(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、薄膜を形成する工程と、
前記薄膜上に、レジスト膜を最上層に設けた多層膜を形成する工程と、
前記多層膜を、フォトリソグラフィ技術を用いて、所定の間隔を持つパターンに加工する工程と、
有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給し、前記加工された多層膜、及び前記薄膜上に、前記薄膜及び前記多層膜とは異なったシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記シリコン酸化膜を後退させ、前記加工された多層膜の側壁上に側壁スペーサを形成する工程と、
前記加工された多層膜を除去する工程と、
前記側壁スペーサをマスクに用いて、前記薄膜を加工する工程と、
を具備することを特徴とする微細パターンの形成方法。
【請求項２】
基板上に、第１の薄膜を形成する工程と、
前記第１の薄膜上に、この第１の薄膜とは異なる膜からなる第２の薄膜を形成する工程と、
前記第２の薄膜上に、この第２の薄膜とは異なる膜からなるハードマスク膜を形成する工程と、
前記ハードマスク膜上に、レジスト膜を最上層に設けた多層膜を形成する工程と、
前記多層膜を、フォトリソグラフィ技術を用いて、所定の間隔を持つパターンに加工する工程と、
有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給し、前記加工された多層膜、及び前記ハードマスク膜上に、前記ハードマスク膜及び前記多層膜とは異なるシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記シリコン酸化膜を後退させ、前記加工された多層膜の側壁上に側壁スペーサを形成する工程と、
前記加工された多層膜を除去する工程と、
前記側壁スペーサをマスクに用いて、前記ハードマスク膜を加工する工程と、
前記ハードマスク膜をマスクに用いて、前記第２の薄膜を加工する工程と、
を具備することを特徴とする微細パターンの形成方法。
【請求項３】
前記第１の薄膜は、エッチングストッパ膜であることを特徴とする請求項２に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項４】
前記多層膜を、フォトリソグラフィ技術を用いて、所定の間隔を持つパターンに加工した後、前記加工された多層膜をトリミングし、前記加工された多層膜を微細化する工程を、さらに具備することを特徴とする請求項１乃至請求項３いずれか一項に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項５】
前記ソースガスとして、アミノシラン系プリカーサーを用いることを特徴とする請求項１乃至請求項４いずれか一項に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項６】
前記アミノシラン系プリカーサーは、１価または２価のアミノシラン系プリカーサーであることを特徴とする請求項５に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項７】
前記１価または２価のアミノシラン系プリカーサーは、
ＢＴＢＡＳ（ビスターシャリブチルアミノシラン）、
ＢＤＭＡＳ（ビスジメチルアミノシラン）、
ＢＤＥＡＳ（ビスジエチルアミノシラン）、
ＤＭＡＳ（ジメチルアミノシラン）、
ＤＥＡＳ（ジエチルアミノシラン）、
ＤＰＡＳ（ジプロピルアミノシラン）、
ＢＡＳ（ブチルアミノシラン）、
ＤＩＰＡＳ（ジイソプロピルアミノシラン）、
ＢＥＭＡＳ（ビスエチルメチルアミノシラン）、
から選択された少なくとも１種を用いることを特徴とする請求項６に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項８】
前記活性化された酸素種として、プラズマにより励起された酸素ラジカルを用いることを特徴とする請求項１乃至請求項７いずれか一項に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項９】
前記プラズマにより励起された酸素ラジカルは、Ｏ２ガス、ＮＯガス、Ｎ２Ｏガス、Ｈ２Ｏガス、Ｏ３ガスのいずれかから選択される少なくとも１種をプラズマ化して得ることを特徴とする請求項８に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項１０】
前記シリコン酸化膜は真空保持可能な処理容器内で形成され、前記ソースガスを前記処理容器内へ供給する工程と、前記活性化された酸素種を前記処理容器内へ供給する工程とを交互に実施して形成することを特徴とする請求項１乃至請求項９いずれか一項に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項１１】
前記ソースガスを前記処理容器内へ供給する工程と、前記活性化された酸素種を前記処理容器内へ供給する工程との間に、前記処理容器内に残留しているガスを除去する工程を挿入することを特徴とする請求項１０に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項１２】
前記処理容器内に残留しているガスを除去する工程は、前記処理容器内を真空引きしながら前記処理容器内にパージガスを導入することを特徴とする請求項１１に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項１３】
前記シリコン酸化膜を形成する際の成膜温度が前記多層膜の耐熱温度以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項１２いずれか一項に記載の微細パターンの形成方法。
【請求項１４】
前記成膜温度は１００℃以下であることを特徴とする請求項１３に記載の微細パターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体プロセスに用いられ、露光装置の解像限界以下のパターンを形成する微細パターンの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの高集積化に伴って、製造プロセスに要求される配線や分離幅は、微細化されてきている。一般的に、微細パターンは、フォトリソグラフィ技術を用いてレジストパターンを形成し、該レジストパターンをエッチングのマスクに用いて下地の各種薄膜をエッチングすることで形成される。
【０００３】
微細パターンを形成するためにはフォトリソグラフィ技術が重要であるが、近時の半導体デバイスの微細化は、フォトリソグラフィ技術の解像限界以下を要求するまでに至っている。
【０００４】
解像限界以下のパターンを形成する技術としては、例えば、特許文献１に記載されている。特許文献１においては、基本的に、下地膜上に解像限界の間隔でシリコン窒化膜（以下本明細書では犠牲膜という）を形成し、該犠牲膜の側壁上に側壁シリコン酸化膜（以下本明細書では側壁スペーサという）を形成し、上記犠牲膜を除去するとともに側壁スペーサを残し、残った側壁スペーサをエッチングのマスクに用いて下地膜をエッチングする。
