(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（Ｉ）又は（II）で表されるポリメチン化合物を含有してなることを特徴とする光学記録材料。
【化１】
0004401032.tif 000015
【請求項２】
上記一般式（Ｉ）で表されるポリメチン化合物が、下記一般式（１）で表されるポリメチン化合物であり、上記一般式（II）で表されるポリメチン化合物が、下記一般式（２）で表されるポリメチン化合物である請求項１記載の光学記録材料。
【化２】
0004401032.tif 000016
【請求項３】
Ｘ及びＸ’の両方が、酸素原子である請求項２記載の光学記録材料。
【請求項４】
Ｘ及びＸ’が、プロパン−２，２−ジイル、ブタン−２，２−ジイル又は炭素数３〜６のシクロアルカン−１，１−ジイルから選ばれる基である請求項１記載の光学記録材料。
【請求項５】
基体上に、請求項１〜４の何れかに記載の光学記録材料からなる薄膜を形成したことを特徴とする光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報をレーザなどによる熱的情報パターンとして付与することにより記録する光学記録媒体に使用される光学記録材料に関し、詳しくは、可視および近赤外領域の波長を有し、かつ低エネルギーのレーザなどにより高密度の光学記録および再生が可能な光学記録媒体に使用される光学記録材料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
光学記録媒体は、一般に記憶容量が大きく、記録又は再生が非接触で行われる等、優れた特徴を有することから広く普及している。ＷＯＲＭ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の追記型の光ディスクでは記録層の微少面積にレーザを集光させ、記録層の性状を変えて記録し、未記録部分との反射光量の違いによって再生を行っている。
【０００３】
光ディスクに代表される光学記録媒体の記録層には、記録層を形成するのが容易なので、有機系のフタロシアニン系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物が使用されており、特にポリメチン系の化合物が感度が高く、高速化に対応できることから検討されている。
【０００４】
現在、上記の光ディスクにおいては、半導体レーザにより、記録、再生（読込）を行うことのできるものが開発されている。これに使用される半導体レーザの波長は３８０〜８３０ｎｍの範囲であり、例えば、ＣＤ−Ｒは７５０〜８３０ｎｍであり、ＤＶＤ−Ｒは６３０〜６７０ｎｍであり、また、更に高密度の４００〜５００ｎｍの光ディスクも開発されている。これらの光ディスクに対応したポリメチン系の化合物は、例えば、特開昭５９−５５７９５号公報、特開平７−６１２９９２号公報、ＷＯ９８／３４９８８号公報、特開平１１−３４４９９号公報、特開２０００−１０８５１０号公報等に報告されている。
【０００５】
しかし、上記のポリメチン系の化合物は、光安定性が充分ではないので、特公平１−３４４６４号公報、特公平１−３４４６５号公報、特開平５−５７９号公報、特開平５−１０４８６２号公報、特開平６−２３９０２８号公報等に記載されている各種の光安定剤を用いる必要があった。しかし、光安定剤を使用すると、光学記録層中の光学記録成分が減少するので、高速化に対応する感度が得られないことになり、光安定性と高速化に対応する感度の両立が困難であるという問題点があった。
【０００６】
従って、本発明の目的は、光安定剤を使用しなくとも充分な光安定性を有するレーザ等による光学記録媒体に適したポリメチン化合物を含有してなる光学記録材料を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、ポリメチン鎖の特定の位置にシアノ基を導入すると、導入されたシアノ基の窒素原子とβ位の水素原子とのインターラクションによりポリメチン化合物の光安定性が向上することを知見し、本発明に到達した。
【０００８】
即ち本発明は、下記の一般式（Ｉ）又は（II）で表されるポリメチン化合物を含有してなることを特徴とする光学記録材料を提供するものである。
【化３】
0004401032.tif 000002
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１０】
本発明に係る上記一般式（Ｉ）及び（II）で表されるポリメチン化合物は、光学記録媒体に対して特に優れた光安定性を与えるものである。
【００１１】
