(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
0004440461.tif 000017
の化合物であって、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して一般式（Ａ）：
−［（ＣＴ1Ｔ2）n−［Ｎ（Ｒ4）］p−（ＣＴ3Ｔ4）m］l−      （Ａ）
で示されるものから選ばれる二価のラジカルを示し、
ｐは０または１に等しい整数を示し、
ｌは１または２に等しい整数を示し、
ｎ及びｍは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して３以下であり且つ１以上の整数を示し、
Ｔ1、Ｔ2、Ｔ3及びＴ4は同一または異なっておりそれぞれが互いに独立して水素原子、１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、または７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカルを示すか或いはＣＴ1Ｔ2及び／またはＣＴ3Ｔ4が二価の基−（Ｃ＝Ｏ）−を示すかのいずれかであり、
Ｒ4は水素原子、未置換の或いは１つ以上の官能基で置換された１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカル、または一般式（Ｂ）：
Ｒ5−Ｓｉ（Ｘ1）（Ｘ2）（Ｘ3）      （Ｂ）
で示されるラジカルを示し、
Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、またはＯＲ6ラジカルを示し、Ｒ6は水素原子または１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカルを示し、
Ｒ5は１乃至１０個の炭素原子を具備する飽和または不飽和脂肪族炭化水素鎖から誘導された二価のラジカルであり、その鎖にはアリーレン基或いは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ7）−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｎ（Ｒ7）−フラグメントから選ばれる１つ以上の構造結合体が任意に挿入され、Ｒ7は水素原子、１乃至６個の炭素原子を具備する脂肪族炭化水素ラジカル、ベンジルラジカル、またはフェネチルラジカルを示し、前記鎖は未置換であるか或いはハロゲン原子、ヒドロキシル基、１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカル、若しくはベンジルまたはフェネチルラジカルから選ばれる１つ以上のラジカルで置換されており、
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一または異なっておりそれぞれが互いに及びＲ4と独立して水素原子、未置換の或いは１つ以上の官能基で置換された１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカル、または上記に規定された一般式（Ｂ）で示されるラジカルを示し、
前記化合物は、式（Ｂ）のラジカルであるＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4の少なくとも１つの基を含んでいる化合物。
【請求項２】
Ｗ1、Ｗ2及びＷ3が同一または異なっておりｐが０に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ）に対応した式（Ａ1）のラジカルを示す請求項１に規定された式（Ｉ）に対応した式（Ｉａ）の化合物。
【請求項３】
ｌが１に等しく、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3がそれぞれ二価のラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示すか若しくは３つの基Ｗ1、Ｗ2またはＷ3のいずれか１つが二価のラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し且つ他の２つのそれぞれが二価のラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−を示す請求項２に規定された式（Ｉａ）に対応した式（Ｉａ1）の化合物。
【請求項４】
Ｗ1がｐが１に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ）に対応した式（Ａ2）の二価のラジカルを示し、Ｗ2及びＷ3が同一または異なっておりｐが０に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ）に対応した式（Ａ1）のラジカルを示す請求項１に規定された式（Ｉ）に対応した式（Ｉｂ）の化合物。
【請求項５】
ｌが１に等しく、３つの基Ｗ1、Ｗ2またはＷ3のいずれか１つがラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し残りの２つの基の一方がラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し最後の基がラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示すか若しくは３つの基Ｗ1、Ｗ2またはＷ3のいずれか１つがラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し、残りの２つの基がそれぞれラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示す請求項４に規定された式（Ｉｂ）に対応した式（Ｉｂ1）の化合物。
【請求項６】
Ｗ1及びＷ2が同一または異なっておりｐが１に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ）に対応した式（Ａ2）の二価のラジカルを示し、Ｗ3がｐが０に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ）に対応した式（Ａ1）のラジカルを示す請求項１に規定された式（Ｉ）に対応した式（Ｉｃ）の化合物。
【請求項７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4ラジカルが（Ｂ）ラジカル或いは水素原子のいずれかを示す請求項２乃至６のいずれか１項に規定された式（Ｉａ）、（Ｉｂ）または（Ｉｃ）の化合物。
【請求項８】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4ラジカルが（Ｂ）ラジカル或いは水素原子のいずれかを示す請求項３に規定された式（Ｉａ）に対応した（Ｉａ1）のまたは請求項５に規定された式（Ｉｂ）に対応した（Ｉｂ1）の化合物。
【請求項９】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が（Ｂ）ラジカル或いはラジカル−（ＣＨ2）w−Ｃ（＝Ｏ）−Ｖのいずれかを示し、ＶはＮＨ2またはＯＲ8ラジカルの一方を示し、Ｒ8は１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカルを示し、ｗは１以上であり且つ６以下の整数を示す請求項１乃至６のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物。
【請求項１０】
前記式（Ｂ）のラジカルが、式（Ｂ1）：
−［ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）］y−（ＣＨ2）o−（Ｑ）q−（ＣＨ2）r−（Ａｒ）s−（ＣＨ2）t−（Ｕ）u−（ＣＨ2）v−Ｓｉ（Ｘ）3      （Ｂ1）
のラジカルであり、
ｏ、ｒ、ｔ及びｖは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して０以上であり且つ６以下の整数を示し、
ｙ、ｑ、ｓ及びｕは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して０以上であり且つ１以下の整数を示し、
Ｑ及びＵは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して酸素原子、硫黄原子、或いは−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、または−ＮＨ−基の１つを示し、
Ａｒはアリーレン基を示し、
Ｘは水素原子或いはメトキシまたはエトキシラジカルのいずれかを示し、
ｑが１に等しいときに和ｙ＋ｏは０以外であり、
ｑが１に等しいとき及びｕが０に等しいときに和ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｖは０以外であり、
ｕが１に等しいときにｖは０以外であり、
ｕが１に等しいとき及びｑが０に等しいときに和ｙ＋ｏ＋ｒ＋ｓ＋ｔは０以外であり、
ｓが０に等しいとき及びｑ及びｕがそれぞれ１に等しいときに和ｒ＋ｔは０以外であり、
和ｙ＋ｏ＋ｒ＋ｔ＋ｖは１２以下である請求項１乃至９のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物。
【請求項１１】
