(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定速度で回動自在の回転円盤と、該回転円盤の上面中央部に突設された角形ウェーハを保持するウェーハ保持部と、該ウェーハ保持部の上方から該角形ウェーハの表面に処理媒体を供給流下せしめる流下ノズルとを有し、該ウェーハ保持部に該角形ウェーハを保持した場合に該角形ウェーハの四辺部の夫々に対応した外方に位置するように回転円盤上に立設された４枚の矯正板を設け、該ウェーハ保持部に該角形ウェーハを保持して前記回転円盤を回転させ且つ処理媒体を該角形ウェーハの表面に流下させた場合に該処理媒体の該角形ウェーハの裏面への回り込みを防止するようにした太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置であって、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向先端が、該保持された角形ウェーハの中心とその対応する四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点とを通る直線に接するか或いはその近傍に位置し且つ該四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点から所定間隔ｄをおいて位置すると共に、該４枚の矯正板の夫々の回転方向後端は、該対応する四辺部の夫々から離間するように所定傾斜角度αをもって傾斜するように該４枚の矯正板を立設し、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向後端が、該角形ウェーハの仮想円周Ｃを超えるように延設され、前記所定間隔ｄが０ｍｍ以上で且つ該角形ウェーハの仮想円周Ｃを超えない長さであり、前記所定傾斜角度αが、５°〜６０°であり、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向先端が、該保持された角形ウェーハの中心とその対応する四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点とを通る直線から０〜２ｍｍ回転方向先方に位置され、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の高さｈ1が、該保持された角形ウェーハの表面高さｈ2よりも０．５ｍｍ以上高く、前記太陽電池用角形ウェーハの表面処理がスピンリンス、スピンエッチング、又はスピン乾燥であることを特徴とする太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置。
【請求項２】
前記４枚の矯正板の夫々の長さＬ1が、前記対応する四辺部の辺の長さＬ2に対して５０％以上の長さを有することを特徴とする請求項１記載の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置。
【請求項３】
前記処理媒体が気体及び／又は液体であることを特徴とする請求項１又は２記載の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池セルに用いられるシリコン単結晶やシリコン多結晶等の角形の半導体ウェーハ（以下、太陽電池用角形ウェーハ或いは単に角形ウェーハという。）の表面を処理媒体、例えば処理液や洗浄液並びに気体によってスピン処理する際に、該角形ウェーハの表面に流下した前記処理媒体の液流又は気流が該角形ウェーハの裏面に回り込むことを防止することのできる装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池セルの製造工程における角形ウェーハの表面処理としては、ダメージ層を除去するためのエッチング処理の他に、各種溶剤の角形ウェーハへの塗布、角形ウェーハ表面の洗浄等がある。従来、この角形ウェーハの表面処理に用いられる装置は、一般的な円形ウェーハの表面処理に用いられる装置と同様のものであり、円形ウェーハをチャックし回転するウェーハ回転保持装置とチャックされた円形ウェーハの上面に必要な処理液（薬液）を供給する処理液供給手段及び円形ウェーハ上面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段等から構成されている（特許文献１）。【０００３】
ここで、図７は、従来のウェーハの表面処理装置を角形ウェーハの表面処理に適用した場合を示す斜視説明図であり、図８は、従来のウェーハの表面処理装置により表面処理がされた角形ウェーハの裏面の状態を示す模式図である。図中、符号１０ａは、従来のウェーハの表面処理装置であり、符号２０は角形ウェーハである。この従来のウェーハの表面処理装置１０ａは、所定速度で回動する回転円盤１２と、その上面中央部に突設された角形ウェーハ２０を保持するウェーハ保持部１４と、その上方から角形ウェーハ２０の表面に処理媒体を供給流下せしめる流下ノズル１６とを備え、回転円盤１２を回転させつつ、流下ノズル１６から処理媒体２２を角形ウェーハ２０に供給流下することによって、角形ウェーハ２０の表面処理を行うようになっている（図７）。また、角形ウェーハ２０は、辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄからなる四辺と、面取りされた隅部２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄからなる四隅とを有している（図８）。【０００４】
