(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイオキシン類により汚染された構造物の各開口に対して密閉部材を装着して該構造物を周囲環境から遮断し、
前記構造物内に設置した噴霧装置を回動および上下動させ、前記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に、水と溶媒と酸化剤と界面活性剤とを含有する除染剤を噴霧して該除染剤に前記ダイオキシン類を溶解させ、
前記構造物内から前記除染剤を回収し、静置することにより前記除染剤に含まれる不溶性物質を沈降させるとともに前記ダイオキシン類を前記除染剤の液体層へ抽出させ、前記液体層からなる前記ダイオキシン類が溶解した除染剤を前記不溶性物質から分離し、
前記除染剤に溶解した前記ダイオキシン類を、前記除染剤中に含有される前記酸化剤を用いて光分解処理し、
光分解処理後の前記除染剤を前記部分に再度噴射させるために再循環させることを特徴とするダイオキシン類除染方法。
【請求項２】
前記溶媒は、アルコール系溶媒とされていることを特徴とする請求項１に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項３】
前記光分解は、前記酸化剤の添加と紫外光線とにより開始される光分解反応を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項４】
前記光分解は、光触媒を用いた光分解反応を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項５】
前記光分解は、紫外光線により前記酸化剤を分解することにより開始される光分解反応及び光触媒を用いた光分解反応を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項６】
前記光触媒は、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＫＴａＯ３、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＦｅＴｉＯ３、ＭｎＴｉＯ３、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＮｂＯ２、ＣａＴｉＯ３、ＳｒＮｂ２Ｏ６、酸化ジルコニウム、及びこれらの化合物の２種以上の混合物からなる群から任意に選択されることを特徴とする請求項４又は５に記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項７】
前記溶媒は、オクタノールとされることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項８】
前記除染剤の再循環前に前記除染剤を活性炭で吸着処理することにより再生することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項９】
前記構造体は、焼却場設備とされていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載のダイオキシン類除染方法。
【請求項１０】
ダイオキシン類により汚染された焼却場設備の構造物の各開口に対して装着され、該構造物を周囲環境から遮断するための部材と、
前記構造物内に回動および上下動可能に設置され、前記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に、水と、溶媒と、酸化剤と、界面活性剤とを含有し前記ダイオキシン類を溶解する除染剤を噴霧するための噴霧装置と、
前記構造物内から前記除染剤を回収し、静置することにより前記除染剤に含まれる不溶性物質を沈降させるとともに前記ダイオキシン類を前記除染剤の液体層へ抽出させ、前記液体層からなる前記ダイオキシン類が溶解した除染剤を前記不溶性物質から分離する回収分離装置と、
前記除染剤に溶解した前記ダイオキシン類を、前記除染剤中に含有される前記酸化剤を用いて光分解処理するための光分解手段と、
前記光分解処理後の前記除染剤を前記部分に再度噴霧させるため前記噴霧装置へと前記除染剤を再循環させるための再循環装置とを備えることを特徴とするダイオキシン類処理装置。
【請求項１１】
前記溶媒は、アルコール系溶媒とされていることを特徴とする請求項１０に記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１２】
前記ダイオキシン類を光分解するための光分解手段は、光触媒を含んで構成され、さらに該光触媒に光線を照射するための照射装置と、前記処理装置の内容物を撹拌するための撹拌装置とを有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１３】
前記光分解手段は、太陽光線を集光するための集光装置を備えることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１つに記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１４】
前記光触媒は、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＫＴａＯ３、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＦｅＴｉＯ３、ＭｎＴｉＯ３、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＮｂＯ２、ＣａＴｉＯ３、ＳｒＮｂ２Ｏ６、酸化ジルコニウム、及びこれらの化合物の２種以上の混合物からなる群から任意に選択されることを特徴とする請求項１２に記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１５】
前記除染剤の再循環前に前記除染剤を活性炭で吸着処理することにより再生するための再生装置を備えることを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか１つに記載のダイオキシン類処理装置。
【請求項１６】
