(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式（１）で表されるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物。
【化１】
0005177731.tif 000043
（式（１）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ａは下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがＡ３基である。
Ａ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ａ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ａ３基：下記の式（３）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基、下記の式（４）で示されるエポキシオキシフェニル置換インダンオキシ基および下記の式（５）で示されるエポキシオキシインダン置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化３】
0005177731.tif 000044
【化４】
0005177731.tif 000045
【化５】
0005177731.tif 000046
式（３）、（４）および（５）中のＥは、炭素数が２〜６のエポキシオキシ基を示し、式（３）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（４）および式（５）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項２】
式（１）において、２ｎ個のＡのうちの２〜（２ｎ−２）個がＡ３基である、請求項１に記載のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項３】
式（３）、（４）および（５）においてＥで示される前記エポキシオキシ基がグリシジルオキシ基である、請求項１または２に記載のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項４】
式（１）のｎが３若しくは４である、請求項１から３のいずれかに記載のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項５】
式（１）のｎが異なる二種以上のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を含む、請求項１から４のいずれかに記載のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項６】
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＥ３基により置換されるよう下記のＥ１基、Ｅ２基およびＥ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する工程と、
【化６】
0005177731.tif 000047
（式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
Ｅ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｅ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｅ３基：下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化８】
0005177731.tif 000048
【化９】
0005177731.tif 000049
【化１０】
0005177731.tif 000050
（式（８）、式（９）および式（１０）中のＧは、炭素数２〜６のアルケニル基を示し、式（８）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（９）および式（１０）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
前記環状ホスホニトリル置換体のＥ３基においてＧで示される前記アルケニル基を酸化してエポキシ基に変換する工程と、
を含むエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【請求項７】
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する工程と、
【化１１】
0005177731.tif 000051
（式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（１２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１３）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１４）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化１３】
0005177731.tif 000052
【化１４】
0005177731.tif 000053
【化１５】
0005177731.tif 000054
（式（１２）、式（１３）および式（１４）中のＺは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示し、式（１２）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（１３）および式（１４）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
前記環状ホスホニトリル置換体のＱ３基から前記保護基を脱離させ、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を得る工程と、
塩基の存在下において、前記ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとを反応させる工程と、
を含むエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【請求項８】
樹脂成分と、
請求項１から５のいずれかに記載のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物と、
を含む樹脂組成物。
【請求項９】
前記樹脂成分がエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれたものである、請求項８に記載の樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、環状ホスファゼン化合物およびその製造方法、特に、エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
産業用および民生用の機器並びに電気製品などの分野において、合成樹脂は、その加工性、耐薬品性、耐候性、電気的特性および機械的強度等の点で他の材料に比べて優位性を有するため多用されており、また、使用量が増加している。しかし、合成樹脂は、燃焼し易い性質を有するため、難燃性の付与が求められており、近年その要求性能が次第に高まっている。このため、ＬＳＩ等の電子部品の封止剤や基板等に使用されている樹脂組成物、例えばエポキシ樹脂組成物は、難燃化するために、ハロゲン含有化合物やハロゲン含有化合物と酸化アンチモンなどのアンチモン化合物との混合物が一般的な難燃剤として添加されている。ところが、このような難燃剤を配合した樹脂組成物は、燃焼時や成形時等において、環境汚染のおそれがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。また、ハロゲン系ガスは、電子部品の電気的特性や機械的特性を阻害する可能性がある。そこで、最近では、合成樹脂用の難燃剤として、燃焼時や成形時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの金属水和物系難燃剤やリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスファゼン系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。
【０００３】
このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出が合成樹脂の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂組成物に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂組成物の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系のものは、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂組成物に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系およびポリリン酸アンモニウム系のものは、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。これらに対し、ホスファゼン系の難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べて可塑効果および加水分解性が小さく、樹脂組成物に対する添加量を大きくすることができるため、特許文献１〜５に記載のように、合成樹脂用の有効な難燃剤として多用されつつあるが、樹脂組成物に対する添加量を増やすと、高温下における樹脂成形品の信頼性を損なう可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品からホスファゼン系難燃剤がブリードアウト（溶出）し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられている場合は変形によるショートを引き起こす可能性がある。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１０３９３９号公報
【特許文献２】特開２００４−８３６７１号公報
【特許文献３】特開２００４−２１０８４９号公報
【特許文献４】特開２００５−８８３５号公報
【特許文献５】特開２００５−２４８１３４号公報
【０００５】
そこで、ホスファゼン系の難燃剤は、高温下での樹脂成形品の信頼性（高温信頼性）を高めるための改良が検討されており、その例として特許文献６〜１０には、エポキシ基を有するホスファゼン系の難燃剤およびそれを用いたエポキシ樹脂組成物が開示されている。この種のホスファゼン系難燃剤は、樹脂組成物に対して多量に添加した場合であっても樹脂成形品の高温信頼性を損ないにくいが、添加量を増しても樹脂成形品の難燃性を効果的に高めるのが困難という、それが要求される本質的効果の点で不十分であり、また、樹脂成形品の機械的特性（特に、高いガラス転移温度）を損なうことにもなる。
【０００６】
【特許文献６】特開平３−１６３０９０号公報
【特許文献７】特開平６−２４７９８９号公報
【特許文献８】特開平８−１９３０９１号公報
【特許文献９】特開２００１−３３５６７６号公報
【特許文献１０】特開２００４−８３８２３号公報
【０００７】
本発明の目的は、樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性を損ないにくいホスファゼン化合物を実現することにある。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、エポキシ基を有する新規なホスファゼン化合物を含む樹脂組成物からなる成形体が優れた機械的特性および難燃性を示し、同時に高温下での信頼性が高いことを見出した。
【０００９】
本発明のホスファゼン化合物は、下記の式（１）で表されるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物である。
【００１０】
【化１】
0005177731.tif 000002
式（１）中、ｎは３〜１５の整数を示す。また、Ａは、下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがＡ３基である。
Ａ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ａ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ａ３基：下記の式（３）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基、下記の式（４）で示されるエポキシオキシフェニル置換インダンオキシ基および下記の式（５）で示されるエポキシオキシインダン置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【００１２】
【化３】
0005177731.tif 000003
【００１３】
【化４】
0005177731.tif 000004
【００１４】
【化５】
0005177731.tif 000005
【００１５】
式（３）、（４）および（５）中のＥは、炭素数が２〜６のエポキシオキシ基を示す。また、式（３）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示す。さらに、式（４）および式（５）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。
【００１６】
このエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式（１）において、２ｎ個のＡのうちの２〜（２ｎ−２）個がＡ３基である。また、このエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式（３）、（４）および（５）においてＥで示されるエポキシオキシ基がグリシジルオキシ基である。
【００１７】
また、このエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式（１）のｎが３若しくは４である。さらに、このエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式（１）のｎが異なる二種以上のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を含んでいる。
【００１８】
本発明に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は、次の工程１および工程２を含んでいる。
［工程１］
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＥ３基により置換されるよう下記のＥ１基、Ｅ２基およびＥ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
【００１９】
【化６】
0005177731.tif 000006
式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。
【００２０】
Ｅ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｅ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｅ３基：下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【００２２】
【化８】
0005177731.tif 000007
【００２３】
【化９】
0005177731.tif 000008
【００２４】
【化１０】
0005177731.tif 000009
【００２５】
式（８）、式（９）および式（１０）中のＧは、炭素数２〜６のアルケニル基を示す。式（８）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示す。式（９）および式（１０）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。
【００２６】
［工程２］
工程１で得られた環状ホスホニトリル置換体のＥ３基においてＧで示されるアルケニル基を酸化してエポキシ基に変換する工程。
【００２７】
また、本発明に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の他の製造方法は、次の工程１〜工程３を含んでいる。
［工程１］
上記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
【００２８】
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（１２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１３）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１４）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【００３０】
【化１２】
0005177731.tif 000010
【００３１】
【化１３】
0005177731.tif 000011
【００３２】
【化１４】
0005177731.tif 000012
式（１２）、式（１３）および式（１４）中のＺは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示す。式（１２）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示す。式（１３）および式（１４）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。
【００３３】
［工程２］
工程１において得られた環状ホスホニトリル置換体のＱ３基から保護基（Ｚ）を脱離させ、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を得る工程。
【００３４】
［工程３］
塩基の存在下において、工程２において得られたヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとを反応させる工程。
【００３５】
本発明の樹脂組成物は、樹脂成分と、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物とを含んでいる。ここで用いられる樹脂成分は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれたものである。
【００３６】
本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物からなるものである。
【発明の効果】
【００３７】
本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、上述のような特定の構造を有するものであるため、樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性を損ないにくい。
【００３８】
本発明に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の各製造方法は、上述のような工程を含むものであるため、本発明に係る上述のような特定の構造を有するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。
【００３９】
本発明の樹脂組成物は、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を難燃剤として含むため、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性の高い樹脂成形体を得ることができる。
【００４０】
本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物からなるため、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物
本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式（１）で表されるものである。
【００４２】
【化１５】
0005177731.tif 000013
【００４３】
式（１）において、ｎは、３から１５の整数を示しているが、３から８の整数が好ましく、３若しくは４が特に好ましい。すなわち、このエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物として特に好ましいものは、ｎが３のエポキシ基含有シクロトリホスファゼン（３量体）およびｎが４のエポキシ基含有シクロテトラホスファゼン（４量体）である。また、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、ｎが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。
【００４４】
また、式（１）において、Ａは、下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれた基を示している。但し、Ａのうちの少なくとも一つはＡ３基である。
【００４５】
［Ａ１基］
炭素数が１〜８のアルコキシ基。このアルコキシ基は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、エテニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基、１−プロピル−２−ブテニルオキシ基、５−オクテニルオキシ基、ベンジルオキシ基および２−フェニルエトキシ基等を挙げることができる。このうち、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、１−プロペニルオキシ基およびベンジルオキシ基が好ましく、エトキシ基およびｎ−プロポキシ基が特に好ましい。
【００４６】
［Ａ２基］
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ペンチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、１−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、１−ブテニルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブテニルフェノキシ基、１−ペンテニルフェノキシ基、１−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、１−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。
【００４７】
［Ａ３基］
下記の式（２）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基、下記の式（３）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基、下記の式（４）で示されるエポキシオキシフェニル置換インダンオキシ基および下記の式（５）で示されるエポキシオキシインダン置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【００４８】
【化１６】
0005177731.tif 000014
【００４９】
【化１７】
0005177731.tif 000015
【００５０】
【化１８】
0005177731.tif 000016
【００５１】
【化１９】
0005177731.tif 000017
【００５２】
式（２）、（３）、（４）および（５）において、Ｅは、炭素数が２〜６のエポキシオキシ基を示す。炭素数が２〜６のエポキシオキシ基としては、例えば、１，２−エポキシエトキシ基、１，２−エポキシプロピルオキシ基、２，３−エポキシプロピルオキシ基（すなわち、グリシジルオキシ基）、１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ基、１，２−エポキシブトキシ基、２，３−エポキシブトキシ基、３，４−エポキシブトキシ基、１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ基、４，５−エポキシペンチルオキシ基および５，６−エポキシヘキシルオキシ基等を挙げることができる。これらのエポキシオキシ基の中でも、エポキシエトキシ基、１，２−エポキシプロピルオキシ基、２，３−エポキシプロピルオキシ基（グリシジルオキシ基）、１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ基、１，２−エポキシブトキシ基、２，３−エポキシブトキシ基および３，４−エポキシブトキシ基が好ましく、１，２−エポキシプロピルオキシ基、２，３−エポキシプロピルオキシ基（グリシジルオキシ基）および３，４−エポキシブトキシ基が特に好ましい。
【００５３】
特に、Ｅがグリシジルオキシ基の場合、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、後述する樹脂組成物において用いられると、エポキシ基（反応性基）が樹脂成分と反応して固定化されやすいことから、当該樹脂組成物のガラス転移温度をより高くすることができ、また、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体の高温信頼性をより効果的に高めることができる。
【００５４】
また、式（３）において、Ｙは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示す。
【００５５】
さらに、式（４）および式（５）において、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示しており、アルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基の場合は、それぞれ、結合している環構造に対して同種若しくは異種のものが複数個結合していてもよい。
【００５６】
上述のＡ３基の具体例としては、次のものを挙げることができる。
＜式（２）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基＞
４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基等。このうち、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基が好ましく、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基が特に好ましい。
【００５７】
＜式（３）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基＞
４’−エポキシオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基および４’−エポキシオキシベンゾイル−４−フェニルオキシ基等。このうち、４’−エポキシオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシベンゾイル−４−フェニルオキシ基が好ましい。特に、４’−エポキシオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−エポキシオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基および４’−エポキシオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基が好ましい。
【００５８】
上記４’−エポキシオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。このうち、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基および４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基が好ましい。特に、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基および４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基が好ましい。
【００５９】
上記４’−エポキシオキシフェニルチオ−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。このうち、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルチオ−４−フェニルオキシ基が好ましい。
【００６０】
上記４’−エポキシオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。このうち、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基および４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基が好ましい。特に、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基が好ましい。
