(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
解離基を備える二色性染料を含んで構成される二色性染料層と、前記解離基が対イオン成分との間で水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成した状態の前記二色性染料を含み前記結合によって水に対して不溶若しくは難溶に形成された不溶性薄膜層と、が互いに接するように交互に複数層積層された偏光主体層と、
前記偏光主体層の表層に形成され、水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層と
を備えることを特徴とする偏光層。
【請求項２】
前記不溶性層は、前記解離基が対イオン成分との間で水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成した状態の前記二色性染料を含み前記結合によって水に対して不溶若しくは難溶に形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の偏光層。
【請求項３】
基材上に偏光層を製造する偏光層の製造方法であって、
基材上に二色性染料層を形成する二色性染料層形成工程と、
前記二色性染料層の表層に対して不溶化処理を行うことで前記二色染料層の表層に不溶性薄膜層を形成する不溶化薄膜層形成工程と、
前記不溶性薄膜層上に更に二色性染料層を積層し、積層した前記二色性染料層の表層に対して更に不溶化処理を行い当該二色染料層の表層に不溶性薄膜層を形成する工程を少なくとも１回以上行う積層工程と、
を含むことを特徴とする偏光層の製造方法。
【請求項４】
前記不溶化処理は、前記水溶性成分を不溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を前記二色性染料層の表層に反応させることにより、該不溶化処理剤の構成成分と前記二色性染料層の水溶性成分との間で、水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成する処理であることを特徴とする請求項３に記載の偏光層の製造方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載の偏光層を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
互いに対向する上基板と下基板との間に液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを含む液晶表示装置であって、
前記上基板の外面側に上偏光層が設けられるとともに、前記下基板の外面側に下偏光層が設けられ、該下基板の外面側から透過表示用光源光が入射する構成とされる一方、前記下基板と前記液晶層との間に、反射層と、請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載の偏光層とが該下基板側から設けられ、前記反射層が開口部を備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、偏向層、偏向層の製造方法、液晶表示装置、並びに電子機器に係り、特に耐久性に優れた偏向層に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、透明電極を表面に具備する一対の基板間に液晶層を挟持させた構成の液晶表示装置が知られており、透明電極間における電圧印加状態に基づいて液晶の配向状態を変化させ、光を変調し、階調表示を可能にしている。このような液晶表示装置においては、一定方向の偏光面を有する光のみを通す偏向層が設けられ、液晶の配向変化を可視化する役割を担っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このような偏向層としては、例えば二色性染料等の偏光素子を含む高分子フィルムを主体としてなるものが知られているが、二色性染料等の偏光素子は水溶性成分を含んで構成されているため、耐湿性ないし耐久性が低くなる場合があり、当該偏向層の耐湿性および耐久性を向上させる技術が望まれている。
【０００４】
本発明の課題は、耐湿性ないし耐久性の高い偏向層とその製造方法、並びに該偏向層を備えた信頼性の高い液晶表示装置、さらには該液晶表示装置を備えた電子機器を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の偏向層は、水溶性成分を含んで構成される偏光主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを備えることを特徴とする。
【０００６】
