(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子加速器を第１の放射線遮蔽体により被覆した自己シールド型粒子加速器と、
前記自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられており、第２の放射線遮蔽体により被覆され、前記粒子加速器で製造された放射性同位元素を用いて放射性薬剤を合成する合成装置と、
前記第１の放射線遮蔽体と前記第２の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で該第１の放射線遮蔽体内と該第２の放射線遮蔽体内とを接続し、前記粒子加速器から前記合成装置へ放射性同位元素を移送する原料移送管と、
を備えることを特徴とする放射性薬剤製造システム。
【請求項２】
前記自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられており、第３の放射線遮蔽体により被覆され、前記合成装置で生じた廃ガスを貯留する廃ガス貯留装置と、
前記合成装置から前記廃ガス貯留装置へと廃ガスを移送する廃ガス移送管と、を備え、
前記廃ガス移送管は、前記第１の放射線遮蔽体と前記第２の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で該第１の放射線遮蔽体内と該第２の放射線遮蔽体内とを接続し、該第１の放射線遮蔽体内を通って、前記第１の放射線遮蔽体と前記第３の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で該第１の放射線遮蔽体内と該第３の放射線遮蔽体内とを接続する、ことを特徴とする請求項１に記載の放射性薬剤製造システム。
【請求項３】
前記自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられており、第３の放射線遮蔽体により被覆され、前記合成装置で生じた廃ガスを貯留する廃ガス貯留装置と、
前記合成装置から前記廃ガス貯留装置へと廃ガスを移送する廃ガス移送管と、を備え、
前記廃ガス移送管は、前記第２の放射線遮蔽体と前記第３の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で該第２の放射線遮蔽体内と該第３の放射線遮蔽体内とを接続する、ことを特徴とする請求項１に記載の放射性薬剤製造システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射性薬剤製造システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポジトロン断層撮影（ＰＥＴ；Positron Emission Tomography）に用いる放射性同位元素で標識された放射性薬剤の製造においては、サイクロトロン等の粒子加速器が使用される。粒子加速器は加速器室に設置されており、この加速器室内で、ＲＩ（Radioisotope）原料が製造される。製造されたＲＩ原料は、別途設けられた製剤室に送られ、製剤室内に設置された合成装置により、ＦＤＧやメチオニンといった放射性薬剤が合成される。
【０００３】
このように、従来の放射性薬剤製造システムでは、放射線遮蔽壁で仕切られた加速器室と製剤室とにおいて、それぞれＲＩ原料の製造と放射性薬剤の製造とが行われていた。そして、ＲＩ原料や使用ガス及び排ガスの移送には、放射線の漏洩を防ぐために、地下ピット内に敷設された配管を通して行われていた（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３５３８７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記した従来の放射性薬剤製造システムでは、地下ピットを設ける必要があったため、施工が面倒であるばかりか、このピットに放射線遮蔽能を持たせるため鉛の使用量が多くなり、製造コストが高くなっていた。
【０００５】
本発明は、上記した事情に鑑みて為されたものであり、施工が容易で且つコストの低減を図ることが可能な放射性薬剤製造システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る放射性薬剤製造システムは、粒子加速器を第１の放射線遮蔽体により被覆した自己シールド型粒子加速器と、自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられており、第２の放射線遮蔽体により被覆され、粒子加速器で製造された放射性同位元素を用いて放射性薬剤を合成する合成装置と、第１の放射線遮蔽体と第２の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で第１の放射線遮蔽体内と第２の放射線遮蔽体内とを接続し、粒子加速器から合成装置へ放射性同位元素を移送する原料移送管と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
