(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレクトロルミネッセンス層を備えたディスプレイ装置を形成するための基板装置であって、
その一方の側に導電表面を備えており、酸素及び水に対して不浸透性である、柔軟性を有するベース層と、
電気的絶縁緩衝層によって形成された複数の井戸部であって、それぞれ、前記導電表面に電気的に接続された電極層を備える、複数の井戸部と、
前記井戸部を被っており、酸素及び水に対して不浸透性である、除去可能な保護層と、
を含んで成り、前記電極層が、３．５ｅＶより低い仕事関数を有する金属を含む、基板装置。
【請求項２】
エレクトロルミネッセンス層を備えたディスプレイ装置を形成するための基板装置であって、
その一方の側に導電表面を備えており、酸素及び水に対して不浸透性である、柔軟性を有するベース層と、
電気的絶縁緩衝層によって形成された複数の井戸部であって、それぞれ、前記導電表面に電気的に接続された電極層を備える、複数の井戸部と、
前記井戸部を被っており、酸素及び水に対して不浸透性である、除去可能な保護層と、
を含んで成る、基板装置。
【請求項３】
前記金属が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又は希土類金属である、請求項１に記載の基板装置。
【請求項４】
前記金属が、Ｃａ、Ｌｉ、Ａｌ、Ｍｇ、又はＣａ、Ｌｉ、Ａｌ若しくはＭｇの合金から構成されるグループから選択される、請求項３に記載の基板装置。
【請求項５】
前記電極層が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物又はフッ化物の層を備えた、Ａｇ又はＡｌの金属層を含む、請求項２に記載の基板装置。
【請求項６】
前記アルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物又はフッ化物が、ＣａＯ、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＣｓＦ、又は、ＣａＦ2を含む、請求項５に記載の基板装置。
【請求項７】
前記電極層が、ＩＴＯを含む、請求項２に記載の基板装置。
【請求項８】
更に、前記電極層に接触している正孔輸送層を含み、該正孔輸送層が、前記電極層から前記エレクトロルミネッセンス層に正孔を注入する効率を改善する材料を含む、請求項７に記載の基板装置。
【請求項９】
前記井戸部のそれぞれが、更に、前記電極層と接触した電子輸送層を含み、該電子輸送層が、前記電極層から前記エレクトロルミネッセンス層に電子を注入する効率を改善する材料を含む、請求項２に記載の基板装置。
【請求項１０】
エレクトロルミネッセンス・ディスプレイを製造するための方法であって、
その一方の側に導電表面を備えた柔軟なベース層を含む基板を設ける工程であって、前記ベース層が、酸素及び水に対して不浸透性である、前記基板が、緩衝層によって形成された複数の井戸部をさらに含み、前記井戸部のそれぞれが、前記導電表面に電気的に接続された電極層を有する、工程と、
前記基板に対して第１の分配装置を移動させて、前記ディスプレイによって発生する照明パターンを定義する信号に応答して、前記基板上の異なる位置に異なる量の第１のエレクトロルミネッセンス材料が堆積させられるように、前記基板上に前記第１のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させる工程と、
前記第１のエレクトロルミネッセンス材料上に導電材料を堆積させる工程と、
を包含する、製造方法。
【請求項１１】
更に、前記基板上に第２のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させる工程を包含し、前記第２のエレクトロルミネッセンス材料が、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料とは異なる波長の光を放出する、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記導電材料が、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料への正孔の注入を促進する正孔輸送材料を含む、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記導電材料が、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料への電子の注入を促進する電子輸送材料を含む、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１４】
