(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理装置であって、
基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集部と、
前記情報収集部によって該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
該第１情報からフィルタリング条件に合致した情報を抽出して前記変換部に提供するフィルタリング部を更に有することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
該第２情報を統計処理する統計処理部を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
該第１領域がショット領域を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記情報収集部は、基板の上に定義される第３配列を構成する複数の第３領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第３情報を収集し、
前記変換部は、前記情報収集部によって該複数の第３領域のそれぞれについて収集された第３情報の少なくとも一部を、該複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
基板を露光する露光装置と、
前記露光装置で生成された情報を処理する請求項１乃至５のいずれか１項に記載された情報処理装置と、
を有することを特徴とする露光システム。
【請求項７】
基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理方法であって、
基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集ステップと、
前記情報収集ステップで該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップと、
を有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
基板を露光する露光装置で生成された情報の処理をコンピュータに実行させるプログラムであって、前記コンピュータに、
基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集ステップと、
前記情報収集ステップで該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項９】
前記統計処理部によって統計処理して得られた統計処理結果を分析する分析部を更に備えることを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記分析部は、互いに異なる期間における第１情報を前記変換部および前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果の間の差分を前記複数の標準領域のそれぞれについて演算し、その演算結果を出力部に出力させることを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記分析部は、互いに異なる期間における第１情報を前記変換部および前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果のそれぞれを比較可能な形式で出力部に出力させることを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記分析部は、互いに異なる期間における第１情報を前記変換部および前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果の間の差分を前記複数の標準領域のそれぞれについて演算し、その演算結果に基づいて異常を検知することを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
前記分析部は、第１期間における第１情報を前記変換部におよび前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果を基準情報とし、第２期間における第１情報を前記変換部におよび前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果を判断対象情報として、前記基準情報と前記判断対象情報との差分を前記複数の標準領域のそれぞれについて演算し、その演算結果を出力部に出力させ、
前記第１期間は前記第２期間よりも長い、
ことを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１４】
前記分析部は、第１期間における第１情報を前記変換部におよび前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果を基準情報とし、第２期間における第１情報を前記変換部におよび前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果を判断対象情報として、前記基準情報および前記判断対象情報のそれぞれを比較可能な形式で出力部に出力させ、
前記第１期間は前記第２期間よりも長い、
ことを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１５】
前記分析部は、第１期間における第１情報を前記変換部におよび前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果を基準情報とし、第２期間における第１情報を前記変換部におよび前記統計処理部によって処理して得られた統計処理結果を判断対象情報として、前記基準情報と前記判断対象情報との差分を前記複数の標準領域のそれぞれについて演算し、その演算結果に基づいて異常を検知し、
前記第１期間は前記第２期間よりも長い、
ことを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１６】
前記分析部は、前記基準情報の時系列変化を前記出力部に出力させることを特徴とする請求項１３または１４に記載の情報処理装置。
【請求項１７】
前記統計処理部によって統計処理して得られた統計処理結果に基づいて、該露光装置にフィードバックするべき情報を決定し、該情報を該露光装置にフィードバックするフィードバック部を更に有することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項１８】
該露光装置は、基板を保持する基板ステージを備え、
前記フィードバック部は、該露光装置にフィードバックするべき情報を該基板ステージが駆動されるべき複数の位置のそれぞれについて決定する、
ことを特徴とする請求項１７に記載の情報処理装置。
【請求項１９】
該露光装置にフィードバックするべき情報は、該基板ステージの位置を制御するための補正値を含む、
ことを特徴とする請求項１８に記載の情報処理装置。
【請求項２０】
該露光装置にフィードバックするべき情報は、該基板ステージの位置制御に異常が生じたことを判断するための閾値を含む、
ことを特徴とする請求項１８に記載の情報処理装置。
【請求項２１】
前記統計処理部によって統計処理して得られた統計処理結果に基づいて、該露光装置により処理された基板の検査条件を決定する検査条件決定部を更に有することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項２２】
前記検査条件決定部は、前記統計処理部によって統計処理して得られた統計処理結果に基づいて、該露光装置により処理された基板の検査領域を決定する、
ことを特徴とする請求項２１に記載の情報処理装置。
【請求項２３】
前記検査条件決定部による基板の検査領域の決定は、既に設定されている検査領域に対する検査領域の追加を含む、
ことを特徴とする請求項２２に記載の情報処理装置。
【請求項２４】
決定された検査条件が検査器を制御するシステムに送信される、
ことを特徴とする請求項２１ないし２３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項２５】
決定された検査領域が検査器を制御するシステムに送信され、前記システムにおいて該検査領域に基づいて検査箇所が決定される、
ことを特徴とする請求項２３または２４に記載の情報処理装置。
【請求項２６】
基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理装置であって、
基板の上に定義される任意の配列を構成する複数の領域のそれぞれについての露光動作を通して得られた第１情報を該露光装置から収集する情報収集部と、
前記情報収集部によって収集された該第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換部と、
該第２情報を統計処理する統計処理部とを有し、
前記変換部は、更に、前記統計処理部によって統計処理して得られた統計処理結果を、指定された配列を構成する複数の領域のそれぞれについての情報に変換する処理を実行する、
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２７】
前記情報収集部は、基板の上に定義される任意の配列が互いに異なる複数のプロセスを実行する１又は複数の露光装置から複数の第１情報を収集するとともに、特定のプロセスを実行する露光装置から、第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについての露光動作を通して得られた該特定のプロセスについての情報を収集し、
前記統計処理部は、前記情報収集部によって該１又は複数の露光装置から収集された複数の第１情報を統計処理することによりプロセスに依存しない情報を生成し、
前記情報処理装置は、該特定のプロセスについての情報と該プロセスに依存しない情報との差分を計算することによって、該特定のプロセスに固有の情報を得る差分処理部を更に有する、
ことを特徴とする請求項２６に記載の情報処理装置。
【請求項２８】
前記統計処理部は、基板の上に定義される任意の配列が互いに異なる複数のプロセスを実行する特定の露光装置から前記情報収集部によって収集された複数の第１情報を統計処理することにより該特定の露光装置に固有の情報を生成し、
前記情報処理装置は、該特定のプロセスに固有の情報と該特定の露光装置に固有の情報とを統合することにより、該特定の露光装置に該特定のプロセスを実行させる場合に該特定の露光装置を制御するための情報を生成する統合部を更に有する、
ことを特徴とする請求項２７に記載の情報処理装置。
【請求項２９】
基板を露光する露光装置と、
前記露光装置で生成された情報を処理する請求項２６乃至２８のいずれか１項に記載された情報処理装置と、
を有することを特徴とする露光システム。
【請求項３０】
基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理方法であって、
基板の上に定義される任意の配列を構成する複数の領域のそれぞれについての露光動作を通して得られた第１情報を該露光装置から収集する情報収集ステップと、
前記情報収集ステップで収集された該第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップと、
該第２情報を統計処理する統計処理ステップとを有し、
前記変換ステップでは、更に、前記統計処理ステップで統計処理して得られた統計処理結果を、指定された配列を構成する複数の領域のそれぞれについての情報に変換する処理を実行する、
ことを特徴とする情報処理方法。
【請求項３１】
基板を露光する露光装置で生成された情報の処理をコンピュータに実行させるプログラムであって、前記コンピュータに、
基板の上に定義される任意の配列を構成する複数の領域のそれぞれについての露光動作を通して得られた第１情報を該露光装置から収集する情報収集ステップと、
前記情報収集ステップで収集された該第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップと、
該第２情報を統計処理する統計処理ステップとを実行させ、
前記変換ステップでは、更に、前記統計処理ステップで統計処理して得られた統計処理結果を、指定された配列を構成する複数の領域のそれぞれについての情報に変換する処理を実行する、
