(57)【要約】カラーフィルタマザー基板（１０２）に、シール体（５００及び６００）を形成し、シール体（５００及び６００）がカラーフィルタマザー基板（１０２）とＴＦＴマザー基板（２０２）との間に挟まれるように、カラーフィルタマザー基板（１０２）とＴＦＴマザー基板（２０２）とを組み立てるセル製造方法であって、間隙部（Ｇ）が塞がるように、シール封止部（５０１，５１１；５０３，５０９；５０５，５０７）が変形する。
2004074919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の支持体の第１の領域の周囲に、互いの間に第１の間隙部を設けた第１及び第２のシール封止部を有する第１のシール体を形成する第１の工程、及び
前記第１のシール体が前記第１の支持体と第２の支持体との間に挟まれるように、前記第１の支持体と前記第２の支持体とを組み立てる第２の工程、
を有するセル製造方法であって、
前記第２の工程において、前記第１の間隙部の少なくとも一部が塞がるように、前記第１及び第２のシール封止部が変形するセル製造方法。
【請求項２】
前記第１のシール体が、前記第１及び第２のシール封止部と、前記第１の領域の周囲に沿うシール本体部とを有する請求項１に記載のセル製造方法。
【請求項３】
前記第１の工程において、前記第１の支持体の第２の領域の周囲に、互いの間に第２の間隙部を設けた第３及び第４のシール封止部を有する第２のシール体も形成され、
前記第１及び第２のシール封止部が、それぞれ前記第３及び第４のシール封止部に連続的につながる請求項１に記載のセル製造方法。
【請求項４】
前記セル製造方法が、前記組み立てられた第１及び第２の支持体のうちの前記第１の支持体を、前記第１の領域と前記第２の領域との間の分断ラインに従って分断する第３の工程を有し、
前記第１の工程において、連続的につながる前記第１及び第３のシール封止部と、連続的につながる前記第２及び第４のシール封止部とが、前記分断ラインを横切るように形成される請求項３に記載のセル製造方法。
【請求項５】
前記第１の支持体が、前記第１の領域を含む第１の支持部と、境界線を介して前記第１の支持部に接し、前記第２の領域を含む第２の支持部とを有し、
前記境界線が、前記分断ライン上に位置する請求項４に記載のセル製造方法。
【請求項６】
前記第１のシール体が、前記第１及び第２のシール封止部のペアを複数有する請求項３乃至５のうちのいずれか１項に記載のセル製造方法。
【請求項７】
前記第１のシール体が、前記複数のペアと、前記第１の領域の周囲に沿う複数のシールサブ本体部とを有する請求項６に記載のセル製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のうちのいずれか１項に記載のセル製造方法を用いて製造されたセル。
【請求項９】
前記セルが、
第１の支持板、
第２の支持板、及び
前記第１の支持板と前記第２の支持板と間に挟まれたシール手段、
を有し、
前記シール手段が、前記第１又は第２の支持板の側端面と実質的に面一の面を有する請求項８に記載のセル。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載のセルを有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、第１の支持体の第１の領域の周囲に、互いの間に第１の間隙部を設けた第１及び第２のシール封止部を有する第１のシール体を形成する第１の工程、及び上記第１のシール体が上記第１の支持体と第２の支持体との間に挟まれるように、上記第１の支持体と上記第２の支持体とを組み立てる第２の工程を有するセル製造方法に関する。
本発明は、斯かるセル製造方法を用いて製造されたセルにも関する。
【背景技術】  ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との間に液晶層を保持する液晶セルを組み立てる方法として、一方の基板にシール材を塗布し、基板を貼り合わせる前に基板上に液晶を滴下する方法が知られている（例えば、プレスジャーナルＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ＦＰＤ  Ｗｏｒｌｄ  ６月号参照。）。この方法は、シールパターンに液晶注入口のパターンを設けなくてもよいため、液晶注入口を封止するための封止工程が省略できる等の利点がある。
上記の方法では、基板を貼り合わせたときに液晶が完全に密封されるようにする必要があるため、シール材は部分的に重なるように塗布される。従って、基板を貼り合せると、シール材が重ねられた部分におけるセルギャップが、他の部分よりも広くなってしまい、セルギャップのばらつきが大きくなる恐れがある。
セルギャップが局所的に広くなることを防止するために、シール材の重なり量を少なくすることが考えられるが、シール材の重なり量が少な過ぎると、今度は逆に、シール材が重ねられた部分におけるセルギャップが、他の部分よりも狭くなってしまい、やはりセルギャップのばらつきが大きくなるという問題がある。
【発明の開示】
本発明は、上記の事情に鑑み、セルギャップのばらつきを小さくすることができるセル製造方法、及びその方法を用いて製造されたセルを提供することを目的とする。
上記目的を達成する本発明のセル製造方法は、第１の支持体の第１の領域の周囲に、互いの間に第１の間隙部を設けた第１及び第２のシール封止部を有する第１のシール体を形成する第１の工程、及び上記第１のシール体が上記第１の支持体と第２の支持体との間に挟まれるように、上記第１の支持体と上記第２の支持体とを組み立てる第２の工程、を有するセル製造方法であって、上記第２の工程において、上記第１の間隙部の少なくとも一部が塞がるように、上記第１及び第２のシール封止部が変形する。
