(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定し、
この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定し、
長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、
長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成し、
この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成し、
この最小の長方形を禁止領域に加え、
発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、
これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置用パターンレイアウト方法。
【請求項２】
スペーサは、発生領域にマトリックス状に配置される
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用パターンレイアウト方法。
【請求項３】
スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定する発生領域指定手段と、
この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定する禁止領域指定手段と、
長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成する発生領域分割手段と、
長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成する禁止領域分割手段と、
この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成する禁止領域形成手段と、
この禁止領域形成手段で形成された最小の長方形を禁止領域に加える禁止領域追加手段と、
発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割する長方形群分割手段と、
禁止領域を避けて長方形群分割手段により分割された長方形の発生領域にスペーサを配置させるスペーサ配置手段と
を具備したことを特徴とする液晶表示装置用パターンレイアウト装置。
【請求項４】
スペーサ配置手段は、スペーサを発生領域にマトリックス状に配置させる
ことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置用パターンレイアウト装置。
【請求項５】
スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定し、
この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定し、
長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、
長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成し、
この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成し、
この最小の長方形を禁止領域に加え、
発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、
これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項６】
スペーサは、発生領域にマトリックス状に配置される
ことを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スペーサを適切な領域に発生させる液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、テレビジョン表示やグラフィックスディスプレイなどの大型で高密度の液晶表示装置が開発されている。
【０００３】
このような液晶表示装置は、アレイ基板に対向基板を対向させ、これらアレイ基板および対向基板のそれぞれに配向膜を設け、これら配向膜を対向した状態でアレイ基板および対向基板を間隙を介して対向させて周辺領域をシール剤および封止剤で貼り合わせ、アレイ基板および対向基板間に液晶層を挟持している。
【０００４】
また、アレイ基板および対向基板間には、これらアレイ基板および対向基板間の距離を保持するために、たとえばフォトリソグラフィ法により形成された樹脂のスペーサ柱が配置され、カラー表示する場合には、アレイ基板または対向基板の一方に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の着色層が配置されている。
【０００５】
また、液晶表示装置１は、図４１に示すように、中央に表示領域２を有し、この表示領域２の周囲の額縁領域３に表示領域２を駆動する駆動回路４が形成されている。このため、間隙を保持するスペーサ柱を配置するための配置領域５は液晶表示装置１の周辺部に集中的に配置される。
【０００６】
ところが、図４２に示すように、液晶表示装置１の周辺の配置領域５にも、たとえばセルの組立マーク６などが存在し、この組立マーク６とスペーサ柱とが重なると液晶表示装置１の組み立てができなくなるので、たとえば組立マーク６などの周囲にスペーサ柱を配置してはならない禁止領域７が多数存在する。
【０００７】
そして、アレイ基板を設計する際に、レイア概念を持った二次元平面図を描画できるＣＡＤシステムが用いられている（たとえば特許文献１参照）。
