(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流路、この流路の途中に弁座を有する弁箱と、上記弁座の穴を開放し、若しくは遮断する弁体と、この弁体を作動させる弁体作動部材と、上記弁体に一体に設けた筒体の背方には、前記弁体作動部材の外周部に設けられたシール用のベローズを設け、前記弁体作動部材とこの弁体作動部材に設けた前記弁体を上下動自在に駆動し得るアクチュエータを有する真空排気弁において、前記弁体作動部材の下端に筒状部を有するヒータベースを連結し、かつ前記弁体の背面側に前記ヒータベースの底板を連結すると共に、ヒータスリーブの筒状部外周面にヒータ線を絶縁材に埋設した面状ヒータを装着して内部加熱手段を構成し、この内部加熱手段のヒータスリーブ上端に設けたフランジ部を前記弁箱の頂部側で、かつ、ボンネットの底部側に固着して当該内部加熱手段を前記弁体の筒体と前記ヒータベースの筒状部との間に配置し、更に、弁箱の外周面には、絶縁材にヒータ線を埋設した面状ヒータを有する外部加熱手段で被覆し、開弁状態では、定位置にある前記ヒータスリーブ内に前記ヒータベースの筒状部が収納されるようにしたことを特徴とする真空排気弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、メタルＣＶＤ、シリコンナイトライドプロセス等のように、塩化アンモニウム、塩化アルミニウム等の副生成物を発生する半導体製造装置のプロセスチャンバーの排気系において使用するのに適する真空排気弁に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の真空排気弁は、エアシリンダにより弁棒および弁体を駆動し、弁体により弁箱における弁座の穴を開放し、若しくは遮断させ、弁体の駆動に際し、シール用のベローズを伸縮させるように構成されている。
【０００３】
ところで、排ガス温度が１３０℃以下になると、弁箱、弁座、弁体のシール材およびベローズに上記のような副生成物が発生して付着する。この副生成物が弁座、弁体のシール材等に付着すると、弁体を弁座にシール状態で当接させて流路を完全に遮断することができないため、ガスがリークする。また、上記副生成物がベローズに付着すると、ベローズの伸縮に際し、副生成物が脱落して流路中に混入し、また、副生成物が弁箱内面に付着すると、この副生成物が脱落して流路中に混入し、製造装置を汚損する。
【０００４】
このような副生成物の発生、付着を防止するため、上記従来例の真空排気弁においては、弁箱の外面を面状のシリコンゴムヒータにより被覆し、ベローズの内方で弁棒の外周にシースヒータをコイル状に巻き、シースヒータの端部を弁体の背面において、弁体を弁棒を連結するコネクタに対して接触させた構成が知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のようなシリコンゴムヒータやシースヒータを用いることにより、一応、弁箱、ベローズおよび弁体の接ガス面を１３０℃以上に加熱し、排ガスから副生成物が発生して付着するのを防止することができる。しかしながら、シースヒータを用いると、弁体作動部材および弁体の駆動に際し、シースヒータが伸縮するため、繰り返し使用すると、材料の疲労等により損傷するおそれがあり、信頼性に乏しい。また、シースヒータを用いた場合、ヒータ線を酸化マグネシウム等の絶縁材を介してステンレス製のシース管により被覆しているが、シース管の外径に制約があるため、絶縁距離が短く、破壊されるおそれがあるため、信頼性に乏しい。
【０００６】
