(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の（１）〜（５）工程により製造することを特徴とするホログラムシートの製造方法。
（１）基材面に多数のホログラム微細片を含有した放射線硬化型ホログラムインク層を設ける工程。
（２）前記インク層に放射線を照射して不完全硬化させる工程。
（３）不完全硬化させたインク層に平滑性を有しかつ放射線透過性を有する押圧用基材を対接させて、押圧する工程。
（４）前記押圧用基材側から放射線を照射して前記インク層を完全硬化させる工程。
（５）完全硬化させたインク層から前記押圧用基材を剥離する工程。
【請求項２】
前記押圧用基材が剥離性を有することを特徴とする請求項１記載のホログラムシートの製造方法。
【請求項３】
前記インクが紫外線硬化型インクであることを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載のホログラムシートの製造方法。
【請求項４】
前記押圧用基材として平滑度が１００秒以上の押圧用基材を用いることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のホログラムシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はホログラムシートの製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、領収書、有価証券などのフォーム、ＩＣカード、磁気カード、リライトカードなどにおいて、意匠性に優れるとともに、特に偽造防止性の高いホログラムシートの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、意匠性もあり、特に偽造を困難とする目的で、フォームやカード類の基材面に、ホログラムラベルや光輝ラベルなどを貼付したり、チタンコーテイングマイカなどの高輝度顔料を含有したインク（パールインクなど）を基材面の特定部分に印刷したりしたものなどがある。
【０００３】
これらは容易に偽造されず、特別な真贋判定装置を必要としない点で優れているが、反面、ホログラムラベルは製造方法が複雑で、高価であり、光輝ラベルも高価であり、したがって製造コストがアップする問題があった。高輝度顔料を含有したインクを用いたものはパール様の光沢を与えるが、輝度が低く、虹彩（角度を変えて見たときの色の変化）が弱いという欠点がある。
【０００４】
一方、特殊な蛍光インクでマークなどを印刷する方法があり、この方法によれば製造コストのアップや製造工程の煩雑さを伴わず、通常状態ではマークが隠蔽されるために、使用者に意識させないという点で優れているが、この種の特殊な蛍光インクは色調が淡く、判別し難い場合が起こる可能性があり、加えて、真贋判定にブラックライト照射装置が必要である。
【０００５】
これらの真贋判定の技術は、技術的に確立されてから年月日が経過し、一般に認知され、公知化されるようになると逆に偽造され易くなる可能性が高くなるという問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、従来の欠点や問題を解決し、強い輝度と強い虹彩を有するシートであって、意匠性に優れるとともに、特に偽造防止性が高く、特別な真贋判定装置を必要とせず、安価な領収書、有価証券などのフォーム、ＩＣカード、磁気カード、リライトカードなどのカード類に好適に適用できる新規なシートの製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ホログラムフィルムを利用し、このホログラムフィルムの微細片を多数含有した放射線硬化型ホログラムインクを用いて基材面に塗工するなどしてインク層を設けた後、このインク層に放射線を照射して不完全硬化させ、不完全硬化させたインク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧して、ホログラムフィルムの微細片が前記基材面に対してほぼ平行になるように配向させ、次いで前記インク層に放射線を照射して完全硬化させ、前記押圧用基材を剥離すれば全体的に強い輝度と強い虹彩を有する新規なホログラムシートを得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の請求項１は、下記の（１）〜（５）工程により製造することを特徴とするホログラムシートの製造方法である。
