(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基板と、前記導電性基板上に形成された導電性接着層と、前記導電性接着層上に形成された窒化物半導体層積層構造体と、を含み、
前記窒化物半導体層積層構造体は、前記導電性基板側から、第１導電型窒化物半導体層、発光層および第２導電型窒化物半導体層をこの順序で含んでおり、
前記第２導電型窒化物半導体層の表面の一部に非導電体層が接して形成されており、前記非導電体層の表面を被覆するようにして電極層が前記第２導電型窒化物半導体層の表面上に形成されており、
前記第２導電型窒化物半導体層はｎ型窒化物半導体層であり、
前記第２導電型窒化物半導体層の表面が凹凸を有し、
前記凹凸の凸部の一部に前記非導電体層が含まれ、
前記導電性接着層と前記窒化物半導体層積層構造体との間にオーミック電極層が形成され、
前記非導電体層の下方に前記オーミック電極層が形成されていない領域を有し、
前記オーミック電極層が形成されていない領域に反射層が形成されていることを特徴とする、
窒化物半導体発光素子。
【請求項２】
前記非導電体層は、アンドープ窒化物半導体層であることを特徴とする、請求項１に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項３】
前記非導電体層は、前記第２導電型窒化物半導体層の表面の中心に形成されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項４】
前記第２導電型窒化物半導体層の表面の一部が露出していることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項５】
前記電極層は透明導電体膜からなることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項６】
前記導電性基板は、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、Ｇｅ、ＩｎＰおよびＳｉＣからなる群から選択された少なくとも１種からなることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項７】
前記導電性接着層と前記窒化物半導体層積層構造体との間に、バリア層が形成されていることを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の窒化物半導体素子。
【請求項８】
前記非導電体層は電流阻止層として機能することを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項９】
前記窒化物半導体層積層構造体の幅が前記導電性基板の幅以下であることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項１０】
半導体基板上に非導電体層を形成する工程と、
前記非導電体層上に第２導電型窒化物半導体層、発光層および第１導電型窒化物半導体層をこの順に形成し、窒化物半導体層積層構造体とする工程と、
前記第１導電型窒化物半導体層の上に第１のオーミック電極層を積層し、その一部を除去してオーミック電極層が形成されていない領域を形成する工程と、
前記第１のオーミック電極層の表面およびオーミック電極層が形成されていない領域に反射層を形成する工程と、
前記反射層上に第１の導電性接着層を形成する工程と、
導電性基板上に第２の導電性接着層を形成する工程と、
前記第１の導電性接着層と前記第２の導電性接着層とを接合する工程と、
前記半導体基板を除去する工程と、
前記第２導電型窒化物半導体層の表面に凹凸を形成する工程と、
前記非導電体層の表面を被覆するように電極層を前記窒化物半導体層積層構造体の表面上に形成する工程と、を含み、
前記窒化物半導体層積層構造体を形成する工程において、前記非導電体層と前記第２導電型窒化物半導体層とを接するように形成し、前記第２導電型窒化物半導体層はｎ型窒化物半導体層であり、前記凹凸の凸部の一部に前記非導電体層が含まれる、窒化物半導体発光素子の製造方法。
【請求項１１】
前記非導電体層はアンドープ窒化物半導体層であることを特徴とする、請求項１０に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
【請求項１２】
前記非導電体層の一部を除去する工程を含むことを特徴とする、請求項１０または１１に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
【請求項１３】
前記非導電体層を前記第２導電型窒化物半導体層の表面の中心に形成することを特徴とする、請求項１０から１２のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
【請求項１４】
前記電極層は透明導電体膜からなることを特徴とする、請求項１０から１３のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
【請求項１５】
前記窒化物半導体層積層構造体と第１の導電性接着層との間に、バリア層を形成することを特徴とする、請求項１０から１４のいずれかに記載の窒化物半導体素子の製造方法。
【請求項１６】
前記窒化物半導体層積層構造体の幅を前記導電性基板の幅以下とすることを特徴とする、請求項１０から１５のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒化物半導体発光素子および窒化物半導体発光素子の製造方法に関し、特に、光の取り出し効率を向上することができるとともに光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させて電流の注入効率を向上することができる窒化物半導体発光素子および窒化物半導体発光素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
窒化物半導体は、大きなエネルギバンドギャップおよび高い熱安定性を有している。また、窒化物半導体は、その組成を調節することによってバンドギャップ幅を制御することも可能である。したがって、窒化物半導体は、発光ダイオードやレーザダイオードなどの窒化物半導体発光素子ならびに高温デバイスをはじめとして様々な半導体デバイスに応用可能な材料として期待されている。
【０００３】
なかでも、窒化物半導体を用いた発光ダイオードでは、青色光から緑色光の波長域で数ｃｄ級の光度を有するものが既に開発されて実用化されている。また、大容量の光ディスクメディアに対するピックアップ用光源として、窒化物半導体を用いたレーザダイオードの実用化が研究開発の目標になりつつある。
【０００４】
たとえば、特許文献１には、従来の窒化物半導体発光素子の一例が開示されている。この従来の窒化物半導体発光素子においては、図４９の模式的断面図に示すように、正電極層１０７が形成された導電性基板１００上に、第１のオーミック電極層１０２と第２のオーミック電極層１０１とが形成され、その上にｐ型窒化物半導体層１０３、発光層１０４およびｎ型窒化物半導体層１０５がこの順序で積層された窒化物半導体層積層構造体１０８が形成されている。そして、ｎ型窒化物半導体層１０５上に負電極層１０６が形成されている。
【０００５】
この従来の窒化物半導体発光素子は、導電性基板１００上に形成された第１のオーミック電極層１０２と窒化物半導体層積層構造体１０８上に形成された第２のオーミック電極層１０１とを加熱圧着などにより接合して形成されている。
