(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
バンド単位で配列された少なくとも１以上の図形データから成る基本描画パターンの情報と、描画すべきＮ個の前記基本描画パターンについてのオフセット位置を表すオフセット情報とを含む描画データを用い、描画面を前記描画データの１バンド単位に対応する帯状の１バンド領域単位で走査するとともに、前記描画面上の前記それぞれのオフセット位置に対応する位置に前記描画すべきＮ個の基本描画パターンをそれぞれ描画する描画処理方法であって、
前記オフセット情報に基づいて、前記描画データ上の読出し位置を表すポインタであって、前記描画すべきＮ個の基本描画パターンに対応するＮ個のポインタＰ（ｎ）、但しｎ＝１〜Ｎ、を生成する第１ステップと、
前記オフセット情報に基づいて、前記描画すべきＮ個の基本描画パターンそれぞれのオフセット位置を格納したオフセットＤ（ｎ）を生成する第２ステップと、
前記Ｎ個のポインタＰ（ｎ）を全て前記描画データの先頭部分に対応する位置に初期化する第３ステップと、
１つのバンド領域内における第ｎ番目の前記基本描画パターンに関する処理として、前記描画データのポインタＰ（ｎ）の位置から１図形データ毎に前記図形データを取得し、前記取得した１図形データの位置に第ｎ番目のオフセットＤ（ｎ）を加えた位置が前記１つのバンド領域内に有るか否かを判定し、前記１つのバンド領域内にあると判定される場合には、前記取得した１図形データのビットマップを生成し前記オフセットＤ（ｎ）を加えた位置に描画を行い、該描画した１図形データのデータサイズに相当する分だけ前記第ｎ番目のポインタＰ（ｎ）に加える一方、前記１つのバンド領域内に無いと判定される場合には、前記取得した１図形データの描画は行わず且つ第ｎ番目のポインタＰ（ｎ）の値をそのままで維持する第４ステップと、
前記第４ステップを全てのｎについて繰り返し実行させることにより、全ての前記基本描画パターンについて前記１つのバンド領域内にある部分の描画を行う第５ステップと、
前記Ｎ個のポインタＰ（ｎ）全てが前記描画データの読出し終了位置に達するまで、前記第５ステップを前記描画データに含まれる全てのバンドについて繰返し実行させる第６ステップと、
を含むことを特徴とする描画処理方法。
【請求項２】
前記第４ステップは、さらに、
前記取得した１図形データの位置に第ｎ番目のオフセットＤ（ｎ）を加えた位置が、前記１つのバンド領域からはみ出る場合には、前記はみ出る部分を含む１図形データを前記オフセットＤ（ｎ）を加えた位置に描画すべきものとしてスタックに退避することと、
前記１つのバンド領域以前のバンド領域に関する処理によって前記スタックに格納されている図形データの中から、前記１つのバンド領域に含まれる図形データを取得しビットマップを生成して描画を行うことと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の描画処理方法。
【請求項３】
前記描画データはネットワーク上に置かれ、
前記それぞれの図形データ及び前記オフセット情報は前記ネットワークを介して取得されること、
を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画処理方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の描画処理方法を、描画装置内部のＣＰＵが、読み込み、実行可能なプログラムとして格納した記憶媒体。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれかに記載の描画処理方法によって描画する描画装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワークステーションで作成・編集された描画データをビットマップ展開して感光材上に描画する描画装置における描画処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
描画装置は、感光性のフィルム、プリント基板のフォトレジスト層等の感光材に対して光ビームを照射してパターンの描画を行う装置である。描画装置は、光源としてレーザ光を用いるもの或いは発光ダイオード（ＬＥＤ）を用いるものが知られており、これらの光源からの光ビームを描画データに基づいて変調しつつ感光材上で走査することによって描画を行う。描画物の一つであるフォトマスクは、フォトリソグラフによってプリント基板等に導電性のパターンを形成する為に用いられる。
【０００３】
