(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置用の磁極片を作る方法に於て、
複数のＭＲＩ磁石の間に位置したイメージング空間に向かって配置される第１の面を形成する工程と、
前記第１の面において複数個の同心環状配列体を成すように配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルをモールド空所の中に配置する工程と、
前記モールド空所を接着剤物質で埋めて前記複数個のタイルを結合することにより一体の本体を形成する工程と、
前記一体の本体をモールド空所から取出す工程と、
前記一体の本体の第２の面を磁極片の基部に取付けることにより第１の磁極片を形成する工程と、
を含んでいる前記方法。
【請求項２】
前記タイルが積層した複数個の層で構成されており、
前記複数個の同心環状配列体のうちの第１の同心環状配列体の高さが第２の同心環状配列体の高さよりも高く、
前記複数個の同心環状配列体が一体のタイル本体を構成しており、
１つのタイルが別のタイルから接着剤層によって隔てられている請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記磁極片は、前記ＭＲＩ装置の第１の磁石の近傍に配置され、前記複数個の同心環状配列体に配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルが、前記第１の磁石の次回の方向と垂直な平面に配置されている請求項１記載の方法。
【請求項４】
磁極片の基部に平行に該磁極片の基部に取付けられる第２の面と側面とを含み、前記複数個の同心環状配列体に配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルが前記第１及び第２の面に平行に配置されている請求項１記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１つのタイルがタイル面に空所を持っており、
前記少なくとも１つの空所がシム又は補助磁石によって埋められている請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記モールドが非一様な空所面輪郭を持ち、前記一体の本体の第１の面が前記非一様なモールド空所面とは略逆の輪郭を形成している請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
更に、前記第１の磁極片を第１の磁石の第１の面に取付ける工程と、前記第１の磁石の第２の面をヨークの第１の部分に取付ける工程と、第２の磁石の第２の面を前記ヨークの第２の部分に取付ける工程と、第２の磁極片を前記第２の磁石の第１の面に取付ける工程と、
前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間の磁束密度のシミュレーションを実施する工程と、前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間の磁束密度の最適値に基づいて、前記磁極片の第１の面の最適輪郭を決定する工程と、前記モールド空所面の輪郭を前記磁極片の第１の面の輪郭とは略逆に形成する工程と、
を含み、
前記非一様なモールド空所面が高さの異なる複数個のスペーサを持ち、該スペーサの上面が非一様なモールド空所面の輪郭を形成しており、
前記スペーサが円筒形スペーサで構成される請求項１記載の方法。
【請求項８】
更に、前記一体の本体を前記スペーサに圧接する工程と、前記一体の本体に複数個の空所を形成する工程とを含んでいる請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記モールド空所が加圧された接着剤物質で埋められ、
更に、前記モールドを接着剤で埋める前に、前記モールドを覆い板で覆う工程と、
前記モールドを前記覆い板で覆う前に、タイルの上面がモールドの頂部と略同一面になるまで、複数個のタイルを前記モールドの中に配置する工程を含んでいる請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
更に、接着テープの第１の面を第１のタイルの一部分と接触するように配置する工程と、前記接着テープの第２の面をモールド空所面と接触するように配置する工程とを含んでいる請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＭＲＩ装置の積層タイル磁極片、該磁極片を製造する方法及び磁極片タイルを結合する為に使われるモールドに関する。
