(57)【要約】安価でメンテナンス性に優れ、且つ高精度で基板を貼り合わせる貼合せ基板製造装置。貼合せ基板製造装置（３１）は、真空処理室（３４）と、２枚の基板（Ｗ１，Ｗ２）に貼合せ用の加圧力を作用させる加圧手段（３５）と、２枚の基板を位置合せするために第２の保持平板及び真空処理室を水平移動かつ水平回転させる駆動手段（３６）とを含む。第１の保持平板は真空処理室から離間するよう第１の支柱（５３）を介して加圧手段と接続される。第２の保持平板は真空処理室から離間するように、第２の支柱（５６）を介して駆動手段と接続される。また、真空処理室は第３の支柱（５８）を介して駆動手段と接続される。
2004097509.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
前記処理室の外部に設けられ、前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記２枚の基板を貼り合わせる時に前記第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する第１の支持部材と、
前記第２の保持平板を前記処理室の内面から離間した位置にて支持する第２の支持部材と、
前記処理室の外部に設けられ、かつ、前記処理室と接続され、前記２枚の基板を位置合せすべく前記処理室及び前記第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる駆動手段とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【請求項２】
前記第２の支持部材は前記第２の保持平板と前記駆動手段とを接続する支柱を含む請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項３】
前記処理室と前記駆動手段とを剛体的に接続する支柱を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項４】
前記第２の支持部材は前記処理室に固定された台座を含み、前記処理室全体を支持し、かつ、前記処理室と前記駆動手段とを接続する支柱を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項５】
前記支柱は前記処理室と接触する上面と、前記駆動手段と接触する下面とを有する四角錐台状に形成され、前記下面の面積は前記上面の面積よりも小さいことを特徴とする請求項４に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項６】
前記駆動手段は前記処理室の外面と接続され、前記第２の支持部材は、前記処理室の内面において、前記処理室と前記駆動手段との接続部位の真上となる位置に固定された台座を含む請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項７】
減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
前記処理室の外部に設けられ、前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記２枚の基板を貼り合わせる時に前記第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する第１の支持部材と、
前記処理室の内部に設けられ、前記第２の保持平板を水平移動可能及び水平回転可能に支持する駆動手段とを備え、前記２枚の基板を位置合せする時に前記第２の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記駆動手段は前記第２の保持平板と接続されていることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【請求項８】
前記駆動手段は、駆動用モータと、その駆動用モータの駆動力によって移動される駆動機構とを含み、前記駆動機構が前記処理室の内部に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項９】
前記処理室の排気を行う排気口が前記駆動機構に面するように設けられていることを特徴とする請求項８に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項１０】
前記処理室を減圧するための複数のポンプを更に備え、少なくとも一つのポンプは前記排気口に接続されていることを特徴とする請求項９に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項１１】
２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
減圧可能かつ開放可能な処理室と、
前記処理室内において互いに対向して配置され、前記２枚の基板を保持する第１及び第２の保持平板と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第１の保持平板を下降させて前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記第１の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを剛体的に接続する第１の支持部材と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第２の保持平板及び前記処理室とを水平面内で一体的に移動させる駆動手段と、
前記第２の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記第２の保持平板と前記駆動手段とを剛体的に接続する第２の支持部材と、
前記処理室と前記駆動手段とを剛体的に接続する支柱とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【請求項１２】
２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
減圧可能かつ開放可能な処理室と、
前記処理室内において互いに対向して配置され、前記２枚の基板を保持する第１及び第２の保持平板と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第１の保持平板を下降させて前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記第１の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを剛体的に接続する第１の支持部材と、
前記処理室の内部空間に設けられ、前記第２の保持平板と前記処理室との接触を避けるように前記第２の保持平板を水平面内で移動可能に支持する駆動手段とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、貼合せ基板（パネル）の製造装置に関し、詳しくは、２枚の基板を所定の間隔で貼り合わせて液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）等の貼合せ基板（パネル）を製造する装置に関する。
【背景技術】  近年、ＬＣＤ等の平面表示パネルは、大型化・軽量化（薄型化）が進むとともに、製造コストの削減要求が一層高まってきている。このため、２枚の基板を貼り合わせて平面表示パネルを製造する貼合せ基板製造装置においてもパネルサイズに応じて大型化されているが、安価で生産性を向上させた製造装置が必要となっている。
液晶表示パネルは、例えば、複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）がマトリクス状に形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ（赤、緑、青）や遮光膜等が形成されたカラーフィルタ基板とを極めて狭い間隔（数μｍ程度）で対向させ、それら２枚の基板間に液晶を封入することにより製造される。
従来の液晶表示パネルの製造では、貼り合わせた基板を真空槽に入れ、注入口を液晶に浸けてから該真空槽内を大気に戻すことにより基板間に液晶を注入し、注入口を封止するといった真空注入法が用いられてきた。近年では、例えばアレイ基板の周縁部に沿ってシール材の枠を形成し、そのシール材の枠内に規定量の液晶を滴下し、真空中でアレイ基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせる滴下注入法が多く用いられるようになってきている。（特許文献１参照）
図１０は滴下注入法により基板を貼り合わせる従来の貼合せ基板製造装置１１を示している。
貼合せ基板製造装置１１における真空処理室（チャンバ）１２内には、第１及び第２の保持平板１３，１４が互いに対向して配置され、各保持平板１３，１４にはそれぞれ基板Ｗ１，Ｗ２が保持されている。真空処理室１２は上下に分割可能な上側容器１２ａと下側容器１２ｂとから構成される。真空処理室１２の上方には加圧手段１５が設けられ、真空処理室１２の下方には駆動手段１６が設けられている。第１の保持平板１３は第１の支柱１７を介して加圧手段１５に接続され、第２の保持平板１４は第２の支柱１８を介して駆動手段１６に接続されている。加圧手段１５は、基板Ｗ１，Ｗ２の貼り合わせを行う際に基板Ｗ１，Ｗ２に加圧力を作用させる。駆動手段１６の動作により基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。上側ベローズ２０が支持板１９と真空処理室１２とを接続する第１の支柱１７を囲むように設けられている。また、下側ベローズ２２が駆動手段１６の支持板２１と真空処理室１２とを接続する第２の支柱１８を囲むように設けられている。
ところで、駆動手段１６の動作によって、下側ベローズ２２には負荷が加わる。その負荷を十分に吸収するためには、比較的長い下側ベローズ２２が必要となる。長い下側ベローズ２２は駆動手段１６と真空処理室１２との間隔を大きくし、貼合せ基板製造装置１１の小型化を図る上での障害となる。また、下側ベローズ２２の内側空間が真空処理室１２の容積を増加させるため、真空ポンプ２３が真空処理室１２を減圧するための時間が長くなる。ベローズ２０、２２は耐用期間に応じて定期的に交換する必要があるが、上側ベローズ２０には加圧手段１５による加圧時の負荷が加わるのに対し、下側ベローズ２２には、加圧手段１５による加圧時のに負荷と、駆動手段１６による位置合せ時の負荷が加わる。そのため、下側ベローズ２２の耐用期間は比較的短い。下側ベローズ２２を交換する場合、上側ベローズ２０を交換するのと比較して、基板製造装置１１の大幅な解体作業が必要である。そのため、下側ベローズ２２の交換作業は煩雑であり、基板製造装置１１を長時間にわたって停止させなければならず、貼合せ基板の生産性を低下させる。
