(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光回折構造層の表面に、多数の微細な溝の群として形成された回折格子が輪郭された複数の回折格子パターンを有しており、前記回折格子パターンの前記溝において、
前記光回折構造層の表面と、溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面とが交差する角度が、前記各回折格子パターン間で相違することを特徴とする光回折構造。
【請求項２】
前記各回折格子パターン間で、さらに、前記溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における溝の開口部の中心線の角度の各パラメータのうちの少なくともいずれかが相違することを特徴とする請求項１記載の光回折構造。
【請求項３】
前記各回折格子パターンは、回折格子が所定の微小形状に輪郭された領域からなる回折格子画素の集合体からなることを特徴とする請求項１または２記載の光回折構造。
【請求項４】
異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素どうしが重複する個所において、当該回折格子画素が、
当該回折格子画素領域をさらに細分化した、複数の副画素からなる単位副画素配列を形成し、前記単位副画素配列の前記副画素ごとに、異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素の回折格子が配置されていることを特徴とする請求項３記載の光回折構造。
【請求項５】
異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素どうしが重複する個所において、
前記重複する箇所の領域にある複数の当該回折格子画素の各々を、隣接して交互に配置し、その各々を副画素と位置づけて、単位副画素配列と成し、前記単位副画素配列の前記副画素ごとに、異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素が配置されていることを特徴とする請求項３記載の光回折構造。
【請求項６】
型形成用基板の表面に、請求項１記載の複数の回折格子パターンに対応する位置ごとに、請求項１記載の溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面が前記型形成用基板の光回折構造層の表面と交差する角度を変えたビーム露光による描画を行なうことにより、回折格子の多数の微細な溝を形成して型を製造し、得られた前記型を使用して樹脂材表面に、前記型の型面形状を転移させることからなる光回折構造の製造方法。
【請求項７】
前記ビーム露光を行なう際に、さらに、前記パターンごとに、前記溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における溝の開口部の中心線の角度のうちの少なくともいずれかを相違させることを特徴とする請求項６記載の光回折構造の製造方法。
【請求項８】
前記溝に対応する所定の線巾、ピッチ、および角度の線を所定の輪郭内に配置した回折格子画素を複数準備した後、前記各パターン内に、前記回折格子画素を選択して配置し、回折格子パターンデータを作成すること、および前記のパターンごとに、溝が前記型形成用基板の光回折構造層の表面となす角度を設定することとを行なった後、前記回折格子パターンデータに基づいて前記描画を行なうための描画用データを作成し、前記の溝が前記型形成用基板の表面となす角度ごとに、前記描画を行なうことを特徴とする請求項６または７記載の光回折構造の製造方法。
【請求項９】
少なくとも前記各パターンが重複する区域において、前記回折格子画素を細分割した副画素からなる単位副画素配列、もしくは隣接する前記回折格子画素を副画素とする単位副画素配列を設定すると共に、前記単位副画素配列中のいずれの前記副画素に、いずれの前記パターンに対応付けられるべき前記回折格子画素を配列すべきかのルールを前以って決めておき、前記ルールに基づいて、前記副画素ごとに前記各回折格子画素を配置することを特徴とする請求項８記載の光回折構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カードや有価証券に適用すると偽造防止効果が高い、ホログラムシールや回折格子シール等の光回折構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
クレジットカードや預貯金用カード等のカードには、偽造を防止する目的で、ホログラムシールが貼り付けられている。また、株券、証券、金券、もしくは商品券等にも、同様の目的でホログラムシールが貼り付けられている。