近年、描画性能を高める観点から、描画面を複数の帯状のバンド領域に分割し、このバンド領域単位で描画面を走査して描画面全体に亘り描画処理を行うように構成された描画装置が用いられている。このような描画装置に対する入力情報である描画データは、描画装置と共に描画システムを構成するワークステーション上で、ベクトル形式の複数の図形データをバンド単位で配列した構造として作成される。そして、描画装置は、例えばネットワークを介してワークステーション上に置かれた描画データをバンド単位で受信し、受信したバンドに対応するバンド領域に対する描画を１つの処理単位として描画処理を行う。
【０００４】
ところで、このような描画装置では、例えば図１３に示すように、描画面内に同一の基本描画パターンを複数描画することがある。図１３は、描画面２０が４つのバンド領域から成り、描画面２０内に５つの同一の描画パターンＡ−Ｅが描画される場合の例を示している。このような描画を行う場合、描画データの容量を抑える、描画データの変換時間を抑える等の、描画装置及びワークステーションを含む描画システム全体における描画効率を向上させる観点から、「面付け機能」と呼ばれる機能が用いられる。
【０００５】
面付け機能を用いる場合、ワークステーションにおいて、描画データは、実体としての１つの基本描画パターンの情報に、それを複写する数分の描画パターンのオフセット情報が付加された状態で生成される。描画装置は、オフセット情報を用いて、実体として基本描画パターンを所定のオフセット位置に複数描画する。以下では、面付け機能によって複写して描画する基本描画パターンの数を「面付け数」、面付け数分のオフセット情報全体を「面付け情報」と記す。
【０００６】
図１４は、面付け機能によって生成された描画データの構成の一例を表している。図１４の描画データ３０の実体データ部３１には、実体としての１つの基本描画パターンが格納され、面付け情報部３２には、面付け数分のそれぞれのオフセット情報が格納される。描画パターンが図１３のような例である場合、実体データ部３１には、描画パターンＡの描画データが実体データとして格納され、面付け情報部３２には、描画パターンＡ−Ｅの描画面上の開始座標であるそれぞれのオフセット位置が格納される。
【０００７】
面付け機能を用いる場合、描画装置は、１つのバンドの描画データを受信した後、面付け情報部３２のデータに基づいて必要な面付け数分の描画パターンをオフセットさせつつビットマップ展開して描画する。このとき処理中のバンドからはみ出す図形データがあれば、それらを全てスタックに退避する。図１３に示す描画データ３０の例でいえば、始めに描画装置は、実体データ３１のうちバンド１内にある部分を読み込む。そして、面付け情報部３２を参照して実体データのバンド１内の部分を、面付け数分全てについてオフセット情報を用いてオフセットさせつつビットマップ展開する。
【０００８】
ビットマップ展開されたもののうち描画パターンＤ及びＥに関するものは全てバンド１内の範囲を超えているので、これらの描画パターンＤ及びＥについての図形データは全てスタック内に格納される。描画パターンＤ及びＥについてのこれらスタックに退避されたデータは、バンド３或いはバンド４への描画を行う際にスタックから読み出されて描画に使用される。なお、描画パターンＡ−Ｃに関しても、図形の一部がバンド１からはみ出す図形データがある場合には、それらの図形データはスタックに退避され、バンド２についての描画時に用いられる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来の描画処理方式では、１つのバンドを処理するときにそのバンドからはみ出る図形データは全てスタックに退避する為、面付け数が増えるとそれだけスタックを圧迫し、スタックがオーバーフローしてしまい描画処理が実行できなくなる場合もあり得る。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされた。すなわち、本発明は、面付け機能を用いて描画する場合に、スタックへ退避するデータ量を抑えることのできる描画処理方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明における描画処理方法は、バンド単位で配列された少なくとも１以上の図形データから成る基本描画パターンの情報と、描画すべきＮ個の基本描画パターンについてのオフセット位置を表すオフセット情報とを含む描画データを用い、描画面を描画データの１バンド単位に対応する帯状の１バンド領域単位で走査するとともに、描画面上のそれぞれのオフセット位置に対応する位置に、描画すべきＮ個の基本描画パターンをそれぞれ描画する描画処理方法である。
