(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦でない長尺可撓性フィラメント状基材上への材料析出装置において、前記装置が、
基部と、保持装置と、回転装置と、貯留装置とを含み、
前記保持装置が、前記基部に回転可能に配置され、かつ、析出領域の各側でフィラメント状基材を保持することにより、事実上、直線形状にフィラメント状基材を維持するようになっており、
前記回転装置が、前記保持装置に結合され、前記保持装置、ひいては、フィラメント状基材を２つの異なる軸線を中心として回転させ、それにより、フィラメント状基材上に均一に材料が析出するようになっており、
前記貯留装置が、前記保持装置上に配置され、前記貯留装置内部で、フィラメント状基材が析出領域を通過する前後にコイル状にされるようになっている、
ことを特徴とする、可撓性フィラメント状基材上への材料析出装置。
【請求項２】
前記材料析出装置が、さらに、遮蔽装置を含み、前記遮蔽装置が、前記保持装置に結合され、かつ、フィラメント状基材を物理的に遮蔽するようになされ、それによって、フィラメント状基材上に鋭い材料縁部が維持され、フィラメント状基材上への望ましくない材料析出が防止されるようになされている請求項１に記載された材料析出装置。
【請求項３】
前記遮蔽装置が１対の可動の管を含み、前記管が、フィラメント状基材の析出領域の両側にそれぞれ配置され、かつ、フィラメント状基材を物理的に遮蔽するようにされており、それによって、フィラメント状基材上に鋭い材料縁部が維持され、可撓性フィラメント状基材上への望ましくない材料析出が防止されるようになされている請求項２に記載された材料析出装置。
【請求項４】
前記保持装置が、細長い管状部材を含み、前記管状部材が、回転可能に前記基部上に配置され、長尺の可撓性フィラメント状基材を収容するようにされており、かつまた管状部材に開放部分が形成されており、前記開放部分を通じてフィラメント状基材上に材料が析出するようになされている請求項１に記載された材料析出装置。
【請求項５】
前記開放部分が、管状部材の第１部分と第２部分との間のギャップによって形成され、さらに、前記第１部分と前記第２部分とを互いに結合するとともに、前記第１部分と前記第２部分とを軸線上で整合させるための支持部材を含む請求項４に記載された材料析出装置。
【請求項６】
前記回転装置が動輪を含み、前記動輪が、前記管状部材の一方の側に固定的に取付けられ、かつ、前記基部部材上に回転可能に配置されていることで、前記動輪と前記保持装置とが前記基部の垂直軸線を中心として回転する際、前記管状部材がフィラメント状基材の軸線と同心の水平軸線を中心として回転せしめられる請求項１に記載された材料析出装置。
【請求項７】
前記材料析出装置が、さらに、前記基部を内部に配置した析出室を有する請求項１に記載された材料析出装置。
【請求項８】
長尺可撓性フィラメント状基材の平坦でない表面に材料を析出させるための固定装置において、前記固定装置が、
基部部材と、細長の管状部材と、１対の可動の管と、回転装置とを含み、
前記管状部材が、前記基部部材に回転可能に配置され、フィラメント状基材を収容し、かつ、材料をフィラメント状基材上に析出するための開放部分を有するようにされており、
前記１対の可動の管が、フィラメント状基材上の析出領域を規定する開放部分の両側に配置され、フィラメント状基材を事実上直線的形状に保持し、かつ、フィラメント状基材を物理的に遮蔽するようにされ、それによって、フィラメント状基材上に鋭い材料縁部が維持され、かつ、フィラメント状基材上への望ましくない材料析出が防止されるようになされ、
前記回転装置が管状部材と結合され、それにより、２つの異なる軸線を中心として前記管状部材が回転せしめられて、フィラメント状基材上に材料が均一に析出されるように構成された固定装置。
【請求項９】
