(57)【要約】被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系の透過率を変化させることにより、前記被露光物を複数の電子線照射強度で露光する。
2004038508.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系の透過率を変化させることにより、前記被露光物を複数の電子線照射強度で露光することを特徴とする電子線露光方法。
【請求項２】
ブランキング遮蔽板への電子線の当て方を変えることにより前記電子光学系の透過率を変化させることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項３】
ブランキングディフレクターにより前記電子線の偏向状態を制御することにより、前記ブランキング遮蔽板への前記電子線の当て方を変えることを特徴とする請求項２記載の電子線露光方法。
【請求項４】
前記ブランキングディフレクターにより、前記電子線を第１の方向に偏向して全ての前記電子線を前記ブランキング遮蔽板に当てる第１偏向状態と、前記電子線を第２の方向に偏向して前記電子線を前記ブランキング遮蔽板に全く当てない第２偏向状態と、前記ブランキングディフレクターにより前記電子線を偏向させず前記電子線を部分的に前記ブランキング遮蔽板に当てる第３偏向状態とを用いることを特徴とする請求項３記載の電子線露光方法。
【請求項５】
前記電子線を部分的に前記ブランキング遮蔽板に当てたときの電子線照射強度を、前記電子線を前記ブランキング遮蔽板に全く当てないときの電子線照射強度の９７％以下とすることを特徴とする請求項２記載の電子線露光方法。
【請求項６】
前記ブランキング遮蔽板に前記電子線の透過形状を複数持たせることにより、前記被露光物を複数の電子線照射強度で露光することを特徴とする請求項２記載の電子線露光方法。
【請求項７】
ブランキングディフレクターによって前記電子線の偏向方向を連続的に変化させたときに、電子線照射強度が不連続に変化することを特徴とする請求項６記載の電子線露光方法。
【請求項８】
ブランキングディフレクターによって前記電子線の偏向方向を連続的に変化させたときに、電子線照射強度が連続的に変化することを特徴とする請求項６記載の電子線露光方法。
【請求項９】
前記ブランキング遮蔽板を連続的に移動させたときに、電子線照射強度が連続的に変化することを特徴とする請求項６記載の電子線露光方法。
【請求項１０】
アパーチャの透過形状を連続的に変化させることにより、電子線照射強度を連続的に変化させることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１１】
前記被露光物に、露光後にウェットエッチング又はドライエッチングによりパターン形成を行うことを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１２】
前記被露光物上に化学増幅型レジスト層が形成されていることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１３】
前記被露光物と前記電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる露光により、ピットもしくはライン又はその両方を、前記被露光物にスパイラル状に形成することを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１４】
前記被露光物が光情報記録媒体の原盤作製に用いられることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１５】
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光装置において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系と、前記被露光物が前記電子光学系によって複数の電子線照射強度で露光されるように、前記電子光学系の透過率を変化させるブランキング手段とを備えることを特徴とする電子線露光装置。
【請求項１６】
前記ブランキング手段が、ブランキングディフレクターとブランキング遮蔽板を含むことを特徴とする請求項１５記載の電子線露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光を行うもの、例えば、光情報記録媒体や磁気ディスクなどの製造に関する。
【背景技術】  被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光の従来の技術を、光情報記録媒体の原盤記録を例として説明する。光情報記録媒体の原盤記録には、原盤上にレジストを塗布し、レーザによってレジストを感光させた後、原盤を現像処理することで情報ピットなどのパターンを形成する技術が長く用いられているが、最近では、直径１２ｃｍの光情報記録媒体１枚あたりの記録容量が２５ＧＢ〜５０ＧＢと増大するのにともない情報ピットサイズの微細化が進み、レーザよりも集光性の遥かに高い電子線によってレジストを感光させる技術が使われるようになってきた。
以下、図１４を用いて、光情報記録媒体の原盤記録に用いられる従来の電子線露光装置について説明する。エミッタ１２０１から放出された電子線は、アパーチャ１２０２により整形された後、レンズ１２０３により絞り込まれる。ブランキングディフレクター１２０４は、絞り込まれた電子線を偏向することができ、例えば、特開平１１−２８８５３８号公報に記載されているように、偏向された電子線はブランキング遮蔽板１２０５に当たり（図中、破線で示した）、記録原盤１２０７に照射されない。一方、ブランキングディフレクター１２０４により偏向されなかった電子線は、さらに、レンズ１２０６によって記録原盤１２０７上に絞り込まれる。記録原盤１２０７は、回転ステージ１２０８に載っており、回転ステージ１２０８は、回転軸１２０９を介して回転モータ１２１０に接続されている。さらに、回転モータ１２１０は、スライダ１２１１に載っており、水平移動することができる。また、これら１２０１〜１２１１はカラム１２１２やチャンバ１２１３により外界から遮断された真空中に置かれている。
以上説明した構造の従来の電子線露光装置において、情報信号パターンは、ブランキングディフレクター１２０４により電子線照射のオン、オフに変換される。そして、記録原盤１２０７を、回転ステージ１２０８と共に回転運動し、かつ、スライダ１２１１により水平移動することにより、ブランキングディフレクター１２０４により制御された電子線を、記録原盤１２０７上に螺旋状に照射することができる。
なお、電子線露光装置によって、ブランキング遮蔽板の形状は、例えば、上記公報に記載されたアパーチャ状であったり、エッジ状であったり、レンズやアパーチャの個数や位置が異なったりするが、電子線照射の制御原理は上記説明した通りである。
このような電子線露光装置を用いれば、レーザによる原盤記録よりもはるかに微細なパターンの露光が可能となる。
