(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機ナノ粒子からなるコア層、及びシリカからなるシェル層を含むコアシェル型粒子であって、
前記無機ナノ粒子が、金属原子と５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子とからなる量子ドットであり、
前記コア層と前記シェル層の間に、(i)前記無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有する化合物及び(ii)疎水性基を有するシランカップリング剤により形成された疎水層が介在しており、
前記(i)の化合物の無機ナノ粒子に結合可能な基が、コア層を構成する無機ナノ粒子に結合しており、
前記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基により前記疎水層が形成されており、
前記(ii)のシランカップリング剤のケイ素原子を利用してシェル層を構成するシリカが形成されている、
ことを特徴とする、コアシェル型粒子。
【請求項２】
前記疎水層が、前記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基が会合して形成されている層である、請求項１に記載のコアシェル型粒子。
【請求項３】
前記疎水層が、前記(i)の化合物の疎水性基及び(ii)のシランカップリング剤の疎水性基の間に疎水性物質を含んでいる層である、請求項１に記載のコアシェル型粒子。
【請求項４】
無機ナノ粒子が、CdSeを含む量子ドットである、請求項１乃至３に記載のコアシェル型粒子。
【請求項５】
下記の工程を含有することを特徴とする、無機ナノ粒子からなるコア層及びシリカからなるシェル層を含むコアシェル型粒子の製造方法：
(1)無機ナノ粒子に、(i)無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有する化合物を結合させて、無機ナノ粒子を前記(i)の化合物で被覆する工程、
(2)前記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基で疎水層を形成するように、前記工程(1)の生成物に対して更に前記(ii)のシランカップリング剤で被覆する工程、
(3)前記工程(2)の生成物の表面にシリカの層を形成する工程、
ここで、前記無機ナノ粒子は金属原子と５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子とからなる量子ドットである。
【請求項６】
無機ナノ粒子が、CdSeを含む量子ドットである、請求項５に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コアシェル型粒子及びその製造方法に関する。より詳細には、本発明は、コア層に含まれる無機ナノ粒子の特性を保持しており、水溶性溶媒中で安定なコアシェル型粒子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、水相又は水相−油相マイクロエマルジョンにおいてシリカにより被覆した無機ナノ粒子(量子ドット及び金属クラスター)の合成技術が報告されている（非特許文献１及び２参照）。シリカ(SiO2)による被覆は、例えば、まず水相においてナノ粒子を合成した後に、非特許文献１に記載の方法に従って行うことができる。この方法によれば、シリカ粒子はエタノール中でアルカリ性環境下においてテトラエトキシシラン（TEOS）の加水分解と重縮合反応により生成することができる。しかしながら、この方法では水相で合成されるため、得られたシリカ被覆化量子ドットは１０％以下の低い量子収率で、かなり広い蛍光スペクトル（蛍光スペクトル幅：最大波長の1/2＝100nm）を示すなど、性能としては非常に劣るものである。更に、サイズ分布も３０％以上と高く、シリカ粒子の厚さも厚く(直径：40-700 nm)、凝集してしまう。また、この方法で得られたシリカ被覆化量子ドットは、シリカ粒子内にいずれも単一ではなく、５から１０個程度の量子ドットを凝集させた形態で含有している。
【０００３】
一方、近年、疎水性条件下でトリシクロフォスフィンオキシド（TOPO）やヘキサデシルアミン(HDA)等の共役リガンドを用いてキャッピングして、非常に蛍光性の高いCdSeコア量子ドットを合成する技術が報告されている（非特許文献３参照）。更に、非特許文献３に記載の技術を改良したものとして、疎水性条件下で非常に蛍光性の高いCdSe/ZnSのようなコア/シェル構造を有する量子ドットを合成する技術も提案されている（非特許文献４参照）。しかしながら、このようにTOPOやHDAでキャッピングした量子ドットは、水溶性溶媒中で、フォトルミネッセンス特性を喪失し易くなる傾向があるので、更なる有機物質又は無機物質で被覆して安定性を向上させることが求められている。
【０００４】
そこで、TOPOやHDAでキャッピングした量子ドットをシリカで被覆する技術が報告されている（例えば、非特許文献５−９参照）。しかしながら、これらの技術の内、非特許文献５−８では、量子ドットを水溶性にするために表面のTOPO-又はTOPO/TOP-リガンドを適当な物質で置換した後に、シリカ前駆体の添加とシリカの重合化を実施してシリカ被覆量子ドットを合成している。そのため、これらの技術では、シリカの合成は量子ドットナノ結晶上で直接行う必要があり、その結果、得られた産物には、1つのシリカ粒子内に複数の量子ドットが不可避的に含まれてしまう。更に、これらの技術では、TOPO-又はTOPO/TOP-リガンドを他の物質に置換することによって、量子ドットの量子収率の顕著な減少を招いてしまうという欠点や、粒度分布が不均一になるという問題点もある。また、非特許文献９の技術では、TOPO-又はTOPO/TOP-リガンドを他の物質に置換する工程を経ることなく、量子ドットをシリカにより被覆する技術を提案している。具体的には、非特許文献９の技術では、CdSeとFe2O3の両タイプのナノ粒子をシクロヘキサンとIgepal CO-520 マイクロエマルジョンに分散し、これにアンモニウムヒドロキシドと珪酸四エチル（TEOS）を添加後、重合を行ってシリカ被覆量子ドットを合成している。しかしながら、この方法でも、1つのシリカ粒子内に複数の量子ドットが含まれており、シリカ粒子1分子当り単一の量子ドットを含むものを得ることはできない。また、この方法で得られたシリカ被覆量子ドットは、量子収率が顕著に減少するという欠点もある。
【非特許文献１】Liz-Marzan, L.M., Giersig, M., Mulvaney, P. Langmuir 1996, 12: 4329-4335.
【非特許文献２】Strober, W., Fink, A., Bohn, E. Journal of Colloid and Interface Science1968, 26: 60-69.
【非特許文献３】Murray, C.B., Norris,D.J., Bawendi, M.G. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115: 8706-8715.
【非特許文献４】Hines, M.A., Guyot-Sionnest, P. J. Phys. Chem. 1996, 100: 468-471.
