(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の真空容器間を連通又は連通遮断するように開閉する真空ゲート弁であって、
開弁時に上記複数の真空容器同士を連通すると共にワークが通過する連通路が形成される弁箱を備え、
上記連通路は、該連通路の内部空間に露出する壁面の全体が、上記ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱反射面に形成されていることを特徴とする真空ゲート弁。
【請求項２】
上記真空容器の開口と略平行な方向に沿って開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能な弁板支持体と、
上記弁板支持体に接離可能に支持され、弁板支持体の閉弁位置で上記弁板支持体に対し接離して上記真空容器の開口を開閉する弁板とを備えることを特徴とする請求項１の真空ゲート弁。
【請求項３】
請求項１又は２の真空ゲート弁において、
上記輻射熱反射面は鏡面状のものであることを特徴とする真空ゲート弁。
【請求項４】
請求項１又は２の真空ゲート弁において、
上記輻射熱反射面の表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足していることを特徴とする真空ゲート弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の真空容器間でワークを搬送するようにした真空ゲート弁に関し、特に、その搬送中のワークの温度低下を抑制するための技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、例えば実開昭６４―７７０号公報等に開示されるように、隣接する１対の真空容器に連通する弁箱内に弁板支持体を、その背面に軸支したガイドローラで案内しながら昇降可能に配置し、この弁板支持体の一方の真空容器側の側面に、弁箱と一方の真空容器との間の連通部を開閉する弁板を平行リンク機構を介して接離可能に支持し、弁箱内の下部に、弁板支持体の下降時に弁板に当接して弁板を支持体に対し閉じ方向に相対移動させる弁板ストッパを設け、弁箱上壁外面に、該上壁を上下方向に気密状に貫通するピストンロッドを有するシリンダを取り付けて、そのピストンロッドの下端部を弁箱内の弁板支持体に連結し、シリンダの伸縮作動により弁板支持体を弁箱内で昇降移動させて弁板を開閉させ、シリンダの収縮作動により弁板支持体を上昇させたときには、その弁板支持体と共に弁板を上昇させて弁箱の真空容器との連通部を開き、両真空容器同士を連通させる一方、シリンダの伸長動作により弁板支持体を下降させたときには、その途中で、弁板支持体と共に下降する弁板を弁板ストッパに当接させて平行リンク機構により弁板支持体から離隔させ、この離隔により弁板を弁箱と真空容器との連通部の周りに押し付けて両真空容器同士の連通を遮断するようにした真空ゲート弁は知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、一般に、基板等のワークに蒸着等の多数種類の成膜処理を連続して施す場合、上記のような真空ゲート弁に接続されている複数の真空容器の各内部でワークを加熱手段で加熱保持した状態で蒸着等の成膜をすることが行われている。すなわち、真空ゲート弁により密閉された一方の真空容器内にワークを搬入し、そのワークを真空容器内に設けられたヒータ等により加熱しかつ所定の設定温度に維持した状態で成膜する。その成膜が終わると、真空ゲート弁を開き、ワークを真空ゲート弁の内部を通過させて他方の真空容器へ移動させる。そして、真空ゲート弁を閉じた後、この他方の真空容器内で同様にワークを加熱保持した状態で次の成膜処理を行う。
【０００４】
しかし、上記真空ゲート弁の内部には、通常、ワークの熱損失を防ぐための対策は何等されていない。このため、一方の真空容器から真空ゲート弁の内部を通過させて他方の真空ゲート弁へ加熱されたワークを移動させる場合、そのゲート弁内部を通過する間にワークの温度が低下してしまうのは避けられず、次の成膜処理でワークを目的の温度に加熱するのに大きなエネルギーが必要となる。
【０００５】
例えば、真空ゲート弁の内部にヒータ等の加熱手段を設けて真空ゲート弁を通過するワークを加熱するようにしてもよいが、構造が非常に複雑となり製造コストが大きくなるという問題がある。
【０００６】
