(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルームの外気導入系に用いられ，処理空気中の可溶性ガスを，チャンバ内において清浄な吸収液との気液接触によって除去し，前記吸収液を循環して利用するための吸収液の循環系を有する不純物除去装置であって，
前記循環系にある吸収液のｐＨ値を検出するｐＨセンサと，
ｐＨ値が６〜８の一般水を前記循環系に補給する一般水補給配管と，
清浄な吸収液を前記循環系に補給する給水配管と，
前記ｐＨセンサの検出結果に基づいて前記一般水補給配管の弁の開閉を制御する制御装置と，を有し，
前記ｐＨセンサの検出結果が，予め設定した範囲内の場合には，前記給水配管から清浄な吸収液が前記循環系に補給され，
前記ｐＨセンサの検出結果が，予め設定した範囲外の場合には，前記制御装置によって，前記一般水補給配管から一般水が前記循環系に補給されることを特徴とする，不純物除去装置。
【請求項２】
前記循環系は，チャンバ内で気液接触された後の吸収液を回収して貯留する貯留部を有し，前記ｐＨセンサは，この貯留部に配置されていることを特徴とする，請求項１に記載の不純物除去装置。
【請求項３】
前記チャンバは略箱形であり，当該チャンバの上部には処理済み空気の吹き出し口を有し，チャンバの側部には処理空気の導入口を有し，
前記チャンバ内の上部に配置されたミスト捕集部と，
前記ミスト捕集部の上方に吸収液を散水する散水ノズルとを有することを特徴とする，請求項１又は２に記載の不純物除去装置。
【請求項４】
前記循環系にある吸収液の導電率を測定する導電率計と，
前記導電率計の測定結果に基づいて前記給水配管の弁の開閉を制御する制御装置とを有することを特徴とする，請求項１，２又は３のいずれかに記載の不純物除去装置。
【請求項５】
前記給水配管を通じて補給される清浄な吸収液導電率は，２０μＳ／ｃｍ未満であることを特徴とする，請求項４に記載の不純物除去装置。
【請求項６】
前記一般水の導電率は，２０μＳ／ｃｍ以上であることを特徴とする，請求項１，２，３，４又は５のいずれかに記載の不純物除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，クリーンルームの外気導入系に用いられ，気中に含まれる可溶性ガスの不純物を除去する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の不純物除去装置は，高い清浄度が要求されるクリーンルームの外気供給系に使われており，たとえば特開平９−２３９２２４号公報に開示されている。前記公報に開示されているガス不純物の除去装置は，可溶性ガス成分の含まれる空気と吸収液とを効率よく気液接触させることにより，気中の可溶性ガスを吸収除去するように構成されている。ここで使用される吸収液は清浄度の高い純水が使用されるのが一般的である。しかしながら，処理空気中の可溶性ガスの成分組成比によって吸収液のｐＨ値が変動し，ｐＨの変動はさらにガスの除去率を変動させる。より具体的にいうと，酸性ガス成分と塩基性ガス成分の成分比（モル比）にｐＨ値は依存しており，例えば酸性ガス成分が多くなるとｐＨ値は酸性側に偏り，次第に酸性ガスの除去性能が低下する。このようなｐＨ変動現象は，補給水として一般水よりも清浄な（導電率が低い）水，例えば純水を使用した場合に顕著に起こる。
【０００３】
補給水として純水のような清浄水を使用したときのｐＨ値変動の問題に対しては，特開平１０−３０９４３２号公報にその対策が開示されている。すなわち，循環吸収液または吸収液の排水のｐＨ値をモニタリングし，所定の範囲のｐＨ値になるように，▲１▼清浄な（新鮮な）吸収液の給水量を増加させる，▲２▼ｐＨ調整液（酸性溶液またはアルカリ性溶液）を注入する，▲３▼ｐＨ緩衝液を注入する，といった手段の導入が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，▲１▼清浄な吸収液を増加させる方法は，補給水として純水のような清浄水を使用している限り，循環吸収液のｐＨ値を変えるためには，相当多量の補給水が必要となり，しかもｐＨ値が急激に変わった場合に，制御域に戻すまでの時間がかかり（すなわち応答速度が低く），除去性能の安定制御に改善の余地があった。
