(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する記録媒体に対向する第１の媒体対向面と空気流入端とを有するスライダ部と、前記記録媒体に対向する第２の媒体対向面と空気流出端と薄膜磁気ヘッド素子とを有する素子部とを備え、前記第１の媒体対向面は、前記記録媒体の回転時における前記スライダ部の姿勢を制御するための凹凸を有し、前記スライダ部と前記素子部は、前記空気流入端と前記空気流出端とが前記第１の媒体対向面および前記第２の媒体対向面を挟んで反対側に配置されるように互いに接着されている薄膜磁気ヘッド用スライダを製造する方法であって、
前記スライダ部を作製する工程と、
前記スライダ部とは別個に前記素子部を作製する工程と、
前記スライダ部と前記素子部とを接着する工程とを備え、
前記素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成する工程と、前記ウェハの他方の面を研磨することによって前記ウェハの全部を除去する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項２】
前記スライダ部を作製する工程は、第１のウェハに対して複数のスライダ部に対応する複数の第１の媒体対向面を形成する工程を含み、前記素子部を作製する工程は、第２のウェハの一方の面の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成することを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項３】
前記スライダ部を作製する工程は、第１のウェハに対して複数のスライダ部に対応する複数の第１の媒体対向面を形成して、複数列に配列された複数のスライダ部を含む第１のスライダ部集合体を形成する工程と、前記第１のスライダ部集合体を切断して、１列に配列された複数のスライダ部を含む第２のスライダ部集合体を形成する工程とを含み、
前記素子部を作製する工程は、第２のウェハの一方の面の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成した後、前記第２のウェハの他方の面を研磨することによって前記第２のウェハの全部を除去して、複数列に配列された複数の素子部を含む第１の素子部集合体を形成する工程と、前記第１の素子部集合体を切断して、１列に配列された複数の素子部を含む第２の素子部集合体を作製する工程とを含み、
前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、前記第２のスライダ部集合体と前記第２の素子部集合体とを接着して、１列に配列された複数の薄膜磁気ヘッド用スライダを含むスライダ集合体を作製する工程を含み、
薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、更に、前記スライダ集合体を切断して互いに分離された複数の薄膜磁気ヘッド用スライダを作製する工程を備えたことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項４】
前記スライダ部は、基板部と、この基板部の上に積層された媒体対向層とを有し、前記素子部は、前記薄膜磁気ヘッド素子を囲う絶縁部を有し、前記基板部の硬度は、前記絶縁部の硬度よりも大きく、前記基板部の硬度と前記媒体対向層の硬度とを比較すると、媒体対向層の硬度の方が前記絶縁部の硬度に近く、
前記スライダ部を作製する工程は、前記媒体対向層に前記第１の媒体対向面を形成することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項５】
更に、前記スライダ部と前記素子部とを接着する工程の後で、前記第１の媒体対向面および第２の媒体対向面が平坦化されるように、前記第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を研磨する工程を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項６】
更に、前記スライダ部と前記素子部とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面が、前記素子部に近い第１の面と、前記空気流入端に近い第２の面と、前記第１の面と第２の面との間の境界部分とを有し、前記第２の面が前記第１の面に対して傾斜して、前記第１の面および前記第２の面の形状が前記境界部分において屈曲した凸形状になるように、前記第１の媒体対向面を研磨する工程を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項７】
前記第１の面と第２の面とのなす角度は３０°以下であることを特徴とする請求項６記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項８】
更に、前記第１の媒体対向面における前記境界部分を含む領域に凹部を形成する工程を備え、前記凹部は前記空気流入端と空気流出端のいずれにも達しておらず、且つ、前記第１の媒体対向面における面積比率で前記凹部は凹部以外の場所よりも小さいことを特徴とする請求項６または７記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項９】
前記第２の媒体対向面は、前記第１の媒体対向面の第１の面よりも、記録媒体から離れた位置に配置されていることを特徴とする請求項６記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１０】
前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、セラミック系の接着剤を用いてスライダ部と素子部とを接着することを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１１】
前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、スライダ部と素子部との間に熱硬化型の接着剤を配置し、前記接着剤を３００℃以下の温度で加熱して接着剤を硬化させてスライダ部と素子部とを接着することを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１２】
前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、前記素子部において前記研磨によって形成される面を、前記スライダ部に対して接着することを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１３】
前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、前記素子部において前記研磨によって形成される面とは反対側の面を、前記スライダ部に対して接着することを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１４】
前記ウェハの全部を除去する工程は、複数の薄膜磁気ヘッド素子の上に支持板を配置した状態で、ウェハの他方の面を研磨することを特徴とする請求項１、１２または１３記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１５】
前記支持板のうちの少なくとも前記薄膜磁気ヘッド素子側の面を含む部分は導電性を有することを特徴とする請求項１４記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１６】
前記スライダ部を作製する工程は、セラミック基板の一方の面の上に金属製のエッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクを用い、ドライエッチングによって前記セラミック基板をエッチングすることによって、前記セラミック基板の一方の面に前記凹凸を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１７】
前記ドライエッチングは反応性イオンエッチングであることを特徴とする請求項１６記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１８】
前記スライダ部を作製する工程は、セラミック基板の一方の面の上に金属製の第１のエッチングマスクを形成する工程と、前記第１のエッチングマスクを用い、ドライエッチングによって前記セラミック基板をエッチングすることによって、前記セラミック基板の一方の面に第１の凹部を形成する工程と、前記第１の凹部の一部を覆うように第２のエッチングマスクを形成する工程と、前記第２のエッチングマスクを用い、ドライエッチングによって前記セラミック基板を更にエッチングすることによって、前記セラミック基板の一方の面に、前記第１の凹部よりも深い第２の凹部を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項１９】
前記素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に、再生用の磁気抵抗効果素子と記録用の誘導型電磁変換素子とを、この順に形成し、前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、前記磁気抵抗効果素子が前記誘導型電磁変換素子よりも前記スライダ部に近い位置に配置されるように、前記スライダ部と素子部とを接着することを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【請求項２０】
前記素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に、記録用の誘導型電磁変換素子と再生用の磁気抵抗効果素子とを、この順に形成し、前記スライダ部と素子部とを接着する工程は、前記磁気抵抗効果素子が前記誘導型電磁変換素子よりも前記スライダ部に近い位置に配置されるように、前記スライダ部と素子部とを接着することを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、記録媒体に対向する媒体対向面と、媒体対向面の近傍に配置された薄膜磁気ヘッド素子とを有する薄膜磁気ヘッド用スライダおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ハードディスク装置の面記録密度の向上に伴って、薄膜磁気ヘッドの性能向上が求められている。薄膜磁気ヘッドとしては、書き込み用の誘導型電磁変換素子を有する記録ヘッドと読み出し用の磁気抵抗効果素子（以下、ＭＲ（Magnetoresistive）素子とも記す。）を有する再生ヘッドとを積層した構造の複合型薄膜磁気ヘッドが広く用いられている。ＭＲ素子としては、異方性磁気抵抗（Anisotropic Magnetoresistive）効果を用いたＡＭＲ素子と、巨大磁気抵抗（Giant Magnetoresistive）効果を用いたＧＭＲ素子とがあり、ＡＭＲ素子を用いた再生ヘッドはＡＭＲヘッドあるいは単にＭＲヘッドと呼ばれ、ＧＭＲ素子を用いた再生ヘッドはＧＭＲヘッドと呼ばれる。ＡＭＲヘッドは、面記録密度が１ギガビット／（インチ）2を超える再生ヘッドとして利用され、ＧＭＲヘッドは、面記録密度が３ギガビット／（インチ）2を超える再生ヘッドとして利用されている。近年は、ほとんどＧＭＲヘッドが利用されるようになってきている。
【０００３】
再生ヘッドの性能を向上させる方法としては、ＭＲ膜をＡＭＲ膜からＧＭＲ膜等の磁気抵抗感度の優れた材料に変える方法や、ＭＲ膜のパターン幅、すなわち、再生トラック幅やＭＲハイトを適切化する方法等がある。ＭＲハイトとは、ＭＲ素子のエアベアリング面側の端部から反対側の端部までの長さ（高さ）をいう。また、エアベアリング面は、薄膜磁気ヘッドにおける磁気記録媒体と対向する面である。
【０００４】
一方、再生ヘッドの性能向上に伴って、記録ヘッドの性能向上も求められている。記録ヘッドの性能のうち面記録密度を高めるには、記録トラック密度を上げる必要がある。このためには、記録ギャップ層を挟んでその上下に形成された下部磁極および上部磁極のエアベアリング面での幅を数ミクロンからサブミクロン寸法まで狭くした狭トラック構造の記録ヘッドを実現する必要があり、これを達成するために半導体加工技術が利用されている。また、記録ヘッドの性能を決定する他の要因としては、パターン幅、特に、スロートハイト（Throat Height）がある。スロートハイトは、２つの磁極層が記録ギャップ層を介して対向する部分、すなわち磁極部分の、エアベアリング面側の端部から反対側の端部までの長さ（高さ）をいう。記録ヘッドの性能向上のためには、スロートハイトの縮小化が望まれている。このスロートハイトは、エアベアリング面の加工の際の研磨量によって決定される。
【０００５】
このように、薄膜磁気ヘッドの性能の向上のためには、記録ヘッドと再生ヘッドをバランスよく形成することが重要である。
【０００６】
高密度記録を可能にする薄膜磁気ヘッドに要求される条件としては、再生ヘッドについては、再生トラック幅の縮小、再生出力の増加、ノイズの低減等があり、記録ヘッドについては、記録トラックの縮小、記録媒体上の既にデータを書き込んである領域にデータを重ね書きする場合の特性であるオーバーライト特性の向上、非線形トランジションシフト（Non-linear Transition Shift）の向上等がある。
【０００７】
ところで、ハードディスク装置等に用いられる浮上型薄膜磁気ヘッドは、一般的に、後端部に薄膜磁気ヘッド素子が形成されたスライダによって構成されるようになっている。スライダは、記録媒体の回転によって生じる空気流によって記録媒体の表面からわずかに浮上するようになっている。
【０００８】
ここで、図６５ないし図６７を参照して、従来の薄膜磁気ヘッド素子の製造方法の一例について説明する。図６５は従来の薄膜磁気ヘッド素子のエアベアリング面に垂直な断面を示す断面図、図６６は従来の薄膜磁気ヘッド素子のエアベアリング面に平行な断面を示す断面図、図６７は従来の薄膜磁気ヘッド素子の平面図である。
【０００９】
この製造方法では、まず、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）よりなる基板１０１の上に、例えばアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）よりなる絶縁層１０２を形成する。次に、絶縁層１０２の上に、磁性材料よりなる再生ヘッド用の下部シールド層１０３を形成する。次に、下部シールド層１０３の上に、アルミナ等の絶縁材料よりなる下部シールドギャップ膜１０４を形成する。次に、下部シールドギャップ膜１０４の上に、再生用のＭＲ素子１０５を形成する。次に、下部シールドギャップ膜１０４の上に、ＭＲ素子１０５に電気的に接続される一対の電極層１０６を形成する。次に、下部シールドギャップ膜１０４、ＭＲ素子１０５および電極層１０６の上に、アルミナ等の絶縁材料よりなる上部シールドギャップ膜１０７を形成し、ＭＲ素子１０５をシールドギャップ膜１０４，１０７内に埋設する。
【００１０】
次に、上部シールドギャップ膜１０７の上に、磁性材料からなり、再生ヘッドと記録ヘッドの双方に用いられる上部シールド層兼下部磁極層（以下、下部磁極層と記す。）１０８を形成する。次に、下部磁極層１０８の上に、絶縁膜、例えばアルミナ膜よりなる記録ギャップ層１０９を形成する。次に、磁路形成のために、記録ギャップ層１０９を部分的にエッチングして、コンタクトホールを形成する。次に、磁極部分における記録ギャップ層１０９の上に、記録ヘッド用の磁性材料よりなる上部磁極チップ１１０を形成する。このとき同時に、磁路形成のためのコンタクトホールの上に、磁路形成のための磁性材料からなる磁性層１１９を形成する。
【００１１】
次に、上部磁極チップ１１０をマスクとして、イオンミリングによって、記録ギャップ層１０９と下部磁極層１０８をエッチングする。図６６に示したように、上部磁極部分（上部磁極チップ１１０）、記録ギャップ層１０９および下部磁極層１０８の一部の各側壁が垂直に自己整合的に形成された構造は、トリム（Trim）構造と呼ばれる。次に、全面に、例えばアルミナ膜よりなる絶縁層１１１を形成する。次に、この絶縁層１１１を、上部磁極チップ１１０および磁性層１１９の表面に至るまで研磨して平坦化する。
【００１２】
次に、平坦化された絶縁層１１１の上に、例えば銅（Ｃｕ）よりなる誘導型の記録ヘッド用の第１層目の薄膜コイル１１２を形成する。次に、絶縁層１１１およびコイル１１２の上に、フォトレジスト層１１３を、所定のパターンに形成する。次に、フォトレジスト層１１３の表面を平坦にするために所定の温度で熱処理する。次に、フォトレジスト層１１３の上に、第２層目の薄膜コイル１１４を形成する。次に、フォトレジスト層１１３およびコイル１１４上に、フォトレジスト層１１５を、所定のパターンに形成する。次に、フォトレジスト層１１５の表面を平坦にするために所定の温度で熱処理する。
【００１３】
次に、上部磁極チップ１１０、フォトレジスト層１１３，１１５および磁性層１１９の上に、記録ヘッド用の磁性材料、例えばパーマロイ（ＮｉＦｅ）よりなる上部磁極層１１６を形成する。次に、上部磁極層１１６の上に、例えばアルミナよりなるオーバーコート層１１７を形成する。最後に、上記各層を含むスライダの機械加工を行って、記録ヘッドおよび再生ヘッドのエアベアリング面１１８を形成して、薄膜磁気ヘッド素子が完成する。
【００１４】
なお、図６７では、オーバーコート層１１７や、その他の絶縁層および絶縁膜を省略している。
【００１５】
次に、図６８ないし図７３を参照して、従来のスライダの構成と作用について説明する。図６８は従来のスライダのエアベアリング面の構成の一例を示す底面図である。図６９は従来のスライダの斜視図である。図６８および図６９に示した例では、スライダ１２０におけるエアベアリング面は、磁気ディスク等の記録媒体の回転によって生じる空気流によってスライダ１２０を記録媒体の表面からわずかに浮上させるために必要な形状に形成されている。また、この例では、スライダ１２０の空気流出端（図６８における上側の端部）の近傍であってエアベアリング面の近傍の位置には薄膜磁気ヘッド素子１２２が配置されている。この薄膜磁気ヘッド素子１２２の構成は、例えば図６５ないし図６７に示したようになっている。図６８におけるＡ部が、図６６に対応する。
【００１６】
図６８および図６９に示した例では、スライダ１２０のエアベアリング面は、記録媒体に最も近い第１の面１２１ａと、この第１の面１２１ａとの間で所定の第１の段差のある第２の面１２１ｂと、第１の面１２１ａとの間で第１の段差よりも大きな第２の段差のある第３の面１２１ｃとを有している。第１の面１２１ａはスライダ１２０の幅方向（図６８における左右方向）の両側近傍と薄膜磁気ヘッド素子１２２の周辺とに配置されている。第２の面１２１ｂは空気流入端（図６８における下側の端部）の近傍に配置されている。第３の面１２１ｃは、エアベアリング面の全体から第１の面１２１ａおよび第２の面１２１ｂを除いた部分となっている。第１の面１２１ａと第２の面１２１ｂとの間の第１の段差は１μｍ程度であり、第１の面１２１ａと第３の面１２１ｃとの間の第２の段差は２〜３μｍ程度である。
