(57)【要約】本発明による光記録媒体は、支持基板と、光透過層と、前記支持基板と前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、前記光透過層を介して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生を行うことができる。レーザビームが入射する光入射面に存在する凹凸欠陥のピーク部分又はボトム部分における前記光透過層の厚さをＴ１、前記凹凸欠陥の端部における前記光透過層の厚さをＴ２、前記凹凸欠陥の前記ピーク部分又はボトム部分から前記端部までの周方向における距離をＷとした場合、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ≦５．５×１０−４が満たされている。本発明によれば、次世代型の光記録媒体の記録及び／又は再生において好ましく用いられる線速度領域（１０〜１９ｍ／ｓ）において、光入射面の凹凸欠陥に起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができるので、凹凸欠陥がジッタに与える影響を効果的に抑制することが可能となる。
2004064054.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、光透過層と、前記支持基板と前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、前記光透過層を介して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生を行う光記録媒体であって、前記レーザビームが入射する光入射面に存在する凹凸欠陥のピーク部分又はボトム部分における前記光透過層の厚さをＴ１、前記凹凸欠陥の端部における前記光透過層の厚さをＴ２、前記凹凸欠陥の前記ピーク部分又はボトム部分から前記端部までの周方向における距離をＷとした場合、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
が満たされていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記光透過層の層厚が３０〜２００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記光入射面の高域面振れ量が０．３５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記光入射面の面振れ加速度が１０ｍ／ｓ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記情報層には、相変化材料からなる記録層が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項６】
１０ｍ／ｓ以上の線速度で前記記録層へのデータの記録が可能な請求項５に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は光記録媒体に関し、特に、支持基板とは反対側の面に設けられた薄い光透過層を有する次世代型の光記録媒体に関する。
【背景技術】  近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）やＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ）に代表される光記録媒体が広く用いられている。
ＣＤは、厚さ約１．２ｍｍｌの光透過性基板上に情報記録層及び保護層が積層された構造を有しており、波長約７８０ｎｍのレーザビームを光透過性基板側から情報記録層に照射することによってデータの記録及び／又は再生を行うことができる。レーザビームの集束には開口数（ＮＡ）が約０．４５の対物レンズが用いられ、これにより情報記録層上におけるレーザビームのビームスポット径は約１．６μｍまで絞られる。これにより、ＣＤでは、約７００ＭＢの記録容量と、等倍速（約１．２ｍ／ｓｅｃ）において約１Ｍｂｐｓのデータ転送レートが実現されている。
これに対しＤＶＤは、厚さ約０．６ｍｍの光透過性基板上に情報記録層及び保護層が積層された積層体と、厚さ約０．６ｍｍのダミー基板とが接着層を介して貼り合わされた構造を有しており、波長約６５０ｎｍのレーザビームを光透過性基板側から情報記録層に照射することによってデータの記録及び／又は再生を行うことができる。レーザビームの集束には開口数（ＮＡ）が約０．６の対物レンズが用いられ、これにより情報記録層上におけるレーザビームのビームスポット径は約０．９３μｍまで絞られる。このように、ＤＶＤの記録及び／再生においては、ＣＤよりも波長の短いレーザビームが用いられるとともに、開口数（ＮＡ）が大きい対物レンズが用いられていることから、ＣＤに比べてより小さいビームスポット径が実現されている。これにより、ＤＶＤでは、約４．７ＧＢ／面の記録容量と、等倍速（約３．５ｍ／ｓｅｃ）において約１１Ｍｂｐｓのデータ転送レートが実現されている。
一方、近年における情報化社会の高度化に伴い、ＤＶＤを越えるデータの記録容量を有し、且つ、ＤＶＤを越えるデータ転送レートを実現可能な光記録媒体の実用化が求められており、その開発が行われている。このような次世代型の光記録媒体においては、大容量・高データ転送レートを実現するため、必然的に、データの記録及び／又は再生に用いるレーザビームのビームスポット径をさらに小さく絞らなければならず、そのためには、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数（ＮＡ）をさらに大きくするとともに、レーザビームの波長をさらに短くする必要がある。
しかしながら、レーザビームを集束するための対物レンズを高ＮＡ化すると、光記録媒体の反りや傾きの許容度、すなわちチルトマージンが非常に小さくなるという問題が生じる。チルトマージンＴは、記録及び／又は再生に用いるレーザビームの波長をλ、レーザビームの光路となる光透過層の厚さをｄとすると、次式によって表すことができる。
2004064054.tif 000003