【０００８】
ここで、このようなＣＡＤシステムを用いた従来例の液晶表示装置のアレイ基板のスペーサ柱パターンを設計する方法について、図４３を参照して説明する。
【０００９】
まず、アレイ基板のスペーサ柱パターンを発生させる配置領域５を確認する（ステップ１）。
【００１０】
次に、図４４に示すように、この配置領域５内でスペーサ柱パターンを発生してはいけない禁止領域７を確認する（ステップ２）。
【００１１】
さらに、この禁止領域７を除く配置領域５上を覆い尽くすように発生領域８を設定し、この発生領域８にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させる（ステップ３）。
【００１２】
そして、発生したマトリックス状のスペーサ柱パターンと禁止領域７に重なりがないか判定する（ステップ４）。
【００１３】
このステップ４で重なりがあると判断されるとステップ３に戻り、ステップ４で重なりがないと判断されるとマトリックス状のスペーサ柱パターンがない発生領域８がないか判断する（ステップ５）。
【００１４】
そして、ステップ４でマトリックス状のスペーサ柱がない発生領域８があると判断されるとステップ３に戻り、ステップ４で全ての発生領域８にマトリックス状のスペーサ柱パターンがあれば、アレイパターンおよびマトリックス状のスペーサ柱パターンを有するガラス基板パターンを保存する（ステップ６）。
【００１５】
このように従来の液晶表示装置のアレイ基板のスペーサ柱の設計では、全ての設計工程を手作業で進めなければならないとともに、マトリックス状のスペーサ柱パターンと禁止領域との重なり判断、全ての発生領域にマトリックス状のスペーサ柱パターンを発生できたか否かの判断を人手を介してしなければならず、繰り返し作業も多い。
【００１６】
なお、このような液晶表示装置のアレイ基板上のマトリックス状のスペーサ柱パターンを設計するためには、レイア概念を持った二次元平面図を描画できるＣＡＤシステムが一般に用いられる。そして、二次元平面を描画するためにＣＡＤシステムは、データベース上に原点とＸＹ軸を設定し、指定されたレイアによってアレイ基板のパターンが描画できる。また、レイアとはＣＡＤシステム上に描画されたパターンを表現する要素の一つで、アレイ基板の製造に用いるマスクをいい、ＣＡＤシステム上に描画されたデータベース上のパターンは、レイアと頂点座標リストによって最小構成が表される。
【００１７】
【特許文献１】
特開２００２−１６３３２３号公報（第３頁−第７頁）
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、マトリックス状のスペーサ柱パターンの発生作業では、禁止領域を避けて所定のサイズのマトリックス状のスペーサ柱を発生させなければならず、繰り返し作業が多く膨大な時間がかかる上に、人による判断が必要で、設計ミスのおそれがある問題を有している。
【００１９】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、設計期間が大幅に短縮し設計効率の向上を図って必要な部分に確実にスペーサの発生が可能な液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定し、この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定し、長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成し、この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成し、この最小の長方形を禁止領域に加え、発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させるもので、長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、かつ、発生領域内の長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成するとともに、この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成してこの最小の長方形を禁止領域に加え、発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させることにより、効率的に発生領域および禁止領域を形成でき、簡単に必要な部分に確実にスペーサの発生を可能にする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態の液晶表示装置用パターンレイアウト装置を図面を参照して説明する。なお、従来例で説明した部分に対応する部分については同一符号を付して説明する。
【００２２】
この実施の形態も、たとえば図４１に示す液晶表示装置１を形成する際に用いるもので、ステッパ式露光装置を用いる場合のコンピュータのＣＡＤシステムによる設計方法にも有効である。
【００２３】
すなわち、図４１に示すように、液晶表示装置１の表示領域２の周囲の額縁領域３に表示領域２を駆動する駆動回路４が形成され、これら表示領域２および額縁領域３を避けて、間隙を保持するスペーサ柱を配置するための配置領域５を液晶表示装置１の周辺部に集中的に配置している。
【００２４】
まず、一関連技術の基本的な動作について、図１に示すフローチャートを参照して説明する。
【００２５】
最初に、図形処理手段などを用いてアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させなければならない配置領域５を配置領域指定手段により図２（ａ）に示すように長方形で指定する（ステップ11）。