これに対し、真空処理室（チャンバ）内に保持平板を固着し、駆動手段により真空処理室（チャンバ）とともに保持平板を移動させることで基板のアライメント（位置合せ）を行う製造装置が特許文献２に提案されている。この構成では、図１０の下側ベローズ２２及び第２の支柱１８が削除できることから、部品点数が削減されかつメンテナンス性が向上する。
ところが、特許文献２の製造装置において、基板貼合せ時に真空処理室内を減圧すると、該真空処理室の内部圧力と外部の大気圧との差により、真空処理室が若干変形する。保持平板は真空処理室の変形の影響を直接に受けて、保持平板表面の撓みや２つの保持平板の位置ずれが生じるという問題がある。互いに対向する２枚の基板を貼り合わせて製造される液晶表示パネルにおいて、液晶を封入後の基板間隔（セルギャップ）は例えば５μｍ程度であり極めて狭い。２枚の基板を所定のセルギャップで貼り合せるには、２枚の基板を高レベルの平行度に維持する必要がある。保持平板表面の撓みは２枚の基板の平行度を低下させ、所定のセルギャップの達成を困難にする。従って、保持平板表面の撓みすなわち保持平板の平面度の変化を抑制する必要がある。
【特許文献１】    特開２００２−０４０３９８号公報
【特許文献２】    特開２００２−２２９０４４号公報（明細書の段落［０２３３］〜［０２３６］、図３１）
【発明の開示】
本発明の目的は、安価で、メンテナンス性に優れ、２枚の基板を高精度で貼り合わせる貼合せ基板製造装置を提供することにある。
本発明の第１の態様では、減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置が提供される。加圧手段が処理室の外部に設けられ、２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる。２枚の基板を貼り合わせる時に第１の保持平板が処理室の内面から離間して配置されるように、第１の支持部材によって前記加圧手段と第１の保持平板とが接続される。第２の保持平板は第２の支持部材によって前記処理室の内面から離間した位置にて支持される。２枚の基板を位置合せすべく、駆動手段は処理室及び第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる。駆動手段は処理室の外部に設けられ、かつ、処理室と接続される。
本発明の第２の態様では、減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置が提供される。処理室の外部に設けられた加圧手段が２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる。２枚の基板を貼り合わせる時に第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、第１の支持部材が加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する。駆動手段は処理室の内部に設けられ、２枚の基板を位置合せすべく第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる。２枚の基板を位置合せする時に第２の保持平板が処理室の内面から離間して配置されるように、駆動手段が第２の保持平板を支持する。
【図面の簡単な説明】    図１は本発明の第１実施形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図２は貼合せ基板製造装置の制御機構のブロック図である。
図３は本発明の第２実施形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図４は本発明の第３実施形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図５は本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図６は本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図７は本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図８は本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図９は本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
図１０は従来の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【発明を実施するための最良の形態】  以下、本発明の第１実施形態の貼合せ基板製造装置について図面に従って説明する。
図１は、第１実施形態の貼合せ基板製造装置３１を示す。貼合せ基板製造装置３１はベース板３２と、そのベース板３２に固定されたゲート状の支持枠３３とを備えている。ベース板３２及び支持枠３３は十分に高い剛性を持つ材質により形成されている。支持枠３３内側の略中央部分には基板Ｗ１，Ｗ２の貼合せ処理を行う真空処理室（チャンバ）３４が設けられる。真空処理室３４の上方には基板Ｗ１，Ｗ２に貼合せ用の加圧力を作用させる加圧手段３５が設けられている。真空処理室３４の下方には基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せを行う駆動手段３６が設けられている。
先ず、加圧手段３５について説明する。加圧手段３５は、ガイドレール３８ａ，３８ｂ、リニアガイド３９ａ，３９ｂ、第１〜第３の支持板４１〜４３、及びモータ４４を含む。ガイドレール３８ａ，３８ｂは支持枠３３の支柱部内側面の両側に取り付けられており、このガイドレール３８ａ，３８ｂによってリニアガイド３９ａ，３９ｂが上下動可能に支持されている。両側のリニアガイド３９ａ，３９ｂの間には、第１及び第２の支持板４１，４２が掛け渡され、第１の支持板４１は、支持枠３３の上部に取り付けられたモータ４４によって上下動する第３の支持板４３により吊り下げられている。第３の支持板４３は、ナット４６が設けられた上板と、複数（本実施形態では４つ）のロードセル４８が取着された下板と、上板と下板とを接続する接続板とからなる。ロードセル４８の上に第１の支持板４１の下面が当接される。モータ４４の出力軸にはボールネジ４５が一体回転可能に連結され、ボールネジ４５には第３の支持板４３のナット４６が螺合されている。従って、モータ４４がボールネジ４５を正／逆回転駆動することにより、第３の支持板４３が上／下動する。
真空処理室３４は上下に分割可能な上側容器３４ａと下側容器３４ｂとにより形成される。真空処理室３４を減圧するための真空ポンプ５０が真空配管４９を介して真空処理室３４と接続されている。真空処理室３４内には、基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ吸着保持するためのチャック機構を有した第１及び第２の保持平板５１，５２が互いに対向して設けられている。なお、チャック機構による基板Ｗ１，Ｗ２の吸着保持は、真空チャック（吸引吸着）及び静電チャック（静電吸着）のうち少なくとも一方を用いて行われる。
第１の保持平板５１は上側容器３４ａ内に設けられている。第１の保持平板５１は４本の第１の支柱５３を介して第２の支持板４２により吊下支持されている。基板貼合せの際に第１の保持平板５１が真空処理室３４の上内面から離間して配置されるように、すなわち、第１の保持平板５１が真空処理室３４の上内面と接触しないように、第１の支柱５３の長さは設定されている。また、第２の支持板４２と上側容器３４ａとの間において、各支柱５３を囲むように弾性体（ベローズ）５４が設けられている。上側容器３４ａは、ベローズ５４を介して第２の支持板４２に吊下支持される。ベローズ５４の両端にはＯリング（図示略）を備えるフランジ部が形成されている。Ｏリングにより第２の支持板４２と上側容器３４ａとの間がシールされ、真空処理室３４内の気密が保たれる。
第２の保持平板５２は下側容器３４ｂ内に設けられている。第２の保持平板５２は４本の第２の支柱５６を介して支持板５７と接続される。下側容器３４ｂは４本の第３の支柱５８を介して支持板５７と接続される。支持板５７は複数の駆動機構５９により支持されている。駆動機構５９はベース板３２に固定されている。駆動機構５９に支持された支持板５７上の所定の位置に第２の支柱５６と第３の支柱５８が立設されている。そして、第２の支柱５６により第２の保持平板５２が支持され、第３の支柱５８により下側容器３４ｂが支持されている。第２の支柱５６は第３の支柱５８よりも長い。第２の支柱５６の長さは、第２の保持平板５２が真空処理室３４の下内面から離間して配置されるように、すなわち、第２の保持平板５２が真空処理室３４の下内面と接触しないように設定されている。
駆動機構５９は、駆動用モータ６４（図２）を用いて、支持板５７をＸ方向及びＹ方向に水平移動させ、水平回転（θ方向）させる。駆動手段３６は、駆動機構５９と支持板５７と駆動用モータとを含む。
各第２の支柱５６を受承する貫通孔が下側容器３４ｂに形成される。各貫通孔にはＯリング６０嵌め込まれている。Ｏリング６０が第２の支柱５６と下側容器３４ｂとの間の隙間を塞ぐことで、真空処理室３４の気密が保たれる。
次に、貼合せ基板製造装置３１の制御機構について図２を用いて説明する。なお、図２において、図１で説明した構成と同様の構成部分については同一符号を付している。
貼合せ基板製造装置３１は、真空処理室３４の圧力（真空ポンプ５０）、貼り合わせ用の加圧力（加圧用モータ４４）、及び基板の位置合わせ（駆動手段３６）を制御するための制御装置６１を含む。制御装置６１は例えば一般的なＰＬＣ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒｓ）である。制御装置６１には、ロードセル４８、画像処理装置６２、圧力センサ６３、加圧用モータ４４、駆動手段３６の駆動用モータ６４、真空ポンプ５０が接続されている。
制御装置６１は各ロードセル４８の出力信号から基板Ｗ１，Ｗ２に与えられた荷重を算出し、算出された荷重に応じてモータ駆動信号を生成し、そのモータ駆動信号を加圧用モータ４４に供給する。加圧用モータ４４はモータ駆動信号に従って駆動され、第１の保持平板５１を上昇又は下降させる。