前記開放部分が、管状部材の第１部分と第２部分との間のギャップによって形成され、さらに、前記固定装置が支持部材を含み、前記支持部材が、前記第１部分と前記第２部分とを互いに結合するとともに、前記第１部分と前記第２部分を軸線上で整合させるようになっている請求項８に記載された固定装置。
【請求項１０】
前記回転装置が動輪を含み、前記動輪が、前記管状部材の一方の端部に固定的に取付けられ、かつ、前記基部部材上に回転可能に配置されていることで、前記動輪と前記管状部材とが前記基部部材上を垂直軸線を中心として回転する際、前記管状部材、ひいては、フィラメント状基材が、フィラメント状基材と前記管状部材との軸線と同心的な水平軸線を中心として回転せしめられる請求項８に記載された固定装置。
【請求項１１】
前記固定装置が、さらに、管状部材の両端部に配置された貯留装置を含み、前記貯留装置により、フィラメント状基材が析出領域を通過する前後に前記貯留装置内部でコイル状にされる請求項８に記載された固定装置。
【請求項１２】
平坦でない長尺可撓性フィラメント状基材上に材料を析出させる方法において、前記方法が、次の段階、すなわち、
（ａ）フィラメント状基材を事実上直線形状に維持するために、析出領域の両側でフィラメント状基材を保持する段階と、
（ｂ）材料縁部を鋭くするために、また、析出領域外で材料がテーパ状にならないようにするために、平坦でないフィラメント状基材の析出領域の両端部を物理的に遮蔽する段階と、
（ｃ）平坦でないフィラメント状基材の析出領域上に材料を析出させる段階と、
（ｄ）フィラメント状基材上に薄膜材料を均一に析出させるために、同時に２つの異なる軸線を中心としてフィラメント状基材を回転させる段階とを含み、前記軸線のうちの一方が、フィラメント状基材の長手方向軸線と同心的である、
ことを特徴とする方法。
【請求項１３】
フィラメント状基材上に析出される材料が金属である請求項１２に記載された方法。
【請求項１４】
フィラメント状基材上に析出される材料が絶縁材である請求項１２に記載された方法。
【請求項１５】
フィラメント状基材上に析出される材料が半導体材料である請求項１２に記載された方法。
【請求項１６】
フィラメント状基材上に析出される材料が圧電セラミックである請求項１２に記載された方法。
【請求項１７】
フィラメント状基材が光学繊維である請求項１２に記載された方法。
【請求項１８】
フィラメント状基材がポリマー繊維である請求項１２に記載された方法。
【請求項１９】
フィラメント状基材が金属のフィラメント、または、繊維である請求項１２に記載された方法。
【請求項２０】
フィラメント状基材がセラミック繊維である請求項１２に記載された方法。
【請求項２１】
フィラメント状基材がガラス繊維である請求項１２に記載された方法。
【請求項２２】
フィラメント状基材の析出領域の複数部分が、フォトリトグラフィー法によって所望パターンのフォトレジスト材料で覆われる請求項１２に記載された方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、可撓性フィラメント状基材上の平坦ではない微細構造体の形成方法と装置に関するものである。より具体的に言えば、本発明は、フィラメント状基材が事実上直線形状に維持されるように基材上の析出領域の各端部を保持することにより、かつまた基材上に材料が均一に析出されるように１つまたは同時に２つの軸線を中心として基材を回転させることにより、長尺の可撓性フィラメント状基材上に材料を物理蒸着する方法と装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