【非特許文献５】Cha, J.N., Birkedal, H., Euliss, L.E., Bartl, M.H., Wong, M.S., Deming, T.J., Stucky, G.D. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125: 8285-8289.
【非特許文献６】Bruchez, M., Moronne, M., Gin, P., Weiss, S., Alivisatos, A.P. Science1998, 281: 2013-2016.
【非特許文献７】Gerion, D., Pinaud, F., Williams, S.C., Parak, W.J., Zanchet, D., Weiss, S., Alivisatos, A.P. J. Phys. Chem. B 2001, 105: 8861-8871.
【非特許文献８】Nann, T., Mulvaney, P. Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43: 5393-5396.
【非特許文献９】Yi, D.K., Selvan, S.T., Lee, S.S., Papaefthymiou, G.C., Kundaliya, D., Ying, J.Y. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127: 4990-4991.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点又は欠点を解消して、無機ナノ粒子をコア層に含むコアシェル型粒子及びその製造方法を提供することである。より詳細には、本発明は、コア層に含まれる無機ナノ粒子の特性を保持しており、水溶性溶媒中で安定なコアシェル型粒子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、上記課題を解決すべく、鋭意検討を行ったところ、(i)無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有する化合物、及び(ii)疎水性基を有するシランカップリング剤を使用して、シリカで被覆されたコアシェル型粒子を製造することによって、無機ナノ粒子（コア層）の特性を保持した状態で水溶性溶媒中でも安定なコアシェル型粒子が得られることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて、更に改良を重ねることによって完成したものである。
【０００７】
即ち、本発明は、下記に掲げるコアシェル型粒子及びその製造方法である：
項１．無機ナノ粒子からなるコア層、及びシリカからなるシェル層を含むコアシェル型粒子であって、
前記コア層と前記シェル層の間に、(i)前記無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有する化合物及び(ii)疎水性基を有するシランカップリング剤により形成された疎水層が介在しており、
前記(i)の化合物の無機ナノ粒子に結合可能な基が、コア層を構成する無機ナノ粒子に結合しており、
前記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基により前記疎水層が形成されており、
前記(ii)のシランカップリング剤の表面にシェル層を構成するシリカが形成されている、
ことを特徴とする、コアシェル型粒子。
項２．  前記疎水層が、前記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基が会合して形成されている層である、項１に記載のコアシェル型粒子。
項３．  前記疎水層が、前記(i)の化合物の疎水性基及び(ii)のシランカップリング剤の疎水性基の間に疎水性物質を含んでいる層である、項１に記載のコアシェル型粒子。
項４．  無機ナノ粒子が、CdSeを含む量子ドットである、項１乃至３に記載のコアシェル型粒子。
項５．  下記の工程を含有することを特徴とする、無機ナノ粒子からなるコア層及びシリカからなるシェル層を含むコアシェル型粒子の製造方法：
(1)無機ナノ粒子に、(i)無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有する化合物を結合させて、無機ナノ粒子を前記(i)の化合物で被覆する工程、
(2)前記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基で疎水層を形成するように、前記工程(1)の生成物に対して更に前記(ii)のシランカップリング剤で被覆する工程、
(3)前記工程(2)の生成物の表面にシリカの層を形成する工程。
項６．  無機ナノ粒子が、CdSeを含む量子ドットである、請求項４に記載の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のコアシェル型粒子によれば、シェル層としてシリカを含みながら、コア層に含まれる無機ナノ粒子の特性を安定に保持している。従って、本発明のコアシェル型粒子は、コア層に含まれる無機ナノ粒子そのものと同等の機能を発揮することができる。
【０００９】
また、本発明のコアシェル型粒子は、(A)水溶性溶媒中で安定である、(B)１つの粒子内に単一の量子ドットのみを含むことができる、(C)凝集性がない、(D)平均粒子径を10〜15nm程度に小さくでき、また200nm以上にもできる、等の利点もある。
【００１０】
本発明のコアシェル型粒子は、光感受性薬剤として、標識物質、温度感受性物質、蛍光イメージング、機能性磁気共鳴イメージング、陽電子放射断層撮影(PET)用材料、共焦点顕微鏡、光学顕微鏡、バイオセンシング、光増感作用、蛍光性ダイオード、太陽光増感バッテリー、蛍光性ナノ粒子を用いた紫外線吸収用人工ガラス、光学スイッチ等に応用可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
１．コアシェル型粒子
