(57)【要約】次式（Ｉ）2004026292.tif 000197（Ａは、アルコキシカルボニルアルキル基等を示し、Ｒは、保護されても良い水酸基を示すか、ＡとＲが一緒になって酸素原子を含む６又は７員環を形成し、Ｂは、カルボニル基又はスルホニル基を示し、Ｒ１及びＲ２は、水素原子等を示し、Ｒ３及びＲ４は、水素原子等を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示し、ｎは１又は２の数を意味する）で表される化合物又はその塩を有効成分として含有する鎮咳薬が開示されている。  これにより、鎮咳作用を有する化合物、特に末梢性鎮咳作用を有する新しい化合物を提供できる。
2004026292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式（Ｉ）
【化１】
2004026292.tif 000194
（式中、Ａは、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシルアルキル基、ピリジルアルキル基、ピリジンオキシド−イルアルキル基、キノリルアルキル基、インドリルアルキル基、ピロリジルアルキル基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、ピロリルアルキル基、イミダゾリルアルキル基、ピラゾリルアルキル基、チアゾリルアルキル基、アミノカルボニルアルキル基、シアノアルキル基、カルボキシルベンジル基を示し、Ｒは保護されていても良い水酸基を示すか、ＡとＲが一緒になって酸素原子を含む６または７員環を形成し、Ｂは、カルボニル基またはスルホニル基を示し、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基を示し、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基、シアノアルキルオキシ基、アミノスルホニル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アミノカルボニルアルキルオキシ基を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示し、ｎは１または２の数を意味する）
で表される化合物または薬理学的に許容されるその塩を有効成分として含有する鎮咳薬。
【請求項２】
次式（ＩＡ）
【化２】
2004026292.tif 000195
（式中、Ｂは、カルボニル基またはスルホニル基を示し、Ｙはメチレン基、エチレン基、カルボニル基またはメチレンカルボニル基を示し、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基を示し、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基、シアノアルキルオキシ基、アミノスルホニル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アミノカルボニルアルキルオキシ基を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示し、ｎは１または２の数を意味する）
で表される化合物。
【請求項３】
次式（ＩＢ）
【化３】
2004026292.tif 000196
（式中、Ａ１は、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシアルキル基、ピリジルアルキル基、ピリジンオキシド−イルアルキル基、キノリルアルキル基、インドリルアルキル基、ピロリジルアルキル基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、ピロリルアルキル基、イミダゾリルアルキル基、ピラゾリルアルキル基、チアゾリルアルキル基、アミノカルボニルアルキル基、シアノアルキル基、カルボキシルベンジル基を示し、Ｂは、カルボニル基またはスルホニル基を示し、Ｒ’は、保護されていても良い水酸基を、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基を、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基、シアノアルキルオキシ基、アミノスルホニル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アミノカルボニルアルキルオキシ基を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示し、ｎは１または２の数を意味する）
で表される化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、鎮咳薬に関し、更に詳細には強力な鎮咳作用を有する鎮咳薬およびこれに使用しうる化合物に関する。
【背景技術】  鎮咳薬は、かぜ症候群、気管支炎、肺炎などの呼吸器疾患に伴う咳嗽の治療に広くに用いられており、咳中枢に作用する中枢性鎮咳薬と、咳の刺激を伝える求心路または中枢からの興奮を伝える遠心路を末梢（気道、肺あるいは呼吸筋など）において遮断すると考えられている末梢性鎮咳薬に分類される。しかし、現在用いられている薬剤は、ほとんどが中枢性のものである。
中枢性鎮咳薬は、さらに麻薬性と非麻薬性に分類される。麻薬性鎮咳薬としてはリン酸コデイン、リン酸ジヒドロコデイン等が、非麻薬性鎮咳薬としては、ヒベンズ酸ジペピジン、臭化水素酸デキストロメトルファン等の化合物が知られている。
このうち、麻薬性鎮咳薬は、鎮咳作用は強いが、便秘、悪心・嘔吐、頭痛、眠気などの副作用も認められ、連日投与によって耐性、依存性を生じるという問題もある。また、非麻薬性鎮咳薬は、耐性、依存性が無く副作用が弱いといわれているが、咳中枢以外への影響は避けられず、眠気、めまい、頭痛などの副作用を生じる場合があり、鎮咳作用も麻薬性鎮咳薬に比べて不十分である。
従って、強力な鎮咳作用を有しながら中枢性の副作用がほとんど無い、末梢性の鎮咳作用を有する物質の提供が求められているが、このような物質はほとんど報告されていないのが実情であった。
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、鎮咳作用を有する化合物、特に末梢性鎮咳作用を有する新しい化合物の提供をその課題とするものである。
【発明の開示】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、優れた鎮咳作用を有する化合物を得るべく、数多くの化合物を合成し、検索を行っていたところ、一定の構造を有する化合物は鎮咳作用を有し、その中には中枢性の副作用のない末梢性鎮咳作用を有するものが含まれていることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、次式（Ｉ）
【化４】
2004026292.tif 000003
（式中、Ａは、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシルアルキル基、ピリジルアルキル基、ピリジンオキシド−イルアルキル基、キノリルアルキル基、インドリルアルキル基、ピロリジルアルキル基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、ピロリルアルキル基、イミダゾリルアルキル基、ピラゾリルアルキル基、チアゾリルアルキル基、アミノカルボニルアルキル基、シアノアルキル基、カルボキシルベンジル基を示し、Ｒは保護されていても良い水酸基を示すか、ＡとＲが一緒になって酸素原子を含む６または７員環を形成し、Ｂは、カルボニル基またはスルホニル基を示し、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基を示し、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基、シアノアルキルオキシ基、アミノスルホニル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アミノカルボニルアルキルオキシ基を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示し、ｎは１または２の数を意味する）
で表される化合物または薬理学的に許容されるその塩を有効成分として含有する鎮咳薬を提供するものである。
また本発明は、次式（ＩＡ）または（ＩＢ）で表される新規化合物を提供するものである。
【化５】
2004026292.tif 000004
（式中、Ｙは、メチレン基、エチレン基、カルボニル基またはメチレンカルボニル基を示し、Ｒ’は、保護されていても良い水酸基を、Ａ’は、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシアルキル基、ピリジルアルキル基、ピリジンオキシド−イルアルキル基、キノリルアルキル基、インドリルアルキル基、ピロリジルアルキル基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、ピロリルアルキル基、イミダゾリルアルキル基、ピラゾリルアルキル基、チアゾリルアルキル基、アミノカルボニルアルキル基、シアノアルキル基、カルボキシルベンジル基をを示し、Ｂ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
【発明を実施するための最良の形態】  本発明の式（Ｉ）で表される化合物には、一部公知の化合物も含まれるが、大部分は新規な化合物である。
上記化合物（Ｉ）に含まれる新規化合物は、大きく上記式（ＩＡ）および（ＩＢ）で示される次の２群に分けることができる。
【化６】
2004026292.tif 000005
（式中、Ｂ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙおよびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
【化７】
2004026292.tif 000006
（式中、Ａ’、Ｂ、Ｒ’、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記式（ＩＡ）および（ＩＢ）において、アルコキシ基としては、エトキシ基、メトキシ基等の炭素数１から４程度の置換されていても良い低級アルコキシ基が好ましく、アルキル基としても、メチル基、エチル基等の炭素数１から４程度の置換されていても良い低級アルキル基が好ましい。これらの置換基としては、メチル基や、フルオロ原子、クロロ原子等のハロゲン原子が好ましい。また、アルキレンジオキシ基としては、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基等が好ましい。
更に、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシアルキル基、ピリジルアルキル基、ピリジンオキシド−イルアルキル基、アミノカルボニルアルキル基等におけるアルコキシ基やアルキル基も、上記に準じた、炭素数１から４程度の低級アルコキシ基や低級アルキル基が好ましい。
また、水酸基を保護するための保護基としては、ベンジル基、低級アルキル基、アセチル基等が挙げられる。
上記の式（ＩＡ）および（ＩＢ）化合物は、例えば、次に記載する反応式に従って製造される。
（ａ）  式（ＩＡ）中、基Ｙがメチレンである化合物（ＩＡ−１）は、例えば、次の式に従い、式（ＩＩ）で表される化合物に、ホルムアルデヒドやその誘導体（例えば、パラホルムアルデヒド、ジメトキシメタン）を反応させることにより得ることができる。
【化８】
2004026292.tif 000007
（式中、Ｒ”は水酸基を示し、Ｂ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記の反応は、１モルの化合物（ＩＩ）に対し、１から１００モルのホルムアルデヒド若しくはその誘導体を使用し、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、１、４−ジオキサン等の溶媒の存在または不存在下、−５０℃から１００℃の温度で、パラトルエンスルホン酸、硫酸等の酸を用いて環化させることにより実施される。
（ｂ）  式（ＩＡ）中、基Ｙがエチレンである化合物（ＩＡ−２）は、例えば、次の式に従い、式（ＩＩ）で表される化合物に、１−ブロモ−２−クロロエタン等を反応させて化合物（ＩＩＩ）とし、その後閉環することにより得ることができる。
【化９】
2004026292.tif 000008
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｂ、Ｒ”、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記の反応は、１モルの化合物（ＩＩ）に対し、１から１０モルの１−ブロモ−２−クロロエタン等の化合物を使用し、アセトン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、トルエン等の溶媒の存在下、−５０℃から１５０℃の温度で反応させた後、−５０℃から１５０℃の温度で、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等の塩基を用いて閉環させることにより実施される。
（ｃ）  式（ＩＡ）中、基Ｙがカルボニルである化合物（ＩＡ−３）は、例えば、次の式に従い、式（ＩＩ）で表される化合物に、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール等を反応させることにより得ることができる。
【化１０】
2004026292.tif 000009
（式中、Ｂ、Ｒ”、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘおよびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記の反応は、１モルの化合物（ＩＩ）に対し、１から１０モルのＮ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール等の化合物を使用し、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の溶媒の存在または不存在下、−５０℃から１５０℃で、環化させることにより実施される。
（ｄ）  式（ＩＡ）中、基Ｙがエチレンカルボニル（−ＣＨ２ＣＯ−）である化合物（ＩＡ−４）は、例えば、次の式に従い、式（ＩＩ）で表される化合物に、クロロアセチルクロライド等を反応させて化合物（ＩＶ）とし、次いでこれを閉環せしめることにより得ることができる。
【化１１】
2004026292.tif 000010
（式中、Ｒ”は水酸基を示し、Ｂ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記の反応は、１モルの化合物（ＩＩ）に対し、１から１０モルのクロロアセチルクロライド等の化合物を使用し、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の溶媒の存在または不存在下、−５０℃から１５０℃の温度で反応させた後、０℃から１００℃の温度で炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の塩基を用いて閉環させることにより実施される。
（ｅ）  式（ＩＡ）中、基Ｙがエチレンである化合物（ＩＡ−２）は、例えば、次の式に従い、式（Ｖ）で表される化合物またはその反応性誘導体と式（ＶＩ）で表されるジ置換アミン化合物を反応させ、閉環することにより得ることができる。
【化１２】
2004026292.tif 000011
（式中、Ｚはハロゲン原子を示し、Ｂ、Ｒ’、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘおよびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記反応は、１モルの化合物（Ｖ）に対し、１から１０モルのジ置換アミン（ＶＩ）を、酢酸エチル等の溶媒の存在または不存在下、−５０℃から１５０℃の温度で、ＤＢＵ等の塩基の存在下反応させることにより実施される。
（ｆ）  式（ＩＢ）で表される化合物は、式（ＶＩＩ）で表される化合物またはその反応性誘導体と式（ＶＩＩＩ）で表されるジ置換アミン化合物を反応させ、必要によりその置換基を変換することにより得ることができる。
【化１３】
2004026292.tif 000012
（式中、Ａ’、Ｂ、Ｒ’、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびｎはそれぞれ前記した意味を有する）
上記反応は、１モルの化合物（ＶＩＩ）に対し、１から１０モルのジ置換アミン（ＶＩＩＩ）を、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、ＤＭＦ等の溶媒の存在または不存在下、−５０℃から１５０℃で縮合することにより実施される。
以上の方法により得られた化合物は、一般的な処理手段、例えば、再結晶や、種々のクロマトグラフィー等の手段により精製された後、必要によりその塩とされ、鎮咳薬として使用される。
式（Ｉ）で表される化合物を含有する、本発明鎮咳薬の投与形態は、特に限定されず、一般的な医薬の投与形態から適宜選択することができる。このような投与形態の例としては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、細粒剤、散剤または液剤のような経口剤、または注射剤、坐剤、吸入剤等の非経口剤が挙げられる。
本発明鎮咳薬の投与方法としては経口投与が最も好ましく、この場合の製剤中の化合物（Ｉ）の投与量としては、患者の年齢、性別、体重または疾患の程度により異なるが、通常、成人に対して、１日あたり１〜１００ｍｇの範囲であり、これを１日数回に分けて投与するのが好ましい。
経口投与に適する固形経口剤の調製は、本発明化合物を単独で使用するか、あるいは、例えば、デンプン、乳糖、白糖、マンニット、カルボキシメチルセルロース、コーンスターチまたは無機塩類のような賦形剤を用いて常法に従って製造することができる。前記賦形剤の他に、結合剤、崩壊剤、界面活性剤、滑沢剤、流動性促進剤、矯味剤、着色剤または香料等を適宜選択して使用することができる。
この固形経口剤の調製において使用される結合剤としては、デンプン、デキストリン、アラビアゴム末、ゼラチン、ヒドロキシプロピルスターチ、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプロピルセルロース、結晶セルロース、エチルセルロース、ポリビニルピロリドンまたはマクロゴールを例示できる。また、崩壊剤としては、デンプン、ヒドロキシプロピルスターチ、カルボキシメチルセルロースナトリウム、カルボキシメチルセルロースカルシウム、カルボキシメチルセルロースまたは低置換ヒドロキシプロピルセルロースを例示できる。更に、界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナトリウム、大豆レシチン、ショ糖脂肪酸エステルまたはポリソルベート８０を例示できる。
更にまた、滑沢剤としては、タルク、ロウ類、水素添加植物油、ショ糖脂肪酸エステル、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウムまたはポリエチレングリコールを、流動性促進剤としては、軽質無水ケイ酸、乾燥水酸化アルミニウムゲル、合成ケイ酸アルミニウムまたはケイ酸マグネシウムをそれぞれ例示できる。
さらに、本発明の鎮咳薬は、懸濁液、エマルジョン剤、シロップ剤またはエリキシル剤の液状経口剤として投与することができる。このような剤形の場合には、矯味矯臭剤または着色剤を含有してもよい。
一方、本発明の鎮咳薬は非経口剤とすることもできる。この場合の化合物（Ｉ）の投与量は、患者の年齢、体重、疾患の程度により異なるが、通常、成人に対して１日あたり１〜３００ｍｇの範囲内であり、この投与量を、静注、点滴静注、皮下注射または筋肉注射により投与するのが好ましい。
非経口剤の調製に当たっては、化合物（Ｉ）を適当な希釈剤で希釈して用いることができる。希釈剤としては、一般に、注射用蒸留水、生理食塩水、ブドウ糖水溶液、注射用植物油、ゴマ油、ラッカセイ油、ダイズ油、トウモロコシ油、プロピレングリコールまたはポリエチレングリコールを用いることができる。非経口剤には、さらに必要に応じて、殺菌剤、防腐剤または安定剤を加えてもよい。
これらのうち、特に、注射剤は、保存安定性の観点から、バイアル等に充填後冷凍し、通常の凍結乾燥技術により水分を除去して、凍結乾燥物として保存し、使用直前に凍結乾燥物から液剤を再調製して用いることもできる。注射剤には、さらに必要に応じて、等張化剤、安定剤、防腐剤、無痛化剤等を加えてもよい。
その他の非経口剤としては、例えば、外用液剤、軟膏等の塗布剤または直腸内投与のための坐剤が挙げられ、これらの製剤は常法に従って製造することができる。
以上説明したように本発明の鎮咳薬は、かぜ症候群、気管支炎、肺炎などの呼吸器疾患に伴う咳嗽の治療に幅広く応用される。
【実施例】  次に、製造例、および試験例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに何ら制約されるものではない。
製造例  １
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
４−メトキシサリチル酸メチルエステル３．１２ｇ（１７．１ｍｍｏｌ）、ピペロニルアミン４．３ｍＬ（３４．３ｍｍｏｌ）を、１５０℃で３時間攪拌した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２０２）１．９６ｇ（収率３８％）を得た。
【化１４】
2004026292.tif 000013
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８１（ｓ，３Ｈ），４．５１（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９６（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．９Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），１２．６３（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３０１（Ｍ＋）
製造例  ２
２，３−ジヒドロ−７−メトキシ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例１で得たＢＡＫ−Ｇ２０２  ２０９．９ｍｇ（０．６９７ｍｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド１０５ｍｇ（３．４９ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸１水和物１３２ｍｇ（０．６９７ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン４ｍＬを、室温で２時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２０３）５９．９ｍｇ（収率２７％）を得た。
【化１５】
2004026292.tif 000014
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８３（ｓ，３Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．４３（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），７．９３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１３（Ｍ＋）
製造例  ３
７−メトキシ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例１で得たＢＡＫ−Ｇ２０２  ２２１．７ｍｇ（０．７３７ｍｍｏｌ）、１，１’−カルボニルジイミダゾール１７９ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン４ｍＬを、氷冷下１時間攪拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：ヘキサン＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２１９）２０２．６ｍｇ（収率８４％）を得た。
【化１６】
2004026292.tif 000015
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，３Ｈ），５．０８（ｓ，２Ｈ），５．９２（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．８，２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２７（Ｍ＋）
製造例  ４
２，４，６−トリス（ベンジルオキシ）−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
２，４，６−トリ（ベンジルオキシ）ベンズアミド４６０ｍｇ（１．０５ｍｍｏｌ）およびトルエン１０ｍＬに、水素化ナトリウム（６０％オイル）８４ｍｇ（２．１ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で３０分間攪拌した。ここにピペロニルクロライド０．２ｍＬを加え、１００℃で更に２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２３２−２）２５６．２ｍｇ（収率４３％）を得た。
【化１７】
2004026292.tif 000016
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．４９（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ），４．９７（ｓ，２Ｈ），５．０５（ｓ，４Ｈ），５．８９（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），６．２３（ｓ，２Ｈ），６．５４（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．６９（ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４５（ｍ，１５Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５７３（Ｍ＋）
製造例  ５
２，４−ビス（ベンジルオキシ）−６−ヒドロキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例４で得たＢＡＫ−Ｇ２３２−２  ２８４ｍｇ（０．４９５ｍｍｏｌ）および１，４−ジオキサン１０ｍｌに、濃塩酸１ｍＬを加え、８０℃で３０分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２３８）１４３．１ｍｇ（収率６０％）を得た。
【化１８】
2004026292.tif 000017
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．３４（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），５．０５（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．１３（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．５０−６．６０（ｍ，２Ｈ），６．６６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４５（ｍ，１０Ｈ），８．３７（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），１４．２９（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４８３（Ｍ＋）
