(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主表面に磁気トラックが同心円状に配置され、径方向に隣接する磁気トラック間同士を磁気的に分離するための溝部が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法であって、
少なくとも平坦な基板の上に磁気記録層を形成した被加工媒体を作製した後に、この被加工媒体の主表面に前記溝部に対応した凸部を有するスタンパを押し付けることによって、前記磁気トラックの間に前記凸部の形状が転写された前記溝部を形成し、
前記スタンパは、前記凸部の先端部を曲面とし、この曲面の曲率半径をＲとし、前記凸部の幅をＷとしたときに、０．７５Ｗ≦Ｒ≦１．２５Ｗの関係を満足することを特徴とする記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記溝部の深さを５０〜１００ｎｍとすることを特徴とすることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記基板の上に前記磁気記録層を形成し、この上に保護層を形成した被加工媒体を作製した後に、前記被加工媒体の主表面に前記スタンパを押し付けることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記被加工媒体の主表面に前記スタンパを押し付けた後に、前記磁気記録層の上に保護層を形成することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記基板に前記凸部の形状が転写されるまで、前記スタンパを前記被加工媒体に押し付けることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記溝部の底部で前記磁気記録層の厚みが薄くなるまで、前記スタンパを前記被加工媒体に押し付けることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記溝部の底部で前記磁気記録層が分断されるまで、前記スタンパを前記被加工媒体に押し付けることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記磁気記録層は、垂直磁気異方性を有していることを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記基板と前記磁気記録層との間に配向層を配置することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記基板と前記配向層との間に軟磁性層を配置することを特徴とする請求項９に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
前記基板は、プラスティック、ガラス、アルミニウム合金の何れか１つからなることを特徴とする請求項１〜１０の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピューター用の外部記憶装置等に用いられるハードディスク等の磁気記録媒体においては、近年その記憶情報量の増大に伴い、単位面積当たりに記録される信号の更なる高密度化が要求されるようになってきている。このような面記録密度の向上を図るには、線記録密度及びトラック記録密度の両方、或いはどちらか一方を向上させる必要がある。
【０００３】
近年、線記録密度を向上させる有効な方法の一つとして、基板の鉛直方向に磁気異方性を有するＣｏＣｒ系の磁気記録層と、パーマロイ等の軟磁性層とを有してなる垂直磁気記録媒体を用いて単磁極ヘッドによる記録を行う、いわゆる垂直磁気記録方式が提案されている。
【０００４】
一方、トラック記録密度を向上させる有効な方法の一つとして、磁気トラックが磁気的に分断されたディスクリートトラック型の磁気記録媒体を用いることにより、記録或いは再生時のフリンジングノイズの発生を回避する方法が提案されている。
【０００５】
このようなディスクリート型の磁気記録媒体を製造する方法としては、２種類の方法が提案されている。一つは、平坦な基板上に形成された磁性層の一部をエッチングにより除去する方法である（例えば、特許文献１を参照。）。もう一つは、信号記録部分に射出成形等により予め凹凸が形成された基板の上に磁性層等を形成する方法である（例えば、特許文献２を参照。）。
【特許文献１】特開平４−３１０６２１号公報
【特許文献２】特開平９−５４９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前者の場合には、凹部に磁性層が存在しないため、記録データが磁気的に分離され、サーボによる位置決めに充分なＳ／Ｎ比が得られる反面、磁性層を除去のためのドライエッチングの時間を短縮することが難しく、また、不要部分の磁性層のみを必要量だけ正確に除去する必要があり、条件の設定や制御等が難しいため、歩留りを稼ぐ必要があるような一般的な量産技術としては不向きであるといった問題がある。
【０００７】
一方、後者の場合には、凹凸加工された基板を使う以外は従来と同じ媒体製造方法が適用できるため、量産には適しているものの、凹部に磁性層が残留するため、記録データの磁気的な分離が弱く、また、サーボ信号のＳ／Ｎ比が小さく、ヘッドの位置決めが十分にできないといった問題がある。
【０００８】
このため、特許文献２では、凹部と凸部との間で逆向きに磁化させる方法が提案されている。しかしながら、この場合、ヘッドによるフォーマットを必要とするため、サーボライト工程を排除することによりコストダウンを図るディスクリート型の磁気記録媒体の利点を大きく損なうことになる。また、凹部と凸部との間で大きな高低差を必要とすることから、ヘッドの飛行安定性を損ねてしまう。また、トラック密度が向上してきたことにより、凹凸のアスペクト比が大きくなることから、加工が難しく、さらには凹部の幅が狭くなると、この上に磁気記録層を形成した際に、凹部を塞ぐように磁気記録層が形成されてしまう。この場合、磁気記録層が剥がれたり、割れたりするといった欠陥が生じてしまう、或いは、ヘッドとの干渉を生じてしまうなどの新たな問題が発生することになる。
【０００９】
そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、ディスクリート型の磁気記録媒体を簡便且つ低コストで製造することができる磁気記録媒体の製造方法、並びに磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、以下の手段を提供する。
