(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記蒸気発生装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室と、
上記蒸気発生装置と上記加熱室とを介して蒸気を循環させるための循環経路と、
上記循環経路に風を送る送風ファンと、
上記加熱室に設けられた排気口に一端が接続され、他端が大気に開放された排気通路と、
上記送風ファンの回転数を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、上記蒸気発生装置から供給される蒸気による加熱調理中に上記加熱室内の酸素濃度が上昇しないように、上記送風ファンの運転を制御すると共に、
上記蒸気発生装置内の水温を検出する水温センサを備え、
上記制御装置は、上記加熱調理中に上記加熱室内の酸素濃度が上昇しないように、上記水温センサにより検出された上記蒸気発生装置内の水温に応じて上記送風ファンの運転を制御することを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記制御装置は、上記加熱調理中の上記蒸気発生装置の給水開始から上記水温センサにより検出された上記蒸気発生装置内の水温が所定温度以上になるまで、上記送風ファンを停止するかまたは上記送風ファンの回転数を上記加熱調理中の所定回転数よりも低くすることを特徴とする加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、蒸気を用いて食品などの被加熱物の加熱調理を行う加熱調理器として、オーブン庫内に過熱蒸気を送り込むものがある(例えば、特許文献１(特開平８−４９８５４号公報)参照)。この加熱調理器は、ポット内にヒータを設けて蒸気を発生させる蒸気発生装置と、その蒸気発生装置により発生させた蒸気を加熱することにより過熱蒸気を生成する蒸気過熱器とを備え、蒸気過熱器で生成された過熱蒸気をオーブン庫内に送り込んで食品を調理する。
【０００３】
上記従来の加熱調理器では、蒸気過熱器で生成された過熱蒸気をオーブン庫の側面上部に設けられた吹出口から送風ファンによりオーブン庫内に吹き込み、側面下部に設けられた吸込口から吸い込んで、オーブン庫内と循環通路を循環する。そうして、オーブン庫内の空気を排気口から外部に排出して、オーブン庫内を過熱蒸気で置き換える。これにより、オーブン庫内の酸素濃度を低くして、食品の酸化を抑えた低酸素調理が可能となる。
【０００４】
ところで、上記加熱調理器では、過熱蒸気による加熱調理中に蒸気発生装置のポット内に給水すると、ポット内の水温が低下して蒸気発生が一時的に止まる。このため、加熱室内の温度が下がり、排気口から外気が侵入してオーブン庫内の酸素濃度が上がって、食品の酸化を抑えた低酸素調理ができないという問題がある。
【特許文献１】特開平８−４９８５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、この発明の目的は、蒸気による加熱調理中に加熱室内の酸素濃度が上昇するのを防いで、食品の酸化を効果的に抑えることができる加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、この発明の加熱調理器は、
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記蒸気発生装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室と、
上記蒸気発生装置と上記加熱室とを介して蒸気を循環させるための循環経路と、
上記循環経路に風を送る送風ファンと、
上記加熱室に設けられた排気口に一端が接続され、他端が大気に開放された排気通路と、
上記送風ファンの回転数を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、上記蒸気発生装置から供給される蒸気による加熱調理中に上記加熱室内の酸素濃度が上昇しないように、上記送風ファンの運転を制御すると共に、
上記発生装置内の水温を検出する水温センサを備え、
上記制御装置は、上記加熱調理中に上記加熱室内の酸素濃度が上昇しないように、上記水温センサにより検出された上記蒸気発生装置内の水温に応じて上記送風ファンの運転を制御することを特徴とする。
【０００７】
上記構成の加熱調理器によれば、蒸気発生装置から供給される蒸気による加熱調理時、送風ファンにより循環経路に風を送って、蒸気発生装置と加熱室とを介して蒸気を循環させて、蒸気発生装置から加熱室に供給される蒸気によって被加熱物を加熱する。このとき、加熱室に設けられた排気口から排気通路を介して加熱室内の空気が排出されて、加熱室内を低酸素濃度状態にする。そして、加熱調理中に、加熱室内の酸素濃度が上昇しないように送風ファンの運転を制御する。つまり、蒸気発生装置内の水温が給水により低下するときに、例えば送風ファンを停止するかまたは送風ファンの回転数を下げることにより、加熱室内の温度低下を抑えて、排気通路を介して加熱室内に外気が入るのを防ぐことが可能となる。これによって、蒸気による加熱調理中に加熱室内の酸素濃度が上昇するのを防いで、食品の酸化を効果的に抑えることができる。
【０００８】
【０００９】
【００１０】
【００１１】
