(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、前記第１基板に対向配設される第２基板とを有し、前記第１基板は、表示領域内に設けられた配線に接続され、非表示領域に配線される複数本の引回し配線と、前記引回し配線が外部制御回路へ接続される端子領域と、を有し、前記第１、第２基板のいずれか一方の基板の前記非表示領域に対応する箇所にシール材を塗布して貼合せた液晶パネルにおいて、
前記第１基板の前記非表示領域には、
前記複数本の引回し配線が、上層と下層との間に第１の絶縁膜が介在する２層構造の各層に分けて配線されており、下層の引回し配線の上に積層された前記第１の絶縁膜は前記下層の引回し配線の厚みに応じた凹凸形状を有し、上層の引回し配線は、前記下層の引回し配線と上下方向に重ならず、かつ、水平方向に前記第１の絶縁膜の凸部分と重ならないようずらして配線され、
前記上層の引回し配線の上に積層された第２の絶縁膜上の、前記上層の引回し配線の真上の部分のみに、前記上層の引回し配線を保護する突起形状の保護部材が配設されている、
ことを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
前記保護部材は、前記シール材の近傍、又は前記第２基板を切除する切除線から前記端子領域へ延設させた、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記保護部材は、突起状スペーサとして形成され、前記第１基板の表示領域には、柱状フォトスペーサが形成され、前記突起状スペーサは前記柱状フォトスペーサと同一工程及び同一材料で形成した、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記第１基板の前記非表示領域は、矩形状の前記表示領域の対向する２辺に沿って前記複数本の引回し配線を配置する第１の非表示領域と、第２の非表示領域と、を有し、
前記複数本の引回し配線に接続する前記表示領域内に設けられた配線の配置順に応じて、前記複数本の引回し配線を奇数番目の引回し配線と偶数番目の引回し配線とに分け、前記奇数番目の引回し配線または前記偶数番目の引回し配線のうちの一方を前記第１の非表示領域に配置し、他方を前記第２の非表示領域に配置する、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記第１基板の前記非表示領域には、前記上層の引回し配線上を覆う前記第２の絶縁膜の上に層間膜が形成される、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液晶パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルに係り、詳しくは表示領域から引出されて非表示領域に配設され
る引回し配線に断線予防対策を施した液晶パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルは、画素電極等を設けた第１基板と、この基板に対向配設される第２基板と
を有する。そして、液晶パネルはこれらの第１、第２基板のいずれか一方の基板周囲の液
晶注入口の形成部分を除く箇所にシール材を塗布し、第１、第２基板を貼合わせて、液晶
注入口から第１、第２基板間に形成された空間内に液晶を注入し、この注入口を封止材で
封止する等の工程を経て製造されている。
【０００３】
この液晶パネルは、生産性を向上させるため、通常、大判の２枚のガラス基板、いわゆ
る２枚のマザー基板を貼合せた後に分割することによって製造されている。この工程中に
、個々の液晶パネルには、一方の基板を切断することによって他方の基板に設けられた端
子領域が露出するように形成される。
【０００４】
ところが、露出された端子領域は、通常、その表面が平坦でなく高低差を有する凸凹面
となっている。このため、基板の切断時等に発生したガラス粉やカレット（破片）等の異
物がこの凸凹面に当たると、端子領域に配設された配線を覆う絶縁膜が破れる等してこの
配線が損傷し断線してしまうことがある。そこで、このような損傷及び断線を防止するた
めに、最上層に樹脂膜を設けて配線を保護するようにした液晶表示装置が提案されている
（例えば、下記特許文献１参照）。
【０００５】
図１２Ａは液晶表示装置に設けられた液晶表示パネルの平面図、図１２Ｂは図１２Ａの
XIIＢ−XIIＢ線の断面図、図１２Ｃは図１２ＢのXIIＣ部分の拡大断面図である。以下に
は、図１２を参照して、下記特許文献１に開示された液晶表示装置を説明する。
【０００６】
この液晶表示装置２０は、シール材２４で貼合わされた第１、第２透明基板２２、２３
を有する液晶パネル２１を備えている。第１透明基板２２は、第２透明基板２３と対向す
る面に、シール材２４で囲まれた表示領域２５と、配線２６が形成された端子領域２７と
、を有している。この端子領域２７の最上層には、配線２６が外部接続される部分以外に
、表面が平坦な樹脂膜３０が設けられている。第１透明基板２２の端子領域２７は、第１
