(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御方法であって、
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空で、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出し、検出された上記ギャップに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とするプロキシミティギャップ制御方法。
【請求項２】
上記ギャップを上記マスクの周辺の複数箇所で検出することを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティギャップ制御方法。
【請求項３】
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出する代わりに、上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、検出された上記高さに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティギャップ制御方法。
【請求項４】
上記高さを上記マスクの周辺の複数箇所で検出することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティギャップ制御方法。
【請求項５】
基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御装置であって、
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる移動手段と、
上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出するギャップ検出手段と、
上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段と
を備えたことを特徴とするプロキシミティギャップ制御装置。
【請求項６】
上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項５に記載のプロキシミティギャップ制御装置。
【請求項７】
上記ギャップ検出手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、
上記ギャップ制御手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とする請求項５に記載のプロキシミティギャップ制御装置。
【請求項８】
上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項７に記載のプロキシミティギャップ制御装置。
【請求項９】
マスクを有し、基板の露光を行う露光部で、上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティ露光装置であって、
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる移動手段と、
上記露光部にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを検出するギャップ検出手段と、
上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段と
を備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項１０】
上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項９に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項１１】
上記ギャップ検出手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記露光部へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、
上記ギャップ制御手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とする請求項９に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項１２】
上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項１１に記載のプロキシミティ露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等の製造において、基板の露光を行う露光位置で、基板と露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びそれらを用いたプロキシミティ露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイは、薄型、軽量かつ低消費電力の特徴を有し、表示装置として広く応用されている。液晶ディスプレイの製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィ技術によりガラス、カラーフィルタ等の基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてフォトマスク（以下、「マスク」と称す）のパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ露光装置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、チャック上に固定した基板をマスクに極めて接近させて露光を行う。通常、チャックは、マスクとの位置合わせ及びギャップ合わせを行うステージ上に搭載されており、基板を真空吸着して固定する。チャックへの基板の着脱は、通常、ロボット等のハンドリングアームにより行われるが、マスクと基板との接触を避けるためにマスクが置かれている露光部から離れた受け渡し位置で行われる。受け渡し位置で基板をチャック上に固定した後、ステージが露光部のマスクの下へ移動してマスクとの位置合わせ及びギャップ合わせを行う。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来は、ステージが基板の受け渡し位置から露光部のマスクの下へ移動してマスクとの位置合わせ及びギャップ合わせを行う際、マスクと基板との接触を避けるために基板を一旦下降させてマスクとの間に十分な間隔を保って移動を行い、移動終了後にギャップ合わせを行って適切なプロキシミティギャップを設定していた。このとき、露光時のマスクと基板との間のプロキシミティギャップは、数百μｍ程度であり、基板の面積に対して極めて小さい。そのため、ギャップ合わせ時、基板とマスクの間に存在する空気は、粘性を有し急激にギャップの外へ逃げ出すことができず、マスクのたわみ等の変形を引き起こしていた。従って、変形したマスクが元に戻るまで適切なプロキシミティギャップを設定することができず、ギャップ合わせに時間を要し、露光装置の処理能力を低下させる原因となっていた。