【００１７】
記録媒体の回転時に、図６８および図６９に示したスライダ１２０のエアベアリング面の第１の面１２１ａと記録媒体との間には、スライダ１２０を記録媒体から遠ざける圧力が発生する。また、図６８および図６９に示したスライダ１２０のエアベアリング面では、第２の面１２１ｂは空気流入端の近傍に配置され、第３の面１２１ｃは第２の面１２１ｂよりも空気流出端に近い位置に配置されている。この場合、記録媒体の回転時に第２の面１２１ｂと記録媒体との間を通過した空気が第３の面１２１ｃと記録媒体との間に達したときに、その空気の体積は増加する。そのため、第３の面１２１ｃと記録媒体との間において、スライダ１２０を記録媒体に近づける負圧が発生する。その結果、記録媒体の回転時に、スライダ１２０は、空気流出端が空気流入端よりも記録媒体に近づくように傾いて、記録媒体から浮上する。記録媒体の面に対するスライダ１２０のエアベアリング面の傾きは、例えば１°以下になるように設計される。また、エアベアリング面の形状を適切に設計することにより、記録スライダ１２０の浮上量を小さくすることができる。
【００１８】
スライダ１２０は、以下のようにして製造される。まず、それぞれ薄膜磁気ヘッド素子１２２を含むスライダとなる部分（以下、スライダ部分と言う。）が複数列に配列されたウェハを一方向に切断して、スライダ部分が一列に配列されたバーと呼ばれるブロックを形成する。次に、このバーにおけるエアベアリング面となる面を研磨して研磨面を形成する。次に、この研磨面のうちの第１の面１２１ａとなる部分の上に、フォトリソグラフィによって第１のフォトレジストマスクを形成する。次に、この第１のフォトレジストマスクを用いて、研磨面を選択的にエッチングして、研磨面との間で第１の段差のある段差面を形成する。次に、第１のフォトレジストマスクを除去する。次に、研磨面のうちの第１の面１２１ａとなる部分および段差面のうちの第２の面１２１ｂとなる部分の上に、フォトリソグラフィによって第２のフォトレジストマスクを形成する。次に、この第２のフォトレジストマスクを用いて、段差面を選択的にエッチングして、研磨面との間で第２の段差のある第３の面１２１ｃを形成する。このようにして、第１の面１２１ａ、第２の面１２１ｂおよび第３の面１２１ｃが形成される。次に、バーを切断して各スライダ１２０に分離する。
【００１９】
図７０は、記録媒体１４０が静止している状態におけるスライダ１２０と記録媒体１４０とを示す断面図である。図７０において、スライダ１２０に関しては、図６８の７０−７０線断面で表している。また、図７１は、図６８における上側から見たスライダ１２０を示している。
【００２０】
図７０に示したように、スライダ１２０の大部分は、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドよりなる基板１０１で構成されている。スライダ１２０のうちの残りの部分は、例えばアルミナよりなる絶縁部１２７と、この絶縁部１２７内に形成された薄膜磁気ヘッド素子１２２等で構成されている。絶縁部１２７の大部分はオーバーコート層１１７である。
【００２１】
図７０および図７１に示したスライダ１２０では、下部シールド層１０３、下部磁極層１０８、上部磁極チップ１１０、上部磁極層１１６等の腐食等を防止するために、エアベアリング面に、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等を用いた保護層１２８を形成している。
【００２２】
図７２は、記録媒体１４０が停止している状態から回転を開始した直後におけるスライダ１２０と記録媒体１４０とを示す断面図である。また、図７３は、記録媒体１４０が回転し、スライダ１２０が記録媒体１４０の表面から浮上し、薄膜磁気ヘッド素子１２２によって記録や再生が行われている状態を表している。スライダ１２０の浮上時において、スライダ１２０と記録媒体１４０との最短距離Ｈ１１は８〜１０ｎｍ程度であり、スライダ１２０の空気流出端と記録媒体１４０との距離Ｈ１２は、１００〜５００ｎｍ程度である。
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ハードディスク装置の性能、特に面記録密度を向上させる方法には、線記録密度を高める方法とトラック密度を高める方法とがある。高性能のハードディスク装置を設計する際には、線記録密度とトラック密度のどちらに重点を置くかによって、記録ヘッド、再生ヘッド、あるいは薄膜磁気ヘッド全体における具体的な方策が異なる。すなわち、トラック密度に重点を置いた設計の場合には、例えば、記録ヘッドと再生ヘッドの双方においてトラック幅の縮小が求められる。
【００２４】
一方、線記録密度に重点を置いた設計の場合には、例えば、再生ヘッドにおいて、再生出力の向上や、下部シールド層と上部シールド層との間の距離であるシールドギャップ長の縮小が求められる。線記録密度に重点を置いた設計の場合には、更に、記録媒体と薄膜磁気ヘッド素子との間の距離（以下、磁気スペースと言う。）の縮小が求められる。
【００２５】
磁気スペースの縮小は、スライダの浮上量の縮小によって達成される。磁気スペースの縮小は、再生ヘッドにおける再生出力の向上に寄与する他に、記録ヘッドにおけるオーバーライト特性の向上に寄与する。
【００２６】
スライダの浮上量の縮小は、例えば、図６８および図６９に示したように、スライダのエアベアリング面に、互いに段差のある第１ないし第３の面を形成することによって実現することができる。
【００２７】
しかしながら、従来のスライダの製造方法では、ウェハを一方向に切断して複数のバーを形成した後、各バーを研磨して研磨面を形成し、更に、各バーの研磨面に第１ないし第３の面を形成する。バーの研磨面に第１ないし第３の面を形成する工程は、複数のバーについて同時に行うことができる。しかし、そのためには、複数のバーを所定の配列となるように並べて配置した後に、これらのバーに対して、マスクの形成処理やエッチング処理を施す必要がある。そのため、従来のスライダの製造方法では、スライダの製造のための工程数が多く、スライダの製造コストが高くなるという問題点があった。
【００２８】
また、磁気スペースを縮小してゆくと、スライダと記録媒体との衝突が生じやすくなり、記録媒体や薄膜磁気ヘッド素子の損傷が生じやすくなる。これを防止するには、記録媒体の表面の平滑性を高めることが必要になる。しかし、記録媒体の表面の平滑性を高めると、スライダと記録媒体との吸着が生じやすくなる。その結果、記録媒体が停止して、スライダが記録媒体に接触している状態から、記録媒体が回転を開始したときに、スライダが記録媒体から離れにくくなるという問題点がある。
【００２９】
従来は、スライダと記録媒体との吸着を防止するために、スライダのエアベアリング面にクラウンやキャンバを形成していた。クラウンとは、図７０に示したように、スライダ１２０の長手方向において緩やかに湾曲した凸面を言う。キャンバとは、図７１に示したように、スライダ１２０の幅方向において緩やかに湾曲した凸面を言う。クラウンにおける高低差Ｃ１は、１０〜５０ｎｍ程度である。また、キャンバにおける高低差Ｃ２は、５〜２０ｎｍ程度である。
【００３０】
従来、クラウンは、例えば、バーのエアベアリング面の研磨の際に、定盤に対するバーの姿勢を変化させることによって形成していた。
【００３１】
一方、キャンバは、従来、例えば次のような方法で形成していた。すなわち、まず、ＭＲハイトを調整するためにバーのエアベアリング面の研磨を行った後、バーにおける各スライダ部分の間の切断予定位置に、ダイヤモンドグラインダ等によって切れ込みを入れる。次に、凹面形状の定盤上でバーのエアベアリング面を軽く再研磨する。
【００３２】
しかしながら、キャンバを形成するための上記の方法では、バーのエアベアリング面の研磨によってＭＲハイトを正確に調整した後に、キャンバを形成するために、再度、バーのエアベアリング面を１０〜２０ｎｍ程度研磨する。そのため、この方法では、ＭＲハイトが所望の値からずれる場合があるという問題点がある。また、この方法では、凹面形状の定盤上でバーのエアベアリング面を研磨する際に、定盤の汚れや定盤上のごみによってバーに引っかき傷が入る場合があり、薄膜磁気ヘッドの歩留りを低下させるという問題点がある。また、この方法では、凹面形状の定盤上でバーのエアベアリング面を研磨する際に、ＭＲ素子に接続された電極層の削り粉が、エアベアリング面と定盤との間に挟まれて延びて、スメアーと呼ばれる不良が発生する場合がある。このスメアーは、ＭＲ素子とシールド層との間の電気的な短絡を引き起こす場合がある。この短絡は、再生ヘッドの感度を低下させたり、再生出力にノイズを発生させたりして、再生ヘッドの特性を劣化させる。
【００３３】
また、スライダのエアベアリング面にクラウンやキャンバを形成する場合には、これらの形成の工程の存在によって、スライダの製造コストが高くなるという問題点がある。
【００３４】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、少ない工程数で製造できるようにした薄膜磁気ヘッド用スライダおよびその製造方法を提供することにある。
【００３５】
本発明の第２の目的は、上記第１の目的に加え、薄膜磁気ヘッド用スライダと記録媒体との衝突によって記録媒体や薄膜磁気ヘッド素子が損傷することや、薄膜磁気ヘッド用スライダと記録媒体とが吸着することを防止しながら、磁気スペースの縮小を可能にした薄膜磁気ヘッド用スライダおよびその製造方法を提供することにある。
【００３６】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダは、
回転する記録媒体に対向する第１の媒体対向面と空気流入端とを有するスライダ部と、
記録媒体に対向する第２の媒体対向面と空気流出端と薄膜磁気ヘッド素子とを有する素子部とを備え、
第１の媒体対向面は、記録媒体の回転時におけるスライダ部の姿勢を制御するための凹凸を有し、
スライダ部と素子部は、空気流入端と空気流出端とが第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を挟んで反対側に配置されるように互いに接着されているものである。
【００３７】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダは、スライダ部と素子部が接着されて構成される。従って、スライダ部と素子部は、それぞれ一度に大量に作製することが可能である。
【００３８】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダにおいて、スライダ部は、基板部と、この基板部の上に積層された媒体対向層とを有し、第１の媒体対向面は媒体対向層に形成され、素子部は、薄膜磁気ヘッド素子を囲う絶縁部を有し、基板部の硬度は、絶縁部の硬度よりも大きく、基板部の硬度と媒体対向層の硬度とを比較すると、媒体対向層の硬度の方が絶縁部の硬度に近いものであってもよい。
【００３９】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダにおいて、第１の媒体対向面は、素子部に近い第１の面と、空気流入端に近い第２の面と、第１の面と第２の面との間の境界部分とを有し、第１の面および第２の面の形状が境界部分において屈曲した凸形状になるように、第２の面は第１の面に対して傾斜していてもよい。
【００４０】
第２の面は、記録媒体が回転している間、境界部分よりも空気流入端が記録媒体から離れるように記録媒体の面に対して傾いてもよい。この場合、記録媒体が回転している間、第２の面と記録媒体の面とのなす角度は３０°以下であってもよい。
【００４１】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダにおいて、第１の媒体対向面が第１の面と第２の面と境界部分とを有する場合には、スライダ部は、記録媒体が静止している間は記録媒体の面に接触し、記録媒体が回転している間は記録媒体の面から離れてもよい。この場合、スライダ部は、記録媒体の面に対して接触を開始する時に、境界部分が最初に記録媒体の面に接触してもよい。また、スライダ部は、記録媒体の面から離れる時に、境界部分が最後に記録媒体の面から離れてもよい。
【００４２】
また、記録媒体が回転している間および記録媒体が静止している間のいずれにおいても、スライダ部は境界部分において記録媒体の面に接触し、且つ第１の面および第２の面は、素子部および空気流入端が記録媒体から離れるように記録媒体の面に対して傾いてもよい。
【００４３】
また、第１の面と第２の面とのなす角度は３０°以下であってもよい。
【００４４】
また、第１の媒体対向面は、境界部分を含む領域において形成された凹部を有していてもよい。
【００４５】
また、第２の媒体対向面は、第１の媒体対向面の第１の面よりも、記録媒体から離れた位置に配置されていてもよい。
【００４６】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダにおいて、薄膜磁気ヘッド素子は、再生用の磁気抵抗効果素子と、磁気抵抗効果素子よりもスライダ部から離れた位置に配置された記録用の誘導型電磁変換素子とを含んでいてもよい。
【００４７】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、回転する記録媒体に対向する第１の媒体対向面と空気流入端とを有するスライダ部と、記録媒体に対向する第２の媒体対向面と空気流出端と薄膜磁気ヘッド素子とを有する素子部とを備え、第１の媒体対向面は、記録媒体の回転時におけるスライダ部の姿勢を制御するための凹凸を有し、スライダ部と素子部は、空気流入端と空気流出端とが第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を挟んで反対側に配置されるように互いに接着されている薄膜磁気ヘッド用スライダを製造する方法である。
【００４８】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、スライダ部を作製する工程と、スライダ部とは別個に素子部を作製する工程と、スライダ部と素子部とを接着する工程とを備えたものである。
【００４９】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法では、スライダ部と素子部を別個に作製し、スライダ部と素子部とを接着することによって薄膜磁気ヘッド用スライダを製造する。従って、スライダ部と素子部は、それぞれ一度に大量に作製することが可能である。
【００５０】
本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部を作製する工程は、第１のウェハに対して複数のスライダ部に対応する複数の第１の媒体対向面を形成する工程を含み、素子部を作製する工程は、第２のウェハの上に複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成する工程を含んでいてもよい。
【００５１】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部を作製する工程は、第１のウェハに対して複数のスライダ部に対応する複数の第１の媒体対向面を形成して、複数列に配列された複数のスライダ部を含む第１のスライダ部集合体を形成する工程と、第１のスライダ部集合体を切断して、１列に配列された複数のスライダ部を含む第２のスライダ部集合体を形成する工程とを含んでいてもよい。また、素子部を作製する工程は、第２のウェハの上に複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成して、複数列に配列された複数の素子部を含む第１の素子部集合体を形成する工程と、第１の素子部集合体を切断して、１列に配列された複数の素子部を含む第２の素子部集合体を作製する工程とを含んでいてもよい。また、スライダ部と素子部とを接着する工程は、第２のスライダ部集合体と第２の素子部集合体とを接着して、１列に配列された複数の薄膜磁気ヘッド用スライダを含むスライダ集合体を作製する工程を含んでいてもよい。薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、更に、スライダ集合体を切断して互いに分離された複数の薄膜磁気ヘッド用スライダを作製する工程を備えていてもよい。
【００５２】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部は、基板部と、この基板部の上に積層された媒体対向層とを有し、素子部は、薄膜磁気ヘッド素子を囲う絶縁部を有し、基板部の硬度は、絶縁部の硬度よりも大きく、基板部の硬度と媒体対向層の硬度とを比較すると、媒体対向層の硬度の方が絶縁部の硬度に近く、スライダ部を作製する工程は、媒体対向層に第１の媒体対向面を形成してもよい。
【００５３】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、更に、スライダ部と素子部とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面および第２の媒体対向面が平坦化されるように、第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を研磨する工程を備えていてもよい。
【００５４】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、更に、スライダ部と素子部とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面が、素子部に近い第１の面と、空気流入端に近い第２の面と、第１の面と第２の面との間の境界部分とを有し、第２の面が第１の面に対して傾斜して、第１の面および第２の面の形状が境界部分において屈曲した凸形状になるように、第１の媒体対向面を研磨する工程を備えていてもよい。この場合、第１の面と第２の面とのなす角度は３０°以下であってもよい。また、薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、更に、第１の媒体対向面における境界部分を含む領域に凹部を形成する工程を備えていてもよい。また、第２の媒体対向面は、第１の媒体対向面の第１の面よりも、記録媒体から離れた位置に配置されていてもよい。
【００５５】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部と素子部とを接着する工程は、セラミック系の接着剤を用いてスライダ部と素子部とを接着してもよい。
【００５６】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部と素子部とを接着する工程は、スライダ部と素子部との間に熱硬化型の接着剤を配置し、接着剤を３００℃以下の温度で加熱して接着剤を硬化させてスライダ部と素子部とを接着してもよい。
【００５７】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成する工程と、ウェハの他方の面を研磨することによってウェハの少なくとも一部を除去する工程とを含んでいてもよい。この場合、スライダ部と素子部とを接着する工程は、素子部において研磨によって形成される面を、スライダ部に対して接着してもよい。また、スライダ部と素子部とを接着する工程は、素子部において研磨によって形成される面とは反対側の面を、スライダ部に対して接着してもよい。また、ウェハの少なくとも一部を除去する工程は、複数の薄膜磁気ヘッド素子の上に支持板を配置した状態で、ウェハの他方の面を研磨してもよい。支持板のうちの少なくとも薄膜磁気ヘッド素子側の面を含む部分は導電性を有していてもよい。
