(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造工程から排出され、処理対象物質としてのスルホキシド類有機硫黄化合物を含有する廃水の元となる原液の段階で、一定の割合で導電性を有する処理対象物質のトレース成分を添加し、該原液を使用した後の廃水を処理するに際し、廃水の導電率を測定して廃水中の前記トレース成分の濃度を測定することにより廃水中の処理対象物質の濃度を検出し、該処理対象物質の濃度に基づいて、廃水中に含有されている処理対象物質の酸化処理の条件を処理前に決めることを特徴とする廃水処理方法。
【請求項２】
酸化処理が、被処理水としての廃水にオゾンを添加することにより行われる、請求項１の廃水処理方法。
【請求項３】
酸化処理の対象となる物質毎に被処理水のｐＨを調整し、オゾンを添加することにより被処理水中の物質を酸化処理する、請求項２の廃水処理方法。
【請求項４】
酸化処理の前段で、被処理水中に含有されている低沸点化合物をその沸点以上に加熱することにより予め除去する、請求項２または３の廃水処理方法。
【請求項５】
オゾンの溶解を促進するために被処理水の脱気を行う、請求項２ないし４のいずれかに記載の廃水処理方法。
【請求項６】
廃水に過酸化水素を添加するとともに紫外線を照射することにより廃水中の処理対象物質を酸化処理する、請求項１の廃水処理方法。
【請求項７】
酸化処理工程で廃水中の物質を生物処理が容易になるまで酸化処理した後、処理水中の生成物質をさらに生物処理により分解し、処理することを特徴とする、請求項１ないし６のいずれかに記載の廃水処理方法。
【請求項８】
前記トレース成分がフッ素イオン成分からなる、請求項１ないし７のいずれかに記載の廃水処理方法。
【請求項９】
酸化処理工程からの処理水の導電率を測定し、その導電率の変化から酸化反応の進行度合いを判定する、請求項１ないし８のいずれかに記載の廃水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、廃水中の含有物質の酸化処理を最適な条件で安価に行うことが可能な廃水処理方法に関し、とくに、臭気発生、発泡性、微生物毒性等により生物処理が困難な物質を含有する廃水、例えば半導体製造工程から排出される有機物等を高濃度で含有する難処理性の廃水の処理等に好適な廃水処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に有機物等を含む廃水は生物処理によって処理されることが多い。しかしながら、例えば半導体製造工程では通常多くの有機化合物が使用されており、半導体製造工程から排出される廃液には、アルキルベンゼンスルホン酸（ＡＢＳ）等の界面活性剤や、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）あるいはフェノールを含有する有機溶剤等等が高濃度で含有されており、これらの有機物は、発泡、臭気発生、微生物に対する毒性等の問題があるため、一般的な活性汚泥システムでは処理できない。このような生物処理の困難な難処理性の物質を含有する廃水は通常、産業廃棄物となり、最終的に燃焼により処理されるが、専用燃焼装置と特別な管理が必要であり莫大な費用を伴う。したがって、これらの難処理性の物質を含有する廃水を安全かつ安価に処理する技術の確立が急務とされている。
【０００３】
このような難処理性物質を含有する廃水を処理するための方法としては、これまでにもいくつか提案されているが、高濃度の廃水への対応や設備構成上の問題により実現されていないのが実情である。たとえば、有機物を数千ｐｐｍといった高濃度で含有する廃水の処理方法として、（１）生物処理によって有機物を分解する方法、（２）高温、高圧下での酸化処理によって有機物を分解する方法、（３）アルカリ性条件下でのオゾン添加によって有機物を酸化する方法（たとえば、特開平１０−１７４９８４号公報）、（４）過酸化水素を添加し紫外線を照射することによって有機物を分解する方法等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記（１）の方法では、上述の如く含有有機物がＡＢＳやＤＭＳＯのようなものである場合、生分解性が悪いため除去するのが困難であるという問題がある。