、第２透明基板２２、２３をシール材２４によって貼合わせた後に、第２透明基板２３の
表面に設けたスクライブ線２３ａに沿って切断することによって、外部に露出されるよう
にして作製される。
【０００７】
第２透明基板２３が切断される箇所の付近においては、第１透明基板２２上には配線２
６が形成され、この上に例えばゲート絶縁膜２８及び保護絶縁膜２９等からなる絶縁層が
形成され、その上に樹脂膜３０が積層されている。液晶パネル２１は、これらの第１透明
基板２２側の積層体の上にシール材２４、及び第２透明基板２３が位置するようにして第
２透明基板２３と貼合わされた後、第２透明基板２３が切断されることによって、端子領
域２７が露出されるようにする。この構成によると、切断時には、樹脂膜３０によって配
線２６が保護されるので、ガラス粉やカレット等の異物によって配線２６が傷付けられ難
くなり、その結果配線の断線が抑制される。
【特許文献１】特開２００７−７８９３１号公報（段落〔００２９〕、〔００３０〕、図３）
【特許文献２】特開平９−３１１３４１号公報（段落〔００１０〕、図２）
【特許文献３】特開平２００７−２５０６６公報（段落〔００５０〕、図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特にＴＶ用やＰＣモニター用等の大型の液晶表示装置に搭載される液晶パネルは、配線
の１本１本がある程度の太さを有するので、ガラス粉やカレットによる配線の断線はあま
り発生しない。しかし、携帯電話機に代表される携帯情報端末等に搭載される小型の液晶
パネルは、更なる小型化及び高精細化が求められている。しかし、このような小型の液晶
パネルは、さらに小型化及び高精細化の傾向にあることから、配線の１本１本が極細化さ
れるとともに各配線間の隙間も極小化されてきている。このため、例えば、液晶パネルの
非表示領域に設けられた引回し配線にストレスが加わって配線が断線し易くなったり、ま
た、端子領域においても上記のような異物による配線の損傷、断線及び配線間の短絡事故
が起こり易くなったりしている。したがって、上記特許文献１に開示された液晶表示装置
のように配線の上に樹脂膜を設けただけでは、このような断線や短絡事故の発生を抑制す
ることが難しい。
【０００９】
また、このような液晶パネルにおいては、パネル全体の形状を大きくすることなく表示
領域だけをできるだけ大きくするために、表示領域周辺部を狭くする狭額縁化が図られて
いる。この狭額縁化に伴い、表示領域周辺に設けられる引回し配線を２層構造にした技術
も知られている（例えば、上記特許文献２参照）。しかし、上記特許文献２に開示された
液晶パネルのように引回し配線を２層配線構造にしたものでも、上層の引回し配線は保護
膜で覆われるだけなので、配線の断線や短絡事故が起こる恐れがある。
【００１０】
さらに、表示領域内及びこの表示領域周辺の非表示領域にフォトスペーサを配設した液
晶パネルも知られている（例えば、上記特許文献３参照）。なお、上記特許文献３の液晶
パネルは、フォトスペーサをカラーフィルタ基板側に配設したものである。
【００１１】
本発明は、このような従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、表示
領域から周辺の非表示領域に引出されて配設された引回し配線が断線しないような構造に
することによって信頼性の向上を図った液晶パネルを提供することにある。
【００１２】
本発明の他の目的は、表示領域から周辺の非表示領域に引出されて配設される引回し配
線に断線予防を施すだけではなく、表示領域内のセルギャップを均一に保持するようにし
た液晶パネルを提供することにある。
【００１３】
本発明のまた他の目的は、多層配線構造にした引回し配線が断線しないような構造にす
ることによって信頼性の向上を図ると同時に小型化を可能にした液晶パネルを提供するこ
とにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明の液晶パネルは、第１基板と、第１基板に対向配設される第２基板とを有し、第１基板は、表示領域内に設けられた配線に接続され、非表示領域に配線される複数本の引回し配線と、引回し配線が外部制御回路へ接続される端子領域と、を有し、第１、第２基板のいずれか一方の基板の非表示領域に対応する箇所にシール材を塗布して貼合せた液晶パネルにおいて、第１基板の非表示領域には、複数本の引回し配線が、上層と下層との間に絶縁膜が介在する２層構造の各層に分けて配線されており、下層の引回し配線の上に積層された絶縁膜は下層の引回し配線の厚みに応じた凹凸形状を有し、上層の引回し配線は、下層の引回し配線と上下方向に重ならず、かつ、水平方向に絶縁膜の凸部分と重ならないようずらして配線され、上層の引回し配線の真上の部分に対応する絶縁膜の上にのみ、上層の引回し配線を保護する突起形状の保護部材が配設されている。
【００１５】
