(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光を透過する透過パターンと、照明光を遮光する遮光パターンと、前記照明光の透過光量が前記遮光パターンと前記透過パターンとの間となる中間パターンとが設けられている試料を検査する検査装置であって、
照明光を出射する光源と、
前記光源から出射される照明光のうち、前記試料を透過した透過光を検出して、検出光量に応じた検出データを出力する検出器と、
前記試料に設けられているパターンの設計データに基づくパターン情報を記憶するパターン情報記憶部と、
前記検出器からの検出データを、前記パターン情報記憶部に記憶されたパターン情報に基づいて、パターンの種類に応じた増幅率で増幅して、増幅データを生成する可変増幅器と、
前記可変増幅器からの増幅データと、前記パターン情報記憶部に記憶されたパターン情報に基づいて生成された比較データと、を比較して欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、
前記中間パターンに対する前記可変増幅器の増幅率が、前記遮光パターン及び前記透過パターンに対する前記可変増幅器の増幅率よりも大きくなっており、
前記中間パターンに対応する領域では、前記比較データの値が、前記設計データに基づいて生成されるパターンの透過率に応じた基準データの値から異なっている検査装置。
【請求項２】
前記中間パターンに対する前記可変増幅器の増幅率が、前記遮光パターン又は前記透過パターンにおける前記検出器での検出光量と、前記中間パターンにおける前記検出器での検出光量との比に基づいて設定されている請求項１に記載の検査装置。
【請求項３】
前記透過パターンに対応する前記比較データの値と前記中間パターンに対応する前記比較データの値とが略同じになっている請求項１又は２に記載の検査装置。
【請求項４】
前記試料に入射する照明光がｇ線、ｈ線、及びｉ線の少なくとも一つを含んでいることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の検査装置。
【請求項５】
照明光を透過する透過パターンと、照明光を遮光する遮光パターンと、前記遮光パターンとの間の中間パターンとを有する試料を検査する検査方法であって、
試料に照明光を入射させ、
前記試料を透過した照明光を検出し、
前記検出器からの検出データを、前記試料に設けられているパターンの設計データに基づいて記憶されているパターン情報に基づいて、パターンの種類に応じた増幅率で増幅して、増幅データを生成し、
前記増幅された検出データと、前記パターン情報記憶部に記憶されているパターン情報に基づいて生成された比較データと、を比較して欠陥を検出し、
前記中間パターンに対する前記増幅率が、前記遮光パターン及び前記透過パターンに対する前記増幅率よりも大きくなっており、
前記中間パターンに対応する領域では、前記比較データの値が、前記設計データに基づいて生成されるパターンの透過率に応じた基準データの値から異なっている検査方法。
【請求項６】
前記中間パターンに対する増幅率が、前記遮光パターン又は前記透過パターンにおける検出光量と、前記中間パターンにおける検出光量との比に基づいて設定されている請求項５に記載の検査方法。
【請求項７】
前記透過パターンに対応する前記比較データの値と前記中間パターンに対応する前記比較データの値とが略同じになっている請求項５、又は６に記載の検査方法。
【請求項８】
前記試料に入射する照明光がｇ線、ｈ線、及びｉ線の少なくとも一つを含んでいることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の検査方法。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれか一項に記載の検査方法により、フォトマスクを検査する検査し、
前記検査されたフォトマスクの欠陥を修正し、
前記欠陥を修正されたフォトマスクを介して基板を露光し、
前記露光された基板を現像するパターン基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどに用いられる表示パネルの製造工程では、パターンに欠陥があると、配線の絶縁不良や短絡などの不良原因となり、歩留まりが低下する。例えば、パターンに異物が付着している箇所や、パターンに欠けやはみ出しがある箇所では、欠陥となってしまう。従って、表示装置用の基板やその製造工程で使用するフォトマスクなどのパターン基板に異物が付着しているか否か、やパターンが正常に形成されているか等を検査する検査装置が利用されている。
【０００３】
このフォトマスクの検査装置には、主にダイツーデータベース（Ｄｉｅ  ｔｏ  Ｄａｔａｂａｓｅ）方式とダイツーダイ（Ｄｉｅ  ｔｏ  Ｄｉｅ）方式の２種類がある。ダイツーデータベース方式では、実際に検出した画像と、コンピュータなどの処理装置に記憶されているＣＡＤデータとを比較して、欠陥の検出を行う。一方、ダイツーダイ方式では、マスク上に形成されている同じ形状のパターン同士を比較して欠陥の検出を行う。このような検査装置では、検出データと基準データとの差分を取ることによって、欠陥を検出することができる。
【０００４】
液晶表示パネルの製造工程に用いられるフォトマスクでは、通常、透明なガラス基板上に、遮光膜となるクロム膜が形成されたバイナリーマスクが用いられている。さらに、近年では、クロム膜とガラスの間の透過率を有する中間透過率パターンを有するハーフトーンマスクや、露光装置の解像限界以下の微細パターンが形成されているグレートーンマスクが用いられるようになっている。このハーフトーンマスクの欠陥検査装置として、オフセットやゲインを調整するものが開示されている（特許文献１）。また、グレートーンマスクの検査装置では、グレートーンパターンに異なるしきい値を設定して欠陥を検出するものが開示されている（特許文献２）。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２４７７３８号公報
