(57)【要約】磁気ヘッドスライダは、アルチックからなるベース部分と、磁気変換素子が形成されたアルミナからなる素子形成部分とを含むスライダ本体を含む。浮上レールがスライダ本体の表面から突出して設けられる。ディスクの潤滑剤がベース部分と素子形成部分との間の境界部分に堆積するのを防止するために、第１の保護膜が、スライダ本体の表面に素子形成部分とベース部分との境界を覆って設けられる。磁気変換素子の腐食及び損傷を防止するために、第２の保護膜が、浮上レールの表面に設けられる。さらに、空気軸受が浮上レールの上に設けられる場合には、第３の保護膜が空気軸受の表面に設けられる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース部分と該ベース部分に接合され且つ磁気変換素子が形成された素子形成部分とを含むスライダ本体と、
使用時に媒体と対向する該スライダ本体の第１表面と、
該スライダ本体の第１表面から突出して設けられ且つ第２表面を有する浮上レールと、
スライダ本体の第１表面に該素子形成部分と該ベース部分との境界を覆って設けられた第１の保護膜と、
該磁気変換素子を保護するために該浮上レールの第２表面に設けられた第２の保護膜と、
を備えたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
該第１の保護膜の厚さと該第２の保護膜の厚さが異なることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
該第１の保護膜の厚さが該第２の保護膜の厚さより厚いことを特徴とする請求項２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
該第１の保護膜と該第２の保護膜とはフッ素を含有するカーボン膜で形成されており、該第１の保護膜のフッ素含有量が該第２の保護膜のフッ素含有量よりも多いことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
ベース部分と該ベース部分に接合され且つ磁気変換素子が形成された素子形成部分とを含むスライダ本体と、
使用時に媒体と対向する該スライダ本体の第１表面と、
該スライダ本体の第１表面から突出して設けられ且つ第２表面を有する浮上レールと、
該浮上レールの第２表面から突出して設けられ且つ第３表面を有する空気軸受部分と、
スライダ本体の第１表面に該素子形成部分と該ベース部分との境界を覆って設けられた第１の保護膜と、
該浮上レールの第２表面に設けられた第２の保護膜と、
該磁気変換素子を保護するために該空気軸受の第３表面に設けられた第３の保護膜と、
を備えたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
該浮上レールは、該スライダ本体の横方向に延びる横方向成分と該横方向成分の両端から該スライダ本体の長手方向に延びる長手方向成分とを有する第１の浮上レール部分と、該第１の浮上レール部分の後方で該スライダ本体の横方向に間隔をあけて配置された２つの第２の浮上レール部分とを含むことを特徴とする請求項５に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
該第１の保護膜の厚さと該第２及び第３の保護膜の厚さが異なることを特徴とする請求項６に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
該第１の保護膜の厚さが該第２及び第３の保護膜の厚さより厚いことを特徴とする請求項７に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
該第１の保護膜と、該第２の保護膜及び第３の保護膜とはフッ素を含有するカーボン膜で形成されており、該第１の保護膜のフッ素含有量が該第２及び第３の保護膜のフッ素含有量よりも多いことを特徴とする請求項６に記載の磁気ヘッドスライダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は磁気ディスク装置で使用される磁気ヘッドスライダに関し、特には、コンピュータのハードディスクに用いられる磁気ヘッドスライダに関する。
