(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層および前記タッチパネルセンサ層上に形成された保護層を有するタッチパネルと、
前記透明基板の他方の表面上に形成されたカラーフィルタと、
を有するタッチパネル付カラーフィルタであって、
前記保護層は、密着層用樹脂からなる密着層および硬度層用樹脂からなる硬度層がこの順に積層されたものであり、
前記密着層の鉛筆硬度が２Ｈ以下であり、前記硬度層の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、前記密着層の厚みが、１．５μｍ以下であり、前記硬度層の厚みが、１．０μｍ以上であることを特徴とするタッチパネル付カラーフィルタ。
【請求項２】
前記硬度層の静摩擦係数が、０．２５〜０．３７の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。
【請求項３】
前記密着層の前記タッチパネルセンサ層に対する密着力が、ＪＩＳ Ｋ ５６００-５-６で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類０または１であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。
【請求項４】
前記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、
前記密着層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有する密着層形成用ポリマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、
前記硬度層形成用ポリマーの前記構成単位（１）の含有量が前記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の７０モル％以上であり、
前記硬度層形成用多官能性モノマーの官能基数が、５以上であり、
前記密着層形成用ポリマーの前記構成単位（１）の含有量が前記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の５０モル％以下であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。
【請求項５】
前記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、
前記密着層用樹脂が、密着層形成用多官能性モノマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、
前記硬度層形成用ポリマーの前記構成単位（１）の含有量が前記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の７０モル％以上であり、
前記硬度層形成用多官能性モノマーの官能基数が、５以上であり、
前記密着層形成用多官能性モノマーの官能基数が、２〜４の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のタッチパネル付カラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬度および密着性に優れた保護層をタッチパネルの最表面に有するタッチパネル付カラーフィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルは表示装置の表示面上に配置され、これにより、タッチパネルは表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。
【０００３】
このようなタッチパネルとしては、様々な方式のものが実用化されている。このなかで、静電容量方式と呼ばれるものは、タッチパネルとして、第１透明電極／電極間絶縁層／第２透明電極の層構造を有するもの、さらには、上記第２透明電極を覆うように保護層が形成されたものが知られており、タッチパネルの表面のタッチパネル面に微弱な電流を流して電界を形成し、指等の導電体が軽く触れた場合の静電容量値の変化を電圧の低下等に変換して検知し、その接触位置を検出するものである。
【０００４】
また、従来のタッチパネルは、通常、表示装置とは別個に製造され、表示装置上に重ねて配置されて用いられる（例えば、特許文献１等）。しかしながら、タッチパネル自体を表示装置の全面に接着して使用しなければならず、表示装置自体の厚みが増す、あるいは、コストがかかるという問題点があった。
そのため、これらの問題点を解決するために、表示装置とタッチパネルの基材を共有させ、表示装置自体の厚みやコスト削減が可能にする試みが提案されている。この一つとして、透明基板の一方の表面上に静電容量型のタッチパネルが形成され、上記透明基板の他方の表面上にカラーフィルタが形成されたタッチパネル付カラーフィルタが提案されている。
このタッチパネル付カラーフィルタの製造においては、通常、表示性能への影響を低減するために、タッチパネルを上記透明基板上に形成した後に、その裏面にカラーフィルタを形成する手法が採られている。
しかしながら、この手法においては、カラーフィルタ製造時の搬送などにより、タッチパネル面にキズ・剥がれが発生し、断線や感度不良が起きるといった問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開開２００６−２３９０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、硬度および密着性に優れた保護層をタッチパネルの最表面に有するタッチパネル付カラーフィルタを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、透明基板と、上記透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層および上記タッチパネルセンサ層上に形成された保護層を有するタッチパネルと、上記透明基板の他方の表面上に形成されたカラーフィルタと、を有するタッチパネル付カラーフィルタであって、上記保護層は、密着層用樹脂からなりパターン状に形成された密着層および硬度層用樹脂からなりパターン状に形成された硬度層がこの順に積層されたものであり、上記密着層の鉛筆硬度が２Ｈ以下であり、上記硬度層の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、上記密着層の厚みが、１．５μｍ以下であり、上記硬度層の厚みが、１．０μｍ以上であることを特徴とするタッチパネル付カラーフィルタを提供する。
【０００８】
本発明によれば、上記保護層が硬度に優れた硬度層および密着性に優れた密着層からなることにより、上記保護層を硬度および密着性の両者に優れたものとすることができる。
また、上記硬度層および密着層の厚みおよび硬度が上述の範囲内であることにより、耐スクラッチ性に優れたものとすることができる。すなわち、上記硬度層および密着層の厚みおよび鉛筆硬度が上述の範囲内であることにより、上記保護層表面の鉛筆硬度を４Ｈ以上または４Ｈ〜６Ｈの範囲とすることができる。
【０００９】
本発明においては、上記硬度層の静摩擦係数が、０．２５〜０．３７の範囲内であることが好ましい。上記硬度層を硬度および滑り性に優れたものとすることができるからである。また、上記保護層を硬度および滑り性に優れたものとすることができるからである。
【００１０】
本発明においては、上記密着層の上記タッチパネルセンサ層に対する密着力が、ＪＩＳ Ｋ ５６００-５-６で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類０または１であることが好ましい。上記密着層の密着力が上述の範囲内であることにより、上記保護層が上記タッチパネルセンサ層から剥離しにくいものとすることができるからである。また、上記保護層の密着力がＪＩＳＫ５６００−５−６で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類０または１とすることができるからである。
【００１１】
本発明においては、上記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、上記密着層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有する密着層形成用ポリマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、上記硬度層形成用ポリマーの上記構成単位（１）の含有量が上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の７０モル％以上であり、上記硬度層形成用多官能性モノマーの官能基数が、５以上であり、上記密着層形成用ポリマーの上記構成単位（１）の含有量が上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の５０モル％以下であることが好ましい。上記保護層が上述の材料を用いてなるものであることにより、硬度および密着性に優れたものとすることができるからである。
【００１２】
本発明においては、上記硬度層用樹脂が、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有する硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含む硬度層形成用組成物を用いてなるものであり、上記密着層用樹脂が、密着層形成用多官能性モノマーを含む密着層形成用組成物を用いてなるものであり、上記硬度層形成用ポリマーの上記構成単位（１）の含有量が上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の７０モル％以上であり、上記硬度層形成用多官能性モノマーの官能基数が、５以上であり、上記密着層形成用多官能性モノマーの官能基数が、２〜４の範囲内であることが好ましい。上記保護層が上述の材料を用いてなるものであることにより、硬度および密着性に優れたものとすることができるからである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、硬度および密着性に優れた保護層をタッチパネルの最表面に有するタッチパネル付カラーフィルタを提供できるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明のタッチパネル付カラーフィルタの一例を示す概略平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明は、タッチパネル付カラーフィルタおよびその製造方法に関するものである。
