(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏向平面に平行な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を出射する光源手段と、
前記光源手段から出射されたレーザー光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、
前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を被走査面上に結像させる走査光学系と、
前記偏向手段と前記被走査面の間に設けられ、かつ前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を副走査方向に折り返す反射部材と、を有する光走査装置において、
前記反射部材の反射面は、Ｐ偏光とＳ偏光とにおける反射率の差が±３％以内、かつ、前記反射部材の反射面は、入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従い、Ｓ偏光の反射率もしくはＰ偏光の反射率が減少する特性を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記走査光学系のｆθ係数をｋ、前記被走査面の有効走査幅をＷとしたとき、
ｋ／Ｗ  ≦  ０．６
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記被走査面上の有効走査域の中心へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβo(deg)、前記被走査面上の有効走査域の端部へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβi(deg)としたとき、
８(deg) ≦  βi −  βo ≦  ２０(deg)
なる条件を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記光源手段は、偏向平面に平行な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を複数出射することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
偏向平面に垂直な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を出射する光源手段と、
前記光源手段から出射されたレーザー光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、
前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を被走査面上に結像させる走査光学系と、
前記偏向手段と前記被走査面の間に設けられ、かつ前記偏向手段で偏向されたレーザー
光束を副走査方向に折り返す反射部材と、を有する光走査装置において、
前記反射部材の反射面は、Ｐ偏光とＳ偏光とにおける反射率の差が±３％以内、かつ、前記反射部材の反射面は、入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従い、Ｓ偏光の反射率もしくはＰ偏光の反射率が増加する特性を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項６】
前記走査光学系のｆθ係数をｋ、前記被走査面の有効走査幅をＷとしたとき、
ｋ／Ｗ  ≦  ０．６
なる条件を満足することを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記被走査面上の有効走査域の中心へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβo(deg)、前記被走査面上の有効走査域の端部へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβi(deg)としたとき、
８(deg) ≦  βi −  βo ≦  ２０(deg)
なる条件を満足することを特徴とする請求項５又は６に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記光源手段は、偏向平面に垂直な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を複数出射することを特徴とする請求項５乃至７の何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記感光体の上を光束が走査することによって形成された静電潜像をトナー像として現像する現像手段と、前記現像されたトナー像を用紙に転写する転写手段と、転写されたトナー像を用紙に定着させる定着手段とを有していることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光走査装置及びマルチビーム走査装置及び画像形成装置に関し、特に光源手段から出射した直線偏光のレーザー光束を偏向手段により偏向させ走査光学系を介して被走査面上を光走査して画像情報を記録するようにした、例えば電子写真プロセスを有するレーザービームプリンタやデジタル複写機等に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりレーザービームプリンタ等の光走査装置においてはレーザー光束を用いて感光ドラム等の記録媒体面上に光走査して画像情報の書き込みを行っている。
【０００３】
図４１は従来の光走査装置の要部概略図である。
【０００４】
同図においてレーザー発振器９１から発振されたレーザー光束は集光レンズであるコリメーターレンズ９２により略平行光束となり、開口絞り９３により該レーザー光束幅を制限してシリンドリカルレンズ９４に入射している。シリンドリカルレンズ９４に入射した略平行光束のうち主走査面内においてはそのまま射出し、副走査面内においては収束してポリゴンミラーから成る偏向手段９５の偏向平面（偏向反射面）９５ａにほぼ線像として結像している。
【０００５】
ポリゴンミラー９５の偏向平面９５ａで偏向されたレーザー光束はfθ特性を有し、２つのfθレンズ９６ａ，９６ｂから成る走査光学系９６を介した後、折り返しミラー９７により反射されて記録媒体面（被走査面）９８上に導光している。そしてポリゴンミラー９５を駆動手段（不図示）により略等角速度に矢印Ａの方向に回転させることにより、記録媒体面（感光ドラム面）９８上を矢印Ｂの方向に略一定速度で光走査し、電位差による潜像を形成している。
【０００６】
ところで最近ではコストダウンや形状の自由度の利点から走査光学系９６を構成する各々のｆθレンズ９６ａ，９６ｂにはプラスチックレンズを用いている。
プラスチックレンズはレンズ表面に反射防止膜をコーティングすることが難しく、コーティングを行われていないのが一般的である。そのためレンズ表面への入射角の違いにより表面反射率が異なり、画角毎に走査光学系９６の透過率に差が生じて記録媒体面９８上で照度分布が不均一となる問題がある。例えば偏向平面に平行な方向に直線偏光したレーザー光束を光走査した場合、記録媒体面９８上の有効走査域の中心では照度が低くなり、周辺部では高くなる照度分布が生じてしまう。
【０００７】
この問題の解決手段として、例えば特許公報第２７２７５７２号にはレーザー光束を偏光方向が光学部材に対してＰ偏光方向に偏光した状態で入射させる場合には光学部材のＰ偏光とＳ偏光の反射特性又は透過特性Xp、XsがXp<Xsとなるようにし、逆に光学部材に対してＳ偏光方向に偏光した状態で入射させる場合にはXp>Xsとなるように光学部材の反射特性又は透過特性を構成した光走査装置が開示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