式（１）から明らかなように、チルトマージンは対物レンズのＮＡが大きいほど小さくなってしまう。また、波面収差（コマ収差）が発生する光透過層の屈折率をｎ、傾き角をθとすると、波面収差係数Ｗは、次式によって表すことができる。
2004064054.tif 000004
式（１）及び式（２）から明らかなように、チルトマージンを大きくし、且つ、コマ収差の発生を抑えるためには、記録・再生に用いるレーザビームが入射する光透過層の厚さｄを小さくすることが非常に有効である。ＣＤ（ＮＡ＝約０．４５）に使用される光透過性基板の厚みが約１．２ｍｍであるのに対し、ＤＶＤ（ＮＡ＝約０．６）に使用される光透過性基板の厚みが約０．６ｍｍに設定されているのはこのためである。
上述した理由から、次世代型の光記録媒体においては、十分なチルトマージンを確保しつつ、コマ収差の発生を抑えるために、光透過層の厚さを２００μｍ以下、特に１００μｍ程度まで薄くする必要があるものと考えられる。
このため、次世代型の光記録媒体においては、ＣＤやＤＶＤ等、現行の光記録媒体のようにレーザビームの光路となる光透過性基板上に情報記録層を形成することは困難であり、支持基板上に形成した情報記録層等の上に、スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によって薄い光透過層を形成し、これをレーザビームの光路として用いる方法が検討されている。このように、次世代型の光記録媒体の作製においては、光入射面側から順次成膜が行われる現行の光記録媒体とは異なり、光入射面とは反対側の面から順次成膜が行われることになる。
しかしながら、スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によって形成した光透過層の表面（次世代型光記録媒体の光入射面）は、主に射出成形法により作製される光透過性基板の表面（ＣＤやＤＶＤの光入射面）に比べて平坦性が低いという問題がある。しかも、ＣＤやＤＶＤにおいては、光入射面上に形成されるレーザビームのビームスポットがある程度大きいことから（ＣＤ：約７００μｍ，ＤＶＤ：約５００ｍｍ）、光入射面上の凹凸は希釈され、記録特性や再生特性に与える影響が小さくなる一方、次世代型の光記録媒体においては、光入射面上に形成されるレーザビームのビームスポットが非常に小さいことから（例えば１３０μｍ）、僅かな凹凸が記録特性や再生特性に大きな影響を与える可能性がある。
このため、次世代型光記録媒体の製造工程においては、光入射面の表面性を検査し、その表面性が低い場合には不良品として排除することが求められる。
【発明の開示】
したがって、本発明の目的は、支持基板とは反対側の面に設けられた薄い光透過層を有する光記録媒体であって、光入射面に記録特性や再生特性に大きな影響を与える可能性のある凹凸がない光記録媒体を提供することを目的とする。
本発明のかかる目的は、支持基板と、光透過層と、前記支持基板と前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、前記光透過層を介して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生を行う光記録媒体であって、前記レーザビームが入射する光入射面に存在する凹凸欠陥のピーク部分又はボトム部分における前記光透過層の厚さをＴ１、前記凹凸欠陥の端部における前記光透過層の厚さをＴ２、前記凹凸欠陥の前記ピーク部分又はボトム部分から前記端部までの周方向における距離をＷとした場合、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
が満たされていることを特徴とする光記録媒体によって達成される。
本発明によれば、次世代型の光記録媒体の記録及び／又は再生において好ましく用いられる線速度領域（１０〜１９ｍ／ｓ）において、光入射面の凹凸欠陥に起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。これにより、凹凸欠陥がジッタに与える影響を効果的に抑制することが可能となる。
また、本発明の好ましい実施形態においては、前記光透過層の層厚が３０〜２００μｍである。さらに、本発明の好ましい実施形態においては、前記情報層には相変化材料からなる記録層が含まれており、１０ｍ／ｓ以上の線速度で前記記録層へのデータの記録が可能である。このような次世代型の光記録媒体は、光入射面上に形成されるレーザビームのビームスポットが非常に小さく、しかも、非常に高い線速度でデータの記録が行われることから、光入射面の僅かな凹凸が記録特性や再生特性に大きな影響を与えてしまう。しかしながら、本発明によれば、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
が満たされていることから、良好な記録特性及び再生特性を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】  図１（ａ）は、本発明の好ましい実施の形態による光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図である。
図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
図２（ａ）、は、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１を拡大して示す略断面図である。
図２（ｂ）は、光入射面１６ａに存在する凹欠陥２２を拡大して示す略断面図である。
図３は、図１に示す光記録媒体１０の製造方法を示すフローチャートである。
図４は、光記録媒体の良否を検査するための検査装置１００の概略構成図である。
図５は、光ヘッド１１４の構成を示す概略図である。
図６は、光記録媒体の良否を検査する方法を示すフローチャートである。
図７は、検査用レーザビームＬ１が光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａにフォーカスロックした状態を模式的に示す図である。
図８は、ステップＳ１６による判定方法を示すフローチャートである。
図９は、良品と判定される領域を示す模式的なグラフである。