【００５８】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部を作製する工程は、セラミック基板の一方の面の上に金属製のエッチングマスクを形成する工程と、エッチングマスクを用い、ドライエッチングによってセラミック基板をエッチングすることによって、セラミック基板の一方の面に凹凸を形成する工程とを含んでいてもよい。この場合、ドライエッチングは反応性イオンエッチングであってもよい。
【００５９】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部を作製する工程は、セラミック基板の一方の面の上に金属製の第１のエッチングマスクを形成する工程と、第１のエッチングマスクを用い、ドライエッチングによってセラミック基板をエッチングすることによって、セラミック基板の一方の面に第１の凹部を形成する工程と、第１の凹部の一部を覆うように第２のエッチングマスクを形成する工程と、第２のエッチングマスクを用い、ドライエッチングによってセラミック基板を更にエッチングすることによって、セラミック基板の一方の面に、第１の凹部よりも深い第２の凹部を形成する工程とを含んでいてもよい。
【００６０】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に、再生用の磁気抵抗効果素子と記録用の誘導型電磁変換素子とを、この順に形成し、スライダ部と素子部とを接着する工程は、磁気抵抗効果素子が誘導型電磁変換素子よりもスライダ部に近い位置に配置されるように、スライダ部と素子部とを接着してもよい。
【００６１】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に、記録用の誘導型電磁変換素子と再生用の磁気抵抗効果素子とを、この順に形成し、スライダ部と素子部とを接着する工程は、磁気抵抗効果素子が誘導型電磁変換素子よりもスライダ部に近い位置に配置されるように、スライダ部と素子部とを接着してもよい。
【００６２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
［第１の実施の形態］
まず、図１を参照して、本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド用スライダ（以下、単にスライダと記す。）の構成について説明する。図１は本実施の形態に係るスライダの斜視図である。
【００６３】
本実施の形態に係るスライダ２０は、スライダ部２１と素子部２２とを備えている。スライダ部２１の全体形状は、ほぼ直方体になっている。また、素子部２２の全体形状は直方体になっている。スライダ２０の全体形状は、ほぼ直方体になっている。
【００６４】
スライダ部２１は、回転する記録媒体に対向する第１の媒体対向面３１と、記録媒体の回転によって生じる空気流が流入する端部である空気流入端４１とを有している。スライダ部２１は、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによって構成されている。
【００６５】
素子部２２は、記録媒体に対向する第２の媒体対向面３２と、記録媒体の回転によって生じる空気流が流出する端部である空気流出端４２と、薄膜磁気ヘッド素子２３とを有している。薄膜磁気ヘッド素子２３は、第２の媒体対向面３２の近傍に配置されている。
【００６６】
スライダ部２１と素子部２２は、空気流入端４１と空気流出端４２とが第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を挟んで反対側に配置されるように互いに接着されている。
【００６７】
第１の媒体対向面３１は、記録媒体の回転時におけるスライダ部２１の姿勢を制御するための凹凸を有している。具体的には、第１の媒体対向面３１は、記録媒体に最も近い面３１ａと、この面３１ａに対して所定の第１の段差を有する面３１ｂと、面３１ａに対して第１の段差よりも大きな第２の段差を有する面３１ｃとを含んでいる。面３１ａはスライダ部２１の幅方向の両側近傍の位置と素子部２２に隣接する位置とに配置され、面３１ｂは空気流入端４１の近傍の位置に配置され、面３１ｃは、第１の媒体対向３１の全体から面３１ａおよび面３１ｂを除いた部分となっている。
【００６８】
本実施の形態に係るスライダ２０では、第１の媒体対向面３１における凹凸の形状に応じて、空気流によって、スライダ部２１に対して記録媒体から離れる方向の力または記録媒体に近づく方向の力を与えることができる。従って、第１の媒体対向面３１における凹凸の形状の設計によって、記録媒体の回転時におけるスライダ２０の姿勢を制御することが可能である。
【００６９】
素子部２２は、薄膜磁気ヘッド素子２３の下地となる基板部２４と、薄膜磁気ヘッド素子２３を囲う絶縁部２５とを含んでいる。基板部２４は、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによって構成されている。絶縁部２５は、例えば、主にアルミナによって構成されている。基板部２４はスライダ部２１に接着されている。絶縁部２５の基板部２４とは反対側の面には、薄膜磁気ヘッド素子２３に接続された電極用パッド１８が設けられている。なお、基板部２４は必ずしも必要ではない。素子部２２が基板部２４を含まない場合には、絶縁部２５がスライダ部２１に接着される。
【００７０】
また、図１には示していないが、スライダ２０は、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を覆う保護層を備えていてもよい。この保護層は、例えばアルミナまたはダイヤモンドライクカーボンによって構成される。
【００７１】
次に、本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法について説明する。本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法は、スライダ部２１を作製する工程と、スライダ部２１とは別個に素子部２２を作製する工程と、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程とを備えている。
【００７２】
始めに、スライダ部２１を作製する工程について説明する。図２に示したように、スライダ部２１を作製する工程は、第１のウェハ５０に対して複数のスライダ部２１に対応する複数の第１の媒体対向面３１を形成して、複数列に配列された複数のスライダ部２１を含む第１のスライダ部集合体５１Ａを形成する工程と、第１のスライダ部集合体５１Ａを、図２において符号５２で示した位置で切断して、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体を形成する工程とを含む。第１のウェハ５０は、シリコンで形成されていてもよいし、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド等のセラミックで形成されていてもよい。以下の説明では、第１のウェハ５０は、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによって形成されているものとする。第１のウェハ５０は、本発明におけるセラミック基板に対応する。
【００７３】
第１のウェハ５０に対して複数の第１の媒体対向面３１を形成する工程では、第１の媒体対向面３１にキャンバを形成してもよい。このキャンバを形成する場合には、第１の媒体対向面３１を形成する前に、第１のウェハ５０に対して、図２において符号５３で示した位置にダイヤモンドグラインダ等によって切れ込みを入れておくとよい。
【００７４】
以下、図３ないし図１０を参照して、第１のウェハ５０に対して複数の第１の媒体対向面３１を形成する工程について詳しく説明する。図３ないし図８はそれぞれ第１のウェハ５０の一部を示す断面図である。この工程では、まず、第１のウェハ５０の一方の面の上に、めっき用のシード層をスパッタ法によって形成する。シード層の厚みは例えば５０ｎｍとする。次に、シード層の上に、後述するエッチングマスクをフレームめっき法によって形成するためのフレームを、フォトリソグラフィによって形成する。次に、このフレームを用いて、フレームめっき法によってエッチングマスクを形成する。このエッチングマスクの材料は、ＮｉＦｅ、Ｃｕ等の金属である。ここでは、一例として、エッチングマスクの材料をＮｉＦｅ（Ｎｉ：８０重量％，Ｆｅ：２０重量％）とする。また、エッチングマスクの厚みは、例えば約０．５〜１．０μｍとする。次に、フレームを除去し、シード層のうち、フレームの下に存在していた部分を例えばイオンミリングによって除去する。
【００７５】
図３は、このようにして、第１のウェハ５０の一方の面の上に、金属製のエッチングマスク５４が形成された状態を示している。エッチングマスク５４は、第１の媒体対向面３１のうちの面３１ａを形成すべき位置に配置される。
【００７６】
次に、図４に示したように、エッチングマスク５４を用い、ドライエッチングによって第１のウェハ５０をエッチングすることによって、第１のウェハ５０の一方の面に第１の凹部５５を形成する。第１の凹部５５の深さは、例えば約１μｍとする。第１の凹部５５の底面の一部は、第１の媒体対向面３１の面３１ｂとなる。ドライエッチングとしては、イオンミリングや反応性イオンエッチングが用いられる。反応性イオンエッチングを用いる場合には、反応性ガスとしては、例えば、Ｃｌ２，ＢＣｌ３，ＣＦ４，ＳＦ６等のハロゲン系ガスを用いる。反応性ガスとして、Ｃｌ２とＢＣｌ３を１０：４の比で混合したガス、あるいはこの比からＣｌ２とＢＣｌ３の割合がそれぞれ±１０％の範囲内でずれた割合でＣｌ２とＢＣｌ３を混合したガスを用いることにより、金属製のエッチングマスク５４とアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドよりなるウェハ５０のエッチング選択比を大きくすることができる。また、反応性ガスとしては、Ｏ２，Ｎ２，Ａｒ，Ｈｅ，Ｈ２の混合ガスを用いてもよい。また、反応性ガスとしては、上記のハロゲン系ガスと上記混合ガスとを含むガスを用いてもよい。
【００７７】
次に、図５に示したように、エッチングマスク５４を残したまま、第１のウェハ５０の一方の面の上に、第１の凹部５５の一部を覆うように、例えばフォトレジストよりなるエッチングマスク５６を形成する。図９に示したように、エッチングマスク５６は、第１の媒体対向面３１の面３１ｂを形成すべき位置に配置される。次に、エッチングマスク５４，５６を用い、ドライエッチングによって第１のウェハ５０を更にエッチングすることによって、第１のウェハ５０の一方の面に、第１の凹部５５よりも深い第２の凹部５７を形成する。面３１ａを基準とした第２の凹部５７の深さは、例えば約３μｍとする。第２の凹部５７の底面の一部は、第１の媒体対向面３１の面３１ｃとなる。第２の凹部５７の底面の残りの部分は、隣接する第１の媒体対向面３１の間に配置される。第２の凹部５７を形成するためのウェハ５０のエッチング方法は、第１の凹部５５を形成するためのウェハ５０のエッチング方法と同様である。
【００７８】
次に、エッチングマスク５６を溶剤によって除去し、エッチングマスク５４を例えばイオンミリングによって除去する。以上のようにして、面３１ａ〜３１ｃを含む第１の媒体対向面３１が形成される。
【００７９】
次に、凹面形状の定盤上で第１の媒体対向面３１を研磨して、第１の媒体対向面３１にキャンバを形成する。
【００８０】
次に、図６に示したように、第１のウェハ５０の一方の面の上に、第１の媒体対向面３１の周縁部を面取りするための、例えばフォトレジストよりなるエッチングマスク５８を形成する。エッチングマスク５８は、第１の媒体対向面３１のうちの周縁部を除いた部分の上に形成される。
【００８１】
次に、図７に示したように、エッチングマスク５８を用い、例えば反応性イオンエッチングによって、第１のウェハ５０をエッチングする。このときのエッチングの深さは例えば５μｍとする。第１のウェハ５０の一方の面のうち、隣接する第１の媒体対向面３１の間の部分は、エッチングマスク５８を用いたエッチングの前に面３１ａを基準として例えば３μｍの深さになっているので、上記エッチングの後では、面３１ａを基準として例えば８μｍの深さとなる。
【００８２】
また、エッチングマスク５８を用い、例えば反応性イオンエッチングによって、第１のウェハ５０をエッチングする際には、エッチングマスク５８もサイドエッチングされる。その結果、図７に示したように、第１の媒体対向面３１の周縁部では、外側ほど深くエッチングされ、この周縁部は曲面形状となる。
【００８３】
次に、図８に示したように、エッチングマスク５８を溶剤によって除去する。このようにして、第１の媒体対向面３１の周縁部を面取りすることにより、ハードディスク装置において、機械的振動等によりスライダ部２１が記録媒体に衝突して記録媒体が傷付くことを防止することができる。なお、図８において、符号５９で示す破線は、隣接するスライダ部２１の境界を表している。
【００８４】
図１０は、以上のようにして第１の媒体対向面３１が形成された後の第１のウェハ５０を示す斜視図である。なお、図１０は、第１のウェハ５０のうち、１つのスライダ部２１に対応する部分のみを示している。
【００８５】
以上のようにして、図２に示した第１のスライダ部集合体５１Ａが作製される。この第１のスライダ部集合体５１Ａは、図２において符号５２で示した位置で切断される。これにより、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体が形成される。
【００８６】
次に、素子部２２を作製する工程について説明する。図１１に示したように、素子部２２を作製する工程は、第２のウェハ６０の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子２３を形成して、複数列に配列された複数の素子部２２を含む第１の素子部集合体６１Ａを形成する工程と、第１の素子部集合体６１Ａを、図１１において符号６２で示した位置で切断して、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体を作製する工程とを含む。第２のウェハ６０は、シリコンで形成されていてもよいし、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド等のセラミックで形成されていてもよい。以下の説明では、第２のウェハ６０は、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによって形成されているものとする。
【００８７】
ここで、図１２および図１３を参照して、薄膜磁気ヘッド素子２３の構成および形成方法の一例について説明する。図１２および図１３は、それぞれ薄膜磁気ヘッド素子２３の断面図である。図１２は第２の媒体対向面３２および第２のウェハ６０の上面に垂直な断面を示し、図１３は第２の媒体対向面３２に平行な断面を示している。
【００８８】
図１２および図１３に示した薄膜磁気ヘッド素子２３の製造方法では、まず、第２のウェハ６０の上に、例えばアルミナよりなる絶縁層２を形成する。次に、絶縁層２の上に、磁性材料よりなる再生ヘッド用の下部シールド層３を形成する。次に、下部シールド層３の上に、アルミナ等の絶縁材料よりなる下部シールドギャップ膜４を形成する。次に、下部シールドギャップ膜４の上に、再生用のＭＲ素子５を形成する。次に、下部シールドギャップ膜４の上に、ＭＲ素子５に電気的に接続される一対の電極層６を形成する。次に、下部シールドギャップ膜４、ＭＲ素子５および電極層６の上に、アルミナ等の絶縁材料よりなる上部シールドギャップ膜７を形成し、ＭＲ素子５をシールドギャップ膜４，７内に埋設する。
【００８９】
ＭＲ素子５には、ＡＭＲ素子、ＧＭＲ素子、あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。シールドギャップ膜４，７に使用する絶縁材料としては、アルミナ、窒化アルミニウム、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等がある。また、シールドギャップ膜４，７は、スパッタ法によって形成してもよいし、化学的気相成長（ＣＶＤ）法によって形成してもよい。
【００９０】
次に、上部シールドギャップ膜７の上に、磁性材料からなり、再生ヘッドと記録ヘッドの双方に用いられる上部シールド層兼下部磁極層（以下、下部磁極層と記す。）８を形成する。次に、下部磁極層８の上に、絶縁膜、例えばアルミナ膜よりなる記録ギャップ層９を形成する。次に、磁路形成のために、記録ギャップ層９を部分的にエッチングして、コンタクトホール９ａを形成する。次に、磁極部分における記録ギャップ層９の上に、磁性材料よりなる磁極部分層１０ａを形成する。このとき同時に、コンタクトホール９ａの上に、磁性材料よりなる磁性層１０ｂを形成する。
【００９１】
次に、磁極部分層１０ａをマスクとして、ドライエッチングによって記録ギャップ層９をエッチングし、更に下部磁極層８の一部をエッチングして、図１３に示したようなトリム構造とする。このトリム構造によれば、狭トラックの書き込み時に発生する磁束の広がりによる実効的なトラック幅の増加を防止することができる。記録ギャップ層９のエッチングには、例えばハロゲン系ガスを用いた反応性イオンエッチングが用いられる。下部磁極層８のエッチングには、例えばアルゴンイオンミリングが用いられる。
【００９２】
次に、記録ギャップ層９の上に、例えば銅によって、記録ヘッド用の第１層目の薄膜コイル１２を形成する。図１２において、符号１２ａは、薄膜コイル１２のうちの、後述する第２層目の薄膜コイル１４に接続される接続部を示している。次に、接続部１２ａの上に、導体層１２ｂを形成する。
【００９３】
次に、全体に、例えばアルミナよりなる絶縁層１３を形成する。次に、例えば化学機械研磨（ＣＭＰ）によって、磁極部分層１０ａ、磁性層１０ｂおよび導体層１２ｂが露出するまで、絶縁層１３を研磨して、表面を平坦化処理する。
【００９４】
次に、絶縁層１３の上に、第２層目の薄膜コイル１４を形成する。図１２において、符号１４ａは、薄膜コイル１４のうちの、第１層目の薄膜コイル１２に接続される接続部を示している。この接続部１４ａは、導体層１２ｂに接続される。次に、薄膜コイル１４を覆うようにフォトレジスト層１５を形成する。
【００９５】
次に、磁極部分層１０ａ、フォトレジスト層１５および磁性層１０ｂの上に、磁性材料、例えばパーマロイ（ＮｉＦｅ）よりなるヨーク部分層１０ｃを形成する。磁極部分層１０ａ、磁性層１０ｂおよびヨーク部分層１０ｃは、上部磁極層１０を構成する。次に、ヨーク部分層１０ｃの上に、例えばアルミナよりなるオーバーコート層１７を形成する。次に、オーバーコート層１７の表面を平坦化して、その上に、電極用パッド１８（図１参照）を形成する。
【００９６】
第２のウェハ６０は、図１における基板部２４となる。図１における絶縁部２５は、主にオーバーコート層１７によって構成される。