【特許文献１】特開平９−８４０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この従来の窒化物半導体発光素子においては、負電極層１０６の下方に位置する発光層１０４に電流が注入されて発光した光はその上方の負電極層１０６の存在によって取り出すことが困難であるため、光の取り出し効率（外部に取り出すことができる光の量／窒化物半導体発光素子で発生した光の量）が悪いという問題があった。また、負電極層１０６の下方に位置する発光層１０４に注入される電流は光の取り出しに寄与しない無効電流となるため、電流の注入効率（外部に取り出すことができる光の発生に寄与した電流量／窒化物半導体発光素子に注入された電流量）が悪いという問題もあった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、光の取り出し効率を向上することができるとともに光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させて電流の注入効率を向上することができる窒化物半導体発光素子および窒化物半導体発光素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、導電性基板と、前記導電性基板上に形成された導電性接着層と、前記導電性接着層上に形成された窒化物半導体層積層構造体と、を含み、前記窒化物半導体層積層構造体は、前記導電性基板側から、第１導電型窒化物半導体層、発光層および第２導電型窒化物半導体層をこの順序で含んでおり、前記第２導電型窒化物半導体層の表面の一部に非導電体層が接して形成されており、前記非導電体層の表面を被覆するようにして電極層が前記第２導電型窒化物半導体層の表面上に形成されており、前記第２導電型窒化物半導体層はｎ型窒化物半導体層であり、前記第２導電型窒化物半導体層の表面が凹凸を有し、前記凹凸の凸部の一部に前記非導電体層が含まれ、前記導電性接着層と前記窒化物半導体層積層構造体との間にオーミック電極層が形成され、前記非導電体層の下方に前記オーミック電極層が形成されていない領域が形成され、前記オーミック電極層が形成されていない領域に反射層が形成されていることを特徴とする、窒化物半導体発光素子である。
【０００９】
ここで、本発明の窒化物半導体発光素子においては、非導電体層が、アンドープ窒化物半導体層であってもよい。
【００１０】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、非導電体層は、窒化物半導体層積層構造体の表面の中心に形成されていることが好ましい。
【００１１】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、第２導電型窒化物半導体層の表面の一部が露出していてもよい。
【００１４】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、電極層は透明導電体膜からなっていてもよい。
【００１５】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、導電性基板は、Ｓｉ（シリコン）、ＧａＡｓ（ヒ化ガリウム）、ＧａＰ（リン化ガリウム）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、ＩｎＰ（リン化インジウム）およびＳｉＣ（炭化ケイ素）からなる群から選択された少なくとも１種からなることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、導電性接着層と窒化物半導体層積層構造体との間に、バリア層、反射層およびオーミック電極層からなる群から選択された少なくとも１種が形成されていてもよい。
【００１７】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、非導電体層の下方にオーミック電極層が形成されていない領域を有していてもよい。
【００１８】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、非導電体層は電流阻止層として機能し得る。
【００１９】
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、窒化物半導体層積層構造体の幅を導電性基板の幅以下とすることができる。
【００２０】
本発明は、半導体基板上に非導電体層を形成する工程と、前記非導電体層上に第２導電型窒化物半導体層、発光層および第１導電型窒化物半導体層をこの順に形成し、窒化物半導体層積層構造体とする工程と、前記第１導電型窒化物半導体層の上に第１のオーミック電極層を積層し、その一部を除去してオーミック電極層が形成されていない領域を形成する工程と、前記第１のオーミック電極層の表面およびオーミック電極層が形成されていない領域に反射層を形成する工程と、前記反射層上に第１の導電性接着層を形成する工程と、導電性基板上に第２の導電性接着層を形成する工程と、前記第１の導電性接着層と前記第２の導電性接着層とを接合する工程と、前記半導体基板を除去する工程と、前記第２導電型窒化物半導体層の表面に凹凸を形成する工程と、前記非導電体層の表面を被覆するように電極層を前記窒化物半導体層積層構造体の表面上に形成する工程と、を含み、前記窒化物半導体層積層構造体を形成する工程において、前記非導電体層と前記第２導電型窒化物半導体層とを接するように形成し、前記第２導電型窒化物半導体層はｎ型窒化物半導体層であり、前記凹凸の凸部の一部に前記非導電体層が含まれる、窒化物半導体発光素子の製造方法である。
【００２１】
ここで、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法において、非導電体層はアンドープ窒化物半導体層であってもよい。
【００２３】
また、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法は、非導電体層の一部を除去する工程を含んでいてもよい。
【００２４】
また、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法においては、非導電体層を窒化物半導体層積層構造体の表面の中心に形成することが好ましい。
【００２７】
また、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法において、電極層は、透明導電体膜からなっていてもよい。
【００２８】
また、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法においては、窒化物半導体層積層構造体と第１の導電性接着層との間に、バリア層、反射層およびオーミック電極層からなる群から選択された少なくとも１種が形成されていてもよい。
【００２９】
また、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法においては、非導電体層の下方にオーミック電極層が形成されていない領域を形成してもよい。
【００３０】
また、本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法においては、窒化物半導体層積層構造体の幅を導電性基板の幅以下とすることができる。
【００３１】
なお、本発明において、第１導電型窒化物半導体層および第２導電型窒化物半導体層はそれぞれｐ型不純物がドープされたｐ型窒化物半導体層またはｎ型不純物がドープされたｎ型窒化物半導体層のいずれかであって、第１導電型窒化物半導体層がｐ型窒化物半導体層である場合には第２導電型窒化物半導体層はｎ型窒化物半導体層となり、第１導電型窒化物半導体層がｎ型窒化物半導体層である場合には第２導電型窒化物半導体層はｐ型窒化物半導体層となる。
