(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス光ファイバの外周に少なくとも１層の被覆を設けてなる被覆光ファイバにおいて、ガラス光ファイバに接する一次被覆層の２５℃、周波数１１０Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜２．０ｋｇ／ｍｍ２であり、かつガラス光ファイバと該一次被覆層との密着力が１０ｇ／ｃｍ〜２００ｇ／ｃｍであることを特徴とする被覆光ファイバ。
【請求項２】
前記貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜０．５ｋｇ／ｍｍ２であり、かつ前記密着力が１０ｇ／ｃｍ〜１００ｇ／ｃｍであることを特徴とする請求項１に記載の被覆光ファイバ。
【請求項３】
前記貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜２．０ｋｇ／ｍｍ２であり、かつ前記密着力が１００ｇ／ｃｍ〜２００ｇ／ｃｍであることを特徴とする請求項１に記載の被覆光ファイバ。
【請求項４】
前記一次被覆層が紫外線硬化型樹脂からなることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の被覆光ファイバ。
【請求項５】
請求項１、２または４に記載の被覆光ファイバの複数本を並列に配置し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファイバテープ心線。
【請求項６】
請求項１、３または４に記載の被覆光ファイバの複数本を配列し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファイバユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は被覆光ファイバ、光ファイバテープ心線及び光ファイバユニットに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバは、少なくともコア及びクラッドを有する光ファイバ用プリフォームを線引して得られるが、線引直後のガラス光ファイバの外周には、保護補強、可撓性付与等の目的で被覆が施される。この被覆として、ガラス光ファイバの外周に接してまず緩衝作用を有する比較的軟質（ヤング率小）の一次被覆層、また最外周には保護作用を有する硬質（ヤング率大）の二次被覆層、という少なくとも２層の被覆を設けることが知られている。
例えば、特開平９−５５８７号公報には、ガラス光ファイバと一次被覆層をなす一次被覆材との間の密着力を引抜力（被覆光ファイバを外側から固定し、ガラス光ファイバを引き抜く際に要する力）で９０ｇ／ｍｍ〜１８０ｇ／ｍｍとすることにより、ガラス光ファイバと一次被覆材との間の密着力が適当で、しかも水中に長時間浸漬されてもガラス光ファイバと一次被覆材との界面が部分的に剥離することのない被覆光ファイバが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前記公報記載に従い、ガラス光ファイバと一次被覆材の間の密着力を引抜力で９０ｇ／ｍｍ〜１８０ｇ／ｍｍに設定しても、例えば光ファイバの線引からケーブル化までの間や他のボビンへの巻き替え等、被覆光ファイバの製造過程或いは製造後において、被覆光ファイバのガラスと被覆界面に剥離が発生する場合があった。被覆光ファイバが走行する滑車上に静電気等により付着した光ファイバの屑等の微小な異物は、局部的に大きな変形を被覆光ファイバに与えることになり、その結果、ガラス光ファイバと一次被覆層が界面において剥離すると考えられる。
【０００４】
本発明はこのような線引からケーブル化までの間における剥離発生のない被覆光ファイバの提供を課題とする。
被覆光ファイバを複数本並行に平面上に配置してそれらを一括するように外周に共通被覆層を形成してテープ状（リボン状）の心線としたものを光ファイバテープ心線と称する。光ファイバテープ心線の接続の場合には、ガラス光ファイバ外周に被覆した一次被覆層ないし上記共通被覆層までを一括して除去する必要があり、この作業を一括被覆除去と称するが、この際にガラス光ファイバ表面に一次被覆層や二次被覆層以降の他の被覆層が残留することは好ましくない。
【０００５】
本発明の他の課題は、光ファイバテープ心線構成材料として用いた場合に、光ファイバテープ心線の一括被覆除去性を損なうことなく、しかも線引時や巻き替え時の耐剥離性を向上した被覆光ファイバを提供することである。