上記の一般式（Ｉ）又は（II）において、Ｒ1 、Ｒ1'、Ｒ2 及びＲ2'で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、アリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニルが挙げられ、炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシルが挙げられる。
【００１２】
また、Ｒ1 及びＲ1'で表される炭素数１〜８のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシが挙げられ、Ｘ及びＸ’で表される炭素数３〜６のシクロアルカン−１，１−ジイルとしては、シクロプロパン−１，１−ジイル、シクロブタン−１，１−ジイル、２，４−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、３−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、シクロペンタン−１，１−ジイル、シクロヘキサン−１，１−ジイルが挙げられる。
【００１３】
また、Ｙ、Ｙ’及びＹ2 で表される炭素数１〜３０の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、１−フェニルプロペン−３−イル等のアルケニル基、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基等、これらがエーテル結合、チオエーテル結合で中断されたもの、例えば、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、３−メトキシブチル、２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル、２−メチルチオエチル、２−フェニルチオエチルが挙げられ、更にこれらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。
【００１４】
また、Ａｎn-で表されるアニオンとしては、例えば、一価のものとして、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リン酸系アニオン等が挙げられ、二価のものとしては例えば、ベンゼンジスルホン酸アニオン、ナフタレンジスルホン酸アニオンが挙げられ、更には、特開昭６０−２３４８９２号公報に記載のクエンチャアニオンが挙げられる。
【００１５】
上記の一般式（Ｉ）又は（II）で表されるポリメチン化合物は、ポリメチン鎖の数及び環構造を変えることで吸収波長が大きく異なるので、使用する半導体レーザの波長に合わせてポリメチン化合物の構造を選択して用いられる。
【００１６】
上記のポリメチン化合物の中でも、光安定性が大きいので、下記の一般式（１）及び（２）で表される化合物が好ましく、Ｘ及びＸ’の両方が酸素原子であるもの又はＸ及びＸ’がプロパン−２，２−ジイル、ブタン−２，２−ジイル又は炭素数３〜６のシクロアルカン−１，１−ジイルから選ばれる基である化合物がより好ましい。
【００１７】
【化４】
0004401032.tif 000003
【００１８】
本発明に係るポリメチン化合物において、上記の好ましいペンタメチン化合物としては、以下に示す化合物Ｎｏ．１〜４０が挙げられる。なお、以下の例示では、ペンタメチン化合物のアニオンを省いたカチオンで示している。
【００１９】
【化５】
0004401032.tif 000004
【００２０】
【化６】
0004401032.tif 000005
【００２１】
【化７】
0004401032.tif 000006
【００２２】
【化８】
0004401032.tif 000007
【００２３】
また、本発明に係るポリメチン化合物において、上記の好ましいヘプタメチン化合物としては、上記の化合物Ｎｏ．１〜４０のポリメチン鎖がヘプタメチンである化合物が挙げられる。
【００２４】
本発明に係る上記一般式（Ｉ）又は（II）で表される化合物は、その製造法によって制限を受けることなく、従来周知の方法により製造することができる。例えば、該当する環Ａ又は環Ａ’の構造を導入する誘導体を四級化剤と反応させて得た環状化合物とポリメチン鎖を導入するためのブリッジ剤化合物とを反応剤により反応させた後必要に応じてアニオン交換を行うことで合成することができる。
【００２５】
上記の環状化合物及びブリッジ剤化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。
【００２６】
【化９】
