(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域に区分された基板を提供する段階であって、前記複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域は、互いに交差する複数のゲートラインとデータラインにより定義され、前記複数の第３画素領域は、境界領域で互いに隣接する第１と第２サブ領域を有する、段階と、
複数の第１ノズルを有する第１ヘッドと複数の第２ノズルを有する第２ヘッドを含むインクジェット方式のシステムを提供する段階であって、前記第１ヘッドの第１ノズルの一部は、前記複数の第３画素領域で前記第２ヘッドの第２ノズルの一部と重なる、段階と、
前記第１ヘッドの複数の第１ノズル及び前記第２ヘッドの複数の第２ノズルを利用して、前記基板の前記複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域上へ有機物溶液を噴射する段階であって、前記複数の第１画素領域及び前記複数の第２画素領域では、それぞれ前記第１ヘッドの一部の第１ノズル及び前記第２ヘッドの一部の第２ノズルを用いて前記有機物溶液が噴射され、前記複数の第３画素領域では、櫛状の有機物溶液パターンを形成するように、前記第１ヘッドの他の第１ノズルを用いて前記基板の前記第１サブ領域上と前記第２ヘッドの他の第２ノズルを用いて前記基板の前記第２サブ領域上へ前記有機物溶液をランダムにかつ交互に噴射する段階と、
前記複数の第１画素領域、前記第２画素領域及び前記第３画素領域上に噴射された有機物溶液を硬化させることによりスペーサを形成する段階と
を含むことを特徴とするスペーサの形成方法。
【請求項２】
前記基板は、アレイ基板であることを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項３】
前記基板は、カラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項４】
前記有機物溶液は、熱により硬化することを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項５】
前記有機物溶液は、紫外線により硬化することを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項６】
前記複数の第１ノズル及び前記複数の第２ノズルは、それぞれ、前記第１ヘッド及び前記第２ヘッドにジグザグに配置されることを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項７】
前記複数の第１ノズルと前記複数の第２ノズルとの間隔が、前記複数の画素領域の各々の間隔と一致するように、前記第１ヘッド及び前記第２ヘッドを前記基板に対して所定の角度で傾ける段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項８】
前記有機物溶液をランダムに噴射する段階は、
前記第１画素領域と前記第２画素領域とのうちいずれか１つの画素領域を基準画素領域として、前記複数の画素領域が配置された行の順序に関係なく、前記基準画素領域の開始位置が異なるように行われることを特徴とする請求項１に記載のスペーサの形成方法。
【請求項９】
オーバーラップ領域の１つの行において、前記基準画素領域の開始位置が決定された場合には、前記１つの行の一方向への残りの画素領域に対して、前記第１ヘッド又は前記第２ヘッドのうち前記基準画素領域に対応する基準ヘッドのノズルを利用して前記有機物溶液を噴射することを特徴とする請求項８に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１０】
前記１つの行において前記基準画素領域の開始位置が決定された場合には、前記１つの行の他方向への残りの画素領域に対して、前記第１ヘッド又は前記第２ヘッドのうち前記基準ヘッドと異なる非基準ヘッドのノズルを利用して前記有機物溶液を噴射することを特徴とする請求項９に記載のスペーサの形成方法。
【請求項１１】
それぞれ複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域に区分された複数のパネル領域を含む第１母基板及び第２母基板を提供する段階であって、前記複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域は、互いに交差する複数のゲートラインとデータラインにより定義され、前記複数の第３画素領域は、境界領域で互いに隣接する第１と第２サブ領域を有する、段階と、
複数の第１ノズルを有する第１ヘッドと複数の第２ノズルを有する第２ヘッドを含むインクジェット方式のシステムを提供する段階であって、前記第１ヘッドの第１ノズルの一部は、前記複数の第３画素領域で前記第２ヘッドの第２ノズルの一部と重なる、段階と、
アレイ基板用の前記第１母基板にアレイ工程を行い、カラーフィルタ基板用の前記第２母基板にカラーフィルタ工程を行う段階と、
前記第１ヘッドの複数の第１ノズル及び前記第２ヘッドの複数の第２ノズルを利用して、前記第１母基板又は前記第２母基板のいずれか一方の母基板の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域上に有機物溶液を噴射する段階であって、前記複数の第１画素領域及び前記複数の第２画素領域では、それぞれ前記第１ヘッドの一部の第１ノズル及び前記第２ヘッドの一部の第２ノズルを用いて前記有機物溶液が噴射され、前記複数の第３画素領域では、櫛状の有機物溶液パターンを形成するように、前記第１ヘッドの他の第１ノズル及び前記第２ヘッドの他の第２ノズルを用いて前記基板の前記第２サブ領域上へ前記有機物溶液をランダムかつ交互に噴射する段階と、
前記複数の第１画素領域、前記第２画素領域及び前記第３画素領域上に噴射された有機物溶液を硬化させることによりスペーサを形成する段階と、
前記第１母基板及び前記第２母基板を貼り合わせて単一母基板を形成する段階と、
前記単一母基板を複数の液晶表示パネルに分離する段階と
を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記単一母基板の上部のパネル領域は、前記カラーフィルタ工程を経てカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板であり、下部のパネル領域は、前記アレイ工程を経て薄膜トランジスタが形成されたアレイ基板であることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記複数のパネル領域は、少なくとも２つの異なるサイズを有することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記有機物溶液は、熱により硬化することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記有機物溶液は、紫外線により硬化することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記複数の第１ノズル及び前記複数の第２ノズルは、それぞれ、前記第１ヘッド及び前記第２ヘッドにジグザグに配置されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記複数の第１ノズルと前記複数の第２ノズルとの間隔が前記複数の画素領域の各々の間隔と一致するように、前記第１ヘッド及び前記第２ヘッドを前記一方の母基板に対して所定の角度で傾ける段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記有機物溶液をランダムに噴射する段階は、
前記第１画素領域と前記第２画素領域とのうちいずれか１つの画素領域を基準画素領域として、前記複数の画素領域が配置された行の順序に関係なく、前記基準画素領域の開始位置が異なるように行われることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
