(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセトニトリル、アセトニトリルよりも低い沸騰温度を有する第１の不純物セットおよびアセトニトリルよりも高い沸騰温度を有する第２の不純物セットを含む低等級アセトニトリル供給材料を精製する方法であって、
ａ）低等級アセトニトリル供給材料を少なくとも部分的に脱水し、５重量％以下の水分含量を有する低等級アセトニトリル供給材料を生成する段階であって、ここで、当該低等級アセトニトリル供給材料は３０〜８５重量％のアセトニトリルと４０％未満の水を含み、当該供給材料はさらにＤＮＡ合成廃棄物、高速液体クロマトグラフィー廃棄物および製薬廃棄物からなる群から選ばれる廃棄物を含む段階と、
ｂ）脱水された供給材料を第１の蒸留塔に導入し、アセトニトリルおよび第１の不純物セットを第２の不純物セットから分離する段階であって、アセトニトリルおよび第１の不純物セットが前記第１の蒸留塔から蒸気として取り出され、第２の不純物セットが第１の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と、
ｃ）蒸気を凝縮して第１の留出物を生成する段階と、
ｄ）第１の留出物を第２の蒸留塔に導入し、第１の不純物セットをアセトニトリルから分離する段階であって、アセトニトリルが第２の蒸留塔のボトムスとして生成される段階とを含み、前記第２の蒸留塔のボトムスとして生成されるアセトニトリルが工業等級アセトニトリル、高速液体クロマトグラフィー等級アセトニトリルおよび超高純度アセトニトリルからなる群から選ばれる高い等級のアセトニトリルである方法。
【請求項２】
含水率を２００ｐｐｍ未満に、波長１９０ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値を１オングストローム未満に低減して、ＨＰＬＣ等級のアセトニトリルを生成するように第２の蒸留塔のボトムスをさらに処理する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
含水率を５０ｐｐｍ未満に、波長１９０ナノメートルでのアセトニトリルの紫外吸収スペクトル測定値を１オングストローム未満に、波長２６０ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値を０に低減して、ＤＮＡ合成等級のアセトニトリルを生成するように第２の蒸留塔のボトムスをさらに処理する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
含水率および波長１９０ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値をそれぞれ、２０ｐｐｍ未満および１オングストローム未満に低減することによって、超高純度等級のアセトニトリルを生成するように第２の蒸留塔のボトムスをさらに処理する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
第２の蒸留塔のボトムスをモレキュラー・シーブおよびまたは活性炭床に通すことによってその含水率およびまたは紫外吸収を低減させる請求項２、３または４に記載の方法。
【請求項６】
前記ＤＮＡ合成等級アセトニトリルの少なくとも一部がＤＮＡ合成装置の流入液中に導かれる請求項２または５に記載の方法。
【請求項７】
前記ＨＰＬＣ等級アセトニトリルの少なくとも一部が高速液体クロマトグラフィー機器の流入液中に導かれる請求項３または５に記載の方法。
【請求項８】
第１の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、アセトニトリルおよび第１の不純物セットを精留するのに使用される請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
第２の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、段階ｂ）でアセトニトリルをストリッピングするのに使用される請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