【特許文献２】特開２００３−３０７５００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来のフォトマスク検査装置には以下のような問題点があった。この問題点について、図２、図３、及び図１３を用いて説明する。図２は、ハーフトーンマスクのパターンの一例を示す図である。図３は、図２で示したパターンに対応するデータを示す図である。ここで、図２（ａ）には比較パターン、すなわち欠陥が無い正常箇所におけるハーフトーンマスクのパターンが示されており、図２（ｂ）には、図２（ａ）と同様のパターン構成において、欠陥が存在する箇所を示す図である。図３（ａ）は、図２（ａ）に示すパターンに対応するデータを示す図であり、図３（ｂ）は図２（ｂ）に示すパターンに対応するデータを示す図である。図３（ａ）、及び図３（ｂ）に示すデータが比較されて、欠陥が検出される。図３（ａ）に示すデータは、例えば、マスクの設計データから生成される。
【０００７】
図２（ａ）に示すように、試料１３上には、ハーフトーンパターン６１と、遮光パターン６２とが設けられている。試料１３上のハーフトーンパターン６１及び遮光パターン６２以外の領域は、透過パターン６０となる。ここでは、図２（ｂ）に示すように、ハーフトーンパターン６１の上に、白欠陥６６及び黒欠陥６５が存在する。また、透過パターン６０の上には、黒欠陥６７が存在する。遮光パターン６２の上には、白欠陥６８が存在する。ここで、透過パターン６０及び白欠陥６６、６８における透過率を１００％とし、遮光パターン６２及び黒欠陥６５、６７における透過率を０％とし、ハーフトーンパターン６１における透過率を５０％とする。
【０００８】
図２（ａ）に示すパターン構成では、パターンの透過率に応じたデータとなる。一方、欠陥箇所では、さらに、欠陥の種類に応じて、透過率が変動する。従って、図３（ｂ）に示すように、欠陥が存在する位置では、図３（ａ）のデータに対して、検出データが変動している。ここで、欠陥を検出するため、図３（ａ）に示す基準データと図３（ｂ）に示す検出データとの差分を取る。基準データと検出データとの差分を示す差分データは、図１３に示すようになる。
【０００９】
差分データとしきい値ＴＨ１、ＴＨ２とを比較することによって欠陥が検出される。すなわち、しきい値ＴＨ１、ＴＨ２を超えた箇所が欠陥箇所となる。ここで、透過パターン６０及び遮光パターン６２上の欠陥（図２の黒欠陥６７、及び白欠陥６８に対応）のデータは、振幅が大きく、容易に検出することができる。しかしながら、ハーフトーンパターン６１の欠陥（図２の黒欠陥６５、及び白欠陥６６に対応）では、振幅が小さくなってしまう。従って、欠陥箇所とハーフトーンパターン６１との透過率の差が小さい場合、欠陥レベルと正常箇所のレベルとの振幅がより小さくなる。この場合、欠陥を確実に検出するためには、しきい値の設定を厳しく設定することが困難になる。従って、ノイズなどによって検出感度が低下して、欠陥を誤検出してしまうという問題点がある。このように、従来の検査装置では、擬似欠陥が発生し、正確に検査することができないという問題点があった。
【００１０】
本発明は上記の問題点を鑑みてなされたものであり、検査を正確に行うことができる検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の態様にかかる検査装置は、照明光を透過する透過パターンと、照明光を遮光する遮光パターンと、前記照明光の透過光量が前記遮光パターンと前記透過パターンとの間となる中間パターンとが設けられている試料を検査する検査装置であって、照明光を出射する光源と、前記光源から出射される照明光のうち、前記試料を透過した透過光を検出して、検出光量に応じた検出データを出力する検出器と、前記試料に設けられているパターンに基づくパターン情報を記憶するパターン情報記憶部と、前記検出器からの検出データを、前記パターン情報記憶部に記憶されたパターン情報に基づいて、パターンの種類に応じた増幅率で増幅して、増幅データを生成する可変増幅器と、前記可変増幅器からの増幅データと比較データとを比較して欠陥を検出する欠陥検出部とを備えるものである。これにより、検査を正確に行うことができる。
【００１２】
本発明の第２の態様にかかる検査装置は、上記の検査装置であって、前記中間パターンに対する前記可変増幅器の増幅率が、前記遮光パターン又は前記透過パターンにおける前記検出器での検出光量と、前記中間パターンにおける前記検出器での検出光量との比に基づいて設定されているものである。これにより、検査をより正確に行なうことができる。
【００１３】
本発明の第３の態様にかかる検査装置は、上記の検査装置であって、前記透過パターンに対応する前記比較データの値と前記中間パターンに対応する前記比較データの値とが略同じになっているものである。これにより、検査をより正確に行うことができる
【００１４】
本発明の第４の態様にかかる検査装置は、上記の検査装置であって、前記比較データが前記パターン情報記憶部に記憶されたパターン情報に基づいて生成されているものである。
【００１５】
本発明の第５の態様にかかる検査装置は、上記の検査装置であって、前記比較データが、前記検出器からの検出データを前記可変増幅器で増幅することにより生成されているものである。
【００１６】
本発明の第６の態様にかかる検査装置は、上記の検査装置であって、前記試料に入射する照明光がｇ線、ｈ線、及びｉ線の少なくとも一つを含んでいることを特徴とするものである。これにより、より正確に検査を行うことができる。
【００１７】
本発明の第７の態様にかかる検査方法は、照明光を透過する透過パターンと、照明光を遮光する遮光パターンと、前記遮光パターンとの間の中間パターンとを有する試料を検査する検査方法であって、試料に照明光を入射させ、前記試料を透過した照明光を検出し、前記検出器からの検出データをパターンの種類に応じた増幅率で増幅して、増幅データを生成し、前記増幅された検出データと比較データとを比較して欠陥を検出するものである。これにより、検査を正確に行なうことができる。
【００１８】
本発明の第８の態様にかかる検査方法は、上記の検査方法であって、前記中間パターンに対する増幅率が、前記遮光パターン又は前記透過パターンにおける検出光量と、前記中間パターンにおける検出光量との比に基づいて設定されているものである。これにより、検査を正確に行なうことができる。
【００１９】
本発明の第９の態様にかかる検査方法は、上記の検査方法であって、前記透過パターンに対応する前記比較データの値と前記中間パターンに対応する前記比較データの値とが略同じになっているものである。これにより、検査を正確に行なうことができる。
【００２０】
本発明の第１０の態様にかかる検査方法は、上記の検査方法であって、前記試料に入射する照明光がｇ線、ｈ線、及びｉ線の少なくとも一つを含んでいることを特徴とするものである。これにより、より正確に検査を行うことができる。
【００２１】