【背景技術】  磁気ディスク装置は、ディスクと、ディスクに情報を書き込み及びディスクから情報を読み出しするためにサスペンションに支持された磁気ヘッドスライダとを含む。磁気ヘッドスライダは磁気変換素子と浮上レールとを有し、浮上レールに作用する空気の流れが磁気ヘッドスライダをディスクに対して浮上させる。最近の磁気ヘッドスライダは、ベース部分と、ベース部分に接合され且つ磁気変換素子が形成された素子形成部分とを含む。典型的には、ベース部分はアルチックで形成され、素子形成部分はアルミナで作られる。
特開平５−２８４２９号公報は、素子形成部分の表面をベース部分の表面よりも後退させ、使用時に素子形成部分の表面の磁気変換素子の先端のギャップがディスクに接触しにくくするようにした磁気ヘッドスライダを開示している。
特開平７−１８２６２８号公報は、ベース部分をガラス等によって形成し、ベース部分及び素子形成部分をカーボン膜で覆うようにした磁気ヘッドスライダを開示している。
特開平７−２３０６１５号公報は、ベース部分及び素子形成部分の間の段差部において素子形成部分のみに保護膜を形成した磁気ヘッドスライダを開示している。
特開２０００−１７３２１７号公報は、負圧型の磁気ヘッドスライダを開示している。この負圧型の磁気ヘッドスライダの浮上レールは、スライダ本体の横方向に延びる横方向成分とこの横方向成分の両端からスライダ本体の長手方向に延びる長手方向成分とを有する第１の浮上レール部分と、第１の浮上レール部分の後方でスライダ本体の横方向に間隔をあけて配置された２つの第２の浮上レール部分とを含む。
第１及び第２の浮上レール部分の表面には空気軸受が形成される。使用時に、浮上レールの空気軸受の表面に発生する浮上力と、第１の浮上レール部分の背後側に発生する負圧とをバランスさせ、磁気ヘッドスライダのディスクに対する浮上量をより小さい値で維持することができるようにしている。
第１及び第２の浮上レール部分の表面及びそれから突出する空気軸受の表面にはカーボン膜等の保護膜が形成されている。一方、スライダ本体の浮上レールが突出する表面には、従来保護膜は設けられていなかった。
磁気ヘッドスライダのディスクに対する浮上量は低下する傾向にある。磁気ヘッドスライダの浮上量の低下に伴い、磁気ヘッドスライダはディスクにより接近する。ディスクの表面に潤滑剤が塗布してあり、磁気ヘッドスライダがディスクに接近すると、ディスク上の潤滑剤が磁気ヘッドスライダにベーパーとしてあるいはその他の状態で移着することがある。
ディスクから移着した磁気ヘッドスライダに潤滑剤は、磁気ヘッドスライダから流れ去ってしまえば問題はない。しかし、潤滑剤が磁気ヘッドスライダに堆積すると、磁気ヘッドスライダのバランスが崩れたり、磁気変換素子に好ましくない影響を与えたりする問題がある。アルミナで作られた素子形成部分とアルチックで作られたベース部分との間に段差があると潤滑剤がその段差の部分に堆積しやすい。磁気ヘッドスライダの製造時に、磁気ヘッドスライダはラッピングによる機械加工で平坦化されるが、素子形成部分とベース部分とでは硬さが異なるため、素子形成部分とベース部分との間に微小な段差がついてしまう。そのため、磁気変換素子の近傍に付着した潤滑剤が磁気変換素子に好ましくない影響を与えたり、Ｓｅｅｋ中の浮上吸着が発生し、浮上姿勢が悪くなり、特性が不安定になる等の問題があった。
【発明の開示】
本発明の目的は、媒体の潤滑剤が磁気変換素子の近傍に付着しにくいようにした磁気ヘッドスライダを提供することである。
本発明による磁気ヘッドスライダは、ベース部分と該ベース部分に接合され且つ磁気変換素子が形成された素子形成部分とを含むスライダ本体と、使用時に媒体と対向する該スライダ本体の第１表面と、該スライダ本体の第１表面から突出して設けられ且つ第２表面を有する浮上レールと、スライダ本体の第１表面に該素子形成部分と該ベース部分との境界を覆って設けられた第１の保護膜と、該磁気変換素子を保護するために該浮上レールの第２表面に設けられた第２の保護膜と、を備えたことを特徴とする。
この構成においては、第１の保護膜がスライダ本体の第１表面の素子形成部分とベース部分との境界を含む部分に設けられている。第１の保護膜は素子形成部分とベース部分との境界を覆い、素子形成部分とベース部分との境界に段差があってもその段差を軽減し、磁気ヘッドスライダに移着した潤滑剤の堆積を防ぐようになっている。従って、潤滑剤の堆積による磁気変換素子への悪影響を緩和することができる。第２の保護膜は磁気変換素子を保護する。