また、（２）の方法では、このような難処理性の有機物を酸化処理により除去することは可能であるものの、設備が著しく高価となって処理コストが高くつくという欠点がある。また、（３）および（４）の方法では、高濃度で処理対象物質を含有する場合にも、ある程度有効に廃液の処理を行うことができることは認められるものの、処理対象物質の含有量や種類が変動する被処理水に対し設備の最適化や酸化処理工程の条件の最適化が難しいという問題がある。とくに、酸化処理工程における酸化反応の進行度合い、中でも酸化反応の終点を測る手段がなかったため、未処理の物質が残留しないように、酸化処理工程を過剰条件に設定せざるを得ない場合が多かった。例えば、オゾン添加による酸化処理ではオゾン添加量が過剰になり、紫外線／過酸化水素法では紫外線照射強度や時間が過剰になることが多い。これら過剰のオゾン添加や過剰の紫外線照射は、運転コストとともに設備導入時のコストを高騰させるという問題を招く。
【０００５】
そのため結局、半導体製造工程から排出されるＤＭＳＯ等の難処理性物質を高濃度で含有する廃水は、専門の廃液処理業者による引き取り処分によって処理しているのが実情であった。
【０００６】
そこで本発明の課題は、上記のような実情に鑑み、含有物質の酸化処理工程を有する廃水の処理において、酸化反応の進行度合い、とくに酸化反応の終点を正確に検出することにより酸化処理工程を最適な条件で運転でき、あるいは、酸化処理の前に処理対象物質の含有量を正確に検出することにより酸化処理工程の運転条件を最適な条件に設定でき、それによって過剰のオゾン添加や過剰の紫外線照射を防止可能な、半導体製造工程等からの廃水の処理に好適な廃水処理方法および装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係る廃水処理方法は、半導体製造工程から排出され、処理対象物質としてのジメチルスルホキシドを含有する廃水の元となる原液の段階で、一定の割合で導電性を有する処理対象物質のトレース成分を添加し、該原液を使用した後の廃水を処理するに際し、廃水の導電率を測定して廃水中の前記トレース成分の濃度を測定することにより廃水中の処理対象物質の濃度を検出し、該処理対象物質の濃度に基づいて、廃水中に含有されている処理対象物質の酸化処理の条件を処理前に決めることを特徴とする方法からなる。
【０００８】
上記方法における酸化処理工程としては、オゾン添加による酸化処理、過酸化水素の添加と紫外線の照射による酸化処理のいずれでもよい。オゾン添加による酸化処理の場合には、酸化処理の対象となる物質毎に被処理水のｐＨを調整し、オゾンを添加することにより被処理水中の物質を酸化処理することが好ましい。このｐＨ調整では、オゾン添加前に被処理水のｐＨを初期的に調整することができる。すなわち、酸化処理前に、充分な量のアルカリや酸を添加してｐＨを調整しておけば、上記導電率を変化させるものとして実質的に酸化処理による生成物質のみとすることが可能になり、より正確に酸化反応の終点を判定することが可能になる。被処理水のｐＨは、処理対象物質に応じて、アルカリ条件下あるいは中性又は酸性条件下に調整すればよい。
【０００９】
また、オゾン添加による酸化処理の場合には、前段で、被処理水中に含有されている、オゾン酸化処理に対して障害になる可能性のある低沸点化合物を、その沸点以上に加熱することにより予め除去することが好ましい。また、オゾンの溶解を促進するために被処理水の脱気を行い、被処理水中の溶存酸素等を極力低減することも、オゾン酸化処理の効率を向上する点で好ましい。
【００１０】
オゾン添加による酸化処理、過酸化水素の添加と紫外線の照射による酸化処理のいずれの場合においても、上記酸化反応の進行度合いの判定に基づいて、酸化処理工程の運転を制御することができ、とくに酸化反応の終点の判定に基づいて、酸化処理工程の運転を停止することができ、過剰なオゾンの添加や過剰な紫外線の照射を防止することができ、設備上、あるいは運転コスト上、最適な条件で酸化処理工程の運転を制御できる。
