(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素数１０〜１８の２環芳香族化合物を４０〜９５重量％含有し、シクロヘキサノン及び／又は１,３‐ジメチル‐２‐イミダゾリジノンを合計で６０〜５重量％含有することを特徴とするワックス・ピッチ用洗浄液組成物。
【請求項２】
電子・電気部品、光学部品、精密機械部品に付着するワックス、ピッチを洗浄する請求項１に記載のワックス・ピッチ用洗浄液組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、電気・電子部品、光学部品などの精密部品に付着したワックス・ピッチを洗浄するために用いられる洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気・電子部品、光学部品などの精密部品の製造においては、加工途中の部品の保護や固定などのためにワックス・ピッチが用いられている。そのため、製造工程においては、精密部品表面に付着したワックス・ピッチを除去するために、その洗浄工程が必要となる。従来、このような洗浄には、フロン系溶剤、あるいはトリクロロエタン等の塩素系溶剤が洗浄剤として使用されている。しかし、これらの化合物はオゾン層を破壊する物質として、1995年末にその製造が禁止され、更に塩素系溶剤は毒性が強く、水質汚染を防止するため、その法規制も厳しい。
【０００３】
また、界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄剤、リン酸塩類等の水溶液系洗浄剤の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要とし経済性の面から好ましくない。炭化水素系洗浄剤も検討されているが、洗浄特性が十分でない、また、引火性などの点から取り扱いが難しい。さらに、エーテルなどの極性化合物も検討されているが、精密部品自体に与える影響が大きかったり、化合物自体が高価であるなどの課題を抱えている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題を解決するもので、ワックス・ピッチが付着した精密部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、かつ、十分な洗浄性を有し、加えて、精密部品を構成する材料自体に対する攻撃性のない洗浄液組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の態様によるワックス・ピッチ用洗浄液組成物は、炭素数１０〜１８の２環芳香族化合物を７０重量％以上含有する洗浄液組成物であり、洗浄液組成物の蒸留性状における５％留出温度と９５％留出温度の差が１０℃以下であることを特徴とするものである。本発明の第２の態様によるワックス・ピッチ用洗浄液組成物は、炭素数１０〜１８の２環芳香族化合物を４０〜９５重量％含有し、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチルラクトン、シクロヘキサノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンから選ばれる化合物を合計で６０〜５重量％含有することを特徴とするものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明の洗浄液組成物において、炭素数１０〜１８の２環芳香族化合物は、ナフタレンおよびアルキル置換ナフタレンを含むものであり、例えば、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、ジメチルイソプロピルナフタレンなどを挙げることができる。また、これらを単独で用いても必要に応じて２種以上を混合して用いても差し支えない。また、この２環芳香族化合物を含有する石油留分などを用いることもできる。
【０００７】
本発明の第１の態様による洗浄液組成物に含まれる炭素数１０〜１８の２環芳香族化合物の含有量は７０重量％以上であるが、好ましい洗浄特性を得るためには９０％重量以上、さらに好ましくは９５重量％以上である。また、含有される芳香族化合物の炭素数は、１１〜１６，特には１１〜１４であることが洗浄能力の点から好ましい。
【０００８】
本発明の第１の態様による洗浄液組物の蒸留性状における５％留出温度と９５％留出温度の差が１０℃以下であり、洗浄液の蒸留再生性をさらに高めるためにはこの差を８℃以下とする。この差が１０℃を超える場合には、使用済みの洗浄液を蒸留により再生する際に、洗浄液の組成変化を起こしやすく、繰り返し再生している間に重質分又は軽質分が次第に多くなり、その結果、洗浄液の性質が変化するため好ましくない。
【０００９】
通常、この洗浄液組成物の蒸留性状は、５％留出温度が２１０℃以上、好ましくは２２０℃以上、９５％留出温度が３２０℃以下、好ましくは２８０℃以下である。５％留出温度が２１０℃未満では、引火点が低くなり取扱い上好ましくない。また、９５％留出温度が２８０℃を越えると、洗浄後の溶剤を乾燥により除去することが困難になる。なお、本明細書における蒸留性状は、蒸留試験はＪＩＳ  Ｋ  ２２５４(石油製品−蒸留試験方法）に準拠して測定するものである。
【００１０】
本発明の第２の態様による洗浄液組成物は、２環芳香族化合物を４０〜９５重量％、好ましくは５０〜８０重量％含有し、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチルラクトン、シクロヘキサノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンから選ばれる化合物を合計で６０〜５重量％、好ましく５０〜２０重量％含有する。これらの化合物は、１種類のみでもよいし、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが好ましく用いられる。これらの化合物の含有率の合計が、この範囲を超えると、洗浄対象の精密部品を構成する材料自体が影響を受ける場合がある。
【００１１】
本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の炭化水素類、エステル類、アルコール類、ケトン類等の配合成分や、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤等の慣用の添加剤を含めることができる。界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系等いずれのものも使用できる。
【００１２】
