(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と感光性樹脂層からなり、該感光性樹脂層が、（ａ）カルボン酸を有するラジカル重合体３０〜７０重量％、（ｂ）少なくとも１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマー２０〜７０重量％、および（ｃ）光開始剤０．１〜２０重量％を含有する感光性樹脂積層体において、該感光性樹脂層の成分（ａ）のラジカル重合体の酸当量が２００〜５００、重量平均分子量が５万〜４０万であって、ラジカル重合体に含まれる単量体由来の構造単位がアクリル酸由来の構造単位とメタクリル酸由来の構造単位を同時に含み、かつ両者の合計に対するアクリル酸由来の構造単位の比率が１０〜７０重量％であり、そして成分（ｂ）の重合性モノマー総量に対して、１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマーの占める比率が２５〜５０重量％、２個以上の不飽和二重結合を有する重合性モノマーが７５〜５０重量％であり、かつ、成分（ｃ）の光開始剤としてイミダゾール２量体とｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンを含有してなることを特徴とするめっき法用感光性樹脂積層体。
【請求項２】
感光性樹脂層の成分（ｂ）の重合性モノマーの中で１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマーが、下記式（１）に示した化合物であることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂積層体。
【化１】
0004488601.tif 000012
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜１５のアルキル基またはハロゲン基を表す。Ａは下記式（２）および下記式（３）の共重合体単位を表し、これらの繰り返し単位の合計が２〜１５である。Ｂはフェニル基を表す。）
【化２】
0004488601.tif 000013
【化３】
0004488601.tif 000014
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は感光性樹脂積層体に関する。さらに詳しくはプリント配線板の製造に適した感光性樹脂積層体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、プリント配線板作製用のレジストとして支持体と感光性樹脂層からなる、いわゆるドライフィルムレジスト（以下ＤＦＲと略記する）が用いられている。このＤＦＲは、一般に支持体上に感光性樹脂組成物を積層し、多くの場合、さらに該組成物上に保護用のフィルムを積層することにより調製される。
【０００３】
ＤＦＲを用いてプリント配線板を作製するためには、まず保護フィルムを剥離した後、銅張り積層板等の永久回路作製用基板上に、ＤＦＲを積層する。次に必要により支持体を剥離し、配線パターンマスクフィルム等を通し露光を行う。露光後に支持体がある場合は支持体を剥離し、現像液により未露光部分の感光性樹脂層を溶解、もしくは分散除去し、基板上に硬化レジスト画像を形成せしめる。
【０００４】
現像後回路を形成させるプロセスとしては、大きく二つの方法に分かれる。第一の方法は、硬化レジストによって覆われていない銅面をエッチング除去した後レジストをさらに除去するものであり、エッチング法と呼ばれる。第二の方法は、同上の銅面に銅等のめっき処理を行った後、レジストの除去、さらに現れた銅面をエッチングするものであり、めっき法と呼ばれる。
【０００５】
上記二つの方法の中で、めっき法がエッチング法より微細な配線が作製することに適しているため近年多用され始めた。しかしながら、めっき法の場合、回路をめっきした後に硬化レジストを剥離する段階で、完全な剥離が達成できないことが多かった。硬化レジストは一般に剥離剤の作用で破砕された小片になり、基板上から除去されるが、配線が微細になるにつれて、剥離片の大きさが配線に比べて相対的に大きくなり剥離が困難になってきた。
さらに感光性樹脂層の解像性も従来のものでは満足できないことが多くなった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、めっき法による微細な配線を有するプリント配線板製造において、上記の従来技術の問題点を解決した、めっき後の硬化レジスト剥離性が十分であり、解像性が高い感光性樹脂積層体の提供を課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題解決のため検討した結果、ラジカル重合体に含まれるカルボン酸構造がアクリル酸由来の構造単位とメタクリル酸由来の構造単位を同時に含むラジカル重合体を用い、重合性モノマーに不飽和二重結合を１つ有するものを多く含み、かつイミダゾール２量体を光開始剤とする感光性樹脂組成物が十分な剥離性と解像度を与えることを発見し、本発明に至った。
【０００８】
すなわち、本発明は
１．支持体と感光性樹脂層からなり、該感光性樹脂層が、（ａ）カルボン酸を有するラジカル重合体３０〜７０重量％、（ｂ）少なくとも１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマー２０〜７０重量％、および（ｃ）光開始剤０．１〜２０重量％を含有する感光性樹脂積層体において、該感光性樹脂層の成分（ａ）のラジカル重合体の酸当量が２００〜５００、重量平均分子量が５万〜４０万であって、ラジカル重合体に含まれる単量体由来の構造単位がアクリル酸由来の構造単位とメタクリル酸由来の構造単位を同時に含み、かつ両者の合計に対するアクリル酸由来の構造単位の比率が１０〜７０重量％であり、そして成分（ｂ）の重合性モノマー総量に対して、１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマーの占める比率が２５〜５０重量％、２個以上の不飽和二重結合を有する重合性モノマーが７５〜５０重量％であり、かつ、成分（ｃ）の光開始剤としてイミダゾール２量体とｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンを含有してなることを特徴とするめっき法用感光性樹脂積層体、