本発明の目的は、上記のような従来の問題を解決しようとするものであって、接ガス面を効果的に加熱することができて排ガスから副生成物が発生して付着するのを防止することができ、したがって、流路を確実に遮断することができ、しかも、製造装置の汚損を防止することができ、また、加熱手段の損傷を防止することができ、したがって、耐久性の向上、信頼性の向上等を図ることができるようにした真空排気弁を提供するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、流路、この流路の途中に弁座を有する弁箱と、上記弁座の穴を開放し、若しくは遮断する弁体と、この弁体を作動させる弁体作動部材と、上記弁体に一体に設けた筒体の背方には、前記弁体作動部材の外周部に設けられたシール用のベローズを設け、前記弁体作動部材とこの弁体作動部材に設けた前記弁体を上下動自在に駆動し得るアクチュエータを有する真空排気弁において、前記弁体作動部材の下端に筒状部を有するヒータベースを連結し、かつ前記弁体の背面側に前記ヒータベースの底板を連結すると共に、ヒータスリーブの筒状部外周面にヒータ線を絶縁材に埋設した面状ヒータを装着して内部加熱手段を構成し、この内部加熱手段のヒータスリーブ上端に設けたフランジ部を前記弁箱の頂部側で、かつ、ボンネットの底部側に固着して当該内部加熱手段を前記弁体の筒体と前記ヒータベースの筒状部との間に配置し、更に、弁箱の外周面には、絶縁材にヒータ線を埋設した面状ヒータを有する外部加熱手段で被覆し、開弁状態では、定位置にある前記ヒータスリーブ内に前記ヒータベースの筒状部が収納されるようにした真空排気弁である。
【０００８】
そして、上記構成において、ヒータベースの端板を弁体の背面に接触状態で連結するとともに、弁体作動部材を上記端板に連結することができ、この場合、ヒータベースの端板と弁体作動部材とを断熱材を介在して連結することができる。
【０００９】
また、内部加熱手段の面状ヒータの絶縁材にゴムを用いることができ、また、外部加熱手段の面状ヒータの絶縁材にゴムを用い、この外部加熱手段の面状ヒータを保温カバーにより被覆することができる。面状ヒータの温度検出手段として熱電対を用いるのが好ましく、この場合、熱電対の測温接点部を絶縁材に埋設することができる。
【００１０】
また、アクチュエータが、弁体を正弦曲線運動させるクロススライダクランク機構と、このクロススライダクランク機構の駆動源とを備えることができる。
【００１１】
上記のように構成された本発明によれば、内部加熱手段と外部加熱手段とによりベローズ、弁体、弁箱等の接ガス面を効果的に加熱することができて排ガスから副生成物が発生して付着するのを防止することができ、また、加熱手段は面状ヒータが弁体作動部材、弁体の移動に伴って移動しないようにして配線の可動部分がなく、しかも、ヒータ線を絶縁材に埋設した面状ヒータを用いて絶縁材層を肉厚に形成することができるようにしているので、その損傷を防止することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１ないし図４は本発明の一実施形態に係る真空排気弁を示し、図１は流路を開放した状態の中央部縦断面図、図２は図１と同様の状態にあって、図１におけるII−II矢視断面図、図３は流路を遮断した状態であって、図１と同様の断面図、図４は図３と同様の状態であって、図２と同様の断面図、図５は同真空排気弁に用いる内部加熱手段の一部を示す縦断面図、図６は図５のVI−VI矢視断面図、図７は同内部加熱手段に用いる面状ヒータの展開図である。
【００１３】
図１ないし図４に示すように、弁箱１の頂部開放側の外周部にリング状の断熱材２を介してボンネット３の底板４のフランジ部５がボルト６により取付けられ、ボンネット３の頂部開放部にアクチュエータベース７がボルト８により取付けられている。弁箱１に一対の流路ポート９、１０が形成され、第１の流路ポート９は弁座１１の穴１２と連続して形成され、第１の流路ポート９、穴１２、弁室１３および第２の流路ポート１０と連通する流路１４が形成されている。
【００１４】