【０００２】
【発明の背景】
最近、ＭＲＩの為にいわゆる積層タイル磁極片が開発された。この開発を考察するために、図１に積層タイル磁極片の平面図を示し、図２に側面図を示す。磁極片１０は軟鉄の円形基板１１と、基板１１の円周に沿って設けられていて、磁束を磁石間の隙間に差向ける軟鉄リング１２と、軟質フェライトの積層タイル１３及び１４と、勾配磁気コイルを取付ける為の軟鉄のコア１５とを有している。積層タイル１３、１４及びコア１５が磁極片の面を構成する。基板１１の中心部にある積層タイル１４は、基板１１の周縁部にある積層タイル１３よりも厚さが一層大きく、凸状の突起１６を形成している。凸状の突起１６は、磁界の一様性を改善する。
【０００３】
しかし、従来の積層タイル磁極片は幾つかの欠点がある。第１に、大抵の積層タイル１３及び１４は四角又は矩形である。しかし、基板１１及びリング１２は円形である。従って、四角又は矩形のタイルを円形の開口の中にはめる為には、縁部充填タイル１３Ａが必要となる。図１に示すように、各々の縁部充填タイル１３Ａは、周縁タイル１３が円形基板１１及びリング１２を完全に埋めることが出来るようにする為に、独特の半端な形を持っている。各々の縁部充填タイル１３Ａは、その独特な形を作る為に、他のタイル１３とは別に形成しなければならない。これはプロセスのコスト及び複雑さを増す。
【０００４】
第２に、突起１６も、図１に示すように、円形である。従って、四角又は矩形の中心タイル１４を円の中に配置する為には、図１及び２に示すように、縁部充填タイル１４Ａが必要となる。縁部充填タイル１４Ａも、中心部のタイル１４が円形の突起１６を形成することが出来るようにする為に、独特の半端な形を持っている。更に、中心部のタイル１４が、隙間を残さずに、周縁部のタイル１３とはめ合わさるようにする為に、縁部充填タイル１４Ａは、図２に示すように、異なる２つの厚さをも持っていなければならない。独特な形を持つ各々の縁部充填タイル１４Ａも、他の中心部のタイル１４とは別に形成しなければならない。これはプロセスのコストを更に増大させる。
【０００５】
第３に、個別の積層タイル１３及び１４を基板１１に取付ける従来の方法は、個別のタイルを基板の上に配置し、その後タイルの上にエポキシを注入することを含む。しかし、エポキシが基板から流れ出して、エポキシで被覆しようとは思わない磁極片の部分を被覆することがある。エポキシが加圧状態で供給されないから、あるタイルはエポキシによる被覆が不十分であることもある。こういうタイルは、ＭＲＩの使用中に剥離する恐れがある。更に、人間的な誤差の為に、タイル１４を手作業によって基板１１の上に積重ねるときに、突起１６のための最適の高さを達成するのが非常に困難になる。その為、従来の方法によって製造された異なる磁極片は、再現性が乏しく、突起の高さのばらつきの為に、性能特性が異なる。
【０００６】
【発明の概要】
上に述べたことに鑑み、半端な形の縁部充填タイルを持たない積層タイル磁極片を形成することによって、製造プロセスのコスト及び複雑さを少なくすることが望ましい。本発明は、磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置の磁極片を提供する。磁極片は、複数個の同心環状配列体を成すように配置された複数個の台形又は環状扇形タイルで構成される。
【０００７】
また、再現性があって正確な積層タイル磁極片の製造プロセスを提供することも望ましい。本発明は、磁極片を作る方法を提供する。この方法は、複数個のタイルをモールド空所の中に配置し、モールド空所を接着剤物質で埋めて複数個のタイルを結合して一体の本体を形成し、一体の本体をモールド空所から取出し、一体の本体の第２の面を磁極片の基部に取付けて第１の磁極片を形成する工程を含む。
【０００８】
本発明はまた、ＭＲＩ装置の積層タイル磁極片を形成する為の非一様な空所面を持つモールドをも提供する。このモールドは、ＭＲＩ装置の第１の磁石及びＭＲＩ装置の第２の磁石の間の磁束密度のシミュレーションを実施し、第１の磁石及び第２の磁石の間の磁束密度の最適値に基づいて、磁極片の第１の面の最適輪郭を決定し、モールド空所面の輪郭を磁極片の第１の面の最適輪郭とは略逆の形状に形成することによって作られる。
【０００９】
【好ましい実施例の詳しい説明】
