(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブル、基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設けたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、
ケース状の機枠に板状の仕切り部材を介して洗浄室と乾燥室を形成すると共に、前記供給側と前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルと前記排出側を横並びに設け、前記機枠に前記仕切り部材を介して制御機器を収容する機械室が形成され、
前記機械室内に配置されて前記供給側の上方を前記始端とし前記排出側の上方を前記終端とする前記基板搬送案内路は、断面形状がコ字状のレールであって、その開口部を前記仕切り部材の開口部に臨ませて前記洗浄室、乾燥室側に開口して、前記基板搬送案内路の開口部と前記仕切り部材の開口部の内外をアームが貫通しており、前記基板搬送案内路に摺動部を設けると共に、この摺動部に前記アームを介して前記搬送用基板保持手段が設けられ、かつ前記基板搬送案内路の開口部は前記仕切り部材の前記開口部よりも大きいことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子装置等に使用されるハードディスクの基板を洗浄し乾燥させるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のものとして基板の供給側と、インデックステーブルを備えた基板洗浄部と、同じくインデックステーブルを備えた基板乾燥部と、基板の排出側を一列に並べ、供給側と基板洗浄部との間、基板洗浄部と基板乾燥部との間、さらに基板乾燥部と排出側との間にそれぞれ基板搬送案内路を設けて、供給側の基板を基板の保持手段によって順次排出側に搬送することにより基板を連続的に洗浄、乾燥を行うものが知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
この従来技術では図８、図９に示すように、基板の保持手段101は夫々基板を保持していない状態と仮定する。保持手段102が、マガジン103から１枚の基板を取り出し、基板受取位置M1にある保持手段101まで基板を搬送する。保持手段101は例えば３個の基板保持具101Ａ,101Ｂ,101Ｃを夫々外側にずらして基板Ｄを受け取り、基板Ｄを回転可能に保持する。その後、洗浄用のインデックステーブル104が矢印105の方向に90度ごとに回転し、保持手段101は夫々第１，２基板洗浄位置M２，Ｍ３及び基板取出位置M４となる。保持手段101が第１基板洗浄位置M1になると、基板洗浄器106が移動し、基板Ｄの両面、内周、外周を洗浄具106Ａ，106Ｂ，106Ｃを用いて中性洗剤によりスクラブ洗浄する。基板Ｄは回転自由に保持されている。基板受取位置M1において基板の受取が完了し且つ第１基板洗浄位置M2で基板の洗浄が終了すると、基板洗浄器106はインデックステーブル104の回転に支障がない位置に待避し、インデックステーブル104が矢印105の方向に90度回転する。この回転により、保持手段101は夫々第１基板洗浄位置M2、第２基板洗浄位置M3、基板取出位置M４となる。第１の基板洗浄器106と同様の構成の第２の基板洗浄器107は、市水或いは純水により基板を更に洗浄する。この間に、基板洗浄器106は第２の基板Ｄを中性洗剤により洗浄し、基板受取位置M1にある保持手段101は基板Ｄを受け取っている。基板Ｄの受け取り、第１及び第２の基板洗浄が完了すると、インデックステーブル104は更に90度回転する。基板取出位置M4にきた基板Ｄは例えば純水のシャワーリンスを受けた後、基板搬送手段108により取り外され、基板洗浄室109Ａから基板乾燥室109Ｂに運ばれる。このようにして、基板洗浄室109Ａは複数の基板Ｄを順次洗浄して次段の基板乾燥室109Ｂに送り出す。乾燥室109Ｂにはインデックステーブル110を有し、矢印111の方向に回転可能である。インデックステーブル110には、基板Ｄの保持手段112が設けられ、夫々、基板受取位置N1、第１乾燥位置N2、第２乾燥位置N3、基板取出位置N4にある。保持手段112は夫々基板Ｄの内周壁の３点で基板を固定して保持するように例えば３個の基板保持具112Ａ,112Ｂ,112Ｃを備えている。113は基板Ｄを遠心力で乾燥させる際の水滴飛散防止用の壁である。
【０００４】
そして、第１枚目の基板Ｄ（第１の基板）が基板受取位置N1にある保持手段101に取り付けられると、インデックステーブル104は矢印111の方向に90度回転し、保持手段112は夫々N2,N3,N4,N1で示す基板処理位置になる。第１基板乾燥位置N2に移動した第１の基板Ｄに付着した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）。第１基板乾燥位置N2でのスピン乾燥が終了し且つ第２枚目の基板Ｄが保持手段112に取り付けられると、インデックステーブル110は更に90度回転し、保持手段112はN3で示す基板処理位置になる。第２乾燥位置N3において更にスピン乾燥を受けるが、保持手段112は夫々図示しないスピン乾燥用のモータを備えている。次に、インデックステーブル110が更に90度回転し、保持手段112は夫々N4,N3,N2,N1で示す基板処理位置になり、基板Ｄは搬送手段114により搬出される。このようにして、基板洗浄部10から送られてくる複数の洗浄済み基板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
【０００５】
