(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面上に、アルミニウム酸化物を主成分とする無機化合物と有機化合物の複合体を形成しており、前記複合体が重合性有機化合物を無機化合物層中で重合させたものであることを特徴とするガスバリア材の製造方法において、
前記無機化合物層の形成が酸素ガスとヘリウムガスを含む雰囲気中での真空蒸着であり、
蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し供給する前記酸素ガス量がＯ２／Ａｌモル比換算で０．１５〜０．７５の範囲内であり、
蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し供給する前記ヘリウムガス量がヘリウムガス／Ａｌモル比換算で０．０８〜０．５の範囲内であり、
前記無機化合物層の形成と、その中への重合性有機化合物の分散と重合が逐次的真空処理であり、
前記重合が放射線照射により行われる
ことを特徴とするガスバリア材の製造方法。
【請求項２】
前記放射線照射手段が電子線照射を用いることを特徴とする請求項１記載のガスバリア材の製造方法。
【請求項３】
基材の少なくとも片面上に、アルミニウム酸化物を主成分とする無機化合物と有機化合物の複合体を形成しており、前記複合体が重合性有機化合物を無機化合物層中で重合させたものであることを特徴とするガスバリア材において、
前記無機化合物層の形成が酸素ガスとヘリウムガスを含む雰囲気中での真空蒸着であり、
蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し供給する前記酸素ガス量がＯ２／Ａｌモル比換算で０．１５〜０．７５の範囲内であり、
蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し供給する前記ヘリウムガス量がヘリウムガス／Ａｌモル比換算で０．０８〜０．５の範囲内であり、
前記無機化合物層の形成と、その中への重合性有機化合物の分散と重合が逐次的真空処理により行われたガスバリア層である
ことを特徴とするガスバリア材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品や医薬品等の包装に適した酸素および水蒸気の透過に対して高度のガスバリア性と可撓性を併せ持ったガスバリア材およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、包装材料としては内容物の保存のためにガスバリア性が重要であり、酸素や水蒸気に対するガスバリア性を備えた包装材料として、アルミ箔やポリ塩化ビニリデン（以下ＰＶＤＣと称す）コートが使われてきた。
【０００３】
しかしアルミ箔は優れたガスバリア性を持つものの、不透明であるため内容物の確認ができない、内容物の金属探知器による検査が出来ない、マイクロ波が通らないため電子レンジ食品等には使えない、焼却過程で溶融し炉底にたまって炉を傷めるといった多くの問題点があった。
【０００４】
ＰＶＤＣは透明であるもののガスバリア性が不十分であるうえに、塩素を分子内に含有することから、その焼却過程で有毒な塩素系ガスを排出するため環境衛生上好ましくなく、かつ塩素ガスによって焼却炉の腐食等をもたらす問題もあった。
【０００５】
上記両者の問題点を解決するものとして、最近では金属酸化物等からなる無機化合物をガスバリア層として高分子樹脂基材上に設けたガスバリア材が開発されている。しかし、これらはアルミ箔に比べて透明であるが、ガスバリア性が不十分であること、また、引っ張り等の応力が加わると無機化合物層に割れ（クラック）が発生することからガスバリア性が低下し、ガスバリア材としての用途が制限されていた。
【０００６】
これらの欠点を補うため、特開平７−１６４５９１号公報に記載されるように、高分子樹脂基材に無機化合物からなる真空蒸着層を第１層とし、水溶性高分子と（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／およびその加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバリア性被膜を第２層として積層してなることを特徴とするガスバリア性積層フィルムが開示されている。