本発明のコアシェル型粒子は、コア層として無機ナノ粒子を含有する。当該無機ナノ粒子は、コアシェル型粒子の用途に応じて適宜選択することができるが、一例として、金属原子と５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子とからなる量子ドット；好ましくは、Ｃｄ、Ｚｎ、Ｈｇ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｅｕ、Ｓｍ、Ｉｎ、Ｐｂ及びＭｇからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属原子と、Ｓ、Ｓｅ及びＴｅからなる群より選ばれる少なくとも１種の５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子からなる量子ドット；更に好ましくはＣｄ及び／又はＺｎと、Ｓ、Ｓｅ、Ｐ、Ａｓ及びＴｅからなる群より選ばれる少なくとも１種の５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子からなる量子ドット；特に好ましくはCdSeが例示される。これらの量子ドットによれば、蛍光を呈する特性があり、この特性を各種用途に応用できる。なお、本発明において、無機ナノ粒子は、数種の量子ドットが積層して粒子状になっているものであってもよい。
【００１２】
上記無機ナノ粒子（コア層）の大きさについては、使用する無機ナノ粒子の種類やコアシェル型粒子の用途等に応じて適宜設定されるが、その平均粒子径として、例えば、1〜12ｎｍ、好ましくは1.6〜10ｎｍ、更に好ましくは2〜7.5ｎｍが挙げられる。
【００１３】
上記無機ナノ粒子は、公知の方法（望ましくは特開２００５−１８７３１４号公報等に記載の方法）に従って製造できる。
【００１４】
本発明のコアシェル型粒子は、上記の無機ナノ粒子からなるコア層と、シリカからなるシェル層を含んでおり、当該コア層とシェル層との間には疎水層が形成されていることを特徴としている。当該疎水層は、(i)上記無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有する化合物の疎水性基と、(ii)疎水性基を有するシランカップリング剤の疎水性基とから形成されている。上記(i)の化合物の無機ナノ粒子に結合可能な基が無機ナノ粒子（コア層）に結合することにより、無機ナノ粒子が上記(i)の化合物により被覆された状態になっており、且つ上記(i)の化合物の疎水性基が表面に露出した状態で存在する。この(i)の化合物の疎水性基と上記(ii)のシランカップリング剤の疎水性基が会合した状態（図１参照；以下、「第１形態疎水層」と表記する）、或いは疎水性物質を挟み込むような状態（図２；以下、「第２形態疎水層」と表記する）の疎水層が形成されている。つまり、第１形態疎水層では、無機ナノ粒子の表面に結合した(i)の化合物の疎水性基と、上記(ii)のシランカップリング剤の疎水性基からなる疎水層が形成されている。一方、第２形態疎水層では、無機ナノ粒子の表面に結合した(i)の化合物の疎水性基と、(ii)のシランカップリング剤の疎水性基との間に疎水性物質が存在しており、(i)の化合物の疎水性基、疎水性物質、及び(ii)のシランカップリング剤の疎水性基によって疎水層が形成されている。
【００１５】
上記(i)の化合物としては、無機ナノ粒子に結合可能な基及び疎水性基を有していることを限度として、特に制限されない。上記(i)の化合物において、無機ナノ粒子に結合可能な基については、無機ナノ粒子の種類に応じて適宜選択されるが、一例としてアミノ基が例示される。また、上記(i)の化合物において、疎水性基としては、例えば、炭素数8〜18の直鎖又は分岐状のアルキル基等が例示される。これらの中で好ましくは、炭素数8〜16の直鎖又は分岐状のアルキル基である。例えば、無機ナノ粒子として金属原子と５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子とからなる量子ドットを使用する場合、上記(i)の化合物としては、具体的には、TOPO、HDA、オクタデシルアミン（ODA）、ドデシルアミン（DDA）、トリオクチルフォスフィン（TOP）ステアリン酸等が使用される。
【００１６】
本発明のコアシェル型粒子において、上記(i)の化合物の含有量は、使用される無機ナノ粒子の種類や該(i)の化合物の種類等に応じて適宜設定されるが、通常、当該コアシェル型粒子の無機ナノ粒子（コア層）を1容量としたときに対してコアシェル型粒子の総容量は、2〜200容量、好ましくは2〜100容量、更に好ましくは2〜25容量となる量に設定すればよい。
【００１７】
また、上記(ii)のシランカップリング剤としては、シランカップリング剤として機能でき、且つ疎水性基を有するものである限り、特に限定されるものではない。上記(ii)のシランカップリング剤の疎水性基としては、上記(i)の化合物の疎水性基と同様の基を使用することができ、炭素数8〜16の直鎖又は分岐状のアルキル基であることが望ましい。このような(ii)のシランカップリング剤としては、具体的には、オクチルトリエトキシシラン（OTS）、ヘキサトリメトキシシラン（HTS）、デシルトリエトキシシラン（DTS）、トリエトキシビニルシラン（TEVS）等が例示される。これらの中で好ましくはOTSである。
【００１８】
本発明のコアシェル型粒子において、上記(ii)のシランカップリング剤の含有量は、使用される上記(i)の化合物の種類、該(ii)のシランカップリング剤等に応じて適宜設定されるが、通常、当該コアシェル型粒子の無機ナノ粒子（コア層）を1モルとしたときに、50〜700モル、好ましくは70〜500モル、更に好ましくは80〜120モルとなる量が例示される。
【００１９】
更に、本発明のコアシェル型粒子の疎水層が上記第２形態疎水層である場合、該第２形態疎水層に含まれる疎水性物質としては、上記(i)の化合物及び(ii)のシランカップリング剤の双方の疎水性基に対して相溶性を示すものが使用される。当該疎水性物質として、具体的には、フタロシアニン、ヘキサン、トルエン、コレステロール等が挙げられる。これらの中でも、フタロシアニンは、光増感性という有利な特性を備えており、無機ナノ粒子として前述する量子ドットを使用する場合には、該量子ドットの蛍光を増感できるという利点がある。また、上記疎水性物質としては、上記に例示したものの他、標識化（蛍光）、光増感、温度感受性、抗酸化、酸化促進、磁気共鳴等の各種機能性を有する物質を使用することもできる。このような機能性物質を含有させることによって、コアシェル型粒子に各種機能性を付与することが可能になる。これらの疎水性物質は、１種単独で使用しても、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２０】
本発明のコアシェル型粒子において、疎水層が上記第２形態疎水層である場合、疎水性物質の含有量としては特に制限されないが、一例として、当該コアシェル型粒子の無機ナノ粒子（コア層）を1モルとしたときに、疎水性物質が5〜200モル、好ましくは7〜100モル、更に好ましくは20〜50モルとなる量が例示される。
【００２１】
前述する形態で、無機ナノ粒子上に上記(i)の化合物及び(ii)のシランカップリング剤を有することによって、コア層の上に疎水層が積層された粒子（以下、「前駆体粒子」と表記する）が形成され、当該前駆体粒子の表面に上記(ii)のシランカップリング剤のケイ素原子が露出される。
