(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、
前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、
前記基板搬送部は、前記ノズルに対してアクセスするための作業者立入空間が形成される空間形成状態と、前記基板を搬送させる基板搬送状態とを変更可能な変更機構を有する
ことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記変更機構は、少なくとも前記基板搬送部の一部分を移動可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記変更機構は、前記基板搬送部の一部分と前記基板搬送部の残りの部分とを前記基板の搬送方向に相対的に移動可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記基板搬送部のうち前記基板を搬入する基板搬入側には、前記一部分として、複数のステージ部材が前記基板の搬送方向に交差する方向にそれぞれ溝部を挟むように配置されており、
前記ステージ部材の前記搬送方向の寸法は、前記基板搬送部のうち前記基板搬入側の前記搬送方向の寸法よりも小さい
ことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記基板搬送部は、前記一部分を支持するフレームを有し、
前記一部分のうち前記移動によって前記フレームから前記搬送方向の上流側にはみ出した部分を支持する支持台を更に備える
ことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記変更機構は、少なくとも前記基板搬送部の一部分を変形可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記変更機構は、前記基板搬送部の一部分を前記基板搬送部の残りの部分に対して折り曲げ可能に設けられている
ことを特徴とする請求項６に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記基板搬送部は、複数の溝を有する平面視で櫛歯状のステージを有し、
前記ステージのうち平面視で櫛歯の部分は、前記一部分として所定の箇所に寄せ集め可能に設けられている
ことを特徴とする請求項６に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記一部分と前記残りの部分との間の位置を合わせる位置合わせ機構を更に備える
ことを特徴とする請求項２から請求項８のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記基板搬送部は、前記基板に前記液状体を塗布させる塗布領域を有し、
前記一部分は、前記基板搬送部のうち前記塗布領域に対して前記基板の搬送方向の基板搬入側及び前記基板搬出側のうち少なくとも一方側に設けられる部分である
ことを特徴とする請求項２から請求項９のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記塗布部は、前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に移動可能である
ことを特徴とする請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１２】
前記塗布部は、複数設けられている
ことを特徴とする請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１３】
複数の前記塗布部のうち一部は前記基板搬入側へ移動可能に設けられ、残りは前記基板搬出側へ移動可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１２に記載の塗布装置。
【請求項１４】
前記基板搬送部上に前記ノズルの状態を管理する管理部を更に備え、
前記管理部は、前記一部分及び前記基板搬送部の残りの部分に亘って前記基板の搬送方向に沿って基板の搬入側及び基板の搬出側のうち少なくとも一方に移動可能である
ことを特徴とする請求項２から請求項１３のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１５】
前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項１４のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線や電極、カラーフィルタなどの微細なパターンが形成されている。一般的にこのようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、ガラス基板上にレジスト膜を形成する工程、このレジスト膜をパターン露光する工程、その後に当該レジスト膜を現像する工程がそれぞれ行われる。
【０００３】
基板の表面上にレジスト膜を塗布する装置として、スリットノズルを固定し、当該スリットノズルの下を移動するガラス基板にレジストを塗布する塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。例えばレジストがスリットノズルの先端に固化して付着すると塗布ムラが発生するなど塗布性能が悪化するため、メンテナンス時にスリットノズルの先端を清掃する必要がある。
【０００４】
スリットノズル先端の清掃は、通常、当該スリットノズル先端に付着した異物を作業者が手作業で拭き取ることによって行われる。スリットノズルは基板を搬送するステージ上に設けられているため、従来、作業者がステージ上に登ってスリットノズルにアクセスしていた。  
【特許文献１】特開２００５−２３６０９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ステージは基板の搬送のために設計されたものであり、本来作業者の立ち入りは想定されていない。このため、作業者がステージ上で安全に作業を行おうとするとメンテナンスの工程が煩雑になってしまう。また、作業者がステージ上に直接登ることでステージ上に塵や埃などが付着する可能性もある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る塗布装置は、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、前記基板搬送部は、前記ノズルに対してアクセスするための作業者立入空間が形成される空間形成状態と、前記基板を搬送させる基板搬送状態とを変更可能な変更機構を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、基板搬送部が、液状体を吐出するノズルに対してアクセスするための作業者立入空間が形成される空間形成状態と、基板を搬送させる基板搬送状態とを変更可能な変更機構を有することとしたので、ノズルのメンテナンス時には基板搬送部を空間形成状態にし、作業者立入空間内で作業者にメンテナンスを行うことができる。これにより、作業者が基板搬送部上に直接立ち入るのを回避することができるため、メンテナンスの効率性を向上させることができると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【０００９】
上記の塗布装置は、前記変更機構は、少なくとも前記基板搬送部の一部分を移動可能に設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、変更機構が少なくとも基板搬送部の一部分を移動可能に設けられていることとしたので、当該一部分を移動させることにより基板搬送部に効率的に作業者立入空間を形成することができる。
【００１０】
