(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板にシール材を介して貼り合わされた対向基板とを備え、
前記基板上に、
複数の画素電極と、
前記複数の画素電極及び複数のデータ線が設けられた画素領域と、該画素領域の周辺に位置する周辺領域とを有し、
前記周辺領域に、第１の遮光性導電膜からなると共に所定の間隔で配列された第１部分を有する複数の第１配線と、
前記複数の第１配線と層間絶縁膜を介して互いに異なる層に配置された第２の遮光性導電膜からなると共に、前記第１部分に沿って且つ前記間隔に重なるように設けられた第２部分を夫々有する複数の第２配線と、
前記データ線の一端に接続されたスイッチング素子とが設けられ、
前記対向基板上に、前記シール材が形成された領域の内側において前記画素領域の周囲に第１遮光膜が設けられており、
前記スイッチング素子は、前記第１遮光膜が設けられた額縁遮光領域と重なるように設けられており、
前記第１配線は、前記シール材が形成された領域から前記額縁遮光領域に延在すると共に前記スイッチング素子のソースに画像信号を供給し、前記第２配線は、前記シール材が形成された領域から前記額縁遮光領域に延在すると共に前記スイッチング素子のゲートに制御信号を供給し、前記第１配線に供給される前記画像信号は、前記スイッチング素子のドレインに接続された前記データ線を介して前記画素電極に供給され、
前記第１配線の第１部分と前記第２配線の第２部分とは、前記シール材が形成された領域と前記額縁遮光領域との間隙において、それぞれ同一方向に延在すると共に、互いに端部が重ね合わされてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記対向基板の前記基板と対向する面とは反対側の面に設けられた防塵用基板を備え、
前記防塵用基板に、前記画素領域を囲むように設けられた第２遮光膜が設けられており、
前記第２遮光膜は、前記シール領域と前記第１遮光膜との間隙を覆うように設けられてなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１及び第２配線は、ＯＤ（Optical Density）値が２以上である導電膜を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置の一例である液晶装置では、例えば、画素電極や画素スイッチング用素子が形成される素子基板と、対向電極が形成される対向基板とが所定の隙間を介してシール領域において例えば紫外線硬化樹脂等のシール材によって貼り合わされ、これらの基板間に液晶が封入される。液晶装置を、例えば、液晶プロジェクタにおけるライトバルブとして用いる場合、ライトバルブの表面にごみや埃等（以下、単に「粉塵」という。）が付着すると、映写幕上にその粉塵の像もまた投影されてしまうことで、画像の品質を低下させる可能性がある。このため、液晶装置を構成する基板の外側表面に防塵用基板が設けられることが多い（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
また、対向基板には、液晶装置における表示領域の額縁（即ち、輪郭）を規定する額縁遮光膜（或いは「周辺見切り膜」とも呼ばれる）が設けられるのが一般的である。シール材を硬化させるための対向基板の外側からの紫外線照射を妨げないようにするために、額縁遮光膜は、シール領域と重ならないように、設計マージン分だけ隙間をあけて形成されることが多い。このため、額縁遮光膜とシール領域との間に設けられた隙間から光が漏れて、表示品質が低下してしまうおそれがある。そこで特許文献１では、防塵用基板に遮光膜を設けることによって、シール材を硬化させるための紫外線照射を妨げずに、表示領域の額縁付近の遮光性を高める技術が本願出願人によって開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２９５６８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、対向基板上の額縁遮光膜と防塵用基板に設けられた遮光膜とがずれてしまった場合などに、防塵用基板に設けられた遮光膜によって、額縁付近の遮光性を十分に高めることができないおそれがある。
【０００６】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、表示領域の額縁付近の遮光性を向上させることが可能な電気光学装置、及びこれを備えた電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本件の参考発明に係る電気光学装置は上記課題を解決するために、電気光学物質を挟持する一対の第１及び第２基板と、前記第１基板上の画素領域に設けられた複数の画素電極と、前記第２基板上に設けられており、前記画素領域の周囲を規定する第１遮光膜と、前記第１遮光膜が形成された第１遮光領域の周囲に沿ったシール領域において、前記第１及び第２基板を相互に貼り合わせるシール材と、前記第２基板における前記電気光学物質に対向しない側に設けられた防塵用基板と、前記防塵用基板上に前記画素領域を囲むように設けられた第２遮光膜と、前記第１基板上に前記第１及び第２遮光膜の各々と少なくとも部分的に重なるように設けられた第３遮光膜とを備える。