【００２２】
本発明のコアシェル型粒子は、上記前駆体粒子の表面のケイ素原子をシリカ前駆体として利用してシリカ（シェル層）が合成されてなるものである。
【００２３】
本発明のコアシェル型粒子のシェル層を形成するシリカの含有量は、該コアシェル型粒子の用途等によって異なるが、通常、該コアシェル型粒子の無機ナノ粒子（コア層）１モルに対して、10000〜2.6×1015モル、好ましくは10000〜1.0×1010 モル、更に好ましくは13000〜15000モルが例示される。
【００２４】
本発明のコアシェル型粒子は、その粒径については特に制限されないが、その平均粒径の一例として10〜200ｎｍ、好ましくは15〜100ｎｍ、更に好ましくは15〜50ｎｍが挙げられる。
【００２５】
本発明のコアシェル型粒子は、必要に応じて、その表面にアミノ基が付与されていてもよく、またポリエチレングリコールで修飾されていてもよい。
【００２６】
２．製造方法
本発明のコアシェル型粒子の製造方法について、以下工程毎に説明する。
工程(1)
まず、コア層となる無機ナノ粒子に上記(i)の化合物を結合させて、無機ナノ粒子を該(i)の化合物で被覆する。
【００２７】
当該工程は、例えば、無機ナノ粒子１モルに対して上記(i)の化合物10〜200モルを22〜350℃で0.1分〜10時間混合することにより実施されるが、無機ナノ粒子として、金属原子と５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子とからなる量子ドットを使用する場合には、当該工程は、無機ナノ粒子の合成と上記(i)の化合物による被覆を同一の反応系によって行うことができる。
【００２８】
以下、金属原子と５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子とからなる量子ドットを使用する場合について説明する。
金属原子の酸化物又は塩（例えば、酸化亜鉛、酸化カドミウム等）と、５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子からなるペレット又は粉末と、上記(i)の化合物とを所定条件下で混合して反応させることによって、無機ナノ粒子の合成と上記(i)の化合物による被覆を同一の反応系によって行うことができる。溶媒としては、TOP、ステアリン酸、オレイン酸等が使用される。混合液（反応開始時の反応液）中の各々の化合物の比率については、例えば金属原子が1μＭ〜4Ｍ、５Ｂ族若しくは６Ｂ族原子が1μＭ〜40Ｍ、上記(i)の化合物が1〜4Ｍが挙げられる。反応条件としては、例えば、22〜350℃、好ましくは22〜250℃、更に好ましくは150〜250℃の温度条件下で；0.1分〜10時間、好ましくは1分〜7時間、更に好ましくは10分〜3時間程度、必要に応じて撹拌すればよい。反応時間が長い程、無機ナノ粒子の粒径を大きくすることができる。反応は、反応液の0.1〜1000倍容量のクロロホルムを添加することによって停止することができる。
【００２９】
斯くして得られた生成物（(i)の化合物で被覆された無機ナノ粒子）を遠心分離等の公知の手段で分離して、以下の工程(2)に供する。
【００３０】
工程(2)
次いで、前記工程(1)により得られた生成物の表面に露出している上記(i)の化合物の疎水性基と(ii)のシランカップリング剤の疎水性基で疎水層を形成させることによって、前記工程(1)の生成物に対して更に上記(ii)のシランカップリング剤で被覆する。即ち、当該工程によって、上記前駆体粒子を得ることができる。以下、当該工程を、第１形態疎水層を形成させる場合と第２形態疎水層を形成させる場合に分けて詳述する。
第１形態疎水層を形成させる場合
当該工程で第１形態疎水層を形成させる場合、まず、前記工程(1)により得られた生成物をクロロホルム又はトルエン等の溶媒に1nＭ〜1Ｍの濃度となるように溶解する。次いで、得られた溶解液1ｍＬに対して、10μＭ〜5Ｍの界面活性剤を含む水溶液0.1〜1000ｍＬ程度を添加する。ここで、使用される界面活性剤としては、例えば、ドキュセートナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ｎ−ブタノール等が挙げられる。
【００３１】
次いで、溶解液と界面活性剤含有水溶液の混合液を撹拌することにより、前記工程(1)により得られた生成物がクロロホルム相から水相に移行すると共に、水相で前記工程(1)により得られた生成物がミセルを形成する。ミセルの形成は、混合液の白濁により確認できる。
【００３２】
ミセルが形成された水相を回収し、これに、上記(ii)のシランカップリング剤を0.01〜50mＭ、好ましくは0.1〜15mＭ、更に好ましくは0.5〜3mＭの濃度となるように添加し；10〜50℃、好ましくは15〜30℃、更に好ましくは20〜25℃の温度条件下で；10分〜6時間、好ましくは30分〜4時間、更に好ましくは1〜3時間程度、撹拌する。このように処理することによって、第１形態疎水層を含む形態で、前記工程(1)の生成物が上記(ii)のシランカップリング剤で被覆される。
【００３３】
第２形態疎水層を形成させる場合
また、当該工程で第２形態疎水層を形成させる場合、まず、前記工程(1)により得られた生成物をクロロホルム又はトルエン等の溶媒に1nＭ〜1Ｍの濃度となるように溶解する。次いで、得られた溶解液に、疎水性物質を添加して混合する。ここで疎水性物質の添加量としては、例えば、溶解液に含まれる前記工程(1)により得られた生成物１モルに対して、疎水性物質が50〜700モル、好ましくは70〜500モル、更に好ましくは80〜120モルとなる量が例示される。
【００３４】
次いで、得られた溶解液1ｍＬに対して、10μＭ〜5Ｍの界面活性剤を含む水溶液0.1〜1000ｍＬ程度を添加する。ここで、使用される界面活性剤としては、第１形態疎水層を形成させる場合と同様である。
【００３５】
斯くして得られた溶液を用いて、水相中でのミセルの形成、上記(ii)のシランカップリング剤の添加を行うことによって、第２形態疎水層を含む形態で、前記工程(1)の生成物が上記(ii)のシランカップリング剤で被覆される。ミセルを形成させる条件、上記(ii)のシランカップリング剤の添加量、その他処理条件等は、第１形態疎水層を形成させる場合と同様である。
【００３６】
斯くして得られた生成物（上記前駆体粒子）を遠心分離等の公知の手段で分離して、更に以下の工程(3)に供する。
【００３７】
工程(3)
前記工程(3)で得られた生成物（上記前駆体粒子）の表面にシリカの層を形成することによって、本発明のコアシェル型粒子が生成する。
【００３８】