従来の電子線露光方法及び電子線露光装置では、電子線の照射、非照射のどちらかしかできないために、ピットの長さに応じて電子線の照射強度を変えることや、幅の連続的に変化する溝を露光するなどの複雑な露光制御が不可能であった。このため、例えば、レジストの高感度化のために化学増幅型レジストなどを用いた場合、照射電流量の多い長ピットほどピット幅が太くなってしまう傾向が顕著となり、長ピットと短ピットのバランスを保つのが困難である。
また、照射強度が一定であると、露光線速度が一定となり、原盤を回転ステージに載せて回転させながら露光を行う場合には、角速度一定での記録（ＣＡＶ記録）を行うことができない。
【発明の開示】
従来技術の上記課題を解決するために、本発明の第１の電子線露光方法は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、ブランキングディフレクターによる電子線の偏向方向の制御や、ブランキング遮蔽板の移動によって、ブランキング遮蔽板への電子線の当て方を変えることにより電子光学系の透過率を変化させることを特徴とする。本発明の上記電子線露光方法により、ピット長の長さに応じて電子線照射強度を制御してそれぞれのピット毎にピット幅を制御することや、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録が可能となる。ここで、上記移動は回転運動を含む。
又、本発明の第２の電子線露光方法は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、ブランキングディフレクターによる電子線の偏向方向の制御や、ブランキング遮蔽板の移動によって、複数の透過形状を持つブランキング遮蔽板への電子線の当て方を変えることにより電子光学系の透過率を変化させることを特徴とする。本発明の上記電子線露光方法により、ピット長の長さに応じて電子線照射強度を制御してそれぞれのピット毎にピット幅を制御することや、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録での記録を可能とする。
更に、本発明の第３の電子線露光方法は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、アパーチャの透過形状を連続的に変化させることにより、電子線照射強度を連続的に変化させることを特徴とする。本発明の上記電子線露光方法により、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録での記録を可能とする。
その上、従来技術の上記課題を解決するために、本発明の電子線露光装置は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光装置において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系と、前記被露光物が前記電子光学系によって複数の電子線照射強度で露光されるように、前記電子光学系の透過率を変化させるブランキング手段とを備えることを特徴とする。本発明の上記電子線露光装置により、ピット長の長さに応じて電子線照射強度を制御してそれぞれのピット毎にピット幅を制御することや、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録が可能となる。
【図面の簡単な説明】  図１は、本発明の実施の形態１にかかる電子線露光装置を示す概略断面図である。
図２は、図１の電子線露光装置に用いられるブランキング遮蔽板のブランキング動作を説明する図である。
図３（ａ）、図３（ｂ）と図３（ｃ）は、夫々、図１の電子線露光装置で形成されるパターンの３個の例を示す図である。
図４は、図１の電子線露光装置に用いられるブランキングディフレクターとブランキング遮蔽板の配置の一例を示す概略断面図である。
図５は、本発明の実施の形態２にかかる電子線露光装置に用いられるブランキング遮蔽板のブランキング動作を説明する図である。
図６は、図５のブランキング遮蔽板の変形例であるブランキング遮蔽板を示す図である。
図７は、本発明の実施の形態３にかかる電子線露光装置に用いられるブランキング遮蔽板のブランキング動作を説明する図である。
図８は、図７のブランキング遮蔽板の移動によるブランキング動作を説明する図である。
図９は、本発明の実施の形態４にかかる電子線露光装置を示す概略断面図である。
図１０は、図９の電子線露光装置に用いられるアパーチャを示す拡大平面図である。
図１１は、図９の電子線露光装置の第１変形例である電子線露光装置を示す概略断面図である。
図１２は、図９の電子線露光装置の第２変形例である電子線露光装置を示す概略断面図である。
図１３は、図１２の電子線露光装置に用いられる可動式アパーチャを示す拡大平面図である。
図１４は、従来の電子線露光装置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】  以下に、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。電子線露光装置の構造については図１を参照して説明するが、本発明は、主として、電子線の照射をオンオフ制御するブランキング機構と電子線の整形機構の動作に関するものであり、例えば、集束レンズの配置や個数、光情報記録媒体の原盤を載せるステージなど、ブランキング機構又は電子線の整形機構に関らないものについては図１のものに制限されない。さらに電子線のブランキング機構と整形機構についても、本発明を実現するものであれば、いかなる機構を用いてもよく、図１のものに制限されない。
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１にかかる電子線露光装置を示す。この電子線露光装置は、記録原盤１０７へのスパイラル状の露光に用いられる。図１において、エミッタ１０１から放出された電子線は、アパーチャ１０２により整形された後、レンズ１０３により絞り込まれる。ブランキングディフレクター１０４は、絞り込まれた電子線を偏向することができ、その偏向方向によって、電子線はブランキング遮蔽板１０５への当たり方が制御される。ブランキング遮蔽板１０５で遮られなかった電子線は、さらに、レンズ１０６によって記録原盤１０７上に絞り込まれて、照射スポット１１４を形成する。記録原盤１０７は、回転ステージ１０８に載っており、回転ステージ１０８は、回転軸１０９を介して回転モータ１１０に接続されている。さらに、回転モータ１１０は、スライダ１１１に載っており、水平移動することができる。また、これら１０１〜１１１はカラム１１２やチャンバ１１３により外界から遮断された真空中に置かれている。
