(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するように構成された基板テーブルを備えており、前記基板テーブルは主部および可動縁部を含み、前記縁部は、第一位置にあるときに前記主部の上面と実質的に同一な平面にある上面を有し、かつ、平面で前記基板テーブルの外縁を呈し、
前記可動縁部は、前記可動縁部が前記基板テーブルの外縁を形成しない第二位置へ前記基板テーブル主部に対して相対的に移動可能である、
リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記可動縁部は、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へヒンジの周囲で枢動可能である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記可動縁部は、前記基板テーブルにスライド可能に取り付けられ、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へ平行移動可能である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記可動縁部は、比較的小さい力で破壊可能な犠牲的な弱部を介して前記基板テーブルに取り付けられる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記可動縁部が受動的であり、外部から力を加えることによって移動可能である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記基板テーブルは、さらに、前記可動縁部を前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へ移動するように構成されたアクチュエータを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記アクチュエータは、電磁式またはばね式アクチュエータである、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
さらに、（ａ）前記可動縁部とオブジェクトとの近接による衝突を検出し、（ｂ）前記アクチュエータに制御信号を送信して、前記縁部を前記収納位置へと移動するように構成された検出器を備える、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記可動縁部の前記上面と前記基板テーブルの前記上面との間のギャップの上に防液ステッカを配置する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記基板テーブルに液体除去装置を設け、前記基板テーブルから遠い前記縁部の端からこぼれる液体を除去する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記基板テーブルから遠い前記可動縁部の端に液体除去装置を設ける、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記液体除去装置は、前記可動縁部上面の外縁の下に配置されたドレーンを含む、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
さらに、基板を支持するように構成された追加の基板テーブルを備えており、前記追加の基板テーブルは主部および可動縁部を有し、前記追加基板テーブルの前記縁部は、第一位置にあるときに、前記追加基板テーブル主部の上面と実質的に同一な平面にある上面を有し、かつ、平面で前記追加基板テーブルの外縁を呈し、前記追加基板テーブルの前記可動縁部は、前記可動縁部が前記追加基板テーブルの外縁を形成しない第二位置へ前記追加基板テーブルに対して相対的に移動可能である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記基板テーブルは、前記基板テーブルを少なくとも部分的に囲み、衝突時に衝撃エネルギの少なくとも一部を吸収するように構成された突出バンパを有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記基板テーブルはショートストロークモジュールおよびロングストロークモジュールを含み、前記可動縁部が前記ロングストロークモジュールに取り付けられる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記縁部が前記主部に接続されている、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
液体を封じ込めるためのスペースの側壁を少なくとも部分的に定めるバリア部材を有する液体封じ込めシステムを備えており、前記スペースの底面が、第一または第二基板テーブルおよび／または前記第一または第二基板テーブル上に支持された基板および／または前記第一または第二基板テーブルに支持された別のオブジェクトの上面よって定められ、
前記第一および第二基板テーブルの少なくとも一方は、前記第一または第二基板テーブルおよび／または前記第一または第二基板テーブルに支持された前記基板および／または前記第一または第二基板テーブルに支持された別のオブジェクトの前記上面の平面で、前記スペースの前記底面の少なくとも一部を形成するように構成された可動ブリッジを備え、
前記第一および第二基板テーブルは、前記可動ブリッジが実質的に前記第一基板テーブルと第二基板テーブルの間に広がっており、前記底面の少なくとも一部を定め得るように、相互に配置可能である、
リソグラフィ装置。
【請求項１８】
投影システムの下に各々配置可能である第一および第二テーブルと、
前記投影システムと前記第一および第二テーブルのうち一方および／または前記第一および第二テーブルのうち前記一方上のオブジェクトとの間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、を備え、
前記第一および第二テーブルの少なくとも一方は収納可能なブリッジを有しており、前記収納可能なブリッジが、使用位置において前記第一および第二テーブルの上面と実質的に同一な平面にあり、かつ、前記液体供給システムからの液体が前記第一テーブルと第二テーブル間から漏れるのを実質的に防止するように各表面が相互に十分近接した状態で、前記第一テーブルと第二テーブルが前記投影システムの下で一緒に移動するように、平面で、少なくとも前記第一および第二テーブルの前記少なくとも一方の他の部分の範囲まで突出する上面を有する、
リソグラフィ装置。
【請求項１９】
収納状態において、前記第一および第二基板テーブルの前記一方の前記収納可能なブリッジが、前記第一および第二基板テーブルの前記一方になお取り付けられているときに、平面で、前記第一および第二基板テーブルの前記他方が侵入するように構成されるいかなる区域へも広がらない、請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルの周囲に少なくとも１つの別のオブジェクトが入れない保護ゾーンを定める保護システムと、を備え、
