(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非可逆回路素子の相互変調積を制御する方法であって、
前記非可逆回路素子は、少なくとも１つのフェリ磁性体を含み、
前記フェリ磁性体の強磁性共鳴半値幅△Ｈを制御することによって前記相互変調積を制御する方法であり、
前記フェリ磁性体は、一般式（Ｙ3-2x-z+wＣａ2x+z）（Ｆｅ5-x-y-z-wＶxＡｌyＺｒz）Ｏ12で表される組成を有し、
ｘ、ｙ、ｚの値が
０≦ｘ≦０．７
０≦ｙ≦０．７
０．０５≦ｚ≦０．４
を満たし、
ｗの値は、ガーネット構造のみを有しガーネット相以外の異相が生じない値に設定する。
【請求項２】
請求項１に記載された方法であって、
前記強磁性共鳴半値幅△Ｈは、前記フェリ磁性体の気孔率を制御することによって制御される。
【請求項３】
請求項１に記載された方法であって、
前記強磁性共鳴半値幅△Ｈは、前記フェリ磁性体の磁気異方性を制御することによって制御される。
【請求項４】
請求項１、２または３の何れに記載された方法であって、
前記強磁性共鳴半値幅△Ｈを、１５（Ｏｅ）より小さい値に選定する。
【請求項５】
請求項１、２、３または４の何れかに記載された方法であって、前記相互変調積が、−７５ｄＢｃ以下である。
【請求項６】
請求項１に記載された方法であって、
飽和磁化４πＭｓの値が１２５０Gaussであるとき
０≦ｘ≦０．４２
０≦ｙ≦０．４４
０．０８≦ｚ≦０．２
を満たす。
【請求項７】
請求項１に記載された方法であって、
飽和磁化４πＭｓの値が１７５０Gaussであるとき、
０≦ｘ≦０．１
０≦ｙ≦０．１
ｚ＝０．１
を満たす。
【請求項８】
請求項１に記載された方法であって、
飽和磁化４πＭｓの値が７５０Gaussであるとき、
０．３≦ｘ≦０．７
０≦ｙ≦０．４２
０．２≦ｚ≦０．３
を満たす。
【請求項９】
一般式（Ｙ3-2x-z+wＣａ2x+z）（Ｆｅ5-x-y-z-wＶxＡｌyＺｒz）Ｏ12で表される組成を有するフェリ磁性材料であって、
ｘ、ｙ、ｚの値が
０≦ｘ≦０．７
０≦ｙ≦０．７
０．０５≦ｚ≦０．４
を満たし、
ｗの値は、ガーネット構造のみを有しガーネット相以外の異相が生じない値に設定する。
【請求項１０】
請求項９に記載されたフェリ磁性材料であって、
飽和磁化４πＭｓの値が１２５０Gaussであるとき
０≦ｘ≦０．４２
０≦ｙ≦０．４４
０．０８≦ｚ≦０．２
を満たす。
【請求項１１】
請求項９に記載されたフェリ磁性材料であって、
飽和磁化４πＭｓの値が１７５０Gaussであるとき、
０≦ｘ≦０．１
０≦ｙ≦０．１
ｚ＝０．１
を満たす。
【請求項１２】
請求項９に記載されたフェリ磁性材料であって、
飽和磁化４πＭｓの値が７５０Gaussであるとき、
０．３≦ｘ≦０．７
０≦ｙ≦０．４２
０．２≦ｚ≦０．３
を満たす。
【請求項１３】
請求項９乃至１２の何れかに記載されたフェリ磁性材料であって、
強磁性共鳴半値幅△Ｈが１５（Ｏｅ）より小さい。
【請求項１４】
中心導体と、少なくとも１つのマグネットと、少なくとも１つのフェリ磁性体とを含む非可逆回路素子であって、
前記中心導体及びフェリ磁性体は、互いに向きあって配置され、
前記マグネットは、前記中心導体及び前記フェリ磁性体に直流磁場を印加し、
前記フェリ磁性体は、請求項９乃至１３の何れかに記載されたフェリ磁性材料である。
【請求項１５】
請求項１４に記載された非可逆回路素子であって、
相互変調積が、−７５ｄＢｃ以下である。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載された非可逆回路素子であって、
分布定数型、集中定数型または基板型の何れかである。
【請求項１７】
非可逆回路素子の相互変調積を抑制する方法であって、
前記非可逆回路素子は、少なくとも１つのフェリ磁性体と、中心導体と、マグネットとを含んでおり、
前記中心導体は、前記フェリ磁性体の隣接して備えられており、