【００９７】
薄膜磁気ヘッド素子２３は、再生ヘッドと記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）とを備えている。再生ヘッドは、磁気的信号検出用のＭＲ素子５と、第２の媒体対向面３２側の一部がＭＲ素子５を挟んで対向するように配置され、ＭＲ素子５をシールドする下部シールド層３および上部シールド層（下部磁極層８）とを有している。
【００９８】
記録ヘッドは、互いに磁気的に連結され、第２の媒体対向面３２側において互いに対向する磁極部分を含む下部磁極層８および上部磁極層１０と、下部磁極層８の磁極部分と上部磁極層１０の磁極部分との間に設けられた記録ギャップ層９と、少なくとも一部が下部磁極層８および上部磁極層１０の間に、これらに対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイル１２，１４とを有している。
【００９９】
本実施の形態では、第２のウェハ６０の一方の面の上に、ＭＲ素子５を含む再生ヘッドと、記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）とが、この順に形成される。
【０１００】
図１４は、複数の薄膜磁気ヘッド素子２３が形成された第２のウェハ６０の一部を示す断面図である。本実施の形態における素子部２２を作製する工程は、上述のように第２のウェハ６０の一方の面（図１４における上側の面）の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子２３を形成した後に、第２のウェハ６０の少なくとも一部を除去する工程を含んでいる。以下、図１５ないし図１７を参照して、第２のウェハ６０の少なくとも一部を除去する工程について説明する。
【０１０１】
この工程では、まず、図１５に示したように、支持板６３を複数の薄膜磁気ヘッド素子２３の上に配置し、オーバーコート層１７に接着する。支持板６３としては、少なくとも薄膜磁気ヘッド素子２３側の面を含む部分が導電性を有するものを用いるのが好ましい。この場合、薄膜磁気ヘッド素子２３の電極用パッド１８が支持板６３に接触することにより、薄膜磁気ヘッド素子２３内のＭＲ素子５が静電放電によって破壊されるのを防止することができる。
【０１０２】
次に、図１６または図１７に示したように、例えばグラインダによって第２のウェハ６０の他方の面（図１６における下側の面）を研磨することによってウェハ６０の少なくとも一部を除去して、第１の素子部集合体６１Ａを形成する。図１６は、ウェハ６０の一部を除去した後の第１の素子部集合体６１Ａを示し、図１７は、ウェハ６０の全部を除去した後の第１の素子部集合体６１Ａを示している。ウェハ６０の一部を除去して第１の素子部集合体６１Ａを形成した場合には、第１の素子部集合体６１Ａに残ったウェハ６０は、基板部２４となる。
【０１０３】
また、図１６および図１７において、符号６４で示した一点鎖線は、隣接する素子部２２の境界を表している。この境界６４は、図１１に示した切断位置６２に対応する。第１の素子部集合体６１Ａは、支持板６３と共に、切断位置６２で切断される。これにより、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体が形成されると共に、境界６４の位置に第２の媒体対向面３２が形成される。
【０１０４】
次に、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程について説明する。スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程では、図１８に示したように、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体５１Ｂと、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体６１Ｂとを接着して、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体を作製する。図１８には、第２のスライダ部集合体５１Ｂのうちの１つのスライダ部２１に対応する部分と、第２の素子部集合体６１Ｂのうちの１つの素子部２２に対応する部分とを示している。なお、図１８に示した素子部２２は、研磨後に残った第２のウェハ６０よりなる基板部２４を有しているが、この基板部２４はなくてもよい。
【０１０５】
スライダ部２１において素子部２２と接着される面は、第１のスライダ部集合体５１Ａを、図２において符号５２で示した位置で切断することによって形成される２つの面のうち、空気流入端４１とは反対側に配置される面である。一方、素子部２２においてスライダ部２１と接着される面は、図１６または図１７に示した工程における研磨によって形成される面である。
【０１０６】
また、素子部２２は、ＭＲ素子５を含む再生ヘッドが記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）よりもスライダ部２１に近い位置に配置されるように、スライダ部２１に接着される。
【０１０７】
スライダ部２１と素子部２２の接着は、例えば、スライダ部２１と素子部２２の少なくとも一方にセラミック系で熱硬化型の接着剤を塗布した後、スライダ部２１と素子部２２を突き合わせ、接着剤を加熱して接着剤を硬化させることによって行われる。この場合、ＭＲ素子５を構成する一部の膜のように熱に対して弱い膜の破損を防止するために、接着剤を３００℃以下の温度で加熱して接着剤を硬化させてスライダ部２１と素子部２２とを接着することが好ましい。例えば、接着剤を２００〜３００℃の温度で加熱して接着剤を硬化させてスライダ部２１と素子部２２とを接着すれば、熱に対して弱い膜の破損を防止しながら、スライダ部２１と素子部２２とを強固に接着することができる。
【０１０８】
本実施の形態に係るスライダの製造方法は、上述のようにスライダ部２１と素子部２２を接着した後に、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２が平坦化されるように、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する工程を備えている。この研磨は、図１９に示したように、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体７０に対して行われる。図１９は、定盤７１にスライダ集合体７０が当接している状態を表している。図２０は研磨後のスライダ集合体７０を表している。
【０１０９】
図１９に示したように、スライダ集合体７０を研磨する際に、支持板６３はスライダ集合体７０に取り付けたままでもよい。あるいは、スライダ集合体７０を研磨する前に、支持板６３をスライダ集合体７０から取り外してもよい。支持板６３をスライダ集合体７０に取り付けたままでスライダ集合体７０を研磨した場合には、研磨後にスライダ集合体７０から支持板６３を取り外してもよいし、スライダ集合体７０に対して後で説明する保護層を形成した後に、スライダ集合体７０から支持板６３を取り外してもよい。
【０１１０】
また、スライダ集合体７０の研磨は、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２のＭＲ素子５の抵抗値を検出しながら、複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトが等しくなるように行われる。
【０１１１】
ここで、図２１および図２２を参照して、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２のＭＲ素子５の抵抗値を検出しながら、複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトが等しくなるように、スライダ集合体７０の研磨を行う方法の一例について説明する。
【０１１２】
図２１は、スライダ集合体７０の研磨を行うための研磨装置の概略の構成を示す斜視図である。この研磨装置１５１は、テーブル１６０と、このテーブル１６０上に設けられた回転ラッピングテーブル１６１と、この回転ラッピングテーブル１６１の側方において、テーブル１６０上に設けられた支柱１６２と、この支柱１６２に対してアーム１６３を介して取り付けられた素材支持部１７０とを備えている。回転ラッピングテーブル１６１は、スライダ集合体７０における第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２に当接するラッピングプレート（定盤）１６１ａを有している。
【０１１３】
素材支持部１７０は、冶具保持部１７３と、この治具保持部１７３の前方位置に等間隔に配設された３本の荷重付加棒１７５Ａ，１７５Ｂ，１７５Ｃとを有している。冶具保持部１７３には、治具１８０が固定されるようになっている。治具１８０には、断面が長円形の孔からなる３つの荷重付加部が設けられている。荷重付加棒１７５Ａ，１７５Ｂ，１７５Ｃの各下端部には、それぞれ、冶具１８０の各荷重付加部（孔）に挿入される断面が長円形の頭部を有する荷重付加ピンが設けられている。各荷重付加ピンは、それぞれ図示しないアクチュエータによって、上下方向、左右方向（治具１８０の長手方向）および回転方向に駆動されるようになっている。
【０１１４】
治具１８０は、スライダ集合体７０を保持する保持部を有している。この治具１８０では、３つの荷重付加部に対して種々の方向の荷重を付加することにより、保持部およびスライダ集合体７０が変形される。これにより、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトの値を目標とする値となるように制御しながら、スライダ集合体７０における第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２をラッピングすることが可能となる。
【０１１５】
図２２は、図２１に示した研磨装置の回路構成の一例を示すブロック図である。この研磨装置は、治具１８０の各荷重付加部にそれぞれ３方向の荷重を付加するための９つアクチュエータ１９１〜１９９と、スライダ集合体７０内の複数のＭＲ素子５の抵抗値を監視してアクチュエータ１９１〜１９９を制御する制御装置１８６と、図示しないコネクタを介して、スライダ集合体７０内の複数のＭＲ素子５に接続され、これらのＭＲ素子５のいずれかを選択的に制御装置１８６に接続するマルチプレクサ１８７とを備えている。
【０１１６】
この研磨装置では、制御装置１８６は、マルチプレクサ１８７を介してスライダ集合体７０内の複数のＭＲ素子５の抵抗値を監視して、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトが全て許容誤差の範囲内となるように、アクチュエータ１９１〜１９９を制御する。
【０１１７】
次に、図２３ないし図２５を参照して、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程と、それ以降の工程について詳しく説明する。図２３ないし図２５は、それぞれスライダ集合体７０の側面図である。
【０１１８】
スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程では、図２３に示したように、接着剤７３を用いて、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体５１Ｂと、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体６１Ｂとを接着して、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体７０を作製する。この工程の後では、図２３に示したように、スライダ部２１における第１の媒体対向面３１と素子部２２における第２の媒体対向面３２との間に段差が生じる場合がある。
【０１１９】
この工程の後、前述のように、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトの値を目標とする値となるように制御しながら、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する。これにより、図２４に示したように、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２は平坦化される。従って、本実施の形態によれば、スライダ部２１と素子部２２とを接着する際の両者の位置合わせの精度が低くても、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を平坦化することができる。
【０１２０】
次に、図２５に示したように、スライダ集合体７０における第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を覆うように保護層７４を形成する。保護層７４の材料には、例えば、アルミナまたはダイヤモンドライクカーボンが用いられる。また、保護層７４の厚みは、例えば約３〜５ｎｍである。
【０１２１】
最後に、スライダ集合体７０を切断して、互いに分離された複数のスライダ２０を作製する。図２６は、素子部２２側から見たスライダ２０の正面図である。
【０１２２】
次に、図２７ないし図２９を参照して、本実施の形態に係るスライダ２０が取り付けられるヘッドジンバルアセンブリおよびハードディスク装置について説明する。まず、図２７を参照して、ヘッドジンバルアセンブリ２２０について説明する。ハードディスク装置において、スライダ２０は、回転駆動される円盤状の記録媒体であるハードディスク２６２に対向するように配置される。ヘッドジンバルアセンブリ２２０は、スライダ２０と、このスライダ２０を弾性的に支持するサスペンション２２１とを備えている。サスペンション２２１は、例えばステンレス鋼によって形成された板ばね状のロードビーム２２２、このロードビーム２２２の一端部に設けられると共にスライダ２０が接合され、スライダ２０に適度な自由度を与えるフレクシャ２２３と、ロードビーム２２２の他端部に設けられたベースプレート２２４とを有している。ベースプレート２２４は、スライダ２０をハードディスク２６２のトラック横断方向ｘに移動させるためのアクチュエータのアーム２３０に取り付けられるようになっている。アクチュエータは、アーム２３０と、このアーム２３０を駆動するボイスコイルモータとを有している。フレクシャ２２３において、スライダ２０が取り付けられる部分には、スライダ２０の姿勢を一定に保つためのジンバル部が設けられている。
【０１２３】
ヘッドジンバルアセンブリ２２０は、アクチュエータのアーム２３０に取り付けられる。１つのアーム２３０にヘッドジンバルアセンブリ２２０を取り付けたものはヘッドアームアセンブリと呼ばれる。また、複数のアームを有するキャリッジの各アームにヘッドジンバルアセンブリ２２０を取り付けたものはヘッドスタックアセンブリと呼ばれる。
【０１２４】
図２７は、ヘッドアームアセンブリの一例を示している。このヘッドアームアセンブリでは、アーム２３０の一端部にヘッドジンバルアセンブリ２２０が取り付けられている。アーム２３０の他端部には、ボイスコイルモータの一部となるコイル２３１が取り付けられている。アーム２３０の中間部には、アーム２３０を回動自在に支持するための軸２３４に取り付けられる軸受け部２３３が設けられている。
【０１２５】
次に、図２８および図２９を参照して、ヘッドスタックアセンブリの一例とハードディスク装置について説明する。図２８はハードディスク装置の要部を示す説明図、図２９はハードディスク装置の平面図である。ヘッドスタックアセンブリ２５０は、複数のアーム２５２を有するキャリッジ２５１を有している。複数のアーム２５２には、複数のヘッドジンバルアセンブリ２２０が、互いに間隔を開けて垂直方向に並ぶように取り付けられている。キャリッジ２５１においてアーム２５２とは反対側には、ボイスコイルモータの一部となるコイル２５３が取り付けられている。ヘッドスタックアセンブリ２５０は、ハードディスク装置に組み込まれる。ハードディスク装置は、スピンドルモータ２６１に取り付けられた複数枚のハードディスク２６２を有している。各ハードディスク２６２毎に、ハードディスク２６２を挟んで対向するように２つのスライダ２０が配置される。また、ボイスコイルモータは、ヘッドスタックアセンブリ２５０のコイル２５３を挟んで対向する位置に配置された永久磁石２６３を有している。
【０１２６】
スライダ２０を除くヘッドスタックアセンブリ２５０およびアクチュエータは、スライダ２０を支持すると共にハードディスク２６２に対して位置決めする。
【０１２７】
このハードディスク装置では、アクチュエータによって、スライダ２０をハードディスク２６２のトラック横断方向に移動させて、スライダ２０をハードディスク２６２に対して位置決めする。スライダ２０に含まれる薄膜磁気ヘッドは、記録ヘッドによって、ハードディスク２６２に情報を記録し、再生ヘッドによって、ハードディスク２６２に記録されている情報を再生する。
【０１２８】
本実施の形態に係るスライダ２０では、記録媒体（ハードディスク２６２）の回転時に、スライダ２０の第１の媒体対向面３１の面３１ａと記録媒体との間には、スライダ２０を記録媒体から遠ざける圧力が発生する。一方、記録媒体の回転時に３１ｂと記録媒体との間を通過した空気が面３１ｃと記録媒体との間に達したときに、その空気の体積は増加する。そのため、面３１ｃと記録媒体との間において、スライダ２０を記録媒体に近づける負圧が発生する。その結果、記録媒体の回転時に、スライダ２０は、空気流出端４２が空気流入端４１よりも記録媒体に近づくように傾いて、記録媒体から浮上する。
【０１２９】
以上説明したように、本実施の形態では、スライダ部２１と素子部２２を別個に作製し、スライダ部２１と素子部２２とを接着することによってスライダ２０を完成させる。そのため、本実施の形態によれば、スライダ部２１と素子部２２を、それぞれ一度に大量に作製することができる。特に、本実施の形態によれば、第１のウェハ５０に対して、多数のスライダ部２１に対応する多数の第１の媒体対向面３１を同時に形成することができる。従来のスライダの製造方法では、複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成されたウェハを切断して複数のバーを形成し、各バーを研磨して研磨面を形成し、更に、各バーの研磨面をエッチングして媒体対向面を形成していた。従って、本実施の形態に係るスライダ２０およびその製造方法によれば、従来のスライダおよびその製造方法に比べて、大幅に少ない工程数でスライダ２０を製造することができ、スライダ２０の製造コストを大幅に低減することができる。
【０１３０】
また、従来のスライダの製造方法では、凹面形状の定盤によってバーを研磨することによってスライダにおけるキャンバを形成していた。これに対し、本実施の形態では、凹面形状の定盤によって第１のウェハ５０を研磨することによってキャンバを形成する。従って、本実施の形態によれば、従来のスライダの製造方法に比べて、一度により多くのスライダのキャンバの形成が可能になり、この点からもスライダ２０の製造コストを低減することができる。
【０１３１】