上記本発明の液晶パネルによれば、第１基板は、引回し配線を覆う絶縁膜の上に、突起形状の保護部材を配設することによって引回し配線を保護した状態で、第２基板と貼合わされているので、引回し配線に掛かるストレスを緩和することができる。その結果、第２基板と貼合わせた後この第２基板の一部を切除する際に、この保護部材によって引回し配線が損傷したり、断線したり、さらには配線間の短絡事故が生じたりすることを抑制できる。また、第１基板上に形成される構造物全体の厚みを薄くすることが可能となる。
【００１６】
また、本発明の液晶パネルにおいて、保護部材は、シール材の近傍、又は第２基板を切除する切除線から端子領域へ延設させるのが好ましい。
【００１７】
上記好ましい態様によれば、保護部材をシール材の近傍、又は前記第２基板を切除する
切除線から端子領域へ延設されているので、これらの領域において、引回し配線が損傷し
たり、断線したり、さらには配線間の短絡事故が生じたりすることを効果的に抑制できる
。
【００１８】
また、本発明の液晶パネルにおいて、保護部材は、突起状スペーサとして形成され、第１基板の表示領域には、柱状フォトスペーサが形成され、突起状スペーサは柱状フォトスペーサと同一工程及び同一材料で形成するのが好ましい。
【００１９】
上記好ましい態様によれば、保護部材を突起状スペーサで形成したために、表示領域内
に配設されるフォトスペーサと協働させてセルギャップを均一に保持することが可能とな
る。特に、非表示領域においても、第１、第２基板との間のギャップを均一に維持するこ
とが可能となり特にシール材付近での表示ムラをなくすことができる。また、突起状スペ
ーサは、フォトスペーサと同一工程、同一材料で形成されるから、保護部材は特別な工数
を増やすことなく簡単に形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶パネルを例示するものであって、本発明を
この液晶パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその
他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
【００２７】
図１は本発明の第１の実施形態に係る液晶パネルであって、積層したカラーフィルタ基
板からＴＦＴアレイ基板の配線を透視して見えるように図示した平面図である。図２は図
１のII−II線の断面図である。図３は図１の表示領域内の１画素を拡大した平面図である
。図４は図３のIV−IV線の拡大断面図である。図５は図１のＶ−Ｖ線の断面図である。図
６は図１のVI部分の拡大平面図である。図７は図６のVII−VII線の拡大断面図である。図
８は本発明の第２の実施形態に係る液晶パネルの表示領域内の１画素を拡大した平面図で
ある。図９は図８のIX−IX線の断面図である。図１０は第２の実施形態に係る液晶パネル
の図５に対応する断面図である。図１１は第２の実施形態に係る液晶パネルの図７に対応
する拡大平面図である。
【００２８】
［第１の実施形態］
まず、図１、図２を参照して、本発明の第１の実施形態に係る液晶パネルを説明する。
この液晶パネル１は、アクティブマトリクス方式を採用した液晶パネルである。なお、こ
の発明は、このタイプの液晶パネルに限定されるものではなく、他のタイプのものにも適
用できるものである。この液晶パネル１は、互いに対向配置される略矩形状の透明材料の
基板、例えばガラス基板からなる本発明の第１基板としてのＴＦＴアレイ基板（以下、単
に「アレイ基板」という）２と、本発明の第２基板としてのカラーフィルタ基板（以下、
単に「ＣＦ基板」という）１２と、を有している。液晶パネル１は、これらのアレイ基板
２及びＣＦ基板１２を、いずれか一方の基板の外周囲にシール材１０を塗布して、内部に
所定大きさの空間が形成されるように貼合せ、この空間内部に液晶ＬＣを封入することに
よって構成される。ＣＦ基板１２は、貼合わせた後にＣＦ基板１２に設けられたスクライ
ブ線ＳＣに沿って切断され、これによってアレイ基板２上には端子領域Ｔが露出される。
この端子領域Ｔには、液晶を駆動するための液晶駆動用ドライバＤｒが設けられている。
また、アレイ基板２及びＣＦ基板１２の外表面にはそれぞれ偏光板１８ａ、１８ｂが設け
られている。アレイ基板２及びＣＦ基板は、それぞれの対向する面に、各種の電極及び配
線並びにカラーフィルタ等が設けられている。図２では、これらの配線等をそれぞれ構造
物３、１３として図示した。
【００２９】
アレイ基板２は、その表面に複数本のゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ（ｎ＝１、２、３…）
（以下、これらを総称したものを「ゲート配線ＧＷ」ともいう）と複数本のソース配線Ｓ
Ｗ１〜ＳＷｎ（ｎ＝１、２、３…）（以下、これらを総称したものを「ソース配線ＳＷ」
ともいう）とが表示領域ＤＡ内において間にゲート絶縁膜４（図４参照）を介してマトリ
クス状に配設されている。
【００３０】
この表示領域ＤＡの周囲には非表示領域ＮＤＡが設けられる。非表示領域ＮＤＡには、
複数本の引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ及びＳＬ１〜ＳＬｎが配設されている。これらの引回