この場合、偏光主体層の表層に不溶性層が形成される一方、内部にも不溶性領域が形成されているため、当該偏向層の耐湿性ないし耐久性が向上する。特に、表層の不溶性層が一部破損した場合にも、内部に不溶性領域が形成されているため、十分な不溶性若しくは難溶性を示すこととなる。例えば、当該偏向層を液晶表示装置等に適用する場合、その製造工程ではミクロなゴミや有機物を排除するため水洗浄を行うことが多いが、このような水洗浄により当該偏向層の表層に剥がれ等が生じた場合にも、偏向層の耐湿性ないし耐久性が低下する等の不具合が生じ難くなる。
【０００７】
上記水溶性成分としては解離基を備えてなるものを例示することができ、不溶性領域及び不溶性層において、解離基が対イオン成分との間で水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成してなるものとすることができる。このように解離基を備える水溶性成分を備えた偏光主体層内部に、その解離基に対して対イオン成分により水に対して不溶若しくは難溶の結合を生じさせてなる不溶性領域を形成するとともに、偏光主体層表層にも同様の対イオンにより結合を生じさせて不溶性層を形成することで、耐湿性に優れ耐久性の高い偏向層を提供可能となる。なお、本発明の偏向層において偏光主体層が含む水溶性成分は、例えば下記に示す化学式（１）〜（１０）で示される化合物を含むものとすることができる。
【０００８】
【化１】
0004479143.tif 000002
【０００９】
【化２】
0004479143.tif 000003
【００１０】
【化３】
0004479143.tif 000004
【００１１】
具体的に上記水溶性成分としては解離基を有する二色性染料（二色性色素）を例示することができ、さらに具体的には酸性染料を例示することができる。このような解離基を有する二色性染料は水溶性を示し、これを用いた従来の偏向層は耐湿性が劣るものが多いが、本発明では二色性染料を含んで構成される偏光主体層内部に不溶性領域を形成するとともに、該偏光主体層表層に不溶性層を形成したため耐湿性および耐久性に優れた偏向層を提供可能となる。
【００１２】
また、これら水溶性成分に対する対イオン成分としては、各種カチオン成分、例えばアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属等を例示することができ、具体的に２価のバリウム（Ｂａ2+）を用いた場合、該バリウムと１価のスルホン基（ＳＯ3-）との間の結合により例えば分子間架橋が形成され、不溶性領域若しくは不溶性層が形成されている。
【００１３】
一方、不溶性領域が薄膜の不溶性薄膜層として構成されるとともに、偏光主体層と不溶性薄膜層とが複数積層され、複数の偏光主体層の間に不溶性薄膜層が構成されてなるものとすることができる。この場合、多層の偏光主体層を巨視的な偏光主体層とみなし、その内部に不溶性薄膜層（不溶性領域）が形成されることとなり、上述した内部及び表層に不溶性領域及び不溶性層を有する偏光主体層を備える耐湿性ないし耐久性に優れた偏向層を提供可能となる。なお、不溶性領域は偏光主体層の中で散在した構成とすることもできる。
【００１４】
次に、上記のような偏向層は以下のような方法により製造することができる。すなわち、本発明の偏向層の製造方法は、水溶性成分を主体として構成される偏光主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを備える偏向層の製造方法であって、基材に対して偏光主体層を形成する偏光主体層形成工程と、形成した偏光主体層の表層に対して不溶化処理を行う不溶化工程と、該表層を不溶化した偏光主体層に対して更に偏光主体層を積層し、積層した偏光主体層の表層に対して更に不溶化処理を行う工程を少なくとも１回以上行う積層工程と、を含むことを特徴とする。
【００１５】
このような製造方法によると、偏光主体層と不溶性薄膜層（不溶性領域）が積層して形成され、複数形成された偏光主体層の内部に不溶性薄膜層（不溶性領域）が形成された構成となり、さらに偏光主体層の表層には不溶性層が形成されることになるため、上述した本発明の偏向層を製造可能となる。
【００１６】
また、本発明の偏向層の製造方法としてその異なる態様は、水溶性成分を主体として構成される偏光主体層と、該偏光主体層の内部に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性領域と、該偏光主体層の表層に形成され水に対して不溶若しくは難溶の不溶性層とを備える偏向層の製造方法であって、水溶性成分を不溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を基材に対して散布する不溶化処理剤散布工程と、該不溶化処理剤を散布した基材に対して偏光主体層を湿式にて形成する偏光主体層形成工程と、形成した偏光主体層の表層に対して不溶化処理を行う不溶化工程と、を含むことを特徴とする。
【００１７】
この場合、不溶化処理剤が散布された基材に、偏光主体層を例えば溶液塗布等により湿式形成する際、不溶化処理剤が偏光主体層の内部に溶け込むこととなり、該内部において不溶化反応が生じることなる。したがって、偏光主体層内部に不溶性領域が形成されることとなり、さらに形成した偏光主体層の表層に対して不溶化処理を行うため、不溶性層が表面にも形成され、上述した本発明の偏向層を製造可能となる。
