(57)【要約】  従来の素子に比べて小型化、軽量化を図ることができる新規な液晶収差補正素子を提供することを課題とする。  この課題を解決するため、本発明は、電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれた液晶とを有する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板の少なくとも一つには厚さ方向に穴３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃが穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃが設けられる。また、液晶を注入するための注入口３２も基板上に設けられる。
2005036243.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれた液晶とを有する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板の少なくとも一つには厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなる液晶収差補正素子。
【請求項２】
電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれた液晶とを有する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板のうちの一の基板には厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなる液晶収差補正素子。
【請求項３】
請求項２記載の液晶収差補正素子において、一の基板に、液晶を注入するための注入口を形成したことを特徴とする液晶収差補正素子。
【請求項４】
請求項１又は２記載の液晶収差補正素子において、基板が四角形状に形成され、前記基板における光束が通過する円形領域以外のコーナー部付近に、穴が穿たれることを特徴とする液晶収差補正素子。
【請求項５】
請求項３記載の液晶収差補正素子の製造方法であって、母材となる基板に、多数個の液晶収差補正素子に対応させた端子及び注入口を形成する工程と、電極を形成する工程と、前記の端子、注入口、及び電極を形成した基板に対し、電極を形成した別の基板を組み合わせる工程と、組み合わせた後に注入口から液晶を注入する工程と、個々の液晶収差補正素子に切り分ける工程と、を有してなる液晶収差補正素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク装置において、光ピックアップでの記録・再生時に生ずる収差を補正するために用いる液晶収差補正素子、及びその製造方法の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報記録媒体としてＣＤ、ＤＶＤ等の各種光ディスクが知られている。これらの光ディスクは、回転することによる厚さずれや反り等によって収差（集光スポットの歪）を生ずるため、この収差を補正して記録・再生の精度を上げることが求められる。【０００３】
上記収差を補正する技術として、コリメータレンズをアクチュエータで駆動させる方式と、液晶収差補正素子を利用する方式が知られている。
前者の方式は、アクチュエータが必要となるため光ピックアップが複雑になり、また高精度な補正には対応し切れないという問題があった。
これに対し、液晶収差補正素子は、液晶パネルの電極を同心円のリング状に形成し、これにより光束の中央部と外縁部とで異なる位相制御を行うものである。この液晶収差補正素子は、光ピックアップにおいて対物レンズとともに同一光軸上に配置されるため、良好な駆動が得られるように小型化・軽量化することが望まれていた。【０００４】
従来の液晶収差補正素子として、特許文献１には、光ディスクで生じる球面収差の分布に対応付けられた同心円状の複数の電極部を有する第１電極層と、前記第１電極層に対向する第２電極層と、前記第１及び第２電極層に狭持され、前記第１及び第２電極層への印加電圧に応じた位相変化を通過する光ビームに生じせしめる液晶と、を有する収差補正素子が記載されている。なお、第１及び第２電極層は、透明なガラス基板上にそれぞれ形成されている。【０００５】
上記従来の液晶収差補正素子では、特許文献１の図４に示すように、各電極部にリード線を接続し、素子の側面から引き出していた。引き出されたリード線は、一般的には、一方のガラス基板を他方よりも長く形成し、その長い部分に設けられた端子に集約させ、そこからフレキシブルプリント基板によって電圧を制御するための回路部に接続させていた。
この場合、ガラス基板上の端子の周辺部に力が加わるため、ガラス基板を薄くしようとすると割れ・カケ不良を生ずる恐れがあり、それゆえ厚さには強度の点で限界（０．３ｍｍ程度）があった。したがって、素子の十分な軽量化が図れなかった。【０００６】
