(57)【要約】機械的強度が高く、除塵、脱塵に最適な窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法を提供する。  平均粒子直径０．２〜５０μｍの金属ケイ素粒子５〜９５質量％と平均粒子直径０．２〜４０μｍの窒化ケイ素粒子３〜９０質量％とシリカ粒子０．１〜２５質量％とからなる混合物と、気孔形成剤とを、含むハニカム成形体であって、前記混合物５０〜９５質量％と、前記気孔形成剤５〜５０質量％とを含み、かつ前記混合物と前記気孔形成剤との合量が８０質量％以上であるハニカム成形体を窒素中で熱処理することにより実質的に金属ケイ素を窒化ケイ素とすることを特徴とする窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒子直径０．２〜５０μｍの金属ケイ素粒子５〜９５質量％と平均粒子直径０．２〜４０μｍの窒化ケイ素粒子３〜９０質量％とシリカ粒子０．１〜２５質量％とからなる混合物と、気孔形成剤とを、含むハニカム成形体であって、前記混合物５０〜９５質量％と、前記気孔形成剤５〜５０質量％とを含み、かつ前記混合物と前記気孔形成剤との合量が８０質量％以上であるハニカム成形体を窒素中で熱処理することにより実質的に金属ケイ素を窒化ケイ素とすることを特徴とする窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【請求項２】
前記気孔形成剤が金属酸化物中空粒子および／または有機高分子粒子である請求項１記載の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【請求項３】
前記気孔形成剤が金属酸化物中空粒子であって、Ａｌおよび／またはＳｉを含む化合物を主成分とする粒子である請求項２記載の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【請求項４】
前記ハニカム成形体が酸化マグネシウム、酸化カルシウムおよび酸化チタンからなる群から選ばれる少なくとも一種以上含む請求項３記載の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【請求項５】
前記窒化ケイ素質ハニカムフィルタの気孔率が３０〜８０％である請求項１、２、３または４記載の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【請求項６】
前記窒化ケイ素質ハニカムフィルタの水銀圧入法で測定される平均細孔直径が５〜４０μｍである請求項１〜５のいずれかに記載の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【請求項７】
前記熱処理が、成形体を温度１２００〜１４００℃の窒素雰囲気中で１〜１２時間保持する第１段の熱処理工程と、その後に温度１５００〜１８００℃の範囲で１〜１２時間保持する第２段の熱処理工程とを含む請求項１〜６のいずれかに記載の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、高温排気ガス中に含まれる粉塵等を除去するために好適な窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法に関する。
【背景技術】  窒化ケイ素は、耐熱性、耐食性、耐薬品性、強度等に優れた特性を有しており、高温や腐食性環境下での集塵、脱塵用フィルタやディーゼルエンジンの排ガス浄化フィルタとして期待されている。このような窒化ケイ素質フィルタの製造法としては出発原料の観点から２つに大別される。一つは、窒化ケイ素粒子を使用する方法であり、他の一つは、金属ケイ素粒子を使用する方法である。
前者の例としては、窒化ケイ素粒子に気孔形成剤として球状の有機高分子粒子を添加して熱処理する方法（例えば、特開２００２−１２１０７３号公報参照。）、または気孔形成剤として酸化物中空粒子を添加して熱処理する方法（例えば、特開２００２−１２１０７４号公報参照。）がある。窒化ケイ素粒子を使用する方法は、金属ケイ素粒子を使用する方法に比べて一般的に製造しやすいものの、窒化ケイ素粒子が高価であるため製造原価の点では不利となるおそれがある。
