(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光格子の製造装置において、
入射ビームを複数の回折ビームに分割する位相マスクと、
該位相マスクから光を受け取り且つ少なくとも２つの非零順位の回折ビームを共に収斂させて、収斂したビームの間に干渉領域を発生させ、該干渉領域内に配置された光導波管上に格子構造体をインプレスすることができるようにする収束装置と、
位相マスク及び収束装置の少なくとも一部分を互いに対して動くように配置された移動台と、
光格子の製造装置と光格子を製造すべき光導波管とを相対的に移動させて干渉領域が光導波管の異なる部分上に入射するようにした移動装置と、
前記光導波管が前記干渉領域に対して移動するときに前記位相マスクと前記収束装置の前記少なくとも一部分との相対的な距離を変化させるように配置され、収斂したビームの収斂角度を変化させ且つそれにより格子構造体の周期を制御可能に調整するようにした制御回路と、を備える、光格子の製造装置。
【請求項２】
請求項１による製造装置において、
前記収束装置が単一のレンズから成る、製造装置。
【請求項３】
請求項２による製造装置において、
前記レンズが両凸形の球状レンズである、製造装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１つによる製造装置において、
位相マスクに入射するビームを実質的にコリメートさせるコリメート装置を備える、製造装置。
【請求項５】
請求項２又は３に従属する請求項４による製造装置において、
前記コリメート装置が、前記レンズの焦点距離の２倍の焦点距離を有するレンズを備える、製造装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１つによる製造装置において、
前記光導波管が光ファイバ導波管である、製造装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１つによる製造装置において、
干渉領域を光導波管上に繰り返して露出する手段を備え、
前記移動装置は、書込み光パターンを連続的に露出する間に、干渉領域及び／又は光導波管を動かして、光導波管の格子の格子線の少なくとも大部分の各々が干渉領域に対する少なくとも２回の露出により発生されるようにすることが可能な、製造装置。
【請求項８】
光格子の製造方法において、
光ビームを複数の回折ビームに分割するように光ビームを位相マスク上に向けるステップと、
ある格子構造体の周期を有する１つの干渉領域を収斂したビームの間に発生させ、該干渉領域内に配置された光導波管上に格子構造体がインプレスされるように、収束装置を使用して、少なくとも２つの非零順位の回折ビームを共に収斂するステップと、
チャープ型格子を製造するように光導波管が干渉領域に対して動かされるとき、収斂したビームの収斂角度を変化させ且つこれにより前記周期を所望の周期に調整させるように、前記位相マスクと前記収束装置の少なくとも一部分とを相対的に動かして、その相対的な距離を変化させるステップとを備える、製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、光導波管格子の製造方法及び製造装置に関する。
【０００２】
光ファイバ格子のような光導波管格子は、光ファイバのコアを格子の期間を画成する干渉パターンにさらすことにより形成することができる。光ファイバのコアにファイバ格子を形成することに関する最初の実証試験は、５１４ｎｍにて作動するアルゴンレーザからレーザ光を光ファイバに沿って発射し、ファイバの全長に亙って格子が形成されるようにしたものである。
【０００３】
より最新の技術は、ファイバコア及び／又はクラッド内の感光領域上に格子構造体をインプレスするためファイバの側部に入射する干渉パターンを使用している。
【０００４】