第２の蒸留塔のボトムスが少なくとも工業等級のアセトニトリルを含む請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
第１の不純物セットが、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン／水共沸混合物、ジクロロメタン、ジクロロメタン／水共沸混合物およびアセトニトリル／水共沸混合物を含む請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
第１の蒸留塔からの蒸気が、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびアセトニトリルを含み、少なくとも一部の蒸気が第１の凝縮器に導かれ、そこで蒸気温が、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの露点よりも下げられ、これによって、少なくとも一部のジクロロメタン蒸気が第２の凝縮器に導かれ、そこで蒸気温が、ジクロロメタンの露点よりも下げられて、ジクロロメタン凝縮物が生成される請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
ジクロロメタン凝縮物をＤＮＡ合成装置の流入液中に導く段階をさらに含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第１の蒸留塔に導かれる前に供給材料に酸を注入して供給材料を酸性化する段階をさらに含む請求項１から１３のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、低等級アセトニトリルを精製して、より高い等級のアセトニトリルを生成することに関する。
【０００２】
（発明の背景）
現在、市場では一般に、５種類のアセトニトリル、すなわち未精製アセトニトリル、工業等級アセトニトリル、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）等級アセトニトリル、ＤＮＡ合成等級アセトニトリルおよび超高純度アセトニトリルが使用されている。まだ利用されていない低等級アセトニトリルの供給源が３つある。
【０００３】
未精製アセトニトリルは一般に、最高５０重量パーセントのアセトニトリルおよび最高５０重量パーセントの水を含み、アクリロニトリル製造プロセス中の副反応から得られる。この未精製アセトニトリルは次いで、工業品質規格に合うように精製されて使用される。現在のところ、未精製アセトニトリルが、より高い等級のアセトニトリルを生産する唯一の源である。
【０００４】
工業等級アセトニトリルは、少なくとも９９．７５重量パーセントのアセトニトリルおよび約５００ｐｐｍの水を含み、一般に、ガス・クロマトグラフィー応用および農薬製造プロセスで使用される。
【０００５】
ＨＰＬＣ等級アセトニトリルは、少なくとも９９．９重量パーセントのアセトニトリルを含み、波長１９０ナノメートルで１オングストローム未満のＵＶ吸収スペクトル測定値を有する高純度アセトニトリルであり、１００ｐｐｍ超の水を含むことができる。ＨＰＬＣ等級アセトニトリルは一般に、合成分子およびＤＮＡプローブを精製し測定する目的に使用される。
【０００６】
ＤＮＡ合成等級アセトニトリルは、少なくとも９９．９重量パーセント・アセトニトリルの純度を有し、約５０ｐｐｍ以下の水を含み、波長１９０ナノメートルで１オングストローム未満の、波長２６０ナノメートルで０オングストロームの紫外吸収スペクトル測定値を有する。ＤＮＡ合成等級アセトニトリルは一般に、ＤＮＡ合成プロセスで洗浄剤、反応溶媒および希釈剤として使用される。ＤＮＡ合成等級アセトニトリルは、ＤＮＡ合成化学物質の製造でも使用される。
【０００７】
超高純度アセトニトリルは、少なくとも９９．９９重量パーセント・アセトニトリルの純度を有し、約２０ｐｐｍ以下の水を含み、波長１９０ナノメートルで１オングストローム未満の紫外吸収スペクトル測定値を有する。超高純度アセトニトリルは一般に製薬プロセスで使用される。
【０００８】
低等級アセトニトリルは主として、ＤＮＡ合成プロセス廃棄物、ＨＰＬＣプロセス廃棄物および製薬プロセス廃棄物に由来する。これらの廃棄物は現在、燃料混合（再利用）または焼却によって処分されている。低等級アセトニトリルは主として、３０から８５重量パーセント・アセトニトリルであり、約４０パーセント未満の水を含む。