本発明のセル製造方法では、第１及び第２のシール封止部の間に第１の間隙部が設けられている。斯かる第１の間隙部を設けることによって、第１及び第２の支持体を組み立てたときにセルギャップが局所的に広くなることが防止でき、この結果、セルギャップのばらつきを小さくすることができる。
また、第２の工程において、第１及び第２のシール封止部は、第１の間隙部の少なくとも一部が塞がるように変形するので、この結果、第１及び第２のシール封止部が密着する。この密着した部分の幅は、密着前の第１の（又は第２の）シール封止部の線幅よりも太いため、第１及び第２の支持体を組み立てたときにセルギャップが局所的に狭くなることが防止でき、この結果、やはりセルギャップのばらつきを小さくすることができる。
ここで、本発明のセル製造方法は、上記第１のシール体が、上記第１及び第２のシール封止部と、上記第１の領域の周囲に沿うシール本体部とを有することができる。
また、本発明のセル製造方法は、上記第１の工程において、上記第１の支持体の第２の領域の周囲に、互いの間に第２の間隙部を設けた第３及び第４のシール封止部を有する第２のシール体も形成され、上記第１及び第２のシール封止部が、それぞれ上記第２及び第４のシール封止部に連続的につながることが好ましい。
第１及び第２のシール封止部が、それぞれ第３及び第４のシール封止部に連続的につながることによって、第２のシール体を第１のシール体につなげた状態で形成することができ、より短時間で描画を完了することができる。
ここで、本発明のセル製造方法は、上記組み立てられた第１及び第２の支持体のうちの上記第１の支持体を、上記第１の領域と上記第２の領域との間の分断ラインに従って分断する第３の工程を有し、上記第１の工程において、連続的につながる上記第１及び第３のシール封止部と、連続的につながる上記第３及び第４のシール封止部とを、上記分断ラインを横切るように形成できる。この場合、上記第１の支持体が、上記第１の領域を含む第１の支持部と、境界線を介して上記第１の支持部に接し、上記第２の領域を含む第２の支持部とを有し、上記境界線が、上記分断ライン上に位置することが好ましい。
境界線が分断ライン上に位置することによって、分断工程の簡略化が図られる。
また、本発明のセル製造方法では、上記第１のシール体が、上記第１及び第２のシール封止部のペアを複数有するようにすることができ、この場合、上記第１のシール体は、上記複数のペアと、上記第１の領域の周囲に沿う複数のシールサブ本体部とを有する。
また、本発明のセルは、第１の支持板、第２の支持板、及び上記第１の支持板と上記第２の支持板と間に挟まれたシール手段、を有するセルであって、上記シール手段が、上記第１又は第２の支持板の側端面と実質的に面一の面を有する。
斯かるセルは、本発明のセル製造方法によって製造することができる。
【図面の簡単な説明】  図１は、本発明に係る第１実施例の液晶セル１の斜視図である。
図２は、図１に示す液晶セル１の分解図である。
図３は、カラーフィルタマザー基板１００の平面図である。
図４は、シール材が塗布されたカラーフィルタマザー基板１００の１つのカラーフィルタ基板部Ａを示す平面図である。
図５は、貼り合せられたカラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とを示す斜視図である。
図６は、図５に示す１組のカラーフィルタ基板部Ａ及びＴＦＴ基板ＢをＴＦＴマザー基板２００側から見た平面図である。
図７は、図６からＴＦＴマザー基板２００を除いた図である。
図８は、従来のやり方でシール体７０が形成されたカラーフィルタマザー基板１００を示す平面図である。
図９は、図８に示す領域Ｒの拡大図である。
図１０は、図４に示すシールパターンとは異なるシールパターンを有するシール体の一例の説明図である。
図１１は、本発明に係る第２実施例の液晶セル２の斜視図である。
図１２は、図１１に示す液晶セル２の分解図である。
図１３は、カラーフィルタマザー基板１０１の斜視図である。
図１４は、シール材が塗布されたカラフィルタマザー基板１０１を示す平面図である。
図１５は、貼り合わされたカラーフィルタマザー基板１０１とＴＦＴマザー基板２０１とを示す斜視図である。
図１６は、図１５の平面図である。
図１７は、本発明に係る第３実施例の液晶セル３の斜視図である。
図１８は、図１７に示す液晶セル３の分解図である。
図１９は、複数のカラーフィルタ基板部を有するカラーフィルタマザー基板１０２の斜視図である。
図２０は、シール材が塗布されたカラーフィルタマザー基板１０２を示す斜視図である。
図２１は、貼り合わされたカラーフィルタマザー基板１０２とＴＦＴマザー基板２０２とを示す斜視図である。
図２２は、図２１の平面図である。
【発明を実施するための最良の形態】  図１は、本発明に係る第１実施例の液晶セル１の斜視図、図２は、図１に示す液晶セル１の分解図である。
液晶セル１は、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板２０とを備えている。これら基板１０及び２０はシール手段３０によって貼り合わされている。基板１０及び２０とシール手段３０とによって囲まれる空間には、液晶材料（図示せず）が充填されている。
