(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の基板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理するスピン処理装置において、
カップ体と、
基部及びこの基部の外周部に基端部が周方向に所定の間隔で連結され先端部には上記基板の各角部を支持する支持部が設けられた４本のアームを有し、上記カップ体内に設けられて回転駆動される回転体と、
この回転体の下面側または上面側に回転体と一体に回転するよう設けられ上記基板に供給された第１あるいは第２の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面形状が円形状の遮蔽部材と、
上記カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部と外側空間部とに隔別する環状壁体と、
上記カップ体の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内側排液管及び外側排液管と、
上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇時には上記環状壁体とで上記基板に供給された第１の処理液あるいは第２の処理液のいずれか一方が上記外側空間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処理液が内側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。
【請求項２】
上記切り分け壁体は、下降時に上端が上記遮蔽部材の上面よりも下方に位置することを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
【請求項３】
上記遮蔽部材の上面と外周面とは９０度以下の角度でエッジを形成していることを特徴とする請求項１または請求項２記載のスピン処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は回転駆動される基板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理するスピン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置の製造過程においては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成するということが行われている。回路パターンを形成する場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あるいはレジストの剥離処理などが行われる。これらの処理を行う場合、まず、基板に第１の処理液として現像液、エッチング液あるいは剥離液などを供給して所定の処理を行い、ついで第２の処理液として純水などの洗浄液を供給して洗浄処理するということが行われる。
【０００３】
現像液、エッチング液あるいは剥離液などの第１の処理液は高価であるため、循環使用するということが行われている。第１の処理液を循環使用する場合、第１の処理液と第２の処理液とを混合させずに回収しなければならない。
【０００４】
第１の処理液と第２の処理液との混合を避けるためには、基板に供給された第１の処理液と第２の処理液とをそれぞれ別々の経路で回収しなければならない。このような先行技術は特開平８−２６２７４１号公報に示されている。
【０００５】
上記公報に示された構成は、第１の容器内に基板を保持する回転チャックが設けられ、この回転チャックの下面側には上記第１の容器側に固定されてカバーが設けられている。このカバーは上記回転チャックよりも大きく形成されている。
【０００６】
さらに、第１の容器内には第２の容器が上下駆動されるように設けられている。この第２の容器が上昇した状態で、回転駆動される基板に第１の処理液を供給すると、この第１の処理液はカバーの上面に滴下するとともに第２の容器の内周面に衝突するから、第２の容器の内に回収される。
【０００７】
上記第２の容器を、その上端が上記カバーの上面に接合するまで下降させれば、基板に供給されて滴下する第２の処理液の一部は、カバーの上面から第２の容器の外周面を伝わって第１の容器内に流れ、また基板から周囲に飛散した処理液は第１の容器の内周面に衝突するから、この第１の容器内に回収される。
【０００８】
つまり、第２の容器を上昇あるいは下降させることで、第１の処理液と第２の処理液とを分離回収することができるようになっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような構成によると、基板に供給された処理液はカバーの上面に滴下する。そのため、処理液はカバーの上面に溜まり易いため、第１の処理液あるいは第２の処理液を回収するときに、上記カバーの上面に溜まった処理液が回収される処理液に混合してしまうということがある。
