(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
【化１】
0004566907.tif 000055
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１又は２の数を表わし；
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和複素環式基を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、所望によりカルボニル基又はカルボキシ基で中断されたアルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化２】
0004566907.tif 000056
で表わされる基を表わすか、又は、Ｒ3は、Ａと一緒になって、式（１ａ）
【化３】
0004566907.tif 000057
（式中、ｎ2は、１ないし３の数を表わす。）で表わされる２価の基を形成し；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。
］で表わされる化合物。
【請求項２】
（ａ）式（６ａ）
【化１３】
0004566907.tif 000058
で表わされる化合物を脱水し、式（６ｂ）
【化１４】
0004566907.tif 000059
で表わされる化合物とすること、
（ｂ）前記無水物を式（６ｃ1）Ｈ−Ｎ（Ｒ5）−Ｒ3又は式（６ｃ2）Ｈ−Ｏ−Ｒ3で表わされる化合物と反応させ、式（１'）
【化１５】
0004566907.tif 000060
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１又は２を表わし；
ｎ1が１を表わす場合、
Ｒ3は、飽和もしくは不飽和複素環式基を表わし、
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、所望によりカルボニル基又はカルボキシ基で中断されたアルキレン基、シクロアルキレン基又はアルケニレン基を表わし、
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。］で表わされる化合物とすること、
からなる、式（１’）で表される化合物の製造方法。
【請求項３】
紫外線からヒト及び動物の毛及び肌を保護するための請求項１記載の式（１）で表わされる化合物の使用。
【請求項４】
式（１）で表わされる化合物が０．０２ないし２μｍの平均粒子サイズを有する超微粉形態で存在する請求項３記載の使用。
【請求項５】
請求項１記載の式（１）で表わされる少なくとも１種以上の化合物と化粧品的に受容可能な担体又は補助剤を含む化粧品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミノ置換ヒドロキシフェニルベンゾフェノン誘導体、これらの化合物の製造方法、好ましくは、紫外線の損傷からのヒト及び動物の毛の保護のための、これらの紫外線吸収剤としての使用、並びにこれらの化合物を含む化粧品組成物に関する。
【発明の開示】
【０００２】
すなわち本発明は、下記において詳述される内容のものであるが、その特に好ましい態様は次の〔１〕ないし〔５〕に関する。
〔１〕式（１）
【化４２】
0004566907.tif 000002
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１又は２の数を表わし；
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和複素環式基を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、所望によりカルボニル基又はカルボキシ基で中断されたアルキレン基、シクロア
ルキレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化４３】
0004566907.tif 000003
で表わされる基を表わすか、又は、Ｒ3は、Ａと一緒になって、式（１ａ）
【化４４】
0004566907.tif 000004
（式中、ｎ2は、１ないし３の数を表わす。）で表わされる２価の基を形成し；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。］で表わされる化合物。
〔２〕（ａ）式（６ａ）
【化４５】
0004566907.tif 000005
で表わされる化合物を脱水し、式（６ｂ）
【化４６】
0004566907.tif 000006
で表わされる化合物とすること、
（ｂ）前記無水物を式（６ｃ1）Ｈ−Ｎ（Ｒ5）−Ｒ3又は式（６ｃ2）Ｈ−Ｏ−Ｒ3で表わ
される化合物と反応させ、式（１'）
【化４７】
0004566907.tif 000007
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１又は２を表わし；
ｎ1が１を表わす場合、
Ｒ3は、飽和もしくは不飽和複素環式基を表わし、
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、所望によりカルボニル基又はカルボキシ基で中断されたアルキレン基、シクロア
ルキレン基又はアルケニレン基を表わし、
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。］で表わされる化合物とすること、
からなる、式（１’）で表される化合物の製造方法。
〔３〕紫外線からヒト及び動物の毛及び肌を保護するための〔１〕記載の式（１）で表わされる化合物の使用。
〔４〕式（１）で表わされる化合物が０．０２ないし２μｍの平均粒子サイズを有する超微粉形態で存在する〔３〕記載の使用。
〔５〕〔１〕記載の式（１）で表わされる少なくとも１種以上の化合物と化粧品的に受容可能な担体又は補助剤を含む化粧品。
新規化合物は、式
【化１】
0004566907.tif 000008
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１ないし４の数を表わし；
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和複素環式基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；
所望により、１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で置換されたシクロヘキシル基；所望により、複素環式基、アミノカルボニル基又は炭素原子数１ないし５のアルキルカルボキシ基で置換されたフェニル基を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、所望により、カルボニル基又はカルボキシ基で置換されたアルキレン基、シクロ
アルキレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化２】
0004566907.tif 000009
で表わされる基を表わすか、又は、Ｒ3は、Ａと一緒になって、式（１ａ）
【化３】
0004566907.tif 000010
（式中、ｎ2は、１ないし３の数を表わす。）で表わされる２価の基を形成し；
ｎ1が３を表わす場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表わし；
ｎ1が４を表わす場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表わし；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。］で表わされる。
【０００３】
炭素原子数１ないし２０のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、エイコシル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、２−エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル基、シアノエチル基、フェネチル基、ベンジル基、ｐ−第三ブチルフェネチル基、ｐ−第三オクチルフェノキシエチル基、３−（２，４−ジ−第三アミルフェノキシ）−プロピル基、エトキシカルボニルメチル−２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル基又は２−フリルエチル基のような直鎖の又は枝分かれした、不飽和又は飽和アルキル基を表わす。
