(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（Ｉ）
【化１】
0005113531.tif 000025
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ａは、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−６個の置換基である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ  （式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｙは、水素原子又はアミノ基を表す。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基及びＣ１−Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択される１〜３個の置換基である。）又はシアノ基を表し、
Ｘは、ｍが２又は３の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
ｍは、０乃至３の整数を表し、
ｎは、０又は１の整数を表し、
Ｑは、下記の一般式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）：
【化２】
0005113531.tif 000026
［式中、
Ｒ２及びＲ５は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）を表し、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜５個の置換基である。］を表す。］
で表される基を表す。］
で表される（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺ダニ剤。
【請求項２】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−７個のハロゲン原子、１個のＣ３−Ｃ６シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１−２個のハロゲン原子又は１個のシアノ基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である、請求項１記載の殺ダニ剤。
【請求項３】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−５個の弗素原子、１個の塩素原子、１個のＣ３−Ｃ４シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ５シクロアルキル基である、請求項１記載の殺ダニ剤。
【請求項４】
Ｒ１が、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペン−１−イル基又はシクロペンチル基である、請求項１記載の殺ダニ剤。
【請求項５】
Ｒ１が、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は２−プロペニル基である、請求項１記載の殺ダニ剤。
【請求項６】
Ｒ１が、プロピル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基である、請求項１記載の殺ダニ剤。
【請求項７】
Ａが、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１個のヒドロキシル基又は１−５個のハロゲン原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ４シクロアルキル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ（式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｙは、水素原子又はアミノ基である。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基及びＣ１−Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択される１〜２個の置換基である。）又はシアノ基である、請求項１乃至６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項８】
Ａが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、Ｃ２−Ｃ４アルキニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、アミノ（ヒドロキシイミノ）メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基である、請求項１乃至６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項９】
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、２−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基である、請求項１乃至６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１０】
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基である、請求項１乃至６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１１】
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、２−プロペニル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基である、請求項１乃至６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１２】
Ｘが、弗素原子又は塩素原子である、請求項１乃至１１のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１３】
Ｘが、弗素原子である、請求項１乃至１１のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１４】
ｍが、０乃至２の整数である、請求項１乃至１３のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１５】
ｍが、０又は１の整数である、請求項１乃至１３のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１６】
ｎが、０の整数である、請求項１乃至１５のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１７】
Ｑが、式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）で表される基である、請求項１乃至１６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１８】
Ｑが、式（Ｑ−１）で表される基である、請求項１乃至１６のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項１９】
Ｒ２及びＲ５が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。）である、請求項１乃至１８のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２０】
Ｒ２及びＲ５が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基である、請求項１乃至１８のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２１】
Ｒ２及びＲ５が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基である、請求項１乃至１８のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２２】
Ｒ２及びＲ５が、メチル基又はエチル基である、請求項１乃至１８のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２３】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ７が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基（当該置換基は、１−７個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基（当該置換基は、１−７個の弗素原子又は1個の塩素原子である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜３個の置換基である。］である、請求項１乃至２２のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２４】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ７が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される１−２個の置換基で置換されたフェニル基である、請求項１乃至２２のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２５】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ７が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は（トリフルオロメトキシ）フェニル基である、請求項１乃至２２のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２６】
Ｒ３及びＲ６が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、Ｒ４及びＲ７が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である、請求項１乃至２２のいずれか１項記載の殺ダニ剤。
【請求項２７】
一般式（Ｉ）で表される化合物が、
１−メチル−５−［４−メチル−３−（プロピルスルフィニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−クロロ−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−（プロピルチオ）ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
４−［１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール、
４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール
５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）スルフィニル]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−エチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
１−メチル−５−｛４−（２−プロぺニル）−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
４−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−シクロプロピル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
３−（ジフルオロメトキシ）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール、
３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール又は
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール
である、請求項１記載の殺ダニ剤。
【請求項２８】
下記の一般式（Ｉ）
【化３】
0005113531.tif 000027
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ａは、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−６個の置換基である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ  （式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｙは、水素原子又はアミノ基を表す。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基及びＣ１−Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択される１〜３個の置換基である。）又はシアノ基を表し、
Ｘは、ｍが２又は３の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
ｍは、０乃至３の整数を表し、
ｎは、０又は１の整数を表し、
Ｑは、下記の一般式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）：
【化４】
0005113531.tif 000028
［式（Ｑ−１）中、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）を表し、
Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜５個の置換基である。］を表す。］
で表される基を表し、
式（Ｑ−２）中、
Ｒ５は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）を表し、
Ｒ６は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）を表し、
Ｒ７は、水素原子を表す。］
で表される基を表す。］
で表される（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項２９】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−７個のハロゲン原子、１個のＣ３−Ｃ６シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１−２個のハロゲン原子又は１個のシアノ基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である、請求項２８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３０】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−５個の弗素原子、１個の塩素原子、１個のＣ３−Ｃ４シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ５シクロアルキル基である、請求項２８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３１】
Ｒ１が、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペン−１−イル基又はシクロペンチル基である、請求項２８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３２】
Ｒ１が、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は２−プロペニル基である、請求項２８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３３】
Ｒ１が、プロピル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基である、請求項２８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３４】
Ａが、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１個のヒドロキシル基又は１−５個のハロゲン原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ４シクロアルキル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ（式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｙは、水素原子又はアミノ基である。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基及びＣ１−Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択される１〜２個の置換基である。）又はシアノ基である、請求項２８乃至３３のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３５】
Ａが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、Ｃ２−Ｃ４アルキニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、アミノ（ヒドロキシイミノ）メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基である、請求項２８乃至３３のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３６】
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、２−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基である、請求項２８乃至３３のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３７】
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基である、請求項２８乃至３３のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３８】
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、２−プロペニル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基である、請求項２８乃至３３記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項３９】
Ｘが、弗素原子又は塩素原子である、請求項２８乃至３８のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４０】
Ｘが、弗素原子である、請求項２８乃至３８のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４１】
ｍが、０乃至２の整数である、請求項２８乃至４０のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４２】
ｍが、０又は１の整数である、請求項２８乃至４０のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４３】
ｎが、０の整数である、請求項２８乃至４２記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４４】
Ｑが、式（Ｑ−１）で表される基である、請求項２８乃至４３のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４５】
Ｒ２及びＲ５が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。）である、請求項２８乃至４４のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４６】
Ｒ２及びＲ５が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基である、請求項２８乃至４４記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４７】
Ｒ２及びＲ５が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基である、請求項２８乃至４４のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４８】
Ｒ２及びＲ５が、メチル基又はエチル基である、請求項２８乃至４４のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項４９】
Ｒ３及びＲ４が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基（当該置換基は、１−７個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基（当該置換基は、１−７個の弗素原子又は1個の塩素原子である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜３個の置換基である。］であり、Ｒ６が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）である、請求項２８乃至４８のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項５０】
Ｒ３及びＲ４が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される１−２個の置換基で置換されたフェニル基であり、Ｒ６が、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基である、請求項２８乃至４８のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項５１】
Ｒ３及びＲ４が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は（トリフルオロメトキシ）フェニル基であり、Ｒ６が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基である、請求項２８乃至４８のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項５２】
Ｒ３が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、Ｒ６が、メチル基であり、Ｒ４が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である、請求項２８乃至４８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項５３】
一般式（Ｉ）で表される化合物が、
１−メチル−５−［４−メチル−３−（プロピルスルフィニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−クロロ−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−（プロピルチオ）ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
４−［１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール、
４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール
５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）スルフィニル]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−エチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
１−メチル−５−｛４−（２−プロぺニル）−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
４−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
５−｛４−シクロプロピル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
３−（ジフルオロメトキシ）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール、
３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール又は
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール
である、請求項２８記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩。
【請求項５４】
請求項２８乃至５３のいずれか１項記載の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩、それらの製造中間体である置換フェニルピラゾール化合物或いは（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体として、例えば、ピラゾールの５位炭素よりフェニル基が置換された５−（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体は、除草剤の用途として記載されている（例えば、特許文献１及び２  参照）。しかしながら、対応するピラゾールの３位の置換基は酸素または硫黄原子が直接結合した置換基に限定されており、かつ除草剤以外の用途はまったく知られていない。【０００３】
また、ピラゾールの３位から結合した３−（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体が記載されている（例えば、特許文献３、４、５、６及び７  参照）。しかしながら、本願におけるピラゾールの１位の置換基はフェニル基等の芳香族に限られており、かつ、これらの特許は医薬用の用途のみ記載されており、農園芸用の有害生物防除剤としての用途は何ら記載されていない。【０００４】
また、ピラゾールの１位、即ち窒素原子からフェニル基が結合した１−（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体の殺虫剤としての用途が記載されているが（特許文献８  参照）、３位、４位、或いは５位、即ち炭素原子から置換した（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体は未記載である。
【特許文献１】：ＵＳ（米国特許）−５０３２１６５
【特許文献２】：ＥＰ（欧州公開）−１４６４２１１
【特許文献３】：ＵＳ（米国特許）−５４３４１７８
【特許文献４】：ＵＳ（米国特許）−５７５６５２９
【特許文献５】：ＵＳ（米国特許）−５７６００６８
【特許文献６】：ＵＳ（米国特許）−５４６６８２３
【特許文献７】：ＵＳ（米国特許）−５５２１２０７
【特許文献８】：ＷＯ（国際公開）−９９／５５６６８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、市販の殺虫殺ダニ剤の中には、残留、蓄積、環境汚染等の問題から使用が制限されるものがある。また、同じ殺虫殺ダニ剤を長期間使用することにより、抵抗性害虫の発生が問題となってきている。そのため、市販殺虫剤とは作用が異なると考えられる、新規な分子構造を有する殺虫殺ダニ剤の開発が望まれている。本発明は、以上のような技術背景の下になされたものであり、殺虫及び／又は殺ダニ活性を示す新規な化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、ピラゾール誘導体について鋭意研究を重ねた結果、（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体に、有害生物防除活性、特に、農園芸有害生物であるナミハダニ、ミカンハダニ等のダニ類に対し、極めて優れた殺ダニ活性を有することを見出し、本発明を完成した。【０００７】
本発明は、下記の一般式（Ｉ）【０００８】
0005113531.tif 000002
【０００９】
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ａは、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−６個の置換基である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ  （式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｙは、水素原子又はアミノ基を表す。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基及びＣ１−Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択される１〜３個の置換基である。）又はシアノ基を表し、
Ｘは、ｍが２又は３の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
ｍは、０乃至３の整数を表し、
ｎは、０又は１の整数を表し、
Ｑは、下記の一般式（Ｑ−１）、（Ｑ−２）又は（Ｑ−３）：【００１０】
0005113531.tif 000003
【００１１】
［式中、
Ｒ２、Ｒ５及びＲ８は、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）を表し、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜５個の置換基である。］を表す。］
で表される基を表す。］
で表される（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩である。
なお、ｍが０の場合、Ｘｍは、水素原子を表す。【００１２】
また、本発明は、一般式（Ｉ）で表される（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造中間体である、下記の一般式（ＩＩ）【００１３】
0005113531.tif 000004
【００１４】
［式中、Ａ、Ｘ、ｍ及びＱは、前記と同意義を表し、Ｘ１は、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基又は式  −Ｓ（Ｃ＝Ｚ）Ｒａ  （式中、Ｒａは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｚは、酸素原子又は硫黄原子を表す。）で表される基を表す。］
で表される置換フェニルピラゾール化合物である。【００１５】
さらに、本発明は、一般式（Ｉ）で表される（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物である。
また、明細書および添付の特許請求の範囲で用いられるように、単数形（英語における、「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」）は、他に、前後関係が、他を明確に指示していない限りは、複数形をも包含する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体又はその塩は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の広範囲の害虫、特に、農園芸有害生物であるナミハダニ、ミカンハダニ等のダニ類に対して、優れた防除効果を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳細に説明する。【００１８】
本発明において、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基」、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基」、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基」等の「Ｃ１−Ｃ６アルキル部分」は、炭素数が１乃至６個である直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルペンチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基又は１，１−ジメチルブチル基であり得、Ｒ１においては、好適には、炭素数が１乃至４個である直鎖又は分岐鎖アルキル基（Ｃ１−Ｃ4アルキル基）であり、より好適には、炭素数が２乃至４個である直鎖又は分岐鎖アルキル基（Ｃ２−Ｃ4アルキル基）であり、更により好適には、炭素数が２乃至３個である直鎖又は分岐鎖アルキル基（Ｃ２−Ｃ3アルキル基）であり、最も好適には、エチル基であり、その他においては、好適には、炭素数が１乃至４個である直鎖又は分岐鎖アルキル基（Ｃ１−Ｃ4アルキル基）であり、より好適には、炭素数が１乃至３個である直鎖又は分岐鎖アルキル基（Ｃ１−Ｃ3アルキル基）であり、更により好適には、メチル基又はエチル基である。
本発明において、「ハロゲン原子」は、例えば、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子、ヨウ素原子であり得、好適には、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子であり、Ａにおいては、より好適には、塩素原子又は臭素原子であり、その他においては、より好適には、フッ素原子又は塩素原子である。【００１９】