製造例  ６
５，７−ビス（ベンジルオキシ）−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２４６）を収率６２％で得た。
【化１９】
2004026292.tif 000018
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
５．０６（ｓ，４Ｈ），５．２２（ｓ，２Ｈ），５．９１（ｓ，２Ｈ），６．３７（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．４３（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｄｄ，Ｊ＝０．９，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．１０（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．５５（ｍ，１０Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５０９（Ｍ＋）
製造例  ７
５，７−ジヒドロキシ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例６で得たＢＡＫ−Ｇ２４６  ４５ｍｇ（０．０８８ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１０ｍＬおよび１０％Ｐｄ−Ｃ  ５ｍｇを、水素雰囲気下で６時間攪拌した。反応液をセライト濾過後、濃縮し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２４８）２６．８ｍｇ（収率９２％）を得た。
【化２０】
2004026292.tif 000019
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６）δ：
５．０２（ｓ，２Ｈ），５．９７（ｓ，２Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），６．２６（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９５−７．００（ｍ，２Ｈ），１０．９５（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２９（Ｍ＋）
製造例  ８
４−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２５６）を収率４９％で得た。
【化２１】
2004026292.tif 000020
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．５２（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９６（ｓ，２Ｈ），６．４２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，４Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），１２．４８（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３０５（Ｍ＋）
製造例  ９
７−クロロ−２，３−ジヒドロ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２５７）を収率９１％で得た。
【化２２】
2004026292.tif 000021
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．６５（ｓ，２Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１７（Ｍ＋）
製造例  １０
７−クロロ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６０）を収率９３％で得た。
【化２３】
2004026292.tif 000022
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
５．０９（ｓ，２Ｈ），５．９３（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３１（Ｍ＋）
製造例  １１
２−ヒドロキシ−３−メトキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６１）を収率５２％で得た。
【化２４】
2004026292.tif 000023
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．９０（ｓ，３Ｈ），４．５４（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．８５（ｍ，５Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝１．４，８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄｄ，Ｊ＝１．４，８．１Ｈｚ，１Ｈ），１１．７０（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３０１（Ｍ＋）
製造例  １２
２，３−ジヒドロ−８−メトキシ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６３）を収率９７％で得た。
【化２５】
2004026292.tif 000024
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，３Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），５．９４（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．８５（ｍ，３Ｈ），７．００−７．１５（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｄｄ，Ｊ＝２．７，６．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１３（Ｍ＋）
製造例  １３
２−ヒドロキシ−３−メチル−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６５）を収率４６％で得た。
【化２６】
2004026292.tif 000025
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．２７（ｓ，３Ｈ），４．５３（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９６（ｓ，２Ｈ），６．４８（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６５−６．８５（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．３０（ｍ，２Ｈ），１２．５１（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２８５（Ｍ＋）
製造例  １４
２，３−ジヒドロ−８−メチル−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６７）を収率８２％で得た。
【化２７】
2004026292.tif 000026
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．２１（ｓ，３Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．８５（ｍ，３Ｈ），７．０２（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２９７（Ｍ＋）
製造例  １５
８−メトキシ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６８）を収率９４％で得た。
【化２８】
2004026292.tif 000027
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．９５（ｓ，３Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．９２（ｓ，２Ｈ），６．７４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．１５−７．３５（ｍ，２Ｈ），７．６３（ｄｄ，Ｊ＝１．９，７．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２７（Ｍ＋）
製造例  １６
８−メチル−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２６９）を収率９３％で得た。
【化２９】
2004026292.tif 000028
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．４１（ｓ，３Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），５．９２（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．１０（ｍ，２Ｈ），７．２４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．３Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１１（Ｍ＋）
製造例  １７
Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３２０）を収率５１％で得た。
【化３０】
2004026292.tif 000029
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８７（ｓ，６Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），４．５７（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，５Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝１，４，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄｄ，Ｊ＝１．４，８．１Ｈｚ，１Ｈ），１１．８１（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１７（Ｍ＋）
製造例  １８
５−クロロ−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−ヒドロキシベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３３２）を収率７９％で得た。
【化３１】
2004026292.tif 000030
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，６Ｈ），４．５６（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），６．４４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８０−６．９０（ｍ，３Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），１２．２４（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２１（Ｍ＋）
製造例  １９
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２９３）を収率２６％で得た。
【化３２】
2004026292.tif 000031
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．５３（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９８（ｓ，２Ｈ），６．４３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８０−６．８５（ｍ，３Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４０（ｍ，２Ｈ），１２．２２（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３０５（Ｍ＋）
製造例  ２０
３−（３，４−ジメトキシベンジル）−２，３−ジヒドロ−８−メトキシ−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３２１）を収率９４％で得た。
【化３３】
2004026292.tif 000032
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），５．１７（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．００−７．１５（ｍ，２Ｈ），７．６２（ｄｄ，Ｊ＝２．７，６．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２９（Ｍ＋）
製造例  ２１
６−クロロ−３−（３，４−ジメトキシベンジル）−２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３３３）を収率７２％で得た。
【化３４】
2004026292.tif 000033
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．６９（ｓ，２Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９０（ｍ，３Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３３（Ｍ＋）
製造例  ２２
６−クロロ−２，３−ジヒドロ−３−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３３０）を収率９４％で得た。
【化３５】
2004026292.tif 000034
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．６５（ｓ，２Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１７（Ｍ＋）
製造例  ２３
３−（３，４−ジメトキシベンジル）−８−メトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３２２）を収率９５％で得た。
【化３６】
2004026292.tif 000035
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１０−７．３５（ｍ，４Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝１．９，７．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４３（Ｍ＋）
製造例  ２４
６−クロロ−３−（３，４−ジメトキシベンジル）−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３４０）を収率７５％で得た。
【化３７】
2004026292.tif 000036
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１０−７．２０（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４７（Ｍ＋）
製造例  ２５
５−クロロ−２−（２−クロロエトキシ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）ベンズアミドの合成：
製造例１８で得たＢＡＫ−Ｇ３３２  １．１５ｇ（３．５７ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２−クロロエタン０．５９ｍＬ（７．１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１．４８ｇ（１０．７１ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ２０ｍＬを、４０℃で２０時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３３４）を１．１８ｇ（収率８６％）得た。
【化３８】
2004026292.tif 000037
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７７（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．３０（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），４．５８（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），６．８０−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｂｒｓ，１Ｈ），８．２２（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８３（Ｍ＋）
製造例  ２６
５−クロロ−２−（２−クロロエトキシ）−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例２５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２９４）を収率８２％で得た。
【化３９】
2004026292.tif 000038
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８０（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），４．３１（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），４．５５（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９４（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．９０（ｍ，４Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．８Ｈｚ，Ｈ），８．２０（ｂｒｓ，１Ｈ），８．２１（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３６７（Ｍ＋）
製造例  ２７
２−（２−クロロエトキシ）−３−メトキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例２５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２８８）を収率１００％で得た。
【化４０】
2004026292.tif 000039
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７１（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），４．２７（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），４．５６（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），５．９３（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３６３（Ｍ＋）
製造例  ２８
２−（２−クロロエトキシ）−４−メトキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例２５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２７８）を収率７２％で得た。
【化４１】
2004026292.tif 000040
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７９（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），４．３０（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．５５（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９３（ｓ，２Ｈ），６．４０（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．６４（ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），８．２１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
製造例  ２９
７−クロロ−４−（３，４−ジメトキシベンジル）−３，４−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例２５で得たＢＡＫ−Ｇ３３４  ９６１ｍｇ（２．５０ｍｍｏｌ）のトルエン３０ｍｌに、水素化ナトリウム（６０％オイル）２００ｍｇ（５．００ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で２０時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：２）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３３５）を７８３ｍｇ（収率９０％）得た。
【化４２】
2004026292.tif 000041
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４５（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４７（Ｍ＋）
製造例  ３０
７−クロロ−３，４−ジヒドロ−４−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例２９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２９５）を収率７５％で得た。
【化４３】
2004026292.tif 000042
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４４（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．１８（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．７１（ｓ，２Ｈ），５．９７（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．９０（ｍ，３Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３１（Ｍ＋）
製造例  ３１
３，４−ジヒドロ−９−メトキシ−４−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例２９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２９０）を収率７５％で得た。
【化４４】
2004026292.tif 000043
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４２（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．８５（ｍ，２Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０３（ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２７（Ｍ＋）
製造例  ３２
３，４−ジヒドロ−８−メトキシ−４−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（４Ｈ）−オン
製造例２９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２８２）を収率８７％で得た。
【化４５】
2004026292.tif 000044
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４６（ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，２Ｈ），４．７１（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．４８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２７（Ｍ＋）
製造例  ３３
３−メトキシ−５−［［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］カルバモイル］フェニルクロロアセテートの合成：
製造例１で得たＢＡＫ−Ｇ２０２  ５１１．３ｍｇ（１．７０ｍｍｏｌ）、（ＤＩＥＡ）０．５９ｍＬ（３．４０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン１０ｍＬを氷冷し、ここにクロロアセチルクロライド０．１６ｍＬを滴下し、氷冷下２時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物として表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２７２）を得た。
【化４６】
2004026292.tif 000045
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８３（ｓ，３Ｈ），４．１８（ｓ，２Ｈ），４．４８（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．４５（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）
製造例  ３４
８−メトキシ−４−［（３，４−メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３３で粗生成物として得たＢＡＫ−Ｇ２７２、炭酸カリウム４６９ｍｇ（３．４ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ５０ｍＬを、室温で１時間攪拌した。反応液に炭酸カリウムを１ｇ追加し、更に室温で１時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２７３）を３２７．３ｍｇ（収率５６％）得た。
【化４７】
2004026292.tif 000046
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），５．０８（ｓ，２Ｈ），５．９１（ｓ，２Ｈ），６．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ），６．８５−６．９５（ｍ，２Ｈ），８．１４（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ）
製造例  ３５
４−（３，４−ジメトキシベンジル）−９−メトキシ−１，４−ベンゾキサアゼピン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオンの合成：
