(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１ビット分の出力領域を構成する出力パターンが複数個連続して配列され、陰極ドライバ、陽極ドライバ、アイコン用の陽極ドライバを構成する各出力ビット群と、
前記出力パターンと同一形状を有し、前記各出力ビット群の端部に隣接するように形成されるダミーパターンとを具備し、
前記各出力ビット群が隣り合う領域に形成されるダミーパターンの数が、それぞれの各出力ビット群が隣り合わない領域に形成されるダミーパターンの数よりも少ないことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記ダミーパターンが、ゲート電極用配線と同一形状であることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
基板上に１ビット分の出力領域を構成する出力パターンが複数個連続して配列され、陰極ドライバ、陽極ドライバ、アイコン用の陽極ドライバを構成する各出力ビット群を形成する工程と、
前記出力パターンと同一形状を有し、前記各出力ビット群の端部に隣接するように形成されるダミーパターンを形成する工程とを具備し、
前記各出力ビット群が隣り合う領域に形成されるダミーパターンの数が、それぞれの各出力ビット群が隣り合わない領域に形成されるダミーパターンの数よりも少なくなるように配置することを特徴とする半導体装置のパターンレイアウト方法。
【請求項４】
前記ダミーパターンを、ゲート電極用配線と同一形状となるようにパターニング形成することを特徴とする請求項３に記載の半導体装置のパターンレイアウト方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置とそのパターンレイアウト方法に関し、更に言えば、例えば陽極ドライバと陰極ドライバ等を有し、それらを１チップ化した表示ディスプレイ駆動用ドライバ等のパターンレイアウト構造及びそのパターンレイアウト方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
以下、上記表示ディスプレイ駆動用ドライバ等を構成する半導体装置について図面を参照しながら説明する。
【０００３】
上記表示ディスプレイには、ＬＣＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、有機ＥＬ（エレクトロ・ルミネッセンス）ディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ）、ＦＥＤ（フィールド・エミッション・ディスプレイ）等の各種フラット・パネル・ディスプレイがある。
【０００４】
以下、一例として、例えば陽極ドライバと陰極ドライバを有し、有機ＥＬ素子に定電流を供給し、有機ＥＬ素子を発光させる有機ＥＬディスプレイ駆動ドライバについて説明する。尚、ＥＬ素子は自発光であるため液晶表示装置で必要なバックライトを必要とせず、視野角にも制限がない等の多くの利点を有していることから、次世代の液晶表示装置への応用が期待されている。特に、有機ＥＬ素子は高輝度が可能で、高効率、高応答特性、並びに多色化の点で無機ＥＬ素子より優れていることが知られている。
【０００５】
そして、上記有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバは、ロジック系のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ、高耐圧系のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ、低オン抵抗化が図られた高耐圧系のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ、そしてレベルシフタ用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ等から構成される。ここで、低オン抵抗化が図られた高耐圧系のＭＯＳトランジスタとして、例えばＤ（Double diffused）ＭＯＳトランジスタ等が用いられる。尚、上記ＤＭＯＳトランジスタ構造とは、半導体基板表面側に形成した拡散層に対して、導電型の異なる不純物を拡散させて、新たな拡散層を形成し、これらの拡散層の横方向拡散の差を実効チャネル長として利用してなるものであり、短いチャネルが形成されることで、低オン抵抗化に適した素子となる。
【０００６】
