(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスクと、
前記磁気ディスクにアクセスするヘッドを搭載したヘッド駆動機構と、
前記磁気ディスクと前記ヘッド駆動機構を収納し、ネジ穴が形成された平坦部を開口縁の周囲に備えるベースと、
前記ベースと熱膨張係数の異なる材料で形成され、前記平坦部のネジ穴に位置合わせされるネジ用逃がし穴が設けられ、前記ネジ穴と前記ネジ用逃がし穴を貫通するネジで前記ベースに取り付けられるトップ・カバーとを有し、
前記平坦部と前記トップ・カバーの接触部位、及び前記ネジの頭部と前記トップ・カバーの接触部位にそれぞれ滑り摩擦抵抗を低減する滑り手段を設けた磁気ディスク装置。
【請求項２】
前記滑り手段が、前記接触部位に塗布された潤滑剤である請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項３】
前記潤滑剤が、フッ素系潤滑剤である請求項２記載の磁気ディスク装置。
【請求項４】
前記潤滑剤が、パーフルオロポリエーテルである請求項３記載の磁気ディスク装置。
【請求項５】
前記平坦部と接触する前記トップ・カバーの前記接触部位には油受け用の溝が形成された請求項２記載の磁気ディスク装置。
【請求項６】
前記ネジの頭部と接触する前記トップ・カバーの接触部位には油受け用の溝が形成された請求項２記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】
前記滑り手段が、前記ベース及び前記トップ・カバーそれぞれの前記接触部位に鏡面加工が施された鏡面部である請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項８】
前記鏡面部の表面粗さが、Ｒａ値では０．１μｍ〜０．５μｍである請求項７記載の磁気ディスク装置。
【請求項９】
前記鏡面部の表面粗さが、Ｒａ値では０．１μｍ〜０．２μｍである請求項７記載の磁気ディスク装置。
【請求項１０】
前記滑り手段が、前記接触部位に塗布された潤滑材と、前記ベース及び前記トップ・カバーそれぞれの前記接触部位に鏡面加工が施された鏡面部である請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項１１】
前記滑り手段を施す範囲が、前記ネジを締め込むことにより前記平坦部及び前記トップ・カバーに対して圧力が加わる範囲である請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項１２】
前記ベースがアルミニウムのダイカストで形成され、前記トップ・カバーがステンレスで形成された請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項１３】
前記平坦部と前記トップ・カバーで圧着し前記ベースの前記内部を密閉する密閉用ゴムを有する請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項１４】
磁気ディスクと、
前記磁気ディスクにアクセスするヘッドを搭載したヘッド駆動機構と、
前記磁気ディスクと前記ヘッド駆動機構を収納し、ネジ穴が形成された平坦部を開口縁の周囲に備えるベースと、
前記ベースと熱膨張係数の異なる材料で形成され、前記平坦部のネジ穴に位置合わせされるネジ用逃がし穴が設けられ、前記ネジ穴と前記ネジ用逃がし穴を貫通するネジで前記ベースに取り付けられるトップ・カバーとを有し、
前記平坦部と前記トップ・カバーが接触する部位において、前記ネジの締め付け部における摩擦係数がその他の部位の摩擦係数より低くなるように構成されている磁気ディスク装置。
【請求項１５】
前記ネジの頭部と前記トップ・カバーとの接触部位に潤滑剤を塗布した請求項１４記載の磁気ディスク装置。
【請求項１６】
記憶装置におけるベースとトップ・カバーの結合構造であって、
前記記憶装置の構成要素を収納し、ネジ穴が形成された平坦部を開口縁の周囲に備えるベースと、