また、従来の製造方法では、薄膜磁気ヘッド素子を含むバーを凹面形状の定盤によって研磨することによってキャンバを形成していた。そのため、キャンバを形成するための研磨によってスメアーが発生して再生ヘッドの特性が劣化する場合があった。これに対して、本実施の形態では、薄膜磁気ヘッド素子２３を含まない第１のウェハ５０を研磨することによってキャンバを形成する。従って、本実施の形態によれば、キャンバを形成するための研磨によって再生ヘッドの特性が劣化することがない。
【０１３２】
また、本実施の形態では、第１の媒体対向面３１の周縁部を面取りする工程も、第１のウェハ５０に対して行うことができる。従って、本実施の形態によれば、この点からもスライダ２０の製造コストを低減することができる。
【０１３３】
［第２の実施の形態］
次に、本発明の第２の実施の形態に係るスライダおよびその製造方法について説明する。図３０は、本実施の形態に係るスライダ２０の斜視図である。本実施の形態に係るスライダ２０では、スライダ部２１は、基板部２１Ａと、この基板部２１Ａの上に積層された媒体対向層２１Ｂとを有している。第１の媒体対向面３１は媒体対向層２１Ｂに形成されている。第１の実施の形態と同様に、素子部２２は、薄膜磁気ヘッド素子２３を囲う絶縁部２５を有している。
【０１３４】
基板部２１Ａの硬度は、絶縁部２５の硬度よりも大きい。基板部２１Ａの硬度と媒体対向層２１Ｂの硬度とを比較すると、媒体対向層２１Ｂの硬度の方が絶縁部２５の硬度に近い。絶縁部２５を構成する主な材料と媒体対向層２１Ｂを構成する材料は同一であることが好ましい。基板部２１Ａは、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによって構成されている。絶縁部２５は、例えば、主にアルミナによって構成されている。媒体対向層２１Ｂは、例えば、アルミナまたはダイヤモンドライクカーボンによって構成されている。本実施の形態に係るスライダ２０のその他の構成は、第１の実施の形態と同様である。
【０１３５】
次に、本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法について説明する。本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法は、スライダ部２１を作製する工程と、スライダ部２１とは別個に素子部２２を作製する工程と、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程とを備えている。本実施の形態において、素子部２２を作製する工程は、第１の実施の形態と同様である。
【０１３６】
次に、スライダ部２１を作製する工程について説明する。スライダ部２１を作製する工程は、第１の実施の形態と同様である。ただし、後述するように、本実施の形態では、第１のウェハ５０は基板部と、この基板部の上に積層された媒体対向層とを有している。そして、第１のウェハ５０の媒体対向層に、複数のスライダ部２１に対応する複数の第１の媒体対向面３１が形成される。
【０１３７】
以下、図３１ないし図３６を参照して、第１のウェハ５０に対して複数の第１の媒体対向面３１を形成する工程について詳しく説明する。図３１ないし図３６はそれぞれ第１のウェハ５０の一部を示す断面図である。本実施の形態では、第１のウェハ５０は、基板部５０Ａと、この基板部５０Ａの上に積層された媒体対向層５０Ｂとを有している。基板部５０Ａは、後に切断されてスライダ部２１における基板部２１Ａとなるものである。同様に、媒体対向層５０Ｂは、後に切断されてスライダ部２１における媒体対向層２１Ｂとなるものである。媒体対向層５０Ｂの厚みは、例えば３〜５μｍである。
【０１３８】
この工程では、まず、第１のウェハ５０における媒体対向層５０Ｂの上に、めっき用のシード層をスパッタ法によって形成する。シード層の厚みは例えば５０ｎｍとする。次に、シード層の上に、後述するエッチングマスクをフレームめっき法によって形成するためのフレームを、フォトリソグラフィによって形成する。次に、このフレームを用いて、フレームめっき法によってエッチングマスクを形成する。このエッチングマスクの材料は、ＮｉＦｅ、Ｃｕ等の金属である。ここでは、一例として、エッチングマスクの材料をＮｉＦｅ（Ｎｉ：８０重量％，Ｆｅ：２０重量％）とする。また、エッチングマスクの厚みは、例えば約０．５〜１．０μｍとする。次に、フレームを除去し、シード層のうち、フレームの下に存在していた部分を例えばイオンミリングによって除去する。
【０１３９】
図３１は、このようにして、媒体対向層５０Ｂの上に、金属製のエッチングマスク５４が形成された状態を示している。エッチングマスク５４は、第１の媒体対向面３１のうちの面３１ａを形成すべき位置に配置される。
【０１４０】
次に、図３２に示したように、エッチングマスク５４を用い、ドライエッチングによって媒体対向層５０Ｂをエッチングすることによって、媒体対向層５０Ｂの上面に第１の凹部５５を形成する。第１の凹部５５の深さは、例えば約１μｍとする。第１の凹部５５の底面の一部は、第１の媒体対向面３１の面３１ｂとなる。ドライエッチングとしては、イオンミリングや反応性イオンエッチングが用いられる。反応性イオンエッチングを用いる場合には、反応性ガスとしては、例えば、Ｃｌ２，ＢＣｌ３，ＣＦ４，ＳＦ６等のハロゲン系ガスを用いる。反応性ガスとして、Ｃｌ２とＢＣｌ３を１０：４の比で混合したガス、あるいはこの比からＣｌ２とＢＣｌ３の割合がそれぞれ±１０％の範囲内でずれた割合でＣｌ２とＢＣｌ３を混合したガスを用いることにより、金属製のエッチングマスク５４とアルミナよりなる媒体対向層５０Ｂのエッチング選択比を大きくすることができる。また、反応性ガスとしては、Ｏ２，Ｎ２，Ａｒ，Ｈｅ，Ｈ２の混合ガスを用いてもよい。また、反応性ガスとしては、上記のハロゲン系ガスと上記混合ガスとを含むガスを用いてもよい。
【０１４１】
次に、図３３に示したように、エッチングマスク５４を残したまま、媒体対向層５０Ｂの上に、第１の凹部５５の一部を覆うように、例えばフォトレジストよりなるエッチングマスク５６を形成する。図９に示したように、エッチングマスク５６は、第１の媒体対向面３１の面３１ｂを形成すべき位置に配置される。次に、エッチングマスク５４，５６を用い、ドライエッチングによって第１のウェハ５０を更にエッチングすることによって、媒体対向層５０Ｂの上面に、第１の凹部５５よりも深い第２の凹部５７を形成する。面３１ａを基準とした第２の凹部５７の深さは、例えば約３μｍとする。第２の凹部５７の底面の一部は、第１の媒体対向面３１の面３１ｃとなる。第２の凹部５７の底面の残りの部分は、隣接する第１の媒体対向面３１の間に配置される。第２の凹部５７を形成するためのウェハ５０のエッチング方法は、第１の凹部５５を形成するためのウェハ５０のエッチング方法と同様である。
【０１４２】
次に、エッチングマスク５６を溶剤によって除去し、エッチングマスク５４を例えばイオンミリングによって除去する。以上のようにして、面３１ａ〜３１ｃを含む第１の媒体対向面３１が形成される。
【０１４３】
次に、凹面形状の定盤上で第１の媒体対向面３１を研磨して、第１の媒体対向面３１にキャンバを形成する。
【０１４４】
次に、図３４に示したように、媒体対向層５０Ｂの上に、第１の媒体対向面３１の周縁部を面取りするための、例えばフォトレジストよりなるエッチングマスク５８を形成する。エッチングマスク５８は、第１の媒体対向面３１のうちの周縁部を除いた部分の上に形成される。
【０１４５】
次に、図３５に示したように、エッチングマスク５８を用い、例えば反応性イオンエッチングによって、媒体対向層５０Ｂをエッチングする。このときのエッチングの深さは例えば５μｍとする。媒体対向層５０Ｂの上面のうち、隣接する第１の媒体対向面３１の間の部分は、エッチングマスク５８を用いたエッチングの前に面３１ａを基準として例えば３μｍの深さになっているので、上記エッチングの後では、面３１ａを基準として例えば８μｍの深さとなる。
【０１４６】
また、エッチングマスク５８を用い、例えば反応性イオンエッチングによって、第１のウェハ５０をエッチングする際には、エッチングマスク５８もサイドエッチングされる。その結果、図３５に示したように、第１の媒体対向面３１の周縁部では、外側ほど深くエッチングされ、この周縁部は曲面形状となる。
【０１４７】
次に、図３６に示したように、エッチングマスク５８を溶剤によって除去する。このようにして、第１の媒体対向面３１の周縁部を面取りすることにより、ハードディスク装置において、機械的振動等によりスライダ部２１が記録媒体に衝突して記録媒体が傷付くことを防止することができる。なお、図３６において、符号５９で示す破線は、隣接するスライダ部２１の境界を表している。
【０１４８】
以上のようにして、図２に示した第１のスライダ部集合体５１Ａが作製される。この第１のスライダ部集合体５１Ａは、図２において符号５２で示した位置で切断される。これにより、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体が形成される。
【０１４９】
次に、図３７ないし図３９を参照して、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程と、それ以降の工程について詳しく説明する。図３７ないし図３９は、それぞれスライダ集合体７０の側面図である。
【０１５０】
スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程では、図３７に示したように、接着剤７３を用いて、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体５１Ｂと、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体６１Ｂとを接着して、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体７０を作製する。この工程の後では、図３７に示したように、スライダ部２１における第１の媒体対向面３１と素子部２２における第２の媒体対向面３２との間に段差が生じる場合がある。
【０１５１】
この工程の後、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトの値を目標とする値となるように制御しながら、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する。これにより、図３８に示したように、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２は平坦化される。
【０１５２】
次に、図３９に示したように、スライダ集合体７０における第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を覆うように保護層７４を形成する。保護層７４の材料には、例えば、アルミナまたはダイヤモンドライクカーボンが用いられる。また、保護層７４の厚みは、例えば約３〜５ｎｍである。最後に、スライダ集合体７０を切断して、互いに分離された複数のスライダ２０を作製する。
【０１５３】
ここで、スライダ部２１の基板部２１Ａの材料がアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドであり、素子部２２の絶縁部２５を構成する主な材料がアルミナである場合において、媒体対向層２１Ｂがなく、基板部２１Ａに第１の媒体対向面３１を形成した場合を考える。この場合、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する際に、絶縁部２５と、この絶縁部２５よりも硬度が大きい基板部２１Ａとが同時に研磨される。そのため、この場合には、研磨後に、第１の媒体対向面３１と第２の媒体対向面３２との間で、第１の媒体対向面３１に対して第２の媒体対向面３２が引っ込んだ状態で、例えば３〜５ｎｍ程度の段差が生じる場合がある。この段差は、磁気スペースを増大させ、記録ヘッドおよび再生ヘッドの特性向上を妨げる。
【０１５４】
これに対し、本実施の形態では、基板部２１Ａの上に媒体対向層２１Ｂを設け、この媒体対向層２１Ｂに第１の媒体対向面３１を形成している。基板部２１Ａの硬度は絶縁部２５の硬度よりも大きく、基板部２１Ａの硬度と媒体対向層２１Ｂの硬度とを比較すると、媒体対向層２１Ｂの硬度の方が絶縁部２５の硬度に近い。従って、本実施の形態によれば、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２の研磨後に、第１の媒体対向面３１と第２の媒体対向面３２との間に段差が生じることを防止することができる。特に、絶縁部２５を構成する主な材料と媒体対向層２１Ｂを構成する材料を同一にした場合には、上記の段差をほぼゼロにすることができる。
【０１５５】
以上のことから、本実施の形態によれば、スライダ２０の低浮上化、すなわち磁気スペースの縮小が可能になる。また、本実施の形態によれば、磁気スペースの縮小により、再生ヘッドにおける再生出力の向上や半値幅の縮小が可能になり、その結果、記録密度を向上させることができる。また、本実施の形態によれば、磁気スペースの縮小により、記録ヘッドにおけるオーバーライト特性や非線形トランジションシフトを向上させることが可能になる。
【０１５６】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。
【０１５７】
［第３の実施の形態］
次に、本発明の第３の実施の形態に係るスライダおよびその製造方法について説明する。図４０は、本実施の形態に係るスライダ２０の斜視図である。本実施の形態に係るスライダ２０では、第１の媒体対向面３１は、素子部２２に近い第１の面３３と、空気流入端４１に近い第２の面３４と、第１の面３３と第２の面３４との間の境界部分３５とを有している。第１の面３３は、スライダ部２１の幅方向の両側近傍に配置された２つの部分と、素子部２２側の端部近傍に配置された１つの部分とを含んでいる。第２の面３４は、スライダ部２１の幅方向の両側近傍に配置されて空気通過方向に延びると共に、第１の面３３の上記２つの部分に接続された２つの部分を含んでいる。第１の媒体対向面３１は、更に、第２の面３４の２つの部分の間に配置されて空気通過方向に延びる部分を含む第３の面３６を有している。
【０１５８】
第２の面３４は、第１の面３３および第２の面３４の形状が境界部分３５において屈曲した凸形状（屋根形）になるように、第１の面３３に対して傾斜している。第１の面３３と第２の面３４とのなす角度は３０°以下であることが好ましく、１０°以下であることがより好ましい。また、第１の面３３と第２の面３４とのなす角度は０．１°以上であることが好ましい。
【０１５９】
第１の面３３および第３の面３６は、スライダ部２１における第１の媒体対向面３１とは反対側の面に対して平行になっている。第２の面３４と第３の面３６との間には、第２の面３４よりも第３の面３６の方が記録媒体から離れるように段差がある。この段差は素子部２２に近い位置ほど大きくなるように連続的に変化している。言い換えると、第２の面３４は第３の面３６に対して傾いた面になっている。第２の面３４と第３の面３６とのなす角度は、３０°以下であることが好ましく、１０°以下であることがより好ましい。また、第２の面３４と第３の面３６とのなす角度は０．１°以上であることが好ましい。
【０１６０】
第１の媒体対向面３１のうち、境界部分３５から素子部２２側の端部までの長さは、第１の媒体対向面３１の素子部２２側の端部から空気流入端４１までの長さの５０％以下であることが好ましい。
【０１６１】
本実施の形態に係るスライダ２０のその他の構成は、第１の実施の形態と同様である。
【０１６２】
次に、本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法について説明する。本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法は、スライダ部２１を作製する工程と、スライダ部２１とは別個に素子部２２を作製する工程と、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程とを備えている。本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法は、更に、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面３１が、素子部２２に近い第１の面３３と、空気流入端４１に近い第２の面３４と、第１の面３３と第２の面３４との間の境界部分３５とを有し、第２の面３４が第１の面３３に対して傾斜して、第１の面３３および第２の面３４の形状が境界部分３５において屈曲した凸形状になるように、第１の媒体対向面３１を研磨する工程を備えている。本実施の形態において、素子部２２を作製する工程は、第１の実施の形態と同様である。
【０１６３】
次に、スライダ部２１を作製する工程について説明する。スライダ部２１を作製する工程は、図２に示したように、第１の実施の形態と同様に、第１のウェハ５０に対して複数のスライダ部２１に対応する複数の第１の媒体対向面３１を形成して、複数列に配列された複数のスライダ部２１を含む第１のスライダ部集合体５１Ａを形成する工程と、第１のスライダ部集合体５１Ａを、図２において符号５２で示した位置で切断して、図４１に示したように、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体５１Ｂを形成する工程とを含む。
【０１６４】
ただし、本実施の形態では、図４１に示したように、スライダ部２１を作製する工程の終了後における第１の媒体対向面３１の形状は、第１の実施の形態とは異なり、以下のようになっている。すなわち、第１の媒体対向面３１は、記録媒体に最も近く、第１の実施の形態における面３１ａと同様の形状の面３７と、この面３７に対して所定の段差を有する前記の第３の面３６とを含んでいる。面３７と第３の面３６との段差は、例えば約２〜３μｍである。
【０１６５】
第１の媒体対向面３１は、例えば、第１の実施の形態において第１のウェハ５０の一方の面に第１の凹部５５（図４参照）を形成する場合と同様にして形成することができる。すなわち、この場合には、第１のウェハ５０の一方の面の上に、金属製のエッチングマスクを形成し、このエッチングマスクを用い、ドライエッチングによって第１のウェハ５０をエッチングすることによって、第１のウェハ５０の一方の面に第３の面３６を形成する。
【０１６６】
スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程は、第１の実施の形態と同様である。すなわち、この工程では、図４１に示したように、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体５１Ｂと、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体６１Ｂとを接着して、図１９に示したように、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体７０を作製する。
【０１６７】
次に、図４２ないし図４５を参照して、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程と、それ以降の工程について詳しく説明する。図４２ないし図４５は、それぞれスライダ集合体７０の側面図である。
