(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数本のゲートバスラインと、絶縁層を介して該ゲートバスラインと交差する複数本のデータバスラインと、各交差点に配置されたスイッチ素子と、該スイッチ素子に接続された画素電極を有し、該データバスライン方向の両側に並ぶ画素電極に対し、該データバスラインから順次左右に振り分けて線順次に信号を伝達する液晶表示パネルにおいて、
表示に寄与する最外側の該データバスラインに接続され、該データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極が、液晶表示パネルの電極又は配線の材質と同じものであって遮光性のある材質で形成された遮光パターンで覆われていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
基板上に複数本のゲートバスラインと、絶縁層を介して該ゲートバスラインと交差する複数本のデータバスラインと、各交差点に配置されたスイッチ素子と、該スイッチ素子に接続された画素電極を有し、該データバスライン方向の両側に並ぶ画素電極に対し、該データバスラインから順次左右に振り分けて線順次に信号を伝達する液晶表示パネルの製造方法において、
表示に寄与する最外側の該データバスラインに接続され、該データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを前記ゲートバスラインを形成する工程と同一工程で形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
基板上に複数本のゲートバスラインと、絶縁層を介して該ゲートバスラインと交差する複数本のデータバスラインと、各交差点に配置されたスイッチ素子と、該スイッチ素子に接続された画素電極を有し、該データバスライン方向の両側に並ぶ画素電極に対し、該データバスラインから順次左右に振り分けて線順次に信号を伝達する液晶表示パネルの製造方法において、
表示に寄与する最外側の該データバスラインに接続され、該データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを前記データバスラインを形成する工程と同一工程で形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示パネルおよびその製造方法に関し、表示品質の向上を図った液晶表示パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、薄型軽量、低電圧駆動、低消費電力等の長所を生かしパーソナルコンピュータ、テレビ、デジタルカメラ等の表示デバイスとして広く使用されるようになった。液晶表示装置を構成する液晶表示パネルは、一般にガラス等の２枚の透明基板間に液晶を封入した構造であり、一方の基板（ＣＦ基板）にはブラックマトリックス、カラーフィルタ、共通電極および配向膜等が形成され、他方の基板（ＴＦＴ基板）にはスイッチ素子である薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）、ゲートバスライン、データバスライン、画素電極および配向膜等が形成されている。２枚の透明基板の何れか一方の基板に液晶の注入用の開口部を残して表示領域を囲むようにシール材を塗布し、球や円柱状のスペーサを散布してこのシール材で２枚の基板間を固着する。その後真空中でこの液晶注入用の開口部を液晶中に漬けた状態で大気圧に戻すと、圧力差により液晶が基板間に注入される。次に、開口部に熱硬化性または紫外線硬化性樹脂（封止材）を塗布し、開口部を封止することにより液晶表示パネルが完成する。
【０００３】
ＴＦＴ液晶表示装置では、ゲート駆動回路から複数本のゲートバスラインが順次駆動され、その駆動されたゲートバスラインに接続されたＴＦＴがオンになりデータ駆動回路からデータバスラインを介し信号電圧が画素電極に加えられ、次に同じゲートバスラインが駆動される１フレーム期間の間、各画素は加えられたデータ信号の状態を維持する、所謂線順次駆動方法が採用されている。
【０００４】
ところで、液晶表示のフリッカを防止するためゲートバスライン方向およびデータバスライン方向の何れの方向においても隣接する画素電極に反転したデータ電圧を加える必要がある。このためにデータ駆動回路からのデータ電圧をゲートバスライン駆動毎に頻繁に反転していたが、液晶パネルの大型化、高精細化に伴い、これはデータ駆動回路の大きな負担になっていた。また、前のゲートバスラインを駆動している間に、次のゲートバスラインの画素電極を予め予備充電しておき、表示の応答時間を早めるような駆動方法の採用も困難であった。
