(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒磁石と、前記円筒磁石の孔内に位置している傾斜コイル組立体（２０）と、円筒磁石システムのパッシブシミング装置とを備え、前記傾斜コイル組立体が、前記円筒磁石の軸に平行な方向に向けられシム材料製部品（１０）を収容するチューブ（２２）を含む磁気共鳴画像化用の円筒磁石システムであって、
前記パッシブシミング装置が、前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内に位置するように前記チューブ（２２）の中に積み重ねられている平面状のシム材料製部品（１０）を有し、前記シム材料製部品（１０）が各チューブ（２２）内で中央ロッドまたはパイプ（１４）に取り付けられていることを特徴とする磁気共鳴画像化用の円筒磁石システム。
【請求項２】
前記シム材料製部品（１０）が中央パイプ（１４）に取り付けられ、前記パイプが前記パイプを通じて冷却媒体を搬送する請求項１に記載の円筒磁石システム。
【請求項３】
各チューブ（２２）の断面が、前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面において、前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内の前記シム材料製部品（１０）の形状と相補的である請求項１又は２に記載の円筒磁石システム。
【請求項４】
前記シム材料製部品（１０）が円形ディスクであり、前記チューブ（２２）が円形断面を有する請求項３に記載の円筒磁石システム。
【請求項５】
前記シム材料製部品（１０）を予め定められた位置に支持および保持し、所要のシミング材料の分布が設定されることを可能にするように配置されている非磁気スペーサ（１６）をさらに備える請求項１乃至４の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項６】
前記傾斜コイル組立体（２０）の前記チューブ（２２）の端部にテーパー付きプラグ（１８）が設けられ、このテーパー付きプラグ（１８）によって、前記シム材料製部品（１０）が前記傾斜コイル組立体（２０）の前記チューブ（２２）内に保持される請求項１乃至５の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項７】
支持ロッドまたはパイプ（１４）の各端部にテーパー付きプラグ（１８）が設けられ、テーパー付きプラグ（１８）によって、前記支持ロッドまたはパイプと前記シム材料製部品（１０）とが前記傾斜コイル組立体（２０）の前記チューブ（２２）内に支持される請求項１又は２記載の円筒磁石システム。
【請求項８】
前記傾斜コイル組立体（２０）の前記チューブ（２２）の軸と、前記チューブ（２２）内の前記シム材料製部品（１０）の軸とが一致し、前記円筒磁石の軸と平行である請求項１乃至７の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項９】
軸方向の広がりが変化する様々な前記シム材料製部品（１０）が使用されている請求項１乃至８の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項１０】
前記シム材料製部品（１０）が前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内で同じサイズおよび形状を有し、前記サイズおよび形状がそれぞれのチューブ（２２）の断面に実質的に対応するようにされている請求項１乃至９の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項１１】
前記シム材料製部品（１０）が前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面においてあるサイズおよび形状を有し、サイズおよび／または形状が変化するシム材料製部品（１０）が用いられている請求項９に記載の円筒磁石システム。
【請求項１２】
前記シム材料製部品（１０）および各チューブ（２２）の断面が丸みを帯びている請求項１乃至１１の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項１３】
前記シム材料製部品（１０）および各チューブ（２２）の断面が円形である請求項１乃至１２の１つに記載の円筒磁石システム。
