(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光体層を形成した部材および／または放電のための複数の電極を形成した部材に封着フリットを塗布・焼成した後、蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気し放電のためのガスを封入する工程を有するプラズマディスプレイの製造方法であって、部材に蛍光体層を形成した後、前記封着する工程の前に酸素を含む雰囲気下で、水銀ランプ、Ｘｅランプ、重水素ランプまたは誘電体バリア放電エキシマランプを用いて蛍光体層に紫外線を照射することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項２】
蛍光体層を形成した部材に封着フリットを塗布・焼成した後、酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項３】
照射する紫外線が、１７２ｎｍ付近の波長で最大ピークを持つことを特徴とする請求項１または２記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項４】
紫外線を照射する雰囲気が、外囲器内を真空排気した後、酸素を含み、かつ酸素、ネオン、アルゴン、窒素以外のガスの含有量が０．１％程度以下であるガスを導入したものであって、蛍光体層を形成した部材に封着フリットを塗布・焼成する工程と該雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射する工程のうちいずれか一方の工程を行なった後に他方の工程を行い、その後、該雰囲気を大気開放せずに蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気し放電のためのガスを封入する工程を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項５】
蛍光体層を有するプラズマディスプレイ用部材を用いたプラズマディスプレイであって、請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法によって製造され、プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面の残存炭素成分が１５ａｔ％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイならびにその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイは、放電のための複数の電極を形成した部材と蛍光体層を形成した部材との間に設けられた放電空間内で、放電のための電極間にプラズマ放電を生じさせ、放電空間内に封入されたガスから発生した紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体に照射させることにより表示が行われる。ＡＣ型のプラズマディスプレイでは、放電時のイオン衝撃から電極や誘電体層を保護する目的で、放電のための複数の電極を形成した部材上にＭｇＯ（酸化マグネシウム）膜が形成される場合が多い。また、ＭｇＯは２次電子放出係数の高い金属酸化物であり、これを用いることによりプラズマディスプレイの放電開始電圧が下がることから駆動が容易となる利点もある。
【０００３】
プラズマディスプレイにおいて、ＭｇＯ膜表面や蛍光体層表面は放電空間に接していることから、これらの表面状態はプラズマディスプレイの放電特性や発光特性に大きな影響を及ぼす。ＭｇＯ膜の表面状態は、表示の安定化、駆動性、長寿命などの上で重要な因子であり、蛍光体層表面は輝度特性に敏感である。
【０００４】
ＭｇＯはＨ2Ｏ、ＣＯ2などの大気成分の影響を受けやすく、ＭｇＯ表面にはＭｇ（ＯＨ）2、ＭｇＣＯ3などが形成されやすい。ＭｇＯ膜表面にＭｇ（ＯＨ）2やＭｇＣＯ3が形成されると、放電電圧が上昇するといった問題が生じやすい。
【０００５】
蛍光体層は、蛍光体粉末と樹脂成分を含有した蛍光体ペーストを、スクリーン印刷法などにより塗布後、通常５００℃程度で焼成して形成される。焼成温度が高すぎると蛍光体粉末の劣化（輝度低下）が生じやすく、低すぎると焼成残さが残りやすいといった問題が生じやすい。
【０００６】
従来、プラズマディスプレイの製造方法としては、あらかじめ作製した放電のための複数の電極を形成した部材と蛍光体層を形成した部材を封着フリットで封着し、３５０℃程度に加熱しながら封着した該部材の内部、すなわち放電空間内部の真空排気を行い、放電ガスを封入する方法がある。加熱しながら真空排気を行う目的は、放電空間内部の残留ガスの排出だけでなく、ＭｇＯ膜表面のＭｇ（ＯＨ）2やＭｇＣＯ3をＭｇＯに改質することにある。
【０００７】
このような加熱しながら真空排気を行うだけでは、ＭｇＯ膜表面状態の改質が難しいので、特開２０００−７６９８９号公報にはＭｇＯ膜などの保護層に紫外線を照射し、表面改質を行う手法が、また、特開２０００−５７９３９号公報には同じく保護層にプラズマ処理する手法が開示されている。
【０００８】