リトグラフィー技術は、しばらく前から特に集積回路板および半導体および関連製品の製造に用いられている。リトグラフィー技術を適用して製造される製品は、通常、平坦な表面を有する。この技術は、また製品の微細部分を精密に製造し形成する上で極めて有効である。しかし、最近まで、この技術を平坦な表面以外の表面に適用することは、不可能ではないにせよ困難であった。平坦ではないリトグラフィー法の最近の発展により、３次元機械部品および３次元電気構成要素双方を含む微細構造組立体の製造が、より容易に可能になった。１９９２年４月２１日付けでヤコブセン（Ｊａｃｏｂｓｅｎ）他に対して発行された米国特許第５１０６４５５号には、平坦でない露光ビームリトグラフィーを用いた微細構造体（マイクロ構造体）の製造方法と装置が開示されている。この方法と装置を用いて、極めて精密で微細な物理的構造体を、例えば円筒体等の極小の３次元物体上に形成できる。また１９９３年１２月１４日付けでヤコブセンに対して発行された米国特許第５２６９８８２号には、平坦ではない露光ビームリトグラフィーによって薄膜半導体デバイスを製造する方法と装置が開示されている。特に、種々の半導体デバイスが、例えば同じく円筒体等の３次元の基材上に形成できる。前記２つの特許に開示された方法と装置は、バッチ処理方式で個別の微細構造体または薄膜半導体デバイスを製造するためのものである。１９９３年１２月２９日付けでヤコブセンに対し発行された米国特許第５２７３６２２号には、微細構造体と薄膜半導体デバイスを製造する連続処理方式が開示されている。この種の微細構造体は、医学用機器、ロボット工学、ナビゲーション装置等を含む種々の分野で使用される。１９９６年１月２日付けでヤコブセンに対して発行された米国特許第５４８１１８４号には、繊維およびフィラメント等の極小の機械部品上の運動アクチュエータおよびセンサ用のシステムが開示されている。さらに、１９９３年１２月１４日付けでヤコブセンに対して発行された米国特許第５２７０４８５号には、細長円筒形基材の表面に形成された電気構成要素を有する３次元回路構成体が開示されている。これらの極めて小型（微細（マイクロ）と呼ばれる）の機械部品や電気素子の開発に関しては、効率的かつ精密にそれらの機械部品や電気素子の微細な特徴（形状）を製造する能力が、大いに望まれている。
【０００３】
それらの微細構造体の細かな特徴を製造するさいに直面する問題は、特徴および構成体の寸法が極小であり、また構成体が平坦ではない性質のものである点である。加えて、構造体は、比較的長尺で、可撓性を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、リトグラフィー技術を用いて微細構造体を製作する方法と装置を提供することである。
本発明の他の目的は、工作物の平坦ではない表面領域に精密な細部を形成できる方法と装置を提供することである。
本発明の、さらに他の目的は、細長工作物または基材を加工できる方法と装置を得ることである。
【０００５】
本発明の、別の目的は、可撓性フィラメント状工作物または基材を加工できる方法と装置を得ることである。
本発明の、さらに別の目的は、平坦ではない可撓性フィラメント状基材上に物理蒸着法により材料を析出させる方法と装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の前記目的その他の目的および利点は、フィラメント状基材保持用の管状部材を有する、基部上に回転可能に配置された固定装置により達成される。前記管状部材は開放部分を有し、該開放部分を通じてフィラメント状基材表面上に材料が析出する。また１対の管が、開放部分の両側の管状部材内に滑動可能に配置されて、フィラメント状基材表面の析出領域を規定している。これらの管は、互いに接近または離間することで、析出領域の寸法を調節できる。さらに１対のバスケット（収容体）が、それぞれ管状部材の端部に配置され、該バスケット内にコイル状に基材が貯えられる。
【０００７】
前記管は、管状部材と一体に形成するか、または全部省略してもよい。管および／または管状部材は、析出領域の両側でフィラメント状基材を保持することで、基材を直線形状に維持し、たるみや垂れ下がりを防止する。したがって、長尺の可撓性フィラメント状基材は、管および／または管状部材により直線形状に維持され、かつ余剰の長さがバスケットに貯えられることで、その表面上に材料を析出される。こうして、長尺のフィラメント状基材の、または同一のフィラメント状基材上の一連の構造体の加工が可能になる。