【０１６８】
スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程では、図４２に示したように、接着剤７３を用いて、１列に配列された複数のスライダ部２１を含む第２のスライダ部集合体５１Ｂと、１列に配列された複数の素子部２２を含む第２の素子部集合体６１Ｂとを接着して、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体７０を作製する。この工程の後では、図４２に示したように、スライダ部２１における第１の媒体対向面３１と素子部２２における第２の媒体対向面３２との間に段差が生じる場合がある。
【０１６９】
この工程の後、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトの値を目標とする値となるように制御しながら、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する。これにより、図４３に示したように、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２は平坦化される。
【０１７０】
次に、図４４に示したように、定盤に対するスライダ集合体７０の姿勢を、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する際とは異ならせて、スライダ集合体７０の研磨を行うことによって、面３７の一部を研磨する。これにより、スライダ部２１の第１の媒体対向面３１に、第１の面３３、第２の面３４および境界部分３５が形成される。また、この時点で、スライダ部２１に空気流入端４１が形成される。
【０１７１】
次に、図４５に示したように、スライダ集合体７０における第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を覆うように保護層７４を形成する。最後に、スライダ集合体７０を切断して、互いに分離された複数のスライダ２０を作製する。
【０１７２】
次に、図４６および図４７を参照して、本実施の形態に係るスライダ２０の作用と効果について説明する。図４６は記録媒体４５が回転しているときのスライダ２０の状態を示す側面図、図４７は記録媒体４５が静止しているときのスライダ２０の状態を示す側面図である。
【０１７３】
図４６に示したように、スライダ部２１は、記録媒体４５が回転している間は、記録媒体４５の回転によって生じる空気流によって浮上して、記録媒体４５の面から離れる。一方、図４７に示したように、スライダ部２１は、記録媒体４５が静止している間は、記録媒体４５の面に接触する。
【０１７４】
図４６に示したように、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第２の面３４は、空気流入端４１に近い位置ほど記録媒体４５から離れるように記録媒体４５の面に対して傾く。また、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第１の面３３と第２の媒体対向面３２は、記録媒体４５の面に対してほぼ平行になる。記録媒体４５が回転している間、第２の面３４と記録媒体４５の面とのなす角度は３０°以下であることが好ましく、１０°以下であることがより好ましい。また、第２の面３４と記録媒体４５の面とのなす角度は０．１°以上であることが好ましい。記録媒体４５が回転しているときの第２の面３４と記録媒体４５の面とのなす角度は、第１の媒体対向面３１の凹凸の形状によって制御することができる。
【０１７５】
本実施の形態では、記録媒体４５の回転時に、第２の面３４と記録媒体４５との間には、スライダ部２１を記録媒体４５から遠ざける圧力が発生する。また、本実施の形態では、第２の面３４と第３の面３６との間の段差が、空気流出端４２に近い位置ほど大きくなるように連続的に変化しているので、記録媒体４５の回転時に第３の面３６と記録媒体４５との間を通過する空気の体積は徐々に増加する。そのため、第３の面３６と記録媒体４５との間において、スライダ部２１を記録媒体４５に近づける負圧が発生する。この負圧により、記録媒体４５の回転時に、特にスライダ部２１のうち空気流出端４２に近い部分を記録媒体４５に近づけることができる。その結果、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、磁気スペースを縮小することができる。本実施の形態に係るスライダ２０は、第１の媒体対向面３１の凹凸の形状を適切に設計することによって、磁気スペースの縮小に関して、図１に示したように第１の媒体対向面３１が互いに段差のある３つの面を有するスライダ２０と同等以上の性能を発揮することが可能である。
【０１７６】
ところで、図１に示したように互いに段差のある３つの面を有する第１の媒体対向面３１では、段差のある面３１ｂと面３１ｃとによって負圧を発生させる。これに対し、本実施の形態では、途中に段差のない第３の面３６によって負圧を発生させる。従って、本実施の形態によれば、図１に示したスライダ２０に比べて、スライダ２０と記録媒体４５との間を通過する空気の流れがスムーズになる。その結果、本実施の形態によれば、記録媒体４５の回転時におけるスライダ２０の姿勢の制御が容易になる。
【０１７７】
また、本実施の形態において、記録媒体４５が回転状態から静止状態に移行する際に、スライダ部２１が記録媒体４５の面に対して接触を開始する時には、境界部分３５が最初に記録媒体４５の面に接触する。また、記録媒体４５が静止状態から回転状態に移行する際に、スライダ部２１が記録媒体４５の面から離れる時には、境界部分３５が最後に記録媒体４５の面から離れる。このように、境界部分３５は、飛行機の車輪のような機能を有する。
【０１７８】
このように、本実施の形態に係るスライダ２０では、スライダ部２１は境界部分３５において記録媒体４５の面に接触する。そのため、従来のスライダに比べて、スライダ部２１と記録媒体４５の面との接触面積が非常に小さくなり、スライダ部２１と記録媒体４５の面との摩擦抵抗も非常に小さくなる。従って、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、記録媒体４５の面に対するスライダ部２１の接触の開始と、記録媒体４５の面からのスライダ部２１の分離とを円滑に行うことができる。その結果、本実施の形態によれば、スライダ２０と記録媒体４５との衝突によって記録媒体４５や薄膜磁気ヘッド素子２３の損傷が生じることを防止することができる。
【０１７９】
更に、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、従来のスライダに比べて、記録媒体４５の静止時におけるスライダ部２１と記録媒体４５の面との接触面積が非常に小さくなる。従って、スライダ２０と記録媒体４５とが吸着することを防止することができる。
【０１８０】
また、本実施の形態に係るスライダ２０では、図４６に示したように、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第２の面３４は、空気流入端４１に近い位置ほど記録媒体４５から離れるように記録媒体４５の面に対して傾く。その結果、薄膜磁気ヘッド素子２３は記録媒体４５の面に接近する。そのため、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、記録媒体４５が回転している間、薄膜磁気ヘッド素子２３を記録媒体４５の面の近くに配置しながら、第２の面３４を、薄膜磁気ヘッド素子２３に比べて記録媒体４５から離すことができる。従って、本実施の形態によれば、磁気スペースをより縮小しながら、スライダ２０と記録媒体４５との衝突を防止することができる。
【０１８１】
また、空気流出端４２のエッジを面取りした場合には、スライダ２０と記録媒体４５との衝突をより確実に防止することができる。
【０１８２】
以上のことから、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、スライダ２０と記録媒体４５との衝突によって記録媒体４５や薄膜磁気ヘッド素子２３が損傷することや、スライダ２０と記録媒体４５とが吸着することを防止しながら、磁気スペースを縮小することができる。
【０１８３】
また、本実施の形態によれば、磁気スペースの縮小により、薄膜磁気ヘッド素子２３の再生ヘッドにおける再生出力の向上や半値幅の縮小が可能になり、その結果、記録密度を向上させることができる。また、本実施の形態によれば、磁気スペースの縮小により、薄膜磁気ヘッド素子２３の記録ヘッドにおけるオーバーライト特性や非線形トランジションシフトを向上させることが可能になる。
【０１８４】
このように、本実施の形態によれば、薄膜磁気ヘッド素子２３の再生ヘッドおよび記録ヘッドの双方の特性を向上させることができ、その結果、本実施の形態に係るスライダ２０を用いるハードディスク装置の歩留りを向上させることができる。
【０１８５】
ところで、図１に示したように互いに段差のある３つの面を有する第１の媒体対向面３１を形成するには、２回のエッチングマスクを形成する工程と、２回のエッチング工程が必要になる。これに対し、本実施の形態では、エッチングマスクを形成する工程とエッチング工程は１回ずつで済む。その代わり、本実施の形態では、図１に示したような第１の媒体対向面３１を形成する場合に比べて、第１の媒体対向面３１の研磨工程が１回多く必要になる。しかし、第１の媒体対向面３１の研磨工程は、エッチングマスクを形成し、更にエッチングする工程に比べると簡単である。従って、本実施の形態によれば、図１に示したような第１の媒体対向面３１を形成する場合に比べて、第１の媒体対向面３１の形成工程が簡単になり、その結果、スライダ２０の製造コストを低減することができる。
【０１８６】
また、本実施の形態では、スライダの媒体対向面にクラウンやキャンバを形成する場合に比べて、第１の媒体対向面３１の形成を容易に行うことができると共に、クラウンやキャンバを形成する場合における不具合の発生がない。従って、本実施の形態によれば、スライダの媒体対向面にクラウンやキャンバを形成する場合に比べて、第１の媒体対向面３１の形状を正確に決定でき、スライダ２０の歩留りを向上させることができ、スライダ２０の製造コストを低減することができ、更にこれらのことから量産性に優れている。
【０１８７】
また、本実施の形態において、第１の媒体対向面３１のうち、境界部分３５から素子部２２側の端部までの長さは、第１の媒体対向面３１の素子部２２側の端部から空気流入端４１までの長さの５０％以下であることが好ましい。これにより、記録媒体４５の回転時に、スライダ部２１全体のうち、記録媒体４５の面に接近する部分（境界部分３５から素子部２２側の端部までの部分）の長さが、記録媒体４５の面から離れる部分（第２の面３４）の長さ以下になり、スライダ２０と記録媒体４５との衝突をより確実に防止することができる。
【０１８８】
ところで、本実施の形態では、スライダ部２１と素子部２２とを接着してスライダ２０を構成している。そのため、スライダ２０において、スライダ部２１と素子部２２の接着部分は、他の部分に比べて強度的に弱い。従って、スライダ２０の破損を防止するために、スライダ部２１と素子部２２の接着部分に外力が加わらないようにするのが好ましい。本実施の形態に係るスライダ２０では、境界部分３５において記録媒体４５の面に接触する。そのため、スライダ部２１と素子部２２の接着部分は記録媒体４５の面に接触しない。従って、本実施の形態によれば、スライダ部２１と素子部２２の接着部分に記録媒体によって外力が加えられることによるスライダ２０の破損を防止することができる。
【０１８９】
以下、本実施の形態に係るスライダ２０の３つの変形例およびそれらの製造方法について説明する。
【０１９０】
図４８は、第１の変形例のスライダ２０を示す斜視図である。このスライダ２０では、第２の実施の形態と同様に、スライダ部２１は、基板部２１Ａと、この基板部２１Ａの上に積層された媒体対向層２１Ｂとを有している。第１の媒体対向面３１は媒体対向層２１Ｂに形成されている。素子部２２は、薄膜磁気ヘッド素子２３を囲う絶縁部２５を有している。基板部２１Ａ、媒体対向層２１Ｂおよび絶縁部２５の材料の例およびこれらの硬度の関係は、第２の実施の形態と同様である。第１の変形例のスライダ２０のその他の構成は、図４０に示したスライダ２０と同様である。
【０１９１】
第１の変形例のスライダ２０の製造方法では、スライダ部２１を作製する工程において、媒体対向層２１Ｂに第１の媒体対向面３１を形成する。第１の媒体対向面３１は、例えば、第１の実施の形態において第１のウェハ５０の一方の面に第１の凹部５５（図４参照）を形成する場合と同様にして形成することができる。すなわち、この場合には、まず、媒体対向層２１Ｂの上に、めっき用のシード層をスパッタ法によって形成する。シード層の厚みは例えば５０ｎｍとする。次に、シード層の上に、エッチングマスクをフレームめっき法によって形成するためのフレームを、フォトリソグラフィによって形成する。次に、このフレームを用いて、フレームめっき法によって、金属製のエッチングマスクを形成する。エッチングマスクの材料には、例えばＮｉＦｅを用いる。次に、このエッチングマスクを用い、ドライエッチングによって媒体対向層２１Ｂをエッチングすることによって、媒体対向層２１Ｂに第３の面３６を形成する。媒体対向層２１Ｂのエッチングには、例えば、反応性イオンエッチングを用いる。この場合、反応性ガスとしては、例えば、Ｃｌ２，ＢＣｌ３，ＣＦ４，ＳＦ６，ＣＨＦ３等のハロゲン系ガスに、Ｏ２，Ｎ２，Ａｒ，Ｈｅ，Ｈ２の混合ガスを加えたものを用いる。エッチング時の温度は、５０℃以上、例えば１６０℃とする。
【０１９２】
第１の変形例の製造方法におけるその他の工程は、図４０に示したスライダ２０の場合と同様である。
【０１９３】
図４９は、第２の変形例のスライダ２０を示す斜視図である。第２の変形例のスライダ２０では、第１の媒体対向面３１は、境界部分３５を含む領域において形成された複数の凹部３８を有している。第２の変形例のスライダ２０のその他の構成は、図４０に示したスライダ２０と同様である。
【０１９４】
凹部３８は、保護層７４または第１のウェハ５０をエッチングすることによって形成される。第２の変形例の製造方法におけるその他の工程は、図４０に示したスライダ２０の場合と同様である。
【０１９５】
第２の変形例のスライダ２０は、記録媒体４５が回転している間および記録媒体４５が静止している間のいずれにおいても、スライダ部２１が境界部分３５において記録媒体４５の面に接触する。また、記録媒体４５が回転している間および記録媒体４５が静止している間のいずれにおいても、第１の媒体対向面３１の第２の面３４は、空気流入端４１に近い位置ほど記録媒体４５から離れるように記録媒体４５の面に対して傾く。また、記録媒体４５が回転している間および記録媒体４５が静止している間のいずれにおいても、第１の媒体対向面３１の第１の面３３は、記録媒体４５の面に接触していてもよいし、空気流出端４２に近い位置ほど記録媒体４５から離れるように記録媒体４５の面に対して傾いていてもよい。
【０１９６】
第２の変形例のスライダ２０では、記録媒体４５が回転している間もスライダ２０が記録媒体４５の面に接触しているので、磁気スペースをより縮小することができる。また、第２の変形例のスライダ２０では、スライダ部２１が常に記録媒体４５の面に接触しているので、スライダ部２１が記録媒体４５の面に接触したり離れたりすることによるスライダ部２１と記録媒体４５との衝突の発生を防止することができる。
【０１９７】
また、第２の変形例のスライダ２０では、第１の媒体対向面３１は、境界部分３５を含む領域において形成された凹部３８を有している。そのため、第２の変形例のスライダ２０によれば、凹部３８がない場合に比べて、スライダ部２１と記録媒体４５の面との接触面積が小さくなり、スライダ部２１と記録媒体４５の面との摩擦抵抗を小さくすることができる。
【０１９８】
図５０は、第３の変形例のスライダ２０を示す側面図である。図５０に示したように、第３の変形例のスライダ２０は、記録媒体４５が回転している間および記録媒体４５が静止している間のいずれにおいても、スライダ部２１が記録媒体４５の面に接触する。
【０１９９】
第３の変形例のスライダ２０では、第２の媒体対向面３２は、第１の媒体対向面３１の第１の面３３よりも、記録媒体４５から離れた位置に配置されている。第２の媒体対向面３２と第１の媒体対向面３１の第１の面３３との間の段差の大きさは、３〜４ｎｍ程度である。第３の変形例では、この段差を利用して、磁気スペースの縮小を図っている。第３の変形例のスライダ２０のその他の構成は、図４０に示したスライダ２０と同様である。
【０２００】
第２の媒体対向面３２と第１の媒体対向面３１の第１の面３３との間の段差は、図４３に示した工程、すなわち第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する工程において、第１のウェハ５０と絶縁部２５の硬度の違いによって生じる。第３の変形例の製造方法におけるその他の工程は、図４０に示したスライダ２０の場合と同様である。
【０２０１】
なお、第３の変形例のスライダ２０において、第２の変形例と同様に、第１の媒体対向面３１は、境界部分３５を含む領域において形成された凹部３８を有していてもよい。
【０２０２】
第３の変形例のスライダ２０では、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第１の面３３および境界部分３５が記録媒体４５の面に接触する。この状態で、第２の媒体対向面３２と記録媒体４５の面との間の距離は、３〜４ｎｍ程度である。従って、第３の変形例のスライダ２０によれば、磁気スペースを極めて小さくすることができる。
【０２０３】
しかも、第３の変形例のスライダ２０では、第２の媒体対向面３２は記録媒体４５の面に接触しないので、上述のように磁気スペースを極めて小さくしながら、薄膜磁気ヘッド素子２３は記録媒体４５の面に接触しない。従って、薄膜磁気ヘッド素子２３が記録媒体４５に接触することによる薄膜磁気ヘッド素子２３や記録媒体４５が損傷することを防止することができる。
【０２０４】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。
【０２０５】
［第４の実施の形態］
次に、本発明の第４の実施の形態に係るスライダおよびその製造方法について説明する。図５１は、本実施の形態に係るスライダ２０の斜視図である。本実施の形態に係るスライダ２０では、スライダ部２１は、基板部２１Ａと、この基板部２１Ａの上に積層された媒体対向層２１Ｂとを有している。第１の媒体対向面３１は媒体対向層２１Ｂに形成されている。素子部２２は、薄膜磁気ヘッド素子２３を囲う絶縁部２５を有している。基板部２１Ａ、媒体対向層２１Ｂおよび絶縁部２５の硬度の関係は、第２の実施の形態と同様である。
【０２０６】
第１の媒体対向面３１は、素子部２２に近い第１の面３３と、空気流入端４１に近い第２の面３４と、第１の面３３と第２の面３４との間の境界部分３５とを有している。第１の面３３は、スライダ部２１の幅方向の両側近傍に配置された２つの部分と、素子部２２側の端部近傍に配置された１つの部分とを含んでいる。第２の面３４は、スライダ部２１の幅方向の両側近傍に配置されて空気通過方向に延びると共に、第１の面３３の上記２つの部分に接続された２つの部分を含んでいる。