光走査装置のコンパクト化を図る為に例えば広画角な走査光学系９６を用いた場合においては、ポリゴンミラーへ偏向された光束がｆθレンズ９６ａ，９６ｂ面へ入射する角度の違いにより表面反射率が大きく異なることにより、記録媒体面９８上の有効走査域の中心部と周辺部とでは光量損失の差も増大し、記録媒体面９８上の照度分布の不均一性が増す現象に対して、Ｐ偏光及びＳ偏光の反射特性又は透過特性の違いのみを利用して照度分布を均一に補正することが難しいという課題があった。
【０００９】
また複数の直線偏光のレーザー光束を出射するモノリシックなマルチレーザーを光源手段に用いたマルチビーム走査装置においては、前述の課題に加えて、記録媒体面上で副走査方向の走査線間隔を画素密度に応じた値に設定する為に、光源手段を回転させて発光点の副走査方向の間隔を調整しているが、このとき各レーザー光束の偏光方向は折り返しミラーに対して完全なＰ偏光もしくはＳ偏光の方向には偏光せず、調整量に応じた一律の傾きを有することとなる。これによって記録媒体面上の有効走査範囲の中心部に対して左右で非対称な照度分布となるという問題点があった。
【００１０】
更に上記の光源手段（マルチレーザー）から発せられる複数のレーザー光束には，該光源手段の製造誤差によって直線偏光の方向に角度差があり、これによって各レーザー光束に対応する走査線毎に照度分布の形が異なるという問題点もあった。
【００１１】
本発明の第１の目的は広画角な走査光学系においても、また光源手段から出射されたレーザー光束の偏光方向が回転しても、被走査面上で照度分布を略均一にすることができる光走査装置の提供にある。
【００１２】
本発明の第２の目的は被走査面上で照度分布にムラのないマルチビーム走査装置の提供にある。
【００１３】
本発明の第３の目的は上記の光走査装置又はマルチビーム走査装置を用いることにより、被走査面上で照度分布を略均一にすることができる画像形成装置の提供にある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明の光走査装置は、
偏向平面に平行な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を出射する光源手段と、
前記光源手段から出射されたレーザー光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、
前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を被走査面上に結像させる走査光学系と、
前記偏向手段と前記被走査面の間に設けられ、かつ前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を副走査方向に折り返す反射部材と、を有する光走査装置において、
前記反射部材の反射面は、Ｐ偏光とＳ偏光とにおける反射率の差が±３％以内、かつ、前記反射部材の反射面は、入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従い、Ｓ偏光の反射率もしくはＰ偏光の反射率が減少する特性を有することを特徴としている。
【００１５】
請求項２の発明は請求項１の発明において、
前記走査光学系のｆθ係数をｋ、前記被走査面の有効走査幅をＷとしたとき、
ｋ／Ｗ  ≦  ０．６
なる条件を満足することを特徴としている。
【００１６】
請求項３の発明は請求項１又は２の発明において、
前記被走査面上の有効走査域の中心へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβo(deg)、前記被走査面上の有効走査域の端部へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβi(deg)としたとき、
８(deg) ≦  βi −  βo ≦  ２０(deg)
なる条件を満足することを特徴としている。
【００１７】
請求項４の発明は請求項１乃至３の何れか１項の発明において、
前記光源手段は、偏向平面に平行な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を複数出射することを特徴としている。
【００１８】
請求項５の発明の光走査装置は、
偏向平面に垂直な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を出射する光源手段と、
前記光源手段から出射されたレーザー光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、
前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を被走査面上に結像させる走査光学系と、
前記偏向手段と前記被走査面の間に設けられ、かつ前記偏向手段で偏向されたレーザー光束を副走査方向に折り返す反射部材と、を有する光走査装置において、
前記反射部材の反射面は、Ｐ偏光とＳ偏光とにおける反射率の差が±３％以内、かつ、前記反射部材の反射面は、入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従い、Ｓ偏光の反射率もしくはＰ偏光の反射率が増加する特性を有することを特徴としている。
【００１９】
請求項６の発明は請求項５の発明において、
前記走査光学系のｆθ係数をｋ、前記被走査面の有効走査幅をＷとしたとき、
ｋ／Ｗ  ≦  ０．６
なる条件を満足することを特徴としている。
【００２０】
請求項７の発明は請求項５又は６の発明において、
前記被走査面上の有効走査域の中心へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβo(deg)、前記被走査面上の有効走査域の端部へ向かうレーザー光束が前記反射部材へ入射する角度をβi(deg)としたとき、
８(deg) ≦  βi −  βo ≦  ２０(deg)
なる条件を満足することを特徴としている。
【００２１】
請求項８の発明は請求項５乃至７のいずれか１項の発明において、
前記光源手段は、偏向平面に垂直な方向から１０deg以内に直線偏光しているレーザー光束を複数出射することを特徴としている。
【００２２】
請求項９の発明の画像形成装置は、
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記感光体の上を光束が走査することによって形成された静電潜像をトナー像として現像する現像手段と、前記現像されたトナー像を用紙に転写する転写手段と、転写されたトナー像を用紙に定着させる定着手段とを有していることを特徴としている。
【００２３】
請求項１０の発明の画像形成装置は、
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光走査装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴としている。
【００４９】
【発明の実施の形態】
[実施形態１]
図１（Ａ）は本発明の実施形態１の光走査装置における主走査方向の要部断面図（主走査断面図）、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の副走査方向の要部断面図（副走査断面図）である。
【００５０】
尚、本明細書において主走査方向とは偏向手段によってレーザー光束（単に「光束」とも称す。）が偏向走査される方向を称し、副走査方向とは走査光学系の光軸を含み主走査方向とに直交する方向を称す。また偏光平面とは偏向手段によってレーザー光束が偏向される平面を称し、本実施形態の場合は主走査方向と平行である。
【００５１】
図中、１は光源手段であり、例えば１つの発光部を有する半導体レーザーより成り、偏向平面と略平行な方向に偏光方向を有する直線偏光のレーザー光束を出射している。２は集光レンズ（コリメーターレンズ）であり、光源手段１から出射された直線偏光の発散光束を略平行光束に変換している。３は開口絞りであり、通過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過したレーザー光束を副走査断面内で後述する光偏向器（偏向手段）５の偏向平面５ａにほぼ線像として結像させている。