さらに、従来技術においては、基板洗浄装置106は、３種類の洗浄具106Ａ，106Ｂ，106Ｃを備えている。洗浄具106Ａは基板Ｄの片面を洗浄するパッド状の洗浄具（例えばスポンジパッド）であり、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板Ｄの背後にあるため図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具106Ａで基板Ｄを挟んでその表面を洗浄する。洗浄具106Ｂ，106Ｃは例えばローラ状の洗浄具であり、基板Ｄの外周及び内周を洗浄するためのものである。このために保持手段101は夫々基板Ｄを例えば10cm乃至15cm程度インデックステーブル104から離して保持するようになっている。
【特許文献１】特開平３−９３０４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置においては、塵などの異物の付着はハードディスク性能の低下を招くために極力阻止しなければならないが、従来においては基板の搬送案内路が基板洗浄用インデックステーブル、基板乾燥用インデックステーブルのほぼ真上に設けられていたので、搬送案内路自体、或いは搬送案内路を移動する搬送用基板保持手段により塵などが落下してしまうおそれがある。
【０００７】
また、ハードディスク基板の洗浄、乾燥にあっては、清浄な空気中で操作することを目的としてフィルターを通したクリーンエアの噴出し部を基板洗浄用インデックステーブル、乾燥用インデックステーブルのほぼ真上に設けることも行われている。
【０００８】
しかしながら、このクリーンエアの噴出しにあっては、噴出し部より下方に向けて一様に排出して塵などの侵入を防止できればよいが、クリーンエアが噴出し部より下方に向けて排出する途中に例えば横向きの空気流れが生ずると、かえって塵などを巻き込んでそのまま基板洗浄用インデックステーブル、基板乾燥用インデックステーブル側へ流出してしまうおそれがある。
【０００９】
解決しようとする問題点は、基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設けたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、搬送用基板保持手段に起因する塵などの異物の発生を阻止することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブル、基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設けたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、
ケース状の機枠に板状の仕切り部材を介して洗浄室と乾燥室を形成すると共に、前記供給側と前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルと前記排出側を横並びに設け、前記機枠に前記仕切り部材を介して制御機器を収容する機械室が形成され、
前記機械室内に配置されて前記供給側の上方を前記始端とし前記排出側の上方を前記終端とする前記基板搬送案内路は、断面形状がコ字状のレールであって、その開口部を前記仕切り部材の開口部に臨ませて前記洗浄室、乾燥室側に開口して、前記基板搬送案内路の開口部と前記仕切り部材の開口部の内外をアームが貫通しており、前記基板搬送案内路に摺動部を設けると共に、この摺動部に前記アームを介して前記搬送用基板保持手段が設けられ、かつ前記基板搬送案内路の開口部は前記仕切り部材の前記開口部よりも大きいことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１の発明によれば、基板搬送案内路及びこれに沿って移動する搬送用基板保持手段に起因する塵などの異物がインデックステーブルの真上から落下することを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。
【実施例１】
【００１３】
図１乃至図５実施例１を示しており、ハードディスク基板Ｄの洗浄・乾燥装置は、図１に示すように箱型ケース状の機枠１を板状の仕切り部材２を介して前方には洗浄室３を、さらにその一側には乾燥室４を形成し、さらに機枠１の後方には仕切り部材２を介して制御機器等を収容する機械室５が形成されている。そして前方には一側へ向けて横並びに、基板Ｄの供給側６である洗浄・乾燥前の基板Ｄを複数枚収納するマガジンと、該供給側６の一側に隣接し基板洗浄部を形成するための洗浄用基板保持手段７を備えた基板洗浄用インデックステーブル８と、該基板洗浄用インデックステーブル８の一側に隣接し基板乾燥部を形成するための乾燥用基板保持手段９を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10の一側に隣接する基板Ｄの排出側11たるマガジンを設けている。尚、基板Ｄは円板状であって、中心に貫通孔が形成されている。
【００１４】
そして、基板洗浄用インデックステーブル８と基板乾燥用インデックステーブル10はそれぞれ裏側にあるモータ８Ａによって回動できるようになっている。
【００１５】
さらに、機枠１の上部に供給側６方向の上方、実施例では基板洗浄用インデックステーブル８側の上方を始端12Ａとし基板洗浄用インデックステーブル８の上方と基板乾燥用インデックステーブル10の上方を介して、排出側11方向の上方、実施例では基板乾燥用インデックステーブル10の上方を終端12Ｂとする基板搬送案内路12がレールによって設けられている。そして、この基板搬送案内路12には、基板Ｄを掴み或いは離して１枚ずつ或いは複数枚ずつ搬送する搬送用基板保持手段13，14，15が設けられている。実施例では１枚ずつ搬送する場合を示している。
【００１６】
