(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対の電極とこれら１対の電極の間に挟まれた表示用の有機化合物層とを有する表示素子を製造する為の製造装置において、
スプレイヘッドとインクジェットヘッドが離隔して装備された装置本体を備え、
前記装置本体の下方に配置された一方の電極と装置本体とをスプレイヘッドとインクジェットヘッドの離隔方向へ相対移動可能に構成し、
前記スプレイヘッドにより、一方の電極上に、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第１の溶液を塗布し、前記相対移動を介して、その第１溶液を塗布した直後に、前記インクジェットヘッドにより、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第２の溶液を塗布するように構成されたことを特徴とする表示素子の製造装置。
【請求項２】
前記スプレイヘッドにより塗布された前記第１の溶液が完全に乾燥する前に、前記第２の溶液を塗布することを特徴とする請求項１に記載の表示素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示用の有機化合物を含む表示素子の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイ等の表示装置の分野において、有機発光材料を含む有機ＥＬ層を１対の電極で挟んだ構成を有し、前記有機ＥＬ層に電子及びホール（正孔）を注入して有機ＥＬ層内で再結合させることにより発光する、有機ＥＬ素子が注目されている。ここで、有機ＥＬ層は、ＲＧＢ３色を発光させる為の発光材料や、この発光材料に電子及びホールを輸送する電荷輸送材料、３色の発光材料を互いに電気的に絶縁する隔壁（バンク）等、複数種の有機材料で構成されている。
【０００３】
ここで、フルカラーディスプレイに使用される有機ＥＬ素子においては、前記の有機ＥＬ層を構成する複数種の有機材料のうちの発光材料に関しては、ＲＧＢの３種類の色素に対応する発光材料を溶解させた３種類の溶液を、３原色を発光させる所定の位置に夫々適切に塗り分ける必要があるため、発光層の形成には、インクジェット法（例えば、特許文献１参照）や印刷法等、部分塗り分け性に適した方法が一般的に用いられている。一方、隔壁を形成する場合には、絶縁材料を陽極上にできるだけ均一な厚さになるように塗布する必要があるため、真空蒸着法やスピンコート法等、均一な厚さで平滑的に塗布するのに適した方法により形成するのが望ましい。
【０００４】
ところで、本願出願人は、絶縁材料を陽極上に平滑的に塗布した後に、この絶縁層の上に、絶縁層を溶解する溶媒と発光材料とを有するインクを塗布し、インクが塗布された部分の絶縁層を溶媒で溶かして隔壁を形成する、有機ＥＬディスプレイの製造方法を提案している（例えば、特許文献２参照）。この製造方法によれば、平滑的な絶縁層の上にインクを塗布するだけで隔壁を形成することができるため、隔壁の形成の為の、露光やエッチング等の独立した工程が不要となる。
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報（第３頁、図１−２）
【特許文献２】特開２００３−８６３６６号公報（第３−９頁、図４−５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、有機ＥＬ層を構成する複数種の有機材料を夫々異なる方法で電極上に塗布する場合には、夫々の塗布工程の間で次の工程の準備等のために、ある程度の時間が経過してしまうことが多い。すると、その間に、先に塗布された有機材料の表面が酸化されて、その上に塗布された有機材料との間の界面に酸化物等が形成されてしまうなど、有機ＥＬ素子に素子欠陥が生じて素子寿命が低下する虞がある。
【０００６】
特に、本願出願人が提案している前記特許文献２の方法により隔壁を形成する場合には、真空蒸着法あるいはスピンコート法等により絶縁層を形成した後にインクジェット法等によりインクを塗布するときに、絶縁層が形成されてからインクを塗布するまでに所定以上の時間が経過すると、絶縁層表面が乾燥してしまうが、その経過した時間によって絶縁層の乾燥度合が異なる。この乾燥度合を制御するのは実際には困難であるため、インク中の溶媒により絶縁層を溶解させて形成したときの隔壁の形状がばらついてしまう虞がある。