前記マグネットは、前記フェリ磁性体及び前記中心導体に直流磁場を印加するものであり、
前記中心導体に２つ以上の周波数信号が供給されたときに現れる前記信号間の相互変調積を、前記フェリ磁性体の強磁性共鳴半値幅ΔＨを制御することによって抑制するものであり、
前記フェリ磁性体は、一般式（Ｙ3-2x-z+wＣａ2x+z）（Ｆｅ5-x-y-z-wＶxＡｌyＺｒz）Ｏ12で表される組成を有し、
ｘ、ｙ、ｚの値が
０≦ｘ≦０．７
０≦ｙ≦０．７
０．０５≦ｚ≦０．４
を満たし、
ｗの値は、ガーネット構造のみを有しガーネット相以外の異相が生じない値に設定する。
【請求項１８】
請求項１７に記載された方法であって、前記相互変調積を、−７５ｄＢｃ以下に制御する。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、非可逆回路素子の相互変調積を制御する方法、この方法を実施するのに好適なフェリ磁性材料及びこれを用いた非可逆回路素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話及びＰＨＳなど移動体通信分野では、世界的にＣＤＭＡ方式の導入が進んでいる。それに伴い、移動体通信用に使用されるアイソレー夕やサーキュレー夕等の非可逆回路素子では、従来のアナログ方式では問題にならなかった相互変調積ＩＭＤが重要視されるようになった。相互変調積ＩＭＤとは非線形デバイスに２信号以上が供給されたときに、付加的に現れる不要な信号の大きさを表す。例えば、周波数ｆ1、ｆ2の２信号を、非可逆回路素子に同時に入力した時、入力された周波数ｆ1、ｆ2の２信号以外の周波数成分、例えば周波数（２ｆ1−ｆ2）及び（２ｆ2−ｆ1）を持つサイドバンドが現れる。非可逆回路素子の場合、このサイドバンドレベルを、ある値以下に抑えないと、混信やノイズの発生原因となる。
【０００３】
相互変調積ＩＭＤは、非可逆回路素子に備えられるマグネットから、フェリ磁性体に対して、充分に強い直流磁場を与えることにより、その発生を抑制することができる。しかしながら、その副作用として、使用帯域が高周波側へ移動し、かつ、狭まることから、非可逆回路素子としての性能が劣化する。また、非可逆回路素子の小型化及び薄型化の要求もあり、充分な直流磁場を印加することができない。
【０００４】
また、携帯電話及びＰＨＳなどの小型移動体通信装置はバッテリー駆動であるため、長時間の動作には低損失のデバイスを使用することが不可欠である。これらの装置に、非可逆回路素子が搭載される場合には、同様に低損失特性が要求される。端末局だけではなく、基地局においても、カバーするエリアが小さいため、小電力の増幅器が使用されるようになり、基地局用に使用される非可逆回路素子についても、低損失特性が同様に要求される。
【０００５】
さらに、非可逆回路素子に用いられるフェリ磁性材料において、重要とされる特性として、磁気的損失項となる強磁性共鳴半値幅△Ｈが十分小さいこと、非可逆回路素子の使用周波数に対応して、室温における飽和磁化４πＭｓの値を一系列で任意に選択できることがあげられる。
【０００６】
また非可逆回路素子では、前記材料はマグネットと組み合わせて使用されるため、飽和磁化４πＭｓが、マグネットの温度特性を補償するような温度係数を有することが理想とされる。飽和磁化４πＭｓの温度係数とキュリー温度Ｔｃとは密接な相関があり、一般的に、温度変化の小さなマグネットに対応して、高いキュリー温度Ｔｃを有することが望まれる。
【０００７】
特公昭５６−３１２８８号公報は、Ｉｎ及びＡｌで置換したＹ−ＣａＶー鉄ガーネットフェライトにおいて、その組成比を変えることにより、飽和磁化４πＭｓの値を任意に調整する技術を開示している。
【０００８】
しかしながら、上記材料はキュリー温度Ｔｃが１６０℃以下と低いため、非可逆回路素子として、限定された温度条件下で、使用せざるを得ないという実用上問題がある。またＩｎは資源的に希少であることから、得られるフェライトも高価である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、充分な直流磁場を印加できない場合であっても、相互変調積ＩＭＤを小さくできる相互変調積制御方法、この方法を実施するのに好適なフェリ磁性材料及びこれを用いた非可逆回路素子を提供することである。
