(57)【要約】本発明は従来の方法で副成していたトリフォスファイト不純物の量を低減し、高純度のフォスフォロアミダイト製品を提供する。トリフォスファイトを生成しにくい反応活性化剤を使用し、過剰反応を抑えることでフォスフォロアミド類を高純度で得る。本発明により、これまでトリフォスファイト不純物の生成を抑制することが困難であったが、フォスフォロアミド類を高純度で得ることが可能になった。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式〔１〕
2004052908.tif 000017
（式中、Ｒ１は炭素数１から４のアルキル基、シアノ基で置換された炭素数１から４のアルキル基またはシリル基で置換された炭素数１から４のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数２から５のアルキル基で置換されたアミノ基または炭素数４から７の脂環状アミノ基を表す。）で表される化合物を反応剤としてフォスフォロアミダイトを製造する方法であって、一般式〔２〕
2004052908.tif 000018
（式中、Ｒ３は炭素数１から６の脂環状アルキル基、炭素数１から４のアルキル基で置換されたアリール基または置換されていないアリール基を表す。）で表される置換テトラゾールを反応活性化剤として用いることを特徴とする製造法。
【請求項２】
一般式〔３〕
2004052908.tif 000019
（式中、Ｒ４は水酸基の保護基を、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基または置換された水酸基を、Ｂは核酸塩基または保護された核酸塩基を表す。）で表されるヌクレオシド誘導体を原料とし、一般式〔４〕
2004052908.tif 000020
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５およびＢは前述と同義である。）で表されるフォスフォロアミダイトを合成することを特徴とする請求項１に記載の製造法。
【請求項３】
一般式〔２〕中、Ｒ３がフェニル基である請求項１又は２に記載の製造法。
【請求項４】
一般式〔１〕中、Ｒ１がシアノエチル基であり、Ｒ２がジイソプロピルアミノ基である請求項１から３の何れか一項に記載の製造法。
【請求項５】
一般式〔３〕および〔４〕中、Ｒ４が４，４’−ジメトキシトリチル基であり、Ｒ５が水素原子であり、Ｂが１−チミン基、Ｎ４−ベンゾイル−１−シトシン基、Ｎ６−ベンゾイル−９−アデニン基またはＮ２−イソブチリル−９−グアニン基である請求項２から４の何れか一項に記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明はフォスフォロアミダイトの製造法に関する。さらに詳しくは、本発明は、一般式〔４〕
2004052908.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭素数１から４のアルキル基、シアノ基で置換された炭素数１から４のアルキル基またはシリル基で置換された炭素数１から４のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数２から５のアルキル基で置換されたアミノ基または炭素数４から７の脂環状アミノ基を表し、Ｒ４は水酸基の保護基を、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基または置換された水酸基を、Ｂは核酸塩基または保護された核酸塩基を表す。）で表されるフォスフォロアミダイト製造の際に、一般式〔５〕
2004052908.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ４およびＲ５は前述と同義である。）で表されるトリフォスファイトなる副成物の生成量を減らし、フォスフォロアミダイト生成の選択性を向上するように開発された反応活性化剤に関する。
【背景技術】  近年、ゲノム創薬の進展に伴い、アンチセンスＤＮＡ医薬などが急速に開発されている。それに伴い、原料となるＤＮＡオリゴマー、さらにオリゴマーの原料となるフォスフォロアミダイト類の需要が増大している。フォスフォロアミダイト類を医薬品の用途として用いるためには、非常に高純度の製品を製造する必要がある。
これまでフォスフォロアミダイト類は、たとえばＮｕｃｌｅｉｃ  Ａｃｉｄｓ  Ｒｅｓ，１２，ｐ４０５１（１９８４）［またはＮｕｃｌｅｉｃ  Ａｃｉｄｓ  Ｒｅｓ，１８，ｐ１７７（１９８７）］に記載の方法のように、フォスフォロジアミダイトを反応試剤、テトラゾールを反応活性化剤として用いて、ヌクレオシドの水酸基と反応させる方法で合成できる。この報文では、反応で生成する不純物について詳しく解析している。主要な不純物のうち、水分に起因する分解物については反応系内の水分量を減らすことにより低減できる。しかし、反応で用いた活性化剤の性質によって生成する副成物を低減することは難しい。式１
2004052908.tif 000004
（式中、Ｒ１はメチル基またはシアノエチル基を、Ｒ２はジイソプロピルアミノ基、Ｒ４は４，４’−ジメトキシトリチル基を、Ｂは１−チミン基を表す。）に示した通り、過剰反応物（一般式〔５ａ〕で表されるトリフォスファイト）は、目的とする一般式〔４ａ〕で表されるフォスフォロアミダイトがさらに一般式〔３ａ〕で表される原料ヌクレオシドと反応することで生成する。混入比率は１％（ＮＭＲ解析結果）で少ないとの記述があるが、アンチセンス医薬などの医薬品用途ではさらに低減する必要がある。フォスフォロアミダイト類は不安定で精製は難しいため、反応の段階で副成物を極力低減することが必要とされる。ＵＳ４４１５７３２に記載されているように、テトラゾールは、元来オリゴマーのようなトリフォスファイトの合成を目的として開発されたため、一般式〔４ａ〕で表されるフォスフォロアミダイトから一般式〔５ａ〕で表されるトリフォスファイトに至る反応は非常に速い。現在でもオリゴマー合成に多用される活性化剤である。