カラーフィルタ基板１０の表示領域１１にはカラーフィルタ（図示せず）が形成されており、ＴＦＴ基板２０の表示領域（図示せず）にはサブ画素毎に設けられたＴＦＴ（図示せず）が形成されている。シール手段３０は、カラーフィルタ基板１０及びＴＦＴ基板２０の各々の表示領域を取り囲んだ状態で、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板２０との間に挟まれている。このシール手段３０は、ループ形状のシール手段本体部３１０と、シール手段封止部３５１とを有している。このシール手段封止部３５１は、シール手段本体部３１０の側端面３１０ａよりも突出しており、このシール手段封止部３５１の側端面３５１ａは、カラーフィルタ基板１０の側端面１０ａ及びＴＦＴ基板２０の側端面２０ａと実質的に面一である。以下に、液晶セル１の製造方法について、図３乃至図７とともに必要に応じて図１及び図２を参照しながら説明する。
図３は、カラーフィルタマザー基板１００の平面図である。
このカラーフィルタマザー基板１００は、カラーフィルタが形成された多数の表示領域１１を有している。表示領域１１を含む部分（以下、「カラーフィルタ基板部」という）Ａが、図１に示すカラーフィルタ基板１０として用いられる部分である。図３では、マトリックス状に並ぶ８０個のカラーフィルタ基板部Ａ（ｘ方向に８個、ｙ方向に１０個）が示されているが、このカラーフィルタ基板部Ａの数は適宜変更可能である。このように構成されたカラーフィルタマザー基板１００にシール材を塗布する。
図４は、シール材が塗布されたカラーフィルタマザー基板１００の１つのカラーフィルタ基板部Ａを示す平面図である。
カラーフィルタマザー基板１００の各カラーフィルタ基板部Ａには、シール体３４（ハッチングで示されている）が形成される。このシール体３４は、シール材を表示領域１１の周縁部に沿うように塗布することによって形成される。シール材として、例えば、紫外線硬化材料や、熱硬化材料を使用することができる。このシール体３４は、シール本体部３１並びに第１及び第２のシール封止部３２及び３３から構成される。図４において、シール本体部３１は、位置Ｐ２から、位置Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５及びＰ６を経由して位置Ｐ７まで延在するように形成されている。第１のシール封止部３２は、位置Ｐ１とＰ２との間を延在するように形成されており、この第１のシール封止部３２は、位置Ｐ２においてシール本体部３１につながっている。第２のシール封止部３３は、位置Ｐ７とＰ８との間を延在するように形成されており、この第２のシール封止部３３は、位置Ｐ７においてシール本体部３１につながっている。以下に、シール体３４の形成方法について具体的に説明する。
先ず、シール材を吐出するディスペンサを用意する。このディスペンサのノズル５１からシール材５２を吐出し、カラーフィルタ基板部Ａの外側の位置Ｐ１から、カラーフィルタ基板部Ａの内側の表示領域１１に近接する位置Ｐ２までシール材５２を塗布する。これによって、シール体３４のうちの第１のシール封止部３２が形成される。引き続いてノズル５１からシール材５２を吐出し続けて、シール封止部３２につながっているシール材５２を、表示領域１１の周縁部に沿うように、位置Ｐ２から、位置Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、及びＰ６を経由して、位置Ｐ７まで、塗布する。これによって、第１のシール封止部３２につながるシール本体部３１が形成される。更に、ノズル５１からシール材５２を吐出し続けて、シール本体部３１につながるシール材５２を、位置Ｐ７から、位置Ｐ１に近接する位置Ｐ８まで塗布する。これによって、シール本体部３１につながる第２のシール封止部３３が形成される。ここで、第１のシール封止部３２の内壁面３２ａと、第２のシール封止部３３の内壁面３３ａとの間には、間隙部Ｇが設けられていることに注意されたい。
このようにして、カラーフィルタ基板部Ａにシール材が塗布される。図４では、カラーフィルタマザー基板１００の１つのカラーフィルタ基板部Ａにシール体が形成された状態が示されているが、その他のカラーフィルタ基板部Ａにも、上記の手順と同様にしてシール体が形成される。カラーフィルタマザー基板１００にシール体を形成した後、各カラーフィルタ基板部Ａの、シール体で囲まれた部分に液晶を滴下し、液晶が滴下されたカラーフィルタマザー基板１００に、ＴＦＴマザー基板を貼り合せる。
図５は、貼り合わされたカラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とを示す斜視図である。
ＴＦＴマザー基板２００は、カラーフィルタマザー基板１００が有する８０個のカラーフィルタ基板部Ａに対応して、８０個のＴＦＴ基板部Ｂを有している。このＴＦＴ基板部Ｂが、図１に示すＴＦＴ基板２０として用いられる。図５のＴＦＴマザー基板２００には、代表して１つのＴＦＴ基板部Ｂが示されている。このような構造を有するＴＦＴマザー基板２００を、液晶が滴下されたカラーフィルタマザー基板１００に貼り合せる。カラーフィルタマザー基板１００は８０個のカラーフィルタ基板部Ａを有し、一方、ＴＦＴマザー基板２００は８０個のＴＦＴ基板部Ｂを有しているので、カラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とを貼り合せることによって、カラーフィルタ基板部ＡとＴＦＴ基板部Ｂとの組合せが８０組構成される。
図６は、図５に示す１組のカラーフィルタ基板部Ａ及びＴＦＴ基板ＢをＴＦＴマザー基板２００側から見た平面図、図７は、図６からＴＦＴマザー基板２００を除いた図である。