一方、後者の例としては、金属ケイ素粒子に気孔形成剤として有機高分子粒子や金属酸化物中空粒子を添加して熱処理する方法（例えば、国際公開第０１／４７８３３号パンフレット参照。）がある。金属ケイ素粒子を使用する方法は、窒化ケイ素粒子を使用する方法に比べて製造原価の点では有利であるものの、金属ケイ素の窒化処理の際に発熱を伴うために温度の制御が難しく、時には過剰な発熱を伴うために焼結体の変形や溶融を引き起こすことがある。特に焼結体の寸法が大きく、加熱中に温度分布がつきやすい場合は、熱衝撃のために試料中に亀裂が入りやすくなるおそれもあり、製造にはより厳密な制御を必要とする。
前者と後者の中間、すなわち、窒化ケイ素粒子と金属ケイ素粒子の両方を使用する方法もある（特開平１−１８８４７９号公報参照。）。この方法では、平均粒径４０μｍ以下の金属ケイ素粒子１０〜７５質量％と、残部を平均粒径４４〜１４９μｍの窒化ケイ素粒子とする混合物を成形、窒化処理して窒化ケイ素多孔質体とするものである。この方法では金属ケイ素の平均粒径は、窒化ケイ素の平均粒径より小さくすることで放射性同位元素に最適な多孔質の固体ターゲットが得られるとしている。
しかし、この方法では配合した窒化ケイ素粒子と、金属ケイ素粒子が窒化して形成された窒化ケイ素粒子との結合強度が不充分で、ディーゼルパティキュレート用のハニカムフィルタのように、多孔質の薄い隔壁からなる構造体では、強度が低下するおそれがある。
【発明の開示】
本発明は、金属ケイ素粒子と窒化ケイ素粒子の混合粒子を出発原料とし、焼結体の変形や溶融を引き起こすことなく金属ケイ素の窒化反応が容易で、かつ強度が高く、除塵、脱塵に最適な窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法の提供を目的とする。
本発明は、平均粒子直径０．２〜５０μｍの金属ケイ素粒子５〜９５質量％と平均粒子直径０．２〜４０μｍの窒化ケイ素粒子３〜９０質量％とシリカ粒子０．１〜２５質量％とからなる混合物と、気孔形成剤とを、含むハニカム成形体であって、前記混合物５０〜９５質量％と、前記気孔形成剤５〜５０質量％とを含み、かつ前記混合物と前記気孔形成剤との合量が８０質量％以上であるハニカム成形体を窒素中で熱処理することにより実質的に金属ケイ素を窒化ケイ素とすることを特徴とする窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】  本発明の窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法（以下、本製造法という）では、平均粒子直径（以下、単に平均粒径と略す）０．２〜５０μｍの金属ケイ素粒子５〜９５質量％（以下、質量％を単に％という）と平均粒径０．２〜４０μｍの窒化ケイ素粒子３〜９０％とシリカ粒子０．１〜２５％とからなる混合物５０〜９５％と、気孔形成剤５〜５０％とを含み、かつ前記混合物と前記気孔形成剤との合量が８０％以上であるハニカム成形体を使用する。なお、本明細書において成形体中の量関係を示すときは固形分換算によるものとする。
本製造法において、金属ケイ素粒子と窒化ケイ素粒子とシリカ粒子からなる混合物を使用する。前記混合物中、金属ケイ素粒子は５〜９５％である。金属ケイ素粒子が５％未満であると、配合した窒化ケイ素粒子と、金属ケイ素の反応焼結による窒化ケイ素粒子との結合が不充分となる。一方、９５％を超えると、金属ケイ素の窒化が発熱反応であるため、反応中に過剰に発熱し、ハニカムフィルタ（以下、単にフィルタと略す）の隔壁の変形や、亀裂の発生などの欠陥を形成するおそれがある。金属ケイ素粒子の量は２０〜９０％であると好ましく、３０〜８０％であると特に好ましい。
前記混合物中、窒化ケイ素粒子は３〜９０％である。窒化ケイ素粒子が３％未満であると、前述のように、金属ケイ素の窒化の際に過剰に発熱するおそれがあり、一方、９０％を超えると、添加した窒化ケイ素粒子と、金属ケイ素の窒化により生成する窒化ケイ素粒子（以下、窒化生成窒化ケイ素粒子という）との結合が不充分となるおそれがある。窒化ケイ素粒子が１０〜８０％であると好ましく、２０〜７０％であると特に好ましい。