（１）  主表面に磁気トラックが同心円状に配置され、径方向に隣接する磁気トラック間同士を磁気的に分離するための溝部が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法であって、少なくとも平坦な基板の上に磁気記録層を形成した被加工媒体を作製した後に、この被加工媒体の主表面に前記溝部に対応した凸部を有するスタンパを押し付けることによって、前記磁気トラックの間に前記凸部の形状が転写された前記溝部を形成し、前記スタンパは、前記凸部の先端部を曲面とし、この曲面の曲率半径をＲとし、前記凸部の幅をＷとしたときに、０．７５Ｗ≦Ｒ≦１．２５Ｗの関係を満足することを特徴とする記載の磁気記録媒体の製造方法。
（２）  前記溝部の深さを５０〜１００ｎｍとすることを特徴とすることを特徴とする前項（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（３）  前記基板の上に前記磁気記録層を形成し、この上に保護層を形成した被加工媒体を作製した後に、前記被加工媒体の主表面に前記スタンパを押し付けることを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４）  前記被加工媒体の主表面に前記スタンパを押し付けた後に、前記磁気記録層の上に保護層を形成することを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５）  前記基板に前記凸部の形状が転写されるまで、前記スタンパを前記被加工媒体に押し付けることを特徴とする前項（１）〜（４）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（６）  前記溝部の底部で前記磁気記録層の厚みが薄くなるまで、前記スタンパを前記被加工媒体に押し付けることを特徴とする前項（１）〜（５）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（７）  前記溝部の底部で前記磁気記録層が分断されるまで、前記スタンパを前記被加工媒体に押し付けることを特徴とする前項（１）〜（５）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（８）  前記磁気記録層は、垂直磁気異方性を有していることを特徴とする前項（１）〜（７）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（９）  前記基板と前記磁気記録層との間に配向層を配置することを特徴とする前項（１）〜（８）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（１０）  前記基板と前記配向層との間に軟磁性層を配置することを特徴とする前項（９）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（１１）  前記基板は、プラスティック、ガラス、アルミニウム合金の何れか１つからなることを特徴とする前項（１）〜（１０）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
以上のように、本発明によれば、ドライエッチなどの複雑且つ制御の難しい微細加工無しに、より高密度の磁気トラックを形成することができ、より高記録密度に適した優れた磁気特性を有するディスクリート型の磁気記録媒体を簡便且つ低コストで製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００１３】
（磁気記録媒体）
先ず、本発明を適用した磁気記録媒体について説明する。
図１は、本発明を適用した磁気記録媒体の構造を示す概略断面図である。
本発明を適用した磁気記録媒体は、例えば図１に示すように、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ  Ｄｒｉｖｅ）等の磁気記録再生装置に用いられるディスクリート型の磁気記録媒体（磁気ディスク）であり、ディスク基板１と、このディスク基板１上に形成された磁気記録層２と、この磁気記録層２上に形成された保護層３とを少なくとも備えている。
【００１４】
この磁気記録媒体の主表面には、磁気トラック４が実質的に同心円状に配置され、径方向に隣接する磁気トラック４間同士を磁気的に分離するための溝部５が形成されている。
また、溝部５の底部５ａは、曲面とされており、この曲面の曲率半径をＲ’とし、この溝部５の幅をＷ’としたときに、０．７５Ｗ’≦Ｒ’≦１．２５Ｗ’の関係を満足している。
【００１５】
ディスク基板１は、例えばプラスティック、ガラス、アルミニウム合金などの非磁性基板からなる。そして、このディスク基板１の上に、磁気記録層２及び保護層３がスパッタリング法などにより順次積層されて形成されている。
【００１６】
磁気記録層２は、例えば垂直磁気異方性を有する磁性膜からなる。すなわち、この磁気記録層２には、その磁化容易軸がディスク基板１の主表面に対して主に垂直方向に向いた強磁性材料を用いている。強磁性材料としては、磁気異方性エネルギーが１×１０５ｅｒｇ／ｃｃ以上のものを用いることが好ましく、このような強磁性材料として、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＣｒＰｔなどのＣｏとＰｔとを含んだ合金、ＦｅＰｔなどのＦｅとＰｔとを含んだ合金等を挙げることができる。さらに、これらの強磁性材料に、例えばＳｉＯ２や、Ｃｒ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５などの酸化物を添加することもできる。また、磁気記録層２は、例えばＣｏ／ＰｔやＣｏ／Ｐｄなどの組成の異なる複数の磁性材料を積層したものや、磁性材料と非磁性材料とを積層したものであってもよい。
【００１７】
また、磁気記録層２の厚みは、５〜３０ｎｍが好ましい。この磁気記録層２の厚みを５ｎｍ以上とすることで、十分な磁束を得ることができ、再生時におけるＳ／Ｎ（シグナル−ノイズ）比が大きく、より高記録密度に適した磁気記録媒体を得ることができる。一方、この磁気記録層２の厚みを３０ｎｍ以下とすることで、後述する溝部５の形成時に、この溝部５の底部５ａから磁気記録層２を除去することができる。さらに、磁気記録層２内の磁性粒子の肥大化によるノイズの増大を抑えることができため、記録再生特性の劣化を防ぐことができる。
【００１８】