【０００５】
本発明は、短い時間でプロキシミティギャップを設定することのできるプロキシミティギャップ制御装置を提供することを目的とする。
本発明はまた、短い時間でプロキシミティギャップを設定し、処理能力の高いプロキシミティ露光装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプロキシミティギャップ制御方法は、基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御方法であって、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空で、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出し、検出された上記ギャップに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するようにしたものである。また、本発明に係るプロキシミティギャップ制御方法は、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出する代わりに、上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、検出された上記高さに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するようにしたものである。
【０００７】
本発明に係るプロキシミティギャップ制御装置は、基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御装置であって、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる移動手段と、上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出し、または上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出するギャップ検出手段と、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段とを備えたものである。
【０００８】
本発明に係るプロキシミティ露光装置は、マスクを有し、基板の露光を行う露光部で、上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティ露光装置であって、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる移動手段と、上記露光部にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを検出し、または上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出するギャップ検出手段と、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段とを備えたものである。
【０００９】
本発明のプロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びプロキシミティ露光装置では、移動手段であるチャックが基板を受け渡し位置から露光位置（露光部）へ移動する間、ギャップ制御手段が、ギャップ検出手段又は高さ検出手段の検出結果に基づいて、チャックを上下して基板とマスクとの間のギャップを制御しているので、基板がマスクに接触する心配がない。そのため、移動中にあるいは最初から、チャックが受け渡し位置から露光位置（露光部）へ移動する際の基板とマスクとの間隔を小さくすることができる。従って、移動終了後のギャップ合わせ時の移動距離が短くなり、基板とマスクの間の空気によるマスクのたわみ等の変形が少ない。
なお、本発明のプロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びプロキシミティ露光装置で、ギャップ検出手段又は高さ検出手段をマスクの周辺に複数設けると、基板とマスクとの間隔又は基板の高さの検出精度が向上して、ギャップ制御手段による基板とマスクとの間隔の制御能力が向上する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に従って説明する。図６は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の構成図である。本実施の形態によるプロキシミティ露光装置は、基板を固定するチャック１０と基板の露光を行う露光部２０とを含む露光装置本体３０、チャック１０へ基板を供給する供給アーム４０、チャック１０から基板を回収する回収アーム５０、供給コンベア６０、供給バッファ７０、回収バッファ８０、及び回収コンベア９０を備える。実際の露光装置は露光部２０のマスクを自動的に交換するマスクチェンジャや装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えているが、本実施の形態では発明に直接関係しない部分は省略してある。なお、図６は、チャック１０が基板の受け渡しを行う受け渡し位置にある状態を示している。
【００１１】
図６において、パターンを形成するために露光を行う基板は、図示しないローダから矢印に示す方向で供給コンベア６０へ供給される。供給コンベア６０は、複数のローラ６１を有し、ローダから供給された基板を供給バッファ７０へ搬送する。供給バッファ７０は、複数のローラ７１を有し、供給アーム４０が挿入される溝を備え、上下に移動可能に構成されている。供給コンベア６０から搬送された基板は、供給バッファ７０に一時保持される。
供給アーム４０は、基板を保持する２本の腕を有し、供給バッファ７０と受け渡し位置との間を移動可能に構成されている。図６に実線で示したように供給アーム４０が供給バッファ７０の溝に挿入された状態で、供給バッファ７０が図面奥行き方向へ下降して保持していた基板を供給アーム４０へ渡す。基板を受け取った供給アーム４０は、図６に破線で示したように受け渡し位置へ移動する。
【００１２】
チャック１０は、露光部２０と受け渡し位置とを移動可能に構成されている。
受け渡し位置に移動した供給アーム４０は、受け渡し位置に移動したチャック１０へ基板を渡す。受け渡し位置で供給アーム４０から基板を受け取ったチャック１０は、露光部２０へ移動する。露光部２０で露光が終了すると、チャック１０は受け渡し位置へ移動する。
回収アーム５０は、基板を保持する２本の腕を有し、受け渡し位置と回収バッファ８０との間を移動可能に構成されている。図６に破線で示したように受け渡し位置で待機していた回収アーム５０は、受け渡し位置へ移動したチャック１０から基板を受け取り、図６に実線で示したように回収バッファ８０の位置へ移動する。
