(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
横長矩形状に形成される板体であり、
前記板体の下面略中央部の位置には、前記板体の長手方向とは直交する方向に亘るとともに、前記板体の両側端縁から突出し、かつ端部に駆動機構が連結される第１のボールねじ、および前記第１のボールねじの両側部に、前記第１のボールねじの軸方向に沿って並行して、運動直線性を与える２本の第１のＬＭガイドが備えられ、
前記２本の第１のＬＭガイドの間にあり、前記第１のボールねじが設けられる領域を領域Ａとし、かつ前記領域Ａの両側にある領域を領域Ｂとしたときに、
前記領域Ａにおける前記第１のＬＭガイドと前記第１のボールねじとの間にあって、前記第１のボールねじに対して、より近い側の位置に、運動直線性を与える第３のＬＭガイドが、さらに備えられ、
前記板体において、前記領域Ａにかかる領域の板厚中には設けられておらず、前記領域Ｂにかかる領域の板厚中に、前記板体の長手方向に沿って設けられ、前記板体の長手方向と直交する方向に互いに並行な複数の孔部と
を具備することを特徴とする中間ベース。
【請求項２】
前記２本の第１のＬＭガイドの両側に、前記第１のＬＭガイドと並行して、運動直線性を与える、第１のＬＭガイドが２本、さらに備えられていることを特徴とする請求項１記載の中間ベース。
【請求項３】
前記領域Ｂは、前記２本の第１のＬＭガイドの一方と、さらに備えられる前記第１のＬＭガイドの一方との間の領域、および前記２本の第１のＬＭガイドの他方と、さらに備えられる前記第１のＬＭガイドの他方との間の領域であることを特徴とする請求項２記載の中間ベース。
【請求項４】
前記領域Ａにおける前記第１のボールねじに隣接して、リニアスケールを備えたことを特徴とする請求項１記載の中間ベース。
【請求項５】
前記第１のボールねじの一側部に隣接して前記リニアスケールが配置され、第１のボールねじの他側部に隣接して前記第３のＬＭガイドが配置されることを特徴とする請求項４記載の中間ベース。
【請求項６】
前記リニアスケールを介して、この一側部に、さらに別の第３のＬＭガイドが配置されることを特徴とする請求項４および請求項５のいずれかに記載の中間ベース。
【請求項７】
前記孔部は、丸孔であることを特徴とする請求項１記載の中間ベース。
【請求項８】
ベース基台と、
このベース基台上に、ＸテーブルもしくはＹテーブルであり、前記第１のボールねじ、および前記第１のＬＭガイドに支持される、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の中間ベースと、
この中間ベース上に、中間ベースの長手方向に沿って載設され、端部に駆動機構が連結される第２のボールねじおよび、前記第２のボールねじの軸方向に沿って並行に設けられ運動直線性を与える複数の第２のＬＭガイドと、
前記第２のボールねじおよび第２のＬＭガイドに支持される、ＹテーブルもしくはＸテーブルであるトップ板と
を具備することを特徴とするＸＹテーブル。
【請求項９】
シール剤を基板に塗布するシール剤塗布装置において、
前記基板を載置するトップ板を備えた請求項８記載の前記ＸＹテーブルと、
このＸＹテーブルに載置される基板に対し、先端吐出口を対向して配置されるディスペンサノズルと、
このディスペンサノズルにシール剤を供給し、先端吐出口から基板にシール剤を塗布させるシール剤供給部と
を具備することを特徴とするシール剤塗布装置。
【請求項１０】
請求項９記載の前記シール剤塗布装置を用いて、前記ディスペンサノズルと前記ＸＹテーブルをガラス基板の面に沿ってＸ方向とＹ方向に相対移動させ、ガラス基板にシール剤を塗布して液晶パネルを製造することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中間ベースと、この中間ベースをＸ／Ｙテーブルとして備えたＸＹテーブルと、このＸＹテーブルを用いて基板にシール剤を塗布するシール剤塗布装置と、このシール剤塗布装置を用いて液晶パネルを製造する液晶パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルを製造する過程で、シール剤塗布装置が用いられる。これは、ベース基台と、このベース基台上に載設されるＸＹテーブルと、前記ベース基台にコラムを介して備えられるＺテーブルと、このＺテーブルに取付けられるディスペンサノズルと、このディスペンサノズルにシール剤を供給するシール剤供給部とから構成される。  