上記の塗布装置は、前記変更機構は、前記基板搬送部の一部分と前記基板搬送部の残りの部分とを前記基板の搬送方向に相対的に移動可能に設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、変更機構が基板搬送部の一部分と基板搬送部の残りの部分とを基板の搬送方向に相対的に移動可能に設けられていることとしたので、当該一部分と残りの部分とを相対的に移動させることにより基板搬送部に効率的に作業者立入空間を形成することができる。
【００１１】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部のうち前記基板を搬入する基板搬入側には、複数の溝を有する平面視で櫛歯状のステージが前記一部分として設けられ、前記ステージに設けられる櫛歯部分の前記搬送方向の寸法は、前記基板搬送部のうち前記基板搬入側の前記搬送方向の寸法よりも小さいことを特徴とする。  
本発明によれば、基板搬送部のうち基板を搬入する基板搬入側に、複数の溝を有する平面視で櫛歯状のステージが一部分として設けられることとしたので、基板搬送部上に基板を搬入しやすくすることができる。また、ステージに設けられる櫛歯部分の搬送方向の寸法が基板搬送部のうち基板搬入側の搬送方向の寸法よりも小さいこととしたので、ステージを移動した場合に、あるいは、ステージと残りの部分とを相対的に移動した場合に、ステージが残りの部分に対してはみ出してしまうのを回避することができる。これにより、作業者立入空間を形成する場合であっても安定してステージを保持することができる。
【００１２】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記一部分を支持する支持機構を有することを特徴とする。  
本発明によれば、基板搬送部が一部分を支持する支持機構を有することとしたので、一部分が移動した際に当該一部分を安定して支持することができる。
【００１３】
上記の塗布装置は、前記変更機構は、前記基板搬送部の少なくとも一部分を変形可能に設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、変更機構が基板搬送部の少なくとも一部分を変形可能に設けられていることとしたので、当該基板搬送部の少なくとも一部分を変形させることによって効率的に作業者立入空間を形成することができる。
【００１４】
上記の塗布装置は、前記変更機構は、前記基板搬送部の一部分を前記基板搬送部の残りの部分に対して折り曲げ可能に設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、変更機構が基板搬送部の一部分を基板搬送部の残りの部分に対して折り曲げ可能に設けられていることとしたので、当該一部分を折り曲げることにより効率的に作業者立入空間を形成することができる。
【００１５】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、複数の溝を有する平面視で櫛歯状のステージを有し、前記ステージのうち平面視で櫛歯の部分は、前記一部分として所定の箇所に寄せ集め可能に設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、基板搬送部が複数の溝を有する平面視で櫛歯状のステージを有し、当該ステージのうち平面視で櫛歯の部分が一部分として所定の箇所に寄せ集め可能に設けられていることとしたので、ステージの櫛歯の部分を所定の箇所に寄せ集めることによって効率的に作業者立入空間を形成することができる。
【００１６】
上記の塗布装置は、前記一部分と前記残りの部分との間の位置を合わせる位置合わせ機構を更に備えることを特徴とする。  
本発明によれば、一部分と残りの部分との間の位置を合わせる位置合わせ機構を更に備えることとしたので、空間形成状態から基板搬送状態へ切り替える際に基板搬送部の形状が元の形状に対してずれてしまうのを防ぐことができる。
【００１７】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記基板に前記液状体を塗布させる塗布領域を有し、前記一部分は、前記基板搬送部のうち前記塗布領域に対して前記基板の搬送方向の基板搬入側及び前記基板搬出側のうち少なくとも一方側に設けられる部分であることを特徴とする。  
基板に液状体を塗布する塗布領域の形状等の状態が変化すると、基板上に塗布される液状体の状態が大きく変化し、塗布状態が不安定になってしまう。本発明によれば、基板搬送部が基板に液状体を塗布させる塗布領域を有し、一部分が基板搬送部のうち塗布領域に対して基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方側に設けられる部分であることとしたので、作業者立入空間を塗布領域に直接設けるのを回避することができる。これにより、塗布状態を安定させることができる。
【００１８】
上記の塗布装置は、前記塗布部は、前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に移動可能であることを特徴とする。  
本発明によれば、塗布部が基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に移動可能であることとしたので、作業者立入空間の形成位置に合わせて塗布部を所望の位置に移動させることができる。これにより、メンテナンスの効率を一層高めることができる。
【００１９】
上記の塗布装置は、前記塗布部は、複数設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、塗布部が複数設けられていることとしたので、例えば複数の塗布部のうち一の塗布部によって液状体の塗布を行っている間に残りの塗布部についてノズルのメンテナンスを行うことができる。これにより、処理タクトを短縮することができ、塗布性能が高く、メンテナンス性の良好な塗布装置を得ることができる。
【００２０】
上記の塗布装置は、複数の前記塗布部のうち一部は前記基板搬入側へ移動可能に設けられ、残りは前記基板搬出側へ移動可能に設けられていることを特徴とする。  
本発明によれば、複数の塗布部のうち一部は基板搬入側へ移動可能に設けられ、残りは基板搬出側へ移動可能に設けられていることとしたので、複数の塗布部について基板搬入側及び基板搬出側の両側で同時にノズルのメンテナンスを行うことができる。これにより、メンテナンスに要する時間を短縮することができる。また、複数の塗布部について分担してメンテナンスを行うことができるので、作業者の負担を軽減することができる。この場合、作業者立入空間を基板搬入側及び基板搬出側のそれぞれに形成することが好ましい。
【００２１】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部上に前記ノズルの状態を管理する管理部を更に備え、前記管理部は、前記一部分及び前記基板搬送部の残りの部分に亘って前記基板の搬送方向に沿って基板の搬入側及び基板の搬出側のうち少なくとも一方に移動可能であることを特徴とする。  
ノズルから吐出される液状体は固化した状態で当該ノズルに付着することがあり、作業者によるノズルのメンテナンス時には、この固化した液状体が基板搬送部上に付着する虞がある。本発明によれば、基板搬送部上にノズルの状態を管理する管理部を更に備え、管理部が一部分及び基板搬送部の残りの部分に亘って基板の搬送方向に沿って基板の搬入側及び基板の搬出側のうち少なくとも一方に移動可能であることとしたので、ノズルの位置に合わせて管理部を当該ノズルの直下に移動させることができるので、固化した液状体などの異物が基板搬送部上に付着するのを防ぐことができる。さらに、作業者立入空間があるため、管理部もノズルと同様にメンテナンスすることができる。
