(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハの処理を行うミニエンバイロンメント部と、
該ミニエンバイロンメント部に取り付けられ、該ミニエンバイロンメント部の外部から空気を取り入れて内部を外部より高い圧力に加圧するとともに上方から下方への空気の主な流れを生ぜしむるファンと
内部にウェーハが保管されるクリーンボックスと、
該クリーンボックスと該ミニエンバイロンメント部との間でウェーハの出し入れを行うためのウェーハ出し入れ口と、
ウェーハの出し入れを行わない際には該ウェーハ出し入れ口を閉じウェーハの出し入れを行う際には該ウェーハ出し入れ口を開放するドアとを備えるウェーハ処理装置であって、
該ドアが該ウェーハ出し入れ口を閉じた際においても該ミニエンバイロンメント部と外部とを連通した第一隙間が残り、
該第一隙間は前記空気の主な流れの下流側の隙間が上流側の隙間よりも大きいことを特徴とするウェーハ処理装置。
【請求項２】
内部にウェーハが保管されているクリーンボックスからウェーハを受け取って、内部を外部より高い圧力に加圧してウェーハの処理を行うミニエンバイロンメント部と、該クリーンボックスを保持するロードポートテーブルとを備えるウェーハ処理装置であって、
該ミニエンバイロンメント部はウェーハの出し入れを行うためのウェーハ出し入れ口と、該ミニエンバイロンメント部の外部から空気を取り入れて内部を外部より高い圧力に加圧するとともに上方から下方への空気の主な流れを生ぜしむるファンとを有し、
該クリーンボックスは該ウェーハを取り出す為の開口と該開口を閉じる為の蓋を有し、
該ロードポートテーブルはウェーハを該ミニエンバイロンメント部と該クリーンボックスとの間で受け渡し可能なように前記開口と前記ウェーハ出し入れ口とが対向し、かつ該クリーンボックスの開口がミニエンバイロンメント部には接しない程度の間隔をもってクリーンボックスを載置可能であって、
該ロードポートテーブルには前記ウェーハ出し入れ口近傍に該ウェーハ出し入れ口にそって延在する第二隙間を備えることを特徴とするウェーハ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体、電子部品関連製品、光ディスク等の製造プロセスで半導体ウェーハ（以下、ウェーハと呼ぶ）を保管するクリーンボックスからウェーハを受けてその処理を行う際に、より高い清浄度をもった防塵機能を備えたウェーハ処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイス等に用いられるウェーハの製造は高清浄度が保証された環境下で行うことが必要であり、部屋全体が高清浄度に保たれた所謂クリーンルーム内で行われることが一般的であった。しかし、大きな体積を占める部屋全体を高清浄度に保つには大きな設備投資と維持費を必要とし、また、一旦設備投資を行うと製造工程の変更に伴う部屋レイアウト変更の際に再度の大きな設備投資が必要となり不経済であった。そこで近年では、部屋全体を高清浄度に保つことなく処理装置の内部の微少環境空間（以下、ミニエンバイロンメント部と呼ぶ）を高清浄度に保つことで、部屋全体を高清浄度に保った時と同じ効果を得る手法が盛んになっている（以下、このような処理装置をクリーン装置と呼ぶ）。
すなわち、前記クリーン装置を製造が行われる部屋にレイアウトして、内部を高清浄度に保ったウェーハ保管容器（以下、クリーンボックスと呼ぶ）で当該クリーン装置間の搬送を行い、外部から塵が侵入しないようにクリーンボックスをクリーン装置に設けた所定のウェーハの出し入れ口に連結させて、このウェーハの出し入れ口を介してウェーハの受け渡しを行えば、製造が行われる部屋の清浄度を高くせずともウェーハが曝される環境をすべて高清浄度に保つことができる。これにより部屋全体をクリーンルーム化した場合と同じ効果を得ることが可能となり、設備投資や維持費を削減して効率的な生産工程を実現できる。
【０００３】