また、制御装置６１は、画像処理装置６２からの出力信号に基づいて生成したモータ駆動信号を駆動用モータ６４に供給する。詳述すると、貼合せ基板製造装置３１は、基板貼合せ時に両基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せをするためのアライメントマークを撮像するＣＣＤカメラ（図示略）を備えている。このＣＣＤカメラは、貼合せ時に基板Ｗ１，Ｗ２に形成されたアライメントマークを撮像し、その画像データを画像処理装置６２に供給する。制御装置６１は、その画像処理装置６２の演算結果（位置ずれ量の算出データ）に応じてモータ駆動信号を生成し、そのモータ駆動信号を駆動用モータ６４に供給する。駆動用モータ６４はモータ駆動信号に従って回転し、駆動機構５９を作動する。駆動機構５９の作動により支持板５７、第２の保持平板５２及び下側容器３４ｂが移動され、両基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。
圧力センサ６３は、真空処理室３４内における第１及び第２の保持平板５１，５２の近傍に配置され、該真空処理室３４内の圧力に応じた検出信号を出力する。減圧下で基板Ｗ１，Ｗ２を貼り合せるために、制御装置６１は圧力センサ６３の検出信号に基づいて真空ポンプ５０の駆動と、真空配管４９に設けられたバルブ（図示略）の開閉とを調節する。真空ポンプ５０及びバルブの制御によって真空処理室３４が所望の減圧状態に調節される。
次に、貼合せ基板製造装置３１の動作について説明する。
貼合せ基板製造装置３１において、加圧用モータ４４の駆動により第３の支持板４３が上下動すると、ロードセル４８及び第１の支持板４１を介してリニアガイド３９ａ，３９ｂがガイドレール３８ａ，３８ｂに沿って上下動し、第２の支持板４２及びベローズ５４を介して上側容器３４ａが上下動する。上側容器３４ａが下側容器３４ｂと当接するまで下降されることにより、真空処理室３４が閉塞される。
その後、真空ポンプ５０が駆動されると、真空処理室３４が減圧される。その状態で、さらにリニアガイド３９ａ，３９ｂを下降させるように加圧用モータ４４が回転されると、上側容器３４ａは下降されず、第２の支持板４２、第１の支柱５３及び第１の保持平板５１は下降され、ベローズ５４は圧縮される。
第２の保持平板５２は第２の支柱５６を介して支持板５７に支持され、下側容器３４ｂ（閉塞された真空処理室３４）は第３の支柱５８を介して支持板５７に支持されている。その状態で駆動手段３６が動作すると、第２の保持平板５２と真空処理室３４とが一体となって、Ｘ方向及びＹ方向に水平移動するとともに、水平回転（θ方向）し、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。この位置合せ時において、Ｘ方向及びＹ方向の移動と水平回転に伴う負荷は、ベローズ５４によって吸収される。また、第２の保持平板５２と真空処理室３４とが一体となって移動するよう駆動手段３６の支持板５７に剛体的に接続されているため、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時において、下側容器３４ｂと第２の支柱５６との間に設けられたＯリング６０に負荷が加わることはない。
そして、貼合せ基板製造装置３１は、第１の保持平板５１及び第２の保持平板５２に保持した基板Ｗ２，Ｗ１の位置合せを行った後、加圧手段３５により各基板Ｗ１，Ｗ２間に加圧力を加えて貼り合わせを行う。
次に、本発明の第１実施形態における貼合せ基板製造装置３１の特徴を以下に記載する。
（１）基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時において、真空処理室３４と第２の保持平板５２とが一体に移動し、第２の支柱５６と真空処理室３４との接触部分（Ｏリング６０）には負荷がほとんど加わらない。そのため、気密保持部材としては図１０に示す下側ベローズ２２に代えて、安価なＯリング６０を用いることができ、製造装置３１の製造コストを削減を図ることができる。また、図１０のように下側ベローズ２２を設ける必要が無くなることから、真空処理室３４を減圧する際の排気時間を短縮することができる。さらに、第２の保持平板５２と駆動手段３６とを接続する第２の支柱５６を短くすることができ、製造装置３１の小型化が可能となる。
（２）第１の保持平板５１は、真空処理室３４と離間するよう第１の支持部材としての第１の支柱５３に支持され、第２の保持平板５２は、真空処理室３４と離間するよう第２の支持部材としての第２の支柱５６に支持されている。この構成により、基板貼合せ時の減圧下で真空処理室３４に変形が生じた場合にもその力が第１及び第２の保持平板５１，５２に作用することが防止されるため、該減圧下においても基板Ｗ１，Ｗ２の相対位置や平行度に影響が生じない。よって、基板Ｗ１，Ｗ２の位置決めを正確に行うことができ、精度よく基板Ｗ１，Ｗ２の貼り合わせを行うことができる。
以下、本発明の第２実施形態について説明する。
第２実施形態において、第１実施形態の構成と同等であるものについては同一の符号を付すと共にその説明を簡略化する。以下には第１実施形態との相違点を中心に説明する。
図３に示すように、第２実施形態の貼合せ基板製造装置３１ａでは、駆動手段３６の駆動機構５９が真空処理室３４内部に設けられており、該駆動機構５９に第２の保持平板５２が直接接続されている。
詳述すると、複数の駆動機構５９はベース板３２上に固定されており、各駆動機構５９により第２の保持平板５２が支持されている。この駆動機構５９は第１実施形態と同様に動作し、第２の保持平板５２を水平移動（Ｘ方向及びＹ方向）させるとともに水平回転（θ方向）させる。
下側容器３４ｂの下面には、駆動機構５９を囲む剛体筒７１が設けられており、下側容器３４ｂはその剛体筒７１によりベース板３２上に支持されている。また、この剛体筒７１は、真空処理室３４の気密を保つための気密保持部材として機能する部材であって、両端のフランジ部にＯリング（図示略）を備え、そのＯリングにより下側容器３４ｂとベース板３２との間をシールする。剛体筒７１の内側の空間は処理室３４の内部空間と連通する。従って、剛体筒７１は処理室３４の一部を区画する。
剛体筒７１の側面には、駆動機構５９に面する排気口７１ａが設けられている。排気口７１ａは配管７２を介して真空ポンプ７３と接続されている。この真空ポンプ７３は、真空処理室３４を真空状態に減圧するための前記真空ポンプ５０とは別に設けられている。
本実施形態における貼合せ基板製造装置３１ａの制御機構としては、図２にて破線で示すように、真空ポンプ７３と圧力センサ７４とが追加される。この貼合せ基板製造装置３１ａでは、真空処理室３４内において、第１の圧力センサ６３が保持平板５１，５２の近傍に配置され、第２の圧力センサ７４が駆動機構５９の近傍に配置される。つまり、第１の圧力センサ６３が基板Ｗ１，Ｗ２の近傍の圧力を検出し、第２の圧力センサ７４が駆動機構５９の近傍の圧力を検出する。
制御装置６１は、各圧力センサ６３，７４の検出信号に基づいて各真空ポンプ５０，７３を制御する。具体的に、制御装置６１は、先ず第２の真空ポンプ７３を駆動し、駆動機構５９の近傍の大気が排気され所定圧力まで減圧された段階で第１の真空ポンプ５０を駆動する。
貼合せ基板製造装置３１ａでは、第１実施形態の貼合せ基板製造装置３１と同様に、加圧手段３５のモータ４４を駆動させることによって、上側容器３４ａが下降して該上側容器３４ａと下側容器３４ｂとがシールされ、真空処理室３４が閉塞される。そして、その状態でさらにモータ４４を下降方向に回転させると、ベローズ５４が押圧され、第２の支持板４２、第１の支柱５３を介して第１の保持平板５１のみが下降する。
このとき、駆動手段３６の駆動機構５９が動作して基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。具体的には、駆動機構５９が動作することにより、該駆動機構５９上の第２の保持平板５２がＸ方向及びＹ方向に水平移動するとともに、水平回転（θ方向）し、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが適宜行われる。
この位置合せ時において、駆動機構５９の動作に伴う摩耗により、該駆動機構５９からパーティクルが発生する場合がある。この対策として、本実施形態では、駆動機構５９近傍の気体が排気口７１ａ及び配管７２を介して真空ポンプ７３から排気される構成を採用している。そのため、駆動機構５９からパーティクルが発生したとしても、基板Ｗ１，Ｗ２へのパーティクルの舞い上がりが防止される。特に、第１の真空ポンプ５０による真空処理室３４の排気に先立ち、第２の真空ポンプ７３による排気を行うことで、パーティクルの飛散が確実に防止され、真空処理室３４のクリーン度が高められるようになっている。
次に、本発明の第２実施形態における貼合せ基板製造装置３１ａの特徴を以下に記載する。
（１）貼合せ基板製造装置３１ａでは、駆動機構５９を真空処理室３４内に設け、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せの際に、第２の保持平板５２のみを移動させる構成であるため、第１の支柱５３を囲むベローズ５４には、駆動機構５９の移動に伴う負荷が加わることがない。従って、ベローズ５４の使用期間は延長される。
（２）駆動機構５９が第２の保持平板５２に直接に接続されているので、第１実施形態のように、第２の保持平板５２を支持する第２の支柱５６や下側容器３４ｂを支持する第３の支柱５８を設ける必要がない。このため、製造装置３１ａの製造コストの削減や製造装置３１ａの小型化を図ることができる。
（３）剛体筒７１の側面には、駆動機構５９に面する排気口７１ａが設けられ、その排気口７１ａからの排気によって、駆動機構５９で発生するパーティクルが除去される。これにより、真空処理室３４内をクリーンな状態に保つことができる。
（４）排気口７１ａからパーティクルを除去するための第２の真空ポンプ７３は、真空処理室３４を真空状態に減圧するための第１の真空ポンプ５０とは別に設けられている。この場合、パーティクルを除去するための最適なタイミングで排気を行うことができるため、真空処理室３４内のクリーン度を高めることができる。
（５）駆動手段３６を構成する駆動用モータ６４や駆動機構５９等のうち、駆動機構５９のみを真空処理室３４内に配置した。この場合、真空処理室３４の容積の増加を抑えることができ、実用上好ましいものとなる。
以下、本発明の第３実施形態について説明する。
図４は第３実施形態の貼合せ基板製造装置３１ｂを示している。但し、図４において、上述した第１実施形態の構成と同等であるものについては同一の符号を付すと共にその説明を簡略化する。また、支持枠３３や加圧手段３５の構成は、第１実施形態と同一であり、図４ではその図示を省略している。