前記基板テーブルは主部および可動縁部を備え、前記縁部は、第一位置にあるときに、前記基板テーブルの主部の上面と実質的に同じ平面にある上面を有し、かつ、平面で、前記保護ゾーンから突出する外縁を呈し、前記可動縁部は、前記可動縁部が前記保護ゾーンから突出していない第二位置へ前記基板テーブル主部に対して相対的に移動可能である、
リソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの他のオブジェクトが追加の基板テーブルである、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記可動縁部が、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へヒンジの周囲で枢動可能である、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
前記可動縁部が、前記基板テーブルにスライド可能に取り付けられ、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へ平行移動可能である、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２４】
前記可動縁部が、比較的小さい力で破壊可能な犠牲的な弱部を介して前記基板テーブルに取り付けられる、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２５】
前記可動縁部が受動的であり、外部から力を加えることによって移動可能である、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２６】
前記基板テーブルがさらに、前記可動縁部を前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記保護ゾーンから突出しない収納位置へ移動するアクチュエータを備える、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２７】
前記アクチュエータは、電磁式またはばね式アクチュエータである、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２８】
さらに、（ａ）前記可動縁部とオブジェクトとの近接による衝突を検出し、（ｂ）前記アクチュエータに制御信号を送信して、前記縁部を前記収納位置へと移動するように構成された検出器を備える、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２９】
前記可動縁部の前記上面と前記基板テーブルの前記上面との間のギャップの上に防液性ステッカを配置する、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３０】
前記基板テーブルに液体除去装置を設け、前記基板テーブルから遠い前記縁部の端部からこぼれる液体を除去する、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３１】
前記基板テーブルから遠い前記可動縁部の端に液体除去装置を設ける、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３２】
前記液体除去装置は、前記可動縁部の上面の外縁の下に配置されたドレーンを含む、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３３】
さらに、基板を支持するように構成された追加の基板テーブルを備えており、前記追加の基板テーブルは主部および可動縁部を有し、前記追加基板テーブルの前記可動縁部は、第一位置にあるときに、前記追加基板テーブルの主部の上面と実質的に同一な平面にある上面を露出させ、かつ、平面で前記追加基板テーブルの外縁を呈し、前記追加基板テーブルの前記可動縁部は前記追加基板テーブルに対して相対的に移動可能である、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３４】
前記基板テーブルは位置決め装置によって位置決めされ、前記保護システムは少なくとも部分的に前記位置決め装置に固定された機械的バンパから成る、請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３５】
パターン付けされた投影ビームが通るスペースに液体を提供し、第一基板テーブルおよび／または前記第一基板テーブルによって支持されたオブジェクトが前記スペースの境界の一部を形成すること、
シールを用いて前記スペース内に前記液体をシールし、前記シールは前記基板および／または前記オブジェクトと別のオブジェクトとの間で作用すること、
第二基板テーブルを設け、前記第一および第二基板テーブルの少なくとも一方が、使用位置に配置された可動ブリッジ部分を有し、かつ、前記ブリッジ部分が前記第一基板テーブルと第二テーブル基板の間に広がるように、前記第一および／または第二基板テーブルを移動させることと、
前記ブリッジ部分が最初に前記スペースの前記境界の一部を形成し、次に前記第二基板テーブルおよび／または前記第二基板テーブルによって支持されたオブジェクトが前記境界の一部を形成するように、前記スペースの下で前記第一および第二基板テーブルを一緒に移動することと、
前記パターン化されたビームを前記液体を通して前記第二基板テーブルによって支持された前記オブジェクトに投影すること、からなるデバイス製造方法。
【請求項３６】
前記第一および第二基板テーブルが可動ブリッジ部分を有し、前記移動中に、前記第一基板テーブルの前記ブリッジ部分が前記スペースの前記境界の一部を形成し、またその後、前記第二基板テーブルの前記ブリッジ部分が前記スペースの前記境界の一部を形成する、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
放射ビームを調節するように構成された放射システムと、
前記放射ビームをパターン化するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、、
基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、を備え、
前記基板テーブルは、前記基板を支持する支持表面および可動縁部を有し、前記可動縁部は前記基板テーブルの外縁に配置され、前記可動縁部上面は前記基板テーブルの前記支持表面と実質的に同一な平面にある第一位置と、前記可動縁部上面が前記支持表面に対して実質的に垂直である第二位置との間で移動可能である、
リソグラフィ装置。
【請求項３８】
