(57)【要約】ゲート及び基板が接続された電界効果トランジスタ（１）と相変化材料を用いた抵抗変化素子（２）とを備えたメモリセルが２次元アレイ状に配列された、不揮発性メモリを駆動する方法であって、所定のワード線（ＷＬｉ）及びビット線（ＢＬｊ）の間に、電界効果トランジスタ（１）のソース及び基板間のｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きい電圧が印加されるように、ワード線（ＷＬｉ）、ビット線（ＢＬｊ）及び電圧供給部（ＶＡ）の各々に所定の電圧を印加した後、ワード線（ＷＬｉ）への印加電圧を急峻に又は緩やかに初期電圧に戻し、該当する抵抗変化素子（２）を高抵抗又は低抵抗にすることによって、データを消去又は記録し、電界効果トランジスタ（１）をオンさせ、該当する抵抗変化素子（２）の抵抗値を検知することによって、データを読み出す。
2004114315.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート及び基板が電気的に接続されているｎチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に前記初期電圧よりも大きい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第１の電圧以上、且つ前記第１の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第２の電圧を印加することによって、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも大きい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第３の電圧以上、且つ前記第３の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第４の電圧を印加することによって、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する、
不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項２】
前記第３リセットステップにおいて、前記初期電圧を急峻に印加する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項３】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項４】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項２に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項５】
前記初期電圧が０Ｖである、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項６】
全ての前記抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第１の電圧を印加する第１全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記第２の電圧を印加する第２全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全リセットステップと
を順に実行する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項７】
全ての前記抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第３の電圧を印加する第１全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記第４の電圧を印加する第２全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全セットステップと
を順に実行する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項８】
前記相変化材料が、少なくともゲルマニウム、アンチモン、テルルのうちの何れか一つの元素を含んでいる、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項９】
前記第２の電圧が０．８Ｖよりも大きく、
前記第４の電圧が０．４Ｖ以上０．８Ｖ以下である、請求項８に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１０】
ゲート及び基板が電気的に接続されているｐチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第２の電圧を印加することにより、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
続いて、前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第４の電圧を印加することにより、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する、
不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１１】
前記第３リセットステップにおいて、前記初期電圧を急峻に印加する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１２】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１３】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項１１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１４】
前記初期電圧が０Ｖである、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１５】
全ての前記抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第１の電圧を印加する第１全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記第２の電圧を印加する第２全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全リセットステップと
を順に実行する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１６】
全ての前記抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第３の電圧を印加する第１全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記第４の電圧を印加する第２全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全セットステップと
を順に実行する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１７】
前記相変化材料が、少なくともゲルマニウム、アンチモン、テルルのうちの何れか一つの元素を含んでいる、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１８】
前記第２の電圧が−０．８Ｖよりも小さく、
前記第３の電圧が−０．４以下−０．８Ｖ以上であり、且つ
前記第４の電圧が−０．４Ｖよりも大きい請求項１７に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、不揮発性メモリを駆動する方法に関する。
【背景技術】  近年、携帯電話や携帯情報端末（ＰＤＡ）においても、大量の画像情報を扱うニーズが多くなり、高速、低消費電力かつ小型で大容量の不揮発性メモリが望まれている。中でも、結晶状態によって全体としての抵抗値が変化する特性を有する材料を利用したメモリ、いわゆる相変化メモリデバイスが、超高集積でかつ不揮発性動作が可能なメモリデバイスとして、近年注目を集めている。
このデバイスは、複数のカルコゲン元素で構成される相変化材料を２つの電極材料で挟んだ比較的簡単な構造をしており、２つの電極間に電流を流して相変化材料にジュール熱を加え、相変化材料の結晶状態を非晶質相と結晶相との間で変化させることにより、データの記録を実現している。例えばＧｅＳｂＴｅ系の相変化材料などでは通常、材料中に複数の結晶相が混在しており、原理的に２つの電極間の抵抗値をアナログ的に変化させることも可能である。従って、これらの相変化材料は、デジタルメモリへの応用に限らず、多値を記録できるアナログメモリへの応用においても期待されている。
相変化材料のメモリ活性領域における結晶状態は室温で極めて安定であるため、１０年を超える記憶保持も十分可能であるとされている。例えばオブシンスキー（Ｏｖｓｈｉｎｓｋｙ）による米国特許第５，２９６，７１６号公報（以下、特許文献１と記す）は、相変化メモリに関する技術レベルを示す文献である。
また、電界効果型トランジスタＭＯＳをスイッチ素子として用いた相変化メモリセルの構成がローリー（Ｌｏｗｒｅｙ）らによる米国特許第６，３１４，０１４号公報（以下、特許文献２と記す）に開示されている。
図１２は従来技術に係る電界効果型トランジスタを用いた相変化メモリセルを説明する図であり、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ、相変化メモリセルの回路図、相変化材料を用いた抵抗変化素子の断面図、相変化材料を用いた抵抗変化素子の電流電圧特性を示す図である。（ａ）に示した回路図は、前記した特許文献２に開示されている回路図と同様の回路図である。本相変化メモリセルは、電界効果型トランジスタ（以下、ＭＯＳと記す）９０、メモリ機能を担う相変化材料からなる抵抗変化素子９１、データ入出力用のビット線ＢＬ、ゲート電極に接続されてＭＯＳ９０をオン／オフしてデータ入出力制御を行うワード線ＷＬ、電流もしくは電圧供給部ＶＡを備えている。ここで、抵抗変化素子９１は、例えば（ｂ）に示したように形成される。即ち、抵抗変化素子９１は、上部電極１００、ＧｅＳｂＴｅ（ゲルマニウム、アンチモン、テルル）などの相変化材料膜１０１、シリコン酸化膜などの層間絶縁膜１０３、発熱ヒーターとして作用する金属プラグ１０４、及び下部電極１０５を備えている。ここで、電極プラグ１０４と接する相変化材料膜１０１中の相変化領域１０２は、後述するように結晶状態が変化する。
図１２の（ｃ）に点線で示すように、初期状態が高抵抗（非晶質）である抵抗変化素子に電圧を印加すると、しきい値電圧Ｖｔｈまでは電流が殆ど流れないので発熱量が少なく、高抵抗状態（以下、リセット状態とも記す）が維持されるが、印加電圧がしきい値電圧Ｖｔｈを超えると、電流によるジュール熱で相変化材料膜１０１の一部（図１２の（ｂ）の相変化領域１０２）が結晶化して、低抵抗状態（以下、セット状態とも記す）になる。このように、相変化材料を用いた抵抗変化素子のセット状態及びリセット状態における抵抗値をそれぞれ、例えば１及び０のデータに対応させることによって、上記したようにメモリ機能を実現することができる。低抵抗状態になった相変化材料を、再び高抵抗状態（リセット状態）に戻すためには、所定のしきい値電流Ｉｔｈ以上の電流を抵抗変化素子に流した後、急冷すればよい。
図１２の（ｃ）に示すように、抵抗変化素子を高抵抗状態にできる電流領域Ｉ／Ｉｔｈ＞１をリセット電流領域、低抵抗状態にできる電流領域Ｉ／Ｉｔｈ＝０．６〜１をセット電流領域と呼ぶ。現在の抵抗変化素子の抵抗値を読み出す場合には、リードディスターブ（読み出し動作による抵抗値の変化）を避けるために低電流領域Ｉ／Ｉｔｈ＜０．６（印加電圧では約０．４５Ｖ以下）で読み出す必要がある。例えば図１２の（ａ）に示した構成のメモリセルにおいては、抵抗値読み出し時に電圧供給部ＶＡに印加する電圧は０．４５Ｖ以下に設定する必要がある。
しかしながら、相変化メモリをリセット状態にするには０．１８μｍルールの微細な素子においても、各抵抗変化素子あたり１ｍＡ以上の大きい電流を流す必要がある。そのために、スイッチ素子としてＭＯＳを使用した場合、チャネル幅の増大による占有面積の増大や、ゲート印加電圧を高くしなければならないことによる消費電力の増加が問題となっていた。また、上記したように抵抗値の読み出し時にはリードディスターブを避けるため、スイッチ素子であるＭＯＳのソース・ドレイン間に十分な電圧印加が行えないために、高速な読み出し動作が難しいという問題があり、低電圧動作時でも高駆動力が得られる高性能スイッチ素子が必要とされていた。
本発明に関連する文献の一覧
米国特許第５，２９６，７１６号公報（内容は「背景技術」の欄を参照）
米国特許第６，３１４，０１４号公報（内容は「背景技術」の欄を参照）
特開２００３−１００９９１号公報  この文献には、ＭＯＳトランジスタのドレイン領域に相変化型メモリが接続された不揮発性メモリ素子が開示されている。
特開２００１−２１０８３１号公報  この文献には、基板とゲートとが電気的に接続されているＤＴＭＯＳが開示されている。
【発明の開示】
本発明の目的は、上記の課題を解決するために、ゲートと基板とが電気的に接続されたＭＯＳをスイッチ素子として用いた不揮発性メモリセルを、低消費電力かつ高性能に動作させることができる駆動方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成する第１の本発明に係る不揮発性メモリを駆動する方法は、ゲート及び基板が電気的に接続されているｎチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に前記初期電圧よりも大きい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第１の電圧以上、且つ前記第１の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第２の電圧を印加することによって、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも大きい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第３の電圧以上、且つ前記第３の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第４の電圧を印加することによって、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する。
上記目的を達成する第２の本発明に係る不揮発性メモリを駆動する方法は、ゲート及び基板が電気的に接続されているｐチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第２の電圧を印加することにより、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
続いて、前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第４の電圧を印加することにより、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する。
【図面の簡単な説明】  図１は、本発明の実施の形態に係る駆動方法の対象となる不揮発性メモリを示す回路図である。
図２は、図１に示した半導体回路に使用できるＭＯＳ及びＤＴＭＯＳのゲート電圧−ドレイン電流特性を示す図である。
図３は、図１の回路図で表される相変化メモリセルの概略構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は平面図（ａ）のＸＸ’線に沿った断面図、（ｃ）は平面図（ａ）のＹＹ’線に沿った断面図である。
図４は、図１に示した半導体回路を２次元アレイ状に配置した２次元アレイメモリを示す回路図である。
図５は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を高抵抗状態にするタイミングチャートである。
図６は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、全メモリセルの抵抗変化素子を高抵抗状態にするタイミングチャートである。
図７は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を低抵抗状態にするタイミングチャートである。
図８は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子の抵抗値を読み出すタイミングチャートである。
図９は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｐチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を高抵抗状態にするタイミングチャートである。
図１０は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｐチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を低抵抗状態にするタイミングチャートである。
図１１は、図４に示した２次元アレイメモリにおいてｐチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子の抵抗値を読み出すタイミングチャートである。
