(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイス台に対して傾動自在に設けられ、試料を保持可能なバイスを支持するバイス位置決め部材と、外部操作により、一平面内において互いに直交する二方向に移動自在に配置され、移動により、前記バイス位置決め部材に対して傾動を付与する作動部材と、前記作動部材の前記直交する二方向の位置をそれぞれ調節する第１位置調節部材と、第２位置調節部材を有するミクロトームにおいて、
前記バイス台には、前記二方向のうち、一方の方向にのみ移動可能に配置され、前記第１位置調節部材により、変位駆動されるガイド部材が設けられ、前記ガイド部材には、前記二方向のうち、前記ガイド部材が移動可能な方向とは異なる他方の方向に前記作動部材をガイドするガイド部が設けられ、前記第２位置調節部材により、前記作動部材が前記他方の方向に位置調節される際に、前記ガイド部により、前記作動部材がガイドされることを特徴とするミクロトーム。
【請求項２】
前記バイス台には、前記作動部材の前記第１位置調節部材による位置調節時に、リターンスプリングとして前記作動部材に作用する第１バネと、
前記ガイド部材の前記第２位置調節部材による位置調節時にリターンスプリングとして前記ガイド部材に作用する第２バネを設けたことを特徴とする請求項１に記載のミクロトーム。
【請求項３】
前記ガイド部材は、前記作動部材を移動自在に載せる平板部と、該平板部の一側から立設したガイド部としてのガイド側板とからなり、前記ガイド側板には、前記平板部から作動部材の浮き上がりを防止する浮き上がり防止手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載のミクロトーム。
【請求項４】
前記浮き上がり防止手段は、前記ガイド側板が、前記作動部材を下方へ押圧するように斜状に立設された構成であることを特徴とする請求項３に記載のミクロトーム。
【請求項５】
前記作動部材と第１位置調節部材間、及び前記作動部材と第２位置調節部材間の少なくともいずれかの間には、前記作動部材に対して面接触する押圧部材を介在配置したことを特徴とする請求項１乃至請求項４のうちいずれか１項に記載のミクロトーム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は主に病理学的試料を薄片状に切断して検鏡試片を得るためのミクロトームに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、主に病理学的試料を薄片状に切断して検鏡試片を得るための滑走式ミクロトームが知られている（例えば、特許文献１参照。）。この病理学的試料を以下では、検鏡試料或いは単に試料という。
【０００３】
滑走式ミクロトームは、図１に示すように切断刃２１を保持する切断刃ホルダ２２をレール上に水平移動自在に配置した切断刃移動機構２０と、検鏡試料を上下方向に昇降自在に配置する昇降機構、及び、該昇降機構の上部に設けられ、検鏡試料を保持するバイス５０を取付するバイス取付ユニット４０を備えている。バイス取付ユニット４０には、バイス５０の傾きを調節する傾き調節機構を備えている。
【０００４】
そして、滑走式ミクロトームでは、切断刃移動機構２０の切断刃２１の移動軌跡上に、検鏡試料を突出させるように昇降機構を操作者は手動で操作し、その後、傾き調節機構で、試料の傾きが切断するのに適切となるようにバイス５０の傾きを調節する。そして、その後、切断刃移動機構２０を手動で操作して、切断刃２１の移動軌跡から上方に突出した検鏡試料の部分を切断刃２１によって切断することにより、検鏡試片を得るようにしている。検鏡試料を切断した後は、再び、操作者は切断刃移動機構２０を手動で操作して検鏡試料を切断する前の位置に戻し、昇降機構を再び手動で操作することより、切断刃２１の移動軌跡上に、検鏡試料を突出させる。このような滑走式ミクロトームは、構造が簡単であり、電動駆動により、切断刃ホルダや検鏡試料を移動させるミクロトームと異なって、複雑な回路や、制御装置等が必要でないため、低価格であることを特徴としている。
【０００５】
ところで、バイス取付ユニット４０は、図３に示すように昇降機構の上部に取付されたバイス台４１０と、バイス５０を取付するバイス位置決め台４２０とを含むように構成されている。そして、バイス位置決め台４２０が、バイス台４１０に対して、いずれの方向に対しても傾動自在に配置されている。又、バイス位置決め台４２０の下部に突出した突出部４２２に対して、移動リング４４０が摺動自在に嵌合されており、この移動リング４４０を、互いに直交する方向からそれぞれ押圧操作して、移動リング４４０の位置を変位させることにより、バイス位置決め台４２０をバイス台４１０に対して傾動操作できるようにしている。前述した、バイス台４１０、バイス位置決め台４２０、移動リング４４０等により、傾き調節機構が構成されている。
【特許文献１】特開平３−２０９１４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、前記バイス位置決め台４２０をいずれの方向においても傾動自在にする必要があるため、前記移動リング４４０をいずれの方向にも移動自在に配置している。このため、一方向から移動リング４４０を押圧操作したとき、この一方向とは異なる方向にも意図せずして移動してしまうことがあった。
【０００７】
この結果、目的の方向において傾動調節を行いたい場合、正確な傾動調節を行うことが難しい問題があった。