図３は、第１の面４０及び第２の面４１を持つ磁極片基部５１を有する磁極片５０の一部分を切欠いた斜視図を示す。磁極片の積層タイル４２が、基部５１の第１の面４０に取付けられる。タイル４２は、エポキシ、膠並びに／又はボルトによって基部５１に取付けることが出来る。各々の積層タイルは、参照数字２１、２２及び２３で示す積み重ねられた複数個の金属層と、参照数字３１及び３２で示す接着剤層とで構成される。各々の積層タイル４２が実際に１００乃至１００００個の金属層を含んでおり、各々の金属層は厚さが５×１０ー3インチ未満（即ち、５ミル未満）であることが好ましい。各々のタイルは厚さが０．１乃至１０インチであって、幅が１乃至３０インチである。例えば、各々のタイルはその中央で幅が約８インチであり、厚さが１インチであって、１０００個の厚さ１ミルの金属層を含んでいる。しかし、必要な最終用途に基づいて、タイル及び金属層はこの他の寸法にすることが出来る。更に、各々のタイルは、この代りに、金属層の積層ではなく、密実な金属ブロック又は棒で構成することが出来る。
【００１０】
積層タイル４２は非晶質金属層で作ることが好ましい。しかし、金属が非晶質である必要はなく、結晶構造を持っていてもよい。金属は、鋼、鉄、珪素鋼又は鉄（即ち無配向の珪素鋼）、ニッケル鋼又は鉄、パーメンデュール（ＦｅＣｏＶ）、ニッケル・クロム鋼又は鉄、アルミニウム鋼又は鉄、アルミニウム・クロム鋼又は鉄、或いは保持力の小さいこの他の任意の材料で構成することが出来る。更に、本発明による磁極片は、上に列記した異なる金属から作られた積層タイル４２で構成することが出来る。言い換えると、隣接するタイルは異なる金属で構成されていてよい。
【００１１】
積層タイル４２は台形の形状にすることが好ましい。しかし、積層タイルは環状扇形の形状にしてもよい。環状扇形は、凹状の上辺又は短辺４３及び凸状の下辺又は長辺４４を持つ台形である。台形の積層タイル４２は、複数個の金属シートを接着剤で接着させた後、この積層シートを台形のタイルの形に切断することによって製造することが出来る。積層タイル４２を作る別の方法が、１９９８年１１月２４日出願の米国特許出願第０９／１９８，５１０号に記載されており、この全体をここでこの出願に取入れる。この方法は、金属リボンを巻解き、このリボンを接着剤浴の中に案内し、リボンを矩形巻枠のような多角形巻枠に巻き付けて、少なくとも１つの平坦な辺を持つコイルを形成し、巻枠からコイルを取外し、コイルを切断して積層バーを形成し、積層バーを台形又は環状扇形の積層タイルに整形することを含む。
【００１２】
図４及び５に示すように、円形の磁極片基部５１は、積層タイル４２を収容すると共に磁束を磁石間の隙間に差向けるための支持リング５２を有している。円形の基部５１及びリング５２の全体を台形の積層タイル４２で埋める。基部５１及びリング５２は「磁極シュー」と呼ぶこともある。この代りに、リング５２は場合によって「エッジ・シム」と呼ばれることがある。図４は、磁極片５０の平面図を示しており、これに対して図５は図４の線ＣーＣ’で切った断面図を示す。積層タイルが同心環状配列体又はリング５３乃至６２を成すように配置される。積層タイル４２が台形又は環状扇形であることの利点は、図４から明らかである。全ての積層タイルが同じ寸法及び形を持つことが出来る。従って、基部５１及びリング５２を埋めるのに、半端な形の縁部充填タイルを必要としない。この為、積層タイル磁極片を組立てる方法のコスト及び複雑さが少なくなる。
【００１３】
例えば、基部５１の中心部近くにあるタイルの同心環状配列体５３−５７は、基部５１の中心部近くに突起を形成するために、基部５１の周縁部近くにあるタイルの同心環状配列体５８、６０及び６１よりも厚さ（即ち、基部５１から測った高さ）が一層大きくてもよい。この突起は、半端な形の縁部充填タイルを必要としない。随意選択により、周縁部の同心環状配列体５９及び６２は、周縁部の環状配列体５８、６０及び６１よりも厚さが一層大きくてもよい。勿論、この他の環状配列体の厚さ及び形も可能である。例えば、同心環状配列体は１０個より多くても少なくてもよい。全ての環状配列体が同じ厚さであってもよいし、異なる厚さであってもよい。環状配列体の数及び特定の環状配列体の厚さは、磁極片５０を通るＭＲＩ装置の磁石間の磁界の流れのコンピュータによるシミュレーションによって決定すべきである。この代りに、中心部の環状配列体５３は、勾配磁気コイルを取付ける為の鉄心であってよい。
【００１４】