また、前記混合物中、シリカ粒子の量は０．１〜２５％である。シリカ粒子が０．１％未満であると添加した窒化ケイ素粒子と窒化生成窒化ケイ素粒子との結合が不充分であり、一方、２５％を超えると焼結時に生成する液相量が多くなりすぎるために、フィルタの隔壁部分に変形や欠陥が発生するおそれがある。なお、本明細書において、シリカ粒子とはＳｉＯ２分を９０％以上含み、気孔率が３０％未満のものをいう。シリカ粒子としてはシリカゾルのような形態で添加してもよい。シリカ粒子の量は４〜２０％であると好ましく、５〜１７％であると特に好ましい。シリカ粒子のＳｉＯ２分としては９５％以上が好ましく、９８％以上であるとさらに好ましい。シリカ粒子の気孔率としては２０％以下が好ましく、１０％以下であるとさらに好ましい。なお、本明細書において、気孔率の表記は慣例に従い％で表す。
シリカ粒子を添加する理由は、窒化ケイ素粒子と金属ケイ素粒子だけの混合粉末では充分な強度を有するフィルタが得られないおそれがある。シリカ粒子を添加することによりフィルタのような多孔質の隔壁を多数有する多孔体でも充分な強度が得られ、しかも焼成収縮も小さいことから金属ケイ素の反応焼結による焼成収縮がゼロである効果を生かすことができ、また変形も小さくなる。
なお、金属ケイ素粒子、窒化ケイ素粒子、シリカ粒子以外に添加される気孔形成剤に主要な成分としてＳｉＯ２分を含む場合、または金属ケイ素粒子、窒化ケイ素粒子に不純物等としてＳｉＯ２分を含む場合、これらのＳｉＯ２分も窒化ケイ素粒子と窒化生成窒化ケイ素粒子との結合に寄与する。したがって、シリカ粒子中のＳｉＯ２分とそれ以外からのＳｉＯ２分とを合計し、ＳｉＯ２分としてハニカム成形体中に０．２〜２０％含まれると好ましい。
本発明において、金属ケイ素粒子の平均粒径は０．２〜５０μｍである。金属ケイ素粒子の平均粒径が０．２μｍ未満であると、フィルタ機能に寄与しない閉気孔が数多く形成されたり、細孔直径が小さくなりすぎるために、フィルタ機能の低下や圧力損失の増加をもたらす。また、金属ケイ素粒子の平均粒径が５０μｍを超えると、焼結体内部に窒化されない金属ケイ素粒子が残留しやすくなり、フィルタの隔壁の変形や強度低下をもたらすおそれがある。金属ケイ素粒子の平均粒径が５〜４０μｍであると成形の安定性、フィルタの機械的強度の点から好ましく、特には１０〜３５μｍである。金属ケイ素粒子の純度は特に限定されないが、９５％以上の純度であると焼結後の多孔体の高温特性を阻害しないので好ましい。
また窒化ケイ素粒子の平均粒径を０．２〜４０μｍに限定したのは、平均粒径が０．２μｍ未満であると窒化ケイ素粒子が気孔内部に入り込みやすくなり、細孔直径や気孔率が小さくなりすぎるために、フィルタ機能の低下や圧力損失の増加をもたらすからである。一方、窒化ケイ素粒子の平均粒径が４０μｍを超えると、フィルタの強度低下をもたらすことがある。より好ましい窒化ケイ素粒子の平均粒径は０．５〜３０μｍであり、窒化の安定性や、フィルタの機械的強度の点から好ましい。窒化ケイ素粒子の純度としては９５％以上であれば好適に使用できるが、９８％以上であればフィルタの高温特性の点からより好ましい。
本発明において、気孔形成剤としては金属酸化物中空粒子および／または有機高分子粒子が使用できる。金属酸化物中空粒子（以下、単に中空粒子と略す）としては、熱処理時に気孔を形成するものであればいずれも好適に使用されるが、本発明においては中空粒子の気孔率が３０％以上のものをいう。気孔率が３０％未満であると気孔の形成能が不充分となる場合があるためである。中空粒子の気孔率は４０〜８０％であると好ましく、さらに好ましくは５０〜７０％である。なお、本明細書において気孔率は％で表すが無次元の値である。
中空粒子がＡｌおよび／またはＳｉの酸化物を主成分とするもの（以下、Ａｌ−Ｓｉ系中空粒子という）であると、成分のガス化による気孔率の上昇、または成分の一部が固溶することによって耐酸化性を向上させる効果があるため好ましい。