【００１２】
この方法では、原液の段階で予め定められた一定の割合でトレース成分が添加されるが、このトレース成分は、導電性を有し、含有量に対応した原液および廃水の導電率を示すことができるものであるとともに、処理対象物質の含有量の変化に対応してその含有量が変化するものである。したがって、酸化処理に入る前に、処理対象となる廃水の導電率を測定すれば、トレース成分の濃度が原液の段階からどの程度変化したかを正確に測定することができ、そのトレース成分の濃度の変化は、処理対象物質の含有量の変化に対応しているから、廃水中における処理対象物質の濃度が、酸化処理前に正確に把握できることになる。廃水における処理対象物質の濃度が正確に把握できると、これから行う酸化処理について最適な条件を処理前に決めることが可能になる。
【００１３】
この方法において、酸化処理工程としては、オゾン添加による酸化処理、過酸化水素の添加と紫外線の照射による酸化処理のいずれでもよい。オゾン添加による酸化処理の場合には、酸化処理の対象となる物質毎に被処理水のｐＨを調整し、オゾンを添加することにより被処理水中の物質を酸化処理することが好ましい。また、酸化処理の前段で、被処理水中に含有されている、オゾン酸化処理に対して障害になる可能性のある低沸点化合物を、その沸点以上に加熱することにより予め除去することが好ましい。また、オゾンの溶解を促進するために被処理水の脱気を行い、被処理水中の溶存酸素等を極力低減することも、オゾン酸化処理の効率を向上する点で好ましい。
【００１４】
オゾン添加による酸化処理、過酸化水素の添加と紫外線の照射による酸化処理のいずれの場合においても、酸化処理工程の運転条件が処理前に最適な条件に設定されるので、過剰なオゾンの添加や過剰な紫外線の照射を防止することができ、設備上、あるいは運転コスト上、最も有利な運転条件に制御できる。
【００１５】
そしてこの方法において、含有物質が難処理性の物質であっても、上記のように最適な条件下で酸化処理されるので、充分に迅速にかつ安価にしかも効率よく含有物質が処理される。前述の方法同様、酸化処理工程で廃水中の含有物質を生物処理が容易になるまで酸化処理した後には、処理水中の生成物質をさらに生物処理により分解し、処理することができ、上記のような酸化処理と、生物処理との両方の利点を活かすことが可能になる。
【００１６】
本発明に係る廃水処理方法を実施するための装置は、廃水を貯留する貯槽と、廃水中に含有されている物質を酸化処理する酸化処理手段と、貯槽からの被処理水を酸化処理手段に導入し、酸化処理手段からの処理水を貯槽に戻す循環ラインとを有する廃水処理装置に、酸化処理手段からの処理水あるいは貯槽中の被処理水の導電率を測定する手段を設けたことを特徴とするものからなる。導電率手段が貯槽中の被処理水に対して設けられる場合には、酸化処理前の廃水の導電率の初期値も測定でき、導電率手段が酸化処理手段からの処理水に対して設けられる場合には、導電率手段による測定値の変化から酸化処理手段による酸化反応の進行度合いを測定可能となるので、その酸化反応の進行度合い及び終点を判定する手段を有することが望ましい。
【００１７】
この装置においては、酸化処理の対象となる物質毎に被処理水のｐＨを調整する手段を有するとともに、前記酸化処理手段が、オゾンを添加する手段を含む構成とすることができる。あるいは、酸化処理手段が、被処理水に過酸化水素を添加するとともに紫外線を照射する手段を含む構成とすることもできる。
【００１８】
また、後段に、酸化処理手段により含有物質が生物処理が容易になるまで酸化処理された処理水中の生成物質をさらに分解処理する生物処理手段が接続された構成とすることもできる。また、前段に、被処理水中に含有されている低沸点化合物をその沸点以上に加熱することにより除去する手段が設けられた構成とすることもできる。さらに、循環ライン中に、オゾンの溶解を促進する脱気手段が設けられた構成とすることもできる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の望ましい実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施態様に係る廃水処理装置、とくにオゾン添加による酸化処理を行う廃水処理装置を示している。