しかし、これらの手法だけでは、表示動作の信頼性という点で十分とは言えなかった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者等は蛍光体層表面に残存する炭素成分の低減が重要であると考えた。つまり、従来の製造方法によれば、蛍光体粉末と樹脂成分を含有した蛍光体ペーストをスクリーン印刷法などによりセルを仕切るための隔壁間に塗布後、通常５００℃程度に加熱し焼成する。蛍光体層を焼成する工程では、樹脂成分を分解・燃焼、ガス化し除去しているが、焼成温度が低すぎると樹脂成分が除去されずにその炭素成分が残りやすい。焼成温度を高くしても蛍光体層の最表面に存在する炭素成分の完全な除去は難しいだけでなく、蛍光体粉末が劣化し、輝度低下や色度変化が起こるといった問題も生じやすいことを見出した。
【００１０】
蛍光体層形成後、低軟化点ガラスフリットと樹脂成分を混合した封着ペーストを蛍光体層が形成された部材、および放電のための複数の電極を形成した部材の少なくとも一方の部材にスクリーン印刷法やディスペンサー法などで塗布する。その後、封着ペーストが塗布された部材を加熱し、封着ペースト中の樹脂成分を除去する焼成工程を行う。焼成された封着ペーストが形成された部材と、それと対になる部材を重ねて再び加熱し、蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を貼り合わせる封着工程を行う。
【００１１】
最後に、封着した該部材内部を３５０℃程度に加熱しながら真空排気を行う加熱排気工程を行い、放電ガスを封入し、プラズマディスプレイを完成する。
【００１２】
封着ペーストの焼成工程では、蛍光体層の焼成工程と同じく封着ペースト中の樹脂成分を分解・燃焼、ガス化し除去しているが、ガス化した炭素成分が加熱炉の雰囲気中に残存し、封着ペーストの焼成工程における降温時に、その残存したガス成分が蛍光体層の表面に付着していた。
【００１３】
封着ペーストの焼成工程で蛍光体層の表面に付着した炭素成分は、その後の封着工程や加熱排気工程では、除去されずに蛍光体層表面に残存する。残存した炭素成分はプラズマ放電で発生した紫外線を吸収してしまうので、蛍光体自体に入射する紫外線量が低減し、輝度低下を生じる。また、放電のための複数の電極を形成した部材と蛍光体層を形成した部材間でのリセット放電により発生した電子や希ガスの荷電粒子が、蛍光体層に衝突するので、蛍光体層表面に残存した炭素成分は徐々に放電空間に飛び出すと考えられる。放電空間に飛び出した炭素成分は、プラズマディスプレイの点灯、すなわち放電中には放電のエネルギーによりイオン化され、さらに駆動電圧で加速され前面板のＭｇＯ膜に衝突し、ＭｇＯ膜表面にＭｇＣＯ3などの変質層を形成しやすい。また、プラズマディスプレイの非点灯中、すなわち放電を行っていない時は、これらの炭素成分はＭｇＯ膜表面に吸着すると考えられる。
【００１４】
このようにＭｇＯ膜表面に変質層を形成したり、放電ガス以外のガス成分が吸着すると、放電電圧が上昇してしまうので安定した表示動作は行えなくなる。
【００１５】
そこで本発明は、従来の技術における上述した新たな課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、表面の残存炭素成分が少ない蛍光体層を形成することで、高輝度で表示動作が安定なプラズマディスプレイおよびその製造方法を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、蛍光体層を形成した部材および／または放電のための複数の電極を形成した部材に封着フリットを塗布・焼成した後、蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気し放電のためのガスを封入する工程を有するプラズマディスプレイの製造方法であって、部材に蛍光体層を形成した後、前記封着する工程の前に酸素を含む雰囲気下で、水銀ランプ、Ｘｅランプ、重水素ランプまたは誘電体バリア放電エキシマランプを用いて蛍光体層に紫外線を照射することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法である。
【００１９】
また、本発明のプラズマディスプレイの製造方法は、紫外線を照射する雰囲気が、外囲器内を真空排気した後、酸素を含み、かつ酸素、ネオン、アルゴン、窒素以外のガスの含有量が０．１％程度以下であるガスを導入したものであって、蛍光体層を形成した部材に封着フリットを塗布・焼成する工程と該雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射する工程のうちいずれか一方の工程を行なった後に他方の工程を行い、その後、該雰囲気を大気開放せずに蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気し放電のためのガスを封入する工程を行うことを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を説明する。
【００２１】
本発明のプラズマディスプレイ用部材は、プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面の残存炭素成分が１５ａｔ％以下であることが必要である。１５ａｔ％以下であれば、放電により発生した紫外線が表面の残存炭素成分で吸収され蛍光体自体に入射する紫外線量が低下せず、最終的に高輝度なプラズマディスプレイを作製できるためである。また、放電のための複数の電極を形成した部材と蛍光体層を形成した部材間でのリセット放電により、蛍光体層表面から放電空間にスパッタリング、または脱離する炭素成分量も少なくなるので、前述したＭｇＯ膜表面の変質層形成や、非放電時における放電ガス以外のＭｇＯ膜表面へのガス吸着が起こりにくい。したがって、プラズマディスプレイの表示動作が安定に行える。より好ましくは、８ａｔ％以下である。