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、バイス位置決め部材をいずれの方向に対して傾動調節する場合、正確な傾動調節を行うことができるミクロトームを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、バイス台に対して傾動自在に設けられ、試料を保持可能なバイスを支持するバイス位置決め部材と、外部操作により、一平面内において互いに直交する二方向に移動自在に配置され、移動により、前記バイス位置決め部材に対して傾動を付与する作動部材と、前記作動部材の前記直交する二方向の位置をそれぞれ調節する第１位置調節部材と、第２位置調節部材を有するミクロトームにおいて、前記バイス台には、前記二方向のうち、一方の方向にのみ移動可能に配置され、前記第１位置調節部材により、変位駆動されるガイド部材が設けられ、前記ガイド部材には、前記二方向のうち、前記ガイド部材が移動可能な方向とは異なる他方の方向に前記作動部材をガイドするガイド部が設けられ、前記第２位置調節部材により、前記作動部材が前記他方の方向に位置調節される際に、前記ガイド部により、前記作動部材がガイドされることを特徴とするミクロトームを要旨とするものである。
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１において、前記バイス台には、前記作動部材の前記第１位置調節部材による位置調節時に、リターンプリングとして前記作動部材に作用する第１バネと、前記ガイド部材の前記第２位置調節部材による位置調節時にリターンスプリングとして前記ガイド部材に作用する第２バネを設けたことを特徴とする。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項２において、前記ガイド部材は、前記作動部材を移動自在に載せる平板部と、該平板部の一側から立設したガイド部としてのガイド側板とからなり、前記ガイド側板には、前記平板部から作動部材の浮き上がりを防止する浮き上がり防止手段を備えたことを特徴とする。
【００１１】
請求項４の発明は、請求項３において、前記浮き上がり防止手段は、前記ガイド側板が、前記作動部材を下方へ押圧するように斜状に立設されている構成であることを特徴とする。
【００１２】
請求項５の発明は、請求項１乃至請求項４のうちいずれか１項において、前記作動部材と第１位置調節部材間、及び前記作動部材と第２位置調節部材間の少なくともいずれかの間には、前記作動部材に対して面接触する押圧部材を介在配置したことを特徴とする。
【００１３】
（作用）
請求項１の発明では、作動部材を互いに直交する二方向のうち、一方の方向に沿って移動させると、該作動部材はガイド部材ともに、同じ方向に変位する。この変位に応じた分バイス位置決め部材は、この一方の方向に対して傾動する。
【００１４】
又、直交する二方向のうち、他方の方向に沿って作動部材を移動させると、ガイド部材のガイド部により、作動部材がガイドされて該他方の方向に沿って変位する。
この変位に応じた分バイス位置決め部材は、他方の方向に対して傾動する。この結果、作動部材は、直交する二方向において、それぞれ変位する時は、互いに他の方向には変位しないため、バイス位置決め部材は、互いに直交する二方向のそれぞれの変位に応じて、正確に傾動させることが可能となる。
【００１５】
請求項２の発明では、第１バネが、作動部材の第１位置調節部材による位置調節時に、リターンスプリングとして前記作動部材に作用する。又、第２バネが、ガイド部材の第２位置調節部材による位置調節時にリターンスプリングとして前記ガイド部材に作用する。この結果、第１バネの付勢力に抗して、第１位置調節部材による位置調節が行われる。又、第２バネの付勢力に抗して、第２位置調節部材による作動部材の位置調節が行われる。この結果、作動部材と第１位置調節部材、作動部材と第２位置調節部材とは、それぞれ離間することがない。
【００１６】
請求項３の発明では、作動部材の位置調節時において、作動部材が変位する際、ガイド部材の平板部上の作動部材は、ガイド側板に設けられた浮き上がり防止手段により、浮き上がりが防止される。
【００１７】
請求項４の発明では、浮き上がり防止手段を、ガイド側板が、作動部材を下方へ押圧するように斜状に立設して構成することにより、作動部材が変位する際、ガイド部材の平板部上の作動部材は、浮き上がりが防止される。
【００１８】
請求項５の発明では、作動部材と第１位置調節部材間、前記作動部材と第２位置調節部材間の少なくともいずれかの間には、作動部材に対して面接触する押圧部材を介在配置することにより、両者間に働く力が分散される。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１の発明によれば、バイス位置決め部材をいずれの方向に対して傾動調節する場合、正確な傾動調節を行うことができる。
請求項２の発明によれば、作動部材と第１位置調節部材、作動部材と第２位置調節部材とは、それぞれ離間することがないため、作動部材の互いに直交する方向の変位を好適に行うことができる。
【００２０】
請求項３の発明によれば、作動部材の位置調節時において、作動部材が変位する際、ガイド部材の平板部上の作動部材は、ガイド側板に設けられた浮き上がり防止手段により、浮き上がりが防止できる。
【００２１】
請求項４の発明によれば、浮き上がり防止手段を、ガイド側板が、作動部材を下方へ押圧するように斜状に立設して構成することにより、作動部材が変位する際、ガイド部材の平板部上の作動部材は、浮き上がりが防止できる。このように、簡単な構成で、作動部材の浮き上がりが防止できる。
【００２２】
請求項５の発明によれば、作動部材に働く回転モーメントの影響を少なくでき、作動部材の移動をスムーズにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図７（ａ）を参照して説明する。
図１に示すように、ミクロトーム１０は、切断刃２１を保持する切断刃ホルダ２２をレール上に水平移動自在に配置した切断刃移動機構２０と、試料Ｓ（図３、図６参照）を上下方向に昇降自在に配置する昇降機構３０、及び、該昇降機構３０の上部に設けられた、バイス取付ユニット４０を備えている。バイス取付ユニット４０には、試料Ｓを保持するバイス５０の傾きを調節する傾き調節機構Ｋを備えている。ミクロトーム１０のベース２３には切断刃移動機構２０及び位置調整機構１３が設けられている。