以下、本発明のタッチパネル付カラーフィルタおよびタッチパネル付カラーフィルタの製造方法について説明する。
【００１６】
Ａ．タッチパネル付カラーフィルタ
まず、タッチパネル付カラーフィルタについて説明する。
本発明のタッチパネル付カラーフィルタは、透明基板と、上記透明基板の一方の表面上に形成されたタッチパネルセンサ層および上記タッチパネルセンサ層上に形成された保護層を有するタッチパネルと、上記透明基板の他方の表面上に形成されたカラーフィルタと、を有するタッチパネル付カラーフィルタであって、上記保護層は、密着層用樹脂からなりパターン状に形成された密着層および硬度層用樹脂からなりパターン状に形成された硬度層がこの順に積層されたものであり、上記密着層の鉛筆硬度が２Ｈ以下であり、上記硬度層の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、上記密着層の厚みが、１．５μｍ以下であり、上記硬度層の厚みが、１．０μｍ以上であることを特徴とするものである。
【００１７】
このような本発明のタッチパネル付カラーフィルタについて図を参照して説明する。図１は、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの一例を示す概略平面図である。また、図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。図１および図２に例示するように、本発明のタッチパネル付カラーフィルタ５０は、透明基板１と、上記透明基板１の一方の表面上に形成された第１透明電極１１、上記第１透明電極１１上に形成された電極間絶縁層１２、上記電極間絶縁層１２上に形成された第２透明電極１３がこの順で積層したタッチパネルセンサ層１０ならびに上記第２透明電極１３上に形成された密着層用樹脂からなる密着層２１および硬度層用樹脂からなり、タッチパネルセンサ層１０からの剥離を防止するため、平面視上、上記密着層２１内に形成された硬度層２２を有する保護層２０を有するタッチパネル３０と、上記透明基板１の他方の表面上に形成された開口部を有する遮光部３１および上記遮光部３１の開口部に形成された着色層３２を有するカラーフィルタ４０と、を有するものである。
また、この例においては、上記タッチパネルセンサ層１０は、上記電極間絶縁層１２の周囲の上記透明基板１上に形成された取り出し電極１４を有するものであり、上記密着層２１および硬度層２２は上記取出し電極１４が露出するようなパターン状に形成されている。また、上記密着層の鉛筆硬度が２Ｈ以下であり、上記硬度層の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、上記密着層の厚みが、１．５μｍ以下であり、上記硬度層の厚みが、１．０μｍ以上のものである。
なお、図１においては、説明の容易のため、上記電極間絶縁層１２および保護層２０については省略して示している。
【００１８】
本発明によれば、上記保護層が硬度に優れた硬度層および密着層からなることにより、それぞれの層を主に硬化性にのみ優れた材料、および、上記タッチパネルセンサ層、具体的には、上記透明基板上に第１透明電極、電極間絶縁層および第２透明電極がこの順で積層した上記タッチパネルセンサ層に含まれる金属材料からなる第２透明電極との密着性に優れた材料を用いて形成することができる。
【００１９】
これに対して、上記保護層が一層からなるものである場合、上記保護層を構成する材料として、硬度に優れたものとするため硬化性に優れた材料を用いると硬化収縮により上記タッチパネルセンサ層、より具体的には金属材料からなる第２透明電極との密着性が低下してしまい、一方、上記タッチパネルセンサ層との密着性に優れたものとすると十分な硬度を有するものとすることが困難となる。
特に、後述するように、タッチパネルの形成後にカラーフィルタを形成する場合、通常、上記カラーフィルタを構成する各色の着色層がフォトリソグラフィー法により形成される。この際に、各色の着色層の形成毎に、露光・現像・加熱処理が加えられ、その度に上記保護層を構成する材料が熱劣化等を受け、その材料の各性能が低下することになる。このため、上記材料が硬度および密着性の両者に極めて優れたものでないと、上記カラーフィルタの形成途中で硬度および密着性のいずれかまたは両者が所望の性能以下となり、保護層として機能しなくなる恐れがある。
しかしながら、上述のように本発明によれば、上記保護層を上記タッチパネルセンサ層との密着性に優れた密着層と上記タッチパネルの最表面に配置される硬度層とからなるものとすることにより、それぞれの層に適した材料を用いることができる。したがって、上記保護層を硬度および密着性の両者に優れたものとすることができ、上述のようなカラーフィルタ形成時の熱劣化等により性能が劣化したとしても、十分に高い性能を維持することができるのである。
【００２０】
また、上記硬度層および密着層の厚みおよび硬度が上述の範囲内であることにより、耐スクラッチ性に優れたもの、すなわち、先の尖った部材を押し付けたり、擦り付けたりした際の保護性に優れたものとすることができる。より具体的には、上記保護層表面の鉛筆硬度を４Ｈ以上または４Ｈ〜６Ｈの範囲とすることができる。
なお、上記硬度層および密着層が上述の条件を満たすことにより耐スクラッチ性に優れたものとすることができる理由は以下のように推察される。
すなわち、通常、上記硬度層および密着層としては、上記硬度層の硬度が高く、両者の厚みが厚い方が耐スクラッチ性に優れたものとすることができるようにも思われる。しかしながら、上記密着層の厚みが厚すぎた場合には上記密着層が有する弾力性により、上記硬度層および密着層を含む保護層に先の尖った部材が押し付けられた際にその部位が局所的に変形し易いものとなり、上記保護層に覆われるタッチパネルセンサ層の各構成に圧力が伝わりこれにキズ等を生じることになると考えられる。
これに対して、上記硬度層および密着層が上述の条件を満たしている場合には、上記のように局所的に圧力が加わった場合であっても、上記密着層での変形幅が小さく、全体としてみると保護層の局所的な変形を防ぐことができる。これにより、優れた耐スクラッチ性を発揮することができるものと考えられる。
【００２１】
また、このような保護層を有することにより、例えば、透明基板の一方の表面にタッチパネルを有し上記透明基板の他方の表面にカラーフィルタを有するタッチパネル付カラーフィルタを形成する際に、まず、タッチパネルを形成し、その後、上記透明基板を上記タッチパネル側を裏面にして台や先の尖ったピン状の支持体上に載せたりこれらの上を滑らせて搬送する等、上記タッチパネルが他の部材と接したり擦れるような状態でカラーフィルタを形成した場合であっても、上記タッチパネルに含まれるタッチパネルセンサ層の各構成へのキズ・剥れの発生を安定的に防ぐことができる。特に、上記保護層が支持体等として先の尖った部材と接し、局所的に圧力が加わるような状態とされた場合であっても、これに覆われるタッチパネルセンサ層の各構成にキズ等が生じることを効果的に防ぐことができる。そして、その結果、上記タッチパネルセンサ層に含まれる電極等にキズ等が発生することを防ぐことができ、断線や感度不良の発生のないものとすることができる。
【００２２】
本発明のタッチパネル付カラーフィルタは、上記透明基板、タッチパネルおよびカラーフィルタを少なくとも有するものである。
以下、本発明のタッチパネル付カラーフィルタの各構成について詳細に説明する。
【００２３】
１．タッチパネル
本発明に用いられるタッチパネルは、上記タッチパネルセンサ層および保護層を有するものである。
【００２４】
（１）保護層
本発明に用いられる保護層は、パターン状に形成された密着層および硬度層がこの順に積層されたものである。
このような保護層の鉛筆硬度としては、上記タッチパネルセンサ層を安定的に保護できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、４Ｈ以上であることが好ましく、なかでも、４Ｈ〜６Ｈの範囲内であることが好ましい。上記保護層の硬度が上述の範囲内であることにより、上記タッチパネルセンサ層を安定的に保護することができるからである。
【００２５】
（ａ）密着層
本発明に用いられる密着層は、上記タッチパネルセンサ層上にパターン状に形成されたものである。また、上記密着層用樹脂からなるものである。
【００２６】
本発明に用いられる密着層の鉛筆硬度としては、所望の密着性を発揮することができるものであり、２Ｈ以下であれば良いが、なかでも本発明においては、９Ｂ〜２Ｈの範囲内であることが好ましく、特に、ＨＢ〜２Ｈの範囲内であることが好ましい。上記鉛筆硬度が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。
なお、硬度の測定方法は、ガラス基板上に密着層を形成し、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４の規定に基づいて測定することができる。
【００２７】
本発明に用いられる密着層の厚みとしては、所望の密着性を発揮することができるものであり、１．５μｍ以下であれば特に限定されるものではないが、なかでも本発明においては、０．１μｍ〜１．５μｍの範囲内とすることができ、特に、０．５μｍ〜０．７５μｍの範囲内とすることができる。上記厚みが上述の範囲内であることにより上記タッチパネルセンサ層に対する十分な密着性を発揮することができるからである。また、上記密着層の厚みが上述の範囲内であることにより、上記保護層の表面の鉛筆硬度を安定的に高いものとすることができるからである。
なお、上記密着層の厚みとは、上記タッチパネルセンサ層の表面から上記密着層の表面までの距離をいうものである。
【００２８】
本発明に用いられる密着層の形成個所としては、上記タッチパネルが接触位置を安定に検出できるものとすることができ、かつ、上記タッチパネルセンサ層の各構成を安定的に保護することができる箇所であれば特に限定されるものではないが、上記タッチパネルセンサ層に含まれる電極に接続された取出し電極の一部等、他の基板と接続するために形成される接続端子部のみが露出するように形成されることが好ましい。上記形成個所に形成されることにより、上記タッチパネルセンサ層の各構成を安定に保護し、上記タッチパネルを安定的に動作できるものとすることが容易だからである。
【００２９】
本発明に用いられる密着層の上記タッチパネルセンサ層に対する密着力としては、カラーフィルタの形成時にタッチパネルセンサ層から剥離しないものであれば特に限定されるものではないが、ＪＩＳ Ｋ ５６００-５-６で規定するクロスカット評価にてクロスカット部分で評価分類０または１であることが好ましい。上記密着層の密着力が上述の範囲内であることにより、上記保護層の剥れをより確実に防ぐことができるからである。
