(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を導波するコアと、該コアの外周上に設けられたクラッド層とを有し、
シリコーン樹脂、フッ化ポリイミド樹脂、またはフッ化メタクリレート樹脂からなる導波路、もしくは石英系導波路が基板上に形成され、
該コアを、その長さ方向において、所定の周期で加熱する櫛型ヒータが設けられ、
該櫛型ヒータが設けられている範囲のコア全体を該コアの長さ方向に加熱温度が変化するように加熱する補助ヒータが設けられ、
該補助ヒータは、コアの長さ方向において、幅が徐々に変化していることを特徴とする導波路型可変グレーティング。
【請求項２】
前記櫛形ヒータが、前記コアの一方側に設けられ、
前記補助ヒータは、前記コアの他方側に設けられていることを特徴とする請求項１記載の導波路型可変グレーティング。
【請求項３】
前記補助ヒータは、前記櫛型ヒータよりも前記コアの長さ方向と平行な長さが長いことを特徴とする請求項１または２に記載の導波路型可変グレーティング。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は導波路型可変グレーティングに関し、特に装置構成を簡単にしたものである。
【０００２】
【従来の技術】
光通信などにおいては特定の波長の光が反射する素子や減衰する素子が種々の用途で用いられている。
例えば利得等価器は、光増幅器などの利得の波長依存性を改善するため、利得の大きい波長の光を減衰させることにより、利得の平坦化を図るものである。
一方、半導体レーザの外部共振器においては、かかる素子にレーザ光を入射し、特定波長の光を反射させることにより、半導体レーザの発振波長を決定する。
【０００３】
このような利得等価器としては、例えば光ファイバグレーティングなどが用いられる。
光ファイバグレーティングは、光を導波する高屈折率のコアの外周上に、低屈折率のクラッド層が形成された光ファイバにおいて、このコアの長さ方向にそって、周期的な屈折率の変化が形成されたものである。光ファイバグレーティングはこの屈折率の変化の周期によって短周期型と長周期型に分類される。短周期型は特定波長の光を反射する素子である。一方、長周期型は導波路（コア）を伝搬する光のうち特定の波長のものが、クラッドを伝搬するいわゆるクラッドモードと結合し、導波路外を伝搬することにより、減衰するものである。
短周期型は主に波長選択性を備えた反射素子として、波長多重伝送などにおいて波長合分波素子として用いられている。長周期型は主に波長選択的な減衰素子として、上述のような利得等価器に用いられている。
なお、短周期型、長周期型のいずれの場合においても、光ファイバグレーティングの透過光の波長スペクトルでは反射もしくは減衰した光が損失ピークとして現れる。すなわち、透過光のうち特定波長の光が損失する作用は共通である。
【０００４】
前記屈折率の変化は、例えばゲルマニウムを添加した石英ガラスに特定波長の紫外光を照射すると、その屈折率が上昇する作用を利用して形成する。
すなわち、コアをゲルマニウム添加石英ガラスから形成し、その長さ方向において、周期的に紫外光を照射すると、この照射部分の屈折率が上昇し、屈折率の高い部分と低い部分とが交互に配置されたグレーティング部が形成される。グレーティング部においては、コアに入射した光のうち、特定波長の光が反射あるいは減衰する特性が得られる。
【０００５】
反射あるいは減衰する光の波長は、光ファイバグレーティングに張力を加えて屈折率変化の周期を変化させたり、屈折率を変化させたりすることによって変更することができる。グレーティング部が両端部に向かって引っ張られると（張力が大きくなると）、屈折率変化の周期が大きくなり、逆に張力が小さくなると屈折率変化の周期が小さくなる。また、屈折率は温度を変化させると変化するため、光ファイバグレーティングを加熱あるいは冷却することによっても反射あるいは減衰する光の波長を変化させることができる。
【０００６】
