(57)【要約】本発明は、傷の発生がより少ないなど優れた研摩特性を有しており、研摩速度がより高いセリウム系研摩材を提供するものである。希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）および酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）を含み、フッ素（Ｆ）を含有するセリウム系研摩材であり、当該研摩材において、全希土類酸化物（ＴＲＥＯ）を９０ｗｔ％以上にすると共に、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）を５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％にし、さらにＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）を１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％にする。このようなセリウム系研摩材を用いると研摩傷の発生が少ない研摩面が迅速に得られる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオ  ジムを含み、フッ素を含有するセリウム系研摩材において、
全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）が９０ｗｔ％以上であり、全希土類酸化物換算重量に占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であり、全希土類酸化物換算重量に占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であることを特徴とするセリウム系研摩材。
【請求項２】
全希土類酸化物換算重量に占める酸化ランタンの重量の割合（Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が２２ｗｔ％〜３０ｗｔ％である請求の範囲１に記載のセリウム系研摩材。
【請求項３】
希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含み、フッ素を含有するセリウム系研摩材において、
全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）に占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、全希土類酸化物換算重量中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）の重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であることを特徴とするセリウム系研摩材。
【請求項４】
全希土類酸化物換算重量に占める、酸化ランタンと酸化ネオジムの合計重量の割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）が２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％である請求の範囲３に記載のセリウム系研摩材。
【請求項５】
全希土類酸化物換算重量に対するフッ素量の重量比（Ｆ／ＴＲＥＯ）が４．０ｗｔ％〜９．０ｗｔ％である請求の範囲１から請求の範囲４のいずれか一に記載のセリウム系研摩材。
【請求項６】
全希土類酸化物換算重量に対するウランとトリウムの合計量の重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下である請求の範囲１から請求の範囲５のいずれか一に記載のセリウム系研摩材。
【請求項７】
Ｘ線源としてＣｕ−Ｋα線またはＣｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折法による測定により２θ（回折角）＝２０°〜３０°の範囲に出現するＸ線回折ピークのうち、希土類オキシフッ化物（ＬｎＯＦ）についてのＸ線回折ピーク強度であって最強のＸ線回折ピーク強度と、酸化セリウム（ＣｅＯ２）についてのＸ線回折ピーク強度であって最強のＸ線回折ピーク強度との強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２）が０．４〜０．７である請求の範囲１から請求の範囲６のいずれか一に記載のセリウム系研摩材。
【請求項８】
研摩材粒子の平均粒径（Ｄ５０）は、０．７μｍ〜１．６μｍである請求の範囲１から請求の範囲７のいずれか一に記載のセリウム系研摩材。
【請求項９】
ＢＥＴ法比表面積は、２．０ｍ２／ｇ〜５．０ｍ２／ｇである請求の範囲１から請求の範囲８のいずれか一に記載のセリウム系研摩材。
【請求項１０】
希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含有するセリウム系研摩材用の原料であって、
全希土類酸化物換算重量に占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であり、全希土類酸化物換算重量に占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であり、全希土類酸化物換算重量に対するウランとトリウムの合計量の重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下であるセリウム系研摩材用原料。
【請求項１１】
希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含有するセリウム系研摩材用の原料であって、
全希土類酸化物換算重量に占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、全希土類酸化物換算重量中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）の重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるセリウム系研摩材用原料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、酸化セリウムを主成分とする、いわゆるセリウム系研摩材とその原料に関する。
【背景技術】    セリウム系研摩材は、概略的には、例えばバストネサイト精鉱、モナザイト精鉱、中国複雑鉱精鉱等の鉱石原料に、粉砕、乾燥、焼成、粉砕（解砕）、分級等の工程を施すことによって製造される（特開平９−１８３９６６号公報、特開２００２−９７４５７号公報、特開２００２−２２４９４９号公報参照）。例示した原料のうちバストネサイト精鉱は、セリウム、ランタン、ネオジムなどの希土類元素およびフッ素を含有しており、セリウム系研摩材の好適な原料の一つと考えられている。
例えば、バストネサイト精鉱の典型的なものは、全希土類酸化物換算重量（以下、ＴＲＥＯと記載することがある）の重量比が６８〜７３ｗｔ％程度、フッ素が６ｗｔ％程度で、強熱減量（１０００℃）が２０ｗｔ％程度である。そして、ＴＲＥＯ中の内訳は、酸化セリウム（ＣｅＯ２等）が５０ｗｔ％程度、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３等）が３５ｗｔ％程度、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３等）が１１ｗｔ％程度、酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１等）が４ｗｔ％程度である。
ところで、研摩材としては、できるだけ研摩傷が発生しにくいなど研摩特性に優れているものが求められている。また、研摩工程を経て製造される製品を効率良く製造するには、研摩工程に要する時間はできるだけ短い方が好ましい。このようなことから、セリウム系研摩材としては、できるだけ研摩速度の高いもの（研摩値が大きいもの）が求められている。
そして、近年、セリウム系研摩材は、光ディスクや磁気ディスク用ガラス基板、アクティブマトリックス型ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、液晶ＴＶ用カラーフィルタ、時計、電卓、カメラ用ＬＣＤ、太陽電池等のディスプレイ用ガラス基板、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板あるいは光学用レンズ等のガラス基板や光学用レンズ等の研摩で用いられており、このような分野では、特に、より高精度の表面研摩を行うことができ、且つ研摩速度がより高いセリウム系研摩材が求められている。
ところが、従来のセリウム系研摩材による研摩では、光ディスクや磁気ディスク用ガラス基板などの研摩において要求される研摩精度を満足しないような大きさの傷が発生した。また、研摩開始後、研摩を続けるに従って急激に研摩速度が低下し、急激に研摩効率が低下した。このように、従来のセリウム系研摩材では、上記したような分野の要求に十分に対応できない。
【発明の開示】
このような問題点に鑑み、本発明は、傷の発生がより少ないなど優れた研摩特性を有しており、研摩速度がより高いセリウム系研摩材を提供することを課題とする。
上記課題を解決する第１の発明に係るセリウム系研摩材は、希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含み、フッ素を含有するセリウム系研摩材であって、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）が９０ｗｔ％以上であり、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であることを特徴とするものである。
