(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ酸を含むフッ酸排水を再利用可能に処理する方法であって、
水洗室にフッ酸排水を供給して、フッ酸排水を含む被処理液を貯留する貯留ステップと、
前記水洗室に貯留された被処理液を蒸発室に供給する供給ステップと、
前記蒸発室に供給された被処理液を蒸発濃縮する濃縮ステップと、
前記濃縮ステップで生成された濃縮水を前記蒸発室から回収する回収ステップと、
前記濃縮ステップで生成されたフッ酸含有蒸気を前記水洗室に導入し、前記水洗室に貯留された被処理液に接触させて溶解させる溶解ステップとを備えるフッ酸排水の処理方法。
【請求項２】
前記貯留ステップは、前記回収ステップの後、前記水洗室に貯留されている被処理液の全量を前記蒸発室に供給するステップと、前記水洗室に純水を貯留するステップとを備える請求項１に記載のフッ酸排水の処理方法。
【請求項３】
フッ酸排水のフッ酸濃度は、０．０１〜３ｗｔ％である請求項２に記載のフッ酸排水の処理方法。
【請求項４】
フッ酸を含むフッ酸排水を再利用可能に処理するフッ酸排水処理装置であって、
フッ酸排水が供給され、フッ酸排水を含む被処理液を貯留する水洗室を有する水接触手段と、
前記水洗室から供給される被処理液を蒸発濃縮することにより濃縮水及びフッ酸含有蒸気を生成する濃縮手段とを備えており、
前記水接触手段は、前記濃縮手段で生成されたフッ酸含有蒸気を前記水洗室に導入する蒸気導入ラインと、前記蒸気導入ラインを介して前記水洗室に導入されたフッ酸含有蒸気を前記水洗室に貯留される被処理液に接触させて溶解させる溶解手段とを備えるフッ酸排水処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ酸排水の処理方法及びフッ酸排水処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶などの電子部品の製造工程で排出されるフッ酸を含む排水は、一般に濃度が低く再利用が困難であるため、中和処理及び沈殿処理により汚泥を生成して分離した後、放流することが通常行われていた。ところが、このような方法では、沈殿や脱水に要する設備スペースが過大になるだけでなく、多量の廃棄物が生じるという問題があった。
【０００３】
そこで、フッ酸を含むフッ酸排水からフッ酸を回収して再利用することができる排水処理装置が特許文献１に開示されている。この排水処理装置は、図２に示すように、濃縮装置１０１と水接触装置１０２とを備えており、排水供給ライン１０３を介してフッ酸排水を濃縮装置１０１に供給し、当該濃縮装置１０１においてフッ酸排水を蒸発濃縮することによりフッ酸の濃縮水の生成及び回収を行うと共に、濃縮装置１０１で生成されるフッ酸含有蒸気を水接触装置１０２に導入し、散布装置１０４で散布される溶解用水の液滴にフッ酸含有蒸気を接触させて溶解させることにより、フッ酸含有蒸気に含まれるフッ酸ガスを水接触装置１０２に貯留される溶解用水中に移行させるというものである。水接触装置１０２に貯留されるフッ酸が溶解した溶解用水は、濃縮装置１０１から濃縮水を回収した後、濃縮処理再開時において、戻しライン１０７を介して水接触装置１０２から濃縮装置１０１に移され、排水供給ライン１０３を介して濃縮装置１０１に供給されるフッ酸排水と共に蒸発濃縮される。
【特許文献１】特開２００５−１６１２４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、上記特許文献１に開示された排水処理装置を用いてフッ酸排水の処理を行った場合、特に希薄なフッ酸排水からのフッ酸の回収効率が十分ではないという問題があり、改良の余地があった。
【０００５】