【０００４】
炭素原子数２ないし２０のアルケニル基は、例えば、アリル基、メタリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル基、３−メチル−ブテ−２−エニル基、ｎ−オクテ−２−エニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基、イソドデセニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基又はｎ−オクタデセ−４−エニル基である。
【０００５】
炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基は、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基又はシクロデシル基、好ましくはシクロヘキシル基である。これらの基は、例えば、１つ以上の同じ又は異なる炭素原子数１ないし４のアルキル基によって、好ましくはメチル基及び／又はヒドロキシ基によって置換され得る。シクロアルキル基が１つ以上の基によって置換される場合、それらは、好ましくは、１つ、２つ又は４つの、好ましくは１つ又は２つの同じもしくは異なる基で置換される。
【０００６】
炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基は、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロノネニル基又はシクロドデセニル基、好ましくはシクロヘキセニル基である。これらの基は、１つ以上の同じ又は異なる炭素原子数１ないし４のアルキル基によって、好ましくはメチル基及び／又はヒドロキシ基によって置換され得る。シクロアルケニル基が１つ以上の基によって置換される場合、それらは、好ましくは、１つ、２つ、３つ又は４つの、好ましくは１つ又は２つの同じもしくは異なる基で置換される。
【０００７】
ヒドロキシ置換炭素原子数１ないし５のアルキル基は、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基又はヒドロキシペンチル基である。
【０００８】
アルキレン基は、好ましくは、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基又はオクチレン基のような炭素原子数１ないし１２のアルキレン基である。
【０００９】
アルキレン基は、所望により、１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で置換され得る。
【００１０】
Ｒ1及びＲ2が複素環式基を表わす場合、これらは、１つ、２つ、３つ又は４つの同じもしくは異なる環へテロ原子を含む。特に好ましいものは、１つ、２つ又は３つ、特に１つ又は２つの同じもしくは異なるヘテロ原子を含む複素環である。複素環は、単環又は多環、例えば、単環、２環又は３環であり得る。それらは、好ましくは、単環又は２環、特に単環である。環は、好ましくは、５、６又は７環員を含む。式（１）又は（２）で表わされる化合物に存在する基が誘導され得る単環及び２環の複素環系の例は、例えば、ピロー
ル基、フラン基、チオフェン基、イミダゾール基、ピラゾール基、１，２，３−トリアゾール基、１，２，４−トリアゾール基、ピリジン基、ピリダジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ピラン基、チオピラン基、１，４−ジオキサン基、１，２−オキサジン基、１，３−オキサジン基、１，４−オキサジン基、インドール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾフラン基、ピロリジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、モルホリン基及びチオモルホリン基である。
【００１１】
好ましいものは、Ｒ1及びＲ2が、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１ないし４の数を表わし；
ｎ1が１を表わす場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和複素環式基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で置換されたシクロヘキシル基を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、アルキレン基、シクロアルキレン基又はアルケニレン基を表わすが、所望により、カルボニル基又はカルボキシ基で中断され；
ｎ1が３を表わす場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表わし；
ｎ1が４を表わす場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表わし；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす、式（１）で表わされる化合物である。
【００１２】
好ましい興味深いものは、Ｒ1及びＲ2が炭素原子数１ないし２０のアルキル基、好ましくは炭素原子数１ないし５のアルキル基；最も好ましくはエチル基を表わす、式（１）で表わされる化合物である。
【００１３】
好ましくは、式（１）におけるＲ1及びＲ2は、同一の定義を有する。
【００１４】
式（１）において、ｎ1が１を表わす場合、Ｒ3が、飽和又は不飽和複素環式基、最も好ましくは飽和複素環式基を表わす化合物が好ましい。
【００１５】
これらの化合物のうち、Ｒ3が、１つ以上のヘテロ原子を有する、５、６又は７環員の単環式基を表わすもの、好ましくはＲ3が、モルホリニル基；ピペラジニル基；ピペリジル基；ピラゾリジニル基；イマダゾリジニル基；又はピロリジニル基を表わすものが好ましい。
【００１６】
ｎ1が１を表わす場合、Ｒ3が、不飽和複素環式基、好ましくは多環式基を表わす、式（１）で表わされる更なる化合物が興味深い。
【００１７】
最も好ましいものは、Ｒ3が、式
【化４】
0004566907.tif 000011
（式中、Ｒ5は、１つ又は２つのヘテロ原子を有する多環式複素芳香族基を表わす。）で
表わされる基を表わす、式（１）で表わされる化合物である。
【００１８】
好ましい興味深いものは、Ｒ3が、式（１ｂ）
【化５】
0004566907.tif 000012
（式中、Ｒ6は、水素原子；又は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）で表わされる基を表わす、式（１）で表わされる化合物である。
【００１９】
ｎ1が２を表わす場合、Ｒ3は、好ましくは、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、最も好ましくは炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わす。
【００２０】
最も好ましいものは、Ｒ3が、式
【化６】
0004566907.tif 000013
（式中、ｒは、０又は１を表わし、ｑは、０ないし５の数を表わす。）で表わされる基を表わす、式（１）で表わされる化合物である。
【００２１】
式（１）において、ｎ1が３を表わす場合、Ｒ3は、好ましくは、式（１ｃ）
【化７】
0004566907.tif 000014
、（１ｄ）
【化８】
0004566907.tif 000015
又は（１ｅ）
【化９】
0004566907.tif 000016
で表わされる基を表わし、
ｐは、０ないし３の数を表わし、
Ｒ1、Ｒ2及びＡは式（１）で定義した通りである。
【００２２】
式（１）において、ｎ1が４を表わす場合、
Ｒ3は、式
【化１０】
0004566907.tif 000017
で表わされる基を表わし、
Ｒ1、Ｒ2及びＡは式（１）で定義した通りである。
【００２３】
本発明の好ましい化合物は、式（２）
【化１１】
0004566907.tif 000018