また、上記制御装置により、水温センサにより検出された蒸気発生装置内の水温に応じて送風ファンの運転を制御することによって、蒸気発生装置内の水温低下時に合わせて送風ファンを停止または低速回転にすることが可能となる。
【００１２】
また、一実施形態の加熱調理器は、上記制御装置は、上記加熱調理中の上記蒸気発生装置の給水開始から上記水温センサにより検出された上記蒸気発生装置内の水温が所定温度以上になるまで、上記送風ファンを停止するかまたは上記送風ファンの回転数を上記加熱調理中の所定回転数よりも低くすることを特徴とする。
【００１３】
上記実施形態の加熱調理器によれば、上記制御装置により、加熱調理中の蒸気発生装置の給水開始から水温センサにより検出された蒸気発生装置内の水温が所定温度以上になるまで、送風ファンを停止することによって、蒸気発生装置内の水温低下時に循環経路に風を送らないので、加熱室内の温度低下を確実に防ぐことができる。または、上記制御装置により、蒸気発生装置の給水開始から水温センサにより検出され蒸気発生装置内の水温が所定温度以上になるまで、送風ファンの回転数を加熱調理中の所定回転数よりも低くすることによって、蒸気発生装置内の水温低下時に循環経路に風を循環させないので、加熱室内の温度低下を確実に防ぐことができる。
【発明の効果】
【００１４】
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器によれば、蒸気による加熱調理中に加熱室内の酸素濃度が上昇するのを防いで、食品の酸化を効果的に抑えることができる加熱調理器を実現することにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００１６】
図１はこの発明の実施の一形態の加熱調理器１の外観斜視図であり、直方体形状の本体ケーシング１０の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉１２を設けている。扉１２の右側に操作パネル１１を設け、扉１２の上部にハンドル１３を設けると共に、扉１２の略中央に耐熱ガラス製の窓１４を設けている。
【００１７】
また、図２は上記加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図を示しており、本体ケーシング１０内に直方体形状の加熱室２０が設けられている。加熱室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、加熱室２０の側面,底面および天面をステンレス鋼板で形成している。また、扉１２は、加熱室２０に面する側をステンレス鋼板で形成している。加熱室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)を配置して、加熱室２０内と外部とを断熱している。
【００１８】
また、加熱室２０の底面に、ステンレス製の受皿２１が置かれ、受皿２１上に被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２２が置かれている。なお、扉１２を開いた状態で、扉１２の上面側は略水平となって、被加熱物を取り出すときに一旦扉１２の上面に置くことができる。
【００１９】
さらに、本体ケーシング１０の加熱室２０の左側に、水タンク３０を収納するための水タンク用収納部１００を設けている。水タンク３０は、前面側から後面側に向かって水タンク用収納部１００内に挿入される。
【００２０】
図３は加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図を示している。図３に示すように、加熱調理器１は、加熱室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０などを制御する制御装置８０とを備える。
【００２１】
加熱室２０内に置かれた受皿２１上に格子状のラック２２を載置し、そのラック２２の略中央に被加熱物９０が置かれる。
【００２２】
また、水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aを、ジョイント部３１に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続している。ジョイント部３１から上方に延びる第１給水パイプ３２の他端にポンプ３５の吸込側を接続し、そのポンプ３５の吐出側に第２給水パイプ３３の一端を接続している。
【００２３】
そして、第２給水パイプ３３は、垂直に配置された部分から略水平に屈曲するＬ字形状をしており、第２給水パイプ３３の他端に補助タンク３９を接続している。補助タンク３９の下端に第３給水パイプ３４の一端を接続し、その第３給水パイプ３４の他端を蒸気発生装置４０の下端に接続している。また、蒸気発生装置４０の第３給水パイプ３４が接続された下端に、排水バルブ７０の一端を接続している。そして、排水バルブ７０の他端に排水パイプ７１の一端を接続し、排水パイプ７１の他端を水タンク３０の上側に接続している。水タンク３０の排水パイプ７１の他端下側にフィルタ７２を配置している。なお、補助タンク３９の上部は、排気ダクト６５を介して大気に連通している。
【００２４】
水タンク３０が接続されると、水タンク３０内の水は、水タンク３０と同水位になるまで大気開放用パイプ３７内に水が上昇する。
【００２５】