本発明は、このような問題を解決すべくなされたものであって、フッ酸排水を高効率で再利用可能に処理することができるフッ酸排水の処理方法及びフッ酸排水処理装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は、フッ酸を含むフッ酸排水を再利用可能に処理する方法であって、水洗室にフッ酸排水を供給して、フッ酸排水を含む被処理液を貯留する貯留ステップと、前記水洗室に貯留された被処理液を蒸発室に供給する供給ステップと、前記蒸発室に供給された被処理液を蒸発濃縮する濃縮ステップと、前記濃縮ステップで生成された濃縮水を前記蒸発室から回収する回収ステップと、前記濃縮ステップで生成されたフッ酸含有蒸気を前記水洗室に導入し、前記水洗室に貯留された被処理液に接触させて溶解させる溶解ステップとを備えるフッ酸排水の処理方法により達成される。
【０００７】
このフッ酸排水の処理方法において、前記貯留ステップは、前記回収ステップの後、前記水洗室に貯留されている被処理液の全量を前記蒸発室に供給するステップと、前記水洗室に純水を貯留するステップとを備えることが好ましい。
【０００８】
また、フッ酸排水のフッ酸濃度は、０．０１〜３ｗｔ％であることが好ましい。
【０００９】
また、本発明の上記目的は、フッ酸を含むフッ酸排水を再利用可能に処理するフッ酸排水処理装置であって、フッ酸排水が供給され、フッ酸排水を含む被処理液を貯留する水洗室を有する水接触手段と、前記水洗室から供給される被処理液を蒸発濃縮することにより濃縮水及びフッ酸含有蒸気を生成する濃縮手段とを備えており、前記水接触手段は、前記濃縮手段で生成されたフッ酸含有蒸気を前記水洗室に導入する蒸気導入ラインと、前記蒸気導入ラインを介して前記水洗室に導入されたフッ酸含有蒸気を前記水洗室に貯留される被処理液に接触させて溶解させる溶解手段とを備えるフッ酸排水処理装置により達成される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、フッ酸排水を高効率で再利用可能に処理することができるフッ酸排水の処理方法及びフッ酸排水処理装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。
【００１２】
図１は、本発明の一実施形態に係るフッ酸排水の処理方法に用いるフッ酸排水処理装置を示す概略構成図である。このフッ酸排水処理装置１は、図１に示すように、濃縮装置１０と水接触装置２０とを備えている。
【００１３】
濃縮装置１０は、例えばフラッシュ式蒸発濃縮装置であり、被処理液を収容する蒸発室１１を備える蒸発缶１２と、蒸発缶１２に収容された被処理液を加熱し蒸発させる加熱装置１３と、被処理液の蒸発濃縮により生成された濃縮水を回収する濃縮水回収ライン１６とを備えている。
【００１４】
加熱装置１３は、蒸発缶１２内の被処理液が循環ライン１７に設けた加熱器１４を通過するように構成され、加熱器１４で加熱された被処理液は、減圧下においてノズル１５を介して蒸発缶１２内に散布される。このノズル１５は、循環ライン１７の先端に設けられている。濃縮水回収ライン１６又は循環ライン１７における排水の搬送は第１ポンプ１８によって行われ、各ラインの切り替えは切替弁１９の手動操作又は自動操作によって行われる。
【００１５】
水接触装置２０は、例えば、スプレー式、充填塔式、トレー式など各種の水接触装置を使用することができる。水接触装置２０は、被処理液を貯留する水洗室２１を備える水洗塔２２と、電子部品工場などで排出されたフッ酸排水を水洗塔２２に供給する排水供給ライン２３と、蒸発缶１２で生じた蒸気を水洗塔２２に導入する蒸気導入ライン２４と、水洗塔２２に貯留される被処理液を散布する散布装置２５と、水洗塔２２内の被処理液を濃縮装置１０の蒸発缶１２に供給する被処理液供給ライン２６と、水洗塔２２に供給された蒸気を図示しない凝縮器に導く蒸気排出ライン２７とを備えている。