ことを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置で生成された情報を処理する情報処理装置、情報処理方法及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造においては、パターンの解像力の向上と重ね合わせ精度の向上が常に要求されている。近年では、露光光の波長の短波長化も限界に近づきつつあり、露光装置に対する性能の要求も高くなっている。
【０００３】
また、電子機器のライフサイクルが短くなったことから、短期間で試作、量産開始が求められる多品種少量生産に生産形態がシフトしている。生産性を向上させるためにも、多品種少量生産では不良率を下げることが求められている。
【０００４】
上記のような要求を達成するためには、装置要因、プロセス要因、ウエハ要因、ショット要因に分離した誤差把握とショットレベルでの異常検出、経時変化検出が必要となっている。それらの結果を装置や生産工程、更にはデザインにフィードバックすることでトータル的な生産性の向上が期待される。
【特許文献１】特開平４−２８２８２０号公報
【特許文献２】特開２０００−２４３７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、現状では、生産中に露光装置で計測されるデータでは、運用パラメータの違いや、ショット領域配列の違いから画一的な比較判断ができない。そこで、装置の性能を確認する際には、共通パラメータ、標準ショット領域配列で評価用の露光ジョブを実行して、この露光ジョブにおいて測定を実施している。このような検査方法では、半導体デバイスの生産を止めて検査をする必要があり、生産時間のロスが生じていた。
【０００６】
本発明は、上記のような背景に基づいてなされたものであり、例えば、露光装置の露光動作を通して得られる情報を効率的に利用することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の側面は、基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理装置に係り、該情報処理装置は、基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集部と、前記情報収集部によって該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換部とを有する。
【０００８】
本発明の第２の側面は、基板を露光する露光装置と、前記露光装置で生成された情報を処理する情報処理装置とを有することを露光システムに係り、前記情報処理装置は、基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集部と、前記情報収集部によって該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換部とを有する。
【０００９】
本発明の第３の側面は、基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理方法に係り、該情報処理方法は、基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集ステップと、前記情報収集ステップで該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップとを有する。
【００１０】
本発明の第４の側面は、基板を露光する露光装置で生成された情報の処理をコンピュータに実行させるプログラムに係り、前記コンピュータに、  基板の上に定義される第１配列を構成する複数の第１領域のそれぞれについて該露光装置の露光動作を通して得られた第１情報を収集する情報収集ステップと、前記情報収集ステップで該複数の第１領域のそれぞれについて収集された第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップとを実行させる。
【００１１】
本発明の第５の側面は、基板を露光する露光装置で生成された情報を処理する情報処理方法に係り、前記情報処理方法は、基板の上に定義される任意の配列を構成する複数の領域のそれぞれについての露光動作を通して得られた第１情報を該露光装置から収集する情報収集ステップと、前記情報収集ステップで収集された該第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップと、該第２情報を統計処理する統計処理ステップとを有し、前記変換ステップでは、更に、前記統計処理ステップで統計処理して得られた統計処理結果を、指定された配列を構成する複数の領域のそれぞれについての情報に変換する処理を実行する。
【００１２】
本発明の第６の側面は、基板を露光する露光装置で生成された情報の処理をコンピュータに実行させるプログラムに係り、前記プログラムは、前記コンピュータに、基板の上に定義される任意の配列を構成する複数の領域のそれぞれについての露光動作を通して得られた第１情報を該露光装置から収集する情報収集ステップと、前記情報収集ステップで収集された該第１情報の少なくとも一部を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての第２情報に変換する変換ステップと、該第２情報を統計処理する統計処理ステップとを実行させ、前記変換ステップでは、更に、前記統計処理ステップで統計処理して得られた統計処理結果を、指定された配列を構成する複数の領域のそれぞれについての情報に変換する処理を実行する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、例えば、露光装置の露光動作を通して得られる情報を効率的に利用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。この実施形態の露光装置１００は、走査型露光装置として構成されている。しかしながら、本発明において、露光装置は、走査露光装置には限定されない。
【００１５】
露光装置１００において、光源１から提供される光束は、照明光学系２でスリット形状に整形されるとともに光量分布が調整され、レチクルステージ６に保持されたレチクル（原版）３を照明する。レチクル３のパターンは、投影光学系４を介して、ウエハステージ（基板ステージ）７に保持された感光剤（レジスト）が塗布されたウエハ（基板）５に転写される。これにより、感光剤に潜像パターンが形成される。潜像パターンは、現像工程において現像されて、マスクパターン（レジストパターン）となる。
【００１６】
照明光学系２には、例えば、コヒーレンスファクタ（σ）の値を設定するための円形開口面積が異なる複数の開口絞りが備えられうる。照明光学系２には、更に、輪帯照明用のリング形状絞り、４重極絞り、照明光量を調整するための機構（例えば、複数のＮＤフィルタ及びそれを切り替える機構）が備えられうる。照明光学系２には、更に、光量を計測する光量検出器、スリット状の照明範囲を確保するためにレチクル３と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。投影光学系４には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を補正するためのレンズ駆動機構が備えられうる。
【００１７】
スリット状の照明領域をもって照明されたレチクル３のパターンからの光は、投影光学系４を介してウエハ５に投影される。レチクルステージ６（結果としてレチクル３）の位置は、レチクルステージ計測系１０によって計測され、レチクルステージ制御系１１によって制御される。
【００１８】
ウエハ５の位置は、ウエハステージ計測系１２及びフォーカスレベリング計測系１４によって計測されうる。ウエハステージ計測系１２は、例えば、投影光学系４の光軸方向（即ち、Ｚ方向）、該光軸に直交する面内における直交する２つの軸方向（即ち、Ｘ、Ｙ方向）の位置、並びに、これらの軸周り回転を計測する。フォーカスレベリング計測系１４は、投影光学系４の光軸方向（Ｚ方向）におけるウエハ５の表面位置を計測する。フォーカスレベリング計測系１４は、ウエハ５の露光時にウエハ５の表面位置を計測することができる。ウエハステージ制御系１３は、ウエハステージ計測系１２及びフォーカスレベリング計測系１４から提供される情報に基づいてウエハステージ７の位置を制御する。フォーカスレベリング計測系１４による計測値を以下ではフォーカスレベリング計測値という。投影光学系４の光軸方向におけるレチクルステージ６（レチクル３）の位置を計測するための計測系が更に設けられてもよい。
【００１９】
スリット状の照明光束でレチクル３の全てのパターン範囲をウエハ５に転写するため、レチクルステージ６によって保持されたレチクル３は、図１に示された”走査方向”に駆動される。それと同時に、ウエハステージ７によって保持されたウエハ５も図１に示された走査方向に駆動される。ここで、レチクル３とウエハ５は、投影光学系４の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル３とウエハ５との相対位置がずれると、ウエハ５に変形したパターンが転写される。そこで、相対位置制御系１５は、レチクル３とウエハ５との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系１１及びウエハステージ制御系１３を制御する。
【００２０】
主制御系１６は、露光装置１００の構成要素、例えば、相対位置制御系１５、レチクルステージ制御系１１、ウエハステージ制御系１３、照明光学系２等を制御する。
【００２１】
露光装置１００の走査露光動作について説明する。まず、主制御系１６は、通信インターフェイス１７を介して、露光装置１００の露光動作を定義する設定パラメータを取得する。設定パラメータは、各ショット領域の位置、露光画角（ショット領域の寸法）、露光走査速度、露光走査方向、フォーカスレベリング目標値、ショット内位置合わせ目標値を含む。
【００２２】
次に、主制御系１６は、上記の設定パラメータに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御し、ウエハの複数のショット領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する。
【００２３】
主制御系１６は、各ショット領域の走査露光動作時における露光装置１００の性能を示すデザイン依存装置情報（第１装置情報）を通信インターフェイス１７を介して後述の情報処理装置２０２に送信する機能を有する。デザイン依存装置情報（第１装置情報）は、ウエハ上に定義されるショット領域配列（第１配列）を構成する複数のショット領域についての露光動作を通してそれぞれ得られる複数のショット領域情報（第１領域情報）を含みうる。ここで、ショット領域配列は、製造すべきデバイスのデザイン（例えば、寸法）、即ちプロセスに応じて、製造すべきデバイスごとに定義されうる。各ショット領域情報（第１領域情報）は、例えば、同期精度、フォーカスレベリング計測値、及び、フォーカスレベリング追従精度等の露光装置１００の制御に関わる情報を含む。同期精度は、走査露光動作時のレチクル３（レチクルステージ６）とウエハ５（ウエハステージ７）との同期移動（同期走査）の精度に関する情報である。ウエハ５上の各ショット領域を露光する際におけるレチクルステージ６及びウエハステージ７の位置情報に基づいて走査露光時におけるウエハステージ７に対するレチクルステージ６の追従誤差（Ｘ、Ｙ）に関する情報を得ることができる。この情報に基づいて、同期精度として、移動平均値（ＭＡ）と移動標準偏差値（ＭＳＤ）とを算出することができる。
【００２４】
ショット領域配列が変更されるとデザイン依存装置情報を構成するショット領域情報も変化する。例えば、あるショット領域配列におけるデザイン依存装置情報を第１装置情報と呼び、それと異なるショット配列領域におけるデバイス依存装置情報を第３装置情報と呼ぶことができよう。第３装置情報としてのデザイン依存装置情報は、ウエハ上に定義されるショット領域配列（第３配列）を構成する複数のショット領域についての露光動作を通してそれぞれ得られる複数のショット領域情報（第３領域情報）を含みうる。
【００２５】
フォーカスレベリング計測値は、ウエハ表面位置又は形状を示す情報である。フォーカスレベリング追従精度は、目標フォーカスレベリング位置に対するフォーカスレベリング計測値の誤差である。