本発明の目的は、機能又は性質の異なる表示用の有機化合物の層を形成する為の２種類の溶液を夫々の溶液に適した方法で連続的に電極上に塗布すること、有機化合物層内での素子欠陥の生成を極力防止すること、等である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１の表示素子の製造装置は、１対の電極とこれら１対の電極の間に挟まれた表示用の有機化合物層とを有する表示素子を製造する為の製造装置において、スプレイヘッドとインクジェットヘッドが離隔して装備された装置本体を備え、前記装置本体の下方に配置された一方の電極と装置本体とをスプレイヘッドとインクジェットヘッドの離隔方向へ相対移動可能に構成し、前記スプレイヘッドにより、一方の電極上に、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第１の溶液を塗布し、前記相対移動を介して、その第１溶液を塗布した直後に、前記インクジェットヘッドにより、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第２の溶液を塗布するように構成されたことを特徴とするものである。
【０００８】
この表示素子の製造装置では、以下のようにして１対の電極の間に表示用の有機化合物層が形成される。即ち、スプレイヘッドにより、一方の電極の上に、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第１の溶液を塗布する。このスプレイヘッド（スプレイ法）においては、溶液をスプレイヘッドから電極に向けて広範囲に噴射するため、成膜性に優れており、スプレイヘッド（スプレイ法）は、電極表面の全面にわたって溶液を均一な厚さで平滑的に塗布する場合に非常に有用な方法である。従って、このスプレイヘッドにより第１の溶液を電極に塗布することで、均一な厚さの有機化合物層を容易に形成することができる。
【０００９】
さらに、インクジェットヘッド（インクジェット法）により、相対移動を介して、その第１溶液を塗布した直後に、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第２の溶液を塗布する。このインクジェットヘッド（インクジェット法）は、所定の場所に溶液を塗布する際の、いわゆる塗り分け性に優れた方法であり、例えば、ＲＧＢの３原色を発光させる３種類の発光材料を夫々溶媒に溶解させた３種類の溶液を塗り分ける際などに、非常に有用な方法である。このように、用途や性質の異なる２つの溶液を最適な方法で電極の上に塗布することができる。
【００１０】
ところで、第１の溶液と第２の溶液とを夫々塗布する間に所定以上の時間が経過して、一方の溶液が乾燥した状態でその上に他方の溶液が塗布されてしまうと、第１の溶液と第２の溶液とが十分に混じり合わず、夫々の溶液中の有機化合物が偏析してしまう虞がある。そこで、第１の溶液と第２の溶液とを連続的に塗布して、先に塗布した溶液が完全に乾いてしまう前に、その上に次の溶液を塗布する。尚、第１の溶液を先に塗布する場合、または、第２の溶液を先に塗布する場合の何れにも適用できる。
【００１１】
また、スプレイヘッドにより第１の溶液を塗布した直後に、その上からインクジェットヘッドにより第２の溶液を塗布する。従って、スプレイヘッドにより第１の溶液を電極表面に均一的に塗布した直後に、インクジェットヘッドにより第２の溶液を塗布することで、第１の溶液と第２の溶液とを混じり合わせて、何れか一方が偏析してしまうのを防止することが可能になる。
【００１２】
請求項２の表示素子の製造装置は、請求項１の発明において、前記スプレイヘッドにより塗布された前記第１の溶液が完全に乾燥する前に、前記第２の溶液を塗布することを特徴とするものである。従って、スプレイヘッドにより電極上に塗布されてまだ完全に乾燥していない第１の溶液の上に、インクジェットヘッドにより第２の溶液が塗布されるため、第１の溶液と第２の溶液とを混じり合わせて、何れか一方が偏析してしまうのを防止することが可能になる。
【００１３】
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【発明の効果】
【００１９】
請求項１の発明によれば、スプレイヘッドにより、一方の電極上に、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第１の溶液を塗布し、相対移動を介して、その第１溶液を塗布した直後に、インクジェットヘッドにより、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第２の溶液を塗布するので、機能又は性質の異なる２つの溶液を夫々の溶液に適した方法で電極上に塗布することができる。
【００２０】
さらに、第１の溶液と第２の溶液とを連続的に塗布するため、先に塗布した溶液が完全に乾いてしまう前に次の溶液を塗布することができ、有機化合物の層内に酸化物等の素子欠陥が形成されるのを防止できる。さらに、電極上で各溶液中の有機化合物が混ざり合った状態にすることができるため、各溶液の有機化合物が偏析してしまうのを防止できる。
【００２１】