前記第一位置で、前記可動縁部の前記上面が前記支持表面の範囲を定める、請求項３７に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明はリソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターン化される網の目状の互いに近接したターゲット部分を含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  投影システムの最終要素と基板との間の空間を充填するように、リソグラフィ装置の基板を水などの比較的高い屈折率を有する液体に浸すことが提案されている。そのポイントは、露光放射は液体中の方が波長が短いので、結像する形体の小型化を可能にすることにある。（液体の効果は、システムで使用する有効ＮＡを大きくでき、焦点深さも大きくすることと見なしてもよい。）固体粒子（例えばクォーツ）が懸濁している水などの、他の液浸液も提案されている。
【０００４】
[0004]  しかし、基板または基板と基板テーブルを液体の浴に浸すと、スキャン露光中に加速しなければならない液体の量が大きいことになる（例えば、その全体が参照により援用される、米国特許第４，５０９，８５２号参照）。これには、追加の、またはさらに強力なモータが必要であり、液体中の乱流が望ましくない予想不可能な効果を引き起こすことがある。
【０００５】
[0005]  提案されている解決法の一つは、液体供給システムが、液体封じ込めシステムを使用して、液体を基板の局所的な区域、および投影システムの最終要素と基板の間のみに提供することである（基板は通常、投影システムの最終要素より大きい表面積を有する）。これを配置構成するために提案されている一つの方法が、国際特許第９９／４９５０４号で開示され、これはその全体が参照により援用される。図２および図３に示すように、液体が、少なくとも１つの入口ＩＮによって基板へ、好ましくは最終要素に対する基板の動作方向に沿って供給され、投影システムの下を通過した後、少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。つまり、−Ｘ方向で最終要素の下で基板をスキャンしながら、最終要素の＋Ｘ側で液体を供給し、−Ｘ側で取り出す。図２は、入口ＩＮを介して液体を供給し、低圧ソースに接続した出口ＯＵＴにより最終要素の他方側で取り出す構成を概略的に示す。図２の例では、最終要素に対する基板の動作方向に沿って液体を供給するが、こうする必要はない。最終要素の周囲に位置決めされた入口と出口の様々な方向および数が可能であり、図３には、各側に入口１個と出口１個の４セットが、最終要素の周囲に規則的パターンで設けられた１つの例が図示されている。
【０００６】
[0006]  提案されている別の解決法は、液体供給システムに、投影システムの最終要素と基板テーブルの間のスペースの境界の少なくとも一部に沿って延在するシール部材を設けることである。このような解決法が図４に図示されている。シール部材は、ＸＹ平面では投影システムに対してほぼ静止しているが、Ｚ方向（光軸の方向）では多少の相対的運動がある。シール部材と基板表面の間にシールが形成される。シールは、ガスシールのような非接触式シールであることが好ましい。ガスシールを有するこのようなシステムが図５および参照により全体が本明細書に組み込まれる欧州特許第ＥＰ−Ａ−１，４２０，２９８号に開示されている。
【０００７】
[0007]  参照により全体が本明細書に組み込まれる欧州特許第ＥＰ−Ａ−１，４２０，３００号では、ツインまたはデュアルステージの液浸リソグラフィ装置の概念が開示されている。このような装置には、基板を支持する２つのステージを設ける。第一位置のステージでは、液浸液がない状態でレベリング測定を実行し、液浸液が存在する第二位置のステージで露光を実行する。あるいは、装置には１つのステージしかない。
【０００８】
[0008]  それぞれが基板を担持する２つの基板テーブルまたはステージが設けられている装置では、１つの基板テーブルを投影システムの下にある別の基板テーブルと投影システムの下から交換することが困難なことがある。というのは、液体供給システムからの液体が、基板テーブルを交換する前に除去されると、投影システムの最終要素上に乾燥汚れが現れることがあるからである。提案されている１つの解決法は、基板テーブルの交換中に投影システムの下に配置可能なダミー基板を提供することである。この方法で、液体供給システムを交換中にオン状態に維持することができ、乾燥汚れが形成し得ない。しかし、ダミー基板の配置および取り付けは時間がかかり得るプロセスであり、それによってスループットが低下する。汚染の危険もある。
【特許文献１】米国特許第４，５０９，８５２号
【特許文献２】国際公開特許第９９／４９５０４号
【特許文献３】欧州特許第ＥＰ−Ａ−１，４２０，２９８号
【特許文献４】欧州特許第ＥＰ−Ａ−１，４２０，３００号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
[0009]  液体供給システムから液体を排出することを必要とせずに、液浸する装置の投影システムの下で基板テーブルの位置を変更可能な装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
[0010]  本発明の実施形態によれば、基板を支持する基板テーブルを含み、基板テーブルは可動な突起を含み、可動な突起は、使用位置において、基板テーブルおよび基板の上面と実質的に同じ平面にある上面を露出させ、かつ、平面で基板テーブルの外縁を呈し、可動な突起は、使用時に基板テーブルの外縁を形成しない位置へ基板テーブルに対して相対的に移動可能である、リソグラフィ装置が提供される。
【００１１】
[0011]  本発明の実施形態によれば、液体を封じ込めるためのスペースの側壁を少なくとも部分的に定めるバリア部材を含む液体封じ込めシステムを含み、このスペースの底面は、基板テーブルおよび／または基板テーブルによって支持された基板および／または基板テーブルに支持された別のオブジェクトの上面によって定められ、さらに第一基板テーブルおよび第二基板テーブルを含み、第一および第二基板テーブルの少なくとも一方が、基板テーブルおよび／または基板テーブルに支持された基板および／または基板テーブルに支持された別のオブジェクトの上面の平面において前記スペースの底面の少なくとも一部を形成するように構成された可動なブリッジを含み、第一および第二基板テーブルは、可動なブリッジが実質的に第一および第二基板テーブルの間に延在して、底面の少なくとも一部を定められるように、相互に対して位置することができる、リソグラフィ装置が提供される。
【００１２】
[0012]  本発明の実施形態によれば、それぞれ投影システムの下に配置可能である第一および第二テーブルと、投影システムと、第一および第二テーブルのうち一方および／または第一および第二テーブルのうち前記一方のテーブル上のオブジェクトとの間に液体を提供する液体供給システムと、を含み、第一および第二テーブルのうち少なくとも一方が収納可能なブリッジを有し、この収納可能なブリッジは、使用位置において、第一および第二テーブルの上面と実質的に同じ平面にあり、かつ液体供給システムからの液体が第一テーブルと第二テーブル間から漏れるのを実質的に防止するようにそれぞれの表面が相互に十分近づいた状態で第一テーブルおよび第二テーブルが投影システムの下で一緒に動かされるように、平面で少なくとも第一および第二テーブルの前記少なくとも一方の他の部分の範囲まで突出する上面を有する、リソグラフィ装置が提供される。