製造例１７で得たＢＡＫ−Ｇ３２０  ６１１．２ｍｇ（１．９３ｍｍｏｌ）、ＤＩＥＡ０．６７ｍＬ（３．８６ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン１２ｍＬを氷冷し、ここにクロロアセチルクロライド０．１９ｍＬ（２．３３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で２時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をＤＭＦに溶かし、ここに炭酸カリウム２ｇを加え、３０℃で２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：２）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３２３）を４４２．７ｍｇ（収率６４％）得た。
【化４８】
2004026292.tif 000047
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），４．８３（ｓ，２Ｈ），５．１４（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．００−７．２０（ｍ，４Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝２．０，７．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３５７（Ｍ＋）
製造例  ３６
７−クロロ−４−（３，４−ジメトキシベンジル）−１，４−ベンゾキサアゼピン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３３９）を収率３３％で得た。
【化４９】
2004026292.tif 000048
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．９５−７．１０（ｍ，３Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３６１（Ｍ＋）
製造例  ３７
９−メトキシ−４−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ２８７）を収率７２％で得た。
【化５０】
2004026292.tif 000049
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．９０（ｓ，３Ｈ），４．８２（ｓ，２Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．９１（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９０−６．９５（ｍ，２Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝２．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｔ，Ｊ＝７．６，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝２．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４１（Ｍ＋）
製造例  ３８
１−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチルアミンハイドロクロライドの合成：
３，４−エチレンジオキシベンズアルデヒド４．９３ｇ（３０．１ｍｍｏｌ）、ホルムアミド１５ｍＬ、蟻酸１０ｍＬを、１３０℃で６時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、１−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチルアミン（ＢＡＫ−Ｇ３６６）を２．３６ｇ（収率４１％）得た。
得られたＢＡＫ−Ｇ３６６  １．３０ｇ（６．７４ｍｍｏｌ）、エタノール１０ｍＬおよび濃塩酸１ｍＬを、３時間還流した。室温で反応液にエーテル２０ｍＬを加え、析出した結晶を濾取し、エーテルで洗った後、乾燥し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３６９）を１．０６ｇ（収率７８％）得た。
【化５１】
2004026292.tif 000050
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．８８（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｓ，４Ｈ），６．８５−６．９５（ｍ，２Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｂｒｓ，３Ｈ）
製造例  ３９
４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジルアミン  ハイドロクロライドの合成：
製造例３８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３８８）を収率３８％で得た。
【化５２】
2004026292.tif 000051
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．７９（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｓ，２Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），６．９５（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４５（ｍ，５Ｈ），８．３４（ｂｒｓ，３Ｈ）
製造例  ４０
Ｎ−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアミドの合成：
４−メトキシサリチル酸メチルエステル３０７．７ｍｇ（１．６９ｍｍｏｌ）、製造例３８で得たＢＡＫ−Ｇ３６９  ３４１ｍｇ（１．６９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４６６ｍｇ（３．３８ｍｍｏｌ）およびＤＭＳＯ５ｍＬを、１４０℃で３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３７１）を１９６ｍｇ（収率３７％）得た。
【化５３】
2004026292.tif 000052
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８１（ｓ，３Ｈ），４．２５（ｓ，４Ｈ），４．５０（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），６．３２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．４７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７０−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），１２．６８（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１５（Ｍ＋）
製造例  ４１
５−クロロ−Ｎ−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２−ヒドロキシベンズアミドの合成：
製造例４０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３７８）を収率６１％で得た。
【化５４】
2004026292.tif 000053
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．２４（ｓ，４Ｈ），４．５１（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），６．７５−６．９０（ｍ，３Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．９Ｈｚ，１Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．７０（ｂｒｓ，１Ｈ），１２．８０（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１９（Ｍ＋）
製造例  ４２
Ｎ−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアミドの合成：
製造例４０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３９１）を収率３１％で得た。
【化５５】
2004026292.tif 000054
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．５３（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），６．２９（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．９Ｈｚ，１Ｈ），６．４７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，５Ｈ），１２．６８（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９３（Ｍ＋）
製造例  ４３
Ｎ−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−５−クロロ−２−ヒドロキシベンズアミド
製造例４０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３９５）を収率５４％で得た。
【化５６】
2004026292.tif 000055
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．７６（ｓ，３Ｈ），４．４２（ｍ，２Ｈ），５．０６（ｓ，２Ｈ），６．８２（ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，３Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，６Ｈ），７．９６（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），９．３６（ｂｒｔ，１Ｈ），１２．５６（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９７（Ｍ＋）
製造例  ４４
Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）−２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアミド
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３８６）を収率２４％で得た。
【化５７】
2004026292.tif 000056
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８７（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．６７（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），６．１２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．９Ｈｚ，１Ｈ），６．４６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７０−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），１２．７１（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３１（Ｍ＋）
製造例  ４５
５−クロロ−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）−２−ヒドロキシベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４０３）を収率４７％で得た。
【化５８】
2004026292.tif 000057
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．６８（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），６．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７０−６．９０（ｍ，３Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．９Ｈｚ１Ｈ），１２．２４（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３５（Ｍ＋）
製造例  ４６
３−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２，３−ジヒドロ−７−メトキシ−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３７４）を収率３７％で得た。
【化５９】
2004026292.tif 000058
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８３（ｓ，３Ｈ），４．２４（ｓ，４Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），６．４２（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）
製造例  ４７
６−クロロ−３−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３７９）を収率７６％で得た。
【化６０】
2004026292.tif 000059
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．２５（ｓ，４Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．９０（ｍ，３Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３１（Ｍ＋）
製造例  ４８
３−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−７−メトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３７７）を収率６１％で得た。
【化６１】
2004026292.tif 000060
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，３Ｈ），４．２２（ｓ，４Ｈ），５．０７（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９５−７．１０（ｍ，２Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４１（Ｍ＋）
製造例  ４９
６−クロロ−３−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３８２）を収率７３％で得た。
【化６２】
2004026292.tif 000061
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．２３（ｓ，４Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９５−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４５（Ｍ＋）
製造例  ５０
３−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−７−メトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３９３）を収率９４％で得た。
【化６３】
2004026292.tif 000062
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，６Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４５（ｍ，５Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４１９（Ｍ＋）
製造例  ５１
３−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−６−クロロ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３９７）を収率９４％で得た。
【化６４】
2004026292.tif 000063
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，３Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４５（ｍ，５Ｈ），７．６３（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２３（Ｍ＋）
製造例  ５２
３−（３，４−ジメトキシフェネチル）−７−メトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３９０）を収率８２％で得た。
【化６５】
2004026292.tif 000064
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．９５（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），４．２１（ｍ，２Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），６．９０（ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３５７（Ｍ＋）
製造例  ５３
６−クロロ−３−（３，４−ジメトキシフェネチル）−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４０５）を収率８１％で得た。
【化６６】
2004026292.tif 000065
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．９５（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．２３（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３６１（Ｍ＋）
製造例  ５４
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−７−メトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例５０で得たＢＡＫ−Ｇ３９３  ３７０ｍｇ（０．８８３ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１４ｍＬおよびジクロロメタン１０ｍＬに、１０％Ｐｄ−Ｃを３７ｍｇ加え、水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、濃縮後粗生成物を酢酸エチル１２ｍＬ−ヘキサン１２ｍＬから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３９４）を１８８．５ｍｇ（収率６５％）得た。
【化６７】
2004026292.tif 000066
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８８（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），５．６０（ｓ，１Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．９５（ｍ，２Ｈ），７．０５−７．１５（ｍ，２Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２９（Ｍ＋）
製造例  ５５
６−クロロ−３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例５４と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４００）を収率８５％で得た。
【化６８】
2004026292.tif 000067
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８９（ｓ，３Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．６２（ｓ，１Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０５−７．１０（ｍ，２Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３３（Ｍ＋）
製造例  ５６
Ｎ−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−２，４，６−トリメトキシベンズアミドの合成：
２，４，６−トリメトキシ安息香酸１９８．９ｍｇ（０．９３８ｍｍｏｌ）、製造例３９で得たＢＡＫ−Ｇ３８８  ２６３ｍｇ（０．９３８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン０．３９２ｍＬ（２．２５ｍｍｏｌ）およびＤＭＦ４ｍＬを氷冷し、ここにジエチルリン酸シアニド０．１７ｍＬ（１．１３ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下２時間、室温で１時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４０１）を２４４．５ｍｇ（収率６０％）得た。
【化６９】
2004026292.tif 000068
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７８（ｓ，６Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），４．５７（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），５．９８（ｂｒｔ，１Ｈ），６．１０（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｍ，２Ｈ），６．９７（ｓ，１Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，５Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４３７（Ｍ＋）
製造例  ５７
Ｎ−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−２−ヒドロキシ−４，６−ジメトキシベンズアミドの合成：
製造例５６で得たＢＡＫ−Ｇ４０１  ５７２ｍｇ（１．３１ｍｍｏｌ）および１，４−ジオキサン１２ｍＬに、ヨウ化リチウム８７８ｍｇ（６．５５ｍｍｏｌ）を加え、２０時間還流した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４０２）を３２４ｍｇ（収率５８％）得た。
【化７０】
2004026292.tif 000069
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．５４（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．１４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．９５（ｍ，３Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，５Ｈ），８．３６（ｂｒｔ，１Ｈ），１４．２９（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２３（Ｍ＋）
製造例  ５８
３−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンジル）−５，７−ジメトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４０４）を収率９２％で得た。
【化７１】
2004026292.tif 000070
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），５．０５（ｓ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４５（ｍ，５Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０４（Ｍ＋）
製造例  ５９
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−５，７−ジメトキシ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２，４（３Ｈ）−ジオンの合成：
製造例５４と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４０６）を収率７６％で得た。
【化７２】
2004026292.tif 000071
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），５．０５（ｓ，２Ｈ），５．５８（ｓ，１Ｈ），６．３１（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０５−７．１５（ｍ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３５９（Ｍ＋）
製造例  ６０
２，４−ビス（ベンジルオキシ）−６−（２−クロロエトキシ）−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンズアミドの合成：
製造例２５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３６４）を収率８４％で得た。
【化７３】
2004026292.tif 000072
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７４（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），４．１９（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），５．９２（ｓ，２Ｈ），６．０４（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．１５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．２５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４０（ｍ，１０Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５４５（Ｍ＋）
製造例  ６１
６，８−ビス（ベンジルオキシ）−３，４−ジヒドロ−４−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例２９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３６７）を収率７６％で得た。