オーバーラップ領域の１つの行において、前記基準画素領域の開始位置が決定された場合には、前記１つの行の一方向への残りの画素領域に対して、前記第１ヘッド又は前記第２ヘッドのうち前記基準画素領域に対応する基準ヘッドのノズルを利用して前記有機物溶液を噴射することを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
前記１つの行において前記基準画素領域の開始位置が決定された場合には、前記１つの行の他方向への残りの画素領域に対して、前記第１ヘッド又は前記第２ヘッドのうち前記基準ヘッドと異なる非基準ヘッドのノズルを利用して前記有機物溶液を噴射することを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット方式を用いたスペーサの形成方法及び液晶表示パネルの製造方法に関し、特に、インクジェット方式でスペーサを形成する際に、カラーフィルタ基板とアレイ基板との間のセルギャップを均一に維持すると共に、複数のヘッド間の境界領域でのムラ不良を改善した新規な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、情報ディスプレイに対する関心及び携帯可能な情報媒体の利用への要求が高くなり、従来のブラウン管（ＣＲＴ）に代わる軽量で薄型のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に対する研究及び商業化が重点的に行われている。
特に、フラットパネルディスプレイのうち、液晶の光学的異方性を利用した液晶表示装置（ＬＣＤ）は、解像度、カラー表示及び画質などに優れているので、ノートブックやデスクトップモニタなどに多く適用されている。
【０００３】
一般的に、液晶表示装置は、マトリクス状に配列された液晶セルに画像情報によるデータ信号を個別に供給し、液晶セルの光透過率を調節することにより、所望の画像を表示可能にしている。
以下、図８を参照しながら、液晶表示装置について詳細に説明する。
図８は、一般的な液晶表示装置の構造を概略的に示す分解斜視図である。
図８において、液晶表示装置は、第１基板であるアレイ基板１０と、第２基板であるカラーフィルタ基板５と、カラーフィルタ基板５とアレイ基板１０との間に形成された液晶層４０とから構成される。
【０００４】
カラーフィルタ基板５は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）色のサブカラーフィルタ７から構成されるカラーフィルタＣと、サブカラーフィルタ７を区分し、液晶層４０を透過する光を遮断するブラックマトリクス６と、液晶層４０に電圧を印加する透明な共通電極８とから構成される。
【０００５】
アレイ基板１０には、縦横に配列されて画素領域Ｐを定義するゲートライン１６及びデータライン１７が形成されている。ここで、ゲートライン１６とデータライン１７との交差領域には、スイッチング素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）Ｔが形成されており、各画素領域Ｐには、画素電極１８が形成されている。
【０００６】
画素領域Ｐは、カラーフィルタ基板５の１つのサブカラーフィルタ７に対応するサブピクセルであり、カラー画像は、赤、緑及び青色の３種類のサブカラーフィルタ７の組み合わせにより得られる。すなわち、赤、緑及び青色の３つのサブピクセルが集まって１つの画素を形成し、薄膜トランジスタＴは、赤、緑及び青色のサブピクセルにそれぞれ接続されている。
【０００７】
このように構成されたカラーフィルタ基板５及びアレイ基板１０は、スペーサ（図示せず）により一定のセルギャップを維持し、カラーフィルタ基板５及びアレイ基板１０の外郭に沿って形成されたシールパターン（図示せず）により貼り合わせられる。
【０００８】
ここで、スペーサを形成する方法としては、比較的単純な工程により、ガラスビーズ（ｂｅａｄ）やプラスチックビーズのような球状スペーサを基板表面にランダムに散布する方式がある。しかし、球状スペーサは、ランダムに散布されるので、その位置を正確に固定することができず、球状スペーサの移動によって配向膜の不良が発生する可能性があり、球状スペーサに隣接した液晶分子間の吸着力により球状スペーサの周辺で光漏れ（ｌｉｇｈｔ  ｌｅａｋａｇｅ）現象が発生する。また、最近は、液晶表示パネルが徐々に大型化していくにつれて、球状スペーサの凝集現象により、精密なセルギャップ維持が難しくなり、画質不良が発生している。
【０００９】
従って、最近では、球状スペーサを使用せずに、カラーフィルタ基板やアレイ基板に対して、フォトリソグラフィ工程により所定位置に直接スペーサパターンを形成する方式が採用されている。この場合、パターン化（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ）スペーサ又は柱状スペーサが使用される。
柱状スペーサを使用した場合には、セルギャップを容易に維持することができ、ブラックマトリクスにより隠れる領域に柱状スペーサを固定して形成できるので、スペーサによる光漏れ発生を防止することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、従来のスペーサの形成方法及び液晶表示パネルの製造方法で使用される柱状スペーサは、有機物質のコーティング、露光、現像及びエッチング段階を経るフォトリソグラフィ工程により形成されるので、工程にかかる時間及びコストが大きいうえ、物理的及び化学的工程により形成されるので、周辺の他の素子に損傷を与える可能性があるという課題があった。
【００１１】
本発明は、上記のような課題を解決するために提案されたもので、フォトリソグラフィ工程より簡単でコスト負担が少なく、インクジェット装置を利用してスペーサを形成することのできるスペーサの形成方法及び液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、インクジェット方式を用いてスペーサを形成する際に、複数のヘッド間の境界領域で発生するムラ不良を改善したスペーサの形成方法及び液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係るスペーサの形成方法は、複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域に区分された基板を提供する段階であって、前記複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域は、互いに交差する複数のゲートラインとデータラインにより定義され、前記複数の第３画素領域は、境界領域で互いに隣接する第１と第２サブ領域を有する、段階と、複数の第１ノズルを有する第１ヘッドと複数の第２ノズルを有する第２ヘッドを含むインクジェット方式のシステムを提供する段階であって、前記第１ヘッドの第１ノズルの一部は、前記複数の第３画素領域で前記第２ヘッドの第２ノズルの一部と重なる、段階と、前記第１ヘッドの複数の第１ノズル及び前記第２ヘッドの複数の第２ノズルを利用して、前記基板の前記複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域上へに有機物溶液を噴射する段階であって、前記複数の第１画素領域及び前記複数の第２画素領域では、それぞれ前記第１ヘッドの一部の第１ノズル及び前記第２ヘッドの一部の第２ノズルを用いて前記有機物溶液が噴射され、前記複数の第３画素領域では、櫛状の有機物溶液パターンを形成するように、前記第１ヘッドの他の第１ノズルを用いて前記基板の前記第１サブ領域上と前記第２ヘッドの他の第２ノズルを用いて前記基板の前記第２サブ領域上へ前記有機物溶液をランダムにかつ交互に噴射する段階と、前記複数の第１画素領域、前記第２画素領域及び前記第３画素領域上に噴射された有機物溶液を硬化させることによりスペーサを形成する段階とを含むことを特徴とする。