更に、前記導電材料の堆積前に、前記ディスプレイにおける前記基板の発光すべきではない位置に、ルミネッセンス特性を有しない材料を堆積させる工程を包含する、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１５】
ルミネッセンス特性を有しない前記材料が、電気的絶縁体である、請求項１４に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ装置に関するものであり、とりわけ、高分子をベースにしたエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置を利用したディスプレイに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
高分子をベースとしたエレクトロルミネッセンス装置（ＰＬＥＤ）は、半導体をベースとしたＬＥＤに比較して安価な代替の装置を提供する可能性を有している。ＰＬＥＤは、適正な表面に有機高分子のコーティングを施すことによって製造可能であり、半導体デバイスの製造方法において利用されるような高コストの製造システムを利用する必要がない。単純なＰＬＥＤは、電子注入電極と正孔注入電極の間に挟まれたエレクトロルミネッセンス層から構成することが可能である。より複雑な装置では、上述の電極間における電子及び正孔輸送層と、エレクトロルミネッセンス層が利用される。
【０００３】
原則として、ＰＬＥＤは、店頭広告等に用いられる型の単一固定イメージを表示する低コスト・ディスプレイの生産に利用することが可能である。こうしたディスプレイは、自照式であり、従って、ライト・ボックスに取り付けられた透明画に取って代わるものである。従来のディスプレイが用いられる場合、ディスプレイ外部のメモリにイメージを記憶し、ディスプレイは、記憶されたイメージを連続走査して、ディスプレイに表示するモードで動作しなければならない。ディスプレイのピクセルは、個別にアドレス指定可能でなければならないので、ディスプレイのコストは更に増大する。
【０００４】
ＰＬＥＤに固有の低製造コストにもかかわらず、こうしたデバイスをベースにしたマルチカラー・ディスプレイは、やはり、製造コストがかなり高くつく。マルチカラー・ディスプレイを製造するには、複数のエレクトロルミネッセンス化合物のそれぞれのパターン化堆積を実施しなければならない。先行技術による製造システムでは、特定のエレクトロルミネッセンス化合物を受けるべきではない領域を保護するため、一連のマスキング工程が必要とされる。次に、蒸着、浸漬、又は、スピン・キャスティングを利用して、エレクトロルミネッセンス化合物が堆積させられる。次に、マスクが除去され、従来のフォトレジスト技法を用いて、次のマスクが製造される。各マスキング工程によって、製造コストが増大し、デバイスの歩留まりが低下する。更に、その装置を操作するのに必要な装置及び専門技術は、半導体製造施設において見受けられるタイプである。プリンタ等によって操作可能なシステムを提供することが有利である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ＰＬＥＤをベースにした改良形ディスプレイ用のＥＬ基板、デイスプレイの製造方法及び使用される製造装置を提供することにある。
【０００６】
本発明のもう１つの目的は、先行技術のディスプレイよりも安価に製造可能なディスプレイを提供することにある。
【０００７】
本発明の更にもう１つの目的は、半導体製造技法における専門技術を必要としない、ＰＬＥＤディスプレイの改良式製造方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の以上の及びその他の目的については、当該技術者には、下記の本発明に関する詳細な説明及び添付の図面から明らかになるであろう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、エレクトロルミネッセンス・ディスプレイ、及び、それに用いられる基板及び装置の製造方法である。このディスプレイは、その一方の側に導電表面を備える柔軟性を有するベース層を含むあらかじめ製造された基板上に製造されるのが望ましい。ベース層は、酸素及び水に対して不浸透性である。基板には、それぞれ、導電表面に電気的に接続されている、緩衝層によって形成された複数の井戸部が含まれている。井戸部を被う除去可能な保護層は、ディスプレイの製造に利用される前に、導電層を酸素及び水による腐食から保護する。電極層には、仕事関数が３．５ｅＶ未満の金属の群から選択された材料が含まれる。この金属は、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又は、希土類金属とすることが可能である。