【発明を実施するための最良の形態】  以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施態様について詳細に説明する。
図１（ａ）は、本発明の好ましい実施の形態による光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。図１に示す光記録媒体１０はいわゆる書き換え型の光記録媒体であるが、本発明の対象が書き換え型の光記録媒体に限定されるものではなく、追記型の光記録媒体や再生専用型の光記録媒体等、他のタイプの光記録媒体についても対象とすることができる。
図１（ａ），（ｂ）に示す光記録媒体１０は、外径が約１２０ｍｍ、厚みが約１．２ｍｍである円盤状の光記録媒体であり、図１（ｂ）に示すように、支持基板１１と、反射層１２と、第２誘電体層１３と、記録層１４と、第１誘電体層１５と、光透過層１６とを備えて構成されている。特に限定されるものではないが、図１に示す光記録媒体１０は、波長λが３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、好ましくは約４０５ｎｍであるレーザビームＬを光透過層１６の表面である光入射面１６ａより照射することによってデータの記録及び再生を行うことが可能な書き換え型の光記録媒体である。光記録媒体１０に対するデータの記録及び再生においては、開口数が０．７以上、好ましくは０．８５程度の対物レンズが用いられ、これによって、レーザビームＬの波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとした場合、λ／ＮＡ≦６４０ｎｍに設定される。尚、「第２」誘電体層１３及び「第１」誘電体層１５とは、光入射面１６ａから見てそれぞれ２番目及び１番目の誘電体層であることを意味する。
支持基板１１は、光記録媒体１０に求められる厚み（約１．２ｍｍ）を確保するために用いられる厚さ約１．１ｍｍの円盤状の基板であり、その一方の面には、その中心部近傍から外縁部に向けて、レーザビームＬをガイドするためのグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが螺旋状に形成されている。支持基板１１の材料としては種々の材料を用いることが可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、あるいは樹脂を用いることができる。これらのうち、成形の容易性の観点から、一般にポリカーボネート樹脂が用いられることが多い。
反射層１２は、光透過層１６側から入射されるレーザビームＬを反射し、再び光透過層１６から出射させる役割を果たす。反射層１２の材料としては、レーザビームＬを反射可能である種々の材料を用いることが可能であり、例えば、マグネシウム（Ｍｇ），アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），亜鉛（Ｚｎ），ゲルマニウム（Ｇｅ），銀（Ａｇ），白金（Ｐｔ），金（Ａｕ）等が用いられる。反射層１３の厚さとしては、５〜３００ｎｍに設定される。
第１誘電体層１５及び第２誘電体層１３は、これらの間に設けられる記録層１４を物理的及び／又は化学的に保護する役割を果たし、記録層１４はこれら第１誘電体層１３及び第２誘電体層１５に挟持されることによって、光記録後、長期間にわたって記録情報の劣化が効果的に防止される。
第１誘電体層１５及び第２誘電体層１３を構成する材料は、使用されるレーザビームＬの波長領域において透明な誘電体であれば特に限定されず、例えば、酸化物、硫化物、窒化物又はこれらの組み合わせを主成分として用いることができるが、支持基板１１等の熱変形防止、並びに、記録層１４に対する保護特性の観点から、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＧｅＮ、ＧｅＣｒＮ、ＣｅＯ２、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＣ、Ｌａ２Ｏ３、ＴａＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＡｌＯＮ（ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｓｉ３Ｎ４及びＡｌＮの混合物）及びＬａＳｉＯＮ（Ｌａ２Ｏ３，ＳｉＯ２及びＳｉ３Ｎ４の混合物）等、アルミニウム（Ａｌ）、シリコン（Ｓｉ）、セリウム（Ｃｅ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、タンタル（Ｔａ）等の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物が好ましく用いられる。また、第１誘電体層１５及び第２誘電体層１３の層厚としては、３〜２００ｎｍに設定される。
記録層１４は可逆的な記録マークが形成される層であり、相変化材料によって構成される。相変化材料は、結晶状態である場合の反射率とアモルファス状態である場合の反射率とが異なるため、これを利用してデータの記録が行われる。記録されるデータは、例えばアモルファス状態である記録マークの長さ（記録マークの前縁から後縁までの長さ）及び例えば結晶状態であるブランク領域の長さ（記録マークの後縁から次の記録マークの前縁までの長さ）によって表現される。
記録層１４を結晶状態からアモルファス状態に変化させるためには、光入射面１６ａから照射されるレーザビームＬを記録パワーＰｗから基底パワーＰｂまでの振幅を有するパルス波形とすることによって記録層１４を融点以上の温度に加熱し、その後、レーザビームＬのパワーを基底パワーＰｂに設定することによって急冷する。これによって溶融した領域がアモルファス状態に変化し、これが記録マークとなる。一方、記録層１４をアモルファス状態から結晶状態に変化させるためには、光入射面１６ａから照射されるレーザビームＬのパワーを消去パワーＰｅに設定することによって記録層１４を結晶化温度以上の温度に加熱する。結晶化温度以上の温度に加熱された領域は、レーザビームＬが遠ざかることによって徐冷されることから、当該領域が結晶状態に変化する。
ここで、記録パワーＰｗ、消去パワーＰｅ及び基底パワーＰｂの関係は、
Ｐｗ＞Ｐｅ≧Ｐｂ