なお、これらの「ホログラムシール」としては、立体画像を表現するホログラムが形成されているものと、回折格子の領域をパターン状に形成したものとが利用されているが、いずれも、「ホログラムシール」と呼ばれており、また、ホログラムも広義には回折格子の一種であるため、この明細書においても、同様の呼び方にならうことにする。
【０００３】
ホログラムシールは、簡単なものでは、回折格子を構成する平行な溝を有する区域を、デザインされたパターンに合わせて形成することにより、回折格子特有の干渉色を持つパターンが見えるものである。
しかしがら、このようなホログラムシールも、クレジットカード等では、既に長期間使用されており、玩具の分野では、市販もされている状態にある。
また、製造技術的に高度とされているものの、基本的な製造技術は知られており、不正な意図での複製も、過去に比べれば、より容易化している恐れがある。
【０００４】
そこで、近年、クレジットカード分野では、見る角度により複数のパターンが現出する複合ホログラムシールを作成して使用し、偽造の防止、安全性の向上を図っている。
一般的に、回折格子は、線巾、ピッチ、および面上での角度をパラメータとしているが、上記の複合ホログラムシールにおいては、パターンごとに、これらのうち、一つもしくはそれ以上のパラメータを変更することにより、同一個所に複数のパターンが見えるよう構成していた。
【０００５】
しかしながら、これらのパターンにおけるパラメータは解析が不可能なものではなく、また、パターンそのものは比較的単純な幾何学模様であるため、不正な意図を持つ者が、同様なものを作り出す可能性が無いとは言えなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明においては、上記のように、不正な意図でホログラムシールの偽造を企てる者が容易には解析しにくいホログラムシールを提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決する手段】
本発明者の検討によれば、各パターンの回折格子のパラメータとして、新たに回折格子が形成された面と溝との角度を、従来の直角のものに変えて、斜めの角度とし、さらに、パターンごとに回折格子が形成された面と溝との角度を変えることにより、解析が困難で、従って、偽造が極めて困難なホログラムシールを提供することができた。
【０００８】
第１の発明は、光回折構造層の表面に、多数の微細な溝の群として形成された回折格子が輪郭された複数の回折格子パターンを有しており、前記回折格子パターンの前記溝において、前記光回折構造層の表面と、溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面とが交差する角度が、前記各回折格子パターン間で相違することを特徴とする光回折構造に関するものである。第２の発明は、第１の発明において、前記各回折格子パターン間で、さらに、前記溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における溝の開口部の中心線の角度の各パラメータのうちの少なくともいずれかが相違することを特徴とする光回折構造に関するものである。第３の発明は、第１または第２の発明において、前記各回折格子パターンは、回折格子が所定の微小形状に輪郭された領域からなる回折格子画素の集合体からなることを特徴とする光回折構造に関するものである。第４の発明は、第３の発明において、異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素どうしが重複する個所において、当該回折格子画素が、当該回折格子画素領域をさらに細分化した、複数の副画素からなる単位副画素配列を形成し、前記単位副画素配列の前記副画素ごとに、異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素の回折格子が配置されていることを特徴とする光回折構造に関するものである。第５の発明は、第３の発明において、異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素どうしが重複する個所において、前記重複する箇所の領域にある複数の当該回折格子画素の各々を、隣接して交互に配置し、その各々を副画素と位置づけて、単位副画素配列と成し、前記単位副画素配列の前記副画素ごとに、異なる前記回折格子パターンを構成する前記回折格子画素が配置されていることを特徴とする光回折構造に関するものである。第６の発明は、型形成用基板の表面に、請求項１記載の複数の回折格子パターンに対応する位置ごとに、請求項１記載の溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面が前記型形成用基板の光回折構造層の表面と交差する角度を変えたビーム露光による描画を行なうことにより、回折格子の多数の微細な溝を形成して型を製造し、得られた前記型を使用して樹脂材表面に、前記型の型面形状を転移させることからなる光回折構造の製造方法に関するものである。第７の発明は、第６の発明において、前記ビーム露光を行なう際に、さらに、前記パターンごとに、前記溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における溝の開口部の中心線の角度のうちの少なくともいずれかを相違させることを特徴とする光回折構造の製造方法に関するものである。第８の発明は、第６または第７の発明において、前記溝に対応する所定の線巾、ピッチ、および角度の線を所定の輪郭内に配置した回折格子画素を複数準備した後、前記各パターン内に、前記回折格子画素を選択して配置し、回折格子パターンデータを作成すること、および前記のパターンごとに、溝が前記型形成用基板の光回折構造層の表面となす角度を設定することとを行なった後、前記回折格子パターンデータに基づいて前記描画を行なうための描画用データを作成し、前記の溝が前記型形成用基板の表面となす角度ごとに、前記描画を行なうことを特徴とする光回折構造の製造方法に関するものである。第９の発明は、第８の発明において、少なくとも前記各パターンが重複する区域において、前記回折格子画素を細分割した副画素からなる単位副画素配列、もしくは隣接する前記回折格子画素を副画素とする単位副画素配列を設定すると共に、前記単位副画素配列中のいずれの前記副画素に、いずれの前記パターンに対応付けられるべき前記回折格子画素を配列すべきかのルールを前以って決めておき、前記ルールに基づいて、前記副画素ごとに前記各回折格子画素を配置することを特徴とする光回折構造の製造方法に関するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に、図を引用しながら、本発明をより詳しく説明する。
本発明の光回折構造は、図１（ａ）に例示するように、好ましくは、カード１に適用されている。
このカード１は、カード基材２上に光回折構造を有する光回折構造層３（一般的表現では「ホログラムシール」である。）が積層されたもので、光回折構造層３は、図１（ａ）に示すように、二つのパターンＰ１およびＰ２を有しているものである。
なお、光回折構造層はホログラムの視認性を高める目的で、通常、下層側にアルミニウム等の金属反射層や光回折構造層とは光の屈折率の異なる透明反射層を有しているが、図示は省略する。
【００１０】
図１（ａ）に示すカードのＡ−Ａ線で切断した断面を図１（ｂ）に示す。
二つのパターンＰ１およびＰ２は、それぞれ、異なる角度で形成された回折格子の溝４を光回折構造層の下面に有しており、パターンＰ１では、溝４は光回折構造の下面から右上がりの傾斜を有し、また、パターンＰ２では、溝４は光回折構造の下面から左上がりの傾斜を有している、
【００１１】
従来技術においては、回折格子の線巾、ピッチ、および面上での角度をパラメータとしていたが、本発明の回折格子においては、回折格子の溝と光回折構造層のなす角度を第１のパラメータとし、最小限、この第１のパラメータである回折格子の溝と光回折構造層のなす角度がパターン間で相違していればよい。
このように、回折格子の溝と光回折構造層のなす角度がパターン間で相違していれば、見る角度によって、各パターンの見え方が相違し、同一のホログラムシールから、複数のパターンの各々を他のパターンと分離して見ることができる。
【００１２】
ところで、本発明の回折格子においては、回折格子の溝と光回折構造層のなす角度を第１優先として、各パターン間で相違させるが、上記のように回折格子の溝と光回折構造層のなす角度が各パターン間で相違していれば、従来のパラメータである回折格子の線巾、ピッチ、および面上での角度のうち、一つ、もしくはそれ以上を変更して、各パターン間により変化を持たせてもよい。
【００１３】
ホログラムシール等における本発明の光回折構造は、ガラス板、樹脂板、もしくは金属板、あるいはガラス板や金属板上に樹脂コートして作成した適宜な型形成用基板（作業対象の意味で「ワーク」とも言う。）に、電子線やレーザー光を光源とする描画装置を用いてビーム露光することにより、回折格子の溝を彫刻して型を製造し、得られた型を使用して樹脂等の表面に、型の型面形状を転移させて製造することができる。
【００１４】
なお、描画装置を用いて回折格子の溝を彫刻する際に、型における回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度を変えるには、ワークを載せる台（＝ステージ）を傾けるか、もしくは光源を傾けるかのいずれかによればよいが、図２に示すように、ステージを傾けた方がやりやすい。
