(57)【要約】レーザー光が薄膜カバー層を通して記録層に照射される方式の光ディスクにおいて、薄膜カバー層の表面に、重合性単量体（Ａ）と、コロイド状シリカ（Ｂ）と、潤滑性付与剤（Ｃ）と、活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）と、を成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなるハードコート層が形成された光ディスク。ただし、潤滑性付与剤（Ｃ）は、１分子中に、潤滑性を発現する部位（ｃ−１）、重合性単量体との相溶性に優れる部位（ｃ−２）および活性エネルギー線硬化性の官能基（ｃ−３）を有する潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）を含有する。本発明の光ディスクは、薄膜カバー層の表面に形成されたハードコート層が耐磨耗性、透明性および長期の表面潤滑性に優れる。
2004047094.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板面に、記録層と、厚さ５〜２００μｍの薄膜カバー層と、がこの順に積層されており、データの記録および／または再生に用いられるレーザー光が前記薄膜カバー層を通して前記記録層に照射される方式の光ディスクにおいて、
前記薄膜カバー層上に、ハードコート層（Ｘ）が形成されており、
前記ハードコート層（Ｘ）は、活性エネルギー線硬化性の重合性単量体（Ａ）と、平均粒径１〜２００ｎｍのコロイド状シリカ（Ｂ）と、潤滑性付与剤（Ｃ）と、活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）と、を含む活性エネルギー線硬化性組成物（Ｑ）の硬化物からなることを特徴とする光ディスク。
ただし、前記重合性単量体（Ａ）は、前記硬化性組成物（Ｑ）に含有される該重合性単量体（Ａ）の総質量中、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選択される重合性官能基を１分子中に２個以上有する多官能性重合性単量体（ａ−１）が２０質量％以上であり、
前記潤滑性付与剤（Ｃ）は、１分子中に、下記式（１）で表される部分からなる部位（ｃ−１）と、下記式（２）〜（５）で表される部分からなる群から選択される少なくとも１つからなる部位（ｃ−２）と、活性エネルギー線硬化性の官能基（ｃ−３）と、を有する潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）を含有する。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｍ−            ・・・式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基またはフェニル基のいずれかであり、ｍは１〜１０００の整数である。）
−Ｒ３−                            ・・・式（２）
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ−            ・・・式（３）
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｙ−    ・・・式（４）
−（Ｃ（＝Ｏ）ＣｕＨ２ｕＯ）ｔ−    ・・・式（５）
（式中、Ｒ３は炭素数６〜２０のアルキレン基であり、ｘおよびｙは５〜１００の整数であり、ｕは３〜５の整数であり、ｔは１〜２０の整数である。）
【請求項２】
重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、平均粒径１〜２００ｎｍのコロイド状シリカ（Ｂ）を５〜３００質量部、潤滑性付与剤（Ｃ）を０．０１〜１０質量部、および活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）を０．０１〜２０質量部を含む請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
前記コロイド状シリカ（Ｂ）は、メルカプト基を有する有機基と、加水分解性基および／または水酸基とが、ケイ素原子に結合しているメルカプト基含有シラン化合物で表面修飾して得られる修飾コロイド状シリカである請求項１又は２に記載の光ディスク。
【請求項４】
前記メルカプト基含有シラン化合物は、下記式（６）で表される化合物である請求項３に記載の光ディスク。
ＨＳ−Ｒ−ＳｉＸＬＲ０３−Ｌ    ・・・式（６）
（式中、Ｒはアルキレン基、Ｒ０はアルキル基、Ｘは水酸基または加水分解性基、Ｌは１〜３の整数を表す。）
【請求項５】
前記コロイド状シリカ（Ｂ）は、（メタ）アクリロイル基を有する有機基と、加水分解性基および／または水酸基とが、ケイ素原子に結合している（メタ）アクリロイル基含有シラン化合物で表面修飾して得られる修飾コロイド状シリカである請求項１又は２に記載の光ディスク。
【請求項６】
前記（メタ）アクリロイル基含有シラン化合物は、下記式（７）で表される化合物である請求項５に記載の光ディスク。
ＣＨ２＝ＣＨ（Ｒ５）ＣＯＯ−Ｒ−ＳｉＸＬＲ０３−Ｌ    ・・・式（７）
（式中、Ｒ５は水素原子またはメチル基、Ｒはアルキレン基、Ｒ０はアルキル基、Ｘは水酸基または加水分解性基、Ｌは１〜３の整数を表す。）
【請求項７】
ハードコート層（Ｘ）の厚さは０．１〜２０μｍである請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、ディスク基板の表面に記録層および薄膜カバー層がこの順に積層されており、データの記録および／または再生に用いられるレーザー光が薄膜カバー層を通して記録層に照射される方式の光ディスクにおいて、薄膜カバー層の表面にさらに耐磨耗性、透明性、長期の表面潤滑性に優れたハードコート層が形成された光ディスクに関する。
【背景技術】  近年、マルチメディア化に対応して、大量のデータを高密度かつ迅速に記録し、かつ迅速に再生する光記録装置が注目されている。このような光記録装置には、コンパクトディスク（ＣＤ）、レーザーディスク（ＬＤ）のようにディスク作製時にデータを予めディスク上にスタンピングし情報再生のみを可能とした再生専用型ディスク上の情報を再生するもの、ＣＤ−Ｒのように一度だけデータの記録を可能とした追記型ディスクにデータを記録し、該記録されたデータを再生するもの、光磁気記録方式や相変化記録方式を用いて何度でもデータの書き換え消去を可能とした書換え型ディスクにデータを記録し、該記録されたデータを再生するものがある。これら光記録装置では、データの記録および再生はレーザー光をレンズで回折限界にまで絞り込んだ光スポットを用いて行われる。この光スポットのサイズは、レーザー光の波長をλ、レンズの開口数をＮＡとすると、λ／ＮＡ程度となる（角田義人監修、「光ディスクストレージの基礎と応用」、社団法人電子情報通信学会、１９９５年、ｐ６５）。
より高密度にデータを記録する、すなわち、より小さいピットパターンを光記録媒体上に形成するためには、光スポットをより小さくする必要がある。光スポットのサイズを小さくするためには、上式からレーザー光波長（λ）を短くする方法、またはレンズの開口数（ＮＡ）を大きくする方法の２通りの方法が考えられる。現在用いられている光ディスク用半導体レーザーの波長は主に７８０〜６８０ｎｍであるが、より短波長の６５０ｎｍの橙色レーザー、さらに短波長の緑、青色レーザー光などを用いる検討がなされている。
特に青色レーザーを用いる方式としては光源の波長を４００ｎｍ程度、ＮＡを０．６以上とすることで、より大きな記録密度を得ることが提案されている。しかし、光源の短波長化や対物レンズの高ＮＡ化が原因で、光ディスク面が光軸に対して垂直からずれる角度（チルト角）の許容量や光ディスクの厚さむらの許容量が小さくなる。
これら許容量が小さくなる理由は、光ディスクのチルト角の場合にはコマ収差が発生し、光ディスクの厚さむらの場合には球面収差が発生するために、光ヘッド装置の集光特性が低下して信号の読み取りが困難になることによる。
従来のコンパクトディスク（ＣＤ）等では記録層の表面に設けることが可能なカバー層の厚さが１．２ｍｍであり、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）等では該厚さが０．６ｍｍであったため、それぞれディスク基板自体がカバー層の役割をし、ディスク基板を通して記録層にレーザー光を照射していた。しかし、青色レーザーを用いる方式ではレンズの開口数（ＮＡ）を大きくしつつ、上記チルトの許容量や光ディスクの厚さむらの許容量を少しでも稼ぐために、カバー層の厚さを０．１ｍｍ程度に薄くする必要がある。これにより、従来の光ディスクのように、基板自体にカバー層の役割をさせることが不可能になり、青色レーザーの方式では、記録層（反射膜、記録膜などの積層膜）を形成した表面に厚さ０．１ｍｍ程度の薄膜カバー層を形成し、該薄膜カバー層を通して積層膜にレーザー光を照射することになる。
しかし、青色レーザーのような短波長のレーザーを用いる場合、光ヘッドと光ディスクの間隔が０．１〜０．２ｍｍ程度に小さくなる。光記録装置では、高データ転送レートを達成するために、光ディスクを極めて高速で回転させる必要があり、使用するレーザー光の波長、レンズの開口数（ＮＡ）、ディスクの記録容量および所望されるデータ転送レートの組み合わせにより、光ディスクの最大回転速度が２５００ｒｐｍ以上、場合によっては５０００ｒｐｍ以上に達する場合もある。光ヘッドと光ディスクの間隔が、上記したように非常に狭い状態で、光ディスクをこのような高速で回転させることで、光ヘッドが光ディスクに接触する可能性があり、記録層の表面を覆う薄膜カバー層には高い耐磨耗性が要求される。
また、より短波長のレーザーを用いるようになると、光ディスクのレーザー光入射面に生じた傷や、塵埃の付着が記録および再生時のエラーにつながりやすくなる。そのため、このような記録および再生時のエラーを防止するために、レーザー光の入射面となる薄膜カバー層にはよりいっそうの耐磨耗性が求められるようになってきた。