図１２は、従来技術に係るＭＯＳを用いた相変化メモリセルを説明する図であり、（ａ）は相変化メモリセルの回路図であり、（ｂ）は相変化材料を用いた抵抗変化素子の断面図であり、（ｃ）は相変化材料を用いた抵抗変化素子の電流電圧特性を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】  以下に、本発明の実施の形態について添付図面を参照しながら説明する。
図１は本発明の実施の形態に係る駆動方法の対象となる不揮発性メモリを示す回路図である。本不揮発性メモリは、ゲート端子Ｇ及び基板電位制御端子Ｕが電気的に接続されているｎチャネルＭＯＳトランジスタ１と、ＧｅＳｂＴｅ（ゲルマニウム・アンチモン・テルル）などの相変化材料を用いた抵抗変化素子２とを備えている。これら２つの素子１、２によって一つのメモリセルが構成されており、抵抗変化素子２の２つの端子のうち第１の端子Ｒ１がＭＯＳトランジスタ１のソース端子Ｓに接続され、第２の端子Ｒ２が接地され、ＭＯＳトランジスタ１のドレイン端子Ｄが電圧供給端子ＶＡに接続されている。電圧供給端子ＶＡに接続されるのは電圧供給源に限らず、電流供給源であってもよい。
図１において、電圧供給端子ＶＡ及びゲート端子Ｇに正の電圧を印加すると、抵抗変化素子２に電流が流れ、抵抗変化素子２に使用されている相変化材料の抵抗値のセット及びリセットが可能となる。ＭＯＳトランジスタ１は、ゲート端子Ｇ及び基板電位制御端子Ｕが電気的に接続されていることにより、オン時にはしきい値電圧が下がり、オフ時にはしきい値電圧が高くなる。このＭＯＳトランジスタ１をＤＴＭＯＳ（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ  ＭＯＳ）と記す。その結果、ＤＴＭＯＳ１では、通常のＭＯＳトランジスタと比較してサブスレッショルドスロープの傾きや電流駆動力を大幅に改善することができる。
ｎチャネルＭＯＳトランジスタの場合、基板の導電型はｐ型、ソース及びドレインの導電型はｎ＋型であり、ｐｎ＋接合が形成されている。従って、図１において、このｐｎ＋接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦ以上の電圧をゲート端子Ｇに印加した場合、ゲート端子Ｇ（基板電位制御端子Ｕ）からソース端子Ｓにダイオード順方向電流が流れる。この動作は、ＭＯＳトランジスタの通常動作とは異なっており、このダイオード順方向電流は、ＭＯＳトランジスタの通常動作時のチャネル電流よりも大きい。本実施の形態では、抵抗変化素子２に相変化材料を用いており、比較的大きい書き換え電流を必要とするので、抵抗変化素子２のリセット時に、このバイポーラ的な動作モードを積極的に利用する。
また、リードディスターブを避けるために、０．４Ｖ以下の低電圧を用いなければならない抵抗値の読み出し時には、上記した良好なサブスレッショルド特性により高速読み出しが可能となる。リセット時には大電流が必要であり、読み出し時には極低電圧の印加が必須である相変化材料を用いた抵抗変化素子に関しては、スイッチ素子として通常のＭＯＳを用いた場合、省面積で低消費電力かつ高速なメモリセルを実現することは極めて困難である。これに対して、上記のように、スイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いてメモリセルを形成することにより省面積を実現でき、これを後述するように駆動することによって低消費電力かつ高速にメモリセルを動作させることができる。
図２は、通常のＭＯＳ及びＤＴＭＯＳのゲート電圧（Ｖｇ）−ドレイン電流（Ｉｓｄ）特性を示す図である。何れのＭＯＳも、ｎチャネル型であり、素子寸法は、チャネル長が０．５μｍ、チャネル幅が１０μｍ、ゲート酸化膜厚が６ｎｍである。また、ドレイン電圧Ｖｓｄは１．０Ｖで一定とした。
図２から明らかなように、ＤＴＭＯＳでは、０Ｖ近傍を除く全てのゲート電圧Ｖｇにおいて通常のＭＯＳよりも大きいドレイン電流Ｉｓｄが得られ、サブスレッショルドスロープも６０ｍＶ／ｄｅｃの理想的な値であることがわかる。図２に示した特性を有するＤＴＭＯＳの場合、ゲート電圧（＝基板電位）を約０．８Ｖ以上にした場合に、前述したバイポーラ的動作による駆動電流の向上が図られている。
以下に抵抗変化素子用のスイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いる場合のメリットについて具体的に説明する。まず、たとえばゲート電圧０．４Ｖで抵抗値の読み出しを行う場合、図２から分かるように、電流駆動力が約２桁も優れている。即ち、ドレイン電流Ｉｓｄが約２桁大きいことから、高速な抵抗値の読み出し動作が可能となる。
また、相変化材料を用いた抵抗変化素子のリセット動作に必要な電流を１ｍＡとすると、図２から分かるように、ＤＴＭＯＳではゲート電圧が約０．９５Ｖでこの電流値が得られるのに対し、通常のＭＯＳではゲート電圧を約１．５Ｖまで大きくする必要がある。
以上のように抵抗変化素子用のスイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いることにより、リセット時のゲート印加電圧を約４０％低減でき、低消費電力化が図れ、かつ読み出し速度の大幅な改善も可能となることがわかる。なお、ドレイン電流Ｉｓｄが１ｍＡ以下で行うセット動作についても、より低電圧の印加で可能となることは明らかである。さらに、同じ駆動電流を得られるように素子を設計した場合、駆動電流は素子のチャネル幅Ｗとチャネル長さＬの比Ｗ／Ｌに比例することから、ＤＴＭＯＳの方が大幅に素子面積を小さくできることは言うまでもない。
次に、占有面積の小さいメモリセルを実現するべく、チャネル幅Ｗと長さＬの比Ｗ／Ｌが２（図２の場合の１／１０）になるように設計した場合について説明する。この場合、ドレイン電流Ｉｓｄは、図２に示した値の１／１０となるため、通常のＭＯＳであれば１ｍＡの駆動電流を得るには、ゲート電圧Ｖｇを３Ｖ以上の高電圧（図２に図示せず）に設定する必要がある。そのために、広い面積を占有する電圧昇圧回路を周辺回路として別途備える必要がある。
一方、ＤＴＭＯＳであれば、駆動電流が１／１０となった場合でもゲート電圧Ｖｇが２Ｖでほぼ１ｍＡのドレイン電流Ｉｓｄが得られるため、昇圧回路等は特に必要ではない。以上ではドレイン電圧Ｖｓｄを１Ｖとした場合のデータを示した図２を用いて説明したが、異なるドレイン電圧Ｖｓｄであっても、例えばＶｓｄ＝２［Ｖ］であってもＤＴＭＯＳの優位性は全く変わらない。
以上ではｎチャネルＤＴＭＯＳに関して説明したが、ｐチャネルＤＴＭＯＳも上記と同様の特性及び通常のｐチャネルＭＯＳに対する優位性を有している。尚、ｐチャネルＤＴＭＯＳの場合、各端子への印加電圧の極性がｎチャネルＤＴＭＯＳとは逆である。ｐチャネルＭＯＳの場合、基板の導電型はｎ型、ソース及びドレインの導電型はｐ＋型であり、ｐ＋ｎ接合が形成されている。従って、ゲート電圧ＶＧに対するソース（又はドレイン）電圧ＶＳ、即ちＶＳ−ＶＧがｐ＋ｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦ以上であれば、ソース（又はドレイン）からゲートの方向に、ＭＯＳトランジスタの通常動作時のチャネル電流よりも大きいダイオード順方向電流が流れる。
図３は、図１に示した半導体回路に従って形成された相変化メモリセルの概略構成を示す図である。（ａ）はＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板上にＤＴＭＯＳと相変化材料を用いた抵抗変化素子とを積層して形成された相変化メモリセルを示す平面図であり、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ平面図（ａ）のＸＸ’線、ＹＹ’線に沿った断面図である。
本相変化メモリセルは、図３の（ｂ）に示したように、シリコン基板２０、埋め込み酸化膜２１、素子分離酸化膜１０、及び層間絶縁膜１８の積層構造の中に形成されたＤＴＭＯＳ及び抵抗変化素子を備えている。ここで、ＤＴＭＯＳは、ドレイン領域１２、ソース領域１３、ポリシリコンのゲートパターン１４、及びシリコン酸化膜などのゲート酸化膜１９を備えている。抵抗変化素子は、相変化膜２２及びヒーター電極２３を備えている。また、本相変化メモリセルは、層間絶縁膜１８の上に形成されたアルミなどの金属配線パターン１７ａ〜１７ｃ、及び層間絶縁膜１８中に形成されたコンタクト窓に埋め込まれたタングステン等の金属プラグ１５ａ〜１５ｃ、１６を備えている。金属配線パターン１７ａ〜１７ｃは、それぞれ金属プラグ１５ａ〜１５ｃを介して、ＤＴＭＯＳのゲートパターン１４、ドレイン領域１２、及びソース領域１３と接続されている。また、図３の（ｃ）に示したように、金属配線パターン１７ａは、金属プラグ１６を介して、ドレイン領域１２及びソース領域１３とは逆の不純物が拡散された不純物拡散領域３０とも接続されている。例えば、ドレイン領域１２及びソース領域１３がｎ＋であれば、不純物拡散領域３０はｐ＋である。尚、図３の（ａ）〜（ｃ）において同じ構成要素には同じ番号を付してあり、（ａ）では層間絶縁膜１８を省略している。
図３の（ｂ）に示したヒーター電極２３には、金属よりも抵抗率が高くかつ耐熱性が高い材料、例えばポリシリコンや、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）、及びそれらの酸化物などを用いる。即ち、相変化メモリセルに電流を流した時にヒーター電極２３の発熱によって、ヒーター電極２３と相変化膜２２との界面部分の相変化膜２２を結晶化又は非結晶化させることができ、相変化膜２２の抵抗値制御が可能となるようにヒーター電極２３の材料及び寸法形状を決定すればよい。
例えば、ヒーター電極２３は金属プラグ１５ｃと同じ材料であっても良い。その場合には相変化膜２２全体を結晶化又は非結晶化させることになり、ヒーター電極２３に金属プラグ１５ｃよりも抵抗率が高い材料を用いた場合に比べて、抵抗値制御に要するエネルギーが増大する。
また、ヒーター電極２３や金属プラグ１５ｃと相変化膜２２との間の原子相互拡散が問題となる場合には、図３の（ｂ）には示していないが、それらと相変化膜２２との間にチタンナイトライド膜などのバリアメタル層を挿入しても良い。
図３の（ａ）〜（ｃ）より明らかなように、相変化膜２２はＤＴＭＯＳ上に積層されることができ、かつ極めて小さい面積しか要しないのでメモリセル全体の面積は、スイッチ素子であるトランジスタの面積でほぼ決まってしまう。ＤＴＭＯＳは、通常のＭＯＳに比べて素子毎に基板コンタクト用の金属プラグ１６を余分に設ける必要がある分、メモリセル面積が増大するが、前述の電流駆動力増大によるチャネル幅低減効果を考慮すると、全体として大幅な省面積化を図ることが可能となる。なお、図３ではＳＯＩ基板を用いた場合について説明したが、バルク基板にウエルを形成して素子毎の基板電位制御を行っても良い。
図４は図１に示した回路のメモリセルを２次元に配置して構成したアレイメモリを示す回路図である。本アレイメモリは、ｎチャネルＤＴＭＯＳ１及び相変化材料を用いた抵抗変化素子２から構成されたメモリセルと、データ入出力用のビット線ＢＬｉ（ｉは１〜ｎの自然数）と、ゲート電極に接続されてＤＴＭＯＳ１をオン／オフしてデータの入出力制御を行うワード線ＷＬｉ（ｉは１〜ｎの自然数）と、電圧を供給する電圧供給部ＶＡとを備えている。即ち、各ビット線ＢＬｉは抵抗変化素子２の第２の端子Ｒ２に接続され、各ワード線ＷＬｉはＤＴＭＯＳ１のゲート端子Ｇに接続され、電圧供給部ＶＡはドレイン端子Ｄに接続されている。抵抗変化素子２の第１の端子Ｒ１は、ＤＴＭＯＳ１のソース端子に接続されている（図１および図４を参照）。ここで、電圧供給部ＶＡは全て共通であり、１つの電圧供給源若しくは電流供給源に接続されている。
（第１の実施形態）
以下に、図４に示した不揮発性メモリを駆動する方法、即ち、２次元アレイメモリを構成する各メモリセル１の抵抗変化素子２に対するリセット動作（すなわち、抵抗変化素子２を高抵抗状態にする動作）、セット動作（すなわち、抵抗変化素子２を低抵抗状態にする動作）、及び抵抗値読み出し動作（すなわち、抵抗変化素子２の抵抗状態を読み出す動作）について説明する。
この第１の実施形態においては、ＤＴＭＯＳ１がｎチャネルＤＴＭＯＳである。ＤＴＭＯＳ１がｐチャネルＤＴＭＯＳである場合については、第２の実施形態として後述する。
ここでビット線ＢＬｉへの印加電圧をＶＢ、ワード線ＷＬｉへの印加電圧をＶＷ、前述の基板とソース（又はドレイン）とで構成されるｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧をＶＦ（＞０）、電圧供給部ＶＡへの印加電圧をＶＡ、リードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧をＶＲ（＞０）（図１２の（ｃ）の例では約０．４５Ｖ）とする。
また、リセット動作においては添え字を「１」、セット動作においては添え字を「２」、抵抗値読み出し動作においては添え字を「３」として付加する。すなわち、リセット動作におけるビット線ＢＬｉへの印加電圧は、「ＶＢ１」と表記する。
（リセット動作）
図５は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（第１メモリセルと記す）の抵抗変化素子２のみをリセットする場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである。
初期状態として、全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が初期電圧であると仮定する。初期電圧としては０Ｖが好ましいが、ＤＴＭＯＳ１の状態をオフに維持することができ、なおかつ抵抗変化素子２の状態に影響を与えない電圧であれば、０Ｖに限られない。以下においては、各線に印加する電圧は、初期電圧を基準とした電圧として説明する。
（第１リセットステップ）
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持したまま、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡにそれぞれ正の、即ち初期電圧よりも大きい電圧ＶＢ１及びＶＡ１を印加する。ここで、ＶＡ１＝ＶＢ１であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でリセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの正の電圧ＶＢ１及びＶＡ１を「第１の電圧」という。
（第２リセットステップ）
次に、この状態を維持したまま、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２のみに、電圧ＶＡ１（＝ＶＢ１）と同じ大きさであり、且つｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦよりも大きい電圧ＶＷ１（ＶＷ１＞ＶＦ、ＶＷ１＝ＶＡ１＝ＶＢ１）を所定の時間Ｔ１の間印加する。この電圧ＶＷ１を「第２の電圧」という。
この間、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧（好ましくは０Ｖ）が印加されたままである。
これによって、時間Ｔ１の間、第１メモリセルではゲート端子Ｇからｐ型不純物を有する基板を介してソース端子Ｓ方向にｐｎ接合の順方向電流が流れる。図３を参照しながらより詳細に説明すると、ゲートパターン１４の直下の部分の半導体（以下、この部分の半導体を「活性領域」といい、符号３１を付与する）はｐ型、ドレイン領域１２およびソース領域１３はｎ型であり、なおかつゲートパターン１４と活性領域３１とは、金属プラグ１５ａ、電極配線パターン１７ａ、金属プラグ１６、不純物拡散領域３０を介して電気的に同電位になるように接続されている。従って、ワード線ＷＬ２を介してゲートパターン１４に印加された電圧ＶＷ１は、活性領域３１にも印加される。ｐ型不純物を有する活性領域３１と、ｎ型不純物をそれぞれ有するドレイン領域１２およびソース領域１３との間には、ｐｎ接合が形成されているので、活性領域３１に印加された電圧ＶＷ１による電流がドレイン領域１２およびソース領域１３に向かおうとする。これにより生じる電流の値を、図１２（ｃ）に示すような、抵抗変化素子を構成する相変化材料を十分に溶融してその後にアモルファス状態にするリセット電流領域の値としておけば、そのソース端子Ｓに接続された抵抗変化素子２をリセットする、すなわち、高抵抗状態にすることができる。時間Ｔ１は、相変化材料を溶融させるのに必要な時間であり、例えば１００ｎｓ以下の短時間で良い。
一方、ワード線ＷＬ２は第１メモリセル以外のメモリセルのゲート端子Ｇにも接続されているが、それらのメモリセルでは、ゲート端子Ｇに印加される電圧ＶＷ１と等しい電圧ＶＢ１がビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に印加されているので、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧が印加されることがなく、抵抗変化素子２には電流が流れない。即ち、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を予め印加したのは、ワード線ＷＬ２に印加する電圧ＶＷ１と電圧ＶＢ１とをバランスさせ、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧を印加させないためである。
（第３リセットステップ）
第２リセットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。このとき、一旦溶融した相変化材料を急冷して非晶質状態とするためには、図５の矢印に示すように、時間Ｔ１経過後のパルス波形の立ち下がりが急峻であることが望ましい。
最後に、初期状態に戻すために、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。