（式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；又は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わし；
Ａは、−ＮＨ；又は−Ｏ−を表わし；
Ｒ3は、飽和又は不飽和複素環式基を表わす。）で表わされる。
【００２４】
式（３）
【化１２】
0004566907.tif 000019
（式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；又は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わし；
Ａは、−ＮＨ；又は−Ｏ−を表わし；
Ｒ3は、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基を表わす。）で表わされる、本発明の更なる化合物が好ましい。
【００２５】
式（４）
【化１３】
0004566907.tif 000020
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；又は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わし；
Ａは、−ＮＨ；又は−Ｏ−を表わし；
Ｒ3は、
【化１４】
0004566907.tif 000021
（式中、ｐは０ないし３の数を表わす。）を表わす。］で表わされる化合物もまた好ましい。
【００２６】
更に、式（５）
【化１５】
0004566907.tif 000022
（式中、
Ｒ3は、式
【化１６】
0004566907.tif 000023
で表わされる基を表わし；
Ｒ1、Ｒ2及びＡは、式（１）で定義した通りである。）で表わされる化合物が好ましい。
【００２７】
本発明の例示的な化合物は、式
【化１７】
0004566907.tif 000024
【化１８】
0004566907.tif 000025
【化１９】
0004566907.tif 000026
【化２０】
0004566907.tif 000027
【化２１】
0004566907.tif 000028
【化２２】
0004566907.tif 000029
で表わされるものである。
【００２８】
式（１）で表わされる化合物は、例えば、欧州特許第１，０４６，３９１号明細書に記載されたような既知の方法に従って製造され得る。
【００２９】
好ましくは、式（１）で表わされる化合物は、
（ａ）式（６ａ）
【化２３】
0004566907.tif 000030
で表わされる化合物を脱水し、式（６ｂ）
【化２４】
0004566907.tif 000031
で表わされる化合物とすること、
（ｂ）得られた無水物と式（４ｃ1）Ｈ−Ｎ（Ｒ4）−Ｒ3又はＨ−Ｏ−Ｒ3で表わされる化合物を反応させ、式（１’）
【化２５】
0004566907.tif 000032
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1は、１ないし４を表わし；
ｎ1が１を表わす場合、
Ｒ3は、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；未置換の又は１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で置換された炭素原子数３ないし１０のシクロヘキシル基；（Ｙ−Ｏ）pＺ；炭素原子数６ないし１０のアリール基；又は飽和もしくは不飽和複素環式基を表わし、
Ｙは、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基を表わし；
Ｚは、炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わし；
ｐは、１ないし２０の数を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、アルキレン基、シクロアルキレン基又はアルケニレン基を表わすが、所望により、カルボニル基又はカルボキシ基で中断され；
ｎ1が３を表わす場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表わし；
ｎ1が４を表わす場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表わし；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。］で表わされる化合物とすること
によって製造される。
【００３０】
前記製造方法は、本発明の更なる目的である。
【００３１】
好ましくは、式（７）
【化２６】
0004566907.tif 000033
（式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わし；
Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし１２のアルキル基；又は炭素原子数３ないし６のシクロアルキル基を表わす。）で表わされる化合物が、本発明の方法に従って得られ得る。
【００３２】
反応は、通常、２５ないし２００℃の温度、好ましくは室温で行われる。一般的に、溶媒は、この反応工程において必要ではない。しかしながら、溶媒が使用される場合、好ましくは、製造実施例において使用されたような溶媒が好ましい。
【００３３】
式（１）で表わされる化合物は、ｘ−ＨＣｌ−塩として容易に再結晶化され得る。
【００３４】
式（６ｂ’）
【化２７】
0004566907.tif 000034
（式中、Ｒ1’及びＲ2’’は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成する。）で表わされる中間体は、従来技術で知られていない化合物である。
【００３５】
それらは、有機紫外線フィルターの製造のための出発化合物である。
【００３６】
式（６ｂ’）で表わされる化合物は、本発明の更なる目的である。
【００３７】
式（１）で表わされる化合物は、紫外線フィルターとして、即ち、紫外線の作用に対する、紫外線に敏感な有機材料、特に、ヒト及び動物の肌及び毛の保護のために特に適当である。従って、このような化合物は、化粧品、医薬品及び獣医学製品中の光保護剤として適当である。
【００３８】
それ故、本発明の更なる目的は、化粧品的に受容可能な担体又は補助剤と一緒に、式（１）で表わされる少なくとも１種の化合物を含む化粧品である。
【００３９】
本発明に従った紫外線吸収剤は、溶解状態（可溶性の有機フィルター、可溶化有機フィルター）で、又は超微粉状態（ナノスケールの有機フィルター、粒子状有機フィルター、紫外線吸収顔料）で使用され得る。
【００４０】
超微粉粒子の調製のために適当なあらゆる既知の方法としては、例えば、以下の方法が、超微粉紫外線吸収剤の調製のために使用され得る：
−水中又は適当な有機溶媒中での、硬質粉砕媒体、例えば、ボールミルにおける珪酸ジルコニウムボール及び保護界面活性剤又は保護ポリマーを用いた湿潤微粉砕（ポンプ注入可能な分散体のための低粘度超微粉法）；
−連続又は不連続（バッチ）ニーダーを使用した、湿潤混練（ポンプ注入不可能なペーストのための高粘度超微粉法）。湿潤混練法のために、溶媒（水又は化粧品的に受容可能なオイル）、粉砕助剤（界面活性剤、乳化剤）及びポリマー状粉砕助剤が使用され得る。
両方の方法が、好ましくは使用され得る。
−適当な溶媒、例えば、水性懸濁液又は有機溶媒を含む懸濁液、又は水、エタノール、ジクロロエタン、トルエン又はＮ−メチルピロリドン等の真溶液からの噴霧乾燥；
−紫外線フィルター又はフィルターが溶解されるところの超臨界流体（例えば、ＣＯ2）のＲＥＳＳ法（超臨界流体急速膨張法（Ｒａｐｉｄ  Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））に従った膨張、又は適当な有機溶媒中１種以上のＵＶフィルターの溶液と一緒の二酸化炭素流体の膨張によって。
−超臨界流体を含む適当な溶媒からの再沈殿によって（ＧＡＳＲ法＝ガス抗溶媒再沈殿（Ｇａｓ  Ａｎｔｉ−Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｃｒｙｓｔａｌｌｉｓａｔｉｏｎ）／ＰＣＡ法＝圧縮抗溶媒を用いた沈殿（Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｃｏｍｐｒｅｓｓｅｄ  Ａｎｔｉ−Ｓｏｌｖｅｎｔ））。
