(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
上記透明基板に積層された透明電極および金属電極と、
上記透明電極および上記金属電極の間に介在する複数の有機発光層と、
を備える有機ＥＬ表示装置であって、
上記金属電極は、上記有機発光層側に位置し、可視光を透過させることが可能な厚さとされた薄膜金属層と、上記薄膜金属層と導通し、かつ上記薄膜金属層よりも上記有機発光層から離間した厚膜金属層とを含んでおり、
上記薄膜金属層の少なくとも一部と、上記厚膜金属層の少なくとも一部との間には、可視光を吸収する可視光吸収層が介在しているとともに、
上記薄膜金属層と上記厚膜金属層とは、上記透明基板の面内方向において上記複数の有機発光層とは重ならない位置にある２以上の連結部において導通しており、
上記複数の有機発光層を区画する透光性を有する絶縁層を備え、
隣合う上記連結部は、上記複数の有機発光層を挟んで配置されており、
上記可視光吸収層は、上記隣合う連結部の間において、上記複数の有機発光層と上記絶縁層とを超えるように設けられていることを特徴とする、有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の電極間に有機層を介在させ、この有機層に電界を与えることにより発光させる有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図３は、従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示している（たとえば特許文献１参照）。同図に示された有機ＥＬ表示装置Ｘは、基板９１、透明電極９２、金属電極９３、および複数の有機発光層９４を備えている。有機発光層９４は、有機材料からなる層であり、透明電極９２および金属電極９３間に電圧が印加されることにより、たとえば、赤色光、緑色光、青色光のいずれかを発色可能とされている。複数の有機発光層９４は、絶縁層９５によって互いに区画されている。このような構成によって、有機ＥＬ表示装置Ｘは、それぞれが赤色光、緑色光、青色光からなる複数の画素によって構成された表示領域（図示略）によってカラー画像を表示可能とされている。さらに、基板９１の裏面には、反射防止フィルム９６が貼付されている。反射防止フィルム９６は、位相差フィルム９６ａと偏光フィルム９６ｂとが積層されたものである。有機ＥＬ表示装置Ｘに向かってきた外光は、反射防止フィルム９６を透過した後に金属電極９３によって反射される。この反射された外光は、反射防止フィルム９６によってほとんど吸収される。これにより、有機ＥＬ表示装置Ｘがぎらつくことを抑制することができる。
【０００３】
しかしながら、上述した外光のみでなく、有機発光層９４から発せられた光も反射防止フィルム９６を透過することとなる。一般的に、反射防止フィルム９６は、その透過率が４０〜５０％程度である。このため、有機発光層９４から発せられた光の５０〜６０％程度が、反射防止フィルム９６によって吸収されてしまう。したがって、有機ＥＬ表示装置Ｘの高輝度化とぎらつき防止とを両立させることは困難であった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２９４４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、高輝度化とぎらつき防止との両立を図ることが可能な有機ＥＬ表示装置を提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によって提供される有機ＥＬ表示装置は、透明基板と、上記透明基板に積層された透明電極および金属電極と、上記透明電極および上記金属電極の間に介在する複数の有機発光層と、を備える有機ＥＬ表示装置であって、上記金属電極は、上記有機発光層側に位置し、可視光を透過させることが可能な厚さとされた薄膜金属層と、上記薄膜金属層と導通し、かつ上記薄膜金属層よりも上記有機発光層から離間した厚膜金属層とを含んでおり、上記薄膜金属層の少なくとも一部と、上記厚膜金属層の少なくとも一部との間には、可視光を吸収する可視光吸収層が介在しているとともに、上記薄膜金属層と上記厚膜金属層とは、上記透明基板の面内方向において上記複数の有機発光層とは重ならない位置にある２以上の連結部において導通しており、上記複数の有機発光層を区画する透光性を有する絶縁層を備え、隣合う上記連結部は、上記複数の有機発光層を挟んで配置されており、上記可視光吸収層は、上記隣合う連結部の間において、上記複数の有機発光層と上記絶縁層とを超えるように設けられていることを特徴としている。
【０００７】