ＴＦＴマザー基板２００をカラーフィルタマザー基板１００に貼り合せるときに、シール体３４には所定の圧力が加わるため、シール体３４（図４参照）は押圧され、この結果、シール体３４の線幅が太くなる。このとき、第１及び第２のシール封止部３２及び３３の線幅も太くなるため、第１のシール封止部３２の内壁面３２ａ（図４参照）と、第２のシール封止部３３の内壁面３３ａ（図４参照）とが密着し、この結果、密着した第１及び第２のシール封止部３２及び３３からなるシール密着部３５が形成される。このシール密着部３５が形成されることによって、液晶は、カラーフィルタ基板部Ａ、ＴＦＴ基板部Ｂ、及びシール密着部３５を有するシール体３４で囲まれた空間内に密封される。このように、第１のシール封止部３２の内壁面３２ａと第２のシール封止部３３の内壁面３３ａとを密着させることによって、液晶を密封しているので、間隙部Ｇの幅が広すぎると、液晶を密封させることが困難になる。従って、間隙部Ｇの幅は広すぎないことが要求される。例えば、カラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とを貼り合わせる前のシール体３４の線幅が０．３ｍｍ乃至０．４ｍｍである場合、間隙部Ｇの幅としては、例えば０．１ｍｍ乃至０．２ｍｍとすることができる。
上記のように、カラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とを貼り合せた後、シール密着部３５を有するシール体３４を硬化させる。シール体３４の硬化によって、ＴＦＴマザー基板２００がカラーフィルタマザー基板１００に強固に接着し、これら基板１００及び２００が組み立てられる。基板接着後、カラーフィルタマザー基板１００を、カラーフィルタマザー基板１００用の分断ラインに従って、カラーフィルタ基板部Ａ毎に分断するとともに、ＴＦＴマザー基板２００を、ＴＦＴマザー基板２００用の分断ラインに従って、ＴＦＴ基板部Ｂ毎に分断する。このように分断することによって、組み立てられたカラーフィルタマザー基板１００及びＴＦＴマザー基板２００から、図１に示す液晶セル１が８０個製造される。この分断工程によって、硬化したシール体３４のシール密着部３５も分断され、この結果、図２に示すように、各液晶セル１には、シール手段本体部３１０とシール手段密着部３５１とからなるシール手段３０が備えられる。このシール手段密着部３５１の側端面３５１ａは、カラーフィルタ基板１０の側端面１０ａ及びＴＦＴ基板２０の側端面２０ａと実質的に面一である。
第１実施例では、図４に示すように、第１及び第２のシール封止部３２及び３３の間に間隙部Ｇを設けることによって、シール封止部３２及び３３が重ならないようにシール材が塗布されている。これに対し、従来より、シール体の一部が重なるように、シール材を塗布する方法が知られているが、このやり方では、以下のような問題がある。
図８は、従来のやり方でシール体７０が形成されたカラーフィルタマザー基板１００を示す平面図、図９は、図８に示す領域Ｒの拡大図である。
シール体７０は、カラーフィルタマザー基板１００上の位置Ｐｃにおいてノズル５１からシール材５２の吐出を開始して位置Ｐｃにシール材５２を供給し、位置Ｐｃに供給されたシール材を表示領域１１の周囲に沿って塗布し、位置Ｐｃにおいてノズル５１からのシール材５２の供給を停止することによって形成される。シール体７０の端部７０ｂは、位置Ｐｃにおいて、もう一方の端部７０ａに重なっている。従って、位置Ｐｃにおけるシール材の塗布量は、その他の位置におけるシール材の塗布量よりも多い。この場合、カラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とを貼り合わせると、位置Ｐｃにおけるセルギャップが、その他の位置におけるセルギャップよりも広くなりやすく、表示領域１１内のセルギャップのばらつきが大きくなるという問題がある。この問題を解消するために、位置Ｐｃにおけるシール材５２の重なり量を少なくすることが考えられるが、シール材の重なり量が少な過ぎると、位置Ｐｃにおけるシール体７０の線幅が狭くなる。この場合、今度は逆に位置Ｐｃにおけるセルギャップが狭くなってしまい、やはりセルギャップのばらつきが大きくなるという問題がある。
これに対し、第１実施例では、図４に示すように、シール封止部３２及び３３の間に間隙部Ｇを設けることによって、表示領域１１の近傍においてシール材５２が重ならないようにしている。従って、セルギャップが局所的に広くなることが防止できる。また、シール封止部３２及び３３は、カラーフィルタマザー基板１００とＴＦＴマザー基板２００とが貼り合わされることによって、間隙部Ｇを塞ぐように密着し、この結果、シール密着部３５が形成される。このシール密着部３５の幅は、密着される前のシール封止部３２及び３３の各々の線幅よりも太くなる。従って、シール体３４に幅の狭い部分が形成されることが防止でき、この結果、セルギャップが局所的に狭くなくことも防止できる。このように、セルギャップが局所的に広く又は狭くなることが防止できるので、表示領域１１内におけるセルギャップのばらつきを小さくすることができる。
尚、シール封止部３２及び３３は、間隙部Ｇの全体に渡って重ならないように形成されている。しかしながら、表示領域１１内のセルギャップのばらつきが十分に小さくすることができるのであれば、シール封止部３２及び３３は、表示領域１１から十分に離れている位置において重なっていてもよい。シール封止部３２及び３３の一部が重なっていても、その重なっている部分が表示領域１１から十分に離れているのであれば、表示領域内１１におけるセルギャップのばらつきを小さくすることが可能である。
また、シール体３４は、図４に示すようなパターンで塗布されるが、この塗布パターンは、図４に示すパターンとは異なっていてもよい。以下に、図４に示すパターンとは異なるパターンで塗布されたシール体の一例について説明する。
図１０は、その説明図である。
図１０では、シール体３４のシール封止部３２及び３３が、表示領域１１の隅の部分に設けられている。図１０に示す態様でも、シール体３４は、重なっている部分は存在しないため、セルギャップのばらつきを小さくすることができる。