以上では、最も望ましい電圧条件、即ち、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１＞ＶＦ、且つ電圧ＶＷ１、ＶＡ１、ＶＢ１がリセット電流領域の特性を与え得る電圧値である場合を説明したが、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１でなくてもよい。即ち、ＶＡ１＝ＶＢ１、ＶＷ１＞ＶＦ、ＶＢ１＋ＶＦ＞ＶＷ１≧ＶＢ１であればよい。ここで、ＶＷ１≧ＶＢ１は、ｐｎ接合に逆バイアス電圧がかからない条件である。この場合、第１メモリセルではソース端子Ｓ（導電型はｎ＋型）に対する基板（導電型はｐ型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＷ１−ＶＢ１）は、ＶＳＢ１＝ＶＷ１（＞ＶＦ）であり、ｐｎ接合の順方向電流によって抵抗変化素子をリセットすることができる。
これに対し、第１メモリセル以外のワード線ＷＬ２に接続されているメモリセルでは、ソース端子Ｓ（導電型はｎ＋型）に対する基板（導電型はｐ型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＷ１−ＶＢ１）は、０≦ＶＳＢ１＜ＶＦの範囲にあり、ソース端子Ｓと基板との間のｐｎ接合に印加される電圧が電圧ＶＦを超えないので、ｐｎ接合の順方向電流を抑制することができる。
また、所望の複数のメモリセルを、即ち所望の複数の抵抗変化素子２を一度にリセットすることも可能である。そのためには、図５に示したタイミングチャートを、ワード線ＷＬ２にのみ電圧ＶＷ１を印加する代わりに、所定の複数のメモリセルに接続されたワード線ＷＬｊ（１≦ｊ≦ｎ）に電圧ＶＷ１を印加し、それら以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠ｊ）を初期電圧（好ましくは０Ｖ）のままに維持するように変更し、さらにビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を印加する代わりに、複数のビット線ＢＬｋ（１≦ｋ≦ｎ）を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持し、その残りのビット線ＢＬｍ（ｍ≠ｋ）に電圧ＶＢ１を印加するように変更すれば良い。
例えば、全メモリセルの抵抗変化素子２をリセットする場合には、図６に示したタイミングチャートに従って各電圧を印加すれば良い。即ち、初期状態から、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ１を印加し（第１全リセットステップ）、続いて、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）に電圧ＶＷ１（ＶＷ１＞ＶＦ、ＶＷ１＝ＶＡ１）を所定の時間Ｔ１印加し（第２全リセットステップ）、その後、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）を急峻に０Ｖに戻す（第３全リセットステップ）。
以上のリセット動作の説明において、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ１を印加するタイミングとが同じである場合を説明したが、所定のワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ１が印加される前に電圧ＶＢ１及びＶＡ１が共に印加されてさえいれば、何れか一方が早く印加されても良い。同様に、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻すタイミングは、所定のワード線ＷＬ２の電圧ＶＷ１が初期電圧に戻された後でさえあれば、何れか一方が早く初期電圧に戻されても良い。
（セット動作）
次に、抵抗変化素子２の相変化材料の抵抗値を小さくするセット動作に関して説明する。ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（上記の第１メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは第２メモリセルと記す）の抵抗変化素子２のみをセットする場合、各線への電圧印加のタイミングシーケンスは、図７に示すとおりである。
この図７に示されたタイミングシーケンスは、基本的には図５に示したリセット動作のタイミングシーケンスと同様である。
（第１セットステップ）
すなわち、まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持したまま、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡにそれぞれ正の、即ち初期電圧よりも大きい電圧ＶＢ２及びＶＡ２を印加する。ここで、ＶＡ２＝ＶＢ２であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの正の電圧ＶＢ２及びＶＡ２を「第３の電圧」という。
（第２セットステップ）
次に、この状態を維持したまま、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２のみに、電圧ＶＡ２（＝ＶＢ２）と同じ大きさであり、且つｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦよりも大きい電圧ＶＷ２（ＶＷ２＞ＶＦ、ＶＷ２＝ＶＡ２＝ＶＢ２）を所定の時間Ｔ２の間印加する。この正の、即ち初期電圧よりも大きい電圧ＶＷ２を「第４の電圧」という。
この間、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧（好ましくは０Ｖ）が印加されたままである。
これによって、時間Ｔ２の間、第２メモリセルではゲート端子Ｇからｐ型不純物を有する基板を介してソース端子Ｓ方向にｐｎ接合の順方向電流が流れる。この電流の値を、図１２（ｃ）に示すような、抵抗変化素子を構成する相変化材料を結晶状態にするセット電流領域の値としておけば、そのソース端子Ｓに接続された抵抗変化素子２をセットする、すなわち、低抵抗状態にすることができる。時間Ｔ２は、相変化材料を結晶状態にするのに必要な時間であり、例えば１００ｎｓ以下の短時間で良い。
一方、ワード線ＷＬ２は第２メモリセル以外のメモリセルのゲート端子Ｇにも接続されているが、それらのメモリセルでは、ゲート端子Ｇに印加される電圧ＶＷ２と等しい電圧ＶＢ２がビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に印加されているので、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧が印加されることがなく、抵抗変化素子２には電流が流れない。即ち、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ２を予め印加したのは、ワード線ＷＬ２に印加する電圧ＶＷ２と電圧ＶＢ２とをバランスさせ、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧を印加させないためである。
（第３セットステップ）
第２セットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部の電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。このとき、相変化材料を結晶質状態とするためには、図７に矢印を用いて示したように、時間Ｔ２経過後のパルス波形の立ち下がりが緩やかであることが望ましい。
最後に、初期状態に戻すために、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。
このように、セット動作においては、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡのそれぞれへの印加電圧ＶＷ２、ＶＢ２及びＶＡ２は抵抗変化素子の電流電圧特性から決定される必要がある。
この場合にも、少なくともＶＡ２＝ＶＢ２及びＶＢ２＋ＶＦ＞ＶＷ２≧ＶＢ２であることが必要であり、より望ましくはＶＡ２＝ＶＢ２＝ＶＷ２である。例えば図１２の（ｃ）の場合であれば、リセット電流値の６０〜１００％の電流値を与える電圧範囲内でセット動作を行うことが必要である。同じ抵抗値にセットする場合、セット電流値が高いほど抵抗変化素子に電圧を印加する時間は短くて良いが、必ずリセット電流以下の電圧範囲で行う必要がある。そのため、ＶＡ１＞ＶＡ２の関係が成立する（ＶＢ２などについても同様である）。
また、リセット動作と同様に、電圧を印加するビット線ＢＬｉ及びワード線ＷＬｊを適宜変更することによって、所望の複数のメモリセルを一度にセットすることや、全てのメモリセルを一度にセットすることも可能である。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ２を印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ２を印加するタイミングとは、何れか一方が早くても良い。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻すタイミングも、何れか一方が早くても良い。
（抵抗値読み出し動作）
最後に、所定の抵抗変化素子２の抵抗値を選択的に読み出す抵抗値読み出し動作について説明する。以下の一連の動作を、この明細書では、第１読み出しステップと言う。
ここでは、ＤＴＭＯＳ１を通常のＭＯＳトランジスタと同様に動作させる。また、上記の第１メモリセルまたは第２メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは読み出し対象のメモリセルを第３メモリセルと記し、この第３メモリセルが備えている抵抗変化素子の状態（抵抗値）を読み出すことを説明する。
まず、第３メモリセルに接続されているワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加することにより、当該ワード線ＷＬ２に接続されているＤＴＭＯＳ１をオンにする。
さらに、第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させる。すると、これらのビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電流が流れる。この電流を第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２に接続されたセンスアンプ（不図示）などによりセンスすることにより、第３メモリセルが備えている抵抗変化素子２に流れる電流値をビット線ＢＬ２に流れる電流の大きさとして検知する。
なお、ここで説明した第５の電圧、電位差を発生させるために第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２に印加される電圧、および電圧供給部ＶＡに印加される電圧は、いずれもリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲ以下である。すなわち、図１２（ｃ）に示す、読み出し電圧領域に含まれる電圧である。
なお、第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させた後に、ワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加してもよい。
また、図８に示すタイミングチャートにより抵抗値を読み出しても良い。
図８は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を読み出す場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである。この図８に示されるタイミングチャートは、全ての電圧がリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲ以下である点を除けば、図５および図７と同じタイミングチャートである。そのため、以下、簡単に説明するにとどめる。
初期状態は上記と同様に、全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が初期電圧（好ましくは０Ｖ）であると仮定する。
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持したまま、第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡに、それぞれ正の電圧ＶＢ３（＝ＶＲ）及びＶＡ３（＝ＶＲ）を印加する。次に、その状態を維持したまま所定の時間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝ＶＲ）を印加し、その後初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。この間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧（好ましくは０Ｖ）を印加したままとする。ワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝ＶＲ）が印加された状態で、ビット線ＢＬ２に流れる電流値をセンスアンプ等で検知することによって、選択された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を得ること、即ち第３メモリセルに書き込まれているデータを読み出すことができる。最後に、その状態から第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻し、第３メモリセルの選択を解除し、初期状態に戻す。
以上では、電圧ＶＡ３、ＶＢ３、ＶＷ３の全てがリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲと等しい場合を説明したが、これらは図１２の（ｃ）における読み出し電圧領域の電圧であり、電圧ＶＡ３及びＶＢ３が等しければよい。通常、読み出し電圧領域の電圧は、ｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦよりも十分に低いので、各メモリセルを構成するＤＴＭＯＳ１においてｐｎ接合の順方向電流は流れない。
また、リセット動作及びセット動作と同様に、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ３を印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ３を印加するタイミングとは、何れか一方が早くても良い。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻すタイミングも、何れか一方が早くても良い。
（第２の実施形態）
第１の実施形態では、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いてアレイメモリを構成する場合を説明したが、ｐチャネルＤＴＭＯＳを用いても良い。その場合の駆動方法は、図５〜８において印加する電圧の極性を反転させて同様に行えば良い。
一例として、図９〜１１に、ｐチャネルＤＴＭＯＳを用て図４と同様に構成したアレイメモリを駆動するタイミングチャートを示す。以下に、ｐチャネルＤＴＭＯＳを用いたアレイメモリに対するセット動作、リセット動作、及び抵抗値読み出し動作について説明する。
（リセット動作）
図９は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（第１メモリセルと記す）の抵抗変化素子２のみをリセットする場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである（図５に対応）。
初期状態として全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が初期電圧（０Ｖ）であると仮定する。初期電圧としては一例として０Ｖを挙げることができるが、ＤＴＭＯＳの状態をオフに維持することができ、なおかつ抵抗変化素子２の状態に影響を与えない電圧であれば、０Ｖに限られない。特に、正の電圧（例えば、３Ｖ）であってもよく、この場合には、後述するように、０Ｖ以上の電圧で不揮発性メモリを駆動させることができる。
（第１リセットステップ）
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧に維持したまま、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡに、初期電圧よりも小さい電圧ＶＢ１及びＶＡ１を印加する。ここで、ＶＡ１＝ＶＢ１であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でリセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの電圧ＶＢ１及びＶＡ１を「第１の電圧」という。
なお、本明細書において、２つの電圧を比較した際に、一方の電圧が他方の電圧よりも「小さい」とは、符合を考慮して絶対的に電圧が小さいという意味であり、それらの絶対値を比較して小さいという意味ではない。一例として、「−５Ｖ」と「−１０Ｖ」とを比較すると、本明細書においては、「−１０Ｖ」は「−５Ｖ」よりも小さい電圧、ということになる。
（第２リセットステップ）
