかかる配向工程なしに製造できる。それらは、スピンコーティング、ディッピング、注入または技術的に容易に行える他のコーティング法で基板に適用でき、プレスまたは流入により２つのシート間に導入でき、或いはキャストまたは押出しにより自己支持材料として単に製造することができる。そのようなフィルム、ホイル、シート及び平行六面体は、急速冷却により、即ち＞１００Ｋ／分の冷却速度により製造でき、或いは溶媒の迅速除去によって記述される意味において構造要素を含む液晶ポリマ−またはオリゴマ−からも製造できる。
【００９７】
２及び／または多ビット及び／またはボリュ−ムのデータ記憶のための記録材料の好適な製造法は、記憶媒体をスピンコーティングで適用する工程を含んでなる。
【００９８】
ホログラフィ−ボリュ−ム記憶系の好適な製造法は、３００℃まで、好ましくは２２０℃まで、特に好ましくは１８０℃までの範囲の、通常の成形法による工程を含んでなる。
【００９９】
層の厚さは、≧０．１ｍｍ、好ましくは≧０．５ｍｍ、特に好ましくは≧１ｍｍである。ｍｍ範囲の層の、特に好適な製造法は、射出成形法である。この場合には、ポリマ−溶融物をノズルを通して成形ホルダー中へ圧入し、それから冷却後に取り出す。
実施例
実施例１  モノマ−の製造
１．１
【０１００】
【化２２】
0004526191.tif 000018
【０１０１】
ジオキサン２００ｍｌ中４−アミノジフェニルエ−テル８５．９ｇを、ジオキサン２００ｍｌ中４−（２−メタクリロイロキシ）−エトキシ−安息香酸クロリド１２５ｇの溶液に添加し、この混合物を２時間撹拌し、この溶液を２リットルの水に注ぐことによって生成物を沈殿させた。沈殿を吸引濾別し、乾燥し、イソプロパノ−ルから２回再結晶させることにより精製した。収率は理論量の８０％であった。融点＝１２３℃。
１．２
【０１０２】
【化２３】
0004526191.tif 000019
【０１０３】
ジオキサン４００ｍｌ中４−アミノアゾベンゼン５９ｇを、ジオキサン１０００ｍｌ中テレフタル酸ジクロリド２０３ｇの溶液に添加し、この混合物を１時間撹拌した。沈殿を吸引濾別し、ジオキサンで洗浄し、高真空下に１１０℃で８時間乾燥した。４−（カルボキシクロリド）−安息香酸（４´−フェニルアゾ）−ベンズアミドの収量は９２．８ｇであった。融点＝１２３℃。
元素分析：  Ｃ20Ｈ14ＣｌＮ3Ｏ2 （３６３．８１）
計算値：Ｃ６６．０３；Ｈ３．８８；Ｃｌ１９．７５；Ｎ１１．５５
分析値：Ｃ６６．１０；Ｈ４．００；Ｃｌ１９．７０；Ｎ１１．７０
ピリジン２５ｍｌ中２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト２６ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌ中の、上で得た物質３６．４ｇの溶液に添加し、この混合物を１００℃で２時間撹拌し、この溶液を１リットルの水に注ぐことによって生成物を沈殿させた。沈殿を吸引濾別し、乾燥し、トルエン／酢酸エチル（１：１）を用いるシリカゲルでのクロマトグラフィ−で精製した。収率は理論量の４０％であった。元素分析：  Ｃ26Ｈ23Ｎ3Ｏ5 （４５７．４９）
計算値：Ｃ６８．２６；Ｈ５．０７；Ｎ９．１８
分析値：Ｃ６８．００；Ｈ５．１０；Ｎ９．２０
１．３
【０１０４】
【化２４】
0004526191.tif 000020
【０１０５】
４−ヒドロキシ−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン
４−シアノアニリン１８．８ｇを水１００ｍｌ中で６０℃に加熱した。固体を溶解させるために、濃塩酸１０ｍｌを添加した。ついで更に塩酸１１５ｍｌを添加し、溶液の温度を０℃に持っていき、ニトロシル硫酸５２ｇをゆっくりと滴下し、混合物を１時間撹拌した。この溶液を、２−ブロモフェノ−ル２７．５ｇ、メタノール１００ｍｌ、及び水１００ｍｌの溶液に、１０℃でゆっくりと滴下した。同時に１０％水酸化ナトリウム溶液を添加してｐＨ６−６．５を維持した。添加の完了後、撹拌物を更に１時間反応させ、沈殿を吸引濾別した。ついで生成物を水洗し、乾燥した。４−ヒドロキシ−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼンの収量は６８ｇであった。