保護層３は、磁気記録層２の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのものであり、従来公知の材料を使用することができる。例えば、保護層３には、Ｃや、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが好ましい。また、保護層３の厚みは、１〜５ｎｍが好ましい。この保護層３の厚みを１〜５ｎｍの範囲とすることで、保護層３として十分な耐久性を有し、且つ、磁気ヘッドと磁気記録層２との距離を短くできるので、更なる高記録密度化に対応することができる。
【００１９】
本発明を適用した磁気記録媒体１は、上述した溝部５が形成されたディスク基板１の上に、少なくとも磁気記録層２と、この上に保護層３とが形成されていると共に、溝部５の底部５ａで磁気記録層２の厚みが薄くなっている、又は、磁気記録層２が分断されていることを特徴としている。
【００２０】
（磁気記録媒体の製造方法）
次に、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法について説明する。
図２は、上述した図１に示す磁気記録媒体の製造工程を示す概略断面図である。
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、図２に示すように、少なくとも平坦なディスク基板１の上に磁気記録層２を形成した被加工媒体１Ａを作製した後に、この被加工媒体１Ａの主表面に溝部５に対応した凸部１０を有するスタンパ１１を押し付けることによって、磁気トラック４の間に凸部１０の形状が転写された溝部５を形成することを特徴としている。
【００２１】
具体的に、上述した図１に示す磁気記録媒体を製造する際には、先ず、図２（ａ）に示すように、主表面が鏡面となるように加工・形成されたディスク基板１を用意する。
次に、図２（ｂ）に示すように、主表面が平坦化されたディスク基板１の上に磁気記録層２をスパッタリング法などにより形成する。
次に、図２（ｃ）に示すように、この磁気記録層２の上に保護層３をスパッタリング法などにより形成する。
これにより、ディスク基板１上に磁気記録層２と保護層３とが順次積層されてなる被加工媒体１Ａａを得ることができる。
次に、図２（ｄ）に示すように、作製された被加工媒体１Ａの主表面に対して、インプリント法によりスタンパ１１を押し付ける。
【００２２】
このスタンパ１１は、図３に示すように、被加工媒体１Ａとの接触面に、実際に被加工媒体１Ａに形成される溝部５の形状に対応した凸部１２を有している。この凸部１２は、図４に拡大して示すように、溝部５のネガパターンとして、その先端部１２ａが矩形ではなく、丸みを帯びた曲面とされている。
【００２３】
このような凸部１２を有するスタンパ１１は、例えば図５に示す工程を経ることによって作製することができる。すなわち、（ａ）Ｓｉ等の基板１３の上にポジ型のレジスト層１４を形成し、（ｂ）このレジスト層１４に対して通常の電子ビームによりスタンパ１１の凸部１２とする箇所に描画を行った後に、その上から、より低パワー且つ幅広の電子ビームの照射により二重露光を行うことで、レジスト層１４の表層部分のみぼかしたように露光する。（ｃ）これを現像してレジスト層１４を除去した後に、（ｄ）表面を導通処理し、１回目のＮｉ電鋳を行い、基板１３上にめっき層１５を形成する。さらに、（ｅ）このめっき層１５を基板１３から剥離する。そして、（ｆ）剥離しためっき層１５の表面を酸素プラズマにより酸化した後に、導通処理し、２回目のＮｉ電鋳を行い、（ｇ）これを剥離することによってスタンパ１１を得ることができる。
【００２４】
そして、上述した図２（ｄ）に示すように、このようなスタンパ１１と被加工媒体１Ａとを張り合わせた後に、これをステージ（図示せず。）上に設置し、ピストンで加圧しながら被加工媒体１Ａの主表面にスタンパ１１を押し付ける。
【００２５】
このとき、スタンパ１１と被加工媒体１Ａとがディスク基板１の形状維持温度以上となるように加熱保持する。本発明では、ディスク基板１として、プラスティック、ガラス、アルミニウム合金などの非磁性基板を使用し、それぞれの材料の形状維持温度以上でインプリントする。すなわち、このディスク基板１に凸部１２の形状が転写されるように、この凸部１１の転写による変形がディスク基板１の表層部に達するまで、スタンパ１１を被加工媒体１Ａに押し付ける。
なお、ディスク基板１としてガラスを用いた場合には、加熱温度はプラスティックに比べて高くなる。この場合は、磁気記録層２等の劣化を防ぐため、不活性雰囲気等でパターンの転写を行うことが好ましい。
【００２６】
次に、図２（ｅ）に示すように、被加工媒体１Ａからスタンパ１１を剥離することによって、磁気トラック４の間に凸部１０の形状が転写された溝部５が形成される。最後に、その主表面にパーフル潤滑層を形成することによって、本発明を適用した磁気記録媒体を得ることができる。
【００２７】
以上のように、本発明によれば、ドライエッチなどの複雑且つ制御の難しい微細加工無しに、より高密度の磁気トラック４を形成することができ、より高記録密度に適した優れた磁気特性を有するディスクリート型の磁気記録媒体を簡便且つ低コストで製造することができる。
【００２８】
ところで、スタンパ１１の凸部１２は、上述した図４に示すように、その先端部１２ａが曲面とされており、この曲面の曲率半径をＲとし、凸部１２の幅をＷとしたときに、０．７５Ｗ≦Ｒ≦１．２５Ｗの関係を満足していることが好ましい。
これにより、凸部１２の形状を転写する際に、スタンパ１１の凸部１２を被加工媒体１Ａの主表面に押し付けることによって、転写後の溝部５の底部５ａに位置する被加工媒体１Ａの各層を塑性変形により左右に排除しながら、この溝部５の底部５ａで磁気記録層２の厚みを薄くなる、又は、磁気記録層２を分断することができる。
一方、Ｒ＜０．７５Ｗの場合には、凸部１２の先端部１２ａに平坦部分が形成されるため、被加工媒体１Ａの各層を左右に排除することが不充分となる。一方、Ｒ＞１．２５Ｗの場合には、凸部１２の先端部１２ａが尖った形状となり、スタンパ１１の繰り返し使用による形状劣化が生じやすくなり、スタンパ１１の寿命（繰り返し使用耐数）が短くなってしまい、交換頻度の上昇に伴う生産性の低下や、必要枚数の増加により、生産コストが増加することになる。
【００２９】
また、溝部５の深さは、５０ｎｍ以上とすることが好ましい。これにより、転写時に溝部５の底部５ａに位置する磁気記録層２を十分排除することができ、また、磁気記録媒体の主表面における凹凸の高低差を５０〜１００ｎｍの範囲とすることで、安定したヘッドの飛行特性を確保することできる。