図２に本発明の方法で露光する際の、ブランキング遮蔽板１０５への電子線の当て方（ａ列）、ブランキング遮蔽板１０５を透過する電子線形状（ｂ列）、現像処理後の最短ピット形状（ｃ列）、現像処理後の長ピット形状（ｄ列）を示した。ここで、最短ピットとは、ピットのトラックに平行な方向の長さがピットの半径方向の長さとほぼ同じとなるピットとする。また、長ピットとは、同じ露光強度で露光して現像処理した溝と同じ幅を持つものとする。図２のＡ行からＤ行は、電子線の偏向状態の変化を示している。ブランキングディフレクター１０４の位置で電子線は一旦収束されているため、電子線がブランングディフレクター１０４によって異なる偏向を受けても、レンズ１０６によって同じ位置に収束される電子光学系となっている。
従来の技術では、電子線の偏向状態は、図２（Ａ行）に相当する電子線全照射となる偏向状態と、図２（Ｄ行）に相当する電子線非照射となる偏向状態の２状態であり、長さの異なるピットに対して、図２（Ａ行）に示されるように同じ強度の電子線照射を行うため、図２（Ａ行ｃ列）の最短ピットと図２（Ａ行ｄ列）の長ピットとの関係のように、長いピットほどピットの幅が太くなってしまうという傾向があり、良好な信号特性のピット列を形成するのを困難としている。この長短ピット間のピット幅変化は、高感度化のために用いられる化学増幅型レジストにおいて特に顕著となる。
本発明の方法では、電子線の偏向状態を、従来の技術の２状態に加えて、例えば、図２（Ｂ行）、図２（Ｃ行）のように、電子線が部分的にブランキング遮蔽板に当たる偏向状態を加え３状態以上とする。これにより、複数の電子線の照射強度で露光することができる。この方法を用いれば、例えば、図２（Ａ行ｃ列）の最短ピットと図２（Ｃ行ｄ列）の長ピットを組み合わせることにより、最短ピットと長ピットのピット幅を揃えることができる。さらに、最短ピットよりも長く、長ピットよりも短いピットのピット幅も揃えるためには、例えば、図２（Ｂ行）の偏向状態のように、最短ピットへの照射強度と長ピットへの照射強度の間の照射強度となる偏向状態を用いるとよい。
以上、長さの異なるピット間でピット幅を揃える方法を述べたが、これは、電子線の照射強度を自在に制御することにより従来にない複雑な電子線露光を可能とするという本発明の効果の一部であり、本発明の方法を用いれば、特定のピットのみピット幅を変えたり（図３（ａ））、ピットや溝の幅を途中で変えたりする（図３（ｂ））ことにより、ピット幅に依存する情報を、従来の情報記録に重ねて記録することもできる。また、ピット列と溝を連続的に形成する必要がある場合、ピット列の幅に対して、溝の幅が太くなってしまうという課題に対しても、溝の露光には照射強度を抑えることにより、両者の幅を揃える効果を持つ（図３（ｃ））。
なお、電子線の偏向においては、ブランキングディフレクターの性能によるが、偏向方向に多少なりとも揺らぎが存在する。図２（Ｂ、Ｃ行）のように電子線を部分的にブランキング遮蔽板に当てる偏向状態では、この揺らぎによって電子線照射強度が揺らいでしまうため、ピット形状にばらつきができてしまう場合がある。このばらつきが問題となる場合には、図４に示したように、ブランキングディフレクター１０４を働かせない状態で電子線がブランキング遮蔽板１０５に部分的に当たるようにブランキング遮蔽板１０５を配置することにより、偏向による揺らぎを受けることなく電子線をブランキング遮蔽板１０５に部分的にあてることができる（図４実線）。電子線を非照射とするには、電子線をブランキング遮蔽板１０５側に偏向させ（図４一点鎖線）、電子線を全照射とするには、電子線をブランキング遮蔽板１０５と反対方向に偏向させればよい（図４破線）。
図４破線の偏向方向では、偏向による揺らぎは、レンズ１０６によって無効化されるので問題とならない。この方法では、電子線の部分照射は一種類のみ可能となるが、各長さのピットの間でピット幅の変化の最も大きいピット間において部分照射と全照射を使い分けることにより、従来に比べて信号特性の良いピット列を形成することができる。なお、通常、最短ピットと最短ピットの次に長いピット間で部分照射と全照射を使い分けるのが有効である。ここで、レジストの露光マージンと本発明の方法の関係について考える。電子線露光装置の性能によるが、露光強度には１〜２％程度の変動が発生することがある。レジストには、この程度の変動の影響を受けないことが求められ、一般に市販されているレジストは、その要求を満たしている。このことから、本発明の方法を用いて、全照射に対して変化量１〜２％の部分照射を行ってもあまり意味がない。本発明で用いる部分照射の照射強度は全照射に対して、９７％以下、より好ましくは、９５％以下でよい結果が得られる。
このように露光された被露光物に、ウェットエッチング又はドライエッチングによりパターン形成してもよい。
（実施の形態２）
図５は、本発明の実施の形態２にかかる電子線露光装置のブランキング遮蔽板２０５のブランキング動作を説明する。図５に本発明の方法で露光する際の、ブランキング遮蔽板２０５への電子線の当て方（ａ列）、ブランキング遮蔽板２０５を透過する電子線形状（ｂ列）、現像処理後の最短ピット形状（ｃ列）、現像処理後の長ピット形状（ｄ列）を示した。図５のＡ行からＥ行は、電子線の偏向状態の変化を示している。ここで、電子線露光装置の原理、最短ピット、長ピットの定義、偏向によって記録原盤上の電子線照射位置が影響を受けない点は実施の形態１と同じである。
図５に示した、本発明の方法では、ブランキングディフレクター１０４による電子線の偏向状態を３つ以上とし、電子線の照射強度を制御する点は、基本的に実施の形態１と同じである。しかし、実施の形態１では、ブランキング遮蔽板１０５のエッジ近辺のみで、電子線の遮蔽度合いを制御したために、偏向方向の揺らぎの影響を受けやすかったが、実施の形態２の方法では、例えば、図５ａ列に示したように、ブランキング遮蔽板２０５が偏向方向の揺らぎの影響を受けることない透過形状を複数持つことにより。偏向方向の揺らぎの影響を受けることなく、記録原盤への安定した電子線の部分照射を複数種類行うことができる（部分照射一種類であれば、実施の形態１で図２を用いて説明した方法でも、偏向の揺らぎの影響を受けない露光が可能である）。
図５では、５段階の照射強度制御が行えるブランキング遮蔽板２０５を示したが、ブランキング遮蔽板２０５の持つ透過形状の数は図５に示したものに限らない。透過形状も図５のようなスリット状のものに限定するものでなく、例えば、図６に示すように、異なる大きさの円形の透過形状を複数持つブランキング遮蔽板２１５を使用してもよい。図６のブランキング遮蔽板２１５もブランキングディフレクター１０４による偏向方向の揺らぎの影響を受けることのない透過形状を持つため、安定した電子線の部分照射を行うことができる。さらに、透過形状が常に円形となるため、最短ピットなど、透過形状の影響を受けやすいピットをより安定に形成する効果を持つ。また、電子線の偏向方向と垂直方向の揺らぎの影響も受けることはない。ただし、電子線の進行方向の揺らぎが大きくなりすぎると、電子線の中心部と周辺部との電子密度の差の影響で、若干ではあるが照射強度に揺らぎが出る場合がある。
（実施の形態３）
図７は、本発明の実施の形態３にかかる電子線露光装置のブランキング遮蔽板３０５のブランキング動作を説明する。図７に本発明の方法で露光する際の、ブランキング遮蔽板３０５への電子線の当て方（ａ列）、ブランキング遮蔽板３０５を透過する電子線形状（ｂ列）、現像処理後の最短ピット形状（ｃ列）、現像処理後の長ピット形状（ｄ列）を示した。図７のＡ行からＥ行は、電子線の偏向状態の変化を示している。ここで、電子線露光装置の原理、最短ピット、長ピットの定義、偏向によって記録原盤上の電子線照射位置が影響を受けない点は実施の形態１と同じである。