シリカ層の形成は、公知の方法で実施される。具体的には、前記工程(3)で得られた生成物を含む水溶液に、トリエトキシビニルシラン等のモノマー化合物を添加し、上記前駆体粒子の表面にあるケイ素原子を利用してシリカ重合を実施する。当該シリカ重合は、例えば、前記工程(3)で得られた生成物１モルに対して、上記モノマー化合物を10000〜2.6×1015モル、好ましくは10000〜1.0×1010モル、更に好ましくは13000〜15000モルとなる量を水溶液中で混合し；10〜50℃、好ましくは15〜30℃、更に好ましくは20〜25℃の温度条件下で；0.5〜48時間、好ましくは1〜24時間、更に好ましくは2〜16時間程度、撹拌することにより実施される。
【００３９】
斯くして、本発明のコアシェル型粒子が生成される。得られたコアシェル型粒子は公知の方法に従って精製できる。
【００４０】
本発明のコアシェル型粒子にアミノ基を付与したり、PEG標識する方法も公知である。例えば、コアシェル型粒子にアミノ基を付加するには、[3−(2−アミノエチルアミノ)−プロピル]トリメトキシシランと3-アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)をシェル層のシリカに重合させればよい。また、例えば、コアシェル型粒子をPEG標識するには、NHS-m-dPEG precursorsやS-acetyl-dPEG NHS esters等のPEG含有NHSエステルを、シェル層のシリカに結合させればよい。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
実施例１  第１形態疎水層を有するコアシェル型粒子
＜コアシェル型粒子の製造＞
１．(i)の化合物で被覆されたCdSe量子ドットの合成
セレニウムペレット(0.7896g)をTOP(7.4g)に加えアルゴン雰囲気中150℃で加熱し、TOP-Seストック溶液を準備した［1 mmolのセレニウムに20 mmolのTOPを加た］。
【００４２】
別途、8gのステリアン酸又はオレイン酸に、0.45gの酸化カドニウムを加え［28 mmolのステアリン酸又はオレイン酸中に3.5 mmolの酸化カドニウムを含有］、アルゴン雰囲気下の3口フラスコ中、150℃に加熱した。上記酸化カドニウム溶液にTOPO(8g: 20 mmol)とHDA(12g: 50 mmol)又はODA(12g: 45 mmol)を加え、150℃で混合した。得られた混合液に、上記で準備したTOP-Seストック溶液を速やかに加えて反応を行い、同一反応系内でCdSe量子ドットの合成と該CdSe量子ドットのTOPO/HDA又はTOPO/ODAによる被覆を行った（なお、後述する性能評価では、前者のものを使用して製造されたコアシェル型粒子を用いた）。かかる反応は、20〜100mlのクロロホルムを加えることにより停止させた。120℃、10分間の反応により第一量子サイズ(青色；直径約2.1nm)を得た。120℃、50分間の反応により、第二量子サイズ(濃緑色；直径約2.4nm)を得た。150℃、60分間の反応により第三量子サイズ（淡緑色；直径約2.7nm）を得た。190℃、80分間の反応により第四量子サイズ（黄色；直径約3.0nm）を得た。220℃、100分間の反応で第五量子サイズ（橙色；直径約3.7nm）を得た。更に、250℃、120分間の反応により第六量子サイズ（赤色；直径約4.3nm）を得た。得られた量子ドットは高分解能透過電子顕微鏡、スペクトル分光光度計、及びスペクトル蛍光光度計を用いて特性を評価した。
【００４３】
２．(i)の化合物で被覆されたCdSe/ZnS型及びCdSe/ZnSe/ZnS型量子ドットの合成
TOP/HAD/ステアリン酸/DDAで被覆されたCdSe/ZnS型量子ドットの合成
2gのTOP(5.4 mmol)、2gのHDA(8.3 mmol)に0.2gのZnステリアン酸(0.32 mmol)を溶解させた液、0.1gの硫黄(3.1 mmol)を2gのDDA(10.8 mmol)に溶解させた液、及び上記１で得られたCdSe(ナノ結晶；第一量子サイズ〜第六量子サイズのぞれぞれを使用)50mgを混合した。そして、アルゴン雰囲気中150℃で70分間、反応を行うことにより、TOP/HDA/ステアリン酸/DDAで被覆されたCdSe/ZnS型量子ドットを合成した。得られた被覆化量子ドットはメタノールを用いて沈殿させ、非反応成分を取り除くため2回メタノールで洗浄した。その後、沈殿物をクロロホルムに溶解またはトルエンに溶解させた。合成した量子ドットのモル濃度はクロロホルムまたはトルエン中でYuらの方法(Chem. Mater. 2003, 15, 2854-2860)に従い算出した。得られた被覆化量子ドットの最終濃度は66.12μM〜264.48μMであった。この被覆化量子ドットをシリカシェル合成用に使用した。
【００４４】
TOP/HDA/ステアリン酸で被覆されたCdSe/ZnSe/ZnS型量子ドットの合成
2gのTOP(5.4 mmol)、2gのHDA(8.3 mmol)に0.2gのZnステリアン酸 (0.32 mmol)を溶かした液、7.4 gのTOP(20.0 mmol)に溶かした0.7896 gのセレニウムペレット(10.0 mmol)、及び上記１で得られたCdSe(ナノ結晶；第六量子サイズ)50mgを混合した。そして、アルゴン雰囲気中200℃で20分間、反応を行うことにより、TOP/HDA/ステアリン酸で被覆されたCdSe/ZnSe型量子ドットを合成した。次いで、更に、3mlのTOP(1.75 M)に溶解した0.568 gヘキサメチルジシルチアン(C6H18SiS) (1.03 M)、を添加して150℃で70分間反応を行うことにより、TOP/HAD/ステアリン酸で被覆されたCdSe/ZnSe/ZnS型量子ドットを合成した。得られた被覆化量子ドットはメタノールを用いて沈殿させ、非反応成分を取り除くため2回メタノールで洗浄した。その後、沈殿物をクロロホルムに溶解またはトルエンに溶解させた。合成した量子ドットのモル濃度はクロロホルムまたはトルエン中でYuらの方法(Chem. Mater. 2003, 15, 2854-2860)に従い算出した。得られた被覆化量子ドットの最終濃度は66.12μM〜264.48μMであった。この被覆化量子ドットをシリカシェル合成用に使用した。
【００４５】
３．シランカップリング剤による量子ドットの被覆
上記１又は２で得られた被覆化量子ドット（クロロホルム中で最大吸収波長においてODを0.15に調整したもの、0.8mL）を、5 mM ドキュセートナトリウム、5 mM ラウリル硫酸ナトリウム、及び430 mM n−ブタノールを含む水溶液10mlに添加し、マグネチックスターラーで激しく混合した。その結果、クロロホルム相から水相中に移行した被覆化量子ドットがミセルを形成し、水相で僅かな白濁が認められた。ミセルは、量子ドットの表面を被覆した(i)の化合物(TOPO、TOP、HDA、ODA等)とその外側に存在する界面活性剤から構成される。