図１１は、本発明に係る第２実施例の液晶セル２の斜視図、図１２は、図１１に示す液晶セル２の分解図である。
図１１に示す液晶セル２は、シール手段封止部３５１の位置が異なっている点を除けば、図１に示す液晶セル２と同じである。
以下に、液晶セル２の製造方法について、図１３乃至図１６とともに必要に応じて図１１及び図１２を参照しながら説明する。
図１３は、カラーフィルタマザー基板１０１の斜視図である。
このカラーフィルタマザー基板１０１は、カラーフィルタが形成された複数の表示領域１１を有している。各表示領域１１は、対応するカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６内に含まれている。図１３には、カラーフィルタマザー基板１０１が６個のカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６を有する例が示されているが、カラーフィルタ基板部の数は、適宜変更可能である。各カラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６は、ｘ方向の長さがＬｘであり、ｙ方向の長さはＬｙである。ｘ方向に並ぶ２つのカラーフィルタ基板部の間は、間隔Ｓｘだけ離れており、一方、ｙ方向に並ぶ２つのカラーフィルタ基板部の間は、間隔Ｓｙだけ離れている。このように構成されたカラーフィルタマザー基板１０１にシール材を塗布する。
図１４は、シール材が塗布されたカラーフィルタマザー基板１０１を示す平面図である。
図１１に示すように、シール材は、ｘ方向に並ぶカラーフィルタ基板部Ａ１及びＡ４、Ａ２及びＡ５、Ａ３及びＡ６に渡って塗布され、この結果、３つのシール体６０、７０、及び８０が形成される。この３つのシール体６０、７０、及び８０は、ノズル５１からシール材５２を吐出し続けながら、吐出されたシール材５２をカラーフィルタマザー基板１０１上に塗布することによって形成される。各シール体６０、７０及び８０は、同じ手順で形成されるので、以下に、代表してシール体６０の形成の手順について説明する。
ディスペンサのノズル５１からシール材５２を吐出し、カラーフィルタ基板部Ａ１の外側の位置Ｐ０から、カラーフィルタ基板部Ａ１の一辺に沿って位置Ｐ１までシール材を塗布することによってシール開始部６１が形成される。次に、シール開始部６１につながっているシール材５２を、カラーフィルタ基板部Ａ１の外側の位置Ｐ１から、カラーフィルタ基板部Ａ１の内側の位置Ｐ２まで塗布することによって、シール封止部６２が形成される。更に、シール封止部６２につながっているシール材５２を、位置Ｐ２から、位置Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、及びＰ６を経由して、位置Ｐ２に近接する位置Ｐ７まで塗布することによって、シール封止部６２につながるシール本体部６３が形成される。更に、シール本体部６３につながるシール材５２を、位置Ｐ７から、カラーフィルタ基板部Ａの外側の位置Ｐ８まで塗布することによって、シール本体部６３につながるシール封止部６４が形成される。シール封止部６２と６４との間には間隙部Ｇが設けられる。
第２のシール封止部６４を形成した後も、ノズル５１からシール材５２を吐出し続けて、この第２のシール封止部６４につながっているシール材５２を、位置Ｐ８から、カラーフィルタ基板部Ａ４の外側の位置Ｐ９まで、塗布する。これによって、シール中間部６５が形成される。シール中間部６５の形成後、上記と同じやり方で、シール封止部６６、シール本体部６７、及びシール封止部６８を形成する。次に、このシール封止部６８につながっているシール材５２を、位置Ｐ１０から位置Ｐ１１まで塗布することによって、シール終了部６９が形成される。このようにして、２つのカラーフィルタ基板部Ａ１及びＡ４に渡って延在するシール体６０が形成される。
その他のシール体７０及び８０も、シール体６０と同様のやり方で形成される。
上記のようにしてカラーフィルタマザー基板１０１に３つのシール体６０乃至８０を形成した後、各カラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６内に液晶を滴下し、カラーフィルタマザー基板１０１に、ＴＦＴマザー基板を貼り合わせる。
図１５は、貼り合わされたカラーフィルタマザー基板１０１とＴＦＴマザー基板２０１とを示す斜視図である。この図１５には、シール体６０が破線で示されているが、他の２つのシール体７０及び８０は、図面の見易さの観点から、図示省略されている。
ＴＦＴマザー基板２０１は、カラーフィルタマザー基板１０１が有する６個のカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６に対応して、６個の略矩形状のＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６を有している。このＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６が、図１２に示すＴＦＴ基板２０として用いられる。各ＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６は、ｘ方向の長さがカラーフィルタ基板部のｘ方向の長さＬｘよりもＳｘだけ長く、ｙ方向の長さはカラーフィルタ基板部のｙ方向の長さＬｙと同じである。ＴＦＴ基板部Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は、それぞれ境界線ｂ１４、ｂ２５及びｂ３６を介してＴＦＴ基板部Ｂ４、Ｂ５及びＢ６に接している。
図１６は、図１５の平面図である。
