(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、
前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、
前記粗銅溶湯に前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が所定値以下となることを確認し、当該確認がなされた後に前記温度の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とする溶銅還元処理方法。
【請求項２】
前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、前記粗銅溶湯中の酸素濃度が０．０５重量％〜０．２０重量％となる値であることを特徴とする請求項１記載の溶銅還元処理方法。
【請求項３】
前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、６０℃〜７０℃の範囲のいずれかの値であることを特徴とする請求項１または２記載の溶銅還元処理方法。
【請求項４】
前記精製炉内に導入される還元剤は、ＬＰＧまたはブタンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の溶銅還元処理方法。
【請求項５】
精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、
前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、
前記還元剤導入ステップにおいて前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が第１所定値以下となった後に第２所定値以上となることを確認し、当該確認がなされた後に所定時間が経過した場合に前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とする溶銅還元処理方法。
【請求項６】
精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、
前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、
前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後において、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が所定値以下となることを確認し、当該確認がなされた後に前記温度の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とする還元処理装置。
【請求項７】
精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、
前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、
前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が第１所定値以下となった後に第２所定値以上となることを確認し、当該確認がなされた後に所定時間が経過した場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とする還元処理装置。
【請求項８】
前記酸化剤は、前記煙道の途中において導入されることを特徴とする請求項１または５記載の溶銅還元処理方法。
【請求項９】
前記酸化剤が導入される導入口は、前記煙道の途中に設けられていることを特徴とする請求項６または７記載の還元処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶銅還元処理方法および還元処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
銅製錬においては、種々の工程が実施されている。代表的なプロセスとして、自溶炉において溶錬によってマットを生成し、マットを転炉で処理することによって粗銅を得て、粗銅を精製してアノードに鋳込んで電解精製するプロセスが挙げられる。転炉から得られた粗銅を精製する方法として、精製炉内に導入された粗銅溶湯に酸素を吹き込んで硫黄を酸化除去する酸化工程と、粗銅溶湯に吸収された酸素を還元除去する還元工程と、が順に行われる。
【０００３】
還元工程においては、炭化水素などの還元剤が用いられる。未反応の還元剤は、シール金具などからのフリーエアによって酸化されて排気される。粗銅溶湯中の酸素量が低下すると、還元剤の未反応量が増加する。この場合、煙道での反応量が増え、排ガス温度が急激に上昇し、過熱により煙道などが損傷するおそれがある。
【０００４】
また、粗銅溶湯中の酸素量が多いと、電解精製時に、非電解的な溶出が発生し、電流効率が悪化し、電解浴の脱銅処理量が増加する。一方で、粗銅溶湯中の酸素量が少ない場合は、還元吹込み剤の使用量が増加し原単位が悪化し、コスト増となる。以上のことから、還元終点を明確化することが望まれる。
