(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクシートを重ね合わせ、発熱素子の下または上に弾性体を配置したサーマルヘッドにより加熱する熱転写記録システムであって、使用される感熱転写受像シートの受容層が水を主たる媒体として塗布されて形成され、かつ該受容層に熱可塑性樹脂を含有し、該熱可塑性樹脂の少なくとも１種が塩化ビニル系ポリマーであって、該インクシートが、マゼンタ色素層に下記一般式（９）で表される色素、下記一般式（１０）で表される色素、および下記一般式（１１）で表される色素をそれぞれ含有し、シアン色素層に下記一般式（１２）で表される色素、および下記一般式（１３）で表される色素をそれぞれ含有することを特徴とする熱転写記録システム。
【化１】
0004584128.tif 000040
（一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１１が２〜４の整数を表すとき又はｎ１２が２を表すとき、複数のＲ74又は複数のＲ72は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化２】
0004584128.tif 000041
（一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82およびＲ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１３が２〜４の整数を表すとき又はｎ１４が２を表すとき、複数のＲ84又は複数のＲ82は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化３】
0004584128.tif 000042
（一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１５が２を表すとき複数のＲ92は同じでも異なっていてもよい。Ｚ1およびＺ2は、どちらか一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3およびＺ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ96)−を表す。ここで、Ｒ95およびＲ96は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
【化４】
0004584128.tif 000043
（一般式（１２）中、Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表す。Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１６が２〜４の整数を表すとき又はｎ１７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ101又は複数のＲ102は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化５】
0004584128.tif 000044
（一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ114又は複数のＲ112は各々同じでも異なっていてもよい。）
【請求項２】
前記感熱転写受像シートの受容層が、塩化ビニル系ラテックスを含有する受容層であることを特徴とする請求項１に記載の熱転写記録システム。
【請求項３】
前記感熱転写受像シートの受容層中の塩化ビニル系ポリマーが、塩化ビニル共重合体であることを特徴とする請求項１または２に記載の熱転写記録システム。
【請求項４】
前記感熱転写受像シートの受容層にフッ素系離型剤化合物またはシリコーン系離型剤化合物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
【請求項５】
前記感熱転写受像シートの受容層に固形ワックスと、フッ素系離型剤化合物またはシリコーン系離型剤化合物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
【請求項６】
前記インクシートのイエロー色素層に、下記一般式（７）で表される色素および下記一般式（８）で表される色素を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
【化６】
0004584128.tif 000045
（一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ８が２〜５の整数を表すとき又はｎ９が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ51又は複数のＲ52は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化７】
0004584128.tif 000046
（一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表し、Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１０が２〜４の整数を表すとき複数のＲ61は同じでも異なっていてもよい。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感熱記録紙やインクフィルムと記録紙等の被加熱シートとの接触が良好なサーマルヘッドを用いた熱転写記録システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
熱記録には、感熱記録紙を加熱して発色記録する感熱記録方法と、インクフィルム（インクシート）を背後から加熱してインクを記録紙（感熱転写受像シート）に転写する熱転写記録方法とがある。後者の熱転写記録方法には、インクを溶融して記録紙に転写する熱溶融型と、インク（染料）を記録紙に拡散転写させる昇華型とがある。これらの熱記録では、発熱素子を主要部とする記録要素が記録紙の搬送方向と直交する方向に配列されたサーマルヘッドが用いられる。
感熱記録紙やインクフィルムと記録紙等の被加熱シートに凹凸があったり、あるいは記録要素の高さにバラツキがあると、記録要素と被加熱シートとの接触が不良となる。このような接触不良があると、記録要素と被加熱シート間の接触面積と圧力が変化するため、記録画像に白抜けやザラツキが発生し、画質低下の原因となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、平坦性の低い材料でもムラなく均一処理することができる高速処理に適した熱転写記録システムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の課題は、下記の手段によって解決された。
［１］インクシートを重ね合わせ、発熱素子の下または上に弾性体を配置したサーマルヘッドにより加熱する熱転写記録システムであって、使用される感熱転写受像シートの受容層が水を主たる媒体として塗布されて形成され、かつ該受容層に熱可塑性樹脂を含有し、該熱可塑性樹脂の少なくとも１種が塩化ビニル系ポリマーであって、該インクシートが、マゼンタ色素層に下記一般式（９）で表される色素、下記一般式（１０）で表される色素、および下記一般式（１１）で表される色素をそれぞれ含有し、シアン色素層に下記一般式（１２）で表される色素、および下記一般式（１３）で表される色素をそれぞれ含有することを特徴とする熱転写記録システム。
【化１】
0004584128.tif 000002
（一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１１が２〜４の整数を表すとき又はｎ１２が２を表すとき、複数のＲ74又は複数のＲ72は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化２】
0004584128.tif 000003
（一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82およびＲ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１３が２〜４の整数を表すとき又はｎ１４が２を表すとき、複数のＲ84又は複数のＲ82は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化３】
0004584128.tif 000004
（一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１５が２を表すとき複数のＲ92は同じでも異なっていてもよい。Ｚ1およびＺ2は、どちらか一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3およびＺ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ96)−を表す。ここで、Ｒ95およびＲ96は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
【化４】
0004584128.tif 000005
（一般式（１２）中、Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表す。Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１６が２〜４の整数を表すとき又はｎ１７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ101又は複数のＲ102は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化５】
0004584128.tif 000006
（一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ114又は複数のＲ112は各々同じでも異なっていてもよい。）
［２］前記感熱転写受像シートの受容層が、塩化ビニル系ラテックスを含有する受容層であることを特徴とする［１］項に記載の熱転写記録システム。
［３］前記感熱転写受像シートの受容層中の塩化ビニル系ポリマーが、塩化ビニル共重合体であることを特徴とする［１］または［２］項に記載の熱転写記録システム。
［４］前記感熱転写受像シートの受容層にフッ素系離型剤化合物またはシリコーン系離型剤化合物を含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
［５］前記感熱転写受像シートの受容層に固形ワックスと、フッ素系離型剤化合物またはシリコーン系離型剤化合物を含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
［６］前記インクシートのイエロー色素層に、下記一般式（７）で表される色素および下記一般式（８）で表される色素を含有することを特徴とする［１］〜［５］のいずれか１項に記載の熱転写記録システム。
【化６】
0004584128.tif 000007

（一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ８が２〜５の整数を表すとき又はｎ９が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ51又は複数のＲ52は各々同じでも異なっていてもよい。）
【化７】
0004584128.tif 000008
（一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表し、Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１０が２〜４の整数を表すとき複数のＲ61は同じでも異なっていてもよい。）
【発明の効果】
【００１１】
本発明の熱転写記録システムは、発熱素子の上又は下に弾性体を設けたサーマルヘッドを用いて加熱することにより、インクフィルム等の被加熱シートに凹凸があっても、各記録要素が常に一定の接触状態（面積，圧力）を保つことができる。したがって、白抜きやザラツキのない高画質の画像を記録することができるとともに、表面が平滑でない安価な被加熱シートの使用が可能となるから、消耗品のコストを低減することができる。そして、特定の感熱受像シートを用いることにより、平坦性の低い材料でもムラなく均一処理することができ画像の面アレの改善が実現できる。これにより、材料の加熱による平坦化応答が間に合わないほどの短時間の処理が可能となり実効的に高速化処理が可能となる。特に、特定の感熱受像シートと特定のインクシートとを併用することで、高速処理時においてさらにムラなく均一処理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に用いられるサーマルヘッドには、発熱素子の下または上に弾性体が配置されている。この弾性体を設けることにより、被加熱シートの平坦性が悪くても、各記録要素は被加熱シートに対して常に一定な接触状態を保つことができる。
まず、本発明の熱転写記録システムに用いられるサーマルヘッドの好ましい一実施態様について、添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図の説明において同一の要素には同一の符号を付す。
【００１３】
図１は本発明に用いられるサーマルヘッドの好ましい一実施態様を示すものであり、（Ａ）はサーマルヘッドを主走査方向に切断した断面図であり、（Ｂ）は副走査方向に切断した断面図である。セラミック基板１０の上に弾性体層１１が設けられている。この弾性体層１１としては、耐熱性を備えたゴム材料，例えばシリコンゴムやフッ素ゴム等が用いられる。この弾性体層１１の上には、多数の記録要素が一定ピッチで形成されている。図面では、３個の記録要素１２，１３，１４が示されている。この記録要素１２は、グレーズ層１６とこの上に形成された発熱素子１７とからなる。この発熱素子１７としては、抵抗材料を蒸着又は焼結することによって形成される。なお、記録要素１３，１４も記録素子１２と同じ構造であるため、符号のみを付してある。符号２２は電極であり、２３は保護層である。
【００１４】
図２において、前記各記録要素１２〜１４には、被加熱シート２５が接触される。この被加熱シート２５は、感熱記録では感熱記録紙であり、熱転写記録ではインクフィルムである。被加熱シート２５に微細な凹凸がある場合には、弾性体層１１が弾性変形するから、各記録要素１２〜１４が被加熱シート２５に対して常に一定の接触状態を保つことができる。勿論、平坦性の良好な被加熱シートの場合も同様である。更に、各記録要素の高さにバラツキが生じている場合であっても、一定の接触状態を保つことができる。
【００１５】
画像を記録する場合には、発熱素子を通電して被加熱シート２５を加熱する。感熱記録では、被加熱シート２５として感熱記録材料が用いられる。熱転写記録では、被加熱シート２５としてインクフィルムと記録紙が用いられる。そして、画素に応じて各発熱素子を通電し、インクフィルムの背後を加熱してインクを記録紙に転写する。
【００１６】
図３は、発熱素子の上に弾性体層３０を設けた実施態様を示すものであり、図１と同じ部材には同じ符号を付してある。
【００１７】
図４は、グレーズ層を全面に設けた厚膜ヘッドの実施態様を示すものである。セラミック基板１０の上にグレーズ層３５が層設されており、この上に複数の発熱素子３６と、電極３７とが形成され、これらの上に弾性体層３８が設けられている。
【００１８】
本発明の熱転写記録システムにはサーマルプリンタが用いられるが、当該サーマルプリンタにおける前記サーマルヘッド以外の部分については任意の構造とすることができる（例えば特開平３−２８８６７２号公報等を参照）。
【００１９】
次に、本発明の熱転写記録システムに用いられる感熱転写受像シート（受像シート）について説明する。
本発明に用いられる感熱転写受像シートは、支持体上に染料受容層（受容層）が形成されている。受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。また、下地層と支持体との間には断熱層が形成されていることが好ましい。さらに、支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましい。各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。また、受容層は水を主たる媒体として塗布されて形成されることが好ましい。ここで、水を主たる媒体とするという意味は、水を媒体全体の４０質量％以上、好ましくは６０〜９５質量％含むという意味である。
【００２０】
＜受容層＞
［熱可塑性樹脂］
本発明において、受容層は、水を主たる媒体として塗布されて形成され、かつ該受容層に熱可塑性樹脂を含有し、該熱可塑性樹脂の少なくとも１種が塩化ビニル系ポリマーである。