式（Ｂ1）のラジカルが、３−シリルプロピル、（４−シリルフェニル）メチル、３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］オキシ］−２−ヒドロキシプロピル、［４−［［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミノ］メチル］フェニル］メチル、［４−（トリエトキシシリル）フェニル］プロピル、３−オキソ−３−［［３−（トリエトキシシリル）プロピルオキシ］プロピル、または２−オキソ−２−［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミノ］エチルラジカルから選ばれる請求項１０に規定された式（Ｉ）の化合物。
【請求項１２】
以下の名称：
１，４，８，１１−テトラキス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
１，４，８，１１−テトラキス［［４−（トリエトキシシリル）フェニル］メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
テトラ［３−（トリエトキシシリル）プロピル］  １，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラプロパノエート、
１，４，８，１１−テトラキス（３−シリルプロピル）−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
１，４，８，１１−テトラキス［（４−シリルフェニル）メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
Ｎ1，Ｎ2，Ｎ3，Ｎ4−テトラキス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラアセトアミド、
４，１１−ビス［［４−（トリエトキシシリル）フェニル］メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−７，１４−ジオン
を有する請求項１乃至１１のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物の調製方法であって、
ａ）式（Ｃ）の化合物，
Ｚ−Ｒ'5−Ｓｉ（Ｘ1）（Ｘ2）（Ｘ3）      （Ｃ）
そこで、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、またはＯＲ6ラジカルを示し、Ｒ6は水素原子または１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカルを示し、
Ｒ'5は１乃至１０個の炭素原子を具備する飽和または不飽和脂肪族炭化水素鎖から誘導された二価のラジカルであり、その鎖にはアリーレン基或いは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ7）−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｎ（Ｒ7）−フラグメントから選ばれる１つ以上の構造結合体が任意に挿入され、Ｒ7は水素原子、１乃至６個の炭素原子を具備する脂肪族炭化水素ラジカル、ベンジルラジカル、またはフェネチルラジカルを示し、前記鎖は未置換であるか或いはハロゲン原子、ヒドロキシル基、１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカル、若しくはベンジルまたはフェネチルラジカルから選ばれる１つ以上のラジカルで置換されており、
Ｚは第二アミン官能基，＝Ｎ−Ｈ，と反応してＮ−Ｃ共有結合を形成し得る官能基を示す，
が、式（Ｉ’）の化合物：
【化２】
0004440461.tif 000018
そこで、Ｗ'1、Ｗ'2及びＷ'3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して一般式（Ａ’）：
−［（ＣＴ1Ｔ2）n−［Ｎ（Ｒ'4）］p−（ＣＴ3Ｔ4）m］l−      （Ａ’）
で示されるものから選ばれる二価のラジカルを示し、
ｌ、ｐ、ｎ、ｍ、Ｔ1、Ｔ2、Ｔ3及びＴ4は上記に規定された式（Ａ）についてと同様の定義を有し、
Ｒ'4は水素原子、１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、または７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカルを示し、
Ｒ'1、Ｒ'2及びＲ'3は同一または異なっておりそれぞれが互いに及びＲ4と独立して水素原子、１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、または７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカルを示し、
式（Ｉ’）の化合物のポリアザシクロアルカンの核は、せいぜい３０個の環状炭素原子及びせいぜい６個の環状窒素原子を具備すること並びにこれら環状窒素原子の少なくとも１つは未置換である，
と反応して上記に規定された式（Ｉ）の化合物を形成すること、及び望まれるのであれば、
ｂ）前記式（Ｉ）の化合物の未置換の環状窒素の全て或いは一部が官能化されて、上記に規定された式（Ｉ）に対応する式（Ｉｄ）の化合物，そこで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3またはＲ4ラジカルの少なくとも１つはラジカル−（ＣＨ2）w−Ｃ（＝Ｏ）−Ｖを示し、ｗ及びＶは上記に規定されたのと同様である，を形成すること
を具備する方法。
【請求項１４】
式（Ｃ1）の化合物：
Ｚ'−（ＣＨ2）o−（Ｑ）q−（ＣＨ2）r−（Ａｒ）s−（ＣＨ2）t−（Ｕ）u−（ＣＨ2）v−Ｓｉ（Ｘ）3      （Ｃ1）
を用いて実行され、
ｏ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕ、ｖ、Ｑ、Ａｒ、Ｕ及びＸは上記に規定された式（Ｂ1）と同様の定義を有し、
Ｚ’はハロラジカル、オキシラン−２−イル基またはエテニル基のいずれかを示し、
和ｑ＋ｓは０または１に等しく、
ｑが１に等しいとき及びＺ’がハロラジカルを示すときにｏは０以外であり、
ｑが１に等しいとき及びｕが０に等しいときに和ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｖは０以外であり、
ｕが１に等しいときにｖは０以外であり、
ｕが１に等しいとき及びｑが０に等しいときに和ｏ＋ｒ＋ｓ＋ｔは０以外であり、
ｓが０に等しいとき及びｑ及びｕがそれぞれ１に等しいときに和ｒ＋ｔは０以外であり、
和ｏ＋ｒ＋ｔ＋ｖは６未満である請求項１３に記載の調製方法。
【請求項１５】
（トリエトキシ）（３−ヨードプロピル）シラン、２−［［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］オキシ］メチル］オキシラン、Ｎ−［［４−（ブロモメチル）フェニル］メチル］−Ｎ−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミン、（トリエトキシ）［４−（ヨードメチル）フェニル］シラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルプロペノエート、またはＮ−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］ブロモアセトアミドからなる群より選択される１つの化合物を用いて実行される請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
請求項１乃至１２のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物の加水分解、それによりもたらされる非メタレート化ポリアザ大環状ユニットを組み込んだ非メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）の形成、続く前記非メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）への金属塩の作用から得られる、ポリアザ大環状分子とポリアザ大環状分子の金属錯体とを組み込んだメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ）。
【請求項１７】
前記金属元素がコバルト及び銅から選ばれる請求項１６記載のメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ1）。
【請求項１８】
式（Ｉａ）、（Ｉｂ）または（Ｉｃ）の化合物の加水分解から得られる請求項１６又は１７記載のメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ1a）。
【請求項１９】
金属塩の請求項１乃至１２のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物への作用、それによりもたらされる前記金属の前記式（Ｉ）の化合物との有機金属錯体の形成、続く前記有機金属錯体の加水分解から得られる、ポリアザ大環状分子とポリアザ大環状分子の金属錯体とを組み込んだメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＶ）。
【請求項２０】
金属元素がコバルトまたは銅から選ばれる請求項１９記載のメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＶ1）。
【請求項２１】
式（Ｉａ）、（Ｉｂ）または（Ｉｃ）の化合物の加水分解から得られる請求項１９または２０記載のメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＶ1a）。