前記ベースと熱膨張係数の異なる材料で形成され、前記平坦部のネジ穴に位置合わせされるネジ用逃がし穴が設けられ、前記ネジ穴と前記ネジ用逃がし穴を貫通するネジで前記ベースに取り付けられるトップ・カバーとを有し、
前記平坦部と前記トップ・カバーが接触する部位において、前記ネジの締め付け部における摩擦係数がその他の部位の摩擦係数より低くなるように構成されている磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気ディスク装置、光磁気ディスク装置等の記憶装置におけるベースとトップ・カバーの取り付け構造に関し、さらに詳細には、温度変化によるベースやトップ・カバーの変形を防ぐ取り付け構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置は機械的な機構がヘッド・ディスク・アセンブリ（以後、明細書中においてＨＤＡという。）として構成されている。このＨＤＡは、ベースと、ベースに収納された磁気ディスク、ヘッド支持機構、スピンドル・モータ及び電子部品等と、内部を清浄な空気環境で維持するためにベースに接合して密封構造を形成するトップ・カバーとで構成されている。ＨＤＡを密封状態にするためにトップ・カバーはベースに対してネジ止めされている。
【０００３】
この磁気ディスク装置のヘッド支持機構には、回転する磁気ディスクに対してデータの読み書きを行なうヘッドが形成されたヘッド／スライダが取り付けられ、ヘッドを所定の位置に位置付けるアクチュエータが採用されている。このアクチュエータの駆動機構は、ボイス・コイルとマグネットとヨークとで構成されるボイス・コイル・モータ（以後、明細書中においてＶＣＭという。）である。
【０００４】
このような磁気ディスク装置のヘッド支持機構は、磁気ディスクが回転すると、空気軸受面（ＡＢＳ）を有するスライダが磁気ディスク表面からわずかに持ち上がる。ＶＣＭの駆動力により、スライダは磁気ディスク表面上からわずかに浮かんだ状態で磁気ディスクのほぼ半径方向にピボット軸を中心に回動して、ヘッドがディスク表面の所定の位置でデータの読み書きをすることができるようになっている。この際、予め磁気ディスクに記録されたサーボ・データをヘッドが読み取り、この情報をアクチュエータにフィードバックすることによって、ヘッドの位置決めが行われる。ヘッドは位置決めされると、磁気ディスクの記録面に情報の記録又は再生を行なうようになっている。
【０００５】
このように構成された磁気ディスク装置は、ベースとトップ・カバーの材質が異なる場合には熱膨張係数が異なる２種類の金属の板を張り合わせることになるので、使用環境温度によってはバイメタル効果が生じることになる。このバイメタル効果が生じたＨＤＡの変形状態を図４に示した。ＨＤＡ１００においては、ベース１０１の材質はアルミニウムで、トップ・カバー１０２の材質はアルミニウムより熱膨張係数が小さいステンレスとなっている。また、図４の（Ａ）はアルミニウムのベース１０１が高温環境下で変形する様子を示す図で、（Ｂ）はアルミニウムのベース１０１が低温環境下で変形する様子を示す図である。
【０００６】
このＨＤＡ１００は、トップ・カバー１０２がベース１０１に対してネジ１０３にて固定され、且つアルミニウムのベース１０１がステンレスのトップ・カバー１０２より熱膨張係数が大きくなっている。したがって、高温環境下では図４（Ａ）に示すようにベース１０１の底部１０１ａが下方向に撓むように変形し、また、低温環境下では図４（Ｂ）に示すようにベース１０１の底部１０１ａが上方向に撓むように変形する。
【０００７】
このようにベース１０１の底部１０１ａが上下方向に撓むように変形すると、磁気ディスク１０４とＨＳＡ１０５のスライダ１０６に設けられたヘッド（図示せず）との位置関係がずれることになる。これは、磁気ディスク１０４がベース１０１の底部１０１ａに設けられたスピンドル・モータ１０７のスピンドル・ハブに固定され、ヘッド支持機構１０５がベース１０１の底部１０１ａに設けられたピボット軸１０９にキャリッジ１０８を介して回転自在に固定されているからである。