【００４１】
超微粉有機紫外線吸収剤の製造のための微粉砕装置としては、例えば、ジェットミル、ボールミル、振動ミル又はハンマーミル、好ましくは高速混合ミルが使用され得る。より好ましい微粉砕装置は、最新式のボールミルであり、これらのタイプの微粉砕装置の製造者は、例えば、ネッツス（ＬＭＺミル）、ドライス（ＤＣＰ−ビスコフロー又はコスモ）、ブヘラー  アーゲー（遠心ミル）又はバッチホファーである。粉砕は、好ましくは、粉砕助剤を使用して行われる。
【００４２】
超微粉有機紫外線吸収剤の製造のための混練装置の例は、典型的なシグマ−ブレードバッチ混練機であるが、連続バッチ混練機（ＩＫＡ−ウェルケ）又は連続混練機（ウェルナー  アンド  プフレイデラー社製連続体）でもある。
【００４３】
全ての上記超微粉法のために有用な低分子量粉砕助剤は、以下の‘‘乳化剤’’、‘‘界面活性剤’’及び‘‘脂肪アルコール’’と題した部分に開示された分散剤及び界面活性剤及び乳化剤である。
【００４４】
水分散体のために有用なポリマー状粉砕助剤は、Ｍｎ＞５００ｇ／ｍｏｌの、化粧品的に受容可能な水溶性ポリマー、例えば、アクリレート（サルケア（ｓａｌｃａｒｅ）型）、変性又は非変性ポリサッカリド、ポリグルコシド又はキサンタンガムである。更に、アルキル化ビニルピロリドンポリマー、ビニルピロリドン／酢酸ビニルコポリマー、アシルグルタメート、アルキルポリグルコシド、セテアレス−２５又はリン脂質が使用され得る。オイル分散体は、加工中及び加工後の粘度を調整するために、化粧品的に受容可能なワックス状ポリマー又はポリマー状粉剤助剤のような天然ワックスを含み得る。他の有用なポリマー状粉砕助剤の例は、以下の‘‘ポリマー’’と題した部分に開示される。
【００４５】
有用な溶媒は、水、ブライン、（ポリ−）エチレングリコール、グリセロール又は化粧品的に受容可能なオイルである。他の有用な溶媒は、以下の‘‘脂肪酸のエステル’’、‘‘グリセリルエステル及び誘導体を含む天然及び合成トリグリセリド’’、‘‘真珠箔ワックス’’、‘‘炭化水素油’’及び‘‘シリコーン又はシロキサン’’と題した部分に開示される。
【００４６】
このようにして得られた超微粉紫外線吸収剤は、通常、０．０２ないし２μｍ、好ましくは０．０３ないし１．５μｍ、より特には０．０５ないし１．０μｍの平均粒子サイズを有する。
【００４７】
本発明の更なる目的は、
（ａ）式（１’）
【化２８】
0004566907.tif 000035
［式中、
Ｒ1及びＲ2は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基を表わすか；又は、Ｒ1及びＲ2は、結合する窒素原子と一緒になって、５−又は６−員複素環を形成し；
ｎ1が１を表わす場合、
Ｒ3は、水素原子；炭素原子数１ないし２０のアルキル基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；未置換の又は１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で置換された炭素原子数３ないし１０のシクロヘキシル基；（Ｙ−Ｏ）pＺ；炭素原子数６ないし１０のアリール基；又は飽和もしくは不飽和複素環式基を表わし、
Ｙは、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基を表わし；
Ｚは、炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わし；
ｐは、１ないし２０の数を表わし；
ｎ1が２を表わす場合、
Ｒ3は、アルキレン基、シクロアルキレン基又はアルケニレン基を表わすが、所望により、カルボニル基又はカルボキシ基で中断され；
ｎ1が３を表わす場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表わし；
ｎ1が４を表わす場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表わし；
Ａは、−Ｏ−；又は−Ｎ（Ｒ5）−（式中、Ｒ5は、水素原子；炭素原子数１ないし５のアルキル基；又はヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わす。）を表わす。］で表わされる、０．０２ないし２μｍの粒子サイズの超微粉紫外線吸収剤、及び
（ｂ）適当な分散剤
を含む、紫外線吸収剤分散体である。
【００４８】
本発明に従った紫外線吸収剤はまた、乾燥粉末形態で使用され得る。この目的のために、紫外線吸収剤は、減圧微粒化、向流乾燥噴霧等のような既知の粉砕方法に付される。このような粉末は、０．１μｍないし２μｍの粒子サイズを有する。凝集の発生を避けるために、紫外線吸収剤は、微粉砕加工の前に界面活性化合物、例えば、アニオン性、非イオン性又は双性界面活性剤、例えば、リン脂質又はＰＶＰのような既知のポリマー、アクリレート等で被覆され得る。
【００４９】
本発明に従った紫外線吸収剤はまた、化粧品のための特定の担体中、例えば、固体脂質ナノ粒子（ＳＬＮ）中又は紫外線吸収剤がカプセル化される不活性ゾル−ゲルマイクロカプセル中にも使用され得る。
【００５０】
本発明に従った化粧品配合物又は医薬品組成物はまた、１つ以上の更なる紫外線フィルターも含み得る。
【００５１】
化粧品又は医薬品は、慣用の方法を使用して、紫外線吸収剤と補助剤を物理的に混合することによって、例えば、個々の成分を一緒に単純に攪拌することによって、特に、既知の化粧品の紫外線吸収剤、例えば、オクチルメトキシシンナメート、サリチル酸イソオクチルエステル等の溶解性を使用することによって製造され得る。紫外線吸収剤は、例えば、更なる処理なしに、又は超微粉状態で、もしくは粉末形態で使用され得る。
【００５２】
化粧品又は医薬品は、組成物の総質量に基づき、１つの紫外線吸収剤又は紫外線吸収剤の混合物を０．０５質量％ないし４０質量％含む。
【００５３】
好ましいのは、質量に基づき１：９９ないし９９：１、特に１：９５ないし９５：１、好ましくは１０：９０ないし９０：１０の、本発明に従った式（１）で表わされる紫外線吸収剤と所望の更なる光保護剤の混合比の使用である。特に興味深いのは、２０：８０ないし８０：２０、特に４０：６０ないし６０：４０、好ましくは約５０：５０の混合比である。このような混合物は、とりわけ、溶解性を改善するため又は紫外線吸収を増加させるために使用され得る。
【００５４】
本発明に従った式（１）で表わされる紫外線吸収剤又は紫外線フィルターの組合せは、肌、毛及び／又は天然又は人工ヘアーカラーを保護するために有用である。
【００５５】
本発明に従った紫外線吸収剤と共に任意に使用され得る適当な紫外線フィルター物質は、あらゆるＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂフィルター物質である。
【００５６】
化粧品又は医薬品は、例えば、クリーム、ゲル、ローション、アルコール性及び水性／アルコール性溶液、エマルジョン、ワックス／脂肪組成物、スティック製品、粉末又は軟膏であり得る。上記で言及した紫外線フィルターに加えて、化粧品又は医薬品は、以下に記載する更なる補助剤を含み得る。
【００５７】
水−及びオイル−含有エマルジョン（例えば、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ、Ｏ／Ｗ／Ｏ及びＷ／Ｏ／Ｗエマルジョン又はマイクロエマルジョン）として、製品は、例えば、組成物の総質量に基づき、０．１ないし３０質量％、好ましくは０．１ないし１５質量％、特に０．５ないし１０質量％の１種以上の紫外線吸収剤、組成物の総質量に基づき、１ないし６０質量％、特に５ないし５０質量％、好ましくは１０ないし３５質量％の少なくとも１種のオイル成分、組成物の総質量に基づき、０ないし３０質量％、特に１ないし３０質量％、好ましくは４ないし２０質量％の少なくとも１種の乳濁剤、組成物の総質量に基づき、１０ないし９０質量％、特に３０ないし９０質量％の水、及び０ないし８８．９質量％、特に１ないし５０質量％の更なる化粧品的に受容可能な補助剤を含む。
【００５８】