また、上述のように、一方の基板を他方より長く形成しているため、その分素子が大きくなり、さらに素子自体の重量バランスが崩れることによって高精度な駆動が難しくなるという問題もあった。【０００７】
さらに、従来の素子を製造する際には、電極を形成した複数の基板を対向させ、その側面の基板間の隙間から液晶を注入・封止していた。そのため、大きさが数ｍｍ程度に加工された小さい基板の組み合わせを逐一作製し、それぞれに対して液晶の注入・封止を行う必要があり、生産効率が悪く、コストも高いという問題があった。
また、上述のように、リード線の集約する端子は素子の側方に設けられていたため、製品の検査を最終的に加工された個々の素子ごとに行う必要があり、効率が悪いという問題もあった。【０００８】
【特許文献１】特開２００２−２３７０７７号公報（請求項１、段落００１２、段落００１４、図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで本発明は、従来の素子に比べて小型化、軽量化を図ることができる新規な液晶収差補正素子を提供することを目的とする。
また本発明は、生産効率に優れ、低コストである液晶収差補正素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明の液晶収差補正素子は、電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれた液晶とを有する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板の少なくとも一つには厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられていることを特徴とする。【００１１】
また、本発明の液晶収差補正素子の製造方法は、母材となる基板に、多数個の液晶収差補正素子に対応させた端子及び注入口を形成する工程と、電極を形成する工程と、前記の端子、注入口、及び電極を形成した基板に対し、電極を形成した別の基板を組み合わせる工程と、組み合わせた後に注入口から液晶を注入する工程と、個々の液晶収差補正素子に切り分ける工程と、を有していることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の液晶収差補正素子は、基板の表面に穴を穿ち、その穴の部分を端子としたため、端子を側方に設けた従来の素子に比べて基板に無理な力が加わることがない。したがって、より薄い基板を採用することができ、結果として素子の軽量化を達成することができる。
また、基板の表面に端子を配置したことにより、その分だけ素子の小型化を図ることができる。さらに素子自体の重量バランスにも優れるため、光ピックアップの高精度な駆動が可能となる。【００１３】
また、本発明の液晶収差補正素子の製造方法によれば、端子を形成する工程や、液晶を注入する工程等が、全て個々の素子に切り分ける前の母材の状態で行われるため、生産効率が向上し、コストを大幅に低減することができる。
また、各素子を検査する際にも、母材の状態で行うことができるため、高い効率を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施の形態（１）に係る液晶収差補正素子を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】実施の形態（２）に係る液晶収差補正素子を示す平面図である。
【図４】液晶収差補正素子の製造工程を示すフローチャートである。
【図５】液晶収差補正素子の製造工程を示すフローチャートである。
【図６】図４におけるＳ１０２の状態を示す図である。
【図７】図４におけるＳ１０２の状態を示す図である。
【図８】図４におけるＳ１０４の状態を示す図である。
【図９】図４におけるＳ１０６の状態を示す図である。
【図１０】図５におけるＳ３０６の状態を示す図である。
【符号の説明】
【００１５】
１              液晶収差補正素子
１０、１１      基板
１０１          コーナー部
２０、２１、２２、２３、２４、２５      電極
３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ          穴
３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃ、３１Ｄ          端子
３２      注入口
４０      液晶
５０      シール材
５１      封止部
６０      導通材
７０      マスク
１００    母材となる基板