【０００８】
加えて、管および／または管状部材は、析出領域の両側のフィラメント状基材を物理的に遮蔽する。フィラメント状基材を物理的に遮蔽することによって、材料の鋭い縁部が維持され、かつ析出領域外のフィラメント状基材上への望ましくない材料析出が防止される。
【０００９】
固定装置は、また動輪を有しており、該動輪が、管状部材の一方の端部に固定結合されるとともに基部の円形路上に配設されている。管状部材の他方の端部は、基部の回転部材に回転可能に結合されている。基部の回転部材は、回転し、かつ管状部材、ひいてはフィラメント状基材を垂直軸線を中心として回転させる。動輪もまた、回転部材が回転する際、基部上を垂直軸線を中心として転動する。動輪が垂直軸線を中心として転動する際、管状部材、ひいてはフィラメント状基材も、管状部材の水平軸線、つまり長手方向軸線を中心として回転する。したがって、フィラメント状基材は、垂直および水平の２つの異なる軸線を中心として回転し、それによって、基材表面上に均一に材料が析出される。
【００１０】
本発明の既述の目的およびその他の目的、利点、別の態様は、添付図面につき以下で行う詳細な説明により、当業者には明らかになるだろう。
以下、図面について説明する。この説明では、本発明の種々の構成要素に対して数字符号が示され、当業者による本発明の製作および使用が可能になるようにされる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１〜図３には、本発明による固定装置の一好適例が示されている（全体を符号１０で指示されている）。固定装置１０は、材料の析出または加工のため、長尺の平坦ではない可撓性フィラメント状基材１２を保持かつ回転させる装置である。図示のフィラメント状基材１２は光学繊維であってよい。フィラメント状基材１２上に析出せしめられる材料は、プラチナまたはＰＺＴである。プラチナ等の金属やＰＺＴ等の圧電セラミックの、光学繊維上への析出は、フィラメント状のセンサおよびアクチュエータの形成に役立つ。あるいはまた、フィラメント状基材と析出される材料とは、３次元機械部品や３次元電気構成要素を含む所望の微細構造体が形成されるように、選択することができる。たとえば、フィラメント状基材は円筒形棒状体でもよいし、また析出される材料は導体材料や絶縁材料でもよく、それにより平坦ではない半導体デバイスを形成することができる。したがって、析出される材料は、アモルファスシリコン等の半導体材料でもよい。フィラメント状基材は、ポリマー繊維、金属フィラメントまたは金属繊維、セラミック繊維、ガラス繊維のいずれかを使用できる。
【００１２】
固定装置１０は、全体を符号１３で示した基部または基部部材を有する。基部１３は、析出室（図示せず）の内部に配置するか、または析出源（図示せず）に露出される。基部１３は、円筒形に構成するか、円形の壁部１４を有するようにでき、また回転部材１５を有することができる。その目的については後述する。
【００１３】
固定装置１０は、またフィラメント状基材１２を保持する細長中空管状部材１６を有しているのが好ましい。管状部材１６は、基部１２上に回転可能に配置されている。管状部材１６は、図３に見られるように、中空であり、言い換えると、管状部材の全長にわたり一端から他端まで延在する細長い孔１８を有する。細長い孔１８は、管状部材１６を貫通して延在する長尺の可撓性基材１２を受入れて収容するように構成されている。
【００１４】
管状部材１６は、その長さの概ね中央部に開放部分２０を有し、この開放部分を通じてフィラメント状基材１２が析出源に曝露され、基材１２上に材料が析出する。開放部分２０は、管状部材１６の第１部分２２と第２部分２４とを隔てるギャップによって形成されている。１対のブレース２６，２８が、管状部材１６の第１部分２２と第２部分２４とを連結し、かつ第１部分２２と第２部分２４とを軸線上で整合させている。