Ｏｒｇ．Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｒｅｓ．Ｄｅｖ．４，ｐ１７５（２０００）またはＷＯ９９６２９２２に記載の方法は、テトラゾールがコスト高という欠点を改善するため、ピリジン−トリフルオロ酢酸塩を用いている。しかしながら、テトラゾールと同様にオリゴマー合成への有用性が記述されているように、トリフォスファイトの生成能は高い。
オリゴマー合成への利用を目的として、テトラゾールに代わる数多くの活性化剤が報告されている。しかし、オリゴマー合成を固相合成で行うためには、できるだけ短時間でトリフォスファイトを形成する必要がある点でフォスフォロアミダイトの選択的な合成とは目的が異なっていた。つまり、一般式〔４ａ〕で表されるフォスフォロアミダイトを製造するには一般式〔５ａ〕で表されるトリフォスファイトの副成量を低減する必要があるため、これらの方法は不向きであった。典型的な例がＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．（２４）ｐ３１７１（１９８３）に記載されている。この報文で報告されている５−（４−ニトロフェニル）テトラゾールは、テトラゾールの反応速度を大きく上回るように設計されており、非常に効率的にトリフォスファイトであるオリゴマーを生成する。また、フェニルテトラゾールもトリフォスファイト合成の活性化剤として図中に例示されているが、溶解性が悪いことから活性評価する価値がないと判断された旨記載があり、フォスフォロアミダイトを選択的に合成できるという活性化剤としての有用性を見出すには到らなかった。
このように、一般式〔５ａ〕で表されるトリフォスファイトへの反応は進行しにくく、一般式〔４ａ〕で表されるフォスフォロアミダイトを選択的に合成できるような活性化剤は開発されていなかった。
【発明の開示】
従来の問題点を鑑み、本発明の課題は効率的で副反応の少ないフォスフォロアミダイト製造法を提供することである。
本発明者らは上記課題について鋭意検討した結果、５−フェニルテトラゾールが選択性良くフォスフォロアミダイトを生成することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、
［１］一般式〔１〕
2004052908.tif 000005
（式中、Ｒ１は炭素数１から４のアルキル基、シアノ基で置換された炭素数１から４のアルキル基またはシリル基で置換された炭素数１から４のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数２から５のアルキル基で置換されたアミノ基または炭素数４から７の脂環状アミノ基を表す。）で表される化合物を反応剤としてフォスフォロアミダイトを製造する方法であって、一般式〔２〕
2004052908.tif 000006
（式中、Ｒ３は炭素数１から６の脂環状アルキル基、炭素数１から４のアルキル基で置換されたアリール基または置換されていないアリール基を表す。）で表される置換テトラゾールを反応活性化剤として用いることを特徴とする製造法であり、
［２］一般式〔３〕
2004052908.tif 000007
（式中、Ｒ４は水酸基の保護基を、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基または置換された水酸基を、Ｂは核酸塩基または保護された核酸塩基を表す。）で表されるヌクレオシド誘導体を原料とし、一般式〔４〕
2004052908.tif 000008
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５およびＢは前述と同義である。）で表されるフォスフォロアミダイトを合成する際に、一般式〔５〕
2004052908.tif 000009
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は前述と同義である。）で表されるトリフォスファイトの生成を抑えることを特徴とする［１］に記載の製造法であり、
［３］一般式〔２〕中、Ｒ３がフェニル基である［１］又は［２］に記載の製造法であり、
［４］一般式〔１〕中、Ｒ１がシアノエチル基であり、Ｒ２がジイソプロピルアミノ基である［１］から［３］の何れか一項に記載の製造法であり、
［５］一般式〔３〕および〔４〕中、Ｒ４が４，４’−ジメトキシトリチル基であり、Ｒ５が水素原子であり、Ｂが１−チミン基、Ｎ４−ベンゾイル−１−シトシン基、Ｎ６−ベンゾイル−９−アデニン基またはＮ２−イソブチリル−９−グアニン基である［２］から［４］の何れか一項に記載の製造法である。
本発明により、大量製造可能な方法を用いて、従来の方法に比べ効率的に高純度のフォスフォロアミダイト類を製造することができるようになった。
【発明を実施するための最良の形態】  以下、本発明を詳細に説明する。
一般式〔１〕で表されるフォスフォロジアミダイト等において、Ｒ１における炭素数１から４のアルキル基とは、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などがあげられる。シアノ基で置換された炭素数１から４のアルキル基とは、たとえば２−シアノエチル基、２−シアノプロピル基、２−シアノシクロプロピル基、２−シアノブチル基、２−シアノ−２−メチルプロピル基などがあげられるがこれらに限定されるものではない。Ｒ１におけるシリル基で置換された炭素数１から４のアルキル基とは、たとえば２−トリメチルシリルエチル基、２−トリメチルシリルプロピル基、２−トリメチルシリルブチル基、２−トリメチルシリル−２−メチルプロピル基、２−トリエチルシリルエチル基、２−トリエチルシリルプロピル基、２−トリエチルシリルブチル基、２−トリエチルシリル−２−メチルプロピル基、２−トリイソプロピルシリルブチル基、２−トリイソプロピルシリル−２−メチルプロピル基、２−トリイソプロピルシリルエチル基、２−トリイソプロピルシリルプロピル基、２−トリイソプロピルシリルブチル基、２−トリイソプロピルシリル−２−メチルプロピル基、２−イソプロピルブチル基、２−トリイソプロピルシリル−２−メチルプロピル基、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）エチル基、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）プロピル基、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）ブチル基、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−２−メチルプロピル基などがあげられるがこれらに限定されるものではない。