搬送用基板保持手段13，14，15は、供給側４に設けられる１次側基板保持手段13と、該１次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる２次側基板保持手段14と、１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを備え、これら１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15は連結部材16を介して一体的に設けられるものであって、連結部材16は基板搬送案内路12に沿うように横長に設けられると共に、基板搬送案内路12の長手方向に沿って移動可能に設けられている。そして、連結部材16の供給側６寄りの前側に１次側基板保持手段13が第１のアーム16Ａを介して設けられている。この第１のアーム16Ａは下向きに配置されるものであって、その先端に１次側基板保持手段13が後方へ向けて設けられている。同様に、連結部材16の排出側11寄りに２次側基板保持手段14が第２のアーム16Ｂを介して設けられ、連結部材16の１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に第３のアーム16Ｃを介して中間基板保持手段15が設けられている。尚、１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14及び中間基板保持手段15は後述する基板受取・取出位置Ｌ１，Ｍ１に基板Ｄに対して正面側で対向可能に移動できるようになっている。
【００１７】
そして、連結部材16の横向き方向の中央の後側には、後方に突設する第４のアーム17を介して基板搬送案内路12に摺動自在に設けられるモータ（図示せず）駆動の搬送駆動手段たる単一の摺動部18が一体的に設けられている。
【００１８】
前記基板洗浄用インデックステーブル８は、中心軸８Ｂを中心として矢印Ａの方向に回転可能であり、図示の実施例では、洗浄用基板保持手段７は第１乃至第３の洗浄用基板保持手段21，22，23を周方向に等間隔に有する。第１乃至第３の洗浄用基板保持手段21，22，23により基板Ｄを回転可能に保持する。
【００１９】
第１乃至第３の洗浄用基板保持手段21，22，23は、夫々、基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３にあり、中心軸軸８Ｂを中心として基板Ｄを断続的に回転可能に保持している。基板受取・取出位置Ｌ１は、基板Ｄの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Ｄを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル８の上部に配置されている。第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３はインデックステーブル８の左右に配置される。そして、第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３では、洗浄具24が設けられている。尚、洗浄具24は例えば基板Ｄを洗浄するパッド状のもの（例えばスポンジパッド）などを備えて２個のパッド状のもので基板Ｄを挟んで基板の表面を洗浄する。
【００２０】
従って、インデックステーブル８が１２０度ごとに回転することにより基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３に、第１乃至第３の洗浄用基板保持手段21，22，23 が順次配置され、基板受取・取出位置Ｌ１においては基板Ｄが受取され、第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３においては洗浄され、そして洗浄された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｌ１に配置されて取出されるようになっている。
【００２１】
前記基板乾燥用インデックステーブル10は、矢印Ｂの方向に回転可能であり、このインデックステーブル10上には、乾燥用基板保持手段９として第1乃至第３の乾燥用基板保持手段25，26，27を周方向に等間隔に有する。第１乃至第３の乾燥用基板保持手段25，26，27は、夫々、基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３にあり、基板Ｄを回転可能に保持している。基板受取・取出位置Ｍ１は、基板Ｄの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Ｄを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル10の上部に配置されている。第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においては、基板Ｄを高速回転して基板Ｄを遠心力で乾燥させるものであり、そのために乾燥用基板保持手段25，26，27の外側には水滴飛散防止用の壁28が設けられている。
【００２２】
従って、インデックステーブル10が１２０度（３６０度／位置の数３）ごとに回転することにより回転することにより基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３に、第1乃至第３の乾燥用基板保持手段25，26，27が順次配置され、基板受取・取出位置Ｍ１においては基板Ｄが受取され、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においてはスピン乾燥され、そして乾燥された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｍ１に配置されて取出されるようになっている。
【００２３】