前記溶媒は、オクタノールとされていることを特徴とする請求項１０〜１５のいずれか１つに記載のダイオキシン類処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ダイオキシン類により汚染された構造体からダイオキシン類を除去するためのダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ゴミ焼却場設備におけるダイオキシン類の発生が社会的に大きな問題となっている。ダイオキシン類は、その毒性の強さや体内への蓄積性等から、汚染を放置した場合人体や自然環境への深刻な影響が懸念される。このような背景を受けて、ダイオキシン類の除去・分解技術が数多く提案されてきている。しかしながら、それら技術の大半は、焼却施設稼動時のダイオキシン類排出抑制技術であり、焼却場設備の解体工事や焼却プラント等の撤去工事時に構造体内に残留、すなわち焼却場設備に付着して汚染を生じさせているダイオキシン類の除去技術や分解・無害化のための対策技術については、ほとんど提案されていないのが現状である。
【０００３】
上述した代表的なダイオキシン類の除去・分解技術としては、これまで完全燃焼法、熱分解処理法、溶融処理法、光分解法、触媒分解法、微生物分解法、超臨界流体分解法等が提案されている。これらの技術を実際の焼却場設備の解体工事や焼却プラントの撤去工事時の付着汚染ダイオキシン類対策として適用した場合、以下の問題点があることが判明している。
【０００４】
完全燃焼法、熱分解処理法、溶融処理法、触媒分解法は、焼却施設稼動時のダイオキシン類の発生を抑制するための技術であり、解体や撤去工事時の対策技術として適用することが妥当ではない。
【０００５】
また、光分解法は、紫外光や太陽光等の直接照射、或いは酸化チタン等の光触媒の使用によってダイオキシン類を分解する技術である。これらの光分解法及び触媒分解法は、処分場の浸出水や汚染土壌、紙パルプ工場において発生したダイオキシン類の分解技術として適用された例があるものの、解体や撤去工事時の対策技術、つまり、構造物等の内部に付着して汚染しているダイオキシン類の除去・分解技術として直接適用するのは、実施手法及び設備コストの点から困難である。
【０００６】
また、微生物分解法は、酢酸エチル等の添加により、ダイオキシン類分解微生物の分解能力を賦活化させて、ダイオキシン類を分解・無害化させるものであり、解体や撤去工事時の対策技術としても、充分に適用のメリットがある方法である。しかしながら、この微生物分解法には、ダイオキシン類の塩素置換体が多くなるにつれ分解効率が低下するといった報告もあるため、ダイオキシン類の分解効率を意図的に制御することが困難であるといった問題点がある。
【０００７】
超臨界流体分解法は、超臨界流体のもつ特殊な反応系を利用してダイオキシンを分解する技術で、現在注目を集めている。しかしながら、超臨界状態は、高温・高圧という特殊な条件下で形成されるため、常温・常圧下で実施される現場での除去・分解技術に対して用いることが設備面及び設備コスト等の面から非常に困難である。
【０００８】
また、従来のダイオキシン類の除去技術は、主としてその目的が焼却施設稼動時のダイオキシン類の発生を抑制するものが大半を占め、構造体の内部に付着したダイオキシン類を除去する観点から検討が加えられた例はほとんどない。構造体の内部に付着したダイオキシン類を除去するためには、溶媒によりダイオキシン類を溶解又は抽出することが効果的である。ダイオキシン類の有機溶媒への溶解に関しては、多くの研究報告がなされているが、そのほとんどは機器分析を行う際の前処理、すなわち試料からダイオキシン類を選択的に抽出する方法に関しての基礎研究である。また、ダイオキシン類によって汚染された土壌からダイオキシン類を有機溶媒によって除去することを目的とした検討が行われているものの（E. J. Dougherty et. al., Sorption processes of 2,3,7,8-tetrachlorodibenzo-p-dioxine on soil in the presence of organic liquids, J. Hazard Matr., Vol 38, No. 3, pp.405-421, 1994）、これはあくまでも各種有機溶媒存在下で、土壌−ダイオキシン類間の吸脱着に関する速度論的研究を主とする物理化学的性質を解明するための基礎研究であり、ダイオキシン類の洗浄・除去技術については何ら開示するものではない。
【０００９】
したがってこれまで、焼却場設備等の解体工事に先立って焼却場設備等の内面に付着して汚染したダイオキシン類を迅速かつ簡便に分解・無害化でき、低コスト、かつ安全性のより向上したダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置が必要とされている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、焼却場設備解体等に先だって、焼却場設備のダイオキシン類によって汚染された部分、具体的には焼却場設備の内面に付着ないし吸着したダイオキシン類を有機溶媒／水の混合溶液から得られる除染剤にダイオキシン類を溶解させることで洗浄・除去を行いつつ、その除染剤中のダイオキシン類を光分解法を用いて分解させ、その後除染剤を再生することで除染剤を再利用するといったダイオキシン類の分解・無害化のための一連のシステムを提供するものである。すなわち、本発明は、構造物に付着して汚染を生じさせているダイオキシン類を溶解・除去する除染剤を用い、ダイオキシン類を除染剤に溶解させた後、除染剤に溶解したダイオキシン類を分解・無害化すると共に、除染剤を再生して該除染剤を再循環させることにより、焼却施設の解体工事や焼却プラント等の撤去工事に先立って施工する必要のある、作業上の安全確保及び汚染拡大防止対策として用いることが可能なダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、本発明のダイオキシン類の除染方法及びダイオキシン類処理装置を提供することによって達成される。
【００１２】
すなわち、本発明の請求項１の発明によれば、ダイオキシン類により汚染された構造物を周囲環境から遮断し、上記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に除染剤を噴霧して除染剤に上記ダイオキシン類を溶解させ、上記除染剤中に含まれる上記ダイオキシン類を光分解処理し、光分解処理後の上記除染剤を上記部分に再度噴霧させるために再循環させることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１３】
本発明の請求項２の発明によれば、上記除染剤は、水と、溶媒と、酸化剤とを含有することを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１４】