【００２６】
図２は、本発明の好適な実施形態の露光システムの構成を概略的に示す図である。露光システムは、露光装置１００と、該露光装置１００に通信インターフェイス２０１を介して接続された情報処理装置２０２とを備えうる。情報処理装置２０２は、露光装置１００を管理する管理装置或いは管理システムとして把握することもできる。
【００２７】
情報処理装置２０２は、露光装置１００から提供されるデザイン依存装置情報（第１装置情報）を処理するように構成される。以下で説明するような特有の機能を有する情報処理装置２０２は、例えば、汎用のコンピュータにプログラムをインストールすることによって構成されうる。情報処理装置２０２は、例えば、該プログラムがインストールされることによってデータベース２３１、情報収集部２２１、フィルタリング部２２２、変換部２２３、統計処理部２２４、入力部２３２、出力部２３３、管理部２３０を備える装置として動作する。このような情報処理装置における情報処理方法は、情報収集ステップ、フィルタリングステップ、変換ステップ、統計処理ステップ、入力ステップ、出力ステップ、管理ステップを含む方法として把握されうる。
【００２８】
情報収集部２２１は、露光装置１００から通信インターフェイス２０１を介して、露光装置１００の制御に関わるデザイン依存装置情報（第１装置情報）を収集してデータベース（ＤＢ）２３１に格納する。
【００２９】
フィルタリング部２２２は、データベース２３１に格納されているデザイン依存情報から、入力部２３２から提供されるフィルタリング条件２２５に合致した情報を抽出して変換部２２３に提供する。変換部２２３は、データベース２３１に格納されているデザイン依存装置情報又は該情報からフィルタリング部２２２によって抽出された情報を変換条件２２６に従って標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。即ち、変換部２２３は、情報収集部２２１によって収集された第１装置情報の少なくとも一部を標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。ここで、標準化装置情報は、標準領域配列（第２配列）を構成する複数の標準領域（第２領域）のそれぞれについての複数の標準領域情報（第２領域情報）を含む。変換条件２２６は、入力部２３２から提供されうる。変換条件２２６は、例えば、上記の第２配列の定義を含む。
【００３０】
ここで、第１ショット領域配列に従う露光動作と、第２ショット領域配列に従う露光動作とがなされた場合を考える。変換部２２３は、第１ショット領域配列に従う露光動作で得られる第１デザイン依存装置情報を標準領域配列に従う第１標準化装置情報に変換する。変換部２２３はまた、第２ショット領域配列に従う露光動作で得られる第２デザイン依存装置情報を前記標準領域配列に従う第２標準化装置情報に変換する。この場合において、第１標準化装置情報は、第２配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての複数の標準領域情報を含む。第２標準化装置情報もまた、当該複数の標準領域のそれぞれについての複数の標準領域情報を含む。したがって、第１標準化装置情報を構成する標準領域情報も、第２の標準化装置情報を構成する標準領域情報も、共通の標準領域についての情報であるので、容易に統計処理がなされうる。
【００３１】
統計処理部２２４は、変換部２２３によって変換された複数の標準化装置情報を統計処理する。出力部２３３は、出力デバイスとして、例えば、表示装置、及び／又は、記憶部を含み、例えば、統計処理部２２４による処理結果を出力デバイスに出力する。
【００３２】
管理部２３０は、情報処理装置２０２の構成要素、即ち、データベース２３１、情報収集部２２１、フィルタリング部、変換部２２３、統計処理部２２４、入力部２３２、出力部２３３を管理（制御）する。
【００３３】
図３は、情報収集部２２１によって収集される１つのショット領域情報３０２の一例を示す図である。デザイン依存装置情報は、複数のショット領域のそれぞれについてのショット領域情報３０２を含むので、複数のショット領域の個数分のショット領域情報３０２を含む。各ショット領域情報３０２は、ショット領域の特定に関わる情報３２１と、ショット領域の設定に関わる情報３２２と、ショット領域の露光制御に関わる情報３２３と、ショット領域の露光における制御結果３２４とを含みうる。
【００３４】
ショット領域の特定に関わる情報３２１は、例えば、露光装置の認識番号、ロットの認識番号、プロセス名称、ウエハ番号、ショット番号等を含む
ショット領域の設定に関わる情報３２２は、例えば、ショット領域の中心位置（Ｘ座標値）、ショット領域の中心位置（Ｙ座標値）、ショット領域のＸ方向における範囲、ショット領域のＹ方向における範囲を含む。
【００３５】
ショット領域の露光制御に関わる情報３２３は、例えば、走査方向、走査速度、フォーカスレベリング目標値、Ｘ目標値（Ｘ方向の目標位置）、Ｙ目標値（Ｙ方向の目標位置）を含む。
【００３６】
ショット領域の露光における制御結果３２４は、例えば、ショット領域内におけるフォーカスレベリング計測値の最大値、最小値、平均値、標準偏差を含みうる。制御結果３２４は、例えば、ショット領域内におけるＸ、Ｙ計測値（Ｘ方向における位置計測値、Ｙ方向における位置計測値）の最大値、最小値、平均値、標準偏差を含みうる。制御結果３２４は、例えば、ショット領域内におけるフォーカスレベリング追従性の最大値、最小値、平均値、標準偏差を含みうる。制御結果３２４は、例えば、Ｘ、Ｙ追従性（Ｘ方向における位置制御の追従性、Ｙ方向における位置制御の追従性）の最大値、最小値、平均値、標準偏差を含みうる。制御結果３２４は、例えば、ショット領域内におけるＭＡ  Ｘ、Ｙ、θ（Ｘ、Ｙ、θ方向における移動平均）とＭＳＤ  Ｘ、Ｙ、θ（Ｘ、Ｙ、θ方向における移動標準偏差）の最大値、最小値、平均値、標準偏差を含みうる。
【００３７】
図４は、変換部２２３における変換処理の例を模式的に示す図である。互いにショット領域の配列が異なる複数のデザイン４０１、４０２、４０３についての露光動作により複数の露光装置情報４０４、４０５、４０６が得られるものと仮定する。変換部２２３には、変換条件２２６として、複数の標準領域ＳＡで構成される標準領域配列が提供される。
【００３８】
変換部２２３は、露光装置情報を構成する複数のショット領域についてのそれぞれの情報を、標準領域配列を構成する複数の標準領域のそれぞれについての標準領域情報に変換して、標準化装置情報４０９を生成する。
【００３９】
変換部２２３における変換処理は、種々の方法に従いうる。図５は、変換部２２３における変換処理の第１の例を模式的に示す図である。第１の例では、標準領域配列を構成する各標準領域についての情報として、当該標準領域の中心位置を含むショット領域についての情報が使用される。例えば、図５（ａ）に示すように配列された複数のショット領域のそれぞれについてのショット領域情報Ａ１〜Ａ６・・・は、図５（ｃ）のような標準領域配列５０３に従って変換される場合、図５（ｄ）のように変換される。例えば、図５（ｂ）に示すように配列された複数のショット領域のそれぞれについてのショット領域情報Ｂ１〜Ｂ４・・・は、図５（ｃ）のような標準領域配列５０３に従って変換される場合、図５（ｅ）のように変換される。
【００４０】
図５（ａ）のショット領域配列に従う露光で得られるデザイン依存装置情報と図５（ｂ）のショット領域配列に従う露光で得られるデザイン依存装置情報とを変換部２２３によって変換すると、図５（ｆ）に示すような標準化装置情報が得られる。標準領域５０６については、２つの標準領域情報Ａ３、Ｂ１が得られており、これらを統計処理することができる。なお、標準情報が得られていない標準領域５０７については、他の標準領域、例えば、周辺の標準領域についての標準領域情報に基づいて標準領域情報を生成することができる。
【００４１】
図６は、変換部２２３における変換処理の第２の例を模式的に示す図である。第２の例では、ショット領域配列を構成する各ショット領域についての情報が当該ショット領域の中心位置を含む標準領域についての情報として使用される。
例えば、図６（ｃ）に示すような標準領域配列６０３を使用して露光装置情報を標準領域情報に変換する場合を仮定する。この場合、例えば、図６（ａ）に示すようなショット領域配列におけるショット領域６０１ａ、６０１ｂについての情報Ａ１、Ａ３は、図６（ｄ）に示すように、ショット領域６０２ａ、６０２ｂの各中心位置を含む標準領域６５２についての情報として使用される。例えば、図６（ｂ）のショット領域配列におけるショット領域６０２ａ、６０２ｂについての情報Ｂ１、Ｂ２は、図６（ｅ）に示すように、ショット領域６０２ａ、６０２ｂの中心位置をそれぞれ含む標準領域６５２、６５３についての情報として使用される。
【００４２】
図６（ａ）に例示するショット領域配列における露光で得られる露光装置情報と図６（ｂ）に例示するショット領域配列における露光で得られる露光装置情報とを変換部２２３によって変換すると、図６（ｆ）に示すような標準領域情報が得られる。標準領域６５２については、３つの情報Ａ１、Ａ３、Ｂ１が得られており、これらを統計処理することができる。なお、情報が得られない標準領域については、他の標準領域、例えば、周辺の標準領域についての情報に基づいて情報を生成することができる。
【００４３】
図７は、図２に示す情報処理装置２０２におけるデザイン依存装置情報（第１装置情報）の解析処理の流れを例示する図である。
【００４４】
まず、ステップＳ７０１（収集ステップ）で、情報収集部２２１により、通信インターフェイス２０１により露光装置の通信インターフェイス１７を介して露光装置１００からデザイン依存装置情報を取得してデータベース２３１に格納する。
【００４５】
次いで、ステップＳ７０２（フィルタリングステップ）では、フィルタリング部２２２により、データベース２３１に格納されたデザイン依存装置情報をフィルタリング条件２２５に従ってフィルタリングして必要な情報を抽出する。これは、指定した条件における露光装置の動作を解析するために有用である。例えば、走査方向ごとの情報を抽出して統計処理することで、走査方向ごとの動作を特定し、走査方向ごとに補正パラメータを求めることができる。
【００４６】
フィルタリング条件２２５としては、露光装置情報を構成する情報群から少なくとも１つの情報が抽出されるように設定されうる。フィルタリング条件は、抽出すべき情報が数値を含む場合には、数値又は数値範囲を含みうる。フィルタリング条件２２５は、例えば、走査方向を含むことができる。走査方向は、例えば、アップ方向及びダウン方向として定義されうる。フィルタリング条件２２５は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、フィルタリング条件２２５は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、フィルタリング条件２２５は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【００４７】
図８は、フィルタリング部２２２におけるフィルタリング処理の例を模式的に示す図である。デザイン依存装置情報８０１、８０２、８０３、８０４、８０５は、複数のロットの露光を通して得られる。デザイン依存装置情報８０１、８０２、８０３、８０４、８０５は、ステップＳ７０１において情報収集部２２１によって収集される。
【００４８】
フィルタリング部２２２は、指定されたフィルタリング条件２２５に合致する情報をデザイン依存装置情報８０１、８０２、８０３、８０４、８０５のそれぞれの中から抽出する。例えば、ショット領域を露光した時刻をフィルタリング条件とするとき、抽出すべき時刻の範囲をフィルタリング条件として指定することができる。この場合、各ウエハの各ショット領域の露光時刻がフィルタリング条件として指定された時刻の範囲内であるかどうかが判定されて、指定された時刻の範囲内に露光がなされたショット領域についての情報８０７、８０８が抽出される。なお、フィルタリングをしない場合には、データベース２３１に格納されたすべてのデザイン依存装置情報が変換部２２３による変換及び統計処理部２２４による統計処理の対象となる。
【００４９】