0004401032.tif 000008
【００２７】
例えば、好ましい化合物である前記の一般式（１）で表される化合物は、以下の方法１又は２により合成することができる。
【００２８】
【化１０】
0004401032.tif 000009
【００２９】
上記のＤで表されるハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、スルホニルオキシとしては、フェニルスルホニルオキシ、４−メチルスルホニルオキシ、４−クロロスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００３０】
本発明に係るポリメチン化合物は、光学記録媒体の記録層として適用され、該記録層の形成にあたっては従来周知の方法を用いることができる。一般には、メタノール、エタノール等の低級アルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等の有機溶媒に、本発明に係るポリメチン化合物を溶解した溶液を、基体上に塗布することによって容易に形成することができる。
【００３１】
上記記録層の厚さは、通常、０．００１〜１０μであり、好ましくは０．０１〜５μの範囲が適当である。上記記録層の形成方法は特に制限を受けず、例えばスピンコート法等の通常用いられる方法を用いることができる。
【００３２】
本発明の光学記録材料（上記ポリメチン化合物）を、光学記録媒体の記録層に含有させる際の該記録層に対する使用量は、好ましくは、５０〜１００重量％である。
【００３３】
また、上記記録層は、本発明の光学記録材料（上記ポリメチン化合物）のほかに、必要に応じて、シアニン系化合物、アゾ系化合物、フタロシアニン系化合物等の光学記録層に用いられる化合物、ポリエチレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート等の樹脂類を含有してもよく、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、ラジカル捕捉剤、ピット形成促進剤、ピット制御剤、分散剤、酸化防止剤、架橋剤等を含有してもよい。
【００３４】
本発明に係るポリメチン化合物は、光安定性に優れているので、必ずしも必要ではないが、光学記録媒体に対して特に高度な光安定性が要求される場合には、上記記録層に、一重項酸素等のクエンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物等を含有させてもよい。これらは、記録層に対して０〜５０重量％の範囲で使用される。
【００３５】
このような記録層を設層する上記基体の材質は、書き込み光及び読み出し光に対して実質的に透明なものであれば特に制限はなく、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等の樹脂、ガラス等が用いられる。また、その形状は、用途に応じ、テープ、ドラム、ベルト、ディスク等の任意の形状のものが使用できる。
【００３６】
また、上記記録層上に、金、銀、アルミニウム、銅等を用いて蒸着法あるいはスパッタリング法により反射膜を形成することもできるし、アクリル樹脂、紫外線硬化性樹脂等による保護層を形成することもできる。
【００３７】
本発明の光学記録材料は、書き込み、再生に用いられるレーザを用いる光学記録媒体に好適であり、記録層に用いるポリメチン化合物の構造については、使用するレーザ光の波長に対して適合する吸収波長を有するもの選択する。これらの光学記録媒体としては、ＬＤ、ＷＯＲＭ、ＣＤ、ＤＶＤ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ｓＤＶＤ−Ｒ等の光ディスクが挙げられる。
【００３８】
【実施例】
以下、製造例及び実施例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は、以下の製造例及び実施例によって何ら制限を受けるものではない。
【００３９】
［製造例１］化合物Ｎｏ．４のヨウ素塩の製造
２−メチルベンゾオキサゾール２１．２ｇ及びｐ−クロロベンゼンスルホン酸イソアミル４６．４ｇをオートクレーブ中で１６０℃で１時間反応させた。反応後、１００℃でトルエン６０ｇを加え晶析させた固相を濾取し、Ｎ−ヘキサンで洗浄して、白色固体の四級塩の中間体４７．２ｇ（収率７４．７％）を得た。