かかる干渉パターンを発生させるために使用する方法は、プリズム干渉計（以下に引用する「ブロエル（Ｂｒｏｅｒ）」の出版物を参照）、回折格子／位相マスク（アンダーソン（Ａｎｄｅｒｓｏｎ））及び位相マスクとプリズム干渉計との組み合わせ（アルミテージ（Ａｒｍｉｔａｇｅ））を含む。更なる開発例は、位相マスクがレンズを使用してファイバコア上に作像される、英国特許第Ａ−２２７２０７５号に記載されている。
【０００５】
しかしながら、明確な問題点は、製造工程中、例えば、格子の長さに沿ってピッチが変化する長いチャープ型（ｃｈｉｒｐｅｄ）格子を発生させるため、格子のピッチを変えることである。
【０００６】
書込みレーザビームのコヒーレンス長さは、発生した干渉パターンの良好な視覚性を保つため異なる光学路を入念に適合させることは、臨界的なものとするから、このことは、多数ビーム干渉計にて行うのは極めて難しい作業である。
【０００７】
均一な位相マスクからの格子ピッチを変えることは、位相マスクの拡大技術（プロシャスカ（Ｐｒｏｈａｓｋａ））及びビーム直径依存の最大同調（ｂｅａｍ  ｄｉａｍｅｔｅｒ  ｄｅｐｅｎｄａｎｔ  ｍａｚｘｉｍｕｍ  ｔｕｎｉｎｇ）に基づく同調スキーム（コール（Ｃｏｌｅ）及び英国特許第９５０９８７４．５号）の双方から、以前に発表されている。その双方の場合、可能な最大同調は、より可撓性のレーザ装置の場合、〜（約）１０ｎｍ（ナノメートル）である。
【０００８】
本発明は、光格子の製造装置を提供するものである。この製造装置は、
入射ビームを複数の回折ビームに分割する位相マスクと、
位相マスクから光を受け取り且つ少なくとも２つの非零順位の回折ビームを共に収斂したビームの間に干渉領域を発生させ、格子構造体が干渉領域内に配置した光導波管上にインプレスされるようにする収束装置と、
位相マスク及び収束装置の少なくとも一部分が、互いに対して可動であり、収斂したビームの収斂角度を変化させるようにすることとを備えている。
【０００９】
本発明において、位相マスクは、レンズを使用して導波管上に作像される。しかしながら、位相マスク及びレンズの相対的位置をレンズの焦点長さに等しい分離距離に固定する通常のステップ（これは、通常、装置の機械的安定性を最大にするものと予想される）ではなくて、収斂したビームの収斂角度を変化させ得るように、位相マスクとレンズとの分離距離を変更するという反対の直感的なステップが採られる。当業者は、次に、直ちに、このことは、導波管に入射するフリンジピッチを変化させることが理解されよう。
【００１０】
本発明の原型としての実施の形態は、２７ｎｍ、すなわち、従来、報告された最良の同調範囲の約３倍以上の同調範囲を実証することができる。
【００１１】
ファイバブラッグ格子を書き込むために使用される他の技術と比較して、特に、ファイバがチャープ型又は均一な位相マスクの何れかの後方で干渉パターン内を動かされる技術と共に、使用されるとき、例えば、英国特許第ＧＢ９６１７６８８．８号による「ステップ及び反復」技術と比較しての本発明の有利な点は、ファイバと位相マスクとの間に何ら接点又は密接な接触を提供せず、これにより、可動のガスラ面の内にて蓄積する静電気を防止することである。
【００１２】
レンズの使用により、書込みビームのパワーを例えば、光ファイバのような側部を通るのではなくて、格子ホストの光導波管上により正確に収束することができる。
【００１３】
本出願（クエレット（Ｑｕｅｌｌｅｔｔｅ））の優先日よりも２年前に、連続的な技術にて長い位相マスク（＞５ｃｍ）を製造することは不可能であり、このため、ｅビームのステップ書込み技術を採用しなければならないことが公知であった。しかしながら、鎖状の接続部分間の反復程度は、位相マスクの期間上において分離を確保するのに十分に良好ではなく、これにより、位相マスクの長さに沿って周期的な「スティッチ誤差」を生じさせる。不完全な重なり合い領域は、かかる位相マスクから書き込まれた格子の質を低下させることになる位相シフトを生じさせる。ステッチされていない位相マスクに沿って均一に走査することは、格子の質を位相マスクの溝の深さパターンの均一さに制限することになる。位相マスクの溝の深さが変化すると、零順位のパワーの変動、従って、位相マスクの第１及び第１順位の干渉パワーを変動させ、これにより、格子におけるバックグラウンド（ｄｃ）レベルを増大させ且つ干渉パターンの可視性を低下させることにつながる。これら全てのファクタは、製造される格子の品質を低下させ勝ちとなる。これに反して、本発明は、単に、位相マスク上における書込みビームの位置を一定に保つことができるという理由により、この位相マスク格子の品質の劣化を防止し又は軽減することができる。