【００１３】
[0013]  本発明の別の実施形態によれば、基板を支持する基板テーブルと、少なくとも１つの他のオブジェクトが入れない基板テーブルの周囲の保護ゾーンを定める保護システムとを含み、基板テーブルは、使用位置において、基板テーブルおよび基板の上面と実質的に同じ平面にあり、かつ上面を露出させ、平面で保護ゾーンから突出する外縁を呈し、可動な突起は、使用時に保護ゾーンから突出しない位置へと基板テーブルに対して相対的に移動可能である、リソグラフィ装置が提供される。
【００１４】
[0014]  本発明の別の実施形態によれば、パターン化されたビームが通るスペースに液体を提供し、第一基板テーブルおよび／または第一基板テーブルによって支持されたオブジェクトがスペースの境界の一部を形成し、スペース内に液体をシールし、シールが基板および／またはオブジェクトと別のオブジェクトの間で作用し、第二基板テーブルを設け、第一および第二基板テーブルの少なくとも一方が、使用位置に配置された可動なブリッジ部分を有し、かつ、この可動なブリッジ部分が第一テーブルと第二基板テーブルの間に延在するように、第一および／または第二基板テーブルを移動させ、ブリッジ部分が最初にスペースの境界の一部を形成し、次に第二基板テーブルおよび／または第二基板テーブルによって支持されたオブジェクトが境界の一部を形成するように、第一および第二基板テーブルをスペースの下で一緒に移動し、パターン化された放射ビームを液体を通して第二基板テーブルによって支持された基板に投影する、ことからなるデバイス製造方法が提供される。
【００１５】
[0015]  一実施形態では、放射ビームを調節するように構成された放射システムと、パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、パターニングデバイスは放射ビームをパターン化するように構成され、基板を支持するように構成された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板に投影するように構成された投影システムと、を含み、基板テーブルが、基板を支持する支持表面および可動縁部を含み、可動縁部が、基板テーブルの外縁に配置されて、可動縁部の上面が、基板テーブルの支持表面と実質的に同じ平面にある第一位置と、可動縁部の上面が支持表面に対して実質的に垂直である第二位置との間で動くことができる、リソグラフィ装置が提供される。
【００１６】
[0016]  一実施形態では、基板を支持するように構成された基板テーブルを含み、基板テーブルは主部および可動縁部を含縁部が第一位置にある場合、縁部は、第一位置にあるときに、主部の上面と実質的に同じ平面にある上面を有し、かつ、平面で、基板テーブルの外縁を呈し、可動縁部は、可動縁部が基板テーブルの外縁を形成しない第二位置へと基板テーブルの主部に対して相対的に移動可能である、リソグラフィ装置が提供される。
【００１７】
[0017]  次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
[0029]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射またはＤＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置ＰＭに接続された支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００１９】
[0030]  照明システムは、放射を誘導し、成形し、または制御するための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、またはその任意の組合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００２０】
[0031]  支持構造体は、パターニングデバイスを支持、つまりその重量を支えている。該マスク支持構造体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持構造体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持構造体は、例えばフレームまたはテーブルでよく、必要に応じて固定式または可動式でよい。支持構造体は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」または「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００２１】
[0032]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付けるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに付けられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定機能層に対応している。
【００２２】
[0033]  パターニングデバイスは透過型でも反射型でもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、Alternating位相シフトマスク、減衰型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００２３】
[0034]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、または液浸液の使用や真空の使用など他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システム、またはその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。
【００２４】
[0035]  ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）。
【００２５】
[0036]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機構においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つまたは複数の他のテーブルを露光に使用している間に１つまたは複数のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００２６】
[0037]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２７】
[0038]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面に所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２８】