本発明において、「置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基」等の「Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル部分」は、炭素数が３乃至６個の環状アルキル基であり、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり得、好適には、炭素数が３乃至５個の環状アルキル基であり、より好適には、シクロプロピル基である。【００２０】
本発明において、「置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基」の「Ｃ２−Ｃ６アルケニル部分」は、炭素数が２乃至６個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基であり、例えば、エテニル基、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−ヘキセニル基又は２−ヘキセニル基であり得、好適には、炭素数が２乃至４個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基であり、より好適には、炭素数が３又は４個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基（Ｃ3−Ｃ4アルケニル基）であり、更により好適には、２−プロペニル基である。
本発明において、「置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基」等の「Ｃ２−Ｃ６アルキニル部分」は、炭素数が２乃至６個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、例えば、エチニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、１−ヘキシニル基又は２−ヘキシニル基であり得、好適には、炭素数が２乃至４個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、より好適には、炭素数が３又は４個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基（Ｃ3−Ｃ4アルキニル基）であり、更により好適には、２−プロピニル基である。
本発明において、「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基」の「５−６員環へテロアリール部分」は、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、より好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。【００２１】
本発明において、Ｒ１の「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、５−フルオロペンチル基、５−クロロペンチル基、６−フルオロへキシル基、６−クロロヘキシル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、２−シクロプロピルエチル基、２−シクロブチルエチル基、２−シクロペンチルエチル基、２−シクロヘキシルエチル基、３−シクロプロピルプロピル基、３−シクロブチルプロピル基、４−シクロプロピルブチル基、４−シクロブチルブチル基、５−シクロプロピルペンチル基、５−シクロブチルペンチル基、６−シクロプロピルへキシル基、６−シクロブチルヘキシル基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基、５−シアノペンチル基又は６−シアノ基であり得、好適には、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、１−７個のハロゲン原子、１個のＣ３−Ｃ６シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）」であり、より好適には、前記「Ｃ１−Ｃ４アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、２−シクロプロピルエチル基、２−シクロブチルエチル基、シアノメチル基又は２−シアノエチル基であり、更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、２−シクロプロピルエチル基、２−シクロブチルエチル基、シアノメチル基又は２−シアノエチル基であり、特に好適は、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基又はシアノメチル基であり、最も好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基又はシクロプロピルメチル基である。【００２２】
本発明において、Ｒ１の「置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ２−Ｃ６アルケニル基」、２−フルオロエテニル基、２−クロロエテニル基、２−ブロモエテニル基、３−フルオロ−２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル基、２−シアノエテニル基又は３−シアノ−２−プロペニル基であり得、好適には、前記「Ｃ２−Ｃ４アルケニル基」、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、２−シアノエテニル基又は３−シアノ−２−プロペニル基であり、最も好適には、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基又は２−プロペニル基である。【００２３】
本発明において、Ａの「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、５−フルオロペンチル基、５−クロロペンチル基、６−フルオロへキシル基、６−クロロヘキシル基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシロエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペンチル基又は６−ヒドロキシへキシル基であり得、好適には、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は１−７個のハロゲン原子である。）」であり、より好適には、前記「Ｃ１−Ｃ３アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシエチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基又はジフルオロメチル基である。【００２４】
本発明において、Ａの「置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ２−Ｃ６アルケニル基」、２−フルオロエテニル基、２−クロロエテニル基、２−ブロモエテニル基、３−フルオロ−２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基又は２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル基であり得、好適には、前記「Ｃ２−Ｃ４アルケニル基」、２−クロロ−２−プロペニル又は３−クロロ−２−プロペニル基であり、より好適には、エテニル基、２−プロペニル基又は２−ブテニル基であり、最も好適には、２−プロペニル基である。
本発明において、Ａの「置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ２−Ｃ６アルキニル基」、２−フルオロエチニル基、２−クロロエチニル基、２−ブロモエチニル基、３−フルオロ−２−プロピニル基又は３−クロロ−２−プロピニル基であり得、好適には、前記「Ｃ２−Ｃ４アルキニル基」であり、より好適には、エチニル基である。
本発明において、Ａの「置換されていてもよいＣ３−Ｃ６シクロアルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−６個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、ブロモシクロプロピル基、ジブロモシクロプロピル基、ヨードシクロプロピル基、フルオロシクロブチル基、クロロシクロブチル基、ブロモシクロブチル基、フルオロシクロペンチル基、ジフルオロシクロペンチル基、クロロシクロペンチル基、ジクロロシクロペンチル基、ブロモシクロペンチル基、ジブロモシクロペンチル基、ヨードシクロペンチル基、フルオロシクロへキシル基、ジフルオロシクロへキシル基、クロロシクロへキシル基、ジクロロシクロへキシル基、ブロモシクロへキシル基、ジブロモシクロへキシル基又はヨードシクロへキシル基であり得、好適には、前記「Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基又はジクロロシクロプロピル基であり、より好適には、シクロプロピル基又はシクロブチル基である。
本発明において、Ａの「式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ  （式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｙは、水素原子又はアミノ基を表す。）で表される基」は、好適には、Ｒが水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基である基であり、より好適には、Ｒが、水素原子、メチル基又はエチル基である基であり、最も好適には、Ｒが水素原子又はメチル基であり、Ｙが、水素原子である基である。
本発明において、Ａの「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基及びＣ１−Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択される１〜３個の置換基である。）」は、例えば、前記「５−６員環へテロアリール基」、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、メチルピロリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、エチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、メチルチアゾリル基、エチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、エチルオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、エチルジヒドロオキサジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、エチルチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、チエニル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、オキサゾリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、イソオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、チアゾリル基、メチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、イソチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、イミダゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、ピラゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、オキサジアゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、トリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、ピリジル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、ピラジニル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、ピリミジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、ピリダジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり、より好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、特に好適には、イソキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。
本発明において、Ｒ２、Ｒ４等の「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、ノナフルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、５−クロロペンチル基、６−フルオロへキシル基又は６−クロロヘキシル基であり得、好適には、前記「Ｃ１−Ｃ４アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、Ｒ２、Ｒ５及びＲ８については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基又はエチル基であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基であり、最も好適には、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基である。
本発明において、Ｒ４等の「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基」、フルオロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、２−フルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、２−ブロモエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、３−フルオロプロポキシ、３−クロロプロポキシ、２，３，３−トリフルオロプロポキシ、３，３，３−トリフルオロプロポキシ、２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、４−フルオロブトキシ、４−クロロブトキシ、５−フルオロペンチオキシ、５−クロロペンチオキシ、６−フルオロへキシルオキシ又は６−クロロヘキシルオキシ基であり得、好適には、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルコキシ基（当該置換基は、１−７個のフッ素原子又は１個のハロゲン原子である。）」であり、より好適には、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基であり、最も好適には、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基である。
本発明において、Ｒ４等の「置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）」は、例えば、前記「Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基」、フルオロメチルチオ、クロロメチルチオ、ブロモメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、２−フルオロエチルチオ、２−クロロエチルチオ、２−ブロモエチルチオ、２，２，２−トリフルオロエチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、３−フルオロプロピルチオ、３−クロロプロピルチオ、２，３，３−トリフルオロプロピルチオ、３，３，３−トリフルオロプロピルチオ、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルチオ、ヘプタフルオロプロピルチオ、４−フルオロブチルチオ、４−クロロブチルチオ、５−フルオロペンチルチオ、５−クロロペンチルチオ、６−フルオロへキシルチオ又は６−クロロヘキシルチオ基であり得、好適には、「置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキルチオ基（当該置換基は、１−７個のフッ素原子又は１個の塩素原子である。）」であり、より好適には、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基又はペンタフルオロエチルチオ基であり、最も好適には、ジフルオロメチルチオ基又は２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である。
本発明において、Ｒ４等の「置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−９個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜５個の置換基である。］」は、例えば、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、フルオロクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、フルオロ(メチル)フェニル基、クロロ(メチル)フェニル基、ブロモ(メチル)フェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、フルオロ(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、（ジフルオロメトキシ）フェニル基、（トリフルオロメトキシ）フェニル基、エトキシフェニル基、（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニル基、フロポキシフェニル基又は（３，３，３−トリフルオロプロポキシ）フェニル基であり得、好適には、「置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）から選択される１〜３個の置換基である。］であり、より好適には、「置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基（当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる１−３個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ２アルコキシ基（当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる１−３個の置換基である。）からなる群から選択される１〜３個の置換基である。］」であり、更により好適には、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、（ジフルオロメトキシ）フェニル基、（トリフルオロメトキシ）フェニル基又は（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニル基であり、最も好適には、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は（トリフルオロメトキシ）フェニル基である。【００２５】
本発明の化合物（Ｉ）は、酸性物質又は塩基性物質とともに塩を形成してもよく、例えば、分子中に解離性のプロトンがある場合には、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩にすることができ、又、酸性物質との塩としては、例えば、硫酸塩、塩酸塩、硝酸塩、リン酸塩のような塩にすることができる。それらの塩は、殺虫組成物などの農薬組成物として使用できるかぎり、本発明に包含される。【００２６】
本発明において、「アルカリ金属塩」は、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩であり得、好適には、ナトリウム塩又はカリウム塩である。【００２７】
本発明において、「アルカリ土類金属塩」は、例えば、カルシウム塩又はマグネシウム塩であり得、好適には、カルシウム塩である。【００２８】
本発明化合物の水和物も、本発明に包含されるものである。【００２９】
本発明の一般式（Ｉ）において、
Ｒ１は、（１ａ）好適には、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−７個のハロゲン原子、１個のＣ３−Ｃ６シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１−２個のハロゲン原子又は１個のシアノ基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基であり、
（１ｂ）より好適には、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−５個の弗素原子、１個の塩素原子、１個のＣ３−Ｃ４シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ５シクロアルキル基であり、
（１ｃ）更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペン−１−イル基又はシクロペンチル基であり、
（１ｄ）特に好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は２−プロペニル基であり、
（１ｅ）最も好適には、プロピル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
Ａは、（２ａ）好適には、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１個のヒドロキシル基又は１−５個のハロゲン原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ４シクロアルキル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ（式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｙは、水素原子又はアミノ基である。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基及びＣ１−Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択される１〜２個の置換基である。）又はシアノ基であり、
（２ｂ）より好適には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、Ｃ２−Ｃ４アルキニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、アミノ（ヒドロキシイミノ）メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
（２ｃ）更により好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、２−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
（２ｄ）特に好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
（２ｅ）最も好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、２−プロペニル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Ｘは、（３ａ）好適には、弗素原子又は塩素原子であり、
（３ｂ）より好適には、弗素原子であり、
ｍは、（４ａ）好適には、０乃至２の整数であり、
（４ｂ）より好適には、０又は１の整数であり、
ｎは、（５ａ）好適には、０の整数であり、
Ｑは、（６ａ）好適には、式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）で表される基であり、
（６ｂ）より好適には、式（Ｑ−１）で表される基であり
Ｒ２、Ｒ５及びＲ８は、（７ａ）好適には、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。）であり、
（７ｂ）より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
（７ｃ）更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
（７ｄ）最も好適には、メチル基又はエチル基であり
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０は、（８ａ）好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基（当該置換基は、１−７個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基（当該置換基は、１−７個の弗素原子又は1個の塩素原子である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜３個の置換基である。］であり、
（８ｂ）より好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される１−２個の置換基で置換されたフェニル基であり、
（８ｃ）更により好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は（トリフルオロメトキシ）フェニル基であり、
（８ｄ）最も好適には、Ｒ３、Ｒ６及びＲ９は、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、Ｒ４、Ｒ７及びＲ１０は、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である。
また、Ｒ１を（１ａ）−（１ｅ）から選択し、Ａを（２ａ）−（２ｅ）から選択し、Ｘを（３ａ）−（３ｂ）から選択し、ｍを（４ａ）−（４ｂ）から選択し、ｎを（５ａ）から選択し、Ｒ２等を（７ａ）−（７ｄ）から選択し、Ｒ３等を（８ａ）−（８ｄ）から選択し、これらを組み合わせて得られる化合物も好適であり、例えば、以下のものを挙げることができる。
（１Ａ）Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−７個のハロゲン原子、１個のＣ３−Ｃ６シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１−２個のハロゲン原子又は１個のシアノ基である。）又はＣ３−Ｃ６シクロアルキル基であり、
Ａが、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１個のヒドロキシル基又は１−５個のハロゲン原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルケニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキニル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ３−Ｃ４シクロアルキル基（当該置換基は、１個の弗素原子又は塩素原子である。）、式  −Ｃ（Ｙ）＝ＮＯＲ（式中、Ｒは、水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｙは、水素原子又はアミノ基である。）で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１−３個のヘテロ原子を含有する５−６員環へテロアリール基（当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基及びＣ１−Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択される１〜２個の置換基である。）又はシアノ基であり、
Ｘが、弗素原子又は塩素原子であり、
ｍが、０乃至２の整数であり、
ｎが、０又は１の整数であり、
Ｑが、式（Ｑ−１）、（Ｑ−２）又は（Ｑ−３）で表される基であり、
Ｒ２、Ｒ５及びＲ８が、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。）であり、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−９個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基（当該置換基は、１−７個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。）、置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基（当該置換基は、１−７個の弗素原子又は1個の塩素原子である。）又は置換されていてもよいフェニル基［当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）及び置換されていてもよいＣ１−Ｃ３アルコキシ基（当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される１−７個の置換基である。）からなる群から選択される１〜３個の置換基である。］である化合物、
（１Ｂ）Ｒ１が、置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキル基（当該置換基は、１−５個の弗素原子、１個の塩素原子、１個のＣ３−Ｃ４シクロアルキル基又は１個のシアノ基である。）、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基又はＣ５−Ｃ６シクロアルキル基であり、
Ａが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、Ｃ２−Ｃ４アルケニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、Ｃ２−Ｃ４アルキニル基、３−クロロ−２−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、アミノ（ヒドロキシイミノ）メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
Ｘが、弗素原子又は塩素原子であり、
ｍが、０乃至２の整数であり、
ｎが、０又は１の整数であり、
Ｑが、式（Ｑ−１）、（Ｑ−２）又は（Ｑ−３）で表される基であり、
Ｒ２、Ｒ５及びＲ８が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される１−２個の置換基で置換されたフェニル基である化合物、
（１Ｃ）Ｒ１が、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペン−１−イル基又はシクロペンチル基であり、
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、２−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、（エトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
Ｘが、弗素原子又は塩素原子であり、
ｍが、０乃至２の整数であり、
ｎが、０又は１の整数であり、
Ｑが、式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）で表される基であり、
Ｒ２、Ｒ５及びＲ８が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は（トリフルオロメトキシ）フェニル基である化合物、
（１Ｄ）Ｒ１が、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は２−プロペニル基であり、
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、（メトキシイミノ）メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
Ｘが、弗素原子又は塩素原子であり、
ｍが、０又は１の整数であり、
ｎが、０又は１の整数であり、
Ｑが、式（Ｑ−１）で表される基であり、
Ｒ２が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
Ｒ３及びＲ４が、同一又は異なって、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は（トリフルオロメトキシ）フェニル基である化合物 又は
（１Ｅ）Ｒ１が、プロピル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基であり、
Ａが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、２−プロペニル基、（ヒドロキシイミノ）メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Ｘが、弗素原子であり、
ｍが、０又は１の整数であり、
ｎが、０又は１の整数であり、
Ｑが、式（Ｑ−１）で表される基であり、
Ｒ２は、メチル基又はエチル基であり、
Ｒ３が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、Ｒ４が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である化合物。
また、Ｘ１は、好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式  −Ｓ（Ｃ＝Ｏ）Ｒａ（式中、Ｒａは、Ｃ１−Ｃ２アルキル基である。）で表される基、式  −Ｓ（Ｃ＝Ｓ）Ｒａ（式中、Ｒａは、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ基である。）で表される基又はクロロスルホニル基であり、より好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式  −Ｓ（Ｃ＝Ｓ）Ｒａ（式中、Ｒａは、Ｃ１−Ｃ２アルコキシ基である。）で表される基又はクロロスルホニル基であり、更により好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基又はメルカプト基子である。