本発明の第１１の態様にかかる検査方法は、上記の検査方法により、フォトマスクを検査する検査し、前記検査されたフォトマスクの欠陥を修正し、前記欠陥を修正されたフォトマスクを介して基板を露光し、前記露光された基板を現像するものである。これにより、パターン基板の生産性を向上することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、透過像と反射像とに基づいて正確に検査を行うことができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能であろう。尚、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略される。
【００２４】
本発明にかかる検査装置について図１を用いて説明する。図１は本発明にかかる検査装置の構成を示す図である。ここでは、液晶ディスプレイの製造工程で用いられるハーフトーンマスクを検査する検査装置を例に挙げて説明する。また、本実施の形態にかかる検査装置は、ダイツーデータベース方式の検査装置である。１１は光源、１２はステージ、１３は試料、１４はレンズ、１５は検出器、１６はステージ駆動部、１７は制御部、１００は処理装置である。また、試料１３は、ハーフトーンマスクであり、透明なガラス基板上に、異なる透過率を有する２種類のパターンが設けられている。すなわち、試料１３には、透過パターン６０と、ハーフトーンパターン６１と、遮光パターン６２が形成されている。すなわち、試料１３のハーフトーンパターン６１又は遮光パターン６２が設けられている以外の箇所が透過パターン６０となる。
【００２５】
光源１１は、例えば、ランプ光源であり、照明光を試料１３の方向に出射する。試料１３は、透明なステージ１２の上に載置されている。ステージ１２は、例えば、ＸＹＺステージであり、ステージ駆動部１６からの駆動信号によって動作する。光源１１からの照明光は、ステージ１２を透過して、試料１３に入射する。これにより、試料１３が裏面側から均一に照明される。試料１３の透過パターン６０では、照明光のほとんどが、透過する。一方、試料１３の遮光パターン６２では、照明光のほとんどが遮光される。そして、ハーフトーンパターン６１では、照明光の略半分が試料１３を透過する。
【００２６】
試料１３を透過した透過光は、レンズ１４に入射する。レンズ１４に入射した透過光は、屈折されて、検出器１５に入射する。これにより、検出器１５の受光面上に試料１３の像が結像する。検出器１５は、例えば、ＣＣＤラインセンサであり、受光素子が１列に並んでいる。ここで、検出器１５の受光素子が並んでいる方向をＸ方向とし、試料面に平行でＸ方向と垂直な方向をＹ方向とする。検出器１５は各受光素子が検出した検出光量に基づく検出データを制御部１７に出力する。検出器１５の検出データは、試料１３の透過率を示している。制御部１７には、演算処理部１００が設けられている。この演算処理部１００によって、欠陥を検出するための演算処理が行われる。演算処理部１００における演算処理については、後述する。
【００２７】
ステージ１２には、ステージ駆動部１６が接続されている。このステージ駆動部１６は、制御部１７からの制御信号によって、ステージ１２を駆動するための駆動信号を出力する。ステージ駆動部１６からの駆動信号によって、ステージ１２が駆動する。具体的には、ステージ１２を検出器１５の受光素子が設けられている方向と直交する方向（Ｙ方向）に駆動する。これにより、試料１３における短冊状の領域が撮像される。すなわち、検出器１５の幅に対応した矩形状の領域が撮像される。そして、検出器１５の幅に対応する長さだけステージ１２をＸ方向にずらした後、−Ｙ方向にステージを駆動する。これにより、既に撮像した短冊状の領域の隣の短冊状の領域が撮像される。これを繰り返すことにより、検出される領域がジグザグに移動する。従って、検査する領域をラスタスキャンすることができる。このように、ステージ１２、及びそれを駆動するステージ駆動部１６は、試料１３と照明光との相対位置を変化させる走査部として機能する。これにより、試料１３の略全面を照明光で照射することができる。試料１３は制御部１７によって制御されている。
【００２８】
演算処理部１００は、試料１３上の欠陥を検出するための演算処理を実行する。そして、制御部１７は、検出した欠陥のステージ１２上の位置を特定する。すなわち、欠陥が検出されたタイミングが、試料１３上のどの位置に対応するかを判定する。そして、試料１３上の欠陥位置を記憶する。これにより、試料１３上の欠陥箇所を特定することができる。さらに、演算処理部１００には、試料１３のパターンに応じたパターン情報が記憶されている。すなわち、透過パターン６０と、ハーフトーンパターン６１と、遮光パターン６２との形状に対応するデータがパターン情報として記憶されている。このパターン情報に基づいて、検出データに対する基準となる基準データが生成される。これにより、ダイツーデータベース方式の検査を行うことができる。
【００２９】
次に、試料１３に形成されたパターンの例について図２を用いて説明する。ここで、図２（ａ）には比較パターン、すなわち欠陥が無い正常箇所におけるハーフトーンマスクのパターンが示されている。図２（ｂ）には、図２（ａ）と同様のパターン構成において、欠陥が存在するパターンを示す図である。図２（ａ）は、正常箇所のパターンである。図２（ｂ）には、図２（ａ）と同様のパターン構成において、欠陥が存在する箇所を示す図である。以下に、図２（ｂ）に示されるパターンイメージが検出器１５によって撮像された場合について説明する。図２（ａ）に示すパターンを比較パターンとし、図２（ｂ）に示すパターンを検出パターンとする。なお、ダイツーデータベース方式の検査装置では、図２（ａ）に示す比較パターンについての情報が、データベース内に記憶されている。
【００３０】
図２（ａ）に示すように、試料１３上には、透過パターン６０の中に、矩形状のハーフトーンパターン６１と、矩形状の遮光パターン６２とが設けられている。試料１３上のハーフトーンパターン６１及び遮光パターン６２以外の領域は、透過パターン６０となる。従って、試料１３には、透過率が異なる３種類のパターンが形成されている。ハーフトーンパターン６１は遮光パターン６２と並んで配置されている。また、ハーフトーンパターン６１と遮光パターン６２の間には透過パターン６０が設けられている。従って、図２（ａ）の矢印の方向に走査すると、透過パターン、ハーフトーンパターン６１、透過パターン６０、遮光パターン６２、透過パターン６０の順番で照明される。