また、スプレイヘッドにより第１の溶液を塗布した直後に、その上からインクジェットヘッドにより第２の溶液を塗布するので、第１の溶液と第２の溶液を混じり合わせることができ、偏析を防止することもできる。
【００２２】
請求項２の発明によれば、スプレイヘッドにより塗布された第１の溶液が完全に乾燥する前に、第２の溶液を塗布するので、スプレイヘッドにより電極上に塗布されてまだ完全に乾燥していない第１の溶液の上に、インクジェットヘッドにより第２の溶液が塗布されるため、第１の溶液と第２の溶液を混じり合わせることができ、偏析を防止することも可能になる。
【００２３】
【００２４】
【００２５】
【００２６】
【００２７】
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
機能又は性質の異なる表示用の有機化合物の層を形成する為の２種類の溶液を夫々の溶液に適した方法で連続的に電極上に塗布すること、有機化合物層内での素子欠陥の生成を極力防止すること、といった本発明の目的を達成するために、１対の電極とこれら１対の電極の間に挟まれた表示用の有機化合物層とを有する表示素子を製造する為の製造装置において、スプレイヘッドとインクジェットヘッドが離隔して装備された装置本体を備え、前記装置本体の下方に配置された一方の電極と装置本体とをスプレイヘッドとインクジェットヘッドの離隔方向へ相対移動可能に構成し、前記スプレイヘッドにより、一方の電極上に、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第１の溶液を塗布し、前記相対移動を介して、その第１溶液を塗布した直後に、前記インクジェットヘッドにより、溶媒に溶解させた１又は複数種の有機化合物を含む第２の溶液を塗布するように構成することで実現した。
【実施例１】
【００２９】
本発明の実施例について説明する。本実施例は、有機ＥＬディスプレイに使用される有機ＥＬ素子の製造に本発明を適用した一例である。
まず、有機ＥＬディスプレイ１の全体構成を図１を用いて説明する。有機ＥＬディスプレイ１は、ガラス基板２と、そのガラス基板２上に碁盤の目状に配置された複数の有機ＥＬ素子３（表示素子）、電流駆動ＴＦＴ４、水平駆動回路５、垂直駆動回路６及び封止層７を備えている。それぞれの有機ＥＬ素子３は、表示用の有機ＥＬ層１０と、その有機ＥＬ層１０を上下から挟む陽極（ＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）１１）及び陰極１２とを備えている。 
【００３０】
各有機ＥＬ素子３において、陽極であるＩＴＯ１１と陰極１２との間に直流電圧をかけると有機ＥＬ層１０内の発光材料が励起されて発光し、ガラス基板２を透過して、図１における下方に光を照射する。一方、陽極（ＩＴＯ１１）と陰極１２との間の電圧がＯＦＦの時には消光する。 
【００３１】
電流駆動ＴＦＴ４は、個々の有機ＥＬ素子３ごとに１個ずつ設けられており、対応する有機ＥＬ素子３への電流供給を制御するスイッチとして作用する。水平駆動回路５及び上記垂直駆動回路６は、各有機ＥＬ素子３に対応する電流駆動ＴＦＴ４を、オン又はオフとすることにより、各有機ＥＬ素子３の独立発光及び消灯制御を行う。これら電流駆動ＴＦＴ４、水平駆動回路５及び上記垂直駆動回路６は公知の技術であるのでその説明は省略する。
封止層７は、有機ＥＬ素子３、電流駆動ＴＦＴ４、水平駆動回路５、垂直駆動回路６等を上方から覆い、これらを保護するものである。 
【００３２】
次に、本発明の表示素子の製造装置を用いた、有機ＥＬ素子３の製造方法について説明する。
まず、図２-１に示すように、ガラス基板２上にＩＴＯ１１を１５０ｎｍの厚みで蒸着し、陽極を形成する。
そして、図２-２に示すように、ＩＴＯ１１の表面に、露光用のレジストをスピンコート法などの方法で塗布してから、所望の電極パターンをマスク露光する。その後、濃硝酸と濃硫酸の混合液である王水を用いたエッチングにより、露光されていない部分のレジスト及びＩＴＯ１１を除去し、所望の電極パターンを形成する。さらに、電極パターンが形成されたＩＴＯ１１の表面を、中性洗剤洗浄、アセトン洗浄、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）洗浄及びＵＶオゾン洗浄により、順次洗浄する。
【００３３】
次に、隔壁形成用の絶縁層１０ａ及び発光材料を含む発光層１０ｂとを備えた有機ＥＬ層１０を形成する工程について説明する。この工程では、絶縁層１０ａを構成する有機化合物を溶媒に溶解させた第１溶液１５をスプレイ法によりＩＴＯ１１上に塗布し、その直後に、発光層１０ｂを構成する有機化合物を溶媒に溶解させた第２溶液１６をインクジェット法により絶縁層１０ａの上に塗布する。
【００３４】
