(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズと、該コリメートレンズから射出された略平行光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光し該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下の条件式（１）を満足することを特徴とする光走査装置。
（１）    ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１２｜  ＜  0．01
ここで、
Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズの焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系の主走査方向の焦点距離
ｆ１  ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離
ｆＤ  ：コリメートレンズの回折部の焦点距離
ν１  ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ  ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
【請求項２】
半導体レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズと、該コリメートレンズから射出された略平行光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光し該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下の条件式（２）を満足することを特徴とする光走査装置。
（２）    ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜  ＜  Ｆ２／100
ここで、
Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
Δ２＝Ｆ２／ν２
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズの焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系の主走査方向の焦点距離
ｆ１  ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離
ｆＤ  ：コリメートレンズの回折部の焦点距離
ν１  ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ  ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
ν２  ：結像光学系の基準波長±20ｎｍにおける等価アッベ数
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像の記録や表示を行なうデジタル複写機あるいは光プリンタ等の光走査装置に関するものであり、特に半導体レーザビームを光源とし、簡易な構成のコリメートレンズと結像光学系とを備えた光走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
デジタル複写機や光プリンタ等に関連して広く知られている光走査装置には、光源からの光束をコリメートレンズで略平行光に変換し、この略平行光束をアナモフィックレンズにより主走査対応方向に長い線像として結像させ、この線像の結像位置近傍に偏向反射面を持つ光偏向器で等角速度で偏向させ、偏向された光束を結像光学系により被走査面上に光スポットとして集光して被走査面の光走査を行なうものがある。
【０００３】
このような光走査装置においては、近年、精度上の要求とともに低価格化、小型化の要求が強くなっている。
【０００４】
そのため、レンズ構成としてはコリメートレンズに単玉レンズを用い、結像光学系に２枚程度の少ない構成枚数のレンズが採用されることが多い。
【０００５】
また、コンパクトでありながら高精細な印字に適した光走査装置を得ようとするものとして、例えば、特開平10−68903号公報記載の光走査装置は、回折光学面（ＤＯＥ）を備えた光学系（以下回折光学素子と称する）を用いている。回折光学面は、分散が従来の反射屈折光学系に比べて大きくその符合も異なるという特性を有するので、レンズ枚数が少なく高精度な光学系を得るために最近多方面に用いられている。特開平10−68903号公報記載の光走査装置は、結像光学系、アナモフィックレンズ、またはコリメートレンズに回折光学素子を用い、温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化およびピント変化を、その温度変動によって生じる回折光学素子のパワー変化と、同じくその温度変動によって生じる半導体レーザの波長変動により補正するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特開平10−68903号公報記載の光走査装置の光源としても用いられている半導体レーザ光源にはモードホッピングという現象があり、半導体レーザ光源を用いる場合はこの問題を解決せずに高い解像度の出力を得ることは困難である。
【０００７】
モードホッピングとは出力光の波長が基準波長からシフトすることで、デジタル複写機や光プリンタのように光信号を書き込むために光源の出力を大きくする必要がある場合には発生しやすい。モードホッピングがあるとレンズを透過する際の屈折率が変化するので、波長シフトによっていわばピントずれともいうべき色収差が生じる。このピントずれは、半導体レーザとコリメートレンズの間で生じる色収差Δが小さい場合であっても、結像面である被走査面上では拡大されるため、問題となる。