【００５２】
尚、コリメーターレンズ２、開口絞り３、そしてシリンドリカルレンズ４等の各要素は入射光学系１１の一要素を構成している。
【００５３】
５は偏向手段としての例えばポリゴンミラー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モータ等の駆動手段（不図示）により所定方向に一定速度で回転している。
【００５４】
６はｆθ特性を有する走査光学系（ｆθレンズ系）であり、共に合成樹脂よりなる第１、第２の２枚のｆθレンズ（走査レンズ）６ａ，６ｂを有し、光偏向器５によって偏向された画像情報に基づくレーザー光束を被走査面８上にスポット状に結像させ、かつ副走査断面内において光偏向器５の偏向平面５ａと被走査面８との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
【００５５】
７は反射部材としての折り返しミラーであり、光偏向器５と被走査面８との間に設けられ、走査光学系６を通過したレーザー光束を副走査方向に折り返している。本実施形態における折り返しミラー７の反射面７ａはＰ偏光とＳ偏光とにおける反射率が略等しく、かつ入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従いＳ偏光、もしくはＰ偏光の反射率が減少するように形成されている．ここでＰ偏光とＳ偏光の反射率が略等しいとは入射角２５°〜４０°の範囲内において、双方の反射率差が±３％以内のことを言う。
【００５６】
本実施形態ではＳ偏光、もしくはＰ偏光の反射率が減少することにより、被走査面８上の照度分布を略均一としている。尚、上記照度分布が略均一とは被走査面８上における照度分布が軸上に対して走査有効域全域で±３％以内のことを称する。
【００５７】
８は被走査面としての感光ドラム面である。
【００５８】
本実施形態において画像情報に応じて半導体レーザー１から光変調され出射した直線偏光の発散光束はコリメーターレンズ２によって略平行光束に変換され、開口絞り３によって光量が制限され、シリンドリカルレンズ４に入射している。
シリンドリカルレンズ４に入射したレーザー光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内においては収束して光偏向器５の偏向平面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像する。
【００５９】
そして光偏向器５の偏向平面５ａで偏向されたレーザー光束は第１、第２のｆθレンズ６ａ，６ｂ、折り返しミラー７を介して感光ドラム面８上に導光され、該光偏向器５を所定方向に回転させることによって、該感光ドラム面８上を所定方向（主走査方向）に光走査している。これにより記録媒体としての感光ドラム面８上に画像記録を行っている。
【００６０】
本実施形態においては走査光学系６の小型化を図るため、走査画角を±５６．２degと広画角とし、また被走査面８上の有効走査域の中心へ向かうレーザー光束上に走査光学系６の光軸９が重なるように第１、第２のｆθレンズ６ａ，６ｂを配置している。
【００６１】
図２は走査光学系６を通過した後の照度分布を示した図であり、縦軸は光軸９上の照度を１としたときの照度比であり、横軸は像高であって像高のプラス側は走査開始側である。
【００６２】
本実施形態では半導体レーザー１から出射（発振）されたレーザー光束が偏向平面５ａに平行な方向に直線偏光しており、第１、第２のｆθレンズ６ａ，６ｂ面への入射角が小さいところではフレネル反射率が高く、画角が広くなって該第１、第２のｆθレンズ６ａ，６ｂ面への入射角が大きくなるところではフレネル反射率が低くなる。そのため走査光学系６を通過した後の照度分布は軸上が最も低く、被走査面８上の走査有効域の端部で最も高くなり、その光量比は１．０６倍である。
【００６３】
本実施形態では上記の如く半導体レーザー１から出射されたレーザー光束が偏向平面に平行な方向に直線偏光しており、走査光学系６の光軸９上では折り返しミラー７へＳ偏光方向に偏光したレーザー光束がαo=２５degの角度で入射している。
【００６４】
また被走査面８上の有効走査域の端部へ向かうレーザー光束は折り返しミラー７に対して主走査方向にθi=３５．６deg、副走査方向にαi=２５degの角度で入射しており、下記(１)式から折り返しミラー７へβi=４２degの角度で入射している。
【００６５】
cosβ=cosα×cosθ ・・・ (１)
このときの各像高(画角)における折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ偏光成分およびＳ偏光成分の割合を図３に示す。
【００６６】
また像高Ｙと画角εの関係は、
Ｙ=ｋ×ε ・・・ (２)
但し
k：ｆθ係数（本実施形態ではｋ=１０９mm/rad）
であって、被走査面８上の有効走査幅Ｗと走査光学系６のｆθ係数ｋの関係は
ｋ／Ｗ＝１０９(mm/rad)／２１４(mm)＝０.５１ ・・・ (３)
であり、ｋ／Ｗ≦０．６を満たす広画角な走査光学系であることを示す。
【００６７】
図３に示すように光軸９上ではＳ偏光成分が１００％を示し、像高が高くなるに従ってＰ偏光成分が増加し、像高±７０mm付近でＰ偏光成分及びＳ偏光成分（以下「Ｐ・Ｓ偏光成分」とも称す。）の割合が等しくなり、被走査面８上の有効走査域の端部に相当する像高Ｙ＝±１０７mm(画角±５６.２deg)ではＳ偏光成分が約３９％、Ｐ偏光成分が約６１％と逆点している。
【００６８】
図４は本発明に関わる折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ偏光成分及びＳ偏光成分、各々についての反射率の角度特性を示した図である。
【００６９】
本実施形態ではＰ・Ｓ偏光成分における反射率が略同一であり、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角βが２５degで反射率６０．０％、入射角βが４２degで反射率５６．５％となるように設定している。即ち、図４に示すように折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従いＳ偏光、もしくはＰ偏光の反射率が減少するように反射面７ａを形成している。これにより図５に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で０．９％の差に収まるほど略均一に補正することができる。
【００７０】
ここで比較例１として従来のＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を略均一とした例をについて説明する。比較例１において本実施形態との相違点は折り返ミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率が異なる点である。
【００７１】
図６に比較例１における折り返しミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示す。Ｐ偏光成分の反射率は入射角βが２５〜４２ degの範囲で５４．０％であり、S偏光成分の反射率は６０.０％である。これにより図７に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で１．７％の差となる。
【００７２】
この差から分かるように比較例１として挙げたＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を補正する方法より、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角度βによって反射率を変化させる方法の方が、被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができる。よって本実施形態の効果を用いれば、より高精度に被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができる。
