(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に配置されている薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上を平坦化する樹脂層と、前記樹脂層の上に配置されている複数の有機発光素子と、前記樹脂層の上に形成されており前記複数の有機発光素子を絶縁する素子分離層と、を有し、
前記有機発光素子は、陽極と、発光層を含む有機化合物層と、陰極と、を有し、
前記有機化合物層は、前記陰極に接しており、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の少なくともいずれか１つを含む電子注入層を有し、
前記素子分離層は、前記基材面上に複数の開口部を有していて、前記複数の開口部に前記複数の有機発光素子が配置されることによって発光領域が形成されている、有機発光装置において、
前記電子注入層と同じ組成の吸湿層が、前記発光領域の周辺で前記素子分離層上に形成されていることを特徴とする有機発光装置。
【請求項２】
基材と、前記基材上に設けられている複数の有機発光素子と、前記基材上に配置されており、前記複数の有機発光素子間を絶縁する素子分離層と、を有し、
前記有機発光素子は、陽極と、発光層を含む有機化合物層と、陰極と、を有し、
前記有機化合物層は、前記陰極に接しており、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の少なくともいずれか１つを含む電子注入層を有し、
前記素子分離層は、前記基材面上に複数の開口部を有する、樹脂からなる層であり、前記複数の開口部に前記複数の有機発光素子が配置されることによって発光領域が形成されている、有機発光装置において、
前記電子注入層と同じ組成の吸湿層が、前記発光領域の周辺で前記素子分離層上に形成されていることを特徴とする有機発光装置。
【請求項３】
前記発光領域の周辺での前記素子分離層の幅は、隣り合う前記有機発光素子間での前記素子分離層の幅よりも広いことを特徴とする請求項１または請求項２のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項４】
前記発光領域の周辺でかつ前記基材と前記素子分離層との間に、前記有機発光素子の駆動を制御する駆動回路が配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項５】
前記電子注入層と前記吸湿層とは、連続して成膜された１つの層であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項６】
前記吸湿層は、前記発光領域の周囲４辺に形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項７】
前記吸湿層は、前記発光領域の周辺で前記素子分離層の幅の５０％以上を覆っていることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【請求項８】
前記吸湿層は、前記発光領域から前記発光領域の周辺に向かって前記素子分離層の４０μｍ以上を覆っていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の有機発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機発光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイとして、自発光型デバイスである有機発光素子（有機ＥＬ素子）が注目されている。有機発光素子は自発光型デバイスであることから、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、かつ、視認性や色再現範囲も広いことから、製品化に向けて複数の企業が研究開発を進めている。現在では、車載用コンポや携帯電話等のディスプレイの表示素子としてすでに実用化がなされている。
【０００３】
有機発光素子は、対向する陽極と陰極からなる一対の電極の間に有機発光層が狭持された有機発光層を基板（例えばガラスやフィルム）上に有する有機発光素子基板の外表面に、封止層が設けられた構造を有する。前記有機発光層の光を外部に取り出せる様にする為、光取り出し側の電極にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明電極が用いられ、外部駆動回路により電圧を印加することにより発光する。この有機発光素子が基板面状に複数配置されることによって発光領域を形成し、様々な画像を表示することができる。
