(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気形成方法であって、
エアと不活性ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスを作り、
この特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給し、
特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスとは別に、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給し、
はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置内の圧力を制御する
ことを特徴とするはんだ付け装置における雰囲気形成方法。
【請求項２】
低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気形成方法であって、
エアと不活性ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスを作り、
この特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に供給し、
特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスとは別に、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給し、
はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に供給される特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスの流量と、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量とを、相反する増減方向に制御する
ことを特徴とするはんだ付け装置における雰囲気形成方法。
【請求項３】
低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気を形成する雰囲気形成装置であって、
エアの供給源に接続されたエア供給配管と、
不活性ガスの供給源に接続された不活性ガス供給配管と、
エア供給配管と不活性ガス供給配管の下流側端部でエアと不活性ガスを混合させてはんだ付け装置内に供給するガス混合手段と、
エア供給配管を流れるエアの流量を制御するエア混合用流量制御手段と、
不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス混合用流量制御手段と、
不活性ガスの供給源に接続され、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給する不活性ガス直接供給配管と、
不活性ガス直接供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス専用流量制御手段を備え、
エア混合用流量制御手段と不活性ガス混合用流量制御手段は、エア供給配管を流れるエアと不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量比率を特定の比率に固定する流量制御を行うことで、ガス混合手段を通じて、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスを作り、この特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給するように構成され、
不活性ガス専用流量制御手段は、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置内の圧力を制御するように構成されている
ことを特徴とする雰囲気形成装置。
【請求項４】
低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気を形成する雰囲気形成装置であって、
エアの供給源に接続されたエア供給配管と、
不活性ガスの供給源に接続された不活性ガス供給配管と、
エア供給配管と不活性ガス供給配管の下流側端部でエアと不活性ガスを混合させてはんだ付け装置内に供給するガス混合手段と、
エア供給配管を流れるエアの流量を制御するエア混合用流量制御手段と、
不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス混合用流量制御手段と、
不活性ガスの供給源に接続され、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給する不活性ガス直接供給配管と、
不活性ガス直接供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス専用流量制御手段を備え、
エア混合用流量制御手段と不活性ガス混合用流量制御手段は、エア供給配管を流れるエアと不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量比率を特定の比率に固定する流量制御を行うことで、ガス混合手段を通じて、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に供給するように構成され、
エア混合用流量制御手段、不活性ガス混合用流量制御手段、および不活性ガス専用流量制御手段は、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に供給される特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスの流量と、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量とを、相反する増減方向に制御するように構成されている