前記のようなクリーン装置では、前記ミニエンバイロンメント部を高清浄度に保つべくミニエンバイロンメント部の上部にファンフィルターユニット（本明細書中ではファンとよぶ）を設けている。このファンは外部の塵を含んだ空気を取り入れてフィルターで濾してから内部に清浄な空気を送り込み、その内部圧力を外部圧力（仮にＰａとする、一般的にはＰａは大気圧である）より所定の圧力（ΔＰ）だけ加圧して外部より高い圧力（Ｐａ＋ΔＰ）にする。これにより、ミニエンバイロンメント部の内部には上方から下方への空気流が生じ、さらにこの空気流はミニエンバイロンメント下部においてミニエンバイロンメント部の内部から外部への空気流を生じる。この空気流により清浄な空気を外部に排出すると共に、外部からの空気流を断つことができる。その結果、外部からの塵の混入を防止できる。 また更に、処理すべきウェーハを出し入れの際を除いてミニエンバイロンメント部をできるかぎり密閉すれば外部からの塵の混入を防ぐことが可能となり、より高い清浄度を得ることができると考えられてきた。従って、前記クリーンボックスに設けられる前記ウェーハ出し入れ口はウェーハの受け渡しの際にクリーンボックスと連結する時以外は、外部環境とミニエンバイロンメント部は前記ウェーハ出し入れ口を塞ぐドアにより完全に密閉していた。
【０００４】
しかし、ウェーハの受け渡しを行わない時には、ミニエンバイロンメント部は外部と隔離されているのでその内部のウェーハは常に高い清浄度に保たれることになるが、ウェーハの受け渡しを行う際に前記ドアを開けた時には、ミニエンバイロンメント内外の前記差圧ΔＰによりミニエンバイロンメント内部から外部に流れ出る空気流が発生して次のような問題を生じていた。
前記の通りミニエンバイロンメント内部を加圧する以上ドアを開けると共に空気流が発生することは避けられないが、従来のような装置では、ドアを開けた瞬間の差圧ΔＰは特に大きく、ある程度時間が経った後の差圧ΔＰで生じる空気流と比較した場合よりも流量が大きく、さらに大きな撹乱をも伴っていた。
一方、クリーンボックス内の圧力はほぼ大気圧であり、ウェーハ出し入れ口においてこのように撹乱を伴った空気流が発生すると、クリーンボックスがその空気流を内部に巻き込む現象が発生する。ウェーハ出し入れ口から流れ出る空気流によって外部の塵が攪拌されるため、クリーンボックス内に巻き込まれた空気流には塵が含まれ、結果的にウェーハの汚染に繋がりウェーハの品質に悪影響を及ぼす。
【０００５】
そこで、前記ウェーハの出し入れ口を塞ぐドアによりミニエンバイロンメント部は外部環境と完全に密閉するのではなく、逆にわずかながらの隙間をもってドアをウェーハの出し入れ口を塞ぐ方法が考えられる。つまり、ドアがウェーハの出し入れ口を塞いだ際にも、ミニエンバイロンメント部の内部から外部に向かっての空気流が有効に働きミニエンバイロンメント部の外部から内部に塵が入り込まない程度の隙間がドアの周部に残るようにするものである。これによって、ドアを開けた際にもウェーハ出し入れ口において撹乱を伴った空気流を低減化させウェーハの汚染を防ぐことができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
このような隙間を設ける方法は空気流の撹乱によるウェーハの汚染を防止する為に一定の効果を生じるが、ウェーハの汚染を完全に防止する為にはさらに以下の問題がある。
ミニエンバイロンメント部の内部には外部の空気を取り入れるファンによりミニエンバイロンメント部の上方から下方に向かって空気流が生じている。この空気流はファンの近い上流側では速く、ファンから離れ下流に向かうに従って徐々に遅くなる。従って、前記のようにドアがウェーハの出し入れ口を塞いだ際にドアの周囲に隙間を残したとしても、ファンに近い側の上流側の隙間付近の空気流の速さとファンから離れた下流側の隙間付近の空気流の速さとでは違いが生じる。一般に、速い空気流の地点における静圧は遅い空気流の地点における静圧のよりも低い。すなわち、ミニエンバイロンメント部内ではファンに近い側の上流側の隙間付近における内外の差圧ΔＰはファンから離れた下流側の隙間付近における内外の差圧ΔＰよりも小さくなる。従って、ウェーハ出入り口を塞ぐドアを開けた際に発生する撹乱は、差圧が大きいほど大きな撹乱が生じ易い為、ファンから離れた下流側の隙間ではファンに近い側の上流側の隙間よりも大きな撹乱が生じる。その結果、撹乱によるウェーハの汚染もファンから離れた下流側の隙間よりファンに近い側の上流側の隙間においてより生じ易く、ファンから離れた下流側の隙間防塵機能が低くなる問題がある。