ＸＹテーブルを構成する基板ステージ上にガラス基板を載置し、Ｚテーブルを駆動してディスペンサノズルを降下し、ノズル先端の吐出口とガラス基板との間隔を所定寸法に保持する。そして、ＸＹテーブルとディスペンサノズルをガラス基板に対してＸ方向とＹ方向に相対移動させるとともに、ディスペンサノズルの吐出口からシール剤を供出してガラス基板に塗布する。
【０００３】
［特許文献１］には、ディスペンサノズルとガラス基板との間隔を測定する間隔センサと、この間隔センサからの測定信号にもとづいて間隔を一定値に保つよう、ノズルをＺ方向に駆動するリニアアクチュエータを備え、たとえガラス基板に反りが生じても、高速度で、かつ連続形状でシール剤を塗布できるシール剤供給装置が開示されている。
【特許文献１】特開平１０−１３７６５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この種のシール剤塗布装置において、シール剤を高速で塗布するとともに、シール剤を微量で塗布することが要求されている。しかしながら、高速塗布の実現は、装置自体の振動発生をともない、装置が微振動してもガラス基板とディスペンサノズルとの間隔が変動する。よって、塗布括れが出易く品質低下につながってしまう。そして、シール剤の微量塗布化は、前記塗布かすれを出現させ易くする。
【０００５】
たとえ、前記［特許文献１］のシール剤供給装置を用いてガラス基板にシール剤を塗布しても、Ｘ方向からＹ方向への方向変換部分であるコーナー部では、ＸＹテーブルを急激に加減速する必要がある。また、Ｙ方向からＸ方向へのコーナー部でも同様に急激な加減速をなし、その影響で大きな力が発生して装置が振動する虞れがある。  
なお説明すると、たとえば、ＸＹテーブルの移動速度が１００ｍｍ／ｓであり、コーナー部の曲率半径がＲ０．５ｍｍとなるようにシール剤を塗布する際、コーナー部でのＸＹテーブルの必要とする加速度は２Ｇとなる。
【０００６】
Ｘテーブルを高速移動して行っても、コーナー部に到達したら０．５ｍｍの間で急減速してコーナー部を回り、そのあと停止させなければならない。一方、ＹテーブルはＸテーブルの急減速にタイミングを合わせて発進し、スタート後０．５ｍｍの間でコーナー部を回り、そのあと急加速して１００ｍｍ／ｓに増速し移動しなければならない。
【０００７】
実際に、従来のＸＹテーブルにおいて中間ベースを２Ｇの加速度で動かしたときに生じる変形状態を、有限要素法を用いてシュミレーションしてみた。その結果を、図１０（Ａ）（Ｂ）に示している。図１０（Ｃ）は、実際の変位数値をハッチング・模様の種類別にして表している。  
図の最上段はガラス基板を載置するための基板ステージ１であり、この基板ステージ１はトップ板２に支持される。トップ板２の下面には、運動直進性を実現する複数のＬＭガイド３を介して中間ベース４を備えている。中間ベース４の下面略中央部には、ここでは図示しないボールねじに螺合するナット部５が設けられる。
【０００８】
図１０（Ａ）は、基板ステージ１がＹ方向からコーナー部を回ったあと、中間ベース４がＸ方向（図の手前側）へ急加速したときの変形状態であり、（Ｕ）は上方向への最大変位、（Ｄ）は下方向への最大変位を示し、（Ｍ）は最大と最小の中間変位を示している。したがって、中間変位（Ｍ）から最大変位（Ｕ）へ複数段階で変位が増大し、中間変位（Ｍ）から最小変位（Ｄ）へ複数段階で変位が小さくなる。  
ボールねじによって変位させられる中間ベース４が、Ｘ方向へ急加速するのにともなって、基板ステージ１の手前側角部ａが最大変位（Ｕ）となって最もめくり上がる。その一方で、Ｘ方向に反対側の角部ｂは最小変位（Ｄ）であって最も下がる変形をなす。図１０（Ｂ）はＹ方向から見た図であるので、基板ステージ１は図の左側角部ａが最大変位（Ｕ）で、右側角部ｂが最小変位（Ｄ）となる。
