(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象を位置決めするためのステージ装置であって、本ステージ装置は、
前記対象を保持するよう構成されたテーブルと、
前記テーブルを支持するよう構成されたサポート構造と、を備え、
前記テーブルは前記サポート構造に対して変位可能であり、前記サポート構造は第１データクロックおよび第２データクロックのうちの一方を備え、前記テーブルは前記第１データクロックおよび前記第２データクロックのうちの他方を備え、
本ステージ装置はさらに、
前記第１データクロックと前記第２データクロックとを同期させるよう構成された回路を備え、前記回路は送信器および受信器を含み、前記送信器は前記第１データクロックから前記第２データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、
前記回路はさらに、
無線送信され前記受信器によって受信されたクロック信号データから、前記第２データクロックを前記第１データクロックと同期させるよう構成された同期回路を含み、
前記送信器および受信器は、
第１伝送経路を提供するよう構成された第１送信器および第１受信器と、
第２伝送経路を提供するよう構成された第２送信器および第２受信器と、を含み、
前記第１伝送経路および前記第２伝送経路はそれぞれ第１方向に沿って逆向きに伸びる、ステージ装置。
【請求項２】
前記同期回路は、
前記第１受信器および前記第２受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、
混合されたクロック信号データの第２高調波部分を選択するよう構成されたハイパスフィルタと、を含む、請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記同期回路は、
前記第１受信器および前記第２受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、
混合されたクロック信号データの実質的に一定な信号部分を選択するよう構成されたローパスフィルタと、を含む、請求項１または２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記第１方向は前記テーブルの移動方向である、請求項１から３のいずれかに記載のステージ装置。
【請求項５】
前記対象は放射感応性材料でコーティングされた基板である、請求項１に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記対象は放射ビームにパターンを付与するよう構成されたパターニングデバイスである、請求項１に記載のステージ装置。
【請求項７】
パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するよう構成されたリソグラフィ装置であって、請求項１から６のいずれかに記載のステージ装置を備えるリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記ステージ装置はパターニングデバイスステージまたは基板ステージである、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置およびそのようなステージ装置を備えるリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板に、通常は基板のターゲット部分に所望のパターンを付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。この場合、マスク、レチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いて、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンを生成できる。このパターンは、基板（例えばシリコンウエハ）上のターゲット部分（例えば、一つまたは複数のダイの部分からなる）に転写され得る。パターンの転写は、一般的には基板上に設けられた放射線感受性材料（レジスト）の層への結像によりなされる。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される隣接するターゲット部分のネットワークを有する。通常のリソグラフィ装置には、いわゆるステッパといわゆるスキャナとがある。ステッパでは、各ターゲット部分にパターンの全体を一度に露光することによって、各ターゲット部分が照射される。スキャナでは、所与の方向（「走査」方向）に放射ビームを用いてパターンを走査する一方、この方向と平行にまたは逆平行に基板を同期させて走査することによって、各ターゲット部分が照射される。パターンを基板にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
リソグラフィでは、基板をパターニングデバイスに対して位置決めするよう移動可能な基板ステージやパターニングデバイスステージなどのステージが使用される。そのようなステージは、例えばアクチュエータ（ショートストロークモータなど）やセンサ（ステージに取り付けられるエンコーダ測定ヘッドなど）などに電力を供給するためのケーブル接続を備える。ケーブルは、その剛性などのその生来の性質のため、ステージを高い正確性でおよび／または高速で位置決め／移動するときの機械的な擾乱源に寄与しうる。したがって、できる限り有線接続が取り除かれたステージを提供できることが望ましい。
【０００４】