【００３０】
本発明に用いられる密着層の可視光領域における透過率としては、所望の透明性を有する保護層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲内であることにより、透明性に優れた保護層を形成することができるからである。
ここで、密着層の透過率はガラス上に形成した密着層を、標準の光Ｃ（ＪＩＳ Ｚ ８７２０(測色用標準イルミナント（標準の光）及び標準光源)）を用い、ＪＩＳ Ｚ ８７０１（色の表示方法-ＸＹＺ表色系およびＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系）にて定められた式にて求めた、透過による物体色の三刺激値Ｘ，Ｙ,ＺのうちのＹ値を指すものである。このような透過率の測定方法としては、例えば、分光測色計を用いて測定することができ、より具体的には、オリンパス株式会社製、分光光度計ＯＳＰ−ＳＰ２０００を用いることができる。
【００３１】
本発明に用いられる密着層用樹脂としては、所望の密着性を有し、透明性を有する密着層をパターン状に形成できるものであれば特に限定されるものではないが、感光性を有する感光性材料からなるものであることが好ましい。パターン状の上記密着層を容易に形成することができるからである。
このような感光性材料としては、感光性を有し、所望の密着性および透明性を有する密着層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記密着層形成用ポリマーまたは密着層形成用多官能性モノマーを少なくとも含む密着層形成用組成物を用いてなるものとすることが好ましく、なかでも、上記密着層形成用組成物が上記密着層形成用ポリマーおよび密着層形成用多官能性モノマーの両者を含むものであることが好ましい。より密着性に優れた密着層を形成できるからである。
【００３２】
このような密着層形成用ポリマーとしては、所望の密着性を有する密着層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、不飽和二重結合を有する構成単位（１）（以下、単に構成単位(１)とする場合がある。）を有し、かつ、上記構成単位（１）の含有量が上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の５０モル％以下のものであることが好ましく、なかでも上記構成単位（１）の含有量が上記全構成単位中の、１０モル％〜４５モル％の範囲内のものであることが好ましく、特に、１５モル％〜４０モル％の範囲内のものであることが好ましい。上記構成単位（１）の含有量が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。
【００３３】
本発明において用いられる構成単位（１）としては、露光時に上記密着層形成用多官能性モノマー等と重合可能な飽和二重結合を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、カルボキシル基を有する構成単位（２）（以下、単に構成単位(２)とする場合がある。）のカルボキシル基に、エポキシ基および不飽和二重結合を有するエポキシ基含有化合物のエポキシ基を反応させてなるものを挙げることができる。
【００３４】
本発明に用いられる構成単位（２）としては、カルボキシル基を有し、上記構成単位（１）を形成可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、カルボキシル基および不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有モノマーの不飽和二重結合を重合してなるものを挙げることができる。
【００３５】
このようなカルボキシル基含有モノマーとしては、具体的には、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のカプロラクトン付加物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに無水フタル酸等の酸無水物を付加させたもの等を用いることができ、なかでも、アクリル酸、メタアクリル酸であることが好ましい。上記エポキシ基含有化合物との反応性に優れ、上記構成単位（１）を安定的に形成することができるからである。
【００３６】
本発明におけるエポキシ基含有化合物としては、上記構成単位（２）が有するカルボキシル基と反応することができるエポキシ基を有し、不飽和二重結合を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３,４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、２−メチル−３,４−エポキシ−シクロヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、グリシジル(メタ)アクリレートであることが好ましい。上記モノマーとして、上述の化合物を用いることにより、硬度により優れた保護層を形成可能とすることができるからである。
【００３７】
本発明に用いられる密着層形成用ポリマーとしては、上記構成単位（１）に加えて、上記構成単位（２）を含むこと、すなわち、側鎖にカルボキシル基を有するものであることが好ましい。上記密着層形成用ポリマーを現像性に優れたものとすることができるからである。
本発明に用いられる密着層形成用ポリマーに含まれる構成単位（２）の含有量としては、上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の５モル％〜４０モル％の範囲内であることが好ましく、なかでも１０モル％〜３０モル％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、現像性に優れたものとすることができるからである。
【００３８】
本発明に用いられる密着層形成用ポリマーとしては、他に、アルキル基を有する構成単位（３）（以下、単に構成単位(３)とする場合がある。）を含むものとすることができる。
【００３９】
本発明におけるアルキル基としては、所望の密着性を発揮する密着層形成用ポリマーとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、脂肪族系であっても良く、芳香環やその他の官能基を含むものを用いることができる。
本発明においては、なかでも、炭素数が１〜１２のアルキル基であることが好ましく、特に、炭素数が１〜８のアルキル基であることが好ましい。上記アルキル基が上記置換基であることにより、上記密着層形成用ポリマーを溶剤中での分散安定性に優れたものとすることができるからである。
【００４０】
本発明における構成単位（３）としては、上記アルキル基を有するものであれば特に限定されるものではなく、具体的には上記アルキル基および不飽和二重結合を有するアルキル基含有モノマーの不飽和二重結合を重合してなるものを挙げることができる。
【００４１】
このようなアルキル基含有モノマーとしては、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族含有（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基（メタ）アクリレート等を用いることができる。
本発明においては、なかでも、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレートであることが好ましい。上記モノマーとして、上述の化合物を用いることにより、上記密着層形成用ポリマーを溶剤中での分散安定性に優れたものとすることができるからである。
【００４２】
本発明における構成単位（３）の含有量は、上記密着層形成用ポリマーを構成する全構成単位の２０モル％〜６０モル％の範囲内であることが好ましく、なかでも、３０モル％〜５０モル％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、上記密着層形成用ポリマーを溶剤中での分散安定性に優れたものとすることができるからである。
【００４３】
本発明に用いられる密着層形成用ポリマーの含有量としては、所望の硬化性、現像性等を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記密着層形成用組成物の固形分中に、２５質量％〜６０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも３０質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。
ここで、上記固形分中とは、上記密着層形成用組成物に含まれる溶剤以外の全ての成分をいうものである。
【００４４】
本発明に用いられる密着層形成用ポリマーの形成方法としては、所望の構成単位を有するものを精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記密着層形成用ポリマーが、上記構成単位（１）を有するものである場合には、上記構成単位(２)を形成可能なカルボキシル基含有モノマーを重合し、その後、上記エポキシ基含有化合物を上記構成単位（２）のカルボキシル基に反応させる方法を用いることができる。
なお、上記エポキシ基含有化合物を上記構成単位（２）の一部に反応させることにより、上記構成単位（１）および構成単位（２）を有するものとすることができる。
【００４５】
本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーとしては、複数の重合性の官能基を有し、光照射により、上記密着層形成用モノマーおよび上記密着層形成用ポリマーを重合させることができるものであれば良い。
【００４６】
本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーの上記官能基数としては、２以上であれば特に限定されるものではないが、２〜４であることが好ましく、なかでも、４であることが好ましい。上記官能基数が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。
【００４７】
本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーとしては、通常、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートが用いられる。
【００４８】