【０００９】
再び図１０（Ａ）に示すように、中間ベース４はＹ方向に長い横長矩形状をなし、基板ステージ１の最も変形の大なる部位は中間ベース４下面に設けられる複数のＬＭガイド（図では、ＬＭナット）６のうち、中央２本のＬＭガイド６相互間である中間の領域部分である。  
この中間領域には、中間ベース４、トップ板２、基板ステージ１、Ｙ方向に沿うボールねじ、ボールねじの駆動源、複数のＬＭガイド３など、中間ベース４を含む、中間ベース４上に載置される全ての構成部品の総質量に応じた慣性力が発生する。  
したがって、中間領域における変形が、この両側の領域と比較して大きく、その結果、基板ステージ１自体が変形して傾き、基板ステージ１に載置される前記ガラス基板と、このガラス基板に対向するディスペンサノズルとの間隔が変動してしまい、シール剤塗布の不良原因となる。
【００１０】
本発明は上記事情にもとづきなされたものであり、その目的とするところは、所定の領域に作用する慣性力が他の領域に作用する慣性力よりも大であることを前提として、この所定領域における変形量を抑制して、信頼性の向上を得られる中間ベースと、この中間ベースをＸテーブルもしくはＹテーブルとして用いることで品質の向上を得られるＸＹテーブルと、このＸＹテーブルを備えて高速塗布と微量塗布化を得られるシール剤塗布装置と、このシール剤塗布装置を用いて生産性の向上を得られる液晶パネルの製造方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を満足するため本発明の中間ベースは、横長矩形状に形成される板体であり、前記板体の下面略中央部の位置には、板体の長手方向とは直交する方向に亘るとともに、板体の両側端縁から突出し、かつ端部に駆動機構が連結される第１のボールねじ、およびこのボールねじの両側部に、第１のボールねじの軸方向に沿って並行して、運動直線性を与える２本の第１のＬＭガイドが備えられ、２本の第１のＬＭガイドの間にあり、第１のボールねじが設けられる領域を領域Ａとし、かつ前記領域Ａの両側にある領域を領域Ｂとしたときに、領域Ａにおける第１のＬＭガイドと第１のボールねじとの間にあって、第１のボールねじに対して、より近い側の位置に、運動直線性を与える第３のＬＭガイドが、さらに備えられ、前記板体において、前記領域Ａにかかる領域の板厚中には設けられておらず、領域Ｂにかかる領域の板厚中に、板体の長手方向に沿って設けられ、板体の長手方向と直交する方向に互いに並行な複数の孔部とを具備する。
【００１２】
上記目的を満足するため本発明のＸＹテーブルは、中間ベースをＸＹテーブルとして、第１のボールねじおよび第１のＬＭガイドを介して支持するベース基台と、中間ベース上に長手方向に沿って載設され端部に駆動機構が連結される第２のボールねじおよび第２のボールねじの軸方向に沿って並行に設けられる複数の第２のＬＭガイドと、第２のボールねじおよび第２のＬＭガイドに支持されＹ／Ｘテーブルとなるトップ板とを具備する。
【００１３】
上記目的を満足するため本発明のシール剤塗布装置は、ガラス基板を載置するトップ板を備えたＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置されるガラス基板に対し先端吐出口を対向して配置されるディスペンサノズルと、このディスペンサノズルにシール剤を供給し先端吐出口から基板にシール剤を塗布させるシール剤供給部とを具備する。  
上記目的を満足するため本発明の液晶パネルの製造方法は、シール剤塗布装置を用いて、ディスペンサノズルとＸＹテーブルをガラス基板の面に沿ってＸ方向とＹ方向に相対移動させガラス基板にシール剤を塗布して液晶パネルを製造する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、所定領域の変形量を抑制して信頼性の向上を得られる中間ベースと、この中間ベースをＸ／Ｙテーブルとして品質の向上を得られるＸＹテーブルと、このＸＹテーブルを備えて高速塗布と塗布量の微量化を得られるシール剤塗布装置と、このシール剤塗布装置を用いて生産性の向上を得られる液晶パネルの製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を、図面にもとづいて説明する。  