まず、絶縁層形成用の第１溶液１５は、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）及びポリカーボネートを炭化水素系溶媒に溶解させて作製する。一方、発光層形成用の第２溶液１６は、ホール輸送性ポリマーであるＰＶＫ（ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール））、電子輸送材料としてのＢＮＤ（２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール）、発光材料としてのＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン）を炭化水素系溶媒（テトラリン）に溶解させて作製する。
【００３５】
次に、第１溶液１５をスプレイ法でＩＴＯ１１上に塗布してから、続けて第２溶液１６をインクジェット法で塗布するが、その際に使用する溶液塗布装置２０（表示素子の製造装置）を図３に示す。
この溶液塗布装置２０は、装置本体２１と、この装置本体２１に前後に並べて離隔して設けられたスプレイヘッド２２及びインクジェットヘッド２３とを有し、装置本体２１をガラス基板２に対して相対的に前後（離隔方向）に移動させてスプレイヘッド２２から第１溶液１５を噴出させると同時に、インクジェットヘッド２３から第２溶液１６を滴下させる。
【００３６】
スプレイヘッド２２から第１溶液１５を噴出させる場合には、スプレイヘッド２２に窒素、アルゴン等の不活性ガスを供給し、ＩＴＯ１１に対して第１溶液１５を不活性ガスととともに霧状に噴射して、図２-３に示すように、ＩＴＯ１１上に絶縁層１０ａを形成する。スプレイヘッド２２から噴射される液滴の粒子径は非常に小さく（例えば、数μｍ〜数十μｍ）であるため、絶縁層１０ａを均一の厚さに形成することが容易である。尚、スプレイヘッド２２からＩＴＯ１１までの距離は１．０〜５．０ｃｍ程度である。
【００３７】
このスプレイヘッド２２による第１溶液１５の噴射直後に、インクジェットヘッド２３から第２溶液１６を滴下する。インクジェットヘッド２３は、図４に示すように、圧電素子２３ａを備えた圧電素子方式のインクジェットヘッドであり、ドライバ２３ｃからの信号に応じて、インクジェットヘッド２３に形成されたオリフィス２３ｂから、第２溶液１６の液滴を吐出する。尚、インクジェット法による塗布においてはインクの着弾位置精度を向上させるため、インクジェットヘッド２３からＩＴＯ１１までの距離は、スプレイ法に比べて短く、０．１〜１．０ｍｍ程度としている。また、このように、スプレイ法とインクジェット法でヘッドからＩＴＯ１１までの距離が異なり、第１溶液をスプレイ法で塗布しながら、すぐに第２溶液をインクジェット法で塗布しても、塗布中に夫々の溶液がほとんど干渉することがない。即ち、第１溶液１５と第２溶液１６とをほぼ同時に塗布することが可能となる。
【００３８】
そして、図２-４、図２-５に示すように、第２溶液１６中の溶媒により絶縁層１０ａの一部が溶解し、第２溶液１６がＩＴＯ１１に接触した状態となって発光層１０ｂが形成されると同時に、溶解されなかった絶縁層１０ａの部分が有機ＥＬ層１０を絶縁する隔壁１０ｃとなる。ここで、第１溶液１５の塗布直後に第２溶液１６が滴下されるため、第２溶液１６が絶縁層１０ａ上に塗布されるときには、絶縁層１０ａはまだ完全に乾燥していない状態である。従って、第２溶液１６の溶媒に絶縁層１０ａが容易に溶解して、所望の形状の隔壁１０ｃを形成でき、隔壁１０ｃにより発光層１０ｂを確実に絶縁することができる。
【００３９】
最後に、有機ＥＬ層１０の上に、図２-６に示すように、真空蒸着により、電子注入層としてのＬｉＦ（フッ化リチウム）と、Ａｌの層からなる陰極１２を形成する。ここで、ＬｉＦ層とＡｌ層の厚みは夫々１０Å、１０００Åとし、連続的に積層させる。
【００４０】
以上説明した本発明の表示素子の製造装置を用いた、有機ＥＬ素子の製造方法によれば、次のような効果が得られる。
発光材料を含む第１溶液１５をスプレイ法により塗布するとともに、隔壁１０ｃを形成する為の有機化合物を含む第２溶液１６をインクジェット法により塗布するので、２種類の溶液を夫々の溶液の性質に適した方法で陽極（ＩＴＯ１１）上に塗布することができる。
【００４１】
さらに、スプレイ法により第１溶液１５を塗布した直後であって、絶縁層１０ａが完全に乾いてしまう前に、その上から第２溶液１６をインクジェット法により塗布するので、第２溶液１６の溶媒に絶縁層１０ａが容易に溶解して、所望の形状の隔壁１０ｃを容易に形成でき、発光層１０ｂを隔壁１０ｃにより確実に絶縁することができる。また、有機ＥＬ層１０内に酸化物等の素子欠陥が形成されるのを防止できる。
【００４２】
次に、前記実施例に種々の変更を加えた変更例について説明する。