ＴＦＴマザー基板２０１は、ＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６がそれぞれカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６（図１４参照）に対向するように、カラーフィルタマザー基板１０１に貼り合わされる。ＴＦＴ基板部Ｂ１は、ｙ方向の長さ（Ｌｙ）が対応するカラーフィルタ基板部Ａ１のｙ方向の長さ（Ｌｙ）と同じであるが、ｘ方向の長さ（Ｌｘ＋Ｓｘ）が対応するカラーフィルタ基板部Ａ１のｘ方向の長さ（Ｌｘ）よりもＳｘだけ長い。従って、ＴＦＴ基板部Ｂ１は、カラーフィルタ基板部Ａ１に対向しない部分（ハッチングで示されている）Ｂｎ１を有する。他のＴＦＴ基板部Ｂ２乃至Ｂ６も、対応するカラーフィルタ基板Ａ２乃至Ａ６に対向しない部分Ｂｎ２乃至Ｂｎ６を有する。このカラーフィルタ基板部に対向しない部分Ｂｎ１乃至Ｂｎ６に、外部回路と接続するための端子群（図示せず）が形成されている。カラーフィルタマザー基板１０１は６個のカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６を有し、一方、ＴＦＴマザー基板２０１は６個のＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６を有しているので、カラーフィルタ基板部とＴＦＴ基板部との組合せが６組得られる。
ＴＦＴマザー基板２０１をカラーフィルタマザー基板１０１に貼り合せると、シール体６０乃至８０が押圧されるので、シール体６０乃至８０の幅が太くなり、この結果、シール密着部３５が形成される。
上記のように、カラーフィルタマザー基板１０１及びＴＦＴマザー基板２０１を貼りあわせた後、シール密着部３５を有するシール体６０乃至８０を硬化させる。シール体６０乃至８０の硬化によって、ＴＦＴマザー基板２０１がカラーフィルタマザー基板１０１に強固に接着し、これら基板１０１及び２０１が組み立てられる。組み立て後、カラーフィルタマザー基板１０１及びＴＦＴマザー基板２０１を１１本の分断ラインＣＬ１乃至ＣＬ１１に従って分断する。１１本の分断ラインＣＬ１乃至ＣＬ１１のうち、９本の分断ラインＣＬ１乃至ＣＬ９は、カラーフィルタマザー基板１０１とＴＦＴマザー基板２０１との両方を分断するためのラインであるが、残りの２本の分断ラインＣＬ１０及びＣＬ１１は、カラーフィルタマザー基板１０１のみを分断するためのラインである。
上記のように１１本の分断ラインに従って基板１０１及び２０１を分断することによって、図１１に示す液晶セル２が６個製造される。
図１７は、本発明に係る第３実施例の液晶セル３の斜視図、図１８は、図１７に示す液晶セル３の分解図である。
図１７に示す液晶セル３は、図１及び図１２に示す液晶セル１及び２と異なり、２つのシール手段封止部３５２及び３５３を有している。シール手段封止部３５２の側端面３５２ａは、カラーフィルタ基板１０の側端面１０ａ及びＴＦＴ基板２０の側端面２０ａと実質的に面一であり、シール手段封止部３５３の側端面３５３ｂは、カラーフィルタ基板１０の側端面１０ｂ及びＴＦＴ基板２０の側端面２０ｂと実質的に面一である。以下に、液晶セル３の製造方法について、図１９乃至図２２とともに必要に応じて図１７及び図１８を参照しながら説明する。
図１９は、複数のカラーフィルタ基板部を有するカラーフィルタマザー基板１０２の斜視図である。
カラーフィルタマザー基板１０２は、図１３に示すカラーフィルタマザー基板１０１と同様に、６個のカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６を有しているが、ｙ方向に隣り合うカラーフィルタ基板部は、互いに接していることに注意されたい。カラーフィルタ基板部Ａ１及びＡ２は、境界線ａ１３によって分離され、カラーフィルタ基板部Ａ２及びＡ３は、境界線ａ２３によって分離されている。同様に、カラーフィルタ基板部Ａ４及びＡ５は、境界線ａ４５によって分離され、カラーフィルタ基板部Ａ５及びＡ６は、境界線ａ５６によって分離されている。このようにｙ方向に接したカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６を有するカラーフィルタマザー基板１０２に、シール材を塗布する。
図２０は、シール材が塗布されたカラーフィルタマザー基板１０２を示す斜視図である。
図２０に示すように、シール材は、ｙ方向に並ぶカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ３及びＡ４乃至Ａ６に渡って塗布され、この結果、２つのシール体５００及び６００が形成される。シール体５００及び６００は、ノズル５１からシール材５２を吐出し続けながら、吐出されたシール材５２を各シール体５００及び６００のパターンに従ってカラーフィルタマザー基板１０２上に塗布することによって形成される。各シール体５００及び６００は、同じ手順で形成されるので、以下に、代表してシール体５００の形成の手順について説明する。