ステップＳ７０３（変換ステップ）では、指定された変換条件２２６に従って、変換部２２３により、デザイン依存装置情報（第１装置情報）を標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。変換条件２２６は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、変換条件２２６は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、変換条件２２６は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【００５０】
次いで、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）では、指定された統計処理条件２２７に従って、統計処理部２２４により、ステップＳ７０３における変換処理によって得られた標準領域情報を統計処理して、統計結果情報７０８を出力する。この統計処理は、典型的には、標準領域ごとになされる。統計処理条件２２７は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、統計処理条件２２７は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、統計処理条件２２７は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【００５１】
統計処理部２２４は、例えば、統計処理として、最大値、最小値、平均値、標準偏差を算出する。
【００５２】
統計処理部２２４は、例えば、露光制御に関する情報３２３の項目ごとに、統計処理を実行することができる。
【００５３】
統計結果情報７０８は、種々の方法で種々のデバイス又は装置に出力されうる。統計結果情報７０８は、例えば、標準領域配列を示す情報を合成して表示されうる。この場合において、統計結果としての数値が属する範囲ごとに異なる色（例えば、階調レベル）を与えることができる。
【００５４】
以上のように、本発明の好適な実施形態によれば、種々のデザインのデバイスを製造するための種々の露光ジョブ或いはショット領域配列でなされる露光動作で得られるデザイン依存装置情報に基づいて露光装置の状態を把握することができる。
【００５５】
以下、上記の実施形態の応用例を示す。
（装置閾値）
標準領域ごとの統計処理結果より、標準領域ごとに最適な異常検出閾値が算出可能となる。例えば、露光装置の特性や、パラメータ設定により特定位置だけ同期精度やフォーカス精度が悪くなることがある。本発明の好適な実施形態によれば、標準領域ごとの統計処理結果より、特定位置と、その位置での同期精度やフォーカス精度を推定し、その位置だけ異常検出閾値を変更することが可能となる。
（プロセス閾値）
プロセスによって、特定位置だけ同期精度やフォーカス精度が悪くなることがある。これは、ウエハ表面状態、ウエハ外周に位置するショット領域、他の工程によりウエハに付着物がつきやすい箇所などがプロセスに応じて変わることによると考えられる。標準領域ごとの統計処理結果より、特定位置と、その位置での同期精度やフォーカス精度を推定し、プロセスごとにその位置だけ異常検出閾値を変更することが可能となる。
（閾値移植）
図９は、複数の露光装置１００を管理システムで管理する応用例を示す図である。情報処理装置（管理システム）２０２は、複数の露光装置１００から提供されるデザイン依存装置情報に基づいて該複数の露光装置１００を管理する。この管理システムによれば、標準領域ごとに複数の露光装置１００の間の機差を調査することができる。例えば、ある露光装置で使用していたあるプロセスの標準領域ごとの異常検出閾値を他の露光装置へ移植する際に、標準領域ごとの機差をプロセスの標準領域ごとの異常検出閾値に加算することで異常閾値の移植が可能となる。
（異常フィードバック）
図１０は、１又は複数の露光装置１００と他の装置とを管理システムで管理する応用例を示す図である。情報処理装置（管理システム）２０２は、標準領域ごとの統計処理結果に基づいて標準領域ごとに決定される異常検査閾値２２９に従って異常検出処理部２２８により標準領域ごとに異常を検出する。情報処理装置２０２は、異常検出結果を通信インターフェイス２０１を介して検査装置２０６にフィードバックする。検査装置２０６では、例えば、異常が検出された箇所については重点的な検査を行い、異常が検出されなかった箇所については検査計測サンプル数を削減する。これにより検査工程の効率化が可能となる。
（異常要因解析）
露光装置には、異常要因により、同期精度やフォーカス精度が悪化する領域がある。過去の異常発生時における標準領域ごとの統計処理結果をパターンとして保管しておき、異常要因解析においてパターン比較で異常原因を特定することができる。
（装置設定へのフィードバック）
ある領域で同期精度やフォーカス精度の状態が良好でないなど、修正の必要がある場合において、その領域についての装置動作に関わる装置制御パラメータを変更するようフィードバックをかけることができる。その際に、他の装置における同一領域の状態と当該装置制御パラメータとを比較し、最適なパラメータを算出してもよい。
【００５６】
例えば、走査方向と走査速度をフィルタリング条件とし、領域ごとに統計処理を行い、領域間の比較、又は、複数装置における同一領域間の比較に基づいて走査方向オフセットや走査速度の設定を行ってもよい。
（プロセス設定へのフィードバック）
特定のプロセスで、ある領域で同期精度やフォーカス精度の状態が良好でないなど、修正の必要がある場合、その領域についての装置動作に関わるプロセスパラメータを変更するようフィードバックをかけることができる。その際に、他のプロセスにおける同一領域の状態とプロセスパラメータを比較し、最適なパラメータを算出してもよい。
【００５７】
また、露光装置以外の工程で、その領域に対する処理を変更するようフィードバックをかけることができる。
（長期監視）
図１１に例示するように、領域ごとの同期精度やフォーカス精度の統計処理結果を一定期間ごとにグラフにし、監視していくことで異常の早期発見や、装置状態の変化トレンドから異常の予測が可能となる。
（再変換）
図１２に例示するような標準領域配列に従うように変換した標準化装置情報１２０１から更に他の標準領域配列に従う標準化装置情報１２０２に変換を行うこともできる。変換方法は、例えば、前述の第１の例又は第２の例に従うことができる。
（ショット領域よりも小さな領域の定義）
露光装置においてショット領域ごとに情報を発生するのではなく、ショット領域よりも小さい領域を定義し、その領域ごとに情報を発生してもよい。
（プロセスのショット領域配列への再変換）
図１３に例示するように、標準化装置情報１３０１から任意のショット領域配列に従う装置情報１３０２に変換を行うこともできる。変換方法は、例えば、前述の第１の例又は第２の例に従うことができる。
【００５８】
また、ショット領域配列と同じ配列に従うように標準化装置情報を変換し、その変換結果に基づいて、ショット領域におけるフォーカス精度や同期精度を算出してもよい。また、そのショット領域における最適なパラメータを算出し、そのパラメータに基づいて露光装置の制御を変更するようフィードバックをかけてもよい。また、露光装置を用いる工程以外の工程で、そのショット領域に対する処理を変更するようフィードバックをかけてもよい。
（異物付着等の異常の検出）
図１６は、本発明の好適な実施形態の露光システムの応用例を示す図である。図１６に示す露光システムは、図２に示す露光システムに対して分析部２４０を付加した構成を有する。
【００５９】
変換部２２３による変換および統計処理部２２４による統計処理を経て得られた情報に基づいて、例えば、ウエハチャックに対する異物の付着を検知することができる。例えば、定常状態に対する変化を可視化してユーザに提供することにより異物の付着をユーザに判断させたり、当該変化が閾値を超えたことをもって分析部２４０が異物の付着を検知したりすることができる。
【００６０】
情報収集部２２１が１つの露光装置１００から取得した種々のデザイン（プロセス）についてのデザイン依存装置情報は、必要に応じてフィルタリング部２２２によってフィルタリングされた後に、変換部２２３によって標準化装置情報に変換される。この標準化装置情報を統計処理部２２４によって統計処理し標準領域ごとの平均を求めると、その平均は、種々のデザイン（プロセス）において共通に生じる現象（即ち、１つの露光装置１００における固有の現象）を示す。つまり、その平均は、１つの露光装置１００の特性を示す。
【００６１】
図１４において、１４０１は、１つの露光装置におけるフォーカスレベリング制御情報を収集し、これを変換部２２３によって標準領域情報に変換し、更に統計処理部２２４によって標準領域ごとに平均値を求めた結果を表示した例である。この例では、値の大きい箇所を濃い配色にして出力部２３３によって可視化されている。ウエハのエッジ部分１４０２では、ウエハ面を計測する面積が十分に確保できないので、中心部より制御結果が悪くなっている。ウエハチャックに異物が付着した部分１４０３も同様に値が大きくなるため、濃く表されるが、ウエハエッジ部分など常に値が大きい箇所にまぎれていまうので、可視化しても識別しにくい。
【００６２】
図１４において、１４０５は、分析部２４０による分析結果を示している。具体的には、１４０５は、露光時期が異なるフォーカスレベリング制御情報をそれぞれ標準領域情報（第２装置情報）に変換して標準領域ごとに平均値を求めた結果１４０４と前述の結果１４０１との差分を演算した結果である。ウエハエッジ部分で制御結果が悪いことは定常的に起きうる現象であるため、この差分は小さくなる。しかし、ウエハチャックへの異物の付着は頻繁には起こらないため、付着部分において差分が大きく現れる。分析部２４０は、ある期間において露光装置から得られる第１装置情報を第２装置情報に変換して統計処理した値を定常状態とする。分析部２４０はまた、その定常状態の値と他の期間において露光装置から得られる第１装置情報を第２装置情報に変換し統計処理した値との差分を演算し、その演算結果である差分値を色情報に変換した標準領域ごとのデータを分析結果として出力部２３３に提供する。出力部２３３は、その分析結果をディスプレイおよびプリンタの少なくとも一方に出力する。これによって、ユーザは、その表示に基づいて異物の付着（異常の一例）を発見することができる。もちろん、差分値が閾値を超えたことを情報処理装置２０２の分析部２４０が検知することによって異物の付着（異常の一例）を検知することもできる。
【００６３】
分析部２４０は、互いに異なる期間における第１装置情報を変換部２２３によって変換して得られた第２装置情報のそれぞれを比較可能な形式で出力部２３３に出力させてもよい。
【００６４】
更には、この方法は、露光装置のステージ制御精度に影響を及ぼす不具合の検知にも応用可能である。このような不具合としては、例えば、ステージ計測系におけるミラーの変形や、ステージの駆動を阻害する物理的な障害（例えば、ステージに接続されているケーブルの引きずりや、駆動のかじりなど）を挙げることができる。
【００６５】
異物の付着等の異常に伴う変化を監視する例として、例えば、前の月の１ヶ月分の標準領域ごとの平均値を提供状態における露光装置の状態を示す指標とし、１日分の標準領域ごとの平均値との差分を求めることで、日々における変化の有無を監視できる。つまり、定常状態における露光装置の状態を示す情報は、異常の判断対象の期間（第２期間）よりも長い期間（第１期間）における第１装置情報を第２装置情報に変換しそれを統計処理することによって得られる。このような基準情報は、分析部２４０によって演算を通して決定されうる。ここで、定常状態における露光装置の状態を示す情報を基準装置情報とし、異常の判断対象の期間における露光装置の状態を示す情報を判断対象装置情報と呼ぶことができる。分析部２４０は、基準装置情報の時系列変化を求めて、それを出力部２３３に出力させてもよい。
【００６６】
図１５に１５０２として例示するように、定常状態における露光装置の状態を示すための標準領域の面積を異常の判断対象の期間における露光装置の状態を示す標準領域より大きくしてもよい。標準化領域が小さいと、同じ原因に起因して生じる制御結果であっても、それが隣の標準領域に現れる可能性がある。定常状態における露光装置の状態を示すための標準領域の面積を異常の判断対象の期間における露光装置の状態を示す標準領域より大きくすることによって、このような問題を解消することができる
定常状態における露光装置の状態を示す基準装置情報を得るための抽出期間を決める際に、標準領域ごとの統計処理結果を一定期間ごとにグラフにし長期間にわたって監視をした結果に基づいて決めてもよい。例えば、長期監視により一時的に結果が違う期間は、通常状態を算出する期間より除外するなどを行う。