【００１８】
なお、上記不溶化処理は、水溶性成分を不溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を偏光主体層に反応させることにより、該不溶化処理剤の構成成分と偏光主体層の水溶性成分との間で、水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成する処理とすることができる。このような不溶化処理により確実に不溶性領域ないし不溶性層を形成可能となるが、不溶化処理剤としては、例えば水溶性成分と反応活性な成分を備えるもの、具体的には解離基を有する水溶性成分に対して対イオンの解離基を備えるもの等を例示することができる。
【００１９】
次に、本発明の液晶表示装置は上記偏向層を備えることを特徴とし、この場合、耐湿性ないし耐久性に優れた信頼性の高い液晶表示装置を提供可能となる。また、上記偏向層は、以下のような態様で液晶表示装置に具備させることもできる。すなわち、本発明の液晶表示装置は、互いに対向する上基板と下基板との間に液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを含む液晶表示装置であって、上基板の外面側に上偏向層が設けられるとともに、下基板の外面側に下偏向層が設けられ、該下基板の外面側から透過表示用光源光が入射する構成とされる一方、下基板と液晶層との間に、反射層と、上記本発明の偏向層とが該下基板側から設けられ、反射層が開口部を備えてなることを特徴とする。本発明の偏向層は上述のような方法により得ることが可能であるが、不溶化処理前の偏光主体層は水溶性を示すため、これを基板内面に塗布形成することが可能となる一方、基板と液晶層との間に設ける内面偏向層は塗布形成が好ましいため、本発明の偏向層を上記のような内面用偏向層として用いるのが適している。なお、塗布形成は簡便なため、製造コスト低減に繋がる他、薄膜化も容易となる。
【００２０】
さらに、本発明の電子機器は、上記液晶表示装置を備えたことを特徴とし、このような電子機器は、耐湿性の高い表示部を備えた構成となり、その信頼性が極めて高いものとなる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
（偏向層の第１実施形態）
図１は、本発明の偏向層の第１実施形態を示す断面模式図である。なお、本実施の形態においては、各図において各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２２】
図１に示した偏向層１は、ガラス基板等の基材５上に形成された偏光主体層１０と不溶性層２０とを備えてなり、当該偏向層１に入射する光に対し、一定方向の偏光面の光だけを通す性質を具備している。偏光主体層１０は、水溶性成分を含んで構成される二色性染料層と、該二色性染料層の表層を不溶化処理してなる不溶性薄膜層とが積層した構成を含んでなり、具体的には基材５側から順に第１二色性染料層１０ａ、第１不溶性薄膜層２５、第２二色性染料層１０ｂ、第２不溶性薄膜層２６、第３二色性染料層１０ｃが積層して構成されている。したがって、偏向層１は、偏光主体層１０の内部に不溶性領域としての不溶性薄膜層２５，２６が形成された構成を有している。
【００２３】
各二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃは水溶性を示し、その膜厚は例えば１００〜１０００ｎｍ（例えば３００ｎｍ）とされている。また、各不溶性薄膜層２５，２６は水に対して不溶性若しくは難溶性を示し、その層厚は例えば０．３〜５．０ｎｍ（例えば１．０ｎｍ）とすることができる。さらに、不溶性層２０は、偏光主体層１０の表層（詳しくは二色性染料層１０ｃの表層）を上記と同様の不溶化処理をしてなり、水に対して不溶性若しくは難溶性を示し、その層厚は例えば０．３〜５．０ｎｍ（例えば１．０ｎｍ）にて構成されている。
【００２４】
具体的に各二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃは、下記化学式（１）〜（１０）の中から選択される１種若しくは２種以上の酸性染料を主体として構成されるとともに、アニオン性の解離基を含んで構成され、リオトロピック液晶性を示すものとされている。
【００２５】
【化４】
0004479143.tif 000005
【００２６】
【化５】
0004479143.tif 000006
【００２７】
【化６】
0004479143.tif 000007
【００２８】
一方、各不溶性薄膜層２５，２６、及び不溶性層２０は、各二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表層を不溶化処理してなるものである。この場合、不溶化処理は、二色性染料層１０ａ，１０ｂ，１０ｃに含まれるアニオン性解離基の対イオンたるカチオン性解離基の成分を処理するものであって、各不溶性薄膜層２５，２６、及び不溶性層２０においてはアニオン性解離基とカチオン性解離基の結合が生じ、水に対して不溶性若しくは難溶性を示すこととなる。カチオン性解離基としては例えばアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属等を例示することができる。