【００１２】
請求項１に記載の本描画処理方法では、第１ステップとして、オフセット情報に基づいて、描画データ上の読出し位置を表すポインタであって、描画すべきＮ個の基本描画パターンに対応するＮ個のポインタＰ（ｎ）、但しｎ＝１〜Ｎ、が生成される。つまり、面付け数分の基本描画パターンそれぞれに関する読出しポインタが準備される。次に、第２ステップとして、オフセット情報に基づいて、描画すべきＮ個の基本描画パターンそれぞれのオフセット位置を格納したオフセットＤ（ｎ）が生成される。そして、第３ステップとして、Ｎ個のポインタＰ（ｎ）は全て描画データの先頭部分に対応する位置に初期化される。次に、第４ステップとして、１つのバンド領域（例えば第ｋ番目のバンド領域）内における第ｎ番目の基本描画パターンに関する処理として、描画データのポインタＰ（ｎ）の位置から１図形データ毎に図形データを取得し、取得した１図形データの位置に第ｎ番目のオフセットＤ（ｎ）を加えた位置が前記第ｋ番目のバンド領域内に有るか否かを判定し、前記第ｋ番目のバンド領域内にあると判定される場合には、取得した１図形データのビットマップを生成しオフセットＤ（ｎ）を加えた位置に描画を行い、該描画した１図形データのデータサイズに相当する分だけ第ｎ番目のポインタＰ（ｎ）に加える一方、前記第ｋ番目のバンド領域内に無いと判定される場合には、取得した１図形データの描画は行わず且つ第ｎ番目のポインタＰ（ｎ）の値をそのままで維持する。さらに、第５ステップとして、第４ステップを全てのｎについて繰り返し実行させることにより、全ての基本描画パターンについての前記第ｋ番目のバンド領域内にある部分の描画を行う。第ｋ番目のバンド領域内で描画された基本描画パターンついてのポインタＰ（ｎ）は増加され、一方、第ｋ番目のバンド領域内で描画されなかった基本描画パターンついてのポインタＰ（ｎ）は増加されずに維持される。次に、第６ステップとして、Ｎ個のポインタＰ（ｎ）全てが描画データの読出し終了位置に達するまで、第５ステップが描画データに含まれる全てのバンドについて繰返し実行される。第ｋ番目のバンド領域を超えたバンド領域に存在する基本描画パターンは、第６ステップによる繰返し処理により、しかるべきバンド領域に描画され、そのとき、それらの基本描画パターンについてのポインタが増加される。
【００１３】
この場合において、第４ステップは、さらに、取得した１図形データの位置に第ｎ番目のオフセットＤ（ｎ）を加えた位置が、前記第ｋ番目のバンド領域からはみ出る場合には、前記はみ出る部分を含む１図形データをオフセットＤ（ｎ）を加えた位置に描画すべきものとしてスタックに退避する。つまり、オフセット位置を加えた図形データが、２つのバンドにまたがるものである場合、スタックに一旦退避される。そして、第ｋ番目のバンド領域以前のバンド領域に関する処理によって、スタックに格納されている図形データの中から、前記第ｋ番目のバンド領域に含まれる図形データを取得しビットマップを生成して描画を行う（請求項２）。これらの処理によって、２つのバンドに跨って存在する図形データも、その図形データに対応する図形全体を、複数のバンド領域に亘って描画することができる。
【００１４】
描画データがネットワーク上に置かれたものである場合には、それぞれの図形データ及びオフセット情報は、前記ネットワークを介して取得される（請求項３）。また、請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の描画処理方法を、描画装置内部のＣＰＵが、読み込み、実行可能なプログラムとして格納した記憶媒体である。請求項５に記載の発明は、上記の請求項１ないし３のいずれかに記載の描画処理方法によって描画を行う描画装置である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の描画処理方法を実行する描画装置１３０の構成を表すブロック図である。描画装置１３０は、描画面を複数の帯状の領域に分割したバンド単位で描画を行うマルチバンドタイプの描画装置である。描画データ１４１は、先頭からベクトル形式の図形データがバンド単位に配列され、図１４を参照して説明したような実体データに面付け情報が付加された構成をなす。描画データ１４１は、ネットワーク１４０を介して描画装置１３０と接続されるワークステーション（不図示）上に置かれているものとする。
【００１６】