しかし、上記のような円形ウェーハの表面処理に用いられる装置と同様の従来のウェーハの表面処理装置１０ａで角形ウェーハ２０を処理した場合、角形ウェーハ２０はその形状が角形（方形）であるために、該角形ウェーハ２０の表面に流下した処理媒体２２の液流Ｆ、例えば処理液や洗浄液の液流及び空気等の気流が該角形ウェーハ２０の辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄで特異な動きをして、それら液体等が該ウェーハの外方へ飛沫Ｓとなって飛散し（図７）、このような角形ウェーハ２０の辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄにおける不整な液流及び気流の影響により、処理液や洗浄液の液流並びに空気等の気流が角形ウェーハ２０の隅部２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄの裏面の回り込み部分Ｂに回り込んでしまう問題が発生していた（図８）。このため、角形ウェーハ２０の裏面に保護膜を形成したり、保護テープを貼付したりすること等により裏面を保護する手段が講じられているが、これらは製造工程の増加と消耗品の発生から、その生産性を低下させる原因となっている。【０００５】
また、本発明者らは、オリエンテーションフラット付きの円形ウェーハの表面処理を行う場合に、該円形ウェーハの表面に流下した処理媒体、例えば処理液や洗浄液の液流並びに空気等の気流がオリフラ部分で特異な動きをし、不整な液流及び気流の影響により、処理液や洗浄液の液流並びに空気等の気流が円形ウェーハの裏面に回り込んでしまう問題が発生していたため、この問題を解決すべく、本発明者らは、回転円盤と、該回転円盤の上面中央部に設けられ且つオリエンテーションフラット付円形ウェーハを保持するウェーハ保持部と、該円形ウェーハの表面に処理媒体を供給流下せしめる流下ノズルと、該ウェーハ保持部に円形ウェーハを保持した場合に該円形ウェーハのオリエンテーションフラット部から離間した状態となるように立設された矯正板とからなり、ウェーハ保持部に該ウェーハを保持して前記回転円盤を回転させ且つ処理媒体を該ウェーハの表面に流下させた場合に該処理媒体の該ウェーハの裏面への回り込みを防止することができるようにしたウェーハの表面処理装置を既に提案した（特許文献２）。しかし、この既提案の装置は、オリエンテーションフラット付きの円形ウェーハには適用できても、太陽電池用角形ウェーハには適用できないものであった。
【特許文献１】特開平８−８８１６８号公報
【特許文献２】特開２００３−８６５５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記した問題点に鑑みなされたもので、太陽電池用角形ウェーハのスピン処理において、ウェーハの表面に流下され四辺部分から該ウェーハの外方へ飛沫となって飛散した処理媒体が該ウェーハの裏面に回り込むことを防止できるようにした太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置は、所定速度で回動自在の回転円盤と、該回転円盤の上面中央部に突設された角形ウェーハを保持するウェーハ保持部と、該ウェーハ保持部の上方から該角形ウェーハの表面に処理媒体を供給流下せしめる流下ノズルとを有し、該ウェーハ保持部に該角形ウェーハを保持した場合に該角形ウェーハの四辺部の夫々に対応した外方に位置するように回転円盤上に立設された４枚の矯正板を設け、該ウェーハ保持部に該角形ウェーハを保持して前記回転円盤を回転させ且つ処理媒体を該角形ウェーハの表面に流下させた場合に該処理媒体の該角形ウェーハの裏面への回り込みを防止するようにした太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置であって、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向先端が、該保持された角形ウェーハの中心とその対応する四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点とを通る直線に接するか或いはその近傍に位置し且つ該四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点から所定間隔ｄをおいて位置すると共に、該４枚の矯正板の夫々の回転方向後端は、該対応する四辺部の夫々から離間するように所定傾斜角度αをもって傾斜するように該４枚の矯正板を立設し、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向後端が、該角形ウェーハの仮想円周Ｃを超えるように延設され、前記所定間隔ｄが０ｍｍ以上で且つ該角形ウェーハの仮想円周Ｃを超えない長さであり、前記所定傾斜角度αが、５°〜６０°であり、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向先端が、該保持された角形ウェーハの中心とその対応する四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点とを通る直線から０〜２ｍｍ回転方向先方に位置され、前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の高さｈ1が、該保持された角形ウェーハの表面高さｈ2よりも０．５ｍｍ以上高く、前記太陽電池用角形ウェーハの表面処理がスピンリンス、スピンエッチング、又はスピン乾燥であることを特徴とする。