【０００７】
無機化合物層上にガスバリア性を持つ有機化合物層を積層することによって、ガスバリア性が向上し、さらに可撓性も若干向上する。しかしこの方法によっても、ガスバリア材としての可撓性は不十分であった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は上記のような問題点を解決するものであり、その課題とするところは、無機化合物やＰＶＤＣをガスバリア層として用いたガスバリア材と比べて、十分なガスバリア性を有し、さらに引っ張り等によるクラックの発生を抑制しガスバリア性を維持することのできるガスバリア材およびその製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、下記の手段によって解決できる。
【００１０】
請求項１と３記載の発明は、基材の少なくとも片面上に、アルミニウム酸化物を主成分とする無機化合物と有機化合物の複合体を形成しており、前記複合体が重合性有機化合物を無機化合物層中で重合させたものであることを特徴とするガスバリア材とその製造方法において、
前記無機化合物層の形成が酸素ガスとヘリウムガスを含む雰囲気中での真空蒸着であり、蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し供給する前記酸素ガス量がＯ２／Ａｌモル比換算で０．１５〜０．７５の範囲内であり、蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し供給する前記ヘリウムガス量がヘリウムガス／Ａｌモル比換算で０．０８〜０．５の範囲内であり、前記無機化合物層の形成と、その中への重合性有機化合物の分散と重合が逐次的真空処理であることを特徴とするガスバリア材と、さらに、前記重合が放射線照射により行われることを特徴とするその製造方法である。
【００１１】
緻密で高いガスバリア性を有するが可撓性に欠ける無機化合物層中に、有機化合物を均一に分散せしめることによって高度のガスバリア性と可撓性を併せ持たせることができる。
【００１２】
特に、同一の真空装置内で行うことで無機化合物、有機化合物とも大気中の酸素、水蒸気等による汚染を受けず無機化合物層中への重合性有機化合物の分散、重合が容易になると共に工程の簡略化、および製造コストの低減がはかれる。
【００１３】
ここで有機化合物を均一に分散せしめることによって、可撓性のない部分を無くし、その部分における応力集中による破壊を抑制し、ガスバリア材としての性能の低下をする様な劣化を防止可能になる。
【００１４】
また、無機化合物層中で重合させることにより無機と有機複合体を形成することを特徴とする。
【００１７】
無機化合物の真空蒸着を非酸化性ガスの存在下で行うことで、該無機化合物層中に微細な空隙（以下ポアという）を設けることができる。設けたポアに重合性有機化合物を埋めることができ、無機化合物層の厚さ方向に重合性有機化合物を分散せしめることができる。
【００１９】
ガス分子径が小さく、不活性であるヘリウムガスを用いることで、該無機化合物層中に設けるポアの大きさや数（量）の制御を容易にしたものである。
【００２０】
請求項２の発明においては、前記重合が放射線照射により行われることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア材の製造方法を提供するものである。
【００２１】
請求項２の発明においては、前記放射線照射手段が電子線照射を用いることを特徴とする請求項１記載のガスバリア材の製造方法である。
【００２２】
放射線重合は、熱重合と比べ希釈剤を必要としない無溶剤系であり、オーブン乾燥を必要とする熱重合に比べ作業面積を大幅に縮小できるといった利点がある。このため真空蒸着と同一装置に組み込むことが容易であり、装置を小さく抑えることができる。
【００２３】
放射線照射手段の中で、電子線照射は、紫外線照射と異なり重合開始剤を必要としないため重合物中の不純物の残留を抑えることができる重合手段である。さらに基材にかかる熱も少なく、基材の変質、変形を防ぐことができる重合手段でもある。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について説明する。
【００２５】