【請求項２２】
請求項１乃至１２のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物が加水分解に供され、それにより非メタレート化ポリアザ大環状ユニットを組み込んだ非メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）の形成がもたらされ、及びその後、前記非メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）が金属塩と反応するメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ）の調製方法。
【請求項２３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に規定された式（Ｉ）の化合物が金属塩と反応し、それにより前記金属の前記式（Ｉ）の化合物との有機金属錯体の形成がもたらされ、及びその後、前記有機金属錯体が加水分解に供されるメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＶ）の調製方法。
【請求項２４】
前記メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の組成に伴われる金属カチオンは、Ｕ、Ｐｕ、Ａｍ、Ｅｕ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｇｄ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｄ、Ａｕ、Ｈｇ、またはＰｂから選ばれる請求項２２及び２３のいずれかに規定された方法。
【請求項２５】
請求項１６乃至２１のいずれか１項に規定されたか又は請求項２２乃至２４のいずれか１項に規定された方法によって調製されたメタレート化ポリシロキサンゲルのガス混合物から所定のガスを分離することにおける使用であって、前記ガス混合物を前記分離されるべきガスの吸着を可能とする条件下で上記に規定されたメタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の１つと接触させ、前記ゲルに付いた前記ガスを脱着するフェーズ及び前記脱着したガスを回収するフェーズへと続く使用。
【請求項２６】
純粋な酸素の製造の目的或いは空気からの酸素の除去の目的のいずれかで空気からの酸素の分離に適用される請求項２５に規定された使用。
【請求項２７】
請求項１乃至１２に規定された式（１）の化合物の加水分解によって得られる非メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）であって、非メタレート化ポリアザ大環状分子を組み込んだ非メタレート化ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明の主題は、ガスの分離及び精製の分野で使用され得る新規な材料である。極低温蒸留であろうとゼオライトへの吸着であろうと現在の分離技術は及び極低温或いは触媒蒸留による工業的ガスの精製技術は、経済的観点或いは純度の観点のいずれにおいても常に最適化されている訳ではない。多くの研究は、酸素、水素、或いは一酸化炭素のようなガスは、遷移金属錯体と選択的に及び可逆的に反応することを示している。
【０００２】
例えば、シクラムの或いはシクレンのコバルト（ＩＩ）錯体は、空中酸素を容易に固定し（Ｍａｃｈｉｄａ  Ｒ．，Ｋｉｍｕｒａ  Ｅ．，Ｋｏｄａｍａ  Ｍ．，Ｉｎｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，１９８３，２２，２０５５−２０６１）、水性媒体中にμ−パーオキシド種をもたらす。しかしながら、溶液中の酸素含有錯体の寿命（lifetime）は、後者は不可逆分解反応を引き起こし得るので制限されている（Ｍａｒｔｅｌｌ  Ａ．Ｅ．，Ｂａｓａｋ  Ａ．Ｋ．，Ｒａｌｅｉｇｈ  Ｃ．Ｊ．，Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．  Ｃｈｅｍ．，１９８８，６０，１３２５−１３２９）。その上、これら種は、単に二酸素分圧を減少させるだけでは脱酸素化され得ない。分離プロセスで必要な可逆性における改良は、中間のスーパーオキシド種の安定化を要求している。固体マトリクスへの配位子のグラフトは、同時に、スーパーオキシド種からμ−パーオキシド種への変化を減速させ、加水分解反応を制限し、活性な錯体の取り扱いを容易にするべきである（Ｔｓｕｃｈｉｄａ  Ｅ．，Ｎｉｓｈｉｄｅ  Ｈ．，Ｔｏｐ．  Ｃｕｒｒ．  Ｃｈｅｍ．，１９８６，３２，６３−９９）。コバルトとポルフィリン類、フタロシアニン類、或いはシクリデン類（cyclidenes）との錯体のシリカゲルのような有機或いは無機ポリマー中への組み込み並びにこれら材料の酸素との相互作用についての研究は、多くの研究の主題を形成している。一般に、第一段階で錯体が合成され、その後、ピリジン或いはイミダゾールユニットの窒素原子と金属との間の供与結合によりポリマー上に固定化される（Ｎｉｓｈｉｄｅ  Ｈ．，Ｓｕｚｕｋｉ  Ｔ．，Ｋａｗａｋａｍｉ  Ｈ．，Ｔｓｕｃｈｉｄａ  Ｅ．，Ｊ．  Ｐｈｙｓ．  Ｃｈｅｍ．，１９９４，９８，５０８４−５０８８；Ｃａｍｅｒｏｎ  Ｊ．Ｈ．，Ｇｒａｈａｍ  Ｓ．，Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  Ｄａｌｔｏｎ  Ｔｒａｎｓ．，１９９２，３８５−３９１；Ｂｏｗｍａｎ  Ｒ．Ｇ．，Ｂａｓｏｌｏ  Ｆ．，Ｂｕｒｗｅｌｌ  Ｊｒ．Ｒ．Ｌ．，Ｊ．  Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９７５，９７，５１２５−５１２９）。他のアプローチは、第一段階において共有結合により配位子をポリマーに結合させ、次にメタレートすることにある（Ｗｏｈｒｌｅ  Ｄ．，Ｇｉｔｚｅｌ  Ｊ．，Ｋｒａｗｃｚｙｋ  Ｇ．，Ｔｓｕｃｈｉｄａ  Ｅ．，Ｏｈｎｏ  Ｈ．，Ｏｋｕｒａ  Ｉ．，Ｎｉｓｈｉｓａｋａ  Ｔ．，Ｊ．  Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｓｃｉ．，Ｃｈｅｍ．，１９８８，Ａ２５，１２２７−１２５４；Ｂａｒｎｅｓ  Ｍ．Ｊ．，Ｄｒａｇｏ  Ｒ．Ｓ．，Ｂａｌｋｕｓ  Ｊｒ．Ｋ．Ｊ．，Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，１９８８，１１０，６７８０−６７８５）。例えば、テトラアザ大環状（tetraazamacrocyclic）配位子のシリカゲルへのグラフト及びこれら材料のメタレーションの研究が実行されている（Ｇｒｏｓ．  Ｃ．，Ｒａｂｉｅｔ  Ｆ．，Ｄｅｎａｔ  Ｆ．，Ｂｒａｎｄｅｓ  Ｓ．，Ｃｈｏｌｌｅｔ  Ｈ．，Ｇｕｉｌａｒｄ  Ｒ．，Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  Ｄａｌｔｏｎ  Ｔｒａｎｓ．，１９９６，１２０９−１２１４）。ゾル−ゲルプロセスは詳細に研究されており（Ｈｅｎｃｈ  Ｌ．Ｌ．，Ｗｅｓｔ  Ｊ．Ｋ．，Ｃｈｅｍ．  Ｒｅｖ．，１９９０，９０，３３−７２）、材料化学において非常に重要である。このプロセスの主要な利益の１つ���、得られる材料の高い均質性であり、それゆえ、それらに特定の特性を与えることである。アルコキシドタイプの前駆体は、最も広く使用されている。例えば、有機溶媒，例えばアルコール，中に溶解しているテトラエトキシシランの加水分解は粒子のコロイド分散系をもたらし、それら粒子はその前駆体の重合から生じ、その分散系はゾルと呼ばれる。このゾルは、ゲル形成の方向に変化する。蒸発によるこのゲルの乾燥はキセロゲルをもたらし、それはガラス或いはセラミックへと転化され得る。より最近では、この技術は、新規な有機−無機ハイブリッド材料の調製を可能としている（Ｃｏｒｒｉｕ  Ｒ．Ｊ．Ｐ．，Ｌｅｃｌｅｒｃｑ，Ｄ．，Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｔ．  Ｅｄ．，１９９６，３５，１４２０−１４３６；Ｓｃｈｕｂｅｒｔ  Ｕ．，Ｈｕｓｉｎｇ  Ｎ．，Ｌｏｒｅｎｚ  Ａ．，Ｃｈｅｍ．  Ｍａｔｅｒ．，１９９５，７，２０１０−２０２７）。その前駆体は、トリアルコキシシリル［Ｓｉ（ＯＲ3）］或いはシリル［ＳｉＨ3］タイプの１つ以上の末端を有する有機化合物である。芳香族化合物、アセチレンユニット、或いは直鎖状及び環状アミンのような様々な有機種が使用されている（Ｃｏｒｒｉｕ  Ｒ．Ｊ．Ｐ．，Ｌｅｃｌｅｒｃｑ，Ｄ．，Ａｎｇｅｗ．  Ｃｈｅｍ．  Ｉｎｔ．  Ｅｄ．，１９９６，３５，１４２０−１４３６；Ｋｈａｔｉｂ  Ｉ．Ｓ．，Ｐａｒｉｓｈ  Ｒ．Ｖ．，Ｊ．  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．  Ｃｈｅｍ．，１９８９，３６９，９−１６；Ｔｓｕｄａ  Ｔ．，Ｆｕｊｉｗａｒａ  Ｔ．，Ｊ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９２，１６５９−１６６１）。Ｂａｔｔｉｏｎｉらは、このルートを用いて、マンガン及び鉄ポルフィリンをシリカゲル中に組み込み、これら新規な材料の触媒特性を試験している（Ｂａｔｔｉｏｎｉ  Ｐ．，Ｃａｒｄｉｎ  Ｅ．，Ｌｏｕｌｏｕｄｉ  Ｍ．，Ｓｃｈｏｌｌｈｏｒｎ  Ｂ．，Ｓｐｙｒｏｕｌｉａｓ  Ｇ．Ａ．，Ｍａｎｓｕｙ  Ｄ．，Ｔｒａｙｌｏｒ  Ｔ．Ｇ．，Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９６，２０３７−２０３８）。