本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、上記のように真空容器間で真空ゲート弁等を介してワークを搬送するようにした真空ゲート弁について、その装置構造に改良を加えることで、真空容器間を搬送中のワークの温度低下を簡単な構造により可及的に抑制しようとすることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１の発明では、複数の真空容器間を連通又は連通遮断するように開閉する真空ゲート弁が対象である。そして、開弁時に上記複数の真空容器同士を連通すると共にワークが通過する連通路が形成される弁箱を備え、上記連通路は、該連通路の内部空間に露出する壁面の全体が、上記ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱反射面に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
ここで、真空空間における熱伝導では空気中のように対流による熱伝導がないので、加熱されたワークの温度低下の主たる原因は輻射による熱伝導である。従って、上記請求項１の構成によって、真空ゲート弁の内部の輻射熱反射面がワークから放射される輻射熱を反射して再びワークへ入射させるので、ワークの温度低下を効果的に抑制することができる。
【０００９】
さらに、内部を通過するワークの温度低下を抑制する目的でヒータ等の加熱手段を別途設ける必要がなく、簡単な構成によりワークの熱損失を抑制できるので、コストの低減を図ることができるものとなる。
【００１０】
請求項２の発明では、請求項１の真空ゲート弁において、上記真空容器の開口と略平行な方向に沿って開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能な弁板支持体と、上記弁板支持体に接離可能に支持され、弁板支持体の閉弁位置で上記弁板支持体に対し接離して上記真空容器の開口を開閉する弁板とを備えることを特徴とする。このことにより、望ましい真空ゲート弁を具体化することができる。
【００１１】
請求項３の発明では、請求項１又は２の真空ゲート弁において、上記輻射熱反射面が鏡面状のものとする。
【００１２】
また、請求項４の発明では、上記輻射熱反射面の表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足していることを特徴とする。
【００１３】
仮に、表面あらさＲがＲ≧２５Ｓである場合には、ワークが放射する輻射熱を充分な強度で反射させることができない。従って、上記請求項４の構成によって、望ましい輻射熱反射面を具体的に得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図６〜図８は本発明の実施形態を示し、１は前側に位置する第１真空容器、２は第１真空容器１の後側に隣接する第２真空容器であって、各真空容器１，２はそれぞれ互いに対向配置された略矩形状の開口３，４を有する。そして、この真空容器１，２の内部には、格納された基板等のワークＷを加熱保持するためのヒータ等の加熱手段が設けられており、各真空容器１，２内でワークＷを所定の設定温度に保持した状態で蒸着等の多種類の成膜ができるようになされている。
【００１５】
そして、両真空容器１，２間には両真空容器１，２の内部空間（真空空間）同士を連通又は連通遮断するための真空ゲート弁５が配設されている。この真空ゲート弁５は、両真空容器１，２間に気密状に挟まれた薄厚矩形状の弁箱６を備え、この弁箱６の前壁（図７及び図８で左側壁）の下部には上記第１真空容器１の開口３に対応する前側連通口７が、また後壁（図７及び図８で右側壁）の下部には第２真空容器２の開口４に対応する後側連通口８がそれぞれ開口されており、この連通口７，８を介して弁箱６内の真空空間が各真空容器１，２と連通している（以降、図７及び図８において左右方向を前後方向、また紙面に垂直な方向を左右方向とする）。
【００１６】
上記弁箱６内の上部には、アクチュエータとしてのエアシリンダ３１が配設されている。すなわち、弁箱６の上部壁面に締結固定されたシリンダ台１９に載置された状態で配置固定されている。このエアシリンダ３１は、シリンダボディから下方に突出して直線運動をする円筒状のピストンロッド３１ａを有している。
【００１７】
一方、弁箱６の上壁面には、ピストンロッド３１ａと略同じ径を有する開口が貫通形成されており、さらに、この開口の上側には開口に連続しかつ略同じ径のガイド孔を有する案内支持部５１が固着されている。そして、ピストンロッド３１ａは、案内支持部５１に気密状態で案内されて、上記弁箱６の開口及び案内支持部５１のガイド孔を通って弁箱６内部へ延びるようになされている。