本発明の請求項３の発明によれば、上記溶媒は、アルコール系溶媒とされていることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１５】
本発明の請求項４の発明によれば、上記光分解は、上記酸化剤の添加と紫外光線とにより開始される光分解反応を用いることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１６】
本発明の請求項５の発明によれば、上記光分解は、光触媒を用いた光分解反応を用いることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１７】
本発明の請求項６の発明によれば、上記光分解は、紫外光線により上記酸化剤を分解することにより開始される光分解反応及び光触媒を用いた光分解反応を用いることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１８】
本発明の請求項７の発明によれば、上記光触媒は、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＫＴａＯ３、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＦｅＴｉＯ３、ＭｎＴｉＯ３、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＮｂＯ２、ＣａＴｉＯ３、ＳｒＮｂ２Ｏ６、酸化ジルコニウム、及びこれらの化合物の２種以上の混合物からなる群から任意に選択されることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００１９】
本発明の請求項８の発明によれば、上記溶媒は、オクタノールとされることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００２０】
本発明の請求項９の発明によれば、上記除染剤の再循環前に上記除染剤を活性炭で吸着処理することにより再生することを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００２１】
本発明の請求項１０の発明によれば、上記構造体は、焼却場設備とされていることを特徴とするダイオキシン類除染方法が提供される。
【００２２】
本発明の請求項１１の発明によれば、ダイオキシン類により汚染された焼却場設備の構造物を周囲環境から遮断するための部材と、上記構造物のダイオキシン類により汚染された部分に、水と、溶媒と、酸化剤とを含有し上記ダイオキシン類を溶解する除染剤を噴霧するための噴霧装置と、上記除染剤に溶解した上記ダイオキシン類を光分解処理するための光分解手段と、上記光分解処理後の上記除染剤を上記部分に再度噴霧させるため上記噴霧装置へと上記除染剤を再循環させるための再循環装置とを備えることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２３】
本発明の請求項１２の発明によれば、上記溶媒は、アルコール系溶媒とされていることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２４】
本発明の請求項１３の発明によれば、上記ダイオキシン類を光分解するための光分解手段は、光触媒を含んで構成され、さらに該光触媒に光線を照射するための照射装置と、上記処理装置の内容物を撹拌するための撹拌装置とを有することを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２５】
本発明の請求項１４の発明によれば、上記光分解手段は、太陽光線を集光するための集光装置を備えることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２６】
本発明の請求項１５の発明によれば、上記光触媒は、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＫＴａＯ３、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＦｅＴｉＯ３、ＭｎＴｉＯ３、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＮｂＯ２、ＣａＴｉＯ３、ＳｒＮｂ２Ｏ６、酸化ジルコニウム、及びこれらの化合物の２種以上の混合物からなる群から任意に選択されることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２７】
本発明の請求項１６の発明によれば、上記除染剤の再循環前に上記除染剤を活性炭で吸着処理することにより再生するための再生装置を備えることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２８】
本発明の請求項１７の発明によれば、上記溶媒は、オクタノールとされていることを特徴とするダイオキシン類処理装置が提供される。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下本発明を図面を用いて詳細に説明する。図１には、本発明のダイオキシン類除染方法のフローチャートを示す。本発明のダイオキシン類除染方法は、本発明に用いる除染剤をダイオキシン類が付着した焼却場設備といった構造物の汚染された部分、具体的には構造物の内面に噴霧する工程１０１と、ダイオキシン類を分解するためのダイオキシン分解Ｉ工程１０２及びダイオキシン分解ＩＩ工程１０３と、除染剤再生工程１０４と、除染剤循環工程１０５とを含んで構成することが可能である。以下、各工程に沿って本発明のダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置について説明する。
【００３０】
本発明のダイオキシン類除染方法に用いる除染剤は、有機溶媒と水とを混合し、この混合溶媒に対しダイオキシン類の光分解における分解効率を向上させるための酸化剤を添加して製造することができる。
【００３１】
上記有機溶媒としては、種々の有機溶媒を用いることができ、このような有機溶媒としては、具体的には例えば、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼン、エチルベンゼン、キシレン、ジエチルベンゼン、シクロヘキセン、シクロペンタン、ジペンテン、ジメチルナフタレン、シメン類、樟脳油、石油エーテル、石油ベンジン、ソルベントナフサ、デカリン、デカン、テトラリン、テレピン油、灯油、ドデカン、ドデシルベンゼン、トルエン、ナフタレン、ノナン、パインオイル、ピネン、メチルシクロヘキサン、ｐ−メンタン、リグロインといった炭化水素系溶剤を挙げることができる。