【００１６】
散布装置２５は、散布ライン２８を介して水洗塔２２内の被処理液を上方へ搬送し、散布ライン２８の先端に設けた散布ノズル２９から散布することにより、水洗塔２２内の蒸気をミスト状の微小液滴に溶解させることができるように構成されている溶解手段である。被処理液供給ライン２６又は散布ライン２８における被処理液の搬送は第２ポンプ３０によって行われる。また、被処理液供給ライン２６を通過する被処理液の液量は、図示しない流量調整弁によって調整されている。
【００１７】
次に、以上の構成を備えたフッ酸排水処理装置１を用いてフッ酸排水を再利用可能に処理する方法を説明する。処理開始時においては、予め所定量のフッ酸排水を蒸発缶１２に供給しておく。また、予め所定量の純水を図示しない水供給ラインから水洗塔２２に供給しておく。
【００１８】
そして、排水供給ライン２３を介してフッ酸排水を水洗塔２２に供給し、フッ酸排水を含む被処理液を水洗塔２２に貯留する。処理対象となるフッ酸排水としては、例えば半導体や液晶などの製造工場で排出されるフッ酸排水を例示できる。また、排水供給ライン２３を介しての水洗塔２２へのフッ酸排水の供給は連続的に行い、例えば、水洗塔２２に供給するフッ酸排水の供給液量が、被処理液供給ライン２６を介して水洗塔２２から蒸発缶１２に供給する被処理液の供給液量と略同等となるように図示しない流量調整弁を制御して設定することが好ましい。
【００１９】
次に、水接触装置２０及び濃縮装置１０を作動することにより、水接触装置２０において水洗塔２２に貯留された被処理液のフッ酸濃度を高めつつ濃縮装置１０の蒸発缶１２に被処理液を供給して、濃縮装置１０において被処理液の蒸発濃縮を行う。
【００２０】
具体的に説明すると、水接触装置２０においては、第２ポンプ３０を作動させて水洗塔２２に貯留される被処理液を散布ライン２８に通過させることにより散布ノズル２９から散布すると共に、被処理液供給ライン２６を介して被処理液を濃縮装置１０の蒸発缶１２に連続供給する。散布ノズル２９から被処理液を散布することにより、水洗塔２２内に被処理液の液滴が充満する。後述するように濃縮装置１０により生成されたフッ酸含有蒸気は、蒸気導入ライン２４を通り水洗塔２２に導かれ、水洗塔２２内に充満する被処理液の液滴と接触し、蒸気中に含まれるフッ酸の大部分（水洗塔２２に貯留される被処理液の濃度条件などによって異なるが、例えば６０〜９０％程度）が被処理液に溶解して除去される。この結果、水洗塔２２に貯留される被処理液におけるフッ酸濃度は徐々に増加して、排水供給ライン２３を介して水洗塔２２に供給されるフッ酸排水のフッ酸濃度よりも高い濃度となっていく。
【００２１】
被処理液供給ライン２６を介して蒸発缶１２に供給する被処理液の供給液量は、例えば、濃縮装置１０において蒸発する被処理液の液量と略同等となるように図示しない流量調整弁を制御して設定することが好ましい。また、フッ酸が除去された蒸気であって被処理液中に溶解しなかった蒸気は、水洗塔２２上部に設けられる蒸気排出ライン２７を介して図示しない凝縮器に導かれ、凝縮水に変換されて排出される。
【００２２】
濃縮装置１０においては、被処理液の温度が飽和温度となるように蒸発缶１２の圧力を調整し、第１ポンプ１８を作動させて被処理液が循環ライン１７を通過するように切替弁１９を操作することにより、被処理液を加熱器１４で加熱して、飽和温度よりも５℃程度高い過飽和液にする。この過飽和液は、ノズル１５から散布されて過飽和分が蒸気となり、蒸発缶１２に貯留された被処理液が徐々に濃縮される。なお、蒸気が生成される際において、被処理液に含まれるフッ酸の一部も一緒に蒸発するため、濃縮装置１０で生成される蒸気は、フッ酸含有蒸気となる。蒸発缶１２内の圧力は、飽和温度が４０℃程度の飽和圧力に相当する０．００７４ＭＰａ程度に設定することが好ましい。この場合、缶内液濃度が約３％におけるフッ酸含有蒸気のフッ酸濃度は０．２％程度である。