【０００４】
ところで、有機発光素子は一般に水分に極めて弱いことが知られている。一例としては、有機発光素子に水分が浸入した場合、有機発光素子基板上にはダークスポットと称する非発光領域の発生や、非発光状態にまでは至らないものの発光特性が変化することにより発光輝度が低下するといった寿命の課題が生じている。
【０００５】
大気中の水分が有機発光素子中に浸入して発生する寿命低下を解決する為に、いくつかの方策が提案されている。有機ＥＬ基板の外表面に、平板ガラスをカチオン硬化型の紫外線硬化樹脂を用いて封止層を設ける提案がある。（特許文献１）また、有機ＥＬ素子の封止層としてバリア性積層体構造を用いる提案がある。（特許文献２）
【特許文献１】特許第３２８８２４２号公報
【特許文献２】特開２００２−１３４２７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般的に、有機発光装置に用いられる薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴとする）等によって生じる凹凸を平坦化させるために平坦化層が用いられ、平坦化層には平坦性に優れた高分子材料が使用される。また、複数の有機発光素子を絶縁し、仕切るために素子分離層が用いられ、素子分離層には高分子材料、あるいは無機絶縁材料が使用される。これらの層には、具体的には高分子材料としてはアクリル樹脂やポリイミド樹脂等、無機絶縁材料としては、窒化シリコン等が使用される。しかしながら、高分子材料は無機材料に比較して含水量が多く、平坦化層や素子分離層に水分が残留しやすい。その結果、平坦化層ならびに素子分離層の残留水分が有機発光素子の有機化合物層を劣化させる。また、素子分離層が無機絶縁材料からなる場合においても、平坦化層に含まれる水分が素子分離層に生じる亀裂を介して有機化合物層を劣化させることがある。
【０００７】
ところで、発光領域の周辺に配置される平坦化層や素子分離層は、有機化合物層の蒸着を行う際の面内方向の成膜誤差を許容するため、あるいは発光領域周辺に配置される回路上を保護するため、面内方向に幅を広くして形成されている。そのため、発光領域の周辺において幅の広い平坦化層や、素子分離層では、残留水分の量は増大し、発光領域の外周部では、発光領域の中央部よりも水分の影響を大きく受けることになる。その結果、発光領域外周部の有機発光素子においては、劣化が特に顕著になるのである。
【０００８】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、発光領域の外周部で特に顕著になる劣化が抑制された有機発光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基材と、前記基材上に配置されている薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上を平坦化する樹脂層と、前記樹脂層の上に配置されている複数の有機発光素子と、前記樹脂層の上に形成されており前記複数の有機発光素子を絶縁する素子分離層と、を有し、
前記有機発光素子は、陽極と、発光層を含む有機化合物層と、陰極と、を有し、
前記有機化合物層は、前記陰極に接しており、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の少なくともいずれか１つを含む電子注入層を有し、
前記素子分離層は、前記基材面上に複数の開口部を有していて、前記複数の開口部に前記複数の有機発光素子が配置されることによって発光領域が形成されている、有機発光装置において、
前記電子注入層と同じ組成の吸湿層が、前記発光領域の周辺で前記素子分離層上に形成されていることを特徴とする有機発光装置を提供する。
【００１０】
また、本発明は、基材と、前記基材上に設けられている複数の有機発光素子と、前記基材上に配置されており、前記複数の有機発光素子間を絶縁する素子分離層と、を有し、
前記有機発光素子は、陽極と、発光層を含む有機化合物層と、陰極と、を有し、
前記有機化合物層は、前記陰極に接しており、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の少なくともいずれか１つを含む電子注入層を有し、
前記素子分離層は、前記基材面上に複数の開口部を有する、樹脂からなる層であり、前記複数の開口部に前記複数の有機発光素子が配置されることによって発光領域が形成されている、有機発光装置において、