【００１３】
回収バッファ８０は、複数のローラ８１を有し、回収アーム５０が挿入される溝を備え、上下に移動可能に構成されている。回収バッファ８０は、図面奥行き方向へ下降して待機しており、回収アーム５０が回収バッファ８０の位置へ移動すると、上昇して回収アーム５０から基板を受け取る。回収バッファ８０は、回収アーム５０から受け取った基板を回収コンベア９０へ搬送する。回収コンベア９０は、複数のローラ９１を有し、回収バッファ８０から搬送された基板を矢印に示す方向で図示しないアンローダへ搬送する。
【００１４】
図１（ａ）は本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の上面図、図１（ｂ）は同側面図である。本実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置は、基板１の受け渡しを行う受け渡し位置と基板の露光を行う露光位置とを移動するチャック１０、チャック１０に固定された基板１と露光位置にあるマスク２１との間隔を検出するギャップセンサ１００、及びチャック１０を上下して基板１とマスク２１との間隔を制御するチルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃを備える。本実施の形態では、ギャップセンサ１００が、マスク２１の上空の基板１が進入して来る入り口付近に１つ設けられている。
【００１５】
図１において、チャック１０は、基板の受け渡しを行う受け渡し位置にあり、基板１を真空吸着している。チャック１０は、チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃを介してステージ１２に搭載されており、ステージ１２の下にはステップステージ１３が設けられている。チャック１０を搭載したステージ１２は、Ｘ，Ｙ，θの３軸で構成され、露光位置で基板１とマスク２１との位置合わせを行う。ステップステージ１３は、定盤１５に設けられたリニアガイド１４に沿ってＸ軸方向（図面横方向）へ移動し、これによりチャック１０が受け渡し位置からマスク２１下の露光位置へ移動する。なお、駆動手段としてはリニアモータ等が用いられるが、図示は省略する。
【００１６】
露光位置の入り口付近に設けられたギャップセンサ１００は、チャック１０が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、チャック１０に固定された基板１と露光位置にあるマスク２１との間隔を検出する。チャック１０とステージ１２との間の３箇所に設けられたチルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、垂直方向のガイドと送りねじ、あるいは垂直方向のガイドと楔機構等により構成される垂直微動機構である。チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、チャック１０が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、ギャップセンサ１００の検出結果に基づいて、チャック１０を上下して基板１とマスク２１との間隔を制御する。この制御は、例えば、次のように行われる。
【００１７】
基板は、一般に製法上の理由から、厚さが１方向に単調に変化し、それと直行する方向では厚さの変化が少ないという性質を有している。図１で、基板１は、チャック１０上に、その厚さが変化する方向がＸ軸方向（図面横方向）となるように置かれている。まずチャック１０が移動して露光位置の入り口に来ると、ギャップセンサ１００は、基板１の端部の表面とマスク２１との間隔を検出する。
チルト機構１１ａは、この検出結果に基づいて上下し、基板１がマスク２１と必要な間隔を保って露光位置へ進入するように制御する。その後、チャック１０が移動を続ける間、ギャップセンサ１００は常に基板１とマスク２１との間隔を検出する。そして、チルト機構１１ｂ，１１ｃはそれぞれ、その検出結果に基づいて上下して、基板１がマスク２１と必要な間隔を保って移動するよう必要な補正を行う。
【００１８】
チャック１０の露光位置への移動が終了すると、チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、ギャップセンサ１００と別個に設けられた図示しないギャップ検出手段の検出結果に基づいてギャップ合わせを行い、プロキシミティギャップを設定する。
本実施の形態によれば、チャック１０が受け渡し位置から露光位置へ移動する間にチャック１０に固定された基板１と露光位置にあるマスク２１との間隔を検出するギャップセンサ１００が１つで済む。
【００１９】
図２は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置のギャップセンサの構成図である。本実施の形態のギャップセンサ１００は、発光素子（半導体レーザ、発光ダイオードなど）１０１、コリメーションレンズ群１０２、スリット１０３、投影レンズ１０４、全反射ミラー１０５，１０６、結像レンズ１０７、及び受光素子（ＣＣＤラインセンサなど）１０８で構成されている。
【００２０】
図２において、発光素子１０１から照射された光は、コリメーションレンズ群１０２で集光され、スリット１０３を通った後、投影レンズ１０４から全反射ミラー１０５を介して斜めにマスク２１へ投影される。投影された光の一部は、マスク２１の下面で反射して反射光Ｒとなり、また一部は基板１の表面で反射して反射光Ｓとなる。反射光Ｒ，Ｓは、全反射ミラー１０６を介して結像レンズ１０７を通り、受光素子１０８上にそれぞれ結像する。受光素子１０８で検出した反射光Ｒ，Ｓの結像の距離により、基板１とマスク２１との間隔が検出される。本実施の形態のギャップセンサは、基板１の傾きや反射率に起因する検出誤差が無く、再現性の高い検出を行うことができる。
【００２１】
図３は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の斜視図である。本実施の形態では、ギャップセンサ１００が、マスク２１の周辺の上空に４つ設けられている。
図３は、チャック１０が露光位置への移動が終了した状態を示している。マクク２１の周辺の上空に設けられた４つのギャップセンサ１００はそれぞれ、チャック１０が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、チャック１０に固定された基板１とマスク２１との間隔を検出する。図１に示した実施の形態と同様に設けられたチルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、チャック１０が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、４つのギャップセンサ１００の検出結果に基づいて、チャック１０を上下して基板１とマスク２１との間隔を制御する。そして、チャック１０の露光位置への移動が終了すると、チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、４つのギャップセンサ１００の検出結果に基づいてギャップ合わせを行い、プロキシミティギャップを設定する。