反応フラスコに上記で得た四級塩中間体４０．０ｇ、２−シアノ−３−ジメチルアミノアクロレイン８．４ｇ及びピリジン１００ｇを仕込み、１００℃で３時間撹拌した。クロロホルムと水を加え油水分離した後、クロロホルム相にヨウ化ナトリウム水溶液を加え、６０℃で１時間撹拌して塩交換を行った後、溶媒を除去した。ここで得られた固相をクロロホルム／酢酸エチル溶媒を用いて再結晶し、紫色結晶２．０ｇ（収率５．３％）を得た。得られた化合物について以下の分析を行い構造を確認した。
【００４０】
（分析）
▲１▼構造解析： 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．９８−０．９９；ｄ；１２）、（２．４９−２．５４；ｍ；２）
（３．３０−３．５３；ｑ；４）、（４．３４−４．３８；ｔ；４）
（６．０２−６．０５；ｄ；２）、（７．４８−７．５７；ｔ；４）
（７．７８−７．８１；ｄ；４）、（８．３４−８．３８；ｄ；２）
▲２▼光学的特性：クロロホルム溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；５６０ｎｍ、ε；２．３７×１０5 
【００４１】
［製造例２］化合物Ｎｏ．４の過塩素酸塩の製造
上記で得られた化合物Ｎｏ．４のヨウ素塩結晶のクロロホルム溶液に過塩素酸ナトリウム水溶液を加え、６０℃で１時間撹拌して塩交換を行った。クロロホルム相を濃縮して得られた残さに２−プロパノールを加えて晶析を行い、紫色結晶を得た。得られた化合物について以下の分析を行い構造を確認した。
【００４２】
（分析）
▲１▼構造解析： 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．９９−１．００；ｄ；１２）、（２．５０−２．５５；ｍ；２）
（３．３１−３．５４；ｑ；４）、（４．３５−４．３９；ｔ；４）
（６．０４−６．０７；ｄ；２）、（７．５２−７．６１；ｔ；４）
（７．８２−７．８５；ｄ；４）、（８．３８−８．４２；ｄ；２）
▲２▼光学的特性：クロロホルム溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；５５８ｎｍ、ε；２．１３×１０5 
【００４３】
［製造例３］化合物Ｎｏ．４の六フッ化リン塩の製造
上記製造例２と同様に六フッ化リンカリウムを用いた塩交換により、紫色結晶を得た。得られた化合物について以下の分析を行い構造を確認した。
（分析）
▲１▼構造解析： 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．００−１．０１；ｄ；１２）、（２．５０−２．５５；ｍ；２）
（３．３１−３．５４；ｑ；４）、（４．３６−４．４０；ｔ；４）
（６．０５−６．０８；ｄ；２）、（７．５１−７．６０；ｔ；４）
（７．８１−７．８４；ｄ；４）、（８．３７−８．４１；ｄ；２）
▲２▼光学的特性：クロロホルム溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；５５７ｎｍ、ε；２．１０×１０5 
【００４４】
［製造例４］化合物Ｎｏ．１２のヨウ素塩の製造
Ｎ−プロピル−２，３，３−トリメチルインドレニンのヨウ素塩６．６ｇ、２−シアノ−３−ジメチルアミノアクロレイン０．９ｇ及びピリジン４．０ｇを仕込み、３時間還流した。冷却後イソプロピルメチルケトンと水を加え油水分離し、有機相を濃縮して得られた残さについてエタノール／水溶媒を用いて再結晶を行い、緑色結晶１．１ｇ（収率５７．９％）を得た。得られた化合物について以下の分析を行い構造を確認した。
【００４５】
（分析）
▲１▼構造解析： 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．０２−１．０６；ｔ；６）、（１．９１−１．９９；ｍ；４）
（２．０２；ｓ；１２）、（４．０７−４．１１；ｔ；４）
（６．３７−６．４０；ｄ；２）、（７．１４−７．１６；ｄ；２）
（７．２７−７．３０；ｔ；２）、（７．３４−７．３７；ｔ；２）
（７．３８−７．４１；ｔ；２）、（９．３５−９．３８；ｄ；２）
▲２▼光学的特性：メタノール溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；６１４ｎｍ、ε；１．６３×１０5 
【００４６】
［製造例５］化合物Ｎｏ．２３のヨウ素塩の製造
Ｎ−ブチル−２，３，３−トリメチルベンゾインドレニンのヨウ素塩３．８４ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−２−シアノアミジン１．２ｇ、ピリジン５．０ｇ及び無水酢酸４．９５ｇを仕込み、１２０℃で２時間反応させた。冷却後イソプロピルメチルケトンと水を加え油水分離し、有機相から析出した結晶を濾取し、褐色結晶３．１ｇ（収率９１．０％）を得た。得られた化合物について以下の分析を行い構造を確認した。