に設定される。したがって、レーザビームＬのパワーをこのように変調すれば、記録層１４の未記録領域に記録マークを形成するだけでなく、既に記録マークが形成されている領域にこれと異なる記録マークを直接上書き（ダイレクトオーバーライト）することが可能となる。
記録層１４を構成する相変化材料の種類としては特に限定されるものではないが、高速でダイレクトオーバーライトを可能とするためには、アモルファス状態から結晶状態への構造変化に要する時間（結晶化時間）が短い材料を選択することが好ましく、このような材料としてはＳｂＴｅ系材料を挙げることができる。ＳｂＴｅ系材料としてはＳｂＴｅのみでもよいし、結晶化時間をより短縮するとともに長期の保存に対する信頼性を高めるために添加物を加えてもよい。記録層１４の層厚としては、２〜４０ｎｍに設定される。
光透過層１６は、レーザビームＬの入射面を構成するとともにレーザビームＬの光路となる層であり、その厚さとしては３０〜２００μｍ、好ましくは１００μｍ程度に設定される。光透過層１６の材料としては、使用されるレーザビームＬの波長領域において光透過率が十分に高い材料である限り特に限定されないが、アクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂が好ましく用いられる。また、紫外線硬化性樹脂を硬化させてなる膜のかわりに、光透過性樹脂からなる光透過性シートと各種接着剤や粘着剤を用いて光透過層１６を形成することも可能である。
尚、光記録媒体１０を構成する各層のうち、支持基板１１と光透過層１６との間に設けられる層を「情報層」と総称することがある。再生専用の光記録媒体においては、支持基板１１に設けられるピット列によって情報が保持されるため記録層１４に相当する層が設けられないが、この場合、反射層が情報層に相当する。
本実施形態による光記録媒体１０では、光入射面１６ａの凹凸が所定の範囲内に抑えられている。これについて、より具体的に説明する。
図２は、光入射面１６ａの凹凸部分を拡大して示す略断面図であり、（ａ）は凸欠陥部分、（ｂ）は凹欠陥部分を示している。
図２（ａ）に示すように、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１のピーク部分２１ａにおける光透過層１６の厚さをＴ１、凸欠陥２１の端部２１ｂにおける光透過層１６の厚さをＴ２、凸欠陥２１のピーク部分２１ａから端部２１ｂまでの周方向における距離（ピーク部分２１ａから一方の端部２１ｂまでの距離と他方の端部２１ｂまでの距離が異なる場合には、その短い方）をＷとした場合、本実施形態による光記録媒体１０では、少なくとも記録エリア内の全ての凸欠陥２１の変動量（Ｔ１−Ｔ２）と変動幅（Ｗ）との間に、
Ｔ１−Ｔ２／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
の関係が満たされている。換言すれば、本実施形態による光記録媒体１０の少なくとも記録エリア内には、
Ｔ１−Ｔ２／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
を満たす凸欠陥は存在しない。
さらに、図２（ｂ）に示すように、光入射面１６ａに存在する凹欠陥２２のボトム部分２２ａにおける光透過層１６の厚さをＴ１、凹欠陥２２の端部２２ｂにおける光透過層１６の厚さをＴ２、凹欠陥２２のボトム部分２２ａから端部２２ｂまでの周方向における距離（ボトム部分２２ａから一方の端部２２ｂまでの距離と他方の端部２２ｂまでの距離が異なる場合には、その短い方）をＷとした場合、本実施形態による光記録媒体１０では、少なくとも記録エリア内の全ての凹欠陥２２の変動量（Ｔ２−Ｔ１）と変動幅（Ｗ）との間に、
Ｔ２−Ｔ１／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
の関係が満たされている。換言すれば、本実施形態による光記録媒体１０の少なくとも記録エリア内には、
Ｔ２−Ｔ１／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
を満たす凹欠陥は存在しない。
すなわち、本実施形態による光記録媒体１０では、光入射面１６ａの記録エリアに存在する欠陥の全てについて、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
が満たされている。
このような条件を満たす光記録媒体は、光入射面１６ａが十分に平滑であることから、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１や凹欠陥２２によって記録特性や再生特性に深刻な影響を与えることがない。具体的には、次世代型の光記録媒体の記録及び／又は再生において好ましく用いられる線速度領域（１０〜１９ｍ／ｓ）において、高域面振れ量を０．３５μｍ以下、面振れ加速度を１０ｍ／ｓ２以下に抑えることができ、その結果、高域面振れや面振れ加速度に起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。一般に、残留フォーカスエラー成分が１０％を超えると、ジッタへの影響が非常に顕著となることから、本発明では、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１や凹欠陥２２によってジッタを顕著に悪化させることがない。
ここで、「面振れ加速度」とは記録及び／又は再生時において対物レンズに生じる加速度を指し、「高域面振れ量」とは凸欠陥２１や凹欠陥２２のうち、対物レンズが追従できない急峻部分の大きさを指す。
次に、図１に示す光記録媒体１０の製造方法について説明する。書き換え型である光記録媒体１０の製造工程は、大きく分けて成膜工程と初期化工程からなり、成膜工程及び初期化工程の順に行われる。
図３は、図１に示す光記録媒体１０の製造方法を示すフローチャートである。
まず、スタンパを用いた射出成形法により、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成された支持基板１１を作製する（ステップＳ１）。但し、支持基板１１の作製は射出成形法に限られず、２Ｐ法等、他の方法によってこれを作製しても構わない。