【００４６】
疎水性基を有するシランカップリング剤の疎水性基は、立体的に(i)の化合物(TOPO、TOP、HDA、ODA等)と相互作用する。更に、このシランカップリング剤はミセル表面に酸素原子による架橋を形成して付加的に重合し、ミセルを安定化させる。シランカップリング剤としてn−オクチルトリエトキシシラン(OTS)を用いた。上記で得られたミセルをシランカップリング剤で被覆するために、ミセルを含む上記水相（10mL）を回収し、これに5μLのOTSを添加して、22℃おいて2時間攪拌することにより反応を行った。
【００４７】
４．シリカによるシェル層の形成
トリエトキシビニルシランは最初の上記のシランカップリング剤上に重合し、シリカのシェル層を完成させる。この反応過程は100μlのトリエトキシビニルシランを、上記３で得られた反応液（10ml）に加えることにより行った。反応は22℃において24時間攪拌した。シリカシェルの形成と成長はこの時間内に進む。ミセルの表面に存在していた界面活性剤はシリカに置き換わり、もはやミセルを構成する分子ではない。構造はシリカシェルで被覆化された量子ドットシリカミセルともいえる。
【００４８】
５．シリカ（シェル層）へのアミノ基の導入
[3−(2−アミノエチルアミノ)−プロピル]トリメトキシシランは、シリカシェルの表面上に重合化し、表面に親水性のアミノ基（NH2-groups）を付加する。このアミノ基の導入は10 μlの[3−(2−アミノエチルアミノ)−プロピル]トリメトキシシランを上記４で得られた反応液（10ml）に添加し、さらに2時間攪拌することにより行った。反応後、0.22 μm Millipore filtersを用いて遠心ろ過を行い、凝集したものや不純物を取り除いた。最終的な生成物の精製はSlide-A-Lyzer Dialysis Cassette-10000 MWCO (Pierce社製)を用いて数回透析洗浄を繰り返すことにより行った。
【００４９】
６．ポリエチレングリコール（PEG）誘導体による表面修飾
上記で得られたコアシェル型粒子をin vivo での応用するためにはその表面を更にPEG含有NHSエステル(例えば、 NHS-m-dPEG precursors、S-acetyl-dPEG NHS esters(Quanta Biodesign, Ltd.))で修飾する必要がある。100 mgのPEG含有NHSエステルを上記４で得られた反応液2mlに加え、16時間攪拌した。生成物の精製はSlide-A-Lyzer Dialysis Cassette-10000 MWCO (Pierce社製)を用いて数回透析洗浄を繰り返すことにより行った。
【００５０】
＜コアシェル型粒子の性能評価＞
上記で製造したコアシェル型粒子について、各種性能を評価した。なお、使用したコアシェル型粒子は、いずれもアミノ基の導入及びPEG誘導体による修飾を行っていないものを用いた。
吸収スペクトル及び蛍光スペクトル
コア層にCdSe量子ドットを有するコアシェル型粒子の各種粒子径のものについて、吸収スペクトル、及び蛍光スペクトルを測定した。尚、吸収スペクトルはHitachi U-4100 spectrophotometer；蛍光スペクトルはHitachi F-4500 fluorescence spectrometerを用いて行った。吸収スペクトルの測定結果を図３に、；蛍光スペクトルの測定結果を図４に示す。この結果から、コアシェル型粒子は、コア層に含まれる無機ナノ粒子の大きさや種類に応じた吸収スペクトル及び蛍光スペクトルを呈することが確認された。
【００５１】
また、コア層にCdSe/ZnS量子ドット（第三量子サイズのCdSe使用）を有するコアシェル型粒子とシェル層を有していないCdSe/ZnS量子ドット（第三量子サイズのCdSe使用）について、吸収スペクトル及び蛍光スペクトルを比較した結果を図５に示す。この結果から、両者の吸収スペクトル及び蛍光スペクトルは、ほぼ同じ形であることが確認された。
【００５２】
更に、コア層にCdSe/ZnS/ZnS量子ドットを有するコアシェル型粒子の吸収スペクトル及び蛍光スペクトルは、コア層にCdSe量子ドットを有するコアシェル型粒子の場合（図３及び４）とほぼ同じ形を示し、最大吸収波長は552nmで、最大蛍光波長は575nmであった。
【００５３】
また、コア層にCdSe量子ドットを有するコアシェル型粒子の場合は、図３及び４に示すスペクトルの形とほぼ同じであり、最大吸収波長は470 nmで、最大蛍光波長は502nmであった。
【００５４】
量子収率
上記で製造したコアシェル型粒子の量子収率を、ローダミン6G(Fluka) を365nmで励起した際の吸光度(<0.015)をもとに評価（具体的には、「Reiss, P.; Bleuse, J.; Pron, A. Nano Lett. 2002, 2, 781-784」に記載の方法に従って測定）した。上記で製造した各々のタイプのコアシェル型粒子について量子効率を測定し、その平均値を算出してデータをまとめた。その結果を表１に示す。
【００５５】
本発明のコアシェル型粒子の量子収率は、(1)コア層の量子ドットのタイプ、(2)コア層の量子ドットのクロロホルム中での初期の量子収率、(3)コアシェル型粒子に含まれる他の分子(コレステロール、ヘキサン、トルエン等)等によって変動する。
【００５６】
コア層としてCdSe/ZnS又はCdSe/ZnSe/ZnSを有するコアシェル型粒子の場合、量子収率は、それぞれのコア層である量子ドット自体のクロロホルム中での量子収率よりもおよそ30〜50%低いが、比較的高い値を保持していた。
【００５７】
【表１】
0004568862.tif 000002
【００５８】
構造特性
上記で製造したコアシェル型粒子の構造特性を高分解透過型電子顕微鏡（JEOL (model JEM 3010, Japan) transmission electron microscope operating at 300 kV）を用いて評価した。顕微鏡写真を図６に示す。図６中、Ａはコア層がCdSe/ZnS（第四量子サイズのCdSe使用）であり；Ｂはコア層がCdSe/ZnSe/ZnSであり；Ｃはコア層がCdSe（第一量子サイズ）であるコアシェル型粒子の顕微鏡写真である。図６中、コアシェル型粒子内に観察される黒い点は量子ドット（無機ナノ粒子）を示す。殆どの粒子が１粒子当たり1個の量子ドットを含んでいることが分かる。
【００５９】