他方、本発明の一般式（Ｉ）において、
Ｒ１は、好適には、１乃至７個のハロゲンで置換されてもよいＣ２−Ｃ４のアルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基で置換されたＣ１−Ｃ２アルキル基又はＣ３−Ｃ４アルケニル基であり、より好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，３，３−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、２−プロペニル基又は２−メチル−２−プロペニル基であり、更により好適には、プロピル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は２−プロペニル基である。【００３０】
Ａは、好適には、Ｃ１−Ｃ２アルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、より好適には、メチル基、エチル基、塩素原子又はシアノ基であり、更により好適には、メチル基又はシアノ基である。【００３１】
Ｘは、好適には、塩素原子又は弗素原子であり、より好適には、弗素原子である。【００３２】
ｍは、好適には、０乃至２であり、より好適には、０又は１である。【００３３】
ｎは、好適には、０である。【００３４】
Ｑは、好適には、式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）で表される基であり、より好適には、式（Ｑ−１）で表される基である。【００３５】
Ｒ２、Ｒ５及びＲ８は、好適には、メチル基、エチル基またはＣ１−Ｃ２ハロ（特に、弗素原子又は塩素原子で置換された）アルキル基であり、より好適は、メチル基又はエチル基である。【００３６】
Ｒ３は、好適には、水素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基又はＣ１−Ｃ２ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子又はメチル基である。【００３７】
Ｒ４は、好適には、Ｃ１−Ｃ３アルキル基又はＣ１−Ｃ３ハロ（特に、弗素原子又は塩素原子で置換された）アルキル基であり、より好適には、Ｃ１−Ｃ２アルキル基又は弗素原子で置換されたＣ１−Ｃ２アルキル基であり、更により好適には、トリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基である。【００３８】
Ｒ６は、好適には、水素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基又はＣ１−Ｃ２ハロアルキル基であり、より好適には、トリフルオロメチル基である。【００３９】
Ｒ７は、好適には、水素原子、Ｃ１−Ｃ２アルキル基又はＣ１−Ｃ２ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子である。【００４０】
Ｒ９およびＲ１０は、水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ２ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子である。【００４１】
好ましい化合物群は、例えば、
Ｑが、式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）で表される基であり、
Ｒ１が、ハロゲンで置換されたＣ２−Ｃ４アルキル基又はＣ３−Ｃ４シクロアルキルメチル基であり、
Ａが、メチル基、塩素原子又はシアノ基であり、
Ｘが、水素原子であり、
ｎが、０又は１である化合物群であり、
より好ましい化合物群は、例えば、
Ｑが、式（Ｑ−１）で表される基であり、
Ａが、塩素原子、メチル基又はシアノ基であり、
Ｒ１が、プロピル基、２，２，２−トリフルオロエチル基又はシクロプロピルメチル基であり、
ｎが、０又は１である化合物群である。【００４２】
本発明の代表的化合物を下記の表に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。【００４３】
以下、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「ｎＰｒ」はノルマルプロピル基を、「ｃＰｒ」はシクロプロピル基を、「ｎＢｕ」はノルマルブチル基を、「ｔＢｕ」はｔｅｒｔ−ブチル基を、「ｃＢｕ」はシクロブチル基を、「Ｐｈ」は、フェニル基を、「4,5-DH-1,2,4-OXZ-3」は、４，５−ジヒドロ−１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基を、「1,2,4-OXZ-3」は、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基を、「1,3-TH-2」は、１，３−チアゾール−２−イル基をそれぞれ示す。【００４４】
0005113531.tif 000005
0005113531.tif 000006
0005113531.tif 000007
0005113531.tif 000008
【００４５】
0005113531.tif 000009
【００４６】
0005113531.tif 000010
【００４７】
0005113531.tif 000011
【００４８】
0005113531.tif 000012
【００４９】
0005113531.tif 000013
【００５０】
上記の例示化合物中、好適な化合物は、
化合物番号１−４：１−メチル−５−［４−メチル−３−（プロピルスルフィニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−１５：１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−１６：１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−３５：５−｛４−クロロ−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−４３：４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−（プロピルチオ）ベンゾニトリル、
化合物番号１−５５：４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
化合物番号１−５６：４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
化合物番号１−６１：４−［１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
化合物番号１−６５：４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
化合物番号１−６６：４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
化合物番号１−６７：１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール
化合物番号１−６８：１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−６９：４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル、
化合物番号１−７０：４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル、
化合物番号１−７２：３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−８６：５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール
化合物番号１−８７：５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）スルフィニル]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−９０：５−｛４−エチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−９１：１−メチル−５−｛４−（２−プロぺニル）−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−９３：４−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−９７：５−｛４−シクロプロピル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−９９：３−（ジフルオロメトキシ）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール、
化合物番号１−１００：３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール又は
化合物番号１−１０９：１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール
である。【００５１】
本発明の（３−硫黄原子置換）ピラゾール誘導体（Ｉ）は、以下に記載する工程Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＥよって製造することができる。【００５２】
（工程Ａ）
工程Ａは、工程Ａ−１ａ、Ａ−１ｂ、Ａ−２ａ、Ａ−２ｂ及びＡ−３からなり、ｎが０である本発明の化合物（Ｉａ）及びｎが１である本発明の化合物（Ｉｂ）を製造する工程である。【００５３】
0005113531.tif 000014
【００５４】
上記式中、Ｒ１、Ａ、Ｘ、ｍ及びＱは、前記と同意義を表し、
Ｙ１は、ハロゲン原子を表し、
Ｙ２は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Ｒ１４は、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基（当該置換基は、隣り合う２個の、Ｒ１４で、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ（ＣＨ３）２−又は―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−を形成してもよい）を表す。【００５５】
また、Ｙ２が、臭素原子又は沃素原子の場合、Ｘは、好適には、弗素原子又は塩素原子を表す。【００５６】
工程Ａ−１ａは、塩基及び溶媒存在下、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を、一般式（Ｖ）で表される化合物と反応させ、一般式（ＩＶ）で表される化合物を製造する工程である。【００５７】
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド及びリチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属アルコキシド類であり、より好適には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は水素化ナトリウムである。【００５８】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類、ニトリル類又はアミド類であり、より好適には、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。【００５９】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＩＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【００６０】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１００℃である。【００６１】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、６分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間であり、より好適には、１５分間〜１０時間である。【００６２】
本工程に使用される化合物（ＩＩＩ）は、市販品であるか、既知の方法（例えば、J. Heterocycl. Chem., 1991, 28, 1357-1364等に記載の方法）に従って製造される。【００６３】
本工程に使用される化合物（Ｖ）は、市販品として入手可能である。【００６４】
工程Ａ−２ａは、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＩＶ）を、一般式（ＶＩ）で表される化合物と反応させ、本発明の化合物（Ｉ）において、ｎが０である化合物（Ｉａ）を製造する工程である。【００６５】
使用される遷移金属触媒は、例えば、パラジウムカーボン、酢酸パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム又はトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムであり、より好適には、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムである。【００６６】
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；又は炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類又はアルカリ金属重炭酸塩類であり、より好適には、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムである。【００６７】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；又はベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、芳香族炭化水素類及び水の混合溶媒又はエーテル類であり、より好適には、エタノール、トルエン及び水の混合溶媒又はジメトキシエタンである。【００６８】
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物（ＩＶ）１molに対し、通常、０．０１〜１．０molであり、好適には、０．０５〜０．１molである。【００６９】
用いられる塩基の量は、化合物（ＩＶ）１molに対し、通常、１．０〜１０molであり、好適には、１．０〜５molである。【００７０】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＩＶ）１molに対し、通常、０．１〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【００７１】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１２０℃である。【００７２】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜４８時間であり、好適には、３０分間〜２４時間である。【００７３】
本工程に使用される化合物（ＶＩ）は、市販品であるか、既知の方法（例えば、EP 1108720; 2001、WO 200512254; 2005、J. Heterocycl. Chem., 2004, 41, 931-940等に記載の方法）に従って製造される。【００７４】
工程Ａ−１bは、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＩＩＩ）を、化合物（ＶＩ）と反応させ、一般式（ＩＩＩａ）で表される化合物を製造する工程である。【００７５】
本工程は、前記工程Ａ−２ａと同様に行われる。【００７６】
工程Ａ−２ｂは、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＩＩＩａ）を、化合物（Ｖ）と反応させ，本発明の化合物（Ｉ）において、ｎが０である化合物（Ｉａ）を製造する工程である。【００７７】
本工程は、前記工程Ａ−１ａと同様に行われる。
また、化合物（Ｉａ）において、Ａが、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基である化合物（Ｉａ−１）は、Ａがハロゲン原子（好適には、臭素原子）である化合物を、式  Ｍ１−Ｒｂ（式中、Ｍ１は、後記と同意義を表し、Ｒｂは、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基を表す。）で表される化合物と、後記工程Ｂの工程Ｂ−１と同様に反応させることにより、製造される。
さらに、化合物（Ｉａ）において、Ａが、１−ヒドロキシ−１−エチル基である化合物（Ｉａ−２）は、Ａがハロゲン原子（好適には、臭素原子）である化合物を、式  Ｍ１−Ｃ（ＯＲ１１）＝ＣＨ２（式中、Ｍ１及びＲ１１は、後記と同意義を表す。）で表される化合物と、後記工程Ｂの工程Ｂ−１と同様に反応させ、得られる化合物を酸処理した後、還元剤（例えば、水素化ホウ素ナトリウム等）と、メタノール中、室温で、1時間反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物（Ｉａ）において、Ａが、ジフロロメチル基である化合物（Ｉａ−３）及び、Ａが、式  −ＣＨ＝ＮＯＲ（式中、Ｒは前記と同意義を表す。）で表される基である化合物（Ｉａ−４）は、式
0005113531.tif 000015
で表されるベンズアルデヒド体を、工程Ａ−1ａ及びＡ−２ａと同様に反応させることにより、製造される化合物を、それぞれ、塩化メチレン中、デオキソフローと、室温で、１５時間反応させさせること及び後記工程Ｄの工程Ｄ−１と同様に反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物（Ｉａ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及び／又はＲ１０が、置換されていてもよいフェニル基である化合物（Ｉａ−５）は、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９及び／又はＲ１０が、ハロゲン原子（好適には、臭素原子）である相当する化合物を、式 Ｒｃ−Ｂ（ＯＲ１４）２（式中、Ｒ１４は、上記と同意義を表し、Ｒｃは、前記の置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表されるボロン化合物と、前記工程Ａ−１ｂと同様に反応させることにより、製造される。【００７８】
工程Ａ−３は、溶媒存在下、化合物（Ｉａ）を酸化剤と反応させ、本発明の化合物（Ｉ）において、ｎが１である化合物（Ｉｂ）を製造する工程である。【００７９】
使用される酸化剤は、例えば、過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン（OXONE,E.I.DuPont社商品名：ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物）又はジ亜塩素酸ナトリウムであり得、好適には、ｍ−クロロ過安息香酸又は過酸化水素であり、より好適には、ｍ−クロロ過安息香酸である。ここで、場合により、触媒（例えば、タングステン酸ナトリウム）を添加してもよい。【００８０】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、塩化メチレンである。【００８１】
用いられる酸化剤の量は、化合物（Ｉａ）１molに対し、通常、０．７〜２．０molであり、好適には、０．９〜１．２molである。【００８２】
用いられる触媒の量は、化合物（Ｉａ）１molに対し、通常、０．０１〜１．０molであり、好適には、０．２molである。【００８３】
用いられる溶媒の量は、化合物（Ｉａ）１molに対し、通常、０．１〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【００８４】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１００℃である。【００８５】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、６分間〜４８時間であり、好適には、３０分間〜２４時間である。【００８６】
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。【００８７】
（工程Ｂ）
工程Ｂは、工程Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−３及びＢ−４からなり、本発明の化合物（Ｉ）において、Ｑが、後述する、式  Ｑａ  基である化合物（Ｉｃ）及び一般式（ＶＩＩＩａ）で表される化合物［又はその互変異性体（ＶＩＩＩｂ）］を製造する工程である。【００８８】
0005113531.tif 000016
【００８９】
上記式中、Ｒ１、Ａ、Ｘ、ｍ、Ｒ２及びＹ２は、前記と同意義を表し、
Ｒ１２は、ハロゲン原子を除くＲ３と同意義を表し、
Ｒ４ａは、ハロゲン原子を除くＲ４と同意義を表し、
Ｑａは、式（Ｑａ−１）又は（Ｑａ−２）【００９０】
0005113531.tif 000017
【００９１】
（式中、Ｒ２及びＲ４ａは、前記と同意義を表し、Ｒ３ａは、Ｒ１２と同意義を表し、Ｒ５、Ｒ６ａ及びＲ７ａは、それぞれ、Ｒ２、Ｒ３ａ及びＲ４ａと同意義を表す。）
で表される基を表し、
Ｒ１１は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｍ１は、トリ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）スズを表す。【００９２】
工程Ｂ−１は、遷移金属触媒及び溶媒存在下、化合物（ＩＶ）を、一般式（ＩＸ）で表される化合物と反応させ、一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造する工程である。【００９３】
使用される遷移金属触媒は、例えば、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムである。【００９４】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。【００９５】
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物（IＶ）１molに対し、通常、０．０１〜１．０molであり、好適には、０．０５〜０．１molである。【００９６】
用いられる溶媒の量は、化合物（IＶ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【００９７】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１４０℃である。【００９８】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜４８時間であり、好適には、２０分間〜２４時間であり、より好適には、３０分間〜１０時間である。【００９９】
本工程に使用される化合物（ＩＸ）は、市販品であるか、既知の方法（例えば、US 5179088; 1993に記載の方法）に従って製造される。【０１００】
工程Ｂ−２は、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＶＩＩ）を、一般式（Ｘａ）で表される化合物又は一般式（Ｘｂ）で表される化合物と反応させ、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を製造する工程である。【０１０１】
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；又はトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、ピリジンである。【０１０２】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類  、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。【０１０３】
用いられる塩基の量は、化合物（ＶＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜５．０molであり、好適には、１．０〜２.０molである。【０１０４】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＶＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【０１０５】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１００℃である。【０１０６】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜４８時間であり、好適には、３０分間〜２４時間である。【０１０７】
本工程に使用される化合物（Ｘａ）は、市販品であるか、既知の方法（例えば、Synthesis,1989,832-835等に記載の方法）に従って製造される。【０１０８】
本工程に使用される化合物（Ｘｂ）は、市販品として入手可能である。【０１０９】
工程Ｂ−３は、溶媒存在下、化合物（ＶＩＩＩ）を、一般式（ＸＩ）で表される化合物と反応させ、本発明の化合物（Ｉ）において、Ｑが、式  Ｑａ  基である化合物（Ｉｃ）を製造する工程である。【０１１０】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水、カルボン酸類、アルコール類又は芳香族炭化水素類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水、酢酸、メタノール、エタノール又はトルエン或はこれらの混合溶媒である。【０１１１】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＶＩＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【０１１２】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、５０〜１５０℃である。【０１１３】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜４８時間であり、好適には、２０分間〜２４時間であり、より好適には、１時間〜１０時間である。【０１１４】
本工程に使用される化合物（ＸＩ）は、市販品として入手可能である。
工程Ｂ−４は、溶媒存在下、化合物（ＶＩＩＩ）を酸と反応させ、一般式（ＶＩＩＩａ）で表される化合物［又はその互変異性体（ＶＩＩＩｂ）］を製造する工程である。化合物（ＶＩＩＩａ）［又はその互変異性体（ＶＩＩＩｂ）］は、化合物（ＸＩ）と、工程Ｂ−３と同様に反応させ、化合物（Ｉｃ）に導くことができる。
使用される酸は、通常ｐＨ３以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸であり得、好適には、塩酸である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、メタノール、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。
用いられる酸の量は、化合物（ＶＩＩＩ）１ｍｏｌに対し、通常、０．１〜５．０ｍｏｌであり、好適には、０．１〜２.０ｍｏｌである。
用いられる溶媒の量は、化合物（ＶＩＩＩ）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、０℃から溶媒の沸点温度であり、好適には、２０〜８０℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。【０１１５】
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。【０１１６】
（工程Ｃ）
工程Ｃは、工程Ｃ−１〜Ｃ−８からなり、本発明の化合物（Ｉ）において、ｎが０である化合物（Ｉａ）を別途に製造する工程である。【０１１７】
0005113531.tif 000018
0005113531.tif 000019
【０１１８】
上記式中、Ｒ１、Ａ、Ｑ、Ｘ、ｍ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１４及びＹ２は、前記と同意義を表し、
Ｑｂは、前記式（Ｑ−１）又は（Ｑ−２）（なお、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４に対応する。）で表される基を示し、
Ｙ３は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Ｙ４は、ハロゲン原子を表し、
Ｒ１３は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｍ２は、アルカリ金属（好適には、ナトリウム又はカリウム）を表す。【０１１９】
工程Ｃ−１は、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を、化合物（ＶＩ）と反応させ、本発明の製造中間体（ＩＩ）において、Ｘ１が水素原子又はフッ素原子である化合物を含む、一般式（ＩＩａ）で表される化合物を製造する工程である。【０１２０】
本工程は、前記Ａ工程の工程Ａ−２ａと同様に行われる。【０１２１】
本工程に使用される化合物（ＸＩＩ）は、市販品として入手可能である。
また、化合物（ＩＩａ）において、Ｑが、式
0005113531.tif 000020
【０１２２】
（式中、Ｒ２及びＲ３は、前記と同意義を表し、Ｒ４ｂは、前記の置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表す。）で表される基である化合物（ＩＩａ−１）は、後記工程Ｅの工程Ｅ−１で得られる化合物（ＸＸＩＩ）を、後述する化合物（ＸＸＩＩＩ）と、後記工程Ｅの工程Ｅ−３ｂと同様に反応させることによっても製造される。【０１２３】
工程Ｃ−２は、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物を、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物と反応させ、本発明の製造中間体（ＩＩ）において、Ｘ１が水素原子又はフッ素原子である化合物を含む、化合物（ＩＩａ）を別途に製造する工程である。【０１２４】
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；リン酸ナトリウム及びリン酸カリウムのようなアルカリ金属リン酸化物；炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類又はアルカリ金属リン酸塩類であり、より好適には、炭酸ナトリウム又はリン酸カリウムである。【０１２５】
使用される遷移金属触媒は、例えば、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムである。【０１２６】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類又はアミド類であり、より好適には、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。【０１２７】
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物（ＸＩＩＩ）１molに対し、通常、０．０１〜１．０molであり、好適には、０．０５〜０．１molである。【０１２８】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＸＩＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【０１２９】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１４０℃である。【０１３０】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜４８時間であり、好適には、１時間〜２４時間である。【０１３１】
本工程に使用される化合物（ＸＩＶ）は、既知の方法（例えば、J. Med. Chem., 2002, 45, 2994-3008、Eur. J. Org. Chem., 2002, 2913-2920等に記載の方法）に従って製造される。【０１３２】
本工程に使用される化合物（ＸＩＩＩ）は、市販品として入手可能である。【０１３３】
工程Ｃ−３は、溶媒存在下、一般式（ＸＶ）で表される化合物を、化合物（ＸＩ）と反応させ、本発明の製造中間体（ＩＩ）において、Ｘ１が水素原子又はフッ素原子であり、Ｑが、式  Ｑｂ  基である化合物を含む、一般式（ＩＩｂ）で表される化合物を製造する工程である。【０１３４】
本工程は、前記Ｂ工程の工程Ｂ−３と同様に行われる。【０１３５】
本工程に使用される化合物（ＸＶ）は、既知の方法（例えば、J. Org.Chem., 1990, 55, 1959-1964等に記載の方法）に従って製造される。【０１３６】
工程Ｃ−４は、工程Ｃ−１等により製造される化合物（ＩＩａ）をニトロ化し、本発明の製造中間体（ＩＩ）において、Ｘ１がニトロ基である、一般式（ＩＩｃ）で表される化合物を製造する工程である。【０１３７】
本工程は、例えば、濃硫酸−濃硝酸の混酸を用いる方法、硝酸カリウムを用いる方法又は硝酸第二銅−酢酸（・無水酢酸）を用いる方法のような、通常の芳香環をニトロ化する常法に従って行うことができる。【０１３８】
本工程は、溶媒の存在下又は非存在下（好適には、溶媒の非存在下）で行われる。【０１３９】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類又はジクロロメタン、クロロホルム及び１，２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、酢酸又はクロロホルムである。【０１４０】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−９０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、−５０〜８０℃である。【０１４１】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜２４時間であり、好適には、３０分間〜６時間である。
