(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、バインダマトリックスと導電性粒子を備える帯電防止層、バインダマトリックスと低屈折粒子を備える低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、
前記透明基材は厚さが８０μｍ、屈折率が１．４９であり、前記ハードコート層は膜厚が５μｍ、屈折率が１．５２であり、前記帯電防止層は光学膜厚が２５０μｍ、屈折率が１．５３であり、前記低屈折率層は光学膜厚が１２５μｍ、屈折率が１．３３または１．３７である
ことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記帯電防止層に用いられる導電性粒子が、電子電導型の導電性粒子であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記帯電防止層におけるバインダマトリックス及び前記低屈折率層におけるバインダマトリックスは、シリカマトリックスであることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板、液晶セル、偏光板、バックライトユニットをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
【０００４】
また、これらの反射防止層がフィルム透明基材上に設けられている場合には、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
【０００５】
そこで、帯電防止機能を付与するため、ハードコート層に導電剤を添加する方法や、基材とハードコート層の間、もしくは、ハードコート層と反射防止層の間に帯電防止層を設ける方法がなされている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２０２３８９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【特許文献３】特開２００６−１６４４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ハードコート層に導電性物質を添加する方法では、良好な導電性を発現させるためには、多量の導電性物質を添加する必要があり、その結果、材料コストの向上、ハードコート層の強度低下といった問題が発生することがあった。一方、帯電防止層を新たに設ける方法では、一般高い帯電防止層を層間に積層しなければならず、それによる色味の発生や、色ムラが発生することがあった。特に、帯電防止層、低屈折率層を湿式成膜法で形成する際には、形成される帯電防止層、低屈折率層の面内での膜厚のバラツキを反映して、反射防止フィルムの色ムラが確認される。本発明にあっては、透明基材上に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、かつ反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、バインダマトリックスと導電性粒子を備える帯電防止層、バインダマトリックスと低屈折粒子を備える低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、
前記透明基材は厚さが８０μｍ、屈折率が１．４９であり、前記ハードコート層は膜厚が５μｍ、屈折率が１．５２であり、前記帯電防止層は光学膜厚が２５０μｍ、屈折率が１．５３であり、前記低屈折率層は光学膜厚が１２５μｍ、屈折率が１．３３または１．３７である
ことを特徴とする反射防止フィルムとした。
【００１１】
また、請求項２に係る発明としては、前記帯電防止層に用いられる導電性粒子が、電子電導型の導電性粒子であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムとした。
【００１２】
また、請求項３に係る発明としては、前記帯電防止層におけるバインダマトリックス及び前記低屈折率層におけるバインダマトリックスは、シリカマトリックスであることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
【００１３】
また、請求項４に係る発明としては、請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板とした。
【００１４】
また、請求項５に係る発明としては、請求項１乃至４のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板、液晶セル、偏光板、バックライトユニットをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイとした。
【発明の効果】
【００１５】
上記構成の反射防止フィルムとすることにより、優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、かつ反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムとすることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に本発明の反射防止フィルムについて説明する。
【００１７】
図１に本発明の反射防止フィルムの断面模式図を示した。図１に示した本発明の反射防止フィルム（１）は、透明基材（１１）上に、ハードコート層（１２）、帯電防止層（１３）、低屈折率層（１４）を順に備える。そして、帯電防止層（１３）は導電性粒子（１３Ａ）とバインダマトリックス（１３Ｂ）を備え、低屈折率層（１４）は低屈折率粒子（１４Ａ）とバインダマトリックス（１４Ｂ）を備える。
【００１８】
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層（１４）と帯電防止層（１３）の光学干渉により反射防止機能が発現する。すなわち、帯電防止層（１３）は高屈折率層として機能する。
【００１９】
本発明の反射防止フィルムにおいて帯電防止層（１３）を形成するにあっては、導電性粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を用い、湿式成膜法によりハードコート層上に塗液を塗布することにより形成される。同様に、低屈折率層（１４）を形成するにあっては低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を用い、湿式成膜法により帯電防止層上に塗液を塗布することにより形成される。
【００２０】
本発明の反射防止フィルムにあっては、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず１つの極小値を有し、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする。
【００２１】
図２に本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線（モデル）の説明図を示した。