【０００８】
本件の参考発明に係る電気光学装置では、一対の第１及び第２基板は、例えば液晶等の電気光学物質を挟持しており、シール領域において例えば紫外線硬化樹脂等からなるシール材によって相互に貼り合わせられる。第１基板上には複数の画素電極が例えばマトリクス状に設けられ、第２基板上には例えばベタ状に対向電極が画素電極に対向して設けられる。電気光学装置の動作時には、例えば画像信号等に基づいて、画素電極及び対向電極間の液晶等の電気光学物質に電圧が印加され、複数の画素電極が配列された画素領域或いは画素アレイ領域（又は「画像表示領域」とも呼ぶ）において画像表示が行われる。電気光学装置は、例えば光源から入射する光に応じて表示光を、透過又は反射によって出射できる。電気光学装置は、例えば、表示領域としての画素領域に対応した開口部が設けられた遮光性のケースに収容されて、投射型表示装置におけるライトバルブとして実装される。
【０００９】
本件の参考発明では、第２基板上に設けられた、例えばＣｒ（クロム）等からなる第１遮光膜によって画素領域の周囲（即ち、額縁或いは輪郭）が規定される。言い換えれば、第１遮光膜は、表示領域としての画素領域の周囲を規定する額縁遮光膜として機能する。第１遮光膜は、画素領域を囲むシール領域の内側（即ち、画素領域が位置する側）に、例えば紫外線硬化樹脂からなるシール材に対する紫外線照射を妨げないための設計マージンを確保しつつ（即ち、シール領域に重ならないように、シール領域との間に所定の間隔を保ちつつ）、例えば所定の幅で、画素領域の周囲を規定するように形成される。
【００１０】
更に、本件の参考発明では、例えば透明なガラス基板等からなる防塵用基板が、第２基板における電気光学物質に対向しない側の面（即ち、第２基板の外側表面）に設けられている。よって、第２基板の外側表面に直接に粉塵が付着するのを防止できると共に、防塵用基板上に仮に粉塵が付着したとしても、該防塵用基板が所定の厚さを有することにより、画像上に粉塵の像が投影されるというような事態を未然に回避することができる。尚、このような防塵用基板を第１基板における電気光学物質に対向しない側にも設けてもよい。
【００１１】
防塵用基板上には、例えばＣｒ等からなる第２遮光膜が画素領域を囲むように設けられる。より具体的には、第２遮光膜は、防塵用基板上に、第１遮光膜によって規定される画素領域の周囲の外側（即ち、シール領域が位置する側）に設計マージンを確保する（即ち、画素領域に重ならないように、画素領域との間に所定の間隔を保つ）と共に第１遮光膜と重なる部分を有しつつ、画素領域を囲むように、典型的には、画素領域の周囲から防塵用基板の縁に至るまで、形成される。よって、例えば光源から入射される光が、第１遮光膜とシール材との間から出射されてしまうことを低減できる。
【００１２】
しかしながら、仮に防塵用基板上の第２遮光膜が、第１遮光膜と重なる部分を有するための設計マージン以上にずれた位置に形成されてしまった場合には、例えば光源から入射される光が、第１遮光膜とシール材との間を介して電気光学装置から出射されてしまうおそれがある。
【００１３】
しかるに本件の参考発明では特に、第１基板上には、例えばＡｌ（アルミニウム）等からなる第３遮光膜が、第１基板上で平面的に見て、第１及び第２遮光膜の各々と少なくとも部分的に重なるように設けられる。より具体的には、第３遮光膜は、第１基板上に、第１遮光膜によって規定される画素領域の周囲の外側に設計マージンを確保しつつ第１遮光膜と重なる部分を有すると共に、第２遮光膜とも部分的に重なるように設けられる。典型的には、第１基板上で平面的に見て、第１遮光膜と第２遮光膜とが重なる領域、或いは、第１遮光膜と第２遮光膜との境界或いは間の領域に少なくとも部分的に設けられる。よって、防塵用基板上の第２遮光膜が、設計マージン以上にずれた位置に形成されてしまった場合であっても、第１基板上に設けられた第３遮光膜によって、例えば光源から入射される光が、第１遮光膜とシール材との間を介して電気光学装置から出射されてしまうこと（即ち、光漏れが発生してしまうこと）を低減或いは防止できる。即ち、電気光学装置の画素領域の周辺における遮光性を高めることができる。
【００１４】
本件の参考発明に係る第１の電気光学装置の一態様では、前記第３遮光膜は、遮光性導電膜からなる少なくとも一の配線として形成される。
【００１５】
この態様によれば、第３遮光膜は、例えばＡｌ膜等の導電性遮光膜からなり、例えば、画像信号を供給するための画像信号線や第１基板上に形成された例えば薄膜トランジスタ等のスイッチング素子にゲート信号を供給するためのゲート線等の配線として形成される。よって、第３遮光膜は、第１基板上に形成される例えば画像信号線やゲート線等の配線を兼ねることができる。従って、第３遮光膜を、第１基板上の配線とは別個に設ける必要がない。これにより、電気光学装置の遮光性を高めつつ、装置の小型化が可能となる。
【００１６】