【０００８】
前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向先端が、該保持された角形ウェーハの中心とその対応する四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点とを通る直線に接するか或いはその近傍に位置し且つ該四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点から所定間隔ｄをおいて位置すると共に、該４枚の矯正板の夫々の回転方向後端は、該対応する四辺部の夫々から離間するように所定傾斜角度αをもって傾斜するように該４枚の矯正板を立設することが好適である。【０００９】
前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向後端が、該角形ウェーハの仮想円周Ｃを超えるように延設されてなることが好ましい。これにより、角形ウェーハの四辺部から飛沫となって飛散する処理媒体を確実に矯正することができるという利点がある。【００１０】
前記４枚の矯正板の夫々の長さＬ1が、前記対応する四辺部の辺の長さＬ2に対して５０％以上の長さを有するように構成する。【００１１】
前記所定間隔ｄが０ｍｍ以上で且つ該角形ウェーハの仮想円周Ｃを超えない長さであることが好適である。【００１２】
前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の回転方向先端が、該保持された角形ウェーハの中心とその対応する四辺部の夫々の回転方向先端部と回転方向後端部との中点とを通る直線から０〜２ｍｍ回転方向先方に位置されることが好ましい。【００１３】
前記所定傾斜角度αが、０°〜９０°程度とすれば、上記ウェーハの表面上に流下された処理媒体流を矯正可能であり、回転速度によって好ましい傾斜角度αは適宜設定されるが、好ましくは５°〜６０°、最も好ましくは５°〜３５°となるように構成する。【００１４】
前記角形ウェーハを前記ウェーハ保持部に保持した際に、前記４枚の矯正板の夫々の高さｈ1が、該保持された角形ウェーハの表面高さｈ2よりも０．５ｍｍ以上高くなるように構成することが望ましい。角形ウェーハの四辺から飛沫となって飛散する処理媒体を残らず矯正板に当て、上記処理媒体流を確実に矯正するためである。【００１５】
前記太陽電池用角形ウェーハの表面処理としては、スピンリンス、スピンエッチング、スピン乾燥、又はスピンコーティング等を挙げることができる。【００１６】
上記処理媒体としては、気体及び／又は液体、即ち気体単独、例えば空気や、液体単独、例えば純水、薬液等の他に両者を混合して用いることもできる。
【発明の効果】
【００１７】
上記本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置によれば、太陽電池用角形ウェーハのスピン処理において、ウェーハの表面に流下され四辺部分から該ウェーハの外方へ飛沫となって飛散した処理媒体が該ウェーハの裏面に回り込むことを防止できるという優れた効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基いて説明するが、本発明の技術的思想から逸脱しない限り、これらの実施の形態について種々の変更又は変形が可能なことはいうまでもない。【００１９】
図１は、本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置の一例を示す斜視説明図である。図２は、図１の上面説明図である。図３は、本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置に角形ウェーハを保持させた状態を示す斜視説明図である。図４は、図３の上面説明図である。図５は、本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置における角形ウェーハと矯正板との位置関係を示す上面説明図である。図６は、本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置の要部拡大断面説明図である。図中、符号１０は、太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置である。なお、前述した従来例である図７及び図８の場合と同一又は類似の部材や部分には、同一又は類似の符号を付している。【００２０】