次に、この状態を維持したまま、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２のみに、電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ初期電圧よりも小さい第２の電圧ＶＷ１を所定の時間Ｔ１の間印加する。一例として、この第２の電圧は、電圧ＶＡ１（＝ＶＢ１）と同じ大きさである。
初期電圧が０Ｖである場合、この第２の電圧は、ｎ型の活性領域３１とｐ型のソース領域およびドレイン領域との間に形成されるｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦ（＞０）よりも絶対値が大きい負の電圧ＶＷ１（ＶＷ１＜−ＶＦ、ＶＷ１＝ＶＡ１＝ＶＢ１）である。具体的には、一例として、−３Ｖ〜−２Ｖ程度の電圧である。
初期電圧が３Ｖである場合、この第２の電圧は、一例として０Ｖ〜１Ｖ程度の電圧である。
時間Ｔ１は、相変化材料を溶融させるのに必要な時間であり、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様の条件を満たすことが必要である。
この間、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧が印加されたままである。
これによって、時間Ｔ１の間、第１メモリセルではソース端子Ｓからｎ型不純物を有する基板を介してゲート端子Ｇ方向にｐｎ接合の順方向電流が流れる。図３を参照しながらより詳細に説明すると、活性領域３１はｎ型、ドレイン領域１２およびソース領域１３はｐ型であり、なおかつゲートパターン１４と活性領域３１とは、金属プラグ１５ａ、電極配線パターン１７ａ、金属プラグ１６、不純物拡散領域３０を介して電気的に同電位になるように接続されている。従って、ビット線ＢＬ２を介してソース領域１３に印加された電圧ＶＢ１は活性領域３１にも印加される。ｐ型不純物をそれぞれ有するドレイン領域１２およびソース領域１３と、ｎ型不純物を有する活性領域３１との間には、ｐｎ接合が形成されているので、ソース領域１３に印加された電圧ＶＢ１によって電流が活性領域３１を介してゲートパターン１４に向かおうとする。これにより生じる電流値を、図１２（ｃ）に示すような、抵抗変化素子を構成する相変化材料を十分に溶融してその後にアモルファス状態にするリセット電流領域の値としておけば、そのソース端子Ｓに接続された抵抗変化素子２をリセットする、すなわち、高抵抗状態にすることができる。時間Ｔ１は、相変化材料を溶融させるのに必要な時間であり、例えば１００ｎｓ以下の短時間で良い。
一方、ワード線ＷＬ２は第１メモリセル以外のメモリセルのゲート端子Ｇにも接続されているが、それらのメモリセルでは、ゲート端子Ｇに印加される電圧ＶＷ１と等しい電圧ＶＢ１がビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に印加されているので、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧が印加されることがなく、抵抗変化素子２には電流が流れない。即ち、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を予め印加したのは、ワード線ＷＬ２に印加する電圧ＶＷ１と電圧ＶＢ１とをバランスさせ、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧を印加させないためである。
（第３リセットステップ）
第２リセットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧に戻す。このとき、一旦溶融した相変化材料を急冷して非晶質状態とするためには、図９に矢印で示したように、時間Ｔ１経過後のパルス波形の立ち上がりが急峻であることが望ましい。
最後に、初期状態に戻すために、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧に戻す。
電圧条件に関しては、初期電圧が０Ｖである場合、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１＜−ＶＦ、且つ電圧ＶＷ１、ＶＡ１、ＶＢ１の絶対値がリセット電流領域の特性を与え得る電圧値である場合を説明したが、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１でなくてもよい。即ち、ＶＡ１＝ＶＢ１、ＶＷ１＜−ＶＦ、ＶＢ１−ＶＦ＜ＶＷ１≦ＶＢ１であればよい。この場合、第１メモリセルでは、基板（導電型はｎ型）に対するソース端子Ｓ（導電型はｐ＋型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＢ１−ＶＷ１）はＶＳＢ１＝−ＶＷ１＞ＶＦであり、ｐｎ接合の順方向電流によって抵抗変化素子をリセットすることができる。
これに対し、第１メモリセル以外の、ワード線ＷＬ２に接続されたメモリセルでは、基板（導電型はｎ型）に対するソース端子Ｓ（導電型はｐ＋型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＢ１−ＶＷ１）は０≦ＶＳＢ１＜ＶＦの範囲にあり、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に印加される電圧がＶＦを超えないので、ｐｎ接合の順方向電流を抑制することができる。
また、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様に、所望の複数のメモリセルを一度にリセットすることや、全メモリセルを一度にリセットすることも可能である。
（セット動作）
次に、抵抗変化素子の相変化材料の抵抗値を小さくするセット動作に関して説明する。ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（上記の第１メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは第２メモリセルと記す）の抵抗変化素子のみをセットする場合、各線への電圧印加のタイミングシーケンスは、図１０に示すとおりである。
この図１０に示されるタイミングシーケンスは、基本的には図９に示したリセット動作のタイミングシーケンスと同様である。
（第１セットステップ）
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧に維持したまま、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡにそれぞれ電圧ＶＢ２及びＶＡ２を印加する。ここで、ＶＡ２＝ＶＢ２であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの電圧ＶＢ２及びＶＡ２を「第３の電圧」という。
（第２セットステップ）
次に、第２のメモリセルに接続されているワード線ＷＬ２に、電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ初期電圧よりも小さい第４の電圧ＶＷ２を印加することにより、セット電流を第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す。
この第２セットステップは、第１の実施形態の第２セットステップとほぼ同様であるが、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡのそれぞれへの印加電圧ＶＷ２、ＶＢ２及びＶＡ２は抵抗変化素子の電流電圧特性から決定される必要がある。この場合にも、少なくともＶＡ２＝ＶＢ２及びＶＢ２−ＶＦ＜ＶＷ２≦ＶＢ２であることが必要であり、より望ましくはＶＡ２＝ＶＢ２＝ＶＷ２である。初期電圧が０Ｖである場合には、ＶＡ２は−２Ｖ〜−３Ｖであり、初期電圧が３Ｖである場合には、ＶＡ２は０〜１Ｖである。この場合においても、第２リセットステップにおいて説明したように、ｐ型のソース領域１３からｎ型の活性領域３１に向かって、それらによって形成されているｐｎ接合に順方向電流が流れる。
また、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様に、所望の複数のメモリセルを一度にセットすることや、全メモリセルを一度にセットすることも可能である。
（第３セットステップ）
第２セットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧に戻す。このとき、相変化材料を結晶質状態とするためには、図１０に矢印を用いて示したように、時間Ｔ２経過後のパルス波形の立ち上がりが緩やかであることが望ましい。
最後に、初期状態に戻すために、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧に戻す。
（抵抗値読み出し動作）
最後に、所定の抵抗変化素子２の抵抗値を選択的に読み出す抵抗値読み出し動作について説明する。以下の一連の動作を、この明細書では、第１読み出しステップと言う。
ここでは、ＤＴＭＯＳ１を通常のＭＯＳトランジスタと同様に動作させる。また、上記の第１メモリセルまたは第２メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは読み出し対象のメモリセルを第３メモリセルと記し、この第３メモリセルが備えている抵抗変化素子の状態（抵抗値）を読み出すことを説明する。
まず、第３のメモリセルに接続されているワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加することにより、当該ワード線ＷＬ２に接続されているＤＴＭＯＳ１をオンにする。
さらに、第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させる。すると、これらのビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電流が流れる。この電流を第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２に接続されたセンスアンプ（不図示）などによりセンスすることにより、第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子２に流れる電流値をビット線ＢＬ２に流れる電流の大きさとして検知する。
なお、第３のメモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させた後に、ワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加してもよい。
また、図１１に示すタイミングチャートにより抵抗値を読み出しても良い。
図１１は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を読み出す場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである。
初期状態は上記と同様に、全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が０Ｖまたは３Ｖであると仮定する。
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧の０Ｖに維持したまま、第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡに、それぞれ負の電圧ＶＢ３（＝−ＶＲ）及びＶＡ３（＝−ＶＲ）を印加する。なお、初期電圧が３Ｖである場合、このＶＢ２などの電圧は必ずしも負の電圧ではなく、初期電圧よりも小さい電圧である正の電圧であっても良い。
次に、その状態を維持したまま所定の時間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝−ＶＲ）を印加し、その後初期電圧の０Ｖに戻す。この間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧の０Ｖを印加したままとする。
ワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝−ＶＲ）が印加された状態で、ビット線ＢＬ２に流れる電流値をセンスアンプ等で検知することによって、選択された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を得ること、即ち第３メモリセルに書き込まれているデータを読み出すことができる。
最後に、その状態から第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧の０Ｖに戻し、第３メモリセルの選択を解除し、所期状態に戻す。
以上では、電圧ＶＡ３、ＶＢ３、ＶＷ３の絶対値が全てがリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲと等しい場合を説明したが、これらは図１２の（ｃ）における読み出し電圧領域の電圧であり、電圧ＶＡ３及びＶＢ３が等しければよい。
上記のｐチャネルＤＴＭＯＳを用いたアレイメモリに対するセット動作、リセット動作、及び抵抗値読み出し動作において、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様に、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢを印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡを印加するタイミングとは、何れか一方が早くても良い。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧の０Ｖに戻すタイミングも、何れか一方が早くても良い。
以上のように、抵抗変化素子を備えた不揮発性メモリにおいて、スイッチ素子として、通常のＭＯＳに比べてサブスレッショルド特性や駆動電流が大幅に改善されたＤＴＭＯＳを用い、これを上記のように駆動することによって、メモリの消費電力を低減させることができ、かつメモリの高速読み出し動作を可能とする。
また、相変化材料を用いたメモリセルは製造後の抵抗値のばらつきが大きいため、出荷前もしくは所定データを記録するプログラム前に、一旦、全メモリセルをセットもしくはリセットする必要がある。従って、そのような場合に、図６に示した駆動シーケンスは初期値設定工程を簡略化できるため、非常に有効である。
尚、ｎチャネル及びｐチャネルＤＴＭＯＳを用いたアレイメモリに対するセット動作、リセット動作、及び抵抗値読み出し動作の説明において、初期状態として各線の電圧が０Ｖであるとしたが、上記でも説明したように、これらの電圧は０Ｖに限定されず、同じ所定の電圧にバイアスされていてもよい。その場合、各線に印加する電圧を、上記した各電圧に所定のバイアス電圧を加算した電圧とすればよい。
また、以上では、スイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いた場合にメリットが多い相変化材料を用いた抵抗変化素子について説明を行ったが、電圧や電流の印加によって抵抗値が変化する素子であれば良く、例えば電圧印加によって抵抗値が変化するマンガン系ペロブスカイト酸化物を２つの金属電極で挟んだ素子などを抵抗変化素子に用いても良い。
また、本実施の形態として説明した不揮発性メモリを駆動する方法では、リセット時にＤＴＭＯＳのバイポーラ的動作領域を用いることを特徴としたが、電流駆動型抵抗変化素子に必要とされる電流値が小さい場合でも、その有効性を失わない。スイッチ素子にＤＴＭＯＳを用いた場合、従来のＭＯＳに比べ、全てのゲート電圧領域でドレイン電流を大きくできるため、メモリセルの小面積化、低電圧動作による低消費電力化のメリットは極めて大きい。
【産業上の利用の可能性】
本発明によれば、ゲートと基板とが電気的に接続されたＤＴＭＯＳをスイッチ素子として用いた、低消費電力かつ高速読み出し可能な不揮発性メモリを駆動する方法を提供することができる。
【図１】
2004114315.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成16年12月16日(2004.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート及び基板が電気的に接続されているｎチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に前記初期電圧よりも大きい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第１の電圧以上、且つ前記第１の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第２の電圧を印加することによって、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも大きい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第３の電圧以上、且つ前記第３の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第４の電圧を印加することによって、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する、
不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項２】
前記第３リセットステップにおいて、前記初期電圧を急峻に印加する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項３】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項４】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項２に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項５】