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明は、電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれた液晶とを有する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板の少なくとも一つには厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなる液晶収差補正素子を提供する（第１発明）。
また、本発明は、電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれた液晶とを有する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板のうちの一の基板には厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなる液晶収差補正素子を提供する（第２発明）。【００１７】
これらの構成によれば、電極に接続するための端子が、穴を通じて基板の表面に配置される。【００１８】
また、本発明は、上記第２発明に係る液晶収差補正素子において、一の基板に、液晶を注入するための注入口を形成したことを特徴とする（第３発明）。【００１９】
この構成によれば、電極に接続される端子、及び液晶の注入口が、一の基板の表面に集約配置される。【００２０】
また、本発明は、上記第１又は第２発明に係る液晶収差補正素子において、基板が四角形状に形成され、前記基板における光束が通過する円形領域以外のコーナー部付近に、穴が穿たれることを特徴とする（第４発明）。【００２１】
この構成によれば、基板のコーナー部付近が、穴を形成するスペースとして有効利用される。【００２２】
さらに、本発明では、上記第３発明に係る液晶収差補正素子の製造方法であって、母材となる基板に、多数個の液晶収差補正素子に対応させた端子及び注入口を形成する工程と、電極を形成する工程と、前記の端子、注入口、及び電極を形成した基板に対し、電極を形成した別の基板を組み合わせる工程と、組み合わせた後に注入口から液晶を注入する工程と、個々の液晶収差補正素子に切り分ける工程と、を有してなる液晶収差補正素子の製造方法を提供する（第５発明）。【００２３】
この構成によれば、液晶収差補正素子の製造が、最終工程まで母材となる基板の状態のまま進められる。【００２４】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。【００２５】
まず、本発明の実施の形態（１）について説明する。図１は液晶収差補正素子の平面図、図２は図１のＡ−Ａ断面図である。図１及び図２に示すように、液晶収差補正素子１は、同心円状に分割された電極２０、２１（セグメント電極）が形成された基板１０と、電極２２（コモン電極）が形成された基板１１とで液晶４０を挟むことにより概略構成されている。なお、図２では、電極２０、２１と液晶４０との間、及び電極２２と液晶４０との間に一般的に設けられる液晶配向膜、透明絶縁層や、基板１０、１１上に設けられる反射防止膜等は図示を省略している。また、液晶４０はシール材５０によって内側に封入されている。
この液晶収差補正素子１は、液晶４０が設けられた領域内に光束を通過させ、その際に電極２０と電極２１とに異なる電圧を印加することによって、電極２０の位置と電極２１の位置とで異なる液晶の配向状態、すなわち位相差を与え、これにより光の球面収差を補正するものである。【００２６】
基板１０、１１としてはガラス基板等の透明基板が用いられる。また、電極２０、２１、及び電極２２としては、インジウム−スズ酸化膜を形成したＩＴＯ等の透明電極が適宜採用される。【００２７】
そして、この実施の形態（１）では、基板１０の厚さ方向に穴３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃが穿たれ、それらの穴には電極２０、２１、２２へ接続するための端子３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃがそれぞれ設けられている。基板１１側に形成された電極２２（コモン電極）については、導通材６０を介在させることにより基板１０側の端子３１Ａと接続されている。なお、各端子は、穴の内周面に沿ってＮｉ−Ａｕ等の金属をめっきする等して形成される。
上記のように各端子を基板１０の面上に配置することにより、基板の側方に端子を集約配置していた従来の素子に比べて、素子に偏った力が加わることなく、割れ・カケ等の不良が生じにくくなる。したがって、基板１０、１１をより薄く（例えば０．２ｍｍ）することが可能となり、素子を軽量化することができる。具体的には、従来に比して４０％以上（従来の端子から面上配置の端子へ変更した効果が約１０％、基板の厚さを０．３ｍｍから０．２ｍｍへ変更した効果が約３３％）の軽量化となる。【００２８】
また、この実施の形態（１）では、基板１０、１１間に液晶４０を注入するための注入口３２が、基板１０の面上に形成されている。注入口３２の形状は円形、楕円形等であり、液晶４０を注入した後に封止材により適宜封止される。