【００７３】
また光源手段である半導体レーザー１には製造誤差や組立誤差によって偏光方向が偏向平面に対して平行もしくは垂直の状態から回転していることがある。例えば半導体レーザー１から発せられたレーザー光束の偏光方向が偏向平面から５deg回転していると、走査光学系６が偏光方向の回転の影響を受けて光軸９に対して略対称に僅かながら透過率が変化すると共に、折り返しミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の割合が光軸９を挟んだ左右で異なる。
【００７４】
本実施形態では折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ・Ｓ偏光成分における反射率を略同一としているので、被走査面８上の照度分布は偏光方向の回転による影響を受けない。しかしながら比較例１のようにＰ偏光成分とＳ偏光成分とによって反射率の差をつけた場合は折り返しミラーの反射面の反射率に非対称性が生じる。その結果、本実施形態における光走査装置では図８に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で１.０％の差であるのに対して比較例１では図９に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で３.０％の差となり、レーザー光束の偏光方向の回転によって照度分布の均一性が悪化する。
【００７５】
更に偏光方向が１０deg回転した場合においては、本実施形態では図１０に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で１.１％の差に収まるのに対して比較例１では図１１に示すように４.６％の差となり、レーザー光束の偏光方向の回転により照度分布の均一性が著しく悪化する。
【００７６】
このことから本実施形態の効果によって光源手段１から発せられたレーザー光束の偏光方向に回転が生じても被走査面８上の照度分布の均一性を保つことができることが分かる。よって、常に良好なる画像が得られる光走査装置を提供することができる。
【００７７】
本実施形態の折り返しミラー７の反射面７ａはＡｌ化合物もしくはＣｒ化合物を蒸着膜とし、その上面に保護膜を付けて構成されている。またＰ偏光成分とS偏光成分の反射率の差は入射角２５°〜４０°の範囲内で±３％以内とするのが好ましいが、±５％の差までは許容できる。
【００７８】
尚、本実施形態では被走査面８上の走査有効域をＷ=２１４mm（±１０７mm）とし、画角ε=±５６degと広画角な走査光学系６を例としたが、これよりも大きな画角の走査光学系を用いても本発明の効果を用いて十分に照度分布を略均一に補正することができる。
【００７９】
図１２は本実施形態に使用した折り返しミラー７の要部概要図である。同図における折り返しミラー７は長手方向の稜線部の４本のみ面取りを行い、折り返しミラー７を不図示の光学箱に組み込む際に作業者が怪我をしないようにすると共に、短手方向の稜線部８本は面取りを廃止し、折り返しミラー７のコストダウンを図っている。
【００８０】
尚、本実施形態において偏向平面に対し４５°方向に偏光方向を有する直線偏光のレーザー光束を用いる場合には、折り返しミラーの反射面上におけるＰ偏光とＳ偏光の反射率を入射角に関わらず略同一と成るように設定すればよい。また本実施形態では折り返しミラーを１枚より構成したが、これに限らず、例えば折り返しミラーの反射面の反射率を適切に設定すれば複数枚より構成しても良い。
また本実施形態では走査光学系を２枚のレンズより構成したが、これに限らず、例えば単一のレンズ、もしくは３枚以上のレンズより構成しても良い。
【００８１】
[実施形態２]
図１３（Ａ）は本発明の実施形態２の光走査装置における主走査方向の要部断面図（主走査断面図）、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）の副走査方向の要部断面図（副走査断面図）である。
図１３（Ａ），（Ｂ）において図１（Ａ），（Ｂ）に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００８２】
本実施形態において前述の実施形態１と異なる点は、折り返しミラー７へ入射するＳ偏光方向に偏光したレーザー光束の副走査方向の角度（折り返し角）をαo=４８degとしたことである。その他の構成および光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【００８３】
即ち、本実施形態において光軸９上では折り返しミラー７へ入射するＳ偏光方向に偏光したレーザー光束の主走査方向の入射角θがθ＝０degなので、副走査方向の入射角αoがそのまま折り返しミラー７の入射角βoとなる（βo＝αo）。
【００８４】
本実施形態において被走査面８上の有効走査域の端部（像高±１０７mm）へ向かうレーザー光束は、折り返しミラー７に対して主走査方向は実施形態１と同様にθi=３５．６deg、副走査方向はαi=４８degの角度で入射しており、上記(1)式より折り返しミラー７へβi=５７degで入射している。
【００８５】
このように折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の副走査方向の入射角αを変更することによって、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の角度βの全画角における角度差Δβ（=βi−βo）やＰ・Ｓの偏光成分の割合も変化する。
【００８６】
本実施形態では被走査面上の有効走査域の中心へ向かうレーザー光束が折り返しミラー７へ入射する角度をβo(deg)、被走査面８上の有効走査域の端部へ向かうレーザー光束が折り返しミラー７へ入射する角度をβi(deg)としたとき、
８(deg) ≦  βi −  βo ≦  ２０(deg) ・・・ (Ａ)
なる条件を満足するようにしている。
【００８７】
上記条件式(Ａ)は被走査面上の照度分布を均一にしやすい範囲を規定したものであり、特に偏光方向の回転が生じた際に比較例に対して本発明の効果を大きく発揮する範囲に関するものであり、条件式(Ａ)の範囲を外れると被走査面上の照度分布を均一に補正しずらく成るので良くない。
【００８８】
本実施形態における光走査装置の各像高(画角)における折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ偏光成分およびS偏光成分の割合を図１４示す。
【００８９】
本実施形態においては折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の角度差Δβは９degであって、光軸９上ではS偏光成分が１００％を示し、画角が大きくなるに従ってＰ偏光成分が増加し、被走査面８上の走査有効域の端部に相当する画角±５６.２deg（像高±１０７mm）ではS偏光成分が約７８％、Ｐ偏光成分が約２２％としている。
【００９０】
図１５は本発明に関わる折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ偏光成分及びS偏光成分、各々についての反射率の角度特性を示した図である。
【００９１】
本実施形態ではＰ・Ｓ偏光成分における反射率が略同一であり、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角βが４８degで反射率６０.０％、入射角βが５７degで反射率５６.６％となるように設定している。即ち、図１５に示すように折り返しミラー７に入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従いＳ偏光、もしくはＰ偏光の反射率が減少するように反射面７ａを形成している。これにより図１６に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で０.８％の差に収まるほど略均一に補正することができる。