また、上記有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバ等の各種ドライバを構成する場合における半導体装置のパターンレイアウトは、出力１ビット分のレイアウトが、必要な出力数だけ繰り返し配置されて成る構成となっている。
【０００７】
即ち、図１３はドライバ駆動用の半導体装置のパターンレイアウトを示す平面図であり、図示したように、出力１ビット分のレイアウトが必要な出力数だけ繰り返し配置されている。
【０００８】
ここで、図１３における１は1ビット分に相当する出力領域であり、当該1ビット分の出力領域１が複数個配列されて所望の出力数を有するドライバ部が構成されている。尚、２は前記出力領域１内に形成されたゲート電極用配線であり、当該ゲート電極用配線２に隣接するようにソース領域（Ｓ）及びドレイン領域（Ｄ）が形成されている（図中円内の拡大図参照）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、多ビット化が進むに連れてビット間のばらつきが問題となってきている。即ち、ビット間のばらつきはゲート電極形成パターンの粗密の差により、フォトリソグラフィ及びエッチング時にマイクロローディング効果が発生し、これによるゲート電極の仕上がり形状及びその加工寸法に狂いが生じる場合があった。
【００１０】
特に、前述したように陽極ドライバや陰極ドライバ等を有する有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバを１チップ化しようとする場合には、自ずと各ドライバ部が混載されるため、上述したようなゲート電極形成パターンの粗密の差も大きくなり、フォトリソグラフィ及びエッチング時にマイクロローディング効果が発生し易くなり、これによるゲート電極の仕上がり形状及びその加工寸法のばらつきが大きくなり、表示不具合が発生してしまう。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明の半導体装置は、１ビット分の出力領域を構成する出力パターンが複数個連続して配列され、陰極ドライバ、陽極ドライバ、アイコン用の陽極ドライバを構成する各出力ビット群と、前記出力パターンと同一形状を有し、前記各出力ビット群の端部に隣接するように形成されるダミーパターンとを具備し、前記各出力ビット群が隣り合う領域に形成されるダミーパターンの数が、それぞれの各出力ビット群が隣り合わない領域に形成されるダミーパターンの数よりも少ないことを特徴とする。
【００１２】
また、前記ダミーパターンが、ゲート電極用配線と同一形状であることを特徴とする。
【００１３】
更に、本発明の半導体装置のパターンレイアウト方法は、基板上に１ビット分の出力領域を構成する出力パターンが複数個連続して配列され、陰極ドライバ、陽極ドライバ、アイコン用の陽極ドライバを構成する各出力ビット群を形成する工程と、前記出力パターンと同一形状を有し、前記各出力ビット群の端部に隣接するように形成されるダミーパターンを形成する工程とを具備し、前記各出力ビット群が隣り合う領域に形成されるダミーパターンの数が、それぞれの各出力ビット群が隣り合わない領域に形成されるダミーパターンの数よりも少なくなるように配置することを特徴とする。
【００１５】
そして、前記ダミーパターンを、ゲート電極用配線と同一形状となるようにパターニング形成することを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の半導体装置とそのパターンレイアウト方法に係る一実施形態について図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態では、表示ディスプレイの一例として有機ＥＬディスプレイを例示し、当該有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバを構成する各種ＭＯＳトランジスタが混載されて成る半導体装置について説明する。
【００１７】
上記有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバは、図１０（ａ）の左側からロジック系の（例えば、３Ｖ）Ｎチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ、レベルシフタ用の（例えば、３０Ｖ）Ｎチャネル型ＭＯＳトランジスタ、高耐圧系の（例えば、３０Ｖ）Ｎチャネル型ＭＯＳトランジスタ，図１０（ｂ）の左側から低オン抵抗化が図られた高耐圧系の（例えば、３０Ｖ）Ｎチャネル型ＭＯＳトランジスタ、高耐圧系の（例えば、３０Ｖ）Ｐチャネル型ＭＯＳトランジスタ，及び低オン抵抗化が図られた高耐圧系の（例えば、３０Ｖ）Ｐチャネル型ＭＯＳトランジスタで構成される。尚、説明の便宜上、上記高耐圧系のＭＯＳトランジスタと低オン抵抗化が図られた高耐圧系のＭＯＳトランジスタとを差別化するため、以下の説明では低オン抵抗化が図られた高耐圧系のＭＯＳトランジスタをＳＬＥＤ（Slit channel by counter doping with extended shallow drain）ＭＯＳトランジスタと呼称する。