Ｒ２における炭素数２から５のアルキル基で置換されたアミノ基とは、たとえばジエチルアミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジシクロプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジ（ｓｅｃ−ブチル）アミノ基、ジ（イソブチル）アミノ基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）アミノ基、ジ（ｎ−ペンチル）アミノ基、ジ（イソペンチル）アミノ基、ジ（ネオペンチル）アミノ基、ジシクロペンチルアミノ基などがあえられるがこれらに限定されるものではない。Ｒ２における炭素数４から７の脂環状アミノ基とは、たとえばピロリジノ基、２−メチルピロリジノ基、２，４−ジメチルピロリジノ基、ピペリジノ基、ヘプタメチレンイミノ基などがあげられるがこれらに限定されるものではない。
一般式〔２〕で表される置換テトラゾール等において、Ｒ３における炭素数１から６の脂環状アルキル基とは、たとえばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などがあげられる。Ｒ３における炭素数１から４のアルキル基で置換されたアリール基とは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基で置換されたアリール基を表し、たとえば２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−（２−ブチル）フェニル基、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、３−メチルフェニル基、３−エチルフェニル基、３−イソプロピルフェニル基、３−（２−ブチル）フェニル基、３−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−（２−ブチル）フェニル基、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ビス（２−ブチル）フェニル基、２，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、３−メチル−２−フルフリル基、３−エチル−２−フルフリル基、３−イソプロピル−２−フルフリル基、３−（２−ブチル）−２−フルフリル基、３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−フルフリル基、４−メチル−２−フルフリル基、４−エチル−２−フルフリル基、４−イソプロピル−２−フルフリル基、４−（２−ブチル）−２−フルフリル基、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−フルフリル基、３，５−ジメチル−２−フルフリル基などがあげられるがこれらに限定されるものではない。Ｒ３における置換されていないアリール基とは、たとえばフェニル基、２−フルフリル基、３−フルフリル基、２−チオフェニル基、３−チオフェニル基などがあげられるがこれらに限定されるものではない。一般式〔２〕で表される置換テトラゾールとしては、特に５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールが好ましい。これら置換テトラゾールは、塩基との塩として反応に加えることもできるし、そのまま加えても良い。塩を形成する塩基としては、有機塩基が好ましく、たとえばトリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、トリ（ｎ−ブチル）アミン、１−メチルピペリジン、１−メチルピロリジンなどの３級アミン類あるいはジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ（ｎ−ブチル）アミン、ピロリジン、ピペリジンなどの２級アミンがあげられるがこれらに限定されるものではない。
一般式〔３〕で表されるヌクレオシド誘導体において、Ｒ４における水酸基の保護基とは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ベンジル基、２−メトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシエチル基、アセトキシメチル基、アセトキシエチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンゾイルオキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、プロパルギル基、アリル基等のアルキル基またはアルキル基の先にさらに置換されたアルキル基、フェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェニルフェニル基、２−ピリジニル基、３−ピリジニル基、４−ピリジニル基等のアリール基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、３−メトキシベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、３−メチルベンゾイル基、４−メチルベンゾイル基、２−ニトロベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−ニトロベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基などのアシル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基などのウレタン基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、２−メチルベンゼンスルホニル基、３−メチルベンゼンスルホニル基、４−メチルベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリクロロメタンスルホニル基等のスルホン酸エステル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基などのシリル基、トリチル基、４−メトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基などのトリチル基があげられる。