【００２９】
なお、本実施形態の二色性染料層に含まれるスルホン基のように１価の解離基に対して２価の解離基を用いて不溶化処理を行うと、分子間架橋が形成され、水に対する溶解性が一層低いものとなり得る。このような２価の解離基を有する成分としては、例えばアルカリ土類金属等を例示することができる。
【００３０】
以上のような構成の偏向層１は、偏光主体層１０の表層に不溶性層２０を形成してなる一方、内部にも不溶性薄膜層２５，２６を形成してなるため、高い耐湿性および耐久性を示し、例えば、表層の不溶性層２０が一部破損した場合にも、内部の不溶性薄膜層２５，２６により、十分な耐湿性を示すこととなる。
【００３１】
（偏向層の第２実施形態）
図２は、本発明の偏向層の第２実施形態を示す断面模式図である。なお、本実施の形態においては、各図において各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、上記第１の実施形態と同じ構成の部材、要素については同じ符号を付し、特に断り書きのない限り、同じ構成の部材、要素を用いているものとして説明を省略する。
【００３２】
図２に示した偏向層１１は、ガラス基板等の基材５上に形成された偏光主体層１５と不溶性層２０とを備えてなり、当該偏向層１１に入射する光に対し、一定方向の偏光面の光だけを通す性質を具備している。偏光主体層１５は、水溶性成分を含んで構成される二色性染料領域１６と、該二色性染料領域１６を部分的に不溶化処理してなる複数の不溶性領域２８とを含んで構成されている。したがって、偏向層１１は、偏光主体層１５の内部に不溶性領域２８が散在した構成を有している。
【００３３】
二色性染料領域１６は水溶性を示す一方、各不溶性領域２８は水に対して不溶性若しくは難溶性を示し、二色性染料領域１６に対する不溶性領域２８の割合は１０〜９０％（例えば５０％）程度とされている。また、不溶性層２０は、上記第１の実施形態と同様、偏光主体層１５の表層（詳しくは二色性染料領域１６の表層）を上記と同様の不溶化処理をしてなり、水に対して不溶性若しくは難溶性を示し、その層厚は例えば０．３〜５．０ｎｍ（例えば１．０ｎｍ）にて構成されている。
【００３４】
具体的に二色性染料領域１６は、第１実施形態と同様の化学式（１）〜（１０）の中から選択される１種若しくは２種以上の酸性染料を主体として構成され、アニオン性の解離基を含んで構成されている。一方、不溶性領域２８は二色性染料領域２６の内部を部分的に不溶化処理してなるもので、不溶性層２０は二色性領域の表層を不溶化処理してなるものである。この場合、不溶化処理は、二色性染料領域１６に含まれるアニオン性解離基の対イオンたるカチオン性解離基の成分を処理するものであって、不溶性領域２８及び不溶性層２０においてはアニオン性解離基とカチオン性解離基の結合が生じ、水に対して不溶性若しくは難溶性を示すこととなる。なお、本実施形態の二色性染料領域２８に含まれるスルホン基のように１価の解離基に対して２価の解離基を用いて不溶化処理を行うと、分子間架橋が形成され、水に対する溶解性が一層低いものとなり得る。
【００３５】
以上のような構成の偏向層１１は、偏光主体層１５の表層に不溶性層２０を形成してなる一方、内部にも不溶性領域２８を形成してなるため、高い耐湿性ないし耐久性を示し、例えば、表層の不溶性層２０が一部破損した場合にも、内部の不溶性領域２８により、十分な耐湿性を示すこととなる。
【００３６】
（第１実施形態の偏向層の製造方法）
次に、図１に示した第１実施形態の偏向層１の製造方法について、その一実施例を図３を参照しつつ説明する。
まず、図３（ａ）に示すように基材５に対して第１二色性染料層１０ａを塗布形成する。具体的には、上記化学式（１）〜（１０）に示した化合物を含む原料を、水等の溶媒に溶解若しくは分散させ、この溶液若しくは分散液をドクターブレード法等にて塗布形成することができる。なお、この塗布においては、一方向への応力印加に基づき形成される膜（二色性染料層）に配向性が付与される。
【００３７】
続いて、得られた第１二色性染料層１０ａの表層に不溶化処理を行って不溶性薄膜層２５を形成する。不溶化処理は、濃度１４ｗｔ％の塩化バリウム水溶液に、図１（ａ）に示した第１二色性染料層１０ａ付き基板５を浸漬することにより行われる。塩化バリウム溶液に所定時間浸漬した後、乾燥を行うことで不溶性薄膜層２５が形成される。
【００３８】
その後、第２二色性染料層１０ｂを積層し、さらに不溶化処理して不溶性薄膜層２６を形成するとともに、再度第３二色性染料層１０ｃを積層し、この第３二色性染料層１０ｃに不溶化処理を行うことで不溶性層２０を形成し、図３（ｃ）に示した偏向層１を得る。なお、本実施例では第１の実施形態に対応して、図３（ｂ）の状態から積層、不溶化を２回繰り返したが、少なくとも１回積層・不溶化処理を行うことで、本発明に係る構成の偏向層を得ることが可能である。