【００２２】
本実施の形態によれば、ギャップセンサ１００をマスク２１の周辺に複数設けたので、基板１とマスク２１との間隔の検出精度が向上して、チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃによる基板１とマスク２１との間隔の制御能力が向上する。また、複数のギャップセンサ１００を、プロキシミティギャップを設定する際に必要なギャップ検出手段と兼用することができる。
【００２３】
図４は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の制御ブロック図である。図４において、ギャップセンサ１００の検出結果は、ギャップ計測量変換器１１０へ送られてギャップ計測量に変換される。一方、基準ギャップ量記憶メモリ１２０には、露光時のプロキシミティギャップが基準ギャップ量として記憶されている。ＣＰＵ２００は、ギャップ計測量変換手段１１０からギャップ計測量を、基準ギャップ量記憶メモリ１２０から基準ギャップ量を読み出し、これらの情報に基づいて、チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃを駆動する指令をコントローラ１３０へ送る。コントローラ１３０は、ＣＰＵ２００からの指令に従って、ドライバ１４０ａ，１４０ｂ，１４０ｃを制御してチルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃを駆動する。
【００２４】
図５は、従来技術と本発明のプロキシミティギャップ制御装置の動作説明図である。図５（ａ）は、本発明で、露光位置の入り口での基板とマスクとの間隔を従来技術と同じとした例を示している。図５（ａ）において、Ｇ１は従来技術及び本発明でチャックが露光位置の入り口に達したときの基板とマスクとの間隔、Ｇ２は本発明でチャックが露光位置への移動を終了したときの基板とマスクとの間隔、Ｇ５は露光時のプロキシミティギャップである。また、Ｔ１は従来技術及び本発明でチャックが露光位置への移動を終了した時間、Ｔ３は本発明でギャップ合わせが終了して露光を開始した時間、Ｔ４は従来技術でギャップ合わせが終了した時間、Ｔ５は従来技術で露光を開始した時間である。
【００２５】
図５（ａ）の従来技術では、チャックが移動している間、基板とマスクとの間隔Ｇ１は変わらない。時間Ｔ１にチャックが露光位置への移動を終了してギャップ合わせが開始され、時間Ｔ４にギャップ合わせが終了する。そして、変形したマスクが元に戻るのを待った後、時間Ｔ５に露光が開始される。
これに対し図５（ａ）の本発明では、チャックが移動している間、基板とマスクとの間隔がＧ１からＧ２へと制御される。時間Ｔ１にチャックが露光位置への移動を終了してギャップ合わせが開始され、時間Ｔ３にギャップ合わせが終了する。この間のギャップ合わせの移動距離が短いので、マスクの変形は少なく、時間Ｔ３にすぐ露光を開始することができる。
【００２６】
図５（ｂ）は、本発明で、露光位置の入り口での基板とマスクとの間隔を、従来技術より小さくした例を示している。図５（ｂ）において、Ｇ１は従来技術でチャックが露光位置の入り口に達したときの基板とマスクとの間隔、Ｇ３は本発明でチャックが露光位置の入り口に達したときの基板とマスクとの間隔、Ｇ４は本発明でチャックが露光位置への移動を終了したときの基板とマスクとの間隔、Ｇ５は露光時のプロキシミティギャップである。また、Ｔ１は従来技術及び本発明でチャックが露光位置への移動を終了した時間、Ｔ２は本発明でギャップ合わせが終了して露光を開始した時間、Ｔ４は従来技術でギャップ合わせが終了した時間、Ｔ５は従来技術で露光を開始した時間である。
【００２７】
図５（ｂ）の従来技術は、図５（ａ）と同じである。
図５（ｂ）の本発明では、露光位置の入り口での基板とマスクとの間隔Ｇ３が従来技術のＧ１よりも小さく、さらに、チャックが移動している間、基板とマスクとの間隔がＧ３からＧ４へと制御される。時間Ｔ１にチャックが露光位置への移動を終了してギャップ合わせが開始され、時間Ｔ２にギャップ合わせが終了する。この間のギャップ合わせの移動距離が短いので、マスクの変形は少なく、時間Ｔ２にすぐ露光を開始することができる。
【００２８】
以上説明した本実施の形態では、ギャップセンサ１００でチャック１０に固定された基板１と露光位置にあるマスク２１との間隔を検出していたが、チャック１０に固定された基板１の表面の高さを検出する高さ検出手段を設け、チルト機構１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、高さ検出手段の検出結果に基づいて、チャックを上下して基板とマスクとの間隔を制御してもよい。
【００２９】
【発明の効果】
本発明のプロキシミティギャップ制御装置によれば、チャックが受け渡し位置から露光位置へ移動する際の基板とマスクとの間隔を、移動中にあるいは最初から小さくすることができる。従って、移動終了後のギャップ合わせ時の移動距離が短くなり、基板とマスクの間の空気によるマスクのたわみ等の変形が少ないので、短い時間でプロキシミティギャップを設定することができる。
また、本発明のプロキシミティ露光装置によれば、短い時間でプロキシミティギャップを設定することができるので、処理能力を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１（ａ）は本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の上面図、図１（ｂ）は同側面図である。
【図２】  本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置のギャップセンサの構成図である。
【図３】  本発明の他の実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の斜視図である。
【図４】  本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の制御ブロック図である。
【図５】  従来技術と本発明のプロキシミティギャップ制御装置の動作説明図である。
【図６】  本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の構成図である。
【符号の説明】
１…基板、１０…チャック、１１ａ，１１ｂ，１１ｃ…チルト機構、
１２…ステージ、２０…露光部、２１…マスク、３０…露光装置本体、
４０…供給アーム、５０…回収アーム、６０…供給コンベア、
７０…供給バッファ、８０…回収バッファ、９０…回収コンベア、
１００…ギャップセンサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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