【００３２】
また、本発明において、アンドープ窒化物半導体層は、ｐ型不純物およびｎ型不純物のいずれもドープされていない窒化物半導体層のことを意味する。
【００３３】
また、本発明において、窒化物半導体層としては、たとえば、ＡｌxＧａyＩｎzＮ（ただし、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、ｘ＋ｙ＋ｚ≠０）の組成式で表わされるＩＩＩ族窒化物半導体結晶からなる層を用いることができる。なお、上記の組成式において、ｘはアルミニウムの組成比を示し、ｙはガリウムの組成比を示し、ｚはインジウムの組成比を示している。
【００３４】
また、本発明において、窒化物半導体発光素子とは、少なくとも発光層が窒化物半導体層からなる素子のことをいう。
【００３５】
また、本発明において、バリア層とは、バリア層を挟んだ両側に位置する層間の原子の移動をバリア層を形成しない場合と比べて抑制することができる機能を有する層のことをいう。
【００３６】
また、本発明において、反射層とは、発光層からの光を反射する機能を有する層のことをいう。
【００３７】
また、本発明において、オーミック電極層とは、オーミック電極層が接している窒化物半導体層とオーミック接触をとる機能を有する層のことをいう。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、光の取り出し効率を向上することができるとともに光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させて電流の注入効率を向上することができる窒化物半導体発光素子および窒化物半導体発光素子の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一のン参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
【００４０】
（実施の形態１）
図１に、本発明の窒化物半導体発光素子の一例の模式的な断面図を示す。本発明の窒化物半導体発光素子１０００は、たとえばｎ型Ｓｉからなる導電性基板１と、第２のオーミック電極層１６と、第２の導電性接着層２および第１の導電性接着層３からなる導電性接着層５０と、バリア層１５と、反射層１３と、第１のオーミック電極層１２と、第１導電型窒化物半導体層としてのｐ型窒化物半導体層４、窒化物半導体層からなる発光層５および第２導電型窒化物半導体層としてのｎ型窒化物半導体層６からなる窒化物半導体層積層構造体５１と、非導電体層としてのアンドープ窒化物半導体層７と、Ｔｉ膜９およびＡｕ膜１０からなる第１電極層５２と、第２電極層１１と、を含んでいる。ここで、窒化物半導体層積層構造体５１は、ｐ型窒化物半導体層４、発光層５およびｎ型窒化物半導体層６がこの順序で積層されることにより構成されている。
【００４１】
以下、図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子１０００を製造する方法の一例を図２〜図８を参照して説明する。
【００４２】
まず、図２の模式的断面図に示すように、半導体基板としてのサファイア基板７２上に、たとえばＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法などにより、ＧａＮからなるバッファ層７１、アンドープ窒化物半導体層７、ｎ型窒化物半導体層６、発光層５およびｐ型窒化物半導体層４をこの順序で積層する。ここで、バッファ層７１の厚さはたとえば２０ｎｍ程度とすることができ、アンドープ窒化物半導体層７の厚さはたとえば１μｍ程度とすることができる。また、ｎ型窒化物半導体層６の厚さはたとえば４μｍ程度とすることができ、発光層５の厚さはたとえば５０ｎｍ程度とすることができ、ｐ型窒化物半導体層４の厚さはたとえば１５０ｎｍ程度とすることができる。
【００４３】
次に、図３の模式的断面図に示すように、ｐ型窒化物半導体層４上に、たとえばＥＢ（Electron Beam）蒸着法などにより、たとえば厚さ３ｎｍのＰｄ膜からなる第１のオーミック電極層１２、たとえば厚さ１５０ｎｍのＡｇ−Ｎｄ膜からなる反射層１３、たとえば厚さ１００ｎｍのＮｉ−Ｔｉ膜からなるバリア層１５およびたとえば厚さ３μｍのＡｕＳｎ膜と厚さ１０ｎｍのＡｕ膜との積層体からなる第１の導電性接着層３をこの順序で積層する。ここで、ＡｕＳｎ膜においては、Ｓｎの含有量は、たとえばＡｕＳｎ膜の２０質量％とすることができる。また、Ａｕ膜は、ＡｕＳｎ膜の酸化防止膜として機能する。
【００４４】
一方で、図４の模式的断面図に示すように、導電性基板１上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ１５ｎｍのＴｉ膜からなる第２のオーミック電極層１６およびたとえば厚さ３μｍのＡｕ膜からなる第２の接着金属層２をこの順序で積層する。
【００４５】
そして、図３に示すサファイア基板７２上の第１の導電性接着層３と図４に示す導電性基板１上の第２の接着金属層２とを対向させ、図５の模式的断面図に示すように、たとえば、共晶接合法を用いて、温度３２０℃で圧力３００Ｎの条件下で貼り付ける。
【００４６】
その後、ＹＡＧ−ＴＨＧレーザ光（波長３５５ｎｍ）を鏡面研磨したサファイア基板７２の裏面側から照射し、サファイア基板７２、バッファ層７１およびアンドープ窒化物半導体層７の一部を熱分解することによって、図６の模式的断面図に示すように、サファイア基板７２およびバッファ層７１を除去する。
【００４７】
続いて、図７の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７をたとえばフォトリソグラフィ工程を利用したエッチングなどによって円柱状に一部残し、ｎ型窒化物半導体層６の表面の一部を露出させる。
【００４８】
そして、図８の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７を被覆するようにしてアンドープ窒化物半導体層７上にＴｉ膜９およびＡｕ膜１０をこの順序でたとえばＥＢ蒸着法などにより積層して第１電極層５２を形成する。その後、第１電極層５２上にＡｕワイヤ（図示せず）をボールボンディングする。
【００４９】
そして、導電性基板１の裏面上に第２電極層１１を形成し、その後、複数に分割してチップ化することによって、図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子１０００が製造される。
【００５０】
本発明の窒化物半導体発光素子１０００は、窒化物半導体層積層構造体５１の表面の一部にアンドープ窒化物半導体層７が形成されており、アンドープ窒化物半導体層７の表面を被覆するようにして第１電極層５２が窒化物半導体層積層構造体５１の表面上に形成されていることを特徴としている。したがって、本発明の窒化物半導体発光素子１０００においては、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７が電流阻止層として機能することによって、発光層５からの光に対して不透明な第１電極層５２の下方に注入される電流量を減少させることができ、第１電極層５２の下方の発光層５から発生する光の量を減少することができるため光の取り出し効率を向上することができる。
【００５１】