本発明における低屈折率層側の反射防止フィルム表面の分光反射率曲線は、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層が設けられていない側の透明基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、反射防止フィルム表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。視感平均反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００２２】
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層側の反射防止フィルムにおける視感平均反射率が０．５％以上１．３％以下であることを特徴とする。視感平均反射率が１．３％を超えるような場合にあっては、ディスプレイ表面に設けるのに十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムとすることができない。一方、視感平均反射率が０．５％を下回るような場合にあっては、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差を０．９％以下とすることが困難になる。
【００２３】
本発明の反射防止フィルムは、図２に示したように低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず１つの極小値を有することを特徴とする。また、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの間で、波長が大きくなるにつれ緩やかに減少し、極小値を境に緩やかに増加するＵ字型の分光反射率曲線となる。
【００２４】
本発明の反射防止フィルムの波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線は、Ｕ字型であり、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲の間で緩やかに変化し非常に平坦な曲線であることを特徴とする。分光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかに変化する曲線とすることにより、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
【００２５】
塗液を用い湿式成膜法により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合にあっては、真空装置が必要となる乾式成膜により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合と比較して、大幅に製造コストを下げることが可能となる。湿式成膜法により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合にあっては、低コストで反射防止フィルムを提供することが可能となる。
【００２６】
しかしながら、蒸着法やスパッタリング法といった乾式成膜法で帯電防止層、低屈折率層を形成する場合と比較して、塗液を用いた湿式成膜法により帯電防止層、反射防止層を形成する場合にあっては、形成される帯電防止層、反射防止層の膜厚が面内で微量変動する傾向にある。反射防止フィルムは、低屈折率層と帯電防止層の光学干渉により反射防止機能が発現するため、帯電防止層、反射防止層の膜厚が面内で微量変動した場合には、反射防止フィルムは面内で色ムラとして確認される。
【００２７】
本発明にあっては、反射防止フィルムの分光反射率曲線をＵ字型であり非常に緩やかに変化する曲線とすることにより、形成される反射防止層、帯電防止層の微小な膜厚の変動による色ムラを抑制することができる。すなわち、本発明の反射防止フィルムは、湿式成膜法により形成される帯電防止層、反射防止層が面内で微小の膜厚ムラが発生しても、色ムラとして認識されにくい反射防止フィルムとすることができる。分光反射率曲線の波長に対する反射率の変化量が大きい場合には、帯電防止層及び低屈折率層の膜厚の変動により分光反射率曲線が変化した際に、色味が変化しやすいため、色ムラとして認識されやすくなる。
【００２８】
低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．９％を超える場合にあっては、その分光反射率曲線は急峻な変化を伴うこととなる。したがって、反射色相が大きくなるだけでなく、帯電防止層、反射防止層の膜厚変動による色ムラが確認されることとなる。
【００２９】
また、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）は小さい方が好ましいが、分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．５％を下回る反射防止フィルムを、低屈折率層と帯電防止層の２層の光学干渉から実現することは困難である。
【００３０】
本発明にあっては、分光反射率曲線が４００ｎｍから７００ｎｍの間で極小値を１つ有し、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）を０．９％以下とすることにより、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲の間で緩やかに変化し非常に平坦な曲線でとすることができる。
【００３１】
本発明の反射防止フィルムにあっては、その分光反射率曲線が比視感度の高い波長５５０ｎｍ付近においてほぼ平坦であるため、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。反射色相が無色であり、且つ、色ムラのない反射防止フィルムとするには、比視感度が高い波長５５０ｎｍ付近の分光反射率曲線は極力平坦であることが要求される。
【００３２】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、分光反射率曲線の低波長側（４００ｎｍ〜４５０ｎｍ付近）の立ち下がり部分と高波長側（６００〜７００ｎｍ付近）の立ち上がり部分の変化量を小さくすることができ、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。特に、低波長側（４００ｎｍ〜４５０ｎｍ付近の波長側の立ち下がり部分の変化量を小さくすることができ、反射色相が無色に近いだけでなく、青色の色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
【００３３】
反射防止フィルムにあっては、視感反射率が低いほど高い反射防止性能を有する反射防止フィルムとすることができる。しかしながら、高い反射防止性能を得ようとした場合には、反射光の色味を低減すること、色ムラの発生を抑えることは困難となる。すなわち、本発明にあっては視感反射率を０．５％以上１．３％以下とし、分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内とすることにより反射光の色味を低減し、さらには色ムラの発生を抑制することに成功した。言い換えると、低屈折率層側の波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線を緩やかに変化し平坦なＵ字型の曲線とすることにより、反射光の色味を低減し、さらには湿式成膜法によって形成される低屈折率層及び帯電防止層の微小な膜厚変動によって発生する色ムラが確認されにくい反射防止フィルムとすることができた。