【０００３】
塩基と金属との間の供与結合による錯体のポリマーへの固着は、錯体の活性化及び錯体の面の１つを束縛する（hindering）ことによるスーパーオキシド種の安定化の利益を示す。しかしながら、このようにして形成される結合は弱い。共有結合による配位子のグラフトは、その部分について、より強い材料をもたらす。一般に、遷移金属錯体を有機或いは無機マトリクス中に組み込む方法は、今日まで、プロセス工学の要求に適合し、それゆえ工業的プロセスで使用され得る材料をもたらすことができていない。特に、そのような材料の特徴は、比表面積、多孔度，これが孔の半径、形状、或いはサイズの分布であろうとなかろうと，、及び粒径の観点で調節され得なければならない。本出願企業は、本発明の主題である材料は上記に述べられた問題を解決することを可能とすることを見出した。本発明の主題は、式（Ｉ）：
【化３】
0004440461.tif 000002
【０００４】
の化合物であり、そこで、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して一般式（Ａ）：
−［（ＣＴ1Ｔ2）n−［Ｎ（Ｒ4）］p−（ＣＴ3Ｔ4）m］l−      （Ａ）
で示されるものから選ばれる二価のラジカルを示し、
ｐは０または１に等しい整数を示し、
ｌは１または２に等しい整数を示し、
ｎ及びｍは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して３以下であり且つ１以上の整数を示し、
Ｔ1、Ｔ2、Ｔ3及びＴ4は同一または異なっておりそれぞれが互いに独立して水素原子、１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、または７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカルを示すか或いはＣＴ1Ｔ2及び／またはＣＴ3Ｔ4が二価の基−（Ｃ＝Ｏ）−を示すかのいずれかであり、
Ｒ4は水素原子、未置換の或いは１つ以上の官能基で置換された１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカル、または一般式（Ｂ）：
Ｒ5−Ｓｉ（Ｘ1）（Ｘ2）（Ｘ3）      （Ｂ）
で示されるラジカルを示し、
Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、またはＯＲ6ラジカルを示し、Ｒ6は水素原子または１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカルを示し、
Ｒ5は１乃至１０個の炭素原子を具備する飽和または不飽和脂肪族炭化水素鎖から誘導された二価のラジカルであり、その鎖にはアリーレン基或いは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ7）−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｎ（Ｒ7）−フラグメントから選ばれる１つ以上の構造結合体が任意に挿入され、Ｒ7は水素原子、１乃至６個の炭素原子を具備する脂肪族炭化水素ラジカル、ベンジルラジカル、またはフェネチルラジカルを示し、前記鎖は未置換であるか或いはハロゲン原子、ヒドロキシル基、１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカル、若しくはベンジルまたはフェネチルラジカルから選ばれる１つ以上のラジカルで置換されており、
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一または異なっておりそれぞれが互いに及びＲ4と独立して水素原子、未置換の或いは１つ以上の官能基で置換された１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカル、または上記に規定される一般式（Ｂ）で示されるラジカルを示し、これら環状窒素の少なくとも１つは式（Ｂ）のラジカルで置換されたことが理解される。
【０００５】
３個の環状窒素原子を具備する式（Ｉ）の化合物としては、例えば、１，４，７−トリアザシクロノナンから、１，４，７−トリアザシクロデカンから、或いは１，５，８−トリアザシクロドデカンから誘導される化合物を挙げることができる。４個の環状窒素原子を具備する式（Ｉ）の化合物としては、１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン（シクレン）から、１，４，７，１０−テトラアザシクロトリデカンから、１，４，７，１０−テトラアザシクロテトラデカンから、１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン（シクラム）から、１，４，８，１２−テトラアザシクロペンタデカンから、１，５，９，１３−テトラアザシクロヘキサデカンから、或いは１，５，１０，１４−テトラアザシクロオクタデカンから誘導される化合物を挙げることができる。５個の環状窒素原子を具備する式（Ｉ）の化合物としては、例えば、１，４，７，１０，１３−ペンタアザシクロペンタデカンから、１，４，７，１１，１５−ペンタアザシクロオクタデカンから、或いは１，５，９，１３，１７−ペンタアザシクロオクタデカンから誘導される化合物を挙げることができる。
【０００６】
６個の環状窒素原子を具備する式（Ｉ）の化合物としては、例えば、１，４，７，１０，１３，１６−ヘキサアザシクロオクタデカンから、或いは１，５，９，１３，１７，２０−ヘキサアザシクロテトラコサンから誘導される化合物を挙げることができる。
【０００７】
用語「官能基」は、特にＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4の定義においては、エステル化された形態の、カルボキシル（ＣＯ2Ｈ）、カルボキサミド（ＣＯＮＨ2）、スルホ（ＳＯ3Ｈ）、またはジヒドロホスホナート（ＰＯ3Ｈ2）基を意味する。
【０００８】
本発明の詳細な主題は、
−  上記に規定された式（Ｉ）に対応する式（Ｉａ）の化合物，そこで、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3は同一または異なっており上記に規定された式（Ａ）に対応したｐが０に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ1）のラジカルを示す，或いは、
−  上記に規定された式（Ｉ）に対応する式（Ｉｂ）の化合物，そこで、Ｗ1は上記に規定された式（Ａ）に対応したｐが１に等しく且つ和ｎ＋ｍが２または３に等しい式（Ａ2）の二価のラジカルを示し、Ｗ2及びＷ3は同一または異なっており式（Ａ1）のラジカルを示す，或いは、
−  上記に規定された式（Ｉ）に対応する式（Ｉｃ）の化合物，そこで、Ｗ1及びＷ2は同一または異なっており式（Ａ2）の二価のラジカルを示し、Ｗ3は式（Ａ1）のラジカルを示す，
である。
【０００９】
本発明のより詳細な主題は、
−  上記に規定された式（Ｉａ）に対応する式（Ｉａ1）の化合物，そこで、ｌは１に等しく、Ｗ1、Ｗ2及びＷ3はそれぞれ二価のラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示すか若しくは３つの基Ｗ1、Ｗ2またはＷ3のいずれか１つは二価のラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し且つ他の２つのそれぞれは二価のラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−を示す，或いは、
−  上記に規定された式（Ｉｂ）に対応する式（Ｉｂ1）の化合物，そこで、ｌは１に等しく、３つの基Ｗ1、Ｗ2またはＷ3のいずれか１つはラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し残りの２つの基の一方はラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し最後の基はラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示すか若しくは３つの基Ｗ1、Ｗ2またはＷ3のいずれか１つはラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示し、残りの２つの基はそれぞれラジカル−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−を示す，
である。
【００１０】
式（Ｉ）の化合物は未置換であっても置換されていてもよく、それが置換されている場合、それは、例えば、６−ドデシル−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、３−ドデシル−１，５，９，１３−テトラアザシクロヘキサデカン、３−ドデシル−１，５，１０，１４−テトラアザシクロオクタデカン、５，５，７，１２，１２，１４−ヘキサメチル−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、１，４，７，１０，１３−ペンタエチル−１，４，７，１０，１３，１６−ヘキサアザシクロオクタデカン、１，４，７，１０，１３，１６−ヘキサアザシクロオクタデカン、１，４，７，１０−テトラエチル−１，４，７，１０，１３−ペンタアザシクロペンタデカン、１−メチル−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、１−ベンジル−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、１−［（２−ピリジル）メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、１−［（３−ピリジル）メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、或いは１，４−ジベンジル−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカンのような１乃至１５個の炭素原子を具備するアルキルラジカル或いはベンジル、ピコリル、またはフェネチルラジカルの１つ以上で置換されているものである。
