(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルにて複数の画素が第１の方向と当該第１の方向に直交する第２の方向とのそれぞれにマトリクス状に設けられた画素領域において、画素電極と共通電極とが液晶層に横電界を印加し、当該液晶層と、前記第２の方向に対して傾斜する方向に対して垂直な透過軸を有する偏光板と、を介して出射される光によって、前記画素領域において画像が表示される液晶表示装置であって、
前記液晶パネルは、
前記複数の画素にて前記第２の方向に並ぶ複数の画素を区画するように複数が第２の方向に間隔を隔てて設けられている第１の配線と、
前記複数の画素にて前記第１の方向に並ぶ複数の画素を区画するように複数が第１の方向に間隔を隔てて設けられている第２の配線と
を有し、
前記第２の配線は、
前記画素領域において前記第１の方向および前記第２の方向と異なる方向であって、前記第２の方向に対して２°以上であって４５°以下の角度で傾斜する方向に延在している傾斜部と、
前記第１の方向に沿って延在している第１方向延在部と、
前記画素領域において隣接する他の画素に対応するように設けられた他の第２の配線が前記画素電極と接続している接続部を、前記第１の方向と前記第２の方向とに階段状に屈折して避けて前記傾斜部と前記第１方向延在部とを結ぶ屈折部と
を含み、
前記画素電極は、
前記第１の方向に延在する基幹部と、
前記基幹部に接続されており、前記傾斜部が延在する方向に沿って延在している枝部と
を含み、当該枝部が前記第１の方向において間隔を隔てて複数設けられており、
前記液晶層は、前記画素領域において前記偏光板の透過軸に対して垂直な方向または平行な方向に液晶分子が配向されている
液晶表示装置。
【請求項２】
前記傾斜部と前記枝部とのそれぞれは、前記画素領域において前記第２の方向に対して、４５°の角度で傾斜した方向に延在している、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記傾斜部は、
前記第１の方向および前記第２の方向と異なる第３の方向に延在する第１傾斜部と、
前記第１の方向、前記第２の方向および前記第３の方向のそれぞれに対して異なる第４の方向に延在する第２傾斜部と
を含み、
当該第１傾斜部と当該第２傾斜部とのそれぞれが、前記画素領域の一画素に対応するように形成されている、
請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記傾斜部は、
前記第１の方向および前記第２の方向と異なる第３の方向に延在する第１傾斜部と、
前記第１の方向、前記第２の方向および前記第３の方向のそれぞれに対して異なる第４の方向に延在する第２傾斜部と
を含み、
当該第１傾斜部と当該第２傾斜部とのそれぞれは、前記画素領域において前記第２の方向に並ぶ複数の画素にて交互に配置されている、
請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、液晶パネルにて複数の画素がマトリクス状に設けられた画素領域において液晶層に横電界を印加し、当該液晶層と偏光板とを介して出射される光によって、画素領域において画像が表示される液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを、表示パネルとして有している。液晶パネルは、たとえば、透過型であり、液晶パネルの背面に設けられたバックライトなどの照明装置により出射された照明光を変調して透過させる。そして、その変調した照明光によって画像の表示が、液晶パネルの正面において実施される。
【０００３】
液晶表示装置に内蔵される液晶パネルは、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、画素スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ
Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が画素領域に複数形成されているＴＦＴアレイ基板と、そのＴＦＴアレイ基板に対面するように対向する対向基板と、ＴＦＴアレイ基板および対向基板の間に設けられた液晶層とを有する。
【０００４】
このアクティブマトリクス方式の液晶パネルにおいては、画素スイッチング素子が画素電極に電位を入力することによって、画素電極と共通電極との間にて生ずる電界を液晶層に印加し、液晶層の液晶分子の配向を変化させる。そして、これにより、その画素を透過する光の透過率を制御し、その透過する光を変調させ、画像の表示を実施する。
【０００５】
このような液晶パネルにおいては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード，ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード，垂直配向モードなどの他、横電界を液晶層に印加するモードとして、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式など、さまざまな表示モードが知られている（たとえば、特許文献１，特許文献２参照）。この横電界を印加するモードにおいては、デュアルドメイン化をすることが提案されている（たとえば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平１０−１７０９２４号公報
【特許文献２】特開２００７−２２６２００号公報
【特許文献３】特開２００７−２６４２３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
液晶表示装置は、たとえば、携帯可能なモバイル機器に搭載される。このような場合、画像表示が実施される矩形形状の画素領域がｘ方向に長いランドスケープ（横長）の状態、および、ｙ方向に長いポートレート（縦長）の状態のいずれにおいても、その表示された画像をユーザーが視認可能なように構成することが必要とされる。
【０００７】
しかしながら、たとえば、屋外においては、ユーザーが偏光サングラスを介して、その画面の画像を視認する場合があるため、上記のＩＰＳ方式やＦＦＳ方式のような横電界方式の液晶表示装置の場合においては、ユーザーが画面を視認する際の角度に応じて、その視認性が低下する場合がある。
【０００８】
図１１は、ＦＦＳ方式の液晶表示装置において、画素領域に設けられた画素の要部を模式的に示す平面図である。図１１においては、ＴＦＴアレイ基板における画素の要部を示している。
【０００９】
図１１に示すように、ＴＦＴアレイ基板においては、画素スイッチング素子３１と画素電極６２ａとデータ線Ｓ１とゲート線Ｇ１とが形成されている。この他に、図示を省略しているが、ＴＦＴアレイ基板において、画素電極６２ａに対面するように共通電極が設けられている。
【００１０】
ここで、画素スイッチング素子３１は、図１１に示すように、たとえば、ボトムゲート型ＴＦＴである。
また、画素電極６２ａは、図１１に示すように、画素領域を区画するｘ方向とｙ方向とによって規定されるｘｙ面において、櫛歯形状に形成されている。具体的には、図１１に示すように、画素電極６２ａは、基幹部６２ａｋと、枝部６２ａｅとを有し、基幹部６２ａｋがｘ方向に延在しており、複数の枝部６２ａｅがｙ方向に延在している。そして、画素電極６２ａは、画素スイッチング素子３１のドレイン電極に電気的に接続されている。
【００１１】
また、データ線Ｓ１は、図１１に示すように、ｙ方向に延在しており、画素スイッチング素子３１のソース電極に電気的に接続されている。
また、ゲート線Ｇ１は、図１１に示すように、ｘ方向に延在しており、画素スイッチング素子３１のゲート電極に電気的に接続されている。
【００１２】
そして、図１１に示すように、画素電極６２ａの枝部６２ａｅおよびデータ線Ｓ１が画素領域ＰＡにおいて延在する方向に対して、所定角度θ（たとえば、５°）で傾斜する方向をラビング方向ＲＨとしてラビング処理を実施することで、液晶層が配向処理されている。