弁室１３内には弁体１５が設けられる。この弁体１５は、本実施形態においては、開閉部１６とニードル部１７とを備えている。開閉部１６は円盤状に形成され、前面側の外周縁部にシール部１８が設けられている。開閉部１６の背面側外周部には筒体１９が一体に設けられ、筒体１９の基端部にはフランジ部２０が一体に設けられている。開閉部１６の背面側には筒体１９の内側に凹入されたねじ穴２１が形成されている。ニードル部１７はシール部１８よりも小径で短い筒状に形成され、開閉部１６の前面側にシール部１８の内方においてボルト２２により周上複数箇所（例えば、１２０度ごとの均等割り位置の計３箇所）で固定され、ボルト２２の頭部はニードル部１７の前面から突出しないように埋設されている。シール部１８の内周とニードル部１７基部外周とに奥側から開放側に至るに従い、次第に幅狭となる環状溝２３が形成されている。この環状溝２３にフッ素ゴム等から成るシールリング（Ｏリング）２４がその外周頂部を突出させた状態で離脱防止されるように保持されている。ニードル部１７は基部寄り位置から先端に至るに従い、次第に縮小するテーパ状の流量調整面を有している。
【００１５】
ボンネット３の底板４の中央部に形成された穴２５とアクチュエータベース７の中央部に形成された穴２６にブッシュ２７とブッシュ２８を介して弁体作動部材である弁棒２９の中間部と上部が軸方向に移動可能に挿通されている。弁棒２９の先端にはヒータベース３０の底板３１が断熱材３２を介してボルト３３により固定され、底板３１のの外周に形成されたねじ３４と弁体１５のねじ穴２１とが螺合されて弁体１５と弁棒２９とがヒータベース３０を介して固定状態に接続されている。そして、弁棒２９と弁体１５とが一体的に軸方向に沿って前進（下降）されることにより、弁体１５のニードル部１７が弁座１１の穴１２に挿入されるとともに、開閉部１６のシールリング２４が弁座１１に穴１２の外周部において圧接されて穴１２、すなわち、流路１４が遮断状態で閉塞される。これとは逆に、弁棒２９と弁体１５とが一体的に軸方向に沿って後退（上昇）されることにより、弁体１５の開閉部１６のシールリング２４が弁座１１から離隔されるとともに、ニードル部１７が弁座１１の穴１２から離脱され、穴１２が開放されて流路１４が連通される。
【００１６】
断熱材２の下側の突出部３５と弁箱１の頂部側開放部との間に支持部材３６がシールリング３７を介して取付けられ、この支持部材３６と弁体１５側のフランジ部２０とにベローズ３８の両端部が溶接されてシールされ、ベローズ３８は弁棒２９、弁体１５の移動に伴って伸縮されるようになっている。ステム２９の中間部上にはスイベルストッパ３９の基部が固定され、スイベルストッパ３９の先端二股状部にはアクチュエータベース７に弁棒２９の軸方向と平行に取付けられたピラー３９が挿通され、これらスイベルストッパ３９とピラー４０とで弁棒２９、弁体１５等が回転阻止され、軸方向にのみ移動可能となっている。
【００１７】
弁棒２９および弁体１５はアクチュエータ４１により駆動される。本実施形態におけるアクチュエータ４１にはクロススライダクランク機構を採用しており、その一例について説明すると、アクチュエータベース７上にはモータベース４２、コラム４３の基部が固定され、モータベース４２、コラム４３の先端部間には支持板４４が固定されている。アクチュエータベース７と支持板４４との間には一対の案内軸４５が取付けられている。これらの案内軸４５にスライダ４６が摺動可能に支持され、スライダ４６の前側部に前方と側方が開放された凹所４７が形成され、スライダ４６の背部側中央部に軸方向に沿う長穴４８が形成されている。偏心カム４９は円板５０の外周にニードルベアリング５１が嵌合されている。この偏心カム４９はスライダ４６の凹所４７に収められ、偏心回転されるようになっている。そして、偏心カム４９の偏心往復回転によりスライダ４６が軸方向に前進（下降）、若しくは後退（上昇）するように移動されるようになっている。
【００１８】