２．感光性樹脂層の成分（ｂ）の重合性モノマーの中で１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマーが、下記式（１）に示した化合物であることを特徴とする上記１．記載の感光性樹脂積層体、
【化１】
0004488601.tif 000002
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜１５のアルキル基またはハロゲン基を表す。Ａは下記式（２）および下記式（３）の共重合体単位を表し、これらの繰り返し単位の合計が２〜１５である。Ｂはフェニル基を表す。）
【化２】
0004488601.tif 000003
【化３】
0004488601.tif 000004
を提供するものである。
【０００９】
本発明のラジカル重合体は、酸当量が２００〜５００である必要があり、好ましくは２００〜４００である。ここで酸当量とは、その中に１当量のカルボン酸を有するポリマーの重量をいう。酸当量の測定は、０．１Ｎ水酸化ナトリウムで電位差滴定法により行われる。酸当量が２００以下では、塗工溶媒またはモノマーとの相溶性が低下し、５００以上では剥離性の改善が得られない。
【００１０】
ラジカル重合体の重量平均分子量は、５万〜４０万である必要があり、より好ましくは１０万〜４０万である。分子量の測定はゲル  パーミエーション  クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により標準ポリスチレンの検量線を用いて行われる。４０万以上であると現像性が低下し、５万以下では感光性樹脂積層体に用いた場合に感光性樹脂層の厚みを均一に維持することが困難になる。
【００１１】
ラジカル重合体は、単量体としてアクリル酸とメタクリル酸を必ず含み、さらにアクリル酸とメタクリル酸の合計量に対するアクリル酸の比率が１０〜７０重量％である必要がある。アクリル酸比率が１０重量％未満であると、剥離片が大きくなり微細パターンの剥離で完全な剥離がなされない。７０重量％を越えると、現像液やめっき液に対する硬化レジストの耐薬品性が低下する。
【００１２】
上記二種の必須な単量体以外に、ラジカル重合体の酸当量を２００〜５００に調整させるためにカルボン酸を含まない下記の単量体から選ばれた１種またはそれ以上の単量体が必要となる。これら非酸性単量体は、感光性樹脂層の現像性、エッチング工程での耐性、硬化膜の可とう性等の種々の特性を保持するように選ばれる。
【００１３】
例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸アルキル類、（メタ）アクリル酸ベンジル、酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類、スチレンまたは重合可能なスチレン誘導体および（メタ）アクリロニトリル等がある。最も適しているのは、メタクリル酸メチルである。
【００１４】
ラジカル重合体は、１種または２種以上の混合も可能である。例えば、酸性単量体としてアクリル酸のみを用いたラジカル重合体とメタクリル酸のみを用いた別のラジカル重合体を混合することにより、結果的に請求項を満たすラジカル重合体になった場合も所望の特性が発現される。
【００１５】
ラジカル重合体は、感光性樹脂組成物中の総量として３０〜７０重量％の範囲であり、好ましくは４０〜６０重量％である。３０重量％より少ないと、耐コールドフロー性が低下する。７０重量％より多いと、感光性樹脂層が脆くなる。
【００１６】
ラジカル重合体は、単量体の混合物を、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール、エタノール等の溶剤で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を適量添加し、加熱撹拌することにより合成することが好ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成する場合もある。また、反応終了後さらに溶剤を加えて、所望の濃度に調製する場合もある。溶液重合以外にも、塊状重合、懸濁重合および乳化重合でも合成可能である。
【００１７】
重合性モノマーは、１分子中に１個以上の不飽和二重結合を有する化合物であるが、総量に対して不飽和二重結合を１個のみ有する重合性モノマーの占める比率が重要となる。比率が２５〜５０重量％でないと所望の特性が得られない。２５重量％未満であると剥離時間が著しく長くなり剥離が完全になされない。５０重量％を越えると解像性が低下する。
【００１８】
不飽和二重結合が１個のみの重合性モノマーの例としては、下記式（１）に示した化合物が解像度の点で最も好ましい。
【００１９】
【化４】
0004488601.tif 000005
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜１５のアルキル基またはハロゲン基を表す。Ａは下記式（２）および下記式（３）の共重合体単位を表し、これらの繰り返し単位の合計が２〜１５である。Ｂはフェニル基を表す。）
【００２０】