【０００８】
すなわち、コリメートレンズの焦点距離をＦ１、コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数をν１としたときの半導体レーザとコリメートレンズの間で生じる色収差Δ＝Ｆ１／ν１が、被走査面上では、色収差をΔ’とし結像光学系の焦点距離をＦ２とするとΔ’＝Δ×（Ｆ２／Ｆ１）２と拡大されてしまう。
【０００９】
例えば、一般に用いられる基準波長780ｎｍの半導体レーザであれば、モードホッピングにより±20ｎｍ程度の範囲で光源波長がばらつくことになる。この場合、半導体レーザとコリメートレンズ間の色収差Δは、例えば、コリメートレンズの焦点距離Ｆ１を10ｍｍ、結像光学系の焦点距離Ｆ２を210ｍｍとし、コリメートレンズの材料を通常のガラス（ＢＫ−７）とすると、波長λ＝780ｎｍ±20ｎｍのときアッベ数ν＝612なのでΔ＝0.016ｍｍとなり、被走査面上での色収差Δ’は、Δ’＝7.2ｍｍとなる。
【００１０】
このように、コリメートレンズにおいて発生する色収差Δは小さくても被走査面上での色収差Δ’は大きくなってしまうので、レンズ設計は被走査面側のデフォーカス余裕度をΔ’よりも大きくする必要があり、高解像の出力を得ることは設計上困難となる。
【００１１】
従来の、１枚のレンズからなるコリメートレンズと少ない構成枚数のレンズからなる結像光学系を採用するような、少ない構成枚数のレンズでは、この波長シフトによるピントずれを防ぐことはできず、高い解像度の出力を得ることが困難であった。そのため、少ないレンズ構成枚数でありながらモードホッピングによるピントずれを防ぎ、解像度の高い光走査装置が要望されている。
【００１２】
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、回折光学素子の特異な分散特性を利用し、所定の回折光学素子を備えることにより、半導体レーザのモードホッピングによるピントずれを防ぐとともに少ない構成枚数のレンズでありながら高い解像度の出力を得ることができるような光走査装置を提供することを目的とするものである。
【００１３】
本発明に係る光走査装置は、半導体レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズと、該コリメートレンズから射出された略平行光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光し該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下の条件式（１）を満足することを特徴とするものである。
（１）    ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１２｜  ＜  0．01
ここで、
Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズの焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系の主走査方向の焦点距離
ｆ１  ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離
ｆＤ  ：コリメートレンズの回折部の焦点距離
ν１  ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ  ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
【００１４】
また、本発明に係る光走査装置は、半導体レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズと、該コリメートレンズから射出された略平行光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光し該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下の条件式（２）を満足することを特徴とするものである。
（２）    ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜  ＜  Ｆ２／100
ここで、
Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
Δ２＝Ｆ２／ν２
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズの焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系の主走査方向の焦点距離
ｆ１  ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離
ｆＤ  ：コリメートレンズの回折部の焦点距離
ν１  ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ  ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
ν２  ：結像光学系の基準波長±20ｎｍにおける等価アッベ数
【００１５】
ここで、「屈折作用による焦点距離」とは、回折光学面において、このレンズ面に回折光学面を付加しない場合に生じる面屈折力による焦点距離を意味し、「回折部の焦点距離」および「回折部の・・・・・アッベ数」とは、このレンズ面に回折光学面を付加することにより生じる面屈折力による焦点距離およびアッベ数を意味する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態１および２について図面を用いて説明する。
【００１７】