【０００９】
ＤＮＡ合成プロセスは一般に、３種類の有害廃棄物、すなわち非ハロゲン化アセトニトリル廃棄物、ハロゲン化ジクロロメタン廃棄物および水性廃棄物を生成する。非ハロゲン化アセトニトリル廃棄物は一般に、アセトニトリル（ＡＣＮ）、ジクロロメタン（ＤＣＭ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ピリジン、ｎ−ブタノール、酢酸、酢酸イソブチル、無水酢酸、水、および他の微量成分を含むいくつかの成分から成る。ただしこれらに限定されるわけではない。微量成分には塩および他の高分子量断片が含まれる。
【００１０】
未精製、工業等級またはより高い等級の供給材料から、アセトニトリルおよび他のさまざまな溶媒を精製する方法は既にいくつか開発されている。しかし、低等級アセトニトリル供給材料からアセトニトリルを精製するための効率的なプロセスはまだ開発されていない。
【００１１】
未精製アセトニトリル供給材料からアセトニトリルを精製する従来の方法は、共沸蒸留または抽出蒸留に依拠している。使用される方法は一般に、水を含む不純物成分の種類および量、必要な最終生成物純度ならびに方法の経済性によって決まる。抽出および共沸技法は、平衡接触の間にアセトニトリルをその不純物から共沸させ、または抽出し、さらに共沸混合物を処置する必要を排除する分離剤を必要とする。次いでこの添加成分からアセトニトリルを分離する。例えば、米国特許第２８０７５７３号には、水を分離剤として用いた抽出蒸留を使用してアセトニトリルを含む不純混合物からアクリロニトリルを精製することが開示されている。これらのプロセスは、比較的大型で高価な機器を必要とし、比較的高いエネルギー所要量を有する。少なくとも１つまたは複数の追加の溶媒の処理、損失および廃棄処分において、これらは環境への追加の影響も招く。
【００１２】
工業等級またはより高い等級のアセトニトリル供給材料からアセトニトリルを精製する従来の方法は、有機不純物を除去するためのさまざまな吸収剤（例えば活性アルミナ、活性ボーキサイト、活性炭、特殊なアルミノケイ酸塩、モレキュラー・シーブ、処理粘土、フーラー土、ケイ藻土）および水を除去するためのさまざまな吸収剤（例えば活性アルミナ、塩化カルシウム乾燥剤、シリカゲル、アルミノケイ酸塩、モレキュラー・シーブ、ならびにこれらの酸化物および炭酸塩を含む他の無機物）による処理を含む。例えば、米国特許第２１０７９０４号には、アルミナおよび他の吸収剤を使用して液化炭化水素混合物からニトリルを吸収するための吸収剤が開示されている。米国特許第２５６０９３１号には、活性アルミナを用いた処理によるアセトニトリルの脱水が開示されている。
【００１３】
工業等級またはより高い等級のアセトニトリルからアセトニトリルを精製する他の方法には、空気、酸素、オゾンなどの酸化剤を触媒とともに、または触媒を使用せずに使用し、続いて蒸留および／または吸収を実施して、酸化された不純物を除去する方法が含まれる。米国特許第５４２６２０８号には、オゾンを使用してアセトニトリルの有害不純物を酸化させ、精製されたアセトニトリルを生成する方法が開示されている。この方法の１つの問題は、実質上９９．９５パーセント・アセトニトリルである供給材料を必要とすることである。
【００１４】
分別結晶を使用して、アセトニトリルを精製することもできる。しかし、分別結晶プロセスの使用では、初期供給材料の組成が９９．９＋パーセント・アセトニトリルである必要がある。さらに、分別結晶プロセスは複雑であり、初期投資、エネルギー所要量および保守の面で不経済である。
【００１５】
（発明の概要）