図１はシール剤塗布装置１０の概略の斜視図、図２はガラス基板１１にシール剤を塗布する液晶パネル製造の途中工程を説明する斜視図である。  
図１に示すように、液晶パネルの製造に用いられるシール剤塗布装置１０は、ベース基台１２と、このベース基台１２上に載設されるＸＹテーブル２０と、前記ベース基台１２にコラム１３を介して備えられるＺテーブル１４と、このＺテーブル１４に取付けられるディスペンサノズル１５と、このディスペンサノズル１５にシール剤を供給するシール剤供給部１６とから構成される。
【００１６】
前記ＸＹテーブル２０を構成する基板ステージ２１上にガラス基板１１を載置し、Ｚテーブル１４を駆動してディスペンサノズル１５を降下し、この先端供給口１５ａとガラス基板１１との間隔を所定寸法に保持する。  
そのあと、図２に示すようにＸＹテーブル２０とディスペンサノズル１５をガラス基板１１の面に沿ってＸ方向とＹ方向に相対移動させ、同時に、シール剤供給部１６からディスペンサノズル１５へシール剤を供給して、ディスペンサノズル１５の先端供給口１５ａからガラス基板１１に塗布する。
【００１７】
シール剤塗布が完了したガラス基板１１に対して、他のガラス基板を貼り合せたあと、シール剤の非塗布部分からガラス基板１１相互間に液晶材料を供給する。そして、他の種々の工程を経て液晶パネルが製造される。  
図３は前記ＸＹテーブル２０の斜視図、図４は図３の状態から基板ステージ２１を取除いたＸＹテーブル２０の斜視図、図５は図４の状態からトップ板２２を取除いたＸＹテーブル２０の斜視図、図６は図５の状態から中間ベース２３を取除いたＸＹテーブル２０の斜視図である。
【００１８】
図中２５はＹ方向の長さと、Ｘ方向の長さが略同一の矩形状に形成され、かつ所定板厚のベース基台である。このベース基台２５のＹ方向の両側端部には、Ｘ方向全長に亘って第１のＬＭガイド２６が敷設される。さらに、ベース基台２５のＹ方向の中央部を基準にしてＹ方向の両側に所定間隔を存した位置にも第１のＬＭガイド２６が敷設される。したがって、ベース基台２５には合計４本の第１のＬＭガイド２６が設けられる。  
図６に示すように、全ての第１のＬＭガイド２６における長手方向（Ｘ方向）の略中央部にはＬＭナット２６ａが設けられている。前記第１のＬＭガイド２６のうち、中央２本の第１のＬＭガイド２６相互間で、かつ中央部に、ベース基台２５のＸ方向全長に亘って第１のボールねじ２７が設けられる。この第１のボールねじ２７の一端部は軸受部２８によって軸支され、他端部には駆動モータ（駆動機構）２９が連結される。
【００１９】
前記第１のボールねじ２７における軸方向の略中央部にはナット部２７ａが設けられている。このナット部２７ａの位置と、第１のＬＭガイド２６を構成するＬＭナット２６ａの位置は、互いにベース基台２５におけるＸ方向の略中央部となる。  
前記第１のボールねじ２７と並行して、第１のボールねじ２７の一側部には第３のＬＭガイド３０が設けられ、かつ第３のＬＭガイド３０とは第１のボールねじ２７を介した反対側の側部に、リニアスケール３２が並行して設けられる。第３のＬＭガイド３０を構成するＬＭナット３０ａの位置は、第１のＬＭガイド２６のＬＭナット２６ａと同位置に揃えられる。
【００２０】
前記第１、第３のＬＭガイド２６，３０を構成するＬＭナット２６ａ，３０ａおよび第１のボールねじ２７のナット部２７ａ上には、図５に示すように中間ベース２３が載設される。この中間ベース２３のＹ方向長さは、ベース基台２５のＹ方向長さと略同一であり、Ｘ方向長さは、中間ベース２３を各第１、第３のＬＭガイドＬＭナット２６ａ，３０ａと第１のボールねじナット部２７ａに取付けるのに必要最小限の長さに形成されている。  