【０００８】
ベース１０１とトップ・カバー１０２が同じ量だけ伸びたり縮んだりして変形する場合は、ＨＤＡ内部の動作機構に問題は生じないが、図４に示した態様でベースが変形して磁気ディスク１０４とヘッド支持機構１０５のヘッドとの位置関係がずれると、オフトラックが発生したり、ヘッド支持機構１０５のスライダ１０６の浮上姿勢が変化したりする。ここで、オフトラックとは、ヘッド支持機構が複数のヘッド／スライダを搭載しているときに、あるヘッドが特定のシリンダに位置づけられたときの他のヘッドが対応するトラックが温度変化の前後でずれることをいう。
【０００９】
ヘッド／スライダにオフトラックが発生すると、正しいトラックにデータを書き込んだり、目的とするトラックからデータを再生したりすることが困難になってしまう。また、ヘッド／スライダの浮上姿勢が変化するとヘッドのフライング・ハイトが変化してデータの記録および再生に障害がでる。ベースとトップ・カバーによるバイメタル効果を防ぐのに有効な技術が種々提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照。）。
【００１０】
【特許文献１】実開平２−１０１３９２号公報
【特許文献２】特開平６−１６２７５８号公報
【特許文献３】国際公開第９６／１７３４９号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
背景技術において示した特許文献１の磁気ディスク装置は、スピンドル・モータ及びアクチュエータとベースとの線膨張係数の差に起因するベースの変形を、調節ネジでベースに力を加えて補正して、磁気ヘッドの磁気ディスクに対する位置ずれを補正している。しかしながら、この位置ずれは使用環境温度によって変化するので、その都度、調節ネジで補正しなければならなかった。
【００１２】
また、背景技術において示した特許文献２の磁気ディスク装置は、プリント基板とベース・プレートとの熱膨張係数の差に起因するベース・プレートの変形を、ベース・プレートにプリント基板を固定する際にゴム部材を介して固定ネジにて締付けることで、そのゴム部材の弾性により吸収している。しかしながら、ゴム部材は固定ネジで締付けると硬くなり弾性機能が低下する難点がある。
【００１３】
また、背景技術において示した特許文献３のテープ・カートリッジは、ベース板とカバー部材との熱膨張率の差に起因するベース板及びカバー部材の変形を、ベースの貫通孔と、この貫通孔に挿入された支持ピンの挿通部との間に生じる間隙により吸収している。しかしながら、ベース板とカバー部材とは動かないように固定されていないので、磁気ディスク装置のベースとトップ・カバーの固定構造には不適である。
【００１４】
なお、ベースとトップ・カバーによるバイメタル効果を防ぐために、両者の材質を同じにすることが考えられる。しかし、ベースはダイカストによる成形がし易いのでアルミニウムを採用し、トップ・カバーは薄くても強度をもたせるためにステンレスを採用している。これはステンレスではダイカストが困難で、アルミニウムでは強度を確保するには厚くしなければならないからである。このように、ベースに求められる機能とトップ・カバーに求められる機能が異なるので、熱膨張係数を一致させることができない。
【００１５】
そこで本発明の目的は、ベースとトップ・カバーを固定すると共にバイメタル効果による変形を防ぐ構造を採用した磁気ディスク装置を提供することにある。さらに本発明の目的は、使用環境温度が変化しても磁気ディスクとヘッドの位置関係を維持してヘッドの出力障害を防ぐ磁気ディスク装置を提供することにある。さらに本発明の目的は、バイメタル効果による変形を防ぐベースとトップ・カバーの結合構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の原理は、ネジで締結されたベースとトップ・カバーがバイメタル効果により変形することを防ぐために、ネジで固定した状態でもベースとトップ・カバーを当該ベースの平面方向に滑らせる点にある。図３はバイメタル効果を示すモデルの簡易構成図で、（Ａ）は常温状態におけるモデルの図、（Ｂ）は高温状態における変形後のモデルの図、（Ｃ）は高温状態における変形を回避するために本発明の基本原理を適用させたモデルの図である。
