(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の配線面内に形成され、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４０２，４０４）と、
第１の配線面内に形成され、複数の配線トレース（４０２，４０４）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４０６，４０８）と、
第１の配線面とは異なる配線レベルにある第２の配線面内に形成され、前記複数の配線トレース（４０２，４０４）に複数のバイア（４１０，４１２）を通して接続された複数の配線トレース（４１４，４１８）と、
第２の配線面内に形成され、複数の配線トレース（４１４，４１８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４１６，４２０）とを含み、
第１の配線経路は、プローブ・パッド（４０６）、配線トレース（４０２）、バイア（４１０）、配線トレース（４１４）、および、プローブ・パッド（４１６）に至るように形成され、
第２の配線経路は、プローブ・パッド（４０８）、配線トレース（４０４）、バイア（４１２）、配線トレース（４１８）、および、プローブ・パッド（４２０）に至るように形成されている、
配線試験構造（４００）。
【請求項２】
第１の配線面内に形成され、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）と、
第１の配線面内に形成され、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４６０，４６２，４６４，４６８）とを含み、
複数の配線トレースの第１の対（４５４，４５８）は、ほぼ中心で第１の配線面内で互いに接続され、第１の配線経路が、プローブ・パッド（４６２）、配線トレース（４５４）、配線トレース（４５８）、および、プローブ・パッド（４６６）によって画定され、
複数の配線トレースの第２の対（４５２，４５６）は、配線トレース（４５４）と配線トレース（４５８）の間の接続部の相対する側に近付き、複数のバイア（４６８，４７０）と、第１の配線面とは異なる配線レベルにある第２の配線面内に続けられた、配線の突出部（４７２）とを使用して、第２の配線経路が、プローブ・パッド（４６０）、配線トレース（４５２）、バイア（４６８）、配線の突出部（４７２）、バイア（４７０）、配線トレース（４５６）、および、プローブ・パッド（４６４）によって画定する、
配線試験構造（４５０）。
【請求項３】
第１の配線面内に形成され、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）と、
第１の配線面内に形成され、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４６０，４６２，４６４，４６８）とを含み、
複数の配線トレースの第１の対（４５４，４５８）は、ほぼ中心で第１の配線面内で互いに接続され、第１の配線経路が、プローブ・パッド（４６２）、配線トレース（４５４）、配線トレース（４５８）、および、プローブ・パッド（４６６）によって画定され、
複数の配線トレースの第２の対（４５２，４５６）は、配線トレース（４５４）と配線トレース（４５８）の間の接続部の相対する側に近付くが、配線トレース（４５２）と配線トレース（４５６）とは電気的に分離されている、
配線試験構造（５００）。
【請求項４】
第１の配線面内に形成され、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）と、
第１の配線面内に形成され、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４６０，４６２，４６４，４６８）とを含み、
複数の配線トレースの第１の対（４５４，４５６）は、第１の配線面内で互いに接続され、第１の配線経路が、プローブ・パッド（４６２）、配線トレース（４５４）、配線トレース（４５６）、および、プローブ・パッド（４６４）によって画定され、
複数の配線トレースの第２の対（４５２，４５８）は、第１の配線面内で互いに接続され、第２の配線経路が、プローブ・パッド（４６０）、配線トレース（４５２）、配線トレース（４５８）、および、プローブ・パッド（４６６）によって画定する、
配線試験構造（５５０）。
【請求項５】
前記複数の配線トレ−スが、内向きに直角に螺旋形になる、請求項１〜４の何れかに記載の配線試験構造（４００，４５０，５００，５５０）。
【請求項６】
