(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機シロキサン含有物質と、トリフェニルアミン電荷移送物質と、ポリマーバインダ物質とを含み、
前記ポリマーバインダ物質は、ＴＥＭＰＯ末端基を有するポリアクリレート物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記有機シロキサン含有物質は、少なくとも１つの反応性二重結合を有する有機シロキサン含有物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記ＴＥＭＰＯは、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシである、相互貫入ネットワーク。
【請求項２】
相互貫入ネットワークを調製するための方法であって、
官能化オルガノシロキサン物質をゾルゲル重合させて、有機シロキサン含有マトリックスを形成させる工程と、
前記有機シロキサン含有マトリックスを、トリフェニルアミン電荷移送物質と末端反応性基を有するポリマーバインダ物質と反応させる工程と、
を含み、
前記ポリマーバインダ物質は、ＴＥＭＰＯ末端基を有するポリアクリレート物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記有機シロキサン含有物質は、少なくとも１つの反応性二重結合を有する有機シロキサン含有物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記ＴＥＭＰＯは、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシである、方法。
【請求項３】
有機シロキサン含有物質とトリフェニルアミン電荷移送物質とポリマーバインダ物質とを有し、
前記ポリマーバインダ物質は、ＴＥＭＰＯ末端基を有するポリアクリレート物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記有機シロキサン含有物質は、少なくとも１つの反応性二重結合を有する有機シロキサン含有物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記ＴＥＭＰＯは、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシである、相互貫入ネットワークを含むケイ素含有層。
【請求項４】
ケイ素含有層を含む電子写真（electrophotographic）感光体であって、前記ケイ素含有層が、有機シロキサン含有物質とトリフェニルアミン電荷移送物質とポリマーバインダ物質とを含み、
前記ポリマーバインダ物質は、ＴＥＭＰＯ末端基を有するポリアクリレート物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記有機シロキサン含有物質は、少なくとも１つの反応性二重結合を有する有機シロキサン含有物質からなる群から選択される少なくとも１つの物質であり、
前記ＴＥＭＰＯは、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシである、感光体。
【請求項５】
前記有機シロキサン含有物質は、有機シロキサン含有アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つの物質である、請求項１に記載の相互貫入ネットワーク。
【請求項６】
前記トリフェニルアミン電荷移送物質は、以下の式のアリールアミンである、請求項１に記載の相互貫入ネットワーク。
【化１】
0005175045.tif 000021
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、シロキサン−アクリレート相互貫入ネットワークを形成させるためのプロセスに関し、また、電子写真（electrophotographic）画像形成部材のためのオーバーコーティング層の製造におけるそのようなシロキサン−アクリレート相互貫入ネットワークの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真（electrophotographic）画像形成部材（すなわち、感光体）は公知である。フレキシブルベルト構成または硬質ドラム構成のいずれかを有する感光体は、電子写真（electrophotographic）プロセスにおいては一般的に使用されている。感光体には、単一層または複合層を含めて、光導電層が含まれていてよい。それらの感光体は、種々の形態をとる。たとえば、層化させた光応答性画像形成部材は、当業者には公知である。特許文献１には，別個に光発生層および電荷輸送層を有する、層化させた感光体が記載されている。特許文献１に開示されている光発生層は、正孔を光発生させ、電荷輸送層の中に光発生された正孔を注入することが可能である。したがって、特許文献１の感光体においては、その光発生物質が、光を受けたときに、電子と正孔を発生させる。
【０００３】
高度に特化された成分層を含む、より進んだ光導電性感光体も公知である。たとえば、多層感光体には、基材、アンダーコート層、中間層、場合によっては正孔阻止層または電荷阻止層、アンダーコーティング層および／または阻止層の上の電荷発生層、および電荷輸送層の１層または複数の層が含まれていてよい。追加の層、たとえばオーバーコート層が含まれていてもよい。
【０００４】
そのような背景に鑑み、感光体における電子写真（electrophotographic）特性および耐久性の改良、小型化、コスト削減などが検討され、各種の物質を用いた感光体が提案されてきた。
【０００５】
たとえば、特許文献２には、その中で微細なシリコーン粒子を感光層に添加した感光体が開示され、またそのような微細なシリコーン粒子の添加が、感光体の表面に潤滑性を付与していることも開示されている。
【０００６】
さらに、感光層の形成において、電荷移送物質をバインダポリマーまたはそのポリマー前駆体の中に分散させ、次いで、そのバインダポリマーまたはそのポリマー前駆体を硬化させる方法が提案されている。特許文献３および特許文献４には、バインダポリマーまたはそのポリマー前駆体として、シリコーン物質を使用した感光体が開示されている。
【０００７】
感光体の機械的強度を改良するために、感光層の表面の上に保護層を形成させることも可能である。保護層には、架橋可能な樹脂が使用されることが多い。しかしながら、架橋可能な樹脂の保護層は、絶縁層として機能するために、光電特性を損なう。したがって、保護層の中に、許文献５に開示されているような微細な導電性金属酸化物粉末、あるいは特許文献６に開示されているような電荷移送物質を分散させ、反応性官能基を有する電荷移送物質を熱可塑性樹脂と反応させて、保護層を形成させる方法が提案されている。
【０００８】
しかしながら、上述の感光体は、特に接触荷電システムの帯電器またはクリーニング装置と組み合わせて使用する場合には、電子写真（electrophotographic）特性および耐久性の面では必ずしも満足のいくものではない。
【０００９】