換言すれば、中間ベース２３はＹ方向に長く、Ｘ方向に狭い幅の横長矩形状に形成される板体であり、第１のＬＭガイド２６と第３のＬＭガイド３０および第１のボールねじ２７を介してベース基台２５に支持され、第１、第３のＬＭガイド２６，３０および第１のボールねじ２７ともに、中間ベース２３のＸ方向の両側縁から突出する。
【００２１】
前記第１のボールねじ２７を回転駆動することにより、中間ベース２３は第１のボールねじ２７の回転方向に応じてＸ方向に沿って進退移動する。このとき、第１のＬＭガイド２６および第３のＬＭガイド３０は、ともに中間ベース２３の運動直進性を実現するように機能する。  
前記リニアスケール３２は、中間ベース２３のＸ方向の変位量を計測する機能を有する。そして、リニアスケール３２を第１のボールねじ２７に可能な限り近接した位置に設けることで、リニアスケール３２の中間ベース２３に対する計測精度を高く保持できる。
【００２２】
前記中間ベース２３上のＸ方向の両側部で、かつＹ方向全長に亘って第２のＬＭガイド３３が取付けられる。したがって、前記第２のＬＭガイド３３は２本取付けられることになる。
【００２３】
さらに、中間ベース２３上のＸ方向の略中央部で、Ｙ方向全長に亘って第２のボールねじ３５が取付けられる。この第２のボールねじ３５の一端部には軸受部３６が設けられ、他端部には駆動モータ（駆動機構）３７が連結される。さらに、ここでは図示していないが、前記第２のボールねじ３５と並行してリニアスケールが設けられている。このリニアスケールも、トップ板２２のＹ方向の変位量を計測する機能を有する。  
なお、図５においては第２のボールねじ３５を構成するナット部３５ａを示しているが、第２のＬＭガイド３３のＬＭナットは図示を省略している。これらナット部３５ａとＬＭナットとに亘って、図４に示すようにトップ板２２が取付けられる。
【００２４】
したがって、第２のボールねじ３５を回転駆動することにより、トップ板２２は第２のボールねじ３５の回転方向に応じてＹ方向に沿って進退移動し、このとき第２のＬＭガイド３３は中間ベース２３の運動直進性を実現するように機能する。  
なお、前記中間ベース２３には、部分的に重量削減用の孔部３８が設けられているが、これについては後述する。  
前記トップ板２２上には、図３に示すように基板ステージ２１が載設されていて、これらでＸＹテーブル２０が構成される。第１のボールねじ２７を回転駆動すれば、中間ベース２３は第２のＬＭガイド３３および第２のボールねじ３５とともに、トップ板２２と基板ステージ２１を載設したままＸ方向に移動変位する。また、第２のボールねじ３５が回転駆動されれば、トップ板２２と基板ステージ２１がＹ方向に移動変位する。
【００２５】
このようなＸＹテーブル２０の中間ベース２３に対し、前記第１のＬＭガイド２６における中央部にある２本の第１のＬＭガイド２６相互間で第１のボールねじ２７が設けられる部位を領域Ａと呼び、この領域Ａの両側部位を領域Ｂと呼ぶ。  
前記領域Ａにおける第１のボールねじ２７に近接した位置に、第１のボールねじ２７と並行して前記第３のＬＭガイド３０が設けられている。さらに、領域Ａにおける第１のボールねじ２７に隣接して、前記リニアスケール３２を備えている。このリニアスケール３２は、第３のＬＭガイド３０とは第１のボールねじ２７を介して反対側の側部に沿って設けられる。
【００２６】
そして、領域Ａには第１のボールねじ２７が取付けられているため、中間ベース２３、第２のＬＭガイド３３、第２のボールねじ３５、駆動モータ３７、トップ板２２、基板ステージ２１など、中間ベース２３を含む、中間ベース２３より上に位置する全ての部品の総質量が慣性力として作用する。これに対して領域Ｂには、トップ板２２および基板ステージ２１の合計質量が慣性力として作用する。  
当然ながら、領域Ａにかかる部品の総質量が、領域Ｂにかかる部品の総質量よりもはるかに大であるから、領域Ａに作用する慣性力は領域Ｂに作用する慣性力よりもはるかに大である。
【００２７】
特に、図７に示すように、前記中間ベース２３における領域Ｂの部分には、前記孔部３８が設けられていて、ここでは孔部として丸孔（両側部は、長円状）が採用される。これら丸孔３８は、中間ベース２３の領域Ｂにおける板厚中に、中間ベース２３の長手方向であるＹ方向に沿って設けられ、長手方向と直交する方向であるＸ方向に互いに並行している。  