４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン
４−ヒドロキシ−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン６５ｇを、約２００℃で４−メチル−２−ペンタノン２００ｍｌに溶解した。この溶液に２−ブロモエタノ−ル４０ｇ、炭酸カリウム４５ｇ、及びヨウ化カリウム０．５ｇを添加し、混合物を１２０℃で２４時間撹拌した。生成物をクロロホルム中に入れ、水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を回転蒸発器で留去し、残渣を、トルエン／酢酸エチル（４／１）を用いるシリカゲルのクロマトグラフィ−で精製した。
【０１０６】
４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼンの収量は３０．７ｇであった。融点＝１５３℃；λmax ＝３６５ｎｍ（ＤＭＦ）。
元素分析：  Ｃ15Ｈ12ＢｒＮ3Ｏ2 （３４６．１９）
計算値：Ｃ５２．０４；Ｈ３．４９；Ｂｒ２３．０８；Ｎ１２．１４
分析値：Ｃ５２．３０；Ｈ３．３０；Ｂｒ２２．９０；Ｎ１２．１０
４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３、４´−ジシアノアゾベンゼン
４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン１５ｇを熱ＤＭＦ２５ｍｌに溶解した。ついでシアン化銅４．３ｇを添加し、反応混合物を１４０℃で５−６時間撹拌した。この溶液を１３％水性アンモニア溶液約５００ｍｌに添加し、沈殿を濾別した。この沈殿を熱ジオキサンに溶解した。溶液を未溶解の残渣から濾別し、ジオキサンを回転蒸発器で除去し、生成物を、トルエン／ＴＨＦ（１／２）を用いるシリカゲルでのクロマトグラフィ−により精製し、エタノールから１度再結晶した。４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３、４´−ジシアノアゾベンゼンの収量は４．５ｇであった。融点＝１３８℃；λmax ＝３５６ｎｍ（ＤＭＦ）。
４−（２−メタクリロイロキシエチロキシ）３、４´−ジシアノベンゼン
４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３、４´−ジシアノアゾベンゼン５．８ｇを６５℃でジオキサン１５ｍｌに溶解し、トリエチルアミン２．４ｇを添加した。ついでジオキサン３ｍｌ中メタクリル酸クロリド３．１ｇの溶液を添加し、反応混合物を６５℃で２時間撹拌し、そして氷水３５０ｍｌ中に導入した。沈殿を吸引濾別し、乾燥した。ついでトルエン／ＴＨＦ（１／２）を用いるシリカゲルでのクロマトグラフィ−により精製した。４−（２−メタクリロイロキシエチロキシ）３、４´−ジシアノベンゼンの収量は５．９ｇであった。融点＝１１０℃；λmax ＝３５２ｎｍ（ＤＭＦ）。
実施例２  ポリマ−の製造
モノマ−１．２の３ｇ及び２、２´−アゾイソ酪酸ジニトリル０．１５ｇを、アルゴン雰囲気下に７０℃で２４時間ＤＭＦ３０ｍｌ中で撹拌した。ポリマ−を、溶液を水２００ｍｌに注ぐことによって沈殿させ、メタノール中で煮沸することによって精製した。
実施例３
【０１０７】
【化２５】
0004526191.tif 000021
【０１０８】