さらに、接触帯電器および重合トナーと組み合わせて感光体を使用する場合には、感光体の表面が、接触荷電において発生した放電生成物や転写工程の後に残存する重合トナーにより汚れるために、画像品質が劣化する。感光体の表面から放電生成物や残存トナーを除去するためにクリーニングブレードを使用すると、摩擦と摩耗が起こり、それが感光体の表面を損傷し、クリーニングブレードの破損またはブレードの折れ曲げ（turn up）を招きやすい。
【００１０】
感光層および保護層を含めての感光体層にケイ素含有化合物を使用すると、荷電条件下およびスコロトロン−荷電条件下での感光体の機械的寿命を延ばすことが見いだされた。たとえば、特許文献７には、改良された機械的強度および耐汚染性を有する感光体が開示されている。
【００１１】
特許文献７に記載されているような、低い摩耗率を有する感光体は、リフレッシュレート（refresh rate）も低い。摩耗率とリフレッシュレートとが低いことは、高湿度および高温度の条件下では特に、画像流れ（image-deletion）エラーの主原因となる。特許文献８（その開示のすべてを参考として引用し本明細書に組み入れる）では、この問題に取り組んで、高熱および高湿度の環境下においてさえ画像品質、定着性能が改良された感光体を開示している。
【００１２】
感光体においては、現像される画像の欠落は、最上部の感光体表面の変質の結果である可能性がある。画像欠落は、電子写真（xerographic）エンジンの荷電装置の周辺に典型的に見いだされるような、環境汚染物に感光体が暴露された場合に起きやすい。高熱および／または高湿度条件下では、画像欠落が強くなる可能性がある。
【００１３】
ポリマーバインダ中に正孔輸送アリールアミン化合物の固相溶液が最外表面に含まれているような典型的な感光体においては、荷電装置周辺の環境汚染物が、正孔輸送のアリールアミン化合物と反応して極めて導電性の化学種を形成するような場合に、画像欠落が起きやすい。
【００１４】
最外層が正孔輸送アリールアミン残基を含むシロキサン−有機ハイブリッド物質であるような感光体においては、電子写真（xerographic）エンジンの荷電装置の周辺の環境汚染物が、シロキサン−有機ハイブリッド物質のシロキサン成分と相互作用したときに、画像欠落が起きやすい。シロキサン成分に残存しているアルコキシドが加水分解されて高度に極性の高いシラノール残基を形成するという化学反応が、その相互作用の結果として起きる。高度に極性の高いシラノールが、最外の感光体表面の上に存在し、荷電装置により形成された環境汚染物を引きつけかつ保持するために、感光体表面の上に高度に導電性のゾーンを形成する原因となる。高熱および／または高湿度条件下では、そのような高度に導電性のゾーンは、現像された画像の画像欠落として表面化する可能性がある。
【００１５】
したがって、上述のような従来の感光体では、特に高熱および／または高湿度環境において使用した場合、電子写真（electrophotographic）特性および耐久性が必ずしも満足のいくものではない。
【００１６】
【特許文献１】米国特許第４，２６５，９９０号明細書
【特許文献２】特開昭６３−６５４４９号公報
【特許文献３】特公平５−４７１０４号公報
【特許文献４】特公昭６０−２２３４７号公報
【特許文献５】特開昭５７−１２８３４４号公報
【特許文献６】特開平４−１５６５９号公報
【特許文献７】米国特許出願公開第２００４／００８６７９４号明細書
【特許文献８】米国特許第６，７３０，４４８号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
そのため、高温度および高湿度条件下においても、高い機械的強度、改良された電子写真（electrophotographic）特性および改良された画像流れ特性を有する感光体に対する必要性が依然として残っている。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
感光体のためのケイ素含有層が提供され、前記ケイ素含有層は、高い機械的強度、改良された電子写真（electrophotographic）特性、および高温度および高湿度条件下においてさえ改良された画像流れ特性を有している。
【００１９】
個別に提供されるのは、ポリマーバインダ物質とケイ素含有物質との相互貫入ネットワークを含むケイ素含有層；前記ポリマーバインダ物質とケイ素含有物質との相互貫入ネットワークがゾル−ゲルプロセスによって形成されたケイ素含有層；ポリマーバインダ物質とケイ素含有物質との相互貫入ネットワークを調製するためのゾル−ゲルプロセス；ポリマーバインダ物質とケイ素含有物質との相互貫入ネットワークを含むケイ素含有層を含む感光体；およびポリマーバインダ物質とケイ素含有物質との相互貫入ネットワークを含むケイ素含有層を含む感光体を含む画像形成装置、である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
実施態様の感光体において、感光層には、１層または複数のケイ素含有層を含むことができ、そのケイ素含有層には樹脂を含むことができる。
【００２１】
実施態様においては、樹脂は、その層を作成するために使用されるコーティング溶液中の液体成分に可溶性であるのがよい。そのような液体可溶性樹脂は、その液体成分を基準に選択することができる。たとえば、コーティング溶液がアルコール系溶媒（たとえばメタノール、エタノールまたはブタノール）を含んでいる場合には、ポリビニルアセタール樹脂（たとえばポリビニルブチラール樹脂）、ポリビニルホルマール樹脂、またはブチラールがホルマールもしくはアセトアセタールを用いて部分的に変性されている部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂（たとえばエチルセルロース）、およびフェノール樹脂を、アルコール−可溶性樹脂として好適に選択することができる。それらの樹脂は、単独で使用してもよいし、あるいはそのような樹脂２種以上の組合せとして使用してもよい。これらの樹脂の内で、ポリビニルアセタール樹脂を使用すると、その電気的特性のメリットを得ることができる。
【００２２】
実施態様において、液体成分に可溶性の樹脂の重量平均分子量は、約２，０００〜約１，０００，０００、または約５，０００〜約５０，０００の範囲とするのがよい。重量平均分子量が約２，０００よりも低いと、放電ガス抵抗性、機械的強度、耐引っ掻き性、粒子分散性などを向上させる効果が、不充分となる傾向がある。その一方で、重量平均分子量が約１，０００，０００を超えると、コーティング溶液への樹脂の溶解性が低下し、コーティング溶液へ添加可能な樹脂の量が制限され、フィルム形成性が低下するという結果を招く可能性がある。
【００２３】
さらに、液体成分に可溶性な樹脂の量は、実施態様においては、コーティング溶液の全量を基準として、約０．１〜約１５重量％、または約０．５〜約１０重量％の範囲とするのがよい。添加量が約０．１重量％よりも少ないと、放電ガス抵抗性、機械的強度、耐引っ掻き性、粒子分散性などを向上させる効果が、不充分となる可能性がある。その一方で、液体成分に可溶性な樹脂の量が約１５重量％を超えると、その感光体を高温度および高湿度で使用したときに、ぼやけた画像が形成される傾向がある。