詳述すると、真空処理室３４（下側容器３４ｂ）には複数（本実施例では４つ）の支持台座７５が固定され、その支持台座７５の上面に第２の保持平板５２が固定されている。支持台座７５は第２の保持平板５２の下面における四隅にそれぞれ設けられている。このように、第２の保持平板５２と真空処理室３４との間に支持台座７５を介在させることで、第２の保持平板５２は真空処理室３４の内面から離間して配置される。
また、真空処理室３４の下側容器３４ｂは、処理室３４全体を支持する支柱７６を介して駆動手段３６の支持板５７上に支持されている。この支柱７６は四角錐台状に形成された剛体であり、支柱７６の上面は真空処理室３４に当接し、支柱７６の下面は支持板５７に当接する。支柱７６の上面の面積は下面の面積よりも大きい。支柱７６の上面の面積は真空処理室３４の下面の面積と等しいことが好ましい。
貼合せ基板製造装置３１ｂにおいても、第１実施形態と同様に、駆動手段３６が動作すると、真空処理室３４と第２の保持平板５２が一体となって、Ｘ方向及びＹ方向に水平移動するとともに、水平回転（θ方向）し、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。
次に、本発明の第３実施形態における貼合せ基板製造装置３１ｂの特徴を以下に記載する。
（１）貼合せ基板製造装置３１ｂは、真空処理室３４と駆動手段３６との間の下側ベローズ２２（図１０）を削除できることから、基板製造装置３１ａの製造コストの削減を図ることができる。また、真空処理室３４を減圧する際の排気時間を短縮することができ、さらに、基板製造装置３１ａの小型化を図ることができる。
（２）真空処理室３４全体が支柱７６により支持されるので、減圧に伴う真空処理室３４の変形を防止することができる。さらに、第２の支持部材としての支持台座７５上に第２の保持平板５２を固定し、第２の保持平板５２と真空処理室３４とを離間して設けることにより、減圧に伴う真空処理室３４の変形による基板Ｗ１，Ｗ２の位置ずれを抑制することができる。
（３）四角錐台状の支柱７６で真空処理室３４全体を支えることにより、減圧時における真空処理室３４の変形を確実に抑えることができる。また、支柱７６は四角柱状の支柱を用いる場合と比較して軽量なため、軽量な貼合せ基板製造装置３１ｂが得られる。
各実施形態は以下のように変更してもよい。
・貼合せ基板製造装置３１では、第１〜第３の支柱５３，５６，５８を４本設けるものであったが、これに限定されるものではなく、４本以外の本数の支柱を設けるものでもよい。勿論、第１〜第３の支柱５３，５６，５８は、それぞれ本数を異ならせてもよい。例えば、第２の支柱５６を１本のみ設ける構成としてもよい。
・貼合せ基板製造装置３１において、第２の保持平板５２と駆動手段３６との接続部分の構成を図５〜図７に示すように変更してもよい。
図５に示す構成では、真空処理室３４の内部であって、該真空処理室３４の底面と第２の保持平板５２との間となる位置にＯリング６０を備え、該Ｏリング６０によって真空処理室３４の気密が保持される。詳しくは、第２の保持平板５２の下面と第２の支柱５６との間に円盤状の支持台座７８が設けられ、その支持台座７８の下面における外縁部に当接するようにＯリング６０が配置されている。つまり、このＯリング６０は、第２の支柱５６における上端（処理室３４内にある端部）の外周を囲むよう設けられており、該Ｏリング６０により支持台座７８と真空処理室３４との間をシールすることで該真空処理室３４の気密が保たれる。またこの構成では、減圧時における真空処理室３４の変形を考慮して、その変形を吸収し真空処理室３４の気密を十分に保持することが可能なＯリング６０を選定している。この構成においても、第１実施形態と同様の特徴を有する。
図６に示す構成では、真空処理室３４の内部であって、該処理室３４の底面と第２の保持平板５２との間となる位置にベローズ７９を備え、該ベローズ７９によって真空処理室３４の気密が保持される。詳しくは、ベローズ７９は、上下の両端のフランジ部にＯリング（図示略）を備え、第２の支柱５６における上端（処理室３４内にある端部）の外周を囲むよう設けられている。ベローズ７９は、上端のフランジ部が第２の保持平板５２の下面に接続し、下側のフランジ部が下側容器３４ｂの内側に接続し、各フランジ部のＯリングによって第２の保持平板５２と真空処理室３４との間をシールすることで該真空処理室３４の気密が保たれる。この構成において、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時での駆動手段３６の移動に伴う負荷はベローズ７９には加わらないため、ベローズ７９は、気密を保持するためのシール機能を持つものであればよく、従来技術のように、負荷を吸収するための弾性機能を持つ必要はない。よって、長さが短いベローズ７９を用いることができ、第１実施形態と同様の特徴を有する。
図７に示す構成では、駆動手段３６の支持板５７上に、第２の支柱５６を介して第２の保持平板５２が支持され、剛体筒８１を介して下側容器３４ｂが支持されている。剛体筒８１は、第２の支柱５６を囲むように配置され、真空処理室３４の気密を保つための気密保持部材として機能する。つまり、剛体筒８１は、両端のフランジ部にＯリング（図示略）を備え、該Ｏリングによって下側容器３４ｂと支持板５７との間をシールすることで真空処理室３４の気密が保たれる。この構成においても、第１実施形態と同様の特徴を有する。
・第３実施形態の貼合せ基板製造装置３１ｂにおいて、処理室３４の下面の全体を支える支柱７６を削除してもよい。この場合、図８に示すように、駆動手段３６の支持板５７を削除し、第２の保持平板５２を支持するための支持台座７５を、駆動機構５９の真上となる位置に配置するのが好ましい。下側容器３４ｂと駆動機構５９との接続部位では、減圧時の変形が抑えられるため、その部位（駆動機構５９）の真上に支持台座７５を配置することにより、真空処理室３４の変形による基板Ｗ１，Ｗ２の位置ずれを防止できる。
・各実施形態において、真空処理室３４は上下に分割して構成されているが、それに限定されるものではなく、例えば図９に示すような真空処理室８３の構造であってもよい。また、図９の構成では、第１実施形態との相違点として、ベローズ８４及び磁気シール８５が第１の支柱５３を囲むよう設けられている。
詳述すると、真空処理室８３は、該処理室８３を開閉するためのゲートバルブ８６を備えている。真空処理室８３内には第１及び第２の保持平板５１，５２が対向して設けられ、第１の保持平板５１は第１の支柱５３を介して第２の支持板４２に吊下支持され、第２の保持平板５２は第２の支柱５６を介して駆動手段３６の支持板５７に支持されている。真空処理室８３の上面は第１の支柱５３を囲むように設けられたベローズ８４と磁気シール８５とを介して第２の支持板４２と気密可能に接続されている。このベローズ８４と磁気シール８５とは互いに連結されており、真空処理室８３の気密を保つための気密保持部材として機能している。また、真空処理室８３の下面は、第３の支柱５８を介して支持板５７に支持される。さらに、真空処理室８３は、第２の支柱５６との接触部分をＯリング６０によってシールすることで気密が保たれている。尚、加圧手段３５は第１実施形態のものと同様である。
上記のような構造を持つ真空処理室８３を用いる図９の貼合せ基板製造装置でも第１実施形態と同様の特徴を有する。また、ベローズ８４と磁気シール８５とからなる気密保持部材を用いることにより、駆動手段３６の移動による負荷を確実に吸収することができる。つまり、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時において、駆動手段３６により真空処理室３４がＸ，Ｙ方向に直線的に移動するとき、その直線移動の負荷をベローズ８４が吸収し、真空処理室３４が水平回転（θ方向）するとき、その回転の負荷を磁気シール８５が吸収する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【手続補正書】
【提出日】平成17年2月14日(2005.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【書類名】明細書
【特許請求の範囲】
【請求項１】  減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
前記処理室の外部に設けられ、前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記２枚の基板を貼り合わせる時に前記第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する第１の支持部材と、
前記第２の保持平板を前記処理室の内面から離間した位置にて支持する第２の支持部材と、
前記処理室の外部に設けられ、かつ、前記処理室と接続され、前記２枚の基板を位置合せすべく前記処理室及び前記第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる駆動手段とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【請求項２】  前記第２の支持部材は前記第２の保持平板と前記駆動手段とを接続する支柱を含む請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項３】  前記処理室と前記駆動手段とを剛体的に接続する支柱を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項４】  前記第２の支持部材は前記処理室に固定された台座を含み、前記処理室全体を支持し、かつ、前記処理室と前記駆動手段とを接続する支柱を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項５】  前記駆動手段は前記処理室の外面と接続され、前記第２の支持部材は、前記処理室の内面において、前記処理室と前記駆動手段との接続部位の真上となる位置に固定された台座を含む請求項１に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項６】  減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
前記処理室の外部に設けられ、前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記２枚の基板を貼り合わせる時に前記第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する第１の支持部材と、