このような構成によれば、上記基板に入射した外光は、上記薄膜金属層を透過して上記可視光吸収層によって吸収される。したがって、たとえば偏光フィルムおよび位相差フィルムからなる反射防止フィルムを設けることなく、外光によるぎらつきを防止することができる。一方、上記有機発光層から上記基板側に進行した光は、上記基板を透過した後に、直接上記有機ＥＬ表示装置外に出射される。この光は、たとえば反射防止フィルムによって減衰することがない。したがって、上記有機ＥＬ表示装置の高輝度化を図ることができる。また、このような構成によれば、上記有機発光層を透過してきた外光が上記連結部によって反射されてしまうことを回避することが可能であり、ぎらつき防止を図るのに好適である。
【０００９】
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
【００１１】
図１は、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の第１実施形態を示している。本実施形態の有機ＥＬ表示装置Ａ１は、透明基板１、透明電極２、金属電極３、複数の有機発光層４、可視光吸収層５、および絶縁層６を備えており、図中下方を向く表示領域（図示略）にカラー画像を表示可能に構成されている。
【００１２】
透明基板１は、透明電極２、金属電極３、および複数の有機発光層４などを支持するためのものであり、たとえばガラス製である。透明基板１の図中下面は、上記表示領域を形成している。透明基板１が透明なガラス製とされていることにより、有機ＥＬ表示装置Ａ１は、透明基板１を透して光を出射する、いわゆるボトムエミッション型として構成されている。
【００１３】
透明電極２は、有機発光層４に電界を与えて、正孔を注入するためのいわゆるアノード電極であり、図外の電源の＋極と導通している。透明電極２は、たとえばＩＴＯなどの透明な良導電体からなる。
【００１４】
複数の有機発光層４は、透明電極２および金属電極３によって印加された電圧によって発光する層であり、有機ＥＬ表示装置Ａ１の光源である。有機発光層４に含まれる発光物質の種類を選択することにより、赤色光、緑色光および青色光などを自発光するように構成されている。上記発光物質としては、たとえばトリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、ジトルイルビニルビフェニル、トリ（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯体（Ｅｕ（ＤＢＭ）3（Ｐｈｅｎ））、およびフェニルピリジンイリジウム化合物などの蛍光またはりん光性発光物質を使用することができる。もちろん、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリアルキルチオフェン、ポリフルオレン、およびこれらの誘導体などのような高分子発光物質を用いてもよい。
【００１５】
有機発光層４と透明電極２との間には、正孔注入層および正孔輸送層（いずれも図示略）が形成されている。上記正孔注入層は、有機発光層４を発光させるために必要な駆動電圧を低下させるための層であり、たとえばフタロシアニン、オリゴアミンなどを含んでいる。上記正孔輸送層は、上記正孔注入層からの正孔を有機発光層４へと効率よく輸送するための層であり、たとえは、ジアミン、レニレンジアミンなどを含んでいる。また、有機発光層４と金属電極３との間に、電子注入層を設けてもよい。
【００１６】
複数の有機発光層４は、絶縁層６によって互いに仕切られている。絶縁層６は、たとえば、ＳｉＯ2またはレジスト材料などの絶縁材料からなる。
【００１７】
金属電極３は、有機発光層４に電界をあたえて、電子を注入するためのいわゆるカソード電極であり、上記電源の−極に導通している。金属電極３は、たとえばＡｌ，Ｍｇ，Ａｇなどからなり、薄膜金属層３１と厚膜金属層３２とからなる。薄膜金属層３１は、有機発光層４上に積層されており、その厚さが５０〜１００Åとされている。このような厚さとされた薄膜金属層３１は、可視光の多くを透過させる。厚膜金属層３２は、薄膜金属層３１を挟んで有機発光層４から離間した側に設けられている。厚膜金属層３２は、たとえばＡｌ，Ｍｇ，Ａｇなどからなり、その厚さが１０００〜２０００Åとされている。薄膜金属層３１と厚膜金属層３２とは、複数の連結部３ａにおいて互いに接している。複数の連結部３ａは、透明基板１の面内方向において複数の有機発光層４を避けた位置に配置されている。
【００１８】
可視光吸収層５は、たとえばＣｕＰｃまたはアドベンゼンなどの可視光を良好に吸収する材質からなり、その厚さがたとえば数千Å程度とされている。可視光吸収層５は、薄膜金属層３１と厚膜金属層３２との間に位置しており、金属電極３の複数の連結部３ａによって複数の領域に区画されている。これらの領域は、透明基板１の面内方向において複数の有機発光層４と重なる位置に設けられている。
【００１９】