一方、半導体レーザの外部共振器としては、例えば上述の光ファイバグレーティングの他、回折格子、光学フィルタなどが用いられる。これらの素子の反射光の波長は、素子自体を機械的に回転させ、入射するレーザ光の角度を変化させることによって選択することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、通常、光ファイバグレーティングは、グレーティング部を保護するため、グレーティング部を２層構造の補強部材内に収め、この補強部材からグレーティング部の両端の光ファイバが引き出された状態で用いられる。通常補強部材の第１層は石英ガラスから形成され、第２層はセラミックス、金属などから形成されている。
したがって、グレーティング部にかかる張力を変化させる場合は補強部材全体に外力を加えなければならない。また、温度を変化させて屈折率を変化させる場合は、補強部材全体を加熱しなければならない。
よって、本来必要とされるグレーティング部以外の部分に対しても外力を印加したり、温度変化を生じさせなければならないため、装置が大がかりとなるという問題があった。
また、回折格子や光学フィルタなどにおいても、これらを回転させる装置が大がかりとなるという問題があった。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、できるだけ簡単な構成で、所望の波長の光を反射もしくは減衰させることができる素子を提供することを課題とする。
具体的には、グレーティング部以外の部分に外力や温度変化などの作用を生じさせずに、光学特性を変更することができる導波路型可変グレーティングを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の導波路型可変グレーティングは、光を導波するコアと、該コアの外周上に設けられたクラッド層とを有し、シリコーン樹脂、フッ化ポリイミド樹脂、またはフッ化メタクリレート樹脂からなる導波路、もしくは石英系導波路が基板上に形成され、該コアを、その長さ方向において、所定の周期で加熱する櫛型ヒータが設けられ、該櫛型ヒータが設けられている範囲のコア全体を該コアの長さ方向に加熱温度が変化するように加熱する補助ヒータが設けられ、該補助ヒータは、コアの長さ方向において、幅が徐々に変化していることを特徴とする。
本発明の導波路型可変グレーティングは、前記櫛形ヒータが、前記コアの一方側に設けられ、前記補助ヒータは、前記コアの他方側に設けられている構成とすることができる。
前記補助ヒータは、前記櫛型ヒータよりも前記コアの長さ方向と平行な長さが長い構成とすることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の導波路型可変グレーティングの一例を示したものであって、図１（ａ）は斜視図、図１（ｂ）はコアと櫛型ヒータとの関係を示した説明図である。
この導波路型可変グレーティング１においては、長方形板状の基板２の上にクラッド層３ａが形成され、その内部に断面長方形の柱状のコア３ｂが設けられている。光はコア３ｂを導波するため、コア３ｂの屈折率はその外周上のクラッド層３ａよりも高くなっている。
一方、基板２とクラッド層３ａとの間には櫛型ヒータ１０が設けられている。この櫛型ヒータ１０は、コア３ｂを挟んで対向配置された長方形状の薄膜からなる電力パッド部１１、１１と、これら電力パッド部１１、１１の間に掛け渡されるように設けられた複数の直線状のヒータ部１２、１２…から構成されている。これらのヒータ部１２…はコア３ｂの長さ方向と直交方向に対して平行に、かつ所定の周期で配列されている。
【００１１】
基板２としては例えば表面を酸化処理したシリコン基板などが用いられる。
クラッド層３ａは例えばシリカ（シリコン酸化物）から形成されている。コア３ｂはゲルマニウムを添加したシリカから形成された石英系導波路であり、クラッド層３ａと比較して屈折率がわずかに低くなっている。この屈折率の差は通常は０．３％程度である。
櫛型ヒータ１０は金属製の薄膜からなり、例えばチタン、金、アルミニウムなどが用いられる。
【００１２】
この導波路型可変グレーティング１は、例えば以下のようにして製造することができる。
基板２の上に、蒸着法などによってチタン、金、アルミニウムなどからなる導電体薄膜を形成する。そしてこの導電体薄膜を加工してパターンを形成し、櫛型ヒータ１０を完成させる。この加工方法は、ヒータ部１２…の周期が比較的長周期、すなわち光が減衰する長周期型の場合はフォトリソグラフィーなどが用いられる。比較的短周期、すなわち光が反射する短周期型の場合は位相マスク法、干渉露光法などによって形成することができる。