また、蒸気発生装置４０は、下側に第３給水パイプ３４の他端が接続されたポット４１と、ポット４１内の底面近傍に配置されたヒータ部４２と、ポット４１内のヒータ部４２の上側近傍に配置された水位センサ４３と、ポット４１内に配置された水温センサ４７と、ポット４１の上側に取り付けられた蒸気吸引エジェクタ４４とを有している。そして、加熱室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側にファンケーシング２６を配置している。ファンケーシング２６内に配置された送風ファン２８により、加熱室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれる。吸い込まれた蒸気は、第１パイプ６１と第２パイプ６２を介して蒸気発生装置４０の蒸気吸引エジェクタ４４の入口側に送り込まれる。第１パイプ６１は、略水平に配置されており、一端がファンケーシング２６に接続されている。また、第２パイプ６２は、略垂直に配置されており、一端が第１パイプ６１の他端に接続され、他端が蒸気吸引エジェクタ４４のインナーノズル４５の入口側に接続されている。
【００２６】
蒸気吸引エジェクタ４４は、インナーノズル４５の外側を包み込むアウターノズル４６を備えており、インナーノズル４５の吐出側がポット４１の内部空間と連通している。そして、蒸気吸引エジェクタ４４のアウターノズル４６の吐出側を第３パイプ６３の一端に接続し、その第３パイプ６３の他端に蒸気昇温装置５０を接続している。
【００２７】
ファンケーシング２６,第１パイプ６１,第２パイプ６２,蒸気吸引エジェクタ４４,第３パイプ６３および蒸気昇温装置５０で循環経路６０を形成している。また、加熱室２０の側面の下側に設けられた排気口２７に放出通路６４の一端を接続し、放出通路６４の他端を排気ダクト６５の一端に接続している。排気ダクト６５の他端に排気口６６を設けている。放出通路６４の排気ダクト６５側にラジエータ６９を外嵌して取り付けている。放出通路６４と排気ダクト６５で排気通路を構成している。
【００２８】
そして、循環経路６０を形成する第１パイプ６１,第２パイプ６２との接続部を、排出経路６７を介して排気ダクト６５に接続している。排出経路６７の第１,第２パイプ６１,６２の接続側に、排出経路６７を開閉するダンパ６８を配置している。
【００２９】
また、蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の天井側かつ略中央に、開口を下側にして配置された皿形ケース５１と、皿形ケース５１内に配置された蒸気加熱ヒータ５２とを有している。皿形ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５を形成している。また、天井パネル５４は、上下両面が塗装などにより暗色に仕上げられている。なお、使用を重ねることにより暗色に変色する金属素材や暗色のセラミック成型品によって天井パネル５４を形成してもよい。
【００３０】
さらに、蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の左右両側に延びる蒸気供給通路２３(図３では一方のみを示す)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３の他端は、加熱室２０の両側面に沿って下方に延び、加熱室２０の両側面かつ下側に設けられた側面蒸気吹出口２４に接続されている。
【００３１】
次に、図４に示す加熱調理器１の制御ブロックについて説明する。
【００３２】
図４に示すように、制御装置８０には、送風ファン２８と、蒸気加熱ヒータ５２と、ダンパ６８と、排水バルブ７０と、蒸気発生ヒータ４２と、操作パネル１１と、水位センサ４３と、水温センサ４７と、ポンプ３５が接続されている。
【００３３】
制御装置８０は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなり、水位センサ４３および水温センサ４７からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,蒸気加熱ヒータ５２,ダンパ６８,排水バルブ７０,蒸気発生ヒータ４２,操作パネル１１およびポンプ３５を所定のプログラムに従って制御する。
【００３４】
上記構成の加熱調理器１において、操作パネル１１中の電源スイッチ(図示せず)が押されて電源がオンし、操作パネル１１の操作により加熱調理の運転を開始する。そうすると、まず、制御装置８０は、排水バルブ７０を閉ざして、ダンパ６８により排出経路６７を閉じた状態でポンプ３５の運転を開始する。ポンプ３５により水タンク３０から第１〜第３給水パイプ３２〜３４を介して蒸気発生装置４０のポット４１内に給水される。そして、ポット４１内の水位が所定水位に達したことを水位センサ４３が検出すると、ポンプ３５を停止して給水を止める。
【００３５】
次に、蒸気発生ヒータ４２を通電し、ポット４１内に溜まった所定量の水を蒸気発生ヒータ４２により加熱する。
【００３６】
次に、蒸気発生ヒータ４２の通電と同時、または、ポット４１内の水の温度が所定温度(例えば６０℃)に達すると、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の蒸気加熱ヒータ５２を通電する。そうすると、送風ファン２８は、加熱室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、循環経路６０に空気(蒸気を含む)を送り出す。送風ファン２８に遠心ファンを用いているので、プロペラファンに比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。