【０００７】
また、クリーンボックスからミニエンバイロンメント部にウェーハの出し入れを行う際にはクリーンボックスを固定する必要が有る。ウェーハ処理装置ではクリーンボックスを所定の位置に固定する為にドッキングプレートを配置している。クリーンボックスはこのドッキングプレート上に載置され、ウェーハの出し入れが行われる。ドッキングプレートはロードポート上に配置されている。
ドアを開けてウェーハ出し入れ口を開放した際にはミニエンバイロンメント部の内部から外部に向けて空気流が生じるが、ロードポートテーブルは一定の大きさを有しているためにウェーハ出し入れ口からの空気流の流れを阻害して、ドッキングプレートがあるクリーンボックス下側の空気流の速さがドッキングプレートが無いクリーンボックス上側の空気流の速さよりも遅くなる。この影響はミニエンバイロンメント部内部にも影響をあたえ、クリーンボックスの上側（ファンから離れた下流側）の空気流の速度と比較してクリーンボックスの下側（ファンから離れた下流側）の隙間の空気流の速度が遅くなる問題を生じることになる。特に、クリーンボックス下部における空気流れの速度の低下は塵を含んだ空気がクリーンボックス付近に滞留することになりウェーハの汚染を防止する点で不利となる問題がある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本願はウェーハの処理を行うミニエンバイロンメント部と、該ミニエンバイロンメント部に取り付けられ、該ミニエンバイロンメント部の外部から空気を取り入れて内部を外部より高い圧力に加圧するとともに上方から下方への空気の主な流れを生ぜしむるファンと内部にウェーハが保管されるクリーンボックスと、該クリーンボックスと該ミニエンバイロンメント部との間でウェーハの出し入れを行うためのウェーハ出し入れ口と、ウェーハの出し入れを行わない際には該ウェーハ出し入れ口を閉じウェーハの出し入れを行う際には該ウェーハ出し入れ口を開放するドアとを備えるウェーハ処理装置であって、該ドアが該ウェーハ出し入れ口を閉じた際においても該ミニエンバイロンメント部と外部とを連通した第一隙間が残り、該第一隙間は前記空気の主な流れの上流側の隙間が下流側の隙間よりも大きいことを特徴とするウェーハ処理装置を提供する。ファンにより生じる空気流の下流側の隙間を上流側の隙間よりも大きくとることにより、下流側の流速が上流側よりも遅くならないようにして、両地点における内外の差圧をなるべく均等にするものである。これにより、下流側の隙間部における撹乱を低減化してファンから離れた箇所の隙間部でも防塵機能の低下をふせぐことができる。
本願は、さらに、内部にウェーハが保管されているクリーンボックスからウェーハを受け取って、内部を外部より高い圧力に加圧してウェーハの処理を行うミニエンバイロンメント部と、該クリーンボックスを保持するロードポートテーブルとを備えるウェーハ処理装置であって、該ミニエンバイロンメント部はウェーハの出し入れを行うためのウェーハ出し入れ口と、該ミニエンバイロンメント部の外部から空気を取り入れて内部を外部より高い圧力に加圧するとともに上方から下方への空気の主な流れを生ぜしむるファンとを有し、該クリーンボックスは該ウェーハを取り出す為の開口と該開口を閉じる為の蓋を有し、該ロードポートテーブルはウェーハを該ミニエンバイロンメント部と該クリーンボックスとの間で受け渡し可能なように前記開口と前記ウェーハ出し入れ口とが対向し、かつ該クリーンボックスの開口がミニエンバイロンメント部には接しない程度の間隔をもってクリーンボックスを載置可能であって、該ロードポートテーブルには前記ウェーハ出し入れ口近傍に該ウェーハ出し入れ口にそって延在する第二隙間を備えることを特徴とするウェーハ処理装置を提供する。 ロードポートテーブルに第二隙間を配置することにより、ロードポートテーブルが空気流の障害となることを防いで、クリーンボックス下方における空気流の澱みを防いでウェーハの汚染を防止する。