【００１３】
上記したように、ＦＦＳ方式のような横電界方式の場合においては、画素電極６２ａが櫛歯形状であり、その複数の枝部６２ａｅがｙ方向に延在している。このため、液晶パネルにおいて光が透過される透過軸は、枝部６２ａｅが延在する方向に依存して決定されるので、矩形形状の画素領域がランドスケープの状態にされた際には、たとえば、その画素領域の長尺方向に、その透過軸が沿うことになり、一方で、この画素領域がポートレートの状態にされた際には、たとえば、矩形形状の画面の短尺方向に、その透過軸が沿うことになる。
【００１４】
偏光サングラスは、ｘ方向またはｙ方向に透過軸が沿った偏光要素を含み、ユーザーは、その偏光要素を介して、画像を視認する。
このため、ランドスケープとポートレートとのいずれかの状態にした際には、液晶パネルの透過軸と偏光サングラスの透過軸とが大きく相違する場合があるので、その表示される画像を、ユーザーが視認することが困難になる場合がある。
【００１５】
したがって、上記したように、ユーザーが画面を視認する際の角度に応じて、その視認性が低下する場合がある。
この不具合を解消するために、位相差板を液晶パネルの面に配置する方法がある。しかし、この場合、製造コストが上昇すると共に、その位相差板によって光が吸収され、光透過率が全体で低下するために、画像品質が低下する場合がある。
【００１６】
また、液晶パネルの透過軸を矩形形状の画面の辺に対して傾斜させることで、偏光サングラスにおける視認性を向上させることができる。たとえば、上述の櫛歯電極にて枝部が延在する方向の角度を、画面の辺に対して４５°の角度で傾斜させる。しかし、櫛歯電極の枝部を傾斜させた際には、光が透過しないドメインが増加し、光透過率が減少する場合があり、画像品質が低下する場合がある。
【００１７】
また、ｘ方向とｙ方向とのそれぞれに画素が配置されている画素領域において、たとえば、液晶パネルの透過軸をｙ方向に対して傾斜させるために、そのｙ方向に対して傾斜する方向に並ぶ画素に接続するように、データ配線を接続した場合には、線順次方式にて表示させるように生成された走査信号およびデータ信号を、そのまま、使用できず、別途、変換する信号処理を実施することが必要となる。このため、製造コストアップや、その信号処理による遅延などによって、画像品質が低下するなどの不具合が生ずる場合があり、視認性が低下する。
【００１８】
このように、上記のような不具合の発生のため、視認性を向上させることが困難な場合があった。
したがって、本技術は、視認性を向上可能な液晶表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本技術は、液晶パネルにて複数の画素が第１の方向と当該第１の方向に直交する第２の方向とのそれぞれにマトリクス状に設けられた画素領域において、画素電極と共通電極とが液晶層に横電界を印加し、当該液晶層と偏光板とを介して出射される光によって、前記画素領域において画像が表示される液晶表示装置であって、前記液晶パネルは、前記複数の画素にて前記第２方向に並ぶ複数の画素を区画するように複数が第２方向に間隔を隔てて設けられている第１の配線と、前記複数の画素にて前記第１方向に並ぶ複数の画素を区画するように複数が第１方向に間隔を隔てて設けられている第２の配線とを有し、前記第２の配線は、前記画素領域において前記第１の方向および前記第２の方向と異なる方向であって、前記第２方向に対して傾斜する方向に延在している傾斜部を含み、前記画素電極は、前記第１の方向に延在する基幹部と、前記基幹部に接続されており、前記画素領域において前記第１の方向および前記第２の方向と異なる方向であって、前記第２方向に対して傾斜する方向に延在している枝部とを含み、当該枝部が前記第１の方向において間隔を隔てて複数設けられており、前記液晶層は、前記画素領域において前記第１の方向または前記第２の方向に対して傾斜する方向に液晶分子が配向されている。
【００２０】
好適には、前記画素領域において前記液晶層と前記偏光板とを介して出射される光により表示される画像は、透過軸が前記第１の方向または前記第２方向にある偏光素子を介して、視認される。
【００２１】
好適には、前記枝部は、前記第２の配線の傾斜部が延在する方向に沿って延在している。
好適には、前記第２の配線の傾斜部と前記枝部とのそれぞれは、前記画素領域において前記第２方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲にて傾斜した方向に延在している。
【００２２】
好適には、前記第２の配線の傾斜部と前記枝部とのそれぞれは、前記画素領域において前記第２方向に対して、４５°の角度で傾斜した方向に延在している。
好適には、前記第２の配線は、前記画素領域において隣接する他の画素に対応するように設けられた他の第２の配線から間隔を隔てるように、前記第１方向と前記第２方向とに階段状に屈折した屈折部を含む。
【００２３】
好適には、前記第２の配線の傾斜部は、前記第１の方向および前記第２の方向と異なる第３の方向に延在する第１傾斜部と、前記第１の方向，前記第２の方向および前記第３の方向のそれぞれに対して異なる第４方向に延在する第２傾斜部とを含み、当該第１傾斜部と当該第２傾斜部とのそれぞれが、前記画素領域の一画素に対応するように形成されている。
【００２４】
好適には、前記第２の配線の傾斜部は、前記第１の方向および前記第２の方向と異なる第３の方向に延在する第１傾斜部と、前記第１の方向，前記第２の方向および前記第３の方向のそれぞれに対して異なる第４方向に延在する第２傾斜部とを含み、当該第１傾斜部と当該第２傾斜部とのそれぞれは、前記画素領域において前記第２方向に並ぶ複数の画素にて交互に配置されている。
【００２５】
本技術においては、画素電極の枝部と第２の配線の傾斜部とのそれぞれを、画素領域において第１の方向および第２の方向と異なる方向であって、第２の方向に対して傾斜する方向に延在させる。また、液晶層を、画素領域において第１の方向および第２の方向と異なる方向であって、第２の方向に対して傾斜する方向に配向させる。
【発明の効果】
【００２６】
本技術によれば、視認性を向上可能な液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本技術にかかる実施形態の一例について説明する。
＜実施形態１＞
（液晶表示装置の構成）
図１は、本技術にかかる実施形態１において、液晶表示装置１００の構成を示す断面図である。
【００２８】
本実施形態の液晶表示装置１００は、図１に示すように、液晶パネル２００と、バックライト３００とを有する。各部について順次説明する。
液晶パネル２００は、アクティブマトリクス方式であり、図１に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とが、互いに間隔を隔てるよう対面している。そして、そのＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間に挟まれるように、液晶層２０３が設けられている。
【００２９】
そして、液晶パネル２００は、図１に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に位置するようにバックライト３００が配置されており、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面している面とは反対側の面に、バックライト３００から出射された照明光Ｒが照射される。そして、詳細については後述するが、液晶パネル２００は、複数の画素（図示無し）が配置され、画像を表示する画素領域ＰＡを含み、その液晶パネル２００の背面側に設置されたバックライト３００が出射した照明光Ｒを、第１の偏光板２０６を介して背面から受け、その背面から受けた照明光Ｒを、その画素領域ＰＡにおいて変調する。ここでは、ＴＦＴアレイ基板２０１において画素に対応するように、ＴＦＴ（図示無し）が画素スイッチング素子として設けられており、その画素スイッチング素子（図示無し）が画素をスイッチング制御することによって、背面から受けた照明光Ｒを変調する。そして、その変調された照明光Ｒが、第２の偏光板２０７を介して、正面側に出射し、画素領域ＰＡにおいて画像が表示される。つまり、本実施形態の液晶パネル２００は、透過型であって、たとえば、液晶パネル２００の正面の側においてカラー画像を表示する。