前記初期電圧が０Ｖである、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項６】
全ての前記抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第１の電圧を印加する第１全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記第２の電圧を印加する第２全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全リセットステップと
を順に実行する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項７】
全ての前記抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第３の電圧を印加する第１全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記第４の電圧を印加する第２全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全セットステップと
を順に実行する、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項８】
前記相変化材料が、少なくともゲルマニウム、アンチモン、テルルのうちの何れか一つの元素を含んでいる、請求項１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項９】
前記第２の電圧が０．８Ｖよりも大きく、
前記第４の電圧が０．４Ｖ以上０．８Ｖ以下である、請求項８に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１０】
ゲート及び基板が電気的に接続されているｐチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第２の電圧を印加することにより、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
続いて、前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第４の電圧を印加することにより、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する、
不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１１】
前記第３リセットステップにおいて、前記初期電圧を急峻に印加する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１２】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１３】
前記第３セットステップにおいて、前記初期電圧を緩やかに印加する、請求項１１に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１４】
前記初期電圧が０Ｖである、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１５】
全ての前記抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第１の電圧を印加する第１全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記第２の電圧を印加する第２全リセットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全リセットステップと
を順に実行する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１６】
全ての前記抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び全ての前記ビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記電圧供給部に前記第３の電圧を印加する第１全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記第４の電圧を印加する第２全セットステップと、
全ての前記ワード線に前記初期電圧を印加する第３全セットステップと
を順に実行する、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１７】
前記相変化材料が、少なくともゲルマニウム、アンチモン、テルルのうちの何れか一つの元素を含んでいる、請求項１０に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【請求項１８】
前記第２の電圧が−０．８Ｖよりも小さく、
前記第３の電圧が−０．４以下−０．８Ｖ以上であり、且つ
前記第４の電圧が−０．４Ｖよりも大きい請求項１７に記載の不揮発性メモリを駆動する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不揮発性メモリを駆動する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯情報端末（ＰＤＡ）においても、大量の画像情報を扱うニーズが多くなり、高速、低消費電力かつ小型で大容量の不揮発性メモリが望まれている。中でも、結晶状態によって全体としての抵抗値が変化する特性を有する材料を利用したメモリ、いわゆる相変化メモリデバイスが、超高集積でかつ不揮発性動作が可能なメモリデバイスとして、近年注目を集めている。
【０００３】
このデバイスは、複数のカルコゲン元素で構成される相変化材料を２つの電極材料で挟んだ比較的簡単な構造をしており、２つの電極間に電流を流して相変化材料にジュール熱を加え、相変化材料の結晶状態を非晶質相と結晶相との間で変化させることにより、データの記録を実現している。例えばＧｅＳｂＴｅ系の相変化材料などでは通常、材料中に複数の結晶相が混在しており、原理的に２つの電極間の抵抗値をアナログ的に変化させることも可能である。従って、これらの相変化材料は、デジタルメモリへの応用に限らず、多値を記録できるアナログメモリへの応用においても期待されている。
【０００４】
相変化材料のメモリ活性領域における結晶状態は室温で極めて安定であるため、１０年を超える記憶保持も十分可能であるとされている。例えばオブシンスキー（Ovshinsky）による米国特許第５，２９６，７１６号公報（以下、特許文献１と記す）は、相変化メモリに関する技術レベルを示す文献である。
【０００５】
また、電界効果型トランジスタＭＯＳをスイッチ素子として用いた相変化メモリセルの構成がローリー（Lowrey）らによる米国特許第６，３１４，０１４号公報（以下、特許文献２と記す）に開示されている。
【０００６】
図１２は従来技術に係る電界効果型トランジスタを用いた相変化メモリセルを説明する図であり、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ、相変化メモリセルの回路図、相変化材料を用いた抵抗変化素子の断面図、相変化材料を用いた抵抗変化素子の電流電圧特性を示す図である。（ａ）に示した回路図は、前記した特許文献２に開示されている回路図と同様の回路図である。本相変化メモリセルは、電界効果型トランジスタ（以下、ＭＯＳと記す）９０、メモリ機能を担う相変化材料からなる抵抗変化素子９１、データ入出力用のビット線ＢＬ、ゲート電極に接続されてＭＯＳ９０をオン／オフしてデータ入出力制御を行うワード線ＷＬ、電流もしくは電圧供給部ＶＡを備えている。ここで、抵抗変化素子９１は、例えば（ｂ）に示したように形成される。即ち、抵抗変化素子９１は、上部電極１００、ＧｅＳｂＴｅ（ゲルマニウム、アンチモン、テルル）などの相変化材料膜１０１、シリコン酸化膜などの層間絶縁膜１０３、発熱ヒーターとして作用する金属プラグ１０４、及び下部電極１０５を備えている。ここで、電極プラグ１０４と接する相変化材料膜１０１中の相変化領域１０２は、後述するように結晶状態が変化する。
【０００７】
図１２の（ｃ）に点線で示すように、初期状態が高抵抗（非晶質）である抵抗変化素子に電圧を印加すると、しきい値電圧Ｖthまでは電流が殆ど流れないので発熱量が少なく、高抵抗状態（以下、リセット状態とも記す）が維持されるが、印加電圧がしきい値電圧Ｖthを超えると、電流によるジュール熱で相変化材料膜１０１の一部（図１２の（ｂ）の相変化領域１０２）が結晶化して、低抵抗状態（以下、セット状態とも記す）になる。このように、相変化材料を用いた抵抗変化素子のセット状態及びリセット状態における抵抗値をそれぞれ、例えば１及び０のデータに対応させることによって、上記したようにメモリ機能を実現することができる。低抵抗状態になった相変化材料を、再び高抵抗状態（リセット状態）に戻すためには、所定のしきい値電流Ｉth以上の電流を抵抗変化素子に流した後、急冷すればよい。
【０００８】
図１２の（ｃ）に示すように、抵抗変化素子を高抵抗状態にできる電流領域Ｉ／Ｉth＞１をリセット電流領域、低抵抗状態にできる電流領域Ｉ／Ｉth＝０．６〜１をセット電流領域と呼ぶ。現在の抵抗変化素子の抵抗値を読み出す場合には、リードディスターブ（読み出し動作による抵抗値の変化）を避けるために低電流領域Ｉ／Ｉth＜０．６（印加電圧では約０．４５Ｖ以下）で読み出す必要がある。例えば図１２の（ａ）に示した構成のメモリセルにおいては、抵抗値読み出し時に電圧供給部ＶＡに印加する電圧は０．４５Ｖ以下に設定する必要がある。
【０００９】
しかしながら、相変化メモリをリセット状態にするには０．１８μｍルールの微細な素子においても、各抵抗変化素子あたり１ｍＡ以上の大きい電流を流す必要がある。そのために、スイッチ素子としてＭＯＳを使用した場合、チャネル幅の増大による占有面積の増大や、ゲート印加電圧を高くしなければならないことによる消費電力の増加が問題となっていた。また、上記したように抵抗値の読み出し時にはリードディスターブを避けるため、スイッチ素子であるＭＯＳのソース・ドレイン間に十分な電圧印加が行えないために、高速な読み出し動作が難しいという問題があり、低電圧動作時でも高駆動力が得られる高性能スイッチ素子が必要とされていた。
【００１０】
（本発明に関連する文献の一覧）
米国特許第５，２９６，７１６号公報（内容は「背景技術」の欄を参照）
米国特許第６，３１４，０１４号公報（内容は「背景技術」の欄を参照）
特開２００３−１００９９１号公報  この文献には、ＭＯＳトランジスタのドレイン領域に相変化型メモリが接続された不揮発性メモリ素子が開示されている。
【００１１】
特開２００１−２１０８３１号公報  この文献には、基板とゲートとが電気的に接続されているＤＴＭＯＳが開示されている。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の目的は、上記の課題を解決するために、ゲートと基板とが電気的に接続されたＭＯＳをスイッチ素子として用いた不揮発性メモリセルを、低消費電力かつ高性能に動作させることができる駆動方法を提供することを目的とする。
【００１３】
上記目的を達成する第１の本発明に係る不揮発性メモリを駆動する方法は、ゲート及び基板が電気的に接続されているｎチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に前記初期電圧よりも大きい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第１の電圧以上、且つ前記第１の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第２の電圧を印加することによって、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも大きい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に、前記初期電圧を基準として、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧よりも大きく、前記第３の電圧以上、且つ前記第３の電圧と前記立ち上がり電圧との和よりも小さい第４の電圧を印加することによって、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する。
【００１４】
上記目的を達成する第２の本発明に係る不揮発性メモリを駆動する方法は、ゲート及び基板が電気的に接続されているｐチャネル電界効果トランジスタ、並びに第１の端子及び第２の端子を有し、前記第１の端子が前記電界効果トランジスタのソースに接続され、相変化材料を用いて形成されている抵抗変化素子を備え、且つ２次元アレイ状に配列されている複数のメモリセルと、
各行の前記メモリセルの前記ゲートに接続されているワード線と、
各列の前記メモリセルの前記第２の端子に接続されているビット線と、
全ての前記電界効果トランジスタのドレインに接続されている共通の電圧供給部とを備えている不揮発性メモリを駆動する方法であって、
第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子を高抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第１のメモリセルに接続されているビット線に初期電圧を印加し、且つ、前記第１のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第１の電圧を印加する第１リセットステップと、
前記第１のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第２の電圧を印加することにより、リセット電流を前記第１のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２リセットステップと、
続いて、前記第１のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３リセットステップと、
を順に実行し、
第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子を低抵抗状態にする場合には、
全ての前記ワード線及び前記第２のメモリセルに接続されているビット線に前記初期電圧を印加し、且つ、前記第２のメモリセルに接続されているビット線以外のビット線及び前記電圧供給部に、前記初期電圧よりも小さい第３の電圧を印加する第１セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に、前記電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ前記初期電圧よりも小さい第４の電圧を印加することにより、セット電流を前記第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す第２セットステップと、
前記第２のメモリセルに接続されているワード線に前記初期電圧を印加する第３セットステップと、
を順に実行し、
第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子の状態を読み出す場合には、
前記第３のメモリセルに接続されているワード線に第５の電圧を印加して前記第３のメモリセルが備えている電界効果トランジスタをオンにすると共に、前記第３のメモリセルに接続されているビット線と前記電圧供給部との間に電位差を発生させて電流を流すことにより、前記第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流れる電流値を前記ビット線に流れる電流の大きさとして検知する第１読み出しステップを実行する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施の形態について添付図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図１は本発明の実施の形態に係る駆動方法の対象となる不揮発性メモリを示す回路図である。本不揮発性メモリは、ゲート端子Ｇ及び基板電位制御端子Ｕが電気的に接続されているｎチャネルＭＯＳトランジスタ１と、ＧｅＳｂＴｅ（ゲルマニウム・アンチモン・テルル）などの相変化材料を用いた抵抗変化素子２とを備えている。これら２つの素子１、２によって一つのメモリセルが構成されており、抵抗変化素子２の２つの端子のうち第１の端子Ｒ１がＭＯＳトランジスタ１のソース端子Ｓに接続され、第２の端子Ｒ２が接地され、ＭＯＳトランジスタ１のドレイン端子Ｄが電圧供給端子ＶＡに接続されている。電圧供給端子ＶＡに接続されるのは電圧供給源に限らず、電流供給源であってもよい。
【００１７】
図１において、電圧供給端子ＶＡ及びゲート端子Ｇに正の電圧を印加すると、抵抗変化素子２に電流が流れ、抵抗変化素子２に使用されている相変化材料の抵抗値のセット及びリセットが可能となる。ＭＯＳトランジスタ１は、ゲート端子Ｇ及び基板電位制御端子Ｕが電気的に接続されていることにより、オン時にはしきい値電圧が下がり、オフ時にはしきい値電圧が高くなる。このＭＯＳトランジスタ１をＤＴＭＯＳ（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ  ＭＯＳ）と記す。その結果、ＤＴＭＯＳ１では、通常のＭＯＳトランジスタと比較してサブスレッショルドスロープの傾きや電流駆動力を大幅に改善することができる。
【００１８】