【００６１】
上記４’−エポキシオキシベンジル−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（グリシジルオキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）ベンジル−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。
【００６２】
上記４’−エポキシオキシフェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニルエチリデン−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。
【００６３】
上記４’−エポキシオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。このうち、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基および４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基が好ましい。特に、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基が好ましい。
【００６４】
上記４’−エポキシオキシフェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシの具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシフェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）フェニル（１’−メチルプロピリデン）−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。
【００６５】
上記４’−エポキシオキシベンゾイル−４−フェニルオキシ基の具体例としては、４’−（１，２−エポキシエトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（３，４−エポキシブトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１−メチル−１，２−エポキシプロピルオキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（４，５−エポキシペンチルオキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基および４’−（５，６−エポキシヘキシルオキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基等を挙げることができる。このうち、４’−（１，２−エポキシエトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−グリシジルオキシベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（１，２−エポキシブトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基、４’−（２，３−エポキシブトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基および４’−（３，４−エポキシブトキシ）ベンゾイル−４−フェニルオキシ基が好ましい。
【００６６】
＜式（４）で示されるエポキシオキシフェニル置換インダンオキシ基＞
１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシエトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（２，３−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシエトキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）−３−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシブトキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（２，３−エポキシブトキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（１，２−エポキシエトキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（グリシジルオキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（１，２−エポキシブトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（２，３−エポキシブトキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（３，４−エポキシブトキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（１，２−エポキシエトキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（グリシジルオキシ）−３−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（１，２−エポキシ−１−メチルエトキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（１，２−エポキシブトキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（２，３−エポキシブトキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基等。このうち、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）−３−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（グリシジルオキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４’−（３，４−エポキシブトキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（グリシジルオキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−５−フェニル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オキシ基が好ましく、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基が特に好ましい。
【００６７】
＜式（５）で示されるエポキシオキシインダン置換フェニルオキシ基＞
４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシ−１−メチルエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（２’’，３’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシ−１−メチルエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（２’’，３’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（１’’，２’’−エポキシエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（１’’，２’’−エポキシ−１−メチルエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（１’’，２’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（２’’，３’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（１’’，２’’−エポキシエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（グリシジルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（１’’，２’’−エポキシ−１−メチルエトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（１’’，２’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（２’’，３’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基等。このうち、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、３−メチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、３−フェニル−４−［１’，３’，３’−トリメチル−５’−フェニル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基が好ましく、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基、４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基が特に好ましい。
【００６８】
式（１）において、Ａは、２ｎ個含まれており、このうちの少なくとも一つがＡ３基である。したがって、式（１）で表される本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、次の形態に大別することができる。
【００６９】
［形態１］
２ｎ個の全てのＡがＡ３基のものである。この場合、Ａは、全てが同じＡ３基であってもよいし、二種以上のＡ３基であってもよい。
【００７０】
このような形態のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものの具体例としては、式（１）のｎが３であるエポキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式（１）のｎが４であるエポキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式（１）のｎが５であるエポキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式（１）のｎが６であるエポキシ基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Ａの全てが式（２）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基、式（３）で示されるエポキシオキシフェニル置換フェニルオキシ基、式（４）で示されるエポキシオキシフェニル置換インダンオキシ基、式（５）で示されるエポキシオキシインダン置換フェニルオキシ基からなるＡ３基群から選ばれた一種のＡ３基であるものおよびＡの全てが当該Ａ３基群から選ばれた二種以上のＡ３基であるもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。
【００７１】
［形態２］
２ｎ個のＡのうちの一部（すなわち、少なくとも一つ）がＡ３基であり、他のＡがＡ１基およびＡ２基から選ばれた基のものである。この場合、Ａ３基以外の他のＡは、全てが同じＡ１基若しくはＡ２基であってもよいし、二種以上のＡ１基若しくはＡ２基または一種若しくは二種以上のＡ１基とＡ２基とが混在した状態であってもよい。
【００７２】
この形態のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、２ｎ個のＡのうちの２個〜（２ｎ−２）個がＡ３基のものである。特に、式（１）のｎが３であるエポキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式（１）のｎが４であるエポキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式（１）のｎが５であるエポキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式（１）のｎが６であるエポキシ基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、２ｎ個のＡのうちの２個〜（２ｎ−２）個がＡ３基のもの並びにこれらの任意の混合物である。この種のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、本発明の他のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物に比べ、高温信頼性および機械的特性（特に、ガラス転移温度）がより優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。
【００７３】
なお、２ｎ個のＡのうちの２個〜（２ｎ−２）個がＡ３基であるか否かは、エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物若しくはその製造過程における中間体のＴＯＦ−ＭＳ分析により確認することができる。
【００７４】
このような形態のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものの具体例としては、式（１）のｎが３であるエポキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式（１）のｎが４であるエポキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式（１）のｎが５であるエポキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物若しくは式（１）のｎが６であるエポキシ基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Ａが、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるエトキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジメチルフェノキシ基と
の組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるジナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１，２−エポキシプロピルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるジメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（１’’，２’’−エポキシプロピルオキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるナフチルオキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物を挙げることができる。
【００７５】
このうち、式（１）のｎが３であるエポキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式（１）のｎが４であるエポキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式（１）のｎが５であるエポキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式（１）のｎが６であるエポキシ基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Ａが、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。
【００７６】
特に、式（１）のｎが３であるエポキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物若しくは式（１）のｎが４であるエポキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物であって、Ａが、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ１基であるｎ−プロポキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルオキシ−４−フェニルオキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルスルホニル−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−グリシジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェニルオキシ基とＡ１基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（グリシジルオキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３，４−エポキシブトキシ）フェニル］インダン−６−オキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−グリシジルオキシインダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、Ａ３基である４−［１’，３’，３’−トリメチル−６’−（３’’，４’’−エポキシブトキシ）インダン−１’−イル］フェノキシ基とＡ２基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。
【００７７】
上述のような本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、互いに架橋されたものではない。すなわち、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物間での架橋構造を全く有していないものである。本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、このような特徴の点において新規であり、従来のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物とは異なる。
【００７８】
エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法
本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合は、先ず、下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドを用意する。
【化２０】
0005177731.tif 000018
【００７９】
式（６）において、ｎは、３から１５の整数を示している。また、Ｘは、ハロゲン原子を示し、好ましくはフッ素原子若しくは塩素原子である。因みに、ここで用意する環状ホスホニトリルジハライドは、ｎが異なる数種類のものの混合物であってもよい。
【００８０】
このような環状ホスホニトリルジハライドの製造方法その他は、各種の文献、例えば、下記のような非特許文献１、２に記載されている。
【００８１】
【非特許文献１】ＰＨＯＳＰＨＯＲＵＳ−ＮＩＴＲＯＧＥＮ  ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ、Ｈ．Ｒ．ＡＬＬＣＯＣＫ著、１９７２年刊、ＡＣＡＤＥＭＩＣ  ＰＲＥＳＳ社
【非特許文献２】ＰＨＯＳＰＨＡＺＥＮＥＳ、Ａ  ＷＯＲＬＤＷＩＤＥ  ＩＮＳＩＧＨＴ、Ｍ．ＧＬＥＲＩＡ、Ｒ．ＤＥ  ＪＡＥＧＥＲ著、２００４年刊、ＮＯＶＡ  ＳＣＩＥＮＣＥ  ＰＵＢＬＩＳＨＥＲＳ  ＩＮＣ．社
【００８２】
これらの文献に記載されているように、式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドは、通常、重合度が３から１５程度の環状ホスホニトリルジハライドと鎖状ホスホニトリルジハライドとの混合物として得られる。このため、式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドは、上記各文献に記載されているように、当該混合物から溶媒への溶解度の差を利用して鎖状ホスホニトリルジハライドを取り除いて入手するか、或いは、当該混合物から環状ホスホニトリルジハライドを蒸留又は再結晶によって分離して入手する必要がある。
【００８３】
この製造方法において用いる環状ホスホニトリルジハライドとして好ましいものは、例えば、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼン（ｎが３のもの）、オクタフルオロシクロテトラホスファゼン（ｎが４のもの）、デカフルオロシクロペンタホスファゼン（ｎが５のもの）、ドデカフルオロシクロヘキサホスファゼン（ｎが６のもの）、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼンとオクタフルオロシクロテトラホスファゼンとの混合物、nが３から１５の環状ホスホニトリルジフルオリドの混合物、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン（ｎが３のもの）、オクタクロロシクロテトラホスファゼン（ｎが４のもの）、デカクロロシクロペンタホスファゼン（ｎが５のもの）、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼン（ｎが６のもの）、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびｎが３から１５の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物等である。このうち、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタクロロシクロテトラホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびｎが３から１５の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物がより好ましく、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびｎが３から１５の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物が特に好ましい。
【００８４】
本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、上述の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドを出発原料として、通常、次のような二通りの方法により製造することができる。
【００８５】
［製造方法１］
この製造方法では、上述の環状ホスホニトリルジハライドと反応させる化合物として、次の化合物Ｂ１、化合物Ｂ２および化合物Ｂ３を用意する。
【００８６】
＜化合物Ｂ１＞
炭素数が１〜８のアルコール類。
このアルコール類は、炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなアルコール類としては、例えば、メタノール、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ビニルアルコール、１−プロペン−１−オール、２−プロペン−１−オール（アリルアルコール）、１−メチル−１−エテン−１−オール、３−ブテン−１−オール、２−メチル−２−プロペン−１−オール、４−ペンテン−１−オール、２−ヘキセン−１−オール、２−ヘプテン−４−オール、５−オクテン−１−オール、ベンジルアルコールおよびフェネチルアルコール等を挙げることができる。このうち、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、アリルアルコールおよびベンジルアルコールが好ましく、エタノールおよびｎ−プロパノールが特に好ましい。
【００８７】
＜化合物Ｂ２＞
炭素数が６〜２０のフェノール類。
このフェノール類は、炭素数が１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなフェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、エチルメチルフェノール、ジエチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、イソプロピルメチルフェノール、イソプロピルエチルフェノール、ジイソプロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｎ−ペンチルフェノール、ｎ−ヘキシルフェノール、ビニルフェノール、１−プロペニルフェノール、２−プロペニルフェノール、イソプロペニルフェノール、１−ブテニルフェノール、ｓｅｃ−ブテニルフェノール、１−ペンテニルフェノール、１−ヘキセニルフェノール、フェニルフェノール、ナフトール、アントラノールおよびフェナントラノール等を挙げることができる。このうち、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、ジエチルフェノール、２−プロペニルフェノール、フェニルフェノールおよびナフトールが好ましく、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノールおよびナフトールが特に好ましい。
【００８８】
＜化合物Ｂ３＞
次の化合物Ｂ３−１、化合物Ｂ３−２、化合物Ｂ３−３および化合物Ｂ３−４の四種類のアルケニル基置換ジフェノール類。
【００８９】
◎化合物Ｂ３−１
下記の式（１５）で表される、一方のヒドロキシル基の水素原子がアルケニル基により置換されたアルケニル基置換ジフェノール類。
【化２１】
0005177731.tif 000019
式（１５）中、Ｇは、炭素数が２〜６のアルケニル基を示しており、脱離したときにＯＨ基を形成可能なものである。
【００９０】
このアルケニル基置換ジフェノール類は、下記の式（１６）で表されるジフェノール化合物、すなわち、４，４’−ジフェノールの一方のヒドロキシル基の水素原子を上記アルケニル基により置換することで得ることができる。
【化２２】
0005177731.tif 000020
【００９１】
◎化合物Ｂ３−２
下記の式（１７）で表される、一方のヒドロキシル基の水素原子がアルケニル基により置換されたアルケニル基置換ジフェノール類。
【化２３】
0005177731.tif 000021
式（１７）中、Ｇは、炭素数が２〜６のアルケニル基を示しており、脱離したときにＯＨ基を形成可能なものである。また、Ｙは、次に説明する式（１８）中のＹと同じである。
【００９２】
このアルケニル基置換ジフェノール類は、下記の式（１８）で表されるジフェノール化合物の一方のヒドロキシル基の水素原子を上記アルケニル基により置換することで得ることができる。
【化２４】
0005177731.tif 000022
式（１８）中、Ｙは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示す。式（１８）で表されるジフェノール類は、具体的には、４，４’−オキシジフェノール、４，４’−チオジフェノール、４，４’−スルホニルジフェノール（ビスフェノール−Ｓ）、４，４’−メチレンジフェノール（ビスフェノール−Ｆ）、４，４’−エチリデンジフェノール、４，４’−イソプロピリデンジフェノール（ビスフェノール−Ａ）、４，４’−（１−メチルプロピリデン）ジフェノール（ビスフェノール−Ｂ）および４，４−ジヒドロキシベンゾフェノンである。
【００９３】
◎化合物Ｂ３−３
下記の式（１９）で表される、一方のヒドロキシル基、すなわち、インダンの１位に位置する４−ヒドロキシフェニル基のヒドロキシル基の水素原子がアルケニル基により置換されたアルケニル基置換ジフェノール類。
【化２５】
0005177731.tif 000023
式（１９）中、Ｇは、炭素数が２〜６のアルケニル基を示しており、脱離したときにＯＨ基を形成可能なものである。また、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、次に説明する式（２０）中のＲ１およびＲ２と同じである。
【００９４】
このアルケニル基置換ジフェノール類は、下記の式（２０）で表されるジフェノール化合物において、インダンの１位に位置する４−ヒドロキシフェニル基のヒドロキシル基の水素原子を上記アルケニル基により置換することで得ることができる。
【化２６】
0005177731.tif 000024
【００９５】