前記処理室の内部に設けられ、前記第２の保持平板を水平移動可能及び水平回転可能に支持する駆動手段とを備え、前記２枚の基板を位置合せする時に前記第２の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記駆動手段は前記第２の保持平板と接続されていることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【請求項７】  前記駆動手段は、駆動用モータと、その駆動用モータの駆動力によって移動される駆動機構とを含み、前記駆動機構が前記処理室の内部に配置されていることを特徴とする請求項６７に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項８】  前記処理室の排気を行う排気口が前記駆動機構に面するように設けられていることを特徴とする請求項７８に記載の貼合せ基板製造装置。
【請求項９】  ２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
減圧可能かつ開放可能な処理室と、
前記処理室内において互いに対向して配置され、前記２枚の基板を保持する第１及び第２の保持平板と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第１の保持平板を下降させて前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記第１の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを剛体的に接続する第１の支持部材と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第２の保持平板及び前記処理室とを水平面内で一体的に移動させる駆動手段と、
前記第２の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記第２の保持平板と前記駆動手段とを剛体的に接続する第２の支持部材と、
前記処理室と前記駆動手段とを剛体的に接続する支柱とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【請求項１０】  ２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
減圧可能かつ開放可能な処理室と、
前記処理室内において互いに対向して配置され、前記２枚の基板を保持する第１及び第２の保持平板と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第１の保持平板を下降させて前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記第１の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを剛体的に接続する第１の支持部材と、
前記処理室の内部空間に設けられ、前記第２の保持平板と前記処理室との接触を避けるように前記第２の保持平板を水平面内で移動可能に支持する駆動手段とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、貼合せ基板（パネル）の製造装置に関し、詳しくは、２枚の基板を所定の間隔で貼り合わせて液晶表示装置（Liquid Crystal Display;LCD）等の貼合せ基板（パネル）を製造する装置に関する。
【０００２】
（背景技術）
近年、ＬＣＤ等の平面表示パネルは、大型化・軽量化（薄型化）が進むとともに、製造コストの削減要求が一層高まってきている。このため、２枚の基板を貼り合わせて平面表示パネルを製造する貼合せ基板製造装置においてもパネルサイズに応じて大型化されているが、安価で生産性を向上させた製造装置が必要となっている。
【０００３】
液晶表示パネルは、例えば、複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）がマトリクス状に形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ（赤、緑、青）や遮光膜等が形成されたカラーフィルタ基板とを極めて狭い間隔（数μｍ程度）で対向させ、それら２枚の基板間に液晶を封入することにより製造される。
【０００４】
従来の液晶表示パネルの製造では、貼り合わせた基板を真空槽に入れ、注入口を液晶に浸けてから該真空槽内を大気に戻すことにより基板間に液晶を注入し、注入口を封止するといった真空注入法が用いられてきた。近年では、例えばアレイ基板の周縁部に沿ってシール材の枠を形成し、そのシール材の枠内に規定量の液晶を滴下し、真空中でアレイ基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせる滴下注入法が多く用いられるようになってきている。（特許文献１参照）
【０００５】
図１０は滴下注入法により基板を貼り合わせる従来の貼合せ基板製造装置１１を示している。
貼合せ基板製造装置１１における真空処理室（チャンバ）１２内には、第１及び第２の保持平板１３，１４が互いに対向して配置され、各保持平板１３，１４にはそれぞれ基板Ｗ１，Ｗ２が保持されている。真空処理室１２は上下に分割可能な上側容器１２ａと下側容器１２ｂとから構成される。真空処理室１２の上方には加圧手段１５が設けられ、真空処理室１２の下方には駆動手段１６が設けられている。第１の保持平板１３は第１の支柱１７を介して加圧手段１５に接続され、第２の保持平板１４は第２の支柱１８を介して駆動手段１６に接続されている。加圧手段１５は、基板Ｗ１，Ｗ２の貼り合わせを行う際に基板Ｗ１，Ｗ２に加圧力を作用させる。駆動手段１６の動作により基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。上側ベローズ２０が支持板１９と真空処理室１２とを接続する第１の支柱１７を囲むように設けられている。また、下側ベローズ２２が駆動手段１６の支持板２１と真空処理室１２とを接続する第２の支柱１８を囲むように設けられている。
【０００６】
ところで、駆動手段１６の動作によって、下側ベローズ２２には負荷が加わる。その負荷を十分に吸収するためには、比較的長い下側ベローズ２２が必要となる。長い下側ベローズ２２は駆動手段１６と真空処理室１２との間隔を大きくし、貼合せ基板製造装置１１の小型化を図る上での障害となる。また、下側ベローズ２２の内側空間が真空処理室１２の容積を増加させるため、真空ポンプ２３が真空処理室１２を減圧するための時間が長くなる。ベローズ２０、２２は耐用期間に応じて定期的に交換する必要があるが、上側ベローズ２０には加圧手段１５による加圧時の負荷が加わるのに対し、下側ベローズ２２には、加圧手段１５による加圧時の負荷と、駆動手段１６による位置合せ時の負荷が加わる。そのため、下側ベローズ２２の耐用期間は比較的短い。下側ベローズ２２を交換する場合、上側ベローズ２０を交換するのと比較して、基板製造装置１１の大幅な解体作業が必要である。そのため、下側ベローズ２２の交換作業は煩雑であり、基板製造装置１１を長時間にわたって停止させなければならず、貼合せ基板の生産性を低下させる。
【０００７】
これに対し、真空処理室（チャンバ）内に保持平板を固着し、駆動手段により真空処理室（チャンバ）とともに保持平板を移動させることで基板のアライメント（位置合せ）を行う製造装置が特許文献２に提案されている。この構成では、図１０の下側ベローズ２２及び第２の支柱１８が削除できることから、部品点数が削減されかつメンテナンス性が向上する。
【０００８】
ところが、特許文献２の製造装置において、基板貼合せ時に真空処理室内を減圧すると、該真空処理室の内部圧力と外部の大気圧との差により、真空処理室が若干変形する。保持平板は真空処理室の変形の影響を直接に受けて、保持平板表面の撓みや２つの保持平板の位置ずれが生じるという問題がある。互いに対向する２枚の基板を貼り合わせて製造される液晶表示パネルにおいて、液晶を封入後の基板間隔（セルギャップ）は例えば５μｍ程度であり極めて狭い。２枚の基板を所定のセルギャップで貼り合せるには、２枚の基板を高レベルの平行度に維持する必要がある。保持平板表面の撓みは２枚の基板の平行度を低下させ、所定のセルギャップの達成を困難にする。従って、保持平板表面の撓みすなわち保持平板の平面度の変化を抑制する必要がある。
【特許文献１】  特開２００２−０４０３９８号公報
【特許文献２】  特開２００２−２２９０４４号公報（明細書の段落［０２３３］〜［０２３６］、図３１）
【０００９】
（発明の開示）
本発明の目的は、安価で、メンテナンス性に優れ、２枚の基板を高精度で貼り合わせる貼合せ基板製造装置を提供することにある。
【００１０】
本発明の第１の態様では、減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置が提供される。加圧手段が処理室の外部に設けられ、２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる。２枚の基板を貼り合わせる時に第１の保持平板が処理室の内面から離間して配置されるように、第１の支持部材によって前記加圧手段と第１の保持平板とが接続される。第２の保持平板は第２の支持部材によって前記処理室の内面から離間した位置にて支持される。２枚の基板を位置合せすべく、駆動手段は処理室及び第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる。駆動手段は処理室の外部に設けられ、かつ、処理室と接続される。
【００１１】
本発明の第２の態様では、減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置が提供される。処理室の外部に設けられた加圧手段が２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる。２枚の基板を貼り合わせる時に第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、第１の支持部材が加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する。駆動手段は処理室の内部に設けられ、２枚の基板を位置合せすべく第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる。２枚の基板を位置合せする時に第２の保持平板が処理室の内面から離間して配置されるように、駆動手段が第２の保持平板を支持する。
【００１２】
（発明を実施するための最良の形態）
以下、本発明の第１実施形態の貼合せ基板製造装置について図面に従って説明する。