【００２４】
本明細書で使用するとき、「高温度」という用語は、温度が少なくとも約２８℃であるような雰囲気を指す。「高湿度」という用語は、相対湿度が少なくとも約７５であるような雰囲気を指す。
【００２５】
実施態様において使用されるケイ素含有化合物には少なくとも１個のケイ素原子を含むが、特に制限されることなく他の数であってもよい。２個以上のケイ素原子を含む化合物を実施態様において使用することもできる。２個以上のケイ素原子を含む化合物を使用した実施態様では、強度と画像品質の両方を、より高いレベルで達成することが可能となる。
【００２６】
実施態様においては、式（２）〜（４）で表されるケイ素含有化合物、およびそれらの加水分解生成物または加水分解縮合物から選択される少なくとも一つの要素を使用することができる。
［数１］
Ｗ１（−ＳｉＲ３−ａＱａ）２        （２）
Ｗ２（−Ｄ−ＳｉＲ３−ａＱａ）ｂ    （３）
ＳｉＲ４−ｃＱｃ                  （４）
【００２７】
式（２）〜（４）において、Ｗ１は２価の有機基を表し、Ｗ２は正孔輸送性能を有する化合物から誘導される有機基を表し、Ｒは水素、アルキル基および置換または非置換のアリール基からなる群より選択される要素を表し、Ｑは加水分解性の基を表し、Ｄは２価の基を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは２〜４の整数を表し、そしてｃは１〜４の整数を表す。
【００２８】
式（２）〜（４）におけるＲは、上述のように、水素、アルキル基たとえばＣ１〜Ｃ５アルキル基、または置換または非置換のアリール基たとえば、置換または非置換のＣ６〜Ｃ１５アリール基を表す。
【００２９】
式（２）〜（４）におけるＱによって表される加水分解性の基は、式（２）〜（４）のいずれか一つで表される化合物の硬化反応における加水分解によりシロキサン結合（Ｏ−Ｓｉ−Ｏ）を形成することが可能な官能基を意味する。実施態様において使用可能な加水分解性の基の例を非限定的に挙げれば、ヒドロキシル基、アルコキシル基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ基、アセトキシ基、プロペンオキシ基およびクロロ基などがある。実施態様において、−ＯＲ”であらわされる基（ここで、Ｒ”はＣ１〜Ｃ１５アルキル基またはトリメチルシリル基を表す）を使用することも可能である。
【００３０】
式（３）において、Ｄは、実施態様においては、−ＣｎＨ２ｎ−、−ＣｎＨ２ｎ−２−、−ＣｎＨ２ｎ−４−（ｎは１〜約１５の整数である）、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−もしくは−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−、オキシカルボニル基（−ＣＯＯ−）、チオ基（−Ｓ−）、オキシ基（−Ｏ−）、イソシアノ基（−Ｎ＝ＣＨ−）または、２個以上のそれらの基が組み合わさった２価の基によって表される、２価の炭化水素基とすることができる。その２価の基には、その側鎖の上に、アルキル基、フェニル基、アルコキシル基、またはアミノ基のような置換基を有していてもよい。Ｄが上述の基の一つであるような実施態様においては、有機シリケート骨格に適切な可撓性が付与されて、それにより層の強度が改良される傾向がある。
【００３１】
式（２）で表される化合物を非限定的に挙げれば、たとえば表１に示したような、ジシロキサン化合物がある。「Ｍｅ」はメチル（−ＣＨ３）基を示し；「ＯＭｅ」はメトキシ（−ＯＣＨ３）基を示し；「Ｅｔ」はエチル（−ＣＨ２ＣＨ３）基を示し；「ＯＥｔ」はエトキシ（−ＯＣＨ２ＣＨ３）基を示し；「ｉ−Ｐｒ」はイソプロピル（−ＣＨ（ＣＨ３）２）基を示し；「Ｏ−ｉ−Ｐｒ」はイソプロポキシ（−ＯＣＨ（ＣＨ３）２）基を示す。
【００３２】
【表１】
0005175045.tif 000002
【００３３】
式（３）において、Ｗ２には特に制限はない。実施態様において、Ｗ２は式（５）で表される有機基であってもよい：
【化１】
0005175045.tif 000003
ここで、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４はそれぞれ独立して、置換または非置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換または非置換のアリールまたはアリーレン基を表し、ｋは０または１を表し、そしてＡｒ１〜Ａｒ５の内の少なくとも一つは、式（３）における−Ｄ−ＳｉＲ３−ａＱａと結合するための結合手を有する。
【００３４】
例示的な実施態様として、式（５）におけるＡｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、Ａｒ５および整数ｋと、式（３）における−Ｄ−ＳｉＲ３−ａＱａによって表される基とを組み合わせたものを、図４に示す。図４において、Ｓは、Ａｒ１〜Ａｒ５に結合した−Ｄ−ＳｉＲ３−ａＱａを表す。
【００３５】
実施態様において、式（４）のケイ素化合物に含まれることが可能なものとしては、シランカップリング剤たとえば単官能のアルコキシシラン（ｃ＝１）、たとえばトリメチルメトキシシラン；２官能のアルコキシシラン（ｃ＝２）、たとえばジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランまたはメチルフェニルジメトキシシラン；３官能のアルコキシシラン（ｃ＝３）、たとえばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシルトリエトキシシランまたは１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクチルトリエトキシシラン；および４官能のアルコキシシラン（ｃ＝４）、たとえばテトラメトキシシランまたはテトラエトキシシランなどが挙げられる。
【００３６】
感光層の強度を改良するためには、実施態様において３官能のアルコキシシランおよび４官能のアルコキシシランを使用するのがよく、また可撓性と成膜性を改良するためには、実施態様において単官能のアルコキシシランおよび２官能のアルコキシシランを使用するのがよい。
【００３７】
それらのカップリング剤を含む、シリコーンハードコーティング剤もまた、実施態様において使用することが可能である。
【００３８】
実施態様において、ケイ素含有層には、１種または複数の式（２）〜（４）のケイ素含有化合物が含まれていてよい。式（２）〜（４）の化合物には、単官能の化合物（ａまたはｃが１）、２官能の化合物（ａまたはｃが２）、３官能の化合物（ａまたはｃが３）および／または４官能の化合物（ａまたはｃが４）が含まれていてよい。実施態様においては、ケイ素含有層における式（２）〜（４）のケイ素含有化合物から誘導されるケイ素原子の数は、式（６）を満足するものがよい：
【００３９】
［数２］
（Ｎａ＝３＋Ｎｃ≧３）／Ｎｔｏｔａｌ≦０．５      （６）
【００４０】