【請求項１４】
円筒磁石と、前記円筒磁石の孔内に位置している傾斜コイル組立体（２０）と、
円筒磁石システムのパッシブシミング装置とを備え、前記傾斜コイル組立体が、前記円筒磁石の軸に平行な方向に向けられシム材料製部品（１０）を収容するチューブ（２２）を含む磁気共鳴画像化システムのシミング方法において、
平面状のシム材料製部品（１０）が前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内に位置するように前記平面状のシム材料製部品（１０）を前記チューブ（２２）の中に積み重ねるステップと、
前記シム材料製部品（１０）を各チューブ（２２）内で中央ロッドまたはパイプ（１４）に取り付けるステップと
を備えることを特徴とする磁気共鳴画像化システムのシミング方法。
【請求項１５】
前記シム材料製部品（１０）を予め定められた位置に支持および保持し、所要のシミング材料の分布が設定されることを可能にするために非磁気スペーサ（１６）を配置するステップをさらに備える請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記シム材料製部品（１０）が中央パイプ（１４）に取り付けられ、前記パイプを通じて冷却媒体が搬送される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記傾斜コイル組立体（２０）の前記チューブ（２２）の端部にテーパー付きプラグ（１８）を設け、このテーパー付きプラグ（１８）によって前記シム材料製部品（１０）を前記傾斜コイル組立体（２０）の前記チューブ（２２）内に保持するステップをさらに備える請求項１４又は１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
磁気共鳴画像化法（ＭＲＩ）または核磁気共鳴（ＮＭＲ）画像化法のような応用は、高強度および非常に高均一性の磁場を必要とする。このような磁場は、固定した配置状態に並べられたある程度の個数の超伝導コイルまたは抵抗コイルを備える電磁石によって一般にもたらされる。
【０００２】
技術的に周知のように、磁石システムが高強度均一磁場を生成することを可能にするため、かなりの努力が磁石システムの設計に費やされている。しかし、現実の磁石で設計どおりの均一性を生じる磁石を設計することは可能でない。製造公差がコイル位置をコイルの設計位置からずらすことは避けがたく、使用されるワイヤの特性は設計過程で仮定された特性と異なることがある。さらに、磁石が運用現場に据え付けられたとき、磁石が生成し得る磁場は環境によって左右される。例えば、病院設置では、建物の構造体は、典型的には、構造用鋼を含み、近傍の設備のその他の部品が磁石システムによって生成された最終的な磁場に影響を与える。これらの理由のため、設計磁場と離れた実際の磁場の逸脱を補正するためシミングが使用され、実際の磁場と設計された磁場とがより厳密に近似するようにその実際の磁場を改善する。ここで２つのタイプのシミングが公知であり、そのうちアクティブシミングは、本目的のため磁石システムに追加されたシムコイルを通る電流の制御を伴う。各コイルを通る電流は、全体として磁石システムの磁場に影響を与える磁場を生じるように調節される。パッシブシミングは、これに対して、実際の磁場が設計された磁場により厳密に類似するように実際の磁場を変形させるため、磁石材料、典型的に、鋼の部品を磁場内に設置することを必要とする。
【０００３】
本発明は、画像化用の磁石システムにおけるパッシブシミング装置を扱う。
【０００４】
画像化用の磁石システムでは、ある程度の個数のコイル電流により、高強度、比較的均一な磁場を生成する。この磁場は、主磁場、または、背景磁場と呼ばれることがある。その上で、傾斜磁場が必要とされる。傾斜磁場は均一ではなく、主磁場の軸に沿って強度が変化する。中空円筒磁石システムでは、主磁場を発生するコイルは軸方向に揃えられている。典型的に、傾斜コイルは主磁場コイルの半径方向内側で管状空間に並べられている。典型的な配置では、傾斜コイルは、樹脂のようなポッティング材に埋め込まれた抵抗ワイヤを備える。
【０００５】