次に、支持基板１１の表面のうち、グループ１１ａ及びランド１１ｂが設けられた面に反射層１２を形成する（ステップＳ２）。反射層１２の形成は、反射層１２の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましい。気相成長法としてはスパッタリング法や真空蒸着法が挙げられ、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。
次に、反射層１２上に第２誘電体層１３を形成する（ステップＳ３）。第２誘電体層１３の形成についても、第２誘電体層１３の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。
次に、第２誘電体層１３上に記録層１４を形成する（ステップＳ４）。記録層１４の形成についても、記録層１４の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。スパッタリング直後における相変化材料はアモルファス状態となっており、その後行われる初期化工程において結晶状態に変化させられる。
次に、記録層１４上に第１誘電体層１５を形成する（ステップＳ５）。第１誘電体層１５の形成についても、第１誘電体層１５の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。
そして、第１誘電体層１５上に光透過層１６を形成する（ステップＳ６）。光透過層１６は、例えば、粘度調整されたアクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂をスピンコート法等により皮膜させ、紫外線を照射して硬化させたり、或いは、光透過性樹脂からなる光透過性シートを接着剤により貼り付けることにより形成することができる。上述のとおり、スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によって形成した光透過層１６の表面（光入射面１６ａ）は、ＣＤやＤＶＤの光入射面である光透過性基板の表面に比べて平坦性が低くなりやすい。
以上により、成膜工程が完了する。本発明においては、成膜工程が完了した状態の光記録媒体を「光記録媒体前駆体１０’」と呼ぶ。但し、特に区別する必要がない場合には、便宜上、光記録媒体前駆体１０’についても単に「光記録媒体」と呼ぶことがある。
次に、光記録媒体前駆体１０’をレーザ照射装置（図示せず）の回転テーブルに載置し、回転させながらグルーブ１１ａ及びランド１１ｂに沿った方向（円周方向）における長さが短く、且つ、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂに垂直な方向（径方向）における長さが長い矩形状の初期化用レーザビームを連続的に照射し、光記録媒体前駆体１０’が１回転するごとに照射位置を径方向にずらすことによって、初期化用レーザビームを記録層１４のほぼ全面に照射する。すなわち、記録層１４の初期化を行う（ステップＳ７）。初期化用レーザビームが照射された領域における相変化材料は融点を超える温度に加熱され、その後初期化用レーザビームが遠ざかることによって除冷されることから、記録層１４の全面が結晶状態、すなわち、未記録状態となる。
以上により、初期化工程が完了し、光記録媒体１０が完成する。初期化工程を行うと結晶粒径が比較的大きくなり、これにより、記録層１４の反射率が非常に高くなる。
なお、光記録媒体１０の製造方法は上記の製造方法に特に限定されるものではなく、公知の光記録媒体の製造に採用される製造技術を用いることができる。
次に、光記録媒体の良否を検査する方法について説明する。
検査を行うタイミングとしては、成膜工程が完了した後であればどのタイミングで行っても構わないが、以下に説明するように、記録層１４の反射率が高いと検査を行いにくくなることから、成膜工程が完了した後、初期化工程を行う前（ステップＳ６とステップＳ７の間）に検査を実行することが好ましい。したがって、以下、上述した光記録媒体前駆体１０’を検査対象とする場合を例に説明する。
図４は、光記録媒体の良否を検査するための検査装置１００の概略構成図である。
図４に示すように、検査装置１００は、光記録媒体前駆体１０’を回転させるスピンドルモータ１０１と、光記録媒体前駆体１０’に検査用レーザビームＬ１を照射する光学系１１０と、光学系１１０を光記録媒体前駆体１０’の径方向に移動させるトラバースモータ１０２と、光学系１１０にレーザ駆動信号１０３ａを供給するレーザ駆動回路１０３と、光学系１１０にレンズ駆動信号１０４ａを供給するレンズ駆動回路１０４と、スピンドルモータ１０１、トラバースモータ１０２、レーザ駆動回路１０３及びレンズ駆動回路１０４を制御するコントローラ１０５とを備えている。
光学系１１０は、レーザ駆動信号１０３ａに基づいて検査用レーザビームＬ１を発生するレーザ光源１１１と、レーザ光源１１１が発する検査用レーザビームＬ１を平行光線に変換するコリメータレンズ１１２と、検査用レーザビームＬ１とその戻り光Ｌ２とを分離するビームスプリッタ１１３と、検査用レーザビームＬ１を光記録媒体前駆体１０’に照射する光ヘッド１１４と、検査用レーザビームの戻り光Ｌ２に基づいてフォーカスエラー信号ＦＥを生成するフォトディテクタ１１５とを備えている。
図５は、光ヘッド１１４の構成を示す概略図である。図５に示すように、光ヘッド１１４は、検査用レーザビームＬ１を集光する対物レンズ１１４ａと、レンズ駆動信号１０４ａに基づいて対物レンズ１１４ａを上下動させるアクチュエータ１１４ｂと、対物レンズ１１４ａに固定された永久磁石１１４ｃと、永久磁石１１４ｃを取り囲むように設けられたコイル１１４ｄとを備えている。永久磁石１１４ｃ及びこれを取り囲むように設けられたコイル１１４ｄは、対物レンズ１１４ａの上下方向の位置を検出するための位置検出器として機能し、コイル１１４ｄに流れる電流は位置検出信号Ｐとしてコントローラ１０５に供給される。