ここで、Ｎａ＝３は、式（２）または（３）のケイ素含有化合物の−ＳｉＲ３−ａＱａを表し、ここでａは３であり；Ｎｃ≧３は、式（４）のケイ素含有化合物（ここでｃは３または４である）から誘導されるケイ素原子の数を表し；そしてＮｔｏｔａｌは、式（２）または（３）のケイ素化合物の−ＳｉＲ３−ａＱａから誘導されるケイ素原子の数と、式（４）のケイ素含有化合物から誘導されるケイ素原子の数との合計を表す。含まれるケイ素含有化合物の比率は、３官能化合物または４官能化合物から誘導されるケイ素原子の数が、式（２）〜（４）のケイ素含有化合物から誘導されるケイ素原子の数を基準にして、０．５以下となるように設定する（式（２）または（３）の化合物では、ケイ素原子は、−ＳｉＲ３−ａＱａから誘導されるものに限定される）。式（６）の左辺が０．５を超えると、高温度および高湿度では画像がぼやける可能性がある。式（６）の左辺を小さくすると、強度が低下することになる可能性がある。分子内に２個以上のケイ素原子を有するケイ素含有化合物を使用することにより、強度を改良することができる。
【００４１】
感光体の実施態様における汚れ付着抵抗と潤滑性を改良する目的で、各種の微細粒子をケイ素含有層に添加することができる。好適な微細粒子の例を非限定的に挙げれば、ケイ素を含む微細粒子、たとえば構成要素としてケイ素を含む微細粒子や、特に、コロイドシリカおよび微細シリコーン粒子などが挙げられる。微細粒子は単独で使用しても、あるいは２種以上の組合せとして使用してもよい。
【００４２】
ケイ素を含む微細粒子として実施態様において使用されるコロイドシリカは、約１〜約１００ｎｍ、または約１０〜約３０ｎｍの範囲の平均粒径を有する微細粒子の酸性またはアルカリ性水性分散体、および有機溶媒たとえばアルコール、ケトンまたはエステル中の微細粒子の分散体から選択することができる。市販されている粒子を使用してもよい。感光体の最上表面層におけるコロイドシリカの固形分含量については、特に制限はない。実施態様においては、コロイドシリカは、成膜性、電気的特性および強度の面から、最上表面層の全固形分含量を基準にして、約１〜約５０重量％、または約５〜約３０重量％の範囲内で使用する。
【００４３】
実施態様においてケイ素を含有する微細粒子として使用することが可能な微細シリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子およびシリコーンを用いて表面処理したシリカ粒子から選択することができる。そのような粒子は、球状であってよく、約１〜約５００ｎｍ、または約１０〜約１００ｎｍの範囲の平均粒径を有しているのがよい。実施態様においては、市販されている粒子を使用してもよい。
【００４４】
実施態様において、微細シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂中への分散性に優れ、さらに、充分な特性を得るのに必要とされる含量が低くてよいような、小粒径の粒子である。したがって、感光体表面の性能は、架橋反応を禁止しなくても改良することができる。すなわち、微細シリコーン粒子が強い架橋構造の中に組み込まれて、感光体表面の潤滑性と撥水性とを改良して、長期間にわたって良好な耐摩耗性および汚れ付着抵抗性を維持することが可能となる。実施態様のケイ素含有層における微細シリコーン粒子含量は、ケイ素含有層の全固形分含量を基準にして、約０．１〜約２０重量％、または約０．５〜約１０重量％の範囲内とするのがよい。
【００４５】
使用可能なその他の微細粒子としては、微細なフッ素系粒子たとえば、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニルおよびフッ化ビニリデン、ならびに半導体金属酸化物たとえば、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯおよびＭｇＯなどが挙げられる。
【００４６】
実施態様のケイ素化合物含有層には、層形成のために使用されるコーティング溶液中の液体成分に可溶な樹脂、およびそれによって、ケイ素化合物含有層の中での微細粒子の分散性が改良されるケイ素化合物が含まれていてよい。それによって、コーティング溶液のポットライフを充分に長くすることができ、電気特性の劣化を防止することができる。
【００４７】
添加剤、たとえば可塑剤、表面変性剤、抗酸化剤、または光による劣化を防止するための薬剤などを、実施態様のケイ素化合物含有層の中に加えることができる。可塑剤の例を非限定的に挙げれば、ビフェニル、塩化ビフェニル、テルフェニル、フタル酸ジブチル、ジエチレングリコールフタレート、フタル酸ジオクチル、トリフェニルリン酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレンおよび各種のフルオロ炭化水素などがある。
【００４８】
好適な抗酸化剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、チオエーテルまたはホスファイト部分構造を有する抗酸化剤が挙げられ、それらは各種の環境において、電位安定性および画像品質を改良することができる。
【００４９】
シロキサン含有抗酸化剤を実施態様のケイ素含有層の中に組み入れることも可能である。実施態様においては、シロキサン含有抗酸化剤は、ケイ素含有層のシロキサン領域の中に、全面的または少なくとも部分的に配されるようにするのがよい。シロキサン含有抗酸化剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、チオエーテルまたはホスファイト部分構造を有する各種のシロキサン含有抗酸化剤を挙げることができる。そのようなシロキサン含有抗酸化剤を使用することにより、高湿度および高温度条件下で長期間のサイクルをかけた場合においてさえも、画像欠落エラーが劇的に改良されることが見いだされた。
【００５０】
ケイ素含有層の厚みには特には制限はないが、実施態様においては、ケイ素含有層は、約２〜約５μｍ、または約２．７〜約３．２μｍの範囲の厚みを有するのがよい。
【００５１】
感光体は、その感光体が上述のケイ素化合物含有層を用いた感光層を有している限りにおいては、電荷発生層と電荷移送層とが別途に供給されている機能分離型（function−separation−type）感光体であっても、あるいは、電荷発生層と電荷移送層の両方が同一の層の中に含まれている単一層感光体であってもよい。
【００５２】
図１は、感光体の実施態様を示す模式的に示した断面図である。図１に示された感光体１は、機能分離型感光体であって、その内部には電荷発生層１３と電荷移送層１４が別途に備えられている。下側層１２、電荷発生層１３、電荷移送層１４および保護層１５が、導電性支持体１１の上に積層されて、感光層１６を形成している。保護層１５には、この層を形成させるために使用されるコーティング溶液中に含まれる液体成分に可溶性の樹脂、およびケイ素化合物が含まれる。
【００５３】