【０２０７】
第１の媒体対向面３１は、更に、第２の面３４の２つの部分の間に配置された第３の面３９および第４の面４０を有している。第３の面３９は、空気流入端４１の近傍に配置されている。また、第２の面３４と第３の面３９との間には、第２の面３４よりも第３の面３９の方が記録媒体から離れるように第１の段差がある。第４の面４０は、第３の面３９よりも素子部２２に近い位置に配置されている。第２の面３４と第４の面４０との間には、第２の面３４よりも第４の面４０の方が記録媒体から離れるように第２の段差がある。第２の段差は第１の段差よりも大きい。
【０２０８】
第２の面３４は、第１の面３３および第２の面３４の形状が境界部分３５において屈曲した凸形状（屋根形）になるように、第１の面３３に対して傾斜している。第１の面３３と第２の面３４とのなす角度は３０°以下であることが好ましい。また、第１の面３３と第２の面３４とのなす角度は０．１°以上であることが好ましい。
【０２０９】
第１の媒体対向面３１のうち、境界部分３５から素子部２２側の端部までの長さは、第１の媒体対向面３１の素子部２２側の端部から空気流入端４１までの長さの５０％以下であることが好ましい。
【０２１０】
本実施の形態に係るスライダ２０のその他の構成は、第１の実施の形態と同様である。
【０２１１】
次に、本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法について説明する。本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法は、スライダ部２１を作製する工程と、スライダ部２１とは別個に素子部２２を作製する工程と、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程とを備えている。本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法は、更に、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面３１が、素子部２２に近い第１の面３３と、空気流入端４１に近い第２の面３４と、第１の面３３と第２の面３４との間の境界部分３５とを有し、第２の面３４が第１の面３３に対して傾斜して、第１の面３３および第２の面３４の形状が境界部分３５において屈曲した凸形状になるように、第１の媒体対向面３１を研磨する工程を備えている。本実施の形態において、素子部２２を作製する工程は、第１の実施の形態と同様である。
【０２１２】
次に、スライダ部２１を作製する工程について説明する。本実施の形態におけるスライダ部２１を作製する工程では、まず、第２の実施の形態と同様の工程によって、第２のスライダ部集合体５１Ｂを形成する。この時点における第２のスライダ部集合体５１Ｂの形状を、図５２において点線で示す。この時点において、第２のスライダ部集合体５１Ｂには、面３４Ａと第３の面３９と第４の面４０とを含む第１の媒体対向面３１が形成されている。面３４Ａ，３９，４０は、それぞれ、第２の実施の形態における面３１ａ，３１ｂ，３１ｃに対応している。
【０２１３】
スライダ部２１を作製する工程では、次に、図５２に示したように、第２のスライダ部集合体５１Ｂにおいて、素子部集合体６１Ｂに突き合わされる端面を研磨して、素子部集合体６１Ｂに対して接着される面７２Ａを形成する。面７２Ａは、面７２Ａと面３４Ａとのなす角度が９０°よりも小さくなるように形成される。また、面７２Ａは、面７２Ａと研磨前の端面とのなす角度が０．１〜３０°となるように形成される。ここでは、一例として、面７２Ａと研磨前の端面とのなす角度が０．５〜１．０°となるように面７２Ａを形成するものとする。
【０２１４】
また、スライダ部２１を作製する工程では、更に、第２のスライダ部集合体５１Ｂにおいて、面３４Ａとは反対側の端面を研磨して、面７２Ａに垂直な面７２Ｂを形成してもよい。また、スライダ部２１を作製する工程では、更に、第２のスライダ部集合体５１Ｂにおいて、面７２Ａとは反対側の端面を研磨して、面７２Ａに平行な面７２Ｃを形成してもよい。
【０２１５】
次に、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程について説明する。この工程では、図５３に示したように、第２のスライダ部集合体５１Ｂの面７２Ａに対して、接着剤７３を用いて、第２の素子部集合体６１Ｂを接着して、図１９に示したように、１列に配列された複数のスライダ２０を含むスライダ集合体７０を作製する。この時点で、図５３に示したように、スライダ部２１の面３４Ａは、素子部２２の第２の媒体対向面３２に対して、０．１〜３０°の角度、例えば０．５〜１．０°の角度をなすように傾いている。
【０２１６】
次に、第１の媒体対向面３１を研磨する工程について説明する。この工程では、スライダ集合体７０に含まれる複数の素子部２２におけるＭＲハイトおよびスロートハイトの値を目標とする値となるように制御しながら、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を研磨する。これにより、図５４に示したように、スライダ部２１の面３４Ａのうち、素子部２２に隣接する一部が、第２の媒体対向面３２と共に研磨されて、第１の媒体対向面３１の第１の面３３が形成される。面３４Ａのうち、研磨されなかった部分は、第１の媒体対向面３１の第２の面３４となる。
【０２１７】
次に、図５５に示したように、スライダ集合体７０における第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２を覆うように保護層７４を形成する。最後に、スライダ集合体７０を切断して、互いに分離された複数のスライダ２０を作製する。
【０２１８】
図５６および図５７は、それぞれ、本実施の形態に係るスライダ２０の外観の例を示す斜視図である。図５６および図５７では、分かりやすくするために、スライダ部２１および素子部２２を通して、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２が透けて見えるように描いている。図５６は、図５２に示した工程において面７２Ｂを形成し、面７２Ｃを形成しなかった場合の例を示している。図５７は、図５２に示した工程において面７２Ｂと面７２Ｃの双方を形成しなかった場合の例を示している。
【０２１９】
次に、図５８および図５９を参照して、本実施の形態に係るスライダ２０の作用と効果について説明する。図５８は記録媒体４５が回転しているときのスライダ２０の状態を示す側面図、図５９は記録媒体４５が静止しているときのスライダ２０の状態を示す側面図である。
【０２２０】
図５８に示したように、スライダ部２１は、記録媒体４５が回転している間は、記録媒体４５の回転によって生じる空気流によって浮上して、記録媒体４５の面から離れる。一方、図５９に示したように、スライダ部２１は、記録媒体４５が静止している間は、記録媒体４５の面に接触する。
【０２２１】
図５８に示したように、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第２の面３４は、空気流入端４１に近い位置ほど記録媒体４５から離れるように記録媒体４５の面に対して傾く。また、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第１の面３３と第２の媒体対向面３２は、記録媒体４５の面に対してほぼ平行になる。記録媒体４５が回転している間、第２の面３４と記録媒体４５の面とのなす角度は、０．１〜３０°であることが好ましい。記録媒体４５が回転しているときの第２の面３４と記録媒体４５の面とのなす角度は、第１の媒体対向面３１の凹凸の形状によって制御することができる。
【０２２２】
本実施の形態において、記録媒体４５が回転状態から静止状態に移行する際に、スライダ部２１が記録媒体４５の面に対して接触を開始する時には、境界部分３５が最初に記録媒体４５の面に接触する。また、記録媒体４５が静止状態から回転状態に移行する際に、スライダ部２１が記録媒体４５の面から離れる時には、境界部分３５が最後に記録媒体４５の面から離れる。このように、境界部分３５は、飛行機の車輪のような機能を有する。
【０２２３】
このように、本実施の形態に係るスライダ２０では、スライダ部２１は境界部分３５において記録媒体４５の面に接触する。そのため、従来のスライダに比べて、スライダ部２１と記録媒体４５の面との接触面積が非常に小さくなり、スライダ部２１と記録媒体４５の面との摩擦抵抗も非常に小さくなる。従って、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、記録媒体４５の面に対するスライダ部２１の接触の開始と、記録媒体４５の面からのスライダ部２１の分離とを円滑に行うことができる。その結果、本実施の形態によれば、スライダ２０と記録媒体４５との衝突によって記録媒体４５や薄膜磁気ヘッド素子２３の損傷が生じることを防止することができる。
【０２２４】
更に、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、従来のスライダに比べて、記録媒体４５の静止時におけるスライダ部２１と記録媒体４５の面との接触面積が非常に小さくなる。従って、スライダ２０と記録媒体４５とが吸着することを防止することができる。
【０２２５】
また、本実施の形態に係るスライダ２０では、図５８に示したように、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第２の面３４は、空気流入端４１に近い位置ほど記録媒体４５から離れるように記録媒体４５の面に対して傾く。その結果、薄膜磁気ヘッド素子２３は記録媒体４５の面に接近する。そのため、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、記録媒体４５が回転している間、薄膜磁気ヘッド素子２３を記録媒体４５の面の近くに配置しながら、第２の面３４を、薄膜磁気ヘッド素子２３に比べて記録媒体４５から離すことができる。従って、本実施の形態によれば、磁気スペースをより縮小しながら、スライダ２０と記録媒体４５との衝突を防止することができる。
【０２２６】
以上のことから、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、スライダ２０と記録媒体４５との衝突によって記録媒体４５や薄膜磁気ヘッド素子２３が損傷することや、スライダ２０と記録媒体４５とが吸着することを防止しながら、磁気スペースを縮小することができる。
【０２２７】
また、本実施の形態によれば、磁気スペースの縮小により、薄膜磁気ヘッド素子２３の再生ヘッドにおける再生出力の向上や半値幅の縮小が可能になり、その結果、記録密度を向上させることができる。また、本実施の形態によれば、磁気スペースの縮小により、薄膜磁気ヘッド素子２３の記録ヘッドにおけるオーバーライト特性や非線形トランジションシフトを向上させることが可能になる。
【０２２８】
このように、本実施の形態によれば、薄膜磁気ヘッド素子２３の再生ヘッドおよび記録ヘッドの双方の特性を向上させることができ、その結果、本実施の形態に係るスライダ２０を用いるハードディスク装置の歩留りを向上させることができる。
【０２２９】
図６０は、本実施の形態に係るスライダ２０の変形例を示す斜視図である。このスライダ２０では、スライダ部２１は基板部２１Ａと媒体対向層２１Ｂに分かれていない。この変形例におけるその他の構成は図５１に示したスライダ２０と同様である。
【０２３０】
また、第３の実施の形態の第２の変形例と同様に、本実施の形態においても、第１の媒体対向面３１は、境界部分３５を含む領域において形成された複数の凹部３８を有していてもよい。
【０２３１】
また、第３の実施の形態の第３の変形例と同様に、本実施の形態においても、第２の媒体対向面３２は、第１の媒体対向面３１の第１の面３３よりも記録媒体４５から離れた位置に配置され、記録媒体４５が回転している間、第１の媒体対向面３１の第１の面３３および境界部分３５が記録媒体４５の面に接触するようにしてもよい。
【０２３２】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は第２の実施の形態と同様である。
【０２３３】
［第５の実施の形態］
次に、本発明の第５の実施の形態に係るスライダおよびその製造方法について説明する。図６１および図６２は、それぞれ、本実施の形態に係るスライダ２０の外観の例を示す斜視図である。図６１および図６２では、分かりやすくするために、スライダ部２１および素子部２２を通して、第１の媒体対向面３１および第２の媒体対向面３２が透けて見えるように描いている。
【０２３４】
本実施の形態に係るスライダ２０の構成は、素子部２２の構成以外は第４の実施の形態と同様である。また、本実施の形態に係るスライダ２０の製造方法において、素子部２２を作製する工程およびスライダ部２１と素子部２２とを接着する工程以外は、第４の実施の形態と同様である。
【０２３５】
また、図６１に示したスライダ２０におけるスライダ部２１の構成およびその作製方法は、図５６におけるスライダ部２１と同様である。また、図６２に示したスライダ２０におけるスライダ部２１の構成およびその作製方法は、図５７におけるスライダ部２１と同様である。
【０２３６】
以下、本実施の形態における素子部２２の構成と、素子部２２を作製する工程と、スライダ部２１と素子部２２とを接着する工程とについて詳しく説明する。図６１および図６２に示したように、本実施の形態における素子部２２は、薄膜磁気ヘッド素子２３の下地となる基板部２４と、薄膜磁気ヘッド素子２３を囲う絶縁部２５とを含んでいる。薄膜磁気ヘッド素子２３は、記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）と、ＭＲ素子を含む再生ヘッドとを有している。基板部２４は、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによって構成される。絶縁部２５は、例えば、主にアルミナによって構成される。なお、基板部２４は必ずしも必要ではない。
【０２３７】
本実施の形態における素子部２２では、第１ないし第４の実施の形態とは逆に、基板部２４の上に、記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）と、ＭＲ素子を含む再生ヘッドとが、この順に配置されている。そして、本実施の形態における素子部２２では、再生ヘッドが記録ヘッドよりもスライダ部２１に近い位置に配置されるように、絶縁部２５がスライダ部２１に接着されている。基板部２４の絶縁部２５とは反対側の面には、薄膜磁気ヘッド素子２３に接続された電極用パッドが設けられている。
【０２３８】
本実施の形態における素子部２２を作製する工程では、第１ないし第４の実施の形態とは逆に、第２のウェハ６０の一方の面の上に、記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）と、ＭＲ素子を含む再生ヘッドとが、この順に形成される。
【０２３９】
次に、図６３および図６４を参照して、本実施の形態における薄膜磁気ヘッド素子２３の構成および形成方法の一例について説明する。図６３および図６４は、それぞれ薄膜磁気ヘッド素子２３の断面図である。図６３は第２の媒体対向面３２および第２のウェハ６０の上面に垂直な断面を示し、図６４は第２の媒体対向面３２に平行な断面を示している。また、図６３において、符号８０で示す点線は、後に第２の媒体対向面３２が形成される位置を表している。
【０２４０】
図６３および図６４に示した薄膜磁気ヘッド素子２３の製造方法では、まず、第２のウェハ６０の上に、例えばアルミナよりなる絶縁層８１を形成する。次に、絶縁層８１の上に、磁性材料よりなるヨーク部分層８２ａを所定のパターンに形成する。次に、全体に、例えばアルミナよりなる絶縁層８３を形成する。次に、例えば化学機械研磨（ＣＭＰ）によって、ヨーク部分層８２ａが露出するまで、絶縁層８３を研磨する。
【０２４１】
次に、ヨーク部分層８２ａおよび絶縁層８３の上に、磁性材料よりなる磁極部分層８２ｂを形成すると共に、ヨーク部分層８２ａの上に、磁性材料よりなる磁性層８２ｃを形成する。磁極部分層８２ｂは、第２の媒体対向面３２が形成される位置を含む位置に配置される。磁性層８２ｃは、後で形成される薄膜コイルの巻線の内側となる位置に配置される。ヨーク部分層８２ａ、磁極部分層８２ｂおよび磁性層８２ｃは下部磁極層８２を構成する。
【０２４２】
次に、ヨーク部分層８２ａの上において、薄膜コイルが形成される位置に、例えばアルミナよりなる絶縁層８４を形成する。次に、絶縁層８４の上に、例えば銅によって、薄膜コイル８５を形成する。次に、薄膜コイル８５の巻線間に充填される絶縁層８６を形成する。この絶縁層８６は、例えばレジスト層でもよいし、塗布ガラスよりなるスピンオングラス（ＳＯＧ）膜でもよい。
【０２４３】
次に、全体に、例えばアルミナよりなる絶縁層８７を形成する。次に、例えば化学機械研磨によって、磁極部分８２ｂおよび磁性層８２ｃが露出するまで、絶縁層８７を研磨する。
【０２４４】
次に、絶縁層８７および磁極部分層８２ｂの上に、例えばアルミナによって、スロートハイトを決定するための絶縁層８８を形成する。次に、全体に、記録ギャップ層８９を形成する。次に、磁性層８２ｃの上において、磁路形成のために、記録ギャップ層８９を部分的にエッチングして、コンタクトホール８９ａを形成する。次に、磁極部分層８２ｂの上の位置からコンタクトホール８９ａの位置にかけて、磁性材料よりなる上部磁極層９０を形成する。上部磁極層９０は、コンタクトホール８９ａを通して、磁性層８２ｃに磁気的に接続される。上部磁極層９０の磁極部分（記録ギャップ層８９を介して磁極部分層８２ｂに対向する部分）は、記録ヘッドのトラック幅を規定する。
【０２４５】
次に、上部磁極層９０の磁極部分をマスクとして、ドライエッチングによって記録ギャップ層８９をエッチングし、更に磁極部分層８２ｂの一部をエッチングして、図６４に示したようなトリム構造とする。磁極部分層８２ｂのエッチングは、磁極部分層８２ｂのうちのエッチングされた部分の上面の位置が、薄膜コイル８５の上面の位置よりも上になるように行われる。これにより、磁極部分層８２ｂのエッチングによって、薄膜コイル８５を覆う絶縁層８７における絶縁不良の発生を防止することができる。次に、全体に、例えばアルミナよりなる絶縁層９１を形成し、例えば化学機械研磨によって、その上面を平坦化する。
【０２４６】
次に、絶縁層９１の上に、磁性材料よりなる下部シールド層９２を形成する。次に、下部シールド層９２の上に、アルミナ等の絶縁材料よりなる下部シールドギャップ膜９３を形成する。次に、下部シールドギャップ膜９３の上に、再生用のＭＲ素子９４を形成する。次に、下部シールドギャップ膜９３の上に、ＭＲ素子９４に電気的に接続される一対の電極層９５を形成する。次に、下部シールドギャップ膜９３、ＭＲ素子９４および電極層９５の上に、アルミナ等の絶縁材料よりなる上部シールドギャップ膜９６を形成し、ＭＲ素子９４をシールドギャップ膜９３，９６内に埋設する。
【０２４７】