実施の形態３では、ブランキング方向と、記録原盤上の電子線走査方向（光情報記録媒体のトラック方向）とがほぼ一致するのが好ましい。図７に示したブランキング遮蔽板３０５では、ブランキングディフレクター１０４による電子線の偏向状態を３つ以上とし、電子線の照射強度を制御する点は、基本的に実施の形態１、２と同じである。しかし、実施の形態３の方法では、偏向方向の変化に対する照射強度の変化の割合が、実施の形態１の方法に比べ小さいため、実施の形態１の方法に比べ、電子線の偏向方向の揺らぎの電子線照射強度への影響が小さく、ブランキング遮蔽板２０５又は２１５のもつ透過形状が有限であった実施の形態２の方法に対して、より多くの照射強度を制御できる。また、透過形状を連続的に変化することができるため、記録原盤１０７の露光半径位置と電子線の透過形状とを連動させることにより、電子線の照射強度を記録原盤１０７の露光半径位置に応じて変化させて、回転ステージ１０８の角速度を一定とした露光を行うことができる。
この際、半径位置に応じてブランキング遮蔽板３０５の透過形状を連続的に変化させるには、ブランキングディフレクター１０４による偏向方向を変化させても良いが、制御が複雑となることと、この際の変化には高速変化が必要ないことから、図８に示したように、ブランキング遮蔽板３０５に、露光半径位置に応じてブランキング遮蔽板３０５の位置を制御する送り制御機構３２０を設けて、ブランキング遮蔽板３０５を矢印Ｘで示すように水平移動することによって、透過形状を変化させる方が好ましい。
（実施の形態４）
図９は、本発明の実施の形態４にかかる電子線露光装置を示す一方、図１０は図９の電子線露光装置に用いられるアパーチャ９０２を示す。実施の形態４では、エミッタ９０１からの電子線のアパーチャ９０２の実質的な透過形状を変えることにより、記録原盤１０７への電子線照射強度を制御する。電子線露光装置の原理については、実施の形態１と基本的に同じである。図１０に示したように、アパーチャ９０２を開口部が絞り羽根９０３からなる構造とする。例えば、シャフト９０４などを介して、絞り羽根９０３の開閉を可能とし、記録原盤１０７の露光半径に応じて絞り羽根９０３の開度を制御する制御装置９０５を用いることにより、電子線の照射強度を記録原盤１０７の露光半径位置に応じて連続的に変化させる。
例えば、一般的な外径１２０ｍｍの光ディスクを例にとると、露光半径は２０ｍｍから６０ｍｍ程度であり、内周から外周へ向かって露光する際には、照射強度を半径に比例して増大させて、外周端では、内周端の３倍程度の照射強度とすればよい。１枚の記録原盤１０７あたりの露光時間は短いものでも１〜２時間程度であり、電子線照射強度の変化には、例えば、１ｍｓなどの高速な変化は全く必要ない。本発明の方法によれば、従来、照射強度が一定なために不可能であった記録原盤１０７の角速度一定での電子線露光が可能となる。
本実施の形態では、絞り羽根９０３を利用したアパーチャ９０２の透過形状の制御を示したが、本発明の方法は、アパーチャ９０２の透過形状を記録原盤１０７の露光半径に応じて連続的に変化させればよく、本実施の形態の方法に限るものではない。例えば、図１１は、図９の電子線露光装置の第１変形例である電子線露光装置を示す一方、図１２及び図１３は、図９の電子線露光装置の第２変形例である電子線露光装置を示す。
図１１では、例えばシャフト１００３を介して、記録原盤１０７の露光半径に応じて可動式アパーチャ１００２を矢印Ｙで示すように上下に移動することのできる制御装置１００４を用いる。エミッタ１００１からの電子線が平行な線束でない場所に可動式アパーチャ１００２が位置していれば、そこでアパーチャ１００２を上下移動することにより、アパーチャ１００２の形状を変えることなく、アパーチャ１００２で制限する電子線の量を実質的に変化させることができる。これにより、記録原盤１０７の露光半径に応じて連続的に電子照射強度を変えることができる。図１２及び図１３では、通常のアパーチャ１１０１と、実施の形態３のブランキング遮蔽板３０５と同様の構造をもつ可動式アパーチャ１１０２とを組み合わせると共に、制御装置１１０３によって、記録原盤１０７の露光半径に応じて可動式アパーチャ１１０２を矢印Ｚで示すように水平方向に移動させることにより、電子線の照射強度を記録原盤１０７の露光半径に応じて連続的に変化させることができる。
以上説明した実施の形態では、例えば、図１に示すように、アパーチャ１０２はエミッタ１０１の直下に配置されていたが、アパーチャ１０２の位置は、電子線の整形に適する場所であれば、例えば、ブランキングディフレクター１０４の直上でも、記録原盤１０７への収束レンズ１０６の直上でもよく、エミッタ１０１の直下である必要はない。さらに、図１２に示すように、通常の電子線整形用のアパーチャ１１０１と組み合わせて電子線透過率を変化させるアパーチャ１１０２を用いる場合は、電子線の整形にかかわらず、エミッタ１０１の下、記録原盤１０７の上であればいずれの場所に配置してもよい。
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる本発明の電子線露光では、従来不可能であった電子線照射強度の自在な制御を可能とする。これにより、例えば、従来ピット幅を揃えるのが困難であった状況における、電子線記録によるピット幅の揃った長短ピット列の形成や、ピット幅、溝幅の制御による情報記録、角速度一定の電子線記録などを可能とする。
【図１】
2004038508.tif 000003
【図２】
2004038508.tif 000004
【図３】
2004038508.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2004038508.tif 000013
【図１２】
2004038508.tif 000014
【図１３】
2004038508.tif 000015
【図１４】
2004038508.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成17年5月17日(2005.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系の透過率を変化させることにより、前記被露光物を複数の電子線照射強度で露光することを特徴とする電子線露光方法。
【請求項２】
ブランキング遮蔽板への電子線の当て方を変えることにより前記電子光学系の透過率を変化させることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項３】
ブランキングディフレクターにより前記電子線の偏向状態を制御することにより、前記ブランキング遮蔽板への前記電子線の当て方を変えることを特徴とする請求項２記載の電子線露光方法。
【請求項４】