【０００５】
特許文献１では、消耗型の酸素プローブを用いて酸素濃度を検出している。特許文献２では、排ガス温度の上昇速度の時間微分値に応じて、還元剤の投入量が調整されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０１−０７５６３１号公報
【特許文献２】特開平０４−１７６８２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術では、消耗型のプローブを用いることによって、コストが増加する。また、特許文献２の技術では、排ガス温度の上昇が続く限り、還元剤の吹込み量の調整が繰り返されることになる。すなわち、還元終点の判断基準が不明確である。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑み、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる溶銅還元処理方法および還元処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る溶銅還元処理方法は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、前記粗銅溶湯に前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が所定値以下となることを確認し、当該確認がなされた後に前記温度の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とするものである。本発明に係る溶銅還元処理方法によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。
【００１０】
前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、前記粗銅溶湯中の酸素濃度が０．０５重量％〜０．２０重量％となる値としてもよい。前記停止ステップにおける前記上昇幅に係る所定値は、６０℃〜７０℃の範囲のいずれかの値としてもよい。前記精製炉内に導入される還元剤は、ＬＰＧまたはブタンとしてもよい。
【００１１】
本発明に係る他の還元処理方法は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入ステップと、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度取得ステップと、前記還元剤導入ステップにおいて前記還元剤が導入された後において、前記温度取得ステップで取得された温度の時間に対する変動量が第１所定値以下となった後に第２所定値以上となることを確認し、当該確認がなされた後に所定時間が経過した場合に前記還元剤の導入を停止する停止ステップと、を含むことを特徴とするものである。本発明に係る他の還元処理方法によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。
【００１２】
本発明に係る還元処理装置は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後において、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が所定値以下となることを確認し、当該確認がなされた後に前記温度の上昇幅が所定値以上となった場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とするものである。本発明に係る還元処理装置によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。
【００１３】
本発明に係る他の還元処理装置は、精製炉内の粗銅溶湯に還元剤を導入する還元剤導入装置と、前記精製炉から排出される排ガスが通過する煙道において、未反応の前記還元剤を燃焼させるための酸化剤が導入される箇所よりも下流側における温度を取得する温度センサと、前記還元剤導入装置を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記還元剤導入装置によって前記還元剤が導入された後、前記温度センサが取得する温度の時間に対する変動量が第１所定値以下となった後に第２所定値以上となることを確認し、当該確認がなされた後に所定時間が経過した場合に、前記還元剤の導入が停止されるように前記還元剤導入装置を制御することを特徴とするものである。本発明に係る他の還元処理装置によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、コストを抑制しつつ、粗銅溶湯の還元終点を明確化することができる溶銅還元処理方法および還元処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】精製炉から排出される排ガスが通過する経路について説明するための模式図である。