【００３９】
（第２実施形態の偏向層の製造方法）
次に、図２に示した第２実施形態の偏向層１１の製造方法について、その一実施例を図４を参照しつつ説明する。
まず、図４（ａ）に示すように基材５に対して不溶化処理剤としての塩化バリウム粒子５０を散布する。具体的には、１４ｗｔ％の塩化バリウム水溶液に基材５を所定時間浸漬し乾燥することで、塩化バリウムの結晶粒子が基材５上に散布した状態となる。このとき基板５の濡れ性の悪化を防止するために、シランカップリング剤等を用いた表面処理を行うことが好ましい。
【００４０】
続いて、塩化バリウム粒子５０が散布された基板５に対して、図４（ｂ）に示すように二色性染料領域１６を塗布形成する。具体的には、上記化学式（１）〜（１０）に示した化合物を含む原料を、水等の溶媒に溶解若しくは分散させ、この溶液若しくは分散液をドクターブレード法等にて塗布形成することができる。
【００４１】
この場合、湿式にて二色性染料領域１６を形成するものとしているため、その塗布形成と同時に、若しくは塗布形成から所定時間後に塩化バリウム粒子５０が二色性染料領域１６の内部に溶け込み、その内部で不溶化反応が生じることとなる。したがって、図４（ｃ）に示すように、二色性染料領域１６内部に分散した状態で不溶性領域２８が形成される。続いて、二色性染料領域１６の表層部に不溶化処理を施すことで、不溶性層２０を形成し、図４（ｄ）に示した偏向層１１を得る。
【００４２】
（液晶表示装置）
次に、上記第１実施形態の偏向層１、又は第２実施形態の偏向層１１を用いた液晶表示装置について、その一実施形態を図５を参照しつつ説明する。図５の示した本実施形態の液晶表示装置２００は、反射表示モードと透過表示モードとを兼備する半透過反射型の液晶表示装置であって、図示上側から反射表示用の照明光又は太陽光等の外光が入射し、図示下側から透過表示用の光源光が入射するものとされている。なお、本実施形態においては、各図において各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００４３】
液晶表示装置２００は、対向して配置された上基板１０１と下基板１０２との間に液晶層１０４を挟持してなり、該液晶層１０４をシール材１０５で封止した液晶パネル１００と、この液晶パネル１００の背面側（図示下側）に配設されたバックライト（照明装置）１３０とを備えて構成されている。液晶パネル１００の上基板１０１の内面側（液晶層１０４側）には、カラーフィルタ層１１１と、平坦化膜１１２と、平面視ストライプ状に配列された複数の電極１１３と、配向膜１１５とが形成されており、上基板１０１の外面側（図示上面側）には、前方散乱板１１７と、位相差板１１８と、偏向層１１９とがこの順で積層されている。
【００４４】
一方、液晶パネル１００の下基板１０２の内面側（液晶層１０４側）には、反射層１２０と、図１又は図２に示した構成の偏向層１又は偏向層１１を適用してなる内面偏光層１２１と、平坦化膜１２２と、平面視ストライプ状に配列された複数の電極１２３と、配向膜１２５とが備えられている。また、下基板１０２の外面側には、偏向層１２９が設けられており、この下基板１０２の電極１２３の延在方向は、上記上基板１０１の電極１１３の延在方向と互いに直交するように配置されている。そして、反射層１２０には、部分的に透孔１１０が設けられており、この透孔１１０を介してバックライト１３０の光を液晶層１０４に入射させるようになっている。
【００４５】
図６は、上記構成を備えた液晶表示装置２００の表示原理を説明するための説明図であり、図５に示した液晶表示装置２００の要部のみが図示されている。また、図示左側は反射表示モードにおける動作を示し、図示右側は透過表示モードにおける動作を示している。本実施形態の液晶表示装置２００では、図６に示すように、液晶層１０４に電圧を印加した状態（オン状態）とすると、反射モード、透過モードのいずれにおいても、そのドットは暗表示され、電圧を印加しない状態（オフ状態）では、そのドットは明表示されるようになっている。
【００４６】
まず、反射表示モードでは、図６左側に示すように、液晶パネル１００に入射した外光は、紙面に平行な透過軸を有する偏向層１１９により紙面に平行な直線偏光に変換されて液晶層１０４に入射する。ここで、液晶層１０４がオン状態の場合には、この入射光は、紙面に平行な直線偏光のまま内面偏光層１２１に入射し、紙面に垂直な透過軸を有する内面偏光層１２１により吸収されるので、ドットが暗表示される。一方、液晶層１０４がオフ状態の場合には、液晶層１０４の作用により紙面に垂直な直線偏光に変換されて内面偏光層１２１へ入射し、この内面偏光層１２１を透過した後、反射層１２０により反射され、再び内面偏光層１２１を透過して液晶層１０４に入射する。そして、液晶層１０４の作用により紙面に平行な直線偏光に変換され、偏向層１１９を透過して上基板１０１の外側へ出射される。このようにして、ドットが明表示される。