（１）基材面に多数のホログラム微細片を含有した放射線硬化型ホログラムインク層を設ける工程。
（２）前記インク層に放射線を照射して不完全硬化させる工程。
（３）不完全硬化させたインク層に平滑性を有しかつ放射線透過性を有する押圧用基材を対接させて、押圧する工程。
（４）前記押圧用基材側から放射線を照射して前記インク層を完全硬化させる工程。
（５）完全硬化させたインク層から前記押圧用基材を剥離する工程。
【０００９】
本発明の請求項２は、請求項１記載のホログラムシートの製造方法において、前記押圧用基材が剥離性を有することを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項３は、請求項１あるいは請求項２記載のホログラムシートの製造方法において、前記インクが紫外線硬化型インクであることを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項４は、請求項１から請求項３のいずれかに記載のホログラムシートの製造方法において、前記押圧用基材として平滑度が１００秒以上の押圧用基材を用いることを特徴とする。
【００１２】
本発明においては、ホログラムフィルムを利用し、このホログラムフィルムを微細片としたものを含有した放射線硬化型ホログラムインクを用いて、基材面に塗工するなどしてインク層を設けた後、先ずこのインク層に放射線を照射して不完全硬化させる。インク層を不完全硬化させれば、ベタ付いたりせず取り扱い易い上、図柄などがずれたりせず、そして次の工程で、不完全硬化させたインク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧すると、不完全硬化させたインク層中のホログラムフィルムの微細片を前記基材面に対してほぼ平行に配向させることができる。
次の工程で前記インク層に再度放射線を照射して、インク層中にホログラムフィルムの微細片が前記基材面に対してほぼ平行に配向した状態を維持したまま前記インク層を完全硬化することができる。
そして、完全硬化させた後、前記押圧用基材を剥離すれば全体として強い輝度と強い虹彩を有し、意匠性に優れるとともに、特に偽造防止性の高い従来にない新規なホログラムシートを得ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１（１Ａ）、（１Ｂ）〜（５Ａ）、（５Ｂ）は本発明のホログラムシートの製造方法の工程を説明する説明図である。
（１）工程で、先ず、基材２の表面１に多数のホログラム微細片３を含有した放射線硬化型ホログラムインクを塗工して放射線硬化型ホログラムインク層４を設ける。（１Ａ）は放射線硬化型ホログラムインク層４を設けた基材２の断面説明図であり、（１Ｂ）は（１Ａ）に示した放射線硬化型ホログラムインク層４を設けた基材２を平面からみた平面説明図ある。
【００１４】
本発明において、微細片３はその表面が基材２の表面１側に向いていても、基材２の表面１側と反対側に向いていてもあるいはこれらが任意の割合で混じり合っていてもいずれでも差し支えない。
【００１５】
塗工方法や塗工量などは特に限定されない。具体的には、例えば、凸版印刷、グラビア印刷法などの凹版印刷、オフセット方式などの平板印刷、スクリーン印刷およびインクジェット方式その他の通常用いられる印刷方法を用いて印刷できる。中でも、シルクスクリーン方式やメタルマスク方式の印刷方法が好ましく使用でき、連続生産の場合はロータリースクリーン方式（シルクスクリーン）、バッチ式の場合は枚葉スクリーン方式（シルクスクリーンやメタルマスク）が好ましく使用できる。
【００１６】
本発明で用いる基材としては、特に限定されるものではなく、具体的には、例えば上質紙、アート紙、コート紙、ミラーコート紙、コンデンサー紙、パラフィン紙、その他の紙の他に、それにオーバーコート層（保護層）をもつ用紙やフィルム、シートなどの他に、合成紙、あるいはポリエチレン、透明性を有するポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニルなどの合成フィルムやシートなどを例示できる。
【００１７】
本発明で用いる基材の表面の平滑さは粗くても、多少粗くても、あるいは押圧用基材のように平滑でもよく、いずれの場合でも微細片３が基材２の面１に対してほぼ平行になるように配向するので、特に限定されるものではない。
【００１８】