[0039]  放射ビームＢは、支持構造体（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン化される。放射ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルＭＴの移動は、第一位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現できる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第二位置決め装置ＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールの助けにより実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（けがき線（scribe-lane）アラインメントマークと称される）。同様に、マスクＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２９】
[0040]  図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００３０】
[0041]  １．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向および／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００３１】
[0042]  ２．スキャンモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００３２】
[0043]  ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００３３】
[0044]  上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも利用できる。
【００３４】
[0045]  本発明は、図２から図５に示したような局所領域タイプの液体供給システムとともに使用するのに特に適している。適切な液体供給システムは他にもある。しかし、基板テーブルおよび／または基板および／または基板テーブルによって支持された他のオブジェクトの上面の局所領域にのみ液体を提供するタイプのものが、本発明に最も適している。一度に基板の上面の全体を液体で覆うタイプもこれに該当する。
【００３５】
[0046]  液浸リソグラフィで特に難問となるのは、投影システムＰＳの下で基板を交換することである。これを実行する１つの方法は、液体供給システムから液体を除去し、次に液体供給システムを再起動する前に、投影システムの下に新しい基板（および基板テーブルまたは新しい基板と以前の基板テーブル）を再配置することである。しかし、液体供給システムから全部の液体を除去する間に、投影システムの最終要素に乾燥汚れが現れることがある。
【００３６】
[0047]  この問題に取り組むために、基板交換中でも液体供給システムを液体で満たし続けることができるように、基板交換中に投影システムＰＳの下にダミー基板を配置することが提案されている。この方法では、ダミー基板が基板テーブルによって支持され、基板テーブルの基板が結像された後、ダミー基板が投影システムＰＳの下に位置付けられるように基板テーブルが移動し、次にダミー基板が何らかの方法で投影システムＰＳに取り付けられる。これで、基板テーブルを遠ざけ、新しい基板を装填するか、あるいは新しい基板を装填した異なる基板テーブルを投影システムＰＳの下の所定の位置へと移動することができる。次に、ダミー基板を基板テーブルへと下降させ、基板が投影システムＰＳの下に位置付けられるように基板テーブルを移動する。この方法では、基板の交換中に液体供給システムを空にする必要がない。しかし、このシステムは、基板交換を実行するために一定の時間を必要とする。
【００３７】
[0048]  本発明の実施形態は、現在使用中の基板テーブルの隣に第二基板テーブルを配置し、両方の基板テーブルの上面が実質的に同じ平面にあることを保証することによって基板交換を達成するシステムを使用する。このことで、液体供給システムが液体を漏らさずに所望のスペース内に効率的に維持できるようになる。基板テーブルの２つの上面が相互に十分近い場合は、基板テーブルの２つの上面間に存在するようなギャップを通してスペースから液体が漏れるようなことなく、２つの基板テーブルを投影システムＰＳの下で一緒に移動させることが可能である。２つの基板テーブルの上面間のギャップの間で漏れてしまった水があれば、それを採集できるように、基板テーブルの間に排水システムまたはドレーンを設けることができる。この基板交換方法は、上述した他の２つの方法より迅速なので、スループット向上が可能である。
【００３８】
[0049]  リソグラフィ装置では、制御システムの破損または電源遮断の場合、あらゆる損傷からシステムを保護することが望ましい。この理由から、基板テーブルを囲み、（例えば基板テーブルが別のオブジェクトと衝突したときに、全ての衝撃を受け止める表面を設けることによって）クラッシュ時に他のオブジェクト（例えば別の基板テーブル）が入れないようにすることによって基板テーブルを保護するようなサイズおよび形状で構成された保護ゾーンを提供する保護装置（例えばバンパ）を、基板テーブルＷＴに設ける。一例は、例えば図６、図７ａ、図８から図１０に示すようなバンパ１０であるが、図７ｂに示すような他の構成も等しく適用可能である。保護ゾーンは、保護装置またはシステムがバンパの形態である場合、基板テーブルのフットプリントとみなしてもよい（例えば保護ゾーンは、他のオブジェクトが排除される区域である）。
【００３９】
[0050]  本発明の実施形態は、液体供給システムを停止させることなく、ダミー基板を使用せずに、投影システムの下で２つの基板テーブルを同時に移動させることによって、投影システムＰＳの下で基板交換を実行できるように、バンパによって保護され、しかもバンパを越えて拡張できる基板テーブルを目的としている。これは全て、十分に機能するバンパの安全性を保ったままで達成される。
【００４０】
[0051]  本発明の実施形態が図６に図示されている。図６は、第一基板テーブルＷＴ１および第二基板テーブルＷＴ２を断面図で示す。基板テーブルＷＴ１、ＷＴ２は、投影システムＰＳの下で、１の基板テーブルＷＴ２を別の基板テーブルＷＴ１と交換する前に、一緒にされる。したがって、第一基板テーブルＷＴ１によって支持された基板の結像が終了てから、第二基板テーブルＷＴ２によって支持された新しい基板を投影システムの下へ運ぶことが望ましい。第一ステージは、第二基板テーブルＷＴ２を第一基板テーブルＷＴ１の横に運ぶためのものである。これは、第一基板テーブルと第二基板テーブルの両方、または基板テーブルの一方のみを移動させることを含む。各基板テーブルは、平面で（in plain）基板テーブルを囲むバンパ１０によって保護されており、基板テーブルが任意の他のオブジェクトの衝突した場合、最初の衝撃を受けるのがバンパ１０であることを保証するようなサイズおよび形状にされている。
【００４１】