【００１０】
上記カバーの上面を径方向周辺部にゆくにつれた低く傾斜させることで、このカバーの上面に処理液を溜まりにくくすることができる。しかしながら、カバーの直径寸法や高さ寸法は第１、第２の容器の大きさによって制限を受ける。そのため、上記カバーの上面の傾斜角度にも制限を受けることになるから、カバーの上面に溜まる処理液を良好に流すことができない。
【００１１】
たとえカバーの上面を傾斜させても、処理液はカバーの上面から確実に除去できるものでなく、付着残留することが避けられないから、その処理液が他の処理液に混合するということがある。
【００１２】
さらに、第２の容器を下降させたときに、その上端部を上記カバーの上面に接合させて処理液が第２の容器内に入り込むのを防止している。しかしながら、第２の容器をカバーの上面に接合させるだけでは、カバーの上面を流れる処理液が第２の容器とカバーとの接合面間に浸入して第２の容器内に入り込むことがあるため、その処理液が第２の容器に回収される処理液と混合するということがある。
【００１３】
この発明は、第１の処理液と第２の処理液とを確実に分離して回収できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、矩形状の基板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理するスピン処理装置において、
カップ体と、
基部及びこの基部の外周部に基端部が周方向に所定の間隔で連結され先端部には上記基板の各角部を支持する支持部が設けられた４本のアームを有し、上記カップ体内に設けられて回転駆動される回転体と、
この回転体の下面側または上面側に回転体と一体に回転するよう設けられ上記基板に供給された第１あるいは第２の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面形状が円形状の遮蔽部材と、
上記カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部と外側空間部とに隔別する環状壁体と、
上記カップ体の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内側排液管及び外側排液管と、
上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇時には上記環状壁体とで上記基板に供給された第１の処理液あるいは第２の処理液のいずれか一方が上記外側空間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処理液が内側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置にある。
【００１５】
請求項２の発明は、上記切り分け壁体は、下降時に上端が上記遮蔽部材の上面よりも下方に位置することを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
【００１６】
請求項３の発明は、上記遮蔽部材の上面と外周面とは９０度以下の角度でエッジを形成していることを特徴とする請求項１または請求項２記載のスピン処理装置にある。
【００２１】
請求項１の発明によれば、回転体の下面側または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部材を設けたことで、この遮蔽部材の上面に滴下した処理液は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除去することができるから、残留して他の処理液に混合するのを防止できる。
また、回転体の重量の減少を図るために、この回転体を基部及び４本のアームから形成することで、基板に供給された処理液が下方へ滴下する量が増大するものの、処理液は遮蔽部材の上面に滴下するため、遠心力によって確実に飛散させて除去することができる。
【００２２】
請求項２の発明によれば、切り分け壁体を下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下方に位置するため、遮蔽部材の上面から遠心力によって飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止できる。
【００２３】
請求項３の発明によれば、遮蔽部材の上面と外周面とが９０度以下のエッジを形成しているため、遮蔽部材の上面を径方向外方に向かって流れる処理液が外周面を伝わって下面側へ流れ込むのを防止できる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２７】