【００３７】
次に、蒸気発生装置４０のポット４１内の水が沸騰すると、飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、蒸気吸引エジェクタ４４のところで循環経路６０を通る循環気流に合流する。蒸気吸引エジェクタ４４から出た蒸気は、第３パイプ６３を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。
【００３８】
そして、蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、蒸気加熱ヒータ５２により加熱されて略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出する。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２４から噴出する。
【００３９】
ここで、加熱室２０内において、中央部では上昇し、その外側では吹き下ろすという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、循環経路６０を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。
【００４０】
このようにして加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度,湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面蒸気吹出口２４から噴出して、ラック２４上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能となる。そうして、過熱蒸気の衝突により被加熱物９０を加熱する。このとき、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露するときに潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実にかつ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、むらがなく仕上がりよい加熱調理を実現することができる。また、過熱蒸気が充満した加熱室２０内は、約１％程度の低酸素濃度状態になるので、被加熱物９０の酸化を抑え、ビタミンＣ等が損なわれることがない。
【００４１】
また、上記加熱調理の運転において、時間が経過すると、加熱室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、排気口２７から放出通路６４,排気ダクト６５を介して排気口６６から外部に放出される。このとき、放出通路６４に設けたラジエータ６９により放出通路６４を通過する蒸気を冷却して結露させることによって、外部に蒸気がそのまま放出されるのを抑制している。ラジエータ６９により放出通路６４内で結露した水は、放出通路６４内を流れ落ちて受皿２１に導かれ、調理により発生した水と共に調理終了後に処理する。
【００４２】
調理終了後、制御装置８０により操作パネル１１に調理終了のメッセージを表示し、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)により合図の音を鳴らす。それにより、調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、扉１２が開いたことをセンサ(図示せず)により検知して、排出経路６７のダンパ６８を瞬時に開く。それにより、循環経路６０の第１パイプ６１が排出経路６７を介して排気ダクト６５に連通し、加熱室２０内の蒸気は、送風ファン２８により吸込口２５,第１パイプ６１,排出経路６７および排気ダクト６５を介して排気口６６から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様である。したがって、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を加熱室２０内から取り出すことができる。
【００４３】
図５は上記加熱調理器の加熱室２０内の酸素濃度の変化と蒸気発生装置４０のポット４１内の水温の変化を示す図である。
【００４４】
図５において、
ａ１は過熱蒸気による加熱調理のスタートから一定の期間
ａ２は過熱蒸気による加熱調理のスタートから水温が所定温度(６０℃)以上になるまでの期間
ｂ１は給水期間
ｃ１は給水開始から一定時間経過するまでの期間
ｃ２は給水開始から水温が所定温度(９０℃)以上になるまでの期間
ｄ１は給水開始から一定時間(＞給水期間)経過するまでの期間
ｄ２は給水開始から一定時間経過した後、水温が所定温度(９５℃)以上になるまでの期間
ｄ３水温が所定温度(９０℃)以下なった時点から一定時間経過するまでの期間
ｄ４は水温が所定温度(９０℃)以下なった時点から水温が所定温度(９５℃)以上になるまでの期間
である。
【００４５】