【００１８】
そして、ピストンロッド３１ａの下端部には、底面部とこの底面部から下方に延びる突出部１１ａとを有するクレビス１１が鉛直面内で揺動可能に軸支されている。そして、このクレビス１１の突出部１１ａに、上記弁箱６下部の連通口７，８よりも若干大きくかつ弁箱６内の後側（第２真空容器２側）にオフセット配置した弁板支持体１５が連結されている。
【００１９】
このようにして、シリンダ３１の伸縮作動によりピストンロッド３１ａを昇降させることにより、弁板支持体１５及び後述の弁板３４を昇降させる。すなわち、シリンダ３１を収縮作動させたときには、弁板支持体１５及び弁板３４を上昇させ、ゲート弁５を開弁状態とする一方、シリンダ３１を伸長作動させたときには、弁板支持体１５及び弁板３４を下降させ、ゲート弁５を閉弁状態とする。
【００２０】
そして、上記弁板支持体１５を弁箱６内で昇降案内する複数種類の案内用ローラ２２，２４，２６が設けられている。すなわち、図５に示すように、弁板支持体１５の左右側部にはそれぞれ水平左右方向の軸心を持ったローラ軸２１，２１が突出して取付固定され、この各ローラ軸２１には、弁箱６の前後壁内面間の間隔よりも若干小さい外径を有しかつ弁箱６の連通孔７，８の左右両側の前後壁内面上を転動する前後ガイドローラ２２が回転可能に支持されている。
【００２１】
また、図１、図２及び図４〜図６に示す如く、上記弁板支持体１５の第２真空容器２側（図７で右側）である後側面の上下端部にはそれぞれ切り欠き部５０，５０，…が、例えば６つずつ設けられている。この上端部の切り欠き部５０，５０は、上及び後方向に開口する一方、下端部の切り欠き部５０，５０は、下及び後方向に開口している。そして、これら切り欠き部５０，５０，…には、それぞれ水平左右方向に延びるローラ軸２３，２３，…が上下に略対応して左右方向に並んだ状態で取付固定され、この各ローラ軸２３には弁箱６の後壁内面上を転動可能な後側ガイドローラ２４が支持されている。
【００２２】
さらに、図４及び図５に示す如く、弁板支持体１５の左右側部の上下端部にはそれぞれ水平前後方向の軸心を持つローラ軸２５，２５，…（一方のみを示す）が取付固定され、この各ローラ軸２５に弁箱６の左右側壁内面上を転動するサイドローラ２６が回転可能に支持されている。そして、これらガイドローラ２２，２４及びサイドローラ２６により弁板支持体１５が弁箱６内で前後方向及び左右方向に殆ど位置ずれすることなく昇降するようになっている。
【００２３】
このようにして、弁板支持体１５は、弁箱６内でガイド機構としての前後ガイドローラ２２、後側ガイドローラ２４、及びサイドローラ２６により案内されて、第１及び第２真空容器１，２の各開口と略平行な方向に沿って開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能とされている。
【００２４】
上記弁板支持体１５の前側面（図７で左側面）には弁板支持体１５と略同じ大きさ（弁箱６下部の前側連通口７よりも若干大）の弁板３４が対なるリンクを有する平行リンク機構４４，４４，…を介して接離可能に支持されている。この弁板３４は、弁板支持体１５の閉弁位置で弁板支持体１５に対し接離して、第１真空容器１の開口３つまり弁箱６の前側連通口７を開閉して第１及び第２真空容器１，２同士を連通又は連通遮断させるものである。そして、その弁板３４の前側面外周部には、例えばバイトン等からなるリング状のシール部材３５が取付固定されており、弁板３４が第１真空容器１の開口３を閉じたときに、弁板３４と、その開口３周りの壁部、つまり、連通口７周りの弁箱６の前壁内面との間で圧縮されて弁板３４及び壁部間をシールするようになされている。
【００２５】
上記平行リンク機構４４，４４，…は、弁板３４及び弁板支持体１５の間に設けられて上記弁板支持体１５の閉弁位置で弁板３４及び弁板支持体１５が互いに接離するように支持しており、この弁板３４及び弁板支持体１５が接触することによって真空ゲート弁５が開弁する一方、離隔することによって閉弁するように構成されている。
【００２６】
すなわち、図１〜図３にも示すように、弁板支持体１５には、弁板支持体１５を前後方向に貫通する複数の開口部１６，１６，…がそれぞれ略左右方向に並んだ状態で形成されている。そして、この各開口部１６内に円筒状のリンク軸４７が弁板支持体１５の移動方向と直交する水平左右方向が軸心方向となるように配設されており、リンク４５の後端部（弁板支持体１５側の端部）が、このリンク軸４７の軸心回りに揺動可能に軸支されている。
【００２７】