ｎチャネルＭＯＳトランジスタの場合、基板の導電型はｐ型、ソース及びドレインの導電型はｎ+型であり、ｐｎ+接合が形成されている。従って、図１において、このｐｎ+接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦ以上の電圧をゲート端子Ｇに印加した場合、ゲート端子Ｇ（基板電位制御端子Ｕ）からソース端子Ｓにダイオード順方向電流が流れる。この動作は、ＭＯＳトランジスタの通常動作とは異なっており、このダイオード順方向電流は、ＭＯＳトランジスタの通常動作時のチャネル電流よりも大きい。本実施の形態では、抵抗変化素子２に相変化材料を用いており、比較的大きい書き換え電流を必要とするので、抵抗変化素子２のリセット時に、このバイポーラ的な動作モードを積極的に利用する。
【００１９】
また、リードディスターブを避けるために、０．４Ｖ以下の低電圧を用いなければならない抵抗値の読み出し時には、上記した良好なサブスレッショルド特性により高速読み出しが可能となる。リセット時には大電流が必要であり、読み出し時には極低電圧の印加が必須である相変化材料を用いた抵抗変化素子に関しては、スイッチ素子として通常のＭＯＳを用いた場合、省面積で低消費電力かつ高速なメモリセルを実現することは極めて困難である。これに対して、上記のように、スイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いてメモリセルを形成することにより省面積を実現でき、これを後述するように駆動することによって低消費電力かつ高速にメモリセルを動作させることができる。
【００２０】
図２は、通常のＭＯＳ及びＤＴＭＯＳのゲート電圧（Ｖg）−ドレイン電流（Ｉsd）特性を示す図である。何れのＭＯＳも、ｎチャネル型であり、素子寸法は、チャネル長が０．５μｍ、チャネル幅が１０μｍ、ゲート酸化膜厚が６ｎｍである。また、ドレイン電圧Ｖsdは１．０Ｖで一定とした。
【００２１】
図２から明らかなように、ＤＴＭＯＳでは、０Ｖ近傍を除く全てのゲート電圧Ｖgにおいて通常のＭＯＳよりも大きいドレイン電流Ｉsdが得られ、サブスレッショルドスロープも６０ｍＶ／ｄｅｃの理想的な値であることがわかる。図２に示した特性を有するＤＴＭＯＳの場合、ゲート電圧（＝基板電位）を約０．８Ｖ以上にした場合に、前述したバイポーラ的動作による駆動電流の向上が図られている。
【００２２】
以下に抵抗変化素子用のスイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いる場合のメリットについて具体的に説明する。まず、たとえばゲート電圧０．４Ｖで抵抗値の読み出しを行う場合、図２から分かるように、電流駆動力が約２桁も優れている。即ち、ドレイン電流Ｉsdが約２桁大きいことから、高速な抵抗値の読み出し動作が可能となる。
【００２３】
また、相変化材料を用いた抵抗変化素子のリセット動作に必要な電流を１ｍＡとすると、図２から分かるように、ＤＴＭＯＳではゲート電圧が約０．９５Ｖでこの電流値が得られるのに対し、通常のＭＯＳではゲート電圧を約１．５Ｖまで大きくする必要がある。
【００２４】
以上のように抵抗変化素子用のスイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いることにより、リセット時のゲート印加電圧を約４０％低減でき、低消費電力化が図れ、かつ読み出し速度の大幅な改善も可能となることがわかる。なお、ドレイン電流Ｉsdが１ｍＡ以下で行うセット動作についても、より低電圧の印加で可能となることは明らかである。さらに、同じ駆動電流を得られるように素子を設計した場合、駆動電流は素子のチャネル幅Ｗとチャネル長さＬの比Ｗ／Ｌに比例することから、ＤＴＭＯＳの方が大幅に素子面積を小さくできることは言うまでもない。
【００２５】
次に、占有面積の小さいメモリセルを実現するべく、チャネル幅Ｗと長さＬの比Ｗ／Ｌが２（図２の場合の１／１０）になるように設計した場合について説明する。この場合、ドレイン電流Ｉsdは、図２に示した値の１／１０となるため、通常のＭＯＳであれば１ｍＡの駆動電流を得るには、ゲート電圧Ｖgを３Ｖ以上の高電圧（図２に図示せず）に設定する必要がある。そのために、広い面積を占有する電圧昇圧回路を周辺回路として別途備える必要がある。
【００２６】
一方、ＤＴＭＯＳであれば、駆動電流が１／１０となった場合でもゲート電圧Ｖgが２Ｖでほぼ１ｍＡのドレイン電流Ｉsdが得られるため、昇圧回路等は特に必要ではない。以上ではドレイン電圧Ｖsdを１Ｖとした場合のデータを示した図２を用いて説明したが、異なるドレイン電圧Ｖsdであっても、例えばＶsd＝２[Ｖ]であってもＤＴＭＯＳの優位性は全く変わらない。
【００２７】
以上ではｎチャネルＤＴＭＯＳに関して説明したが、ｐチャネルＤＴＭＯＳも上記と同様の特性及び通常のｐチャネルＭＯＳに対する優位性を有している。尚、ｐチャネルＤＴＭＯＳの場合、各端子への印加電圧の極性がｎチャネルＤＴＭＯＳとは逆である。ｐチャネルＭＯＳの場合、基板の導電型はｎ型、ソース及びドレインの導電型はｐ+型であり、ｐ+ｎ接合が形成されている。従って、ゲート電圧ＶＧに対するソース（又はドレイン）電圧ＶＳ、即ちＶＳ−ＶＧがｐ+ｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦ以上であれば、ソース（又はドレイン）からゲートの方向に、ＭＯＳトランジスタの通常動作時のチャネル電流よりも大きいダイオード順方向電流が流れる。
【００２８】
図３は、図１に示した半導体回路に従って形成された相変化メモリセルの概略構成を示す図である。（ａ）はＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板上にＤＴＭＯＳと相変化材料を用いた抵抗変化素子とを積層して形成された相変化メモリセルを示す平面図であり、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ平面図（ａ）のＸＸ'線、ＹＹ'線に沿った断面図である。
【００２９】
本相変化メモリセルは、図３の（ｂ）に示したように、シリコン基板２０、埋め込み酸化膜２１、素子分離酸化膜１０、及び層間絶縁膜１８の積層構造の中に形成されたＤＴＭＯＳ及び抵抗変化素子を備えている。ここで、ＤＴＭＯＳは、ドレイン領域１２、ソース領域１３、ポリシリコンのゲートパターン１４、及びシリコン酸化膜などのゲート酸化膜１９を備えている。抵抗変化素子は、相変化膜２２及びヒーター電極２３を備えている。また、本相変化メモリセルは、層間絶縁膜１８の上に形成されたアルミなどの金属配線パターン１７ａ〜１７ｃ、及び層間絶縁膜１８中に形成されたコンタクト窓に埋め込まれたタングステン等の金属プラグ１５ａ〜１５ｃ、１６を備えている。金属配線パターン１７ａ〜１７ｃは、それぞれ金属プラグ１５ａ〜１５ｃを介して、ＤＴＭＯＳのゲートパターン１４、ドレイン領域１２、及びソース領域１３と接続されている。また、図３の（ｃ）に示したように、金属配線パターン１７ａは、金属プラグ１６を介して、ドレイン領域１２及びソース領域１３とは逆の不純物が拡散された不純物拡散領域３０とも接続されている。例えば、ドレイン領域１２及びソース領域１３がｎ+であれば、不純物拡散領域３０はｐ+である。尚、図３の（ａ）〜（ｃ）において同じ構成要素には同じ番号を付してあり、（ａ）では層間絶縁膜１８を省略している。
【００３０】
図３の（ｂ）に示したヒーター電極２３には、金属よりも抵抗率が高くかつ耐熱性が高い材料、例えばポリシリコンや、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）、及びそれらの酸化物などを用いる。即ち、相変化メモリセルに電流を流した時にヒーター電極２３の発熱によって、ヒーター電極２３と相変化膜２２との界面部分の相変化膜２２を結晶化又は非結晶化させることができ、相変化膜２２の抵抗値制御が可能となるようにヒーター電極２３の材料及び寸法形状を決定すればよい。
【００３１】
例えば、ヒーター電極２３は金属プラグ１５ｃと同じ材料であっても良い。その場合には相変化膜２２全体を結晶化又は非結晶化させることになり、ヒーター電極２３に金属プラグ１５ｃよりも抵抗率が高い材料を用いた場合に比べて、抵抗値制御に要するエネルギーが増大する。
【００３２】
また、ヒーター電極２３や金属プラグ１５ｃと相変化膜２２との間の原子相互拡散が問題となる場合には、図３の（ｂ）には示していないが、それらと相変化膜２２との間にチタンナイトライド膜などのバリアメタル層を挿入しても良い。
【００３３】
図３の（ａ）〜（ｃ）より明らかなように、相変化膜２２はＤＴＭＯＳ上に積層されることができ、かつ極めて小さい面積しか要しないのでメモリセル全体の面積は、スイッチ素子であるトランジスタの面積でほぼ決まってしまう。ＤＴＭＯＳは、通常のＭＯＳに比べて素子毎に基板コンタクト用の金属プラグ１６を余分に設ける必要がある分、メモリセル面積が増大するが、前述の電流駆動力増大によるチャネル幅低減効果を考慮すると、全体として大幅な省面積化を図ることが可能となる。なお、図３ではＳＯＩ基板を用いた場合について説明したが、バルク基板にウエルを形成して素子毎の基板電位制御を行っても良い。
【００３４】
図４は図１に示した回路のメモリセルを２次元に配置して構成したアレイメモリを示す回路図である。本アレイメモリは、ｎチャネルＤＴＭＯＳ１及び相変化材料を用いた抵抗変化素子２から構成されたメモリセルと、データ入出力用のビット線ＢＬｉ（ｉは１〜ｎの自然数）と、ゲート電極に接続されてＤＴＭＯＳ１をオン／オフしてデータの入出力制御を行うワード線ＷＬｉ（ｉは１〜ｎの自然数）と、電圧を供給する電圧供給部ＶＡとを備えている。即ち、各ビット線ＢＬｉは抵抗変化素子２の第２の端子Ｒ２に接続され、各ワード線ＷＬｉはＤＴＭＯＳ１のゲート端子Ｇに接続され、電圧供給部ＶＡはドレイン端子Ｄに接続されている。抵抗変化素子２の第１の端子Ｒ１は、ＤＴＭＯＳ１のソース端子に接続されている（図１および図４を参照）。ここで、電圧供給部ＶＡは全て共通であり、１つの電圧供給源若しくは電流供給源に接続されている。
【００３５】
（第１の実施形態）
以下に、図４に示した不揮発性メモリを駆動する方法、即ち、２次元アレイメモリを構成する各メモリセル１の抵抗変化素子２に対するリセット動作（すなわち、抵抗変化素子２を高抵抗状態にする動作）、セット動作（すなわち、抵抗変化素子２を低抵抗状態にする動作）、及び抵抗値読み出し動作（すなわち、抵抗変化素子２の抵抗状態を読み出す動作）について説明する。
【００３６】
この第１の実施形態においては、ＤＴＭＯＳ１がｎチャネルＤＴＭＯＳである。ＤＴＭＯＳ１がｐチャネルＤＴＭＯＳである場合については、第２の実施形態として後述する。
【００３７】
ここでビット線ＢＬｉへの印加電圧をＶＢ、ワード線ＷＬｉへの印加電圧をＶＷ、前述の基板とソース（又はドレイン）とで構成されるｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧をＶＦ（＞０）、電圧供給部ＶＡへの印加電圧をＶＡ、リードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧をＶＲ（＞０）（図１２の（ｃ）の例では約０．４５Ｖ）とする。
【００３８】
また、リセット動作においては添え字を「１」、セット動作においては添え字を「２」、抵抗値読み出し動作においては添え字を「３」として付加する。すなわち、リセット動作におけるビット線ＢＬｉへの印加電圧は、「ＶＢ１」と表記する。
【００３９】
（リセット動作）
図５は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（第１メモリセルと記す）の抵抗変化素子２のみをリセットする場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである。
【００４０】
初期状態として、全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が初期電圧であると仮定する。初期電圧としては０Ｖが好ましいが、ＤＴＭＯＳ１の状態をオフに維持することができ、なおかつ抵抗変化素子２の状態に影響を与えない電圧であれば、０Ｖに限られない。以下においては、各線に印加する電圧は、初期電圧を基準とした電圧として説明する。
【００４１】
（第１リセットステップ）
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持したまま、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡにそれぞれ正の、即ち初期電圧よりも大きい電圧ＶＢ１及びＶＡ１を印加する。ここで、ＶＡ１＝ＶＢ１であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でリセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの正の電圧ＶＢ１及びＶＡ１を「第１の電圧」という。
【００４２】
（第２リセットステップ）
次に、この状態を維持したまま、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２のみに、電圧ＶＡ１（＝ＶＢ１）と同じ大きさであり、且つｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦよりも大きい電圧ＶＷ１（ＶＷ１＞ＶＦ、ＶＷ１＝ＶＡ１＝ＶＢ１）を所定の時間Ｔ１の間印加する。この電圧ＶＷ１を「第２の電圧」という。
【００４３】
この間、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧（好ましくは０Ｖ）が印加されたままである。
【００４４】
これによって、時間Ｔ１の間、第１メモリセルではゲート端子Ｇからｐ型不純物を有する基板を介してソース端子Ｓ方向にｐｎ接合の順方向電流が流れる。図３を参照しながらより詳細に説明すると、ゲートパターン１４の直下の部分の半導体（以下、この部分の半導体を「活性領域」といい、符号３１を付与する）はｐ型、ドレイン領域１２およびソース領域１３はｎ型であり、なおかつゲートパターン１４と活性領域３１とは、金属プラグ１５ａ、電極配線パターン１７ａ、金属プラグ１６、不純物拡散領域３０を介して電気的に同電位になるように接続されている。従って、ワード線ＷＬ２を介してゲートパターン１４に印加された電圧ＶＷ１は、活性領域３１にも印加される。ｐ型不純物を有する活性領域３１と、ｎ型不純物をそれぞれ有するドレイン領域１２およびソース領域１３との間には、ｐｎ接合が形成されているので、活性領域３１に印加された電圧ＶＷ１による電流がドレイン領域１２およびソース領域１３に向かおうとする。これにより生じる電流の値を、図１２（ｃ）に示すような、抵抗変化素子を構成する相変化材料を十分に溶融してその後にアモルファス状態にするリセット電流領域の値としておけば、そのソース端子Ｓに接続された抵抗変化素子２をリセットする、すなわち、高抵抗状態にすることができる。時間Ｔ１は、相変化材料を溶融させるのに必要な時間であり、例えば１００ｎｓ以下の短時間で良い。
【００４５】
一方、ワード線ＷＬ２は第１メモリセル以外のメモリセルのゲート端子Ｇにも接続されているが、それらのメモリセルでは、ゲート端子Ｇに印加される電圧ＶＷ１と等しい電圧ＶＢ１がビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に印加されているので、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧が印加されることがなく、抵抗変化素子２には電流が流れない。即ち、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を予め印加したのは、ワード線ＷＬ２に印加する電圧ＶＷ１と電圧ＶＢ１とをバランスさせ、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧を印加させないためである。
【００４６】
（第３リセットステップ）
第２リセットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。このとき、一旦溶融した相変化材料を急冷して非晶質状態とするためには、図５の矢印に示すように、時間Ｔ１経過後のパルス波形の立ち下がりが急峻であることが望ましい。
【００４７】
最後に、初期状態に戻すために、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。
【００４８】
以上では、最も望ましい電圧条件、即ち、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１＞ＶＦ、且つ電圧ＶＷ１、ＶＡ１、ＶＢ１がリセット電流領域の特性を与え得る電圧値である場合を説明したが、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１でなくてもよい。即ち、ＶＡ１＝ＶＢ１、ＶＷ１＞ＶＦ、ＶＢ１＋ＶＦ＞ＶＷ１≧ＶＢ１であればよい。ここで、ＶＷ１≧ＶＢ１は、ｐｎ接合に逆バイアス電圧がかからない条件である。この場合、第１メモリセルではソース端子Ｓ（導電型はｎ+型）に対する基板（導電型はｐ型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＷ１−ＶＢ１）は、ＶＳＢ１＝ＶＷ１（＞ＶＦ）であり、ｐｎ接合の順方向電流によって抵抗変化素子をリセットすることができる。
【００４９】
これに対し、第１メモリセル以外のワード線ＷＬ２に接続されているメモリセルでは、ソース端子Ｓ（導電型はｎ+型）に対する基板（導電型はｐ型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＷ１−ＶＢ１）は、０≦ＶＳＢ１＜ＶＦの範囲にあり、ソース端子Ｓと基板との間のｐｎ接合に印加される電圧が電圧ＶＦを超えないので、ｐｎ接合の順方向電流を抑制することができる。