【０００９】
【実施例】
（実施例１）
以下、実施例１について図面を参照して説明する。図１はウェーハ処理装置１０の全体図である。ウェーハ処理装置１０は、ミニエンバイロンメント部５と、ロードポートテーブル１５とを備えている。また、ウェーハ処理装置１０間のウェーハ７の移動にはクリーンボックス６が用いられる。ウェーハ７はクリーンボックス６の内部に収められ、気密性の高い蓋４で閉じられている。ウェーハ７が収められている状態のクリーンボックス６の内部は高清浄度が保証されるようになっている。たとえば、内部が高い純度の窒素等で満たされている。
【００１０】
ミニエンバイロンメント部５の内部にはウェーハ７を移動させるためのロボットアーム１１が取り付けられている。ミニエンバイロンメント部５の上部にはファン（不図示）が取り付けられていて、ミニエンバイロンメント外部の空気を内部に送っている。その結果、ウェーハ処理装置１０の外部圧力（通常は大気圧）よりも高い圧力に加圧されている。さらにファンはミニエンバイロンメント部の上方から下方向にむかっていわゆるダウンフローの空気流を発生させる。
ミニエンバイロンメント部５の壁面には、ロボットアーム１１がクリーンボックス６からウェーハ７を受け取るためのウェーハ出し入れ口２が配置されている。また、ミニエンバイロンメント部５の内側であって、ウェーハ出し入れ口２に対応した箇所には、ウェーハ出し入れ口２を塞ぐためのドア３が配置されている。ドア３の面には保持機構２１が配置されている。保持機構２１はたとえば真空吸引ポートであって、このポートから吸引をおこなうことによりクリーンボックス７の蓋４を面に引き付けるように保持する。ドア３は昇降用の駆動部２０に用意された支点２２を中心に回動してウェーハ出し入れ口２に接近したり、または傾いて離れるように動作する。従って、ウェーハ７の受け渡しを行わない際にはドア３はウェーハ出し入れ口２を塞ぎ、ウェーハ７の受け渡しを行う際にはドア３は保持機構２１によりクリーンボックス７の蓋４を保持した状態で図１に示したように支点２２を中心に回動してウェーハ出し入れ口２を開放する。ドア３は駆動部２０によって昇降（図１の上下方向への昇降）が可能である。図１の点線に示した状態のようにドア３がウェーハ出し入れ口２を完全に開放した後には、ドア３はそこから下降して待避する。一方、逆にドア３がウェーハ出し入れ口２を塞ぐ際には、上記と反対のプロセスでドア３が移動する。すなわち、駆動部２０が待避位置から定位置まで上昇したのち、前記支点２２中心に回動してウェーハ出し入れ口２を塞ぐとともにクリーンボックス６に蓋４を嵌入する。
【００１１】
ロードポートテーブル１５上にはクリーンボックス６を保持・載置するためのドッキングプレート１２が設けられている。ドッキングプレート１２はその下に位置するレールに沿ってウェーハ出し入れ口に近づいたりまたは遠ざかる方向（図１の左右方向）に移動可能である。クリーンボックス６をドッキングプレート１２に載置してミニエンバイロンメント部５に接近させると、蓋４がちょうどウェーハ出し入れ口２に対向するような位置に垂直方向（ウェーハ出し入れ口２の縦方向）と水平方向（ウェーハ出し入れ口２の横方向）の位置がそれぞれ調節されている。またこの際、ドッキングプレート１２によって接近したクリーンボックス６はミニエンバイロンメント部５とは接触せず、該クリーンボックス６の開口がミニエンバイロンメント部には接しない程度の間隔をもってクリーンボックス７を載置可能なように、ウェーハ出し入れ口方向のドッキングプレート１２の停止位置が調整されている。前記間隔はたとえば約２ｍｍ程度である。
【００１２】