【００１５】
固定装置１０は、好ましくは、１対の可動管３０，３２を有し、該管が、フィラメント状基材１２の保持および／または遮蔽用に、それぞれ開放部分２０の両側の管状部材１６内に滑動可能に配置されている。可動管３０，３２は、図３に見られるように、それぞれ第１および第２の部分２２，２４内に形成された第１および第２の孔３６，３８内に滑動可能に配置されている。孔３６，３８は、可動管３０，３２が前後に滑動し得るように寸法づけされ、かつ構成されている。可動管３０，３２は、フィラメント状基材１２上の析出領域４０、または露光させる必要のあるフィラメント状基材の表面領域を規定している。可動管３０，３２は互いに接近または離間させて、析出領域４０の寸法を増減させることができる。言うまでもなく、可動管３０，３２は、管状部材１６と一体形成してもよければ、管状部材の延長部であってもよい。図３に見られるように、可動管３０，３２は、中空であり、言い換えると、管の一端から他端まで延在する細長い孔４２，４４を有する。細長い孔４２，４４は、フィラメント状基材１２を受入れて保持するように寸法づけされ、かつ構成されている。
【００１６】
可動管３０，３２または管状部材１６は、好ましくは、析出領域４０の両側でフィラメント状基材１２を保持して、基材１２のたるみや垂れ下がりを防止する、つまりフィラメント状基材１２を事実上直線形状に維持する。したがって、長尺可撓性フィラメント状基材、または或る長尺長さに形成された一連のフィラメント状基材が、曲がることなく加工される。管状部材および／または可動の管は、フィラメント状基材を事実上直線形状に保持する保持装置の若干の例に過ぎない。言うまでもなく、管状部材および／または管の代わりに、別の方法や装置を使用することもできる。例えば、１対のクランプにより、析出領域の両側でフィラメント状基材を保持してもよい。
【００１７】
加えて、可動管３０，３２または管状部材１６は、析出領域４０外の、フィラメント状基材１２の部分を物理的に遮蔽するのが好ましい。したがって、可動管３０，３２は、フィラメント状基材１２上に鋭い材料縁部を形成維持し、かつフィラメント状基材上への望ましくない材料析出を防止する。これらの可動管および／または管状部材は、フィラメント状基材上への望ましくない材料析出を防止するための遮蔽装置の若干例に過ぎない。言うまでもなく、これらの管および／または管状部材の代わりに、別の方法や装置を使用することも可能である。例えば、フィラメント状基材の表面に直接に材料を付加することで、基材を遮蔽することができる。
【００１８】
１対のバスケット、ドラムまたはスプール４６，４８が、それぞれ、好ましくは、管状部材１６の両端に配置され、フィラメント状基材が、コイル状または別の形式でバスケット内部に配置され貯えられる。したがって、フィラメント状基材１２は、一方のバスケット４６から供給され、管状部材１６を通過し、この通過の際に開放部分２０で析出源に曝露され、他方のバスケット４８へ収容される。このようにして、比較的長尺のフィラメント状基材を、その長さを中断することなく加工できる。
【００１９】
既述のように、基部１３は、円形の壁部または通路１４と回転部材１５とを有する。基部１３は、円筒形またはディスク形でよく、基部には円筒形またはディスク形の凹部が形成されて円形の壁部１４を作っている。回転部材１５は、円筒形の凹部内に配置され、円形の通路１４内で回転する。図３に見られるように、軸４９が回転部材１５と結合され、回転部材１５を回転させる。軸４９と回転部材とを回転させるには、モータその他類似の装置（図示せず）を使用できる。回転部材１５上にはブラケット５０が形成されている。基部１３と回転部材１５とは、円筒形またはディスク形として示されてはいるが、言うまでもなく、これら図示の形状は、本発明にとって不可欠のものではない。例えば、基部は、単に板状体であってもよく、また回転部材は、板状体に対して回転するアームであってもよい。