公知のパッシブシミング装置は、典型的に、使用中に傾斜コイルのポッティング材に形成されたスロットに収容されている矩形断面を有する長い立方形のトレイであるシムトレイを磁気軸と平行な方向に利用する。シムトレイはある程度の個数のポケットを縦方向に沿って有する。シム部品、典型的に、スチール製の平坦な正方形または矩形部品は、ポケット内に設置され、シムトレイはその後に傾斜コイルに入れられる。ある程度の個数のトレイを傾斜コイルの周りに並べることにより、多数のシムポケットが様々な半径方向および円周方向位置に設けられる。例えば、各々が１５個のポケットを有する１２個のトレイが利用され、全部で１８０個のシムポケットを与えることがある。各シムポケットはある程度の個数のシム部品を格納することがあり、各シム部品が様々な厚さのうちの１つの厚さを有することがある。コンピュータシミュレーションが典型的に各シムポケットに設置されるべきシム部品の個数を計算するために使用される。各ポケット内のシム材料の量は、適切な数量の同一シム部品を追加することにより調節されることがあり、または、異なる厚さのシム部品が使用されることがある。
【０００６】
本シミング計算技術は、磁石の孔を通して配置されたポケットのアレイに正方形シムを配置することからなる。シムは、所与のシムポケットに関して、積み重ね高さが磁場に対し半径方向であり、一方、シムの粒子配向（磁化容易軸）が軸方向磁場と揃えられるように、「積み重ね」られる。実際上、これにより、ポケット内のシムの厚さと、磁石システムのボリュームの効果との間におおよそ線形関係が生じる。このことは、数値的最適化技術の使用が磁場汚染の測定された組について解法することを可能にさせる。
【０００７】
現在の構造は、典型的に、シム材料として粒子配向型ケイ素−鉄の正方形または矩形プレートを使用する。これらのプレートは主磁気軸と平行に配置された磁化容易軸を有し、ポケット内で半径方向に積み重ねられている。シム質量と、Ｂ0ドリフト、すなわち、画質、および、据え付け時間との間の直接的な関係のため、使用されるシム質量の量を削減するシミングスキームは、シミング構造のサイズを削減し、Ｂ0ドリフトを低減し、さらに、シム材料を磁石に装着する精度および所要時間を改善するのに有利である。
【０００８】
米国特許出願第２００３／０２０６０１８号は、シム材料を磁気共鳴装置内に位置決めする構造、および、シム要素が装備されることがあるシムトレイのような搬送装置を記載している。図５は、引用された米国特許出願に記載されているように、傾斜コイル１１０内の矩形断面スロット１２０に設置されたシム部品１６０の実施例を示している。
【０００９】
本発明は、核磁気共鳴または磁気共鳴画像化システムの超伝導電磁石または永久磁石のような磁石システムのパッシブシミングのためのこのような従来型の構造に伴ういくつかの技術課題を扱っている。
【００１０】
特に、本発明は、以下の課題のうちの１つ以上を扱う。
【００１１】
既存のシムトレイは、シミングのための傾斜コイルに確保された空間内のシミング材料の量を減少させる。その原因は、一つには、ある特定の最大個数のシムのための全ポケット内に十分な空間を設ける必要性であり、一つには、シムトレイ自体を収容する必要性である。典型的なシム型磁石システムでは、シミングのため確保された容積のうち、実際には、約３５％だけがシミング材料によって占有されている。残りの６５％は事実上無駄な空間である。このような磁石システムの設計者は、中空円筒磁石の孔を短縮または拡大するために空間の使用を最適化しようとするので、このような空間の無駄は避けられることが望ましい。無駄な空間を最小限に抑えるため、シムトレイの各ポケットの容量は制限されることがある。しかし、各ポケットの容量の制限は、次に、装着され得るシム材料の体積を制限するだけでなく、典型的に磁石の中心へ向かう最も感度の高い領域付近のシムポケットが直ちに埋められ、さらに要求されるシム材料を感度の低い領域に押し込み、その結果として、所望のシム作用を達成するために必要なシム材料の質量を増大させることを意味する。
【００１２】
既存のシムトレイ、および、傾斜コイル内の対応するスロットは、断面が矩形である。このことはスロットのコーナーでの応力集中をもたらし、応力集中が傾斜コイルの構造的完全性を低下させる傾向にある。
【００１３】
傾斜コイルのスロット内に設置されたシム材料は、磁石が励磁されるときに熱くなる傾向がある。この温度変動はシム材料の磁気特性の変動の原因となる。このシム材料はある特定の温度である特定のレベルの磁場均一性を提供するために効果的であるかもしれないが、シム材料の温度変動は結果として起こる磁場の均一性の変動を引き起こす。このような効果は周知であり、一般的にＢ0ドリフトと呼ばれる。
【００１４】