【００３４】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の差が前記透明基材の屈折率の０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の屈折率と前記ハードコート層の屈折率の屈折率差が０．０１以上０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３５】
本発明にあっては、透明基材とハードコート層の屈折率差、及び、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差を上記範囲内とし、帯電防止層の光学膜厚と低屈折率層の光学膜厚を上記範囲内とすることにより、容易に分光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかな曲線とし、反射色相が無色に近く、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
【００３６】
なお、本発明において、ハードコート層及び帯電防止層の屈折率は、ベッケ線法などによる直接測定法あるいは分光光度計や分光エリプソメーターによる光学薄膜シミュレーション法により求めることができる。
【００３７】
本発明の反射防止フィルムにあっては、透明基材とハードコート層の屈折率差は０．０５以内であることが好ましい。ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の屈折率差が、０．０５を超える場合にあっては、層間の光の干渉による干渉縞が発生してしまう。
【００３８】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差は０．０１以上０．０５以下であることが好ましい。ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が０．０５を超える場合にあっては、層間の光の干渉による干渉によって、分光反射率の最大値と最小値の差を０．２％以上０．９％以下の範囲内とすることが困難となる。一方、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が０．０１未満となる場合にあっては、ハードコート層と帯電防止層の屈折率がほとんど同じことから、帯電防止層が高屈折率層として機能しなくなってしまい、光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかな曲線とすることが困難となる。
【００３９】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４０】
本発明の反射防止フィルムにあっては、λ＝５００ｎｍとしたときに帯電防止層の光学膜厚がλ／２付近、低屈折率層がλ／４付近となるように設計される。λ＝５００ｎｍとして帯電防止層をλ／２付近、低屈折率層をλ／４付近とすることにより、得られる分光反射率曲線を極大値を輸さず極小値を１つ有し、波長が大きくなるにつれ緩やかに減少し、極小値を境に緩やかに増加するＵ字型であり、非常に平坦な曲線とすることができる。
【００４１】
本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は図２に示したように、極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、帯電防止層、反射防止層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。本発明にあっては、分光反射率曲線の極小値を５００ｎｍ近傍とすることにより、反射色相が小さく、分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）がを０．９％以下とすることができ、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができた。
【００４２】
例えば、比視感度が高い波長（λ）５５０ｎｍの光を基準として低屈折率層の膜厚をλ／４、帯電防止層の膜厚をλ／２とした場合にあっては、短波長方向への上昇カーブが大きくなり、波長４００ｎｍにおける反射率が高くなる。したがって、分光反射率の最大値と最小値の差を０．９％以内とすることは困難となり、また、低屈折率層、帯電防止層の微小な膜厚変動によって青色の色ムラが発生しやすくなる。
【００４３】
また、本発明の反射防止フィルムは、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦３且つ−３≦ｂ＊≦３であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相を上記範囲内とすることにより、色味のない反射防止フィルムとすることができ、ディスプレイ表面にさらに好適に用いることができる。
【００４４】
反射色相は、ａ＊、ｂ＊が０に近いほど無色に近い。しかしながら、−３≦ａ＊＜０は比視感度の高い緑色の領域であり、観察者にとって色味が認識されやすい傾向にある。したがって、本発明の反射防止フィルムにあっては、０≦ａ＊≦３且つ−３≦ｂ＊≦３とすることが好ましい。
【００４５】
なお、本発明の反射防止フィルムの反射色相は、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層が設けられていない側の透明基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。入射角度は反射防止フィルムに対しての垂直方向から５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。
【００４６】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、帯電防止層に用いられる導電性粒子が、電子電導型の導電性粒子であることが好ましい。帯電防止層に用いられる導電性粒子にあっては、プロトン電導型の導電性粒子と電子電導型の導電性粒子に分けられる。このとき、プロトン電導型の導電性粒子を用いる場合にあっては、反射防止フィルムを低湿度下で使用した場合に所望の帯電防止性能が得られないことがある。一方、電子電導型の導電性粒子を用いる場合にあっては、低湿度下でも良好な帯電防止性能を安定的に発揮することができる。
【００４７】
なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）以下であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値を１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）以下とすることにより、帯電防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）を超える場合にあっては十分な帯電防止性を有さないために、ディスプレイ表面に反射防止フィルムを設けた際に埃等の付着を防ぐことができなくなってしまう。
【００４８】