【００１３】
そして、櫛型ヒータ１０と、その周囲に露出した基板２の上に、スピンコート法などにより、コア３ｂの下のクラッド層３ａの厚さに相当する下部クラッド層を形成し、その上面全体にコア３ｂの厚さに相当するコア層を形成する。そして、このコア層をコア３ｂのパターンに沿ってイオンエッチング法などによって加工し、コア３ｂを形成するとともに、コア３ｂの周囲に下部クラッド層を露出させる。そして、さらにスピンコート法などにより、これら下部クラッド層とコア３ｂの上に上部クラッド層を形成し、下部クラッド層と上部クラッド層とが一体化したクラッド層３ａを完成させる。
【００１４】
この導波路型可変グレーティング１においては、櫛型ヒータ１０を作動させると、図２（ａ）に示した側断面図、図２（ｂ）に示した屈折率の変化のグラフからわかるように、ヒータ部１２、１２…の温度が上昇し、その下に位置するコア３ｂの屈折率が熱光学効果によってヒータ部１２、１２…の周期に対応して周期的に変化し、グレーティング特性が得られる。そして、櫛型ヒータ１０の加熱温度によってコア３ｂの屈折率変化量を変化させることができるため、このグレーティングにおいて反射する光（短周期型）あるいは減衰する光（長周期型）の波長を変更することができる。このコア３ｂにおける屈折率の変化の周期Λをグレーティングピッチという。
なお、短周期型の場合は通常グレーティングピッチが０．５μｍ以下であり、光の波長オーダである。この場合はブラッグ回折によって特定の波長（ブラッグ波長）の光のみを反射する。ブラッグ波長λBの光は、伝搬モードの実効屈折率ｎeffとグレーティングピッチΛにより、以下の式（１）で表される。
【００１５】
【数１】
0004498530.tif 000002
【００１６】
また、このときの反射率（透過光と反射光の強度比）ＲBはグレーティング長Ｌ、すなわち櫛型ヒータ１０のコア３ｂの長さ方向にそう長さＬとコア３ｂにおける屈折率の変化量Δｎによって以下の式（２）のように表される。
【００１７】
【数２】
0004498530.tif 000003
【００１８】
一方、長周期の場合は通常グレーティングピッチが数百μｍと長い。そして、コア３ｂを伝搬する光のうち、クラッド層３ａを伝搬するクラッドモードとの結合条件を満たす波長帯の光のみを減衰させる波長フィルタとしての作用を奏する。
クラッドモードとの結合効率が最大になる条件を満たす波長をλpとすると、コア３ｂの伝搬光の実効屈折率ｎcore とクラッドモードの実効屈折率ｎcladから、グレーティングピッチΛについて、以下の式（３）が成り立つ。
【００１９】
【数３】
0004498530.tif 000004
【００２０】
なお、ｎcoreとｎcladは、それぞれ以下の式（４）、式（５）で表される。
【００２１】
【数４】
0004498530.tif 000005
【数５】
0004498530.tif 000006
【００２２】
また、λp  における透過率（入射光強度に対する出射する光の強度比）Ｔpは以下の式（６）で表される。
【００２３】
【数６】
0004498530.tif 000007
ここで、ｋGは結合定数であり、コア３ｂの屈折率変調の振幅に比例した量である。式（６）中のδは以下の式（７）で表される。
【数７】
0004498530.tif 000008
【００２４】
したがって、短周期型の場合は式（１）および式（２）の関係から、所望のブラッグ波長と反射率が得られるようにグレーティングピッチとグレーティング長を決定すると好ましい。また、長周期型の場合は式（３）および式（６）の関係から、所望の減衰光の波長と透過率が得られるようにグレーティングピッチとグレーティング長を決定すると好ましい。
また、ヒータ部１２の幅ｗはグレーティングピッチΛの半分以下とすると好ましい。また、櫛型ヒータ１０の幅（コア３ｂの長さ方向に直交する方向の長さ）は、櫛型ヒータ１０のヒータ部１２…の熱伝導を考慮して、コア３ｂの幅の２倍以上とすると好ましい。
【００２５】