式（２０）中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示し、当該アルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基の場合は、結合している環構造に対して同種若しくは異種のものが複数個結合していてもよい。式（２０）で表されるジフェノール類は、ｐ−イソプロペニルフェノールの線状二量体、すなわち、２，４−ジ（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−ペンテン−１および２，４−ジ（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−ペンテン−２の混合物を酸触媒の存在下に環化反応させて得た、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）インダン−６−オールまたはそのアルキル、シクロアルキル若しくはフェニル誘導体である。具体的には、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）インダン−６−オール、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）インダン−６−オール、１，３，３―トリメチル―１−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オール、１，３，３―トリメチル―５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オール、１，３，３―トリメチル―５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インダン−６−オール、１，３，３―トリメチル―５−ｉｓｏ−プロピル−１−（４−ヒドロキシ−３−ｉｓｏ−プロピルフェニル）インダン−６−オール、１，３，３―トリメチル―５−フェニル−１−（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）インダン−６−オール等を挙げることができる。
【００９６】
◎化合物Ｂ３−４
下記の式（２１）で表される、一方のヒドロキシル基、すなわち、インダンの６位に位置するヒドロキシル基の水素原子がアルケニル基により置換されたアルケニル基置換ジフェノール類。
【化２７】
0005177731.tif 000025
式（２１）中、Ｇは、炭素数が２〜６のアルケニル基を示しており、脱離したときにＯＨ基を形成可能なものである。また、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、上記式（２０）中のＲ１およびＲ２と同じである。
【００９７】
このアルケニル基置換ジフェノール類は、上記式（２０）で表されるジフェノール化合物において、インダンの６位に位置するヒドロキシル基の水素原子を上記アルケニル基により置換することで得ることができる。
【００９８】
上述の化合物Ｂ３−１、化合物Ｂ３−２、化合物Ｂ３−３および化合物Ｂ３−４の四種類のアルケニル基置換ジフェノール類、すなわち、式（１５）、式（１７）、式（１９）および式（２１）で示されるアルケニル基置換ジフェノール類において、Ｇで示される炭素数が２〜６のアルケニル基としては、例えば、エテニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基（アリルオキシ基）、イソプロペニルオキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、ｓｅｃ−ブテニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、又は、５−ヘキセニルオキシ基等を挙げることができる。これらのうち、エテニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基（アリルオキシ基）、イソプロペニルオキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基が好ましく、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基（アリルオキシ基）、３−ブテニルオキシ基が特に好ましい。
【００９９】
このような各種アルケニル基置換ジフェノール類は、市販されているものを用いてもよいし、公知の方法で製造したものを使用してもよい。因みに、式（１６）、式（１８）および式（２０）で示されるジフェノール類から式（１５）、式（１７）および式（１９）若しくは式（２１）で示されるアルケニル基置換ジフェノール類を選択的に調製する方法は、下記の非特許文献３および非特許文献４等の多数の公知文献に記載されている。
【０１００】
【非特許文献３】ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ  ＧＲＯＵＰＳ  ＩＮ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ、Ｔ．Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ著、１９９９年刊、ＷＩＬＥＹ−ＩＮＴＥＲＳＣＩＥＮＣＥ社
【非特許文献４】ＰＲＯＴＥＣＴＩＮＧ  ＧＲＯＵＰ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ（ＯＸＦＯＲＤ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ＰＲＩＭＥＲＳ）、Ｊ．ＲＯＢＥＲＴＳＯＮ著、２０００年刊、ＯＸＦＯＲＤ  ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ  ＰＲＥＳＳ社
【０１０１】
なお、上述の化合物Ｂ３−１、化合物Ｂ３−２、化合物Ｂ３−３および化合物Ｂ３−４として好ましいものの具体例は、次の通りである。
＜化合物Ｂ３−１＞
４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニル−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニル−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニル−４−フェノ−ル等。
【０１０２】
＜化合物Ｂ３−２＞
４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニルオキシ−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニルオキシ−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニルオキシ−４−フェノ−ル、４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニルチオ−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニルチオ−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニルチオ−４−フェノ−ル、４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニルスルホニル−４−フェノ−ル、４’−（１’’−プロペニルオキシ）ベンジル−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシベンジル−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）ベンジル−４−フェノ−ル、４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニルエチリデン−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニルエチリデン−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニルエチリデン−４−フェノ−ル、４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノ−ル、［４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニル−１−メチルプロピリデン］−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシフェニル−１−メチルプロピリデン−４−フェノ−ル、［４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニル−１−メチルプロピリデン］−４−フェノ−ル、４’−（１’’−プロペニルオキシ）ベンゾイル−４−フェノ−ル、４’−アリルオキシベンゾイル−４−フェノ−ル、４’−（３’’−ブテニルオキシ）ベンゾイル−４−フェノ−ル等。
【０１０３】
＜化合物Ｂ３−３＞
１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１’’−プロペニルオキシ）フェニル］インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−（４’−アリルオキシフェニル）インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３’’−ブテニルオキシ）フェニル］インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１’’−プロペニルオキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−［４’−アリルオキシ−３’−メチルフェニル］インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３’’−ブテニルオキシ）−３’−メチルフェニル］インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（１’’−プロペニルオキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−（４’−アリルオキシ−３’−フェニルフェニル）インダン−６−オ−ル、１，３，３−トリメチル−１−［４’−（３’’−ブテニルオキシ）−３’−フェニルフェニル］インダン−６−オ−ル等。
【０１０４】
＜化合物Ｂ３−４＞
１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシフェニル）−６−（１’’−プロペニルオキシ）インダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシフェニル）−６−アリルオキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシフェニル）−６−（３’’−ブテニルオキシ）インダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシ−３’−メチルフェニル）−６−（１’’−プロペニルオキシ）インダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシ−３’−メチルフェニル）−６−アリルオキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシ−３’−メチルフェニル）−６−（３’’−ブテニルオキシ）インダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシ−３’−フェニルフェニル）−６−（１’’−プロペニルオキシ）インダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシ−３’−フェニルフェニル）−６−アリルオキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４’−ヒドロキシ−３’−フェニルフェニル）−６−（３’’−ブテニルオキシ）インダン等。
【０１０５】
この製造方法１においては、上述の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドと上述の化合物Ｂ１〜Ｂ３とを反応させることにより、環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＥ３基により置換されるよう下記のＥ１基、Ｅ２基およびＥ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する（工程１）。
【０１０６】
＜Ｅ１基＞
炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも１種の基で置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
この基は、化合物Ｂ１によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のＡ１基に該当する。
【０１０７】
＜Ｅ２基＞
炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも１種の基で置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
この基は、化合物Ｂ２によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のＡ２基に該当する。
【０１０８】
＜Ｅ３基＞
下記の式（７）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【０１０９】
【化２８】
0005177731.tif 000026
【０１１０】
【化２９】
0005177731.tif 000027
【０１１１】
【化３０】
0005177731.tif 000028
【０１１２】
【化３１】
0005177731.tif 000029
【０１１３】
式（７）〜（１０）中、Ｇは、既述のような炭素数が２〜６のアルケニル基である。また、式（８）中、Ｙは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示している。さらに、式（９）および式（１０）中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示している。
【０１１４】
この製造工程では、製造するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の種類、すなわち、上述の形態１に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合と、上述の形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合とで、化合物Ｂ１〜Ｂ３を適宜選択して使用する。具体的には次の通りである。
【０１１５】
＜形態１のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合＞
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ３とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドのハロゲン原子（以下、活性ハロゲン原子という場合がある）の全てを化合物Ｂ３に由来のＥ３基で置換する。ここで用いられる化合物Ｂ３は、上述の化合物Ｂ３−１、化合物Ｂ３−２、化合物Ｂ３−３および化合物Ｂ３−４の四種類のアルケニル基置換ジフェノール類のうちの一種若しくは二種以上である。環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ３とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの全ての活性ハロゲン原子をＥ３基で置換する方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
【０１１６】
＜方法１−Ａ＞
環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ３のアルカリ金属塩とを反応させる。
この方法による場合、化合物Ｂ３のアルカリ金属塩の使用量は、通常、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１１７】
＜方法１−Ｂ＞
環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ３とを、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させる。
この方法による場合、化合物Ｂ３の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．１〜２．１当量に設定するのが好ましく、１．１〜１．４当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．１当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．１当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１１８】
＜形態２のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合＞
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ３のうちの少なくとも一種と、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの一部の活性ハロゲン原子を化合物Ｂ３に由来のＥ３基で置換し、残りの他の活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ１に由来のＥ１基および化合物Ｂ２に由来のＥ２基のうちの少なくとも一つの基で置換する。このための方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
【０１１９】
＜方法２−Ａ＞
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ３のアルカリ金属塩と、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩との混合物を反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物Ｂ３のアルカリ金属塩の割合は、製造するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
【０１２０】
この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１２１】
＜方法２−Ｂ＞
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ３と、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物との混合物を、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物Ｂ３の割合は、製造するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
【０１２２】
この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．１〜２．１当量に設定するのが好ましく、１．１〜１．４当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．１当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．１当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１２３】
＜方法２−Ｃ＞
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ３を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ３に由来のＥ３基により置換した部分置換体を得る（工程Ａ）。次に、得られた部分置換体に対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ１に由来のＥ１基および化合物Ｂ２に由来のＥ２基のうちの少なくとも一つにより置換する（工程Ｂ）。
【０１２４】
この方法の工程Ａは、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ３のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ３をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、工程Ｂは、工程Ａで得られた部分置換体に対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、工程Ａで得られた部分置換体に対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。
【０１２５】
＜方法２−Ｄ＞
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ１に由来のＥ１基および化合物Ｂ２に由来のＥ２基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を得る（工程Ａ）。次に、得られた部分置換体に対して化合物Ｂ３を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ３に由来のＥ３基により置換する（工程Ｂ）。
【０１２６】
この方法の工程Ａは、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、工程Ｂは、工程Ａで得られた部分置換体に対して化合物Ｂ３のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、工程Ａで得られた部分置換体に対し、化合物Ｂ３をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。
【０１２７】
上述の各方法において用いられるアルカリ金属塩は、通常、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩およびセシウム塩が好ましい。特に、リチウム塩およびナトリウム塩が好ましい。このようなアルカリ金属塩は、化合物Ｂ１〜Ｂ３と、金属リチウム、金属ナトリウム若しくは金属カリウム等との脱水素反応、または、化合物Ｂ１〜Ｂ３と、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物との混合物からの脱水反応によって得ることができる。
【０１２８】
また、上述の各方法において用いられる塩基は、特に限定されるものではないが、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ピリジン、４，４−ジメチルアミノピリジン、４，４−ジエチルアミノピリジンおよび４−ジイソプロピルアミノピリジン等の脂肪族若しくは芳香族アミン類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物等が好ましい。特に、トリエチルアミン、ピリジンおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が好ましい。
【０１２９】
上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ１〜Ｂ３との反応は、上述のいずれの方法についても、無溶媒で実施することができ、また、溶媒を使用して実施することもできる。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジエトキシエタンおよびジフェニルエーテル等のエーテル系、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、エチルベンゼンおよびイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系、クロロホルムおよび塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、ウンデカンおよびドデカン等の脂肪族炭化水素系、ピリジン等の複素環式芳香族炭化水素系、第三級アミン系並びにシアン化合物系等の有機溶媒を用いるのが好ましい。このうち、分子内にエーテル結合を有し、かつ、化合物Ｂ１〜Ｂ３およびそれらのアルカリ金属塩の溶解度が高いエーテル系の有機溶媒および水との分離が容易である芳香族炭化水素系の有機溶媒を用いるのが特に好ましい。
【０１３０】
上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ１〜Ｂ３とを反応させる際の反応温度は、上述のいずれの方法によるか、或いは、反応生成物の熱安定性等を考慮して適宜設定することができる。但し、溶媒を用いて当該反応を実施する場合は、通常、０℃から溶媒の沸点までの温度範囲に反応温度を設定するのが好ましい。一方、無溶媒で当該反応を実施する場合、反応温度は、通常、４０〜２００℃の範囲に設定するのが好ましい。
【０１３１】
なお、上述の形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物、特に、式（１）における２ｎ個のＡのうちの２個〜（２ｎ−２）個がＡ３基のものを製造する場合は、上述の方法２−Ｃ若しくは方法２−Ｄを採用するのが好ましい。
【０１３２】
ここで、方法２−Ｃを採用する場合は、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物Ｂ３のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ３とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−２０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、同温度範囲で１〜２４時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ３に由来のＥ３基により置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、０℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ１に由来のＥ１基および化合物Ｂ２に由来のＥ２基のうちの少なくとも一つにより置換する。
【０１３３】
一方、方法２−Ｄを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−２０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、同温度範囲で１〜２４時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ１に由来のＥ１基および化合物Ｂ２に由来のＥ２基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物Ｂ３のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ３とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、０℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ３に由来のＥ３基により置換する。
【０１３４】
この製造方法１では、次に、上述の工程１より得られた環状ホスホニトリル置換体のＥ３基においてＧで示されるアルケニル基を酸化してエポキシ基に変換する（工程２）。これにより、Ｅ３基が既述のＡ３基に変換され、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。Ｅ３基においてＧで示されるアルケニル基を酸化してエポキシ基に変換するための方法は、下記の非特許文献５および６等の多数の公知文献に記載されている方法により実施することができる。具体的には、過ギ酸、過酢酸およびｍ−クロロ過安息香酸等の過酸、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドおよび１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、過酸化水素、過酸化水素−ヘテロポリ酸（Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗの縮合酸素酸）、Ｎ−オキシド、次亜塩素酸ナトリウム並びに過酸化ナトリウム等の酸化剤を用い、上述の工程１により得られた環状ホスホニトリル置換体を酸化すると、上述のアルケニル基をエポキシ基に変換することができる。
【０１３５】
【非特許文献５】Ｍ．Ｂ．ＳＭＩＴＨ，Ｊ．ＭＡＲＣＨ，ＭＡＲＣＨ’Ｓ  ＡＤＶＡＮＣＥＤ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ：  ＲＥＡＣＴＩＯＮＳ，ＭＥＣＨＡＮＩＳＭ，ＡＮＤ  ＳＴＲＵＣＴＵＲＥ，５ＴＨ  ＥＤ．，２００１刊，Ａ ＷＥＩＬＹ−ＩＮＴＥＲＳＣＩＥＮＣＥ  ＰＵＢＬＩＣＡＴＩＯＮ社
【非特許文献６】Ｂ．Ｓ．ＬＡＮＥ，Ｋ．ＢＵＲＧＥＳＳ，ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＲＥＶＩＥＷＳ，１０３（７），２００３，“ＭＥＴＡＬ−ＣＡＴＡＬＹＺＥＤ  ＥＰＯＸＩＤＡＴＩＯＮＳ  ＯＦ  ＡＬＫＥＮＥＳ  ＷＩＴＨ  ＨＹＤＲＯＧＥＮ  ＰＥＲＯＸＩＤＥ”
【０１３６】