【００２３】
このように、工場等から排出されるフッ酸排水を水接触装置２０の水洗塔２２に供給しつつ、水洗塔２２に貯留されるフッ酸排水を含む被処理液に濃縮装置１０で生成されるフッ酸含有蒸気を溶解させることにより、被処理液のフッ酸濃度を工場等から排出されるフッ酸排水のフッ酸濃度よりも高める処理を行いながら、当該被処理液を濃縮装置１０に供給して、被処理液の濃縮及びフッ酸含有蒸気の生成を行うというサイクルを繰り返してフッ酸排水の処理を行っていく。
【００２４】
そして、蒸発缶１２における被処理液のフッ酸濃度が所定濃度に達するまで、或いは、所定時間が経過するまで排水処理を行った後、排水供給ライン２３を介しての水洗塔２２へのフッ酸排水の供給を停止する。同時に、被処理液供給ライン２６を介しての蒸発缶１２への被処理液の供給も停止する。
【００２５】
その後、濃縮装置１０において被処理液の濃縮処理を進め、蒸発缶１２における被処理液のフッ酸濃度が所定濃度に達するまで、或いは、所定時間が経過するまで濃縮処理を行い、濃縮処理を終了する。濃縮装置１０において生成されるフッ酸含有蒸気は、水接触装置２０の散布装置２５から散布される被処理液に溶解するため、水洗塔２２に貯留される被処理液のフッ酸濃度は更に上昇することになる。
【００２６】
濃縮処理終了後、切替弁１９を操作して、濃縮水回収ライン１６から濃縮水を排出し回収する。濃縮装置１０から回収される濃縮水のフッ酸濃度は、１０〜３５ｗｔ％が好ましく、１５〜３０ｗｔ％がより好ましい。濃縮水のフッ酸濃度を、例えば上述した所望の濃度範囲に制御することにより、金属の洗浄用など各種用途に再利用することができる。
【００２７】
フッ酸排水の処理を再開する場合には、まず、被処理液供給ライン２６を介して水接触装置２０に貯留されている被処理液の全量を蒸発缶１２に供給する。その後、水接触装置２０の水洗塔２２に所定量の純水を供給する。そして、上述と同様に排水供給ライン２３を介してフッ酸排水を水洗塔２２に連続供給すると共に、被処理液供給ライン２６を介して水洗塔２２に貯留される被処理液を蒸発缶１２に連続供給する。また、水接触装置２０及び濃縮装置１０を作動させてフッ酸排水の処理を行う。
【００２８】
本実施形態に係るフッ酸排水の処理方法によれば、フッ酸排水を水接触装置２０の水洗塔２２に連続的に供給しつつ、水洗塔２２に貯留されるフッ酸排水を含む被処理液に濃縮装置１０で生成されるフッ酸含有蒸気を溶解させることにより、被処理液のフッ酸濃度を工場等から排出されるフッ酸排水のフッ酸濃度よりも高めることができる。そして、フッ酸濃度が高められた被処理液を連続的に濃縮装置１０に供給して当該被処理液の濃縮処理を行っていくため、従来のようにフッ酸排水を直接蒸発缶１２に連続供給して処理を行う場合よりも、フッ酸排水に含まれるフッ酸の回収を高効率で行うことが可能になる。
【００２９】
また、本実施形態に係るフッ酸排水の処理方法においては、水洗塔２２に供給されるフッ酸排水のフッ酸の重量濃度が、例えば０．０１〜３ｗｔ％の範囲の希薄濃度である場合に、散布装置２５から散布される当該フッ酸排水を含む被処理液中に、蒸発缶１２から供給されるフッ酸含有蒸気に含まれるフッ酸ガスを特に効率良く溶解させることができるので、フッ酸排水からフッ酸を高効率で回収することができる。
【００３０】