Ａｌ−Ｓｉ系中空粒子を使用する際に、酸化マグネシウム、酸化カルシウムおよび酸化チタンからなる群から選ばれる少なくとも一種以上併用すると、Ａｌ−Ｓｉ系中空粒子の軟化温度が低下し、中空粒子の形態が焼成体中にほとんど残留せず、気孔率と平均細孔径が共に大きく、しかも細孔径の小さいものが少ない気孔分布を有する多孔体が得られるため好ましい。酸化マグネシウム、酸化カルシウムおよび酸化チタンからなる群から選ばれる少なくとも一種の量は、Ａｌ−Ｓｉ系中空粒子１００質量部に対して合量で１０〜４０質量部をハニカム成形体中に含むと好ましく、ハニカム成形体中に１５〜３５質量部含むとさらに好ましく、ハニカム成形体中に２０〜３０質量部含むと特に好ましい。
中空粒子は、中空であれば外皮に相当する部分が緻密質でもよいし、多孔質でもよい。また、中空粒子は、外形が球状粒子であると入手しやすいので好ましいが、球状粒子以外の粒子でも中空であればよい。中空粒子の主成分は金属酸化物が好ましいが、加熱によって金属酸化物を形成する水酸化物や炭酸塩などの化合物も好適に使用できる。
気孔形成剤として有機高分子粒子も使用できる。有機高分子は熱処理時に分解などして飛散し、気孔を形成するものである。気孔形成剤が有機高分子粒子、特に熱分解性の高分子粒子であると熱処理過程で分解、飛散し、焼結体内に残留物を残さないため、得られる窒化ケイ素質フィルタの特性を損なわないため好ましい。
このような有機高分子としては、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロースなどがある。昇温中に、気孔形成剤として添加した有機高分子粒子が、熱処理の昇温段階で充分に熱分解されずに炭素として多く残留すると、その後の熱処理過程で炭化ケイ素が生成するおそれがあり、気孔を閉塞しやすくなるので好ましくない。その点、アクリル樹脂粒子を気孔形成剤とすると熱分解しやすく、炭素として残留する量が少ないため特に好ましい。
気孔形成剤としては、中空粒子のみの場合、有機高分子のみの場合、または中空粒子と有機高分子を同時に配合した場合のいずれにおいても所望の効果が得られるが、気孔形成剤の平均粒径が２０〜１５０μｍであると、得られるフィルタの気孔率が大きく、しかも強度も確保されるため好ましい。気孔形成剤の平均粒径が２０μｍ未満であると、気孔形成への寄与が低下し、一方、平均粒径が１５０μｍを超えると得られるフィルタの強度が不充分であるため好ましくない。
気孔形成剤の含有量としては、成形体中５〜５０％である。含有量が５％未満では、フィルタ機能を果たす気孔の割合が充分でなく、一方、含有量が５０％を超えるとフィルタの気孔率が大きくなるものの、充分な強度が得られない。
本製造法において、金属ケイ素粒子と窒化ケイ素粒子と気孔形成剤との合量は、成形体中８０％以上である。金属ケイ素粒子と窒化ケイ素粒子と気孔形成剤との合量が成形体中８０％未満であると所望の特性のフィルタを得ることができないおそれがある。
本製造法において、金属ケイ素粒子、窒化ケイ素粒子、シリカ粒子および気孔形成剤との混合には、ボールミルやミキサなどの一般的な混合手段が使用できる。ハニカム成形体を作成する方法としては、前記混合原料に水、有機溶媒、有機バインダ等の成形助剤を適宜添加して混練、坏土とし押出成形等で成形する。なお、このような有機バインダとしては、ポリビニルアルコールまたはその変成物、デンプンまたはその変成物、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、アクリル樹脂またはアクリル系共重合体、酢酸ビニル樹脂または酢酸ビニル系共重合体、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の有機物を使用できる。なお、本明細書において、バインダが有機高分子である場合はその固形分を気孔形成剤に含めて量関係を表すものとする。
前記有機バインダ等の成形助剤は、脱脂により除去される。脱脂は金属ケイ素の溶融温度より低い温度で実施することが好ましく、温度３００〜９００℃で保持することが好ましい。脱脂の雰囲気は大気中などの酸化雰囲気でも、窒素ガスやＡｒガスなどの不活性雰囲気でもよいが、大気中で行う場合には、金属ケイ素粒子や窒化ケイ素粒子の表面が過剰に酸化しないようにする。なお、脱脂は後述する第１段の熱処理と別工程としてもよいが、第１段の熱処理の昇温中に脱脂されるようにしてもよい。