上記制御装置８０は、加熱調理のスタートでは、期間ａ１または期間ａ２で送風ファン２８を停止する。そして、期間ａ１または期間ａ２の後、所定回転数で送風ファン２８の運転を開始する。そうすると、蒸気発生装置４０で発生した蒸気は、蒸気昇温装置５０により昇温された後、加熱室２０内に供給されて、循環経路６０を循環する。これにより、加熱室２０内の空気が過熱蒸気に徐々に置き換えられて、加熱室２０内の酸素濃度が徐々に下がっていく。
【００４６】
次に、蒸気発生装置４０内の水が減ると、制御装置８０は、給水ポンプ３５の運転を開始すると共に送風ファン２８の運転を停止する。
【００４７】
その後は、期間ｂ１,ｄ１〜ｄ４のいずれか１つが経過するまで送風ファン２８の停止を継続する。
【００４８】
そして、蒸気発生装置４０への給水が終了して、ポット４１内の水温が十分に上昇してから送風ファン２８の運転を再開する。
【００４９】
このように、上記構成の加熱調理器によれば、加熱調理時、送風ファン２８により循環経路６０に風を送って、蒸気発生装置４０と加熱室２０とを介して蒸気を循環させて、蒸気発生装置４０から加熱室２０に供給される蒸気によって被加熱物を加熱する。このとき、加熱室２０に設けられた排気口から排気通路(放出通路６４,排気ダクト６５)を介して加熱室２０内の空気が排出されて、加熱室２０内は低酸素濃度状態となる。そして、加熱調理中に、加熱室２０内の酸素濃度が上昇しないように送風ファン２８の運転を制御する。つまり、蒸気発生装置４０内の水温が給水により低下するときに、送風ファン２８を停止することにより、加熱室２０内の温度低下を抑えて、排気通路(放出通路６４,排気ダクト６５)を介して加熱室２０内に外気が入るのを防ぐことが可能となる。なお、送風ファン２８を停止する代わりに、送風ファン２８の回転数を加熱調理中の所定回転数よりも低くしてもよい。
【００５０】
これによって、蒸気による加熱調理中に加熱室２０内の酸素濃度が上昇するのを防いで、食品の酸化を抑えることができる。特に、調理開始時に短時間で加熱室２０内の酸素濃度を下げることができ、高い酸化抑制効果を得ることができる。
【００５１】
また、上記制御装置８０により、少なくとも蒸気発生装置４０の給水期間ｂ１で送風ファン２８を停止することによって、蒸気発生装置４０内の水温低下時に循環経路６０に風を循環させないので、加熱室２０内の温度低下を確実に防ぐことができる。なお、少なくとも蒸気発生装置４０の給水期間で送風ファン２８の回転数を加熱調理中の所定回転数よりも低くしてもよい。
【００５２】
また、上記制御装置８０により、水温センサ４７により検出された蒸気発生装置４０内の水温に応じて送風ファン２８の運転を制御することによって、蒸気発生装置４０内の水温低下時に合わせて送風ファン２８を停止(または低速回転)にすることが可能となる。
【００５３】
また、上記制御装置８０により、蒸気発生装置４０の給水開始から水温センサにより検出され記蒸気発生装置４０内の水温が所定温度以上になるまで、送風ファン２８を停止することによって、蒸気発生装置４０内の水温低下時に循環経路６０に風を送らないので、加熱室２０内の温度低下を確実に防ぐことができる。または、上記制御装置８０により、蒸気発生装置４０の給水開始から水温センサ４７により検出され蒸気発生装置４０内の水温が所定温度以上になるまで、送風ファン２８の回転数を加熱調理中の所定回転数よりも低くしてもよい。
【００５４】
上記実施の形態では、蒸気発生装置４０と蒸気昇温装置５０を用いた加熱調理器について説明したが、加熱調理器はこれに限らず、蒸気発生装置からの蒸気を加熱室に供給して調理する加熱調理器にこの発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】図１はこの発明の実施の一形態の加熱調理器の外観斜視図である。
【図２】図２は上記加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。
【図３】図３は上記加熱調理器の構成を示す概略構成図である。
【図４】図４は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【図５】図５は上記加熱調理器の加熱室内の酸素濃度の変化と蒸気発生装置内の水温の変化を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１…加熱調理器
１０…本体ケーシング
１１…操作パネル
１２…扉
１３…ハンドル
１４…窓
２０…加熱室
２１…受皿
２２…ラック
２３…蒸気供給通路
２４…側面蒸気吹出口
２５…吸込口
２６…ファンケーシング
２７…排気口
２８…送風ファン
３０…水タンク
３１…ジョイント部
３２…第１給水パイプ
３３…第２給水パイプ
３４…第３給水パイプ
３５…ポンプ
３９…補助タンク
４０…蒸気発生装置
４１…ポット
４２…蒸気発生ヒータ
４３…水位センサ
４４…蒸気吸引エジェクタ
４５…インナーノズル
４６…アウターノズル
４７…水温センサ
５０…蒸気昇温装置
５１…皿形ケース
５２…蒸気加熱ヒータ
６０…循環経路
６１…第１パイプ
６２…第２パイプ
６３…第３パイプ
６４…放出通路
６５…排気ダクト
６６…排気口
６７…排出経路
６８…ダンパ
６９…ラジエータ
７０…排水バルブ
７１…排水パイプ
８０…制御装置
１００…水タンク用収納部
【図１】
0004566851.tif 000002
【図２】
0004566851.tif 000003
【図３】
0004566851.tif 000004
【図４】
0004566851.tif 000005
【図５】
0004566851.tif 000006