また、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、それぞれ複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域に区分された複数のパネル領域を含む第１母基板及び第２母基板を提供する段階であって、前記複数の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域は、互いに交差する複数のゲートラインとデータラインにより定義され、前記複数の第３画素領域は、境界領域で互いに隣接する第１と第２サブ領域を有する、段階と、複数の第１ノズルを有する第１ヘッドと複数の第２ノズルを有する第２ヘッドを含むインクジェット方式のシステムを提供する段階であって、前記第１ヘッドの第１ノズルの一部は、前記複数の第３画素領域で前記第２ヘッドの第２ノズルの一部と重なる、段階と、アレイ基板用の前記第１母基板にアレイ工程を行い、カラーフィルタ基板用の前記第２母基板にカラーフィルタ工程を行う段階と、前記第１ヘッドの複数の第１ノズル及び前記第２ヘッドの複数の第２ノズルを利用して、前記第１母基板又は前記第２母基板のいずれか一方の母基板の第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域上に有機物溶液を噴射する段階であって、前記複数の第１画素領域及び前記複数の第２画素領域では、それぞれ前記第１ヘッドの一部の第１ノズル及び前記第２ヘッドの一部の第２ノズルを用いて前記有機物溶液が噴射され、前記複数の第３画素領域では、櫛状の有機物溶液パターンを形成するように、前記第１ヘッドの他の第１ノズル及び前記第２ヘッドの他の第２ノズルを用いて前記基板の前記第２サブ領域上へ前記有機物溶液をランダムかつ交互に噴射する段階と、前記複数の第１画素領域、前記第２画素領域及び前記第３画素領域上に噴射された有機物溶液を硬化させることによりスペーサを形成する段階と、前記第１母基板及び前記第２母基板を貼り合わせて単一母基板を形成する段階と、前記単一母基板を複数の液晶表示パネルに分離する段階とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、インクジェット方式を用いたスペーサの形成方法及び液晶表示パネルの製造方法において、ヘッド間の境界領域におけるムラ不良を防止して、生産効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１が適用されるアレイ基板の一部を概略的に示す平面図であり、図２は、図１内のＩＩ−ＩＩ’線における液晶表示パネルの構造を概略的に示す断面図である。
なお、実際の液晶表示パネルには、Ｎ個のゲートラインとＭ個のデータラインとが交差しており、Ｍ×Ｎ個の画素が存在するが、各図においては、説明の便宜のために、（ｍ，ｎ）番目の画素のみが示されている。
【００１７】
図１において、（ｍ，ｎ）番目の画素のアレイ基板１１０は、外部の駆動回路（図示せず）から走査信号が印加されるｎ番目のゲートライン１１６ｎと、画像信号が印加されるｍ番目のデータライン１１７ｍと、ゲートライン１１６ｎとデータライン１１７ｍとの交差領域に形成された薄膜トランジスタ（スイッチング素子）と、薄膜トランジスタに接続された画素電極１１８とを含む。
【００１８】
アレイ基板１１０の薄膜トランジスタは、ゲートライン１１６ｎに接続されたゲート電極１２１と、データライン１１７ｍに接続されたソース電極１２２と、画素電極１１８に接続されたドレイン電極１２３とから構成される。
また、薄膜トランジスタは、ゲート電極１２１とソース／ドレイン電極１２２、１２３との間を絶縁するための第１絶縁膜（図示せず）と、ゲート電極１２１に供給されるゲート電圧によりソース電極１２２とドレイン電極１２３との間に伝導チャネル（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｃｈａｎｎｅｌ）を形成する半導体層（図示せず）とを含む。
【００１９】
また、ドレイン電極１２３の上には、コンタクトホール１４０が形成された第２絶縁膜（図示せず）が設けられており、コンタクトホール１４０を介して、ドレイン電極１２３と画素電極１１８とが電気的に接続される。
【００２０】
画素電極１１８の一部は、前段（ｎ−１番目）のゲートライン１１６ｎ−１側に突出してストレージ電極を構成しており、このストレージ電極は、ｎ−１番目のゲートライン１１６ｎ−１の一部と重なって、ストレージキャパシタＣｓｔを形成する。ストレージキャパシタＣｓｔは、画素電極１１８に充電された画素電圧を、次の画素電圧が充電されるまで維持させる役割を果たす。
【００２１】
さらに、アレイ基板１１０の薄膜トランジスタの上部には、インクジェット方式でスペーサ１３０が形成されており、スペーサ１３０は、アレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１０５（図２参照）とを貼り合わせる際に、セルギャップを一定に維持する役割を果たす。
【００２２】
すなわち、図１に示すアレイ基板１１０は、スペーサ１３０及びアレイ基板１１０の外郭に形成されたシールパターン（図示せず）により、図２に示すように、上部のカラーフィルタ基板１０５と貼り合わせられて、液晶表示パネルを構成する。
【００２３】
図２において、カラーフィルタ基板１０５には、ブラックマトリクス１０６と、カラーフィルタ１０７と、共通電極１０８とが形成されている。
ブラックマトリクス１０６は、画素の境界領域にパターニングされて、バックライト（図示せず）から発生した光の漏れを遮断し、隣接する画素の混色を防止する役割を果たす。
【００２４】
カラーフィルタ１０７は、ブラックマトリクス１０６と一部が重なって、単位画素に対応するように形成された赤、緑及び青色のサブカラーフィルタから構成される。
また、図示されないが、ブラックマトリクス１０６及びカラーフィルタ１０７にはオーバーコート層（ｏｖｅｒ  ｃｏａｔ  ｌａｙｅｒ）をさらに形成してもよい。この場合、オーバーコート層は、ブラックマトリクス１０６及びカラーフィルタ１０７の表面を平坦化する役割を果たす。
【００２５】
また、前述したように、カラーフィルタ基板１０５とアレイ基板１１０との間の所定領域には、スペーサ１３０が掲載されており、カラーフィルタ基板１０５とアレイ基板１１０とを貼り合わせる際に、セルギャップを一定に維持させている。
【００２６】
図１及び図２においては、アレイ基板１１０の薄膜トランジスタの上部にスペーサ１３０が形成されているが、これに限定されるものではない。
すなわち、図２内の上部のカラーフィルタ基板１０５のブラックマトリクス１０６の領域内であれば、アレイ基板１１０の他の領域、例えば、ゲートライン１１６ｎ−１、１１６ｎ、データライン１１７ｍ、１１７ｍ＋１の上部でもよく、又はゲートライン１１６ｎ−１、１１６ｎとデータライン１１７ｍ、１１７ｍ＋１との交差領域の上部でもよい。
【００２７】
なお、スペーサ１３０は、インクジェット方式を用いて、カラーフィルタ基板１０５又はアレイ基板１１０の表面に形成されるが、周辺の液晶分子との吸着力が発生した場合も光漏れ現象を防止することができ、また、密集度を正確に制御することができるので、セルギャップの維持に有利である。
【００２８】
また、インクジェット方式のスペーサ１３０は、液状の有機物（有機物溶液）を複数のノズルから噴射した後、熱又は紫外線を使用して硬化させることにより形成されるので、前述した柱状スペーサに比べて、工程が簡単で、コストが低いという利点がある。
さらに、図１及び図２においては、スペーサ１３０が一滴の有機物溶液で形成されているが、これに限定されるものではなく、スペーサ１３０を複数の液滴の有機物溶液で形成してもよい。
【００２９】
図３は、本発明の実施の形態１に関連したスペーサの形成方法を概略的に示す説明図である。
なお、図３においては、図２内の下部に示したアレイ基板１１０にスペーサを形成する場合を示しているが、これに限定されるものではなく、図２内の上部に示したカラーフィルタ基板１０５にスペーサを形成してもよい。
【００３０】
図３において、アレイ基板１１０は、複数の画素領域（図示せず）から構成され、画像が表示される画像表示領域１７０と、パッド部が位置する画像非表示領域１７０’とからなる。
アレイ基板１１０において、それぞれの画素領域は、ゲートライン（例えば、図１内の１１６ｎ）とデータライン（例えば、図１内の１１７ｍ）とが交差することによって定義される領域であり、上部のカラーフィルタ基板（図２内の１０５）の１つのサブカラーフィルタに対応するサブピクセルを示す。
【００３１】