上述の酸化剤を用いて環状ホスホニトリル置換体を酸化する場合は、環状ホスホニトリル置換体を有機溶剤に溶解させ、これを０℃付近まで冷却する。そして、この溶液に対して酸化剤を加え、室温で５〜１０時間の反応を行う。反応終了後、反応溶液に対してアルカリ水溶液を加えて酸化剤を中和し、続いて有機溶剤を加えて分液処理する。これにより得られた有機層を濃縮すると、目的とする式（１）で表されるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を得ることができる。
【０１３７】
ここで用いられる有機溶剤は、通常、塩化メチレン等のハロゲン化合物およびヘキサンやトルエン等の炭化水素類が好ましいが、トルエンが特に好ましい。また、酸化剤の添加量は、環状ホスホニトリル置換体のアルケニル基１モルに対して１．１〜３モルに設定するのが好ましい。酸化剤の添加量が１．１モル未満の場合は、反応が完結しなくなり、アルケニル基が残存する可能性がある。逆に、３モルを超えると、目的部位以外の部位の酸化が起こる可能性があり、また、不経済である。
【０１３８】
なお、上述の濃縮された有機層に含まれる、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、通常、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の方法により単離精製することができる。
【０１３９】
この製造方法１では、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の全て若しくは一部を工程１においてＥ３基に置換し、当該Ｅ３基のアルケニル基を次の工程２において酸化してエポキシ基に変換させているため、得られるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、既述の通り、エポキシ基によるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物間での架橋構造を全く有していない新規なものになる。また、この製造方法は、Ｅ３基のアルケニル基を酸化してエポキシ基に変換させているため、エピハロヒドリンを使用する次の製造方法２の場合に比べ、生成物においてエピハロヒドリン由来のハロゲン原子が残留しない。このため、この製造方法により得られるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、所要の効果をより効果的に発揮することができる。
【０１４０】
［製造方法２］
この製造方法は、式（１）で示されるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物のうちの特定のもの、すなわち、Ａ３基を示す式（２）、（３）、（４）および（５）中のＥがグリシジルオキシ基のものを製造するための方法である。この製造方法では、上述の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドを出発原料として用い、また、当該環状ホスホニトリルジハライドと反応させる化合物として、製造方法１で用いるものと同様の化合物Ｂ１および化合物Ｂ２並びに次の化合物Ｂ４を用意する。
【０１４１】
＜化合物Ｂ４＞
次の化合物Ｂ４−１、化合物Ｂ４−２、化合物Ｂ４−３および化合物Ｂ４−４の四種類の保護ジフェノール類。
【０１４２】
◎化合物Ｂ４−１
下記の式（２２）で表される、一方のヒドロキシル基が保護基により保護された保護ジフェノール類。
【化３２】
0005177731.tif 000030
式（２２）中、Ｚは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示している。
【０１４３】
このジフェノール類は、製造方法１において説明した式（１６）で表されるジフェノール化合物、すなわち、４，４’−ジフェノールの一方のヒドロキシル基を上記保護基により保護することで得ることができる。
【０１４４】
◎化合物Ｂ４−２
下記の式（２３）で表される、一方のヒドロキシル基が保護基により保護された保護ジフェノール類。
【化３３】
0005177731.tif 000031
式（２３）中、Ｚは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示している。また、Ｙは、製造方法１において説明した式（１８）中のＹと同じである。
【０１４５】
この保護ジフェノール類は、式（１８）で表されるジフェノール化合物の一方のヒドロキシル基を上記保護基により保護することで得ることができる。
【０１４６】
◎化合物Ｂ４−３
下記の式（２４）で表される、一方のヒドロキシル基、すなわち、インダンの１位に位置する４−ヒドロキシフェニル基のヒドロキシル基が保護基により保護された保護ジフェノール類。
【化３４】
0005177731.tif 000032
式（２４）中、Ｚは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示している。また、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、製造方法１において説明した式（２０）中のＲ１およびＲ２と同じである。
【０１４７】
この保護ジフェノール類は、式（２０）で表されるジフェノール化合物において、インダンの１位に位置する４−ヒドロキシフェニル基のヒドロキシル基を上記保護基により保護することで得ることができる。
【０１４８】
◎化合物Ｂ４−４
下記の式（２５）で表される、一方のヒドロキシル基、すなわち、インダンの６位に位置するヒドロキシル基が保護基により保護された保護ジフェノール類。
【化３５】
0005177731.tif 000033
式（２５）中、Ｚは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示している。また、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、式（２０）中のＲ１およびＲ２と同じである。
【０１４９】
この保護ジフェノール類は、式（２０）で表されるジフェノール化合物において、インダンの６位に位置するヒドロキシル基を上記保護基により保護することで得ることができる。
【０１５０】
上述の化合物Ｂ４−１、化合物Ｂ４−２、化合物Ｂ４−３および化合物Ｂ４−４の四種類の保護ジフェノール類、すなわち、式（２２）、式（２３）、式（２４）および式（２５）で示される保護ジフェノール類において、Ｚで示される保護基の種類は、製造方法１の説明において挙げた非特許文献３および非特許文献４等の多数の公知文献に記載されている。また、式（１６）、式（１８）および式（２０）で示されるジフェノール類から式（２２）、式（２３）および式（２４）若しくは式（２５）で示される保護ジフェノール類を選択的に調製する方法も、これらの非特許文献において記載されている。
【０１５１】
Ｚで示される保護基の具体例としては、メチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、１−エトキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アリル基、ベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基およびトリイソプロピルシリル基等を挙げることができる。これらの保護基のうち、メチル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アリル基、ベンジル基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好ましく、メチル基、メトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アリル基およびベンジル基が特に好ましい。
【０１５２】
上述の化合物Ｂ４−１、化合物Ｂ４−２、化合物Ｂ４−３および化合物Ｂ４−４として好ましいものの具体例は、次の通りである。
＜化合物Ｂ４−１＞
４’−メトキシフェニル−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニル−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニル−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニル−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニル−４−フェノール等。
【０１５３】
＜化合物Ｂ４−２＞
４’−メトキシフェニルオキシ−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニルオキシ−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニルオキシ−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニルオキシ−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニルオキシ−４−フェノール、４’−メトキシフェニルチオ−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニルチオ−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニルチオ−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニルチオ−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニルチオ−４−フェノール、４’−メトキシフェニルスルホニル−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニルスルホニル−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニルスルホニル−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−４−フェノール、４’−メトキシベンジル−４−フェノール、４’−メトキシメトキシベンジル−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシベンジル−４−フェノール、４’−アリルオキシベンジル−４−フェノール、４’−ベンジルオキシベンジル−４−フェノール、４’−メトキシフェニルエチル−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニルエチル−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニルエチル−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニルエチル−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニルエチル−４−フェノール、４’−メトキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノール、４’−メトキシフェニル（１−メチルプロピリデン）−４−フェノール、４’−メトキシメトキシフェニル（１−メチルプロピリデン）−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニル（１−メチルプロピリデン）−４−フェノール、４’−アリルオキシフェニル（１−メチルプロピリデン）−４−フェノール、４’−ベンジルオキシフェニル（１−メチルプロピリデン）−４−フェノール、４’−メトキシベンゾイル−４−フェノール、４’−メトキシメトキシベンゾイル−４−フェノール、４’−ｔｅｒｔ−ブチルオキシベンゾイル−４−フェノール、４’−アリルオキシベンゾイル−４−フェノール、４’−ベンジルオキシベンゾイル−４−フェノール等。
【０１５４】
＜化合物Ｂ４−３＞
１，３，３−トリメチル−１−（４−メトキシフェニル）インダン−６−オール、１，３，３−トリメチル−１−（４−メトキシメトキシフェニル）インダン−６−オール、１，３，３−トリメチル−１−（４−ｔｅｒｔ−ブチルオキシフェニル）インダン−６−オール、１，３，３−トリメチル−１−（４−アリルオキシフェニル）インダン−６−オール、１，３，３−トリメチル−１−（４−ベンジルオキシフェニル）インダン−６−オール等。
【０１５５】
＜化合物Ｂ４−４＞
１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−６−メトキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−６−メトキシメトキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−６−ｔｅｒｔ−ブチルオキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−６−アリルオキシインダン、１，３，３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−６−ベンジルオキシインダン等。
【０１５６】
化合物Ｂ４−１、化合物Ｂ４−２、化合物Ｂ４−３および化合物Ｂ４−４は、いずれも、市販のものや、上述の非特許文献３、４に記載の方法などの公知の方法に従って製造したものを使用することができる。
【０１５７】
この製造方法２では、先ず、上述の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドと上述の化合物Ｂ１、化合物Ｂ２および化合物Ｂ４から選ばれた化合物とを反応させることにより、環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する（工程１）。
【０１５８】
［Ｑ１基］
製造方法１において説明したＥ１基と同様のものである。この基は、化合物Ｂ１によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のＡ１基に該当する。
【０１５９】
［Ｑ２基］
製造方法１において説明したＥ２基と同様のものである。この基は、化合物Ｂ２によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のＡ２基に該当する。
【０１６０】
［Ｑ３基］
下記の式（１１）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１３）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１４）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【０１６１】
【化３６】
0005177731.tif 000034
【０１６２】
【化３７】
0005177731.tif 000035
【０１６３】
【化３８】
0005177731.tif 000036
【０１６４】
【化３９】
0005177731.tif 000037
【０１６５】
式（１１）〜（１４）中、Ｚは、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示し、具体的には上述の化合物Ｂ４−１、化合物Ｂ４−２、化合物Ｂ４−３および化合物Ｂ４−４の四種類の保護ジフェノール類に関して説明したものと同じである。また、式（１２）中、Ｙは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示している。さらに、式（１３）および式（１４）中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示している。
【０１６６】
この製造工程では、製造するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の種類、すなわち、上述の形態１に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合と、上述の形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合とで、化合物Ｂ１、化合物Ｂ２および化合物Ｂ４からなる群から化合物を適宜選択して使用する。具体的には次の通りである。
【０１６７】
＜形態１のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合＞
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ４とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドのハロゲン原子（以下、活性ハロゲン原子という場合がある）の全てを化合物Ｂ４に由来のＱ３基で置換する。ここで用いられる化合物Ｂ４は、上述の化合物Ｂ４−１、化合物Ｂ４−２、化合物Ｂ４−３および化合物Ｂ４−４の四種類の保護ジフェノール類のうちの一種若しくは二種以上である。環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ４とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの全ての活性ハロゲン原子をＱ３基で置換する方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
【０１６８】
＜方法１−Ａ＞
環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ４のアルカリ金属塩とを反応させる。
この方法による場合、化合物Ｂ４のアルカリ金属塩の使用量は、通常、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１６９】
＜方法１−Ｂ＞
環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ４とを、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させる。
この方法による場合、化合物Ｂ４の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．１〜２．１当量に設定するのが好ましく、１．１〜１．４当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．１当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．１当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１７０】
＜形態２のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合＞
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ４のうちの少なくとも一種と、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの一部の活性ハロゲン原子を化合物Ｂ４に由来のＱ３基で置換し、残りの他の活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ１に由来のＱ１基および化合物Ｂ２に由来のＱ２基のうちの少なくとも一つの基で置換する。このための方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
【０１７１】
＜方法２−Ａ＞
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ４のアルカリ金属塩と、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩との混合物を反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物Ｂ４のアルカリ金属塩の割合は、製造するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
【０１７２】
この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。一方、当該使用量が２．０  当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１７３】
＜方法２−Ｂ＞
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ４と、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物との混合物を、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物Ｂの割合は、製造するエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
【０１７４】
この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．０〜２．０当量に設定するのが好ましく、１．０５〜１．３当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．０当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．０当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の１．１〜２．１当量に設定するのが好ましく、１．１〜１．４当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が１．１当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が２．１当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
【０１７５】
＜方法２−Ｃ＞
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ４を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ４に由来のＱ３基により置換した部分置換体を得る（工程Ａ）。次に、得られた部分置換体に対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ１に由来のＱ１基および化合物Ｂ２に由来のＱ２基のうちの少なくとも一つにより置換する（工程Ｂ）。
【０１７６】
この方法の工程Ａは、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ４のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ４をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、工程Ｂは、工程Ａで得られた部分置換体に対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、工程Ａで得られた部分置換体に対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。
【０１７７】
＜方法２−Ｄ＞
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ１に由来のＱ１基および化合物Ｂ２に由来のＱ２基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を得る（工程Ａ）。次に、得られた部分置換体に対して化合物Ｂ４を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ４に由来のＱ３基により置換する（工程Ｂ）。
【０１７８】
この方法の工程Ａは、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、工程Ｂは、工程Ａで得られた部分置換体に対して化合物Ｂ４のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、工程Ａで得られた部分置換体に対し、化合物Ｂ４をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。
【０１７９】
上述の各方法において用いられるアルカリ金属塩は、通常、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩およびセシウム塩が好ましい。特に、リチウム塩およびナトリウム塩が好ましい。このようなアルカリ金属塩は、化合物Ｂ１、化合物Ｂ２若しくは化合物Ｂ４と、金属リチウム、金属ナトリウム若しくは金属カリウム等との脱水素反応、または、化合物Ｂ１、化合物Ｂ２若しくは化合物Ｂ４と、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物との混合物からの脱水反応によって得ることができる。
【０１８０】
また、上述の各方法において用いられる塩基は、特に限定されるものではなく、製造方法１の工程１において説明したものと同様のものである。
【０１８１】
上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ１、化合物Ｂ２および化合物Ｂ４から選ばれた化合物との反応は、上述のいずれの方法についても、無溶媒で実施することができ、また、溶媒を使用して実施することもできる。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではなく、製造方法１の工程１において説明したものと同様のものを用いることができる。
【０１８２】
上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物Ｂ１、化合物Ｂ２および化合物Ｂ４から選ばれた化合物とを反応させる際の反応温度は、上述のいずれの方法によるか、或いは、反応生成物の熱安定性等を考慮して適宜設定することができる。但し、溶媒を用いて当該反応を実施する場合は、通常、０℃から溶媒の沸点までの温度範囲に反応温度を設定するのが好ましい。一方、無溶媒で当該反応を実施する場合、反応温度は、通常、４０〜２００℃の範囲に設定するのが好ましい。
【０１８３】
なお、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物として上述の形態２に係るもの、特に、式（１）における２ｎ個のＡのうちの２個〜（２ｎ−２）個がＡ３基のものを製造する場合は、上述の方法２−Ｃ若しくは方法２−Ｄを採用するのが好ましい。
【０１８４】
ここで、方法２−Ｃを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物Ｂ４のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ４とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−２０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、同温度範囲で１〜２４時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ４に由来のＱ３基により置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、０℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ１に由来のＱ１基および化合物Ｂ２に由来のＱ２基のうちの少なくとも一つにより置換する。
【０１８５】
一方、方法２−Ｄを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ１および化合物Ｂ２から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−２０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、同温度範囲で１〜２４時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物Ｂ１に由来のＱ１基および化合物Ｂ２に由来のＱ２基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物Ｂ４のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物Ｂ４とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、０〜５０℃の温度で３〜２４時間かけて添加し、また、０℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物Ｂ４に由来のＱ３基により置換する。
【０１８６】
この製造方法２では、次に、上述の工程１により得られた環状ホスホニトリル置換体からヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を調製する。具体的には、上述の工程１により得られた環状ホスホニトリル置換体のＱ３基から保護基（Ｚ）を脱離させ、Ｑ３基の−ＯＺ基部分を−ＯＨ基に変換する（工程２）。
【０１８７】