廃水処理装置１には、本発明における酸化処理の対象となる物質を含有する廃水２、例えば、半導体製造工程等３１から排出される、臭気発生、発泡性、微生物毒性等により直接的には生物処理を行うことが困難な難処理性の物質を含有する廃水２が供給される。本実施態様では、供給されてくる被処理水としての廃水２は、まず、低沸点化合物除去装置３において、加熱装置４により、廃水２中に含有されている低沸点化合物の沸点以上に加熱され、廃水２中の低沸点化合物が除去された後、貯槽５に送られる。貯槽５の上部には、必要に応じて開放される排ガス排出管６が付設されている。
【００２０】
貯槽５に貯留された被処理水としての廃水２は、循環ライン７を介して、ポンプ８により酸化処理手段としての酸化処理装置（反応塔）９へ送られ、酸化処理装置９からの処理水は貯槽５に戻される。本実施態様では、循環ライン７中の酸化処理装置９への送給ラインには、処理対象となる物質毎に最適なｐＨに調整する手段としてのｐＨ調整装置１０が接続されており、ｐＨ調整装置１０からは、そのときの要求に応じて、被処理水中にＮａＯＨやＨ2 ＳＯ4 等のｐＨ調整用のアルカリや酸が添加される。酸化処理装置９は、縦長の反応塔からなり、その下部には、オゾン発生器１１が接続されている。オゾン発生器１１は、乾燥空気１２からオゾンを生成し、生成したオゾンを酸化処理装置９中の被処理水中に添加する。酸化処理装置９の上部には、排ガスライン１３が接続されている。
【００２１】
酸化処理装置９から貯槽５への循環ライン７には、酸化処理装置９からの処理水の導電率を測定する導電率計１４が設けられている。また、本実施態様では、循環ライン７に、酸化処理装置９からの処理水のｐＨを検知するｐＨセンサ１５と、酸化処理装置９におけるオゾンの溶解を促進するために溶存酸素等を脱気する脱気器１６が設けられている。
【００２２】
本実施態様では、被処理水が循環ライン７を介して貯槽５と酸化処理装置９との間を循環される間に、オゾン添加による酸化処理工程で廃水中の難処理性の物質が生物処理が容易になるまで酸化処理されるが、所定の酸化処理が終了すると、処理水は生物処理装置１７に送られ、処理水中の生成物質がさらに生物処理により好気性条件下又は嫌気性条件下で分解され、処理される。生物処理装置１７としては、周知の活性汚泥システムを採用できる。被処理水の循環ライン７を介しての循環と、処理水の生物処理装置１７への送給の切替えは、電磁弁１８、１９の開閉制御によって行われる。
【００２３】
本実施態様では、上記のような装置の一連の作動を、手動、自動のいずれでも制御できるようになっている。とくに自動制御のために、制御装置２０が設けられている。制御装置２０には、導電率計１４、ｐＨセンサ１５からの信号とともに、必要に応じて廃水の含有成分や各部運転条件の設定値等の入力情報２１が入力され、制御装置２０からは、加熱装置４、ポンプ８、ｐＨ調整装置１０、オゾン発生器１１、電磁弁１８、１９に作動信号が出力される。
【００２４】
上記のように構成された装置を用いて、本発明に係る方法は、例えば次のように実施される。
先ず、処理対象物質を含有する廃水２は、低沸点化合物除去装置３において、加熱装置４により、廃水２中に含有されている低沸点化合物の沸点以上に加熱され、廃水２中の低沸点化合物が加熱曝気により除去される。実際の工場廃水には、例えば半導体製造工程からの、難処理性の物質を含有する廃水には、多くの種類の有機物等を含むとともに、低沸点化合物としてのイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）が含まれている場合が多い。ＩＰＡは一般的な生物処理では容易に処理できるものの、オゾン酸化処理による分解効率は非常に低く、しかも他の有機物等のオゾン酸化反応を妨害する。したがってＩＰＡを多量に含んだ廃水の場合、あらかじめＩＰＡを除去することが好ましく、図１に示したように加熱装置４を備えた低沸点化合物除去装置３で加熱曝気するのが有効である。
【００２５】