【００２６】
次に、配置領域５内のスペーサ柱パターンを発生してはならない禁止領域７を禁止領域指定手段により長方形で指定する（ステップ12）。
【００２７】
そして、配置領域５内で禁止領域７でない領域を、長方形に分割し複数の発生領域８群を発生領域形成手段により図２（ｂ）に示すように形成する（ステップ13）。
【００２８】
このようにして、配置領域５内の長方形の禁止領域７を避けて、発生領域８を長方形に分割し、発生可能領域の長方形の頂点座標をファイルなどの記憶装置に保存し、この座標ファイルを用いてスペーサ配置手段によりスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させる（ステップ14）。
【００２９】
ここで、ステップ13の配置領域５内のスペーサ柱パターンを発生してはならない禁止領域７を長方形で指定することについての具体的な動作を、図３に示すフローチャートを参照して説明する。
【００３０】
まず、発生領域８の長方形の座標を保存するための配列ＣＯ、禁止領域７の長方形の座標を保存するための配列ＭＫ、作業用の配列ＵＮを、コンピュータ上の仮想記憶領域に確保し、初期化する（ステップ21）。
【００３１】
次に、配列ＭＫに禁止領域７の長方形を左上座標で比較して、図４に示すように、Ｙ座標が大きい順でＹ座標が同じ場合はＸ座標が小さい順にソーティングして保存する（ステップ22）。
【００３２】
そして、作業用配列ＵＮ［１］に発生領域８の座標を保存する（ステップ23）。さらに、ｉ＝１、ｊ＝１として（ステップ24）、ＵＮ［ｉ］とＭＫ［ｊ］に重なりがあるか検査する（ステップ25）。重なりがなければ、ｊがＪ以上であるか否かを判断し（ステップ26）、ｊがＪ以上になるまではステップ24に戻り、ｊがＪ以上になるまでｊ＝ｊ＋１として重なりを検査する（ステップ27）。
【００３３】
さらに、全てのｊに対してＵＮ［ｉ］とＭＫ［ｊ］に重なりがないときは、重なりがない場合の処理をする（ステップ28）。
【００３４】
一方、ステップ25で重なりがあるとされた場合は、重なりがある場合の処理をする（ステップ29）。
【００３５】
そして、これらステップ28またはステップ29の処理をした後は、作業用配列ＵＮにデータがあるかを確認し（ステップ30）、ある場合にはステップ24に戻り、ない場合には発生領域８の配列ＣＯの座標をファイルに書き出す（ステップ31）。
【００３６】
次に、ステップ28の重なりがない場合の処理について、図５に示すフローチャートを参照して説明する。
【００３７】
まず、重なりがない場合は、対象としたＵＮ［１］の内部に禁止領域７が存在しないということなので、ＵＮ［１］は全体が発生領域８となる。すなわち、発生領域８用の配列ＣＯ［Ｋ＋１］にＵＮ［１］の内容を代入する（ステップ41）。そして、配列ＣＯの配列数Ｋに１を加え（ステップ42）、ｉを１からＩ−１まで、ＵＮ［ｉ］にＵＮ［ｉ＋１］の内容を代入し（ステップ43）、作業用配列の配列数Ｉを−１する（ステップ44）。
【００３８】
次に、ステップ29で重なりがあるとした場合の処理について図６に示すフローチャートについて説明する。
【００３９】
まず、禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］に含まれるか判定し（ステップ51）、含まれると判断された場合には含まれている場合の処理をする（ステップ52）。
【００４０】
また、ステップ51で含まれないと判断された場合には禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の上辺と重なるか判定し（ステップ53）、上辺に重なると判断された場合には上辺に重なる場合の処理をする（ステップ54）。
【００４１】
さらに、ステップ53で上辺と重ならないと判断された場合には禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の左辺と重なるか判定し（ステップ55）、左辺に重なると判断された場合には左辺に重なる場合の処理をする（ステップ56）。
【００４２】
またさらに、ステップ55で左辺と重ならないと判断された場合には禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の下辺と重なるか判定し（ステップ57）、下辺に重なると判断された場合には下辺に重なる場合の処理をする（ステップ58）。
【００４３】
そしてまた、ステップ57で下辺と重ならないと判断された場合にはいずれにも該当せず禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の右辺と重なるので、右辺に重なると判断された場合には右辺に重なる場合の処理をする（ステップ59）。
【００４４】
ここで、ステップ52の禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］に含まれると判断された場合の処理について図７に示すフローチャートを参照して説明する。
【００４５】
まず、図８に示すように、禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］の上辺および下辺をＸ軸と変更に延ばした線分で作業配列ＵＮ［ｉ］の長方形の配置領域５を４つの長方形の発生領域８に分割し、禁止領域７の上辺側にある長方形を上辺側長方形、左辺側を左辺側長方形、下辺側を下辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域８を形成する（ステップ61）。