前記ブランキングディフレクターにより、前記電子線を第１の方向に偏向して全ての前記電子線を前記ブランキング遮蔽板に当てる第１偏向状態と、前記電子線を第２の方向に偏向して前記電子線を前記ブランキング遮蔽板に全く当てない第２偏向状態と、前記ブランキングディフレクターにより前記電子線を偏向させず前記電子線を部分的に前記ブランキング遮蔽板に当てる第３偏向状態とを用いることを特徴とする請求項３記載の電子線露光方法。
【請求項５】
前記電子線を部分的に前記ブランキング遮蔽板に当てたときの電子線照射強度を、前記電子線を前記ブランキング遮蔽板に全く当てないときの電子線照射強度の９７％以下とすることを特徴とする請求項２記載の電子線露光方法。
【請求項６】
前記ブランキング遮蔽板に前記電子線の透過形状を複数持たせることにより、前記被露光物を複数の電子線照射強度で露光することを特徴とする請求項２記載の電子線露光方法。
【請求項７】
ブランキングディフレクターによって前記電子線の偏向方向を連続的に変化させたときに、電子線照射強度が不連続に変化することを特徴とする請求項６記載の電子線露光方法。
【請求項８】
ブランキングディフレクターによって前記電子線の偏向方向を連続的に変化させたときに、電子線照射強度が連続的に変化することを特徴とする請求項６記載の電子線露光方法。
【請求項９】
前記ブランキング遮蔽板を連続的に移動させたときに、電子線照射強度が連続的に変化することを特徴とする請求項６記載の電子線露光方法。
【請求項１０】
アパーチャの透過形状を連続的に変化させることにより、電子線照射強度を連続的に変化させることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１１】
前記被露光物に、露光後にウェットエッチング又はドライエッチングによりパターン形成を行うことを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１２】
前記被露光物上に化学増幅型レジスト層が形成されていることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１３】
前記被露光物と前記電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる露光により、ピットもしくはライン又はその両方を、前記被露光物にスパイラル状に形成することを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１４】
前記被露光物が光情報記録媒体の原盤作製に用いられることを特徴とする請求項１記載の電子線露光方法。
【請求項１５】
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光装置において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系と、前記被露光物が前記電子光学系によって複数の電子線照射強度で露光されるように、前記電子光学系の透過率を変化させるブランキング手段とを備えることを特徴とする電子線露光装置。
【請求項１６】
前記ブランキング手段が、ブランキングディフレクターとブランキング遮蔽板を含むことを特徴とする請求項１５記載の電子線露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光を行うもの、例えば、光情報記録媒体や磁気ディスクなどの製造に関する。
【背景技術】
【０００２】
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光の従来の技術を、光情報記録媒体の原盤記録を例として説明する。光情報記録媒体の原盤記録には、原盤上にレジストを塗布し、レーザによってレジストを感光させた後、原盤を現像処理することで情報ピットなどのパターンを形成する技術が長く用いられているが、最近では、直径１２ｃｍの光情報記録媒体１枚あたりの記録容量が２５ＧＢ〜５０ＧＢと増大するのにともない情報ピットサイズの微細化が進み、レーザよりも集光性の遥かに高い電子線によってレジストを感光させる技術が使われるようになってきた。
【０００３】
以下、図１４を用いて、光情報記録媒体の原盤記録に用いられる従来の電子線露光装置について説明する。エミッタ１２０１から放出された電子線は、アパーチャ１２０２により整形された後、レンズ１２０３により絞り込まれる。ブランキングディフレクター１２０４は、絞り込まれた電子線を偏向することができ、例えば、特許文献１に記載されているように、偏向された電子線はブランキング遮蔽板１２０５に当たり（図中、破線で示した）、記録原盤１２０７に照射されない。一方、ブランキングディフレクター１２０４により偏向されなかった電子線は、さらに、レンズ１２０６によって記録原盤１２０７上に絞り込まれる。記録原盤１２０７は、回転ステージ１２０８に載っており、回転ステージ１２０８は、回転軸１２０９を介して回転モータ１２１０に接続されている。さらに、回転モータ１２１０は、スライダ１２１１に載っており、水平移動することができる。また、これら１２０１〜１２１１はカラム１２１２やチャンバ１２１３により外界から遮断された真空中に置かれている。
【０００４】
以上説明した構造の従来の電子線露光装置において、情報信号パターンは、ブランキングディフレクター１２０４により電子線照射のオン、オフに変換される。そして、記録原盤１２０７を、回転ステージ１２０８と共に回転運動し、かつ、スライダ１２１１により水平移動することにより、ブランキングディフレクター１２０４により制御された電子線を、記録原盤１２０７上に螺旋状に照射することができる。
【０００５】
なお、電子線露光装置によって、ブランキング遮蔽板の形状は、例えば、上記特許文献１に記載されたアパーチャ状であったり、エッジ状であったり、レンズやアパーチャの個数や位置が異なったりするが、電子線照射の制御原理は上記説明した通りである。
このような電子線露光装置を用いれば、レーザによる原盤記録よりもはるかに微細なパターンの露光が可能となる。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２８８５３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の電子線露光方法及び電子線露光装置では、電子線の照射、非照射のどちらかしかできないために、ピットの長さに応じて電子線の照射強度を変えることや、幅の連続的に変化する溝を露光するなどの複雑な露光制御が不可能であった。このため、例えば、レジストの高感度化のために化学増幅型レジストなどを用いた場合、照射電流量の多い長ピットほどピット幅が太くなってしまう傾向が顕著となり、長ピットと短ピットのバランスを保つのが困難である。
【０００８】
また、照射強度が一定であると、露光線速度が一定となり、原盤を回転ステージに載せて回転させながら露光を行う場合には、角速度一定での記録（ＣＡＶ記録）を行うことができない。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