（２）工程で、前記インク層４に矢印で示したように公知の方法や装置を用いて放射線を照射して前記インク層４を不完全硬化させる。この際、重要なことは前記インク層４を不完全硬化させることである。放射線の照射量が多すぎると硬化が進み過ぎて、次の（３）工程で押圧した際にホログラム微細片３が動かず、基材２の面１に対して平行に配向しない。
一方、前記インク層４に放射線を照射しなかったり、あるいは放射線の照射量が少な過ぎたりすると、ベタ付いたり、塗工して設けたインク層４が動いて図柄などが損なわれる恐れがあるので好ましくない。
適切な放射線の照射量の放射線を照射することが重要であるが、適切な放射線の照射量は、放射線硬化型ホログラムインクの硬化性能、放射線硬化成分の配合量、塗工量などによって決まるので、限定できない。
【００１９】
（３）工程で、適度に不完全硬化させたインク層４に平滑性を有しかつ放射線透過性を有する押圧用基材５を対接させて、白矢印で示したように押圧する。（２）工程で、前記インク層４を適度に不完全硬化させてあると、（３）工程で押圧した際に基材２の面１に対してほぼ平行に配向していないホログラム微細片３が動いて、基材２の面１に対してほぼ平行に配向する。
押圧の方式はなんでも差し支えなく使用でき特に限定されず、また押圧力は基材、押圧用基材の種類、放射線硬化型ホログラムインクの種類、放射線照射量など、これらの組み合わせによって異なるので、適宜選定して決定する必要があるため、特に限定されるものではない。
【００２０】
本発明において大部分の微細片３が基材２の面１に対してほぼ平行になるということは、含有した全微細片３の約５０％以上、好ましくは約６０％以上、特に好ましくは７０％以上の微細片３が基材２の面１に対してほぼ平行になるということを意味する。
【００２１】
本発明で用いる押圧用基材５としては、平滑性を有しかつ放射線透過性を有するものであればよく、特に限定されるものではない。放射線透過特性はＵＶランプなどの放射線源の出力特性とも関係し、押圧用基材５の放射線透過性が多少悪くても放射線照射量（出力、時間）を増やせば本発明で使用できる押圧用基材５となる。押圧用基材５の具体例としては、例えば、紙、合成紙などの他に、ポリエチレン、透明性を有するポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニルなどの合成フィルムやシートなどや、これらに公知の剥離剤を塗工したものなどを例示できる。
【００２２】
本発明で用いる押圧用基材５の平滑性の程度も特に限定されないが、平滑度（ＪＩＳ  Ｐ８１１９「紙及び紙板のベック試験器による平滑度試験方法による測定値）が１００秒以上であることが好ましく、３００秒以上がより好ましく、さらに５００秒以上が特に好ましい。１００秒未満であると、上記（３）工程で押圧した時、ホログラムフィルムの微細片３が基材２の面１に対して平行に配向しなくなる恐れがある。
ホログラムフィルムの微細片３が基材２の面１に対してほぼ平行に配向しないと、ホログラムフィルムの微細片３が個々には輝くが、ホログラムシート製品全体として強い輝度と強い虹彩を発揮しないので好ましくない。
【００２３】
（４）工程で、前記押圧用基材５側から矢印で示したように公知の方法、装置を使用して放射線を照射して前記インク層４を完全硬化させる。この時の放射線の照射量は前記インク層４を完全硬化できる量であればよく、特に限定されるものではない。
前記のように押圧をしたままの状態で前記押圧用基材５側から放射線を照射することがホログラムフィルムの微細片３を基材２の面１に対して平行に配向した状態を維持したまま完全硬化できるので好ましい。
【００２４】
（５）工程で、完全硬化させたインク層４から前記押圧用基材５を剥離してホログラムシート６を得る。なお、（５Ａ）はホログラムシート６の断面説明図であり、（５Ｂ）は（５Ａ）に示したホログラムシート６を平面からみた平面説明図ある。（５Ａ）、（５Ｂ）に示したようにホログラムシート６のホログラムフィルムの微細片３は基材２の面１に対してほぼ平行に配向している。
【００２５】
本発明で用いるホログラムフィルムは、物体からの光の波面に相当する干渉縞がホログラム像として形成されているものであれば、特に限定するものではなく例えば、厚さ約１０〜２０μｍ程度の可視光に対して透明なポリエチレンテレフタレートフィルムにレーザー光線などにより可視光スペクトルと同じ溝を形成し、さらに反射率を高めるためにその表面にアルミ蒸着を施したものである。
【００２６】
