(57)【要約】磁気ヘッドスライダは、使用時にディスクと対向し、ディスクの回転方向に関して前部及び後部を有する浮上面と、電磁変換素子とを有する。横方向のフロントレール及び一対のリヤレールが浮上面に設けられる。第１の複数の突起がフロントレールの前側及び後側に設けられ、第２の複数の突起が第１の複数の突起より後方に設けられる。第１の複数の突起はディスクの停止時にディスクに着座し、浮上面がディスクに接触しないようにする。第２の複数の突起の高さは第１の複数の突起の高さより小さい。第２の複数の突起は、ＣＳＳ時に、浮上面の後端部がディスクに接触するのを防止する。
2005004152.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用時にディスクと対向し、ディスクの回転方向に関して前部及び後部を有する浮上面と、
電磁変換素子と、
該浮上面に設けられたフロントレールと、
フロントレールの後方でフロントレールから間隔をあけて該浮上面に設けられた一対のリヤレールと、
該フロントレールの前側及び後側に設けられた第１の複数の突起と、
該第１の複数の突起より後方に設けられた第２の複数の突起とを備え、
第２の複数の突起の高さが第１の複数の突起の高さより小さいことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
該フロントレールは該磁気ヘッドスライダの横断方向に延び、該一対のリヤレールは該磁気ヘッドスライダの両側縁部に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
該フロントレールの前側及び後側に該フロントレールより低いステップ面が形成され、該第１の複数の突起は該ステップ面に設けられることを特徴とする請求項２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
該フロントレールの後側に位置するステップ面は、該フロントレールに垂直に互いに間隔をあけて延びる部分からなり、該第２の複数の突起は該ステップ面のフロントレールに垂直に延びる部分に設けられることを特徴とする請求項３に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
該フロントレールの後側に位置するステップ面は、該フロントレールに平行に延びる部分と、該フロントレールに平行に延びる部分と連続し且つ該フロントレールに垂直に互いに間隔をあけて延びる部分とを有し、該第２の複数の突起は該ステップ面のフロントレールに垂直に延びる部分に設けられ、該第１の複数の突起の少なくとも１つの突起は該ステップ面のフロントレールに平行に延びる部分に設けられることを特徴とする請求項３に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
第１の複数の突起の高さ及び第２の複数の突起の高さよりも小さい第３の突起が電磁変換素子の近傍に設けられることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
第１の複数の突起の高さと第２の複数の突起の高さの差が第３の突起の高さと等しいことを特徴とする請求項６に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
該浮上面の後端部の近傍に吸着防止用の堀り込みを設けたことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
第１の複数の突起の高さと第２の複数の突起の高さの差が吸着防止用の堀り込みの深さと同じであることを特徴とする請求項８に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】
該第３の突起の近傍に吸着防止用の堀り込みを設けたことを特徴とする請求項６に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１１】
第１の複数の突起の高さと第２の複数の突起の高さの差が吸着防止用の堀り込みの深さと第３の突起の高さを合わせた高さと同じであることを特徴とする請求項１０に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１２】
第２の複数の突起の高さが該磁気ヘッドスライダの後側ほど低くなることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１３】