導電性支持体１１に含まれるのは、たとえば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス鋼、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金またはそれらの合金などの金属を使用した、たとえば、金属板、金属ドラムまたは金属ベルト；および導電性ポリマー、導電性化合物たとえば酸化インジウム、または金属たとえば、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、パラジウム、金、もしくはそれらの合金（これらに限定される訳ではない）を析出または積層させた、紙またはプラスチックのフィルムまたはベルトである。表面処理（たとえば、陽極酸化コーティング、熱水酸化、化学処理、または着色）または拡散反射処理（たとえばしぼ付け）を、支持体１１の表面に施すことも可能である。
【００５４】
下側層１２において使用されるバインダ樹脂を挙げれば、１種または複数のポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルアルコール樹脂、水−可溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、デンプン、デンプンアセテート、アミノデンプン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ジルコニウムキレート化合物、チタニルキレート化合物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタニル化合物、シランカップリング剤、およびそれらの混合物などがある。さらに、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、シリコーン樹脂などの微細粒子をバインダ樹脂に添加してもよい。
【００５５】
下側層を形成させるためのコーティング法は各種通常の方法でよく、たとえば、ブレードコーティング、マイヤーバーコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、ビードコーティング、エアナイフコーティングまたはフローコーティングを採用することができる。下側層の厚みは、約０．０１〜約４０μｍとすることができる。
【００５６】
好適な電荷発生物質の例を非限定的に挙げれば、各種の有機顔料および有機染料；たとえば、アゾ顔料、キノリン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、チオインジゴ顔料、ビスベンズイミダゾール顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、アゾレーキ顔料、アントラキノン顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、アズレニウム染料、スクアリウム染料、ピリリウム染料、トリアリルメタン染料、キサンテン染料、チアジン染料、およびシアニン染料；ならびに無機物質たとえば、非晶質ケイ素、非晶質セレン、テルル、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、硫化アンチモン、酸化亜鉛、および硫化亜鉛；などがある。環化縮合芳香族顔料、ペリレン顔料およびアゾ顔料を使用することにより、感度、電気的安定性および光線照射に対する光化学的安定性などを付与することができる。それらの電荷発生物質は、単独で使用してもよいし、あるいは２種以上の組合せとして使用してもよい。
【００５７】
実施態様においては、電荷発生層１３は、電荷発生物質を真空蒸着させるか、またはバインダ樹脂を含む有機溶媒の中に電荷発生物質を分散させたコーティング溶液を塗布することにより、形成させることができる。実施態様の電荷発生層の中で使用されるバインダ樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、たとえばポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂または部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂（ブチラールを、ホルマールまたはアセトアセタールを用いて部分的に変性したもの）、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、変性エーテル−タイプのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルアントラセン樹脂、ポリビニルピレン樹脂、およびそれらの混合物などが挙げられる。ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、フェノキシ樹脂または変性エーテルタイプのポリエステル樹脂の１種または複数を使用した実施態様においては、電荷発生物質の分散性を改良して、電荷発生物質のコアギュレーション（coagulation、凝集）を発生させないようにすることができ、長期間にわたって安定なコーティング溶液を得ることができる。実施態様においてそのようなコーティング溶液を使用することにより、均質なコーティングを容易かつ確実に形成させることが可能となる。その結果、電気的特性が改良され、画像欠陥を防止することができる。電荷発生物質のバインダ樹脂に対するコンパウンディング（混合）比は、容積で約５：１から約１：２の範囲内とするのがよい。
【００５８】
実施態様のコーティング溶液を調製するのに用いる溶媒としては、有機溶媒たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、クロロベンゼン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、およびそれらの混合物などが挙げられる。
【００５９】
実施態様においてコーティング溶液を塗布する方法としては、下側層に関連して先に説明したコーティング方法が挙げられる。電荷発生層１３の厚みは、約０．０１〜約５μｍ、または約０．１〜約２μｍとするのがよい。厚みが約０．０１μｍより薄いと、均質な層を形成させるのが困難となる可能性がある。厚みが約５μｍより厚いと、電子写真（electrophotographic）特性が顕著に低下する可能性がある。
【００６０】
抗酸化剤または不活性化剤のような安定剤も、電荷発生層１３に添加することができる。抗酸化剤の例を非限定的に挙げると、フェノール系、硫黄、リンおよびアミン化合物のような抗酸化剤、および先に挙げた抗酸化剤化合物などがある。不活性化剤としては、ビス（ジチオベンジル）ニッケルおよびジ−ｎ−ブチルチオカルバミン酸ニッケルなどが挙げられる。
【００６１】
実施態様においては、電荷移送物質およびバインダ樹脂、さらには先に説明したような微細粒子、添加剤などを含むコーティング溶液を塗布することにより、電荷移送層１４を形成させることができる。
【００６２】
実施態様において使用可能な低分子量電荷移送物質としては、ピレン、カルバゾール、ヒドラゾン、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、アリールアミン、アリールメタン、ベンジジン、チアゾール、スチルベン、およびブタジエン化合物などが挙げられる。高分子量電荷移送物質を使用することも可能で、たとえば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールハライド、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂、トリフェニルメタンポリマー、およびポリシランなどが挙げられる。トリフェニルアミン化合物、トリフェニルメタン化合物、およびベンジジン化合物を使用して、移動性、安定性および光透過性を向上させることも可能である。式（３）のケイ素化合物を電荷移送物質として使用することもできる。