薄膜カバー層は、耐磨耗性に加えて、表面潤滑性を有することが好ましい。薄膜カバー層が耐磨耗性には優れていても、表面潤滑性が劣っていると、ディスクにかかる摩擦力の絶対値が大きくなるとともに、摩擦力の変動も大きくなる。すると、ディスク回転が不安定になり、記録エラーやトラッキングエラーをひきおこしたりすることになる。
薄膜カバー層への表面潤滑性の付与は、該薄膜カバー層の耐磨耗性を向上にも寄与する。薄膜カバー層の表面に表面潤滑性を付与すると、加えられた外力を逸らすことにより、耐磨耗性が向上するからである。
基板、記録層、保護層、ハードコート層の順に積層された光ディスクであって、該ハードコート層が、コロイダルシリカ微粒子および有機シラン化合物の加水分解生成物を縮合反応して得られる有機被覆シリカ（１）、エチレン性不飽和化合物（２）、スリップ剤（３）、および光重合開始剤（４）を含む組成物の硬化物層である光ディスクが開示されている（特開２００２−２４５６７２号公報参照）。
しかし、スリップ剤（３）として例示されているシリコーンオイルは、組成物の他の成分との親和性が低いため硬化物層の透明性が劣ったり、または硬化物層の表面にブリードアウトしやすく、長期にわたって表面潤滑性を発現できないという問題を有している。
一方、活性水素含有官能基と不飽和基とを有するポリシロキサンを重合開始剤としてε−カプロラクトン等のラクトンを開環重合してなる不飽和基含有シロキサン変性ポリエステルをラジカル硬化性成分として含む硬化性組成物がある（特開２００１−３３５６２４号公報参照）。しかし、当該組成物は耐磨耗性、透明性が劣るという問題があった。
本発明の課題は、ディスク基板の表面に記録層および薄膜カバー層がこの順に積層されており、データの記録および／または再生に用いられる青色レーザー等の短波長のレーザー光が薄膜カバー層を通して記録層に照射される方式の光ディスク（以下、単に光ディスクと記すことがある。）の高性能化を実現することにある。すなわち、該光ディスクの薄膜カバー層の表面に耐磨耗性、透明性および長期の表面潤滑性を発現するハードコート層が形成された光ディスクを提供することにある。
【発明の開示】
本発明は、基板面に、記録層と、厚さ５〜２００μｍの薄膜カバー層と、がこの順に積層されており、データの記録および／または再生に用いられるレーザー光が前記薄膜カバー層を通して前記記録層に照射される方式の光ディスクにおいて、
前記薄膜カバー層上に、ハードコート層（Ｘ）が形成されており、前記ハードコート層（Ｘ）は、活性エネルギー線硬化性の重合性単量体（Ａ）と、平均粒径１〜２００ｎｍのコロイド状シリカ（Ｂ）と、潤滑性付与剤（Ｃ）と、活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）と、を含む活性エネルギー線硬化性組成物（Ｑ）の硬化物からなることを特徴とする光ディスクを提供する。
ただし、前記重合性単量体（Ａ）は、前記硬化性組成物（Ｑ）に含有される該重合性単量体（Ａ）の総質量中、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選択される重合性官能基を１分子中に２個以上有する多官能性重合性単量体（ａ−１）が２０質量％以上であり、
前記潤滑性付与剤（Ｃ）は、１分子中に、下記式（１）で表される部分からなる部位（ｃ−１）と、下記式（２）〜（５）で表される部分からなる群から選択される少なくとも１つからなる部位（ｃ−２）と、活性エネルギー線硬化性の官能基（ｃ−３）と、を有する潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）を含有する。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｍ−      ・・・式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基またはフェニル基のいずれかであり、ｍは１〜１０００の整数である。）
−Ｒ３−                            ・・・式（２）
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ−              ・・・式（３）
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｙ−      ・・・式（４）
−（Ｃ（＝Ｏ）ＣｕＨ２ｕＯ）ｔ−      ・・・式（５）
（式中、Ｒ３は炭素数６〜２０のアルキレン基であり、ｘおよびｙは５〜１００の整数であり、ｕは３〜５の整数であり、ｔは１〜２０の整数である。）
本発明によれば、基板の表面に、記録層と薄膜カバー層とがこの順に積層されており、データの記録および／または再生に用いられる青色レーザーに代表される短波長のレーザー光が薄膜カバー層を通して記録層に照射されるタイプの光ディスクであって、該薄膜カバー層の表面に、耐磨耗性および長期の表面潤滑性に優れ、かつ透明性にも優れたハードコート層を有する光ディスクを提供できる。
前記活性エネルギー線硬化性組成物（Ｑ）は、前記重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、前記コロイド状シリカ（Ｂ）５〜３００質量部、前記潤滑性付与剤（Ｃ）０．０１〜１０質量部、および前記活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）０．１〜２０質量部を含むことが好ましい。
前記コロイド状シリカ（Ｂ）は、メルカプト基を有する有機基と、加水分解性基および／または水酸基とが、ケイ素原子に結合しているメルカプト基含有シラン化合物で表面修飾して得られる修飾コロイド状シリカであることが好ましい。
前記コロイド状シリカ（Ｂ）は、（メタ）アクリロイル基を有する有機基と、加水分解性基および／または水酸基とが、ケイ素原子に結合している（メタ）アクリロイル基含有シラン化合物で表面修飾して得られる修飾コロイド状シリカであることが好ましい。
前記ハードコート層（Ｘ）の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましい。
【図面の簡単な説明】  図１：  本発明の一実施例である光ディスクの断面模式図である。
【符号の説明】
１：基板              ２：案内溝        ３：記録層
４：薄膜カバー層      ５：ハードコート層（Ｘ）
６：光ディスク
【発明を実施するための最良の形態】  本発明における光ディスクは、データの記録および／または再生に短波長のレーザー光、好ましくは波長６５０ｎｍの橙色レーザー光、より好ましくはより短波長の緑色レーザー光もしくは青色レーザー光を用いる超高密度記録用の光ディスクである。すなわち、光ディスク基板面に記録層が形成されており、さらに該記録層の表面に独立して薄膜カバー層が形成されており、該薄膜カバー層を通してレーザー光が照射されるタイプの光ディスクである。
本発明の光ディスクは、上記の構成の光ディスクの薄膜カバー層の表面に、さらに活性エネルギー線硬化性組成物（Ｑ）の硬化物からなるハードコート層（Ｘ）が形成されている。
活性エネルギー線硬化性組成物（Ｑ）（以下、組成物（Ｑ）と記すことがある。）において、活性エネルギー線硬化性の重合性単量体（Ａ）（以下、重合性単量体（Ａ）と記すことがある。）は、後述する活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）の存在下で、活性エネルギー線を照射することで重合反応を開始する単量体である。具体的には、重合性官能基としてアクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能性重合性単量体（ａ−１）（以下、単量体（ａ−１）と記すことがある。）と、後述する単官能性重合性単量体（ａ−２）に代表される他の重合性単量体を包括的に表している。ただし、後述する潤滑性付与剤（Ｃ）に該当する化合物は含まない。以下の説明において、アクリロイル基およびメタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロイル基という。
重合性単量体（Ａ）において、単量体（ａ−１）は、特開平１０−８１８３９号公報の段落番号００１３〜００５２に記載された多官能性化合物（ａ）に相当する。すなわち、活性エネルギー線により重合しうる重合性官能基として、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能性の重合性単量体である。
本発明における単量体（ａ−１）としては、高度な耐磨耗性を発現させる観点から重合性官能基を分子中に３個以上有し、１官能基あたりの分子量が１２０以下であるものが好ましい。このような条件を満たす単量体（ａ−１）としては、以下の化合物が挙げられる。
ペンタエリスリトール又はポリペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸と、の反応生成物であるポリエステルであり、かつ（メタ）アクリロイル基を３個以上、より好ましくは４〜２０個有する多官能性化合物。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が好ましく挙げられる。
一方、ウレタン結合を分子内に有する（メタ）アクリロイル基含有化合物（以下、アクリルウレタンという。）は、そのウレタン結合がその水素結合の作用で擬似架橋点として働き、１官能基あたりの分子量が上記ほど小さくなくても充分高度な耐摩耗性を発現させることが可能であり、好ましく用いることができる。このような条件を満たす単量体（ａ−１）としては、以下の化合物が好ましい。
ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと、ポリイソシアネートと、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと、の反応生成物であるアクリルウレタンであり、かつ（メタ）アクリロイル基を３個以上、より好ましくは４〜２０個有する多官能性化合物。
ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、ポリイソシアネートと、の反応生成物であるアクリルウレタンであり、かつ（メタ）アクリロイル基を３個以上、より好ましくは４〜２０個有する多官能性化合物。
組成物（Ｑ）は、重合性単量体（Ａ）として、単量体（ａ−１）以外の重合性単量体を含んでもよい。単量体（ａ−１）以外の重合性単量体（Ａ）としては、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能性重合性単量体（以下、単量体（ａ−２）とも記す。）または（メタ）アクリロイル基以外の重合性官能基を１個以上有する化合物がある。しかし、（メタ）アクリロイル基以外の重合性官能基は、活性エネルギー線による硬化性が充分でないことが多く、また入手も容易でないことから、単量体（ａ−１）以外の重合性単量体（Ａ）としては、単量体（ａ−２）が好ましい。
単量体（ａ−２）としては、一般式ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４）ＣＯＯＣｚＨ２ｚ＋１（Ｒ４は水素原子またはメチル基であり、ｚは１〜１３の整数である。ＣｚＨ２ｚ＋１は直鎖構造でも分岐構造でもよい。）で表されるアルキル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブタンジオール（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−スルホン酸ナトリウムエトキシ（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、イソボルニルアクリレートなどが挙げられる。
組成物（Ｑ）において、重合性単量体（Ａ）の総質量中、２０〜１００質量％が単量体（ａ−１）であり、５０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましい。組成物（Ｑ）に含まれる重合性単量体（Ａ）のうち、単量体（ａ−１）の割合がこの範囲だと、組成物（Ｑ）の硬化物からなるハードコート層（Ｘ）（以下、単にハードコート層（Ｘ）と記す）の耐磨耗性が特に優れており好ましい
組成物（Ｑ）において、コロイド状シリカ（Ｂ）は、分散媒中にコロイド状に分散した無水ケイ酸の超微粒子であり、分散媒は特に限定されないが、通常、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコールのような低級アルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ類；ジメチルアセトアミド、トルエン、キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ペンチル、アセトン等が使用される。
コロイド状シリカ（Ｂ）の平均粒径は１〜２００ｎｍであり、ハードコート層（Ｘ）の高い透明性を発現させるために、特に好ましくは平均粒径１〜５０ｎｍである。
またコロイド状シリカ（Ｂ）は分散安定性を向上させるために粒子表面を加水分解性シラン化合物の加水分解物で修飾して使用することもできる。ここで「加水分解物で表面が修飾された」とは、コロイド状シリカ粒子の表面の一部または全部のシラノール基にシラン化合物の加水分解物が物理的又は化学的に結合した状態にあり、これにより表面特性が改質されていることを意味する。なお、加水分解物の縮合反応が進んだものが同様に結合しているシリカ粒子も含まれる。この表面修飾はシリカ粒子存在下にシラン化合物の加水分解性基の一部または全部の加水分解、または加水分解と縮合反応を生じせしめることにより容易に行いうる。
加水分解性シラン化合物としては、（メタ）アクリロイル基、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基などの官能性基を有する有機基と、アルコキシ基などの加水分解性基および／または水酸基とがケイ素原子に結合しているシラン化合物が好ましい。本明細書で加水分解性基とは、ケイ素原子との結合部分で加水分解しうる基をいう。たとえば、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が好ましく挙げられる。
加水分解性シラン化合物としては、メルカプト基を有する有機基と、加水分解性基および／または水酸基とがケイ素原子に結合しているメルカプト基含有シラン化合物が、重合性単量体（Ａ）との反応性の高さの点から好ましい。メルカプト基含有シラン化合物としては、具体的には下記式（６）で表される化合物が例示される。
ＨＳ−Ｒ−ＳｉＸＬＲ０３−Ｌ  ・・・式（６）
（式中、Ｒはアルキレン基、Ｒ０はアルキル基、Ｘは水酸基または加水分解性基、Ｌは１〜３の整数を表す。）
上記式中、Ｒは、好ましくは炭素数２〜６（最も好ましくは３）のアルキレン基であり、Ｒ０は、好ましくは炭素数４以下のアルキル基であり、特にメチル基とエチル基が好ましい。Ｘは加水分解性基であることが好ましく、特に炭素数４以下のアルコキシ基が好ましい。このアルコキシ基としてはさらにメトキシ基とエトキシ基が加水分解性が良好であり好ましい。Ｌは２〜３が好ましい。
上記式で表されるメルカプト基含有シラン化合物の代表例を以下に例示する。なお、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはｎ−プロピル基を示す。
ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＭｅ）３、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＥｔ）３、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＰｒ）３、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ（ＯＭｅ）２、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ（ＯＥｔ）２、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ（ＯＰｒ）２、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２（ＯＭｅ）、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２（ＯＥｔ）、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２（ＯＰｒ）、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＢｒ３、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅＣｌ２、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅＢｒ２、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２Ｃｌ、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２Ｂｒ。
また、加水分解性シラン化合物としては、（メタ）アクリロイル基を有する有機基と、加水分解性基および／または水酸基とがケイ素原子に結合している（メタ）アクリロイル基含有シラン化合物が、重合性単量体（Ａ）との反応性の高さおよびその結合の安定性の点から好ましい。（メタ）アクリロイル基含有シラン化合物としては、具体的には下記式（７）で表される化合物が好ましい。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−Ｒ−ＳｉＸＬＲ０３−Ｌ      ・・・式（７）
（式中、Ｒ５は水素原子またはメチル基、Ｒはアルキレン基、Ｒ０はアルキル基、Ｘは水酸基または加水分解性基、Ｌは１〜３の整数を表す。）
上記式中、Ｒは、好ましくは炭素数２〜６（最も好ましくは３）のアルキレン基であり、Ｒ０は、好ましくは炭素数４以下のアルキル基であり、特にメチル基とエチル基が好ましい。Ｘは加水分解性基であることが好ましく、特に炭素数４以下のアルコキシ基が好ましい。このアルコキシ基としてはさらにメトキシ基とエトキシ基が加水分解性が良好であり好ましい。Ｌは２〜３が好ましい。
上記式で表される（メタ）アクリロイル基含有シラン化合物の代表例を以下に例示する。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＭｅ）３、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＥｔ）３、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＰｒ）３、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ（ＯＭｅ）２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ（ＯＥｔ）２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ（ＯＰｒ）２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２（ＯＭｅ）、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２（ＯＥｔ）、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２（ＯＰｒ）、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＢｒ３、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅＣｌ２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅＢｒ２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２Ｃｌ、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＭｅ２Ｂｒ。
