(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状の絶縁性部材の両端がそれぞれ導電性部材により閉塞され真空室を備えた真空容器を構成し、前記真空室内における両導電性部材間に静電容量が形成された真空コンデンサであって、
少なくとも一方の導電性部材は、その導電性部材内に形成された中空状の収納部と、その収納部と真空室とを連通する連通孔と、その連通孔を囲むように連通孔の周りに形成された静電遮蔽部材と、を有し、
前記の収納部内にゲッターが配置されたことを特徴とする真空コンデンサ。
【請求項２】
前記の真空容器内の一方の導電性部材側に設けられた固定電極と、
前記の固定電極に対向して位置し静電容量を形成するように他方の導電性部材側に設けられた可動電極と、を構成し、
前記の可動電極を移動し固定電極に対する可動電極の位置を変化させることにより、前記の静電容量を変化させることが可能なことを特徴とする請求項１記載の真空コンデンサ。
【請求項３】
前記の真空容器内の一方の導電性部材側に設けられた電極と、
前記一方の導電性部材側の電極と対向して位置し静電容量を形成するように前記の真空容器内の他方の導電性部材側に設けられた電極と、を構成したことを特徴とする請求項１記載の真空コンデンサ。
【請求項４】
前記連通孔の真空室側に突出部が形成されたことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の真空コンデンサ。
【請求項５】
前記の連通孔を構成する導電性部材と、その導電性部材側に設けられた電極と、の間には、前記の連通孔と真空室とを連通する隙間部が形成されたことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の真空コンデンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大電力発振機の発振回路，半導体製造装置用の高周波電源回路等に使用される真空コンデンサに関し、特にゲッターを内蔵する真空コンデンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一般的な半導体設備用の高周波電源，大電力発振回路等の高周波機器において、インピーダンス調整のために種々の真空コンデンサ（例えば、特許文献１）が用いられてきた。
【０００３】
図６は、一般的な真空コンデンサの一例を示す概略説明図である。図６において、符号１は真空容器を示すものであり、該真空容器１は、筒状の絶縁性部材（例えば、セラミック材料から成る部材；以下、絶縁筒と称する）２と、該絶縁筒２の一端側と他端側とに設けられた導電性部材（例えば、銅等の金属から成る部材）３，４と、を主な構成としている。
【０００４】
前記導電性部材３，４は、それぞれ例えば図示するように、絶縁筒２の一端側と他端側とに設けられた金属筒５，６と、前記絶縁筒２および前記金属筒５，６を閉塞するように設けられたフランジ（可動電極側，固定電極側のフランジ；以下、可動側フランジ，固定側フランジと称する）７，８と、によって構成されている。また、可動側フランジ７および固定側フランジ８は外部端子を兼ねても良い。
【０００５】
符号９は、内径の異なる複数の筒状の電極部材から成るものであって、各電極部材が同心円状に所定間隔を隔てて固定側フランジ８の内側（真空容器１の内側）に設けられた固定電極を示すものである。符号１０は、前記の固定電極９と同様に、内径が異なる複数の筒状の電極部材を同心円状に一定間隔を隔てて構成され、前記固定電極の間隙内を非接触で挿出入できるように真空容器１内側に設けられた可動電極を示す。符号１１は、可動導体を示すものであり、可動電極１０を支持する可動電極支持部材１２と、該可動電極支持部材１２の背面（可動電極１２が取付けられていない面）から立設された可動ロッド１３と、から構成されている。
【０００６】
符号１４は、真空コンデンサの通電路の一部として、弾性を有する軟質金属製（例えば、リン青銅から成る部材やＳＵＳ部材に銅を被覆して成る部材）のベローズを示すものであって、真空コンデンサ内における固定電極９，可動電極１０，ベローズ１４で囲まれた真空室１８を気密に保持しながら可動導体１１（可動電極１０）が軸方向に昇降できるように、軸受部１５に一端縁を接合（蝋付け）されるとともに、他端縁を可動導体１１に接合（蝋付け）されるものである。