また本発明においては、市販のホログラムホイルやホログラムフィルムを使用することができる。例えばポリエステルフィルム等の支持フィルムの表面にアクリルラッカー等の熱可塑性樹脂層を形成し、その表面に２５００Å程度の凹凸を有するホログラム面を形成させ、さらに種々の金属を蒸着させたものが一般的である。また、支持フィルムの一部若しくは全面に、紫外線（或いは電子線）硬化性樹脂液を塗布し、市販ホログラムフィルムを圧着して紫外線（或いは電子線）を照射して硬化させ、市販ホログラムフィルムを剥離させて紫外線（或いは電子線）硬化性樹脂層の表面にホログラム凹凸を形成させる方法（特開平５−２３２８５３号公報）により作製されるものや、或いはそれに金属蒸着層を形成したものを使用しても良い。また、上述の種々のホログラムフィルム表面に保護フィルムをラミネートしたものを使用しても良い。
【００２７】
本発明においては、このホログラムフィルムを微細片としたものを用いる。このような微細片も市販されている［例えば、巴工業社製、ジオメトリックピグメント、シルバー２５６（縦１００μｍ×横１００μｍ×厚さ１２μｍ）、ジオメトリックピグメント、シルバー５００（縦５０μｍ×横５０μｍ×厚さ１２μｍ）］。
【００２８】
本発明では、多数のホログラムフィルム微細片３を含有した放射線硬化型インクを用いるが、そのビヒクルは特に限定されるものではなく、放射線硬化成分を含む公知の放射線硬化型インク用ビヒクルを用いることができる。
【００２９】
本発明で用いる放射線硬化成分は紫外線、電子線、Ｘ線、ｉ線、ｇ線などの放射線により硬化しうる成分であれば特に限定されないが、これらの中でも紫外線硬化型および／または電子線硬化型は好ましく使用でき、紫外線硬化型はさらに好ましく使用できる。
【００３０】
本発明で用いる放射線硬化成分としては、公知の光重合性モノマーおよび／または光重合性オリゴマーから任意に選んで用いることができる。
このような光重合性モノマーとしては、例えばアクリル酸やメタクリル酸などの不飽和カルボン酸又はそのエステル、例えばアルキル−、シクロアルキル−、ハロゲン化アルキル−、アルコキシアルキル−、ヒドロキシアルキル−、アミノアルキル−、テトラヒドロフルフリル−、アリル−、グリシジル−、ベンジル−、フェノキシ−アクリレート及びメタクリレート、アルキレングリコール、ポリオキシアルキレングリコールのモノ又はジアクリレート及びメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びメタクリレート、ペンタエリトリットテトラアクリレート及びメタクリレートなど、アクリルアミド、メタクリルアミド又はその誘導体、例えばアルキル基やヒドロキシアルキル基でモノ置換又はジ置換されたアクリルアミド及びメタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド及びメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−アルキレンビスアクリルアミド及びメタクリルアミドなど、アリル化合物、例えばアリルアルコール、アリルイソシアネート、ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレートなど、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸又はそのエステル、例えばアルキル、ハロゲン化アルキル、アルコキシアルキルのモノ又はジマレエート及びフマレートなど、その他の不飽和化合物、例えばスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどが用いられる。
【００３１】
また、硬化収縮が支障となる用途の場合には、例えばイソボルニルアクリレート又はメタクリレート、ノルボルニルアクリレート又はメタクリレート、ジシクロペンテノキシエチルアクリレート又はメタクリレート、ジシクロペンテノキシプロピルアクリレート又はメタクリレートなど、ジエチレングリコールジシクロペンテニルモノエーテルのアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル、ポリオキシエチレン若しくはポリプロピレングリコールジシクロペンテニルモノエーテルのアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルなど、ジシクロペンテニルシンナメート、ジシクロペンテノキシエチルシンナメート、ジシクロペンテノキシエチルモノフマレート又はジフマレートなど、３，９−ビス（１，１−ビスメチル−２−オキシエチル）−スピロ［５，５］ウンデカン、３，９−ビス（１，１−ビスメチル−２−オキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、３，９−ビス（２−オキシエチル）−スピロ［５，５］ウンデカン、３，９−ビス（２−オキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどのモノ−、ジアクリレート又はモノ−、ジメタアクリレート、あるいはこれらのスピログリコールのエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加重合体のモノ−、ジアクリレート、又はモノ−、ジメタアクリレート、あるいは前記モノアクリレート又はメタクリレートのメチルエーテル、１−アザビシクロ［２，２，２］−３−オクテニルアクリレート又はメタクリレート、ビシクロ［２，２，１］−５−ヘプテン−２，３−ジカルボキシルモノアリルエステルなど、ジシクロペンタジエニルアクリレート又はメタクリレート、ジシクロペンタジエニルオキシエチルアクリレート又はメタクリレート、ジヒドロジシクロペンタジエニルアクリレート又はメタクリレートなどの光重合性モノマーを用いることができる。
これらの光重合性モノマーは単独で用いてもよいし２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
光重合性オリゴマーとしては、エポキシ樹脂のアクリル酸エステル例えばビスフェノールＡのジグリシジルエーテルジアクリレート、エポキシ樹脂とアクリル酸とメチルテトラヒドロフタル酸無水物との反応生成物、エポキシ樹脂と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応生成物、エポキシ樹脂のジグリシジルエーテルとジアリルアミンとの反応生成物などのエポキシ樹脂系プレポリマーや、グリシジルジアクリレートと無水フタル酸との開環共重合エステル、メタクリル酸二量体とポリオールとのエステル、アクリル酸と無水フタル酸とプロピレンオキシドから得られるポリエステル、ポリエチレングリコールと無水マレイン酸とグリシジルメタクリレートとの反応生成物などのような不飽和ポリエステル系プレポリマーや、ポリビニルアルコールとＮ−メチロールアクリルアミドとの反応生成物、ポリビニルアルコールを無水コハク酸でエステル化した後、グリシジルメタクリレートを付加させたものなどのようなポリビニルアルコール系プレポリマー、ピロメリット酸二無水物のジアリルエステル化物に、ｐ，ｐ′−ジアミノジフェニルを反応させて得られるプレポリマーのようなポリアミド系プレポリマーや、エチレン−無水マレイン酸共重合体とアリルアミンとの反応生成物、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応生成物又はこれにさらにグリシジルメタクリレートを反応させたものなどのポリアクリル酸又はマレイン酸共重合体系プレポリマーなど、そのほか、ウレタン結合を介してポリオキシアルキレンセグメント又は飽和ポリエステルセグメントあるいはその両方が連結し、両末端にアクリロイル基又はメタクロイル基を有するウレタン系プレポリマーなどを挙げることができる。
これらの光重合性オリゴマーは、重量平均分子量凡そ２０００〜３００００の範囲のものが適当である。
【００３３】
本発明で用いる光重合開始剤には、熱によって分解しラジカルを生成する過酸化物やアゾ化合物などの熱分解型ラジカル重合開始剤［例えば、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、キュメンハイドロパーオキサイド、ターシャリーブチルハイドロパーオキサイド、過硫酸塩（カリ塩、アンモニウム塩）、還元剤を加えることによりラジカル生成速度を大にするレドックス系触媒など］の他に、例えば、ベンゾインやベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾイン−イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチル−エーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジル、ジアセチル、ジフェニルスルフィド、エオシン、チオニン、９，１０−アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノンなどが挙げられる。
これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。その含有量は、通常放射線硬化成分１００質量部当り、５〜１５質量部の範囲で選ばれるのが好ましい。