前記電子注入層と同じ組成の吸湿層が、前記発光領域の周辺で前記素子分離層上に形成されていることを特徴とする有機発光装置を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、発光領域の外周部において、素子分離層あるいは平坦化層による水分の影響を低減させ、発光領域の外周部で特に顕著になる劣化を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明にかかる有機発光装置は、基材と、基材上に配置されている複数の有機発光素子と、基材上に形成されており複数の有機発光素子を絶縁する素子分離層と、を有する。基材上に薄膜トランジスタを配置して、薄膜トランジスタによって有機発光素子の発光を制御する場合には、薄膜トランジスタ上を平坦化する樹脂層さらに有する。この場合樹脂層は、薄膜トランジスタと有機発光素子との間に形成される。有機発光素子は、陽極と、発光層を含む有機化合物層と、陰極と、を有する。有機化合物層は、陰極に接しており、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の少なくともいずれか１つを含む電子注入層を有する。素子分離層は、基材面上に複数の開口部を有していて、複数の開口部に複数の有機発光素子が配置されることによって発光領域が形成されている。そして、電子注入層と同じ組成の層（以下吸湿層とする）が、発光領域の周辺で素子分離層上に形成されている。
【００１３】
電子注入層はアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の少なくともいずれか１つを有する。これらの物質は電子注入性を高めるだけでなく、水分を吸収しやすい材料である。
【００１４】
そして、電子注入層と同じ組成の層である吸湿層が発光領域周辺の素子分離層の上に配置されることによって、吸湿層が素子分離層、あるいは樹脂層に含まれる水分を吸収し、有機発光素子にある有機化合物層等へのダメージを低減することができる。その結果、発光領域外周部での劣化を低減でき、より長時間に渡って高品質の発光を得ることができる。発光領域周辺とは、複数の有機発光素子を有する場合の有機発光素子間の領域を指すものではなく、複数の有機発光素子によって形成される発光領域よりも発光装置の端部に近い領域のことを指すものであり、額縁領域ともいう。発光はさせないが素子分離層に有する有機発光素子と同様の開口部、いわゆるダミー画素を有する場合には、ダミー画素は発光領域周辺にあるものとする。この場合、吸湿層は、ダミー画素と発光領域の最外周に配置される有機発光素子の間の領域、あるいはダミー画素よりも発光装置の端部に近い領域のいずれの領域に形成されていてもよい。
【００１５】
本発明において、吸湿層は電子注入層と離間した別の層であってもよいが、電子注入層とが連続して成膜された１つの層であってもよい。この場合には成膜工程が簡単になり、歩留まりを上げることができる。
【００１６】
吸湿層が電子注入層と連続して配置されていて１つの層を構成している場合には、吸湿層が吸収した水分が有機発光素子部にある電子注入層に悪影響を及ぼすとも考えられる。しかし、実際には水分が面内方向に伝播していく速さは遅いため、発光に大きな影響を与えることはないことが分かった。
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて詳細に説明する。
【００１８】
図１（ａ）は、本発明にかかる有機発光装置の端部の一例を表す断面模式図である。また図１（ｂ）は、本発明にかかる有機発光装置の平面模式図である。図１（ａ）は、図１（ｂ）に示すＡ−Ｂの断面である。図１において、１はガラス基板（基材）、２はＴＦＴ（スイッチング素子）、３は絶縁層、４は樹脂層（平坦化層）、５はアノード電極（陽極）、６は発光層、６’は電子注入層、７はカソード電極（陰極）、８は吸湿材、９は不活性ガス、１０は素子分離層、１１は封止ガラス、１２は接着剤、１３はカソード・グラウンドコンタクトを示す。またＩは発光領域、Ｏは発光領域周辺を示す。
【００１９】
図１に示した有機発光装置は、ガラス基板１の上にＴＦＴ２、絶縁層３、樹脂層４の順で積層形成されている。そして、樹脂層４の上部に、画素単位のアノード電極５が形成され、その各画素の周囲がポリイミド製の素子分離層１０によって覆われている。素子分離層１０の上に発光層６、及び電子注入層６’が順次形成されていて、その上部にはカソード電極７が形成されている。有機化合物層は必ずしも発光層６、及び電子注入層６’の２層でなくてもよく、他に正孔輸送層、電子輸送層があってもよい。アノード電極５とカソード電極７の間に電流を流すことによって、これらの間に配置される発光層６が発光する。発光する部分が有機ＥＬ発光部となる。発光領域周辺Ｏに配置される素子分離層１０は、有機化合物層の蒸着を行う際の面内方向の成膜誤差を許容するため、あるいは発光領域周辺に配置される駆動回路上を保護するため、素子間での素子分離層１０の幅よりも広くされている。カソード電極７の上は、発光領域部が凹構造にエッチングされた封止ガラス１１で覆われ、封止ガラス１１の周囲は接着剤１２で封止されている。封止ガラス１１の有機化合物層側の内面には、吸湿膜８が形成されていて、封止ガラス１１とカソード電極７との間は不活性ガス９によって充填されている。