【００２２】
一方、蛍光体層表面の残存炭素成分が１５ａｔ％よりも多い場合、放電により発生した紫外線がこの残存炭素成分で吸収されてしまうので、蛍光体自体に入射する紫外線量が減少するので、輝度の低下が顕著となる。さらに、リセット放電により放電空間にスパッタリング、または脱離する炭素成分も多いので、ＭｇＯ膜表面に変質層を形成したり、非放電時に炭素成分がＭｇＯ膜表面にガス吸着しやすい。したがって、プラズマディスプレイの表示動作が安定に行えないといった問題が生じる。
【００２３】
次に、本発明のプラズマディスプレイの製造方法を順に沿って説明する。
図１に、以下の工程を用いて作製したプラズマディスプレイパネルの概略断面図を示す。便宜上、放電のための複数の電極を形成した部材を前面板、蛍光体層を形成した部材を背面板と部分的に表記したが、表記の違いだけで意味するところは異なるところがない。
【００２４】
（部材作製工程）
まず、部材作製工程に関し、前面板１の作製方法について述べる。
【００２５】
前面板１に用いるガラス基板については、特に限定しないが、一般的にはソーダライムガラスやソーダライムガラスをアニール処理したガラス、または、高歪み点ガラス（例えば、旭硝子社製“ＰＤ−２００”）等を用いることができる。ガラス基板のサイズは特に限定はなく、厚みは１〜５ｍｍのものを用いることができる。
【００２６】
まず、ガラス基板上に、放電のための複数の電極を形成する。電極形成法としては、例えば、酸化錫、ＩＴＯなどの透明電極をリフトオフ法、フォトエッチング法などによって、銀やアルミ、銅、金、ニッケル等をスクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によってパターン形成してもよい。また、より低抵抗な電極を形成する目的で透明電極の上にバス電極を形成してもよい。ここで、放電のための複数の電極を形成したガラス基板上に、透明誘電体層をスクリーン印刷法などにより形成することもできる。その場合の透明誘電体材料は特に限定されないが、ＰｂＯ、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2を含有する誘電体材料が適用される。
【００２７】
放電のための複数の電極を形成したガラス基板上に、放電によるイオン衝撃からの保護を目的としてＭｇＯ膜を形成することも好ましい。形成手法は、電子ビーム蒸着法、プラズマ蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、Ｍｇターゲットの反応性スパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＣＶＤ法などが適用できる。
【００２８】
次に背面板２の作製方法について述べる。
背面板２に用いるガラス基板は、前面板１に述べたものと同様である。
【００２９】
ガラス基板上に、スクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によって、銀やアルミ、銅、金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等を含むアドレス電極層をパターン形成する。さらに、放電の安定化のためにアドレス電極層の上に誘電体層を設けても良い。
【００３０】
アドレス電極層を形成したガラス基板上に、セルを仕切るための隔壁をサンドブラスト法、型転写法、フォトリソグラフィー法等によって形成する。本発明に使用する隔壁の材料や隔壁の形状としては特に限定されない。
【００３１】
さらに、電極層および隔壁層を形成したガラス基板上に、蛍光体粉末と樹脂を含有する蛍光体ペーストを用い、ディスペンサー法、スクリーン印刷法や、さらに感光成分を添加したペーストを用いた感光性ペースト法等によって蛍光体層を塗布し、焼成する。蛍光体ペーストに用いるポリマーおよび溶媒は特に限定されない。ポリマーとしてはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂やエチルセルロース、溶媒としてα−ターピネオール、ベンジルアルコール等である。本発明に使用する蛍光体材料は特に限定されない。例えば、赤色では、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎがある。緑色では、Ｚｎ2ＧｅＯ2：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＬａＰＯ4：Ｔｂ、ＺｎＳ：Ｃｕ,Ａｌ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ,Ａｓ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ｃｕ,Ａｌ、ＺｎＯ：Ｚｎ、ＹＢＯ３：Ｔｂなどがある。青色では、Ｓｒ5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ、ＢａＭｇ2Ａｌ14Ｏ24：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅなどが挙げられる。