また、本発明の窒化物半導体発光素子１０００においては、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７の存在によって、発光層５からの光に対して不透明な第１電極層５２の下方に注入される電流量を減少させることができ、光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させることができるため、電流の注入効率を向上することができる。
【００５２】
（実施の形態２）
図９に、本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図を示す。ここで、本発明の窒化物半導体発光素子２０００においては、アンドープ窒化物半導体層７の表面を被覆するようにしてたとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜からなる第１電極層５２がｎ型窒化物半導体層６の表面の略全面に形成されていることを特徴としている。また、本発明の窒化物半導体発光素子２０００においては、第１電極層５２上に、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０がこの順序で積層されている。
【００５３】
以下、図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子２０００を製造する方法の一例を図１０〜図１７を参照して説明する。
【００５４】
まず、図１０の模式的断面図に示すように、半導体基板としてのサファイア基板７２上に、たとえばＭＯＣＶＤ法などにより、ＧａＮからなるバッファ層７１、アンドープ窒化物半導体層７、ｎ型窒化物半導体層６、発光層５およびｐ型窒化物半導体層４をこの順序で積層する。ここで、バッファ層７１の厚さはたとえば２０ｎｍ程度とすることができ、アンドープ窒化物半導体層７の厚さはたとえば１μｍ程度とすることができる。また、ｎ型窒化物半導体層６の厚さはたとえば４μｍ程度とすることができ、発光層５の厚さはたとえば５０ｎｍ程度とすることができ、ｐ型窒化物半導体層４の厚さはたとえば１５０ｎｍ程度とすることができる。
【００５５】
次に、図１１の模式的断面図に示すように、ｐ型窒化物半導体層４上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ３ｎｍのＰｄ膜からなる第１のオーミック電極層１２、たとえば厚さ１５０ｎｍのＡｇ−Ｎｄ膜からなる反射層１３、たとえば厚さ２００ｎｍのＮｉ−Ｔｉ膜からなるバリア層１５およびたとえば厚さ３μｍのＡｕＳｎ膜と厚さ１０ｎｍのＡｕ膜との積層体からなる第１の導電性接着層３をこの順序で積層する。ここで、ＡｕＳｎ膜においては、Ｓｎの含有量は、たとえばＡｕＳｎ膜の２０質量％とすることができる。また、Ａｕ膜は、ＡｕＳｎ膜の酸化防止膜として機能する。
【００５６】
一方で、図１２の模式的断面図に示すように、導電性基板１上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ１５ｎｍのＴｉ膜からなる第２のオーミック電極層１６およびたとえば厚さ３μｍのＡｕ膜からなる第２の接着金属層２をこの順序で積層する。
【００５７】
そして、図１１に示すサファイア基板７２上の第１の導電性接着層３と図１２に示す導電性基板１上の第２の接着金属層２とを対向させ、図１３の模式的断面図に示すように、たとえば、共晶接合法を用いて、温度３００℃で圧力３００Ｎの条件下で貼り付ける。
【００５８】
その後、ＹＡＧ−ＴＨＧレーザ光（波長３５５ｎｍ）を鏡面研磨したサファイア基板７２の裏面側から照射し、サファイア基板７２、バッファ層７１およびアンドープ窒化物半導体層７の一部を熱分解することによって、図１４の模式的断面図に示すように、サファイア基板７２およびバッファ層７１を除去する。
【００５９】
続いて、図１５の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７をたとえばフォトリソグラフィ工程を利用したエッチングなどによって円柱状に一部残し、ｎ型窒化物半導体層６の表面の一部を露出させる。
【００６０】
そして、図１６の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７を被覆するようにしてｎ型窒化物半導体層６の表面の略全面にＩＴＯなどの透明導電膜からなる第１電極層５２をたとえばスパッタリング法などにより形成する。
【００６１】
その後、図１７の模式的断面図に示すように、第１電極層５２上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０をこの順序で形成する。その後、Ａｕ膜１０上にＡｕワイヤ（図示せず）をボールボンディングする。
【００６２】
そして、導電性基板１の裏面上に第２電極層１１を形成し、その後、複数に分割してチップ化することによって、図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子２０００が製造される。
【００６３】
本発明の窒化物半導体発光素子２０００は、窒化物半導体層積層構造体５１の表面の一部にアンドープ窒化物半導体層７が形成されており、アンドープ窒化物半導体層７の表面を被覆するようにして第１電極層５２が窒化物半導体層積層構造体５１の表面上に形成されているため、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７が電流阻止層として機能することによって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方の発光層５から発生する光の量を減少することができるため光の取り出し効率を向上することができる。
【００６４】
また、本発明の窒化物半導体発光素子２０００においては、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７の存在によって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させることができるため、電流の注入効率を向上することができる。
【００６５】
さらに、本発明の窒化物半導体発光素子２０００においては、アンドープ窒化物半導体層７およびそれを被覆する第１電極層５２はそれぞれ発光層５からの光に対して透明であるため、アンドープ窒化物半導体層７の側面からも光を取り出すことができ、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【００６６】
また、第１電極層５２としてＩＴＯを用いた場合には、ＩＴＯは光の透過率が高く、耐湿性にも優れているため、ｎ型窒化物半導体層６の表面に形成することにより、光取り出し効率を向上することができる傾向にあり、また、ｎ型窒化物半導体層６の表面も保護することができる。
【００６７】
（実施の形態３）
図１８に、本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図を示す。ここで、本発明の窒化物半導体発光素子３０００においては、ｎ型窒化物半導体層６の表面およびたとえばＩＴＯなどの透明導電膜からなる第１電極層５２の表面がそれぞれ凹凸を有していることを特徴としている。
【００６８】
以下、図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子３０００を製造する方法の一例を図１９〜図２７を参照して説明する。
【００６９】
まず、図１９の模式的断面図に示すように、半導体基板としてのサファイア基板７２上に、たとえばＭＯＣＶＤ法などにより、ＧａＮからなるバッファ層７１、アンドープ窒化物半導体層７、ｎ型窒化物半導体層６、発光層５およびｐ型窒化物半導体層４をこの順序で積層する。ここで、バッファ層７１の厚さはたとえば２０ｎｍ程度とすることができ、アンドープ窒化物半導体層７の厚さはたとえば１μｍ程度とすることができる。また、ｎ型窒化物半導体層６の厚さはたとえば４μｍ程度とすることができ、発光層５の厚さはたとえば５０ｎｍ程度とすることができ、ｐ型窒化物半導体層４の厚さはたとえば１５０ｎｍ程度とすることができる。