さらに、前記基板搬送案内路12は、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して設けられている。実施例では基板Ｄを所定方向に移動するための基板搬送案内路12は仕切り部材２の上部に横向きに設けられた断面がコ字状のレールであって、その開口部は仕切り部材２の開口部19を臨んで洗浄室３、乾燥室４側に開口しており、この基板搬送案内路12の開口部は仕切り部材２の開口部19よりも大きく、基板搬送案内路12の開口部、仕切り部材２の開口部19の内外を第４のアーム17が貫通している。また基板搬送案内路12は開口部19を除いて密封しており、このように洗浄室３、乾燥室４に開口部19以外は連通しないようにほぼ密封された基板搬送案内路12を摺動部18が摺動するようになっている。
【００２４】
そして、１次側基板保持手段13と中間基板保持手段15との一側横向き方向の長さＸ１と、中間基板保持手段15と２次側基板保持手段14との間の一側横向き方向の長さＸ２と、供給側６と基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１間の一側横向き方向の搬送長さＸ３と、基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１間の一側横向き方向の搬送長さＸ４と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１と排出側11間の一側横向き方向の搬送長さＸ５を同じに形成している（Ｘ１＝Ｘ２＝Ｘ３＝Ｘ４＝Ｘ５）。
【００２５】
さらに、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上に位置して、クリーンエアＺの噴出し部29を機枠１の天板部１Ａに設け、この噴出し部29は洗浄室３、乾燥室４に対応するように基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10に向けるようにして下方に向けて設けている。この噴出し部29はフィルターによって清浄な空気を、ダクトなどを介して導入して、噴出するようになっている。噴出し部29は１次側に図示しないフィルターを設けた送風機30の２次側に接続している。
【００２６】
次に、前記構成の作用について説明する。予め供給側６には洗浄前の基板Ｄが供給されている。そして、図１に示すように摺動部18が基板搬送案内路12に従って移動することにより連結部材16と一体的な１次側基板保持手段13を供給側６に対向するように対応させ、中間基板保持手段15を基板洗浄用インデックステーブル８における基板受取・取出位置Ｌ１にある第１の洗浄用基板保持手段21に対向するように対応させ、２次側基板保持手段14を基板乾燥用インデックステーブル10における基板受取・取出位置Ｍ１にある第１の乾燥用基板保持手段25に対向するように対応させる。そして、１次側基板保持手段13により供給側６の基板Ｄを取出し、さらに２次側基板保持手段14により基板受取・取出位置Ｌ１の基板Ｄを取出し、中間基板保持手段15により基板受取・取出位置Ｍ１の基板Ｄを取出す。
【００２７】
次に摺動部18が基板搬送案内路12を一側に長さＸ１分移動すると、第１のアーム16Ａ、第２のアーム16Ｂ、第３のアーム16Ｃを介して１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１、排出側11に対向するように対応する。これにより１次側基板保持手段13によって供給側６の基板Ｄを基板受取・取出位置Ｌ１に受け取る。２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15によってそれぞれ基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１の基板Ｄを受け取る。そして、インデックステーブル８が回転することにより基板受取・取出位置Ｌ１にあった基板Ｄは第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３において洗浄され、そして洗浄された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｌ１に位置する。同様に、インデックステーブル10が回転することにより基板受取・取出位置Ｍ１にあった基板Ｄは第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においてスピン乾燥され、そして乾燥された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｍ１に位置する。
【００２８】
このような基板Ｄの洗浄、乾燥の間に、摺動部18が基板搬送案内路12を他側に長さＸ１分移動すると、第１のアーム16Ａ、第２のアーム16Ｂ、第３のアーム16Ｃを介して１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは供給側６、基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１に対向するように対応する。そして、１次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、２次側基板保持手段14を介して再び供給側６の基板Ｄは基板受取・取出位置Ｌ１へ、基板受取・取出位置Ｌ１にある洗浄された基板Ｄは基板受取・取出位置Ｍ１へ、基板受取・取出位置Ｍ１の乾燥された基板Ｄは排出側11へ同時に搬送される。このようにして基板Ｄは順次搬送されて洗浄、乾燥が繰り返される。尚、１次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、２次側基板保持手段14における一側横向き方向ではなく、基板Ｄを着脱するため前後方向の移動についてはその記載を省略する。
【００２９】