【００２２】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を更に備えることを特徴とする。  
作業者が基板搬送部上に直接登って作業を行うと基板搬送部上に塵や埃などが付着しやすくなる。基板搬送部が基板を浮上させる浮上機構を備える場合、当該塵や埃が基板に付着し、基板の品質を低下させる虞がある。本発明によれば、作業者が直接基板搬送部上に登って作業を行う必要が無いため、基板搬送部上に塵や埃が付着するのを抑えることができる。これにより、基板の品質の低下を回避することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、基板搬送部が、液状体を吐出するノズルに対してアクセスするための作業者立入空間が形成される空間形成状態と、基板を搬送させる基板搬送状態とを変更可能な変更機構を有することとしたので、ノズルのメンテナンス時には基板搬送部を空間形成状態にし、作業者立入空間内で作業者にメンテナンスを行うことができる。これにより、作業者が基板搬送部上に直接立ち入るのを回避することができるため、メンテナンスの効率性を向上させることができると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
［第１実施形態］  
本発明の第１実施形態を図面に基づき説明する。  
図１は本実施形態に係る塗布装置１の斜視図である。  
図１に示すように、本実施形態に係る塗布装置１は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部２と、塗布部３と、管理部４とを主要な構成要素としている。この塗布装置１は、基板搬送部２によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部３によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部４によって塗布部３の状態が管理されるようになっている。また、この塗布装置１には、塗布部３に設けられるノズル（図２等参照）に対して作業者がアクセスするための作業者立入空間が形成される空間形成状態と、基板を搬送させる基板搬送状態とを変更可能な変更機構５が設けられている。
【００２５】
図２は塗布装置１の正面図、図３は塗布装置１の平面図、図４は塗布装置１の側面図である。これらの図を参照して、塗布装置１の詳細な構成を説明する。以下、塗布装置１の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、図中の方向をＸＹＺ座標系を用いて説明する。基板搬送部２の長手方向であって基板の搬送方向をＸ方向と表記する。平面視でＸ方向（基板搬送方向）に直交する方向をＹ方向と表記する。Ｘ方向軸及びＹ方向軸を含む平面に垂直な方向をＺ方向と表記する。なお、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとする。
【００２６】
（基板搬送部）  
まず、基板搬送部２の構成を説明する。  
基板搬送部２は、基板搬入領域２０と、塗布処理領域２１と、基板搬出領域２２と、搬送機構２３と、これらを支持するフレーム部２４とを有している。この基板搬送部２では、搬送機構２３によって基板Ｓが基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構２３は、基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
【００２７】
基板搬入領域２０は、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを搬入する領域であり、搬入側ステージ２５と、リフト機構２６とを有している。  
搬入側ステージ２５は、フレーム部２４上のＹ方向中央部に設けられており、例えばＳＵＳなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ２５は、Ｘ方向が長手になっている。搬入側ステージ２５には、エア噴出孔２５ａと、昇降ピン出没孔２５ｂとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔２５ａ及び昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５を貫通するように設けられている。
【００２８】
エア噴出孔２５ａは、搬入側ステージ２５のステージ表面２５ｃ上にエアを噴出する孔であり、例えば搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの通過する領域に平面視マトリクス状に配置されている。このエア噴出孔２５ａにはエア供給機構２５ｅが接続されている。搬入側ステージ２５とエア供給機構２５ｅとは、一体的に設けられている。搬入側ステージ２５では、エア噴出孔２５ａから噴出されるエアによって基板Ｓを＋Ｚ方向に浮上させることができるようになっている。
【００２９】
昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの搬入される領域に設けられている。当該昇降ピン出没孔２５ｂは、ステージ表面２５ｃに供給されたエアが漏れ出さない構成になっている。
【００３０】
この搬入側ステージ２５のうちＹ方向の両端部には、アライメント装置２５ｄが１つずつ設けられている。アライメント装置２５ｄは、搬入側ステージ２５に搬入された基板Ｓの位置を合わせる装置である。各アライメント装置２５ｄは長孔と当該長孔内に設けられた位置合わせ部材を有しており、搬入側ステージ２５に搬入される基板を両側から機械的に挟持するようになっている。
【００３１】
リフト機構２６は、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の裏面側に設けられている。このリフト機構２６は、昇降部材２６ａと、複数の昇降ピン２６ｂとを有している。昇降部材２６ａは、図示しない駆動機構に接続されており、当該駆動機構の駆動によって昇降部材２６ａがＺ方向に移動するようになっている。複数の昇降ピン２６ｂは、昇降部材２６ａの上面から搬入側ステージ２５へ向けて立設されている。各昇降ピン２６ｂは、それぞれ上記の昇降ピン出没孔２５ｂに平面視で重なる位置に配置されている。昇降部材２６ａがＺ方向に移動することで、各昇降ピン２６ｂが昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃ上に出没するようになっている。各昇降ピン２６ｂの＋Ｚ方向の端部はそれぞれＺ方向上の位置が揃うように設けられており、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを水平な状態で保持することができるようになっている。
【００３２】
フレーム部２４は＋Ｘ方向側に配置されたフレーム側部２４ａ、−Ｘ方向側に配置されたフレーム側部２４ｂ及び中央部に配置されたフレーム中央部２４ｃを有しており、フレーム中央部２４ｃ上に搬入側ステージ２５が設けられている。フレーム中央部２４ｃ上には変更機構５が設けられている。変更機構５は例えばフレーム中央部２４ｃ上にＸ方向に沿って設けられたレール状部材であり、Ｙ方向に２本設けられている。変更機構５は、搬入側ステージ２５の下面２５ｆに設けられる溝部２５ｇに嵌合された状態（図４）になっている。
【００３３】