低沸点化合物が除去された廃水２が、貯槽５に送られ、貯槽５内に貯留される。低沸点化合物の除去により、後述のオゾン添加による酸化反応が低沸点化合物によっては阻害されないことになり、オゾン酸化処理の効率が向上される。また、この低沸点化合物除去のための加熱後には、加熱された廃水を敢えて冷却する必要はなく、そのままの温度条件にて貯槽５へと送ることもできる。とくにＤＭＳＯを多量に含有する廃水の場合には、高温での酸化処理の方が少ないオゾン量で高い処理効率が得られる。
【００２６】
貯槽５に貯留された被処理水としての廃水２は、ポンプ８により循環ライン７を介して酸化処理装置（反応塔）９に送られる。酸化処理装置９からの処理水は循環ライン７を介して貯槽５に戻され、循環中に被処理水中の処理対象物質、とくに難処理性の物質が、酸化処理装置９において、オゾン発生器１１からのオゾン添加により酸化処理される。本実施態様では、オゾン発生器１１からのオゾンの添加量は単位時間当たり一定の量に制御される。また本実施態様では、ｐＨセンサ１５でそのときのｐＨが検知され、その信号が制御装置２０に送られ、そのときの処理対象となる含有物質の種類に応じて、最適な制御すべきｐＨの信号が制御装置２０から出力され、その出力信号に基づいてｐＨ調整装置１０が制御される。つまり、ｐＨ調整装置１０では、そのときの要求に応じて、被処理水中にＮａＯＨやＨ2 ＳＯ4 等のｐＨ調整用のアルカリや酸が添加される。したがって、酸化処理装置９ではオゾン発生器１１からのオゾン添加により被処理水中の含有物質に対し酸化処理が行われるが、このｐＨ調整により、処理対象となる物質毎に最適なｐＨへの調整が可能になり、その最適なｐＨ条件下での酸化処理が行われることになる。
【００２７】
最適なｐＨに調整すべき、処理対象となる物質としてのＤＭＳＯのようなスルホキシド類有機硫黄化合物を含有する廃水は、ｐＨをアルカリ側、あるいは中性又は酸性条件下のいずれに調整しても処理可能である。ｐＨをアルカリ条件下に調整する場合には、添加オゾンからＯＨラジカルが生成され、ＯＨラジカルを介して酸化反応が行われる。この酸化反応の過程においては、ＤＭＳＯの場合、生成物質としてＭＳＡが生成され、このＭＳＡは導電性を呈するので、ＭＳＡの生成量増加、つまり、酸化反応の進行に伴って処理水の導電率が上昇する。
【００２９】
上記酸化反応の進行に伴う処理水の導電率の変化は、導電率計１４によって測定される。酸化処理装置９からの処理水の導電率を測定することにより、酸化反応の進行度合い、とくに酸化反応の実質的な終点を判定することができる。
【００３０】
例えば、図２、図３にアルカリ条件下でのＤＭＳＯ含有廃水の酸化処理の例を示す。図２に示す方法においては、ｐＨ調整装置１０によるアルカリ（例えば、ＮａＯＨ）の添加により、被処理水のｐＨは１０．５以上のアルカリサイドに制御され、このｐＨ調整が続行されつつ、オゾン添加による酸化処理が開始される。オゾン添加による酸化処理が開始されると、処理の進行に伴い、含有されていたＤＭＳＯが徐々に減少し、生成物質としてのＭＳＡが徐々に増加する。このＭＳＡの増加に伴い、処理水の導電率が徐々に上昇し、その変化が導電率計１４によって測定される。やがて、被処理水中のＤＭＳＯが実質的に無くなり、ＤＭＳＯに対する酸化反応は終了するが、この酸化反応の終了によってＭＳＡの生成も止まるため、ＭＳＡの増加がなくなり、導電率の上昇も実質的になくなる。つまり、導電率の上昇特性が、酸化反応の終点で変化する。したがって、測定される導電率の変化から、酸化反応の終点が制御装置２０によって判定される。この判定に基づき、例えばオゾンの添加を停止する制御を行えば、それ以上余剰なオゾンを使用しなくて済み、使用オゾン量が低減される。
【００３１】