厚さ１ｍｍのガラス基板に、ポリマ−（実施例３の上を参照）の薄層を付与した。これはスピンコーティングで行った。この方法では、ポリマ−を５０ｇ／ｌの濃度でテトラヒドロフランに溶解し、溶液を、２０００分-1の回転速度で回転している基板上にたらした。形成されたポリマ−フィルムは、典型的には２００ｎｍの厚さを有した。溶媒の残りは、塗布したガラス支持体を真空炉中に６０℃で２時間貯蔵することにより、フィルムから除去した。
【０１０９】
このように製造した試料に、ポリマ−側から、偏光レーザー光を垂直に入射させて照射した（書き込み操作）。波長５１４ｎｍのアルゴンイオンレーザー（コンチナム（Ｃｏｎｔｉｎｕｍ））を光源として使用した。このいわゆる書き込みレーザーの強度は５００ｍＷ／ｃｍ2 であった。トランス−シス−トランス異性化サイクルは、ポリマ−の側鎖基分子中で誘導され、Ａｒレーザーの偏光の方向から離れた該分子の真の配向を形成させた。これらの分子のダイナミクスは、ポリマ−フィルム平面内での複屈折Δｎ＝ｎy −ｎx の発現が肉眼的に明白であることを示す。レーザー光の偏光方向における屈折率（ｎx ）はこの過程中減少し、一方偏光方向に垂直な屈折率（ｎy ）は増加する。上述の露光条件の場合、ダイナミクスは分の範囲で進行した。
【０１１０】
波長６３３ｎｍで誘導される複屈折の時間に関する過程は、ヘリウム−ネオンレーザー（典型的には強度：１０ｍＷ／ｃｍ2 ）で実験的に決定される。この操作は複屈折の読取りといわれる。このいわゆる読取りレーザーの、ポリマ−層への入射光は、層の垂直に対して１５−３５°の固定角を占める。この読取り及び書き込み光は、ポリマ−層上で重複する。読取り光の偏光の方向は書き込み光の偏光に対して４５°のポリマ−フィルム面内の角度を占める。層が複屈折であるならば、それはポリマ−層を通過する時に回転する。この回転には、試料後の光路にあり且つ偏光の元の方向に垂直な光を通すアナライザ−の後、読取り光強度Ｉs の増加が付随する。強度Ｉp はＩs が増加するにつれて同一の程度まで減少する。Ｉp は、同様に位置するが、読取りレーザーの偏光の元の方向を選択するアナライザ−後の透過強度として定義される。元の方向に平行な及び垂直な偏光の方向の２つの量は、偏光線分割器を通して及び２つのＳｉフォトダイオードを用いて、実験により別々に検知される。複屈折Δｎは、次の関係
【０１１１】
【数１】
0004526191.tif 000022
【０１１２】
により測定された強度から計算できる。但し、この式において、ｄはポリマ−層の厚さを示し、そしてλ＝６３３ｎｍ、読取りレーザーの光波長。また式からは、読取りがポリマ−層に対して垂直に行われるということがおよそ推定される。
【０１１３】
図１は実施例３からのポリマ−層の複屈折Δｎの、書き込み／削除実験中の単調な経時的増加を示す。高複屈折値は、フィルム面における発色団の配向分布における高異方性を示す。試料を２分間書き込みレーザー光に露呈した後、第１の書き込み操作を終える。この及び続く書き込み操作中に得られる移相Δφ＝２πΔｎｄ／λはΔφ＝πの値を超えない。ポリマ−層の複屈折ｎは、２分後にΔｎ＝０．２１３±０．００２の最大値に実質的に到達した。
【０１１４】
Δｎは書き込み光の偏光の方向を９０°回転することによって削除できる。この削除操作は、直ぐに完了する：Δｎ＝０。これは、ダイオードを通して検知される値Ｉp ＝０に同等である。ここに削除は書き込みよりかなり速く行われる。
【０１１５】
更なる書き込み／削除操作はこの第１の状態と同一のパターンで起こり、ダイオードの信号を記録して、複屈折が計算される。図１において、複屈折の秒単位での形成及びすべての続く書き込み操作が測定精度という状況において速度及び程度に関し類似していることが理解できる。
【０１１６】
それゆえに、このポリマ−は複屈折の連続的減少から推定される劣化がない。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施例３からのポリマ−層の複屈折Δｎの、書き込み／削除実験中の単調な経時的増加を示す。
【図１】
0004526191.tif 000034