（露光装置への情報のフィードバック）
この応用例では、標準領域ごとの統計処理結果を露光装置１００のウエハステージ制御系１３にフィードバックする。ウエハの処理中に露光装置１００で計測を通して得られる各ショット領域情報（ショット領域情報は、第１領域情報とも表現され、例えば、同期精度、フォーカスレベリング、フォーカスレベリング追従性等を含みうる。）の値は、そのショット領域の位置におけるウエハステージ７の制御特性と、プロセスごとの特性とを含んでいる。変換部２２３によってショット領域情報（第１領域情報）を標準領域情報（第２領域情報）に変換することにより、ウエハステージ７が駆動されるべき位置（単に、ウエハステージ７の位置と表現される場合もある。）に応じたウエハステージ７の制御特性を把握することができる。この制御特性に基づいて、露光装置１００の異常調査、ウエハステージ７が駆動されるべき複数の位置のそれぞれに応じた制御補正値の決定、ウエハステージ７が駆動されるべき複数の位置のそれぞれに応じた異常閾値の決定が可能となる。
【００６７】
図１７は、本発明の好適な実施形態の露光装置１００の構成の一部を示す図である。露光装置１００は、情報処理部１７０１を備えている。情報処理部１７０１には、前述の情報処理装置２０２から制御補正値テーブル１７０２および制御異常閾値テーブル１４０４が提供されうる。情報処理部１７０１は、制御補正値テーブル１７０２および制御異常閾値テーブル１４０４に基づいてウエハステージ７を制御する。
【００６８】
情報処理装置２０２の変換部２２３によりショット領域情報を標準領域情報に変換することにより、ウエハステージ７の位置（標準領域の位置）ごとの装置特性１７０３が得られる。装置特性１７０３は、例えば、各標準領域のＸ座標範囲、Ｙ座標範囲と、その範囲内での制御補正値と、異常閾値とをデータテーブルの形式で含みうる。
【００６９】
情報処理部１７０１は、主制御系１６から指示されるウエハステージ７の移動目標位置の指令値（Ｘ，Ｙ，Ｚ成分のみ図示）を受け、制御補正値テーブル１７０２に基づいてその指令値に対応する補正値を決定し、その補正値をウエハステージ制御系１３に送る。ウエハステージ制御系１３は、その補正値とウエハステージ７の移動目標位置の指令値とに基づいてウエハステージ７を駆動する。これにより、ウエハステージ７の位置ごとに決定された補正値により制御誤差を低減することができる。また、情報処理部１７０１は、制御異常値テーブル１４０４に基づいてウエハステージ７の移動目標位置の指令値に対応する異常閾値を決定し、その異常閾値をウエハステージ制御系１３に送る。ウエハステージ制御系１３は、その異常閾値とウエハステージ７の移動目標位置の指令値とに基づいて異常を検出する。
【００７０】
以下、デバイスの生産中に露光装置１００において計測を通して得られるショット領域情報（第１領域情報）の値からプロセス固有のショット制御特性を除去した露光装置１００に固有の制御特性を算出する方法を説明する。
【００７１】
各プロセスは、レジスト状態や下地パターン状態が異なるため、それぞれ違う特性をもつ。ステージ位置ごとの制御特性は、多数のプロセスにおけるショット領域情報としての計測結果Ｓの平均値を計算することによって得られる。
【００７２】
該当するショット領域についての計測結果Ｓは、該当するショット領域についてのウエハステージ制御系１３の制御特性Ｍと、該当するショット領域についてのプロセスに依存する特性Ｐとより、
Ｓ＝Ｍ＋Ｐ
で表される。
【００７３】
ｎ個のプロセスより、Ｓの平均を計算する場合、次の式が成立する。
【００７４】
Ｓ／ｎ＝［（Ｐ１＋Ｍ）＋（Ｐ２＋Ｍ）＋・・・＋（Ｐｎ＋Ｍ）］／ｎ
＝Ｐ１／ｎ＋  Ｐ２／ｎ＋・・・＋  Ｐｎ／ｎ＋Ｍ
ここで、プロセス数ｎが大きい場合、Ｐｎ／ｎはＭに比べ無視できるほど小さくなる。よって、
Ｓ／ｎ＝Ｍ
で表され、多数のプロセスにおける計測結果の平均は、ウエハステージ制御系１３の制御特性Ｍを表すと考えられる。
【００７５】
ここで、プロセスごとにショット領域の配列は異なるため、情報処理装置２０２の変換部２２２により各プロセスについてのショット領域情報を標準用域配列に従う標準領域情報に変換する。そして、統計処理部２２４により各標準領域における平均値を計算する。
【００７６】
この各標準領域における平均値で表されるステージ位置ごとの制御特性に基づいて、露光装置１００の異常を調査したり、ウエハステージ７の位置に応じた制御補正値を決定したり、ウエハステージ７の位置に応じた異常閾値を決定したりすることができる。
【００７７】
図１８は、露光装置１００のウエハステージ７を高い精度で制御するために、情報処理装置２０２が制御補正値を算出し、該制御補正値を露光装置１００にフィードバックする露光システムの構成を概略的に示す図である。
【００７８】
情報処理装置２０２は、制御条件を入力する入力部２３２と、制御補正値処理部１８０２を備える。制御補正値処理部（フィードバック部）１８０２は、統計処理部２２４によってなされた標準領域ごとの統計処理結果に基づいて、制御補正値を標準領域ごとに計算して、例えば制御補正値テーブル１７０２として、露光装置１００に出力（フィードバック）する。
【００７９】
図１９は、図１８に示す情報処理装置２０２における制御補正値の算出処理の流れを例示する図である。
【００８０】
まず、ステップＳ７０１（収集ステップ）では、情報収集部２２１により、通信インターフェイス２０１により露光装置の通信インターフェイス１７を介して露光装置１００からデザイン依存装置情報を取得してデータベース２３１に格納する。
【００８１】
次いで、ステップＳ７０２（フィルタリングステップ）では、フィルタリング部２２２により、データベース２３１に格納されたデザイン依存装置情報（制御結果３２４）をフィルタリング条件２２５に従ってフィルタリングして必要な情報を抽出する。ここで使用されるフィルタリング条件は、任意に指定されうる。例えば、フォーカスレベリング、ＭＡ  ＸＹθ、ＭＳＤ  ＸＹθ等がフィルタリング条件として指定されうる
ステップＳ７０３（変換ステップ）では、指定された変換条件２２６に従って、変換部２２３により、デザイン依存装置情報（第１装置情報）を標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。変換条件２２６は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、変換条件２２６は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、変換条件２２６は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【００８２】
次いで、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）では、統計処理条件２２７として露光装置１００ごとに指定された統計処理条件に従って、統計処理部２２４により、標準領域ごとに統計値を算出する。統計処理条件２２７としては、例えば、統計処理値として標準領域ごとの平均値を算出することが指定されうる。
【００８３】
ステップＳ１６０１（制御補正値処理ステップ）では、制御補正値処理部１８０２は、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）により求められた標準領域ごとの統計値より制御補正値条件１５０１に従って制御補正値１６０２を出力する。制御補正値１６０２は、例えば、制御補正値テーブル１７０２として露光装置１００に出力（フォードバック）されうる。
【００８４】
例えば、制御補正値をＸ，Ｙ座標を因数に取った近似曲面の多項式関数で与える場合、標準領域ごとの統計値を所定の次数及び項数の多項式を用いて最小２乗法を使って近似し、多項式関数における各項の係数を求めることができる。計算に使用するデータは、例えば、各標準領域の統計値と該標準領域の中心位置Ｘ，Ｙとすることができる。近似する多項式の次数、項数は制御補正値条件１５０１で与えられる。例えば、２次多項式とし、Ｚ方向の補正値を求める場合、以下のような関数Ｆｚになる。ここで、Ａ〜Ｆは求めるべき係数である。
【００８５】
Ｆｚ（Ｘ，Ｙ）＝Ａ・Ｘ２＋Ｂ・Ｙ２＋Ｃ・Ｘ・Ｙ＋Ｄ・Ｘ＋Ｅ・Ｙ＋Ｆ
また、制御補正値を図１７に例示するようにデータテーブルで与える場合、制御補正値条件１５０１として、図２３に例示するように、Ｘ，Ｙ座標で範囲を示すテーブルを規定し、その各範囲で標準領域ごとの統計値より制御補正値を算出することを指定してもよい。例えば、規定した範囲内に中心位置を持つ標準領域の統計値を平均化したものを該範囲の制御補正値としてもよい。
【００８６】
また、制御補正値条件１５０１として、上記のような関数やテーブルで示された補正値に、過剰補正とならないよう、さらに係数を掛けることを指定してもよい。例えば、示された補正値の０．７倍を制御補正値にするような係数でもよい。
【００８７】
また、制御補正値条件１５０１として、他の装置と比較して制御オフセットを計算することを指定してもよい。例えば、制御補正値条件１５０１で基準装置と基準装置との相関条件とを指定し、基準装置と対象装置のステップＳ７０４（統計処理ステップ）の処理結果から、標準領域ごとに制御補正値を決定することができる。
【００８８】
また、露光装置の特性は、経時変化や運用方法の変更等により変わりうる。そこで、定期的に制御補正値を算出し、経時変化が生じた場合や運用方法の変更が生じた場合に、制御補正値を変更してもよい。
【００８９】
図２０は、定期的に制御補正値を計算する例を示す図である。ステップＳ１７０１では、決められた時期が到来したかどうかを判断し、決められた時期が到来したら、処理をステップＳ１７０２に進める。
【００９０】
ステップＳ１７０２では、図１９に例示する処理を実施して制御補正値を計算し、その結果をＤＢ２３１に保管する。
【００９１】
ステップＳ１７０３では、制御補正値処理部１８０２は、入力部２３２より入力される条件１７０５に従って、ＤＢ２３１に保管された過去の制御補正値と新たに計算された制御補正値とに基づいて制御補正値を更新する。更新条件１７０５は、例えば、範囲の上限および下限をそれぞれ決定する２つの係数（例えば、０．５および１．５等）を含むことができる。そして、過去の制御補正値にその係数を乗じて上限および下限が決定された範囲を新たな制御補正値が越えるならば、その新たな制御補正値で当該過去の制御補正値を更新するというように、更新条件１７０５を指定することができる。
【００９２】
制御補正値を更新する場合には、通信インターフェイス２０１を介して情報処理装置２０２から露光装置１００に制御補正値を更新するための更新情報１７０４が送信される。
【００９３】
次に、情報処理装置２０２における異常閾値の算出について例示的に説明する。図２１は、露光装置１００のウエハステージ７の精度の異常を検知するために、情報処理装置２０２がウエハステージ７の位置ごとの異常閾値を算出する露光システムの構成を概略的に示す図である。
【００９４】
情報処理装置２０２は、異常閾値条件１８０１を入力する入力部２３２と、異常閾値処理部２１０２を備える。異常閾値処理部（フィードバック部）２１０２は、統計処理部２２４によってなされた標準領域ごとの統計処理結果に基づいて、異常閾値を標準領域ごとに計算して、例えば制御異常閾値テーブル１４０４として、露光装置１００に出力（フィードバック）する。
【００９５】
図２２Ａは、図２１の示す情報処理装置２０２における異常閾値の算出処理の流れを例示する図である。
【００９６】
まず、ステップＳ７０１（収集ステップ）では、情報収集部２２１により、通信インターフェイス２０１により露光装置の通信インターフェイス１７を介して露光装置１００からデザイン依存装置情報を取得してデータベース２３１に格納する。
【００９７】
次いで、ステップＳ７０２（フィルタリングステップ）では、フィルタリング部２２２により、データベース２３１に格納されたデザイン依存装置情報（制御結果３２４）をフィルタリング条件２２５に従ってフィルタリングして必要な情報を抽出する。ここで使用されるフィルタリング条件は、任意に指定されうる。例えば、フォーカスレベリング、ＭＡ  ＸＹθ、ＭＳＤ  ＸＹθ等の制御誤差がフィルタリング条件として指定されうる。
【００９８】