コアシェル型粒子の顕微鏡写真の結果から、上記で製造された粒子は、１粒子当たり、１個の量子ドットを含むものが９２％、２個の量子ドットを含むものが６％、量子ドットを含まないものが０％であり、極めて高い割合で、１粒子当たり１個の量子ドットを含んでいた。
【００６０】
粒子サイズ
上記で製造したコアシェル型粒子の構造特性を高分解透過型電子顕微鏡で観察し、その平均粒子径を測定した。粒子径の平均値とサイズ分布（標準偏差(SD)÷平均粒子径×100；％）は、コア層としてCdSe/ZnS（第四量子サイズのCdSe使用）を有するコアシェル型粒子は、直径17.72±2.12 nmでサイズ分布は約12%；コア層としてCdSe/ZnSe/ZnSを有するコアシェル型粒子は直径17.86±2.25 nmでサイズ分布は約12.6%；コア層としてCdSe（第一量子サイズ）を有するコアシェル型粒子は直径17.19±1.93 nmでサイズ分布は約11.2%であった。代表例として、コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子の顕微鏡写真の像とサイズヒストグラムを図７に示す。
【００６１】
安定性及び温度耐性
上記で製造したコアシェル型粒子は、４℃、純水中で遮光しておけば2ヶ月間は分解や凝集は観られず安定に存在することを確認している。また、４〜４０℃の間では安定であることも確認している。
【００６２】
細胞毒性
上記で製造したコアシェル型粒子について、細胞毒性としての性能を評価するために、白血病細胞を利用して以下の実験を行った。
【００６３】
白血病細胞として、Jurkat細胞（急性リンパ性白血病細胞；東北大学加齢医学研究所医用細胞資源センターより分譲）及びK-562細胞（慢性骨髄性白血病細胞；東北大学加齢医学研究所医用細胞資源センターより分譲）を用いた。両細胞株ともRPMI-1640（10％FBS、100μg/ml ストレプトマイシン、及び100U/ml ペニシリン含有）培地で37℃、5％CO2雰囲気下で培養した。各細胞溶液を24穴プレートに900μl（5×105cells/well）ずつ分注した。更に各穴に上記で製造したコアシェル型粒子を含む溶液（5mMから312ｎＭに調製）を100μｌずつ添加し、0.5〜48時間、37℃、5％CO2雰囲気下で培養した。
【００６４】
培養後、新鮮培地で2回洗浄後、更に新鮮培地で再懸濁した。次いで、細胞の生存率を、フローサイトメトリー(flow cytometer Beckman Coulter - Epics XL)を用いて、培養が終了して3時間後に評価した。具体的には、フローサイトメトリーにより、生細胞と死細胞に区別化して、コアシェル型粒子を添加せずに紫外線照射した場合の生存度を１００％として、各処理における細胞の生存度を算出した（Bakalova, R. et al., Nano Lett. 2004, 4(9), 1567-1573参照）。
【００６５】
得られた結果を表２に示す。この結果から、上記で得られたコアシェル型粒子には、細胞毒性は認められないことが明らかになった。
【００６６】
【表２】
0004568862.tif 000003
【００６７】
光増感剤としての性能
上記で製造したコアシェル型粒子（コア層としてCdSe/ZnS量子ドットを有するコアシェル型粒子；第六量子サイズのCd/Se使用、最大蛍光波長615nm）について、光増感剤としての性能を評価するために、白血病細胞を利用して以下の実験を行った。
【００６８】
白血病細胞として、Jurkat細胞（急性リンパ性白血病細胞；東北大学加齢医学研究所医用細胞資源センターより分譲）及びK-562細胞（慢性骨髄性白血病細胞；東北大学加齢医学研究所医用細胞資源センターより分譲）を用いた。両細胞株ともRPMI-1640（10％FBS、100μg/ml ストレプトマイシン、及び100U/ml ペニシリン含有）培地で37℃、5％CO2雰囲気下で培養した。各細胞溶液を24穴プレートに900μl（5×105cells/well）ずつ分注した。更に各穴に上記で製造したコアシェル型粒子を含む溶液（5μMから312ｎＭに調製）を100μｌずつ添加し、0.5〜48時間、37℃、5％CO2雰囲気下で培養した。培養後、各培養液に対してUVイルミネーター(Multiimage Light Cabinet、 Alpha Innotech Corporation社製)を用いてUV照射した。具体的には、各培養液に10分間紫外線照射（1.4 mW；UV lamp type UV-B 300 nm, UTF-34U Sigma Koki filter）、10分間消光、の操作を3回繰り返した。紫外線照射時の温度は２２〜２８℃の保った。
【００６９】
紫外線照射後、新鮮培地で2回洗浄後、更に新鮮培地で再懸濁した。細胞の生存率は、フローサイトメトリー(flow cytometer Beckman Coulter - Epics XL)を用いてUV照射を終了して3時間後に評価した。具体的には、フローサイトメトリーにより、生細胞と死細胞に区別化して、コアシェル型粒子を添加せずに紫外線照射した場合の生存度を１００％として各処理における細胞の生存度を算出した（Bakalova, R. et al., Nano Lett. 2004, 4(9), 1567-1573参照）。
【００７０】
得られた結果を表３（Jurkat細胞）及び４（K-562細胞）に示す。この結果から、上記のコアシェル型粒子は、5×105個の細胞に対して2.25〜5 mMの濃度において、UV照射下で細胞毒性を発現する。この効果は、株化白血病細胞であるJurkat細胞とK-562細胞（UV照射前に予めコアシェル型粒子と3時間、24時間、48時間培養したもの）に対して認められた。
【００７１】
【表３】
0004568862.tif 000004
【００７２】
【表４】
0004568862.tif 000005
【００７３】
実施例２  第２形態疎水層を有するコアシェル型粒子
＜コアシェル型粒子の製造＞
上記実施例１の＜コアシェル型粒子の製造＞の１の項と同様の方法で、(i)の化合物で被覆されたCdSe量子ドット（第六量子サイズ）を合成した。また、このCdSe量子ドット（第六量子サイズ）を用いて、上記実施例１の＜コアシェル型粒子の製造＞の２の項と同様の方法で、CdSe/ZnS型量子ドット又はCdSe/ZnSe/ZnS型量子ドットを合成した。
【００７４】
得られた被覆化量子ドット（クロロホルム中で最大吸収波長においてODを0.15に調整したもの、0.8mL）及びフタロシアニン (クロロホルム中で656 nmにおいてODを0.15に調整したもの、0.8 mL)を、15 mM ドキュセートナトリウム、5 mM ラウリル硫酸ナトリウム、及び430 mM n−ブタノールを含む水溶液10 mlに添加し、マグネチックスターラーで激しく混合した。その結果、クロロホルム相から水相中に移行した被覆化量子ドット及びフタロシアニンがミセルを形成し、水相に僅かな白濁が認められた。ミセルは、量子ドットの表面を被覆した(i)の化合物(TOPO、TOP、HDA、ODA等)と、該(i)の化合物の表面を更に及びフタロシアニンが覆い、その外側に界面活性剤が存在することによって構成されている。