【００１７】
図３（Ａ）においては、熱膨張係数が異なる２種類の金属の板の両端をそれぞれネジ止めしたモデルであり、使用環境が常温状態なので変形していない。図３（Ｂ）においては、図３（Ａ）のモデルが高温状態におかれているので、モデルにバイメタル効果が生じると熱膨張係数の小さい金属の板の方に傾くように変形する。図３（Ｃ）においては、熱膨張係数が異なる２種類の金属の板の一端だけをネジ止めしたモデルであり、このモデルの他端はネジ止めされず自由になっている。したがって、高温状態では金属の板を当該板の平面方向に滑らせることができるので、モデルにバイメタル効果が生じても変形を防ぐことができる。
【００１８】
本発明の第１の態様では、磁気ディスクと、磁気ディスクにアクセスするヘッドを搭載したヘッド駆動機構と、磁気ディスクとヘッド駆動機構を収納し、ネジ穴が形成された平坦部を開口縁の周囲に備えるベースと、ベースと熱膨張係数の異なる材料で形成され、平坦部のネジ穴に位置合わせされるネジ用逃がし穴が設けられ、ネジ穴とネジ用逃がし穴を貫通するネジでベースに取り付けられるトップ・カバーとを有し、平坦部とトップ・カバーの接触部位、及びネジの頭部とトップ・カバーの接触部位にそれぞれ滑り摩擦抵抗を低減する滑り手段を設けた磁気ディスク装置を提供する。
【００１９】
本発明の第２の態様では、磁気ディスクと、磁気ディスクにアクセスするヘッドを搭載したヘッド駆動機構と、磁気ディスクとヘッド駆動機構を収納し、ネジ穴が形成された平坦部を開口縁の周囲に備えるベースと、ベースと熱膨張係数の異なる材料で形成され、平坦部のネジ穴に位置合わせされるネジ用逃がし穴が設けられ、ネジ穴とネジ用逃がし穴を貫通するネジでベースに取り付けられるトップ・カバーとを有し、平坦部とトップ・カバーが接触する部位において、ネジの締め付け部における摩擦係数がその他の部位の摩擦係数より低くなるように構成されている磁気ディスク装置を提供する。
【００２０】
本発明の第３の態様では、記憶装置におけるベースとトップ・カバーの結合構造であって、記憶装置の構成要素を収納し、ネジ穴が形成された平坦部を開口縁の周囲に備えるベースと、ベースと熱膨張係数の異なる材料で形成され、平坦部のネジ穴に位置合わせされるネジ用逃がし穴が設けられ、ネジ穴とネジ用逃がし穴を貫通するネジでベースに取り付けられるトップ・カバーとを有し、平坦部とトップ・カバーが接触する部位において、ネジの締め付け部における摩擦係数がその他の部位の摩擦係数より低くなるように構成されている磁気ディスク装置を提供する。
【００２１】
このように、ベースの平坦部とトップ・カバーの接触部位、及びネジの頭部とトップ・カバーの接触部位にそれぞれ滑り摩擦抵抗を低減する滑り手段を施すことで、バイメタル効果が生じてもベースとトップ・カバーを当該ベースの平面方向に滑らせることができる。この滑り手段としては、潤滑剤を接触部位に塗布したり、鏡面加工を接触部位に施したりすることが考えられる。また、平坦部とトップ・カバーが接触する部位において、ネジの締め付け部における摩擦係数がその他の部位の摩擦係数より低くなるように構成することで、バイメタル効果が生じてもベースとトップ・カバーを当該ベースの平面方向に滑らせることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、ベースとトップ・カバーを固定すると共にバイメタル効果による変形を防ぐ構造を採用した磁気ディスク装置を提供することができた。さらに本発明により、使用環境温度が変化しても磁気ディスクとヘッドの位置関係を維持してヘッドの出力障害を防ぐ磁気ディスク装置を提供することができた。さらに本発明により、バイメタル効果による変形を防ぐベースとトップ・カバーの結合構造を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための最良の実施形態について、図面を参照して説明する。本明細書の全体を通じて同一要素には同一参照番号を付す。図１は本発明を実施するための最良の形態例に係るベースとトップ・カバーをネジで固定した構成を示す図で、（Ａ）は全体断面図、（Ｂ）は拡大断面図である。図２は本発明における磁気ディスク装置の概略構成を示す平面図である。