従来技術の上記課題を解決するために、本発明の第１の電子線露光方法は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、ブランキングディフレクターによる電子線の偏向方向の制御や、ブランキング遮蔽板の移動によって、ブランキング遮蔽板への電子線の当て方を変えることにより電子光学系の透過率を変化させることを特徴とする。本発明の上記電子線露光方法により、ピット長の長さに応じて電子線照射強度を制御してそれぞれのピット毎にピット幅を制御することや、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録が可能となる。ここで、上記移動は回転運動を含む。
【００１０】
又、本発明の第２の電子線露光方法は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、ブランキングディフレクターによる電子線の偏向方向の制御や、ブランキング遮蔽板の移動によって、複数の透過形状を持つブランキング遮蔽板への電子線の当て方を変えることにより電子光学系の透過率を変化させることを特徴とする。本発明の上記電子線露光方法により、ピット長の長さに応じて電子線照射強度を制御してそれぞれのピット毎にピット幅を制御することや、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録での記録を可能とする。
【００１１】
更に、本発明の第３の電子線露光方法は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光方法において、アパーチャの透過形状を連続的に変化させることにより、電子線照射強度を連続的に変化させることを特徴とする。本発明の上記電子線露光方法により、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録での記録を可能とする。
【００１２】
その上、従来技術の上記課題を解決するために、本発明の電子線露光装置は、被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる電子線露光装置において、前記被露光物上に前記電子線照射スポットを形成する電子光学系と、前記被露光物が前記電子光学系によって複数の電子線照射強度で露光されるように、前記電子光学系の透過率を変化させるブランキング手段とを備えることを特徴とする。本発明の上記電子線露光装置により、ピット長の長さに応じて電子線照射強度を制御してそれぞれのピット毎にピット幅を制御することや、記録原盤の露光半径に応じて電子線照射強度を制御することによって、角速度一定での記録が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。電子線露光装置の構造については図１を参照して説明するが、本発明は、主として、電子線の照射をオンオフ制御するブランキング機構と電子線の整形機構の動作に関するものであり、例えば、集束レンズの配置や個数、光情報記録媒体の原盤を載せるステージなど、ブランキング機構又は電子線の整形機構に関らないものについては図１のものに制限されない。さらに電子線のブランキング機構と整形機構についても、本発明を実現するものであれば、いかなる機構を用いてもよく、図１のものに制限されない。
【００１４】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１にかかる電子線露光装置を示す。この電子線露光装置は、記録原盤１０７へのスパイラル状の露光に用いられる。図１において、エミッタ１０１から放出された電子線は、アパーチャ１０２により整形された後、レンズ１０３により絞り込まれる。ブランキングディフレクター１０４は、絞り込まれた電子線を偏向することができ、その偏向方向によって、電子線はブランキング遮蔽板１０５への当たり方が制御される。ブランキング遮蔽板１０５で遮られなかった電子線は、さらに、レンズ１０６によって記録原盤１０７上に絞り込まれて、照射スポット１１４を形成する。記録原盤１０７は、回転ステージ１０８に載っており、回転ステージ１０８は、回転軸１０９を介して回転モータ１１０に接続されている。さらに、回転モータ１１０は、スライダ１１１に載っており、水平移動することができる。また、これら１０１〜１１１はカラム１１２やチャンバ１１３により外界から遮断された真空中に置かれている。
【００１５】
図２に本発明の方法で露光する際の、ブランキング遮蔽板１０５への電子線の当て方（ａ列）、ブランキング遮蔽板１０５を透過する電子線形状（ｂ列）、現像処理後の最短ピット形状（ｃ列）、現像処理後の長ピット形状（ｄ列）を示した。ここで、最短ピットとは、ピットのトラックに平行な方向の長さがピットの半径方向の長さとほぼ同じとなるピットとする。また、長ピットとは、同じ露光強度で露光して現像処理した溝と同じ幅を持つものとする。図２のＡ行からＤ行は、電子線の偏向状態の変化を示している。ブランキングディフレクター１０４の位置で電子線は一旦収束されているため、電子線がブランングディフレクター１０４によって異なる偏向を受けても、レンズ１０６によって同じ位置に収束される電子光学系となっている。
【００１６】
従来の技術では、電子線の偏向状態は、図２（Ａ行）に相当する電子線全照射となる偏向状態と、図２（Ｄ行）に相当する電子線非照射となる偏向状態の２状態であり、長さの異なるピットに対して、図２（Ａ行）に示されるように同じ強度の電子線照射を行うため、図２（Ａ行ｃ列）の最短ピットと図２（Ａ行ｄ列）の長ピットとの関係のように、長いピットほどピットの幅が太くなってしまうという傾向があり、良好な信号特性のピット列を形成するのを困難としている。この長短ピット間のピット幅変化は、高感度化のために用いられる化学増幅型レジストにおいて特に顕著となる。
【００１７】
本発明の方法では、電子線の偏向状態を、従来の技術の２状態に加えて、例えば、図２（Ｂ行）、図２（Ｃ行）のように、電子線が部分的にブランキング遮蔽板に当たる偏向状態を加え３状態以上とする。これにより、複数の電子線の照射強度で露光することができる。この方法を用いれば、例えば、図２（Ａ行ｃ列）の最短ピットと図２（Ｃ行ｄ列）の長ピットを組み合わせることにより、最短ピットと長ピットのピット幅を揃えることができる。さらに、最短ピットよりも長く、長ピットよりも短いピットのピット幅も揃えるためには、例えば、図２（Ｂ行）の偏向状態のように、最短ピットへの照射強度と長ピットへの照射強度の間の照射強度となる偏向状態を用いるとよい。
【００１８】
以上、長さの異なるピット間でピット幅を揃える方法を述べたが、これは、電子線の照射強度を自在に制御することにより従来にない複雑な電子線露光を可能とするという本発明の効果の一部であり、本発明の方法を用いれば、特定のピットのみピット幅を変えたり（図３（ａ））、ピットや溝の幅を途中で変えたりする（図３（ｂ））ことにより、ピット幅に依存する情報を、従来の情報記録に重ねて記録することもできる。また、ピット列と溝を連続的に形成する必要がある場合、ピット列の幅に対して、溝の幅が太くなってしまうという課題に対しても、溝の露光には照射強度を抑えることにより、両者の幅を揃える効果を持つ（図３（ｃ））。