【０００７】
前記可動ロッド１３においては、例えば柱状の部材が用いられ、その一端側には前記のように可動電極１０が取付けられ、他端側は可動側導電性部材４に設けられた軸受部１５によって可動自在に支持される。この可動導体１１における支持構造の一例としては、前記の軸受部１５によって回動自在に支持された部材に対し、可動導体１１の他端側を螺合させる構成が挙げられる。また具体例として、軸受部１５によって回動自在に支持されたナット部材（可動電極の位置を調整するための部材；以下、調節ナットと称する）の雌ネジ部に対して、可動導体１１の他端側に形成された雄ネジ部を螺合させる構成も挙げられる。
【０００８】
前記の可動導体１１を軸方向に移動させ、固定電極９に対して可動電極１０を挿出入（互いの各電極部材が交叉するように挿出入）することにより、対向電極間の面積（固定電極９と可動電極１０との交叉面積）が変化する。これにより、両電極９，１０にそれぞれ異なる極性の電圧が印加された状態で前記の対向電極間の面積が変化した際には、該両電極９，１０間に生じる静電容量の値が連続的に加減され、インピーダンス調整が行われるものとされている。
【０００９】
このような真空コンデンサを用いた場合の高周波機器に対する高周波電流に関しては、前記可動側フランジ７から前記ベローズ１４および対向電極間の静電容量を介して、固定側フランジ８から流れる。近年、高周波機器に使用される負荷が大きくなり、それに伴い高周波電流が増加していることから、大きな電流の流れを頻繁に加減することが多くなっている。
【００１０】
このような真空コンデンサに要求される特性の一つとしては、真空室１８内の真空状態を維持し、耐電圧性を維持させることが挙げられるが、例えば前記のように可動電極１０と固定電極９とに電流が印加されると、真空室１８内で金属微粒子（浮遊粒子）やガス等が発生して該真空室１８の真空度が低下することがあり、真空状態を維持できない恐れがある。また、例えば水素など微量分子は、材料を透過する性質があるため、無期限に真空を維持できない恐れがある。
【００１１】
そこで、ゲッター１６を真空室１８に配置し、真空容器１内の金属微粒子やガス等の被吸着対象（ゲッターにより吸着可能なもの）を該ゲッター１６に吸着させる手法が採られていた。その具体例としては、加熱によってゲッター成分が蒸発する蒸発型ゲッター（分散ゲッター）を用いるものであって、その蒸発したゲッター成分を真空容器１の内壁に付着させ、その付着物に対して真空室１８内の被吸着対象を吸着させる手法が知られている。また、表面が酸化膜によって保護された非蒸発型ゲッター（接合ゲッター；例えば、マグネシウム，バリウム，アルミニウム等のガスと化合しやすい物質から成るもの）を用いるものであって、加熱によって酸化膜を除去して活性化させることにより、被吸着対象を吸着させる手法が知られている。さらに、前記の両手法を同時に適用する例も知られている。
【００１２】
前記のようなゲッター１６を例えば単に真空容器１の内壁（例えば、金属筒６内壁）の表面上に設置した場合、吸着効果が不十分になったり、真空室１８内を高真空状態に維持することができなくなったりし、耐電圧性が不安定になる問題があった。これを考慮して、近年においては、ゲッター１６を固定電極９の中心軸付近の固定側フランジ８内壁（真空容器１の内側）の表面上、または可動電極１０の中心軸付近の可動電極支持部材１２の表面上に配置する手法が適用されている。（特許文献２）
【特許文献１】特許第３２６４００５号公報（段落［００３１］〜［００３６］、図１）
【特許文献２】特開平６−１９６３６３号公報（段落［００１６］〜［００２３］、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、半導体製造装置用の高周波電源や大電力発振機の発振回路等に使用される真空コンデンサにおいては、各電極に電荷が印加すると電極や可動電極支持部材周辺に電界が生じることから、従来のように単にゲッターを可動電極または固定電極の中心軸付近の表面上に配置する手法では、該ゲッターが電界によって印加されてしまう恐れがある（特に、ゲッターが陽極側となるような電界分布の場合）。
【００１４】