また、化合物（ＩＩｃ）において、Ｑが式
0005113531.tif 000021
［式中、Ｒ２及びＲ４は、前記と同意義を表し、Ｒ３ｂは、ハロゲン原子（好適には、塩素原子又は臭素原子）を表す。］
で表される基である化合物（ＩＩｃ−１）は、Ｒ３ｂが水素原子である相当する化合物を、ハロゲン化剤（例えば、Ｎ−ハロコハク酸イミド等）と反応させて、製造することもできる。
さらに、化合物（ＩＩｃ）において、Ａが、トリメチルシリルエチニル基である（ＩＩｃ−２）は、Ａがハロゲン原子（好適には、臭素原子）である相当する化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させることにより製造され、この化合物を、工程Ｃ−５〜Ｃ−８と同様に反応させることにより、化合物（Ｉａ）において、Ａがエチニル基である化合物が製造される。【０１４２】
工程Ｃ−５は、化合物（ＩＩｃ）のニトロ基を還元し、本発明の製造中間体（ＩＩ）において、Ｘ１がアミノ基である化合物（ＩＩｄ）を製造する工程である。【０１４３】
本工程は、例えば、パラジウムカーボン触媒下、水素添加する方法、濃塩酸存在下、塩化第一スズを用いる方法又は金属紛（例えば、鉄紛等）−塩化アンモニウムを用いる方法のような、通常、ニトロ基をアミノ基に還元する際の常法（例えば、J. Am. Chem.Soc., 1961, 83, 2489-2493、WO 2005023807; 2005等に記載の方法）に従って行うことができる。【０１４４】
本工程は、溶媒の存在下又は非存在下（好適には、溶媒の存在下）で行われる。【０１４５】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；メタノール、エタノール及びプロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；又はジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類あり、好適には、アルコール類又はエーテル類であり、より好適には、メタノール又はエタノールである。【０１４６】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−９０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１００℃である。【０１４７】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜２４時間であり、好適には、３０分間〜１２時間である。
また、化合物（ＩＩｄ）において、Ａがエチル基である化合物（ＩＩｄ−１）は、化合物（ＩＩｃ）において、Ａがハロゲン原子（好適には、臭素原子）である化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させ、次いで、炭酸カリウム／メタノールで、トリメチルシリル基を除去し、リンドラー触媒を用いて、接触還元することによっても、製造される。【０１４８】
工程Ｃ−６は、化合物（ＩＩｄ）のアミノ基をジアゾニウム塩とした後、一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を反応させ、一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を製造する工程である。【０１４９】
本工程は、例えば、亜硝酸、亜硝酸塩（例えば、亜硝酸ナトリウム等）又は亜硝酸アルキルエステルを用いる方法のような通常アミノ基をジアゾニウム塩にする際の常法に従って、反応を行い、次いで、得られたジアゾニウム塩をキサントゲン酸塩と反応させることにより行うことができる。【０１５０】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水又はアセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、水又はアセトニトリルである。【０１５１】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−７０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、−２０〜１００℃である。【０１５２】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜２４時間であり、好適には、３０分間〜１２時間である。【０１５３】
工程Ｃ−７は、化合物（ＸＶＩＩ）を塩基及び溶媒の存在下、加水分解し、本発明の製造中間体（ＩＩ）において、Ｘ１がメルカプト基である化合物（ＩＩｅ）を製造する工程である。【０１５４】
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；又は水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類であり得、好適には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。【０１５５】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；又はジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類及び水の混合溶媒であり、より好適には、メタノール若しくはエタノール及び水の混合溶媒である。【０１５６】
用いられる塩基の量は、化合物（ＸＶＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜１０molであり、好適には、１．０〜３．０molである。【０１５７】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＸＶＩＩ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【０１５８】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１２０℃である。【０１５９】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１０分間〜４８時間であり、好適には、３０分間〜２４時間である。
また、化合物（ＩＩ）において、Ｘ１が、式  −Ｓ（Ｃ＝Ｚ）Ｒ’ａ  （式中、Ｚは、前記の同意義を表し、Ｒ’ａは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表す。）で表される化合物（ＩＩｆ）は、化合物（ＩＩｅ）を、塩基（例えば、トリエチルアミン等）及び溶媒（例えば、エーテル、ジクロロメタン等）の存在下、式  Ｒ’ａ−Ｃ（＝Ｚ）Ｙ１（（式中、Ｒ’ａ、Ｙ１及びＺは、前記の同意義を表す。）で表されるハロ化合物（好適には、クロロ化合物）と、室温で、３０分間〜１０時間反応させることによって、製造される。【０１６０】
工程Ｃ−８は、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＩＩｅ）を、一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物と反応させ、本発明の化合物（Ｉ）において、ｎが０である化合物（Ｉａ）を別途に製造する工程である。【０１６１】
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属アルコキシドであり、より好適には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は水素化ナトリウムである。【０１６２】
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、脂肪族炭化水素類又は芳香族炭化水素類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はアセトニトリル或はこれらの混合溶媒である。【０１６３】
用いられる塩基の量は、化合物（ＩＩｅ）１molに対し、通常、１．０〜１０molであり、好適には、１．０〜３．０molである。【０１６４】
用いられる溶媒の量は、化合物（ＩＩｅ）１molに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。【０１６５】
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１００℃である。【０１６６】
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、６分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。【０１６７】
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
（工程Ｄ）
工程Ｄは、工程Ｄ−１及びＤ−２からなり、本発明の化合物（Ｉ）において、Ａが、式  −Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＯＲ  （式中、Ｒは、前記の同意義を表す。）で表される基である化合物（Ｉｄ）及び、Ａが、基  Ａａ  （ここで、Ａａは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で置換されていてもよい、１，２，４−オキサジアゾリル基又はジヒドロ−１，２，４−オキサジアゾリル基を表す。）である化合物（Ｉｅ）を製造する工程である。
0005113531.tif 000022
上式中、Ｒ１、Ｒ、Ａａ、Ｘ、ｍ及びＱは、前記と同意義を示し、
Ｒ１５は、水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し、
Ｒ１６は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基を示す。
工程Ｄ−１は、溶媒及び塩基存在下、一般式（Ｉ’）で表されるシアノ化合物を、一般式（ＸＩＸ）で表される化合物又はその塩（例えば、硫酸塩、塩酸塩又は硝酸塩、好適には、塩酸塩）と反応させ、化合物（Ｉｄ）を製造する工程である。
使用される塩基は、通常ｐＨ８以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、トリエチルアミンである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類であり、より好適には、ジオキサンである。
用いられる塩基の量は、化合物（Ｉ’）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜５．０ｍｏｌであり、好適には、１．０〜２.０ｍｏｌである。
用いられる溶媒の量は、化合物（Ｉ’）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、０〜１５０℃であり、好適には、６０〜１２０℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。
工程Ｄ−２は、酸及び溶媒存在下、化合物（Ｉｄ）において、Ｒが水素原子である化合物（Ｉｄ−１）を、一般式（ＸＸａ）で表される化合物又は一般式（ＸＸｂ）で表される化合物と反応させ、本発明の化合物（Ｉｅ）を製造する工程である。なお、化合物（ＸＸｂ）において、Ｒ１５が水素原子である場合は、好適には、ホルマリン（含水ホルムアルデヒド）又はパラホルムアルデヒドとして、化合物（ＸＸｂ）を反応させることができる。
使用される酸は、通常ｐＨ５以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸類、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸及び安息香酸のようなカルボン酸類又はメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸のようなスルホン酸類であり、化合物（ＸＸａ）との反応では、好適には、鉱酸類であり、より好適には、硫酸であり、化合物（ＸＸｂ）との反応では、好適には、カルボン酸類であり、より好適には、酢酸である。また、酢酸等は、溶媒を兼ねて、大過剰に使用することもできる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類又は芳香族炭化水素類であり、より好適には、メタノール、エタノール又はトルエンである。
用いられる酸の量は、化合物（Ｉｄ−１）１ｍｏｌに対し、通常、０．１〜５．０ｍｏｌであり、好適には、０．１〜１.０ｍｏｌである。
用いられる溶媒の量は、化合物（Ｉｄ−１）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、５〜１００℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、１時間〜９０時間であり、好適には、５時間〜７２時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
（工程Ｅ）
工程Ｅは、工程Ｅ−１〜Ｅ−６からなり、本発明の化合物（Ｉ）において、Ｑが、式
0005113531.tif 000023
【０１６８】
［式中、Ｒ２は、前記と同意義を表し、Ｒ１８は、ハロゲン原子、前記Ｒ４における置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基又は前記Ｒ４における置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基を表す。］
で表される基であり、ｎが０である化合物（Ｉｆ）を製造する工程である。
0005113531.tif 000024
上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ｍ、Ａ、Ｒ１８及びＹ４は、前記と同意義を示し、
Ｙ５は、ハロゲン原子を示し、
Ｒ１７は、Ｃ１−Ｃ６アルキルを示し、
Ｒ１８ａは、前記Ｒ４における置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。
工程Ｅ−１は、溶媒存在下、一般式（ＸＸＩ）で表される化合物を、化合物（ＸＩ）と反応させ、一般式（ＸＸＩＩ）で表される化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水；酢酸、プロピオン酸のようなカルボン酸類；メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドンのようなアミド類；ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類；塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水又はエタノール或はこれらの混合溶媒である。
用いられる溶媒の量は、化合物（ＸＸＩ）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１００℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。
本工程に使用される化合物（ＸＸＩ）は、既知の方法（例えば、Synthesis, 1989, 217-218等）によって製造される。
工程Ｅ−２は、溶媒存在下、化合物（ＸＸＩＩ）を、ローソン試薬と反応させ、一般式（ＸＸＩＩａ）を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類；或はこれらの混合溶媒であり、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。
用いられる溶媒の量は、化合物（ＸＸＩＩ）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、０〜１５０℃であり、好適には、３０〜１４０℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。
工程Ｅ−３ａは、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＸＸＩＩａ）を、一般式（ＸＸＩＩＩ）で表される化合物と反応させ、一般式（ＸＸＩＶ）で表される化合物において、Ｒ１８が、前記の置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキルチオ基である化合物（ＸＸＩＶａ）を製造する工程である。
本工程は、前記工程Ｃの工程Ｃ−８と同様に行われる。
工程Ｅ−３ｂは、化合物（ＸＸＩＩ）を、化合物（ＸＸＩＩＩ）と反応させ、化合物（ＸＸＩＶ）において、Ｒ１８が、前記の置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基である化合物（ＸＸＩＶｂ）及び、化合物（ＸＸＩＩ）を、ハロゲン化剤（例えば、オキシ塩化リン、五塩化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシ臭化リン、五臭化リン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシヨウ化リン等）を反応させ、化合物（ＸＸＩＶ）において、Ｒ１８が、ハロゲン原子（好適には、塩素原子又は臭素原子）である化合物（ＸＸＩＶｃ）を製造する工程である。
化合物（ＸＸＩＩ）と化合物（ＸＸＩＩＩ）との反応は、前記Ｃ法工程Ｃ−８と同様に行われ、化合物（ＸＸＩＩ）とハロゲン化剤の反応は、溶媒の非存在下又は溶媒（例えば、クロロホルム及び四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類等である。）の存在下（好適には、溶媒の非存在下）、１００〜２００℃で、５分間〜１２時間反応させることにより行われる。
工程Ｅ−４は、溶媒存在下又は非存在化、化合物（ＸＸＩＶ）とクロロスルホン酸を反応させ、一般式（ＸＸＶ）を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、クロロホルムである。
用いられる溶媒の量は、化合物（ＸＸＩＶ）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜２０リットルであり、好適には、１．０〜１０リットルである。
用いられるクロロスルホン酸の量は、化合物（ＸＸＩＶ）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜１０.０ｍｏｌであり、好適には、２．０〜５．０ｍｏｌである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜８０℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。
工程Ｅ−５は、溶媒存在下または非存在化、化合物（ＸＸＶ）のクロロスルホニル基を還元し、一般式（ＸＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程である。
本工程は、例えば、酸存在下、亜鉛やスズを用いる方法のような、クロロスルホニル基をメルカプト基に還元する際の常法（例えば、J.Am.Chem.Soc.,1947,69,1925、Tetrahedron,1994,50,4775等に記載の方法）に従って行われる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類；水；又はメタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類；或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類であり、より好適には、水又エタノールである。
用いられる酸は、例えば、硫酸、塩酸及び硝酸のような鉱酸であり得、好適には、硫酸又は塩酸である。
用いられる亜鉛と酸の量は、化合物（ＸＸＶ）１ｍｏｌに対し、通常、１．０〜５０.０ｍｏｌであり、好適には、１．０〜２０．０ｍｏｌである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−４０℃〜反応系における還流温度であり、好適には、０〜１５０℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、５分間〜４８時間であり、好適には、１０分間〜２４時間である。
また、本工程において、アシルチオ体（例えば、アセチルチオ体）が得られた場合には、該アシルチオ体を前記工程Ｃの工程Ｃ−７と同様に加水分解して、化合物（ＸＸＶ）に導くこともできる。
工程Ｅ−６は、塩基及び溶媒存在下、化合物（ＸＸＶＩ）と、化合物（ＸＶＩＩＩ）を反応させ、本発明の化合物（Ｉｆ）を製造する工程である。
本工程は、前記工程Ｃの工程Ｃ−８と同様に行われる。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。【０１６９】
本発明の化合物（Ｉ）は、上記のようなアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩ではなく、分子中に塩基性部分が存在する場合、溶媒存在下、酸を用いて塩にすることができる。【０１７０】
本発明の化合物（Ｉ）を農薬組成物の有効成分として使用するに際しては、本発明の化合物（Ｉ）は、それ自体を用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤及びその他補助剤を配合して、例えば、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤及び乳濁剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は、通常、有効成分０．１〜９．０質量部で農薬補助剤１０〜９９．９質量部である。【０１７１】
前記製剤化に際して用いられる担体は、例えば、澱粉、活性炭、大豆紛、小麦粉、木紛、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、及び、タルク、カオリン、ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ等の鉱物性粉末のような固体担体；又は、水、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、シクロヘキサン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ケロシン、軽油等の脂肪族炭化水素類、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼンメチルナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、脂肪酸のグリセリンエステル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びジメチルスルホキシド等の含硫化合物類のような液体担体であり得、好適には、固体担体又は液体担体である。【０１７２】
用いられる界面活性剤は、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレートであり得、好適には、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレートである。【０１７３】
その他の補助剤は、例えば、カルボキシジメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、キサンタンガム、グアーガム、トラガントガム及びポリビニルアルコール等の固着剤又は増粘剤；金属石鹸等の消泡剤；又は脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン及びパラフィン等の物性向上剤着色剤であり得、好適には、グアーガム又はキサンタンガムである。【０１７４】
これら製剤は、実際の使用に際して、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤又はその希釈剤の施用は、通常一般的に行われている施用方法、即ち、散布（例えば、噴霧、ミスティング、アトマイジング、散紛、散粒、水面施用、箱施用等）、土壌施用（例えば、混入、灌注等）、表面施用（例えば、塗布、紛衣、被覆等）、浸漬又は毒餌等であり得る。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生、生育を防除することも可能である。又いわゆる超高濃度少量散布法により施用することもできる。この方法においては、有効成分を１００％含有することが可能である。【０１７５】
本発明の農薬組成物施用時の有効成分濃度は、通常、０．１〜５００００ppmであり、好適には、１〜１００００ppmである。ただし、有効成分濃度は、製剤の形態及び施用する方法、目的、時期、場所及び有害生物の発生状況によって、適宜変更でき、例えば、水生有害生物の場合、上記濃度の薬液を発生場所に散布しても防除できることから、水中での有効成分濃度は上記より小さくなる。【０１７６】
本発明の農薬組成物の使用量は、土壌混和処理の場合、例えば、有効成分化合物として、１０アール当たり、０．１〜５０００ｇであり、好適には、１〜１０００ｇである。【０１７７】
なお、本発明の化合物（Ｉ）は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて肥料及び他の農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、除草剤及び植物調整剤などと混用又は併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。【０１７８】
本発明の化合物（Ｉ）と混用して使用できる他の農薬は、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、除草剤又は植物調整剤であり得、好適には、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤又は除草剤である。【０１７９】
用いられる殺虫剤は、例えば、有機リン及びカーバメート系殺虫剤、ピレスロイド系殺虫剤又はその他の殺虫剤であり得る。【０１８０】
有機リン及びカーバメート系殺虫剤は、例えば、フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、オキシデプホス、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロルホス、アセフェート、ＥＰＢＰ、メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホスメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エチオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメチル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホス、ナレッド、ＥＰＮ、ＸＭＣ、ベンダイオカルブ、オキサミル、アラニカルブ、フルピラゾホス、ホスホカルブ又はクロルエトキシホスであり得る。【０１８１】
ピレスロイド系殺虫剤は、例えば、ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメトリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、ビフェントリン又はアクリナトリンであり得る。【０１８２】
その他の殺虫剤は、例えば、ジフルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキシフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリド、フィプロニル、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、エマメクチンベンゾエート、アセタミプリド、ニテンピラム、ピメトロジン、チアクロプリド、スピノサッド、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ジノテフラン、チアメトキサム、エチプロール、メトキシフェノジド、クロマノフェノジド、クロチアニジン、アセトプロール、ピリダリル、インドキサカルブ、スピロメシフェン、スピロテトラマット、フルベンジアミド、レピメクチン、メタフルミゾン、オレイン酸ナトリウム、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアルデヒド、マシン油、なたね油、ＢＴ剤又は昆虫病原ウィルス等の微生物農薬であり得る。【０１８３】
用いられる殺ダニ剤は、例えば、クロルベンジレート、フェニソブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギット、ベンゾメート、ヘキシチアゾックス、フェンブタチンオキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ハルフェンプロックス、スピロジクロフェン日フェナゼート、シフルメトフェン又はフルアクリピリウムであり得る。【０１８４】
用いられる殺線虫剤は、例えば、フェナミホス、ホスチアゼート、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、１，３−ジクロロプロペン又はＤＣＩＰであり得る。【０１８５】
用いられる殺菌剤は、例えば、チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルベット、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、マンゼブ、ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンフォス、フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイジンＳ、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダマイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジンオキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾール、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモカルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、イミベンコナゾール、メパニピリム、ベンチアバリカルブ、シルフェナミド、シアゾファミド、フェナミドン、フェノキサニル、メトラフェノン、ニコビフェン、ピコキシスロトビン、ピラクロストロビン、シメコナゾール、アミスロブロム、マンジプロパミド、フルピコライド、ペンチオピラド、ボスカリド、フルモルフ、フルオキサストロビン、オリサストロビン、プロキナジド、プロチオコナゾール又はゾキサミドであり得る。【０１８６】
用いられる除草剤は、例えば、ジフルフェニカン、プロパニル、ジクロロピコリン酸、ジカンバ、ピコロラム、２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、２，４−ＤＰ、フルロキシピル、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＰ、トリクロピル、ジクロホップ−メチル、フェノキサプロップ−エチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル、キザロホップ−エチル、ノルフルラゾン、クロルブロファム、デスメジファム、フェンメジファム、プロファム、アラクロル、アセトクロル、ブタクロル、メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル、プロパクロル、オリザリン、トリフルラリン、アシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリゴフェン、ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン、オキシフルオルフェン、クロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン、メタベンズチアズロン、アロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、セトキシジム、トラコキシジム、イマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピル、イマザキン、ブロモキシニル、ジクロベニル、イオキシニル、メフェナセット、アミドスルフロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン−エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、ピリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン−メチル、トリアスルフロン、トリベヌロン−メチル、ブチレート、シクロエート、ジーアレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルプ、モリネート、プロスルホカルプ、ベンチオカルプ、トリアレート、アトラジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、ターブトリン、ターブチラジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミトリアゾール、ベンフレセート、ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセート、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセート、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キンメタック、スルホセート、トリジファン、カフェンスとロール、シハロホップ−ブチル、インダノファン、ベンゾビシクロン、ベンズフェンジゾン、ブタフェナシル、フルアゾレート、フルチアセット、ピラゾギル、ピリダホール、ピリフタリド、フルフェナセット又はフェントラザミドであり得る。【０１８７】