公知の構造におけるシムの準備は、典型的に、シム部品を各シムトレイの適切なポケットに手動で設置し、磁石が作動していないときにシムトレイを手動で設置し、抜き出すことが必要である。この過程は、多大な時間を要し、手動集約的であり、誤りがちである。この過程は自動化が困難であることが分かった。
【００１５】
既存のシミングソフトウェア、すなわち、シム材料が設置されるべき量および位置を計算するソフトウェアは、鉄のようなシム材料が磁化される方向が主磁場の方向と平行していることを仮定し、磁化ベクトルの半径方向成分は、実際には使用されるシム材料に存在するかもしれないが、考慮されていない。
【００１６】
本発明によれば、円筒磁石と、前記円筒磁石の孔内に位置している傾斜コイル組立体と、円筒磁石システムのパッシブシミング装置とを備え、前記傾斜コイル組立体が、前記円筒磁石の軸に平行な方向に向けられシム材料製部品を収容するチューブを含む磁気共鳴画像化用の円筒磁石システムであって、前記パッシブシミング装置が、前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内に位置するように前記チューブの中に積み重ねられている平面状のシム材料製部品を有し、前記シム材料製部品が各チューブ内で中央ロッドまたはパイプに取り付けられている磁気共鳴画像化用の円筒磁石システムが提供される（請求項１）。
本発明による磁気共鳴画像化用の円筒磁石システムの実施態様は次の通りである。
・前記シム材料製部品が中央パイプに取り付けられ、前記パイプが前記パイプを通じて冷却媒体を搬送する（請求項２）。
・各チューブの断面が、前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面において、前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内の前記シム材料製部品の形状と相補的である（請求項３）。
・前記シム材料製部品が円形ディスクであり、前記チューブが円形断面を有する（請求項４）。
・前記シム材料製部品を予め定められた位置に支持および保持し、所要のシミング材料の分布が設定されることを可能にするように配置されている非磁気スペーサをさらに備える（請求項５）。
・前記傾斜コイル組立体の前記チューブの端部にテーパー付きプラグが設けられ、このテーパー付きプラグによって、前記シム材料製部品が前記傾斜コイル組立体）の前記チューブ内に保持される（請求項６）。
・支持ロッドまたはパイプの各端部にテーパー付きプラグが設けられ、テーパー付きプラグによって、前記支持ロッドまたはパイプと前記シム材料製部品とが前記傾斜コイル組立体の前記チューブ内に支持される（請求項７）。
・前記傾斜コイル組立体の前記チューブの軸と、前記チューブ内の前記シム材料製部品の軸とが一致し、前記円筒磁石の軸と平行である（請求項８）。
・軸方向の広がりが変化する様々な前記シム材料製部品が使用されている（請求項９）。
・前記シム材料製部品が前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内で同じサイズおよび形状を有し、前記サイズおよび形状がそれぞれのチューブの断面に実質的に対応するようにされている（請求項１０）。
・前記シム材料製部品が前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面においてあるサイズおよび形状を有し、サイズおよび／または形状が変化するシム材料製部品が用いられている（請求項１１）。
・前記シム材料製部品および各チューブの断面が丸みを帯びている（請求項１２）。
・前記シム材料製部品および各チューブの断面が円形である（請求項１３）。
本発明によれば、さらに、円筒磁石と、前記円筒磁石の孔内に位置している傾斜コイル組立体と、円筒磁石システムのパッシブシミング装置とを備え、前記傾斜コイル組立体が、前記円筒磁石の軸に平行な方向に向けられシム材料製部品を収容するチューブを含む磁気共鳴画像化システムのシミング方法において、平面状のシム材料製部品が前記円筒磁石の軸に対して垂直な平面内に位置するように前記平面状のシム材料製部品を前記チューブの中に積み重ねるステップと、前記シム材料製部品を各チューブ内で中央ロッドまたはパイプに取り付けるステップとを備える磁気共鳴画像化システムのシミング方法も提供される（請求項１４）。
磁気共鳴画像化システムのシミング方法に関する本発明の実施態様は次の通りである。
