(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性先端基（Ｚ）、スペーサー（Ｗ）、２８５乃至４００ｎｍの領域に吸収を有するＵＶ発色団（Ｑ）および少なくとも１つの疎水性末端基（Ａ）を含有する下記式のリポソーム形成ＵＶ吸収剤：
【化１】
0004410314.tif 000046
（式中、
Ａ1及びＡ2は互いに独立的に、少なくとも８個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アルコキシ、アシルおよびアルキルアミノから選ばれる疎水基であり、
Ｑは、下記式
【化２】
0004410314.tif 000047
または
【化３】
0004410314.tif 000048
で表されるＵＶ発色団であって、上記式中、Ｒ14は水素、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ5アルキルまたはＣ1−Ｃ5アルコキシであり、Ｒ16は水素、置換されていないかまたはフェニルによって置換されたＣ1−Ｃ18アルキルまたはＣ1−Ｃ8アルコキシ、ハロゲンまたは下記式
【化４】
0004410314.tif 000049
で表される基であって、上記式中、Ｒ19は水素、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ5−Ｃ8シクロアルキル、Ｃ7−Ｃ10アラールキルまたはＣ6−Ｃ10アリールであり、Ｒ20は水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル、Ｃ2−Ｃ17アルケニル、Ｃ5−Ｃ8シクロアルキル、Ｃ7−Ｃ10アラールキルまたはＣ6−Ｃ10アリールであり、ｔ2は１または２であり、ｔ2＝１の場合には、Ｒ19とＲ20とは架橋メンバー
【化５】
0004410314.tif 000050
と一緒に単環または多環の窒素含有複素環を形成することができ、この場合、Ｒ19は−ＣＯ−であるか、または置換されていないかまたはＣ1−Ｃ5アルキルによって置換されたメチレンであり、Ｒ20はＣ2−Ｃ5アルキレン、Ｃ2−Ｃ5アルケニレン、Ｃ6−Ｃ10アリーレン、または隣位結合ジ−、テトラ−またはヘキサヒドロＣ6−Ｃ10アリーレンであり、Ｒ17はＣ1−Ｃ18アルキル、Ｃ1−Ｃ18アルコキシ、ハロゲン、Ｃ6−Ｃ10アリール、Ｃ7−Ｃ10アラールキルまたはＣ5−Ｃ8シクロアルキルであり、環Ｂは置換されていないかまたは１、２および３の位置においてＣ1−Ｃ5アルキル、カルボキシ、Ｃ2−Ｃ9アルコキシカルボニル、Ｈ2ＮＣＯ−、ＳＯ2−、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニル、ハロゲンまたは下記式
【化６】
0004410314.tif 000051
によって置換されており、上記式中、Ｒ18は上記Ｒ16の定義と同じ意味を有し、
Ｗは、−ＣＨ2−；−ＣＨ2ＣＨ2−；
【化７】
0004410314.tif 000052
−ＣＨ2−（ＣＯ）Ｏ−ＣＨ2−；−ＣＨ2−（ＣＯ）−ＣＨ2−；
−（ＣＯ）Ｏ−ＣＨ2−；及び−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−
から選ばれる有機基であり、
Ｚ1とＺ2とは互いに独立的に、（Ｚa）アンモニウムまたはアミン化合物、（Ｚb）燐酸エステル化合物、（Ｚc）カルボン酸エステル化合物、（Ｚd）ポリオール及び（Ｚe）硫酸エステル化合物の１種から誘導される親水基であり、
ｎ1とｎ2とは互いに独立的に０乃至４の数であり、ただしｎ1＝ｎ2＝０の場合は含まず、
ｐは１または２であり、
ｑは０乃至３の数であり、
ｒ1は１または２であり、
ｒ2は０または１であり、および
ｓは１乃至３の数である）。
【請求項２】
Ａ1及びＡ2が互いに独立的に、少なくとも８個の炭素原子を有するアルコキシ基、アシル基またはアルキルアミノ基である請求項１に記載のリポソーム形成ＵＶ吸収剤。
【請求項３】
Ａ1及びＡ2が互いに独立的に１０乃至１４個の炭素原子を有するアルキル基またはアルケニル基である請求項２に記載のリポソーム形成ＵＶ吸収剤。
【請求項４】
ｎ1及びｎ2が１または２である請求項１乃至３のいずれか１項に記載のリポソーム形成ＵＶ吸収剤。
【請求項５】
ｎ1及びｎ2が２である請求項４に記載のリポソーム形成ＵＶ吸収剤。
【請求項６】
Ａ1及びＡ2が同じ意味を有する請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリポソーム形成ＵＶ吸収剤。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載のリポソーム形成ＵＶ吸収剤の、ヒトの皮膚のためのサンスクリーン剤としての使用。
【発明の詳細な説明】
本発明はリポソーム形成ＵＶ吸収剤、それらの化合物の製造方法ならびに化粧品製剤のサンスクリーン剤としてのそれら化合物の使用に関する。
２８５乃至４００ｎｍの波長の紫外線が、ヒトに種々な皮膚傷害たとえば紅斑、皮膚老化の進行、光毒性または光アレルギー性反応を引き起こし、あるいは、それらの傷害を促進することは公知である。ヒトの皮膚を局所的に保護するために、紫外線のこれら有害作用を防止しうる化学物質を化粧品製剤の形で使用することが推奨されている。
さらに、紫外線防御のための化粧品製剤の形で提供されている化学的ＵＶ吸収剤自体が、皮膚への接着性または皮膚内への浸透性が不十分であることも公知である。このため、エマルジョン、ゲルまたはオイルなどのような適当な調合物を開発することによって、この欠陥を除去することが試みられてきた。かかる調合物は、外部皮膚層の上または内部にＵＶ防御物質を長時間滞留させるものでなければならない。ＵＶ吸収剤の角質層内への浸透性を高め、同時にそれら化合物の滞留時間をより延長させるための一層改良された方法は、対応するＵＶ吸収剤をリポソーム様包装体として皮膚に施すことである。このような方法は、たとえばＷＯ−９２．０５７６１およびＷＯ−９３．０２６５９号明細書に開示されている。
今回、誠に驚くべきことに、２８５乃至４００ｎｍの領域に吸収を有するＵＶ発色団を含有し、そして二分子層に自己組織しうる化合物をつくる特定の化学構造エレメントを含んでいる化合物が、高い割合で角質層内に浸透し、かつまた角質層内において極めて洗浄安定な態様で挙動することが発見された。
すなわち、本発明は、下記式の１つの親水性先端基（＝Ｚ）、１つのスペーサー（＝Ｗ）、２８５乃至４００ｎｍの領域に吸収を有する１つのＵＶ発色団（Ｑ）および少なくとも１つの疎水性末端基（＝Ａ）を含有する下記式のリポソーム形成ＵＶ吸収剤を提供する。
0004410314.tif 000002
式中、
Ａ1とＡ2とは互いに独立的に疎水基であり、
ＱはＵＶ発色団であり、
Ｗは有機残基であり、
Ｚ1とＺ2とは互いに独立的に親水基であり、
ｎ1とｎ2とは互いに独立的に０乃至４の数、ただしｎ1＝ｎ2＝０の場合は含まない、
ｐは１または２であり、
ｑは０乃至３であり、
r1は１または２であり、
r2は０または１であり、そして
s1は１乃至３の数である。
本発明による化合物は合成両親媒性化合物であり、本化合物はそれ自身を組織化できる、すなわち、水中において自発的に二次元的二分子層を形成することができる。
疎水基Ａ1およびＡ2は、その鎖が少なくとも８個炭素原子を有するアルキル基、アルコキシ基、アシル基またはアルキルアミノ基である。アルコキシ基としてのＡ1およびＡ2は、８個乃至２２個の炭素原子を原子を有する不飽和または好ましくは飽和の脂肪族モノアルコールの残基であるのが適当である。この炭化水素残基は直鎖状または分枝状数であり得、直鎖状であるのが好ましい。好ましくはＡ1およびＡ2は１０乃至１４個の炭素原子を有するアルキル基またはアルケニル基である。
適当な脂肪族飽和モノアルコールは、天然アルコールたとえばラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコールまたはステアリルアルコール、あるいは合成アルコールたとえばデシルアルコール、Ｃ10-Ｃ13オキソアルコール、トリデシルアルコール、イソトリデシルアルコール、あるいは１０個乃至２２個の炭素原子を有する直鎖状第一アルコール（Alfol類）でありうる。かかるAlfol類の代表例はAlfol（10-14）、Alfol（12-13）またはAlfol（16-18）である。（”Alfol”は登録商標）。
不飽和脂肪族モノアルコールの例は、ドデセニルアルコール、ヘキサデセニルアルコールまたはオレイルアルコールである。
これらのアルコール残基は、単独または混合物の形で存在しうる。混合物の例は大豆脂肪酸、パーム核脂肪酸、獣脂から誘導された２つまたはそれ以上の成分から誘導されたアルキル基および／またはアルケニル基の混合物である。アルコール残基は単独であるのが好ましい。