当該セリウム系研摩材を用いれば、研摩傷の発生が少なく、要求される高精度の研摩面（研摩された面）が得られる。また、研摩開始後に急激に研摩速度が低下するようなことが防止され、より高い研摩速度がより長い間維持される。このように優れた研摩特性を有する理由は必ずしも明確ではないが、研摩材中のネオジム（酸化ネオジム）の割合を増加したことが主要因であると考えられる。従来のセリウム系研摩材は、ＴＲＥＯ中の酸化ネオジムの割合が５．０ｗｔ％程度であり、このようなセリウム系研摩材を用いて研摩すると、先に説明したように、傷が発生し研摩速度が急激に低下するからである。
セリウム系研摩材においては、一般に、ＴＲＥＯによって研摩材中の希土類元素の量を検討する。本発明に係る研摩材のように、フッ素を含有するものでは、希土類元素は酸化物、オキシフッ化物あるいはフッ化物など種々の形態で研摩材中に存在しているが、ＴＲＥＯを用いれば研摩材中の希土類元素量を比較的簡単に検討できる。
上記発明に係る研摩材において、ＴＲＥＯは９０ｗｔ％以上であるが、９２ｗｔ％以上がより好ましい。研摩材中の各希土類元素の割合が一定である場合、ＴＲＥＯの割合が高いほど、希土類酸化物のうち最も研摩に寄与する酸化セリウムの割合が増えることとなり、高い研摩速度を確保できるからである。また、傷発生の原因の一つである不純物の含有率が低いこととなり、傷発生がより確実に防止されるからである。
ただし、ＴＲＥＯ中の酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が高くなるほど傷が発生しやすくなり、上記上限値を超えると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。他方、当該割合が低くなるほど、上記したように研摩速度が低下し、上記下限値未満では、十分な研摩速度を確保できない。これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）は５０ｗｔ％〜６０ｗｔ％がより好ましい。
そして、ＴＲＥＯ中の酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が高くなるほど研摩速度が低下し、上記上限値を超えると、十分な研摩速度を確保できない。他方、酸化ネオジムの割合が低くなるほど傷が発生しやすく、上記下限値未満では、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。したがって、これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）は１１ｗｔ％〜１５ｗｔ％がより好ましく、１２ｗｔ％〜１４ｗｔ％がさらに好ましい。
また、上記発明に係るセリウム系研摩材としては、全希土類酸化物換算重量に占める酸化ランタンの重量の割合（Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が２２ｗｔ％〜３０ｗｔ％であるものが好ましい。酸化ランタンの割合が高くなるほど研摩速度が低下し、上記上限値を超えると十分な研摩速度を確保できないからである。酸化ランタンの割合が増えると、その分、酸化セリウムの割合が低下し、研摩速度が低下すると考えられる。他方、酸化ランタンの割合が低くなるほど傷が発生しやすくなり、上記下限値を下回ると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯに占める酸化ランタンの割合は２４ｗｔ％〜２８ｗｔ％がより好ましい。
さらに、上記発明に係るセリウム系研摩材としては、酸化プラセオジムを含有しており、ＴＲＥＯに占める酸化プラセオジムの重量の割合（Ｐｒ６Ｏ１１／ＴＲＥＯ）が２．０ｗｔ％〜８．０ｗｔ％であるものがより好ましい。
ここまでの記載から解るように、研摩材においては、セリウムだけでなく、ランタンさらにはネオジムも研摩に寄与しており、ランタンやネオジムの含有量によって研摩状態に違いが生ずる。そこで、ランタンやネオジムの含有量と研摩との関係についてさらに検討したところ、上記第１の発明とは別の第２の発明に想到するに至った。
すなわち、第２の発明に係るセリウム系研摩材とは、希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含み、フッ素を含有するセリウム系研摩材であって、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）に占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）との重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であることを特徴とするものである。このように、ＴＲＥＯ中の酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比が上記範囲である研摩材は、研摩材中のランタンの量とネオジムの量のバランスがよく、その結果、研摩特性に優れると考えられる。
当該発明に係る研摩材では、酸化ランタンと酸化ネオジムの上記重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が大きくなり過ぎたり、小さくなり過ぎたりすると研摩速度が低下し、十分な研摩速度を確保できなくなる。このようなことから、当該重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）としては、１．６〜２．６がより好ましい。
さらに、ＴＲＥＯに占める、酸化ランタンと酸化ネオジムの合計重量の割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）が２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％であるものがより好ましい。酸化ランタンと酸化ネオジムのバランスがよければ、酸化ランタンと酸化ネオジムの合計重量の割合について好適な範囲がより広がる。当該範囲が好ましい理由であるが、割合が高くなるほど研摩速度が低下し、上記上限値を超えると十分な研摩速度を確保できないからである。酸化ランタンの割合が増えると、その分、酸化セリウムの割合が低下し、その結果研摩速度が低下すると考えられる。他方、この割合が低くなるほど傷が発生しやすくなり、上記下限値未満になると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。これら両面を考慮すると、上記割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）は３０ｗｔ％〜４５ｗｔ％がより好ましい。
そして、ここまでの検討内容を総合すると、次のようなセリウム系研摩材（第３の発明）が好ましい。すなわち、希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含み、フッ素を含有するセリウム系研摩材であって、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）が９０ｗｔ％以上であり、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）との重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるものが好ましい。さらにいえば、このような研摩材であって、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であるものがより好ましく、ＴＲＥＯに占める酸化ランタンの重量の割合（Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が２２ｗｔ％〜３０ｗｔ％であるものがさらに好ましく、ＴＲＥＯに占める、酸化ランタンと酸化ネオジムの合計重量の割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）が２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％であるものがさらに好ましい。
また、研摩特性の向上についてさらに検討し、次の結果を得た。すなわち、上記各発明に係る研摩材としては、いずれの発明に係る研摩材であるとに拘わらず、全希土類酸化物換算重量に対するフッ素量の重量比（Ｆ／ＴＲＥＯ）が４．０ｗｔ％〜９．０ｗｔ％であるものが好ましい。フッ素の割合が高くなるほど研摩面の状態が荒れた状態になるなど研摩特性が低下し、上記上限値を超えると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できないほど研摩面が荒れるからである。フッ素量が過剰であり、強い化学作用が生じた結果であると考えられる。他方、フッ素の割合が低くなるほど研摩速度が低下し、上記下限値未満では、十分な研摩速度を確保できなくなる。フッ素量が少なく、研摩に寄与する化学作用があまり生じないからであると考えられる。これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯに対するフッ素量の重量比（Ｆ／ＴＲＥＯ）は、５．０ｗｔ％〜８．０ｗｔ％がより好ましい。なお、フッ素含有セリウム系研摩材では、希土類元素の一部（または全部）は、希土類酸化物としてではなく、オキシフッ化物やフッ化物として存在している。したがって、フッ素含有セリウム系研摩材の全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）とは、全ての希土類元素が希土類酸化物として存在すると換算して求まる全希土類酸化物換算重量である。また、ここでいうフッ素量とは、ＴＲＥＯの測定対象であるセリウム系研摩材中のフッ素含有量のことである。