また、低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０６（Ω／ｃｍ２）以上であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０６（Ω／ｃｍ２）を下回る場合、導電性粒子をバインダマトリックス中に多量添加する必要があり、不経済であり、強度や光学特性などが本発明内で調整不可能なものとなってしまう。
【００４９】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、帯電防止層におけるバインダマトリックス及び前記低屈折率層におけるバインダマトリックスはシリカマトリックスであることが好ましい。バインダマトリックスをシリカマトリックスとするには、バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドを用い、該ケイ素アルコキシドの加水分解物を塗布、乾燥することにより、形成することができる。バインダマトリックスをシリカマトリックスとすることにより、高い透明性を有し、且つ色味の少ない反射防止フィルムとすることができる。また、帯電防止層におけるバインダマトリックス及び低屈折率層におけるバインダマトリックスをともにシリカマトリックスとすることにより、帯電防止層と低屈折率層の密着性を向上させることができる。
【００５０】
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板について示す。図３に本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の断面模式図を示した。偏光板（２）は２つの透明基材間に偏光層が狭持された構造をとる。本発明の偏光板（２）にあっては、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）の低屈折率層（１４）が設けられている反対側の面に、偏光層（２３）、透明基材（２２）を順に備える。すなわち、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）が、偏光層を狭持するための透明基材を兼ねる構造となっている。
【００５１】
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイについて示す。
図４に本発明の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイを示した。図４の透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット（５）、偏光板（４）、液晶セル（３）、反射防止フィルム（１）を含む偏光板（２）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００５２】
バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。２つの偏光板は液晶セルを挟むように設けられる。
【００５３】
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。
【００５４】
以下に、本発明の反射防止フィルムの製造方法について述べる。本発明の反射防止フィルムにおける透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。
【００５５】
なお、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい
【００５６】
さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００５７】
次に、ハードコート層の形成方法について述べる。ハードコート層は、電子放射線硬化型材料を含む塗液を透明基材上に塗布し、透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことにより、ハードコート層とすることができる。塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００５８】
ハードコート層を形成するための電離放射線硬化型材料としては、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類などの（メタ）アクリロイル基を３個以上、好ましくは４〜２０個有する多官能アクリレートが挙げられる。なお、多官能アクリレートはモノマーであってもオリゴマーであっても構わない。多官能アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。
【００５９】
多官能アクリレートの中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
【００６０】
またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００６１】
また、ハードコート層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合にあっては、ハードコート層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。
【００６２】
さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
【００６３】
中でも、ハードコート形成用塗液の溶媒にあっては、透明基材を溶解するような溶媒を含むことが好ましい。ハードコート層形成用塗液が透明基材を溶解する溶媒を含むことにより形成されるハードコート層と透明基材との密着性を向上させることができる。
【００６４】
また、ハードコート層形成用塗液に、平均粒径が０．５μｍ以上１０μｍ以下の粒子を含ませることにより、ハードコート層表面に凹凸を形成し、得られる反射防止層に防眩性を付与することができる。このとき、ハードコート層に添加される粒子としては透光性を有することが好ましい。粒子としては、具体的には、アクリル粒子、ＰＭＭＡ粒子、アクリルスチレン粒子、ＰＭＭＡスチレン粒子、ポリスチレン粒子、ポリカーボネート粒子、メラミン粒子、エポキシ粒子、ポリウレタン粒子、ナイロン粒子、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、シリコーン粒子、ポリテトラフルオロエチレン粒子、ポリフッ化ビニリデン粒子、ポリ塩化ビニル粒子、ポリ塩化ビニリデン粒子、ガラス粒子、シリカ粒子等を用いることができる。なお、粒子は複数種用いることも可能である。
【００６５】
また、形成されるハードコート層の表面硬度の向上を目的として、ハードコート層形成用塗液に平均粒径１００ｎｍ以下の粒子を添加しても良い。
【００６６】
また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６７】
また、塗液には、形成後のハードコート層を備える反射防止フィルムのカールを防止することを目的として、熱可塑性樹脂を添加してもよい。以上により、ハードコート層は形成される。
【００６８】
なお、ハードコート層上に帯電防止層を形成する前にあっては、帯電防止層を形成する前に酸処理、アルカリ処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等の表面処理をおこなっても良い。これら表面処理をおこなうことにより、ハードコート層と低屈折率層下層もしくは高屈折率層との密着性をさらに向上させることができる。