第２の複数の突起の高さと第３の突起の高さがともに該磁気ヘッドスライダの後側ほど低くなることを特徴とする請求項３に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１４】
使用時にディスクと対向し、ディスクの回転方向に関して前部及び後部を有する浮上面と、電磁変換素子と、該浮上面に設けられたフロントレールと、フロントレールから間隔をあけて該浮上面に設けられたリヤレールと、該フロントレールの前側及び後側に形成された第１の複数の突起と、該第１の複数の突起より後方に設けられた第２の複数の突起とを備え、第２の複数の突起の高さが第１の複数の突起の高さより小さい磁気ヘッドスライダの製造方法であって、
第１の複数の突起の高さと第２の複数の突起の高さを等しく形成した磁気ヘッドスライダを準備し、
該磁気ヘッドスライダの第２の複数の突起を研磨して、第２の複数の突起の高さが第１の複数の突起の高さよりも低くなるように加工することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は磁気ヘッドスライダ及びその製造方法に関する。
【背景技術】  磁気ディスク装置は、ディスクと、サスペンションに支持された磁気ヘッドスライダとを含む。磁気ヘッドスライダは、使用時にディスクと対向して配置された浮上面と、ディスクに情報を書き込み及びディスクから情報を読み出しするための電磁変換素子を有する。浮上面は複数のレールを含み、レールに作用する空気の流れが磁気ヘッドスライダをディスクに対して浮上させる。磁気ヘッドスライダは、主としてアルチックで形成され、電磁変換素子を含む部分はアルミナで作られる。
特開２０００−１７３２１７号公報は、負圧型の磁気ヘッドスライダを開示している。この負圧型の磁気ヘッドスライダは、磁気ヘッドスライダの長手方向に対して横方向に延びるフロントレールと、フロントレールの後方でフロントレールから間隔をあけて配置された一対のリヤレールとを含む。回転するディスクによって引き起こされた空気の流れがフロントレール及びリヤレールにおいて浮力を発生させる。フロントレールの前側及び後側にフロントレールより低いステップ面が形成され、フロントレールを通過してフロントレールのステップ面の後側の領域に流入する空気の流れがフロントレールの後側に負圧を発生させる。この磁気ヘッドスライダは、浮力と負圧との組み合わせにより、ディスクに対して比較的に小さな距離で浮上することができる。磁気ディスク装置が定常回転で作動するとき、磁気ヘッドスライダは、前部の浮上量が後部の浮上量よりも大きい傾斜した姿勢で浮上するようになっている。
また、磁気ヘッドスライダの浮上面には複数の突起が設けられる。複数の突起はフロントレール及びリヤレールよりも高く突出し、全て同じ高さを有する。ディスクが停止しているときには、突起がディスクに接触し、それによってフロントレール及びリヤレールがディスクに直接に接触して、ディスクに吸着されるのを防止する。フロントレール及びリヤレールがディスクに直接に接触していないので、ディスクが回転すると空気の流れがフロントレール及びリヤレールに沿って流れ、磁気ヘッドスライダはディスクに対して浮上することができる。
また、ディスクには潤滑剤が塗布されており、磁気ヘッドスライダの浮上面の一部がディスクに接触したり、過度に近づいたりすると、潤滑剤が浮上面に付着し、磁気ヘッドスライダのバランスが崩れたり、電磁変換素子に好ましくない影響を与えたりする。
最近、磁気ディスク装置の高密度記録の要求に伴い、電磁変換素子とディスクとの間の距離がますます小さくなっており、磁気ヘッドスライダの一部がディスクに接触しやすくなっている。磁気ヘッドスライダは前部が後部よりも大きく浮上した状態で傾斜した姿勢で浮上するようになっており、浮上面の後端部とディスクとの間の距離が最も小さくなる。浮上面の後端部とディスクとの間の距離が所定値（最小値という）になるように管理される。
電磁変換素子は浮上面の後端部より少しだけ前に位置しているので、磁気ヘッドスライダが傾斜した姿勢においては、電磁変換素子が位置する浮上面上の位置とディスクとの間の距離は、最小値よりも少し大きくなる。磁気ヘッドスライダの傾斜角度（ピッチ角度）が小さくなると、電磁変換素子が位置する浮上面上の位置とディスクとの間の距離と浮上面の後端部とディスクとの間の距離との間の差が小さくなり、電磁変換素子をディスクにより近づけることができるので好ましい。しかし、従来は、吸着防止用の複数の突起の高さが全て同じであったので、後方側にある突起によりデザインが制限され、磁気ヘッドスライダの傾斜角度（ピッチ角度）を小さくするのが難しかった。