前記組成物（Ｑ）における、重合性単量体（Ａ）とコロイド状シリカ（Ｂ）の割合は特に限定されないが、重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、コロイド状シリカ（Ｂ）（固形分）を５〜３００質量部含有することが好ましく、１０〜２００質量部含有することがより好ましい。コロイド状シリカ（Ｂ）の割合が上記の範囲であると、形成されるハードコート層（Ｘ）が、耐磨耗性、透明性および外力が加わった際の機械的強度において優れている。コロイド状シリカ（Ｂ）の割合が５質量部未満であると、ハードコート層（Ｘ）が耐磨耗性に劣る傾向にある。一方、コロイド状シリカ（Ｂ）の割合が３００質量部超であると、ハードコート層（Ｘ）にヘーズが生じやすく、かつ、光ディスクが外力により強制的に変形させられた際にハードコート層（Ｘ）にクラック等が生じやすくなる。
組成物（Ｑ）において、潤滑性付与剤（Ｃ）は、以下に説明する潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）と、後述する他の潤滑性付与剤を包括的に表している。
組成物（Ｑ）における、重合性単量体（Ａ）と潤滑性付与剤（Ｃ）の割合は特に限定されないが、重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、潤滑性付与剤（Ｃ）が０．０１〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜５．０質量部であることがより好ましい。潤滑性付与剤（Ｃ）の割合が上記の範囲であると、形成されるハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性および耐磨耗性に優れている。潤滑性付与剤（Ｃ）が０．０１質量部未満であると、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性に劣る傾向にある。一方、潤滑性付与剤（Ｃ）が１０質量部超であると、ハードコート層（Ｘ）自体が可塑化され、耐磨耗性が低下する傾向にある。
組成物（Ｑ）において潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、式（１）で表される部分からなる部位（ｃ−１）、式（２）〜（５）で表される部分からなる群から選択される少なくとも１つからなる部位（ｃ−２）および活性エネルギー線硬化性の官能基（ｃ−３）を１分子中に併せ持った化合物である。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｍ−          ・・・（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基のいずれかであり、ｍは１〜１０００の整数である。）
−Ｒ３−                          ・・・式（２）
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘ−          ・・・式（３）
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｙ−  ・・・式（４）
−（Ｃ（＝Ｏ）ＣｕＨ２ｕＯ）ｔ−  ・・・式（５）
（上記式中、Ｒ３は炭素数６〜２０のアルキレン基であり、ｘおよびｙは５〜１００の整数であり、ｕは３〜５の整数であり、ｔは１〜２０の整数である。）
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が、上記式（１）で表される部分からなる部位（ｃ−１）（以下、単に部位（ｃ−１）と記す。）を有することにより、形成されるハードコート層（Ｘ）は表面潤滑性に優れている。具体的には、後に示す手順で、ハードコート（Ｘ）層表面の動摩擦係数を測定した際に、耐摺動性試験の前後の動摩擦係数がいずれも０．１以下である。
上記式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、シロキサン単位毎に同一でも異なっていてもよい。上記式（１）に該当する部分としては、具体的にはたとえば、ポリジメチルシリコーンユニット、ポリメチルフェニルシリコーンユニット、ポリジフェニルシリコーンユニット等が挙げられる。重合度を示すｍは、１〜１０００の整数であり、好ましくは１〜５００の整数である。ｍが該範囲であると、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性に優れている。ｍが１０００超であると粘度が高くなりすぎ、組成物（Ｑ）の他の成分と混合しにくくなる。
組成物（Ｑ）において、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、式（１）で表される部分からなる部位（ｃ−１）のうち、異なる形式で特定される部位を同一分子内に２種以上有していてもよい。
また、組成物（Ｑ）は、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）として、異なる形式で特定される部位（ｃ−１）を有する潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）を複数種併用してもよい。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の式（２）〜（５）で表される部分からなる群から選択される少なくとも１つを有する部位（ｃ−２）（以下、「部位（ｃ−２）」と記す。）は、重合性単量体（Ａ）との相溶性を発現する機能を有する。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の部位（ｃ−１）は、重合性単量体（Ａ）から形成される樹脂マトリクスとの親和性が低いため、組成物（Ｑ）を硬化した際に樹脂マトリクスの表面にブリードアウトしやすく、硬化後のハードコート層（Ｘ）の透明性を損ないやすいという傾向を有する。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、部位（ｃ−２）が重合性単量体（Ａ）との相溶性に優れるため、重合性単量体（Ａ）との親和性が低い部位（ｃ−１）を有するにもかかわらず、重合性単量体（Ａ）に対して適度な相溶性を有する。
組成物（Ｑ）では、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が重合性単量体（Ａ）に対して適度な相溶性を有するため、組成物（Ｑ）を薄膜カバー層の表面に塗布した際に、硬化前の塗膜の透明性を損なうことなしに、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が塗膜表面に偏析する。このため硬化後のハードコート層（Ｘ）の透明性も損なわれない。
上記した式（２）で表される部分は、炭素数が６〜２０の直鎖または分岐を有するアルキレン基である。炭素数が該範囲にあると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が重合性単量体（Ａ）に対する相溶性が適度であり、かつ該基の結晶性が強すぎないため、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性および透明性に優れている。炭素数が５以下であると、重合性単量体（Ａ）に対する相溶性が低いため、硬化前の塗膜の透明性が損なわれる。このことは硬化後のハードコート層（Ｘ）の透明性が損なわれることを意味する。一方、炭素数が２０超であると、該基の結晶性が強くなるため、やはりハードコート層（Ｘ）の透明性が損なわれる。
上記した式（３）で表される部分は、エチレンオキシドのユニットを表す。重合度を示すｘは５〜１００の整数である。ｘが該範囲であると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が、重合性単量体（Ａ）に対して適度な相溶性を有するため、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性および透明性に優れている。ｘはより好ましくは５〜８０の整数である。ｘが４以下であると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の相溶性が低くなり、ハードコート層（Ｘ）の透明性が損なわれる。一方、ｘが１００超であると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の相溶性が高くなりすぎ、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が塗膜表面に偏析しにくくなり、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性を充分に発現できない。