特に、図１の例では、端子３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃ、及び液晶の注入口３２の全てが、対向する基板のうちの一方の基板１０に配置されているため、後述するように素子の生産効率を高めることができる。【００２９】
さらに、図１の例では、穴３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、及び液晶の注入口３２を、光束が通過する円形領域（電極２０、２１が形成された領域）以外の、四角形状に形成された基板１０上のコーナー部１０１付近に形成している。このようにすると、光束が通過しない基板１０上の余剰部分を、端子等の位置として有効に利用することができるため、素子をより小型化することができる。また、端子等をコーナー部１０１に配置することにより、素子の重量バランスを最適化することができる。
なお、従来の一般的な液晶を利用する素子（液晶表示素子など）においては、表示エリアの拡大に伴って額縁部分（基板の余剰部分）をできるだけ狭くすることが要求されている。また、高分割駆動方式等に対応して端子数も増大する傾向にあるため、基板のコーナー部分を有効利用するという発想はなく、本発明に独自のものといえる。【００３０】
なお、上記実施の形態（１）では、同心円状に２つの電極２０、２１を形成した場合について説明したが、より多階調に分割して形成してもよい。また電極の配置パターンは同心円状に限られることなく、例えば、左右に分割した電極から構成することもできる。この場合は、光ディスクの反り等によって発生するコマ収差を良好に補正することができる。【００３１】
また、対向する基板は、上記のように一対とは限らず、それ以上の基板が液晶を挟みつつ積層していても良い。【００３２】
上述のように、各端子、及び液晶の注入口は、一方の基板１０に集中して設けることが好ましいが、基板１０と基板１１とに分けて設けても良い。例えば、コモン電極である電極２２に接続する端子を、基板１１側に設けることも可能である。【００３３】
また、図１の例では、互いに接触しない電極２０及び電極２１のパターンを、各端子に直接接続するように形成しているが、この他にも、例えば、閉じた円形領域からなる各電極パターンを形成した後に、それぞれの電極と各端子とをリード線等で接続しても良い。【００３４】
続いて、本発明の実施の形態（２）を図３に基づき説明する。
図３に示すように、基板１０の厚さ方向には穴３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄが穿たれ、それらの穴には図示しないコモン電極と、電極２３、２４、２５とに接続するための端子３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃ、３１Ｄがそれぞれ設けられている。また、液晶は、素子側面の基板間の隙間から注入されており、注入口は封止部５１によって封止されている。
この例では、各端子が、基板１０における４つのコーナー部分１０１に配置されているため、素子自体の重量バランスが最も優れている。
その他の構成は、上記実施の形態（１）と同様である。【００３５】
以上のような液晶収差補正素子１は、例えばレーザ光源、偏光子、１／２波長板、１／４波長板、対物レンズ、受光素子等とともに光ピックアップを構成し、光ディスク装置に組み込んで使用することができる。
本発明の液晶収差補正素子は、小型・軽量であるため、高精度な制御が要求される次世代ＢＤ（Blu-ray Disc）や、多層ディスク等の高密度光ディスクにも好適に用いることができる。【００３６】
次に、本発明の液晶収差補正素子の製造方法を図４〜図１０に基づき説明する。この製造方法は、上記実施の形態（１）に示す素子について好適に採用されるものである。【００３７】
まず、図４及び図６に示すように、端子等を設ける基板側（基板１０側）については、母材となる基板１００に、多数個の液晶収差補正素子に対応させた穴３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃと、液晶の注入口３２とを形成し（Ｓ１０１）、それぞれの穴に端子３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃを設ける（Ｓ１０２）。各端子を設ける際には、図７に示すように、穴以外の部分にマスク７０を形成した上で、端子となる金属をめっき等により形成した後、マスク７０を除去することにより好適に行われる。【００３８】
続いて、所定の位置に電極材を蒸着等によって形成し（Ｓ１０３）、エッチング等によるパターンニングを行って電極２０、２１を作製する（Ｓ１０４）。この状態を図８に示す。なお、上述の端子を設ける工程と、電極を形成する工程とは前後しても良い。【００３９】