【０００５】
このような技術によれば、側壁スペーサの幅を犠牲膜の幅よりも細くできるので、この側壁スペーサをエッチングのマスクに用いることで、解像限界以下の幅を持つ下地膜のパターンを形成することができる。
【特許文献１】特開２０００−１７３９７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
フォトリソグラフィ技術の解像限界以下の幅を持つ微細パターンを形成する一つの手法として、特許文献１に記載されるように、犠牲膜を利用した微細パターンの形成方法がある。
【０００７】
しかし、側壁スペーサを形成するための犠牲膜は、犠牲膜上にレジスト膜を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いてレジスト膜を、所定の間隔を持つパターンに加工し、加工されたレジスト膜をエッチングのマスクに用いてエッチングすることで形成される。このため、製造工程が多くなる、という事情がある。
【０００８】
この発明は、解像限界以下の幅を持つ微細パターンを、少ない製造工程で形成できる微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、この発明の第１態様に係る微細パターンの形成方法は、基板上に、薄膜を形成する工程と、前記薄膜上に、レジスト膜を最上層に設けた多層膜を形成する工程と、前記多層膜を、フォトリソグラフィ技術を用いて、所定の間隔を持つパターンに加工する工程と、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給し、前記加工された多層膜、及び前記薄膜上に、前記薄膜及び前記多層膜とは異なったシリコン酸化膜を形成する工程と、前記シリコン酸化膜を後退させ、前記加工された多層膜の側壁上に側壁スペーサを形成する工程と、前記加工された多層膜を除去する工程と、前記側壁スペーサをマスクに用いて、前記薄膜を加工する工程と、を具備する。
【００１０】
また、この発明の第２態様に係る微細パターンの形成方法は、基板上に、第１の薄膜を形成する工程と、前記第１の薄膜上に、この第１の薄膜とは異なる膜からなる第２の薄膜を形成する工程と、前記第２の薄膜上に、この第２の薄膜とは異なる膜からなるハードマスク膜を形成する工程と、前記ハードマスク膜上に、レジスト膜を最上層に設けた多層膜を形成する工程と、前記多層膜を、フォトリソグラフィ技術を用いて、所定の間隔を持つパターンに加工する工程と、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給し、前記加工された多層膜、及び前記ハードマスク膜上に、前記ハードマスク膜及び前記多層膜とは異なるシリコン酸化膜を形成する工程と、前記シリコン酸化膜を後退させ、前記加工された多層膜の側壁上に側壁スペーサを形成する工程と、前記加工された多層膜を除去する工程と、前記側壁スペーサをマスクに用いて、前記ハードマスク膜を加工する工程と、前記ハードマスク膜をマスクに用いて、前記第２の薄膜を加工する工程と、を具備する。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、解像限界以下の幅を持つ微細パターンを、少ない製造工程で形成できる微細パターンの形成方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照してこの発明の実施形態について具体的に説明する。
【００１３】
（第１の実施形態）
図１乃至図６は、この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図である。
【００１４】
第１の実施形態は、この発明に係る微細パターンの形成方法の基本的なプロセスフローを例示するものである。
【００１５】
まず、図１に示すように、基板、本例では半導体基板１０１上に、薄膜１０２を形成する。本明細書においては、半導体基板１０１は、半導体、例えば、シリコン基板のみを示すものではなく、半導体基板内、又は半導体基板上に形成された半導体素子や集積回路パターンに対応した導電膜、これらを絶縁する層間絶縁膜が形成された構造体を含む、と定義する。薄膜１０２は、後に微細パターンに加工される膜であり、例えば、後に形成される側壁スペーサと異なった絶縁膜であっても良いし、導電膜であっても良い。本例では、一例として、薄膜１０２を導電性ポリシリコンとする。次いで、薄膜１０２上にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜１０３を形成する。
【００１６】
次に、図２に示すように、フォトリソグラフィ技術を用いて、フォトレジスト膜１０３を、所定の間隔を持つレジストパターン１０３´に加工する。本例では、レジストパターン１０３´の一例として、ライン・アンド・スペースパターンとし、所定の間隔としては、露光装置の解像限界とする。例えば、本例では、レジストパターン１０３´の、平面方向に沿った幅Ｗｒが解像限界である。
【００１７】
次に、図３に示すように、レジストパターン１０３´、及び薄膜１０２上に、レジストパターン１０３´及び薄膜１０２とは異なったシリコン酸化膜１０５を形成する。本例のシリコン酸化膜１０５は、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給することでレジストパターン１０３´、及び薄膜１０２上に形成する。有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給しながら、シリコン酸化膜１０５を原子層レベル、もしくは分子層レベルで順次形成していくことで、シリコン酸化膜１０５を極めて低い温度、例えば、フォトレジスト膜１０３（レジストパターン１０３´）の耐熱温度以下の温度で形成することができる。活性化された酸素種の例としては、プラズマにより励起された酸素ラジカル、熱により励起された酸素ラジカル、及び光により励起された酸素ラジカル等を挙げることができる。また、光の例としては、レーザーや、波長３５０ｎｍ以下の紫外線を挙げることができる。
【００１８】
次に、図４に示すように、図３に示した構造体をエッチバックし、シリコン酸化膜１０５を、その表面から後退させ、レジストパターン１０３´の側壁上に側壁スペーサ１０５´を形成する。エッチバックの一例は、異方性エッチングであり、例えば、ＲＩＥ法などを利用すれば良い。側壁スペーサ１０５´の、平面方向沿った幅ＷＳｉＯ２は、レジストパターン１０３´の幅Ｗｒよりも狭くできるので、幅ＷＳｉＯ２は、解像限界以下にできる。
【００１９】
次に、図５に示すように、側壁スペーサ１０５´及び薄膜１０２をマスクに用いて、レジストパターン１０３´を除去する。レジストパターン１０３´の除去の一例は、アッシングである。
【００２０】
次に、図６示すように、側壁スペーサ１０５´をエッチングのマスクに用いて、薄膜１０２をエッチングし、薄膜１０２を、所定の間隔を持つパターンに加工する。加工された薄膜１０２の、平面方向沿った幅Ｗｔは側壁スペーサ１０５´の幅ＷＳｉＯ２と等しい、もしくはほぼ等しくなるので、幅Ｗｔは、解像限界以下にできる。
【００２１】