【００３２】
上記有機溶媒としてはさらに、環境に対して悪影響を与えない範囲において、また焼却場設備が再度ゴミ等の焼却に用いられず、ダイオキシン類を発生させる可能性がない場合には、２−エチルヘキシルクロリド、塩化アミル、塩化イソプロピル、塩化エチル、塩化ナフタレン、塩化ブチル、塩化ヘキシル、塩化メチル、塩化メチレン、ｏ−クロロトルエン、ｐ−クロロトルエン、クロロベンゼン、四塩化炭素、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、ジクロロトルエン、ジクロロブタン、ジクロロプロパン、ジクロロベンゼン、ジブロモエタン、ジブロモブタン、ジブロモプロパン、ジブロモベンゼン、ジブロモペンタン、臭化アリル、臭化イソプロピル、臭化エチル、臭化オクチル、臭化ブチル、臭化プロピル、臭化メチル、臭化ラウリル、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、テトラブロモエタン、テトラメチレンクロロブロミド、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、トリクロロベンゼン、ブロモクロロエタン、１−ブロモ−３−クロロプロパン、ブロモナフタレン、ブロモベンゼン、ヘキサクロロエタン、ペンタメチレンクロロブロミド等のハロゲン化炭化水素系溶剤を用いることが可能である。
【００３３】
また、上記有機溶媒としては、アミルアルコール、アリルアルコール、イソアミルアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、ウンデカノール、エタノール、２−エチルブタノール、２−エチルヘキサノール、２−オクタノール、ｎ−オクタノール、グリシドール、シクロヘキサノール、３，５，−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、ｎ−デカノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオール、ネオペンチルアルコール、ノナノール、フーゼル油、ブタノール、フルフリルアルコール、プロパギルアルコール、プロパノール、ヘキサノール、ヘプタノール、ベンジルアルコール、ペンタノール、メタノール、メチルシクロヘキサノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−１−ブチン−３−オール、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−１−ペンチン−３−オールといったアルコール類も挙げることができる。
【００３４】
上記有機溶媒としては、さらにアニソール、エチルイソアミルエーテル、エチル−ｔ−ブチルエーテル、エチルベンジルエーテル、エポキシブタン、クラウンエーテル類、クレジルメチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルアセタール、ジエチルエーテル、ジオキサン、１，８−シネオール、ジフェニルエーテル、ジブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジベンジルエーテル、ジメチルエーテル、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、トリオキサン、ビス（２−クロロエチル）エーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、フラン、フルフラール、メチラール、メチル−ｔ−ブチルエーテル、メチルフラン、モノクロロジエチルエーテルといったエーテル・アセタール系溶剤も挙げることができる。
【００３５】
上述の有機溶媒としては、アセチルアセトン、アセトアルデヒド、アセトフェノン、アセトン、イソホロン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ホロン、メシチルオキシド、メチル−ｎ−アミルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｎ−へプチルケトンといったケトン・アルデヒド系溶剤も同様に用いることができる。
【００３６】
本発明に用いることができる溶媒としては、さらにアジピン酸ジエチル、アジピン酸ジオクチル、アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸アリル、アセト酢酸メチル、アビエチン酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、安息香酸プロピル、安息香酸ベンジル、安息香酸メチル、イソ吉草酸イソアミル、イソ吉草酸エチル、ギ酸イソアミル、ギ酸イソブチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、ギ酸プロピル、ギ酸ヘキシル、ギ酸ベンジル、ギ酸メチル、クエン酸トリブチル、ケイ皮酸エステル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、酢酸アミル、酢酸アリル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、酢酸−２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ベンジル、酢酸メチル、酢酸メチルシクロヘキシル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、蓚酸ジアミル、蓚酸ジエチル、蓚酸ジブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、セパシン酸ジオクチル、セパシン酸ジブチル、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、炭酸ジメチル、乳酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジメチル、γ−ブチロラクトン、プロピオン酸イソアミル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ベンジル、プロピオン酸メチル、ホウ酸エステル類、マレイン酸ジオクチル、マレイン酸ジブチル、マロン酸ジイソプロピル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジメチル、酪酸イソアミル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸メチル、燐酸エステル類といったエステル系溶剤も挙げることができる。