し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ及びＳＬ１〜ＳＬｎは、一端が表示領域ＤＡ内の各ゲート配線ＧＷ
１〜ＧＷｎ及びソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎに接続されている。また、これらの引回し配線
ＧＬ１〜ＧＬｎ及びＳＬ１〜ＳＬｎの他端は、端子領域Ｔのドライバ実装領域Ｔ１まで延
設されて、この領域に実装された液晶駆動用ドライバＤｒに接続されている。
【００３１】
これらの引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ及びＳＬ１〜ＳＬｎは、後述するようにアレイ基板
２上に絶縁膜を介して低位及び高位の引回し配線の２層配線構造になっている。そして高
位の引回し配線上には、絶縁層を介して突起状の保護部材１１ｂ（図５参照）が形成され
ている。この突起状の保護部材１１ｂは、所定形状の突起状スペーサで形成するのが好ま
しい。
【００３２】
高位の引回し配線上に突起状の保護部材１１ｂを配設することよって、従来技術が抱え
ていた課題、例えば引回し配線に掛かるストレスを緩和することができるとともに引回し
配線の損傷、断線及び配線間の短絡事故を抑制できる。また、この突起状の保護部材を突
起状スペーサで形成すると、表示領域ＤＡ内に配設するフォトスペーサ１１ａと協働して
セルギャップを均一に保持することが可能になる。
【００３３】
図１〜図７を参照して、この液晶パネル１の製造プロセスを説明する。液晶パネル１は
、大判のアレイ基板用のマザーガラス基板及びＣＦ基板用のマザーガラス基板（以下、単
に「マザー基板」という）から作製される。すなわち、液晶パネル１は、それぞれ大判の
マザー基板に所定の電極及び配線並びにカラーフィルタ等を形成する工程、これらの基板
上の個々の液晶パネルを形成するセル領域にシール材を塗布した後、両基板を個々のセル
毎に内部に所定大きさの空間が形成されるように貼合わせる工程、この貼合わされた基板
を個々のセルに分割する工程、個々のセルの内部空間に液晶を注入する工程、液晶注入口
を封止材で封止する工程等を経て製作される。さらに、個々の液晶パネル１は、ＣＦ基板
１２に設けたスクライブ線ＳＣに沿って切断されることによって、アレイ基板２上に端子
領域Ｔが露出させられるようにされる。
【００３４】
液晶パネル１は、このようにマザー基板を用いて上記製造プロセスを経て製作されるが
、以下、説明の便宜上、１個の液晶パネルについてその製造プロセスを詳述する。
【００３５】
アレイ基板２を構成するガラス基板２ａの上面、すなわち、液晶ＬＣと接触する面には
、行方向（横方向）に所定間隔をあけて複数本のゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ及び補助容量
電極Ｃが所定の配置に配設される。これらのゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ及び補助容量電極
Ｃは酸化シリコン（ＳｉＯ２）又は窒化シリコン（ＳｉＮＸ）等の無機透明絶縁材料から
なるゲート絶縁膜４によって覆われる。次いで、このゲート絶縁膜４の上には、上記のゲ
ート配線ＧＷ１〜ＧＷｎと直交するようにマトリクス状にソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎを配
設されるとともに、これらのゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎとソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎとが
交差する箇所は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）ＴＦＴが設けられ、
これらはＳｉＯ２又はＳｉＮＸ等の無機透明絶縁材料からなるパッシベーション膜（以下
、「保護絶縁膜」ともいう）５で覆われる。このＴＦＴは、ガラス基板２ａの上面に形成
されたゲート電極Ｇを覆うゲート絶縁膜４上に半導体層６を設け、この半導体層６にソー
ス電極Ｓ及びドレイン電極Ｄの一端を接続させることで構成される。なお、ドレイン電極
Ｄの他端は補助容量電極Ｃにゲート絶縁膜４を介して平面視で重合している。
【００３６】
ＴＦＴに接続されたソース電極Ｓはソース配線ＳＷから延在されており、ドレイン電極
Ｄは画素電極８に接続されている。これらは保護絶縁膜５によって覆われている。また、
ゲート電極Ｇはゲート配線ＧＷから延在されている。これらのゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ
とソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎとで囲まれるそれぞれの領域が、いわゆる１画素（サブ画素
）を構成し、これらゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ、ソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎ、及びＴＦＴ