そして、上記各発明に係るセリウム系研摩材としては、全希土類酸化物換算重量に対するウランとトリウムの合計量の重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下であるものが好ましい。セリウム系研摩材中に含まれるトリウムやウラン等の放射性物質はできるだけ少ない方が好ましいからである。したがって、当該重量比は０．００５ｗｔ％以下がより好ましく、０．０００５ｗｔ％以下がさらに好ましい。
また、上記各発明に係るセリウム系研摩材としては、研摩材重量と、当該研摩材のＴＲＥＯおよびフッ素含有量の合計重量との重量比（（ＴＲＥＯ＋Ｆ）／研摩材重量）が、９５ｗｔ％〜１０５ｗｔ％であるものが好ましい。当該重量比が高くなるほど研摩面が荒れた状態になるなど研摩特性が低下し、上記上限値を超えると、前述の分野では許容できないほど荒れた研摩面になるからである。当該重量比が高いものはフッ素量が過剰なものであり、強い化学作用が生じた結果研摩面が荒れると考えられる。他方、この重量比が低くなるほど研摩傷が発生し易くなり、上記下限値未満では、前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。上記重量比が低い主な原因としては、不純物が多く含まれていることが考えられ、その結果傷が発生しやすくなると考えられる。これら両面を考慮すると、上記重量比としては、９８ｗｔ％〜１０４ｗｔ％がより好ましい。
さらに、上記各発明に係るセリウム系研摩材について、Ｘ線回折による分析によって検討を行ったところ、次のような結果が得られた。上記各発明に係るセリウム系研摩材としては、Ｘ線源としてＣｕ−Ｋα線またはＣｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折法による測定により２θ（回折角）＝２０°〜３０°の範囲に出現するＸ線回折ピークのうち、希土類オキシフッ化物（ＬｎＯＦ）についてのＸ線回折ピーク強度であって最強のＸ線回折ピーク強度と、酸化セリウム（ＣｅＯ２）についてのＸ線回折ピーク強度であって最強のＸ線回折ピーク強度との強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２）が０．４〜０．７であるものが好ましい。
当該Ｘ線回折ピーク強度比が大きくなるほど、研摩傷が発生しやすくなり、上記上限値を超えると、前述の分野では許容できないような研摩傷が発生するようになるからである。他方、Ｘ線回折ピーク強度比が小さくなるほど研摩速度が低下し、上記下限値未満では、十分な研摩速度を確保できなくなるからである。これら両面を考慮すると、Ｘ線回折ピーク強度比は、０．４５〜０．６５がより好ましい。
そして、上記各発明に係るセリウム系研摩材としては、Ｘ線源としてＣｕ−Ｋα線またはＣｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折法による測定により出現するＸ線回折ピークのうち、２θ＝２４．２°±０．５°の範囲に出現する希土類フッ化物（ＬｎＦ３）についてのＸ線回折ピーク強度であって最強のＸ線回折ピーク強度と、酸化セリウムのＸ線回折ピーク強度であって最強のＸ線回折ピーク強度との強度比（ＬｎＦ３／ＣｅＯ２）が０．１以下のものがより好ましい。ここで、希土類フッ化物（ＬｎＦ３）は、例えば、原料が希土類酸化物を含有するものであり、研摩材製造段階で当該原料にフッ化処理が施されたような場合に生成されるものである。
したがって、当該Ｘ線回折ピーク強度比が上記上限値を超える場合とは、焙焼不足のため希土類フッ化物から希土類オキシフッ化物への転換がほとんど進行せず希土類フッ化物が残ってしまった場合、または焙焼は十分であるが希土類フッ化物から希土類オキシフッ化物への転換には限界があり希土類元素に対してフッ素量が過剰であるため希土類フッ化物が残ってしまった場合である。焙焼不足の研摩材は十分な研摩速度を確保できず好ましくない。他方、十分焙焼されたがフッ素量が過剰な研摩材は、研摩傷の原因となる粗粒子を比較的多く含んでおり、やはり好ましくない。含有するフッ素量が相対的に過剰である研摩材は、研摩材製造時の焙焼段階においてフッ素による化学作用が進みやすかったものであり、研摩材粒子の焼結の進み過ぎによって研摩傷の原因となる粗粒子が発生したと考えられる。なお、当該研摩材は、フッ素量が相対的に過剰であることから、仮に焙焼後粉砕や分級によって粗粒子を十分に低減したとしても、当該研摩材を用いた研摩では、研摩面は過剰のフッ素の化学作用を受けることとなり、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できないほど研摩面が荒れると考えられる。
なお、上記ピーク強度比の算出に用いられる酸化セリウム（ＣｅＯ２）についてのＸ線回折ピークとは、セリウムを主成分とする希土類酸化物のＸ線回折ピークであって、２θ＝２８．１°±１．０°の範囲に出現したＸ線回折ピークのことである。
また、ここでいう酸化セリウム（ＣｅＯ２）のＸ線回折ピーク強度とは、より具体的には、セリウムを主成分とする立方晶希土類酸化物（ＬｎｘＯｙ）の回折Ｘ線回折ピーク強度のことである。ＬｎｘＯｙは、通常１．５≦ｙ／ｘ≦２であり、例えばＣｅＯ２，Ｃｅ０．５Ｎｄ０．５Ｏ１．７５あるいはＣｅ０．７５Ｎｄ０．２５Ｏ１．８７５と同定される。ただし、Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯが小さい研摩材であってもＣｅ−Ｎｄ−Ｏ系化合物と同定されることがあることからＣｅやＮｄ以外の希土類元素（Ｌａ等）をも含有する酸化物と推定される。以上のことから解るように、Ｘ線回折に関して酸化セリウム（ＣｅＯ２）という場合は、例えば、ＴＲＥＯ中のＣｅＯ２の場合にはＣｅＯ２は純粋な酸化セリウムを意味しているのとは異なり、純粋な酸化セリウムでなくてもよい。
そして、上記各発明に係るセリウム系研摩材中の研摩材粒子の平均粒径（Ｄ５０）としては、０．７μｍ〜１．６μｍが好ましい。なお、ここでは、平均粒径（Ｄ５０）として次の値を用いた。すなわち、レーザ回折・散乱法粒度分布測定法によって測定したセリウム系研摩材の粒度分布における、小粒径側からの累積体積が５０ｗｔ％になる粒子の粒径である。平均粒径（Ｄ５０）が大きくなるほど研摩傷が発生しやすくなり、上記上限値を超えると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。他方、平均粒径（Ｄ５０）が小さくなるほど研摩速度が低下し、上記下限値未満では、十分な研摩速度を確保できない。これら両面を考慮すると、平均粒径（Ｄ５０）としては、０．８μｍ〜１．４μｍがより好ましい。
さらに、上記各発明に係るセリウム系研摩材としては、ＢＥＴ法比表面積は、２．０ｍ２／ｇ〜５．０ｍ２／ｇが好ましい。ＢＥＴ法比表面積が大きくなるほど研摩速度が低下し、上記上限値を超えると十分な研摩速度を確保できないからである。他方、ＢＥＴ法比表面積が小さくなるほど傷が発生しやすくなり、上記下限値未満になると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。これら両面を考慮すると、ＢＥＴ法比表面積は、２．５ｍ２／ｇ〜４．０ｍ２／ｇがより好ましい。
次にセリウム系研摩材用の原料について検討した。
上記発明に係る研摩材のうち、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）の重量比が９０ｗｔ％以上であり、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であるセリウム系研摩材（第１の発明）について、その原料（第４の発明）としては、希土類元素として少なくともセリウム、ランタンおよびネオジムを含有するセリウム系研摩材用原料であって、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに対するウランとトリウムの合計量の重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下であるものが好ましい。
当該セリウム系研摩材用原料では、ＴＲＥＯ中の酸化セリウムの割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が高くなるに連れて、製造される研摩材は傷が発生しやすいものとなり、上記上限値を上回ると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすくなる。他方、酸化セリウムの割合が低くなるほど、製造される研摩材の研摩速度が低下し、上記下限値未満では、十分な研摩速度を確保することが難しくなる。したがって、これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）は５０ｗｔ％〜６０ｗｔ％がより好ましい。他方、酸化ネオジムの場合、その重量の割合が高くなるほど製造される研摩材の研摩速度が低下し、上記上限値を超えると、十分な研摩速度を確保することが難しくなる。他方、酸化ネオジムの割合が低くなるほど製造される研摩材は傷が発生しやすいものとなり、上記下限値未満では、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすい。したがって、これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯの含有量に占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）は１１ｗｔ％〜１５ｗｔ％がより好ましく、１２ｗｔ％〜１４ｗｔ％がさらに好ましい。