また、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度以外の、溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における角度の変更も、ステージの動きによって行なうことが好ましい。
【００１５】
描画装置は、通常、光源６とワーク７を載せるステージ７が、露光ビーム６ａがステージ（ステージとワークは平行とする。）と直交するような位置関係にあるので、本発明の光回折構造のように、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度を変えるためには、型を作成する際に、ステージ５を水平な位置から、時計回り、もしくは逆回りに角度を変える。
なお、ここでは、上記の反時計回りの角度を＋、時計回りを−とし、露光ビーム６ａからワーク７の垂線を時計回りに測った角度を＋、反時計回りに測った角度を−とし、便宜上、型の回折格子の溝と型面のなす角度も露光ビームから見たワーク垂線との角度として表現する。なお、得られる光回折構造における回折格子の溝についても、光回折構造層の垂線から見た回折格子の溝の角度（より正確には、光回折構造層の表面と、溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面とが交差する角度である。）で表現する。
【００１６】
描画装置を用いて型を製造する際には、型のどの部分にどのような回折格子を形成するかをデータとして、描画装置に与える必要があるので、このため、画素ごとに所定の回折格子を配置することを行なう。
【００１７】
上記の目的を果たすため、まず、回折格子が、所定の微小形状に輪郭された領域からなる回折格子画素を、回折格子を色々と変えて準備する。各回折格子画素としては、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度が異なるものを準備するが、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度が異なっていれば、さらに、溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における角度は同じでも、異なっていてもよい。
図３は、回折格子画素のごく一例を示すものである。
なお、本発明においては、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度が異なる複数の回折格子画素を使用していれば、それらに加えて、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度が同じで、溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における角度が異なる回折格子画素を使用してもよい。
【００１８】
図４は、パターンを画素で表示したもので、簡単のために、図４（ａ）では数字「１」を、また図４（ｂ）では数字「２」を縦横５×５の画素で表示したものである。勿論、パターンは任意であるし、画素の分割の細かさについても任意に定めることができる。なお、画素の大きさは、得られる光回折構造において、例えば、１０〜１００μｍ程度である。
図４（ａ）の「１」のパターンには、例えば、横方向の太い多数の線で表示する回折格子画素Ａが配置されており、図４（ｂ）の「２」のパターンには、例えば、横方向の細い線で表示する回折格子画素Ｂが配置されている。図４で、二種類の回折格子画素の線巾を相違させたのは、二つの回折格子画素を図上で区別する都合上であって、勿論、本発明においては、図２の下部に示したような、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度が異なるものどうし、例えば図２（ａ）の下方に示すような角度が＋４５°のもの、および図２（ｂ）に示すような角度が−４５°のものを配置する。
【００１９】
この例では、両回折格子画素における、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度が９０°異なることになり、このような場合、概ね＋３０°〜＋８０°の方向からは一方のパターンが、また、概ね−３０°〜−８０°の方向からは、他方のパターンが見える。
当然ながら、回折格子の溝と光回折構造層のなす角度が、パターン間で近いと、各パターンが見る角度により分離して見える効果が薄れるので、上記の例のように、大きく異なることが好ましいが、実用的には、少なくとも１０°〜３０°、あるいはそれ以上の差違を有していれば、二つのパターンが見る角度によって明瞭に分離する。