[0052]  本発明の実施形態では、平面で、バンパ１０や基板テーブルの他のあらゆる部分を越えて延在する部材２０が提供されており、これが基板テーブルＷＴ１、ＷＴ２の上面を拡張して、基板テーブルの上面を十分に接近させることが可能となり、基板テーブルＷＴ１、ＷＴ２が投影システムＰＳの下で同時に一緒に移動するときに、液体供給システムをオフに切り換えずに、部材２０間に存在する基板テーブルＷＴ１、ＷＴ２の上面間のギャップ２５から液体が実質的に漏れないようにする。
【００４２】
[0053]  局所領域タイプの液体供給システムは一般的に、基板テーブルおよび／または基板および／または基板テーブルによって支持される他のオブジェクトの上面を利用して、液体が提供されるスペースの境界を提供する。例えば、図５の液体供給システムでは、基板（および基板テーブルまたは他のオブジェクト）とバリア部材１２の間にシール１６を設ける。したがって、スペース１１は、バリア部材１２の表面と基板Ｗの上面との間に定められ、ここに液体が含まれる。したがって、本発明の実施形態では、投影システムＰＬの下で１つの基板テーブルＷＴ１を別の基板テーブルＷＴ２と交換する間、スペース１１の境界の少なくとも一部が、部材２０の上面によって提供される。２つの部材２０間のギャップ２５が十分に小さく、基板ＷＴ１、ＷＴ２が十分迅速に移動すると、２つの部材２０間のギャップ２５から液体は実質的に漏れない。２つの部材２０間のギャップを十分小さくするために、部材２０は、以下で述べる使用位置では平面でバンパ１０を越えて延在し、したがって平面では図７ａに示すように部材２０が、個々の基板テーブルＷＴの全体的な外部輪郭の外縁を形成する。
【００４３】
[0054]  基板テーブルＷＴ１、ＷＴ２のクラッシュ時に安全を維持するために、バンパが衝突エネルギを吸収する機能を果たすことができるように、部材２０は、基板テーブルＷＴの衝撃（または衝撃の可能性）をもたらすクラッシュの状況の行程から退避することができるように能動的または受動的に移動可能であるよう設計される。部材２０はどのようにでも移動可能にすることができ、３つの例が与えられているが、本発明はこれらの例に制限されない。
【００４４】
[0055]  次に、図６の実施形態の部材２０について、さらに詳細に説明する。これらの特徴は他の実施形態にも等しく適用可能である。部材２０は、突起またはブリッジ部材または縁部と見なすことができる。図６の実施形態では、部材２０は基板テーブルＷＴの主部の上面の長手方向のエッジに沿ってヒンジ３０で結合される。図６では、基板テーブルＷＴ１の主部が基板を支持するような構成である。使用位置または第一位置では、部材２０は、その上面が基板テーブルＷＴの主部および／または基板テーブルによって支持された基板Ｗの上面と実質的に同じ平面にあるように突出する。この位置で、部材は基板テーブルの残りの部分より突出し、平面で基板テーブルＷＴ１の外部輪郭の縁部を定める。
【００４５】
[0056]  図６の点線で示す収納位置では、部材２０は、平面で基板テーブルＷＴの輪郭の外縁を形成しない。この位置では、基板テーブルＷＴが別のオブジェクトと衝突しても安全である。というのは、基板テーブルＷＴ１は、平面で基板テーブルＷＴ１の外縁を形成するバンパ１０によって保護されているからである。
【００４６】
[0057]  アクチュエータ（例えば能動的なもの）を設けて、部材２０を使用位置と収納位置の間で動かしてもよいが、必ずしもそうでなくてよい。アクチュエータを設ける場合は、検出器を使用して別のオブジェクトの近接性および衝突の可能性を感知する感知システムも設けることができる。感知システムが衝突の起きる可能性が高いと算出したら、部材２０は収納位置へ移動する（または収納位置を維持する）ことができる。使用中に、部材２０は通常、使用位置に維持されるが、必ずしもそうでなくてよい。アクチュエータには、電源断時に部材２０が自動的に収納位置へと移動するようにバイアスをかけることができる。あるいは、基板テーブルＷＴ１に電力を供給している間は部材２０を使用位置に保持するが、その供給が途切れたら、収納位置へと戻す構成を使用することができる。これは例えば、電磁弁を使用して構成することができる。この実施形態では、衝突状況の可能性を検出すると、電磁弁への電力を遮断するためにも、センサを設けることができる。制御装置の検出器は任意の形態をとることができ、例えば検出器は、超音波検出器、光学検出器であってよく、あるいは基板テーブルＷＴの位置検出器および／または制御装置に結合してもよい。アクチュエータは、電磁アクチュエータまたはばね式アクチュエータでよい。
【００４７】
[0058]  ステッカ５０が、部材２０の最内縁と基板テーブルＷＴの最外縁との間に設けられるものとして図示されている。このステッカ５０は片側が接着性で、比較的薄くなるように製造される。ステッカ５０は部材２０の内縁と基板テーブルＷＴ１の外縁との間のギャップ１５を橋渡しし、それによって基板の交換中にスペースからギャップ１５へと液体が漏れるのを防止する。ステッカは、ステッカに妨害されることなく所望に応じて部材２０を使用位置から収納位置へと移動できるように、接着される。ステッカを使用する場合は、部材２０が収納位置へと移動する毎に、ステッカを再度接着するか、新しいステッカを設けることが望ましい。部材２０には、ステッカに取って代わり、基板テーブルＷＴ１の上面に接着されないが、基板テーブルＷＴ１の上面の外縁と部材２０の上面の内縁との間のギャップ１５を橋渡しするという同様の機能を果たす、内側に延在する（つまり基板テーブル（の中心）に向かって延在する）突起を設けても良い。
【００４８】
[0059]  部材２０は、基板テーブルの片側の全長に沿って延在するように図示されている。これは必ずしもそうではなく、部材２０は基板テーブルの一部にしか延在するだけでも良く、例えば平面でスペース１１の幅だけでもよい。実際に、図６では基板テーブルの２つの対向する各側部に可動部材２０が図示されている。これは必ずしもそうではなく、各基板テーブルには、基板テーブルＷＴ１の１つまたは複数の縁部上に、１つまたは複数の可動部材２０を設けてよい。実際、１対の基板テーブルＷＴ１、ＷＴ２には、その間に１つの可動部材２０を設けるだけでよい。この場合は、可動部材２０が使用位置にてさらに延在し、基板テーブルＷＴの上面と第二基板テーブルＷＴ２の上面との間に自身でブリッジを形成することが望ましい。
【００４９】
[0060]  バンパ１０は、基板テーブルＷＴ１を完全に囲む物理的突起として説明されてきたが、異なる方法で形成してもよく、必ずしも基板テーブルＷＴの周囲に連続的に延在する必要がなく、不連続でもよいことは明白である。しかし、本発明の実施形態の原理は、このような変形でも同じままであり、バンパおよびバンパの縁という用語は、基板テーブルＷＴを保護するその形態がどうであろうと、衝撃吸収材として設けられた効果的な保護ゾーン（つまりバンパが基板テーブルに取り付けられていない他のオブジェクトを排除するのに有効である区域の外縁）という意味に解釈されたい。
【００５０】