この放射性薬剤製造システムでは、粒子加速器が放射線の漏洩が抑えられた自己シールド型粒子加速器であり、第２の放射線遮蔽体により被覆された合成装置がこの自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられている。そして、粒子加速器から合成装置へ放射性同位元素を移送する原料移送管が、第１の放射線遮蔽体と第２の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で第１の放射線遮蔽体内と第２の放射線遮蔽体内とを接続している。従って、放射性同位元素の移送のために地下ピットを設ける必要がなくなり、施工が容易で且つコストの低減を図ることが可能となる。また、合成装置と自己シールド型粒子加速器とを隣接して設けることで、システムのコンパクト化を図ることができる。
【０００８】
放射性薬剤製造システムは、自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられており、第３の放射線遮蔽体により被覆され、合成装置で生じた廃ガスを貯留する廃ガス貯留装置と、合成装置から廃ガス貯留装置へと廃ガスを移送する廃ガス移送管と、を備えると好ましい。廃ガス移送管は、第１の放射線遮蔽体と第２の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で第１の放射線遮蔽体内と第２の放射線遮蔽体内とを接続し、第１の放射線遮蔽体内を通って、第１の放射線遮蔽体と第３の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で第１の放射線遮蔽体内と第３の放射線遮蔽体内とを接続すると好ましい。このようにすれば、第１の放射線遮蔽体内を有効利用することで、廃ガスの移送のためにも地下ピットを設ける必要がなくなり、施工が容易で且つコストの低減を一層図ることが可能となる。また、廃ガス貯留装置と自己シールド型粒子加速器とを隣接して設けることで、システムのコンパクト化を一層図ることができる。
【０００９】
放射性薬剤製造システムは、自己シールド型粒子加速器に隣接して設けられており、第３の放射線遮蔽体により被覆され、合成装置で生じた廃ガスを貯留する廃ガス貯留装置と、合成装置から廃ガス貯留装置へと廃ガスを移送する廃ガス移送管と、を備えると好ましい。廃ガス移送管は、第２の放射線遮蔽体と第３の放射線遮蔽体とが対面する範囲内で第２の放射線遮蔽体内と第３の放射線遮蔽体内とを接続すると好ましい。このようにすれば、廃ガスの移送のためにも地下ピットを設ける必要がなくなり、施工が容易で且つコストの低減を一層図ることが可能となる。また、廃ガス貯留装置と自己シールド型粒子加速器とを隣接して設けることで、システムのコンパクト化を一層図ることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、施工が容易で且つコストの低減を図ることが可能な放射性薬剤製造システムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１２】
図１は、本実施形態に係る放射性薬剤製造システムの構成を示す平面図である。放射性薬剤製造システム１０は、自己シールド型サイクロトロン（自己シールド型粒子加速器）２０と、ホットセル（第２の放射線遮蔽体）３２に収容された合成装置３０と、放射線遮蔽体（第３の放射線遮蔽体）４２に被覆された廃ガス貯留装置４０と、を備えている。これら自己シールド型サイクロトロン２０、合成装置３０、及び廃ガス貯留装置４０は、放射線遮蔽壁５０で囲まれた一つの部屋に収容されている。
【００１３】
自己シールド型サイクロトロン２０は、サイクロトロン２２を床上に設置された放射線遮蔽体（第１の放射線遮蔽体）２４により被覆してなる。このように、「自己シールド型」とは、サイクロトロン２２が設置される建屋の壁とは別に、サイクロトロン２２それ自体を遮蔽するために設けられた壁体によりサイクロトロン２２を遮蔽する形式をいう。
【００１４】