１］発光層１０ｂに含まれる有機化合物は、前記実施例のものに限られるものではない。まず、発光材料としては、例えば、ペリレン、クンマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ（４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−ジメチルアミノスチリル−４−ピラン）、ＤＣＪＴＢ（４−ジシアノメチレン−６−シーピージュロリジノスチリル−２−ターシャルブチル−４Ｈ−ピラン）、スクアリリウム、アルミニウム錯体等がある
【００４３】
また、ホール輸送材料としては、オキサジアゾール、オキサゾール、トリフェニルメタン、ヒドラゾリン系、アリールアミン系、ヒドラゾン系、スチルベン系等のホール輸送材料があり、具体的には、ＴＰＤ、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’ジフェニルベンジジン）、ＴＡＰＣ（１，１−ビス（ジ４トリルアミノフェニル）−シクロヘキサン）、ＰＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジ（９−フェナントリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン）、ＴＲＰ、ＮＰＢ（α−ＮＰＤの２量体）等がある
【００４４】
さらに、電子輸送材料としては、例えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、アルミニウム錯体等の電子輸送材料があり、具体的には、ｔＢｕ−ＰＢＤ（２−（４−ビフェニル）−５−（パラ−ターシャル−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）、ＴＡＺ（３−（４’−ターシャル−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４''−ビフェニル）−１，２，４−トリアゾール）、ＡｌＱ３（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（III））、ＢＮＤ（２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール）、Ｂｐｈｅｎ（バソフェナントロリン）、Ｐ−ＥｔＴＡＺ（３−（４’−ターシャル−ブチルフェニル）−４−（パラエチルフェニル）−５−（４''−ビフェニル）−１，２，４トリアゾール）等がある。
【００４５】
２］隔壁１０ｃを形成する為の絶縁層１０ａを構成する材料は、前記実施例のものに限られるものではない。例えば、ＰＶＫ、ポリスチレン、ナイロン、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、フッ素樹脂等がある。
【００４６】
３］ＩＴＯ１１の上に、発光層１０ｂ内の発光材料にホールを注入する為のホール注入層を形成してから、前述のように第１溶液１５と第２溶液１６を連続的に塗布するようにしてもよい。この場合、図２-２に示すように、ＩＴＯ１１を所定の電極パターンにパターニングした後、スピンコート法、インクジェット法、あるいは、スプレイ法等の種々の方法により、ＩＴＯ１１の上に塗布乾燥させる。その後、前述したように、有機ＥＬ層１０をスプレイ法及びインクジェット法により形成する。
【００４７】
尚、ホール注入層は水溶性の層であるため、図２-３に示すように、絶縁層１０ａを形成した後に、インクジェット法により第２溶液１６を滴下したときに、油溶性の絶縁層１０ａは第２溶液１６の溶媒に溶解するが、水溶性のホール注入層は溶解しない。ホール注入層を形成する材料としては、ポリエチレンジオキシチオフェンポリスチレンサルフォネート（PEDOT/PSS）、銅フタロシアニン、トリフェニールアミン誘導体などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
４］ＩＴＯ１１上に隔壁１０ｃを形成した後に、前述のホール注入層を形成する有機化合物を含む第１溶液１５をスプレイ法によりＩＴＯ１１上に塗布してホール注入層を形成し、その直後に、発光層１０ｂを形成する発光材料を含む第２溶液１６をインクジェット法により塗布してもよい。この場合には、ホール注入層と発光層１０ｂとの間に酸化物等の素子欠陥が形成されるのを防止することができる。また、水溶性のホール注入層が乾燥している状態で、その上に油性の第２溶液１６を塗布すると、ホール注入層の上で第２溶液１６がはじいてしまい、有機ＥＬ層１０を所定の位置に形成することができなくなってしまうが、第１溶液１５を塗布してすぐに第２溶液１６を塗布することで、ホール注入層が完全に乾く前に第２溶液１６を塗布することになるため、ホール注入層の上に塗布された第２溶液がはじかない。
【００４９】
５］陰極１２の電子注入層を形成する材料としては、前記実施例のＬｉＦの他、酸化リチウム、フッ化セシウム等の他の材料を使用してもよい。
【００５０】
次に、本発明の別の実施例について説明する。