【発明の開示】
本発明の目的は電磁変換素子とディスクとの間の距離を小さくすることができるようにした磁気ヘッドスライダ及びその製造方法を提供することである。
本発明による磁気ヘッドスライダは、使用時にディスクと対向し、ディスクの回転方向に関して前部及び後部を有する浮上面と、電磁変換素子と、該浮上面に設けられたフロントレールと、フロントレールの後方でフロントレールから間隔をあけて浮上面に設けられた一対のリヤレールと、フロントレールの前側及び後側に設けられた第１の複数の突起と、第１の複数の突起より後方に設けられた第２の複数の突起とを備え、第２の複数の突起の高さが第１の複数の突起の高さより小さいことを特徴とする。
この構成において、磁気ディスク装置の定常回転時の浮上のピッチ角を低減でき、電磁変換素子が位置する浮上面上の位置とディスクとの間の距離と最小値との差を小さくすることができる。ここで、第１の複数の突起の高さを第２の複数の突起の高さと同様に小さくすると、ディスクの潤滑剤がフロントレールに付着しやすくなり、ＣＳＳ時の起動不良となる可能性が生じる。第２の複数の突起の高さのみを小さくすることで、摩擦特性を損ねることなく、電磁変換素子部の浮上量を低下させることができる。
また、本発明による磁気ヘッドスライダの製造方法は、使用時にディスクと対向し、ディスクの回転方向に関して前部及び後部を有する浮上面と、電磁変換素子と、浮上面に設けられたフロントレールと、フロントレールから離れて浮上面に設けられたリヤレールと、フロントレールの前側及び後側に形成された第１の複数の突起と、第１の複数の突起より後方に設けられた第２の複数の突起とを備え、第２の複数の突起の高さが第１の複数の突起の高さより小さい磁気ヘッドスライダの製造方法であって、第１の複数の突起の高さと第２の複数の突起の高さを等しく形成した磁気ヘッドスライダを準備し、磁気ヘッドスライダの第２の複数の突起を研磨して、第１の複数の突起の高さよりも第２の複数の突起の高さを低く加工することを特徴とする。
【図面の簡単な説明】  図１は本発明の実施例の磁気ディスク装置を示す平面図である。
図２はディスク上に位置する本発明の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図３は図２の磁気ヘッドスライダを示す平面図である。
図４は使用状態における図２の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図５は図４の磁気ヘッドスライダの丸で囲まれた部分を示す拡大側面図である。
図６は使用状態における比較例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図７は図６の磁気ヘッドスライダの丸で囲まれた部分を示す拡大側面図である。
図８はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図９は図８の磁気ヘッドスライダを示す平面図である。
図１０は図９の線Ｘ−Ｘに沿った磁気ヘッドスライダの断面図である。
図１１は本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す平面図である。
図１２はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図１３はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図１４はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図１５は図１４の磁気ヘッドスライダの丸で囲まれた部分を示す拡大側面図である。
図１６Ａから図１６Ｆは磁気ヘッドスライダの突起を形成するプロセスを示す図である。
図１７は同じ高さの複数の突起を有する磁気ヘッドスライダを用いて異なった高さの複数の突起を有する磁気ヘッドスライダを製造する例を説明するための磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図１８は図１７の磁気ヘッドスライダの突起を調節する例を示す略側面図である。
図１９は図１７の磁気ヘッドスライダの突起を調節する例を示す略側面図である。
【発明を実施するための最良の形態】  以下本発明の複数の実施例について図面を参照して説明する。