【００４６】
そして、上辺側長方形の発生領域８には禁止領域７は含まれていないので、発生領域８の配列ＣＯ［Ｋ＋１］に上辺側長方形の座標を代入する（ステップ62）。
【００４７】
次に、配列ＣＯの個数Ｋに１を加え（ステップ63）、ＵＮ［Ｉ＋１］に左辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ64）、ＵＮ［Ｉ＋２］に下辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ65）、ＵＮ［Ｉ＋３］に右辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ66）、配列ＵＮの個数Ｉに３を加える（ステップ67）。
【００４８】
そして、ｉを１からＩ−１まで、ＵＮ［ｉ］にＵＮ［ｉ＋１］の内容を代入し（ステップ68）、作業用配列の配列数Ｉを−１する（ステップ69）。
【００４９】
次に、ステップ54の禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の上辺と重なると判断された場合の処理について図９に示すフローチャートを参照して説明する。
【００５０】
まず、図１０に示すように、禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］の下辺をＸ軸と変更に延ばした線分で作業配列ＵＮ［ｉ］の長方形の配置領域５を３つの長方形の発生領域８に分割し、禁止領域７の左辺側を左辺側長方形、下辺側を下辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域８を形成する（ステップ71）。
【００５１】
そして、ＵＮ［Ｉ＋１］に左辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ72）、ＵＮ［Ｉ＋２］に下辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ73）、ＵＮ［Ｉ＋３］に右辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ74）、配列ＵＮの個数Ｉに３を加える（ステップ75）。
【００５２】
また、ｉを１からＩ−１まで、ＵＮ［ｉ］にＵＮ［ｉ＋１］の内容を代入し（ステップ76）、作業用配列の配列数Ｉを−１する（ステップ77）。
【００５３】
また、ステップ52の禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の左辺に重なると判断された場合の処理について図１１に示すフローチャートを参照して説明する。
【００５４】
まず、図１２に示すように、禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］の上辺および下辺をＸ軸と変更に延ばした線分で作業配列ＵＮ［ｉ］の長方形の配置領域５を３つの長方形の発生領域８に分割し、禁止領域７の上辺側にある長方形を上辺側長方形、下辺側を下辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域８を形成する（ステップ81）。
【００５５】
そして、上辺側長方形の発生領域８には禁止領域７は含まれていないので、発生領域８の配列ＣＯ［Ｋ＋１］に上辺側長方形の座標を代入する（ステップ82）。
【００５６】
次に、配列ＣＯの個数Ｋに１を加え（ステップ83）、ＵＮ［Ｉ＋１］に下辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ84）、ＵＮ［Ｉ＋２］に右辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ85）、配列ＵＮの個数Ｉに２を加える（ステップ86）。
【００５７】
そして、ｉを１からＩ−１まで、ＵＮ［ｉ］にＵＮ［ｉ＋１］の内容を代入し（ステップ87）、作業用配列の配列数Ｉを−１する（ステップ88）。
【００５８】
さらに、ステップ52の禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の下辺に重なると判断された場合の処理について図１３に示すフローチャートを参照して説明する。
【００５９】
まず、図１４に示すように、禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］の上辺をＸ軸と変更に延ばした線分で作業配列ＵＮ［ｉ］の長方形の配置領域５を３つの長方形の発生領域８に分割し、禁止領域７の上辺側にある長方形を上辺側長方形、左辺側を左辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域８を形成する（ステップ91）。
【００６０】
そして、上辺側長方形の発生領域８には禁止領域７は含まれていないので、発生領域８の配列ＣＯ［Ｋ＋１］に上辺側長方形の座標を代入する（ステップ92）。
【００６１】
次に、配列ＣＯの個数Ｋに１を加え（ステップ93）、ＵＮ［Ｉ＋１］に左辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ94）、ＵＮ［Ｉ＋２］に右辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ95）、配列ＵＮの個数Ｉに２を加える（ステップ96）。
【００６２】
そして、ｉを１からＩ−１まで、ＵＮ［ｉ］にＵＮ［ｉ＋１］の内容を代入し（ステップ97）、作業用配列の配列数Ｉを−１する（ステップ98）。
【００６３】