図３に示す方法においては、オゾン添加による酸化処理の前に、比較的多量のアルカリ（例えば、ＮａＯＨ）を添加しておき、その後にはアルカリを添加しない。被処理水は、初期的に添加されたアルカリによるイオン等により、高い導電率の初期値を示す。この状態から、オゾン添加による酸化処理が開始され、前記同様、処理の進行に伴い、含有されていたＤＭＳＯが徐々に減少し、生成物質としてのＭＳＡが徐々に増加する。また、このとき同時に、被処理水に酸化処理前に含有されていた水酸化物イオンが、酸化処理の進行に伴い、徐々に減少していく。この含有水酸化物イオンの減少による処理水の導電率減少度合いの方が、ＭＳＡ増加による導電率増加度合いよりも大きいので、結果的に、処理水全体の導電率は、酸化処理の進行に伴い徐々に減少していく。この処理水の導電率の変化が導電率計１４によって測定される。やがて、被処理水中のＤＭＳＯが実質的に無くなり、ＤＭＳＯに対する酸化反応は終了すると、上記イオンの減少およびＭＳＡの生成も止まるため、導電率の変化は実質的になくなる。つまり、導電率の減少特性が、酸化反応の終点で変化する。したがって、測定される導電率の変化から、酸化反応の終点が制御装置２０によって判定される。この判定に基づき、例えばオゾンの添加を停止する制御を行えば、それ以上余剰なオゾンを使用しなくて済み、使用オゾン量が低減される。
【００３２】
このように、酸化処理の進行に伴い徐々に変化する処理水の導電率を測定することにより、酸化処理の進行度合いを把握することが可能になり、とくに測定された導電率の特性の変化（変曲点）を検知することにより、酸化反応の終点が検知される。
【００３４】
図１において、酸化処理装置９でオゾンにより酸化処理された処理水は、循環ライン７を介して再び貯水槽５へと戻されるが、このライン中に設けられた脱気器１６によって処理水中から溶存酸素等が脱気されることにより、循環される水中へのオゾン溶解度が高められ、酸化処理装置９でのオゾン溶解度が高められて、オゾンによる酸化処理の効率がより高められるとともに、オゾン添加量をより低減することが可能になる。
【００３５】
そして、導電率計１４からの信号に基づいて、目標とするオゾン酸化処理が終了したと判定されると、制御装置２０からの指令に基づき、電磁弁１８、１９が切り替えられ、処理水が生物処理装置１７に送られる。送られる処理水には、難処理性の物質は実質的に含有されておらず、容易に生物処理される生成物質のみが含有されていることになる。この生物処理により、放流可能な、あるいは回収使用可能な処理水へと処理される。生物処理装置１７としては、従来から周知の一般的な仕様の装置を使用できる。
【００３６】
上記の処理は、処理対象物質の酸化処理をオゾン添加による酸化反応によって行うようにしたが、本発明は、被処理水に過酸化水素を添加するとともに紫外線を照射することにより被処理水中の物質を酸化処理する方法にも適用できる。この場合、装置としては、図１に示した装置におけるオゾン発生器１１が接続された酸化処理装置の代わりに、過酸化水素添加／紫外線照射装置を設ければよい。
【００３７】
過酸化水素添加／紫外線照射による酸化処理の場合においても、例えば図４にＤＭＳＯ含有廃水の場合の例を示すように、酸化反応によりＤＭＳＯが徐々に減少し、生成物質としてのＭＳＡが徐々に増加する、この反応の進行に伴って、処理水の導電率は徐々に増加し、酸化反応の終点に至ると、導電率の増加は実質的になくなる、あるいは、増加の度合いが極端に低下する。したがって、処理水の導電率を測定し、その変化を検出することにより、酸化反応の終点が正確に判定される。
【００３８】
本実施態様においては、上記のような酸化反応の進行に伴う導電率の変化を測定する方法に加え、酸化処理前に処理対象物質のトレース成分を用いて酸化処理の最適条件を決める方法を適用する。すなわち、図１に２点鎖線でしめしたように、半導体製造工程等３１に使用する原液３２、つまり、処理対象物質を含有する廃水の元となる原液３２の段階で、一定の割合にて、導電性を有する処理対象物質のトレース成分３３を添加し、該原液３２を使用した後の廃水２を処理するに際し、廃水２の導電率を測定することにより、該廃水２中の前記トレース成分３３の濃度を測定し、そのトレース成分３３の濃度から、廃水２中の処理対象物質の濃度を検出し、該処理対象物質の濃度に基づいて、廃水２中に含有されている処理対象物質の酸化処理の条件を、実際に酸化処理を行う前に決める廃水処理方法である。酸化処理を行う前の廃水２の導電率の測定は、貯槽５に設けた導電率計３４によって行う。
【００３９】