また、図１（ｃ）に示したように、櫛型ヒータ１０をクラッド層３ａの上に形成し、コア３ｂよりも上に配置することもできる。この場合は、上述の方法と同様にして、基板２の上にクラッド層３ａとコア３ｂを形成した後、クラッド層３ａの上に櫛型ヒータ１０を形成して製造することができる。
そして、図３（ａ）、図３（ｂ）に示したように、櫛型ヒータ１０を作動させると、ヒータ部１２、１２…の温度が上昇し、その上に位置するコア３ｂの屈折率が、熱光学効果によってヒータ部１２、１２…の周期に対応して周期的に変化し、グレーティング特性が得られる。そして、櫛型ヒータ１０の加熱温度によってコア３ｂの屈折率変化量を変化させて、このグレーティングにおいて反射する光あるいは減衰する光の波長を変更することができる。
【００２６】
図４は、図１（ａ）、図１（ｂ）あるいは図１（ｃ）に示した導波路型可変グレーティングの透過光の波長スペクトル（波長と透過率との関係）を示したもので、加熱温度を高くするにしたがって損失ピークが大きくなっていく様子を示している。このように加熱温度によって透過率が変化し、これと同時に反射する光あるいは減衰する光の波長帯幅（ピークの波長幅）も変化している。
【００２７】
例えば、図１（ａ）、図１（ｂ）に示した導波路型可変グレーティングにおいて、厚さ１ｍｍの基板２の上に、厚さ２０μｍのクラッド層３ａを形成し、その内部の中央付近に断面のサイズが７μｍ×７μｍのコア３ｂを設け、グレーティングピッチΛ６００μｍ、ヒータ部１２の幅ｗ２０μｍ、櫛型ヒータ１０の長さ（グレーティング長）２０ｍｍのものを製造したところ、反射光による損失ピークの大きさを０ｄＢから２ｄＢの範囲で変化させることができた。
【００２８】
図５は発明の第２の例の導波路型可変グレーティングを示した斜視図である。この導波路型可変グレーティングにおいては、クラッド層３ａの上に櫛型ヒータ１０が設けられ、図６（ａ）、図６（ｂ）に示したように、基板２とクラッド層３ａとの間に薄膜状の補助ヒータ１５が設けられている。
補助ヒータ１５は、櫛型ヒータ１０と同様の材料からなり、櫛型ヒータ１０と同様にして形成することができる。
【００２９】
この補助ヒータ１５は、コア３ｂの下に平行に設けられた直線状のヒータ部１６と、その両端部に設けられた長方形状の電極パッド部１７、１７とから構成されている。ヒータ部１６のコア３ｂの長さ方向と平行な長さは、櫛型ヒータ１０よりも長いサイズに設計されている。そのため、この補助ヒータ１５により、櫛型ヒータ１０が設けられている範囲のコア３ｂの温度を一律に上昇させることができる。したがって、補助ヒータ１５の幅は、コア３ｂの幅と同程度以上であれば特に制限はない。
【００３０】
この例においては、図７（ａ）、図７（ｂ）に示したように、櫛型ヒータ１０と補助ヒータ１５の配置位置を逆にして、コア３ｂの下方の基板２とクラッド層３ａとの間に櫛型ヒータ１０を配置し、コア３ｂの上方のクラッド層３ａと基板２との間に補助ヒータ１５を配置することもできる。
また、図８（ａ）、図８（ｂ）に示したように、基板２とクラッド層３ａの間に補助ヒータ１５を配置し、コア３ｂの下方のクラッド層３ａ内に、櫛型ヒータ１０を配置することもできる。
さらに図９（ａ）、図９（ｂ）に示したように、クラッド層３ａの上に補助ヒータ１５を配置し、コア３ｂの上方のクラッド層３ａ内に、櫛型ヒータ１０を配置することもできる。
【００３１】
そして、補助ヒータ１５を作動させた状態で、櫛型ヒータ１０による加熱温度を変化させると、図１０に示したように透過率と反射あるいは減衰する光の波長幅を一定に維持した状態で損失ピークがシフトし、反射あるいは減衰する光の波長帯のみを変化させることができる。
【００３２】
例えば、図５、図６（ａ）に示した導波路型可変グレーティングにおいて、厚さ１ｍｍの基板２の上に、厚さ２０μｍのクラッド層３ａを形成し、その内部の中央付近に断面のサイズが７μｍ×７μｍのコア３ｂを設け、グレーティングピッチΛ６００μｍ、ヒータ部１２の幅ｗ２０μｍ、櫛型ヒータ１０の長さ（グレーティング長）２０ｍｍ、補助ヒータ１５の幅２０μｍのものを製造したところ、損失波長帯の中心波長を０．５ｎｍの範囲で変化させることができた。
【００３３】