【０００６】
本発明のさらに他の課題は、ある種の光ファイバユニットやルースチューブに挿入して用いるものであって、接続時に単心被覆除去すればよい被覆光ファイバであって、耐剥離性が向上し、かつ単心被覆除去が容易である被覆光ファイバを提供することである。
【０００７】
本発明のさらに他の課題は、耐剥離性が向上し、しかも一括被覆除去性が容易な光ファイバテープ心線、あるいは耐剥離性が向上ししかも単心被覆除去が容易な光ファイバユニットを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明は、
（１）ガラス光ファイバの外周に少なくとも１層の被覆を設けてなる被覆光ファイバにおいて、ガラス光ファイバに接する一次被覆層の２５℃、周波数１１０Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜２．０ｋｇ／ｍｍ２であり、かつガラス光ファイバと該一次被覆層との密着力が１０ｇ／ｃｍ〜２００ｇ／ｃｍであることを特徴とする被覆光ファイバ、
（２）前記貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜０．５ｋｇ／ｍｍ２であり、かつ前記密着力が１０ｇ／ｃｍ〜１００ｇ／ｃｍであることを特徴とする前記（１）記載の被覆光ファイバ、
（３）前記貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜２．０ｋｇ／ｍｍ２であり、かつ前記密着力が１００ｇ／ｃｍ〜２００ｇ／ｃｍであることを特徴とする前記（１）記載の被覆光ファイバ、
（４）前記一次被覆層が紫外線硬化型樹脂からなることを特徴とする前記（１）ないし（３）のいずれかに記載の被覆光ファイバ、
（５）前記（１）、（２）または（４）のいずれかに記載の被覆光ファイバの複数本を並列に配置し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファイバテープ心線、及び
（６）前記（１）、（３）または（４）のいずれかに記載の被覆光ファイバの複数本を配列し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファイバユニット、
に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、剥離発生に対し、一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’及びガラス光ファイバと一次被覆層との間の密着力が剥離発生頻度と相関関係を有することを見いだし、本発明に到達できた。
【００１０】
第２図は本発明の一具体例を示す概略断面図であり、少なくともコア及びクラッドを有するガラス光ファイバ１の外周に、２５℃、周波数１１０Ｈｚでの貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜０．５ｋｇ／ｍｍ２の一次被覆層２が設けられ、一次被覆層２とガラス光ファイバ１の密着力が１０ｇ／ｃｍ〜１００ｇ／ｃｍであり、一次被覆層２の外周に二次被覆層３が設けられて、被覆光ファイバ４を形成している。
まず、本発明において貯蔵弾性率Ｅ’とは、サンプルの一端に力学的振動として正弦的歪ｒ＝ｒ０ｅｘｐ（ｉωｔ）を加え、他端で検出した位相のずれた正弦的応力Ｓ＝Ｓ０ｅｘｐ〔ｉ（ωｔ＋δ）〕から、以下に示す式（１）に従い計算して得られるものである。
【００１１】
Ｅ＊＝Ｓ／ｒ
＝Ｓ０ｅｘｐ〔ｉ（ωｔ＋δ）〕／ｒ０ｅｘｐ（ｉωｔ）
＝Ｓ０／ｒ０・ｃｏｓδ  ＋  ｉＳ０／ｒ０・ｓｉｎδ
＝Ｅ’＋  ｉ・Ｅ”                                    ・・・（１）
上記式（１）において
Ｅ＊は複素粘弾性、  Ｅ’は貯蔵粘弾性、  Ｅ”は損失粘弾性、
Ｓ  は応力、        Ｓ０は応力の振幅、
ｒ  は歪、          ｒ０は歪の振幅、
ω  は角速度、      ｔ  は時間、        δ  は位相のずれ角、
を表す。
なお、式（１）において、δはωの関数であり、準静的なとき、すなわちω＝０ではδ＝０となって、Ｅ”＝０、貯蔵弾性率Ｅ’はいわゆるヤング率となる。
【００１２】
本発明において一次被覆樹脂の貯蔵弾性率Ｅ’を指標とする理由を説明する。