【０００５】
また▲２▼ｐＨ調整液を注入する，▲３▼ｐＨ緩衝液を注入する方法は，応答速度および制御性には問題ないが，ｐＨ調整液やｐＨ緩衝液に加える薬液の成分の多くが，気中からの除去対象物質になっていることから，注入量によっては逆に処理空気を汚染させる危険性がある。またこのような薬液を注入するシステムでは１〜３ヶ月毎に薬液の補給・交換などのメンテナンスが不可欠であり，メンテナンスフリーが要求される場合に，改善の余地があった。
【０００６】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり，ｐＨ制御の応答性が良好でしかも取り扱いやすく，さらにメンテナンスの点で従来より改善された不純物除去装置を提供することをその目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため，請求項１によれば，クリーンルームの外気導入系に用いられ，処理空気中の可溶性ガスを，チャンバ内において清浄な吸収液との気液接触によって除去し，前記吸収液を循環して利用するための吸収液の循環系を有する不純物除去装置であって，前記循環系にある吸収液のｐＨ値を検出するｐＨセンサと，ｐＨ値が６〜８の一般水を前記循環系に補給する一般水補給配管と，
清浄な吸収液を前記循環系に補給する給水配管と，前記ｐＨセンサの検出結果に基づいて前記一般水補給配管の弁の開閉を制御する制御装置と，を有し，前記ｐＨセンサの検出結果が，予め設定した範囲内の場合には，前記給水配管から清浄な吸収液が前記循環系に補給され，前記ｐＨセンサの検出結果が，予め設定した範囲外の場合には，前記制御装置によって，前記一般水補給配管から一般水が前記循環系に補給されることを特徴とする，不純物除去装置が提供される。
【０００８】
このように，一般水を別途補給することで循環系の吸収液のｐＨ値を制御するようにしたので，多量に供給して即座に所定のｐＨ値に制御することが可能になり，応答性が良好である。ここでいう一般水は，上水（水道水），工水（工業用水で河川などから直接取水している水をもこれに含まれる），井水（井戸水），雨水又は中水（雑排水などを簡易的に浄化処理した水）をいう。したがって，入手，取り扱いが容易で，メンテンナンス性にも優れている。
【０００９】
既述したように，この種の不純物除去装置は，クリーンルームの外気導入系に多く使用されているが，例えばクリーンルームを有する施設付近の大気中の酸性ガスの濃度が急激に増加した場合，前記した従来の技術では到底対処できず，またその制御が難しい。例えば三宅島の噴火によるＳＯ２ガスによる影響のように，三宅島から遠く離れた場所でも酸性ガス濃度だけが通常濃度の１００倍も上昇するケースが実際に起こっている。
【００１０】
一般水を吸収液として使用した場合，純水よりも吸収液自体の清浄度は低下しているので，一般水に含まれる物質によって下流空気が汚染される場合もありうる。しかしながら製造環境への影響の度合いを考えれば，前記したように，例えば酸性ガス濃度が１００倍にも上昇したときには，そのような一般水の使用による影響は，殆ど無視できる。したがって，本発明は，特に一時的に大気中の汚染ガス濃度が大きく上昇した場合に顕著な効果がある。
【００１１】
そして本発明の不純物除去装置は，それ自体単独で外気処理に用いたり，あるいは外気調和機に組み込んで外気処理に用いることができ，空気の循環系に設置して生産設備の障害等に備えた緊急設備として供することも可能である。
【００１２】
吸収液の循環系は，チャンバ内で気液接触された後の吸収液を回収して貯留する貯留部を有し，前記ｐＨセンサは，この貯留部に配置されていてもよい。またチャンバの形状は，例えば略箱形としてもよい。この場合には，チャンバの上部には処理済み空気の吹き出し口を有し，チャンバの側部には処理空気の導入口を有し，前記チャンバ内の上部に配置されたミスト又は水滴捕集部と，前記ミスト又は水滴捕集部の上方に吸収液を散水する散水ノズルとを有する構成とすれば，チャンバ周囲の処理空気をチャンバ内に取り込んで処理した後，垂直な気流としてチャンバ外に送り出すことができる。ここでミスト又は水滴捕集部とは，例えば慣性衝突や冷却凝縮の作用でミストや水滴を捕集するものをいい，例えば衝突板，冷却コイル，エリミネータなどを例示することができ，さらに例えばメッシュの塊や合成繊維の三次元網目状構造体によって構成された充填物も採用することができる。