【化７４】
2004026292.tif 000073
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．３９（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９８（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．２６（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．４４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，１０Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５０９（Ｍ＋）
製造例  ６２
３，４−ジヒドロ−６，８−ジヒドロキシ−４−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例６１で得たＢＡＫ−Ｇ３６７  ６６０ｍｇ（１．３０ｍｍｏｌ）および酢酸エチル１２ｍＬに、１０％Ｐｄ−Ｃを６６ｍｇ加え、水素雰囲気下、室温で２０時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、濃縮後粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ３７２）を３５７．３ｍｇ（収率８３％）得た。
【化７５】
2004026292.tif 000074
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４６（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．２０（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），５．３０（ｓ，１Ｈ），５．９７（ｓ，２Ｈ），６．０３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．２０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，３Ｈ），１１．８０（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２９（Ｍ＋）
製造例  ６３
４−ベンジルオキシ−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−ヒドロキシベンズアミドの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４４１）を収率１８％で得た。
【化７６】
2004026292.tif 000075
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８８（ｓ，６Ｈ），４．５４（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），５．０６（ｓ，２Ｈ），６．３３（ｂｒｔ，１Ｈ），６．４５（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．９５（ｍ，３Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３０−７．４５（ｍ，５Ｈ），１２．６７（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９３（Ｍ＋）
製造例  ６４
４−ベンジルオキシ−２−（２−クロロエトキシ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）ベンズアミドの合成：
製造例２５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４４２）を収率９２％で得た。
【化７７】
2004026292.tif 000076
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７４（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．２６（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），４．５８（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），６．４８（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．４５（ｍ，５Ｈ），８．１４（ｂｒｔ，１Ｈ），８．２２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４５５（Ｍ＋）
製造例  ６５
８−ベンジルオキシ−４−（３，４−ジメトキシベンジル）−３，４−ジヒドロ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例２９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４４４）を収率９１％で得た。
【化７８】
2004026292.tif 000077
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４６（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１４（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），５．０７（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．３０−７．４５（ｍ，５Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４１９（Ｍ＋）
製造例  ６６
３，４−ジヒドロ−４−（３，４−ジメトキシベンジル）−８−ヒドロキシ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例６５で得たＢＡＫ−Ｇ４４４  ４８０ｍｇ（１．１５ｍｍｏｌ）および酢酸エチル１０ｍＬに、１０％Ｐｄ−Ｃ  ４８ｍｇを加え、水素雰囲気下２０時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４４５）を３３４．５ｍｇ（収率８８％）得た。
【化７９】
2004026292.tif 000078
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４６（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６．４５（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６２（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，３Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３２９（Ｍ＋）
製造例  ６７
メチル［［４−（３，４−ジメトキシベンジル）−２，３，４，５−テトラハイドロ−５−オキソ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−８−イル］オキシ］アセテートの合成：
製造例６６で得たＢＡＫ−Ｇ４４５  ２５９．３ｍｇ（０．７８８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム３２６ｍｇ（２．３６ｍｍｏｌ）、ブロモ酢酸メチル０．１５ｍＬ（１．５８ｍｍｏｌ）およびＤＭＦ４ｍＬを、室温で４時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢峻エチル＝１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４６０）を３２３．３ｍｇ（収率１００％）得た。
【化８０】
2004026292.tif 000079
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４７（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１４（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．４９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７２（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，３Ｈ），７．８９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０１（Ｍ＋）
製造例  ６８
［［４−（３，４−ジメトキシベンジル）−２，３，４，５−テトラハイドロ−５−オキソ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−８−イル］オキシ］酢酸の合成：
製造例６７で得たＢＡＫ−Ｇ４６０  ３１５ｍｇ（０．７８６ｍｍｏｌ）のメタノール溶液７ｍＬに、水酸化ナトリウム４００ｍｇおよび水３ｍＬを加え、３時間還流した。反応液に希塩酸を加え酸性とし、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をエタノール１０ｍＬから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４６２）を２２７．２ｍｇ（収率７５％）得た。
【化８１】
2004026292.tif 000080
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．４９（ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，２Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），４．７２（ｓ，２Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７３（ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．９５（ｍ，３Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８７（Ｍ＋）
製造例  ６９
３−［（４−ベンジルオキシ−３−メトキシ）ベンジル］−６−クロロ−２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例１と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４５４）を収率８８％で得た。
【化８２】
2004026292.tif 000081
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８７（ｓ，３Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，６Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０９（Ｍ＋）
製造例  ７０
６−クロロ−２，３−ジヒドロ−３−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）ベンジル］−４Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−４−オンの合成：
製造例６６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４５６）を収率７１％で得た。
2004026292.tif 000082
【化８３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８７（ｓ，３Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），５．６４（ｓ，１Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３１９（Ｍ＋）
製造例  ７１
メチル［４−［［６−クロロ−４−オキソ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］アセテートの合成：
製造例６７と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４５９）を収率１００％で得た。
【化８４】
2004026292.tif 000083
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．６９（ｓ，４Ｈ），５．１０（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９１（Ｍ＋）
製造例  ７２
［４−［［６−クロロ−４−オキソ−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４６１）を収率６７％で得た。
【化８５】
2004026292.tif 000084
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．７５（ｓ，３Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），６．８２（ｍ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７７（Ｍ＋）
製造例  ７３
Ｎ−［（４−ベンジルオキシ−３−メトキシ）ベンジル］−５−クロロ−２−（２−クロロエトキシ）ベンズアミドの合成：
製造例２５と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４７１）を収率８８％で得た。
【化８６】
2004026292.tif 000085
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７３（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．２９（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），４．５７（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．９５（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，６Ｈ），８．１８（ｂｒｔ，１Ｈ），８．２１（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４５９（Ｍ＋）
製造例  ７４
４−［（４−ベンジルオキシ−３−メトキシ）ベンジル］−７−クロロ−３，４−ジヒドロ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例２９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４７２）を収率８６％で得た。
【化８７】
2004026292.tif 000086
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４４（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１２（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），６．７５−７．００（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，６Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２３（Ｍ＋）
製造例  ７５
７−クロロ−３，４−ジヒドロ−４−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシ）ベンジル］−１，４−ベンゾオキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例６６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４７３）を収率８９％で得た。
【化８８】
2004026292.tif 000087
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４５（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１２（ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，２Ｈ），４．７３（ｓ，２Ｈ），５．６５（ｓ，１Ｈ），６．８０（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８５−７．００（ｍ，３Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３３３（Ｍ＋）
製造例  ７６
メチル［４−［［７−クロロ−２，３−ジヒドロ−５−オキソ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］アセテートの合成：
製造例６７と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４７４）を収率１００％で得た。
【化８９】
2004026292.tif 000088
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４５（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１４（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０５（Ｍ＋）
製造例  ７７
［４−［［７−クロロ−２，３−ジヒドロ−５−オキソ−１，４−ベンゾオキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４７５）を収率７９％で得た。
【化９０】
2004026292.tif 000089
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．５２（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），４．２２（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９１（Ｍ＋）
製造例  ７８
３，５−ジクロロ−Ｎ−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２−ヒドロキシ−ベンゼンスルホンアミドの合成：
３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゼンスルホニルクロリド１．００ｇ（３．８２ｍｍｏｌ）、製造例３８で得たＢＡＫ−Ｇ３６９  ７７１ｍｇ（３．８２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．６０ｍＬ（１１．５ｍｍｏｌ）、クロロホルム４０．０ｍＬを室温で１６．５時間撹拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２５４）を１．４５ｇ（収率９７％）得た。
【化９１】
2004026292.tif 000090
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．０９（ｓ，２Ｈ），４．２２（ｓ，４Ｈ），６．５８−６．７６（ｍ，３Ｈ），７．５０（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８９（Ｍ＋），３９１（Ｍ＋２），３９３（Ｍ＋４）
製造例  ７９
５，７−ジクロロ−２−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２，３−ジヒドロ−４，１，２−ベンゾキサチアジン１，１−ジオキシドの合成：
製造例７８で得たＢＡＫ−ＫＡ２５４  ４３９ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物２１４ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）、ジメトキシメタン１．００ｍＬ、トルエン１０．０ｍＬを１４時間加熱還流した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２５５−１）を４１６ｍｇ（収率９２％）得た。
【化９２】
2004026292.tif 000091
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．２７（ｓ，４Ｈ），４．２９（ｓ，２Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），６．８６−６．８９（ｍ，３Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０１（Ｍ＋），４０３（Ｍ＋２），４０５（Ｍ＋４）
製造例  ８０
５，７−ジクロロ−２−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン  １，１−ジオキシドの合成：
製造例７８で得たＢＡＫ−ＫＡ２５４  ３００ｍｇ（０．７７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−カルボジイミダゾール２４９ｍｇ（１．５３ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン９４．０ｍｇ（０．７７ｍｍｏｌ）、無水ジメチルホルムアミド５．００ｍＬを室温で２１時間撹拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２５７）を２２２ｍｇ（収率６９％）得た。
【化９３】
2004026292.tif 000092
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．２３（ｓ，４Ｈ），４．９４（ｓ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４１５（Ｍ＋），４１７（Ｍ＋２），４１９（Ｍ＋４）
製造例  ８１
Ｎ−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例７８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６６）を収率８８％で得た。
【化９４】
2004026292.tif 000093
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．０９（ｓ，３Ｈ），４．１３（ｄ，２Ｈ），５．０８（ｔ，１Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），６．６１−６．７８（ｍ，３Ｈ），７．３１−７．５３（ｍ，７Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６７（Ｍ＋），４６９（Ｍ＋２），４７１（Ｍ＋４）
製造例  ８２
２−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−５，７−ジクロロ−２，３−ジヒドロ−４，１，２−ベンゾキサチアジン１，１−ジオキシドの合成：
製造例７９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６８−１）を収率７４％で得た。
【化９５】
2004026292.tif 000094
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．９０（ｓ，３Ｈ），４．３２（ｓ，２Ｈ），５．１７（ｓ，２Ｈ），５．４７（ｓ，２Ｈ），６．８６−６．９１（ｍ，３Ｈ），７．３１（ｍ，７Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７９（Ｍ＋），４８１（Ｍ＋２），４８３（Ｍ＋４）
製造例  ８３
５，７−ジクロロ−２，３−ジヒドロ−２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−４，１，２−ベンゾキサチアジン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８２で得たＢＡＫ−ＫＡ２６８−１  ６０４ｍｇ（１．２２ｍｍｏｌ）、１０％Ｐｄ−Ｃ  ６０．０ｍｇ、酢酸エチル１０．０ｍＬを水素気流下、室温で３時間撹拌した。触媒を濾別し濃縮後、塩化メチレン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６９）を３９０ｍｇ（収率８２％）得た。
【化９６】
2004026292.tif 000095
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．９１（ｓ，３Ｈ），４．３２（ｓ，２Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），５．６９（ｓ，１Ｈ），６．８５−６．９４（ｍ，３Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｔ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８９（Ｍ＋），３９１（Ｍ＋２），３９３（Ｍ＋４）
製造例  ８４
２−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−５，７−ジクロロ−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６７）を収率８５％で得た。
【化９７】
2004026292.tif 000096
製造例  ８５
５，７−ジクロロ−２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２７１）を収率４２％で得た。
【化９８】
2004026292.tif 000097
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｄ：
３．８９（ｓ，３Ｈ），４．９８（ｓ，２Ｈ），５．６６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８５−７．０４（ｍ，３Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０３（Ｍ＋），４０５（Ｍ＋２），４０７（Ｍ＋４）
製造例  ８６
３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］ベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例７８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２７５）を収率７８％で得た。
【化９９】
2004026292.tif 000098
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．１０（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），５．０９（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９４（ｓ，２Ｈ），６．５９−６．７１（ｍ，３Ｈ），７．５２（ｓ，２Ｈ），８．３４（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７５（Ｍ＋），３７７（Ｍ＋２），３７９（Ｍ＋４）
製造例  ８７
