(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板の上に形成されている開口パターンを有する多数の画素電極と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記第２基板の上に形成され、前記画素電極の開口パターンと重畳しない位置に、側壁が前記第１基板に対して３０°以上１２０°以下の角度をなす陥没パターンを有する共通電極と、
前記第２基板と前記共通電極との間に形成されていて陥没パターンを有するカラーフィルターと、
を備え、
前記共通電極の陥没パターンは、前記カラーフィルターの陥没パターンによって形成されている、液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２基板に形成されており、前記共通電極の陥没パターンと一部が重なるブラックマトリックスをさらに含む、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記共通電極の陥没パターン部分は、前記ブラックマトリックスと接触している、請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１基板の上に形成されている維持容量電極をさらに含み、
前記第１基板を上から見る時、前記画素電極が前記維持容量電極を少なくとも一定の部分で完全に覆っている、請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記画素電極が前記維持容量電極を完全に覆っている一定の部分は、前記共通電極に形成されている陥没パターンと前記画素電極の辺が重なる部分である、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記維持容量電極は、前記画素電極の左右に各々一つずつ位置することを特徴とする、請求項４又は５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記維持容量電極は共通電極線の枝である、請求項４〜６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記共通電極線は前記陥没パターンと重なる、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記画素電極の開口パターンは、前記画素電極を上下に二分する位置に横方向に形成されている横開口部と、二分された前記画素電極の上下部分に各々斜線方向に形成されている斜線開口部とを含み、前記上下の斜線開口部は互いに垂直をなしており、
前記共通電極の陥没パターンは、前記開口パターンの斜線開口部を間に介在してこれと並んだ斜線部と前記画素電極の辺と重なっている屈折部を含んでいる、
請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記画素電極が前記維持容量電極を完全に覆っている一定の部分は、前記陥没パターンの屈折部が前記画素電極の縦辺と重なっている部分である、請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記画素電極と前記共通電極とが重なることにより前記画素電極の開口パターンと前記共通電極の陥没パターンが前記画素電極を多数の小領域に分割しており、前記小領域は最も長い二つの辺が互いに平行な多角形であることを特徴とする、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記小領域は最も長い二つの辺が第１方向である第１小領域と第２方向である第２小領域とに分類され、前記第１方向と前記第２方向とは８５°以上９５°以下の角をなす請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１方向は、前記画素電極の辺に対して斜線方向である、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１方向は、前記画素電極の上下辺または左右辺のうちのいずれか一つと平行な、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
第１基板と、
前記第１基板の上に形成される維持容量電極と、
前記第１基板の上に形成されて開口パターンを有する多数の画素電極と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記第２基板の上に形成され、前記画素電極の開口パターンと重畳しない位置に、側壁が前記第１基板に対して３０°以上１２０°以下の角度をなす陥没パターンを有する共通電極と、