一方、溝部５の深さが５０ｎｍ未満の場合には、溝部５の底部５ａに位置する磁気記録層２の除去が不充分となり、溝部５の底部５ａに基板鉛直方向に異方性を有した磁気記録層２が残留した場合には、データの記録再生時のノイズが発生する、或いは、サーボ信号の出力低下により充分なＳ／Ｎ比が得られなくなる。一方、溝部５の深さが１００ｎｍを超える場合には、サーボ領域などの凸部の面積が少ない領域と、データ領域などの凸部の面積が多い領域とで、ヘッドの浮上量が変化してしまい、安定した記録再生ができなくなる。
【００３０】
溝部５の底部５ａの磁気記録層２の厚さは、２ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以下であることがより好ましい。この厚さを２ｎｍ以下とすることで、溝部５の底部５ａで磁気記録層２の磁化が小さくなる上、さらに、溝部５の底部５ａが先端部１２ａの形状に湾曲していることで、磁気記録層２の配向が基板に対して垂直方向からズレるため、より溝部５の底部５ａの磁気記録層２の磁化によるデータの記録再生時のノイズ、サーボ信号の出力低下、フリンジによるエラーレートの劣化を排除することができる。上記厚さが２ｎｍ以上になると、溝部５の底部５ａに基板に鉛直方向に磁気異方性が残ってしまうため、データの記録再生時のノイズ発生、サーボ信号の出力低下、フリンジによるエラーレートの劣化を引き起こす。
【００３１】
また、転写時の加熱温度は、上述した基板材料の形状維持温度以上、融点未満とすることが好ましく、この範囲とすることで、凸部１１の転写による変形がディスク基板１の表層部に達することが可能となる。これにより、転写パターンの変形や倒壊といった欠損が抑制でき、さらには十分なパターンの高低差を得ることができ、明瞭且つ忠実な転写パターンが得られる。
一方、転写時の加熱温度が基板材料の形状維持温度未満の場合には、パターン転写によりディスク基板１の表面に変形が生じないため、十分な凹凸の高低差を得ることができなくなる。また、転写されたパターンの強度が弱く、変形や倒壊といった欠損が生じやすくなる。一方、転写時の加熱温度が融点以上の場合には、ディスク基板１の表面が融解・変形し、磁気記録層２の結晶配向が乱れ、結果として磁気特性の劣化が生じてしまう。また、ディスク基板１と磁気記録層２との熱膨張係数の違いから、磁気記録層２の剥離や割れといった問題も生じやすくなる。
【００３２】
本発明では、ディスク基板１の上に磁気記録層２を形成し、この上に保護層３を形成した被加工媒体１Ａを作製した後に、上述したスタンパ１１による転写工程を行っている。
この場合、磁気記録層２の上に保護層３を形成した後に転写工程を行うため、磁気記録層２の表面が大気等に触れて劣化することを防止することができる。また、保護層３は、磁気記録層２に比べて塑性変形しにくいため、溝部５の底部５ａにおいて残りやすい。したがって、転写工程の後に保護層３を形成する工程を設ける必要がなくなるため、製造工程を簡略化することができ、耐候性の高い磁気記録媒体を製造することができる。
なお、本発明では、塑性変形により排除された磁気記録層２などの膜が、溝部５の側面部に残留するものの、磁気異方性が基板鉛直方向からズレるため、データの記録再生に対する影響はほとんどない。
【００３３】
一方、本発明では、上述したスタンパ１１による転写工程の後に、磁気記録層２の上に保護層３を形成することもできる。
この場合、保護層３を形成する前に転写工程を行うと、磁気記録層２の表面に硬度の高い保護層３がないため、スタンパ１１による磁気記録層２の塑性変形を安定して行うことができる。一方、磁気記録層２の表面が大気等に触れて劣化する可能性があるので、この転写工程は、不活性ガス等の雰囲気で行うことが好ましい。
【００３４】
さらに、本発明では、上述したスタンパ１１による転写工程の後に、被加工媒体１Ａの表面に再度、保護層３を形成してもよい。
この場合、上述した転写工程により磁気記録層２及び保護層３が除去された溝部５の上を保護層３が再度被覆することで、コロージョンや、溝部５の側面部からの酸化などによる磁気特性の劣化を防止することができる。また、保護層３を再度形成する場合には、耐候性、耐摩耗性に優れたＤＬＣ（ｄｉａｍｏｎｄ  ｌｉｋｅ  ｃａｒｂｏｎ）膜が好ましく、その厚みは、５ｎｍ以下が好ましい。
なお、保護層３の材料や膜の機械特性によっては、転写工程時に溝部５の保護層３が排除されずに残留し、充分な耐候性が得られる場合もあるため、保護層３を再度形成するか否かは任意である。
【００３５】
また、本発明を適用した磁気記録媒体は、図６に示すように、ディスク基板１と磁気記録層２との間に配向層６を配置した構成としてもよい。
配向層６は、その直上に形成された層の結晶配向や粒径を制御するものであり、その厚みは、５〜３０ｎｍ程度が好ましい。
配向層６としては、ｈｃｐ構造を有することが好ましい。これにより、磁気記録層２の垂直配向及び磁性粒径を良好に制御することができる。ｈｃｐ構造を有する配向層６としては、例えば、Ｒｕ又はＲｕにＢ、Ｃ、Ｐ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍなどを添加したＲｕ合金等を用いることができる。
また、配向層６は、異なる組成や構造を有する材料を積層したものであってもよい。例えば、ｆｃｃ構造を有する第１の配向層の上に、ｈｃｐ構造を有する第２の配向層を積層したものを用いることが好ましい。これにより、磁気記録層２の配向性をより高めることができ、結晶粒径の肥大化を抑えることができる。ｆｃｃ構造を有する配向層６としては、例えばＰｔ又はＰｔにＢ、Ｃ、Ｐ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍなどを添加したＰｔ合金や、Ｐｄ又はＰｄにＢ、Ｃ、Ｐ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍなどを添加したＰｄ合金、ＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＷなどのＮｉＦｅ合金等を用いることができる。
【００３６】
また、本発明を適用した磁気記録媒体は、図７に示すように、ディスク基板１と配向層６との間に軟磁性層７を配置した構成としてもよい。
軟磁性層７は、磁気ヘッドから発生する磁束の垂直方向成分を大きくすると共に、情報が記録される磁気記録層２の磁化の方向をより強固に垂直方向に固定するためのものである。