好ましくは、第１の保護膜の厚さと第２の保護膜の厚さが異なる。この場合、好ましくは、第２の保護膜の厚さが第１の保護膜の厚さより厚い。これによって、磁気ヘッドスライダの磁気変換素子の磁極が位置する部分の厚さを増大させることなく、磁気ヘッドスライダへの潤滑剤の堆積を防ぐことができる。
好ましくは、第１の保護膜と第２の保護膜とはフッ素を含有するカーボン膜で形成されており、第１の保護膜のフッ素含有量が第２の保護膜のフッ素含有量よりも多い。第１及び第２の保護膜にフッ素を含有したカーボン膜を用いることで、潤滑剤の付着が抑制される。また、保護膜のフッ素量を増やすと撥水性、撥油性は向上するが耐久性は悪くなる。そのため、第１の保護膜のフッ素含有量を第２の保護膜のフッ素含有量よりも多くすることで、浮上レールの第２の保護膜の特性を劣化させることなく、第１の保護膜の潤滑剤堆積防止作用を向上させることができる。
本発明のもう１つの態様による磁気ヘッドスライダは、ベース部分と該ベース部分に接合され且つ磁気変換素子が形成された素子形成部分とを含むスライダ本体と、使用時に媒体と対向する該スライダ本体の第１表面と、該スライダ本体の第１表面から突出して設けられ且つ第２表面を有する浮上レールと、該浮上レールの第２表面から突出して設けられ且つ第３表面を有する空気軸受部分と、スライダ本体の第１表面に該素子形成部分と該ベース部分との境界を覆って設けられた第１の保護膜と、該浮上レールの第２表面に設けられた第２の保護膜と、該磁気変換素子を保護するために該空気軸受の第３表面に設けられた第３の保護膜と、を備えたことを特徴とする。
この構成においても、第１の保護膜がスライダ本体の第１表面の素子形成部分とベース部分との境界を含む部分に設けられている。第１の保護膜は素子形成部分とベース部分との境界を覆い、素子形成部分とベース部分との境界に段差があってもその段差を軽減し、磁気ヘッドスライダに移着した潤滑剤の堆積を防ぐようになっている。従って、潤滑剤の堆積による磁気変換素子への悪影響を緩和することができる。第２及び第３の保護膜は磁気変換素子を保護する。
好ましくは、浮上レールは、該スライダ本体の横方向に延びる横方向成分と該横方向成分の両端から該スライダ本体の長手方向に延びる長手方向成分とを有する第１の浮上レール部分と、該第１の浮上レール部分の後方で該スライダ本体の横方向に間隔をあけて配置された２つの第２の浮上レール部分とを含む。これは負圧型磁気ヘッドスライダとして作用する。
【図面の簡単な説明】  図１は本発明の実施例によるディスク装置を示す平面図である。
図２は本発明の実施例による磁気ヘッドスライダを示す斜視図である。
図３は保護膜を省略した図２の磁気ヘッドスライダを示す斜視図である。
図４は図３の磁気ヘッドスライダの素子形成部分とベース部分との境界を含む部分を示す略断面図である。
図５は図２の磁気ヘッドスライダの素子形成部分とベース部分との境界を含む部分を示す略断面図である。
図６は保護膜のフッ素含有量と保護膜の硬度との関係を示す図である。
図７は保護膜のフッ素含有量と保護膜の水との接触角との関係を示す図である。
図８は本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダを示す平面図である。
図９は図８の磁気ヘッドスライダの一部を示す拡大斜視図である。
図１０は図８の磁気ヘッドスライダの線Ｘ−Ｘに沿った断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】  図１は本発明の実施例によるディスク装置を示す平面図である。図１において、ディスク装置（ＨＤＤ）１０は、ハウジング１１を有し、スピンドルモータ１２に装着される磁気ディスク１３と、磁気ディスク１３に対向する磁気ヘッドスライダ１４とが、ハウジング１１に配置されている。磁気ヘッドスライダ１４はシャフト１５のまわりで揺動することができるキャリッジアーム１６の先端に固定される。キャリッジアーム１６はアクチュエータ１７によって揺動駆動され、磁気ヘッドスライダ１４が磁気ディスク１３の所望の記録トラックに位置決めされる。それによって、磁気ヘッドスライダ１４は磁気ディスク１３に情報を書き込みあるいは磁気ディスク１３から情報を読み取ることができる。