場合によっては、低仕事関数の金属の代わりに、ＣａＯ、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＣｓＦ、又は、ＣａＦ2のような、適合するアルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物又はフッ化物の薄層によるコーティングが施された、Ａｇ又はＡｌの金属層を利用することが可能である。実施形態の１つでは、各井戸部には、電極層と接触する電子輸送層も含まれている。電子輸送層には、電極層からディスプレイのエレクトロルミネッセンス層への電子の注入効率を改善する材料が含まれている。ディスプレイは、第１の分配装置を基板に対して移動させ、ディスプレイによって発生する照明パターンを定義する信号に応答して、異なる量の第１のエレクトロルミネッセンス材料が基板上の異なる位置に堆積するように、基板上に第１のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させることによって製造される。第１のエレクトロルミネッセンス材料の上に、導電材料が堆積させられる。カラー・ディスプレイの場合、第１のエレクトロルミネッセンス材料とは異なる波長の光を放出する、第２のエレクトロルミネッセンス材料も堆積させられる。本発明の望ましい実施形態の場合、導電材料には、第１のエレクトロルミネッセンス材料への正孔の注入を促進する正孔輸送層も含まれている。導電材料を堆積させる前に、ディスプレイ上における発光すべきではない位置の井戸部内に、電気的絶縁体が望ましいエレクトロルミネッセンスの特性を有しない材料を堆積させることが可能である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明がその利点を獲得する方法については、本発明によるディスプレイ１００の製造を例示した図１を参照することによって、より容易に理解することが可能になる。図１は、製造プロセスの途中のディスプレイ１００の一部に関する断面図である。ディスプレイ１００は、複数のピクセル１１０から構成される。各ピクセルは、ピクセルを構成する各種材料を含む境界壁１０３によって形成された発光素子である。個々のピクセルは、導電層１０２を備える柔軟性を有する基板１０１上に製造される。層１０２によって、各ピクセル毎に底部電極に対する電気的接続が実現される。基板／電極層の組み合わせは、電極層上に堆積させられる陰極層１０４を保護するため、水及び酸素に対して不浸透性でなければならない。
【００１１】
本発明の好適実施形態の場合、各ピクセルに関連した陰極層１０４は、境界壁１０３によって形成された井戸部の底部に堆積させられる。陰極層１０４は、仕事関数が３．５ｅＶ未満の金属から製造されるのが望ましい。この金属は、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又は、希土類金属とすることが可能である。場合によっては、低仕事関数の金属の代わりに、ＣａＯ、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＣｓＦ、又は、ＣａＦ2のような、適合するアルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物又はフッ化物の薄層によるコーティングが施された、Ａｇ又はＡｌの金属層を利用することも可能である。これらの陰極材料は、反応性が強い。従って、基板／電極層は、上述のように、酸素及び水に対して不浸透性でなければならない。
【００１２】
次に、陰極層上に、電子輸送層１０５が堆積させられる。電子輸送層１０５は、エレクトロルミネッセンス層材料のエネルギーバンドと陰極材料のエネルギーバンドの間のエネルギーバンドを有する材料を設けることによって、陰極からエレクトロルミネッセンス層１０８への電子の注入効率を改善する。更に、電子輸送層１０５は、陰極／電子輸送層が後続の堆積に備えて露出される時間期間中、湿気及び酸化から陰極材料を保護するのを助ける。
【００１３】
次に、本発明によるディスプレイを製造するのに好適である、開始材料１２５の断面図を示す図２を参照する。本発明の好適実施形態の場合、基板及び電極層は、境界壁によって形成される井戸部と共に開始材料として与えられ、陰極層１０４及び電子輸送層１０５は、あらかじめ井戸部内に堆積させられている。酸素／水に対しての不浸透性を有する保護シート１２１が、井戸部の上部を被っている。このシートは、エレクトロルミネッセンス層１０８及び正孔輸送層１０７を分配して形成する装置内に開始シートを配置する前に、除去される。
【００１４】