図１において、制御／演算ＣＰＵ１１０は、ネットワーク１４０を介してワークステーション上の描画データ１４１から図形データ（ベクトルデータ）を取得すると共に、取得した図形データをビットマップ展開する演算処理を行う機能を持ち、また、描画装置１３０の様々な動作制御をも司るＣＰＵである。イメージ生成回路１２０は、制御／演算ＣＰＵ１１０から得られるデータの輪郭データに対する塗りつぶし処理を行いイメージデータを生成する回路である。ＬＥＤ発光回路１２５は、イメージデータに基づいてＬＥＤを発光させる。
【００１７】
また、描画装置１３０は、ＬＥＤ発光回路１２５からのビームを描画面上に照射する照射ユニット（不図示）を有し、照射ユニットをバンド領域方向に走査して１バンド領域の描画を行い、描画テーブル（不図示）をバンド領域の方向と直交する方向に移動させ、さらに別のバンド領域の描画を行うという処理を繰り返すことによって描画面全体に亘る描画を行うように構成されている。
【００１８】
図２は、描画装置１３０で実行される描画処理を説明する為の図であり、主にデータの流れを表している。図２において描画データ１４１は、ベクトル形式の図形データがバンド単位で配列されたデータ部分と面付け情報部とから構成される。以下では、描画データ１４１には、図１３で示したものと同じ描画パターンを表すデータが格納されているものとして説明を行う。すなわち、描画データ１４１のデータ部分４１及び４２には、描画パターンＡを表す複数の図形データが格納されており、面付け情報部には、描画パターンＡ−Ｅの描画面上のオフセット情報が格納されている。
【００１９】
描画処理を行う際には、描画装置内では、始めに、描画データ１４１内の読出し位置を指し示す為の読み出しポインタテーブル１５０が作成される。読出しポインタ１５０は、面付け機能によって複数描画される各描画パターンＡ−Ｅそれぞれの、描画データ１４１上の読み出し位置を指し示す為のものである。描画データ１４１の面付け数は５なので、５つのポインタが作成される。ここでは、ポインタＰ０−Ｐ４が、描画パターンＡ−Ｅにそれぞれ対応するポインタであるものとする。ポインタＰ０−Ｐ４は、全て、描画データ１４１の先頭位置である０に初期化される。
【００２０】
読出しポインタテーブル１５０には、それぞれのポインタＰ０−Ｐ４に、各ポインタに対応する描画パターンのオフセット値が対応付けられる。すなわち、ポインタＰ０には、描画パターンＡのオフセットＤ０が対応付けられ、さらに、ポインタＰ１−Ｐ４には、描画パターンＢ−ＥそれぞれのオフセットＤ１−４がそれぞれ対応付けられる。
【００２１】
次に、描画装置１３０は、バンド１から描画処理を開始する。バンド１について描画処理する場合には、バンド１内のポインタＰ０で示される位置から１図形データづつ順次読み出し、読み出した図形データにオフセットＤ０を加えた位置にその図形データを描画し、ポインタＰ０を描画を行った図形データのデータサイズ分移動させる。このことを描画データ１４１のバンド１内の全ての図形データについて行うことで、描画パターンＡについてのバンド１内での描画は達成される。さらに描画装置１３０は、バンド１内のポインタＰ１で示される位置から１図形データづつ順次読み出し、読み出した図形データにオフセットＤ１を加えた位置にその図形データを描画し、ポインタＰ１を描画を行った図形データのサイズ分移動させる。バンド１内で同様の処理をポインタＰ２，オフセットＤ２についても行って、描画パターンＡ−Ｃについてのバンド１内での描画が達成される（矢印１６２）。
【００２２】
以上の描画パターンＡ−Ｃに関する処理で、図形データのうち、バンド１内のみならずバンド１を超える部分にもまたがって存在すようなものがある場合には、その図形データはスタック１１１内に格納する（矢印１６３）。スタック１１１内に格納されたデータは、後のバンドに関する処理を行う際に読み出して描画される（矢印１６４）。
【００２３】
一方、バンド１内での描画パターンＤについての処理では、描画装置１３０は、ポインタＰ３で示される位置から１図形データづつ順次読み出し、読み出した図形データにオフセットＤ３を加えた位置にその図形データを描画して、ポインタＰ３を描画を行った図形データのデータサイズ分移動させようとするが、オフセットＤ３を加えた後の図形データを描画すべき位置はバンド１を超えた位置にあるので、この場合描画装置１３０は、描画パターンＤをバンド１内には描画せず、ポインタＰ３の移動も行わない。描画パターンＥについても同様となる。
【００２４】