【００６３】
その他の電荷移送分子の例としては、正孔輸送能力を有する、先に有機基Ｗ２として示した各種の化合物が挙げられる。実施態様においては、電荷移送分子は式（７）のアリールアミンである：
【化２】
0005175045.tif 000004
【００６４】
バインダ樹脂としては、電気絶縁性の膜を形成することが可能な高分子量ポリマーを使用することができる。たとえば、アルコール系溶媒に可溶性のポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂などを、下記のようなバインダ樹脂と共に使用することができる：たとえば、ポリカーボネート類、ポリエステル類、メタクリル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリスチレン類、ポリ酢酸ビニル類、スチレン−ブタジエンコポリマー、塩化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸コポリマー、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール類、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、およびポリウレタンである。ポリカーボネート類、ポリエステル類、メタクリル系樹脂およびアクリル系樹脂は、電荷移送物質との相溶性、溶解性および強度に優れている。
【００６５】
電荷移送層１４にはさらに、たとえば可塑剤、表面変性剤、抗酸化剤、または光による劣化を防止するための薬剤などのような添加剤を含んでいてもよい。
【００６６】
電荷移送層の厚みは、実施態様においては、約５〜約５０μｍ、または約１０〜約４０μｍの範囲とするのがよい。厚みが約５μｍより薄いと、荷電させることが困難となる。しかしながら、厚みが約５０μｍを超えると、電子写真（electrophotographic）特性が顕著に劣化することになる。
【００６７】
保護層１５には、保護層を形成させるために使用するコーティング溶液中の液体成分に可溶性の樹脂、および先に述べたようなケイ素化合物を含んでいてもよい。保護層１５には、シリコーンオイルまたはフッ素物質の潤滑剤または微細粒子が含まれていてもよく、それらにより潤滑性と強度を改良することが可能である。実施態様において使用することが可能な潤滑剤の例を非限定的に挙げれば、上述のフッ素系シランカップリング剤がある。保護層１５の中に分散させる微細粒子としては、ヒドロキシル基含有モノマーと共にフルオロ樹脂を共重合させることにより得られた樹脂を含む微細粒子、ならびに半導体金属酸化物、さらには上述の微細シリコーン粒子および微細なフッ素系粒子を含むのがよい。保護層の厚みは、約０．１〜約１０μｍ、または約０．５〜約７μｍの範囲とするのがよい。
【００６８】
一般的には、ケイ素含有保護またはオーバーコート層は、ケイ素含有物質をゾルゲル重合させることにより調製する。それらの物質を硬化させると、ボイド容積（void volume）が形成されることが知られている。ボイド容積は、硬化の際に起きることが知られている膜の収縮、またはゾルゲル物質の焼結などの因子の結果であろう。ボイド容積は、特に高温度および高湿度条件下においては、画像形成における問題およびエラー、たとえば画像欠陥エラーの原因となりうる。ボイド容積は、ケイ素含有保護またはオーバーコート層の機械的堅牢性を低下させる可能性がある。
【００６９】
実施態様においては、ポリマーバインダ物質をケイ素含有物質と組み合わせることによって、相互貫入ネットワークを調製する。ポリマーバインダ物質が、ゾルゲルシステムの硬化の際に形成されるボイド容積に充満され、それによって、特に高温度、高湿度条件下における、深刻な画像欠陥エラーを修正することが可能となる。したがって、相互貫入ネットワークには、ケイ素含有物質とポリマーバインダ物質との組合せが含まれる。
【００７０】
実施態様において、ポリマーバインダ物質を有機シロキサン物質と反応させることにより、相互貫入ネットワークを調製することができる。実施態様の有機シロキサン物質は、官能化させたオルガノシロキサン物質をゾルゲル重合させることにより、調製することができる。
【００７１】
好適な有機シロキサン物質としては、先に述べたようなものが挙げられる。実施態様には、反応性官能基、たとえば反応性二重結合を有するケイ素含有物質などが含まれる。
【００７２】
好適なポリマーバインダ物質としてはたとえば、側鎖（ペンダント）反応性官能基を有するポリマーバインダ物質などが挙げられる。ポリマーバインダ物質を形成させるために使用されるモノマーには、フリーラジカル重合をすることが可能な各種モノマーのいずれを使用してもよいが、たとえば、置換スチレンおよびそれらの誘導体たとえばメチルスチレン、アクリレート類、メタクリレート類、ブタジエン、イソプレン、ミルセン、共役ジエンおよびそれらの誘導体、エチレンおよびそれらの誘導体、それらの混合物などが挙げられる。これらのモノマー、それらから形成されたプレポリマーもしくはポリマーのいずれもが、ポリマー鎖、たとえば鎖の上の側鎖（ペンダント）単位または末端単位に結合した好適な官能基を有することができる。
【００７３】
好適なポリマーバインダ物質には、ケイ素含有物質中の反応性官能基と反応することが可能な反応性官能基を有する物質を含む。その反応性官能基（末端基であってもよい）は、安定フリーラジカル重合（ＳＦＲＰ）プロセスによってプレポリマーまたはポリマーを形成するのに使用された、安定フリーラジカル剤（stable free-radical agent）の残基であってもよい。
【００７４】
実施態様において使用するために好適なポリマーバインダ物質には、側鎖（ペンダント）または末端反応性官能基を有するポリマーバインダ物質が含まれる。そのような好適なポリマーバインダ物質には、ケイ素含有物質中に含まれる反応性官能基と反応することが可能な、反応性官能基を有する物質が含まれるのがよい。反応性官能基は、順に、炭素原子が酸素原子に直接結合し、次いでそれがさらに窒素原子に直接結合している、有機ラジカルからなる基から選択することができる。そのような有機ラジカルの窒素原子は、場合によっては炭化水素基を用いて置換されていてもよく、それが飽和または不飽和いずれかの炭化水素環を形成していてもよい。そのような有機ラジカルは熱分解的に不安定で、加熱されると炭素中心ラジカルと酸素中心ラジカルとに分解することが知られている。
【００７５】