上記した式（４）で表される部分は、プロピレンオキシドのユニットを表す。重合度を示すｙは、５〜１００の整数である。ｙが該範囲であると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が、重合性単量体（Ａ）に対して適度な相溶性を有するため、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性および透明性に優れる。ｙは５〜８０の整数であることがより好ましい。ｙが４以下であると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の相溶性が低くなり、ハードコート層（Ｘ）の透明性が損なわれる。一方、ｙが１００超であると、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の相溶性が高くなりすぎ、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が塗膜表面に偏析しにくくなり、ハードコート層（Ｘ）が表面潤滑性を充分に発現できない。
上記した式（５）で表される部分は、ラクトンの開環体から得られるユニットを表す。該基の炭素数は入手しやすさから３〜５の整数である。また、重合度を示すｔは、１〜２０の整数である。ｔが該範囲であると、該基の結晶性が強すぎず、ハードコート層（Ｘ）の透明性に優れる。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、部位（ｃ−２）として上記式（２）〜（５）で表される部分のうちいずれか１つを有していてもよく、または同一分子内に２種以上の部分を有していてもよい。
組成物（Ｑ）は、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）として、異なる部位（ｃ−２）を有する潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）を複数種併用してもよい。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）において、活性エネルギー線硬化性の官能基（ｃ−３）（以下、官能基（ｃ−３）という。）とは、ラジカル反応性を有する官能基であればよく、具体的には（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、ハロゲン基、メルカプト基等が好ましく挙げられる。ラジカル反応性および形成される化学結合の安定性から、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が、官能基（ｃ−３）を有することにより、組成物（Ｑ）が活性エネルギー線の照射によって硬化する際に、官能基（ｃ−３）も硬化反応を起こし、組成物（Ｑ）の硬化物において樹脂マトリクスをなす重合性単量体（Ａ）と共有結合する。これにより、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、組成物（Ｑ）の硬化物、すなわちハードコート層（Ｘ）と共有結合を介して結合するため、ハードコート層（Ｘ）の表面に固定されていない潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が存在せず、したがってハードコート層（Ｘ）の表面から潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）が揮散しないため好ましい。また、潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、ハードコート層（Ｘ）と結合しているため、長期にわたって表面潤滑性が発現される。
潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）は、その分子内に部位（ｃ−１）、部位（ｃ−２）および官能基（ｃ−３）とを有している。潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）における各部位の結合形態は、特に制限されない。潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）における各部位の結合形態としては、具体的には以下の例が好ましく挙げられる。
１．直鎖型：部位（ｃ−１）、部位（ｃ−２）および官能基（ｃ−３）が直線状に連結されたタイプ。以下、直鎖型と記す。
該直鎖型において、部位（ｃ−１）を形成する原料化合物としては、部位（ｃ−１）を有し末端が水酸基変成された化合物が好ましく使用される。たとえば、末端が水酸基変成されたポリジメチルシリコーン等が好ましく挙げられる。
そして、このような部位（ｃ−１）を有し末端が水酸基変成された化合物の末端水酸基に、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ラクトン等のモノマーを重合させることで、部位（ｃ−１）に隣接して、部位（ｃ−２）が構築できる。または、部位（ｃ−２）としてポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリマーを２官能イソシアネート等を用いてウレタン結合によって部位（ｃ−１）に連結することもできる。更には、部位（ｃ−１）を有し末端が水酸基変成された化合物の末端水酸基にエチレンカーボネートを触媒存在下で脱炭酸しながら付加させることで、エチレンオキシド１ユニットを挿入した上で、上記プロピレンオキシド、ラクトン等を重合させることで部位（ｃ−２）を構築することもできる。
ここまでの操作では、部位（ｃ−２）の末端は水酸基である。そこで、官能基（ｃ−３）（例えば、（メタ）アクリロイル基）を導入する方法としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロリド等を用いてエステル結合により導入する方法、２−（メタ）アクリル酸エチルイソシアネートを用いてウレタン結合により導入する方法、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等を２官能イソシアネートを介してウレタン結合で導入する方法等が好ましく挙げられる。
また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリマーの片末端がすでに（メタ）アクリロイル基変性されているものを用いて、部位（ｃ−１）の末端の水酸基との間で、２官能イソシアネート等を用いてウレタン結合させることにより、部位（ｃ−１）に隣接して一度に部位（ｃ−２）、官能基（ｃ−３）を連結する方法も好ましく挙げられる。
２．共重合型：部位（ｃ−１）を有するラジカル重合性のマクロマーと部位（ｃ−２）を有するラジカル重合性のマクロマーとして用意し、これらのマクロマーを共重合させた後、官能基（ｃ−３）を導入するタイプ。以下、共重合型と記す。
部位（ｃ−１）を有するマクロマーとしては、たとえばポリジメチルシリコーンの片末端が（メタ）アクリロイル基で変性されたものが好ましく挙げられる。
部位（ｃ−２）を有するマクロマーとしては、たとえば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリマーの片末端が（メタ）アクリロイル基変性されているもの、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、ラクトンの開環重合体の片末端が（メタ）アクリロイル基変性されているもの等が好ましく挙げられる。
官能基（ｃ−３）は、上記２種類のマクロマーを共重合した後にその末端に導入する方法が挙げられる。たとえば、上記２種のマクロマーの（メタ）アクリロイル基が付加していない方の末端の水酸基を、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロリド等を用いてエステル結合により導入する方法、２−メタアクリル酸エチルイソシアネートを用いてウレタン結合により導入する方法が好ましく挙げられる。
または、上記２種類のマクロマーと共に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等を共重合せしめ、その後に（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロリド等を用いてエステル結合により導入する方法、２−メタアクリル酸エチルイソシアネートを用いてウレタン結合により導入する方法も挙げられる。
なお、上記直鎖型および上記共重合型のいずれにおいても、官能基（ｃ−３）は、部位（ｃ−２）に隣接して結合していることが好ましい。官能基（ｃ−３）が、部位（ｃ−２）に隣接して結合している場合には、部位（ｃ−１）に隣接して結合している場合に比べ、部位（ｃ−１）の表面移行性が高くなり、ハードコート層（Ｘ）表面の潤滑性に優れるからである。
潤滑性付与剤（Ｃ）は、上記した潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）以外に公知の潤滑性付与剤を含んでもよい。このような公知の潤滑性付与剤としては、たとえばシリコーンオイルに代表されるシリコーン系潤滑性付与剤、フッ素系潤滑性付与剤、脂肪酸エステルワックスに代表される脂肪酸エステル系潤滑性付与剤が挙げられる。ただし、本明細書における公知の潤滑性付与剤には、上記した潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）に該当する化合物は含まない。これらの潤滑性付与剤を含める場合、潤滑性付与剤（Ｃ）の合計質量１００質量部に対して５０質量部以下、好ましくは３０質量部以下含有させる。
組成物（Ｑ）において、活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）とは、公知の光重合開始剤を広く含む。光重合開始剤としては、特に入手容易な市販のものが好ましい。また、複数の光重合開始剤を併用してもよい。
公知の光重合開始剤の具体例としては、アリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシルオキシムエステル類など）、含硫黄系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類など）、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤（例えば、アシルアリールホスフィンオキシド等）、その他の光重合開始剤などが挙げられる。また、該光重合開始剤はアミン類などの光増感剤と組み合わせて使用することもできる。具体的な光重合開始剤としては、例えば以下に挙げる化合物があるがこれらのみに限定されるものではない。