【００１０】
本発明のもう一つの課題は、非可逆回路素子の小型化及び薄型化に有効な相互変調積制御方法、この方法を実施するのに好適なフェリ磁性材料及びこれを用いた非可逆回路素子を提供することである。
【００１１】
本発明の更にもう一つの課題は、温度特性に優れた安価なフェリ磁性材及びこのフェリ磁性材料を用いた非可逆回路素子を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するため、本発明は、非可逆回路素子の相互変調積を制御するに当たり、前記非可逆回路素子に含まれるフェリ磁性体の強磁性共鳴半値幅△Ｈを制御する。これによって相互変調積ＩＭＤを制御する。この制御方法によれば、充分な直流磁場を印加できない場合であっても、相互変調積ＩＭＤを改善できる。従って、非可逆回路素子の小型化及び薄型化の要求に充分に応えることができる。
【００１３】
非可逆回路素子は、フェリ磁性体と、それに直流磁場を印加するマグネットを含んでいる。図１はマグネットによる直流磁場の強さと、相互変調積ＩＭＤとの関係を示す。図１に示すように、フェリ磁性体に対するマグネット直流磁場の強さが大きくなると、相互変調積ＩＭＤは低下する。従って、フェリ磁性体に対して、充分に強い直流磁場を与えることにより、相互変調積ＩＭＤの発生を抑制することができる。
【００１４】
本発明者らは、上述したように、フェリ磁性体に対するマグネットの直流磁場の強さが大きくなると、相互変調積ＩＭＤが低下するのは、強い直流磁場がフェリ磁性体内の気孔や異相周辺の反磁場及び結晶磁気異方性等による影響に勝り、磁性体内のスピンの歳差運動が一様方向に揃って正円運動をしているためで、逆に、磁場の強さが低下すると相互変調積ＩＭＤが大きくなるのは、直流磁場の強さに基づくスピン方向の制御力自体の低下と、前述の反磁場及び結晶磁気異方性等による影響が顕著になることとによって、スピンの歳差運動の軌跡が歪んだ円運動を描くためと推測した。歪んだ円運動により、入力された高周波磁場と強磁性共鳴現象によって生じる高周波磁化とは非線形関係を結ぶこととなるからである。
【００１５】
しかしながら、現実には、非可逆回路素子の動作性能の低下、小型化及び薄型化の要求により、充分な直流磁場を印加することができない。
【００１６】
この問題点を解決する手段として、本発明では、非可逆回路素子に含まれるフェリ磁性体の強磁性共鳴半値幅△Ｈを制御することによって、相互変調積ＩＭＤを制御する。
【００１７】
上述したように、気孔や異相周辺の反磁場、及び、磁気異方性等の影響により、スピンの歳差運動が歪みを受け、相互変調積ＩＭＤの発生を誘起するならば、強磁性共鳴半値幅△Ｈを、相互変調積ＩＭＤと関連した材料定数として考えることができる。何故なら、強磁性共鳴半値幅△Ｈは磁気的損失成分の指標として上述の影響を受けること、スピンの歳差運動に対する気孔や異相周辺の反磁場及び磁気異方性の影響を実測することが困難であること等があるからである。一般に、多結晶における強磁性共鳴半値幅△Ｈは下記のように表すことができる。
【００１８】
△Ｈ＝△Ｈｉ＋△Ｈｐ＋△Ｈａ                            （１）
ここで、△Ｈｉは同一組成における単結晶の半値幅、△Ｈｐは試料中に存在する気孔及び非磁性相の寄与分、△Ｈａは結晶磁気異方性の寄与分である。
【００１９】
単結晶の強磁性共鳴半値幅△Ｈｉは０．５（Ｏｅ）といわれており、多結晶の強磁性共鳴半値幅を論ずる場合は無視できる。そこで、以下、気孔による寄与分△Ｈｐ、及び、異方性による寄与分△Ｈａについて論ずる。
【００２０】
＜気孔周辺の反磁場の影響について＞
気孔による寄与分△Ｈｐに関しては、Ｅ．シュローマン（Shlomann）によって以下の関係式（２）が得られている。
【００２１】