末端官能基を与えるのに使用することが可能な、好適で安定フリーラジカル剤としては、ニトロキシド安定フリーラジカル剤が挙げられ、たとえば、ＰＲＯＸＹＬ（２，２，５，５−テトラメチル−１−ピロリジニルオキシ）およびそれらの誘導体、ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ）およびそれらの誘導体、ＤＯＸＹＬ（４，４−ジメチル−オキサゾリジニルオキシ）およびそれらの誘導体、そのようなニトロキシド安定フリーラジカル剤の混合物などが挙げられる。それらの化合物の誘導体には、エポキシ基、チイラン基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン基、イミン基、酸素基、ヒドロキシル基などが含まれていてもよい。それらの安定フリーラジカル剤物質は、文献中で、フリーラジカル重合禁止剤として周知のものである。しかしながら、本明細書の重合条件下では、安定フリーラジカル剤は、通常反応性が高く、無差別攻撃する中間体のフリーラジカル化学種をコントロールするための、調節剤として機能する。ＴＥＭＰＯおよびヒドロキシル−ＴＥＭＰＯ基は、それぞれ、次の式（８）および（９）で示される。
【化３】
0005175045.tif 000005
【化４】
0005175045.tif 000006
【００７６】
ポリマーバインダ物質は、硬化の際、たとえば有機シロキサン物質の硬化温度、たとえば約１３０℃で、反応性二重結合を含む有機シロキサン物質に対して反応性を有していなければならない。ポリマーバインダ物質には、有機シロキサン物質中のホール輸送部分と相溶性のある疎水性を含んでいなければならない。さらに、ポリマーバインダ物質には、ポリマー骨格（backbone）に側鎖（ペンダント）、または末端に存在する反応性基を含んでいなければならず、それによって、それらの反応性基が反応に使用されて、相互貫入ネットワークを形成する。最後に、ポリマーバインダ物質は、有機シロキサン物質を硬化させるのに必要とされる温度においては、液体の形態であるか、またはゴム状の形態であらねばならず、それによって、ポリマーバインダ物質が硬化の際に、流動してそれらの有機シロキサン物質の中のボイドに充填される。
【００７７】
実施態様において、ポリマーバインダ物質はＴＥＭＰＯ末端アクリレート物質であるのがよい。ＴＥＭＰＯ末端アクリレート、たとえばＴＥＭＰＯ末端ポリ（ブチルアクリレート）を加えることが可能であるが、その理由は、そのような物質は低いガラス転移温度を有していて、シロキサン含有オーバーコート層を硬化させる温度、たとえば１３０℃では容易に流動できるからである。この流動性があることにより、そのようなＴＥＭＰＯ末端アクリレートがゾルゲル重合プロセスにより形成されたシロキサン含有層中のボイドを充填して、相互貫入ネットワークを形成することが可能となる。さらに、ＴＥＭＰＯ基（約１１０℃の温度で活性化することが知られている）は反応性であるのがよく、それによって、シロキサン含有オーバーコート層の中に結合することが可能となる。
【００７８】
このポリマー形成プロセスが実施されるのは一般に、不活性溶媒中のモノマーの溶液中；その中で液状モノマーがそれ自身の重合溶媒として機能するバルク状態（典型的には、モノマー転化率が低いために、重合はそのような条件下で実施される）；または好適な界面活性剤を使用し、ホモジナイズのための好適なエネルギーを加えることにより、モノマーが水の中で分散される、水中の懸濁体または分散体として、である。そのようなプロセスによって調製されたニトロキシド末端は、後になって８０〜１００℃近辺またはそれより高い温度に加熱すると、同一のポリマーが反応したり、「生き返ったり（come alive）」することができる、というさらなる利点を有している。この加熱は、適切なモノマーを存在させた適切な反応器の中で実施して、すでに存在しているポリマーの上に、追加のポリマー単位を加えることができる。別な方法として、この加熱を、適切な反応性分子または残基、たとえば炭素−炭素二重結合の存在下に、固相状態で実施することも可能である。実施態様においては、ＴＥＭＰＯ末端アクリレートポリマーを含むシロキサン含有オーバーコート層の中に、適切な量の炭素−炭素二重結合を化学的に結合させて、シロキサン含有物質とアクリレートポリマーとの相互貫入ネットワークを得る。
【化５】
0005175045.tif 000007
【００７９】
そのようなＴＥＭＰＯ末端アクリレートは、官能化シロキサン含有アクリレートと共に、相互貫入ネットワークを形成するのに使用することができる。そのようなシロキサン含有アクリレートは、アクリル酸金属塩を３−ヨードプロピルメチルジイソプロポキシシランと反応させることによって、調製することができる。たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中で、アクリル酸ナトリウムを３−ヨードプロピルメチルジイソプロポキシシランと反応させて、次式に示すシリル化アクリレート化合物（１１）を形成させることができる。
【化６】
0005175045.tif 000008
【００８０】
実施態様において、側鎖のアクリレート基を有する反応性官能基末端シロキサン含有アクリレートを用いて、シロキサン含有物質との相互貫入ネットワークを形成させる。そのようなアクリレートを調製するには、アクリル酸ナトリウムをシロキサン前駆体とまず反応させる。次いでそのシロキサンアクリレートを反応させて、ポリマー末端にある反応性官能基に組み入れる。たとえば、化合物（１０）および（１１）から調製される相互貫入ネットワークは、化合物（１０）および（１１）を含むゾルゲル層を調製し、その層を硬化させることによって、形成させることができる。
【００８１】
実施態様の感光体は、上述の構成に限定されるものと受け取ってはならない。たとえば、図１に示された感光体には、保護層１５が備えられている。しかしながら、電荷移送層１４が、この層を形成するために使用されるコーティング溶液中の液体成分に可溶性の樹脂およびケイ素化合物を含んでいる場合には、保護層１５を使用することなく、電荷移送層１４を最上表面層（支持体１１から最も遠くの側にある層）として使用することができる。実施態様においては、電荷移送層１４に含まれる電荷移送物質は、電荷移送層１４を形成させるために使用されるコーティング溶液中の液体成分に可溶性とするのがよい。
【実施例】
【００８２】
実施例１〜３：ＴＥＭＰＯ末端ポリ（ブチルアクリレート）物質の調製
実施例１〜３においては、ＴＥＭＰＯ末端ポリ（ブチルアクリレート）物質は以下のようにして調製した。
【００８３】
ブチルアクリレート（アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Aldrich Chemical Company））、ヒドロキシル−ＴＥＭＰＯ（アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Aldrich Chemical Company））および化学式（１２）を有するアゾ重合開始剤（バゾ（VAZO）６７、イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー（E. I. du Pont de Nemours and Company）製）を、ガスバブラーと水コンデンサーを取り付けた１リットルの丸底フラスコに、表２に示した量で加えた。
【化７】
0005175045.tif 000009