このような多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、長鎖脂肪族ジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、プロピレンジ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、アクリル化イソシアヌレート、ビス（アクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、リン酸ジ（メタ）アクリレート、亜鉛ジ（メタ）アクリレート等の二官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００４９】
また、上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カルボン酸変性ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、エステルトリ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、エステルヘキサ（メタ）アクリレート等の三官能以上の（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００５０】
これらの多官能（メタ）アクリレートは、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用して使用してもよい。
【００５１】
本発明に用いられる密着層形成用多官能性モノマーの含有量としては、所望の密着性の密着層を形成可能とすることができるものであれば良く、上記密着層形成用組成物の固形分中に、１５質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも、２０質量％〜４５質量％の範囲内であることが好ましい。上記範囲より少ないと十分に光硬化が進まず、露光部分が溶出する場合があるからであり、上記範囲より多いと、未露光箇所でも現像できなくなる可能性があるからである。
【００５２】
本発明に用いられる密着層形成用組成物としては、上記密着層形成用ポリマーおよび／または密着層形成用多官能性モノマーを含むものであるが、通常、光重合開始剤および溶剤を含むものである。また、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。上記エポキシ樹脂を含むことで、金属、具体的には、上記タッチパネルセンサ層を構成する第２透明電極等との密着性を向上させることができるからである。また、必要に応じて種々の添加剤や、上記密着層形成用ポリマーおよび密着層形成用多官能性モノマー以外のポリマーおよびモノマーを含むことができる。
【００５３】
本発明に用いられる光重合開始剤としては、光照射により、上記密着層形成用多官能性モノマーおよび上記密着層形成用ポリマーを重合させることができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なものを用いることができる。
【００５４】
具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、４，４´−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メチルフェニル）イミダゾール２量体、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシスチリル−Ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジメチルアミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−Ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−Ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリアジン等のハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパノン、１，２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン‐１，１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、ベンジル、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４´−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノベンゾエート、Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、２−ｎ−ブチキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−クロロチオキサントン、２，４ジエチルチオキサントン、２，４ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（ｏ−アセチルオキシム）、４−ベンゾイル−メチルジフェニルサルファイド、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルフォリニル）−１−プロパノン、１，２−オクタジオン等の光重合開始剤を挙げることができる。本発明においては、これらの光重合開始剤を単独で、または、２種以上を混合して使用することができる。
【００５５】
このような光重合開始剤の含有量としては、上記密着層形成用組成物を所望の硬化速度で光硬化することができるものであれば良く、固形分中に、０．１質量％〜２０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも０．７質量％〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。
【００５６】
本発明に用いられる密着層形成用組成物に含まれる溶剤は、上記密着層形成用組成物中の各成分とは反応せず、これらを溶解もしくは分散可能な有機溶剤であれば特に限定されるものではない。
【００５７】
具体的には、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；および、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等のエステル類;などが挙げられる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【００５８】
本発明に用いられる溶剤の上記密着層形成用組成物中の含有量としては、６０質量％〜９５質量％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは７０質量％〜９０質量％の範囲内であることが好ましい。このような含有量であることにより、塗布に適した粘度とすることができるからである。
【００５９】
本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、上記密着層形成用組成物の硬化後に所望の密着性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではない。例えば、常温で液状のノボラック系エポキシ、脂環式エポキシ、カルドエポキシ等を挙げることができ、より具体的には、商品名ＢＰＥＦＧ（ナガセケムテックス製）、セロキサイド２０２１Ｐ、３０００、２０００、スチレンオキサイド、エポリードＧＴ３００、ＧＴ４００（以上、ダイセル化学工業製）、ｊｅｒ９０１、８０１Ｐ、８０２、８０２ＸＡ、８０６、８０６Ｌ、８０７、８１５、８１９、８２５、８２７、８２８、８１５ＸＡ、８２８ＥＬ、８２８ＸＡ、１５２、６０４、６３０（以上、油化シェルエポキシ製）、ＳＰＣＡ−３５Ｘ（昭和高分子（株）製）等を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、エポリードＧＴ３００、ＧＴ４００、ＳＰＣＡ−３５Ｘを好ましく用いることができる。密着性に優れた密着層を形成することができるからである。
【００６０】
本発明におけるエポキシ樹脂の上記密着層形成用組成物中の含有量としては、上記密着層形成用組成物の固形分中に２０質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも３０質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、密着性に優れたものとすることができるからである。
なお、エポキシ当量は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２３６に基づいて求めることができる。
【００６１】
本発明に用いられる添加剤としては、顔料、遮光性微粒子、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、可塑剤、界面活性剤、消泡剤、シランカップリング剤等などが挙げられる。
【００６２】
本発明に用いられる密着層形成用組成物の形成方法としては、上記各成分を上記溶剤中に均一に分散したものとすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、公知の混合・分散方法を用いることができる。
【００６３】
本発明に用いられる密着層の形成方法としては、上記密着層をパターン精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記密着層形成用成物を用いる方法、より具体的には、上記密着層形成用組成物を塗布し、乾燥して塗膜を形成した後、上記塗膜に対してパターン状に露光し、現像する方法を用いることが好ましい。密着性に優れた密着層をパターン精度良く形成することができるからである。
また、上記密着層用樹脂が非感光性材料からなるものである場合には、上記非感光性材料からなる塗膜を形成した後、レジストをパターン状に形成し、エッチングする方法を用いることができる。
【００６４】
（ｂ）硬度層
本発明に用いられる硬度層は、上記硬度層用樹脂からなるものである。
【００６５】
本発明に用いられる硬度層の鉛筆硬度としては、上記硬度層を含むタッチパネル形成後に上記カラーフィルタを形成した場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ・剥離の少ないものとすることができるものであり、４Ｈ以上のものであるが、なかでも本発明においては、４Ｈ〜６Ｈの範囲内であることが好ましい。上記鉛筆硬度が上述の範囲内であることにより、上記保護層の表面の鉛筆硬度を安定的に硬度により優れたものとすることができ、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ・剥がれの少ないものとすることができるからである。