Ｒ５におけるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す。Ｒ５における炭素数１から４のアルキル基とは、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などがあげられる。
Ｒ５における置換された水酸基とは、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、エーテル、ウレタン、シリル基などの一般的な水酸基の保護基となりうる置換基により置換された水酸基を表す。水酸基の保護基の例としては、たとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ベンジル基、２−メトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシエチル基、アセトキシメチル基、アセトキシエチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンゾイルオキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、プロパルギル基、アリル基等のアルキル基またはアルキル基の先にさらに置換されたアルキル基、フェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェニルフェニル基、２−ピリジニル基、３−ピリジニル基、４−ピリジニル基等のアリール基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、３−メトキシベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、３−メチルベンゾイル基、４−メチルベンゾイル基、２−ニトロベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−ニトロベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基などのアシル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基などのウレタン基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、２−メチルベンゼンスルホニル基、３−メチルベンゼンスルホニル基、４−メチルベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリクロロメタンスルホニル基等のスルホン酸エステル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基などのシリル基が挙げられる。
Ｒ５の置換された水酸基の例としてはたとえば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ベンジルオキシ基、２−メトキシベンジルオキシ基、３−メトキシベンジルオキシ基、４−メトキシベンジルオキシ基、２−メチルベンジルオキシ基、３−メチルベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、メトキシエチルオキシ基、エトキシエチルオキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、ベンジルオキシエトキシ基、アセトキシメトキシ基、アセトキシエトキシ基、ベンゾイルオキシメトキシ基、ベンゾイルオキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、プロパルギルオキシ基、アリルオキシ基、フェニルオキシ基、２−メトキシフェニルオキシ基、３−メトキシフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、４−フェニルフェニルオキシ基、２−ピリジニルオキシ基、３−ピリジニルオキシ基、４−ピリジニルオキシ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、２−メトキシベンゾイルオキシ基、３−メトキシベンゾイルオキシ基、４−メトキシベンゾイルオキシ基、２−メチルベンゾイルオキシ基、３−メチルベンゾイルオキシ基、４−メチルベンゾイルオキシ基、２−ニトロベンゾイルオキシ基、３−ニトロベンゾイルオキシ基、４−ニトロベンゾイルオキシ基、４−フェニルベンゾイルオキシ基、２−クロロベンゾイルオキシ基、３−クロロベンゾイルオキシ基、４−クロロベンゾイルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、フェニルアミノカルボニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、２−メチルベンゼンスルホニルオキシ基、３−メチルベンゼンスルホニルオキシ基、４−メチルベンゼンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トリクロロメタンスルホニルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基などが挙げられる。
Ｂにおける核酸塩基とは、天然型あるいは非天然型いずれの核酸塩基でも良く、たとえば１−チミン基、１−シトシン基、９−アデニン基、９−グアニン基、１−ウラシル基、５−フルオロ−１−ウラシル基、５−トリフルオロ−１−チミン基、５−メチル−１−シトシン基、６−クロロ−９−プリン基、２，６−ジアミノ−９−プリン基、７−アデニン基、７−グアニン基、８−ブロモ−９−アデニン基、８−ブロモ−９−グアニン基、２−アミノ−９−プリン基、８−アザ−９−アデニン基、８−アザ−９−グアニン基、８−デアザ−９−アデニン基、８−デアザ−９−グアニン基などがあげられるがこれらに限定されるものではない。
