(57)【要約】ウエハ（Ｗ）を複数のアライメントマーク（Ｍｎ）がアライメント検出系を経由する経路に沿って第１位置（Ｐｃｈ）から第２位置（Ｐｃｘｐ）まで移動するに際し、ウエハテーブル（ＷＴＢ）をＹ軸方向及びこれに直交するＸ軸方向にそれぞれ駆動するＹリニアモータ、Ｘリニアモータの休止時間がともに最小となるような経路に沿ってウエハテーブルを駆動する。この場合、両リニアモータが同時にウエハテーブルを駆動する時間が極力多くなり、その同時駆動の時間中は、いずれか一方のリニアモータのみを用いてウエハテーブルを駆動する場合に比べてウエハの移動距離を長くすることができるので、結果的にウエハを第１位置から第２位置へ移動するのに要する時間を短縮できる。
2004075268.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１軸方向及びこれに直交する第２軸方向にそれぞれ駆動力を発生する第１及び第２の駆動装置を用いて移動体を移動する移動方法であって、
第１位置から、該第１位置とは同一直線上に無い複数点を経由して、前記複数点とは同一直線上にない第２位置に至る複数の経路のうち、経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って前記移動体を移動する工程を含む移動方法。
【請求項２】
請求項１に記載の移動方法において、
前記特定経路は、前記複数の経路のうち、前記第１、第２の駆動装置の休止時間がともに最小となるような経路であることを特徴とする移動方法。
【請求項３】
請求項１に記載の移動方法において、
前記移動体は同一直線上に無い少なくとも３点を含む複数点を経由して前記第１位置から前記第２位置まで移動されることを特徴とする移動方法。
【請求項４】
請求項３に記載の移動方法において、
前記複数点のうち前記少なくとも３点を含む少なくとも一部の点は、前記移動体上に設けられた複数の基準点の位置関係に対応する位置関係で設定され、
前記特定経路は、前記移動の途中で前記複数の基準点がそれぞれ所定点を経由するように設定されることを特徴とする移動方法。
【請求項５】
請求項４に記載の移動方法において、
前記複数の基準点は、前記移動体上に載置された物体上に設けられていることを特徴とする移動方法。
【請求項６】
請求項３に記載の移動方法において、
前記複数点の全ては前記移動体上に設けられた複数の基準点の位置関係に対応する位置関係で設定され、
前記特定経路は、前記移動の途中で前記複数の基準点が所定点を順次経由するように設定されることを特徴とする移動方法。
【請求項７】
請求項６に記載の移動方法において、
前記複数の基準点は、前記移動体上に載置された物体上に設けられていることを特徴とする移動方法。
【請求項８】
請求項４に記載の移動方法において、
前記特定経路は、前記第１位置と前記所定点との位置関係、前記複数の基準点相互の位置関係、及び前記所定点と前記第２位置との位置開係、並びに前記第１、第２の駆動装置による前記移動体の最高速度及び最高加速度の少なくとも一方に基づいて決定されることを特徴とする移動方法。
【請求項９】
請求項４に記載の移動方法において、
前記所定点は、前記移動体上に存在するマークを検出するマーク検出系の位置であり、
前記複数の基準点は、前記移動体上に載置された物体上に存在する少なくとも３つの特定マークの基準点を含むことを特徴とする移動方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の移動方法において、
前記少なくとも３つの特定マークは、前記物体と前記第２位置との位置関係の調整に用いられる位置合わせマークであることを特徴とする移動方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の移動方法において、
前記複数の基準点がそれぞれ前記所定点を経由した後、前記マーク検出系による前記各特定マークの検出結果に応じて、前記物体上の複数の領域がそれぞれ前記第２位置に設定されることを特徴とする移動方法。
【請求項１２】
物体上の複数の区画領域にそれぞれ所定のパターンを転写する露光方法であって、
請求項９に記載の移動方法によって前記物体が載置された移動体を移動し、前記マーク検出系を用いて前記物体上の少なくとも３つの特定マークを順次検出する工程と；
前記パターンの転写が行われる前記第２位置に前記複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、前記マーク検出系の検出結果に基づいて前記移動体を移動する工程と；を含む露光方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光方法において、
前記検出する工程では、前記物体上で前記複数の区画領域に対応して設けられる複数の位置合わせマークの中から前記特定マークを選択し、
前記移動する工程では、前記マーク検出系により検出された各特定マークの検出結果と各特定マーク検出時の前記移動体の位置情報とに基づいて、前記物体上の複数の区画領域を前記第２位置に設定するための情報を算出し、
前記算出された情報に基づいて前記移動体を介して前記物体を移動して前記複数の区画領域のそれぞれに前記パターンを転写する工程を更に含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の露光方法において、
前記情報は、前記移動体の移動を規定する基準座標系上における前記物体上の複数の区画領域の配列座標であることを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
マスクと物体とを所定の走査方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光方法であって、
前記物体が載置される移動体の前記走査方向に関する位置情報を、前記走査方向を計測軸方向として計測するとともに、その計測結果に基づいて、前記走査方向に対してそれぞれ交差する第１軸方向及び第２軸方向の駆動力をそれぞれ発生する第１及び第２の駆動装置を介して前記移動体を前記マスクに同期して前記走査方向に駆動する工程を含む露光方法。
【請求項１６】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体上にパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１７】
物体上の複数の区画領域にそれぞれ所定のパターンを転写する露光装置であって、
前記物体が載置される移動体と；
前記移動体を第１軸方向に駆動する第１の駆動装置と；
前記移動体を前記第１軸方向に直交する第２軸方向に駆動する第２の駆動装置と；
前記移動体上に存在するマークを検出するマーク検出系と；
第１位置から前記パターンの転写が行われる第２位置へ移動する途中で前記物体上の同一直線上にない少なくとも３つの特定マークが前記マーク検出系の検出位置に順次移動される複数の経路のうち、経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って前記移動体の移動が行われるように、前記第１、第２の駆動装置を制御しながら、前記マーク検出系を用いて前記各特定マークを順次検出する処理装置と；
前記第２位置に前記物体上の前記複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、前記マーク検出系の検出結果に基づいて、前記第１、第２の駆動装置を制御する制御装置と；を備える露光装置。
【請求項１８】
マスクと物体とを所定の走査方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光装置であって、
前記物体が載置される移動体と；
前記移動体を前記走査方向に対してそれぞれ交差する第１軸方向及び第２軸方向にそれぞれ駆動する第１及び第２の駆動装置と；
前記移動体の前記走査方向に関する位置情報を、前記走査方向を計測軸方向として計測する位置計測装置と；を備える露光装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光装置において、
前記第１軸方向及び第２軸方向は、前記走査方向に対して４５°の角度を成すように設定されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２０】
請求項１８に記載の露光装置において、
前記位置計測装置は、前記移動体に設けられた反射面に測長ビームを照射し、前記反射面からの反射光を受光して前記移動体の走査方向に関する位置情報を計測する光波干渉式測長器であることを特徴とする露光装置。
【請求項２１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体上にパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、移動方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、半導体素子などを製造するリソグラフィ工程で物体上に所定のパターンを転写する露光方法及び露光装置、前記物体が載置される移動体の移動に好適に適用できる移動方法、並びに前記露光方法又は露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】  半導体素子、液晶表示素子等のマイクロデバイスを製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下「レチクル」と総称する）に形成されたパターンを投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の感光物体（以下、「ウエハ」と総称する）上に転写する露光装置、例えばステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）やこのステッパに改良を加えたステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが主として用いられている。
半導体素子等は、ウエハ上に複数層のパターンを重ね合せて形成されるため、ステッパ等の露光装置では、ウエハ上に既に形成されたパターンと、レチクルに形成されたパターンとを最適な相対位置関係にする操作（アライメント）が必要である。このアライメントの方式として、特開昭６１−４４４２９号公報及びこれに対応する米国特許第４，７８０，６１７号等に開示されるＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式が主として用いられている。このＥＧＡ方式のアライメントでは、ウエハ内の特定の複数のショット領域（サンプルショット領域又はアライメントショット領域とも呼ばれる）を予め選択しておき、それらのサンプルショット領域に付設されたアライメントマーク（サンプルマーク）の位置情報を順次計測し、この計測結果とショット領域の設計上の配列情報とを用いて、最小自乗法等による統計演算を行なって、ウエハ上のショット領域の配列座標を求める。そのため、ＥＧＡ方式のアライメントでは、高スループットで各ショット領域の配列座標を比較的高精度に求めることができる。
上記のアライメントでは、複数のサンプルショット領域に付設されたアライメントマークを計測する必要から、複数のアライメントマークがマーク検出系（アライメント検出系）の検出領域に順次位置付けられるような経路に沿って、ウエハを移動する必要がある。このアライメントのためのウエハの移動時間は、短い方がスループット向上のためには望ましく、従来においては、全体としてのウエハの移動距離を最小にするという観点からウエハの移動経路の決定がなされていた。
しかしながら、ウエハは通常直交２軸方向に駆動可能なウエハステージ（２軸駆動のウエハステージ）に載置されており、この２軸駆動のウエハステージの場合、駆動方向によって、同一距離の移動時間が異なる場合が殆どであり、このため、全体としてのウエハの移動距離が短い移動経路が、移動時間が短い経路と一致するとは限らない。２軸駆動のウエハステージの場合、２軸方向の駆動装置を同時に駆動すれば、その駆動ベクトルの和によって駆動距離が定まるため、一方の軸方向の駆動装置のみが用いられるような移動経路と、両方の軸方向の駆動装置が同時に用いられる移動経路とでは、同時間における駆動距離が異なるからである。
また、ステッパやスキャニング・ステッパなどにおけるショット領域間ステッピング時間の短縮などを主眼とする、ステッパのショット領域間ステッピング方向、あるいはスキャンニング・ステッパのスキャン方向及び非スキャン方向に対して、傾斜した２軸方向を駆動軸方向とする、２軸駆動のリニアモータ方式のステージ装置を備えた露光装置も最近になって提案されている（例えば特開２０００−７７３０１号公報等参照）。