【００６６】
本発明に用いられる硬度層の厚みとしては、所望の硬度および滑り性を発揮することができるものであり、１．０μｍ以上であれば、特に限定されるものではないが、なかでも本発明においては、１．０μｍ〜５．０μｍの範囲内であることが好ましく、特に１．０μｍ〜１．７５μｍの範囲内であることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ・剥がれの少ないものとすることができるからである。また、上記硬度層の厚みが上述の範囲内であることにより、上記保護層表面の鉛筆硬度を安定的に高いものとすることができるからである。
なお、上記硬度層の厚みとは、上記密着層の表面から上記硬度層の表面までの距離をいうものである。
【００６７】
本発明に用いられる硬度層の形成個所としては、上記硬度層が、平面視上、上記密着層内に形成されており、上記タッチパネルが接触位置を安定に検出できるものとすることができ、かつ、上記タッチパネルセンサ層の各構成を安定的に保護することができる箇所であれば特に限定されるものではなく、上記密着層の形成箇所と同様とすることができる。
【００６８】
本発明における硬度層の静摩擦係数としては、上記硬度層を含むタッチパネル形成後に上記カラーフィルタを形成した場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ・剥離の少ないものとすることができるものであれば特に限定されるものではないが、０．２５〜０．３７の範囲内であることが好ましく、なかでも０．２５〜０．３０の範囲内であることが好ましく、特に０．２５〜０．２８の範囲内であることが好ましい。上記静摩擦係数が上述のの範囲内であることにより、滑り性により優れたものとすることができ、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ等のより少ないものとすることができるからである。
ここで、上記静摩擦係数の測定方法としては、精度良く測定できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１２５に規定する測定方法を用いることができる。また、ガラス上に製膜したレジストについて新東科学株式会社製 ＨＥＩＤＯＮ トライボギア ミューズ  ＴＹＰＥ：９４ｉを用いて測定する方法を用いることができる。なお、スライダー(接触子)の材質は黄銅(ハードクローム処理)で４０gのものを用い、検出器はボイスコイルモーターフォトセンサを使用する方法を用いることができる。
【００６９】
本発明に用いられる硬度層の可視光領域における透過率としては、所望の透明性を有する保護層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲内であることにより、透明性に優れた保護層を形成することができるからである。
【００７０】
本発明に用いられる硬度層の表面粗さとしては、所望の滑り性を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではないが、１ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましく、なかでも１ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に１ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記表面粗さが上述の範囲内であることにより滑り性により優れたものとすることができるからである。
なお、上記表面粗さは、算術平均粗さＲａを指すものであり、例えば、原子間力顕微鏡を用いて得られた画像を基に計算することで得ることができる。より具体的には、タカノ株式会社製、原子間力顕微鏡  ＡＳ−７ＢＭにて測定し、その結果を基に算術平均粗さＲａを求めることができる。
【００７１】
本発明に用いられる硬度層を構成する硬度層用樹脂については、所望の硬度および透明性を有する硬度層をパターン状に形成できるものであれば特に限定されるものではないが、感光性を有する感光性材料からなるものであることが好ましい。パターン状の上記硬度層を容易に形成することができるからである。
このような感光性材料としては、感光性を有し、所望の硬度および透明性を有する硬度層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記硬度層形成用ポリマーまたは硬度層形成用多官能性モノマーを少なくとも含む硬度層形成用組成物を用いてなるものとすることが好ましく、なかでも、上記硬度層形成用組成物が上記硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーの両者を含むものであることが好ましい。より硬度に優れた硬度層を形成できるからである。
【００７２】
このような硬度層形成用ポリマーとしては、所望の硬度を有する硬度層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、不飽和二重結合を有する構成単位（１）を有し、かつ、上記構成単位（１）の含有量が上記密硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の７０モル％以上のものであることが好ましく、なかでも、７５モル％〜９０モル％の範囲内のものであることが好ましい。上記構成単位（１）の含有量が上述の範囲内であることにより、硬度に優れた硬度層を形成可能なものとすることができるからである。
なお、上記構成単位（１）としては、不飽和二重結合を有するものであれば良く、上記「（ａ）密着層」の項に記載のものと同様とすることができる。
【００７３】
本発明における硬度層形成用ポリマーとしては、上記構成単位（１）に加えて、上記構成単位（２）を含むことが好ましい。上記硬度層形成用ポリマーを現像性に優れたものとすることができるからである。
本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーに含まれる構成単位（２）の含有量としては、上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の１０モル％〜２５モル％の範囲内であることが好ましく、なかでも１５モル％〜２０モル％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、現像性に優れたものとすることができるからである。
なお、上記構成単位（２）としては、カルボキシル基を有するものであれば良く、上記「（ａ）密着層」の項に記載のものと同様とすることができる。
【００７４】
本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーとしては、他に、上述のアルキル基を有する構成単位（３）や、フッ素含有基を有する構成単位（４）を含むことができる。
本発明においては、なかでも、上記構成単位（４）を含むことが好ましい。上記硬度５層を滑り性に優れたものとすることを可能とするからである。
【００７５】
本発明における構成単位（３）の含有量としては、上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位の５モル％〜３０モル％の範囲内であることが好ましく、なかでも、５モル％〜２０モル％の範囲内であることが好ましく、特に、５モル％〜１０モル％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、上記硬度層形成用ポリマーを溶剤中での分散安定性に優れたものとすることができるからである。
なお、上記構成単位（３）としては、上記「（ａ）密着層」の項に記載のものと同様とすることができる。
【００７６】
本発明におけるフッ素含有基としては、上記硬度層の表面に滑り性を付与することができるものであれば特に限定されるものではなく、具体的には、トリフルオロメチル（ＣＦ３）等を挙げることができる。上記フッ素含有基として上記官能基を含むことにより滑り性に優れた硬度層を形成することができるからである。
【００７７】
本発明における構成単位（４）としては、上記フッ素含有基を有し、所望の滑り性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記フッ素含有基および不飽和二重結合を有するフッ素含有基含有モノマーの不飽和二重結合を重合してなるものを挙げることができる。
【００７８】
このようなフッ素含有基含有モノマーとしては、上記フッ素含有基を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２−（パーフルオロブチル)エチル メタクリレート、２−（パーフルオロヘキシル)エチル メタクリレート、α−ブチル−ω−（３−メタクリロキシプロピル)−ポリジメチルシロキサンを挙げることができ、なかでも、２−（パーフルオロヘキシル)エチル メタクリレート、α−ブチル−ω−（３−メタクリロキシプロピル）−ポリジメチルシロキサンを挙げることができる。上記フッ素含有基含有モノマーとして、上述の化合物を用いることにより、上記フッ素含有基を有する構成単位（４）を精度良く上記ポリマーに導入することができるからである。
【００７９】
本発明における構成単位（４）の含有量としては、硬度および滑り性に優れた硬度層を形成できるものであれば、特に限定されるものではないが、上記硬度層形成用ポリマーを構成する全構成単位中の０．１モル％〜８．０モル％の範囲内であることが好ましく、なかでも１モル％〜６モル％の範囲内であることが好ましく、特に、２モル％〜４モル％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、特に滑り性に優れた硬度層を形成できるからである。
【００８０】
本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーの含有量としては、所望の硬化性、現像性等を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、上記硬度層形成用組成物の固形分中に、１０質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも１５質量％〜３５質量％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、硬度に優れた硬度層とすることができるからである。