図１乃至図５はこの発明の第１の実施の形態を示し、図１はスピン処理装置の概略的構成を示す断面図で、このスピン処理装置はカップ体１を備えている。このカップ体１は底部に第１の通孔２ａが形成された下カップ２及びこの下カップ２を覆う上カップ３とから構成されている。
【００２８】
上記下カップ２はベース板４上に設けられている。このベース板４には上記通孔２ａに対応する位置に第２の通孔４ａが形成されている。上記第１の通孔２ａの周囲は第１の仕切り壁５によって覆われ、上記第２の通孔４ａの周囲は上記第１の仕切り壁５の内側に位置する第２の仕切り壁６によって覆われている。
【００２９】
上記上カップ２は上記下カップ２の外周面を覆う周壁部７と、この周壁部７の上部に取り付けられるとともに上記下カップ２の上方を覆う環状の上壁部８とからなる。
【００３０】
上記下カップ２内には、この下カップ２内を内側空間部１１と外側空間部１２とに隔別する環状壁体１３及び環状壁体１３に対して上下動可能な切り分け壁体１５とからなる。
【００３１】
この環状壁体１３は下端が上記下カップ２の内底面に液密に固着されており、上記切り分け壁体１５は周囲が二重壁１５ａで、上部が傾斜壁１５ｂとなっていて、その二重壁１５ａの間の部分に上記環状壁体１３を挿入し、上下方向にスライド可能となっている。
【００３２】
上記切り分け壁体１５の二重壁１５ａの外側の下端には下部連結片１６を介して連動軸１７の下端が連結されている。この連動軸１７は上記上カップ２の周壁部７の上部に形成された通孔７ａから外部に突出している。そして、この連動軸１７の上端には上記ベース板４上に軸線を垂直にして設けられたシリンダ１８のロッド１８ａに上部連結片１９によって連結されている。
【００３３】
したがって、シリンダ１８によって上記切り分け壁体１５を、図１に示すように上昇した状態と、図２に示すように下降した状態とに上下駆動することができるようになっている。
【００３４】
上記下カップ２の通孔２ａには円筒状の回転軸２１が挿通されている。この回転軸２１の上部は上記カップ体１内に突出し、その上端には回転体２２が取り付けられている。
【００３５】
図４に示すように、上記回転体２２は基部２３と、この基部２３の外周部に周方向に所定の間隔で基端部が連結された４本のアーム２４とからなる。各アーム２４の先端部には支持ピン２５と、この支持ピン２５よりも背の高い一対の係止ピンと２６が突設されている。そして、回転体２２には液晶表示装置用の矩形状の基板３０がその四隅部の下面を上記支持ピン２５に支持されるとともに外側面を上記係止ピン２６に係合させて支持される。
【００３６】
上記回転軸２１は、中途部が軸受２７によって回転自在に支持されているとともに、下端部は駆動モータ２８の回転子２９ａに連結されている。この回転子２９ａは筒状をなしていて、同じく筒状の固定子２９ｂ内に回転自在に挿入されている。この固定子２９ｂは固定板３１に取り付け固定されている。
【００３７】
したがって、上記駆動モータ２８が作動すると、上記回転体２２が回転駆動されるから、この回転体２２と一体的に基板３０が回転駆動されるようになっている。
【００３８】
上記軸受２７は上記固定板３１に設けられた支持体３２に設けられていて、この支持体３２には上記下カップ２の通孔２ａを覆う円形状のカバー３３が固定されている。このカバー３３には外周縁に周壁３３ａが垂設され、径方向中途部の下面には上記第２の仕切り壁６の内側に位置する第３の仕切り壁３４が垂設されている。
【００３９】
つまり、下カップ２の第１の通孔２ａが形成された部分は所定間隔を介して同心状に配置された第１乃至第３の仕切り壁５，６，３４によって覆われ、さらに第１の仕切り壁５の外側はカバー３３の周壁３３ａによって覆われたラビリンス構造をなしているから、上記回転体２２に保持された基板３０に向けて後述するごとく供給される処理液が上記下カップ２の通孔２ａから外部に流出するのが阻止されるようになっている。
【００４０】
上記下カップ２の底部は径方向外方に向かって低く傾斜していて、上記内側空間部１１の最も低い位置には複数の内側排液管４１が接続され、外側空間部１２の最も低い位置には複数の外側排液管４２が接続されている。さらに、ベース板４には、下カップ２に接続された内側排液管４１よりも径方向内側の部分に複数の内側排気管４３が接続され、上記内側排液管４１よりも外側の部分には複数の外側排気管４４が接続されている。
【００４１】
上記各排液管４１，４２はそれぞれ別々の貯液タンク（図示せず）に連通し、上記各排気管４３，４４はそれぞれ別々の排気ポンプ（図示せず）に接続されている。なお、下カップ２の下面側の空間部は、複数の環状のシール部材４５によって内側排気管４３がカップ体１内の内側空間部１１に連通し、外側排気管４４が外側空間部１２に連通するよう仕切られている。