次に、図２を参照して、ドア３がウェーハ出し入れ口２を塞いだ状態について説明する。図２はドア３がウェーハ出し入れ口２を塞いだ状態においてクリーンボックス７側からミニエンバイロンメント部５を見た状態の図である。ミニエンバイロンメント部５の壁面にはほぼ矩形形状であってミニエンバイロンメント部の内外を連通させる貫通開口たるウェーハ出し入れ口２が配置されている。ドア３はウェーハ出し入れ口２のほぼ中央部に配置するように調整されている。ドア３の大きさはウェーハ出し入れ口２の大きさよりも若干小さくなっていて、ドア３がウェーハ出し入れ口２を閉じた際においても該ミニエンバイロンメント部の内部と外部とを連通させる第一隙間１がドア３とウェーハ出し入れ口２との間に形成される。なお、図２における第一隙間１の大きさは、第一隙間１の視認上の問題から誇張して表現していることに注意されたい。
第一隙間１は、ミニエンバイロンメント部上方の大きさが大きく、ミニエンバイロンメント部下方側の大きさが小さい。これはミニエンバイロンメント部５の内側上部にファンが配置されていることにより空気の主な流れが上方から下方向に向かうダウンフローとして生じるので、第一隙間１において空気の主な流れの下流側の隙間を上流側の隙間よりも大きくさせているものである。第一隙間１の大きさの差は、第一隙間１から流れ出る空気流は上方と下方において差が生じない程度に設定するのが好ましい。
【００１３】
続いて本実施形態の装置がどのように動作するかについて説明する。
まず、ウェーハ７の受け渡しが行われない状態について説明する。この状態では、図２および図３に示すように、ウェーハ出し入れ口２はドア３により塞がれている。この時は外部よりも高い圧力に設定されているミニエンバイロンメント部５の内部から空気が第一隙間１を通じて外部に定常的に流れ出ている。従って、加圧によって生じる内外の差圧はドア3付近で小さくなっている。さらに、第一隙間１は空気の主な流れの下流側の隙間を上流側の隙間よりも大きくさせているので、第一隙間１の上方側１ａから流れ出る空気流の速度と下方側１ｂとから流れ出る空気流の速度とがほぼ均等になっている。従って、第一隙間１の近傍における差圧は空気の主な流れの上流側および下流側を問わずほぼ均等とすることができる。
次に、クリーンボックス６からウェーハ７を受け渡しを行う状態について説明する。この状態では、別の処理装置における前段階の処理工程が終了後にクリーンボックス６が当該別の処理装置から運ばれてきてドッキングプレート１２に載置される。載置されたクリーンボックス６は、蓋４がウェーハ出し入れ口２を介してミニエンバイロンメント部５のドア３に近接するまでドッキングプレート１２の移動に伴って移動する。ドッキングプレート１２が停止した後、ドア３は保持機構２１により真空吸着で蓋４を把持し、蓋４とともにウェーハ出し入れ口２を開放する。前記の通り、ウェーハ出し入れ口２がドア３によって塞がれている状態では既にミニエンバイロンメント部５の内外の差圧が小さくなっているので差圧による抵抗も小さく、ドア３を容易に開けることができる。また、ドア３を開けた際にミニエンバイロンメント部５の内部から外部に向かって発生する撹乱された空気流も小さくなる。従って、塵を含む撹乱された空気流がクリーンボックス６内に呼び込まれることなく、さらに撹乱された空気流がウェーハ出し入れ口２周辺に存在する塵を攪拌して結果的にクリーンボックス６内に巻き込むことを防ぐことができる。また特に、第一隙間１の近傍における差圧は空気の主な流れの上流側および下流側を問わずほぼ均等となっているので、ドア３を開けた際にもドア３の周囲において上流側および下流側を問わず、ドア３を開けることにより生ずる空気の撹乱流に差異は生じない。従って、ドア３の下方側において空気の撹乱流によりウェーハ７が汚染する機能低下の問題を防ぐことができる。
その後、ドア３は蓋４を把持したまま駆動部２０によって下降し、ウェーハ７がロボットアーム１１によってミニエンバイロンメント部５内に運ばれる。ウェーハ７がミニエンバイロンメント部５の内部の所定位置に格納された後にドア３は駆動部２０によって再度上昇しウェーハ出し入れ口２を塞いでウェーハ７の受け渡しは終了する。
【００１４】
（実施例２）