更に、環状配列体は、複数個の積層タイル４２を互いに積重ねることによって形成することが出来る。厚手の同心環状配列体は、薄手の環状配列体よりも一層多くの積層タイルを積重ねて構成することが出来る。随意選択により、磁極片支持リング５２の頂部と積層タイルとの間の空間は受動性シムによって埋めることが出来る。
【００１５】
本発明による磁気共鳴イメージング、即ちＭＲＩに用いられる磁界発生装置（「ＭＲＩ装置」）の実施例が図６及び７に示されている。図６に示すＭＲＩ装置は２つの板状ヨーク７１Ａ及び７１Ｂと、少なくとも２つ、好ましくは４つの柱状ヨーク７１Ｃ及び７１Ｄとを持っている。この代りに、図７に示すように、１つの「Ｃ」形ヨーク７１を持つＭＲＩ装置を使うことが出来る。ＭＲＩ装置はヨーク面に固定された磁石７２及び７２’と、磁石７２及び７２’に固定された磁極片基部５１及び５１’並びに支持リング５２及び５２’と、磁極片基部及び支持リングに固定された積層タイル磁極片７４及び７４’とを有している。磁極片の間に隙間７３が形成される。イメージングする身体部分が隙間７３に挿入される。
【００１６】
磁石７２及び７２’は、ＲＦｅＢ、ＲＣｏＦｅＢ又はＳｍＣｏ磁石のような永久磁石、或いは鉄心の周りに導電コイル又は超導電コイルを巻付けたような電磁石で構成することが出来る。ＭＲＩ装置は、随意選択により、図１５及び１６の７５及び７５’に示すような勾配コイル又はシムをも含んでいてよい。更に、随意選択により、ＭＲＩ装置は磁極片の残留磁気を減らす為に、基部と積層タイルとの間にベークライト、合成樹脂、木材又はセラミックのような透磁率の小さい絶縁層を含んでいてよい。
【００１７】
ＭＲＩ装置は電子回路７６及び表示装置７７をも含んでいてよい。電子回路７６は制御装置、送信機、受信機、イメージング装置並びに／又はメモリで構成することが出来る。
【００１８】
上側磁石７２と下側磁石７３との間の磁束のシミュレーションにより、積層タイル磁極片の最適輪郭を決定する。例えば、このシミュレーションは、普通の有限要素解析方法で構成することが出来る。このシミュレーションから、同心環状配列体の各々の磁極片配列体５３−６２について最適の高さが決定される。
【００１９】
同心環状配列体を持つ積層タイル磁極片５０は、本発明のモールド及び鋳造方法を用いて製造することが好ましい。モールド１００の実施例が図８及び９に示されている。図９は図８の線Ａ−Ａ’で切った断面図である。モールドは底面１０１、側面１０２及び覆い板１０３で構成される。更に、モールドは、１つ又は更に多くのエポキシ入口開口１０４及び１つ又は更に多くの空気出口開口１０５を持っている。開口１０４はモールドの底面１０１に設けることが好ましく、開口１０５は覆い板１０３に設けることが好ましい。モールドの底面１０１及び覆い板１０５は、ボルト１０６によって側壁１０２に取付けることが好ましい。しかし、この代りに、底面１０１及び側面１０２が一体の本体を構成していて、覆い板１０３が、掛金のような他の方法によって、側壁１０２に取付けられていてもよい。モールドは随意選択の把手１０７を持っている。
【００２０】
モールドは非一様な空所面の輪郭を持つことが好ましい。非一様な輪郭は、モールド空所の底面１０１にスペーサを取付けることによって定めることが好ましい。スペーサが、円形のモールドの底面１０１に沿って複数個の同心環状配列体１５３−１６２を形成することが好ましい。スペーサ１５３−１６２はねじ１０８により、又は膠により、モールド空所面１０１に取付けることが出来る。スペーサは円筒形を持つことが好ましい。しかし、スペーサは他の任意の形を持っていてもよい。
【００２１】
図９に示すように、異なる同心環状配列体１５３−１６２のスペーサは異なる高さ又は厚さを持っている。磁極片にある積層タイル４２と同じ数のスペーサ１５３−１６２を持つことが好ましい。各々のスペーサが磁極片の特定のタイルに対応する。モールド内のスペーサの面は、磁極片の同心環状タイル配列体の輪郭とは略逆の輪郭を形成する。言い換えると、タイル配列体６２のような磁極片の環状配列体が大きな高さ又は厚さを持つ場合、スペーサ配列体１６２のような、モールド内の対応するスペーサ配列体は小さな高さ又は厚さを持つ。タイル配列体６１のような磁極片の配列体が小さい高さ又は厚さを持つ場合、スペーサ配列体１６１のような、モールド内の対応するスペーサ配列体は大きな高さ又は厚さを持つ。「略逆」とは、スペーサの輪郭がタイルの輪郭とは異なっていてもよいことを意味する。例えば、タイルはエポキシ接着剤によって互いに取付けられるが、スペーサの間には隙間１０９があってよい。この為、スペーサの輪郭は隙間１０９を持つが、タイルの輪郭は、この隙間に対応するような薄い突起を持っていない。更に、輪郭にはこの他の若干の垂直及び水平方向の変動があってよい。