また、本発明の第３の例として、グレーティングをチャープトグレーティングにすることもできる。チャープトグレーティングとは、コア３ｂの屈折率の変化量や屈折率の変化の周期（グレーティングピッチ）が、コア３ｂの長さ方向において徐々に変化しているものをいう。チャープトグレーティングにすることによって、反射あるいは減衰する光の波長帯の幅（損失波長幅）を広くすることができる。
ヒータ部１２…の周期（グレーティングピッチ）Λを徐々に短く、あるいは長くすることによって、チャープトグレーティングとすることもできるが、図１１に示したように、ヒータ部１２…を一定周期とし、補助ヒータ１５のヒータ部１６の形状を、コア３ｂの長さ方向において徐々に変化させてチャープトグレーティングとすることもできる。この例においては、ヒータ部１６の幅を徐々に変化させている。すなわち、コア３ｂの長さ方向において、コア３ｂの幅方向における櫛型ヒータ１０による加熱範囲を変化させている。その結果、この長さ方向におけるコア３ｂの加熱温度を変化させてこのコア３ｂに温度分布を形成し、コア３ｂの長さ方向において屈折率の変化量が変化し、チャープトグレーティングを実現することができる。
【００３４】
図１２は図１１に示した構成の導波路型可変グレーティングの波長と透過率の関係を示したグラフであって、このグラフに示すように、コア３ｂの長さに対するヒータ部１６の加熱温度を変更することにより、反射あるいは減衰する光の波長幅を変化させることができる。
【００３５】
例えば、図１１に示した導波路型可変グレーティングにおいて、厚さ１ｍｍの基板２の上に、厚さ２０μｍのクラッド層３ａを形成し、その内部の中央付近に断面のサイズが７μｍ×７μｍのコア３ｂを設け、グレーティングピッチΛ６００μｍ、ヒータ部１２の幅ｗ２０μｍ、櫛型ヒータ１０の長さ（グレーティング長）２０ｍｍ、補助ヒータ１５の幅が１０〜４０μｍに変化しているものを製造したところ、損失波長幅を２０〜２５ｎｍの範囲で変化させることができた。
【００３６】
図１３は、ひとつのコア３ｂの長さ方向に、３つの導波路型可変グレーティングＡ、Ｂ、Ｃを形成したものである。導波路型可変グレーティングＡ、Ｂ、Ｃはいずれも一対の櫛型ヒータ１０と補助ヒータ１５を備えている。これらの櫛型ヒータ１０…は全て同じ形状のものである。
上述のように、本発明の導波路型可変グレーティングにおいては、櫛型ヒータ１０と補助ヒータ１５による加熱温度を変化させることにより、透過率、反射あるいは減衰する光の波長幅、反射もしくは減衰する光の波長などを任意に変化させることができる。したがって、これら導波路型可変グレーティングＡ、Ｂ、Ｃは、同じ櫛型ヒータ１０と補助ヒータ１５とからなるが、それぞれの加熱条件によって、異なる反射あるいは減衰特性を実現させることができる。
【００３７】
図１４に示したグラフ中のピークＡ、Ｂ、Ｃのように、導波路型可変グレーティングＡ、Ｂ、Ｃにおいてそれぞえ異なる反射あるいは減衰特性を実現させ、これらを合成することにより、ピークＲのように複雑な反射あるいは減衰特性を備えた反射あるいが減衰素子を提供することができる。
【００３８】
なお、石英系導波路の屈折率変化は０．１％（１×１０-5／℃×１００℃）であり、グレーティングにおける反射あるいは減衰光の大きさの制御を行うには十分である。しかし、反射あるいは減衰光の波長帯を大きく変調するためには、コア３ｂを熱光学効果が大きいプラスチックから形成すると好ましい。例えば、シリコーン樹脂、フッ化ポリイミドなどのポリイミド系樹脂、フッ化メタクリレートなどのメタクリル系樹脂などが用いられるが、ポリイミド系樹脂が好ましい。
この場合、クラッド層３ａも、好ましくはコア３ｂの材料として例示したものと同様のプラスチックなどから形成される。
【００３９】
例えば特開平９−２１９２０号公報に開示されている、複屈折の大きさが同程度の２種類のポリイミドの共重合体などを用いる。
この２種類のポリイミドの例としては、例えば２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＢ）と２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＤＢ）から合成されるポリイミド（６ＦＤＡ／ＴＦＤＢ）と、６ＦＤＡと４，４’−オキシジアニリン（４，４’−ＯＤＡ）から合成されるポリイミド（６ＦＤＡ／４，４’−ＯＤＡ）などを挙げることができる。そして、これらのポリイミドの共重合比を変更することによって、コア３ｂとクラッド層３ａとの屈折率差を変化させることができる。