そして、ＴＲＥＯとウランおよびトリウムの合計重量との重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が上記範囲内であるのが好ましい理由は、ウランやトリウムといった放射性物質はできるだけ少ない方が好ましいからである。バストネサイト精鉱、モナザイト精鉱、中国複雑鉱精鉱等の鉱石（特に、モナザイト精鉱および中国複雑鉱精鉱）は、トリウムを多く含有しており、ウランおよびトリウムを除去しないで研摩材用原料として使用することは好ましくない。したがって、当該重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．００５ｗｔ％以下である原料がより好ましく、０．０００５ｗｔ％以下である原料がさらに好ましい。
また、ＴＲＥＯに占める酸化ランタンの重量の割合（Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が２２ｗｔ％〜３０ｗｔ％であるものがより好ましい。そして、当該割合が２４ｗｔ％〜２８ｗｔ％であるものがさらに好ましい。酸化ランタンの割合が低くなるほど焙焼時のフッ素の放出量が大きくなりやすく、上記下限値未満では、放出されやすくなり過ぎ、セリウム系研摩材中のフッ素量の制御を焙焼時に行うことが困難になるからである。
上記発明に係る研摩材のうち、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）に対する酸化セリウム（ＣｅＯ２）の重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）との重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるセリウム系研摩材（第２の発明）について、その原料（第５の発明）としては、希土類元素として少なくともセリウム、ランタンおよびネオジムを含有するセリウム系研摩材用原料であって、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるものが好ましい。
当該セリウム系研摩材用原料では、ＴＲＥＯ中の酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が高くなると、製造される研摩材は傷が発生しやすいものとなり、上記上限値を上回ると、高精度の研摩が要求される前述の分野では許容できない研摩傷が発生しやすい。他方、酸化セリウムの割合が低くなるほど製造される研摩材の研摩速度が低下してしまい、上記下限値未満では、十分な研摩速度を確保することが難しい。したがって、これら両面を考慮すると、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）は５０ｗｔ％〜６０ｗｔ％がより好ましい。また、酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が大きくなり過ぎても、また小さくなり過ぎても、製造される研摩材の研摩速度が低下し、十分な研摩速度を確保できなくなる。したがって、ＴＲＥＯ中の酸化ランタンと酸化ネオジムの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）は、１．６〜２．６がより好ましい。
そして、ＴＲＥＯとウランおよびトリウムの合計重量との重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下であるものが好ましい。ウランやトリウムといった放射性物質はできるだけ少ない方が好ましいからである。バストネサイト精鉱、モナザイト精鉱、中国複雑鉱精鉱等の鉱石（特に、モナザイト精鉱および中国複雑鉱精鉱）は、トリウムを多く含有しており、ウランおよびトリウムを除去しないで研摩材用原料として使用することは好ましくない。したがって、当該重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．００５ｗｔ％以下である原料がより好ましく、０．０００５ｗｔ％以下である原料がさらに好ましい。
また、ＴＲＥＯに占める、酸化ランタンと酸化ネオジムの合計重量の割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）が２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％であるものものがより好ましい。当該割合が低くなるほど焙焼時のフッ素の放出量が大きくなりやすく、上記下限値未満では、放出されやすくなり過ぎ、セリウム系研摩材中のフッ素量の制御を焙焼時に行うことが困難になるからである。
さらに、上記発明に係る研摩材のうち、希土類酸化物として少なくとも酸化セリウム、酸化ランタンおよび酸化ネオジムを含み、フッ素を含有するセリウム系研摩材であって、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）が９０ｗｔ％以上であり、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）との重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるセリウム系研摩材（第３の発明）について、その原料（第６の発明）としては、希土類元素として少なくともセリウム、ランタンおよびネオジムを含有するセリウム系研摩材用原料であって、ＴＲＥＯが９０ｗｔ％以上であり、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）との重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるものが好ましい。さらにいえば、このような原料であって、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であるものがより好ましく、ＴＲＥＯに占める酸化ランタンの重量の割合（Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が２２ｗｔ％〜３０ｗｔ％であるものがさらに好ましく、ＴＲＥＯに占める、酸化ランタンと酸化ネオジムの合計重量の割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）が２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％であるものがさらに好ましい。また、この原料においても、上記理由と同様の理由で、ＴＲＥＯとウランおよびトリウムの合計重量との重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下であるものが好ましく、０．００５ｗｔ％以下である原料がより好ましく、０．０００５ｗｔ％以下である原料がさらに好ましい。
さらに、上記発明に係るセリウム系研摩材用原料としては、いずれの発明に係る原料であるとに拘わらず、ＴＲＥＯに占める酸化プラセオジムの重量の割合（Ｐｒ６Ｏ１１／ＴＲＥＯ）が２．０ｗｔ％〜８．０ｗｔ％であるものがさらに好ましい。
また、先に、原料に含まれることがあるウランやトリウムといった放射性物質について言及したが、研摩材用原料となる鉱石には、これら以外にも、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、鉄（Ｆｅ）、リン（Ｐ）等の元素を多く含有していることがある。このような多くの元素を含有する鉱石（原料）から製造された研摩材は、これらの成分を不純物として多く含有している。これらの不純物を多く含有する研摩材を用いると研摩傷が発生しやすく、さらには研摩速度が低下することがある。そして、これらの不純物（特に鉄）が研摩面等に残留すると、研摩対象物の電気的または磁気的特性を低下させることがある。その意味では、上記原料に係る発明のいずれであるとに拘わらず、本発明に係るセリウム系研摩材用原料およびセリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯと、カルシウム、バリウム、鉄、リンの合計重量との重量比（（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯ）が２．０ｗｔ％以下が好ましく、１．０ｗｔ％以下がより好ましく、０．５ｗｔ％以下がさらに好ましく、その原料としても、当該重量比（（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯ）が２．０ｗｔ％以下が好ましく、１．０ｗｔ％以下がより好ましく、０．５ｗｔ％以下がさらに好ましい。
セリウム系研摩材用原料の製造方法としては、概略的には、次のような方法（原料の第１製造方法）がある。
まず、バストネサイト精鉱などの精鉱を硫酸分解法やアルカリ分解法によって分解し、分別沈澱や分別溶解等の処理を行ってウラン、トリウム、カルシウム、バリウム、鉄、リン等の不純物を低減・除去することにより希土類溶液を得る。そして、得られた希土類溶液の希土類成分の組成を調整する（希土類組成調整）。その後、組成が調整された希土類溶液と沈澱剤（例えば、炭酸水素アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア水、しゅう酸、しゅう酸アンモニウム、しゅう酸ナトリウム、尿素等）を混合して希土類化合物（例えば、炭酸塩、塩基性炭酸塩、モノオキシ炭酸塩、水酸化物、しゅう酸塩等）の沈澱を生成し、これを濾過・水洗して本発明に係るセリウム系研摩材用原料を得るという方法である。
セリウム系研摩材用原料製造時、不純物の低減・除去後に行われる希土類溶液の組成調整方法としては、溶媒抽出法と添加法がある。溶媒抽出法では、適用方法によっては希土類元素以外の不純物の低減もある程度可能である。また、溶媒抽出法と添加法は組合せて実施してもよい。