【００２０】
図１において、吸湿層は電子注入層６’と連続して形成され１つの層を構成している。そして、その層が発光領域周辺Ｏの素子分離層１０の上に配置されている。より好ましくは、図１（ａ）のように発光領域周辺Ｏにおいて発光領域Ｉに隣接した領域に吸湿層を形成する。このようにすることによってより発光領域外周部での劣化を低減できる。
【００２１】
素子分離層１０に吸湿層が配置されていることによって素子分離層１０に含まれる水分が吸湿層に吸収されて、素子分離層１０による有機発光素子の有機化合物層への影響を低減することができる。また、樹脂層４に含まれる水分が素子分離層１０を介して吸湿層に吸収されることによって、樹脂層４による有機化合物層への影響を低減することもできる。
【００２２】
なお、図１（ｂ）では吸湿層が発光領域Ｉの周囲４辺に形成されているが、本発明では必ずしも周囲４辺に形成されていなくてもよい。ただし、吸湿層を周囲４辺に形成することによって、発光領域周辺Ｏの周囲４方向から発光領域Ｉへの水分侵入を防ぐことができるため、好ましい。
【００２３】
図１において、素子分離層１０と吸湿層との間には発光層６と同じ組成の層が配置されている。これは、発光層６を１画素分多く成膜したものである。アライメント精度の許容範囲を広げる場合に有効な方法である。この場合には、水分はその層にも侵入していくと考えられるが、有機化合物層へ影響を与えることはない考えられるため、本発明の効果を得ることができる。
【００２４】
図２は、本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。図２に示した有機発光装置は、素子分離層１０の上に１画素分多く配置されていた発光層６と同じ組成の層が配置されていない点が、図１の構成と異なる。また、封止ガラス１１が素子部が凹構造にエッチングされたガラスではなく、平板状のガラスであることが図１の構成とは異なる。それ以外は図１と同様の構成である。
【００２５】
本実施の形態において、吸湿層が素子分離層１０の上に接して設けられているため、より水分の吸収をスムーズに行うことができる。そのため、有機化合物層への影響もより少ない構成となる。
【００２６】
図３は、本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。図３に示した有機発光装置は、吸湿層が電子注入層６’と連続して形成され１つの層を構成している点においては図１及び図２と同様の構成であるが、素子分離層１０の上を全て覆わずに、部分的に覆っている点で図１及び図２の構成とは異なる。
【００２７】
本実施の形態において、吸湿層は図１あるいは図２の構成に比べて素子分離層１０あるいは樹脂層４に含まれる水分を吸収しにくい。しかし、有機ＥＬ発光部に与える影響を十分少なくできる場合には、本実施の形態のように素子分離層１０上のすべてを覆っていなくてもよい。具体的には素子分離層１０の５０％以上、あるいは発光領域Ｉから素子分離層１０の４０μｍ以上を吸湿層が覆っていることが好ましく、この数値範囲を満たすものであれば、本発明の効果を得ることができる。
【００２８】
図４は、本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。図４に示した有機発光装置は、発光領域周囲Ｏでかつガラス基板１と樹脂層４との間に有機発光素子の駆動を制御する駆動回路が配置されている。このようにすることによって樹脂層４および素子分離層１０は駆動回路を製造工程中の衝撃等から保護することができる。
【００２９】
本発明にかかる有機発光装置は上記の例によって説明されるものであるが、必ずしも上記の構成に限定されるものではない。例えば、上記の構成は全て下部電極がアノード電極、上部電極がカソード電極であるが、下部電極がカソード電極、上部電極がアノード電極であってもよい。この場合、下部電極であるカソード電極を形成した後に電子注入層の成膜を行う。電子注入層と吸湿層とが連続して成膜される場合には、吸湿層によって素子分離層の開口の側面が覆われるため、より確実に水分吸収を行うことができる。
【００３０】