クロックデータがステージへ送信されてもよい。このクロックデータは例えばステージの移動中にステージの位置測定をクロックする（すなわち、位置測定の時刻を決める）ために使用されうる。ステージがエンコーダ測定ヘッドを備える場合、例えばエンコーダ測定ヘッドによる測定がクロックされてもよい。ステージの移動の範囲が与えられた場合、ステージへクロックデータを無線送信すると、クロックデータの無線送信における遅延が変化することとなる。伝送の伝播経路は伝送経路の長さによって変化するからである。その結果、ステージで受信された状態のクロックデータはステージの位置に応じた遅延を示すこととなる。ステージの移動の高速化および位置決めの高精度化の要請の下、例えば移動中にステージの位置を決定する際に、位置そのものについてだけでなくその位置が測定される時刻についても高い正確性を有することが望ましい。そのため、正確なクロックが望ましい。
【０００５】
移動可能なステージへクロックデータを無線送信し、その際、伝播経路の長さに対する伝播遅延の依存性が少なくとも部分的に補償されることが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のある態様によると、対象を位置決めするためのステージ装置が提供される。このステージ装置は、対象を保持するよう構成されたテーブルと、テーブルを支持するよう構成されたサポート構造と、を備える。テーブルはサポート構造に対して変位可能であり、サポート構造は第１データクロックおよび第２データクロックのうちの一方を備え、テーブルは第１データクロックおよび第２データクロックのうちの他方を備える。ステージ装置はデータクロックを同期させるための回路を含む。回路は送信器と受信器との組を含み、その組は第１データクロックから第２データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成される。回路はさらに、無線送信され受信器によって受信された状態のクロック信号データから、第２データクロックを第１データクロックと同期させるための同期回路を含む。
【０００７】
本発明の別の態様によると、そのようなステージ装置を含むリソグラフィ装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の実施の形態は、例示のみを目的として添付の模式的な図面を参照して説明される。図面では、対応する参照番号は、対応する部分を示す。
【０００９】
【図１】本発明の実施の形態が設けられてもよいリソグラフィ装置を示す図である。
【００１０】
【図２】本発明の実施の形態に係るステージ装置の模式図である。
【００１１】
【図３】本発明の実施の形態に係る図２にしたがうステージ装置の同期回路の一部の模式的なブロック図である。
【００１２】
【図４】本発明の別の実施の形態に係るステージ装置の模式図である。
【００１３】
【図５】本発明の実施の形態に係る図４にしたがうステージ装置の同期回路の一部の模式的なブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１は、本発明の１つの実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えば、紫外線（ＵＶ）放射や他の適切な放射）を調整する照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するよう構成され、第１位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、を含む。第１位置決めデバイスＰＭは、パターニングデバイスをあるパラメータに従って正確に位置決めする。この装置は、基板（例えばレジストコートウエハ）Ｗを保持するよう構成され、第２位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えばウエハテーブル）ＷＴもしくは「基板サポート」を含む。第２位置決めデバイスＰＷは、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成される。この装置はさらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つもしくは複数のダイを含む）上に投影する投影システム（たとえば屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１５】
照明システムは、放射ビームを方向付け、成形し、あるいは制御するために、屈折光学素子、反射光学素子、磁気光学素子、電磁気光学素子、静電光学素子、あるいはこれらの任意の組み合わせなどの様々な種類の光学素子を含んでもよい。
【００１６】
パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスの配向やリソグラフィ装置の設計や、たとえばパターニングデバイスが真空環境中で保持されているか否か等の他の条件などに応じた態様でパターニングデバイスを保持している。パターニングデバイスサポートは、機械的固定、真空固定、静電固定、またはパターニングデバイスを保持するための他の固定用技術を使用できる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定または移動させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを例えば投影システムに対して所望の位置に確実に配置することができる。本明細書における「レチクル」または「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターニングデバイス」という用語の同義語とみなすことができる。
【００１７】
本明細書で使用されている「パターニングデバイス」という用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板のターゲット部分にパターンを生成するべく使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、ターゲット部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。
【００１８】
パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、例えばマスクやプログラマブルミラーアレイ、プログラマブルＬＣＤパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。これらの傾斜ミラーにより、マトリックス状ミラーで反射された放射ビームにパターンが付与されることになる。
【００１９】
本明細書で使用されている「投影システム」という用語は、たとえば使用する露光放射に適した、もしくは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁気光学系、静電光学系、またはそれらの任意の組合せを含む任意の種類の投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「投影レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影システム」という用語の同義語とみなすことができる。
【００２０】
本明細書に示されるように、本装置は（たとえば透過マスクを用いる）透過型である。あるいはまた、本装置は（たとえば、上述した種類のプログラマブルミラーアレイを用いた、あるいは反射マスクを用いた）反射型であってもよい。
【００２１】
リソグラフィ装置は２つ以上（２つの場合にはデュアルステージと呼ばれる）の基板テーブルもしくは「基板サポート」（および／または２つ以上のマスクテーブルもしくは「マスクサポート」）を備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては追加されたテーブルまたはサポートは並行して使用されるか、あるいは１以上のテーブルまたはサポートで露光が行われている間に他の１以上のテーブルまたはサポートで準備工程を実行するようにしてもよい。
【００２２】
また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液はリソグラフィ装置の他の空間、例えばパターニングデバイスと投影システムとの間に導入されてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするために使用されうる。本明細書で使用されている「液浸」という用語は、基板などの構造を液体中に浸すべきであることを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影システムと基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。
【００２３】
図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取っている。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源およびリソグラフィ装置は、別個の構成要素とすることができる。このような場合、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを備えたビーム搬送系ＢＤを使用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ受け渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置と一体に構成されていてもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、またビーム搬送系ＢＤが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称されてもよい。
【００２４】
イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えてもよい。一般には、イルミネータの瞳平面における強度分布の少なくとも半径方向外径および／または内径（通常それぞれ「シグマ−アウタ（σ−ｏｕｔｅｒ）」、「シグマ−インナ（σ−ｉｎｎｅｒ）」と呼ばれる）が調整される。加えて、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの種々の他の要素を備えてもよい。イルミネータは、ビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。
【００２５】
放射ビームＢは、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴに保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射して、当該パターニングデバイスによりパターンを付与される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを透過した後、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過する。投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに合焦させる。第２位置決めデバイスＰＷと位置センサＩＦ（例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）とにより基板テーブルＷＴは正確に移動され、例えば放射ビームＢの経路に異なる複数のターゲット部分Ｃをそれぞれ位置決めするように移動される。同じように、第１位置決めデバイスＰＭともう１つの位置センサ（図１に明確には示されていない）とを用いて、例えばマスクライブラリから機械検索後、または走査中に、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。