上記特開２０００−７７３０１号公報に開示される発明によると、ショット領域間ステッピング時間の短縮により、スループットの向上が可能であるという利点がある。但し、この公報に記載の露光装置の場合、例えばステッピング方向を第１軸方向及び第２軸方向に対して４５°傾斜した方向に設定した場合を考えると、ステッピング時間を１／２１／２に短縮する場合、ウエハステージの位置計測誤差が２１／２倍となってしまうため、高精度なステージの移動を実現できない可能性を内在している。
【発明の開示】
本発明は、上述した事情の下になされたもので、第１の観点からすると、第１軸方向及びこれに直交する第２軸方向にそれぞれ駆動力を発生する第１及び第２の駆動装置を用いて移動体を移動する移動方法であって、第１位置から、該第１位置とは同一直線上に無い複数点を経由して、前記複数点とは同一直線上にない第２位置に至る複数の経路のうち、経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って前記移動体を移動する工程を含む移動方法である。
ここで、「経路区間」とは、第１位置（始点）から第２位置（終点）へ至る各経路上の、第１位置と第１番目の経由点との間、隣接する経由点間、最終経由点と第２位置との間のそれぞれの区間、あるいは、前記各経路上の各直線区間のいずれかの意味である。本明細書では、このような意味で、「経路区間」と言う用語を用いている。
また、第１位置と第２位置とは、異なる位置（点）であっても勿論良いが、第１位置と第２位置とは同じ位置（点）であっても良い。
これによれば、移動体を第１位置から、該第１位置とは同一直線上に無い複数点を経由して、前記複数点とは同一直線上にない第２位置まで移動させる際に、複数の経路のうち、経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って移動体が移動される。ここで、「経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間」とは、第１、第２の駆動装置の両方が同時に移動体を駆動する場合に、律束条件となる軸方向成分の移動に要する時間を意味する。その合計が最小となる特定経路は、移動時間が最も短くなる経路に他ならない。従って、本発明の移動方法によれば、移動体を第１位置から第２位置へ移動するのに要する時間を確実に短縮することが可能となる。
この場合において、前記特定経路は、前記複数の経路のうち、前記第１、第２の駆動装置の休止時間がともに最小となるような経路であることとすることができる。かかる場合には、移動体を第１軸方向及びこれに直交する第２軸方向にそれぞれ駆動する第１、第２の駆動装置の休止時間がともに最小となるような経路に沿って移動体が移動される。すなわち、第１、第２の駆動装置の両方が同時に移動体を駆動する時間が極力多くなり、その同時駆動の時間中は、いずれか一方の駆動装置のみを用いて移動体を駆動する場合に比べて移動体の単位時間当たりの移動距離を長くすることができる。この結果、移動体を第１位置から第２位置へ移動するのに要する時間を確実に短縮することが可能となる。
本発明の移動方法では、前記移動体は同一直線上に無い少なくとも３点を含む複数点を経由して第１位置から第２位置まで移動されることとすることができる。
この場合において、前記複数点のうち前記少なくとも３点を含む少なくとも一部の点は、前記移動体上に設けられた複数の基準点の位置関係に対応する位置関係で設定され、前記特定経路は、前記移動の途中で前記複数の基準点がそれぞれ所定点を経由するように設定されることとすることができる。
この場合において、前記複数の基準点は、前記移動体上に載置された物体上に設けられていることとすることができる。
本発明の移動方法では、移動体が同一直線上に無い少なくとも３点を含む複数点を経由して第１位置から第２位置まで移動される場合に、前記複数点の全ては前記移動体上に設けられた複数の基準点の位置関係に対応する位置関係で設定され、前記特定経路は、前記移動の途中で前記複数の基準点が所定点を順次経由するように設定されることとすることができる。
この場合において、前記複数の基準点は、前記移動体上に載置された物体上に設けられていることとすることができる。
本発明の移動方法では、前記特定経路が、移動の途中で前記複数の基準点がそれぞれ所定点を経由するように設定される場合、前記特定経路は、前記第１位置と前記所定点との位置関係、前記複数の基準点相互の位置関係、及び前記所定点と前記第２位置との位置関係、並びに前記第１、第２の駆動装置による前記移動体の最高速度及び最高加速度の少なくとも一方に基づいて決定されることとすることができる。また、前記所定点が、前記移動体上に存在するマークを検出するマーク検出系の位置である場合には、前記複数の基準点は、前記移動体上に載置された物体上に存在する少なくとも３つの特定マークの基準点を含むこととすることができる。
この場合において、前記少なくとも３つの特定マークは、前記物体と前記第２位置との位置関係の調整に用いられる位置合わせマークであることとすることができる。また、前記複数の基準点がそれぞれ前記所定点を経由した後、前記マーク検出系による前記各特定マークの検出結果に応じて、前記物体上の複数の領域がそれぞれ前記第２位置に設定されることとすることができる。
本発明は、第２の観点からすると、物体上の複数の区画領域にそれぞれ所定のパターンを転写する露光方法であって、その移動の途中で、前記物体上に存在する少なくとも３つの特定マークの基準点がそれぞれマーク検出系の位置を経由するように設定された特定経路に沿って前記物体が載置された移動体を移動する、本発明の移動方法により前記移動体を移動し、前記マーク検出系を用いて前記物体上の少なくとも３つの特定マークを順次検出する工程と；前記パターンの転写が行われる前記第２位置に前記物体上の複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、前記マーク検出系の検出結果に基づいて前記物体を移動する工程と；を含む第１の露光方法である。
これによれば、本発明の移動方法によって物体が載置された移動体が移動され、その移動の途中で物体上の少なくとも３つの特定マークがマーク検出系を用いて順次検出される。ここで、例えば第１位置を特定マークの検出開始前の待機位置（又は移動体に物体をローディングする位置など）、第２位置をパターンの転写が行われる露光位置とすることにより、複数の特定マークをマーク検出系により検出する際の前記待機位置から露光位置までの物体のトータルの移動時間が確実に短縮される。
そして、パターンの転写が行われる第２位置に物体上の複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、マーク検出系の検出結果に基づいて移動体が移動され、パターンが物体上の複数の区画領域に順次転写される。従って、本発明の第１の露光方法によれば、マーク検出に要する時間の短縮、ひいては一連の露光処理全体に要する時間を短縮することが可能となる。
この場合において、前記検出する工程では、前記物体上で前記複数の区画領域に対応して設けられる複数の位置合わせマークの中から前記特定マークを選択し、前記移動する工程では、前記マーク検出系により検出された各特定マークの検出結果と各特定マーク検出時の前記移動体の位置情報とに基づいて、前記物体上の複数の区画領域を前記第２位置に設定するための情報を算出し、前記算出された情報に基づいて前記移動体を介して前記物体を移動して前記複数の区画領域のそれぞれに前記パターンを転写することとすることができる。
この場合において、前記情報は、前記移動体の移動を規定する基準座標系上における前記物体上の複数の区画領域の配列座標であることとすることができる。
本発明は、第３の観点からすると、マスクと物体とを所定の走査方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光方法であって、前記物体が載置される移動体の前記走査方向に関する位置情報を、前記走査方向を計測軸方向として計測するとともに、その計測結果に基づいて、前記走査方向に対してそれぞれ交差する第１軸方向及び第２軸方向の駆動力をそれぞれ発生する第１及び第２の駆動装置を介して前記移動体を前記マスクに同期して前記走査方向に駆動する工程を含む第２の露光方法である。
これによれば、走査露光に際し、第１の駆動装置及び第２駆動装置による駆動を同時に行って移動体が走査方向に駆動されるので、走査方向を駆動軸方向とする同一駆動能力の単一の駆動装置を用いて移動体を走査方向に駆動する場合と比べ、移動体をより短時間で駆動することが可能となる。一方、走査露光時の移動体の駆動時間を前述の単一の駆動装置による駆動の場合と同程度に設定する場合には、各駆動装置は駆動能力がともに低いもので良くなる。また、走査方向を計測軸方向として物体が載置される移動体の前記走査方向に関する位置情報が計測されるので、第１、第２軸方向を計測軸方向とする場合に比べ、走査露光時の移動体の位置の計測誤差を小さくすることが可能となり、ひいてはマスクと物体との同期精度の向上が可能となり、より重ね合わせ精度の良好な露光を実現することができる。
本発明は、第４の観点からすると、物体上の複数の区画領域にそれぞれ所定のパターンを転写する露光装置であって、前記物体が載置される移動体と；前記移動体を第１軸方向に駆動する第１の駆動装置と；前記移動体を前記第１軸方向に直交する第２軸方向に駆動する第２の駆動装置と；前記移動体上に存在するマークを検出するマーク検出系と；第１位置から前記パターンの転写が行われる第２位置へ移動する途中で前記物体上の同一直線上にない少なくとも３つの特定マークが前記マーク検出系の検出位置に順次移動される複数の経路のうち、経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って前記移動体の移動が行われるように、前記第１、第２の駆動装置を制御しながら、前記マーク検出系を用いて前記各特定マークを順次検出する処理装置と；前記第２位置に前記物体上の前記複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、前記マーク検出系の検出結果に基づいて、前記第１、第２の駆動装置を制御する制御装置と；を備える第１の露光装置である。
これによれば、処理装置は、第１位置から前記パターンの転写が行われる第２位置へ移動する途中で前記物体上の同一直線上にない少なくとも３つの特定マークが前記マーク検出系の検出位置に順次移動される複数の経路のうち、経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って前記移動体の移動が行われるように、前記第１、第２の駆動装置を制御しながら、前記マーク検出系を用いて前記各特定マークを順次検出する。ここで、「経路区間毎の前記第１軸方向成分及び第２軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間」とは、第１、第２の駆動装置の両方が同時に移動体を駆動する場合に、律束条件となる軸方向成分を意味する。その合計が最小となる特定経路は、移動時間が最も短くなる経路に他ならない。従って、上記の特定経路に沿って前記移動体の移動が行われることで、最短の移動時間で移動体の移動を行いつつ、マーク検出系を用いて各特定マークが順次検出されることとなる。
そして、制御装置が、パターンの転写が行われる第２位置に物体上の複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、マーク検出系の検出結果に基づいて、前記第１、第２の駆動装置を制御する。これにより、第２位置に物体上の複数の区画領域がそれぞれ設定されるように、マーク検出系の検出結果に基づいて移動体が移動され、パターンが物体上の複数の区画領域に順次転写される。従って、本発明の第１の露光装置によれば、マーク検出に要する時間の短縮、ひいては一連の露光処理全体に要する時間を短縮することが可能となり、結果的にスループット向上が可能である。
本発明は、第５の観点からすると、マスクと物体とを所定の走査方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光装置であって、前記物体が載置される移動体と；前記移動体を前記走査方向に対してそれぞれ交差する第１軸方向及び第２軸方向にそれぞれ駆動する第１及び第２の駆動装置と；前記移動体の前記走査方向に関する位置情報を、前記走査方向を計測軸方向として計測する位置計測装置と；を備える第２の露光装置である。