まず、溶媒抽出法について説明する。例えば、溶媒抽出前の溶液中のネオジムの割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が高い場合や、当該溶液中の酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が小さい場合に用いる溶媒抽出法としては、次の２つの方法を挙げることができる。すなわち、希土類水溶液から有機溶媒にネオジムの一部を抽出する方法や、有機溶媒に希土類元素のほぼ全量を抽出した後、当該有機溶媒と逆抽出用の水溶液とを接触させ、有機溶媒中にネオジムの一部を残して他の大部分の希土類元素を水溶液中に逆抽出する方法である。このような方法によってネオジムの割合を低減して本発明に適合する割合に調整する。反対に、溶媒抽出前の溶液中のネオジムの割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が低い場合や、当該溶液中の酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が大きい場合に用いる溶媒抽出法としては、次の方法を挙げることができる。すなわち、水溶液中にランタンやセリウムの一部を残して他の希土類元素を有機溶媒に抽出させた後、逆抽出用の水溶液と接触させ、有機溶媒に抽出した希土類元素のほぼ全量を水溶液中に逆抽出方法である。このような方法によってネオジムの割合を高めて本発明に適合する割合に調整する。
なお、ここで説明した各溶媒抽出法は、有機溶媒として重希土元素ほど抽出しやすい有機溶媒を使用した場合の方法であるが、軽希土元素ほど抽出しやすい有機溶媒も使用可能である。また、上記溶媒抽出法の各抽出工程や逆抽出工程における対象物質の抽出量や逆抽出量は、製造しようとしている研摩材用原料が、いずれの発明に係る原料であるか、などの条件によって適宜定められる。
次に、添加法について説明する。希土類組成調整前の溶液中のネオジムの割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が高い場合や、溶媒抽出前の溶液中の酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が小さい場合に用いる添加法とは、希土類元素としてランタンやセリウムを多く含む化合物の水溶液（例えば、炭酸塩、水酸化物、塩化物、酸化物等を塩酸等の酸（塩化物は水でも可）にて溶解した液）を添加し混合してネオジムの割合を低減して本発明に適合する割合に調整するという方法である。反対に、希土類組成調整前の溶液中のネオジムの割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が低い場合や、溶媒抽出前の溶液中の酸化ランタンと酸化ネオジムとの重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が大きい場合に用いる添加法とは、希土類元素としてネオジムを多く含む化合物の水溶液を添加し混合してネオジムの割合を高めて本発明に適合する割合に調整するという方法である。
なお、上添加法における水溶液の添加量は、製造しようとしている研摩材用原料が、上記いずれの発明に係る原料であるか、などの条件によって適宜定められる。
セリウム系研摩材用原料の製造方法としては、次のような方法（原料の第２製造方法）もある。
例えば、上記発明に係る研摩材のうち、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）が９０ｗｔ％以上であり、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％〜６５ｗｔ％であり、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であるセリウム系研摩材（第１の発明）を製造する場合であれば、まず、研摩材用原料の原料として次のようなものを用意する。具体的には、ウラン、トリウム、カリウム、バリウム、鉄、リン等の元素の含有率は十分に低減されているが、「ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ」や「Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ」の値は必ずしも上述の好適範囲内にないもの（例えば、炭酸塩、塩基性炭酸塩、モノオキシ炭酸塩、水酸化物、しゅう酸塩、酸化物等）を複数用意する。そして、これら複数のもの（研摩材用原料の原料）を混合してセリウムやネオジムの含有率を調整することにより（混合工程）、本発明に係るセリウム系研摩材用原料を製造する。
また、例えば、上記発明に係る研摩材のうち、全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）に対する酸化セリウム（ＣｅＯ２）の重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であり、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）の重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４〜２．８であるセリウム系研摩材（第２の発明）を製造する場合であれば、まず、研摩材用原料の原料として次のようなものを用意する。具体的には、ウラン、トリウム、カリウム、バリウム、鉄、リン等の元素の含有率は十分に低減されているが、「ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ」や「Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３」の値は必ずしも上述の好適範囲内にないもの（例えば、炭酸塩、塩基性炭酸塩、モノオキシ炭酸塩、水酸化物、しゅう酸塩、酸化物等）を複数用意する。そして、これら複数のもの（研摩材用原料の原料）を混合してセリウムやネオジムの含有率を調整することにより（混合工程）、本発明に係るセリウム系研摩材用原料を製造する。
なお、当該第２製造方法で説明した混合工程は、セリウム系研摩材の製造で行われる焙焼工程の前までに行われていればよいものである。すなわち、当該混合工程は、セリウム系研摩材用原料の製造過程のどの段階で行われても良い工程である。例えば、上述したような複数の原料（研摩材用原料の原料）を、別々に粉砕し、フッ化処理した後に混合工程を行ってもよい。また、混合に供用する複数の原料（研摩材用原料の原料）として、ＴＲＥＯ中の１種類の希土類酸化物の割合が９９ｗｔ％以上である高純度のものが１つ以上あってもよい。高純度のものを用いると組成の調整を容易に行うことができるが、高純度のものは高価である。
ここまで種々の研摩材用原料について説明したが、上記セリウム系研摩材用原料を仮焼して得られる焼成物（例えば、希土類炭酸塩、塩基性炭酸塩、モノオキシ炭酸塩、水酸化物、しゅう酸塩等の原料を仮焼して得られる酸化物や、当該酸化物とその原料との中間体）も、本発明に係るセリウム系研摩材用原料とすることができる。ここでいう研摩材用原料とは、それを原料として研摩材を製造するためには研摩材製造時に焙焼工程が必要となるもののことである。つまり、ここでいうセリウム系研摩材用原料には、研摩材製造時の初期段階に行われる粉砕工程前の原料をはじめとして、セリウム系研摩材製造時の焙焼工程に供される前の原料（中間原料）が含まれる。したがって、ここまでに説明した上記研摩材用原料に粉砕処理および／またはフッ化処理を施したものや、さらに乾燥処理および／または粉砕処理を施したものであっても、焙焼されてはじめてセリウム系研摩材となるもの（すなわち研摩材製造における焙焼工程前のもの）は、ここでいうセリウム系研摩材用原料（中間原料）である。
また、上記各発明に係るセリウム系研摩材用原料やセリウム系研摩材において、「Ｆ／ＴＲＥＯ」、「（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ」、「（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯ」は、研摩材用原料や研摩材についての全希土類酸化物換算重量（ＴＲＥＯ）に対する「Ｆ」の重量、「Ｕ＋Ｔｈ」の重量または「Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ」の重量の重量比であり、「ＴＲＥＯ」に占める「Ｆ」の重量、「Ｕ＋Ｔｈ」の重量または「Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ」の重量の割合ではない。「ＴＲＥＯ」は、「Ｆ」、「Ｕ＋Ｔｈ」、「Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ」を含有しないものであり、「ＴＲＥＯ」に占める「Ｆ」の重量、「Ｕ＋Ｔｈ」の重量または「Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ」の重量の割合は基本的に０重量％である。したがって、研摩材用原料や研摩材の「Ｆ／ＴＲＥＯ」、「（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ」または「（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯ」を求める場合は、研摩材用原料や研摩材の「ＴＲＥＯ（全希土類酸化物換算重量）」、「Ｆ」の重量、「Ｕ＋Ｔｈ」の重量および「（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）」の重量を別々に測定し、計算によって「ＴＲＥＯ」を１００ｗｔ％に換算する。例えば、研摩材の「ＴＲＥＯ」が９０．０ｗｔ％で、研摩材の「Ｆ」が６．３ｗｔ％の場合、当該研摩材の「Ｆ／ＴＲＥＯ」は、６．３（ｗｔ％）÷９０．０（ｗｔ％）×１００（ｗｔ％）＝７．０（ｗｔ％）となる。