【化５】
0004488601.tif 000006
【００２１】
【化６】
0004488601.tif 000007
【００２２】
上記式（１）で示される重合性モノマーのＡは、プロピレンオキシド繰り返し単位（式（２））およびエチレンオキシド繰り返し単位（式（３））の共重合体であるが、両方の繰り返し単位の配列は、ランダムでもブロックでも構わない。上記式（１）で示される重合性モノマーは、アルキル置換、もしくは無置換のフェノールに、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドを付加した変性モノオールと、アクリル酸またはメタクリル酸とのエステル化反応により得ることができる。
【００２３】
不飽和二重結合が１個のみの重合性モノマーとして、式（１）以外の重合性モノマーを使用することができる。例としては、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、無水フタル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリレートとの半エステル化物とプロピレンオキシドとの反応物（日本触媒化学社製ＯＥ−Ａ２００）、４−ノルマルオクチルフェノキシペンタプロピレングリコールアクリレート等が挙げられる。
【００２４】
不飽和二重結合を２個以上有する重合性モノマーの具体例としては、１，４−テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
【００２５】
ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸のエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ジアリルフタレートAポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート）ポリプロピレングリコールがある。また、ヘキサメチレンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート等が挙げられる。
【００２６】
重合性モノマーは、感光性樹脂組成物中の総量として２０〜７０重量％の範囲であり、好ましくは４０〜６０重量％である。２０重量％より少ないと、感度が下がる。７０重量％より多いと、コールドフロー性が大きくなり保存時のＤＦＲ形態保持が困難になる。
【００２７】
光開始剤としては、イミダゾール２量体とｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが必要である。
イミダゾール２量体の２個のロフィン基を結合する共有結合は１，１’−、１，２’−、１，４’−、２，２’−、２，４’−または４，４’−位についているが、１，２’−化合物が好ましい。また、フェニル基が置換されていてもよく例えば２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ビス−（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体等が用いられる。
【００２８】
上記２種の光開始剤に加えて、別の光開始剤を加えることができる。具体例としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ベンジルジプロピルケタール、ベンジルジフェニルケタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインピロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾフェノン、９−フェニルアクリジン等のアクリジン類、α、α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メチルチオフェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルホスフォンオキシド、フェニルグリシン、さらに１−フェニル−１、２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム、２，３−ジオキソ−３−フェニルプロピオン酸エチル−２−（Ｏ−ベンゾイルカルボニル）−オキシム等のオキシムエステル類がある。
【００２９】
感光性樹脂の熱安定性、保存安定性を向上させるために、感光性樹脂層にラジカル重合禁止剤を含有させることは好ましいことである。例えば、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、塩化第一銅、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）等がある。
【００３０】
本発明の感光性樹脂層には染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。例えばフクシン、フタロシアニングリーン、オーラミン塩基、カルコキシドグリーンＳ、パラマジエンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアブルー、マラカイトグリーン、ベイシックブルー２０、ダイヤモンドグリーン等がある。
【００３１】
また、光照射により発色する発色系染料を含有してもスフェート、トリクロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（ｐ−クロロフェニル）エタン、ヘキサクロロエタン等がある。
【００３２】