また、本実施形態においては、フッ酸排水の処理開始時又は処理再開時において、予め水洗塔２２に純水を所定量供給するようにしているが、このようにすることにより、処理開始時又は処理再開時における蒸発缶１２内の被処理液のフッ酸濃度よりも、水洗塔２２内の被処理液のフッ酸濃度を低くすることができる。この結果、フッ酸排水の処理開始直後又は再開直後において、蒸発缶１２から水洗塔２２に供給されるフッ酸含有蒸気に含まれるフッ酸ガスを散布装置２５から散布される被処理液中に効率良く溶解させることができ、蒸気排出ライン２７を介して図示しない凝縮器側に流れるフッ酸ガス量を減少させることが可能になり、効率良くフッ酸の回収を行うことができる。
【００３１】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の具体的な態様は上記実施形態に限定されない。例えば、フッ酸排水の処理開始時または処理再開時において、予め所定量の純水を供給して貯留するようにしているが、純水の代わりに所定量のフッ酸排水を供給するようにしてもよい。
【００３２】
本実施形態に係るフッ酸排水の処理方法の第１の実施例として、図１に示すフッ酸排水処理装置１を用いて、フッ酸濃度が１３．５ｗｔ％の濃縮水を濃縮装置から回収する排水処理を実際に行った。処理されるフッ酸排水の濃度は、９６００ｐｐｍ（０．９６ｗｔ％）である。
【００３３】
フッ酸排水処理装置１の作動時間の内、２１時間を水接触装置２０へのフッ酸排水の給液時間とした。フッ酸排水の処理開始時において、まず、前回のバッチ運転において生成され、水接触装置２０に貯留されている全ての被処理液（フッ酸濃度：２．３ｗｔ、１１００ｋｇ）を蒸発缶１２に供給すると共に、フッ酸排水（フッ酸濃度：９６００ｐｐｍ、９００ｋｇ）を蒸発缶１２に供給する。これにより蒸発缶１２に貯留される被処理液のフッ酸濃度は、１．７ｗｔ％となった。また、水接触装置２０の水洗塔２２には、純水を１１００ｋｇ供給する。
【００３４】
次に、フッ酸排水を５２２ｋｇ／ｈｒの割合で水接触装置２０の水洗塔２２に供給すると共に、当該水洗塔２２に貯留されるフッ酸排水を含む被処理液を散布ノズル２９から散布し、濃縮装置１０から蒸気導入ライン２４を介して供給されるフッ酸含有蒸気を被処理液に溶解させて被処理液のフッ酸濃度を高めながら当該被処理液を蒸発缶１２に供給する。水洗塔２２から蒸発缶１２への被処理液の供給量は、５２２ｋｇ／ｈｒであり、散布ライン２８を介して散布ノズル２９から散布する被処理液の散布量は、１００００ｋｇ／ｈｒとしている。また、濃縮装置１０においては、蒸発缶に貯留される被処理液を加熱器１４で加熱し４８℃の過飽和液にして、ノズル１５から蒸発缶１２内に散布している。蒸発缶１２において蒸発する被処理液の量は、水洗塔２２から蒸発缶１２に供給する被処理液の量と同等となるようにしている。
【００３５】
こうして、２１時間後には、蒸発缶１２内の被処理液のフッ酸濃度が５．５ｗｔ％、水接触装置２０に貯留される被処理液のフッ酸濃度が１．４ｗｔ％となった。ここで、水接触装置２０へのフッ酸排水の供給および蒸発缶１２への被処理液の供給を停止し、蒸発缶１２に貯留される被処理液の蒸発濃縮を２．６時間行った。この結果、蒸発缶１２において、フッ酸濃度が１３．５ｗｔ％の濃縮フッ酸水が７２１ｋｇ生成された。また、水接触装置２０の水洗塔２２には、フッ酸濃度２．３ｗｔ％の被処理液が１１００ｋｇ生成された。
【００３６】
次に、蒸発缶１２における蒸発濃縮を停止し、濃縮フッ酸水の回収を行った。尚、水接触装置２０で生成された被処理液は、翌日の給液時間において、蒸発缶１２に供給される。
【００３７】
このようなフッ酸排水の処理方法におけるフッ酸の回収率を測定したところ、フッ酸排水処理装置１に投入したフッ酸量が１０５ｋｇであるのに対し、回収できたフッ酸量は９７．３ｋｇであり、回収率は９３％と良好であった。