本実施形態においてはスライダ４６と弁体作動部材との間に定圧機構が組み込まれている。弁棒２９の基端に凹入穴５２が形成され、凹入穴５２に接続筒５３の下部が螺着されている。接続筒５３はスライダ４６の軸部５４に摺動可能に嵌合されている。スライダ４６の底面と接続筒５３の頂面との間には軸部５４の外周において弁座締切り用の皿ばね５５が複数枚介在され、この皿ばね５５の反撥力により接続筒５３、弁棒２９、弁体１５が前進方向に付勢されるようになっている。軸部５４の底部には弁棒２９の凹入穴５２内で接続筒５３の端面に対向するように、ストッパ５６がボルト５７により取付けられ、このストッパ５６により接続筒５３がスライダ４６の軸部５４から離脱防止されている。そして、上記のように偏心カム４９の偏心往復回転によりスライダ４６が軸方向に前進され、若しくは後退されることにより、皿ばね５５を介して接続筒５３、弁棒２９および弁体１５が前進され、若しくは後退され、上記のように弁座１１の穴１２が遮断され、若しくは開放されるようになっている。そして、皿ばね６５の反撥力により弁体１５が弁座１１に対して加圧され、弁座１１の穴１２を確実に遮断することができるようになっている。また、この弁体１５による弁座１１の穴１２の遮断状態では偏心カム４９が下死点となるように設定されている（図３、図４参照）。
【００１９】
モータベース４２の前面にはステッピングモータ５８が取付けられ、ステッピングモータ５８の出力軸５９が偏心カム４９に一体的に回転し得るように挿通されている。したがって、ステッピングモータ５８の出力軸５９がいずれかの方向に回転されることにより、上記のように偏心カム４９が回転されるようになっている。コラム４３にベアリング６０を介してシャフト６１が回転可能に支持され、シャフト６１の前側が上記出力軸５９に連結されている。コラム４３に取付けられたフォトセンサ６２とシャフト６１の後側部上に取付けられたセンサドッグ６３とにより偏心カム４９の回転角度、すなわち、弁体１５による弁座１１の穴１２の遮断と開放を検出するようになっている。コラム４３にはポテンショメータ６４が取付けられている。シャフト６１とポテンショメータ６４の回転軸とは回転伝達機構６５により連係されている。
【００２０】
そして、上記のようにステッピングモータ５８の駆動により偏心カム４９が回転される際にシャフト６１が回転され、回転伝達機構６５を介してポテンショメータ６４の回転軸が回転されることにより、偏心カム４９の回転角度、すなわち、弁体１５による弁座１１の穴１２の遮断状態が検出され、ステッピングモータ５８の駆動にフィードバックされるようになっている。上記構成のアクチュエータ４１はステッピングモータ５８の一部が突出する状態でコネクタベース６６、カバー６７により覆われている。
【００２１】
弁棒２９の先端側の外方で、ベローズ３８の内方に内部加熱手段６８が設けられる。本実施形態においては、弁箱１内で断熱材２の下面にヒータスリーブ６９のフランジ部７０がねじ７１により固定され、ヒータスリーブ６９の内側にヒータベース３０における底板３１の背方の筒状部７２がヒータスリーブ６９の内周面とに隙間を有するようにヒータスリーブ６９に対して伸縮可能に嵌合されている。ヒータスリーブ６９と筒状部７２とは、弁棒２９、弁体１５等を後退させた開弁状態では筒状部７２がヒータスリーブ６９内に収められ、弁棒２９、弁体１５等を前進させた閉弁状態でも筒状部７２の端部側がヒータスリーブ６９内に収められた状態となるように設定されている。ヒータスリーブ６９における筒状部の外周面には面状ヒータ（シリコンゴムヒータ）７３が設けられる。
【００２２】
この面状ヒータ７３は、特に、図５ないし図７から明らかなように、面状で可撓性を有するように形成されたシリコンゴムから成る絶縁材７４の内側にヒータ線７５がジグザグ状等の所望のパターンでほぼ全体に均一に埋設され（図５、図６においては図示省略）、ヒータ電線７６に接続具７７を介して接続され、若しくは溶接により接続されている。この接続部はシリコンゴムから成る絶縁材７８により補強されている。この面状ヒータ７３はヒータスリーブ６９の筒状部外周面に接着等により装着されている。ヒータ電線７６の途中には保護回路としての温度ヒューズ（図示省略）が挿入され、ヒータ電線７６がヒータスリーブ６９のフランジ部７０に形成された穴７９、断熱材２に半径方向に形成された溝８０を通って外部に導かれ、電源（図示省略）に接続されている。面状ヒータ７３の温度検出手段として、テフロン、ガラスウール等により被覆された熱電対８６が用いられ、この被覆熱電対８６の測温接点部８７が絶縁材７４内における中央部等、所望箇所に埋設されている。被覆熱電対８６は上記穴７９、溝８０を通って外部に導かれ、温度コントローラおよび電源（共に図示省略）に接続されている。