前記第２基板と前記共通電極との間に形成されていて陥没パターンを有するカラーフィルターと、
を含み、
前記共通電極の陥没パターンは、前記カラーフィルターの陥没パターンによって形成されており、
前記第１基板を上から見る時、前記画素電極が前記維持容量電極を少なくとも一定の部分で完全に覆っている液晶表示装置。
【請求項１６】
前記画素電極が前記維持容量電極を完全に覆っている一定の部分は、前記共通電極に形成されている陥没パターンと前記画素電極の辺が重なる部分である、請求項１５に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、広視野角液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  一般に液晶表示装置は二枚の基板の間に液晶を注入し、ここに加える電場の強さを調節して光透過量を調節する構造からなっている。【０００３】  垂直配向捩じれネマチック（ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  ａｌｉｇｎｅｄ  ｔｗｉｓ−ｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ；ＶＡＴＮ）方式の液晶表示装置は、内側面に透明電極が形成されている一組の透明基板、二つの透明基板の間の液晶物質、それぞれの透明基板の外側面に付着されて光を偏光する二枚の偏光板で構成される。電場を印加しない状態で液晶分子は二つの基板に対して垂直に配向されており、電場を印加すると二つの基板の間に満たされた液晶分子が基板に平行に一定のピッチ（ｐｉｔｃ−ｈ）を有して螺旋状にもつれるようになる。
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  ＶＡＴＮ液晶表示装置の場合、電界が印加されない状態で液晶分子が基板に対して垂直に配向されていて、直交する偏光板を使用する場合、電界が印加されない状態で完全に光を遮断することができる。つまり、ノーマリーブラックモードでオフ（ｏｆｆ）状態の輝度が非常に低いので従来の捩じれネマチック液晶表示装置に比べて高い対比度を得ることができる。しかし、電界が印加された状態、特に階調電圧が印加された状態では通常の捩じれネマチックモードと同様に液晶表示装置を見る方向によって光の遅延（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）に大きな差が生じて視野角が狭いという問題点がある。
【０００５】  このような問題点を解決するために電極をパターニングし、これによるフリンジフィールド（ｆｒｉｎｇｅ  ｆｉｅｌｄ）を用いて多重領域を形成する方法が多様に提示された。米国特許第５，３０９，２６４号でＬｉｅｎは共通電極にＸ字型の開口部を形成する方法を提示し、Ｈｉｓｔａｋｅ等は米国特許５，４３４，６９０号で上下基板に形成されている電極に交互に開口部を形成する方法を提示した。
【０００６】  しかし、前記のような方法を使用して分割配向を形成する場合、共通電極をパターニングするために別途のマスクが必要であり、カラーフィルター上に保護膜がない構造ではカラーフィルターの顔料が液晶物質に影響を与えるのでカラーフィルター上に保護膜を形成しなければならず、パターニングされた電極の端部で転傾が激しく発生する等の問題点が存在する。
【０００７】  本発明がなそうとする技術的課題は、上記のような問題点を有しない広視野角液晶表示装置を提供することにある。
【０００８】  本発明がなそうとする他の技術的課題は、広視野角液晶表示装置の画質を改善することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】  このような課題を解決するために本発明では、共通電極が陥没パターンを有するように形成する。
【００１０】  具体的には、第１基板の上に多数の画素電極が形成されており、第１基板と対向している第２基板の上に画素電極と対応する部分に位置するように形成された陥没パターンを有する共通電極が形成されている。この時、陥没パターンの側壁は第１基板と３０°から１２０°の間の角をなす。
【００１１】  また、第１基板の上に維持容量電極と多数の画素電極が形成されている。第１基板と対向している第２基板の上に画素電極と対応する部分に位置する陥没パターンを有する共通電極が形成されている。この時、第１基板を上から見ると画素電極が維持容量電極を少なくとも一定の部分で完全に覆っている。