合成装置３０は、床上に設置されたホットセル３２に収容され、サイクロトロン２２で製造された放射性同位元素を用いて放射性薬剤を合成する。例えば、１８Ｏ（ｐ，ｎ）１８Ｆで表される核反応によりサイクロトロン２２で製造された１８Ｆ−で表される放射性同位元素を用いて、放射性薬剤としての１８Ｆ−ＦＤＧ（フルオロデオキシグルコース）を合成する。
【００１５】
合成装置３０は、自己シールド型サイクロトロン２０に隣接して設けられている。ここで、図１に示す形態では、国内法令を遵守する上で耐火構造を有するパーティション５２が、自己シールド型サイクロトロン２０と合成装置３０を収容するホットセル３２との間に介在している。パーティション５２の厚みは、１５ｃｍ以下で例えば１０ｃｍであり、部屋を画成する放射線遮蔽壁５０と比べると放射線遮蔽能が無いに等しい。なお、このパーティション５２は、法令が許すときには省略して、両者を直接接触するように配置することができる。
【００１６】
廃ガス貯留装置４０は、パーティション５２により仕切られた自己シールド型サイクロトロン２０側で、自己シールド型サイクロトロン２０に隣接して、ここでは自己シールド型サイクロトロン２０に接触して設けられている。この廃ガス貯留装置４０は、合成装置３０で生じた廃ガスを一時的に貯留するものであり、床上に設置された放射線遮蔽体４２に被覆されている。
【００１７】
また、放射性薬剤製造システム１０は、サイクロトロン２２から合成装置３０へ放射性同位元素を移送する原料移送管６０と、合成装置３０から廃ガス貯留装置４０へと廃ガスを移送する廃ガス移送管７０と、を備えている。
【００１８】
原料移送管６０は、サイクロトロン２２を被覆する放射線遮蔽体２４とホットセル３２とが対面する範囲内で、放射線遮蔽体２４内とホットセル３２内とを接続し、サイクロトロン２２から合成装置３０へ放射性同位元素を移送する。ここで、「サイクロトロン２２を被覆する放射線遮蔽体２４とホットセル３２とが対面する範囲内」とは、図２に示すように、放射線遮蔽体２４側のホットセル３２と対向する面と、ホットセル３２側の放射線遮蔽体２４と対向する面とが重なり合う範囲Ｒをいう。そして、この範囲Ｒ内で「放射線遮蔽体２４内とホットセル３２内とを接続し」とは、遮蔽体外部において原料移送管６０が幅方向及び高さ方向のいずれにもこの範囲Ｒから逸脱しないように接続することをいう。
【００１９】
また廃ガス移送管７０は、放射線遮蔽体２４とホットセル３２とが対面する範囲内で、放射線遮蔽体２４内とホットセル３２内とを接続する。そして、廃ガス移送管７０は、放射線遮蔽体２４内を通って、放射線遮蔽体２４と廃ガス貯留装置４０を被覆する放射線遮蔽体４２とが対面する範囲内で、放射線遮蔽体２４内と放射線遮蔽体４２内とを接続する。なお、「放射線遮蔽体２４と廃ガス貯留装置４０を被覆する放射線遮蔽体４２とが対面する範囲内」、及びこの範囲内で「放射線遮蔽体２４内と放射線遮蔽体４２内とを接続」は、上記したのと同様に定義される。
【００２０】
ここで、原料移送管６０及び廃ガス移送管７０のパーティション５２を通る部分は、放射線の漏洩を防止するために鉛などの遮蔽体で被覆すると好ましい。
【００２１】
なお、パーティション５２により仕切られた合成装置３０側で、合成装置３０のホットセル３２に隣接するように、品質管理装置８０が設けられている。この品質管理装置８０は、放射性薬液として製造された１８Ｆ−ＦＤＧの品質を管理する装置であり、ｐＨ試験、純度試験などを行う。また、パーティション５２により仕切られた合成装置３０側には、実験台８２や流し台８４が設けられている。この合成装置３０には、エアシャワーを有する出入部８６を通してアクセスすることができる。
【００２２】
また、パーティション５２により仕切られた自己シールド型サイクロトロン２０側には、廃棄物保管庫８８が設けられている。この自己シールド型サイクロトロン２０には、インターロックを有する扉９０を通してアクセスすることができる。
【００２３】
次に、本実施形態に係る放射性薬剤製造システム１０の作用及び効果について説明する。
【００２４】
この放射性薬剤製造システム１０では、サイクロトロン２２においてターゲット水（Ｈ２１８Ｏ）から１８Ｆ−で表される放射性同位元素が製造される。製造された放射性同位元素は、原料移送管６０を通して合成装置３０に移送される。合成装置３０では、１８Ｆ−で表される放射性同位元素を用いて、放射性薬剤としての１８Ｆ−ＦＤＧ（フルオロデオキシグルコース）が合成される。合成された放射性薬剤の一部は、品質管理装置８０に送られ、品質の検定が行われる。そして、所定の条件をクリアすることで、放射性薬剤が被験者への投与に供される。