[0061]  当業者に認識されるように、バンパ１０は他の形態をとってもよい。本出願でバンパ１０について述べる場合、その意味は、基板テーブルの全周に連続的に延在しないが、基板テーブルを保護する効果的なゾーンを形成するバンパの他の実施形態にも拡張される。例えば、バンパ１０は、中実で作成されるのではなく、間隔が狭く、それぞれが図７ａに示した境界１０の外縁へと延在する一連の外向きの薄い突起であってもよい。このような実施形態では、薄い突起によって提供される有効な保護は、図７ａに示すようなバンパ１０の外縁まで拡張する。このような実施形態は、本発明の実施形態の説明に含まれるものであり、保護されたゾーンの程度に対応する範囲の程度で、図７ａに示すバリア１０の周囲にも延在するように想定される。
【００５１】
[0062]  図７ｂは図７ａと同じであるが、バリア１０を有する代わりに、基板テーブルに図７ａに示した実施形態のバリア１０と同様のフットプリントを有する保護ゾーン１０’を提供する異なる保護システムを設けている。保護ゾーン１０’は、他のオブジェクト、特に別の基板テーブルＷＴがその保護ゾーン１０’に進入できないように配置構成される。
【００５２】
[0063]  図７ｂに示す実施形態では、基板テーブルＷＴはそれぞれ、別個のアクチュエータによってｘｙ平面で位置決めされる。基板テーブルＷＴは、ｙ方向に延在する部材７０に取り付けられる。基板テーブルＷＴは、部材７０を上下し、それによってｙ方向に自身を位置決めすることができる。部材７０は、部材７０をｘ方向に移動できる少なくとも１つのｘ位置決め装置８０に取り付けられる。両方の基板テーブルに、このような位置決め装置７０、８０を設ける。
【００５３】
[0064]  保護システムは、ｘ位置決め装置８０に取り付けられるが、そうでなくてもよく、保護システムは基板テーブル７０とｘ位置決め装置８０の両方の組合せに取り付けることができる。保護システムは一連のバンパまたはばね１００、１１０を含む。バンパまたはばねは、基板テーブルが相互の保護ゾーン１０’に入る前に、保護システム１００、１１０のバンパまたはばねが相互作用するか、基板テーブルが要素７０の端部にあるオブジェクトと衝突しそうになる前に、バリア１１０が基板テーブル自体と相互作用するような位置および／または寸法にされる。
【００５４】
[0065]  図６および図７に関連して説明したものと同じ原理が、部材２０に関して図７ｂに示した実施形態にも当てはまるが、バンパ１０が突出ゾーン１０’に差し替えられている。以下の実施形態は、図６および図７ａの実施形態と同様に、図７ｂの実施形態にも当てはまる。
【００５５】
[0066]  本発明の実施形態は、１つの基板テーブルのみに部材２０または保護システムを設ける状況にも、等しく当てはまることが認識される。
【００５６】
[0067]  部材２０は、各々の基板テーブルに対して移動可能である。図６の実施形態では、これは回転によるものであり、図８の実施形態では、これは平行移動によるものであり、図１０の実施形態では、回転および／または平行移動によるものであり、ここでは実際に部材を基板テーブルから完全に切り離すことができる。言い換えれば、図１０における実施例では、部材２０は犠牲的である。
【００５７】
[0068]  図８および図９は、以下で示すことを除いて図６の実施形態と同じである本発明の実施形態を示す。図８の実施形態では、使用位置では平面で基板テーブルの境界の外縁を形成するように拡張し、収納位置では、基板テーブルの残り部分の中へと完全もしくは場部分的に収納され、基板テーブルの外部境界の一部を形成せず、可動部材２０が平行移動可能である。
【００５８】
[0069]  図８の実施形態の可動部材の駆動は、図６の実施形態のそれと同じであるか、類似のものであって良い。ステッカ５０は、可動部材２０と基板テーブルＷＴの上面との間のギャップにも使用してもよい。さらに、以下は図８の実施形態に関して２つの基板テーブル間のギャップ２５に実際に漏れた液体を封じ込めることができる方法について説明する。これは、他の全ての実施形態にも同様に当てはまる。
【００５９】
[0070]  １つの方法は、使用位置で可動部材２０の一方または両方の最外縁に、ギャップ２５に実際に入り込んだ液体を全て吸い出す低圧源などの液体除去装置を提供することである。図示された代替実施形態は、可動部材２０の一方に取り付けられ、可動部材２０の下にあって、可動部材２０間のギャップ２５に実際に入り込んだ液体を全て捕捉するドレーン６０を提供するものである。ドレーン６０は、図示のようにアルファベット「Ｊ」の形態であってよく、２つの可動部材２０間のギャップ下に延在し、ギャップからの液体の滴を捕捉して、このような液体を封じ込めるおよび／または運び去る。ドレーン６０内の液体は全て、例えば低圧源などの従来の手段で除去することができる。ドレーン６０は、他のコンポーネントに取り付けてもよく、可動部材２０に取り付けなくてよい。例えば、ロングストロークアクチュエータまたは基板テーブルの一部に取り付けることができる。
【００６０】
[0071]  図９に示すように、可動部材は基板テーブルの一方の縁部の全長に沿って延在せず、２つの基板テーブルが一緒に移動している間、基板テーブルの相対位置は一定に維持する必要がない。図８の実施形態では、ハウジング７０は、収納位置へと移動する場合に可動部材が入るためのものであることが望ましい。２つの部材の間隔は約５００μｍから０μｍまたは約５００μｍから５μｍである。目標は約１００μｍであるが、接触してもよい。
【００６１】
[0072]  一実施形態では、部材２０の１つを実際に固定してよいが、この実施形態ではバンパ１０を越えては延在せず、平面で基板テーブルの輪郭の外縁の一部分を形成することは無い。
【００６２】
[0073]  図１０は、以下の説明を除いて図６の実施形態および／または図８の実施形態と同じである実施形態を示す。図１０の実施形態では、可動部材２０は犠牲的な可動部材である。この実施形態では、可動部材は弱部８０，例えば材料の薄い小片によって、または部材２０および／または基板テーブルの上面ほど強力でない材料によって基板テーブルＷＴに取り付けられる。あるいは、弱部は実際に物理的間隔でよく、可動部材は、可動部材または基板テーブルのオス突出部品が他方の可動部材および基板テーブルのメス受入体内に保持される圧入によって、基板テーブルＷＴに保持される。この圧入は、２つの部材を一緒に保持するが、小さい力で破壊することもできる。したがって、衝突時には、犠牲的な部材２０がバンパ１０の有効ゾーンを越えて突出し、バンパ１０の前に衝撃を受けることができるが、これは基板テーブルＷＴまたはそれに衝突するオブジェクトの大規模な損傷を招かない。というのは、部材２０が弱部８０にて小さい力で破壊するか、偏向し、したがって衝突エネルギの大部分がなおバンパ１０に吸収されるからである。弱部８０は例えば永久磁石または電気磁石を使用する磁石などの弱い継手、または弱い接着剤であってよく、部材を基板テーブルに取り付ける部材２０の厚さを薄くしてもよい。したがって、衝突時に、部材２０は薄い区域で破壊する。
【００６３】
[0074]  犠牲的可動部材の破壊後、これを保持し、損傷してはならない位置に落下するのを防止する保持器を設けることができる。保持器は、破壊した部分を安全な区域に導く（例えば投影システムから遠ざける）か、これを基板テーブルに取り付けたままにするように構成、配置することができる。保持器は、例えば機械的保持器、例えばばね、可撓性タイなどでよく、（可動部材が磁気を有する場合）破壊した後に可動部材を引きつける磁気を有していても良い。