第１の配線面内に、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４０２，４０４）を形成するステップと、
第１の配線面内に、複数の配線トレース（４０２，４０４）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４０６，４０８）を形成するステップと、
第１の配線面とは異なる配線レベルにある第２の配線面内に、前記複数の配線トレース（４０２，４０４）に複数のバイア（４１０，４１２）を通して接続された複数の配線トレース（４１４，４１８）を形成するステップと、
第２の配線面内に、複数の配線トレース（４１４，４１８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４１６，４２０）を形成するステップとを含み、
第１の配線経路は、プローブ・パッド（４０６）、配線トレース（４０２）、バイア（４１０）、配線トレース（４１４）、および、プローブ・パッド（４１６）に至るように形成され、
第２の配線経路は、プローブ・パッド（４０８）、配線トレース（４０４）、バイア（４１２）、配線トレース（４１８）、および、プローブ・パッド（４２０）に至るように形成される、
配線試験構造（４００）を形成する方法。
【請求項７】
第１の配線面内に、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）を形成するステップと、
第１の配線面内に、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４６０，４６２，４６４，４６８）を形成するステップとを含み、
複数の配線トレースの第１の対（４５４，４５８）は、ほぼ中心で第１の配線面内で互いに接続され、第１の配線経路が、プローブ・パッド（４６２）、配線トレース（４５４）、配線トレース（４５８）、および、プローブ・パッド（４６６）によって画定され、
複数の配線トレースの第２の対（４５２，４５６）は、配線トレース（４５４）と配線トレース（４５８）の間の接続部の相対する側に近付き、複数のバイア（４６８，４７０）と、第１の配線面とは異なる配線レベルにある第２の配線面内に続けられた、配線の突出部（４７２）とを使用して、第２の配線経路が、プローブ・パッド（４６０）、配線トレース（４５２）、バイア（４６８）、配線の突出部（４７２）、バイア（４７０）、配線トレース（４５６）、および、プローブ・パッド（４６４）によって画定される、
配線試験構造（４５０）を形成する方法。
【請求項８】
第１の配線面内に、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）を形成するステップと、
第１の配線面内に、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４６０，４６２，４６４，４６８）を形成するステップとを含み、
複数の配線トレースの第１の対（４５４，４５８）は、ほぼ中心で第１の配線面内で互いに接続され、第１の配線経路が、プローブ・パッド（４６２）、配線トレース（４５４）、配線トレース（４５８）、および、プローブ・パッド（４６６）によって画定され、
複数の配線トレースの第２の対（４５２，４５６）は、配線トレース（４５４）と配線トレース（４５８）の間の接続部の相対する側に近付くが、配線トレース（４５２）と配線トレース（４５６）とは電気的に分離されている、
配線試験構造（５００）を形成する方法。
【請求項９】
第１の配線面内に、交互配置されて内向きに螺旋形になる、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）を形成するステップと、
第１の配線面内に、複数の配線トレース（４５２，４５４，４５６，４５８）に接続されている、複数のプローブ・パッド（４６０，４６２，４６４，４６８）を形成するステップとを含み、
複数の配線トレースの第１の対（４５４，４５６）は、第１の配線面内で互いに接続され、第１の配線経路が、プローブ・パッド（４６２）、配線トレース（４５４）、配線トレース（４５６）、および、プローブ・パッド（４６４）によって画定され、
複数の配線トレースの第２の対（４５２，４５８）は、第１の配線面内で互いに接続され、第２の配線経路が、プローブ・パッド（４６０）、配線トレース（４５２）、配線トレース（４５８）、および、プローブ・パッド（４６６）によって画定する、
配線試験構造（５５０）を形成する方法。
【請求項１０】