【図２】（ａ）は温度センサが取得する温度の変遷を示す概念図であり、（ｂ）は温度センサが取得する温度の変遷を示す実測値である。
【図３】還元終点を判断するためのフローチャートの一例を説明するための図である。
【図４】フローチャートの一例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための実施形態について説明する。
【００１７】
（実施形態）
自溶炉などにおける溶錬工程で得られるマットは、転炉に導入される。マットは、例えば、Ｃｕ２Ｓ・ＦｅＳなどを主成分とする。転炉においては、造カン期においてＣｕ２Ｓを主体とする白カワが生成され、造銅期において粗銅溶湯が生成される。粗銅溶湯の銅含有量は、９８．５重量％程度である。転炉で得られた粗銅溶湯は、精製炉に導入される。次に、粗銅溶湯中にエアなどの酸化剤を吹き込むことによって硫黄を酸化除去する酸化工程が実施される。
【００１８】
次に、還元工程が実施される。この還元工程は、転炉で生成された粗銅溶湯中に存在していた酸素および酸化工程で粗銅溶湯中に吸収された酸素を除去する工程である。還元工程は、精製炉内の粗銅溶湯中に気体還元剤を湯面下の羽口から吹き込むことによって行われる。気体還元剤として、ブタンまたはＬＰＧを用いることができる。気体の還元剤を用いることによって、取り扱いが容易となる。また、発熱量制御が容易となるため、還元処理中の排ガス温度の上昇を抑えてほぼ一定値に制御することができる。それにより、還元終点付近での排ガス温度上昇時の反応系の変化を判断しやすくなる。
【００１９】
還元工程の際に、還元剤が粗銅溶湯中の酸素によって酸化する。この酸化で生じる排ガスは、精製炉から排出される。図１は、精製炉から排出される排ガスが通過する経路について説明するための模式図である。図１を参照して、精製炉１０の羽口に、還元剤導入装置１１が設けられている。還元剤導入装置１１は、粗銅溶湯中に気体還元剤を吹き込む装置である。
【００２０】
精製炉１０の排ガス出口に、煙道２０が接続されている。煙道２０の下流端は、シール金具３０を介して煙道４０が接続されている。シール金具３０には、１以上の孔３１が形成されている。この孔からフリーエアが煙道４０内に導入される。煙道４０には、温度センサ４１が配置されている。また、煙道４０には、温度センサ４１よりも下流において、ファン４２が介挿されている。それにより、煙道４０内に導入されるフリーエア量を一定に保つことができる。ファン４２よりも下流側には、鉱石を乾燥させるためのドライヤー４３が設けられている。
【００２１】
制御部５０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（リードオンリメモリ）、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）等から構成される。制御部５０は、温度センサ４１の検出結果に応じて、還元剤導入装置１１の動作を制御する。詳細は、後述する。
【００２２】
図２（ａ）は、温度センサ４１が取得する温度の変遷を示す概念図である。図２（ａ）において、横軸は経過時間を示し、縦軸は温度センサ４１が取得する温度Ｔを示す。図２（ａ）を参照して、還元剤導入装置１１による還元剤導入開始後、温度Ｔは急激に上昇する。この期間を、期間Ｉとする。その後、温度Ｔの上昇幅が低下し、ほぼ一定となる。この期間を、期間ＩＩとする。なお、期間ＩＩは、温度Ｔの時間に対する変動量が所定値以下となった期間である。さらに、その後、温度Ｔは急激に上昇する。この期間を、期間ＩＩＩとする。
【００２３】
図２（ｂ）は、温度センサ４１が取得する温度の変遷を示す実測値である。図２（ｂ）において、横軸は経過時間を示し、縦軸は温度センサ４１が取得する温度Ｔを示す。図２（ｂ）を参照して、温度センサ４１が取得する温度の実測値は、図２（ａ）とほぼ同様の変遷をたどることがわかる。以下、この現象について考察する。
【００２４】
粗銅溶湯には、所定量の酸素が溶解している。この酸素は、転炉で生成された粗銅溶湯にあらかじめ存在していた酸素および上述した酸化工程で粗銅溶湯に吸収された酸素である。粗銅溶湯中の酸素は、還元剤によって還元される。ここで、一例として、還元剤にＣ４Ｈ１０（ブタン）を用いている。精製炉内の化学反応について粗銅溶湯、酸素、ブタンの反応を検討すると、反応中の生成物には様々な中間生成物が存在すると考えられるが、ここでは反応そのものを単純化して、以下のように表すことにする。
【００２５】
精製炉１０内での粗銅の還元反応は、反応式（１）で表される吸熱反応となる。
（反応式１）Ｃｕ２Ｏ（ｌ）  →  ２Ｃｕ（ｌ）＋１／２Ｏ２（ｇ）・・・（吸熱反応）（ΔＨ＝３０ｋｃａｌ／ｍｏｌ：１，１５０℃）
【００２６】
また、ブタンが酸素と反応し、完全燃焼が行われる酸化反応は、反応式（２）で表される発熱反応となる。
（反応式２）Ｃ４Ｈ１０（ｇ）＋１３／２Ｏ２（ｇ）＝４ＣＯ２（ｇ）＋５Ｈ２Ｏ（ｇ）・・・（発熱反応）（ΔＨ＝−６７７ｋｃａｌ／ｍｏｌ：１，１５０℃）
【００２７】