また、パターンが３つ以上あるときは、互いに、少なくとも１０°〜３０°、あるいはそれ以上程度の差違を有していることが好ましい。
【００２０】
ところで、図４（ｃ）においても明らかなように、図４（ａ）の「１」のパターンと、図４（ｂ）の「２」のパターンとを重ねると、重複部が生じる。図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、各々のパターンには、別の回折格子画素が配置されることが予定されているので、この重複部において、いずれの回折格子画素を配置するかが問題となる。
一般的にこの種のホログラムシールにおいては、見る角度によって、ほぼ同じ位置にある複数のパターンが一つずつ見える必要があるので、重複部において、いずれかのパターンを単純に無くすのではなく、できるだけいずれのパターンも生かす必要がある。
【００２１】
そこで、このような場合を想定して、画素に対して、副画素の概念を持ち込んで、対処する。
例えば、図５（ａ）に示すように、一つの画素を縦線で四分割した単位副画素配列（○で囲んだもの、以下も同じ。）や、図５（ｂ）に示すように、縦横に四分割した単位副画素配列である。図５（ａ）に示す例においては、例えば、向かって最も左側の副画素と一つおいた右側の副画素に一方のパターンの回折格子画素を、向かって最も右側の副画素と一つおいた左側の副画素に他方のパターンの回折格子画素を配置することにより、重複部において、二つのパターンが両立する。また、図５（ｂ）に示す例においては、例えば、左上および右下の副画素に一方のパターンを、また、左下および右上の副画素に他方のパターンを配置すればよい。
【００２２】
単位副画素配列の概念を持ち込むことは、パターンどうしの重複のない部分では、必ずしも必要ではないが、いずれの画素にもこのように単位副画素配列を形成しておき、単位副画素配列内のいずれの副画素にいずれのパターンの画素を配置するかを決めておけば、重複の有無を判断せずに、回折格子画素の配置が行なえる利点がある。
なお、単位副画素配列は、さらに細かく分割して形成し、例えば縦横に９分割して３つのパターンの重複に対処することもでき、それ以上の重複に対処することも可能である。
【００２３】
なお、単位副画素配列は、画素の分割によらず、隣接する画素どうしを、各々副画素とみなし、図５（ｃ）に示すように縦横四つまとめて形成することもできる。図５（ｃ）に示すような場合、図５（ａ）におけるのと同様、左上および右下の副画素に一方のパターンを、また、左下および右上の副画素に他方のパターンを配置すればよい。この場合、パターンの一部は間引かれることになるが、もともと精密なパターンであるため、間引きにより、見た目に分かるほど劣化することはない。
【００２４】
図６は、図５（ａ）に示すような、画素を縦線で四分割した単位副画素配列を重複部において利用し、図４に示したパターンの重複に適用した例で、図中、○で囲んだ３つの重複部において、右側に拡大図で示すように、向かって最も左側の副画素と一つおいた右側の副画素に「１」のパターンの回折格子画素を配置し、また、向かって最も右側の副画素と一つおいた左側の副画素に「２」のパターンの回折格子画素を配置し、その他の、即ち、重複部以外では、画素にそのまま、各パターンの回折格子画素を配置する。このようにして、パターンの重複のある回折格子パターンデータを作成することができる。
【００２５】
具体例を挙げると、上記の例において、「１」のパターンに配置する回折格子画素Ａは、線幅；０．５μｍ、ピッチ；１μｍ、型面上での線の描画角度；０°（即ち、図の水平方向である。）、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度；＋４５°（図１（ｂ）のパターンＰ１の角度θ（４５°を想定している。）の型部分から得られ、また、「２」のパターンに配置する回折格子画素Ｂは、線幅、ピッチ、および型面上での線の描画角度は回折格子画素Ａと同じで、回折格子の溝と光回折構造層３とがなす角度；−４５°（図１（ｂ）のパターンＰ２の角度θ（−４５°を想定している。）の型部分から得られる。
【００２６】
以上に説明した光回折構造を製造するには、光回折構造上での複数のパターンおよびその配置や、複数の回折格子画素を記憶するデザインデータ記憶装置、デザインデータ記憶装置に記憶されたデータに基づき、各パターンに回折格子画素を配置して回折格子パターンデータを作成するデザインデータの処理装置、回折格子パターンデータを描画用データに変換し、描画用光源の出力および描画用ステージの動きおよび傾きを制御する光源・ステージ制御系とからなる製造装置を使用して、まず、型を製造する。
【００２７】