したがって、バンド１についての処理が終了したとき、ポインタＰ０−２は移動しているが、ポインタＰ３，Ｐ４は、描画データ１４１の先頭位置のままである。描画データＤ，Ｅは、バンド３にあるので、バンド３に対する処理が行われたとき初めて、ポインタＰ３から読み込んだ図形データにオフセットＤ３を加えた位置が、バンド３内に存在することになり、その図形データの描画が行われポインタＰ３が移動されることになる。全てのポインタＰ０−４が、描画データ１４１の実体データ部分の読出し終了位置に移動したとき、描画パターンＡ−Ｅは全て描画面内に描画され処理は終了する。
【００２５】
図３及び図４は、図２を参照して説明した描画処理の詳細を表すフローチャートである。なお、図２の描画処理は、制御／演算ＣＰＵ１１０によって制御される。この描画処理が開始されると、始めに、描画データ１４１を参照することによって面付けの総数が変数RP_TOTALに格納される。また、面付け機能によって複数描画される描画パターンのうちの、現在処理中の描画パターンの番号（面付け番号）を格納しておく変数RP_NOが０に初期化される（Ｓ１１）。
【００２６】
ステップＳ１２〜Ｓ１４のループでは、ステップＳ１４でカウントアップされる面付け番号RP_NOが面付け総数RP_TOTAL未満であることを判定しつつ（Ｓ１２）、面付け数分の読出しポインタPOS[RP_NO]が全て０に初期化され、また、各描画パターンのオフセットが描画データ１４１内の面付け情報を参照することで描画オフセットOFF[RP_NO]にそれぞれ格納される（Ｓ１３）。これらの読出しポインタPOS[RP_NO]と描画オフセットOFF[RP_NO]が読出しポインタテーブル１５０（図２参照）を構成する。面付け番号RP_NOが面付け総数RP_TOTAL以上となると（Ｓ１２：ＮＯ）、処理はステップＳ１５に進む。
【００２７】
ステップＳ１５では、描画データ１４１の読出し終了位置を示す変数POS_ENDに格納すべき値が、描画データ１４１が置かれているワークステーション側から取得され、変数POS_ENDに格納される。次に、描画データ１４１内のバンド総数がワークステーション側から取得され、変数BD_TOTALに格納され、処理対象のバンド番号を格納しておく変数BD_NOが０に初期化され、また、バンド長がワークステーション側から取得され変数BD_LENに格納される（Ｓ１６）。
【００２８】
図４を参照して、ステップＳ１７では、処理対象のバンドの最大座標が、
(BD_NO+1)×BD_LEN
によって求められ、変数FD_MAXに格納される。ステップＳ１８では、現在の処理対象のバンドのバンド番号BD_NOがバンド総数BD_TOTAL未満となっているか否かが判定され、処理対象のバンドのバンド番号BD_NOがバンド総数BD_TOTAL以上となり、全てのバンドに対する処理が終了しているときは（Ｓ１８：ＮＯ）、本描画処理は終了する。全てのバンドの処理が終了していないとき（Ｓ１８：ＹＥＳ）、処理はステップＳ１９に進む。ステップＳ１９では、面付け番号RP_NOが０に初期化される。
【００２９】
ステップＳ２０では、面付け番号RP_NOが面付け総数RP_TOTAL未満であるか否かが判定される。面付け番号RP_NOが面付け総数RP_TOTAL未満であるとき（Ｓ２０：ＹＥＳ）、処理はステップＳ２１に進む。ステップＳ２１では、ポインタPOS[RP_NO]が、読出し終了位置POS_ENDにまで達しているか否かが判定される。読出し終了位置まで達していないときは（Ｓ２１：ＹＥＳ）、処理はステップＳ２２に進む。
【００３０】
以下で説明するステップＳ２１〜Ｓ２９のループが、処理中の１つのバンド内で読出しポインタの１つを操作しつつ描画を行う処理であり、ステップＳ３０で面付け番号RP_NOがカウントアップされ再びステップＳ２１〜Ｓ２９のループが処理されることにより２つ目の読出しポインタを操作しつつ描画が行われる。ステップＳ２１〜Ｓ２９のループは、１つのバンドについて処理する際に、全ての読出しポインタについて実行される。
【００３１】
ステップＳ２２では、描画データ１４１中の現在のポインタPOS[RP_NO]が指し示す位置から１つの図形データ（基本図形ｖｅｃ）が読み出される。ステップＳ２３では、Ｓ２２で読み出した図形データにオフセットOFF[RP_NO]が加算される。ステップＳ２４では、Ｓ２２で読み出した図形データに基づいて、この図形の最小座標と最大座標が求められ、変数VEC_MIN及びVEC_MAXにそれぞれ格納される。ステップＳ２５では、Ｓ２３でオフセットを加えた座標（ｖｅｃ）が、現在処理中のバンド（BD_NO）の最大座標FD_MAXを超えていないかどうかが判定される。オフセットを加えた座標（ｖｅｃ）がバンド内の最大座標FD_MAX以上となっているときは（Ｓ２５：ＮＯ）、この図形はその全てが現在処理中のバンドを超える領域に描画されるべきものなので、この図形データについてスタック１１１への退避を行うことなく、読出しポインタPOS[RP_NO]の値を現状のままとして、処理はステップＳ３０に進み次の読出しポインタについての処理に移る。