保護基を脱離させるための方法は、上述の非特許文献３、４等の多数の公知文献に記載されており、保護基の種類および保護基の安定性等に応じて各種の脱保護反応から選択することができる。例えば、保護基がメチル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を三フッ化ホウ素、ヨウ化トリメチルシラン若しくはピリジン塩酸塩と反応させるのが好ましい。また、保護基がｔｅｒｔ−ブチル基の場合、環状ホスホニトリル置換体をトリフルオロ酢酸、臭化水素若しくはヨウ化トリメチルシランと反応させるのが好ましい。さらに、保護基がベンジル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を水素／Ｐｄ−Ｃ、金属ナトリウム／アンモニア、ヨウ化トリメチルシラン、水素化リチウムアルミニウム、三臭化ホウ素若しくは三フッ化ホウ素と反応させるのが好ましい。
【０１８８】
次に、塩基の存在下において、上述の工程２において得られたヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとを反応させる（工程３）。ここでは、工程２において保護基が脱離されたことにより形成された水酸基とエピハロヒドリンとの間で脱ハロゲン化水素による閉環反応が進行してグリシジルオキシ基が形成され、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。ここで用いられるエピハロヒドリンは、各種のもの、例えば、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリンである。この工程は、次のような二通りの方法により実施することができる。
【０１８９】
＜方法１＞
通常のエポキシ化反応と同様にヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとを反応させる方法である。この場合は、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとの溶解混合物に対し、塩基である水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を添加し、または添加しながら反応（脱ハロゲン化水素による閉環反応）させる。反応温度は、２０〜１２０℃に設定するのが好ましい。また、反応時間は、反応スケールによるが、通常、１〜１０時間に設定するのが好ましい。
【０１９０】
この方法の場合、エピハロヒドリンの使用量は、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物の水酸基１当量に対して、通常、１．１〜２０当量の範囲に設定するのが好ましい。因みに、エピハロヒドリンの使用量が多くなる程、得られるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は理論構造に近いものとなるので、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物の未反応ヒドロキシル基とエポキシ基との反応で生じる２級水酸基の生成を抑制することができる。このことから、エピハロヒドリンの添加量は、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物の水酸基１当量に対し、２．５〜２０当量の範囲に設定するのがより好ましい。
【０１９１】
上述の反応において用いるアルカリ金属水酸化物は、水溶液であってもよい。この場合、上述の反応は、反応系内に対してアルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に添加すると共に、減圧下または常圧下で連続的に水およびエピハロヒドリンを留出させながら進行させることができる。この際、留出成分である水とエピハロヒドリンとを分液し、エピハロヒドリンのみを反応系内に連続的に戻す方法を採用することもできる。
【０１９２】
＜方法２＞
この方法では、先ず、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとの溶解混合物に対し、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイドおよびトリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩を触媒として添加し、５０〜１５０℃の条件下で反応させてハロヒドリンエーテル化物を一旦生成させる（工程Ａ）。この工程での反応時間は、特に限定されるものではないが、通常、１〜５時間に設定するのが好ましい。
【０１９３】
次に、工程Ａで生成したハロヒドリンエーテル化物に対し、塩基としてのアルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム等）の固体または水溶液を加え、再び２０〜１２０℃の条件下に反応（脱ハロゲン化水素による閉環反応）させる（工程Ｂ）。この工程での反応時間は、特に限定されるものではないが、通常、１〜１０時間に設定するのが好ましい。
【０１９４】
工程Ｂは、脱ハロゲン化水素による閉環反応が円滑に進行するよう、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールおよびブタノールなどのアルコール類、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、ジオキサンなどのエーテル類、ジメチルスルホンやジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒などの溶媒を反応系に対して添加するのが好ましい。非プロトン性極性溶媒以外の溶媒を用いる場合、その使用量は、エピハロヒドリンの使用量に対し、通常、５〜５０質量％に設定するのが好ましく、１０〜３０質量％に設定するのがより好ましい。一方、非プロトン性極性溶媒を用いる場合、その使用量は、エピハロヒドリンの量に対し、通常、５〜１００質量％に設定するのが好ましく、１０〜６０質量％に設定するのがより好ましい。
【０１９５】
工程Ｂの反応液は、通常、水洗後、または水洗せずに、１１０〜２５０℃で圧力１０ｈＰａ以下の加熱減圧下に置き、エピハロヒドリンや他の添加溶媒などを除去する。そして、これにより得られる粗エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物を再びトルエンやメチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、その溶液に対して水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて閉環反応をより確実なものにするのが好ましい。このようにすると、加水分解性ハロゲンの残留量が少ないエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。
【０１９６】
このような処理をする場合、アルカリ金属水酸化物の使用量は、粗エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物中に残存する加水分解性ハロゲン原子１モルに対し、通常、０．５〜１０モルに設定するのが好ましく、１．２〜５．０モルに設定するのがより好ましい。また、反応温度は５０〜１２０℃に設定するのが好ましく、反応時間は０．５〜３時間に設定するのが好ましい。この処理では、反応速度の向上を目的として、４級アンモニウム塩やクラウンエーテル等の相間移動触媒を添加することもできる。この場合、相間移動触媒の使用量は、粗エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物に対して０．１〜３．０質量％に設定するのが好ましい。
【０１９７】
エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、反応終了後、生成した塩を濾過や水洗などの方法により除去し、また、加熱減圧下でトルエンやメチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去すると得られる。
【０１９８】
上述の方法１および方法２により得られる、目的とするエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の方法により、反応系から単離精製することができる。
【０１９９】
この製造方法２では、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の全て若しくは一部を工程１においてＱ３基に置換し、次の工程２においてＱ３基から保護基を脱離させてヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を得、このヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を次の工程３においてエピハロヒドリンと反応させているため、得られるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、ジフェノール類の二つのヒドロキシル基によるエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物間での架橋構造を全く有していない新規なものになる。
【０２００】
樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物と樹脂成分とを含むものである。本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、一種類のものが用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。また、樹脂成分としては、各種の熱可塑性樹脂若しくは熱硬化性樹脂を使用することができる。これらの樹脂成分は、天然のものであってもよいし、合成のものであってもよい。
【０２０１】
ここで利用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂（ＭＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＭＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂（ＡＡＳ樹脂）、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、変性ポリフェニレンエーテル、脂肪族系ポリアミド、芳香族系ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオエーテルスルホン、ポリエーテルスルホン並びに液晶ポリマー等を挙げることができる。変性フェニレンエーテルとしては、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基を、グラフト反応や共重合などの何らかの方法で導入したものが用いられる。なお、本発明の樹脂組成物を電子機器用途、特に、ＯＡ機器、ＡＶ機器、通信機器および家電製品用の筐体や部品用の材料として用いる場合は、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル若しくはポリアミド等を用いるのが好ましい。
【０２０２】
一方、ここで利用可能な熱硬化性樹脂の具体例としては、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリカルボジイミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドおよびポリエステルイミド等のイミド系樹脂並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。なお、本発明の樹脂組成物を電子部品用途、特に、各種ＩＣ素子の封止材、配線板の基板材料、層間絶縁材料や絶縁性接着材料等の絶縁材料、導電材料および表面保護材料として用いる場合は、熱硬化性樹脂として、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ポリイミド系樹脂若しくはエポキシ樹脂等を用いるのが好ましい。
【０２０３】
上述の各種樹脂成分は、それぞれ単独で用いられてもよいし、必要に応じて二種以上のものが併用されてもよい。 
【０２０４】
本発明の樹脂組成物において、エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量は、樹脂成分の種類、樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分１００重量部に対して０．１〜５０重量部に設定するのが好ましく、０．５〜４０重量部に設定するのがより好ましく、１〜３０重量部に設定するのがさらに好ましい。エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量が０．１重量部未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、５０重量部を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。
【０２０５】
また、本発明の樹脂組成物は、樹脂成分の種類や樹脂組成物の用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤としては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、モリブデン酸亜鉛、マイカ、タルク、ガラス繊維およびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、シランカップリング剤などの充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、リン酸アンモニウム、赤リン、塩素化パラフィン、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のドリッピング防止剤、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化剤、顔料、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、滑剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。
【０２０６】
本発明の樹脂組成物を電気・電子分野用の材料、具体的には、ＬＳＩ等の電子部品の封止剤や基板等に用いる場合、樹脂成分は、エポキシ樹脂が好ましい。利用可能なエポキシ樹脂は、電気、電子分野において通常用いられている各種のものであり、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびナフトールノボラック型エポキシ樹脂等の、フェノール類とアルデヒド類との反応により得られるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−ＡＤ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｓ型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、アルキル置換ビフェノール型エポキシ樹脂、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン等のフェノール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン、オリゴプロピレングリコールおよび水添ビスフェノール−Ａ等のアルコール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる脂肪族エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸若しくはフタル酸とエピクロルヒドリン若しくは２−メチルエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル系エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンやアミノフェノール等のアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン系エポキシ樹脂、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られる複素環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有するホスファゼン化合物、エポキシ変性ホスファゼン樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂並びにウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂およびトリス（ヒドロキシフェニル）メタンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独で使用してもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。
【０２０７】
樹脂成分として上述のエポキシ樹脂を用いる場合（以下、「エポキシ樹脂組成物」という場合がある）、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物がエポキシ樹脂組成物中に占める割合は、０．１〜８０重量％が好ましく、０．５〜７０重量％がより好ましい。エポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の割合が０．１重量％未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、８０重量％を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。
【０２０８】
エポキシ樹脂組成物は、通常、硬化剤を含んでいる。硬化剤は、エポキシ樹脂用の硬化剤として用いられるものであれば種類が特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸および無水メチルテトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラック等のフェノール系硬化剤、水酸基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上併用してもよい。
【０２０９】
エポキシ樹脂組成物において、硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して０．５〜１．５当量になるよう設定するのが好ましく、０．６〜１．２当量になるよう設定するのがより好ましい。
【０２１０】
硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。利用可能な硬化促進剤は、公知の種々のものであり、特に限定されるものではないが、例えば、２−メチルイミダゾールおよび２−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、２−（ジメチルアミノメチル）フェノール等の第３アミン系化合物、トリフェニルホスフィン化合物等を挙げることができる。硬化促進剤を用いる場合、その使用量は、エポキシ樹脂１００重量部に対して０．０１〜１５重量部に設定するのが好ましく、０．１〜１０重量部に設定するのがより好ましい。
【０２１１】
エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤が配合されていてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび３級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイドおよびフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ｐ−ｓ−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、添加剤としては、既述のようなものを用いることができる。
【０２１２】
上述のエポキシ樹脂組成物等の本発明の樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。この樹脂組成物は、樹脂成分に応じて１００〜２５０℃程度の温度範囲で１〜３６時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。例えば、エポキシ樹脂組成物は、通常、１５０〜２５０℃の温度で２〜１５時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。このような硬化過程において、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、樹脂成分とともに架橋し、硬化物中において安定に保持されることになるため、当該硬化物の高温信頼性を損ないにくい。また、本発明のエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、そのような硬化物の機械的特性（特に、ガラス転移温度）を損なわずに、その難燃性を高めることができ、また、硬化物に対して低発煙性を付与することができる。このため、本発明の樹脂組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。特に、本発明の樹脂組成物は、半導体封止用や回路基板（特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク）形成用等の電気・電子部品の製造用材料として好適である。
【実施例】
【０２１３】
以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。以下の実施例のうち、実施例３、４、６、９、１４、１５、１７、２０、２５、２６、２９、３０、３４、３５、３６、３９、４１、４４および４５は参考例である。
なお、以下において、「ｕｎｉｔ  ｍｏｌ」の「ｕｎｉｔ」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、一般式（１）については（ＰＮＡ２）を意味し、一般式（６）については（ＰＮＸ２）を意味する。一般式（６）において、Ｘが塩素の場合、その１ｕｎｉｔ  ｍｏｌは１１５．８７ｇである。
また、以下においては、特に断りがない限り、「％」および「部」とあるのは、それぞれ「重量％」および「重量部」を意味する。
【０２１４】
実施例等で得られたホスファゼン化合物は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよび３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルの測定、ＣＨＮ元素分析、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素（残留塩素）の分析、マイクロウエーブ湿式分解後のＩＣＰ−ＡＥＳによるリン元素の分析並びにＴＯＦ−ＭＳ分析の結果に基づいて同定した。また、水酸基当量は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０−１９９２「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法」において規定された水酸基価測定方法の中和滴定法に従い測定し、水酸基価ｍｇＫＯＨ／ｇの値を水酸基当量ｇ／ｅｑ．に変換した。エポキシ当量は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２３６−１９９５「エポキシ樹脂のエポキシ当量試験方法」の電位差滴定法に従い測定した。
【０２１５】
実施例１（製造方法１による形態１に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法１−Ａによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた５リットルのフラスコ中に４８％ＮａＯＨ水溶液５０．０ｇ（０．６０ｍｏｌ）、４８％ＫＯＨ水溶液７０．１ｇ（０．６０ｍｏｌ）、トルエン３，０００ｍｌおよび４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノール３４８．４ｇ（１．２０ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約８４ｍｌ）、４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノールのナトリウム塩およびカリウム塩を調製した。これに、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンのトルエン溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５８．０ｇ（０．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、トルエン３００ｍｌ〕を撹拌下２０〜２５℃で１時間かけて滴下し、還流下（１０８℃）で８時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応液に水１，０００ｍｌを加えて反応物を溶解させ、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硝酸で中和し、更に水で３回洗浄した後、トルエンを留去したところ、白色固体の生成物２８６．９ｇ（収率：９２％）が得られた。この生成物の融点（融解ピーク温度）は１６４℃であった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２１６】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ２−  ４．６（４Ｈ），＝ＣＨ２  ５．３〜５．４（４Ｈ），−ＣＨ＝  ６．０（２Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．１（８Ｈ），７．８〜８．０（８Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３    ８．５
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：５７．８％，Ｈ：４．２％，Ｎ：２．２％，Ｐ：５．０％
実測値  Ｃ：５７．９％，Ｈ：４．４％，Ｎ：２．１％，Ｐ：４．９％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２１７】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２］３であることを確認した。
【０２１８】
［工程２：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた３リットルのフラスコ中にリンタングステン酸２３．０ｇ（８ｍｍｏｌ）、４０ｗ／ｖ％リン酸水溶液１１７．６ｍｌ（０．４８ｍｏｌ）および水８００ｍｌを仕込み、撹拌しながら２８％アンモニア水溶液でｐＨを２．０に調整した。そこへ、工程１で得られた生成物２４９．５ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）と塩化トリオクチルメチルアンモニウム３．９ｇとをクロロホルム１，０００ｍｌに溶解させたものを加え、７０℃に加熱して激しく撹拌しながら３５％過酸化水素水２３３．２ｇ（２．４０ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、同温度で１５時間撹拌反応を行った。反応終了後、分液ロートにて有機層を分液し、この有機層を２０％亜硫酸ナトリウム水溶液および５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、更に水で３回洗浄した後、活性炭１２．５ｇを加えて３０分撹拌した。その後、この溶液を濾過し、更にクロロホルムを留去したところ、白色粉末の生成物２３８．７ｇ（収率：９１％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は次の通りである。
【０２１９】
◎エポキシ当量：
３２４ｇ／ｅｑ．（理論値  ３２８ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２２０】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）２］３であることを確認した。
【０２２１】
実施例２（製造方法１による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｄによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた１リットルのフラスコ中に４８％ＫＯＨ水溶液５８．４ｇ（０．５０ｍｏｌ）、クロルベンゼン４５０ｍｌおよびフェノール４７．１ｇ（０．５０ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約３９ｍｌ）、フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２２２】