【発明を実施するための形態】
【００１２】  以下、図面を参考にして本発明の実施例による液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板の構造について説明する。
【００１３】  図１は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の断面図である。
【００１４】  液晶表示装置は下部基板１０と、これと対向している上部基板６０及び下部基板１０と上部基板６０との間に注入されて基板１０、６０に垂直に配向されている液晶物質９０からなる。
【００１５】  ガラスなどの透明な絶縁物質からなる下部基板１０の上にはＩＴＯ（ｉｎｄｉ−ｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質からなり、開口パターン５１を有している画素電極５０が形成されており、各画素電極５０はスイッチング素子１１に連結されて画像信号電圧の印加を受ける。この時、スイッチング素子１１としては薄膜トランジスタが用いられるのが通常であり、薄膜トランジスタは走査信号を伝達するゲート線（図示せず）と画像信号を伝達するデータ線（図示せず）に各々連結されて走査信号によって画素電極５０をオン（ｏｎ）オフ（ｏｆｆ）する。また、下部基板１０の下面には下部偏光板１４が付着されている。ここで、画素電極５０は反射型液晶表示装置である場合には、不透明な物質からなることもあり、この場合には下部偏光板１４も不必要となる。
【００１６】  同様に、ガラスなどの透明な絶縁物質からなる上部基板６０の下面に光漏れを防止するためのブラックマトリックス７０と赤、緑、青のカラーフィルター６１及びＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなっている共通電極８０が形成されている。
【００１７】  この時、カラーフィルター６１には陥没部が形成されている。従って、カラーフィルター６１の上に形成されている共通電極８０は、カラーフィルター６１の陥没部に沿って、陥没パターン８１を有する。
【００１８】  ブラックマトリックス７０は、画素領域の周囲部だけでなく、共通電極８０の陥没パターン８１の上部にも形成されている。これは後述するように陥没パターン８１によって発生する光漏れを防止するためである。
【００１９】  一方、共通電極８０は、陥没パターン８１の部分がブラックマトリックス７０と接触している。ブラックマトリックス７０は有機物質で形成することがあるが、クロムなどの導電性物質で形成するのが一般的である。ブラックマトリックス７０を導電性物質で形成する場合には、ブラックマトリックス７０も共通電極８０からの信号を伝達する導電通路として作用して、共通電極抵抗を減少させることができる。
【００２０】  このような構造を通じて広視野角を得ることができる理由を説明する。
【００２１】  液晶表示装置に電界を印加しない状態では、液晶分子９０は二つの基板１０、６０に垂直に配列された状態を維持するので共通電極に陥没パターンがない時と同一なブラック状態を示す。
【００２２】  電界を印加すると、図１に示されているように、大部分の所では基板１０、６０に垂直な電場が形成される。一方、カラーフィルター６１が除去されて形成された陥没部近くでは共通電極８０がカラーフィルターのパターンに沿って屈曲形態に形成される。従って、二つの基板の間の等電位面は二つの基板１０、６０に対して平行に形成されず共通電極８０の形状によって曲がる。結局、電場も基板１０、６０に対して垂直に形成されず多少傾いた方向に形成される。
【００２３】  液晶が陰の誘電率異方性を有するので、液晶分子の配列方向は、電場の方向と垂直になろうとする。従って、陥没パターン８１近くの液晶分子の長軸は二つの基板１０、６０表面に対して傾いたままで捩じれる。このようになると、陥没パターン８１の中心線を基準に両側で液晶分子の傾く方向が反対になる二つの領域が生じ、二つの領域の光学的特性が互いに補償されて視野角が広くなる。
【００２４】  図１のように、カラーフィルター６１の一部を除去して共通電極８０に陥没パターン８１を形成すると、ラビングなどの方法に比べて簡単な工程で分割配向を形成することができるだけでなく、液晶分子の配列が他の領域を非常に微細に調整したり多様な形状に作ることができるという利点がある。
【００２５】  一方、カラーフィルター６１の厚さのうちの一部だけを除去して、一部は残っている状態に形成することもできる。