【００９２】
ここで比較例２として前述の比較例１と同様に従来のＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を略均一とした例について説明する。比較例２において本実施形態との相違点は折り返ミラー７の反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率が異なる点である。
【００９３】
図１７に比較例２における折り返しミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示す。
Ｐ偏光成分の反射率は入射角βが４８〜５７ degの範囲で４３.１％であり、S偏光成分の反射率は６０.０％である。これにより図１８に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で１.０％の差となる。
【００９４】
このとき実施形態１同様に画角±５６.２degと広画角な走査光学系６によって該走査光学系６の透過率が軸上９に対して周辺部（画角±５６.２deg）で１.０６倍と大きな分布を有しており、被走査面８上の照度分布を略均一に補正する為にＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を１６.９％（比率で７１.８％）と大きく設けて補正することは困難であることがわかる。
【００９５】
この差から分かるように比較例２として挙げたＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を補正する方法より、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角度βによって反射率を変化させる方法の方が、被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができる。よって本実施形態の効果を用いれば、より高精度に被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができる。
【００９６】
また光源手段である半導体レーザー１には製造誤差や組立誤差によって偏光方向が偏向平面に対して平行もしくは垂直の状態から回転していることがある。例えば半導体レーザー１から発せられたレーザー光束の偏光方向が偏向平面から５deg回転していると、走査光学系６が偏光方向の回転の影響を受けて光軸９に対して略対称に僅かながら透過率が変化することもさることながら、折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ・Ｓ偏光成分の割合が光軸９を挟んだ左右で異なる。
【００９７】
本実施形態では折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ・Ｓ偏光成分における反射率を略同一としているので、被走査面８上の照度分布は偏光方向の回転による影響を受けない。しかしながら比較例２のようにＰ偏光成分とＳ偏光成分とによって比較例１よりも大きく反射率の差をつけた場合は折り返しミラーの反射面の反射率の非対称性も大きく生じる。この結果、本実施形態における光走査装置では図１９に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で０.９％の差であるのに対し、比較例２では図２０に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で４.７％の差となり、レーザー光束の偏光方向の回転によって照度分布の均一性が悪化する。
【００９８】
更に偏光方向が１０deg回転した場合においては、本実施形態では図２１に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で１.０％の差であるのに対し、比較例２では図２２に示すように８.６％の差となり、照度分布の許容値６％の差を遥かに超え問題となる。
【００９９】
このことから本実施形態の効果によって光源手段１から発せられたレーザー光束の偏光方向に回転が生じても被走査面８上の照度分布の均一性を保つことができることが分かる。よって常に良好なる画像が得られる光走査装置を提供することができる。
【０１００】
また本実施形態によれば折り返しミラー７の副走査方向の角度α（折り返し角）に制約を持たせることがなく、光走査装置を構成するにあたっての自由度を大きく持たせることができる。
【０１０１】
また同じ走査光学系６を用いれば、折り返しミラー７の副走査方向の角度αによってレーザー光束が折り返しミラー７へ入射する角度βが決まるので各角度βにおいて所望な反射率にしておけば、同一の折り返しミラー７で複数の本体配置への流用が可能となりコストダウンを図ることができる。
【０１０２】
[実施形態３]
次に本発明の実施形態３について説明する。
【０１０３】
本実施形態と前述の実施形態１と異なる点は、光源手段を複数（本実施形態では２つ）の発光部（発光点）を有するモノリシックなマルチビーム光源（マルチレーザーアレイ）より構成し、被走査面８上の走査線の間隔を所望の値とする為に光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに回転させた点である。その他の構成および光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１０４】
本実施形態においてモノリシックなマルチビームの光源手段１から複数出射したレーザー光束はその偏光方向が略一方向となっている。この光源手段１を用いたマルチビーム走査装置においては、被走査面８上の走査線の間隔を画素密度に応じた値とするため、光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに回転させて複数の発光点の間隔を所望な値に調整する必要がある。光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに回転させる角度γ(deg)は次式で与えられる。
【０１０５】
sinγ=ｔ／βs／Ｌａ
ここで、tは画素密度に応じた走査線間隔、βsは全体の副走査方向の横倍率、Ｌａは発光点の間隔である。
【０１０６】
本実施形態の場合、画素密度が６００dpiのため走査線間隔ｔはｔ=４２.３μmであり、全体の副走査方向の横倍率βsはβs=６.８(倍)、発光点の間隔ＬａはＬａ=９０.０μmであって、光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに回転させる角度γはγ＝３.９５degである。
【０１０７】
このときレーザー光束の偏光方向も偏向平面に略平行な方向から角度γ回転することになる。
これによって被走査面８上の有効走査域の中心部へ向かうレーザー光束は折り返しミラー７へS偏光方向から角度γ回転して入射している。また完全にS偏光方向に偏光して折り返しミラー７へ入射するレーザー光束は有効走査域の中心部から左右どちらか一方へずれた位置となり、折り返しミラー７の反射面７ａにおいてＰ・Ｓ偏光成分に反射率の差を設けていると被走査面８上では有効走査域の中心部に対して非対称な照度分布を有することになる。
【０１０８】
そこで本実施形態では前述の実施形態１と同様の折り返しミラー７を用いてＰ偏光成分とS偏光成分における反射率を略同一とし、かつ折り返しミラー７に入射するレーザー光束の入射角βが大きくなるに従いＳ偏光、もしくはＰ偏光の反射率が減少するように反射面７ａを形成することにより、被走査面８上の照度分布を略均一に補正している。
【０１０９】
図２３は本実施形態における被走査面上の照度分布を示した図である。
【０１１０】
マルチビームの被走査面８上の走査線間隔を調整するために光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに角度γ回転させたことによって、走査光学系６は透過率が光軸９に対して略対称に僅かな量だけ変化するが、折り返しミラー７の反射面７ａはＰ偏光成分とS偏光成分における反射率を略同一としているので、偏光方向の回転の影響を受けない。よって被走査面８上の照度分布を有効走査域全域で１.０％の差に抑えることができ、これにより照度分布の均一性を良好に補正するこができる。