受容層に使用される熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー・ポリ酢酸ビニル・エチレン酢酸ビニル共重合体・塩化ビニル酢酸ビニル共重合体・ポリアクリルエステル・ポリスチレン・ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール・ポリビニルブチラール・ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン（プラクセルＨ−５、商品名、ダイセル化学工業(株)製）等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、特開平４−２９６５９５号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載セルロース系樹脂やセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、ＣＡＢ３２１−０．１、いずれも商品名、イーストマンケミカル社製）等のセルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のポリアミド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドし、用いることもできる。特開昭５７−１６９３７０号、同５７−２０７２５０号、同６０−２５７９３号の各公報等にも受容層を形成した樹脂が開示されている。
【００２１】
上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが更に好ましく、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体またはこれらの混合物が特に好ましい。ポリカーボネート、ポリエステル、およびポリ塩化ビニルについて、さらに詳しく説明する。以上のポリマーは、単独又はこれらの混合物として用いることができる。
【００２２】
（ポリエステル系樹脂）
受容層に用いられるポリエステル系樹脂について、さらに詳しく説明する。ポリエステルはジカルボン酸成分（その誘導体含む）とジオール成分（その誘導体を含む）との重縮合により得られるものである。ポリエステル樹脂は、芳香環および／または脂環を含有する。脂環式ポリエステルの技術については、特開平５−２３８１６７号公報に記載の技術が染料取り込み能と像の安定性の点で有効である。
【００２３】
ジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、それらの２種以上の混合物から選ばれる。好ましくは、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、またはそれらの２種以上の混合物から選ばれる。ジカルボン酸成分として脂環族を有するものを含有させることは、耐光性向上の観点からより望ましい。より好ましくは、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸およびイソフタル酸を使用する。ジカルボン酸成分は、イソフタル酸５０〜１００ｍｏｌ％、トリメリット酸０〜１ｍｏｌ％、テレフタル酸０〜５０ｍｏｌ％、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０〜１５ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。
【００２４】
ジオール成分は、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−ブタンジオール、ビスフェノール、またはそれらの２種以上の混合物から選ぶことができる。好ましくは、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノールから選ばれる。ジオール成分として脂環成分を含ませるようにすると、耐光性向上の観点からより望ましい。トリシクロデカンジメタノール以外にもシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノール等の脂環式ジオール成分を使用することができる。好ましい脂環式ジオール成分はトリシクロデカンジメタノールである。ジオール成分は、エチレングリコール０〜５０ｍｏｌ／％、ポリエチレングリコール０〜１０ｍｏｌ／％、トリシクロデカンジメタノール０〜９０ｍｏｌ／％、好ましくは３０〜９０ｍｏｌ／％、より好ましくは４０〜９０ｍｏｌ／％、１，４−ブタンジオール０〜５０ｍｏｌ／％、ビスフェノールＡ  ０〜５０ｍｏｌ／％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。
【００２５】
ポリエステル樹脂は、上記少なくともジカルボン酸成分およびジオール成分を使用し、分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））約１１０００以上、好ましくは約１５０００以上、より好ましくは約１７０００以上有するように重縮合したものを使用する。分子量があまり低いものを使用すると、形成される受容層の弾性率が低くなり、また耐熱性も足りなくなるので、熱転写シートと受像シートとの離型性を確保することが難しくなる。分子量は、弾性率を上げる観点から大きいほど望ましく、受容層形成時に塗布液溶媒に溶かすことができなくなるとか、受容層を塗布乾燥後に基材シートとの接着性に悪影響が出る等の弊害が生じない限り、特に限定されないが、好ましくは約２５０００以下、高くても約３００００程度となる。なお、エステル樹脂の合成法は、従来公知の方法を使用すればよい。
【００２６】
飽和ポリエステルとしては例えばバイロン２００、バイロン２９０、バイロン６００等（いずれも商品名、東洋紡(株)製）、ＫＡ−１０３８Ｃ（商品名、荒川化学工業(株)製）、ＴＰ２２０、ＴＰ２３５（いずれも商品名、日本合成化学(株)製）等が用いられる。
【００２７】
（ポリカーボネート）
受容層に用いられるポリカーボネート樹脂について、さらに詳しく説明する。ポリカーボネートは、炭酸とジオールをユニットとするポリエステルを意味し、ジオールにホスゲンを反応させる方法あるいは炭酸エステルを反応させる方法等により合成できる。
【００２８】
ジオール成分としては、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ノナンジオール、４，４’−ビシクロ（２，２，２）ヘプト−２−イリデンビスフェノール、４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノール及び２，２’，６，６’−テトラクロロビスフェノールＡが挙げられ、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオールが好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ブタンジオールがより好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコールが特に好ましい。本発明において使用されるポリカーボネートは、上記の１種ジオール成分を少なくとも使用するが、複数のジオールを混合して使用してもよい。
【００２９】
ポリカーボネートの特に好ましい態様であるビスフェノールＡ−ポリカーボネートについて、詳しく説明する。ビスフェノールＡ−ポリカーボネートを中心とする未変性のポリカーボネートの技術は米国特許第４，６９５，２８６号明細書に記載されている。ポリカーボネートは分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））約１０００以上、好ましくは約３０００以上、より好ましくは約５０００以上、特に好ましくは約１００００以上の重縮合したものを使用する。Ｍａｋｒｏｌｏｎ−５７００（商品名、Ｂａｙｅｒ  ＡＧ）及びＬＥＸＡＮ−１４１（商品名、Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ社）等のポリカーボネートを例として挙げることができる。
【００３０】
ビスフェノールＡとエチレングリコールのようなジオールを混合して変性ポリカーボネートの技術が米国特許第４，９２７，８０３号明細書に記載されている。ポリエーテルブロック単位は、炭素原子数２〜約１０個の線状脂肪族ジオールから形成することができるが、エチレングリコールから形成されたものが好ましい。好ましい実施態様では、ポリエーテルブロック単位は数分子量約４，０００〜約５０，０００を有し、またビスフェノールＡ−ポリカーボネートブロック単位は数分子量約１５，０００〜約２５０，０００を有する。ブロックコポリマー全体の分子量は、約３０，０００〜約３００，０００であることが好ましい。Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＫＬ３−１０１３（商品名、Ｂａｙｅｒ  ＡＧ）を例として挙げることができる。
【００３１】
これらの未変性および変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートを混合することも好ましく、未変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとポリエーテル変性ポリカーボネートとを質量比８０：２０〜１０：９０で配合することが好ましく、耐指紋性向上の観点から質量比５０：５０〜４０：６０の質量比が特に好ましい。未変性および変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートのブレンド技術に関しては特開平６−２２７１６０号公報にも記載されている。
【００３２】
受容層に使用される熱可塑性樹脂の好ましい実施態様として、上記ポリカーボネートと上記ポリエステルのブレンド系をあげることができる。このブレンド系では、ポリカーボネートとポリエステルの相溶性が確保できることが好ましい。ポリエステルは、好ましくは、約４０〜約１００℃のガラス転移点（Ｔｇ）を示し、またポリカーボネートは約１００〜約２００℃のＴｇを示す。ポリエステルは、好ましくは、ポリカーボネートよりも低いＴｇを示し、そしてポリカーボネートに対してポリマー可塑剤として作用する。最終のポリエステル／ポリカーボネートブレンドのＴｇは、好ましくは４０℃〜１００℃である。より高いＴｇのポリエステル及びポリカーボネートのポリマーも、可塑剤を添加することで有用となりうる。
【００３３】
さらなる好ましい実施態様では、未変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとポリエステルポリマーとを、最終ブレンドのＴｇを望ましい値にし、しかもコストを最小限に抑えるような質量比でブレンドする。ポリカーボネートとポリエステルポリマーとは、約７５：２５〜２５：７５の質量比で都合よく配合することができるが、約６０：４０〜約４０：６０の質量比で配合するとより好ましい。特開平６−２２７１６１号公報にはポリカーボネートとポリエステルとのブレンド系の技術が開示されている。
【００３４】
受容層に用いられるポリカーボネートにおいて、ポリマー末端が少なくとも２個のヒドロキシル基を有する平均分子量約１０００〜約１０，０００ポリカーボネートとヒドロキシル基と反応する架橋剤との反応により、受容層に架橋ポリマー網状構造を形成させてもよい。特開平６−１５５９３３号公報のように、多官能性イソシアネートなどの架橋剤を技術も開示され、転写後の色素供与体への粘着性を改良できる。さらに特開平８−３９９４２号公報に開示の技術のように、ポリカーボネートとイソシアネートの架橋反応の際、ジブチル錫ジアセテートを用いた感熱色素転写用色素受容要素を構成とする技術が開示されており、架橋反応の促進のみならず画像安定性や耐指紋性などを改良できる。
【００３５】
（ポリ塩化ビニル共重合体）
受容層に用いられるポリ塩化ビニル共重合体について、さらに詳しく説明する。ポリ塩化ビニル共重合体は塩化ビニル成分含有率８５〜９７質量％で重合度２００〜８００のものが好ましい。塩化ビニルと共重合するモノマーには特に限定はなく、塩化ビニルと共重合できればよく、酢酸ビニルが特に好ましい。したがって、受容層には塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が優れているが、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は必ずしも塩化ビニル成分と酢酸ビニル成分のみの共重合体である場合に限らず、本発明の目的を妨げない範囲のビニルアルコール成分、マレイン酸成分等を含むものであってもよい。このような塩化ビニルと酢酸ビニルを主単量体とする共重合体を構成する他の単量体成分としては、ビニルアルコール、プロピオン酸ビニルなどのビニルアルコール誘導体、アクリル酸およびメタクリル酸およびそれらのメチル、エチル、プロピル、ブチル、２−エチルヘキシルエステルなどのアクリル酸およびメタクリル酸誘導体、マレイン酸、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチルなどのマレイン酸誘導体、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテルなどのビニルエーテル誘導体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレンなどが挙げられる。共重合体中にしめる塩化ビニルおよび酢酸ビニルの成分は任意の比率で良いが、塩化ビニル成分が共重合体中で５０質量％以上であるのが好ましい。また、先に挙げた塩化ビニルや酢酸ビニル以外の成分は１０質量％以下であるのが好ましい。
【００３６】
このような塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、ＳＯＬＢＩＮ  Ｃ、ＳＯＬＢＩＮ  ＣＬ、ＳＯＬＢＩＮ  ＣＨ、ＳＯＬＢＩＮ  ＣＮ、ＳＯＬＢＩＮ  Ｃ５、ＳＯＬＢＩＮ  Ｍ、ＳＯＬＢＩＮ  ＭＦ、ＳＯＬＢＩＮ  Ａ、ＳＯＬＢＩＮ  ＡＬ、ＳＯＬＢＩＮ  ＴＡ５Ｒ、ＳＯＬＢＩＮ  ＴＡＯ、ＳＯＬＢＩＮ  ＭＫ６、ＳＯＬＢＩＮ  ＴＡ２（いずれも商品名、日信化学工業(株)製）、エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ（いずれも商品名、積水化学工業(株)製）、ビニライトＶＡＧＨ、ビニライトＶＹＨＨ、ビニライトＶＭＣＨ、ビニライトＶＹＨＤ、ビニライトＶＹＬＦ、ビニライトＶＹＮＳ、ビニライトＶＭＣＣ、ビニライトＶＭＣＡ、ビニライトＶＡＧＤ、ビニライトＶＥＲＲ、ビニライトＶＲＯＨ（いずれも商品名、ユニオンカーバイド社製）、デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ2、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＭＴ2、デンカビニル１０００ＣＳＫ、デンカビニル１０００ＣＳ、デンカビニル１０００ＧＫ、デンカビニル１０００ＧＳＫ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ3、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗ（いずれも商品名、電気化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００３７】
［可塑剤］
受容層の感度を良くするため、可塑剤を添加することもできる。このような可塑剤としては、フタル酸エステル、リン酸エステル、アジピン酸エステル、セバシン酸エステルなどのモノメリック型の可塑剤、アジピン酸、セバシン酸などとプロピレングリコールなどが重合したポリエステル型可塑剤など、一般的に塩化ビニル樹脂用の可塑剤として用いることのできるものがあげられる。先にあげた可塑剤は一般に低分子量であるが、他に塩化ビニルの高分子可塑剤として使用されるオレフィン系特殊共重合樹脂も使用することができる。このような用途に用いられる樹脂として、エルバロイ７４１、エルバロイ７４２、エルバロイＨＰ４４３、エルバロイＨＰ５５３、エルバロイＥＰ４０１５、エルバロイＥＰ４０４３、エルバロイＥＰ４０５１（いずれも商品名、三井・デュポンポリケミカル(株)製）などで市販されているものを使用することができる。このような可塑剤は、樹脂に対し１００質量％程度添加することもできるが、印画物のにじみ等の点でその使用量は３０質量％以下であるのが好ましい
【００３８】
受容層は、溶剤塗布によらずに、上記ポリマー樹脂の溶融物を押し出しコーティングすることによってキャストすることができる。この押し出しコーティングの技術はエンサイクロピィーディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・テクニークス（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ），第３巻（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ），１９８５年，５６３頁や、第６巻，１９８６年，６０８頁に記載されている。特開平７−１７９０７５号公報にも感熱色素転写材用に関する技術が開示されており、本技術も好適に使用することができる。ポリマー樹脂としては、シクロヘキサンジカルボキシレートとエチレングリコール／ビスフェノールＡ−ジエタノールの５０／５０モル％混合物（ＣＯＰＯＬ；登録商標）とを縮合して得られたコポリマーが特に好ましい。