前記のようにゲッターが電界による影響を受けると、電子がゲッターに入射する状態となり、例えば電子の運動エネルギーが熱エネルギーに変換され該ゲッターの温度が上昇して再放出温度に達すること、あるいは電子刺激（または衝撃）が起こること（電子状態が遷移すること）等の理由により、該ゲッターが劣化（寿命が低下）し吸着された吸着物の離脱現象が起こる可能性がある。
【００１５】
上記に示すように、ゲッターにより一度吸着した吸着物が、電界の影響により該ゲッターから再放出されると、真空室内の真空度が低下し、耐電圧性が悪化してしまう。
【００１６】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、半導体製造装置用の高周波電源回路や大電力発振機の発振回路等に使用される真空コンデンサにおいて、その真空コンデンサに電流が印加するときに生じる電界を考慮し、真空室内の真空度の低下を防止して、所望の耐電圧性を維持できるようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、前記従来の問題に鑑み、案出されたもので、請求項１記載の発明は、筒状の絶縁性部材の両端がそれぞれ導電性部材により閉塞され真空室を備えた真空容器を構成し、前記真空室内における両導電性部材間に静電容量が形成された真空コンデンサであって、少なくとも一方の導電性部材は、その導電性部材内に形成された中空状の収納部と、その収納部と真空室とを連通する連通孔と、その連通孔を囲むように連通孔の周りに形成された静電遮蔽部材と、を有し、を構成し、前記の収納部内にゲッターが配置されたことを特徴とする。
【００１８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記の真空容器内の一方の導電性部材側に設けられた固定電極と、前記の固定電極に対向して位置し静電容量を形成するように他方の導電性部材側に設けられた可動電極と、を構成し前記の可動電極を移動し固定電極に対する可動電極の位置を変化させることにより、前記の静電容量を変化させることが可能なことを特徴とする。
【００１９】
請求項３記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記の真空容器内の一方の導電性部材側に設けられた電極と、前記一方の導電性部材側の電極と対向して位置し静電容量を形成するように前記の真空容器内の他方の導電性部材側に設けられた電極と、を構成したことを特徴とする。
【００２０】
請求項４記載の発明は、請求項１〜３記載の発明において、前記連通孔の真空室側に突出部が形成されたことを特徴とする。
【００２１】
請求項５記載の発明は、請求項１〜４記載の発明において、前記の連通孔を構成する導電性部材と、その導電性部材側に設けられた電極と、の間には、前記の連通孔と真空室とを連通する隙間部が形成されたことを特徴とする。
【００２２】
請求項１乃至３記載の発明のような構成によれば、少なくとも一方の導電性部材に形成された収納部に配置されたゲッターは、従来の配置場所（例えば、固定電極の中心軸付近の固定側フランジの表面上、または可動電極の中心軸付近の可動電極支持部材の表面上）に配置されたゲッターと比較して、電界分布の弱い場所に配置されることとなり、該ゲッターに対する電界印加が防止される。
【００２３】
また、請求項４記載の発明のような構成によれば、突出部が静電遮蔽（電界相殺）の役割を果たし、ゲッターに対する電界集中の緩和に寄与する。
【００２４】
さらに、請求項５記載の発明のような構成によれば、電極が静電遮蔽（電界相殺）の役割を果たし、ゲッターに対する電界集中の緩和に寄与する。
【発明の効果】
【００２５】
以上の説明で明らかなように、請求項１乃至５記載の発明によれば、たとえ真空室内に電界が生じても、ゲッターにて一度吸着した金属微粒子やガス等が放出されることを防止し、真空室内の高真空状態を維持することができ、真空コンデンサの耐電圧性を維持することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下本発明の実施の形態における真空コンデンサを実施例１〜３等に基づいて詳細に説明する。なお、図６と同様なものについては同一符号等を用い、その詳細な説明を適宜省略する。
【００２７】