光ファイバの線引において、被覆光ファイバはいくつかのプーリーを経てボビンに巻き取られるが、プーリーの被覆光ファイバ走行部に静電気等により異物が付着すると、ガラスと被覆層との界面に剥離が発生する場合がある。被覆光ファイバは高速で製造されているため、プーリーも高速回転しており、被覆への歪は急激に、すなわち高歪速度で付与される。
従来の被覆層のヤング率測定は、「１ｍｍ／ｍｉｎ程度の低歪速度での２．５％伸び時の応力」で行われていた。歪０から歪２．５％の応力を結んだ線の傾きから求めたヤング率を２．５％割線ヤング率と称し、歪０の原点におけるヤング率でなくこちらを用いているのは、測定上の問題からである。しかし、一次被覆層等に用いる樹脂は粘弾性挙動を示し、高歪速度領域での弾性率は、従来この種技術分野で用いられている２．５％割線ヤング率のような低歪速度で測定したヤング率を指標とするよりも、高歪速度域での弾性率の実部である貯蔵弾性率Ｅ’を指標とすることが適切ではないかと本発明者らは考察し検討を重ねた。
この結果、高歪速度域での弾性率の指標として、２５℃，周波数１１０Ｈｚでの貯蔵弾性率Ｅ’と剥離発生頻度の間に相関関係があることを見いだした。
【００１３】
また、本発明における密着力は、ガラス板表面に一次被覆材料の層を形成した後、この一次被覆層をガラス板から１８０°の方向に引張り速度２００ｍｍ／ｍｉｎで５０ｍｍ長さ引き剥がすときに要する力をもって表すこととし、具体的な定義は後記の実施例に示される。
【００１４】
第１図は後記する本発明の実施例の結果に基づき、本発明における光ファイバテープ心線の一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’（２５℃，１１０Ｈｚ）とガラス光ファイバと一次被覆層との間の密着力の適正領域をグラフ図にしたものである。第１図に示すように、一次被覆層の２５℃、周波数１１０Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２〜０．５ｋｇ／ｍｍ２であり、かつ前記密着力が１０ｇ／ｃｍ〜１００ｇ／ｃｍであると、ガラス光ファイバと一次被覆層との界面に剥離が発生せず、生産性や被覆光ファイバの信頼性が向上する。
一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２未満では、ハンドリングにおいて一次被覆層に内部破壊（ボイド）が発生しやすくなる。例えば−４０℃といった低温環境においてボイドは伝送損失を増大させるため、その発生を抑制する必要がある。
【００１５】
一方、光ファイバテープ心線の被覆光ファイバにおいて貯蔵弾性率Ｅ’が０．５ｋｇ／ｍｍ２を超えると、ガラス光ファイバと一次被覆層との界面に剥離が生じやすくなる。この理由として、高歪速度での弾性率が大きすぎると、被覆光ファイバが変形した際のガラス光ファイバと一次被覆層との界面に生じる応力が大きくなり剥離しやすくなるものと推定できる。特に好ましい貯蔵弾性率Ｅ’は、２５℃，周波数１１０Ｈｚにおいて０．０２ｋｇ／ｍｍ２〜０．３ｋｇ／ｍｍ２である。
また、ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力を大きくすることにより界面での剥離発生を防ぐことができる。しかし前記密着力が過度に大きいと光ファイバテープ心線を他のガラス光ファイバと接続する際の一括被覆除去が困難になるため、前記密着力は１００ｇ／ｃｍ以下であることが好ましく、一方、前記密着力が１０ｇ／ｃｍ未満では、ガラス光ファイバと一次被覆層の界面での剥離が生じやすくなる。特に好ましい前記密着力としては、１５〜７５ｇ／ｃｍが挙げられる。
【００１６】
ところで、光ファイバはすべてテープ化されるわけではなく、タイトユニット化されたり、ルースチューブに挿入しても用いられ、単心被覆除去性のみを考慮すればよい場合がある。このような場合には、貯蔵弾性率Ｅ’、ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力の両者を、上記したテープ心線用途の被覆光ファイバにおけるよりもさらに大きくすることが可能であり、耐剥離性を向上できる。
【００１７】
第４図は後記する本発明の実施例の結果に基づき、本発明における一括被覆除去を考慮しなくてもよい場合の被覆光ファイバの一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’、ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力、単心被覆除去可能の適正領域をグラフ図にしたものである。