前記第１の配線面にある複数の配線トレースの各々が、各々に接続された対応するプローブ・パッドから内向きに中心位置に向かって直角に螺旋形になるように構成されている、請求項６〜９の何れかに記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の配線トレースが、交互位相偏移マスク（ＡＬＴ−ＰＳＭ）を使用して形成される、請求項６〜１０の何れかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、半導体デバイス製造における欠陥検出に関し、より詳細には、半導体デバイス中の開路および短絡を決定するための配線試験構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
処理の問題を暗示する可能性がある様々な電気的欠陥（例えば、開路および短絡）を識別するために、一般に配線試験構造が半導体ウェーハの切り溝（周辺）領域内に形成される。そのような試験構造は、好ましくは、依然として最小限の「漏れ（エスケープ）」（すなわち、見落とされた欠陥）で問題の欠陥全てを検出しながら最小限の面積を使用して必要なだけの試験を可能にすることによって、短絡および開路の検出効率の最大化を容易にすべきである。さらに、そのような構造は、好ましくは、可能であれば開路試験と短絡試験の両方を同時に実施すること可能にし、その上、非常に微細な形状寸法用の交互位相偏移マスク（ＡＬＴ−ＰＳＭ）を可能にする。
【０００３】
例えば櫛状構造のような既存の特定の試験構造は、短絡を検出するように構成されているが、開路を検出するように構成されていない。さらに、開路のような他の欠陥の存在を仮定すると、櫛状構造内に実際に存在する短絡の中には、検出を逃れることができるものがある。逆に、例えばへび状試験構造のような特定の他の試験構造は、開路を検出するように構成されているが短絡を検出するように構成されていない。短絡がへび状試験構造内に存在している場合、この構造内の開路は検出を逃れることがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、試験構造は、欠陥の様々のパターンまた欠陥の組合せのせいで「漏れ」がないか実質的にない状態で、開路または短絡のどちらの存在でも検出できることが望ましいだろう。開路および短絡がない試験構造によって、パラメータ試験（例えば、線抵抗、キャパシタンス）ための使用前の電子的な開路短絡試験では、その構造は信頼できるものになる。
【０００５】
さらに、開路および短絡の漏れをほとんどなくすることができるように構成された試験構造によって、その構造はより有用なプロセス監視装置になることができる。というのは、欠陥自体は高い信頼度で検出されるので、パラメータ測定は欠陥の影響をほとんど受けそうにないからである。さらに、そのような構造はＡＬＴ−ＰＳＭ使用と整合性のあるように構成できれば望ましいだろう。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
従来技術の前述の欠点および不備は、交互配置になる螺旋形パターンで構成された複数の配線トレースを含んだ配線試験構造によって、克服されるか、または軽減される。複数の配線トレースの少なくとも１つは、それの開路試験のために構成され、また、複数の配線トレースの少なくとも一対は、その間の短絡試験のために構成されている。
【０００７】
さらに他の実施形態では、配線試験構造を形成する方法は、交互配置螺旋形パターンの複数の配線トレースを形成すること、複数の配線トレースの少なくとも１つをそれの開路試験用に構成すること、および複数の配線トレースの少なくとも一対をその間の短絡試験用に構成することを含む。
【０００８】
いくつかの図で同様な要素は同様に番号が付けられている例示の図面を参照する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
開路および短絡を効率的に検出することができる配線試験構造が本明細書で開示されている。簡単に言うと、試験構造の例示の実施形態は、開路および短絡の試験を行うために、交互配置された内向きに螺旋形になるパターンを利用する。以下で理解されるであろうが、螺旋形構造は少なくとも２つの点で効率がよい。第１に、螺旋形構造で欠陥を見落とすことは困難である。第２に、螺旋形構造の各線は開路と短絡の両方の試験を行うために使用することができるので、螺旋形構造は、短絡または開路の漏れの可能性の著しい減少の点だけでなく、面積の点でも従来のへび状および櫛状試験パターンよりも効率的である。
【００１０】