【００３２】
ステップＳ２５において、オフセットを加えた座標（ｖｅｃ）がバンド内の最大座標FD_MAXに入っているときは（Ｓ２５：ＹＥＳ）、この図形は現在処理中のバンド領域内に描画することができるので、ステップＳ２６にて描画を行う。なお、ステップＳ２６における描画処理では、描画すべき図形データのうち、現在処理中のバンド領域に存在する部分が描画されるように適切な処理が施されるものとする。
【００３３】
次にステップＳ２７では、Ｓ２６で描画を行った図形の最大座標VEC_MAXが、現在処理中のバンドのバンド最大座標FD_MAXを超えているか否かが判定される。
最大座標VEC_MAXが、現在処理中のバンドのバンド最大座標FD_MAXを超えている場合は（Ｓ２７：ＹＥＳ）、現在処理中のバンド領域を超える領域にも描画すべき部分を含むものであるため、オフセットが足しこまれた状態の図形データ（ｖｅｃ）をスタック１１１に退避する（Ｓ２８）。このように、図形データのうち、現在処理中のバンド内のみならず現在処理中のバンドを超える部分にもまたがって存在すようなものについてのみ、スタック１１１内に格納されることになる。なお、スタック１１１に退避された図形データは、例えばＳ２６の描画処理の中でスタックから読み出され、しかるべきバンド領域内に描画されるものとする。
【００３４】
一方、ステップＳ２７において、基本図形最大座標VEC_MAXがバンドのバンド最大座標FD_MAXを超えていない場合には（Ｓ２７：ＮＯ）、この図形は次のバンドに跨っておらず退避を行う必要は無いので、処理はステップＳ２９に進む。ステップＳ２９では、次の図形データに処理を移すべく、ポインタPOS[RP_NO]に、Ｓ２６で描画処理を行った図形データのデータサイズを加算しポインタPOS[RP_NO]を移動させる。そして、次の図形データを対象としてステップＳ２１からの処理が繰り返される。
【００３５】
ステップＳ２１〜Ｓ２９のループを繰り返す中で、現在処理中の読出しポインタPOS[RP_NO]の位置から読み出された図形データにオフセットを加えた状態の座標（ｖｅｃ）が、現在処理中のバンドのバンド最大座標FD_MAXを超え、その図形データが全て現在処理中のバンドを超える領域に書くべきものであると判定された場合には（Ｓ２５：ＮＯ）、ステップＳ３０で面付け番号RP_NOがカウントアップされ、ステップＳ２０に戻り、次の読出しポインタについての処理に移る。
【００３６】
また、このように一つのバンドについて処理を行う中で、ステップＳ２０において、面付け番号RP_NOが面付け総数RP_TOTAL以上となった場合には（Ｓ２０：ＮＯ）、ステップＳ３１でバンド番号BD_NOをカウントアップして、次のバンドについての処理に移るべくステップＳ１７からの処理が繰り返される。なお、ステップＳ２１において、現在処理中の読出しポインタPOS[RP_NO]が、読出し終了位置POS_END以上となった場合にも（Ｓ２１：ＮＯ）、その読出しポインタPOS[RP_NO]についてそれ以上処理を進める必要は無いので、次の読出しポインタPOS[RP_NO]についての処理に移るべく処理はステップＳ３０に進む。
【００３７】
全ての読出しポインタPOS[RP_NO]が読出し終了位置POS_ENDに達し、全てのバンドについて処理が終了すると（Ｓ１８：ＮＯ）、処理は終了する。
【００３８】
次に、図３及び図４のフローチャートに示される描画処理の動きを、描画パターンの描画面への描画の進行状態と、そのときの各読出しポインタPOS[RP_NO]の値を対応させつつ説明する。なお、ここでは、図５に示すように、描画装置１３０の描画面１７０上に５つの同一の描画パターン１８１−１８５を面付け機能によって描画するものとする。描画パターン１８１−１８５が、面付け番号PR_NOの０−４に対応する。
【００３９】
図６に示すように、この場合の描画データ１９０は、描画データ１９０のバンド１のデータ部分に描画パターン１８１−１８５のうちの１つに相当する実体データ１９５を含み、面付け情報部分に描画パターン１８１−１８５のそれぞれのオフセットを含む構成となる。この実体データ１９５が、いま図６に示すように、３つの図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）から成るものとする。また、描画データ１９０内におけるｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３の位置をそれぞれＰＡ０，ＰＡ１，ＰＡ２とする。ＰＡ３は、読出し終了位置POS_ENDに当たる。