【００２５】
合成装置３０における放射性薬剤の合成時に発生した放射化された廃ガスは、廃ガス移送管７０を通して廃ガス貯留装置４０に移送される。そして、放射能が十分に減衰した後に、廃ガス貯留装置４０から大気に放出される。
【００２６】
このように本実施形態に係る放射性薬剤製造システム１０では、サイクロトロン２２が放射線の漏洩が抑えられた自己シールド型サイクロトロン１０であり、ホットセル３２に収容された合成装置３０が、この自己シールド型サイクロトロン１０に隣接して設けられている。そして、サイクロトロン２２から合成装置３０へ放射性同位元素を移送する原料移送管６０が、放射線遮蔽体２４とホットセル３２とが対面する範囲内で放射線遮蔽体２４内とホットセル３２内とを接続している。従って、放射性同位元素の移送のために地下ピットを設ける必要がなくなり、施工が容易で且つコストの低減を図ることが可能となる。また、合成装置３０と自己シールド型サイクロトロン２０とを隣接して設けることで、システムのコンパクト化を図ることができる。
【００２７】
このように、従来は別々の部屋で合成装置とサイクロトロンとを収容し、地下ピットを通して原料としての放射性同位元素を移送するのが常識であったところ、本実施形態では発想の転換を図り、サイクロトロンを放射線の漏洩を著しく低減した自己シールド型のものとし、サイクロトロン自体も小型化することで、サイクロトロンと合成装置との一体化を図って、一つの放射線遮蔽室に収容して、コンパクト化を図っている。そして、サイクロトロンと合成装置とを原料移送管で接続することで、地下ピットの施工を不要としているのである。
【００２８】
また、放射性薬剤製造システム１０は、自己シールド型サイクロトロン２０に隣接して設けられており、放射線遮蔽体４２により被覆され、合成装置３０で生じた廃ガスを貯留する廃ガス貯留装置４０と、合成装置３０から廃ガス貯留装置４０へと廃ガスを移送する廃ガス移送管７０と、を備えている。そして、廃ガス移送管７０は、放射線遮蔽体２４とホットセル３２とが対面する範囲内で放射線遮蔽体２４内とホットセル３２内とを接続し、放射線遮蔽体２４内を通って、放射線遮蔽体２４と放射線遮蔽体４２とが対面する範囲内で、放射線遮蔽体２４内と放射線遮蔽体４２内とを接続している。従って、放射線遮蔽体２４内を有効利用することで、廃ガスの移送のためにも地下ピットを設ける必要がなくなり、施工が容易で且つコストの低減を一層図ることが可能となる。また、廃ガス貯留装置４０と自己シールド型サイクロトロン２０とを隣接して設けることで、システムのコンパクト化を一層図ることができる。
【００２９】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、上記した実施形態では、放射性薬剤として１８Ｆ−ＦＤＧを合成する場合について説明したが、放射性薬剤はこれに限らず、13Ｎ−アンモニアや11Ｃ−メチオニンなどを合成してもよい。
【００３０】
また、上記した実施形態では、廃ガス移送管７０は、放射線遮蔽体２４とホットセル３２とが対面する範囲内で放射線遮蔽体２４内とホットセル３２内とを接続し、放射線遮蔽体２４内を通って、放射線遮蔽体２４と放射線遮蔽体４２とが対面する範囲内で、放射線遮蔽体２４内と放射線遮蔽体４２内とを接続していた。これに限られず、図３に示すように、廃ガス移送管７０は、ホットセル３２と放射線遮蔽体４２とが対面する範囲内で、ホットセル３２内と放射線遮蔽体４２内とを接続してもよい。
【００３１】
また、粒子加速器としてサイクロトロンについて説明したが、サイクロトロン以外にもシンクロトロンなど他の粒子加速器であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】実施形態に係る放射性薬剤製造システムの構成を示す平面図である。
【図２】自己シールド型サイクロトロンとホットセルに収容された合成装置との配置関係を示す図である。
【図３】放射性薬剤製造システムの構成の変形例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００３３】
１０…放射性薬剤製造システム、２０…自己シールド型サイクロトロン、２２…サイクロトロン、２４…放射線遮蔽体、３０…合成装置、３２…ホットセル、４０…廃ガス貯留装置、４２…放射線遮蔽体、６０…原料移送管、７０…廃ガス移送管。
【図１】
0004440897.tif 000002
【図２】
0004440897.tif 000003
【図３】
0004440897.tif 000004