図２は本発明の実施例による磁気ヘッドスライダ１４を示す斜視図である。図３は保護膜を省略した図２の磁気ヘッドスライダを示す斜視図である。図２及び図３において、磁気ヘッドスライダ１４はスイダ本体２０を備える。スライダ本体２０は、ベース部分２１と、ベース部分２０に接合された素子形成部分２２とを含む。素子形成部分２２は薄膜形成工程により作られた磁気変換素子２３を有し、磁気変換素子２２は磁極２４を有する。ベース部分２１はアルチック（Ａｌ２Ｏ３ＴｉＣ）で作られ、素子形成部分２２はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）で作られる。２５は素子形成部分２２とベース部分２１との境界を示す。矢印Ａはディスク装置１０の使用時に磁気ヘッドスライダ１４に対して相対的に空気が流れる方向を示す。
磁気ヘッドスライダ１４は使用時に磁気ディスク１３と対向する表面（第１表面）２６を有する。磁気ヘッドスライダ１４の第１表面２６は素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を含む。一対の平行な浮上レール２７がスライダ本体の第１表面２６から突出して設けられる。浮上レール２７は第２表面２８を有する。磁極２４は浮上レール２７の第２表面２８に現れる。
第１の保護膜２９がスライダ本体２０の第１表面２６に素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を覆って設けられる。第２の保護膜３０が磁気変換素子２３の磁極２４を保護するために浮上レール２７の第２表面２８に設けられる。第２の保護膜３０は磁気変換素子２３の磁極２４の腐食及び損傷を防止するためのものである。図３においては、第１の保護膜２９及び第２の保護膜３０が省略されているので、第１表面２６及び第２表面２８が見えている。図２においては、第１の保護膜２９及び第２の保護膜３０はそれぞれ第１表面２６及び第２表面２８の上に形成されている。
図４は図３の磁気ヘッドスライダ１４の素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を含む部分を示す略断面図である。磁気ヘッドスライダ１４の製造時に、第１表面２６はラッピングによる機械加工で平坦化される。しかし、素子形成部分２２はアルミナで作られ、ベース部分２１はアルチックで作られていて、アルミナとアルチックとは硬さが異なるため、第１表面２６の素子形成部分２２とベース部分２１との間の境界２５に微小な段差３１がついてしまう。つまり、素子形成部分２２の第１表面２６の部分はベース部分２１の第１表面２６の部分よりも低くなる。このような段差３１があると、磁気ディスク１３の表面に塗布してある潤滑剤が磁気ヘッドスライダ１４に移着した後、第１表面２６に沿って流れる潤滑剤が段差３１の底部に堆積しやすい。
図５は図２の磁気ヘッドスライダ１４の素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を含む部分を示す略断面図である。第１の保護膜２９がスライダ本体２０の第１表面２６に素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を覆って、すなわち素子形成部分２２とベース部分２１にわたって、設けられる。第１の保護膜２９は素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を覆っているので、第１の保護膜２９の段差３１における表面は段差３１が露出している場合よりもなだらかになる。従って、磁気ディスク１３から磁気ヘッドスライダ１４に移着した潤滑剤はスライダ本体２０の第１表面２６に沿って流れやすくなり、潤滑剤の堆積が防止される。従って、潤滑剤の堆積による磁気変換素子２３への悪影響を緩和することができる。また、磁気ヘッドスライダ１４の浮上動作が堆積した潤滑剤に妨げられることがなくなる。
第１の保護膜２９及び第２の保護膜３０はカーボン膜（例えばＤＬＣ）で形成されるのが好ましい。第１の保護膜２９の厚さと第２の保護膜３０の厚さは異ならせるのがよい。この場合、第１の保護膜２９の厚さが第２の保護膜３０の厚さより厚いのが好ましい。これによって、磁気ヘッドスライダ１４の厚さ（磁気変換素子２３の磁極２３が位置する部分の厚さ）を増大させることなく、よって磁気ヘッドスライダ１４の小型化を実現しつつ、第１の保護膜２９の厚さを厚くして段差３１上の第１の保護膜２９をよりなだらかにして、磁気ヘッドスライダ１４の第１表面２６への潤滑剤の堆積を防ぐことができる。例えば、第１の保護膜２９の厚さは１０ｎｍであり、第２の保護膜３０の厚さは３〜５ｎｍである。