【００４７】
次に、透過表示モードでは、図６右側に示すように、バックライト１３０から出射された光は、偏向層１２９により紙面に垂直な直線偏光に変換された後、反射層１２０に設けられた透孔１１０を通過して内面偏光層１２１に入射し、紙面に垂直な透過軸を有する内面偏光層１２１を透過して液晶層１０４に入射する。ここで、液晶層１０４がオン状態の場合には、この入射光は液晶層１０４による作用を受けずに、紙面に垂直な直線偏光のまま上基板１０１の偏向層１１９に入射し、紙面に平行な透過軸を有するこの偏向層１１９に吸収され、ドットが暗表示される。一方、液晶層１０４がオフ状態の場合には、入射光は液晶層１０４の作用により紙面に平行な直線偏光に変換されて偏向層１１９に入射する。そして、偏向層１１９を透過して外側へ出射され、ドットが明表示される。
【００４８】
このように、図５に示す内面偏光層１２１を基板１０１，１０２の内側に備えた液晶表示装置２００においては、透過表示モードの明表示時に液晶層１０４から偏向層１１９に入射する光が直線偏光とされていることで、偏向層１１９による光の吸収がほとんど無く、透過表示モードにおいても明るい表示を得ることができる。また、下基板１０２と液晶層１０４との間に設ける内面偏光層１２１は塗布形成が好ましいところ、該内面偏光層１２１として図１又は図２に示した偏向層１，１１を適用したため、その製造工程において塗布形成が可能となる一方、これら偏向層１，１１は高い耐湿性ないし耐久性を備えているため、当該液晶表示装置２００についても耐湿性が向上し、信頼性の高い装置を提供することができるようになる。なお、本実施形態では内面偏光層１２１に上記実施形態の偏向層１，１１の構成を適用したが、外面側の偏向層１１９，１２９にこれら偏向層１，１１の構成を適用することも可能である。
【００４９】
（電子機器）
次に、上記実施の形態の液晶表示装置２００を備えた電子機器の例について説明する。図７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図７（ａ）において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は上記の液晶表示装置２００を用いた液晶表示部を示している。
【００５０】
図７（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図７（ｂ）において、符号６００は情報処理装置、符号６０１はキーボードなどの入力部、符号６０３は情報処理装置本体、符号６０２は上記の液晶表示装置２００を用いた液晶表示部を示している。
【００５１】
図７（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図７（ｃ）において、符号７００は時計本体を示し、符号７０１は上記の液晶表示装置２００を用いた液晶表示部を示している。
【００５２】
このように図７に示す電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置２００を用いた液晶表示部を備えているので、耐湿性ないし耐久性に優れた表示部を有する電子機器を実現することができる。
【００５３】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の偏向層は、偏光主体層の表層に不溶性層が形成される一方、内部にも不溶性領域が形成されているため高い耐湿性ないし耐久性を示すものとなる。特に、表層の不溶性層が一部破損した場合にも、内部に不溶性領域が形成されているため、十分な不溶性若しくは難溶性を示すこととなる。また、この偏向層を備えた本発明の液晶表示装置は耐湿性ないし耐久性が高くなる一方、液晶表示装置の製造工程では水洗浄を行うことが多いが、このような水洗浄に対しても高い耐久性を示すものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明に係る偏向層の一実施の形態を示す断面模式図である。
【図２】  図２は、本発明に係る偏向層の異なる実施の形態を示す断面模式図である。
【図３】  図３は、本発明に係る偏向層の第１の製造方法を示す工程模式図である。
【図４】  図４は、本発明に係る偏向層の第１の製造方法を示す工程模式図である。
【図５】  図５は、基板の内面側に偏光層を備えた液晶表示装置の一例を示す部分断面図である。
【図６】  図６は、図５に示す液晶表示装置の動作原理を説明するための説明図である。
【図７】  図７は、本発明に係る電子機器の構成例を示す斜視構成図である。
【符号の説明】
１，１１  偏向層
５  基材
１０，１５  偏光主体層
２０  不溶性層
２５，２６，２８  不溶性領域（不溶性薄膜層）
２００  液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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