一般に、マルチカラー・ディスプレイが得られるようにするためには、それぞれに異なるピクセルに対して複数のエレクトロルミネッセンス材料を利用しなければならない。それぞれに異なる成分の比率によって、ピクセルから放射されるカラーが決まる。堆積させられる材料の全量によって、発生する光の強度が決まる。本発明は、正確な位置に少量の溶媒を正確に分配することが可能な分配システムに適合する、溶剤に溶けるエレクトロルミネッセンス材料が存在するという観測に基づく所見を利用している。例えば、ドーパントと共に、適合する溶剤に溶けたポリフロウレンから三原色を生成して、カラーを得ることが可能である。これらの化合物は、キシレンに溶かすことが可能である。カラーは、ドーピングに用いられる色素によって決まる。適当なエレクトロルミネッセンス材料の例は、当該技術者にとって既知のところである。適当な材料のより詳細なリストについては、参考までに本明細書に援用されている、Ｊ．Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ５５，ｐｐ３６１０，１９８９のＴａｎｇ他による「Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  ｏｆ  ｄｏｐｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍｓ」を参照されたい。例えば、それに開示されているクマリン及びＤＣＭ化合物は、それぞれ、スペクトルの青・緑及びオレンジ・赤部分の発光を生じる。
【００１５】
下記の説明を単純化するため、インクジェット・プリンタに用いられる機構に類似した分配システムに基づく製造方法について述べることにする。しかし、以下の説明から当該技術者には明らかなように、本発明の教示を逸脱することなく、他の型の分配装置を利用することも可能である。インクジェット・プリンタは、ノズルから小滴を噴射することによって、小滴を分配する。あるシステムでは、液体の一部を蒸発させ、蒸発した液体を利用して小滴を受け表面に向けて噴射するようにして、小滴の噴射が行われる。安価なプリンタ機構では、一般に、１４００小滴／インチの解像度が得られる。
【００１６】
もう一度図１を参照すると、各ピクセル位置は、１滴以上のエレクトロルミネッセンス材料を受けることになる井戸部から構成されている。小滴１３８は、レール１３７上に製造されるディスプレイに対して移動する分配装置１３６によって井戸部内に分配される。上述のように、分配装置１３６には、分配される各エレクトロルミネッセンス材料毎に１つずつ設けられる複数のリザーバ１３９が含まれている。更に、分配装置１３９には、後述する正孔輸送層並びに最終電極の形成に用いられる材料を分配するためのリザーバを含むことも可能である。エレクトロルミネッセンス材料は、キャリア液に溶解したエレクトロルミネッセンス色素が望ましい。図１に示す実施形態の場合、３色のリザーバが利用される。リザーバが井戸部の上を通過する際、コントローラ１３５は、コントローラ１３５に記憶されている所定のパターンに従って井戸部内に小滴を分配させる。本質的に、コントローラ１３５は、マスキングを施された底部電極にピクセル・パターンを印刷する。マスク１０３は、小滴が互いに流れ込むのを阻止する。
【００１７】
小滴が乾燥すると、各井戸部に適合する正孔輸送材料を分配することによって、正孔輸送層（ＨＴＬ）１０７が生じる。次に、正孔輸送層の上に上部電極１０９を堆積させることによって、デバイスに対する電力供給に必要な電気的接続部が形成される。正孔輸送層１０７は、エレクトロルミネッセンス層（ＥＬ）のエネルギーバンドを上部電極材料に対してより最適に整合させる、異なる伝導帯を備える複数の層から構成することが可能である。本発明の好適実施形態の場合、上部電極は透明である。例えば、上部電極は、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）から構成することが可能である。上部電極の上に第２の柔軟性を有する基板層を設けることによって、水／酸素からディスプレイを更に確実に保護することが可能になる。
【００１８】
上述のように、ＨＴＬ層は、１つ以上の高分子層又は他の有機分子から構成することが可能である。例えば、ＨＴＬ層は、その小分子又は高分子の形態のいずれともなり得る第三アミン又はカルバゾール誘導体、導電性ポリアニリン（Ｐａｎｉ）、ポリスチレンスルホン酸ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）、チオフェン、金属ベース又は金属を含まないフタロシアニン、及び、当該技術者にとって周知の他の多くの適合材料といった、正孔の任意の適合する有機導体を含むことが可能である。
【００１９】