一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に４８％ＫＯＨ水溶液７６．０ｇ（０．６５ｍｏｌ）、クロルベンゼン８００ｍｌおよび４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノール１８８．８ｇ（０．６５ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水約：５１ｍｌ）、４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ３００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２２３】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのＴＨＦ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５８．０ｇ（０．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＴＨＦ２００ｍｌ〕を仕込み、上記フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下５℃で１０時間かけて滴下し、２５℃で撹拌反応を５時間行った。続いて、この反応液に上記４’−アリルオキシフェニルスルホニル−４−フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下２５℃で１時間かけて滴下し、還流下（８６℃）で撹拌反応を１０時間行った。反応終了後、反応液を約１，０００ｍｌまで濃縮した後、クロルベンゼン６００ｍｌと水６００ｍｌとを加えて反応物を溶解させ、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硫酸で中和し、更に水での洗浄を３回行った後、クロルベンゼンを留去したところ、淡黄色固体の生成物２０７．１ｇ（収率：９６％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２２４】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ２−  ４．６（２Ｈ），＝ＣＨ２  ５．３〜５．４（２Ｈ），−ＣＨ＝  ６．０（１Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．２（９Ｈ），７．８〜８．０（４Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ８．５
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：５８．９％，Ｈ：４．２％，Ｎ：３．２％，Ｐ：７．２％
実測値  Ｃ：５８．７％，Ｈ：４．４％，Ｎ：３．１％，Ｐ：７．０％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
１０８７、１２８３、１４８０
【０２２５】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３（ＯＣ６Ｈ５）３］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）４（ＯＣ６Ｈ５）２］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）１．０２（ＯＣ６Ｈ５）０．９８］３であることを確認した。
【０２２６】
［工程２：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた２リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１７２．５ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、トルエン７００ｍｌおよび塩化トリオクチルメチルアンモニウム２．０ｇを仕込んだ。これに対してリンタングステン酸１１．８ｇ（４ｍｍｏｌ）および４０ｗ／ｖ％リン酸水溶液６０．２ｍｌ（０．２４ｍｏｌ）を水２７０ｍｌに加えて２８％アンモニア水溶液でｐＨを１．６に調整した溶液を加え、７０℃に加熱して激しく撹拌しながら３５％過酸化水素水７９．３ｇ（０．８２ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、同温度で１２時間撹拌反応を行った。反応終了後、分液ロートにて有機層を分液し、この有機層を２０％亜硫酸ナトリウム水溶液および５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、更に水で３回洗浄した後、活性炭８．５ｇを加えて３０分撹拌した。その後、この溶液を濾過し、更にトルエンを留去したところ、白色粉末の生成物１７０．１ｇ（収率：９５％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は次の通りである。
【０２２７】
◎エポキシ当量：
４３６ｇ／ｅｑ．（理論値  ４３９ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２２８】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０２（ＯＣ６Ｈ５）０．９８］３であることを確認した。
【０２２９】
実施例３（製造方法１による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｄによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に細片化した金属ナトリウム１１．５ｇ（０．５０ｍｏｌ）および１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）８００ｍｌを仕込んだ。これに対し、窒素雰囲気下で撹拌しながらフェノールのＤＭＥ溶液〔フェノール４７．１ｇ（０．５０ｍｏｌ）、ＤＭＥ２００ｍｌ〕を１５〜２０℃で２時間かけて滴下した後、７５〜８０℃に加熱し、さらに反応液を５００ｍｌまで濃縮し、フェノールのナトリウム塩を調製した。
【０２３０】
一方、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に細片化した金属ナトリウム１４．９ｇ（０．６５ｍｏｌ）およびＴＨＦ８００ｍｌを仕込んだ。これに対し、窒素雰囲気下で撹拌しながら４’−（３−ブテニルオキシ）フェニル−４−フェノールのＴＨＦ溶液〔４’−（３−ブテニルオキシ）フェニル−４−フェノール１５６．２ｇ（０．６５ｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌ〕を１５〜２０℃で２時間かけて滴下した後、６０〜６５℃に加熱し、さらに反応液を５００ｍｌまで濃縮し、４’−（３−ブテニルオキシ）フェニル−４−フェノールのナトリウム塩を調製した。
【０２３１】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中にクロロホスファゼンのＴＨＦ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５２．２ｇ（０．４５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、オクタクロロシクロテトラホスファゼン５．８ｇ（０．０５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌ〕を仕込み、上記フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下５℃で６時間かけて滴下し、２５℃で撹拌反応を２時間行った。続いて、この反応液に上記４’−（３−ブテニルオキシ）フェニル−４−フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下２５℃で１時間かけて滴下し、還流下（７０℃）で撹拌反応を１３時間行った。反応終了後、反応液を約５００ｍｌまで濃縮し、トルエン１，０００ｍｌと水５００ｍｌとを加えて反応物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硫酸で中和し、更に水での洗浄を２回行った後、トルエンを留去したところ、白色固体の生成物１７７．５ｇ（収率：９３％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２３２】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ２−  ２．３（２Ｈ），−ＣＨ２−  ３．６（２Ｈ），＝ＣＨ２  ５．１（２Ｈ），−ＣＨ＝  ５．８（１Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．８（１３Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．３，四量体（Ｐ＝Ｎ）４  −１２．１
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：７０．２％，Ｈ：５．４％，Ｎ：３．７％，Ｐ：８．１％
実測値  Ｃ：６９．９％，Ｈ：５．５％，Ｎ：３．５％，Ｐ：８．１％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２３３】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）０．９７（ＯＣ６Ｈ５）１．０３］３および［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）０．９７（ＯＣ６Ｈ５）１．０３］４であることを確認した。
【０２３４】
［工程２：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた２リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１５２．７ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、トルエン６００ｍｌおよび塩化トリオクチルメチルアンモニウム２．０ｇを仕込んだ。そこへ、タングステン酸１２．４ｇ（４９ｍｍｏｌ）および４０ｗ／ｖ％リン酸水溶液６０．６ｍｌ（０．２５ｍｏｌ）を水２７０ｍｌに加えて２８％アンモニア水溶液でｐＨを１．６に調整した溶液を加え、７０℃に加熱して激しく撹拌しながら３５％過酸化水素水８０．８ｇ（０．８２ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、同温度で１２時間撹拌反応を行った。反応終了後、分液ロートにて有機層を分液し、この有機層を２０％亜硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次に５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、更に水で３回洗浄した後、活性炭７．５ｇを加えて３０分撹拌した。その後、この溶液を濾過し、更にトルエンを留去したところ、白色固体の生成物１４６．６ｇ（収率：９５％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は次の通りである。
【０２３５】
◎エポキシ当量：
３８９ｇ／ｅｑ．（理論値  ３８７ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２３６】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）０．９７（ＯＣ６Ｈ５）１．０３］３および［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）０．９７（ＯＣ６Ｈ５）１．０３］４であることを確認した。
【０２３７】
実施例４（製造方法１による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｃによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に４８％ＮａＯＨ水溶液４１．７ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン１，１００ｍｌおよび４’−（１−プロペニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノール１３４．２ｇ（０．５０ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約２９ｍｌ）、４’−（１−プロペニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ５００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２３８】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中にシクロホスファゼンのトルエン溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン４６．４ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、オクタクロロシクロテトラホスファゼン５．８ｇ（０．０５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、デカクロロシクロペンタホスファゼン２．９ｇ（０．０２５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼン１．７ｇ（０．０１５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、テトラデカクロロシクロヘプタホスファゼン以上の大環状物１．２ｇ（０．０１ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、トルエン５００ｍｌ〕を仕込んだ。これに対して上記４’−（１−プロペニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下５℃で６時間かけて滴下した後、還流下（８５℃）で撹拌反応を７時間行った。反応終了後、反応液を約７００ｍｌまで濃縮し、トルエン３００ｍｌと水５００ｍｌとを加えて反応物を溶解し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で３回洗浄した後、水−トルエンを共沸脱水し、無水状態の４’−（１−プロペニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノキシ部分置換体のトルエン溶液を得た。
【０２３９】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に上記４’−（１−プロペニルオキシ）フェニルイソプロピリデン−４−フェノキシ部分置換体のトルエン溶液、ｎ−プロパノール３９．１ｇ（０．６５ｍｏｌ）、トリエチルアミン１４４．７ｇ（１．４３ｍｏｌ）およびジメチルアミノピリジン０．６ｇ（５ｍｍｏｌ）を仕込み、還流下（１０３℃）で１０時間撹拌反応を行った。反応終了後、反応液を約７００ｍｌまで濃縮し、トルエン３００ｍｌと水１，０００ｍｌを加えて反応物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％塩酸で中和し、更に水での洗浄を２回行った後、トルエンを留去したところ、淡黄色粘稠液体の生成物１６４．７ｇ（収率：９０％）が得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２４０】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ3  ０．９（３Ｈ），−ＣＨ２−  １．６（２Ｈ），−ＣＨ３  １．６〜１．８（９Ｈ），−ＣＨ２−  ３．６（２Ｈ），−ＣＨ＝  ４．９（１Ｈ），＝ＣＨ−  ５．７（１Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．７〜７．２（８Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  １２．３，四量体（Ｐ＝Ｎ）４  −７．３，五，六量体（Ｐ＝Ｎ）５，６  −１１．１，七量体以上（Ｐ＝Ｎ）≧７  −１４．５〜−１７．８
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６７．６％，Ｈ：７．１％，Ｎ：３．８％，Ｐ：８．５％
実測値  Ｃ：６７．４％，Ｈ：７．２％，Ｎ：３．７％，Ｐ：８．４％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２４１】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４―Ｃ（ＣＨ３）２―Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ＝ＣＨＣＨ３）０．９７（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）１．０３］ｎであることを確認した。
【０２４２】
［工程２：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた２リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１４６．１ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、トルエン６００ｍｌおよび塩化トリオクチルメチルアンモニウム１．９ｇを仕込んだ。そこへ、モリブデン酸１１．４ｇ（７０ｍｍｏｌ）および４０ｗ／ｖリン酸水溶液８５．６ｍｌ（０．３５ｍｏｌ）を水２８０ｍｌに加えて２８％アンモニア水溶液でｐＨを２．５に調整した溶液を加え、７０℃に加熱して激しく撹拌しながら３５％過酸化水素水７５．４ｇ（０．７８ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、同温度で１８時間撹拌反応を行った。反応終了後、分液ロートにて有機層を分液し、この有機層を２０％亜硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次に５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、更に水で３回洗浄した後、活性炭７．２ｇを加えて３０分撹拌した。その後、この溶液を濾過し、トルエンを留去したところ、淡黄色固体の生成物１３５．５ｇ（収率：８９％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。
【０２４３】
◎エポキシ当量：
３９６ｇ／ｅｑ．（理論値  ３９２ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２４４】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４―Ｃ（ＣＨ３）２―Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ（Ｏ）ＣＨＣＨ３）０．９７（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）１．０３］ｎであることを確認した。
【０２４５】
実施例５（製造方法１による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｄによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた１リットルのフラスコ中に４８％ＮａＯＨ４１．７ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン５００ｍｌおよびｐ−クレゾール５４．１ｇ（０．６５ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約３０ｍｌ）、ｐ−クレゾールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ２００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２４６】
一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に４８％ＫＯＨ７６．０ｇ（０．６５ｍｏｌ）、トルエン１，０００ｍｌおよび１，３，３−トリメチル−１−（４−アリルオキシフェニル）インダン−６−オール（４４％）と１，３，３−トリメチル−１−（４−ビドロキシフェニル）−６−アリルオキシインダン（５６％）との混合物１９０．７ｇ（０．６５ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約５１ｍｌ）、１，３，３−トリメチル−１−（４−アリルオキシフェニル）インダン−６−オールと１，３，３−トリメチル−１−（４−ビドロキシフェニル）−６−アリルオキシインダンとの混合物のカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ５００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２４７】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのＴＨＦ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５８．０ｇ（０．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍｌ〕を仕込んだ。これに上記ｐ−クレゾールのナトリウム塩溶液を撹拌下５℃で１０時間かけて滴下し、２５℃で撹拌反応を２時間行った。続いて、この反応液に上記１，３，３−トリメチル−１−（４−アリルオキシフェニル）インダン−６−オール（４４％）と１，３，３−トリメチル−１−（４−ビドロキシフェニル）−６−アリルオキシインダン（５６％）との混合物のカリウム塩溶液を撹拌下２０℃で１時間かけて滴下し、還流下（８５℃）で撹拌反応を１２時間行った。反応終了後、反応液を約１，０００ｍｌまで濃縮し、トルエン５００ｍｌと水１，０００ｍｌとを加えて反応物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％塩酸で中和し、更に水での洗浄を２回行った後、トルエンを留去したところ、淡黄色固体の生成物２２２．１ｇ（収率：９４％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２４８】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ３  １．０〜１．６（９Ｈ），−ＣＨ２−  ２．１〜２．４（２Ｈ），−ＣＨ３  ２．３（３Ｈ），−ＣＨ２−  ４．６（２Ｈ），＝ＣＨ２  ５．３〜５．４（２Ｈ），−ＣＨ＝  ６．０（１Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．９（１１Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．５
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：７３．５％，Ｈ：６．６％，Ｎ：３．０％，Ｐ：６．６％
実測値  Ｃ：７３．２％，Ｈ：６．７％，Ｎ：２．９％，Ｐ：６．６％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
１，１７９、１，３７９、１，５８０
【０２４９】
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）４］、［Ｎ３＝Ｐ３（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）４］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）３］、［Ｎ３＝Ｐ３（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）３］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）２］および［Ｎ３＝Ｐ３（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）２］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）１．０４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９６］３および［Ｎ＝Ｐ（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）１．０８（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９２］３の混合物であることを確認した。
【０２５０】
［工程２：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた３リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１８８．６ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、トルエン１,５００ｍｌおよび塩化トリオクチルメチルアンモニウム２．１ｇを仕込んだ。そこへ、タングステン酸１２．８ｇ（５１ｍｍｏｌ）および４０ｗ／ｖ％リン酸水溶液６２．３ｍｌ（０．２５ｍｏｌ）を水２８０ｍｌに加えて２８％アンモニア水溶液でｐＨを１．６に調整した溶液を加え、７０℃に加熱して激しく撹拌しながら３５％過酸化水素水８２．４ｇ（０．８５ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、そのままの温度を保ったまま１５時間撹拌して反応を行った。反応終了後、分液ロートにて有機層を分液し、この有機層を２０％亜硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次に５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、更に水で３回洗浄した後、活性炭９．５ｇを加えて３０分撹拌した。その後、この溶液を濾過し、更にトルエンを留去したところ、白色固体の生成物１５３．９ｇ（収率：９０％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は次の通りである。
【０２５１】
◎エポキシ当量：
４２１ｇ／ｅｑ．（理論値  ４１８ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２５２】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９６］３および［Ｎ＝Ｐ（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０８（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９２］３の混合物であることを確認した。
【０２５３】
実施例６（製造方法２による形態１に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法１−Ａによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中に窒素雰囲気下でＤＭＥ５００ｍｌおよび６０％ＮａＨ／油性５２．０ｇ（１．３０ｍｏｌ）を仕込んだ。これに対し、撹拌下で４’−（１−プロペニルオキシ）フェニル−４−フェノールのＤＭＥ溶液〔４’−（１−プロペニルオキシ）フェニル−４−フェノール２９４．２ｇ（１．３０ｍｏｌ）、ＤＭＥ１，０００ｍｌ〕を５℃以下で２時間かけて滴下し、次に５０℃で２時間撹拌し、上記４’−（１−プロペニルオキシ）フェニル−４−フェノールのナトリウム塩を調製した。
【０２５４】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中にクロロホスファゼンのＤＭＥ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５２．２ｇ（０．４５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、オクタクロロシクロテトラホスファゼン５．８ｇ（０．０５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＤＭＥ３００ｍｌ〕を仕込んだ。これに上記４’−（１−プロペニルオキシ）フェニル−４−フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下２５℃で１時間かけて滴下した後、還流下（６８℃）で１２時間撹拌し反応を行った。反応終了後、反応液を約５００ｍｌまで濃縮し、トルエン１，０００ｍｌと水１，５００ｍｌとを加えて反応物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硫酸で中和し、更に水で洗浄した後、トルエンを留去したところ、白色固体の生成物２２５．５ｇ（収率：９１％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２５５】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ３  １．７（６Ｈ），−ＣＨ＝  ４．９（２Ｈ），＝ＣＨ−  ５．７（２Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．５〜７．８（１６Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ８．５，四量体（Ｐ＝Ｎ）４  −１３．２
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：７２．７％，Ｈ：５．３％，Ｎ：２．８％，Ｐ：６．３％