本実施形態は、筒状の絶縁性部材の両端をそれぞれ導電性部材により閉塞して形成した真空容器を備え、真空容器内における両導電性部材間に静電容量が形成された真空コンデンサであって、一方の導電性部材において電界の影響を受けない（あるいは影響が小さい）箇所にゲッターを備え、そのゲッターにより真空室内の金属微粒子（浮遊粒子）やガス等の被吸着対象を吸着する。これにより、ゲッターの長寿命化が図られ、真空室の真空度を維持できるようにしたものである。
【００２８】
例えば、従来においては、単にゲッターの吸着効率を向上させることを考慮して、該ゲッターを固定電極の中心軸付近の固定側フランジの表面上、または可動電極の中心軸付近の可動電極支持部材の表面上に配置していたのに対し、本実施の形態では、ゲッターの長寿命化等を考慮して、真空容器を構成する２つの導電性部材のうち少なくとも一方の内部（例えば、後述の収納部）に配置する。前記のように導電性部材の内部に配置されたゲッターは、該導電性部材に形成され真空室と連通する孔（連通孔）を介して、該真空室中で発生した金属微粒子やガス等の被吸着対象を吸着する。
【００２９】
本実施の形態のようにゲッターに電界が印加されることを防止することにより、たとえ真空容器内に電界が生じても、ゲッターが再放出温度に達したり、電子刺激（または衝撃）脱離現象等が惹起することはなく、該ゲッターにて一度吸着した金属微粒子やガス等が放出されることを防ぐことができる。その結果、真空室内の高真空状態を維持することができ、真空コンデンサの耐電圧性を維持することができる。
【００３０】
〔実施例１〕
図１（全体説明図），図２（固定側フランジの拡大図）は、本実施形態に係る真空（可変）コンデンサの一例を示す概略説明図である。図６と同様に、絶縁筒（絶縁性部材；セラミック材料等の絶縁材料から成る部材）２と、該絶縁筒１の一端側と他端側とを閉塞するように設けられた導電性部材（例えば銅等の金属から成る部材）３，４と、を主な構成としている。導電性部材３，４においては、それぞれ絶縁筒２の一端側と他端側とに設けられた金属筒５，６と、前記絶縁筒２および前記金属筒５，６を閉塞するように設けられ外部端子を兼ねた可動側フランジ７，固定側フランジ８と、によって構成されている。
【００３１】
真空容器１内においては、内径の異なる複数の筒状の電極部材から成る固定電極９が前記固定側フランジ８の内側（真空容器１の内側）に設けられ、前記の固定電極９と同様に内径が異なる複数の筒状の電極部材を同心円状に一定の間隔を隔てて構成された可動電極１０が前記固定電極９と非接触状態で挿出入（固定電極９の各電極部材間に挿出入して互いに交叉）できるように設けられている。
【００３２】
また、可動電極１０は、前記真空容器１の軸方向に可動するものであり、可動電極１０を支持する可動電極支持部材１２と、該可動電極支持部材１２の背面（前記可動電極１０が取付けられていない面）から真空容器１外方向（可動側フランジ７側方向）に延設（立設）された可動ロッド１３と、から構成される可動導体１１により支持されている。前記の可動ロッド１３は、可動側フランジ７側の一端側に雄ネジ部（後述の絶縁操作部材に螺合可能なもの）１３ｃが形成され、真空容器１に設けられた（図中では可動側フランジ７を突出するように固設された）軸受部（図中では、真空容器１外側において回転トルクを低減するためのスラストベアリング１７を備えた支持体）１５に貫装される。
【００３３】
さらに、ベローズ（図中では、可動側フランジ７と可動電極支持部材１２との間に接合（例えば、真空高温蝋付けにより接合）されたベローズ）１４により、可動電極１０および固定電極９側に真空室１８を形成し、可動導体１１側に大気室１９を形成している。ベローズ１４には、耐久性（機械的強度等），導電性等を有するものが用いられ、例えばリン青銅から成る部材やＳＵＳ部材に銅を被覆して成る部材が挙げられる。
【００３４】
符号２０は、前記可動ロッド１３を真空容器１の軸方向に移動させ、真空コンデンサにおける静電容量を調整して絶縁操作するための筒状部材（以下、絶縁操作部材と称する）を示すものであり、軸受部１５の一端側（図中では、スラストベアリング１７側）にて回動自在に支持される。この絶縁操作部材２０内の中央部には段差部２０ａが形成され、その段差部２０ａの一端側には小径（他端側より小径）の雌ネジ部２０ｂが形成される。また、前記の雌ネジ部２０ｂには、前記可動ロッド１３の雄ネジ部１３ｃが螺合され、他端側は真空コンデンサの駆動源（モータ等；図示省略）が連結（例えば、絶縁手段を介して連結）される。