図１は、第１実施形態の貼合せ基板製造装置３１を示す。貼合せ基板製造装置３１はベース板３２と、そのベース板３２に固定されたゲート状の支持枠３３とを備えている。ベース板３２及び支持枠３３は十分に高い剛性を持つ材質により形成されている。支持枠３３内側の略中央部分には基板Ｗ１，Ｗ２の貼合せ処理を行う真空処理室（チャンバ）３４が設けられる。真空処理室３４の上方には基板Ｗ１，Ｗ２に貼合せ用の加圧力を作用させる加圧手段３５が設けられている。真空処理室３４の下方には基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せを行う駆動手段３６が設けられている。
【００１３】
先ず、加圧手段３５について説明する。加圧手段３５は、ガイドレール３８ａ，３８ｂ、リニアガイド３９ａ，３９ｂ、第１〜第３の支持板４１〜４３、及びモータ４４を含む。ガイドレール３８ａ，３８ｂは支持枠３３の支柱部内側面の両側に取り付けられており、このガイドレール３８ａ，３８ｂによってリニアガイド３９ａ，３９ｂが上下動可能に支持されている。両側のリニアガイド３９ａ，３９ｂの間には、第１及び第２の支持板４１，４２が掛け渡され、第１の支持板４１は、支持枠３３の上部に取り付けられたモータ４４によって上下動する第３の支持板４３により吊り下げられている。第３の支持板４３は、ナット４６が設けられた上板と、複数（本実施形態では４つ）のロードセル４８が取着された下板と、上板と下板とを接続する接続板とからなる。ロードセル４８の上に第１の支持板４１の下面が当接される。モータ４４の出力軸にはボールネジ４５が一体回転可能に連結され、ボールネジ４５には第３の支持板４３のナット４６が螺合されている。従って、モータ４４がボールネジ４５を正／逆回転駆動することにより、第３の支持板４３が上／下動する。
【００１４】
真空処理室３４は上下に分割可能な上側容器３４ａと下側容器３４ｂとにより形成される。真空処理室３４を減圧するための真空ポンプ５０が真空配管４９を介して真空処理室３４と接続されている。真空処理室３４内には、基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ吸着保持するためのチャック機構を有した第１及び第２の保持平板５１，５２が互いに対向して設けられている。なお、チャック機構による基板Ｗ１，Ｗ２の吸着保持は、真空チャック（吸引吸着）及び静電チャック（静電吸着）のうち少なくとも一方を用いて行われる。
【００１５】
第１の保持平板５１は上側容器３４ａ内に設けられている。第１の保持平板５１は４本の第１の支柱５３を介して第２の支持板４２により吊下支持されている。基板貼合せの際に第１の保持平板５１が真空処理室３４の上内面から離間して配置されるように、すなわち、第１の保持平板５１が真空処理室３４の上内面と接触しないように、第１の支柱５３の長さは設定されている。また、第２の支持板４２と上側容器３４ａとの間において、各支柱５３を囲むように弾性体（ベローズ）５４が設けられている。上側容器３４ａは、ベローズ５４を介して第２の支持板４２に吊下支持される。ベローズ５４の両端にはＯリング（図示略）を備えるフランジ部が形成されている。Ｏリングにより第２の支持板４２と上側容器３４ａとの間がシールされ、真空処理室３４内の気密が保たれる。
【００１６】
第２の保持平板５２は下側容器３４ｂ内に設けられている。第２の保持平板５２は４本の第２の支柱５６を介して支持板５７と接続される。下側容器３４ｂは４本の第３の支柱５８を介して支持板５７と接続される。支持板５７は複数の駆動機構５９により支持されている。駆動機構５９はベース板３２に固定されている。駆動機構５９に支持された支持板５７上の所定の位置に第２の支柱５６と第３の支柱５８が立設されている。そして、第２の支柱５６により第２の保持平板５２が支持され、第３の支柱５８により下側容器３４ｂが支持されている。第２の支柱５６は第３の支柱５８よりも長い。第２の支柱５６の長さは、第２の保持平板５２が真空処理室３４の下内面から離間して配置されるように、すなわち、第２の保持平板５２が真空処理室３４の下内面と接触しないように設定されている。
【００１７】
駆動機構５９は、駆動用モータ６４（図２）を用いて、支持板５７をＸ方向及びＹ方向に水平移動させ、水平回転（θ方向）させる。駆動手段３６は、駆動機構５９と支持板５７と駆動用モータとを含む。
【００１８】
各第２の支柱５６を受承する貫通孔が下側容器３４ｂに形成される。各貫通孔にはＯリング６０嵌め込まれている。Ｏリング６０が第２の支柱５６と下側容器３４ｂとの間の隙間を塞ぐことで、真空処理室３４の気密が保たれる。
【００１９】
次に、貼合せ基板製造装置３１の制御機構について図２を用いて説明する。なお、図２において、図１で説明した構成と同様の構成部分については同一符号を付している。
【００２０】
貼合せ基板製造装置３１は、真空処理室３４の圧力（真空ポンプ５０）、貼り合わせ用の加圧力（加圧用モータ４４）、及び基板の位置合わせ（駆動手段３６）を制御するための制御装置６１を含む。制御装置６１は例えば一般的なＰＬＣ（Programmable Logic Controllers）である。制御装置６１には、ロードセル４８、画像処理装置６２、圧力センサ６３、加圧用モータ４４、駆動手段３６の駆動用モータ６４、真空ポンプ５０が接続されている。
【００２１】
制御装置６１は各ロードセル４８の出力信号から基板Ｗ１，Ｗ２に与えられた荷重を算出し、算出された荷重に応じてモータ駆動信号を生成し、そのモータ駆動信号を加圧用モータ４４に供給する。加圧用モータ４４はモータ駆動信号に従って駆動され、第１の保持平板５１を上昇又は下降させる。
【００２２】
また、制御装置６１は、画像処理装置６２からの出力信号に基づいて生成したモータ駆動信号を駆動用モータ６４に供給する。詳述すると、貼合せ基板製造装置３１は、基板貼合せ時に両基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せをするためのアライメントマークを撮像するＣＣＤカメラ（図示略）を備えている。このＣＣＤカメラは、貼合せ時に基板Ｗ１，Ｗ２に形成されたアライメントマークを撮像し、その画像データを画像処理装置６２に供給する。制御装置６１は、その画像処理装置６２の演算結果（位置ずれ量の算出データ）に応じてモータ駆動信号を生成し、そのモータ駆動信号を駆動用モータ６４に供給する。駆動用モータ６４はモータ駆動信号に従って回転し、駆動機構５９を作動する。駆動機構５９の作動により支持板５７、第２の保持平板５２及び下側容器３４ｂが移動され、両基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。
【００２３】
圧力センサ６３は、真空処理室３４内における第１及び第２の保持平板５１，５２の近傍に配置され、該真空処理室３４内の圧力に応じた検出信号を出力する。減圧下で基板Ｗ１，Ｗ２を貼り合せるために、制御装置６１は圧力センサ６３の検出信号に基づいて真空ポンプ５０の駆動と、真空配管４９に設けられたバルブ（図示略）の開閉とを調節する。真空ポンプ５０及びバルブの制御によって真空処理室３４が所望の減圧状態に調節される。
【００２４】
次に、貼合せ基板製造装置３１の動作について説明する。
貼合せ基板製造装置３１において、加圧用モータ４４の駆動により第３の支持板４３が上下動すると、ロードセル４８及び第１の支持板４１を介してリニアガイド３９ａ，３９ｂがガイドレール３８ａ，３８ｂに沿って上下動し、第２の支持板４２及びベローズ５４を介して上側容器３４ａが上下動する。上側容器３４ａが下側容器３４ｂと当接するまで下降されることにより、真空処理室３４が閉塞される。
【００２５】
その後、真空ポンプ５０が駆動されると、真空処理室３４が減圧される。その状態で、さらにリニアガイド３９ａ，３９ｂを下降させるように加圧用モータ４４が回転されると、上側容器３４ａは下降されず、第２の支持板４２、第１の支柱５３及び第１の保持平板５１は下降され、ベローズ５４は圧縮される。
【００２６】
第２の保持平板５２は第２の支柱５６を介して支持板５７に支持され、下側容器３４ｂ（閉塞された真空処理室３４）は第３の支柱５８を介して支持板５７に支持されている。その状態で駆動手段３６が動作すると、第２の保持平板５２と真空処理室３４とが一体となって、Ｘ方向及びＹ方向に水平移動するとともに、水平回転（θ方向）し、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。この位置合せ時において、Ｘ方向及びＹ方向の移動と水平回転に伴う負荷は、ベローズ５４によって吸収される。また、第２の保持平板５２と真空処理室３４とが一体となって移動するよう駆動手段３６の支持板５７に剛体的に接続されているため、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時において、下側容器３４ｂと第２の支柱５６との間に設けられたＯリング６０に負荷が加わることはない。
【００２７】
そして、貼合せ基板製造装置３１は、第１の保持平板５１及び第２の保持平板５２に保持した基板Ｗ２，Ｗ１の位置合せを行った後、加圧手段３５により各基板Ｗ１，Ｗ２間に加圧力を加えて貼り合わせを行う。
【００２８】
次に、本発明の第１実施形態における貼合せ基板製造装置３１の特徴を以下に記載する。
（１）基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時において、真空処理室３４と第２の保持平板５２とが一体に移動し、第２の支柱５６と真空処理室３４との接触部分（Ｏリング６０）には負荷がほとんど加わらない。そのため、気密保持部材としては図１０に示す下側ベローズ２２に代えて、安価なＯリング６０を用いることができ、製造装置３１の製造コストを削減を図ることができる。また、図１０のように下側ベローズ２２を設ける必要が無くなることから、真空処理室３４を減圧する際の排気時間を短縮することができる。さらに、第２の保持平板５２と駆動手段３６とを接続する第２の支柱５６を短くすることができ、製造装置３１の小型化が可能となる。
【００２９】
（２）第１の保持平板５１は、真空処理室３４と離間するよう第１の支持部材としての第１の支柱５３に支持され、第２の保持平板５２は、真空処理室３４と離間するよう第２の支持部材としての第２の支柱５６に支持されている。この構成により、基板貼合せ時の減圧下で真空処理室３４に変形が生じた場合にもその力が第１及び第２の保持平板５１，５２に作用することが防止されるため、該減圧下においても基板Ｗ１，Ｗ２の相対位置や平行度に影響が生じない。よって、基板Ｗ１，Ｗ２の位置決めを正確に行うことができ、精度よく基板Ｗ１，Ｗ２の貼り合わせを行うことができる。
【００３０】
以下、本発明の第２実施形態について説明する。