また、本発明では、図５のように電子注入層と吸湿層とがそれぞれ離間して形成されていてもよい。成膜された電子注入層あるいは吸湿層の中を水分が面内方向へ伝播していく速度は遅いため、電子注入層と吸湿層とが連続して成膜されていても水分が伝播することによる影響は小さいが、より確実に水分の伝播を抑える必要がある場合には、好ましい方法である。
【００３１】
また、上記の例は樹脂層と素子分離層の両方を有し、いずれも有機化合物からなる構成について説明したが、本発明は、素子分離層が無機絶縁物からなる構成であってもよい。あるいは、素子分離層が有機化合物からなる場合には、樹脂層を有しない構成であってもよい。このような構成はストライプ状の電極の交差点で発光させるパッシブマトリクス型の発光装置の場合に考えられる構成である。このように少なくとも樹脂層と素子分離層のいずれか一方が有機化合物からなる場合であれば、発光領域外周部での水分による劣化が問題になるため、本発明はいずれの構成も発明の範囲に含むものである。
【００３２】
また、基材側から光を取り出すいわゆるトップエミッション構成、あるいは基材とは反対側から光を取り出すいわゆるボトムエミッション構成のいずれの構成であってもよい。
【００３３】
本発明に係る有機発光装置は、白色発光である場合には液晶表示装置のバックライトとして好ましく用いることができるし、ＲＧＢ等の複数色の発光部を複数有する場合には表示装置として好ましく用いることができる。
【００３４】
本発明に係る有機発光装置は、テレビ受像機、ＰＣのモニタ、携帯電話等の表示部に好ましく用いることができる。特に幅広い温度、湿度での使用が想定され、高い対環境性を必要とするモバイル機器の表示部に好ましく用いることができる。本発明の有機発光装置を表示部に有する表示装置は、より長時間にわたって高品質の表示が可能となる。
【００３５】
また、本発明に係る有機発光装置は、デジタルカメラ等の撮像装置に好ましく用いることもできる。本発明の有機発光装置を表示部に有する撮像装置は、より長時間にわたって高品質の表示が可能となる。
【実施例】
【００３６】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００３７】
（実施例１）
本実施例は図１に示す有機発光装置の実施例である。
【００３８】
以下、各部材の形成工程と、それらの工程を経て作成された装置の評価結果を示す。
【００３９】
［アノード電極以下の形成］
ガラス基板１上に、ＴＦＴ（スイッチング素子）２を作製し、さらに、ＴＦＴ（スイッチング素子）２を保護すべく絶縁層３を形成した。つづいて、前記ＴＦＴバックプレーン形成により生じた凹凸を平坦化すべく樹脂層４をＪＳＲ社製アクリル材料ＰＣ４１５Ｇを用い、スピンコート法にて成膜し、その後、ウエットプロセスを用いて周辺領域のみ除去した。
【００４０】
［アノード電極（陽極）の形成］
前記したＴＦＴバックプレーン内に形成された各ドレイン端子と電気的コンタクトを取るべく、絶縁層３および樹脂層４にコンタクトホールを形成後、Ｃｒ電極１００ｎｍの厚さに成膜した。その後、ウエットプロセスを用いてアノード電極（陽極）を形成した。
【００４１】
［素子分離層の形成］
続いて、アノード電極間（端）に素子分離層１０を形成すべく、ＪＳＲ社製アクリル材料ＰＣ４１５Ｇを用い、スピンコート法にて成膜し、その後、ウエットプロセスを用いて素子分離層１０を形成した。
【００４２】
［前処理］
まず、ＵＶ／オゾン洗浄をしたのち、１×１０−２Ｐａ  ５０℃で７時間、真空ベークを行った。
【００４３】
次に、基板を有機蒸着装置へ移して真空排気し、前処理室に設けたリング状電極に５０ＷのＲＦ電力を投入し酸素プラズマ洗浄処理を行った。酸素圧力は、０．６Ｐａで処理時間は４０秒であった。
【００４４】
［正孔輸送層の形成］
基板を前処理室より成膜室へ搬送し、成膜室の真空度が１×１０−４Ｐａまで排気した後、正孔輸送性を有するαＮＰＤを抵抗加熱蒸着法により成膜した。成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃで、膜厚３５ｎｍで正孔輸送層を形成した。なお、正孔輸送層はすべての画素にそれぞれ蒸着されるよう、格子状のメタルマスクを用いて蒸着した。
【００４５】
［発光層の形成］
続いて正孔輸送層の上にアルキレート錯体であるＡｌｑ３を抵抗加熱蒸着法により正孔輸送層と同様の成膜条件で膜厚１５ｎｍの厚さで形成した。前記した発光層を、正孔輸送層と同様にすべての画素に蒸着すべく格子状のメタルマスクを用いて蒸着した。
【００４６】
この際、図１の発光層６に示すように、発光領域Ｉの周辺部に配置された、樹脂層４または、素子分離層１０が形成される領域まで、表示領域と同様のピッチでメタルマスクの開口を設けて、蒸着した。
【００４７】