精製炉１０内は、還元雰囲気であることから、吹き込まれたブタンの全てが反応式（２）のように反応しないで、一部、反応式（３）のような不完全燃焼反応が行われる。反応式（３）も反応式（２）と同じ発熱反応であるが、反応熱は反応式（３）の方が、反応式（２）よりも小さくなっている。
（反応式３）Ｃ４Ｈ１０（ｇ）＋９／２Ｏ２（ｇ）＝４ＣＯ（ｇ）＋５Ｈ２Ｏ（ｇ）・・・（発熱反応）（ΔＨ＝−４０８ｋｃａｌ／ｍｏｌ：１，１５０℃）
【００２８】
また、精製炉１０内で完全に反応しなかったＣＯガスは、炉外でフリーエアと反応することで、反応式（４）の発熱反応が起こると考えられる。
（反応式４）ＣＯ（ｇ）＋１／２Ｏ２（ｇ）＝ＣＯ２（ｇ）・・・（発熱反応）（ΔＨ＝−６７ｋｃａｌ／ｍｏｌ：１，１５０℃）
【００２９】
期間Ｉにおいては、精製炉１０内では、反応式（１）と反応式（２）と反応式（３）とが同時に起こっていると考えられ、この総括反応は発熱反応となる。温度上昇の主要因として、反応式（２）による精製炉羽口から吹き込んだ酸素（若干精製炉内へ吹き込まれる空気中の酸素）や溶湯中の酸素とブタンとの酸化反応による発熱によって高温のＣＯ２ガスが排出される。高温となった排ガスは、精製炉１０から煙道２０を通り、煙道４０に設置された温度センサ４１を通り、最終的には煙道出口に設置されたドライヤー４３の乾燥用ガスとして吹き出される。ここで、煙道４０は、還元処理前には室温程度であり、還元処理による高温の排気ガスが通過することによって、顕熱として働き、配管の温度上昇に寄与し、煙道４０に設置された温度センサの温度指示値が、徐々に上昇し始める。
【００３０】
期間ＩＩにおいては、煙道４０の温度上昇が平衡に達し、反応式（１）と反応式（２）と反応式（３）との割合が釣り合う状態となっている。また、期間ＩＩにおいては、反応式（１）と反応式（２）と反応式（３）とによる精製炉１０内での溶湯中酸素の還元が十分に進行する。それにより、溶湯中酸素濃度が低下し始め、ブタンとの酸化発熱反応が鈍化し、さらに、煙道温度も十分に暖まり、また外気への放熱との温度補償等により、温度センサ４１の温度指示値は均衡状態で推移し始める。
【００３１】
さらに、期間ＩＩＩにおいては、溶湯中酸素濃度が低下するに従い、反応式（３）の割合が上昇し、精製炉１０に供給されたブタンガスの一部が未反応の状態で精製炉１０から排出され始める。それにより、シール金具３０の孔３１付近で、精製炉１０から排出された未反応のブタンガスとフリーエアー中の酸素とが燃焼反応を起こす。この燃焼反応の発熱により、温度Ｔが再度急激に上昇するようになる。したがって、温度Ｔが再上昇した際の所定時点を、還元終点と判断することができる。
【００３２】
このように、粗銅溶湯中の酸素量と温度Ｔとの間に相関関係が生じると考えられる。したがって、還元終点は、温度Ｔに基づいて求めることができる。一例として、温度Ｔの時間変動量が所定値以下となった場合のいずれかの温度からの温度上昇幅ΔＴが所定値以上になった場合に、還元終点に至ったと判断することができる。この場合、期間ＩＩを経ることを確認してから還元終点を定めることができることから、還元終点の決定精度が向上する。
【００３３】
還元終点は、粗銅溶湯中の酸素濃度が所定範囲になる時点である。粗銅溶湯中の酸素量が多いと、銅電解精製の工程において、Ｃｕ２Ｏ＋Ｈ２ＳＯ４→ＣｕＳＯ４＋Ｃｕ＋Ｈ２Ｏからなる、銅アノードからの非電解的溶出が起こり易くなる。この場合、電解槽底部に沈殿するスライムの銅品位の上昇や電解液中の銅濃度の上昇の原因となり、電解精製の効率低下および電解液の脱銅処理量の増加に繋がり、問題となる。一方で、粗銅溶湯の還元処理を溶湯中酸素濃度が所定値より少なくなるまで実施すると、吹き込む還元剤の量が増加し、コストが増加する。
【００３４】
本発明者は、粗銅溶湯中の酸素濃度が０．０５重量％〜０．２０重量％であれば、アノードの内部から表面近傍に放出される酸素ガスにより形成される空孔の表面隆起を抑制できるとともに、所望形状のアノードが得られることを確認した。したがって、粗銅溶湯中の酸素濃度と上昇幅ΔＴとの関係をあらかじめ取得しておくことによって、還元終点における上昇幅ΔＴを定めることができる。上昇幅ΔＴは、酸素濃度０．０５重量％〜０．２０重量％を実現するための温度差であることが好ましい。例えば、上昇幅ΔＴが６０℃〜７０℃程度となった場合に、還元終点に至ったと判断することができる。
【００３５】
図３は、還元終点を判断するためのフローチャートの一例を説明するための図である。まず、制御部５０は、精製炉１０内に還元剤が導入されるように、還元剤導入装置１１を制御する（ステップＳ１）。次に、制御部５０は、温度センサ４１から温度Ｔ１を取得する（ステップＳ２）。次いで、制御部５０は、単位時間経過後に、温度センサ４１から温度Ｔ２を取得する（ステップＳ３）。次に、制御部５０は、温度Ｔ１，Ｔ２に基づいて、時間に対する温度の変動量Ｄを取得する（ステップＳ４）。次いで、制御部５０は、温度の変動量Ｄが所定値以下であるか否かを判定する（ステップＳ５）。この場合の所定値として、ゼロに近い値を用いることができる。
【００３６】