【００８１】
本発明に用いられる硬度層形成用ポリマーの形成方法としては、所望の構成単位を有するものを精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記硬度層形成用ポリマーが、上記構成単位（１）および構成単位（４）を有するものである場合には、上記構成単位(２)を形成可能なカルボキシル基含有モノマーおよびフッ素含有基含有モノマーを重合し、その後、上記エポキシ基含有化合物を上記構成単位（２）のカルボキシル基に反応させる方法を用いることができる。
【００８２】
本発明に用いられる硬度層形成用多官能性モノマーとしては、複数の重合性の官能基を有し、光照射により、上記硬度層形成用モノマーおよび上記硬度層形成用ポリマーを重合させることができるものであれば良い。
このような硬度層形成用多官能性モノマーの上記官能基数としては、２以上であれば特に限定されるものではないが、５以上であることが好ましく、なかでも、５〜６であることが好ましい。上記官能基数が上述の範囲内であることにより硬度に優れたものとすることができるからである。
【００８３】
本発明に用いられる硬度層形成用多官能性モノマーとしては、通常、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートが用いられる。このような多官能（メタ）アクリレートとしては、上記「（ａ）密着層」の項に記載のものと同様とすることができる。
【００８４】
本発明に用いられる硬度層形成用多官能性モノマーの含有量としては、所望の硬度の硬度層を形成可能とすることができるものであれば良く、上記硬度層形成用組成物の固形分中に、４０質量％〜９０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも、５０質量％〜８０質量％の範囲内であることが好ましく、特に６０質量％〜７５質量％の範囲内であることが好ましい。上記範囲より少ないと十分に光硬化が進まず、露光部分が溶出する場合があるからであり、上記範囲より多いと、未露光箇所分でも現像できなくなる可能性があるからである。
【００８５】
本発明に用いられる硬度層形成用組成物としては、上記硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマーを含むものであるが、通常、光重合開始剤および溶剤を含むものである。また、必要に応じて種々の添加剤や、上記硬度層形成用ポリマーおよび硬度層形成用多官能性モノマー以外のポリマーおよびモノマーを含むことができる。
このような光重合開始剤、溶剤および添加剤ならびにこれらの含有量については、上記「（ａ）密着層」の項に記載の内容と同様とすることができる。
【００８６】
本発明に用いられる硬度層の形成方法としては、上記硬度層をパターン精度良く形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記「（ａ）密着層」と同様の方法を用いることができる。
【００８７】
（２）タッチパネルセンサ層
本発明に用いられるタッチパネルセンサ層は、上記透明基板上に形成されるものである。
このようなタッチパネルセンサ層としては、一般的なタッチパネルに用いられるものを使用することができ、例えば、上記透明基板上に形成され透明性を有する金属材料等からなる第１透明電極、上記第１透明電極上に形成される電極間絶縁層、上記電極間絶縁層上に形成され、透明性を有する金属材料等からなる第２透明電極を有するもの、すなわち、上記タッチパネルは、上記第１透明電極、電極間絶縁層、第２透明電極および保護層がこの順で積層したものを挙げることができる。また、上記透明基板上に形成される取出し電極を含むものである。
このような第１透明電極、電極間絶縁層、第２透明電極および取出し電極、ならびにその形成方法としては、一般的なタッチパネルに用いられるものと同様とすることができる。
具体的には、上記第１透明電極および第２透明電極を構成する金属材料としては、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物を挙げることができる。本発明においては、これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。
また、取出し電極等の不透明電極材料としては、透明電極材料より高い電気伝導率を有する金属材料が用いられてもよい。例としては、アルミニウム、モリブデン、パラジウム、銀、クロム、銅等の金属及びそれらを主成分とする合金、あるいはそれら合金を含む積層体が挙げられる。
なお、上記電極は、上記金属材料からなるものである場合、その表面がＵＶオゾンや、酸素プラズマ等の表面処理等が施されたものであっても良いが、上述のように本発明に用いられる密着層は、上記電極材料との間で高い密着性を発揮するので、これらの処理を不要とすることができる。
【００８８】
２．カラーフィルタ
本発明に用いられるカラーフィルタは、上記透明基板の他方の表面上に形成されるものである。
このようなカラーフィルタとしては、液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置等に一般的に用いられるものと同様とすることができ、通常、上記透明基板上に形成され、開口部を有する遮光部、上記遮光部の開口部に形成される着色層、スペーサ、オーバーコート層、透明電極、配向膜等を有するものである。
このようなカラーフィルタの各構成および形成方法については一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができ、例えば、特開２０１０−０１４８７０号公報記載の内容と同様とすることができる。
【００８９】
３．透明基板
本発明に用いられる透明基板は、上記タッチパネルおよびカラーフィルタを支持するものである。
このような透明基板を構成する材料としては、タッチパネルやカラーフィルタに用いられる透明基板と同様とすることができ、例えば、特開２０１０−０１４８７０号公報記載の内容と同様とすることができる。
【００９０】
本発明における透明基板の厚さとしては、上記タッチパネルおよびカラーフィルタを支持することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、０．３ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲内等のタッチパネルに一般的に用いられるものと同様とすることができる。
【００９１】
４．タッチパネル付カラーフィルタ
本発明のタッチパネル付カラーフィルタは、上記透明基板、タッチパネルおよびカラーフィルタを少なくとも含むものであるが、必要に応じて、その他の構成を有するものであっても良い。
【００９２】
本発明のタッチパネル付カラーフィルタの製造方法としては、上記各構成を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、図３に例示するように、上記透明基板１を準備し、上記透明基板１の一方の表面上に、上記第１透明電極１１、電極間絶縁層１２、第２透明電極１３および取出し電極１４を有するタッチパネルセンサ層１０を形成し（図３（ａ））、次いで、上記第２透明電極１３上に、上記密着層形成用組成物を塗工・乾燥した後、露光・現像することにより密着層２１を形成し（図３（ｂ））、次いで、上記密着層２１上に上記硬度層形成用組成物を塗工・乾燥した後、露光・現像することにより硬度層２２を形成し、保護層２０とする。これにより透明基板１の一方の表面に、タッチパネルセンサ層１０および保護層２０を含むタッチパネルを形成する（図３（ｃ））。その後、搬送装置上に上記透明基板１を上記搬送装置と上記保護層２０とが接するように配置し（図３（ｄ））、カラーフィルタを形成する場所まで搬送する。その後、上記透明基板１の他方の表面上に、上記開口部を有する遮光部３１および上記遮光部３１の開口部に形成された着色層３２を有するカラーフィルタ４０を形成し、タッチパネル付カラーフィルタ５０とする方法（図３（ｅ））であることが好ましい。すなわち、上記透明基板の一方の表面上に上記タッチパネルを形成し、次いで、上記保護層が形成された透明基板の他方の表面上にカラーフィルタを形成する方法であることが好ましい。上記タッチパネルに含まれる保護層が、上述のように密着層および硬度層の２つの層からなり、優れた硬度および密着性を有するものであるため、上記タッチパネルおよびカラーフィルタをこの順で行った場合であっても、上記タッチパネルに含まれる各構成をキズ・剥がれの少ないものとすることができるからである。
【００９３】
本発明のタッチパネル付カラーフィルタの用途としては、例えば、タッチパネル付表示装置、具体的には、タッチパネル付液晶表示装置やタッチパネル付有機エレクトロルミネッセント表示装置等を挙げることができ、なかでも、タッチパネルの各構成にキズ・剥がれがなく、感度不良の少ないことが要求されるタッチパネル付表示装置に用いられることが好ましい。
【００９４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００９５】
１．ポリマーの合成方法
[合成例１]
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）１２０質量部、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）１０質量部、メタクリル酸（ＭＡＡ）８０質量部、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート１０質量部を仕込み、フラスコ内に窒素ガスを導入しながら３０分攪拌して窒素置換を行った後、フラスコの内容物を９０℃まで昇温した。ついで、フラスコ内の内容物を９０℃に維持しながら、βメルカプトプロピオン酸（ＢＭＰＡ）４質量部とジメチル ２，２−アゾビス（２−メチルプロピネート）０．１質量部添加し、重合を開始した。重合開始から１時間毎に２，２−アゾビス（２−メチルプロピネート）０．４質量部を計３回添加した。重合開始から６時間後、ＰＧＭＥ５０質量部を添加し、室温まで冷却した。
重合物を１０時間程度放置した後、フラスコ内の酸素濃度が２０％程度にもどっていることを確認した後、フラスコ内にメトキノン（ＭＥＨＱ）０．１質量部とグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）１４０質量部とＰＧＭＥ１００質量部を追加し、９５℃まで昇温した。ついで、フラスコの内容物を９５℃に維持しながらトリエチルアミン（ＴＥＡ）１質量部を添加してから７時間後、室温まで冷却した。冷却後、無水マレイン酸を２２質量部とＭＥＨＱ０．３質量部、ＰＧＭＥ１０質量部を追加し、再度９５℃まで昇温した。ついで、フラスコの内容物を９５℃に維持しながら、ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１質量部を添加してから７時間後、ＰＧＭＥ８０質量部を添加し、室温まで冷却して、ポリマー（Ａ）を得た。ポリマー濃度は３８％であった。