・前記シム材料製部品を予め定められた位置に支持および保持し、所要のシミング材料の分布が設定されることを可能にするために非磁気スペーサを配置するステップをさらに備える（請求項１５）。
・前記シム材料製部品が中央パイプに取り付けられ、前記パイプを通じて冷却媒体が搬送される（請求項１６）。
・前記傾斜コイル組立体の前記チューブの端部にテーパー付きプラグを設け、このテーパー付きプラグによって前記シム材料製部品を前記傾斜コイル組立体の前記チューブ内に保持するステップをさらに備える（請求項１７）。
【００１７】
本発明の上記の目的、特徴および利点と、さらなる目的、特徴および利点は、本発明の特定の実施形態の以下の説明を、添付図面と併せて検討することから明白になる。
【００１８】
本発明の一態様によれば、シムトレイは省かれている。さらに、実質的に平面状のシム部品が中空円筒磁石の軸と垂直に配置されている。好ましくは、シム部品は平面状であり、より好ましくは円形であり、傾斜コイル組立体はシム部品を収容するある程度の個数の円筒シムチューブが装備されている。好ましくは、シム部品を現位置で冷却する構造が設けられている。
【００１９】
単なる一例として与えられている本発明のある特定の実施形態の幾何学的構成が図１および２に概略的に示されている。
【００２０】
図１は本発明の一態様によるシム構造の詳細図を示す。本発明の本実施形態によれば、シミング材料製のディスク１０が、本目的のため、このディスク１０と相補的な断面を有するチューブ２２を含む傾斜コイル組立体２０（図２）内に配置されている。図示されている実施形態では、ディスク１０は円形であり、チューブ２２は円形断面を有する。代替的な実施形態では、ディスク１０は楕円形でもよく、チューブ２２は楕円形断面を有することがある。このような実施形態では、円形ディスク１０を用いて配置することは困難であるが、全体として傾斜コイルに対して予め定められた姿勢を有するようにシム部品を配置することが可能である。さらなる代替的な構造では、ディスク１０は、三角形、正方形、矩形、六角形、または、実質的には、いかなる平面形状でもよい。実施形態は、実質的に平面状のシム部品を設けることもあるが、この平面状のシム部品は、それにもかかわらず、相補的な上面形態と下面形態とを有し、チューブ２２内に密接に積み重ねることが可能である。このような構造はシム部品が互いに予め定められた姿勢をとることを可能にさせる。
【００２１】
図示された実施形態の特徴によれば、シミング材料のディスク１０はスルーホール１２が設けられている。使用中に、ディスク１０は、キャリングロッド１４を各ディスク１０のスルーホール１２に通すことにより、キャリングロッド１４に取り付けられている。
【００２２】
公知のシミング方法と同様に、コンピュータ化された最適化プログラムが各チューブ２２内のシミング材料１０製のディスク１０の所要の位置決めを計算するために使用される。非磁気スペーサディスク１６は、シミング材料製のディスク１０を意図された位置に正確に位置決めを行い保持することを保証するために、シミングディスク１０が必要とされない位置で使用される。コンピュータプログラムが各チューブ２２の必要とされるシム位置を計算すると、シミング材料製のディスク１０および非磁気スペーサディスク１６がそれぞれの正確な順序で対応するキャリングロッド１４に装着される。シミング材料製のディスクおよび非磁気スペーサディスク付きのキャリングロッドは各々がその後にそれぞれのチューブ２２に装着される。好ましくは、端部支持プラグ１８が、シミング材料製のディスクおよび非磁気スペーサディスク付きのキャリングロッドの運動を阻止するために、各チューブ２２に、または、各チューブ２２の各開放端に設けられている。各端部支持プラグ１８はスルーホールが設けられ、ロッド１４がスルーホールを通り抜けることがある。代替的に、端部支持プラグはスルーホールが設けられず、各キャリングロッド１４がそれぞれのチューブ２２内に完全に保持されることがある。
【００２３】
非磁気スペーサディスク１６は、シミング材料製のディスク１０を支持すると共に、主磁場の均一性を実質的に改善するシミング材料の分布の増強を可能にさせる。支持ロッド１４の各端部におけるテーパー付きプラグ１８は傾斜コイル内にロッド（およびシム）をしっかりと保持する。傾斜コイル内のシムチューブ２２の軸とチューブ２２内のディスク１０の軸とは一致し、主磁気（ｚ−）軸に対して平行である。
【００２４】