【００５０】
また、所望の複数のメモリセルを、即ち所望の複数の抵抗変化素子２を一度にリセットすることも可能である。そのためには、図５に示したタイミングチャートを、ワード線ＷＬ２にのみ電圧ＶＷ１を印加する代わりに、所定の複数のメモリセルに接続されたワード線ＷＬｊ（１≦ｊ≦ｎ）に電圧ＶＷ１を印加し、それら以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠ｊ）を初期電圧（好ましくは０Ｖ）のままに維持するように変更し、さらにビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を印加する代わりに、複数のビット線ＢＬｋ（１≦ｋ≦ｎ）を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持し、その残りのビット線ＢＬｍ（ｍ≠ｋ）に電圧ＶＢ１を印加するように変更すれば良い。
【００５１】
例えば、全メモリセルの抵抗変化素子２をリセットする場合には、図６に示したタイミングチャートに従って各電圧を印加すれば良い。即ち、初期状態から、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ１を印加し（第１全リセットステップ）、続いて、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）に電圧ＶＷ１（ＶＷ１＞ＶＦ、ＶＷ１＝ＶＡ１）を所定の時間Ｔ１印加し（第２全リセットステップ）、その後、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）を急峻に０Ｖに戻す（第３全リセットステップ）。
【００５２】
以上のリセット動作の説明において、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ１を印加するタイミングとが同じである場合を説明したが、所定のワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ１が印加される前に電圧ＶＢ１及びＶＡ１が共に印加されてさえいれば、何れか一方が早く印加されても良い。同様に、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻すタイミングは、所定のワード線ＷＬ２の電圧ＶＷ１が初期電圧に戻された後でさえあれば、何れか一方が早く初期電圧に戻されても良い。
【００５３】
（セット動作）
次に、抵抗変化素子２の相変化材料の抵抗値を小さくするセット動作に関して説明する。ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（上記の第１メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは第２メモリセルと記す）の抵抗変化素子２のみをセットする場合、各線への電圧印加のタイミングシーケンスは、図７に示すとおりである。
【００５４】
この図７に示されたタイミングシーケンスは、基本的には図５に示したリセット動作のタイミングシーケンスと同様である。
【００５５】
（第１セットステップ）
すなわち、まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持したまま、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡにそれぞれ正の、即ち初期電圧よりも大きい電圧ＶＢ２及びＶＡ２を印加する。ここで、ＶＡ２＝ＶＢ２であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの正の電圧ＶＢ２及びＶＡ２を「第３の電圧」という。
【００５６】
（第２セットステップ）
次に、この状態を維持したまま、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２のみに、電圧ＶＡ２（＝ＶＢ２）と同じ大きさであり、且つｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦよりも大きい電圧ＶＷ２（ＶＷ２＞ＶＦ、ＶＷ２＝ＶＡ２＝ＶＢ２）を所定の時間Ｔ２の間印加する。この正の、即ち初期電圧よりも大きい電圧ＶＷ２を「第４の電圧」という。
【００５７】
この間、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧（好ましくは０Ｖ）が印加されたままである。
【００５８】
これによって、時間Ｔ２の間、第２メモリセルではゲート端子Ｇからｐ型不純物を有する基板を介してソース端子Ｓ方向にｐｎ接合の順方向電流が流れる。この電流の値を、図１２（ｃ）に示すような、抵抗変化素子を構成する相変化材料を結晶状態にするセット電流領域の値としておけば、そのソース端子Ｓに接続された抵抗変化素子２をセットする、すなわち、低抵抗状態にすることができる。時間Ｔ２は、相変化材料を結晶状態にするのに必要な時間であり、例えば１００ｎｓ以下の短時間で良い。
【００５９】
一方、ワード線ＷＬ２は第２メモリセル以外のメモリセルのゲート端子Ｇにも接続されているが、それらのメモリセルでは、ゲート端子Ｇに印加される電圧ＶＷ２と等しい電圧ＶＢ２がビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に印加されているので、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧が印加されることがなく、抵抗変化素子２には電流が流れない。即ち、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ２を予め印加したのは、ワード線ＷＬ２に印加する電圧ＶＷ２と電圧ＶＢ２とをバランスさせ、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧を印加させないためである。
【００６０】
（第３セットステップ）
第２セットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部の電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。このとき、相変化材料を結晶質状態とするためには、図７に矢印を用いて示したように、時間Ｔ２経過後のパルス波形の立ち下がりが緩やかであることが望ましい。
【００６１】
最後に、初期状態に戻すために、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。
【００６２】
このように、セット動作においては、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡのそれぞれへの印加電圧ＶＷ２、ＶＢ２及びＶＡ２は抵抗変化素子の電流電圧特性から決定される必要がある。
【００６３】
この場合にも、少なくともＶＡ２＝ＶＢ２及びＶＢ２＋ＶＦ＞ＶＷ２≧ＶＢ２であることが必要であり、より望ましくはＶＡ２＝ＶＢ２＝ＶＷ２である。例えば図１２の（ｃ）の場合であれば、リセット電流値の６０〜１００％の電流値を与える電圧範囲内でセット動作を行うことが必要である。同じ抵抗値にセットする場合、セット電流値が高いほど抵抗変化素子に電圧を印加する時間は短くて良いが、必ずリセット電流以下の電圧範囲で行う必要がある。そのため、ＶＡ１＞ＶＡ２の関係が成立する（ＶＢ２などについても同様である）。
【００６４】
また、リセット動作と同様に、電圧を印加するビット線ＢＬｉ及びワード線ＷＬｊを適宜変更することによって、所望の複数のメモリセルを一度にセットすることや、全てのメモリセルを一度にセットすることも可能である。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ２を印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ２を印加するタイミングとは、何れか一方が早くても良い。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻すタイミングも、何れか一方が早くても良い。
【００６５】
（抵抗値読み出し動作）
最後に、所定の抵抗変化素子２の抵抗値を選択的に読み出す抵抗値読み出し動作について説明する。以下の一連の動作を、この明細書では、第１読み出しステップと言う。
【００６６】
ここでは、ＤＴＭＯＳ１を通常のＭＯＳトランジスタと同様に動作させる。また、上記の第１メモリセルまたは第２メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは読み出し対象のメモリセルを第３メモリセルと記し、この第３メモリセルが備えている抵抗変化素子の状態（抵抗値）を読み出すことを説明する。
【００６７】
まず、第３メモリセルに接続されているワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加することにより、当該ワード線ＷＬ２に接続されているＤＴＭＯＳ１をオンにする。
【００６８】
さらに、第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させる。すると、これらのビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電流が流れる。この電流を第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２に接続されたセンスアンプ（不図示）などによりセンスすることにより、第３メモリセルが備えている抵抗変化素子２に流れる電流値をビット線ＢＬ２に流れる電流の大きさとして検知する。
【００６９】
なお、ここで説明した第５の電圧、電位差を発生させるために第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２に印加される電圧、および電圧供給部ＶＡに印加される電圧は、いずれもリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲ以下である。すなわち、図１２（ｃ）に示す、読み出し電圧領域に含まれる電圧である。
【００７０】
なお、第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させた後に、ワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加してもよい。
【００７１】
また、図８に示すタイミングチャートにより抵抗値を読み出しても良い。
【００７２】
図８は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を読み出す場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである。この図８に示されるタイミングチャートは、全ての電圧がリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲ以下である点を除けば、図５および図７と同じタイミングチャートである。そのため、以下、簡単に説明するにとどめる。
【００７３】
初期状態は上記と同様に、全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が初期電圧（好ましくは０Ｖ）であると仮定する。
【００７４】
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に維持したまま、第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡに、それぞれ正の電圧ＶＢ３（＝ＶＲ）及びＶＡ３（＝ＶＲ）を印加する。次に、その状態を維持したまま所定の時間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝ＶＲ）を印加し、その後初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻す。この間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧（好ましくは０Ｖ）を印加したままとする。ワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝ＶＲ）が印加された状態で、ビット線ＢＬ２に流れる電流値をセンスアンプ等で検知することによって、選択された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を得ること、即ち第３メモリセルに書き込まれているデータを読み出すことができる。最後に、その状態から第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻し、第３メモリセルの選択を解除し、初期状態に戻す。
【００７５】
以上では、電圧ＶＡ３、ＶＢ３、ＶＷ３の全てがリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲと等しい場合を説明したが、これらは図１２の（ｃ）における読み出し電圧領域の電圧であり、電圧ＶＡ３及びＶＢ３が等しければよい。通常、読み出し電圧領域の電圧は、ｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦよりも十分に低いので、各メモリセルを構成するＤＴＭＯＳ１においてｐｎ接合の順方向電流は流れない。
【００７６】
また、リセット動作及びセット動作と同様に、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ３を印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡ３を印加するタイミングとは、何れか一方が早くても良い。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧（好ましくは０Ｖ）に戻すタイミングも、何れか一方が早くても良い。
【００７７】
（第２の実施形態）
第１の実施形態では、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いてアレイメモリを構成する場合を説明したが、ｐチャネルＤＴＭＯＳを用いても良い。その場合の駆動方法は、図５〜８において印加する電圧の極性を反転させて同様に行えば良い。
【００７８】
一例として、図９〜１１に、ｐチャネルＤＴＭＯＳを用て図４と同様に構成したアレイメモリを駆動するタイミングチャートを示す。以下に、ｐチャネルＤＴＭＯＳを用いたアレイメモリに対するセット動作、リセット動作、及び抵抗値読み出し動作について説明する。
【００７９】
（リセット動作）
図９は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（第１メモリセルと記す）の抵抗変化素子２のみをリセットする場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである（図５に対応）。
【００８０】
初期状態として全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が初期電圧（０Ｖ）であると仮定する。初期電圧としては一例として０Ｖを挙げることができるが、ＤＴＭＯＳの状態をオフに維持することができ、なおかつ抵抗変化素子２の状態に影響を与えない電圧であれば、０Ｖに限られない。特に、正の電圧（例えば、３Ｖ）であってもよく、この場合には、後述するように、０Ｖ以上の電圧で不揮発性メモリを駆動させることができる。
【００８１】
（第１リセットステップ）
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧に維持したまま、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡに、初期電圧よりも小さい電圧ＶＢ１及びＶＡ１を印加する。ここで、ＶＡ１＝ＶＢ１であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でリセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの電圧ＶＢ１及びＶＡ１を「第１の電圧」という。
【００８２】
なお、本明細書において、２つの電圧を比較した際に、一方の電圧が他方の電圧よりも「小さい」とは、符合を考慮して絶対的に電圧が小さいという意味であり、それらの絶対値を比較して小さいという意味ではない。一例として、「−５Ｖ」と「−１０Ｖ」とを比較すると、本明細書においては、「−１０Ｖ」は「−５Ｖ」よりも小さい電圧、ということになる。
【００８３】
（第２リセットステップ）
次に、この状態を維持したまま、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２のみに、電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ初期電圧よりも小さい第２の電圧ＶＷ１を所定の時間Ｔ１の間印加する。一例として、この第２の電圧は、電圧ＶＡ１（＝ＶＢ１）と同じ大きさである。
【００８４】
初期電圧が０Ｖである場合、この第２の電圧は、ｎ型の活性領域３１とｐ型のソース領域およびドレイン領域との間に形成されるｐｎ接合の順方向立ち上がり電圧ＶＦ（＞０）よりも絶対値が大きい負の電圧ＶＷ１（ＶＷ１＜−ＶＦ、ＶＷ１＝ＶＡ１＝ＶＢ１）である。具体的には、一例として、−３Ｖ〜−２Ｖ程度の電圧である。
【００８５】
初期電圧が３Ｖである場合、この第２の電圧は、一例として０Ｖ〜１Ｖ程度の電圧である。
【００８６】