４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン。
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、９，１０−フェナントレンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、メチルフェニルグリオキシレート。
４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン。
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド。
組成物（Ｑ）において、活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）の割合も特に限定されないが、通常は重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）を０．０１〜２０質量部含有することが好ましく、特に０．１〜１０質量部含有することが好ましい。当該範囲であると、組成物（Ｑ）の硬化性が充分であり、硬化の際に全ての活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）が分解するため好ましい。
したがって、組成物（Ｑ）は、重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、コロイド状シリカ（Ｂ）５〜３００質量部、潤滑性付与剤（Ｃ）０．０１〜１０質量部、および活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）０．１〜２０質量部含むことが特に好ましい。
組成物（Ｑ）には、上記の基本的成分以外に下記の溶剤や種々の他の機能性配合剤を含ませることができる。
組成物（Ｑ）において溶剤を使用する場合には、上記の基本的成分を溶解できる溶剤を使用することが好ましい。また、光ディスク基板の種類によって適切な溶剤を選択して用いることが好ましく、具体的にはたとえば、エチルアルコール、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール類、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のエーテル類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ類などの有機溶剤が好ましく挙げられる。そのほか、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等の二塩基酸エステル等のエステル類、塩素化フッ素化炭化水素類、トリクロロエタン等の塩素化炭化水素類、フッ素化炭化水素類等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類なども使用できる。
また、該溶剤の使用量は、必要とする組成物（Ｑ）の粘度、目的とするハードコート層（Ｘ）の厚さ、乾燥温度などの条件などにより適宜変更できる。本発明における該溶剤は、重合性単量体（Ａ）に対して質量基準で１００倍以下、好ましくは０．１〜５０倍の範囲で用いられることが好ましい。
上記他の機能性配合剤としては、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料（有機着色顔料、無機顔料）、着色染料、赤外線吸収剤、蛍光増白剤、分散剤、防汚性付与剤、導電性微粒子、帯電防止剤、防曇剤、カップリング剤からなる群から選ばれる１種以上の機能性配合剤が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線吸収剤として通常使用されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤などが好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の段落番号００７８に記載された化合物が挙げられる。本発明において、組成物（Ｑ）が多官能性の重合性単量体（ａ−１）を含有することから、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾール−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなど分子内に光重合性の官能基を有するものが特に好ましい。
光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤として通常使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の段落番号００８０に記載された化合物が挙げられる。本発明においては、Ｎ−メチル−４−メタクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの分子内に重合性官能基を有するものが特に好ましい。
酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化防止剤などが挙げられる。熱重合防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテルなどが挙げられる。また、レベリング剤としては、シリコーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング剤などが挙げられる。
消泡剤としては、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。また、増粘剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物などが挙げられる。
有機着色顔料としては、縮合多環系有機顔料、フタロシアニン系有機顔料などが挙げられる。無機顔料としては、二酸化チタン、酸化コバルト、モリブデンレッド、チタンブラックなどが挙げられる。また、着色染料としては、有機溶剤可溶性アゾ系金属錯塩染料、有機溶剤可溶性フタロシアニン系染料などが挙げられる。
赤外線吸収剤としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、ジイモニウム系、アントラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリールメタン系の化合物などが挙げられる。
防汚性付与剤としては、シリコン樹脂系防汚添加剤、フッ素樹脂系防汚添加剤などが挙げられる。
導電性微粒子としては、亜鉛、アルミニウム、ニッケルなどの金属粉、リン化鉄、アンチモンドープ型酸化スズなどが挙げられる。
帯電防止剤としては、ノニオン系帯電防止剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤などが挙げられる。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。
本発明において、ハードコート層（Ｘ）の厚さは０．１〜２０μｍが好ましく、特に０．５〜１０μｍが好ましい。上記の範囲であると、該ハードコート層（Ｘ）が耐磨耗性かつ機械的強度に優れている。ハードコート層（Ｘ）の厚さが２０μｍ超であると、耐磨耗性などの表面特性の向上がそれ以上期待できないうえ、層が脆くなり、光ディスクのわずかな変形によってもハードコート層（Ｘ）にクラックなどが生じるおそれがある。またハードコート層（Ｘ）の厚さが０．１μｍ未満であると、該ハードコート層（Ｘ）の耐磨耗性が充分発現できないおそれがある。
次に、光ディスク基板について説明する。
光ディスク基板としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモルファスポリオレフィンなどの透明樹脂またはガラスに直接案内溝を形成した基板、上記透明樹脂またはガラスにフォトポリマー法により案内溝を形成した基板などが好ましく挙げられる。
上記の光ディスク基板の案内溝の表面には、下記の誘電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜（記録層）が形成される。これら各膜の材質は特に限定されない。
誘電体膜の材質としては、例えば、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、ＡｌＴｉＮ、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＳなどが好ましく挙げられる。
記録膜の材質は、記録方式により異なるが、例えば、追記型光記録媒体ではＴｅ、Ｓｎ、Ｓｅなどのカルコゲナイト系合金、相変化型光記録媒体ではＴｅＯｘ、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂなどのカルコゲナイト系合金、光磁気ディスクではＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏなどの遷移金属と希土類金属との合金（単層または２層以上の交換結合膜）が好ましく挙げられる。
反射膜の材質は、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの金属、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒなどの合金が好ましく挙げられる。
本発明の光ディスクは、例えば以下のようにして製造できる。