本発明の好ましい実施形態では、キャリングロッド１４は、中空チューブとして設けられることがあり、中空チューブの中に、水のような冷却液体が通るように配置される。このような構造では、シム部品１０は比較的一定温度で維持され、シムの温度変動に起因してＢ0ドリフトを引き起こすシミング作用の変動は低減される。
【００２５】
好ましい実施形態では、各シム部品の厚さとしてみなされる軸方向の広がりが変化する様々なシム部品１０が使用される。軸方向の広がりの変化とは、ある特定のシム部品が他のシム部品より多くのシム材料を含有し、したがって、異なるシミング作用を有することを意味する。このような実施形態では、全てのシムが、好ましくは、半径方向平面内で同じサイズおよび形状を有し、前記サイズおよび形状がそれぞれのチューブ２２の断面に実質的に対応するようにされている。代替的な実施形態では、サイズおよび／または形状が変化するシム部品１０が使用されることがある。サイズおよび／または形状の変化とは、ある特定のシム部品が他のシム部品より多くのシム材料を含有し、したがって、異なるシミング作用を有することを意味する。サイズおよび／または形状の変化は、様々なシミング作用を有する広範囲のシムを提供するために、軸方向広がり（厚さ）の変化と共に使用されることがある。
【００２６】
シム部品および各シムチューブの断面は、好ましくは、丸みを帯び、より好ましくは、円形である。傾斜コイル２０の中を通る、矩形ではなく、丸みを帯びた断面のチューブは、シムトレイスロットのコーナーで従来に形成された応力集中が回避されるので、シミングのため確保された同じ傾斜コイル容積の場合にあっても、より堅固な傾斜コイル構造体を可能にさせる。中央支持ロッド１４またはパイプに取り付けられたシミング材料製のディスク１０は、本発明によれば、従来技術のシムトレイ内のポケットに装着されたプレートよりはるかに高いチューブ２２内のシム材料の充填率を与える。より高い充填率とは、より多くのシム材料が最も感度の高い領域に設置され、全体的なシム質量を削減できることを意味する。シム材料と良好に熱接触する冷却パイプの設備はシムの温度変動に関連した画質問題を解決する。
【００２７】
最後に、ディスクをロッド、ネジ付きバーもしくはパイプに装着する過程は、プレートをトレイのポケットに装着する現在の過程よりはるかに容易に自動化される。シム材料の自動装着は、公知の方法より素早くかつ正確になり、シミング反復を加速するだけでなく、所要の反復回数を削減することもある。
【００２８】
本発明は、したがって、従来技術の問題のうちの少なくとも一部を解決するが、新たな問題が生じることが分かった。様々な軸方向広がりのあるシミング材料製のディスクは非線形作用を有することが分かった。本技術は、より大きい線形作用を有すると考えられるシムの特徴を半径方向に変化させることに依存している。
【００２９】
シム材料内の磁化ベクトルの有意な半径方向成分の存在はシミング最適化計算にさらなる問題を引き起こす。本技術は、磁場をシムの上で強制的に軸方向へ向けるためにシム材料の粒子配向に依存している。本発明のシム部品は半径方向平面内に配置され、半径方向作用を有する。
【００３０】
新たな幾何学的構成でシム分布を構築することになる非常に個数が増加したディスクは、既存のシミング幾何学的構成における同等のシム分布で使用されるプレートの個数と比べると、最適化過程を複雑化する。
【００３１】
半径方向平面内に配置されたシムを用いると、シムの材料によって取り込まれる非半径方向の磁化作用を考慮しなければならない。磁場は、半径方向（ｒ）および軸方向（ｚ）の両方の方向でシム材料に起因する歪みに対し感応することがある（Ｍｒ／Ｍｚ感度と呼ばれることがある）。
【００３２】
本発明は、必要とされるシム材料の量および位置を計算するために役立つ方法をさらに提供する。これらの方法は、以下の要素を含む。
【００３３】
シム感度
一定の断面をもち、Ｚが変化するシムに対して、シム断面に亘るＭｒ（半径方向磁化）およびＭｚ（軸方向磁化）の変化を考慮して、公式が導出され、ここで、「半径方向」および「軸方向」は、それぞれ、磁石システムの主軸Ｚと垂直な方向および平行な方向を指している。このことは、イメージングシステムの対象視野で不均一性を最小限に抑えるため（または、均一性を最大化するために）、最適化スキームの基礎となる。
【００３４】