上述した第３遮光膜が少なくとも一の配線として形成される態様では、前記第３遮光膜は、所定の間隔で配列された複数の第１配線と、該複数の第１配線と層間絶縁膜を介して異なる層に配置されると共に、前記複数の第１配線に沿って且つ前記間隔に重なるように設けられた第１部分を夫々有する複数の第２配線として形成される。
【００１７】
この場合には、相隣接する第１配線の間に、第２配線の第１部分が形成される。典型的には、第２配線の第１部分は、相隣接する第１配線間の間隔よりも広い配線幅で形成され、相隣接する第１配線の両方に重なるように形成される。言い換えれば、第２配線の第１部分は、相隣接する第１配線間の間隔を覆うように形成される。よって、電気光学装置の遮光性を高めつつ、装置の小型化が可能となる。
【００１８】
上述した第３遮光膜が少なくとも一の配線として形成される態様では、前記第３遮光膜は、２［ｕｍ］以下の間隔で配列された複数の第３配線として形成される。
【００１９】
この場合には、例えば１０［ｕｍ］程度の配線幅をそれぞれ有する複数の第３配線が２［ｕｍ］以下の間隔で配列される。よって、複数の第３配線間の絶縁を保ちつつ（即ち第３遮光膜を複数の配線として機能させつつ）、配線間隔を狭くすることで、装置の遮光性能を高めることができる。尚、仮に複数の第３配線の間隔が２［ｕｍ］よりも大きい場合には、複数の第３配線（即ち、第３遮光膜）の遮光膜としての機能が低下してしまうおそれがあるが、第３遮光膜がない場合と比較すれば、第３遮光膜によって相応に遮光性能を向上させることができる。
【００２０】
本件の参考発明に係る電気光学装置の他の態様では、前記第３遮光膜は、ＯＤ（Optical Density）値が２以上である導電膜を含む。
【００２１】
この態様によれば、第３遮光膜は、ＯＤ値が２以上である（即ち、光透過率が０．０１％以下である）例えばアルミニウム等の導電膜を含んで形成されるので、高遮光性能を有する。このため、第３遮光膜によって、第１遮光膜とシール材との間からの光漏れを、確実に低減或いは防止できる。即ち、電気光学装置の画素領域の周辺における遮光性を、確実に高めることができる。
【００２２】
本発明に係る電気光学装置は上記課題を解決するために、基板と、前記基板にシール材を介して貼り合わされた対向基板とを備え、前記基板上に、複数の画素電極と、前記複数の画素電極及び複数のデータ線が設けられた画素領域と、該画素領域の周辺に位置する周辺領域とを有し、前記周辺領域に、第１の遮光性導電膜からなると共に所定の間隔で配列された第１部分を有する複数の第１配線と、前記複数の第１配線と層間絶縁膜を介して互いに異なる層に配置された第２の遮光性導電膜からなると共に、前記第１部分に沿って且つ前記間隔に重なるように設けられた第２部分を夫々有する複数の第２配線と、前記データ線の一端に接続されたスイッチング素子とが設けられ、前記対向基板上に、前記シール材が形成された領域の内側において前記画素領域の周囲に第１遮光膜が設けられており、前記スイッチング素子は、前記第１遮光膜が設けられた額縁遮光領域と重なるように設けられており、前記第１配線は、前記シール材が形成された領域から前記額縁遮光領域に延在すると共に前記スイッチング素子のソースに画像信号を供給し、前記第２配線は、前記シール材が形成された領域から前記額縁遮光領域に延在すると共に前記スイッチング素子のゲートに制御信号を供給し、前記第１配線に供給される前記画像信号は、前記スイッチング素子のドレインに接続された前記データ線を介して前記画素電極に供給され、前記第１配線の第１部分と前記第２配線の第２部分とは、前記シール材が形成された領域と前記額縁遮光領域との間隙において、それぞれ同一方向に延在すると共に、互いに端部が重ね合わされてなる。
また、前記対向基板の前記基板と対向する面とは反対側の面に設けられた防塵用基板を備え、前記防塵用基板に、前記画素領域を囲むように設けられた第２遮光膜が設けられており、前記第２遮光膜は、前記シール領域と前記第１遮光膜との間隙を覆うように設けられてもよい。
【００２３】
本発明に係る第２の電気光学装置によれば、基板上に複数の画素電極が設けられ、例えば対向電極が形成された対向基板が画素電極に対向して配置される。電気光学装置の動作時には、上述した本発明に係る第１の電気光学装置と概ね同様に、例えば画像信号等に基づいて、画素電極及び対向電極間の液晶等の電気光学物質に電圧が印加され、画素電極が配列された画素領域において画像表示が行われる。
【００２４】
本発明では特に、第１部分を夫々有する複数の第１配線と第２部分を夫々有する複数の第２配線とを備えている。第１及び第２部分の各々は、層間絶縁膜を介して互いに異なる層に配置された遮光性導電膜からなる。複数の第１部分は、所定の間隔で配列されており、複数の第２部分はそれぞれ、第１部分に沿って且つ第１部分が配列される間隔に重なるように設けられる。即ち、典型的には、第２部分は、相隣接する第１部分間の間隔よりも広い配線幅で形成され、相隣接する第１部分の両方に重なるように形成される。言い換えれば、第２部分は、相隣接する第１部分間の間隔を覆うように形成される。よって、例えば光源から入射される光が、表示領域である画素領域以外の領域において電気光学装置から出射されてしまうこと（即ち、光漏れが発生してしまうこと）を低減或いは防止できる。言い換えれば、複数の第１及び第２配線（より正確には、第１及び第２部分）は、画素領域の周囲を規定する額縁遮光膜（或いは周辺見切り膜）の一部又は全部として機能することができる。即ち、電気光学装置の画素領域の周辺における遮光性を高めることができる。更に、仮に、画素領域の周囲を規定する額縁遮光膜を、画素領域を囲む連続した単一膜として形成した場合に発生し得るクラックの発生を回避できる。よって、装置の信頼性を高めることができる。