また、洗浄、乾燥の際には、噴出し部29から基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10に向けてクリーンエアＺが噴出すが、この気流は基板搬送用保持手段13，14，15を通り抜けて基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10にある基板Ｄに噴き付けることになるので、気流の障害物は基板搬送案内路12や摺動部1に比較して小さい物品である基板搬送用保持手段13，14，15や連結部材16、第４のアーム17のみとなり、クリーンエアＺの上方から下方への流れは著しく阻害されることはなく、この結果、上方から下方へのクリーンエアＺの流れが途中で上向きなどになるようなことはなく、これにより塵などの侵入を確実に阻止することができる。
【００３０】
以上のように、前記実施例によれば、基板Ｄの供給側６と、該供給側６の一側に隣接し第１乃至第３の洗浄用基板保持手段21，22，23を備えた基板洗浄用インデックステーブル８と、該基板洗浄用インデックステーブル８の一側に隣接し第1乃至第３の乾燥用基板保持搬送手段25，26，27を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10の一側に隣接する基板Ｄの排出側11と、供給側６を始端とし基板洗浄用インデックステーブル８と基板乾燥用インデックステーブル10を介して排出側11を終端とする基板搬送案内路12と、基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13，14，15を設け、そして基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して基板搬送案内路12を形成するレールを設けたことにより、基板搬送案内路12及びこれに沿って移動する基板搬送用保持手段13，14，15に起因する塵などの異物が基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上から落下することはなく、基板Ｄの搬送に伴う異物の付着を防止できる。
【００３１】
さらに、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上にクリーンエアＺの噴出し部29を下方に向けて設けたことで、上方から下方へ吹き出るクリーンエアＺの流れが基板搬送案内路12によって途中で上向きなどになるようなことはなく、これにより塵などの侵入を確実に阻止することができる。
【実施例２】
【００３２】
図６は実施例１を示しており、前記実施例１と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００３３】
機枠１の上部に供給側６の上方を始端12Ａとし基板洗浄用インデックステーブル８の上方と基板乾燥用インデックステーブル10の上方を介して、排出側11の上方を終端12Ｂとする基板搬送案内路12が設けられている。そして、この基板搬送案内路12には、基板Ｄを掴み或いは離して１枚ずつ或いは複数枚ずつ搬送する第１乃至第３の搬送用基板保持手段13，14，15が設けられている。実施例では供給側６と基板洗浄用インデックステーブル８間に介在する１次側の搬送用基板保持手段13と、基板洗浄用インデックステーブル８と基板乾燥用インデックステーブル10間に介在する中間の搬送用基板保持手段15と、基板乾燥用インデックステーブル10と排出側11間に介在する２次側の搬送用基板保持手段14とを備える。これら搬送用基板保持手段13，14，15はそれぞれアーム16Ａ，16Ｂ，16Ｃを介して摺動部18Ａに設けられており、摺動部18Ａは基板搬送案内路12に沿ってそれぞれ移動するようになっている。実施例では基板搬送案内路12がレールによって形成されており、このレールに、基端に位置するモータ（図示せず）駆動の摺動部18Ａが摺動して移動できるようになっている。そして、摺動部18Ａはアーム16Ａ，16Ｂ，16Ｃにそれぞれ設けられている。
【００３４】
さらに、前記基板搬送案内路12は、実施例１と同様に基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して設けられている。実施例では基板Ｄを所定方向に移動するための基板搬送案内路12は仕切り部材２の上部に横向きに設けられており、レールの開口部を仕切り部材２に臨ませるように洗浄室３、乾燥室４側に開口している。
【００３５】
さらに、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上に位置して、クリーンエアＺの噴出し部29を基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10に向けるようにして下方に向けて設けている。この噴出し部29はフィルターによって清浄な空気をダクトなどを介して導入して、噴出するようになっている。
【００３６】
次に、前記構成の作用について説明する先ず、搬送用基板保持手段13が、順次基板Ｄが供給される供給側６から１枚（或いは複数枚）の基板Ｄを取り出し、基板受取・取出位置Ｌ１にある第１の洗浄用基板保持手段21まで基板Ｄを搬送する。第１の洗浄用基板保持手段21は基板Ｄを受け取り、基板Ｄを回転可能に保持する。その後、基板洗浄用インデックステーブル８が１２０度回転し、第１の洗浄用基板保持手段21は第１の基板洗浄位置Ｌ２、さらには第２の基板洗浄位置Ｌ３となり、洗浄具24により洗浄が行われる。洗浄が終了すると、基板洗浄用インデックステーブル８がさらに１２０度回転する。この回転により、基板Ｄは基板受取・取出位置Ｌ１に戻る。
【００３７】
そしてこの基板Ｄは、搬送用基板保持手段15により基板受取・取出位置Ｌ１から、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１にある第1の乾燥用基板保持手段25まで搬送される。そこで基板乾燥用インデックステーブル10が１２０度順次回転することで、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３となり、スピン乾燥がなされる。乾燥が終了すると、基板乾燥用インデックステーブル10がさらに１２０度回転し、基板Ｄは基板受取・取出位置Ｍ１に戻る。そして、基板搬送用保持手段14が基板受取・取出位置Ｍ１にある基板Ｄを取り出し、排出側11へ搬送する。