【００６９】
ハードコート層上にケイ素アルコキシド等の金属アルコキシドをバインダマトリックス形成材料として用い、帯電防止層を形成するにあっては帯電防止層を形成する前にアルカリ処理をおこなうことが好ましい。アルカリ処理を行うことにより、ハードコート層と帯電防止層との密着性を向上させることができ、反射防止フィルムの耐擦傷性をさらに向上させることができる。
【００７０】
本発明の帯電防止層にあっては、導電性高屈折粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布し、透明基材上に塗膜を形成することにより形成することができる。このとき塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００７１】
導電性粒子としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛−酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化タングステン等の導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。
【００７２】
中でも、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛−酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム−酸化セリウムといった電子電導型の導電性粒子を好適に用いることができる。
【００７３】
本発明の帯電防止層に用いられる導電性粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、導電層が白くなって反射防止フィルムの透明性の低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、導電性が低下することや、粒子の凝集による導電層の粒子の不均一性等の問題が生じることがある。
【００７４】
バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ´）４−ｘ（ただし、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００７５】
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００７６】
ケイ素アルコキシドの加水分解物としては、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ´）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）に、さらに、一般式（２）Ｒ´´ｙＳｉ（ＯＲ´）４−ｙ（ただし、式中Ｒ´´は反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を加えることができる。このとき、Ｒ´´に用いられる反応性官能基としてはエポキシ基またはグリシドキシ基を好適に用いることができる。一般式（２）で表されるケイ素アルコキシドの割合は、全ケイ素アルコキシドに対して０．５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下含まれることが好ましく、更には、４ｍｏｌ％以上１２ｍｏｌ％以下であることが好ましい。反応性官能基を含む一般式（２）で表されるケイ素アルコキシドを用いることにより、耐候性を向上させることができる。
【００７７】
また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、多官能ウレタンアクリレート等の多官能アクリレートを使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００７８】
バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と導電性粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、高屈折率層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と導電性粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、高屈折率層を形成することができる。
【００７９】
なお、塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、帯電防止剤、防汚剤、撥水剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
【００８０】
本発明の低屈折率層の形成方法について示す。本発明の低屈折率層にあっては、湿式成膜法により形成でき、低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布することにより形成することができる。このとき塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００８１】
低屈折粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【００８２】
本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００８３】
バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００８４】
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００８５】
さらには、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料としては、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、一般式（２）Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４−ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。
【００８６】
一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００８７】
また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、多官能ウレタンアクリレート等の多官能アクリレートを使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００８８】
バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と低屈折率粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、低屈折率層下層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、低屈折率層下層を形成することができる。
【００８９】
なお、塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【００９０】