残基Ａ1およびＡ2がアルキルアミノ基である場合、これは第一または好ましくは第二Ｃ12−Ｃ22脂肪アミンから誘導される。これらのアミンは、対応する脂肪酸からの脱水とそれに続く脱水素とによって得ることかできる。アルキルアミノ基としてのＡ1およびＡ2は、ジ−Ｃ12−Ｃ18アルキルアミノ基であるのが好ましい。
適当なアシル基は、好ましくはＣ8−Ｃ22アルキルカルボニルである；たとえばオクチル−、デシル−、ドデシル−、トリデシル−、ヘキサデシル−またはオクタデシルカルボニルである。
適当なリポソーム形成ＵＶ吸収剤は、好ましくは、ｎ1とｎ2とが１または２、好ましくは２であり、そしてＡ1とＡ2とが同じ意味を有する式（１）の化合物である。
ＵＶ発色団Ｑは、それ自体公知のＵＶ吸収剤から誘導される。本発明にかかる好ましいリポソーム形成ＵＶ吸収剤は、下記のクラスからの構造エレメントを有する化合物であるのが好ましい
（Ｑ1）ケイ皮酸エステル、
（Ｑ2）トリアジン誘導体、
（Ｑ3）ベンゾトリアゾール、
（Ｑ4）ベンゾフェノン、
（Ｑ5）ｐ−アミノ安息香酸誘導体、
（Ｑ6）ベンジリデンカンファー。
ケイ皮酸エステルＱは、下記式の化合物である。
0004410314.tif 000003
式中、
R’は水素、Ｃ1-Ｃ4アルキルまたはＣ1-Ｃ4アルコキシであり、
R1はＣ1-Ｃ4アルコキシ、好ましくはメトキシまたはエトキシであり、
R2はＣ1-Ｃ4アルキルまたは-ＣＮである。
式（２）の化合物の例は、ケイ皮酸メチルエステルまたはケイ皮酸エチルエステルである。
トリアジン誘導体Ｑ2は、たとえば下記式のヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンである。
0004410314.tif 000004
式中、
R3とR4とは互いに独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、ヒドロキシル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、Ｃ1-Ｃ5アルキルチオ、アミノまたはＣ1-Ｃ5モノ−またはジ−アルキルアミノによって置換されたＣ1-Ｃ18アルキル、置換されていないフェニル、または塩素、ヒドロキシル、Ｃ1-Ｃ18アルキルおよび／またはＣ1-Ｃ18アルコキシによって置換されたフェニルであり；
R5はＣ1-Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシル、式
（３ａ）  −（Ｏ−ＣＨ2-ＣＨ2-）t−Ｒ6の基または下記式（３ｂ）の基であり、
0004410314.tif 000005
R7はＣ1-Ｃ5アルキルまたはＣ1-Ｃ5アルコキシ−Ｃ1-Ｃ5アルキルであり、
Ｖ1はＣ1-Ｃ4アルキレン基であり、
ｍ1は０、１または２であり、
ｔは１乃至５であり、
R6は水素またはＣ1-Ｃ5アルキルである。
R1乃至R6の置換基がアルキル基である場合には、それは直鎖状または分枝状でありうる。かかるアルキル基の例はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オルチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、イソノニル、ｎ−ドデシル、ヘプタデシル、またはオクタデシルである。
Ｃ1-Ｃ18アルコキシまたはＣ1-Ｃ5アルキルチオの例はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ｎ−ノニルオキシ、イソノニルオキシ、デシルオキシ、ｎ−ドデシルオキシ、ヘプタデシルオキシまたはオクタデシルオキシ、またはメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオまたはｔｅｒｔ−ペンチルチオなどである。
モノアルキルアミノの例はモノメチルアミノ、モノエチルアミノ、モノプロピルアミノ、モノイソプロピルアミノ、モノブチルアミノ、モノペンチルアミノである。ジアルキルアミノの例はジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノなどがあげられる。
ハロゲンは、たとえばフッ素、臭素または好ましくは塩素である。
重要なｓ−トリアジン化合物は下記式のものである。
0004410314.tif 000006
式中、
R8とR9とは互いに独立的に置換されていないか、またはＣ1-Ｃ5アルキルおよび／またはＣ1-Ｃ5アルコキシによって置換されたフェニルであり、
R10は水素またはＣ1-Ｃ5アルキルである。
さらに興味あるトリアジン化合物は下記式のものである。
0004410314.tif 000007
式中、
R11は水素、ヒドロキシル、Ｃ1-Ｃ15アルキル、Ｃ1-Ｃ15アルコキシまたは式（３ｂ）の残基であり、
R12とR13とは互いに独立的に水素またはＣ1-Ｃ15アルコキシである。
さらに好ましい式（２）のヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンは、式中のR11、R12およびR13が互いに独立的にＣ5-Ｃ15アルコキシであるもの、または式中のR11が式（３ｂ）の残基であり、そして
R12とR13とがＣ5-Ｃ15アルコキシ
であるものである。
式（３）、（４）および（５）の適当な化合物の例を以下に列挙する：
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−４、６−ジメチル−ｓ−トリアジン、融点＝１３１℃，
２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメチルフェニル）−４、６−ジメチル−ｓ−トリアジン、融点＝１７７℃，
２−（２’−ヒドロキシ−４’，５’−ジメチルフェニル）−４、６−ジメチル−ｓ−トリアジン、λ＝３４９ｎｍ，Ｔ＝４８％，
２−（２’−ヒドロキシ−４’，５’−ジメチルフェニル）−４、６−ジエチル−ｓ−トリアジン、融点＝９８℃，
２−（２’−ヒドロキシ−５’−クロロフェニル）−４、６−ジエチル−ｓ−トリアジン、融点＝１６０℃，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジメチル−ｓ−トリアジン、融点＝１３３℃，
２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４、６−ジメチル−ｓ−トリアジン、λ＝３５２ｎｍ，Ｔ＝６０％，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジデシル−ｓ−トリアジン、融点＝５３℃，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジノニル−ｓ−トリアジン、融点＝４５℃，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジヘプタデシル−ｓ−トリアジン、λ＝３３８ｎｍ，Ｔ＝８０％，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジプロピル−ｓ−トリアジン、融点＝１８乃至２０℃，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（β−メチルメルカプトエチル）−ｓ−トリアジン、λ＝３４１ｎｍ，Ｔ＝６０％，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（β−ジメチルアミノエチル）−ｓ−トリアジン、λ＝３４０ｎｍ，Ｔ＝６３％，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（β−ブチルアミノエチル）−ｓ−トリアジン、λ＝３４１ｎｍ，Ｔ＝６６％，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｓ−トリアジン、λ＝３３８，．Ｔ＝６８％，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジオクチル−ｓ−トリアジン、融点＝４０℃，
２−（２’−ヒドロキシ−４’−メトキシフェニル）−４、６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、融点＝２０４乃至２０５℃，
２−（２’−ヒドロキシ−４’−エトキシフェニル）−４、６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、融点＝２０１乃至２０２℃，
２−（２’−ヒドロキシ−４’−イソプロピル）−４、６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、融点＝１８１乃至１８２℃，