搬入側ステージ２５は、当該変更機構５に沿って−Ｘ方向に移動可能となっている。搬入側ステージ２５は作業者の手によって移動させる構成であっても構わないし、例えば図示しない駆動機構を取り付けることで自動で移動させる構成であっても構わない。駆動機構としては、例えばサーボで動かし、エンコーダー（リニアスケール）での位置決めを行ってもよく、さらにリミットセンサを付加するなどしても良い。駆動機構を取り付ける場合には、当該駆動機構及びレール状部材が変更機構５に含まれることになる。搬入側ステージ２５が−Ｘ方向に移動することで、当該搬入側ステージ２５と基板搬送部２の残りの部分（処理ステージ２７及び搬出側ステージ）とがＸ方向に相対的に移動するようになっている。図１〜図４においては、搬入側ステージ２５の全体がフレーム中央部２４ｃ上に支持された状態になっており、基板Ｓを搬送可能な状態となっている。この状態が基板を搬送する基板搬送状態である。
【００３４】
塗布処理領域２１は、レジストの塗布が行われる部位であり、基板Ｓを浮上支持する処理ステージ２７が設けられている。  
処理ステージ２７は、ステージ表面２７ｃが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ２５に対して＋Ｘ方向側に設けられている。処理ステージ２７のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ２７は、Ｙ方向が長手になっている。処理ステージ２７のＹ方向の寸法は、搬入側ステージ２５のＹ方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ２７には、ステージ表面２７ｃ上にエアを噴出する複数のエア噴出孔２７ａと、ステージ表面２７ｃ上のエアを吸引する複数のエア吸引孔２７ｂとが設けられている。これらエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂは、処理ステージ２７を貫通するように設けられている。また、処理ステージ２７の内部には、エア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂを通過する気体の圧力に抵抗を与えるための図示しない溝が複数設けられている。この複数の溝は、ステージ内部においてエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂに接続されている。
【００３５】
処理ステージ２７では、エア噴出孔２７ａのピッチが搬入側ステージ２５に設けられるエア噴出孔２５ａのピッチよりも狭く、搬入側ステージ２５に比べてエア噴出孔２７ａが密に設けられている。このため、この処理ステージ２７では他のステージに比べて基板の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基板の浮上量が例えば１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下となるように制御することが可能になっている。
【００３６】
基板搬出領域２２は、レジストが塗布された基板Ｓを装置外部へ搬出する部位であり、搬出側ステージ２８と、リフト機構２９とを有している。この搬出側ステージ２８は、処理ステージ２７に対して＋Ｘ方向側に設けられており、基板搬入領域２０に設けられた搬入側ステージ２５とほぼ同様の材質、寸法から構成されている。搬出側ステージ２８には、搬入側ステージ２５と同様、エア噴出孔２８ａ及び昇降ピン出没孔２８ｂが設けられている。リフト機構２９は、搬出側ステージ２８の基板搬出位置の裏面側に設けられており、例えばフレーム部２４に支持されている。リフト機構２９の昇降部材２９ａ及び昇降ピン２９ｂは、基板搬入領域２０に設けられたリフト機構２６の各部位と同様の構成になっている。このリフト機構２９は、搬出側ステージ２８上の基板Ｓを外部装置へと搬出する際に、基板Ｓの受け渡しのため昇降ピン２９ｂによって基板Ｓを持ち上げることができるようになっている。
【００３７】
搬送機構２３は、搬送機２３ａと、真空パッド２３ｂと、レール２３ｃとを有している。搬送機２３ａは内部に例えばリニアモータが設けられた構成になっており、当該リニアモータが駆動することによって搬送機２３ａがレール２３ｃ上を移動可能になっている。この搬送機２３ａは、所定の部分２３ｄが平面視で基板Ｓの−Ｙ方向端部に重なるように配置されている。この基板Ｓに重なる部分２３ｄは、基板Ｓを浮上させたときの基板裏面の高さ位置よりも低い位置に設けられている。
【００３８】
真空パッド２３ｂは、搬送機２３ａのうち上記基板Ｓに重なる部分２３ｄに複数配列されている。この真空パッド２３ｂは、基板Ｓを真空吸着させる吸着面を有しており、当該吸着面が上方を向くように配置されている。真空パッド２３ｂは、吸着面が基板Ｓの裏面端部を吸着することで当該基板Ｓを保持可能になっている。各真空パッド２３ｂは搬送機２３ａの上面からの高さ位置が調節可能になっており、例えば基板Ｓの浮上量に応じて真空パッド２３ｂの高さ位置を上下させることができるようになっている。
【００３９】
レール２３ｃは、フレーム側部２４ａ上に設けられており、搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８の側方に各ステージに跨って延在している。当該レール２３ｃを摺動することで搬送機２３ａが当該各ステージに沿って移動できるようになっている。
【００４０】
（塗布部）  
次に、塗布部３の構成を説明する。  
塗布部３は、基板Ｓ上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム３１と、ノズル３２とを有している。
【００４１】
門型フレーム３１は、支柱部材３１ａと、架橋部材３１ｂとを有しており、処理ステージ２７をＹ方向に跨ぐように設けられている。支柱部材３１ａは処理ステージ２７のＹ方向側に１つずつ設けられており、各支柱部材３１ａがフレーム部２４のＹ方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材３１ａは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材３１ｂは、各支柱部材３１ａの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材３１ａに対して昇降可能となっている。
【００４２】
この門型フレーム３１は移動機構３４に接続されている。移動機構３４は、レール部材３５及び駆動機構３６を有している。レール部材３５はフレーム側部２４ａ及びフレーム側部２４ｂ上に１本ずつ設けられており、それぞれＸ方向に延在している。レール部材３５は、搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８を跨ぐように設けられている。このため、塗布部３が当該レール部材３５に沿って搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８に亘って移動可能になっている。駆動機構３６は、門型フレーム３１に接続され塗布部３をレール部材３５に沿って移動させるアクチュエータである。また、この門型フレーム３１は、図示しない移動機構によりＺ方向にも移動可能になっている。
【００４３】