成形体の熱処理の際して第１段の熱処理条件としては、窒素雰囲気下で１２００〜１４００℃の温度で１〜１２時間保持することが好ましい。温度が１２００℃未満であると金属ケイ素の窒化が充分に進まず、一方温度が１４００℃を超えると金属ケイ素の融点（１４１０℃）付近で金属ケイ素粒子が融解し、焼結体の形状を保持できないために好ましくない。また温度保持時間が１時間未満であると金属ケイ素粒子の窒化が不充分となり好ましくなく、また温度保持時間が１２時間を超えると窒化反応の進行が遅くなり、運転費用がかさむため好ましくない。なお、途中で脱脂する場合には、脱脂終了後、一度温度を下げてもよく、またそのまま温度を下げずに実施してもよい。
第２段の熱処理条件としては、窒素雰囲気下で１５００〜１８００℃で１〜１２時間保持することが好ましい。温度が１５００℃未満であると、配合した窒化ケイ素粒子と金属ケイ素粒子が窒化して形成された窒化ケイ素粒子の結合が充分に進まず、フィルタの強度が不充分であるために好ましくなく、一方１８００℃を超えると、窒化ケイ素粒子が分解するので好ましくない。また、温度保持時間が１時間未満であると窒化ケイ素粒子同士の結合が充分に進行しないために好ましくなく、一方１２時間を超えると、特に高温では窒化ケイ素が分解しやすくなり好ましくない。なお、第１段の熱処理と第２段の熱処理は、中間で温度をいったん下げても、または温度を下げることなく連続で実施してもよい。
熱処理時の昇温速度は、成形体の大きさ、形状等により適宜選択されるが、脱脂工程は分解したガスが大量に発生するため、５０〜２００℃／ｈで行うのが好ましい。ここで窒素雰囲気とは、実質的に窒素のみを含み酸素を含まない雰囲気をいうが、他の不活性気体や水素を含んでいてもよい。窒素分圧は５０ｋＰａ以上が好ましい。
本製造法で得られる窒化ケイ素質フィルタの気孔率は、３０〜８０％であると好ましい。気孔率が３０％未満であると圧力損失が大きくなるため好ましくなく、また気孔率が８０％を超えると強度が低いため好ましくない。気孔率が４０〜７５％であるとより好ましく、５０〜７０％であると特に好ましい。
本製造法で得られる窒化ケイ素質フィルタの水銀圧入法で測定された平均細孔直径は、５〜４０μｍであると好ましい。平均細孔直径が５μｍ未満であるとフィルタ使用時の圧力損失が大きくなり好ましくない。平均細孔直径が４０μｍを超えるとディーゼルパティキュレートのような排気微粒子の捕捉除去がしにくくなるため好ましくない。平均細孔直径が８〜３０μｍであるとより好ましく、１０〜２５μｍであると特に好ましい。
【実施例１】  平均粒径１８μｍの金属ケイ素粒子（山石金属社製、Ｓｉ（元素として）：９９％、ＳｉＯ２２．１％）と、平均粒径２５μｍの窒化ケイ素粒子（電気化学工業社製、商品名：ＳＮＢＬ、Ｓｉ３Ｎ４９７％、ＳｉＯ２１．１％）と、平均粒径２０μｍのアクリル樹脂粒子（綜研化学社製、商品名：ＭＲ２０）と、シリカゾル（ケイ酸エチル水溶液をアンモニア水で加水分解して調製）とを混合する。さらに、金属ケイ素粒子、窒化ケイ素粒子、シリカ粒子（シリカゾルの固形分）およびポリアクリル樹脂の混合物に対して、外掛で１２％のメチルセルロース（固形分）、１％のグリセリンおよび１０〜１５％のイオン交換水を加えてニーダで充分混練して押出成形用杯土を作製する。
各組成割合を表１に、観察結果等を表２に示す。表中、金属ケイ素粒子、窒化ケイ素粒子、シリカ粒子の下段の（）内の数字は、金属ケイ素粒子と窒化ケイ素粒子とシリカ粒子の合計、すなわち、混合物中の各粒子の割合を示す。なお、気孔形成剤にはアクリル樹脂以外にメチルセルロースを含めてある。例２〜例８が実施例である。
得られた押出成形用坏土をハニカム体押出用金型を有する真空押出成形機により押出成形しハニカム成形体とする。ハニカム成形体の外形は、直径１５０ｍｍ、長さ１５０ｍｍ、セル壁の厚さ０．２５ｍｍでセル数２００セル／６．４５１６ｃｍ２である。１セルすなわち貫通孔１個あたりの断面積は約３．２ｍｍ２である。
［評価項目］
窒化特性：金属ケイ素の窒化による異常発熱の有無を、電気炉の制御電力値の変化で推定する。異常発熱が生じた場合は制御電力の低下が観察される。