低等級アセトニトリル供給材料中のアセトニトリルおよび他の成分を精製する方法および装置を開示する。本発明の一実施態様によれば、アセトニトリル供給材料を精製するためのプロセスは、アセトニトリル、アセトニトリルよりも低い沸騰温度を有する第１の不純物セットおよびアセトニトリルよりも高い沸騰温度を有する第２の不純物セットを含む低等級アセトニトリル供給材料を精製することを含み、ａ）第１の蒸留塔に供給材料を導入し、アセトニトリルおよび第１の不純物セットを第２の不純物セットから分離する段階であって、アセトニトリルおよび第１の不純物セットが前記第１の蒸留塔から蒸気として取り出され、第２の不純物セットが第１の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と、ｂ）蒸気を凝縮して第１の留出物を生成する段階と、ｃ）第１の留出物を第２の蒸留塔に導入し、第１の不純物セットをアセトニトリルから分離する段階であって、アセトニトリルが第２の蒸留塔のボトムスとして生成される段階とを含む。
【００１６】
他の実施態様では、アセトニトリル供給材料がジクロロメタンおよびテトラヒドロフランを含む。アセトニトリルは上記の方法で精製する。さらにジクロロメタンを、第１の蒸留塔からの蒸気を第１の熱交換器に通し、そこで温度を、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの露点よりも下げることによって精製する。アセトニトリルおよびテトラヒドロフランは実質的に凝縮され、一方、ジクロロメタン蒸気は第２の熱交換器に導かれて、そこで凝縮される。
【００１７】
他の実施態様では、その廃棄流出液がアセトニトリル精製装置に直接に結合されたＤＮＡ合成装置が提供される。一実施態様ではＤＮＡ合成廃棄物が、アセトニトリル廃棄物、ジクロロメタン廃棄物および脱トリリル廃棄物に分離される。アセトニトリル廃棄物は、先に説明した第１および第２の蒸留塔を含む精製装置に結合される。
【００１８】
他の実施態様では、その廃棄流出液がアセトニトリル精製装置に直接に結合された高速液体クロマトグラフィー機器が提供される。精製装置は、先に説明した第１および第２の蒸留塔を含む。
【００１９】
本発明のプロセスは、安価な低等級アセトニトリル供給材料から不純物を除去して、工業等級、ＨＰＬＣ等級、ＤＮＡ合成等級および超高純度等級のアセトニトリルを生成する。
【００２０】
本発明の他の特徴および利点は、添付の図面および以下の詳細な説明から明白となろう。
【００２１】
添付図面には本発明が例示されている。図中、同じ参照番号は同種の要素を指示する。
【００２２】
（詳細な説明）
低等級アセトニトリルからアセトニトリルおよび他の成分を精製する方法および装置を開示する。以下の説明では、本発明の完全な理解を提供するために数多くの具体的な詳細を記載する。しかし、これらの詳細を使用しなくとも本発明を実施できることは当業者には明白である。また、本発明をいたずらに不明瞭にすることを避けるため、周知のプロセス、装置、材料などは詳細に説明しなかった。
【００２３】
図１に、本発明の一実施形態のアセトニトリル精製／リサイクリング・システム１００を示す。本発明によれば、アセトニトリル供給材料１０２は第１の蒸留塔１０４の下部に導かれる。供給材料１０２は例えば、ＤＮＡ合成廃棄物由来の低等級アセトニトリルである。この低等級アセトニトリルは、ＨＰＬＣ廃棄物、製薬廃棄物などの他の供給源から供給することもできるがそれだけには限定されない。先に論じたとおり、ＤＮＡ合成廃棄物は一般に、プロセスごとに異なる多くの成分を含む。本発明の精製プロセスを説明する目的上、アセトニトリル、水、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ピリジン、塩および他の高分子量断片を含むアセトニトリル供給材料を考える。アセトニトリル供給材料はこれよりも多い、またはこれよりも少ない成分を含むことができることを理解されたい。いずれにしても、アセトニトリル供給材料の含水率は、アセトニトリル／水共沸混合物が要求する含水率約１６重量パーセントよりも低くなければならない。供給材料１０２は、０から５重量パーセントの水を含むことが好ましく、０から２重量パーセントの水を含むことがより好ましい。
【００２４】
蒸留塔１０４は一般に、パッキン、トレイ、ふるい、泡鐘などの内部構造物、またはシステムを流れる気−液ストリームを平衡に近づけるために多段式接触段とすることができる同種の機械的構成を含む。蒸留塔１０４内で使用する段数および内部構造物の種類は、供給材料の組成、供給材料入口の位置、還流比、所望の塔効率などによって変動する。そのため、塔の縦断形状は応用ごとに異なる。塔１０４の底に位置する熱交換リボイラ１０６が塔に熱を供給する。