またさらに、ステップ52の禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］がＵＮ［ｉ］の右辺に重なると判断された場合の処理について図１５に示すフローチャートを参照して説明する。
【００６４】
まず、図１６に示すように、禁止領域７の配列ＭＫ［ｊ］の上辺および下辺をＸ軸と変更に延ばした線分で作業配列ＵＮ［ｉ］の長方形の配置領域５を３つの長方形の発生領域８に分割し、禁止領域７の上辺側にある長方形を上辺側長方形、左辺側を左辺側長方形、下辺側を下辺側長方形とし、それぞれ発生領域８を形成する（ステップ101）。
【００６５】
そして、上辺側長方形の発生領域８には禁止領域７は含まれていないので、発生領域８の配列ＣＯ［Ｋ＋１］に上辺側長方形の座標を代入する（ステップ102）。
【００６６】
次に、配列ＣＯの個数Ｋに１を加え（ステップ103）、ＵＮ［Ｉ＋１］に左辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ104）、ＵＮ［Ｉ＋２］に下辺側長方形の発生領域８の座標を代入し（ステップ105）、配列ＵＮの個数Ｉに２を加える（ステップ106）。
【００６７】
そして、ｉを１からＩ−１まで、ＵＮ［ｉ］にＵＮ［ｉ＋１］の内容を代入し（ステップ107）、作業用配列の配列数Ｉを−１する（ステップ108）。
【００６８】
このようにして、配置領域５の長方形を禁止領域７の長方形を避けて、発生領域８の長方形に分割することができ、発生可能領域の長方形の頂点座標をファイルに保存できる。なお、いずれも配置領域５、禁止領域７および発生領域８長方形にすることにより、データ処理が簡単になり、データ処理時間を短くできる。
【００６９】
さらに、ステップ14で配置領域５内の長方形の禁止領域７を避けて発生領域８を長方形に分割し、発生領域８の長方形の頂点座標をファイルに保存し、この座業ファイルを用いてスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させることを、図１７に示すフローチャートを参照して説明する。
【００７０】
まず、ファイルに保存した発生可能領域の頂点座標を読み込む（ステップ111）。
【００７１】
また、Ｋ＝１として（ステップ112）、ｋ番目の発生可能領域内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させ、全ての発生領域についての処理する（ステップ113）。
【００７２】
そして、全ての発生領域８内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させ、全ての発生領域８内にスペーサ柱パターンがマトリックス状に発生したか否かを判断し（ステップ114）、ｋ＝ｋ＋１として（ステップ115）ステップ113に戻り、ガラス基板パターンをハードディスク上などの記憶装置に保存する（ステップ116）。
【００７３】
このようにすることで、指定した配置領域５内の禁止領域７を除いた部分の発生領域８内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させたガラス基板パターンを、容易に作成できる。
【００７４】
従来例では、スペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させるのに５時間かかっていたが、上記関連技術によれば、発生作業が１時間になり、１／５に短縮され、設計ミスの低減が達成できた。
【００７５】
次に、図４に示す配置領域５から禁止領域７を除いた部分に発生領域８を形成する具体的な動作について図１８ないし図２３を参照して説明する。
【００７６】
まず、図４に示すように、配置領域５内の５つの禁止領域７をソーティングする。
【００７７】
そして、配置領域５内には５つの第１ないし第５の禁止領域７が含まれているので、ステップ52により、図８に示すように、第１番目の禁止領域７の上辺および下辺をＸ軸方向に延長し、４つの長方形の発生領域８を分割して形成する。
【００７８】
次に、第１および第２の発生領域８には禁止領域７が含まれないので、第１および第２の発生領域８はステップ28の重なりがない処理をし、第３の発生領域８は第２および第３の禁止領域７の上辺が重なっているので、ステップ54により、第２の禁止領域７の下辺をＸ軸方向に延長し、図１８に示す第３の発生領域８を、図１９に示すように３つの第３ないし第５の発生領域８に分割する。また、第４の発生領域８は、第６の発生領域８とする。
【００７９】
また、第３の発生領域８には禁止領域７が含まれないので、第３の発生領域８はステップ28の重なりがない処理をし、第４の発生領域８は第４および第５の禁止領域７が含まれているので、ステップ52により、第４の禁止領域７の上辺および下辺をＸ軸方向に延長し、図１９に示す第４の発生領域８を、図２０に示すように４つの第４ないし第７の発生領域８に分割する。また、第５および第６の発生領域８は、第８および第９の発生領域８とする。
【００８０】
さらに、第４および第５の発生領域８には禁止領域７が含まれないので、第４および第５の発生領域８はステップ28の重なりがない処理をし、第６の発生領域８は第５の禁止領域７が含まれているので、ステップ54により、第４の禁止領域７の下辺をＸ軸方向に延長し、図２０に示す第４の発生領域８を、図２１に示すように３つの第６ないし第８の発生領域８に分割する。また、第７ないし第９の発生領域８は、第９ないし第１１の発生領域８とする。
【００８１】