通常、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴの移動は、第１位置決めデバイスＰＭの一部を形成しているロングストロークモジュール（粗い位置決め用）およびショートストロークモジュール（精細な位置決め用）を使用して実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の移動は、第２位置決め器ＰＷの一部を形成しているロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに接続され、あるいは固定される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡおよび基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることができる。図では、基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占有しているが、基板アライメントマークは、ターゲット部分間のスペースに配置されてもよい（このような基板アライメントマークは、スクライブラインアライメントマークとして知られている）。同様に、１つ以上のダイがパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に設けられる場合、ダイ間にパターニングデバイスアライメントマークが配置されてもよい。
【００２６】
図示の装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも１つのモードで使用することができる。
１．ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が１回の照射でターゲット部分Ｃに投影される間、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」は、実質的に静止状態とされる（すなわち１回の静的な露光）。そして基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」がＸ方向及び／またはＹ方向に移動されて、異なるターゲット部分Ｃが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、１回の静的露光で結像されるターゲット部分Ｃの寸法が制限されることになる。
２．スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」は、同期して走査される（すなわち１回の動的な露光）。パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが１回の動的露光でのターゲット部分Ｃの（非走査方向の）幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の（走査方向の）長さを決定する。
３．その他のモードにおいては、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」が移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００２７】
上述の使用モードの組み合わせおよび／または変形、もしくは全く異なった使用モードが使われてもよい。
【００２８】
図２はステージ装置を非常に模式的に示す。ステージ装置は、サポート構造ＳＴＲに対して移動可能なテーブルＴＡを備える。この例では、テーブルは矢印ＤＭで示される移動方向に移動可能である。このテーブルは、例えばリソグラフィ装置の基板テーブルまたはマスクテーブル（すなわち、サポート）によって形成されてもよい。サポート構造は、（メトロロジフレームなどの）参照フレームや他の静止構造によって形成されてもよい。また、サポート構造は、ロングストロークアクチュエータなどの移動可能な構造によって形成されてもよい。その場合、移動方向は例えばリソグラフィ装置のショートストロークアクチュエータの移動方向によって形成されてもよい。図２および図３を参照して説明される思想は、例えばテーブルが移動方向ＤＭなどの単一の方向に移動可能な場合に適用されうる。第１データクロックＣ１はサポート構造ＳＴＲに設けられる。第１データクロックはサポート構造において生成されてもよいし、有線または無線のデータクロック信号やデータクロックバスなどの任意の適切な送信器を介してサポート構造に送信されてもよい。第２データクロックＣ２はテーブルＴＡに設けられる。第２データクロックは同期可能なデータクロック生成器などの適切なデータクロック生成器によって提供されてもよいし、および／または後述のように無線送信されたクロック信号データから導かれてもよい。図２に示されるように、第１データクロックＣ１は二重（無線）伝送経路を介してテーブルＴＡへ送信される。第１は伝送経路ＣＴ１ａであり、第２は伝送経路ＣＴ１ｂである。そのため、対応する送信器はサポート構造ＳＴＲに設けられ、対応する受信器はテーブルＴＡに設けられる。したがって、テーブルＴＡは第１クロックＣ１からクロックデータを２回受け取る。テーブルＴＡは移動方向ＤＭに沿って移動しうる。したがって、経路ＣＴ１ａおよび経路ＣＴ１ｂの長さは変化しうる。その結果、経路ＣＴ１ａおよび経路ＣＴ１ｂのそれぞれを介した遅延は、サポート構造ＳＴＲに対するテーブルＴＡの位置によって変化しうる。したがって、２つの伝送経路に沿って伝送されるので、クロックデータはテーブルＴＡにおいて２回受信される。テーブルＴＡが方向ＤＭに沿って一方の側に動かされるほど、伝送経路の一方は短くなり（したがって、その伝送経路を介した遅延は短くなる）、一方で伝送経路の他方は長くなる（したがって、その伝送経路を介した遅延は長くなる）。２つの伝送経路は移動方向ＤＭに沿って逆向きに伸びるからである。２つの無線伝送経路を介して受信されたクロックデータの両方は、受信された状態で同期回路ＳＹＮに与えられる。同期回路ＳＹＮは、両伝送経路を介して受信された状態のクロックデータを混合し、それらから第２データクロックＣ２の同期を導くよう構成される。ある実施の形態では、同期回路は基本的に、第２データクロックＣ２を両伝送経路を介した遅延の平均に同期させてもよい。そのような平均化に加えて、例えば経路長や送信エレクトロニクス、受信エレクトロニクスおよび／または処理エレクトロニクスにおける遅延を補償するために、一定の（例えば、較正された）遅延が加えられてもよい。