【００３９】
［離型剤］
熱転写受像シートの受像面に充分な剥離性能がない場合には、画像形成時にサーマルヘッドによる熱によってインクシート（熱転写シート）と熱転写受像シート（受像シート）が融着し、剥離時に大きな剥離音が発生したり、また、染料層が層ごと転写されたり、受容層が基材から剥離するいわゆる異状転写の問題が発生する。上記の如き剥離性の問題を解決する方法としては、各種離型剤を受容層中に内添する方法若しくは、受容層の上に別途離型層を設ける方法とが知られている。本発明では、画像印画時の熱転写シートと受像シートとの離型性をより確実に確保するために、離型剤を受容層に使用することが好ましい。
離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロンパウダー等の固形ワックス類；シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができ、フッ素系界面活性剤等に代表されるフッ素系化合物、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイル及び／又はその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。
【００４０】
シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイル、および変性シリコーンオイルやその硬化物が使用できる。ストレートシリコーンオイルには、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ９６−１０、ＫＦ９６−１００、ＫＦ９６−１０００、ＫＦ９６Ｈ−１００００、ＫＦ９６Ｈ−１２５００、ＫＦ９６Ｈ−１０００００（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等を挙げられ、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ５０−１００、ＫＦ５４、ＫＦ５６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００４１】
変性シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルに分類できる。反応性シリコーンオイルには、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、ヒドロキシ変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性・異種官能基変性がある。アミノ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５８、Ｘ−２２−３６８０、Ｘ−２２−３８０１Ｃ、ＫＦ−８０１０、Ｘ−２２−１６１Ａ、ＫＦ−８０１２（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、エポキシ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−６０−１６４、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−３０００Ｔ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。カルボキシル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６２Ｃ（商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、ヒドロキシ変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、ＫＦ−６００１、ＫＦ−６００２、ＫＦ−６００３、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＦ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、メタクリル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−２４２６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００４２】
反応性シリコーンオイルとしては、硬化させて使用することもでき、反応硬化型、光硬化型、触媒硬化型等に分類できる。このなかで反応硬化型のシリコーンオイルが特に好ましく、反応硬化型シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイルとエポキシ変性シリコーンオイルとを反応硬化させたものが好ましい。また、触媒硬化型あるいは光硬化型シリコーンオイルとしては、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ−１、ＫＳ−７７０−ＰＬ−３〔触媒硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業(株)製〕、ＫＳ−７２０、ＫＳ−７７４−ＰＬ−３〔光硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業(株)製〕等が挙げられる。これら硬化型シリコーンオイルの添加量は受像層を構成する樹脂の０．５〜３０質量％が好ましい。離型剤は、ポリエステル樹脂１００質量部に対して２〜４質量％、好ましくは２〜３質量％程度使用する。その量が少なすぎると、離型性を確実に確保することができず、また多すぎると保護層が受像シートに転写しなくなってしまう。
【００４３】
非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、フッ素変性等がある。ポリエーテル変性シリコーン（ＫＦ−６０１２、商品名、信越化学工業(株)製）が挙げられ、メチルスチル変性シリコーンシリコーンオイルとしては、（２４−５１０、商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。また、下記一般式１〜３のいずれかで表される変性シリコーンも使用することができる。
【００４４】
【化２５】
0004584128.tif 000009
【００４５】
一般式１中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００４６】
【化２６】
0004584128.tif 000010
【００４７】
一般式２中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００４８】
【化２７】
0004584128.tif 000011
【００４９】
一般式３中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００５０】
上記のようなシリコーンオイルは「シリコーンハンドブック」（日刊工業新聞社刊）に記載されており、硬化型シリコーンオイルの硬化技術として、特開平８−１０８６３６号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載の技術が好ましく使用できる。
なお、単色印画のハイライト部で染料バインダーが受容層に取られる異状転写を起こすことがある。また、従来、付加重合型シリコーンは、触媒の存在下で硬化反応を進行させるのが一般的であり、硬化触媒としては、鉄族、白金族の８族遷移金属錯体のほとんど全てが有効であることが知られているが、一般には白金化合物が最も効率がよく、通常はシリコーンオイルに可溶の白金錯体である白金触媒が好ましく使用される。反応に必要な添加量としては、１〜１００ｐｐｍ程度で充分である。
【００５１】
この白金触媒は、Ｎ、Ｐ、Ｓ等を含む有機化合物、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｈｇ、Ｂｉ、Ａｓ等の重金属イオン性化合物、アセチレン基等、多重結合を含む有機化合物と強い相互作用を持つ為、上記化合物（触媒毒）と共に使用すると、触媒としてのヒドロシリル化能力を失ってしまい、硬化触媒としての機能を果たさなくなるため、シリコーンの硬化不良を起こすという欠点を持っている（「シリコーンハンドブック」日刊工業新聞社）。よって、このような硬化不良の付加重合型シリコーンでは、受容層において使用しても、全く剥離性能を発揮しない。活性水素と反応する硬化剤として、イソシアネート化合物を使用することが考えられるが、このイソシアネート化合物や、その触媒である有機錫化合物は、白金触媒の触媒毒にあたる。従って、従来においては、付加重合型シリコーンは、イソシネート化合物と併用されることがなく、よって、イソシアネート化合物で硬化することにより剥離性能を発揮する活性水素を有する変性シリコーンと併用されることはなかった。
【００５２】
しかしながら、１）活性水素と反応する硬化剤の反応基当量と、熱可塑性樹脂及び活性水素を有する変性シリコーン両方の反応基当量との比を１：１〜１０：１とし、２）付加重合型シリコーンに対する白金触媒量を、白金触媒の白金原子として１００〜１００００ｐｐｍとすることにより、付加重合型シリコーンの硬化疎外を防止することができる。上記１）の活性水素と反応する硬化剤の反応基当量が１以下の場合には、活性水素を有するシリコーンと、熱可塑性樹脂の活性水素との硬化量が小さく、良好な剥離性能が得られない。逆に、当量比が１０以上の場合には、受容層塗工液のインキの使用可能時間が短く実質上使用できない。また、２）の白金触媒量が、１００ｐｐｍ以下の場合には、触媒毒で活性が失われ、１００００ｐｐｍ以上の場合には、受容層塗工液のインキ使用可能時間が短く使用できないものとなる。
【００５３】
受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ2（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。
【００５４】
＜離型層＞
硬化変性シリコーンオイルは、受容層に添加しなくとも、離型層として受容層の上に形成しても良い。この場合は、受容層として、上述した様な熱可塑性樹脂を一種類以上使用して形成しても良く、またシリコーンを添加した受容層を使用しても良い。この離型層は、硬化型変性シリコーンを含有してなるが、使用するシリコーンの種類や使用方法は、受容層に使用する場合と同様である。また、触媒や遅延剤を使用する場合も、受容層中に添加するのと同様である。離型層は、シリコーンのみにより形成しても良いし、バインダー樹脂として、相溶性のよい樹脂と混合して使用しても良い。この離型層の厚みは、０．００１〜１ｇ／ｍ2程度である。
【００５５】
フッ素系界面活性剤としては、Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（いずれも商品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
【００５６】
＜下地層＞
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号明細書、特許第２９２５２４４号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００５７】
＜断熱層＞
断熱層（発泡層）は、サーマルヘッドを用いた加熱転写時における熱から支持体を保護する役割を果たす。また、高いクッション性を有するので、基材として紙を用いた場合であっても、印字感度の高い熱転写受像シートを得ることができる。
断熱層は樹脂と発泡剤とから形成される。断熱層の樹脂としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、変性オレフィン樹脂等公知の樹脂、あるいはそれらをブレンドしたものが使用できる。これらの樹脂を有機溶剤または水に溶解および／または分散させたものを塗工することにより断熱層を形成するが、断熱層塗工液は、発泡剤に影響を与えない水系塗工液であるのが好ましく、例えば、水溶性、水分散性、もしくはＳＢＲラテックス、ウレタン系エマルジョン、ポリエステルエマルジョン、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョン、塩化ビニルエマルジョン等のエマルジョン、またはこれらのディスパージョン等を用いることができるが、発泡剤として、後述するマイクロスフェアを使用する場合には、上述の樹脂中、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョンを使用するのが好ましい。
【００５８】
これらの樹脂は、共重合させるモノマーの種類およびその配合比を変化させることにより、ガラス転移点や柔軟性、造膜性を容易にコントロールすることができる為、可塑剤や造膜助剤を添加しなくても所望する物性が得られる点、膜形成後の各種環境においての保存時に色の変化が少ない点、物性の経時変化が少ない点で適している。また、上述の樹脂中、ＳＢＲラテックスは、一般にガラス転移点が低くブロッキングを起こしやすく、膜形成後や保存中に黄変が生じやすいために好ましくない。ウレタン系エマルジョンは、ＮＭＰ、ＤＭＦ等の溶剤を含むものが多く、発泡剤に悪影響を与えやすいため好ましくない。ポリエステルエマルジョンまたはディスパージョンや塩化ビニルエマルジョンは、一般にガラス転移点が高く、マイクロスフェアの発泡性が悪くなるため好ましくない。また柔らかいものもあるが、これらは可塑剤の添加によって柔軟性を付与しているため、好ましくは使用されることがない。
【００５９】
発泡剤の発泡性能は、樹脂の硬さに大きく影響される。発泡剤が望ましい発泡倍率まで発泡する為には、ガラス転移点が−３０〜２０℃、又は、最低造膜温度が２０℃以下のものが望ましい。ガラス転移点が２０℃以上のものは、柔軟性が不足し発泡剤の発泡性能が低下してしまう。また、ガラス転移点が−３０℃以下のものは、粘着性に起因するブロッキング（発泡層形成後の基材を巻き取った際に発泡層と基材の裏面にて発生）を起こしたり、熱転写受像シートをカットする際に、不良（受像シートを裁断する際に、カッターの刃に発泡層の樹脂がこびりついて、外観が悪くなる、又、裁断の寸法にくるいが生じる等）が発生したりすることがある。また、最低造膜温度が２０℃以上のものは、塗工・乾燥時に造膜不良を起こし、表面のヒビ割れなどの不具合が生じる。
【００６０】
発泡剤としては、加熱により分解して、酸素、炭酸ガス、窒素等のガスを発生するジニトロペンタメチレンテトラメン、ジアゾアミノベンゼン、アゾビスイソブチロニトリル、アゾジカルボアミド等の分解型発泡剤、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェア等公知の発泡剤が挙げられる。これらの中でも、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェアが好ましく使用される。これらの発泡剤は、発泡層形成後加熱により発泡し、発泡後は高いクッション性および断熱性を有する。これら発泡剤の使用量は、発泡層を形成する樹脂１００質量部当たり０．５〜１００質量部の範囲が好ましい。０．５質量部以下では、発泡層のクッション性が低く発泡層形成の効果が得られない。１００質量部以上では、発泡後の中空率が大きくなりすぎ、発泡層の機械的強度が低下して、通常の取扱いに耐えられなくなる。また、発泡層表面が平滑さを失い、外観、印画品質に悪影響を及ぼす。また発泡層全体の厚さは、３０〜１００μｍが好ましい。３０μｍ以下の場合は、クッション性や断熱性が不足し、１００μｍ以上の場合は、発泡層の効果が向上せずに強度が低下してしまう。また、発泡剤の粒径としては、発泡前の体積平均粒径が５〜１５μｍ程度のもの、発泡後の粒径が２０〜５０μｍのものが好ましい。発泡前の体積平均粒径が５μｍ以下、発泡後の粒径が２０μｍ以下のものは、クッション効果が低く、発泡前の体積平均粒径が１５μｍ以上、発泡後の粒径が２０〜５０μｍ以上のものは、発泡層表面を凹凸にし、ひいては形成された画像の画像品質に悪影響を及ぼす為好ましくない。
【００６１】
発泡剤の中でも特に好ましくは、隔壁の軟化温度および発泡開始温度が１００℃以下、最適発泡温度（加熱時間１分間で、最も発泡倍率が高くなる温度）が１４０℃以下の低温発泡型のマイクロスフェアを用いて、発泡時の加熱条件をなるべく低いものとするのが好ましい。発泡温度の低いマイクロスフェアを用いることにより、発泡時の基材の熱シワやカールを防止することができる。この発泡温度の低いマイクロスフェアは、隔壁を形成するポリ塩化ビニリデンやポリアクリロニトリルなどの熱可塑性樹脂の配合量を調節することにより得ることができる。体積平均粒径は５〜１５μｍである。このマイクロスフェアを用いた発泡層は、発泡により得られる気泡が独立気泡であること、加熱のみの簡単な工程で発泡すること、マイクロスフェアの配合量で発泡層の厚さが容易に制御できることなどの利点がある。