ステップＳ７０３（変換ステップ）では、指定された変換条件２２６に従って、変換部２２３により、デザイン依存装置情報（第１装置情報）を標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。変換条件２２６は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、変換条件２２６は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、変換条件２２６は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【００９９】
次いで、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）では、統計処理条件２２７が指定され、その統計処理条件２２７に従って、統計処理部２２４により、標準領域ごとに統計値を計算する。統計処理条件２２７としては、例えば、標準領域ごとフィルタリングした値のバラツキを調べるために、フィルタリングによって抽出される制御誤差の３σ値、最大値、最小値等が指定されうる。
【０１００】
次いで、ステップＳ１９０１（異常閾値処理ステップ）では、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）により求められた標準領域ごとの値より、異常閾値処理部２１０２により、異常閾値条件１８０１に従って異常閾値処理部２１０２が異常閾値を計算する。
【０１０１】
例えば、異常閾値条件１８０１は、異常閾値を算出するための係数であり、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）により求められた標準領域ごとの値より、当該係数に従って、標準領域ごとの異常閾値を算出することができる。
【０１０２】
例えば、異常閾値を前述のように、Ｘ，Ｙ座標を因数に取った近似曲面の多項式関数で与える場合、標準領域ごとの統計値を所定の次数及び項数の多項式を用いて最小２乗法を使って近似し、多項式関数における各項の係数を求める。計算に使用するデータは、例えば、各標準領域の統計値と該標準領域の中心位置Ｘ，Ｙとすることができる。近似する多項式の次数、項数は異常閾値条件１８０１で与えられる。
【０１０３】
また、異常閾値を図１７に例示するように前述のようにデータテーブルで与える場合において、異常閾値条件１８０１としては、Ｘ，Ｙ座標で範囲を示すテーブルを規定し、その各範囲で標準領域ごとの統計値より異常閾値を算出することを指定することができる。例えば、規定した範囲内に中心位置を持つ標準領域の統計値の分散値を使用してもよい。
【０１０４】
異常閾値条件１５０１としては、上記のような関数やテーブルで示された値に、異常の過剰検知とならないよう、係数を掛けることを指定してもよい。例えば、示された値の１．５倍を異常閾値にするような係数でもよい。
【０１０５】
また、異常閾値の算出のための係数に加え、異常閾値条件１８０１として、標準領域ごとに閾値を適用するかどうかを判断する閾値適用条件を指定してもよい。他の領域に比べ閾値が非常に大きくなる領域に対して、閾値適用条件に従がって、異常閾値を適用するか決定する。
【０１０６】
これはウエハ外周部など、制御が困難な箇所では焼き付けを行っても製品にしない為、精度を求める必要がない場合がある。その箇所では異常検知が必要でないため、異常閾値適用の判断を行う。
【０１０７】
閾値適用条件としては、例えば、異常閾値の限度値を定め、領域の異常閾値がそれを越えた場合はその領域の異常閾値は設定しないように決定することができる。また、複数の領域に関して算出された複数の異常閾値のそれぞれに対して統計値を算出し、当該統計値に対して設定された閾値と当該統計値との大小関係から異常閾値を設定しない領域を決めてもよい。ここで、統計値は、例えば、分散または標準偏差であり、当該統計値に対して設定された閾値は、例えば、分散または標準偏差の上限値（許容値）とすることができる。
【０１０８】
露光装置の特性は、経時変化や運用方法の変更等により変わりうる。そこで、定期的に異常閾値を算出し、変化があった場合に異常閾値を変更してもよい。
【０１０９】
図２２Ｂは、定期的に異常閾値を計算する例を示す図である。ステップＳ２００１では、決められた時期が到来したかどうかを判断し、決められた時期が到来したら、処理をステップＳ２００２に進める。
【０１１０】
ステップＳ２００２では、図２２Ａに例示する処理を実施して異常閾値を計算し、その結果をＤＢ２３１に保管する。
【０１１１】
ステップＳ２００３では、異常閾値処理部２１０２は、更新条件２００５に従って、ＤＢに保管された過去の異常閾値と新たに計算された異常閾値とに基づいて異常閾値を更新する。異常閾値更新条件２００５は、例えば、願意の上限および下限をそれぞれ決定する２つの係数で（例えば、０．５および１．５等）を含むことができる。そして、過去の異常閾値にその係数を乗じて上限および下限が決定される範囲を新たな異常閾値が越えるならば、その新たな異常閾値で当該過去の異常閾値を更新するというように、更新条件２００５を指定することができる。
【０１１２】
異常閾値を更新する場合には、通信インターフェイス２０１を介して情報処理装置２０２から露光装置１００に異常閾値を更新するための更新情報２００４が送信される。
（標準領域情報の利用）
この応用例では、標準領域情報を利用して特定のプロセスに固有の情報を得たり、特定の露光装置に固有の情報を得たり、特定のプロセスを実行させるべき特定の露光装置を制御するための情報を得たりする方法を説明する。
【０１１３】
ウエハの処理中に露光装置１００で計測を通して得られるショット領域情報（ショット領域情報は、第１領域情報とも表現され、例えば、同期精度、フォーカスレベリング、フォーカスレベリング追従性等を含みうる。）の値は、そのショット領域の位置（換言すると、ウエハステージ７の位置）におけるウエハステージ７の制御特性と、プロセスごとの特性とを含んでいる。各プロセスは、レジスト状態や下地パターン状態が異なるため、それぞれ違う特性をもつ。この応用例では、ショット領域情報の値のうち、個々の露光装置に固有の制御特性による成分を含まない、プロセスに固有のショット領域ごとの制御ずれ量を求める。プロセスに固有のショット領域ごとの制御ずれ量に基づいて、ショット領域ごとのオフセットや精度信頼度などを算出し、新しいプロセスのオフセット設定や、他の露光装置へのプロセス設定オフセットに流用することができる。
【０１１４】
図２４は、プロセスに固有の情報を求めて該情報を利用する方法を模式的に示す図である。プロセス２４４１、２４４２、２４４３は、互いに異なるショット領域配列を持ち、１又は複数の露光装置１００で露光処理される。露光処理の際に計測を通して得られる各ショット領域についての計測結果（ショット領域情報）２４０１の値は、露光装置１００の特性とプロセスの特性とを含む。情報処理装置２０２は、複数の露光装置１００より各ショット領域についての計測結果を収集し、その計測結果から露光装置の特性２４１１を分離し、プロセスの特性２４１２を計算する。プロセスに固有のショット制御特性は、個々の露光装置の制御特性を含まないので、プロセスデザインに流用することができる。
【０１１５】
プロセスの特性２４１２は、プロセスデザインを処理するシステム２４５０でプロセスデザインに固有のショット制御特性の情報であるプロセスデザイン情報２４２１として扱われる。プロセスデザイン情報２４２１は、ショット領域の位置（ウエハステージ７の位置）を示す情報と共に、ショット領域ごとの制御ずれ量などを含む。したがって、システム２４５０は、プロセスに固有のショット制御特性の情報を、そのプロセスとショット領域配列、レジスト、下地パターンなど処理工程が同じであるか近い新規のプロセスで使用するべきオフセット２４３１を決定するために使用できる。また、例えば、ショット制御特性に基づいてパターンの線幅が悪くなる箇所や合わせ精度が悪くなる箇所が特定できることで、パターンデザインの変更や、製造工程のレシピを調整するなどができる。
【０１１６】
また、情報処理装置２０２は、新規のプロセスに固有のオフセット２４３１を当該プロセスを初めて実行する露光装置の特性２４１１と合成（統合）することで、当該露光装置に対して設定するべきオフセット２４４１を決定することができる。同様に、１又は複数の露光装置がプロセスを実行して得られたプロセスデザイン情報２４２１を当該プロセスを初めて実行する他の露光装置の特性２４１１と合成（統合）することで当該他の露光装置に対して設定するべきオフセット２４４１を決定することができる。
【０１１７】
次に、ウエハの処理中に露光装置１００で計測を通して得られる各ショット領域情報（第１装置情報）の値から露光装置に固有の制御特性を除去したプロセス固有のショット制御特性を算出する方法を説明する。
【０１１８】
ショット領域情報としての計測結果Ｓは、ショット領域についてのウエハステージ制御系１３の制御特性Ｍと、ショット領域についてのプロセスに依存する特性（プロセス特性）Ｐと、ウエハに依存する特性（ウエハ特性）Ｗより、
Ｓ＝Ｍ＋Ｐ＋Ｗ
で表される。
【０１１９】
単数のプロセスをｉ枚のウエハに対して実行して得られる計測結果Ｓの平均を取る場合、次の式が成立する。
【０１２０】
Ｓ／ｉ＝［（Ｍ＋Ｐ＋Ｗ１）＋（Ｍ＋Ｐ＋Ｗ２）＋・・・＋（Ｍ＋Ｐ＋Ｗｉ）］／ｉ
＝Ｗ１／ｉ＋Ｗ２／ｉ＋・・・＋Ｗｉ／ｉ＋Ｍ＋Ｐ
ここで、ウエハ数ｉが大きい場合、Ｗｉ／ｉはＭ，Ｐに比べ無視できるほど小さくなり、
Ｓ／ｉ＝Ｍ＋Ｐ
で表され、単数プロセスを多数のウエハに対して実行して得られるショット領域情報としての計測結果Ｓの平均は、ウエハステージ制御系１３の制御特性Ｍとプロセスに固有の特性Ｐとを含む。
【０１２１】
次に、ｎ個のプロセスより、Ｓの平均を取る場合において、各プロセスでウエハ数は多数あると考え、Ｓ＝Ｍ＋Ｐとすると、
Ｓ／ｎ＝［（Ｐ１＋Ｍ）＋（Ｐ２＋Ｍ）＋・・・＋（Ｐｎ＋Ｍ）］／ｎ
＝Ｐ１／ｎ＋Ｐ２／ｎ＋・・・＋Ｐｎ／ｎ＋Ｍ
ここで、プロセス数ｎが大きい場合、Ｐｎ／ｎはＭに比べ無視できるほど小さくなり、
Ｓ／ｎ＝Ｍ
で表され、多数のプロセスを多数のウエハに対して実行して得られるショット領域情報としての計測結果Ｓの平均は、ウエハステージ制御系１３の制御特性を表すと考えられる。
【０１２２】
ここで、プロセスごとにショット領域の配列は異なるため、情報処理装置２０２の変換部２２２により各プロセスについてのショット領域情報を標準領域配列に従う標準領域情報に変換する。そして、統計処理部２２４により各標準領域における平均値を計算する。
【０１２３】
さらに、標準領域配列に従う標準領域情報を特定プロセスのショット領域配列に従うショット領域情報に変換することで、特定プロセスのショット領域ごとの露光装置情報Ｓ’は、
Ｓ’＝Ｓ／ｉ−Ｓ／ｎ＝Ｍ＋Ｐ−Ｍ＝Ｐ
で表され、露光装置情報Ｓ’は、特定プロセスのショット領域の特性Ｐを表すと考えられる。
【０１２４】
図２５は、プロセスに固有の特性を計算する処理の流れを模式的に示す図である。ここでは、プロセス２４４１の実行においてあるショット領域について得られる装置情報をＳとし、そのショット領域での特定プロセスの特性Ｐを求める流れを示している。
【０１２５】
まず、各プロセス２４４１、２４４２、２４４３を実行する露光動作により複数のデザイン依存装置情報（これをプロセス依存装置情報と呼ぶこともできる。）２４０４、２４０５、２４０６が得られる。デザイン依存装置情報２４０４、２４０５、２４０６を変換条件２２６に従って変換部２２３が標準領域配列に従う標準化装置情報に変換し、統計処理部２２４が標準領域ごとに平均化処理１５０３を実行することによって結果２４０９が得られる。変換部２２３は、その結果２４０９に対して、再変換処理１５０５を実行して、プロセス２４４１と同じショット領域配列に従うショット領域情報への変換を指定する変換条件２５０４で再変換を実行する。それによって得られる結果２５０６のあるショット領域についてのショット領域情報がウエハステージ制御系１３の当該ショット領域についての制御特性Ｍである。
【０１２６】
一方、プロセス２４４１の実行によって得られたデザイン依存装置情報２４０４は、そのまま統計処理部２２４にも提供される。統計処理部２２４は、デザイン依存装置情報２４０４に対して平均化処理２５０１を実行（ショット領域ごとに平均値を計算）し、結果２５０２を得る。
【０１２７】
差分処理部２６０１は、結果２５０６と２５０２との差分によりプロセス特性を得る抽出処理２５０７を実行して結果２５０８を得る。結果２５０８は、特定プロセスを実行した場合の各ショット領域における特性Ｐである。
【０１２８】