これによれば、物体が載置される移動体は、第１の駆動装置により第１軸方向に駆動され、第２の駆動装置により第２軸方向に駆動される。一方、移動体の走査方向に関する位置情報は、当該走査方向を計測軸方向として位置計測装置により計測される。従って、例えば、走査露光に際し、第１の駆動装置及び第２駆動装置による駆動を同時に行って移動体を走査方向に駆動することで、走査方向を駆動軸方向とする同一駆動能力の単一の駆動装置を用いて移動体を走査方向に駆動する場合と比べ、移動体をより短時間で駆動することが可能となる。一方、走査露光時の移動体の駆動時間を前述の単一の駆動装置による駆動の場合と同程度に設定する場合には、各駆動装置は駆動能力がともに低いもので良くなる。また、位置計測装置は、走査方向を計測軸方向としているので、第１、第２軸方向を計測軸方向とする場合に比べ、走査露光時の移動体の位置の計測誤差を小さくすることが可能となり、ひいてはマスクと物体との同期精度の向上が可能となり、より重ね合わせ精度の良好な露光を実現することができる。
この場合において、前記第１軸方向及び第２軸方向は、前記走査方向に対して４５°の角度を成すように設定されていることとすることができる。また、前記位置計測装置は、前記移動体に設けられた反射面に測長ビームを照射し、前記反射面からの反射光を受光して前記移動体の走査方向に関する位置情報を計測する光波干渉式測長器であることとすることができる。
リソグラフィ工程において、本発明の第１の露光方法及び第１の露光装置のいずれかを用いて、物体上にパターンを転写することにより、スループットの向上の面で最終製品であるデバイスの生産性を向上させることができる。従って、本発明は、別の観点からすると、本発明の第１の露光方法及び第１の露光装置のいずれかを用いるデバイス製造方法であると言える。
また、リソグラフィ工程において、本発明の第２の露光方法及び第２の露光装置のいずれかを用いて、物体上にパターンを転写することにより、歩留りの向上の面で最終製品であるデバイスの生産性を向上させることができる。従って、本発明は、更に別の観点からすると、本発明の第２の露光方法及び第２の露光装置のいずれかを用いるデバイス製造方法であると言える。
【図面の簡単な説明】  図１は、本発明の第１の実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
図２は、図１のウエハステージ及びウエハステージ駆動部の構成を示す平面図である。
図３は、ウエハ上のショット領域及びアライメントマークを示す図である。
図４は、ウエハ交換位置からアライメント計測を経て露光開始位置に至るまでのウエハの移動経路を説明するために、ウエハに対するアライメント検出系の検出中心の移動軌跡を示す図である。
図５は、図４の移動軌跡に対応する、ウエハの移動軌跡を示す図である。
図６Ａは、７個目のサンプルマークとして６個目のサンプルマークに近い側のサンプルマークＭ１２を選択し、８個目のサンプルマークとしてサンプルマークＭ１３を選択した場合のウエハの移動経路を示す図であり、図６Ｂは、７個目のサンプルマークとしてサンプルマークＭ１３を選択し、８個目のサンプルマークとしてサンプルマークＭ１２を選択した場合のウエハの移動経路を示す図である。
図７は、図６Ａの経路と図６Ｂの経路の所要時間の大小を視覚的に示す概念図である。
図８は、本発明の第２の実施形態に係るステージ装置の構成を概略的に示す平面図である。
図９は、第２の実施形態に係るステージ装置の変形例を示す平面図である。
図１０は、本発明に係るデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。
図１１は、図１０のステップ２０４の具体例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための最良の形態】《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図７に基づいて説明する。
図１には、第１の実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）である。この露光装置１００は、照明系１０、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、物体としてのウエハＷが搭載される移動体としてのウエハステージＷＳＴを含むステージ装置５０、及びこれらの制御系等を備えている。
前記照明系１０は、光源、及び照明光学系を含み、その内部に配置された視野絞り（マスキングブレード又はレチクルブラインドとも呼ばれる）で規定される矩形又は円弧状の照明領域にエネルギビームとしての照明光ＩＬを照射し、回路パターンが形成されたレチクルＲを均一な照度で照明する。照明系１０と同様の照明系は、例えば特開平６−３４９７０１号公報及びこれに対応する米国特許第５，５３４，９７０号などに開示されている。本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記公報及びこれに対応する米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
ここで、照明光ＩＬとしては、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの遠紫外光、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、あるいはＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光などが用いられる。照明光ＩＬとして、超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線等）を用いることも可能である。
前記レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着又は静電吸着などにより固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ及びボイスコイルモータ等を含む不図示のレチクルステージ駆動部によって、照明系１０の光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微少駆動（Ｚ軸回りの回転（θｚ回転）を含む）可能であるとともに、所定の走査方向（ここでは図１における紙面直交方向であるＹ軸方向とする）に指定された走査速度で駆動可能となっている。
レチクルステージＲＳＴのＸＹ面内の位置（θｚ回転を含む）は、その一部に形成され、あるいは設けられた反射面にレーザビームを照射するレチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１６によって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。
レチクル干渉計１６からのレチクルステージＲＳＴの位置情報は主制御装置２０に供給される。主制御装置２０は、レチクルステージＲＳＴの位置情報に基づいて不図示のレチクルステージ駆動部を介してレチクルステージＲＳＴを駆動制御する。
前記投影光学系ＰＬは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置され、その光軸ＡＸの方向がＺ軸方向とされている。投影光学系ＰＬとしては、例えば両側テレセントリックで所定の投影倍率β（βは例えば１／５又は１／４など）を有する屈折光学系が使用されている。このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲが照明されると、このレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（部分倒立像）が表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域に共役な照明光ＩＬの照射領域（露光領域）に形成される。
前記ステージ装置５０は、床面（又はベースプレートあるいはフレームキャスターなど）Ｆ上で複数（例えば３又は４個）の防振ユニット２６を介してほぼ水平に支持されたステージベース４０と、該ステージベース４０の上方に配設された前記ウエハステージＷＳＴと、該ウエハステージＷＳＴを駆動するウエハステージ駆動部とを備えている。
前記各防振ユニット２６は、床面Ｆからステージベース４０に伝達される微振動をそれぞれマイクロＧレベルで絶縁する。これらの防振ユニット２６として、ステージベース４０の所定箇所に固定された半導体加速度計等の振動センサの出力に基づいてステージベース４０の振動を積極的に制振する、いわゆるアクティブ防振装置を用いることができることは勿論である。
前記ステージベース４０の＋Ｚ側の面（上面）は、その平坦度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージＷＳＴの移動基準面であるガイド面４０ａとされている。
前記ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの図１における下方で、後述するウエハステージ駆動部によって駆動され、ウエハＷを保持して上記ガイド面４０ａに沿ってＸＹ２次元移動するようになっている。
ウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ本体３０と、該ウエハステージ本体３０上にＺ・チルト駆動機構３８を介して搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えている。このウエハテーブルＷＴＢの上面に、ウエハホルダ２５を介してウエハＷが真空吸着（又は静電吸着）等により固定されている。
前記ウエハステージ本体３０は、Ｘ軸方向に連通する開口を有する概略直方体状の部材により構成されている。このウエハステージ本体３０の下面には、複数、例えば４つの不図示の真空予圧型気体静圧軸受け（以下、単に「気体静圧軸受け」と呼ぶ）が設けられ、これらの気体静圧軸受けからステージベース４０の上面（ガイド面）４０ａに向けて加圧気体が噴出されている。この場合、気体静圧軸受けの軸受け面とガイド面４０ａとの間の加圧気体の静圧（いわゆる隙間内圧力）と、ウエハステージＷＳＴ全体の自重及び真空予圧力とのバランスにより、ウエハステージＷＳＴが前述のガイド面４０ａの上方に数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で浮上支持されている。
前記ウエハステージ駆動部は、図１及び図２に示されるように、ウエハステージＷＳＴを走査方向（Ｙ軸方向）に直交する非走査方向であるＸ軸方向に駆動するＸ軸リニアモータ３６Ｘと、ウエハステージＷＳＴをＸ軸リニアモータ３６Ｘと一体的に走査方向であるＹ軸方向に駆動する一対のＹ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２とを備えている。
前記Ｘ軸リニアモータ３６Ｘは、Ｘ軸方向を長手方向とする固定子としてのＸ軸リニアガイド３４Ｘと、該Ｘ軸リニアガイド３４Ｘに沿ってウエハステージＷＳＴとともにＸ軸方向へ移動するＸ可動子３２Ｘとを備えている。
Ｘ軸リニアガイド３４Ｘは、Ｘ軸方向を長手方向とするガイド部材、及び該ガイド部材の内部にＸ軸方向に沿って所定間隔で配設された複数の電機子コイルからなる電機子ユニット等を備えている。このＸ軸リニアガイド３４Ｘは、ウエハステージ本体３０の内部（Ｘ軸方向に連通して形成された開口内）に挿入された状態となっている。
前記Ｘ可動子３２Ｘは、その内部開口にＸ軸リニアガイド３４Ｘが挿入可能となる状態でウエハステージ本体３０に固定されている。このＸ可動子３２Ｘは、断面矩形枠状でＸ軸方向に伸びる可動子ヨーク（マグネットプレート）と、該可動子ヨークの内面側の上下対向面に、前述のＸ軸リニアガイド３４Ｘにそれぞれ対向してかつＸ軸方向に沿って所定間隔で交互に配列されたＮ極永久磁石，Ｓ極永久磁石から成る複数の界磁石とを備えている。この場合、相互に隣接する界磁石の極性は相互に逆極性であるとともに、相互に対向する界磁石の極性も相互に逆極性となっている。このため、可動子ヨークの内部空間には、Ｘ軸方向に沿って交番磁界が形成されている。
そして、Ｘ可動子３２ＸとＸ軸リニアガイド３４Ｘ、より具体的にはＸ可動子３２Ｘを構成する界磁石による交番磁界とＸ軸リニアガイド３４Ｘを構成する電機子ユニット（電機子コイルを流れる電流）との間の電磁相互作用により発生する電磁力によりウエハステージＷＳＴがＸ軸リニアガイド３４Ｘに沿ってＸ軸方向に駆動される。すなわち、Ｘ可動子３２ＸとＸ軸リニアガイド３４Ｘとによって、ムービングマグネット型の電磁力駆動方式のＸ軸リニアモータ３６Ｘが構成され、該Ｘ軸リニアモータ３６ＸによってウエハステージＷＳＴをＸ軸方向（第１軸方向）に駆動する第１の駆動装置が構成されている。