【００１３】
さらに前記循環系にある吸収液の導電率を測定する導電率計と，前記導電率計の測定結果に基づいて前記給水配管の弁の開閉を制御する制御装置とを有する構成とすれば，循環する吸収液の可溶性イオン成分にも基づいて，清浄な吸収液の補給の必要性を判断でき，より適切な吸収液の補給が実施できる。
【００１４】
前記給水配管を通じて補給される清浄な吸収液導電率は，２０μＳ／ｃｍ未満が好ましく，また循環系に補給される一般水の導電率は，２０μＳ／ｃｍ以上，より好ましくは，１００μＳ／ｃｍ以上がよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明すると，図１は，第１の実施の形態にかかる不純物除去装置１の構成の概略を示しており，この不純物除去装置１は，導入外気などの処理空気から可溶性ガスを除去して清浄化した後，クリーンルームなどの清浄空間に供給するための装置である。
【００１６】
この不純物除去装置１は，処理空気の流路となるチャンバ２内に，処理空気の流れと直角に配置されているエリミネータ３を有している。チャンバ２内におけるエリミネータ３の上流側には，水噴霧ノズル４が配置されている。チャンバ２内における下方には，空気の流れに沿った方向で，エリミネータ３と水噴霧ノズル４との間の距離よりも長い長さを有する，貯留部としてのピット５が配置されている。したがって，この水噴霧ノズル４から処理空気中に噴霧された吸収液は，気液接触によって処理空気中の不純物，例えば可溶性ガスを捕集してそのままエリミネータ３に衝突し，エリミネータ３によって回収される。またエリミネータ３の表面が噴霧された吸収液のミストで濡れ，処理空気がこのエリミネータ３を通過する際にも，不純物，例えば可溶性ガスはエリミネータ３によって捕集される。そしてミストを回収したエリミネータ３からの吸収液は，ピット５に貯留される。水噴霧ノズル４からミストや滴もピット５に貯留される。
【００１７】
ピット５の底面には排水配管１１が接続され，適宜ピット５内に貯留した吸収液をポンプ１２によって排水することが可能である。またピット５の側壁上部付近には，オーバーフロー配管１３が接続されており，ピット５に貯留された吸収液は溢れ出る前にこのオーバーフロー配管１３によって排出されるようになっている。なおこれら排水配管１１やオーバーフロー配管１３から排出された吸収液は，清浄化して再度吸収液として使用するようにしてもよい。
【００１８】
ピット５には給水配管１４が接続されており，清浄な吸収液，例えば純水がこの給水配管１４を通じてピット５内に補給される。ピット５の底面と水噴霧ノズル４との間には，循環水配管１５が配管されており，ポンプ１６によってピット５の底面付近から汲み上げられたピット５内の循環水は，水噴霧ノズル４に送水され，処理空気中に噴霧される。噴霧された吸収液は気流と共に下流側のエリミネータ３に流され，エリミネータ３によって水滴のみ捕獲されピット５内に戻る。したがって，この場合は，ピット５，循環水配管１５が循環系を構成している。
【００１９】
循環水配管１５には，一般水補給配管１７が接続されている。この一般水補給配管１７には，電磁式の二方弁１８が設けられており，この二方弁１８の開閉により，一般水が一般水補給配管１７を通じて循環水配管１５内に供給される。二方弁１８は，制御装置１９によってその開閉が制御される。
【００２０】
すなわち，循環水配管１５における一般水補給配管１７との接続部よりも上流側には，ピット５から循環水配管１５内に流れる循環吸収液のｐＨ値を検出するｐＨセンサ２０が設けられており，このｐＨセンサ２０によって検出した循環吸収液のｐＨ値に基づいて，制御装置１９は二方弁１８の開閉を制御するようになっている。制御の例については，後述する。
【００２１】