ここで、図１は本発明の実施形態１および２の光走査装置の基本構成を示すものであり、図２はその光源からコリメートレンズまでの基本構成を示すものである。
【００１８】
本実施形態１および２に係る光走査装置は、半導体レーザよりなる光源１と、少なくとも一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズ３と、該コリメートレンズ３から射出された略平行光束を偏向する光偏向器５と、該光偏向器５により偏向された光束を被走査面７上に集光し該被走査面７の光走査を行なう結像光学系６とを備えている。
【００１９】
図１および図２に示すように、この光走査装置によれば、光源１から発せられカバーガラス２を透過したレーザビームは、コリメートレンズ３により略平行光束に変換され、アナモフィックレンズ４により主走査対応方向に線状に結像される。光偏向器５であるポリゴンミラーはこの結像位置近傍に光偏向反射面５ａを有し、レーザビームを反射偏向する。ｆθレンズを含む２枚のレンズからなる結像光学系６は、光偏向器５により反射偏向されたレーザビームを被走査面７上に光スポットとして集光し、略等角速度で被走査面７上に走査させる。また、この光走査装置には、光偏向器５により偏向されて被走査面７へ向かうレーザビームを同期光として検出し、光走査の開始タイミングをとるための同期光検出装置９が設けられている。この同期光検出装置９へ向かうレーザビームは、反射ミラー８により反射される。なお、これ以外にも、図示されない反射ミラー等が光路中に適宜挿入されている。
【００２０】
図１において、光源１から発せられたレーザビームは、被走査面７上に結像されるとともに、ポリゴンミラーが矢印Ａ方向に回転することにより、被走査面７上において矢印Ｂ方向に主走査される。さらに、被走査面７を副走査方向に移動して画像を形成する。
【００２１】
実施形態１に係る光走査装置において、コリメートレンズ３は被走査面７側の面に回折光学面が形成された１枚のレンズからなる。この回折光学面は下記に示す回折光学面深さ式により表され、以下の条件式（１）を満足する。
【００２２】
【数１】
0004425363.tif 000002
【００２３】
（１）    ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１２｜  ＜  0．01
ここで、
Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズ３の焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系６の焦点距離
ｆ１  ：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離
ｆＤ  ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離
ν１  ：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ  ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
【００２４】
この条件式（１）は、後述するとおり、被走査面７上においてモードホッピングにより生じるピントずれが、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるように規定している。この条件式（１）を満足するような回折光学面を備えることにより、被走査面７上においてモードホッピングにより生じるピントずれを小さくすることができる。
【００２５】
ここで、回折光学面を備えることによる作用効果について説明する。
【００２６】
前述したとおり、回折光学面はその分散性において従来の反射屈折光学系と異なる特性を備えている。すなわち、通常のガラスの分散（１／ν）は、ν＝（Ｎ２−１）／（Ｎ１−Ｎ３）であるのに対し、回折光学面の分散（１／ν）はν＝λ２／（λ１−λ３）で表される。ここで、波長λ１、λ２、λ３はλ１＜λ２＜λ３の関係にあり、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３は各々の波長に対応した屈折率である。
【００２７】
例えば、具体的な数値をあげて通常のガラスと回折光学面との分散の違いについて述べる。一般にデジタル複写機あるいは光プリンタの光源としてよく使用されるλ＝780ｎｍの半導体レーザを光源とした場合、λ１＝760ｎｍ、λ２＝780ｎｍ、λ３＝800ｎｍとして通常のガラス（ＢＫ−７）のアッベ数νは612であるのに対し、回折光学面のアッベ数νは同様の波長において-19．5となり、１桁異なり、符合も異なる。ここで、波長λを780ｎｍ±20ｎｍとしたのは、半導体レーザのモードホッピングによる波長シフトの範囲が±20ｎｍ程度の幅であることによる。
【００２８】
この回折光学面の逆分散性および異常分散性という性質を利用することにより、回折光学面を備えた本実施形態に係る光走査装置は、コリメートレンズ３が１枚であっても、色収差を効果的に補正することができる。
【００２９】
次に、コリメートレンズ３に形成する回折光学面の条件式について説明する。
【００３０】
条件式（１）は、前述した回折光学面による色収差補正効果を半導体レーザのモードホッピングによるピントずれ補正にも利用するものである。すなわち、コリメートレンズ３の少なくとも一方の面に条件式（１）を満足するような焦点距離を有する回折光学面を形成することにより、被走査面７上においてモードホッピングにより生じるピントずれを小さくすることができる。
【００３１】
ここで、コリメートレンズ３において発生する色収差Δ１は、以下の式（３）で表される。
（３）    Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
ただし、
Ｆ１：コリメートレンズ３の焦点距離