上記光ディスク基板の案内溝を有する面に、常法により誘電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜（記録層）を形成する。誘電体膜、記録膜および反射膜のそれぞれは、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理蒸着法またはプラズマＣＶＤなどの化学蒸着法により形成できる。
本発明においては、光ディスクの記録層表面に薄膜カバー層が形成されている。該薄膜カバー層の形成方法としては、スピンコート法、ロールコーター法、スクリーン印刷法などの塗布方法により、硬化性樹脂などを均一に塗布した後、紫外線や電子線などの活性エネルギー線照射による硬化および／または熱硬化などにより形成する方法、所定厚さの樹脂フィルムを接着層を介して貼合する方法などが挙げられる。
該薄膜カバー層は、特に限定されずに公知ないし周知のものが採用される。例えば、上記所定厚さの樹脂フィルムとしては、キャストポリカーボネートフィルムなどが挙げられる。また該薄膜カバー層は、特開平１１−２４０１０３号公報の段落番号００２４〜００３６に記載された多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物（以下、化合物（Ｅ）と記すことがある。）などを用いて形成されてもよい。該化合物（Ｅ）としては、特に、２官能の化合物であって、質量平均分子量が１５００以上、かつ、２００００以下のものが好ましい。２官能の化合物を使用することにより、光重合時の硬化収縮量をより低くできる。また、上記範囲の質量平均分子量を採用することにより、薄膜カバー層形成用組成物の粘度を所望範囲に調整でき、１回のコートで５０μｍ以上の層を形成できるとともに、コーティング作業が容易となる。該化合物（Ｅ）は１種類で用いてもよく、２種類以上で用いてもよい。
該薄膜カバー層の厚さは５〜２００μｍであり、４０〜１６０μｍであることが好ましい。上記の範囲であれば、光ディスクの機械的強度が充分であり、かつデータの記録および再生に波長６５０ｎｍ以下の短波長のレーザー光を用いた際にチルトの許容量や光ディスクの厚みむらの許容量が充分大きく、光ディスクの光学特性が損なわれることがない。なお、この層の厚さは光記録再生装置の光学設計から正確に要求値が決められることになる。
また、薄膜カバー層は、接着層を介して記録層上に設けてもよく、接着層としては、紫外線硬化性の樹脂が好ましい。また、該接着層の厚さは、０．５〜５０μｍが好ましく、特に１〜３０μｍが好ましい。
光ディスクの記録層表面に薄膜カバー層を介して上記ハードコート層（Ｘ）を形成する方法としては、特に制限されず、公知ないし周知の方法を採用できる。例えば、組成物（Ｑ）を薄膜カバー層面に塗布する方法としては、ディップ法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、マイクログラビアコート法などの種々の方法を採用できる。
また、組成物（Ｑ）を硬化させてハードコート層（Ｘ）を形成するために用いる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、Ｘ線、放射線および高周波線等が好ましく挙げられ、特に１８０〜５００ｎｍの波長を有する紫外線が経済的に好ましい。
活性エネルギー線源としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の紫外線照射装置、電子線照射装置、Ｘ線照射装置、高周波発生装置等が使用できる。
本発明における光ディスクは、単板で用いてもよく、２枚以上を貼り合わせて用いてもよい。また、必要に応じてハブを付け、カートリッジへ組み込んでもよい。
【実施例】  以下、本発明を実施例（例１〜９）、比較例（例１０〜１２）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定されない。各例においては、光ディスク基材として、光ディスク基材１と光ディスク基材２の２種を用いた。
［光ディスク基材１］
光記録媒体用ポリカーボネート基板（直径１２ｃｍ、厚さ１．１ｍｍ）の片面（案内溝を有する面）に、記録層（Ａｌからなる反射膜、ＳｉＮからなる第１誘電体膜、ＴｂＦｅＣｏからなる光磁気記録膜、ＳｉＮからなる第２誘電体膜）をスパッタ法により成膜して形成した。該記録層表面には、薄膜カバー層として、帝人社製キャストポリカーボネートフィルム（商品名「ピュアエース」、厚さ７０μｍ）を、接着層（厚さ２８μｍ）を介して貼合した。
［光ディスク基材２］
光ディスク基材１と同様の構成であるが、記録層において反射膜の形成を省略したものを、光ディスク基材２として用意した。
各例について、使用する光ディスク基材が異なる２つのサンプルを作製し、各種物性の測定および評価は以下に示す方法で行い、その結果を表１に示した。
なお、透明性、耐磨耗性および４００ｎｍ光線透過率の測定用サンプルとしては、透明な光ディスク基材２を使用し、他の物性の測定は、反射膜が形成された光ディスク基材１を使用した。
［透明性］
サンプルについて、４ヵ所のヘイズ（％）をヘイズメータで測定し、その平均値を算出した。サンプルのハードコート層（Ｘ）のヘイズとして
（サンプルのヘイズ）−（光ディスク基材２のヘイズ）の値（％）を示す。
［耐磨耗性］
ＩＳＯ９３５２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ５００回転させた時のヘイズをヘイズメータにて測定した。ヘイズの測定は磨耗輪のサイクル軌道の４ヶ所で行い、平均値を測定した。耐磨耗性は、（磨耗試験後ヘイズ）−（初期ヘイズ）の値（％）を示す。
［４００ｎｍ光線透過率］
島津製作所社製ＵＶ−３１００により、波長４００ｎｍにおける光線透過率を測定した。サンプルのハードコート層（Ｘ）の透過率として、（サンプルの光線透過率）−（光ディスク基材２の光線透過率）の値（％）を示した。
［密着性］
サンプルを剃刀の刃により１ｍｍ間隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた後、９０度手前方向に急激にはがした際の、薄膜カバー層およびハードコート層が剥離せずに残存した碁盤目の数（個）を表す。
［表面潤滑性］
表面潤滑性の指標として、ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｌｉｐｐｉｎｇ  Ｔｅｓｔｅｒ  ＨＥＩＤＯＮ−１４を用いてハードコート層表面の動摩擦係数を測定した。表面潤滑性の持続性の指標として、耐摺動性試験後の動摩擦係数を測定した。耐摺動性試験とは、温度５０±２℃、相対湿度５０±５％の環境条件下で、ソニー社製磁気ヘッドＲＦ３２０−７４Ｇをディスクに対して荷重が２ｇとなるように接触させ、ディスク回転数６００ｒｐｍで５００万回転連続走行させるものである。
「原料化合物」
１）重合性単量体（Ａ）
多官能性重合性単量体（ａ−１）
Ａ１：水酸基含有ジペンタエリスリトールポリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートを反応させて得られた１分子あたりの平均アクリロイル基数が１５で分子量２３００のアクリルウレタン。
Ａ２：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート。
単官能性重合性単量体（ａ−２）
Ａ３：イソボルニルアクリレート。
２）活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）
Ｄ１：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−プロパン−１−オン。
３）コロイド状シリカ（Ｂ）
Ｂ１：エチルセロソルブ分散型コロイド状シリカ（シリカ含量３０質量％、平均粒径１１ｎｍ）１００質量部に、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン２．５質量部を加え８０℃にて５時間加熱撹拌した後、１２時間室温下で熟成して得られた、メルカプト基含有シラン化合物の加水分解縮合物を表面に有するコロイド状シリカ。
Ｂ２：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート分散型コロイド状シリカ（シリカ含量３０質量％、平均粒径１１ｎｍ。）の１００質量部に、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシランの２．５質量部を加えて、５０℃にて３時間撹拌した後、１２時間室温にて熟成して得られた、メタクリロイル基含有シラン化合物の加水分解縮合物を表面に有するコロイド状シリカ。
「潤滑性付与剤（Ｃ−Ｔ）の合成」
以下に記す数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定した値である。
（Ｃ１）撹拌機を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、ジメチルシリコーンオイルの両末端にポリプロピレンオキシドのユニットが付加されたオイル（信越化学工業社製Ｘ−２２−４９５２、水酸基価＝２９、数平均分子量約３８７０）１００ｇとジラウリン酸ジブチルスズ５０ｍｇと２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール２５０ｍｇを加え、室温で３０分撹拌した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１２．６ｇを加え室温で更に２４時間撹拌し、両末端がメタクリロイル基で修飾された潤滑性付与剤（Ｃ１）を得た。Ｃ１の数平均分子量は、約４２００であった。