なお、各Ｒ・Ｇ・Ｂに塗り分ける際には、各Ｒ・Ｇ・Ｂの配列に対応したメタルマスクを用いてそれぞれの発光層を形成すればよい。
【００４８】
［電子注入層及び吸湿層の形成］
次に、発光層上に抵抗加熱共蒸着法によりＡｌｑ３と炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）を膜厚比９：１の割合で混合され、かつ、蒸着速度が０．３ｎｍ／ｓｅｃになるよう、夫々の蒸着速度を調整して、膜厚が３５ｎｍになるよう電子注入層を形成した。
【００４９】
本発明の電子注入層は、発光領域周囲Ｏに配置された素子分離層１０をすべて覆うようにメタルマスクの開口を設けて、蒸着した。
【００５０】
電子注入層を構成する材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属の化合物及びアルカリ土類金属の化合物からなる群から少なくとも一つを選ぶことが好ましい。具体的には、炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）インジウムＩｎ等が挙げられる。本発明の材料選定の理由は、電子注入能力が高いことならびに吸湿性が高いことである。本発明においては、発光領域周辺Ｏにおいて素子分離層１０上に本発明の電子注入層が配置されると、残留する水分を吸収することができ、発光領域の周辺部で特に顕著になる劣化を抑制することができる。
【００５１】
［カソード電極（陰極）の形成］
最後に陰極電極を形成するために電極形成用のスパッタ室に基板を搬送し、電子注入層の上にＩＴＯターゲットを用いてＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚が１３０ｎｍになるようメタルマスク成膜を用いて透明電極であるカソード電極を形成した。
【００５２】
成膜条件としては、基板加熱無しの室温成膜で、成膜圧力を１．０Ｐａ、Ａｒ、Ｈ２０及び、Ｏ２ガスを用いそれぞれの流量は５００、１．５、５．０ｓｃｃｍとし、ターゲットに印加する投入パワーはＩＴＯ：５００Ｗで成膜した。透過率は８５％（ａｔ．４５０ｎｍ）、比抵抗値は８×１０−４Ω・ｃｍであった。
【００５３】
上記したように、基板上にＴＦＴバックプレーンを形成した後、陽極、正孔輸送層、発光層、電子注入層、及び、陰極を設け、有機発光素子基板を作製した。
【００５４】
［封止工程］
本実施例では、以上の工程によって作成された有機発光素子基板の上に、封止層を設けた。封止層を設けることで、有機発光素子基板の外部であるたとえば空気中に含まれる水分が有機化合物層に浸入することを防ぐことができる。封止層としては、封止基板である平板ガラスや、接着領域のみを凸型にしたいわゆるエッチングガラスを用い、接着には、カチオン硬化型の紫外線硬化樹脂を用いて設けてもよいし、有機発光素子基板上に直接、無機膜を形成してもよい。封止層としての無機膜の材料としては、例えばＳｉＮ等の防湿性が高く、かつ、透過率の高い材料を用いることが好ましい。
【００５５】
本実施の形態においては、封止ガラス１１としてエッチングガラスを用い、Ｃａが主体のシート状のゲッター材を、吸湿部材８として用いた。なお、吸湿部材を用いる主な目的は、有機発光素子基板と封止基板の接着部から進入する水分を除去することが主な目的である。
【００５６】
まず、グローブボックス内において封止ガラス１１に、吸湿部材８を、発光領域Ｉにかからない位置に貼り付けた。
【００５７】
次に、有機発光素子基板の上に空気中の水分が浸入しないように、封止ガラス１１と有機発光素子基板とを貼り付け、有機発光素子基板の封止を行った。
【００５８】
ここで接着剤１２として、光カチオン重合系の液状樹脂（ＫＲ６９５／旭電化製）を用いた。
【００５９】
上記接着剤をディスペンサ用シリンジに注入し、注入後、封止基板をグローブボックスに搬送し、ディスペンスロボットを用いて封止基板の周辺部に幅０．５ｍｍ、厚み３５μｍ程度で塗布した。
【００６０】
次に前記封止基板と、前記、有機発光素子基板を封止すべく、有機発光素子基板をグローブボックスに搬送し、封止基板と有機発光素子基板を接着剤１２を介して封着した。なお、その際の紫外線照射強度は１００ｍＷ／ｃｍ２で光量は３，０００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【００６１】
以上に述べた封止工程は、グローブボックス内の水分濃度を１０ｐｐｍ以下に制御して行った。
【００６２】
［素子評価１］
長期信頼性を確認すべく、有機発光装置作製直後の発光状態を確認したのち、６０℃／９０％ＲＨの雰囲気条件で１０００時間の耐久試験を行った。発光領域周辺Ｏに配置された素子分離層に、吸湿層を設けたことにより、発光領域Ｉの最外周に配置された画素においても課題であった特性劣化は見られなかった。