以上の構成にかかる第１の実施の形態にかかる不純物除去装置１の運転例について説明する。まず通常時においては，吸収循環水は排水配管１１から所定水量排水され，排水分および気液接触処理での蒸発水量分は，清浄水の給水配管１４から給水される。ピット５の水は循環水配管系のポンプ１６により水噴霧ノズル４に送水され，処理空気に噴霧され，噴霧水は気流と共に下流側のエリミネータ３側に流され，水滴のみ捕獲されピット５内に戻る。そして処理空気中の可溶性ガスは噴霧水およびエリミネータ３表面の濡れ面との気液接触により吸収液中に吸収され除去される。
【００２２】
ここでｐＨセンサ２０の検出結果，つまりピット５からの循環水のｐＨ値が，５．０〜７．５の範囲内のときは，清浄な補給水が，給水配管１４から所定の水量連続給水されるように，制御装置１９によって制御されている。すなわち，ピット５からの循環水のｐＨ値が５．０〜７．５の範囲にあるときは，二方弁１８は閉鎖されるように制御装置１９が制御している。そして不純物除去処理が進行し，処理空気中の酸性および塩基性ガス成分濃度の比が大幅に片寄ると，循環水のｐＨ値は設定範囲外に変化する。
【００２３】
ｐＨセンサ２０の検出結果が，前記設定範囲（ｐＨ値が，５．０〜７．５）外になると，制御装置１９の制御によって，二方弁１８は開放され，一般水補給配管１７から循環水配管１５に一般水が給水される。すなわち循環水系に一般水が供給される。そうすると，徐々に循環水のｐＨ値は戻り，やがて前記設定範囲であるｐＨ値が５．０〜７．５の範囲内に到達する。ピット５からの循環水がかかる範囲に到達したことをｐＨセンサ２０が検出すると，制御装置１９は，二方弁１８に制御信号を送り，二方弁１８を閉鎖し，一般水の補給は停止される。
【００２４】
前記実施の形態では，一般水はポンプ１６の吸い込み側から給水しており，一般水給水時の給水量は噴霧水量に近い水量となる。この時の補給水量が，排水配管１１から排水される排水量より多い場合には，オーバーフロー配管１３から排水される。
【００２５】
次に前記不純物除去装置１を用いて発明者らが実験した結果について説明する。酸性ガス成分比が多くなる冬期に，不純物除去装置により外気処理を２日間行った。すなわち処理空気として外気を用いた。初日はｐＨセンサ２０等を停止して，制御装置１９による制御システムを起動しないで６時間不純物除去処理を行った，外気中の硫酸イオン濃度およびアンモニウムイオン濃度が各々約１０μｇ／ｍ３，１μｇ／ｍ３になったとき，循環水のｐＨ値は４．５を記録した。この時の硫酸イオンの除去率は５４％であった。
【００２６】
翌日は制御装置１９による制御システムを起動できる状態で６時間，不純物除去処理を行った。外気中のアンモニウムイオン濃度は前日同様１μｇ／ｍ３で安定していたのに対して，硫酸イオン濃度は８〜１３μｇ／ｍ３の範囲で変動した。循環水のｐＨ値は４．９〜５．５の範囲で変動した。ｐＨ値が４．９と制御域よりも０．１低くなったのは，循環水のｐＨ値が５．０以下になってから，一般水が補給されはじめ，ｐＨ値が復帰するまで数分から１０分程度の時間を要するためである。ｐＨ値が最低を記録したときの硫酸イオンの除去率は６９％であった。このように，一般水補給によるｐＨ制御システムが，気中不純物除去装置の除去性能安定化に有効であることがわかった。
【００２７】
前記実施の形態では，ｐＨ制御域をｐＨ値５．０〜７．５としていたが，除去対象物質や除去性能目標値によってこのｐＨ制御域を変更することももちろん可能である．例えば，酸系ガスおよび塩基性ガスとも，常に７０％以上除去したい場合は，ｐＨ制御域を５．５〜７．０にすることが望ましい。
【００２８】
前記実施の形態では，ｐＨ制御用の一般水としてｐＨ７．６の市水（上水）を用いている。そのため循環水のｐＨ値がアルカリ側（７．５以上）に偏った場合には，制御できないが，本不純物除去装置１を設置した環境は，酸性ガス成分が常に多くその結果ピット５からの循環水が酸性側に大きく偏ることはあってもアルカリ性側（ｐＨ７．０以上）には偏らないことが予め分かっているため，問題なく循環水のｐＨ値を５．０〜７．５の範囲内に制御することができた。
【００２９】