【００１８】
このような有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバを構成する各種ＭＯＳトランジスタが混載されて成る半導体装置では、図１０に示すように上記高耐圧系のＰチャネル型ＭＯＳトランジスタと上記低オン抵抗化が図られた高耐圧系のＰチャネル型ＳＬＥＤＭＯＳトランジスタが構成されるＮ型ウエル２３が段差高部となり、その他の各種ＭＯＳトランジスタが構成されるＰ型ウエル２２が段差低部に構成される。言い換えれば、微細なロジック系の（例えば、３Ｖ）Ｎチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタが段差低部に配置されるように構成されている。
【００１９】
以下、上記半導体装置の製造方法について説明する。
【００２０】
先ず、図１において、各種ＭＯＳトランジスタを構成するための領域を画定するために、例えばＰ型の半導体基板（Ｐ−ｓｕｂ）２１内にＰ型ウエル（ＰＷ）２２及びＮ型ウエル（ＮＷ）２３をＬＯＣＯＳ法を用いて形成する。即ち、図示した説明は省略するが、前記基板２１のＮ型ウエル形成領域上にパッド酸化膜及びシリコン窒化膜を形成し、当該パッド酸化膜及びシリコン窒化膜をマスクにして、例えばボロンイオンをおよそ８０ＫｅＶの加速電圧で、８×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して、イオン注入層を形成する。その後、前記シリコン窒化膜をマスクに基板表面をＬＯＣＯＳ法によりフィールド酸化してＬＯＣＯＳ膜を形成する。このとき、ＬＯＣＯＳ膜形成領域下にイオン注入されていたボロンイオンが基板内部に拡散されてＰ型層が形成される。
【００２１】
次に、前記パッド酸化膜及びシリコン窒化膜を除去した後に、前記ＬＯＣＯＳ膜をマスクに基板表面にリンイオンをおよそ８０ＫｅＶの加速電圧で、９×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してイオン注入層を形成する。そして、前記ＬＯＣＯＳ膜を除去した後に、前記基板に注入された各不純物イオンを熱拡散させて、Ｐ型ウエル及びＮ型ウエルを形成することで、図１に示すように前記基板２１内に形成されるＰ型ウエル２２は段差低部に配置され、Ｎ型ウエル２３は段差高部に配置される。
【００２２】
そして、図２において、各ＭＯＳトランジスタ毎に素子分離するため、およそ５００ｎｍ程度の素子分離膜２４をＬＯＣＯＳ法により形成し、この素子分離膜２４以外の活性領域上におよそ８０ｎｍ程度の高耐圧用の厚いゲート酸化膜２５を熱酸化により形成する。
【００２３】
続いて、レジスト膜をマスクにして第１の低濃度のＮ型及びＰ型のソース・ドレイン層（以下、ＬＮ層２６、ＬＰ層２７と称す。）を形成する。即ち、先ず、不図示のレジスト膜でＬＮ層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばリンイオンをおよそ１２０ＫｅＶの加速電圧で、８×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してＬＮ層２６を形成する。その後、レジスト膜（ＰＲ）でＬＰ層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばボロンイオンをおよそ１２０ＫｅＶの加速電圧で、８．５×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してＬＰ層２７を形成する。尚、実際には後工程のアニール工程（例えば、１１００℃のＮ2雰囲気中で、２時間）を経て、上記イオン注入された各イオン種が熱拡散されてＬＮ層２６及びＬＰ層２７となる。
【００２４】