さらに（および交互位相マスク用途に特に適していることに加えて）、交互配置螺旋形試験構造は、抵抗およびキャパシタンスのようなパラメータ測定に拡張可能であるだけでなく、また線幅のパラメータ・プロセス監視装置としての有利点も有している。この方式は、特にＦＥＴのゲート層および金属化層の試験現場に適用され、またゲート導体間測定または金属化線間測定、またはゲート導体・拡散間測定の線抵抗測定ならびにこれら全ておよびキャパシタンス測定のようなパラメータ試験にも使用することができる。
【００１１】
開路と短絡の両方を検出するために、例示の実施形態では、二重螺旋形試験構造を主に１つの平面内で実現することができるが、他の平面内に少量の配線を有することができる。代わりに、二重螺旋形試験構造は、一平面内にだけ作ることができるが、主に、開路の試験構造として（へび状構造の代替えとして）か、または短絡の試験構造として（櫛状構造の代替えとして）設計されるだろう。
【００１２】
最初に図１を参照すると、短絡の検出に使用される従来構成の櫛状試験構造１００が示されている。図示のように、櫛状構造１００は、噛み合う指部を有する第１のネット１０２と第２のネット１０４を含むが、それらは、名目上では互いに電気的に分離されている。当技術分野でよく知られている試験装置を使用して、第１のネット１０２はパッド１０６からプローブ検査され、一方で、第２のネット１０４はパッド１０８からプローブ検査される。構造１００は、名目上では、１１０または１１２のような短絡を検出することができるが、１１４または１１６のような開路を検出することはできない。さらに、１１６の開路の存在によって、試験構造１００は、実際には、１１２の短絡を検出する際に役に立たなくなり、このように漏れの例を示している。したがって、構造１００の欠陥のいくつかの組合せで、短絡の漏れが生じるようになる。
【００１３】
図１に示すもののような櫛状試験構造はパッド１０６と１０８の間のキャパシタンスを測定するように使用されるかもしれないが（短絡がないと仮定して）、開路の存在は、測定されたキャパシタンスが線間の平均キャパシタンスを表わさないことを意味し、したがって、監視される実際のプロセスにそのようなパラメータ測定がどのように関係するかに不確実部分を導入するだろう。そして今度は、このことで構造の有用性が減少し、結果として、ことによると、完全性を保証するためのプロセス監視装置として使用する前に、試験構造の検査の点で余分の仕事が生じる可能性がある。さらに、櫛状試験構造をパターン形成するために交互位相偏移マスク（ＡＬＴ−ＰＳＭ）が使用される場合、櫛部の線の端から交互配置対象までの間に追加のスペースが与えられなければならない。
【００１４】
図２は、開路の検出に使用される従来構成のへび状試験構造２００を示す。図１の櫛状構造１００に対して、図２のへび状試験構造２００は、名目上は電気的に連続している単一のネット・トレース２０２を有し、パッド２０４および２０６からプローブ検査される。そのようなへび状構造は、２０８および２１０に示すような開路の検出には有用であるが、２１２および２１４に示すような短絡を検出するように構成されていない。さらに、２１２の短絡の存在のために、実際には、２１０の開路を検出する際に試験構造２００が役に立たなくなるだろう。したがって、漏れの他の例を示している。
【００１５】
へび状試験構造２００に欠陥がないと想定すると、へび状試験構造２００は、抵抗、線幅、または線断面積あるいはこれら全ての監視のプロセス監視用のパラメータ試験として使用されるかもしれない。しかし、この構造２００のプロセス監視装置としての有用性は、２１２および２１４のような検出不可能な短絡または２１０のような見落とされた開路（短絡２１２の存在のために）の存在によって根底から揺るがされる可能性がある。櫛状構造１００の場合のように、そのような欠陥は、完全性を保証するためのプロセス監視デバイスとして使用する前に試験構造２００の検査のために、ことによると追加の仕事をもたらす可能性がある。
【００１６】
ここで図３を参照すると、開路（ある特定の位置にある）と短絡（他の特定の位置にある）の両方を試験するいくらかの機能を実現するさらに他の従来構成の試験構造３００が示されている。図示のように、混成試験構造３００は、へび状部品（すなわち、線３０６）だけでなく櫛状部品（すなわち、線３０２、３０４）も含んでいる。へび状の線３０６は、互いに噛み合った線３０２、３０４の間を通っている。試験目的のために、線３０２および３０４はパッド３０８および３１０からそれぞれプローブ検査されるが、一方で、線３０６はパッド３１２と３１４からプローブ検査することができる。理解されるように、構造３００はある特定の開路およびある特定の短絡を検出することができるが、構造３００内の全ての導電トレースを、開路と短絡の両方で、試験することができるとは限らない。
【００１７】