また、第１の保護膜２９及び第２の保護膜３０はフッ素を含有するカーボン膜で形成されているのが好ましい。この場合、第１の保護膜２９のフッ素含有量が第２の保護膜３０のフッ素含有量よりも多いのが好ましい。
図６は保護膜のＤＬＣに対するフッ素含有量と保護膜の硬度との関係を示す図である。フッ素含有量が多いほど、保護膜の硬度は低下する。従って、保護膜の機械的な強度を多角するためにはフッ素含有量が少ない方がよい。
図７は保護膜のＤＬＣに対するフッ素含有量と保護膜の水の接触角との関係を示す図である。フッ素含有量が多いほど、保護膜の水との接触角は大きくなる。保護膜の水との接触角は大きくなるほど、異物である潤滑剤は保護膜に付着しにくくなる。
このように、第１の保護膜２９及び第２の保護膜３０にフッ素を含有したカーボン膜を用いることで、第１の保護膜２９及び第２の保護膜３０への潤滑剤の付着が抑制される。また、保護膜のフッ素含有量を増やすと撥水性、撥油性は向上するが耐久性は悪くなる。そのため、第１の保護膜２９のフッ素含有量が第２の保護膜３０のフッ素含有量よりも多くすることで、浮上レール２７の機械的な強度を低下させることなく、第１表面２６への潤滑剤堆積防止作用を向上させることができる。
図８は本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダを示す平面図である。図９は図８の磁気ヘッドスライダの一部を示す拡大斜視図である。図１０は図８の磁気ヘッドスライダの線Ｘ−Ｘに沿った断面図である。図８から図１０に示される磁気ヘッドスライダは負圧型ヘッドスライダの例である。
磁気ヘッドスライダ１４はベース部分２１とベース部分２０に接合された素子形成部分２２とからなるスライダ本体２０を備える。ベース部分２１はアルチック（Ａｌ２Ｏ３ＴｉＣ）で作られ、素子形成部分２２はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）で作られる。磁気変換素子２３（図２及び図３参照）が素子形成部分２２に薄膜形成工程により作られる。磁気変換素子２２は磁極２４を有する。矢印Ａはディスク装置１０の使用時に磁気ヘッドスライダ１４に対して相対的に空気が流れる方向を示す。
磁気ヘッドスライダ１４は使用時に磁気ディスク１３と対向する表面（第１表面）２６を有する。磁気ヘッドスライダ１４の第１表面２６は素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を含む。浮上レール２７がスライダ本体の第１表面２６から突出して設けられる。浮上レール２７は第２表面２８を有する。後で説明するように、浮上レール２７の形状は図２及び図３の浮上レール２７の形状とは異なっている。さらに、空気軸受３３が浮上レール２７の第２表面２８から突出して設けられる。空気軸受３３は第３は第３表面３４を有する。磁極２４は空気軸受３３の第２表面３４に現れる。
第１の保護膜２９がスライダ本体２０の第１表面２６に素子形成部分２２とベース部分２１との境界２５を覆って設けられる。第２の保護膜３０が浮上レール２７の第２表面２８に設けられる。第３の保護膜３５が磁気変換素子２３の磁極２４を保護するために空気軸受３３の第３表面３４に設けられる。図８においては、第１の保護膜２９、第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５は省略されている。
第１の保護膜２９の作用は前の実施例の第１の保護膜２９の作用と同様であり、第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５の作用は前の実施例の第２の保護膜３０の作用と同様である。そして、第１の保護膜２９、第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５はカーボン膜（例えばＤＬＣ）で形成されるのが好ましい。第１の保護膜２９の厚さと、第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５の厚さは異ならせるのがよい。この場合、第１の保護膜２９の厚さが第２の保護膜３０の厚さ及び第３の保護膜３５の厚さより厚いのが好ましい。これによって、磁気ヘッドスライダ１４の厚さを増大させることなく、よって磁気ヘッドスライダ１４の小型化を実現しつつ、第１表面２６の素子形成部分２２とベース部分２１との間の境界２５に発生する微小な段差３１（図４及び図５参照）上で第１の保護膜２９をよりなだらかにして、磁気ヘッドスライダ１４の第１表面２６への潤滑剤の堆積を防ぐことができる。