このようにして、第１の実施形態によれば、解像限界以下の幅Ｗｔを有する薄膜１０２の微細パターンを形成することができる。
【００２２】
さらに、第１の実施形態では、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給して薄膜１０２及びレジストパターン１０３´上に、シリコン酸化膜１０５を形成する。これにより、シリコン酸化膜１０５を極めて低い温度、例えば、フォトレジスト膜１０３（レジストパターン１０３´）の耐熱温度以下の温度で形成することができる。これについて、以下、詳しく説明する。
【００２３】
図７はシリコン酸化膜１０５の成膜に使用される成膜装置の一例を示す縦断面図、図８は図７の成膜装置を示す横断面図、図９は本実施形態におけるガスの供給のタイミングを示すタイミングチャートである。なお、図８においては、加熱装置を省略している。
【００２４】
図７及び図８に示すように、成膜装置８０は、下端が開口された有天井の円筒体状の処理容器１を有している。この処理容器１の全体は、例えば石英により形成されており、この処理容器１内の天井には、石英製の天井板２が設けられて封止されている。また、この処理容器１の下端開口部には、例えばステンレススチールにより円筒体状に成形されたマニホールド３がＯリング等のシール部材４を介して連結されている。
【００２５】
上記マニホールド３は処理容器１の下端を支持しており、このマニホールド３の下方から被処理体として多数枚、例えば５０〜１００枚の半導体ウエハＷを多段に載置可能な石英製のウエハボート５が処理容器１内に挿入可能となっている。このウエハボート５は３本の支柱６を有し（図８参照）、支柱６に形成された溝により多数枚のウエハＷが支持されるようになっている。
【００２６】
このウエハボート５は、石英製の保温筒７を介してテーブル８上に載置されており、このテーブル８は、マニホールド３の下端開口部を開閉する例えばステンレススチール製の蓋部９を貫通する回転軸１０上に支持される。
【００２７】
そして、この回転軸１０の貫通部には、例えば磁性流体シール１１が設けられており、回転軸１０を気密にシールしつつ回転可能に支持している。また、蓋部９の周辺部とマニホールド３の下端部との間には、例えばＯリングよりなるシール部材１２が介設されており、これにより処理容器１内のシール性を保持している。
【００２８】
上記の回転軸１０は、例えばボートエレベータ等の昇降機構（図示せず）に支持されたアーム１３の先端に取り付けられており、ウエハボート５および蓋部９等を一体的に昇降して処理容器１内に対して挿脱されるようになっている。なお、上記テーブル８を上記蓋部９側へ固定して設け、ウエハボート５を回転させることなくウエハＷの処理を行うようにしてもよい。
【００２９】
また、成膜装置８０は、処理容器１内へ酸素含有ガス、例えばＯ２ガスを供給する酸素含有ガス供給機構１４と、処理容器１内へＳｉソースガスを供給するＳｉソースガス供給機構１５と、処理容器１内へパージガスとして不活性ガス、例えばＮ２ガスを供給するパージガス供給機構１６とを有している。
【００３０】
本実施形態においては、シリコン酸化膜１０５を成膜するためのＳｉソースガスとして有機シリコンを含むＳｉソースガスを用いる。有機シリコンを含むＳｉソースガスの例は、アミノシラン系プリカーサーである。アミノシラン系プリカーサーの例は、１価または２価のアミノシラン系プリカーサーである。１価または２価のアミノシラン系プリカーサーの具体的な例は、例えば、ＢＴＢＡＳ（ビスターシャリブチルアミノシラン）、ＢＤＭＡＳ（ビスジメチルアミノシラン）、ＢＤＥＡＳ（ビスジエチルアミノシラン）、ＤＭＡＳ（ジメチルアミノシラン）、ＤＥＡＳ（ジエチルアミノシラン）、ＤＰＡＳ（ジプロピルアミノシラン）、ＢＡＳ（ブチルアミノシラン）、ＤＩＰＡＳ（ジイソプロピルアミノシラン）、及びＢＥＭＡＳ（ビスエチルメチルアミノシラン）である。
【００３１】
また、アミノシラン系プリカーサーとしては、３価のアミノシラン系プリカーサーを用いることもできる。３価のアミノシラン系プリカーサーの例は、ＴＤＭＡＳ（トリジメチルアミノシラン）である。
【００３２】
また、有機シリコンを含むＳｉソースガスとしては、アミノシラン系プリカーサーの他、エトキシシラン系プリカーサーを用いることもできる。エトキシシラン系プリカーサーの例は、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）である。
【００３３】
酸素含有ガス供給機構１４は、酸素含有ガス供給源１７と、酸素含有ガス供給源１７から酸素含有ガスを導く酸素含有ガス配管１８と、この酸素含有ガス配管１８に接続され、マニホールド３の側壁を内側へ貫通して上方向へ屈曲されて垂直に延びる石英管よりなる酸素含有ガス分散ノズル１９とを有している。この酸素含有ガス分散ノズル１９の垂直部分には、複数のガス吐出孔１９ａが所定の間隔を隔てて形成されており、各ガス吐出孔１９ａから水平方向に処理容器１に向けて略均一に酸素含有ガス、例えばＯ２ガスを吐出することができるようになっている。
【００３４】
また、Ｓｉソースガス供給機構１５は、Ｓｉソースガス供給源２０と、このＳｉソースガス供給源２０からＳｉソースガスを導くＳｉソースガス配管２１と、このＳｉソースガス配管２１に接続され、マニホールド３の側壁を内側へ貫通して上方向へ屈曲されて垂直に延びる石英管よりなるＳｉソースガス分散ノズル２２と、を有している。ここではＳｉソースガス分散ノズル２２は２本設けられており（図８参照）、各Ｓｉソースガス分散ノズル２２には、その長さ方向に沿って複数のガス吐出孔２２ａが所定の間隔を隔てて形成されており、各ガス吐出孔２２ａから水平方向に処理容器１内に略均一に有機シリコンを含むＳｉソースガスを吐出することができるようになっている。なお、Ｓｉソースガス分散ノズル２２は１本のみであってもよい。
【００３５】
さらに、パージガス供給機構１６は、パージガス供給源２３と、パージガス供給源２３からパージガスを導くパージガス配管２４と、このパージガス配管２４に接続され、マニホールド３の側壁を貫通して設けられたパージガスノズル２５とを有している。パージガスとしては不活性ガス例えばＮ２ガスを好適に用いることができる。
【００３６】
酸素含有ガス配管１８、Ｓｉソースガス配管２１、パージガス配管２４には、それぞれ開閉弁１８ａ、２１ａ、２４ａおよびマスフローコントローラのような流量制御器１８ｂ、２１ｂ、２４ｂが設けられており、酸素含有ガス、Ｓｉソースガスおよびパージガスをそれぞれ流量制御しつつ供給することができるようになっている。
【００３７】
上記処理容器１の側壁の一部には、酸素含有ガスのプラズマを形成するプラズマ生成機構３０が形成されている。このプラズマ生成機構３０は、上記処理容器１の側壁を上下方向に沿って所定の幅で削りとることによって上下に細長く形成された開口３１をその外側より覆うようにして処理容器１の外壁に気密に溶接されたプラズマ区画壁３２を有している。プラズマ区画壁３２は、断面凹部状をなし上下に細長く形成され、例えば石英で形成されている。また、プラズマ生成機構３０は、このプラズマ区画壁３２の両側壁の外面に上下方向に沿って互いに対向するようにして配置された細長い一対のプラズマ電極３３と、このプラズマ電極３３に給電ライン３４を介して接続され高周波電力を供給する高周波電源３５とを有している。そして、上記プラズマ電極３３に高周波電源３５から例えば１３．５６ＭＨｚの高周波電圧を印加することにより酸素含有ガスのプラズマが発生し得る。なお、この高周波電圧の周波数は１３．５６ＭＨｚに限定されず、他の周波数、例えば４００ｋＨｚ等を用いてもよい。