この酸化処理前に廃水２の導電率を測定する方法においても、酸化処理としては、前述したのと同様、オゾン添加による酸化処理、過酸化水素添加／紫外線照射による酸化処理のいずれの方法も採用できる。オゾン添加による酸化処理の場合には、酸化処理の効率を高めるために、酸化処理の対象となる物質毎に被処理水のｐＨを調整する方法、酸化処理の前段で、被処理水中に含有されている低沸点化合物をその沸点以上に加熱することにより予め除去する方法、オゾンの溶解を促進するために被処理水の脱気を行う方法が有効である。また、いずれの酸化処理においても、とくに廃水が、臭気発生、発泡性、微生物毒性等により生物処理が困難な物質を含有する廃水である場合、酸化処理工程で廃水中の物質を生物処理が容易になるまで酸化処理した後、処理水中の生成物質をさらに生物処理により分解し、処理する方法を採用することができる。
【００４０】
原液の段階で添加するトレース成分としては、導電性を有し、処理対象物質の含有量の変化に対応して、トレース成分の含有量も変化するものであればよい。例えばＤＭＳＯを含有する原液の場合には、トレース成分としてフッ素イオン成分を使用でき、原液におけるＤＭＳＯ濃度とそのトレース成分の濃度との比を予め定めておき、半導体製造工程等３１で使用された後の廃液２のトレース成分の濃度がその導電率を測定することにより測定される。ＤＭＳＯの濃度は、通常サンプルを採ってオフラインで測定することは可能であっても、オンラインで測定することは困難であるが、上記のように導電率の測定を介してトレース成分の濃度を測定すれば、そのトレース成分の濃度と対応関係にあるＤＭＳＯの濃度が容易に測定されることになる。
【００４１】
導電率計３４からの信号に基づき、制御装置２０でＤＭＳＯの濃度が演算され、処理前の廃水２のＤＭＳＯの濃度に応じて、最適な酸化処理条件が決められ、その指令に基づいて、酸化処理装置９が運転される。したがって、余剰なオゾン使用や、余剰な紫外線照射を伴うことなく、効率よく、かつ、安価に酸化処理が行われる。
【００４２】
この方法では、酸化反応の終点を敢えて監視しなくても、最初に（実際の処理前に）ほぼ最適な運転条件が設定されることになる。ただし、より効率の良い処理を目指すために、前述した酸化反応の終点判定方法を併用してもよい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る廃水処理方法によれば、導電率の測定を介して、トレース成分を用いて酸化処理の前に処理対象物質の含有量を正確に検出することにより、酸化処理工程の運転条件を最適な条件に設定することができ、それによって過剰のオゾン添加や過剰の紫外線照射を防止でき、半導体製造工程等からの廃水を、効率よく安価に処理することができる。この本発明に係る廃水処理方法は、とくにランニングコスト面、装置コスト面で有利なものであり、半導体製造工程からの難処理性物質含有廃水の処理に極めて有効な技術である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施態様に係る廃水処理装置の機器系統図である。
【図２】本発明に係る一方法をＤＭＳＯ含有廃液に適用した場合の特性図である。
【図３】本発明に係る別の方法をＤＭＳＯ含有廃液に適用した場合の特性図である。
【図４】本発明に係るさらに別の方法をＤＭＳＯ含有廃液に適用した場合の特性図である。
【符号の説明】
１  廃水処理装置
２  廃水
３  低沸点化合物除去装置
４  加熱装置
５  貯槽
６  排ガス排出管
７  循環ライン
８  ポンプ
９  酸化処理装置
１０  ｐＨ調整装置
１１  オゾン発生器
１２  乾燥空気
１３  排ガスライン
１４、３４  導電率計
１５  ｐＨセンサ
１６  脱気器
１７  生物処理装置
１８、１９  電磁弁
２０  制御装置
２１  入力情報
３１  半導体製造工程等
３２  原液
３３  トレース成分
【図１】
0004488396.tif 000002
【図２】
0004488396.tif 000003
【図３】
0004488396.tif 000004
【図４】
0004488396.tif 000005