【００１４】
本発明は、「自由空間」干渉計として具体化することができるが（これは、不利益な点であると考えられる場合がある）、本発明は、実際上、干渉ビームを捕獲し且つ再度、組み合わせる単一のレンズのみを使用して具体化することができる。更に、この同調スキームは、都合の良い程に簡略化することができ、それは、レンズを位相マスクに対して相対的に動かすことのみを含むからである。この動作が書込みビームの方向に沿って行われるならば、その２つの干渉ビーム間のコヒーレンスは、影響を受けない。
【００１５】
また、本発明は、光ビームを複数の回折ビームに分割するため光ビームを位相マスク上に向けるステップと、収斂したビームの間に干渉領域を発生させ、干渉領域内に配置された光導波管上に格子構造体をインプレスすることができるように、少なくとも２つの非零順位の回折ビームを収束装置を使用して共に収斂させるステップと、収斂したビームの収斂角度を変化させ得るように、位相マスクと収束装置の少なくとも一部分を相対的に動かすステップとを備える、光格子の製造方法をも提供するものである。
【００１６】
本発明は、添付図面を参照しつつ、一例として以下に説明する。
【００１７】
まず、図１を参照すると、レーザ源（例えば、紫外線レーザ源）１０及びコリメートレンズ２０は、コリメートした紫外線光のビーム３０を発生させる。このビームは位相マスク４０に入射し、いわゆる０番目の順位、第１番目の順位、第１順位の回折ビーム（多分、この説明に関係しないより高順位のビーム）を発生させる。０順位ビームは、入射ビームと同一の方向に伝播する一方、第１及び第１順位のビームは、図示するように、入射ビームに対して斜めに偏倚する。
【００１８】
不透明ブロック５０は、０順位ビームの経路内に配置されており、このため、第１及び第１順位のビームのみが反射防止被覆した両凸型の球状レンズ６０に入射する。
【００１９】
レンズ６０に入射する第１及び第１順位のビームは、光ファイバ導波管８０のコア（又は、格子のインプレスすべき他の領域）に重なり合う領域７０内で収束されるようにする。その２つビームの間に干渉パターンが形成され、格子構造体は干渉フリンジの位置にて書き込まれる。
【００２０】
ファイバに沿った書込みビームを走査するために使用することのできる任意の変換段（図示せず）を別にして（又は、その逆に。英国特許第９６１７６８８．８号参照）、位相マスク４０及び／又はレンズ６０は変換段９０（図面の明確化のため概略図的な破線で図示）に取り付けられ、該変換段は、制御回路１００の制御の下、位相マスク４０及びレンズ６０の相対的な分離距離を変化させ得るように配置されている。かかる分離の効果及びこの技術を使用して得られる幾つかの実験結果について以下に更に説明する。
【００２１】
以下の説明のため、位相マスクＰ1における干渉点からレンズまでの距離はｄ1にて表わし、レンズから像点Ｐ2までの距離はｄ2で表わす。位相マスクの期間はλpmと称し、レンズの焦点距離はｆとする。文献から位相マスクを通る回折順位間の角度は次式で与えられることが公知である。
【００２２】
【数１】
0004512266.tif 000002
【００２３】
λiは、位相マスクにおいて垂直に入射する光の波長である。干渉−１及び１順位の間の角度はこのため、２θpmとなる。干渉期間は次式のようになる。
【００２４】
【数２】
0004512266.tif 000003
【００２５】
焦点距離ｆ、ｄ1、ｄ2の間の関係は、次式で与えられた作像等式によるものであり、
【００２６】
【数３】
0004512266.tif 000004
【００２７】