【００７０】
次に、図２０の模式的断面図に示すように、ｐ型窒化物半導体層４上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ３ｎｍのＰｄ膜からなる第１のオーミック電極層１２、たとえば厚さ１５０ｎｍのＡｇ−Ｎｄ膜からなる反射層１３、たとえば厚さ２００ｎｍのＮｉ−Ｔｉ膜からなるバリア層１５およびたとえば厚さ３μｍのＡｕ膜からなる第１の導電性接着層３をこの順序で積層する。
【００７１】
一方で、図２１の模式的断面図に示すように、導電性基板１上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ１５ｎｍのＴｉ膜からなる第２のオーミック電極層１６およびたとえば厚さ０．５μｍのＡｕ膜と厚さ３μｍのＡｕＳｎ膜からなる第２の接着金属層２をこの順序で積層する。
【００７２】
そして、図２０に示すサファイア基板７２上の第１の導電性接着層３と図２１に示す導電性基板１上の第２の接着金属層２とを対向させ、図２２の模式的断面図に示すように、たとえば、共晶接合法を用いて、温度３００℃で圧力３００Ｎの条件下で貼り付ける。
【００７３】
その後、ＹＡＧ−ＴＨＧレーザ光（波長３５５ｎｍ）を鏡面研磨したサファイア基板７２の裏面側から照射し、サファイア基板７２、バッファ層７１およびアンドープ窒化物半導体層７の一部を熱分解することによって、図２３の模式的断面図に示すように、サファイア基板７２およびバッファ層７１を除去する。
【００７４】
続いて、図２４の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７をたとえばフォトリソグラフィ工程を利用したエッチングなどによって円柱状に一部残し、ｎ型窒化物半導体層６の表面の一部を露出させる。
【００７５】
そして、図２５の模式的断面図に示すように、たとえばＲＩＥ（Reactive Ion Etching）などにより、ｎ型窒化物半導体層６の表面に凹凸を形成する。その後、図２６の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７を被覆するようにしてｎ型窒化物半導体層６の表面の略全面にＩＴＯなどの透明導電膜からなる第１電極層５２をたとえばスパッタリング法などにより形成する。
【００７６】
その後、図２７の模式的断面図に示すように、第１電極層５２上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０をこの順序で形成する。その後、Ａｕ膜１０上にＡｕワイヤ（図示せず）をボールボンディングする。
【００７７】
そして、導電性基板１の裏面上に第２電極層１１を形成し、その後、複数に分割してチップ化することによって、図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子３０００が製造される。
【００７８】
本発明の窒化物半導体発光素子３０００は、窒化物半導体層積層構造体５１の表面の一部にアンドープ窒化物半導体層７が形成されており、アンドープ窒化物半導体層７の表面を被覆するようにして第１電極層５２が窒化物半導体層積層構造体５１の表面上に形成されているため、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７が電流阻止層として機能することによって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方の発光層５から発生する光の量を減少することができるため光の取り出し効率を向上することができる。
【００７９】
また、本発明の窒化物半導体発光素子３０００においては、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７の存在によって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させることができるため、電流の注入効率を向上することができる。
【００８０】
また、本発明の窒化物半導体発光素子３０００においては、アンドープ窒化物半導体層７およびそれを被覆する第１電極層５２はそれぞれ発光層５からの光に対して透明であるため、アンドープ窒化物半導体層７の側面からも光を取り出すことができ、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【００８１】
さらに、本発明の窒化物半導体発光素子３０００においては、ｎ型窒化物半導体層６の表面に凹凸が形成されているため、ｎ型窒化物半導体層６の表面が平坦な場合と比べて、ｎ型窒化物半導体層６の表面と第１電極層５２の表面との界面における光の反射を低減することができる。したがって、本発明の窒化物半導体発光素子３０００においては、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【００８２】
（実施の形態４）
図２８に、本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図を示す。ここで、本発明の窒化物半導体発光素子４０００においては、ｎ型窒化物半導体層６の表面およびたとえばＩＴＯなどの透明導電膜からなる第１電極層５２の表面がそれぞれ凹凸を有しているとともにアンドープ窒化物半導体層７の下方に対応する位置にオーミック電極層１２が形成されていない領域２０を有することを特徴としている。
【００８３】
以下、図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子４０００を製造する方法の一例を図２９〜図３９を参照して説明する。
【００８４】
まず、図２９の模式的断面図に示すように、半導体基板としてのサファイア基板７２上に、たとえばＭＯＣＶＤ法などにより、ＧａＮからなるバッファ層７１、アンドープ窒化物半導体層７、ｎ型窒化物半導体層６、発光層５およびｐ型窒化物半導体層４をこの順序で積層する。ここで、バッファ層７１の厚さはたとえば２０ｎｍ程度とすることができ、アンドープ窒化物半導体層７の厚さはたとえば１μｍ程度とすることができる。また、ｎ型窒化物半導体層６の厚さはたとえば５μｍ程度とすることができ、発光層５の厚さはたとえば５０ｎｍ程度とすることができ、ｐ型窒化物半導体層４の厚さはたとえば１６０ｎｍ程度とすることができる。
【００８５】
次に、図３０の模式的断面図に示すように、ｐ型窒化物半導体層４上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ３ｎｍのＰｄ膜からなる第１のオーミック電極層１２を形成する。次いで、図３１の模式的断面図に示すように、第１のオーミック電極層１２の一部をたとえば硝酸系のエッチング液などで除去して、オーミック電極層１２が形成されていない領域２０を形成する。その後、図３２の模式的断面図に示すように、オーミック電極層１２の表面上および領域２０の表面上に、たとえば厚さ１５０ｎｍのＡｇ−Ｎｄ膜からなる反射層１３、たとえば厚さ２００ｎｍのＮｉ−Ｔｉ膜からなるバリア層１５およびたとえば厚さ３μｍのＡｕＳｎ膜と厚さ１０ｎｍのＡｕ膜との積層体からなる第１の導電性接着層３をこの順序で積層する。ここで、ＡｕＳｎ膜においては、Ｓｎの含有量は、たとえばＡｕＳｎ膜の２０質量％とすることができる。また、Ａｕ膜は、ＡｕＳｎ膜の酸化防止膜として機能する。