ことを特徴とする雰囲気形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低酸素濃度の雰囲気中で加熱をするはんだ付け装置において、低酸素濃度の雰囲気を形成する雰囲気形成方法と雰囲気形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、はんだ付け装置における雰囲気を制御する技術としては、例えば、不活性ガスを注入した低酸素濃度雰囲気中ではんだ付けをする不活性雰囲気はんだ付け装置において、雰囲気中の酸素濃度を測定しながら、所望の酸素濃度に近づけるために不活性ガスの注入流量をコントロールするとともに、必要に応じて雰囲気中に流量調整された空気を強制的に供給する酸素濃度制御方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、はんだ付け装置のチャンバ内に不活性ガスと空気との混合ガスを供給し、前記空気の量を制御して前記チャンバ内の酸素濃度を制御する不活性ガス雰囲気制御装置であって、前記空気の供給量を調節する空気流量調節手段と、前記不活性ガスと前記空気とを混合して混合ガスを前記チャンバに供給するガス混合手段と、前記チャンバ内の混合ガス中の酸素濃度を測定する酸素濃度測定手段と、前記チャンバ内の酸素濃度の目標値を入力する目標値入力手段と、前記空気流量調節手段の弁開度に対する前記チャンバ内の酸素濃度の関係をグラフ関数としてあらかじめ記憶し、前記目標値が変更されたとき前記グラフ関数を参照して前記変更された目標値に応じて前記空気流量調節手段の弁開度を調節し、一定時間経過後、前記酸素濃度測定手段の測定結果と前記目標値との差の時間的積分値に基づいて前記チャンバ内の酸素濃度が目標値に一致するよう前記空気流量調節手段の弁開度を調節する制御装置とを備えた不活性ガス雰囲気制御装置がある（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特許第３４２０２８３号公報（第３頁、図１）
【特許文献２】特開平７−７４４６２号公報（第３頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これらの制御方法および制御装置は、エアの流量を単独で可変制御するので、はんだ付け装置内に安定した酸素濃度の雰囲気を形成することが容易でない問題がある。
【０００５】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、はんだ付け装置内に安定した酸素濃度の雰囲気を形成できるはんだ付け装置における雰囲気形成方法と雰囲気形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１記載の発明は、低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気形成方法であって、エアと不活性ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスを作り、この特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給し、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスとは別に、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給し、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置内の圧力を制御する雰囲気形成方法である。
【０００８】
請求項２記載の発明は、低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気形成方法であって、エアと不活性ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスを作り、この特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に供給し、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスとは別に、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給し、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に供給される特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスの流量と、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量とを、相反する増減方向に制御する雰囲気形成方法である。
【００１０】
請求項３記載の発明は、低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気を形成する雰囲気形成装置であって、エアの供給源に接続されたエア供給配管と、不活性ガスの供給源に接続された不活性ガス供給配管と、エア供給配管と不活性ガス供給配管の下流側端部でエアと不活性ガスを混合させてはんだ付け装置内に供給するガス混合手段と、エア供給配管を流れるエアの流量を制御するエア混合用流量制御手段と、不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス混合用流量制御手段と、不活性ガスの供給源に接続され、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給する不活性ガス直接供給配管と、不活性ガス直接供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス専用流量制御手段を備え、エア混合用流量制御手段と不活性ガス混合用流量制御手段は、エア供給配管を流れるエアと不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量比率を特定の比率に固定する流量制御を行うことで、ガス混合手段を通じて、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスを作り、この特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給するように構成され、不活性ガス専用流量制御手段は、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置内の圧力を制御するように構成されている雰囲気形成装置である。