【０１１１】
ここで比較例３として従来のＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を略均一とした例について説明する。比較例３において本実施形態との相違点は折り返ミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率が異なる点である。
【０１１２】
比較例３の光走査装置では比較例１と同様の折り返しミラーを用いており、Ｐ偏光成分の反射率は入射角βが２５〜４２degの範囲で５４.０％であり、S偏光成分の反射率は６０.０％である。比較例１では図７に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で１.７％の差となるが、比較例３では被走査面８上の走査線間隔を補正するために光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに３.９５deg回転しているので、図２４に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で２.６％の差となる。
【０１１３】
この差から分かるように比較例３として挙げたＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を補正する方法より、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角度βによって反射率を変化させる方法の方が、被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができることが分かる。よって本実施形態の効果を用いれば、モノリシックなマルチビームを光源手段１に用いたマルチビーム走査装置において、被走査面８上の照度分布を非対称性を生じさせることなく略均一に補正することができる。
【０１１４】
更に２つのレーザー光束には偏光方向にばらつきがあり、相対差で１５degとなるものがある。このとき一方のレーザー光束（例えばＡレーザー光束）は走査線間隔を調整するために傾けた３.９５degだけ偏光方向が偏向平面から回転しているのに対して、他方のレーザー光束（例えばＢレーザー光束）は偏光方向が偏向平面から１８.９５degも回転している。そのため被走査面８上の同一の位置を走査する２つのレーザー光束は折り返しミラー７の反射面７ａ上でＰ・Ｓ偏光成分の割合が大きく異なっている。
【０１１５】
本実施形態では折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ偏光成分における反射率とＳ偏光成分における反射率を略同一としているため、レーザー光束の偏光方向の回転の影響を受けず、常に所望の反射率に設定できるので図２５に示すように被走査面８上の２つのレーザー光束の光量差が１.５％、Ａレーザー光束の照度分布は有効走査域全域で１.０％、Ｂレーザー光束では１.８％の光量差に抑えることができる。これに対し、比較例３ではＰ・Ｓ偏光成分で反射率が異なるので２つのレーザー光束ではＰ・Ｓ偏光成分の割合の違いによって反射率が大きく異なる。即ち、図２６に示すように被走査面８上での２つのレーザー光束の光量差は最大で２.７％あり、Ａレーザー光束の照度分布は２.６％、また偏向平面から１８.９５degと大きく回転しているＢレーザー光束は被走査面８上の有効走査域全域で７.２％の光量差がある。感光体ドラム面である被走査面８上ではＡレーザー光束とＢレーザー光束とが交互に光走査しており、Ｂレーザー光束で描かれる走査線は光軸９を挟んだ一方で照度が高く、他方で照度が低くなり、画像上では一方で濃く、他方で薄くなる問題が生じる。またＡレーザー光束との光量差が大きいことから画像上で一本の走査線おきに濃淡が生じる虞がある。
【０１１６】
よって本実施形態の効果を用いればマルチビーム光源１から発せられる２つのレーザー光束の偏光方向にばらつきが生じても被走査面８上で照度分布を略均一とすることができ、これにより常に良好なる画像が得られるマルチビーム走査装置を提供することができる。
【０１１７】
尚、本実施形態においては２本のレーザー光束を使用するマルチビーム走査装置を例に挙げたが、これに限ったものでなく、本実施形態の効果を用いて３本、４本とビーム本数が増えても本実施形態と同等の効果を得ることができる。
【０１１８】
また本実施形態において被走査面上における照度分布は前述の如く走査有効域全域で±３％（差で６％）以内とすることが良好なる画像を得るためには望ましい。
【０１１９】
[実施形態４]
次に本発明の実施形態４について説明する。
【０１２０】
本実施形態において前述の実施形態３と異なる点は折り返しミラー７へ入射するＳ偏光方向に偏光したレーザー光束の副走査方向の角度（折り返し角）を前述の実施形態２と同様αo=４８degに設定した点、そして折り返しミラー７の反射面７ａの反射率も実施形態２と同様にした点である。その他の構成および光学的作用は実施形態３と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１２１】
即ち、本実施形態は前述の実施形態３と同様に２つのレーザー光束を発するのモノリシックなマルチレーザーアレイ１を使用しており、被走査面８上の走査線間隔を調整するために、モノリシックなマルチレーザーアレイ１ごと集光レンズ２の光軸廻りに３.９５deg回転させている。
【０１２２】
本実施形態では実施形態２と同様の走査光学系６及び折り返しミラー７を用い、実施形態２と同様に折り返しミラー７へ入射するＳ偏光方向に偏光したレーザー光束の副走査方向の角度αoをαo＝４８degに設定しているので、折り返しミラー７の反射面７ａの反射率はレーザー光束の偏光方向の回転の影響は受けず、走査光学系６の透過率が僅かに変化して図２７に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で０.９％の差に収まるほど略均一に補正することができる。
【０１２３】
ここで比較例４として従来のＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を略均一とした例について説明する。比較例４において本実施形態との相違点は折り返ミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率が異なる点である。
【０１２４】
比較例４の折り返しミラーの反射面は比較例２と同様であり、Ｐ偏光成分の反射率は入射角βが４８〜５７degの範囲で４３.１％であり、S偏光成分の反射率は６０.０％である。
【０１２５】
しかしながら比較例４では被走査面８上の走査線間隔を補正するために光源手段１を集光レンズ２の光軸廻りに３.９５deg回転しているので、図２８に示したように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で３.８％の差となる。
【０１２６】
また実施形態３と同様に２つのレーザー光束に偏光方向のばらつきがあり、また相対差で１５degとなるものがあっても、本実施形態では折り返しミラーの反射率はレーザー光束の偏光方向の回転の影響は受けず、走査光学系６の透過率のみ変化するので図２９に示すようにＡレーザー光束の照度分布が有効走査域全域で０.９％の差、Ｂレーザー光束の照度分布が有効走査域全域で１.５％の差に収まる。これに対し比較例４では図３０に示したようにＡレーザー光束の照度分布が走査有効域全域で３.８％の差、Ｂレーザー光束の照度分布が走査有効域全域で１５.２％の差が生じることとなり、照度分布の不均一性が許容できない。
【０１２７】