第４図に示すように、一次被覆層の２５℃、１１０Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２以上２．０ｋｇ／ｍｍ２以下であり、かつガラスと一次被覆層の密着力が１００ｇ／ｃｍ以上２００ｇ／ｃｍ以下であっても、ガラスと一次被覆層との界面における剥離が発生しないため、生産性や被覆光ファイバの信頼性が向上する。
２５℃、１１０Ｈｚでの貯蔵弾性率Ｅ’が０．０１ｋｇ／ｍｍ２よりも小さくなると、ハンドリングにおいて一次被覆層内部破壊（ボイド）が発生しやすくなり、低温時に伝送ロスが大きくなる傾向にある。前記貯蔵弾性率Ｅ’が２．０ｋｇ／ｍｍ２よりも大きくなると、ガラス光ファイバと一次被覆層の界面での剥離が生じやすくなる。
【００１８】
ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力は、下限値は第１図に示したように１０ｇ／ｃｍ以上であればよいが、単心被覆除去性のみを考慮すればよい場合には、密着力が１００ｇ／ｃｍ以上である方がより耐剥離性が向上するため好ましい。前記密着力が２００ｇ／ｃｍよりも大きいと、光ファイバ心線を他の光ファイバと接続する際の単心被覆除去が困難となる。
【００１９】
本発明においてガラス光ファイバ自体の組成、構造、製法は特に限定されるところはなくこの種技術分野の公知の手法に従う。
【００２０】
本発明の一次被覆層の被覆材料としては本発明の貯蔵弾性率Ｅ’及び密着力を満足するものであればよいが、例えばウレタン（メタ）アクリレート系樹脂、ポリブタジエン（メタ）アクリレート系樹脂、ポリエーテル（メタ）アクリレート系樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート系樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート系等の（メタ）アクリレート系樹脂や、不飽和ポリエステル類、カチオン重合性エポキシ樹脂、アリル化合物系樹脂、またはこれらの混合系の紫外線硬化型樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの樹脂は各種の成分を含む樹脂組成物であってもよく、例えば各種反応性モノマー、重合開始剤、各種の添加剤例えば連鎖移動剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、増感剤、滑剤等が必要に応じて添加できる。なお、本明細書においては樹脂又は樹脂組成物を合わせて「樹脂」と総称する。
【００２１】
本発明の一次被覆層は前記のように貯蔵弾性率Ｅ’及びガラス光ファイバとの密着力が本発明範囲となる材料を選択する必要がある。
一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’は、被覆材料とする樹脂の骨格を形成するオリゴマーのポリエーテル部分の分子量や反応性希釈モノマーの種類により調整できる。すなわち、ポリエーテル部分の分子量を小さくすること、多官能性モノマーの配合量を増やすこと、剛性の高いモノマーを選択すること、等の手段により貯蔵弾性率Ｅ’を高くすることができる。
また、剛性の高いベンゼン環などの部分を多く含む組成にすることにより貯蔵弾性率Ｅ’を高くすることができる。
【００２２】
またガラス光ファイバと一次被覆層の密着力は、一次被覆層とする被覆樹脂の密着性モノマー含有量やシランカップリング剤添加量（０を含む）を変化させることにより調整することができる。密着性モノマーとして、例えばイソボロニルアクリレート、アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン等が挙げられる。
【００２３】
本発明において一次被覆層の外周に設ける二次被覆層以降の被覆層については特に限定されるところはないが、一次被覆層より高いヤング率、例えば５０〜１５０ｋｇ／ｍｍ２程度を有し、保護層としての作用を有する被覆を設ける。被覆材料としては、一次被覆層と同様の樹脂を用いることができるが、例えば最外層に着色剤を含有させて着色心線とすることもできる。
【００２４】
本発明の光ファイバ線引直後に被覆する一次被覆層、二次被覆層等の被覆層の形成手段についても限定されるところはなく、この種技術分野の公知の手法に従えばよい。例えば熱又は光等のエネルギー線硬化型樹脂の場合には、対応するエネルギー線を照射して被覆材料を硬化させて被覆層とする。紫外線硬化型樹脂を用いれば、硬化時間が短いという利点がある。