【００３８】
上記のようなプラズマ区画壁３２を形成することにより、処理容器１の側壁の一部が凹部状に外側へ窪ませた状態となり、プラズマ区画壁３２の内部空間が処理容器１の内部空間に一体的に連通された状態となる。また、開口３１は、ウエハボート５に保持されている全てのウエハＷを高さ方向においてカバーできるように上下方向に十分に長く形成されている。
【００３９】
上記酸素含有ガス分散ノズル１９は、処理容器１内を上方向に延びていく途中で処理容器１の半径方向外方へ屈曲されて、上記プラズマ区画壁３２内の最も奥の部分（処理容器１の中心から最も離れた部分）に沿って上方に向けて起立されている。このため、高周波電源３５がオンされて両電極３３間に高周波電界が形成された際に、酸素含有ガス分散ノズル１９のガス噴射孔１９ａから噴射された酸素ガスがプラズマ化されて処理容器１の中心に向けて拡散しつつ流れる。
【００４０】
上記プラズマ区画壁３２の外側には、これを覆うようにして例えば石英よりなる絶縁保護カバー３６が取り付けられている。また、この絶縁保護カバー３６の内側部分には、図示しない冷媒通路が設けられており、例えば冷却された窒素ガスを流すことにより上記プラズマ電極３３を冷却し得るようになっている。
【００４１】
上記２本のＳｉソースガス分散ノズル２２は、処理容器１の内側壁の上記開口３１を挟む位置に起立して設けられており、このＳｉソースガス分散ノズル２２に形成された複数のガス噴射孔２２ａより処理容器１の中心方向に向けてＳｉソースガスとして１分子内に１個または２個のアミノ基を有するアミノシランガスを吐出し得るようになっている。
【００４２】
一方、処理容器１の開口３１の反対側の部分には、処理容器１内を真空排気するための排気口３７が設けられている。この排気口３７は処理容器１の側壁を上下方向へ削りとることによって細長く形成されている。処理容器１のこの排気口３７に対応する部分には、排気口３７を覆うように断面凹部状に成形された排気口カバー部材３８が溶接により取り付けられている。この排気口カバー部材３８は、処理容器１の側壁に沿って上方に延びており、処理容器１の上方にガス出口３９を規定している。そして、このガス出口３９から図示しない真空ポンプ等を含む真空排気機構により真空引きされる。そして、この処理容器１の外周を囲むようにしてこの処理容器１およびその内部のウエハＷを加熱する筒体状の加熱装置４０が設けられている。
【００４３】
成膜装置８０の各構成部の制御、例えばバルブ１８ａ、２１ａ、２４ａの開閉による各ガスの供給・停止、マスフローコントローラ１８ｂ、２１ｂ、２４ｂによるガス流量の制御、および高周波電源３５のオン・オフ制御、加熱装置４０の制御等は例えばマイクロプロセッサ（コンピュータ）からなるコントローラ５０により行われる。コントローラ５０には、工程管理者が成膜装置８０を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、成膜装置８０の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース５１が接続されている。
【００４４】
また、コントローラ５０には、成膜装置８０で実行される各種処理をコントローラ５０の制御にて実現するための制御プログラムや、処理条件に応じて成膜装置８０の各構成部に処理を実行させるためのプログラムすなわちレシピが格納された記憶部５２が接続されている。レシピは記憶部５２の中の記憶媒体に記憶されている。記憶媒体は、ハードディスクや半導体メモリであってもよいし、ＣＤ-ＲＯＭ、ＤＶＤ、フラッシュメモリ等の可搬性のものであってもよい。また、他の装置から、例えば専用回線を介してレシピを適宜伝送させるようにしてもよい。
【００４５】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース５１からの指示等にて任意のレシピを記憶部５２から呼び出してコントローラ５０に実行させることで、コントローラ５０の制御下で、成膜装置８０での所望の処理が行われる。
【００４６】
次に、以上のように構成された成膜装置を用いて行なわれるシリコン酸化膜１０５の成膜方法の一例を、図９を参照して説明する。
【００４７】
例えば５０〜１００枚の半導体ウエハＷが搭載された状態のウエハボート５を予め所定の温度に制御された処理容器１内にその下方から上昇させることによりロードし、蓋部９でマニホールド３の下端開口部を閉じることにより処理容器１内を密閉空間とする。ウエハエハＷとしては、直径３００ｍｍのものが例示される。
【００４８】
そして、処理容器１内を真空ウエハ所定のプロセス圧力に維持するととともに、加熱装置４０への供給電力を制御して、ウエハ温度を上昇させてプロセス温度に維持し、ウエハボート５を回転させた状態で成膜処理を開始する。
【００４９】
この際の成膜処理の一例を、図９に示す。本一例は、有機シリコンを含むＳｉソースガスとして、アミノシランガス、例えば、ＢＴＢＡＳを用いた場合であるが、他のアミノシランガスを用いた場合、及びエトキシシランガスを用いた場合においても同様に実施することができる。
【００５０】
図９に示すように、成膜処理の一例においては、有機シリコンを含むＳｉソースガスを処理容器１内に流してＳｉソースを吸着させる工程Ｓ１と、活性化された酸素種、本例では酸素含有ガスをプラズマ化し、活性化された酸素種としてプラズマにより励起された酸素ラジカルを処理容器１に供給してＳｉソースガスを酸化させる工程Ｓ２とを交互に繰り返す。さらに、本一例おいては、これら工程Ｓ１と工程Ｓ２との間で処理容器１内から処理容器１内に残留するガスを除去する工程Ｓ３を実施する。
【００５１】
具体的には、本一例においては、工程Ｓ１において、Ｓｉソースガス供給機構１５のＳｉソースガス供給源２０からＳｉソースガスとして１分子内に２個のアミノ基を有するアミノシランガス、例えばＢＴＢＡＳをＳｉソースガス配管２１およびＳｉソースガス分散ノズル２２を介してガス吐出孔２２ａから処理容器１内にＴ１の期間供給する。これにより、半導体ウエハウエハソースを吸着させる。このときの期間Ｔ１は１〜６０ｓｅｃが例示される。また、Ｓｉソースガスの流量は１０〜５００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）が例示される。また、この際の処理容器１内の圧力は１３．３〜６６５Ｐａが例示される。
【００５２】