【００３０】
本実施形態においては、液晶表示装置１００は、たとえば、ノーマリ・ブラック方式であり、液晶パネル２００において液晶層２０３に電圧を加えない時に光透過率が低下して黒表示が実施され、一方で、液晶層２０３に電圧を加えた時に光透過率が上がるように、第１の偏光板２０６や第２の偏光板２０７などの各部が配置されている。具体的には、液晶層２０３に電圧を加えない時に第２の偏光板２０７にて光が遮光されて黒表示が実施され、一方で、液晶層２０３に電圧を加えた時に第２の偏光板２０７から光が透過するように、各部の透過軸が配置されている。
【００３１】
また、本実施形態においては、液晶表示装置１００は、携帯可能なモバイル機器に搭載され、上記のように、画素領域ＰＡにおいて液晶層２０３と第２の偏光板２０７とを介して出射される光により表示される画像は、ランドスケープ（横長）またはポートレート（縦長）にされた状態において、透過軸がｘ方向またはｙ方向にある偏光素子を含む偏光サングラスを装着したユーザーによって、その偏光素子を介して、視認される。
【００３２】
バックライト３００は、図１に示すように、液晶パネル２００の背面に対面しており、その液晶パネル２００の画素領域ＰＡに照明光Ｒを出射する。
具体的には、バックライト３００は、液晶パネル２００を構成するＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とにおいて、ＴＦＴアレイ基板２０１の側に位置するように配置されている。そして、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面している面に対して反対側の面に、照明光Ｒを照射する。ここでは、たとえば、白色光を照明光Ｒとして照明する。つまり、バックライト３００は、ＴＦＴアレイ基板２０１の側から対向基板２０２の側へ向かうように照明光Ｒを照明する。
（液晶パネルの構成）
液晶パネル２００の全体構成について説明する。
【００３３】
図２は、本技術にかかる実施形態１において、液晶パネル２００を示す平面図である。
液晶パネル２００は、図２に示すように、画素領域ＰＡと、周辺領域ＣＡとを有する。
液晶パネル２００において画素領域ＰＡには、図２に示すように、複数の画素Ｐが面に沿って配置されている。具体的には、画素領域ＰＡにおいては、複数の画素Ｐが、ｘ方向と、このｘ方向に対して垂直なｙ方向とのそれぞれに、マトリクス状に並ぶように配置されており、たとえば、線順次方式にて、画素Ｐが駆動され、画像が表示される。
【００３４】
液晶パネル２００において周辺領域ＣＡは、図２に示すように、画素領域ＰＡの周辺を囲うように位置している。この周辺領域ＣＡにおいては、図２に示すように、垂直駆動回路１１と、水平駆動回路１２とが形成されている。たとえば、垂直駆動回路１１と水平駆動回路１２とのそれぞれは、上記の画素スイッチング素子と同様にして形成された半導体素子によって、この各回路が構成されている。この垂直駆動回路１１と水平駆動回路１２とのそれぞれは、画素領域ＰＡに設けられた複数の画素Ｐを、たとえば、線順次方式にて駆動し、画像表示を実行する。
（液晶パネルの画素領域の構成）
図３は、本技術にかかる実施形態１において、液晶パネル２００における画素領域ＰＡに設けられた画素Ｐの要部を模式的に示す断面図である。
【００３５】
図３に示すように、液晶パネル２００は、ＴＦＴアレイ基板２０１と、対向基板２０２と、液晶層２０３とを有する。この液晶パネル２００においては、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とが間隔を隔てられて貼り合わされており、そのＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間の間隔に、液晶層２０３が設けられている。たとえば、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間にスペーサ（図示無し）を介在させて、間隔を設けて対面させ、シール材(図示無し）を用いて貼り合わされている。そして、本実施形態においては、液晶パネル２００は、ＦＦＳ方式の表示モードに対応するように構成されている。
【００３６】
この液晶パネル２００において、ＴＦＴアレイ基板２０１は、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。そして、ＴＦＴアレイ基板２０１において、対向基板２０２に対面する側の面には、図３に示すように、画素電極６２ａと、共通電極６２ｂと、データ線Ｓ１とが形成されている。
【００３７】
また、液晶パネル２００において、対向基板２０２は、ＴＦＴアレイ基板２０１と同様に、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。そして、対向基板２０２は、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１に対して間隔を隔てるよう対面している。そして、対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対面する側の面には、図３に示すように、カラーフィルタ層２１が形成されている。ここでは、カラーフィルタ層２１は、赤フィルタ層２１Ｒと緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとを含み、赤と緑と青との３原色を１組として構成されている。
【００３８】
上記の液晶パネル２００を構成するＴＦＴアレイ基板２０１の詳細について説明する。
図４は、本技術にかかる実施形態１において、画素領域ＰＡに設けられた画素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
【００３９】
図４においては、凡例に示すように、各部材を構成する材料に応じて異なったハッチングを付している。なお、図４においては、図３に示した画素Ｐにおいて赤フィルタ層２１Ｒに対応するサブ画素について示しているが、その他の緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとに対応するサブ画素のそれぞれにおいても、この赤フィルタ層２１Ｒに対応するサブ画素の場合と同様に各部材が形成されている。
【００４０】
図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１においては、図３に示した画素電極６２ａと共通電極６２ｂとデータ線Ｓ１との各部材の他に、画素スイッチング素子３１と、ゲート線Ｇ１とが形成されている。この画素スイッチング素子３１と、ゲート線Ｇ１とのそれぞれは、ＴＦＴアレイ基板２０１において、対向基板２０２に対面する側の面に形成されている。
【００４１】
ＴＦＴアレイ基板２０１に設けられた各部について順次説明する。
ＴＦＴアレイ基板２０１において、画素スイッチング素子３１は、図３においては示していないが、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面する側の面に形成されており、層間絶縁膜６０ａで被覆されている。
【００４２】
図５は、本技術にかかる実施形態１において、画素スイッチング素子３１を示す断面図である。
図５に示すように、画素スイッチング素子３１は、ゲート電極４５と、ゲート絶縁膜４６ｇと、半導体層４８とを含み、ＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造のボトムゲート型ＴＦＴとして形成されている。