【００１１】
請求項４記載の発明は、低酸素濃度の雰囲気中ではんだ付けをするはんだ付け装置における雰囲気を形成する雰囲気形成装置であって、エアの供給源に接続されたエア供給配管と、不活性ガスの供給源に接続された不活性ガス供給配管と、エア供給配管と不活性ガス供給配管の下流側端部でエアと不活性ガスを混合させてはんだ付け装置内に供給するガス混合手段と、エア供給配管を流れるエアの流量を制御するエア混合用流量制御手段と、不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス混合用流量制御手段と、不活性ガスの供給源に接続され、はんだ付け装置内に不活性ガスを直接供給する不活性ガス直接供給配管と、不活性ガス直接供給配管を流れる不活性ガスの流量を制御する不活性ガス専用流量制御手段を備え、エア混合用流量制御手段と不活性ガス混合用流量制御手段は、エア供給配管を流れるエアと不活性ガス供給配管を流れる不活性ガスの流量比率を特定の比率に固定する流量制御を行うことで、ガス混合手段を通じて、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に供給するように構成され、エア混合用流量制御手段、不活性ガス混合用流量制御手段、および不活性ガス専用流量制御手段は、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に供給される特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスの流量と、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量とを、相反する増減方向に制御するように構成されている雰囲気形成装置である。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１、３記載の発明によれば、特定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給することで、通常時は少ない不活性ガス供給量で、はんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができ、さらに、エア流量を単独で可変制御することがないので、はんだ付け装置内に安定した酸素濃度の雰囲気を容易に形成できる。また、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置内の圧力を制御するので、基板投入後も迅速にはんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができる。さらに、不活性ガスの流量を制御して装置本体内ベース圧を高く設定することで、はんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができ、目標となるはんだ付け装置内箇所のゾーンの酸素濃度雰囲気をより安定させることができる。
【００１４】
請求項２、４記載の発明によれば、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置内に供給される所定酸素濃度のエア／不活性ガス混合ガスの流量と、はんだ付け装置内に直接供給される不活性ガスの流量とを、相反する増減方向に制御するので、はんだ付け装置内で燃焼反応がおきて基板投入時に低酸素状態に変化する際の酸素濃度雰囲気においても、はんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができ、目標となるはんだ付け装置内箇所の酸素濃度雰囲気をより安定させることができる。その際、エア流量を単独で可変制御することがないので、はんだ付け装置内に安定した酸素濃度の雰囲気を容易に形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を、図１乃至図１５に示された実施の形態を参照しながら詳細に説明する。
【００１６】
先ず、図１乃至図３に示された第１実施の形態を説明する。
【００１７】
図２に示されるように、ゾーン１、ゾーン２、ゾーン３、ゾーン４、ゾーン５、ゾーン６、ゾーン７、ゾーン８、ゾーン９が、リフロー式のはんだ付け装置11の内部に区画形成されている。
【００１８】
このはんだ付け装置11の各ゾーン１〜９を貫通するように、装置一端の入口から装置他端の出口にわたって、電子部品を搭載したプリント配線基板（以下、単に「基板」という）を搬送する基板コンベヤ12が配設されている。
【００１９】
ゾーン１〜５は、基板を予加熱するプリヒートゾーンであり、ゾーン６，７は基板をリフロー加熱するリフローゾーンであり、これらのゾーン１〜７には、熱風発生用のヒータ（図示せず）およびファン（図示せず）がそれぞれ設けられている。また、ゾーン８，９は、リフロー後の基板を冷却するクールゾーンであり、冷却ファン（図示せず）が設けられている。
【００２０】
加熱用のゾーン６には、低酸素濃度の雰囲気中で基板を予加熱しリフローはんだ付けするための下記のような雰囲気形成装置が設けられている。
【００２１】