【００２４】
磁気ディスク装置１は図１、図２に示すように、ベース２とベース２の上部を蓋するトップ・カバー３で形成された清浄な空気の密閉空間を形成し、内部に磁気ディスク４や、ヘッド駆動機構であるスピンドル・モータ５及びＨＳＡ６などを収納している。また、ベース２にはフレキシブル・ケーブル７及びこのフレキシブル・ケーブル７に装着された外部接続端子８が組み込まれている。この外部接続端子８にはベース２の外部に設けられ磁気ディスク装置１の動作及び外部とのデータ通信を制御するための回路基板が接続されている。
【００２５】
磁気ディスク４は、１枚又はスタック状の複数枚のディスクがベース２の底面で支持されたスピンドル・モータ５のスピンドル軸５０の外周に固定されている。なお、スタック状に複数のディスクを設ける場合には、スピンドル軸５０の周りを一体になって回転できるように、各ディスクをスピンドル・ハブ５１に所定の間隔幅で積層して取り付ける。本実施の形態では、３枚の磁気ディスク４ａ〜４ｃが積層されて設けられている。
【００２６】
ＨＳＡ６は、キャリッジ６０とヘッド・ジンバル・アセンブリ（以後、明細書中においてＨＧＡという。）７０ａ〜７０ｆとで構成されている。キャリッジ６０は、ピボット軸受６１とボイス・コイル６２を保持するコイル・サポート６３とアクチュエータ・アーム６４ａ〜６４ｄとで構成されている。ピボット軸９の外周に固定するピボット軸受６１の後方にはボイス・コイル６２と共にボイス・コイル・モータを構成するボイス・コイル・ヨーク６５が配置され、ボイス・コイル・ヨーク６５の内側には永久磁石が取り付けられて静磁界を形成している。
【００２７】
積層された３枚の磁気ディスク４ａ〜４ｃはそれぞれ表面と裏面に記録領域を備え、これに対応してキャリッジ６０に形成されている４本のアクチュエータ・アーム６４ａ〜６４ｄが積層された構造になっている。アクチュエータ・アーム６４ａにはＨＧＡ７０ａが、アクチュエータ・アーム６４ｄにはＨＧＡ７０ｆがそれぞれ取り付けられ、アクチュエータ・アーム６４ｂにはＨＧＡ７０ｂ、７０ｃが取り付けられ、アクチュエータ・アーム６４ｃにはＨＧＡ７０ｄ、７０ｅがそれぞれ取り付けられる。
【００２８】
ＨＧＡ７０ａ〜７０ｆは、ディスクとの間でデータの読み取り及び書き込み又はそのいずれか一方を行う磁気ヘッドと、磁気ヘッドが取り付けられたスライダと、ピポット動作ができるように柔軟にスライダを支持するフレキシャと、スライダに対してディスク面に向かう圧力を加えるようにフレキシャを支持するロード・ビームとで構成されている。
【００２９】
このような磁気ディスク４、スピンドル・モータ５及びＨＳＡ６などを内部に収納するベース２は、磁気ディスク４を収納する円形の凹部から成る磁気ディスク収納領域２ａと、ＨＳＡ６を収納するＨＳＡ収納領域２ｂとから構成され、さらに開口縁２ｃの周囲にトップ・カバー３を安定した状態で載置するための平坦部２ｄが形成されている。平坦部２ｄには、トップ・カバー３をネジ１０で固定するためのネジ穴２ｅが設けられている。本実施の形態では、ベース２の端部となる６箇所に設けられている。このベース２の材質は、ダイカストによる成形がし易いアルミニウムが用いられている。
【００３０】
トップ・カバー３は、当該トップ・カバー３をベース２の所定位置に取り付けた際、ベース２のネジ穴２ｅと共に貫通するようにネジ用逃がし穴３ａが開口するように設けられている。このトップ・カバー３の材質は、薄く形成するにはアルミニウムでは強度不足なのでステンレスが用いられている。