【発明を実施するための最良の形態】  以下、本発明に係るセリウム系研摩材の好適な実施形態について説明する。
第１実施形態
まず、塩化希土（インド産）を用意した。なお、その組成は、全希土類酸化物換算重量（以下、ＴＲＥＯ）が４６．０ｗｔ％、ＣｅＯ２／ＴＲＥＯが５０．３ｗｔ％、Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯが２３．７ｗｔ％、Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯが２０．０ｗｔ％、Ｐｒ６Ｏ１１／ＴＲＥＯが５．２ｗｔ％、（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯが０．０００５ｗｔ％未満、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯが０．６ｗｔ％であった。また、この塩化希土は、モナザイト精鉱（インド産）に対して粉砕、濃ＮａＯＨ水溶液を用いたアルカリ分解（１４０℃、３時間）、燐酸成分を水溶液に溶かし出す熱水処理、濾過、ｐＨ３．５〜４．０に調整された塩酸を用いた分別溶解（希土類元素を溶解し、ウラン（Ｕ），トリウム（Ｔｈ）を水酸化物沈澱中に残した）、濾過、溶媒抽出、蒸発濃縮、そして放冷固化の各工程を順次行って得たものとされている。
実施例１：用意した塩化希土を用いてセリウム系研摩材用原料（中間原料）を製造した。まず、用意した塩化希土と０．１ｍｏｌ／Ｌ希塩酸とを混合・溶解して塩化希土溶液を調製し、調製した溶液について濾過を行い、濾過後の溶液について溶媒抽出を行った。当該溶媒抽出では、有機溶媒として、重希土類元素ほど抽出されやすい抽出剤（ＰＣ−８８Ａ：大八化学工業所製）と希釈剤（イプゾール：出光石油化学製）を液量比（抽出剤／希釈剤）が１／２になる割合で混合したものを用いた。そして、当該有機溶媒と塩化希土溶解液（ＴＲＥＯ２１０ｇ／Ｌ）とを流量比（有機溶媒／塩化希土溶解液）が８／１になる状態で向流多段接触（３０段）させて希土類元素を有機溶媒に抽出した。なお、当該工程では、供用する有機溶媒との向流多段抽出の途中に、塩化希土溶液中の希土類元素のほぼ全量が抽出されるのに必要十分な量の水酸化ナトリウム水溶液を添加した。この後、希土類元素を含む有機溶媒と３ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液とを流量比（有機溶媒／塩酸水溶液）が８／１．４になる状態で向流多段接触（３０段）させ、プラセオジムおよびネオジムの一部ならびにネオジムよりも有機溶媒に抽出されやすい希土類元素（サマリウム（Ｓｍ）から重希土およびイットリウム（Ｙ））の大半を有機溶媒に残し、ランタン、セリウムの大部分と、プラセオジムおよびネオジムの一部を塩酸水溶液中に逆抽出して希土類溶液（精製液）を得た。
溶媒抽出後、得られた希土類溶液と炭酸水素アンモニウム水溶液（沈澱剤）を混合して希土類炭酸塩の沈澱を生成した後、遠心分離機を用いて濾過、洗浄（水洗）を行って、セリウム系研摩材用原料（中間原料）である希土類炭酸塩を得た。その組成は、ＴＲＥＯが４４ｗｔ％というものであった。なお、ＴＲＥＯ中の各希土類元素の重量の割合は得られたセリウム系研摩材と同じであった（表１参照）。また、Ｆ／ＴＲＥＯは０．１ｗｔ％未満、（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯは０．０００５ｗｔ％未満、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯは０．４ｗｔ％未満であった。
このようにして用意した希土類炭酸塩（中間原料）と当該原料重量の２倍の重量の純水とを混合し、湿式ボールミル（粉砕媒体は直径５ｍｍのジルコニアボール）にて８時間湿式粉砕を行って原料スラリーを得た。得られた粉砕品のＤ５０は、０．８μｍであった。そして、得られたスラリーに１０ｗｔ％フッ化水素酸を添加して、スラリー中のフッ素成分の重量比（Ｆ／ＴＲＥＯ）を調製し、このスラリーを３０分間撹拌処理を行った（以下、単にフッ化処理という）。フッ化処理後の「Ｆ／ＴＲＥＯ」は８．０ｗｔ％であった。なお、フッ素濃度の測定には、アルカリ溶融・温湯抽出・フッ素イオン電極法を用いた。その後、固形分を沈降させて上澄み液を抜出し、純水を加えるという、いわゆるリパルプ洗浄を行い、洗浄後のスラリーをフィルタプレス法にて濾過した。そして、得られた濾過ケーキを１４０℃にて４８時間乾燥した。さらに、得られた乾燥ケーキをサンプルミルで粉砕し、得られた粉砕品を焙焼した（焙焼温度１０００℃、焙焼時間１２時間）。焙焼後、得られた焙焼品を、さらにサンプルミルで粉砕し、ターボクラシファイア（分級点を５μｍに設定）にて分級してセリウム系研摩材を得た。
実施例２，３：これらの実施例では、希土類元素を含む有機溶媒と３ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液とを向流多段接触させてランタン等の希土類元素を塩酸水溶液中に逆抽出する工程における有機溶媒と塩酸水溶液との流量比（有機溶媒／塩酸水溶液）が実施例１と異なる。なお、実施例２における流量比（有機溶媒／塩酸水溶液）は、８／１．３であり、実施例３における流量比（有機溶媒／塩酸水溶液）は、８／１．２であった。これ以外の条件は、実施例１と同じであるので、説明を省略する。なお、実施例２で製造された希土類炭酸塩（中間原料）のＴＲＥＯは４６ｗｔ％であり、実施例３で製造された希土類炭酸塩（中間原料）のＴＲＥＯは４３ｗｔ％であった。そして、ＴＲＥＯ中の各希土類元素の重量の割合は、いずれの実施例とも、最終的に製造されたセリウム系研摩材と同じであった（表１参照）。また、いずれの実施例とも、Ｆ／ＴＲＥＯは０．１ｗｔ％未満であり、（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯは０．０００５ｗｔ％未満であり、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯは０．４ｗｔ％未満であった。
比較例１：原料として米国産のバストネサイト精鉱を用意した。その組成（重量比）は、ＴＲＥＯが７０ｗｔ％、ＣｅＯ２／ＴＲＥＯが４９．３ｗｔ％、Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯが３４．０ｗｔ％、Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯが１１．３ｗｔ％、Ｐｒ６Ｏ１１／ＴＲＥＯ４．０ｗｔ％、Ｆ／ＴＲＥＯが８．０ｗｔ％、（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．１ｗｔ％、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯが６．８ｗｔ％であった。そして、用意した原料（バストネサイト精鉱）と当該原料重量の２倍の重量の純水とを混合し、湿式ボールミル（粉砕媒体は直径５ｍｍのジルコニアボール）にて８時間湿式粉砕を行って原料スラリーを得た。そして、得られた原料スラリーに対して、リパルプ洗浄、濾過、乾燥、焙焼、粉砕、分級の各工程を順次行ってセリウム系研摩材を得た。なお、リパルプ洗浄以降の各工程の条件は実施例１と同じであった。
比較例２，３：これらの比較例は、希土類元素を含む有機溶媒と３ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液とを向流多段接触させてランタン等の希土類元素を塩酸水溶液中に逆抽出する工程の条件が実施例１とは異なる。比較例２では、有機溶媒と塩酸水溶液との流量比（有機溶媒／塩酸水溶液）が８／１．６であり、また有機溶媒中の希土類元素のほぼ全量を塩酸水溶液中に逆抽出して希土類溶液（精製液）を得た。そして、比較例３における流量比（有機溶媒／塩酸水溶液）は、８／１．１であった。これ以外の条件は、実施例１と同じであった。なお、比較例２で製造された希土類炭酸塩（中間原料）のＴＲＥＯは４２ｗｔ％であり、比較例３で製造された希土類炭酸塩（中間原料）のＴＲＥＯは４６ｗｔ％であった。そして、ＴＲＥＯ中の各希土類元素の重量の割合は、いずれの比較例とも、最終的に製造されたセリウム系研摩材と同じであった（表１参照）。また、いずれの比較例とも、Ｆ／ＴＲＥＯは０．１ｗｔ％未満であり、（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯは０．０００５ｗｔ％未満であり、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯは０．４ｗｔ％未満であった。
実施例４〜７：各実施例では、フッ化処理の条件が異なること以外、実施例２と同じ条件でセリウム系研摩材を製造した。なお、フッ化処理後の「Ｆ／ＴＲＥＯ」は、実施例４では４．０ｗｔ％、実施例５では５．５ｗｔ％、実施例６では、１１ｗｔ％、実施例７では１５ｗｔ％であった。
実施例８，９：各実施例では、焙焼工程における焙焼温度が異なること以外、実施例２と同じ条件でセリウム系研摩材を製造した。なお、焙焼温度は、実施例８では８５０℃であり、実施例９では、１１００℃であった。
上記各実施例および各比較例で得られたセリウム系研摩材の、フッ素含有率、ＴＲＥＯ、ＴＲＥＯ中の各希土類酸化物の重量の割合などの値を表１に示す。なお、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯは、比較例１の研摩材が６．２ｗｔ％で、その他の研摩材は０．４ｗｔ％未満であった。