実測値  Ｃ：７２．５％，Ｈ：５．４％，Ｎ：２．８％，Ｐ：６．３％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２５６】
以上の分析結果から、この工程の生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ＝ＣＨＣＨ３）２］３および［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ＝ＣＨＣＨ３）２］４であることを確認した。
【０２５７】
［工程：脱保護基工程］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１９８．２ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）とトルエン１，０００ｍｌとを仕込んだ。そして、窒素雰囲気下で三臭化ホウ素２００．４ｇ（０．８０ｍｏｌ）を５〜１０℃で４時間かけて滴下した後、２５〜３０℃で１２時間撹拌熟成した。反応後、反応液を水１，０００ｍｌに添加し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で３回洗浄した後、トルエンを留去したところ、淡黄色固体の生成物１５４．５ｇ（収率：９３％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２５８】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
フェニルＣ−Ｈ  ６．２〜７．５（１６Ｈ），−ＯＨ  ９．５（２Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ８．３，四量体（Ｐ＝Ｎ）４  −１３．４
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６９．４％，Ｈ：４．４％，Ｎ：３．４％，Ｐ：７．５％
実測値  Ｃ：６９．２％，Ｈ：４．５％，Ｎ：３．５％，Ｐ：７．３％
◎水酸基当量：
２０９ｇ／ｅｑ．（理論値２０８ｇ／ｅｑ．）
【０２５９】
以上の分析結果から、この工程の生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＨ）２］３および［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＨ）２］４であることを確認した。
【０２６０】
［工程３：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計、水分離用受器および還流冷却管を備えた２リットルのフラスコ中に工程２で得られた生成物１２４．６ｇ（０．３０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）およびエピクロルヒドリン３３３．１ｇ（３．６０ｍｏｌ）を仕込んで加熱溶解し、続いて４８％ＮａＯＨ水溶液（ＮａＯＨ：２４．０ｇ、０．６０ｍｏｌ）を９５〜１１８℃で２時間かけて滴下した。この際、留出するエピクロルヒドリンと水とは水分離用受器で分液し、エピクロルヒドリンをフラスコに戻し、水は系外に排出した。反応を完結させるために同温度で更に１時間熟成反応を行った。反応終了後、エピクロルヒドリンを留去し、クロロホルム１，０００ｍｌと水１，０００ｍｌとを加えて反応物を溶解させ、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層は水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムによって脱水した後、クロロホルムを留去し、淡黄色固体の生成物１４８．８ｇ（収率：９４％）を得た。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。
【０２６１】
◎エポキシ当量：
２６５ｇ／ｅｑ．（理論値２６４ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０３％
【０２６２】
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）２］３および［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）２］４であることを確認した。
【０２６３】
実施例７（製造方法２による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｄによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
実施例２の工程１と同様の条件で操作し、淡黄色固体の生成物２０７．９ｇ（収率：９６％）を得た。この生成物は、実施例２の工程１で得られたものと同じく、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３（ＯＣ６Ｈ５）３］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）４（ＯＣ６Ｈ５）２］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）１．０２（ＯＣ６Ｈ５）０．９８］３であることを確認した。
【０２６４】
［工程２：脱保護基工程］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた１リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１２９．４ｇ（０．３０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）および酢酸５００ｍｌを仕込んだ。そして、窒素雰囲気下で３０％臭化水素酸／酢酸溶液１６１．８ｍｌ（０．６０ｍｏｌ）を５〜１０℃で２時間かけて滴下した後、５０℃で８時間撹拌熟成した。反応終了後、反応液を濃縮して過剰の臭化水素酸と酢酸とを留去した。次に、残留物にメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）４００ｍｌと水４００ｍｌとを添加して溶解し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で３回洗浄した後、ＭＩＢＫを留去したところ、黄褐色固体の生成物９９．６ｇ（収率：８５％）を得た。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２６５】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．２（９Ｈ），７．８〜７．２（４Ｈ），−ＯＨ  ９．５（１Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．５
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：５５．７％，Ｈ：３．６％，Ｎ：３．６％，Ｐ：７．９％
実測値  Ｃ：５５．５％，Ｈ：３．７％，Ｎ：３．５％，Ｐ：７．７％
◎水酸基当量：
３９４ｇ／ｅｑ．（理論値３９１ｇ／ｅｑ．）
【０２６６】
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＨ）１．０２（ＯＣ６Ｈ５）０．９８］３であることを確認した。
【０２６７】
［工程３：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計、水分離用受器および還流冷却管を備えた１リットルのフラスコ中に工程２で得られた生成物７８．１ｇ（０．２０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）およびエピクロルヒドリン１１３.２ｇ（１．２２ｍｏｌ）を仕込んで加熱溶解させ、４８％ＮａＯＨ水溶液（ＮａＯＨ：８．２ｇ、０．２０ｍｏｌ）を９５〜１１８℃で２時間かけて滴下した。この際、留出するエピクロルヒドリンと水とは水分離用受器で分液し、エピクロルヒドリンをフラスコに戻し、水は系外に排出した。反応を完結させるために同温度で更に１時間熟成反応を行った。反応終了後、エピクロルヒドリンおよび水を留去し、クロロホルム６００ｍｌを加えて分液ロートに移し、水で３回洗浄した。分液した有機層は無水硫酸マグネシウムによって脱水した後、クロロホルムを留去した。これにより、淡黄色固体の生成物８１．５ｇ（収率：９１％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２６８】
◎エポキシ当量：
４４２ｇ／ｅｑ．（理論値４３９ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０３％
【０２６９】
この分析結果と1Ｈ−ＮＭＲ分析および31Ｐ−ＮＭＲ分析の結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０２（ＯＣ６Ｈ５）０．９８］３であることを確認した。
【０２７０】
実施例８（製造方法２による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｃによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中に４８％ＮａＯＨ水溶液４１．７ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン１，２００ｍｌおよび４’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−４−フェノール１７０．２ｇ（０．５０ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約３０ｍｌ）、４’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−４−フェノールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ６００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２７１】
一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた１リットルのフラスコ中に４８％ＫＯＨ水溶液８７．７ｇ（０．７５ｍｏｌ）、トルエン５５０ｍｌおよびフェノール７０．６ｇ（０．７５ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約５８ｍｌ）、フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ２００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２７２】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた５リットルのフラスコ中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのＴＨＦ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５８．０ｇ（０．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍｌ〕を仕込み、上記４’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−４−フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下５℃で６時間かけて滴下し、２５℃で撹拌反応を４時間行った。続いて、この反応液に上記フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下２５℃で１時間かけて滴下し、還流下（１０３℃）で撹拌反応を２時間行った。反応終了後、反応液を約１，０００ｍｌまで濃縮し、トルエン２００ｍｌと水４００ｍｌとを加えて反応物を溶解させ、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硫酸で中和し、更に水での洗浄を３回行った後、トルエンを留去したところ、淡黄色固体の生成物２０１．１ｇ（収率：８７％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２７３】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ２−  ５．１（２Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．７〜７．０（４Ｈ），７．０〜７．２（５Ｈ），７．３〜７．４（５Ｈ），７．６〜７．９（４Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．３
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６２．９％，Ｈ：４．２％，Ｎ：３．０％，Ｐ：６．７％
実測値  Ｃ：６２．９％，Ｈ：４．２％，Ｎ：３．１％，Ｐ：６．９％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
１１８７、１４３４、１６８０
【０２７４】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）３（ＯＣ６Ｈ５）３］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）４（ＯＣ６Ｈ５）２］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）０．９５（ＯＣ６Ｈ５）１．０５］３であることを確認した。
【０２７５】
［工程２：脱保護基工程］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１３９．５ｇ（０．３０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）とトルエン８００ｍｌとを仕込んだ。これに窒素雰囲気下で三臭化ホウ素２６．９ｍｌ（０．２９ｍｏｌ）を５〜１０℃で４時間かけて滴下した後、２５〜３０℃で１２時間撹拌熟成した。反応後、反応液を水８００ｍｌに添加し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で３回洗浄し、トルエンを留去したところ、茶色固体の生成物１０５．９ｇ（収率：９３％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２７６】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．３（９Ｈ），７．７〜７．９（４Ｈ），−ＯＨ  ９．５（１Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．６
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：５６．０％，Ｈ：３．４％，Ｎ：３．７％，Ｐ：８．２％
実測値  Ｃ：５５．７％，Ｈ：３．７％，Ｎ：３．８％，Ｐ：８．４％
◎水酸基当量：
３７８ｇ／ｅｑ．（理論値３８０ｇ／ｅｑ．）
【０２７７】
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物はＮ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＨ）０．９５（ＯＣ６Ｈ５）１．０５］３であることを確認した。
【０２７８】
［工程３：エポキシ化工程］
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた１リットルのフラスコ中に工程２で得られた生成物７５．９ｇ（０．２０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）およびエピクロルヒドリン１０５．５ｇ（１．１４ｍｏｌ）を仕込み、ペレット状のＮａＯＨ７．６ｇ（０．１９ｍｏｌ）を３０℃の水浴中で発熱に注意しながら徐々に加えた。添加終了後、４０℃にて１時間、５０℃で２時間、更に７０℃にて１時間反応を行った。反応終了後、ＭＩＢＫ５００ｍｌを加え、分液ロートに移して水層が中性になるまで水洗した。その後、有機層から溶媒および未反応エピクロルヒドリンを減圧下にて留去したところ、淡黄色ガラス状固体の生成物７５．３ｇ（収率：８７％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２７９】
◎エポキシ当量：
４５８ｇ／ｅｑ．（理論値４５６ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０３％
【０２８０】
この分析結果並びに1Ｈ−ＮＭＲ分析および31Ｐ−ＮＭＲ分析の結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）０．９５（ＯＣ６Ｈ５）１．０５］３であることを確認した。
【０２８１】
実施例９（製造方法２による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｄによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた１リットルのフラスコ中に４８％ＮａＯＨ水溶液４１．７ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン２５０ｍｌおよびフェノール４７．１ｇ（０．５０ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約２９ｍｌ）、フェノールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ２００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２８２】
一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中に４８％ＫＯＨ水溶液８７．７ｇ（０．７５ｍｏｌ）、トルエン１，５００ｍｌおよび４’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノール２３８．８ｇ（０．７５ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水約：５９ｍｌ）、４’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ５００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２８３】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた５リットルのフラスコ中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのＴＨＦ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン５８．０ｇ（０．５０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＴＨＦ５００ｍｌ〕を仕込み、上記フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下５℃で６時間かけて滴下し、２５℃で撹拌反応を２時間行った。次に、この反応液に上記の４’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−４−フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下２５℃で１時間かけて滴下し、還流下（８５℃）で撹拌反応を１４時間行った。反応終了後、反応液を約１，０００ｍｌまで濃縮し、トルエン５００ｍｌと水１，０００ｍｌとを加えて反応物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硫酸で中和し、更に水での洗浄を３回行った後、トルエンを留去したところ、茶色固体の生成物２２１．９ｇ（収率：９６％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２８４】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ３  １．６（６Ｈ），−ＣＨ２−  ５．０（２Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜６．９（５Ｈ），７．０〜７．１（８Ｈ），７．２〜７．４（５Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．９
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：７４．０％，Ｈ：５．８％，Ｎ：３．０％，Ｐ：６．７％
実測値  Ｃ：７４．２％，Ｈ：５．８％，Ｎ：２．９％，Ｐ：６．６％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
◎ＴＯＦ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：
１１４３、１３６８、１５９２
【０２８５】
以上の分析結果から、この工程での生成物は［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）２（ＯＣ６Ｈ５）４］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）３（ＯＣ６Ｈ５）３］、［Ｎ３＝Ｐ３（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）４（ＯＣ６Ｈ５）２］の混合物であり、その平均組成が［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５）１．０３（ＯＣ６Ｈ５）０．９７］３であることを確認した。
【０２８６】
［工程２：脱保護基工程］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１３８．７ｇ（０．３０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、Ｐｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ社製、“Ｅ  １０１  ＮＥ／Ｗ”：１０％Ｐｄ）３．８ｇおよびメタノール２，５００ｍｌを仕込み、水素雰囲気下５０℃で５時間撹拌反応した。反応終了後、反応液を濾過してＰｄ／Ｃを除去し、濾液を濃縮してメタノールを回収した。次に、残留物にＭＩＢＫ１，０００ｍｌと水７００ｍｌとを添加して溶解し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で３回洗浄し、ＭＩＢＫを留去したところ、茶色固体の生成物９６．４ｇ（収率：８７％）が得られた。この生成物は、ガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２８７】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ３  １．７（６Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜６．９（４Ｈ），６．９〜７．２（５Ｈ），７．２〜７．３（４Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重アセトン中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  １０．０
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：６９．２％，Ｈ：５．５％，Ｎ：３．８％，Ｐ：８．４％
実測値  Ｃ：６９．３％，Ｈ：５．３％，Ｎ：３．８％，Ｐ：８．３％
◎水酸基当量：
３７１ｇ／ｅｑ．（理論値３６９ｇ／ｅｑ．）
【０２８８】
以上の分析結果から、この工程の生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ６Ｈ４ＯＨ）１．０３（ＯＣ６Ｈ５）０．９７］３であることを確認した。
【０２８９】
［工程３：エポキシ化工程］
工程２で得られた生成物７３．９ｇ（０．２０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）を用いた点を除いて実施例７の工程３と同様に操作し、淡黄色固体の生成物７８．６ｇ（収率：９２％）を得た。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２９０】
◎エポキシ当量：
４１６ｇ／ｅｑ．（理論値４１５ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０３％
【０２９１】
この分析結果並びに1Ｈ−ＮＭＲ分析および31Ｐ−ＮＭＲ分析の結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０３（ＯＣ６Ｈ５）０．９７］３であることを確認した。
【０２９２】
実施例１０（製造方法２による形態２に係るエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造）
［工程１：上記方法２−Ｄによる環状ホスホニトリル置換体の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた１リットルのフラスコ中に４８％ＮａＯＨ４１．７ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン３００ｍｌおよびｐ−クレゾール５４．１ｇ（０．５０ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約３０ｍｌ）、ｐ−クレゾールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ２００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２９３】
一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に４８％ＫＯＨ７６．０ｇ（０．６５ｍｏｌ）、トルエン１，０００ｍｌおよび１，３，３−トリメチル−１−（４−（３−ブテニルオキシ）フェニル）インダン−６−オール（４７％）と１，３，３−トリメチル−１−（４−ビドロキシフェニル）−６−（３−ブテニルオキシ）インダン（５３％）との混合物２０９．６ｇ（０．６５ｍｏｌ）を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去し（回収水：約５１ｍｌ）、１，３，３−トリメチル−１−（４−（３−ブテニルオキシ）フェニル）インダン−６−オールと１，３，３−トリメチル−１−（４−ビドロキシフェニル）−６−（３−ブテニルオキシ）インダンとの混合物のカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を２０℃に冷却し、ＴＨＦ５００ｍｌを仕込んで均一溶液とした。
【０２９４】
次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた５リットルのフラスコ中にシクロホスファゼンのＴＨＦ溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン４６．４ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、オクタクロロシクロテトラホスファゼン５．８ｇ（０．０５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、デカクロロシクロペンタホスファゼン２．９ｇ（０．０２５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼン１．７ｇ（０．０１５ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、テトラデカクロロシクロヘプタホスファゼン以上の大環状物１．２ｇ（０．０１ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍｌ〕を仕込み、上記クレゾールのナトリウム塩溶液を撹拌下５℃で１０時間かけて滴下し、２５℃で撹拌反応を２時間行った。続いて、この反応液に上記１，３，３−トリメチル−１−（４−（３−ブテニルオキシ）フェニル）インダン−６−オール（５３％）と１，３，３−トリメチル−１−（４−ビドロキシフェニル）−６−（３−ブテニルオキシ）インダン（４７％）との混合物のカリウム塩溶液を撹拌下２０℃で１時間かけて滴下し、還流下（８５℃）で撹拌反応を１２時間行った。反応終了後、反応液を約１，０００ｍｌまで濃縮し、トルエン５００ｍｌと水１，０００ｍｌとを加えて反応物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を５％ＮａＯＨ水溶液で２回洗浄し、次に２％硫酸で中和し、更に水での洗浄を行った後、トルエンを留去したことろ、淡黄色粘稠液体の生成物２１１．２ｇ（収率：８７％）が得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２９５】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ３  １．０〜１．６（９Ｈ），−ＣＨ２−  ２．１〜２．４（４Ｈ），−ＣＨ３  ２．３（３Ｈ），−ＣＨ２−  ３．６（２Ｈ），＝ＣＨ２  ５．１（２Ｈ），−ＣＨ＝  ５．８（１Ｈ）、フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．９（１１Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．５，四量体（Ｐ＝Ｎ）４  −１２．４，五，六量体（Ｐ＝Ｎ）５，６  −１７．０，七量体以上（Ｐ＝Ｎ）≧７  −１８．０〜−２０．０