【００３１】
また、図１（Ｂ）に示すように、ベース２の平坦部２ｄとトップ・カバー３との接触部位、及びネジ１０の頭部１０ａとトップ・カバー３との接触部位にはそれぞれ滑り摩擦抵抗を低減する滑り手段２０が施されている。この滑り手段２０としては潤滑剤が好ましく各接触部位に塗布される。潤滑剤は各接触部位の滑り摩擦抵抗を低減することができるので、ベース２の平坦部２ｄとトップ・カバー３とを規定のネジ締めトルクでネジ止めした場合、バイメタル効果が生じてもベース２とトップ・カバー３を当該ベース２の平面方向に滑らせることができる。したがって、ベース２とトップ・カバー３のバイメタル効果による変形を防ぐことができる。
【００３２】
このような潤滑剤としては、金属と結合する官能基を有する例えばフッ素系潤滑剤が好ましい。フッ素系潤滑剤は、金属と結合する官能基を介して金属の表面に強固に結合することで金属の表面を被覆するので、滑り作用を長時間保持することができる。このフッ素系潤滑剤としてはパーフルオロポリエーテルが挙げられる。また、金属の表面を洗浄するために、この潤滑剤の溶媒としてハイドロフルオロエーテルである住友スリーエム株式会社製ノベックＨＦＥ７１００を用いている。
【００３３】
また、ベース２の平坦部２ｄと接触するトップ・カバー３の接触部位には油受け用の溝３１が形成されている。油受け用の溝３２は、ネジ１０の頭部１０ａに接触するトップ・カバー３の接触部位にも形成されている。この油受け用の溝３１、３２をトップ・カバー３に形成することで、潤滑剤の寿命を延ばすことができる。なお、トップ・カバー３と接触するベース２の平坦部２ｄに油受け用の溝を設けてもよい。
【００３４】
また、トップ・カバー３のネジ用逃がし穴３ａの内径ＩＤと、ネジ１０のネジ部１０ｂの外径ＥＤとの間には隙間が有するように設計されている。この隙間により、ベース２とトップ・カバー３がバイメタル効果によりベース２の平坦部２ｄの平行方向に向かって滑っても、この滑りによる変位が吸収される。したがって、ベース２とトップ・カバー３のバイメタル効果による変形を防ぐことができる。
【００３５】
さらに、この滑り手段２０を施す範囲は、ネジ１０を締め込むことによりベース２の平坦部２ｄとトップ・カバー３に対して圧力が加わる範囲である。この圧力が加わる範囲以外では、ベース２とトップ・カバー３は滑り手段２０を施さなくとも滑ることが可能だからである。
【００３６】
このように構成された磁気ディスク装置１は、アルミニウムのベース２が変形しない温度環境下においてはベース２とトップ・カバー３にはバイメタル効果は生じないが、アルミニウムのベース２が変形するような温度環境下ではバイメタル効果は生じることになる。この際、図１（Ｂ）に示すように、ベース２の変位のベクトル量ＶＱ１とトップ・カバー３の変位のベクトル量ＶＱ２が異なるが、ベース２の平坦部２ｄと接触するトップ・カバー３の接触部位、及びネジ１０の頭部１０ａと接触するトップ・カバー３の接触部位にはそれぞれ潤滑剤２０が塗布されているので、ベース２とトップ・カバー３を滑らせることができる。ベース２とトップ・カバー３を滑らせることで、ベース２とトップ・カバー３の変形を防ぐことができるので、磁気ディスク４の各磁気ディスク４ａ〜４ｂとＨＧＡ７０ａ〜７０ｆの各磁気ヘッドとの位置関係がずれたり、ＨＧＡ７０ａ〜７０ｆの各スライダの浮上姿勢が変化したりすることを防ぐことができる。したがって、使用環境温度が変化しても磁気ディスク４とヘッドの位置関係を維持してヘッドの出力障害を防ぐことが可能になる。
【００３７】
なお、上述した実施形態においては、滑り手段２０として潤滑剤を使用していたが、これに限らず、ベース２の平坦部２ｄとトップ・カバー３との接触部位、及びネジ１０の頭部１０ａとトップ・カバー３との接触部位に鏡面加工が施された鏡面部を設けてもよい。この鏡面部２０を各接触部位に設けることで鏡面部同士が接触することになるので、ベース２の平坦部２ｄとトップ・カバー３との接触部位、及びネジ１０の頭部１０ａとトップ・カバー３との接触部位はそれぞれ滑り摩擦抵抗を低減することができる。