【００２６】  次に、本発明の実施例による液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法について説明する。
【００２７】  まず、基板の上にクロムなどの金属や黒色レジストを一層形成してパターニングし、ブラックマトリックスを形成する。
【００２８】  次に、赤、緑、青のうち一色のレジストを塗布してパターニングして溝を有するカラーフィルターを形成し、順次に他の２色のレジストを塗布してパターニングする過程を経て三色のカラーフィルターを完成する。
【００２９】  または、赤、緑、青のレジストを順次に塗布してパターニングしカラーフィルターを形成した後、一度に三カラーフィルターに溝を形成することもできる。
【００３０】  最後に、ブラックマトリックスとカラーフィルターの上にＩＴＯなどの透明導電物質を蒸着して共通電極を形成する。共通電極を形成する時にはカラーフィルターに形成された溝の近くで段差によって共通電極が切れる恐れがあるので薄く２度にわけて蒸着するのが好ましい。
【００３１】  次に、陥没パターンの形態と液晶表示装置の画質との関係を見てみる。
【００３２】  図２と図３は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の断面図であって、カラーフィルターに形成された陥没パターンの側壁が基板に対して各々９０°をなす場合と４５°をなす場合の等電位面と光透過率曲線を示す図面である。
【００３３】  図２の場合には、共通電極８０の陥没パターン下部と画素電極５０の開口部５１上部でだけ等電位面が激しい屈曲を有する。したがって、光の透過率も陥没パターンと開口部がある部分でだけ急激に変化する。従って、陥没パターンが形成されている部分だけ遮るとテクスチャー（ｔｅｘｔｕｒｅ）は現れない。しかし、図３の場合には、共通電極８０の陥没パターンの下部と画素電極５０の開口部５１上部だけでなく陥没パターンの周辺でも等電位面が激しい屈曲を有する。光の透過率も、陥没パターンと開口部がある部分はもちろん、陥没パターン周辺部でも急激に変化する。従って、陥没パターン周辺部Ｔにテクスチャーが現れるようになる。
【００３４】  以上で類推できるように、陥没パターンの側壁が基板となす角が小さければ小さいほどテクスチャーは陥没パターン周辺部に広く広がる。従って、陥没パターンの側壁が基板となす角は大きいほど良い。ここで、陥没パターンの側壁と基板とがなす角は、カラーフィルター６１が詰められた側から測った角である。この角は９０°を超えることもある。しかし、この角が１２０°以上になるとＩＴＯなどの物質で形成される共通電極８０が陥没パターン部分で切断される可能性が高い。
【００３５】  図３では、陥没パターンの側壁と基板との間の角が４５°である場合にも、テクスチャーＴが陥没パターン周辺に現れているが、表示品質を大きく落とす程ではない。また、陥没パターンの幅や画素電極の開口部幅などを変化させることによってある程度調節が可能である。従って、側壁と基板の間の角度の下限は３０°程度である。
【００３６】  次に、本発明の第２実施例による液晶表示装置について説明する。
【００３７】  図４は本発明の第２実施例による液晶表示装置の平面図であり、図５は図４のIV−IV´線による断面図であり、図６は本発明の効果を説明するための断面図であり、図５と対比される図面である。
【００３８】  下部の絶縁基板１０上に横方向にゲート線２０が形成されている。ゲート線２０にはゲート電極２１が突起の形態に形成されている。絶縁基板１０上にはゲート線２０と並んで二つの共通電極線２２，２５が形成されている。二つの共通電極線２２，２５は縦方向に形成されている二つの維持容量電極２３、２４によって互いに連結されている。この時、共通電極線２２，２５の数は３つ以上であることもあり、または単一線で形成することもある。ゲート線２０、ゲート電極２１、共通電極線２２，２５及び維持容量電極２３、２４はアルミニウムまたはクロムなどの金属で形成する。この時、これらは単一層に形成することもあり、クロム層とアルミニウム層を連続積層してなる二重層に形成することもある。他にも多様な金属を使用してゲート配線と共通配線を形成することができる。
【００３９】  ゲート線２０と共通電極線２２，２５及び維持容量電極２３、２４の上には窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）等からなるゲート絶縁膜３１が形成されている。