続いて、図３において、Ｐチャネル型及びＮチャネル型ＳＬＥＤＭＯＳトランジスタ形成領域の形成された前記ＬＮ層２６間及びＬＰ層２７間にレジスト膜をマスクにしてそれぞれ第２の低濃度のＮ型及びＰ型のソース・ドレイン層（以下、ＳＬＮ層２８及びＳＬＰ層２９と称す。）を形成する。即ち、先ず、不図示のレジスト膜でＳＬＮ層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばリンイオンをおよそ１２０ＫｅＶの加速電圧で、１．５×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して前記ＬＮ層２６に連なるＳＬＮ層２８を形成する。その後、レジスト膜（ＰＲ）でＳＬＰ層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばニフッ化ボロンイオン（49ＢＦ2+）をおよそ１４０ＫｅＶの加速電圧で、２．５×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して前記ＬＰ層２７に連なるＳＬＰ層２９を形成する。尚、前記ＬＮ層２６と前記ＳＬＮ層２８または前記ＬＰ層２７と前記ＳＬＰ層２９の不純物濃度は、ほぼ同等であるか、どちらか一方が高くなるように設定されている。
【００２５】
更に、図４において、レジスト膜をマスクにして高濃度のＮ型及びＰ型のソース・ドレイン層（以下、Ｎ＋層３０、Ｐ＋層３１と称す。）を形成する。即ち、先ず、不図示のレジスト膜でＮ＋層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばリンイオンをおよそ８０ＫｅＶの加速電圧で、２×１０15／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してＮ＋層３０を形成する。その後、レジスト膜（ＰＲ）でＰ＋層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばニフッ化ボロンイオンをおよそ１４０ＫｅＶの加速電圧で、２×１０15／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してＰ＋層３１を形成する。
【００２６】
次に、図５において、前記ＳＬＮ層２８及びＳＬＰ層２９の形成用のマスク開口径（図３参照）よりも細い開口径を有するレジスト膜をマスクにして前記ＬＮ層２６に連なるＳＬＮ層２８の中央部及び前記ＬＰ層２７に連なるＳＬＰ層２９の中央部にそれぞれ逆導電型の不純物をイオン注入することで、当該ＳＬＮ層２８及びＳＬＰ層２９を分断するＰ型ボディ層３２及びＮ型ボディ層３３を形成する。即ち、先ず、不図示のレジスト膜でＰ型層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばニフッ化ボロンイオンをおよそ１２０ＫｅＶの加速電圧で、５×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してＰ型ボディ層３２を形成する。その後、レジスト膜（ＰＲ）でＮ型層形成領域上以外の領域を被覆した状態で基板表層に、例えばリンイオンをおよそ１９０ＫｅＶの加速電圧で、５×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入してＮ型ボディ層３３を形成する。尚、上記図３〜図５に示すイオン注入工程に関する作業工程順は、適宜変更可能なものであり、前記Ｐ型ボディ層３２及びＮ型ボディ層３３の表層部にチャネルが構成される。
【００２７】
更に、図６において、前記通常耐圧用の微細化Ｎチャネル型及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域の基板（Ｐ型ウエル２２）内に第２のＰ型ウエル（ＳＰＷ）３４及び第２のＮ型ウエル（ＳＮＷ）３５を形成する。
【００２８】
即ち、前記通常耐圧のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域上に開口を有する不図示のレジスト膜をマスクにして前記Ｐ型ウエル２２内に、例えばボロンイオンをおよそ１９０ＫｅＶの加速電圧で、１．５×１０13／ｃｍ2の第１の注入条件でイオン注入後、同じくボロンイオンをおよそ５０ＫｅＶの加速電圧で、２．６×１０12／ｃｍ2の第２の注入条件でイオン注入して、第２のＰ型ウエル３４を形成する。また、前記通常耐圧用のＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域上に開口を有するレジスト膜（ＰＲ）をマスクにして前記Ｐ型ウエル２２内に例えばリンイオンをおよそ３８０ＫｅＶの加速電圧で、１．５×１０13／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して、第２のＮ型ウエル３５を形成する。尚、３８０ＫｅＶ程度の高加速電圧発生装置が無い場合には、２価のリンイオンをおよそ１９０ＫｅＶの加速電圧で、１．５×１０13／ｃｍ2の注入条件でイオン注入するダブルチャージ方式でも良い。続いてリンイオンをおよそ１４０ＫｅＶの加速電圧で、４．０×１０12／ｃｍ2の注入条件でイオン注入する。