【００３５】
前記駆動源により絶縁操作部材２０を回動（例えば図示矢印Ｒ方向の回転方向に回動）することにより雌ネジ部２０ｂの形状に応じて可動導体１１が旋回しながら軸方向に移動し、対向電極間の面積（固定電極９と可動電極１０との交叉面積）が変化する。前記の可動ロッド１３は、図示するように導体部が軸受部１５に貫装されているため、可動導体１１の移動の際の該可動導体１１の揺動が抑えられる。また、可動導体１１に例えばストッパーネジ（内径が雌ネジ部２０ｂよりも大きい座面２１ａを有するネジ）２１を取り付けておくことにより、可動導体１１の移動範囲を制限（例えば、対向電極同士の接触防止）することができる。
【００３６】
本実施例１の固定側フランジ８においては、ゲッター１６を収納するための中空状の収納部２７が形成される。この収納部２７は、該収納部２７内のゲッター１６により真空室１８内の被吸着対象を吸着できるように、例えば固定側フランジ８の真空室１８内側の面（以下、固定側フランジ内側面と称する）８ａに穿設（図中では固定側フランジ内側面の中央部に穿設）された連通孔２３を介して、該真空室１８内側と連通する。
【００３７】
図中の連通孔２３の場合、該連通孔２３の周囲において、固定側フランジ内側面８ａにおける中央部から突出（真空室１８内側に突出）した円環状の突出部２２が形成（被吸着対象が通過できるように形成）されている。
【００３８】
ゲッター１６においては、例えば図示するように、有底筒状（凹状）の部材（以下、有底筒状部材と称する）２４内に配置して収納部２７の開口部側から収納する。前記の有底筒状部材２４は、該有底筒状部材２４の開口部側と真空室１８内側とが連通孔２３を介して連通するように、収納部２７の内壁側に固設される。また該開口部側においては、必要に応じて閉塞板（例えば、図中の仮想線のような閉塞板）を固定側フランジ８に取り付けることにより閉塞しても良い。
【００３９】
このように導電性部材（本実施例では固定側フランジ８）に形成された収納部２７に配置されたゲッター１６は、例えば、電流加熱等の手法によって活性化され、可動電極１０と固定電極９とに電流が印加した時に発生する金属微粒子およびガス等の被吸着対象を吸着する。
【００４０】
また、前記のように収納部２７内にゲッター１６を配置する構成の場合、そのゲッター１６により真空室１８内の被吸着対象を吸着できると共に、収納部を介して外気が真空室１８内へ侵入しないようにする。例えば、図１の真空室１８内の真空状態は、有底筒状部材２４の固定側フランジ８への取付部位によって確保される。具体的には、有底筒状部材２４を固定側フランジ８に対して蝋付け等により取付けることにより、真空状態が確保される。前記のように被吸着対象の吸着および真空状態の確保ができれば、蝋付けの位置は特に限定されるものではないが、具体例として有底筒状部材２４の開口縁（最内径部位等）が挙げられる。また、収納部２７の開口部側に閉塞板を設ける場合には、例えば真空状態を確保することについて信頼性を向上させるために、例えば閉塞板の取り付け位置にシール材等を設けたシール構造を適用しても良い。
【００４１】
本実施例１のような構成によれば、従来技術のようにゲッター１６を固定電極９の中心軸付近の固定側フランジ８壁面（真空容器１の内側の面）の表面上や、可動電極１０の中心軸付近の可動電極支持部材１２の表面上に配置した場合と比較して、ゲッター１６が電界分布の弱い場所（導電性部材内）に配置されることとなる。また、固定側フランジ８に形成された突出部２２は、静電遮蔽（電界相殺）の役割を果たし、ゲッター１６に対する電界集中の緩和に寄与する。さらに、ゲッター１６の配置作業等において、真空室１８内の電極等の各種部材と干渉（接触等）することが無い等（取り付けし易い等）の利点がある。
【００４２】
ここで、図１，２に示すような構成において発生し得る電界は、例えば図３の概略図に示すようになる。図３に示すとおり、交流電源３０により電流を印加した時には、可動電極１０と固定電極９との間に電界Ｅが生じ、電界Ｅの分布特性は可動電極１０から固定電極９側に近づくにつれて順次弱くなる。すなわち、電界Ｅが弱い固定側フランジ８にゲッター１６を配置すれば、可動側フランジ７に配置した場合と比較して、ゲッター１６に対する電界Ｅの悪影響（電界の影響で被吸着対象が再放出される可能性）はより少なくなる。