【００２５】
図２に示し後に説明するように、塔１０４は、分離に影響を及ぼすストリッピング塔として使用される。図２に、塔１０４を通過するときのアセトニトリル供給材料のボトムスおよび留出物組成物の沸点を示す。図２の温度目盛上に、供給材料１０２のさまざまな成分および成分共沸混合物の標準沸騰温度が示されている。周知の２成分共沸混合物および純粋成分の標準沸騰温度に基づいて、実質上全てのアセトニトリル、アセトニトリル／水共沸混合物、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン／水共沸混合物、ジクロロメタン、ジクロロメタン／水共沸混合物を精留して、塔１０４の出口蒸気１０８を生成する。塔１０４を出ると蒸気１０８は、凝縮器１１２の内部で凝縮されて留出物１１４を生成する。還流１１６は塔１０４に戻される。
【００２６】
ピリジン／水共沸混合物、ピリジン、水およびより高分子量の液体は、塔１０４の中でストリッピングされ、ボトムスからストリーム１１０中に捨てられる。塔１０４中でのストリッピングの目的は、アセトニトリルとピリジン／水共沸混合物の沸点の差を利用して液体のクリーンな分離に影響を及ぼすことである。この分離を達成するのに必要なストリッピングおよび精留段の数は供給物の組成によって決まるので、供給材料１０２の塔１０４への入口の位置は、供給材料の組成に応じて変化する。一実施形態では、塔１０４内に位置する実質的に大多数の段が供給材料の精留に使用され、実質的により少ない数の段が供給材料のストリッピングに使用されるように、供給材料入口１０２が塔１０４の十分に低い位置に導かれる。２成分共沸混合物による分離に、３成分および４成分共沸混合物が干渉するようには示さなかったが、３成分およびおそらく４成分相互作用が存在する可能性は高い。アセトニトリルの収率（すなわちプロセス効率）は、還流比、塔１０４内の段数、および所望の留出物１１４プロファイルのバランスによって決まる。
【００２７】
留出物１１４は、塔１０４への還流および塔１２０への供給１１８を一時的に貯留する受器１１５へ流れる。塔１２０の底に位置する熱交換リボイラ１２２が塔に熱を供給する。塔１２０の内部構成は塔１０４のそれと同様である。供給物１１８は、塔内の大多数の段がストリッピングに使用されるように塔１２０に導入される。図２に示すように、アセトニトリル／水共沸混合物、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン／水共沸混合物、ジクロロメタンおよびジクロロメタン／水共沸混合物が精留されて、留出物１２４が生み出され、一方、アセトニトリルはストリッピングされてボトムス１２６が生成される。供給物入口１１８の位置は、塔の縦断形状、供給物の組成、塔の操作パラメータなどによって変化する。塔１２０からの蒸気１２４は凝縮器１２８で凝縮されて、凝縮物１３０を形成する。凝縮物１３０の一部は還流１３２として戻され、一方、残りの部分には留出物１３４が含まれる。
【００２８】
本明細書に記載の分別蒸留法に基づいて低等級アセトニトリル廃棄物を処理することによって、アセトニトリル９９．９＋重量パーセントおよび水５００ｐｐｍ未満を含み、波長１９０ナノメートルで３．８オングストロームの最小ＵＶ吸収を有するボトムス１２６が達成され、工業用等級アセトニトリルが生成される。塔１２０を出た後、ボトムス１２６は、脱水装置１５０、微量不純物吸収装置１５２およびフィルタ１５４を通して導くことができ、そこで含水率、ＵＶ吸収および不溶性微粒子が低減されて、ＨＰＬＣ、ＤＮＡ合成または超高純度等級のアセトニトリルが生成される。脱水装置１５０は、モレキュラー・シーブ、乾燥剤または当技術分野で周知の他の水分除去材料を含むさまざまな任意の水分除去装置を含むことができる。微量不純物吸収装置１５２は、活性炭、アルミナ、シリカゲル、粘土または当技術分野で周知の他の微量不純物吸収装置を含むことができる。フィルタ１５４は、精製されたアセトニトリル・ストリームから微粒子を除去する。フィルタ１５４は一般に、０．１〜０．５ミクロン・メンブラン・フィルタを含み、好ましくは０．２ミクロン・メンブラン・フィルタを含む。一実施形態では、ボトムス１２６をさらに処理して、アセトニトリル９９．