【００２５】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明に係る第１又は第２の電気光学装置を具備してなる。
【００２６】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る第１又は第２の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置（Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display）、これら電気泳動装置、電子放出装置を用いた表示装置を実現することも可能である。
【００２７】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例であるＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る液晶装置について、図１から図７を参照して説明する。
【００２９】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図３を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。図３は、実装ケースを液晶装置と共に示す分解斜視図である。
【００３０】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１００では、素子基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。尚、素子基板１０は、本発明に係る「第１基板」の一例であり、対向基板２０は、本発明に係る「第２基板」の一例である。素子基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、素子基板１０と対向基板２０とは、本発明に係る「画素領域」の一例としての画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に接着されている。シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、紫外線硬化樹脂からなり、製造プロセスにおいて素子基板１０上に塗布された後、紫外線照射により硬化させられたものである。また、シール材５２中には、素子基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。
【００３１】
更に、素子基板１０及び対向基板２０における液晶層５０に対向しない側には、防塵用基板４１０及び４２０がそれぞれ設けられている。防塵用基板４１０及び４２０は、透明なガラス基板からなり、素子基板１０及び対向基板２０にそれぞれ接着されている。また、図１では図示を省略しているが、防塵用基板４２０の対向基板２０に対向する側の面上には、画像表示領域１０ａを囲むように、本発明に係る「第２遮光膜」の一例としての額縁遮光膜４２５（図２参照）が設けられている。
【００３２】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域５３ａを規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、額縁遮光膜５３は、本発明に係る「第１遮光膜」の一例であり、額縁領域５３ａは、本発明に係る「第１遮光領域」の一例である。周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの外側に位置する領域には、画像信号が供給される画像信号端子を含む外部回路接続端子１０２が素子基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域５２ａよりも内側に、デマルチプレクサ７が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域５２ａの内側に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、素子基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、素子基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３３】
素子基板１０上には、外部回路接続端子１０２と、デマルチプレクサ７、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００３４】