【００６２】
しかし、このマイクロスフェアは有機溶剤に弱く、発泡層として有機溶剤を使用した塗工液を使用すると、マイクロスフェアの隔壁が侵食されてしまい、発泡性が低下してしまう。従って、上記の様なマイクロスフェアを使用した場合には、隔壁を侵すような有機溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル系、メタノール、エタノール等の低級アルコール等の有機溶剤を含まない水系の塗工液を使用するのが良い。従って水系の塗工液、具体的には、水溶性か水分散性の樹脂を使用したもの、もしくは樹脂のエマルジョン、好ましくはアクリルスチレンエマルジョンや変成酢酸ビニルエマルジョンを用いるのが良い。また、水系の塗工液にて発泡層を形成しても、助溶剤や造膜助剤、可塑剤としてＮＭＰ、ＤＭＦ、セロソルブ等の高沸点高極性溶媒を添加したものは、マイクロスフェアに影響を与えるので、使用する水性樹脂の組成、高沸点溶媒添加量を把握し、マイクロカプセルに悪影響がないか確認する等の注意が必要である。
【００６３】
＜支持体＞
支持体には、コート紙やＷＰ紙（両面ラミネート紙）等を用いることができる。
【００６４】
−コート紙−
前記コート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴムラテックス又は高分子材料を片面又は両面に塗工した紙であり、用途に応じて、塗工量が異なる。このようなコート紙としては、例えば、アート紙、キャストコート紙、ヤンキー紙等が挙げられる。
【００６５】
前記原紙等の表面に塗工する樹脂としては、熱可塑性樹脂を使用することが適当である。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、以下の（イ）〜（チ）の熱可塑性樹脂を例示することができる。
【００６６】
（イ）ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂や、エチレンやプロピレン等のオレフィンと、他のビニルモノマーとの共重合体樹脂や、アクリル樹脂等が挙げられる。
（ロ）エステル結合を有する熱可塑性樹脂である。例えば、ジカルボン酸成分（これらのジカルボン酸成分にはスルホン酸基、カルボキシル基等が置換していてもよい）と、アルコール成分（これらのアルコール成分には水酸基などが置換されていてもよい）との縮合により得られるポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル樹脂又はポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリレート樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂、ビニルトルエンアクリレート樹脂等が挙げられる。
具体的には、特開昭５９−１０１３９５号公報、同６３−７９７１号公報、同６３−７９７２号公報、同６３−７９７３号公報、同６０−２９４８６２号公報などに記載のものを挙げることができる。
また、市販品としては、東洋紡(株)製のバイロン２９０、バイロン２００、バイロン２８０、バイロン３００、バイロン１０３、バイロンＧＫ−１４０、バイロンＧＫ−１３０；花王(株)製のタフトンＮＥ−３８２、タフトンＵ−５、ＡＴＲ−２００９、ＡＴＲ−２０１０；ユニチカ(株)製のエリーテルＵＥ３５００、ＵＥ３２１０、ＸＡ−８１５３、ＫＺＡ−７０４９、ＫＺＡ−１４４９；日本合成化学工業(株)製のポリエスターＴＰ−２２０、Ｒ−１８８；星光化学工業(株)製のハイロスシリーズの各種熱可塑性樹脂（いずれも商品名）等が挙げられる。
【００６７】
（ハ）ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
（ニ）ポリアミド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
（ホ）ポリスルホン樹脂等が挙げられる。
（ヘ）ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられる。
（ト）ポリビニルブチラール等の、ポリオール樹脂、エチルセルロース樹脂、酢酸セルロース樹脂等のセルロース樹脂等が挙げられる。
（チ）ポリカプロラクトン樹脂、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
なお、前記熱可塑性樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
また、前記熱可塑性樹脂には、増白剤、導電剤、填料、酸化チタン、群青、カーボンブラック等の顔料や染料等を必要に応じて含有させておくことができる。
【００６９】
−ラミネート紙−
前記ラミネート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴム又は高分子シート又はフィルム等をラミネートした紙である。前記ラミネート材料としては、例えば、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
前記ポリオレフィンは、一般に低密度ポリエチレンを用いて形成することが多いが、支持体の耐熱性を向上させるために、ポリプロピレン、ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンド、高密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンド等を用いるのが好ましい。特に、コストや、ラミネート適性等の点から、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いるのが最も好ましい。
【００７１】
前記高密度ポリエチレンと、前記低密度ポリエチレンとのブレンドは、例えば、ブレンド比率（質量比）１／９〜９／１で用いられる。該ブレンド比率としては、２／８〜８／２が好ましく、３／７〜７／３がより好ましい。該支持体の両面に熱可塑性樹脂層を形成する場合、支持体の裏面は、例えば、高密度ポリエチレン、或いは高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いて形成されるのが好ましい。ポリエチレンの分子量としては、特に制限はないが、メルトインデックスが、高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレンのいずれについても、１．０〜４０ｇ／１０分の間のものであって、押出し適性を有するものが好ましい。
尚、これらのシート又はフィルムには、白色反射性を与える処理を行ってもよい。このような処理方法としては、例えば、これらのシート又はフィルム中に酸化チタンなどの顔料を配合する方法が挙げられる。
【００７２】
前記支持体の厚みとしては、２５μｍ〜３００μｍが好ましく、５０μｍ〜２６０μｍがより好ましく、７５μｍ〜２２０μｍが更に好ましい。該支持体の剛度としては、種々のものがその目的に応じて使用することが可能であり、写真画質の電子写真用受像シート用の支持体としては、カラー銀塩写真用の支持体に近いものが好ましい。
【００７３】
＜カール調整層＞
支持体がそのまま露出していると環境中の湿度・温度により感熱転写受像シートがカールしてしまうことがあるため、支持体の裏面側にカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層は、受像シートのカールを防止するだけでなく防水の役割も果たす。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００７４】
＜筆記層・帯電調整層＞
筆記層・帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００７５】
また、感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【００７６】
次に、本発明に用いられるインクシート（感熱転写シート）について説明する。
熱転写画像形成の際に、上述した感熱転写受像シートと併せて使用されるインクシートは、支持体上に拡散転写染料を含む色素層を設けたものである。色素層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。
【００７７】
本発明の感熱転写受像シートの受容層は、塩化ビニル系ポリマーを含むものであり、この場合のインクシートの色素層に含有する色素は、後述する。
最初に、感熱転写受像シートの受容層にポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含む場合について説明する。
前記感熱転写受像シートの受容層にポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含む場合、用いられるインクシートの色素層には、イエロー色素として前記一般式（１）又は（３）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、マゼンタ色素として前記一般式（４）又は（５）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、シアン色素として前記一般式（６）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましい。
【００７８】
【化２８】
0004584128.tif 000012
【００７９】
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立に水素原子または置換基を表す。
ここで該置換基をさらに詳しく説明する。該置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基（環数は問わない）を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基（環数は問わない）を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していても良い。
【００８０】
以下に、前記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3をさらに詳しく説明する。
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で表されるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
【００８１】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルキル基にはシクロアルキル基およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基としては直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、または２−エチルヘキシルを挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。
【００８２】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、またはプロパルギルが挙げられる。
【００８３】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられる。
【００８４】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基が好ましく、それらはさらに縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。
【００８５】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。
【００８６】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。
【００８７】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００８８】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
【００８９】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００９０】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００９１】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアミノ基はアルキアミノ基、アリールアミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。
【００９２】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００９３】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００９４】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００９５】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００９６】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００９７】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００９８】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
【００９９】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。
【０１００】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
【０１０１】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
【０１０２】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。
【０１０３】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。
【０１０４】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
【０１０５】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。
【０１０６】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるアリールもしくはヘテロ環アゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。
【０１０７】
Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。
【０１０８】
Ｒ1およびＲ2は、好ましくは各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換または無置換のアシルアミノ基、置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、または置換または無置換のアミノ基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１０９】
Ｒ3は、好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基である。より好ましくは水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基である。
【０１１０】