【００２４】
なお、本明細書では、切断刃２１の移動方向をＸ方向（図１において、（前）と記載されている方向）とし、ミクロトーム１０を前から見た場合を基準として、Ｘ方向に直交する方向をＹ方向（右方向）とする。Ｘ方向及びＹ方向は、水平面内に含まれるものとする。
【００２５】
（切断刃移動機構２０）
ミクロトーム１０は、ベース２３上に固定された支台２４及び支台２４上に固定されたテーブル２５を備えている。切断刃移動機構２０は、テーブル２５上に設けられたＸ方向に延びる図示しないレールと、該レールに対して、スライド自在に係合された滑走ブロック２６とを備えている。又、ミクロトーム１０は、テーブル２５上をＸ方向に沿って移動する切断刃ホルダ２２及び切断刃ホルダ２２に取り付けされた切断刃２１を備えている。滑走ブロック２６上には、副ブロック２７が固定されており、副ブロック２７上に切断刃ホルダ２２が固定されている。副ブロック２７の右側部には、図示はしないがハンド操作板が固定されており、該ハンド操作板を把持して操作することにより、滑走ブロック２６をスライド操作可能とされている。
【００２６】
（昇降機構３０）
昇降機構３０は、荒調整及び微調整が可能に構成された機構である。昇降機構３０は、本発明の要部ではないため、簡単に説明する。
【００２７】
昇降機構３０は、その大部分が支台２４の左側部に設けられた機構ケース３１内に収納されている。図２に示すように、機構ケース３１の上壁からは、昇降機構３０の作動により、上下方向に移動する支持台３３が突出されている。
【００２８】
機構ケース３１の左側面には、荒調整ノブ３２が設けられている。荒調整ノブ３２が回転操作されると、その回転量に応じて、昇降機構３０が作動されて、前記支持台３３の昇降方向の位置の荒調整が可能とされている。機構ケース３１の前側面には、微調整ノブ３４が設けられている。微調整ノブ３４が回転操作されると、その回転量に応じて、昇降機構３０が作動されて、荒調整ノブ３２によるものよりも、支持台３３の昇降方向の位置の調整を細かく行うことが可能とされている。
【００２９】
機構ケース３１の左側面には、回転抑制ノブ３５が設けられている。回転抑制ノブ３５の回転操作により、昇降機構３０がロックされて支持台３３の昇降方向の移動が抑制されるようにされている。従って、昇降機構３０がロックされた状態では、支持台３３上のバイス取付ユニット４０を介して支持されているバイス５０に保持した試料Ｓを切断刃２１にて切断する際に、良好に切断作業を行うことが可能となる。
【００３０】
（バイス取付ユニット４０）
バイス取付ユニット４０は、バイス台４１０、バイス位置決め台４２０、調整板４３０、移動リング４４０、第１位置調節軸４５０、第２位置調節軸４５２、リターンスプリング４５４ａ、第１バネケース４５６、第２バネケース４５７、第１バネ心棒４５８、第２バネ心棒４５９、固定体４６０等を備えている。
【００３１】
バイス台４１０は、図２に示すように、支持台３３の上面に対して固定されている。バイス台４１０の上面中央には、上方が開口された収納室４１２とされている。収納室４１２の下部は、図４に示すように、断面が略正方四角形状をなす下部室４１３とされている。図４に示すように、下部室４１３は、Ｘ方向に平行な一対の側面４１３ｘと、Ｙ方向に平行な一対の側面４１３ｙとを備えている。又、収納室４１２の上部室４１４は下部室４１３の横断面積よりも広い断面積を有しており、内周面が球面に形成され、上方が開口されている。又、下部室４１３の底面には、上下方向に延びる断面円形の貫通孔４１１が形成されている。
【００３２】
バイス位置決め部材としてのバイス位置決め台４２０は、その大部分が収納室４１２に対して収納配置されている。バイス位置決め台４２０の上部の外周面４２１は、上部室４１４の内周面の曲率半径と同じ曲率半径を有した球面に形成されており、上部室４１４の内周面に対して摺動自在に接して支持されている。この結果、バイス位置決め台４２０は、上部室４１４の内周面において、いずれの方向に対しても、バイス台４１０に対して、上部室４１４の内周面の曲率半径の中心を中心にして傾動自在にされている。
【００３３】
バイス位置決め台４２０の下部は、上部の中央から下方へ突出された突出部４２２とされている。突出部４２２の外周面は、横断面円形をなすとともに、外側へ膨らむ曲面に形成されている。突出部４２２は、図３に示すように、下部室４１３内に配置されている。バイス位置決め台４２０の上部中央には、凹部４２３が形成されている。凹部４２３の内面は、所定の曲率半径を有した半球状に形成されている。又、突出部４２２の中央には、凹部４２３よりも縮径した横断面円形をなす透孔４２４が形成されている。透孔４２４は凹部４２３と連通されており、同軸となるように配置されている。
【００３４】
下部室４１３底面には、ガイド部材としての調整板４３０が移動自在に載置されている。図５（ａ）、（ｃ）に示すように、調整板４３０は、平板状の底板４３１と、底板４３１の一側縁から底板４３１側に向かって斜状に立設されたガイド部及びガイド側板としての受板部４３２とから構成されている。底板４３１は、平板部に相当する。受板部４３２が、底板４３１の一側縁から底板４３１側に向かって斜状に立設された構成は、浮き上がり防止手段に相当する。受板部４３２は、図４に示すように、Ｙ方向と平行に配置されている。又、底板４３１には、円形をなす孔４３３が形成されている。
【００３５】
図４に示すように、調整板４３０の底板４３１はＹ方向の長さが、一対の側面４１３ｘ間と略同じとされている。又、調整板４３０の底板４３１において、Ｘ方向の長さＬ１は、一対の側面４１３ｙ間の離間距離Ｌ２よりも短くされている。従って、調整板４３０は、Ｙ方向に対しては、一対の側面４１３ｘにより規制されて移動不能とされており、Ｘ方向にのみ、｜Ｌ１−Ｌ２｜の長さ分往復移動可能である。一対の側面４１３ｘは、ガイド部材としての調整板４３０を一方向にのみ移動可能に規制する規制手段とされている。