【０００５】
そこで少なくとも１フレームの期間、データ駆動回路の電圧は反転しなくても済むように各データバスライン方向に並ぶ画素電極に対し、データバスラインから順次左右に振り分けて信号を伝達する液晶表示パネルがある。
【０００６】
しかしながら、データ駆動回路から画素電極へ伝達する信号間に遅延差が生じないようにするには、データ駆動回路から見て全てのデータバスラインに対する駆動の負荷を同じにする必要がある。このためデータバスライン方向に並ぶ最外側の実際には液晶表示に寄与しない画素電極とも接続をしておく必要がある。
【０００７】
このような従来の液晶表示パネルのＴＦＴ基板の平面図の例を図４に示す。
【０００８】
図４において、ゲート駆動回路１に接続された複数本のゲートバスライン３（図４では説明を簡略にするため６本）に対して、データ駆動回路２に接続された複数本のデータバスライン６が絶縁層を介し交差して形成されている。各交差点近傍にはＴＦＴ５が配置されており、画素電極４はＴＦＴ５に接続されている。各データバスライン６は、データバスライン６方向に並ぶ画素電極４とＴＦＴ５を介して１個おきに左右に振り分けて接続されている。そしてデータバスライン６方向に並ぶ最左列の６個の画素電極４と最右列に並ぶ６個の画素電極４は液晶表示に寄与しない画素電極である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
前記のような従来の液晶表示パネルでは、データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極がデータバスラインの信号により駆動され、その画素電極上の液晶の光透過率が変化していた。本来はこの表示に寄与しない最外側の画素電極は、対向して配置されているＣＦ基板のブラックマトリックスによって遮光されるようになっているが、ブラックマトリックスが樹脂などの遮光率が低いものを使用した場合、透過率の変化は光漏れとなって視認され液晶表示装置の表示品質を低下させていた。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため請求項１の発明では、基板上に複数本のゲートバスラインと、絶縁層を介して該ゲートバスラインと交差する複数本のデータバスラインと、各交差点に配置されたスイッチ素子と、このスイッチ素子と接続された画素電極を有し、データバスライン方向の両側に並ぶ画素電極に対し、データバスラインから順次左右に振り分けて線順次に信号を伝達する液晶表示パネルにおいて、データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを設けたことを特徴とする。請求項２の発明では基板上に複数本のゲートバスラインと、絶縁層を介してゲートバスラインと交差する複数本のデータバスラインと、各交差点に配置されたスイッチ素子と、これらのスイッチ素子と接続された画素電極を有し、データバスライン方向の両側に並ぶ画素電極に対し、データバスラインから順次左右に振り分けて線順次に信号を伝達する液晶表示パネルの製造方法において、データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを前記ゲートバスラインを形成する工程と同一工程で形成することを特徴とする。請求項３の発明では基板上に複数本のゲートバスラインと、絶縁層を介してゲートバスラインと交差する複数本のデータバスラインと、各交差点に配置されたスイッチ素子と、これらのスイッチ素子と接続された画素電極を有し、データバスライン方向の両側に並ぶ画素電極に対し、データバスラインから順次左右に振り分けて線順次に信号を伝達する液晶表示パネルの製造方法において、データバスライン方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを前記データバスラインを形成する工程と同一工程で形成することを特徴とする。
【００１１】