【００４３】
具体的には、画素スイッチング素子３１において、ゲート電極４５は、図５に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１の面において、ゲート絶縁膜４６ｇを介して、半導体層４８のチャネル領域４８Ｃに対面するように設けられている。ここでは、ゲート電極４５は、図４に示すように、たとえば、モリブデンなどの金属材料を用いて形成されている。
【００４４】
また、画素スイッチング素子３１において、ゲート絶縁膜４６ｇは、図５に示すように、ゲート電極４５を被覆するように形成されている。ここでは、ゲート絶縁膜４６ｇは、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜などの絶縁材料を用いて形成されている。
【００４５】
また、画素スイッチング素子３１において、半導体層４８は、図５に示すように、ゲート電極４５に対応するようにチャネル領域４８Ｃが形成されると共に、そのチャネル領域４８Ｃを挟むように一対のソース・ドレイン領域４８Ａ，４８Ｂが形成されている。この一対のソース・ドレイン領域４８Ａ，４８Ｂは、チャネル領域４８Ｃを挟むように一対の低濃度不純物領域４８ＡＬ，４８ＢＬが形成され、さらに、その低濃度不純物領域４８ＡＬ，４８ＢＬよりも不純物の濃度が高い一対の高濃度不純物領域４８ＡＨ，４８ＢＨが、その一対の低濃度不純物領域４８ＡＬ，４８ＢＬを挟むように形成されている。ここでは、半導体層４８は、図４に示すように、たとえば、ポリシリコンなどの半導体材料を用いて形成されており、ゲート線Ｇ１が延在するｘ方向に対して垂直な方向に、チャネル領域４８Ｃを挟んで一対のソース・ドレイン領域４８Ａ，４８Ｂのそれぞれが並ぶように設けられている。
【００４６】
そして、画素スイッチング素子３１において、ソース電極５３は、図５に示すように、一方のソース・ドレイン領域４８Ａに電気的に接続するように設けられており、ドレイン電極５４は、他方のソース・ドレイン領域４８Ａに電気的に接続するように設けられている。そして、図４に示すように、ソース電極５３は、データ線Ｓ１にコンタクト（図示なし）を介して接続されており、ドレイン電極５４は、画素電極６２ａにコンタクト（図示なし）を介して接続されている。ここでは、ソース電極５３とドレイン電極５４とのそれぞれは、アルミニウムなどの導電材料を用いて形成されている。
【００４７】
ＴＦＴアレイ基板２０１において、画素電極６２ａは、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面する面の側に形成されている。
ここでは、画素電極６２ａは、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において共通電極６２ｂを被覆するように絶縁材料で形成された絶縁膜６０ｃの上に設けられている。たとえば、シリコン窒化膜として形成された絶縁膜６０ｃ上に設けられている。この画素電極６２ａは、図３に示すように、カラーフィルタ層２１を構成する赤フィルタ層２１Ｒと緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとのそれぞれに対応するように設けられている。画素電極６２は、いわゆる透明電極であって、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されている。
【００４８】
また、図４に示すように、画素電極６２ａは、画素スイッチング素子３１のドレイン電極５４に電気的に接続されている。そして、画素電極６２ａは、画素スイッチング素子３１から映像信号として供給される電位によって、共通電極６２ｂとの間において、横電界を生じさせ、液晶層２０３に電圧を印加する。
【００４９】
本実施形態においては、液晶パネル２００がＦＦＳ方式であるので、画素電極６２ａは、図４に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面するｘｙ面の方向においては、櫛歯形状に形成されている。
【００５０】
具体的には、図４に示すように、画素電極６２ａは、基幹部６２ａｋと、枝部６２ａｅとを有する。
画素電極６２ａにおいて、基幹部６２ａｋは、図４に示すように、ｘ方向に延在している。ここでは、図４に示すように、ｘ方向に延在するゲート線Ｇ１が、ｙ方向において間隔を隔てて並ぶ複数設けられており、そのｙ方向に並ぶ複数のゲート線Ｇ１の間において、２本の基幹部６２ａｋが設けられている。
【００５１】
そして、画素電極６２ａにおいて、枝部６２ａｅは、図４に示すように、基幹部６２ａｋに接続されており、ｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在している。この枝部６２ａｅは、図４に示すように、ｘ方向において、複数が間隔を隔てて並ぶように配置されており、その複数のそれぞれは、一端部が基幹部６２ａｋに接続され、互いに平行になるように延在している。本実施形態においては、図４に示すように、ｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在するデータ線Ｓ１が、ｘ方向において間隔を隔てて並ぶ複数設けられており、そのｙ方向に並ぶ複数のゲート線Ｇ１の間において、たとえば、４本の枝部６２ａｅが設けられている。そして、データ線Ｓ１が延在する方向に沿って延在するように、枝部６２ａｅが形成されている。ここでは、枝部６２ａｅは、ｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在することが好ましく、本実施形態においては、たとえば、２０°の角度で傾斜させている。
【００５２】
ＴＦＴアレイ基板２０１において、共通電極６２ｂは、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面する面の側に形成されている。ここでは、共通電極６２ｂは、ＴＦＴアレイ基板２０１に形成された平坦化膜６０ｂの上に設けられている。たとえば、アクリル樹脂などの有機化合物によって形成された平坦化膜６０ｂ上に設けられている。共通電極６２ｂは、いわゆる透明電極であって、たとえば、ＩＴＯを用いて形成されている。共通電極６２ｂは、複数の画素Ｐに対応するように複数設けられた画素電極６２ａのそれぞれに、絶縁膜６０ｃを介して対面している。本実施形態においては、液晶パネル２００がＦＦＳ方式であるので、共通電極６２ｂは、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面するｘｙ面の方向において、画素領域ＰＡの全面を被覆するように、ベタ状に形成されている。
【００５３】
ＴＦＴアレイ基板２０１において、データ線Ｓ１は、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面する面の側に形成されている。ここでは、データ線Ｓ１は、ＴＦＴアレイ基板２０１に形成された層間絶縁膜６０ａの上に設けられている。
【００５４】
このデータ線Ｓ１は、図４に示すように、たとえば、アルミニウムなどの金属材料を用いて形成されている。そして、データ線Ｓ１は、画素スイッチング素子３１のソース電極５３に電気的に接続されている。
【００５５】
また、データ線Ｓ１は、図４に示すように、複数がｘ方向において間隔を隔てて設けられている。ここでは、データ線Ｓ１は、複数の画素Ｐにてｘ方向に並ぶ複数の画素Ｐを区画するように複数設けられている。
【００５６】
本実施形態においては、データ線Ｓ１は、図４に示すように、傾斜部Ｓ１ｋと、水平部Ｓ１ｘと、引出し部Ｓ１ｈとを含み、複数の画素Ｐにおいて、ｙ方向に並ぶ複数の画素Ｐに対応するように形成されている。
【００５７】
データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋは、図４に示すように、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在している。このデータ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋは、画素電極６２ａの枝部６２ａｅと同様に、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在していることが好ましく、本実施形態においては、たとえば、２０°の角度で傾斜している。
【００５８】
そして、データ線Ｓ１の水平部Ｓ１ｘは、図４に示すように、画素領域ＰＡにおいてｘ方向に延在している。具体的には、水平部Ｓ１ｘは、図４に示すように、傾斜部Ｓ１ｋの上端部に接続しており、その上端部からｘ方向の左側へ延在している。そして、水平部Ｓ１ｘは、隣接する他の画素Ｐのサブ画素に設けられたデータ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋの下端部に接続されている。本実施形態においては、この水平部Ｓ１ｘは、図４に示すように、ｘ方向に延在するように設けられたゲート線Ｇ１に対して、オーバーラップするように設けられている。
【００５９】
そして、データ線Ｓ１の引出し部Ｓ１ｈは、図４に示すように、コの字を描くように形成されている。具体的には、引出し部Ｓ１ｈは、図４に示すように、画素領域ＰＡにおいて、傾斜部Ｓ１ｋの上端部からｙ方向の上側に延在された後に、ｘ方向の右側に延在され、その後、ｙ方向の下側に延在されて、画素スイッチング素子３１のソース電極５３に接続されている。
【００６０】
ＴＦＴアレイ基板２０１において、ゲート線Ｇ１は、図３においては図示していないが、図５に示したゲート電極４５と一体になるように、ＴＦＴアレイ基板２０１の面に形成されている。つまり、ゲート線Ｇ１は、図４に示すように、画素スイッチング素子３１のゲート電極４５に電気的に接続されており、ＴＦＴアレイ基板２０１において対向基板２０２に対面する側の面に形成されており、図３に示した層間絶縁膜６０ａによって被覆されている。ここでは、ゲート線Ｇ１は、図４に示すように、たとえば、モリブデンなどの金属材料を用いて形成されている。このゲート線Ｇ１は、図４に示すように、ｘ方向に延在しており、複数の画素Ｐにてｙ方向に並ぶ複数の画素Ｐを区画するように複数がｙ方向に間隔を隔てて設けられている。そして、この複数のゲート線Ｇ１は、図１に示した垂直駆動回路１１に接続されており、画像表示の実施の際においては、順次、走査信号が供給され、各画素スイッチング素子３１をオン状態にする。
【００６１】
上記の液晶パネル２００を構成する対向基板２０２の詳細について説明する。
対向基板２０２に設けられているカラーフィルタ層２１は、図３に示すように、対向基板２０２にてＴＦＴアレイ基板２０１に対面する側の面に形成されている。カラーフィルタ層２１は、赤と緑と青との３原色を１組として構成されており、赤フィルタ層２１Ｒと緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとを含む。たとえば、赤フィルタ層２１Ｒと緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとのそれぞれは、その色に対応した着色顔料とフォトレジスト材料とを含む塗布液を、スピンコート法などのコーティング方法によって塗布して塗膜を形成後、リソグラフィ技術によって、その塗膜をパターン加工し形成される。ここでは、たとえば、ポリイミド樹脂をフォトレジスト材料として用いる。赤フィルタ層２１Ｒと緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとのそれぞれは、バックライト３００から出射された照明光Ｒが着色されて、ＴＦＴアレイ基板２０１の側から対向基板２０２の側へ透過するように構成されている。具体的には、赤フィルタ層２１Ｒは、白色の照明光Ｒを赤色に着色し、緑フィルタ層２１Ｇは、照明光Ｒを緑色に着色し、青フィルタ層２１Ｂは、照明光Ｒを青色に着色して透過するように構成されている。
【００６２】
図６は、本技術にかかる実施形態１において、対向基板２０２の要部を示す平面図である。
図６に示すように、カラーフィルタ層２１を構成する赤フィルタ層２１Ｒと緑フィルタ層２１Ｇと青フィルタ層２１Ｂとのそれぞれは、ｘ方向に並ぶように形成されている。ここでは、各部は、上述した画素電極６２ａに対応するように形成されており、本実施形態においては、図６に示すように、画素電極６２ａの枝部６２ａｅと同様に、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在している。
【００６３】
上記の液晶パネル２００を構成する液晶層２０３の詳細について説明する。
液晶パネル２００において、液晶層２０３は、図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間にて挟持されている。
【００６４】
そして、液晶層２０３は、ＴＦＴアレイ基板２０１および対向基板２０２において、互いに対面する面のそれぞれに形成された液晶配向膜（図示なし）によって、配向されている。この液晶層２０３は、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とが対面するｘｙ面の方向に、液晶分子の長手方向が沿うように、配向処理されている。ここでは、液晶層２０３は、ポジ型液晶を用いて構成されている。
【００６５】
本実施形態においては、液晶層２０３は、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に液晶分子が配向されている。具体的には、液晶層２０３は、画素電極６２ａの枝部６２ａｅおよびデータ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋが、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して傾斜した角度に、たとえば、５°の角度θで更に傾斜するように、液晶分子が配向されている。つまり、図４に示すように、画素電極６２ａの枝部６２ａｅおよびデータ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋが画素領域ＰＡにおいて延在する方向に対して、たとえば、５°の角度θで傾斜する方向をラビング方向ＲＨとして、ラビング処理を実施することで、液晶層２０３は、配向処理されている。なお、画素電極６２ａの枝部６２ａｅおよびデータ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋが画素領域ＰＡにおいて延在する方向に対して傾斜させる角度θは、２°以上であって、４５°以下の範囲が好ましい。そして、この液晶層２０３の配向方向に第１の偏光板２０６の光透過軸が対応するように、液晶パネル２００の光入射側に第１の偏光板２０６が配置される。そして、第２の偏光板２０７の光透過軸が、この第１の偏光板２０６の光透過軸に対して直交するように、液晶パネル２００の光出射側に第２の偏光板２０７が配置される。
【００６６】
以上のように、本実施形態においては、画素電極６２ａの枝部６２ａｅは、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在している。また、液晶層２０３は、同様に、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に液晶分子が配向されている。
【００６７】
このため、本実施形態において、透過軸が画素領域ＰＡにおけるｘ方向またはｙ方向にある偏光素子を含む偏光サングラスをかけたユーザーが、その画素領域ＰＡにて表示される画像を、その偏光素子を介して観察する際においては、ランドスケープとポートレートとのいずれかの状態においても、その液晶パネル２００と第２の偏光板２０７とを光が透過する透過軸に対して、この偏光素子を光が透過する透過軸が、大きく相違しない。したがって、本実施形態は、画面に表示される画像を、ユーザーが視認する視認性が向上する。