【００１１】
本発明の特定の側面によると、後者の主題は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4ラジカルが（Ｂ）ラジカル或いは水素原子のいずれかを示す上記に規定された式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）の化合物であり、特には、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4ラジカルが（Ｂ）ラジカル或いは水素原子のいずれかを示す上記に規定された式（Ｉａ1）及び（Ｉｂ1）の化合物である。
【００１２】
本発明の他の特定の側面によると、後者の主題は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が（Ｂ）ラジカル或いはラジカル−（ＣＨ2）w−Ｃ（＝Ｏ）−Ｖのいずれかを示す上記に規定された式（Ｉ）の化合物，そこで、ＶはＮＨ2またはＯＲ8ラジカルの一方を示し、Ｒ8は１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカルを示し、ｗは１以上であり且つ６以下の整数を示す，である。
【００１３】
上記に規定された式（Ｂ）のラジカルは、例えば、式（Ｂ1）：
−［ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）］y−（ＣＨ2）o−（Ｑ）q−（ＣＨ2）r−（Ａｒ）s−（ＣＨ2）t−（Ｕ）u−（ＣＨ2）v−Ｓｉ（Ｘ）3      （Ｂ1）
のラジカルであって、そこで、
ｏ、ｒ、ｔ及びｖは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して０以上であり且つ６以下の整数を示し、
ｙ、ｑ、ｓ及びｕは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して０または１に等しい整数を示し、
Ｑ及びＵは同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して酸素原子、硫黄原子、或いは−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、または−ＮＨ−基の１つを示し、
Ａｒはアリーレン基及び特にはフェニレン基を示し、
Ｘは水素原子或いはメトキシまたはエトキシラジカルのいずれかを示し、
ｑが１に等しいときに和ｙ＋ｏは０以外であること、
ｑが１に等しいとき及びｕが０に等しいときに和ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｖは０以外であること、
ｕが１に等しいときにｖは０以外であること、
ｕが１に等しいとき及びｑが０に等しいときに和ｙ＋ｏ＋ｒ＋ｓ＋ｔは０以外であること、
ｓが０に等しいとき及びｑ及びｕがそれぞれ１に等しいときに和ｒ＋ｔは０以外であること、及び
和ｙ＋ｏ＋ｒ＋ｔ＋ｖは１２以下であることが理解される。
【００１４】
本発明の好適な代わりの形態において、上記に規定される式（Ｂ1）のラジカルは、３−シリルプロピル、（４−シリルフェニル）メチル、３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］オキシ］−２−ヒドロキシプロピル、［４−［［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミノ］メチル］フェニル］メチル、［４−（トリエトキシシリル）フェニル］プロピル、３−オキソ−３−［［３−（トリエトキシシリル）プロピルオキシ］プロピル、または２−オキソ−２−［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミノ］エチルラジカルから選ばれる。
【００１５】
本発明の非常に詳細な主題は、以下の名称：
１，４，８，１１−テトラキス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
１，４，８，１１−テトラキス［［４−（トリエトキシシリル）フェニル］メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
テトラ［３−（トリエトキシシリル）プロピル］  １，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラプロパノエート、
１，４，８，１１−テトラキス（３−シリルプロピル）−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
１，４，８，１１−テトラキス［（４−シリルフェニル）メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン、
Ｎ1，Ｎ2，Ｎ3，Ｎ4−テトラキス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラアセトアミド、
４，１１−ビス［［４−（トリエトキシシリル）フェニル］メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−７，１４−ジオン
を有する化合物である。
【００１６】
本発明の他の側面によると、後者の主題は、上記に規定された式（Ｉ）の化合物を調製するプロセスであって、
ａ）式（Ｃ）の化合物，
Ｚ−Ｒ'5−Ｓｉ（Ｘ1）（Ｘ2）（Ｘ3）      （Ｃ）
そこで、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、またはＯＲ6ラジカルを示し、Ｒ6は水素原子または１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカルを示し、
Ｒ'5は１乃至１０個の炭素原子を具備する飽和または不飽和脂肪族炭化水素鎖から誘導された二価のラジカルであり、その鎖にはアリーレン基或いは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ7）−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｎ（Ｒ7）−フラグメントから選ばれる１つ以上の構造結合体が任意に挿入され、Ｒ7は水素原子、１乃至６個の炭素原子を具備する脂肪族炭化水素ラジカル、ベンジルラジカル、またはフェネチルラジカルを示し、前記鎖は未置換であるか或いはハロゲン原子、ヒドロキシル基、１乃至４個の炭素原子を具備するアルキルラジカル、若しくはベンジルまたはフェネチルラジカルから選ばれる１つ以上のラジカルで置換されており、
Ｚは第二アミン官能基，＝Ｎ−Ｈ，と反応してＮ−Ｃ共有結合を形成し得る官能基を示す，
が、式（Ｉ’）の化合物：
【化４】
0004440461.tif 000003
【００１７】
そこで、Ｗ'1、Ｗ'2及びＷ'3は同一または異なっておりそれぞれ互いに独立して一般式（Ａ’）：
−［（ＣＴ1Ｔ2）n−［Ｎ（Ｒ'4）］p−（ＣＴ3Ｔ4）m］l−      （Ａ’）
で示されるものから選ばれる二価のラジカルを示し、ｌ、ｐ、ｎ、ｍ、Ｔ1、Ｔ2、Ｔ3及びＴ4は上記に規定された式（Ａ）についてと同様の定義を有し、
Ｒ'4は水素原子、１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、または７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカルを示し、
Ｒ'1、Ｒ'2及びＲ'3は同一または異なっておりそれぞれが互いに及びＲ4と独立して水素原子、１乃至１５個の炭素原子を具備する直鎖或いは分枝アルキルラジカル、または７乃至１２個の炭素原子を具備する［（ヘテロ）アリール］アルキルラジカルを示し、
式（Ｉ）の化合物のポリアザシクロアルカンの核（nucleus）は、せいぜい３０個の環状炭素原子及びせいぜい６個の環状窒素原子を具備すること並びにこれら環状窒素原子の少なくとも１つは未置換であることが理解される，
と反応して上記に規定された式（Ｉ）の化合物を形成すること、及び望まれるのであれば、
ｂ）前記式（Ｉ）の化合物の未置換の環状窒素の全て或いは一部が官能化されて、上記に規定された式（Ｉ）に対応する式（Ｉｄ）の化合物，そこでＲ1、Ｒ2、Ｒ3またはＲ4ラジカルの少なくとも１つはラジカル−（ＣＨ2）w−Ｃ（＝Ｏ）−Ｖを示し、ｗ及びＶは上記に規定されたのと同様である，を形成すること
を特徴とする。
【００１８】
用語「第二アミンと反応し得る官能基」は、特には、例えばハロゲンラジカル、及び特には臭素またはヨウ素ラジカルのように求核置換機構により反応するものまたは例えばＮ−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−フラグメントをもたらすエポキシ官能基のように求電子付加機構により反応するものを意味し、それは、求核付加機構に従う「マイケル」タイプの反応によりＮ−ＣＨ2−ＣＨ2−フラグメントをもたらす遊離、塩化、またはエステル化カルボキシル官能基或いはＣＨ2＝ＣＨ−不飽和基であってもよい。