時間Ｔ１は、相変化材料を溶融させるのに必要な時間であり、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様の条件を満たすことが必要である。
【００８７】
この間、第１メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧が印加されたままである。
【００８８】
これによって、時間Ｔ１の間、第１メモリセルではソース端子Ｓからｎ型不純物を有する基板を介してゲート端子Ｇ方向にｐｎ接合の順方向電流が流れる。図３を参照しながらより詳細に説明すると、活性領域３１はｎ型、ドレイン領域１２およびソース領域１３はｐ型であり、なおかつゲートパターン１４と活性領域３１とは、金属プラグ１５ａ、電極配線パターン１７ａ、金属プラグ１６、不純物拡散領域３０を介して電気的に同電位になるように接続されている。従って、ビット線ＢＬ２を介してソース領域１３に印加された電圧ＶＢ１は活性領域３１にも印加される。ｐ型不純物をそれぞれ有するドレイン領域１２およびソース領域１３と、ｎ型不純物を有する活性領域３１との間には、ｐｎ接合が形成されているので、ソース領域１３に印加された電圧ＶＢ１によって電流が活性領域３１を介してゲートパターン１４に向かおうとする。これにより生じる電流値を、図１２（ｃ）に示すような、抵抗変化素子を構成する相変化材料を十分に溶融してその後にアモルファス状態にするリセット電流領域の値としておけば、そのソース端子Ｓに接続された抵抗変化素子２をリセットする、すなわち、高抵抗状態にすることができる。時間Ｔ１は、相変化材料を溶融させるのに必要な時間であり、例えば１００ｎｓ以下の短時間で良い。
【００８９】
一方、ワード線ＷＬ２は第１メモリセル以外のメモリセルのゲート端子Ｇにも接続されているが、それらのメモリセルでは、ゲート端子Ｇに印加される電圧ＶＷ１と等しい電圧ＶＢ１がビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に印加されているので、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧が印加されることがなく、抵抗変化素子２には電流が流れない。即ち、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢ１を予め印加したのは、ワード線ＷＬ２に印加する電圧ＶＷ１と電圧ＶＢ１とをバランスさせ、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に電圧を印加させないためである。
【００９０】
（第３リセットステップ）
第２リセットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧に戻す。このとき、一旦溶融した相変化材料を急冷して非晶質状態とするためには、図９に矢印で示したように、時間Ｔ１経過後のパルス波形の立ち上がりが急峻であることが望ましい。
【００９１】
最後に、初期状態に戻すために、第１メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧に戻す。
【００９２】
電圧条件に関しては、初期電圧が０Ｖである場合、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１＜−ＶＦ、且つ電圧ＶＷ１、ＶＡ１、ＶＢ１の絶対値がリセット電流領域の特性を与え得る電圧値である場合を説明したが、ＶＡ１＝ＶＢ１＝ＶＷ１でなくてもよい。即ち、ＶＡ１＝ＶＢ１、ＶＷ１＜−ＶＦ、ＶＢ１−ＶＦ＜ＶＷ１≦ＶＢ１であればよい。この場合、第１メモリセルでは、基板（導電型はｎ型）に対するソース端子Ｓ（導電型はｐ+型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＢ１−ＶＷ１）はＶＳＢ１＝−ＶＷ１＞ＶＦであり、ｐｎ接合の順方向電流によって抵抗変化素子をリセットすることができる。
【００９３】
これに対し、第１メモリセル以外の、ワード線ＷＬ２に接続されたメモリセルでは、基板（導電型はｎ型）に対するソース端子Ｓ（導電型はｐ+型）の電圧ＶＳＢ１（＝ＶＢ１−ＶＷ１）は０≦ＶＳＢ１＜ＶＦの範囲にあり、ソース端子Ｓと基板とのｐｎ接合に印加される電圧がＶＦを超えないので、ｐｎ接合の順方向電流を抑制することができる。
【００９４】
また、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様に、所望の複数のメモリセルを一度にリセットすることや、全メモリセルを一度にリセットすることも可能である。
【００９５】
（セット動作）
次に、抵抗変化素子の相変化材料の抵抗値を小さくするセット動作に関して説明する。ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続されたメモリセル（上記の第１メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは第２メモリセルと記す）の抵抗変化素子のみをセットする場合、各線への電圧印加のタイミングシーケンスは、図１０に示すとおりである。
【００９６】
この図１０に示されるタイミングシーケンスは、基本的には図９に示したリセット動作のタイミングシーケンスと同様である。
【００９７】
（第１セットステップ）
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧に維持したまま、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡにそれぞれ電圧ＶＢ２及びＶＡ２を印加する。ここで、ＶＡ２＝ＶＢ２であり、何れの電圧も、図１２の（ｃ）でセット電流領域の特性を与え得る電圧値に設定されている。これらの電圧ＶＢ２及びＶＡ２を「第３の電圧」という。
【００９８】
（第２セットステップ）
次に、第２のメモリセルに接続されているワード線ＷＬ２に、電界効果トランジスタのｐｎ接合に順方向立ち上がり電流を流し、かつ初期電圧よりも小さい第４の電圧ＶＷ２を印加することにより、セット電流を第２のメモリセルが備えている抵抗変化素子に流す。
【００９９】
この第２セットステップは、第１の実施形態の第２セットステップとほぼ同様であるが、第２メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡのそれぞれへの印加電圧ＶＷ２、ＶＢ２及びＶＡ２は抵抗変化素子の電流電圧特性から決定される必要がある。この場合にも、少なくともＶＡ２＝ＶＢ２及びＶＢ２−ＶＦ＜ＶＷ２≦ＶＢ２であることが必要であり、より望ましくはＶＡ２＝ＶＢ２＝ＶＷ２である。初期電圧が０Ｖである場合には、ＶＡ２は−２Ｖ〜−３Ｖであり、初期電圧が３Ｖである場合には、ＶＡ２は０〜１Ｖである。この場合においても、第２リセットステップにおいて説明したように、ｐ型のソース領域１３からｎ型の活性領域３１に向かって、それらによって形成されているｐｎ接合に順方向電流が流れる。
【０１００】
また、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様に、所望の複数のメモリセルを一度にセットすることや、全メモリセルを一度にセットすることも可能である。
【０１０１】
（第３セットステップ）
第２セットステップの後、全てのワード線ＷＬｉ、全てのビット線ＢＬｉ、および電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧に戻す。このとき、相変化材料を結晶質状態とするためには、図１０に矢印を用いて示したように、時間Ｔ２経過後のパルス波形の立ち上がりが緩やかであることが望ましい。
【０１０２】
最後に、初期状態に戻すために、第２メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧のみを変化させ、初期電圧に戻す。
【０１０３】
（抵抗値読み出し動作）
最後に、所定の抵抗変化素子２の抵抗値を選択的に読み出す抵抗値読み出し動作について説明する。以下の一連の動作を、この明細書では、第１読み出しステップと言う。
【０１０４】
ここでは、ＤＴＭＯＳ１を通常のＭＯＳトランジスタと同様に動作させる。また、上記の第１メモリセルまたは第２メモリセルと必ずしも同じメモリセルではないことを明記するために、ここでは読み出し対象のメモリセルを第３メモリセルと記し、この第３メモリセルが備えている抵抗変化素子の状態（抵抗値）を読み出すことを説明する。
【０１０５】
まず、第３のメモリセルに接続されているワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加することにより、当該ワード線ＷＬ２に接続されているＤＴＭＯＳ１をオンにする。
【０１０６】
さらに、第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させる。すると、これらのビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電流が流れる。この電流を第３メモリセルに接続されているビット線ＢＬ２に接続されたセンスアンプ（不図示）などによりセンスすることにより、第３のメモリセルが備えている抵抗変化素子２に流れる電流値をビット線ＢＬ２に流れる電流の大きさとして検知する。
【０１０７】
なお、第３のメモリセルに接続されているビット線ＢＬ２と電圧供給部ＶＡとの間に電位差を発生させた後に、ワード線ＷＬ２に第５の電圧を印加してもよい。
【０１０８】
また、図１１に示すタイミングチャートにより抵抗値を読み出しても良い。
【０１０９】
図１１は、ビット線ＢＬ２及びワード線ＷＬ２に接続された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を読み出す場合に、各線に印加される電圧を示すタイミングチャートである。
【０１１０】
初期状態は上記と同様に、全てのビット線ＢＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、ワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、及び電圧供給部ＶＡの電圧が０Ｖまたは３Ｖであると仮定する。
【０１１１】
まず、全てのワード線ＷＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）及び第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２を初期電圧の０Ｖに維持したまま、第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡに、それぞれ負の電圧ＶＢ３（＝−ＶＲ）及びＶＡ３（＝−ＶＲ）を印加する。なお、初期電圧が３Ｖである場合、このＶＢ２などの電圧は必ずしも負の電圧ではなく、初期電圧よりも小さい電圧である正の電圧であっても良い。
【０１１２】
次に、その状態を維持したまま所定の時間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝−ＶＲ）を印加し、その後初期電圧の０Ｖに戻す。この間、第３メモリセルに接続されたワード線ＷＬ２以外のワード線ＷＬｉ（ｉ≠２）には初期電圧の０Ｖを印加したままとする。
【０１１３】
ワード線ＷＬ２に電圧ＶＷ３（＝−ＶＲ）が印加された状態で、ビット線ＢＬ２に流れる電流値をセンスアンプ等で検知することによって、選択された第３メモリセルの抵抗変化素子２の抵抗値を得ること、即ち第３メモリセルに書き込まれているデータを読み出すことができる。
【０１１４】
最後に、その状態から第３メモリセルに接続されたビット線ＢＬ２以外のビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧の０Ｖに戻し、第３メモリセルの選択を解除し、所期状態に戻す。
【０１１５】
以上では、電圧ＶＡ３、ＶＢ３、ＶＷ３の絶対値が全てがリードディスターブが起こらない読み出し時の最大印加電圧ＶＲと等しい場合を説明したが、これらは図１２の（ｃ）における読み出し電圧領域の電圧であり、電圧ＶＡ３及びＶＢ３が等しければよい。
【０１１６】
上記のｐチャネルＤＴＭＯＳを用いたアレイメモリに対するセット動作、リセット動作、及び抵抗値読み出し動作において、ｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合と同様に、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）に電圧ＶＢを印加するタイミングと、電圧供給部ＶＡに電圧ＶＡを印加するタイミングとは、何れか一方が早くても良い。また、ビット線ＢＬｉ（ｉ≠２）及び電圧供給部ＶＡの電圧を初期電圧の０Ｖに戻すタイミングも、何れか一方が早くても良い。
【０１１７】
以上のように、抵抗変化素子を備えた不揮発性メモリにおいて、スイッチ素子として、通常のＭＯＳに比べてサブスレッショルド特性や駆動電流が大幅に改善されたＤＴＭＯＳを用い、これを上記のように駆動することによって、メモリの消費電力を低減させることができ、かつメモリの高速読み出し動作を可能とする。
【０１１８】
また、相変化材料を用いたメモリセルは製造後の抵抗値のばらつきが大きいため、出荷前もしくは所定データを記録するプログラム前に、一旦、全メモリセルをセットもしくはリセットする必要がある。従って、そのような場合に、図６に示した駆動シーケンスは初期値設定工程を簡略化できるため、非常に有効である。
【０１１９】
尚、ｎチャネル及びｐチャネルＤＴＭＯＳを用いたアレイメモリに対するセット動作、リセット動作、及び抵抗値読み出し動作の説明において、初期状態として各線の電圧が０Ｖであるとしたが、上記でも説明したように、これらの電圧は０Ｖに限定されず、同じ所定の電圧にバイアスされていてもよい。その場合、各線に印加する電圧を、上記した各電圧に所定のバイアス電圧を加算した電圧とすればよい。
【０１２０】
また、以上では、スイッチ素子としてＤＴＭＯＳを用いた場合にメリットが多い相変化材料を用いた抵抗変化素子について説明を行ったが、電圧や電流の印加によって抵抗値が変化する素子であれば良く、例えば電圧印加によって抵抗値が変化するマンガン系ペロブスカイト酸化物を２つの金属電極で挟んだ素子などを抵抗変化素子に用いても良い。
【０１２１】
また、本実施の形態として説明した不揮発性メモリを駆動する方法では、リセット時にＤＴＭＯＳのバイポーラ的動作領域を用いることを特徴としたが、電流駆動型抵抗変化素子に必要とされる電流値が小さい場合でも、その有効性を失わない。スイッチ素子にＤＴＭＯＳを用いた場合、従来のＭＯＳに比べ、全てのゲート電圧領域でドレイン電流を大きくできるため、メモリセルの小面積化、低電圧動作による低消費電力化のメリットは極めて大きい。
【０１２２】
（産業上の利用の可能性）
本発明によれば、ゲートと基板とが電気的に接続されたＤＴＭＯＳをスイッチ素子として用いた、低消費電力かつ高速読み出し可能な不揮発性メモリを駆動する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の実施の形態に係る駆動方法の対象となる不揮発性メモリを示す回路図である。
【図２】図１に示した半導体回路に使用できるＭＯＳ及びＤＴＭＯＳのゲート電圧−ドレイン電流特性を示す図である。
【図３】図１の回路図で表される相変化メモリセルの概略構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は平面図（ａ）のＸＸ'線に沿った断面図、（ｃ）は平面図（ａ）のＹＹ'線に沿った断面図である。
【図４】図１に示した半導体回路を２次元アレイ状に配置した２次元アレイメモリを示す回路図である。
【図５】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を高抵抗状態にするタイミングチャートである。
【図６】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、全メモリセルの抵抗変化素子を高抵抗状態にするタイミングチャートである。
【図７】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を低抵抗状態にするタイミングチャートである。
【図８】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｎチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子の抵抗値を読み出すタイミングチャートである。
【図９】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｐチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を高抵抗状態にするタイミングチャートである。
【図１０】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｐチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子を低抵抗状態にするタイミングチャートである。
【図１１】図４に示した２次元アレイメモリにおいてｐチャネルＤＴＭＯＳを用いた場合において、抵抗変化素子の抵抗値を読み出すタイミングチャートである。
【図１２】従来技術に係るＭＯＳを用いた相変化メモリセルを説明する図であり、（ａ）は相変化メモリセルの回路図であり、（ｂ）は相変化材料を用いた抵抗変化素子の断面図であり、（ｃ）は相変化材料を用いた抵抗変化素子の電流電圧特性を示す図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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