Ｘ軸リニアガイド３４Ｘの長手方向の両端部近傍の下面側には、気体静圧軸受け３９Ａ，３９Ｂがそれぞれ設けられている。これらの気体静圧軸受け３９Ａ，３９Ｂからステージベース４０の上面（ガイド面）４０ａに向けて加圧気体が噴出され、気体静圧軸受け３９Ａ，３９Ｂの軸受け面とガイド面４０ａとの間の加圧気体の静圧（いわゆる隙間内圧力）により、前述のウエハステージ本体３０と同様にしてＸ軸リニアガイド３４Ｘが、ガイド面４０ａの上方に非接触で浮上支持されている。このとき、気体静圧軸受け３９Ａ，３９Ｂの軸受け面とガイド面４０ａとの間には、数μｍ程度のクリアランス（軸受け隙間）が維持されている。
一方のＹ軸リニアモータ３６Ｙ１は、図１及び図２に示されるように、前記Ｘ軸リニアガイド３４Ｘの長手方向の一端（−Ｘ側端）に固定されたＹ可動子３２Ｙ１と、該Ｙ可動子３２Ｙ１がその内部に挿入状態とされたＸＺ断面Ｕ字状のＹ軸リニアガイド３４Ｙ１とを備えている。
前記Ｙ可動子３２Ｙ１は、ＸＺ断面Ｔ字状の形状を有し、その内部（又は外部）には不図示の電機子コイルが所定間隔（所定ピッチ）でＹ軸方向に沿って配設されている。
前記Ｙ軸リニアガイド３４Ｙ１の内側の一対の対向面（上下の対向面）には前述のＸ可動子３２Ｘと同様に、不図示の複数の界磁石がＹ軸方向に沿って所定間隔で配列されている。Ｙ軸リニアガイド３４Ｙ１は、ステージベース４０の−Ｘ側で床面Ｆ上に固定された２本の支持部材６４によってその長手方向の一端部近傍、他端部近傍をそれぞれ保持されている。
このように、本実施形態では、Ｙ可動子３２Ｙ１と、Ｙ軸リニアガイド３４Ｙ１とによってムービングコイル型の電磁力駆動方式のリニアモータであるＹ軸リニアモータ３６Ｙ１が構成されている。
他方のＹ軸リニアモータ３６Ｙ２は、ステージベース４０の＋Ｘ側で床面Ｆの上方にＹ軸方向に延設されたＹ軸リニアガイド３４Ｙ２と、Ｘ軸リニアガイド３４Ｘの長手方向の他端（＋Ｘ側端）に固定され、Ｙ軸リニアガイド３４Ｙ２に挿入状態とされたＹ可動子３２Ｙ２とを含んで構成されている。
Ｙ軸リニアガイド３４Ｙ２は、前述のＹ軸リニアガイド３４Ｙ１と同様に構成され、２本の支持部材６６によってその長手方向の一端部近傍、他端部近傍をそれぞれ保持されている。Ｙ可動子３２Ｙ２は、前述のＹ可動子３２Ｙ１と同様に構成されている。
この場合も、Ｙ可動子３２Ｙ２と、Ｙ軸リニアガイド３４Ｙ２とによってムービングコイル型の電磁力駆動方式のリニアモータであるＹ軸リニアモータ３６Ｙ２が構成されている。
説明が前後したが、前記Ｘ軸リニアガイド３４Ｘの＋Ｙ側の端面、−Ｙ側の端面とそれぞれ対向するウエハステージ本体３０との間には、不図示の気体静圧軸受けがそれぞれ設けられ、それらの気体静圧軸受けの加圧気体の静圧同士がバランスしてウエハステージ本体３０とＸ軸リニアガイド３４ＸとのＹ軸方向の相対位置関係が一定の状態に維持されている。このため、Ｙ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２がＹ軸方向の駆動力（ローレンツ力）を発生すると、Ｘ軸リニアガイド３４ＸがＹ軸方向に駆動されるが、この駆動力によりＸ軸リニアガイド３４ＸとともにウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動されるようになっている。すなわち、本実施形態では、一対のＹ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２によりウエハステージＷＳＴをＹ軸方向（第２軸方向）に駆動する第２の駆動装置が構成されている。
前記Ｚ・チルト駆動機構３８は、ウエハステージ本体３０上でウエハテーブルＷＴＢを３点で支持する３つのアクチュエータ（例えば、ボイスコイルモータ又はＥＩコア）等を含んで構成され、ウエハテーブルＷＴＢをＺ軸方向、θｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、θｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の３自由度方向に微小駆動する。
前記ウエハテーブルＷＴＢの上面端部には、図１に示されるように、位置計測装置（光波干渉式測長器）としてのウエハレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」という）２３からのレーザビームが照射される移動鏡２１が固定され、外部に配置されたウエハ干渉計２３により、移動鏡２１からの反射光に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢのＸＹ面内の位置（θｚ回転を含む）が例えば、０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。
ここで、ウエハテーブルＷＴＢの上面には、実際には、図２に示されるように、＋Ｘ側端部近傍に、Ｘ軸方向に直交する反射面を有する移動鏡２１Ｘが設けられ、＋Ｙ側端部近傍に、Ｙ軸方向に直交する反射面を有する移動鏡２１Ｙが設けられている。また、これに対応して、ウエハ干渉計も移動鏡２１Ｘ，２１Ｙにそれぞれレーザ光を照射してウエハテーブルＷＴＢのＸ軸方向、Ｙ軸方向の位置をそれぞれ計測するＸ軸干渉計２３Ｘ、Ｙ軸干渉計２３Ｙが設けられている。本実施形態では、Ｘ軸干渉計２３Ｘ及びＹ軸干渉計２３Ｙは、ともに測長軸を複数有する多軸干渉計であり、ウエハテーブルＷＴＢのθｚ方向の回転量（ヨーイング量）に加えてθｘ方向の回転量（ピッチング量）及びθｙ方向の回転量（ローリング量）の検出が可能となっている。このようにウエハ干渉計、及び移動鏡はそれぞれ複数設けられているが、図１ではこれらが代表的に移動鏡２１、ウエハ干渉計２３として示されている。
なお、例えば、移動鏡２１Ｘ、２１Ｙを設ける代わりに、ウエハテーブルＷＴＢの端面を鏡面加工して反射面（移動鏡２１Ｘ、２１Ｙの反射面に相当）を形成しても良い。また、多軸干渉計は４５°傾いてウエハテーブルＷＴＢに設置される反射面を介して、投影光学系ＰＬが載置される架台（不図示）に設置される反射面にレーザビームを照射し、投影光学系ＰＬの光軸方向（Ｚ軸方向）に関する相対位置情報を検出するようにしても良い。このとき、ＸＹ平面内の複数点でそれぞれＺ軸方向の相対位置関係を検出し、ウエハテーブルＷＴＢについてＺ軸方向の位置情報に加えてＸＹ平面に対する傾斜情報を求めるようにしても良い。さらに、ウエハステージＷＳＴではウエハテーブルＷＴＢがＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向を加えた６自由度方向に微動可能な構成であっても良い。
ウエハ干渉計２３で計測されるウエハテーブルＷＴＢの位置情報（又は速度情報）は図１の主制御装置２０に送られ、主制御装置２０では前記位置情報（又は速度情報）に基づいて前述のウエハステージ駆動部を構成するリニアモータ３６Ｘ，３６Ｙ１，３６Ｙ２を介してウエハステージＷＳＴの位置を制御する。
前記投影光学系ＰＬの側面には、図１に示されるように、オフアクシス方式のマーク検出系としてのアライメント検出系ＡＳが設けられている。このアライメント検出系ＡＳとしては、例えば特開平２−５４１０３号公報及びこれに対応する米国特許第第４，９６２，３１８号などに開示されているようなＦＩＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｉｍａｇｅ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）系が用いられている。このアライメント検出系ＡＳは、所定の波長幅を有する照明光（例えば白色光）をウエハに照射し、ウエハ上の位置合わせマークとしてのアライメントマークの像と、対物レンズ等によってウエハと共役な面内に配置された指標板上の指標マークの像とを、撮像素子（ＣＣＤカメラ等）の受光面上に結像して検出するものである。アライメント検出系ＡＳは検出対象のマークの撮像結果を、主制御装置２０へ向けて出力する。本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記公報及びこれに対応する米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
なお、アライメント検出系としては、ＦＩＡ系に限らず、ウエハ上の格子マークに所定方向（例えば垂直方向）からレーザビームを照射し、その格子マークから発生する同次数の回折光（±ｎ次回折光）の干渉光を検出するアライメントセンサなどを用いても良い。
さらに、本実施形態の露光装置１００では、ウエハＷのＺ軸方向に関する位置及びＸＹ面に対する傾斜は、図示は省略されているが、例えば特開平６−２８３４０３号公報及びこれに対応する米国特許第５，４４８，３３２号等に開示される多点焦点位置検出系から成るフォーカスセンサによって計測されるようになっており、このフォーカスセンサの出力が主制御装置２０に供給され、主制御装置２０ではウエハステージＷＳＴを制御していわゆるフォーカス・レベリング制御を行うようになっている。なお、フォーカスセンサの検出点（結像光束の照射点）は、前述した露光領域の内部のみにあっても良いし、露光領域の内部及びその走査方向の両側にあっても良い。また、結像光束は、ピンホール像、スリット像に限らず、ある程度面積を持った所定形状（例えば平行四辺形など）の像を形成しても良い。本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記公報及びこれに対応する米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
制御系は、主制御装置２０によって主に構成される。主制御装置２０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（リード・オンリ・メモリ）、ＲＡＭ（ランダム・アクセス・メモリ）等から成るいわゆるマイクロコンピュータ（又はワークステーション）を含んで構成され、装置全体を統括して制御する。主制御装置２０は、例えば露光動作が的確に行われるように、例えばレチクルＲ（レチクルステージＲＳＴ）とウエハＷ（ウエハステージＷＳＴ）との同期走査、ウエハＷ（ウエハステージＷＳＴ）のショット間ステッピング動作等を制御する。
本実施形態の露光装置１００では、通常のスキャニング・ステッパと同様に、ウエハ交換位置におけるウエハ交換（又はウエハロード）、レチクルアライメント及びアライメント検出系ＡＳのベースライン計測、さらには後述するＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式によるウエハアライメント等の所定の準備作業が行われた後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれ、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲの回路パターンが転写される。
ここで、ウエハＷ上の各ショット領域に対する走査露光中には、ウエハＷ上の照明光ＩＬの照射領域（前述の露光領域）内でその表面が投影光学系ＰＬの結像面に実質的に一致した状態で露光が行われる必要があるため、前述のフォーカスセンサの出力に基づくオートフォーカス、オートレベリングが主制御装置２０により実行される。
次に、本実施形態においても、採用されている、ＥＧＡ方式によるウエハアライメントについて簡単に説明する。
ＥＧＡ方式とは、１枚のウエハにおいて予め特定ショット領域として選択された複数個（３個以上必要であり、通常７〜１５個程度）のショット領域のみの位置情報、例えば位置座標を計測し、これらの計測値を用いて統計演算処理（最小二乗法等）を行ってウエハ上の全てのショット領域の位置情報（例えばショット領域の配列座標）を算出した後、この算出したショット領域の配列座標に従ってウエハステージを所定の基準位置に順次移動するものである。このＥＧＡ方式は計測時間が短くて済み、ランダムな計測誤差に対して平均化効果が期待できるという長所がある。
ここで、ＥＧＡ方式で行われている統計処理方法について簡単に説明する。ウエハ上のｍ（ｍ≧３）個の特定ショット領域（「サンプルショット領域」又は「アライメントショット領域」とも呼ばれる）の設計上の配列座標を（Ｘｎ，Ｙｎ）（ｎ＝１、２、……、ｍ）とし、設計上の配列座標からのずれ（ΔＸｎ，ΔＹｎ）について次式（１）で示されるような線形モデルを仮定する。
2004075268.tif 000003
さらに、ｍ個のサンプルショット領域の各々の実際の配列座標の設計上の配列座標からのずれ（実測値）を（Δｘｎ，Δｙｎ）としたとき、このずれと上記線形モデルで仮定される設計上の配列座標からのずれとの残差の二乗和Ｅは次式（２）で表される。
2004075268.tif 000004