よって本実施形態の効果を用いれば折り返しミラー７へ入射するＳ偏光方向に偏光したレーザー光束の副走査方向の角度α（折り返し角）が大きくて光軸上と周辺部でＰ・Ｓ偏光成分の割合があまり変化しない光走査装置の構成においても、被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができ、且つレーザー光束の偏光方向の回転に対しても影響を受けることなく略均一な照度分布を保ち、常に良好なる画像が得られるマルチビーム走査装置を提供するこができる。
【０１２８】
尚、本実施形態では走査光学系６の光軸９上において、折り返しミラー７へ主たる偏光方向がＳ偏光方向に偏光したレーザー光束が入射した場合を例として挙げたが、これに限ったものでなく、主たる偏光方向がＰ偏光方向に偏光したレーザー光束が入射した場合においても、本発明の効果を用いて十分に補正することができる。
【０１２９】
[実施形態５]
次に本発明の実施形態５について説明する。
【０１３０】
本実施形態において前述の実施形態１，２と異なる点は光源手段から出射されたレーザー光束の偏光方向が９０deg回転している点と、折り返しミラー７の反射面７ａの反射率が異なる点である。その他の構成および光学的作用は実施形態１，２と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１３１】
即ち、本実施形態では半導体レーザー１から出射されたレーザー光束は偏向平面に略垂直な方向に直線偏光しており、第１、第２のfθレンズ６ａ、６ｂ面への入射角が小さいところではフレネル反射率が低く、画角が広くなって第１、第２のfθレンズ６ａ、６ｂ面への入射角が大きくなるところではフレネル反射率が高くなる。そのため走査光学系６を通過した後の照度分布は光軸９上が最も高く、被走査面８上の走査有効域の端部（像高±１０７mm）で最も低くなり、図３１に示したようにその光量比は０.９１倍である。
【０１３２】
図３２は本発明に関わる折り返しミラー７の反射面７ａ上でのＰ偏光成分及びS偏光成分、各々についての反射率の角度特性を示した図である。
【０１３３】
本実施形態ではＰ・Ｓ偏光成分における反射率が略同一であり、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角βが２５degで反射率６０.０％、入射角βが４２degで反射率６５．５％となるように設定している。即ち、図３２に示すように折り返しミラー７に入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従いＰ偏光、もしくはＳ偏光の反射率が増加するように反射面７ａを形成している。これにより図３３に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で２．３％の差に収まるほど略均一に補正することができる。
【０１３４】
ここで比較例５として従来のＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を略均一とした例について説明する。比較例５において本実施形態との相違点は折り返ミラー７の反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率が異なる点である。
【０１３５】
図３４に比較例５における折り返しミラーの反射面上でのＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示す。Ｐ偏光成分の反射率は入射角βが２５〜４２degの範囲で６０.０％であり、S偏光成分の反射率は６９.３％である。これにより図３５に示すように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で３.５％の差となる。
【０１３６】
この差から分かるように比較例５として挙げたＰ・Ｓ偏光成分の反射率の差を利用して被走査面８上の照度分布を補正する方法より、折り返しミラー７へ入射するレーザー光束の入射角度βによって反射率を変化させる方法の方が、被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができる。よって光源手段１から発せられたレーザー光束が偏向平面に対して垂直に直線偏光している場合においても本実施形態の効果を用いれば、より高精度に被走査面８上の照度分布を略均一に補正することができる。
【０１３７】
また半導体レーザー１から発せられたレーザー光束の偏光方向が偏向平面に対して垂直な平面から５deg回転した場合、本実施形態においては折り返しミラー７の反射面７ａのＰ・Ｓ偏向成分の反射率を略同一としているため、該折り返しミラー７の反射率はレーザー光束の偏光方向の回転の影響を受けず、走査光学系６の透過率が僅かに変化して図３６に示すように被走査面８上の照度分布が有効走査域全域で２.３％の差と成る。これに対し比較例５では折り返しミラーの反射面のＰ偏光成分とＳ偏光成分とで反射率を異ならせているため、図３７に示したように被走査面８上の照度分布は有効走査域全域で５.２％の差が生じる。
【０１３８】
更に図３８に示すようにレーザー光束の偏光方向が偏向平面に対して垂直な平面から１０deg回転した場合は、本実施形態では被走査面上の照度分布が有効走査域全域で２.５％の差であるが、図３９に示す比較例５では７.５％の差が生じて許容値を上回り問題となる。
【０１３９】
これにより本実施形態の効果を用いれば、光源手段１から発せられたレーザー光束が偏向平面に対して垂直に直線偏光している光走査装置においても、該レーザー光束の偏光方向の回転の影響を受けずに被走査面８上の照度分布を均一に保つことができ、常に良好なる画像を提供するこができる光走査装置を得ることができる。
【０１４０】
[実施形態６]
次に本発明の実施形態６について説明する。
【０１４１】
本実施形態において前述の実施形態３，４とは異なる点は、光源手投から出射された複数のレーザー光束の偏光方向が９０deg回転している点と、折り返しミラー７の反射面７ａの反射率が異なる点である。その他の構成及び光学的作用は実施形態３，４と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１４２】
即ち、本実施形態では前述の実施形態５と同様の折り返しミラー７を用いてＰ・Ｓ偏光成分における反射率を略同一とし、かつ該折り返しミラー７に入射するレーザー光束の入射角が大きくなるに従いＰ偏光、もしくはＳ偏光の反射率が増加するように反射面７ａを形成している。これにより光源手段１から発せられた複数のレーザー光束が偏向平面に対して垂直に直線偏光しているマルチビーム走査装置においても、該レーザー光束の偏光方向の回転の影響を受けずに被走査面８上の照度分布を略均一に保つことができ、常に良好なる画像を提供することができる。
【０１４３】
［画像形成装置］
図４０は、前述した実施形態１から６のいずれかの光走査装置、もしくはマルチビーム走査装置を用いた画像形成装置（電子写真プリンタ）の実施形態を示す副走査方向の要部断面図である。図４０において、符号１０４は画像形成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（画像信号）（ドットデータ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、光走査ユニット１００に入力される。そして、この光走査ユニット（光走査装置、もしくはマルチビーム走査装置）１００からは、画像データＤｉに応じて変調された光ビーム（光束）１０３が出射され、この光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。
【０１４４】
静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、前記光走査ユニット１００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。
【０１４５】