図３Ａ〜３Ｂは、結果として得られた磁場に対するシム材料の半径方向磁気作用および軸方向磁気作用をシミュレートする方法の態様を示している。ある点における磁場の方向を記述する磁化ベクトルは半径方向に変化するので、磁化ベクトルは、本発明によれば、半径方向平面内に位置しているシムディスクの表面全体で評価される必要がある。
【００３５】
図３Ａは本発明のシム構造におけるＭｒ／Ｍｚ感度の評価で使用されるシムディスク上の選択された点の実施例を示している。シムディスクは各シムチューブ内に積み重ねられているので、図３Ａの各点はチューブ２２内でシムの全長に延びる１次元フィラメントを表している。各点で、点感度が計算され、点感度はフィラメントの長さで計算されることがある。必要とされる計算の回数を削減するため、点感度の正確な計算はシムが必要とされる可能性が高い場所だけで実行される。このような場所は１回目のパスのシミング最適化計算で計算されてもよい。結果として得られる計算された点感度は最適化されたシム分布を計算するためにオプティマイザへ戻されることがある。
【００３６】
図５に示されているような公知のシム構造では、シムスロットの個数は約１６個である。本発明の実施形態では、約７０個のシムチューブ２２が利用されることがある。シムディスクの可能な場所の非常に著しい増加と、従来技術のスロットと比べた本発明のチューブの個数の増加と、各チューブに収容され得るシム部品の個数の増加とに起因して、最適化されたシム分布を生成するために必要とされる計算の総回数は非常に大きくなるかもしれない。
【００３７】
解法の反復
本発明の例示的な実施形態では、約７０２．５ｃｍ径のチューブ（図２を参照）が必要とされる。これらのチューブを従来型のシムトレイに類似した軸方向長さのゾーンに分割することは、より従来的な２４０個の変数と比べて、１０５０（７０×１５）個の最適化変数の総数を与える。データセットは比較的大規模であり、一方、各ポケットの効果は比較的小規模であるので、このレベルの離散化はオプティマイザの困難な課題を与える。
【００３８】
シムポケットの結合
シムチューブ内で結合されたポケットの非常に正確なモデルを構築することが可能である。隣接するトレイは、図３Ａおよび３Ｂを参照して、感度フィラメントの複雑な断面を集めることにより結合され得る。ポケットの断面が構築されると、構造体は単一の変数であると考えられる。
【００３９】
図３Ｂに示されているように、２個以上の隣接したシムチューブのための計算を結合することにより満足できる計算されたシム分布を実現しながら、計算の回数を削減することが可能である。単一の計算がチューブ毎に対応するフィラメントに適用されてもよい。
【００４０】
結合された断面ポケットは最初に巨視的な解を生成するために最適化され得る。シム集合の空いているエリアを切り捨て、残りのポケットへ次第に洗練させると、解に集中してくる。
【００４１】
本発明によるシミングの最適化は、非常に離散化されたシム集合における以下の特徴、すなわち、
円筒シムの軸方向広がり、および、シム磁化ベクトルの半径方向成分の変動を含む。
【００４２】
したがって、本発明は、核磁気共鳴または磁気共鳴画像化システムのための、超伝導電磁石または永久磁石のような、画像化システムで使用される磁石のような磁石のためのパッシブシミング装置を提供する。本発明は、既存のパッシブシム装置と比べて、傾斜コイル強度の増加と、典型的に、傾斜コイル内でシミングのため確保された空間のシミング材料による充填率の増大と、シムのより優れた熱安定性と、改善され自動化されたシム装着の可能性とを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の実施形態の特徴によるキャリアに取り付けられたシム部品の詳細図である。
【図２】本発明の実施形態の特徴によるシム材料を収容するため配置された、傾斜コイル組立体内のチューブの構造を示す図である。
【図３Ａ】シム材料の半径方向および軸方向磁気作用をシミュレートする方法の態様を示す図である。
【図３Ｂ】シム材料の半径方向および軸方向磁気作用をシミュレートする方法の態様を示す図である。
【図４】本発明によって提供されるシム最適化方法の概要を示す図である。
【図５】従来技術のシム構造の断面を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図５】
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【図４】
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