【００２３】
弁箱１におけるほぼ全体の外面を被覆するように外部加熱手段８１が設けられる。この外部加熱手段８１には上記内部加熱手段６８に用いた面状ヒータ７３と同様の構成の面状ヒータ（シリコンゴムヒータ）８２が用いられ、この面状ヒータ８２は弁箱１の外面に接着等により装着され、その外側がシリコンスポンジ等から成る保温カバー８３により被覆されている。面状ヒータ８２のヒータ線に接続されたヒータ電線８４が電源（図示省略）に接続され、ヒータ電線８４の途中には弁箱１外に設けられた保護回路としてのサーモスタット８５が挿入されている。
【００２４】
そして、電源から各面状ヒータ７３、８２のヒータ電線７６、８４を介してヒータ線７５に通電することにより発熱させることができる。このときの発熱温度に対応した熱電対８６からの信号に基づき温度コントローラにより電源を制御することにより、各面状ヒータ７３、８２の発熱温度を制御することができる。また、ヒータ線７５による発熱温度が高くなり過ぎないように温度ヒューズとサーモスタット８５により保護することができる。
【００２５】
以上の構成において、以下、その動作について説明する。
今、図１および図２に示すように、偏心カム４９の偏心回転によりスライダ４６、接続筒５３、弁棒２９、ヒータベース３０および弁体１５等が軸方向に沿って後退（上昇）され、弁体１５の開閉部１６におけるシールリング２４が弁座１１から離隔されるとともに、ニードル部１７が弁座１１の穴１２から離脱され、流路１４が開放されてガスが流れているものとする。
【００２６】
この状態で、上記のようにステッピングモータ５８を駆動してその出力軸５９を回転させ、偏心カム４９を時計方向に約１４０度の角度で偏心回転させることにより、図３および図４に示すように、スライダ４６、接続筒５３、弁棒２９、ヒータベース３０および弁体１５等を軸方向に沿って前進（下降）させるとともに、ベローズ３８を伸長させる。これに伴い、弁体１５のニードル部１７の先端側の流量調整面を弁座１１の穴１２に徐々に挿入してガスの流量を順次制御することができる。更に、スライダ４６、弁棒２９、ヒータベース３０、弁体１５等を前進させることにより、皿ばね５５の加圧力によりニードル部１７の流量調整面の基部まで弁座１１の穴１２にこれを閉じるように挿入するとともに、開閉部１６のシールリング２４を弁座１１に穴１２の外周部において圧縮状態で押圧させ、穴１２、すなわち、流路１４を遮断し、ガスの流れを遮断することができる。このとき、上記のように本実施形態においては、弁体１５のシールリング２４を弁座１１に押圧するようにしているので、皿ばね５５を有する定圧機構を用いなくても弁座１１を確実に締め切ることができるが、上記定圧機構を用いることにより、シールリング２４の圧縮量を容易に設定することができ、しかも、仮にシールリング２４が変形しても弁推力を保持して弁座１１を確実に締め切ることができる。
【００２７】
また、ステッピングモータ５８を駆動してその出力軸５９を逆回転させ、偏心カム４９を逆方向に約１４０度の角度で偏心回転させることにより、図１および図２に示すように、スライダ４６、接続筒５３、弁棒２９、ヒータベース３０および弁体１５等を軸方向に沿って後退させるとともに、ベローズ３８を圧縮させる。これに伴い、弁体１５の開閉部１６におけるシールリング２４を弁座１１から離隔させ、ニードル部１７の流量調整面を弁座１１の穴１２内で徐々に後退させてガスの流量を順序制御することができる。更に、スライダ４６、弁棒２９、ヒータベース３０、弁体１５等を後退させることにより、ニードル部１７を弁座１１の穴１２から離脱させ、穴１２、すなわち、流路１４を開放することができる。
【００２８】