５，７−ジクロロ−２−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２７７）を収率８２％で得た。
【化１００】
2004026292.tif 000099
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．９６（ｓ，２Ｈ），５．９５（ｓ，２Ｈ），６．７４−６．９９（ｍ，３Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０１（Ｍ＋），４０３（Ｍ＋２），４０５（Ｍ＋４）
製造例  ８８
５，７−ジクロロ−２，３−ジヒドロ−２−［３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル］−４，１，２−ベンゾキサチアジン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例７９と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２８８）を収率４２％で得た。
【化１０１】
2004026292.tif 000100
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．３１（ｓ，２Ｈ），５．４８（ｓ，２Ｈ），５．９９（ｓ，２Ｈ），６．７８−６．８８（ｍ，３Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８７（Ｍ＋），３８９（Ｍ＋２），３９１（Ｍ＋４）
製造例  ８９
２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホニルクロライドの合成：
クロロスルホン酸５．００ｍＬに、フロログルシノールトリメチルエーテル２．０ｇ（１１．９ｍｍｏｌ）を少量ずつ加え、更に室温で１．５時間、５０℃で１時間撹拌した。反応液を２００ｍＬの氷に注意深く注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６０−１）を１．２３ｇ（収率３９％）得た。
【化１０２】
2004026292.tif 000101
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８９（ｓ，３Ｈ），３．９６（ｓ，６Ｈ），６．１２（ｓ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２６６（Ｍ＋）
製造例  ９０
Ｎ−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例７８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６１）を収率７８％で得た。
【化１０３】
2004026292.tif 000102
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，９Ｈ），４．０２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），４．２１（ｓ，４Ｈ），５．３１（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），６．０９（ｓ，２Ｈ），６．６８−６．７６（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９５（Ｍ＋）
製造例  ９１
Ｎ−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例７８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２９０）を収率８６％で得た。
【化１０４】
2004026292.tif 000103
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８１（ｓ，６Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），５．３２（ｔ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１Ｈ），６．０９（ｓ，２Ｈ），６．６０−６．７９（ｍ，３Ｈ），７．２９−７．４４（ｍ，５Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７３（Ｍ＋）
製造例  ９２
Ｎ−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２−ヒドロキシ−４，６−ジメトキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例９０で得たＢＡＫ−ＫＡ２６１  １．２６ｇ（３．１９ｍｍｏｌ）、ヨウ化リチウム２．１３ｇ（１５．９ｍｍｏｌ）、無水ジオキサン３０ｍＬを１４時間加熱還流した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６２）を９４６．５ｍｇ（収率７８％）得た。
【化１０５】
2004026292.tif 000104
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７８（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｄ，２Ｈ），４．２１（ｓ，４Ｈ），５．９４（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．１１（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．６１−６．７６（ｍ，３Ｈ），９．８４（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８１（Ｍ＋）
製造例  ９３
２−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−２，３−ジヒドロ−６，８−ジメトキシ−４，１，２−ベンゾキサチアジン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例９２で得たＢＡＫ−ＫＡ２６２  ４３６ｍｇ（１．１４ｍｍｏｌ）、ホルマリン水溶液１０．０ｍＬ、酢酸０．５０ｍＬ、無水メタノール２０ｍＬを６９．５時間加熱還流した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→クロロホルム）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６４）を２７２ｍｇ（収率６０％）得た。
【化１０６】
2004026292.tif 000105
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｄ：
３．８１（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），４．２７（ｓ，４Ｈ），４．３４（ｓ，２Ｈ），５．２４（ｓ，２Ｈ），６．０９（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．１５（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８７−６．９３（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９３（Ｍ＋）
製造例  ９４
２−［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］−６，８−ジメトキシ−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２６５）を収率８７％で得た。
【化１０７】
2004026292.tif 000106
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）ｄ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），４．２２（ｓ，４Ｈ），４．９２（ｓ，２Ｈ），６．３２（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．３５（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０７（Ｍ＋）
製造例  ９５
Ｎ−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−２−ヒドロキシ−４，６−ジメトキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例９２と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２９２）を２．２０ｇ（定量的収率）得た。
【化１０８】
2004026292.tif 000107
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．６８（ｓ，３Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｄ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），５．９０（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．１１（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．５７−６．７７（ｍ，３Ｈ），７．２９−７．４５（ｍ，５Ｈ），９．８６（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４５９（Ｍ＋）
製造例  ９６
２−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−２，３−ジヒドロ−６，８−ジメトキシ−４，１，２−ベンゾキサチアジン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例９５で得たＢＡＫ−ＫＡ２９２  １．００ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）、ホルマリン水溶液２０．０ｍＬ、酢酸１．００ｍＬ、無水メタノール２０．０ｍＬを１９．５時間加熱還流した。反応液に１０％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２９４）を５６６ｍｇ（収率５５％）得た。
【化１０９】
2004026292.tif 000108
製造例  ９７
２，３−ジヒドロ−２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−６，８−ジメトキシ−４，１，２−ベンゾキサチアジン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２９６）を収率４２％で得た。
【化１１０】
2004026292.tif 000109
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８１（ｓ，３Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．３７（ｓ，２Ｈ），５．２３（ｓ，２Ｈ），５．６６（ｓ，１Ｈ），６．１０（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．１７（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８４−６．９４（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８１（Ｍ＋）
製造例  ９８
２−［４−（ベンジルオキシ）−３−メトキシベンジル］−６，８−ジメトキシ−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２９５）を得た。
【化１１１】
2004026292.tif 000110
製造例  ９９
６，８−ジメトキシ−２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オン−１，１−ジオキシドの合成：
製造例８３と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ２９７）を収率１８％（２工程）で得た。
【化１１２】
2004026292.tif 000111
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），４．９５（ｓ，２Ｈ），５．６１（ｓ，１Ｈ），６．３２（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．３６（ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．８３−７．１０（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９５（Ｍ＋）
製造例  １００
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）エチル］−２−ヒドロキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例７８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｅ５７）を収率７８％で得た。
【化１１３】
2004026292.tif 000112
製造例  １０１
６，８−ジクロロ−２−［２−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）エチル］−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オンの合成：
製造例８０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｅ６０）を収率４７％で得た。
【化１１４】
2004026292.tif 000113
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．９２−３．００（ｍ，２Ｈ），４．０３−４．１４（ｍ，２Ｈ），４．２２（ｓ，４Ｈ），６．６５（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．６７（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）
製造例  １０２
３，５−ジクロロ−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）−２−ヒドロキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例７８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｅ６７）を収率８６％で得た。
【化１１５】
2004026292.tif 000114
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７３（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），３．２８（ｔ，６．６Ｈｚ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），６．５７（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）．
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０５（Ｍ＋）．
製造例  １０３
５，７−ジクロロ−２−（３，４−ジメトキシフェネチル）−４，１，２−ベンゾキサチアジン−３（２Ｈ）−オンの合成：
製造例８０と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｅ６８）を収率９３％で得た。
【化１１６】
2004026292.tif 000115
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．０３（ｍ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），４．１２（ｍ，２Ｈ），６．７０（ｓ，１Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４３１（Ｍ＋）
製造例  １０４
エチル３−［Ｎ−（２−ベンジルオキシ−３，５−ジクロロベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］プロピオネートの合成：
２−ベンジルオキシ−３，５−ジクロロ安息香酸６６７．３ｍｇ（２．２５ｍｍｏｌ）、エチル３−［［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］プロパノエート塩酸塩６８１ｍｇ（２．２５ｍｍｏｌ）、ＤＩＥＡ０．９４ｍＬ（５．４ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ１３ｍＬに、ＤＥＰＣ０．４１ｍＬ（２．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９２）１．２７ｇ（収率１００％）を得た。
【化１１７】
2004026292.tif 000116
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５５９（Ｍ＋）．
製造例  １０５
メチル［Ｎ−（２−ベンジルオキシ−３，５−ジクロロベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］アセテートの合成：
製造例１０４と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９４）を収率９９％で得た。
【化１１８】
2004026292.tif 000117
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５３１（Ｍ＋）．
製造例  １０６
メチル［Ｎ−（２−ベンジルオキシ−３，５−ジクロロベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］アセテートの合成：
製造例１０４と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９９）を収率７３％で得た。
【化１１９】
2004026292.tif 000118
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５１７（Ｍ＋）．
製造例  １０７
エチル３−［Ｎ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］プロピオネートの合成：
製造例６６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９３）を収率９１％で得た。
【化１２０】
2004026292.tif 000119
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６９（Ｍ＋）．
製造例  １０８
メチル［Ｎ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］アセテートの合成：
製造例６６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９５）を収率９１％で得た。
【化１２１】
2004026292.tif 000120
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８１（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６２（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｓ，２Ｈ），６．５０−６．６５（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４４１（Ｍ＋）
製造例  １０９
メチル［Ｎ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］アセテートの合成：
製造例６６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ５００）を収率９０％で得た。
【化１２２】
2004026292.tif 000121
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７８（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．１０（ｓ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）．
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２７（Ｍ＋）．
製造例  １１０
３−［Ｎ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］プロピオン酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９７）を収率９８％で得た。
【化１２３】
2004026292.tif 000122
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６５−２．８５（ｍ，４Ｈ），３．５９（ｍ，２Ｈ），３．７９（ｍ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），６．４５−６．６０（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．８０（ｍ，２Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４４１（Ｍ＋）
製造例  １１１
［Ｎ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ４９６）を収率１００％で得た。
【化１２４】
2004026292.tif 000123
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８１（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ），３．６２（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．２２（ｓ，２Ｈ），６．５０−６．６５（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２７（Ｍ＋）
製造例  １１２
［Ｎ−（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシベンゾイル）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ５０１）を収率１００％で得た。
【化１２５】
2004026292.tif 000124
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．１４（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．９０（ｍ，３Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４１３（Ｍ＋）
製造例  １１３
メチル［（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］アセテートの合成：
３，４−ジメトキシベンズアルデヒド１．６６ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、グリシンメチルエステル塩酸塩１．３８ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．６ｍＬ（１１．４ｍｍｏｌ）、トリアセトキシヒドロホウ素化ナトリウム４．２ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）、塩化メチレン８０ｍＬを室温で５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１→クロロホルム：メタノール＝３０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３１６）を２．２７ｇ（収率９５％）得た。
【化１２６】
2004026292.tif 000125
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４２（ｓ，３Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），６．８３−６．８９（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２３９（Ｍ）
製造例  １１４
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］アセテートの合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド２．２２ｇ（８．５２ｍｍｏｌ）、製造例１１３で得たＢＡＫ−ＫＡ３１６  ２．０４ｇ（８．５２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン３．５７ｍＬ（２５．６ｍｍｏｌ）、クロロホルム８５ｍＬを室温で１７．５時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３１７）を３．２８ｇ（収率８３％）得た。
【化１２７】
2004026292.tif 000126
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．６７（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｓ，２Ｈ），４．３７（ｓ，２Ｈ），６．７４−６．８１（ｍ，３Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６３（Ｍ），４６５（Ｍ＋２）
製造例  １１５
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−メトキシフェニル）スルホニル］（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］アセテートの合成：
製造例１１４で得たＢＡＫ−ＫＡ３１７  ９２９ｍｇ（２．００ｍｍｏｌ）、ジメチルホルムアミドジメチルアセタール０．２９ｍＬ（２．２ｍｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド０．７ｍＬを１１０℃で１時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３１９）を６９２ｍｇ（収率７２％）得た。
【化１２８】
2004026292.tif 000127
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．６２（ｓ，３Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．９９（ｓ，２Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｍ，３Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７７（Ｍ），４７９（Ｍ＋２）
製造例  １１６
［［（３，５−ジクロロ−２−メトキシフェニル）スルホニル］（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］酢酸の合成：