【表１】
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各実施例および比較例で得られたセリウム系研摩材を用いて、平均粒径（Ｄ５０）、ＢＥＴ法比表面積（ＢＥＴ）および回折Ｘ線強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）を測定した。また、各実施例および比較例で得られたセリウム系研摩材を用いて研摩試験を行い、研摩値（研摩速度）、得られた研摩面の傷評価および付着性（洗浄性）について評価を行った。測定方法、研摩試験方法、各種研摩特性の評価方法を次に説明する。なお、測定値および評価結果については後掲の表２に示す。
平均粒径（Ｄ５０）の測定
レーザ回折・散乱法粒度分布測定装置（（株）島津製作所製：ＳＡＬＤ−２０００Ａ）を使用してセリウム系研摩材の粒度分布を測定し、平均粒径（Ｄ５０：小粒径側からの累積体積５０ｗｔ％における粒径）を求めた。
ＢＥＴ法比表面積（ＢＥＴ）：ＪＩＳ  Ｒ  １６２６−１９９６（ファインセラミックス粉体の気体吸着ＢＥＴ法による比表面積の測定方法）の「６．２流動法の（３．５）一点法」に準拠して測定を行った。その際、キャリアガスであるヘリウムと、吸着質ガスである窒素の混合ガスを使用した。
Ｘ線回折測定
Ｘ線回折装置（マックサイエンス（株）製、ＭＸＰ１８）を用いて、セリウム系研摩材についてＸ線回折分析を行い、回折Ｘ線強度を測定した。本測定では、銅（Ｃｕ）ターゲットを使用しており、Ｃｕ−Ｋα線を照射して得られたＣｕ−Ｋα１線による回折Ｘ線パターンのうち回折角（２θ）が２０°〜３０°に出現したピークについて解析した。なお、その他の測定条件は、管電圧４０ｋＶ、管電流１５０ｍＡ、測定範囲２θ＝５°〜８０°、サンプリング幅０．０２°、走査速度４°／ｍｉｎであった。そして、得られたＸ線回折測定結果から、酸化セリウム（ＣｅＯ２）のＸ線回折ピーク強度、ランタノイドオキシフッ化物（ＬｎＯＦ）のＸ線回折ピーク強度およびランタノイドフッ化物（ＬｎＦ３）のＸ線回折ピーク強度を読み取り、各Ｘ線回折ピーク強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２、ＬｎＦ３／ＣｅＯ２）を求めた。
研摩試験
研摩機として、研摩試験機（ＨＳＰ−２Ｉ型、台東精機（株）製）を用意した。この研摩試験機は、研摩対象面に研摩材スラリーを供給しながら研摩パッドで研摩対象面を研摩するものである。研摩パッドはポリウレタン製のものであり、当該研摩試験では１回（２４時間程度の研摩時間）毎に新品に交換した。そして、研摩対象物として６５ｍｍφの平面パネル用ガラスの用意した。また、粉末状のセリウム系研摩材粉末と純水を混合して、固形分濃度が１５重量ｗｔ％である研摩材スラリーを５０Ｌ調製した。この研摩材スラリーを用いて平面パネル用ガラスの表面を研摩した。本研摩試験では、研摩材スラリーを５リットル／分の割合で供給することとし、研摩材スラリーを循環使用した。また、研摩面に対する研摩パッドの圧力を９．８ｋＰａ（１００ｇ／ｃｍ２）とし、研摩試験機の回転速度を１００ｒｐｍに設定した。
研摩値（研摩速度）の評価
研摩開始３０分後、研摩対象の平面パネル用ガラスを交換した。なお、交換した平面パネル用ガラスは重量測定済みのものである。そして、平面パネル用ガラス交換後１０分間研摩を行って、研摩によるガラス重量の減少量を求め、この値に基づき「研摩値１」を求めた。なお、比較例１の研摩材の研摩値を基準（１００）とした。
最初の３０分間とその後の１０分間の合計４０分間の研摩終了後、新しい平面パネル用ガラスに交換して、２３時間２０分（合計２４時間）の間、研摩を行い、その後、研摩対象の平面パネル用ガラスを交換した。なお、交換した平面パネル用ガラスは重量測定済みのものである。そして、平面パネル用ガラス交換後１０分間研摩を行って、研摩によるガラス重量の減少量を求め、この値に基づき「研摩値２」を求めた。ここでは、比較例１の研摩材の研摩値１を基準（１００）として研摩値２を求めた。
そして、「研摩値１」および「研摩値２」に基づいて「研摩値比（研摩値２／研摩値１）」を求め、「研摩値１」、「研摩値２」および「研摩値比」を用いてセリウム系研摩材の研摩値（研摩速度）を評価した。
研摩傷の評価
また、研摩終了後、研摩した平面パネル用ガラスを、純水で洗浄し、無塵状態で乾燥させた研摩面について傷評価を行った。傷評価は、３０万ルクスのハロゲンランプを光源として用いる反射法でガラス表面を観察し、大きな傷および微細な傷の数を点数化し、１００点を満点として減点評価する方式で行った。この傷評価では、ハードディスク用あるいはＬＣＤ用のガラス基板の仕上げ研摩で要求される研摩精度を判断基準とした。具体的には表２および表５中、「◎」は、９８点以上（ＨＤ用・ＬＣＤ用ガラス基板の仕上げ研摩に非常に好適）であることを、「○」は、９８点未満９５点以上（ＨＤ用・ＬＣＤ用ガラス基板の仕上げ研摩に好適）であることを、「△」は、９５点未満９０点以上（ＨＤ用・ＬＣＤ用ガラス基板の仕上げ研摩に使用可能）であることを、そして「×」は、９０点未満（ＨＤ用・ＬＣＤ用ガラス基板の仕上げ研摩に使用不可）であることを示す。
付着性試験
また、研摩材の付着性（洗浄性）について試験を行った。試験では、まず、洗浄・乾燥された光学顕微鏡観察用のスライドグラスを、研摩材スラリー中に浸漬すると共に引き上げて５０℃で一旦乾燥させ、その後、純水入りの容器に浸漬させて超音波洗浄を５分間行い、超音波洗浄後、容器から取り出したスライドグラスを純水で流水洗して観察対象のスライドグラスを得た。その後、スライドグラス表面に残存する研摩材粒子の残存量を光学顕微鏡で観察することで付着性を評価した。具体的には、表２および表５中、「○」は、研摩材粒子の残存が観察されず仕上げ研摩用として非常に好適であることを、「△」は、研摩材粒子の残存が観察されたがわずかであり仕上げ研摩用として好適であることを、「×」は、研摩材粒子の残存が非常に多く観察され仕上げ研摩用として不適であることを示す。
【表２】
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表２に示されるように、実施例１〜３の研摩材は、研摩開始直後（３０分後）の研摩値（研摩値１）が高く、そして、長時間循環使用した後においても比較的高い研摩値（研摩値２）を有しており、使用による研摩値の低下が比較的小さかった（研摩値比＝０．６６〜０．７８）。つまり、研摩開始後の急激な研摩値（研摩速度）の低下が防止され、より高い研摩値がより長い間維持された。そして、実施例１〜３の研摩材とも、研摩傷が発生しにくく、研摩面に付着しにくいという点で優れていた。また、表２に示されるように、実施例の研摩材は、全て研摩特性に優れていたが、中でも実施例２の研摩材が最も研摩特性に優れていた。これに対し、比較例１〜３の研摩材は、研摩値２が著しく低く、使用により急激に研摩力が低下した（研摩値比＝０．２３〜０．３２）。また、研摩傷が発生しやすく、研摩面に付着しやすいという不具合が見られた。
そこで、表１に示されるデータについて各実施例と比較例のデータについて検討したところ、次のようなことが解った。
セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯが９０ｗｔ％以上のものが好ましく、９２ｗｔ％以上がより好ましい。そして、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が５０ｗｔ％以上であるものが好ましい。また、各実施例と比較例２から、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１６ｗｔ％以下が好ましい。さらに、各実施例と比較例３から、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が少なくとも１０ｗｔ％以上が好ましい。
そして、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯに占める酸化ランタンの重量の割合（Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が３０ｗｔ％以下が好ましい。
また、各実施例および比較例のデータ（表１）について別の観点で比較したところ、セリウム系研摩材としては、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）との重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）が１．４以上のものが好ましく（各実施例と比較例２との比較）、２．８以下のものが好ましい（各実施例と比較例１，３との比較）。
さらに、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯに占める酸化ランタンおよび酸化ネオジムの合計重量の割合（（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｄ２Ｏ３）／ＴＲＥＯ）が２５ｗｔ％〜５０ｗｔ％であるものが好ましい。また、実施例２および実施例４〜７を比較したところ、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯと、フッ素含有量の重量比（Ｆ／ＴＲＥＯ）が４．０ｗｔ％〜９．０ｗｔ％であるものがより好ましい。
また、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯと、ウランおよびトリウムの合計重量の重量比（（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ）が０．０５ｗｔ％以下のものが好ましい。そして、実施例１〜３と比較例１〜３を比較したところ、上記Ｘ線回折ピーク強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２）は０．４〜０．７が好ましい。