次に、透明絶縁層を必要に応じて積層させた後、ＰＶＡ等の液晶配向膜を形成し、ラビングを行う（Ｓ１０５）。さらに液晶を封入するためのシール材５０を、印刷等により電極２０の外側に設ける（Ｓ１０６）。この状態を図９に示す。【００４０】
一方、対向させる別の基板（基板１１側）については、上記と同様に母材となる基板に対して電極を形成し（Ｓ２０１）、パターンニングを行ってコモン電極（電極２２）とする（Ｓ２０２）。また、液晶配向膜を形成してラビングを行い（Ｓ２０３）、コモン電極と端子を接続するための導通材を印刷等により設ける（Ｓ２０４）。【００４１】
そして、上記の端子等を形成した基板と、コモン電極等を形成した別の基板とを対向させて組み合わせる（Ｓ３０１）。この工程は、スペーサを介して接着剤で貼り合わせる等して行われる。
続いて、注入口３２からシール材５０の内側へ液晶を注入し（Ｓ３０２）、封止する。そして、母材となる基板１００上に配列した各端子を使用して、素子の動作検査を行う（Ｓ３０３）。検査が不合格であった箇所についてはＮＧマーキングを行う（Ｓ３０５）。その後、母材となる基板の全面に反射防止膜（ＡＲ膜）を形成する（Ｓ３０４）。ＡＲ膜は、基板１０側又は基板１１側のいずれか一方に形成しても良いし、両方に形成しても良い。【００４２】
最後に、図１０に示すように、母材となる基板を、ダイサー等を用いて個々の液晶収差補正素子１に切り分け（Ｓ３０７）、単品の検査工程（Ｓ３０７）を経た後に出荷する（Ｓ３０８）。なお、単品の検査において不合格となった素子は、廃棄又は修理するか、又は再生工程に移される（Ｓ３０９）。【００４３】
以上のような製造方法によれば、各端子や電極の形成、及び液晶の注入工程等が、個々の素子に切り分ける前の母材の状態で全て行われるため、生産効率が非常に高く、コストも大幅に低減することができる。また、生産規模の拡大にも容易に対応可能である。
さらに、液晶を注入・封止した後に行われる検査工程（Ｓ３０２）も、母材の状態で一斉に行えるため、産業上極めて有用である。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の液晶収差補正素子は、光ディスク装置において、光ピックアップでの記録・再生時に生ずる収差を補正するために用いることができる。
【図１】
2005036243.tif 000003
【図２】
2005036243.tif 000004
【図３】
2005036243.tif 000005
【図４】
2005036243.tif 000006
【図５】
2005036243.tif 000007
【図６】
2005036243.tif 000008
【図７】
2005036243.tif 000009
【図８】
2005036243.tif 000010
【図９】
2005036243.tif 000011
【図１０】
2005036243.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月10日(2006.1.10)
【手続補正００１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれ、シール材によって内側に封入された液晶とを有し、前記液晶が設けられた領域内に光束が通過する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板の少なくとも一つには厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなるとともに、前記穴が穿たれた基板には液晶を注入するための注入口が形成され、前記端子及び前記注入口が光束が通過する領域以外の余剰部分に設けられた液晶収差補正素子。
【請求項２】
電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれ、シール材によって内側に封入された液晶とを有し、前記液晶が設けられた領域内に光束が通過する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板のうちの一の基板には厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなるとともに、前記穴が穿たれた基板には液晶を注入するための注入口が形成され、前記端子及び前記注入口が光束が通過する領域以外の余剰部分に設けられた液晶収差補正素子。
【請求項３】
削  除
【請求項４】
請求項１又は２記載の液晶収差補正素子において、基板が四角形状に形成され、前記基板における光束が通過する円形領域以外のコーナー部付近に、穴が穿たれることを特徴とする液晶収差補正素子。
【請求項５】
請求項１又は２記載の液晶収差補正素子の製造方法であって、母材となる基板に、多数個の液晶収差補正素子に対応させた端子及び注入口を形成する工程と、電極を形成する工程と、前記の端子、注入口、及び電極を形成した基板に対し、電極を形成した別の基板を組み合わせる工程と、組み合わせた後に注入口から液晶を注入する工程と、個々の液晶収差補正素子に切り分ける工程と、を有してなる液晶収差補正素子の製造方法。