Ａ1は、結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。Ａ1は酸性核を形成する原子群である場合が特に好ましい。Ｊａｍｅｓ編，Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ，第４版，マクミラン社，１９７７年，第１９８頁、およびＦ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著，Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｃｙａｎｉｎｅ  Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，Ｊｏｈｎ＆Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９６４年刊により定義され、好ましくは、Ａ1は５員または６員の含窒素複素環を形成する原子群を表わす。これらはさらにベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環などで縮環されていてもよい。Ａ1により形成される環（核）としては、具体的には、２−ピラゾリン−５−オン、ピラゾリジン−３，５−ジオン、イミダゾリン−５−オン、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−イミノオキサゾリジン−４−オン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、イソローダニン、ローダニン、インダン−１，３−ジオン、チオフェン−３−オン、チオフェン−３−オン−１，１−ジオキシド、インドリン−２−オン、インドリン−３−オン、２−オキソインダゾリウム、５，７−ジオキソ−６，７−ジヒドロチアゾロ〔３，２−ａ〕ピリミジン、３，４−ジヒドロイソキノリン−４−オン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、クマリン−２，４−ジオン、インダゾリン−２−オン、ピリド[１,２−ａ]ピリミジン−１，３−ジオン、ピラゾロ〔１，５−ｂ〕キナゾロン、ピラゾロピリドン、３−ジシアノメチリデニル−３−フェニルプロピオニトリル、メルドラム酸などの核が挙げられ、好ましくは、２−ピラゾリン−５−オンである。これらはさらに置換基を有していても良い。
【０１１１】
Ｂ1は、両端の炭素原子、窒素原子と共に、ヘテロ環を形成する原子団を表す。Ｂ1は各々５員または６員の含窒素複素環を形成する原子群が好ましい。これらはさらにベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環などで縮環されていてもよい。Ｂ1としては炭素数３〜２５のオキサゾール核（例えば、３−メチルオキサゾール−２−イル）、炭素数３〜２５のチアゾール核（例えば、３−メチルチアゾール−２−イル）、炭素数３〜２５のイミダゾール核（例えば、１，３−ジエチルイミダゾール−２−イル）、炭素数１０〜３０のインドレニン核（例えば、３，３−ジメチルインドレニン）、炭素数９〜２５のキノリン核（例えば、１−メチルキノリン−２−イル）、炭素数３〜２５のセレナゾール核（例えば、３−メチルベンゾセレナゾール−２−イル）、炭素数５〜２５のピリジン核（例えば、２−ピリジル）、チアゾリン核、オキサゾリン核、セレナゾリン核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、イミダゾリン核、イミダゾ［４，５−キノキザリン］核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を形成する原子団を挙げることができる。これらはさらに置換基を有していても良い。
【０１１２】
上記一般式（１）で表される色素のうち、好ましくは下記一般式（２）で表される色素である。以下、下記一般式（２）で表される色素について詳細に説明する。
【０１１３】
【化２９】
0004584128.tif 000013
【０１１４】
一般式（２）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ一般式（１）中のＲ1、Ｒ2およびＲ3と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は各々独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ１は０〜４の整数を表し、ｎ２は０〜５の整数を表す。ここで、ｎ１が２〜４の整数を表すとき又はｎ２が２〜５の整数を表すとき、複数のＲ4又は複数のＲ8は各々同じでも異なっていてもよい。
【０１１５】
Ｒ4およびＲ8は、好ましくは各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基である。
【０１１６】
Ｒ5およびＲ6は、好ましくは一般式（１）におけるＲ1、Ｒ2と同様であり、より好ましくは各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１１７】
Ｒ7は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基であり、より好ましくは、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基である。
【０１１８】
一般式（２）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１１９】
具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ1が水素原子、Ｒ2が水素原子、Ｒ3が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ4が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ5が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ6が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ7が置換もしくは無置換の炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、Ｒ8が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基または塩素原子、ｎ１が０〜３の整数、ｎ２が０〜３の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ1が水素原子、Ｒ2が水素原子、Ｒ3が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ5が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ6が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ7が置換もしくは無置換の炭素数１〜１２のジアルキルアミノ基、ｎ１およびｎ２がともに０である組み合わせである。
【０１２０】
一般式（３）で表される色素について、詳細に説明する。
【化３０】
0004584128.tif 000014
【０１２１】
一般式（３）中、Ｒ11、Ｒ13およびＲ14は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ12は置換基を表す。Ｒ11〜Ｒ14における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。Ａ2は結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ｎ３は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ３が２〜４の整数を表すとき複数のＲ12は同じでも異なっていてもよい。
【０１２２】
Ｒ11は、好ましくは、一般式（１）のＲ1と同様である。より好ましくは、水素原子、炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基である。最も好ましくは水素原子である。
【０１２３】
Ｒ12は、好ましくは、一般式（２）のＲ4、Ｒ8と同様である。より好ましくは、炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子である。
【０１２４】
Ｒ13、Ｒ14は、好ましくは、一般式（１）のＲ3で述べたものを挙げることができ、好ましい範囲もＲ3と同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１２５】
Ａ2は具体例には、一般式（１）のＡ1で述べたものを挙げることができ、好ましい置換基も同じである。
【０１２６】
一般式（３）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１２７】
具体的に好ましい組み合わせの例は、Ａ2が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン、Ｒ11が水素原子、Ｒ12が炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ13が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ14が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ３が０〜２の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ａ2が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン、Ｒ11が水素原子、Ｒ12が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ13が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ14が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ３が０または１である組み合わせである。
【０１２８】
一般式（４）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１２９】
【化３１】
0004584128.tif 000015
【０１３０】
一般式（４）中、Ｄは、ジアゾニウム塩由来の芳香環基または芳香族へテロ環基を表す。Ｒ15は置換基を表し、Ｒ16およびＲ17は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ15〜Ｒ17における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2、及びＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ４は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ４が２〜４の整数を表すとき複数のＲ15は同じでも異なっていてもよい。
【０１３１】
ここで、アゾ色素について詳細に説明する。アゾ色素は、アリールもしくは、ヘテロアリールジアゾニウム塩（ジアゾ成分）と、そのジアゾニウム塩とアゾカップリング反応して色素を生成する酸性の水素原子を有した化合物（カプラー成分）を反応させて合成する色素である。
【０１３２】
Ｄは、ジアゾニウム塩から誘導可能な、芳香環基または芳香族へテロ環基であり、該芳香環基または芳香族へテロ環基は置換基を有していてもよい。つまり、Ｄはジアゾ成分である。ジアゾ成分とは、アミノ基を置換基として有するヘテロ環化合物または、ベンゼン誘導体をジアゾ化合物（ジアゾニウム塩）に変換し、カプラーとのジアゾカップリング反応により導入できる部分構造のことであり、アゾ色素の分野では頻繁に使用される概念である。言い換えれば、ジアゾ化反応が可能であるアミノ置換された芳香族ヘテロ環化合物または、芳香族化合物のアミノ基を取り去り一価の基とした置換基である。
【０１３３】
芳香族ヘテロ環基の例としては、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、ベンゾチアゾール環、１,３,４−チアジアゾール環、１,２,４−チアジアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイソチアゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、インドール環、キノリン環、プリン環、カルバゾール環、アクリジン環を挙げる事ができる。好ましくはイソチアゾール環、１,３,４−チアジアゾール環、１,２,４−チアジアゾール環である。各複素環はさらに置換基を有していてもよく、さらに縮環していてもよい。
芳香族基としては、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられ、置換基を有していてもよく、さらに縮環していてもよい。
【０１３４】
Ｒ15は、好ましくは、一般式（１）のＲ1と同様である。より好ましくは、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基である。
【０１３５】
Ｒ16及びＲ17は、好ましくは、一般式（１）のＲ3で述べたものを挙げることができ、好ましい範囲もＲ3と同じである。より好ましくは水素原子、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１３６】
一般式（４）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１３７】
具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｄが置換基を有するイソチアゾール環から誘導される一価の基または置換基を有する１，３，４−チアジアゾール環から誘導される一価の基、Ｒ15がアシルアミノ基、Ｒ16が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ17が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ４が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｄが置換基を有するイソチアゾール環から誘導される一価の基または置換基を有する１，３，４−チアジアゾール環から誘導される一価の基、Ｒ15がアシルアミノ基、Ｒ16が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ17が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ４が１、Ｒ15の置換位置がアゾ基に対してｏ−位である組み合わせである。
【０１３８】
一般式（５）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１３９】
【化３２】
0004584128.tif 000016
【０１４０】
一般式（５）中、Ａ3は、結合している両端の炭素原子と共にヘテロ環を形成する原子団を表す。ＥＷＧ1は電子求引性基を表し、Ｒ18は置換基を表し、Ｒ19およびＲ20は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ18〜Ｒ20における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ５は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ５が２〜４の整数を表すとき複数のＲ18は同じでも異なっていてもよい。
【０１４１】
Ａ3の具体例には、一般式（１）のＡ1で述べたものを挙げることができ、好ましい置換基も同じである。
【０１４２】
ＥＷＧ1は、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σp値が０以上の電子求引性基が置換を表す。ＥＷＧ1はσp値が０．３０以上の電子求引性基が好ましく、０．４５以上の電子求引性基が更に好ましく、０．６０以上の電子求引性基が特に好ましい。σp値が０．６０以上の電子求引性基の例は、ニトロ基、シアノ基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリフルオロアセチル基、ジメチルアミノスルホニル基、スルファモイル基などが挙げられ、σp値が０．４５以上の電子求引性基の例は、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルボキシ基が挙げられ、σp値が０．３０以上の電子求引性基の例はスルホ基、カルバモイル基が挙げられる。より好ましくは、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、さらに好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、最も好ましくはシアノ基、カルバモイル基である。
【０１４３】