【００８６】
一方で、図３３の模式的断面図に示すように、導電性基板１上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ１５ｎｍのＴｉ膜からなる第２のオーミック電極層１６およびたとえば厚さ３μｍのＡｕ膜からなる第２の接着金属層２をこの順序で積層する。
【００８７】
そして、図３２に示すサファイア基板７２上の第１の導電性接着層３と図３３に示す導電性基板１上の第２の接着金属層２とを対向させ、図３４の模式的断面図に示すように、たとえば、共晶接合法を用いて、温度３００℃で圧力３００Ｎの条件下で貼り付ける。
【００８８】
その後、ＹＡＧ−ＴＨＧレーザ光（波長３５５ｎｍ）を鏡面研磨したサファイア基板７２の裏面側から照射し、サファイア基板７２、バッファ層７１およびアンドープ窒化物半導体層７の一部を熱分解することによって、図３５の模式的断面図に示すように、サファイア基板７２およびバッファ層７１を除去する。
【００８９】
続いて、図３６の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７をたとえばフォトリソグラフィ工程を利用したエッチングなどによって円柱状に一部残し、ｎ型窒化物半導体層６の表面の一部を露出させる。ここで、アンドープ窒化物半導体層７は、第２のオーミック電極層１６が形成されていない領域２０の上方に対応する位置に残るようにしてその一部が除去される。
【００９０】
そして、図３７の模式的断面図に示すように、たとえばＲＩＥなどにより、ｎ型窒化物半導体層６の表面に凹凸を形成する。その後、図３８の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７を被覆するようにしてｎ型窒化物半導体層６の表面の略全面にＩＴＯなどの透明導電膜からなる第１電極層５２をたとえばスパッタリング法などにより形成する。
【００９１】
その後、図３９の模式的断面図に示すように、第１電極層５２上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０をこの順序で形成する。その後、Ａｕ膜１０上にＡｕワイヤ（図示せず）をボールボンディングする。
【００９２】
そして、導電性基板１の裏面上に第２電極層１１を形成し、その後、複数に分割してチップ化することによって、図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子４０００が製造される。
【００９３】
本発明の窒化物半導体発光素子４０００は、窒化物半導体層積層構造体５１の表面の一部にアンドープ窒化物半導体層７が形成されており、アンドープ窒化物半導体層７の表面を被覆するようにして第１電極層５２が窒化物半導体層積層構造体５１の表面上に形成されているため、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７が電流阻止層として機能することによって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方の発光層５から発生する光の量を減少することができるため光の取り出し効率を向上することができる。
【００９４】
また、本発明の窒化物半導体発光素子４０００においては、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７の存在によって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させることができるため、電流の注入効率を向上することができる。
【００９５】
また、本発明の窒化物半導体発光素子４０００においては、アンドープ窒化物半導体層７およびそれを被覆する第１電極層５２はそれぞれ発光層５からの光に対して透明であるため、アンドープ窒化物半導体層７の側面からも光を取り出すことができ、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【００９６】
また、本発明の窒化物半導体発光素子４０００においては、ｎ型窒化物半導体層６の表面に凹凸が形成されているため、ｎ型窒化物半導体層６の表面が平坦な場合と比べて、ｎ型窒化物半導体層６の表面と第１電極層５２の表面との界面における光の反射を低減することができる。したがって、本発明の窒化物半導体発光素子４０００においては、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【００９７】
さらに、本発明の窒化物半導体発光素子４０００においては、オーミック電極層１２が形成されていない領域２０におけるＮｉ−Ｔｉ膜からなるバリア層１５とｐ型窒化物半導体層４との密着性が向上し、膜剥がれが少なくなるため、歩留りが向上する。
【００９８】
（実施の形態５）
図４０に、本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図を示す。ここで、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、窒化物半導体層積層構造体５１の幅ｄが導電性基板１の幅Ｄよりも小さくなっているととともに、ｎ型窒化物半導体層６の表面の凹凸の凸部の一部にアンドープ窒化物半導体層７が含まれていることを特徴としている。
【００９９】
以下、図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子５０００を製造する方法の一例を図４１〜図４９を参照して説明する。
【０１００】
まず、図４１の模式的断面図に示すように、半導体基板としてのサファイア基板７２上に、たとえばＭＯＣＶＤ法などにより、ＧａＮからなるバッファ層７１、アンドープ窒化物半導体層７、ｎ型窒化物半導体層６、発光層５およびｐ型窒化物半導体層４をこの順序で積層する。ここで、バッファ層７１の厚さはたとえば２０ｎｍ程度とすることができ、アンドープ窒化物半導体層７の厚さはたとえば１μｍ程度とすることができる。また、ｎ型窒化物半導体層６の厚さはたとえば４μｍ程度とすることができ、発光層５の厚さはたとえば５０ｎｍ程度とすることができ、ｐ型窒化物半導体層４の厚さはたとえば１５０ｎｍ程度とすることができる。
【０１０１】
次に、図４２の模式的断面図に示すように、ｐ型窒化物半導体層４上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ３ｎｍのＰｄ膜からなる第１のオーミック電極層１２、たとえば厚さ３００ｎｍのＡｇ−Ｎｄ膜からなる反射層１３、たとえば厚さ２００ｎｍのＮｉ−Ｔｉ膜からなるバリア層１５およびたとえば厚さ３μｍのＡｕＳｎ膜からなる第１の導電性接着層３をこの順序で積層する。ここで、ＡｕＳｎ膜においては、Ｓｎの含有量は、たとえばＡｕＳｎ膜の２０質量％とすることができる。
【０１０２】
一方で、図４３の模式的断面図に示すように、導電性基板１上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、たとえば厚さ１５ｎｍのＴｉ膜からなる第２のオーミック電極層１６およびたとえば厚さ３μｍのＡｕ膜からなる第２の接着金属層２をこの順序で積層する。
【０１０３】
そして、図４２に示すサファイア基板７２上の第１の導電性接着層３と図４３に示す導電性基板１上の第２の接着金属層２とを対向させ、図４４の模式的断面図に示すように、たとえば、共晶接合法を用いて、温度３００℃で圧力３００Ｎの条件下で貼り付ける。
【０１０４】