軟磁性層７としては、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏを含む軟磁性材料を用いることができる。そのような軟磁性材料としては、例えば、ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＡｌなどのＦｅＣｏ合金や、ＦｅＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＮｉＣｒ、ＦｅＮｉＳｉ、ＦｅＮｉＢなどのＦｅＮｉ合金、ＦｅＡｌ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌＳｉＣｒ、ＦｅＡｌＯなどのＦｅＡｌ合金、ＦｅＣｒ、ＦｅＣｒＴｉ、ＦｅＣｒＣｕなどのＦｅＣｒ合金、ＦｅＴａ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＮなどのＦｅＴａ合金、ＦｅＭｇＯなどのＦｅＭｇ合金、ＦｅＺｒ、ＦｅＺｒＮなどのＦｅＺｒ合金、ＦｅＣ合金、ＦｅＮ合金、ＦｅＳｉ合金、ＦｅＰ合金、ＦｅＮｂ合金、ＦｅＨｆ、ＦｅＨｆＮなどのＦｅＨｆ合金、ＦｅＢ、ＦｅＢＣｒなどのＦｅＢ合金、ＣｏＢ合金、ＣｏＰ合金、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＢ、ＣｏＮｉＰなどのＣｏＮｉ合金、ＮｉＰ合金、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＣｏＮｉＰ、ＦｅＣｏＮｉＢなどのＦｅＣｏＮｉ合金等を挙げることができる。さらに、前記軟磁性材料が、例えばＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２などの酸化物のマトリクス中に分散されたグラニュラー構造を有する材料を用いることができる。
また、軟磁性層７は、異なる組成の軟磁性材料を積層したものや、軟磁性材料と非磁性材料とを積層したものであってもよい。特に、軟磁性材料の間にＲｕ薄膜を形成した構造とすると、軟磁性特有の磁壁の発生が抑えられ、スパイクノイズを抑制することができる。
【００３７】
（磁気記録再生装置）
次に、本発明を適用した磁気記録再生装置について説明する。
本発明を適用した磁気記録再生装置は、上記磁気記録媒体と、モータと、ハブと、サーボ機構と、磁気ヘッドと、制御部とを概略備えて構成されるものである。磁気ヘッドは、垂直方式の記録再生に対応するものであれば、リング型ヘッドや単磁極型ヘッド等を用いることができる。
この磁気記録再生装置では、本発明を適用した上記磁気記録媒体を用いることによって、磁気トラック４のエッジに起因したノイズ及びフリンジノイズ等の影響を少なくすることができ、よりトラック密度を向上させることができる。また、径方向に隣接する磁気トラック２間同士が溝部５により磁気的に分離されているため、磁気ヘッドの書き込み幅の制約が緩やかになると共に、サーボ信号が予め磁気記録媒体に付与されているため、サーボライトを省くことができ、より安価に製造することができる。これにより、更に高密度記録に適した安価な磁気記録再生装置とすることができる。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例により本発明の効果を明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
実施例１では、先ず、ポリカーボネートからなる基板（外径４８ｍｍ、厚さ０．５０８ｍｍ、内径１５ｍｍ）を用意し、その表面を洗浄した後に、オーブンにて真空乾燥（１００℃、１ｍｍＨｇ（＝１３３．３２２Ｐａ）、１時間）させた。
【００３９】
次に、この基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製のＣ−３０１０）の成膜チャンバー内に収容して、到達真空度が１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバー内を排気した。そして、この基板上に、８９Ｃｏ−４Ｚｒ−７Ｎｂ（Ｃｏ含有量８９ａｔ％、Ｚｒ含有量４ａｔ％、Ｎｂ含有量７ａｔ％）のターゲットを用いて、厚さ８０ｎｍの軟磁性層をスパッタ法により形成し、この軟磁性層上に、Ｐｔターゲットを用いて、厚さ３ｎｍの第１の配向層を形成し、この第１の配向層上に、Ｒｕターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの第２の配向層を形成し、この第２の配向層上に、６５Ｃｏ―１０Ｃｒ―１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２（Ｃｏ含有量６５ｍｏｌ％、Ｃｒ含有量１０ｍｏｌ％、Ｐｔ含有量１５ｍｏｌ％、ＳｉＯ２含有量１０ｍｏｌ％）のターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの磁性層を形成し、この磁性層上に、カーボンからなる厚さ４ｎｍの保護層を形成することによって、被加工媒体を作製した。
【００４０】
次に、この被加工媒体をインプリント装置のサセプター上にセットし、その上から加圧ピストンの先に接続したＮｉ電鋳製のスタンパを押し付けることによって、トラックパターン（トラックピッチ１８０ｎｍ、トラック幅８０ｎｍ、凹凸高低差８０ｎｍ）及びサーボ情報パターンを被加工媒体にインプリント法により転写した。
【００４１】
スタンパは、被加工媒体との接触面に、実際に被加工媒体に転写される形状に対応した凸部を有している。この凸部は、そのようなネガパターンとして、先端部が丸みを帯びた曲面とされ、この曲面の曲率半径Ｒは８０ｎｍである。また、転写時には、サセプター及びスタンパを１５０℃に加熱保持した。また、３５ｋｇｆ／ｃｍ２（＝３４３Ｎ／ｃｍ２）の圧力で加圧を行った。
【００４２】
次に、被加工媒体からスタンパを分離し、被加工媒体をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製のＣ−３０１０）の成膜チャンバー内に収容して、到達真空度が１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバー内を排気した後に、エチレンガスを原料とし、１３．５ＭＨｚのＲＦパワーサプライを用い、ＣＶＤ法により厚さ３ｎｍのＤＬＣからなる保護層を形成した。最後に、保護層の上に、潤滑層としてパーフルオロエーテルを厚さ２ｎｍで形成し、実施例１の磁気記録媒体を作製した。
【００４３】
そして、実施例１の磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み込み、記録再生を行った結果、磁気ヘッドの位置決め動作及びデータの記録再生動作が適切であることを確認した。