【００２０】
管状部材１６は、基部１３上に回転可能に配置されている。好ましくは、固定装置１０は動輪５１を有し、該動輪は、管状部材１６の一方の側に結合され、かつ基部１３上に配置されている。動輪５１は、基部の円形通路１４上に転動可能に配置されている。管状部材１６の他方の側は、図１および図３に見られるように、軸受５２を介して基部１３と回転可能に結合されている。軸受５２は、ブラケット５０内に配置されている。動輪５１と軸受５２とは、基部１３の表面上方に管状部材１６を支承している。
【００２１】
軸５０の回転により、回転部材１５は、垂直軸線５４を中心として回転させられる。垂直軸線５４は、水平の基部１３に対し概して直角であり、かつ管状部材１６と析出領域２０との概ね中央部を通っている。軸５０と回転部材１５とが回転すると、管状部材１６、ひいてはフィラメント状基材１２が垂直軸線５４を中心として回転する。
【００２２】
動輪５１が管状部材１６に固定結合されている結果、動輪が垂直軸線５４を中心として基部１３上を転動すると、管状部材１６は、垂直軸線５４を中心として回転するだけでなく、水平軸線５６を中心としても回転する。水平軸線５６は、管状部材１６とフィラメント状基材１２との長手方向軸線と概ね同心的である。動輪５１は、管状部材１６に固定され、円形通路１４上を転動するので、管状部材１６は、その長手方向軸線、つまり水平軸線５６を中心として回転する。加えて、管状部材１６は、回転部材１５の回転により、垂直軸線５４を中心としても回転する。
【００２３】
軸受５２は、ブラケット５０内に配置され、管状部材１６を回転部材１５または基部１３に回転可能に結合しており、その結果、動輪５１が基部１３上で垂直軸線５４を中心として転動すると、軸受５２を介して管状部材１６が動輪５１と共に水平軸線５６を中心として回転できる。管状部材１６は、動輪５１に固定されているので、動輪５１と等方向に動輪５１と共に回転する。軸受５２は、管状部材が動輪と共に回転できるように、管状部材１６を支承している。垂直軸線５４と水平軸線５６との２つの異なる軸線を中心としてフィラメント状基材１２を回転させることによって、材料が均一にフィラメント状基材の表面上に析出する。
【００２４】
軸、回転部材、動輪、軸受、モータのいずれか、または全ては、フィラメント状基材を２つの軸線を中心として回転させるための回転装置の若干例に過ぎない。例えば、別々のモータを使用して、フィラメント状基材を垂直軸線と該基材の長手方向軸線とを中心として回転させることもできる。またフィラメント状基材を回転させるには、歯車および／または伝動ベルトを使用できる。軸受は第２車内に配置でき、管状部材は垂直軸線を中心として動輪および第２車／軸受を介して旋回させられる。
【００２５】
図１〜図３に示した固定装置で使用する方法の一具体例では、フィラメント状基材のたるみや垂れ下がりを防止するために、まず析出領域の両側でフィラメント状基材を保持する段階を含んでいる。フィラメント状基材の長さは、コイル状または他の形状にされてバスケット４６内に配置され、貯留される。フィラメント状基材の一方の端部が、管状部材１６内へ送入され、開放部分２０を通過して、析出領域４０が開放部分２０に位置するように引張られる。前記端部は、コイル状または他の形状にされてバスケット４８内に配置され、貯留される。析出領域４０の両側を物理的に遮蔽することで、材料の鋭い縁部が形成され、析出領域外にテーパ状に材料が被着することが防止される。フィラメント状基材が管状部材を貫通して供給される際、１対の可動の可動管３０，３２をも通過する。可動管３０，３２は、相互に接近または離間することで、析出領域４０の寸法が調節される。管状部材１６も、またフィラメント状基材の物理的遮蔽に使用することができる。その場合には、管状部材で可動管を形成するか、または可動管を全て省略する。同じように、可動管をフィラメント状基材の保持に使用して、基材を事実上たるみや垂れ下がりなしに維持することも可能である。