なお、バインダマトリックスとして電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。以上により、低屈折率層は形成される。
【００９１】
以上により、本発明の反射防止フィルムは形成される。本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止層が形成されている側の反対側の透明基材側の面に偏光層、透明基材を設けることにより、偏光板とすることができる。偏光層としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いることができる。また、もう一方の透明基材としては、反射防止フィルムに用いる透明基材を用いることができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。
【００９２】
また、本発明の反射防止フィルムは、偏光板化され、更に、透過型液晶ディスプレイの前面、すなわち、観察側に反射防止層が最表面となるように設けられる。本発明の反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設けることにより、優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、さらには、反射光の色味を低減した透過型液晶ディスプレイとすることができる。
【実施例】
【００９３】
（実施例１）
＜透明基材＞
透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）を用いた。
【００９４】
＜ハードコート層の形成＞
電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート１０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製ＵＡ−３０６Ｔ）３０重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製（光重合開始剤）２．５重量部、溶媒としてメチルエチルケトン５０重量部、酢酸ブチル５０重量部を混合したハードコート層形成用塗液を用いた。得られたハードコート層形成用塗液をトリアセチルセルロースフィルム上にワイヤーバーコーターにより塗布した。ハードコート層形成用塗液を塗布したトリアセチルセルロースフィルムをオーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、メタルハイドランプを用い、１２０Ｗの出力で２０ｃｍの距離から１０秒間紫外線照射をおこなうことによりハードコート層を形成した。得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【００９５】
＜帯電防止層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、オリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．５重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子２．５重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。一方、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、５０℃１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬してアルカリ処理をおこない、水洗後、０．５重量％のＨ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒浸漬し、中和させ、水洗、乾燥処理をおこなった。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は１６３ｎｍであり、屈折率は１．５３であり、光学膜厚は２５０ｎｍであった。
【００９６】
＜低屈折率層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシランをｍｏｌ比で９５：５となるように混合したものを用い、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、オリゴマーからなる有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。この溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物２重量部、低屈折率シリカ微粒子２重量部含む低屈折率層形成用塗液を得た。得られた低屈折率層形成用塗液を帯電防止層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【００９７】
（実施例２）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
【００９８】
＜帯電防止層の形成＞
実施例１と同様にして、アルカリ処理したハードコート層上に膜厚が１６３ｎｍ、屈折率が１．５３、光学膜厚が２５０ｎｍの帯電防止層を形成した。
【００９９】
＜低屈折率層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシランをｍｏｌ比で９５：５となるように混合したものを用い、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることにより、オリゴマーからなる有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。この溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物１．８重量部、低屈折率シリカ微粒子２．２重量部含む低屈折率層形成用塗液を得た。得られた低屈折率層形成用塗液を帯電防止層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層の膜厚は９４ｎｍであり、屈折率は１．３３であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【０１００】
（比較例１）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
【０１０１】
＜帯電防止層の形成＞
実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。実施例１と同一の帯電防止層形成用塗液を用い、帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は８２ｎｍであり、屈折率は１．５３であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１０２】
＜低屈折率層の形成＞
実施例１と同様にして、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【０１０３】
（比較例２）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