【００３６】
調整板４３０上には作動部材としての移動リング４４０が載置されている。移動リング４４０は、図５（ｂ）に示すように、外形が略正八角形に形成されている。移動リング４４０の中央には、孔４３３よりも若干小径の挿通孔４４１が形成されている。移動リング４４０の８個の外側面のうち、Ｘ方向及び反Ｘ方向に向かう係合面４４４，４４５は、図５（ａ）に示すように、挿通孔４４１側に向かって斜状となった斜面とされている。そして、鉛直線に対する係合面４４４，４４５の挿通孔４４１側への傾斜角度は、同じとされている。又、図５（ａ）に示すように、受板部４３２と、係合面４４４の鉛直線からの傾斜角度は同じとされている。
【００３７】
又、前記調整板４３０の受板部４３２は、移動リング４４０の係合面４４４に対して摺接可能とされており、移動リング４４０をＹ方向にガイド可能である。
移動リング４４０の挿通孔４４１には、バイス位置決め台４２０の突出部４２２が、該突出部４２２の曲面に沿って傾動自在に嵌合されている。そして、移動リング４４０が、Ｘ方向、反Ｘ方向、Ｙ方向、反Ｙ方向の少なくともいずれか一方向に変位すると、その変位に応じて、突出部４２２を介して、バイス位置決め台４２０がバイス台４１０に対して傾動可能である。
【００３８】
図４に示すように、バイス台４１０において、前側の外側壁面には、第１位置調節部材としての第１位置調節軸４５０が、進退可能に螺合されている。第１位置調節軸４５０の先端は、下部室４１３内に突出して、移動リング４４０の係合面４４５に対して当接されている。そして、第１位置調節軸４５０のバイス台４１０に対する螺合量に応じて、移動リング４４０のＸ方向における位置の変位が可能である。
【００３９】
又、バイス台４１０において、後側の外側壁面には、第１バネケース４５６が、第１位置調節軸４５０と対抗するように、すなわち、第１位置調節軸４５０と同軸となるように螺着されている。第１バネケース４５６内には、第１バネとしてのリターンスプリング４５４ａと、該リターンスプリング４５４ａに付勢される第１バネ心棒４５８が第１位置調節軸４５０と同軸なるように内装されている。そして、第１バネ心棒４５８は、図３，図４に示すように、調整板４３０の受板部４３２に対してリターンスプリング４５４ａの付勢力により押圧して当接されている。
【００４０】
移動リング４４０の係合面４４４，４４５に対して、第１バネ心棒４５８や、及び第１位置調節軸４５０がそれぞれ押圧当接された際、斜面である係合面４４４，４４５に、印加された力は、ベクトル分解すると、下方向の分力があるため、この下方向の分力により、移動リング４４の調整板４３０からの浮き上がりが防止されている。
【００４１】
一方、図４に示すように、バイス台４１０において、左側の外側壁面には、第２位置調節部材としての第２位置調節軸４５２が、進退可能に螺合されている。そして、第２位置調節軸４５２の先端は、下部室４１３内に突出して、移動リング４４０の左側面に対して当接されている。そして、第２位置調節軸４５２のバイス台４１０に対する螺合量に応じて、移動リング４４０のＹ方向における位置の変位が可能である。
【００４２】
又、バイス台４１０において、右側の外側壁面には、第２バネケース４５７が、第２位置調節軸４５２と対抗するように、すなわち、第２位置調節軸４５２と同軸となるように、螺着されている。第２バネケース４５７内には、リターンスプリング４５４ｂと、該リターンスプリング４５４ｂに付勢される第２バネ心棒４５９が第２位置調節軸４５２と同軸となるように内装されている。そして、第２バネ心棒４５９は、図４に示すように、移動リング４４０の右側面に対してリターンスプリング４５４ｂの付勢力により押圧して当接されている。
【００４３】
ここで、第１位置調節軸４５０の軸線Ｏ１１と第２位置調節軸４５２の軸線Ｏ１２が交わる交点Ｏｐを、移動リング４４０の軸線が通過するように移動リング４４０が位置した場合、突出部４２２を介して、バイス位置決め台４２０上面（バイス取付面）が水平になり、すなわち、後述するバイス５０が水平となるようにされている。以後、このようにバイス５０が水平となるときの移動リング４４０の位置（すなわち、移動リング４４０の軸心の位置）を原点位置（ＸＹ座標の原点）という。
【００４４】
なお、図１においては、説明の便宜上、第１位置調節軸４５０，第２位置調節軸４５２は省略されている。
前記バイス位置決め台４２０、調整板４３０、移動リング４４０、第１位置調節軸４５０、第２位置調節軸４５２、第１バネケース４５６、第２バネケース４５７、第１バネ心棒４５８、第２バネ心棒４５９、リターンスプリング４５４ａ，４５４ｂにより、傾き調節機構Ｋが構成されている。
【００４５】
固定体４６０は、上部体４６２、連結体４６３、下部体４６４とを備えている。上部体４６２は、バイス位置決め台４２０の凹部４２３内に位置するように配置されており、略半球状に形成されている。そして、上部体４６２の下面は、球面に形成されて、凹部４２３の内面と同じ曲率半径を有しており、凹部４２３と密接可能である。
【００４６】
連結体４６３は、上部体４６２の仮面中央から、突出部４２２の透孔４２４を貫通するようにして下方に延出されている。なお、突出部４２２の内周面と、連結体４６３間に形成される間隙は、後述する固定体４６０による、バイス位置決め台４２０のバイス台４１０への拘束が解除されている状態で、バイス位置決め台４２０の傾動があった際、突出部４２２が連結体４６３に干渉しないように設定されている。
【００４７】
図３に示すように、下部体４６４は、バイス台４１０の貫通孔４１１に対して、上下動自在に配置されており、上面が連結体４６３を介して、上部体４６２に連結されている。下部体４６４には偏心部挿入孔４６５が貫通形成されている。なお、図２，図３では、偏心部挿入孔４６５は、説明の便宜上、Ｘ方向に延びるように図示されているが、実際は、Ｘ方向に対して、所定角度なすように配置されている。すなわち、後述する固定ハンドル４７０の延びる方向に沿って設けられている（図１参照）。