【００６８】
そして、本実施形態においては、画素電極６２ａの枝部６２ａｅと同様に、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋについても、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在させている。ここでは、画素電極６２ａの枝部６２ａｅの傾斜角度と、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋの傾斜角度とが一致しており、画素電極６２ａの枝部６２ａｅと、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋとが同じ方向に沿って延在している。
【００６９】
このため、本実施形態は、画素領域ＰＡにおいて、光が透過しないドメインが発生することを抑制可能であるので、光透過率を向上させることができ、画像品質を向上させることができる。
【００７０】
特に、本実施形態においては、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋと、画素電極６２ａの枝部６２ａｅとのそれぞれを、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在させている。２°未満の場合には、効果を十分に奏することができない場合があり、４５°を超える場合には、光透過率が低下する場合がある。このため、液晶パネル２００と第２の偏光板２０７とを光が透過する透過軸に対して、この偏光素子にて光が透過する透過軸が、大きく相違しないので、より好適である。なお、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、４５°の角度で傾斜した方向に延在させた場合が、画素領域ＰＡがランドスケープと、ランドスケープに対して垂直な方向になるポートレートと中間の位置に透過軸が沿うことになるので、最も好適である。
【００７１】
また、本実施形態においては、ゲート線Ｇ１は、複数の画素Ｐにてｘ方向に並ぶ複数の画素Ｐのサブ画素を区画するように複数がｘ方向に間隔を隔てて設けられている。また、データ線Ｓ１は、ｙ方向に対して傾斜する方向に並ぶ複数の画素Ｐに接続するように形成されておらず、複数の画素Ｐにてｙ方向に並ぶ複数の画素Ｐを区画するように複数がｙ方向に間隔を隔てて設けられている。
【００７２】
つまり、画素の重心を保持したまま、画素電極６２ａの枝部６２ａｅと、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋとを、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜させている。
【００７３】
このため、本実施形態は、線順次方式にて表示させるための走査信号およびデータ信号を、別途、変換する信号処理を実施することが不要であるので、製造コストのアップを抑制し、画像品質の向上を実現できる。
＜実施形態２＞
以下より、本技術にかかる実施形態２について説明する。
【００７４】
図７は、本技術にかかる実施形態２において、画素領域ＰＡに設けられた画素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
本実施形態は、図７に示すように、実施形態１に対して、画素電極６２ａとデータ線Ｓ１とが異なる。この点を除き、本実施形態は、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
【００７５】
本実施形態の画素電極６２ａにおいては、図７に示すように、枝部６２ａｅが、ｙ方向に対して、実施形態１の場合よりも、大きな角度で傾斜するように形成されている。たとえば、３０°の角度で傾斜している。
【００７６】
また、本実施形態のデータ線Ｓ１においては、図７に示すように、傾斜部Ｓ１ｋと、水平部Ｓ１ｘと、引出し部Ｓ１ｈとの他に、屈折部Ｓ１ｐを含む。
データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋは、図７に示すように、実施形態１と同様に形成されているが、本実施形態においては、枝部６２ａｅと同様に、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、３０°の角度で傾斜している。
【００７７】
そして、データ線Ｓ１の水平部Ｓ１ｘおよびデータ線Ｓ１の引出し部Ｓ１ｈは、図７に示すように、実施形態１と同様に、形成されている。
そして、データ線Ｓ１の屈折部Ｓ１ｐは、図７に示すように、画素領域ＰＡにおいて隣接する画素Ｐのサブ画素に対応するように設けられた他のデータ線Ｓ１から間隔を隔てるように、ｘ方向とｙ方向とに階段状に屈折している。具体的には、屈折部Ｓ１ｐは、図７に示すように、画素領域ＰＡにおいて、水平部Ｓ１ｘの左側の端部からｙ方向の上側に延在され、その点からｘ方向の左側に延在されており、隣接する他の画素Ｐに設けられたデータ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋの下端部に接続されている。
【００７８】
図８は、本技術にかかる実施形態２において、屈折部Ｓ１ｐを設けずに、データ線Ｓ１を形成した場合にて、画素領域ＰＡに設けられた画素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
【００７９】
本実施形態のように、画素電極６２ａの枝部６２ａｅを、ｙ方向に対して大きな角度で傾斜させた場合において、屈折部Ｓ１ｐを設けずに、データ線Ｓ１を形成した場合には、画素領域ＰＡにおいて隣接する画素Ｐのサブ画素に対応するように設けられた他のデータ線Ｓ１に接触しやすくなる。この場合には、誤動作などが生じ、画像品質が低下する場合がある。
【００８０】
このため、本実施形態においては、図７に示したように、データ線Ｓ１について、屈折部Ｓ１ｐを含むように形成している。
したがって、本実施形態においては、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋと、画素電極６２ａの枝部６２ａｅとのそれぞれを、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、４５°の角度に近い角度に傾斜させることが可能であり、この傾斜角度の制限が無くなるので、さらに、視認性を向上させることができると共に、他のデータ線Ｓ１に接触することを容易に防止可能であるので、画像品質が低下する不具合の発生を防止することができる。
＜実施形態３＞
以下より、本技術にかかる実施形態３について説明する。
【００８１】
図９は、本技術にかかる実施形態３において、画素領域ＰＡに設けられた画素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
本実施形態は、図９に示すように、実施形態１に対して、画素電極６２ａとデータ線Ｓ１とが異なる。この点を除き、本実施形態は、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
【００８２】
本実施形態のデータ線Ｓ１においては、図９に示すように、傾斜部Ｓ１ｋは、第１傾斜部Ｓ１ｋａと、第２傾斜部Ｓ１ｋｂとを含む。
ここでは、第１傾斜部Ｓ１ｋａは、図９に示すように、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在している。この第１傾斜部Ｓ１ｋａは、画素Ｐの下端部分から中央部分まで、延在している。そして、この第１傾斜部Ｓ１ｋａは、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在していることが好ましく、本実施形態においては、たとえば、２５°の角度で傾斜している。