前記実施例は、発光材料と、電荷輸送材料（ホール輸送材料及び電子輸送材料）とを共通の溶媒に溶解させることができる場合についての一例であるが、これら発光材料と電荷輸送材料を共通の溶媒に溶解させることができない場合には、前記実施例（図２-４のインクジェット法による第２溶液１６の塗布）のように、１回の工程で陽極ＩＴＯ１１上に同時に塗布することは困難である。そこで、発光材料と電荷輸送材料を異なる溶媒に溶解させて２種類の溶液を作製して夫々の溶液を陽極ＩＴＯ１１上に塗布することになる。
【００５１】
しかしながら、発光材料と電荷輸送材料を異なる溶液に溶解させて、夫々別々の工程に分けて塗布すると、先に塗布した一方の溶液が完全に乾燥してしまってから他方の溶液を塗布することになってしまい、有機ＥＬ層１０内に酸化物等の素子欠陥が形成されてしまう。さらには、２つの溶液中の有機化合物が混じり合わない状態で塗布されてしまい、例えば、発光材料が偏析してしまうと、電荷輸送材料による発光材料への電荷の輸送が十分に行われなくなるなど、夫々の有機材料が本来の機能を果たすことができなくなる虞がある。
【００５２】
そこで、この別実施例においては、電荷輸送材料を含むホスト材を溶媒に溶解させて作製した成膜性に優れる第１溶液３０をスプレイ法でＩＴＯ１１に塗布した直後、この塗布された第１溶液３０が完全に乾いてしまう前に、発光性に優れた発光材料を含むゲスト材を第１溶液３０の溶媒とは別の溶媒に溶解させて作製した、塗り分け性が要求される第２溶液３１をインクジェット法で塗布する。
【００５３】
別実施例における有機ＥＬ素子３Ａの製造装置について、図５を参照して説明する。
まず、図５-１,図５-２に示すように、前記実施例と同様にして、ガラス基板２上のＩＴＯ１１の表面に露光用のレジストをスピンコート法などの方法で塗布してから、所望の電極パターンを形成する。さらに、電極パターンが形成されたＩＴＯ１１の表面を同様に洗浄する。
【００５４】
次に、図５-３に示すように、ＰＭＭＡ及びポリカーボネートを炭化水素系溶媒に溶解させて作製した溶液を、スピンコート法や、前述のスプレイ法、あるいは、インクジェット法等、既存の方法によりＩＴＯ１１上に塗布して絶縁層を形成してから、パターニングされた陽極に対応する位置の絶縁層を光露光により除去し、隔壁１０ｃを形成する。尚、隔壁１０ｃの上面には、次に塗布される第１、第２溶液３０，３１をはじくための被膜処理を施し、一方、隔壁１０ｃの側壁部には、第１、第２溶液３０，３１の溶媒に対する濡れ性を向上させるための被膜処理を施しておく。
【００５５】
この状態で、図５-４に示すように、前記実施例の溶液塗布装置（表示素子の製造装置）を用いて、電荷輸送材料を含む有機化合物（ホスト材）を溶媒に溶解させた第１溶液３０をスプレイ法でＩＴＯ１１に塗布した直後に、図５-５に示すように、発光材料を含む有機化合物（ゲスト材）を別の溶媒に溶解させた第２溶液３１をインクジェット法で塗布し、図５-６に示すように、発光層１０ｂを形成する。尚、ホスト材として用いられる有機化合物としては、ＰＶＫ、ＡＬＱ３、ＴＰＤ、α−ＮＰＤ等があり、ゲスト材として用いられる有機化合物としては、ペリレン、クンマリン、ルブレン、ナイルレッド等があるが、これらの材料に限定されるものではない。
【００５６】
このように、電荷輸送材料を含む第１溶液３０をスプレイ法でＩＴＯ１１に均一な厚さで平滑的に塗布した後、塗布された第１溶液３０が完全に乾燥してしまう前に、発光材料を含む第２溶液３１をインクジェット法により第１溶液３０の上に塗布するので、陽極ＩＴＯ１１上で電荷輸送材料と発光材料とが混ざり合った状態にすることができるため、発光材料が電荷輸送材料の中に偏析するのを防止して、電荷輸送材料により発光材料に電荷が確実に輸送されるように構成できる。
そして、最後に、図５-７に示すように、有機ＥＬ層１０の上に、真空蒸着によりＬｉＦとＡｌの層からなる陰極１２を形成して、有機ＥＬ素子３Ａの製造を完了する。
【００５７】
尚、この別実施例では、第１溶液３０と第２溶液３１とがＩＴＯ１１上で混ざり合う必要があるため、第１溶液３０がスプレイヘッド２２から塗布されてから、第２溶液３１がインクジェットヘッド２３から塗布されるまでの間隔を非常に短くする（ほとんど同時に塗布する）ことが望ましい。ここで、前記実施例の中でも説明したように、スプレイヘッド２２からＩＴＯ１１までの距離と、インクジェットヘッド２３からＩＴＯ１１までの距離はかなり異なるため、第１溶液３０と第２溶液３１とをほとんど同時に塗布しても、夫々の溶液が干渉して飛び散ったりすることはほとんどない。
【００５８】
尚、本発明は以上説明した実施例に限定されるものではなく、当業者であれば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で前記実施例に種々の変更を付加して実施することができ、本発明はそれらの変更例をも包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施例に係る有機ＥＬディスプレイの全体構成図である。