ディスペンサのノズル５１からシール材５２を吐出し、カラーフィルタ基板部Ａ１の外側の位置Ｐ１から、カラーフィルタ基板部Ａ１の内側の位置Ｐ２までシール材５２を塗布することによって、シール封止部５０１を形成する。次に、シール封止部５０１につながっているシール材５２を、位置Ｐ２から、位置Ｐ３及びＰ４を経由して、位置Ｐ５まで、塗布することによって、シール封止部５０１につながるシールサブ本体部５０２が形成される。次に、第３実施例では、シールサブ本体部５０２につながっているシール材５２が、カラーフィルタ基板部Ａ１内の位置Ｐ５から、隣接するカラーフィルタ基板部Ａ２内の位置Ｐ６まで塗布されることに注意されたい。これによって、カラーフィルタ基板部Ａ１のシールサブ本体部５０２につながり、且つカラーフィルタ基板部Ａ１及びＡ２の境界線ａ１２を横切るシール封止部５０３が形成される。次に、シール封止部５０３につながっているシール材５２を、位置Ｐ６から位置Ｐ７及びＰ８を経由して位置Ｐ９まで塗布することによって、シール封止部５０３につながるシールサブ本体部５０４が形成される。その後、シールサブ本体部５０４につながっているシール材５２が、カラーフィルタ基板部Ａ２内の位置Ｐ９から、隣接するカラーフィルタ基板部Ａ３内の位置Ｐ１０まで塗布される。これによって、シールサブ本体部５０４につながり、且つカラーフィルタ基板部Ａ２及びＡ３の境界線ａ２３を横切るシール封止部５０５が形成される。ここで、カラーフィルタ基板部Ａ３は、隣接する３つのカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ３の最後段に位置することに注意されたい。従って、シール封止部５５の形成後、位置Ｐ１０から、位置Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３及びＰ１４を経由して、位置Ｐ１５までシール材が塗布され、その結果、カラーフィルタ基板部Ａ３内の表示領域１１を取り囲むシール本体部５０６が形成される。次に、シール本体部５０６につながるシール材５２を、カラーフィルタ基板部Ａ３内の位置Ｐ１５から、隣接するカラーフィルタ基板部Ａ２内の位置Ｐ１６まで、塗布する。これによって、カラーフィルタ基板部Ａ３のシール本体部５０６につながり、且つカラーフィルタ基板部Ａ２及びＡ３の境界線ａ２３を横切るシール封止部５０７が形成される。シール封止部５０５と５０７との間には間隙部Ｇが設けられる。シール封止部５０７が形成された時点で、カラーフィルタ基板部Ａ３内へのシール材の塗布が完了する。
次に、シール封止部５０７につながるシール材５２を、位置Ｐ１６から位置Ｐ１７、Ｐ１８及びＰ１９を経由して、位置Ｐ２０までシール材を塗布することによって、シールサブ本体部５０８及びシール封止部５０９が形成される。シール封止部５０９は、境界線ａ１２を横切るように形成される。シール封止部５０３と５０９との間には間隙部Ｇが設けられる。シール封止部５０９が形成された時点で、カラーフィルタ基板部Ａ２へのシール材の塗布が完了する。
次に、シール封止部５０９につながるシール材５２を、位置Ｐ２０から位置Ｐ２１、Ｐ２２及びＰ２３を経由して、位置Ｐ２４までシール材を塗布することによって、シールサブ本体部５１０、及びシール封止部５１１が形成される。このシール封止部５１１は、カラーフィルタ基板部Ａ１の内側から外側まで延在するように形成される。シール封止部５０１と５１１との間には間隙部Ｇが設けられる。シール封止部５１１が形成された時点で、カラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ３へのシール材の塗布が終了する。
尚、シール体６００も、シール体５００と同様のやり方で形成される。
上記のようにしてカラーフィルタマザー基板１０２にシール体５００及び６００を形成した後、各カラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６内に液晶を滴下し、カラーフィルタマザー基板１０２に、ＴＦＴマザー基板を貼り合わせる。
図２１は、貼り合わされたカラーフィルタマザー基板１０２とＴＦＴマザー基板２０２とを示す斜視図である。
ＴＦＴマザー基板２０２は、カラーフィルタマザー基板１０２が有する６個のカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６に対応して、６個の略矩形状のＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６を有している。このＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６が、図１８に示すＴＦＴ基板２０として用いられる。各ＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６は、ｘ方向の長さがカラーフィルタ基板部のｘ方向の長さＬｘよりもＳｘだけ長く、ｙ方向の長さはカラーフィルタ基板部のｙ方向の長さＬｙと同じである。第３実施例では、第２実施例と同様に、ＴＦＴ基板部Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は、それぞれ境界線ｂ１４、ｂ２５及びｂ３６を介してＴＦＴ基板部Ｂ４、Ｂ５及びＢ６に接している。ただし、第３実施例では、第２実施例と異なり、ｙ方向に隣り合うＴＦＴ基板部も接していることに注意されたい。ＴＦＴ基板部Ｂ２は、それぞれ境界線ｂ１２及びｂ２３を介してＴＦＴ基板部Ｂ１及びＢ３に接し、ＴＦＴ基板部Ｂ５は、それぞれ境界線ｂ４５及びｂ５６を介してＴＦＴ基板部Ｂ４及びＢ６に接している。
図２２は、図２１の平面図である。
ＴＦＴマザー基板２０２は、ＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６がそれぞれカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６（図２０参照）に対向するように、カラーフィルタマザー基板１０２に貼り合わされる。ＴＦＴ基板部Ｂ１は、ｙ方向の長さ（Ｌｙ）が対応するカラーフィルタ基板部Ａ１のｙ方向の長さ（Ｌｙ）と同じであるが、ｘ方向の長さ（Ｌｘ＋Ｓｘ）が対応するカラーフィルタ基板部Ａ１のｘ方向の長さ（Ｌｘ）よりもＳｘだけ長い。従って、ＴＦＴ基板部Ｂ１は、カラーフィルタ基板部Ａ１に対向しない部分（ハッチングで示されている）Ｂｎ１を有する。他のＴＦＴ基板部Ｂ２乃至Ｂ６も、対応するカラーフィルタ基板Ａ２乃至Ａ６に対向しない部分Ｂｎ２乃至Ｂｎ６を有する。このカラーフィルタ基板部に対向しない部分Ｂｎ１乃至Ｂｎ６に、外部回路と接続するための端子群（図示せず）が形成されている。カラーフィルタマザー基板１０２は６個のカラーフィルタ基板部Ａ１乃至Ａ６を有し、一方、ＴＦＴマザー基板２０２は６個のＴＦＴ基板部Ｂ１乃至Ｂ６を有しているので、カラーフィルタ基板部とＴＦＴ基板部との組合せが６組得られる。