【００４７】
（分析）
▲１▼構造解析： 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（０．９０−０．９６；ｔ；６）、（１．４９−１．５８；ｍ；４）
（１．８９−１．９６；ｍ；４）、（２．３２；ｓ；１２）
（４．２１−４．２４；ｔ；４）、（６．４１−６．４５；ｄ；２）
（７．３８−７．４０；ｄ；２）、（７．５０−７．５４；ｔ；２）
（７．６５−７．６６；ｔ；２）、（７．９４−７．９６；ｔ；２）
（８．６１−８．６２；ｄ；４）、（９．５１−９．５５；ｄ；２）
▲２▼光学的特性：メタノール溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；６５２ｎｍ、ε；１．７５×１０5 
【００４８】
［製造例６］化合物Ｎｏ．３５のヨウ素塩の製造
窒素置換した反応フラスコにナフチルヒドラジン３０．１ｇ及びエタノール９４．８ｇを仕込み、７０℃まで加温してから、アセチルシクロヘキサン４８．０ｇを５分で滴下した。更に硫酸を３９．２ｇを加え３時間反応させた後、エタノールを留去し、トルエン５００ｍｌ及び２０％水酸化ナトリウム水溶液２００ｇを加え油水分離した。油相を洗浄水が中性になるまで水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後脱溶媒して得た残渣を６０℃のトルエン９４ｇで溶解させた溶液に、Ｎ−ヘキサン９４ｇを加えて晶析を行い、結晶を濾取、乾燥して中間体を３１．６．ｇ得た。窒素置換した反応フラスコに、中間体２５．０ｇとヨウ化メチル１７．１ｇを仕込み、１１０℃で４時間反応させた後、酢酸エチルを１０２．４ｇを滴下し３０分還流させ、冷却した。固相を濾取し、洗浄、乾燥を行い四級塩中間体を２７．６ｇ得た。反応フラスコに四級塩中間体７．８ｇ、２−シアノ−３−ジメチルアミノアクロレイン１．１６ｇ及びピリジン２０ｇを仕込み、３時間還流した。冷却後クロロホルムと水を加え油水分離し、有機相を濃縮して得られた残さについてジメチルホルムアミド／酢酸エチル溶媒を用いて再結晶を行い、緑色結晶２．４ｇ（収率３４．３％）を得た。得られた化合物について以下の分析を行い構造を確認した。
【００４９】
（分析）
▲１▼構造解析： 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（ケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．６２−１．７１；ｔ；８）、（１．９７−２．０９；ｍ；１２）
（４．５２；ｓ；６）、（６．１８−６．２２；ｄ；２）
（７．５３−７．５５；ｄ；４）、（７．５９−７．６３；ｄ；２）
（７．６９−７．７１；ｄ；２）、（７．８９−７．９２；ｔ；４）
（８．５４−８．６１；ｄ；２）
▲２▼光学的特性：メタノール溶媒でのＵＶスペクトル測定
λｍａｘ；６６８ｎｍ、ε；１．３２×１０5 
【００５０】
［実施例１〜３及び比較例１〜３］光学記録媒体の製造及び評価
チタンキレート化合物（Ｔ−５０：日本曹達社製）を塗布、加水分解して下地層（０．０１μ）を設けた直径１２ｃｍのポリカーボネートディスク基板上に、上記の製造例で得た化合物及び下記の比較化合物１〜６のヨウ素塩を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．５％）をスピンコーティング法にて塗布して、厚さ１００ｎｍの記録層を形成し、光学記録媒体を得た。これらの光学記録媒体についてキセノン耐候性試験器（テーブルサン、スガ試験機（株）社製）を用いて、５５０００ルクスの光を３５時間照射し、薄膜のλmax における塗布成膜直後の吸光度Ａ’と照射後の吸光度Ａとの比Ａ／Ａ’（％）を色素残存率として評価を行った。その結果を下記表１〜３に示す。
【００５１】
【化１１】
0004401032.tif 000010
【００５２】
【表１】
0004401032.tif 000011
【００５３】
【表２】
0004401032.tif 000012
【００５４】
【表３】
0004401032.tif 000013
【００５５】
［実施例４］
下記表４に記載の配合により得られたテトラフルオロプロパノール溶液（トータル濃度；１．５質量％）を調製し、実施例１〜３と同様に光学記録媒体を製造し評価を行った。その結果を下記表４に示す。
【００５６】
【表４】
0004401032.tif 000014
【００５７】
【発明の効果】
本発明は、充分な光安定性を有するレーザ等による光学記録媒体に適したポリメチン化合物を含有してなる光学記録材料を提供できる。