従って、Ｐ1及びＰ2の作像が１：１の場合、ｄ1＝ｄ2＝２ｆとなる。
【００２８】
上述の等式に対し一例としての数を関係付けるため、１０６０ｎｍの位相マスク期間及びは２４４ｎｍ波長の紫外線が使用される。等式（１）から、このことは、回折順位間に１３．３１°の分離角度を提供し、従って、−第１及び第１順位との間に２６．６２°の分離角度を提供する。等式（２）によれば、これは、干渉パターンの期間を５３０ｎｍとする。標準的なレンズ直径Ｄ２５．４ｍｍ（１インチ）が選択されるならば、レンズの明確な直径Ｄclは、通常、直径の中央の８５％である。従って、Ｄclは２１．６ｍｍとなる。位相マスクからのレンズの最大距離はｄmaxである。
【００２９】
【数４】
0004512266.tif 000005
【００３０】
【数５】
0004512266.tif 000006
【００３１】
等式（３）によれば、最大焦点距離２５．４ｍｍ（１インチ）のレンズは、ｆmax＝２２．８ｍｍとなる。
【００３２】
干渉ビームの期間の同調、従って、ブラッグ波長の同調は、距離ｄ1を変化させることにより実現可能である。作像等式（３）によれば、一定のｆｄ及び可変のｄ1との関係は次式のようになる。
【００３３】
【数６】
0004512266.tif 000007
【００３４】
薄いレンズの近似法の場合ように、ビームがレンズに入るときの距離と同一の、レンズの中心軸線からの距離にてレンズから出ると想定するならば、θpmとθimとの関係は次式のようになる。図１参照。
【００３５】
【数７】
0004512266.tif 000008
【００３６】
次に、作像面における干渉ビーム管の角度の値が関数ｄ1として求められ、また、１：１の作像の場合からの脱同調の関数としてブラッグ波長の値を得ることができる。この値は次式のようになる。
【００３７】
【数８】
0004512266.tif 000009
【００３８】
ここで、ｎaveは格子における平均屈折率である。
【００３９】
図２には、ｎave＝１．４６の異なる焦点距離の値に対する等式（８）のグラフが図示されている。図２から、より短い焦点距離のレンズを採用すると、単位長さ当たりの波長のシフトがより大きくなり、従って、ｄ1を同調するときより高精度が得必要とされることがわかる。
【００４０】
より短い波長への最大の脱同調は、ｄ1＝ｄmaxとし、作像面内で干渉ビーム間の角度が最大となるようにして得られる。原理上、位相マスクにより画成された波長以上の任意のブラッグ波長は、ｄ1をｆに向けて同調することにより実現可能である。
【００４１】
位相マスクのピッチを同調するこの方法の１つの有利な点は、干渉ビームの幅は位相マスクの正面にて直径約３０μｍのビーム以上に制限されないことである。この直径は、位相マスクからくる順位の分割角度から得られる干渉紫外線によりファイバ光を露出するために必要とされる。（１）参照。
【００４２】
この方法は、ファイバの側部ではなくて、ファイバコアに干渉ビームを収束することを可能にし、従って、対象領域内でより大きい作用力がある。別の点は、書き込む間、レンズを走査することにより極めて幅の広いチャープ型格子を製造することが可能な点である。更に、この技術は、格子の下部部分の長さを２０μｍとすることを必要とすることがしばしばである上部構造体格子の書込みを最適にする。
【００４３】
理想的には、位相マスクに対するレンズの位置を制御する変換段９０は、〜１μｍの精度を必要とし、この方法の可能性を完全に活用するためには数１００ミクロンの最大移動距離を有する必要がある。しかしながら、より精度の低い段及び／又は移動距離のより短い段を使用することも勿論可能である。
【００４４】
拡がるビームに起因するひずみを防止するため、位相マスクの上でコリメートしたビームであることが好ましい。この後者の点は、位相マスクの前に所定の位置にてコリメートレンズ２０又はコリメートテレスコープを提供することにより実現することができる。
【００４５】
上述した事項の幾つかは以下の表Ｉにまとめてある。
【００４６】
0004512266.tif 000010