【００３７】
上述の溶媒としては、エチレングリコール、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールジアセタート、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールモノイソプロピルエータル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノメトキシメチルエーテル、エチレンクロロヒドリン、１，３−オクチレングリコール、グリセリン、グリセリン１，３−ジアセタート、グリセリンジアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸エステル、グリセリントリアセタート、グリセリントリラウラート、グリセリンモノアセタート、２−クロロ−１，３−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ポリプロピレングリコールといった多価アルコール及びそれらの誘導体を挙げることができる。
【００３８】
さらに上述の溶媒としては、イソ吉草酸、イソ酪酸、イタコン酸、２−エチルヘキサン酸、２−エチル酢酸、オレイン酸、カプリル酸、カプロン酸、ギ酸、吉草酸、酢酸、乳酸、ピバリン酸、プロピオン酸、といったカルボン酸誘導体、エチルフェノール、オクチルフェノール、カテコール、グアヤコール、キシレノール、ｐ−クミルフェノール、クレゾール、ドデシルフェノール、ナフトール、ノニルフェノール、フェノール、ベンジルフェノール、ｐ−メトキシエチルフェノールといったフェノール類、アセトニトリル、アセトンシアノヒドリン、アニリン、アリルアミン、アミルアミン、イソキノリン、イソブチルアミン、イソプロパノールアミン類、イソプロピルアミン、イミダゾール、Ｎ−エチルエタノールアミン、２−エチルヘキシルアミン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、カプロラクタム、キノリン、クロロアニリン、シアノ酢酸エチル、ジアミルアミン、イソブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジアエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ジエチルアミン、ジエチルベンジルアミン、ジエチレントリアミン、ジオクチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、トリアミルアミン、トリオクチルアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、トリオクチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリプロピルアミン、トリメチルアミン、トルイジン、ニトロアニソール、ピコリン、ピペラジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、Ｎ−フェニルモルホリン、モルホリン、ブチルアミン、ヘプチルアミン、ルチジンといった含窒素化合物、これらの溶媒の他、含イオウ化合物系溶剤、フッ素系溶剤等も挙げることができる。
【００３９】
上述した溶剤は、水に対して溶解又は適宜分散させて用いることができるが、水と混和性のある溶媒を用いることが除染剤を噴霧させる際の取扱の点から好ましい。具体的には好ましい溶剤としては、エチルアルコール、ブチルアルコール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノールといったアルコール系溶剤を挙げることができる。また、上述した溶剤は適宜混合して用いることが可能である。
これらのうちでもｎ−オクタノール、２−オクタノールは、良好にダイオキシン類を溶解させることが可能な点で好ましい。これら以外にも上述した溶媒のうちダイオキシン類を溶解させることが可能な溶剤であれば、適宜用いることが可能である。また、上述した溶媒は、単独で水に溶解又は分散して用いることもできるし、水に対して複数種の溶媒を溶解・分散させて用いることも可能である。なお、本発明にいうダイオキシン類とは、主としてポリ塩素化ジベンゾパラジオキシン（ＰＣＤＤｓ）及びポリ塩素化ジベンゾフラン（ＰＣＤＦｓ）のことをいう。しかしながら、共に人体に対する毒性がある点では、コプラナーＰＣＢの除染についても本発明が適用できることは言うまでもない。
【００４０】
さらに本発明の除染剤には、ダイオキシン類の光分解を行う際の反応効率を向上させるため、酸化剤が添加される。このような酸化剤としては、オゾン、過酸化水素、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロパーオキサイド、ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、過酸化アセチル、エチルメチルケトンパーオキサイド、ペルオキソ二硫酸カリウム、ペルオキソ二流酸アンモニウムといったペルオキソ二硫酸塩、ペルオキソホウ酸塩等、活性酸素を発生する酸化剤を挙げることができる。これらの酸化剤は、水に対して溶解性を有していることが好ましいが、用いる有機溶媒に対して溶解するものも用いることが可能である。
【００４１】
本発明の除染剤に含有される水と、溶剤とは、水が１０重量部から２０重量部、溶剤が９０重量部〜８０重量部で添加されていることが好ましい。また、上述した酸化剤は、除染剤中に溶解するダイオキシン類に対して重量で１０〜１００倍量添加することが好ましい。
【００４２】
また、本発明の除染剤中には、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤といった界面活性剤を適宜単独で、又は混合して添加することもできる。このような界面活性剤成分を添加することにより、さらに除染効果を高めることを可能とすると共に、溶剤を水に対して分散させて使用する場合に、溶剤の分散安定性をより向上させることができる。
【００４３】