このことにより、中間ベース２３の領域Ａについては何らの加工も加えられていない中実状をなしているのに対して、この両側の領域Ｂにおいては複数の丸孔３８が設けられることにより、中間ベース２３の重量軽減化が図られている。
【００２８】
すなわち、先に図１０（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）で説明したように、従来構造のＸＹテーブルにおいて、可動部の質量がテーブル駆動時の慣性力となり、ＸＹテーブルを部分的に変形させる力となることが判明している。しかしながら、単純な軽量化は剛性の低下を招くために、剛性低下を極力抑えながら軽量化する必要がある。  
軽量化の基本的な考え方として、板体の断面積を半分にしたときの断面二次モーメントを比較してみた。  
１．  幅寸法：ｂ、板厚寸法：ｈ、断面積Ｓ＝ｂ・ｈの板体を基準にしたとき、この板体の断面二次モーメントは、Ｉ＝ｂ・ｈ３  ／１２となる。  
２．  幅寸法：ｂは変らず、板厚を半分（ｈ／２）としたときの断面二次モーメントは、Ｉａ＝ｂ・ｈ３  ／９６＝（１／８）Ｉであり、断面二次モーメントは１／８となってしまい、幅寸法は保持したままの薄肉化は剛性にとって非常に不利である。
【００２９】
３．  板厚寸法：ｈ、個々の幅寸法ｂＢ  であり、合計の幅寸法が前記１．案の幅寸法の半分となるように複数に分割した板体を、非常に細い板で結合した場合の断面二次モーメントは、Ｉｂ＝ｂ・ｈ３  ／２４＝（１／２）Ｉとなり、断面二次モーメントは１／２となる。  
４．  幅寸法：ｂを変えず、板厚寸法：ｈ／４の極く薄い板体を２枚用意して、これらを非常に細い板で結合した場合の断面二次モーメントは、Ｉｃ＝７・ｂ・ｈ３  ／９６＝（１／１．１４）Ｉであり、断面二次モーメントは０．８７５倍にしかならず、断面積が半減（質量低減に相当する）したわりには剛性が維持される。
【００３０】
しかしながら、４．案では非常に細い板で幅寸法ｂの板体相互を連結しなければならず、ＸＹテーブル２０を構成するものとして現実的でない。そこで、４．案の延長として、幅寸法：ｂ、板厚寸法：ｈの板体に直径ｄの丸孔をｎ個設けたものを５．案とする。  
５．  丸孔の直径ｄを板厚寸法ｈの３／４とした場合の断面二次モーメントは、ＩＤ  ＝（１／１２−９／５１２）・ｂｈ３  ＝（１／１．２７）・Ｉ＝０．７８９・Ｉとなり、断面二次モーメントは１／１．２７（０．７８９）倍になって、断面積を縮小して剛性が確保される。
【００３１】
丸孔を稠密に配置すると蜂の巣状になるところから、５．案の有効性が理解できる。また、部品製作においても、ガンドリルを使用すると深い孔の加工が可能となる。そして、丸孔であるために応力集中の可能性が低いので、前記中間ベース２３における領域Ｂの軽量化のために、孔部３８として丸孔を設けることとする。  
なお、両側部の孔部３８は長円状になっているが、これは孔部を設けたあとの板体の断面積を、孔部を設けない前における板体の断面積の１／２に設定するために、２つの丸孔の一部を互いに重ならせた状態で加工したことによる。したがって、板体の断面積もしくは丸孔の直径を設定し直すことにより、断面積を１／２としたうえで、上述の断面二次モーメントの数値に合わせた丸孔のみを備えることは可能である。
【００３２】
再び図１０（Ａ）（Ｂ）に示すように、第１のボールねじを駆動して中間ベース４ごとトップ板２と基板ステージ１をＸ方向に急加速した状態で、トップ板２におけるＸ方向の手前側角部ａが上がり、反対側の角部ｂが下がる大きな変形をきたすのは、特に中央２本のＬＭガイド６相互間の領域においてである。  
そこで、本発明の実施の形態では、領域Ａに設けられる第１のボールねじ２７に限りなく接近した側部に沿って第３のＬＭガイド３０を追設している。第３のＬＭガイド３０は第１のボールねじ２７の作用に何ら干渉することがなく、しかも領域Ａの中央部に可能な限り近づけて備える。
【００３３】