ＥＬ層は、米国特許第５，７７６，６２３号、米国特許第５，７７７，０７０号、及び、米国特許第５，８６９，３５０号に記載のポリフルオレン及びＰＰＶ誘導体又は他の同様の高分子をベースにした高分子混合物から構成することが可能である。これらの高分子は、キシレンに溶けるが、水、アセトン、又は、イソプロピル・アルコールには溶解しない。従って、ＥＬ層は、水を導入せずに、陰極金属上に堆積させることが可能である。
【００２０】
もう１つの事例では、エレクトロルミネッセンス層に、参考までの本明細書において援用されている、米国特許第５，６０８，２８７号、及び、米国特許第５，７０８，１３０号に記載のＡｌｑ3のような小分子材料及び他の同様の材料を含むことが可能である。
【００２１】
一般に、最終的なディスプレイは、さまざまな発光ピクセル以外に、「暗」領域も備えることになる。正孔輸送層又は電子輸送層も発光する場合、暗領域に対応するピクセルに、電気絶縁材料を堆積させることが可能である。この絶縁材料の堆積は、他の井戸部に対するエレクトロルミネッセンス材料の堆積に利用されるのと同じパスにおいて実施可能である。すなわち、絶縁材料を供給するために、第４の分配材料を設けることが可能である。暗領域が正孔輸送層及び電子輸送層において発光するのを阻止する以外に、絶縁材料は、最終的なディスプレイの電力消費を減少させる。
【００２２】
上述のように、柔軟性を有する基板１０１は、酸素と水の両方の流れを阻止するのが望ましい。基板は、一般にポリエステルと呼ばれるポリ（エチレン・テレフタレート）又はＰＥＴ、ポリ（エチレン・ナフタレート）、又は、透明なポリイミドから構成することが可能である。ＰＥＴは、Ｗｅｂ処理のためのコマンド基板として利用される。あいにく、ＰＥＴは、透水性が極めて高いので、ＰＥＴ上に製造されるデバイスは、空気からの水と陰極材料の反応によってほとんどすぐに劣化し始める。従って、水及び酸素に対する必要な耐性を得るためには、この高分子に対して、何らかの形態のシーラントのコーティングを施さなければならない。
【００２３】
こうしたコーティング技法の１つが、参考までに本明細書に援用されている、米国特許第４，８４２，８９３号、米国特許第４，９５４，３７１号、及び、米国特許第５，２６０，０９５号に記載の高分子多層（ＰＭＬ）技法である。この技法では、柔軟性を有する基板を密封するため、高分子の層と酸化アルミニウムの層から構成されるコーティングが、柔軟性を有する基板に施される。両堆積ステップとも、Ｗｅｂ処理装置においてかなりの高速度で実施可能である。結果生じる基板は、水及び酸素の浸透に対する耐性が、コーティングを施していないＰＥＴ薄膜に対して３〜４桁改善される。
【００２４】
上述の実施形態では、インクジェット・プリンタ機構を利用して、エレクトロルミネッセンス色素を分配したが、以上の説明から当該技術者には明らかなように、本発明の教示を逸脱することなく、他の分配装置を利用することも可能である。例えば、振動ノズルをベースにした分配装置が、当該技術において既知のところである。これらのデバイスにおいて、振動ノズルから放出された液体は分散して小滴になり、静電界によって偏向される。同様に、マイクロピペットをベースにした分配装置が当該技術において既知のところである。ペン・プロッタに用いられているような他のインク分配装置を利用することも可能である。
【００２５】
同様に、２次元アレイをなす井戸部に保存されているパターンを複製するためのアレイをなすマイクロピペットを含む分配装置が、生化学及び微生物学で利用される液体取扱い技術において既知のところである。この場合、ピクセル・パターンが、マスタ・アレイをなす井戸部に保存されており、アレイをなすマイクロピペットを利用して、各デバイス毎に複製される。この技術は、大形ピクセルを備えるディスプレイの最も適している。
【００２６】
本発明の上述の実施形態は、井戸部を利用して、エレクトロルミネッセンス材料の小滴を閉じ込めた。しかし、当該技術者にはこの説明から明らかなように、他の閉じ込め形態を利用することも可能である。例えば、小滴が付着する表面を、複数の親水性又は疎水性領域をなすように構成することによって、小滴を表面張力によって拘束することが可能である。
【００２７】
本発明の上述の実施形態では、ドットの形をとる「ピクセル」が利用されていた。しかし、他の構成を利用することも可能である。例えば、ライン又はより複雑な構造の表示素子を利用することも可能である。こうした複雑な素子は、サブイメージ又はイメージの構成要素として利用することが可能である。
【００２８】