【００２９】
次に、通常耐圧用のＮチャネル型及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域上とレベルシフタ用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域上の前記ゲート酸化膜２５を除去した後に、図７に示すように、この領域上に新たに所望の膜厚のゲート酸化膜を形成する。
【００３０】
即ち、先ず、全面にレベルシフタ用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ用におよそ１４ｎｍ程度（この段階では、およそ７ｎｍ程度であるが、後述する通常耐圧用のゲート酸化膜形成時に膜厚が増大する。）のゲート酸化膜３６を熱酸化により形成する。続いて、通常耐圧用のＮチャネル型及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域上に形成された前記レベルシフタ用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタのゲート酸化膜３６を除去した後に、この領域に通常耐圧用の薄いゲート酸化膜３７（およそ７ｎｍ程度）を熱酸化により形成する。
【００３１】
続いて、図８において、全面におよそ１００ｎｍ程度のポリシリコン膜を形成し、このポリシリコン膜にＰＯＣｌ3を熱拡散源として熱拡散し導電化した後に、このポリシリコン膜上におよそ１００ｎｍ程度のタングステンシリサイド膜、更にはおよそ１５０ｎｍ程度のＳｉＯ2膜を積層し、不図示のレジスト膜を用いてパターニングして各ＭＯＳトランジスタ用のゲート電極３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃ，３８Ｄ，３８Ｅ，３８Ｆ，３８Ｇを形成する。尚、前記ＳｉＯ2膜は、パターニング時のハードマスクとして働く。
【００３２】
続いて、図９において、前記通常耐圧用のＮチャネル型及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ用に低濃度のソース・ドレイン層を形成する。
【００３３】
即ち、先ず、通常耐圧用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ用の低濃度ソース・ドレイン層形成領域上以外の領域を被覆する不図示のレジスト膜をマスクにして、例えばリンイオンをおよそ２０ＫｅＶの加速電圧で、６．２×１０13／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して、低濃度のＮ−型ソース・ドレイン層３９を形成する。また、通常耐圧用のＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ用の低濃度ソース・ドレイン層形成領域上以外の領域を被覆するレジスト膜（ＰＲ）をマスクにして、例えばニフッ化ボロンイオンをおよそ２０ＫｅＶの加速電圧で、２×１０13／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して、低濃度のＰ−型ソース・ドレイン層４０を形成する。
【００３４】
更に、図１０において、全面に前記ゲート電極３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃ，３８Ｄ，３８Ｅ，３８Ｆ，３８Ｇを被覆するようにおよそ２５０ｎｍ程度のＴＥＯＳ膜４１をＬＰＣＶＤ法により形成し、前記通常耐圧用のＮチャネル型及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ形成領域上に開口を有するレジスト膜（ＰＲ）をマスクにして前記ＴＥＯＳ膜４１を異方性エッチングする。これにより、図１０に示すように前記ゲート電極３８Ａ，３８Ｂの両側壁部にサイドウォールスペーサ膜４１Ａが形成され、前記レジスト膜（ＰＲ）で被覆された領域にはＴＥＯＳ膜４１がそのまま残る。
【００３５】
そして、前記ゲート電極３８Ａとサイドウォールスペーサ膜４１Ａ並びに、前記ゲート電極３８Ｂとサイドウォールスペーサ膜４１Ａをマスクにして、前記通常耐圧用のＮチャネル型及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ用に高濃度のソース・ドレイン層を形成する。
【００３６】