△Ｈｐ＝１．４７（４πＭｓ）ｐ                      （２）
ここで、ｐは気孔率を表す。
【００２２】
図２はＹ−Ａｌー鉄ガーネットフェライト（ＹーＡｌーＩＧ）における気孔率ｐと強磁性共鳴半値幅△Ｈとの関係を示している。気孔率０％の時の強磁性共鳴半値幅△Ｈは（△Ｈｉ＋△Ｈａ）であるから、気孔による寄与分△Ｈｐは、切片と（△Ｈｉ＋△Ｈａ）との差となる。
【００２３】
図３は気孔による寄与分△Ｈｐと相互変調積ＩＭＤとの関係を示す図である。
相互変調積ＩＭＤの測定に当たり、分布定数型アイソレータを用い、このアイソレータに対して、周波数１９６０．０ＭＨｚの信号と、周波数１９６０．１ＭＨｚの信号の２信号を入力した。入力電力は１波当たり３６ｄＢｍとした。アイソレータのフェリ磁性体としては、Ｙ−Ａｌー鉄ガーネットフェライト（ＹーＡｌーＩＧ）を用いた。
【００２４】
図３に見られるように、相互変調積ＩＭＤは、気孔による寄与分△Ｈｐの増減とともに、ほぼ直線的に増減する。即ち、気孔による寄与分△Ｈｐを制御することによって、相互変調積ＩＭＤを制御することができる。
【００２５】
気孔による相互変調積ＩＭＤの発生は、次のように推論できる。即ち、外部から直流磁場を加えた場合、気孔の周りで反磁場が生じ、その影響でスピンの歳差運動が歪んだ円を描く。このような回転運動により、入力された高周波磁場と、強磁性共鳴現象によって生じる高周波磁化とが、非線形関係を結ぶというものである。
【００２６】
＜異方性による寄与分△Ｈａについて＞
異方性による寄与分△Ｈａは、
△Ｈａ∝（Ｋ1）2／（Ｍｓ）3                        （３）
と表される。ここで、Ｋ1は結晶磁気異方性定数、Ｍｓは飽和磁化の値を表す。
【００２７】
表１は飽和磁化が１２５０Gauss付近で、Ｚｒ置換量の異なるＹ−ＣａＶーＺｒ置換鉄ガーネットフェライトの各特性値を示す。
0004586215.tif 000002
【００２８】
Ｚｒ置換は、Machidaらによって、磁気異方性を低下させるのに効果のあることが報告されている。表１において、各試料とも、飽和磁化及び気孔率がほぼ等しい。前掲の式（２）によれば、気孔率が０．３％で、飽和磁化が１２５０Ｇａｕｓｓのとき、気孔による寄与分△Ｈｐは、約６（Ｏｅ）となり、各資料において等しい。従って、表１中おける各試料間の強磁性共鳴半値幅△Ｈの違いは、Ｚｒ置換量による磁気異方性の変化によって生じた△Ｈａ項の相違に起因するものと考えることができる。
【００２９】
図４は△Ｈａの異なる試料における相互変調積ＩＭＤの電力依存性を示す特性図である。相互変調積ＩＭＤの測定に当たっては、集中定数型アイソレータを用い、入力周波数９６０ＭＨｚ及び９６０．１ＭＨｚの２信号を入力した。入力電力は一波当たりの値として表示してある。△Ｈａの大きな試料、即ち、結晶磁気異方性の大きな試料程、全電力範囲において、大きな相互変調積ＩＭＤが発生している。また、異方性の小さい試料程、電力変化に対して敏感で、電力依存の度合いが大きい。つまり、異方性の小さい試料は、小電力側では、優れた相互変調積特性を示すが、測定電力範囲よりも大電力になると、相互変調積ＩＭＤが急激に劣化して、異方性の大きな試料の特性をも越えて、劣化してしまうことが懸念される。このことは、フェリ磁性体の材質を変え、その磁気異方性の程度を制御することにより、異方性による寄与分△Ｈａを変え、相互変調積ＩＭＤが制御できることを意味する。
【００３０】
磁気異方性による寄与分△Ｈａと、相互変調積ＩＭＤとの関係は次のように推論できる。即ち、小電力の信号を入力した場合、磁気異方性は、気孔周りの反磁場と同様に、スピンの歳差運動を歪ませる、従って、小電力範囲では、異方性の小さな材料を使用したアイソレータの方が、優れた相互変調積特性を示すことになる。しかしながら、入力電力が増大して行くと、スピンの歳差運動の振幅が増大し、隣接するスピン間の相互作用が働き、スピン波が励起される。これは、スピン全体の一様な歳差運動を阻害し、非線形特性を生じる原因となる。スピン波の励起は、異方性が小さく、キュリー点の低い材料程、発生し易いとされており、異方性の小さい材料程、電力依存の度合いが大きいという実験結果は、この現象を反映しているものと考えられる