【００４０】  ゲート絶縁膜３１の上には、縦方向に、データ線４０が形成されている。データ線４０には分枝としてソース電極４１が形成されており、ソース電極４１に隣接してドレーン電極４２が形成されている。データ線４０、ソース電極４１及びドレーン電極４２もゲート配線と同様にクロムとアルミニウムなどの物質で形成する。また、単一層または多重層に形成することができる。
【００４１】  ソース電極４１とドレーン電極４２の下部には、薄膜トランジスタのチャンネル部として用いられる半導体層（図示せず）とソース及びドレーン電極４１、４２と半導体層の間の接触抵抗を減少させるための接触層（図示せず）が形成されている。半導体層は非晶質ケイ素を使用して形成するのが通常であり、接触層はｎ型不純物として高濃度にドーピングされた非晶質ケイ素を使用して形成する。
【００４２】  データ線４０などの上には、窒化ケイ素などの無機絶縁物や樹脂などの有機絶縁物からなる保護膜３２が形成されている。保護膜３２にはドレーン電極４２を露出させる接触孔（図示せず）が形成されている。
【００４３】  保護膜３２の上には開口パターン５１を有する画素電極５０が形成されている。画素電極５０はＩＴＯやＩＺＯなどのような透明導電体やアルミニウム（Ａｌ）のような光反射特性に優れた不透明導電体を使用して形成する。画素電極５０に形成されている開口パターン５１は、画素電極５０を上下に二分する位置に横方向に形成されている横開口部と、二分された画素電極５０の上下部分に各々斜線方向に形成されている斜線開口部とを含む。この時、上下の斜線開口部は互いに垂直をなしている。これはフリンジフィールドの方向を４方向に均一に分散させるためである。つまり、開口パターン５１と後述する陥没パターン８１によって分割される小領域内で液晶の傾く方向が、四方に分散するようにするためである。このとき、上下斜線開口部がなす角は、９０度（垂直）付近で多少変動することがある。即ち、上下斜線開口部がなす角は、８５度〜９５度の間で変動することがある。
【００４４】  この時、維持容量電極２３、２４は液晶表示装置を上から見る時、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤ部分で画素電極５０によって完全に覆われるように形成されている。
【００４５】  上部の絶縁基板６０には光が漏れることを防止するためのブラックマトリックス７０が形成されている。ブラックマトリックス７０の上には陥没部を有する赤、緑、青のカラーフィルター６１が形成されている。カラーフィルター６１の上には、カラーフィルター６１の陥没パターン８１を有する共通電極８０が形成されている。この時、陥没パターン８１はカラーフィルター６１の陥没部によって形成されたものである。共通電極８０はＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電体で形成する。
【００４６】  共通電極８０の陥没パターン８１は画素電極５０の斜線開口部を間に介在しており、これと並んで斜線部と画素電極５０の辺と重なっている屈折部を含んでいる。この時、屈折部は縦方向屈折部と横方向屈折部とに分類される。このうち縦方向屈折部と重なる画素電極５０の部分（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）では画素電極５０がその下部の維持容量電極２３、２４を完全に覆っている。このようにするとテクスチャー線が現れるのを防止することができる。
【００４７】  次に、図５と図６を参考として本発明による液晶表示装置でテクスチャー発生が防止できる理由を説明する。
【００４８】  まず、図６を参考として液晶表示装置でテクスチャーが発生する原因を見てみる。
【００４９】  図６には、共通電極８００と画素電極５００との間に電界が印加された時の、電気力線の形状及びこれによって配列された液晶分子が図示されている。図６に示されたように、維持容量電極２３０、２４０と画素電極の辺りの間に強い電界が形成される。このような電界は画素領域周辺部の電界に影響を与える。このような影響は共通電極８００の陥没パターン８１が形成されている部分（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）で特に大きく現れる。このために画素領域周辺部に画素領域の中央部とは反対方向に傾いたフリンジフィールドが形成される。従って、画素領域の周辺部と中央部との間の部分（Ｔ）で液晶分子の配列方向が反転する。この部分（Ｔ）が画面でテクスチャーとして現れる。
【００５０】  では、図５を参考として本発明による液晶表示装置におけるテクスチャー発生が防止できる理由を説明する。