このようにして、背面板２を作製することができる。
【００３２】
プラズマディスプレイの輝度や表示動作の信頼性を向上するには、プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面に残存する炭素成分が少ない蛍光体層を形成することが重要である。そのためには、蛍光体粉末と樹脂成分を含有する蛍光体ペーストを塗布・焼成後に酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することが必要である。
【００３３】
図２に示したように酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することで、焼成において除去できなかった残存炭素成分を除去できる。すなわち、紫外線により雰囲気中に存在する酸素Ｏ2はオゾンＯ3となる。発生したオゾンＯ3は、酸素Ｏ2と励起酸素原子Ｏに分解する。励起された酸素原子は非常に酸化力が強いので、蛍光体層表面の残存炭素成分を酸化し、ＣＯやＣＯ2などにガス化し脱離することができる。酸素を含む雰囲気下とは、酸素単体ガスだけでなく、ネオン、アルゴンなどの希ガスや窒素などの紫外線に対して安定なガスと酸素との混合ガス、および大気も指す。紫外線の発生方法は特に限定されないが、水銀ランプ、Ｘｅランプ、重水素ランプや、誘電体バリア放電エキシマランプなどを使用することができる。
【００３４】
酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することで、表面に残存した炭素成分が少ない蛍光体層を形成できるので、前述したように放電により発生した紫外線が蛍光体表面の残存成分で吸収されず、高輝度なプラズマディスプレイを作製できる。また、前面板電極と背面板電極間でのリセット放電により、蛍光体層表面から放電空間にスパッタリング、または脱離する炭素成分も少なくなるので、ＭｇＯ膜表面の変質層形成や、非放電時における放電ガス以外のＭｇＯ膜表面へのガス吸着が起こりにくい。したがって、プラズマディスプレイの表示動作が安定に行える。
【００３５】
蛍光体層に紫外線を照射しなかった場合、蛍光体層形成時の焼成では、表面の炭素成分は完全には除去できないので、プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面には炭素成分が残存し、輝度低下や放電電圧の上昇、すなわち表示動作が安定しないといった問題が生じやすい。
【００３６】
本発明のプラズマディスプレイの製造方法は蛍光体層表面の残存成分の低減に関するので、１７２ｎｍ付近で最大ピークを持つ紫外線を照射することが好ましい。１７２ｎｍ付近で最大ピークを持つ紫外線を照射することで、効率よく励起酸素原子を生成でき、さらに残存している炭素成分の結合を紫外線で直接的に切断できるので、効率よく蛍光体層表面の残存炭素成分を除去できる。１７２ｎｍ付近で最大ピークを持つ紫外線を照射するには、Ｘｅガスを封入した誘電体バリア放電エキシマランプ（例えば、ウシオ電機株式会社製ＵＥＲ２０−１７２）を用いることができる。１７２ｎｍ付近で最大ピークを持つ紫外線を照射しなかった場合、励起酸素原子の生成量が少ないので、蛍光体層表面の炭素成分を効率よく除去しにくい傾向にある。
【００３７】
本発明において紫外線を照射する時間は特に限定されないが、１０分〜１時間程度でよい。雰囲気の圧力や酸素濃度も特に限定されないが、焼成後の蛍光体層表面に残存する炭素成分の量や状態により適宜調整できる。さらに、残存炭素成分の脱離を促進するために、照射する基板を１５０℃程度に加熱してもよい。
【００３８】
このようにして背面板２を作製することができる。
【００３９】
（封着工程）
前面板と背面板を封着用のガラスフリットを用いて封着する工程（封着工程）について述べる。
【００４０】
本発明に使用する封着用のガラスフリット材料は特に限定されないが、例えば、ＰｂＯ、Ｂ2Ｏ3等を含有する低融点ガラスとセラミックスフィラーからなる複合系フリットや、ＰｂＯ、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3等からなる結晶性フリットを好ましく用いることができる。各組成については、使用するガラス基板の熱膨張係数や封着後の工程での最高処理温度などによって適宜選択することができる。
【００４１】
前面板と背面板の間の所定の位置に封着用ペーストを塗布する方法としては、封着用ガラスフリットをペースト化し、背面板と前面板のどちらか一方、または双方に塗布することができる。封着用ペーストに用いるポリマーおよび溶媒は特に限定されない。例えば、ポリマーとしてはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂、溶媒としてα−ターピネオール等である。塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、ディスペンサー法などを用いることができる。
【００４２】
次に、塗布した封着ペースト中の樹脂や溶媒などを除去する目的で、封着ペーストを塗布した部材を焼成する。焼成温度、保持時間は使用する樹脂や溶媒により適宜選択できるが、樹脂が脱バインダーする温度で一定時間保持し、その後封着用ペーストが流動性を示さない範囲でさらに温度を上げるのがよい。