本発明の化合物（Ｉ）は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類及び植物寄生性線虫類に対して優れた防除効果を示す。また、本発明の化合物（Ｉ）は、その他有害動物、不快動物、衛生害虫及び寄生虫に対しても優れた防除効果を示す。【０１８８】
半翅目害虫は、例えば、ホソヘリカメムシ（Ｒｉｐｔｏｒｔｕｓ  ｃｌａｖａｔｕｓ）、ミナミアオカメムシ（Ｎｅｚａｒａ  ｖｉｒｉｄｕｌａ）、メクラカメムシ類（Ｌｙｇｕｓ  ｓｐ．）、アメリカコバネナガカメムシ（Ｂｌｉｓｓｕｓ  ｌｅｕｃｐｔｅｒｕｓ）、ナシグンバイ（Ｓｔｅｐｈａｎｉｔｉｓ  ｎａｓｈｉ）等のカメムシ類（異翅類；Ｈｅｔｅｒｏｐｔｅｒａ）、ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ  ｃｉｎｃｔｉｃｅｐｓ）、ヒメヨコバイ（Ｅｍｐｏａｓｃａ  ｓｐ．，  Ｅｒｙｔｈｒｏｎｅｕｒａ  ｓｐ．，  Ｃｉｒｃｕｌｉｆｅｒ  ｓｐ．）等のヨコバイ類、トビイロウンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ  ｌｕｇｅｎｓ）、セジロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ  ｆｕｒｃｉｆｅｒａ）、ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ  ｓｔｒｉａｔｅｌｌｕｓ）等のウンカ類、Ｐｓｙｌｌａ  ｓｐ．等のキジラミ類、タバココナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ  ｔａｂａｃｉ）、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ  ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）、等のコナジラミ類、ブドウネアブラムシ（Ｖｉｔｅｕｓ  ｖｉｔｉｆｏｌｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ  ｐｅｒｓｉｃａｅ）、リンゴアブラムシ（Ａｐｈｉｓ  ｐｏｍｉ）、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ  ｇｏｓｓｙｐｉｉ）、Ａｐｈｉｓ  ｆａｂａｅ、ニセダイコンアブラムシ（Ｌｉｐｈｉｓ  ｅｒｙｓｉｍｉ）、ジャガイモヒゲナガアブラムシ（Ａｕｌａｃｏｒｔｈｕｍ  ｓｏｌａｎｉ）、ムギミドリアブラムシ（Ｓｃｈｉｚａｐｈｉｓ  ｇｒａｍｉｎｕｍ）等のアブラムシ類、クワコナカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄｏｃｏｃｃｕｓ  ｃｏｍｓｔｏｃｋｉ）、ルビーロウムシ（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｓ  ｒｕｂｅｎｓ）、サンホーゼカイガラムシ（Ｃｏｍｓｔｏｃｋａｓｐｉｓ  ｐｅｒｎｉｃｉｏｓａ）、ヤノエカイガラムシ（Ｕｎａｓｐｉｓ  ｙａｎｏｅｎｓｉｓ）等のカイガラムシ又はサシガメ（Ｒｈｏｄｎｉｕｓ  ｓｐ．）であり得る。【０１８９】
鱗翅目害虫は、例えば、チャハマキ（Ｈｏｍｏｎａ  ｍａｇｎａｎｉｍａ）、コカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ  ｏｒａｎａ）、テングハマキ（Ｓｐａｒｇａｎｏｔｈｉｓ  ｐｉｌｌｅｒｉａｎａ）、ナシヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔｈａ  molｅｓｔａ）、マメシンクイガ（Ｌｅｇｕｍｉｎｉｖｏｒａ  ｇｌｙｃｉｎｉｖｏｒｅｌｌａ）、コドリンガ（Ｌａｓｐｅｙｒｅｓｉａ  ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）、Ｅｕｃｏｓｍａ  ｓｐ．、Ｌｏｂｅｓｉａ  ｂｏｔｒａｎａ等のハマキガ類、ブドウホソハマキ（Ｅｕｐｏｅｃｉｌｌｉａ  ａｍｂｉｇｕｅｌｌａ）、等のホソハマキガ類、Ｂａｍｂａｌｉｎａ  ｓｐ．等のミノガ類、コクガ（Ｎｅｍａｐｏｇｏｎ  ｇｒａｎｅｌｌｕｓ）、イガ（Ｔｉｎｅａ  ｐｅｌｌｉｏｎｅｌｌａ）等のヒロズコガ類、ギンモンハモグリガ（Ｌｙｏｎｅｔｉａｐｒｕｎｉｆｏｌｉｅｌｌａ）等のハモグリガ類、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ  ｒｉｎｇｏｎｉｅｌｌａ）等のホソガ類、ミカンハモグリガ（Ｐｈｙｌｌｏｃｎｉｓｔｉｓ  ｃｉｔｒｅｌｌａ）等のコハモグリガ類、コナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ  ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）、Ｐｒａｙｓ  ｃｉｔｒｉ等のスガ類、ブドウスカシバ（Ｎｏｋｏｎａ  ｖｅｇａｌｅ）、Ｓｙｎａｎｔｈｅｄｏｎ  ｓｐ．等のスカシバ類、ワタアカミムシ（Ｐｅｃｔｉｎｏｐｈｏｒａ  ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）、ジャガイモガ（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ  ｏｐｅｒｃｕｌｅｌｌａ）、Ｓｔｏｍｏｐｔｅｒｙｘ  ｓｐ．等のキバガ類、モモシンクイガ（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ  ｎｉｐｏｎｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、イラガ（Ｍｏｎｅｍａ  ｆｌａｖｅｓｃｅｎｓ）等のイラガ類、ニカメイガ（Ｃｈｉｌｏ  ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、コブノメイガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ  ｍｅｄｉｎａｌｉｓ）、Ｏｓｔｒｉｎｉａ  ｎｕｂｉｌａｌｉｓ、アワノメイガ（Ｏｓｔｒｉｎｉａ  ｆｕｒｎａｃａｌｉｓ）、ハイマダラノメイガ（Ｈｅｌｌｕｌａ  ｕｎｄａｌｉｓ）ハチミツガ（Ｇａｌｌｅｒｉａ  ｍｅｌｌｏｎｅｌｌａ）、Ｅｌａｓｍｏｐａｌｐｕｓ  ｌｉｇｎｏｓｅｌｌｕｓ、Ｌｏｘｏｓｔｅｇｅ  ｓｔｉｃｔｉｃａｌｉｓ等のメイガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ  ｒａｐａｅ）等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク（Ａｓｃｏｔｉｓ  ｓｅｌｅｎａｒｉａ）等のシャクガ類、オビカレハ（Ｍａｌａｃｏｓｏｍａ  ｎｅｕｓｔｒｉａ）等のカレハガ類、Ｍａｎｄｕｃａ  ｓｅｘｔａ等のスズメガ類、チャドクガ（Ｅｕｐｒｏｃｔｉｓ  ｐｓｅｕｄｏｃｏｎｓｐｅｒｓａ）、マイマイガ（Ｌｙｍａｎｔｒｉａ  ｄｉｓｐａｒ）等のドクガ類、アメリカシロヒトリ（Ｈｙｐｈａｎｔｒｉａ  ｃｕｎｅａ）等のヒトリガ類、又はタバコバッドワーム（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ  ｖｉｒｅｓｃｅｎｓ）、ボールワーム（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ  ｚｅａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ  ｅｘｉｇｕａ）、オオタバコガ（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ  ａｒｍｉｇｅｒａ）、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ  ｌｉｔｕｒａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅｓｔｒａ  ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒｏｔｉｓ  ｉｐｓｉｌｏｎ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ  ｓｅｐａｒａｔａ）及びイラクサキンウワバ（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ  ｎｉ）等のヤガ類であり得る。【０１９０】
鞘翅目害虫は、例えば、ドウガネブイブイ（Ａｎｏｍａｌａ  ｃｕｐｒｅａ）、マメコガネ（Ｐｏｐｉｌｌｉａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、ヒメコガネ（Ａｎｏｍａｌａ  ｒｕｆｏｃｕｐｒｅａ）、Ｅｕｔｈｅｏｌａｒｕｇｉｃｅｐｓ等のコガネムシ類、ワイヤーワーム（Ａｇｒｉｃｏｔｅｓ  ｓｐ．）、Ｃｏｎｏｄｅｕｓ  ｓｐ．等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ  ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔａｔａ）、インゲンテントウムシ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ  ｖａｒｉｖｅｓｔｉｓ）等のテントウムシ類、コクヌストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ  ｃａｓｔａｎｅｕｍ）等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ（Ａｎｏｐｌｏｐｈｏｒａ  ｍａｌａｓｉａｃａ）、マツノマダラカミキリ（Ｍｏｎｏｃｈａｍｕｓ  ａｌｔｅｒｎａｔｕｓ）等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ（Ａｃａｎｔｈｏｓｃｅｌｉｄｅｓ  ｏｂｔｅｃｔｕｓ）、アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｓ  ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ  ｄｅｃｅmlｉｎｅａｔａ）、コーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ  ｓｐ．）、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ  ｏｒｙｚａｅ）、テンサイトビハムシ（Ｃｈａｅｔｏｃｎｅｍａ  ｃｏｎｃｉｎｎａ）、Ｐｈａｅｄｏｎ  ｃｏｃｈｌｅａｒｉａｓ、Ｏｕｌｅｍａ  ｍｅｌａｎｏｐｕｓ、Ｄｉｃｌａｄｉｓｐａ  ａｒｍｉｇｅｒａ等のハムシ類、Ａｐｉｏｎ  ｇｏｄｍａｎｉ等のホソクチゾウムシ類、イネミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ  ｏｒｙｚｏｐｈｉｌｕｓ）、ワタミゾウムシ（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ  ｇｒａｎｄｉｓ）等のゾウムシ類、コクゾウムシ（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ  ｚｅａｍａｉｓ）等のオサゾウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類又はシバンムシ類であり得る。【０１９１】
双翅目害虫は、例えば、キリウジガガンボ（Ｔｉｐｕｌａ  ａｉｎｏ）、イネユスリカ（Ｃｈｉｒｏｎｏｍｕｓ  ｏｒｙｚａｅ）、イネシントメタマバエ（Ｏｒｓｅｏｌｉａ  ｏｒｙｚａｅ）、チチュウカイミバエ（Ｃｅｒａｔｉｔｉｓ  ｃａｐｉｔａｔａ）、イネミギワバエ（Ｈｙｄｒｅｌｌｉａ  ｇｒｉｓｅｏｌａ）、オウトウショウジョウバエ（Ｄｒｏｓｏｐｈｉｌａ  ｓｕｚｕｋｉｉ）、フリッツフライ（Ｏｓｃｉｎｅｌｌａ  ｆｒｉｔ）、イネカラバエ（Ｃｈｌｏｒｏｐｓ  ｏｒｙｚａｅ）、インゲンモグリバエ（Ｏｐｈｉｏｍｙｉａ  ｐｈａｓｅｏｌｉ）、マメハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ  ｔｒｉｆｏｌｉｉ）、アカザモグリハナバエ（Ｐｅｇｏｍｙａ  ｈｙｏｓｃｙａｍｉ）、タネバエ（Ｄｅｌｉａ  ｐｌａｔｕｒａ）、ソルガムフライ（Ａｔｈｅｒｉｇｏｎａ  ｓｏｃｃａｔａ）、イエバエ（Ｍｕｓｃａ  ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、ウマバエ（Ｇａｓｔｒｏｐｈｉｌｕｓ  ｓｐ．）、サシバエ（Ｓｔｏｍｏｘｙｓ  ｓｐ．）、ネッタイシマカ（Ａｅｄｅｓ  ａｅｇｙｐｔｉ）、アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ  ｐｉｐｉｅｎｓ）、シナハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ  ｓｌｎｅｎｓｉｓ）又はコガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ  ｔｒｉｔａｅｎｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）であり得る。【０１９２】
膜翅目害虫は、例えば、クキバチ類（Ｃｅｐｈｕｓ  ｓｐ．）、カタビロコバチ（Ｈａｒmolｉｔａ  ｓｐ．）、カブラハバチ（Ａｔｈａｌｉａ  ｒｏｓａｅ）、スズメバチ（Ｖｅｓｐａ  ｍａｎｄａｒｉｎａ）又はファイアーアント類であり得る。【０１９３】
直翅目害虫は、例えば、チャバネゴキブリ（Ｂｌａｔｔｅｌｌａ  ｇｅｒｍａｎｉｃａ）、ワモンゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ  ａｍｅｒｉｃａｎａ）、ケラ（Ｇｒｙｌｌｏｔａｌｐａ  ａｆｒｉｃａｎａ）、バッタ（Ｌｏｃｕｓｔａ  ｍｉｇｒａｔｏｒｉａ  ｍｉｇｒａｔｏｒｉｏｄｅｓ）又はＭｅｌａｎｏｐｌｕｓ  ｓａｎｇｕｉｎｉｐｅｓであり得る。【０１９４】
シロアリ目害虫は、例えば、ヤマトシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ  ｓｐｅｒａｔｕｓ）、イエシロアリ（Ｃｏｐｔｏｔｅｒｍｅｓ  ｆｏｒｍｏｓａｎｕｓ）又はダイコクシロアリ（Ｃｒｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ  ｄｏｍｅｓｔｉｕｓ）であり得る。【０１９５】
アザミウマ目害虫は、例えば、チャノキイロアザミウマ（Ｓｃｉｒｔｏｔｈｒｉｐｓ  ｄｏｒｓａｌｉｓ）、ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ  ｐａｌｍｉ）、クロトンアザミウマ（Ｈｅｌｉｏｔｈｒｉｐｓ  ｈａｅｍｏｒｒｈｏｉｄａｌｉｓ）、ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ  ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）又はイネクダアザミウマ（Ｈａｐｌｏｔｈｒｉｐｓ  ａｃｕｌｅａｔｕｓ）であり得る。【０１９６】
ハダニ類は、例えば、ナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｕｒｔｉｃａｅ）、カンザワハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｋａｎｚａｗａｉ）、ミカンハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ  ｃｉｔｒｉ）、リンゴハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ  ｕｌｍｉ）、イエローマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｃａｒｐｉｎｉ）、テキサスシトラスマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｂａｎｋｓｉ）、ミカンサビダニ（Ａｃｕｌｏｐｓ  ｐｅｌｅｋａｓｓｉ）、チャノホコリダニ（ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ  ｌａｔｕｓ）、ヒメハダニ（Ｂｒｅｖｉｐａｌｐｕｓ  ｓｐ．）、ロビンネダニ（Ｒｈｉｚｏｇｌｙｐｈｕｓ  ｒｏｂｉｎｉ）又はケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ  ｐｕｔｒｅｓｃｅｎｔｉａｅ）であり得る。【０１９７】
植物寄生性線虫類は、例えば、サツマイモネコブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ  ｉｎｃｏｇｎｉｔａ）、ネグサレセンチュウ（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ  ｓｐ．）ダイズシストセンチュウ（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ  ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、イネシンガレセンチュウ（Ａｐｈｅｌｅｎｃｈｏｉｄｅｓ  ｂｅｓｓｅｙｉ）又はマツノザイセンチュウ（Ｂｕｒｓａｐｈｅｌｅｎｃｈｕｓ  ｌｉｇｎｉｃｏｌｕｓ）であり得る。【０１９８】
その他有害動物、不快動物、衛生害虫及び寄生虫は、例えば、スクリミンゴガイ（Ｐｏｍａｃｅａ  ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔａ）、ナメクジ（Ｉｎｃｉｌａｒｉａ  ｓｐ．）、アフリカマイマイ（Ａｃｈａｔｉｎａ  ｆｕｌｉｃａ）等の腹足網類（Ｇａｓｔｒｏｐｏｄａ）、ダンゴムシ（Ａｒｍａｄｉｌｌｉｄｉｕｍ  ｓｐ．）、ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類（Ｉｓｏｐｏｄａ）、Ｌｉｐｏｓｃｅｌｉｓ  ｓｐ．等のチャタテムシ類、Ｃｔｅｎｏｌｅｐｉｓｍａ  ｓｐ．等のシミ類、Ｐｕｌｅｘ  ｓｐ．、Ｃｔｅｎｏｃｅｐｈａｌｉｄｅｓ  ｓｐ．等のノミ類、Ｔｒｉｃｈｏｄｅｃｔｅｓ  ｓｐ．等のハジラミ類、Ｃｉｍｅｘ  ｓｐ．等のトコジラミ類、オウシマダニ（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ  ｍｉｃｒｏｐｌｕｓ）、フタトゲチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ  ｌｏｎｇｉｃｏｒｎｉｓ）等の動物寄生性ダニ類又はヒョウヒダニ類であり得る。【０１９９】
更に、本発明の化合物（Ｉ）は、有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物又は既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。
【実施例】
【０２００】
以下に、実施例、製剤例及び試験例を挙げて本発明化合物を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０２０１】
実施例１
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−５５）
（１）４−ブロモ−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（工程Ａ−１ａ）
６０％  水素化ナトリウム（２．２０ｇ、５５．０mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５０ml）溶液に氷冷下、２，２，２−トリフルオロエタンチオール（４．９０ｇ、５５．１mmol）を滴下し、室温で５０分撹拌した。続いて、−４０℃に冷却下、４−ブロモ−２−フルオロベンゾニトリル（１０．００ｇ、５０．０mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５０ml）を滴下し、同温で２．５時間、次いで室温で３０分攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）にて精製し、標記化合物（１４．４７ｇ、収率９７．７％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.81 (1H, s), 7.60-7.53 (2H, m), 3.58 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
（２）４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−５５、工程Ａ−２ａ）
［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ボロン酸（７．０８ｇ、３６．５１mmol）、４−ブロモ−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（１０．８１ｇ、３６．５１mmol）及び炭酸ナトリウム（１１．６１ｇ、１０９．５４mmol）のトルエン−エタノール−水の混合溶液（２／１／１、１８４ml）にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（２．１１ｇ、１．８３mmol）を加えた後、９０℃で１８時間加熱した。反応溶液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）にて精製し、標記化合物（７．９３ｇ、収率６０．０％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。【０２０２】
実施例２
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−（プロピルチオ）ベンゾニトリル（化合物番号１−４３）
（１）２−フルオロ−４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンゾニトリル（化合物番号４−１３、工程Ａ−１ｂ）
［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ボロン酸（１．００ｇ、５．１６mmol）及び４−ブロモ−２−フルオロベンゾニトリル（１．０３ｇ、５．１５mmol）を１，２−ジメトキシエタン（１７ml）に溶解し、次いで２Ｍ  炭酸ナトリウム水溶液（７．７ml、１５．４mmol）を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（２９８．２mg、０．２６mmol）を加えた後、１９時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（９７５．４mg、収率７０．４％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80-7.75 (1H, m), 7.37-7.26 (2H, m), 6.66 (1H, s), 3.98 (3H, s)。
（２）４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−（プロピルチオ）ベンゾニトリル（化合物番号１−４３、工程Ａ−２ｂ）
１−プロパンチオール（５１．０μl、０．５６mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．０ml）溶液に氷冷下、６０％  水素化ナトリウム（２３．１mg、０．５８mmol）を加え、室温で２０分撹拌した。続いて、氷冷下、２−フルオロ−４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンゾニトリル（１００．４mg、０．３７mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１．０ml）を滴下し、室温で１日攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：クロロホルム／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、標記化合物（１８．３mg、収率１５．１％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.72 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.39 (1H, s), 7.27 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.04 (2H, t, J = 6.7 Hz), 1.82-1.72 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.3 Hz)。【０２０３】
実施例３
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル（化合物番号１−５６、工程Ａ−３）
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（１１５．３mg、０．３２mmol）の塩化メチレン（３．０ml）溶液に、氷冷下、３−クロロ過安息香酸（８５．７mg、０．３２mmol）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、亜硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、標記化合物（５８．４mg、収率４８．５％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.23 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.75 (1H, s), 4.01 (3H, s), 3.88-3.60 (2H, m)。
更に、工程Ａの方法を用いて、以下の実施例４〜１２の化合物を製造した。【０２０４】
実施例４
２−（エチルチオ）−４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンゾニトリル（化合物番号１−４１、工程Ａ−１ｂ及び工程Ａ−２ｂ）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.41 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.10 (2H, q, J = 7.3 Hz), 1.41 (3H, t, J = 7.3 Hz)。【０２０５】
実施例５
４−（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−６４、工程Ａ−１ａ及び工程Ａ−２ａ）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.41 (1H, d, J = 1.8 Hz), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。【０２０６】
実施例６
４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−６５、工程Ａ−１ａ及び工程Ａ−２ａ）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.74 (1H, s), 7.51 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.2 Hz)。【０２０７】
実施例７
４−［１−メチル−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル（化合物番号１−６６、工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.78 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.88-3.57 (2H, m)。【０２０８】
実施例８
４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−６９、工程Ａ−１ａ及び工程Ａ−２ａ）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.66 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。【０２０９】
実施例９
４−［３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル（化合物番号１−７０、工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.77 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.81-3.61 (2H, m)。【０２１０】
実施例１０
４−［１，４−ジメチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］ベンゾニトリル（化合物番号１−７４、工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.97 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.65 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.84 (3H, s), 3.88-3.62 (2H, m), 2.11 (3H, s)。【０２１１】
実施例１１
４−［１，４−ジメチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−７３、工程Ａ−１ａ及び工程Ａ−２ａ）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 2.07 (3H, s)。【０２１２】
実施例１２
４−（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−２−［（２，２，２−トリフルオエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号３−１、工程Ａ−１ａ及び工程Ａ−２ａ）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, s), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.71 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.0, 1.6 Hz), 3.97 (3H, s), 3.58 (2H, q, J = 9.5 Hz)。【０２１３】
実施例１３
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−５５）及び４−［１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号２−１）
（１）４−［１−（エトキシ）エテニル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（工程Ｂ−１）
４−ブロモ−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（１０１．５ｍｇ、０．３４mmol）のトルエン（１．０ml）溶液にトリブチル（１−エトキシビニル）スズ（０．１３ml、０．３８mmol）及びビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロリド（２．８mg、０．００４０mmol）を加えた後、１００℃で３時間加熱撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（８５．５mg、収率８６．８％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.92 (1H, s), 7.68-7.62 (2H, m), 4.78 (1H, d, J = 3.2 Hz), 4.39 (1H, d, J = 3.2 Hz), 3.94 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.57 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.44 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
（２）４−（１−エトキシ−４，４，４−トリフルオロ−３−オキソ−１−ブテニル）−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（工程Ｂ−２）
トリフルオロ酢酸無水物（４２．４μl、０．３０mmol）の塩化メチレン（３．０ml）溶液に氷冷下、４−［１−（エトキシ）エテニル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（８５．５mg、０．３０mmol）及びピリジン（２４．３μl、０．３０mmol）の塩化メチレン（１．０ml）溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応溶液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（７５．６mg、収率６６．３％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.76-7.72 (2H, m), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.6 Hz), 5.89 (1H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.50 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
（３）４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−５５、工程Ｂ−３）及び４−［１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号２−１、工程Ｂ−３）