本発明において使用される基材は、例えば高分子樹脂基材が用いられるが、分子量などは何ら具体的に問うものではなく、原理的には樹脂でなくとも適用可能である。また、透明基材の他、半透明基材などの他、遮蔽性質のものでも本発明は原理的には適用可能である。
【００２６】
ガスバリア材の使用目的、被包装物の物性、特性、経済性等から適宜選択することができる。具体的には高分子樹脂基材の場合には、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セルロース、ポリアクリレート、ポリウレタン、セロハン、ポリエチレンテレフタレート、アイオノマー等の延伸または未延伸の樹脂フィルムを挙げることができる。
【００２７】
このような基材の厚みはガスバリア材の使用目的、製造時の安定性等から適宜設定することができるが、例えば５〜１００μｍ程度とすることができる。また、この基材の表面に、ガスバリア層との密着性を良くするための前処理として、コロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理等が施されていても良く、更に薬品処理、溶剤処理等が施されていてもよい。
【００２８】
上記のような基材上に、まず金属酸化物を主成分とする無機化合物層を付着させる。
【００２９】
金属酸化物としては珪素酸化物、カルシウム酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物の中から任意に選択することができる。これらの金属酸化物をドライコーティングする方法として、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等が用いられる。
【００３０】
中でも真空中で金属もしくは金属酸化物を加熱し蒸発させ基材に付着させる真空蒸着法は、成膜速度が速く生産性に優れた方法である。さらに、成膜過程において本来不活性ガスを必要としない方法であるため、空隙形成だけを目的として不活性ガスを導入することができる。真空蒸着法における加熱方式は抵抗加熱、誘導加熱、電子線加熱などがあり、蒸着材料および目的に応じて適宜選択できる。
【００３１】
本発明における真空蒸着法によって形成される金属酸化物か層はその構造中に均一で微細なポアを有するものであり、ポアの形成される層は広範囲に選択が可能である。しかし次工程で、重合性有機化合物によってこのポアを埋めることを考慮すると、このポア表面の化学的反応性がよい方が好都合である。そのため、ポアを有するガスバリア層の形成を不活性ガス雰囲気中、なかでも分子径が小さいヘリウムガス雰囲気中での真空蒸着法で行うことが特に好ましい。
【００３２】
基材の少なくとも片面上に作製された金属酸化物層に重合性有機化合物を分散させるために、金属酸化物の真空蒸着等の処理と同一装置内で、真空蒸着等のプロセスとインラインで有機化合物を塗布、重合させるプロセスを設ける。このプロセスにおいて重合性有機化合物が金属酸化物層中のポアに入り込み、さらに放射線照射により重合されることで、金属酸化物層中に有機化合物が均一に分散される。各プロセス間が大気開放されずにインラインで行われることによって、金属酸化物層内のポアが大気等による汚染を受けず、目的とする有機化合物を無機化合物層中のポア内で重合させることができる。
【００３３】
重合性有機化合物を塗布するには多くの手段が利用可能であり、重合性有機化合物の物性によって任意に選択することができるが、前記重合性有機化合物を気化させて吹き付け無機化合物層中に凝縮させる手段を例に挙げることができる。
【００３４】
塗布後の重合性有機化合物は作製後の物性の安定性などから、重合固化させることが望ましい。重合させる方法としては、熱重合、反応性重合、プラズマ重合、紫外線または電子線を使用する放射線照射による重合を含む様々な方法があり、重合性有機化合物の物性や、経済性などから適宜選択することができる。
【００３５】
この中で放射線重合は、希釈剤を必要としない無溶剤系であること、オーブン乾燥を必要とする熱重合に比べ作業面積を大幅に縮小できるといった利点がある。さらに放射線照射の中でも電子線照射は、重合開始剤を必要としない、硬化速度が速く生産性に優れる、高分子樹脂基材にかかる熱が少ないため基材の受けるダメージが少ないといった利点がある。
【００３６】