【０１０４】
＜帯電防止層の形成＞
電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート５重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子５重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製（光重合開始剤）０．２５重量部、溶媒としてＭＩＢＫ  ９０重量部を混合した帯電防止層形成用塗液を用いた。得られた帯電防止層形成用塗液をハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、コンベア式ＵＶ硬化装置により露光量５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化し帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は７８ｎｍであり、屈折率は１．６０であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１０５】
＜低屈折率層の形成＞
帯電防止層、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、５０℃１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬してアルカリ処理をおこない、水洗後、０．５重量％のＨ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒浸漬し、中和させ、水洗、乾燥処理をおこなった。実施例１と同様にして、アルカリ処理した帯電防止層に対し、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【０１０６】
（比較例３）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
【０１０７】
＜帯電防止層の形成＞
実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることにより、オリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が２０ｎｍの５酸化アンチモン微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシラン２．５重量部、５酸化アンチモン微粒子２．５重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は１８０ｎｍであり、屈折率は１．５５であり、光学膜厚は２７９ｎｍであった。
【０１０８】
＜低屈折率層の形成＞
実施例１と同様にして、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【０１０９】
（比較例４）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
【０１１０】
＜帯電防止層の形成＞
実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解して得られたオリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が２０ｎｍの５酸化アンチモン微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシラン２．４重量部、５酸化アンチモン微粒子２．６重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚、屈折率を光学シミュレーション法とＴＥＭ断面観察により測定したところ１８０ｎｍであり、屈折率は１．５８であり、光学膜厚は２８４ｎｍであった。
【０１１１】
＜低屈折率層の形成＞
実施例１と同様にして、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【０１１２】
（比較例５）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
【０１１３】
＜帯電防止層の形成＞
実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。実施例１と同様にテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解して得られたオリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシラン２．８重量部、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子２．２重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は１６４ｎｍであり、屈折率は１．５２で、光学膜厚は２５０ｎｍであった。
【０１１４】
＜低屈折率層の形成＞
実施例２と同様にして、膜厚９４ｎｍ、屈折率１．３３、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
【０１１５】
（（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）〜（比較例５）で得られた反射防止フィルムについて以下の評価をおこなった。
【０１１６】
・分光反射率の測定
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。スプレー塗布後、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、Ｃ光源、２度視野の条件下で、低屈折率層形成面について入射角５°における分光反射率を測定した。
・平均視感反射率、反射色相の測定
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）、色相（ａ＊、ｂ＊）を算出した。
・色ムラの評価
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、反射防止フィルムを目視で観察し、色ムラの発生を観察した。評価基準を以下に示す。
二重丸印：暗い環境下でも色ムラは確認されず、明るい環境下でも色ムラが見えにくい
丸印    ：暗い環境下でも色ムラは確認されず、明るい環境下で色ムラが確認できるが
許容範囲内
三角印  ：暗い環境下でも色ムラが確認される
バツ印  ：暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認される。
・表面抵抗値の測定
ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して高抵抗抵抗率計（株式会社ダイアインスツルメンツ製ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定をおこなった。
【０１１７】