【００１９】
これら例は本質的に非制限的であり、本特許出願の出願日に第二アミン官能基と反応してＮ−Ｃ共有結合を形成し得るとして当業者に公知のどのような官能基も本発明の記載の必須の部分を形成していることは明白である。
【００２０】
式（Ｃ1）の化合物：
Ｚ'−（ＣＨ2）o−（Ｑ）q−（ＣＨ2）r−（Ａｒ）s−（ＣＨ2）t−（Ｕ）u−（ＣＨ2）v−Ｓｉ（Ｘ）3      （Ｃ1）
が、特には（トリエトキシ）（３−ヨードプロピル）シラン、２−［［［３−（トリエトキシシリル）プロピル］オキシ］メチル］オキシラン、Ｎ−［［４−（ブロモメチル）フェニル］メチル］−Ｎ−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アミン、（トリエトキシ）［４−（ヨードメチル）フェニル］シラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルプロペノエート、またはＮ−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］ブロモアセトアミドは、本発明に係るプロセスを実行するのに特に適当であり、
そこで、ｏ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕ、ｖ、Ｑ、Ａｒ、Ｕ及びＸは上記に規定された式（Ｂ1）と同様の定義を有し、
Ｚ’はハロラジカル，特には臭素ラジカルまたはヨウ素ラジカル、オキシラン−２−イル基、或いはエテニル基のいずれかを示し、
和ｑ＋ｓは０または１に等しく、ｑが１に等しいとき及びＺ’がハロラジカルを示すときにｏは０以外であること、
ｑが１に等しいとき及びｕが０に等しいときに和ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｖは０以外であること、
ｕが１に等しいときにｖは０以外であること、
ｕが１に等しいとき及びｑが０に等しいときに和ｏ＋ｒ＋ｓ＋ｔは０以外であること、
ｓが０に等しいとき及びｑ及びｕがそれぞれ１に等しいときに和ｒ＋ｔは０以外であること、及び
和ｏ＋ｒ＋ｔ＋ｖは６未満であることが理解される。
【００２１】
本発明の他の側面によると、後者の主題は、ポリアザ大環状分子とこれら窒素系配位子の金属錯体とを組み込んだポリシロキサンゲル（ＩＩＩ）であって、それは、上記に規定される式（Ｉ）の化合物の加水分解、それによりもたらされる非メタレート化ポリアザ大環状ユニット（ＩＩＩ’）を組み込んだポリシロキサンゲルの形成、続く前記ゲル（ＩＩＩ’）への金属塩の作用から得ることができ、ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ’）の調製プロセスはこのように上記に規定された式（Ｉ）の化合物から実行されることを特徴とする。
【００２２】
本発明の他の側面によると、後者の主題はポリアザ大環状分子とこれら窒素系配位子の金属錯体とを組み込んだポリシロキサンゲル（ＩＶ）であって、それは、金属塩の上記に規定された式（Ｉ）の化合物への作用、それによりもたらされる前記金属の前記式（Ｉ）の化合物との有機金属錯体の形成、続く前記有機金属錯体の加水分解から得ることができ、ポリシロキサンゲル（ＩＶ）の調製プロセスはこのように上記に規定された式（Ｉ）の化合物から実行されることを特徴とする。
【００２３】
ポリシロキサンゲル（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の組成に伴われる金属は、特には、Ｕ、Ｐｕ、Ａｍ、Ｅｕ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｇｄ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｄ、Ａｕ、Ｈｇ、またはＰｂから選ばれる。
【００２４】
本発明のより詳細な主題は、それぞれ、金属元素がコバルトまたは銅から選ばれたハイブリッド化合物（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）に対応するハイブリッド材料（ＩＩＩ1）及び（ＩＶ1）であり、より詳細には、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）または（Ｉｃ）の化合物から得ることができる材料（ＩＩＩ1a）及び（ＩＶ1a）である。
【００２５】
本発明の最後の側面において、後者の主題は、上記に規定されたこれらメタレート化ハイブリッドゲルのガス混合物から所定のガスを分離することにおける使用であり、そこで、前記ガス混合物は上記に規定されたメタレート化ハイブリッドゲル（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の１つと前記分離されるべきガスの吸着を可能とする条件下で接触させられ、前記ゲルに付いた前記ガスを脱着するフェーズ及び前記脱着したガスを回収するフェーズへと続く。この使用は、好ましくは、純粋な酸素の製造の目的或いは空気からの酸素の除去の目的のいずれかで空気からの酸素の分離に適用される。
【００２６】
非メタレート化ゲル（ＩＩＩ’）は、どのような金属カチオンからも完全にフリーでなければならない液体，特には、例えば希或いは濃過酸化水素のように電子工業において使用される液体，を精製するのに用いられ得る。
非メタレートゲル（ＩＩＩ’）は、不所望なガス状不純物の吸着によりガスを精製するのにも使用され得る。
【００２７】
以下の例は、本発明及び特にはポリアザシクロアルカンとこれら窒素系配位子の金属錯体とを組み込んだ新規なポリシロキサンのゾル−ゲルプロセスによる合成について上述した２つのルートを例証する。
これら例に示されるように、使用される前駆体の多様性、ゲル化ステージの間におけるテトラアルコキシシランの任意の添加、及び操作条件における変化は、固形物中の配位子の及び錯体の濃度の観点並びに多孔度及び比表面積の観点の双方において、様々な組成（composition）及び様々な構造（texture）を有する材料を得ることを可能とする。厳密に同一な合成条件下では、得られる固形物は同一の特徴を示し、したがって、本方法の良好な再現性を証明する。
本方法の利益は、それゆえ、材料工学の要求に応じて材料の特徴を調節する可能性に本質的にある。
【００２８】
［実験部］
様々なシリカゲルが、１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン（或いはシクラム）を金属元素の配位のための有機配位子として選択することにより合成された。様々な前駆体が、以下のスキームに従って、シクラムと式（Ｃ）のシリル化された様々な反応物の４当量とを反応させて式（Ｉ）の対応する化合物を形成することにより得られた。−Ｓｉ（ＯＥｔ）3または−ＳｉＨ3基中で終端する幾つかの置換基，脂肪鎖或いは芳香族ユニットまたはエステルまたはアミド官能基を具備する置換基，が使用された。
【００２９】
【化５】
0004440461.tif 000004
【００３０】
以下の化合物が次のように調製された。
【００３１】
化合物１：
１，４，８，１１−テトラキス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン
２ｇ（０．０１ｍｏｌ）のシクラムと１２．４１ｇ（０．０９ｍｏｌ）のＫ2ＣＯ3とを含有する１００ｍｌのＣＨ3ＣＮ（Ｐ2Ｏ5で蒸留された（distilled over P2O5））が、窒素雰囲気下、２００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管中に配置される。次に、１３．２７ｇ（０．０４ｍｏｌ）の（トリエトキシ）（３−ヨードプロピル）シランが添加される。その反応混合物は、１２ｈの還流に供される。溶媒を蒸発させた後、残留物は１００ｍｌのペンタン中に溶解され且つ濾過され、析出物は３０ｍｌのペンタンで２回洗浄される。濾液が化合させられ、ペンタンが蒸発させられて、化合物１が僅かに濁ったオイルの形態で得られる（９．８５ｇ，９７％）。
【００３２】
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．５８（ｍ、８Ｈ）、１．２３（ｔ、３６Ｈ）、１．５５（ｍ、１２Ｈ）、２．３９（ｍ、８Ｈ）、２．５１（ｍ、８Ｈ）、２．５４（ｓ、８Ｈ）、３．８３（ｑ、２４Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：７．０、１７．３、１９．６、２１．９、４９．５、５０．４、５７．３、５７．９。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−４４．６。
Ｃ46Ｈ104Ｎ4Ｏ12Ｓｉ4についての元素分析
計算値：Ｃ  ５４．３３；Ｈ  １０．２４；Ｎ  ５．５１
実測値：Ｃ  ５３．９；  Ｈ    ９．９３；Ｎ  ６．２７。
【００３３】
化合物２：
１，４，８，１１−テトラキス［［３−（トリエトキシシリル）フェニル］メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン
例１と同様の方法で調製を実行することにより、１．５ｇ（０．００７５ｍｏｌ）のシクラム、９．３２ｇ（０．０６７５ｍｏｌ）のＫ2ＣＯ3、及び１１．４ｇ（０．０３ｍｏｌ）の（トリエトキシ）［（４−ヨードメチル）フェニル］シランからベージュ色の固形物が得られ、１５ｍｌのエタノールからの再結晶化の後に、化合物２が白色粉末の形態で得られる（６．５ｇ，７２％）。
【００３４】
Ｍ．ｐ．＝９９．５−１００．５℃。