ｆ１：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離
ｆＤ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離
ν１：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
【００３２】
なお、コリメートレンズ３に回折光学面を形成した場合、このレンズはコリメートレンズ３に回折光学面を形成しなくともレンズが有するレンズ本来の屈折力と、回折光学面が有する屈折力とを、合成した屈折力を有する。上記「コリメートレンズの屈折作用による焦点距離」とは前者の屈折力による焦点距離を意味し、上記「コリメートレンズの回折部の焦点距離」とは後者の屈折力による焦点距離を意味する。
【００３３】
なお、上記「コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数」ν１は、以下の式（４）により表される。
（４）    ν１＝（Ｎ１Ｂ−１）／（Ｎ１Ａ−Ｎ１Ｃ）
ただし、
Ｎ１Ａ：コリメートレンズ３の材料の基準波長−20ｎｍにおける屈折率
Ｎ１Ｂ：コリメートレンズ３の材料の基準波長における屈折率
Ｎ１Ｃ：コリメートレンズ３の材料の基準波長＋20ｎｍにおける屈折率
【００３４】
ここで、基準波長±20ｎｍの範囲としているのは、半導体レーザのモードホッピングによるによる波長シフトの範囲に対応しているもので、この範囲で色補償が達成されれば、モードホッピングに対応する光走査装置としては充分な効果を得ることができる。
【００３５】
また、上記「コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数」νＤは、以下の式（５）により表される。
（５）    νＤ＝λＢ／（λＡ−λＣ）
ただし、
λＡ：基準波長−20ｎｍ
λＢ：基準波長
λＣ：基準波長＋20ｎｍ
ここで、被走査面７上においてモードホッピングにより生じるピントずれΔ’は、以下の式（６）で表される。
（６）    Δ’＝Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズ３の焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系６の焦点距離
【００３６】
すなわち、被走査面７上においてモードホッピングにより生じるピントずれΔ’は、コリメートレンズ３において発生する色収差Δ１が（Ｆ２／Ｆ１）２の倍率で拡大されたものとなる。
【００３７】
以下の式（７）は、このΔ’が所定の値（0.01×Ｆ２）より小さくなるように規定したものである。
（７）    Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２  ＜  0.01×Ｆ２
上記式（７）の両辺をＦ２で除したものが条件式（１）となる。
【００３８】
このように、条件式（１）は、被走査面７上においてモードホッピングにより生じるピントずれが、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるように規定している。コリメートレンズ３に、その回折部の焦点距離ｆＤがこの条件式（１）を満足するような回折光学面を備えることにより、半導体レーザ光源のモードホッピングによる波長シフトが発生した場合でも被走査面７上での色収差を低減し、高解像の出力を維持することができる。
【００３９】
以下、実施形態２に係る光走査装置について説明する。
【００４０】
実施形態２に係る光走査装置においても、実施形態１と同様にコリメートレンズ３は被走査面７側の面に回折光学面が形成された１枚のレンズからなる。この回折光学面は実施形態１と同様の回折光学面深さ式により表され、以下の条件式（２）を満足する。
（２）    ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜  ＜  Ｆ２／100
ここで、
Δ１＝Ｆ１２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）−１｝
Δ２＝Ｆ２／ν２
ただし、
Ｆ１  ：コリメートレンズ３の焦点距離
Ｆ２  ：結像光学系６の焦点距離
ｆ１  ：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離
ｆＤ  ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離
ν１  ：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
νＤ  ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数
ν２  ：結像光学系６の基準波長±20ｎｍにおける等価アッベ数
【００４１】
回折光学面が有する色収差補正効果は前述した実施形態１と同様であるが、実施形態１においては説明されていない条件式（２）について以下に説明する。
【００４２】
条件式（２）の左辺は、前述した式（６）で表されるΔ’と結像光学系６においてモードホッピングにより生じる色収差Δ２との和とされている。すなわち、条件式（２）は、コリメートレンズ３でモードホッピングにより生じたピントずれが被走査面７上において拡大された色収差Δ’と、結像光学系６においてモードホッピングにより生じる色収差Δ２とを加算したものが、右辺の所定の値（0.01×Ｆ２）より小さくなるように規定したものである。
【００４３】
ここで、結像光学系で発生する色収差Δ２は以下の式（８）により表される。
（８）    Δ２＝Ｆ２／ν２
ただし、
Ｆ２：結像光学系６の焦点距離
ν２：結像光学系６の基準波長±20ｎｍにおける等価アッベ数。
【００４４】