【００３１】
ここでは、図２（ｂ）に示すように、ハーフトーンパターン６１の上には、白欠陥６６及び黒欠陥６５が存在する。また、ハーフトーンパターン６１と遮光パターン６２との間の透過パターン６０の上には、黒欠陥６７が存在する。遮光パターン６２の上には、白欠陥６８が存在する。従って、図２（ｂ）の矢印の方向に走査すると、黒欠陥６５、白欠陥６６、黒欠陥６７、白欠陥６８の順番で欠陥が検出されることになる。ここで、透過パターン６０及び白欠陥６６、６８における透過率を１００％とし、遮光パターン６２及び黒欠陥６５、６７における透過率を０％とし、ハーフトーンパターン６１における透過率を５０％とする。欠陥箇所では、検出データの値に差が生じる。白欠陥６６、６８は、照明光が透過する白抜きの欠陥であり、黒欠陥６５、６７は、照明光が遮光される欠陥である。例えば、白欠陥６６、６８は、パターン抜けにより形成され、黒欠陥は異物等の付着により形成される。
【００３２】
図２（ａ）に示す比較パターンに対応するデータを図３（ａ）に示し、図２（ｂ）に示す検出パターンに対応するデータ３６を図３（ｂ）に示す。ここで、図３（ａ）に示すデータを基準データとし、図３（ｂ）に示すデータを検出データとする。図３（ａ）に示す基準データ、及び図３（ｂ）に示す検出データは、それぞれパターンの透過率に対応している。ダイツーデータベース方式の検査装置では、図３（ａ）に示す基準データがデータベースに記憶されているパターン情報に基づいて生成される。
【００３３】
ここで、透過パターン６０における基準データの値を１００とし、ハーフトーンパターン６１における基準データの値を５０とし、遮光パターン６２における基準データの値を０とする。一方、検出データ３６は、欠陥箇所以外は、基準データと略同じ値となる。しかしながら、欠陥箇所では、検出データ３６の値は、基準データの値と異なっている。すなわち、白欠陥６６、６８では検出器１５で検出される検出光量が高くなり、黒欠陥６５、６７では、検出光量が低くなるため、検出データの値が基準データの値からずれる。すなわち、黒欠陥６５では、検出データの値が基準データの値よりも低くなり、白欠陥６６、６８では、検出データ値が基準データ値よりも高くなる。従って、図３（ｂ）に示すように、検出データには、欠陥に対応した極大値、及び極小値が現れる。図３（ａ）に示す基準データと、図３（ｂ）に示す検出データとの差分を直接取ると、従来技術で説明したように、検出感度が低下してしまう。
【００３４】
そこで、本実施の形態では、試料１３上のパターンの種類に応じて、検出データに対する増幅率を変えている。すなわち、ハーフトーンパターン６１の増幅率を、透過率の比に応じた値としている。具体的には、ハーフトーンパターン６１の透過率が５０％、透過パターン６０の透過率が１００％であるため、ハーフトーンパターン６１における増幅率を、透過パターン６０における増幅率の２倍としている。これにより、ハーフトーンパターン６１と透過パターン６０とが略同じレベルとなる。また、遮光パターン６２は、透過パターン６０と同じ増幅率としている。さらに、増幅されたデータと比較される比較データについても、ハーフトーンパターン６１と、透過パターン６０とを略同じレベルとしている。このように、パターン別に異なる増幅率を設定することにより、検出感度を高くすることができる。もちろん、ハーフトーンパターン６１の透過率と、透過パターンの透過率との比が異なる場合、増幅率は異なる値となる。
【００３５】
上記の増幅率で増幅されたデータについて図４を用いて説明する。図４には、図３のデータに対して、ハーフトーンパターン６１の増幅率を透過パターン６０の増幅率の２倍とした場合のデータが示されている。ここでは、図４（ａ）には、図３（ａ）に示す基準データにおいて、ハーフトーンパターン６１のレベルを透過パターン６０のレベルと一致させた場合のデータが示されている。図４（ｂ）には、図３（ｂ）に示す検出データにおいて、ハーフトーンパターン６１の増幅率を２倍にした場合のデータが示されている。図４（ｃ）は、増幅率を示す図である。ここで、図４（ａ）に示すデータを比較データ２９とし、図４（ｂ）に示すデータを増幅データ３７とする。すなわち、増幅データ３７とは、検出データ３６をパターンに応じて設定された増幅率で増幅したデータを意味する。例えば、図４（ｂ）に示す増幅データ３７は、図３（ｂ）に示す検出データに対して、透過パターン６０、及び遮光パターン６２における増幅率を１とし、ハーフトーンパターン６１における増幅率を２としている。ここで、増幅率は図４（ｃ）に示すように変化している。
【００３６】
比較データ２９では、基準データと同様に、透過パターン６０に対応する領域で、データ値が１００となり、遮光パターン６２に対応する領域では、データ値が０となる。しかしながら、ハーフトーンパターン６１に対応する領域では、基準データと異なり、比較データの値が１００となる。すなわち、ハーフトーンパターン６１の値と、透過パターン６０の値とを略等しくする。同様に、欠陥箇所以外の増幅データ３７も、透過パターン６０でデータ値が１００となり、遮光パターン６２でデータ値が０となり、ハーフトーンパターン６１でデータ値１００となる。さらに、増幅データ３７では、ハーフトーンパターン６１上の欠陥においても、データ値が増幅されている。具体的には、増幅データ３７では、データ値が１００であったハーフトーンパターン６１上の白欠陥６６の値が増幅されて２００となっている。一方、ハーフトーンパターン６１上の白欠陥６６の値は０であるため、増幅されても０のままとなっている。
【００３７】
遮光パターン６２上の白欠陥６８、ハーフトーンパターン６１上の黒欠陥６５、及び透過パターン６０上の黒欠陥６７では、欠陥箇所のデータ値は変化しないが、ハーフトーンパターン６１上の白欠陥６６では、データ値が変化する。すなわち、増幅データ３７では、ハーフトーンパターン６１において欠陥箇所と正常箇所との輝度レベルの差が大きくなる。換言すると、増幅データ３７では、ハーフトーンパターン６１において、欠陥に起因する振幅が増大する。
【００３８】
欠陥を検出するため、増幅データ３７と、比較データ２９との差分を取る。ここでは、増幅データ３７から比較データ２９を引いている。ここで、増幅データ３７と、比較データ２９との差分を差分データ４１として図５に示す。図５に示すように、欠陥のない正常箇所では、比較データ２９と増幅データ３７に差がないため、差分データ４１は０となる。一方、遮光パターン６２における白欠陥６８では、データ値が１００となり、透過パターン６０における黒欠陥６７では、データ値が−１００となる。さらに、ハーフトーンパターン６１における白欠陥６６では、データ値が１００となり、ハーフトーンパターン６１における黒欠陥６５では、データ値が−１００となる。このように、差分データ４１では、ハーフトーンパターン６１における欠陥の正常箇所に対する振幅が大きくなる。