さらに、各実施例から、研摩材粒子の平均粒径（Ｄ５０）が０．７μｍ〜１．６μｍであるものがより好ましく、ＢＥＴ法比表面積が２．０ｍ２／ｇ〜５．０ｍ２／ｇであることがより好ましい。
また、表２に示されるように、実施例２および実施例４〜７の研摩材は、いずれも、研摩値１が高く、且つ比較的高い研摩値２を有しており、使用による研摩値の低下が比較的小さかった（研摩値比＝０．６６〜０．７８）。つまり、研摩開始後に急激に研摩値（研摩速度）が低下するようなことが防止されており、より高い研摩値がより長い間維持されていた。ただし、実施例４の研摩材は、実施例２などと比べると、やや研摩値１および研摩値２が低く、付着性が若干あった。これは、実施例２などと比べて、ＴＲＥＯ量とフッ素量の重量比（Ｆ／ＴＲＥＯ）が小さく、またＸ線回折ピーク強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２）が小さいからであると考えられる。また、実施例７の研摩材は、実施例２などと比べると、やや研摩傷が発生しやすく付着性が若干あった。これは、実施例２などと比べて、Ｘ線回折ピーク強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２やＬｎＦ３／ＣｅＯ２）が大きいからであると考えられる。
そして、表２に示されるように、実施例２、８および９研摩材は、研摩値１が高く、そして研摩値２も比較的高く、使用による研摩値の低下が比較的小さかった（研摩値比＝０．７２〜０．７８）。つまり、研摩開始後に急激に研摩値（研摩速度）が低下するようなことが防止されており、より高い研摩値がより長い間維持されていた。この結果、本発明の研摩材用原料を用いて研摩材を製造する場合、焙焼温度が８００℃〜１２００℃（より好ましくは８５０℃〜１１００℃）であれば、研摩値（研摩速度）の低下が少ない（研摩値比が大きい）研摩材を製造できることが解った。
第２実施形態
次に、炭酸セリウム、炭酸ランタン、炭酸プラセオジム、炭酸ネオジムを各々個別に仮焼（焙焼）した後、混合して原料を調製し、調製した原料を用いてセリウム系研摩材を製造した実施例および比較例について説明する。
まず、高純度の炭酸セリウム（ＴＲＥＯ：４５ｗｔ％、ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上）、炭酸ランタン（ＴＲＥＯ：が４５ｗｔ％、Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上）、炭酸プラセオジム（ＴＲＥＯ：４５ｗｔ％、Ｐｒ６Ｏ１１／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上）、炭酸ネオジム（ＴＲＥＯ：４５ｗｔ％、Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上）を用意して、各々別個に仮焼（焙焼）した。仮焼温度は６００℃、仮焼時間は１２時間であった。そして、仮焼によって、炭酸セリウム仮焼品（ＴＲＥＯ：８３ｗｔ％、ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上、強熱減量：１７ｗｔ％）、炭酸ランタン仮焼品（ＴＲＥＯ：８５ｗｔ％、Ｌａ２Ｏ３／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上、強熱減量：１５ｗｔ％）、炭酸プラセオジム仮焼品（ＴＲＥＯ：８６ｗｔ％、Ｐｒ６Ｏ１１／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上、強熱減量：１４ｗｔ％）、炭酸ネオジム仮焼品（ＴＲＥＯ：８２ｗｔ％、Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ：９９．９ｗｔ％以上、強熱減量：１８ｗｔ％）を得た。
そして、このようにして得られた各仮焼品を混合して、次に説明する各実施例および各比較例で用いるセリウム系研摩材原料（中間原料）を調製した。各実施例および比較例で用いたセリウム系研摩材原料（中間原料）の組成を表３に示す。また、これらの混合して調製した中間原料５種類の（Ｕ＋Ｔｈ）／ＴＲＥＯ重量比は、いずれも０．０００５ｗｔ％未満であり、（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯ重量比は、０．１ｗｔ％未満であった。
【表３】
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実施例１０〜１４および比較例６〜９：調製したセリウム系研摩材用原料（中間原料＝希土類炭酸塩仮焼品（混合品））と当該原料重量の２倍の重量の純水とを混合し、湿式ボールミル（粉砕媒体は直径５ｍｍのジルコニアボール）にて８時間湿式粉砕を行って原料スラリーを得た。得られた粉砕品のＤ５０は、０．８μｍであった。そして得られたスラリーに対してフッ化処理（実施例１での処理と同じ）を行った。フッ化処理後の「Ｆ／ＴＲＥＯ」は８．０ｗｔ％であった。その後、固形分を沈降させて上澄み液を抜出し、純水を加えるという、いわゆるリパルプ洗浄を行い、洗浄後のスラリーをフィルタプレス法にて濾過した。そして、得られた濾過品に対して、乾燥、焙焼、粉砕、分級の各工程を順次行ってセリウム系研摩材を得た。なお、乾燥以降の各工程の条件は実施例１と同じであった。
上記実施例１０〜１４および比較例６〜９で得られたセリウム系研摩材のフッ素含有率、ＴＲＥＯ、ＴＲＥＯ中の各希土類酸化物の重量の割合などの値を表４に示す。また、これらの研摩材の（Ｃａ＋Ｂａ＋Ｆｅ＋Ｐ）／ＴＲＥＯ重量比は、０．１ｗｔ％未満であった。
【表４】
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各実施例および比較例で得られたセリウム系研摩材を用いて、平均粒径（Ｄ５０）、ＢＥＴ法比表面積（ＢＥＴ）および回折Ｘ線強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）を測定した。また、各実施例および比較例で得られたセリウム系研摩材を用いて研摩試験を行い、研摩値（研摩速度）、得られた研摩面の傷評価および付着性（洗浄性）について評価を行った。測定法および試験法は先に説明した通りである。測定値および評価結果を表５に示す。
【表５】
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表５に示されるように、各実施例の研摩材は、未使用状態での研摩値（研摩値１）が高く、そして、使用済み状態においても比較的高い研摩値（研摩値２）を有しており、使用による研摩値の低下が比較的小さかった（研摩値比＝０．６７〜０．７９）。また、各実施例の研摩材とも、研摩傷が発生しにくく、研摩面に付着しにくいという点で優れていた。なお、実施例１０〜１４の中では、実施例１１の研摩材が最も研摩特性に優れていた。これに対し、各比較例の研摩材は、研摩値２が著しく低く、使用により急激に研摩値（研摩速度）が低下した（ただし比較例９は除く）。また、研摩傷が発生しやすく、研摩面に付着しやすいという不具合が見られた。
そして、表４に示されるデータについて、各実施例と比較例８、９とを比較したところ、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯに占める酸化セリウムの重量の割合（ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ）が４５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であるものが好ましいことが解った。また、各実施例と比較例６、７とを比較したところ、セリウム系研摩材としては、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が１０ｗｔ％〜１６ｗｔ％であるものが好ましいことが解った。また、表５に示されるように、セリウム系研摩材としては、Ｘ線回折ピーク強度比（ＬｎＯＦ／ＣｅＯ２）が０．４〜０．７であるものがより好ましいことが解った。
また、表４に示される実施例と比較例のデータを別の観点で比較したところ、ＴＲＥＯ中の酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）と酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）の重量比（Ｌａ２Ｏ３／Ｎｄ２Ｏ３）については、実施例と比較例７との比較から１．４以上が好ましく、各実施例と比較例６との比較から２．８以下が好ましいことが解った。そして、実施例１３，１４から、酸化ランタンと酸化ネオジムの重量バランスを整えると、ＴＲＥＯに占める酸化ネオジムの重量の割合（Ｎｄ２Ｏ３／ＴＲＥＯ）が９ｗｔ％や１７ｗｔ％であっても実用的な研摩材が得られることが解った。
産業上の利用の可能性
以上の説明から解るように、本発明に係るセリウム系研摩材は、傷の発生が少なく、また高い研摩力が長い間維持されるものである。したがって、本発明に係るセリウム系研摩材を用いれば、傷が少なく研摩材の付着が少ない高品質の研摩面をより短時間で得ることができる。つまり、本発明によれば、光ディスクや磁気ディスク用ガラス基板の研摩など、高精度の表面研摩性能が要求される分野において好適なセリウム系研摩材を提供できる。
【国際調査報告】
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