図１は本発明の実施例による磁気ディスク装置を示す平面図である。図１において、磁気ディスク装置（ＨＤＤ）１０は、ハウジング１１を有し、スピンドルモータ１２に装着される磁気ディスク１３と、磁気ディスク１３に対向する磁気ヘッドスライダ１４とが、ハウジング１１に配置されている。磁気ヘッドスライダ１４はシャフト１５のまわりで揺動することができるキャリッジアーム１６の先端に固定される。キャリッジアーム１６はアクチュエータ１７によって揺動駆動され、磁気ヘッドスライダ１４が磁気ディスク１３の所望の記録トラックに位置決めされる。それによって、磁気ヘッドスライダ１４は磁気ディスク１３に情報を書き込みあるいは磁気ディスク１３から情報を読み取ることができる。
図２はディスク上に位置する本発明の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。図３は図２の磁気ヘッドスライダを示す平面図である。図３は、図２の磁気ヘッドスライダの下面を示している。図２及び図３において、磁気ヘッドスライダ１４は、使用時にディスク１３と対向し、ディスク１３の回転方向に関して前部Ｆ及び後部Ｒを有する浮上面２０と、電磁変換素子２１とを有する。ここでは、浮上面２０はディスク１３と対向する磁気ヘッドスライダ１４の表面全体を言う。矢印Ａは、ディスク１３の回転方向を示し、かつ、回転するディスク１３によって引き起こされる空気の流れの方向を示す。
磁気ヘッドスライダ１４は、浮上面２０に設けられたフロントレール２２と、フロントレール２２の後方でフロントレール２２から間隔をあけて浮上面２０に設けられた一対のリヤレール２３とを有する。フロントレール２２は磁気ヘッドスライダ１４の長手方向に対して横方向に延び、リヤレール２３は磁気ヘッドスライダ１４の両側縁部に且つ磁気ヘッドスライダ１４の後部の近くに配置される。センタレール２４が磁気ヘッドスライダ１４の後部の中央に配置されている。電磁変換素子２１はセンタレール２４に設けられている。
フロントレール２２の前側及び後側にフロントレール２２より低いステップ面２５，２６が形成される。前側のステップ面２５は浮上面２０のフロントレール２２の前側の領域全体に形成される。後側のステップ面２６は、フロントレール２２に平行に延びる部分２７と、フロントレール２２に平行に延びる部分２７と連続し且つフロントレール２２に垂直に互いに間隔をあけて延びる部分２８とを有する。フロントレール２２に平行に延びる部分２７は省略することもできるが、フロントレール２２を精密に形成するために部分２７はあった方がよい。フロントレール２２に垂直に互いに間隔をあけて延びる部分２８は、磁気ヘッドスライダ１４の両側縁部に沿ってリヤレール２３に向かって延び、リヤレール２３と間隔をあけて終端する。
フロントレール２２の表面とリヤレール２３の表面とは同じ高さである。ステップ面２５，２６は同じ高さであり且つフロントレール２２の表面及びリヤレール２３の表面よりもわずかに低い。フロントレール２２の後側のステップ面２６の３つの部分２７，２８によって囲まれた領域２９の表面はステップ面２６よりかなり低い（図１０参照）。使用時には、回転するディスク１３によって引き起こされた空気の流れがフロントレール２２及びリヤレール２３において浮力を発生させる。フロントレール２２を通過した空気の流れはフロントレール２２及びステップ面２６の部分２７を越えて領域２９に流入し、突然の体積の増加によってフロントレール２２の後側に負圧を発生させる。この磁気ヘッドスライダ１４は、負圧型磁気ヘッドスライダ１４と呼ばれ、浮力と負圧との組み合わせにより、ディスク１３に対して比較的に小さな距離で浮上する。
第１の複数の突起３０はフロントレール２２を挟むようにフロントレール２２の前側及び後側に設けられる。第２の複数の突起３１は第１の複数の突起３０より後方に設けられる。第１の複数の突起３０及び第２の複数の突起３１は、フロントレール２２及びリヤレール２３よりも高く突出する。第２の複数の突起３１の高さが第１の複数の突起３０の高さより小さい。
実施例においては、２つの突起３０が前側のステップ面２５の両側縁部に設けられ、１つの突起３０が後側のステップ面２６のフロントレール２２に平行に延びる部分２７の中央（又はそれから張り出した部分）に設けられる。第１の複数の突起３０は３個以上あればそれらの先端が一平面を形成できるので、磁気ヘッドスライダ１４を安定してディスク１３に着座させることができる。一対の第２の突起３１はサスペンションのピボットよりも後にあって磁気ヘッドスライダ１４の長手方向で同じ位置に配置される。第１の複数の突起３０は磁気ヘッドスライダ１４の前部側に偏って配置されているが、磁気ヘッドスライダ１４を支持するサスペンションが磁気ヘッドスライダ１４の第１の複数の突起３０のある部分を抑えているので、第１の複数の突起３０がディスク１３に着座しているときに通常は磁気ヘッドスライダ１４がディスク１３上で後方に傾くことはない。