【００３８】
このような基板Ｄの搬送によって、洗浄、乾燥がなされる際、基板搬送案内路12が基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して仕切り部材２の後方の機械室５内に配置されているので、基板搬送案内路12を摺動部18Ａが摺動するときに生ずることがある塵などの異物が基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上から落下することはなく、基板Ｄの搬送に伴う異物の付着を防止できる。
【００３９】
また、洗浄、乾燥の際には、噴出し部29から基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10に向けてクリーンエアＺが噴出すが、この気流は基板搬送用保持手段13，14，15を通り抜けて基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10にある基板Ｄに噴き付けることになるので、気流の障害物は基板搬送用保持手段13，14，15のみとなり、クリーンエアＺの上方から下方への流れは著しく阻害されることはなく、この結果、上方から下方へのクリーンエアＺの流れが途中で上向きなどになるようなことはなく、これにより塵などの侵入を確実に阻止することができる。
【００４０】
以上のように、前記実施例によれば、基板Ｄの供給側６と、該供給側６の一側に隣接し第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21，22，23を備えた基板洗浄用インデックステーブル８と、該基板洗浄用インデックステーブル８の一側に隣接し第1乃至第３の乾燥用基板保持搬送手段25，26，27を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10の一側に隣接する基板Ｄの排出側11と、供給側６を始端とし基板洗浄用インデックステーブル８と基板乾燥用インデックステーブル10を介して排出側11を終端とする基板搬送案内路12と、基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13，14，15を設け、そして基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して基板搬送案内路12を形成するレール17を設けたことにより、基板搬送案内路12及びこれに沿って移動する基板搬送用保持手段13，14，15に起因する塵などの異物が基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上から落下することはなく、基板Ｄの搬送に伴う異物の付着を防止できる。
【００４１】
さらに、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上にクリーンエアＺの噴出し部29を下方に向けて設けたことで、上方から下方へ吹き出るクリーンエアＺの流れが途中で上向きなどになるようなことはなく、これにより塵などの侵入を確実に阻止することができる。
【実施例３】
【００４２】
図７は実施例３を示しており、前記実施例１と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。実施例３においては、第１のアーム16Ａ等には１次側基板保持手段13等が左右一対設けられたものであり、一対の１次側基板保持手段13によりそれぞれ基板Ｄを保持して、同時に洗浄、乾燥できるようにしたものである。この場合は、インデックステーブル８，10に基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３、基板受取・取出位置Ｌ１、第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３が左右一対にそれぞれ設けられることとなる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
以上のように本発明に係るハードディスク基板の洗浄・乾燥装置は、各種の用途に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施例１を示す作動前の概略正面図である。
【図２】同作動後の概略正面図である。
【図３】同概略側断面図である。
【図４】同基板保持手段の概略正面図であり、図４（Ａ）は洗浄用基板保持手段の概略正面図であり、図４（Ｂ）は乾燥用基板保持手段の概略正面図である。
【図５】同要部の斜視図である。
【図６】本発明の実施例２を示す概略正面図である。
【図７】本発明の実施例３を示す概略正面図である。
【図８】従来技術を示す概略正面図である。
【図９】従来技術のインデックステーブルまわりの概略断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１ 機枠
２ 仕切り部材
３ 洗浄室
４ 乾燥室
５ 機械室
６ 供給側
８ 基板洗浄用インデックステーブル
10 基板乾燥用インデックステーブル
11 排出側
12 基板搬送案内路
12Ａ 始端
12Ｂ 終端
13，14，15 搬送用基板保持手段
17 アーム
18 摺動部
19 開口部
21，22，23 洗浄用基板保持手段
25，26，27 乾燥用基板保持手段
Ｄ 基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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