から構成される複数の画素が形成されたエリアが表示領域ＤＡとなっている。保護絶縁膜
５の上には所定厚の層間膜７が形成される。この層間膜７の上には画素電極８が形成され
る。また、保護絶縁膜５及び層間膜６の、補助容量電極Ｃの真上の部分にはコンタクトホ
ールＣＨが形成されて、このコンタクトホールＣＨを介して画素電極８とドレイン電極Ｄ
とが接続される。さらに、ＴＦＴの上方には、柱状スペーサ１１ａが形成される。柱状ス
ペーサ１１ａは、感光性樹脂、例えばアクリル系感光剤を所望の厚膜に塗布した後、所定
のマスクを使用して、露光及び現像並びに熱処理等を行うことによって、所定の形状に形
成される。
【００３７】
その後、柱状スペーサ１１ａを含めて表示領域ＤＡ内が配向膜９によって塗布されるこ
とによって覆われる（図４参照）。さらに、この配向膜９にはラビング処理が施される。
【００３８】
表示領域ＤＡの周囲は、非表示領域ＮＤＡであるが、この非表示領域ＮＤＡは、図１に
示すように、表示領域ＤＡの両側部のエリアＷＡ１、ＷＡ２及びスクライブ線ＳＣよりも
下側の端子領域Ｔから構成される。この非表示領域ＮＤＡには、引回し配線ＧＬ、ＳＬが
配設され、表示領域ＤＡ内のゲート配線ＧＷ及びソース配線ＳＷにそれぞれ接続される。
【００３９】
次に、図１及び図５〜図７を参照して、非表示領域ＮＤＡに配設される引回し配線ＧＬ
、ＳＬの配線構造を説明する。
表示領域ＤＡ内の各ゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ及び各ソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎは、表
示領域ＤＡから非表示領域ＮＤＡへ引出されてそれぞれの引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ、Ｓ
Ｌ１〜ＳＬｎに接続される。すなわち、各ゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎは、アレイ基板２の
表示領域ＤＡの外、すなわち表示領域ＤＡの両側のエリアＷＡ１、ＷＡ２へ引出されて、
列方向（縦方向）に沿って設けられたゲート配線用の各引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ（ｎ＝
１、２、３…）に接続される。このとき、奇数行のゲート配線、例えばＧＷ１、ＧＷ３、
ＧＷ５…は、図１の左側のエリアＷＡ１に引出されて、それぞれの引回し配線ＧＬ１、Ｇ
Ｌ２、ＧＬ３…ＧLｍに接続される。一方、偶数行のゲート配線、例えばＧＷ２、ＧＷ４
、ＧＷ６…は、図１の右側のエリアＷＡ２に引出されてそれぞれ引回し配線ＧＬｍ＋１、
ＧＬｍ＋２、ＧＬｍ＋３…ＧＬｎに接続される。このように、ゲート配線ＧＷを左右に振
分けて引出すことによって、引回し配線ＧＬを基板上にバランスよく配設することが可能
になる。
【００４０】
それぞれの引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎは、表示領域ＤＡ外の両エリアＷＡ１、ＷＡ２内
において２層構造に配線される。すなわち奇数番目の引回し配線ＧＬ１、ＧＬ３…はガラ
ス基板２ａ上に直接形成され、その上にはゲート絶縁膜４が形成され、さらにその上に、
奇数番目の引回し配線ＧＬ１、ＧＬ３…に隣接する偶数番目の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４
…が、奇数番目の引回し配線ＧＬ１、ＧＬ３…に対して上下方向に重ならないよう、左右
に（水平方向に）若干ずらして配線される。
【００４１】
この配線構造を、１つの奇数番目の引回し配線ＧＬ１と、この引回し配線ＧＬ１に隣接
する１つの偶数番目の引回し配線ＧＬ２とを用いて説明すると、図５に示すように、奇数
番目の引回し配線ＧＬ１は、アレイ基板２のガラス基板２ａ上に形成される。ガラス基板
２ａと奇数番目の引回し配線ＧＬ１はゲート絶縁膜４によって覆われ、この上に偶数番目
の引回し配線ＧＬ２が形成される。なお、図５では奇数番目の引回し配線ＧＬ１をガラス
基板２ａ上に形成し、偶数番目の引回し配線ＧＬ２をゲート絶縁膜４上に配設した例を示
したが、この順序を逆にして偶数番目の引回し配線ＧＬ２をガラス基板２ａ上に形成し、
奇数番目の引回し配線ＧＬ１をゲート絶縁膜４上に配設するようにしてもよい。また、図
５に示されているように、奇数番目の引回し配線ＧＬ１とこれに隣接する偶数番目の引回
し配線ＧＬ２とは、上下方向に重ならないように配線されているが、上下方向に重ねて配
線してもよい。下位の奇数番目の引回し配線ＧＬ１の直上に上位の偶数番目の引回し配線
ＧＬ２を形成すれば、引回し配線間の距離を最も小さくすることができるので非表示領域
ＮＤＡのスペースを最小にすることが可能となり、奇数番目の引回し配線ＧＬ１の斜め上
方に偶数番目の引回し配線ＧＬ２を形成すれば、ガラス基板２ａ上に形成される構造物全
体の厚みを薄くすることが可能となる。ゲート絶縁膜４上に形成された偶数番目の引回し