またさらに、第６ないし第８の発生領域８には禁止領域７が含まれないので、第６ないし第８の発生領域８はステップ28の重なりがない処理をし、第９の発生領域８は第５の禁止領域７が含まれているので、ステップ58により、第５の禁止領域７の上辺をＸ軸方向に延長し、図２１に示す第９の発生領域８を、図２２に示すように３つの第９ないし第１１の発生領域８に分割する。また、第１０および第１１の発生領域８は、第１２および第１３の発生領域８とする。
【００８２】
そして、第９ないし第１１の発生領域８には禁止領域７が含まれないので、第９ないし第１１の発生領域８はステップ28の重なりがない処理をし、第１２の発生領域８は第３の禁止領域７が含まれているので、第３の禁止領域７により、図２２に示す第１２の発生領域８を、図２３に示すように２つの第１２および第１３の発生領域８に分割する。また、第１３の発生領域８は、第４の発生領域８とする。
【００８３】
このように、配置領域５を禁止領域７を避けて１４の発生領域８に分割し、それぞれの発生領域８にスペーサ柱のマトリックスを配置して、禁止領域７内にスペーサ柱パターンを発生させることなく、発生領域８内に確実にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させることにより短時間で高精度な液晶表示装置用パターンレイアウトを形成する。
【００８４】
次に、一実施の形態について説明する。
【００８５】
まず、本実施の形態の基本的な動作について、図２４に示すフローチャートを参照して説明する。なお、＊はパターン間のＡＮＤ、＋はパターン間のＯＲ、−はパターンとパターンの削除を示す。
【００８６】
最初に、図形処理手段などを用いてアレイ基板パターンのどの領域にスペーサ柱パターンを発生させなければならないかの発生領域を多角形で指定する（ステップ121）。次に、スペーサ柱パターンを発生してはならない発生禁止領域を多角形で指定する（ステップ122）。
【００８７】
そして、ステップ121で指定した発生領域となる発生領域パターンを長方形のパターン群に分割する（ステップ123）。
【００８８】
ここで、ステップ123の工程について図２５を参照して説明する。
【００８９】
まず、初期値としてスペーサ柱パターンの最小線間隔をｉに代入する（ステップ131）。次に、図２６のように認識したパターン全てに対してＡとラベル付けする。この時点で発生領域分割パターンが既にあればＢとし、認識した発生領域分割パターン全てに対してＢとラベル付けする。なお、図２６に示す状態では発生領域分割パターンは存在していない。次に、図２７に示すように、Ａ、Ｂそれぞれのパターンの辺をそれぞれ辺ＡＥ、辺ＢＥとする(ステップ132)。なお、図２７の点線は辺ＡＥのみを示している。
【００９０】
そして、ステップ132で求めた辺ＡＥ、辺ＢＥに対して、辺ＡＥまたは辺ＢＥから、辺ＡＥであり辺ＢＥである辺を除いた辺であるとともに、辺ＡＥである辺を辺ＣＥとする（ステップ133）。また、平行な辺ＣＥ同士で、それぞれの辺ＣＥが対向する辺となる長方形を形成し、辺ＣＥの間隔がｉ以下となる長方形を長方形ＣＯとする（ステップ134）。さらに、長方形ＣＯの中でＡまたはＢに重ならない長方形を長方形Ｃとする（ステップ135）。そして、図２８に示すアパターンおよびイパターンを長方形Ｃを発生領域分割パターン、Ｂパターンとして保存する（ステップ136）また、ｉが最大線間隔を超えているか否かを判断し（ステップ137）、ｉが最大線間隔を超えていなければ、ｉに抽出ステップ幅を加えてｉとし（ステップ138）、図２９に示すように、ステップ132に戻りステップ137までのフローを繰り返す。そして、ｉが最大線間隔を超えていれば、Ｂパターンを発生領域分割パターンとして長方形パターンの集合が得られ、これら長方形パターンを保存する（ステップ139）。
【００９１】
次に、ステップ122で指定した発生禁止領域パターンを長方形のパターン群に分割する（ステップ124）。
【００９２】
このステップ124では、図３０に示すように、初期値として最小線間隔をｉに代入する（ステップ141）。次に、図３１に示すように認識したパターン全てに対してＤとラベル付けし、この時点で発生禁止領域分割パターンが既にあれば、認識した発生領域分割パターン全てに対してＥとラベル付けする。なお、図３１にはＥとラベル付けされる該当パターンはない。そして、Ｄ、Ｅそれぞれのパターンの辺をそれぞれ辺ＤＥ、辺ＥＥとする（ステップ142）。
【００９３】
そして、ステップ142で求めた辺ＤＥ、辺ＥＥに対して、辺ＤＥまたは辺ＥＥから、辺ＤＥであり辺ＥＥである辺を除いた辺であるとともに、辺ＤＥである辺を辺ＦＥとする（ステップ143）。また、平行な辺ＦＥ同士で、それぞれの辺ＦＥが対向する辺となる長方形を形成し、辺ＦＥの間隔がｉ以下となる長方形を長方形ＦＯとする（ステップ144）さらに、長方形ＦＯの中でＤまたはＥに重ならない長方形を長方形Ｆとする（ステップ145）。そして、図３１に示す長方形Ｆを発生禁止領域分割パターン、Ｅパターンとして保存する（ステップ146）。また、ｉが最大線間隔を超えているか否かを判断し（ステップ147）、ｉが最大線間隔を超えていなければ、ｉに抽出ステップ幅を加えてｉとし（ステップ148）、図３２に示すように、ステップ142に戻りステップ147までのフローを繰り返す。そして、ｉが最大線間隔を超えていれば、発生禁止パターンＤで発生禁止分割パターンＥとならなかった領域があるか判定する（ステップ149）。
【００９４】
さらに、たとえば図３２に示す場合は、三角形状のパターンが残ることになる。三角形領域が残っている場合は、図３３に示す三角形は図３４に示す長方形に、図３５に示す三角形は図３６に示す長方形に、それぞれ三角形領域を含む最小の長方形を発生禁止領域パターンＥに加える（ステップ150）。そして、このように形成されたＥパターンを発生禁止領域分割パターンとして長方形パターンの集合が得られ、これら長方形パターンを保存する（ステップ151）。