製造例１１５で得たＢＡＫ−ＫＡ３１９  ６９２ｍｇ（１．４５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム１７４ｍｇ（４．３５ｍｍｏｌ）、メタノール５ｍＬ、水５ｍＬを室温で１５時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、塩化メチレン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３２０）を３５０ｍｇ（収率５２％）得た。
【化１２９】
2004026292.tif 000128
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｓ，３Ｈ），４．０６（ｓ，２Ｈ），４．４９（ｓ，２Ｈ），６．７１−６．７６（ｍ，３Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６３（Ｍ），４６５（Ｍ＋２）
製造例  １１７
［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３２３）を収率５３％で得た。
【化１３０】
2004026292.tif 000129
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８３（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｓ，２Ｈ），４．３８（ｓ，２Ｈ），６．７２−６．７８（ｍ，３Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４４９（Ｍ），４５１（Ｍ＋２）
製造例  １１８
Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−（３−ピリジニル）メタンアミンの合成：
３，４−ジメトキシベンズアルデヒド５．００ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、３−アミノメチルピリジン３．１ｍＬ（３０．４ｍｍｏｌ）、無水硫酸マグネシウム５ｇ、無水ジエチルエーテル２０ｍＬを室温で３時間攪拌した。硫酸マグネシウムを濾過し、濃縮後、テトラヒドロホウ素化ナトリウム１．１ｇ（２９．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１→クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３３１−２）を４．５９ｇ（収率５９％）得た。
【化１３１】
2004026292.tif 000130
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７５（ｓ，２Ｈ），３．８１（ｓ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），６．８４−６．８９（ｍ，３Ｈ），７．２７（ｄｄ，Ｊ＝４．８，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｄｄｄ，Ｊ＝１．７，２．０，７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．５１（ｄｄ，Ｊ＝１．７，４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２５８（Ｍ）
製造例  １１９
３，５−ジクロロ−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−ヒドロキシ−Ｎ−［（３−ピリジニル）メチル］ベンゼンスルホンアミドの合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド５０６ｍｇ（１．９４ｍｍｏｌ）、製造例１１８で得たＢＡＫ−ＫＡ３３１−２  ５００ｍｇ（１．９４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．８ｍＬ（５．７３ｍｍｏｌ）、クロロホルム２０ｍＬを室温で１５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製し、更に塩化メチレン−ヘキサン−エタノールから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３３７）を６８３ｍｇ（収率７３％）得た。
【化１３２】
2004026292.tif 000131
分子量；４８３．３６５（Ｃ２１Ｈ２０Ｃ１２Ｎ２Ｏ５Ｓ）
融  点；１４７−１４８℃（ＣＨ２Ｃｌ２−ｈｅｘａｎｅ−ＥｔＯＨから再結晶）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７４（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），４．３１（ｓ，２Ｈ），４．３９（ｓ，２Ｈ），５．３０（ｓ，１Ｈ），６．５１−６．７５（ｍ，３Ｈ），７．４９−７．５７（ｍ，３Ｈ），８．３４（ｄ，１Ｈ），８．５２（ｄｄ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４８２（Ｍ），４８４（Ｍ＋２）
製造例  １２０
３−［［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ］メチル］ピリジン  １−オキシドの合成：
製造例１１９で得たＢＡＫ−ＫＡ３３７  ３００ｍｇ（０．６６ｍｍｏｌ）、ｍ−ＣＰＢＡ  １１４ｍｇ（０．９７ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１２ｍＬを室温で３．５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、塩化メチレン−ヘキサン−メタノールから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３４１）を２４４ｍｇ（収率７９％）得た。
【化１３３】
2004026292.tif 000132
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．７１（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），４．２４（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｓ，２Ｈ），６．５１−６．６９（ｍ，３Ｈ），７．２０（ｄ，２Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｍ，１Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４８２（Ｍ−Ｏ）
ＭＳ（ＦＡＢ）  ＋ＦＡＢ  ４９９．１（Ｍ＋１），
−ＦＡＢ  ４９７．０（Ｍ−１）
製造例  １２１
メチル［［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
３，４−ジメトキシフェネチルアミン３．３８ｍＬ（２０．０ｍｍｏｌ）、２−ブロモ酢酸メチル１．９ｍＬ（２０．０ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン３．４８ｍＬ（２０．０ｍｍｏｌ）、無水アセトニトリル２４０ｍＬを８０℃で２４時間攪拌した。反応液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１→クロロホルム：メタノール＝３０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３４８）を３．８９ｇ（収率７７％）得た。
【化１３４】
2004026292.tif 000133
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７２−２．９１（ｍ，４Ｈ），３．４３（ｓ，２Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），６．７４−６．８３（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２５３（Ｍ）
製造例  １２２
エチル３−［［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］プロパノエート  ハイドロクロライドの合成：
３，４−ジメトキシフェネチルアミン３．００ｍＬ（１７．２ｍｍｏｌ）、アクリル酸エチル１．８６ｍＬ（１７．２ｍｍｏｌ）、無水エタノール５．００ｍＬを室温で２時間攪拌した。反応液に濃塩酸２．０ｍＬを加え、アセトン−ジエチルエーテルから結晶化後、濾取し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３５０）を４．２４ｇ（収率８１％）得た。
【化１３５】
2004026292.tif 000134
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
１．２１（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），２．７５−２．９１（ｍ，４Ｈ），３．１４（ｍ，４Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），４．１１（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．７５−６．９２（ｍ，３Ｈ），９．０２（ｂｒｓ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２７９（Ｍ−ＨＣＩ）
製造例  １２３
エチル３−［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］プロピオネートの合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド５００ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）、製造例１２２で得たＢＡＫ−ＫＡ３５０  ８７８ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２ｍＬ（８．５９ｍｍｏｌ）、クロロホルム３０ｍＬを室温で１．５時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｋ３５２）を９４２ｍｇ（収率６４％）得た。
【化１３６】
2004026292.tif 000135
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
１．２７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），２．６２（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），２．７８（ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），３．４６（ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．１５（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５０５（Ｍ），５０７（Ｍ＋２）
製造例  １２４
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−Ｎ−［（４−ピリジニル）メチル］エタンアミンの合成：
ピリジン−４−カルボキシアルデヒド２．５ｍＬ（２６．８ｍｍｏｌ）、３，４−ジメトキシフェネチルアミン４．５０ｍＬ（２６．８ｍｍｏｌ）、シアノトリヒドロホウ素化ナトリウム１．３５ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）、無水メタノール４００ｍＬを加え、室温で１７時間攪拌した。反応液を濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝４０：１→クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３５３−２）を３．７８ｇ（収率５２％）得た。
【化１３７】
2004026292.tif 000136
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７８−２．８９（ｍ，４Ｈ），３．８１（ｓ，２Ｈ），３．８７（ｓ，６Ｈ），６．７０−６．８４（ｍ，３Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），８．５３（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２７２（Ｍ）
製造例  １２５
３−［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］プロピオン酸の合成：
製造例１２３で得たＢＡＫ−ＫＡ３５２  ５２９ｍｇ（１．０４ｍｍｏｌ）、濃塩酸３．００ｍＬ、ギ酸６．００ｍＬ、水３．００ｍＬを加え、室温で３時間攪拌し、更に、６０℃で２．５時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、塩化メチレン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３５４）を３６４ｍｇ（収率７３％）得た。
【化１３８】
2004026292.tif 000137
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６８（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），２．７９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５５（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，６Ｈ），６．６４−６．８１（ｍ，３Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７７（Ｍ），４７９（Ｍ＋２）
製造例  １２６
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド５００ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）、製造例１２１で得たＢＡＫ−ＫＡ３４８  ７３２ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２ｍＬ（８．５９ｍｍｏｌ）、クロロホルム３０ｍＬを室温で１時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３５６）を７６２ｍｇ（収率５５％）得た。
【化１３９】
2004026292.tif 000138
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｓ，２Ｈ），６．６０−６．７９（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｓ，２Ｈ），９．００（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７７（Ｍ），４７９（Ｍ＋２）
製造例  １２７
［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３５７）を収率８７％で得た。
【化１４０】
2004026292.tif 000139
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），４．０９（ｓ，２Ｈ），６．４８−６．７５（ｍ，３Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６３（Ｍ），４６５（Ｍ＋２）
製造例  １２８
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジヒドロキシフェニル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−［（４−ピリジル）メチル］ベンゼンスルホンアミドの合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド１．００ｇ（５．７９ｍｍｏｌ）、製造例１２４で得たＢＡＫ−ＫＡ３５３−２  １．５０ｇ（５．５０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２．４２ｍＬ（１７．３ｍｍｏｌ）、クロロホルム６０ｍＬを室温で４．５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝５０：１）にて精製し、更に塩化メチレン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３５８）を８２１ｍｇ（収率２９％）得た。
【化１４１】
2004026292.tif 000140
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），４．４２（ｓ，２Ｈ），６．４８−６．７５（ｍ，３Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．６０（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４９６（Ｍ），４９８（Ｍ＋２）
製造例  １２９
４−［［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］メチル］ピリジン１−オキシドの合成：
製造例１２８で得たＢＡＫ−ＫＡ３５８  ３００ｍｇ（０．６０ｍｍｏｌ）、ｍ−ＣＰＢＡ  １５６ｍｇ（０．９０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１２ｍＬを室温で４時間攪拌した。反応液にジエチルエーテルを加え、析出した結晶を濾取し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３６０）を２５７ｍｇ（収率８３％）得た。
【化１４２】
2004026292.tif 000141
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），４．３４（ｓ，２Ｈ），６．４５−６．７３（ｍ，３Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．１９（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）
ＭＳ（ＦＡＢ）  ＋ＦＡＢ  ５１３．１（Ｍ＋１）
−ＦＡＢ  ５１１．０（Ｍ−１）
製造例  １３０
メチル［［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］アミノ］アセテートの合成：
３，４−エチレンジオキシベンズアルデヒド２．００ｇ（１２．２ｍｍｏｌ）、グリシンメチルエステル塩酸塩１．５３ｇ（１２．２ｍｍｏｌ）、シアノトリヒドロホウ素化ナトリウム６１３ｍｇ（９．７５ｍｍｏｌ）、無水メタノール２００ｍＬを室温で２３時間攪拌した。反応液を濃縮後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１→クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３７５）を８０４ｍｇ（収率２８％）得た。
【化１４３】
2004026292.tif 000142
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４０（ｓ，２Ｈ），３．６９（ｓ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．２４（ｓ，４Ｈ），６．７９−６．８４（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２３７（Ｍ）
製造例  １３１
２，３−ジヒドロ−６−［（Ｅ）−２−メトキシビニル］−１，３−ベンゾジオキシンおよび２，３−ジヒドロ−６−［（Ｚ）−２−メトキシビニル］−１，３−ベンゾジオキシンの合成：
窒素雰囲気下、無水メタノール５４ｍＬに水素化ナトリウム（６０％ｉｎ  ｏｉｌ）１．０６ｇ（２６．５ｍｍｏｌ）を０℃で加え、更に、メチレンジオキシトリフェニルフォスフィンクロリド８．２７ｇ（２４．１ｍｍｏｌ）の無水メタノール溶液５０ｍＬを滴下し、室温で３０分攪拌した。反応液を濃縮後、ベンゼンで含有するメタノールを共沸除去し、減圧乾燥した。得られた粗生成物に３，４−エチレンジオキシベンズアルデヒド３．０ｇ（１８．３ｍｍｏｌ）のベンゼン溶液６４ｍＬを加え、３時間加熱還流し、更に、室温で１９時間攪拌した。反応液を、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３７７）を混合物として３．８１ｇ（定量的収率）得た。
【化１４４】
2004026292.tif 000143
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．６５，３．７４（ｓ，３Ｈ×２），４．２３，４．２４（ｓ，４Ｈ×２），５．１１（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，１Ｈ），６．０４（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７１−６．７９（ｍ，４Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９８−７．２１（ｍ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８４（Ｍ）
製造例  １３２
［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチル］アミノ］酢酸の合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド５８５ｍｇ（３．３９ｍｍｏｌ）、製造例１３０で得たＢＡＫ−ＫＡ３７５  ８０４ｍｇ（３．３９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．４２ｍＬ（１０．２ｍｍｏｌ）、クロロホルム３５ｍＬを室温で３．５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、表題化合物のメチルエステル体（ＢＡＫ−ＫＡ３７９）を９７１ｍｇ（収率６２％）得た。
上記で得られたＢＡＫ−ＫＡ３７９  ９７１ｍｇ（２．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム２５２ｍｇ（６．３０ｍｍｏｌ）、メタノール５ｍＬ、水５ｍＬを室温で４．５時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、塩化メチレン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８０）を７６２ｍｇ得た（収率８１％）。
【化１４５】
2004026292.tif 000144
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
４．０５（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｓ，４Ｈ），４．３５（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４４６（Ｍ）
製造例  １３３
（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾオキシ−６−イル）アセトアルデヒドの合成：
製造例１３１で得たＢＡＫ−ＫＡ３７７  ３．８１ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）、硫酸１．８２ｍＬ、無水テトラヒドロフラン９５ｍＬ、水１８ｍＬを５時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８１）を２．６７ｇ（収率７６％）得た。
【化１４６】
2004026292.tif 000145
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．５７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２６（ｓ，４Ｈ），６．６４−６．８８（ｍ，３Ｈ），９．７０（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  １７８（Ｍ）
製造例  １３４
メチル［［２−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
製造例１３３で得たＢＡＫ−ＫＡ３８１  ２．６７ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）、グリシンメチルエステル塩酸塩２．５０ｇ（１９．９ｍｍｏｌ）、シアノトリヒドロホウ素化ナトリウム７５４ｍｇ（１２．０ｍｍｏｌ）、無水メタノール２００ｍＬを室温で１４．５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１→クロロホルム：メタノール＝１０：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８３）を２．２５ｇ（収率６０％）得た。
【化１４７】
2004026292.tif 000146
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６６−２．７４（ｍ，２Ｈ），２．８０−２．８８（ｍ，２Ｈ），３．４２（ｓ，２Ｈ），３．７２（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｓ，４Ｈ），６．６５−６．８１（ｍ，３Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ２５１（Ｍ）
製造例  １３５
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
３，５−ベンゼンスルホニルクロリド１．５４ｇ（８．９５ｍｍｏｌ）、製造例１３４で得たＢＡＫ−ＫＡ３８３  ２．２５ｇ（８．９５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン３．７５ｍＬ（２６．９ｍｍｏｌ）、クロロホルム８９ｍＬを室温で１６時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８４）を２．２１ｇ（収率５２％）得た。
【化１４８】
2004026292.tif 000147
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６９（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｓ，４Ｈ），６．５４−６．７８（ｍ，３Ｈ），７．５４（ｓ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７５（Ｍ）
製造例  １３６
［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）エチル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８５）を収率９０％で得た。
【化１４９】
2004026292.tif 000148