（Ｃ２）撹拌機および冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、チタンテトライソブトキサイド８０ｍｇと片末端水酸基のジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製Ｘ−２２−１７０ＢＸ、水酸基価＝１８．５、数平均分子量＝３０００）１００ｇとε−カプロラクトン２５ｇを加え、１５０℃で５時間加熱し、ジメチルシリコーンオイルの片末端にε−カプロラクトンが開環付加した白色ワックス状の化合物を得た（カプロラクトンの重合度＝６．６）。続いて、反応組成物を室温まで冷却し、酢酸ブチル５０ｇと２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール２５０ｍｇを加え、３０分ほど撹拌した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート５．０５ｇを加え室温で更に２４時間撹拌し、片末端がメタクリロイル基で修飾された潤滑性付与剤（Ｃ２）の固形分７２％の酢酸ブチル溶液を得た。Ｃ２の数平均分子量は、約３７５０であった。
（Ｃ３）撹拌機および冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）６００ｍｇと、ｎ−ドデシルメルカプタン７４０ｍｇと、酢酸ブチル１８０ｇを加え、１５分室温にて撹拌した後、片末端がメタクリロイル基により変成されたジメチルシリコーンマクロマー（信越化学工業社製Ｘ−２２−１７４ＤＸ、数平均分子量５０００）４５ｇとポリプロピレンオキシドの片末端がアクリロイル基により変成されたマクロマー（日本油脂社製ブレンマーＡＰ−８００、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｙ−Ｈ、ｙ≒１３、水酸基価＝６６．８）１５ｇを加え、窒素パージした後７０℃で１８時間撹拌・重合を行った。その結果数平均分子量で１００００の重合体が得られた。続いて、反応組成物を室温まで冷却し、ジラウリン酸ジブチルスズ５０ｍｇと２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール１００ｍｇを加え、室温で３０分撹拌した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２．２７ｇを加え室温で更に２４時間撹拌し、共重合体の重合単位の内ポリプロピレンオキシド末端がメタクリロイル基で修飾された潤滑性付与剤（Ｃ３）の固形分約２５％の酢酸ブチル溶液を得た。Ｃ３の数平均分子量は、約１０４５０であった。
（Ｃ４）撹拌機および冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）６００ｍｇと、ｎ−ドデシルメルカプタン７４０ｍｇと、酢酸ブチル１８０ｇを加え、１５分室温にて撹拌した後、片末端がメタクリロイル基により変成されたジメチルシリコーンマクロマー（信越化学工業社製Ｘ−２２−１７４ＤＸ、数平均分子量５０００）４５ｇとポリエチレンオキシドの片末端がアクリロイル基により変成されたマクロマー（日本油脂社製ブレンマーＡＥ−２００、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｎ−Ｈ、ｎ≒４．５、水酸基価＝１７４）１５ｇを加え、窒素パージした後７０℃で１８時間撹拌・重合を行った。その結果数平均分子量で１００００の重合体が得られた。続いて、反応組成物を室温まで冷却し、ジラウリン酸ジブチルスズ５０ｍｇと２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール１００ｍｇを加え、室温で３０分撹拌した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート７．１４ｇを加え室温で更に２４時間撹拌し、共重合体の重合単位の内ポリエチレンオキシド末端がメタクリロイル基で修飾された潤滑性付与剤（Ｃ４）の固形分約２５％の酢酸ブチル溶液を得た。Ｃ４の数平均分子量は、約１１２００であった。
（Ｃ５）撹拌機および冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）６００ｍｇと、ｎ−ドデシルメルカプタン７４０ｍｇと、酢酸ブチル１８０ｇを加え、１５分室温にて撹拌した後、片末端がメタクリロイル基により変成されたジメチルシリコーンマクロマー（信越化学工業社製Ｘ−２２−１７４ＤＸ、数平均分子量５０００）３５ｇとステアリルアクリレート２０ｇと、２−ヒドロキシエチルアクリレート５ｇを加え、窒素パージした後７０℃で１８時間撹拌・重合を行った。その結果数平均分子量で２５０００の重合体が得られた。続いて、反応組成物を室温まで冷却し、ジラウリン酸ジブチルスズ５０ｍｇと２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール１００ｍｇを加え、室温で３０分撹拌した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート６．６１ｇを加え室温で更に２４時間撹拌し、共重合体の重合単位の内２−ヒドロキシエチルアクリレート末端がメタクリロイル基で修飾された潤滑性付与剤（Ｃ５）の固形分約２５％の酢酸ブチル溶液を得た。Ｃ５の数平均分子量は、約２８０００であった。
（Ｃ６）撹拌機および冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）６００ｍｇと、ｎ−ドデシルメルカプタン７４０ｍｇと、酢酸ブチル１８０ｇを加え、１５分室温にて撹拌した後、片末端がメタクリロイル基により変成されたジメチルシリコーンマクロマー（信越化学工業社製Ｘ−２２−１７４ＤＸ、数平均分子量５０００）４５ｇと、不飽和脂肪酸ヒドロキシアルキルエステル修飾ε−カプロラクトン（ダイセル化学社製プラクセルＦＡ２Ｄ、カプロラクトンの重合度数＝２）１５ｇを加え、窒素パージした後７０℃で１８時間撹拌・重合を行った。その結果数平均分子量で３５０００の重合体が得られた。続いて、反応組成物を室温まで冷却し、ジラウリン酸ジブチルスズ５０ｍｇと２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール１００ｍｇを加え、室温で３０分撹拌した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート６．６９ｇを加え室温で更に２４時間撹拌し、共重合体の重合単位の不飽和脂肪酸ヒドロキシアルキルエステル修飾ε−カプロラクトン末端がメタクリロイル基で修飾された潤滑性付与剤（Ｃ６）の固形分約２５％の酢酸ブチル溶液を得た。Ｃ６の数平均分子量は、約３９０００であった。
（Ｃ７）ジメチルシリコーンオイルの両末端にポリプロピレンオキシドのユニットが付加されたオイル（信越化学工業社製Ｘ−２２−４９５２、水酸基価＝２９、数平均分子量約３８７０）。活性エネルギー線硬化性の官能基（ｃ−３）を持たない例。
（Ｃ８）ジメチルシリコーンオイルの両末端にメタクリロイル基が付加されたオイル（信越化学工業社製Ｘ−２２−１６４Ｃ、ジメチルシリコーンユニットの数平均分子量＝５０００）。部位（ｃ−２）を持たない例。
（Ｃ９）両末端メチル基のジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ９６−５０）。部位（ｃ−２）及び官能基（ｃ−３）を持たない例。
2004047094.tif 000003
［例１］
撹拌機および冷却管を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、多官能性重合性単量体Ａ２を８０ｇ、潤滑性付与剤Ｃ１を１．０ｇ、活性エネルギー線重合開始剤Ｄ１を４．０ｇ、熱重合防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテルを１．０ｇ、および溶剤として酢酸ブチル（ＡｃＢｔ）を６５．０ｇ入れ、常温および遮光にした状態で、１時間撹拌して均一化した。続いて撹拌しながら、コロイド状シリカＢ１を７５．０ｇをゆっくりと加え、さらに常温および遮光にした状態で１時間撹拌して均一化した。次いで、溶剤としてジブチルエーテル（ＤＢＥ）を６５．０ｇを加え、常温および遮光にした状態下で１時間撹拌して組成物（Ｑ１）を得た。
続いて、組成物（Ｑ１）を光ディスク基材の薄膜カバー層表面にスピンコート法により塗工（ウェット厚さ６μｍ）し、９０℃の熱風循環オーブン中で１分間保持して溶剤を除去した後、得られた塗膜に空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２（波長３００〜３９０ｎｍ領域の紫外線積算エネルギ量。）の紫外線を照射し、膜厚１．８μｍの透明な硬化物層を形成した。これにより、記録層表面に接着層／薄膜カバー層／ハードコート層（総膜厚９９．８μｍ）が形成されたサンプル１を得た。
本サンプルを用いて先に挙げた透明性、耐磨耗性、４００ｎｍ光線透過率、密着性、表面潤滑性の項目について評価した。結果を表３に示す。
［例２〜１２］
例１の組成物（Ｑ）中の重合性単量体（Ａ）、コロイド状シリカ（Ｂ）、潤滑性付与剤（Ｃ）を表２記載の種類と量に変更する以外は例１の組成物（Ｑ）と同じ組成の組成物を製造し、当該組成物を用いて例１と同じサンプルを製造して先に挙げた透明性、耐磨耗性、４００ｎｍ光線透過率、密着性、表面潤滑性の項目について評価した。結果を表３に示す。
2004047094.tif 000004
2004047094.tif 000005
【産業上の利用可能性】  本発明によれば、基板の表面に、記録層と薄膜カバー層とがこの順に積層されており、データの記録および／または再生に用いられる青色レーザーに代表される短波長のレーザー光が薄膜カバー層を通して記録層に照射されるタイプの光ディスクであって、該薄膜カバー層の表面に、耐磨耗性および長期の表面潤滑性に優れ、かつ透明性も良好であるハードコート層を有する光ディスクを提供できる。
【図１】
2004047094.tif 000006
【国際調査報告】
2004047094.tif 000007
2004047094.tif 000008
2004047094.tif 000009
2004047094.tif 000010