本発明の上述の実施形態では、開始材料に、陰極材料が供給される設計が利用されており、これによって、製造プロセスの一部としてこの材料を分配する必要がなくなる。これらの実施形態は、陰極材料の反応性が極めて高く、従って、真空下又は不活性雰囲気内で堆積させなければならないので、望ましい。印刷プロセッサが真空スパッタリング装置を備えている場合、最初に陽極材料を堆積させる本発明の実施形態を実施することが可能である。図３には、本発明のこの実施形態に従って完成したディスプレイ２００の断面図が示されている。こうした実施形態の場合、ＩＴＯのような透明な導電性酸化物２０２の層が、柔軟性を有する基板２０１上に堆積させられる。この陽極層は、上述のように、又は、図３に示す境界壁の下の導電層の代わりに、境界層２０３によって形成された井戸部の底部に堆積させることが可能である。次に、この層の上に正孔輸送材料２０４が堆積させられる。井戸部と陽極が設けられた柔軟性を有する基板を備える、あらかじめ製造されたシートを、上述のやり方と類似のやり方で、開始材料として供給することが可能である。次に、各井戸部にエレクトロルミネッセンス材料２０８を分配して形成させることによって、上述のように印刷プロセスが続行される。堆積した材料が乾燥すると、各井戸部上に、電子輸送材料２０７が付着させられる。次に、シートが真空蒸着装置に送られ、電子輸送材料層の上に陰極材料２０９が付着させられる。次に、陰極材料を保護するため、陰極材料の上に保護コーティング２１１が施される。図１及び２に関連して論述した実施形態に関して解説の各種材料は、本発明のこの実施形態を実施するために利用することが可能である。
【００２９】
上述の実施形態では、正孔輸送層及び／又は電子輸送層が利用されていた。しかし、当該技術者には以上の論述から明らかなように、エレクトロルミネッセンス層のエネルギーバンドが、関連電極からエレクトロルミネッセンス層への正孔及び／又は電子の注入効率が許容可能になるように決定される場合には、これらの層を省略した実施形態を実施することも可能である。
【００３０】
当該技術者には、以上の説明及び添付の図面から、本発明に対するさまざまな変更が明らかになるであろう。従って、本発明は、特許請求の範囲による制限しか受けないものである。
【００３１】
上述の好適実施形態に沿って本発明を説明すると、本発明は、エレクトロルミネッセンス層［１０８、２０８］を備えたディスプレイ装置［１００］を形成するための基板装置［１２５］であって、その一方の側に導電表面［１０２、２０２］を備え、酸素及び水に対して不浸透性の柔軟性を有するベース層［１０１、２０１］と、電気的絶縁緩衝層［１０３、２０３］によって形成され、それぞれ、前記導電表面［１０２、２０２］に電気的に接続された電極層［１０４、２０４］を備える複数の井戸部と、前記井戸部を被う、酸素及び水に対して不浸透性の除去可能な保護層［１２１］が含まれていることを特徴とする。
【００３２】
好ましくは、前記電極層［１０４］は、仕事関数が３．５ｅＶより低い金属を含む。
【００３３】
好ましくは、前記金属は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又は希土類金属である。
【００３４】
好ましくは、前記金属は、Ｃａ、Ｌｉ、Ａｌ、又は、Ｍｇから構成されるグループから選択される。
【００３５】
好ましくは、前記電極層［１０４］は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物又はフッ化物の層を備えた、Ａｇ又はＡｌの金属層を含む。
【００３６】
好ましくは、前記アルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物又はフッ化物は、ＣａＯ、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＣｓＦ、又は、ＣａＦ2を含む。
【００３７】
好ましくは、前記電極層は、ＩＴＯを含む。
【００３８】
好ましくは、更に、前記電極層［２０２］に接触し、前記電極層［１０２］から前記エレクトロルミネッセンス層［２０８］に正孔を注入する効率を改善する材料を含む、正孔輸送層［２０４］が含まれる。
【００３９】
好ましくは、前記井戸部のそれぞれに、更に、前記電極層と接触した電子輸送層［２０７］が含まれることと、前記電子輸送層［２０７］に、電極層［２０９］から前記エレクトロルミネッセンス［２０８］に電子を注入する効率を改善する材料が含まれる。
【００４０】
更に本発明は、基板上にエレクトロルミネッセンス・ディスプレイ［１００］を製造するための装置であって、前記基板上に第１のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させるための第１の分配装置［１３６、１３９］と、前記第１の分配装置［１３６、１３９］に対して前記基板を移動させるためのキャリッジ［１３７］と、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料上に導電材料を堆積させるための第２の分配装置［１３６、１３９］と、前記第１の分配装置［１３６、１３９］が、前記ディスプレイ［１００］によって発生する照明パターンを定義する信号に応答して、前記基板上の異なる位置に異なる量の前記第１のエレクトロルミネッセンス材料を堆積させるようにしむけるコントローラ［１３５］とを有する。