スピンドルモータ１０１は、コントローラ１０５による制御のもと、光記録媒体前駆体１０’を所望の回転数で回転させることが可能である。トラバースモータ１０２は、コントローラ１０５による制御のもと、光学系１１０を光記録媒体前駆体１０’の径方向に移動させるために用いられる。レーザ駆動回路１０３は、コントローラ１０５による制御のもと、光学系１１０内のレーザ光源１１１にレーザ駆動信号１０３ａを供給するために用いられる。レンズ駆動回路１０４は、コントローラ１０５による制御のもと、光ヘッド１１４にレンズ駆動信号１０４ａを供給するために用いられる。上述の通り、レンズ駆動信号１０４ａを受けた光ヘッド１１４内のアクチュエータ１１４ｂは、これに基づいて対物レンズ１１４ａ上下動させる。これにより、検査用レーザビームＬ１のビームスポットを所望の面に正しくフォーカスさせることが可能となる。
コントローラ１０５には、フォーカス制御回路１０５ａ及び判定回路１０５ｂが含まれており、フォーカス制御回路１０５ａが活性状態となると、レンズ駆動回路１０４に対する制御により、検査用レーザビームＬ１のビームスポットが所望の面にフォーカスロックされた状態となる。また、判定回路１０５ｂは、検査対象である光記録媒体前駆体１０’が良品であるか不良品であるかを判定する回路であり、フォトディテクタ１１５により生成されるフォーカスエラー信号ＦＥ及び位置検出器により生成される位置検出信号Ｐに基づいて判定を行う。
図６は、光記録媒体の良否を検査する方法を示すフローチャートである。
光記録媒体の良否の検査においては、検査対象である光記録媒体前駆体１０’を検査装置１００にセットした後、まず、コントローラ１０５による制御のもと、スピンドルモータ１０１によって光記録媒体前駆体１０’を回転させ（ステップＳ１１）、さらに、レーザ駆動回路１０３を駆動することにより検査用レーザビームＬ１を光記録媒体前駆体１０’に照射する（ステップＳ１２）。この時、検査位置についてはトラバースモータ１０２を駆動することにより光記録媒体前駆体１０’の径方向に調整可能である。
スピンドルモータ１０１による光記録媒体前駆体１０’の回転は、検査用レーザビームＬ１に対して線速度が一定となるように制御することが好ましく、この場合の線速度としては、実際の記録時及び／又は再生時における線速度にほぼ一致させることが好ましい。検査時における線速度を記録時及び／又は再生時における線速度とほぼ一致させれば、光入射面１６ａに存在する凹凸が実際のデータの記録及び／又は再生に与える影響を考慮して検査を行うことが可能となる。
次に、コントローラ１０５による制御のもと、レンズ駆動回路１０４を駆動し、検査用レーザビームＬ１のフォーカスを光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａに合わせる（ステップＳ１３）。
そして、コントローラ１０５内のフォーカス制御回路１０５ａを活性化させることにより、検査用レーザビームＬ１を光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａにフォーカスロックさせる（ステップＳ１４）。これにより、光ヘッド１１４内のアクチュエータ１１４ｂには、対物レンズ１１４ａが光入射面１６ａの凹凸に追従するよう、レンズ駆動信号１０４ａがリアルタイムに供給されることになる。
図７は、検査用レーザビームＬ１が光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａにフォーカスロックした状態を模式的に示す図である。光入射面１６ａは、通常５％程度の反射率を有していることから、データの記録時や再生時において記録層１４にフォーカスロックさせる場合と同様にして、光入射面１６ａにもフォーカスロックさせることが可能であるが、光入射面１６ａに比べて記録層１４の反射率が高すぎると、光入射面１６ａに検査用レーザビームＬ１をフォーカスロックさせにくくなる。このため、検査時においては記録層１４の反射率が低いことが望ましい。図６に示す検査工程を初期化工程より前（ステップＳ６とステップＳ７の間）に実行することが好ましいのは、かかる理由による。
この状態において、コントローラ１０５内に含まれる判定回路１０５ｂは、光ヘッド１１４より供給される位置検出信号Ｐ及びフォトディテクタ１１５より供給されるフォーカスエラー信号ＦＥを監視し、これに基づいて面振れ加速度及び高域面振れ量をそれぞれ計算する（ステップＳ１５）。位置検出信号Ｐに基づく面振れ加速度の計算及びフォーカスエラー信号ＦＥに基づく高域面振れ量は次のようにして行う。
すなわち、対物レンズ１１４ａが光入射面１６ａの表面に存在する凹凸に連動して上下動すると、位置検出信号Ｐはこれに連動した電流値を示すことから、位置検出信号Ｐにより示される対物レンズ１１４ａの位置を判定回路１０５ｂ内で２回微分すれば、対物レンズ１１４ａに生じている加速度を知ることが可能となる。一方、光入射面１６ａの表面に凹凸が存在している場合であっても、これに連動して対物レンズ１１４ａが上下動しない場合、つまり、凹凸が急峻であるために対物レンズ１１４ａが追従できなかった場合には、位置検出信号Ｐに変化は現れない。
このように、位置検出信号Ｐを参照すれば、光入射面１６ａの表面に存在する凹凸のうち対物レンズ１１４ａが追従可能な凹凸によって対物レンズ１１４ａにどの程度の加速度が生じているのか、すなわち、「面振れ加速度」を算出することが可能となる。
また、光入射面１６ａの表面に凹凸が存在しているにも関わらず、これが急峻であるために対物レンズ１１４ａが追従できなかった場合には、検査用レーザビームＬ１の焦点が光入射面１６ａからずれてしまい、そのズレ量がフォーカスエラー信号ＦＥとなって現れる。一方、光入射面１６ａの表面に凹凸が存在している場合であっても、対物レンズ１１４ａがこれに連動して正しく上下動している場合には、フォーカスエラー信号ＦＥは正しくフォーカスされていることを示すことになる。
したがって、フォーカスエラー信号ＦＥを参照すれば、光入射面１６ａの表面に存在する凹凸のうち、対物レンズ１１４ａが追従できない急峻な凹凸の存在とその大きさ、すなわち、「高域面振れ量」を算出することが可能となる。
尚、対物レンズ１１４ａが追従可能な凹凸の限界は、使用する部品によって異なるが、ＣＤ用の部品を用いた場合には約５００Ｈｚ程度である。つまり、光入射面１６ａの表面に存在する凹凸のうち、その周波数成分が約５００Ｈｚ以下であれば対物レンズ１１４ａが追従可能である一方、その周波数成分が約５００Ｈｚを超える場合には、対物レンズ１１４ａはこれに追従することができなくなってしまう。