本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置１０は、所定速度で回動自在の回転円盤１２と、その上面中央部に突設された角形ウェーハ２０を保持するウェーハ保持部１４と、その上方から角形ウェーハ２０の表面に処理媒体を供給流下せしめる流下ノズル１６と、ウェーハ保持部１４に角形ウェーハ２０を保持した場合に角形ウェーハ２０の四辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄの夫々に対応した外方に位置するように回転円盤１２上に立設された４枚の矯正板１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄとを備え（図１〜図３）、回転円盤１２を回転させつつ、流下ノズル１６から処理媒体２２を角形ウェーハ２０に供給流下するようになっている。また、角形ウェーハ２０は、太陽電池用の角形の半導体ウェーハであり、辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄからなる四辺と、面取りされた隅部２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄからなる四隅とを有している（図４及び図５）【００２１】
回転円盤１２は、適宜必要に応じた所定の速度で回動自在とされている。ウェーハ保持部１４は、所謂ウェーハチャックであり、角形ウェーハ２０を保持可能であれば、特にその方式は限定されないが、静電チャック方式や真空チャック方式等がある。【００２２】
流下ノズル１６は、処理媒体２２をウェーハ２０の表面に供給流下せしめるものであり、流下ノズル１６を、例えば、回転円盤１２に対して垂直方向及び水平方向に移動可能に設けることにより、処理媒体２２の供給の強弱や位置を調節可能な構成とすることも可能である。【００２３】
矯正板１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄは、小片の板状部材であり材質は特に限定されない。矯正板１８ａ〜１８ｄは、ウェーハ保持部１４に角形ウェーハ２０を保持した場合に角形ウェーハ２０の四辺を構成する辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄの夫々に対応した外方に位置するように回転円盤１２上に立設される。【００２４】
即ち、矯正板１８ａを例にとって説明すると、図４によく示される如く、角形ウェーハ２０をウェーハ保持部１４に保持した際に、矯正板１８ａの回転方向先端は、角形ウェーハ２０の中心Ｏと、その辺部２４ａの回転方向先端部と回転方向後端部との中点Ｇとを結んだ直線を外方に延長した直線Ｍ1に接するように立設されている（図４）。【００２５】
また、矯正板１８ａは、辺部２４ａの中点Ｇから所定間隔ｄをおいて立設される。換言すれば、矯正板１８ａは、辺部２４ａと接する線Ｐ1から所定間隔ｄだけ離間したＰ1に平行な線Ｐ2に矯正板１８ａの回転方向先端が位置するように立設されている（図４）。所定間隔ｄとしては、０ｍｍ（矯正板１８ａの回転方向先端が辺部２４ａに接した状態）以上で且つ角形ウェーハ２０の仮想円周部Ｃを超えない長さであればよいが、好ましくは０．２〜１．０ｍｍであり、より好ましくは１ｍｍ程度である。【００２６】
更に、矯正板１８ａは、その回転方向後端が辺部２４ａから離間するように所定の傾斜角度αで傾斜するように立設されている。換言すれば、矯正板１８ａは、辺部２４ａと接する線Ｐ1に平行な線Ｐ2に対して、矯正板１８ａの回転方向後端が傾斜角度αで傾斜する位置に立設されている（図４）。傾斜角度αとしては、０°〜９０°程度とすれば、上記角形ウェーハ２０の表面上に流下された処理媒体流を矯正可能であるが、より好ましくは５°〜６０°、最も好ましくは５°〜３５°程度である。【００２７】
更にまた、該矯正板１８の回転方向後端は、角形ウェーハ２０の仮想円周Ｃを超える（外方に延出する）ように延設される（図４）。これにより、角形ウェーハ２０の四辺部から飛沫となって飛散する処理媒体を外方へ遠ざかるように確実に矯正することができる。【００２８】
なお、図１〜図４では、矯正板１８ａの回転方向先端が直線Ｍ1に接する場合を説明したが、図５に示したように、直線Ｍ1から０〜２ｍｍ回転方向先方に位置するように設けてもよい。換言すれば、矯正板１８ａの回転方向先端の直線Ｍ１から先方へのオフセット幅Ｗを０〜２ｍｍ程度設定するようにしてもよい（図５）。【００２９】
矯正板１８ａの長さＬ1としては、辺部２４ａの長さＬ2の約５０％以上１００％以下程度であることが好ましく（図５）、また、矯正板１８ａの高さｈ1は、図６に示される如く、回転円盤１２に保持されたウェーハ２０の表面高さｈ2よりも高くなるように構成し、好ましくは表面高さｈ2よりも０．５〜３．０ｍｍ程度高くなるようにする（図６）。例えば、ウェーハ２０の表面高さが２．０ｍｍの場合には、矯正板１８ａの高さは２．５〜５．０ｍｍとすればよい。なお、矯正板１８ａの板厚については、特別の限定はないが、０．１〜０．５ｍｍ程度とするのが好適である。【００３０】
上記説明では、４枚の矯正板１８ａ〜１８ｄのうちの矯正板１８ａと、角形ウェーハ２０の辺部２４ａ〜２４ｄのうちの辺部２４ａとを例にとって説明したが、矯正板１８ｂ，１８ｃ，１８ｄと辺部２４ｂ，２４ｃ，２４ｄとについても位置が異なるだけで同様である。【００３１】