第２実施形態において、第１実施形態の構成と同等であるものについては同一の符号を付すと共にその説明を簡略化する。以下には第１実施形態との相違点を中心に説明する。
【００３１】
図３に示すように、第２実施形態の貼合せ基板製造装置３１ａでは、駆動手段３６の駆動機構５９が真空処理室３４内部に設けられており、該駆動機構５９に第２の保持平板５２が直接接続されている。
【００３２】
詳述すると、複数の駆動機構５９はベース板３２上に固定されており、各駆動機構５９により第２の保持平板５２が支持されている。この駆動機構５９は第１実施形態と同様に動作し、第２の保持平板５２を水平移動（Ｘ方向及びＹ方向）させるとともに水平回転（θ方向）させる。
【００３３】
下側容器３４ｂの下面には、駆動機構５９を囲む剛体筒７１が設けられており、下側容器３４ｂはその剛体筒７１によりベース板３２上に支持されている。また、この剛体筒７１は、真空処理室３４の気密を保つための気密保持部材として機能する部材であって、両端のフランジ部にＯリング（図示略）を備え、そのＯリングにより下側容器３４ｂとベース板３２との間をシールする。剛体筒７１の内側の空間は処理室３４の内部空間と連通する。従って、剛体筒７１は処理室３４の一部を区画する。
【００３４】
剛体筒７１の側面には、駆動機構５９に面する排気口７１ａが設けられている。排気口７１ａは配管７２を介して真空ポンプ７３と接続されている。この真空ポンプ７３は、真空処理室３４を真空状態に減圧するための前記真空ポンプ５０とは別に設けられている。
【００３５】
本実施形態における貼合せ基板製造装置３１ａの制御機構としては、図２にて破線で示すように、真空ポンプ７３と圧力センサ７４とが追加される。この貼合せ基板製造装置３１ａでは、真空処理室３４内において、第１の圧力センサ６３が保持平板５１，５２の近傍に配置され、第２の圧力センサ７４が駆動機構５９の近傍に配置される。つまり、第１の圧力センサ６３が基板Ｗ１，Ｗ２の近傍の圧力を検出し、第２の圧力センサ７４が駆動機構５９の近傍の圧力を検出する。
【００３６】
制御装置６１は、各圧力センサ６３，７４の検出信号に基づいて各真空ポンプ５０，７３を制御する。具体的に、制御装置６１は、先ず第２の真空ポンプ７３を駆動し、駆動機構５９の近傍の大気が排気され所定圧力まで減圧された段階で第１の真空ポンプ５０を駆動する。
【００３７】
貼合せ基板製造装置３１ａでは、第１実施形態の貼合せ基板製造装置３１と同様に、加圧手段３５のモータ４４を駆動させることによって、上側容器３４ａが下降して該上側容器３４ａと下側容器３４ｂとがシールされ、真空処理室３４が閉塞される。そして、その状態でさらにモータ４４を下降方向に回転させると、ベローズ５４が押圧され、第２の支持板４２、第１の支柱５３を介して第１の保持平板５１のみが下降する。
【００３８】
このとき、駆動手段３６の駆動機構５９が動作して基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。具体的には、駆動機構５９が動作することにより、該駆動機構５９上の第２の保持平板５２がＸ方向及びＹ方向に水平移動するとともに、水平回転（θ方向）し、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが適宜行われる。
【００３９】
この位置合せ時において、駆動機構５９の動作に伴う摩耗により、該駆動機構５９からパーティクルが発生する場合がある。この対策として、本実施形態では、駆動機構５９近傍の気体が排気口７１ａ及び配管７２を介して真空ポンプ７３から排気される構成を採用している。そのため、駆動機構５９からパーティクルが発生したとしても、基板Ｗ１，Ｗ２へのパーティクルの舞い上がりが防止される。特に、第１の真空ポンプ５０による真空処理室３４の排気に先立ち、第２の真空ポンプ７３による排気を行うことで、パーティクルの飛散が確実に防止され、真空処理室３４のクリーン度が高められるようになっている。
【００４０】
次に、本発明の第２実施形態における貼合せ基板製造装置３１ａの特徴を以下に記載する。
（１）貼合せ基板製造装置３１ａでは、駆動機構５９を真空処理室３４内に設け、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せの際に、第２の保持平板５２のみを移動させる構成であるため、第１の支柱５３を囲むベローズ５４には、駆動機構５９の移動に伴う負荷が加わることがない。従って、ベローズ５４の使用期間は延長される。
【００４１】
（２）駆動機構５９が第２の保持平板５２に直接に接続されているので、第１実施形態のように、第２の保持平板５２を支持する第２の支柱５６や下側容器３４ｂを支持する第３の支柱５８を設ける必要がない。このため、製造装置３１ａの製造コストの削減や製造装置３１ａの小型化を図ることができる。
【００４２】
（３）剛体筒７１の側面には、駆動機構５９に面する排気口７１ａが設けられ、その排気口７１ａからの排気によって、駆動機構５９で発生するパーティクルが除去される。これにより、真空処理室３４内をクリーンな状態に保つことができる。
【００４３】
（４）排気口７１ａからパーティクルを除去するための第２の真空ポンプ７３は、真空処理室３４を真空状態に減圧するための第１の真空ポンプ５０とは別に設けられている。この場合、パーティクルを除去するための最適なタイミングで排気を行うことができるため、真空処理室３４内のクリーン度を高めることができる。
【００４４】
（５）駆動手段３６を構成する駆動用モータ６４や駆動機構５９等のうち、駆動機構５９のみを真空処理室３４内に配置した。この場合、真空処理室３４の容積の増加を抑えることができ、実用上好ましいものとなる。
【００４５】
以下、本発明の第３実施形態について説明する。
図４は第３実施形態の貼合せ基板製造装置３１ｂを示している。但し、図４において、上述した第１実施形態の構成と同等であるものについては同一の符号を付すと共にその説明を簡略化する。また、支持枠３３や加圧手段３５の構成は、第１実施形態と同一であり、図４ではその図示を省略している。
【００４６】
詳述すると、真空処理室３４（下側容器３４ｂ）には複数（本実施例では４つ）の支持台座７５が固定され、その支持台座７５の上面に第２の保持平板５２が固定されている。支持台座７５は第２の保持平板５２の下面における四隅にそれぞれ設けられている。このように、第２の保持平板５２と真空処理室３４との間に支持台座７５を介在させることで、第２の保持平板５２は真空処理室３４の内面から離間して配置される。
【００４７】
また、真空処理室３４の下側容器３４ｂは、処理室３４全体を支持する支柱７６を介して駆動手段３６の支持板５７上に支持されている。この支柱７６は四角錐台状に形成された剛体であり、支柱７６の上面は真空処理室３４に当接し、支柱７６の下面は支持板５７に当接する。支柱７６の上面の面積は下面の面積よりも大きい。支柱７６の上面の面積は真空処理室３４の下面の面積と等しいことが好ましい。
【００４８】
貼合せ基板製造装置３１ｂにおいても、第１実施形態と同様に、駆動手段３６が動作すると、真空処理室３４と第２の保持平板５２が一体となって、Ｘ方向及びＹ方向に水平移動するとともに、水平回転（θ方向）し、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せが行われる。
【００４９】
次に、本発明の第３実施形態における貼合せ基板製造装置３１ｂの特徴を以下に記載する。
（１）貼合せ基板製造装置３１ｂは、真空処理室３４と駆動手段３６との間の下側ベローズ２２（図１０）を削除できることから、基板製造装置３１ａの製造コストの削減を図ることができる。また、真空処理室３４を減圧する際の排気時間を短縮することができ、さらに、基板製造装置３１ａの小型化を図ることができる。
【００５０】
（２）真空処理室３４全体が支柱７６により支持されるので、減圧に伴う真空処理室３４の変形を防止することができる。さらに、第２の支持部材としての支持台座７５上に第２の保持平板５２を固定し、第２の保持平板５２と真空処理室３４とを離間して設けることにより、減圧に伴う真空処理室３４の変形による基板Ｗ１，Ｗ２の位置ずれを抑制することができる。
【００５１】
（３）四角錐台状の支柱７６で真空処理室３４全体を支えることにより、減圧時における真空処理室３４の変形を確実に抑えることができる。また、支柱７６は四角柱状の支柱を用いる場合と比較して軽量なため、軽量な貼合せ基板製造装置３１ｂが得られる。
【００５２】
各実施形態は以下のように変更してもよい。
・貼合せ基板製造装置３１では、第１〜第３の支柱５３，５６，５８を４本設けるものであったが、これに限定されるものではなく、４本以外の本数の支柱を設けるものでもよい。勿論、第１〜第３の支柱５３，５６，５８は、それぞれ本数を異ならせてもよい。例えば、第２の支柱５６を１本のみ設ける構成としてもよい。
【００５３】
・貼合せ基板製造装置３１において、第２の保持平板５２と駆動手段３６との接続部分の構成を図５〜図７に示すように変更してもよい。
図５に示す構成では、真空処理室３４の内部であって、該真空処理室３４の底面と第２の保持平板５２との間となる位置にＯリング６０を備え、該Ｏリング６０によって真空処理室３４の気密が保持される。詳しくは、第２の保持平板５２の下面と第２の支柱５６との間に円盤状の支持台座７８が設けられ、その支持台座７８の下面における外縁部に当接するようにＯリング６０が配置されている。つまり、このＯリング６０は、第２の支柱５６における上端（処理室３４内にある端部）の外周を囲むよう設けられており、該Ｏリング６０により支持台座７８と真空処理室３４との間をシールすることで該真空処理室３４の気密が保たれる。またこの構成では、減圧時における真空処理室３４の変形を考慮して、その変形を吸収し真空処理室３４の気密を十分に保持することが可能なＯリング６０を選定している。この構成においても、第１実施形態と同様の特徴を有する。
【００５４】
図６に示す構成では、真空処理室３４の内部であって、該処理室３４の底面と第２の保持平板５２との間となる位置にベローズ７９を備え、該ベローズ７９によって真空処理室３４の気密が保持される。詳しくは、ベローズ７９は、上下の両端のフランジ部にＯリング（図示略）を備え、第２の支柱５６における上端（処理室３４内にある端部）の外周を囲むよう設けられている。ベローズ７９は、上端のフランジ部が第２の保持平板５２の下面に接続し、下側のフランジ部が下側容器３４ｂの内側に接続し、各フランジ部のＯリングによって第２の保持平板５２と真空処理室３４との間をシールすることで該真空処理室３４の気密が保たれる。この構成において、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時での駆動手段３６の移動に伴う負荷はベローズ７９には加わらないため、ベローズ７９は、気密を保持するためのシール機能を持つものであればよく、従来技術のように、負荷を吸収するための弾性機能を持つ必要はない。よって、長さが短いベローズ７９を用いることができ、第１実施形態と同様の特徴を有する。