磁気ヘッドスライダ１４の作動を開始するときに、ディスク１３が一時的に矢印Ａとは反対の方向に回転する。この場合、第１の複数の突起３０とディスク１３との間に摩擦が発生して磁気ヘッドスライダ１４がディスク１３上で後方に傾き、磁気ヘッドスライダ１４の後部がディスク１３に接触しようとする。このとき、第２の複数の突起３１がディスク１３に接触し、磁気ヘッドスライダ１４の後部がディスク１３に直に接触するのを防止する。
図４は使用状態における図２の磁気ヘッドスライダ１４を示す略側面図であり、図５は図４の磁気ヘッドスライダ１４の丸で囲まれた部分を示す拡大側面図である。使用時には、磁気ヘッドスライダ１４はディスク１３に対して浮上し、磁気ヘッドスライダ１４はディスク１３に対して前部が後部より大きく浮上した状態で傾いた姿勢となるようになっている。すなわち、磁気ヘッドスライダ１４はディスク１３に対してピッチ角αをなして浮上する。一対のリヤレール２３は比較的に小さい浮力を発生させるとともに、磁気ヘッドスライダ１４がロールするのを防止する。
この場合、浮上面２０の後端部とディスク１３との間の距離が最も小さくなるので、浮上面２０の後端部とディスク１３との間の距離が所定値（最小値Ｍという）になるように管理される。電磁変換素子２１は浮上面２０の後端部より少しだけ前に位置しているので、磁気ヘッドスライダ１４が傾斜した姿勢においては、電磁変換素子２１が位置する浮上面２０上の位置とディスク１３との間の距離は、最小値Ｍよりも少し大きくなる。電磁変換素子２１が位置する浮上面２０上の位置とディスク１３との間の距離と最小値Ｍとの間の差Ｎを小さくすると、電磁変換素子２１をディスク１３により近づけることができるので望ましい。磁気ヘッドスライダ１４の傾斜角度（ピッチ角α）が小さくなると、電磁変換素子２１が位置する浮上面上の位置とディスクとの間の距離と最小値Ｍとの差Ｎを小さくすることができる。本発明においては、第２の複数の突起３１の高さが第１の複数の突起３０の高さよりも小さくしたので、通常の作動時に第２の複数の突起３１がディスク１３に極端に近づかなくなり、磁気ヘッドスライダ１４のピッチ角αを小さくすることができ、よって差Ｎを小さくすることができ、電磁変換素子２１とディスク１３との間の距離を小さくすることができる。
図６は使用状態における比較例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図であり、図７は図６の磁気ヘッドスライダの丸で囲まれた部分を示す拡大側面図である。図６及び図７においては、第２の複数の突起３１及び第１の複数の突起３０は全て同じ高さになっている。このため、磁気ヘッドスライダ１４がディスク１３に対して傾いた姿勢となる場合、第２の複数の突起３１がディスク１３に近づくので、浮上面２０の後端部とディスク１３との間の距離を最小値Ｍに維持するためには、ピッチ角αを大きくする必要があり、すると、電磁変換素子２１が位置する浮上面２０上の位置と浮上面２０の後端部との間の差Ｎが大きくなる。
図８はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。図９は図８の磁気ヘッドスライダを示す平面図である。図１０は図９の線Ｘ−Ｘに沿った磁気ヘッドスライダの断面図である。この実施例は図２から図５に示した実施例とほぼ同様である。この実施例では、上記した実施例と同様に、第１の複数の突起３０及び第２の複数の突起３１が設けられる。さらに、この実施例では、第３の突起３２が電磁変換素子２１の近傍に設けられる。実施例においては、第３の突起３２はセンタレール２４に設けられる。第３の突起３２の高さは第１の複数の突起３０の高さ及び第２の複数３１の突起の高さよりも小さい。
図１０は、浮上面２０において、フロントレール２２と、センタレール２４と、ステップ面２５，２６と、領域２９と、第１の複数の突起３０と、第２の複数の突起３１と、第３の突起３２の高さを示している。第１の複数の突起３０及び第２の複数の突起３１の作用は上記したのと同様である。第３の突起３２は使用時に浮上面２０の後端部がディスク１３に接触するのを確実に防止し、浮上面２０の後端部とディスク１３との間に所定の間隔を維持し、ディスク１３に含まれる潤滑剤が浮上面２０の後端部及び電磁変換素子２１に付着するのを防止する。