表Ｉの数字は次の値に基づくものである。
λpm＝１０６０ｎｍ
λi＝２４４ｎｍ
ｎave＝１．４６
レンズ直径；２５．４ｍｍ
図３ａ、図３ｂ、図４ａ及び図４ｂには、図１による原型装置で得られた実験結果が示してある。
【００４７】
図３ａ及び図３ｂには、焦点距離ｆ＝１７．７ｍｍ、λpm＝１０５７．１ｎｍのレンズで得られた２つの同調曲線が示してある。図３ａには位相マスクを動かし且つ一定の位置に保つことで得られた勾配０．９４ｎｍ／１０μｍのときの１５３５．５ｎｍ乃至１５５０ｎｍの同調範囲が示してある。図３ｂには、レンズを動かして得られ且つ位相マスクの一定の位置に対する勾配０．９２ｎｍ／１０μｍのときの１５２２ｎｍ乃至１５４９ｎｍの範囲の同調範囲が示してある。
【００４８】
図４ａ及び図４ｂには、図１の干渉計で書き込んだ線形チャープ型ファイバ格子の実験的反射及び時間的遅れ特性が示してある。この格子は、長さ８５ｃｍで、帯域幅３ｎｍであり、周波数ドープしたＡｒイオンレーザからのＣＷ紫外線光１００ｍＷを使用して書き込まれる。格子は、Ｄ2装填の高ＮＡ（０．２）ファイバ内に書き込んである。
【００４９】
位相マスクからの回折順位の光を捉え且つ再度組み合わせるために両凸型レンズを使用することの有利な点は、なんら収差を生じさせないから、１：１作像の場合の「最良の形態」として公知な点である。更に、この実施の形態は簡単であり、また、干渉計内に１つのレンズ要素しか採用しないため堅牢である。更に、位相マスクからの０順位の透過した光を遮断することにより、干渉−第１及び第１順位間の干渉パターン内で一層優れた可視性が得られる。
【００５０】
図１の干渉計の性能を更に改良するため、特定の注意事項を考慮することができる。これらの１つは、作像面における干渉点が平面波から成るとき、最良の結果が得られると考えることである。このことは、干渉レンズ自体の焦点距離の正確に２倍の焦点距離を有するレンズにてコリメートした書込みビームを位相マスク上に収束させることで得られる。
【００５１】
図１の装置は、コンパクトさ（原型装置の長さは丁度、〜７ｃｍ）の点にてかかる装置の実用性を示すため直径２５．４ｍｍ（１インチ）のレンズを有する干渉計にて書き込んだ８５ｃｍ長さのチャープ型ファイバを製造するために使用されているが、当業者は、勿論、より大きいレンズからのブラッグ波長の同調に関する許容公差が小さいことが１つの有利な点であると考えられる、特定の目的のためには、より大きいレンズを有する干渉計がより実用的であることが理解されよう。
【００５２】
上述したように、この装置は、英国特許第９６１７６８８．８号に記載されたような装置、すなわち、屈折率が変化する複数の格子線を有する光導波管格子を製造することを含む技術を使用することが可能である。この技術は、
（ｉ）感光性の光導波管上に空間的に周期的な書込み光パターンを繰り返して露出させるステップと、
（ｉｉ）書込み光パターンを連続的に露出する間に、書込み光パターン及び／又は導波管を動かし、格子線の少なくとも大部分の各々が、書込み光パターンの異なるそれぞれの領域に対して少なくとも２回の露出により発生されるようにするステップとを備えている。
【００５３】
かかる技術において、上述した装置及び方法は、異なる格子ピッチの書込み光ビームを提供すべく容易に使用することができる。書込みビームと導波管との間の動きは、１つ以上の並進段により、又は多分、レンズ６０を形動させることにより実現することができる。
【００５４】
参考出版物
［メルツ（Ｍｅｌｔｚ）］
メルツ・Ｇ、モーレイ（ＭＯＲＥＹ）、Ｗ．Ｗ．及びグレン（ＧＬＥＮＮ）、Ｗ．Ｈ．の「横ホログラフ方法により光ファイバにブラッグ格子を形成する方法（Ｆｒｏｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｂｒａｇｇ  ｇｒａｔｉｎｇｓ  ｉｎ  ｏｐｅｉｃａｌ  ｆｉｂｅｒｓ  ｂｙ  ａ  ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  ｍｅｔｈｏｄ）」、オプティックス・レターズ（Ｏｐｔｉｃｓ  Ｌｅｔｔ．）、１４、（１５）、８２３−８２５頁、１９８９年