【００４８】
偏心部挿入孔４６５に対応して、バイス台４１０には、ともに断面円形をなす固定ハンドル挿入孔４８０及び固定ハンドル挿入孔４８２が設けられている。固定ハンドル挿入孔４８０と、固定ハンドル挿入孔４８２は、貫通孔４１１を介在して離間されるとともに、同軸となるように配置されている。又、固定ハンドル挿入孔４８２は、固定ハンドル挿入孔４８０に比して小径に形成されている。
【００４９】
固定ハンドル４７０は、操作端側から順に大径部４７２、偏心部４７４、小径部４７６を備えている。大径部４７２及び小径部４７６は共通軸心Ｏ１を有しており、それぞれ固定ハンドル挿入孔４８０，４８２に対して回動自在に配置されている。
【００５０】
又、偏心部４７４は、共通軸心Ｏ１から偏心して配置されており、大径部４７２よりも若干小径をなすように断面円形に形成されている。図３において、Ｏ２は、偏心部４７４の軸心である。そして、偏心部４７４は、下部体４６４の偏心部挿入孔４６５内に挿入配置されている。
【００５１】
下部体４６４の下面には、図３に示すように、調整軸４６８が位置調節自在に螺入されており、その上端が、偏心部挿入孔４６５に突出されている。そして、偏心部挿入孔４６５内の突出量は、調整軸４６８の下部体４６４に対する螺合量に応じて調整可能である。
【００５２】
固定ハンドル４７０の回動操作により、偏心部４７４が、調整軸４６８に当接すると、下部体４６４、連結体４６３を介して上部体４６２が下方へ移動されて、バイス位置決め台４２０が、位置決め固定される。又、固定ハンドル４７０の回動操作により、偏心部４７４が、調整軸４６８から離間すると、上部体４６２の凹部４２３の内周面に対する下方への押圧が解除されるため、バイス位置決め台４２０の傾動が可能とされている。
【００５３】
バイス５０は、バイス位置決め台４２０上面に設けられている。バイス５０は、バイスブロック５１、固定爪５２、可動爪５３、操作杆５４等からなる。
バイスブロック５１はバイス位置決め台４２０に対してボルトにより固定されている。バイスブロック５１は、その上面に固定爪５２が形成されており、固定爪５２と相対する一側部側には可動爪５３が回動自在に軸５３ａにて支持されている。又、図示はしないが、バイスブロック５１には、可動爪５３を押圧するスプリングが内装されており、該スプリングにより、常に、図３において、固定爪５２側へ回動するように付勢されている。バイスブロック５１の上面には、Ｘ方向へ延びる溝５５が形成されている。溝５５は、図３に示すように、バイスブロック５１の前側及び後側の側面に開口されている。可動爪５３には、溝５５内に挿入された操作杆５４が、取付けされている。操作杆５４は、溝５５の開口を介して、図３，図６に示すように前方へ突出されている。操作杆５４を上下方向に操作することにより、可動爪５３を可動して、試料Ｓを固定爪５２と協働して把持可能である。バイスブロック５１の前側壁には、ストッパピン５６が突出されている。
【００５４】
又、バイス台４１０の前側面には、回動防止部材４０２が突出されている。回動防止部材４０２の先端には、側壁４０４が上方へ立設されている。側壁４０４は、上部が開口された係合溝４０５が形成されることにより二股状にされている。そして、ストッパピン５６が係合溝４０５に係入されていることにより、バイス５０の水平面内における回動が防止されている。
【００５５】
（作用）
次に、本実施形態の作用について説明する。
さて、昇降機構３０により、予め、昇降機構３０を操作して、切断刃２１の移動軌跡上に、試料Ｓを対応配置させた状態にする。そして、この状態で、固定ハンドル４７０を解除方向に回動操作して、固定体４６０による、バイス位置決め台４２０のバイス台４１０への拘束を解除しておく。
【００５６】
以下では、説明の便宜上、第１位置調節軸４５０の螺合量の調節と、第２位置調節軸４５２の螺合量の調節は、同時に行われないものとして説明する。
（反Ｘ方向移動）
第１位置調節軸４５０のバイス台４１０に対する螺合量を調節する。たとえば、リターンスプリング４５４ａの付勢力に抗して、反Ｘ方向へ第１位置調節軸４５０が移動すると、移動リング４４０は、係合面４４５において第１位置調節軸４５０により押圧される。このとき、第１位置調節軸４５０により押圧された移動リング４４０が受板部４３２を押圧するため、移動リング４４０は、側面４１３ｘに規制された状態の調整板４３０とともに、反Ｘ方向へ変位する。
【００５７】
（Ｘ方向移動）
又、Ｘ方向へ第１位置調節軸４５０が移動すると、リターンスプリング４５４ａに押圧された第１バネ心棒４５８により、受板部４３２が押圧される。この結果、移動リング４４０は、側面４１３ｘに規制された状態の調整板４３０とともにＸ方向へ変位する。
【００５８】
このように、移動リング４４０が、Ｘ方向や、反Ｘ方向へ移動する際、移動リング４４０は、両側面４１３ｘにより回転が規制されている調整板４３０の受板部４３２に対して当接した状態で移動する。
【００５９】
従って、第１位置調節軸４５０のバイス台４１０に対する螺合量の調節時に、移動リング４４０に、回転モーメントが発生しても、受板部４３２により移動リング４４０は回転が阻止されるため、移動リング４４０はＸ方向や、反Ｘ方向への直線移動のみ許容される。
【００６０】
なお、Ｘ方向や、反Ｘ方向へ移動する時点で、すでに移動リング４４０の位置が、原点位置からＹ方向、或いは反Ｙ方向に変位していた場合、その変位量（ずれ量）が大きいほど、第１位置調節軸４５０又は、第１バネ心棒４５８から印加される力により、回転モーメントは大きくなる。
【００６１】
調整板４３０がない従来の場合、移動リング４４０の回転モーメントが特に大きくなると、Ｘ方向や、反Ｘ方向へ移動する際、意図せずに、この回転モーメントにより、第２バネ心棒４５９側のリターンスプリング４５４ｂに抗して、移動リング４４０が回転してしまい、このときＹ方向、或いは反Ｙ方向に変位が生ずる場合がある。
【００６２】