図２において、素子基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用ＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用ＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上層に複数の画素電極９ａがマトリクス状に設けられている。画素電極９ａ上には、配向膜が形成されている。他方、対向基板２０における素子基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば遮光性金属膜等から形成されており、対向基板２０上の画像表示領域１０ａ内で、例えば格子状等にパターニングされている。即ち、遮光膜２３は、画像表示領域１０ａにおける表示に寄与する光が出射される開口領域を規定する、ブラックマトリクスとして機能する。そして、遮光膜２３上に、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向してベタ状に形成されている。対向電極２１上には配向膜が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００３５】
尚、ここでは図示しないが、素子基板１０上には、後述する遮光膜７１０が形成されている（図５参照）。また、素子基板１０上には、デマルチプレクサ７、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。
【００３６】
図３において、上述のように構成された液晶装置１００は、実装ケース６０１に収容されて、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器に実装される。液晶装置１００の外部回路接続端子１０２には、フレキシブルプリント配線板（以下「ＦＰＣ」と略称する）５０１が接続されている。ＦＰＣ５００上には、後述する画像信号供給回路が形成されている。また、液晶装置１００の外表面には、反射防止板等の光学部材が付設されている。但し、偏光板や位相差板等は、液晶装置１００の外表面に付設されてもよいが、液晶装置１００が実装される、例えば液晶プロジェクタの光学系が備えていてもよい。
【００３７】
図３に示すように、実装ケース６０１は、液晶装置１００を収容するフレーム６１０と、フレーム６１０に被さるカバー部材６２０とからなる。カバー部材６２０は、両側縁のフック６２７をフレーム６１０の側面に形成された爪部６１７に引っ掛けることによって、フレーム６１０と組み合せられている。
【００３８】
液晶装置１００は、フレーム６１０に対向基板２０側が面する向きに収容され、素子基板１０側の外表面をカバー部材６２０で覆われている。即ち、液晶装置１００が実装ケース６０１に収容されて例えば液晶プロジェクタに実装されて液晶ライトバルブとして用いられる際には、フレーム６１０の側から光が入射し、液晶装置１００を透過して、カバー部材６２０の側から出射する。液晶装置１００は、その周縁部側からフレーム６１０によって包囲された状態で、該フレーム６１０に接着剤によって接着されることによって固定されて、該フレーム６１０内に収容される。よって、液晶装置１００は、フレーム６１０によって、その周縁部側から包囲される状態となる。尚、このように実装ケース６０１内に収容された状態で、液晶装置１００における、画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域は、フレーム６１０によって覆われている。このため、フレーム６１０は、当該周辺領域における光抜けを防止したり或いは周辺領域から画像表示領域１０ａ内に迷光が進入したりするのを防止する遮光機能を有している。
【００３９】
カバー部材６２０は、開口部として窓部６２５が設けられた額縁状の本体と、本体の両脇に、フック６２７とを備えている。窓部６２５は、液晶装置１００の画像表示領域１０ａ（図１参照）から射出される光を取り出すために、画像表示領域１０ａと対向するように開口されている。
【００４０】
次に、本実施形態に係る液晶装置の電気的な構成について、図４を参照して説明する。ここに図４は、本実施形態に係る液晶装置の電気的な構成を示す回路図である。
【００４１】
図４において、液晶装置１００は、素子基板１０上に、デマルチプレクサ７及び走査線駆動回路１０４を備えている。素子基板１０上の外部回路接続端子１０２のうち画像信号端子１０２ｖに外部回路としての画像信号供給回路４００が接続されている。
【００４２】
素子基板１０上の画像表示領域１０ａには、３２０行の走査線１１ａが行方向（即ち、Ｘ方向）に延在するように設けられ、また、４本毎にグループ化された４８０（＝１２０×４）列のデータ線６ａが列方向（即ち、Ｙ方向）に延在するように、且つ、各走査線１１ａと互いに電気的な絶縁を保つように、設けられている。尚、走査線１１ａ及びデータ線６ａの本数はそれぞれ３２０本及び４８０本に限定されるものではない。１グループを構成するデータ線数は、本実施形態では「４」としたが、「２」以上であればよい。
【００４３】