【００３１】
上述のように、フェリ磁性体の気孔率及び磁気異方性を制御することにより、相互変調積ＩＭＤを制御することができる。相互変調積ＩＭＤを小さくするには、材料定数としては、強磁性共鳴半値幅△Ｈを小さくすること、即ち、フェリ磁性体の気孔率または磁気異方性を小さくすればよいことになる。
【００３２】
強磁性共鳴半値幅△Ｈに関与する気孔率及び磁気異方性のうち、磁気異方性はフェリ磁性体の材料特性によって定まるから、フェリ磁性体の組成を変えることにより、強磁性共鳴半値幅△Ｈを制御し、相互変調積ＩＭＤを制御できる。
【００３３】
次に、相互変調積ＩＭＤの発生を抑制するのに適したフェリ磁性体の組成について述べる。そのようなフェリ磁性体は、一般式（Ｙ3-2x-z+wＣａ2x+z）（Ｆｅ5-x-y-z-wＶxＡｌyＺｒz）Ｏ12で表される組成において、
ｘ、ｙ、ｚ、ｗの値が
０≦ｘ≦０．７
０≦ｙ≦０．７
０．０５≦ｚ≦０．４
０．０１≦ｗ≦０．０３
を満たすＹー鉄ガーネットフェライトである。
【００３４】
上記組成のフェリ磁性材料は、１５（Ｏｅ）よりも小さな強磁性共鳴半値幅△Ｈを有しており、相互変調積ＩＭＤの発生を抑制するのに効果がある。しかも、飽和磁化４πＭｓの値を任意に調整することが可能であり、かつ、比較的に高いキュリー温度Ｔｃを有する。強磁性共鳴半値幅△Ｈが１５（Ｏｅ）よりも小さい領域では、相互変調積ＩＭＤを、アイソレータの使用上、殆ど問題とならない−７５ｄＢｃ以下（絶対値７５ｄＢｃ以上）に低下させることができる。
【００３５】
キュリー温度Ｔｃに示される磁性の熱的安定性と、磁気損失項である強磁性共鳴半値幅△Ｈを小さくすることは、通常、相反する要求とされる。本発明による上記組成を持つ材料によれば、このような相反する関係にあるキュリー温度Ｔｃと強磁性共鳴半値幅△Ｈとの間に調和を持たせ、両者の実用的要求を同時に満たすことができる。
【００３６】
上記一般式において、Ｚｒは、Ｉｎと非常に似通った特性を呈し、かつ、Ｉｎに比べて安価である。また、Ｖ、Ａｌ、Ｚｒの複合置換により、各元素を置換することで生じる長所と短所を互いに補うような置換比を選択して、損失特性と温度特性の両特性を、良好な値に設定することができる。
【００３７】
さらに、上記化学式のｗ項の範囲において、ガーネット構造のみを有し、粒径が１５μｍ以上の緻密な結晶体が得られた。上記範囲以外では、ガーネット相以外の異相が生じてしまうため好ましくない。
【００３８】
また、置換元素として用いたＶ、Ａｌ、Ｚｒの置換量と室温における飽和磁化４πＭｓとの関係は、簡易的に下記の実験式で推測することができる（０≦ｚ≦０．３の範囲で±７％）。
【００３９】
4πMs=1780-1750x-1400y+1000z-1200z2
これにより、各置換元素の置換量と飽和磁化４πＭｓとの関係から、飽和磁化４πＭｓが同程度の組成間の材料特性の比較が可能である。
【００４０】
【発明の実施の形態】
実施例１
原材料Y2O3、CaCO3、Fe2O3、ZrO2、V2O5、Al(OH)3を、焼成後に目的組成（Ｙ3-2x-z+wＣａ2x+z）（Ｆｅ5-x-y-z-wＶxＡｌyＺｒz）Ｏ12となるように秤量し、ボールミルにて２０時間湿式混合した後、１１００〜１２００℃で４時間空気中で仮焼し、仮焼物を得た。この仮焼物を再度ボールミルに入れ、２０時間湿式粉砕を行った後、圧縮成型を行った。得られた成型物を、各組成に対して強磁性共鳴半値幅△Ｈが最小で、粒径が１５μｍ以上になるような最適温度を１２５０〜１４５０℃の間で選択し、酸素中で、６時間の焼成を行った。このようにして得られた焼結体は、Ｘ線回折の結果、ガーネット単相であることを確認した。
【００４１】