【００２９】
因果システムでは、現実世界の遅延を補償するような負の遅延は不可能であるかもしれないことは理解されるべきである。しかしながら、データクロックは周期信号を提供するので、３６０度位相シフトした遅延は実効的にはゼロ遅延を与える。したがって、例えば送信エレクトロニクス、受信エレクトロニクスおよび／または処理エレクトロニクスで生じる遅延や伝送経路に沿った遅延などをさらなる遅延によって補償し、理想的な定常状態挙動を実質的に生じせしめることが可能である。
【００３０】
図３は、図２を参照して説明された実施の形態の同期回路の実施の形態を説明するための、模式的なブロック回路を示す。伝送経路ＣＴ１ａおよび伝送経路ＣＴ１ｂを介して受信されたクロックデータは、受信された状態でミキサＭＸに与えられる。受信されたクロックデータの両方は同じ周波数を有しているが位相は異なりうるので、ミキサはその出力において、データクロック周波数の実質２倍の周波数の信号成分と、実質的に一定の（ＤＣ−直流）信号成分と、を提供する。データクロック周波数の２倍の周波数の信号成分は、ハイパスフィルタＨＰＦによって選択される。除算器ＤＩＶは、ハイパスフィルタＨＰＦ後に残る信号の周波数を例えば因子２で除算する。２倍周波数の信号成分は、２つの伝送経路に沿って受信された状態のクロック周波数の和および２つの伝送経路に沿って受信された状態の位相の和として表され、位相の和は移動方向ＤＭに沿ったテーブルＴＡの位置によらない一定値となるであろう。したがって、除算器の出力信号はテーブルＴＡの位置によらない正確で一定な位相シフトを提供する。この除算器の出力信号は、例えば送信エレクトロニクス、受信エレクトロニクスおよび／または処理エレクトロニクスで生じる遅延や伝送経路に沿った遅延などを少なくとも部分的に補償するため、遅延ユニットＤＬＹによってさらに遅延される。
【００３１】
ミキサＭＸの出力における他方の信号成分は、ＣＴ１ａからのクロックデータとＣＴ１ｂからのクロックデータとの間の周波数の差および位相の差に実質的に対応する。受信周波数は実質的に等しいので、位相差を表す信号成分が残る。位相差は位置依存なので、テーブルＴＡの位置を表す位置データＰＯＳがローパスフィルタＬＰＦの出力から導かれうる。
【００３２】
図４は、テーブルＴＡが複数方向に伸びる移動範囲を有する場合に適用されうる別の実施の形態を示す。これを実現可能とするため、送信器−受信機の組はさらに、第２データクロック（すなわち、この例ではテーブル）からクロックデータを第１データクロック（すなわち、この例ではサポート構造ＳＴＲ）に送り返すよう構成される。クロックデータを第２クロックに送り再び第１クロックに送り返すことにより、伝送に伴い生じる遅延についての情報が、送り返された状態のクロックデータから導かれうる。これは例えば第１データクロックと２回送信された状態の信号とを比較することによりなされうる。そのため、本実施の形態では、第１データクロックを一方とし、第２データクロック（すなわち、この例ではテーブルＴＡ）へ送信され第１データクロックに送り返された状態のクロックデータを他方とする比較から同期を導くために、制御回路またはコントローラＣＯＮが設けられる。制御回路ＣＯＮの制御下にある複数の調整可能（すなわち、可変）遅延ユニットＴＤが設けられる。複数の調整可能遅延ユニットＴＤおよび制御回路ＣＯＮは同期回路ＳＹＮに含まれる。遅延ユニットＴＤのうちの第１のものは、第１クロックから第２クロックへの伝送経路と直列に設けられる。遅延ユニットＴＤのうちの第２のものは、第２クロックから第１クロックへ戻る伝送経路と直列に設けられる。本実施の形態では両方の遅延ユニットは第１クロックの側に設けられる。すなわち、本実施の形態では、両方の遅延ユニットはサポート構造ＳＴＲに設けられる。制御回路は、その第１入力で受ける信号（すなわち、第１データクロックＣ１のクロック信号）の位相が第２入力で受ける信号（すなわち、送り出して送り返されかつ両方の遅延ユニットＴＤによって遅延された状態の信号）の位相と等しくなるように、調整可能遅延ユニットＴＤを制御するよう構成される。両方の調整可能遅延ユニットＴＤの遅延の値が等しい場合、第２クロックへの無線送信によって生じる遅延ＴＡは遅延ユニットＴＤの第１のものによって補償され、一方で第１クロック（すなわち、本実施の形態ではサポート構造ＳＴＲ）への返送によって生じる遅延は遅延ユニットＴＤの第２のものによって補償される。第２クロック（すなわち、この例では、テーブルＴＡ）において、例えばエレクトロニクスなどに起因して残留する遅延は、例えば遅延が較正値に設定されていてもよい遅延ユニットＤＬＹによって補償されてもよい。第２クロックＣ２は、遅延ユニットＤＬＹの出力信号に同期されてもよいし、またはその出力信号から導かれてもよい。
【００３３】
制御回路ＣＯＮの実施の形態が図５を参照して説明される。再度受信された状態のクロックデータ（図４および図５においてＲＣＬと称される）は、９０度の位相遅延を受ける。第１データクロックＣ１と９０度位相遅延された受信信号とは次にミキサＭＸによって混合される。その結果、クロック周波数の２倍の周波数を有する信号成分と、実質的に一定の（直流ＤＣ）信号とが得られる。後者はクロックＣ１と受信クロックデータＲＣＬとの位相差に依存する。この成分はローパスフィルタＬＰＦを使用したローパスフィルタリングによって選択され、次に積分器ＩＮＴによって積分されおよび／または増幅器ＡＭＰによって増幅される。これにより、図４に示されるように、調整可能遅延ユニットＴＤの遅延を制御するための制御信号が得られる。その結果、調整可能遅延ユニットｔｄを十分なループゲインおよび要求される正確さで制御することが可能となる。
【００３４】