［アンダーソン（Ａｎｄｅｒｓｏｎ）］
アンダーソン、Ｄ．Ｚ．ミズラヒ（ＭＩＺＲＡＨＩ）Ｖ．、エルドゲイン（ＥＲＤＯＧＡＮ）、Ｔ．及びホワイト（ＷＨＩＴＥ）、Ａ．Ｅ．の「回折光学要素を使用するファイバ内格子の製造（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｉｎ−ｆｉｂｒｅ  ｇｒａｔｉｎｇｓ  ｕｓｉｎｇ  ａ  ｄｉｆｆｒａｃｔｉｖｅ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｅｌｅｍｅｎｔ）」、エレクトロン・レターズ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．）、２９、（６）、５６６−５６８頁、１９９３年
［ヒル（Ｈｉｌｌ）］
ヒル、Ｋ．Ｏ．、マロ（ＭＡＬＯ）、Ｂ．、ビロデュア（ＢＩＬＯＤＥＡＵ）Ｆ．、ジョンソン（ＪＯＨＮＳＯＮ）、Ｄ．Ｃ．、及びアルバート（ＡＬＢＥＲＴ）、Ｊ．の「位相マスクを通じて紫外線で露出することにより単モード感光性光ファイバ内に製造されたブラッグ格子（Ｂｒａｇｇ  ｇｒａｔｉｎｇｓ  ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ  ｉｎ  ｍｏｎｏｍｏｄｅ  ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｆｉｂｅｒ  ｂｙ  ＵＶ  ｅｘｐｏｓｕｒｅ  ｔｈｒｏｕｇｈ  ａ  ｐｈａｓｅ  ｍａｓｋ）」、アプライド・フィジィクス・レターズ（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．）、６２、（１０）、１０３５−１０３７頁、１９９３年
［マロ］
マロ、Ｂ．、ヒル、Ｋ．Ｏ．、ビロデュア、Ｆ．、ジョンソン、Ｄ．Ｃ．、及びアルバート、Ｊ．の「単一エキシマパルス屈折率修正技術を使用する感光性ファイバ内におけるマイクロブラッグ格子の点毎の製造（Ｐｏｉｎｔ−ｂｙ−ｐｏｉｎｔ  ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｍｉｃｒｏ−Ｂｒａｇｇ  ｇｒａｔｉｎｇｓ  ｉｎ  ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｆｉｂｒｅ  ｕｓｉｎｇ  ｓｉｎｇｌｅ  ｅｘｃｉｍｅｒ  ｐｕｌｓｅ  ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  ｉｎｄｅｘ  ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ）」、エレクトロン・レターズ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．）、２９、（１８）、１６６８−１６６９頁、１９９３年
［ブロエア（Ｂｒｏｅｒ）］
ブロエア、Ｍ．Ｍ．、コーン（ＣＯＮＥ）、Ｒ．Ｌ．及びシンプソン（ＳＩＭＰＳＯＮ）、Ｊ．Ｒ．の「Ｃｅ3+ドープした二酸化ケイ素光ファイバ内に紫外線起因の分配フィードバック格子（Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ−ｉｎｄｕｃｅｄ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ−ｆｅｅｄｂａｃｋ  ｇｒａｔｉｎｇｓ  ｉｎ  Ｃｅ3+−ｄｏｐｅｄ  ｓｉｌｉｃａ  ｏｐｔｉｃａｌｆｉｂｅｒｓ）」、オプティックス・レターズ、１６、（１８）、１３９１−１３９３頁、１９９１年
［アルミテージ（Ａｒｍｉｔａｇｅ）］