ステップＳ５において温度の変動量Ｄが所定値以下であると判定されなかった場合、制御部５０は、ステップＳ２から再度実行する。ステップＳ５において温度の変動量Ｄが所定値以下であると判定された場合、制御部５０は、温度センサ４１から温度Ｔ３を取得する（ステップＳ６）。次に、制御部５０は、温度の上昇幅ΔＴ（＝Ｔ３−Ｔ２）が所定値以上になったか否かを判定する（ステップＳ７）。この場合の所定値として、例えば、６０℃〜７０℃の範囲のいずれかの値を用いてもよい。
【００３７】
ステップＳ７において上昇幅ΔＴが所定値以上になったと判定された場合、制御部５０は、現時点が還元終点であると判定し、還元剤導入装置１１による粗銅溶湯中への還元剤の導入を停止する（ステップＳ８）。その後、フローチャートの実行が終了する。ステップＳ７において上昇幅ΔＴが所定値以上になったと判定されなかった場合、制御部５０は、ステップＳ６に戻る。
【００３８】
図３のフローチャートによれば、時間に対する温度の変動量Ｄが所定値以下になった後の温度上昇幅ΔＴが所定値以上になった場合に、還元剤の導入が停止される。この場合、図２（ａ）の期間ＩＩを経ることを確認してから還元終点を定めることができる。それにより、高い精度で、粗銅溶湯中の酸素濃度を適正値に調整することができる。また、未反応の還元剤のフリーエアによる燃焼が抑制される。それにより、煙道などの損傷を抑制することができる。なお、図３のフローチャートでは、制御部５０を用いて自動的に還元剤導入装置１１を制御したが、ユーザが上昇幅ΔＴに基づいて還元剤導入装置１１を制御してもよい。
【００３９】
なお、温度の上昇幅ΔＴを検出しなくても還元終点を判断することができる。例えば、還元剤導入量と温度センサ４１が取得する温度Ｔとの関係をあらかじめ取得しておくことによって、還元剤が導入された後の経過時間と還元終点との関係を得ることができる。例えば、還元剤を導入した後に温度Ｔの時間に対する変動量Ｄが低下した後に上昇に転じた時点から所定時間が経過した場合に、還元終点であると判断して、還元剤の導入を停止してもよい。図４は、この場合に実行されるフローチャートの一例を説明するための図である。
【００４０】
まず、制御部５０は、精製炉１０内に還元剤が導入されるように、還元剤導入装置１１を制御する（ステップＳ１１）。次に、制御部５０は、図３のステップＳ２〜Ｓ４と同様の処理により、温度の変動量Ｄを取得する（ステップＳ１２）。次いで、制御部５０は、温度の変動量Ｄが第１所定値以下であるか否かを判定する（ステップＳ１３）。この場合の第１所定値として、ゼロに近い値を用いることができる。
【００４１】
ステップＳ１３において温度の変動量Ｄが第１所定値以下であると判定されなかった場合、制御部５０は、ステップＳ１２から再度実行する。ステップＳ１３において温度の変動量Ｄが第１所定値以下であると判定された場合、制御部５０は、図３のステップＳ２〜Ｓ４と同様の処理により、温度の変動量Ｄを再度取得する（ステップＳ１４）。
【００４２】
次に、制御部５０は、ステップＳ１４で取得した温度の変動量Ｄが第２所定値（＞第１所定値）以上になったか否かを判定する（ステップＳ１５）。ステップＳ１５において温度の変動量Ｄが第２所定値以上になったと判定されなかった場合、制御部５０は、ステップＳ１５を再度実行する。ステップＳ１５において温度の変動量Ｄが第２所定値以上になったと判定された場合、制御部５０は、所定時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１６）。この場合の所定時間として、還元剤導入量から求まる還元終点に至る経過時間を用いる。
【００４３】
ステップＳ１６において所定時間が経過したと判定された場合、制御部５０は、現時点が還元終点であると判定し、還元剤導入装置１１による粗銅溶湯中への還元剤の導入を停止する（ステップＳ１７）。その後、フローチャートの実行が終了する。ステップＳ１６において所定時間が経過したと判定されなかった場合、制御部５０は、ステップＳ１６を再度実行する。
【００４４】
図４のフローチャートによれば、還元剤を導入した後に温度Ｔの上昇幅が低下した後に上昇に転じた時点から所定時間が経過した場合に、還元剤の導入が停止される。この場合、図２（ａ）の期間ＩＩを経ることを確認してから還元終点を定めることができる。それにより、高い精度で、粗銅溶湯中の酸素濃度を適正値に調整することができる。なお、図４のフローチャートでは、制御部５０を用いて自動的に還元剤導入装置１１を制御したが、ユーザが経過時間に基づいて還元剤導入装置１１を制御してもよい。
【００４５】
なお、本実施形態においては、煙道４０内の温度を取得したが、それに限られない。例えば、煙道４０の外壁温度を取得することによって、煙道４０内の温度を間接的に取得してもよい。
【符号の説明】
【００４６】
１０  精製炉
１１  還元剤導入装置
２０  煙道
３０  シール金具
３１  孔
４０  煙道
４１  温度センサ
４２  ファン
４３  ドライヤー
５０  制御部
【図１】
0005259757.tif 000002
【図２】
0005259757.tif 000003
【図３】
0005259757.tif 000004
【図４】
0005259757.tif 000005