ノズル３２は、一方向が長手の長尺状に構成されており、門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの−Ｚ方向側の面に設けられている。このノズル３２のうち−Ｚ方向の先端には、自身の長手方向に沿ってスリット状の開口部３２ａが設けられており、当該開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。ノズル３２は、開口部３２ａの長手方向がＹ方向に平行になると共に、当該開口部３２ａが処理ステージ２７に対向するように配置されている。開口部３２ａの長手方向の寸法は搬送される基板ＳのＹ方向の寸法よりも小さくなっており、基板Ｓの周辺領域にレジストが塗布されないようになっている。ノズル３２の内部にはレジストを開口部３２ａに流通させる図示しない流通路が設けられており、この流通路には図示しないレジスト供給源が接続されている。このレジスト供給源は例えば図示しないポンプを有しており、当該ポンプでレジストを開口部３２ａへと押し出すことで開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。支柱部材３１ａには不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によって架橋部材３１ｂに保持されたノズル３２がＺ方向に移動可能になっている。ノズル３２には不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によってノズル３２が架橋部材３１ｂに対してＺ方向に移動可能になっている。門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの下面には、ノズル３２の開口部３２ａ、すなわち、ノズル３２の先端３２ｃと当該ノズル先端３２ｃに対向する対向面との間のＺ方向上の距離を測定するセンサ３３が取り付けられている。このセンサ３３はＹ方向に沿って例えば３つ設けられている。
【００４４】
（管理部）  
管理部４の構成を説明する。  
管理部４は、基板Ｓに吐出されるレジスト（液状体）の吐出量が一定になるようにノズル３２を管理する部位であり、基板搬送部２のうち塗布部３に対して−Ｘ方向側に設けられている。この管理部４は、予備吐出機構４１と、ディップ槽４２と、ノズル洗浄装置４３と、これらを収容する収容部４４と、当該収容部を保持する保持部材４５とを有している。
【００４５】
予備吐出機構４１、ディップ槽４２及びノズル洗浄装置４３は、−Ｘ方向側へこの順で配列されている。予備吐出機構４１は、レジストを予備的に吐出する部分である。当該予備吐出機構４１は塗布部３が塗布処理領域２１上に配置されている状態でノズル３２に最も近くなる位置に設けられている。ディップ槽４２は、内部にシンナーなどの溶剤が貯留された液体槽である。ノズル洗浄装置４３は、ノズル３２の開口部３２ａ近傍をリンス洗浄する装置であり、Ｙ方向に移動する図示しない洗浄機構と、当該洗浄機構を移動させる図示しない移動機構とを有している。この移動機構は、洗浄機構よりも−Ｘ方向側に設けられている。ノズル洗浄装置４３は、移動機構が設けられる分、予備吐出機構４１及びディップ槽４２に比べてＸ方向の寸法が大きくなっている。なお、予備吐出機構４１、ディップ槽４２、ノズル洗浄装置４３の配置については、本実施形態の配置に限られず、他の配置であっても構わない。
【００４６】
収容部４４のＹ方向の寸法は上記門型フレーム３１の支柱部材３１ａ間の距離よりも小さくなっており、上記門型フレーム３１が収容部４４を超えてＸ方向に移動できるようになっている。また、門型フレーム３１は、収容部４４内に設けられる予備吐出機構４１、ディップ槽４２及びノズル洗浄装置４３について、これらの各部を跨ぐようにアクセスできるようになっている。
【００４７】
保持部材４５は、管理部移動機構４６に接続されている。管理部移動機構４６は、レール部材４７及び駆動機構４８を有している。レール部材４７は、フレーム側部２４ａ及びフレーム側部２４ｂ上に１本ずつ設けられており、それぞれＸ方向に延在している。各レール部材４７は、塗布部３の門型フレーム３１に接続される２本のレール部材３５の間に配置されている。レール部材４７は、搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８を跨ぐように設けられている。このため、管理部４は当該レール部材４７に沿って搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８に亘って移動可能になっている。駆動機構４８は、保持部材４５に接続され管理部４をレール部材４７上に沿って移動させるアクチュエータである。また、各レール部材４７がレール部材３５の間に配置されているため、管理部４は塗布部３の門型フレーム３１をくぐるように移動することになる。
【００４８】
（塗布動作）  
次に、上記のように構成された塗布装置１の動作を説明する。  
図５〜図８は、塗布装置１の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Ｓにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Ｓを基板搬入領域２０に搬入し、当該基板Ｓを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域２１でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Ｓを基板搬出領域２２から搬出する。図５〜図８には門型フレーム３１及び管理部４の輪郭のみを破線で示し、ノズル３２及び処理ステージ２７の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
【００４９】
基板搬入領域２０に基板を搬入する前に、塗布装置１をスタンバイさせておく。具体的には、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の−Ｙ方向側に搬送機２３ａを配置させ、真空パッド２３ｂの高さ位置を基板の浮上高さ位置に合わせておくと共に、搬入側ステージ２５のエア噴出孔２５ａ、処理ステージ２７のエア噴出孔２７ａ、エア吸引孔２７ｂ及び搬出側ステージ２８のエア噴出孔２８ａからそれぞれエアを噴出又は吸引し、各ステージ表面に基板が浮上する程度にエアが供給された状態にしておく。
【００５０】
この状態で、例えば図示しない搬送アームなどによって外部から図５に示す基板搬入位置に基板Ｓが搬送されてきたら、昇降部材２６ａを＋Ｚ方向に移動させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃに突出させる。この昇降部材２６ａの動作により、基板Ｓが昇降ピン２６ｂに持ち上げられ、当該基板Ｓの受け取りが行われる。また、アライメント装置２５ｄの長孔から位置合わせ部材をステージ表面２５ｃに突出させておく。
【００５１】
基板Ｓを受け取った後、昇降部材２６ａを下降させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂ内に収容する。このとき、ステージ表面２５ｃにはエアの層が形成されているため、基板Ｓは当該エアによりステージ表面２５ｃに対して浮上した状態で保持される。基板Ｓがエア層の表面に到達した際、アライメント装置２５ｄの位置合わせ部材によって基板Ｓの位置合わせが行われ、基板搬入位置の−Ｙ方向側に配置された搬送機２３ａの真空パッド２３ｂを基板Ｓの−Ｙ方向側端部に真空吸着させる。基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された状態を図５に示す。真空パッド２３ｂによって基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された後、搬送機２３ａをレール２３ｃに沿って移動させる。基板Ｓが浮上した状態になっているため、搬送機２３ａの駆動力を比較的小さくしても基板Ｓはレール２３ｃに沿ってスムーズに移動する。
【００５２】
基板Ｓの搬送方向先端がノズル３２の開口部３２ａの位置に到達したら、図６に示すように、ノズル３２の開口部３２ａから基板Ｓへ向けてレジストを吐出する。レジストの吐出は、ノズル３２の位置を固定させ搬送機２３ａによって基板Ｓを搬送させながら行う。基板Ｓの移動に伴い、図７に示すように基板Ｓ上にレジスト膜Ｒが塗布されていく。基板Ｓがレジストを吐出する開口部３２ａの下を通過することにより、基板Ｓの所定の領域にレジスト膜Ｒが形成される。
【００５３】
レジスト膜Ｒの形成された基板Ｓは、搬送機２３ａによって搬出側ステージ２８へと搬送される。搬出側ステージ２８では、ステージ表面２８ｃに対して浮上した状態で、図８に示す基板搬出位置まで基板Ｓが搬送される。