配線ＧＬ２上には、保護絶縁膜５が形成される。さらに、この保護絶縁膜５は、層間膜７
で覆われる。他の引回し配線も同じようにして形成されている。
【００４２】
このように奇数番目の引回し配線ＧＬ１と偶数番目の引回し配線ＧＬ２とをゲート絶縁
膜４を介在して異なる層に形成すると、奇数番目の引回し配線ＧＬ１は、アレイ基板２の
ガラス基板２ａの表面に接触した低位の引回し配線となり、偶数番目の引回し配線ＧＬ２
は、奇数番目の引回し配線ＧＬ１に対して上層に位置する高位の引回し配線となる。そし
て、保護絶縁膜５及び層間膜７からなる絶縁層上の、高位の引回し配線の真上の部分に突
起形状の保護部材としての突起状スペーサ１１ｂが形成される。
【００４３】
また、各ソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎは、アレイ基板２の表示領域ＤＡの外、すなわち表
示領域ＤＡの下方の端子領域Ｔ方向へ引出されて、ソース配線用の各引回し配線ＳＬ１〜
ＳＬｎ（ｎ＝１、２、３…）に接続されている。これらの引回し配線ＳＬ１〜ＳＬｎも２
層配線構造に形成されている。この２層配線構造の高位の引回し配線の上には、それぞれ
突起状スペーサ１１ｂが形成される。したがって、これらの突起状スペーサ１１ｂは、表
示領域ＤＡ外の両エリアＷＡ１、ＷＡ２と、ドライバ実装領域Ｔ１を除く端子領域Ｔと、
に形成されている。
【００４４】
端子領域Ｔにおいては、図７に示すように、高位の引回し配線ＧＬ２が表示領域ＤＡか
ら端子領域Ｔへ延設されて、この延設された配線ＧＬ'２の端部に端子ｔが接続されてい
る。この端子ｔは、保護絶縁膜５及び層間膜７に形成されたコンタクトホール内に設けら
れる。低位の引回し配線ＧＬ１にも、不図示の端子が接続される。この端子も、図示して
いないが、ゲート絶縁膜４、保護絶縁膜５及び層間膜７に形成されたコンタクトホール内
に設けられている。したがって、低位及び高位引回し配線に接続された端子は、深さの異
なるコンタクトホールとして設けられている。
【００４５】
次に、引回し配線及びフォトスペーサの形成方法の一例を説明する。
まず、ゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎに接続された各引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ（ｎ＝１、
２、３…）について説明する。
【００４６】
図１に示すように、まず、アレイ基板２のガラス基板２ａ上に、低位の引回し配線ＧＬ
１、ＧＬ３…が形成される。この低位の引回し配線ＧＬ１、ＧＬ３…は、表示領域ＤＡ外
の各エリアＷＡ１、ＷＡ２において、表示領域ＤＡ内に配線されるゲート配線ＧＷ１〜Ｇ
Ｗｎと同一材料を用いてゲート配線を形成するのと同じ工程で形成される。その後、これ
らの低位の引回し配線ＧＬ１、ＧＬ３…はゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎとともにゲート絶縁
膜４で覆われる。その後、このゲート絶縁膜４の上に高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…
が形成される。この高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…は、表示領域ＤＡ内に配線される
ソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎと同一材料を用いてソース配線を形成するのと同じ工程で形成
される。
【００４７】
これらの各引回し配線は、互いに隣接するものが異なる層に形成された引回し配線とな
っている。すなわち、高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…と低位の引回し配線ＧＬ１、Ｇ
Ｌ３…との間には高低差が生じる。したがって、同一の層に全ての引回し線ＧＬ１〜ＧＬ
ｎを形成する場合よりも配線間の隙間を小さくすることが可能となる。なお、高位の引回
し配線ＧＬ２、ＧＬ４…とゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎとの間にはゲート絶縁膜４が介在し
ているため、このままでは電気的な接続を行うことができない。そこで、高位の引回し配
線ＧＬ２、ＧＬ４…と各ゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎとは、ゲート絶縁膜４にコンタクトホ
ールを形成することによって接続される。図１においては、その接続点Ｊａが例示されて
いる。
【００４８】
次いで、この高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…は、保護絶縁膜５によって覆われる。
この保護絶縁膜５はさらに層間膜７によって覆われる。さらに、高位の引回し配線ＧＬ２
、ＧＬ４…を覆う保護絶縁膜５及び層間膜７からなる絶縁層の真上に突起状スペーサ１１
ｂが形成される。この突起状スペーサ１１ｂは表示領域ＤＡ内の柱状スペーサ１１ａを形