強磁性共鳴半値幅△Ｈは、焼結試料の断片から、ボンド法により、直径１．０ｍｍの球状試料を作り、１０ＧＨｚにて、反射法により測定した。また、飽和磁化４πＭｓとキュリー温度Ｔｃは振動型磁力計を用いて測定した。前述の実験式に基づき、飽和磁化４πＭｓが１２５０Gauss付近の組成について、得られた結果を表２に示す。表２において、No.１〜１８は測定に供された焼結試料の番号を示す。なお、ｗは、０．０１≦ｗ≦０．０３の範囲になるようにした。
0004586215.tif 000003
【００４２】
No.１は従来材のＹ−Ａｌ−鉄ガーネットフェライトで、飽和磁化４πＭｓが１２５０Gaussの材料である。No.２〜１８も、飽和磁化４πＭｓが１２５０Gauss付近の値を呈する。
【００４３】
相互変調積ＩＭＤに関与する強磁性共鳴半値幅△Ｈは、No.１が４５（Ｏｅ）であるのに対し、No.２〜１８では、１５（Ｏｅ）よりも小さい。従って、相互変調積ＩＭＤに関する限りは、No.２〜１８の何れも、従来品であるNo.１より改善されている。
【００４４】
一方、温度特性に関与するキュリー温度Ｔｃは、No.１では２２４℃であるのに対し、No.２〜８では、それよりもかなり低い値になっている。大まかな観点からいえば、Ｚｒ置換量が多いほど、キュリー温度Ｔｃが低くなる。またＺｒの置換量が一定の場合、ＡｌよりＶの置換量の割合が大きい程キュリー温度Ｔｃは高くなる。
【００４５】
従来品であるNo.１との比較において、相互変調積ＩＭＤの抑制効果とともに、温度特性の改善効果を得ることができる組成は、０．０８≦ｚ≦０．２、０≦ｘ≦０．４２、０≦ｙ≦０．４４を満たす範囲と見ることができる。ここで、好ましくは、ｘ及びｙは、（ｘ＋ｙ）が０．３８〜０．４４の範囲となるように定める。
【００４６】
実施例２
飽和磁化４πＭｓを１７５０Gauss付近にもつ組成について、実施例１と同様にして、焼結試料を作製し、その特性を測定した。得られた結果を表３に示す。
表３において、No.２１〜２６は測定に供された焼結試料の番号を示す。No.２１は無置換の従来のＹー鉄ガーネットフェライトである。
【００４７】
相互変調積ＩＭＤに関与する強磁性共鳴半値幅△Ｈは、No.２１が２５（Ｏｅ）であるのに対し、No.２２〜２６では１５（Ｏｅ）よりも小さい。従って、相互変調積ＩＭＤに関する限りは、No.２２〜２６の何れも、従来品であるNo.２１より改善されている。
【００４８】
一方、キュリー温度Ｔｃは、No.２１では２７５℃であるのに対し、No.２２〜２６ではそれより低い値になっている。No.２２〜２６の内、No.２２、２６のキュリー温度Ｔｃは２６１℃であり、No.２１と殆ど遜色のない値を示している。
【００４９】
表３のデータをまとめると、従来品であるNo.２１との比較において、相互変調積ＩＭＤの抑制効果が得られ、かつ、遜色のない温度特性を得ることができる最適実施例の組成は、ｚ＝０．１、０≦ｘ≦０．１、０≦ｙ≦０．１を満たす範囲であることが分かる。好ましくは、ｘ及びｙは、（ｘ＋ｙ）が０．０５〜０．０６の範囲となるように定める。
0004586215.tif 000004
【００５０】
実施例３
飽和磁化４πＭｓが７５０Gauss付近である組成について、実施例１と同様にして、焼結試料を作製し、その特性を測定した。得られた結果を表４に示す。試料No.３１は従来材のＹーＡ１−鉄ガーネットフェライトで、７５０Gaussの飽和磁化４πＭｓを有する材料である。No.３２〜３６も、７５０Gaussの飽和磁化４πＭｓを有する材料である。
【００５１】
相互変調積ＩＭＤに関与する強磁性共鳴半値幅△Ｈは、No.３１が３０（Ｏｅ）であるのに対し、No.３３は１５（Ｏｅ）未満、No.３８〜４３は１５（Ｏｅ）以下である。
【００５２】
一方、キュリー温度Ｔｃは、No.３１では１７５℃であるのに対し、No.３４では１７９℃、No.４０〜４２では、１７５℃よりも高い１７７〜１９６℃の範囲にある。
【００５３】
従って、飽和磁化４πＭｓが７５０Gauss付近である場合、No.３１との比較において、相互変調積ＩＭＤの抑制効果得られ、かつ、遜色のない温度特性を得ることができる組成は、０．２≦ｚ≦０．３、０．３≦ｘ≦０．７、０≦ｙ≦０．４２を満たす範囲である。好ましくは、ｘ及びｙは、（ｘ＋ｙ）が０．７０〜０．７５の範囲となるように定める。