その後、ＹＡＧ−ＴＨＧレーザ光（波長３５５ｎｍ）を鏡面研磨したサファイア基板７２の裏面側から照射し、サファイア基板７２、バッファ層７１およびアンドープ窒化物半導体層７の一部を熱分解することによって、図４５の模式的断面図に示すように、サファイア基板７２およびバッファ層７１を除去する。
【０１０５】
続いて、アンドープ窒化物半導体層７をたとえばフォトリソグラフィ工程を利用したエッチングなどによって円柱状に一部残し、その後、図４６の模式的断面図に示すように、たとえばＲＩＥなどにより、ｎ型窒化物半導体層６の表面に凹凸を形成する。ここで、ｎ型窒化物半導体層６の表面の凹凸の凸部の一部にアンドープ窒化物半導体層７が含まれている。
【０１０６】
その後、図４７の模式的断面図に示すように、アンドープ窒化物半導体層７を被覆するようにしてｎ型窒化物半導体層６の表面の略全面にＩＴＯなどの透明導電膜からなる第１電極層５２をたとえばスパッタリング法などにより形成する。
【０１０７】
そして、図４８の模式的断面図に示すように、第１電極層５２上に、たとえばＥＢ蒸着法などにより、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０をこの順序で形成する。その後、Ａｕ膜１０上にＡｕワイヤ（図示せず）をボールボンディングする。
【０１０８】
続いて、窒化物半導体層積層構造体５１の一部をＲＩＥなどによりエッチングして、窒化物半導体層積層構造体５１の幅ｄを導電性基板１の幅Ｄよりも小さくする。
【０１０９】
そして、導電性基板１の裏面上に第２電極層１１を形成し、その後、複数に分割してチップ化することによって、図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子５０００が製造される。
【０１１０】
本発明の窒化物半導体発光素子５０００は、窒化物半導体層積層構造体５１の表面の一部にアンドープ窒化物半導体層７が形成されており、アンドープ窒化物半導体層７の表面を被覆するようにして第１電極層５２が窒化物半導体層積層構造体５１の表面上に形成されているため、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７が電流阻止層として機能することによって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、Ｃｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方の発光層５から発生する光の量を減少することができるため光の取り出し効率を向上することができる。
【０１１１】
また、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、非導電体層であるアンドープ窒化物半導体層７の存在によって、発光層５からの光に対して不透明なＣｒ膜とＰｔ膜の積層体９１およびＡｕ膜１０の下方に注入される電流量を減少させることができ、光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させることができるため、電流の注入効率を向上することができる。
【０１１２】
また、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、アンドープ窒化物半導体層７およびそれを被覆する第１電極層５２はそれぞれ発光層５からの光に対して透明であるため、アンドープ窒化物半導体層７の側面からも光を取り出すことができ、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【０１１３】
また、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、ｎ型窒化物半導体層６の表面に凹凸が形成されているため、ｎ型窒化物半導体層６の表面が平坦な場合と比べて、ｎ型窒化物半導体層６の表面と第１電極層５２の表面との界面における光の反射を低減することができる。したがって、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、さらに光取り出し効率を向上することができる。
【０１１４】
また、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、ｎ型窒化物半導体層６の表面の凹凸の凸部にアンドープ窒化物半導体層７が含まれていても第１電極層５２で電流を広げることができることから、凹凸の形成を容易に行なうことができる。
【０１１５】
さらに、本発明の窒化物半導体発光素子５０００においては、窒化物半導体層積層構造体５１の幅ｄが導電性基板１の幅Ｄよりも小さくなっていることから、窒化物半導体発光素子５０００の発光層５が導電性基板１の内側に入り、窒化物半導体発光素子５０００のアセンブリ工程中における発光層５の欠けおよびダメージを低減することができるため、窒化物半導体発光素子５０００を用いた発光装置の歩留まりが高くなる傾向にある。また、窒化物半導体発光素子５０００の発光層５以外の部分に欠けおよび割れが発生したとしても、その欠けおよび割れによる発光層５への影響が小さくなるため、窒化物半導体発光素子５０００の歩留まりが高くなる傾向にある。さらに、窒化物半導体発光素子５０００のアセンブリ工程中において、金属などの導電性物質が発光層５に接触しにくくなるため、電気的な短絡の発生を抑制することができる傾向にある。
【０１１６】
なお、上記において、半導体基板としてはサファイア基板を用いたが、本発明において半導体基板としてはサファイア基板に限定されず、他の半導体基板を用いることもできる。
【０１１７】
また、上記において、導電性基板としては、ｎ型Ｓｉからなる基板を用いたが、その他の導電性基板を用いてもよい。なかでも、導電性基板としては、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、Ｇｅ、ＩｎＰおよびＳｉＣからなる群から選択された少なくとも１種を用いることが好ましい。導電性基板がＳｉ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、Ｇｅ、ＩｎＰおよびＳｉＣからなる群から選択された少なくとも１種からなる場合には、導電性基板が安価となるため、窒化物半導体発光素子の製造コストを低減することができる。また、この場合には、導電性基板と窒化物半導体層との熱膨張係数が近いため、反りの問題を低減することができる傾向にある。また、この場合には、導電性基板の熱伝導率が高くなり、窒化物半導体発光素子に大電流を注入することができるため、大出力の窒化物半導体発光素子を得ることができる傾向にある。また、この場合には、導電性基板の劈開が良好となり、劈開時に窒化物半導体発光素子の一部が欠けるのを抑制することができるため、窒化物半導体発光素子の歩留まりが高くなる傾向にある。
【０１１８】
また、上記において、非導電体層としてはアンドープ窒化物半導体層を用いたが、本発明においては、非導電体層としてアンドープ窒化物半導体層を用いることには限定されない。また、本発明において、非導電体層は、窒化物半導体層積層構造体の表面の中心に形成されていることが好ましい。この場合には、窒化物半導体層積層構造体の全体に電流を均一に注入することができる傾向にある。
【０１１９】
また、上記において、発光層として多重量子井戸（ＭＱＷ）構造を有しているものについて説明しているが、本発明においてはこれに限定されず単一量子井戸（ＳＱＷ）構造を有している発光層を用いてもよい。
【０１２０】
また、上記においては、アンドープ窒化物半導体層を円柱状に残しているが、本発明においては、その他の形状に残してもよいことは言うまでもない。
【０１２１】