なお、上記「結像光学系の基準波長±20ｎｍにおける等価アッベ数」ν２とは、複数枚のレンズのアッベ数を１枚のレンズのアッベ数として換算したものであり、下記に示す式（９）により表される。
（９）    １／ν２＝｛Σ（ν２ｉ×ｆ２ｉ）−１｝×Ｆ２
ただし、
ν２ｉ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズのアッベ数
ｆ２ｉ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの焦点距離
【００４５】
なお、上記「結像光学系６の第ｉ番目のレンズのアッベ数」ν２ｉとは、以下の式（１０）により表される。
（１０）    ν２ｉ＝（Ｎ２Ｂ−１）／（Ｎ２Ａ−Ｎ２Ｃ）
ただし、
Ｎ２Ａ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準波長−20ｎｍにおける屈折率
Ｎ２Ｂ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準波長における屈折率
Ｎ２Ｃ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準波長＋20ｎｍにおける屈折率
【００４６】
このように、条件式（２）は、コリメートレンズ３および結像光学系６を透過する際にモードホッピングにより生じるピントずれが、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるように規定している。コリメートレンズ３に、その回折部の焦点距離ｆＤがこの条件式（２）を満足するような回折光学面を備えることにより、半導体レーザ光源のモードホッピングによる波長シフトが発生した場合でもコリメートレンズ３および結像光学系６を透過する際に生じる色収差を低減し、高解像の出力を維持することができる。
【００４７】
以下、本発明の実施例について具体的に説明する。
【００４８】
＜実施例１＞
本実施例１の光走査装置は、上記実施形態１に係るものである。
【００４９】
表１に、本実施例１の光源１からコリメートレンズ３までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。また、表１の下段には本実施例１における上記回折光学面深さ式に示される回折光学面の各定数の値を示す。
【００５０】
なお、表１において、各記号に対応させた数字は物体側から順次増加するようになっており、数字の左側の＊印は回折光学面であることを示す。
【００５１】
【表１】
0004425363.tif 000003
【００５２】
本実施例１においてカバーガラス２とコリメートレンズ３との距離ＤＣ３は0.0ｍｍとされているが、実施形態の説明に用いた図２に示すように任意の間隔を空けることもできる。
【００５３】
本実施例１において条件式（１）に対応する値を表２に示す。表２に示すとおり、本実施形態１は条件式（１）を満足している。
【００５４】
【表２】
0004425363.tif 000004
＜実施例２＞
本実施例２の光走査装置は、上記実施形態２に係るものである。
【００５５】
表３に、本実施例２の光源１からコリメートレンズ３までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。また、表３の下段には本実施例２における上記回折光学面深さ式に示される回折光学面の各定数の値を示す。
【００５６】
なお、表３および以下の表４において、各記号に対応させた数字は物体側から順次増加するようになっており、数字の左側の＊印は回折光学面であることを示す。
【００５７】
【表３】
0004425363.tif 000005
【００５８】
表４に、本実施例２の光偏向器５の光反射面５ａから被走査面７までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。
【００５９】
【表４】
0004425363.tif 000006
【００６０】
本実施例２においてもカバーガラス２とコリメートレンズ３との距離ＤＣ３は0.0ｍｍとされているが、実施例１と同様に任意の間隔を空けることもできる。
【００６１】
本実施例２において条件式（２）に対応する値を表５に示す。表５に示すとおり、本実施形態２は条件式（２）を満足している。
【００６２】
【表５】
0004425363.tif 000007
【００６３】
なお、本発明の光走査装置としては、上記実施例のものに限られるものではなく種々の態様の変更が可能であり、例えば各レンズの曲率半径Ｒおよびレンズ間隔（もしくはレンズ厚）Ｄを適宜変更することが可能である。
【００６４】
また、回折光学面をコリメートレンズの光源側の面のみに形成したり、両面に形成してもよい。
【００６５】
また、結像光学系の枚数や形状等の構成は上記実施例のものに限られるものではなく、変更が可能である。
【００６６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る光走査装置によれば、コリメートレンズに回折光学面を付加することにより、１枚のコリメートレンズや少ない枚数の結像光学系を備えた光走査装置であっても、色収差を低減した光学系を得ることができ、半導体レーザのモードホッピングによる波長シフトの際も被走査面上にて高解像の出力を維持することが可能な光走査装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る光走査装置の構成を示す図
【図２】本実施形態に係る光走査装置の光源からコリメートレンズまでの構成を示す図
【符号の説明】
１    光源
２    カバーガラス
３    コリメートレンズ
４    アナモフィックレンズ
５    光偏向器（ポリゴンミラー）
５ａ  光偏向反射面
６    結像光学系
７    被走査面
【図１】
0004425363.tif 000008
【図２】
0004425363.tif 000009