【００２５】
また本発明の被覆光ファイバは、さらに共通被覆層を設けて光ファイバテープ心線とした場合、製造ライン上での剥離発生が低減されていることに加え、製品における一括被覆除去性が向上しているという利点がある。
【００２６】
第３図は第２図の被覆光ファイバ４の外周に着色層５を設けた着色心線６を複数本並列に配置して共通被覆層７で一括被覆して形成した光ファイバテープ心線８の一具体例を示す概略断面図である。
光ファイバテープ心線の一括被覆材料としては、例えば一次被覆層、二次被覆層と同様の樹脂であって、例えばヤング率が５０〜１５０ｋｇ／ｍｍ２程度の紫外線硬化型樹脂が一般に用いられる。被覆の形成方法についても、公知の手法に従えばよい。
第５図に中心抗張力体１２のまわりに配列した被覆光ファイバ４の外周に着色層５を設けた着色心線６の複数本を束ねて共通被覆層９，１０で一括被覆してなる光ファイバユニット１１の構造の一具体例を示すが、例示のものの他にも多様な構造のものが公知である。共通被覆材料としては上記光ファイバテープ心線と同様の樹脂が挙げられ、被覆の形成方法についても、公知の手法に従えばよい。
【００２７】
実施例
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１〜４、比較例１〜４及び比較例１’〜４’）
外径１２５μｍの石英系ガラス光ファイバの外周に一次被覆層を外径２００μｍとなるように設け、さらにその外側に二次被覆層を外径２４０μｍとなるように形成した二層被覆光ファイバを製造するにあたり、一次被覆層材料として比較的軟質の光硬化性ウレタンアクリレート系樹脂を、また二次被覆層としては比較的硬質の光硬化性ウレタンアクリレート系樹脂を用いた。
密着力の調整のために、一次被覆材料とする樹脂として、極性モノマー（例えばアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン）含有割合、あるいはシランカップリング剤含有割合を種々に変化させたものを用意した。
【００２８】
まず、一次被覆材料について貯蔵弾性率Ｅ’測定、及びガラス光ファイバと同素材であるガラスとの密着力測定試験を行った。
貯蔵弾性率Ｅ’測定は、各一次被覆材料をシート状に流延し、窒素雰囲気下で水銀ランプ（マイグラフィックス社製、メタルハライドランプＭ０１５−Ｌ３１２（商品名）〕を用いて紫外線を照射光量１０００ｍＪ／ｃｍ２で照射し〔光量は（株）オーク製作所製、紫外線光量計ＵＶ−Ｍ１０（分光感度ＵＶ−３５）を使用して測定〕、２００μｍ厚さのシートを得た。このシートから幅４ｍｍ、長さ２０ｍｍ、厚さ２００μｍのサンプルを切り取り、弾性率測定器としてＲＨＥＯＶＩＢＲＯＮ（ＯＲＩＥＮＴＩＣ  ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ製）を用いて、周波数１１０Ｈｚ、振動変異０．０１６ｍｍで、貯蔵弾性率Ｅ’を測定した。
【００２９】
密着力測定は以下の手順によった。
石英ガラス板（２００×１５０ｍｍ）を５分間以上硫酸中に浸漬して表面を洗浄した。
洗浄済みの石英ガラス板上に一次被覆層形成用樹脂液を塗布し、前記と同じ水銀ランプを用いての紫外光を照射光量１００ｍＪ／ｃｍ２で照射し硬化させた。硬化後の樹脂層厚さは２００μｍ、幅は５０ｍｍ、長さ１７０ｍｍの試料を得た。
得られた各試料を２５℃、５０％ＲＨ雰囲気下に１週間放置した。
次に、各試料の樹脂層を、石英ガラス板から１８０°の方向に、引張速度２００ｍｍ／ｍｉｎで長さ５０ｍｍ引き剥がし、このときに要する力（単位幅当たりｇ／ｃｍの最大値を同素材からなるガラス光ファイバと一次被覆樹脂との密着力と定義し、これをガラス光ファイバと一次被覆層の密着力とみなした。
【００３０】
外径１２５μｍの石英系ガラス光ファイバの外周に一次被覆層を外径２００μｍとなるように設け、さらにその外側に二次被覆層を外径２４０μｍとなるように形成した。一次被覆層は上記の実験結果に従いガラス光ファイバとの密着力、貯蔵弾性率Ｅ’が表１に示すように種々の組合せとなるようにし、線引速度２００ｍ／ｍｉｎ、フュージョン社製ＵＶ炉Ｆ−１０を一次被覆層硬化に対して１灯、二次被覆層硬化に対して１灯使用して、被覆光ファイバを製造した（実施例１〜４、比較例１〜４、比較例１’〜４’）。
【００３１】
剥離発生の有無、ボイド（被覆の内部破壊）発生の有無の試験と評価：