【００４３】
さらに、封着ペーストが塗布・焼成された部材とそれと対になる部材を貼り合わせ、ガラスフリットの軟化点以上の温度で一定時間保持することで前面板と背面板を封着する。封着温度や保持時間は、ガラスフリットの材料により適宜設定することができる。
【００４４】
本発明のプラズマディスプレイの製造方法は、蛍光体層表面の残存炭素成分の低減に関するので、蛍光体層を形成した部材に封着フリット塗布・焼成した後、酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することが好ましい。封着フリット塗布・焼成前に、酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射すると、封着フリット塗布・焼成後に同じく紫外線を照射する場合に比べて、蛍光体層表面に残存する炭素成分は多い傾向にある。これは、封着フリット塗布・焼成を行っている間に蛍光体層表面に炭素成分が付着しているためと考えられる。すなわち、封着フリットを焼成する際に、封着フリットペースト中の樹脂成分が分解・燃焼しガス化したものが、降温時に蛍光体層表面に再付着したものと考えられる。
【００４５】
酸素を含む雰囲気下で紫外線を照射することで残存炭素成分を除去した蛍光体層表面の汚染を防止する目的で、次にのようにプラズマディスプレイを作製してもよい。紫外線を照射する雰囲気が、外囲器内を真空排気した後所定の不純物濃度以下の酸素を含むガスを導入したものであって、蛍光体層を形成した部材に封着フリットを塗布・焼成し、該雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射した後、該雰囲気を大気開放せずに蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気し放電のためのガスを封入する工程を行う。図３を用いて詳細を説明する。焼成された蛍光体層を形成した基板を紫外線照射ゾーン内に配置し、真空排気を行い（例えば１０-3Ｐａ以下まで）、所定の不純物濃度以下の酸素を含むガスを導入し、該雰囲気下で紫外線を照射し蛍光体層表面の残存炭素成分を除去する。次に大気開放せずに封着ゾーンに搬送し、所定の封着工程を行い前面板と背面板を封着する。さらに加熱排気・放電ガス封入ゾーンに封着された前面板と背面板を搬送し、所定の加熱排気・放電ガス封入工程を行い、プラズマディスプレイを作製する。
【００４６】
酸素を含むガスとは、酸素単体ガスだけでなく、ネオン、アルゴンなどの希ガスや窒素などの紫外線に対して安定なガスと酸素の混合ガスを指す。所定の不純物濃度以下とは、上記ガス以外（例えば、メタン）の含有量が０．１％程度以下であることを言う。紫外線照射後、大気開放を行った場合、大気中に浮遊している有機物ガスや、基板の取り出し、運搬などにより発生する有機物が蛍光体層に付着するので、プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面には炭素成分が残存してしまい、輝度低下や放電電圧の上昇、すなわち表示動作が安定しないといった問題が生じやすい。
【００４７】
（真空排気・放電ガス封入工程）
封着した前面板と背面板内部を真空排気し、放電ガスを封入する工程について説明する。封着した前面板と背面板内部を真空排気し、１０-2Ｐａ程度まで到達したら、封着された前面板と背面板の加熱を始める。加熱温度は、封着フリットが流動性を示さない範囲であれば特に限定されず、前面板上にＭｇＯ膜を形成した場合では通常２００〜３８０℃程度がよい。また、保持時間も特に限定されず、大型のプラズマディスプレイになれば保持時間は長くなるが、４２インチ程度のプラズマディスプレイでも１０時間以下程度である。
【００４８】
排気しながら所定の加熱を行った後、排気を続けながら室温付近まで封着した前面板と背面板を冷却し、放電ガスを所定の圧力まで封入する。
【００４９】
最後に、駆動回路を実装してプラズマディスプレイを完成する。
【００５０】
【実施例】
以下に、本発明を実施例を用いて具体的に説明する。但し、本発明はこれに限定されない。
（測定方法）
（１）蛍光体層表面の残存炭素成分の測定は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて行った。Ｘ線源は、単結晶分光したＡｌのＫα線を用いた。測定領域は３００×３００μｍの楕円形とした。試料はプラズマディスプレイを蛍光体層が剥離しないように窒素雰囲気中で分解し、適当な大きさに切断したものを用いた。
【００５１】
（実施例１）
プラズマディスプレイを以下の手順にて作製した。
【００５２】