以下、標準化装置情報に変換された後、当該標準化装置情報をあるプロセスのショット領域配列に従うデザイン依存装置情報に再変換する方法を説明する。図３２は、プロセスのレイアウトデザインがショット画角そのものである場合に変換する方法を示す図である。標準領域配列２７０１を構成する標準領域がプロセスレイアウト２７０２におけるショット領域より微細な場合、変換処理は、上記の第１の例により行うことができる。一方、標準領域配列２７０４のように標準領域がプロセスレイアウト２７０２におけるショット領域より大きい場合は、変換処理は、上記の第２の例により行うことができる。
【０１２９】
図３３は、プロセスのレイアウトデザインがショット画角で定義される領域を細分化した領域である場合の変換方法を示す図である。標準領域配列２８０１を構成する標準領域がプロセスレイアウト２８０２を構成する領域より微細な場合、変換処理は、上記の第１の例により行うことができる。一方、標準領域配列２８０４のように標準領域がプロセスレイアウト２８０２を構成する領域より大きい場合は、変換処理は、上記の第２の例により行うことができる。
【０１３０】
以下、情報処理装置２０２における処理について説明する。図２６は、プロセスに固有の特性を算出しプロセスデザインシステムや露光装置にフィードバックする露光システムの構成を概略的に示す図である。
【０１３１】
情報処理装置２０２は、差分処理部２６０１を有し、指定された露光装置の装置特性と、指定されたプロセスの統計値とに基づいて、指定されたプロセスの特性を算出する。
【０１３２】
算出したプロセスレイアウト領域ごとの制御値は、通信インターフェイス２０１を通して、プロセスをデザインすることが可能なシステムであるプロセスデザインを処理するシステム２４５０にフィードバックされる。
【０１３３】
情報処理装置２０２は、統合部２６０２を有し、指定された露光装置の装置特性と、指定されたプロセスの特性とを統合し、指定された露光装置での指定されたプロセスの特性を算出する。
【０１３４】
情報処理装置２０２は、制御値処理部２５５を有し、入力部２３３より入力された制御条件２５０に基づいて、統合部１６０２による処理結果に基づいて、制御値をプロセスレイアウト領域ごとに算出する。
【０１３５】
算出したプロセスレイアウト領域ごとの制御値は、通信インターフェイス２０１を通して、指定された露光装置１００にフィードバックされる。
【０１３６】
図２７は、特定プロセスのプロセスレイアウト領域ごとに制御値を算出する処理の流れを示す図である。この方法は、露光装置の制御特性を含まない特定プロセスの制御特性を抽出するものである。図２８は、特定プロセスレイアウト領域毎の装置制御情報を算出する処理の流れを説明した図である。
【０１３７】
まず、ステップＳ７０１（収集ステップ）で、情報収集部２２１により、通信インターフェイス２０１により露光装置の通信インターフェイス１７を介して露光装置１００からデザイン依存装置情報を取得してデータベース２３１に格納する。
【０１３８】
ステップＳ７０２（フィルタリングステップ）では、フィルタリング部２２２により、データベース２３１に格納されたデザイン依存装置情報（制御結果３２４）をフィルタリング条件２２５に従ってフィルタリングして必要な情報を抽出する。ここで使用されるフィルタリング条件は、任意に指定されうる。例えば、フォーカスレベリング、ＭＡ  ＸＹθ、ＭＳＤ  ＸＹθ等の制御誤差がフィルタリング条件として指定されうる。
【０１３９】
ここで、ショット領域の特定に関わる情報３２１より、試験プロセスなど特別な装置動作をしたプロセスは、装置制御情報の算出に不適切なものとして除いてもよい。
【０１４０】
また、フィルタリング条件２２５は、該当する特定プロセスを露光した複数の露光装置を指定するように決定されうる。
【０１４１】
ステップＳ７０３（変換ステップ）では、指定された変換条件２２６に従って、変換部２２３により、デザイン依存装置情報（第１装置情報）を、標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。変換条件２２６は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、変換条件２２６は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、変換条件２２６は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【０１４２】
ステップＳ７０３に次いでステップＳ１８０１（再変換ステップ）が実行される。ステップＳ１８０１では、変換条件２２６に従って、変換部２２３により、標準化装置情報（第２装置情報）を、制御値を算出する特定プロセスのプロセスレイアウト領域における情報に変換する。
【０１４３】
ステップＳ１８０１（再変換ステップ）に次いでステップＳ７０４（統計処理ステップ）が実行される。ステップＳ７０４では、統計処理条件２２７として指定された統計処理に従って、特定プロセスのレイアウトデザイン領域ごとに統計値を算出する。例えば、統計処理として、特定プロセスのレイアウトデザイン領域ごとに平均値を算出する。この統計処理の結果は、後述の差分処理において、露光装置ごとの装置制御特性として使用される。したがって、平均値の算出は、フィルタリング条件２２５で指定された全ての露光装置について実行される。これにより、複数のプロセスを実行した露光装置のデザイン依存装置情報（第１装置情報）より、特定プロセスデザインレイアウトに変換された領域毎の装置制御情報が得られる。
【０１４４】
次に、特定プロセスにのみ生じる制御特性を導く。図２７のステップＳ２２０１（差分処理ステップ）では、特定プロセスにのみ生じる制御特性２２０２を計算する。この計算は、ステップＳ２１０２の結果である特定プロセスの結果による領域ごとの装置制御情報２１０３の値からステップＳ７０４の結果である変換された領域ごとの装置制御情報１８０２の値を差引くものである。
【０１４５】
図２９のように、ステップＳ２１０２の結果２１０３におけるレイアウトデザイン領域ごとの装置制御情報２１１１の値からステップＳ７０４の結果１８０２における同じレイアウトデザイン領域１８１１の装置制御情報の値を差引く。これにより当該領域の特性２２１１が得られる。この計算をレイアウトデザイン領域ごとに行う。この差分処理は、フィルタリング条件２２５で指定された装置ごとに行う。
【０１４６】
以上により求められた該特定プロセスにのみ生じる制御特性２２０２は、通信インターフェイス２０１よりシステム２４５０に送られる。システム２４５０は、この結果より、新しいプロセスの各ショット領域の制御ずれ量などを試算することができる。例えば、各露光装置より得られた同じプロセスの制御特性より、そのプロセスの平均的な制御特性を算出し、似たショット配列を持つ新しいプロセスの制御特性として扱うことができる。さらに、それを情報処理装置２０２に送付することで、任意の露光装置での新しいプロセスの制御値を算出することができる。
【０１４７】
以下、特定プロセスの領域毎の制御情報と特定露光装置の領域ごとの装置制御情報とに基づいて特定露光装置における該特定プロセスの制御値を求める方法を説明する。図３０は、その処理の流れを説明する図であり、図３１は、その処理を例示的に示す図である。
【０１４８】
特定プロセスの領域ごとの制御情報２２０３は、前述した特定プロセスのプロセスレイアウト領域ごとに制御値を算出する処理で求められた特定プロセスにのみ生じる制御特性２２０２でありうる。或いは、特定プロセスの領域ごとの制御情報２２０３は、特定プロセスにのみ生じる制御特性２２０２を用い、新たに設計されたプロセスの領域毎の制御情報でもよい。
【０１４９】
任意の露光装置の領域ごとの装置制御情報１８０３は、前述したステップＳ７０２〜Ｓ７０４，Ｓ１８０１の処理に従い求めることができる。
【０１５０】
ここで、フィルタリング条件２２５としては該任意の露光装置が指定され、ステップＳ１８０１（再変換ステップ）では、該特定プロセスの領域配列が指定される。
【０１５１】
統合処理ステップＳ２４０１は、特定プロセスの領域毎の制御情報２２０３に、任意の装置の変換された領域ごとの装置制御情報１８０３を加算する。
【０１５２】
図３２のように、特定プロセスの制御情報２２０３のレイアウトデザイン領域ごとの装置制御情報から、任意の装置の変換された領域毎の装置制御情報１８０３の同じレイアウトデザイン領域の装置制御情報を加算し、その領域の特性を算出する。この計算をレイアウトデザイン領域ごとに行うことにより、任意の装置での該特定プロセスの装置制御情報２４０２を決定することができる。
【０１５３】
ステップＳ１９０１（制御値処理ステップ）では、任意の装置での該特定プロセスの装置制御情報２４０２に対し、制御値条件２５０に従って制御値処理部２５５が制御値を出力する。例えば、制御値条件２５０は、係数（例えば、０．７）とすることができ、特定プロセスの装置制御情報２４０２の領域ごとの結果に当該係数を乗じた値を制御オフセットとすることができる。
【０１５４】
制御結果情報２４０２は、通信インターフェイス２０１を通して露光装置１００にフィードバックされ、その特定プロセスのレイアウトデザイン各領域の制御値として扱われる。
（検査条件の決定）
この応用例では、複数のショット領域のそれぞれを露光する際の制御ずれを示す情報（ショット領域情報を含むデザイン依存装置情報）を標準領域情報を含む標準化装置情報に変換する。そして、この標準化装置情報を統計処理することにより、重ね合わせ検査器やパターン形状検査器等の検査器に検査を実行させる検査領域を決定する。
【０１５５】
ウエハの処理中に露光装置１００で計測を通して得られる各ショット領域情報（ショット領域情報は、第１領域情報とも表現され、例えば、同期精度、フォーカスレベリング、フォーカスレベリング追従性等を含みうる。）の値は、そのショット領域の位置におけるウエハステージ７の制御特性と、プロセスごとの特性とを含んでいる。しかしながら、複数のプロセスの実行を通して得られるショット領域情報を標準領域情報に変換して、それを統計処理することによって、その標準領域情報からプロセスごとの特性を除去することができる。よって、プロセスの変更の有無に拘わらず、ウエハステージ７の制御特性の変化を検出することができる。ウエハステージ７の制御特性の変化が許容値を超える領域は、検査器に検査をさせるべき領域である。
【０１５６】
互いに異なるプロセスの実行を通して得られるショット領域情報（デザイン依存装置情報）は、そのままでは統計処理部２２４による統計処理には不向きである。そこで、互いに異なるプロセスの実行を通して得られるショット領域情報（デザイン依存装置情報）は、変換部２２３によって標準領域情報（標準化装置情報）に変換された後に統計処理される。
【０１５７】
図３４は、検査領域の決定方法を例示的に示す図である。一例では、現在のウエハの露光処理で得られたデザイン依存装置情報から得られた標準化装置情報３４０２と、直前のウエハの露光処理で得られたデザイン依存装置情報から標準化装置情報３４０３とに基づいて現在のウエハに対する追加の検査領域が決定されうる。この例では、例えば、ロット＃１のウエハ＃２で追加された検査領域３４０４は、その後、ショットレイアウトの違うロット＃２のウエハ＃１に対しても検査領域３４０５とされうる。このような決定方法は、ウエハを保持する基板ステージ７の上の異物等による影響で同じ箇所に連続して制御の異常が発生しやすい場合に有効である。
【０１５８】
情報処理装置２０２は、追加すべき検査領域３４０６を示す情報を、検査器３４１１による検査箇所等の検査条件を変更する機能を有するシステム、例えば製造ラインを管理する管理サーバー３５０１に通知する。もちろん、そのような機能を情報処理装置２０２が有する場合には、そのような通知は不要である。
【０１５９】
ウエハごとに追加の検査領域３４０７内にある計測マーク、計測パターンを追加検査箇所３４０８とすることができる。管理サーバー３５０１は、それぞれのプロセスで決められている検査箇所３４１０と追加検査箇所３４０８とを合成して検査箇所パラメータ変更結果３４０９を決定する。
【０１６０】
検査箇所パラメータ変更結果３４０９は、検査器３４１１に送られ、露光時の制御ずれ結果等を含む情報を反映した検査を行うことができる。
【０１６１】
ここで、  次に、ウエハの処理中に露光装置１００で計測を通して得られる各ショット領域情報（第１装置情報）の値から露光装置に固有の制御特性を除去したプロセス固有のショット制御特性を算出する方法を説明する。
【０１６２】