【００４２】
図１に示すように、切り分け壁体１５が上昇した状態で上記排気ポンプが作動すると、カップ体１内には矢印で示すようにカップ体１の内側空間部１１を通って内側排気管４３から排気される気流が発生する。
【００４３】
図２に示すように、上記上部壁体１５を下降させた状態で排気ポンプを作動させると、カップ体１内には矢印で示すように外側空間部１２を通って外側排気管４４から排気される空気流が生じる。
【００４４】
上記回転体２２の下面側には、この回転体２２の外形寸法よりも大きな直径で、上記カバー３３の直径とほぼ同径の円形状に形成された遮蔽部材５１が設けられている。この遮蔽部材５１は、図３に示すように中心部に上記回転軸２１よりも大径で，上記回転体２２の基部２３よりも小径な通孔５２が形成され、この通孔５２の外側の部分が上記基部２３の下面に図示しないねじなどで接合固定されている。
【００４５】
上記遮蔽部材５１の外周縁には液切部としての周壁５３が形成されている。図５に示すように、この周壁５３と上記遮蔽部材５１の上面とは、９０度以下の角度、この実施の形態では９０度で交差した液切部としてのエッジ５４を形成している。つまり、遮蔽部材５１の上面と周壁５３とは、アールのない状態である、エッジ５４を介して交差している。上記周壁５３とエッジ５４との、少なくともどちらか一方によって遮蔽部材５１の上面から下面側に処理液が回り込むのを防止する液切部を構成している。
【００４６】
図２に示すように、上記切り分け壁体１５を下降させたとき、この切り分け壁体１５の傾斜壁１５ｂの上端は、上記遮蔽部材５１の周壁５３に対してわずかな間隔で離間対向するとともに、上記遮蔽部材５１の上面よりも下方に位置するよう、設定されている。上記傾斜壁１５ｂの上端と、遮蔽部材５１の上面との高さ寸法の差は１ｍｍ以上、好ましくは３ｍｍ以上、さらに好ましくは５ｍｍ以上がよい。
【００４７】
図１と図２に示すように、上記カップ体１の上方には、上記回転体２２に保持された基板３０に向けて第１の処理液Ｌ１  を供給する第１の上部ノズル体５５と、第２の処理液Ｌ２  を供給する第２の上部ノズル体５６とが配置されている。各上部ノズル体５５、５６は、それぞれ図示しない第１、第２の処理液Ｌ１  、Ｌ２  の供給源に連通している。
【００４８】
図３に示すように、中空状の上記回転体２２の基部２３の上面側にはノズルヘッド６１が設けられている。このノズルヘッド６１は、上記回転子２９ａと回転軸２１とにわたって挿通された支持部材６２の上端に固定されている。つまり、ノズルヘッド６１は固定的に設けられている。
【００４９】
図４に示すように、上記ノズルヘッド６１には基板３０の下面に第１の処理液Ｌ１  を供給する一対の第１の下部ノズル体６３、第２の処理液Ｌ２  を供給する一対の第２の下部ノズル体６４及び乾燥用のガスを供給するガスノズル体６５などが設けられている。
【００５０】
次に、上記構成のスピン処理装置によって基板３０を第１、第２の処理液Ｌ１  、Ｌ２  によって順次処理する手順について説明する。
【００５１】
まず、回転体２２に基板３０を保持したならば、切り分け壁体１５を図１に示すように上昇させる。その状態で回転体２２を回転駆動するとともに、内側排気管４３に接続された排気ポンプを作動させたならば、第１の上部ノズル体５５及び第１の下部ノズル体６３から第１の処理液Ｌ１  を上記基板３０に向けて供給する。
【００５２】
第１の上部ノズル体５５から基板３０に供給された第１の処理液Ｌ１  の一部は、回転する基板３０の遠心力によって周囲に飛散し、上昇した切り分け壁体１５の内周面に衝突して落下する。つまり、切り分け壁体１５が上昇していることで、基板３０の遠心力で飛散した第１の処理液Ｌ１  はカップ体１内の内側空間部１１に滴下し、第１の排液管４１を通って回収されることになる。また、内側空間部１１から内側排気管４３へ流れる気流によっても第１の処理液Ｌ１  は内側空間部１１に円滑に回収されることになる。
【００５３】
基板３０が矩形状であるため、回転する基板３０に供給された第１の処理液Ｌ１  の残りの一部は基板３０の上面に載らずにそのまま下方の遮蔽部材５１上に滴下する。さらに、第１の下部ノズル体６３から基板３０の下面に供給された第１の処理液Ｌ１  はこの下面で反射して回転体２２のアーム２４の間から遮蔽部材５１の上面に滴下する。
【００５４】
上記遮蔽部材５１は回転体２２と一体に回転している。そのため、遮蔽部材５１の上面に滴下した第１の処理液Ｌ１  は、遠心力によって遮蔽部材５１の上面から周囲に飛散し、上部壁体１５の内周面に衝突するから、内側空間部１１に連通した内側排液管４１から排出されることになる。つまり、第１の処理液Ｌ１  が遮蔽部材５１の上面に付着残留するのを防止できる。
【００５５】