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７４（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．４７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．０２（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｓ，４Ｈ），６．５４−６．７８（ｍ，３Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６１（Ｍ）
製造例  １３７
２−［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］（３，４−ジメトキシフェネチル）アミノ］−Ｎ−メチルアセタミドの合成：
製造例１３５で得たＢＡＫ−ＫＡ３８４  ２．７６ｇ（５．７７ｍｍｏｌ）、メチルアミンメタノール溶液（４０％溶液）５．００ｍＬ、メタノール５．００ｍＬを室温で１７時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、塩化メチレン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８９）を１．９５ｇ得た。
更に、濾液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝３０：１）にて精製し、同じく表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ３８９）を３５８ｍｇ（収率８４％）得た。
【化１５０】
2004026292.tif 000149
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
１．５９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．８０（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，３Ｈ），３．４８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，８Ｈ），６．６２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６３−６．８０（ｍ，３Ｈ），７．５６（ｓ，２Ｈ），９．１７（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７６（Ｍ＋）
製造例  １３８
２−［４［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］エチルアセテートの合成：
製造例７５で得たＢＡＫ−Ｇ４７３  ２０１．６ｍｇ（０．６０４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１６７ｍｇ（１．２１ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ４ｍＬに、２−ブロモエチルアセテート０．１３ｍＬ（１．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：３）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ６８７）を２１９ｍｇ（収率８６％）得た。
【化１５１】
2004026292.tif 000150
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．１０（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），４．２３（ｍ，２Ｈ），４．４４（ｍ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．８０−７．００（ｍ，４Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈｚ）
製造例  １３９
７−クロロ−４−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メトキシベンジル］−３，４−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−５（２Ｈ）−オンの合成：
製造例１３８で得たＢＡＫ−Ｇ６８７  ２００ｍｇ（０．４７６ｍｍｏｌ）、メタノール４ｍＬに、１０％水酸化ナトリウム水溶液２ｍＬを加え、室温で２時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ６９２）を１６５ｍｇ（収率９２％）得た。
【化１５２】
2004026292.tif 000151
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８９（ｂｒｓ，１Ｈ），３．４５（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｂｒｓ，２Ｈ），４．０５−４．２０（ｍ，４Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．８０−７．００（ｍ，４Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７７（Ｍ＋）
製造例  １４０
［４−［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］アセトニトリルの合成：
製造例７５で得たＢＡＫ−Ｇ４７３  ２０２．３ｍｇ（０．６０６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１６７ｍｇ（１．２１ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ４ｍＬに、ブロモアセトニトリル０．０８５ｍＬ（１．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ６８９）を２２４ｍｇ（収率９９％）得た。
【化１５３】
2004026292.tif 000152
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４７（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１７（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），４．８３（ｓ，２Ｈ），６．８８（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７２（Ｍ＋）
製造例  １４１
［４−［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］ジフルオロ酢酸の合成：
製造例７５で得たＢＡＫ−Ｇ４７３  ２００ｍｇ（０．５９９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４１４ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ４ｍＬに、エチルブロモジフルオロアセテート０．３９ｍＬ（３．００ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、エチルエステル体を１９７．７ｍｇ（収率７２％）得た。
このエチルエステル体１８０ｍｇ（０．３９５ｍｍｏｌ）、メタノール４ｍＬに、１０％水酸化ナトリウム水溶液２ｍＬを加え、室温で３時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ６９３）を１８８ｍｇ得た（未精製）。
【化１５４】
2004026292.tif 000153
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４９（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４．７９（ｓ，２Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．９９（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２７（Ｍ＋）
製造例  １４２
メチル［４−［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］フェノキシ］アセテートの合成：
４−ヒドロキシベンズアルデヒド１０．００ｇ（８１．９７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２２．６２ｇ（１６３．９ｍｍｏｌ）、アセトン１００ｍＬに、ブロモ酢酸メチル９．３ｍＬ（９８．３６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液をろ過後、ろ液を濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、メチル（４−ホルミルフェノキシ）アセテート（ＢＡＫ−Ｇ６８８）を１４．７４ｇ（収率９３％）得た。
得られたＢＡＫ−Ｇ６８８  ２．０４ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）、エタノール２０ｍＬ、２−クロロエチルアミン塩酸塩２．４４ｇ（２１ｍｍｏｌ）、酢酸０．６ｍＬを、室温で３０分間攪拌した。反応液を氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム２７９ｍｇ（７．３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、減圧乾燥し、（２−クロロエチル）［４−［（メトキシカルボニル）メトキシ］ベンジル］アンモニウムクロリド（ＢＡＫ−Ｇ６９９）を１．７５ｇ（収率５７％）得た。
得られたＢＡＫ−Ｇ６９９  １．２３ｇ（４．１８ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１２ｍＬ、ＤＢＵ３．１ｍＬ（２０．９ｍｍｏｌ）を氷冷し、ここに５−クロロサリチル酸クロリド１．６ｇ（８．３６ｍｍｏｌ）の酢酸エチル溶液１６ｍＬを滴下した。反応液を室温で４時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７０１）を７０２．７ｍｇ（収率４５％）得た。
【化１５５】
2004026292.tif 000154
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４３（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．１５（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７５（Ｍ＋）
製造例  １４３
メチル［５−［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］アセテートの合成：
製造例１４２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７０２）を得た。
【化１５６】
2004026292.tif 000155
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４２（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１２（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．７２（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９３（ｍ，３Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０５（Ｍ＋）
製造例  １４４
［４−［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］フェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７０３）を得た。
【化１５７】
2004026292.tif 000156
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４４（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．１５（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３６１（Ｍ＋）
製造例  １４５
２−［４−［［７−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］−Ｎ−メチルアセトアミドの合成：
製造例７７で得たＢＡＫ−Ｇ４７５  １．０１ｇ（２．５８ｍｍｏｌ）、ＤＩＥＡ１．３５ｍＬ（７．７４ｍｍｏｌ）、１，１’−カルボニルジイミダゾール６２７ｍｇ（３．８７ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ２０ｍＬを、室温で３０分間攪拌した。反応液にメチルアミン塩酸塩３５１ｍｇ（５．１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１９）を８９３．９ｍｇ（収率８６％）得た。
【化１５８】
2004026292.tif 000157
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．９１（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，３Ｈ），３．４６（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１６（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．５２（ｓ，２Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），６．８０−７．００（ｍ，５Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０４（Ｍ＋）
製造例  １４６
メチル［２−メトキシ−４−［［７−メトキシ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−フェノキシ］アセテートの合成：
製造例１４２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７０６）を得た。
【化１５９】
2004026292.tif 000158
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４２（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．０７（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，２Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），６．７５−７．００（ｍ，５Ｈ），７．３１（ｄｄ，Ｊ＝０．４，２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０１（Ｍ＋）
製造例  １４７
メチル［２−メトキシ−４−［［７−メチル−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−フェノキシ］アセテートの合成：
製造例１４２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７０８）を得た。
【化１６０】
2004026292.tif 000159
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．３５（ｓ，３Ｈ），３．４２（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），４．１１（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，２Ｈ），４．６９（ｓ，２Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８０（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８５（Ｍ＋）
製造例  １４８
メチル［４−［［８−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］アセテートの合成：
製造例１４２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１０）を得た。
【化１６１】
2004026292.tif 000160
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４６（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．１８（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．７５（ｓ，２Ｈ），６．７０−６．８５（ｍ，２Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１５（ｄｄ，Ｊ＝２．０，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０５（Ｍ＋）
製造例  １４９
メチル［２−メトキシ−４−［［５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］フェノキシ］アセテートの合成：
製造例１４２と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１６）を得た。
【化１６２】
2004026292.tif 000161
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．４５（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．１５（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８４（ｄｄ，Ｊ＝１．７，８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄｔ，１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄｔ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８６（ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７１（Ｍ＋）
製造例  １５０
［２−メトキシ−４−［［７−メトキシ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］フェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１１）を得た。
【化１６３】
2004026292.tif 000162
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．４４（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｓ，６Ｈ），４．１１ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），４６３（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），６．８０−７．００（ｍ，４Ｈ），７．０５（ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３８７（Ｍ＋）
製造例  １５１
［２−メトキシ−４−［［７−メチル−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］フェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１２）を得た。
【化１６４】
2004026292.tif 000163
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
２．３０（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），４．１５（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｂｒｓ，２Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｂｒｓ，１Ｈ），７．２７（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３７１（Ｍ＋）
製造例  １５２
［４−［［８−クロロ−５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１３）を得た。
【化１６５】
2004026292.tif 000164
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．５２（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），４．２４（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｂｒｓ，２Ｈ），６．９７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３９１（Ｍ＋）
製造例  １５３
［２−メトキシ−４−［［５−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］フェノキシ］酢酸の合成：
製造例６８と同様の方法で、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７１７）を得た。
【化１６６】
2004026292.tif 000165
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．４８（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），４．６７（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｂｒｓ，２Ｈ），６．９８（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０３（ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｄｔ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄｔ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３５７（Ｍ＋）
製造例  １５４
４−［４−（ベンジロキシ）−３−メトキシベンジル］−７−クロロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオンの合成：
氷冷下、製造例４３で得たＢＡＫ−Ｇ３９５  ８１０．９ｍｇ（２．０４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１．１３ｇ（８．１６ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ１６ｍＬに、クロロアセチルクロリド０．６６ｍＬ（８．１６ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で２時間、４０℃で２０時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ６９５）を７５４．３ｍｇ（収率８４％）得た。
【化１６７】
2004026292.tif 000166
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８８（ｓ，３Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．８５−７．１０（ｍ，３Ｈ），７．２５−７．５０（ｍ，６Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４３７（Ｍ＋）
製造例  １５５
７−クロロ−４−（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル）−１，４−ベンゾキサアゼピン−３，５（２Ｈ，４Ｈ）−ジオンの合成：
製造例１５４で得たＢＡＫ−Ｇ６９５  ７４６．３ｍｇ（１．７０ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１５ｍＬに、１０％Ｐｄ−Ｃ７４ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で２時間攪拌した。反応液をセライトろ過後、ろ液を濃縮し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ６９６）を６５８．３ｍｇ得た（未精製）。
【化１６８】
2004026292.tif 000167
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８８（ｓ，３Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），５．５８（ｓ，１Ｈ），６．８０−７．１０（ｍ，４Ｈ），７．４４（ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ３４７（Ｍ＋）
製造例  １５６
ベンジル［４−［［７−クロロ−３，５−ジオキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］アセテートの合成：
製造例１５５で得たＢＡＫ−Ｇ６９６  ６４０ｍｇ（１．８４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム５０８ｍｇ（３．６８ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ１０ｍＬに、ブロモ酢酸ベンジル０．５８ｍＬ（３．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７２２）を７３７ｍｇ（収率８１％）得た。
【化１６９】
2004026292.tif 000168
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．８５（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），５．２１（ｓ，２Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９３（ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．４０（ｍ，５Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４９５（Ｍ＋）
製造例  １５７
［４−［［７−クロロ−３，５−ジオキソ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサアゼピン−４（５Ｈ）−イル］メチル］−２−メトキシフェノキシ］酢酸の合成：
製造例１５５で得たＢＡＫ−Ｇ７２２  ７２０ｍｇ（１．４５ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１０ｍＬに、１０％Ｐｄ−Ｃ７０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で２時間攪拌した。反応液をセライトろ過後、ろ液を濃縮し、残渣をエタノールから再結晶し、表題化合物（ＢＡＫ−Ｇ７２３）を３０４．８ｍｇ（収率５２％）得た。
【化１７０】
2004026292.tif 000169
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：