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、４’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−メチルフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、３’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−クロロフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、４’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４、６−ビス（３−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−［２−エチルヘキルオキシ］）−４，６−ビス（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、４’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−メチルフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、３’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−クロロフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、４’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４、６−ビス（３−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−［２−エチルヘキルオキシ］）−４，６−ビス（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−（２−プロポキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−２−（２−メトキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２−メトキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−（２−メトキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−（２−エトキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−［２−（２−エトキシエトキシ）エトキシ］−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２−エトキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−［２−（２−エトキシエトキシ）エトキシ］−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２−エトキシ−２−メチルエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２−エトキシメトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−オクチルオキシ−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−｛２−［２−（２−エトキシ）エトキシ］エトキシ｝エトキシトリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−｛２−［２−（２−エトキシ）エトキシ］エトキシ｝エトキシ−１、３、５−トリアジン、および
４、５−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−ブトキシ−１、３、５−トリアジン。
（Ｔ＝１cmの層厚におけるクロロホルムの１００ml中の物質１mgの溶液のパーセント透過率；λ［ｎｍ］は最大吸光率）。
式（３）、（４）および（５）の化合物は公知であり、そしてそれ自体公知の方法によって製造することができる。たとえば、アミジンとｏ−ヒドロキシベンゼンカルボン酸エステルとを、好ましくはほぼ２：１のモル比で、沸騰有機溶剤中において、加熱することによって製造することができる［米国特許第３８９６１２５号およびHelv.Chim.Acta 55,1566-1595（1972）参照］。
さらに、下記式のトリアジンＵＶ吸収剤の構造エレメントを（Ｑ2）として使用することができる。
0004410314.tif 000008
式中、R14とR15とは互いに独立的に水素、ヒドロキシル、Ｃ1-Ｃ5アルキルまたはＣ1-Ｃ5アルコキシである。
ベンゾトリアゾールＱ3は下記式の化合物である。
0004410314.tif 000009
式中、
R16とR18とは互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ18アルキルまたはＣ1-Ｃ8-アルコキシ（置換されていないか、またはフェニルによって置換されている）、ハロゲンまたは下記式の基
0004410314.tif 000010
（式中、
R19は水素、Ｃ1-Ｃ10アルキル、Ｃ5-Ｃ8シクロアルキル、Ｃ7-Ｃ10アラールキルまたはＣ6-Ｃ10アリールであり、
R20は水素、Ｃ1-Ｃ20アルキル、Ｃ2-Ｃ17アルケニル、Ｃ5-Ｃ8シクロアルキル、Ｃ7-Ｃ10アラールキルまたはＣ6-Ｃ10アリールであり、
t2は１または２であり、t2＝１の場合には、
R19とR20とは架橋メンバー
0004410314.tif 000011
と一緒で単環または多環の窒素含有複素環を形成することができ、そしてこの場合R19は−ＣＯ−、または置換されていないか、またはＣ1-Ｃ5アルキルによって置換されたメチレンであり、
R20はＣ2-Ｃ5アルキレン、Ｃ2-Ｃ5アルケニレン、Ｃ6-Ｃ10アリーレン、または隣位結合ジ−、テトラ−またはヘキサ−ヒドロＣ6-Ｃ10アリーレンである）、
R17はＣ1-Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキシ、ハロゲン、Ｃ6-Ｃ10アリール、Ｃ7-Ｃ10アラールキルまたはＣ5-Ｃ8シクロアルキルである、そして
環Ｂは、場合によっては、１、２および３の位置においてＣ1-Ｃ5アルキル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、カルボキシル、Ｃ2-Ｃ9アルコキシカルボニル、Ｈ2ＮＣＯ-、ＳＯ2-、Ｃ1-Ｃ5アルキルスルホニル、ハロゲンまたは式
0004410314.tif 000012
の基によって置換されることができる。
R19が意味するＣ1-Ｃ10アルキルおよびR20が意味するＣ1-Ｃ20アルキルは、直鎖状または分枝状でありうる、たとえばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、イソノニル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、ヘプタデシル、オクタデシルまたはエイコシルである。
R19とR20とがＣ6-Ｃ10アリールである場合には、それは単環または二環の芳香族残基、たとえばフェニルまたはナフチルでありうる。
R19およびR20が意味するＣ7-Ｃ10アラールキルの例はベンジル、フェネチル、α−メチルフェネチルまたはα、α−ジメチルベンジルである。
R19およびR20がＣ5-Ｃ8シクロアルキルである場合には、それはシクロペンチル、シクロヘプチル、シクロオクチルまたは好ましくはシクロヘキシルである。
R20が意味するＣ2-Ｃ17アルケニル基の例はビニル、アリル、１−プロペニル、２−ブテニル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル、２−デセニル、３、６、８−デカトリエニルまたは２−ヘプタデセニルである。
好ましいベンゾトリアゾール化合物は下記式の化合物である。
0004410314.tif 000013
式中、
R21はＣ1-Ｃ18アルキルまたは好ましくは水素であり、そして
R22は置換されていないか、またはフェニルによって置換されたＣ1-Ｃ18アルキルである。
式（７）および（８）のベンゾトリアゾール化合物の例には、下記のものがあげられる：
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−アクリロイルアミドメチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−アクリロイルアミドメチル−５’−ベンジルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシアセトアミドメチル−５’−ベンジルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび
２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール。
紫外線吸収性であることが知られている式（７）および（８）のベンゾトリアゾール化合物は、大部分がＦＲ−Ａ−１１９５３０７号または米国特許第Ａ−３６２９１９２号明細書に記載されている。
ベンゾフェノン（Ｑ4）は下記式の化合物である。
0004410314.tif 000014
式中、
R23は水素、ヒドロキシル、Ｃ1-Ｃ14アルコキシ、フェノキシまたはアミノであって、Ｃ1-Ｃ14アルコキシは式
0004410314.tif 000015
の基および／またはアシルオキシ基によって置換されることができ、
R24は水素、ハロゲンまたはＣ1-Ｃ5アルキルであり、
R25は水素、ヒドロキシルまたはＣ1-Ｃ5アルキルであり、そして
R26は水素またはヒドロキシルである。
アシルはＣ1-Ｃ5アルカノイルであり、たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、アクリロイル、メタクリオイルまたはベンゾイルである。
式（９）の化合物は、それ自体公知の方法によって、たとえば米国特許第Ａ−３４６８９３８号、米国特許第Ａ−３６９６０７７号および米国特許第Ａ−４６９８０６４号に記載されている方法によって製造することができる。
本発明によるリポソームにパラ−アミノ安息香酸誘導体として使用されるＵＶ発色団（Ｑ5）は、下記式の化合物である。
0004410314.tif 000016
式中、
R27はヒドロキシル、ハロゲン、シアノ、Ｃ1-Ｃ5アルキル、Ｃ1-Ｃ5アルコキシ、モノ−Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノまたはジ−Ｃ1-Ｃ5アルキルアミノであり、
R28は水素またはＣ1-Ｃ5アルキルであり、
R29とR30とは互いに独立的に水素またはＣ1-Ｃ5アルキルであり、そして
ｍ2は０，１または２である。
好ましくは、ＵＶ発色団（Ｑ5）としては、パラ−アミノ安息香酸またはそのメチルエステルまたはエチルエステルから誘導された構造エレメントが使用される。
適当なＵＶ発色団（Ｑ6）は、ベンジリデンカンファーである。これらは下記式の化合物である。
0004410314.tif 000017
本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤を製造する場合、適当なＵＶ発色団である（Ｑ1）−（Ｑ6）が水に難溶性化合物である場合には、それらは水性分散物として使用される。
この場合の適当な分散剤は、次のような各種化合物である。アルキレンオキシド付加物の酸エステルまたはそれらの塩、ポリスチレンスルホナート、脂肪酸タウリド、アルキル化ジフェニレンオキシドモノ−またはジ−スルホナート、ポリカルボン酸エステルのスルホナート、あるいは有機ジカルボン酸または無機多塩基酸によって酸性エステルに変換されたエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドの１乃至６０モル、好ましくは２乃至３０モルを、それぞれ８個乃至２２個の炭素原子を有する脂肪アミン、脂肪アミド、脂肪酸または脂肪アルコールに付加した付加物、または３個乃至６個の炭素原子を有する三価乃至六価のアルコールに付加した付加物、リグノスルホナートおよびホルムアルデヒド縮合生成物。分散剤およＵＶ吸収剤分散物の製造の詳細は、たとえばヨーロッパ特許第Ａ−０５２３００６号に見い出すことができる。
本発明においては、好ましくは下記のいずれかの発色団Ｑが使用される：
0004410314.tif 000018
0004410314.tif 000019
各式中、R2、R14、R16、R17およびＢは、式（２）、（６）および（７）において定義した通りである。
有機基Ｗは、原則として、少なくとも二価のアルキレン基であり、これは、場合によっては、カルボニル、カルボキシレートまたはエーテル基によって中断されることができる。特に、Ｗは２個乃至８個の炭素原子を有する分枝状または好ましくは直鎖状のアルキレン基である。好ましくは、アルキレン基は２個乃至５個の炭素原子を有する。たとえば、下記のごとき基である。
0004410314.tif 000020
適当な親水基Ｚ1およびＺ2は、好ましくは下記のものである。
（Ｚa）アンモニュウムまたはアミン化合物、
（Ｚb）リン酸エステル化合物、
（Ｚc）カルボン酸エステル化合物、
（Ｚd）ポリオール、および
（Ｚe）硫酸エステル化合物。
これらは、本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の親水性先端基を形成する。これらの構造エレメントにおいては、陽イオン（Ｚa）、陰イオン（（Ｚb）、（Ｚc），（Ｚe））および中性先端基（（Ｚa）と（Ｚd））の相違がある。
適当な陽イオンアンモニウム化合物（Ｚa）は、特に、モノ−またはジ−Ｃ1-Ｃ5アルキルアンモニウム化合物であり、これらはさらに置換基によって変性されることができる。下記の基が例としてあげられる。
0004410314.tif 000021
適当な中性アミン化合物の例は下記の基である。
0004410314.tif 000022
適当なリン酸エステル基Ｚbは、特にリン酸のモノエステルおよびジエステルから誘導される化合物である。この場合、これらのリン化合物は、通常ナトリウム塩の形で使用される。
カルボン酸エステル化合物（Ｚc）は、低級モノ−またはジ−カルボン酸から誘導され、そして同様に通常はナトリウム塩の形で使用される。
適当なポリオール（Ｚe）の例は、下記の化合物である：
0004410314.tif 000023
硫酸エステル化合物（Ｚe）は硫酸アルキルエステルから誘導され、これは、さらに場合によっては、置換されていてもよい。適当な硫酸エステル基は第一に硫酸エステルイオンＳＯ42-である。
使用される出発化合物の種類によっては、先端基（Ｚa）−（Ｚe）は有機残基Ｗと一緒に同時に−Ｗ−Ｚ1-単位または−Ｗ−Ｚ2-単位を形成することができる。
本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤は、それ自体公知の方法によって製造することができる。通常、それらは縮合、アルキル化、エステル化、加水分解等の如きそれ自体公知の反応工程を系統的に順次実施することによって製造される。反応を実施するための詳細は、有機合成のためのモノグラフ，たとえばJ.March,Advanced Organic Chemistry,2nd Edition,McGraw-Hill,New York,1977から知ることができる。
疎水基Ａの導入は、きわめて多種多様な方法で実施することができる。たとえばＵＶ発色団のフェノール性ＯＨ基のエステル化（実施例１、２、５および７参照）または酸塩化物と長鎖ジアルキルアミンとの反応（実施例４参照）によって実施することができる。親水性先端基Ｚの導入のためにも、同じく各種の反応を使用することができる。たとえば、実施例１と２（四級化）とが参照される。しかしながら、ＡとＺとは、適当な反応操作を使用すれば、同時的に、すなわち１つの反応工程で導入することもできる。たとえば、これは、脂肪アルコールを使用して適当な酸無水物を開環することによって実施される（実施例６）。
特に好ましいリポソーム形成化合物は、下記式の化合物である。
0004410314.tif 000024
式中、
Ａ1は疎水基であり、
ＱはＵＶ発色団であり、
Ｗは有機残基であり、
Ｚ1は親水基であり、
ｎ1は１乃至４の数であり、
ｐは１または２であり、
ｑは１乃至３であり、
ｒ1は１または２であり、そして
ｓ2は１乃至３である。
さらに、好ましい化合物は下記式の化合物である。
0004410314.tif 000025
式中、
Ａ2は疎水基であり、
ＱはＵＶ発色団であり、
Ｗは有機残基であり、
Ｚ1は親水基であり、
ｎ2は１または２であり、
ｐは１または２であり、
ｑは１乃至３であり、
ｒ2は１または２であり、そして
ｓは１または２である。
ＵＶ発色団としてケイ皮酸誘導体の構造エレメントを含有する本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の中で、下記式の化合物が好ましい。
0004410314.tif 000026
式中、
Ｗ1は下記式の残基であり、
0004410314.tif 000027
R29は水素、Ｃ1-Ｃ4アルキルまたは−ＣＮであり、
R30とR31とは互いに独立的にＣ1-Ｃ5アルキル、ヒドロキシル、ヒドロキシ−Ｃ1-Ｃ5アルキルまたはカルボキシルであり、
R32はＣ1-Ｃ5アルキル、ヒドロキシル、ヒドロキシ−Ｃ1-Ｃ5アルキル、カルボキシルまたは式（15a）の残基であり、
Ａ1とＡ2とは互いに独立的に水素またはＣ10−Ｃ14アルコキシであって、ここにおいて１つの基は常にＣ10-Ｃ14アルコキシであり、
Ｘはハロゲン原子であり、
ｑは２乃至４の数であり、そして
ｗは０または１である。
また、下記式の化合物も好ましい。