不活性ガスとしての窒素ガス（以下、「Ｎ2ガス」または「Ｎ2」という）の供給源に接続されたＮ2供給弁21の管路に、圧力調整用のフィルタ・レギュレータ23、Ｎ2供給電磁弁26、積算質量流量計27が順次接続され、さらに圧力調整用のレギュレータ29が接続され、このレギュレータ29には、ゾーン６に対応するＮ2混合用流量制御装置36が接続されている。
【００２２】
エアの供給源に接続されたエア供給弁51には、圧力調整用のフィルタ・レギュレータ54およびレギュレータ55を介して、ゾーン６に対応するエア混合用流量制御装置56が接続されている。
【００２３】
Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56を経たそれぞれの配管は、混合器66aに接続されて１本化された上で分流器66bを経てゾーン６の上部および下部に接続されている。
【００２４】
Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56は、質量流量を計測して所望値に制御する質量流量制御弁であり、図３に示された比率が得られるように開放され、前後圧力差が変化してもこの弁開放割合に応じた流量が得られるように圧力補償される。Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56によって設定されたエア／Ｎ2混合比率は、固定され、変更されない。
【００２５】
図１に示されるフローチャートを参照しながら、この第１実施の形態の作用を説明する。
【００２６】
エアとＮ2ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを作り（ステップ１）、この特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを、はんだ付け装置内に定量供給する（ステップ２）。
【００２７】
すなわち、図２の配管図に示されたＮ2混合用流量制御装置36とエア混合用流量制御装置56とを、設定された酸素濃度が得られるように、図３に示された比率で開放することにより、エアとＮ2ガスとを特定の比率で混合させて、固定された特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを事前に作り、この特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを、はんだ付け装置11内のゾーン６に供給する。
【００２８】
このエア／Ｎ2混合ガスの供給は、はんだ付け装置11内の雰囲気をゾーン１の入口およびゾーン９の出口から外部へ押し出すことで、外気がはんだ付け装置11内に侵入することを効果的に抑制できる程度の十分な流量を、十分な圧力により、はんだ付け装置11内へ加圧供給する。
【００２９】
この第１実施の形態の効果を説明する。
【００３０】
特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給するので、はんだ付け装置内の酸素濃度を検出する機器（酸素濃度計）を用いることなく、また特別な制御をすることなく、はんだ付け装置11内に安定した酸素濃度の雰囲気を容易に形成できる。
【００３１】
次に、図４乃至図１１に示された第２実施の形態を説明する。なお、図５において、図２に示されたものと同様の部分には、同一符号を付して、その説明を省略する。
【００３２】
図５に示された実施の形態では、はんだ付け装置11のゾーン６に酸素濃度計71の雰囲気サンプリング部が挿入され、酸素濃度計71の出力部は、コントローラ72の入力部に接続されている。このコントローラ72は、記憶装置および演算装置を備え、その出力部は、Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56の制御部に接続され、さらに、Ｎ2ガスの分岐配管74にレギュレータ75を介して接続されたＮ2専用流量制御装置76の制御部にも接続されている。
【００３３】
このＮ2専用流量制御装置76を経たＮ2ガス配管は、途中で分岐されて、ゾーン６の上部と下部とに接続されている。
【００３４】
Ｎ2混合用流量制御装置36、エア混合用流量制御装置56およびＮ2専用流量制御装置76は、質量流量を計測して所望値に制御する質量流量制御弁であり、前後圧力差が変化しても弁開放割合に応じた流量が得られるように圧力補償される。
【００３５】
ここで、Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56は、コントローラ72からの指令により弁開放割合を制御されて、図３に示された特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを作ることができるように、エアとＮ2ガスとを特定の比率で混合させることができる。また、Ｎ2専用流量制御装置76は、コントローラ72からの指令により、Ｎ2ガスの供給流量を増減制御できる。
【００３６】
図４に示されるフローチャートを参照しながら、この第２実施の形態の作用を説明する。
【００３７】
エアとＮ2ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを事前に作り（ステップ１）、この特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスをはんだ付け装置11内に定量供給しておく（ステップ２）。
【００３８】
酸素濃度計71により、はんだ付け装置11のゾーン６内の酸素濃度を測定し（ステップ３）、コントローラ72は、一定の閾値を基準にゾーン６内の酸素濃度が変化したか否かを判断し（ステップ４）、そして、ゾーン６内の酸素濃度変化に応じて、Ｎ2専用流量制御装置76からゾーン６内に直接供給されるＮ2ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置11内の圧力を制御する。
【００３９】