工程Ｓ２の活性化された酸素種を供給する工程においては、酸素含有ガス供給機構１４の酸素含有ガス供給源１７から酸素含有ガスとして例えばＯ２ガスを酸素含有ガス配管１８および酸素含有ガス分散ノズル１９を介してガス吐出孔１９ａから吐出し、このとき、プラズマ生成機構３０の高周波電源３５をオンにして高周波電界を形成し、この高周波電界により酸素含有ガス、例えばＯ２ガスをプラズマ化する。そして、プラズマにより励起された酸素ラジカルを含んでいる酸素含有ガスを処理容器１内に供給する。これにより、半導体ウエハＷに吸着されたＳｉソースが酸化されてＳｉＯ２が形成される。この処理の期間Ｔ２は５〜３００ｓｅｃの範囲が例示される。また、酸素含有ガスの流量は半導体ウエハＷの搭載枚数によっても異なるが、１００〜２００００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）が例示される。また、高周波電源３５の周波数は１３．５６ＭＨｚが例示され、パワーとしては５〜１０００Ｗが採用される。また、この際の処理容器１内の圧力は１３．３〜６６５Ｐａが例示される。
【００５３】
この場合に、酸素含有ガスとしては、Ｏ２ガスの他、ＮＯガス、Ｎ２Ｏガス、Ｈ２Ｏガス、Ｏ３ガスを挙げることができる。これらの酸素含有ガスは、高周波電界を印加してプラズマ化し、プラズマにより励起された酸素ラジカルを含む酸化剤として用いられる。このように酸素含有ガスをプラズマ化し、活性化された酸素種としてプラズマにより励起された酸素ラジカルを含む酸化剤を用いることにより、ＳｉＯ２膜の成膜が３００℃以下、さらには１００℃以下、理想的には室温でも成膜が可能となる。酸化剤としては活性化された酸素種を含むものであれば、酸素含有ガスをプラズマ化したものに限らない。しかし、活性化された酸素種を含む酸化剤は、酸素含有ガスをプラズマ化して得ることが好ましい。その中でもＯ２ガスをプラズマ化して得ることが好ましい。
【００５４】
また、工程Ｓ１と工程Ｓ２との間に行われる工程Ｓ３は、工程Ｓ１の後または工程Ｓ２の後に処理容器１内に残留するガスを除去して次の工程において所望の反応を生じさせる工程であり、処理容器１内を真空排気しつつパージガス供給機構１６のパージガス供給源２３からパージガス配管２４およびパージガスノズル２５を介してパージガスとして不活性ガス例えばＮ２ガスを供給することにより行われる。この工程Ｓ３の期間Ｔ３としては１〜６０ｓｅｃが例示される。また、パージガス流量としては５０〜５０００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）が例示される。なお、この工程Ｓ３は処理容器１内に残留しているガスを除去することができれば、パージガスを供給せずに全てのガスの供給を停止した状態で真空引きを継続して行うようにしてもよい。ただし、パージガスを供給することにより、短時間で処理容器１内の残留ガスを除去することができる。なお、この際の処理容器１内の圧力は１３．３〜６６５Ｐａが例示される。
【００５５】
このようにして、工程Ｓ１と工程Ｓ２との間に処理容器１内からガスを除去する工程Ｓ３を挟んで交互に間欠的にＳｉソースガスと活性化された酸素種を含む酸化剤、本例ではプラズマにより励起された酸素ラジカルを含む酸化剤とを繰り返し供給することにより、ＳｉＯ２膜の薄い膜を一層ずつ繰り返し積層して所定の厚さとすることができる。
【００５６】
このときの反応例を図１０に示す。図１０には反応例が模式的に示される。本反応例では、一例としてＳｉソースガスにＢＴＢＡＳを用いたときを例示する。
【００５７】
図１０（ａ）に示すように、既に堆積されたＳｉＯ２膜の表面にはＯＨ基が存在しており、そこにＳｉソースとして例えばＢＴＢＡＳが供給される。そして、Ｓｉソースが吸着される工程（工程Ｓ１）においては、図１０（ｂ）に示すように、ＢＴＢＡＳのＳｉが表面のＯＨ基のＯと反応してトリメチルアミノ基を離脱させる。このとき、アミノ基を２個有するアミノシランであるＢＴＢＡＳはＯＨとの反応性が高く、また、構造的にこのようなＳｉの反応の障害になり難いため、Ｓｉの吸着反応が速やかに進行する。このとき脱離したトリメチルアミノ基は工程Ｓ３により処理容器１から除去される。そして、次の酸化工程（工程Ｓ２）においては、図１０（ｃ）に示すように、トリメチルアミノ基が離脱した後のＳｉ化合物がＯ２ガスプラズマのような活性化された酸素種を含む酸化剤によって酸化されてＳｉＯ２となる（ただし、表面にはＨが吸着してＯＨ基が形成されている）。このように、Ｏ２ガスプラズマのような活性化された酸素種を含む酸化剤を用いた酸化反応は、純粋な化学的反応と異なり高い温度が不要であるから低温での反応が可能である。
【００５８】
ＢＴＢＡＳは、Ｓｉソースガスとして用いる１分子内に２個のアミノ基を有するアミノシランガスである。このようなアミノシランガスとしては、上記ＢＴＢＡＳの他、ＢＤＥＡＳ（ビスジエチルアミノシラン）、ＢＤＭＡＳ（ビスジメチルアミノシラン）を挙げることができる。
【００５９】
なお、Ｓｉソースガスには、１分子内に３個以上のアミノ基を有するアミノシランガス、を用いることも可能であるし、１分子内に１個のアミノ基を有するアミノシランガスを用いることも可能である。
【００６０】
第１の実施形態は、Ｓｉソースとして有機シリコンを含むソースガスを用い、酸化処理において反応が温度を上昇させずに進行するＯ２ガスプラズマのような活性化された酸素種を含む酸化剤を用い、これらを交互に供給するので、良好な膜質のＳｉＯ２膜を１００℃以下、さらには室温といった従来では考えられない低温でかつ高い成膜レートで成膜することができる。
【００６１】
このように、本実施形態では、原理的に１００℃以下という極低温で成膜することができるが、それよりも高い温度であっても成膜が可能である。ただし、成膜温度が上昇するに従って膜厚ばらつきが大きくなることと、レジストパターン１０３´に与える熱的な影響とを考慮すると、成膜温度は１００℃以下であることが最も好ましい。
【００６２】
次に、第１の実施形態に基づいて実際に成膜した結果について説明する。
【００６３】
まず、酸化剤について実験を行った。ＳｉソースガスとしてＢＴＢＡＳを用い、酸化処理にＯ２ガスプラズマを用い、これらを交互に供給することでＳｉＯ２膜を成膜した。ここでは、処理容器内に３００ｍｍウエハを１００枚挿入し、成膜温度を１００℃とし、ＢＴＢＡＳの供給量を３０ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）、圧力を５３Ｐａにして工程Ｓ１を３０ｓｅｃ行い、Ｏ２ガスの供給量を２０００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）、圧力を６６５Ｐａ、１３．５６ＭＨｚの高周波パワーを５０Ｗにして工程Ｓ２を４０ｓｅｃ行い、これを４２サイクル繰り返してＳｉＯ２膜を成膜した。なお、処理容器内のパージのため、工程Ｓ１前には処理容器内の真空引きを継続しつつ３５００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）の流量でパージガスとしてＮ２ガスを７ｓｅｃの間供給し、工程Ｓ２の前には処理容器内の真空引きを継続しつつ３５００ｍＬ／ｍｉｎ（ｓｃｃｍ）の流量でパージガスとしてＮ２ガスを６ｓｅｃの間供給した。
【００６４】
比較のため、工程Ｓ２の酸化処理の際の酸化剤としてＯ３ガスをプラズマ化せずに２５０ｇ／Ｎｍ３の流量で供給した以外は上記条件と同じにしてＳｉＯ２膜を成膜した。
【００６５】