【手続補正００２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【符号の説明】
【００１５】  １            液晶収差補正素子
１０、１１    基板
１０１        コーナー部
２０、２１、２２、２３、２４、２５    電極
３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ          穴
３１Ａ、３１Ｂ、３１Ｃ、３１Ｄ          端子
３２    注入口
４０    液晶
５０    シール材
５１    封止部
６０    導通材
７０    マスク
１００  母材となる基板
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】  本発明は、電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれ、シール材によって内側に封入された液晶とを有し、前記液晶が設けられた領域内に光束が通過する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板の少なくとも一つには厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなるとともに、前記穴が穿たれた基板には液晶を注入するための注入口が形成され、前記端子及び前記注入口が光束が通過する領域以外の余剰部分に設けられた液晶収差補正素子を提供する（第１発明）。
また、本発明は、電極が形成された複数の基板と、前記複数の基板に挟まれ、シール材によって内側に封入された液晶とを有し、前記液晶が設けられた領域内に光束が通過する液晶収差補正素子であって、前記複数の基板のうちの一の基板には厚さ方向に穴が穿たれ、前記穴には前記電極へ接続するための端子が設けられてなるとともに、前記穴が穿たれた基板には液晶を注入するための注入口が形成され、前記端子及び前記注入口が光束が通過する領域以外の余剰部分に設けられた液晶収差補正素子を提供する（第２発明）。
【００１７】  これらの構成によれば、電極に接続するための端子が、穴を通じて基板の表面に配置される。また、これらの構成によれば、電極に接続される端子、及び液晶の注入口が、一の基板の表面に集約配置される。


【手続補正００３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【００２０】  また、本発明は、上記第１又は第２発明に係る液晶収差補正素子において、基板が四角形状に形成され、前記基板における光束が通過する円形領域以外のコーナー部付近に、穴が穿たれることを特徴とする（第３発明）。
【００２１】  この構成によれば、基板のコーナー部付近が、穴を形成するスペースとして有効利用される。
【００２２】  さらに、本発明では、上記第１又は第２発明に係る液晶収差補正素子の製造方法であって、母材となる基板に、多数個の液晶収差補正素子に対応させた端子及び注入口を形成する工程と、電極を形成する工程と、前記の端子、注入口、及び電極を形成した基板に対し、電極を形成した別の基板を組み合わせる工程と、組み合わせた後に注入口から液晶を注入する工程と、個々の液晶収差補正素子に切り分ける工程と、を有してなる液晶収差補正素子の製造方法を提供する（第４発明）。
【００２３】  この構成によれば、液晶収差補正素子の製造が、最終工程まで母材となる基板の状態のまま進められる。
【００２４】  以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００２５】  まず、本発明の実施の形態（１）について説明する。図１は液晶収差補正素子の平面図、図２は図１のＡ−Ａ断面図である。図１及び図２に示すように、液晶収差補正素子１は、同心円状に分割された電極２０、２１（セグメント電極）が形成された基板１０と、電極２２（コモン電極）が形成された基板１１とで液晶４０を挟むことにより概略構成されている。なお、図２では、電極２０、２１と液晶４０との間、及び電極２２と液晶４０との間に一般的に設けられる液晶配向膜、透明絶縁層や、基板１０、１１上に設けられる反射防止膜等は図示を省略している。また、液晶４０はシール材５０によって内側に封入されている。
この液晶収差補正素子１は、液晶４０が設けられた領域内に光束を通過させ、その際に電極２０と電極２１とに異なる電圧を印加することによって、電極２０の位置と電極２１の位置とで異なる液晶の配向状態、すなわち位相差を与え、これにより光の球面収差を補正するものである。
【００２６】  基板１０、１１としてはガラス基板等の透明基板が用いられる。また、電極２０、２１、及




【国際調査報告】
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