すなわち、本発明はＴＦＴ基板上の液晶表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを設けることにより確実に光漏れの発生を防止し表示品質の向上を実現している。さらに遮光パターンの材質として、液晶表示パネルを構成する電極、配線の材質と同じものを使用することにより、従来の液晶表示パネルの電極、配線の形成と同一工程で形成することができるので製造工数が増えることもない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態による液晶表示パネルのＴＦＴ基板の平面図、図２は図１における画素領域部分の部分拡大平面図である。図１および図２に示す如く、本発明ではデータバスライン６方向に並ぶ最左列の６個の画素電極４および最右列の６個の画素電極４のそれぞれを覆う遮光パターン７が形成されている。次に図３によりこの遮光パターン７を形成する製造工程について説明する。図３は図１におけるＸ−Ｙ線に沿った断面図を示すもので、図３（Ａ）はゲートバスライン３を形成する工程と同一工程で遮光パターン７を形成する場合の実施形態であり、図３（Ｂ）はデータバスライン６を形成する工程と同一工程で遮光パターン７を形成する場合の実施形態である。図３（Ａ）について説明すると、図示されてないが、塵埃やアルカリ分等を除くため洗浄されたガラス基板上にゲート膜となる金属（例えばアルミニウム）をスパッタリングやプラズマＣＶＤにより成膜する。次にその上に光に反応するレジストをスピンコーティング等で塗布し、露光マスクを介して露光を行うがこの露光マスクには従来のゲート電極、ゲートバスライン以外に、本発明の特徴である遮光パターンが設けられていて、ゲート電極、ゲートバスラインと同時に露光される。次に光が照射された部分のレジストを現像液に浸たして取り去り、次にレジストに覆われていない部分のアルミニウム膜をエッチングにより取り去る。次に残っているレジストをレジスト剥離剤で剥離して図３（Ａ）の遮光パターン７が形成される。なお、図３（Ａ）の断面図には同時に形成されるゲート電極、ゲートバスラインについては図示されてない。
【００１３】
ＴＦＴ基板の製造は、この後公知のＴＦＴ基板の製造方法により、ゲート絶縁層８、ＴＦＴ５、データバスライン６、絶縁層９を介し画素電極４が形成され、さらに図示されてない配向膜等が形成される。また図３（Ａ）には図示されてないが画素電極４、データバスライン６はＴＦＴ５に接続されている。
【００１４】
図３（Ｂ）の実施形態は、遮光パターン７の形成をＴＦＴ基板のデータバスライン６の形成と同一工程で行うもので、遮光パターン７の材質はデータバスライン６と同じ金属を使用するが、それ以外は前記の図３（Ａ）の実施形態に準ずるもので詳しい説明は省略する。
【００１５】
なお、ＴＦＴ基板は前述したように対向するＣＦ基板とシール材で固着され、その両基板間に液晶を注入し、注入口を封止材で封止して液晶表示パネルが完成する。以上、図３（Ａ）、（Ｂ）の何れの実施形態においても、本発明では液晶表示パネルのデータバスライン６方向に並ぶ最外側の表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターン７を設けたので、これらの画素電極４がデータバスライン６の信号により駆動され、液晶の光透過率が変化しても、光漏れは確実に阻止され、液晶表示パネルの表示品質が向上する。
【００１６】
なお、遮光パターンの材質としては、アルミニウム（Ａｌ）に限らず一般のＴＦＴ液晶表示パネルの電極、配線の形成に使用され、遮光性のあるチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）等を使用できる。
【００１７】
また、図１の実施形態において、各データバスライン６は、データバスライン６方向に並ぶ画素電極４とＴＦＴ５を介して１個おきに左右に振り分けて接続されているが、本発明はこれに限定されることなく、各データバスライン６は、データバスライン６方向に並ぶ画素電極４とＴＦＴ５を介して２個おき、または３個おき等に左右に振り分けて接続されているＴＦＴ基板の場合でもよく、要は液晶表示に寄与しない最外列の画素電極４を覆う遮光パターン７を形成することにある。
【００１８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明はＴＦＴ基板上の液晶表示に寄与しない画素電極を覆う遮光パターンを設けることにより光漏れを確実に解消する。またこのための製造工数の増加もなく、液晶表示装置の表示品質の向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施形態の液晶表示パネルのＴＦＴ基板の平面図である。
【図２】  図１における部分拡大平面図である。
【図３】  本発明の実施形態による液晶表示パネルのＴＦＴ基板の断面図である。
【図４】  従来の液晶表示パネルのＴＦＴ基板の平面図である。
【符号の説明】
３  ゲートバスライン
４  画素電極
５  ＴＦＴ
６  データバスライン
７  遮光パターン
【図１】
0004498522.tif 000002
【図２】
0004498522.tif 000003
【図３】
0004498522.tif 000004
【図４】
0004498522.tif 000005