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２９（ｔ、３６Ｈ）、１．７７（ｍ、４Ｈ）、２．５４（ｔ、８Ｈ）、２．６３（ｓ、８Ｈ）、３．４６（ｓ、８Ｈ）、３．９０（ｑ、２４Ｈ）、７．３４（ｄ、８Ｈ）、７．６０（ｄ、８Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１８．６、２４．４、５０．８、５１．９、５９．１、５９．８、１２８．８、１２９．３、１３５．０、１４２．９。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−５６．９。
Ｃ62Ｈ104Ｎ4Ｏ12Ｓｉ4についての元素分析
計算値：Ｃ  ６１．５８；Ｈ  ８．６１；Ｎ  ４．６３
実測値：Ｃ  ６１．４５；Ｈ  ８．８１；Ｎ  ４．５９。
【００３５】
化合物３：
テトラ［３−（トリエトキシシリル）プロピル］１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラプロパノエート
０．５ｇ（０．００２５ｍｏｌ）のシクラムを含有する２０ｍｌのエタノールが、窒素雰囲気下、１００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管中に配置される。次に、２．７６ｇ（０．０１ｍｏｌ）の３−（トリエトキシシリル）プロピルアクリレートが添加される。その反応混合物は、１２ｈの還流に供される。溶媒を蒸発させた後、濁ったオイルが得られ、そのオイルは１０ｍｌのペンタン中に溶解され、−２０℃で１ｈ放置される。形成された白色の析出物が濾過され、その濾液が濃縮されて、化合物３が透明なオイルの形態で得られる（２．３６ｇ，７２％）。
【００３６】
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．５１（ｍ、８Ｈ）、１．２４（ｔ、３６Ｈ）、１．４４（ｍ、４Ｈ）、１．６１（ｍ、８Ｈ）、２．３５（ｔ、８Ｈ）、２．４１（ｔ、８Ｈ）、２．４４（ｓ、８Ｈ）、２．６１（ｔ、８Ｈ）、３．６９（ｑ、２４Ｈ）、３．９０（ｔ、８Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：６．９、１８．７、２２．６、２４．５、３２．９、５０．８、５１．１、５１．５、５８．７、６６．７、１７３．１。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−４５．６。
Ｃ58Ｈ120Ｎ4Ｏ20Ｓｉ4についての元素分析
計算値：Ｃ  ５３．３７；Ｈ  ９．２０；Ｎ  ４．２９
実測値：Ｃ  ５３．１７；Ｈ  ９．１８；Ｎ  ４．８５。
【００３７】
ここに記載したのと同様の方法で２−（トリエトキシシリル）エチルアクリレートを用いて調製を実行することにより、テトラ［２−（トリエトキシシリル）エチル］１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラプロパノエート（化合物８）が得られる。
【００３８】
化合物４：
１，４，８，１１−テトラキス（３−シリルプロピル）−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン
例１で得られた化合物７．４７ｇ（０．００７３５ｍｏｌ）を含有する４０ｍｌの無水エーテルが、窒素雰囲気下、１５０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管中に配置される。次に、３０ｍｌの無水エーテル中に１．６８ｇ（０．０４１ｍｏｌ）のＬｉＡｌＨ4を含有する溶液が０℃で滴下される。その反応混合物は室温で２４ｈ攪拌され、その後、過剰なＬｉＡｌＨ4は５．５ｍｌのエチルアセテートにより０℃で分解させられる。室温下で３０分間の後、溶媒は蒸発させられる。残留物はペンタン中に溶解され、その固形物は濾過により除かれてペンタンで２回洗浄され、化合物４がオイルの形態で得られる（２．８３ｇ，８０％）。
【００３９】
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．７４（ｍ、８Ｈ）、１．５７（ｍ、１２Ｈ）、２．４２（ｔ、８Ｈ）、２．５２（ｔ、８Ｈ）、２．５５（ｓ、８Ｈ）、３．５３（ｔ、１２Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２．８、２１．９、２３．１、４９．５、５０．５、５６．９。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−５８．７。
【００４０】
化合物５：
１，４，８，１１−テトラキス［（４−シリルフェニル）メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン
例２で得られた化合物３．７５ｇ（０．００３１ｍｏｌ）を含有する５０ｍｌのＴＨＦが、窒素雰囲気下、２００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管中に配置される。次に、２０ｍｌのＴＨＦ中に０．７０ｇ（０．０１８ｍｏｌ）のＬｉＡｌＨ4を含有する溶液が０℃で滴下される。その反応混合物は０℃で１ｈ、及びその後、室温で１２ｈ攪拌される。過剰なＬｉＡｌＨ4は３ｍｌのエチルアセテートにより分解させられる。その反応混合物は、２０ｇのＦｌｏｒｉｓｉｌ（登録商標）を通って濾過され、溶媒が蒸発させられる。残留物は５０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2中に溶解され及び濾過され、その後、その溶媒は蒸発させられる。１．４１ｇの化合物５が白色粉末の形態で得られる（７０％）。
【００４１】
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．７７（ｍ、４Ｈ）、２．５５（ｔ、８Ｈ）、２．６３（ｓ、８Ｈ）、３．４５（ｄ、８Ｈ）、４．２３（ｓ、１２Ｈ）、７．３２（ｄ、８Ｈ）、７．５１（ｄ、８Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２５．３、５１．０、５１．９、５９．８、１２６．５、１２９．１、１３６．１、１４２．４。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−５９．３。
Ｃ38Ｈ56Ｎ4Ｓｉ4についての元素分析
計算値：Ｃ  ６７．０６；Ｈ  ８．２４；Ｎ  ８．２４
実測値：Ｃ  ６６．７６；Ｈ  ８．００；Ｎ  ８．０６。
【００４２】
化合物６：
Ｎ1，Ｎ2，Ｎ3，Ｎ4−テトラキス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−１，４，８，１１−テトラアセトアミド
ａ）３８．２ｍｌ（０．１６ｍｏｌ）のアミノプロピルトリエトキシシラン及び２３．６ｍｌ（０．１７ｍｏｌ）のトリエチルアミンが１５０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管内で７０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2中に溶解され、その後、スパチュラの先端の量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）が添加される。２０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2中に溶解した２６．９５（０．１７ｍｏｌ）のブロモエタノイルクロライドが、−３０℃で攪拌しつつ滴下される。得られる赤色の粘稠溶液は室温で２ｈ攪拌され、その後、溶媒が蒸発させられる。その残留物は１５０ｍｌのエーテル中に溶解され、その塩が濾過により除かれ、溶媒が蒸発させられる。４８．８４ｇの非常に粘稠な褐色の生成物が得られ、その生成物は蒸留（１２７−１３２°／０．０５ｍｍ）により１１．７１ｇ（２０％）の２−ブロモ−Ｎ−［３−トリエトキシシリル）プロピル］アセトアミド［ＢｒＣＨ2ＣＯＮＨ（ＣＨ2）Ｓｉ（ＯＥｔ）3］を生じる。
【００４３】
ｂ）０．５ｇ（０．００２５ｍｏｌ）のシクラム、２５ｍｌのアセトニトリル、及び３．１ｇのＫ2ＣＯ3（０．００２２ｍｏｌ）が６０ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管内に導入される。ステージａ）で調製した３．７６ｇ（０．０１１ｍｏｌ）の２−ブロモ−Ｎ−［３−トリエトキシシリル）プロピル］アセトアミドが攪拌しつつ滴下される。その反応混合物は２０ｈの還流に供される。次に、その溶媒が蒸発させられる。その残留物は２×３０ｍｌの暖かいペンタンで洗浄され、７０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2中に溶解される。濾過及びＣＨ2Ｃｌ2の蒸発後、１．５９ｇ（５１％）の化合物６が白色粉末の形態で回収される。
【００４４】
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．６４（ｔ、８Ｈ）、１．２３（ｔ、３６Ｈ）、１．６３（ｍ、１２Ｈ）、２．６４（ｍ、１６Ｈ）、３．０４（ｓ、８Ｈ）、３．２６（ｍ、８Ｈ）、３．８１（ｑ、２４Ｈ）、７．０６（ｍ、４Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：８．４、１８．７、２３．９、２４．９、４２．１、５１．４、５２．６、５８．８、５９．１、１７０．９。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−４５．８。