本発明に従った化粧品又は医薬品組成物／化粧品又は医薬品はまた、以下に記載するような更なる化合物、例えば、脂肪アルコール、脂肪酸のエステル、グリセリルエステル及び誘導体を含む天然又は合成トリグリセリド、真珠箔ワックス、炭化水素油、シリコーン又はシロキサン（有機置換ポリシロキサン）、弗素化又は過弗素化油、乳濁剤、補助剤及び添加剤、過脂肪剤、界面活性剤、稠度調節剤／増粘剤、及びレオロジー調節剤、ポリマー、ふけ止め剤、フィルム形成体、抗酸化剤、ヒドロトロープ剤、防腐剤及び細菌抑制剤、香油、着色剤、又はポリマー状ビーズもしくはＳＰＦ強化剤のような中空球を１種以上含み得る。
【００５９】
化粧品又は医薬品
化粧品又は医薬品配合物は、様々な種類の化粧品に含まれる。例えば、特に以下の製品が考慮される：
−スキンケア製品、例えば、タブレット形態又は液体石鹸、石鹸なし洗剤又は洗浄ペーストの形態の肌洗浄及び清浄製品、
−浴用製品、例えば、液状浴用製品（フォームバス、ミルク、シャワー製品）又は固形浴用製品、例えば、バスキューブ及びバスソルト、
−スキンケア製品、例えば、肌用乳液、多様な乳液又は肌用オイル、
−化粧品的な個人ケア用製品、例えば、日中用クリーム又はパウダークリーム形態のフェイスメイキャップ、フェイスパウダー（ルース及び固形）、口紅又はメイキャップクリーム、アイケア製品、例えば、アイシャドー製品、マスカラ、アイライナー、アイクリーム、アイフィックスクリーム、リップクリーム製品、例えば、リップスティック、リップグロス、リップペンシル、ネイルケア製品、例えば、ネイルマニキュア、ネイルマニキュアリムーバー、ネイルハードナー又はキューティクルリムーバー、
−フットケア製品、例えば、フットバス、フットパウダー、フットクリーム又は足用香膏、足用脱臭剤及び発汗抑制剤又はたこ除去製品、
−光保護製品、例えば、サンミルク、ローション、クリーム又はオイル、サンブロッカー（ｓｕｎ  ｂｌｏｃｋｅｒ）又は熱帯用日焼け止め剤（ｔｒｏｐｉｃａｌ）、日焼け前製品又は日焼け後製品、
−肌日焼け製品、例えば、セルフタンニングクリーム、
−脱色製品、例えば、肌漂白用製品又はスキンライトニング製品、
−防虫剤、例えば、防虫オイル、ローション、スプレー又はスティック、
−脱臭剤、例えば、脱臭スプレー、ポンプ作用スプレー、脱臭ゲル、スティック又はロールオン、
−発汗抑制剤、例えば、発汗抑制スティック、クリーム又はロールオン、
−汚れた肌を清浄及び保護するための製品、例えば、合成洗剤（固形又は液状）、剥離又はこすり洗いするための製品、又は剥離パック、
−化学薬品形態の脱毛製品（除毛剤）、例えば、脱毛パウダー、液状脱毛製品、クリーム状又はペースト状脱毛製品、ゲル状脱毛製品又はエーロゾルフォーム、
−シェービング製品、例えば、シェービングソープ、泡状シェービングクリーム、非泡状シェービングクリーム、フォーム及びゲル、ドライシェービングのためのプレシェービング製品、アフターシェーブ又はアフターシェーブローション、
−芳香性調製品、例えば、香水（オーデコロン、オードトワレ、オードパルファム、パルファムドトワレ、香水）、香油または芳香クリーム；
−化粧品毛髪用調製品、例えば、シャンプー及びコンディショナーの形態の毛髪洗浄用調製品、ヘアケア用調製品、例えば、前処理用調製品、ヘアートニック、スタイリングクリーム、スタイリングゲル、ポマード、ヘアーリンス、トリートメントパック、集中的ヘアートリートメント、毛髪構成化用調製品、例えば、パーマネントウェーブ用ヘアーウェーブ用調製品（ホットウェーブ、マイルドウェーブ、コールドウェーブ）、直毛化用調製品、液体ヘアーセット用調製品、ヘアーフォーム、ヘアースプレー、漂白用調製品、例えば、過酸化水素溶液、ライトニングシャンプー、漂白クリーム、漂白パウダー、漂白ペースト又はオイル、一時的、半永久性又は耐久性毛髪着色料、自己酸化性染料を含む調製品、又はヘナもしくはカモミールのような天然毛髪着色料。
【００６０】
存在形態
列挙した最終配合物は、様々な種類の存在形態、例えば以下の存在形態で存在し得る：−Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ又はＰＩＴエマルジョン及び全ての種類のマイクロエマルジョンのような液体配合物の形態、
−ゲルの形態、
−オイル、クリーム、ミルク又はローションの形態、
−パウダー、ラッカー、タブレット又はメイキャップの形態、
−スティックの形態、
−スプレー（高圧ガススプレー又はポンプスプレー）又はエーロゾルの形態、
−フォームの形態、又は
−ペーストの形態。
【００６１】
肌用化粧品として特に重要なものは、サンミルク、ローション、クリーム、オイル、サンブロッカー又は熱帯用日焼け止め剤、日焼け前製品又は日焼け後製品のような光保護製品、又は肌日焼け製品、例えば、セルフタンニングクリームである。特に興味深いものは、太陽光保護クリーム、太陽光保護ローション、太陽光保護ミルク及びスプレー形態の太陽光保護製品である。
【００６２】
毛用化粧品として特に重要なものは、上記で言及したヘアートリートメント製品、特にシャンプー、ヘアーコンディショナーの形態の毛髪洗浄用調製品、ヘアケア用調製品、例えば、前処理用調製品、ヘアートニック、スタイリングクリーム、スタイリングゲル、ポマード、ヘアーリンス、トリートメントパック、集中的ヘアートリートメント、直毛化用調製品、液体ヘアーセット用調製品、ヘアーフォーム及びヘアースプレーである。特に興味深いものは、シャンプーの形態の毛髪洗浄用調製品である。
【００６３】
シャンプーは、例えば以下の組成を有する：０．０１ないし５質量％の本発明に従った紫外線吸収剤、１２．０質量％のラウレス−２−硫酸ナトリウム、４．０質量％のココアミドプロピルベタイン、３．０質量％の塩化ナトリウム及び１００％までの水。
【００６４】
例えば、特に、以下の毛用化粧品配合物が使用され得る：
ａ1）水及びいかなる所望の四級アンモニウム化合物、例えば４％ミンカミドプロピルジメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムクロリド（ｍｉｎｋａｍｉｄｏｐｒｏｐｙｌ
ｄｉｍｅｔｈｙｌ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）又はクォーターニウム８０が添加されるところの、本発明に従った紫外線吸収剤、ＰＥＧ−６−炭素原子数１０のオキソアルコール及びソルビタンセスキオレエートからなる自然乳化素材配合物；
ａ2）水及びいかなる所望の四級アンモニウム化合物、例えば４％ミンカミドプロピルジメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムクロリド又はクォーターニウム８０が添加されるところの、本発明に従った紫外線吸収剤、トリブチルシトレート及びＰＥＧ−２０−ソルビタンモノオレエートからなる自然乳化素材配合物；
ｂ）ブチルトリグリコール及びトリブチルシトレート中本発明に従った紫外線吸収剤の４倍濃厚溶液（ｑｕａｔ−ｄｏｐｅｄ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）；
ｃ）本発明に従った紫外線吸収剤とｎ−アルキルピロリドンの混合物又は溶液。
【００６５】
このような配合物における他の典型的な成分は、防腐剤、殺菌剤及び制菌剤、香水、染料、顔料、増粘剤、湿潤剤、保湿剤、脂肪、オイル、ワックス、又は、アルコール、ポリ−アルコール、ポリマー、電解質、有機溶媒、シリコン誘導体、緩和薬、乳化剤又は乳化界面活性剤、界面活性剤、分散剤、抗酸化剤、抗刺激剤及び抗炎症剤等のような化粧品及び個人ケア用配合物の他の典型的な成分である。
【実施例】
【００６６】
新規化合物の製造
例１：３−ジエチルアミノ−ジベンゾ−オキセピン（ＤＥＤＯ）
式（１０１ａ）
【化２９】
0004566907.tif 000036
で表わされる化合物６２．７ｇを、攪拌下、室温において反応容器中で酢酸エチルエステル４００ｇ中に懸濁させた。酢酸エチルエステル２００ｇ中にジシクロヘキシルカルボジイミド４４．４ｇが溶解した溶液をこの懸濁液中に混合した。温度は、約３０℃まで上昇した。懸濁液を、約１０時間、室温で強く攪拌し、その後、濾過した。蒸発後、式（１０１）
【化３０】
0004566907.tif 000037
で表わされる純粋な生成物を、酢酸エチルエステル（６０ｇ）／シクロヘキサン（２２０ｇ）の混合物からの結晶化によって、黄色結晶として得た。
収量：４２ｇ  ＦＰ：８３．５℃
分析：Ｃ、Ｈ、Ｎ含有量は、理論値と一致した；Ｈ−ＮＭＲ；Ｃ−ＮＭＲ；ＭＳによりオキセピン構造を確認した。
この方法と同様に、前記化合物は、ジシクロヘキシルカルボジイミドの代わりに無水酢酸を用いたＢＢ−酸の脱水によって得られ得る。