【００１９】
なお、電子線の偏向においては、ブランキングディフレクターの性能によるが、偏向方向に多少なりとも揺らぎが存在する。図２（Ｂ、Ｃ行）のように電子線を部分的にブランキング遮蔽板に当てる偏向状態では、この揺らぎによって電子線照射強度が揺らいでしまうため、ピット形状にばらつきができてしまう場合がある。このばらつきが問題となる場合には、図４に示したように、ブランキングディフレクター１０４を働かせない状態で電子線がブランキング遮蔽板１０５に部分的に当たるようにブランキング遮蔽板１０５を配置することにより、偏向による揺らぎを受けることなく電子線をブランキング遮蔽板１０５に部分的にあてることができる（図４実線）。電子線を非照射とするには、電子線をブランキング遮蔽板１０５側に偏向させ（図４一点鎖線）、電子線を全照射とするには、電子線をブランキング遮蔽板１０５と反対方向に偏向させればよい（図４破線）。
【００２０】
図４破線の偏向方向では、偏向による揺らぎは、レンズ１０６によって無効化されるので問題とならない。この方法では、電子線の部分照射は一種類のみ可能となるが、各長さのピットの間でピット幅の変化の最も大きいピット間において部分照射と全照射を使い分けることにより、従来に比べて信号特性の良いピット列を形成することができる。なお、通常、最短ピットと最短ピットの次に長いピット間で部分照射と全照射を使い分けるのが有効である。ここで、レジストの露光マージンと本発明の方法の関係について考える。電子線露光装置の性能によるが、露光強度には１〜２％程度の変動が発生することがある。レジストには、この程度の変動の影響を受けないことが求められ、一般に市販されているレジストは、その要求を満たしている。このことから、本発明の方法を用いて、全照射に対して変化量１〜２％の部分照射を行ってもあまり意味がない。本発明で用いる部分照射の照射強度は全照射に対して、９７％以下、より好ましくは、９５％以下でよい結果が得られる。
【００２１】
このように露光された被露光物に、ウェットエッチング又はドライエッチングによりパターン形成してもよい。
【００２２】
（実施の形態２）
図５は、本発明の実施の形態２にかかる電子線露光装置のブランキング遮蔽板２０５のブランキング動作を説明する。図５に本発明の方法で露光する際の、ブランキング遮蔽板２０５への電子線の当て方（ａ列）、ブランキング遮蔽板２０５を透過する電子線形状（ｂ列）、現像処理後の最短ピット形状（ｃ列）、現像処理後の長ピット形状（ｄ列）を示した。図５のＡ行からＥ行は、電子線の偏向状態の変化を示している。ここで、電子線露光装置の原理、最短ピット、長ピットの定義、偏向によって記録原盤上の電子線照射位置が影響を受けない点は実施の形態１と同じである。
【００２３】
図５に示した、本発明の方法では、ブランキングディフレクター１０４による電子線の偏向状態を３つ以上とし、電子線の照射強度を制御する点は、基本的に実施の形態１と同じである。しかし、実施の形態１では、ブランキング遮蔽板１０５のエッジ近辺のみで、電子線の遮蔽度合いを制御したために、偏向方向の揺らぎの影響を受けやすかったが、実施の形態２の方法では、例えば、図５ａ列に示したように、ブランキング遮蔽板２０５が偏向方向の揺らぎの影響を受けることない透過形状を複数持つことにより。偏向方向の揺らぎの影響を受けることなく、記録原盤への安定した電子線の部分照射を複数種類行うことができる（部分照射一種類であれば、実施の形態１で図２を用いて説明した方法でも、偏向の揺らぎの影響を受けない露光が可能である）。
【００２４】
図５では、５段階の照射強度制御が行えるブランキング遮蔽板２０５を示したが、ブランキング遮蔽板２０５の持つ透過形状の数は図５に示したものに限らない。透過形状も図５のようなスリット状のものに限定するものでなく、例えば、図６に示すように、異なる大きさの円形の透過形状を複数持つブランキング遮蔽板２１５を使用してもよい。図６のブランキング遮蔽板２１５もブランキングディフレクター１０４による偏向方向の揺らぎの影響を受けることのない透過形状を持つため、安定した電子線の部分照射を行うことができる。さらに、透過形状が常に円形となるため、最短ピットなど、透過形状の影響を受けやすいピットをより安定に形成する効果を持つ。また、電子線の偏向方向と垂直方向の揺らぎの影響も受けることはない。ただし、電子線の進行方向の揺らぎが大きくなりすぎると、電子線の中心部と周辺部との電子密度の差の影響で、若干ではあるが照射強度に揺らぎが出る場合がある。
【００２５】
（実施の形態３）
図７は、本発明の実施の形態３にかかる電子線露光装置のブランキング遮蔽板３０５のブランキング動作を説明する。図７に本発明の方法で露光する際の、ブランキング遮蔽板３０５への電子線の当て方（ａ列）、ブランキング遮蔽板３０５を透過する電子線形状（ｂ列）、現像処理後の最短ピット形状（ｃ列）、現像処理後の長ピット形状（ｄ列）を示した。図７のＡ行からＥ行は、電子線の偏向状態の変化を示している。ここで、電子線露光装置の原理、最短ピット、長ピットの定義、偏向によって記録原盤上の電子線照射位置が影響を受けない点は実施の形態１と同じである。
【００２６】
実施の形態３では、ブランキング方向と、記録原盤上の電子線走査方向（光情報記録媒体のトラック方向）とがほぼ一致するのが好ましい。図７に示したブランキング遮蔽板３０５では、ブランキングディフレクター１０４による電子線の偏向状態を３つ以上とし、電子線の照射強度を制御する点は、基本的に実施の形態１、２と同じである。しかし、実施の形態３の方法では、偏向方向の変化に対する照射強度の変化の割合が、実施の形態１の方法に比べ小さいため、実施の形態１の方法に比べ、電子線の偏向方向の揺らぎの電子線照射強度への影響が小さく、ブランキング遮蔽板２０５又は２１５のもつ透過形状が有限であった実施の形態２の方法に対して、より多くの照射強度を制御できる。また、透過形状を連続的に変化することができるため、記録原盤１０７の露光半径位置と電子線の透過形状とを連動させることにより、電子線の照射強度を記録原盤１０７の露光半径位置に応じて変化させて、回転ステージ１０８の角速度を一定とした露光を行うことができる。
【００２７】
この際、半径位置に応じてブランキング遮蔽板３０５の透過形状を連続的に変化させるには、ブランキングディフレクター１０４による偏向方向を変化させても良いが、制御が複雑となることと、この際の変化には高速変化が必要ないことから、図８に示したように、ブランキング遮蔽板３０５に、露光半径位置に応じてブランキング遮蔽板３０５の位置を制御する送り制御機構３２０を設けて、ブランキング遮蔽板３０５を矢印Ｘで示すように水平移動することによって、透過形状を変化させる方が好ましい。
【００２８】
（実施の形態４）