さらに感光性樹脂層には、必要に応じて可塑剤等の添加剤を含有しても感光性樹脂積層体の支持層としては、活性光を透過する透明なものが望ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、塩化ビニリデン共重合体フィルム、ポリメタクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合体フィルム、ポリアミドフィルム、セルロース誘導体フィルム等が挙げられる。これらのフィルムは必要に応じ延伸されたものも使用可能である。
【００３３】
支持層と積層した感光性樹脂層の他、感光性樹脂層表面に必要に応じて保護層を積層する。この保護層の重要な特性は感光性樹脂層との密着力について、支持層よりも保護層の方が、充分小さく容易に剥離できることである。例えばポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等がある。
【００３４】
本発明の感光性樹脂積層体の基板への積層方法は、ホットロールラミネーターあるいは真空ラミネーターを用いることができる。
露光は、配線として残したい部分が透明な高透過性マスクを通し、超高圧水銀灯などの紫外線を用いて行われる。
【００３５】
現像は、アルカリ水溶液を用いて未露光部を現像除去する。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第１アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の第２アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第３アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第４級アンモニウム塩等のアルカリ類の水溶液等が使用できる。最も一般的には０．５〜３％の炭酸ナトリウム水溶液が用いられる。
【００３６】
これに電解金属めっきを行いレジストが無い部分に所望の厚みの金属を形成させる。金属としては、銅、ニッケル、クロム、金、はんだ等が挙げられる。特に銅めっきが多用される。
導体配線を形成後、硬化レジストを無機または有機アルカリ液により剥離除去する。一般に現像液に比べてアルカリ性が強く、液温度を高い条件で剥離する。
【００３７】
剥離液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第１アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の第２アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第３アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第４級アンモニウム塩等のアルカリ類の水溶液およびこれにメタノール、エタノール、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶剤を適量含んだ水溶液が使用できる。剥離方法としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波等の方式が可能である。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明する。
実施例中の諸特性は、次の方法により測定した。
（１）ラジカル重合体の分子量
日本分光製ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによりポリスチレン換算の重量平均分子量として求めた。
【００３９】
（２）剥離性評価
幅が８０ミクロン、長さが５ｃｍの露光部と幅が８０μｍ、長さ５ｃｍの未露光部が交互に１００本ずつ並んだマスクを、感光性樹脂積層体がラミネートされた銅張り積層板上に置き、オーク社製平行光露光機ＨＭＷ−８０１で６０ｍＪ／ｃｍ2露光した。支持体を剥がした後、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレーし、未露光部分の感光性樹脂層を現像除去し、１００本の並んでいるレジストパターンを形成させた。
【００４０】
この基板を３０℃の酸性クリーナー（アトテックジャパン製ＦＲＸ）に３分間浸漬することで脱脂を行った後、硫酸銅めっき液（メルテックス社製カパーグリーム１２５）中で２時間電解銅めっきした。電流密度は２Ａ／ｄｍ2になるように調整した。約４０μｍの高さのめっき銅ラインを１００本形成させた。
めっき後の基板を５０℃の３％水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬してレジストを剥離した。剥離後の基板を肉眼および光学顕微鏡で観察し、硬化レジストが残っていないか調べた。次のようなランクで判定した。
【００４１】
○………完全に剥離された。
△………１００本のめっきライン中２０本未満のライン間に剥離されない硬化レジストが残った。
×………１００本のめっきライン中２０本以上のライン間に剥離されない硬化レジストが残った。
【００４２】
（３）解像性評価
同幅の露光部と未露光部が交互に５本ずつ並んだマスクで、幅が５μｍ単位で増加するマスクを、感光性樹脂積層体がラミネートされた銅張り積層板上に置き、オーク社製平行光露光機ＨＭＷ−８０１で４０ｍＪ／ｃｍ2露光した。支持体を剥がした後、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレーし、未露光部分の感光性樹脂層を現像除去し、光学顕微鏡で解像性を調べた。次のようなランクで判定した。
【００４３】
◎………解像度が５０μｍ以下。
○………解像度が５０μｍを越え、７０μｍ以下。
△………解像度が７０μｍを越え、９０μｍ以下。
×………解像度が９０μｍを越える。
【００４４】
（合成例１）