【００６７】
例２：式（１０２）
【化３１】
0004566907.tif 000038
で表わされる化合物の製造
２−（４−アミノフェニル）−６−メチル−ベンゾチアゾール７．２ｇを、室温においてジエチレングリコールジメチルエーテル６０ｍＬ中で懸濁させた。ジエチレングリコールジメチルエーテル２０ｍＬ中に式（１０１）で表わされる化合物が１０．６ｇ溶解した溶液を攪拌条件下で添加し、反応塊を９０℃まで加熱した。４時間の反応時間の後、反応塊を室温まで冷却し、粗生成物を濾去した。純粋な化合物を、エタノールを使用した粗生成物の抽出によって得た。
収量：ベージュ色粉末  ７．３ｇ  ＦＰ：２２５℃
Ｃ＝７１．６％；Ｈ＝５．２％；Ｎ＝７．８％；Ｓ＝５．９６％
全ての値は、理論値と一致した。
ジオキサンにおける紫外線スペクトル：
１．３３６ｎｍにおける最大  ｅ＝５７３１８
２．３６０ｎｍにおける最大  ｅ＝４９０３２
【００６８】
例３：３８％の活性含有率を有する分散体の製造：
粉砕真珠１９．３ｇ  ＥＲ１２０Ｓ、０．３−０．４ｍｍを備えたディスパーマット  ＬＣ（Ｄｉｓｐｅｒｍａｔ  ＬＣ）中で、式（１０２）で表わされる化合物３．４ｇ、アルラセルＰ１３５  ０．３ｇ及びクロダモルＡＢ５．３ｇを、４．５時間粉砕した。非常に微粉砕された分散体が得られ、そしてそれは、１６．４のＳＰＦ値を有した。この分散体は、非常に良好な広い紫外線範囲（３２０−３８０ｎｍ）を保護した。
【００６９】
例４：式（１０３）
【化３２】
0004566907.tif 000039
で表わされる化合物の製造
式（１０１）で表わされる化合物６ｇをジオキサン４０ｍＬ中に溶解した。４−アミノベンズアミド２．５ｇを、攪拌しながらこの溶液へ添加した。８５℃における２時間の反応時間の後、ジオキサンを真空下で除去し、残渣を２−メトキシ−エタノールからの再結晶化によって処理し、純粋な生成物を得た。
収量：白色結晶  ３ｇ  Ｆｐ：２５４℃
元素分析：Ｃ、Ｈ、Ｎ含有量は、理論値と一致した。
ジオキサンにおける紫外線スペクトル：
３５８ｎｍにおける最大  ｅ＝３４８４８
【００７０】
例５：式（１０４）
【化３３】
0004566907.tif 000040
で表わされる化合物の製造
１，６−ヘキサンジオール２．３６ｇ、トルエン６ｇ及び式（１０１）で表わされる化合物１１．８ｇを、１１０℃で５時間攪拌した。その後、トルエンを留去し、蒸留した残渣をアセトンから再結晶化した。
収量：白色結晶  ７．２ｇ  Ｆｐ：１４８℃
【００７１】
例６：式（１０５）
【化３４】
0004566907.tif 000041
で表わされる化合物の製造
式（１０１）で表わされる化合物９．２ｇ、メントールのラセミ混合物１４．４ｇ、ジエチレングリコール−ジメチルエーテル１８ｍＬ、１．８−ジアザビシクロ（５．４．０）−ウンデセ−７−エン（１，５，５）０．１ｇを、２時間、１００℃において攪拌した。その後、溶媒を真空中で除去し、カラムクロマトグラフィー方法（キエセルゲル６０／トルエン−酢酸エステル  ８：２）を使用して、残渣を分離した。
収量：ガラス状の非結晶塊  １２．８ｇ
分析：Ｃ／Ｈ／Ｎ＝７４．５％／８．４％／３．０４％は、理論値と一致した。
ジオキサンにおける紫外線スペクトル：
３５１ｎｍにおける最大  ｅ＝３８５６５
【００７２】
例７：式（１０６）
【化３５】
0004566907.tif 000042
で表わされる化合物の製造
式（１０１）で表わされる化合物６ｇを、室温でジオキサン３０ｍＬ中に溶解した。ジオキサン２０ｍＬ中に溶解した１．６−ジアミノヘキサン１．１６ｇを、攪拌下でこの溶液へ添加した。室温での反応塊の攪拌を１２時間続け、その後、ジオキサンを真空中で除去し、水での抽出後、粗生成物をメタノールから再結晶化した。
収量：黄色結晶４．２ｇ
Ｆｐ：１６０℃
元素分析は理論値と一致した。
【００７３】
例８：式（１０７）
【化３６】
0004566907.tif 000043
で表わされる化合物の製造
式（１０１）で表わされる化合物９ｇ及びアニリン８．４ｇをジエチレングリコール−ジメチルエーテル１８ｍＬ中に溶解した。反応を７０℃まで温め、３時間この温度で攪拌した。真空中での反応塊の蒸発後、純粋な生成物をメタノールからの再結晶化後に得た。収量：黄色結晶６．２ｇ  Ｆｐ：１５２℃
（ジオキサンにおける）紫外線スペクトル：
３５９ｎｍにおける最大  ｅ＝３４７２４
【００７４】
例９：式（１０８）
【化３７】
0004566907.tif 000044
で表わされる化合物の製造
式（１０１）で表わされる化合物７．４ｇをジオキサン２５ｍＬ中に溶解した。ジオキサン１０ｍＬ中に溶解したモルホリン３．３ｇをこの溶液中に攪拌した。反応塊を室温で約２０時間攪拌し、反応混合物を真空中で蒸発させ、純粋な生成物を酢酸エチルエステルから再結晶化した。
収量：黄色結晶７．５ｇ  Ｆｐ：１５５℃
（ジオキサンにおける）紫外線スペクトル：
３６０ｎｍにおける最大  ｅ＝３７９００
【００７５】
例１０：式（１０９）
【化３８】
0004566907.tif 000045
で表わされる化合物の製造
ジエチレングリコール−ジメチルエーテル３０ｍＬ中に溶解した式（１０１）で表わされる化合物９ｇ、ジエタノールアミン９．５ｇを、３時間、８５℃において攪拌した。反応塊を、真空中（０．０３ミリバール／７０℃）で減じた。残渣を、７０℃において水約２５０ｍＬで抽出した。冷却後、純粋な化合物を、水相から再結晶化した。
収量：黄色結晶２．１ｇ  Ｆｐ：１４１℃
（ジオキサンにおける）紫外線スペクトル：
３５９ｎｍにおける最大  ｅ＝３５０８０
【００７６】
例１１：式（１１０）
【化３９】
0004566907.tif 000046
で表わされる化合物の製造
４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン−カルボン酸（ＢＢ−酸）１２５．２ｇ、酢酸エチルエステル７００ｍＬ、炭酸カリウム３８．８ｇ及び無水酢酸５３．１ｇを室温で１６時間、強く攪拌した。その後、反応混合物を濾去し、濾液を１５７ｇの質量まで蒸発させた。
無水形態のＢＢ−酸（ＤＥＤＯ）を気化残渣から再結晶化した。
【化４０】
0004566907.tif 000047
収量：９９ｇ（黄色結晶、Ｆｐ＝８２℃）。
該結晶を、ジエチレングリコール−ジメチルエーテル１８ｇ中に溶解し、２−ブテン−１，４−ジオール１４．６ｇを添加し、４−ジメチルアミノ−ピリジン１．１ｇを、１１０℃において攪拌下で、ジ−エステル（式（１１０）で表わされる化合物）へ添加した。
定量的収量が得られた。
純粋な化合物を、カラムクロマトグラフィー方法（キーゼルゲル６０／希釈剤：トルエン酢酸エチルエステル／８：２）によって得た。破砕形態の純粋な生成物は、非晶質の黄色粉末であった。それは、良好な溶解性、例えば、フィンソルブ  ＴＮ（炭素原子数１２ないし１５のアルキルベンゾエート）中に＞１０％の溶解性を有した。
ジオキサンにおける紫外線スペクトル：最大  ３５１ｎｍ、ｍｏｌ  Ｅｘｔ．６５５５１
【００７７】
例１２：式（１１１）
【化４１】
0004566907.tif 000048
で表わされる化合物の製造
例１１と同様にして、２−ブテン−１，４−ジオールの代わりに２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール１７．３ｇを無水形態のＢＢ−酸と反応させた。粗生成物の処理は、上記した方法に従って行い得た。得られた化合物は、非晶質の黄色粉末であった。
フィンソルブ  ＴＮ中への溶解性＞３０％
エタノールにおける紫外線スペクトル：最大  ３５４ｎｍ、ｍｏｌ  Ｅｘｔ．６５２９６
【００７８】
例１３から２３：更なるヒドロキシフェニルベンゾフェノン誘導体の製造
例１１に記載した方法に従って、以下の化合物を製造し得た：
【表１】
0004566907.tif 000049
【表２】
0004566907.tif 000050
【表３】
0004566907.tif 000051
【００７９】
適用実施例
実施例２４：日焼け止め剤の製造
【表４】
0004566907.tif 000052
【００８０】
実施例２５：日焼け止め配合物の製造
【表５】
0004566907.tif 000053
【００８１】
実施例２６：日焼け止め配合物の製造
【表６】
0004566907.tif 000054
【００８２】