画素電極９ａは、３２０本の走査線１１ａと４８０本のデータ線６ａとの交差部に対応して、それぞれ配列されている。従って、本実施形態では、画素電極９ａは、縦３２０行×横４８０列で、所定の画素ピッチでマトリクス状に配列することになる。尚、ここでは図示しないが、各画素電極９ａとデータ線６ａとの間には、走査線１１ａを介して夫々供給される走査信号に応じて夫々の導通状態及び非導通状態が制御される画素スイッチング用ＴＦＴや、画素電極９ａに印加した電圧を長く維持する蓄積容量のための容量配線が形成されている。
【００４４】
ここで本実施形態では、１グループを構成する４列のデータ線６ａを区別するために、左から順にそれぞれａ、ｂ、ｃ、ｄ系列と呼ぶ場合がある。詳細には、ａ系列とは１、５、９、…、４７７列目のデータ線６ａであり、ｂ系列とは２、６、１０、…、４７８列目のデータ線６ａであり、ｃ系列とは３、７、１１、…、４７９列目のデータ線６ａであり、ｄ系列とは４、８、１２、…、４８０列目のデータ線６ａである。
【００４５】
図４において、走査線駆動回路１０４は、１、２、３、…、３２０行目の走査線１１ａに、走査信号Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、…、Ｇ３２０を供給する。
【００４６】
画像信号供給回路４００は、ＦＰＣ５０１上に形成されており、画像信号端子１０２ｖを介して素子基板１０と接続される。画像信号供給回路４００は、走査線駆動回路１０４によって選択された走査線１１ａと、各グループに属する４列のデータ線６ａのうち、デマルチプレクサ７によって選ばれるデータ線６ａとに対応する画素電極９ａに対し、当該画素電極９ａが含まれる画素の階調に応じた電圧の画像信号を出力する。画像信号供給回路４００から画像信号端子１０２ｖに供給された画像信号は、画像信号線３００を介してデマルチプレクサ７へ供給される。
【００４７】
尚、本実施形態では、上述したように、データ線６ａの列数は「４８０」であり、これらが４列毎にグループ化されているので、画像信号端子１０２ｖの個数は「１２０」である。
【００４８】
デマルチプレクサ７は、データ線６ａ毎に設けられた複数のＴＦＴ７１を含んで構成されている。ここで、ＴＦＴ７１はｎチャネル型であり、各ドレインはデータ線６ａの一端に接続されている。同一グループに属するデータ線６ａに対応する４個のＴＦＴ７１のソースは、当該グループに対応する画像信号線３００から分岐されたソース線９２とそれぞれ電気的に接続されている、言い換えれば、当該グループに対応する画像信号線３００と共通接続されている。
【００４９】
即ち、ｍ番目（但し、ｍは１以上１２０以下の整数）のグループは、ａ系列の（４ｍ−３）列目、ｂ系列の（４ｍ−２）列目、ｃ系列の（４ｍ−１）列目およびｄ系列の（４ｍ）列目のデータ線６ａから構成されるので、これら４列のデータ線６ａに対応するＴＦＴ７１のソースは共通接続されて、画像信号ＶＩＤ（ｍ）が供給される。（４ｍ−３）列目のデータ線６ａに対応するＴＦＴ７１のゲートには、制御信号線３１０から分岐されたゲート線９１を介して制御信号Ｓｅｌ１が供給され、同様に（４ｍ−２）列目、（４ｍ−１）列目および（４ｍ）列目のデータ線６ａに対応するＴＦＴ７１のゲートには、制御信号線３１０から分岐されたゲート線９１を介して制御信号Ｓｅｌ２、Ｓｅｌ３及びＳｅｌ４が供給される。尚、制御信号Ｓｅｌ１、Ｓｅｌ２、Ｓｅｌ３及びＳｅｌ４は、図示しない外部回路としてのタイミング制御回路から外部回路接続端子１０２を介して供給される。
【００５０】
次に、本実施形態に係る液晶装置の画像表示領域の周囲における遮光に係る構成について、図５から図７を参照して説明する。ここに図５は、実装ケース入りの液晶装置における、図２に対応する断面図である。尚、図５では、液晶装置の画像表示領域の周囲における遮光に係る構成要素を主として示し、それら以外の構成要素については適宜省略している。また、図５においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
【００５１】
図５において、対向基板２０上の遮光領域５３ａには、額縁遮光膜５３が設けられている（図１参照）。額縁遮光膜５３は、画像表示領域１０ａの周囲（即ち、額縁或いは輪郭）を規定している。このため、実装ケース６０１、額縁遮光膜４２５及び後述する遮光膜７１０のいずれよりも画像表示領域１０ａの中央寄りにまで形成されている。額縁遮光膜５３は、画像表示領域１０ａを囲むシール領域５２ａの内側（即ち、画像表示領域１０ａが位置する側）に、紫外線硬化樹脂からなるシール材５２に対する紫外線照射を妨げないための設計マージンを確保しつつ（即ち、シール領域５２ａに重ならないように、シール領域５２ａとの間に所定の間隔８０ａを保ちつつ）、画像表示領域１０ａの周囲を規定するように形成されている。
【００５２】
防塵用基板４２０上には、額縁遮光膜４２５が画像表示領域１０ａを囲むように設けられている。より具体的には、額縁遮光膜４２５は、防塵用基板４２０上に、額縁遮光膜５３によって規定される画像表示領域１０ａの周囲の外側（即ち、シール領域５２ａが位置する側）に設計マージンを確保する（即ち、画像表示領域１０ａに重ならないように、画像表示領域１０ａとの間に所定の間隔８２ａを保つ）と共に額縁遮光膜５３ａ、間隔８０ａ及びシール領域５２ａと重なる部分を有しつつ、画像表示領域１０ａを囲むように形成されている。よって、例えば対向基板２０側の光源から入射される入射光が、額縁遮光膜５３とシール材５２との間（即ち、額縁領域５３ａとシール領域５２ａとの間の間隔８０ａ）から出射されてしまうことを低減できる。