【００３９】
ここで、欠陥位置を特定するため、しきい値ＴＨ１としきい値ＴＨ２とを設定する。しきい値ＴＨ１を越えた箇所、及びしきい値ＴＨ２を越えた箇所とが欠陥箇所となる。しきい値ＴＨ１は、正のレベルに設定され、しきい値ＴＨ２は、負のレベルの設定される。従って、増幅データ３７がしきい値ＴＨ１を上回った箇所では、検出光量が正常箇所より高くなり、増幅データ３７がしきい値ＴＨ２を下回った箇所では、検出光量が正常箇所より低くなっている。従って、しきい値ＴＨ１に基づいて、白欠陥が存在するか否かを判定され、しきい値ＴＨ２に基づいて黒欠陥が存在するか否かが判定される。ここで、ハーフトーンパターン６１でも、欠陥箇所では、正常箇所に対する振幅が大きくなっている。このように、ハーフトーンパターン６１についても欠陥箇所のレベルと、正常箇所のレベルとの差が大きいため、より正確に欠陥を検出することができる。これにより、ハーフトーンパターン６１が存在するマスクに対しても、しきい値ＴＨ１、ＴＨ２の設定を厳しくすることができる。従って、欠陥検出を高感度で行なった場合でも、擬似欠陥の発生を防ぐことができる。
【００４０】
次に、図６を用いて、上記の処理を実行するための構成について説明する。図６は、演算処理部１００の構成を示す図である。演算処理部１００は、ハーフトーンパターン情報記憶部２１、バイナリーパターン情報記憶部２２、コンボリューション処理部２３、重畳回路２４、アンプ３１、Ａ／Ｄ変換器３２、可変増幅器３３、差分回路４０、コンパレータ４５、及びコンパレータ４６とを備えている。まず、上記の処理を実行するため、検出器１５からの検出データをアンプ３１で増幅した後、Ａ／Ｄ変換器３２によってＡ／Ｄ変換する。これにより、検出データがアナログデータからデジタルデータに変換される。検出データ３６は、図３（ｂ）に示すようになっている。デジタルデータに変換された検出データ３６は、可変増幅器３３で増幅される。この可変増幅器３３によって、増幅データ３７が生成される。ここで、可変増幅器３３の増幅率は、ＬＵＴ（ルックアップテーブル）２５に基づいて設定されている。ＬＵＴ２５には、パターンに応じて異なる増幅率が設定されている。このＬＵＴ２５によって、検出データに対応するパターンに応じて可変増幅器３３の増幅率を切換える。すなわち、可変増幅器３３には位置に応じて異なる増幅率が設定される。例えば、ハーフトーンパターン６１では、増幅率が２とされ、それ以外では１とされる。可変増幅器３３からの増幅データ３７は、差分回路４０に入力される。この増幅データ３７は、図４（ｂ）に示すようになる。このように、ＬＵＴ２５は、遮光パターン又は透過パターンにおける検出器での検出光量と、ハーフトーンパターン６１における検出器での検出光量との比に基づいて、可変増幅器３３の増幅率を設定する。
【００４１】
ハーフトーンパターン情報記憶部２１は、マスクの設計データに基づいて試料１３上のハーフトーンパターンのパターン情報を記憶している。遮光パターン情報記憶部２２は、マスクの設計データに基づいて試料１３上の遮光パターンのパターン情報を記憶している。ここで、パターン情報とは、試料１３に形成されたパターンの構成を示すものであり、マスクの設計データに基づいて生成される。換言すると、試料の位置と、その位置に存在するパターンに基づくデータとが対応付けて記憶されている。例えば、パターン情報を２値化データとすると、パターンが存在する箇所では１となり、パターンが存在しない箇所では０となる。さらに、試料全体に対して、その位置に応じた「１」又は「０」の値が記憶されている。具体的には、ハーフトーンパターン情報記憶部２１に記憶されたパターン情報では、ハーフトーンパターン６１が存在する箇所で１となり、存在しない箇所で０となっている。遮光パターン情報記憶部２２に記憶されたパターン情報では、遮光パターン６２が存在する箇所で１となり、存在しない箇所で０となっている。このように、ハーフトーンパターン情報記憶部２１、及び遮光パターン情報記憶部２２は、試料上のパターンに応じたパターン情報をそれぞれ記憶されている。さらに、ハーフトーンパターン情報記憶部２１、及び遮光パターン情報記憶部２２は、検査されるマスク毎にパターン情報をデータベースとして記憶している。これにより、様々なマスクに対して比較データを生成することができる。
【００４２】
コンボリューション処理部２３は、ハーフトーンパターン情報記憶部２１、及び遮光パターン情報記憶部２２に記憶されているパターン情報に対してコンボリューション処理を行う。コンボリューション処理では、パターン情報から、光学的な像に対応するデータを生成する。例えば、ハーフトーンパターン情報に対してコンボリューション処理を行う。これにより、遮光パターンが存在しない状態と仮定した場合における、検出器での検出光量に対応するコンボリューションデータが生成される。すなわち、遮光パターン６２が透過パターンに変わったマスクに対して、無欠陥の理想的な状態に対する基準データが得られる。さらに、遮光パターン情報に対してコンボリューション処理を行う。これにより、ハーフトーンパターン６１が存在しない状態と仮定した場合における、検出器での検出光量に対応するコンボリューションデータが生成される。実際のコンボリューション処理では、パターンによる回折に基づく信号波形のなまりなどが考慮される。
【００４３】
重畳回路２４は、コンボリューション処理部で生成された２つのコンボリューションデータを重畳する。すなわち、ハーフトーンパターン情報に基づくコンボリューションデータと、遮光パターン情報に基づくコンボリューションデータとを足し合わせる。これにより、ハーフトーンパターン６１と遮光パターン６２とが形成された試料１３についての比較データ２９が生成される。この比較データ２９は、例えば、図４（ａ）に示すようになる。すなわち、ハーフトーンパターン６１のデータ値及び透過パターンのデータ値が１００となり、遮光パターンのデータ値が０となる。比較データ２９は、ハーフトーンパターン６１と透過パターン６０とで比較データ２９に差がない。従って、理想的な状態では、遮光パターン情報のみに基づいて比較データ２９を生成することも可能である。
【００４４】