画像表示領域１７０の各画素領域には、インクジェット方式の複数のヘッド１５０Ａ、１５０Ｂを利用してスペーサが形成される。
なお、図３においては、第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂからなる２つのヘッドを利用してアレイ基板１１０にスペーサを形成する場合を例示しているが、これに限定されるものでなく、３つ以上のヘッドを利用してスペーサを形成してもよい。
【００３２】
第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂは、隣接する第１ヘッド１５０Ａの第１ノズル１５５Ａと、第２ヘッド１５０Ｂの第２ノズル１５５Ｂとが重ならないように配置した状態で、アレイ基板１１０の表面にスペーサ用の有機物溶液を噴射してスペーサを形成する。
ここで、第１ヘッド１５０Ａの最後の第１ノズル１５５Ａと、第２ヘッド１５０Ｂの最初の第２ノズル１５５Ｂとは、所定距離だけ離隔配置されている。
【００３３】
第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂは、それぞれ、少なくとも１つ以上の第１ノズル１５５Ａ及び第２ノズル１５５Ｂを備えている。
第１ノズル１５５Ａ及び第２ノズル１５５Ｂは、それぞれ、第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂにジグザグに配置され得る。
【００３４】
また、図３に示すように、第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂは、アレイ基板１１０の横方向に対して、所定の角度で傾斜して有機物溶液を噴射する。
このように、第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂを傾けることにより、第１ヘッド１５０Ａ及び第２ヘッド１５０Ｂにそれぞれ設けられた第１ノズル１５５Ａと第２ノズル１５５Ｂとの間隔を、画像表示領域１７０の各画素領域間の間隔と一致させることができる。
【００３５】
しかしながら、図３に示した方法では、第１ヘッド１５０Ａと第２ヘッド１５０Ｂとの間の不均一な有機物溶液の噴射により、第１ヘッド１５０Ａと第２ヘッド１５０Ｂとの間の境界領域Ｒｇにムラが発生する。
すなわち、第１ヘッド１５０Ａの第１ノズル１５５Ａと、第２ヘッド１５０Ｂの第２ノズル１５５Ｂとから有機物溶液を噴射する際に、境界領域Ｒｇに有機物溶液の密度差が発生する可能性がある。このように、境界領域Ｒｇに有機物溶液の密度差が発生した場合には、境界領域Ｒｇにセルギャップの差が発生して、境界領域Ｒｇが明確に認識される程度の顕著なムラ不良が現れてしまう。
【００３６】
図４は、本発明の実施の形態１に係るスペーサの形成方法を概略的に示す説明図であり、本発明の実施の形態１で使用されるインクジェットヘッドの一部とヘッドによりスペーサが形成されるアレイ基板の一部を示している。
図４に示すように、アレイ基板２１０の画像表示領域は、複数（ｎ×ｍ個）の画素領域２７５から構成されている。ここでは、説明の便宜のため、ｎ×ｍ個の画素領域２７５が形成されたアレイ基板２１０の一部を示す。
【００３７】
また、図４においては、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂからなる２つのヘッドを利用して、アレイ基板２１０の画素領域２７５にスペーサを形成する場合を例示しているが、これに限定されるものでなく、３つ以上のヘッドを利用してスペーサを形成してもよい。また、説明の便宜のため、第１ヘッド２５０Ａの前側の一部と、第２ヘッド２５０Ｂの後側の一部とは、省略されている。
【００３８】
ｎ×ｍ個の画素領域２７５は、前述（図１参照）のように、ｎ個のゲートライン１１６とｍ個のデータライン１１７とが交差して定義される領域であり、上部のカラーフィルタ基板（図２内の１０５）のサブカラーフィルタに対応するサブピクセルを示す。
【００３９】
各画素領域２７５には、インクジェット方式の第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを利用してスペーサが形成される。このとき、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂは、隣接する第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａの一部と、第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂの一部とが重なるように配置した状態で、アレイ基板２００の表面にスペーサ用の有機物溶液を噴射してスペーサを形成する。
【００４０】
ここでは、第１ヘッド２５０Ａの最後から１０番目までの第１ノズル２５５Ａと、第２ヘッド２５０Ｂの最初から１０番目までの第２ノズル２５５Ｂとが重なるように、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂが配置された場合を例示しているが、これに限定されるものではない。すなわち、隣接する第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間において、一部の第１ノズル２５５Ａと第２ノズル２５５Ｂとが重なりさえすれば、第１ノズル２５５Ａと第２ノズル２５５Ｂとが重なる数に関係なく適用され得る。
【００４１】
第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂは、それぞれ複数の第１ノズル２５５Ａ及び第２ノズル２５５Ｂを備えており、第１ノズル２５５Ａ及び第２ノズル２５５Ｂは、それぞれの第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂにジグザグに配置され得る。
【００４２】
また、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂは、アレイ基板２１０の横方向に対して所定の角度で傾斜して有機物溶液を噴射する。この理由は、前述のように、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを傾けることにより、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂにそれぞれ設けられた第１ノズル２５５Ａと第２ノズル２５５Ｂとの間隔を、画像表示領域２７０の各画素領域間の間隔と一致させるためである。
【００４３】
図４のように構成された第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂをアレイ基板２１０の一端から他端まで移動させ、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとから、アレイ基板２１０の表面に有機物溶液を噴射することにより、それぞれの画素領域２７５にスペーサを形成する。
なお、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂをアレイ基板２１０に対して所定方向に移動させる代わりに、アレイ基板２１０が載置されたテーブルやステージ（図示せず）を、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂに対して所定方向に移動させてもよい。
【００４４】
本発明の実施の形態１においては、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間の一部が重なるように２つのヘッドを配置すると共に、両者が重なる境界領域Ｒｏでは、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとから有機物溶液をランダムに不揃いに噴射することにより、櫛状のスペーサパターンを形成する。
これにより、境界領域Ｒｏでの第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間の有機物溶液の密度差によるムラ不良が防止することができる。
【００４５】