旭硝子社製“ＰＤ−２００”ガラス基板上に、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりアドレス電極パターンを形成した後焼成した。アドレス電極が形成されたガラス基板上に誘電体層をスクリーン印刷法により２０μｍの厚みで形成した。しかる後、感光性隔壁ペーストを用いたフォトリソグラフィー法により隔壁パターンを形成した。次に蛍光体層をディスペンサー法にて形成した。蛍光体ペーストは、蛍光体粉末：ポリマー＝５：１の重量比で３本ロールを用いて混練した。蛍光体粉末は、赤：（Ｙ、Ｇｄ、Ｅｕ）ＢＯ3、緑：（Ｚｎ、Ｍｎ）2ＳｉＯ4、青：（Ｂａ、Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17の組成のものを用いた。ポリマーはベンジルアルコールで溶解したエチルセルロースを用いた。蛍光体層の焼成は大気中で、４℃／分の速度で５００℃まで昇温し、その温度で３０分間保持したのち室温まで冷却した。次に、焼成した蛍光体層に、波長が１７２ｎｍ付近に最大ピークを持つ紫外線を大気中で３０分間照射した。紫外線源はエキシマランプ（ウシオ電機製ＵＥＲ２０Ｈ−１７２）を用いた。紫外線により発生したオゾンＯ3や励起酸素原子Ｏを効率よく蛍光体層と接触させるために、ステンレス製の容器内で紫外線を照射し蛍光体層を形成した部材を得た。
【００５３】
同様に“ＰＤ−２００”ガラス基板上に、フォトエッチング法によりＩＴＯ電極を形成した後、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりバス電極パターンを形成した。しかる後、透明誘電体層をスクリーン印刷法により３０μｍの厚みで形成した。さらに５００ｎｍ厚のＭｇＯ膜を電子ビーム蒸着法により形成して、放電のための複数の電極を形成した部材を得た。
【００５４】
次に、封着用ペーストをディスペンサー法を用いて蛍光体層を形成した部材に塗布した。ガラスフリットはＰｂＯ、Ｂ2Ｏ3およびセラミックスフィラーからなる複合系であり、軟化点は４１０℃である。溶媒はα−ターピネオール、ポリマーにはＰＭＭＡを用いた。封着フリットを塗布した部材を３８０℃で１５分間保持した後、４３０℃で１５分保持することで、封着ペーストの焼成を行った。
【００５５】
蛍光体層を形成した部材のアドレス電極と放電のための複数の電極を形成した部材のバス電極が平行するようにこれら部材を配置して、インコネル製耐熱クリップを用いて対称に外力を加えた。封着は４５０℃で１５分間行った。昇温および降温速度は５℃／分で行った。これら部材を封着する時に一緒に、蛍光体層を形成した部材側にガラス配管を設けた。
【００５６】
ガラス配管を通して、封着した該部材の内部の真空排気を行った。この封着した該部材内部の真空度が１×１０-3Ｐａ以下に達した後に、このまま排気を行いながら３５０℃で５時間の加熱を行った。排気を行いながら、加熱を止め、室温まで冷却した後、放電ガスであるＸｅ５％−Ｎｅガスを６６．５ｋＰａまで封入した。ガラス配管を電熱ヒーターを用いて溶断し、最後に、駆動回路を実装して、表示画素数６４０×４８０セルのプラズマディスプレイを作製した。
【００５７】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３５０ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数は７個であった。表示動作が安定しないセル数は少ない方が良く、１０個以下さらには５個以下であることが望ましい。すなわち、本実施例で作製したプラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
【００５８】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、１３．８ａｔ％であった。
【００５９】
（実施例２）
蛍光体ペーストに分子量１０万のＰＭＭＡ溶液を用い、蛍光体層の焼成温度を４６０℃にした以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００６０】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３５７ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数７個であった。すなわち、本実施例で作成したプラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
【００６１】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、１２．９ａｔ％であった。
【００６２】
（実施例３）
蛍光体層形成直後には紫外線を照射せず、封着ペーストを塗布・焼成後に蛍光体層に紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００６３】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３６０ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数は６個であった。すなわち、本実施例で作成したプラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
【００６４】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、７．２ａｔ％であった。
【００６５】
（実施例４）