図１１は本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す平面図である。この実施例は、第１の複数の突起３０がフロントレール２２の前側及び後側にそれぞれ２個ずつ設けられている点を除くと、図９の実施例と同様である。第１の複数の突起３０の個数及び位置は図示の例に限定されるものではない。
図１２はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。この実施例は、第２の複数の突起３１の先端がテーパーをつけて形成され、第２の複数の突起３１の高さが磁気ヘッドスライダ１４の後側ほど低くなる点を除くと、図２の実施例と同様である。第２の複数の突起３１の先端がテーパーをつけて形成されていると、浮上のピッチ角αを小さくすることができる。
図１３はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。この実施例は、第２の複数の突起３１の先端及び第３の複数の突起３２の先端がテーパーをつけて形成され、第２の複数の突起３１の高さ及び第３の複数の突起３２の高さがともに磁気ヘッドスライダ１４の後側ほど低くなる点を除くと、図８の実施例と同様である。
図１４はディスク上に位置する本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダを示す略側面図であり、図１５は図１４の磁気ヘッドスライダの丸で囲まれた部分を示す拡大側面図である。この実施例は、浮上面２０の後端部の近傍に吸着防止用の堀り込み３３を設けた点を除くと、図８の実施例と同様である。第３の突起３２がある場合には、吸着防止用の堀り込み３３は第３の突起３２の近傍に設けられる。第３の突起３２がない場合にも、浮上面２０の後端部の近傍に吸着防止用の堀り込み３３を設けることができる。浮上面２０の後端部の近傍又は電磁変換素子２１の近傍に堀り込み３３を設けたので、ディスク１３の潤滑剤が電磁変換素子２１に付着しなくなる。
図１６Ａから図１６Ｆは磁気ヘッドスライダの突起を形成するプロセスを示す図である。図１６Ａにおいて、磁気ヘッドスライダ１４のベース部材４０の上に膜４１を成膜する。膜４１は例えば、Ｓｉ密着層とＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）層からなる。第１の複数の突起３０を形成すべき位置にレジストマスク４２を形成する。図１６Ｂにおいて、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行い、レジストマスク４２の下の部分を除いて膜４１を除去する。図１６Ｃにおいて、レジストマスク４２を除去した後、膜４３を形成し、第１の複数の突起３０と第２の複数の突起３１を形成すべき位置にレジストマスク４４，４５を形成する。図１６Ｄにおいて、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行い、レジストマスク４４，４５の下の部分を除いて膜４３を除去する。図１６Ｅにおいて、レジストマスク４４，４５を除去した後、膜４６を形成し、第１の複数の突起３０及び第２の複数の突起３１及び第３の突起３２を形成すべき位置にレジストマスク４７，４８，４９を形成する。図１６Ｆにおいて、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行い、レジストマスク４７，４８：４９の下の部分を除いて膜４６を除去する。それから、レジストマスク４７，４８，４９を除去すると、第１の複数の突起３０及び第２の複数の突起３１及び第３の突起３２が形成される。
さらに、ベース部材４０にレジストマスクを形成し、イオンミルを行って、フロントレール２２及びリヤレール２３、ステップ面２５，２６、領域２９等を順次に形成する。
この製造方法で製造した磁気ヘッドスライダ１４においては、第１の複数の突起３０の高さと第２の複数の突起３１の高さの差が第３の突起３２の高さと等しい。例えば、フロントレール２２及びリヤレール２３に対する第１の複数の突起３０の高さは４０ｎｍであり、第２の複数の突起３１の高さは３０ｎｍであり、第３の突起３２の高さは１０ｎｍである。フロントレール２２及びリヤレール２３に対する第１の複数の突起３０の高さは４０〜５０ｎｍであり、第２の複数の突起３１の高さは２０〜３０ｎｍであり、第３の突起３２の高さは数〜１０ｎｍにするのがよい。