得られた重合物の重量平均分子量は１．５万で、樹脂酸価は５０ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は８８モル％であった。
【００９６】
[合成例２]
合成例１で仕込むモノマー量を、ＭＭＡ１０質量部から３０質量部、ＭＡＡ８０質量部からＭＡＡ６５質量部、ＧＭＡ１４０質量部から１１０質量部へと変更した以外は、合成例１と同様の操作を行い、ポリマー濃度３８％のポリマー（Ｂ）を得た。
得られた重合物の重量平均分子量は１．５万で、樹脂酸価は５０ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は７０モル％であった。
【００９７】
[合成例３]
合成例１で仕込むモノマー量を、ＭＭＡ１０質量部から５０質量部、ＭＡＡ８０質量部からＭＡＡ５５質量部、ＧＭＡ１４０質量部から１００質量部へと変更した以外は、合成例１と同様の操作を行い、ポリマー濃度３８％のポリマー（Ｃ）を得た。
得られた重合物の重量平均分子量は１．５万で、樹脂酸価は５０ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は５５モル％であった。
【００９８】
[合成例４]
合成例１で仕込むモノマー量を、ＭＭＡ１０質量部から３０質量部、ＭＡＡ８０質量部からＭＡＡ６０質量部へと変更し、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート１０質量部を加えなかった以外は、合成例１と同様の操作を行い、ポリマー濃度３８％のポリマー（Ｄ）を得た。
得られた重合物の重量平均分子量は１．５万で、樹脂酸価は５０ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は７０モル％であった。
【００９９】
[合成例５]
攪拌装置、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却管を備えたフラスコに、ＰＧＭＥ１２０質量部、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）６０質量部、メタクリル酸（ＭＡＡ）４０質量部を仕込み、フラスコ内に窒素ガスを導入しながら３０分攪拌して窒素置換を行った後、フラスコの内容物を９０℃まで昇温した。ついで、フラスコ内の内容物を９０℃に維持しながら、ＢＭＰＡを４質量部とジメチル ２，２−アゾビス（２−メチルプロピネート）０．１質量部添加し、重合を開始した。重合開始から１時間毎に２，２−アゾビス（２−メチルプロピネート）０．４質量部を計３回添加した。重合開始から６時間後、ＰＧＭＥ５０質量部を添加し、室温まで冷却した。
重合物を１０時間程度放置した後、フラスコ内の酸素濃度が２０％程度にもどっていることを確認した後、フラスコ内にＭＥＨＱ０．１質量部とＧＭＡ２５質量部とＰＧＭＥ１００質量部を追加し、９５℃まで昇温した。ついで、フラスコの内容物を９５℃に維持しながらＴＥＡを１質量部添加してから７時間後、室温まで冷却して、ポリマー（Ｅ）を得た。ポリマー濃度は３８％であった。
得られた重合物の重量平均分子量は２．７万で、樹脂酸価は１３０ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は１７モル％であった。
【０１００】
[合成例６]
合成例５で仕込むモノマー量を、ＭＭＡ６０質量部から４０質量部、ＭＡＡ４０質量部からＭＡＡ６５質量部、ＧＭＡ２５質量部から７５質量部へと変更した以外は、合成例５と同様の操作を行い、ポリマー濃度３８％のポリマー（Ｆ）を得た。
得られた重合物の重量平均分子量は２．７万で、樹脂酸価は７１ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は４６モル％であった。
【０１０１】
[合成例７]
合成例５で仕込むモノマー量を、ＭＭＡ６０質量部から５質量部、ＭＡＡ４０質量部からＭＡＡ６５質量部、ＧＭＡ２５質量部から９３質量部へと変更した以外は、合成例５と同様の操作を行い、ポリマー濃度３８％のポリマー（Ｇ）を得た。
得られた重合物の重量平均分子量は２．７万で、樹脂酸価は３５ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は８１モル％であった。
【０１０２】
[合成例８]
合成例５で仕込むモノマー量を、ＭＭＡ６０質量部から４０質量部、ＭＡＡ４０質量部からＭＡＡ８０質量部、ＧＭＡ２５質量部から１０５質量部へと変更した以外は、合成例５と同様の操作を行い、ポリマー濃度３８％のポリマー（Ｈ）を得た。
得られた重合物の重量平均分子量は２．７万で、樹脂酸価は４７ｍｇＫＯＨ/ｇであった。二重結合の含有量は５６モル％であった。
【０１０３】
２．レジストの配合方法
以下に示す配合にてレジストＡ〜Ｊを調製した。
【０１０４】
（レジストＡ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＡ  含有量４質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）日本化薬製  含有量１４質量％
開始剤：製品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量１質量％
【０１０５】
（レジストＢ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＢ  含有量４質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  ＤＰＰＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート）日本化薬製  含有量１４質量％
開始剤：製品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量１質量％
【０１０６】
（レジストＣ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＣ  含有量４質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）日本化薬製  含有量１４質量％
開始剤：製品名イルガキュア９０７、ＢＡＳF社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量１質量％
【０１０７】
（レジストＤ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＤ  含有量４質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）日本化薬製  含有量１４質量％
開始剤：製品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量１質量％
【０１０８】
（レジストＥ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＡ  含有量４質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  東亜合成株式会社製Ｍ４０８（ＤＴＭＰＴＡ；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート）  含有量１４質量％
開始剤：製品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量１質量％
【０１０９】
（レジストＦ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＥ  含有量６質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  東亜合成株式会社製Ｍ４０８（ＤＴＭＰＴＡ；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート）  含有量７質量％
開始剤：製品名イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量６質量％
【０１１０】
（レジストＧ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＦ  含有量６質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  東亜合成株式会社製Ｍ４０８（ＤＴＭＰＴＡ；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート）  含有量７質量％
開始剤：製品名イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量６質量％
【０１１１】
（レジストＨ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＦ  含有量６質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）日本化薬製  含有量7質量％
開始剤：製品名イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量６質量％
【０１１２】
（レジストＩ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＧ  含有量６質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  東亜合成株式会社製Ｍ４０８（ＤＴＭＰＴＡ；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート）  含有量7質量％
開始剤：製品名イルガキュア８１９、ＢＡＳF社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量６質量％
【０１１３】
（レジストＪ）
溶媒：ＰＧＭＥ  含有量８０質量％
ポリマー：ポリマーＨ  含有量６質量％（固形分換算）
モノマー：化合物名  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）日本化薬製  含有量7質量％