このような構成とすれば、角形ウェーハ２０の辺部２４ａ〜２４ｄから角形ウェーハ２０の外方へ飛散した洗浄液や処理液等の処理媒体２２の飛沫は、矯正板１８ａ〜１８ｄに当たってウェーハ２０の外方へ遠ざかるように矯正されるので、処理媒体２２の飛沫が角形ウェーハ２０の近傍に留まって角形ウェーハ２０の裏面に回り込むことがなくなる。【００３２】
上記矯正されて角形ウェーハ２０の外方へと追いやられた洗浄液や処理液等の処理媒体２２は、辺部２４ａ〜２４ｄの影響を受けずに角形ウェーハ２０の外方へと誘導された処理媒体２２と共に、回転円盤１２の遠心力により回転円盤１２の外方へと誘導排出される。このようにして、辺部２４から出た洗浄液又は処理液の飛沫を矯正することにより、該ウェーハ２０の裏面にそれら洗浄液や処理液が回り込んでしまうことを防止することができる。【００３３】
本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置１０の作用をスピンリンス又はスピンエッチングを行う場合を例として説明する。まず、回転円盤１２のウェーハ保持部１４の上面にウェーハ２０を保持させる。次に、回転円盤１２を高速回転させる。この高速回転中のウェーハ２０の表面に流下ノズル１６を近づけて角形ウェーハ２０の表面部分に処理媒体２２としての洗浄液又は処理液を供給流下する（図３）。【００３４】
この供給流下された処理液等の処理媒体２２は高速回転する角形ウェーハ２０の表面に連続的に接触し、リンスやエッチングを行う。このとき、処理媒体２２は回転する角形ウェーハ２０の遠心力により角形ウェーハの回転方向と反対方向の液流を形成し、角形ウェーハ２０の外方へ放射状に誘導されるが、辺部２４ａ〜２４ｄでは処理媒体２２が特異な動きをして角形ウェーハ２０の外方へ飛沫となって飛散する（図３）。【００３５】
上記辺部２４ａ〜２４ｄから角形ウェーハ２０の外方へ飛散した処理媒体２２の飛沫は、角形ウェーハ２０の四辺を構成する辺部２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄの夫々に対応した外方に位置するように回転円盤１２上に立設されている矯正板１８ａ〜１８ｄに当たって角形ウェーハ２０の外方へ遠ざかるように矯正誘導される。従って、処理媒体２２が角形ウェーハ２０の裏面へ回り込むのを防止することができる。【００３６】
例えば、辺部２４ａ〜２４ｄの長さＬ2が約１１０ｍｍである５インチの角形ウェーハ２０であれば、長さＬ1を２５ｍｍ、高さｈ1を２．５〜４．０ｍｍ、板厚を０．２〜０．５ｍｍとした矯正板１８ａ〜１８ｄを用い、回転円盤１２の回転数を２５００ｒｐｍに設定し、間隔ｄを０．２〜１．０ｍｍ、傾斜角度αを１５°〜２０°とし、ウェーハ表面高さｈ2を２ｍｍとする条件でリンスやエッチングを行うことによって角形ウェーハ２０の裏面への処理媒体２２の回り込みを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置の一例を示す斜視説明図である。
【図２】図１の上面説明図である。
【図３】本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置に角形ウェーハを保持させた状態を示す斜視説明図である。
【図４】図３の上面説明図である。
【図５】本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置における角形ウェーハと矯正板との位置関係を示す上面説明図である。
【図６】本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置の要部拡大断面説明図である。
【図７】従来のウェーハの表面処理装置を角形ウェーハの表面処理に適用した場合を示す斜視説明図である。
【図８】従来のウェーハの表面処理装置により表面処理がされた角形ウェーハの裏面の状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０：本発明の太陽電池用角形ウェーハの表面処理装置、１０ａ：従来のウェーハの表面処理装置、１２：回転円盤、１４：ウェーハ保持部、１６：流下ノズル、１８：矯正板、２０：ウェーハ、２２：処理媒体、２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ：辺部、２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ：隅部、Ａ：交点、Ｂ：裏面の回り込み部分、ｄ：矯正板の間隔、Ｆ：ウェーハ上の液流、Ｇ：中点、ｈ1：矯正板の高さ、ｈ2：ウェーハの表面高さ、Ｌ1：矯正板の長さ、Ｌ2：辺部の長さ、Ｍ1，Ｍ2：中心Ｏから中点Ｇを通る直線（中心線），Ｏ：中心、Ｐ1：辺部と接する線、Ｐ2：Ｐ1に平行な線、Ｓ：処理媒体の飛沫、Ｗ：オフセット幅、α：矯正板の傾斜角度。
【図１】
0004510833.tif 000002
【図２】
0004510833.tif 000003
【図３】
0004510833.tif 000004
【図４】
0004510833.tif 000005
【図５】
0004510833.tif 000006
【図６】
0004510833.tif 000007
【図７】
0004510833.tif 000008
【図８】
0004510833.tif 000009