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：７３．８％，Ｈ：６．９％，Ｎ：２．９％，Ｐ：６．４％
実測値  Ｃ：７３．６％，Ｈ：７．２％，Ｎ：２．８％，Ｐ：６．５％
◎残存塩素分析：
＜０．０１％
【０２９６】
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）１．０４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９６］ｎおよび［Ｎ＝Ｐ（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）１．０７（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９３］ｎの混合物であることを確認した。
【０２９７】
［工程２：脱保護基工程］
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に工程１で得られた生成物１９４．１ｇ（０．４０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）および酢酸７００ｍｌを仕込み、窒素雰囲気下で３３％臭化水素酸／酢酸溶液３１０．４ｇ（１．２７ｍｏｌ）を５〜１０℃で１時間かけて滴下し、同温度で１６時間撹拌反応を行った。反応終了後、反応液を濃縮して過剰の臭化水素酸と酢酸とを留去した。そして、残留物にＭＩＢＫ５００ｍｌと水５００ｍｌとを添加して溶解し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で２回洗浄し、ＭＩＢＫを留去したところ、淡黄色粘稠液体の生成物１６１．０ｇ（収率：９４％）が得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２９８】
◎１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
−ＣＨ３  １．０〜１．６（９Ｈ），−ＣＨ２−  ２．１〜２．４（２Ｈ），−ＣＨ３  ２．３（３Ｈ），フェニルＣ−Ｈ  ６．８〜７．９（１１Ｈ）
◎３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム中、δ、ｐｐｍ）：
三量体（Ｐ＝Ｎ）３  ９．６，四量体（Ｐ＝Ｎ）４  −１２．５，五，六量体（Ｐ＝Ｎ）５，６  −１７．０，七量体以上（Ｐ＝Ｎ）≧７  −１８．０〜−２３．０
◎ＣＨＮＰ元素分析：
理論値  Ｃ：７１．８％，Ｈ：６．３％，Ｎ：３．３％，Ｐ：７．２％
実測値  Ｃ：７１．９％，Ｈ：６．３％，Ｎ：３．２％，Ｐ：７．１％
◎水酸基当量：
４０９ｇ／ｅｑ．（理論値４０６ｇ／ｅｑ．）
【０２９９】
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＨ）１．０４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９６］ｎおよび［Ｎ＝Ｐ（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＨ）１．０７（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９３］ｎであることを確認した。
【０３００】
［工程３：エポキシ化工程］
工程２で得られた生成物１２８．５ｇ（０．３０ｕｎｉｔ  ｍｏｌ）を用いた点を除いて実施例８の工程３と同様に操作し、淡黄色固体の生成物１３４．５ｇ（収率：９２％）を得た。この生成物は、ガラス状固体のため正確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は次の通りである。
【０３０１】
◎エポキシ当量：
４６５ｇ／ｅｑ．（理論値４６２ｇ／ｅｑ．）
◎残存塩素分析：
＜０．０３％
【０３０２】
この分析結果並びに1Ｈ−ＮＭＲ分析および31Ｐ−ＮＭＲ分析の結果から、この工程で得られた生成物は［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ４−Ｉｎｄａｎｅ−ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０４（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９６］ｎおよび［Ｎ＝Ｐ（Ｏ−Ｉｎｄａｎｅ−Ｃ６Ｈ４ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２）１．０７（ＯＣ６Ｈ４ＣＨ３）０．９３］ｎであることを確認した。
【０３０３】
比較例１（環状ホスファゼン化合物の製造）
ＰＨＯＳＰＨＯＲＵＳ−ＮＩＴＲＯＧＥＮ  ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ、Ｈ．Ｒ．ＡＬＬＣＯＣＫ著、１９７２年刊、１５１頁、ＡＣＡＤＥＭＩＣ  ＰＲＥＳＳ社に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン８１％とオクタクロロシクロテトラホスファゼン１９％とのシクロホスファゼン混合物を用いて［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ５）２］３と［Ｎ＝Ｐ（ＯＣ６Ｈ５）２］４との混合物（白色固体／融点：６５〜１１２℃）を得た。
【０３０４】
実施例１１〜２１および比較例２、３（樹脂組成物の調製）
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂であるエピコート１００１（ジャパン・エポキシ・レジン社製：エポキシ当量４５６ｇ／ｅｑ．、樹脂固形分７０％）６５１部、ノボラック型フェノール樹脂ＢＲＧ−５５８（昭和高分子株式会社製：水酸基当量１０６ｇ／ｅｑ．、樹脂固形分７０％）３０２部、水酸化アルミニウム３６１部および２−エチル−４−メチルイミダゾール０．９部に対し、実施例１〜１０で得られたエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物若しくは比較例１で得られた環状ホスファゼン化合物並びにクレゾールノボラックエポキシ樹脂であるＹＤＣＮ−７０４Ｐ（東都化成株式会社製：エポキシ当量２１０ｇ／ｅｑ．、樹脂固形分７０％）を表１に示す割合で添加し、これに溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）を加えて樹脂固形分６５％のエポキシ樹脂ワニスを調製した。
【０３０５】
次に、調製したエポキシ樹脂ワニスを１８０μｍガラス織布に塗布して含浸させ、１６０の温度で乾燥してプリプレグを製造した。こうして得られた１８０μｍガラス織布プリプレグを８枚積層し、これを１７０℃の温度、４ＭＰａの圧力で１００分間加熱・加圧して厚さ１／１６インチのガラスエポキシ積層板を得た。
【０３０６】
このガラスエポキシ積層板から長さ５インチ、幅０．５インチ、厚さ１／１６インチの試験片を切り出し、この試験片について燃焼性、ガラス転移温度および耐熱性を調べた。各項目の評価方法は次の通りである。結果を表１に示す。
【０３０７】
（燃焼性）
アンダーライターズラボラトリーズ（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ’ｓ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ  Ｉｎｃ．）のＵＬ−９４垂直燃焼試験に基づき、１０回接炎時の合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、Ｖ−０、Ｖ−１、Ｖ−２および規格外の四段階に分類した。評価基準を以下に示す。難燃性レベルはＶ−０＞Ｖ−１＞Ｖ−２＞規格外の順に低下する。
【０３０８】
Ｖ−０：下記の条件を全て満たす。
（Ａ）試験片５本を１本につき二回ずつ、合計１０回の接炎後からの消炎時間の合計が５０秒以内。
（Ｂ）試験片５本を１本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が５秒以内。
（Ｃ）すべての試験片で滴下物による、３００ｍｍ下の脱脂綿への着火がない。
（Ｄ）すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは３０秒以内。
（Ｅ）すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
【０３０９】
Ｖ−１：下記の条件を全て満たす。
（Ａ）試験片５本を１本につき二回ずつ、合計１０回の接炎後からの消炎時間の合計が２５０秒以内。
（Ｂ）試験片５本を１本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が３０秒以内。
（Ｃ）すべての試験片で滴下物による、３００ｍｍ下の脱脂綿への着火がない。
（Ｄ）すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは６０秒以内。
（Ｅ）すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
【０３１０】
Ｖ−２：下記の条件を全て満たす。
（Ａ）試験片５本を１本につき二回ずつ、合計１０回の接炎後からの消炎時間の合計が２５０秒以内。
（Ｂ）試験片５本を１本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が３０秒以内。
（Ｃ）試験片５本のうち、少なくとも一本、滴下物による、３００ｍｍ下の脱脂綿への着火がある。
（Ｄ）すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは６０秒以内。
（Ｅ）すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
【０３１１】
（ガラス転移温度）
ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」に準じ、ＤＳＣによって測定した。
【０３１２】
（耐熱性）
試験片を２９０℃で２０分間処理し、外観の変化を観察した。表１において、「有」は、環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化がないことを示す。また、「無」は、環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化があることを示している。
【０３１３】
【表１】
0005177731.tif 000038
【０３１４】
表１から明らかなように、実施例１１〜２１の樹脂組成物からなるガラスエポキシ積層板（樹脂成形体）は、比較例２、３のものに比べ、難燃性に優れ、また、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかも、耐熱性で評価した環状ホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られない。
【０３１５】
実施例２２〜３１および比較例４、５（樹脂組成物の調製）
フェノールノボラック樹脂であるＤＬ−９２（明和化成株式会社製：フェノール性水酸基当量１１０ｇ／ｅｑ．）５．５部、球状溶融シリカ（龍森株式会社製：平均粒径２０μｍ）１００部、カルナバワックス（東亜化成株式会社製）０．５部およびＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７）０．５部の混合物に対し、実施例１〜６、９、１０で得られたエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物若しくは比較例１で得た環状ホスファゼン化合物並びにクレゾールノボラック型エポキシ樹脂であるＥＳＣＮ−１９５ＸＬ（住友化学株式会社製：エポキシ当量２００ｇ／ｅｑ．）を表２に示す割合で配合して常温で混合した。そして、この混合物を９０〜９５℃で混練した後に冷却粉砕し、成形材料を製造した。この成形材料からなる成形品について、燃焼性および高温放置信頼性を評価した。評価方法は下記の通りである。結果を表２に示す。
【０３１６】
（燃焼性）
成形材料を１７５℃に加熱した金型内にトランスファー注入して８時間の後硬化処理をし、長さ５インチ、幅０．５インチ、厚さ１／３２インチの成形品（封止品）を得た。この成形品について、実施例１１〜２１および比較例２の場合と同じく、ＵＬ−９４規格垂直燃焼試験に準拠して燃焼性を評価した。
【０３１７】
（高温放置信頼性）
上述の混合物に対して添加したエポキシ基含有環状ホスファゼン化合物等の安定性評価のため、次のような試験を行った。成形材料を用いて２本のアルミ配線を有するシリコン製チップ（テスト素子）を通常の４２アロイフレームに接着し、これを１７０℃で４分間トランスファー成形した後、１７０℃において４時間後硬化処理した。このようにして得られた２０個の成形品を、３０℃，６０％，１００時間の吸湿処理した後、２５０℃の半田浴に１０秒間浸漬した。その後、２００℃における高温放置試験を２，０００時間実施し、アルミニウム配線のオープン・ショートをしたものを不良成形品として評価した。
【０３１８】
【表２】
0005177731.tif 000039
【０３１９】
表２より明らかなように、実施例２２〜３１の成形材料は、比較例４、５のものに比べ、難燃性および高温放置信頼性に優れた樹脂成形品を形成することができる。
【０３２０】
合成例１（可溶性ポリイミド樹脂の合成）
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた３リットルのガラス製フラスコ中に、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン２７７．７ｇ（０．９５ｍｏｌ）および３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル１０．７ｇ（０．０５ｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）７００ｍｌを仕込み、窒素雰囲気下で撹拌溶解した。次に、フラスコ内の溶液を、窒素雰囲気下で撹拌し、４、４’−（４、４’−イソプロピリデンジフェノキシ）ビスフタル酸無水物（ＩＰＢＰ）のＤＭＦ溶液［ＩＰＢＰ５２０．５ｇ（１．００ｍｏｌ）、ＤＭＦ１，１００ｍｌ］を５〜１０℃で２時間かけて滴下し、さらに室温で３時間撹拌してポリアミド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸溶液をフッ素樹脂（ＰＴＦＥ）でコートしたトレイに移し、真空オーブンで減圧加熱（条件：２００℃、５．７ｈＰａ以下、６時間）することによって、可溶性ポリイミド樹脂７５０ｇを得た。
【０３２１】
合成例２（可溶性ポリイミド樹脂の合成）
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた２リットルのガラス製フラスコ中に、［２，２’−ビス（４，４’−ヒドロキシフェニル）プロパンジベンゾエート］−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸無水物１７３．０ｇ（０．３０ｍｏｌ）およびＤＭＦ３５０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下で撹拌して溶解した。次に、ビス［（４−アミノ−３−カルボキシ）フェニル］メタン（ＡＣＰＭ）のＤＭＦ溶液［ＡＣＰＭ５１．５ｇ（０．１８ｍｏｌ）、ＤＭＦ１５０ｍｌ］を５〜１０℃で１時間かけて滴下し、さらに室温で１時間撹拌した。次に、アミノ基含有変性シリコーン（信越シリコーン株式会社の商品名“ＫＦ−８０１０”：アミノ基当量：４５０ｇ／ｅｑ．）８１．０ｇ（０．０９ｍｏｌ）を５〜１０℃で１時間かけて滴下し、さらに室温で１時間撹拌した。さらに、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン（ＡＰＰＳ）のＤＭＦ溶液［ＡＰＰＳ１３．０ｇ（０．０９ｍｏｌ）、ＤＭＦ１５０ｍｌ］を１０〜１５℃で１時間かけて滴下し、さらに室温で２時間撹拌してポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液をフッ素樹脂（ＰＴＦＥ）でコートしたトレイに移し、真空オーブンで減圧加熱（条件：２００℃、５．７ｈＰａ以下、６時間）することによって、可溶性ポリイミド樹脂２９８ｇを得た。
【０３２２】
合成例３（２官能ＰＰＥオリゴマーの合成）
撹拌機、温度計、還流冷却管および空気導入管を備えた２リットルのガラス製フラスコ中に、ＣｕＣｌ１．３ｇ（０．０１２ｍｏｌ）、ジ−ｎ−ブチルアミン７０．７ｇ（０．５５ｍｏｌ）およびメチルエチルケトン５００ｍｌを仕込み、反応温度４０℃にて撹拌を行い、予めメチルエチルケトン１，０００ｍｌに溶解させた４，４’−（１−メチルエチリデン）ビス（２，６−ジメチルフェノール）４５．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）と２，６−ジメチルフェノール５８．６ｇ（０．４８ｍｏｌ）を２リットル／分の空気のバブリングを行いながら２時間かけて滴下し、さらに滴下終了後１時間、２リットル／分の空気のバブリングを続けながら撹拌を行った。これにエチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。その後、３％塩酸水溶液で３回洗浄を行った後、イオン交換水で洗浄を行った。得られた溶液を濃縮し、さらに減圧乾燥を行い、両末端にヒドロキシル基を有する２官能ＰＰＥオリゴマーを１０１．３ｇ得た。このオリゴマーは、数平均分子量が８６０、重量平均分子量が１，１５０、水酸基当量が４５５ｇ／ｅｑ．であった。
【０３２３】
実施例３２（樹脂組成物の調製）
合成例１で得られた可溶性ポリイミド樹脂５０．０ｇ、ジシクロペンタジエン系エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業株式会社の商品名“ＨＰ７２００”：エポキシ当量２７７ｇ／ｅｑ．）１３．９ｇ、実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量３２４ｇ／ｅｑ．）１６．２ｇ、フェノールノボラック型フェノール樹脂（群栄化学株式会社の商品名“ＰＳＭ−４３２４”：水酸基当量１０４ｇ／ｅｑ．）１０．４ｇ、硬化促進剤である２−エチル−４−メチルイミダゾ−ル（四国化成株式会社の商品名“２Ｅ４ＭＺ”）０．３ｇをジオキソランに溶解し、樹脂溶液（樹脂組成物）を得た。
【０３２４】
得られた樹脂溶液を、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム（東洋メタライジング株式会社の商品名“セラピールＨＰ”）の表面上にキャストした。その後、熱風オーブンにて６０℃、８０℃、１００℃、１２０℃、１４０℃の各温度でそれぞれ３分間加熱乾燥させて、ＰＥＴフィルムを支持体とする２層の樹脂シートを得た。この２層の樹脂シートから、ＰＥＴフィルムを剥離除去し、単層の樹脂シート（加熱硬化前の厚み５０μｍ）を得た。得られた樹脂シート（樹脂成形体）を１８μｍの圧延銅箔（ジャパンエナジー株式会社の商品名“ＢＨＹ−２２Ｂ−Ｔ”）で樹脂表面と銅箔粗化面が接するように挟み込み、温度１８０℃、圧力３ＭＰａの条件で１時間加熱加圧して銅箔積層体（単層樹脂シートを圧延銅箔で挟持したもの）を得た。このようにして得られた、両面に銅箔層を有する銅箔積層体について、半田耐熱性を評価した。また、得られた銅箔積層体の銅箔をエッチングにより除去し、硬化シートを得た。得られた硬化シートについて、実施例１１〜２１および比較例２、３と同様にして燃焼性およびガラス転移温度を測定した。結果を表３に示す。なお、半田耐熱性の評価方法は次の通りである。
【０３２５】
銅箔積層体から長さ３０ｍｍ、幅１５ｍｍの試験片を切り出し、この試験片を温度２２．５〜２３．５℃、湿度３９．５〜４０．５％の環境下で２４時間放置した。そして、２７０℃の溶融半田に試験片を１分間ディップし、片側の銅箔のみをエッチングした。その後、目視にて樹脂部分を観察し、発泡や膨れ等の異常がなければ合格とし、２０検体中の不合格数を調べた。
【０３２６】
実施例３３〜３６（樹脂組成物の調製）
実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、表３に示した環状ホスファゼン化合物を同表に表示の配合量で使用した点を除いて実施例３２と同様に操作し、樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて実施例３２と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、ガラス転移温度および燃焼性を評価した。結果を表３に示す。
【０３２７】
比較例６（樹脂組成物の調製）
実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、比較例１で製造した環状ホスファゼン化合物２５．０ｇ、ジシクロペンタジエン系エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業株式会社の商品名“ＨＰ７２００”：エポキシ当量２７７ｇ／ｅｑ．）２７．７ｇおよびフェノールノボラック型フェノール樹脂（群栄化学株式会社の商品名“ＰＳＭ−４３２４”：水酸基当量１０４ｇ／ｅｑ．）９．４ｇを使用した以外は、実施例３２と同様にして樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて実施例３２と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、ガラス転移温度および難燃性を評価した。結果を表３に示す。
【０３２８】
【表３】
0005177731.tif 000040
【０３２９】
表３から明らかなように、実施例３２〜３６の樹脂成形体は、比較例６のものに比べ、難燃性に優れ、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかも半田耐熱性で評価した環状ホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られない。
【０３３０】
実施例３７（樹脂組成物の調製）
合成例２で得られた可溶性ポリイミド樹脂８０．０ｇ、実施例１で得られた環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量３２４ｇ／ｅｑ．）３２．４ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパン・エポキシ・レジン株式会社の商品名“Ｅｐｉｋｏｔｅ８２８”：エポキシ当量１８８ｇ／ｅｑ．）９．４ｇおよびフェノールノボラック型フェノール樹脂（群栄化学株式会社の商品名“ＰＳＭ−４３２４”：水酸基当量１０４ｇ／ｅｑ．）１５．６ｇをジオキソランに溶解し、樹脂溶液（樹脂組成物）を得た。
【０３３１】
この樹脂溶液を、１２５μｍ厚のＰＥＴフィルム（東洋メタライジング株式会社の商品名“セラピールＨＰ”）の表面上にキャストした。その後、熱風オーブンにて６０℃、８０℃、１００℃、１２０℃および１４０℃の各温度でそれぞれ３分加熱乾燥させ、ＰＥＴフィルムを支持体とする２層の樹脂シートを得た。この２層の樹脂シートから、ＰＥＴフィルムを剥離除去し、単層の樹脂シート（加熱硬化前の厚み５０μｍ）を得た。得られた樹脂シート（樹脂成形体）を、１８μｍの圧延銅箔（ジャパンエナジー株式会社の商品名“ＢＨＹ−２２Ｂ−Ｔ”）で樹脂表面と銅箔粗化面とが接するように挟み込み、温度１８０℃、圧力３ＭＰａの条件で１時間加熱加圧して銅箔積層体（単層の樹脂シートを圧延銅箔で挟持したもの）を得た。そして、この銅箔積層体について、実施例３２と同様の方法で半田耐熱性を評価した。また、銅箔積層体の銅箔をエッチングにより除去して得られた硬化シートについて、実施例３２と同様の方法により燃焼性およびガラス転移温度を測定した。結果を表４に示す。
【０３３２】
実施例３８〜４１（樹脂組成物の調製）
実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、表４に示した環状ホスファゼン化合物を同表に表示の配合量で使用した点を除いて実施例３７と同様に操作し、樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて実施例３７と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、ガラス転移温度および燃焼性を評価した。結果を表４に示す。
【０３３３】
比較例７（樹脂組成物の調製）
実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、比較例１で製造した環状ホスファゼン化合物４０．０ｇとビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパン・エポキシ・レジン株式会社の商品名“Ｅｐｉｋｏｔｅ８２８”：エポキシ当量１８８ｇ／ｅｑ．）２８．２ｇとを使用した点を除いて実施例３７と同様に操作し、樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて実施例３７と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、ガラス転移温度および燃焼性を評価した。結果を表４に示す。
【０３３４】
【表４】
0005177731.tif 000041
【０３３５】
表４より明らかなように、実施例３７〜４１の樹脂成形体は、比較例７のものに比べ、難燃性に優れ、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかも半田耐熱性で評価した環状ホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られない。
【０３３６】
実施例４２（樹脂組成物の調製）
合成例３で得られた２官能ＰＰＥオリゴマー（水酸基当量：４５５ｇ／ｅｑ）４５．５ｇ、実施例１で得られた環状ホスファゼン化合物（エポキシ当量３２４ｇ／ｅｑ．）１６．２ｇおよびビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパン・エポキシ・レジン株式会社の商品名“Ｅｐｉｋｏｔｅ８２８”：エポキシ当量１８８ｇ／ｅｑ．）９．４ｇをジオキソランに溶解し、樹脂溶液（樹脂組成物）を得た。
【０３３７】
この樹脂溶液を、１２５μｍ厚のＰＥＴフィルム（東洋メタライジング株式会社の商品名“セラピールＨＰ”）の表面上にキャストした。その後、熱風オーブンにて６０℃、８０℃、１００℃、１２０℃および１４０℃の各温度でそれぞれ３分間加熱乾燥させ、ＰＥＴフィルムを支持体とする２層の樹脂シートを得た。この２層の樹脂シートから、ＰＥＴフィルムを剥離除去し、単層の樹脂シート（加熱硬化前の厚みは５０μｍ）を得た。得られた樹脂シートを、１８μｍの圧延銅箔（ジャパンエナジー株式会社の商品名“ＢＨＹ−２２Ｂ−Ｔ”）で樹脂表面と銅箔粗化面とが接するように挟み込み、温度１８０℃、圧力３ＭＰａの条件で１時間加熱加圧して銅箔積層体（単層樹脂シートを圧延銅箔で挟持したもの）を得た。そして、この銅箔積層体について、実施例３２と同様の方法で半田耐熱性を評価した。また、銅箔積層体の銅箔をエッチングにより除去して得られた硬化シートについて、実施例３２と同様の方法により燃焼性およびガラス転移温度を測定した。結果を表５に示す。
【０３３８】
実施例４３〜４５（樹脂組成物の調製）
実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、表５に示した環状ホスファゼン化合物を同表に表示の配合量で使用した点を除いて実施例４２と同様に操作し、樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて、実施例４２と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、ガラス転移温度および燃焼性を評価した。結果を表５に示す。
【０３３９】
比較例８（樹脂組成物の調製）
実施例１で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、比較例１で製造した環状ホスファゼン化合物２０．０ｇとビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパン・エポキシ・レジン株式会社の商品名“Ｅｐｉｋｏｔｅ８２８”：エポキシ当量１８８ｇ／ｅｑ．）２８．２ｇとを使用した点を除いて実施例４２と同様に操作し、樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて、実施例３３と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、ガラス転移温度および燃焼性を評価した。結果を表５に示す。
【０３４０】
【表５】
0005177731.tif 000042
【０３４１】
表５より明らかなように、実施例４２〜４５の成形材料は、比較例８のものに比べ、難燃性に優れ、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかも半田耐熱性で評価した環状ホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られない。