開始剤：製品名イルガキュア８１９、ＢＡＳF社製  含有量１質量％
エポキシ樹脂：  製品名  ＧＴ４０１  ダイセル化学工業製  含有量６質量％
【０１１４】
[比較例１〜５]
上記で得られたレジストＡ〜Ｅについて、それぞれＩＴＯ電極基板上に乾燥後の厚みが１．５μｍとなるようにスピンコートし、９０℃ホットプレート上にて３分間静置（予備乾燥）し、下記の条件で露光を行った。次いで、現像液として、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて６０秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して、硬度層の単層膜を形成した。
【０１１５】
[比較例６〜１０]
上記で得られたレジストＦ〜Ｊについて、それぞれＩＴＯ電極基板上に乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃ホットプレート上にて３分間静置（予備乾燥）し、下記の条件で露光を行った。次いで、現像液として、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて６０秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して、密着層の単層膜を形成した。
【０１１６】
[実施例１]
上記で得られたレジストＦをＩＴＯ電極基板上に乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃ホットプレート上にて３分間静置（予備乾燥）し、下記の条件で、露光を行った。次いで、現像液として、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて６０秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して、密着層を形成した。
【０１１７】
(レジストＦ露光条件)
露光機：プロキシミティアライナ露光機
マスク：クロムマスク
露光ギャップ：１５０μｍ
光源：超高圧水銀灯
露光量：５０ｍＪ／ｃｍ２
【０１１８】
次いで、上記で得られた基板上にレジストＡを乾燥後の厚みが１．５μｍとなるようにスピンコートし、９０℃ホットプレート上にて３分間静置（予備乾燥）し、下記の条件で露光を行った。次いで、現像液として、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて60秒現像を行い、未硬化部の除去を行った。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して、硬度層を形成し、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１１９】
(レジストＡ露光条件)
露光機：プロキシミティアライナ露光機
マスク：クロムマスク
露光ギャップ：１５０μｍ
光源：超高圧水銀灯
露光量：５０ｍＪ／ｃｍ２
【０１２０】
[実施例２]
硬度層に使用するレジストとしてレジストＢを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２１】
[実施例３]
硬度層に使用するレジストとしてレジストＤを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２２】
[実施例４]
密着層に使用するレジストとしてレジストＧを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２３】
[実施例５]
密着層に使用するレジストとしてレジストＨを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２４】
[実施例６]
密着層に使用するレジストとしてレジストＩを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２５】
[実施例７]
密着層に使用するレジストとしてレジストＪを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２６】
[実施例８]
硬度層の乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようにスピンコートした以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２７】
[実施例９]
密着層の乾燥後の厚みが１．５μｍ、硬度層の乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようにスピンコートした以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２８】
[比較例１１]
硬度層に使用するレジストとしてレジストＣを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１２９】
[比較例１２]
硬度層に使用するレジストとしてレジストＥを用いた以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１３０】
[比較例１３]
密着層の乾燥後の厚みが２．０μｍ、硬度層の乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようにスピンコートした以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１３１】
[比較例１４]
密着層の乾燥後の厚みが１．５μｍ、硬度層の乾燥後の厚みが０．５μｍとなるようにスピンコートした以外の条件は実施例１と同様にして、密着層および硬度層からなる保護層を形成した。
【０１３２】
[評価]
実施例および比較例で得られた基板について、ＩＴＯ基板と保護層との密着性、および保護層表面の鉛筆硬度、静摩擦係数について評価を行った。結果を下記表１〜表３に示す。
【０１３３】
（１）密着性
密着性の評価方法はＪＩＳ Ｋ ５６００-５-６により行った。また、評価については下記の基準にて判断した。
【０１３４】
（２）鉛筆硬度
硬度の測定方法は、ＩＴＯ電極基板上に形成した保護層について、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４の規定に基づいて測定した。
【０１３５】
（３）静摩擦係数
ガラス上に製膜したレジストについて新東科学株式会社製 ＨＥＩＤＯＮ トライボギア ミューズ  ＴＹＰＥ：９４ｉを用いて測定した。
【０１３６】
【表１】
0005327263.tif 000002
【０１３７】
【表２】
0005327263.tif 000003
【０１３８】
【表３】
0005327263.tif 000004
【０１３９】
表１に示すように、実施例１〜９で得られた保護層については、密着性および硬度の両者に優れていることが確認できた。
【０１４０】
また、比較例１〜１０では、硬度層用レジスト、密着層用レジストいずれかの単層では、鉛筆硬度と密着性が両立しているものは無かった。すなわち、単層では鉛筆硬度と密着性とを両立させることができなかった。
ここで、比較例について詳細に検討した。その結果、比較例１〜４では、鉛筆硬度４Ｈ、５Ｈと良好だが、密着性が２〜４と劣る結果となった。不飽和二重結合含有量が５５〜８８モル％と大きく、モノマー官能基数が５，６と大きいことにより、硬化収縮が大きくなるため、密着性が劣るものになったと推察される。比較例５では、密着性が１と良いが、鉛筆硬度が２Ｈと劣る結果となった。不飽和二重結合含有量が８８モル％と大きいが、モノマー官能基数が４と小さいことにより、硬度不足となったと推察される。比較例６〜８では、密着性が０、１と良いが、鉛筆硬度がＨ、２Ｈと不足した。不飽和二重結合含有量が５０モル％未満と小さいため、モノマー官能基数が５，６であっても硬度不足となったと推察される。比較例９では、密着性が１と良いが、鉛筆硬度がＨと不足した。不飽和二重結合含有量が８１モル％と大きいが、モノマー官能基数が４であるため、硬度不足となったと推察される。比較例１０では、密着性が２と低く、鉛筆硬度も２Ｈと不足した。不飽和二重結合含有量が５６モル％と小さいため、モノマー官能基数が６であっても硬度不足となったと推察される。比較例１〜３、５と４の比較では、比較例４に対し、フッ素含有モノマーを添加した比較例１〜３、５は静摩擦係数が０．２７〜０．３５の範囲内と低くすることができ良好な結果とすることができた。比較例１〜４と比較例６〜９では、エポキシ樹脂３０％添加の比較例６〜９にて、エポキシ樹脂５％添加の比較例１〜４より密着性が良好であった。
【０１４１】
また、比較例１１では、密着性は良好であったが、鉛筆硬度が３Ｈとやや低い結果となった。実施例１と比較すると硬度層ポリマーの不飽和二重結合含有量が低く、硬度に影響したものと推察される。比較例１２では、密着性は良好であったが鉛筆硬度が２Ｈと低い結果となった。実施例１と比較すると、硬度層レジストのモノマー官能基数が４と低く、硬度に影響していると推察される。比較例１３では、密着層の膜厚が大きく、実施例９（密着層膜厚以外は同等）と比較して積層での鉛筆硬度が低下している。密着層の膜厚が大きいことが影響していることが確認できた。比較例１４では、硬度層の膜厚が小さいことにより、実施例９（硬度層膜厚以外は同等）と比較して積層での鉛筆硬度が低下する結果となった。硬度層の膜厚が小さいことが影響してることが確認できた。
【０１４２】
さらに、実施例について詳細に検討した。その結果、実施例１〜５、８、９では、密着性、鉛筆硬度とも良好であった。実施例６では、密着層ポリマーの不飽和二重結合含有量が多いが、密着層レジストのモノマー官能基数が４であることで密着性が低下しなかった。鉛筆硬度も良好であった。実施例７では、鉛筆硬度は良好だが、密着性が２とやや低い結果となった。密着層ポリマーの不飽和二重結合含有量が大きく、また、密着層レジストモノマー官能基数が６と大きいことにより、密着性に影響しているものと推察される。
【符号の説明】
【０１４３】
１  …  透明基板
１０  …  タッチパネルセンサ層
１１  …  第１透明電極
１２  …  電極間絶縁層
１３  …  第２透明電極
１４  …  取り出し電極
２０  …  保護層
２１  …  密着層
２２  …  硬度層
３０  …  タッチパネル
３１  …  遮光部
３２  …  着色層
４０  …  カラーフィルタ
５０  …  タッチパネル付カラーフィルタ
【図１】
0005327263.tif 000005
【図２】
0005327263.tif 000006
【図３】
0005327263.tif 000007