４−（１−エトキシ−４，４，４−トリフルオロ−３−オキソ−１−ブテニル）−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（７５．６mg、０．２０mmol）のエタノール（２．０ml）溶液にメチルヒドラジン（１０．６μl、０．２０mmol）を加えた後、１００℃で３時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後、反応溶液を濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、溶解した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、化合物番号２−１の化合物（１１．５mg、収率１６．０％）及び化合物番号１−５５の化合物（３７．３mg、５１．８％）を得た。
化合物番号２−１の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
本工程で得られた化合物番号１−５５の化合物の1H-NMRスペクトルは、前記実施例１（２）の化合物のものと一致した。
更に、工程Ｂの方法を用いて、以下の実施例１４〜１６の化合物を製造した。【０２１４】
実施例１４
４−［１−エチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号１−６１、工程Ｂ−１〜Ｂ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.71 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.60 (1H, s), 4.19 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.61 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.2 Hz)。【０２１５】
実施例１５
４−［１−エチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号２−３、工程Ｂ−１〜Ｂ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.34 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.55 (3H, t, J = 7.2 Hz)。【０２１６】
実施例１６
４−［１−（tert−ブチル）−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−２−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］ベンゾニトリル（化合物番号２−９、工程Ｂ−１〜Ｂ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.85 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.05 (1H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.72 (9H, s)。【０２１７】
実施例１７
５−｛３−［（シクロプロピルメチル）チオ］−４−メチルフェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９）
（１）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号４−１、工程Ｃ−１）
［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ボロン酸（５．８ｇ、３０．０mmol）及び４−ヨードトルエン（６．５４ｇ、３０．０mmol）を１，４−ジオキサン（５０ml）に溶解し、次いで２Ｍ  炭酸ナトリウム水溶液（４５ml、９０．０mmol）を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１．１６ｇ、１．０mmol）を加えた後、１８時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で２回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製し、標記化合物（３．１１ｇ、収率４３．２％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30 (4H, s), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.42 (3H, s)。
（２）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号４−１、工程Ｃ−２）
４−メチルフェニルボロン酸（３．５４ｇ、２６．０mmol）、１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル  トリフルオロメタンスルホネート（２．４４ｇ、３０．０mmol）、リン酸三カリウム（５．５２ｇ、２６．０mmol）及び臭化カリウム（１．３１ｇ、１１．０mmol）を１，４−ジオキサン（２０ml）に溶解し、次いで、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（９２４mg、０．８mmol）を加え、１８時間加熱還流した。セライトにてろ過した後、ろ液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製し、標記化合物（１．７７ｇ、収率９５．２％）を得た。
本工程で得られた化合物番号４−１の化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、上記（１）の化合物のものと一致した。
（３）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ−ル（化合物番号４−１、工程Ｃ−３）
４，４，４−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１，３−ブタンジオン（１．００ｇ、４．３mmol）をトルエン（１０ml）に溶解し、室温下、メチルヒドラジン（０．２５ml、４．８mmol）を加え、３時間加熱還流した。減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）し、標記化合物（２５４．８mg、２４．７％）を得た。
本工程で得られた化合物番号４−１の化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、上記（１）の化合物のものと一致した。
（４）１−メチル−５−（４−メチル−３−ニトロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号４−２、工程Ｃ−４）
１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（１．４１ｇ、５．８mmol）の濃硫酸（２ml）溶液に、氷冷下、硝酸（０．５ml、７．０mmol）及び濃硫酸（０．５ml）の混合物を加え、室温下、２時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ込み、炭酸ナトリウムで中和した。ジクロロメタンで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、標記化合物（８９９mg、収率５３．７％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.05 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.57 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.50 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.68 (3H, s)。
（５）１−メチル−５−（４−メチル−３−アミノフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号４−３、工程Ｃ−５）
１−メチル−５−（４−メチル−３−ニトロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（８３３mg）をメタノール（１０ml）に溶解し、７．５％パラジウム炭素（Ｍ型、９０mg）を加えた。水素雰囲気下、常圧、室温で、６時間激しく攪拌した。反応容器を窒素置換した後、反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、標記化合物（７０１．１mg、収率９４．１％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.14 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.72 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.68 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.49 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.76 (2H, br s), 2.22 (3H, s)。
（６）Ｏ−エチル  Ｓ−｛２−メチル−５−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニル｝ジチオカーボネート（工程Ｃ−６）
１−メチル−５−（４−メチル−３−アミノフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（６１６mg、２．４mmol）に水（３ml）を加え、続いて、濃塩酸（１．０ml）を加えた。氷冷下、亜硝酸ナトリウム（１８３mg、２．６mmol）の水溶液（１ml）をゆっくりと加え、さらに１時間攪拌し、ジアゾニウム塩を含む混合物を調製した。
別のフラスコに、水（３ml）、ジチオ炭酸Ｏ−エチルカリウム（４６３mg、２．９mmol）及び炭酸ナトリウム（３０６mg、２．９mmol）を加え、７０℃に加熱した。この中に、先に調製したジアゾニウム塩を含む混合物を少量ずつ加えた。その後、９０℃に昇温し、１時間攪拌した。反応液をジクロロメタンで２回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、標記記化合物（３５４．４mg、収率４０．８％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.55 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.46 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 4.63 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.92 (3H, s), 2.49 (3H, s), 1.37 (3H, t, J = 7.1 Hz)。
（７）２−メチル−５−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンゼンチオール（化合物番号４−４、工程Ｃ−７）
Ｏ−エチル  Ｓ−｛２−メチル−５−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニル｝ジチオカーボネート（２９７mg、０．８mmol）をメタノール（３ml）に溶解し、室温で、２規定  水酸化ナトリウム（０．９ml）を加え、１時間加熱還流した。放冷した後、水（１０ml）及び濃塩酸を加えて、酸性にした後、ジクロロメタンで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物（２２０mg、収率９８．７％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.52 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.40 (1H, s), 2.39 (3H, s)。
（８）５−｛３−［（シクロプロピルメチル）チオ］−４−メチルフェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９、工程Ｃ−８）
２−メチル−５−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］ベンゼンチオール（６１mg、０．２mmol）とブロモメチルシクロプロパン（３０μl、０．３mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ml）溶液に、６０％  水素化ナトリウム（１２mg、０．３mmol）を加え、８０℃で、１時間加熱攪拌した。放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、標記化合物（５９mg、収率８３．１％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。
更に、工程Ｃの方法を用いて、以下の実施例１８〜４０の化合物を製造した。【０２１８】
実施例１８
１−メチル−５−［４−メチル−３−（プロピルチオ）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−３、工程Ｃ−２及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.93 (3H, s), 2.91 (2H, t, J = 7.2 Hz), 2.42 (3H, s), 1.73 (2H, td, J = 14.8, 7.6 Hz), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。【０２１９】
実施例１９
５−（３−ブチルチオ−４−メチルフェニル）−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.93 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.41 (3H, s), 1.68 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.49 (2H, q, J = 7.6 Hz), 0.95 (3H, t, J = 7.6 Hz)。【０２２０】
実施例２０
５−｛３−［（シクロプロピルメチル）チオ］−４−メチルフェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。【０２２１】
実施例２１
５−｛３−［（シクロプロピルメチル）スルフィニル］−４−メチルフェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１０、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.01 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.81 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.72 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.44 (3H, s), 1.16-1.06 (1H, m), 0.73-0.61 (2H, m), 0.33-0.26 (2H, m)。【０２２２】
実施例２２
５−｛３−［（シクロブチルメチル）チオ］−４−メチルフェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１１、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.25 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.99 (1H, d, J = 7.3 Hz), 2.60-2.54 (1H, m), 2.41 (3H, s), 2.18-2.12 (2H, m), 1.93-1.76 (4H, m)。【０２２３】
実施例２３
１−メチル−５−［４−メチル−３−（２−プロペニルチオ）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１３、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.28-7.27 (2H, m), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 5.94-5.86 (1H, m), 5.22-5.13 (2H, m), 3.90 (3H, s), 3.58 (2H, dt, J = 6.7, 1.2 Hz), 2.42 (3H, s)。【０２２４】
実施例２４
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。【０２２５】
実施例２５
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（３，３，３−トリフルオロプロピル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１７、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.31 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.08 (2H, dt, J = 8.4, 3.5 Hz), 2.45-2.42 (5H, m)。【０２２６】
実施例２６
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，３，３−テトラフルオロプロピル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１９、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.23 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 5.91 (1H, tt, J = 53.2, 2.4 Hz), 3.90 (3H, s), 3.41 (2H, tt, J = 15.9, 1.2 Hz), 2.53 (3H, s)。【０２２７】
実施例２７
５−［４−クロロ−３−（プロピルチオ）フェニル］−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−２３、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.94 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.76 (2H, td, J = 14.6, 7.1 Hz), 1.09 (3H, t, J = 7.2 Hz)。【０２２８】
実施例２８
５−｛４−クロロ−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−３５、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。【０２２９】
実施例２９
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−６７、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.27 (2H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.53 (3H, s)。【０２３０】
実施例３０
３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７１、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.36 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。【０２３１】
実施例３１
（｛２−メチル−５−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニル｝チオ）アセトニトリル（化合物番号１−７５、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.56 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.57 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.59 (2H, s), 2.55 (3H, s)。【０２３２】
実施例３２
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）チオ］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７６、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 7.3, 1.2 Hz), 6.54 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.43 (2H, t, J = 16.5 Hz), 2.54 (3H, s)。【０２３３】
実施例３３
５−［３−（シクロペンチルチオ）−４−メチルフェニル］−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７７、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.7, 1.3 Hz), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.68-3.56 (1H, m), 2.40 (3H, s), 2.19-1.58 (8H, m)。【０２３４】
実施例３４
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２−メチル−２−プロペニル）チオ］フェニル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７８、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29-7.24 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 4.88 (2H, s), 3.89 (3H, s), 3.53 (2H, s), 2.44 (3H, s), 1.88 (3H, s)。【０２３５】
実施例３５
５−（４−クロロフェニル）−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号４−５、工程Ｃ−２）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.48 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.35 (2H, d, J = 8.9 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s)。【０２３６】
実施例３６
５−（４−ブロモ−３−ニトロフェニル）−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号４−１０、工程Ｃ−３及びＣ−４）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.90 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.49 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s)。【０２３７】
実施例３７
１−メチル−３−（４−メチルフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号５−１、工程Ｃ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.65 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.22 (2H, d, J = 7.6 Hz), 6.85 (1H, s), 4.02 (3H, s), 2.37 (3H, s)。【０２３８】
実施例３８
３−（４−ブロモ−３−ニトロフェニル）−１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号５−１０、工程Ｃ−３及びＣ−４）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.25 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.82 (1H, dd, J = 8.9, 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.05 (3H, s)。【０２３９】
実施例３９
１−メチル−４−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号６−１、工程Ｃ−２）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, s), 7.30-7.18 (4H, m), 3.97 (3H, s), 2.38 (3H, s)。【０２４０】
実施例４０
２−メチル−５−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］アニリン（化合物番号６−３、工程Ｃ−４及びＣ−５）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.41 (1H, s), 7.05 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74-6.70 (2H, m), 3.95 (3H, s), 3.64 (2H, s), 2.18 (3H, s)。
更に、工程Ｃ及び工程Ａ−３の方法を用いて、以下の実施例４１〜４７の化合物を製造した。【０２４１】
実施例４１
１−メチル−５−［４−メチル−３−（プロピルスルフィニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−４、工程Ｃ−１、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.85-2.70 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.95-1.71 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.6 Hz)．【０２４２】
実施例４２
５−［３−（ブチルスルフィニル）−４−メチルフェニル］−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−８、工程Ｃ−１、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.89-2.71 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.90-1.63 (2H, m), 1.57-1.41 (2H, m), 0.95 (3H, t, J = 7.2 Hz)．【０２４３】
実施例４３
５−｛３−［（シクロブチルメチル）スルフィニル］−４−メチルフェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１２、工程Ｃ−１、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.94-2.88 (3H, m), 2.44 (3H, s), 2.32-2.23 (1H, m), 2.09-1.68 (5H, m)．【０２４４】
実施例４４
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１６、工程Ｃ−１、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.06 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.50-3.46 (2H, m), 2.47 (3H, s)。【０２４５】
実施例４５
１，３−ジメチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−６３、工程Ｃ−２、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.02 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.16 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.47 (2H, q, J = 10.0 Hz), 2.45 (3H, s), 2.30 (3H, s)。【０２４６】
実施例４６
１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−３−（ペンタフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−６８、工程Ｃ−１、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.53 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.47 (3H, s)。【０２４７】
実施例４７
３−（へプタフルオロプロピル）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７２、工程Ｃ−１、Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−３）
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.54 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.41 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.9 Hz), 2.47 (3H, s)。
実施例４８
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５、工程Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−４及びＢ−３）及び１−メチル−３−{４−メチル−３−[（２，２，２−トリフルオロエチル）フェニル]−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号２−１４、工程Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−４及びＢ−３）
（１）４−（１−エトキシエテニル）−１−メチル−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゼン（工程Ｂ−１）
４−ブロモ−１−メチル−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゼン（１．０５ｇ、３．６８mmol）のトルエン溶液（５．０ml）に、トリブチル（１−エトキシビニル）スズ（１．２４ml、３．６８mmol）及びビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド（０．１２９g、０．１８４mmol）を加え、１００℃で、３時間加熱撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ml）及び１０％フッ化カリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、室温で、１５分撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで１回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物を油状物として得た。
この化合物を、更に精製することなく、次の工程に用いた。
（２）４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−４−｛４−メチル−３−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝ブト−３−エン−２−オン（工程Ｂ−２）
上記（１）の化合物の全量をテトラヒドロフラン（１０ml）に溶かし、０℃に冷却し、ピリジン（０．３６ml、４．４２mmol）を加え、続いて、トリフルオロ酢酸無水物（０．５２ml、３．６８mmol）を加え、同温度で２時間撹拌し、続いて、室温で３０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ml）及び１０％フッ化カリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、室温で、３０分間撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで１回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１)で精製し、標記化合物（８４１．０mg）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.66 (1H, d, J=1.4 Hz), 7.36 (1H, dd, J=7.6Hz, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz, 5.80 (1H, s), 4.18 (2H, q, J=6.9Hz), 3.44 (2H, q, J=9.6Hz), 2.51 (3H, s), 1.49 (3H, t, J=6.9Hz)。
（３）１，１，１−トリフルオロ−４−ヒドロキシ−４−｛４−メチル−３−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝ブト−３−エン−２−オン（工程Ｂ−４）