【００５４】
基板Ｓが基板搬出位置に到達したら、真空パッド２３ｂの吸着を解除し、リフト機構２９の昇降部材２９ａを＋Ｚ方向に移動させる。昇降部材２９ａの移動により、昇降ピン２９ｂが昇降ピン出没孔２８ｂから基板Ｓの裏面へ突出し、基板Ｓが昇降ピン２９ｂによって持ち上げられる。この状態で、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側に設けられた外部の搬送アームが搬出側ステージ２８にアクセスし、基板Ｓを受け取る。基板Ｓを搬送アームに渡した後、搬送機２３ａを再び搬入側ステージ２５の基板搬入位置まで戻し、次の基板Ｓが搬送されるまで待機させる。
【００５５】
次の基板Ｓが搬送されてくるまでの間、塗布部３では、ノズル３２の吐出状態を保持するための予備吐出が行われる。図９に示すように、レール部材３５によって門型フレーム３１を管理部４の位置まで−Ｘ方向へ移動させる。
【００５６】
管理部４の位置まで門型フレーム３１を移動させた後、門型フレーム３１の位置を調整してノズル３２の先端をノズル洗浄装置４３にアクセスさせ、当該ノズル洗浄装置４３によってノズル先端３２ｃを洗浄する。
【００５７】
ノズル先端３２ｃの洗浄後、当該ノズル３２を予備吐出機構４１にアクセスさせる。予備吐出機構４１では、開口部３２ａと予備吐出面との間の距離を測定しながらノズル３２の先端の開口部３２ａをＺ方向上の所定の位置に移動させ、ノズル３２を−Ｘ方向へ移動させながら開口部３２ａからレジストを予備吐出する。
【００５８】
予備吐出動作を行った後、門型フレーム３１を元の位置に戻す。次の基板Ｓが搬送されてきたら、図１０に示すようにノズル３２をＺ方向上の所定の位置に移動させる。このように、基板Ｓにレジスト膜Ｒを塗布する塗布動作と予備吐出動作とを繰り返し行わせることで、基板Ｓには良質なレジスト膜Ｒが形成されることになる。
【００５９】
なお、必要に応じて、例えば管理部４に所定の回数アクセスする毎に、当該ノズル３２をディップ槽４２内にアクセスさせても良い。ディップ層４２では、ノズル３２の開口部３２ａをディップ槽４２に貯留された溶剤（シンナー）の蒸気雰囲気に曝すことでノズル３２の乾燥を防止する。
【００６０】
（メンテナンス）  
次に、ノズル３２のメンテナンスについて説明する。本実施形態では、ノズル３２のメンテナンスのうちノズル３２の清掃について説明する。ノズル３２の清掃は、作業者がノズル３２を手作業にて拭き取ることによって行われる。
【００６１】
メンテナンスを行う場合には、基板搬送部２を基板搬送状態から空間形成状態に切り替える。以下、空間形成状態への切り替え動作を説明する。図１１に示すように、フレーム中央部２４ｃの−Ｘ方向側に支持台６０を設置する。この支持台６０は、Ｙ方向の寸法が少なくとも搬入側ステージ２５のＹ方向の寸法よりも大きくなるように設けられており、搬入側ステージ２５をＹ方向にカバーする範囲に設置する。支持台６０のＺ方向の寸法については、フレーム中央部２４ｃのＺ方向の寸法と同一となるように設計しておく。なお、支持台６０については、フレーム部２４のいずれかの内部に予め配置しておき必要に応じて出没させるようにしても良いし、外部から運んできて設置するようにしても構わない。
【００６２】
支持台６０を設置した後、図１１に示すように、変更機構５に沿って搬入側ステージ２５を−Ｘ方向に移動させる。搬入側ステージ２５の移動により、搬入側ステージ２５の＋Ｘ方向の端部と塗布処理ステージ２７との間に空間６が形成される。この空間６は、ノズル３２にアクセスする作業者が立ち入る作業者立入空間となる。また、搬入側ステージ２５の移動により、当該搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部がフレーム部２４から−Ｘ方向にはみ出すことになる。当該はみ出した部分は支持台６０によって支持され、搬入側ステージ２５全体が安定的に支持されることになる。このように、作業者立入空間６が基板搬送部２上に形成された状態が空間形成状態である。
【００６３】
搬入側ステージ２５を移動した後、図１２に示すように、作業者Ｐがフレーム中央部２４ｃ上に形成された作業者立入空間６に立ち入る。このとき、例えば作業者立入空間６上に管理部４が配置され作業者Ｐが作業者立入空間６に立ち入れない場合には、当該管理部４を＋Ｘ方向又は−Ｘ方向に移動させ、作業者立入空間６上を空けるようにする。作業者立入空間６に立ち入った後、作業者Ｐはノズル３２にアクセスし、ノズル先端を拭き取る作業を行う。また、作業者Ｐがノズル３２にアクセスできない場合、例えば作業者Ｐの手がノズル３２に届かない場合などには、ノズル３２を作業者Ｐの手の届く位置に移動させるようにする。ノズル先端の拭き取りの際には、固化したレジストが基板搬送部２に付着するのを防ぐため管理部４をノズル３２の下方に移動させておくことが好ましい。作業者Ｐが作業者立入空間６内に立ち入る前にノズル３２の位置を予め調節しておくようにしても構わない。
【００６４】
作業が終了した後、作業者Ｐは作業者立入空間６から退去する。作業者Ｐの退去後、搬入側ステージ２５を＋Ｘ方向に移動させ、搬入側ステージ２５を基板搬送時の位置に戻すようにする。搬入側ステージ２５の位置を戻した後、支持台６０を撤去あるいは収容し、塗布装置１を基板搬送状態に戻す。塗布装置１を基板搬送状態に戻した後、図５〜図８に示す塗布動作を行う。
【００６５】
このように、本実施形態によれば、基板搬送部２が、ノズル３２に対してアクセスするための作業者立入空間６が形成される空間形成状態と、基板Ｓを搬送させる基板搬送状態とを変更可能な変更機構５を有することとしたので、ノズル３２のメンテナンス時には基板搬送部２を空間形成状態にし、作業者立入空間６内で作業者Ｐにメンテナンスを行うことができる。これにより、作業者Ｐが基板搬送部２の搬入側ステージ２５上に直接立ち入るのを回避することができるため、メンテナンスの効率性を向上させることができると共に基板搬送部２上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【００６６】
また、本実施形態によれば、変更機構５が少なくとも基板搬送部２の搬入側ステージ２５を移動可能に設けられているので、基板搬送部２に効率的に作業者立入空間６を形成することができる。また、変更機構５が基板搬送部２の搬入側ステージ２５と基板搬送部２の残りの部分（処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８）とをＸ方向に相対的に移動可能に設けられていることとしたので、当該基板搬送部２に効率的に作業者立入空間６を形成することができる。
【００６７】
また、本実施形態によれば、変更機構５によって移動可能となる部分が基板搬送部２のうち塗布処理領域２１に対して基板搬入側に設けられる搬入側ステージ２５であることとしたので、塗布処理領域２１を移動させること無く作業者立入空間６を形成することができる。これにより、塗布処理領域２１の状態の変化を防ぐことができ、塗布状態を安定させることができる。
【００６８】
また、本実施形態によれば、塗布部３が＋Ｘ方向及び−Ｘ方向のうち少なくとも一方に移動可能であることとしたので、作業者立入空間６の形成位置に合わせて塗布部３を所望の位置に移動させることができる。これにより、作業者Ｐの手の届く範囲にバラつきがある場合でも確実にメンテナンスを行うことができる。
【００６９】
また、本実施形態によれば、管理部４が搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８に亘ってＸ方向に移動可能であることとしたので、ノズル３２の位置に合わせて管理部４を当該ノズル３２の直下に移動させることができる。これにより、固化したレジストなどの異物が基板搬送部２上に付着するのを防ぐことができる。また、搬入側ステージ２５の移動により管理部４に重なる位置に作業者立入空間６が形成された場合には、管理部４を移動させることによって作業者立入空間６上のスペースを空けることができる。