【００６３】
また、従来の構成として、発光領域周辺Ｏに配置された素子分離層１０に、有機発光層や電子輸送層および電子注入層６’を設けない構成の有機発光素子基板も作製し、同一の条件において耐久試験を行った。すると、発光領域Ｉの最外周の画素から３画素目まで特性劣化が生じていることが確認できた。
【００６４】
（実施例２）
本実施例は図２に示す有機発光装置の実施例である。
【００６５】
以下、各部材の形成工程と、それらの工程を経て作成された装置の評価結果を示す。
【００６６】
本実施例においても、実施例１と同様に、ガラス基板１上に、ＴＦＴ（スイッチング素子）２を作製し、さらに、ＴＦＴ（スイッチング素子）２を保護すべく絶縁層３を形成した。
【００６７】
つづいて、前記ＴＦＴバックプレーン形成により生じた凹凸を平坦化すべく樹脂層４を形成した。
【００６８】
さらに、実施例１と同様の条件にて、アノード電極（陽極）形成を行った後、前処理を行い、引き続いて、正孔輸送層、まで形成した。
【００６９】
［発光層形成］
続いて正孔輸送層の上にアルキレート錯体であるＡｌｑ３を抵抗加熱蒸着法により正孔輸送層と同様の成膜条件で膜厚１５ｎｍの厚さで形成した。前記した発光層を、正孔輸送層と同様にすべての画素に蒸着すべく格子状のメタルマスクを用いて蒸着した。
【００７０】
なお、本実施例においては、発光層の形成領域は、従来の構成と同様に発光領域のみとした。
【００７１】
［電子注入層形成］
次に、発光層上に抵抗加熱共蒸着法によりＡｌｑ３と炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）を膜厚比９：１の割合で混合され、かつ、蒸着速度が０．３ｎｍ／ｓｅｃになるよう、夫々の蒸着速度を調整して、膜厚が３５ｎｍになるよう電子注入層を形成した。
【００７２】
この際、発光領域周辺Ｏに配置された、素子分離層１０をすべて覆うようにメタルマスクの開口を設けて、蒸着した。
【００７３】
なお、本実施例においても、カソード・グラウンドコンタクト１３より外側の領域にも樹脂層４が配されている。
【００７４】
電子注入層形成後は、実施例１と同様の手順において、カソード電極を設け、封止工程を行った。
【００７５】
［素子評価２］
本実施例の条件において試作した有機発光装置においても長期信頼性を確認すべく、有機発光素子基板作製直後の発光状態を確認したのち、６０℃／９０％ＲＨの雰囲気条件で１０００時間の耐久試験を行った。その結果、本実施例においても、発光領域Ｉの最外周に配置された画素においても課題であった輝度劣化、駆動電圧上昇等の特性劣化の発生は見られなかった。
【００７６】
なお、本実施例においては、いずれも電子注入層にＡｌｑ３と炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）の混合膜を用いたが、なんらこれに限ることはない。例えば、インジウムＩｎ等、その他のアルカリ金属酸化物・アルカリ土類金属酸化物等を用いてもよく、カソード電極の材料に応じた材料を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】（ａ）は本発明にかかる有機発光装置の端部の一例を表す断面模式図である。（ｂ）は本発明にかかる有機発光装置の平面模式図である。
【図２】本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。
【図３】本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。
【図４】本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。
【図５】本発明にかかる有機発光装置の端部の別の例を示す断面模式図である。
【符号の説明】
【００７８】
１  ガラス基板
２  ＴＦＴ（スイッチング素子）
３  絶縁膜
４  樹脂層（平坦化層）
５  不透明電極
６  発光層
７  透明電極
８  吸湿材
９  不活性ガス
１０  素子分離層
１１  封止ガラス
１２  接着材
１３  カソード・グラウンドコンタクト
【図１】
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【図２】
0004448148.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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