一方循環水のｐＨ値が酸性側およびアルカリ性側両方に偏る可能性がある場合は，ｐＨ制御用の一般水のｐＨ値は，制御範囲内にあることが必要である。一方，前記実験例のように，ピット５からの循環水が酸性側にしか偏らない場合には，ｐＨ制御用の一般水のｐＨ値は，アルカリ側の制御値を越えていても問題ない。逆に，アルカリ側にしか偏らない場合には，ｐＨ制御用の一般水のｐＨ値は酸性側の制御値を越えていても問題ない。ｐＨ制御用一般水としては，上水，井戸水，工水（工業専用水），雨水，中水（雑排水を簡易濾過した水）などが利用できる。したがって，入手，取り扱いが容易で，コストも低廉である。
【００３０】
ｐＨセンサ２０の取付場所は，前記第１の実施の形態では循環水配管１５内であったが，ピット５内であっても，排水配管１１内であっても，循環水のｐＨ値が測定できるところであればどこでもよい。
【００３１】
ｐＨ制御用の一般水の補給方法として，前記第１の実施の形態では，循環水配管１５のポンプ１６の吸い込み側に給水するようにしているが，循環水系内にｐＨ制御用一般水を直接又は間接に給水できるのであればどのような給水手段を行ってもよい。
【００３２】
例えば図２に示した第２の実施の形態にかかる不純物除去装置２１では，一般水補給配管１７をピット５内に配管してピット５内に直接給水するようにしている。またｐＨセンサ２０の検出部もピット５内に設置されている。なおこの不純物除去装置２１では，エリミネータ３の上部に水噴霧ノズル４を設置して，水噴霧ノズル４から直接エリミネータ３に噴霧して，エリミネータ３の表面を常に濡らした状態にして，エリミネータ３による捕集，除去を実施するようにしている。
【００３３】
また第２の実施の形態にかかる不純物除去装置２１では清浄な吸収液の補給，及び排水は，ピット５から排水ポンプ１２によって所定量排水して，この排水量と気液接触時の循環水の蒸発量分を，ボールタップ給水弁１４ａによって自動給水するようにしている。通常時の給排水手段として，他に，補給水量を定水量行い，排水はオーバーフロー管１３より排水するなどの方法も提案できる。このことは，本発明の各実施の形態において採用できる。
【００３４】
ｐＨ値が制御域を超えたときの一般水の給水方法としては，前記各実施の形態では，ｐＨ値が制御域内に戻るまで実施する制御システムを採用しているが，他の方法として，給水時間を前もって決めておく給水方法も提案できる。例えば，一度一般水が給水されると３０分連続給水した後，停止し，３０分後のｐＨ値がまだ制御域内にはない場合は，再度給水を開始し３０分連続給水するといった方法である。
【００３５】
次に第３の実施の形態について図３を参照して説明する。前記各実施の形態においては，エリミネータ３がチャンバ２内において垂直に設置され，チャンバ２内に水平に流れる処理空気の気流に対して直角となるように配置されていたが，第３の実施の形態にかかる不純物除去装置３１では，略箱型のチャンバ３２内の上部に水平に設置されている。
【００３６】
すなわちチャンバ３２の上部には，処理済の空気を吹き出す吹き出し口３３が形成されており，その下部に送風ファン３４が設置されている。チャンバ３２の側部には処理空気を取り入れるための導入口３５が形成されている。そしてチャンバ３２内における送風ファン３４の上流側には，エリミネータ３が水平に設置されている。チャンバ３２内の底部には，ピット５が設けられている。
【００３７】
給水配管１４はこのピット５に接続されている。ピット５の底部には，取水管３６が接続されている。取水管３６は分岐して一方は，排水管１１となり，他方は循環水配管１５として，チャンバ３２内の上部に配管されている。取水管３６における分岐箇所の上流側には，ポンプ３７が介装されている。チャンバ３２内において，循環水配管１５には散水ノズル３８が設けられている。この散水ノズル３８は，前記エリミネータ３と送風ファン３４の間に位置している。一般水補給管１７は，取水管３６に接続されている。排水管１１には，弁Ｖ１が設けられ，循環水配管１５には，弁Ｖ２が設けられている。これらの弁Ｖ１，弁Ｖ２は，主として流量調整に使用される。
【００３８】
ｐＨセンサ２０の検出部は，ピット５内に配置されており，その検出結果は，制御装置１９へと送られ，制御装置１９は，当該検出結果に基づいて一般水補給管１７に設けられている二方弁１８の開閉を制御するようになっている。