即ち、通常耐圧用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ用の高濃度ソース・ドレイン層形成領域上以外の領域を被覆する不図示のレジスト膜をマスクにして、例えばヒ素イオンをおよそ１００ＫｅＶの加速電圧で、５×１０15／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して、高濃度のＮ＋型ソース・ドレイン層４２を形成する。また、通常耐圧用のＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ用の高濃度ソース・ドレイン層形成領域上以外の領域を被覆する不図示のレジスト膜をマスクにして、例えばニフッ化ボロンイオンをおよそ４０ＫｅＶの加速電圧で、２×１０15／ｃｍ2の注入条件でイオン注入して、高濃度のＰ＋型ソース・ドレイン層４３を形成する。
【００３７】
以下、図示した説明は省略するが、全面にＴＥＯＳ膜及びＢＰＳＧ膜等からなるおよそ６００ｎｍ程度の層間絶縁膜を形成した後に、前記各高濃度のソース・ドレイン層３０，３１，４２，４３にコンタクト接続する金属配線層を形成することで、前記有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバを構成する通常耐圧用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ、レベルシフタ用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ、高耐圧用のＮチャネル型ＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＭＯＳトランジスタ，低オン抵抗化が図られた高耐圧用のＮチャネル型ＳＬＥＤＭＯＳトランジスタ及びＰチャネル型ＳＬＥＤＭＯＳトランジスタが完成する（図１０参照）。
【００３８】
ここで、本発明の特徴は、前記各ゲート電極３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃ，３８Ｄ，３８Ｅ，３８Ｆ，３８Ｇの仕上がり形状及び加工寸法の精度向上を図ることを目的とした、半導体装置とそのパターンレイアウト方法にある。
【００３９】
以下、本発明のパターンレイアウト構成について簡略化した図面を用いて概略を説明する。尚、従来（図１３）と同等の構成については、重複した説明を避けるため同符号を付して説明を簡略化する。
【００４０】
図１１（ａ）において、１は出力１ビット分に相当する出力領域であり、表示ディスプレイ駆動用ドライバ等の各種ドライバ用の半導体装置のパターンレイアウトは、この１ビット分の出力領域１を必要な出力分だけ繰り返し配置することで、所望の出力ビット群を構成している。
【００４１】
２は、前記１ビット分の出力領域１内に形成されたゲート電極用配線であり、当該ゲート電極用配線２に隣接するようにソース領域Ｓ及びドレイン領域Ｄが形成されている（図中円内の前記出力領域１の拡大図参照）。
【００４２】
そして、３は本発明の特徴である、ダミーパターンであり、当該ダミーパターン３が、前記１ビット分の出力領域１が繰り返し配置された出力ビット群の端部に隣接するように形成されている。また、当該ダミーパターン３内には前記１ビット分の出力領域１内に形成されたゲート電極用配線２と同じ形状のダミーのゲート電極用配線４が形成されている。ここで、前記ダミーのゲート電極用配線４に対応したソース領域及びドレイン領域は構成されていない。
【００４３】
このように本発明では、表示ディスプレイ駆動用ドライバ等の各種ドライバのように１ビット分の出力領域１が繰り返し配置されて成る出力ビット群をパターンレイアウトする場合には、その出力ビット群の終端部に隣接するように、実際に動作する回路のレイアウトと同等のレイアウトを有するダミーパターン３を形成しておくことで、例えばゲート電極用配線をパターニングする際のゲート電極用配線２の粗密の差に起因するフォトリソグラフィ及びエッチング時におけるマイクロローディング効果の発生を抑止することができる。従って、ゲート電極用配線２の仕上がり形状及び加工寸法の均一性が向上し、出力間の差を低減することができる。
【００４４】
また、図１１（ａ）に示すゲート電極用配線２の形状は一例に過ぎず、例えば図１１（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示すような各種形状のゲート電極用配線２Ｂ、２Ｃ、２Ｄを構成するものであって構わない。Ｓ，Ｄはソース領域及びドレイン領域を示している。
【００４５】
尚、本実施形態ではゲート電極用配線２に対応したダミーのゲート電極用配線４を有したダミーパターン３を配置した一例を紹介したが、本発明は他の配線や素子分離用のフィールド酸化膜に対応したダミーパターンを配置するものであっても良い。