例えば、ゾーン６内の酸素濃度が上昇した場合は（ステップ５でＹＥＳ）、コントローラ72は、Ｎ2専用流量制御装置76の弁開度を拡大させて、Ｎ2ガスの供給流量を増加させ（ステップ６）、一方、ゾーン６内の酸素濃度が下降した場合は（ステップ５でＮＯ）、コントローラ72は、Ｎ2専用流量制御装置76の弁開度を縮小させて、Ｎ2ガスの供給流量を減少させる（ステップ７）。
【００４０】
このように、図５の配管図に示されたＮ2混合用流量制御装置36とエア混合用流量制御装置56とを、設定された酸素濃度が得られるように、図３に示された比率で開放することにより、特定の酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給し、加えて、ゾーン６より酸素濃度計71でサンプリングした酸素濃度によりＮ2専用流量制御装置76を制御して、Ｎ2ガスの供給流量を増減制御する。
【００４１】
図６は、酸素濃度変動が小さくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なわない場合であり、図７は、酸素濃度変動が小さくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なう場合である。図６と図７とを比較すると、Ｎ2流量による圧力変動により、酸素濃度変動をより短時間で抑えることができる。
【００４２】
図８は、酸素濃度変動が大きくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なわない場合であり、図９は、酸素濃度変動が大きくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なう場合である。図８と図９とを比較すると、Ｎ2流量による圧力変動により、酸素濃度変動をより短時間で抑えることができる。
【００４３】
図１０は、Ｎ2流量によるベース圧が低く、酸素濃度変動が大きい場合であり、図１１は、Ｎ2流量によるベース圧が高く、酸素濃度変動が小さい場合である。図１０と図１１とを比較すると、Ｎ2流量によるベース圧が高いほど、酸素濃度変動を小さく抑えることができる。
【００４４】
この第２実施の形態の効果を説明する。
【００４５】
図６および図７、または図８および図９より、第２実施の形態の制御を行なった場合は、特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスをはんだ付け装置内に定量供給することで、通常時は少ないＮ2ガス供給量で、はんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができ、さらに、エア流量を単独で可変制御することがないので、はんだ付け装置11内に安定した酸素濃度の雰囲気を容易に形成できる。また、はんだ付け装置内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置11内に直接供給されるＮ2ガスの流量を制御することで、はんだ付け装置内の圧力を制御するので、基板投入後も迅速にはんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができる。
【００４６】
さらに、図１０および図１１より、Ｎ2ガスの流量を制御して装置本体内ベース圧を高く設定することで、はんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができ、目標となるはんだ付け装置内箇所、すなわちゾーン６の酸素濃度雰囲気をより安定させることができる。
【００４７】
次に、図１２乃至図１５に示された第３実施の形態を説明する。なお、第２実施の形態の説明で用いられた図５に示された配管図は、第３実施の形態でも共通に用いるが、コントローラ72による制御方法は異なる。
【００４８】
Ｎ2混合用流量制御装置36、エア混合用流量制御装置56およびＮ2専用流量制御装置76は、質量流量を計測して所望値に制御する質量流量制御弁であり、前後圧力差が変化しても弁開放割合に応じた流量が得られるように圧力補償され、特に、Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56は、図１３に示されるようにコントローラ72からの出力量に応じた特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガス流量が得られるように制御され、また、Ｎ2専用流量制御装置76は、図１３に示されるようにコントローラ72からの出力量に応じたＮ2ガス供給流量が得られるように制御される。
【００４９】
すなわち、図１３に示されるようにＮ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56に対して、Ｎ2専用流量制御装置76は、コントローラ72からの出力量に対して、オーバーラップする僅かな部分を除いて排他的に制御される。
【００５０】
例えば、コントローラ72から各流量制御装置36，56，76への出力量が大きい場合は、Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56で制御されるエア／Ｎ2混合ガス流量は０まで減少するのに対して、Ｎ2専用流量制御装置76で制御されるＮ2ガス流量は大きくなるように制御される。反対に、コントローラ72から各流量制御装置36，56，76への出力量が小さい場合は、Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56で制御されるエア／Ｎ2混合ガス流量は大きくなるのに対して、Ｎ2専用流量制御装置76で制御されるＮ2ガス流量は０まで減少するように制御される。
【００５１】
図１２に示されるフローチャートを参照しながら、この第３実施の形態の作用を説明する。
【００５２】
Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56により、エアとＮ2ガスとを特定の比率で混合させて特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスを作り（ステップ１）、この特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスをはんだ付け装置11内に供給し（ステップ２）、酸素濃度計71により、はんだ付け装置11のゾーン６内の酸素濃度を測定し（ステップ３）、コントローラ72は、一定の閾値を基準にゾーン６内の酸素濃度が変化したか否かを判断し（ステップ４）、そして、ゾーン６内の酸素濃度変化に応じて、Ｎ2混合用流量制御装置36およびエア混合用流量制御装置56と、Ｎ2専用流量制御装置76とを、共通の出力信号により排他的に制御する。
【００５３】
例えば、サンプリングしたゾーン６内の酸素濃度が上昇した場合は（ステップ５でＹＥＳ）、コントローラ72は、Ｎ2混合用流量制御装置36、エア混合用流量制御装置56に対する図１３の出力量を増加させて、エア／Ｎ2混合ガス流量を小さくまたは０にするとともに、Ｎ2専用流量制御装置76の弁開度を拡大させて、Ｎ2ガスの供給流量を増加させ（ステップ８）、一方、ゾーン６内での燃焼反応などによりゾーン６内の酸素濃度が下降した場合は（ステップ５でＮＯ）、コントローラ72からの出力量が小さくなり、エア／Ｎ2混合ガス流量を増加させるとともに、Ｎ2専用流量制御装置76の弁開度を縮小させて、Ｎ2ガスの供給流量を減少させまたは０にする（ステップ９）。
【００５４】
このように、はんだ付け装置11内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置11内に供給される特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスの流量と、はんだ付け装置内に直接供給されるＮ2ガスの流量とを、排他的に相反する増減方向に制御する。
【００５５】
図１４は、酸素濃度が下がるケースで、上記のような排他制御をしない場合であり、また、図１５は、酸素濃度が下がるケースで、上記のような排他制御をする場合である。
【００５６】
この第３実施の形態の効果を説明する。
【００５７】
図１４および図１５より、この第３実施の形態の制御を行なった場合、はんだ付け装置11内の酸素濃度変化に応じて、はんだ付け装置11内に供給される特定酸素濃度のエア／Ｎ2混合ガスの流量と、はんだ付け装置11内に直接供給されるＮ2ガスの流量とを、排他的に相反する増減方向に制御するので、図１４に示されるように、はんだ付け装置11内で燃焼反応が起きて基板投入時に低酸素状態に変化する際の酸素濃度雰囲気においても、エア／Ｎ2混合ガスの供給により、図１５に示されるように、はんだ付け装置内全体の酸素濃度雰囲気を安定させることができ、目標となるはんだ付け装置内箇所、すなわちゾーン６の酸素濃度雰囲気をより安定させることができる。その際、エア流量を単独で可変制御することがないので、はんだ付け装置11内に安定した酸素濃度の雰囲気を容易に形成できる。
【００５８】
本発明は、リフロー式のはんだ付け装置11だけでなく、不活性雰囲気チャンバを有する噴流式はんだ付け装置にも利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明に係るはんだ付け装置における雰囲気形成方法の第１実施の形態を示すフローチャートである。
【図２】同上第１実施の形態に対応する雰囲気形成装置を示す配管図である。
【図３】エア／Ｎ2混合比率と酸素濃度との関係を示す特性図である。
【図４】本発明に係るはんだ付け装置における雰囲気形成方法の第２実施の形態を示すフローチャートである。
【図５】同上第２実施の形態に対応する雰囲気形成装置を示す配管図である。
【図６】酸素濃度変動が小さくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なわない場合の特性図である。
【図７】酸素濃度変動が小さくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なう場合の特性図である。
【図８】酸素濃度変動が大きくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なわない場合の特性図である。
【図９】酸素濃度変動が大きくて、Ｎ2流量による圧力変動を行なう場合の特性図である。
【図１０】Ｎ2流量によるベース圧が低く、酸素濃度変動が大きい場合の特性図である。
【図１１】Ｎ2流量によるベース圧が高く、酸素濃度変動が小さい場合の特性図である。
【図１２】本発明に係るはんだ付け装置における雰囲気形成方法の第３実施の形態を示すフローチャートである。
【図１３】コントローラ出力量と弁開放割合との関係を示す特性図である。
【図１４】酸素濃度が下がるケースで、排他制御をしない場合の特性図である。
【図１５】酸素濃度が下がるケースで、排他制御をする場合の特性図である。
【符号の説明】
【００６０】
11    はんだ付け装置
【図１】
0005117703.tif 000002
【図２】
0005117703.tif 000003
【図３】
0005117703.tif 000004
【図４】
0005117703.tif 000005
【図５】
0005117703.tif 000006
【図６】
0005117703.tif 000007
【図７】
0005117703.tif 000008
【図８】
0005117703.tif 000009
【図９】
0005117703.tif 000010
【図１０】
0005117703.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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