細孔特性：水銀ポロシメータ（ユアサアイオニクス社製、商品名：ＡＵＴＯＳＣＡＮ−３３）で平均細孔直径、気孔率を測定する。
構造解析：Ｘ線回折装置（リガク社製、商品名：ガイガーフレックスＲＡＤ−ＩＩＡ）を用いて結晶相を同定する。
熱膨張係数測定：熱膨張計（リガク社製）を使用し室温から１０００℃の範囲で測定する。
ハニカム形状品の圧縮強度（以下、単に圧縮強度という）：ハニカム形状に作製したフィルタから７×７セルからなる長さ１２ｍｍの試験片を切り出し、押出方向と平行に加重を０．５ｍｍ／分で印加して圧縮強度を測定する。
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【実施例２】  気孔形成剤としてポリアクリル樹脂の代わりに平均粒径２５μｍのアルミナ中空粒子に変更する以外は実施例１と同様にする。アルミナ中空粒子は、市販の高純度アルミナ粉末（住友化学工業社製、商品名：ＡＫＰ−５０、ＳｉＯ２分０．１％未満）に対して、イオン交換水とポリカルボン酸系の分散剤（中京油脂社製、商品名：セルナＤ−３０５）を用いて調製したスラリを噴霧乾燥し、得られた中空形状の顆粒を空気中１２００℃で３時間仮焼後、篩い分けによって作製する。例１１〜例１４は、混合物（金属ケイ素粒子７５．２％、窒化ケイ素粒子１８．８％、シリカ粒子６％）と前記中空粒子の合計に対して前記中空粒子がそれぞれ２、１０、２０、６０％となるようにしてある。なお、気孔形成剤の量は中空粒子とバインダであるメチルセルロースとを合わせた量である。各組成割合を表３に、観察結果等を表４に、それぞれ示す。例１１〜例１３が実施例である。
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【実施例３】  平均粒径２５μｍの窒化ケイ素粒子の代わりに平均粒径１００μｍの金属ケイ素粒子を窒素中１３００℃で１２時間加熱後、１４５０℃でさらに２４時間加熱し、粉砕と篩い分けにより平均粒径がそれぞれ、ほぼ、０．１μｍ、２μｍ、５μｍ、１５μｍ、３５μｍ、５５μｍの窒化ケイ素粒子に変更し、気孔形成剤としてポリアクリル樹脂の代わりに平均粒径４５μｍのアルミナ−シリカ系の中空粒子（Ａｌ２Ｏ３３４％、ＳｉＯ２６２％、太平洋セメント社製、商品名：ＳＬ７５）に変更する以外は実施例１と同様にする。観察結果等を表５に示す。なお、組成割合は、混合物（金属ケイ素粒子３９．８％、窒化ケイ素粒子５９．７％、シリカ粒子０．５％）８０％に対して、前記中空粒子が２０％で一定とする。気孔形成剤の量は中空粒子とバインダであるメチルセルロースとを合わせた量であることから、成形体中の固形分割合は、金属ケイ素粒子２８．４％、窒化ケイ素粒子４２．６％、シリカ粒子０．４％、気孔形成剤２８．６％となり、ＳｉＯ２分は成形体中１２．７％である。例１６〜例１９が実施例である。
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【実施例４】  平均粒径１８μｍの金属ケイ素粒子の代わりに、それぞれ、平均粒径０．１μｍ、２μｍ、１０μｍ、４０μｍ、１００μｍの金属ケイ素粒子に変更し、それぞれ、平均粒子０．１μｍ、２μｍ、５μｍ、１５μｍ、３５μｍ、５５μｍの窒化ケイ素粒子の代わりに平均粒径２５μｍの窒化ケイ素粒子に変更する以外は実施例３と同様にする。観察結果等を表６に示す。例２２〜例２４が実施例である。
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【産業上の利用可能性】  本製造法により、脱塵や除塵に適した窒化ケイ素質ハニカムフィルタを容易に製造できる。本発明によって得られる窒化ケイ素質フィルタは、形状精度に優れ、強度も高く、かつディーゼルパティキュレートなどの捕集に適する平均細孔径を有し、しかも気孔率も従来品に劣らないことから、フィルタ、特に、強度、耐熱性、耐食性、耐久性等が要求されるディーゼルパティキュレートフィルタとして好適である。
【国際調査報告】
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