Ｃ54Ｈ116Ｎ8Ｏ16Ｓｉ4についての元素分析
計算値：Ｃ  ５２．０９；Ｈ  ９．３２；Ｎ  ９．００
実測値：Ｃ  ４９．５５；Ｈ  ８．７８；Ｎ  ９．３４。
【００４５】
化合物７：
４，１１−ビス［［４−（トリエトキシシリル）フェニル］メチル］−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン−７，１１−ジオン
２ｇ（０．００８８ｍｏｌ）の７，１４−ジオキソシクラム、３．６３ｇ（０．００２６ｍｏｌ）のＫ2ＣＯ3、及び７０ｍｌの無水アセトニトリルが２００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管内に導入される。６．７ｇ（０．０１８ｍｏｌ）の（トリエトキシ［（４−ヨードフェニル）メチル］シランが滴下される。その反応混合物は、１２ｈの還流に供される。次に、その溶媒が蒸発させられ、得られた析出物は７０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2中に２回溶解され、その溶液が濾過される。溶媒が蒸発させられ、その固形物が５０ｍｌのペンタンで２回洗浄させられる。５．４６ｇの化合物７が白色粉末の形態で得られ、それはＣＨ2Ｃｌ2／ヘキサン（５０／５０）混合物から再結晶化する。
【００４６】
Ｙｄ８５％。Ｍ．ｐ．１６３−１６４℃。
1Ｈ ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｔ、１８Ｈ）、２．４４（ｍ、４Ｈ）、２．６９（ｍ、８Ｈ）、３．４４（ｍ、４Ｈ）、３．７１（ｓ、４Ｈ）、３．９０（ｑ、１２Ｈ）、７．２８（ｄ、４Ｈ）、７．６８（ｄ、４Ｈ）。
13Ｃ ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１８．６、３２．６、３６．２、４９．６、５２．５、５７．８、５９．２、１２９．５、１３１．２、１３５．４、１３８．７、１７２．５。
29Ｓｉ ＮＭＲ（４０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：−５７．９。
Ｃ36Ｈ60Ｎ4Ｏ8Ｓｉ2についての元素分析
計算値：Ｃ  ５９．０１；Ｈ  ８．２０；Ｎ  ７．６５
実測値：Ｃ  ５８．９１；Ｈ  ８．１１；Ｎ  ７．７３。
【００４７】
ルートＡによるこれら式（Ｉ）の化合物の或いは対応する金属錯体（ルートＢ）加水分解は、異なる構造（texture）を呈する固形物（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）をもたらす：
【化６】
0004440461.tif 000005
【００４８】
−Ｓｉ（ＯＥｔ）3末端を有する単一の置換基を含み、残りの３個の第二アミン官能基が置換された或いは未置換のシクラムは、以下の反応に従うゲル化プロセスを伴われる。
【００４９】
【化７】
0004440461.tif 000006
【００５０】
この場合、その前駆体の重合にテトラエトキシシランの添加は不可欠である。コゲルは、その後に得られる。また、このコゲル化は、他の場合においても、Ｓｉ（ＯＥｔ）4の様々な割合での添加が得られる材料の構造に与える影響を調査するために実行された。調査された他のゲル化因子は、溶媒（ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＴＨＦ、ＣＨ2Ｃｌ2、ＨＣＯＮＨ2）の性質、前駆体の濃度（０．０５乃至４ｍｏｌ／ｄｍ3）、触媒（ＮＨ3またはＴＢＡＦのようなテトラアルキルアンモニウムフルオライド）の存在或いは不存在、及び温度（−２０℃乃至１５０℃）である。それら結果は以下の表１に記録され、それらは、ゲル化条件に応じて多かれ少なかれ縮合したゲルが得られ、この特性は固体29Ｓｉ ＮＭＲの検討から推論され；縮合度はＴ0＜Ｔ1＜Ｔ2＜Ｔ3の順に増加する（Ｓｈｅａ  Ｋ．Ｊ．，Ｌｏｙ  Ｄ．Ａ．，Ｗｅｂｓｔｅｒ  Ｏ．Ｗ．；Ｃｈｅｍ  Ｍａｔｅｒ．，１９８９，１，５７２−５７４）ことを示している。また、それらは、ＢＥＴ分析により、これら多かれ少なかれ縮合したゲルは異なる比表面積及び異なる多孔度を呈することを示している。
【００５１】
上記に規定された一般式（Ｂ）のラジカルで置換された幾つかの環状窒素原子を具備する式（Ｉ）の前駆体の場合、コゲルは例えばテトラエトキシシランのようなテトラアルコキシシランの添加によっても調製される。
【００５２】
【表１】
0004440461.tif 000007
【００５３】
【化８】
0004440461.tif 000008
【００５４】
異なる構造を有する材料が前駆体化合物（１）乃至（７）から得られた。実験条件（出発前駆体、温度、溶媒、触媒）に応じて、１０ｍ2／ｇ乃至８００ｍ2／ｇの範囲の所定の比表面積を有する材料を得ることができ、それら固形物は、微孔性（マイクロポア性：microporous）、中間細孔性（メソポア性：mesoporous）、或いは同時にそれら両方を有することができた。それら結果は表２に記録されている。
【００５５】
【表２】
0004440461.tif 000009
【００５６】
ゲル化前或いは後に、メタレーションに幾つかの金属塩が使用された。それらは、Ｃｕ（ＯＡｃ）2、ＣｕＣｌ2、Ｃｕ（ＢＦ4）2、Ｃｕ［Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4］2、Ｃｕ［（ＰＦ6）］2、ＣｕＳｉＦ6、Ｃｏ（ＯＡｃ）2、ＣｏＣｌ2、Ｃｏ（ＢＦ4）2、Ｃｏ［Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4］2、Ｃｏ［ＰＦ6］2、及びＣｏＳｉＦ6である。メタレート化されたゲル中の金属量は、Ｘ線蛍光分光分析法により決定された。それら結果は表３乃至６に記録されている。
【００５７】
【表３】
0004440461.tif 000010
【００５８】
【表４】
0004440461.tif 000011
【００５９】
【表５】
0004440461.tif 000012
【００６０】
【表６】
0004440461.tif 000013
【００６１】
一般的な実験条件は以下の通りである。
【００６２】
前駆体のメタレーション
前駆体は、２４ｈの還流の際に１または２当量の金属塩でメタレート化される。得られた固形物はペンタンで洗浄され、その後、陰圧下で乾燥させられる。
【００６３】
ゲルの合成
前駆体、溶媒、所要量の水、及び触媒は、この順に、丸剤機中に配置される。ゲル化時間Ｔgは、全ての反応体が導入された瞬間から測定される。
得られたゲルに３つの異なる処理が順次適用された。
ａ）室温での５日間のエージング、エタノールでの及びジエチルエーテルでの洗浄、及びその後の１２０℃／３−２０ｍｍＨｇでの１２ｈの乾燥。
ｂ）室温での２日間のエージング、及びその後、ａ）と同様の処理。
ｃ）１００℃での５日間のエージング（封止された管内でのゲル化）、及びその後、ａ）と同様の処理。
【００６４】
ゲルのメタレーション
メタレーションは２つの方法論に従って実行される。
ａ）Ｃｕ（ＩＩ）錯体
その材料及び銅塩（１または２当量）が、１００ｍｌの丸底フラスコ内の２０ｍｌの無水エタノール中に配置される。反応混合物は１２ｈの還流に供され、メタレート化された材料は濾過により除かれ、エタノール及びジエチルエーテルで洗浄されて、最後に１２０℃／３−２０ｍｍＨｇで１２ｈ乾燥させられる。
ｂ）Ｃｏ（ＩＩ）錯体
その材料及びコバルト塩（１または２当量）が、窒素雰囲気下、１００ｍｌのＳｃｈｌｅｎｋ管内の２０ｍｌの蒸留されたエタノール中に配置される。反応混合物は１２ｈの還流に供され、メタレート化された材料は濾過により除かれて、エタノールで洗浄される。
【００６５】
メタレート化された前駆体のゲル化
メタレート化された前駆体は、非メタレート化前駆体のゲル化と同一の手順に従ってゲル化される。
ここで記載されるゲル化ステージの間、一般に、以下の溶媒：
−  ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、エタノール、メタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトニトリル、ジオキサン、または酢酸；
が使用され、
−  触媒は、一般に、酸性触媒（Ｈ+）、塩基性触媒（ＯＨ-）、若しくはアンモニウムフルオライドのまたはテトラブチルアンモニウムフルオライドの形態におけるＦ-、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、Ｎ−メチルイミダゾール、或いはヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）のような求核性の触媒から選ばれる。
【００６６】
メタレート化されたゲルへの幾つかの酸素化試験は、容量原理（volumetric principle）に基づく自動吸着卓上試験機を用いて実行された。それら結果は表７に記録されている。
【００６７】
【表７】
0004440461.tif 000014
【００６８】
新規な一連のゲル及び／またはコゲルが調製され、これら材料の二酸素及び二窒素に対する反応性が、Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ（登録商標）吸着卓上試験機を用い、一定の体積での圧力の減少による前記ガスの２９４Ｋでの吸着を測定することにより調査された。それら結果は、以下の表に記録されている。
【００６９】
【表８】
0004440461.tif 000015
【００７０】
【表９】
0004440461.tif 000016