以下、図１及び図２と共に、図５Ａ〜図５Ｅを参照しながら、インクジェット方式を用いた本発明の実施の形態１に係るスペーサの形成方法及び液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。
図５Ａ〜図５Ｅは、図４に示した第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを利用したスペーサの形成方法を段階順に示す説明図である。
【００４６】
まず、図５Ａに示すように、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを利用して、アレイ基板２１０の第１ラインの画素領域２７５に有機物溶液を噴射する。
噴射された有機物溶液は、硬化工程を経て、アレイ基板２１０と上部のカラーフィルタ基板（図２内の１０５）との間のセルギャップを維持するスペーサとなるが、有機物溶液の硬化工程は、アレイ基板２１０の全ての画素領域２７５に対する有機物溶液の噴射が終了した後に行われる。
【００４７】
以下、図５Ａ〜図５Ｅにおいて、説明の便宜のために、第１ヘッド２５０Ａにより有機物溶液が噴射されて第１スペーサが形成される画素領域２７５を、第１画素領域２７５Ａと称し、第２ヘッド２５０Ｂにより有機物溶液が噴射されて第２スペーサが形成される画素領域２７５を、第２画素領域２７５Ｂと称する。
【００４８】
アレイ基板２１０の画素領域２７５において第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重ならない領域に対しては、それぞれ、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａを利用して第１スペーサを形成し、第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂを利用して第２スペーサを形成する。
【００４９】
一方、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重なる境界領域Ｒｏにおいては、重なり配置された第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとを制御して、有機物溶液を噴射することにより、第１画素領域２７５Ａと第２画素領域２７５Ｂとが、ランダムに不揃いに配置される。
【００５０】
ここで、第１画素領域２７５Ａと第２画素領域２７５Ｂとが、境界領域Ｒｏでランダムに配置されるということは、例えば第２画素領域２７５Ｂを基準とすれば、境界領域Ｒｏにおいて、第２画素領域２７５Ｂの開始位置がランダムであるということを意味する。
【００５１】
すなわち、境界領域Ｒｏにおいては、第２画素領域２７５Ｂの開始位置がそれぞれの行において異なるので、後述するように、櫛状のスペーサパターンが形成される。
例えば、１つの行において第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定された場合、その１つの行の右方向の残りの画素領域２７５は、第２画素領域２５５Ｂとして決定され、１つの行の右方向の残りの画素領域２７５に対して、第２ヘッド２５０Ｂによる有機物溶液の噴射が行われる。
【００５２】
本発明の実施の形態１においては、図５Ａに続いて、図５Ｂに示すように、第２ヘッド２５０Ｂの１番目の第２ノズル２５５Ｂから、９×１番目の画素領域２７５に有機物溶液を噴射して、第１行目における第２画素領域２７５Ｂの開始位置を決定する場合、第２ヘッド２５０Ｂの２番目の第２ノズル２５５Ｂと３番目の第２ノズル２５５Ｂとから、それぞれ１０×１番目の画素領域２７５と１１×１番目の画素領域２７５とに有機物溶液を噴射して、第２画素領域２７５Ｂ（灰色画素部を参照）を形成する。
【００５３】
一方、第１ヘッド２５０Ａにより第１スペーサが形成される第１画素領域２７５Ａは、１×１番目、２×１番目、３×１番目、及び１×２番目の画素領域２７５（ドット画素部を参照）となる。また、第２ヘッド２５０Ｂにより第２スペーサが形成される第２画素領域２７５Ｂは、上記のように、９×１番目、１０×１番目及び１１×１番目の画素領域２７５となる。
【００５４】
図５Ｂの段階では、第２行目の境界領域Ｒｏには、まだ第２画素領域２７５Ｂが存在しないが、これは、第２ヘッド２５０Ｂを利用した境界領域Ｒｏでの有機物溶液の噴射がランダムに行われるので、第２行目の境界領域Ｒｏでは、第２画素領域２７５Ｂの開始位置がまだ決定されていないからである。
【００５５】
その後、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂによる有機物溶液の噴射が継続されると、図５Ｃに示すように、１×１〜８×１番目、１×２〜６×２番目、１×３〜４×３番目、及び１×４〜２×４番目の画素領域２７５は、第１スペーサが形成される第１画素領域２７５Ａとなり、９×１〜１７×１番目、１４×２番目、及び１２×３番目の画素領域２７５は、第２スペーサが形成される第２画素領域２７５Ｂとなる。
【００５６】
このとき、境界領域Ｒｏにおいては、第２ヘッド２５０Ｂの６番目の第２ノズル２５５Ｂから有機物溶液の噴射が行われて、第２行目における第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定される。また、第２ヘッド２５０Ｂの４番目の第２ノズル２５５Ｂから有機物溶液の噴射が行われて、第３行目における第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定される。
【００５７】
このように、第２行目と第３行目における第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定された場合、各行の右方向の残りの画素領域２７５は、第２画素領域２５５Ｂとして決定され、右方向の残りの画素領域２７５に対しては、第２ヘッド２５０Ｂによる有機物溶液の噴射が行われる。
【００５８】
また、第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定された所定の行では、その開始位置を基準に左側に位置する残りの画素領域２７５は、第１画素領域２７５Ａとして決定され、左方向の残りの画素領域２７５に対しては、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａからの有機物溶液の噴射が行われる。
【００５９】
すなわち、第１行目を例に挙げると、図５Ａのように、９×１番目の画素領域２７５が第２画素領域２７５Ｂの開始位置として決定されると、９×１番目の画素領域２７５Ｂの左側に位置する残りの１×１〜８×１番目の画素領域２７５は、第１スペーサが形成される第１画素領域２７５Ａとなる。
【００６０】
以下、図５Ｄ及び図５Ｅに示すように、上記のような工程を第ｍ行まで続けて行うと、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとにより、アレイ基板２１０に第１スペーサが形成される第１画素領域２７５Ａと、第２スペーサが形成される第２画素領域２７５Ｂとが形成される。
このとき、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの一部が重なる境界領域Ｒｏでは、第１スペーサが形成される第１画素領域２７５Ａと、第２スペーサが形成される第２画素領域２７５Ｂとが、ランダムに不揃いに配置されて一種の櫛状となる（図５Ｅ参照）。
【００６１】
その後、画素領域２７５に噴射された有機物溶液を硬化させる工程を行い、第１画素領域２７５Ａに第１スペーサを形成し、第２画素領域２７５Ｂに第２スペーサを形成する。
このように、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重なる所定境界領域Ｒｏに櫛状のスペーサパターンを形成することにより、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間の有機物溶液の密度差により発生するギャップ差が最小となるので、境界領域Ｒｏで発生するムラ不良が最小となる。
すなわち、境界領域Ｒｏで第１画素領域２７５Ａ及び第２画素領域２７５Ｂが櫛状に不揃いに配置されると、その境界が不明確に認知されるので、不良として検出されなくなる。