その結果、本発明に基づいて酸化剤として活性化された酸素種を含むＯ２ガスプラズマを用いた場合には、活性化された酸素種を含まないＯ３ガスを用いた場合よりも５倍程度の成膜レート（速度）が得られることが確認された。また、Ｏ２ガスプラズマを用いた場合には、膜厚の面内ばらつきも極めて小さいことも確認された。
【００６６】
次に、成膜温度について実験を行った。
【００６７】
ここでは、ＳｉソースガスとしてＢＴＢＡＳを用い、酸化処理にＯ２ガスプラズマを用いて、成膜温度以外は上記実験と同様にして成膜を行った。温度は、室温（２５℃）、７５℃、１００℃、２００℃、３００℃と変化させて実験を行った。
【００６８】
その結果、１００℃以下という低温においても高い成膜レートで成膜することができ、室温でも十分に実用的な成膜が可能であることが確認された。また、１００℃以下、特に、７５℃〜２５℃（室温）という低温域においては、高い成膜レートで、均一性の高い膜圧を得られることが確認された。また、成膜温度が３００℃を超えると膜厚ばらつきが大きくなり、成膜温度は３００℃以下が好ましいことが確認された。特に、レジストパターンの上に成膜する場合には１００℃以下が好ましいのは前述した通りである。
【００６９】
次に、シリコン酸化膜１０５形成時の不純物濃度を測定した。
【００７０】
ここでは、ＳｉソースガスとしてＢＴＢＡＳを用い、酸化処理にＯ２ガスプラズマを用いて成膜した場合と、Ｏ３ガスを用いて成膜した場合とで、不純物として炭素Ｃ、及び窒素Ｎの濃度を比較してみた。測定には、二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ）を用いた。
【００７１】
その結果を図１１に示す。この図に示すように、Ｏ２ガスプラズマを用いて成膜した場合の炭素Ｃの濃度、及び窒素Ｎの濃度を、それぞれ“１”として規格化したとき、Ｏ３ガスを用いて成膜した場合には、炭素Ｃの濃度は２０倍、窒素Ｎの濃度は８倍という測定結果が得られた。この結果から、シリコン酸化膜１０５形成時に、Ｏ２ガスプラズマを用いて成膜することが、不純物の低減に有効であることが確認された。フォトレジストは一般的にアンモニアに弱く、アンモニアの発生がフォトレジストポイズニングの一因となる。アンモニアの発生を抑制するためには、窒素Ｎの発生を抑制することが有効である。Ｏ２ガスプラズマを用いて酸化処理すると、窒素Ｎの発生量を少なく抑えることができるため、フォトレジストポイズニングを抑制することが可能となる。これは、レジストパターン１０３´を被覆するシリコン酸化膜１０５の形成に有利である。
【００７２】
図３に示したシリコン酸化膜１０５は、上記成膜装置８０と、上述した成膜方法とにより、フォトレジスト膜１０３（レジストパターン１０３´）の耐熱温度以下の極めて低い温度で、かつ、膜厚の制御性も良く形成することができる。よって、レジストパターン１０３´を、側壁スペーサ１０５´を形成するための基体（犠牲膜）として利用することが可能となる。レジストパターン１０３´を犠牲膜として利用することで、例えば、特許文献１に記載された微細パターンの形成方法に比較して、例えば、犠牲膜のパターニング工程（フォトリソグラフィ工程）を省略することができる。よって、第１の実施形態によれば、解像限界以下の幅を持つ微細パターンを、少ない製造工程で形成できる、という利点を得ることができる。
【００７３】
このようにして形成された薄膜１０２の微細パターンは、例えば、トランジスタのゲート電極、又はチャネル領域に利用することができる。また、トランジスタのような能動素子に限らず、半導体メモリのビット線のように、高密度に配置される配線や、各種の集積回路パターンに利用することができる。また、薄膜１０２の微細パターンは、半導体素子を分離する素子分離領域や、あるいは半導体素子を形成する素子領域にも利用することができる。
【００７４】
（第２の実施形態）
図１２乃至図１８は、この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図である。
【００７５】
第２の実施形態は、この発明に係る微細パターンの形成方法を、実際の半導体プロセスに、より好適に適用できる一例を示すものである。
【００７６】
まず、図１２に示すように、半導体基板１０１上に、エッチングストッパ膜１０６を形成する。エッチングストッパ膜１０６は、次に形成される薄膜をエッチングしたとき、そのエッチングを停止させる膜である。本例では、一例としてエッチングストッパ膜１０６をシリコン窒化膜とする。次いで、エッチングストッパ膜１０６上に、このエッチングストッパ膜１０６とは異なる膜からなる薄膜１０２を形成する。本例では、一例として、薄膜１０２を、第１の実施形態と同様に導電性ポリシリコン膜とする。次いで、薄膜１０２上に、この薄膜１０２とは異なる膜からなるハードマスク膜１０７を形成する。ハードマスク膜１０７は、薄膜１０２をエッチングするときのエッチングのマスクとなる膜である。本例では、一例としてハードマスク膜１０７をシリコン窒化膜とする。次いで、ハードマスク膜１０７上にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜１０３を形成する。
【００７７】
次に、図１３に示すように、フォトリソグラフィ技術を用いて、フォトレジスト膜１０３を、所定の間隔を持つレジストパターン１０３´に加工する。本例においても、レジストパターン１０３´は、第１の実施形態と同様に、ライン・アンド・スペースパターンであり、所定の間隔は露光装置の解像限界とする。本例においても、レジストパターン１０３´の、平面方向に沿った幅Ｗｒは解像限界である。
【００７８】
次に、図１４に示すように、レジストパターン１０３´、及びハードマスク膜１０７上に、レジストパターン１０３´及び薄膜１０２とは異なったシリコン酸化膜１０５を形成する。本例のシリコン酸化膜１０５も、第１の実施形態と同様に、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給することで形成する。これにより、シリコン酸化膜１０５を、例えば、フォトレジスト膜１０３（レジストパターン１０３´）の耐熱温度以下の温度で形成できる。
【００７９】
次に、図１５に示すように、図１４に示した構造体をエッチバックし、シリコン酸化膜１０５を、その表面から後退させ、レジストパターン１０３´の側壁上に側壁スペーサ１０５´を形成する。エッチバックの一例は、異方性エッチングであり、例えば、ＲＩＥ法などを利用すれば良い。側壁スペーサ１０５´の、平面方向沿った幅ＷＳｉＯ２は、レジストパターン１０３´の幅Ｗｒよりも狭くできるので、幅ＷＳｉＯ２は、解像限界以下にできる。
【００８０】
次に、図１６に示すように、側壁スペーサ１０５´及びハードマスク膜１０７をマスクに用いて、レジストパターン１０３´を除去する。レジストパターン１０３´の除去の一例は、アッシングである。
【００８１】
次に、図１７に示すように、側壁スペーサ１０５´をエッチングのマスクに用いて、ハードマスク膜１０７をエッチングし、ハードマスク膜１０７を、所定の間隔を持つパターンに加工する。加工されたハードマスク膜１０７の、平面方向沿った幅Ｗｈは側壁スペーサ１０５´の幅Ｗｓｓと等しい、もしくはほぼ等しくなるので、幅Ｗｈは、解像限界以下にできる。