0004410314.tif 000028
式中、
R29は水素、Ｃ1-Ｃ4アルキルまたは−ＣＮであり、
Ｒ’は水素、Ｃ1-Ｃ4アルキルまたはＣ1-Ｃ4アルコキシであり、
Ａ1とＡ2とは互いに独立的にＣ10−Ｃ14アルコキシ基であり、
Ｗは、場合によっては−Ｏ（ＣＯ）−基によって中断されていてもよいＣ2-Ｃ4アルキレン基であり、
Ｚ1とＺ2とは互いに独立的にＣ1-Ｃ3カルボン酸の残基であり、
ｎ1とｎ2とは互いに独立的に０，１または２であり、ｎ1＝ｎ2＝０の場合を含まない、そして
ｒ2は１または２である。
ＵＶ発色団としてトリアジン残基を含有する本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の中で好ましいものは下記式の化合物である。
0004410314.tif 000029
式中、
Ａ1は下記式の残基、
0004410314.tif 000030
または下記式の残基であり、
0004410314.tif 000031
ｔ3とｔ4とは互いに独立的に５乃至１３の数である。
ＵＶ発色団としてベンジリデンカンファーを含有する本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の中で好ましいものは下記式の化合物である。
0004410314.tif 000032
式中、
Ａ1とＡ2、ＷとＺ1は式（１）において定義した通りである。
本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤は、化粧品製剤中におけるサンスクリーン剤として好適である。
したがって、本発明は、一般式（１）の化合物の少なくとも１種と化粧品に許容される付形剤または助剤とを含有する化粧品組成物にも関する。
本発明による化粧品組成物は、リポソーム形成ＵＶ吸収剤ならびに化粧品に許容される助剤を、組成物の全量を基準にして、０．１乃至１５，好ましくは０．５乃至１０重量％含有する。
本化粧品組成物は、リポソーム形成ＵＶ吸収剤と助剤とを常用の方法によって、たとえば２つの材料を混ぜ合わせることによって製造することができる。
本発明による化粧品組成物は油中水型または水中油型エマルジョンの形態、油中油アルコールローションの形態、イオンまたは非イオン両親媒性脂質の小胞分散物の形態、あるいはゲル、固形スティックあるいはエーロゾルとして製剤することができる。
油中水型または水中油型エマルジョンの形態の場合、その化粧品に許容される助剤は、好ましくは油相を５乃至５０％、乳化剤を５乃至２０％、そして水を３０乃至９０％含有する。この場合、油相は、化粧品製剤のために適当な任意の油、たとえば１種またはそれ以上の炭化水素油、ワックス、天然油、シリコーン油、脂肪酸エステルまたは脂肪アルコールを含有することができる。好ましいモノアルコールまたはポリオールはエタノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、グリセロールおよびソルビトールである。
通常使用することができる任意の乳化剤は、本発明による化粧品製剤のために使用することができる。たとえば、１種またはそれ以上の天然誘導体のエトキシル化エステルたとえば水素化ひまし油のポリエトキシル化エステル、シリコーン油乳化剤たとえばシリコーンポリオール、遊離またはエトキシル化脂肪酸セッケン、エトキシル化脂肪アルコール、遊離またはエトキシル化ソルビタンエステル、エトキシル化脂肪酸またはエトキシル化グリセリドなどが使用できる。
本化粧品製剤は、さらに皮膚柔軟化剤、エマルジョン安定剤、皮膚保湿剤、皮膚日焼け促進剤、増粘剤たとえばキサンテン、水分保持剤たとえばグリセロール、保存剤または香料および着色剤などの成分を含有することができる。
本発明による化粧品製剤は、皮膚の安全な日焼けをもたらすと同時に、日光の有害作用に対してヒトの皮膚を保護する卓越した作用によって特徴ずけられる。さらに、本発明による化粧品製剤は、それが皮膚に施用された時に、きわめて高度の洗浄耐性を示す。
新規化合物の製造例
実施例１：ビス｛２−［３−（４−ドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝ジメチルアンモニウムメチルサルフェートまたはヨージド
0004410314.tif 000033
４−ドデシルオキシケイ皮酸の製造は、一般に公知の方法によって、４−アルコキシベンズアルデヒドをマロン酸と縮合するか、またはクマリン酸をドデシルブロマイドと反応させことによって実施される。得られる無色結晶は、１５８乃至１５９℃の融点を有する。対応する酸塩化物は、ベンゼン中において塩化オキサリルと反応（室温で１８時間）させることによってほとんど定量的に得られる。
４−ドデシルオキシシンナモイルクロライドの２８．１ｇを、撹拌しながらかつ室温に冷却しながら、まず１５０mlのクロロホルムに導入し、最初にトリエチルアミンの４．１ｇ（０．０４モル）で処理し、次にＮ−メチルジエタノールアミンの５．０ｇ（０．０４モル）で処理する。この混合物を、さらに約４時間撹拌し、そして１０Ｃに冷却する。この反応溶液を、前もってＮＨ3で飽和させたクロロホルムの２５０mlに滴下添加して塩基を遊離させる。この懸濁物を、Hyflo（商標）に２回通して濾過し、そして蒸発乾固する。得られた粗製アミンは、カラム・クロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／エタノール９５：５）によって精製することができる。収量は理論値の５３％である。
四級化のため、このアミンを最初にトルエン中に導入し、そして４０℃において、当モル量の硫酸ジメチル（＝１０１ａ）またはヨウ化メチル（＝１０１ｂ）と反応させる。３時間後、薄層クロマトグラフィーは出発物質が存在しないことを示す。この混合物を真空中において濃縮乾燥し、そしてアセトンで処理して生成物を結晶化させる。この無色結晶をアセトンで、次にヘキサンで洗い、４０℃において乾燥する。この四級化はほとんど定量的に進行する。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３１３ｎｍ
εmax＝５３，５００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例２：｛２-［３−（３，４−ビス−ドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝-（２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウムブロマイド
0004410314.tif 000034
３，４−ビス−ドデシルオキシケイ皮酸および対応する酸塩化物の製造を、実施例１に記載された方法に準じて実施する。アミン塩基のエステル化および遊離のために、２−ジメチルアミノエタノールとの反応を実施例１と同様に実施する。
２−ブロモエタノールによる四級化は、トルエン中において１００℃で１２時間かけて実施する。粗生成物はアセトンで洗滌し、次にカラム・クロマトグラフィーにかけることによって、さらに精製することができる。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３２８ｎｍ
εmax＝１９，５００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例３：｛２-［３−（３，４−ビス−ドデシルオキシフェニル）アクリロイルアミノ］エチル｝-（２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウムブロマイド
この化合物の合成は、実施例２に記載した方法に従って実施された。エステル化の代わりに、２−ジメチルアミノエチルアミンとの反応を行い、アミドを得た。この生成物は、アセトンと共に摩砕し、そしてメタノールから再結晶することによって精製することができる。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３２１ｎｍ
εmax＝１９，５００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例４：２、４−ビス［（４−カルボキシル）アニリノ］−６−ジオクタデシルアミノ−ｓ−トリアジン（ナトリウム塩）
0004410314.tif 000035
最初に、塩化シアヌールの１８．５ｇ（０．１モル）を、０〜５℃において、ジオキサン／水（９：１）混合物の２５０ml中に導入する。撹拌しながら４−アミノ安息香酸エチルの１６．５ｇ（０．１モル）を導入し、そして放置する。温度が１５Ｃまで上昇し、pHが０．５まで低下する。この白色懸濁物を、３０％のＮａＯＨを使用してpH８．０乃至８．５に調整し、そしてさらに１当量のアミンで処理する。ジオキサン／水の２５０mlで希釈し、ＮａＯＨを自動供給してpHを８．５に保持しながら９０℃に加熱する。４時間後、固体を吸引濾過し、ジオキサン、水およびメタノールで洗う。この粗製中間物をエチルセロソルブから再結晶して精製する（収量：２５．７ｇ，理論値の５８％；融点は２６４℃）。