また、弁板３４の後側面には上記弁板支持体１５の各開口部１６に略対応して凹部３６が形成されている。そして、この各凹部３６内に円筒状のリンク軸４６が水平左右方向が軸心方向となるように配設されており、上記各リンク４５の前端部（弁板３４側の端部）がこのリンク軸４６の軸心周りに揺動可能に軸支されている。そして、上記上下に対応する１対のリンク４５，４５で平行リンク機構４４，４４，…が構成されており、この平行リンク機構４４，４４，…を介して弁板３４が弁板支持体１５の前側面（第１の真空容器１側の側面）に接離可能に支持されている。
【００２８】
また、図１，図２及び図４に示すように、上記弁板３４の前側面における左右側部下端にはそれぞれ水平左右方向に延びるローラ軸３８，３８が取付固定され、この各ローラ軸３８にはストッパローラとしての弁板前ローラ３９が回転可能に支承されている。また、弁箱６の前壁内面における左右側部の下端には、弁板３４が弁箱６の前側連通口７を閉じた閉弁状態にあるときの上記各弁板前ローラ３９に対応して有底の凹部６ｂが形成されており、弁板３４が前側連通口７を開いた状態では、弁板前ローラ３９は前側連通口７の左右両側の前壁内面上を転動するが、閉じた状態では、弁板前ローラ３９が弁箱６の凹部６ｂ内にその底面から浮いた状態で落ち込むようになっている。
【００２９】
そして、上記弁箱６内の下部には上記各弁板前ローラ３９の真下位置にそれぞれ当接部材４０，４０が左右方向に並んだ状態で取り付けられている。この各当接部材４０はブロック状のもので、弁板支持体１５が下降端位置近傍まで下降したときに弁板３４詳しくは弁板前ローラ３９に当接して弁板３４の下降移動を停止させ、その後の弁板支持体１５の下降移動に伴い、弁板３４を平行リンク機構４４，４４，…によって弁板支持体１５から離隔する前方向つまり閉じ方向に相対移動させるように案内する。尚、この弁板前ローラ３９に代え、各当接部材４０に、弁板３４に当接して転動するストッパローラを軸支するようにしてもよい。
【００３０】
また、図１及び図５にも示すように、弁板支持体１５の閉弁位置を調節してシール部材３５の圧縮量を調整する調整手段１３を備えている。具体的には、弁箱６内側底部に、ブロック状の支持部材１２が固着して設けられており、この支持部材１２の上面に複数の板材を弁板支持体１５の移動方向に積層して一体化される積層部材としての調整手段１３が載置されている。さらに、この調整手段１３の上面に弁板支持体１５の閉弁位置でこの弁板支持体１５に当接するストッパ１４が設けられていて、調整手段１３を介して支持部材１２にボルト１０により締結固定されている。つまり、調整手段１３は、ストッパ１４に固定されている。また、支持部材１２、調整手段１３及びストッパ１４は、それぞれ例えばステンレス鋼等からなる。このようにして、調整手段１３は、支持部材１２とストッパ１４との間に挟まれる板材の枚数を変更することにより、弁板支持体１５のストッパ１４との当接位置を変更するようになされている。
【００３１】
そして、本発明の特徴として、開弁時に真空容器１，２間を搬送されるように真空ゲート弁５の内部を通過するワークＷに対向する周囲面、つまり真空ゲート弁５内部の内壁面に、ワークＷから放射される輻射熱を反射する鏡面状の輻射熱反射面Ａが設けられている。具体的には、輻射熱反射面Ａは、その表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足するようになされている。
【００３２】
尚、ＪＩＳ規格でも示されるように、表面あらさを最大高さＲｍａｘによって指示するときは、標準数列（０．０５，０．１，０．２，０．４，０．８，１．６，３．２，６．３，１２．５，２５，５０，１００，２００，４００）の数値を用いるようにしており、本発明で記載しているように、表面あらさＲを最大高さＲｍａｘの許せる最大値によって指示する場合、上記標準数列の数値の後にＳを付けて表す。このとき、最大高さＲｍａｘの最大値表示としての２５Ｓは、０μｍＲｍａｘ≦２５Ｓ≦２５μｍＲｍａｘを意味する。
【００３３】
すなわち、図１、図２、図４、図７及び図８に太線で示すように、真空ゲート弁５が開弁状態のときに、隣接する真空容器１，２内部の真空空間同士を連通する連通路３０が、弁箱６の前後及び左右方向の内壁面と、支持部材１２及び調整手段１３の側壁面と、及びストッパ１４の壁面と、当接部材４０の壁面と、弁板３４の下端面及び下端部側面と、弁板支持体１５の下端面と、弁箱６の連通口７，８の内周面とにより区画されてなり、この連通路３０の内壁面が輻射熱反射面Ａとなるようになされている。