【００９５】
このようにして、ステップ123およびステップ124により、対象パターンが発生領域の場合には図３７に示すように、対象パターンが発生禁止領域の場合には図３８に示すように、それぞれ長方形パターンが形成される。
【００９６】
次に、発生領域分割パターンから、発生禁止領域分割パターンを避けるように、長方形に分割する（ステップ125）。このステップ125は、上記関連技術の図１のステップ13と同様に処理する。
【００９７】
このようにして、発生領域の多角形を、発生禁止領域の多角形を避けて発生可能領域の長方形に分割することができ、発生可能領域の長方形の頂点座標をファイルに保存できる。この頂点座標ファイルを用いてスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させ、全ての発生領域内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させたガラス基板パターンをハードディスク上に保存する（ステップ126）。
【００９８】
したがって、指定した発生領域内の発生禁止領域を除いた部分にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させたガラス基板パターンを、容易に作成することができる。
【００９９】
特に、上記関連技術に比べ、本実施の形態では、スペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させるのに２時間かかっていたのに対し、発生作業が１時間になり、１／２に短縮され、さらに、設計ミスの低減が達成できる。また、本実施の形態によれば、図３９に示すように発生禁止領域同士が重なって、図４０に示すように発生禁止領域が多角形になっても、発生禁止領域の重なりがないかの判断を人手を介して確認する必要なく、正常にスベーサ柱パターンのマトリックスを発生できる。
【０１００】
なお、パターンの認識、発生には、ＤＲＣツールを利用してもよい。
【０１０１】
また、上述のプログラムを、光学あるいは磁気ディスク、その他の液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶させて用いても同様の効果を得ることができる。
【０１０２】
【発明の効果】
本発明によれば、長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、かつ、発生領域内の長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成するとともに、この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成してこの最小の長方形を禁止領域に加え、発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させることにより、効率的に発生領域および禁止領域を形成でき、簡単に必要な部分に確実にスペーサの発生を可能にできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一関連技術のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図２】  同上スペーサ柱パターンを形成するための配置領域を禁止領域を避けて分割して発生領域を形成する説明図である。
【図３】  同上スペーサ柱パターンを形成するための配置領域を禁止領域を避けて分割して発生領域を形成する動作を示すフローチャートである。
【図４】  同上禁止領域が複数ある場合のソーティングを示す説明図である。
【図５】  同上配置領域に禁止領域がない場合の動作を示すフローチャートである。
【図６】  同上配置領域に禁止領域がある場合の動作を示すフローチャートである。
【図７】  同上発生領域に禁止領域が含まれる場合の動作を示すフローチャートである。
【図８】  同上発生領域に禁止領域が含まれる状態を示す説明図である。
【図９】  同上発生領域に禁止領域の上辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図１０】  同上発生領域に禁止領域の上辺が重なる状態を示す説明図である。
【図１１】  同上発生領域に禁止領域の左辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図１２】  同上発生領域に禁止領域の左辺が重なる状態を示す説明図である。
【図１３】  同上発生領域に禁止領域の下辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図１４】  同上発生領域に禁止領域の下辺が重なる状態を示す説明図である。
【図１５】  同上発生領域に禁止領域の右辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図１６】  同上発生領域に禁止領域の右辺が重なる状態を示す説明図である。
【図１７】  同上分割した発生領域にスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図１８】  同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を具体的に分割形成する状態を示す説明図である。
【図１９】  同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図１８の次の状態を示す説明図である。