【００３８】
この鏡面部２０の表面粗さは、Ｒａ値では０．１μｍ〜０．５μｍ、好ましくは０．１μｍ〜０．２μｍがよい。Ｒａ値をこの範囲に収めることで、滑り摩擦抵抗を低減させることができると共に加工コストが上がることを極力抑えることができる。ここでＲａ値とは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に定義されている表面粗さで算術平均粗さをいう。
【００３９】
また、滑り手段２０は、この鏡面部と潤滑剤とを併用することで単独で使用するよりも各接触部位の滑り摩擦抵抗をさらに低減させることができる。
【００４０】
このような滑り手段２０は、上述したような構成の磁気ディスク装置１に限らず、図１（Ｂ）に示すようなベース２の平坦部２ｄとトップ・カバー３で圧着しベース内部を密閉する密閉用ゴム３３を有する磁気ディスク装置にも適用させることができる。密閉用ゴム３３はベース２の平坦部２ｄに形成された溝（図示せず）に嵌め込まれている。この溝はベース２の平坦部２ｄに設けられたネジ穴２ｅより内側で当該ベース２の端部近傍に閉曲線を描くように形成されている。このような密閉用ゴム３３を有する磁気ディスク装置では、滑り手段２０をベース内部と隔離することができるので、潤滑剤による放出ガスの抑制を考慮する必要がなくなる。したがって、潤滑剤の選択幅を広げることができる。
【００４１】
また、上述した実施形態においては、滑り手段２０として潤滑剤と鏡面部を例示として挙げていたが、これに限らず、平坦部２ｄとトップ・カバー３が接触する部位において、ネジ１０の締め付け部における摩擦係数がその他の部位の摩擦係数より低くなるように構成されていればよく、どのような平坦部２ｄとトップ・カバー３の結合構造でもよい。
【００４２】
また、上述した実施形態においては、ベース２の材質をアルミニウムのダイカスト、トップ・カバー３の材質をステンレスにしていたが、これに限らず、磁気ディスク装置のベース、トップ・カバーとして使用可能な熱膨張係数が異なる２種類の金属であれば、どのような金属でもよい。
【００４３】
これまで本発明について図面に示した特定の実施の形態をもって説明してきたが、本発明は図面に示した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の効果を奏する限り、これまで知られたいかなる構成であっても採用することができることはいうまでもないことである。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
ヘッド支持機構を備えた記憶装置全般において利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の磁気ディスク装置による最良な実施の一形態を示す図である。
【図２】本発明における磁気ディスク装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】バイメタル効果を示すモデルの簡易構成図である。
【図４】従来の磁気ディスク装置でバイメタル効果が生じた場合のＨＤＡの変形状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４６】
１……磁気ディスク装置
２……ベース
２ｃ……開口縁
２ｄ……平坦部
２ｅ……ネジ穴
３……トップ・カバー
３ａ……ネジ用逃がし穴
ＩＤ……ネジ用逃がし穴の内径
４……磁気ディスク
５……スピンドル・モータ
６……ＨＳＡ
１０……ネジ
１０ａ……ネジの頭部
１０ｂ……ネジのネジ部
ＥＤ……ネジのネジ部の外径
２０……潤滑剤、鏡面部
３１、３２……油受け用の溝
３３……密閉用ゴム
【図１】
0004575253.tif 000002
【図２】
0004575253.tif 000003
【図３】
0004575253.tif 000004
【図４】
0004575253.tif 000005