重畳回路２４からの比較データ２９は、差分回路４０に入力される。また、上記の増幅データ３７も差分回路４０に入力されている。差分回路４０は、増幅データ３７と比較データの差を取る。比較データ２９と増幅データ３７は同期して入力されている。従って、差分回路４０は、それぞれに対応する位置の差分を取る。すなわち、差分回路４０は、同一パターンの同じ位置における差分を取って、差分データ４１として出力する。
【００４５】
なお、ＬＵＴ２５は、ハーフトーンパターン情報記憶部２１に記憶されているハーフトーンパターン６１のパターン情報に基づいて生成される。すなわち、ＬＵＴ２５は、ハーフトーンパターン６１が存在する箇所の座標と、その透過率に基づいて生成される。ここで、ハーフトーンパターン６１における増幅率は、透過パターン６０における検出光量と、ハーフトーンパターン６１における検出光量との比に応じて増幅率となる。ハーフトーンパターン６１が存在する箇所には、この増幅率が適用される。遮光パターン６２、及び透過パターン６０では、基準となる増幅率が適用される。すなわち、上記の場合、ＬＵＴ２５では、遮光パターン６２、及び透過パターン６０の増幅率を１とし、ハーフトーンパターン６１の増幅率を２とする。具体的には、ＬＵＴ２５は、ハーフトーンパターン６１のタイミングでは、２を出力し、それ以外のタイミングでは１を出力する。この値が可変増幅器３３の増幅率として設定される。差分回路４０からの差分データ４１は、コンパレータ４５、４６に入力される。
【００４６】
コンパレータ４５、４６はしきい値と、差分データ４１とを比較する。具体的には、コンパレータ４５はしきい値ＴＨ１と差分データ４１とを比較し、コンパレータ４６はしきい値ＴＨ２と差分データ４１とを比較する。そして、コンパレータ４５は、差分データ４１がしきい値ＴＨ１を越えたタイミングで、欠陥信号を制御部１７に出力する。これにより、欠陥の位置が特定される。制御部１７は欠陥信号に基づいて、欠陥の座標を記憶する。具体的には、コンパレータ４６は、差分データ４１がしきい値ＴＨ２を越えたタイミングで、欠陥信号を出力する。従って、欠陥信号が出力されたタイミングに対応する箇所に、欠陥が存在する。差分回路４０、及びコンパレータ４５、４６とが欠陥を検出する欠陥検出部として機能する。また、コンパレータ４５は、白欠陥を検出したタイミングで欠陥信号を出力し、コンパレータ４６は黒欠陥を検出したタイミングで欠陥信号を出力する。すなわち、２つのしきい値ＴＨ１、ＴＨ２と差分データとを比較することによって、欠陥の種別を判別することができる。さらに、パターン情報を参照することにより、欠陥がどのパターン上に存在するかを判定することができる。
【００４７】
このように、図６に示した演算処理部１００で演算処理を行うことによって、正確に欠陥を検出することができる。さらに、２つのコンパレータ４５、４６で並列して欠陥を検出することができるので、検査時間を短縮することができる。また、２つのコンパレータ４５、４６を用いることによって、欠陥の種別を判定することも可能である。上記の構成では、２つのコンパレータのみで、透過パターン６０、及び遮光パターン６２のみならず、ハーフトーンパターン上の欠陥を検出することができる。従って、簡易な構成で欠陥の検出感度を向上することができる。
【００４８】
発明の実施の形態２．
本実施の形態にかかる検査装置について、図７、及び図８を用いて説明する。図７は、本実施の形態にかかる検査装置で処理される信号を示す図である。図８は、本実施の形態にかかる検査装置で使用される演算処理部の構成を示す図である。なお、本実施の形態にかかる検査装置の基本的な構成については実施の形態１と同様であるが、演算処理部１００の一部の構成が異なっている。従って、実施の形態１と重複する内容については、説明を省略する。本実施の形態についても、以下に、図２に示されているパターンを比較した場合の処理について説明する。
【００４９】
図２で示されているパターンに対するデータは、上述の通り、図３のようになる。そして、本実施の形態でも、ハーフトーンパターン６１における増幅率を、透過パターン６０、及び遮光パターン６２における増幅率の２倍にする。また、ハーフトーンパターン６１と透過パターン６０とが同じレベルとなっている比較データを生成する。これにより、実施の形態１と同様に、図４に示される増幅データ３７、及び比較データ２９が生成される。この比較データ２９、及び増幅データ３７が差分回路４０に入力される。これにより差分データ４１が生成される。ここまでの処理については、実施の形態１と同様である。
【００５０】
本実施の形態では、レベルシフト部４２において、差分データ４１のデータ値のレベルをシフトする。具体的には、図５に示すように−１００〜＋１００の値であった差分データ４１を、０〜＋１００までシフトデータ４７とする。すなわち、差分データ４１に１００を加えて、１／２倍する。すなわち、差分データをｘとすると、シフトデータ４７は、（ｘ＋１００）／２となる。これにより、図７（ａ）に示すシフトデータ４７が生成される。シフトデータ４７では、黒欠陥箇所で値が０となり、白欠陥箇所で値が１００となっている。また、シフトデータ４７では、正常箇所で５０となっている。
【００５１】
次に、シフトデータ４７は、抽出部４３、４４に入力される。ここで、抽出部４３、４４は、シフトデータの一部を抽出する。具体的には、抽出部４３は、０〜１００までのシフトデータ４７のうち、５０〜１００までのデータ値を抽出、拡大する。一方、抽出部４４は、０〜１００までのシフトデータのうち０〜５０までのデータ値を抽出、拡大する。ここで、例えば、シフトデータ４７の値をｙとした場合、抽出部４３は、０≦ｙ＜５０のとき、値を０とし、５０≦ｙ≦１００のとき、（ｙ−５０）×２とする。これにより、シフトデータ４７の５０〜１００までの範囲が図７（ｂ）に示すように０〜１００に拡大される。一方、抽出部４４は、５０＜ｙ≦１００のとき、値を０とし、０≦ｙ≦５０のとき、２×ｙとする。これにより、シフトデータ４７の０〜５０までの範囲が図７（ｃ）に示すように０〜１００に拡大される。ここで、シフトデータのうち０〜５０までのデータを抽出することにより生成されたデータを抽出データ４８とし、５０〜１００までのデータを抽出することにより生成されたデータを抽出データ４９とする。抽出部４８、４９は、例えば、入力値に応じて出力値が決定されるルックアップテーブルにより構成することができる。これにより、データの変換を容易に行うことができる。
【００５２】