成するのと同じ工程で形成される（図５、図７参照）。
【００４９】
以上、ゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ用の各引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ（ｎ＝１、２、３…
）の形成方法について説明したが、ソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎに接続された各引回し配線
ＳＬ１〜ＳＬｎ（ｎ＝１、２、３…）も同様の方法によって形成される。特に、高位の引
回し配線（例えばＳＬ２、ＳＬ４…）上には、突起状スペーサ１１ｂが形成される。
【００５０】
なお、本実施形態においては、突起状スペーサ１１ｂを高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ
４…あるいはＳＬ２、ＳＬ４…上にのみ形成したが、これは高位の引回し配線ＧＬ２、Ｇ
Ｌ４…あるいはＳＬ２、ＳＬ４…の方が低位の引回し配線ＧＬ１、ＧＬ３…あるいはＳＬ
１、ＳＬ３…より断線等の危険性が高いためである。すなわち、低位の引回し配線ＧＬ１
、ＧＬ３…あるいはＳＬ１、ＳＬ３…の表面には、ゲート絶縁膜４、保護絶縁膜５及び層
間膜７の３層の絶縁材料が配設されているが、高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…あるい
はＳＬ２、ＳＬ４…の表面には保護絶縁膜５及び層間膜７の２層の絶縁材料しか配設され
ていない。したがって、仮に以降の工程でカレット等により絶縁膜の剥がれが生じた場合
、初めに断線するのは高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…あるいはＳＬ２、ＳＬ４…であ
る。しかしながら、本発明のようにこの高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…あるいはＳＬ
２、ＳＬ４…の表面に突起状スペーサ１１ｂを形成しておけば、高位の引回し配線ＧＬ２
、ＧＬ４…あるいはＳＬ２、ＳＬ４…の断線を良好に防止することが可能となる。
【００５１】
上記に説明したとおり、突起状スペーサ１１ｂは、表示領域ＤＡ外の両エリアＷＡ１、
ＷＡ２と、ドライバ実装領域Ｔ１を除く端子領域Ｔとに形成されている。また、上記に説
明したとおり、それぞれの引回し配線ＧＬ１〜ＧＬｎ、ＳＬ１〜ＳＬｎとこれらを覆う絶
縁膜等は、表示領域ＤＡ内に設ける配線及び絶縁膜、例えば、ゲート配線ＧＷ１〜ＧＷｎ
、ソース配線ＳＷ１〜ＳＷｎ、ゲート絶縁膜４、保護絶縁膜５及び層間膜７等を形成する
材料を使用して、ほぼ同じ工程で形成される。これにより、これらの引回し配線ＧＬ１〜
ＧＬｎ、ＳＬ１〜ＳＬｎ等を形成するために特別な形成工程を増やす必要がなく、引回し
配線等の形成が簡単にできる。
【００５２】
一方、ＣＦ基板１２は、図４に示すように、ガラス基板１２ａの表面にはアレイ基板２
の画素領域に合わせてマトリクス状にブラックマトリクス１９が設けられる。このブラッ
クマトリクス１９で囲まれた領域には、複数色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等
のカラーフィルタ１４が設けられて、それらは平坦化膜１５で覆われる。次いで、この平
坦化膜１５の上に共通電極１６が形成され、さらにその表面が配向膜１７で覆われる。こ
の配向膜１７には所定の方向にラビング処理が施される。
【００５３】
アレイ基板２及びＣＦ基板１２は、上記のプロセスで作成された後に、アレイ基板２の
表示領域ＤＡにシール材１０を塗布することによって互いに貼合わされる。このとき、両
基板２、１２の間には所定大きさの空間が形成されるようにする。この貼合せにより、柱
状スペーサ１１ａ及び突起状スペーサ１１ｂは、それらの頂部がＣＦ基板１２の表面に接
触した状態になる。次いで、貼合わされた両基板２、１２間には、シール材１０に設けら
れた液晶注入口から液晶ＬＣが注入される。
【００５４】
液晶パネル１は上記の構成によって、シール材１０の内側と外側とで両基板２、１２間
のギャップ差が生じない。つまり、シール材１０の内側すなわち表示領域ＤＡにおける基
板面から柱状スペーサ１１ａの頂部までの高さに相当するギャップと、表示領域ＤＡの外
側の非表示領域ＮＤＡにおける基板面から突起状スペーサ１１ｂの頂部までのセル厚の高
さは等しい。したがって、シール材１０近傍を含む液晶パネル１全体に亘り均一なギャッ
プが得られ、特に、シール材１０付近での表示ムラを無くすることができる。
【００５５】
また、アレイ基板２及びＣＦ基板１２が互いに貼合わせられた後、ＣＦ基板１２はスク
ライブ線ＳＣから切断されて、一部が切除される。この切断は、例えばスクライブ・ブレ
ーク法によって行われる。すなわち、まず、ＣＦ基板１２の外表面の切断面１２ｂとなる
部分にスクライブ線ＳＣを入れる。その後、切断面１２ｂに対向するアレイ基板２の外表
面を叩いて端材１２ｃをブレークさせる。従来は、この端材１２ｃの除去時に、切断面１