特に、構造３００は、へび状の線３０６に沿った３１６のような開路を検出することができるが（パッド３１２と３１４をプローブ検査することによって）、３１８または３２０の開路は櫛状の線３０２に沿っているので、これらを検出することができない。他方で、構造３００は、３２２および３２４に示すような短絡を検出するだろう。しかし、３２６のような短絡は、３２０の開路も存在する場合には見落とされるだろう。したがって、混成試験構造３００はある特定の範囲で開路と短絡の両方を検出することができるという事実にもかかわらず、未検出のままで残ることがある欠陥の組合せもある。さらに、構造３００の各トレースは短絡の試験をすることができるが、線３０２および３０４の開路を検出することができないので、構造３００のトレースの約半分だけを開路試験に使用することができる。
【００１８】
以上のことをまとめると、図１〜３に示した従来構造のどれも（すなわち、櫛状、へび状または混成）、導電トレースの全てを開路と短絡の両方の試験に使用する機能を実現しない。したがって、開路と短絡の両方の試験を１つの小さな面積に効率的に詰めることを制限している。さらに、前述の試験構造の各々は、システム的にも（全ての線が全ての欠陥の試験を行うとは限らないので）、またいくつかの他の欠陥との組合せでも（これによって、プロセス監視目的にそのような構造を使用することが制限されている）、欠陥を見落とし易い。
【００１９】
したがって、図４は、本発明の実施形態に従った配線試験構造４００を示す模式図である。図示のように、試験構造４００は、交互配置された内向きに螺旋形になる線４０２、４０４を特徴とする。図示の実施形態では、螺旋形になる線４０２、４０４は、ウェーハ中に画定された第１の配線面内に形成され、また同様に線４０２、４０４のそれぞれのプロー検査パッド４０６、４０８が形成される。線４０２および４０４は、第１の配線面の中心位置に向かって内向きに螺旋形になるときに、それらは名目上互いに電気的に分離されている。最終的には、線４０２は第１のバイア４１０と交わり、一方で、線４０４は第２のバイア４１２と交わる。バイア４１０および４１２は延びて第２の配線面に入り、この第２の配線面は、第１の配線面に対して下の配線レベルか、または第１の配線面に対して上の配線レベルかのどちらに位置してもよい。
【００２０】
言い換えると、バイア４１０および４１２は、線４０２および４０４を含むレベルと異なる金属レベルに向かって上または下に延びることができる。いずれの場合にも、配線トレース４１４（線４０２および４０４と異なる配線レベルにある）は、バイア４１０をプローブ・パッド４１６に接続する。対応して、別の配線トレース４１８はバイア４１２をプローブ・パッド４２０に接続する。留意されたいことであるが、トレース４１４、４１８およびプローブ・パッド４１６、４２０は、好ましくは、互いに同じ金属レベルに位置している。このように構成されるので、試験構造４００は、一態様で、その中に存在する開路の完全で徹底的な試験を可能にする。第１の（名目上連続した）配線経路は、パッド４０６、線４０２、バイア４１０、トレース４１４およびパッド４１６で画定される。そのようなものとして、この第１の経路に沿った開路は、パッド４０６および４１６での適切なプローブ検査によって検出することができる。さらに、第２の（名目上連続した）配線経路は、パッド４０８、線４０４、バイア４１２、トレース４１８およびパッド４２０で画定される。この第２の経路に沿った開路は、パッド４０８および４２０での適切なプローブ検査によって検出することができる。
【００２１】
さらに、図４の試験構造４００は、また、パッド４０６と４０８でのプローブ検査によって螺旋形構成の２つの隣接したトレース間の短絡の完全な検出を可能にする。開路が検出された場合でも（例えば、４２２のような）、この条件は、４２４の短絡の検出を妨げないだろう。というのは、短絡はパッド４０８と４１６でのプローブ検査によって識別することができるからである。
【００２２】
この点で留意されたいことであるが、交互配置された螺旋形試験構造４００は内向きに直角に螺旋形になるものとして示されている。しかし、円形状螺旋または他の角度の螺旋（例えば、八角形状試験構造をもたらす４５度螺旋）のような、他の螺旋形構成も考えられる。直角正方形螺旋構成の１つの特定の有利点は、パターン形成の比較的容易なことおよびＡＬＴ−ＰＳＭ処理との整合性である。交互になる二重線のために、そのような構造が２つの型の交互になるマスク領域に対応するのに向いているので、ＡＬＴ−ＰＳＭ使用の当業者は、より微細な形状寸法でこの型の試験構造を製造できるだろう。
【００２３】