また、紫外線吸収剤及び酸化防止剤としては、洗浄液の長期保存等における安定性の向上に役立ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等を使用でき、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン系、硫黄系、リン系等、本発明の洗浄液組成物に溶解するものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤を、１００〜１０００ｐｐｍ添加することが特に好ましい。
【００１３】
本発明の洗浄方法において、洗浄液組成物と接触させる方法自体は特に制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジ等による拭き取り、洗浄液組成物への浸漬及び／又はスプレー等により実施することが好ましい。浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波又はエアバブリング等を組み合わせることが更に好ましい。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波数２０〜１００ｋＨｚ、発振出力１０〜２００Ｗ／ｌが好ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましくは空気：洗浄液の体積比１：１乃至５：１程度で通気することにより、洗浄液組成物に不溶性の汚れを気泡と共に上昇させ、不溶性の汚れをも分離することができる。スプレーによる洗浄において、その圧力は、例えば０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇが好ましい。いずれの場合も洗浄時間は、好ましくは１５秒間〜２時間、特に好ましくは３０秒間〜２０分間である。上記範囲未満では洗浄が不十分で、付着した汚れを十分に除去し得ず、一方、上記範囲を超えても洗浄効果は格別向上しない。洗浄温度は、好ましくは２０〜１２０℃である。上記洗浄において、より高温で処理することにより洗浄効果を著しく上昇させることができる。上記範囲未満では、洗浄が不十分となり易い。
【００１４】
本発明の洗浄液組成物は、精密部品に付着したワックス・ピッチを洗浄するために用いられる。このような精密部品は製造の工程において、部品表面の保護、固定などの目的でワックス・ピッチを用いることがあり、表面に付着したワックス・ピッチは洗浄により除去される。
【００１５】
このような精密部品としては、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品などがあげられる。対象となる電気・電子部品としては、プリント配線基板、セラミック配線基板などの配線基板、リードフレームなどの半導体パッケージ部品、リレー、コネクターなどの接点部材、液晶、プラズマディスプレイなどの表示部品、ハードディスク記憶媒体、磁気ヘッドなどの磁気記憶部品、水晶振動子などの圧電部品、モータ、ソレノイドなどの電動機部品、センサー部品があげられる。
光学部品としては、めがね、カメラ用などのレンズ、その筐体があげられる。精密機械部品としては、ＶＴＲなどに用いられる精密ベアリングなどの部品があげられる。
【００１６】
汚染物となるワックス・ピッチを具体的に例示すれば、研磨用あるいは張付用ピッチとしてのストレートアスファルト系、ブローンアスファルト系、ウッド系等のピッチが挙げられる。また、ワックスは金属、ガラス等の仮止め接着剤として使用されている天然樹脂、石油アスファルト、天然ワックス、石油系ワックス等があげられる。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００１８】
洗浄液として、芳香族系洗浄液１〜３、ナフテン系洗浄液、パラフィン系洗浄液を用いた。これらの洗浄液の性状を表１に示す。なお、芳香族系洗浄液１は、メチルナフタレンを６１重量％、ジメチルナフタレンを１７重量％、エチルナフタレンを１５重量％含有する。芳香族系洗浄液２は、ジメチルナフタレンを３４重量％、炭素数１３のアルキルナフタレンを４７重量％、炭素数１４のアルキルナフタレンを４重量％含有する。芳香族系洗浄液３は、ジイソプロピルナフタレンを９８重量％含有する。
【００１９】
また、芳香族系洗浄液１〜３にＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰともいう）を配合して、複合洗浄液１〜５を調製した。その配合量を表２に示す。芳香族系洗浄液１〜３にγ−ブチルラクトン、１，３−ジメチルー２−イミダゾリジノン（以下、ＤＭＩともいう）またはシクロヘキサノンを配合して、複合洗浄液６〜１０を調製した。その配合量を表３に示す。
【００２０】
【表１】
0004530382.tif 000002
【００２１】
【表２】
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【００２２】
【表３】
0004530382.tif 000004
【００２３】
ピッチ洗浄性の評価では、ピッチ（九重電気（株）製、Ｋ級３号）を溶解した３０％濃度トルエン溶液に光学ガラスを浸し、室温で乾燥することで、均一なピッチを付着させたものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を洗浄液が充填された洗浄槽において液温３０℃で超音波照射下に２分間洗浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、１０分間立てて静置後、温風乾燥機で洗浄液を蒸散除去し乾燥した。洗浄後に、肉眼によりピッチの痕跡が全く認められないものを〇、微かに痕跡のあるものを△、明らかな痕跡のあるものを×として評価し、表１、２、３に併せて示した。
【００２４】
ワックス洗浄性の評価では、天然樹脂、石油アスファルト、天然ワックスを成分とするリセスワックス（九重電気（株）製、Ｎｏ．６）０．３ｇを光学ガラス上に置き、８０℃に加熱し、１５分放置して溶融塗布し、その後室温まで放冷したものものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を洗浄液が充填された洗浄槽において液温３０℃で超音波照射下に1分間および２分間洗浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、１０分間立てて静置後、温風乾燥機で洗浄液を蒸散除去し乾燥した。１分間の洗浄により肉眼によりワックスの痕跡が全く認められないものを◎、２分間の洗浄により肉眼によりワックスの痕跡が全く認められないものを〇、微かな痕跡のあるものを△、明らかに痕跡のあるものを×として評価し、表１、２、３に併せて示した。
【００２５】
【発明の効果】
本発明の洗浄液によるワックス・ピッチが付着した精密部品の洗浄は、環境規制上使用が制限されている化合物を用いることなく、引火性が高いことなどにより使用・取り扱いが比較的容易であり、かつ、ワックス・ピッチに対して十分な洗浄性を有し、加えて、精密部品を構成する材料自体に対する攻撃性のない洗浄が可能となる。