本発明の除染剤は、いかなる方法によっても製造することができ、具体的には、水と溶剤とを混合させ、その後オゾン水や、過酸化水素水といった酸化剤を混合することによって製造することが可能である。この際、オゾン水は、オゾン発生器等を用いて発生させたオゾンを水中に飽和させることにより得ることが可能であり、また過酸化水素水や、他の過酸化物については市販の化合物を用いることが可能である。本発明に用いることができる除染剤の典型的な処方としては、例えば、水１０重量部、オクタノール９０重量部、オゾン濃度約８０ｐｐｍからなる組成物を挙げることができる。
【００４４】
本発明のダイオキシン類除染方法は、工程１０１において、上述の除染剤をダイオキシン類によって汚染された焼却場設備といった構造物の内面に噴霧する。
この工程１０１により、焼却場設備といったダイオキシン類が付着した構造物の内面からダイオキシン類を含有する焼却灰を、高圧気体により噴霧される除染剤により除去することが可能となる。
【００４５】
図２には、本発明のダイオキシン類除染方法における除染剤噴霧工程１０１の実施例を示す。本発明の除染方法が適用される構造体は、ダイオキシン類により汚染された部分を有する構造体であればいかなるものでも適用することが可能であるが、本発明では、ダイオキシン類除染方法の実施例を焼却場設備の内面を除染することを例にとり詳細に説明する。本発明が適用される焼却場設備としては、焼却炉、灰ピット、冷却塔、集塵機、煙突等を挙げることができ、本発明はこれらの各設備に対して等しく適用することが可能である。図２では、これらの焼却場設備のうち本発明の除染方法を焼却場設備の焼却炉１に適用する場合を例にとって説明する。
【００４６】
図２（ａ）に示すように焼却炉１の内壁には、ゴミの燃焼により発生したダイオキシン類が付着した焼却灰２が堆積しており、この焼却灰２は、焼却炉１の解体に先だって周囲環境への汚染拡大を防止し、作業上の安全を確保するために、除去する必要がある。本発明のダイオキシン類除染方法における除染剤噴霧工程１０１では、まず図２に示すように焼却炉１の各開口３，４，５に対して密閉部材６を装着して焼却炉１を周囲環境から遮断する。このように焼却炉１の各開口３，４，５を密閉することによって周囲環境へのダイオキシン類の汚染拡大を防止することが可能となる。次いで、焼却炉１の中心位置となる上部壁７に図２（ｂ）、図２（ｃ）、より詳細には図３で説明する噴霧装置８を挿入するための開口９を形成する。次いで図２（ｂ）に示すように、噴霧装置８を上述の開口９から焼却炉１へと挿入する。さらに図２（ｃ）に示すように噴霧装置８の端部に設けられたアーム１０を水平方向へと移動させアーム１０の先端部に設置された噴霧ノズル１１を焼却炉１の内面に対向させる。次いで噴霧装置８を矢線Ａで示すように回動させることにより噴霧ノズル１１を回動させつつ、除染剤を除染剤供給タンク１２から供給ポンプ１３により供給して焼却炉１の内面に噴霧させる。
この噴霧は、噴霧ノズル１１からの高圧気体による噴霧により行なわれるようにされている。
【００４７】
この際、噴霧装置８は、アーム１０を矢線Ａで示すように回転させつつ矢線Ｂで示すように鉛直方向に上下動させて除染剤の噴霧を行う。また、アーム１０は、矢線Ｃで示すように水平方向へと伸縮可能に構成されているため、焼却炉１の形状によらず内面全体にわたって除染剤を噴霧させることが可能となり、焼却炉１の内面全体から焼却灰２、すなわちダイオキシン類による汚染を除去することが可能となる。
【００４８】
噴霧装置８から噴霧された除染剤は、図２に示す焼却炉１の下側開口５を密閉するための密閉部材６に設けられた図示しない開口から、図５においてより詳細に説明するダイオキシン類の光分解処理を行う部分へと除染された焼却灰２を含有したまま流されるようにされている。
【００４９】
図３は、本発明に用いる噴霧装置８を一部断面として示した図である。図３では、本発明のダイオキシン類除染方法に用いる噴霧装置８が、上部壁７に設けられた開口９を通して焼却炉１内へと挿入されたところが示されている。噴霧装置８は、上部壁７に噴霧装置８を保持させるための保持部材１４と、軸受け部材１５ａ，１５ｂと、軸受け部材１５ａに連結されたセンターホールジャッキ１６と、各種配管が挿通され噴霧装置８を回動駆動させるための図示しない駆動部材を連結するための連結管１７と、を備えている。軸受け部材１５ｂは、その径方向外側面が保持部材１４に取り付けられ、径方向内側面は、センターホールジャッキ１６を回動可能に保持していて、軸受け部材１５ａと共にスラスト軸受けを構成している。保持部材１４の上部壁７と重なり合う部分には、噴霧装置８を堅固、かつ着脱可能に保持するためのアンカー部材１８が挿通されていて、アンカー部材１８が上部壁７にまで延ばされているのが示されている。
【００５０】
図３には、センターホールジャッキ１６の先端部に、複数のアーム１０がアーム保持部材１９により保持されているのが示されている。また、このセンターホールジャッキ１６は、アーム１０を鉛直方向に移動可能に保持している。アーム保持部材１９は、図示しないアーム駆動機構により鉛直方向に延びた図２（ｂ）に示した位置から、図２（ｃ）及び図３に示した水平方向の位置へと移動可能にアーム１０を保持している。図３には、アーム１０を一部切り欠いて、その断面が示されている。図３に示されるようにこのアーム１０は、ジャッキから構成されているので、アーム１０の焼却炉１の内面に対向する側の端部に配置された噴霧ノズル１１を水平方向へと移動可能とさせ、焼却炉１の内面にくまなくダイオキシン類処理剤を付着させることができるようにされている。図３では、アーム１０を２本用いるものとして示しているがこのアーム１０は、適切に焼却炉１の内面へと除染剤を付着させることが可能であれば、必要に応じて何本でも用いることができる。また、センターホールジャッキ１６、アーム１０を構成するジャッキは、いかなるものでも用いることができる。また、図示しないアーム駆動機構についても、アーム１０を鉛直方向から水平方向へと移動させることができればいかなるものでも用いることができる。
【００５１】
噴霧装置８には、図３に示されるように連結管１７の上部から除染剤供給チューブ２０といった配管の他、必要に応じて油圧ケーブルが挿通される。除染剤供給チューブ２０は、さらにセンターホールジャッキ１６の内部を通され、アーム１０の内部を通されて、噴霧部材２１に取り付けけられた噴霧ノズル１１へと除染剤を供給している。
【００５２】