また、本発明において、第１電極層、第２電極層、第１の導電性接着層、第２の導電性接着層、第１のオーミック電極層、第２のオーミック電極層、反射層およびバリア層の材質もそれぞれ上記のものに限定されないことは言うまでもない。
【０１２２】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本発明によれば、光の取り出し効率を向上することができるとともに光の取り出しに寄与しない無効電流量を減少させて電流の注入効率を向上することができる窒化物半導体発光素子および窒化物半導体発光素子の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明の窒化物半導体発光素子の一例の模式的な断面図である。
【図２】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図５】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図６】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図７】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図８】図１に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図９】本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図である。
【図１０】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１１】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１２】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１３】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１４】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１５】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１６】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１７】図９に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図１８】本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図である。
【図１９】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２０】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２１】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２２】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２３】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２４】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２５】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２６】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２７】図１８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図２８】本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図である。
【図２９】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３０】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３１】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３２】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３３】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３４】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３５】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３６】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３７】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３８】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図３９】図２８に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４０】本発明の窒化物半導体発光素子の他の一例の模式的な断面図である。
【図４１】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４２】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４３】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４４】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４５】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４６】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４７】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４８】図４０に示す本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法の製造工程の一部を示す模式的な断面図である。
【図４９】従来の窒化物半導体発光素子の模式的な断面図である。
【符号の説明】
【０１２５】
１，１００  導電性基板、２  第２の導電性接着層、３  第１の導電性接着層、４，１０３  ｐ型窒化物半導体層、５，１０４  発光層、６，１０５  ｎ型窒化物半導体層、７  アンドープ窒化物半導体層、９  Ｔｉ膜、１０  Ａｕ膜、１１  第２電極層、１２，１０２  第１のオーミック電極層、１３  反射層、１５  バリア層、１６，１０１  第２のオーミック電極層、２０  領域、５０  導電性接着層、５１，１０８  窒化物半導体層積層構造体、５２  第１電極層、７１  バッファ層、７２  サファイア基板、９１  積層体、１０６  負電極層、１０７  正電極層、１０００，２０００，３０００，４０００，５０００  窒化物半導体発光素子。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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