遮蔽部材５１の上面に滴下した第１の処理液Ｌ１  の一部は、この遮蔽部材５１の外周面から下面側に回り込んでカバー３３上に滴下し、排出されずに残留する虞がある。
【００５６】
しかしながら、上記遮蔽部材５１の周縁部には周壁５３が形成され、しかも遮蔽部材５１の上面と上記周壁５３とは９０度の角度で交差するエッジ５４をなしている。
【００５７】
そのため、遮蔽部材５１の上面を径方向外方に向かって流れてきた第１の処理液Ｌ１  は、上記エッジ５４によって上面から周壁５３に伝わるのが阻止されるとともに、たとえ周壁５３に流れても、その周壁５３から下方へ滴下するため、下面側に回り込んでカバー３３上に滴下残留するということが防止される。
【００５８】
つまり、切り分け壁体１５を上昇させて基板３０を第１の処理液Ｌ１  で処理する場合、基板３０の上面から遠心力によって周囲に飛ばされる第１の処理液Ｌ１  は勿論のこと、基板３０の上面に載らない第１の処理液Ｌ１  は回転体２２と一体に回転する遮蔽部材５１の上面に滴下するため、この遮蔽部材５１の遠心力によって周囲に飛散する。
【００５９】
そのため、基板３０を第１の処理液Ｌｌ  で処理したときに、第１の処理液Ｌ１  が回転体２２や遮蔽部材５１に付着残留するのを防止することができる。
【００６０】
基板３０を第１の処理液Ｌ１  で処理したならば、次に第２の処理液Ｌ２  で処理する。その場合、まず切り分け壁体１５を図１に示す上昇した状態から図２に示すように下降させ、さらに外側排気管４４に連通した排気ポンプを作動させる。切り分け壁体１５を下降させると、その傾斜壁１５ｂの上端が遮蔽部材５１の周壁５３に対してわずかな間隔で離間対向し、しかも遮蔽部材５１の上面よりも所定寸法下方に位置する。
【００６１】
その状態で第２の上部ノズル体５６と第２の下部ノズル体６４とから基板３０の上面と下面とに第２の処理液Ｌ２  を供給すると、第２の処理液Ｌ２  は回転する基板３０及び遮蔽部材５１の遠心力によって周囲に飛散して上カップ３の上部壁８の内周面に衝突してカップ体１内の外側空間部１２に滴下するから、その底部に接続された外側排液管４２を通して排液されることになる。
【００６２】
つまり、基板３０を第２の処理液Ｌ２  で処理する場合も、第１の処理液Ｌ１  で処理する場合と同様、遮蔽部材５１が回転体２２と一体的に回転駆動されることで、この遮蔽部材５１の上面に第２の処理液Ｌ２  が付着残留したり、遮蔽部材５１の下面側に回り込んでカバー３３上に滴下残留するということもない。
【００６３】
しかも、切り分け壁体１５を下降させたとき、この傾斜壁１５ｂの上端は遮蔽部材１５の上面よりも所定寸法下方に位置している。そのため、回転する遮蔽部材１５の上面から遠心力によって飛ばされる第２の処理液Ｌ２  が上記切り分け壁体１５に衝突してカップ体１の内側空間部１１に滴下し、この内側空間部１１を通じて回収された第１の処理液Ｌ１  に混合するということも防止される。
【００６４】
なお、上記切り分け壁体１５を下降させたときに、その上端が遮蔽部材５１の上面と同じ高さであると、遮蔽部材５１から飛散する第２の処理液Ｌ２  の一部が切り分け壁体１５と遮蔽部材５１との隙間から内側空間部１１に入り込む虞があるが、切り分け壁体１５の上端を遮蔽部材５１の上面よりも所定寸法低くしたことで、第２の処理液Ｌ２  が内側空間部１１に侵入するのを確実に防止することができる。
【００６５】
遮蔽部材５１の上面と切り分け壁体１５の上端との寸法差は１ｍｍ以上あればよいが、３ｍｍ以上とすることが好ましく、さらに５ｍｍ以上とすれば、より一層好ましい。
【００６６】
図６はこの発明の第２の実施の形態を示す。この第２の実施の形態は、遮蔽部材５１が回転体２２の上面側で、この回転体２２に保持される基板３０の下面側になるように設けられている。
【００６７】
上記遮蔽部材５１には、ノズルヘッド６１を露出させる通孔５２ａが形成されている。この通孔５２ａとノズルヘッド６１の上面との間に隙間ができないよう、上記遮蔽部材５１の高さ位置に応じて通孔５２ａの大きさが設定される。さらに、各アーム２４の先端部に設けられた支持ピン２５と係止ピン２６とは上記遮蔽部材５１の上面側に突出している。
【００６８】
このように、遮蔽部材５１を回転体２２の上面側に設けるようにしても、基板３０に供給された第１の処理液Ｌ１  や第２の処理液Ｌ２  は回転する遮蔽部材５１の遠心力によってその上面から周囲に飛散するため、第１の処理液Ｌ１  と第２の処理液Ｌ２  との切り換えを、使用中の処理液をカップ体１内に残留させることなく、確実に行うことができる。
【００６９】
図７と図８はこの発明の第３の実施の形態を示す。この実施の形態は回転体の変形例で、この回転体７１は基板３０の外形寸法よりも大径な円盤状をなしている。この回転体７１の上面には矩形状の基板３０の四隅部下面を支持する支持ピン２５及び外面に係合する係止ピン２６が突設されている。