図４には、アーム１０に取り付けられた噴霧ノズル１１が配設される噴霧部材２１の詳細を示す。図４に示した噴霧部材２１は、保持部２２とノズル取付部２３とからなり、保持部２２に取り付けられたステー２４により、アーム１０に保持されている。このステー２４は、図４に示すようにアーム１０の先端部付近に、アーム１０に対して噴霧部材２１をステー２４を中心として矢線Ｄ方向へとスイング可能とするように配設することもできる。このようにスイング可能に取り付けることにより、さらに除染剤をあらゆる方向に噴霧させることが可能となる。ノズル取付部２３には、複数の噴霧ノズル１１が取り付けられており、この噴霧ノズル１１は、除染剤を高圧気体により内壁に向かって噴霧する。このノズル取付部２３は、回動可能に保持部２２に対して保持されていて、噴霧ノズル１１を矢線Ｅの方向へと回転させながら除染剤を高圧気体を噴出させることにより噴霧させている。この噴霧部材２１をアーム１０に対してスイングさせるための機構及びノズル取付部２３を回転可能に保持するための機構としては従来知られているいかなる機構でも用いることができる。
また、保持部２２には、ＣＣＤカメラＣＤが取り付けられており、ＣＣＤカメラＣＤからの映像を確認しつつ焼却灰２の除去状況を遠隔的に確認することが可能とされている。ＣＣＤカメラＣＤの保持部２２への取付は、噴霧ノズル１１ごしに焼却灰２の除去状況を確認することができれば、スイング可能に取り付けられていても良く、また固定して取り付けられていても良く、この際の取り付け方法及び手段としては従来公知のいかなるものでも用いることができる。
【００５３】
図５には、本発明の除染方法に用いるダイオキシン類処理装置を示す。本発明のダイオキシン類処理装置は、図３及び図４に説明した噴霧装置８と、焼却炉１といった構造体内部に付着した焼却灰２を含有する除染剤から、炭化成分といった不溶性物質ＵＳとダイオキシン類といった汚染物質を溶解した液体層ＬＦとを分離するための回収分離装置２５と、光分解手段とを備えている。本発明の光分解手段は、図５で説明する本発明の実施例では、本発明のダイオキシン除染方法のダイオキシン類分解Ｉ工程１０２で用いられる集光装置２６と、光触媒による酸化によりダイオキシン類を分解させるためのダイオキシン類分解ＩＩ工程１０３に用いる分解無害化装置２７とを備えているのが示されている。しかしながら、本発明に用いる光分解手段を集光装置２６と分解無害化装置２７とを必ずしも組み合わせて用いる必要はなく、いずれか単独で用いることも可能である。
【００５４】
本発明のダイオキシン類処理装置においては、焼却炉１の内面に噴霧され、ダイオキシン類を含む焼却灰２を含有した除染剤は、焼却炉下側の開口５を密閉するための密閉部材６に設けられた図示しない排出口から送液ポンプＰにより配管２８を通して回収分離装置２５へと供給される。この回収分離装置２５では、焼却灰２に含まれる不溶性物質ＵＳとダイオキシン類といった溶媒可溶成分との分離が行われる。すなわち、焼却灰２に含まれたダイオキシン類は、焼却炉１の内面に噴霧された段階でも除染剤中のダイオキシンを溶解するものの、この段階では光を透過させない炭化物等を含有しているため、光分解手段を構成する集光装置２６におけるダイオキシン分解Ｉ工程１０２や分解無害化装置２７における光触媒を用いたダイオキシン類分解ＩＩ工程１０３にそのまま供給するには不適切である。また、さらに焼却灰２に含まれるダイオキシン類化合物と溶剤の接触時間をさらに長時間としてダイオキシン類の有機溶剤による抽出を確実に行う必要もある。このため、図５に示した回収分離装置２５では、焼却灰２を含む除染剤を静置して、焼却灰２の不溶性成分ＵＳを沈降させるとともにダイオキシン類を溶媒に溶解抽出することにより、不溶性成分ＵＳを分離すると共に、ダイオキシン類の液体層ＬＦへの抽出をより確実に行うようにされている。
【００５５】
図５では、回収分離装置２５は、除染剤を静置させて不溶成分ＵＳと、この溶媒に溶解したダイオキシン類とを含む液体層ＬＦとを分離した後、送液ポンプＰにより液体層ＬＦを集光装置２６へと送液するように示されているが、本発明においては、回収分離装置２５に内容物を撹拌するための撹拌装置を設けて、焼却灰２を含む除染剤を撹拌させつつ、図示しないフィルターを介して液体層ＬＦを後述する光分解手段として用いられる集光装置２６へと送液ポンプＰにより送るようにされていても良い。
【００５６】
本発明において用いる光分解手段を構成する集光装置２６は、ダイオキシン分解Ｉ工程１０２に用いられる。この集光装置２６は、太陽光線を用い、除染剤中に含有される酸化剤によりダイオキシン類を分解・無害化を行う。このため、集光装置２６は、紫外光線（ＵＶ光線）を透過させるように、石英ガラス等で形成されていても良く、また、集光装置２６に石英ガラスにより形成された集光窓が設けられていても良い。このように太陽光線を用いて予めダイオキシン類を光分解することにより、ダイオキシン類分解ＩＩ工程１０３における光照射を用いた光触媒によるダイオキシン類の分解・無害化の時間や、処理コストを低減することが可能となる。
【００５７】
本発明のダイオキシン類処理装置では、次いで、光分解手段によりさらにダイオキシン類分解ＩＩ工程１０３を行うために、工程１０２のダイオキシン類分解Ｉ工程で処理された除染剤を分解無害化装置２７へと送液ポンプＰを通して送液する。この分解無害化装置２７は、分解無害化槽２９と、この分解無害化槽２９内に配置された螺旋状の照射ランプ３０と、分解無害化槽２９の内容物を撹拌するための攪拌羽根３１とを備えている。照射ランプ３０は、分解無害化槽２９内へと絶縁を維持しつつ分解無害化槽２９の外部の図示しない電源へと接続されていて、分解無害化槽２９内に光線を照射させている。なお、この照射ランプ３０は図５中では螺旋形とされているのが示されているが、いかなる形状、大きさの照射ランプ３０でも用いることが可能である。また、この照射ランプ３０は、後述する光触媒のバンドギャップに対応して電子を励起でき、必要な酸化反応を生じさせる電子を生じさせることが可能な約２００ｎｍから約６００ｎｍの波長の光線を照射させるものであればいかなるものでも用いることができる。
【００５８】
また、特に照射ランプ３０を用いずに、照射ランプ３０に代えてダイオキシン類分解Ｉ工程１０２で集光された太陽光線を分解無害化槽２９内部へと導入する光ファイバーを用いることもできる。この際には集光部、照射部、及び光ファイバーは、照射光線を充分に透過させることができるように紫外光を透過可能な材料、例えば石英製の材料から形成することが必要である。このように光ファイバーによって太陽光線を分解無害化槽２９へと導入することにより太陽光線といった自然の光源を用いることを可能とし、ダイオキシン類の分解無害化の処理コストを低減させると共に、自然エネルギーを利用した環境調和型の処理装置を提供できる。
【００５９】