【００８４】
【表２】
0005175045.tif 000010
【００８５】
適切な液体を介してアルゴンを１０分間バブリングさせることにより、混合物から酸素を除去し、次いで油浴を用いて１４５℃に加熱した。反応温度が１３５℃に達したところで、グルコースと重炭酸ナトリウムの固体混合物（それぞれ、１ｇ、１ｇ）を添加した。次いでその反応混合物を、表３に示した時間の間撹拌してから冷却すると、表３に示したＭｎとＰＤを有するポリブチルアクリレートが得られた。過剰のモノマーを蒸発除去すると、純ポリブチルアクリレートが得られた。
【００８６】
【表３】
0005175045.tif 000011
【００８７】
実施例１〜３のＴＥＭＰＯ末端ポリ（ブチルアクリレート）物質をブタノール中に溶解させて溶液を得たが、その組成的な量は表４に示した。
【００８８】
【表４】
0005175045.tif 000012
【００８９】
実施例４：シロキサン含有アクリレート物質の調製
実施例４においては、シロキサン含有アクリレート物質を以下のようにして調製した。
【００９０】
アクリル酸ナトリウム（アルドリッチ・ケミカル・カンパニー（Aldrich Chemical Company））３２．５グラムを、２５０ｍＬのＤＭＦに溶解させた。この溶液に１４３．４グラムの３−ヨードプロピルメチルジイソプロポキシシランを添加した。その反応混合物を撹拌しながら７０℃で３日間加熱してから、その反応混合物を、２５０ｍＬのヘキサンと７５０ｍＬの水との間に分配させた。そのヘキサン層を分離し、２５０ｍＬの飽和塩化ナトリウム溶液を用いて２回洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、ロータリーエバポレーダーを用いて濃縮した。得られた化合物を真空蒸留により精製した。その化合物は、圧力２．４〜３．２×１０−２Ｔｏｒｒ（３．２〜４．３Ｐａ）で沸点７５〜７９℃のフラクションの中に、最も純粋な形で存在していた。この反応を模式的に下に示す。９８％以上の純度を有する化合物（１１）が収量４６．７グラムで得られた。
【００９１】
【化８】
0005175045.tif 000013
【００９２】
実施例５：シロキサン含有コーティング配合
実施例５においては、シロキサン層コーティング配合を以下のようにして調製した。
【００９３】
機械式攪拌機、アルゴン入口、水酸化ナトリウムスクラバー、および１８インチのドライアイス／イソプロパノールコンデンサーを取り付けた、５Ｌのフラスコの中に、式（７）のアリールアミン化合物、実施例４の物質、メタノール、下記の化合物（１３）およびイオン交換樹脂（アンバーリスト（AMBERLYST）１５、ローム・アンド・ハース・カンパニー・コーポレーション（Rohm & Haas Co. Corp.）製）を、表５に示した量で組み入れた。その反応混合物を３時間撹拌した。
【００９４】
【化９】
0005175045.tif 000014
【００９５】
３時間後に、表５に示した量のｎ−ブタノールおよび水を加えた。その反応混合物を３０分間放置して、重合させた。
【００９６】
重合に続けて、その反応混合物に、アルミニウムトリスアセチルアセトネート（Ａｌ（ＡｃＡｃ）３）、アセチルアセトン（ＡｃＡｃ）、式（１４）のポリビニルブチラール、およびＢＨＴを、表５に示した量で添加して、安定化させた。
【化１０】
0005175045.tif 000015
【００９７】
比較例１
比較例１として、実施例５と同様にして、表５に示した組成量を用いて、シロキサン含有層コーティング配合を調製した。
【００９８】
【表５】
0005175045.tif 000016
【００９９】
実施例５および比較例１で得られた配合物を表６にまとめた。
【０１００】
【表６】
0005175045.tif 000017
【０１０１】
実施例６〜８：相互貫入ネットワークを含むシロキサン含有層
実施例６〜８においては、シロキサン含有コーティング配合を以下のようにして調製した。
【０１０２】
２５０ｍＬのフラスコの中で、１３．３９４グラムの実施例５の物質を、表７に示した量の実施例１〜３の物質と組み合わせた。
【０１０３】
比較例２
比較例２においては、実施例６〜８と同様にしてシロキサン含有層コーティング配合を調製したが、ただし、実施例１〜３の物質を、式（１４）のポリビニルブチラールに、表７に示した組成量を用いて置き換えた。
【０１０４】
実施例６〜８および比較例２で得られた配合を、表７にまとめた。
【０１０５】
【表７】
0005175045.tif 000018
【０１０６】
実施例９〜１４および比較例３〜４：シロキサン含有層を有する感光体
評価のために、実施例６〜８および比較例２のコーティング溶液を、２枚の感光体の上にコーティングした。表８および表９に見られるように、それらのコーティングの厚みおよび品質は良好であった。
【０１０７】
【表８】
0005175045.tif 000019
【０１０８】
【表９】
0005175045.tif 000020
【０１０９】
実施例９〜１４の感光体では、図５および図６に示したような、ハイパーモード試験（ＨＭＴ、紙は使用せずに、電子写真（xerographic）サイクルを長時間続ける方法）条件下での長時間サイクルにかけた時に、電気的問題はまったく認められなかった。図７に見られるように、実施例９〜１４の感光体は、シロキサン含有化合物を含む従来の感光体に比較してスタート時のトルクが低く、また、シロキサン含有化合物を含む従来の感光体に比較して（トナーなしでの）運転時トルクが同等であることが判る。
【０１１０】
各種の上述およびその他の特徴および機能、またはそれらに代わるものを、各種望むように組み合わせて、多くの別なシステムまたは用途に用いることが可能であることは、理解されるであろう。さらに、現時点では予見や予測できないような、それらの代替え方法、修正、変更または改良も、今後当業者によって実施することも可能であろうが、それらのものも、冒頭の特許請求項に包含されているものとみなす。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】感光体の実施態様を示す模式的断面図である。
【図２】実施形態の画像形成装置の概要図である。
【図３】他の実施形態の画像形成装置の概要図である。
【図４】シロキサン含有アリールアミン化合物を例示した図である。
【図５】露光の応答の電圧として測定した、例示の実施態様の感光体の初期電気的性能を表示したグラフである。
【図６】サイクルを繰り返した場合の応答の電圧として測定した、例示の実施態様の感光体の経時的な電気的性能の表示したグラフである。
【図７】例示の実施態様の感光体のトルクを表示したグラフである。
【図１】
0005175045.tif 000022
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
0005175045.tif 000026
【図６】
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【図７】
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