【図２−１】製造工程におけるＩＴＯ蒸着時の有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２−２】製造工程のＩＴＯパターニングにおける有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２−３】製造工程のスプレイ法による絶縁層形成における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２−４】製造工程のインクジェット法による第２溶液塗布における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２−５】製造工程の隔壁形成における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２−６】製造工程の陰極蒸着における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図３】溶液塗布装置の概略構成図である。
【図４】インクジェットヘッドの概略構成図である。
【図５−１】別実施例の製造工程のＩＴＯ蒸着における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図５−２】別実施例の製造工程のＩＴＯパターニングにおける有機ＥＬ素子の断面図である。
【図５−３】別実施例の製造工程の隔壁形成における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図５−４】別実施例の製造工程のスプレイ法による第１溶液塗布における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図５−５】別実施例の製造工程のインクジェット法による第２溶液塗布における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図５−６】別実施例の製造工程の有機ＥＬ層形成における有機ＥＬ素子の断面図である。
【図５−７】別実施例の製造工程の陰極蒸着における有機ＥＬ素子の断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
３，３Ａ  有機ＥＬ素子
１１  ＩＴＯ
１０ｂ  発光層
１０ｃ  隔壁
１２  陰極
１５   第１溶液
１６   第２溶液
３０   第１溶液
３１   第２溶液
【図１】
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【図２−１】
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【図２−２】
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【図２−３】
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【図２−４】
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【図２−５】
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【図２−６】
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【図３】
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【図４】
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【図５−１】
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【図５−２】
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【図５−３】
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【図５−４】
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【図５−５】
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【図５−６】
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【図５−７】
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