ここで、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σp値について若干説明する。Ｈａｍｍｅｔｔ則は、ベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。Ｈａｍｍｅｔｔ則で求められた置換基定数にはσp値とσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編「Ｌａｎｇｅ’ｓ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版，１９７９年（Ｍｃ  Ｇｒａｗ−Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊１２２号，９６〜１０３頁，１９７９年（南光堂）に詳しい。なお、本明細書において各置換基をＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σpにより限定したり、説明したりするが、これは上記の成書で見出せる、文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもＨａｍｍｅｔｔ則に基づいて測定した場合にその範囲内に包まれるであろう置換基をも含むことはいうまでもない。また、前記一般式中には、ベンゼン誘導体ではないものも含まれるが、置換基の電子効果を示す尺度として、置換位置に関係なくσp値を使用する。本明細書においてσp値をこのような意味で使用する。
【０１４４】
Ｒ18の好ましい例には、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられる。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基である。
【０１４５】
Ｒ19及びＲ20の好ましい例には一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは各々独立に、水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは、無置換のアリール基、置換もしくは、無置換のへテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基である。
【０１４６】
一般式（５）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１４７】
具体的に好ましい組み合わせの例は、Ａ3が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン環を形成する基、ＥＷＧ1がシアノ基、Ｒ18が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ19が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ20が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ５が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ａ3が置換基を有する２−ピラゾリン−５−オン環を形成する基、ＥＷＧ１がシアノ基、Ｒ19が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ20が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ５が０である組み合わせである。
【０１４８】
一般式（６）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１４９】
【化３３】
0004584128.tif 000017
【０１５０】
一般式（６）中、ＥＷＧ2は電子求引性基を表し、Ｒ21およびＲ24は各々独立に置換基を表し、Ｒ22、Ｒ23およびＲ25は各々独立に置換基を表し、Ｒ21〜Ｒ25における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2及びＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ６、ｎ７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ６が２〜４の整数を表すとき又はｎ７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ21又は複数のＲ24は各々同じでも異なっていてもよい。
【０１５１】
ＥＷＧ2は具体例には、一般式（５）のＥＷＧ1で述べたものを挙げることができ、好ましい範囲も同じである。ＥＷＧ2はσp値が０．３０以上の電子求引性基が好ましく、０．４５以上の電子求引性基がより好ましい。具体的により好ましくはシアノ基、炭素数１〜６の置換もしくは無置換カルバモイル基であり、さらに好ましくは無置換のカルバモイル基である。
【０１５２】
Ｒ21、Ｒ24、Ｒ25の例には、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、アシルアミノ基があり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、アシルアミノ基である。最も好ましくは水素原子である。
【０１５３】
Ｒ22及びＲ23の例には、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１５４】
一般式（６）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１５５】
具体的に好ましい組み合わせの例は、ＥＷＧ2が置換カルバモイル基、Ｒ21が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ22が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ23が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ24が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ25が水素原子、ｎ６が０〜４の整数、ｎ７が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、ＥＷＧ2が置換カルバモイル基、Ｒ22が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ23が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ25が水素原子、ｎ６とｎ７がともに０である組み合わせである。
【０１５６】
本発明においては、前記感熱転写受像シートの受容層が塩化ビニル系ポリマーを含み、本発明に用いられるインクシートの色素層には、イエロー色素として下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、マゼンタ色素として下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、シアン色素として下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましいが、本発明においては、マゼンタ色素層に下記一般式（９）で表される色素、下記一般式（１０）で表される色素、および下記一般式（１１）で表される色素をそれぞれ含有し、シアン色素層に下記一般式（１２）で表される色素、および下記一般式（１３）で表される色素をそれぞれ含有することを必須とする。
【０１５７】
一般式（７）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１５８】
【化３４】
0004584128.tif 000018
【０１５９】
一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表し、該置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ８は０〜５の整数を表し、ｎ９は、０〜４の整数を表す。ここで、ｎ８が２〜５の整数を表すとき又はｎ９が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ51又は複数のＲ52は各々同じでも異なっていてもよい。
【０１６０】
Ｒ51の例には、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１６１】
Ｒ52の例には、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモイル基であり、より好ましくは置換カルバモイル基である。
【０１６２】
一般式（７）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１６３】
具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ51が炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ52が置換もしくは無置換のカルバモイル基または炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、ｎ８が０〜３の整数、ｎ９が０〜３の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ51が炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ52が置換もしくは無置換のカルバモイル基または炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、ｎ８が０〜２の整数、ｎ９が０〜２の整数である組み合わせである。さらに好ましい組み合わせの例は、Ｒ51が炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ52が置換もしくは無置換のカルバモイル基または炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、ｎ８が０または１、ｎ９が０〜２の整数である組み合わせである。
【０１６４】
一般式（８）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１６５】
【化３５】
0004584128.tif 000019
【０１６６】
一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表す。Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ61〜Ｒ64における置換基としては前述したＲ1、Ｒ2、及びＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ１０は０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１０が２〜４の整数を表すとき複数のＲ61は同じでも異なっていてもよい。
【０１６７】
Ｒ61の例には、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ62、Ｒ63の例には、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ64の例には、一般式（１）のＲ1、Ｒ2で述べたような置換基が挙げられる。好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
【０１６８】
一般式（８）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１６９】
具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ61が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ62が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ63が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ64が水素原子、ｎ１０が０〜４の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ61が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ62が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ63が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ64が水素原子、ｎ１０が０または１である組み合わせである。
【０１７０】
一般式（９）または（１０）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１７１】
【化３６】
0004584128.tif 000020
【０１７２】
一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１１が２〜４の整数を表すとき又はｎ１２が２を表すとき、複数のＲ74又は複数のＲ72は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ71〜Ｒ74における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。
【０１７３】
Ｒ71、Ｒ73の例としては、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。
【０１７４】
Ｒ72、Ｒ74の例としては、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。
【０１７５】
【化３７】
0004584128.tif 000021
【０１７６】
一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82、Ｒ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表し、ｎ１４は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１３が２〜４の整数を表すとき又はｎ１４が２を表すとき、複数のＲ84又は複数のＲ82は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ81、Ｒ82、Ｒ84における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2、及びＲ3で説明したものが挙げられる。
【０１７７】
Ｒ81の例としては、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。
【０１７８】
Ｒ82、Ｒ84の例としては、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。
【０１７９】
一般式（９）または（１０）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１８０】
具体的に一般式（９）における置換基の好ましい組み合わせの例は、Ｒ71が水素原子、Ｒ72がアリールオキシ基、Ｒ73が水素原子、ｎ１１が０、ｎ１２が０〜２の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせは、Ｒ71が水素原子、Ｒ72がアリールオキシ基、Ｒ73が水素原子、ｎ１１が０、ｎ１２が２である組み合わせである。
具体的に一般式（１０）における置換基の好ましい組み合わせ例は、Ｒ81が水素原子、かつＲ82がアリールオキシ基、ｎ１３が１または２、ｎ１４が０である組み合わせである。より好ましい組み合わせは、Ｒ81が水素原子、かつＲ82がアリールオキシ基、ｎ１３が１、ｎ１４が０である組み合わせである。さらに好ましい組み合わせは、Ｒ81が水素原子、かつＲ82がアリールオキシ基、ｎ１３が１、ｎ１４が０であり、Ｒ82がアミノ基に対してｏ−位に置換された組み合わせである。
【０１８１】
一般式（１１）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１８２】
【化３８】
0004584128.tif 000022
【０１８３】
一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１５が２を表すとき複数のＲ92は同じでも異なっていてもよい。Ｚ1、Ｚ2は、どちらか一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3、Ｚ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ96)−を表す。Ｒ95およびＲ96は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ91〜Ｒ96における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。