【００８２】
次に、図１８に示すように、例えば、側壁スペーサ１０５´を除去した後、加工されたハードマスク膜１０７をマスクに用いて、薄膜１０２を、所定の間隔を持つパターンに加工する。加工された薄膜１０２の、平面方向沿った幅Ｗｔはハードマスク膜１０７の幅Ｗｈと等しい、もしくはほぼ等しくなる。よって、幅Ｗｔは、解像限界以下にできる。
【００８３】
このようにして、第２の実施形態によれば、解像限界以下の幅Ｗｔを有する薄膜１０２の微細パターンを形成することができる。
【００８４】
第２の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、シリコン酸化膜１０５を、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給して形成するので、レジスパターン１０３´を、側壁スペーサ１０５´を形成するための基体（犠牲膜）として利用することができる。レジストパターン１０３´を犠牲膜として利用することで、例えば、犠牲膜のパターニング工程（フォトリソグラフィ工程）を省略でき、解像限界以下の幅を持つ微細パターンを、少ない製造工程で形成できる、という利点を得ることができる。
【００８５】
さらに、第２の実施形態においては、薄膜１０２の下にエッチングストッパ膜１０６を形成し、さらに、薄膜１０２の上にハードマスク膜１０７を形成する。このため、例えば、側壁スペーサ１０５´をエッチングのマスクに用いて薄膜１０２をエッチングし、薄膜１０２を加工する場合に比較して、膜厚が厚い薄膜１０２を加工できる、という利点を得ることができる。また、薄膜１０２のエッチングはエッチングストッパ膜１０６で停止するので、膜厚が厚い薄膜１０２をエッチングしたとしても、薄膜１０２の下に過剰にエッチングが進まない、という利点を得ることができる。このような利点から、第２の実施形態によれば、例えば、アスペクト比（高さ／幅）が高い薄膜１０２のパターンを形成できる。アスペクト比が高い薄膜１０２のパターンは、例えば、平面からみた面積は小さいが断面積は大きい。このため、抵抗値を小さくすることができ、配線パターン、例えば、半導体メモリのビット線パターンのような配線パターンの適用に有利である。
【００８６】
また、第１の薄膜として熱酸化膜等のゲート絶縁膜を用い、第２の薄膜としてゲート電極となるポリシリコン等を用いることで、微細化されたゲート構造を形成することが可能となる。
【００８７】
（第３の実施形態）
図１９乃至図２４は、この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図である。
【００８８】
第３の実施形態は、レジストパターン１０３´を、トリミングする例である。レジストパターン１０３´をトリミングすることで、薄膜１０２からなる微細パターンを、さらに微細に形成することができる。
【００８９】
まず、図１９に示すように、図１及び図２を参照して説明した方法に従って、薄膜１０２上に、レジストパターン１０３´を形成する。本例では、レジストパターン１０３´の、平面方向に沿った幅Ｗｒが解像限界である。
【００９０】
次に、図２０に示すように、レジストパターン１０３を´をトリミングし、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓを得る（本明細書ではトリミング処理と呼ぶ）。トリミング処理の条件の一例は、活性化された酸素種、又はオゾンガスを含む雰囲気中、温度は室温〜１００℃である。活性化された酸素種の例としては、プラズマにより励起された酸素ラジカル、熱により励起された酸素ラジカル、及び光により励起された酸素ラジカル等を挙げることができる。また、光の例としては、レーザーや、波長３５０ｎｍ以下の紫外線を挙げることができる。レジストパターン１０３を´をトリミングすることで、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓの、平面方向に沿った幅Ｗｒ´は解像限界以下に狭まる。
【００９１】
次に、図２１に示すように、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓ、及び薄膜１０２上に、第１の実施形態と同様に、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給することで、シリコン酸化膜１０５を形成する。これにより、シリコン酸化膜１０５を、例えば、フォトレジスト膜１０３（レジストパターン１０３´、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓ）の耐熱温度以下の温度で形成することができる。
【００９２】
次に、図２２に示すように、図２１に示した構造体をエッチバック、例えば、ＲＩＥ法を用いてシリコン酸化膜１０５をエッチバックし、シリコン酸化膜１０５の表面を後退させ、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓの側壁上に、側壁スペーサ１０５´を形成する。側壁スペーサ１０５´の、平面方向沿った幅ＷＳｉＯ２は、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓの幅Ｗｒ´よりも狭くなり、幅ＷＳｉＯ２も解像限界以下にできる。
【００９３】
次に、図２３に示すように、側壁スペーサ１０５´及び薄膜１０２をマスクに用いて、トリミングされたレジストパターン１０３´Ｓを除去する。除去の一例は、アッシングである。
【００９４】
次に、図２４に示すように、側壁スペーサ１０５´をエッチングのマスクに用いて、薄膜１０２をエッチングし、薄膜１０２を、所定の間隔を持つパターンに加工する。加工された薄膜１０２の、平面方向沿った幅Ｗｔは側壁スペーサ１０５´の幅ＷＳｉＯ２と等しい、もしくはほぼ等しくなるので、幅Ｗｔは、解像限界以下にできる。
【００９５】
さらに、第３の実施形態によれば、レジストパターン１０３´がトリミングされるので、側壁スペーサ１０５´間のスペース幅Ｓｔも解像限界以下にできる。
【００９６】
このようにして、第３の実施形態によれば、解像限界以下の幅Ｗｔと、解像限界以下のスペースＳｔとを有する薄膜１０２の微細パターンを形成することができる。
【００９７】
さらに、第３の実施形態によれば、特に、図２４に示すように、薄膜１０２の幅Ｗｔと、スペース幅Ｓｔとを１：１、あるいはほぼ１：１とすることもできる。
【００９８】
もちろん、第３の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、シリコン酸化膜１０５を、有機シリコンを含むソースガスと活性化された酸素種とを交互に供給して形成するので、レジスパターン１０３´を、側壁スペーサ１０５´を形成するための基体（犠牲膜）として利用することができる。レジストパターン１０３´を犠牲膜として利用することで、例えば、犠牲膜のパターニング工程（フォトリソグラフィ工程）を省略でき、解像限界以下の幅を持つ微細パターンを、少ない製造工程で形成できる、という利点を得ることができる。
【００９９】