ＴＦＴマザー基板２０２をカラーフィルタマザー基板１０２に貼り合せると、シール体５００及び６００が押圧されるので、シール体５００及び６００（図２０参照）の線幅が太くなり、この結果、各シール体５００及び６００にシール密着部３５、３５’及び３５”が形成される。ここで、シール密着部３５’及び３５”は、隣接する２つのＴＦＴ基板部に跨っていることに注意されたい。
上記のように、カラーフィルタマザー基板１０２及びＴＦＴマザー基板２０２を貼りあわせた後、シール密着部３５、３５’及び３５”を有するシール体５００及び６００を硬化させる。シール体５００及び６００の硬化によって、ＴＦＴマザー基板２０２がカラーフィルタマザー基板１０２に強固に接着し、これら基板１０２及び２０２が組み立てられる。組み立て後、カラーフィルタマザー基板１０２及びＴＦＴマザー基板２０２を、９本の分断ラインＣＬ１乃至ＣＬ９に従って分断する。９本の分断ラインＣＬ１乃至ＣＬ９のうち、７本の分断ラインＣＬ１乃至ＣＬ７は、カラーフィルタマザー基板１０２とＴＦＴマザー基板２０２との両方を分断するためのラインであるが、残りの２本の分断ラインＣＬ８及びＣＬ９は、カラーフィルタマザー基板１０２のみを分断するためのラインである。
上記のように分断することによって、貼り合わされたカラーフィルタマザー基板１０２及びＴＦＴマザー基板２０２から、図１７に示す液晶セル３が４個製造され、図１１に示す液晶セル２が２個製造される。
第３実施例では、シール体５００及び６００（図２０参照）は、ｙ方向に延在しているので、第２実施例において形成されるシール開始部６１、シール中間部６５及びシール終了部６９（図１４参照）を形成しなくてもよい。従って、第３実施例では、第２実施例で必要となる間隔Ｓｙ（図１６参照）を設ける必要はなく、その結果、ｙ方向に並ぶカラーフィルタ基板部（及びｙ方向に並ぶＴＦＴ基板部）は接している。従って、第３実施例では、カラーフィルタマザー基板１０２及びＴＦＴマザー基板２０２の面積が第２実施例のときより小さくても、第２実施例で得られる液晶セル２と同じ数（６個）の液晶セル３が得られる。更に、第３実施例では、カラーフィルタ基板部（及びＴＦＴ基板部）をｙ方向に敷き詰めて配することができるので、第２実施例ではカラーフィルタ基板部（及びＴＦＴ基板部）として利用することができなかった部分さえも、カラーフィルタ基板部（及びＴＦＴ基板部）の一部として利用することができる。従って、第３実施例によれば、第２実施例の場合よりも多くの数の液晶セルを製造することも可能となる。
尚、第３実施例では、シール体５００及び６００の代わりに、第２実施例で採用されたシール体６０乃至８０は採用できないことに注意されたい。以下に、この理由を説明する。
第３実施例では、第２実施例とは異なり、ＴＦＴ基板部Ｂ２は、境界線ｂ１２及びｂ２３を介してＴＦＴ基板部Ｂ１及びＢ３に接し、ＴＦＴ基板部Ｂ５は、境界線ｂ４５及びｂ５６を介してＴＦＴ基板部Ｂ３及びＢ６に接している（図２２参照）。従って、第３実施例において、シール体５００及び６００の代わりに、第２実施例で採用されたシール体６０乃至８０を形成すると、シール体６０乃至８０のシール中間部６５が、それぞれ、ＴＦＴ基板部Ｂ４乃至Ｂ６の部分Ｂｎ４乃至Ｂｎ６を横切る。これら部分Ｂｎ４及びＢｎ６には、外部回路と接続するための端子群が設けられているので、シール中間部６５が端子群を横切ってしまうと、このシール中間部６５が端子群と外部回路との接続を妨害する。従って、第３実施例では、第２実施例で採用されたシール体６０乃至８０は採用できない。斯かる妨害を解消するために、第３実施例では、第２実施例で採用されたシール体６０乃至８０（図１４参照）の代わりに、シール体５００及び６００（図２０参照）が採用されている。シール体５００及び６００は、部分Ｂｎ４乃至Ｂｎ６を横切らないので、上記のような妨害は解消される。
尚、第３実施例では、カラーフィルタ基板部Ａ１、Ａ２、Ａ４、及びＡ５の各々に、互いの間に間隙部Ｇを有する２つのシール封止部のペアが２組形成されているが、シール封止部のペアは３組以上形成することもできる。
上記の第１、第２及び第３実施例による液晶セル１、２及び３を用いて画像表示装置を構成することができる。
尚、第１、第２及び第３実施例では、シール体はカラーフィルタマザー基板に形成されているが、シール体は、カラーフィルタマザー基板の代わりにＴＦＴマザー基板に形成してもよい。
また、第１、第２及び第３実施例では、本発明に係るセルとして液晶セルを取り上げて説明したが、本発明は、２つの支持板とシール手段とで協働して材料を支持するセルであれば、液晶以外の材料（例えば有機ＥＬ）を支持するセルを製造する場合にも適用できることに注意されたい。
また、間隙部Ｇは、液晶セル内部に液晶を確実に保持することができるのであれば、間隙部Ｇの一部のみが塞がれてもよいが、間隙部Ｇはその全体が塞がれることが好ましい。
【産業上の利用の可能性】
内部に材料を保持するセル及びその製造方法の分野で利用可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【国際調査報告】
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