【００３４】
換言すれば、上記のように開弁時に区画される連通路３０について、その内部の空間としての連通空間に露出する壁面が鏡面状の輻射熱反射面Ａとされている。
【００３５】
次に、上記実施形態の作動について説明する。まず、図７にも示すように、真空ゲート弁５が閉じられて密閉された第１真空容器１の内部の真空空間で、ワークＷに対して例えば蒸着等の成膜を行う。このとき、ワークＷを高温に維持する必要があるので、第１真空容器１内に設けられているヒータによりワークＷが所定温度になるように加熱保持する。
【００３６】
そして、第１真空容器１内での成膜が終了した後に真空ゲート弁５を開く。すなわち、図１，図６で実線及び図７に示す閉弁状態にある真空ゲート弁５を開くときには、シリンダ３１の収縮作動によってピストンロッド３１ａを、案内支持部５１により気密状に案内された状態で上昇移動させる。このことで、ピストンロッド３１ａ下端にクレビス１１を介して連結されている弁板支持体１５がガイドローラ２２，２４により前後方向に、またサイドローラ２６により左右方向にそれぞれ移動規制されて案内されながら弁箱６内を上昇する。この弁板支持体１５の上昇により、弁箱６と第１真空容器１との間の連通部つまり前側連通口７を気密状に閉じていた弁板３４が平行リンク機構４４，４４，…により引き上げられて、その前側連通口７が開かれる。
【００３７】
そして、上記シリンダ３１の収縮ストロークエンド近傍で、図２，図６で仮想線及び図８に示すように弁板支持体１５により弁板３４が下端部を弁箱６の連通口７，８の上端位置に略一致させるように移動して、両真空容器１，２の内部空間同士が弁箱６内を介して連通状態となる。このとき、ワークＷを第１真空容器１から真空ゲート弁５の内部を通過して第２真空容器２へ搬送させる。そして、第２真空容器２への搬送が完了した後に真空ゲート弁５を閉じる。
【００３８】
上記開弁状態から逆にゲート弁５を閉じるときには、シリンダ３１の伸長作動によりピストンロッド３１ａを下降させる。このことで、弁板支持体１５が、ガイドローラ２２，２４及びサイドローラ２６により移動規制されて案内されながら弁板３４と共に弁箱６内を下降する。そして、弁板支持体１５の下降端位置近傍で弁板３４下端の上記各弁板前ローラ３９がストッパ４０に当接すると、弁板３４のそれ以上の下降移動が停止され、弁板支持体１５のさらなる下降移動により弁板３４が今度は平行リンク機構４４，４４，…における各リンク４５の立上がり動作により弁板支持体１５から離隔するように前側に移動案内される。
【００３９】
図６で実線及び図７に示すように、弁板支持体１５の下端部がストッパ１４の上面近傍に達すると、弁板に設けられているシール部材３５が、弁箱６と第１真空容器１との間の連通部つまり弁箱６の前側連通口７の周りの壁面に接触する。そして、ガイドローラ２２，２４により後側面を移動規制されている弁板支持体１５がさらに下降することにより、弁板３４は弁板支持体１５によりリンク４５，４５，…を介して前側に押される。そして、シール部材３５の圧縮量が増大される。
【００４０】
そして、弁板支持体１５の下端部がストッパ１４の上面に当接して弁板支持体１５が閉弁位置に達することによりこの弁板支持体１５の下降が止まって、シール部材３５に所定の圧縮量を付与した状態で、両真空容器１，２の内部空間同士の連通が弁板３４によって気密シール状態で遮断される。
【００４１】
その後、気密状態とされた第２真空容器２の内部の真空空間で、ワークＷを目的の温度に保持した状態で次の蒸着等の成膜を行う。
【００４２】
そのとき、真空空間における熱伝導では空気中のように対流による熱伝導がないので、加熱されたワークＷの温度低下の主たる原因は輻射による熱伝導である。従って、真空容器１，２間の連通路３０、つまり真空ゲート弁５内部の輻射熱反射面ＡがワークＷから放射される輻射熱を反射して再びワークＷへ入射させるので、ワークＷの温度低下を効果的に抑制することができる。
【００４３】
また、輻射熱反射面Ａの表面あらさＲをＲ＜２５Ｓとすることにより、ワークＷから放射される輻射熱を充分な強度で反射させることができる。
【００４４】
さらに、連通路３０たる真空ゲート弁５内部を通過するワークＷの温度低下を抑制する目的でヒータ等の加熱手段を別途設ける必要がなく、簡単な構成により熱損失を抑制できるので、加熱手段を備えるものに比べてコストの低減を図ることができる。
【００４５】
尚、本実施形態では、隣接する真空容器の間に設けられた真空装置が真空ゲート弁である場合について説明したが、本発明は真空ゲート弁に限らず、両真空容器に連通する連通路を有するその他の真空装置についても同様に適用することができる。