なお、第３の実施形態は、第２の実施形態と組み合わせることが可能である。この場合には、例えば、図１３を参照して説明した工程と、図１４を参照して説明した工程との間に、図２０を参照して説明したトリミング処理を挿入すれば良い。得られる利点は、第２の実施形態から得られる利点に、第３の実施形態から得られる利点を併せたものになる。
【０１００】
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、種々変形可能である。例えば、上記実施形態では本発明を複数の半導体ウエハを搭載して一括して成膜を行うバッチ式の成膜装置に適用した例を示したが、これに限らず、一枚のウエハ毎に成膜を行う枚葉式の成膜装置に適用することもできる。
【０１０１】
さらに、上記実施形態は、２枚から１５枚程度の少量一括処理を目的としたセミ・バッチ方式、又はミニ・バッチ方式の成膜装置に適用することができる。
また、エトキシシランガス、及びアミノシランガスとしては、上記実施形態に示したものに限らない。また、活性化された酸素種として種々の酸素含有ガスプラズマを例示したが、これに限らず、ラジカル化している酸素を含むものであれば適用可能である。
【０１０２】
さらに、上記実施形態においては、Ｓｉソースガスと活性化された酸素種とを完全に交互に供給したが、Ｓｉソースガスを供給するときにも活性化された酸素種を供給するようにしてもよい。
【０１０３】
また、上記実施形態においては、酸化シリコン膜を低温成膜する例について説明したが、酸化シリコン膜の他、窒化シリコン膜や、炭化シリコン膜なども成膜することができる。
【０１０４】
さらに、上記実施形態においては、プラズマを形成する機構を処理容器に一体的に組み込んだ例について説明したが、これに限定されず、処理容器とは別体で設け処理容器の外で予めプラズマ化して処理容器に導入するリモートプラズマ装置を用いてもよい。
【０１０５】
また、条規実施形態においては、薄膜１０２を導電性ポリシリコンとしたが、導電性アモルファスシリコンや、導電性シリコンを含む導電膜でも良く、さらにはシリコン酸化膜、即ち、ＳｉＯ２系の絶縁膜であっても良い。
【０１０６】
また、例えば、図２５Ａに示すように、薄膜１０２を絶縁膜１０２ａとし、図２５Ｂに示すように、絶縁膜１０２ａ間を半導体、例えば、シリコン１１０ａで埋め込み、絶縁膜１０２ａの上面、及びシリコン１１０ａの上面を平坦化する。このようにすると、シリコン１１０ａを半導体素子が形成される素子領域とし、微細パターンとして形成された絶縁膜１０２ａを素子分離領域とした半導体装置を構成することができる。
【０１０７】
また、図２５Ａ及び図２５Ｂに示した例とは反対に、図２６Ａに示すように、薄膜１０２を半導体、例えば、シリコン膜１０２ｂとし、図２６Ｂに示すように、シリコン膜１０２ｂ間を絶縁物１１０ｂで埋め込む。このようにすると、微細パターンとして形成されたシリコン膜１０２ｂを素子領域とし、絶縁物１１０ｂを素子分離領域とした半導体装置を構成することができる。
【０１０８】
さらに、図２７に示すように、微細パターンとして形成された薄膜１０２は、トランジスタのゲートや配線ばかりでなく、Ｆｉｎ型ＦＥＴのチャネルとしても利用することができる。
【０１０９】
さらに、上記実施形態では、レジスト膜１０３を単層の膜として図示していたが、レジスト膜１０３は、図２８に示すように、最上層をレジスト膜とし、下層に、例えば、反射防止膜（ＢＡＲＣ）を備えた多層膜とすることも可能である。
【０１１０】
さらにまた、被処理体としては、半導体ウエハに限定されず、ＬＣＤガラス基板等の他の基板にも本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２】この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図３】この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図４】この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図５】この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図６】この発明の第１の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図７】シリコン酸化膜１０５を形成するための成膜装置の一例を示す縦断面図。
【図８】シリコン酸化膜１０５を形成するための成膜装置の一例を示す横断面図。
【図９】シリコン酸化膜１０５を形成するための成膜方法におけるガスの供給のタイミングを示すタイミングチャート
【図１０】シリコン酸化膜１０５の成膜方法を実施する際の反応を説明するための模式図
【図１１】Ｏ２ガスプラズマを用いて成膜した場合と、Ｏ３ガスを用いて成膜した場合とで、不純物量を比較した図
【図１２】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１３】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１４】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１５】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１６】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１７】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１８】この発明の第２の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図１９】この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２０】この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２１】この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２２】この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２３】この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２４】この発明の第３の実施形態に係る微細パターンの形成方法を主要な製造工程毎に示す断面図
【図２５】この発明の応用例を示す断面図
【図２６】この発明の応用例を示す断面図
【図２７】この発明の応用例を示す断面図
【図２８】この発明の変形例を示す断面図
【符号の説明】
【０１１２】
１０１；半導体基板
１０２；薄膜
１０３；フォトレジスト膜
１０３´；レジストパターン
１０５；シリコン酸化膜
１０５´；側壁スペーサ
１０６；エッチングストッパ膜
１０７；ハードマスク膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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