【００４０】
図７−９は、バンド１についての処理において、図４のステップＳ２１〜Ｓ２９のループが処理される毎に、描画が進行する状態と、そのときの読出しポインタPOS[RP_NO]の状態を対応させて示した図である。図１０−１２は、同様のことをバンド２についての処理が行われる場合について表したものである。
【００４１】
バンド１についての処理で、面付け番号PR_NO＝０についてステップＳ２１〜Ｓ２９のループが終了すると、図７（ａ）に示すように、描画パターン１８１の描画が完了する。このとき、実体データ１９５内の図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）は全て読み込まれ且つ描画されることになるので、面付け番号RP_NO＝０についての読出しポインタPOS[０]は、図７（ｂ）に示すようにＰＡ３となる。
【００４２】
ステップＳ３０で面付け番号RP_NOがカウントアップされ、面付け番号RP_NO＝１に関してステップＳ２１〜Ｓ２９のループが終了すると、図８（ａ）に示すように、描画パターン１８２の描画が完了する。このとき、実体データ１９５内の図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）は全て読み込まれ且つ描画されることになるので、面付け番号RP_NO＝１についての読出しポインタPOS[１]は、図８（ｂ）に示すようにＰＡ３となる。
【００４３】
さらに、ステップＳ３０で面付け番号RP_NOがカウントアップされ、面付け番号RP_NO＝２に関してステップＳ２１〜Ｓ２９のループが終了すると、図９（ａ）に示すように、描画パターン１８３のバンド１内に存在する部分について描画が完了する。ここで、図形データｖｅｃ２がバンド１とバンド２にまたがるものである場合、ステップＳ２１〜Ｓ２９のループが終了すると、実体データ１９５内の図形データｖｅｃ１とｖｅｃ２のみ読み込まれ且つ描画が行われることになるので、面付け番号RP_NO＝２についての読出しポインタPOS[２]は、図９（ｂ）に示すようにＰＡ２となる。このときｖｅｃ２はスタック１１１に格納される。
【００４４】
描画データ１８４及び１８５は、バンド１内ではないので、面付け番号RP_NO＝３及び４についてのステップＳ２１〜Ｓ２９のループ処理では、図形データｖｅｃ１読み出すと（Ｓ２２）、ステップＳ２５の判定で直ちにステップＳ３０に移り、したがって、バンド１についての処理が終了しても、面付け番号RP_NO＝３及びRP_NO＝４についての読出しポインタPOS[３]及びPOS[４]は、０のままである。
【００４５】
次に、ステップＳ３１でバンド番号BD_NOがカウントアップされ、バンド２についての処理に移る。バンド２についての処理において、面付け番号RP_NO＝０及びRP_NO＝１の状態でステップＳ２１〜Ｓ２９のループ処理に入ると、ステップＳ２１で読出しポインタPOS[RP_NO]が読出し終了位置POS_ENDに達していると判定され、直ちにステップＳ３０に進み次の読出しポインタに処理が移る。
【００４６】
そして、面付け番号RP_NO＝２についてのステップＳ２１〜Ｓ２９のループ処理に入ると、図形データｖｅｃ２がスタック１１１から読み出されそのバンド２に存在する部分が描画され、続いて図形データｖｅｃ３も読み出され且つ描画される。したがって面付け番号RP_NO＝２に関してステップＳ２１〜Ｓ２９のループが終了すると、図１０（ａ）に示すように、描画パターン１８３の描画が完了する。このとき、面付け番号RP_NO＝２についての読出しポインタPOS[２]は、図１０（ｂ）に示すようにＰＡ３となる。
【００４７】
次に、面付け番号RP_NO＝３についてのステップＳ２１〜Ｓ２９のループ処理に入ると、読出しポインタPOS[３]は、初期値のままなので、実体データ１９５の先頭から図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）が読み出され、これらの図形データに描画パターン１８４のオフセットを加えたものはバンド２内に全て存在するので、図１１（ａ）に示すように描画パターン１８４が描画される。