【００４０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明においては、コアを、その長さ方向において、所定の周期で加熱するヒータを設けることによってグレーティング特性を実現し、このヒータの加熱温度を変化させることによって、グレーティング特性を変化させるため、実質的に光を導波させるコアのみを加熱するヒータを設ければよく、また、機械的に駆動する部分もないため、簡単で、かつコンパクトな構成とすることができる。
また、さらに櫛型ヒータが設けられている範囲のコア全体を加熱する補助ヒータを設けたり、この補助ヒータによる加熱温度を変化させることにより、種々のグレーティング特性を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の導波路型可変グレーティングの一例を示したものであって、図１（ａ）は斜視図、図１（ｂ）はコアと櫛型ヒータとの関係を示した説明図、図１（ｃ）はコアと櫛型ヒータの配置の変更例を示した説明図である。
【図２】  図１（ａ）、図１（ｂ）に示した導波路型可変グレーティングを櫛型ヒータによって加熱したときの説明図であって、図２（ａ）は側断面図、図２（ｂ）は屈折率の変化のグラフである。
【図３】  図１（ａ）、図１（ｃ）に示した導波路型可変グレーティングを櫛型ヒータによって加熱したときの説明図であって、図３（ａ）は側断面図、図３（ｂ）は屈折率の変化のグラフである。
【図４】  本発明の第１の例の導波路型可変グレーティングの波長と透過率との関係を示したグラフである。
【図５】  本発明の第２の例の導波路型可変グレーティングを示した斜視図である。
【図６】  図６（ａ）は図５に示した導波路型可変グレーティングのコアと櫛型ヒータとの関係を示した説明図、図６（ｂ）は側断面図である。
【図７】  図７（ａ）、図７（ｂ）は、それぞれ、図６に示した導波路型可変グレーティングにおいて、コアと櫛型ヒータと補助ヒータの配置の変更例を示した説明図と側断面図である。
【図８】  図８（ａ）、図８（ｂ）は、それぞれ、図６に示した導波路型可変グレーティングにおいて、コアと櫛型ヒータと補助ヒータの配置の変更例を示した説明図と側断面図である。
【図９】  図９（ａ）、図９（ｂ）は、それぞれ、図６に示した導波路型可変グレーティングにおいて、コアと櫛型ヒータと補助ヒータの配置の変更例を示した説明図と側断面図である。
【図１０】  本発明の第２の例の導波路型可変グレーティングの波長と透過率との関係を示したグラフである。
【図１１】  本発明の第３の例の導波路型可変グレーティングのコアと櫛型ヒータと補助ヒータを示した説明図である。
【図１２】  図１１に示した構成の導波路型可変グレーティングの波長と透過率の関係を示したグラフである。
【図１３】  コアの長さ方向に、３つの導波路型可変グレーティングを形成したものを示した斜視図である。
【図１４】  図１３に示したグレーティングの特性を示したグラフである。
【符号の説明】
１、Ａ、Ｂ、Ｃ…導波路型可変グレーティング、
３ａ…クラッド層、３ｂ…コア、
１０…櫛型ヒータ、１２…ヒータ部、
１５…補助ヒータ、１６…ヒータ部。
【図１】
0004498530.tif 000009
【図２】
0004498530.tif 000010
【図３】
0004498530.tif 000011
【図４】
0004498530.tif 000012
【図５】
0004498530.tif 000013
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
0004498530.tif 000018
【図１１】
0004498530.tif 000019
【図１２】
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【図１３】
0004498530.tif 000021
【図１４】
0004498530.tif 000022