上記のように弁体１５による弁座１１の穴１２の開閉についてはステッピングモータ５８の出力軸５９と連結されたシャフト６１の回転角度をセンサドッグ６３とフォトセンサ６２とで検出するとともに、回転伝達機構６５を介してポテンショメータ６４で検出してステッピングモータ５８をフィードバック制御することができるので、弁体１５の開度設定を確実に行うことができる。
【００２９】
そして、内部加熱手段６８において、面状ヒータ７３によりヒータスリーブ６９が加熱される。このとき、上記のようにヒータスリーブ６９とヒータベース３０の筒状部７２とは、開弁状態では筒状部７２のほぼ全体がヒータスリーブ６９内に収められ、閉弁状態でも筒状部７２の端部側がヒータスリーブ６９内に収められるように設定されているので、ヒータスリーブ６９の加熱に伴い、ヒータベース３０筒状部７２、底板３１が輻射熱で加熱され、底板３１に接触されている。弁体１５が加熱される。特に、開弁状態では上記のようにヒータベース３０の筒状部７２のほぼ全体がヒータスリーブ６９内に挿入されるので、弁体１５の昇温特性に優れる。また、面状ヒータ７３によりベローズ３８も内方から加熱される。また、外部加熱手段８１の面状ヒータ８２により弁箱１のほぼ全体を加熱することができる。
【００３０】
ここで、各面状ヒータ７３、８２の温度検出手段として、サーモスタットを用いると、ＯＮ、ＯＦＦ時の応答温度差が大きく、制御性に劣り、しかも、オーバーシュートのおそれがあるため、制御温度を高温に設定することができず、１５０℃程度が加熱温度の限界となり、使用対象に制約を受ける。しかしながら、本実施形態のように、上記各面状ヒータ７３、８２の温度制御手段として熱電対８６を用いることにより制御性に優れ、この熱電対８６からの信号に基づく温度コントローラによる電源の制御により各面状ヒータ７３、８２による加熱温度を約約１００℃〜約２００℃の間で安定制御することができる。したがって、排ガス中に含まれる副生成物が発生して弁箱１、弁体１５およびベローズ３８の接ガス面に付着するのを防止することができ、弁体１５およびベローズ３８等を円滑に、かつ確実に作動させることができ、また、パーティクルが流路１４に混入するのを抑制することができてメンテナンス費を低減することができる。また、上記のように各面状ヒータ７３、８２による加熱温度領域を拡げることができるので、適用できる排ガスの種類を拡げることができて使用対象を拡げることができる。また、外部加熱手段８１の面状ヒータ８２は勿論のこと、内部加熱手段６８の面状ヒータ７３も弁棒２９、弁体１５等の移動に際して定位置にあるので、電線等に歪力が加わるおそれはなく、しかも、面状ヒータ７３、８２は絶縁材７４にヒータ線７５を埋設しているので、絶縁材７４を絶縁のために十分な厚みに設定することができて破壊を防止することができ、したがって、耐久性、信頼性を向上させることができる。
【００３１】
上記のように弁体１５のアクチュエータ４１として偏心カム４９、スライダ４６等から成り、弁体１５を正弦曲線運動させるクロススライダクランク機構を用いることにより、弁体１５の制御においてはイコールパーセント特性になり、中間部では弁体１５を高速で作動させることができ、流量のミニマム領域では弁体１５を正弦曲線の頂点付近で作動させて分解能を高めることができ、バイパスバルブ機構と同じソフト排気を行うできる。そして、弁体１５がニードル部１７を有することにより、更に一層、分解能を高めることができる。しかも、弁体１５を弁座１１に対してソフトランディングさせることができるので、振動やパーティクルの発生を少なく抑制することができる。また、上記のように弁体１５がニードル部１６と開閉部１６とを備え、１台で流量制御と遮断機能とを有するので、レンジアビリティが大きく、コントロールレンジが広くなるので、半導体製造装置の排気系におけるプロセス圧力とクリーニング圧力の制御のように広範囲な圧力制御を行うことができる。更に、偏心カム４９の下死点で弁体１５を弁座１１に押圧して弁座締め付け反力が偏心カム４９の回転に変換され難くなるように構成している。したがって、停電時において電磁ブレーキがなくても弁座締切り推力を保持することができてガスのリークを防止することができるので、信頼性を向上させることができ、しかも、駆動用の電気回路をバタフライバルブの駆動部と同一にすることができるので、コントロールも同様の回路機構で共通化することができる。