図５は、効率のよい開路および短絡検出を実現するが図４の実施形態４００よりも少ない「面外」配線を有する配線試験構造４５０の他の実施形態を示す模式図である。特に、試験構造４５０は、ウェーハ中に画定された第１の配線面内に形成された交互配置の内向きに螺旋形になる線４５２、４５４、４５６および４５８を備え、また同様にそれぞれのプロービング・パッド４６０、４６２、４６４、および４６６がある。線４５２、４５４、４５６および４５８は第１の配線面内で中心位置に向かって内向きに螺旋形になるときに、それらの線は最初（名目上では）互いに電気的に分離されている。しかし、第１の対の線（例えば、線４５４と４５８）は、最終的には、構造４５０のほぼ中心で第１の配線面内で互いに交わる。その結果として、第１の（名目上は連続した）配線経路は、パッド４６２、線４５４、線４５８およびパッド４６６によって画定される。このように、この第１の経路は、完全に第１の配線面内に位置している。
【００２４】
対照的に、第２の対の線（例えば、線４５２と４５６）は、構造４５０の中心に向かって内向きに螺旋形になり、ついには線４５４と４５８の間の接続部の相対する側に近付く。この点で、バイア４６８および４７０が線４５２および４５６の経路を第２の配線面にそれぞれ続け、この第２の配線面は、再び、螺旋形パターンを含む第１の配線面の上か下かのどちらに位置してもよい。それから、最後に、線４５２と４５６を第２の配線面内で接続するために、小さな配線の突出部４７２が使用される。これによって、第２の（名目上は連続した）配線経路は、パッド４６０、線４５２、バイア４６８、突出部４７２、バイア４７０、線４５６およびパッド４６４によって画定される。この第２の経路は大部分が第１の配線面内に位置しているが、第１の経路と短絡することなくこれを横切って向こう側に行くために、第２の配線面内にいくらかの配線（すなわち、突出部４７２）を有している。
【００２５】
機能的な観点からみると、図５の試験構造４５０は、図４の試験構造４００と同じ効率のよい完全な開路・短絡試験機能を実現する。例えば、線４５４／４５８の開路チェックはパッド４６２、４６６のプローブ検査によって実施され、一方で、線４５２／４５６の開路チェックはパッド４６０、４６４のプローブ検査によって実施される。任意の２つの隣接したトレース間の短絡は、第１の配線経路のパッドおよび第２の配線経路のパッドの適切なプローブを通して検出することができる。試験構造４００の場合と同じように、試験構造４５０は、また、ＡＬＴ−ＰＳＭ処理を用いた効率のよい実施に特に適している。プローブ検査用試験装置の性質および構成に依存して、図５に示すように４つのプローブ・パッドの各々を同じ配線面内に有することか、または図４に示すようにより垂直方向に向けられたパッドを有することが、より有利であることがある。
【００２６】
図４および５の実施形態は、完全な効率のよい開路・短絡試験機能（プロセス監視機能に加えて）を実現するが、これらの構造の少なくとも一部は、主交互配置螺旋形トレースに対して別個の配線面内に形成される。全構造を単一配線レベル内に製造することが望ましい場合に（試験構造がどの特定の金属レベルに位置することになるかに依存して）、やはり交互配置螺旋形構成を使用することができる。しかし、そのようにする際には、開路試験か短絡試験かのどちらかに関して、完全な機能の点で結果として生じる妥協がある。
【００２７】
例えば、図６は、本発明の他の実施形態に従った、効率のよい開路および短絡検出を実現するための配線試験構造５００の模式図である。指摘するように、交互配置螺旋形試験構造５００は、平面配線の出力が設けられていないことを除いて、図５の実施形態４５０と実質的に同じである。したがって、線４５４および４５８は、依然として、名目上は連続した配線経路を画定するが、線４５２および４５６は、今度は、互いに（線４５４および４５８からだけでなく）電気的に分離されている。この実施形態は、任意の隣接した対のトレース間の短絡を実質的に完全に試験することを可能にするが、線４５４および４５８だけが開路試験用に構成されている。さらに、欠陥の組合せで、また、結果として、検出を逃れる１つまたは複数のそのような欠陥が生じることになるかもしれない。この意味で、試験構造５００は、図３の混成構造３００と同様な機能を実現する。しかし、交互配置螺旋形構造５００は、依然として、ＡＬＴ−ＰＳＭ処理を使用する効率のよい実施との整合性だけでなく、面積効率の点でも従来の混成構造に優った改善である。
【００２８】