この中間物６．６３ｇ（０．０１５モル）と４−ジメチルアミノピリジンの１．８３ｇ（０．０１５モル）とを、最初にＤＭＦの７０ml中に導入し、そして６０Ｃにおいてクロロホルムの３０ml中に溶解したジオクタデシルアミンの８．３ｇで処理する。この混合物を１００℃において３時間撹拌し、そして熱溶液を濾過し、そして蒸発乾固する。残留物をトルエン／酢酸エチル（８０：２０）５０mlで抽出し、そしてカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）で精製する（収量：４．５ｇ；理論値の３３％；無色ワックス様エステル）。
加水分解のため、まず、このエチルエステルをエタノール／ＮａＯＨ混合物中に導入し、そして２時間還流加熱する。ゼラチン様沈殿を濾別し、アセトンで洗滌する。加水分解は、ほとんど定量的に遂行される。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３０１ｎｍ
εmax＝６０，０００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例５：モノ｛３−［３−（３，４−ドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピル｝２，３−ジアセトキシスクシナート
0004410314.tif 000036
３，４−ビス−ドデシルオキシケイ皮酸および対応する酸塩化物の製造を、実施例１に記載の方法に準じて実施する。これから、Watanabe等（J.Med.Chem.1980,23,50-59）の方法に従って、イソプロピリデングリセロールによるエステル化と、それに続くホウ酸による保護基の脱離によって、モノグリセリドがほぼ定量的収量で得られる。
モノグリセリドの５．９１ｇ（０．０１モル）と無水ジアセチル酒石酸２．１６ｇ（０，０１モル）との混合物を、保護ガスの雰囲気下において、２時間１２０℃に加熱する。ガラス様粗生成物は、カラム・クロマトグラフィー（シリカゲル；トルエン／アセトン８：２）で精製することができる。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３２８ｎｍ
λmax＝１７，４００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例６：１−ドデシル２−［３−（４−ドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］スクシナート
0004410314.tif 000037
４−ドデシルオキシシンナモイル塩化物の製造を、実施例１に記載のようにして実施する。
最初に酸塩化物３０．９ｇ（０．０８８モル）をＤＬ−リンゴ酸の５．３６ｇ（０．０４モル）と一緒に、クロロベンゼンの１００ml中に導入し、そして不活性ガス雰囲気下において１３０Ｃに加熱する。２時間撹拌した後、ＨＣlの発生が完了する。ついで、クロロベンゼンの１０ml中に溶解した１−ドデカノールの７．７ｇ（０，０４モル）を滴下添加し、そしてこの混合物をさらに３時間還流加熱する。冷却後、沈殿を吸引濾別し、トルエンとヘキサンとで洗い、８０℃において真空乾燥する。粗生成物はカラム・クロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／アセトン８０：２０）によって精製することができる。収量は１５．２ｇ（理論値の６２％）。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３１１ｎｍ
εmax＝２７，３００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例７：ビス｛２−［３−（４−ドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝アミノ酢酸
0004410314.tif 000038
４−ドデシルオキシシンナモイル塩化物（製造方法は実施例１参照）２６．７ｇ（０．０７５モル）とＮ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）グリシンの４．９ｇ（０．０３モル）とをよく混合し、そして不活性ガス雰囲気下において、ゆっくりと１３０乃至１４０℃に加熱する。８０℃以上において、反応物は撹拌可能になり、ＨＣｌの発生が起こる。４時間後に反応は完了する。冷却後、アセトン／水（９５：５）１００mlを添加し、そしてこの混合物を２時間還流加熱する。蒸発乾固し、カラム・クロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／アセトン８０：２０）で精製する。強度に吸湿性のこの生成物の収量は３．１ｇ（理論値の１３％）である。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３１３ｎｍ
εmax＝２９，３００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例８：１−｛２−［３−（４−メトキシフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝２−ドデセ−２−エニルスクシナート（トリエタノールアミン塩）
0004410314.tif 000039
２−ヒドロキシエチル４−メトキシシンナメートを文献から公知の方法（エステル化）によって製造する。
２−ヒドロキシエチル４−メトキシシンナメートの９．０ｇ（０．０４モル）と無水２−ドデセニルコハク酸１０．６ｇ（０．０４モル）とをトルエンの５０ml中に溶解し、そして１００乃至１１０℃において撹拌する。６時間後、薄層クロマトグラフィーの結果は、ほとんど定量的な転化を示す。この混合物を５５乃至６０℃に冷却し、そしてトリエタノールアミンの５．３５ｇ（０，０３６モル）で処理する。これをさらに６時間撹拌し、そして溶剤を真空中で除去する。わずかに着色した粘性の高い生成物２４．９ｇ（理論値の９７．７％）を得る。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３１２ｎｍ
εmax＝２６，４００Ｍ-1ｃｍ-1
実施例９：１−｛［１−ヒドロキシ−２−（２−ベンゾトリアゾリル）−６−ｔ−ブチル−４−（４−ヒドロキシブチル）］フェニル｝２−ドデセ−２−エニルスクシナート
0004410314.tif 000040
２−ベンゾトリアゾール−２−イル−６−ｔ−ブチル−４−（４−ヒドロキシブチル）フェノールを文献から公知の方法で製造する。
２−ベンゾトリアゾール−２−イル−６−ｔ−ブチル−４−（４−ヒドロキシブチル）フェノールの８．５ｇ（０．０２５モル）と無水２−ドデセニルコハク酸６．９ｇ（０．０２５モル）とをトルエンの１００ml中に溶解し、そして窒素雰囲気下において１００乃至１１０℃で撹拌する。１８時間後、薄層クロマトグラフィーの結果は、ほとんど定量的な転化を示す。溶剤を真空中で除去し、そして残留物をカラム・クロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝９：１；シリカゲル４０ｘ５ｃｍ）で精製する。わずかに着色したきわめて粘性の生成物５．４ｇ（理論値の３６％）を得る。
ＵＶスペクトル（１０-5Ｍ；エタノール）；λmax＝３４０ｎｍ
εmax＝１４，５００Ｍ-1ｃｍ-1
使用実施例
実施例１０
ａ．リポソームの製造
式（１０１ａ）の化合物（製造法は実施例１参照）１乃至５ｇを、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の１００ml中に溶解する。次に、この溶液をＮａＣlの０．９％水溶液９００mlへ滴下によって添加するか、または注射器を使用して注射して、リポソームが形成される。得られたリポソーム懸濁物の体積を、透析濾過装置（Ultrasette,Skan AG,Basle）を使用して５０乃至１００mlに濃縮する。これによってリポソームは１乃至１０％に濃縮される。ついで同じく透析濾過装置を使用して、溶剤を交換する。すなわち、さらに濾過を行いながら同時に除去濾液の体積を純ＮａＣlの０．９％溶液で置き替える。溶剤交換のためには、濃縮されたリポソーム懸濁物を基準にして、少なくとも５倍の体積の純ＮａＣlの０．９％溶液を使用する。初期のＮＭＰ濃度が１０％であるとすると、この時にＮＭＰは多くとも０．０７％がまだ懸濁物中に残存している。ＮＭＰの残留濃度は、交換のために使用されるＮａＣlの０．９％溶液の体積を増加させることによって、所望のごとく減少させることができる。