先に説明したように、光ビーム１０３は、画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビーム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。ここで用いられるトナー粒子は、例えば帯電ローラ１０２によって帯電された電荷とは逆符号を持つものが用いられる。そして、感光ドラムの非露光部にトナーが付着する部分（画線部）となる。つまり、本実施形態においては、所謂正規現像が行われる。尚、本実施形態において感光ドラムの露光部にトナーが付着する反転現像を行うようにしても良い。
【０１４６】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ１０８によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図８において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【０１４７】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図４０において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３とこの定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されており、転写部から撒送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せしめる。
【０１４８】
図４０においては図示していないが、プリントコントローラ１１１は、先に説明データの変換だけでなく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部や、光走査ユニット１００内のポリゴンモータなどの制御を行う。
【０１４９】
【発明の効果】
第１の発明によれば前述の如く反射部材の反射面の反射率を適切に設定することにより、広画角な走査光学系を用いても、また光源手段から出射されたレーザー光束の偏光方向が回転しても、被走査面上で照度分布を略均一にすることができる光走査装置を達成することができる。
【０１５０】
第２の発明によれば前述の如く反射部材の反射面の反射率を適切に設定することにより、広画角な走査光学系を用いても、また光源手段から出射されたレーザー光束の偏光方向が回転しても、被走査面上で照度分布にムラのないマルチビーム走査装置を達成することができる。
【０１５１】
第３の発明によれば前述の如く上記の光走査装置又はマルチビーム走査装置を用いることにより、被走査面上で照度分布を略均一にすることができる画像形成装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施形態１の主走査断面図及び副走査断面図
【図２】  本発明の実施形態１の走査光学系通過後の照度分布図
【図３】  本発明の実施形態１の折り返しミラーの反射面上のＰ・Ｓ偏光成分比を示した図
【図４】  本発明の実施形態１のＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示した図
【図５】  本発明の実施形態１の照度分布図
【図６】  比較例１のＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示した図
【図７】  比較例１の照度分布図
【図８】  本発明の実施形態１の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図９】  比較例１の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図１０】  本発明の実施形態１の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図１１】  比較例１の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図１２】  本発明の実施形態１の折り返しミラーを示す斜視図
【図１３】  本発明の実施形態２の主走査断面図及び副走査断面図
【図１４】  本発明の実施形態２の折り返しミラーの反射面上のＰ・Ｓ偏光成分比を示した図
【図１５】  本発明の実施形態２のＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示した図
【図１６】  本発明の実施形態２の照度分布図
【図１７】  比較例２のＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示した図
【図１８】  比較例２の照度分布図
【図１９】  本発明の実施形態２の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図２０】  本発明の比較例２の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図２１】  本発明の実施形態２の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図２２】  比較例２の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図２３】  本発明の実施形態３の照度分布図
【図２４】  比較例３の照度分布図
【図２５】  本発明の実施形態３の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図２６】  本発明の比較例３の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図２７】  本発明の実施形態４の照度分布図
【図２８】  比較例４の照度分布図
【図２９】  本発明の実施形態４の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図３０】  比較例４の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図３１】  本発明の実施形態５の走査光学系通過後の照度分布図
【図３２】  本発明の実施形態５のＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示した図
【図３３】  本発明の実施形態５の照度分布図
【図３４】  比較例５のＰ・Ｓ偏光成分の反射率を示した図
【図３５】  比較例５の照度分布図
【図３６】  本発明の実施形態５の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図３７】  比較例５の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図３８】  本発明の実施形態５の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図３９】  比較例５の光源手段が回転した場合の照度分布図
【図４０】  本発明の走査光学装置を用いた画像形成装置(電子写真プリンタ)の構成例を示す副走査方向の要部概略図
【図４１】  従来例の光走査装置を示す斜視図
【符号の説明】
１  光源手段（半導体レーザー）
２  集光レンズ（コリメーターレンズ）
３  開口絞り（アパーチャー）
４  シリンドリカルレンズ
５  偏向手段（光偏向器）
６  走査光学系
６ａ  第１のｆθレンズ
６ｂ  第２のｆθレンズ
７  反射部材（折り返しミラー）
７ａ  反射面
８  被走査面（感光ドラム面）
１１  入射光学系
１００  光走査装置
１０１  感光ドラム
１０２  帯電ローラ
１０３  光ビーム
１０４  画像形成装置
１０７  現像装置
１０８  転写ローラ
１０９  用紙カセット
１１０  給紙ローラ
１１２  転写材（用紙）
１１３  定着ローラ
１１４  加圧ローラ
１１６  排紙ローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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