実施例２７：Ｏ／Ｗエマルジョン
（Ａ）：
式（１１０）又は（１１１）で表わされる化合物        ３ｇ
ゴマ油                                            １０ｇ
グリセリルステアレート                              ４ｇ
ステアリン酸                                        １ｇ
セチルアルコール                                ０．５ｇ
ポリソルベート２０                              ０．２ｇ
（Ｂ）：
プロピレングリコール                                ４ｇ
プロピルパラベン                              ０．０５ｇ
メチルパラベン                                ０．１５ｇ
トリエタノールアミン                            ０．１ｇ
カルボマー９３４                                ０．１ｇ
水                                        １００ｍＬまで
エマルジョンの製造
相（Ａ）：
まず、紫外線吸収剤をゴマ油中に溶解した。（Ａ）の他の成分をそこへ添加し、組合せた。
相（Ｂ）：
プロピルパラベン及びメチルパラベンをプロピレングリコール中に溶解した。その後、水６０ｍＬを添加し、７０℃まで加熱し、その後、カルボマー９３４をそこに乳化させた。
エマルジョン：
強力な機械的エネルギーを使用して、（Ａ）をゆっくりと（Ｂ）へ添加した。水を添加し、その体積を１００ｍＬに調整した。
【００８３】
実施例２８：デイリーケアクリーム、Ｏ／Ｗ型
ＩＮＣＩ名 使用した
質量％
部分Ａ  グリセリルステアレート（及び）セテアリールアルコ          ４．０
ール（及び）セチルパルミテート（及び）ココグリセ
リド
セテアレス−１２                                          ４．０
セテアリールアルコール                                    ２．０
ジカプリリルエーテル                                      ４．５
エチルヘキシルステアレート                                ４．０
ヘキシルラウレート                                        ３．５
エチルヘキシルトリアゾン                                  １．０
ベンジリデンマロネートポリシロキサン                      ２．０
ＨＤＩ／トリメチロールヘキシルラクトン架橋ポリマー        ５．０
（及び）シリカ
ステアリルジメチコン                                      １．０
ジメチコン                                                ２．０
セチルアルコール                                          ０．８
式（１１０）又は（１１１）で表わされる化合物              ２．０
部分Ｂ  水                                                    １００まで
の適量
水（及び）スクレログルカン（及び）フェノキシエタノール    ２．０
グリセロール                                              ２．０
部分Ｃ  ステアレス−１０アリルエーテル／アクリレートコポリマー  ０．４５
フェノキシエタノール（及び）メチルパラベン（及び）エチ    ０．７
ルパラベン（及び）ブチルパラベン（及び）プロピルパラベ
ン（及び）イソブチルパラベン
部分Ｄ  水（及び）酢酸トコフェリル（及び）カプリル／カプリント    ４．０
リグリセリド（及び）ポリソルベート８０（及び）レシチン
部分Ｅ  水（及び）水酸化ナトリウム                                  適量
香水                                                        適量
製造方法：
部分Ａ及び部分Ｂを別々に８０℃まで加熱した。連続的に攪拌しながら、部分Ａを部分Ｂに注いだ。その後、混合物を、ウルトラ  トゥラックスを使用して、１１０００ｒｐｍで２０秒間均一化した。混合物を６０℃まで冷却し、部分Ｃを添加した。３０℃以下の温度において、部分Ｄを添加し、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを使用して６．５ないし７．０まで調整した。最後に、香水を添加した。
【００８４】
実施例２９：太陽光保護クリーム、Ｏ／Ｗ型
ＩＮＣＩ名 使用した
質量％
部分Ａ  ポリグリセリル−３メチルグルコースジステアレート          ２．０
デシルオレエート                                          ５．７
イソプロピルパルミテート                                  ５．８
カプリル／カプリントリグリセリド                          ６．５
式（１１０）又は（１１１）で表わされる化合物              ２．０
エチルヘキシルメトキシシンナメート                        ５．０
セチルアルコール                                          ０．７
部分Ｂ  グリセロール                                              ３．０
カルボマー                                                ０．３
水                                                    １００まで
の適量
部分Ｃ  フェノキシエタノール（及び）メチルパラベン（及び）エチ    ０．５
ルパラベン（及び）ブチルパラベン（及び）プロピルパラベ
ン（及び）イソブチルパラベン
部分Ｄ  ２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ    ８．０
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フェノール（チノソルブＭ）（及び）水（及び）デ
シルグルコシド（及び）プロピレングリコール（及び）キサ
ンタンガム
水                                                      ２０．０
部分Ｅ  水（及び）水酸化ナトリウム                                  適量
香水                                                        適量
製造方法：
部分Ａ及び部分Ｂを別々に８０℃まで加熱した。攪拌しながら、部分Ａを部分Ｂに注いだ。混合物を、ウルトラ  トゥラックスを使用して、１１０００ｒｐｍで１５秒間均一化した。混合物を６０℃まで冷却し、部分Ｃ及び部分Ｄを配合した。混合物を、再度、短時間均一化し（５秒間／１１０００ｒｐｍ）、穏やかに攪拌しながら更に冷却した。室温において、ｐＨ値を、水酸化ナトリウム溶液を使用して５．５ないし６．０まで調整した。最後に、香水を添加した。
【００８５】
実施例３０：デイリーケア紫外線保護ローション
ＩＮＣＩ名 使用した
質量％
部分Ａ  オレス−３ホスフェート                                    ０．６
ステアレス−２１                                          ２．５
ステアレス−２                                            １．０
セチルアルコール                                          ０．８
ステアリルアルコール                                      １．５