磁気ヘッドは、読み込み側にＧＭＲ素子を用い、書き込み側を単磁極型としたＧＭＲヘッドを用いた。ヘッドの位置決め信号は、オシロスコープにより観察した。記録再生特性は、線記録密度９６０ｋＦＣＩで評価を行い、１×１０−５．７のエラーレートが得られた。
【００４４】
（実施例２）
実施例２では、基板として強化ガラス（ＨＯＹＡ製のＮ５ガラス）を用い、インプリント時の温度を３６０℃とし、Ａｒ雰囲気中で、圧力を２０００ｋｇｆ／ｃｍ２（＝１９６１３Ｎ／ｃｍ２）とした以外は、実施例１と同様の方法により実施例２の磁気記録媒体を作製した。
【００４５】
そして、実施例２の磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み込み、記録再生を行った結果、磁気ヘッドの位置決め動作及びデータの記録再生動作が適切であることを確認した。
磁気ヘッドは、読み込み側にＧＭＲ素子を用い、書き込み側を単磁極型としたＧＭＲヘッドを用いた。ヘッドの位置決め信号は、オシロスコープにより観察した。記録再生特性は、線記録密度９６０ｋＦＣＩで評価を行い、１×１０−５．５のエラーレートが得られた。
【００４６】
（実施例３）
実施例３では、基板としてＮｉＰめっき層を形成したアルミニウム基板を用い、インプリント時の温度を３００℃とした以外は、実施例１と同様の方法により実施例３の磁気記録媒体を作製した。
【００４７】
そして、実施例３の磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み込み、記録再生を行った結果、磁気ヘッドの位置決め動作及びデータの記録再生動作が適切であることを確認した。
磁気ヘッドは、読み込み側にＧＭＲ素子を用い、書き込み側を単磁極型としたＧＭＲヘッドを用いた。ヘッドの位置決め信号は、オシロスコープにより観察した。記録再生特性は、線記録密度９６０ｋＦＣＩで評価を行い、１×１０−５．３のエラーレートが得られた。
【００４８】
（比較例１）
比較例１では、先ず、ポリカーボネートからなる基板（外径４８ｍｍ、厚さ０．５０８ｍｍ、内径１５ｍｍ）を用意し、その表面を洗浄した後に、オーブンにて真空乾燥（１００℃、１ｍｍＨｇ（＝１３３．３２２Ｐａ）、１時間）させた。
【００４９】
次に、この基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製のＣ−３０１０）の成膜チャンバー内に収容して、到達真空度が１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバー内を排気した。そして、この基板上に、８９Ｃｏ−４Ｚｒ−７Ｎｂ（Ｃｏ含有量８９ａｔ％、Ｚｒ含有量４ａｔ％、Ｎｂ含有量７ａｔ％）のターゲットを用いて、厚さ８０ｎｍの軟磁性層をスパッタ法により形成し、この軟磁性層上に、Ｐｔターゲットを用いて、厚さ３ｎｍの第１の配向層を形成し、この第１の配向層上に、Ｒｕターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの第２の配向層を形成し、この第２の配向層上に、６５Ｃｏ―１０Ｃｒ―１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２（Ｃｏ含有量６５ｍｏｌ％、Ｃｒ含有量１０ｍｏｌ％、Ｐｔ含有量１５ｍｏｌ％、ＳｉＯ２含有量１０ｍｏｌ％）のターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの磁性層を形成し、この磁性層上に、カーボンからなる厚さ４ｎｍの保護層を形成することによって、被加工媒体を作製した。
【００５０】
次に、保護層上に、熱硬化性のレジストをディッピング法により塗布し、レジスト層を形成した。そして、この被加工媒体をインプリント装置のサセプター上にセットし、その上から加圧ピストンの先に接続したＮｉ電鋳製のスタンパを押し付けることによって、トラックパターン及びサーボ情報パターンをレジスト層にインプリント法により転写した。
その後、１５０℃の温度で、１０分ベーキングし、レジスト層を硬化させた。
【００５１】
次に、被加工媒体を真空装置内にセットし、Ａｒガスを用いたイオンビームエッチングによりパターンの凹部に残留したレジスト層を除去した後に、ガスをＳＦ６に切り替えて、反応性エッチングにより凹部の保護層と磁性層及び配向層を除去した。
【００５２】
次に、被加工媒体からスタンパを分離し、被加工媒体をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製のＣ−３０１０）の成膜チャンバー内に収容して、到達真空度が１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバー内を排気した後に、エチレンガスを原料とし、１３．５ＭＨｚのＲＦパワーサプライを用い、ＣＶＤ法により厚さ３ｎｍのＤＬＣからなる保護層を形成した。最後に、保護層の上に、潤滑層としてパーフルオロエーテルを厚さ２ｎｍで形成し、比較例１の磁気記録媒体を作製した。なお、比較例１の磁気記録媒体のトラックパターンは、トラックピッチが１８０ｎｍ、トラック幅が１００ｎｍ、凹凸高低差が３０ｎｍであった。
【００５３】
そして、比較例１の磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み込み、記録再生を行った結果、磁気ヘッドの位置決め動作及びデータの記録再生動作が適切であることを確認した。
磁気ヘッドは、読み込み側にＧＭＲ素子を用い、書き込み側を単磁極型としたＧＭＲヘッドを用いた。ヘッドの位置決め信号は、オシロスコープにより観察した。記録再生特性は、線記録密度９６０ｋＦＣＩで評価を行い、１×１０−４．８のエラーレートが得られた。
【００５４】
（比較例２）
比較例２では、先ず、ポリカーボネートからなる基板（外径４８ｍｍ、厚さ０．５０８ｍｍ、内径１５ｍｍ）を用意し、この基板の一方の表面にスタンパを押し付けることによって、トラックパターン及びサーボ情報パターンをインプリント法により転写した。そして、この基板の表面を洗浄した後に、オーブンにて真空乾燥（１００℃、１ｍｍＨｇ（＝１３３．３２２Ｐａ）、１時間）させた。
【００５５】