【００８３】
また、第２傾斜部Ｓ１ｋｂは、図９に示すように、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であると共に、上記の第１傾斜部Ｓ１ｋａが延在する延在方向と異なる方向に延在している。この第２傾斜部Ｓ１ｋｂは、画素Ｐの中央部分から上端部分まで、延在している。この第２傾斜部Ｓ１ｋａは、画素領域ＰＡにおいてｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在していることが好ましく、本実施形態においては、たとえば、１５°の角度で傾斜している。
【００８４】
そして、本実施形態の画素電極６２ａにおいては、枝部６２ａｅは、図９に示すように、傾斜部Ｓ１ｋの第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとが延在する方向に沿うように形成されている。つまり、枝部６２ａｅは、画素Ｐの下端部分から中央部分までの間においては、第１傾斜部Ｓ１ｋａと同様に、ｙ方向に対して、たとえば、２５°の角度で傾斜している。そして、枝部６２ａｅは、画素Ｐの中央部分から上端部分までの間においては、第２傾斜部Ｓ１ｋｂと同様に、ｙ方向に対して、たとえば、１５°の角度で傾斜している。
【００８５】
また、本実施形態においては、図９に示すように、第１傾斜部Ｓ１ｋａの延在方向と、第２傾斜部Ｓ１ｋｂの延在方向とに対して、たとえば、絶対値が５°の角度で傾斜する方向をラビング方向としてラビング処理が実施され、液晶層２０３が配向処理されている。つまり、第１傾斜部Ｓ１ｋａの延在方向とラビング方向との間の角度θ１、および、第２傾斜部Ｓ１ｋｂの延在方向とラビング方向との間の角度θ２のそれぞれが、互いに同じ角度になるように（つまり、θ１＝θ２）、ラビング処理を実施することによって、液晶層２０３について配向処理している。
【００８６】
このように各部を設けることによって、本実施形態においては、液晶パネル２００がデュアルドメイン構造になるように形成されている。
以上のように、本実施形態の液晶パネル２００は、画素Ｐ内に２つのドメインを含むデュアルドメイン構造であって、データ線Ｓ１において傾斜部Ｓ１ｋは、互いにｙ方向に対して傾斜する角度が異なる第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとを含み、第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとのそれぞれが、画素領域ＰＡの一の画素Ｐに対応するように設けられている。そして、画素電極６２ａの枝部６２ａｅは、この第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとが延在する方向に沿うように、形成されている。
【００８７】
このため、本実施形態は、実施形態１と同様に、画素領域ＰＡにおいて、光が透過しないドメインが発生することを抑制可能であるので、光透過率を向上させることができ、画像品質を向上させることができる。
＜実施形態４＞
以下より、本技術にかかる実施形態４について説明する。
【００８８】
図１０は、本技術にかかる実施形態４において、画素領域ＰＡに設けられた画素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。図１０においては、ｙ方向に並ぶ画素Ｐにおいて、偶数行と奇数行とに設けられた２つの画素Ｐについて示している。
【００８９】
本実施形態は、図１０に示すように、実施形態１に対して、画素電極６２ａとデータ線Ｓ１とが異なる。この点を除き、本実施形態は、実施形態１と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
【００９０】
本実施形態のデータ線Ｓ１においては、図１０に示すように、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋは、第１傾斜部Ｓ１ｋａと、第２傾斜部Ｓ１ｋｂとを含む。
ここでは、第１傾斜部Ｓ１ｋａは、図１０に示すように、ｙ方向に並ぶ画素Ｐにおいて、偶数行と奇数行との一方に設けられている。たとえば、奇数行に対応するように設けられている。そして、第１傾斜部Ｓ１ｋａは、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であって、ｙ方向に対して傾斜する方向に延在している。この第１傾斜部Ｓ１ｋａは、たとえば、奇数行の画素Ｐの下端部分から上端部分まで延在している。そして、この第１傾斜部Ｓ１ｋａは、画素領域ＰＡにおいて、ｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在していることが好ましく、本実施形態においては、たとえば、２５°の角度で傾斜している。
【００９１】
また、第２傾斜部Ｓ２ｋｂは、図１０に示すように、ｙ方向に並ぶ画素Ｐにおいて、偶数行と奇数行との一方に設けられている。たとえば、第１傾斜部Ｓ１ｋａが奇数行に対応するように設けられている場合には、第２傾斜部Ｓ２ｋｂは、偶数行の画素Ｐに対応するように設けられている。そして、第２傾斜部Ｓ１ｋｂは、画素領域ＰＡにおいてｘ方向およびｙ方向と異なる方向であると共に、上記の第１傾斜部Ｓ１ｋａが延在する延在方向と異なる方向に延在している。この第２傾斜部Ｓ１ｋｂは、たとえば、偶数行の画素Ｐの下端部分から上端部分まで延在している。そして、この第２傾斜部Ｓ１ｋｂは、画素領域ＰＡにおいて、ｙ方向に対して、２°以上であって４５°以下の角度範囲において傾斜した方向に延在していることが好ましく、本実施形態においては、たとえば、１５°の角度で傾斜している。
【００９２】
そして、本実施形態の画素電極６２ａにおいては、枝部６２ａｅは、図１０に示すように、傾斜部Ｓ１ｋの第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとのそれぞれが延在する方向に沿うように形成されている。つまり、枝部６２ａｅは、ｙ方向に並ぶ複数の画素Ｐにて奇数行に対応する画素Ｐにおいては、第１傾斜部Ｓ１ｋａと同様に、ｙ方向に対して、たとえば、２５°の角度で傾斜している。また、枝部６２ａｅは、ｙ方向に並ぶ複数の画素Ｐにて偶数行に対応する画素Ｐにおいては、第２傾斜部Ｓ１ｋｂと同様に、ｙ方向に対して、たとえば、１５°の角度で傾斜している。
【００９３】
また、本実施形態においては、図１０に示すように、第１傾斜部Ｓ１ｋａの延在方向と、第２傾斜部Ｓ１ｋｂの延在方向とに対して、たとえば、絶対値が５°の角度で傾斜する方向にラビング処理が実施され、液晶層２０３が配向処理されている。つまり、第１傾斜部Ｓ１ｋａの延在方向とラビング方向との間の角度θ１、および、第２傾斜部Ｓ１ｋｂの延在方向とラビング方向との間の角度θ２のそれぞれが、互いに同じ角度になるように（つまり、θ１＝θ２）、ラビング処理を実施することによって、液晶層２０３について配向処理している。
【００９４】
このように各部を設けることによって、本実施形態においては、液晶パネル２００が擬似デュアルドメイン構造になるように形成されている。
以上のように、本実施形態の液晶パネル２００は、隣接する２つの画素Ｐの間においてドメインが異なるように形成された擬似デュアルドメイン構造であって、データ線Ｓ１において傾斜部Ｓ１ｋは、互いにｙ方向に対して傾斜する角度が異なる第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとを含み、第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとのそれぞれが、画素領域ＰＡにてｙ方向に並ぶ複数の画素Ｐにおいて、交互に並ぶように配置されている。そして、画素電極６２ａの枝部６２ａｅは、この第１傾斜部Ｓ１ｋａと第２傾斜部Ｓ１ｋｂとが延在する方向に沿うように、形成されている。
【００９５】