製造終了後に巻き取りボビンから被覆光ファイバを繰り出し、屈折率調整用のマッチングオイルに浸漬後（マッチングオイルに浸漬しないとガラス光ファイバと被覆層との界面が観察できない）、被覆光ファイバ側面方向から光学顕微鏡で５０倍に拡大して観察することにより、確認した。ボイド発生や剥離発生が皆無である場合を合格と判定した。
【００３２】
一括被覆除去性の評価：
得られた被覆光ファイバを用いてテープ心線を作成し、加熱型リムーバーＪＲ−４Ａ（商品名、住友電気工業（株）製）を使用し、手動でテープ心線の被覆を一括除去した。ヒーター加熱温度９０℃、ガラス光ファイバ表面から被覆を除去できる場合を合格とした。ガラス光ファイバと被覆の密着力が大きすぎるとガラス光ファイバから被覆を除去することが不可能となった。
以上の結果を、表１及び第１図に示す。
【００３３】
【表１】
0004556372.tif 000002
【００３４】
第１図において横軸は貯蔵弾性率Ｅ’（ｋｇ／ｍｍ２）、縦軸はガラスと一次被覆層の密着力（ｇ／ｃｍ）を示し、○印は本発明の実施例で密着力適正（剥離発生なし、ボイド発生なし、一括被覆除去性良好）、×印は剥離発生の例、＋印はボイド発生の例、□印はテープ心線の一括被覆除去失敗を示し、図中の斜線で示す領域が貯蔵弾性率Ｅ’と前記密着力の適正範囲を示す。貯蔵弾性率Ｅ’及び前記密着力が本発明の範囲にあれば、剥離発生やボイド発生がなく、一括被覆除去性も優れていることがわかる。
【００３５】
（実施例５〜９並びに比較例５及び６）
前記実施例１と同様にして、貯蔵弾性率Ｅ’、ガラスと一次被覆層との密着力を、表２に示すように種々に変化させた被覆光ファイバを作成し（実施例５〜９、比較例５及び比較例６）、得られた各被覆光ファイバについて、実施例１と同様に剥離発生とボイドの有無を調べ、さらに下記に従い単心被覆除去性を評価した。結果を表２及び第４図に示す。
【００３６】
単心被覆除去性の評価：
被覆光ファイバの被覆層を被覆除去具「ノーニックＮＮ２０３（商品名、ＣＬＡＵＳＳ社製）」を用いて除去したとき、ガラス光ファイバから被覆層を除去できない場合を単心被覆除去困難とし、表２中では×印で示した。表２中、○印は単心被覆除去容易を意味する。
【００３７】
【表２】
0004556372.tif 000003
【００３８】
第４図において、横軸は貯蔵弾性率Ｅ’（ｋｇ／ｍｍ２）、縦軸はガラスと一次被覆層の密着力（ｇ／ｃｍ）を示し、○印は本発明の実施例で密着力適正（剥離発生なし、ボイド発生なし、単心被覆除去性良好）、×印は剥離発生の例、□印は単心被覆光ファイバの被覆除去失敗を示し、図中の斜線で示す領域が貯蔵弾性率Ｅ’と前記密着力の適正範囲を示す。貯蔵弾性率Ｅ’及び前記密着力が本発明の範囲にあれば、剥離発生やボイド発生がなく、単心被覆除去性も優れていることがわかる。
【００３９】
【発明の効果】
以上説明のように、本発明によれば被覆光ファイバの耐剥離性が向上して線引時や巻き替え時のライン上における被覆剥離の問題が解消でき、さらに被覆層内でのボイド発生がなく被覆光ファイバの生産性及び品質を向上できる。
本発明の被覆光ファイバを用いた光ファイバテープ心線は一括被覆除去性が向上し、他の光ファイバとの接続等における作業効率を高めることができる。
また、本発明の被覆光ファイバを用いた光ファイバユニットは耐剥離性が高く、しかも単心被覆除去も容易であるため、他の光ファイバとの接続等における作業効率を高めることができる。
【００４０】
【図面の簡単な説明】
第１図は、剥離発生と一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’と密着力（ガラスと一次被覆層の間）との相関関係並びに光ファイバテープ心線一括被覆除去性を示すグラフ図であり、第２図は、本発明の被覆光ファイバの一具体例を説明する概略断面図であり、第３図は、第１図に示す本発明の被覆光ファイバを用いた光ファイバテープ心線の構造を示す概略断面図であり、第４図は剥離発生と一次被覆層の貯蔵弾性率Ｅ’と密着力（ガラスと一次被覆層の間）との相関関係並びに単心被覆除去性を示すグラフ図であり、第５図は、第１図に示す本発明を被覆光ファイバを用いた光ファイバユニットの具体例を説明する概略断面図である。
【図１】
0004556372.tif 000004
【図２】
0004556372.tif 000005
【図３】
0004556372.tif 000006
【図４】
0004556372.tif 000007
【図５】
0004556372.tif 000008