ＭＲ素子９４には、ＡＭＲ素子、ＧＭＲ素子、あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。
【０２４８】
次に、上部シールドギャップ膜９６の上に、磁性材料よりなる上部シールド層９７を形成する。次に、上部シールド層９７の上に、例えばアルミナよりなるオーバーコート層９８を形成する。
【０２４９】
次に、必要に応じて、オーバーコート層９８の上に支持板６３を接着し、第２のウェハ６０の下面を研磨して、第２のウェハ６０の少なくとも一部を除去してもよい。最後に、第２のウェハ６０の下面または絶縁層８１の下面に、薄膜磁気ヘッド素子２３に接続される電極用パッドを形成する。第２のウェハ６０は、図６１および図６２における基板部２４となる。図６１および図６２における絶縁部２５は、主にオーバーコート層９８によって構成される。
【０２５０】
薄膜磁気ヘッド素子２３は、再生ヘッドと記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）とを備えている。再生ヘッドは、磁気的信号検出用のＭＲ素子９４と、第２の媒体対向面３２側の一部がＭＲ素子９４を挟んで対向するように配置され、ＭＲ素子９４をシールドする下部シールド層９２および上部シールド層９７とを有している。
【０２５１】
記録ヘッドは、互いに磁気的に連結され、第２の媒体対向面３２側において互いに対向する磁極部分を含む下部磁極層８２および上部磁極層９０と、下部磁極層８２の磁極部分と上部磁極層９０の磁極部分との間に設けられた記録ギャップ層８９と、少なくとも一部が下部磁極層８２および上部磁極層９０の間に、これらに対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイル８５とを有している。
【０２５２】
次に、本実施の形態に係るスライダ２０の効果について説明する。本実施の形態における素子部２２を作製する工程では、第２のウェハ６０の一方の面の上に、記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）と、ＭＲ素子９４を含む再生ヘッドとが、この順に形成される。本実施の形態では、再生ヘッドにおけるトラック幅や、記録ヘッドにおけるスロートハイトやトラック幅が異なる場合でも、薄膜コイル８５の形成工程までは、共通の工程で行うことができる。薄膜磁気ヘッド素子２３の形成工程のうち、薄膜コイル８５の形成後の工程に要する時間は比較的短い。
【０２５３】
薄膜磁気ヘッドの多くの顧客は、再生ヘッドにおけるトラック幅や、記録ヘッドにおけるスロートハイトやトラック幅を、自社製品に合わせて注文してくる。しかし、注文の後に、顧客の要求に合った仕様の薄膜磁気ヘッドを生産していたのでは、注文から短期間で製品を提供することは困難である。
【０２５４】
本実施の形態によれば、予め、薄膜磁気ヘッド素子２３のうち薄膜コイル８５までの部分を形成した半製品を、多くの在庫が得られるように量産しておくことができる。そして、本実施の形態によれば、顧客の要求に応じて、上記半製品に対して、薄膜磁気ヘッド素子２３の残りの部分を形成して、薄膜磁気ヘッド素子２３を完成させることができる。従って、本実施の形態によれば、顧客の期待する仕様の薄膜磁気ヘッド素子２３を有するスライダ２０を、注文から短時間で提供することが可能になる。また、本実施の形態によれば、半製品の段階で良・不良の検査を行って、良品の半製品のみを用いてスライダ２０を製造することが可能となる。従って、本実施の形態によれば、スライダ２０の歩留りを向上させることが可能になる。
【０２５５】
また、従来のようにウェハの一方の面の上に再生ヘッドと記録ヘッドとを、この順に形成する場合には、ＭＲ素子の形成後に多くの工程が実行される。そのため、この場合には、ＭＲ素子の形成後の工程において静電放電によってＭＲ素子が破壊される場合がある。これに対し、本実施の形態では、第２のウェハ６０の一方の面の上に記録ヘッドと再生ヘッドとを、この順に形成するので、ＭＲ素子９４の形成後の工程が少なくなり、静電放電によってＭＲ素子９４が破壊されることを防止することができる。
【０２５６】
一方、ウェハの一方の面の上に記録ヘッドと再生ヘッドとを、この順に形成した後、このウェハを切断してをバーを形成し、このバーに対して媒体対向面を形成し、更に、このバーを切断してスライダを製造する場合には、以下のような問題が生じる。すなわち、この場合には、従来のようにウェハの一方の面の上に再生ヘッドと記録ヘッドとを、この順に形成した場合と比較すると、スライダにおいて再生ヘッドと記録ヘッドの位置関係が反対になってしまう。そのため、この場合には、ハードディスク装置における記録と再生の動作が従来の動作とは異なってしまう。
【０２５７】
これに対し、本実施の形態では、スライダ部２１と素子部２２を別個に形成した後、これらを接着してスライダ２０を完成させる。また、本実施の形態では、再生ヘッドが記録ヘッドよりもスライダ部２１に近い位置に配置されるように、素子部２２をスライダ部２１に接着する。従って、本実施の形態によれば、上述のように第２のウェハ６０の一方の面の上に記録ヘッドと再生ヘッドとを、この順に形成しながら、スライダ２０における再生ヘッドと記録ヘッドの位置関係を、従来のスライダと同様にすることができる。
【０２５８】
このように、本実施の形態によれば、スライダ２０における再生ヘッドと記録ヘッドの位置関係を、従来のスライダと同様にしながら、顧客の要求に合った仕様のスライダ２０を短期間で提供することが可能になると共にスライダ２０の歩留りを向上させることが可能になる。
【０２５９】
なお、本実施の形態における素子部２２を、第１ないし第３の実施の形態における素子部２２の代わりに用いてもよい。
【０２６０】
本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１ないし第４の実施の形態と同様である。
【０２６１】
なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、本発明は、誘導型電磁変換素子を有しない再生専用の薄膜磁気ヘッドや、誘導型電磁変換素子のみを有する記録専用の薄膜磁気ヘッドや、誘導型電磁変換素子によって記録と再生を行う薄膜磁気ヘッドにも適用することができる。
【０２６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法では、第１の媒体対向面と空気流入端とを有するスライダ部と、第２の媒体対向面と空気流出端と薄膜磁気ヘッド素子とを有する素子部とを別個に作製し、これらを接着してスライダを完成させる。そのため、本発明によれば、スライダ部と素子部をそれぞれ一度に大量に作製することが可能になる。従って、本発明によれば、少ない工程数でスライダを製造することが可能になるという効果を奏する。
【０２６６】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、スライダ部は、基板部と、この基板部の上に積層された媒体対向層とを有し、第１の媒体対向面は媒体対向層に形成され、素子部は薄膜磁気ヘッド素子を囲う絶縁部を有し、基板部の硬度は絶縁部の硬度よりも大きく、基板部の硬度と媒体対向層の硬度とを比較すると、媒体対向層の硬度の方が絶縁部の硬度に近くてもよい。この場合には、第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を同時に研磨したときに両者の間に段差が生じることを防止することができる。従って、この場合には、スライダの低浮上化が可能になるという効果を奏する。
【０２６７】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、スライダ部と素子部とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面および第２の媒体対向面が平坦化されるように、第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を研磨する工程を備えていてもよい。この場合には、スライダ部と素子部とを接着する際の両者の位置合わせの精度が低くても、第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を平坦化することができるという効果を奏する。
【０２６８】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法は、スライダ部と素子部とを接着する工程の後で、第１の媒体対向面が、素子部に近い第１の面と、空気流入端に近い第２の面と、第１の面と第２の面との間の境界部分とを有し、第２の面が第１の面に対して傾斜して、第１の面および第２の面の形状が境界部分において屈曲した凸形状になるように、第１の媒体対向面を研磨する工程を備えていてもよい。この製造方法によって製造されるスライダでは、スライダ部が記録媒体の面に接触する際には、境界部分が記録媒体の面に接触する。従って、この場合には、スライダと記録媒体との衝突によって記録媒体や薄膜磁気ヘッド素子が損傷することや、スライダと記録媒体とが吸着することを防止しながら、磁気スペースを縮小することが可能になるという効果を奏する。また、この場合には、スライダ部と素子部の接着部分が記録媒体の面に接触しないので、スライダ部と素子部の接着部分に記録媒体によって外力が加えられることによるスライダの破損を防止することができるという効果を奏する。
【０２６９】
また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法において、素子部を作製する工程は、ウェハの一方の面の上に、記録用の誘導型電磁変換素子と再生用の磁気抵抗効果素子とを、この順に形成し、スライダ部と素子部とを接着する工程は、磁気抵抗効果素子が誘導型電磁変換素子よりもスライダ部に近い位置に配置されるように、スライダ部と素子部とを接着してもよい。この場合には、薄膜磁気ヘッド素子のうち誘導型電磁変換素子の一部までを形成しておき、顧客の要求に応じて、薄膜磁気ヘッド素子の残りの部分を形成することで、顧客の要求に合った仕様の薄膜磁気ヘッド素子を有するスライダを短期間で提供することが可能になるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態における第１のスライダ部集合体を示す斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態における第１の媒体対向面を形成する工程を説明するための断面図である。
【図４】図３に続く工程を説明するための断面図である。
【図５】図４に続く工程を説明するための断面図である。
【図６】図５に続く工程を説明するための断面図である。
【図７】図６に続く工程を説明するための断面図である。
【図８】図７に続く工程を説明するための断面図である。
【図９】図５に示した工程を説明するための斜視図である。
【図１０】本発明の第１の実施の形態おける第１の媒体対向面が形成された後の第１のウェハを示す斜視図である。
【図１１】本発明の第１の実施の形態における第１の素子部集合体を示す斜視図である。
【図１２】本発明の第１の実施の形態における薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。
【図１３】本発明の第１の実施の形態における薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。
【図１４】本発明の第１の実施の形態における素子部を作製する工程を説明するための断面図である。
【図１５】図１４に続く工程を説明するための断面図である。
【図１６】図１５に続く工程を説明するための断面図である。
【図１７】図１６に続く工程を説明するための断面図である。
【図１８】本発明の第１の実施の形態におけるスライダ部と素子部とを接着する工程を説明するための斜視図である。
【図１９】本発明の第１の実施の形態における第１の媒体対向面および第２の媒体対向面を研磨する工程を説明するための斜視図である。
【図２０】本発明の第１の実施の形態における研磨後のスライダ集合体を示す斜視図である。
【図２１】本発明の第１の実施の形態におけるスライダ集合体の研磨を行うための研磨装置の概略の構成を示す斜視図である。
【図２２】図２１に示した研磨装置の回路構成の一例を示すブロック図である。
【図２３】本発明の第１の実施の形態におけるスライダ部と素子部とを接着する工程を説明するための側面図である。
【図２４】図２３に続く工程を説明するための側面図である。
【図２５】図２４に続く工程を説明するための側面図である。
【図２６】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの正面図である。
【図２７】本発明の第１の実施の形態に係るスライダが取り付けられるヘッドジンバルアセンブリを示す斜視図である。
【図２８】本発明の第１の実施の形態に係るスライダが用いられるハードディスク装置の要部を示す説明図である。
【図２９】本発明の第１の実施の形態に係るスライダが用いられるハードディスク装置の平面図である。
【図３０】本発明の第２の実施の形態に係るスライダの斜視図である。
【図３１】本発明の第２の実施の形態における第１の媒体対向面を形成する工程を説明するための断面図である。
【図３２】図３１に続く工程を説明するための断面図である。
【図３３】図３２に続く工程を説明するための断面図である。
【図３４】図３３に続く工程を説明するための断面図である。
【図３５】図３４に続く工程を説明するための断面図である。
【図３６】図３５に続く工程を説明するための断面図である。
【図３７】本発明の第２の実施の形態におけるスライダ部と素子部とを接着する工程を説明するための側面図である。
【図３８】図３７に続く工程を説明するための側面図である。
【図３９】図３８に続く工程を説明するための側面図である。
【図４０】本発明の第３の実施の形態に係るスライダの斜視図である。
【図４１】本発明の第３の実施の形態におけるスライダ部と素子部とを接着する工程を説明するための斜視図である。
【図４２】本発明の第３の実施の形態におけるスライダ部と素子部とを接着する工程を説明するための側面図である。
【図４３】図４２に続く工程を説明するための側面図である。
【図４４】図４３に続く工程を説明するための側面図である。
【図４５】図４４に続く工程を説明するための側面図である。
【図４６】記録媒体回転時における本発明の第３の実施の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。
【図４７】記録媒体静止時における本発明の第３の実施の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。
【図４８】本発明の第３の実施の形態における第１の変形例のスライダを示す斜視図である。
【図４９】本発明の第３の実施の形態における第２の変形例のスライダを示す斜視図である。
【図５０】本発明の第３の実施の形態における第３の変形例のスライダを示す側面図である。
【図５１】本発明の第４の実施の形態に係るスライダの斜視図である。
【図５２】本発明の第４の実施の形態におけるスライダ部を作製する工程を説明するための側面図である。
【図５３】本発明の第４の実施の形態におけるスライダ部と素子部とを接着する工程を説明するための側面図である。
【図５４】図５３に続く工程を説明するための側面図である。
【図５５】図５４に続く工程を説明するための側面図である。
【図５６】本発明の第４の実施の形態に係るスライダの外観の一例を示す斜視図である。
【図５７】本発明の第４の実施の形態に係るスライダの外観の他の例を示す斜視図である。
【図５８】記録媒体回転時における本発明の第４の実施の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。
【図５９】記録媒体静止時における本発明の第４の実施の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。
【図６０】本発明の第４の実施の形態における変形例のスライダを示す側面図である。
【図６１】本発明の第５の実施の形態に係るスライダの外観の一例を示す斜視図である。
【図６２】本発明の第５の実施の形態に係るスライダの外観の他の例を示す斜視図である。
【図６３】本発明の第５の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。
【図６４】本発明の第５の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。
【図６５】従来の薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。
【図６６】従来の薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。
【図６７】従来の薄膜磁気ヘッド素子の平面図である。
【図６８】従来のスライダのエアベアリング面の構成の一例を示す底面図である。
【図６９】従来のスライダの斜視図である。
【図７０】記録媒体が静止している状態における従来のスライダと記録媒体とを示す断面図である。
【図７１】図６８における上側から見た従来のスライダを示す正面図である。
【図７２】記録媒体が停止している状態から回転を開始した直後における従来のスライダと記録媒体とを示す断面図である。
【図７３】記録媒体の表面から浮上した状態の従来のスライダを示す断面図である。
【符号の説明】
２…絶縁層、３…下部シールド層、５…ＭＲ素子、８…下部磁極層、９…記録ギャップ層、１０…上部磁極層、１２，１４…薄膜コイル、１７…オーバーコート層、２０…スライダ、２１…スライダ部、２２…素子部、２３…薄膜磁気ヘッド素子、２４…基板部、２５…絶縁部、３１…第１の媒体対向面、３２…第２の媒体対向面、４１…空気流入端、４２…空気流出端。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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【図６５】
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【図６６】
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【図６７】
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【図６８】
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【図６９】
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【図７０】
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【図７１】
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【図７２】
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【図７３】
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