【００３９】
かかる構成の第３の実施の形態にかかる不純物除去装置３１によれば，ポンプ３７の作動により，ピット５内の循環水は，取水管３６を通じて循環水配管１５を流れて散水ノズル３８へと送水される。そして散水ノズル３８からエリミネータ３の上面に散水される。
【００４０】
そして送風ファン３４が作動すると，導入口３５から処理空気がチャンバ３２内に取り入れられて垂直方向の気流となってチャンバ３２内を上昇する。このとき散水ノズル３８から吸収液としての清浄水，例えば純水がエリミネータ３の上面に散水されているので，エリミネータ３の表面は濡れており，処理空気はエリミネータ３を通過する際に，気液接触によって不純物，例えば可溶性ガス成分が捕集され，処理空気中から除去される。
【００４１】
ｐＨ制御のプロセスは，既述した第１の実施の形態と同様，ｐＨセンサ２０によってピット５からの循環水のｐＨ値が設定範囲外になると，制御装置１９の制御によって，二方弁１８は開放され，一般水補給配管１７から取水管３６経由で循環水配管１５に一般水が給水される。そしてこの循環水系に一般水が供給されると，徐々に循環水のｐＨ値は戻り，やがて前記設定範囲であるｐＨ値が５．０〜７．５の範囲内に到達する。ピット５からの循環水がかかる範囲に到達したことをｐＨ２０センサが検出すると，制御装置１９は，二方弁１８に制御信号を送り，二方弁１８を閉鎖し，一般水の補給は停止される。
【００４２】
次に第４の実施の形態にかかる不純物除去装置について説明する。図４に示したように，第４の実施の形態にかかる不純物除去装置４１は，前出第１の実施の形態にかかる不純物除去装置１におけるピット５に，さらに別途導電率計４２を設置し，その結果の基づいて制御装置４３が給水配管１４に設けられた二方弁４４を制御するようになっている。すなわちピット５内の循環水のｐＨ値が制御域内にあるときの清浄な吸収液を給水する方法として，循環水の導電率を導電率計４２によって測定し，所定の導電率を越えたときに二方弁４４を制御装置４３が開放して，清浄な吸収液を補給するようにしている。
【００４３】
かかる手法によれば，常に一定量排水するこれらの方法と異なり，循環水の導電率を測定し，導電率が所定の値より高くなった場合に，強制ブローしたり，あるいは強制給水するといった方法を採ることが可能である。なお排水配管をピット５に別途設け，この排水配管に電磁弁を設けて，給水配管側をボールタップ給水としてもよい。
【００４４】
【発明の効果】
本発明によれば，吸収液との気液接触によって空気中の可溶性ガスを除去する際に，循環して使用する吸収液のｐＨ制御の応答性が良好であり，しかも取り扱いが容易でメンテナンス性にも優れている。したがって処理空気中のガス成分の組成比が変動しても常に安定した除去性能を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態にかかる不純物除去装置の構成の概略を示す説明図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態にかかる不純物除去装置の構成の概略を示す説明図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態にかかる不純物除去装置の構成の概略を示す説明図である。
【図４】本発明の第４の実施の形態にかかる不純物除去装置の構成の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
１    不純物除去装置
２    チャンバ
３    エリミネータ
４    水噴霧ノズル
５    ピット
１１    排水配管
１４    給水配管
１５    循環水配管
１６    ポンプ
１７    一般水補給管
１８    二方弁
１９    制御装置
２０    ｐＨセンサ
【図１】
0004514970.tif 000002
【図２】
0004514970.tif 000003
【図３】
0004514970.tif 000004
【図４】
0004514970.tif 000005