このため、本実施形態は、実施形態１と同様に、画素領域ＰＡにおいて、光が透過しないドメインが発生することを抑制可能であるので、光透過率を向上させることができ、画像品質を向上させることができる。
【００９６】
本技術の実施に際しては、上記した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。
たとえば、上記の実施形態においては、ゲート線Ｇ１をｘ方向に沿うように形成し、データ線Ｓ１をｙ方向に沿うように形成せずに、傾斜させて形成する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、ゲート線Ｇ１をｘ方向に沿うように形成せずに、傾斜させて形成し、データ線Ｓ１をｙ方向に沿うように形成する場合においても、同様な効果を得ることができる。また、たとえば、ゲート線Ｇ１をｘ方向に対して傾斜させて形成すると共に、データ線Ｓ１をｙ方向に対して傾斜するように形成する場合においても、同様な効果を得ることができる。
【００９７】
また、たとえば、上記の実施形態においては、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋが延在する方向に沿うように、画素電極６２ａの枝部６２ａｅを延在させて形成する場合について説明した。つまり、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋの傾斜角度と、画素電極６２ａの枝部６２ａｅの傾斜角度とを一致させる場合について説明したが、これに限定されず、データ線Ｓ１の傾斜角度と、画素電極６２ａの枝部６２ａｅの傾斜角度とを一致させなくてもよい。ただし、光が透過しないドメインが発生することを抑制するため、データ線Ｓ１の傾斜部Ｓ１ｋの傾斜角度と、画素電極６２ａの枝部６２ａｅの傾斜角度とを一致させた方が、好適である。さらに、上記の実施形態においては、ポジ型液晶を液晶層２０３に用いた場合にてついて説明したが、これに限定されず、ネガ型液晶を用いて構成しても良い。この場合においては、配向軸を９０°反転させることで適用可能である。たとえば、図４においては、ｘ方向に対して、たとえば、５°の角度が下方へ傾斜した方向を、配向方向（ラビング方向）にする。
【００９８】
また、たとえば、本実施形態においては、画素スイッチング素子３１を、ボトムゲート型の薄膜トランジスタとして構成する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、トップゲート型の薄膜トランジスタを用いて構成しても良い。
【００９９】
また、上記の実施形態においては、ＦＦＳ方式に適用する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式などに適用可能である。
【０１００】
また、本実施形態の液晶表示装置１００は、さまざまな電子機器の部品として適用することができる。たとえば、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラなどの電子機器において適用可能である。
【０１０１】
なお、上記の実施形態において、液晶表示装置１００は、本技術の表示装置に相当する。また、上記の実施形態において、液晶パネル２００は、本技術の表示パネルに相当する。また、上記の実施形態において、液晶層２０３は、本技術の液晶層に相当する。また、上記の実施形態において、画素電極６２ａは、本技術の画素電極に相当する。また、上記の実施形態において、基幹部６２ａｋは、本技術の基幹部に相当する。また、上記の実施形態において、枝部６２ａｅは、本技術の枝部に相当する。また、上記の実施形態において、共通電極６２ｂは、本技術の共通電極に相当する。また、上記の実施形態において、ゲート線Ｇ１は、本技術の第１の配線に相当する。また、上記の実施形態において、データ線Ｓ１は、本技術の第２の配線に相当する。また、上記の実施形態において、傾斜部Ｓ１ｋは、本技術の傾斜部に相当する。また、上記の実施形態において、第１傾斜部Ｓ１ｋａは、本技術の第１傾斜部に相当する。また、上記の実施形態において、第２傾斜部Ｓ１ｋｂは、本技術の第２傾斜部に相当する。また、上記の実施形態において、ｘ方向は、本技術の第１の方向に相当する。また、上記の実施形態において、ｙ方向は、本技術の第２の方向に相当する。また、上記の実施形態において、画素領域ＰＡは、本技術の画素領域に相当する。また、上記の実施形態において、画素Ｐは、本技術の画素に相当する。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】図１は、本技術にかかる実施形態１において、液晶表示装置１００の構成を    示す断面図である。
【図２】図２は、本技術にかかる実施形態１において、液晶パネル２００を示す平面    図である。
【図３】図３は、本技術にかかる実施形態１において、液晶パネル２００における画    素領域ＰＡに設けられた画素Ｐの要部を模式的に示す断面図である。
【図４】図４は、本技術にかかる実施形態１において、画素領域ＰＡに設けられた画    素Ｐにおける
【図５】図５は、本技術にかかる実施形態１において、画素スイッチング素子３１を    示す断面図である。
【図６】図６は、本技術にかかる実施形態１において、対向基板２０２の要部を示す    平面図である。
【図７】図７は、本技術にかかる実施形態２において、画素領域ＰＡに設けられた画    素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
【図８】図８は、本技術にかかる実施形態２において、屈折部Ｓ１ｐを設けずに、デ    ータ線Ｓ１を形成した場合にて、画素領域ＰＡに設けられた画素ＰにおけるＴＦＴア    レイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
【図９】図９は、本技術にかかる実施形態３において、画素領域ＰＡに設けられた画    素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
【図１０】図１０は、本技術にかかる実施形態４において、画素領域ＰＡに設けられ    た画素ＰにおけるＴＦＴアレイ基板２０１の要部を模式的に示す平面図である。
【図１１】図１１は、ＦＦＳ方式の液晶表示装置において、画素領域に設けられた画    素の要部を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１００：液晶表示装置（液晶表示装置）、２００：液晶パネル（液晶パネル）、３００：バックライト、２０１：ＴＦＴアレイ基板、２０２：対向基板、２０３：液晶層（液晶層）、１１：垂直駆動回路、１２：水平駆動回路、２１：カラーフィルタ層、２１Ｒ：赤フィルタ層、２１Ｇ：緑フィルタ層、２１Ｂ：青フィルタ層、３１：画素スイッチング素子、６２ａ：画素電極（画素電極）、６２ａｋ：基幹部（基幹部）、６２ａｅ：枝部（枝部）、６２ｂ：共通電極（共通電極）、Ｇ１：ゲート線（第１の配線）、Ｓ１：データ線（第２の配線）、Ｓ１ｋ：傾斜部（傾斜部）、Ｓ１ｘ：水平部、Ｓ１ｈ：引出し部、Ｓ１ｐ：屈折部（屈折部）、Ｓ１ｋａ：第１傾斜部（第１傾斜部）、Ｓ１ｋｂ：第２傾斜部（第２傾斜部）、Ｐ：画素（画素）、ＰＡ：画素領域（画素領域）、ＣＡ：周辺領域
【図１】
0005175127.tif 000002
【図２】
0005175127.tif 000003
【図３】
0005175127.tif 000004
【図４】
0005175127.tif 000005
【図５】
0005175127.tif 000006
【図６】
0005175127.tif 000007
【図７】
0005175127.tif 000008
【図８】
0005175127.tif 000009
【図９】
0005175127.tif 000010
【図１０】
0005175127.tif 000011
【図１１】
0005175127.tif 000012