【０１８４】
Ｒ91は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノ基であり、より好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基である。
【０１８５】
Ｒ92の例としては、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１８６】
Ｒ93、Ｒ94の例としては、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１８７】
Ｒ95の例としては、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１８８】
一般式（１１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１８９】
具体的な好ましい組み合わせの例は、Ｚ1が＝Ｃ(Ｒ95)−または＝Ｎ−、Ｚ2が＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−、Ｚ3が＝Ｃ(Ｒ96)−、Ｚ4が＝Ｎ−、Ｒ91が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ92が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ93が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ94が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ95が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ96が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、ｎ１５が０である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｚ1が＝Ｃ(Ｒ95)−、Ｚ2が＝Ｎ−、Ｚ3が＝Ｃ(Ｒ96)−、Ｚ4が＝Ｎ−、Ｒ91が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ92が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ93が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ94が置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ95が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ96が水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、ｎ１５が０である組み合わせである。
【０１９０】
一般式（１２）または（１３）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１９１】
【化３９】
0004584128.tif 000023
【０１９２】
Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表し、Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ101〜Ｒ104における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。ここで、ｎ１６が２〜４の整数を表すとき又はｎ１７が２〜４の整数を表すとき、複数のＲ101又は複数のＲ102は各々同じでも異なっていてもよい。
【０１９３】
Ｒ101の例としては、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくはアミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のアルキル基、ハロゲン原子またはアシルアミノ基であり、さらに好ましくはアシルアミノ基である。好ましい置換位置としては、＝Ｏに対してｏ−位にアシルアミノ基が置換されているものである。
Ｒ102の例としては、一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、置換または無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基である。
Ｒ103、Ｒ104の例としては、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基である。
【０１９４】
具体的な好ましい組み合わせの例は、Ｒ101が塩素原子または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基またはアシルアミノ基、Ｒ102が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ103が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ104が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ１６が０〜４の整数、ｎ１７が０〜２の整数である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ101が塩素原子または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基またはアシルアミノ基（置換位値がカルボニルに対してｏ−位）、Ｒ102が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒ103が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ104が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、ｎ１６が１〜３の整数、ｎ１７が０または１である組み合わせである。
【０１９５】
【化４０】
0004584128.tif 000024
【０１９６】
一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は、０〜４の整数を表し、ｎ１９は、０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ114又は複数のＲ112は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ111〜Ｒ114における置換基としては、前述したＲ1、Ｒ2およびＲ3で説明したものが挙げられる。
【０１９７】
Ｒ111、Ｒ113の例としては、一般式（１）のＲ3で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１９８】
Ｒ112、Ｒ114の例としては、水素原子や一般式（２）のＲ4、Ｒ8で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子である。
【０１９９】
一般式（１２）または（１３）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０２００】
具体的な好ましい組み合わせの例は、Ｒ111が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基、Ｒ113が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基または置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基、ｎ１８およびｎ１９がともに０である組み合わせである。より好ましい組み合わせの例は、Ｒ111が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ113が置換もしくは置換もしくは無置換の炭素数６〜１０のアリール基、ｎ１８およびｎ１９がともに０である組み合わせである。
【０２０１】
以下に、一般式（１）、（３）〜（６）のいずれかで表される色素の具体例とともに、本発明の一般式（７）〜（１３）のいずれかで表される色素の具体例を以下に示すが本発明に用いられる一般式（７）〜（１３）のいずれかで表される色素は、下記の例に限定されるものではない。なお、一般式（１）、（３）〜（６）のいずれかで表される色素の具体例（（１）−１〜（１）−３、（３）−１〜（３）−３、（４）−１〜（４）−４、（５）−１〜（５）−４、（６）−１〜（６）−５）はいずれも参考例である。
【０２０２】
【化４１】
0004584128.tif 000025
【０２０３】
【化４２】
0004584128.tif 000026
【０２０４】
【化４３】
0004584128.tif 000027
【０２０５】
【化４４】
0004584128.tif 000028
【０２０６】
【化４５】
0004584128.tif 000029
【０２０７】
【化４６】
0004584128.tif 000030
【０２０８】
【化４７】
0004584128.tif 000031
【０２０９】
【化４８】
0004584128.tif 000032
【０２１０】
【化４９】
0004584128.tif 000033
【０２１１】
【化５０】
0004584128.tif 000034
【０２１２】
【化５１】
0004584128.tif 000035
【０２１３】
前記一般式（１）〜（１３）で表される色素のうち、市販されていないものに関しては、米国特許第４，７５７，０４６号、同第３，７７０，３７０号、独国特許第２３１６７５５号、特開２００４−５１８７３号、特開平７−１３７４５５号、特開昭６１−３１２９２号の各公報もしくは明細書、ならびに、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｉ，２０４７（１９７７）、Ｃｈａｍｐａｎ著，「Ｍｅｒｏｃｙａｎｉｎｅ  Ｄｙｅ−Ｄｏｎｅｒ  Ｅｌｅｍｅｎｔ  Ｕｓｅｄ  ｉｎ  ｔｈｅｒｍａｌ  Ｄｙｅ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ」に記載の方法に準じて合成することができる。
【０２１４】
前記一般式（１）〜（１３）で表される色素は、インクシートの色素層中にそれぞれ１０〜９０質量％含有されることが好ましく、２０〜８０質量％含有されることがより好ましい。
【０２１５】
インクシートの色素層の塗布量は、０．１〜１．０ｇ／ｍ2（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましく、更に好ましくは０．１５〜０．６０ｇ／ｍ2である。色素層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜１．０μｍである。
【０２１６】
インクシートの支持体には、感熱転写受像シートの支持体と同様のものを用いることができ、ポリエチレンテレフタレート等を用いることができる。
前記支持体の厚みとしては、１〜１０μｍが好ましく、２〜１０μｍがより好ましい。
【０２１７】
画像形成方法は例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、プリント時間は１５秒未満が好ましく、５〜１２秒がより好ましい。
【実施例】
【０２１８】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
【０２１９】
［インクシートの作製］
（インクシートＤ１の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、東レ(株)製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱スリップ層（厚み１μｍ）を形成し、かつ表面側に下記組成のイエロー、マゼンタ、シアン組成物をそれぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ2）した。
イエローインキ
色素（１）−１                                                      ２．２部
色素（３）−１                                                      ２．３部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
マゼンタインキ
色素（４）−１                                                      ２．２部
色素（５）−１                                                      ２．３部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
シアンインキ
色素（６）−１                                                      ２．２部
色素（６）−４                                                      ２．３部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
【０２２０】
（インクシートＤ２の作製）
各単色のインク層のみ下記組成とし、それ以外は試料Ｄ１と同様に作製した。
イエローインキ
色素（１）−２                                                      ２．２部
色素（３）−２                                                      ２．３部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
マゼンタインキ
色素（４）−２                                                      ２．２部
色素（５）−２                                                      ２．３部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
シアンインキ
色素（６）−２                                                      ２．２部
色素（６）−５                                                      ２．３部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
【０２２１】
（インクシートＤ３の作製）
各単色のインク層のみ下記組成とし、それ以外は試料Ｄ１と同様に作製した。
イエローインキ
色素（７）−１                                                      ２．５部
色素（８）−１                                                      ２．０部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
マゼンタインキ
色素（９）−１                                                      １．０部
色素（１０）−１                                                    １．０部
色素（１１）−１                                                    ２．５部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
シアンインキ
色素（１２）−１                                                    ２．０部
色素（１３）−１                                                    ２．５部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
【０２２２】
（インクシートＤ４の作製）
各単色のインク層のみ下記組成とし、それ以外は試料Ｄ１と同様に作製した。
イエローインキ