同様に、第１の保護膜２９、第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５はフッ素を含有するカーボン膜で形成されているのが好ましい。この場合、第１の保護膜２９のフッ素含有量が第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５のフッ素含有量よりも多いのが好ましい。
次に、浮上レール２７及び空気軸受３３の詳細について説明する。浮上レール２７は、空気の流れ方向Ａで見て上流側に位置する第１の浮上レール部分３６と、第１の浮上レール部分３６の後方でスライダ本体２０の横方向に間隔をあけて配置された２つの第２の浮上レール部分３７とを含む。空気軸受３３は第１の浮上レール部分３６及び第２の浮上レール部分３７の各々に設けられる。
第１の浮上レール部分３６は、スライダ本体２０の横方向に延びる横方向成分３６Ａと、横方向成分３６Ａの両端からスライダ本体２０の長手方向に延びる長手方向成分３６Ｂとを有する。横方向成分３６Ａと長手方向成分３６Ｂとによって囲まれた空間は容積が増大される。長手方向成分３６Ｂと第２の浮上レール部分３７との間には長手方向の隙間がある。
使用において、一部の空気は第１の浮上レール部分３６の横方向成分３６Ａをのりこえて通過し、その背後側の空間に流入し、さらに下流側に流れる。他の一部の空気は第１の浮上レール部分３６の横方向成分３６Ａ及び長手方向成分３６Ｂを迂回し、第２の浮上レール部分３７に沿って流れる。また、一部の空気は長手方向成分３６Ｂと第２の浮上レール部分３７との間の長手方向の隙間を通って一対の第２の浮上レール部分３７の間の空間に流入し、さらに下流側に流れる。
空気軸受３３は空気の流れによる浮上力を受ける。この浮上力は磁気ヘッドスライダ１４を磁気ディスク１３から離れさせる方向に作用する。一方、第１の浮上レール部分３６の横方向成分３６Ａを通過し、その背後側の空間に流入する空気の流れは、その空間の容積の増大により負圧を生成する。この負圧は磁気ヘッドスライダ１４を磁気ディスク１３に引き寄せる方向に作用する。浮上力と負圧とを適切にバランスするようにすれば、磁気ヘッドスライダ１４を磁気ディスク１３に対して小さな距離で安定的に浮上させることができる。
この磁気ヘッドスライダ１４の製造においては、磁気変換素子２３が形成された状態では、第２表面２８が磁気ヘッドスライダ１４（を構成するブロック）の表面になっている。そこで、磁気ヘッドスライダ１４の表面（第２表面２８）に第１密着層を介して第２の保護膜３０となる第１カーボン層（ＤＬＣ層）を形成する。さらに、第１カーボン層（ＤＬＣ層）の表面に第２密着層を介して第３の保護膜３５となる第２カーボン層（ＤＬＣ層）を形成する。そこで、第２密着層及び第２カーボン層（ＤＬＣ層）をマスクを使用してエッチングし、空気軸受３３及び第３の保護膜３５を形成する。第２密着層の残存部分が空気軸受３３となる。さらに、第１密着層及び第２カーボン層（ＤＬＣ層）をマスクを使用してエッチングし、浮上レール２７及び第２の保護膜３０を形成する。このエッチングにおいては、ベース部分２１を構成するアルチックの層及び素子形成部分２２を構成するアルミナの層まで削りとるように実施される。その結果、削りとられた層の底面が第２表面２８より低くなり、磁気ヘッドスライダ１４の第１表面２６となる。よって浮上レール２７は第１表面２６から突出する。それから、第１の保護膜２９が磁気ヘッドスライダ１４の第１表面２６に形成される。この特徴は図１０に示されている。従って、第１の保護膜２９、第２の保護膜３０及び第３の保護膜３５の厚さや組成を変えることが可能である。
図９において、磁気変換素子２３が位置する浮上レール２７の部分の端部（下流側の第２の浮上レール部分３７の端部）もエッチングにより削りとられている。このようなエッジカットにより、磁気変換素子２３の磁極２４は磁気ディスク１３により接近させられることができる。第１の保護膜２９は第１表面２６上で磁気変換素子２３が位置する浮上レール２７の部分の端部３８の後側まで形成されている。これによって、磁気変換素子２３の形成位置近傍での潤滑剤の堆積を防止することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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