【００２２】
従って、非一様なモールド空所面１１０の輪郭は、図１０に示すように、積層タイルの磁極片の輪郭１１４の逆である。積層タイル磁極片の輪郭は、異なるタイルの輪郭に対し、ＭＲＩ装置の磁石間で磁束密度のシミュレーションを実施し、その後、ＭＲＩ装置の磁石間に最適の磁束を発生するようなタイルの輪郭１１４を選ぶことによって決定する。図８では、仮想の２つのＭＲＩ磁石の間の磁界の有限要素シミュレーションによる磁束線が、モールドの平面図に重畳して示されている。
【００２３】
この代りに、図１１に示すように、スペーサ１５３−１６２を使わずに、非一様なモールド空所面の輪郭を作ることが出来る。図１１で、モールド空所面自体が不規則な形であって、非一様な輪郭１１０を形成している。輪郭１１０は突起１１１及び凹部１１２で構成される。突起１１１が複数個の同心環状配列体を形成し、その輪郭は磁極片タイル輪郭の略逆である。図９に示したモールドの場合と同じく、各々の突起１１１は磁極片の個別のタイル４２と対応すべきである。
【００２４】
本発明に従って積層タイル磁極片を作る方法が図１２−１６に示されている。モールド空所及びスペーサに最初に離型剤を被覆する。次に、図１２に示すように、積層タイル１２が同心環状タイル配列体５３−６２としてモールド空所内に配置される。タイルは対応する同心環状スペーサ配列体１５３−１６２の上に積重ねられる。勿論、スペーサは図１０の突起に置き換えてもよい。図１３に示すように、各々のタイルが１つのスペーサに重なるようにすべきである。各々のタイル及びスペーサの積重ねの高さは、モールド空所の高さに等しくして、タイル配列体５３ー６２の上面がモールド空所の頂部と同一面になるようにすべきである。タイルの高さの許容公差の結果としてのすべての変動が、モールドの覆い板１０３の頂部の近くにある小さな隙間となる。この代りに、各々のタイルを、図１４に示すように接着テープ１２３を用いて夫々のスペーサに取付けてもよい。
【００２５】
この後、モールドを覆い板１０３で覆い、接着剤物質を入口開口１０４からモールドの中に導入する。接着剤物質は合成エポキシ樹脂であることが好ましい。エポキシは、モールド空所及びスペーサが離型剤で被覆されているので、モールド空所及びスペーサにくっつかない。エポキシが個別のタイルの間に浸透し、モールドの中に捕捉されている空気があれば、それを出口開口１０５を介して押出す。エポキシ１１３が個別のタイルを、高さの異なる同心環状タイル配列体５３−６２で構成された一体の本体１２０に結合する。この代りに、エポキシを上側開口１０５から、又は上側及び下側の両方の開口から導入してもよい。
【００２６】
モールドの覆い板１０３をモールドから取除き、一体のタイル本体１２０をモールド１００から取出す。その後、一体の本体１２０の平坦な側（上側）を、図１５及び１６に示すように、磁極片基部５１及びリング５２に取付ける。基部５１、リング５２及び一体のタイル本体が磁極片５０を構成する。一体のタイル本体１２０は、エポキシ、膠並びに／又はボルトによって、基部５１に取付けることが出来る。
【００２７】
本発明の第２の実施例が図１７乃至２０に示されている。第２の実施例では、図１７及び１９に示すように、少なくとも１つのタイル４２がその面に空所１２１を持っている。空所は、高圧でエポキシをモールド１１０の中に導入することによって形成することが出来る。高圧のエポキシが同心環状タイル配列体５３ー６２の上を流れ、タイル配列体をモールド空所内の円筒形スペーサ１５３−１６２又は突起１１１に圧接する。各々のスペーサ又は突起は、対応するタイルの面積よりも表面積が小さい。従って、比較的柔らかいタイルのスペーサ又は突起に対する圧力により、図１７及び図１８に示すように、タイルに空所１２１が形成される。空所は、図２０に示すように、受動性シム又は小さな永久磁石１２２によって埋めることが出来るが、これは１９９８年１０月２３日出願の米国特許出願第０９／１７８，３２０号に記載されており、この米国特許出願の全体をここで引用によって取入れる。
【００２８】