なお、（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）〜（比較例５）において、ハードコート層の膜厚は触針式の膜厚計により求めた。また、帯電防止層と低屈折率層の膜厚については、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察をおこなうことにより測定した。また、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層の屈折率、光学膜厚については、得られた分光反射率について光学シミュレーションをおこなうことにより求めた。
【０１１８】
（図５）〜（図１１）に（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）〜（比較例５）で得られた反射防止フィルムの分光反射率を示した。
【０１１９】
（表１）に（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）〜（比較例５）で得られた反射防止フィルムの評価結果について示す。
【０１２０】
【表１】
0005365083.tif 000002
【０１２１】
【表２】
0005365083.tif 000003
【０１２２】
（実施例１）、（実施例２）の反射防止フィルムでは、視感平均反射率が１．５％以下であり十分な反射防止性能を有し、表面抵抗値が１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）以下であり十分な帯電防止性能を有する反射防止フィルムとすることができた。また、反射色相が−３≦ａ＊≦３、０≦ｂ≦３の範囲内であり色味が少なく、また、面内での色ムラが確認されにくい反射防止フィルムとすることができた。
【０１２３】
一方、（比較例１）の反射防止フィルムは、（実施例１）と比較して、視感平均反射率は低く、反射防止性能には優れる反射防止フィルムとすることができたが、反射色相が−３≦ａ＊≦３、０≦ｂ≦３の範囲外であることから色味が大きく、また、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％より大きいことから面内で色ムラが確認される反射防止フィルムとなった。
【０１２４】
また、（比較例２）の反射防止フィルムは、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が大きいために、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％を超えており、面内で色ムラがはっきりと確認される反射防止フィルムとなった。また、反射色相もゼロ点（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）から離れた箇所にあり、色味のある反射防止フィルムとなった。また、低屈折率層表面の表面抵抗値も不十分なものであった。
【０１２５】
また、（比較例３）の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能を有するものの、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％を超えており、面内での色ムラを有する反射防止フィルムとなった。特に、分光反射率曲線の低波長側での反射率の変化量が大きく、面内で青色の色ムラが確認される反射防止フィルムとなった。また、（比較例３）の反射防止フィルムは、（実施例１）の反射防止フィルムの表面抵抗値と比較して高い表面抵抗値を示した。
【０１２６】
また、（比較例４）の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能、帯電防止性能を有する反射防止フィルムとすることができた。しかしながら、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が１つの極大値を有し、２つの極小値を有しＷ型となる。そして、反射率が比視感度が高い５５０ｎｍ近傍において変化することにより、緑色の色ムラがはっきりと確認された。また、反射色相も緑色を帯びている様子が確認された。
【０１２７】
また、（比較例５）の反射防止フィルムは、帯電防止層とハードコート層の屈折率差が０であることから、帯電防止層が高屈折率層として機能させることができない。したがって、十分な反射防止性能を有するものの、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％以下とすることができず、面内で色ムラが確認される反射防止フィルムとなった。（比較例５）の反射防止フィルムにあっては、青色の色ムラが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】図１は図１に本発明の反射防止フィルムの断面模式図である。
【図２】図２は本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線（モデル）の説明図である。
【図３】図３は本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の断面模式図である。
【図４】図４は本発明の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイである。
【図５】図５は（実施例１）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図６】図６は（実施例２）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図７】図７は（比較例１）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図８】図８は（比較例２）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図９】図９は（比較例３）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図１０】図１０は（比較例４）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図１１】図１１は（比較例５）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【符号の説明】
【０１２９】
１        反射防止フィルム
１１      透明基材
１２      ハードコート層
１３      帯電防止層
１３Ａ    導電性粒子
１３Ｂ    バインダマトリックス
１４      低屈折率層
１４Ａ    低屈折率粒子
１４Ｂ    バインダマトリックス
２        偏光板
２３      偏光層
２２      透明基材
３        液晶セル
４        偏光板
５        バックライトユニット
【図１】
0005365083.tif 000004
【図２】
0005365083.tif 000005
【図３】
0005365083.tif 000006
【図４】
0005365083.tif 000007
【図５】
0005365083.tif 000008
【図６】
0005365083.tif 000009
【図７】
0005365083.tif 000010
【図８】
0005365083.tif 000011
【図９】
0005365083.tif 000012
【図１０】
0005365083.tif 000013
【図１１】
0005365083.tif 000014