【００５５】
図７に示す構成では、駆動手段３６の支持板５７上に、第２の支柱５６を介して第２の保持平板５２が支持され、剛体筒８１を介して下側容器３４ｂが支持されている。剛体筒８１は、第２の支柱５６を囲むように配置され、真空処理室３４の気密を保つための気密保持部材として機能する。つまり、剛体筒８１は、両端のフランジ部にＯリング（図示略）を備え、該Ｏリングによって下側容器３４ｂと支持板５７との間をシールすることで真空処理室３４の気密が保たれる。この構成においても、第１実施形態と同様の特徴を有する。
【００５６】
・第３実施形態の貼合せ基板製造装置３１ｂにおいて、処理室３４の下面の全体を支える支柱７６を削除してもよい。この場合、図８に示すように、駆動手段３６の支持板５７を削除し、第２の保持平板５２を支持するための支持台座７５を、駆動機構５９の真上となる位置に配置するのが好ましい。下側容器３４ｂと駆動機構５９との接続部位では、減圧時の変形が抑えられるため、その部位（駆動機構５９）の真上に支持台座７５を配置することにより、真空処理室３４の変形による基板Ｗ１，Ｗ２の位置ずれを防止できる。
【００５７】
・各実施形態において、真空処理室３４は上下に分割して構成されているが、それに限定されるものではなく、例えば図９に示すような真空処理室８３の構造であってもよい。また、図９の構成では、第１実施形態との相違点として、ベローズ８４及び磁気シール８５が第１の支柱５３を囲むよう設けられている。
【００５８】
詳述すると、真空処理室８３は、該処理室８３を開閉するためのゲートバルブ８６を備えている。真空処理室８３内には第１及び第２の保持平板５１，５２が対向して設けられ、第１の保持平板５１は第１の支柱５３を介して第２の支持板４２に吊下支持され、第２の保持平板５２は第２の支柱５６を介して駆動手段３６の支持板５７に支持されている。真空処理室８３の上面は第１の支柱５３を囲むように設けられたベローズ８４と磁気シール８５とを介して第２の支持板４２と気密可能に接続されている。このベローズ８４と磁気シール８５とは互いに連結されており、真空処理室８３の気密を保つための気密保持部材として機能している。また、真空処理室８３の下面は、第３の支柱５８を介して支持板５７に支持される。さらに、真空処理室８３は、第２の支柱５６との接触部分をＯリング６０によってシールすることで気密が保たれている。尚、加圧手段３５は第１実施形態のものと同様である。
【００５９】
上記のような構造を持つ真空処理室８３を用いる図９の貼合せ基板製造装置でも第１実施形態と同様の特徴を有する。また、ベローズ８４と磁気シール８５とからなる気密保持部材を用いることにより、駆動手段３６の移動による負荷を確実に吸収することができる。つまり、基板Ｗ１，Ｗ２の位置合せ時において、駆動手段３６により真空処理室３４がＸ，Ｙ方向に直線的に移動するとき、その直線移動の負荷をベローズ８４が吸収し、真空処理室３４が水平回転（θ方向）するとき、その回転の負荷を磁気シール８５が吸収する。
【００６０】
上記各実施の形態から把握できる技術的思想を以下に記載する。
（付記１）減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
前記処理室の外部に設けられ、前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記２枚の基板を貼り合わせる時に前記第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する第１の支持部材と、
前記第２の保持平板を前記処理室の内面から離間した位置にて支持する第２の支持部材と、
前記処理室の外部に設けられ、かつ、前記処理室と接続され、前記２枚の基板を位置合せすべく前記処理室及び前記第２の保持平板を水平移動及び水平回転させる駆動手段とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
（付記２）前記第２の支持部材は前記第２の保持平板と前記駆動手段とを接続する支柱を含む付記１に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記３）前記処理室と前記駆動手段とを剛体的に接続する支柱を更に備えることを特徴とする付記１に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記４）前記第２の支持部材は前記処理室に固定された台座を含み、前記処理室全体を支持し、かつ、前記処理室と前記駆動手段とを接続する支柱を更に備えることを特徴とする付記１に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記５）前記支柱は前記処理室と接触する上面と、前記駆動手段と接触する下面とを有する四角錐台状に形成され、前記下面の面積は前記上面の面積よりも小さいことを特徴とする付記４に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記６）前記駆動手段は前記処理室の外面と接続され、前記第２の支持部材は、前記処理室の内面において、前記処理室と前記駆動手段との接続部位の真上となる位置に固定された台座を含む付記１に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記７）減圧可能な処理室内にて、互いに対向して配置された第１及び第２の保持平板によって２枚の基板を保持しつつ、前記２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
前記処理室の外部に設けられ、前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記２枚の基板を貼り合わせる時に前記第１の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを接続する第１の支持部材と、
前記処理室の内部に設けられ、前記第２の保持平板を水平移動可能及び水平回転可能に支持する駆動手段とを備え、前記２枚の基板を位置合せする時に前記第２の保持平板が前記処理室の内面から離間して配置されるように、前記駆動手段は前記第２の保持平板と接続されていることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
（付記８）前記駆動手段は、駆動用モータと、その駆動用モータの駆動力によって移動される駆動機構とを含み、前記駆動機構が前記処理室の内部に配置されていることを特徴とする付記７に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記９）前記処理室の排気を行う排気口が前記駆動機構に面するように設けられていることを特徴とする付記８に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記１０）前記処理室を減圧するための複数のポンプを更に備え、少なくとも一つのポンプは前記排気口に接続されていることを特徴とする付記９に記載の貼合せ基板製造装置。
（付記１１）２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
減圧可能かつ開放可能な処理室と、
前記処理室内において互いに対向して配置され、前記２枚の基板を保持する第１及び第２の保持平板と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第１の保持平板を下降させて前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記第１の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを剛体的に接続する第１の支持部材と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第２の保持平板及び前記処理室とを水平面内で一体的に移動させる駆動手段と、
前記第２の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記第２の保持平板と前記駆動手段とを剛体的に接続する第２の支持部材と、
前記処理室と前記駆動手段とを剛体的に接続する支柱とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
（付記１２）２枚の基板を貼り合わせる貼合せ基板の製造装置であって、
減圧可能かつ開放可能な処理室と、
前記処理室内において互いに対向して配置され、前記２枚の基板を保持する第１及び第２の保持平板と、
前記処理室の外部に設けられ、前記第１の保持平板を下降させて前記２枚の基板に貼り合せ用の加圧力を作用させる加圧手段と、
前記第１の保持平板と前記処理室との接触を避けるように、前記加圧手段と前記第１の保持平板とを剛体的に接続する第１の支持部材と、
前記処理室の内部空間に設けられ、前記第２の保持平板と前記処理室との接触を避けるように前記第２の保持平板を水平面内で移動可能に支持する駆動手段とを備えることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図２】  貼合せ基板製造装置の制御機構のブロック図である。
【図３】  本発明の第２実施形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図４】  本発明の第３実施形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図５】  本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図６】  本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図７】  本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図８】  本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図９】  本発明の別の形態の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【図１０】  従来の貼合せ基板製造装置の模式図である。
【国際調査報告】
2004097509.tif 000013
2004097509.tif 000014