【００４６】
図１２は、本発明を表示ディスプレイ駆動用ドライバに適用した場合のパターンレイアウトを示す図である。
【００４７】
ここで、上記表示ディスプレイ駆動用ドライバとしては、例えば陽極ドライバと陰極ドライバを有し、有機ＥＬ素子（有機エレクトロ・ルミネッセンス素子）に定電流を供給し、有機ＥＬ素子を発光させる有機ＥＬディスプレイ駆動用ドライバ等がある。そして、このような陽極ドライバと陰極ドライバとメモリ並びにコントローラ等を１チップ化しようとした場合に、自ずと各ドライバ部が混載されるため、上述したようなゲート電極形成パターンの粗密の差も大きくなり、フォトリソグラフィ及びエッチング時にマイクロローディング効果が発生し易くなり、これによるゲート電極の仕上がり形状及びその加工寸法のばらつきが大きくなり、表示不具合が発生するといった問題が起こる。
【００４８】
そこで、本発明では、陽極ドライバと陰極ドライバとメモリ並びにコントローラ等を１チップ化して、図１２の紙面左上から、３２ビットの陽極ドライバ領域１０（セグメント：ＳＥＧ）、１２８ビットの陰極ドライバ領域１１（コモン：ＣＯＭ）、３２ビットの陽極ドライバ領域１２（ＳＥＧ）、紙面左下から、３２ビットの陽極ドライバ領域１３（ＳＥＧ）、１０ビットのアイコン用の陽極ドライバ領域１４（アイコンＳＥＧ）、１０ビットのアイコン用の陽極ドライバ領域１５（アイコンＳＥＧ）、３２ビットの陽極ドライバ領域１６（ＳＥＧ）を配置している。尚、それぞれのドライバ領域は、出力１ビット分に相当する出力領域１を必要な出力分だけ繰り返し配置することで、所望の出力ビット群を構成している。
【００４９】
そして、３２ビットの陽極ドライバ領域１０（ＳＥＧ）の一方の端部（パターンの終端部寄り）には２ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ａ（前記出力領域１が２個分）が配置され、他方の端部（パターンの中央寄り）には１ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ｂが配置されている。また、１２８ビットの陰極ドライバ領域１１（ＣＯＭ）の一方の端部（ＳＥＧダミーパターン３Ｂ寄り）には１ビット分のＣＯＭダミーパターン３Ｃが前記ＳＥＧダミーパターン３Ｂに隣接するように配置され、他方の端部にも１ビット分のＣＯＭダミーパターン３Ｄが配置されている。更に、３２ビットの陽極ドライバ領域１２（ＳＥＧ）の一方の端部（ＣＯＭダミーパターン３Ｄ寄り）には１ビット分のＳＥＧダミーパターン３ＥがＣＯＭダミーパターン３Ｄに隣接するように配置され、他方の端部（パターンの終端部寄り）には２ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ｆが配置されている。
【００５０】
また、３２ビットの陽極ドライバ領域１３（ＳＥＧ）の一方の端部（パターンの終端部寄り）には２ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ｇが配置され、他方の端部（パターンの中央寄り）には１ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ｈが配置されている。また、１０ビットのアイコン用の陽極ドライバ領域１４（アイコンＳＥＧ）の一方の端部（ＳＥＧダミーパターン３Ｈ寄り）には１ビット分のアイコンＳＥＧダミーパターン３Ｉが前記ＳＥＧダミーパターン３Ｈに隣接するように配置され、他方の端部にも２ビット分のアイコンＳＥＧダミーパターン３Ｊが配置されている。更に、１０ビットのアイコン用の陽極ドライバ領域１５（アイコンＳＥＧ）の一方の端部（パターンの中央寄り）には２ビット分のアイコンＳＥＧダミーパターン３Ｋが配置され、他方の端部（３２ビットの陽極ドライバ領域１６（ＳＥＧ）寄り）には１ビット分のアイコンＳＥＧダミーパターン３Ｌが配置されている。そして、３２ビットの陽極ドライバ領域１６（ＳＥＧ）の一方の端部（ＳＥＧダミーパターン３Ｌ寄り）には１ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ｍが配置され、他方の端部（パターンの終端部寄り）には２ビット分のＳＥＧダミーパターン３Ｎが配置されている。
【００５１】
また、１７，１８はパターン中央部に配置され、表示データ等を記憶するメモリである。
【００５２】
このとき、本実施形態では、各出力ビット群毎にその端部に当該各出力ビットと同一形状のダミーパターンを形成することで加工精度を向上させることができる。