このように、光ヘッド１１４より供給される位置検出信号Ｐ及びフォトディテクタ１１５より供給されるフォーカスエラー信号ＦＥを参照すれば、光入射面１６ａの表面性を表す面振れ加速度及び高域面振れ量を算出することが可能となる。
次に、コントローラ１０５内に含まれる判定回路１０５ｂは、ステップＳ１５にて算出された面振れ加速度及び高域面振れ量に基づいて、検査対象である光記録媒体前駆体１０’が良品であるか不良品であるかを判定する（ステップＳ１６）。
図８は、ステップＳ１６による判定方法を示すフローチャートである。
ステップＳ１６においては、まず、フォーカスエラー信号ＦＥより得られた高域面振れ量を参照し、これが高域面振れ量のしきい値を越えていないか否かを判断する（ステップＳ２１）。ここで、「高域面振れ量のしきい値」とは、光入射面１６ａに存在する凹凸のうち、対物レンズ１１４ａが追従できない急峻な凹凸に許容されるサイズの最大値であり、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
を満たす凹凸欠陥を排除するためには、高域面振れ量のしきい値を０．３５μｍに設定すればよい。高域面振れ量のしきい値をこのように設定すれば、実際の記録及び／又は再生において高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。残留フォーカスエラー成分が１０％を超えると、ジッタへの影響が非常に顕著となることから、このような光記録媒体前駆体１０’は本検査工程において排除する必要がある。
そして、ステップＳ２１における判断の結果、高域面振れ量の最大値がしきい値を越えていれば（Ｓ２１：ＹＥＳ）、不良品と判定する。
一方、面振れ量の最大値がしきい値を越えていなければ（Ｓ２１：ＮＯ）、次に、光入射面１６ａの面振れ加速度の最大値を抽出し、これが面振れ加速度のしきい値を越えていないか否かを判断する（ステップＳ２２）。ここで、「面振れ加速度のしきい値」とは、光入射面１６ａに存在する凹凸に基づき対物レンズ１１４ａに生じる加速度として許容される最大値であり、検査装置１００においては追従可能であったとしても、ユーザが実際に使用するドライブの性能によってはフォーカスが外れてしまうおそれのある面振れを持った光記録媒体前駆体１０’を排除することを目的として設定される。具体的には、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
を満たす凹凸欠陥を排除すべく、面振れ加速度のしきい値を１０ｍ／ｓ２に設定すればよい。面振れ加速度のしきい値をこのように設定すれば、実際の記録及び／又は再生において高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。ステップＳ２２における判断の結果、面振れ加速度の最大値がしきい値を越えていれば（Ｓ２２：ＹＥＳ）、不良品と判定する。
一方、面振れ加速度の最大値がしきい値を越えていなければ（Ｓ２２：ＮＯ）、最終的に良品であると判定し、図３に示した初期化工程（ステップＳ７）を実行する。
図９は、図８に示す基準により良品と判定される領域を示す模式的なグラフである。図９に示すように、図８に示す基準によって判定を行えば、良品と判定される領域はグラフ上において２辺が両軸に接する四角形となり、高域面振れ量及び面振れ加速度がいずれも所定のしきい値以下である場合にのみ良品であると判定されることが分かる。
尚、上述した光記録媒体の検査方法及び検査装置はあくまで一例であり、これ以外の方法によって、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
を満たす凹凸欠陥を持った光記録媒体を排除することも可能である。
例えば、上記検査装置１００では、位置検出信号Ｐを生成するために永久磁石１１４ｃ及びコイル１１４ｄからなる位置検出器を用いているが、これ以外の方法によって対物レンズ１１４ａに生じている加速度を測定可能しても構わない。例えば、永久磁石１１４ｃ及びコイル１１４ｄの代わりに静電容量型の位置検出器を設け、これによって対物レンズ１１４ａに生じている加速度を測定することも可能である。
また、上記の検査方法においては、光記録媒体の光入射面に検査用レーザビームＬ１のフォーカスを合わせることによって光入射面の表面性を検査しているが、回転している光記録媒体の光入射面に電磁波又は音波を照射し、ドップラー効果により生じる、反射波の周波数ずれを測定することにより、光入射面の表面性を検査しても構わない。
以上説明したように、本実施態様による光記録媒体１０は、支持基板１１とは反対側の面に設けられた薄い光透過層１６を有し、その表面である光入射面１６ａの記録エリア内に存在する凹凸欠陥の全てについて、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
が満たされていることから、光入射面１６ａに存在する凹凸欠陥によって記録特性や再生特性に深刻な影響を与えることがない。
尚、本発明において「光入射面」とは、光記録媒体の表面のうち記録及び／又は再生に用いるレーザビームが入射する面を指し、光透過層１６の表面である必要はない。したがって、光透過層１６の表面にハードコート層等が設けられている場合には、その表面が「光入射面」となる。
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【実施例】  以下、実施例を用いて本発明について更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
［サンプルの作製］
まず、射出成型法により、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍであり、表面にグルーブ１１ａ及びランド１１ｂ（トラックピッチ（グルーブのピッチ）＝０．３μｍ）が形成されたポリカーボネートからなるディスク状の支持基板１１を作製した。