トリベヘニン                                              ０．８
イソヘキサデカン                                          ８．０
式（１１０）又は（１１１）で表わされる化合物              ５．０
部分Ｂ  水                                              １００までの定量
グリセロール                                              ２．０
２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ    ３．０
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フェノール（チノソルブＭ）（及び）水（及び）デ
シルグルコシド（及び）プロピレングリコール（及び）キサ
ンタンガム
ＥＤＴＡジナトリウム                                      ０．１
部分Ｃ  水                                                      ２０．０
ジアゾリジニルウレア（及び）ヨードプロピニルブチルカル  ０．１５
バメート
プロピレングリコール                                      ４．０
部分Ｃ  アクリル酸ナトリウムコポリマー（及び）液体パラフィン      １．５
（及び）ＰＰＧ−１、トリデセス−６
シクロペンタシロキサン                                    ４．５
ＰＥＧ−１２ジメチコン                                    ２．０
酢酸トコフェリル                                        ０．４５
水及びクエン酸                                              適量
部分Ｅ  香水                                                        適量
製造方法：
部分Ａ及び部分Ｂを別々に７５℃まで加熱した。連続的に攪拌しながら、部分Ａを部分Ｂに注いだ。直ちに乳化させた後、部分ＤからのＳＦ１２０２及びＳＦ１２８８混合物中に配合した。その後、ウルトラ  トゥラックスを使用して、１１０００ｒｐｍで３０秒間均一化した。６５℃まで冷却した後、サルケア  ＳＣ９１（登録商標：ＳＡＬＣＡＲＥ）を配合した。５０℃以下の温度において、部分Ｃを添加した。３５℃以下において、酢酸ビタミンＥを配合し、その後、ｐＨ値を、クエン酸を使用して調整した。室温において、部分Ｅを添加した。
【００８６】
実施例３１：太陽光保護クリーム、Ｏ／Ｗ型
ＩＮＣＩ名 使用した
質量％
部分Ａ  ポリグリセリル−３メチルグルコースジステアレート          ２．０
デシルオレエート                                          ５．７
イソプロピルパルミテート                                  ５．８
カプリル／カプリントリグリセリド                          ６．５
式（１１０）又は（１１１）で表わされる化合物              ２．０
エチルヘキシルメトキシシンナメート                        ５．０
セチルアルコール                                          ０．７
部分Ｂ  グリセロール                                              ３．０
カルボマー                                                ０．３
水                                                    １００まで
の適量
部分Ｃ  フェノキシエタノール（及び）メチルパラベン（及び）エチ    ０．５
ルパラベン（及び）ブチルパラベン（及び）プロピルパラベ
ン（及び）イソブチルパラベン
部分Ｄ  ２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ    ８．０
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フェノール（及び）水（及び）デシルグルコシド
（及び）プロピレングリコール（及び）キサンタンガム
水                                                      ２０．０
部分Ｅ  水（及び）水酸化ナトリウム                                  適量
香水                                                        適量
製造方法：
部分Ａ及び部分Ｂを別々に８０℃まで加熱した。攪拌しながら、部分Ａを部分Ｂに注いだ。混合物を、ウルトラ  トゥラックスを使用して、１１０００ｒｐｍで１５秒間均一化した。混合物を６０℃まで冷却し、部分Ｃ及び部分Ｄを配合した。混合物を、再度、短時間均一化した（５秒間／１１０００ｒｐｍ）。穏やかに攪拌しながら更に冷却した後、ｐＨを、室温において、水酸化ナトリウムを使用して調整した。ｐＨ５．５０ないし６．００の溶液が得られた。最後に、香水を添加した。
【００８７】
実施例３２：太陽光保護クリーム、Ｏ／Ｗ型
ＩＮＣＩ名 使用した
質量％
部分Ａ  ポリグリセリル−３メチルグルコースジステアレート          ２．０
デシルオレエート                                          ５．７
イソプロピルパルミテート                                  ５．８
カプリル／カプリントリグリセリド                          ６．５
式（１１０）又は（１１１）で表わされる化合物（５０％）と  ２．０
ユビヌルＡプラス（ＣＡＳ登録番号：３０２７７６−６８−７）
（５０％）の混合物
エチルヘキシルメトキシシンナメート                        ５．０
セチルアルコール                                          ０．７
部分Ｂ  グリセロール                                              ３．０
カルボマー                                                ０．３
水                                                    １００まで
の適量
部分Ｃ  フェノキシエタノール（及び）メチルパラベン（及び）エチ    ０．５
ルパラベン（及び）ブチルパラベン（及び）プロピルパラベ
ン（及び）イソブチルパラベン
部分Ｄ  ２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ    ８．０
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フェノール（及び）水（及び）デシルグルコシド
（及び）プロピレングリコール（及び）キサンタンガム
水                                                      ２０．０
部分Ｅ  水（及び）水酸化ナトリウム                                  適量
香水                                                        適量
製造方法：
部分Ａ及び部分Ｂを別々に８０℃まで加熱した。攪拌しながら、部分Ａを部分Ｂに注いだ。混合物を、ウルトラ  トゥラックスを使用して、１１０００ｒｐｍで１５秒間均一化した。６０℃まで冷却した後、部分Ｃ及び部分Ｄを配合した。混合物を、再度、短時間均一化した（５秒間／１１０００ｒｐｍ）。穏やかに攪拌しながら更に冷却した後、ｐＨを、室温において、水酸化ナトリウム溶液を使用して、５．５０ないし６．００に調整した
。最後に、香水を添加した。