【００５１】  図５では、画素電極５０が維持容量電極２３、２４を完全に覆っている。従って、画素電極５０と維持容量電極２３、２４との間に形成する電気力線は大部分画素電極５０の下側表面と連結する。その結果、維持容量電極２３、２４との間で形成される電界は液晶分子には影響を与えない。維持容量電極２３、２４に影響を受けないフリンジフィールドは画素領域内では一定の方向性を維持し、画素領域を抜け出した地点（ブラックマトリックスに遮られた部分）に至って傾く方向が変化する。結局液晶分子の配列方向が反転する部分（Ｔ）も画素領域を抜け出した部分で現れる。この部分はブラックマトリックスによって遮られるので画面上にはテクスチャーが現れない。
【００５２】  本発明の第３実施例による液晶表示装置について説明する。
【００５３】  図７は、本発明の第３実施例による液晶表示装置の平面図である。
【００５４】  第３実施例による液晶表示装置も配線及び薄膜トランジスタなど基本的な構造は第２実施例のそれと同一である。ただし、画素電極５０の開口パターン５１と共通電極の陥没パターン８１の形状と維持容量電極２４及び共通電極線２５の平面積形状が異なる。
【００５５】  開口パターン５１は、横方向に形成された横開口部と縦方向に形成された縦開口部とを含む。陥没パターン８１は、画素電極５０辺りと重なるように形成された周囲部と二つの横開口部の間に形成されている横部を含む。
【００５６】  開口パターン５１と陥没パターン８１は重複して画素電極５０を多数の小領域に分割する。各小領域は最も長い二つの辺が互いに平行な多角形をなす。これは液晶分子の応答時間を短くするためである。つまり、開口パターン５１と陥没パターン８１によって形成されるフリンジフィールド（ｆｒｉｎｇｅ  ｆｉｅｌｄ）によって液晶分子が配列される方向が液晶分子相互間に平行する状態になるようにするものである。このようにすると１段階動作だけで液晶分子の動作が完了するために応答時間が短縮する。
【００５７】  前記の第２実施例による液晶表示装置においても開口パターン５１と陥没パターンによって分割された小領域は最も長い二つの辺が平行な多角形をなしている。
【００５８】  共通電極線２５は、横方向にのびている単一線で形成されているが、複数に形成され得る。共通電極線２５は陥没パターン８１の横部と重なっている。維持容量電極２４は、画素電極５０の左右辺と並んで形成されていて、画素電極５０によって覆われている。これは第２実施例と同様にテクスチャーの発生を防止するためである。
【００５９】  最後に、本発明の第４実施例による液晶表示装置について、図８を参照して説明する。
【００６０】  第４実施例による液晶表示装置も、画素電極５０の開口パターン５１と共通電極の陥没パターン８１の模様と維持容量電極２４及び共通電極線２５の平面形状だけが第２及び第３実施例と異なる。
【００６１】  第４実施例での開口パターン５１はＸ字型数個で形成されている。陥没パターン８１は周囲部と横部を含んでおり、Ｘ字型開口パターン５１各々を孤立させる形態で形成されている。
【００６２】  共通電極線２５は横方向にのびている単一線で形成されているが、複数で形成され得る。共通電極線線２５は陥没パターン８１の横部のうちの一つと重なっている。維持容量電極２４は、画素電極５０の左右辺と並んで形成されており、画素電極５０によって覆われている。
【発明の効果】
【００６３】  本発明の実施例のように、カラーフィルターに溝を形成して分割配向液晶表示装置を形成すると、単純な工程で液晶表示装置の視野角をひろめることができ、応答速度が速くて優れた画質の液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施例による液晶表示装置の断面図である。
【図２】  本発明の第１実施例における等電位面と光透過率曲線（９０°）。
【図３】  本発明の第１実施例における等電位面と光透過率曲線（４５°）。
【図４】  本発明の第２実施例による液晶表示装置の平面図である。
【図５】  図４のIV−IV´による断面図である。
【図６】  本発明の効果を説明するための断面図であって、図５に対応する図面である。
【図７】  本発明の第３実施例による液晶表示装置の平面図である。
【図８】  本発明の第４実施例による液晶表示装置の平面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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