それに対して、本実施形態では、移動リング４４０は、回転が禁止されている調整板４３０の受板部４３２に対して当接されて一体にＸ方向や、反Ｘ方向へ直線移動して回転しないため、Ｙ方向及び反Ｙ方向に変位することはない。
【００６３】
このようにして、Ｘ方向又は反Ｘ方向の移動リング４４のみの変位量に応じて、突出部４２２が移動リング４４０に駆動されるため、バイス位置決め台４２０は正確にその変位量に見合う分傾動することができる。
【００６４】
又、移動リング４４０の係合面４４４，４４５に対して、第１バネ心棒４５８や、第１位置調節軸４５０がそれぞれ押圧当接されても、斜面である係合面４４４，４４５により、印加された力は、ベクトル分解すると、下方向の分力があるため、移動リング４４の調整板４３０からの浮き上がりが防止できる。
【００６５】
（Ｙ方向移動）
又、第２位置調節軸４５２のバイス台４１０に対する螺合量を調節した場合には、たとえば、リターンスプリング４５４ｂの付勢力に抗して、Ｙ方向へ第２位置調節軸４５２が移動すると、移動リング４４０は、第２位置調節軸４５２により押圧されるとともに、受板部４３２の平面によりガイドされてＹ方向へ変位する。このとき、移動リング４４０との摩擦により、調整板４３０がＹ方向に移動しようとしても、調整板４３０は、側面４１３ｘにより規制されて、Ｙ方向への移動はできない。
【００６６】
（反Ｙ方向移動）
又、反Ｙ方向へ第２位置調節軸４５２が移動すると、移動リング４４０は、リターンスプリング４５４ｂに押圧されるとともに、受板部４３２によりガイドされて反Ｙ方向へ変位する。
【００６７】
このように、移動リング４４０が、Ｙ方向や、反Ｙ方向へ移動する際、移動リング４４０は、両側面４１３ｘにより回転が規制されている調整板４３０の受板部４３２の平面によりガイドされて移動する。
【００６８】
そして、第２位置調節軸４５２のバイス台４１０に対する螺合量の調節時に、移動リング４４０に、回転モーメントが発生しても、移動リング４４０にたいして面接触している受板部４３２により移動リング４４０は回転が阻止されるため、移動リング４４０はＹ方向や、反Ｙ方向への直線移動のみ許容される。
【００６９】
なお、Ｙ方向や、反Ｙ方向へ移動する時点で、すでに移動リング４４０の位置が、原点位置からＸ方向、或いは反Ｘ方向に変位していた場合、その変位量（ずれ量）が大きいほど、第２位置調節軸４５２又は、第２バネ心棒４５９から印加される力により、回転モーメントは大きくなる。
【００７０】
調整板４３０がない従来の場合、移動リング４４０の回転モーメントが大きくなると、Ｙ方向や、反Ｙ方向へ移動する際、意図せずに、この回転モーメントにより、リターンスプリング４５４ａ，４５４ｂに抗して、移動リング４４０が回転してしまい、このときＸ方向、或いは反Ｘ方向に変位が生ずる場合がある。
【００７１】
それに対して、本実施形態では、移動リング４４０は、回転が禁止されている調整板４３０の受板部４３２に対して面接触してガイドされることにより、回転モーメントが働いても回転が阻止されて、Ｙ方向や、反Ｙ方向へ直線移動できるため、Ｘ方向及び反Ｘ方向に変位することはない。
【００７２】
このようにして、反Ｙ方向又はＹ方向の移動リング４４のみの変位量に応じて、突出部４２２が移動リング４４０に駆動されるため、バイス位置決め台４２０は正確にその変位量に見合う分傾動することができる。
【００７３】
上記実施形態の特徴は、下記の通りである。
（１）  本実施形態では、移動リング４４０が、Ｘ方向や、反Ｘ方向へ移動する際には、Ｘ方向及び反Ｘ方向にのみ移動が許容された調整板４３０の受板部４３２に対して面接触した状態で移動できるため、移動リング４４０はＸ方向や、反Ｘ方向への直線移動のみできる。
【００７４】
（２）  本実施形態では、移動リング４４０は、回転が禁止されている調整板４３０の受板部４３２に対して面接触した状態で、Ｘ方向や、反Ｘ方向へ直線移動されるが、回転モーメントが作用しても、受板部４３２により回転が阻止されて回転しないため、Ｙ方向及び反Ｙ方向に変位することはない。
【００７５】
（３）  本実施形態では、従って、Ｘ方向又は反Ｘ方向の移動リング４４のみの変位量に応じて、突出部４２２が移動リング４４０に駆動されるため、バイス位置決め台４２０は正確にその変位量に見合う分傾動することができる。
【００７６】
（４）  本実施形態では、移動リング４４０の係合面４４４，４４５に対して、第１バネ心棒４５８や、第１位置調節軸４５０がそれぞれ押圧当接された際、係合面４４４，４４５に印加された力は、ベクトル分解すると、下方向の分力があるため、移動リング４４の調整板４３０からの浮き上がりが防止できる。
【００７７】
（５）  本実施形態では、移動リング４４０が、Ｙ方向や、反Ｙ方向へ移動する際、移動リング４４０は、両側面４１３ｘにより回転が規制されている調整板４３０の受板部４３２の平面によりガイドされて直線移動され、移動リング４４０に、回転モーメントが発生しても、受板部４３２により移動リング４４０の回転が阻止できる。このため、移動リング４４０はＹ方向や、反Ｙ方向への直線移動のみができる。
【００７８】
（６）  本実施形態では、従って、反Ｙ方向又はＹ方向の移動リング４４のみの変位量に応じて、突出部４２２が移動リング４４０に駆動されるため、バイス位置決め台４２０は正確にその変位量に見合う分傾動することができる。
【００７９】
（７）  この結果、本実施形態では、バイス５０の傾きを意図した傾きに容易に調整できる。
（第２実施形態）
次に、第２実施形態を図８〜１２を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一構成又は相当する構成については、同一符号を付してその説明を省略し、異なる構成について説明する。
【００８０】