そこで、ＥＧＡ方式では、この式（２）を最小にするようなパラメータａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆを算出し、その算出したパラメータａ〜ｆと設計上の配列座標とに基づいて、ウエハ上の全てのショット領域の配列座標を算出する。以下においては、このような演算処理をＥＧＡ演算と記述するものとする。
本実施形態においては、サンプルショット領域として、図３に示されるように、ウエハＷ上に形成された複数の区画領域としてのショット領域（Ｓｎ（ｎ＝１〜５１））のうちのウエハ外縁部近傍に位置する８個のショット領域（Ｓ５，Ｓ６，Ｓ１２，Ｓ１３，Ｓ３９，Ｓ４０，Ｓ４６，Ｓ４７）が予め選択され、これらのサンプルショット領域に付設された位置合わせマークとしてのアライメントマーク（サンプルマーク）の位置情報の検出結果に基づいてＥＧＡ演算を行うこととしている。
すなわち、アライメント検出系ＡＳを用いて、ウエハＷ上の８つのショット領域（サンプルショット領域、すなわちアライメントショット領域）に付設されたサンプルマーク（Ｍ５，Ｍ６，Ｍ１２，Ｍ１３，Ｍ３９，Ｍ４０，Ｍ４６，Ｍ４７）を検出し、その検出結果と各サンプルマークの検出時のウエハ干渉計２３の計測値とに基づいて、それらのサンプルショット領域のステージ座標系上における位置座標を求める。そして、その求めたサンプルショット領域の位置座標とそれぞれの設計上の位置座標とに基づいて前述したＥＧＡ演算を行い、前述した式（１）の６つのパラメータを算出するとともに、この算出結果とショット領域の設計上の配列座標とに基づいて、全ショット領域の配列座標を算出する。
なお、実際にはショット領域内にアライメントマークＭｎが形成されるのではなく、隣接するショット領域間のストリートライン等に形成されるが、図示及び説明の便宜上、ショット領域の中心に形成されているものとしている。
本実施形態では、ウエハ交換位置（第１位置）でウエハ交換を行った後、８個のサンプルマークの検出を順次行い（このとき、ウエハＷが載置されたウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）がサンプルマークの位置関係、検出順序に応じて移動される）、その後露光開始位置までウエハＷが載置されたウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を移動するという一連の動作が行われる。
図４には、図３に示される８個のサンプルマークの検出に際して、６個目までのサンプルマーク（Ｍ４６，Ｍ４７，Ｍ４０，Ｍ３９，Ｍ６，Ｍ５）の検出が終了したときの、それまでのウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）の移動軌跡が示されている。但し、この図４では、説明を分かり易くするために、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）が固定で、このウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）に対して相対移動する、アライメント検出系ＡＳの検出中心の移動軌跡が示されている。この図４において、符号Ｐｃｈは、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）がウエハ交換位置にあるときのアライメント検出系ＡＳの検出中心の位置を示す。また、図４において、符号Ｐｅｘｐは、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）が露光開始位置（第２位置）にあるときのアライメント検出系ＡＳの検出中心の位置を示す。
以下においては、説明の便宜上、適宜、「ウエハ交換位置Ｐｃｈ」と記述するとともに「露光開始位置Ｐｅｘｐ」と記述するものとする。
図５には、図４の移動軌跡に対応する、ウエハＷ（すなわちウエハステージＷＳＴ）の移動軌跡が示されている。この図５において、折れ線の軌跡は、ウエハＷの中心の軌跡を示す。また、この図５において、点Ｐ０は、ウエハステージＷＳＴがウエハ交換位置にあるときの、交換後のウエハＷの中心の位置を示し、符号Ｐｃｈは、このときのアライメント検出系ＡＳの検出中心の位置を示す。また、点Ｐ１、点Ｐ２、点Ｐ３、点Ｐ４、点Ｐ５、点Ｐ６は、それぞれ、サンプルマークＭ４６，Ｍ４７，Ｍ４０，Ｍ３９，Ｍ６，Ｍ５をアライメント検出系ＡＳで検出するときの、ウエハＷの中心の位置を示す。この図５と図４とを比較するとわかるように、点Ｐ１〜点Ｐ６の位置関係は、サンプルマークＭ４６，Ｍ４７，Ｍ４０，Ｍ３９，Ｍ６，Ｍ５の位置関係に正確に対応していることがわかる。
露光処理工程全体のスループットを向上させる観点からは、ウエハ交換位置Ｐｃｈから露光開始位置Ｐｅｘｐに至るまでに要する時間が最短となるように、ウエハＷ（ウエハステージＷＳＴ）の移動経路を決定することが重要である。以下、本実施形態で行われる、ウエハアライメント時のウエハＷの移動経路の決定方法について一例を挙げて説明する。
図６Ａ，図６Ｂには、前述したように、８個のサンプルマークの検出に際して、６個目までのサンプルマーク（Ｍ４６，Ｍ４７，Ｍ４０，Ｍ３９，Ｍ６，Ｍ５）の検出が終了し（図４参照）、７個目のサンプルマーク（Ｍ１２又はＭ１３）→８個目のサンプルマーク（Ｍ１３又はＭ１２）→露光開始位置Ｐｅｘｐに至るまでの経路を決定するための方法を説明するための図が示されている。
このうち、図６Ａには、７個目のサンプルマークとして６個目のサンプルマークＭ５に近い側のサンプルマークＭ１２を選択し、８個目のサンプルマークとしてサンプルマークＭ１３を選択したときのウエハの移動経路が示されている。一方、図６Ｂには、７個目のサンプルマークとしてサンプルマークＭ１３を、８個目のサンプルマークとしてサンプルマークＭ１２を選択したときのウエハの移動経路が示されている。
この場合、図６Ａの移動経路を選択した場合の移動距離は、次式（３）で表され、図６Ｂの移動経路を選択した場合の移動距離は、次式（４）で表される。
2004075268.tif 000005
図６Ａ，図６Ｂを比較するとわかるように、図６Ｂの移動経路の方が、移動距離が長くなっている。また、この場合、経路区間Ｂ（マークＭ１２とマークＭ１３との間の経路）は、いずれの経路でも共通なので、次式（５）が成立している。
2004075268.tif 000006
なお、ここでいう「移動経路」とは、実際にはウエハに対するアライメント検出系ＡＳの検出中心の相対的な移動経路であって、アライメント検出系ＡＳは移動しないものではあるが、図示及び説明の便宜上、図４及び図６Ａ，図６Ｂでは、アライメント検出系ＡＳがあたかも移動するかのように図示している。
次に、図６Ａの移動経路と、図６Ｂの移動経路のいずれを選択した方が移動時間を短縮できるかについて説明する。
前述の如く、いずれの経路をとった場合であっても、経路区間Ｂについては共通であるので、各経路を移動するのに要する時間を比較するには、｛経路区間Ａ（マークＭ５とマークＭ１２との間の経路区間）＋経路区間Ｃ（マークＭ１３と露光開始位置Ｐｅｘｐとの間の経路区間｝と｛経路区間Ａ’（マークＭ５とマークＭ１３との間の経路区間）＋経路区間Ｃ’（マークＭ１２と露光開始位置Ｐｅｘｐとの間の経路区間）｝のそれぞれを移動するのに要する時間について比較すれば良い。
ここでは、説明を簡単にするため、Ｘ軸リニアモータ３６Ｘ及びＹ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２の性能（駆動推力及び駆動速度）が同一であると仮定し、かつ各リニアモータ３６Ｘ，３６Ｙ１，３６Ｙ２は等速で移動される（加速時間を無視する）ものと仮定する。従って、例えばウエハステージＷＳＴが座標（０，０）から座標（ａ，０）に移動するのも、座標（０，０）から座標（ａ，ｂ）（ｂ≦ａ）に移動するのも同一の時間を要する（すなわち、一軸方向への移動が他軸方向への移動に隠れる）。この場合、前者では移動距離がａ、後者では移動距離が（ａ２＋ｂ２）１／２となり、同一時間であっても後者の方が移動距離を長くすることが可能である。
すなわち、各経路区間を移動するのに要する時間は、経路区間のＸ方向成分（Ｘ距離）及びＹ方向成分（Ｙ距離）のいずれか長いほうに比例する（距離が長いほうが律束条件となる）。
具体的には、図６Ａに示される経路では、経路区間ＡについてはＸ成分ＡＸのほうがＹ成分ＡＹよりも長いのでＸ成分ＡＸが律束条件となり、経路区間ＣについてはＸ成分ＣＸよりもＹ成分ＣＹの方が長いのでＹ成分ＣＹが律束条件となることから、図６Ａに示される経路を移動するのに要する時間の大小は（ＡＸ＋ＣＹ）に依存する。
これに対し、図６Ｂに示される経路においては、経路区間Ａ’についてはＸ成分ＡＸ’の方がＹ成分ＡＹ’よりも長いのでＸ成分ＡＸ’が律束条件となり、経路区間Ｃ’についてはＹ成分ＣＹ’よりもＸ成分ＣＸ’の方が長いのでＸ成分ＣＸ’が律束条件となることから、図６Ｂに示される経路を移動するのに要する時間の大小は（ＡＸ’＋ＣＸ’）に依存する。
すなわち、図６Ａの経路及び図６Ｂの経路のいずれの経路の移動に要する時間が短いかは、距離（ＡＸ＋ＣＹ）と距離（ＡＸ’＋ＣＸ’）を比較すれば良いことになる。
図７には、図６Ａの経路と図６Ｂの経路の所要時間の大小を視覚的に示す概念図が示されている。この図７から明らかなように、距離（ＡＸ＋ＣＹ）と距離（ＡＸ’＋ＣＸ’）を比較すると、距離（Ａｘ＋Ｃｙ）のほうがΔＬだけ長くなっている。すなわち、次式（６）が成立している。
2004075268.tif 000007
なお、式（６）において、ｍａｘ｛ａ，ｂ｝は、ａ，ｂのうちの大きいほうの値を採ることを示す。
この場合、図６Ｂに示される経路を採用した方が、図６Ａの経路を採用する場合に比べて、移動に要する時間が短くなっている。従って、この場合のように、式（５）と式（６）とが同時に成り立つ経路を採用することにより、実際の距離の大小とは反対に、より移動時間の短い経路の選択が可能となっている。
このように、次の検出対象のサンプルマークを選択する際に、単に見かけ上の移動距離が最短となるような移動経路を選択するのではなく、経路全体を最短時間で移動できる順序、上記の例では図６Ｂの経路を選択することで、移動時間を短縮することができる。
なお、上では、６番目のサンプルマークの検出時以降のウエハの移動方法についてのみ説明したが、第１位置から第２位置、すなわちウエハ交換位置Ｐｃｈから露光開始位置Ｐｅｘｐまでの経路のトータルの移動時間が最短となるように、上述と同様にして経路を決定することが望ましい。この場合、第１位置とアライメント検出系ＡＳの検出中心との位置関係、ウエハＷ上の複数のサンプルマーク相互間の位置関係、及びアライメント検出系ＡＳの検出中心と第２位置との位置関係を総合的に考慮して、移動経路を決定することが望ましい。
また、上記の説明では、説明の簡単のため、Ｘ、Ｙ軸リニアモータの性能（駆動推力及び駆動速度）が同一であるものとし、かつ加速度を無視するものとしたが、実際には、Ｘ，Ｙ軸リニアモータの性能（駆動推力及び最高速度）及び最高加速度をも考慮する必要がある。すなわち、それぞれのリニアモータの最高加速度及び最高速度を考慮して、前述の第１位置、アライメント検出系ＡＳの検出中心及び第２位置の位置関係、並びにサンプルマーク相互間の位置関係に基づき、各経路区間のＸ、Ｙ成分の距離を移動するのに要する時間を計算し、種々の経路のうちから、最短となる経路を選択することが望ましい。具体的には、最高加速度及び最高速度から導き出される最高速度に達するまでの時間（加速時間）、最高速度から速度０になるまでの時間（減速時間）、及び前記加減速中に移動する距離等を考慮して、Ｘ，Ｙ軸成分のいずれが律束条件となるのか、及びその場合の移動時間を算出し、移動時間が最短となる経路を選択するのが望ましい。
なお、最高速度及び最高加速度のそれぞれを用いて経路決定する場合に限らず、最高速度及び最高加速度のいずれか一方のみを用いて経路決定をすることとしても良い。さらに、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴの駆動によってアライメント検出系ＡＳの検出領域内に各サンプルマークが設定され、ウエハステージＷＳＴ（ウエハＷ）の位置変動が所定の許容範囲内となった時点でサンプルマークの検出が開始されるが、例えば加速度などに応じてその位置変動が許容範囲内となるまでの時間（整定時間）が変動し得る。このため、前述の最高速度及び最高加速度の少なくとも一方だけでなくその整定時間をも考慮して、移動時間が最短となる経路を決定することが好ましい。また、図１の露光装置が静止型露光装置（ステッパなど）であるときは、ウエハＷ上で最初に露光すべきショット領域の露光位置への位置決め時における整定時間をも考慮することが好ましい。