【図２０】  同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図１９の次の状態を示す説明図である。
【図２１】  同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図２０の次の状態を示す説明図である。
【図２２】  同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図２１の次の状態を示す説明図である。
【図２３】  同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図２２の次の状態を示す説明図である。
【図２４】  同上一実施の形態のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図２５】  同上発生領域を指定する動作を示すフローチャートである。
【図２６】  同上発生領域パターンを示す説明図である。
【図２７】  同上図２６の発生領域パターンの分割を示す説明図である。
【図２８】  同上図２７の発生領域パターンの分割を示す説明図である。
【図２９】  同上図２８の発生領域パターンの分割を示す説明図である。
【図３０】  同上発生禁止領域を指定する動作を示すフローチャートである。
【図３１】  同上発生禁止領域パターンを示す説明図である。
【図３２】  同上図３１の発生禁止領域パターンの分割を示す説明図である。
【図３３】  同上三角形領域の発生禁止パターンを示す説明図である。
【図３４】  同上三角形領域の発生禁止パターンを長方形にした状態を示す説明図である。
【図３５】  同上他の三角形領域の発生禁止パターンを示す説明図である。
【図３６】  同上三角形領域の発生禁止パターンを長方形にした状態を示す説明図である。
【図３７】  同上対象パターンが発生領域の場合の長方形パターンを示す説明図である。
【図３８】  同上対象パターンが発生禁止領域の場合の長方形パターンを示す説明図である。
【図３９】  同上発生禁止領域同士が重なった状態を示す説明図である。
【図４０】  同上発生禁止領域が多角形の状態を示す説明図である。
【図４１】  同上配置パターンを示す説明図である。
【図４２】  同上配置パターンの禁止領域を拡大して示す説明図である。
【図４３】  従来例のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図４４】  従来例のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる状態を示す説明図である。
【符号の説明】
７    禁止領域
８    発生領域
【図１】
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【図２】
0004413488.tif 000003
【図３】
0004413488.tif 000004
【図４】
0004413488.tif 000005
【図５】
0004413488.tif 000006
【図６】
0004413488.tif 000007
【図７】
0004413488.tif 000008
【図８】
0004413488.tif 000009
【図９】
0004413488.tif 000010
【図１０】
0004413488.tif 000011
【図１１】
0004413488.tif 000012
【図１２】
0004413488.tif 000013
【図１３】
0004413488.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0004413488.tif 000017
【図１７】
0004413488.tif 000018
【図１８】
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【図１９】
0004413488.tif 000020
【図２０】
0004413488.tif 000021
【図２１】
0004413488.tif 000022
【図２２】
0004413488.tif 000023
【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
0004413488.tif 000027
【図２７】
0004413488.tif 000028
【図２８】
0004413488.tif 000029
【図２９】
0004413488.tif 000030
【図３０】
0004413488.tif 000031
【図３１】
0004413488.tif 000032
【図３２】
0004413488.tif 000033
【図３３】
0004413488.tif 000034
【図３４】
0004413488.tif 000035
【図３５】
0004413488.tif 000036
【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
0004413488.tif 000039
【図３９】
0004413488.tif 000040
【図４０】
0004413488.tif 000041
【図４１】
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【図４２】
0004413488.tif 000043
【図４３】
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【図４４】
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