第２実施形態では、第１実施形態の構成中、第１バネケース４５６、リターンスプリング４５４ａ，第１バネ心棒４５８、及び、第２バネケース４５７、リターンスプリング４５４ｂ、第２バネ心棒４５９が省略されている。その代わりに、第１位置調節軸４５０に関しては、第１付勢機構５００、第２位置調節軸４５２に関しては、第２付勢機構６００が設けられているところが異なっている。
【００８１】
第１付勢機構５００は、バネ支持杆５０１、第１バネとしてのリターンスプリング５０２、バネ受け部材５０３からなる。バネ支持杆５０１は、図８に示すように、内端がバイス台４１０の前側壁に対して移動自在に貫通されており、調整板４３０の前部に対して連結されている。バネ支持杆５０１の外端には、キャップ状のバネ受け部材５０３が固定されている。そして、バネ受け部材５０３と、バイス台４１０の前側面間には、コイルスプリングからなるリターンスプリング５０２が巻装されている。このリターンスプリング５０２のバネ力により、調整板４３０は、第１位置調節軸４５０に向かって（すなわち、Ｘ方向に向かって）常時付勢されている。そして、調整板４３０上の移動リング４４０は、リターンスプリング５０２の付勢力により、受板部４３２を介して押圧係合されているため、図８に示すように、第１位置調節軸４５０に対して、常時当接されている。
【００８２】
第２付勢機構６００は、バネ取付ピン６０１、第２バネとしてのリターンスプリング６０２、押圧ピン６０３、揺動ユニット６１０から構成されている。
バネ取付ピン６０１は、バイス台４１０の後側壁に固定されている。又、揺動ユニット６１０は、バイス台４１０の右側壁に対して設けられている。揺動ユニット６１０は、揺動部材６１１、揺動アーム６１２、回動軸６１３、軸受６１４からなる。
【００８３】
回動軸６１３は、バイス台４１０の右側壁に対して軸受６１４により回動自在に支持されており、その両端には、一対の揺動アーム６１２の上端が連結されている。揺動アーム６１２の下端には、揺動部材６１１が架橋されている。図８に示すように、揺動部材６１１の一端とバネ取付ピン６０１との間には、リターンスプリング６０２が掛け渡され、リターンスプリング６０２のバネ力により、揺動アーム６１２を常時、バイス台４１０の右側壁へ近接するように付勢されている。一対の揺動アーム６１２間において、揺動部材６１１には、カラー６１５にて覆われている。
【００８４】
バイス台４１０の右側壁面には、下部室４１３に連通する一対の摺動孔４１８が設けられており、摺動孔４１８には、それぞれ押圧ピン６０３が、移動自在に挿入されている。各押圧ピン６０３の外端は、外部に突出されており、リターンスプリング６０２にて付勢された揺動部材６１１により、カラー６１５を介して押圧されている。この揺動部材６１１による押圧により、押圧ピン６０３は、図８に示すように、移動リング４４０の右側面に対して常時当接されている。
【００８５】
又、第２実施形態では、移動リング４４０が第１実施形態と一部異なっている。すなわち、移動リング４４０の外形形状は、図８に示すように、示すように平断面四角形とされている。又、第２実施形態では、調整板４３０の形状が一部第１実施形態と異なっている。すなわち、図９に示すように、受板部４３２は底板４３１に対して直角に立設されているところ、及び、底板４３１の外形が、略四角形状となっているところが異なっている。
【００８６】
第２実施形態では、上記のように第１実施形態との構成の相違がある。又、第１実施形態では、移動リング４４０に対する受板部４３２の付勢は、第１バネ心棒４５８のリターンスプリング４５４ａが行っていたが、第２実施形態では、第１付勢機構５００のリターンスプリング５０２が行っていることが相違する。又、第１実施形態では、移動リング４４０に対して第２バネ心棒４５９が図示しないリターンスプリングの付勢力を受けて押圧当接を行っていたが、第２実施形態では、第２付勢機構６００が行っているところが、相違する。
【００８７】
しかし、他の構成は、略同じであるため、第２実施形態の効果は、前記第１実施形態の効果で述べた（１）〜（３），（４）〜（７）の効果を奏する。
なお、第２実施形態では、受板部４３２は斜面となっていないため、第１実施形態と異なり、移動リング４４０の積極的な浮き上がり防止効果はない。
【００８８】
なお、前記実施形態は、以下の別の態様に変更してもよい。
・  図１３、図１４は、第１実施形態の構成にさらに、以下の構成を追加した構成である。
【００８９】
すなわち、この実施形態では、図１３に示すように、第１位置調節軸４５０と移動リング４４０間、第２位置調節軸４５２と移動リング４４０間、第２バネ心棒４５９と移動リング４４０間には、押圧板６５０，６６０，６７０が介在配置されている。押圧板６５０，６６０は、押圧部材に相当する。
【００９０】
押圧板６５０，６６０，６７０は、図１４に示すように、底板４３１上に移動自在に載置されている。押圧板６５０，６６０，６７０は、長方形状の平板にて形成されており、中央には、係合部としての係合孔６５１，６６１，６７１が透設されている。係合孔６５１，６６１，６７１には、第１位置調節軸４５０、第２位置調節軸４５２、第２バネ心棒４５９の半球状の先端が係合して当接されている。すなわち、係合孔６５１，６６１，６７１の径は、第１位置調節軸４５０、第２位置調節軸４５２、第２バネ心棒４５９の半球状の先端が、係合孔６５１，６６１，６７１を抜けでないように、該先端の径よりも短くされている。なお、係合孔の代わりに第１位置調節軸４５０、第２位置調節軸４５２、第２バネ心棒４５９の半球状の先端が係合できる係合部としての係合凹部であってもよい。
【００９１】
又、図１３に示すように、押圧板６６０、６７０に対して面接触する移動リング４４０の側面は、係合面４４６，４４７とされており、係合面４４５と同様に、挿通孔４４１側に向かって斜状となった斜面とされている。そして、鉛直線に対する係合面４４６，４４７の挿通孔４４１側への傾斜角度は、同じとされている。この係合面４４６，４４７を斜状とする理由は、係合面４４４，４４５と同じ理由である。
【００９２】