【００３２】
なお、弁体１５の形状は上記実施形態に限定されるものではない。また、アクチュエータ４１もクロススライダクランク機構に限定されるものではなく、エアシリンダにより弁棒２９、弁体１５を駆動し、若しくはモータによりねじを介して弁棒２９、弁体１５を駆動するなど、種々の構成を採用することができる。更に、アクチュエータ４１と弁棒２９等の弁体作動部材とを切り離し可能に連係し、電源異常による電源供給停止時に弁体作動部材および弁体１５をアクチュエータ４１から瞬時に切り離して駆動し、弁体１５により弁座１１の穴１２を遮断させる緊急遮断機構を備えたタイプの真空排気弁にも適用することができる。また、内部加熱手段６８、外部加熱手段８１の面状ヒータ７３、８２も上記実施例に限定されるものではなく、特に、外部加熱手段８１の面状ヒータ８２はガラスウールから成る絶縁材にヒータ線を埋設するようにしてもよく、この場合、可撓性に乏しいので、あらかじめ、弁箱１の形状に沿う形状に形成すればよく、また、肉厚であるので、シリコンゴムヒータの場合のように保温カバーで被覆する必要はなくなる。また、シールリング２４は弁座１１側に設けることができる。また、弁体１５側、弁座１１側のいずれにもシールリングを用いなくてもよく、この場合には特に、ばねを有する定圧機構を用いることにより、弁推力を保持して弁座１１を確実に締め切ることができる。このほか、本発明は、その基本的技術思想を逸脱しない範囲で種々設計変更することができる。
【００３３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、内部加熱手段と外部加熱手段とによりベローズ、弁体、弁箱等の接ガス面を効果的に加熱することができて排ガスから副生成物が発生して付着するのを防止することができ、したがって、流路を確実に遮断することができ、しかも、製造装置の汚損を防止してメンテナンス費を低減することができる。また、加熱手段は面状ヒータが弁体作動部材、弁体の移動に伴って移動しないようにして配線の可動部分がなく、しかも、ヒータ線を絶縁材に埋設した面状ヒータを用いて絶縁材層を肉厚に形成することができるようにしているので、その損傷を防止することができ、したがって、耐久性の向上、信頼性の向上等を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る真空排気弁を示し、流路を開放した状態の中央部縦断面図である。
【図２】同真空排気弁を示し、図１と同様の状態であって、図１におけるII−II矢視断面図である。
【図３】同真空排気弁を示し、流路を遮断した状態であって、図１と同様の断面図である。
【図４】同真空排気弁を示し、図３と同様の状態であって、図２と同様の断面図である。
【図５】同真空排気弁に用いる内部加熱手段の一部を示す縦断断面図である。
【図６】同内部加熱手段の一部を示し、図５のVI−VI矢視断面図である。
【図７】同内部加熱手段に用いる面状ヒータの展開図である。
【符号の説明】
１  弁箱
３  ボンネット
１１  弁座
１２  穴
１４  流路
１５  弁体
１６  開閉部
１７  ニードル部
２９  弁棒
３０  ヒータベース
４１  アクチュエータ
４６  スライダ
４９  偏心カム
５８  ステッピングモータ
６４  ポテンショメータ
６８  内部加熱手段
６９  ヒータスリーブ
７３  面状ヒータ
７４  絶縁材
７５  ヒータ線
７６  ヒータ電線
８１  外部加熱手段
８２  面状ヒータ
８３  保温カバー
８４  ヒータ電線
８６  熱電対
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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