このようにして構成されるＸＹテーブル２０を備えたシール剤塗布装置１０であり、中間ベース２３に対する領域Ａに新たな第３のＬＭガイド３０を追設したから、領域Ａにおける変形を抑制できる。さらに、領域Ｂに複数の丸孔３８を設けたから、領域Ｂの軽量化を図り、領域Ｂに作用する慣性力が小さくなって断面二次モーメントの低減を最小限にとどめることができ、領域Ａの変形に対する抑制に寄与する。  
なお、領域Ａに対して作用する慣性力が大であるので、領域Ａに軽量化のための孔部を設けることはない。また、トップ板２２に対しても中間ベース２３と同様の考え方で孔部を設けることで軽量化を図れる。
【００３４】
以上述べた、中間ベース２３とトップ板２２の軽量化による加減速時の慣性力の低減と、中間ベース２３の最も変形する部位に第３のＬＭガイド３０を新たに設けることにより剛性が向上して、コーナー部塗布時におけるＸＹテーブル２０の変形と、基板ステージ２１の傾きを低減できる。  
図９（Ａ）（Ｂ）に有限要素法によりシュミレーションして求めたＸＹテーブル２０の変形図を示す。図からも明らかなように、領域Ａと領域Ｂにおける変位量は略等しくなり、図９（Ｃ）にも示すように変位量の絶対値は従来である図１０（Ｃ）の略半分になっていて、バランスの取れた設計であることが分かる。
【００３５】
したがって、液晶パネルの製造方法において、ガラス基板１１にシール剤を塗布する工程では、より高速で、より微量のシール剤塗布が実現する。  
なお、上記実施の形態では第１のボールねじ２７の側部に沿ってリニアスケール３２を備えているが、これに限定されるものではなく、特にリニアスケール３２が不要の場合は、リニアスケール３２の位置に第３のＬＭガイド３０を備えることとする。  
したがって、リニアスケール３２を備えた場合に中間ベース２３は５本のＬＭガイド２６，３０で支持されるが、リニアスケール３２の代用として第３のＬＭガイド３０を備えると、中間ベース２３は６本のＬＭガイド２６，３０で支持されることになる。
【００３６】
あるいは図８に示すように、リニアスケール３２と中央部の第１のＬＭガイド２６との間に、第３のＬＭガイド３０を備えるようにしてもよい。前述したように、リニアスケール３２を備える場合は、第１のボールねじ２７に可能な限り近接した位置に設けることで、リニアスケール３２の中間ベース２３に対する計測精度を高く保持できる。  
なお、本発明は上述した実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。そして、上述した実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明における一実施の形態に係る、液晶パネル製造に用いられるシール剤塗布装置の概略斜視図。
【図２】同実施の形態に係る、シール剤塗布工程を説明する図。
【図３】同実施の形態に係る、ＸＹテーブルの斜視図。
【図４】同実施の形態に係る、図３のＸＹテーブルから基板ステージを取外した斜視図。
【図５】同実施の形態に係る、図４のＸＹテーブルからトップ板を取外した斜視図。
【図６】同実施の形態に係る、図５のＸＹテーブルから中間ベースを取外した斜視図。
【図７】同実施の形態に係る、中間ベースの斜視図。
【図８】変形例の、ＸＹテーブルの斜視図。
【図９】本発明の実施の形態に係る、有限要素法を用いてシュミレーションしたＸＹテーブルの変形図と変位量の説明図。
【図１０】従来の、有限要素法を用いてシュミレーションしたＸＹテーブルの変形図と変位量の説明図。
【符号の説明】
【００３８】
２９…駆動モータ（駆動機構）、２７…第１のボールねじ、２６…第１のＬＭガイド、３０…第３のＬＭガイド、３８…孔部（丸孔）、２３…中間ベース、３２…リニアスケール、２５…ベース基台、３５…第２のボールねじ、３３…第２のＬＭガイド、２２…トップ板、２０…ＸＹテーブル、１０…シール剤塗布装置、１１…ガラス基板、１５…ディスペンサノズル、１６…シール剤供給部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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