上記（２）の化合物（８４１．０mg）をメタノール（９ml）に溶かし、２N塩酸（３．０ml）を加え、５０℃で３時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水（１０ml）及び水（１０ml）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物（８４５．６mg、２工程での収率６７％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：15.10 (1H, brd. s), 8.06 (1H, s), 7.76 (1H, d, J=7.6Hz), 7.37 (1H, d, J=7.6Hz), 6.53 (1H, s), 3.47 (1H, q, J=8.9Hz), 2.55 (3H, s)。
（４）１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５、工程Ｂ−３）及び１−メチル−３−{４−メチル−３−[（２，２，２−トリフルオロエチル）フェニル]−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号２−１４、工程Ｂ−３）
上記（３）の化合物（３７．５mg、０．１０９mmol）をエタノール（１．０ml）に溶かし、酢酸（100μｌ）及びメチルヒドラジン（9μｌ）を加え、２時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／５）で精製し、化合物番号１−１５の化合物（１１．７mg、収率３０％）及び化合物番号２−１４の化合物（８．２ｍg、収率２１％）を得た。
化合物番号１−１５の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.60 (1H, d, J=2.1Hz), 7.57 (1H, d=8.2H), 7.31 (1H, dd, J=8.2, 2.1Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号２−１４の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.90 (1H, d, J=1.4Hz), 7.59 (1H, dd, J=7.6, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz), 6.86 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.45 (2H, q, J=9.6Hz), 2.49 (3H, s)。
実施例４９
３−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ−ル−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１,２,４−オキサジアゾール（化合物番号１−１５０、工程Ｄ−１及びＤ−２）
（１）Ｎ’−ヒドロキシ−４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ−ル−５−イル]−２−[（２,２、２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゼンカルボキシミドアミド（工程Ｄ−１）
４−[１−メチル−３−(トリフルオロメチル)−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[(２,２,２−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル（化合物番号１−５５）（1.00g、2.74mmol）の１,４−ジオキサン（10.0ml）溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩 (953.4mg、13.72mmol)及びトリエチルアミン（1.9ml、13.63mmol）を加え、７０℃で、６時間撹拌し、次いで１２０℃で、２時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１〜１／４）で精製し、標記化合物（536.5mg, 収率49.2%）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.63 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.60 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.40 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.89 (1H, br s), 6.59 (1H, s), 4.99 (2H, br s), 3.92 (3H, s), 3.54 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
（２）３−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ−ル−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１,２,４−オキサジアゾール（化合物番号１−１５０、工程Ｄ−２）
上記（１）の化合物（102.1mg、0.26mmol）のエタノール（2.6ml）溶液に、室温下、オルトギ酸エチル (0.26ml、1.56mmol)及び硫酸（2滴）を加え、同温度で、６日間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製し、標記化合物（化合物番号１−１５０、32.1mg、収率30.7％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例５０
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１０９、工程Ｅ−１〜Ｅ−６）
（１）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール(工程Ｅ−１)
エチル  ３−（４−メチルフェニル）−２−プロピノエート（651.2mg、3.46mmol）のエタノール（3.5ml）及び水（3.5ml）の混合溶液にメチルヒドラジン(0.2ml、3.76mmol)を加え、６０℃で、７時間加熱撹拌した。反応溶液を減圧で濃縮した後、酢酸エチルを加え、ろ過して、固体を得た。得られた固体を酢酸エチルで洗浄し、次いで乾燥し、標記化合物（79.1mg、収率12.1％）を得た。
1H-NMRスペクトル(DMSO-d6)δ: 9.60 (1H, s), 7.35 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.27 (2H, d, J = 8.0 Hz), 5.56 (1H, s), 3.59 (3H, s), 2.35 (3H, s)。
（２）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１H−ピラゾール−３−チオール（工程E−２）
上記（１）の化合物（456.0mg、2.42mmol）のトルエン（4.8ml）溶液にローソン試薬(502.5mg、1.24mmol)を加え、１２０℃で、７時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（259.6mg、収率52.5％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.18 (2H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (0.5H, s), 6.66 (0.5H, s), 3.80 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
（３）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール（工程E−３）
上記（２）の化合物（294.6mg、1.44mmol）の１,４−ジオキサン（8.0ml）溶液に、室温で、水酸化ナトリウム(385.6mg、9.64mmol)、水（3.1ml）及び１,１,１−トリフルオロ−２−ヨードエタン（0.71ml、7.20mmol）を加え、６５℃で、６．５時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、エーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（203.2mg、収率49.2％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.64 (2H, d, J = 8.3Hz), 7.20 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.74 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.36 (3H, s)。
（４）２−メチル−５−｛１−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−1Ｈ−ピラゾール−５−イル｝ベンゼンスルホニルクロリド（工程Ｅ−４）
上記（３）の化合物(200.7mg、0.70mmol)に、氷冷下、クロロスルホン酸(0.70ml、10.53mmol)を加え、５０℃で、４時間加熱撹拌した。反応溶液を、酢酸エチルを含有する氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮し、標記化合物（323.4mg）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.41 (1H, d, J = 1.6 Hz), 8.00 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.44 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, s), 4.02 (3H, s), 3.33 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.81 (3H, s)。
（５）２−メチル−５−｛１−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール−５−イル｝ベンゼンチオール（工程Ｅ−５）
上記（４）の化合物(68.0mg)の酢酸溶液(3.0ml)に、亜鉛（199.4mg、3.05mmol）を加え、３．５時間加熱還流した。反応液に氷水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、次いで、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、標記化合物（31.6mg、２工程での収率67.4％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, s), 7.43 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.73 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.37 (1H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.34 (3H, s)。
（６）１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１H−ピラゾール（化合物番号１−１０９、工程Ｅ−６）
上記（５）の化合物（31.6mg、0.099mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（3ml）溶液に、１,１,１−トリフルオロ−２−ヨードエタン（15μl、0.15mmol）、炭酸カリウム（15.2mg、0.11mmol）及びロンガリット(1.8mg、0.012mmol)を加え、室温で、一晩攪拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（32.1mg、収率80.8％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.46 (2H, q, J =  9.6 Hz), 3.32 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例５１
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（トリフルオロメチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１H−ピラゾール（化合物番号１−１５８、工程Ｃ−８）
２−メチル−５−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]ベンゼンチオール及びトリフルオロメチルヨージドを用いて、実施例１７（８）と同様に、反応し、後処理をして、標記化合物を得る。
更にまた、以下工程Ａ〜Ｅを用いて、以下の実施例５２〜８６の化合物を製造した。
実施例５２
５−｛２−フルオロ−４−メチル−５−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−７９）
３−フルオロ−４−ブロモトルエンを出発原料として、工程Ｃ−４〜Ｃ−８及び工程Ａ−２ａの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 7.2 Hz), 7.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 6.57 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.34 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.56 (3H, s)。
実施例５３
５−[４−メチル−３−（プロピルスルフィニル）フェニル]−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−８５）
４−アセチルトルエンを２，２，２−トリフルオロエチル  トリフルオロアセテートと公知の方法（例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964）等の方法）を用いて反応させ、得られた１，１，１−トリフルオロ−４−ヒドロキシ−４−（４−メチルフェニル）ブト−３−エン−２−オンを出発原料として、工程Ｃ−３〜Ｃ−８及び工程Ａ−３の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.93 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.37 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.66 (1H, s), 4.78-4.69 (2H, m), 2.87-2.78 (1H, m), 2.74-2.67 (1H, m), 2.45 (3H, s), 1.97-1.85 (1H, m), 1.76-1.65 (1H, m), 1.08 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例５４
５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−８６）
４−アセチル−１−ブロモベンゼンを２，２，２−トリフルオロエチル  トリフルオロアセテートと公知の方法（例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964）等の方法）を用いて反応させ、得られた４−（４−ブロモフェニル）−１，１，１−トリフルオロ−４−ヒドロキシブト−３−エン−２−オンを出発原料として、工程Ｃ−３〜Ｃ−８の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.53 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例５５
５−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）スルフィニル]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−８７）
工程Ａ−３を用いて、実施例５４の化合物を酸化して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.04 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.51 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.91-3.81 (1H, m), 3.49-3.39 (1H, m)。
実施例５６
４−[３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−８８）
ジフロロ酢酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程Ｂ−２及びＢ−３の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.73 (1H, 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 6.70 (1H, t, J = 55.1 Hz), 6.61 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
実施例５７
４−｛１−メチル−３−[２,２,２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル]−１H−ピラゾール−５−イル｝−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−８９）
２−トリフロロメチル−３，３，３−トリフロロプロピオン酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程Ｂ−２及びＢ−３の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 8.1, 1.5 Hz), 6.54 (1H, s), 4.40-4.28 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例５８
５−｛４−エチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９０）
（１）１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−５−［３−ニトロ−４−（２−トリメチルシリルエチニル）フェニル］−１Ｈ−ピラゾール
１−メチル−3−（トリフルオロメチル）−5−（４−ブロモフェニル）−1Ｈ−ピラゾールを工程Ｃ−４の反応及び後処理に付し、得られた１−メチル−3−（トリフルオロメチル）−5−（３−ニトロ−４−ブロモフェニル）−1Ｈ−ピラゾール（３．４２g、９．７mmol）のトリエチルアミン（２０ml）溶液に、トリメチルシリルアセチレン（２．１ml、１４．７mmol）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（２２．４mg、０．１mmol）、トリフェニルホスフィン（８３．５mg、０．３mmol）及びヨウ化第一銅（１２．３mg、０．０６mmol）を加えた後、１００℃で、４時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却した後、減圧下濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和塩化アンモニウム溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、標記化合物（２．７２g）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.78 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 7.7, 1.7 Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 0.30 (9H, s)。
（２）５−(３−ニトロ−４−エチニルフェニル)−１−メチル−３−(トリフルオロメチル)−１Ｈ−ピラゾール
上記（１）の化合物（１．１０g、３．０mmol）のメタノール（１０ml）溶液に炭酸カリウム（４１．４mg、０．３mmol）を加え、室温で２時間攪拌した。その後、減圧で濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製し、標記化合物（０．８１g）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.68 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.65 (1H, s)。
（３）２−エチル−５−［１−メチル−３−(トリフルオロメチル)−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］アニリン
上記（２）の化合物（０．７９g、２．７mmol）のメタノール（１０ml）溶液に５％Ｐｄ−ＣａＣＯ３−ＰｂＯ（１００mg）を加え、水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応容器を窒素で置換した後、反応液をセライトでろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（０．２６g）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.16 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.76 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.49 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.77 (2H, br s), 2.56 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
（４）５−｛４−エチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９０）
上記（３）の化合物（２６０mg、０．９mmol）のアセトニトリル（２ml）溶液に、２，２’−ジチオビス（１，１，１−トリフルオロエタン）（３３１．５mg、１．４mmol）及び亜硝酸ｔ−ブチル（１４０μｌ、１．２mmol）を加え、室温下２時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：アセトニトリル／水＝８０／２０）で精製し、標記化合物（２６．０mg）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.92 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.29 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例５９
１−メチル−５−｛４−（２−プロぺニル）−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９１）
実施例５４の化合物（209mg、0.5mmol）のトルエン(2ml)溶液に、２−プロぺニルトリブチルスズ（182mg、0.55mmol）、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム（０）（14.4mg、0.025mmol）及びトリフェニルホスフィン（27.8mg、0.mmol）加え、窒素雰囲気下、１３０℃で、４時間加熱攪拌した。反応液を冷却した後、セライトでろ過し、ろ液を１０％アンモニア水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、標記化合物（113.4mg）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.56 (1H, s), 6.04-5.95 (1H, m), 5.19-5.15 (1H, m), 5.11-5.05 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.69 (2H, d, J = 6.2 Hz), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例６０
５−｛４−エテニル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９２）
実施例５４の化合物とトリブチルビニルスズを用いて、実施例５９と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.68 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 17.2, 11.0 Hz), 6.58 (1H, s), 5.84 (1H, d, J = 17.2 Hz), 5.52 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.93 (3H, s), 3.36 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例６１
４−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９３）
（１）４−クロロ−１−メチル−５−（４−メチル−３−ニトロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール
４−ブロモ−２−ニトロトルエンを、工程Ｃ−１の反応に付し、得られた1−メチル−５−（４−メチル−３−ニトロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（２４８．６mg、０．８４mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドホルム（２．８ml）溶液に、Ｎ−クロロスクシンイミド（１４４mg）を加え、７０℃で６時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、標記化合物（１８５．６mg、収率６６．９％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.45 (1H, s), 8.13 (1H, d, J=7.9Hz), 7.95 (1H, d, J=7.9Hz), 3.97 (3H, s)。
（２）４−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９３）
上記（１）の化合物を、工程Ｃ−５〜Ｃ−８の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.27-7.24 (1H, m), 3.84 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.55 (3H, s)。
実施例６２
４−[４−クロロ−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−９４）
４−ブロモ−２−フルオロベンゾニトリルを出発原料として、実施例６１の前段と同様に反応し、後処理して、得られた１−メチル−４−クロロ−５−（４−シアノ−３−フルオロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾールを、工程Ａ−２ｂの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 3.88 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例６３
５−｛４−（ジフルオロメチル）−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９５）
４−ブロモ−３−フルオロベンズアルデヒドを、工程Ａ−１ａ及びＡ−２ａの反応及び後処理に付し、得られた４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンズアルデヒド（１８９．１mg，０．５１mmol）を塩化メチレン（２ml）に溶かし、デオキソフロー（０．１４ml）を加え、室温で１５時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、標記化合物（６２．４mg、収率３０．８％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, s), 7.55 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.19 (1H, t, J = 55.0 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例６４
１−メチル−５−｛４−プロピル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９６）
１−ブロモ−４−プロピルベンゼンを出発原料として、工程Ｃ−４〜Ｃ−８及びＡ−２ａの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.28 (2H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.86 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.69 (2H, tt, J = 7.6, 7.6 Hz), 1.02 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例６５
５−｛４−シクロプロピル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９７）
（１）４−ブロモ−１−シクロプロピル−２−ニトロベンゼン
硝酸銅三水和物（３．１４g、１３．０mmol）の酢酸（６ml）と無水酢酸（14ml）の溶液に、氷冷下、酢酸（４ml）と無水酢酸（１０ml）の混合溶液に溶解した４−ブロモシクロプロピルベンゼン（２．３２g、１１．８mmol）を加え、室温下８時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出した。抽出液を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３０／１）で精製し、標記化合物（１．３７g）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.59 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.4 Hz), 2.33 (1H, tt, J = 6.9, 4.5 Hz), 1.11-1.03 (2H, m), 0.73-0.66 (2H, m)。
（２）５−｛４−シクロプロピル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９７）
上記（１）の化合物を出発原料として、工程Ｃ−４〜Ｃ−８及びＡ−２ａの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.01 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.48-2.41 (1H, m), 1.15-1.10 (2H, m), 0.81-0.77 (2H, m)。
実施例６６
４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンズアルデヒド  Ｏ−メチルオキシム（化合物番号１−９８）
４−ブロモ−３−フルオロベンズアルデヒドを、工程Ａ−１ａ及びＡ−２ａの反応及び後処理に付して、得られた４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンズアルデヒド（１１３．０mg，０．３１mmol）を、メタノール（２ｍｌ）に溶かし、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン（３２．７mg）を加え、室温で、２時間撹拌した。さらにテトラヒドロフラン（１ｍｌ）を加え、室温で、一晩撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）で精製し、標記化合物（２６．５mg、収率２０．８％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.69 (1H, s), 8.01 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.93 (3H, s), 3.37 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例６７
３−（ジフルオロメトキシ）−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−９９）
実施例６８（１）の化合物を、実施例６８（３）と同様に反応し、後処理して、得られた３−ジフロロアセチル−１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾールを出発原料として、工程Ｃ−４〜Ｃ−８の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.49 (1H, s), 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, t, J = 73.6 Hz), 5.91 (1H, s), 3.75 (3H, s), 3.42 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.52 (3H, s)。
実施例６８
３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１００）
（１）３−ヒドロキシ−１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール及び３−ヒドロキシ−２−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール
エチル  ３−（４−メチルフェニル）プロプ−２−イノアート（６．０３g、３２．０mmol）を、エタノール（３２ｍｌ）および水（３２ｍｌ）に溶かし、メチルヒドラジン（１．９ml、３５．２mmol）を加え、６０℃で７時間撹拌した。室温まで冷却した後、減圧で濃縮し、生じた結晶をろ取した。この結晶を、冷やした酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥した。生じた結晶（ピラゾロン位置異性体、１−メチル体及び２メチル体の混合物）は、精製することなく次の工程に用いた。
（２）１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１，２−ジヒドロ−３Ｈ−ピラゾール−３−チオン
上記の（１）の化合物（粗生成物：４５６．０mg）をトルエン（４．８ml）に加え、ローソン試薬（５０２．５mg）を加え、７時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、標記化合物（２５９．６mg、収率５２．５％）を得た。
（３）３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール
上記（２）の化合物（２５４．１mg、１．２４mmol）を１，４−ジオキサン（４．１ml）に溶かし、水酸化ナトリウム（２６１．９mg、５．３mmol）を水（１．６ml）に溶かした溶液を加え、６０〜６５℃に加熱した。本反応液に、クロロジフルオロメタンのガスを２分間導入し、その後、同温度で４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、標記化合物（９９．５mg、収率３１．５％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.66 (2H, d, J=7.9Hz), 7.20 (2H, d, J=7.9Hz), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 2.37 (3H, s)。
（４）３−ジフロロメチルチオ−１−メチル−５−（４−メチル−３−クロロスルホニルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール
上記（３）の化合物を、氷冷下、クロロスルホン酸（２３３．４mg, ２．０mmol）の中に加え、５０℃で２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物（１１４．７mg）を得た。本化合物はこれ以上精製することなく次の工程に供した。
（５）Ｓ−(５−{３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル}−２−メチルフェニル）エタンチオアート
上記（４）の化合物（１１４．７mg）を、酢酸（３ml）に溶かし、酢酸ナトリウム（１３４．０mg）および亜鉛粉末（１０８．０mg）を加え、１時間、加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、セライトにてろ過した。ろ液を氷水中に注ぎ、アンモニア水で中和し、その水層を酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、標記化合物（７５．９mg、収率７１％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.82 (1H, d, J=1.4Hz), 7.73 (1H, d, J=7.6, 1.4Hz), 7.34 (1H, d, J=7.6Hz), 6.85 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.4Hz), 4.00 (3H, s), 2.43 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
（６）５−{３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル}−２−メチルベンゼンチオール
上記（５）の化合物（７３．９mg、０．２３mmol）をエタノール（３．０ml）に溶かし、６規定水酸化ナトリウム水溶液（０．４４ml）を加え、２ 時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。水層に氷を加え、続いて、６規定塩酸水溶液で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物（６３．３mg、収率９８．２％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.70 (1H, brd. s), 7.44 (1H, dd, J=7.7, 1.6Hz), 7.17 (1H, d, J=7.7Hz), 6.83 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 3.38(1H, s), 2.34 (3H, s)。
（７）３−[（ジフルオロメチル）チオ]−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１００）
上記（６）の化合物（６３．３mg、０．２２mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(２．０ml)に溶かし、氷冷下、水素化ナトリウム（６０％鉱油中、１２．３mg）および１，１，１−トリフルオロ−２−ヨードエタン（２８μｌ）を加え、８０℃で１時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、標記化合物（３８．２mg、収率４６．９％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, s), 7.60 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85 (1H, s), 6.73 (1H, t, J = 56.4 Hz), 4.01 (3H, s), 3.45 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例６９
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１０９）
クロロジフルオロメタンの代わりに、１，１，１−トリフルオロ−２−ヨードエタンを用いる他、実施例６８と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.50-3.25 (4H, m), 2.48 (3H, s)。
実施例７０
５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１４５）
プロピルブロミドの代わりに、１,１,１−トリフルオロ−２−ヨードエチルを用いる他、実施例５３と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.22 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.67 (3H, q, J = 7.8 Hz), 3.42 (3H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。
実施例７１
３−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１４６）
（１）３−メチル−１−（２，２，２−トリフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル トリフルオロメタンスルホナート
エチル  ３−オキソブタン酸を、工程Ｂ−３の反応及び後処理に付し、得られた３−メチル−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−オール及び３−メチル−２−（２,２,２−トリフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの混合物（３．６０g、２０．０mmol）のジクロロメタン（２０ml）溶液に、氷冷下、トリエチルアミン（２．２３g、２２．０mmol）及び無水トリフルオロメタンスルホン酸（６．２１g、２２．０mmol）を加え、同温度で、１時間攪拌した。反応混合物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製し、標記化合物（６．０６g）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 6.05 (1H, s), 4.58 (2H, q, J = 8.0 Hz), 2.27 (3H, s)。
（２）３−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１４６）
上記（１）の化合物を出発原料として、工程Ｃ−１及びＣ−４〜Ｃ−８の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.14 (1H, s), 4.55 (2H, q, J = 8.2 Hz), 3.42 (2H, q, J = 9.4 Hz), 2.51 (3H, s), 2.33 (3H, s)。
実施例７２
４−[１−メチル−３−（ノナフルオロブチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−１４７）    ペルフロロペンタン酸を出発原料として、実施例５７と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.1Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例７３
５−｛４−エチニル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１４８）    ５−（４−ブロモフェニル）−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾールを工程Ｃ−４の反応及び後処理に付し、得られた５−（４−ブロモ−３−ニトロフェニル）−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾールを実施例５８（１）と同様に反応し、後処理して、得られた５−［４−（２−トリメチルシリル）エチニル−３−ニトロフェニル］−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾールを出発原料として、工程Ｃ−５〜Ｃ−８の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.66 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.59 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.59 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.59 (1H, s)。
実施例７４
３−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−４,５−ジヒドロ−１,２,４−オキサジアゾール（化合物番号１−１４９）
（１）Ｎ’−ヒドロキシ−４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゼンカルボキシミダミド
４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−５５）（１．００g、２．７４mmol）を、１，４−ジオキサン（１０ml）に溶かし、ヒドロキシルアミン塩酸塩（９５３．４mg、１３．７mmol）およびトリエチルアミン（１．９ml、１３．７mmol）を加え、７０℃で６時間加熱撹拌し、さらに還流下２時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１〜１／４）で精製し、標記化合物（５３６．５mg、収率４９．２％）を得た。
（２）３−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−４,５−ジヒドロ−１,２,４−オキサジアゾール（化合物番号１−１４９）
上記（１）の化合物（２４８．３mg、０．６２mmol）をアセトニトリル（５．５ml）に溶かし、３７％ホルムアルデヒド水溶液（０．２６ml）および酢酸（０．１ml）を加え、室温で３０分間撹拌し、さらに還流下１時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、標記化合物（２９．７mg、収率１１．６％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.45 (1H, dd, J = 8.1, 1.7 Hz), 6.61 (1H, s), 5.54 (2H, d, J = 4.0 Hz), 5.16 (1H, br s), 3.94 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例７５
３−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１,２,４−オキサジアゾール（化合物番号１−１５０）
実施例７４（１）の化合物（１０２．１mg、０．２６mmol）をエタノール（２．６ml）に溶かし、オルト蟻酸エチル（０．２６ml、１．５６mmol）および濃硫酸（２滴）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製し、標記化合物（３２．１mg、収率３０．７％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例７６
２−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１,３−チアゾール（化合物番号１−１５１）
５−［４−ブロモ−３−（２,２,２−トリフルオロエチルチオ）フェニル］−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾールを実施例５９と同様に反応し、後処理して、標記化合物（収率３９％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.73 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.54 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.64 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例７７
１−｛４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝エタノール（化合物番号１−１５２）
５−［４−ブロモ−３−（２,２,２−トリフルオロエチルチオ）フェニル］−１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾールを（１−エトキシエテニル）トリブチルスズを実施例５９と同様に反応し、後処理して、得られた１−{４−[１−メチル−３−(トリフルオロメチル)−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−［（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ］フェニル}エタノン（１５３mg、０．４mmol）のメタノール（５ml）溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（１８．２mg、０．４mmol）を加え、室温下１時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：アセトニトリル／水＝６０／４０）で精製し、標記化合物（７８．７mg）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 6.57 (1H, s), 5.57-5.50 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.53-3.44 (2H, m), 1.99 (1H, d, J = 4.1 Hz), 1.55 (3H, d, J = 6.2 Hz)。
実施例７８
４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンズアルデヒド  オキシム（化合物番号１−１５３）
４−ブロモ−２−フルオロベンズアルデヒドを、工程Ａ−１ａ及びＡ−２ａの反応に付し、得られた４−[１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンズアルデヒドを実施例６６の後段の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.77 (1H, s), 7.98-7.95 (2H, m), 7.67 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 8.0, 1.8 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.39 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例７９
３−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５４）
（１）３−クロロ−１−メチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール
実施例６８（１）の化合物（２５８．０mg、１．３７mmol）にオキシ塩化リン（１．４ml、１５．０mmol）を加え、シールドチューブ中、１８０℃で５分間加熱した。反応液を室温まで冷却し、氷水中に注いだ。反応液に炭酸カリウムを加え、中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、標記化合物（１２７．５mg、収率４５．０％）得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (1H, d, J=7.9Hz), 7.19 (1H, d, J=7.9Hz), 6.46 (1H, s), 3.87 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
（２）３−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５４）
上記（１）の化合物を、工程Ｅ−４〜Ｅ−６の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.47 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例８０
３−クロロ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）スルフィニル]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５５）
実施例７９の化合物を、工程Ａ−３の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.28 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.85 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.28 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.57 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.52-3.36 (2H, m), 2.41 (3H, s)。
実施例８１
３−ブロモ−１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５６）
オキシ塩化リンの代わりに、オキシ臭化リンを用いる他、実施例７９と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.55 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例８２
１−メチル−５−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−３−[４−（トリフルオロメチル）フェニル]−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号１−１５７）
実施例８１の化合物を、工程Ａ−１ｂの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, s), 7.76-7.58 (5H, m), 7.29-7.26 (1H, m), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例８３
３−｛４−メチル−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号２−１０）
４−アセチルトルエンを出発原料として、実施例７０と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.63 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.29 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.98 (1H, s), 4.84 (3H, q, J = 8.0 Hz), 3.45 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例８４
３−｛４−ブロモ−３−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]フェニル｝−１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号２−１１）
４−アセチル−１−ブロモベンゼンを出発原料として、実施例５４と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.96 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.88 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例８５
３−［４−メチル−３−（プロピルチオ）フェニル]−１−（２,２,２−トリフルオロエチル）−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール（化合物番号２−１２）
４−アセチルトルエンを出発原料として、実施例８３と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.47 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.21 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.96 (1H, s), 4.84 (2H, q, J = 7.6 Hz), 2.95 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.39 (3H, s), 1.77-1.69 (2H, m), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例８６
４−[５−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−[（２,２,２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号２−１３）
ジフロロ酢酸を出発原料として、実施例５６と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.82 (1H, s), 6.77 (1H, t, J = 53.7 Hz), 4.05 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例８７
４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−５５）及び４−［１−メチル−５−（トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル）−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号２−１）
（１）２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]−４−（４，４，４−トリフルオロ−１−ヒドロキシ−３−オキソ−１−ブテニル）ベンゾニトリル（工程Ｂ−４）
実施例１３（２）で得られた４−（１−エトキシ−４，４，４−トリフルオロ−３−オキソ−１−ブテニル）−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ] ベンゾニトリル（９６．６mg，０．２５mmol）をメタノール（３ml）に溶かし、２Ｎ塩酸（１．０ml）を加え、５０℃で３時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水及び水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物（８７．２mg、収率９７％）を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：8.19 (1H, d, J=1.5Hz), 7.94 (1H, dd, J=8.2, 1.5Hz), 7.84 (1H, d, J=8.2Hz), 6.56 (1H, s), 3.63 (2H, q, J=9.3Hz)。
（２）４−［１−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号１−５５、工程Ｂ−３）及び４−［１−メチル−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−２−[（２，２，２−トリフルオロエチル）チオ]ベンゾニトリル（化合物番号２−１、工程Ｂ−３）
上記（２）の化合物（５５．４mg、０．１６mmol）をエタノール（３．０ml）に溶かし、酢酸（１５０μl）及びメチルヒドラジン（１３μl）を加え、２時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧で濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝3／1）で精製し、化合物番号１−５５の化合物（１９．９mg、収率３５％）及び化合物番号２−１の化合物（１．９ｍg、収率３％）を得た。
化合物番号１−５５の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：7.84 (1H, d, J=7.9Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J=7.9Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号２−１の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ：8.09 (1H, d, J=1.6Hz), 7.81 (1H, dd, J=7.9, 1.6Hz), 7.73 (1H, d, J=7.9Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。【０２４８】
以下の製剤例において、化合物及び補助剤の種類及び配合比率はこれらのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。また、以下の説明において、％は質量百分率を示す。【０２４９】
製剤例１
乳剤
化合物番号１の化合物５％に、キシレン４２．５％及びジメチルスルホキシド４２．５％を加え溶解し、次いでこれにポリオキシエチレンヒマシ油エーテルとアルキルベンゼンスルホン酸カルシウムの混合物（８：２）１０％を混合して、乳剤を得た。本剤は水で希釈し、散布液として使用する。【０２５０】
製剤例２
水和剤
化合物番号１の化合物５％にカオリン７９％及び珪藻土１０％を混合し、更にラウリル硫酸ナトリウム３％及びリグニンスルホン酸ナトリウム３％を混合して微粉砕して、水和剤を得た。本剤は水で希釈して散布液として使用する。【０２５１】
製剤例３
粉剤
化合物番号１の化合物１％にタルクと炭酸カルシウムの混合物（１：１）９９％を加え、混合後、粉砕して、粉剤を得た。本剤はこのまま散布して使用する。【０２５２】
製剤例４
粒剤
化合物番号１の化合物２％をベントナイト微粉末３０％、タルク６６％、リグニンスルホン酸ナトリウム２％と混合した後、水を加えて均等になるまで混練する。次に造粒機を通して造粒し整粒機、乾燥機、篩を通すことにより、粒径０．６〜１．０mmの粒剤を得た。本剤はこのまま土壌面に散布して使用する。【０２５３】
製剤例５
油剤
化合物番号１の化合物０．１％を白灯油に溶解し、全体を１００％とし油剤を得た。【０２５４】
試験例１
ナミハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を３００ppm含有し、これに展着剤０．０１％を加用した薬液を調製した。ササゲ（Ｖｉｇｎａ  ｓｉｎｅｎｉｓ  Ｓａｖｉ）の初生葉に、ナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｕｒｔｉｃａｅ）雌成虫を接種した。接種１日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液７mlを、散布液量が３．５mg／cm2 葉になるように散布した。風乾後、ササゲ葉を２５℃の恒温室内に保存し、３日後成虫の生死を調べ、死虫率（％）を算出した。
その結果、以下の化合物が１００％の死虫率を示した。
化合物番号１−３、化合物番号１−４、化合物番号１−７、化合物番号１−８、化合物番号１−９、化合物番号１−１０、化合物番号１−１１、化合物番号１−１２、化合物番号１−１３、化合物番号１−１５、化合物番号１−１６、化合物番号１−１７、化合物番号１−１９、化合物番号１−２３、化合物番号１−３５、化合物番号１−４１、化合物番号１−４３、化合物番号１−５５、化合物番号１−５６、化合物番号１−６１、化合物番号１−６４、化合物番号１−６５、化合物番号１−６６、化合物番号１−６７、化合物番号１−６８、化合物番号１−６９、化合物番号１−７０、化合物番号１−７１、化合物番号１−７２、化合物番号１−７３、化合物番号１−７４、化合物番号１−７５、化合物番号１−７６、化合物番号１−７７、化合物番号１−７８、化合物番号１−７９、化合物番号１−８６、化合物番号１−８７、化合物番号１−８８、化合物番号１−８９、化合物番号１−９０、化合物番号１−９１、化合物番号１−９２、化合物番号１−９３、化合物番号１−９４、化合物番号１−９５、化合物番号１−９６、化合物番号１−９７、化合物番号１−９８、化合物番号１−９９、化合物番号１−１００、化合物番号１−１０９、化合物番号１−１４７、化合物番号１−１４８、化合物番号１−１４９、化合物番号１−１５０、化合物番号１−１５１、化合物番号１−１５２、化合物番号１−１５３、化合物番号１−１５４、化合物番号１−１５５、化合物番号１−１５６、化合物番号１−１５７、化合物番号２−１、化合物番号２−３、化合物番号２−９、化合物番号２−１０、化合物番号２−１１、化合物番号２−１２及び化合物番号２−１３の化合物。 【０２５５】
試験例２
ミカンハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を３００ppm含有し、これに展着剤０．０１％を加用した薬液を調製した。クワ（Ｍｏｒｕｓ  ｂｏｍｂｙｃｉｓ）葉に、ミカンハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ  ｃｉｔｒｉ）雌成虫を接種した。接種１日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液７mlを、散布液量が３．５mg／cm2 葉になるように散布した。風乾後、クワ葉を２５℃の恒温室内に保存し、３日後成虫の生死を調べ、死虫率（％）を算出した。
その結果、以下の化合物が１００％の死虫率を示した。
化合物番号１−３、化合物番号１−４、化合物番号１−７，化合物番号１−８，化合物番号１−９化合物番号、化合物番号１−１０、化合物番号１−１１、化合物番号１−１２、化合物番号１−１３、化合物番号１−１５、化合物番号１−１６、化合物番号１−１７、化合物番号１−１９、化合物番号１−２３、化合物番号１−３５、化合物番号１−４１、化合物番号１−４３、化合物番号１−５５、化合物番号１−５６、化合物番号１−６１、化合物番号１−６３、化合物番号１−６４、化合物番号１−６５、化合物番号１−６６、化合物番号１−６７、化合物番号１−６８、化合物番号１−６９、化合物番号１−７０、化合物番号１−７１、化合物番号１−７２、化合物番号１−７３、化合物番号１−７４、化合物番号１−７５、化合物番号１−７７、化合物番号１−７８、化合物番号１−７９、化合物番号１−８５、化合物番号１−８６、化合物番号１−８７、化合物番号１−８８、化合物番号１−８９、化合物番号１−９０、化合物番号１−９１、化合物番号１−９２、化合物番号１−９３、化合物番号１−９４、化合物番号１−９５、化合物番号１−９６、化合物番号１−９７、化合物番号１−９８、化合物番号１−９９、化合物番号１−１００、化合物番号１−１０９、化合物番号１−１４５、化合物番号１−１４６、化合物番号１−１４７、化合物番号１−１４９、化合物番号１−１５０、化合物番号１−１５４、化合物番号１−１５５、化合物番号１−１５６、化合物番号２−１、化合物番号２−３、化合物番号２−１０及び化合物番号２−１１の化合物。
殺成虫率（％）＝死虫数／放虫数×１００
【産業上の利用可能性】
【０２５６】
本発明の（３−硫黄原子置換フェニル）ピラゾール誘導体は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類及び植物寄生性線虫類等の広範囲の害虫に対して優れた防除効果を示し、農園芸用殺虫剤として有用である。