９＋重量パーセント、水２００ｐｐｍ未満を含み、波長１９０ナノメートルで１オングストローム未満のＵＶ吸収を有するＨＰＬＣ等級アセトニトリル・ストリーム１６０を生成する。他の実施形態では、ボトムス１２６を処理して、アセトニトリル９９．９＋重量パーセント、水５０ｐｐｍ未満を含み、波長１９０ナノメートルで１オングストローム未満のＵＶ吸収を有するＤＮＡ合成等級アセトニトリル・ストリーム１６０を生成する。追加の実施形態では、ボトムス１２６を処理して、アセトニトリル９９．９９＋重量パーセント、水２０ｐｐｍ未満を含み、波長１９０ナノメートルで１オングストローム未満のＵＶ吸収を有する超高純度アセトニトリル・ストリーム１６０を生成する。本発明はさらに、いたずらに要件を超えることなく装置の設計および／または操作を修正し、これによって生成物の収率を最適化することによって、特定のアセトニトリル仕様（例えば含水率４ｐｐｍ未満、波長１９０ナノメートルで０．３オングストローム未満のＵＶ吸収）を達成する柔軟性を有する。下表１に、本発明の蒸留プロセスに基づく供給物、留出物およびボトムス・ストリームの組成および工業スケールの速度を示す。表２には蒸留塔の構成および還流比を示した。表１および２の例では、アセトニトリルの収率が約８５重量パーセントとなる。
【表１】
0005118797.tif 000002
【表２】
0005118797.tif 000003
【００２９】
生成物の収率は一般に、供給材料の組成および不純物の性質の関数である。例えば、表３に示すように、供給材料中のアセトニトリル濃度が高いほど、その収率は高くなる。
【表３】
0005118797.tif 000004
【００３０】
（実施例）
表４に、パイロット・プラントで実施した、ＤＮＡ合成廃棄物を含む低等級アセトニトリル供給材料の実際の蒸留、脱水および微量不純物吸収の結果を示す。供給材料は、約７７．８重量パーセントのアセトニトリルおよび約０．１７重量パーセントの水を含んでいた。表５に、蒸留塔の構成、およびエネルギー効率の尺度である還流比を示す。両蒸留塔は大気圧に維持し、塔平衡を促進するため両塔に供給物予熱器を設置した。表から分かるように、蒸留後の生成物１２６の品質は、アセトニトリル純度９９．９９＋重量パーセントであった。紫外吸収スペクトル測定値は、波長１９０ナノメートルで３．８から４．２オングストロームであった。含水率は平均３５０ｐｐｍであった。生成物収率は約８０パーセントであった。
【００３１】
アセトニトリル生成物を次いで、２つの充填塔に通した。水吸収塔には、Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅモレキュラー・シーブＡ  Ｇｒａｄｅ  ５６４−Ｃ型を充填した。色除去塔には、Ｃａｒｂｏｎ  Ｌｉｎｋ  ＢＫＫ  １２×４０メッシュ粒状炭素を充填した。それぞれの充填床で処理を受ける生成物の滞留時間は、３から１２ｐｓｉｇで１．５から２５分であった。このプロセスによって、水２０ｐｐｍ未満を有し、波長１９０ナノメートルで０．４５から０．６５のＵＶ吸収を有する処理済み生成物（超高純度等級アセトニトリル）が得られた。処理を受ける生成物の充填床滞留時間を短縮することによってＵＶ吸収はさらに低減させることができるが、１．０未満の目標仕様は、実質１００パーセント収率で達成された。
【表４】
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【表５】
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【００３２】
図３に、図１の精製システム１００とＤＮＡ合成装置２００を統合した、閉ループ・アセトニトリル・リサイクリング・システム３００を示す。図３の実施形態では、ＤＮＡ合成装置２００が３つの流出廃棄物ストリーム、すなわち（１）非ハロゲン化アセトニトリル廃棄物２０２、（２）ハロゲン化ジクロロメタン廃棄物２０４および（３）脱トリチル廃棄物２０６を有する。非ハロゲン化アセトニトリル廃棄物ストリーム２０２は、蒸留塔１０４の入口に直接に供給され、先に説明したプロセスに従って精製される。精製後のアセトニトリル・ストリーム１６０は、ＤＮＡ合成装置２００のアセトニトリル流入液２０１中へ戻される。精製後のアセトニトリル・ストリームがＤＮＡ合成等級のアセトニトリルであることが好ましい。