電子線照射に用いる装置としては２５０ｋＶ以下の加速電圧で電子線を取り出すことができる装置が望ましい。２５０ｋＶを超えるような加速電圧では電子線のエネルギーが高すぎ、Ｘ線が大量に発生し、装置に大規模のシールドを設ける必要が生じる。また照射による電子線の到達深度が深く、高分子樹脂基材に達し基材組成の変質を引き起こす。特にガスバリア層が薄い場合はこの深度が深く基材の変質は顕著となる。
【００３７】
電子線の照射においては照射雰囲気中に酸素が存在すると、オゾンが発生する上に被照射物表面において反応が阻害されるが、本発明においては真空成膜装置中で電子線を照射するため、窒素等の不活性ガスによって照射雰囲気中の酸素を置換する必要がない。
【００３８】
重合性有機化合物としてはアクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系、ポリエステル樹脂系等の各々モノマー、オリゴマーから任意のものを選ぶことが可能であり、更に複数種類を混合して用いてもよい。なかでも重合速度およびポアへ埋め込むことを考慮するとアクリレートモノマーが本発明の用途に適している。
【００３９】
アクリレートモノマーとしては単官能アクリレートとして例えばイソアミルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシ−ジエチレングリコール、メトキシ−トリエチレングリコールアクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等があげられる。
【００４０】
二官能アクリレートとしては例えばトリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリレート、１．９−ノナンジオールジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート等があげられる。
【００４１】
その他にも多官能アクリレートとしてトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等をあげることができる。
【００４２】
上記のようなアクリレートモノマーを適宜選び、無機化合物層内に埋め込み、電子線照射によって重合させる。モノマーは１種類である必要はなく、２種類以上のモノマーの混合物であっても良い。有機化合物がガスバリア層上および／または基材とガスバリア層との間に存在してもよいが、本発明において重要なことは、真空蒸着によって作られた無機化合物中のポアに有機化合物が存在することによって、無機化合物層中に有機化合物が均一に分散されたガスバリア層が形成されていることである。
【００４３】
次に本発明のガスバリア材の製造方法を図面を用いて説明する。
図１は、本発明のガスバリア材の製造方法に使用する真空成膜装置１の一例を示したものである。真空成膜装置１は、巻き出し巻き取り室２、真空蒸着室３、周辺の蒸着用ガス供給部４、重合性有機化合物供給部５からなる。
【００４４】
更に詳しくは、真空成膜装置１内に巻き出しロール６、巻き取りロール７、冷却ロール８、補助ロール９、遮蔽板１０、坩堝１１、蒸着用電子銃１２、偏向コイル１３、蒸着用ガス供給パイプ１４、酸素ガスボンベ１５、非酸化性ガスボンベ１６、酸素ガス流量調整器１７、非酸化性ガス流量調整器１８、ガス混合器１９、重合性有機化合物供給パイプ２０、重合性有機化合物供給装置２１、重合性有機化合物流量調整器２２、重合性有機化合物加熱装置２３、塗布室２４、重合用電子銃２５、重合室２６、巻き出し巻き取り室用真空ポンプ２７、真空蒸着室用真空ポンプ２８、塗布室用真空ポンプ２９、重合室用真空ポンプ３０からなる。
【００４５】
上記真空成膜装置１を構成する各室に真空ポンプが接続され、各プロセスに適した真空度に排気できる。これらの真空度は独自の値で制御できるが同一の真空度であってもよい。
【００４６】
上記のような真空成膜装置１の巻き出しロール６に高分子樹脂基材の原反を装着し、補助ロール９、冷却ロール８、補助ロール９を介して巻き取りロール７に至る原反搬送パスを形成する。
【００４７】
真空成膜装置１内を巻き出し巻き取り室用真空ポンプ１９および真空蒸着室用真空ポンプ２０により減圧して、巻き出し巻き取り室２、真空蒸着室３ともに真空度１０-2Ｔｏｒｒ以上、好ましくは真空度１０-4Ｔｏｒｒ以上とする。
【００４８】