【００６２】
次に、図１、図２、図４及び図５Ａ〜図５Ｅと共に、図６及び図７を参照しながら、本発明の実施の形態１に係るスペーサの形成方法を用いた液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。
図６は、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法を示すフローチャートであり、液晶注入方式で液晶層を形成する場合の処理手順を示している。
また、図７は、本発明に係る液晶表示パネルの他の製造方法を示すフローチャートであり、液晶滴下方式で液晶層を形成する場合の処理手順を示している。
【００６３】
液晶表示装置の製造工程は、下部のアレイ基板２１０に駆動素子を形成する駆動素子アレイ工程と、上部のカラーフィルタ基板（図２内の１０５）にカラーフィルタを形成するカラーフィルタ工程と、セル工程と、に大別される。
以下、液晶滴下方式で液晶層を形成する場合の液晶表示パネルの製造方法について説明する。
【００６４】
図６において、まず、アレイ工程により、下部基板（下部のアレイ基板２１０）に配列されて画素領域を定義する複数のゲートライン（図１内の１１６）及びデータライン（図１内の１１７）を形成し、それぞれの画素領域にゲートライン及びデータラインに接続する駆動素子（薄膜トランジスタ）を形成する（ステップＳ１０１）。
また、アレイ工程（ステップＳ１０１）においては、薄膜トランジスタに接続され、薄膜トランジスタを介した信号印加によって液晶層を駆動する画素電極（図２内の１１８）を形成する。
【００６５】
一方、上部基板（上部のカラーフィルタ１０５）には、カラーフィルタ工程により、カラーを実現する赤、緑、青のサブカラーフィルタから構成されるカラーフィルタ層と、共通電極（図２内の１０８）とを形成する（ステップＳ１０３）。
なお、横電界（ＩＰＳ：Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置を製造する場合は、アレイ工程（ステップＳ１０１）により、画素電極が形成された下部基板に共通電極を形成する。
【００６６】
次に、ステップＳ１０１、Ｓ１０３に続いて、上部基板及び下部基板にそれぞれ配向膜を塗布した後、上部基板と下部基板との間に形成される液晶層の液晶分子に、配向規制力又は表面固定力（すなわち、プレチルト角（ｐｒｅｔｉｌｔ  ａｎｇｌｅ）及び配向方向）を提供するために、配向膜を配向処理する（ステップＳ１０２、Ｓ１０４）。なお、配向処理方法としては、ラビング又は光配向方法を適用することができる。
【００６７】
続いて、ラビング工程を完了した上部基板及び下部基板に対し、配向膜検査装置により配向膜の不良有無を検査する（Ｓ１０５）。
周知のように、液晶表示パネルは、液晶の電気光学効果を利用するが、この電気光学効果は、液晶自体の異方性と液晶の分子配列状態により決定されるので、液晶の分子配列に対する制御は、液晶表示パネルの表示品位の安定化に大きな影響を及ぼす。
従って、液晶セル工程において、液晶分子をより効果的に配向させるための配向膜形成工程は、画質特性に関連するので非常に重要である。
【００６８】
ステップＳ１０５において、ラビング不良を検査する方法としては、配向膜を塗布した後、その塗布された配向膜の表面のムラ、筋又はピンホールなどの有無を検査する１次検査と、ラビング後にそのラビングされた配向膜表面の均一度及びスクラッチなどの有無を検査する２次検査とがある。
【００６９】
次に、配向膜検査を終了した下部基板に対して、インクジェット方式でノズルから有機物溶液を噴射することにより、セルギャップを一定に維持するためのスペーサを形成し（ステップＳ１０６）、また、上部基板の外郭にシール材を塗布する（ステップＳ１０７）。
その後、下部基板及び上部基板に圧力を加えて、下部基板と上部基板とを貼り合わせる（ステップＳ１０８）。
【００７０】
ところで、下部基板及び上部基板は、大面積の母基板からなるので、上記処理（ステップＳ１０１〜Ｓ１０８）においては、大面積の母基板に複数のパネル領域を形成し、それぞれのパネル領域に駆動素子（薄膜トランジスタ）及びカラーフィルタ層を形成する必要がある。
【００７１】
従って、１つの液晶表示パネルを製造するために、ステップＳ１０８に続いて、大面積の母基板を切断又は加工し（ステップＳ１０９）、それぞれの液晶表示パネルに液晶注入口から液晶を注入し、液晶注入口を封止して液晶層を形成する（ステップＳ１１０）。
最後に、各液晶パネルを検査することにより（ステップＳ１１１）、図６の液晶表示パネル製造工程を終了する。
【００７２】
なお、ステップＳ１１０の液晶注入工程においては、圧力差を利用した真空注入方式を用いる。真空注入方式とは、大面積の母基板から分離された単位液晶表示パネルの液晶注入口を、一定の真空度が設定されたチャンバ内で液晶が充填された容器に浸した後、真空度を変化させて、液晶表示パネルの内部と外部との間に圧力差を発生させることにより、液晶を液晶表示パネルの内部に注入させる方式である。
【００７３】
このように、液晶が液晶表示パネルの内部に充填されると、液晶注入口を密封して液晶表示パネルの液晶層を形成する。従って、液晶表示パネルに真空注入方式で液晶層を形成する場合には、シールパターンの一部が開放されるように形成して、液晶注入口の機能を持たせる必要がある。
【００７４】
しかしながら、真空注入方式には、以下のような問題がある。
第１の問題として、液晶表示パネルに液晶を充填するのに要する時間が非常に長いことがあげられる。
一般に、貼り合わせられた液晶表示パネルは、数百ｃｍ２の面積に対して数μｍ程度のギャップを有するので、圧力差を利用した真空注入方式を適用しても、単位時間当たりの液晶の注入量は非常に小さい。
【００７５】
例えば、約１５インチの液晶表示パネルを製造する場合、液晶を充填するのに約８時間かかるので、液晶表示パネルの製造に長い時間が必要となり、生産性が低下するという問題がある。
また、液晶表示パネルが大型化していくほど、液晶の充填にかかる時間がより長くなると共に、液晶の充填不良が発生するので、液晶表示パネルの大型化に対応することができないという問題がある。
【００７６】
また、真空注入方式の第２の問題として、液晶の消耗が大きいことがあげられる。
一般に、容器に充填された液晶量に比べて、実際に液晶表示パネルに注入される液晶量は非常に小さく、液晶が大気や特定ガスに露出すると、ガスと反応して劣化する。従って、容器に充填された液晶が複数の液晶表示パネルに充填されるとしても、充填後に残留する多量の液晶を廃棄しなければならない。
このように高価な液晶を廃棄することは、液晶表示パネルのコストが上昇するので、製品の価格競争力を低下させる要因となる。
【００７７】
そこで、真空注入方式の問題を克服するために、以下のように滴下方式を適用することも考えられる。
次に、図７を参照しながら、液晶滴下方式で液晶層を形成する場合の処理手順について説明する。
図７において、ステップＳ１０１〜Ｓ１０５は前述（図６参照）と同様の処理である。また、ステップＳ１０７’〜Ｓ１０９’は、前述（図６参照）のステップＳ１０７〜Ｓ１０２に対応し、ステップＳ１１０’は前述（図６参照）のステップＳ１１１に対応している。
【００７８】
図７において、液晶滴下方式を用いた場合は、配向膜検査（ステップＳ１０５）を終了した後、下部基板（アレイ基板２１０）に液晶滴下により液晶層を形成し（ステップＳ１０６’）、上部基板（カラーフィルタ基板１０５）にシール材で所定のシールパターンを形成する（ステップＳ１０７’）。
【００７９】
ステップＳ１０６’における液晶滴下方式は、ディスペンサを利用して複数の下部基板（アレイ基板２１０）が配置された大面積の第１母基板、又は複数の上部基板（カラーフィルタ基板１０５）が配置された第２母基板の画像表示領域に、液晶の滴下及び分配（ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ）を行う方式である。
【００８０】
以下、第１母基板及び第２母基板を貼り合わせる圧力によって、液晶を画像表示領域の全体に均一に分布させることにより、液晶層を形成する。
従って、液晶表示パネルに滴下方式で液晶層を形成する場合は、液晶が画像表示領域の外部に漏れることを防止するために、シールパターンを画素部領域の外郭を囲む閉鎖パターンで形成する必要がある。