【００７０】
上記回転体７１の上面と外周面とは９０度に交差する液切部であるエッジ７２となっており、さらに回転体７１の下面の外周面から所定寸法内方には同じく液切部としての周壁７３が垂設されている。上記回転体７１の中心部には、ノズルヘッド６１を露出させるために通孔７４が形成されている。
【００７１】
このような構成の回転体７１によると、基板３０の上面及び下面に供給された第１あるいは第２の処理液は、回転体７１の上面に滴下するから、この回転体７１の遠心力によって周囲に飛散される。
【００７２】
つまり、回転体７１が第１の実施の形態のように４本のアーム２４で形成されているものでないから、基板３０に供給された各処理液は回転体７１の上面に滴下し、この回転体７１の遠心力によって飛散除去されることになる。
【００７３】
したがって、この実施の形態によれば、第１の実施の形態に示された遮蔽部材５１を用いることなく、第１の処理液Ｌ１  と第２の処理液Ｌ２とを分離回収することができる。
【００７４】
なお、この第３の実施の形態は、第１の実施の形態に比べて回転体７１の形状が異なる点と、遮蔽部材５１がない点とを除き、他の部分の構成は同じである。
【００７５】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、回転体の下面側または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部材を設けるようにした。
【００７６】
そのため、遮蔽部材の上面に滴下した処理液は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除去することができるから、この遮蔽部材の上面に処理液が残留して他の処理液に混合するのを防止できる。
【００７７】
請求項２の発明によれば、切り分け壁体を下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下方に位置するようにした。
【００７８】
そのため、遮蔽部材の上面から遠心力によって飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止できるから、カップ体の外側空間部に回収される処理液が内側空間部に入り込むのを防止できる。
【００７９】
請求項３の発明によれば、遮蔽部材の上面と外周面とで９０度以下のエッジを形成した。
【００８０】
そのため、遮蔽部材の上面を径方向外方に向かって流れる処理液が外周面を伝わって下面側へ流れ込むのを防止できる。
【００８１】
請求項４の発明によれば、回転体の重量の減少を図るために、この回転体を基部及び４本のアームから形成することで、基板に供給された処理液が回転体の下方に滴下する量が増大しても、処理液は遮蔽部材の上面に滴下する。
【００８２】
そのため、回転体の下方に滴下する処理液の量が増大しても、遮蔽部材の上面に滴下することで、この遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散させて除去することができる。
【００８３】
請求項５乃至請求項７の発明によれば、回転体を基板よりも大きな円形状としたので、基板に供給された処理液は回転体の上面に滴下し、この回転体の遠心力で上面から飛散除去されるから、他の処理液に混合することがない。
【００８４】
しかも、回転体の周辺部に設けられた液切部によって、処理液が回転体の上面から下面側に伝わるのを確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態を示すスピン処理装置の切り分け壁体が上昇した状態の概略的構成図。
【図２】同じく切り分け壁体が下降した状態の概略的構成図。
【図３】同じく回転体の部分の拡大図。
【図４】同じく回転体の平面図。
【図５】同じく遮蔽部材のエッジを示す拡大断面図。
【図６】この発明の第２の実施の形態を示す回転体の部分の拡大図。
【図７】この発明の第３の実施の形態を示す回転体の平面図。
【図８】同じく回転体の周辺部の拡大断面図。
【符号の説明】
１…カップ体
１３…環状壁
１５…切り分け壁体
２２…回転体
２３…基部
２４…アーム
２５…支持ピン（支持部）
２６…係止ピン（支持部）
３０…基板
４１…内側排液管
４２…外側排液管
５１…遮蔽部材
５４…エッジ
【図１】
0004593713.tif 000002
【図２】
0004593713.tif 000003
【図３】
0004593713.tif 000004
【図４】
0004593713.tif 000005
【図５】
0004593713.tif 000006
【図６】
0004593713.tif 000007
【図７】
0004593713.tif 000008
【図８】
0004593713.tif 000009