次に蒸着用電子銃１２から電子線を坩堝１１内の蒸着原料に照射して原料表面を蒸気化させる。アルミニウム酸化物の真空蒸着における蒸着原料としては金属アルミニウム、アルミニウム酸化物のいずれを用いることも可能である。
【００４９】
金属アルミニウムを蒸着原料として用いた場合には、蒸着用ガス供給パイプ１４から酸素ガスとヘリウム等の非酸化性ガスとの混合ガスを真空蒸着室３へ供給する。またアルミニウム酸化物を直接蒸着原料として用いた場合には、蒸着用ガス供給パイプ１４からは非酸化性ガスのみを供給する。
【００５０】
図１は金属アルミニウムを蒸着原料として用いた場合の図である。
酸素ガスボンベ１５および非酸化性ガスボンベ１６からそれぞれの流量調整器１７、１８、ガス混合器１９、蒸着用ガス供給パイプ１４を通じて真空蒸着室３に供給する。
【００５１】
供給する酸素ガスの量はアルミニウム酸化物の厚さ、酸化度等の成膜条件によって異なり、非酸化性ガスの種類と量は、目的とするポアの数、大きさ、巻き取り速度および用いる真空成膜装置等によって異なってくる。
【００５２】
しかしポアの作製に用いる非酸化性ガスとしては、ポアの大きさ、数の制御の容易さから、ガス分子径の小さいヘリウムガスが最も適している。
【００５３】
真空蒸着室３に供給する酸素ガス量は、蒸着原料である金属アルミニウムの蒸発速度に対し酸素ガス量が、Ｏ2 ／Ａｌモル比換算で０．１５〜０．７５、またヘリウムガス量は、ヘリウムガス／Ａｌモル比換算で０．０８〜０．５であることが望ましい。
【００５４】
酸素ガス比が小さいと金属アルミニウムの酸化度が低く着色が顕著となり、反対に酸素ガス比が大きいとアルミニウム酸化物層中に過剰な酸素ガス分子によって大きなポアが増加し、有機化合物による穴埋めが不十分となってガスバリア性、可撓性ともに十分な効果が発揮できなくなる場合がある。
【００５５】
またヘリウムガス比が小さいとアルミニウム酸化物層中に有効なポアを形成できない場合が生じる。反対にヘリウムガス比が大きいとポアの数、大きさが過剰になり、有機化合物による穴埋めが十分行われずガスバリア性を持たない。
【００５６】
前記のようにして作製されたアルミニウム酸化物ガスバリア層に重合性有機化合物を塗布し、ポア内に浸透させる。真空蒸着室３に引き続く、塗布室４にて重合性有機化合物を塗布する。
【００５７】
塗布室４を１０-1Ｔｏｒｒ以上の真空度に減圧する。次に重合性有機化合物加熱装置２３によって加熱、蒸気化した原料を、重合性有機化合物供給パイプ２０を通じ供給する。
【００５８】
塗布した重合性有機化合物の一部がガスバリア層上に残り有機化合物層を形成し、ガスバリア層と有機化合物層が積層されていてもよい。この有機化合物層は次工程の電子線照射によって重合されるため、電子線照射に適する厚さであることが望ましく、例えば０．０１〜１０μｍとすることができるが、必ずしもこの範囲である必要はない。
【００５９】
重合性有機化合物の塗布後、アルミニウム酸化物層上に塗布された層とともにポア内に浸透した重合性有機化合物を、重合用電子銃２５を有する重合室２６にて、電子線照射により重合させる。蒸着、塗布、重合をインラインで行うことで、目的とするガスバリア材を得ることができる。
【００６０】
【実施例】
次に本発明を実施例により、具体的に説明する。
【００６１】
＜実施例１＞
図１に示すように、高分子樹脂基材として厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム原反を、真空成膜装置１の巻出しロール６に装着した。次に真空成膜装置１内を１×１０-5Ｔｏｒｒまで減圧した。
【００６２】
続いて蒸着用電子銃１２に１５ｋＷの電力を供給して電子ビームを発生させ、偏向コイル１３を用いて、坩堝１１内の蒸発材料であるアルミニウムに照射して蒸発させた。
【００６３】
この時ガス供給パイプ１４を通じてアルミニウムの酸化剤として酸素を、アルミニウム蒸発速度に対し０．４０の割合で、およびポア作製のためにヘリウムを０．１５の割合で導入し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを速度２ｍ／秒で搬送して、この蒸着雰囲気中にさらすことによって、ポアを含むアルミニウム酸化物の薄膜を高分子樹脂基材上に形成した。
【００６４】