【００４１】
好ましくは、更に、前記基板上に第２のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させるための第３の分配装置［１３６、１３９］が含まれ、前記第２のエレクトロルミネッセンス材料は、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料とは異なる波長で光を放出する。
【００４２】
好ましくは、前記導電材料に、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料に対する正孔の注入を促進する正孔輸送材料が含まれる。
【００４３】
好ましくは、前記第２の導電材料に、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料に対する電子の注入を促進する電子輸送材料が含まれる。
【００４４】
好ましくは、更に、前記コントローラによって決定される前記基板上の位置にルミネッセンスの特性を有しない材料を堆積させるための第３の分配装置［１３６、１３９］が含まれている。
【００４５】
好ましくは、ルミネッセンス特性を有しない前記材料が電気的絶縁体である。
【００４６】
更に本発明は、エレクトロルミネッセンス・ディスプレイ［１００］を製造するための方法であって、その一方の側に導電表面［１０２］を備え、酸素及び水に対して不浸透性である柔軟性を有するベース層［１０１］を含んでおり、更に、それぞれ、前記導電層［１０２］に対して電気的に接続された電極層［１０４］を備える、緩衝層［１０３］によって形成された複数の井戸部を含んでいる基板を設ける工程と、前記基板に対して第１の分配装置［１３６、１３９］を移動させて、前記ディスプレイ［１０１］によって発生する照明パターンを定義する信号に応答して、前記基板上の異なる位置に異なる量の第１のエレクトロルミネッセンス材料が堆積させられるように、前記基板上に前記第１のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させる工程と、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料上に導電材料［１０７］を堆積させる工程とが含まれている。
【００４７】
好ましくは、更に、前記基板上に第２のエレクトロルミネッセンス材料を定量堆積させる工程が含まれることと、前記第２のエレクトロルミネッセンス材料が、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料とは異なる波長の光を放出する。
【００４８】
好ましくは、前記導電材料［１０７］に、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料に対する正孔の注入を促進する正孔輸送材料が含まれる。
【００４９】
好ましくは、前記導電材料に、前記第１のエレクトロルミネッセンス材料に対する電子の注入を促進する電子輸送［２０７］材料が含まれる。
【００５０】
好ましくは、更に、前記導電材料の堆積前に、前記ディスプレイ［１００］における前記基板の発光すべきではない位置にルミネッセンス特性を有しない材料を堆積させる工程が含まれる。
【００５１】
好ましくは、ルミネッセンス特性を有しない前記材料は、電気的絶縁体である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による部分的に製造されたディスプレイの断面図である。
【図２】本発明によるディスプレイを製造するのが望ましい、開始材料の断面図である。
【図３】本発明によるディスプレイの他の１つの実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
１００    ディスプレイ装置
１０１    ベース層
１０２    導電表面
１０３    電気的絶縁層
１０４    電極層
１０８    エレクトロルミネッセンス層
１２１    保護層
１２５    基板
１３５    コントローラ
１３６    分配装置
１３７    キャリッジ
１３９    分配装置
２０１    ベース層
２０３    電気的絶縁層
２０４    正孔輸送層
２０７    電子輸送層
２０８    エレクトロルミネッセンス層
２０９    電極層
【図１】
0004603133.tif 000002
【図２】
0004603133.tif 000003
【図３】
0004603133.tif 000004