３．７３（ｓ，２Ｈ），４．６０（ｓ，２Ｈ），５．００（ｓ，４Ｈ），６．７５（ｂｒｓ，２Ｈ），６．９３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），１３．００（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４０５（Ｍ＋）
製造例  １５８
メチル［［２−（４−クロロフェニル）エチル］［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ］アセテートの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４２４）を得た。
【化１７１】
2004026292.tif 000170
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８３（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｓ，３Ｈ），４．３４（ｓ，２Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４５１（Ｍ），４５３（Ｍ＋２），４５５（Ｍ＋４）
製造例  １５９
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−（インドール−３−イルメチル）ベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４２５）を得た。
【化１７２】
2004026292.tif 000171
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．４５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），６．４４（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．１０−７．４１（ｍ，７Ｈ），８．１６（ｂｒｓ，１Ｈ），９．２７（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５３４（Ｍ），５３６（Ｍ＋２）
製造例  １６０
［［２−（４−クロロフェニル）エチル］［３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４２６）を得た。
【化１７３】
2004026292.tif 000172
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．１１（ｓ，２Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４３７（Ｍ），４３９（Ｍ＋２），４４１（Ｍ＋４）
製造例  １６１
メチル４−［［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］メチル］ベンゾエートの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４４３）を得た。
【化１７４】
2004026292.tif 000173
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．３９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），４．４５（ｓ，２Ｈ），６．４５−６．７４（ｍ，３Ｈ），７．３３（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），９．０４（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５５３（Ｍ），５５５（Ｍ＋２），５５７（Ｍ＋４）
製造例  １６２
４−［［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］メチル］安息香酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４４５）を得た。
【化１７５】
2004026292.tif 000174
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６４（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４２（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），４．４７（ｓ，２Ｈ），６．４６−６．７５（ｍ，３Ｈ），７．３７（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０７（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），９．００（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５３９（Ｍ），５４１（Ｍ＋２），５４３（Ｍ＋４）
製造例  １６３
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジメチルフェニル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−［（２−チエニル）メチル］ベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４５０）を得た。
【化１７６】
2004026292.tif 000175
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８５（ｓ，６Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），６．５７−７．２９（ｍ，６Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），９．１２（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５０１（Ｍ＋），５０３（Ｍ＋２），５０５（Ｍ＋４）
製造例  １６４
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジメチルフェニル）エチル］−Ｎ−［（２−フリル）メチル］−２−ヒドロキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４５１）を得た。
【化１７７】
2004026292.tif 000176
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），６．２４−６．８１（ｍ，６Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），９．２１（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４８５（Ｍ），４８７（Ｍ＋２），４８９（Ｍ＋４）
製造例  １６５
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジメチルフェニル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−（ピロール−２−イルメチル）ベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４５２）を得た。
【化１７８】
2004026292.tif 000177
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．６３（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．４０（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），４．３４（ｓ，２Ｈ），６．１２−６．８３（ｍ，６Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｂｒｓ，１Ｈ），８．９６（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４８４（Ｍ＋），４８６（Ｍ＋２），４８８（Ｍ＋４）
製造例  １６６
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（２，５−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４５６）を得た。
【化１７９】
2004026292.tif 000178
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４７（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７３（ｓ，６Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），４．１４（ｓ，２Ｈ），６．６０−６．７０（ｍ，３Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），９．１４（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７７（Ｍ），４７９（Ｍ＋２）
製造例  １６７
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（４−メチルフェニル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４５７）を得た。
【化１８０】
2004026292.tif 000179
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．３０（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｓ，２Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５２（ｓ，２Ｈ），８．９８（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４３１（Ｍ）
製造例  １６８
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−［（１，３−チアゾール−２−イル）メチル］ベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４６５）を得た。
【化１８１】
2004026292.tif 000180
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．５１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），４．７８（ｓ，２Ｈ），６．５７−６．７６（ｍ，３Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ５０２（Ｍ），５０４（Ｍ＋２）
製造例  １６９
［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（２，５−ジメトキシフェニル）エチル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４５９）を得た。
【化１８２】
2004026292.tif 000181
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．７９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｓ，２Ｈ），６．５９−６．６９（ｍ，３Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６３（Ｍ），４６５（Ｍ＋２）
製造例  １７０
［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（４−メチルフェニル）エチル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４６０）を得た。
【化１８３】
2004026292.tif 000182
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．３１（ｓ，３Ｈ），２．８１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．０９（ｓ，２Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４１７（Ｍ）
製造例  １７１
メチル［［２−［４−（アミノスルホニル）フェニル］エチル］［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ］アセテートの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４６４）を得た。
【化１８４】
2004026292.tif 000183
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．９７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．５４（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｓ，３Ｈ），４．０５（ｓ，２Ｈ），４．８０（ｂｒｓ，２Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．５５（ｓ，２Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），８．８１（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４９６（Ｍ），４９８（Ｍ＋２）
製造例  １７２
［［２−［４−（アミノスルホニル）フェニル］エチル］［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４６６）を得た。
【化１８５】
2004026292.tif 000184
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．９３（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．５４（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．０４（ｓ，２Ｈ），５．９９（ｓ，２Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）
ＭＳ（Ｑ−ＴＯＦ）Ｅ／Ｚ＋ＥＳＩ  ４８３．０（Ｍ），４８５（Ｍ）
−ＥＳＩ  ４８１．０（Ｍ−１），４８３．０（Ｍ＋１）
製造例  １７３
メチル［［（３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（４−フルオロフェニル）エチル］アミノ］アセテートの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４６９）を得た。
【化１８６】
2004026292.tif 000185
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．００（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｓ，２Ｈ），６．９１−７．１２（ｍ，４Ｈ），７．５３（ｓ，２Ｈ），８．９２（ｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４３５（Ｍ）
製造例  １７４
３，５−ジクロロ−Ｎ−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−（キノリン−２−イルメチル）ベンゼンスルホンアミドハイドロクロライドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４７０）を得た。
【化１８７】
2004026292.tif 000186
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８０（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６４（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６８（ｓ，３Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），５．５３（ｓ，２Ｈ），６．４１−６．６３（ｍ，３Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８９−７．９４（ｍ，２Ｈ），８．０３−８．１０（ｍ，２Ｈ），８．５９（ｄ，１Ｈ），８．８３（ｄ，１Ｈ）
ＭＳ（Ｑ−ＴＯＦ）Ｅ／Ｚ＋ＥＳＩ  ５４５．１（Ｍ−ＨＣＩ＋１）
−ＥＳＩ  ５４６．１（Ｍ−ＨＣＩ−１）
製造例  １７５
３，５−ジクロロ−Ｎ−（シアノメチル）−Ｎ−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル］−２−ヒドロキシベンゼンスルホンアミドの合成：
製造例１１４と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４７１）を得た。
【化１８８】
2004026292.tif 000187
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８８（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．５５（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，２Ｈ），４．１５（ｓ，２Ｈ），６．６８−６．８１（ｍ，３Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｂｒｓ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４４４（Ｍ），４４６（Ｍ＋２）
製造例  １７６
［［３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニル）スルホニル］［２−（４−フルオロフェニル）エチル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１１６と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４７２）を得た。
【化１８９】
2004026292.tif 000188
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
２．８３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．１０（ｓ，２Ｈ），６．９１−７．１１（ｍ，４Ｈ），７．５２（ｓ，２Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４２１（Ｍ），４２３（Ｍ＋２）
製造例  １７７
６，８−ジクロロ−２−［３−メトキシ−４−［（メトキシカルボニル）メトキシ］ベンジル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−５，１，２−ベンゾキサジアゼピン［２−（４−フルオロフェニル）エチル］アミノ］酢酸の合成：
製造例１４２と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４７９）を得た。
【化１９０】
2004026292.tif 000189
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．６６（ｔ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，２Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．１６（ｓ，２Ｈ），４．２１（ｔ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，２Ｈ），４．６９（ｓ，２Ｈ），６．７４−６．８９（ｍ，３Ｈ），７．５９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４７５（Ｍ），４７７（Ｍ＋２）
製造例  １７８
２−［４−（カルボキシメトキシ）−３−メトキシベンジル］−６，８−ジクロロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−５，１，２−ベンゾキサジアゼピン１，１−ジオキシドの合成：
製造例６８と同様の方法で表題化合物（ＢＡＫ−ＫＡ４８１）を得た。
【化１９１】
2004026292.tif 000190
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：
３．６７（ｔ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，２Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），４．１７（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｔ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），６．７９−６．９４（ｍ，３Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）
ＭＳ（ＥＩ）Ｅ／Ｚ  ４６１（Ｍ），４６３（Ｍ＋２）
試験例  １
カプサイシン誘発咳嗽モデルを用いた鎮咳作用の確認試験（１）：
Ｈａｒｔｌｅｙ系モルモット（東京実験動物、雄、５週齢）をボディー・プレシスモグラフのシリンダー内に入れ、シリンダーの前面から超音波ネブライザーを接続し、カプサイシン生理食塩水溶液を７〜１０分間吸入させ咳を惹起させた。ボディー・プレシスモグラフの内圧変化をポリグラフに記録させ、ポリグラフの変化と動物の胸部の動きを同時に観察しながら、咳の発生回数を計測した。
鎮咳作用は、被験化合物投与前の咳発生回数（ｐｒｅ値）と被験化合物の経口投与１時間後の咳発生回数（ｐｏｓｔ値）から、下記計算式により算出した咳嗽抑制率として表した。
咳嗽抑制率（％）＝（ｐｒｅ値−ｐｏｓｔ値）／ｐｒｅ値×１００
また、被験化合物の鎮咳作用が中枢性の作用か末梢性の作用かを確かめるため、被験化合物投与１５分前にメチセルガイド（３ｍｇ／ｋｇ）を腹腔内投与し、被験化合物の鎮咳作用に与える影響を調べた。
中枢性鎮咳薬の作用発現にシナプス後膜のセロトニン受容体（５−ＨＴ１Ａ）の活性化が関与することが報告されており（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｙａｋｕｒｉｇａｋｕ  Ｚａｓｓｈｉ，１１１（６），ｐ３４５（１９９８））、中枢性鎮咳作用は、セロトニン受容体拮抗剤であるメチセルガイドによって消失または減弱することが知られていることから、この影響の有無で、中枢性か末梢性かがわかる。
（結  果）
2004026292.tif 000191
３０ｍｇ／ｋｇの経口投与で３種類の被験化合物（製造例２、３、３４）は鎮咳作用を示した。
また、製造例３の化合物はメチセルガイドで前処置したモルモットに対しても鎮咳作用を示した（鎮咳作用の残存率は９８．９％）。従って、モグイステインと同様の末梢性の鎮咳作用を有する可能性が示された。
試験例  ２
カプサイシン誘発咳嗽モデルを用いた鎮咳作用の確認試験（２）：
試験例１と同様の方法で、投与量１０ｍｇ／ｋｇの被験化合物の鎮咳作用を調べた。作用機序については、メチセルガイドで前処置したモルモットに対する鎮咳作用の残存率が７０％以上の被験化合物を末梢性鎮咳作用と判定した。
対照として中枢性鎮咳薬であるジヒドロコデインを用いた。
（結  果）
2004026292.tif 000192
殆どの被験化合物が１０ｍｇ／ｋｇの経口投与でジヒドロコデインと同等以上の鎮咳作用を示した。また、約半数の１５化合物が末梢性の鎮咳作用を有する可能性を示した。
試験例  ３
カプサイシン誘発咳嗽モデルを用いた鎮咳作用の確認試験（３）：
試験例１と同様の方法で、投与量３ｍｇ／ｋｇの被験化合物の鎮咳作用を調べた。
対照として中枢性鎮咳薬であるジヒドロコデインを用いた。
（結  果）
2004026292.tif 000193
試験例２で末梢性の鎮咳作用を示した７個の被験化合物は、３ｍｇ／ｋｇの経口投与でジヒドロコデインと同等以上の鎮咳作用を示した。
【産業上の利用可能性】  本発明化合物は、優れた鎮咳作用を有するものであり、その中には末梢性の鎮咳作用を有するものが存在する。従って、これら化合物は既存の中枢性鎮咳薬と異なる作用メカニズムを有し、中枢性の副作用がほとんど無い優れた鎮咳薬として使用できるものである。
このような化合物を有効成分とする本発明の鎮咳薬は、咳を伴う多くの疾患、例えば、感冒、気管支炎、肺炎、喘息、上気道炎、胸膜炎、百日咳等の呼吸器疾患の際の咳嗽の抑制や緩和に有利に使用できるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年3月16日(2004.3.16)
【手続補正００１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】次式（ＩＢ）
【化３】
2004026292.tif 000198
（式中、Ａ’は、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシアルキル基、ピリジルアルキル基、ピリジンオキシド−イルアルキル基、キノリルアルキル基、インドリルアルキル基、ピロリジルアルキル基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、ピロリルアルキル基、イミダゾリルアルキル基、ピラゾリルアルキル基、チアゾリルアルキル基、アミノカルボニルアルキル基、シアノアルキル基、カルボキシルベンジル基を示し、Ｂは、カルボニル基またはスルホニル基を示し、Ｒ’は、保護されていても良い水酸基を、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基を、ｎは１または２の数を意味し、ｎが１のときＲ３およびＲ４は、それぞれ独立して、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基、シアノアルキルオキシ基、アミノスルホニル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アミノカルボニルアルキルオキシ基を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示し、ｎが２のときＲ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、アルコキシ基、ベンジルオキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基、カルボキシルアルキルオキシ基、シアノアルキルオキシ基、アミノスルホニル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アミノカルボニルアルキルオキシ基を示すか、これらが一緒になってアルキレンジオキシ基を示す）
で表される化合物。




【国際調査報告】
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2004026292.tif 000200
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2004026292.tif 000202
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