【００８１】
このような液晶滴下方式を適用した場合は、真空注入方式に比べて、短時間で液晶を滴下することができ、液晶表示パネルが大型化する場合にも、液晶層を迅速に形成することができる。
また、基板上に液晶を必要量だけ滴下すればよいので、真空注入方式のような高価な液晶の廃棄による液晶表示パネルのコスト上昇を防止し、製品の価格競争力を向上させることができる。
【００８２】
図７のステップＳ１０６’、Ｓ１０７’に続いて、液晶が滴下された下部基板とシール材が塗布された上部基板とを整列した状態で、上部基板および下部基板に圧力を加えて、シール材により下部基板と上部基板を貼り合わせると同時に、その圧力により滴下した液晶をパネルの全体に均一に広げる（ステップＳ１０８’）。
【００８３】
ステップＳ１０８’の上部基板と下部基板との貼り合わせ時において、上部基板や下部基板には、前述のようにインクジェット方式で形成されたスペーサが位置しているので、上部基板と下部基板との間に、一定のセルギャップを維持することができる。
【００８４】
以上の処理工程（ステップＳ１０１〜Ｓ１０８’）により、大面積の母基板（下部基板及び上部基板）には、液晶層が形成された複数の液晶表示パネルが形成される。
【００８５】
最後に、大面積の母基板を、適切な液晶表示パネルの切断方法により加工又は切断して複数の液晶表示パネルに分離し（ステップＳ１０９’）、それぞれの液晶表示パネルを検査することにより（ステップＳ１１０’）、図７の液晶表示パネルの製造工程を終了する。
【００８６】
以上のように、本発明の実施の形態１に係るスペーサの形成方法は、第１画素領域２７５Ａ、第２画素領域２７５Ｂ及び第３画素領域（境界領域Ｒｏ）を含む複数の画素領域に区分される基板（アレイ基板２１０、カラーフィルタ基板１０５）を提供する段階と、第１ヘッド２５０Ａの複数の第１ノズル２５５Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂの複数の第２ノズル２５５Ｂを利用して、基板の第１画素領域２７５Ａ、第２画素領域２７５Ｂ及び第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に有機物溶液を噴射する段階であって、第１ヘッド２５０Ａを利用して第１画素領域２７５Ａに有機物溶液を噴射し、第１ヘッド２５０Ａの一部と重なる第２ヘッド２５０Ｂを利用して第２画素領域２７５Ｂに有機物溶液を噴射し、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを制御して第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に有機物溶液をランダムに噴射する段階と、第１画素領域２７５Ａ、第２画素領域２７５Ｂ及び第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に噴射された有機物溶液を硬化させる段階とを含む。
【００８７】
また、複数の第１ノズル２５５Ａと複数の第２ノズル２５５Ｂとの間隔が、複数の画素領域の各々の間隔と一致するように、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを基板に対して所定の角度で傾ける段階をさらに含む。
【００８８】
第３画素領域は、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重なる境界領域Ｒｏの画素領域である。
有機物溶液は、熱又は紫外線により硬化する。
第１ヘッド２５０Ａは複数の第１ノズル２５５Ａを含み、第２ヘッド２５０Ｂは複数の第２ノズル２５５Ｂを含む。
複数の第１ノズル２５５Ａ及び複数の第２ノズル２５５Ｂは、それぞれ第１ヘッドと第２ヘッドとにジグザグに配置される。
【００８９】
第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に有機物溶液をランダムに噴射する段階は、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重なるオーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）では、複数の第１ノズル２５５Ａ及び複数の第２ノズル２５５Ｂを利用して、有機物溶液をランダムに噴射する段階を含み、これにより櫛状の有機物溶液パターンを形成する。
有機物溶液をランダムに噴射する段階は、第１画素領域２７５Ａと第２画素領域２７５Ｂとのうちいずれか１つの画素領域を基準画素領域として、複数の画素領域が配置された行の順序に関係なく、基準画素領域の開始位置が異なるように行われる。
【００９０】
オーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）の１つの行において、基準画素領域の開始位置が決定された場合には、１つの行の一方向への残りの画素領域に対して、第１ヘッド２５５Ａ又は第２ヘッド２５５Ｂのうち基準画素領域に対応する基準ヘッド（図５Ａにおいては、第２ヘッド２５０Ｂ）のノズルを利用して有機物溶液を噴射する。
１つの行において基準画素領域の開始位置が決定された場合には、１つの行の他方向への残りの画素領域に対して、第１ヘッド２５５Ａ又は第２ヘッド２５５Ｂのうち基準ヘッドと異なる非基準ヘッド（図５Ａにおいては、第１ヘッド２５０Ａ）のノズルを利用して有機物溶液を噴射する。
【００９１】
また、本発明の実施の形態１に係るスペーサの形成方法は、複数の画素領域に区分される基板（アレイ基板２１０、カラーフィルタ基板１０５）を提供する段階と、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを利用して複数の画素領域に有機物溶液を噴射し、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重なるオーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）に対しては、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとから有機物溶液をランダムに噴射する段階と、複数の画素領域に噴射された有機物溶液を硬化させる段階とを含む。
【００９２】
また、第１ノズル２５５Ａと第２ノズル２５５Ｂとの間隔が複数の画素領域の各々の間隔と一致するように、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを基板に対して所定の角度で傾ける段階をさらに含む。
第１ノズル２５５Ａ及び第２ノズル２５５Ｂは、それぞれ第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂにジグザグに配置される。
【００９３】
複数の画素領域に有機物溶液を噴射する段階は、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａを利用して基板の第１領域に有機物溶液を噴射することにより、第１スペーサが形成された第１画素領域２７５Ａを形成する段階と、第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂを利用して基板の第２領域に有機物溶液を噴射することにより、第２スペーサが形成された第２画素領域２７５Ｂを形成する段階と、オーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）に対しては、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとを利用して有機物溶液をランダムに噴射する段階と、有機物溶液をランダムに噴射する段階により、第１スペーサ及び第２スペーサが櫛状パターンに形成されるように、第１画素領域２７５Ａ及び第２画素領域２７５Ｂを形成する段階とを含む。
【００９４】
有機物溶液をランダムに噴射する段階は、複数の画素領域が配置された行の順序に関係なく、第２画素領域２７５Ｂを基準として第２画素領域２７５Ｂの開始位置が異なるように行われる。
オーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）の１つの行において、第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定された場合には、１つの行の一方向への残りの画素領域に対して、第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂを利用して有機物溶液を噴射することにより、第２画素領域２７５Ｂを形成する。
１つの行において第２画素領域２７５Ｂの開始位置が決定された場合には、１つの行の他方向への残りの画素領域に対して、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ａを利用して有機物溶液を噴射することにより、第１画素領域２７５Ａを形成する。
【００９５】
これにより、本発明の実施の形態１によれば、インクジェット方式を用いたスペーサの形成方法において、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間の境界領域Ｒｏにおけるムラ不良を防止して、生産効率を向上させることができる。
【００９６】
一方、本発明の実施の形態１に係る液晶表示パネルの形成方法は、複数の画素領域に区分される複数のパネル領域が配置された第１母基板（アレイ基板２１０）及び第２母基板（カラーフィルタ基板１０５）を提供する段階と、アレイ基板用の第１母基板（アレイ基板２１０）にアレイ工程（ステップＳ１０１）を行い、カラーフィルタ基板用の第２母基板（カラーフィルタ基板１０５）にカラーフィルタ工程（ステップＳ１０２）を行う段階とを含む。
【００９７】
また、本発明の実施の形態１に係る液晶表示パネルの形成方法は、第１ヘッド２５０Ａを利用して第１母基板（アレイ基板２１０）又は第２母基板（カラーフィルタ基板１０５）のいずれか一方の母基板（図５Ａにおいては、アレイ基板２１０）の第１画素領域２７５Ａに有機物溶液を噴射する段階と、第１ヘッド２５０Ａの一部と重なる第２ヘッド２５０Ｂを利用して一方の母基板の第２画素領域２７５Ｂに有機物溶液を噴射する段階とを含む。
【００９８】
また、本発明の実施の形態１に係る液晶表示パネルの形成方法は、第１ヘッド２５０Ａ及び第２ヘッド２５０Ｂを利用して一方の母基板（図５Ａにおいては、アレイ基板２１０）の第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に有機物溶液をランダムに噴射する段階と、第１画素領域２７５Ａ、第２画素領域２７５Ｂ及び第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に噴射された有機物溶液を硬化させる段階と、第１母基板及び第２母基板を貼り合わせて単一母基板を形成する段階（ステップＳ１０８、Ｓ１０８’）と、単一母基板を複数の液晶表示パネルに分離する段階（ステップＳ１０９、Ｓ１０９’）とを含む。
【００９９】
単一母基板の上部のパネル領域は、カラーフィルタ工程（ステップＳ１０３）を経てカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板１０５であり、下部のパネル領域は、アレイ工程（ステップＳ１０１）を経て薄膜トランジスタが形成されたアレイ基板２１０である。
複数のパネル領域は、少なくとも２つの異なるサイズを有する。
【０１００】
第３画素領域（境界領域Ｒｏ）に有機物溶液をランダムに噴射する段階は、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとが重なるオーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）では、第１ヘッド２５０Ａの第１ノズル２５５Ｂと第２ヘッド２５０Ｂの第２ノズル２５５Ｂとを利用して有機物溶液をランダムに噴射する段階を含み、これにより櫛状の有機物溶液パターンを形成する。
【０１０１】
有機物溶液をランダムに噴射する段階は、第１画素領域２７５Ａと第２画素領域２７５Ｂとのうちいずれか１つの画素領域を基準画素領域として、複数の画素領域が配置された行の順序に関係なく、基準画素領域の開始位置が異なるように行われる。
オーバーラップ領域（境界領域Ｒｏ）の１つの行において、基準画素領域の開始位置が決定された場合には、１つの行の一方向への残りの画素領域に対して、第１ヘッド２５０Ａ又は第２ヘッド２５０Ｂのうち基準画素領域に対応する基準ヘッドのノズルを利用して有機物溶液を噴射する。
【０１０２】
また、１つの行において基準画素領域の開始位置が決定された場合には、１つの行の他方向への残りの画素領域に対して、第１ヘッド２５０Ａ又は第２ヘッド２５０Ｂのうち基準ヘッドと異なる非基準ヘッドのノズルを利用して有機物溶液を噴射する。
【０１０３】
さらに、第１母基板及び第２母基板のうちいずれか一方の母基板にスペーサを形成し、他方の母基板にシール材を塗布して、一方の母基板と他方の母基板とを貼り合わせて単一母基板を形成する。
その後、単一母基板を複数の液晶表示パネルに切断した後、液晶表示パネルに液晶を注入する。
【０１０４】
これにより、本発明の実施の形態１によれば、インクジェット方式を用いたスペーサの形成方法に基づく液晶表示パネルの製造方法において、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間の境界領域Ｒｏにおけるムラ不良を防止して、液晶表示パネルの生産効率を向上させることができる。
【０１０５】
一方、本発明の実施の形態１に係る他の液晶表示パネルの形成方法は、第１母基板及び第２母基板のうちいずれか一方の母基板に液晶を滴下し、他方の母基板にシール材を塗布して、一方の母基板と他方の母基板とを貼り合わせて単一母基板を形成する。
これにより、同様に、第１ヘッド２５０Ａと第２ヘッド２５０Ｂとの間の境界領域Ｒｏにおけるムラ不良を防止して、液晶表示パネルの生産効率を向上させることができる。
また、短時間で液晶を滴下することができるので、液晶表示パネルが大型化する場合にも、液晶層がを迅速に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】本発明の実施の形態１が適用されるアレイ基板の一部を概略的に示す平面図である。
【図２】図１内のＩＩ−ＩＩ’線における液晶表示パネルの構造を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に関連したスペーサの形成方法を概略的に示す説明図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係るスペーサの形成方法を概略的に示す説明図である。
【図５Ａ】図４に示すスペーサの形成方法を段階順に示す説明図である。
【図５Ｂ】図４に示すスペーサの形成方法を段階順に示す説明図である。
【図５Ｃ】図４に示すスペーサの形成方法を段階順に示す説明図である。
【図５Ｄ】図４に示すスペーサの形成方法を段階順に示す説明図である。
【図５Ｅ】図４に示すスペーサの形成方法を段階順に示す説明図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る液晶表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図７】本発明の実施の形態１に係る液晶表示パネルの他の製造方法を示すフローチャートである。
【図８】一般的な液晶表示装置の構造を概略的に示す分解斜視図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１０５  基板（カラーフィルタ基板、第２母基板）、１０７  カラーフィルタ、１１０、２１０  基板（アレイ基板、第１母基板）、１３０  スペーサ、２５０Ａ  第１ヘッド、２５０Ｂ  第２ヘッド、２５５Ａ  第１ノズル、２５５Ｂ  第２ノズル、２７５  画素領域、２７５Ａ  第１画素領域、２７５Ｂ  第２画素領域、Ｒｏ  境界領域（第３画素領域、オーバーラップ領域）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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