以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１００では、ウエハ交換後、露光開始前に、前述のＥＧＡ方式のウエハアライメントのため、図４に示されるように、ウエハＷをウエハ交換位置Ｐｃｈ（第１位置）から露光開始位置Ｐｅｘｐ（第２位置）に移動する途中で、アライメント検出系ＡＳの検出中心がウエハＷ上の複数のサンプルマークＭ４６，Ｍ４７，Ｍ４０，……を順次経由する経路に沿ってウエハ（ウエハステージＷＳＴ）が移動される。図４では、アライメント検出系ＡＳの検出中心が移動するかのように示されているが、実際には、図５に示されるように、ウエハＷが載置されたウエハステージＷＳＴがウエハ交換位置Ｐ０（第１位置）から、該ウエハ交換位置とは同一直線上に無い複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、……（この複数点は、ウエハＷ上の複数のサンプルショット領域に付設されたサンプルマークＭ４６，Ｍ４７，Ｍ４０，……の位置関係に対応する位置関係を有する点である）を経由して、前記複数点とは同一直線上にない露光開始位置（第２位置）まで移動される。この際に、ウエハステージＷＳＴがウエハ交換位置Ｐ０（第１位置）から、複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、……をそれぞれ経由して露光開始位置に至る複数の経路のうち、経路区間毎のＸ軸方向成分（第１軸方向成分）及びＹ軸方向成分（第２軸方向成分）のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる特定経路に沿って移動される。すなわち、ウエハステージＷＳＴをＸ軸方向（第１軸方向）及びＹ軸方向（第２軸方向）にそれぞれ駆動するＸ軸リニアモータ３６Ｘ及びＹ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２の両方が同時にウエハステージＷＳＴを駆動する場合に、律束条件となる軸方向成分の移動に要する時間の合計が最小となる特定経路に沿って、ウエハステージＷＳＴが移動される。この結果、ウエハＷをウエハ交換位置（第１位置）から露光開始位置（第２位置）へ移動するのに要する時間を確実に短縮することが可能となる。
また、本実施形態では、説明を簡単にするために、Ｘ軸リニアモータ３６Ｘ及びＹ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２の性能（駆動推力及び駆動速度）が同一であると仮定し、かつ各リニアモータ３６Ｘ，３６Ｙ１，３６Ｙ２は等速で移動される（加速時間を無視する）ものと仮定したため、上記の特定経路は、ウエハステージＷＳＴをＸ軸方向（第１軸方向）及びＹ軸方向（第２軸方向）にそれぞれ駆動するＸ軸、Ｙ軸リニアモータの休止時間がともに最小となる経路に一致する。この場合、Ｘ軸及びＹ軸リニアモータの両方が同時にウエハステージＷＳＴを駆動する時間が極力多くなり、その同時駆動の時間中は、いずれか一方のリニアモータのみを用いてウエハステージＷＳＴを駆動する場合に比べてウエハステージＷＳＴ（ウエハＷ）の単位時間当たりの移動距離を長くすることができるので、結果的にウエハＷをウエハ交換位置（第１位置）から露光開始位置（第２位置）へ移動するのに要する時間を確実に短縮することが可能となる。
また、本実施形態の露光装置１００では、上述の如くしてアライメント検出系ＡＳにより検出された各サンプルマークの位置情報と各サンプルマーク検出時のウエハステージＷＳＴの位置情報（ウエハ干渉計の計測値）とに基づいて、ウエハＷ上の複数のショット領域を、それぞれの露光のための走査開始位置（基準位置）に移動するための情報（各ショット領域の配列座標）が前述のＥＧＡ演算を用いて算出され、該算出された情報に基づいてウエハＷが移動され、ステップ・アンド・スキャン方式でレチクルＲのパターンがウエハＷ上の複数のショット領域に順次転写される。従って、本実施形態によると、サンプルマーク検出に要する時間の短縮、ひいては一連の露光処理全体に要する時間を短縮することが可能となり、結果的にスループット向上の面で最終製品であるデバイスの生産性を向上させることが可能となる。
なお、上記実施形態においては、ウエハＷ上で最外周に位置する８個のショット領域をサンプルショット領域として選択するものとしたが、サンプルショット領域やサンプルマークの数や配置（位置）はこれ（図３）に限られるものではなく、例えばサンプルショット領域やサンプルマークはその数が８個に限定されるものではなく、少なくとも３個であれば良いし、その配置（位置）は最外周に限定されるものではなく、例えば最外周のショット領域の内側に隣接するショット領域、あるいは中央付近に位置するショット領域などを選択しても良い。
また、上記実施形態ではウエハアライメントとして式（１）、（２）を用いるＥＧＡ方式を採用するものとしたが、ウエハアライメントはこれに限られるものではない。例えば日本特許第３３３９０７９号公報及びこれに対応する米国特許第５，５２５，８０８号などに開示されているように、ウエハ上の各ショット領域と複数のアライメントショット領域の各々との距離に応じて各アライメントショット領域に重みを与えてショット領域毎にその配列座標を算出する、いわゆる重み付けＥＧＡ方式、あるいは、例えば日本特許第３２８９２６４号公報や第３３４８９１８号公報及びこれらに対応する米国特許第６，２７８，９５７号などに開示されているように、複数のアライメントショット領域でそれぞれ複数のサンプルマークを検出してショット領域の回転や直交度なども考慮してその配列座標を算出する、いわゆる多点ＥＧＡ方式などを採用しても良い。すなわち、ウエハのアライメント方式は任意で構わない。本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記各公報及び対応する米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
なお、上記実施形態では、アライメントマークとして、Ｘ、Ｙ２次元方向の位置情報が得られる２次元マークを採用する場合について説明したが、アライメントマークとして、Ｘ軸方向に関する位置情報のみが得られるＸマークと、Ｙ軸方向に関する位置情報のみが得られるＹマークとの一次元マークを採用しても良い。このような一次元マークを採用した場合に、前述のＥＧＡ方式のウエハアライメントを行う場合を考えると、同一のサンプルショット領域にそれぞれ付設されたＸマークとＹマークとをアライメント検出系ＡＳによって検出する場合があるが、特にその２つのマークをアライメント検出系ＡＳの検出領域内に同時に配置できない（換言すれば、その２つのマークの検出に当たってウエハステージＷＳＴの移動が必要となる）場合には、これら２つのマークの位置をも考慮して移動時間が最短となる経路を決定する、すなわちＸマークの位置、Ｙマークの位置のそれぞれがアライメント検出系ＡＳの検出位置を経由する経路であって、ウエハステージＷＳＴの移動時間が最小となるような移動経路に沿ってウエハステージＷＳＴを移動することが望ましい。また、多点ＥＧＡ方式では、サンプルマークが２次元マークであっても各ショット領域で異なる位置にそれぞれサンプルマークが形成されるので、前述のＥＧＡ方式と同様に、それらマーク位置をも考慮して移動時間が最短となる経路を決定することが好ましい。
なお、上記実施形態においては、ＥＧＡ方式のウエハアライメントの際のサンプルマークの検出時のウエハＷの移動に本発明の移動方法が適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば、露光の際のウエハの移動経路等についても同様にして経路を決定し、該決定された経路に沿ってウエハＷを移動することとしても良い。あるいは、いわゆるサーチアライメント（例えば、アライメント検出系ＡＳによるサーチマークなどの検出）に続いて前述のＥＧＡ方式のウエハアライメントを行う場合には、その際の移動経路として上記実施形態と同様に、経路区間毎のＸ軸方向成分及びＹ軸方向成分のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となる経路（又はＸ軸リニアモータ及びＹ軸リニアモータの休止時間がともに最小となるような経路）を決定し、その決定した経路に沿ってウエハステージＷＳＴを移動することとしても良い。更に、ウエハステージＷＳＴに設けられる基準板（又はウエハホルダ２５など）に形成される少なくとも１つの基準マークを、前述したＥＧＡ方式のウエハアライメントの前後又はその途中で、アライメント検出系ＡＳなどによって検出する場合に、その少なくとも１つの基準マークを含めて前述の移動所要時間の合計が最小となるように（又は前述の休止時間がほぼ最小となるように）ウエハステージＷＳＴの移動経路を決定しても良い。また、ウエハステージＷＳＴの基準マークなどを、前述のレチクルアライメント系（不図示）で検出する場合、上記実施形態と全く同様にそのレチクルアライメント系によるマーク検出を含めて、ウエハステージＷＳＴの移動経路を決定しても良い。このとき、レチクルアライメント系によるマークの検出位置は、前述のウエハ交換位置Ｐｃｈ（第１位置）と露光開始位置Ｐｅｘｐ（第２位置）との間に設定しても良いし、あるいは第１位置よりも手前又は第２位置よりも後に設定しても良い。特に前者では、第１及び第２位置間でウエハステージＷＳＴ上の複数点（アライメントマークなど）が経由する所定点が異なる２点、すなわちアライメント検出系ＡＳによるマークの検出位置とレチクルアライメント系によるマークの検出位置とになり、その複数点の少なくとも１点（基準マークなど）はレチクルアライメント系のみで、あるいはレチクルアライメント系とアライメント検出系ＡＳとの両方で検出されることになる。すなわち、ウエハステージＷＳＴ上に存在するマークの位置や種類、その検出に用いるマーク検出系の数、位置、及び種類などに関係なく、更には第１及び第２位置間に設定される、複数点が経由する所定点の数や位置などに関係なく、要は、ウエハステージを同一直線上にない少なくとも３点を含む複数点を経由して第１位置から第２位置まで移動させる場合であれば、上記実施形態と同様に、経路区間毎のＸ軸方向成分（第１軸方向成分）及びＹ軸方向成分（第２軸方向成分）のうち移動所要時間が長い方の移動所要時間の合計が最小となるような経路（又はＸ軸リニアモータとＹ軸リニアモータとの休止時間がともに最小となるような経路）に沿ってウエハステージＷＳＴを移動することにより、その移動に要する時間を確実に短縮することができる。
また、上記実施形態では第１位置をウエハ交換位置Ｐｃｈとしたが、第１位置はこれに限定されるものではない。例えば、前述のサーチアライメント位置、レチクルアライメント系による基準マークの検出位置、あるいはウエハの外縁部を検出するプリアライメント位置などを第１位置としても良い。なお、ウエハのローディング位置とアンローディング位置とが異なるときはどちらか一方を第１位置とすれば良い。
また、上記実施形態では、第２位置を、投影光学系ＰＬを介してレチクルパターンの転写が行われる露光位置（すなわち、投影光学系ＰＬの投影視野内で照明光ＩＬが照射される露光領域の中心、例えば投影光学系ＰＬの光軸位置に対応するが、上記実施形態では露光装置１００が走査型露光装置なので、その露光位置と所定関係で設定される走査露光の開始位置Ｐｅｘｐ、すなわち走査方向に関する露光領域の両端の一方）としているので、ウエハステージＷＳＴは前述の複数点がそれぞれ所定点を経由した後、ウエハ上で最初に露光すべきショット領域が露光位置（露光開始位置Ｐｅｘｐ）に設定されるように移動することになる。なお、第２位置は前述の露光位置又は露光開始位置Ｐｅｘｐに限定されるものではなく、例えば走査露光を行うためのウエハステージ（ウエハ）の加速開始位置、あるいはウエハのアンローディング位置などでも良い。更に、例えば国際公開ＷＯ９８／２４１１５号及び対応する米国特許第６，３４１，００７号、あるいは国際公開ＷＯ９８／４０７９１号及び対応する米国特許第６，２６２，７９６号などに開示されているように、露光装置１００が２つのウエハステージを備えるときは、露光位置や露光開始位置と異なる位置を第２位置としても良い。すなわち、この露光装置では、露光位置に配置される一方のウエハステージでのウエハの露光処理と並行して、アライメント検出系によるマークの検出位置（アライメント位置）に配置される他方のウエハステージではアライメントマークや基準マークの検出などが行われ、露光処理が終了した一方のウエハステージとの交換で他方のウエハステージが露光位置に配置されると、露光処理に先立ってレチクルアライメント系による基準マークの検出が行われることになる。そこで、露光位置側でそのレチクルアライメント系による基準マークの検出が行われる位置を第２位置としても良い。また、特に国際公開ＷＯ９８／４０７９１号に開示される露光装置では、露光位置とアライメント位置とで異なるウエハステージ駆動部が設けられ、露光位置のウエハステージ駆動部とアライメント位置のウエハステージ駆動部との間でウエハステージの受け渡しが行われるので、ウエハステージの受け渡し位置（交換位置）を第２位置としても良い。