Ｂにおける保護された核酸塩基とは、天然型あるいは非天然型いずれの核酸塩基が保護されていても良く、保護基としては通常用いられるものであれば特に限定されない。保護基としては、たとえばアセチル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、ジメチルアミノメチリデン基、ジブチルアミノメチリデン基、パルミトイル基、ベンジルオキシアセチル基などがあげられる。保護された核酸塩基としては、たとえばＮ４−ベンゾイル−１−シトシン基、Ｎ４−アセチル−１−シトシン基、Ｎ６−ベンゾイル−９−アデニン基、Ｎ２−イソブチリル−９−グアニン基などがあげられる。
本発明の方法における反応溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されるものではないが、アルコール類以外の非プロトン性溶媒が好ましい。たとえばアセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、ジメトキシエタン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエンなどがあげられる。また、これら溶媒の混合溶媒も使用できる。
本発明の方法における反応温度としては、−３０℃から使用する溶媒の沸点までで行うことができる。特に好ましくは−１０℃から４０℃の間である。
反応剤の使用量としては、後処理に影響を与えない限り特に限定されないが、経済性を考えると、原料のモル量に対して０．８から１．５当量が好ましい。
反応活性化剤の使用量としては、原料のモル量に対して０．０１から２当量が好ましく、０．１から１．５当量が特に好ましい。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【実施例１】  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）チミジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）チミジン（４−メチル−２−ペンタノンを０．５当量含有する）２．０ｇ、脱水アセトニトリル１０ｍＬを混合し、室温で攪拌した懸濁液に、２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルフォスフォロジアミダイト１．２２ｇ（原料のモル数に対して１．２当量）を滴下しさらに攪拌する。次いで５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール０．０５ｇ（原料のモル数に対して０．１当量）を添加し、室温で８時間攪拌した。
本反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果、収率９７％であった。表題化合物と一般式〔５ｂ〕で表される副成物
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（式中、Ｒ１は２−シアノエチル基を、Ｒ４は４，４’−ジメトキシトリチル基を、Ｒ５は水素原子を、Ｂは１−チミンを表す。）の比で表される反応選択性（表題化合物のＨＰＬＣ面積％／副成物のＨＰＬＣ面積％）は、４５１であった。
［比較例１および２］
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシチミジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
実施例１と同様の手法で、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールの代わりに各々、テトラゾール０．０２４ｇ（原料のモル数に対して０．１当量：比較例１）、ピリジン−トリフルオロ酢酸塩０．０６８ｇ（原料のモル数に対して０．１当量：比較例２）を用いて反応を行った。８又は２４時間後の反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果を［表１］に示す。
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上記表１において、反応選択性＝（表題化合物のＨＰＬＣ面積％）／（副成物〔５ｂ〕のＨＰＬＣ面積％）。但し、副成物〔５ｂ〕の式中、Ｒ１は２−シアノエチル基を、Ｒ４は４，４’−ジメトキシトリチル基を、Ｒ５は水素原子を、Ｂは１−チミンを表す。
【実施例２】  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン２．０ｇ、脱水アセトニトリル１０ｍＬを混合し、室温で攪拌した懸濁液に、２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルフォスフォロジアミダイト１．１０ｇ（原料のモル数に対して１．２当量）を滴下しさらに攪拌する。次いで５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール０．５３ｇ（原料のモル数に対して１．２当量）を添加し、室温で２時間攪拌した。
本反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果、収率９６％であった。表題化合物と一般式〔５ｃ〕
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（式中、Ｒ１は２−シアノエチル基を、Ｒ４は４，４’−ジメトキシトリチル基を、Ｒ５は水素原子を、ＢはＮ６−ベンゾイル−９−アデニンを表す。）で表される副成物の比で表される反応選択性（表題化合物のＨＰＬＣ面積％／副成物のＨＰＬＣ面積％）は、１５２であった。さらに９６時間後の反応液を分析した結果、収率９９％、反応選択性は１８７であった。
【実施例３】  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