図３を用いてロードポートテーブル１５に第二隙間８を配置する実施例２について説明する。図３はドア３がウェーハ出し入れ口２を開放した際のロードポートテーブル１５部分を拡大した図である。ロードポートテーブル１５にドッキングプレート１２が配置されていて、ドッキングプレート１２はウェーハ出し入れ口２に近づいたり離れたりするように移動可能である。なお、理解を容易にするために図３ではクリーンボックス６を省略しているが、この状態ではクリーンボックス６は蓋４が開けられたクリーンボックス６の開口をウェーハ出し入れ口２に対向させた状態でドッキングプレート１２上に載置されている。すなわち、ロードポートテーブル１５はウェーハ７をミニエンバイロンメント部５とクリーンボックス６との間で受け渡し可能なようにクリーンボックス開口と前記ウェーハ出し入れ口とが対向し、かつ該クリーンボックス６の開口がミニエンバイロンメント部には接しない程度の間隔をもってクリーンボックスを載置されている。ロードポートテーブル１５にはウェーハ出し入れ口２近傍に該ウェーハ出し入れ口２に沿って延在する長細い第二隙間８を備えている。
【００１５】
続いて実施例２がどのように作用するかについて説明する。
ドア３がウェーハ出し入れ口２を閉じている状態では第一隙間１より、一方ドア３がウェーハ出し入れ口２を開いている状態ではウェーハ出し入れ口２自より空気がミニエンバイロンメント部外側に向かって流れ出ている。クリーンボックス６とミニエンバイロンメント部５とは接触していないので、ウェーハ出し入れ口２からロードポートテーブル１５側へ流出する。ロードポートテーブル１５上にはドッキングプレート１２やクリーンボックス６が載置されているため実質的な流れの断面積が確保できずにこの空気の流れの障害となる。この空気は塵を含んでいる為、空気の流れが阻害されこの付近において澱みを生じると塵を含んだ空気流がクリーンボックス６内へ流入してウェーハ６の汚染につながる。 しかし、ロードポートテーブル１５にはウェーハ出し入れ口２近傍に該ウェーハ出し入れ口２に沿って延在する長細い第二隙間８を備えているため流れの面積が確保され、塵を含んだ空気流はこの第二隙間８から外部に排出されウェーハ７の汚染を防ぐことができる。
【００１６】
なお、実施例１および２において第一隙間１および第二隙間８の幅はミニエンバイロンメント内部の圧力との関係で最も適切なものを選ぶこのが好ましい。また、第一隙間において下流側の隙間の大きさを上流側の隙間よりどの程度大きくするかについてもミニエンバイロンメント内部の圧力との関係で最も適切なものを選ぶ必要がある。
さらに、実施例１においてはウェーハ出し入れ口２の大きさを矩形とし、ドア３の大きさを下側で小さくしているが、ドア３を矩形としウェーハ出し入れ口２の形状で第一隙間１の大きさを設定しても同じ効果を生じる。
さらに、図２に示すように第一隙間１のうち、空気流の流れ方向にのびるドア３の側面側の隙間では幅を調整することにより、空気の主な流れの上流側の幅を小さくする一方、下流側の幅を大きくすることにより同じ効果がえられる。
【００１７】
【発明の効果】
本発明により、以下の効果が実現できる。
（１）ファンにより生じる空気流の下流側の隙間を上流側の隙間よりも大きくとることにより、下流側の隙間付近における撹乱を低減化してファンから離れた箇所の隙間でも防塵機能の低下をふせぐことができる。
（２）ロードポートテーブルに隙間を配置することにより、ロードポートテーブルおよびその他の物品が空気流の障害となることを防いで、クリーンボックスの下方における空気流の澱みを防止する。
【００１８】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明が適用される半導体ウェーハ処理装置の全体図である。
【図２】実施例１における半導体ウェーハ処理装置のウェーハ出し入れ口付近を示した図である。
【図３】実施例２における、ロードポートテーブル付近を示した図である。
【符号の説明】
１，８  隙間
２  ウェーハ出し入れ口
３  ドア（ミニエンバイロンメント部）
４  蓋
５  ミニエンバイロンメント部
６  クリーンボックス
７  ウェーハ
１０ 半導体ウェーハ処理装置
１１ ロボットアーム
１２ ドッキングプレート
１５ ロードポートテーブル
【図１】
0004439140.tif 000002
【図２】
0004439140.tif 000003
【図３】
0004439140.tif 000004