抽出データ４８は、コンパレータ４５に入力され、抽出データ４９は、コンパレータ４６に入力される。コンパレータ４５は、図７（ｂ）に示すように抽出データ４８としきい値ＴＨ１とを比較する。これにより、しきい値ＴＨ１を越えたタイミングで欠陥信号が出力される。一方、コンパレータ４６は、図７（ｃ）に示すように抽出データ４９としきい値ＴＨ２とを比較する。これにより、しきい値ＴＨ２を越えたタイミングで欠陥信号が出力される。
【００５３】
このように本実施の形態では、実施の形態１と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施の形態では、上記のように、増幅データ３７の一部を抽出して、拡大した後で、比較している。従って、既存の検査装置の演算処理部１００に一部の構成を追加するだけで、感度を向上することができる。具体的には、従来の検査装置の演算処理部１００に対して、ＬＵＴ２５、可変増幅器３３、レベルシフト部４２、抽出部４３、４３を追加するのみで、高感度での検出が可能になる。従って、従来の検査装置に対して、簡便な改良を施すだけで、検出感度を向上することができる。
【００５４】
なお、実施の形態１、２の説明では、ダイツーデータベース方式の検査装置について説明したが、本発明にかかる検査装置は、ダイツーダイ方式の検査装置についても適用可能である。ダイツーダイ方式の検査装置では、図２（ａ）に示すパターンに対応する基準データが、検出器からの信号に基づいて生成される。従って、比較データが検出器からの検出データによって生成される。この場合、可変増幅器３３で増幅された増幅データ３７同士を同期して比較すればよい。例えば、検出器１５が複数設けられている検査装置では、２系統の増幅データを同期して比較すればよい。また、検出器１５の数が一つである検査装置では、遅延される前後の増幅データ３７を比較すればよい。
【００５５】
なお、上記の説明では、試料１３をハーフトーンマスクとして説明したが、本発明は、これに限るものではない。例えば、試料１３にグレートーンマスクを用いることも可能である。グレートーンマスクとは、露光装置の解像限界以下の微細なパターンを形成して、露光量を調整するフォトマスクである。試料１３に形成されるパターンは、照明光の透過光量が遮光パターン６２と透過パターン６０の間となる中間パターンであればよい。すなわち、同じ光量の照明光で照明した場合、中間パターンを透過する透過光量は、透過パターン６０と遮光パターン６２との間になる。従って、透過率が略０％となる遮光パターンが解像限界以下のパターンサイズで形成されている場合も、中間パターンとなる。このように、本発明にかかる検査装置は、照明光の透過光量が遮光パターン６２と透過パターン６０との間になる中間パターンが形成されたマスクに対して利用することができる。もちろん、試料は、フォトマスクに限られるものではない。透過パターンと、遮光パターンと、中間パターンとが形成されている試料であれば、検査を行うことができる。
【００５６】
さらに、上述の説明では、説明の明確化のため、黒欠陥６５、６７の透過率が０％であり、白欠陥６６、６８の透過率が１００％としたが、もちろん、上記の検査装置では、様々な透過率を有する欠陥を検出することができる。また、透過パターン６０は、光の透過率が高いパターンであればよく、遮光パターン６２は、光の透過率が低いパターンであればよい。ハーフトーンパターン６１の透過率と差が小さい欠陥についても高感度で検出することができる。よって、より正確に検査することができる。
【００５７】
また、実施の形態１で示した検査方法、検査装置は、例えば、フォトマスクなどのパターン基板の検査に好適である。そして、検査を行ったマスクを用いて露光することにより、半導体装置や、表示装置に用いられるカラーフィルタ基板などのパターン基板の歩留まりを向上することができる。すなわち、まず、上記の検査方法、検査装置によってマスクを検査する。そして、感光性樹脂が塗布された基板に対して、検査に適合したマスク、又は、検出された欠陥を修正したマスクにより、パターン形成のための露光を行なう。そして、現像等を行い、基板上にパターンを形成する。これにより、半導体装置や、表示装置に用いられるカラーフィルタ基板などのパターン基板の生産性を向上することができる。
【００５８】
発明の実施の形態３．
本発明の実施の形態にかかる検査装置では、検査用の照明光に波長４３５ｎｍのｇ線、４０５ｎｍのｈ線、及び３６５ｎｍのｉ線の少なくとも１つを用いている。すなわち、ｇ線、ｈ線、又はｉ線を含むスペクトルの光を検査照明光として用いている。もちろん、ｇ線、ｈ線、及びｉ線の２つ以上を含むスペクトルの光を検査照明光としてもよい。このようなスペクトルの光を検査照明光として用いることにより、コントラストを高くすることができる。
【００５９】
本実施の形態にかかる検査装置について図９を用いて説明する。本実施の形態にかかる検査装置は、実施の形態１で示した検査装置に加えて波長フィルタ１８が用いられている。なお、本実施の形態にかかる検査装置の基本的な構成は図１に示す検査装置と同様であるため、説明を省略する。また、検査方法についても上記の実施の形態と同様であるため説明を省略する。本実施の形態では、光源１１として、例えば、ｇ線、ｈ線、及びｉ線を出射する水銀ランプが用いられている。さらに、波長フィルタ１８はｇ線、ｈ線、又はｉ線を含む光を透過して、試料１３を照明する。もちろん、２つ以上の光源を組み合わせて用いてもよい。例えば、波長フィルタ１８は、ｇ線よりも波長の長い光（例えば、ｅ線）をカットするフィルタである。なお、波長フィルタ１８は光源１１の内部に組み込まれていてもよい。
【００６０】
ここで、上記の波長の光を検査照明光に用いることにより、コントラストを高くすることができる理由について図１０乃至１２を参照して説明する。図１０は、検査装置により撮像されたパターンを示す平面図である。図１１は、ｇ線、ｈ線、及びｉ線のいずれも用いない場合の比較例のデータを示す図である。具体的には、図１１はｅ線（５４６ｎｍ）を用いた場合のデータを示している。図１２はｇ線、ｈ線、及びｉ線を全て用いた場合のデータを示す図である。
【００６１】
本実施の形態では、図２と同様に試料１３にハーフトーンパターン６１と遮光パターン６２とが設けられている領域を検査した場合について説明する。すなわち、図９に示すように、透明パターン６０の中に、ハーフトーンパターン６１と遮光パターン６２とが並んで配置されている箇所が撮像されている。ここで、図１０（ａ）には比較パターン、すなわち欠陥が無い正常箇所におけるハーフトーンマスクのパターンが示されている。図２（ｂ）には、図１０（ａ）と同様のパターン構成において、欠陥が存在するパターンを示す図である。そして、図１０（ｂ）に示すように、ハーフトーンパターン６１上に黒欠陥６５と白欠陥６６とが存在している。