別の方法として、リポソームは次のようにして製造することもできる、すなわち、最初に式（１０１ａ）の化合物１乃至５ｇを溶剤（ＮＭＰ、エタノールまたはジエチルエーテル）１００ml中に溶解する。次に、この溶液を丸底フラスコに入れて加熱し、そして溶剤を回転蒸発器にかけて真空蒸発させる。フラスコ内の壁上に形成された膜にＮａＣlの０．９％溶液５０乃至１００mlを加え、振とうする。次に、このようにして形成されたリポソームを、超音波ロッド（Branson Model 250 Sonifier,Skan AG、Basle）を使用して１０乃至６０分間超音波処理する。この処理によりリポソームのサイズが小さくなる。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径は、光子相関分光分析（ALV/Monomode Fibre Compact Gonio-meter System,ALV-Laser GmbH,Langen）を使用して測定する。この測定を行うために、リポソーム懸濁物を０．０２乃至０．１％に希釈し、そして散乱光の変動の自動相関関数を、４つの散乱角（３０、６０、９０および１２０）において測定する。ＣＯＮＴＩＮソフトウェアを使用して、これから平均拡散係数を求め、角度依存性の場合には、散乱角０に外挿する。リポソームの直径は、得られた散乱係数からStokes-Einstein関係式を使用して得られる。注射方式を使用して製造された式（１０１ａ）の化合物のリポソームの場合、下記の値が得られた：
ｄ＝（２２０  ４０）ｎｍ。
これはリポソームが存在している証拠となる。ａ項で記載した第二のリポソーム製造法の場合には、直径は、音波処理時間を変えることによって、１０００乃至２００ｎｍの範囲で調整できる。
ｃ．直接性および耐水性の試験
直接性および耐水性を試験するため、ブタの耳から採取した角質層を、試験管内のモデルとして使用した。ブタの耳は、角質層調製の当日に屠殺場から取得した。耳を洗って剃毛した後、３ｘ３ｃｍサイズの複数の部片に切断した。角質層を剥離する直前に、それら切断片を６０℃のダブル蒸留水の中に１．５分間入れて置いた。このあと、角質層を剥離し、そして使用するまでペニシリン／ストレプトマイシン溶液（ダブル蒸留水中１％）中において保存した。
このあと、直接性および耐水性をの拡散セルを使用して試験した。最初に、ＵＶ吸収剤溶液を、セルの下側コンパートメントに加え、上側コンパートメントにはＮａＣlの０．９％溶液（リン酸塩緩衝液でpH７．４に調整）を加えた。１つの角質層部片を、２つのコンパートメントの間に、外側を下に向けＵＶ吸収剤分子が皮膚内に拡散または皮膚に吸収されうるように置いた。試験中、拡散セルは３２℃に温度調節され、そしてセルの中のＵＶ吸収剤溶液を撹拌した。吸収状態は、各６０分ごとに角質層をＵＶ分光分析によって調べることにより、５時間モニターされた。直接性の評価のためのきわめて重要なパラメーターは、皮膚内のＵＶ吸収剤分子の濃度であり、これが５時間後に決定された。このあと、ＵＶ吸収剤溶液をセルの下側コンパートメントから排除し、そしてＮａＣlの０．９％溶液（リン酸塩緩衝液でpH６．０に調整）で置き換えた。このあと、さらに１７時間、同じ方法で（ただしインターバル時間を長くして）吸収物質の脱離の状態を測定した。耐水性の評価のための重要なパラメーターは、１方では、１７時間後に皮膚にいぜん残留しているＵＶ吸収剤分子の濃度であり、そして、他方では、脱離試験開始直前の最高濃度に対する、その残留値の比である。
表１に記載した試験結果は、５時間吸収させた後における式（１０１ａ）の化合物の皮膚内濃度が非常に高かかったことを示している。
0004410314.tif 000041
表１の結果から、さらに式（１０１ａ）の化合物が極めて高い耐水性を有していることもわかる。すなわち、水溶液（ＮＡＣlの０．９％溶液、リン酸塩緩衝液でpH６．０に調整）で１７時間処理した後においても、この物質はまだ皮膚内に７９％残留している。
ｄ．スペクトル特性
式（１０１ａ）の化合物の最大吸収は３１０ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は、下記の数値を示す：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝６１２。
吸収帯の半値幅は５８ｎｍである。
ｅ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクター（ＳＰＦ）は、DiffeyとRobsonとの方法（J.Soc.Cosmet.Chem.40（1989）127）によって測定した。すなわち、Tranpore（商標）テープ（３Ｍ）に、ｃｍ2あたり２μｌの製剤を塗布する。このあと、拡散透過（積分球を使用して測定）を２９０乃至４００ｎｍのスペクトル領域において、塗布していないTranspore（商標）テープを対照として測定する。サン・プロテクション・ファクターの計算のために、皮膚の敏感度スペクトルと日光の濃度スペクトルとを使用してウエイトをかける。各ケースについて、測定は９回実施し、得られたサン・プロテクション・ファクターの最高値と最低値とは捨て、７つの測定値を用いて最終的な平均をとる。しかして、式（１０１ａ）の化合物の５％リポソーム懸濁物の場合、下記の値を得た：
ＳＰＦ＝８．６    １．７。
実施例１１
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０１ｂ）の化合物を使用し、そして注射のために溶剤としてＮＭＰに代えて６５℃に加熱したエタノールを使用した。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例１０ｂに記載した方法によって測定した。式（１０１ｂ）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（１９０  ３０）ｎｍ。
ｃ．直接性および耐水性の試験
直接性および耐水性を実施例１０ｃに記載した方法に準じて試験した。表２は式（１０１ｂ）の化合物のリポソームについての試験結果を示す。この場合も、式（１０１ａ）の化合物について実施例１０ｃに記載した結果と同様の結果が見られる。すなわち、本リポソーム形成物質は直接性および耐水性に関して優秀な挙動を示す。
0004410314.tif 000042
ｄ．スペクトル特性
式（１０１ｂ）の化合物の最大吸収は３１０ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は、下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝６０１。
吸収帯の半値幅は５８ｎｍである。
ｅ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクター（ＳＰＦ）を、式（１０１ａ）について実施例１１ｂに記載した方法に準じて測定した。式（１０１ｂ）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝８．３    １．６。
実施例１２
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）を化合物の代りに式（１０２ａ）の化合物（この化合物の製造方法は実施例２参照）を使用した。注射のために使用した溶剤は、エタノールまたはＮＭＰである。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例１０ｂに記載した方法によって測定した。式（１０２ａ）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（２５０  ４０）ｎｍ。
ｃ．直接性および耐水性の試験
直接性および耐水性を実施例１０ｃに記載した方法に準じて試験した。表３は式（１０２ａ）の化合物のリポソームについての試験結果を示す。
0004410314.tif 000043
この場合もまた、直接性および耐水性について、本発明によるリポソーム形成物質の優秀な挙動が見られる。
ｄ．スペクトル特性
式（１０２ａ）の化合物の最大吸収は３２８ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は、下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２７３。
吸収帯の半値幅は７１ｎｍである。
ｅ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクター（ＳＰＦ）を、実施例１０ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０２ａ）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝３．０    ０．３。
実施例１３