かきまぜ器、還流冷却器、温度計を備えた２リットル容のセパラブルフラスコに、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）３００ｇを入れ、窒素気流下、８０℃でかきまぜながら単量体としてアクリル酸３０ｇ、メタクリル酸６０ｇ，メタクリル酸メチル１８０ｇ、アクリル酸ｎ−ブチル３０ｇ、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル１．２ｇの均一混合物を４時間かけて滴下した。８時間加熱・撹拌し、アゾビスイソブチロニトリル２ｇをＭＥＫ溶液として加え、さらに１２時間加熱・撹拌した。最後にＭＥＫ４００ｇを加えて、溶液濃度を３０％前後に調整し、目的のラジカル重合体（Ｐ−１）を得た。分子量は１３．５万であった。
【００４５】
（合成例２〜９）
合成例１と同様の方法で、表１、表２に示した単量体組成（単量体総量：３００ｇ）と重合開始剤（アゾビスイソブチロニトリル）の量で目的のラジカル重合体を合成した。
【００４６】
【表１】
0004488601.tif 000008
【００４７】
【表２】
0004488601.tif 000009
【００４８】
【実施例】
実施例１
合成例１で重合したラジカル重合体溶液Ｐ−１と、光重合性モノマー、光開始剤およびその他の成分を次に示す成分比で、１２時間かきまぜた。
Ｐ−１（固形分重量として）  ４８．１重量％
式（１）でＲ１が水素、Ｒ２がｐ−ノルマルオクチル、式（２）の繰り返し数が５、式（３）の繰り返し数が２のモノアクリレート（Ｍ−１）１２重量％
ビス（トリエチレングリコールメタクリレート）ポリプロピレングリコール（Ｍ−２）１８重量％
【００４９】
ヘキサメチレンジイソシアネートとオリゴプロピレングリコールモノメタクリレートとのウレタン反応物（Ｍ−３）１８重量％
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体（Ｉ−１）３．６重量％
ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（Ｉ−２）０．２４重量％
【００５０】
次にこの混合溶液を、厚さ２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）にバーコーターを用いて均一に塗布し、９０℃の乾燥機中で５分間乾燥して感光性樹脂層の厚さ４０μｍの積層体を得た。その後、感光性樹脂層のＰＥＴフィルムを積層していない側に２８μｍのポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム）を張り合わせて目的の感光性樹脂積層体を得た。
【００５１】
この感光性樹脂積層体のＰＥフィルムを剥がしながら、ジェットスクラブ整面（砥粒：サクランダムＲ＃２２０、砥粒濃度：２０％、スプレー圧：２ｋｇ／ｃｍ2）した銅張り積層板にホットロールラミネーター（旭化成工業製「ＡＬ−７０」）により１０５℃でラミネートした。
剥離性評価では完全に剥離され、ランクは○だった。解像性評価では、解像度が５０μｍであり、ランクは◎だった。
【００５２】
実施例２〜９、比較例１〜５
実施例１と同様の方法で、表３、表４に示した構成で感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を調製し、剥離性評価と解像度評価を行った。評価の結果も表３、表４に示す。
【００５３】
表３、表４中の感光性樹脂原料の略号の意味は下記のとおりである。
Ｍ−１：式（１）でＲ１が水素、Ｒ２がｐ−ノルマルオクチル、式（２）の繰り返し数が５、式（３）の繰り返し数が２のモノアクリレート
Ｍ−２：ビス（トリエチレングリコールメタクリレート）ポリプロピレングリコール
Ｍ−３：ヘキサメチレンジイソシアネートとオリゴプロピレングリコールモノメタクリレートとのウレタン反応物
Ｍ−４：トリメチロールプロパントリアクリレート
Ｍ−５：トリメチロールプロパンエチレンオキサイド３モル付加トリアクリレート
【００５４】
Ｍ−６：ノナエチレングリコールジアクリレート
Ｍ−７：ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジメタクリレート
Ｍ−８：式（１）でＲ１が水素、Ｒ２がｐ−ノルマルノニル、式（２）の繰り返し数が８、式（３）の繰り返し数が３のモノアクリレート
Ｍ−９：無水フタル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリレートとの半エステル化物とプロピレンオキシドとの反応物（日本触媒化学社製ＯＥ−Ａ２００）
【００５５】
Ｍ−１０：フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート
Ｉ−１：２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体
Ｉ−２：ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
Ｉ−３：ベンジルジメチルケタール
Ｉ−４：ベンゾフェノン
Ｉ−５：２，４−ジエチルチオキサントン
Ｉ−６：エチルｐ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾエート
【００５６】
【表３】
0004488601.tif 000010
【００５７】
【表４】
0004488601.tif 000011
【００５８】
【発明の効果】
本発明の感光性樹脂積層体を用いると、めっき工程によるプリント配線板の製造において、解像度が優れているため微細な配線を作ることができ、さらにめっき後の硬化レジストの剥離が完全になされるという効果が得られるので、プリント配線板の製造に極めて好適である。