【００４３】
本実施例１のように、真空容器を構成する２つの導電性部材のうち少なくとも一方の導電性部材（図１，２に示すような構成の場合、好ましくは固定側フランジ８）における電界分布の弱い場所にゲッター１６を配置することにより、たとえ真空コンデンサを稼動させることによって電界が生じても、ゲッター１６の長寿命化が図られ、ゲッター１６において一度吸着した被吸着対象が電界の影響で再放出することを防止できる。その結果、真空室１８内の真空度を向上（例えば、製作当時の真空度を維持）することができ、真空コンデンサの耐電圧性を向上（例えば、製作当時の所望の耐電圧を維持）することができる。
【００４４】
なお、図１〜図３中の連通孔２３，収納部２７は、固定側フランジの８の中央部に形成されているが、該中央部から偏位した位置に形成された場合であっても、例えば電極や可動電極支持部材周辺に生じ得る電界がゲッター１６に影響を及ぼさず、且つ、真空室１８内の被吸着対象をゲッター１６で吸着できる位置にあるものであれば、図１〜図３と同様の作用効果が得られることは明らかである。
【００４５】
〔実施例２〕
図４は、本実施形態に係る真空（可変）コンデンサの他例を示す概略説明図である。実施例１同様に、絶縁筒（絶縁性部材；セラミック材料等の絶縁材料から成る筒状の部材）２と、該絶縁筒２の一端側と他端側とにそれぞれ設けられた導電性部材（例えば、銅等の金属から成る部材）３，４と、から成る真空容器１を主な構成としている。前記固定側導電性部材３，可動側導電性部材４においては、前記絶縁筒１の一端側と他端側とに設けられた金属筒５，６と、前記絶縁筒１および前記金属筒５，６を閉塞するように設けられ外部端子を兼ねた固定側フランジ８，可動側フランジ７と、によって構成されている。
【００４６】
該真空容器１内に一対の固定電極９および可動電極１０が配置され、該可動電極１０背面（可動側フランジ７方向）から真空容器１外方向に可動導体１１が延設（図中では真空容器１の軸方向に延設）される。また、可動導体１１（または、可動電極１０）と前記可動側フランジ７との間には、該真空容器１内を気密（真空）にすると共に該可動導体１１を可動にするためのベローズ１４が設けられる。例えば、可動電極１０（または、可動導体１１）を軸方向に移動し、固定電極９に対する可動電極１０の位置を変化させることにより、対向電極間の距離を可変し、静電容量を加減してインピーダンス調整をする。
【００４７】
本実施例２の固定側フランジ８においては、実施例１と同様に、ゲッター１６を収納するための中空状の収納部２７と、該収納部２７の内壁側に固設された有底筒状部材２４と、該収納部２７に備えられた連通孔２３と、収納部２７の開口部側を閉塞する閉塞板と、が形成される。また、固定電極９は、該固定電極９と連通孔２３との間に隙間部９ａを形成（被吸着対象が通過できるように形成）し、該隙間部９ａを介して真空室１８と連通孔２３とが連通するように、固定側フランジ８に設けられる。すなわち、連通孔２３が隙間部９ａを介して固定電極９により覆われている構成である。
【００４８】
このため、固定電極９は、ゲッター１６に対して静電遮蔽（電界相殺）の役割を果たし、ゲッター１６に対する電界集中の緩和に寄与している。このことから、実施例１と比較すると、ゲッター１６は、より電界分布の弱い場所に配置されることとなる。
【００４９】
本実施例２のように、真空容器を構成する２つの導電性部材のうち少なくとも一方の導電性部材における電界分布の弱い場所にゲッターを配置することにより、たとえ真空コンデンサの稼動に伴って電界が生じても、ゲッター１６の長寿命化が図られ、実施例１と同等以上の作用効果を奏する。
【００５０】
なお、図４中の連通孔２３，収納部２７は、固定側フランジの８の中央部から偏位した位置に形成されているが、該中央部に形成された場合であっても、例えば電極や可動電極支持部材周辺に生じ得る電界がゲッター１６に影響を及ぼさず、且つ、真空室１８内の被吸着対象をゲッター１６で吸着できる位置にあるものであれば、図４と同様の作用効果が得られることは明らかである。
【００５１】
〔実施例３〕