また、上記実施形態では、第１位置、第２位置、及び前述の複数点がそれぞれ経由する所定点（前述のマーク検出位置など）が同一の座標系上に設定されるものとしたが、第１位置、第２位置及び所定点はその少なくとも１つが異なる座標系上に設定されても良い。例えば、前述した２つのウエハステージを備える露光装置では、露光位置とアライメント位置とが異なる干渉計システムで規定される座標系にそれぞれ設定されている。このとき、ウエハ交換位置（ローディング位置など）はアライメント位置と同一座標系に設定され、レチクルアライメント系によるマークの検出位置は露光位置と同一座標系上に設定される。さらに、第１位置、第２位置、及び所定点が全て同一又は異なる座標系上に設定されていなくても良い。例えば、露光位置又はアライメント位置が設定される座標系から外れてウエハ交換位置が設定されている場合、その交換位置を第１又は第２位置としても良い。このとき、その座標系を規定する干渉計システムとは別の計測装置（例えば、エンコーダなど）を用いて、その座標系から外れているウエハステージの移動を制御すれば良い。
また、ウエハのアライメントの方式としては、上述したＥＧＡ方式に限らず、ダイ・バイ・ダイ方式を採用しても良い。この場合であっても、本発明の移動方法を採用することにより、ウエハアライメントをより短時間で行うことができる。
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を、図８に基づいて説明する。ここで前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分には、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略化し若しくは省略するものとする。
図８には、本第２の実施形態に係るステージ装置５０’の平面図が示されている。このステージ装置５０’は、ウエハステージＷＳＴ、該ウエハステージＷＳＴを２次元平面内で駆動するウエハステージ駆動部等を備えている。
ウエハステージＷＳＴは、前述した第１の実施形態と同様に不図示のウエハステージ本体と、該ウエハステージ本体上に不図示のＺ・チルト駆動機構を介して搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えている。このウエハテーブルＷＴＢの上面に、ウエハホルダ（図示省略）を介してウエハＷが真空吸着（又は静電吸着）等により吸着保持されている。
ウエハテーブルＷＴＢのＸＹ面内の位置及び回転（θｚ方向の回転量（ヨーイング量）、θｘ方向の回転量（ピッチング量）及びθｙ方向の回転量（ローリング量））が、前述の第１の実施形態と全く同様に、移動鏡２１Ｘ、２１Ｙをそれぞれ介してＸ軸干渉計２３Ｘ、Ｙ軸干渉計２３Ｙによって検出（計測）されるようになっている。
一方、ウエハステージ駆動部は、ウエハステージＷＳＴをＸ軸及びＹ軸に対して４５°傾斜した第１軸方向に駆動する第１の駆動装置としての第１リニアモータ３６Ａと、該第１のリニアモータ３６Ａと一体的にウエハステージＷＳＴを第１軸方向に対してＸＹ面内で直交する第２軸方向に駆動する第２の駆動装置としての一対の第２リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃとを備えている。なお、以下においては、説明の便宜上、第１軸方向をＸＹ１軸方向と呼び、第２軸方向をＸＹ２軸方向と呼ぶものとする（図８参照）。
本第２の実施形態では、ステージベース４０としては、平面視（上方から見て）長方形のものが用いられており、このステージベース４０は、ＸＹ２軸方向を長手方向として配置され、床面（又はベースプレートあるいはフレームキャスターなど）上に防振ユニットを介して複数点（例えば３点あるいは４点）でほぼ水平に支持されている。
前記第１リニアモータ３６Ａは、前述した第１の実施形態のＸ軸リニアモータ３６Ｘと同様の構成となっており、ウエハステージＷＳＴのウエハステージ本体部に設けられた可動子３２Ａと、該可動子３２Ａとの間の電磁相互作用によりＸＹ１軸方向の駆動力を発生する、ＸＹ１軸方向に延びるリニアガイド３４Ａとを備えている。
前記一対の第２リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃは、前述した第１の実施形態におけるＹ軸リニアモータ３６Ｙ１，３６Ｙ２と同様に構成されている。すなわち、一方の第２リニアモータ３６Ｂは、第１リニアモータ３６Ａを構成するリニアガイド３４Ａの長手方向一端部に設けられた可動子３２Ｂと、該可動子３２Ｂとの間の電磁相互作用によりＸＹ２軸方向の駆動力を発生するＸＹ２軸方向に延びるリニアガイド３４Ｂとを備えている。リニアガイド３４Ｂは、ステージベース４０の−ＸＹ１側で床面上に固定された２本の支持部材６４によってその長手方向の両端部近傍を保持されている。他方の第２リニアモータ３６Ｃは、リニアガイド３４Ａの長手方向他端部に設けられた可動子３２Ｃと、該可動子３２Ｃとの間の電磁相互作用によりＸＹ２軸方向の駆動力を発生するＸＹ２軸方向に延びるリニアガイド３４Ｃとを備えている。リニアガイド３４Ｃは、ステージベース４０の＋ＸＹ１側で床面上に固定された２本の支持部材６６によってその長手方向の両端部近傍を保持されている。
ここで、ウエハステージＷＳＴが、その底面に設けられた気体静圧軸受けを介して前述のガイド面４０ａの上方に数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で浮上支持され、リニアガイド３４Ａが、その長手方向の一端部近傍及び他端部近傍の下面側にそれぞれ設けられた気体静圧軸受けを介してガイド面４０ａの上方に非接触で浮上支持されている（このとき各気体静圧軸受けとガイド面４０ａとの間には数μｍ程度のクリアランスが形成されている）点は、前述した第１の実施形態と同様である。
その他の部分の構成等は、前述した第１の実施形態の露光装置１００と同様になっている。
このようにして構成された本第２の実施形態の露光装置では、前述した第１の実施形態の露光装置１００と同様に、ウエハ交換位置におけるウエハ交換（又はウエハロード）、レチクルアライメント及びアライメント検出系ＡＳのベースライン計測、並びにＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）方式によるウエハアライメント等の所定の準備作業が行われた後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれ、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲの回路パターンが転写される。
以上説明した本第２の実施形態の露光装置では、ウエハステージＷＳＴは、第１リニアモータ３６Ａにより、Ｘ軸及びＹ軸のそれぞれに対して４５°をなすＸＹ１軸方向に駆動され、第２リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃにより、ＸＹ１軸に直交するＸＹ２軸方向に駆動される。一方、ウエハステージＷＳＴの走査方向（Ｙ軸方向）に関する位置は、走査方向に平行な測長軸を有する干渉計２３Ｙにより計測される。この場合、例えば、走査露光に際し、第１リニアモータ３６Ａ及び第２リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃの駆動が同時に行われ、ウエハステージＷＳＴが走査方向に駆動されるので、走査方向を駆動軸方向とする同一駆動能力の単一の駆動装置を用いてウエハステージＷＳＴを走査方向に駆動する場合と比べ、より短時間で駆動することが可能となる。一方、走査露光時のウエハステージＷＳＴの駆動時間を前述の単一の駆動装置による駆動の場合と同程度に設定する場合には、各駆動装置（第１リニアモータ３６Ａ、第２リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃ）は駆動能力がともに低いもので良くなる。
また、Ｙ軸干渉計２３Ｙは、走査方向を計測軸方向としているので、ＸＹ１軸方向、ＸＹ２軸方向を計測軸方向とする干渉計を用いる場合に比べ、走査露光時のウエハステージＷＳＴの位置の計測誤差を小さくすることが可能となる。その理由は、例えばウエハテーブルＷＴＢの位置をＸＹ１軸、ＸＹ２軸方向を計測軸方向として計測する場合には、Ｙ軸方向の計測値に変換するために、各計測値を√２倍しなければならず、干渉計の計測値に乗る誤差もこの換算の際に√２倍されて実際の干渉計の計測誤差よりも大きくなってしまうが、本第２の実施形態では、Ｙ軸干渉計２３Ｙの測長軸をＹ軸方向に平行としているので、誤差を大きく見積もることなく、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）の位置を計測することが可能だからである。
従って、本第２の実施形態では、レチクルＲとウエハＷとの同期精度の向上が可能となり、より重ね合わせ精度の良好な露光を実現することができる。また、この場合、Ｘ軸干渉計２３Ｘは、非走査方向を計測軸方向としているので、ショット領域間ステッピング時のウエハステージＷＳＴの位置計測精度も良好となっている。
この結果、少なくとも最終製品であるデバイスの歩留まりを向上させることができ、その生産性を向上させることが可能となる。
また、本第２の実施形態の露光装置では、例えば、前述のＥＧＡ方式のアライメントに際しては、ウエハステージＷＳＴの移動時間は、見た目上の最短距離を選択することにより、最短にすることが可能となっている。
さらに、本第２の実施形態では、ウエハステージＷＳＴを走査方向に駆動する際に、２種のリニアモータを用いることにより、それぞれのリニアモータに発生する熱を小さくすることができる。また、各リニアモータの温度上昇を小さくすることができ、更には、リニアモータを個別に冷却することができるので、リニアモータの冷却効率を向上させることができる。従って、リニアモータ周辺部への熱の影響を低減できるとともに、リニアモータの延命化を図ることができる。
なお、上記第２の実施形態では、第１リニアモータ３６Ａ及び第２リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃの長手方向（より具体的には各リニアモータを構成するリニアガイドの長手方向）が、いずれもＸ，Ｙ軸方向に対して４５°の角度をなすように設定されていたが、本発明がこれに限られるものではなく、種々の角度に設定することが可能である。
また、本第２の実施形態の露光装置では、上記第１の実施形態で説明したウエハステージの移動方法（及びその変形例）を採用しても良い。更に、本第２の実施形態ではステージ装置が図８に示される構成に限定されるものではなく、例えば図９に示されるようなステージ装置５０”を採用することとしても良い。
すなわち、図９に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）を駆動するウエハステージ駆動部として、平面視（上から見て）略Ｈ字状の第１駆動機構１３６１と、該第１駆動機構１３６１とＸ軸（又はＹ軸）に対して対称の構造を有する第２駆動機構１３６２とから構成される駆動装置を採用しても良い。
前記第１駆動機構１３６１は、ウエハテーブルＷＴＢをＸＹ１軸方向に微小駆動するＸＹ１軸微動リニアモータ３６Ａと、ウエハテーブルＷＴＢをＸＹ２軸方向に所定ストロークで駆動する一対のＸＹ２軸粗動リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃとを備えている。
前記ＸＹ１軸微動リニアモータ３６Ａは、ウエハテーブルＷＴＢが搭載された不図示のウエハステージ本体にＸＹ１軸方向に貫通して形成された開口内に挿入され、ＸＹ１軸方向に延びる固定子３４Ａと、ウエハステージ本体に設けられ、固定子３４Ａとの間の電磁相互作用によりウエハステージ本体（ウエハテーブルＷＴＢ）をＸＹ１軸方向に駆動する電磁力を発生する可動子とを有している。
前記一対のＸＹ２軸粗動リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃは、固定子３４Ａの長手方向の一端部と他端部とにそれぞれ設けられた可動子３２Ｂ、３２Ｃと、これらの可動子３２Ｂ，３２Ｃとの間で個別に電磁相互作用を行い、これらの可動子３２Ｂ，３２Ｃ、ＸＹ１軸微動リニアモータ３６Ａ及びウエハステージ本体（ウエハテーブルＷＴＢ）を一体的にＸＹ２軸方向に駆動する、ＸＹ２軸方向にそれぞれ延びる一対の固定子３４Ｂ，３４Ｃとを有している。