色素（７）−２                                                      ２．５部
色素（８）−２                                                      ２．０部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
マゼンタインキ
色素（９）−２                                                      １．０部
色素（１０）−２                                                    １．０部
色素（１１）−２                                                    ２．５部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
シアンインキ
色素（１２）−２                                                    ２．０部
色素（１３）−２                                                    ２．５部
ポリビニルブチラール樹脂                                            ４．５部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                          ９０部
【０２２３】
［受像シートの作製］
（受像シートＲ１の作製）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、(株)ユポ・コーポレーション製）を用い、この一方の面に下記組成の白色中間層、受容層の順にバーコーターにより塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量は白色中間層１．０ｇ／ｍ2、受容層４．０ｇ／ｍ2となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃、３０秒間行った。
白色中間層
ポリエステル樹脂（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）        １０質量部
蛍光増白剤                                                        １質量部
（Ｕｖｉｔｅｘ  ＯＢ、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）
酸化チタン                                                      ３０質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                    ９０質量部
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂                                    １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン                                              ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                  ４００質量部
【０２２４】
（受像シートＲ２の作製）
受容層のみ下記組成とし、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリエステル樹脂                                              １００質量部
（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）
アミノ変性シリコーン                                              ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                  ４００質量部
【０２２５】
（受像シートＲ３の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、１００℃、２分間で行った。それ以外は、受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル系ラテックス                                        １１００量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業(株)製）
モンタン酸エステルワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）  １００量部
フッ素系界面活性剤                                                １質量部
（Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３Ｍ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）    ２５質量部
蒸留水                                                      １０００質量部
【０２２６】
（受像シートＲ４の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ３と同様に作製した。
受容層
ポリエステルラテックス                                      ２１８０質量部
（バイロナールＭＤ−１４８０、商品名、東洋紡(株)製）
モンタン酸エステルワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）  １００量部
フッ素系界面活性剤                                                １質量部
（Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３Ｍ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）    ２５質量部
蒸留水                                                        ５００質量部
【０２２７】
（受像シートＲ５の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ３と同様に作製した。
受容層
ＳＢＲラテックス                                              ９１０質量部
（ＬＸ−４１６、商品名、日本ゼオン(株)製）
モンタン酸エステルワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）  １００量部
フッ素系界面活性剤                                                １質量部
（Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３Ｍ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）    ２５質量部
蒸留水                                                      １０００質量部
【０２２８】
（受像シートＲ６の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリカーボネート樹脂                                            ３０質量部
（ＬＥＸＡＮ−１４１、商品名、Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ社製）
ポリエステル樹脂                                                ７０質量部
（バイロン２００、商品名、東洋紡(株)製）
アミノ変性シリコーン                                              ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
塩化メチレン                                                  ４００質量部
【０２２９】
（受像シートＲ７の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリブチルアクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）                    ３０質量部
ポリメチルメタクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）                  ７０質量部
アミノ変性シリコーン                                              ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                  ４００質量部
【０２３０】
（受像シートＲ８の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ１と同様に作製した。
受容層
ポリビニルアセテート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）                      ７０質量部
ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）                              ３０質量部
アミノ変性シリコーン                                              ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                  ４００質量部
【０２３１】
（受像シートＲ９の作製）
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は受像シートＲ３と同様に作製した。鹸化度の高いポリビニルアルコールは、結晶性が高く実質的に熱可塑性を示さない素材の例である。
受容層
フッ素系界面活性剤                                                １質量部
（Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−１７０Ｃ、商品名、３Ｍ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、商品名、クラレ(株)製）  １５０質量部
蒸留水                                                      １０００質量部
【０２３２】
［熱転写記録］
前記のインクシートＤ１〜Ｄ４と受像シートＲ１〜Ｒ９とを、前者のインク層と後者の受容層とが接するように重ね合わせ、熱転写型プリンタＡ又はＢを用いて画像出力した。ここで、熱転写型プリンタＡとして本明細書の図１に記載されたサーマルヘッドを有する熱記録装置を用い、熱転写型プリンタＢとして、本発明に用いられるサーマルヘッド（発熱素子の上又は下に弾性体を設けたサーマルヘッド）の代わりに、該弾性体を有しないサーマルヘッドを有する熱記録装置を用いた。
出力画像は一般的な５シーンの画像を各々３０枚用い、画像評価は各画像の画質及び濃度のバラつきを３人の観察者の観察により行い、以下のように評価した。
◎：ほとんど変化が見られない。
○：僅かに変化が見られるが、実質上変化がない。
△：僅かに変化が見られ、バラつきが認識できる。
×：明らかにバラつきが見られる。
××：×より更にざらついた濃度ムラが観察される。
更に熱転写型プリンタＡと熱転写型プリンタＢとの最高濃度出力時の制御電圧を１５％上げ、この制御電圧で出力したときに最高濃度が元の条件での最高濃度と同じ値になるように搬送速度を速め、高速処理試験を行った。
【０２３３】
それぞれの結果を表１〜４に示す。表１は熱転写型プリンタＡを用いた結果であり、表２は熱転写型プリンタＢを用いた結果である。また、表３は熱転写型プリンタＡを用いて高速処理を行った結果であり、表４は熱転写型プリンタＢを用いて高速処理を行った結果である。
【０２３４】
【表１】
0004584128.tif 000036
【０２３５】
【表２】
0004584128.tif 000037
【０２３６】
【表３】
0004584128.tif 000038
【０２３７】
【表４】
0004584128.tif 000039
【０２３８】
表１および表２の結果から明らかなように、熱転写型プリンタＢを用いて出力した画像はいずれも画質及び濃度のバラつきが大きく（試料１１１〜４１９）、また熱転写型プリンタＡを用いて出力した画像であっても、受容層に熱可塑性樹脂を含まない受像シートＲ９を用いた場合は画質及び濃度のバラつきが大きかった（試料１０９、２０９、３０９、４０９）。
これに対し、熱転写型プリンタＡを用いて受容層に熱可塑性樹脂を含む受像シートに出力する本発明の熱転写記録システムによる画像は画質及び濃度のバラつきが小さかった（試料１０１〜１０８、試料２０１〜２０８、試料３０１〜３０８、試料４０１〜４０８）。さらに、前記熱可塑性樹脂としてポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーまたは塩化ビニル系ポリマーを含む受像シートＲ１〜Ｒ４及びＲ６を用いた試料１０１〜１０４、試料１０６、試料２０１〜２０４、試料２０６、試料３０１〜３０４、試料３０６、試料４０１〜４０４、試料４０６はバラつきが更に小さかった。特に、前記熱可塑性樹脂としてポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含む受像シートＲ２、Ｒ４又はＲ６と前記一般式（１）〜（６）のいずれかで表される色素を少なくとも１種含むインクシートＤ１又はＤ２とを併用した試料１０２、試料１０４、試料１０６、試料２０２、試料２０４及び試料２０６、並びに前記熱可塑性樹脂として塩化ビニル系ポリマーを含む受像シートＲ１又はＲ３と前記一般式（７）〜（１３）のいずれかで表される色素を少なくとも１種含むインクシートＤ３又はＤ４とを併用した試料３０１、試料３０３、試料４０１及び試料４０３は、最も画像のバラつきが小さかった。
【０２３９】
また、表３および表４の結果から明らかなように、熱転写型プリンタＢを用いて高速処理を行い出力した画像はいずれも画質及び濃度のバラつきが大きく、ざらついた濃度ムラが観察され（試料１１１〜４１９）、また熱転写型プリンタＡを用いて高速処理を行い出力した画像であっても、受容層に熱可塑性樹脂を含まない受像シートＲ９を用いた場合は画質及び濃度のバラつきが大きく、ざらついた濃度ムラが観察された（試料１０９、２０９、３０９、４０９）。
これに対し、熱転写型プリンタＡを用いて受容層に熱可塑性樹脂を含む受像シートに出力する本発明の熱転写記録システムによる画像においては高速処理しても画質及び濃度のバラつきが小さく、ムラなく均一処理を行うことができた（試料１０１〜１０８、試料２０１〜２０８、試料３０１〜３０８、試料４０１〜４０８）。
【図面の簡単な説明】
【０２４０】
【図１】本発明に用いられるサーマルヘッドの一例を示し、（Ａ）は主走査方向の断面図であり、（Ｂ）は副走査方向の断面図である。
【図２】図１に示すサーマルヘッドの記録状態を示す断面図である。
【図３】弾性体層を発熱素子の上に設けた実施態様を示し、（Ａ）は主走査方向の断面図であり、（Ｂ）は副走査方向の断面図である。
【図４】セラミック基板の全面にグレーズ層を設けた厚膜ヘッドの実施態様を示し、（Ａ）は主走査方向の断面図であり、（Ｂ）は副走査方向の断面図である。
【符号の説明】
【０２４１】
１０  セラミック基板
１１  弾性体層
１２〜１４  記録要素
１７，１９，２１  発熱素子
１６，１８，２０  グレーズ層
２５  被加熱シート
３０  弾性体層
３５  グレーズ層
３６  発熱素子
３８  弾性体層
【図１】
0004584128.tif 000047
【図２】
0004584128.tif 000048
【図３】
0004584128.tif 000049
【図４】
0004584128.tif 000050