ショット領域情報としての計測結果Ｓは、ショット領域についてのウエハステージ制御系１３の制御特性Ｍと、ショット領域についてのプロセスに依存する特性（プロセス特性）Ｐと、ウエハに依存する特性（ウエハ特性）Ｗより、
Ｓ＝Ｍ＋Ｐ＋Ｗ
で表される。
【０１６３】
単数のプロセスをｉ枚のウエハに対して実行して得られる計測結果Ｓの平均を取る場合、次の式が成立する。
【０１６４】
Ｓ／ｉ＝［（Ｍ＋Ｐ＋Ｗ１）＋（Ｍ＋Ｐ＋Ｗ２）＋・・・＋（Ｍ＋Ｐ＋Ｗｉ）］／ｉ
＝Ｗ１／ｉ＋Ｗ２／ｉ＋・・・＋Ｗｉ／ｉ＋Ｍ＋Ｐ
ここで、ウエハ数ｉが大きい場合、Ｗｉ／ｉはＭ，Ｐに比べ無視できるほど小さくなり、
Ｓ／ｉ＝Ｍ＋Ｐ
で表され、単数プロセスを多数のウエハに対して実行して得られるショット領域情報としての計測結果Ｓの平均は、ウエハステージ制御系１３の制御特性Ｍとプロセスに固有の特性Ｐとを含む。
【０１６５】
次に、ｎ個のプロセスより、Ｓの平均を取る場合において、各プロセスでウエハ数は多数あると考え、Ｓ＝Ｍ＋Ｐとすると、
Ｓ／ｎ＝［（Ｐ１＋Ｍ）＋（Ｐ２＋Ｍ）＋・・・＋（Ｐｎ＋Ｍ）］／ｎ
＝Ｐ１／ｎ＋Ｐ２／ｎ＋・・・＋Ｐｎ／ｎ＋Ｍ
ここで、プロセス数ｎが大きい場合、Ｐｎ／ｎはＭに比べ無視できるほど小さくなり、
Ｓ／ｎ＝Ｍ
で表され、多数のプロセスを多数のウエハに対して実行して得られるショット領域情報としての計測結果Ｓの平均は、ウエハステージ制御系１３の制御特性を表すと考えられる。
【０１６６】
ここで、プロセスごとにショット領域の配列は異なるため、情報処理装置２０２の変換部２２２により各プロセスについてのショット領域情報を標準領域配列に従う標準領域情報に変換する。そして、統計処理部２２４により各標準領域における平均値を計算する。
【０１６７】
さらに、標準領域配列に従う標準領域情報を特定プロセスのショット領域配列に従うショット領域情報に変換することで、特定プロセスのショット領域ごとの露光装置情報Ｓ’は、
Ｓ’＝Ｓ／ｉ−Ｓ／ｎ＝Ｍ＋Ｐ−Ｍ＝Ｐ
で表され、露光装置情報Ｓ’は、特定プロセスのショット領域の特性Ｐを表すと考えられる。
【０１６８】
特定プロセスのショット領域の特性Ｐ、ステージ制御系１３の制御特性Ｍを上記の（標準領域情報の利用）で説明した方法により除去すれば、標準領域情報をプロセスの相違に拘わらずに比較することができる。
【０１６９】
図３５は、検査領域を決定するシステムの構成を示す図である。図示されていないが、情報処理装置２０２は、複数の露光装置１００から情報を収集してもよい。
【０１７０】
検査領域決定部（検査条件決定部）３５０２は、入力部２３２より入力された検査箇所判断条件１５０３と統計処理結果とに基づいて検査領域を決定する。検査領域決定部３５０２が決定した検査領域は、通信インターフェイス２０１を通して、検査器による検査箇所の変更が可能なシステム、例えば製造ラインを管理する管理サーバー３５０１に送られる。管理サーバー３５０１は、検査箇所を検査器３５０４に指示する。ここで、１台の管理サーバー３５０１が複数の検査器３５０４に指示を送ってもよい。
【０１７１】
図３６は、ウエハごとに検査領域の追加、削減を決定する処理の流れを示す図である。
【０１７２】
まず、ステップＳ７０１（収集ステップ）で、情報収集部２２１により、通信インターフェイス２０１により露光装置の通信インターフェイス１７を介して露光装置１００からデザイン依存装置情報を取得してデータベース２３１に格納する。
【０１７３】
ステップＳ７０２（フィルタリングステップ）では、フィルタリング部２２２により、データベース２３１に格納されたデザイン依存装置情報（制御結果３２４）をフィルタリング条件２２５に従ってフィルタリングして必要な情報を抽出する。ここで使用されるフィルタリング条件は、任意に指定されうる。例えば、フォーカスレベリング、ＭＡ  ＸＹθ、ＭＳＤ  ＸＹθ等の制御誤差がフィルタリング条件として指定されうる。
【０１７４】
ステップＳ７０３（変換ステップ）では、指定された変換条件２２６に従って、変換部２２３により、デザイン依存装置情報（第１装置情報）を、標準化装置情報（第２装置情報）に変換する。変換条件２２６は、入力部２３２を介して設定されうる。なお、変換条件２２６は、予め初期条件が設定されていてもよい。また、変換条件２２６は、予め用意された複数の条件の中から選択されることにより設定されてもよい。
【０１７５】
次いで、ステップＳ７０４（統計処理ステップ）では、統計処理条件２２７が指定され、その統計処理条件２２７に従って、統計処理部２２４により、標準領域ごとに統計値を計算する。統計処理条件２２７としては、例えば、標準領域ごとフィルタリングした値のバラツキを調べるために、フィルタリングによって抽出される制御誤差の３σ値、最大値、最小値等が指定されうる。
【０１７６】
ステップＳ１６０１（記憶ステップ）では、統計処理により得られた結果をＤＢ２３１に格納する。
【０１７７】
ステップＳ１６０２（検査領域決定ステップ）では、検査領域判断条件１５０３に従って、検査領域判断部３５０２が検査領域を決定する。ここでは、既に領域のレイアウトは共通の標準化領域に変換されているので、プロセスが異なるウエハの結果を使用した検査領域判断条件を設定することができる。例えば、直前の数枚のウエハの結果より移動平均をとり、その移動平均に係数（典型的には、１より大きな数）を乗じて決定される判定レベルを上回った領域を追加の検査領域として決定してもよい。逆に、移動平均に係数（典型的には、１より小さな数）を乗じて決定される判定レベルを下回った領域を検査領域から削除してもよい。
【０１７８】
また、一度検査領域として決定された領域は、その後の設定された枚数のウエハでも検査領域としてもよい。
【０１７９】
決定された検査領域は、通信インターフェイス２０１を通して、管理サーバー３５０１に通知される。決定された検査領域は、検査箇所に変換される。図３７に例示的に示すように、決定された検査領域内３４０７にある計測マーク、計測パターンが検査箇所３４０８とされうる。これを既に決められている検査箇所３４１０とあわせて、検査箇所パラメータ変更結果３４０９とすることができる。検査箇所パラメータ３４０９は、検査項目とプロセスによりそれぞれ異なる検査箇所を指定しうる。検査領域を検査箇所に変換するときは、検査項目やプロセスにより決まる検査箇所に変換されうる。この変換は、情報処理装置２０２が行ってもよいし、管理サーバー１５０１が行ってもよい。
【０１８０】
また、管理サーバーが、ショット番号やショット位置など、該当するプロセスのショットレイアウト情報に基づいて追加検査箇所情報を生成する場合には、次のようにしてもよい。すなわち、図３８で示すように、情報処理装置の変換部２２３は、標準領域配列を該当するプロセスのショットレイアウト３８０１に再変換して、検査領域のショット番号などをショットレイアウト情報から求めて、それを管理サーバーに通知してもよい。
【０１８１】
以下、変換部２２３による変換を新規プロセスのための検査箇所の決定や、定期的な検査箇所の更新に利用する例を説明する。
【０１８２】
情報収集部２２１で露光装置から収集されたデザイン依存装置情報３４０１のうち制御結果３２４（図３）より、検査領域決定の対象としたい項目をフィルタリング条件２２５として指定する。フィルタリング条件２２５に従ってフィルタリング部２２２によって抽出された情報を変換部２２３によりプロセスのショットレイアウトを共通の標準領域配列に従う標準化装置情報３４０２に変換する。統計処理部２２４は、その結果を用いて、フィルタリングにより抽出された全ウエハを対象として領域ごとの統計結果３９０１を得る。統計書リブ２２４は、例えば、統計処理は３σを指定し、標準化領域ごとに３σを算出する。
【０１８３】
その結果より、検査領域判断部３５０２は、検査領域判断条件１５０３に従って検査領域を決定する。例えば、領域ごとの値より、平均値を計算し、その平均値以上の領域を検査領域として決定することができる。
【０１８４】
決定された検査領域は、通信インターフェイス２０１を通して管理サーバー３５０１に通知される。管理サーバー３５０１は、検査領域内にある新規プロセスの計測箇所パラメータ３９０２に対して、計測マーク、計測パターンを計測箇所として追加し、計測箇所パラメータ３４０９を決定することができる。また、定期的に複数ロットについての露光装置からの情報に基づいて検査領域を決定し計測箇所パラメータを更新してもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】本発明の好適な実施形態の露光システムの構成を概略的に示す図である。
【図３】情報収集部によって収集される１つのショット領域情報の一例を示す図である。
【図４】変換部における変換処理の例を模式的に示す図である。
【図５】変換部における変換処理の第１の例を模式的に示す図である。
【図６】変換部における変換処理の第２の例を模式的に示す図である。
【図７】本発明の好適な実施形態におけるデザイン依存装置情報（第１装置情報）の解析処理の流れを例示する図である。
【図８】フィルタリング部におけるフィルタリング処理の例を模式的に示す図である。
【図９】複数の露光装置を管理システムで管理する応用例を示す図である。
【図１０】１又は複数の露光装置と他の装置とを管理システムで管理する応用例を示す図である。
【図１１】領域ごとの統計処理結果の長期監視グラフを示す図である。
【図１２】装置情報の再変換の例を説明する図である。
【図１３】ショット領域配列への装置情報の再変換を説明する図である。
【図１４】異常を検出するための原理を説明するための図である。
【図１５】標準領域の面積の決定方法を説明するための図である。
【図１６】本発明の好適な実施形態の露光システムの応用例を示す図である。
【図１７】本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を部分的に示す図である。
【図１８】本発明の好適な実施形態の露光システムの応用例を示す図である。
【図１９】制御補正値の算出処理の流れを例示する図である。
【図２０】定期的に制御補正値を計算する例を示す図である。
【図２１】本発明の好適な実施形態の露光システムの応用例を示す図である。
【図２２Ａ】異常閾値の算出処理の流れを例示する図である。
【図２２Ｂ】定期的に異常閾値を計算する例を示す図である。
【図２３】制御補正値のデータテーブルを例示する図である。
【図２４】プロセスに固有の情報を求めて該情報を利用する方法を模式的に示す図である。
【図２５】プロセスに固有の特性を計算する処理の流れを模式的に示す図である。
【図２６】本発明の好適な実施形態の露光システムの応用例を示す図である。
【図２７】特定プロセスのプロセスレイアウト領域ごとに制御値を算出する処理の流れを示す図である。
【図２８】特定プロセスレイアウト領域ごとの装置制御情報を算出する処理の流れを説明した図である。
【図２９】領域の特性を得る方法を例示する図である。
【図３０】特定露光装置における特定プロセスの制御値を求める方法を説明する。
【図３１】特定露光装置における特定プロセスの制御値を求める方法を説明する。
【図３２】変換処理を例示する図である。
【図３３】変換処理を例示する図である。
【図３４】検査領域の決定方法を例示的に示す図である。
【図３５】本発明の好適な実施形態の露光システムの応用例を示す図である。
【図３６】ウエハごとに検査領域の追加、削減を決定する処理の流れを示す図である。
【図３７】検査箇所の決定を例示的に説明する図である。
【図３８】検査箇所の決定を例示的に説明する図である。
【図３９】検査箇所の決定を例示的に説明する図である。
【符号の説明】
【０１８６】
１００  露光装置
２０１  通信インターフェイス
２０２  情報処理装置
２２１  情報収集部
２２２  フィルタリング部
２２３  変換部
２２４  統計処理部
２３５  フィルタリング条件
２２６  変換条件
２２７  統計処理条件
２３１  データベース
２３２  入力部
２３３  出力部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２Ａ】
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【図２２Ｂ】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図１４】
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【図１５】
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