【００５３】
しかしながら、仮に防塵用基板４２０上の額縁遮光膜４２５が、額縁遮光膜５３と重なる部分を有するための設計マージン以上にずれた位置に形成されてしまった（即ち、額縁領域５３ａとシール領域５２ａとの間の間隔８０ａが額縁遮光膜４２５によって覆われない部分が生じる）場合には、例えば対向基板２０側の光源から入射される入射光が、額縁領域５３ａとシール領域５２ａとの間の間隔８０ａを介して液晶装置１００から出射されてしまうおそれがある。
【００５４】
しかるに、図５において、本実施形態では特に、素子基板１０上には、例えばＡｌ等からなる遮光膜７１０が、素子基板１０上で平面的に見て、額縁遮光膜５３及び額縁遮光膜４２５の各々と少なくとも部分的に重なるように設けられている。より具体的には、遮光膜７１０は、素子基板１０上に、額縁遮光膜５３によって規定される画像表示領域１０ａの周囲の外側に設計マージンを確保しつつ（即ち、画像表示領域１０ａに重ならないように、画像表示領域１０ａとの間に所定の間隔８４ａを保ちつつ）額縁遮光膜５３と重なる部分を有すると共に、額縁遮光膜４２５とも部分的に重なるように設けられている。言い換えれば、素子基板１０上で平面的に見て、額縁遮光膜５３とシール領域５２ａと間の間隔８０ａに少なくとも部分的に設けられている。よって、防塵用基板４２０上の額縁遮光膜４２５が、設計マージン以上にずれた位置に形成されてしまった場合であっても、素子基板１０上に設けられた遮光膜７１０によって、入射光が、額縁遮光膜５３とシール材５２との間を介して液晶装置１００から出射されてしまうこと（即ち、光漏れが発生してしまうこと）を低減、或いは好ましくは防止できる。即ち、液晶装置１００の画像表示領域１０ａの周辺における遮光性を高めることができる。
【００５５】
ここで、素子基板１０上に設けられた遮光膜７１０について、図６及び図７を参照して、より詳細に説明する。ここに図６は、図１の領域Ｃ１内を拡大して示す拡大平面図である。図７は、図６のＡ−Ａ´線断面図である。尚、図６及び図７では、液晶装置の画像表示領域の周囲における遮光に係る構成要素を主として示し、それら以外の構成要素については適宜省略している。また、図７においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
【００５６】
図６及び図７において、本実施形態では特に、遮光膜７１０は、図３を参照して上述したゲート線９１及びソース線９２として形成されている。
【００５７】
ゲート線９１は、素子基板１０上に下地絶縁膜１２及び層間絶縁膜４１が順に積層された積層構造の上層に、遮光性導電膜であるＡｌ膜から形成されている。ゲート線９１は、シール領域５２ａから額縁遮光領域５３ａへ向かって（或いは、額縁遮光領域５３ａからシール領域５２ａへ向かって）延びるように、即ち、シール領域５２ａと額縁遮光領域５３ａと間の間隔８０ａ内でＹ方向に沿って延びるように配線されている。
【００５８】
ソース線９２は、ゲート線９１よりも層間絶縁膜４２を介して上層に、遮光性導電膜であるＡｌ膜から形成されている。ソース線９２は、ゲート線９１と同様に、シール領域５２ａと額縁遮光領域５３ａと間の間隔８０ａ内でＹ方向に沿って延びるように配線されている。
【００５９】
即ち、層間絶縁膜４２を介して互いに異なる層に配置された遮光性導電膜であるＡｌ膜からなるゲート線９１及びソース線９２が、シール領域５２ａと額縁遮光領域５３ａと間の間隔８０ａに、Ｙ方向に沿って延びるように配線されている。言い換えれば、遮光性導電膜からなるゲート線９１及びソース線９２は、シール領域５２ａと額縁遮光領域５３ａと間の間隔８０ａを遮光する遮光膜７１０として機能することができる。よって、遮光膜７１０を、ＴＦＴ７１のゲート線及びソース線と別個に設ける必要がない。従って、液晶装置１００の遮光性を高めつつ、装置の小型化が可能となる。
【００６０】
更に、図６及び図７において、本実施形態では特に、相隣接するゲート線９１の間に、ソース線９２が形成されており、更に、ソース線９２は、相隣接するゲート線９１間の間隔Ｄ１よりも広い配線幅Ｗ１で形成され、相隣接するゲート線９１の両方に重なるように形成されている。言い換えれば、ソース線９２は、相隣接するゲート線９１間の間隔Ｄ１を覆うように形成されている。よって、液晶装置１００の遮光性を一層高めると共に、装置の小型化が可能である。加えて、遮光膜７１０を単一膜として形成した場合に発生し得るクラックの発生を回避できる。よって、装置の信頼性を高めることができる。
【００６１】
尚、遮光膜７１０（言い換えれば、領域Ｃ１内では、ソース線９１及びゲート線９２）によって、入射光が、図７中の二点鎖線で示すように、額縁遮光膜５３によって反射された後、更に額縁遮光膜４２５によって再反射されて、素子基板１０側から出射されてしまうことを低減、或いは好ましくは防止できる。