このとき、図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）は全て読み出され且つ描画されるので、読出しポインタPOS[３]＝ＰＡ３となる。
【００４８】
次に、面付け番号RP_NO＝４についてのステップＳ２１〜Ｓ２９のループ処理に入ると、読出しポインタPOS[４]は、初期値のままなので、実体データ１９５の先頭から図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）が読み出され、これらの図形データに描画パターン１８５のオフセットを加えたものはバンド２内に全て存在するので、図１２（ａ）に示すように描画パターン１８５が描画される。
このとき、図形データ（ｖｅｃ１，ｖｅｃ２，ｖｅｃ３）は全て読み出され且つ描画されるので、読出しポインタPOS[４]＝ＰＡ３となる。
【００４９】
描画パターン１８５の描画が終了すると、読出しポインタPOS[０]−［４］は全て、読出し終了位置ＰＡ３となり、処理は終了する。
【００５０】
上述の実施形態において説明に用いた面付け数或いは描画パターンは１つの例であって、本発明は、様々な描画パターンや面付け数での描画処理に適用可能であることはいうまでもない。また、上述の実施例は、描画データがネットワーク接続されたワークステーション上にある場合の例であったが、描画データが置かれる場所はこのような例に限られるものではない。描画データは、描画装置と通信可能なあらゆる装置内に置かれたもの、或いは描画装置本体のファイル装置で読み取られる記憶媒体に格納されたものであっても良い。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、スタックに退避すべき図形データは、バンド境界に跨って存在する一部の図形データのみとなる。複数のポインタによって各基本描画パターンの描画データ上の読み出し位置が指し示されるので、描画すべき複数の基本描画パターンのうち、処理中のバンドを超える部分に描画される基本描画パターンの図形データを全てスタックに退避しなければならない事態が回避できる。したがって、描画すべき基本描画パターンのデータサイズ或いは面付け数が増加した場合でも、スタックを圧迫されることが無い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の描画処理方法を実行する描画装置の構成を表すブロック図である。
【図２】本発明の描画処理方法を説明する為のデータの流れを示す図である。
【図３】図４と共に本発明の描画処理方法を詳細に表すフローチャートである。
【図４】図３と共に本発明の描画処理方法を詳細に表すフローチャートである。
【図５】本発明の描画処理方法によって描画される描画パターンの例である。
【図６】図５の描画パターンに対応する描画データの構成を表す図である。
【図７】図５に例として示す描画パターンを描画する場合についての、バンド１におけるポインタPOS[０]に関する処理が終了した際の、描画の進行状態とポインタの状態を示す図である。
【図８】図５に例として示す描画パターンを描画する場合についての、バンド１におけるポインタPOS[１]までに関する処理が終了した際の、描画の進行状態とポインタの状態を示す図である。
【図９】図５に例として示す描画パターンを描画する場合についての、バンド１におけるポインタPOS[４]までに関する処理が終了した際の、描画の進行状態とポインタの状態を示す図である。
【図１０】図５に例として示す描画パターンを描画する場合についての、バンド２におけるポインタPOS[２]までに関する処理が終了した際の、描画の進行状態とポインタの状態を示す図である。
【図１１】図５に例として示す描画パターンを描画する場合についての、バンド２におけるポインタPOS[３]までに関する処理が終了した際の、描画の進行状態とポインタの状態を示す図である。
【図１２】図５に例として示す描画パターンを描画する場合についての、バンド２におけるポインタPOS[４]までに関する処理が終了した際の、描画の進行状態とポインタの状態を示す図である。
【図１３】面付け機能によって描画する描画パターンの例を示す図である。
【図１４】図１３の描画パターンに対応する描画データの構成を表す図である。
【符号の説明】
１１０  制御／演算ＣＰＵ
１２０  イメージ生成回路
１２５  ＬＥＤ発光回路
１３０  描画装置
１４１  描画データファイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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