分解無害化装置２７の分解無害化槽２９内には、照射ランプ３０又は太陽光線によるＵＶ光線の照射により活性化されて酸化反応を引き起こすことができる光触媒３２が収容されている。この光触媒３２は、図５では、粒子状とされているのが示されている。しかしながら、本発明においては、上述した光触媒３２は、図示されているように粒子状として用いることも可能であるし、分解無害化槽２９の内面のライニング及び照射ランプ３０の表面にコーティングした膜として用いることも可能である。本発明において用いることができる光触媒としては、種々の材料を挙げることができ、具体的には例えば、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＫＴａＯ３、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＦｅＴｉＯ３、ＭｎＴｉＯ３、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５、ＮｂＯ２、ＣａＴｉＯ３、ＳｒＮｂ２Ｏ６、酸化ジルコニウム等、バンドギャップが約２．０ｅＶから約６．３ｅＶ程度の光触媒を挙げることができる。また、これらの光触媒は、適宜混合して用いることが可能である。
【００６０】
本発明のダイオキシン類処理装置では上述した光分解手段を用いてほとんどのダイオキシン類を分解することが可能となり、そのまま除染剤を再度用いることも可能である。しかしながら、危険性の高いダイオキシンが処理対象とされているので、除染剤再生工程１０４により、分解無害化装置２７からの処理液を活性炭により処理して最終的な再生除染剤とすることが好ましい。本発明の除染剤再生工程１０４において用いられる再生装置３３は、分解無害化装置２７からの処理液を受け取り除染剤に対して活性炭により吸着処理を加えるための活性炭処理装置３４と、再生除染剤を貯蔵しておくための再生除染剤タンク３５とから構成されている。このように再生された再生除染剤は、図５に示されるようにさらに送液ポンプＰによって除染剤再循環装置３６へと送られる。この除染剤再循環装置３６は、再生除染剤供給タンク３７と再循環送液ポンプＰとを備えており、この再生除染剤供給タンク３７に貯蔵された再生除染剤は、再循環送液ポンプＰにより再度噴霧装置８へと供給され、除染剤循環工程１０５において除染剤を循環して本発明の除染方法が繰り返されることになる。本発明の除染方法は、工程１０６で示すように構造体の内面から焼却灰２が完全に除去されたことを噴霧装置８の噴霧部材２１に取り付けたＣＣＤカメラＣＤ等により確認した後、終了する。なお、これらの各設備は、集光装置２６を除き、図５においては建屋３８内に収容されているのが示されているが、この建屋３８は必ずしも必要とされるものではない。
【００６１】
本発明の除染方法を焼却場設備に適用した後、焼却場設備の解体を行うが、本発明によりすでに焼却場の各設備の内面が除染されているので、ダイオキシン類による周囲環境への汚染拡大を生じさせず、また、作業上の安全を確保することが可能となる。
【００６２】
これまで本発明を、焼却場設備の構造体を例にとり説明してきたが、本発明は、焼却場設備ばかりではなく、ダイオキシン類に汚染された他の構造物の解体を行う際にその汚染部分を除染するためにも適用することができることが可能である。
【００６３】
【発明の効果】
本発明のダイオキシン類の除染方法及びダイオキシン類処理装置によれば、ダイオキシン類により付着汚染された汚染物質を、現場外の処理施設や処分場等に搬出する必要がなく、現場原位置において除洗処理を行うことが可能となる。また、基本的に溶液による洗浄を用いてダイオキシン類を含有する焼却灰等を除染するため、特殊かつ複雑な管理工程を組む必要がなく、容易に作業を進めることが可能となる。
【００６４】
さらに本発明のダイオキシン類除染方法及びダイオキシン類処理装置によれば、大がかりな処理プラントを建設する必要がないので、処理コストを大幅に削減できる。また、除洗剤は、ダイオキシン類の分解・無害化を行なった後再生させて利用できるため、ランニングコストを最小限に抑えることが可能となる。さらには、本発明のダイオキシン類処理装置は、溶解したダイオキシン類を分解・無害化するために、ダイオキシン類が溶解した除洗剤を一時的に溜めておく分解無害化槽を用意しておき、その中に光触媒と、撹件装置と、照射ランプとを設け、除洗剤を送出するポンプを設けるだけで済み、ダイオキシン類処理装置の建設費用は非常が安価に抑えるられることになる。また、光酸化触媒で分解・無害化処理を行う際に、必要に応じて太陽光を利用することが可能となるので紫外線（ＵＶ）といった光線の照射に要するランニングコストを削減することも可能とする。
【００６５】
また本発明は、ダイオキシン類の分解・無害化に関して、光酸化触媒を利用した分解法を採用しているので、燃焼法等で問題となっているようなダイオキシン類が再生成することもなく、除染剤を廃棄する際、ダイオキシン類は分解・無害化されているので、そのまま廃棄が可能であり、廃棄のために改めて分解・無害化処理を行う必要がないという、安全上極めて優れた効果を得ることを可能とする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のダイオキシン類の除染方法を示すフローチャート。
【図２】本発明のダイオキシン類の除染方法を焼却炉に適用するところを示した図。
【図３】本発明に用いる除染剤の噴霧装置を示した図。
【図４】本発明に用いる噴霧装置の噴霧部材の詳細部を示した図。
【図５】本発明のダイオキシン類処理装置を示した図。
【符号の説明】
１…焼却炉
２…焼却灰
３，４，５…開口
６…密閉部材
７…上部壁
８…噴霧装置
９…開口
１０…アーム
１１…噴霧ノズル
１２…除染剤供給タンク
１３…供給ポンプ
１４…保持部材
１５ａ，１５ｂ…軸受け部材
１６…センターホールジャッキ
１７…連結管
１８…アンカー部材
１９…アーム保持部材
２０…除染剤供給チューブ
２１…噴霧部材
２２…保持部
２３…ノズル取付部
２４…ステー
２５…回収分離装置
２６…集光装置
２７…分解無害化装置
２８…配管
２９…分解無害化槽
３０…照射ランプ
３１…攪拌羽根
３２…光触媒
３３…除染剤再生装置
３４…活性炭処理装置
３５…再生除染剤タンク
３６…再循環装置
３７…再生除染剤供給タンク
３８…建屋
ＣＤ…ＣＣＤカメラ
ＬＦ…液体層
ＵＳ…不溶成分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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