0004586215.tif 000005
【００５４】
参考例として、
（Ｙ2.58Ｃａ0.46）（Ｆｅ4.49Ｖ0.19Ｚｒ0.08Ａｌ0.2）Ｏ12
（ｘ＝０．１９、ｙ＝０．２、ｚ＝０．０８、ｗ＝０．０４）
の組成を有するフェリ磁性材料を、アイソレー夕に使用した応用例について示す。上述した組成のフェリ磁性材料の特性は、飽和磁化４πＭｓが１２３０Gauss、キュリー温度Ｔｃが２３９℃、強磁性共鳴半値幅△Ｈが１５Ｏｅ以下であった。これを基板として、１．９ＧＨｚ帯分布定数型アイソレータＡを作製した。
【００５５】
比較のため、従来材のＹーＡ１−鉄ガーネットフェライトを用いて、アイソレータＢを作製した。このＹーＡ１−鉄ガーネットフェライトの特性は、飽和磁化４πＭｓが１２５０Gauss、キュリー温度Ｔｃが２４０℃、強磁性共鳴半値幅△Ｈが４５（Ｏｅ）であった。
【００５６】
図５は上述したアイソレータＡ、Ｂの温度変化と挿入損失との関係を示すデータである。曲線Ａ１がアイソレータＡの挿入損失特性を示し、曲線Ｂ１がアイソレータＢの特性を示している。
【００５７】
図５から明らかなように、同一の温度条件では、全温度範囲にわたって、アイソレータＡは、アイソレータＢよりも、挿入損失が低くなり、優れた温度特性を示している。
【００５８】
図６はアイソレータＡ、Ｂについて、相互変調積ＩＭＤと１信号当たりの入力電力との関係を示している。曲線Ａ２がアイソレータＡの相互変調積特性を示し、曲線Ｂ２がアイソレータＢの相互変調積特性を示している。図６から明らかなように、アイソレータＡは、入力電力が同一である条件では、相互変調積ＩＭＤが、アイソレータＢより、１７〜１８（ｄＢｃ）も小さくなっている。しかも、アイソレータＡは、相互変調積ＩＭＤが、約−８０（ｄＢｃ）の極めて低い値に抑制されている。
【００５９】
実施例５
（Ｙ2.82Ｃａ0.2）（Ｆｅ4.83Ｖ0.05Ｚｒ0.1）Ｏ12
（ｘ＝０．０５、ｙ＝０、ｚ＝０．１、ｗ＝０．０２）
の組成を有する本発明に係るフェリ磁性材料を、アイソレータに使用した応用例について示す。このフェリ磁性材料の特性は、飽和磁化４πＭｓが１７４０Gauss、キュリー温度Ｔｃが２６０℃、強磁性共鳴半値幅△Ｈが１５Ｏｅ以下であった。このフェリ磁性材料を用いて、２．０ＧＨｚ帯分布定数型アイソレータＣを作製した。
【００６０】
比較のため、無置換なＹー鉄ガーネットフェライトを用いてアイソレータＤを作製した。このＹー鉄ガーネットフェライトの特性は、飽和磁化４πＭｓが１７７０Gauss、キュリー温度Ｔｃが２８７℃、強磁性共鳴半値幅△Ｈが２３（Ｏｅ）であった。
【００６１】
図７は上述したアイソレータＣ、Ｄの温度変化と挿入損失との関係を示すデータである。曲線Ｃ１が本発明に係るアイソレータＣの挿入損失特性を示し、曲線Ｄ１が従来のアイソレータＤの特性を示している。図７から明らかなように、−２０℃以上の温度範囲において、同一の温度条件で、本発明に係るアイソレータＣは、従来のアイソレータＤよりも、挿入損失が低くなる。
【００６２】
図８はアイソレータＣ、Ｄについて、相互変調積ＩＭＤと１信号当たりの入力電力との関係を示している。曲線Ｃ２が本発明に係るアイソレータＣの相互変調積特性を示し、曲線Ｄ２が従来のアイソレータＤの相互変調積特性を示している。
【００６３】
図８から明らかなように、本発明に係るアイソレータＣは、入力電力が同一の条件では、相互変調積ＩＭＤが、従来のアイソレータＤより、８〜１０（ｄＢｃ）も小さくなっている。しかも、本発明に係るアイソレータＣは、相互変調積ＩＭＤが、約−７６〜−７８（ｄＢｃ）の極めて低い値に抑制されている。
【００６４】
図９は非可逆回路素子の分解斜視図、図１０は図９に示した非可逆回路素子の断面図である。図示された非可逆回路素子は、分布定数型アイソレータであって、中心導体１と、マグネット４と、フェリ磁性体２１、２２とを含む。フェリ磁性体２１、２２は、本発明に係る材料で構成されている。フェリ磁性体２１、２２は、中心導体１の上下に２個配置されているが、１個の場合もあり得る。