【００３８】
一方、上記第１の実施例に対する比較例として、図２に示す排水処理装置１００を用いて実際に排水処理を行った（第１の比較例）。処理に供されるフッ酸排水の濃度は、上記実施例と同様に９６００ｐｐｍである。
【００３９】
排水処理装置１００の作動時間の内、２１時間を蒸発缶１０５へのフッ酸排水の給液時間とした。フッ酸排水の処理開始時において、まず、前回のバッチ運転において生成され、水接触装置１０２に貯留されている全てのフッ酸溶解液（フッ酸濃度：３．１ｗｔ％、１１００ｋｇ）を蒸発缶１０５に供給すると共に、フッ酸排水（フッ酸濃度：９６００ｐｐｍ、９００ｋｇ）を蒸発缶１０５に供給する。これにより蒸発缶１０５に供給された被処理液の濃度は、２．１ｗｔ％となった。また、水接触装置１０２には、純水を１１００ｋｇ供給する。
【００４０】
次に、フッ酸排水を５２２ｋｇ／ｈｒの割合で蒸発缶１０５に供給しながら、当該蒸発缶１０５において被処理液の蒸発濃縮を行った。また、水接触装置１０２においては、水洗塔１０６に貯留される純水を散布ノズル１０７から散布し、濃縮装置１０１から蒸気供給ライン１０８を介して供給されるフッ酸含有蒸気を純水に溶解させてフッ酸溶解液を生成する処理を行った。
【００４１】
こうして、２１時間後には、蒸発缶１０５内の被処理液のフッ酸濃度が５ｗｔ％、水接触装置１０２に貯留されるフッ酸溶解液のフッ酸濃度が２．３ｗｔ％となった。ここで、排水供給ライン１０３を介しての蒸発缶１０５へのフッ酸排水の供給を停止し、蒸発缶１０５の被処理液の蒸発濃縮を２．６時間行った。この結果、蒸発缶１０５において、フッ酸濃度が１３．５ｗｔ％の濃縮フッ酸水が６４０ｋｇ生成された。また、水接触装置１０２の水洗塔１０６には、フッ酸濃度３．１ｗｔ％のフッ酸溶解液が１１００ｋｇ生成された。
【００４２】
次に、蒸発缶１２における蒸発濃縮を停止し、濃縮フッ酸水の回収を行った。尚、水接触装置１０２で生成されたフッ酸溶解液は、翌日の給液時間において、戻しライン１０７を介して蒸発缶１０５に供給される。
【００４３】
このようなフッ酸排水の処理方法におけるフッ酸の回収率を測定したところ、投入したフッ酸量が１０５ｋｇであるのに対し、回収できたフッ酸量は８６．４ｋｇであり、回収率は８２％であった。
【００４４】
このように、本実施形態に係るフッ酸排水の処理方法によれば、従来の処理方法よりも、フッ酸排水に含まれるフッ酸を高効率で回収することができることが分かる。
【００４５】
また、本実施形態に係るフッ酸排水の処理方法の第２の実施例として、図１に示すフッ酸排水処理装置１を用いて、フッ酸濃度が１５ｗｔ％の濃縮水を濃縮装置から回収する排水処理を実際に行った。処理されるフッ酸排水の濃度は、３０００ｐｐｍ（０．３ｗｔ％）である。
【００４６】
フッ酸排水の処理開始時において、まず、前回のバッチ運転において生成され、水接触装置２０に貯留されている全ての被処理液（フッ酸濃度：１ｗｔ％、４３０ｋｇ）を蒸発缶１２に供給する。また、水接触装置２０には、純水を４３０ｋｇ供給する。
【００４７】
次に、フッ酸排水を１６７ｋｇ／ｈｒの割合で水接触装置２０の水洗塔２２に供給すると共に、当該水洗塔２２に貯留されるフッ酸排水を含む被処理液を散布ノズル２９から散布し、濃縮装置１０から蒸気導入ライン２４を介して供給されるフッ酸含有蒸気を被処理液に溶解させて被処理液のフッ酸濃度を高めながら当該被処理液を蒸発缶１２に供給する。水洗塔２２から蒸発缶１２への被処理液の供給量は、１６７ｋｇ／ｈｒであり、散布ライン２８を介して散布ノズル２９から散布する被処理液の散布量は、３０００ｋｇ／ｈｒとしている。また、濃縮装置１０においては、蒸発缶に貯留される被処理液を加熱器１４で加熱し４８℃の過飽和液にして、ノズル１５から蒸発缶１２内に散布している。蒸発缶１２において蒸発する被処理液の量は、水洗塔２２から蒸発缶１２に供給する被処理液の量と同等となるようにしている。