【００６２】
ここで、露光波長よりも長い波長におけるハーフトーンパターン６１の透過率は、９０％程度となってしまうことがある。この場合、ｅ線で照明した時の検出データは、図１１（ａ）、（ｂ）に示すようになる。図１１（ａ）は、図１０（ａ）に対応する検出データであり、図１１（ｂ）は図１０（ｂ）に対応する検出データである。ここで、ハーフトーンパターン６１におけるｅ線の透過率は、約９０％である。そのため、ハーフトーンパターン６１上に存在する白欠陥６６に対しては、コントラストを向上することができない。すなわち、白欠陥６６では、透過率が約１００％であり、ハーフトーンパターン６１では、透過率が約９０％である。従って、透過率の差が１０％しかないため、図１１（ｂ）に示すように、ハーフトーンパターン６１上における白欠陥６６と正常箇所での検出データの差が小さくなる。このような検出データを、上記のように増幅して、差分を取ると図１１（ｃ）に示すようになる。
【００６３】
ここで、透過率が９０％の場合、増幅率は約１．１となる。この場合、図１１（ｃ）に示す差分データにおいても、ハーフトーンパターン６１上における白欠陥６１と正常箇所とのレベルの差が小さくなる。このように、ｅ線照明では欠陥の有無で約１０％のコントラストしか得ることができない。このため、Ｓ／Ｎを向上することが困難である。
【００６４】
そこで、本実施の形態では、ｇ線、ｈ線、及びｉ線を含む波長域の照明光を用いて、Ｓ／Ｎを向上している。これらの波長域では、ハーフトーンパターン６１の透過率は、透過パターン６０の約半分となる。ここでは、上記の波長域におけるハーフトーンパターン６１の透過率を６０％として説明する。この波長域を用いて照明した場合の検出データは、図１２（ａ）、図１２（ｂ）に示すようになる。図１２（ａ）は、図１０（ａ）に対応する検出データであり、図１２（ｂ）は図１０（ｂ）に対応する検出データである。
【００６５】
図１２（ｂ）に示すように、ハーフトーンパタン６１における色欠陥６６と正常箇所のコントラストが高くなる。このような検出データを、上記のように増幅して、差分を取ると図１２（ｃ）に示すようになる。ここで、透過率が６０％の場合、増幅率は約１．６７となる。従って、差分データにおいて、ハーフトーンパターン６１上における白欠陥６１と正常箇所とのレベルの差が大きくなる。すなわち、欠陥の有無で約６７％のコントラストを得ることができる。これにより、Ｓ／Ｎを高くすることができ、検出感度を向上することができる。さらに、黒欠陥６５の検出感度が低下することもない。よって、正確に検査を行うことができる。
【００６６】
このように、透過パターン６０とハーフトーンパターン６１とのコントラストが高い波長域の光を用いて照明する。すなわち、露光波長よりも長い波長の光をカットする波長フィルター１８を用いる。これにより、コントラストが劣化する波長の光を遮光することができる。すなわち、コントラストの高い露光波長の光を含む光で照明することができる。よって、Ｓ／Ｎを高くすることができ、ハーフトーンパターン６１上の白欠陥６６の検出感度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明にかかる検査装置の構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明にかかる検査装置により撮像されたパターンの一例を示す図である。
【図３】図２におけるパターンに対応する検出データを示す図である。
【図４】図３で示された検出データを増幅した増幅データ、及び比較データを示す図である。
【図５】図４（ａ）で示された比較データと図４（ｂ）で示された増幅データの差分である差分データを示す図である。
【図６】本発明の実施の形態１にかかる検査装置の演算処理部の構成を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態２にかかる検査装置の演算処理部で処理されるデータを示す図である。
【図８】本発明の実施の形態２にかかる検査装置の演算処理部の構成を示す図である。
【図９】本発明の実施の形態３にかかる検査装置の構成を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態３の検査装置で撮像されたパターンの一例を示す図である。
【図１１】本発明の実施の形態３における比較例のデータを示す図である。
【図１２】本発明の実施の形態３におけるデータを示す図である。
【図１３】従来の検査装置で行われている処理を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６８】
１１  光源、１２  ステージ、１３  試料、１４  レンズ、１５  検出器、
１６  ステージ駆動部、１７  制御部、
２１  ハーフトーンパターン情報記憶部、２２  遮光パターン情報記憶部、
２３  コンボリューション処理部、２４  重畳回路、２５  ＬＵＴ、３１  アンプ、
３２  Ａ／Ｄ変換器、３３  可変増幅器、３６  検出データ、３７  増幅データ、
４０  差分回路、４１  差分データ、４２  レベルシフト部、４３  抽出部、
４４  抽出部、４５  コンパレータ、４６  コンパレータ、４７  シフトデータ、
４８  抽出データ、４９  抽出データ、
６０  透過パターン、６１  ハーフトーンパターン、６２  遮光パターン、
６５  黒欠陥、６６  白欠陥、６７  黒欠陥、６８  白欠陥、１００  演算処理部
【図１】
0005201649.tif 000002
【図２】
0005201649.tif 000003
【図３】
0005201649.tif 000004
【図４】
0005201649.tif 000005
【図５】
0005201649.tif 000006
【図６】
0005201649.tif 000007
【図７】
0005201649.tif 000008
【図８】
0005201649.tif 000009
【図９】
0005201649.tif 000010
【図１０】
0005201649.tif 000011
【図１１】
0005201649.tif 000012
【図１２】
0005201649.tif 000013
【図１３】
0005201649.tif 000014