最後に、開路試験に関する完全な有効範囲の方が短絡試験に関する完全な有効範囲よりもいくらか望ましい場合に（さらに、構造は単一配線面内に完全に形成されると仮定して）、図７は、やはり本発明の他の実施形態に従った配線試験構造５５０の模式図である。図示のように、線４５２および４５８は第１の名目上連続した配線経路を画定するが、一方で、線４５４および４５６は第２の名目上連続した配線経路を画定している。このように構成して、全螺旋形試験構造５５０で開路の試験を行うことができる。この実施形態の妥協は、隣接したトレース間の短絡の可能性のある数の半分だけを検出できることである。例えば、線４５２と４５４の間または線４５６と４５８の間の短絡は検出することができる。しかし、線４５４と４５６の間または線４５２と４５８の間の短絡は検出することができない。
【００２９】
再び、図６および７の単一配線面実施形態は、図４および５の多配線面実施形態のように開路と短絡の両方の試験の全範囲を実現しないが、依然として図３の従来の混成実施形態に優った改善がある。開路または短絡を見落とす機会はかなりより少なく、その上、二重螺旋形試験構造で行われた抵抗測定の信頼性がより高い。従来の混成構造の櫛状部分で開路が見落とされるかもしれないだけでなく、櫛部の開路は、混成構造の櫛状部分とへび状部分の間の短絡が見落とされるという漏れにつながるかもしれない。対照的に、検出を逃れるためには、図７の２つの配線経路の接続が例えば偶数回切り換わるようにする欠陥でなければならないだろう。これは、従来の櫛状、へび状または混成試験構造の場合よりもよりもありそうにない、漏れが存在するシナリオである。
【００３０】
上で述べたように、試験構造用交互配置螺旋形構成の実施形態は、ＡＬＴ−ＰＳＭ処理を使用する効率のよい実施と整合している。例えば、図８に説明文で示されているように阻止マスク、１８０°位相偏移マスク、および０°位相偏移マスクを含んだ一組のＡＬＴ−ＰＳＭマスクの例示の構成に加えて、図７の試験構造を図８に示す。
【００３１】
開示された試験構造実施形態は、チップ製造の様々なレベルの点に関して説明したが、理解されることであろうが、これらの構造は、また、（例えば）プリント開路基板のような他の型の電子実装または所定の製品の特定の電子的監視装置（例えば、輸送または本来の位置での使用中に腐食またはある他の状態を検出するための）に関連しているかもしれない。
【００３２】
本発明は好ましい実施形態を参照して説明したが、当業者は理解することであろうが、本発明の範囲から逸脱することなく実施形態の要素に様々な変更を加えることができ、また代わりに同等物を使用することができる。さらに、本発明の基本的な範囲から逸脱することなく特定の状況または材料を本発明の教示に適合させるように多くの修正物を作ることができる。したがって、本発明は、本発明を実施するために考えられた最善の態様として開示された特定の実施形態に限定されることなく、本発明は、添付の特許請求の範囲に含まれる全ての実施形態を含む意図である。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】短絡の検出に使用される従来構成の櫛状配線試験構造を示す模式図である。
【図２】開路の検出に使用される従来構成のへび状配線試験構造を示す模式図である。
【図３】短絡および開路の検出に使用される従来構成の混成櫛状／へび状配線試験構造を示す模式図である。
【図４】本発明の実施形態に従った配線試験構造を示す模式図である。
【図５】図４の試験構造の他の実施形態を示す模式図である。
【図６】本発明の他の実施形態に従った配線試験構造を示す模式図である。
【図７】図６の試験構造の他の実施形態を示す模式図である。
【図８】図７の試験構造を形成するために使用することができる例示のＡＬＴ−ＰＳＭマスク一組を示す図である。
【符号の説明】
【００３４】
４０２  交互配置内向き螺旋形線
４０４  交互配置内向き螺旋形線
４５２  交互配置内向き螺旋形線
４５４  交互配置内向き螺旋形線
４５６  交互配置内向き螺旋形線
４５８  交互配置内向き螺旋形線
４０６  プローブ・パッド
４０８  プローブ・パッド
４１６  プローブ・パッド
４２０  プローブ・パッド
４６０  プローブ・パッド
４６２  プローブ・パッド
４６４  プローブ・パッド
４６６  プローブ・パッド
４００  交互配置螺旋形配線試験構造
４５０  交互配置螺旋形配線試験構造
５００  交互配置螺旋形配線試験構造
５５０  交互配置螺旋形配線試験構造
４１０  バイア
４１２  バイア
４６８  バイア
４７０  バイア
４１４  配線トレース
４１８  配線トレース
４２２  開路
４２４  短絡
４７２  配線突出部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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