次に、この基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製のＣ−３０１０）の成膜チャンバー内に収容して、到達真空度が１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバー内を排気した。そして、この基板上に、８９Ｃｏ−４Ｚｒ−７Ｎｂ（Ｃｏ含有量８９ａｔ％、Ｚｒ含有量４ａｔ％、Ｎｂ含有量７ａｔ％）のターゲットを用いて、厚さ８０ｎｍの軟磁性層をスパッタ法により形成し、この軟磁性層上に、Ｐｔターゲットを用いて、厚さ３ｎｍの第１の配向層を形成し、この第１の配向層上に、Ｒｕターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの第２の配向層を形成し、この第２の配向層上に、６５Ｃｏ―１０Ｃｒ―１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２（Ｃｏ含有量６５ｍｏｌ％、Ｃｒ含有量１０ｍｏｌ％、Ｐｔ含有量１５ｍｏｌ％、ＳｉＯ２含有量１０ｍｏｌ％）のターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの磁性層を形成し、この磁性層上に、カーボンからなる厚さ４ｎｍの保護層を形成し、最後に、保護層の上に潤滑層としてパーフルオロエーテルを厚さ２ｎｍで形成した。
【００５６】
次に、サーボライト装置に組み込み、磁気ヘッドを用いて、強書き込み電流によりサーボ領域をＤＣフォーマットした後に、弱い書き込み電流により凸部のみ逆の磁化に反転させることによって、比較例２の磁気記録媒体を作製した。なお、比較例２の磁気記録媒体に書き込んだトラックは、トラックピッチが１８０ｎｍ、トラック幅が８０ｎｍ、凹凸高低差が８０ｎｍであった。
【００５７】
そして、比較例２の磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み込み、記録再生を行った。
磁気ヘッドは、読み込み側にＧＭＲ素子を用い、書き込み側を単磁極型としたＧＭＲヘッドを用いた。ヘッドの位置決め信号は、オシロスコープにより観察した。その結果、ヘッドの位置決めについては、十分な信号強度とＳ／Ｎ比が得られず、ヘッドの位置決め動作を適切に行うことができなかった。記録再生特性は、線記録密度９６０ｋＦＣＩで評価を行ったが、１×１０−２．３のエラーレートしか得られなかった。また、オシロスコープによりトラック波形を観察したところ、データ波形に不規則な振幅が観察され、ヘッドの位置決め不良により、データの記録再生動作が不安定となることがわかった。
【００５８】
（比較例３）
比較例３では、先ず、ポリカーボネートからなる基板（外径４８ｍｍ、厚さ０．５０８ｍｍ、内径１５ｍｍ）を用意し、その表面を洗浄した後に、オーブンにて真空乾燥（１００℃、１ｍｍＨｇ（＝１３３．３２２Ｐａ）、１時間）させた。
【００５９】
次に、この基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製のＣ−３０１０）の成膜チャンバー内に収容して、到達真空度が１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバー内を排気した。そして、この基板上に、８９Ｃｏ−４Ｚｒ−７Ｎｂ（Ｃｏ含有量８９ａｔ％、Ｚｒ含有量４ａｔ％、Ｎｂ含有量７ａｔ％）のターゲットを用いて、厚さ８０ｎｍの軟磁性層をスパッタ法により形成し、この軟磁性層上に、Ｐｔターゲットを用いて、厚さ３ｎｍの第１の配向層を形成し、この第１の配向層上に、Ｒｕターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの第２の配向層を形成し、この第２の配向層上に、６５Ｃｏ―１０Ｃｒ―１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２（Ｃｏ含有量６５ｍｏｌ％、Ｃｒ含有量１０ｍｏｌ％、Ｐｔ含有量１５ｍｏｌ％、ＳｉＯ２含有量１０ｍｏｌ％）のターゲットを用いて、厚さ１２ｎｍの磁性層を形成し、この磁性層上に、カーボンからなる厚さ４ｎｍの保護層を形成し、最後に、保護層の上に潤滑層としてパーフルオロエーテルを厚さ２ｎｍで形成した。
【００６０】
次に、サーボライト装置に組み込み、専用ヘッドを用いてサーボ信号など所定の信号を書き込むことによって、比較例３の磁気記録媒体を作製した。なお、比較例３の磁気記録媒体に書き込んだトラックは、トラックピッチが１８０ｎｍ、トラック幅が１００ｎｍであった。
【００６１】
そして、比較例３の磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み込み、記録再生を行った結果、磁気ヘッドの位置決め動作及びデータの記録再生動作が適切であることを確認した。
磁気ヘッドは、読み込み側にＧＭＲ素子を用い、書き込み側を単磁極型としたＧＭＲヘッドを用いた。ヘッドの位置決め信号は、オシロスコープにより観察した。記録再生特性は、線記録密度９６０ｋＦＣＩで評価を行い、１×１０−４．２のエラーレートが得られた。
以下、実施例１及び比較例１〜３のヘッド位置決め及びＲ／Ｗ特性（エラーレート）の評価結果を表１に示す。なお、表１中において、○は、ヘッドの位置決めが良好の場合を示し、×は、ヘッドの位置決めが不良の場合を示す。
【００６２】
【表１】
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【００６３】
表１に示す評価結果から、実施例１は、ヘッドの位置決めができ、さらに比較例１〜３に比べてエラーレートが優れていることがわかる。具体的に、実施例１は、比較例１と比較すると、磁性層の加工による磁気特性の劣化が生じないため、比較例１よりも優れたエラーレートを得ている。また、実施例１は、比較例２と比較してヘッドの位置決めが良好のため、エラーレートの測定が精度良くできる。また、実施例１は、比較例３と比較して、トラックエッジに由来するノイズが小さいため、より優れたエラーレートが得られる。
【００６４】
次に、実施例１及び比較例１〜３について、トラックピッチを変えたサンプルを作製し、サーボ信号強度を比較した結果を図８に示す。なお、図８に示すサーボ信号強度は、比較例３の方法で作製したトラックピッチ２６０ｎｍの媒体を１として規格化した値を示す。
また、実施例１及び比較例１〜３について、トラックピッチを変えたサンプルを作製し、エラーレートを比較した結果を図９に示す。
図８及び図９に示す結果から、実施例１は、トラックピッチが１８０ｎｍ以下であっても、良好なサーボ信号強度が得られ、１６０ｎｍのトラックピッチにおいてもエラーレートの劣化が少ないことがわかる。
【００６５】
次に、実施例１及び比較例１，２について、それぞれ５０００枚の磁気記録媒体を作製した際のデータを元に、スループットを算出した。なお、スループットは、基板作製（洗浄又は成形）から潤滑層の塗布、それからサーボ領域のフォーマットまでとした。以下、実施例１及び比較例１，２のスループットを表２に示す。