【００４６】
また、連通路３０を区画する壁面をそれぞれ輻射熱反射面Ａとするようにしたが、これに限らず、開弁時に連通路３０に露出しない弁箱６等の壁面についても輻射熱反射面Ａとなるようにしてもよく、また、開弁時に連通路３０に露出する壁面の一部が輻射熱反射面Ａとなるようにしてもよいが、ワークＷの温度低下を効果的に抑制するためには、連通路３０に露出する壁面の全てを輻射熱反射面Ａとすることが望ましい。
【００４７】
また、弁板３４に設けられているシール部材３５の圧縮量を調整するための調整手段１３を弁箱６内部に配設するようにしたが、本発明は何等これに限定されるものではなく、このような調整手段１３を特に設けないようにしてもよい。
【００４８】
−参考例−
次に、本実施形態の参考例について説明する。上記実施形態では、複数の真空容器１，２の間に設けられる真空ゲート弁５について説明したが、本発明は、複数の真空容器と、これら真空容器の各内部の真空空間同士を連通し、真空容器間で搬送されるワークが通過する連通路とを備える真空装置についても適用することができる。
【００４９】
すなわち、例えば図８において、第１及び第２真空容器１，２の間に、真空ゲート弁５ではなく、真空容器１，２の開口３，４に連通する筒状の連通路（図示省略）を配設するようにして、この連通路を通過するワークに対向する周囲面に、ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱反射面を設けるようにしてもよい。
【００５０】
このようにすることにより、ヒータ等の加熱手段を設けることなく、簡単な構成によって複数の真空容器の間に設けられた連通路を通過するワークの熱損失を可及的に低減することができる。
【００５１】
尚、この変形例においても、連通路の少なくとも一部に輻射熱反射面を設けるようにすればよいが、ワークに対向する連通路内部の周囲面における全ての面を輻射熱反射面とすることが望ましい。さらに、複数の真空容器１，２の内部のワークに対向する周囲面が輻射熱反射面Ａを有するようにしてもよい。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明によると、複数の真空容器間を連通又は連通遮断するように開閉する真空ゲート弁に対して、開弁時に形成された連通路の内部空間に露出する壁面の全体を、ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱反射面に形成することにより、ワークから放射される輻射熱を反射して再びそのワークへ入射させてワークの温度低下を効果的に抑制することができるとともに、簡単な構成としてコストの低減を図ることができる。
【００５３】
請求項３の発明によると、輻射熱反射面を鏡面状のものとする。また、請求項４の発明によると、輻射熱反射面の表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足することにより、望ましい輻射熱反射面を具体的に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  閉弁状態の真空ゲート弁の要部を拡大して示す断面図である。
【図２】  開弁状態の真空ゲート弁の要部を拡大して示す図１相当図である。
【図３】  図５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図である。
【図４】  図５におけるＩＶ−ＩＶ線断面図である。
【図５】  閉弁状態の真空ゲート弁の要部を示す一部断面図である。
【図６】  閉弁状態の真空ゲート弁の概観を示す正面図である。
【図７】  閉弁状態の真空ゲート弁の概観を示す側面図である。
【図８】  開弁状態の真空ゲート弁を示す図７相当図である。
【符号の説明】
Ａ  輻射熱反射面
Ｒ  輻射熱反射面の表面あらさ
Ｗ  ワーク
１，２  真空容器
３，４  開口
５  真空ゲート弁（真空装置）
１５  弁板支持体
３０  連通路
３４  弁板
【図１】
0004394303.tif 000002
【図２】
0004394303.tif 000003
【図３】
0004394303.tif 000004
【図４】
0004394303.tif 000005
【図５】
0004394303.tif 000006
【図６】
0004394303.tif 000007
【図７】
0004394303.tif 000008
【図８】
0004394303.tif 000009