上記で得られたポアを含むアルミニウム酸化物層を設けた高分子樹脂基材は、真空蒸着室３に連続した塗布室２４に搬送された。トリエチレングリコールジアクリレートを気化させ、塗布室２４内において塗布し、アルミニウム酸化物層中に浸透させた。
【００６５】
上記の重合性有機化合物は塗布室２４に引き続く重合室２６にて重合された。重合室２６内を重合室用真空ポンプにより１０-1Ｔｏｒｒ以上の真空度に減圧し、重合用電子銃を用いて電子線照射を行った。
【００６６】
照射条件を加速電圧１５０ｋＶ、電子電流１０ｍＡに設定した。ガスバリア層中で重合させることによって無機と有機複合体を設け、巻き出し巻き取り室２の巻き取りロール７によって巻き取り、ガスバリア材を得た。
【００６７】
＜実施例２＞
ヘリウムガス導入量をアルミニウム蒸発速度との比で０．４０としたこと以外は実施例１と同条件でガスバリア材を作製した。
【００６８】
＜比較例１＞
ヘリウムガスを導入しないこと以外は実施例１と同じ条件でガスバリア材を作製した。
【００６９】
＜比較例２＞
重合性有機化合物を塗布、重合しないこと以外は実施例１と同じ条件でガスバリア材を作製した。
【００７０】
＜比較例３＞
重合性有機化合物を塗布、重合しないこと以外は実施例２と同じ条件でガスバリア材を作製した。
【００７１】
＜比較例４＞
重合性有機化合物を塗布、重合しないこと以外は比較例１と同じ条件でガスバリア材を作製した。
【００７２】
上記実施例１、２および比較例１〜４で得られたガスバリア材について、以下の評価を行い、その結果を表１に示した。
【００７３】
［評価方法］
（１）酸素バリア性・・温度３０℃、湿度７０％ＲＨの雰囲気下で、ＭｏｃｏｎＯｘｔｒａｎ１０／５０Ａ酸素ガス透過度測定装置（モダンコントロール社製）にて測定し、酸素透過度とした。
【００７４】
（２）水蒸気バリア性・・温度４０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下で、ＭｏｃｏｎＰｅｒｍａｔｒａｎＷ６水蒸気透過度測定装置（モダンコントロール社製）にて測定し、水蒸気透過度とした。
【００７５】
（３）可撓性・・ガスバリア材の試料を長さ４０ｃｍ、幅１４ｃｍに切り出し、長さ方向に定速で所定の歪み（３％、６％）まで引っ張った後、元に戻して酸素バリア性、水蒸気バリア性を透過度として測定した。
【００７６】
【表１】
0004395917.tif 000002
【００７７】
なお、表中の酸素透過度の単位は、ｃｃ／ｍ2 ・ｄａｙ・ａｔｍ、水蒸気透過度の単位は、ｇ／ｍ2 ・ｄａｙである。
【００７８】
この表に示すように、本発明によって示されたガスバリア材は金属酸化物からなる無機化合物層中に重合性有機化合物が浸透し重合することで無機と有機複合体を形成しているため、比較例に示されるガスバリア材に比べ、初期のガスバリア性に優れさらに所定の歪みまで引っ張った後のガスバリア性に優れ十分な可撓性を示すことが確認された。
【００７９】
【発明の効果】
本発明によれば、高分子樹脂基材の少なくとも片面に設けた金属酸化物を主成分とする無機化合物層の厚さ方向に、有機化合物が均一に分散されたガスバリア層を形成することにより、高度のガスバリア性を有すると共に無機化合物の脆さを克服できることから引っ張り等によるクラックの発生を抑制し、ガスバリア性を維持することのできるガスバリア材およびその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガスバリア材の形成に関わる真空成膜装置を説明する部分断面説明図である。
【符号の説明】
１……真空成膜装置
２……巻き出し巻き取り室
３……真空蒸着室
４……蒸着用ガス供給部
５……重合性有機化合物供給部
６……巻き出しロール
７……巻き取りロール
８……冷却ロール
９……補助ロール
１０…遮蔽板
１１…坩堝
１２…蒸着用電子銃
１３…偏向コイル
１４…蒸着用ガス供給パイプ
１５…酸素ガスボンベ
１６…非酸化性ガスボンベ
１７…酸素ガス流量調整器
１８…非酸化性ガス流量調整器
１９…ガス混合器
２０…重合性有機化合物供給パイプ
２１…重合性有機化合物供給装置
２２…重合性有機化合物流量調整器
２３…重合性有機化合物加熱装置
２４…塗布室
２５…重合用電子銃
２６…重合室
２７…巻き出し巻き取り室用真空ポンプ
２８…真空蒸着室用真空ポンプ
２９…塗布室用真空ポンプ
３０…重合室用真空ポンプ
【図１】
0004395917.tif 000003