得られた型は、必要に応じて、複製型（以降、型もしくは複製型を単に型と言う。）を製造し、型を樹脂材料からなる光回折構造形成用層に加熱加圧して型付けするか、型の型面に紫外線硬化性樹脂等の硬化性で流動性の樹脂組成物を接触させ、必要に応じて、プラスチックフィルムで被覆した後に、プラスチックフィルム上から紫外線を照射して樹脂組成物を硬化させることにより、型付けを行なうことができる。
その後、型付けされた面に反射層の薄膜を形成し、さらに接着剤層を積層する等して、種々の対象に適用しやすいシール形態とする。あるいは、先に挙げたプラスチックフィルムとして剥離性のものを使用する等して、光回折構造層、反射層、接着剤層等の積層体が転写できるような転写シートを形成して、種々の対象に適用してもよい。
【００２８】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、複数の回折格子パターン間で、回折格子を構成する溝において、
前記光回折構造層の表面と、溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面とが交差する角度が、前記各回折格子パターン間で相違しているので、見る角度によって見えるパターンが変る効果を有していて、かつ、従来のものにくらべて解析がより困難な光回折構造を提供することができる。請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、光回折構造のパラメータとして、二次元的なものが加味されるので、より外観の変化のある光回折構造を提供することができる。請求項３の発明によれば、各回折格子パターンは、微小な画素からなっているので、描画装置を用いて型を製造するのに適した光回折構造を提供することができる。請求項４の発明によれば、請求項３の発明の効果に加え、パターンどうしの重複部において、画素をさらに細分化した単位副画素配列の副画素ごとに、異なる前記回折格子パターンを構成する回折格子画素を配置するので、複数のパターンの各々を損なうことなく、見る角度によって見えるパターンが変る光回折構造を提供できる。請求項５の発明によれば、請求項３の発明の効果に加え、パターンどうしの重複部において、隣接する前記回折格子画素を副画素と位置づけて、単位副画素配列と成し、その単位副画素配列の副画素ごとに、異なる前記回折格子パターンを構成する回折格子画素を配置するので、画素の一部は間引かれるものの、副画素と位置づけることによって前記回折格子画素をそのまま利用して形成可能な光回折構造を提供できる。請求項６の発明によれば、描画装置により型を製造する際に、露光ビームの型面への入射角度をパターン間で変えることにより、回折格子の溝の開口部の中心線と溝の底の中心線の両者を通る面が前記型形成用基板の光回折構造層の表面と交差する角度が、各パターン間で相違させることが効率よく行なえる光回折構造の製造方法を提供することができる。請求項７の発明によれば、請求項６の発明の効果に加え、ビーム露光時に、回折格子の溝の巾、ピッチ、もしくは前記光回折構造層の表面における溝の開口部の中心線の角度等をパターンごとに変えるため、より変化に富んだ製品が得られる光回折構造の製造方法を提供できる。請求項８の発明によれば、請求項６または７の発明の効果に加え、デザインデータ記憶装置、デザインデータの処理装置、光源・ステージ制御系等からなる製造装置を使用して、パターンでデータを生成させ、これに基づいて描画を行なうことにより型の製造が効率的な光回折構造の製造方法を提供できる。請求項９の発明によれば、回折格子画素を細分割した副画素からなる単位副画素配列、もしくは隣接する前記回折格子画素を副画素とする単位副画素配列を設定して、副画素に各パターンの回折格子画素を配置するので、重複部の処理が効率的で、しかも、重複部における各パターンの欠損の少ない製品が得られる光回折構造の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光回折構造（ホログラムシール）の適用例を示す図である。
【図２】光回折構造を製造する型の製造方法を示す図である。
【図３】回折格子画素パターンの例を示す図である。
【図４】パターンの重複を説明する図である。
【図５】単位副画素配列を示す図である。
【図６】パターンの重複部の処理例を示す図である。
【符号の説明】
１    カード
２    カード基材
３    光回折構造（ホログラムシール）
４    溝
５    ステージ
６    光源（６ａ；ビーム）
【図１】
0004498629.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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