【００６２】
加えて、本実施形態では特に、ゲート線９１及びソース線９２を含む遮光膜７１０は、ＯＤ値が２以上である（即ち、光透過率が０．０１％以下である）Ａｌ膜を含んで形成されている。よって、遮光膜７１０の遮光性が高められている。従って、遮光膜７１０によって、額縁遮光膜５３とシール材５２との間（即ち、間隔８０ａ）からの光漏れを、確実に低減、或いは好ましくは防止できる。即ち、液晶装置１００の画像表示領域１０ａの周辺における遮光性を、確実に高めることができる。
【００６３】
次に、本実施形態に係る液晶装置の変形例について、図８を参照して説明する。ここに図８は、変形例における図６と同趣旨の拡大平面図である。
【００６４】
図８に示すように、遮光膜７１０としても兼用されるゲート線９１及びソース線９２は、それぞれ約１０[ｕｍ]の配線幅Ｗ２を有しており、約２[ｕｍ]の間隔Ｄ２で配列されるように構成してもよい。この場合にも、シール領域５２ａと額縁遮光領域５３ａと間に部分的に設けられたゲート線９１及びソース線９２によって、液晶装置１００の遮光性能を高めることができる。更に、ゲート線９１とソース線９２と間隔Ｄ２を２[ｕｍ]以下となるようにより狭く形成することで、遮光性を一層高めることができる。尚、このように構成する場合には、ゲート線９１及びソース線９２は、層間絶縁膜を介して互いに異なる層に配置された遮光性導電膜から形成してもよいし、同層に配置された遮光性導電膜から形成してもよい。
【００６５】
尚、仮にゲート線９１とソース線９２との間隔が２［ｕｍ］よりも大きい場合には、ゲート線９１及びソース線９２（即ち、遮光膜７１０）の遮光膜としての機能が低下してしまうおそれがあるが、遮光膜７１０がない場合と比較すれば、遮光膜７１０としてのゲート線９１及びソース線９２によって相応に遮光性能を向上させることができる。
＜電子機器＞
次に、上述した液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて、図９を参照して説明する。ここに図９は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。
【００６６】
図９に示すように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブ１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００６７】
ライトバルブ１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇは、上述した実装ケース入りの液晶装置として構成されており、画像信号供給回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらのライトバルブによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００６８】
尚、ライトバルブ１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【００６９】
尚、図９を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７０】
また本発明は、上述の実施形態で説明した液晶装置以外にも、シリコン基板上に素子を形成する反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等にも適用可能である。
【００７１】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】第１実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】実装ケースを液晶装置と共に示す分解斜視図である。
【図４】第１実施形態に係る液晶装置の電気的な構成を示す回路図である。
【図５】実装ケース入りの液晶装置における、図２に対応する断面図である。
【図６】図１の領域Ｃ１内を拡大して示す拡大平面図である。
【図７】図６のＡ−Ａ´線断面図である。
【図８】変形例における図６と同趣旨の拡大平面図である。
【図９】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７３】
６ａ…データ線、７…デマルチプレクサ、９ａ…画素電極、１０…素子基板、１０ａ…画像表示領域、１１ａ…走査線、２０…対向基板、２１…対向電極、２３…遮光膜、５０…液晶層、５２…シール材、５２ａ…シール領域、５３…額縁遮光膜、５３ａ…遮光領域、７１…ＴＦＴ、１０２…外部回路接続端子、１０２ｖ…画像信号端子、１０４…走査線駆動回路、１０６…上下導通端子、１０７…上下導通材、３００…画像信号線、４１０、４２０…防塵用基板、４２５…額縁遮光膜、６０１…実装ケース、６１０…フレーム、６２０…カバー部材、７１０…遮光膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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