【００２６】
フィラメント状基材１２の析出領域４０は、基材が２つの軸線５４、５６を中心として回転する間に、析出源に対して曝露される。回転部材１５が回転すると、管状部材１６、ひいてはフィラメント状基材１２が、垂直軸線５４を中心として回転させられる。加えて、動輪５１が基部１３上を転動すると、管状部材１６、ひいてはフィラメント状基材１２が、基材の長手方向軸線と同心的な水平軸線５６を中心として回転させられる。
【００２７】
フィラメント状基材が単一のユニットである場合、次いで基材は管状部材から取外すことができる。フィラメント状基材が一連の複数ユニットを含む場合には、基材は、管状部材を通って前進させられ、次の析出領域が、開放部分で析出源に対し曝露される。フィラメント状基材の未加工部分と既加工部分とは、バスケット内に貯留される。
【００２８】
既述のように、フィラメント状基材は、光学繊維、ポリマー繊維、金属のフィラメントまたは繊維、セラミック繊維、ガラス繊維等々のいずれかである。また、析出される材料は、プラチナ等の金属、絶縁材料、アモルファスシリコン等の半導体材料、ＰＺＴ等の圧電セラミック等々のいずれかである。材料は、スパッタリング、蒸着等を含む物理蒸着（ＰＶＤ）によって析出せしめられる。
【００２９】
更に、フィラメント状基材の析出領域部分には、フォトレジスト材料を用いてフォトリトグラフィー法により所望のパターンでマスキング（遮蔽）することができる。フォトレジスト材料は、フィラメント状基材上に塗布され、パターンが形成される。こうして、析出領域の部分は、リトグラフィーによりマスキングされ、マスキングされた領域を形成する一方、他の部分は、露光され、露光された領域を形成する。したがって、析出用の露光領域は、物理的に遮蔽された析出領域内のフォトレジストパターンによって規定される。
【００３０】
以上、本発明では、フィラメント状基材を垂直軸線と水平軸線との２つの軸線を中心として回転させると説明したが、言うまでもなく、本発明の方法と装置は、単一の軸線を中心としてフィラメント状基材を回転させるように構成することもできる。例えば、回転部材が、基部から解離された動輪と共に管状部材、ひいてはフィラメント状基材を垂直軸線を中心として回転させて、管状部材とフィラメント状基材とが長手方向軸線、つまり水平軸線を中心として回転しないようにすることができる。同じように、動輪は歯車でもよく、この歯車が、管状部材とフィラメント状基材とが垂直軸線を中心として回転しないように解離された回転部材または軸と共に、管状部材、ひいてはフィラメント状基材を長手方向軸線、つまり水平軸線を中心として回転させるようにすることができる。
【００３１】
以上に説明した、本発明の実施例は説明目的のものに過ぎず、当業者には、複数の変更態様が可能である。したがって、本発明は、説明例に限定されるものではなく、特許請求の範囲の各請求項で定義された内容によってのみ制限されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるフィラメント状基材保持・回転装置の一好適例の斜視図。
【図２】本発明によるフィラメント状基材保持・回転装置の一好適例の平面図。
【図３】図２の３−３線に沿って、本発明によるフィラメント状基材保持・回転装置の一好適例を切断した断面図。
【符号の説明】
１０  固定装置
１２  フィラメント状基材
１３  基部
１４  円形の壁部または通路
１５  回転部材
１６  管状部材
１８  孔
２０  開放部分
２２  管状部材の第１部分
２４  管状部材の第２部分
２６，２８  ブレース
３０，３２  可動管
４０  析出領域
４６，４８  バスケット
４９  軸
５０  ブラケット
５１  動輪
５２  軸受
５４  垂直軸線
５６  水平軸線
【図１】
0004512212.tif 000002
【図２】
0004512212.tif 000003
【図３】
0004512212.tif 000004