また、第３の突起３２がなく、浮上面２０の近傍に吸着防止用の堀り込み３３を設けた場合には、堀り込み３３の底面のレベルを上記した第３の突起３２の高さと同じにすればよい。この場合、第１の複数の突起３０の高さと第２の複数の突起３１の高さの差が吸着防止用の堀り込み３３の深さと同じである。
また、第３の突起３２があり、第３の突起３２の近傍に吸着防止用の堀り込み３３を設けた場合には、吸着防止用の堀り込み３３の深さと第３の突起３２の高さを合わせたものを上記した第３の突起３２の高さと同じにすればよい。この場合には、第１の複数の突起３０の高さと第２の複数の突起３１の高さの差が吸着防止用の堀り込み３３の深さと第３の突起３２の高さを合わせた高さと同じである。
図１７は同じ高さの複数の突起を有する磁気ヘッドスライダを用いて異なった高さの複数の突起を有する磁気ヘッドスライダを製造する例を説明するための磁気ヘッドスライダを示す略側面図である。
図１７において、磁気ヘッドスライダ１４Ａを準備する。磁気ヘッドスライダ１４Ａは、第１の複数の突起５０と、第２の複数の突起５１と、第３の突起５２を有する。第３の突起５２はなくてもよい。第１の複数の突起５０と、第２の複数の突起５１と、第３の突起５３とは、図２から図１６に示した第１の複数の突起３０と、第２の複数の突起３１と、第３の突起３２と同じ位置関係で配置されているが、第１の複数の突起５０の高さと、第２の複数の突起５１の高さと、第３の突起５３の高さは全て等しい。
図１８は図１７の磁気ヘッドスライダの突起を調節する例を示す略側面図である。磁気ヘッドスライダ１４Ａはチャンバ５３に挿入され、第２の複数の突起５１及び第３の突起５３は、研磨部材５４により研磨される。研磨部材５４は矢印Ｂで示されるように連続的移動又は回転する。よって、第２の複数の突起５１の高さが第１の複数の突起５０の高さより小さくなるように加工する。また、第３の突起５２の高さが第２の複数の突起５１の高さより小さくなるように加工する。このようにして、上記した磁気ヘッドスライダ１４を得ることができる。
図１９は図１７の磁気ヘッドスライダの突起を調節する例を示す略側面図である。磁気ヘッドスライダ１４Ａはチャンバ５３に挿入され、第２の複数の突起５１及び第３の突起５３は、研磨部材５５により研磨される。研磨部材５４は磁気ディスク装置のディスクと同じように回転することができる。よって、第２の複数の突起５１の高さが第１の複数の突起５０の高さより小さくなるように加工する。また、第３の突起５２の高さが第２の複数の突起５１の高さより小さくなるように加工する。このようにして、上記した磁気ヘッドスライダ１４を得ることができる。
例えば、チャンバ５３は減圧環境下に保持され、研磨部材５４，５５は突起５０，５１，５２に対して連続摺動を行うことで、第１の複数の突起の高さよりも第２の複数の突起の高さを低く加工する。減圧環境下では、磁気ヘッドスライダの浮上量は小さいので、研磨部材５４，５５に接触しながら研磨される。
また、磁気ヘッドスライダ１４Ａを磁気ディスク装置に組み込み、減圧環境下にて突起とディスクとの連続摺動を行うことで、第１の複数の突起の高さよりも第２の複数の突起の高さを低く加工する。この場合にも、減圧環境下では、磁気ヘッドスライダの浮上量は小さいので、ディスクに相当する研磨部材５４，５５に接触しながら研磨される。
また、研磨部材５４，５５を磁気ディスク装置で使用される回転数より低い回転数にて駆動しながら、突起と研磨部材５４，５５との連続摺動を行うことで、第１の複数の突起の高さよりも第２の複数の突起の高さを低く加工する。低い回転数では、磁気ヘッドスライダの浮上量は小さいので、研磨部材５４，５５に接触しながら研磨される。
また、磁気ヘッドスライダ１４Ａを磁気ディスク装置に組み込み、定常回転数より低い回転数にて突起とディスクとの連続摺動を行うことで、第１の複数の突起の高さよりも第２の複数の突起の高さを低く加工する。低い回転数では、磁気ヘッドスライダの浮上量は小さいので、研磨部材（ディスク）５４，５５に接触しながら研磨される。
以上のように、本発明によれば、電磁変換素子部の浮上量と磁気ヘッドスライダの最小浮上量の差を小さくできるので、電磁変換素子部の低浮上化が図れ、高記録密度化に寄与する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【国際調査報告】
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