２ｂの角が保護絶縁膜５と層間膜７とからなる積層体Ｐ（図５参照）に接触すると、その
衝撃によってこの積層体Ｐが剥がれて上位の引回し配線（図５ではＧＬ２）が断線する恐
れがある。また、切断面１２ｂの一部が欠けてカレットとしてこの積層体Ｐ上に残ると、
後の工程でカレットが挟まり上位の引回し配線がやはり断線する恐れがある。しかしなが
ら、本実施形態では、高位の引回し配線ＧＬ２、ＧＬ４…あるいはＳＬ２、ＳＬ４…を保
護する突起状スペーサ１１ｂが層間膜７上に更に設けられているので、上記のような損傷
及び断線を防止できる。
【００５６】
このように、ＣＦ基板１２の端材１２ｃが切除されると、アレイ基板２の表面には、端
子領域Ｔが露出される。この端子領域Ｔには、図７に示すように、引回し配線ＧＬ及びＳ
Ｌが表示領域ＤＡから端子領域Ｔのドライバ実装領域Ｔ１へ延設されて、この延設された
配線ＧＬ'の端部に端子ｔが形成されている。この端子ｔは、液晶駆動用ドライバＤｒの
端子に接続される。
【００５７】
［第２の実施形態］
図８〜図１１を参照して、本発明の第２の実施形態に係る液晶パネル１Ａを説明する。
なお、第２の実施形態の液晶パネルは、図８及び図９に示したとおり、上記第１の実施形
態に係る液晶パネル１とは、層間膜７を省いた点を除いてはほぼ同じ構造をしているので
、同一の構成要素については同一の参照符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５８】
第２の実施形態に係る液晶パネル１Ａは、図１０及び図１１に示すように、保護絶縁膜
５の上に層間膜７がなく、保護絶縁膜５の、高位の引回し配線ＧＬ２の上方に対応する位
置に突起状スペーサ１１ｂが設けられた構成となっている。液晶パネル１Ａは、この構成
によっても、第１の実施形態の液晶パネル１と同様の効果を奏することができる。すなわ
ち、ＣＦ基板１２をスクライブ線ＳＣに沿って切断し、端材１２ｃを除去する時に、切断
面１２ｂの角が保護絶縁膜５に接触する前に突起状スペーサ１１ｂに接触することによっ
て、保護絶縁膜５が損傷することがなく、高位の引回し配線ＧＬ２が保護される。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る液晶パネルであって積層されたカラーフィルタ基板からＴＦＴアレイ基板の配線が透視して見えるように図示した平面図である。
【図２】図１のII−II線の断面図である。
【図３】図１の表示領域内の１画素を拡大した平面図である。
【図４】図３のIV−IV線の拡大断面図である。
【図５】図１のＶ−Ｖ線の拡大断面図である。
【図６】は図１のVI部分の拡大平面図である。
【図７】図６のVII−VII線の断面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態に係る液晶パネルの表示領域内の１画素を拡大した平面図である。
【図９】図８のIX−IX線の断面図である。
【図１０】第２の実施形態に係る液晶パネルの図５に対応する断面図である。
【図１１】第２の実施形態に係る液晶パネルの図７に対応する拡大平面図である。
【図１２】従来技術の液晶表示装置を示し、図１２Ａは液晶パネルの平面図、図１２Ｂは図１２ＡのXIIＢ−XIIＢ線の断面図、図１２Ｃは図１２ＢのVＣ部分の拡大断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１：液晶パネル  ２：ＴＦＴアレイ基板（第１基板）  ２ａ：ガラス基板  ４：ゲート絶
縁膜  ５：保護絶縁膜  ６：半導体層  ７：層間膜  ８：画素電極  １０：シール材  １
１ａ：柱状スペーサ  １１ｂ：突起状スペーサ（突起形状の保護部材）  １２：カラーフ
ィルタ基板（第２基板）  １２ａ：ガラス基板  １２ｂ：切断面  １２ｃ：端材  １４：
カラーフィルタ  １５：平坦化膜  １６：共通電極  １７：配向膜  １８ａ、１８ｂ：偏
光板  １９：ブラックマトリクス  Ｃ：補助容量電極  Ｄ：ドレイン電極  Ｇ：ゲート電
極  Ｊａ：接続点  ＧＷ１〜ＧＷｎ：ゲート配線  ＧＬ１〜ＧＬｎ：引回し配線  ＳＷ１
〜ＳＷｎ：ソース配線  ＳＬ１〜ＳＬｎ：引回し配線  Ｓ：スクライブ線（切断線）  Ｄ
Ａ：表示領域  ＮＤＡ：非表示領域  Ｔ：端子領域  Ｔ１：ドライバ実装領域  Ｄｒ：液
晶駆動用ドライバ
【図１】
0005295600.tif 000002
【図２】
0005295600.tif 000003
【図３】
0005295600.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0005295600.tif 000008
【図８】
0005295600.tif 000009
【図９】
0005295600.tif 000010
【図１０】
0005295600.tif 000011
【図１１】
0005295600.tif 000012
【図１２】
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