【００６５】
マグネット４は、フェリ磁性体２１、２２及びストリップ導体１に直流磁場を印加する。マグネット４は、フェリ磁性体２１、２２の両側に２個設けてもよい。ヨーク５、６は、マグネット４と磁気的に結合される。図示の例では、ヨーク５、６は、フェリ磁性体２１、２２、中心導体１、アース導体３１、３２及びマグネット４を覆う外装ケースとしても兼用されている。
【００６６】
基板７は、非可逆回路素子の動作に必要なコンデンサ及び抵抗等を有する。基板７は孔７１を有しており、フェリ磁性体２２はこの孔７１内に配置されている。参照符号８は整磁板、参照符号９、１１は磁極板、参照符号１０はスペーサを示す。実施例は、分布定数型の非可逆回路を示しているが、集中定数型または基板型の非可逆回路素子であってもよい。こられの具体的構造は、当業者に周知であるので、図示は省略する。
【００６７】
図１１は図９、１０に示したアイソレータの使用状態における等価回路図を示し、端子ａーｂ間に端子間容量Ｃ１１を接続し、端子ｂーｃ間に端子間容量Ｃ１２を接続し、端子ｃーａ間に端子間容量Ｃ１３を接続するとともに、端子ａ、ｂ、ｃのそれぞれに接地容量Ｃ０１、Ｃ０２、Ｃ０３をそれぞれ接続した回路が得られる。
【００６８】
図９〜図１１に示した非可逆回路素子は、本発明の適用できる１例に過ぎない。本発明は、種々のタイプの非可逆回路素子、即ち、アイソレータ及びサーキュレータに適用し、その相互変調積ＩＭＤを低下させると共に、温度特性を改善できる。
【００６９】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば次のような効果を得ることができる。
（ａ）充分な直流磁場を印加できない場合であっても、相互変調積を低い値に抑制し得る制御方法、この方法を実施するのに好適なフェリ磁性材料、及び、これを用いた非可逆回路素子を提供することができる。
（ｂ）非可逆回路素子の小型化及び薄型化に有効な相互変調積の制御方法、この方法を実施するのに好適なフェリ磁性材料、及び、これを用いた非可逆回路素子を提供することができる。
（ｃ）温度特性に優れた安価なフェリ磁性材、及び、非可逆回路素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】非可逆回路素子におけるマグネットによる直流磁場の強さと、相互変調積ＩＭＤとの関係を示す図である。
【図２】Ｙ−Ａｌ−鉄ガーネットフェライトにおける気孔率と強磁性共鳴半値幅△Ｈとの関係を示している。
【図３】気孔による寄与分△Ｈｐと相互変調積ＩＭＤとの関係を示す図である。
【図４】Ｚｒ置換量の異なる試料における相互変調積ＩＭＤの電力依存性を示す特性図である。
【図５】アイソレータにおける温度変化と、挿入損失との関係を示すデータである。
【図６】アイソレータの相互変調積ＩＭＤの電力依存性を示す図である。
【図７】アイソレータにおける温度変化と、挿入損失との関係を示す別のデータである。
【図８】アイソレータにおける相互変調積ＩＭＤの電力依存性を示すデータである。
【図９】本発明に係る非可逆回路素子の分解斜視図である。
【図１０】図９に示した非可逆回路素子の断面図である。
【図１１】図９、１０に示したアイソレータの使用状態における等価回路図である。
【符号の説明】
１                        中心導体
２１、２２                フェリ磁性体
３１、３２                アース導体
４                        マグネット
５、６                    ヨーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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