本実施形態においては、透明電極２および金属電極３は、それぞれが複数の帯状要素を有するものとされている。透明電極２の帯状要素と金属電極３の帯状要素とは、互いに直交しており、互いの交差部分に有機発光層４が形成されている。このような構成により、有機ＥＬ表示装置Ａ１は、いわゆるパッシブマトリクス方式によって制御されている。なお、本実施形態とは異なり、本発明に係る有機ＥＬ表示装置をアクティブマトリクス方式によって制御される構成としてもよい。
【００２０】
有機ＥＬ表示装置Ａ１を製造するには、透明基板１上に絶縁層６を形成した後に、透明電極２および複数の有機発光層４を形成する。次いで、たとえばＣＶＤ法により薄膜金属層３１を形成する。この薄膜金属層３１上に、複数の領域に区画された可視光吸収層５を形成する。そして、薄膜金属層３１および可視光吸収層５を覆うように、たとえばＣＶＤ法により厚膜金属層３２を形成する。これにより、有機ＥＬ表示装置Ａ１が得られる。
【００２１】
次に、有機ＥＬ表示装置Ａ１の作用について説明する。
【００２２】
本実施形態によれば、薄膜金属層３１は、その厚さが５０〜１００Åと非常に薄いため、可視光をほとんど透過させる。このため、基板１の下面から入射した外光は、薄膜金属層３１を透過して可視光吸収層５に到達する。ＣｕＰｃまたはアドベンゼンなどからなる可視光吸収層５は、薄膜金属層３１を透過してきた外光を好適に吸収する。したがって、たとえば偏光フィルムおよび位相差フィルムからなる反射防止フィルムを設けることなく、外光によるぎらつきを防止することができる。一方、有機発光層４から基板１側に進行した光は、基板１を透過した後に、直接有機ＥＬ表示装置Ａ外に出射される。このため、たとえば反射防止フィルムによって減衰することがない。したがって、有機ＥＬ表示装置Ａ１の高輝度化を図ることができる。
【００２３】
また、薄膜金属層３１は、連結部３ａにおいて厚膜金属層３２と導通している。これにより、薄膜金属層３１を用いて有機発光層４に対して適切に電圧を印加することができる。さらに、連結部３ａは、有機発光層４とは重ならない位置に配置されている。これにより、有機発光層４を透過してきた外光が連結部３ａによって反射されてしまうことを回避することが可能であり、ぎらつき防止を図るのに好適である。
【００２４】
図２は、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の第２実施形態を示している。なお、本図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。本実施形態の有機ＥＬ表示装置Ａ２は、連結部３ａの配置、および可視光吸収層５が設けられている範囲が、上述した実施形態と異なっている。本実施形態においては、隣り合う連結部３ａが、３つの有機発光層４を挟んで配置されている。言い換えると、可視光吸収層５は、２つの絶縁層６を越えるように設けられている。
【００２５】
このような実施形態によっても、有機ＥＬ表示装置Ａ２の高輝度化とぎらつき防止を図ることができる。特に、絶縁層６が透光性を有する場合、外光が絶縁層６内を進行することとなる。この外光を、可視光吸収層５のうち絶縁層６に跨る部分によって適切に吸収することが可能である。これは、有機ＥＬ表示装置Ａ２のぎらつき防止を図るのに有利である。
【００２６】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る有機ＥＬ表示装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
【００２７】
透明電極２および金属電極３は、いずれがアノード電極またはカソード電極であってもよい。本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、フルカラー表示が可能なものに限定されず、単色表示用に構成されたものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の第１実施形態を示す要部断面図である。
【図２】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の第２実施形態を示す要部断面図である。
【図３】従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す要部断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
Ａ１，Ａ２  有機ＥＬ表示装置
１          透明基板
２          透明電極
３          金属電極
３１        薄膜金属層
３２        厚膜金属層
３ａ        連結部
４          有機発光層
５          可視光吸収層
６          絶縁層
【図１】
0005330655.tif 000002
【図２】
0005330655.tif 000003
【図３】
0005330655.tif 000004