蛍光体層形成直後には紫外線を照射せず、図３に示したような外囲器内に、焼成された蛍光体層および焼成された封着ペーストが形成された背面板を配置し、１０-3Ｐａまで真空排気を行った後、５０ｋＰａまで１０％Ｏ2−Ａｒガスを導入した雰囲気下で紫外線照射を行い、さらにこの雰囲気を大気開放した後、蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着した以外は実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００６６】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３５７ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数は４個であった。すなわち、本実施例で作成したプラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
【００６７】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、７．６ａｔ％であった。
【００６８】
（実施例５）
紫外線照射後に大気開放せずに蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封着し、さらに加熱排気・放電ガス封入工程を行った以外は実施例４と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００６９】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３７２ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数は３個であった。すなわち、本実施例で作成したプラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
【００７０】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、５．３ａｔ％であった。
【００７１】
（比較例１）
紫外線照射を行わなかった以外は実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００７２】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３３７ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数は１３個であった。すなわち、本実施例で作製したプラズマディスプレイの表示動作は良好ではなかった。
【００７３】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、２２．５ａｔ％であった。
【００７４】
（比較例２）
蛍光体層の焼成温度を５５０℃にし、紫外線照射を行わなかった以外は実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００７５】
このプラズマディスプレイの白色ピーク輝度は、３２０ｃｄ／ｍ2であった。また、プラズマディスプレイの中央部に１０×１０ｃｍ角の領域に千鳥格子のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセル数は１４個であった。すなわち、本実施例で作製したプラズマディスプレイの表示動作は良好ではなかった。
【００７６】
同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍光体層表面の残存炭素成分は、１９．７ａｔ％であった。
【００７７】
実施例１〜３、および比較例１、２の作製工程の一部を図４に示す。
【００７８】
実施例１〜５、および比較例１、２の、蛍光体層表面の残存炭素成分、作製したプラズマディスプレイで千鳥格子のパターン表示を行った時に表示動作が安定しないセル数、およびプラズマディスプレイの輝度を表１に示す。
【００７９】
【表１】
0004519293.tif 000002
【００８０】
【発明の効果】
本発明によれば、表面の残存炭素成分の少ない蛍光体層が形成でき、高輝度で表示動作が安定なプラズマディスプレイを作製できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を説明するための放電型ディスプレイの断面概略図。
【図２】本発明の実施例を説明するための紫外線照射する装置の概略図。
【図３】本発明の実施例を説明するための紫外線照射、封着、真空排気・放電ガス封入する装置の概略図。
【図４】本発明の実施例１〜３、および比較例１、２を説明するためのプラズマディスプレイの作製工程図。
【符号の説明】
１    ：放電のための複数の電極を形成した部材（前面板）
２    ：蛍光体層を形成した部材（背面板）
３，４：ガラス基板
５    ：アドレス電極
６    ：誘電体
７    ：隔壁
８    ：蛍光体
９    ：透明電極
１０    ：バス電極
１１    ：透明誘電体
１２    ：ＭｇＯ膜
１３    ：封着用ガラスフリット
１４    ：紫外線ランプ
１５    ：酸素を含有した雰囲気
１６    ：容器
１７    ：紫外線照射ゾーン
１８    ：封着ゾーン
１９    ：加熱排気・放電ガス封入ゾーン
２０、２２：真空排気ポンプ
２１    ：酸素を含むガス
２３    ：放電ガス
２４    ：ヒーター
【図１】
0004519293.tif 000003
【図２】
0004519293.tif 000004
【図３】
0004519293.tif 000005
【図４】
0004519293.tif 000006