【００５３】
更に、例えば陽極ドライバや陰極ドライバ等を有する表示ディスプレイ駆動用ドライバ等に本発明を適用することで、これらを１チップ化してもその加工精度ばらつきを抑止することができる。従って、１チップ化が可能になることで、それぞれを別々に有する従来品に比して、微細化並びに低コスト化が図れる。
【００５４】
また、各ダミーパターンを一律に（同じ出力数で）形成するのではなく、隣り合う形で出力ビット群が存在する領域に配置するダミーパターンの出力数（例えば、本実施形態では１ビット）を、そのような隣り合う出力ビット群が存在しない領域に配置するダミーパターンの出力数（例えば、本実施形態では２ビット）よりも少なくしている。
【００５５】
これにより、本発明では出力ビット群の端部に隣り合う出力ビット群が存在しない場合には、例えば２ビット分のダミーパターンを配置し、隣り合う出力ビット群が存在する場合には、その隣り合う出力ビット群毎に、例えば１ビット分のダミーパターンを配置することで（隣り合う各出力ビット群毎に形成された各ダミーパターンを併せると２ビット分となる）、パターン面積が徒に増大することなく、パターンの有効利用が図れる。尚、隣り合う出力ビット群が存在する場合においても、出力ビット群の端部に隣り合う出力ビット群が存在しない場合と同数の（例えば、２ビット分の）ダミーパターンを配置しても構わない。
【００５６】
更に、前記ダミーパターンを出力ビット群の端部に形成するだけでなく、出力ビットが複数個配置される領域内において、パターニングされない空きスペースがあれば、その領域が埋まるようにダミーパターンを形成しても良い。このように本発明では、加工パターンの粗密の関係を考慮してダミーパターンを所望の位置に所望の割合で配置させれば良い。
【００５７】
尚、本実施形態では表示ディスプレイとして、有機ＥＬディスプレイを例にして、その駆動用ドライバについて説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、例えばＬＣＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ）、ＦＥＤ（フィールド・エミッション・ディスプレイ）等の各種フラット・パネル・ディスプレイの駆動用ドライバに適用可能なものであり、繰り返し回路が挿入され、必要に応じてビット数が決められる用途であれば適用可能なものである。
【００５８】
【発明の効果】
本発明によれば、出力ビット群の端部にダミーパターンを形成することで加工精度を向上させることができる。
【００５９】
また、陽極ドライバや陰極ドライバ等を有する表示ディスプレイ駆動用ドライバ等に適用することで、これらを１チップ化することができ、微細化、低コスト化が図れる。
【００６０】
更に、隣り合う形で出力ビット群が存在する領域に配置するダミーパターンの出力数を、そのような隣り合う出力ビット群が存在しない領域に配置するダミーパターンの出力数よりも少なく配置することで、パターン面積が徒に増大することがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図２】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図３】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図４】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図５】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図６】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図７】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図８】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図９】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態の半導体装置のパターンレイアウトを示す平面図である。
【図１２】本発明の一実施形態の半導体装置のパターンレイアウトを示す平面図である。
【図１３】従来の半導体装置のパターンレイアウトを示す平面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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