【００７５】
次いで、上記実施例１の＜コアシェル型粒子の製造＞の３の項と同様の方法で、n−オクチルトリエトキシシランの添加、反応を行い、上記で得られたミセルをシランカップリング剤で被覆した。
【００７６】
更に、記実施例１の＜コアシェル型粒子の製造＞の４〜５の項と同様の方法で、シリカによるシェル層の形成、シリカへのアミノ基の導入、及びPEG誘導体による表面修飾を行った。
【００７７】
＜コアシェル型粒子の性能評価＞
上記で製造したコアシェル型粒子について、各種性能を評価した。なお、使用したコアシェル型粒子は、いずれもアミノ基の導入及びPEG誘導体による修飾を行っていないものを用いた。
呈色
通常、赤茶色を呈するが、色の強度は粒子に取り込まれたフタロシアニンの濃度によって変化する。
【００７８】
構造特性
上記で製造したコアシェル型粒子（コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子）の構造特性を高分解透過型電子顕微鏡（JEOL (model JEM 3010, Japan) transmission electron microscope operating at 300 kV）を用いて評価した。顕微鏡写真を図８に示す。図８中、コアシェル型粒子内に観察される黒い点は量子ドット（無機ナノ粒子）を示す。殆どの粒子が１粒子当たり1個の量子ドットを含んでいることが分かる。
【００７９】
コアシェル型粒子の顕微鏡写真の結果から、上記で製造された粒子は、１粒子当たり、１個の量子ドットを含むものが９０％、２個の量子ドットを含むものが８％、量子ドットを含まないものが２％であり、極めて高い割合で、１粒子当たり１個の量子ドットを含んでいた。
【００８０】
また、コア層としてCdSeを含む場合、及びコア層としてCdSe/ZnSe/ZnSを含む場合についても、それらの顕微鏡写真の像は、図８と類似していた。
【００８１】
粒子サイズ
上記で製造したコアシェル型粒子の構造特性を高分解透過型電子顕微鏡で観察し、その平均粒子径を測定した。粒子径の平均値とサイズ分布（標準偏差(SD)÷平均粒子径×100；％）は、コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子は、直径17.89±2.24nmでサイズ分布は約12.5%；コア層としてCdSe/ZnSe/ZnSを有するコアシェル型粒子は直径17.82±2.17 nmでサイズ分布は約12.2%；コア層としてCdSeを有するコアシェル型粒子は直径17.63±2.18 nmでサイズ分布は約12.4%であった。代表例として、コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子のサイズヒストグラムを図９に示す。
【００８２】
安定性及び温度耐性
上記で製造したコアシェル型粒子は、４℃、純水中で遮光しておけば2ヶ月間は分解や凝集は観られず安定に存在することを確認している。また、４〜４０℃の間では安定であることも確認している。
【００８３】
細胞毒性
上記で製造したコアシェル型粒子について、細胞毒性としての性能を評価した。具体的な試験方法は、上記実施例１と同様である。表５〜７に示すように、上記で製造したコアシェル型粒子には細胞毒性はないことが分かった。
【００８４】
【表５】
0004568862.tif 000006
【００８５】
【表６】
0004568862.tif 000007
【００８６】
【表７】
0004568862.tif 000008
【００８７】
光増感剤としての性能
上記で製造したコアシェル型粒子（コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子）について、光増感剤としての性能を評価した。具体的な試験方法は、上記実施例１と同様である。表８及び９に示すように、紫外線を照射することによって、上記で製造したコアシェル型粒子は細胞毒性を呈示し、光増感性を示すことが明らかとなった。
【００８８】
【表８】
0004568862.tif 000009
【００８９】
【表９】
0004568862.tif 000010
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】第１形態疎水層を有している形態の本発明のコアシェル粒子の模式図である。本図１では、コア層にアミノ基が導入されている例を示す。
【図２】第２形態疎水層を有している本発明のコアシェル粒子の模式図である。本図２では、コア層にアミノ基が導入されている例を示す。
【図３】実施例１において、コア層にCdSe量子ドットを有するコアシェル型粒子の各種粒子径のものについて、吸収スペクトルを測定した結果である。
【図４】実施例１において、コア層にCdSe量子ドットを有するコアシェル型粒子の各種粒子径のものについて、蛍光スペクトルを測定した結果である。
【図５】実施例１で製造したコア層にCdSe/ZnS量子ドットを有するコアシェル型粒子と、シェル層を有していないCdSe/ZnS量子ドットとの吸収スペクトル及び蛍光スペクトルを比較した図である。図５中、左には吸収スペクトルを、右には蛍光スペクトルを示す。
【図６】実施例１で製造したコアシェル型粒子の顕微鏡写真を示す。図６中、Ａはコア層がCdSe/ZnSであり；Ｂはコア層がCdSe/ZnSe/ZnSであり；Ｃはコア層が)CdSeであるコアシェル型粒子の顕微鏡写真である。
【図７】実施例１で製造したコアシェル型粒子（コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子）の顕微鏡写真の像（図７中、上）、及びサイズヒストグラム（図７中、下）を示す。
【図８】実施例２で製造したコアシェル型粒子（コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子）の顕微鏡写真を示す。
【図９】実施例２で製造したコアシェル型粒子（コア層としてCdSe/ZnSを有するコアシェル型粒子）のサイズヒストグラムを示す。
【図１】
0004568862.tif 000011
【図２】
0004568862.tif 000012
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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