【００３３】
他の実施形態では、高速液体クロマトグラフィー機器からのアセトニトリル廃棄物が蒸留塔１０４の入口に直接に供給され、先に説明したプロセスに従って精製される。精製後のアセトニトリル・ストリーム１６０は、高速液体クロマトグラフィー機器のアセトニトリル流入液中へ戻される。精製後のアセトニトリル・ストリームがＨＰＬＣ等級のアセトニトリルであることが好ましい。
【００３４】
他の実施形態では、製薬プロセス機器からのアセトニトリル廃棄物が蒸留塔１０４の入口に直接に供給され、先に説明したプロセスに従って精製される。精製後のアセトニトリル・ストリーム１６０は、製薬プロセスのアセトニトリル流入液中へ戻される。精製されたアセトニトリル・ストリームが超高純度等級のアセトニトリルであることが好ましい。
【００３５】
図４を参照すると、本発明の他の実施形態に基づくアセトニトリル精製システム４００が示されている。いくつかの場合には、蒸留プロセスの前に供給材料を脱水したほうがよいことがある。図４に示すように、蒸留塔１０４の入口のところに脱水装置１０１を設置する。脱水装置１０１の代わりに、または脱水装置１０１に加えて、蒸留塔１２０の供給物入口のところに脱水装置を設置してもよい。こうすると、蒸留供給物ストリームの含水率を制御して、蒸留プロセスを最適化することができる。脱水装置１０１を使用することによって、未精製アセトニトリルを本発明の方法に従って精製することができる。脱水装置１０１は、未精製アセトニトリルの含水率を低減するように働き、約３０から８５重量パーセントのアセトニトリル、０から約１６重量パーセントの水を含む供給材料を生成する。０から５重量パーセントの水を含む供給材料が生成されるように含水率を低減することが好ましい。
【００３６】
続けて図４を参照する。供給材料入口１０２に酸１０３を注入して、供給材料を酸性化することができる。供給材料を酸性化することによって、ピリジンなどのアルカリ性の成分がイオン化され、これらが、蒸留塔１０４の留出物として持ち出されることがなくなる。
【００３７】
図５は、本発明の他の実施形態のアセトニトリル精製システム５００のブロック流れ図である。図５の実施形態では、蒸留塔１２０からの留出物１２４を部分凝縮器１４０に通し、そこで、蒸気温度を、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの露点よりも低く、かつジクロロメタンの露点よりも高く維持する。アセトニトリル／テトラヒドロフラン凝縮物１４１の一部分１４２を還流として塔１２０に導き、残りの部分１４４は廃棄するか、またはさらに処理する。凝縮器１４０からのジクロロメタン蒸気１４６は、第２の凝縮器１４８に導かれ、そこで凝縮される。凝縮器１４８の凝縮流出液１４９は、実質的に精製されたジクロロメタンであり、これを、ＤＮＡ合成装置または他のジクロロメタン源に再循環させることができる。
【００３８】
以上の明細では、例示的な特定の実施形態に関して本発明を説明した。しかし、添付の請求項に記載した本発明のより広い趣旨および範囲から逸脱することなくこれらの例示的な特定の実施形態にさまざまな修正および変更を加えることができることは明白である。したがって本明細書および図面は例示的なものと考えるべきであって、限定的なものとみなしてはならない。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施形態に基づくアセトニトリル精製システムのブロック流れ図である。
【図２】  本発明の一例における供給材料溶媒およびそれらのそれぞれの共沸混合物の標準沸点を示す図である。
【図３】  ＤＮＡ合成装置およびアセトニトリル精製システムを備えたリサイクリング・システムのブロック流れ図である。
【図４】  本発明の他の実施形態のアセトニトリル精製システムのブロック流れ図である。
【図５】  本発明の他の実施形態のアセトニトリル／ジクロロメタン精製システムのブロック流れ図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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