【００７０】
［第２実施形態］  
次に、本発明の第２実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、搬入側ステージ２５の形状が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００７１】
図１３（ａ）は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す平面図である。図１３（ｂ）は、本実施形態に係る塗布装置１の一部の構成を示す正面図である。  
図１３（ａ）に示すように、本実施形態では、搬入側ステージ２５の形状が平面視で櫛歯状になっている。具体的には、搬入側ステージ２５に複数の溝部２５ｂが設けられており、当該溝部２５ｂを挟むようにステージ部材２５ｉが独立して設けられた状態になっている。この溝部２５ｂには、外部搬送機構から基板Ｓを受けとる際に当該外部搬送機構の一部を収容したり、例えば搬送ローラなどを配置したりすることができるようになっている。溝部２５ｂは、搬入側ステージ２５の基板Ｓの搬入領域のうち−Ｘ方向の端部から＋Ｘ方向に向けてほぼ全面に設けられており、Ｙ方向に複数設けられている。
【００７２】
また、図１３（ａ）に示すように、搬入側ステージ２５のＸ方向の寸法は、基板搬入領域におけるフレーム中央部２４ｃのＸ方向の寸法よりも小さくなっており、フレーム部２４の−Ｘ方向の端部が搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部よりも−Ｘ方向側へはみ出した構成になっている。フレーム中央部２４ｃ上に設けられた２本のレール状の変更機構５についても、中央部２４ｃの−Ｘ方向の端部まで設けられており、搬入側ステージ２５からはみ出した状態になっている。このような構成において、搬入側ステージ２５が変更機構５に沿ってＸ方向へ移動可能になっており、当該移動によって搬入側ステージ２５が基板搬送部２の残りの部分（処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８）に対して相対的に移動するようになっている。
【００７３】
図１３（ｂ）は、搬入側ステージ２５がフレーム中央部２４ｃの−Ｘ方向端部まで移動したときの状態を示している。同図に示すように、搬入側ステージ２５が移動した状態において、当該搬入側ステージ２５と処理ステージ２７との間に作業者立入空間６が形成されることになる。また、搬入側ステージ２５の全体がフレーム中央部２４ｃの−Ｘ方向の端部に支持された状態になっている。
【００７４】
このように、本実施形態によれば、搬入側ステージ２５が複数の溝部２５ｂを有する平面視で櫛歯状の構成になっているので、搬入側ステージ２５上に基板Ｓを搬入しやすくすることができる。また、溝部２５ｂの形成された搬入側ステージ２５のＸ方向の寸法が基板搬送部２のうち基板搬入領域のＸ方向の寸法よりも小さいこととしたので、搬入側ステージ２５を相対移動した場合であっても搬入側ステージ２５全体がフレーム中央部２４ｃによって支持されることになる。これにより、作業者立入空間６を形成する場合であっても安定して搬入側ステージ２５を保持することができる。
【００７５】
なお、本実施形態では、搬入側ステージ２５が基板搬送部２の残りの領域に対して移動可能に設けられており、搬入側ステージ２５のＸ方向の寸法が基板搬入領域２０におけるフレーム中央部２４ｃのＸ方向の寸法よりも小さくなっている構成としたが、これに限られることは無い。例えば搬出側ステージ２８が基板搬送部２の残りの領域に対して移動可能に設けられた構成であっても構わない。加えて、搬出側ステージ２８のＸ方向の寸法が基板搬出領域２１におけるフレーム中央部２４ｃのＸ方向の寸法よりも小さくなっている構成としても構わない。この場合、搬出側ステージ２８を＋Ｘ方向に移動することによって、搬出側ステージ２８と処理ステージ２７との間に作業者立入空間６が形成されることになる。この場合であっても、上記同様の効果を得ることができる。
【００７６】
［第３実施形態］  
次に、本発明の第３実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、第２実施形態と同様、搬入側ステージ２５が平面視で櫛歯状に形成されているが、変更機構５の構成が第２実施形態とは異なっている。
【００７７】
図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す平面図である。これらの図に示すように、本実施形態では、搬入側ステージ２５が溝部２５ｂを有する平面視で櫛歯状の構成になっており、基板搬入領域２０側のフレーム部２４のＸ方向の寸法が搬入側ステージ２５のＸ方向の寸法とほぼ同一になっている。
【００７８】
本実施形態では、フレーム中央部２４ｃ上には、レール状の変更機構５がＹ方向に沿って設けられており、変更機構５上に搬入ステージ２５の各ステージ部材２５ｉが独立して移動可能に配置されている。この構成においては、基板搬入領域２０のうちＹ方向の一箇所に各ステージ部材２５ｉを寄せ集めることが可能になっている。図１４（ｂ）では、＋Ｙ方向の端部に各ステージ部材２５ｉを寄せ集めた状態になっている。この他、例えば−Ｙ方向の端部に各ステージ部材２５ｉを寄せ集めた状態にすることも可能であるし、Ｙ方向の中央部に各ステージ部材２５ｉを寄せ集めた状態にすることも可能である。
【００７９】
このように、本実施形態によれば、変更機構５が基板搬送部２の搬入側ステージ２５を変形可能に設けられており、しかも複数の溝部２５ｂを有する平面視で櫛歯状の搬入側ステージ２５のうち平面視で櫛歯の部分（各ステージ部材２５ｉ）が、Ｙ方向上の所定の箇所に寄せ集め可能に設けられているので、基板搬送部２上に効率的に作業者立入空間６を形成することができる。
【００８０】
［第４実施形態］  
次に、本発明の第４実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、搬入側ステージ２５の構成及び変更機構５の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００８１】
図１５は、本実施形態に係る塗布装置１の一部の構成を示す正面図である。同図に示すように、搬入側ステージ２５の＋Ｘ方向の端部が−Ｚ方向に折り曲げ可能に設けられている。具体的には、搬入側ステージ２５の＋Ｘ方向の端部には折り曲げ部２５ｈが設けられており、当該折り曲げ部２５ｈが搬入側ステージ２５のステージ本体２５ｋに対して変更機構５を介して取り付けられている。この変更機構５は、例えばＹ方向に回転軸を有する蝶番機構を備えており、折り曲げ部２５ｈが変更機構５を軸として−Ｚ方向に折り曲がるようになっている。また、この折り曲げ部２５ｈが折り曲げられた状態において、搬入側ステージ２５と処理ステージ２７との間に作業者立入空間６が形成されることになる。
【００８２】
このように、本実施形態によれば、変更機構５が搬入ステージ２５の一部分である折り曲げ部２５ｈを残りの部分であるステージ本体２５ｋに対して折り曲げ可能に設けられていることとしたので、効率的に作業者立入空間を形成することができる。なお、本実施形態では、変更機構５の回転軸をＹ方向としたが、これに限られることは無く、例えばＸ方向の回転軸を有する構成であっても構わない。また、折り曲げ部２５ｈの折り曲げる方向を−Ｚ方向としたが、＋Ｚ方向に折り曲げる構成であっても構わない。