【００３４】
本発明で用いるインクには、さらに、所望に応じて慣用されている添加成分、例えば、反応性希釈剤、粘度調整剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調節剤、消泡剤、各種安定剤、着色剤、滑剤、増感剤などを含有させることもできる。
【００３５】
前記市販のホログラム微細片［例えば、巴工業社製、ジオメトリックピグメント、シルバー２５６（縦１００μｍ×横１００μｍ×厚さ１２μｍ）、ジオメトリックピグメント、シルバー５００（縦５０μｍ×横５０μｍ×厚さ１２μｍ）］３０〜１５０質量部程度を市販の紫外線硬化型インク［例えば、ＳＰＡ−３６９、粘度２５００ｍＰａ・ｓ、帝国インキ製造社製、ＳＰＡ−３１４、粘度７０００ｍＰａ・ｓ、帝国インキ製造社製、ＰＯＴ５０２０９、粘度２５０００ｍＰａ・ｓ、帝国インキ製造社製］１００質量部に対して配合して本発明で使用する紫外線硬化型ホログラムインクを調製することができる。
【００３６】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではないので、特許請求の範囲に記載の趣旨から逸脱しない範囲で各種の変形実施が可能である。
【００３７】
【実施例】
以下実施例および比較例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるものではない。
（実施例１）
市販の紫外線硬化型ワニス［ＳＰＡ−３６９（粘度２５００ｍＰａ・ｓ）、ＳＰＡ−３１４（粘度７０００ｍＰａ・ｓ）あるいはＰＯＴ５０２０９（粘度２５０００ｍＰａ・ｓ）、帝国インキ製造社製］１００質量部にホログラムフィルム微細片［巴工業社製、ジオメトリックピグメント、シルバー２５６（縦１００μｍ×横１００μｍ×厚さ１２μｍ）］３０質量部を含有、混合して本発明で用いるインクを調製した。
図１（１Ａ）に示すようにこのインクを用いて基材（紙）２の表面１にグラビア印刷により塗工しインク層４を設けた。図１（２）に示すようにこのインク層４に放射線を照射して不完全硬化させ、図１（３）に示すように不完全硬化させたインク層４に平滑性を有しかつ放射線透過性を有する押圧用基材５（ＰＥＴフィルム）を対接させて、押圧した。図１（４）に示すように押圧用基材４側から放射線を照射してインク層４を完全硬化させた後、図１（５Ａ）、（５Ｂ）に示すように完全硬化させたインク層４から押圧用基材５を剥離して製品ホログラムシート６を作った。
この製品ホログラムシート６（塗膜厚さ２０μｍ）について目視で輝度および虹彩（角度を変えて見たときの色の変化）を評価した。また押圧用基材５の表面の平滑度（ＪＩＳ  Ｐ８１１９「紙及び紙板のベック試験器による平滑度試験方法による測定値）を評価した。
下記の評価基準で評価した結果、輝度５、虹彩５、平滑度５であった。
【００３８】
輝度評価基準；
５：塗工面全体が強く輝いている。
４：塗工面全体が一応輝いている。
３：ホログラムフィルム微細片個々はそれぞれ輝いているが、塗工面全体としては輝いていない。
１：輝きがない。
【００３９】
虹彩評価基準；
５：塗工面全体としての強い虹彩が見られる。
４：塗工面全体としての一応虹彩が見られる。
１：ホログラムフィルム微細片個々はそれぞれ虹彩が見られるが塗工面全体としての強い虹彩がない。
【００４０】
平滑度評価基準；
５：１００〜５００秒。
３：１００秒未満
２：８０秒以下。
１：５０秒以下。
【００４１】
（実施例２）
ホログラムフィルム微細片８０質量部とし、塗膜厚さ４０μｍとした以外は実施例１と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度５、虹彩５、平滑度５であった。
【００４２】
（実施例３）
ホログラムフィルム微細片１５０質量部とし、塗膜厚さ８０μｍとした以外は実施例１と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度５、虹彩５、平滑度５であった。
【００４３】
（実施例４）
ホログラムフィルム微細片を［巴工業社製、ジオメトリックピグメント、シルバー５００（縦５０μｍ×横５０μｍ×厚さ１２μｍ）］とし、塗膜厚さ３０μｍとした以外は実施例２と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度５、虹彩５、平滑度５であった。
【００４４】
（実施例５）