次に、この支持基板１１をスパッタリング装置にセットし、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されている側の表面に銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）及び銅（Ｃｕ）の合金からなる厚さ１００ｎｍの反射層１２、Ａｌ２Ｏ３からなる厚さ２０ｎｍの第２誘電体層１３、原子比がＳｂ７４Ｔｅ１８Ｇｅ７Ｉｎ１である厚さ１２ｎｍの記録層１４、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合物（モル比＝８０：２０）からなる厚さ１３０ｎｍの第１誘電体層１５を順次スパッタ法により形成した。
そして、第１誘電体層１５上に、紫外線硬化性樹脂（２５℃における粘度＝５０００ｃＰ）をスピンコート法によりコーティングし、これに紫外線を照射することによって厚さ１００μｍの光透過層１６を形成した。スピンコート時においては、閉塞治具を用いて支持基板１１の中心孔を閉塞し、この治具上に紫外線硬化性樹脂を吐出した後、回転数を２０００ｒｐｍに設定して８秒間回転させた。
以上の方法を用いて６つのサンプル＃１〜＃６を作製した。
［サンプルの評価］
次に、レーザフォーカス変位計を用い、サンプル＃１〜＃６の光透過層１６に存在する最も大きな凹凸欠陥（塗布ムラ）のサイズを調べた。測定の結果を表１に示す。
2004064054.tif 000005
表１に示すように、サンプル＃１〜＃３においては
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
が満たされているが、サンプル＃４〜＃６においてはこれが満たされておらず、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
であった。
次に、上記サンプル＃１〜＃６をそれぞれ検査装置（新電子工業社製ＯＤＡ−ＩＩ型機械精度測定器）にセットし、１１．４ｍ／ｓｅｃの線速度で回転させながら、検査用レーザビームＬ１を光入射面１６ａに照射した。そして、得られた位置検出信号Ｐ及びフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、面振れ加速度及び高域面振れ量を算出した。測定の結果を表２に示す。
2004064054.tif 000006
表２に示すように、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
を満たすサンプル＃１〜＃３においては高域面振れ量が０．３５μｍ以下であり、面振れ加速度が１０ｍ／ｓ２以下であったが、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
であるサンプル＃４〜＃６においては高域面振れ量が０．３５μｍ超であり、面振れ加速度が１０ｍ／ｓ２超であった。
次に、上記サンプル＃１〜＃６をそれぞれ光ディスク評価装置（パルステック社製ＤＤＵ１０００）にセットし、１１．４ｍ／ｓｅｃの線速度で回転させながら、開口数が０．８５である対物レンズを介して波長が４０５ｎｍであるレーザビームＬをトラックに沿って記録層１４に照射し、得られる残留フォーカスエラー成分を測定した。
ここで、残留フォーカスエラー成分の測定は次のようにして行った。
まず、フォーカスサーボをかけずにサンプルと対物レンズとの距離を変動させた場合に得られるフォーカスエラー信号を検出し、サンプルと対物レンズとの距離（変位）とフォーカスエラー信号の出力との関係を示すフォーカス感度曲線を求めた。このフォーカス感度曲線におけるプラス側のピーク値とマイナス側のピーク値との差を求め、この値を「Ｆ」と定義した。次に、ナイフエッジ法によりフォーカスサーボをかけた場合に得られるフォーカスエラー信号を検出し、そのプラス側のピーク値とマイナス側のピーク値との差を求め、この値を「Ｒ」と定義した。そしてＲ／Ｆにより、残留フォーカスエラー成分を算出した。
さらに、上記評価装置を用い、上記と同じ条件でサンプル＃１〜＃６に対し１，７ＲＬＬ変調方式における２Ｔ〜８Ｔ信号からなる混合信号をそれぞれ記録した。そして、記録された混合信号を再生し、そのジッタを測定した。ここでいうジッタとはクロックジッタを指し、タイムインターバルアナライザにより再生信号の「ゆらぎ（σ）」を求め、σ／Ｔｗ（Ｔｗ：クロックの１周期）により算出した。
測定の結果を表３に示す。
2004064054.tif 000007
表３に示すように、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ≦  ５．５×１０−４
を満たすサンプル＃１〜＃３においては残留フォーカスエラー成分が１０％以下であり、その結果、ジッタも良好であった。一方、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ  ＞  ５．５×１０−４
であるサンプル＃４〜＃６においては残留フォーカスエラー成分が１０％超であり、その結果、ジッタがかなり高い値となった。
１０２……トラバースモータ
１０３……レーザ駆動回路
１０４……レンズ駆動回路
１０５……コントローラ
１０５ａ…フォーカス制御回路
１０５ｂ…判定回路
Ｓ１……支持基板１１の作製
Ｓ２……反射層１２の形成
Ｓ３……第２誘電体層１３の形成
Ｓ４……記録層１４の形成
Ｓ５……第１誘電体層１５の形成
Ｓ６……光透過層１６の形成
Ｓ７……記録層１４の初期化
Ｓ１１…光記録媒体前駆体１０’の回転
Ｓ１２…検査用レーザビームＬ１の照射
Ｓ１３…フォーカスを光入射面１６ａに合わせる
Ｓ１４…フォーカスロック
Ｓ１５…面振れ加速度及び高域面振れ量の計算
Ｓ１６…判定
Ｓ２１…高域面振れ量の最大値がしきい値を越えているか？
Ｓ２２…面振れ加速度の最大値がしきい値を越えているか？
【図１】
2004064054.tif 000008
【図２】
2004064054.tif 000009
【図３】
2004064054.tif 000010
【図４】
2004064054.tif 000011
【図５】
2004064054.tif 000012
【図６】
2004064054.tif 000013
【図７】
2004064054.tif 000014
【図８】
2004064054.tif 000015
【図９】
2004064054.tif 000016
【国際調査報告】
2004064054.tif 000017
2004064054.tif 000018