【００８３】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、図１６に示すように、メンテナンスの終了後、搬入側ステージ２５を＋Ｘ方向に移動させて基板搬送状態に戻すときの位置合わせ機構を有する構成であっても構わない。具体的には、同図に示すように、搬入側ステージ２５の＋Ｘ方向の端面に凸部２５ｊを設け、処理ステージ２７の−Ｘ方向の端面に凹部２７ｊを設ける構成が挙げられる。この構成では、凸部２５ｊ及び凹部２７ｊに同一角度の傾斜面が形成されている。搬入側ステージ２５を移動させる際、傾斜面が一致するように凸部２５ｊと凹部２７ｊとを嵌合させることで、処理ステージ２７との間の位置を正確に合わせることができる。
【００８４】
また、上記実施形態では、塗布部３が１つだけ設けられた構成としたが、これに限られることは無く、塗布部３を複数配置する構成であっても構わない。例えば図１７では、塗布部３を２つ設けた構成（塗布部３ａ及び塗布部３ｂ）を示している。塗布部を複数設ける場合、一部の塗布部を基板搬入領域２０側に移動させ、残りの塗布部を基板搬出領域２２側へ移動させるようにすることが好ましい。図１７では、２つの塗布部のうち塗布部３ａを基板搬入領域２０側へ、塗布部３ｂを基板搬出領域２２側へ移動することができるようになっている。
【００８５】
また、上記実施形態では、移動機構３４のレール部材３５及び移動機構４６のレール部材４７がそれぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの上面に設けられた構成としたが、これに限られることは無く、例えば図２１に示すように、レール部材３５及びレール部材４７がそれぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの内部に設けられた構成としても構わない。
【００８６】
例えば図１８では、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂに溝部２４ｃ及び溝部２４ｄがＸ方向に沿って設けられると共に、レール部材３５が溝部２４ｃ内に設けられレール部材４７が溝部２４ｄに設けられた構成になっている。また、塗布部３の支柱部材３１ａの−Ｚ方向の端部が溝部２４ｃ内に挿入された状態で支柱部材３１ａがレール３５上に配置されており、管理部４の保持部材４５の−Ｚ方向の端部が溝部２４ｄ内に挿入された状態で保持部材４５がレール部材４７上に配置されている。
【００８７】
なお、図１８においては、溝部２４ｃのＺ方向の寸法が溝部２４ｄのＺ方向の寸法よりも大きくなっているが、勿論これに限られることは無く、例えば溝部２４ｄのＺ方向の寸法が溝部２４ｃのＺ方向の寸法よりも大きくなっていても構わないし、溝部２４ｃと溝部２４ｄとでＺ方向の寸法が同一になっていても構わない。
【００８８】
また、塗布装置１の全体構成については、上記実施形態では、搬送機構２３を各ステージの−Ｙ方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構２３を各ステージの＋Ｙ方向側に配置する構成であっても構わない。また、図１９に示すように、各ステージの−Ｙ方向側には上記の搬送機構２３（搬送機２３ａ、真空パッド２３ｂ、レール２３ｃ）を配置し、＋Ｙ方向側には当該搬送機構２３と同一の構成の搬送機構５３（搬送機５３ａ、真空パッド５３ｂ、レール５３ｃ）を配置して、搬送機構２３と搬送機構５３とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構２３には基板Ｓ１を搬送させ、搬送機構５３には基板Ｓ２を搬送させるようにする。この場合、搬送機構２３と搬送機構５３とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板Ｓ１、Ｓ２の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構２３と搬送機構５３とで１枚ずつ保持し、搬送機構２３と搬送機構５３とを＋Ｘ方向に並進させることによって、２枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
【００８９】
また、上記実施形態では、基板Ｓを浮上させて搬送する塗布装置１を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、基板を搬送させつつ塗布を行う塗布装置であれば、浮上搬送型以外の塗布装置、例えば搬送ローラなどの搬送機構によって基板を搬送する塗布装置であっても本発明の適用は可能である。
【００９０】
また、上記各実施形態において、管理部４を先にノズル３２の先端３２ｃの下方に位置させて固定した後、空間６を形成するようにしてもよい。さらに、上記各実施形成においては塗布部３を予め固定してメンテナンスを行う場合を想定しているが、先に塗布部３を搬入側ステージ２５上に移動させ、塗布部３のノズル３２ｃの下に管理部４上に位置させた後に、作業者Ｐが作業を行うようにしてもよい。これらのように管理部４をノズル３２の下方に位置させることにより、メンテナンス時にレジストの固化物が落下したとしても搬入ステージ２５、処理ステージ２７等における汚染を防止することができる。
【００９１】
また、上記実施形態では、作業者立入空間６においてノズル３２のメンテナンスを行う場合のみを説明したが、これに限られることは無く、例えば作業者立入空間６において管理部４のメンテナンスを行うようにしても構わない。また、例えば作業者立入空間６の＋Ｘ方向側に塗布部３を移動させ、作業者立入空間６の−Ｘ方向側に管理部４を移動させることで、例えば作業者はまず＋Ｘ方向を向いて塗布部３のメンテナンスを行い、その後に−Ｘ方向を向いて管理部４のメンテナンスを行うことができる。これにより、塗布装置１のメンテナンスの効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す正面図。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。
【図４】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す側面図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図６】同、動作図。
【図７】同、動作図。
【図８】同、動作図。
【図９】同、動作図。
【図１０】同、動作図。
【図１１】本実施形態に係る塗布装置のメンテナンスの工程を示す図。
【図１２】同、工程図。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る塗布装置の構成を示す図。
【図１４】本発明の第３実施形態に係る塗布装置の構成を示す図。
【図１５】本発明の第４実施形態に係る塗布装置の構成を示す図。
【図１６】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図１７】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図１８】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図１９】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【符号の説明】
【００９３】
１…塗布装置  ２…基板搬送部  ３…塗布部  ４…管理部  ５…変更機構  ６…作業者立入空間２４…フレーム部２４ａ、２４ｂ…側部  ２５…搬入側ステージ  ２８…搬出側ステージ  ３１…門型フレーム  ３４…移動機構  ４５…保持部材  ４６…移動機構  ６０…支持台  Ｐ…作業者
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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