ホログラムフィルム微細片１５０質量部とし、塗膜厚さ６０μｍとした以外は実施例４と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度５、虹彩５、平滑度５であった。
【００４５】
（比較例１）
基材２上に直接スクリーン印刷して、塗膜厚さ５０μｍとした以外は実施例１と同様にして比較の製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度３、虹彩１、平滑度３であった。
【００４６】
（比較例２）
製品基材上に直接スクリーン印刷して、塗膜厚さ１００μｍとした以外は実施例２と同様にして比較の製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度３、虹彩１、平滑度２であった。
【００４７】
（比較例３）
製品基材上に直接スクリーン印刷して、塗膜厚さ１５０μｍとした以外は実施例３と同様にして比較の製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度３、虹彩１、平滑度１であった。
【００４８】
【発明の効果】
本発明の請求項１記載のホログラムシートの製造方法によれば、ホログラムフィルムを利用し、このホログラムフィルムを微細片としたものを含有した放射線硬化型ホログラムインクを用いて、基材面に塗工するなどしてインク層を設けた後、先ずこのインク層に放射線を照射して不完全硬化させ、不完全硬化させたインク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧すると、不完全硬化させたインク層中のホログラムフィルムの微細片を前記基材面に対してほぼ平行に配向させることができ、完全硬化させた後、前記押圧用基材を剥離すればホログラムシート全体として強い輝度と強い虹彩を有し、意匠性に優れるとともに、特に偽造防止性の高い従来にない新規なホログラムシートを容易に製造できるという顕著な効果を奏する。
前記のようにインク層を不完全硬化させれば、ベタ付いたりせず取り扱い易い上、図柄などがずれたりせず、次の工程で、不完全硬化させたインク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧すると、不完全硬化させたインク層中の前記基材面に対して平行に配向していないホログラムフィルムの微細片が動いて前記基材面に対してほぼ平行に配向できるという顕著な効果を奏する。
【００４９】
本発明の請求項２記載のホログラムシートの製法によれば、前記押圧用基材が剥離性を有するので、請求項１と同じ効果を奏する上、（５）工程で前記押圧用基材を容易に剥離して、ホログラムシートを容易に製造できるという、さらに顕著な効果を奏する。
【００５０】
本発明の請求項３記載のホログラムシートの製法によれば、前記インクが紫外線硬化型インクであるので、請求項１記載のホログラムシートの製法と同じ効果を奏するとともに、安定したインク層を基材面に容易に形成できるという、さらに顕著な効果を奏する。
【００５１】
本発明の請求項４記載のホログラムシートの製法によれば、平滑度が１００秒以上の押圧用基材を用いるので、請求項１記載のホログラムシートの製法と同じ効果を奏するとともに、ホログラムフィルムの微細片を基材面に対して確実にほぼ平行に配向させることができるという、さらに顕著な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（１Ａ）は放射線硬化型ホログラムインク層を設けた基材の断面説明図であり、（１Ｂ）は（１Ａ）に示した放射線硬化型ホログラムインク層を設けた基材を平面からみた平面説明図であり、（２）はインク層に放射線を照射してインク層を不完全硬化させる状況を説明する説明図であり、（３）は不完全硬化させたインク層に押圧用基材を対接させて、押圧する状況を説明する説明図であり、（４）は押圧用基材側から放射線を照射してインク層を完全硬化させる状況を説明する説明図であり、（５）は完全硬化させたインク層から押圧用基材を剥離してホログラムシートを得る状況を説明する説明図であり、（５Ａ）はホログラムシートの断面説明図であり、（５Ｂ）は（５Ａ）に示したホログラムシートを平面からみた平面説明図である。
【符号の説明】
１  表面
２  基材
３  ホログラム微細片
４  放射線硬化型ホログラムインク層
５  押圧用基材
６  ホログラムシート
【図１】
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