実施例２と同様の手法で、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールの当量を変えて反応を行った。５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール０．０４ｇ（原料のモル数に対して０．１当量）を用いて２４時間攪拌した。
本反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果、収率９９％であった。表題化合物と一般式〔５ｃ〕で表される副成物の比で表される反応選択性（表題化合物のＨＰＬＣ面積％／副成物のＨＰＬＣ面積％）は、６９９であった。
【実施例４】  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
実施例２と同様の手法で、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールの当量を変えて反応を行った。５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール０．２２ｇ（原料のモル数に対して０．５当量）を用いて８時間攪拌した。
本反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果、９９％であった。表題化合物と一般式〔５ｃ〕で表される副成物の比で表される反応選択性（表題化合物のＨＰＬＣ面積％／副成物のＨＰＬＣ面積％）は、７８５であった。
［比較例３〜５］
実施例２と同様の手法で、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールの代わりに各々、テトラゾール０．２５６ｇ（原料のモル数に対して１．２当量：比較例３）、ピリジン−トリフルオロ酢酸塩０．７０７ｇ（原料のモル数に対して１．２当量：比較例４）、５−（４−ニトロフェニル）−１Ｈ−テトラゾール０．６８９ｇ（原料のモル数に対して１．２当量：比較例５）を用いて反応を行った。９６時間後の反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果を［表２］に示す。
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［比較例６〜８］
実施例４と同様の手法で、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールの代わりに各々、テトラゾール０．１０７ｇ（原料のモル数に対して０．５当量：比較例６）、ピリジン−トリフルオロ酢酸塩０．２９５ｇ（原料のモル数に対して０．５当量：比較例７）、５−（４−ニトロフェニル）−１Ｈ−テトラゾール０．２９１ｇ（原料のモル数に対して０．５当量：比較例８）を用いて反応を行った。９６時間後の反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル５／５（ＴＥＡＡ２５０ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果を［表３］に示す。
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上記表３において、反応選択性＝（表題化合物のＨＰＬＣ面積％）／（一般式〔５ｃ〕で表される副成物のＨＰＬＣ面積％）
【実施例５】  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン２．０ｇ、脱水アセトニトリル１０ｍＬを混合し、室温で攪拌した懸濁液に、２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルフォスフォロジアミダイト１．１４ｇ（原料のモル数に対して１．２当量）を滴下しさらに攪拌する。次いで５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール０．１８５ｇ（原料のモル数に対して０．４当量）を添加し、室温で５時間攪拌した。
本反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル４／６（ＴＥＡＡ６２．５ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果、収率９９％であった。表題化合物と副成物〔５ｄ〕
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（式中、Ｒ１は２−シアノエチル基を、Ｒ４は４，４’−ジメトキシトリチル基を、Ｒ５は水素原子を、ＢはＮ４−ベンゾイル−１−シトシンを表す。）の比で表される反応選択性（表題化合物のＨＰＬＣ面積％／副成物のＨＰＬＣ面積％）は、２８４であった。
［比較例９および１０］
Ｎ４−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−デオキシシチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルフォスフォロアミダイト）の合成
実施例５と同様の手法で、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾールの代わりに各々、テトラゾール０．０８８ｇ（原料のモル数に対して０．４当量：比較例９）、ピリジン−トリフルオロ酢酸塩０．２４４ｇ（原料のモル数に対して０．４当量：比較例１０）を用いて反応を行った。５時間後の反応液を高速液体クロマトグラフ法（逆相カラム、溶離液：水／アセトニトリル４／６（ＴＥＡＡ６２．５ｍＭ）、検出波長：２５４ｎｍ）にて分析した結果を［表４］に示す。
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反応選択性＝（表題化合物のＨＰＬＣ面積％）／（副成物〔５ｄ〕のＨＰＬＣ面積％）但し、副成物〔５ｄ〕の式中、Ｒ１は２−シアノエチル基を、Ｒ４は４，４’−ジメトキシトリチル基を、Ｒ５は水素原子を、ＢはＮ４−ベンゾイル−１−シトシンを表す。
【国際調査報告】
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