【００６６】
【表２】
0004417336.tif 000003
【００６７】
表２に示す結果から、実施例１は、比較例１，２よりも良好な生産性を有していることがわかる。一方、比較例１は、磁性層の加工に時間がかかり、スループットを稼ぐことができない。また、比較例２は、媒体作製後に、サーボ領域のフォーマット（凹凸で逆向きに磁化させること）が必要となるため、スループットを低下させてしまう。
【００６８】
次に、実施例１について、凹凸の高低差を変えた媒体を作製し、サーボ信号の強度を比較した結果を図１０に示す。なお、図１０に示すサーボ信号強度は、比較例３の方法で作製したトラックピッチ２６０ｎｍの媒体を１として規格化した値を示す。
図１０に示す結果から、凹凸の高低差が１０〜１００ｎｍの範囲で、良好なサーボ信号強度が得られ、更に好ましくは、５０〜１００ｎｍの範囲である。凹凸の高低差が１０ｎｍ未満になると、サーボ信号強度が大幅に低下する一方、１００ｎｍを超えると、サーボ信号強度が大きくなるが、１トラック当たりの信号強度の振幅が大きくなる。なお、１５０ｎｍでは、精度良く信号を測定できなかった。さらに、１８０ｎｍを越えると、ヘッドと媒体の接触により、信号そのものが得られなくなった。これは、サーボ領域でヘッドの飛行高度が下がり、ヘッドの飛行安定性が損なわれた結果と考えられる。このことから、凹凸の高低差は、１００ｎｍ以下とすることで、ヘッドの飛行安定性を確保することができる。
【００６９】
次に、実施例１について、凹凸の高低差を変えた媒体を作製し、媒体の加工性について測定した測定結果を図１１に示す。なお、図１１は、実施例１の磁気記録媒体を１００枚作製したときに、パターンに欠損した部位があるディスクの割合（％）を示したものである。図１１に示す結果から、凹凸の高低差が１００ｎｍを超えると、パターンの加工不良の発生率が大きくなることがわかる。
【００７０】
次に、凸部の先端部の丸みを変えたスタンパを用い、トラックピッチを変えて、実施例１の製造方法で作製した磁気記録媒体のエラーレートについて測定した結果を図１２に示す。なお、図１２に示すエラーレートは、特定のトラックにデータを９６０ｋＦＣＩで記録したときのエラーレートを基準とし、その後、径方向に隣接するトラックに同じくデータを書き込んだ後に、先の特定トラックのエラーレートを測定し、基準とする隣接トラックにデータを記録する前のエラーレートとの比とする。
図１２に示す測定結果から、スタンパの凸部の先端形状が、凸部の曲面の曲率半径をＲとし、凸部の幅をＷとしたときに、０．７５Ｗ≦Ｒであれば、隣接トラックへのデータ記録によるエラーレートの劣化が少ないことがわかる。一方、０．７５Ｗ＞Ｒになると、トラックピッチを狭めた際に、フリンジによる隣接トラックへのデータ記録によるエラーレートの著しい劣化がみられた。
【００７１】
次に、実施例１について、溝部５の底部５ａの磁気記録層２の残厚が異なる媒体を作製し、エラーレートについて測定した結果を図１３に示す。トラックピッチは、１６０ｎｍ、凹凸差とした。また、溝部５の底部５ａの磁気記録層２の残厚は、スタンパの凸部の先端部の丸みを変えることにより変化させた。
図１３に示すエラーレートは、特定のトラックにデータを９６０ｋＦＣＩで記録した時のエラーレートを基準とし、その後、径方向に隣接するトラックに同様にデータを書き込んだ後、先の特定トラックのエラーレートを測定し、基準とする隣接トラックにデータを記録する前のエラーレートとの比とする。
また、溝部５の底部５ａの磁気記録層２の残厚は、断面ＴＥＭにより計測し、溝部５の底部５ａに残った磁気記録層２の平均の厚さを示した。
図１３に示す結果から、溝部５の底部５ａの磁気記録層２の残厚を２ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以下とすることで、フリンジによるエラーレートの劣化が少なくなることがわかる。一方、２ｎｍを超える磁性層が溝底部に残留した場合、フリンジによるエラーレートの劣化がみられた。
【００７２】
次に、スタンパの寿命について測定した結果を表３に示す。なお、表３は、同一のスタンパを用い、磁気記録媒体に形成されたパターンの凹部の形状が初期形状から１０％変形したときの作製枚数を示す。なお、作製枚数の上限は５０００枚とし、数値が記入されていない箇所は、形状の劣化が観測されなかったことを示す。
【００７３】
【表３】
0004417336.tif 000004
【００７４】
表３に示す測定結果から、スタンパの凸部の先端形状が、凸部の曲面の曲率半径をＲとし、凸部の幅をＷとしたときに、Ｒ≦１．２５Ｗであれば、十分な寿命を有していることがわかる。一方、Ｒ＞１．２５Ｗになると、先端形状の劣化により寿命が短くなる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】図１は、本発明を適用した磁気記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程を示す概略断面図である。
【図３】図３は、スタンパを示す概略断面図である。
【図４】図４は、スタンパの凸部を拡大して示す断面図である。
【図５】図５は、スタンパの作製工程を示す概略断面図である。
【図６】図６は、磁気記録媒体に配向層を配置した構成を示す概略断面図である。
【図７】図７は、磁気記録媒体に軟磁性層を配置した構成を示す概略断面図である。
【図８】図８は、トラックピッチとサーボ強度信号との関係を示すグラフである。
【図９】図９は、トラックピッチとエラーレートとの関係を示すグラフである。
【図１０】図１０は、凹凸の高低差とサーボ強度信号との関係を示すグラフである。
【図１１】図１１は、凹凸の高低差と加工不良発生率との関係を示すグラフである。
【図１２】図１２は、トラックピッチとエラーレート劣化との関係を示すグラフである。
【図１３】図１３は、溝部の磁性層残厚とエラーレートとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００７６】
１Ａ…被加工媒体  １…ディスク基板、２…磁気記録層  ３…保護層  ４…磁気トラック  ５…溝部  ６…配向層  ７…軟磁性層  １０…凸部  １１…スタンパ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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