図２から４を参照して説明された実施の形態は、対象を位置決めするためのステージ装置であって、本ステージ装置は、対象を保持するためのテーブルと、テーブルを支持するためのサポート構造と、を備え、テーブルはサポート構造に対して変位可能であり、サポート構造は第１データクロックおよび第２データクロックのうちの一方を備え、テーブルは第１データクロックおよび第２データクロックのうちの他方を備え、本ステージ装置はさらにデータクロックを同期させるための回路を備え、回路は送信器および受信器を含み、それらは第１データクロックから第２データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、回路はさらに、無線送信され受信器によって受信された状態のクロック信号データから、第２データクロックを第１データクロックと同期させるための同期回路を含む、ステージ装置の例を提供する。これにより、クロック信号データをステージに有線で送信する必要性を除去しつつ、ステージにおいて正確なクロックタイミングが可能となる。
【００３５】
テーブルにおける第２データクロックＣ２は、クロックデータ取得（例えば、エンコーダや干渉計などの位置センサによるテーブル位置の位置測定）に適用できると共に、アクチュエータ／アクチュエータコントローラなどにデータを提供するためにも適用されうる。
【００３６】
データクロック（クロックとも称される）という用語は、データ取得、データ処理、データ保存、データ通信、（例えばアクチュエータやドライバなどへの）データ出力などのデータ操作のタイミングをとるための反復信号を生成する回路として理解されてもよい。さらに、データクロックという用語は、反復信号を生成するよう構成された回路だけでなく、反復信号そのものを指し示すものとされてもよいことを注意しておく。
【００３７】
クロックデータおよびクロック信号データという用語は、任意の種類のデータクロック関連データを含むものとして解釈されるべきである。そのようなデータクロック関連データは、反復クロック信号そのものやそれから導かれる任意の信号やそれに関連する任意の信号などを含む。ある実施の形態では、無線送信されるクロックデータは、変換や処理などによる遅延のないことまたは少ないことを求めるため、反復クロック信号そのもの（それ自体またはキャリア上に変調された状態）を含む。
【００３８】
無線送信は無線周波数や赤外線などの任意のタイプの無線送信を含んでもよい。回路（回路、同期回路など）という用語は、アナログおよび／またはデジタルエレクトロニクスやディスクリート電気および／または電子回路および／または集積電気および／または電子回路などを含む、任意の種類の電気および／または電子回路を含むものとして理解されるべきである。
【００３９】
説明されたステージは、リソグラフィ装置および／または他のアプリケーションに適用されてもよい。
【００４０】
本明細書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書における「ウエハ」あるいは「ダイ」という用語がそれぞれ「基板」あるいは「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置）、メトロロジツール、及び／またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ＩＣを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。
【００４１】
ここでは特に光リソグラフィを本発明に係る実施の形態に適用したものを例として説明しているが、本発明は例えばインプリントリソグラフィなど文脈が許す限り他にも適用可能であり、光リソグラフィに限られるものではない。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板に生成されるパターンを決める。パターニングデバイスのトポグラフィが基板に塗布されているレジスト層に押し付けられ、電磁放射や熱、圧力、あるいはこれらの組み合わせによってレジストが硬化される。レジストが硬化されてから、パターニングデバイスは、パターンが生成されたレジストから外されて外部に移動される。
【００４２】
本明細書において「放射」および「ビーム」という用語は、紫外（ＵＶ）放射（例えば約３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長を有する）および極端紫外（ＥＵＶ）放射（例えば５ｎｍ−２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆる種類の電磁放射、およびイオンビームや電子ビームなどの粒子線を示す。
【００４３】
「レンズ」という用語は、文脈が許す限り、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子を含む１つまたは各種の光学素子の組み合わせを指し示すものであってもよい。
【００４４】
本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。例えば、本発明はコンピュータプログラムの形式を取ってもよい。このコンピュータプログラムは機械に読み取り可能な命令の１つもしくは複数のシーケンスを含む。命令は、上述の方法を記述する。あるいはまた、本発明は、そのようなコンピュータプログラムを記憶保持するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気もしくは光学ディスク）の形式を取ってもよい。
【００４５】
上述の記載は例示を目的としており、それに限定されるものではない。したがって下記の請求の範囲から逸脱することなく記載された発明に変更を加えることができるということは、関連技術の当業者には明らかなことであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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