【００４８】
こうして、２１時間後には、蒸発缶１２内の被処理液のフッ酸濃度が２．５ｗｔ％、水接触装置２０に貯留される被処理液のフッ酸濃度が０．５ｗｔ％となった。ここで、水接触装置２０へのフッ酸排水の供給および蒸発缶１２への被処理液の供給を停止し、蒸発缶１２の被処理液の蒸発濃縮を２．２時間行った。この結果、蒸発缶１２において、フッ酸濃度が１５ｗｔ％の濃縮フッ酸水が５７ｋｇ生成された。また、水接触装置２０には、フッ酸濃度１ｗｔ％のフッ酸溶解液が４３０ｋｇ生成された。
【００４９】
フッ酸の回収率を測定したところ、投入したフッ酸量が１０．５ｋｇであるのに対し、回収できたフッ酸量は８．５５ｋｇであり、回収率は８１％であった。
【００５０】
また、この第２の実施例に対する比較例（第２の比較例）として、図２に示す排水処理装置１００を用いて、３０００ｐｐｍのフッ酸排水の排水処理を行った。
【００５１】
フッ酸排水の処理開始時において、まず、前回のバッチ運転において生成され、水接触装置１０２に貯留されている全てのフッ酸溶解液（フッ酸濃度：１．５ｗｔ、４３０ｋｇ）を蒸発缶１０５に供給する。また、水接触装置１０２には、純水を４３０ｋｇ供給する。
【００５２】
次に、フッ酸排水を１６７ｋｇ／ｈｒの割合で蒸発缶１０５に供給しながら、当該蒸発缶１０５において被処理液の蒸発濃縮を行った。
【００５３】
こうして、２１時間後には、蒸発缶１０５内の被処理液のフッ酸濃度が２．１ｗｔ％、水接触装置１０２に貯留されるフッ酸溶解液のフッ酸濃度が１．１ｗｔ％となった。ここで、蒸発缶１０５へのフッ酸排水の供給を停止し、蒸発缶１０５の被処理液の蒸発濃縮を２．２時間行った。この結果、蒸発缶１０５において、フッ酸濃度が１５ｗｔ％の濃縮フッ酸水が４６ｋｇ生成された。また、水接触装置１０２には、フッ酸濃度１．５ｗｔ％のフッ酸溶解液が４３０ｋｇ生成された。
【００５４】
フッ酸の回収率を測定したところ、投入したフッ酸量が１０.５ｋｇであるのに対し、回収できたフッ酸量は６．９ｋｇであり、回収率は６６％であり、本実施形態に係るフッ酸排水の処理方法によれば、フッ酸を高効率で回収することができることが分かる。
【００５５】
また、上記第１の実施例及び第１の比較例、並びに、第２の実施例及び第２の比較例を比較すると、処理対象であるフッ酸排水のフッ酸濃度が低い場合（第２の実施例及び第２の比較例）の方が、本実施形態に係る処理方法によるフッ酸回収率と、従来の処理方法によるフッ酸回収率との差が大きくなっており、本実施形態に係る処理方法が、より低濃度のフッ酸排水を処理する場合に特に有効であることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施形態に係るフッ酸排水の処理方法に用いるフッ酸排水処理装置を示す概略構成図である。
【図２】従来のフッ酸排水の処理方法に用いる排水処理装置を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００５７】
１    フッ酸排水処理装置
１０  濃縮装置
１１  蒸発室
１２  蒸発缶
１３  加熱装置
１６  濃縮水回収ライン
２０  水接触装置
２１  水洗室
２２  水洗塔
２３  排水供給ライン
２４  蒸気導入ライン
２５  散布装置
【図１】
0004549289.tif 000002
【図２】
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