図９は、本発明の実施の形態４にかかる電子線露光装置を示す一方、図１０は図９の電子線露光装置に用いられるアパーチャ９０２を示す。実施の形態４では、エミッタ９０１からの電子線のアパーチャ９０２の実質的な透過形状を変えることにより、記録原盤１０７への電子線照射強度を制御する。電子線露光装置の原理については、実施の形態１と基本的に同じである。図１０に示したように、アパーチャ９０２を開口部が絞り羽根９０３からなる構造とする。例えば、シャフト９０４などを介して、絞り羽根９０３の開閉を可能とし、記録原盤１０７の露光半径に応じて絞り羽根９０３の開度を制御する制御装置９０５を用いることにより、電子線の照射強度を記録原盤１０７の露光半径位置に応じて連続的に変化させる。
【００２９】
例えば、一般的な外径１２０ｍｍの光ディスクを例にとると、露光半径は２０ｍｍから６０ｍｍ程度であり、内周から外周へ向かって露光する際には、照射強度を半径に比例して増大させて、外周端では、内周端の３倍程度の照射強度とすればよい。１枚の記録原盤１０７あたりの露光時間は短いものでも１〜２時間程度であり、電子線照射強度の変化には、例えば、１ｍｓなどの高速な変化は全く必要ない。本発明の方法によれば、従来、照射強度が一定なために不可能であった記録原盤１０７の角速度一定での電子線露光が可能となる。
【００３０】
本実施の形態では、絞り羽根９０３を利用したアパーチャ９０２の透過形状の制御を示したが、本発明の方法は、アパーチャ９０２の透過形状を記録原盤１０７の露光半径に応じて連続的に変化させればよく、本実施の形態の方法に限るものではない。例えば、図１１は、図９の電子線露光装置の第１変形例である電子線露光装置を示す一方、図１２及び図１３は、図９の電子線露光装置の第２変形例である電子線露光装置を示す。
【００３１】
図１１では、例えばシャフト１００３を介して、記録原盤１０７の露光半径に応じて可動式アパーチャ１００２を矢印Ｙで示すように上下に移動することのできる制御装置１００４を用いる。エミッタ１００１からの電子線が平行な線束でない場所に可動式アパーチャ１００２が位置していれば、そこでアパーチャ１００２を上下移動することにより、アパーチャ１００２の形状を変えることなく、アパーチャ１００２で制限する電子線の量を実質的に変化させることができる。これにより、記録原盤１０７の露光半径に応じて連続的に電子照射強度を変えることができる。図１２及び図１３では、通常のアパーチャ１１０１と、実施の形態３のブランキング遮蔽板３０５と同様の構造をもつ可動式アパーチャ１１０２とを組み合わせると共に、制御装置１１０３によって、記録原盤１０７の露光半径に応じて可動式アパーチャ１１０２を矢印Ｚで示すように水平方向に移動させることにより、電子線の照射強度を記録原盤１０７の露光半径に応じて連続的に変化させることができる。
【００３２】
以上説明した実施の形態では、例えば、図１に示すように、アパーチャ１０２はエミッタ１０１の直下に配置されていたが、アパーチャ１０２の位置は、電子線の整形に適する場所であれば、例えば、ブランキングディフレクター１０４の直上でも、記録原盤１０７への収束レンズ１０６の直上でもよく、エミッタ１０１の直下である必要はない。さらに、図１２に示すように、通常の電子線整形用のアパーチャ１１０１と組み合わせて電子線透過率を変化させるアパーチャ１１０２を用いる場合は、電子線の整形にかかわらず、エミッタ１０１の下、記録原盤１０７の上であればいずれの場所に配置してもよい。
【００３３】
被露光物と電子線照射スポットを連続する速度で互いに相対的に移動させる本発明の電子線露光では、従来不可能であった電子線照射強度の自在な制御を可能とする。これにより、例えば、従来ピット幅を揃えるのが困難であった状況における、電子線記録によるピット幅の揃った長短ピット列の形成や、ピット幅、溝幅の制御による情報記録、角速度一定の電子線記録などを可能とする。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態１にかかる電子線露光装置を示す概略断面図である。
【図２】図１の電子線露光装置に用いられるブランキング遮蔽板のブランキング動作を説明する図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）と（ｃ）は、夫々、図１の電子線露光装置で形成されるパターンの３個の例を示す図である。
【図４】図１の電子線露光装置に用いられるブランキングディフレクターとブランキング遮蔽板の配置の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の実施の形態２にかかる電子線露光装置に用いられるブランキング遮蔽板のブランキング動作を説明する図である。
【図６】図５のブランキング遮蔽板の変形例であるブランキング遮蔽板を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態３にかかる電子線露光装置に用いられるブランキング遮蔽板のブランキング動作を説明する図である。
【図８】図７のブランキング遮蔽板の移動によるブランキング動作を説明する図である。
【図９】本発明の実施の形態４にかかる電子線露光装置を示す概略断面図である。
【図１０】図９の電子線露光装置に用いられるアパーチャを示す拡大平面図である。
【図１１】図９の電子線露光装置の第１変形例である電子線露光装置を示す概略断面図である。
【図１２】図９の電子線露光装置の第２変形例である電子線露光装置を示す概略断面図である。
【図１３】図１２の電子線露光装置に用いられる可動式アパーチャを示す拡大平面図である。
【図１４】従来の電子線露光装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１０１  エミッタ
１０２  アパーチャ
１０３  レンズ
１０４  ブランキングディフレクター
１０５  ブランキング遮蔽板
１０６  レンズ
１０７  記録原盤
１０８  回転ステージ
１０９  回転軸
１１０  回転モータ
１１１  スライダ
１１２  カラム
１１３  チャンバ
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004038508.tif 000017
【図２】
2004038508.tif 000018
【図３】
2004038508.tif 000019
【図４】
2004038508.tif 000020
【図５】
2004038508.tif 000021
【図６】
2004038508.tif 000022
【図７】
2004038508.tif 000023
【図８】
2004038508.tif 000024
【図９】
2004038508.tif 000025
【図１０】
2004038508.tif 000026
【図１１】
2004038508.tif 000027
【図１２】
2004038508.tif 000028
【図１３】
2004038508.tif 000029
【図１４】
2004038508.tif 000030
【国際調査報告】
2004038508.tif 000031
2004038508.tif 000032
2004038508.tif 000033
2004038508.tif 000034