なお、押圧板６６０，６７０は、移動リング４４０がＸ方向，反Ｘ方向に移動された際には、係合孔６６１と第２位置調節軸４５２、係合孔６７１と第２バネ心棒４５９とが係合されていることにより移動が阻止されて位置が保持され、移動リング４４０、調整板４３０のみが、Ｘ方向，反Ｘ方向に移動する。又、押圧板６５０は、移動リング４４０がＹ方向，反Ｙ方向に移動された際には、係合孔６５１と第１位置調節軸４５０とが係合されていることにより移動が阻止されて位置が保持され、移動リング４４０のみが、Ｙ方向，反Ｙ方向に移動する。
【００９３】
本実施形態の作用について説明する。
前記第１実施形態では、説明はしなかったが、第１位置調節軸４５０、第２位置調節軸４５２、第２バネ心棒４５９の移動リング４４０に対して、点接触であるため、両者間に働く力が、接触点に集中する。このため、原点位置から、移動リング４４０が大きく変位している場合には、移動リング４４０に大きな回転モーメントが働く。第１実施形態では、受板部４３２や、４１３ｘで回転モーメントによる回転を移動リング４４０や、調整板４３０により阻止しているとはいえ、移動リング４４０のＸ方向，反Ｘ方向、或いはＹ方向、反Ｙ方向の移動が、スムーズにいかなくなる虞がある。
【００９４】
これに対して、本実施形態では、第１位置調節軸４５０・移動リング４４０間、第２位置調節軸４５２・移動リング４４０間、第２バネ心棒４５９・移動リング４４０間に、それぞれ押圧板６５０，６６０，６７０が介在されることにより、両者間に働く力が分散される。この結果、第１実施形態よりも、回転モーメントの影響を少なくでき、移動リング４４０のＸ方向，反Ｘ方向、或いはＹ方向、反Ｙ方向の移動をスムーズにすることができる。
【００９５】
・  図１３に示す実施形態において、押圧板６５０又は押圧板６６０のいずれかを省略してもよい。
・  第１実施形態では、図５（ａ）に示すように、係合面４４５を斜面にしたが、浮き上がり防止のためには、係合面４４５，４４６のいずれか一方の斜面となっている面を省略しても、残りの面が斜面となっているため、浮き上がり防止機能を有する。たとえば、図７（ａ）は、係合面４４５を移動リング４４０の底面から垂直に形成したものであるが、このようにしても、受板部４３２と係合面４４４により、移動リング４４０の調整板４３０からの浮き上がりを防止できる。
【００９６】
・  又、図７（ｂ）に示すように移動リング４４０の調整板４３０からの浮き上がり防止のために、係合面４４４，４４５、受板部４３２は、それぞれ底面に対して垂直に形成し、受板部４３２の上端に係止突部４３２ａを設け、移動リング４４０には係止突部４３２ａに係合する段部４４０ａを設けてもよい。係止突部４３２ａは、受板部４３２と、移動リング４４０の図面に直交する方向に移動可能に段部４４０ａにたいして係合されている。このようにしても、移動リング４４０の調整板４３０からの浮き上がりを防止できる。
【００９７】
・  前記第１実施形態では、受板部４３２を調整板４３０の後部側に１つしか設けていないが、調整板４３０の前後両部において、それぞれ受板部４３２を設けてもよい。
・  第１実施形態では、調整板４３０を移動リング４４０の下に配置したが、移動リング４４０の上に調整板４３０を配置して、受板部４３２を下に向くように配置してもよい。ただし、第１実施形態では、受板部４３２、係合面４４４，４４５は、挿通孔４４１側ではなく、挿通孔４４１とは反対側へ向くように傾斜させるものとする。このように構成しても、浮き上がり防止をすることができる。
【００９８】
・  前記各実施形態では、滑走式ミクロトームに具体化したが、ロータリ式ミクロトームに具体化してもよい。
上記実施形態から把握できる請求項以外の技術的思想について述べる。
【００９９】
（１）  作動部材は、リング状に形成され、前記バイス位置決め部材の下部から突出した突出部に対して、摺動自在に嵌合されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のうちいずれか１項に記載のミクロトーム。このように構成すると、リング状の作動部材に対して、突出部を嵌合されているため、作動部材を変位させるだけで、簡単に、バイス位置決め部材を傾動させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】第１実施形態のミクロトームの全体を示す概略斜視図。
【図２】ミクロトームのバイスの傾き調節機構の断面図。
【図３】同じく、拡大したバイスの傾き調節機構の断面図。
【図４】バイス台の平断面図。
【図５】（ａ）はリング部材の正面図、（ｂ）はリング部材の平面図、（ｃ）は、調整板の斜視図。
【図６】バイスの平面図。
【図７】（ａ）は、リング部材と調整板の正面図、（ｂ）は、変形例のリング部材と調整板の正面図。
【図８】第２実施形態のバイス台の平断面図。
【図９】同じくバイス台の縦断面図。
【図１０】同じくバイス台の平面図。
【図１１】同じくバイス台の平断面図。
【図１２】同じくバイス台の側面図。
【図１３】他の実施形態のバイス台の平断面図。
【図１４】同じく押圧板と調整板を組み合わせた概略斜視図。
【符号の説明】
【０１０１】
１１…ミクロトーム、４０…バイス取付ユニット、４１０…バイス台
４２０…バイス位置決め台（バイス位置決め部材）
４３０…調整板（ガイド部材）、４３１…底板（平板部）
４３２…受板部（ガイド部、ガイド側板、浮き上がり防止手段）
４４０…移動リング（作動部材）、
４５０…第１位置調節軸（第１位置調節部材）、
４５２…第２位置調節軸（第２位置調節部材）、
４５４ａ…リターンスプリング（第１バネ）、
４５４ｂ…リターンスプリング（第２バネ）
５０…バイス、５０２…リターンスプリング（第１バネ）
６０２…リターンスプリング（第２バネ）、
６５０，６６０…押圧板（押圧部材）、Ｓ…試料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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