また、固定子３４Ａの長手方向の一側と他側との端部近傍の下面（ステージベース４０に対向する側の面）には、ステージベース４０に固定された（突設された）ガイド４０ａ、４０ｂにそれぞれ対向して一対の軸受け機構３９Ａ，３９Ｂが設けられている。
前記第２駆動機構１３６２は、ウエハテーブルＷＴＢをＸＹ２軸方向に微小駆動するＸＹ２軸微動リニアモータ３６Ｄと、ウエハテーブルＷＴＢをＸＹ１軸方向に所定ストロークで駆動する一対のＸＹ１軸粗動リニアモータ３６Ｅ，３６Ｆとを備えている。
前記ＸＹ２軸微動リニアモータ３６Ｄは、不図示のウエハステージ本体にＸＹ２軸方向に貫通して形成された開口内に挿入され、ＸＹ２軸方向に延びる固定子３４Ｄと、ウエハステージ本体に設けられ、固定子３４Ｄとの間の電磁相互作用によりウエハステージ本体（ウエハテーブルＷＴＢ）をＸＹ２軸方向に駆動する電磁力を発生する可動子とを有している。この場合、固定子３４Ｄと前述の固定子３４Ａとは、上下方向（Ｚ軸方向）に所定間隔をあけて垂直に交差する状態で、ウエハステージ本体に形成された各開口内に挿入されている。
前記一対のＸＹ１軸粗動リニアモータ３６Ｅ，３６Ｆは、固定子３４Ｄの長手方向の一端部と他端部とにそれぞれ設けられた可動子３２Ｅ、３２Ｆと、これらの可動子３２Ｅ，３２Ｆとの間で個別に電磁相互作用を行い、これらの可動子３２Ｅ，３２Ｆ、ＸＹ２軸微動リニアモータ３６Ｄ及びウエハステージ本体（ウエハテーブルＷＴＢ）を一体的にＸＹ１軸方向に駆動する、ＸＹ１軸方向にそれぞれ延びる一対の固定子３４Ｅ，３４Ｆとを有している。
また、固定子３４Ｄの長手方向の一側と他側との端部近傍の下面（ステージベース４０に対向する側の面）には、ステージベース４０に固定された（突設された）ガイド４０ｃ、４０ｄにそれぞれ対向して一対の軸受け機構３９Ｃ，３９Ｄが設けられている。
このようにして構成されるウエハステージ駆動部によると、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージ）を、ＸＹ１軸粗動リニアモータ３６Ｅ，３６Ｆを介してＸＹ１軸方向に長ストロークで駆動するとともに、ＸＹ２軸粗動リニアモータ３６Ｂ，３６Ｃを介してＸＹ２軸方向に長ストロークで駆動する。また、ＸＹ１軸微動リニアモータ３６Ａを介してＸＹ１軸方向に微小駆動するとともに、ＸＹ２軸微動リニアモータ３６Ｄを介してＸＹ２軸方向に微小駆動する。すなわち、図９のステージ装置によると、ＸＹ１軸及びＸＹ２軸により規定される２次元面内（Ｘ、Ｙ軸により規定される２次元面内と同一）でのウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の粗微動が可能となっている。
このようなステージ装置を採用しても、上記第２の実施形態と同等の効果を得ることができる。
なお、前述の第１の実施形態のステージ装置５０（図２参照）に代えて、図９の各リニアモータの駆動方向をＸ軸及びＹ軸に平行な方向に変更したステージ装置を採用することとしても良い。
なお、上記各実施形態では、第１の駆動装置及び第２の駆動装置がリニアモータから構成され、各リニアモータが平面視（上から見て）Ｈ字状の形状を有するものとして説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、種々の構成を採用することが可能である。また、第１、第２の駆動装置は、リニアモータに限らず、１軸方向への駆動を行うことが可能な駆動装置であれば、種々の構成を採用することが可能である。
なお、上記各実施形態では、単一のウエハステージを備えた露光装置に本発明を適用した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、例えば前述のツインウエハステージタイプの露光装置に対しても本発明は適用可能である。本国際出願で指定した指定国又は選択した選択国の国内法令が許す限りにおいて、上記米国特許の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
また、上記各実施形態ではウエハステージに本発明を適用した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、例えば前述のアライメント検出系ＡＳと、例えばウエハステージへのロードに先立ってアライメント検出系ＡＳの計測対象であるウエハが搭載される、ウエハステージとは別の２次元移動可能なステージ（計測ステージ）とを含む、計測ステーションを備える露光装置では、その計測ステージに対して本発明を適用しても良い。さらに、上記各実施形態では露光装置に本発明を適用した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、例えば露光装置とインラインで接続される計測装置に対して本発明を適用しても良い。なお、これら構成では、計測ステーション又は計測装置でマーク位置情報などが計測されたウエハは単独、あるいはウエハホルダなどと一体でウエハステージＷＳＴに移送され、その計測結果に基づいて前述の露光処理が行われる。この場合、上記各実施形態と同様に、移動時間が最短となる経路でウエハを移動することができるとともに、例えば時間短縮よりも精度を優先する場合などでは同一時間内で計測可能なマーク位置情報の数を多くすることができる。また、上記各実施形態では、その決定した移動経路に沿ってウエハを移動してアライメント検出系によるマーク検出を行うものとしたが、このマーク検出の代わりに、あるいはそれと組み合わせて、露光位置と異なる位置にて他の計測、例えば前述の多点焦点位置検出系などによるウエハ（ショット領域）の高さ情報（凹凸又は段差情報）の計測を行うようにしても良い。
なお、上記各実施形態では、光源として、ＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）などの紫外光源、Ｆ２レーザ、ＡｒＦエキシマレーザ等の真空紫外域のパルスレーザ光源、あるいは水銀ランプなどを用いるものとしたが、これに限らず、Ａｒ２レーザ光源（出力波長１２６ｎｍ）などの他の真空紫外光源を用いても良い。また、例えば、真空紫外光として上記各光源から出力されるレーザ光に限らず、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（Ｅｒ）（又はエルビウムとイッテルビウム（Ｙｂ）の両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。さらに、照明光ＩＬとして紫外光などだけでなく、Ｘ線（ＥＵＶ光を含む）又は電子線やイオンビームなどの荷電粒子線などを用いても良い。なお、照明光ＩＬとして電子線を用いる電子線露光装置は、ペンシルビーム方式、可変成形ビーム方式、セルプロジェクション方式、ブランキング・アパーチャ・アレイ方式、及びマスク投影方式のいずれであっても良い。
なお、上記各実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されないことは勿論である。すなわちステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置、あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも本発明は好適に適用することができる。
なお、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み、光学調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより、上記各実施形態の露光装置を製造することができる。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
なお、上記各実施形態では、本発明が半導体製造用の露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤなど）、有機ＥＬ、マイクロマシン、ＤＮＡチップなどを製造するための露光装置などにも本発明は広く適用できる。
また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（遠紫外）光やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、螢石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。
なお、例えば国際公開ＷＯ９９／４９５０４号パンフレットなどに開示される、投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体（例えば純水など）が満たされる液浸型露光装置に本発明を適用しても良い。液浸型露光装置は、反射屈折型の投影光学系を用いる走査露光方式でも良いし、あるいは投影倍率が１／８の投影光学系を用いる静止露光方式でも良い。後者の液浸型露光装置では、ウエハなどの物体上に大きなパターンを形成するために、前述のステップ・アンド・スティッチ方式を採用することが好ましい。
《デバイス製造方法》
図１０には、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートが示されている。図１０に示されるように、まず、ステップ２０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップ２０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ２０３（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップ２０４（ウエハ処理ステップ）において、ステップ２０１〜ステップ２０３で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ２０５（デバイス組立てステップ）において、ステップ２０４で処理されたウエハを用いてデバイス組立てを行う。このステップ２０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。
最後に、ステップ２０６（検査ステップ）において、ステップ２０５で作成されたデバイスの動作確認テスト、耐久テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
図１１には、半導体デバイスにおける、上記ステップ２０４の詳細なフロー例が示されている。図１１において、ステップ２１１（酸化ステップ）においてはウエハの表面を酸化させる。ステップ２１２（ＣＶＤステップ）においてはウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ２１３（電極形成ステップ）においてはウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ２１４（イオン打ち込みステップ）においてはウエハにイオンを打ち込む。以上のステップ２１１〜ステップ２１４それぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ２１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ２１６（露光ステップ）において、上で説明した露光装置及びその露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップ２１７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像し、ステップ２１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ２１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップ２１６）において上記各実施形態の露光装置及びその露光方法が用いられるので、ウエハ上にレチクルのパターンを高精度に転写することができ、結果的に高集積度のデバイスを生産性（歩留まりを含む）を向上させることが可能となる。
【産業上の利用可能性】  以上説明したように、本発明の移動方法は、第１軸及びこれに直交する第２軸方向に駆動力を発生する第１及び第２の駆動装置を用いて移動体を移動するのに適している。また、本発明の露光方法及び露光装置は、半導体素子などを製造するリソグラフィ工程で物体上に所定のパターンを転写するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、半導体素子等のデバイスの製造に適している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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