図３では、積層体の各層が積層タイル４２の高さ又は厚さ方向に沿って積み重ねられている。しかし、本発明の第３の実施例では、図２１に示すように、積層体の各層９１、９２、９３及び９４が積層タイル４２’’の幅に沿って積み重ねられ、すなわち積層される。積層タイル４２’’は、エポキシで結合した金属層の厚手の積重ね体又はコイルを形成し、この積重ね体又はコイルからタイルを切断して形成し、タイルを横に倒すことによって作ることが出来る。
【００２９】
図２２に示すように、積層タイル４２’’は、積層の方向が磁束の方向に対して垂直（即ち、下側磁石７２’及び上側磁石７２の間の仮想線に対して垂直）になるようにして、磁極片の基部５１の上に取付ける。言い換えると、積層方向が、同心環状タイル配列体の平面に対して平行である。この実施例の利点は、磁界の安定性が高くなると共に、渦電流及びヒステリシス効果が減少することである。この代りに、図２３に示すように、積層タイル４２’’を別の磁極片部材９０の縁の上に取付けて、横方向の磁束の洩れを減らすことが出来る。部材９０自体は、磁束の方向と平行な方向に積層された層を持つ多重積層タイル４２で構成してよい。言い換えると、積層方向が、タイル４２’’の積層方向に対して垂直であると共に、同心環状タイル配列体の平面に対して垂直である。
【００３０】
本発明の第４の実施例では、その積層方向が９０°異なる積層タイルを互いに取付けることが出来る。このような構成は、隙間７３に於ける磁界の一様性を改善する。例えば、積層タイル４２を積層タイル４２’’に取付けて、図２４に示す組合せタイル９１を形成することが出来る。この代りに、２つのタイル４２’’を取付けて、図２５に示す組合せタイル９１’を形成することも出来る。勿論、２つのタイル４２を、その積層方向を互いに９０°傾けて取付けることも出来る。組合せタイル９１及び９１’は、ＭＲＩ装置の隙間７３に任意の面を向けて、磁極片の基部５１に取付けることが出来る。組合せタイル９１及び９１’は、前に列記した異なる材料で作られた個別のタイルで構成することも出来る。
【００３１】
ＭＲＩ装置の磁極片に適した積層タイルを説明した。しかし、積層タイル及び積層タイル製造方法の他の使い方も、本発明の範囲内である。モールドも、ＭＲＩ装置の磁極片以外の用途に対する一体の本体を製造する為に使うことが出来る。更に、用途によっては、台形のタイルの代りに積層バーを使うのが有利であることがある。この場合、積層バーは、本発明でいう「積層タイル」と見なすことが出来る。
【００３２】
本発明を特定の実施例について詳しく説明したが、当業者には、本発明の範囲を逸脱せずに、この実施例に種々の変更を加えることが出来ることは明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の磁極片の平面図である。
【図２】図１の線Ｘ−Ｘ’で切った従来の磁極片の側面断面図である。
【図３】本発明の第１の実施例による積層タイル装置の斜視図である。
【図４】本発明の第１の実施例による積層タイル装置の平面図である。
【図５】本発明の第１の実施例による積層タイル装置を図４の線Ｃ−Ｃで切った側面断面図である。
【図６】ＭＲＩ装置の側面断面図である。
【図７】ＭＲＩ装置の側面断面図である。
【図８】本発明によるモールドの平面図である。
【図９】図８の線Ａ−Ａで切ったモールドの側面断面図である。
【図１０】磁極片及びモールド空所面の輪郭の略図である。
【図１１】本発明の別の実施例によるモールドの側面断面図である。
【図１２】本発明による積層タイルを埋めたモールドの側面断面図である。
【図１３】図２の一部分の拡大側面断面図である。
【図１４】本発明の別の実施例による積層タイルの側面断面図である。
【図１５】本発明による積層タイル磁極片の側面断面図である。
【図１６】図１５の一部分の拡大側面断面図である。
【図１７】本発明の第２の実施例による積層タイル装置の平面図である。
【図１８】図７の一部分の側面断面図である。
【図１９】本発明の第２の実施例による積層タイルの平面図である。
【図２０】本発明の第２の実施例による積層タイルの側面断面図である。
【図２１】本発明の第３の実施例による積層タイルの斜視図である。
【図２２】本発明の第３の実施例によるＭＲＩ装置の側面断面図である。
【図２３】本発明の第３の実施例によるＭＲＩ装置の側面断面図である。
【図２４】本発明の第４の実施例による積層タイルの斜視図である。
【図２５】本発明の第４の実施例による積層タイルの斜視図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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