アルミテージ、Ｊ．Ｒ．の「周波数四重ダイオードポンプしたＮｄ3+を使用して２６２ｎｍにて書き込んだファイバブラッグ反射器：ＹＬＦ、レーザ（Ｆｉｂｒｅ  Ｂｒａｇｇ  ｒｅｆｌｅｃｔｏｒｓ  ｗｒｉｔｔｅｎ  ａｔ  ２６２  ｎｍ  ｕｓｉｎｇ  ａ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  ｄｉｏｄｅ−ｐｕｍｐｅｄ  Ｎｄ3+  ＹＬＦ  ｌａｓｅｒ）」エレクトロン・レターズ、２９、（１３）、１１８１−１１８３頁、１９９３年
［プロハスカ（Ｐｒｏｆａｓｋａ）］
プロハスカ、Ｊ．Ｄ．、スニッツアー（ＳＮＩＴＺＥＲ）、Ｅ．、リシテン（ＲＩＳＨＴＯＮ）、Ｓ．及びボーグリ（ＢＯＥＧＬＩ）、Ｖの「マスク製造したファイバブラッグ格子の拡大（Ｍａｇｎｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｍａｓｋ  ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ  ｆｉｂｒｅ  Ｂｒａｇｇ  ｇｒａｔｉｎｇｓ）」、エレクトロン・レターズ、２９、（１８）、１６１４−１６１５頁、１９９３年
［コール（Ｃｏｌｅ）］
コール、Ｍ．Ｊ．、ロー（ＬＯＨ）、Ｗ．Ｈ．、ラミング（ＬＡＭＩＮＧ）、Ｒ．Ｉ．、ゼルバス（ＺＥＲＶＡＳ）、Ｍ．Ｎ．及びバルセロス（ＢＡＲＣＥＬＯＳ）、Ｓ．の「均一な位相マスクを有するファイバ格子の製造時の自由度を高める移動ファイバ／位相マスク走査ビームの技術（Ｍｏｖｉｎｇ  ｆｉｂｒｅ／ｐｈａｓｅ  ｍａｓｋ  ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｂｅａｍ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ  ｆｏｒ  ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｔｙ  ｉｎ  ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ  ｆｉｂｒｅ  ｇｒａｔｉｎｇｓ  ｗｉｔｈ  ａ  ｕｎｉｆｏｒｍ  ｐｈａｓｅ  ｍａｓｋ）」、エレクトロン・レターズ、３１、（１２）、１４８８−１４８９頁、１９９５年
［ケレッテ（Ｏｕｅｌｌｅｔｔｅ）］
ケレッテ、Ｆ．、クルッグ（ＫＲＵＧ）、Ｐ．Ａ．及びパッシュマン（ＰＡＳＭＡＮ）、Ｒ．の「ファイバブラッグ格子を書き込むための長い位相マスクの特徴付け（Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｌｏｎｇ  ｐｈａｓｅ  ｍａｓｋｓ  ｆｏｒ  ｗｒｉｔｉｎｇ  ｆｉｂｅｒ  Ｂｒａｇｇ  ｇｒａｔｉｎｇｓ）」、オプティカル・ファイバ・テクノール（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｆｅｂｅｒ  Ｔｅｃｈｎｏｌ．）、２、（３）、２８１−２８４頁、１９９６年
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の１つの実施の形態による格子の製造装置の概略図である。
【図２】  レンズの相対的な動きに対する理論的な同調曲線を示すグラフである。
【図３】  ３ａは、レンズの固定位置及び位相マスクの移動位置と共に、ｆ＝１７．７ｍｍのレンズに対する実験上の同調曲線を示す図である。
３ｂは、レンズの固定位置及び位相マスクの固定位置及びレンズの移動位置と共に、ｆ＝１７．７ｍｍのレンズに対する実験上の同調曲線を示す図である。
【図４】  ４ａは、図１の干渉計を使用して書き込んだ８５ｃｍの長さの線形のチャープ型ファイバ格子の実験上の反射特性を示す図である。
４ｂは、図４ａの線形のチャープ型ファイバの時間的遅れ特性を示す図である。
【図１】
0004512266.tif 000011
【図２】
0004512266.tif 000012
【図３】
0004512266.tif 000013
0004512266.tif 000014
【図４】
0004512266.tif 000015
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