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０２ｂ）の化合物を使用した。注射のために使用した溶剤は、エタノールまたはＮＭＰであった。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例１０ｂに記載した方法によって測定した。式（１０２ｂ）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（１５０  ２５）ｎｍ。
ｃ．直接性および耐水性の試験
直接性および耐水性を実施例１０ｃに記載した方法に準じて試験した。表４は式（１０２ｂ）の化合物のリポソームについての試験結果を示す。
0004410314.tif 000044
実施例１０ｃの結果と同様な結果が見られる。
ｄ．スペクトル特性
式（１０２ｂ）の化合物の最大吸収は３２８ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は、下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２７４。
吸収帯の半値幅は６９ｎｍである。
ｅ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクター（ＳＰＦ）を、実施例１１ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０２ｂ）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝３．０    ０．３。
実施例１４
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０４）の化合物（この化合物の製造方法は実施例４参照）を使用した。注射のために使用した溶剤は、エタノールまたはＮＭＰである。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を実施例１０ｂに記載した方法によって測定した。式（１０４）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（１２０  １５）ｎｍ。
ｃ．スペクトル特性
式（１０４）の化合物の最大吸収は３０３ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は、下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝６５４。
吸収帯の半値幅は３９ｎｍである。
ｄ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクター（ＳＰＦ）を、実施例１１ｂに記載した方法に準じて測定した。式（１０４）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝５．０    ０．５。
実施例１５
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０５）の化合物（この化合物の製造方法は実施例５参照）を使用した。注射のために使用した溶剤は、エタノールまたはＮＭＰである。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例１０ｂに記載した方法によって測定した。式（１０５）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（１５０  ２５）ｎｍ。
ｃ．スペクトル特性
式（１０５）の化合物の最大吸収は３２８ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２１５。
吸収帯の半値幅は６８ｎｍである。
ｄ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクターを、実施例１０ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０５）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝２．３    ０．３。
実施例１６
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０６）の化合物（この化合物の製造方法は実施例６参照）を使用した。注射のために使用した溶剤は、エタノールまたはＮＭＰである。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例９ａに記載した方法によって測定した。式（１０６）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（１８０  ３０）ｎｍ。
ｃ．直接性および耐水性の試験
直接性および耐水性を実施例１０ｃに記載したように試験した。表５は式（１０６）の化合物のリポソームについての試験結果を示す。
0004410314.tif 000045
この場合もまた、直接性および耐水性について、本発明によるリポソーム形成物質の優秀な挙動が見られる。
ｄ．スペクトル特性
式（１０６）の化合物の最大吸収は３１２ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝４５１。
吸収帯の半値幅は５０ｎｍである。
ｅ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクターを、実施例１０ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０６）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝５．６    ０．７。
実施例１７
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０７）の化合物（この化合物の製造方法は実施例７参照）を使用した。注射のために使用した溶剤は、エタノールまたはＮＭＰである。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例１０ｂに記載した方法によって測定した。式（１０７）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（９８０  １３０）ｎｍ。
ｃ．スペクトル特性
式（１０７）の化合物の最大吸収は３１３ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝３４７。
吸収帯の半値幅は５２ｎｍである。
ｄ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクターを、実施例１０ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０７）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝３．８    ０．４。
実施例１８
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０８）の化合物（この化合物の製造方法は実施例８参照）を使用した。注射のために使用した溶剤はエタノールまたはＮＭＰである。
ｂ．リポソームの直径の測定
リポソームの直径を、実施例１０ｂに記載した方法によって
測定した。式（１０８）の化合物のリポソームについて、下記の値を得た：
ｄ＝（１７０  ３０）ｎｍ。
ｃ．スペクトル特性
式（１０８）の化合物の最大吸収は３１０ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝４１８。
吸収帯の半値幅は５３ｎｍである。
ｄ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクターを、実施例１０ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０８）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝４．８    ０．５。
実施例１９
ａ．リポソームの製造
リポソームを、実施例１０ａに記載したようにして製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１０９）の化合物（この化合物の製造方法は実施例９参照）を使用した。注射のために使用した溶剤はＮＭＰである。
ｂ．スペクトル特性
式（１０９）の化合物の最大吸収は３３９ｎｍの波長に位置している。この波長において、１ｃｍの光学的層厚での１％溶液の吸収は下記の値を示した：
Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２３７。
ｃ．サン・プロテクション・ファクターの測定
サン・プロテクション・ファクターを、実施例１０ｄに記載した方法に準じて測定した。式（１０８）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た：
ＳＰＦ＝５．５。