【００６４】
[0075]  図１１は、上述した実施形態のいずれと組み合わせて用いても良い、異なるタイプの基板テーブルＷＴを示す。基板テーブルＷＴはロングストロークモジュール１５０およびショートストロークモジュール１７０を含む。ロングストロークモジュール１５０は粗動位置決めに使用され、ショートストロークモジュール１７０（ロングストロークモジュール１７０によって支持され、ロングストロークモジュール１５０に対して移動する）は微動位置決め用である。基板はショートストロークモジュール１７０上に保持される。図１１に示す実施形態では、可動部材２０はロングストロークモジュール１５０に取り付けられる。ロングストロークモジュール１５０上に、可動部材でもよい突起１６０を設け、基板の交換中にショートストロークモジュール１７０とロングストロークモジュール１５０間のギャップが狭くなることを保証する。ショートストロークモジュール１７０上に可動部材２０を設けるなど、他の配置構成も可能である。
【００６５】
[0076]  上述した収納可能な部材２０の使用に対する代替方法が幾つかある。例えば、収納可能な部材２０を必要とせずに、基板テーブルの上面を操作して相互に近づけることができるよう、バンパ自体を後退させることが可能である。あるいは、上面が相互に十分近づくように、２つの基板テーブルを操作することができる特定の位置を有するよう、バンパを配置構成することができる。１つの単純な実施形態は、スロットとキーの構成であり、それによって一方のバンパにスロットを設け、別のバンパにはスロットに嵌るキーを設ける。これによって、特定の相対位置で、一方のバンパのキーを別のバンパのスロットに挿入することが可能となり、基板テーブルＷＴの上面を相互に接近させることができる。スロットおよびキーの実施形態のさらに精巧なバージョンも可能であり、それは、例えば基板テーブルの上面を相互に十分近づけるために、２つの基板テーブルの複数の特定の平行移動または相対運動が必要であるように、迷路スロット（labyrinth slot）を通って進むピンを含むものである。例えば、スロットが２つの９０°の曲がりを有する路であり、したがって路は３つの部分から成っており、１つの部分は基板テーブルの大部分（bulk）に向かい、次の部分は基板テーブルの縁部に平行に延びており、次の部分は再び基板テーブルの大部分に向かって延びる。この方法を用いれば、基板テーブルの必要な相対運動が誤実行された結果、衝突してしまう可能性が単純なスロットおよびキーの機構より大幅に低下する。迷路タイプの解決手段では、一方または両方のバンパ１０をｚ方向（つまり光軸と同じ方向）に移動させる必要があるかもしれない。さらなる可能な解決手段は、バンパが基板テーブルの縁部に平行に延びるスロット／キーを含むように構成することである。つまり、基板テーブル間で直接衝突する相対運動が起きると、２つのバンパが相互作用して、基板テーブルの繊細な部分の衝突を防止する。しかし、一方のバリア部材のスロットに他方の基板テーブルのバンパのキー（突起）が侵入し、突起がスリットに滑り込んで、基板テーブルの２つの上面を一緒にするように、基板テーブルを操作することによって、基板テーブルの上面を相互に近づけることができる。このシステムは、スロット上にカバーを設けることによって、さらに改良することができる。当該カバーは、２つの基板テーブルが相互に低速で近づいた場合に、アクチュエータによってのみ外される。したがって、カバーのフェールセーフ位置は、高エネルギの衝突は全てバンパ間で生じる（例えば突起がカバーに衝突する）ように、カバーを閉位置にさせ得る。基板交換中には、突起をスロットに挿入できるように、カバーが開放されて良い。最後の実施可能な解決手段としては、バンパ１０を基板テーブルのベースに対して静止状態で維持する（図６参照）が、基板テーブルの上面が合うように、基板テーブルの上部分をバンパ１０および基板テーブルのベースに対して移動させることである。もっとも、上述した機構はいずれも、完全にフェールセーフではないという欠点を有するものである。
【００６６】
[0077]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」または「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」または「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツールおよび／またはインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００６７】
[0078]  本明細書で使用する「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００６８】
[0079]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折および反射光学部品を含む様々なタイプの光学部品の任意の１つまたは複数のその組合せを指す。
【００６９】
[0069]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはその内部にこのようなコンピュータプログラムを記録したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００７０】
[0081]  本発明は、液浸リソグラフィ装置、特に上述したタイプに適用することができるが、それに制限されない。
【００７１】
[0082]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】[0019]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0020]  本発明の実施形態によるリソグラフィ投影装置に使用される従来の液体供給システムを示す図である。
【図３】[0020]  本発明の実施形態によるリソグラフィ投影装置に使用される従来の液体供給システムを示す図である。
【図４】[0021]  本発明の実施形態によるリソグラフィ投影装置に使用される従来の液体供給システムを示す図である。
【図５】[0021]  本発明の実施形態による液体供給システムを示す断面図である。
【図６】[0022]  本発明の実施形態による２つの基板テーブルを示す断面図である。
【図７ａ】[0023]  図６の基板テーブルを示す平面図である。
【図７ｂ】[0024]  図７ａとは異なる保護システムを有する、本発明の実施形態による２つの基板テーブルを示す平面図である。
【図８】[0025]  本発明の実施形態による２つの基板テーブルの断面図である。
【図９】[0026]  図８の基板テーブルを示す平面図である。
【図１０】[0027]  本発明の実施形態による基板テーブルを示す断面図である。
【図１１】[0028]  全ての実施形態に使用できる基板テーブルの配置構成を示す断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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