図５は、本実施形態に係る真空（固定）コンデンサの一例を示す概略説明図であり、実施例１，２同様に、絶縁筒（絶縁性部材；セラミック材料等の絶縁材料から成る筒状の部材）２の一端側と他端側とに導電性部材（例えば、銅等の金属から成る部材）３，４を設けて成る真空容器１を主な構成としている。前記導電性部材３，４においては、前記絶縁筒２の一端側と他端側とに設けられた金属筒５，６と、前記絶縁筒２および前記金属筒５，６を閉塞するように設けられ外部端子を兼ねたフランジ７，８と、によって構成されている。
【００５２】
この一方のフランジ８の内側（真空容器１の内側）には、内径の異なる複数の円筒状電極部材を同心円状に一定間隔を隔てて構成された一方の固定電極９ａが取付けられる。また、この一方の固定電極９ａの間隙内に非接触で挿出入できるように、内径の異なる複数の円筒状電極部材を同心円状に一定間隔を隔てて構成された他方の固定電極９ｂが、他方のフランジ７に取付けられる。
【００５３】
本実施例３の一方のフランジ８においては、実施例１と同様に、ゲッター１６を収納するための中空状の収納部２７と、該収納部２７の内壁側に固設された有底筒状部材２４と、真空室１８と収納部２７とを連通する連通孔２３と、該連通孔２３の周囲において一方のフランジ８における中央部から突出（真空室１８内側に突出）した円環状の突出部２２と、収納部２７の開口部側を閉塞する閉塞板と、が形成されている。
【００５４】
すなわち、実施例１同様に、ゲッター１６は、電界分布の弱い場所に配置されることとなる。また、一方のフランジ８に形成された突出部２２は、静電遮蔽（電界相殺）の役割を果たし、ゲッター１６に対する電界集中の緩和に寄与する。
【００５５】
本実施例３のように、真空容器を構成する２つの導電性部材のうち少なくとも一方の導電性部材における電界分布の弱い場所にゲッターを配置することにより、たとえ真空コンデンサの稼動に伴って電界が生じても、ゲッター１６の長寿命化が図られ、実施例１，２と同様の作用効果を奏する。
【００５６】
なお、図５の真空コンデンサにおいて、たとえ固定電極９ａ，９ｂが省略された構造であっても、例えば一方のフランジ８と他方のフランジ７とに対し、互いに接近する方向に突出する突出部２２がそれぞれ対向するように形成され、それぞれの突出部２２に電流が印加されることにより静電容量が形成される構造の場合には、各突出部２２が固定電極９ａ，９ｂ同様の機能を果たし、実施例１および実施例２と同様の作用効果を奏する。
【００５７】
以上、本発明において、記載された具体例に対してのみ詳細に説明したが、本発明の技術思想の範囲で多彩な変形および修正が可能であることは、当業者にとって明白なことであり、このような変形および修正が特許請求の範囲に属することは当然のことである。
【００５８】
例えば、ゲッター１６を少なくとも一方の導電性部材に形成された収納部２７に配置した構成、すなわち該ゲッター１６が電界の影響を受けない（あるいは影響が小さい）構成の真空コンデンサであれば、収納部２７，突出部２２，有底筒状部材，閉塞板，気密手段２５，連通孔２３等は種々の形状のものを適用したり適宜省略しても、実施例１や２，３同様の作用効果が得られることは明らかである。
【００５９】
また、本実施例では、特定の形状の真空コンデンサについて説明したが、固定電極，可動電極，可動導体，ベローズ等の各種部材において、それぞれ種々の形状のものを適用したり適宜省略しても、実施例１〜３同様の作用効果が得られることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施例１における真空可変コンデンサの一例を示す概略説明図。
【図２】本発明の実施例１における固定側端板の拡大図。
【図３】真空コンデンサにおける電界分布図。
【図４】本発明の実施例２における真空可変コンデンサの他例を示す概略説明図。
【図５】本発明の実施例３における真空固定コンデンサの一例を示す概略説明図。
【図６】従来の真空可変コンデンサの一例を示す概略説明図。
【符号の説明】
【００６１】
１…真空容器
２…絶縁筒
３…固定側導電性部材
４…可動側導電性部材
８…固定側フランジ
９…固定電極
１０…可動電極
１４…ベローズ
１６…ゲッター
２２…突出部
２３…連通孔
２７…収納部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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