(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布装置における予備吐出動作において液状体が塗布される予備吐出面を有する予備吐出板を備える予備吐出装置において、
前記予備吐出板は、前記予備吐出面を含む板状部材とベース部材とが真空吸着により着脱可能に接合され、
前記板状部材及び前記ベース部材における接合面の少なくとも一方には、内部が真空状態とされて前記板状部材及び前記ベース部材同士を真空吸着により接合させる真空溝が設けられていることを特徴とする予備吐出装置。
【請求項２】
前記板状部材及び前記ベース部材における前記接合面の少なくとも一方は、前記板状部材の洗浄処理時に用いられる廃液が前記板状部材の接合界面から前記予備吐出板の内部に侵入した際に回収可能とする排出溝を平面視した状態で真空溝の外側に備えることを特徴とする請求項１に記載の予備吐出装置。
【請求項３】
前記真空溝及び前記排出溝は、前記板状部材及び前記ベース部材における接合面の同一側に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の予備吐出装置。
【請求項４】
前記真空溝及び前記排出溝が前記ベース部材における前記接合面に設けられることを特徴とする請求項３に記載の予備吐出装置。
【請求項５】
前記排出溝の幅及び深さは、１ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定されることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載の予備吐出装置。
【請求項６】
前記真空溝は前記板状部材及び前記ベース部材における前記接合面の一方向に沿って延在する主部と、該主部の延在方向に交差する方向に沿って延在する枝状部とを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の予備吐出装置。
【請求項７】
前記板状部材の厚みは０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の予備吐出装置。
【請求項８】
前記板状部材の形成材料として、石材、ステンレス、及びガラスのいずれかが用いられることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の予備吐出装置。
【請求項９】
塗布装置における塗布動作に先立つ予備吐出方法であって、
予備吐出処理時に液状体が塗布される予備吐出面を含む板状部材及びベース部材が真空吸着により着脱可能に接合されてなる予備吐出板に対し、前記液状体を塗布するステップと、
該予備吐出面上に塗布された前記液状体を洗浄するステップと、
前記真空吸着を解除して前記板状部材を前記ベース部材から取り外し、前記予備吐出面のメンテナンスを行うステップと、を含むことを特徴とする予備吐出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、予備吐出装置、及び予備吐出方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線パターンや電極パターンなどの微細なパターンが形成されている。一般的に、このようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、ガラス基板上にレジスト膜を形成する工程、このレジスト膜をパターン露光する工程、その後に当該レジスト膜を現像する工程がそれぞれ行われる。
【０００３】
基板上にレジスト膜を塗布する装置として、スリット状の開口部を持つ塗布ヘッドと被塗布基板とを、塗布ヘッド開口部の長手方向に直交するように相対移動させて被塗布基板上にレジスト（液状体）等を塗布する塗布膜形成装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−１０９１５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、このような塗布膜形成装置では塗布膜の均一性を得るため、例えばレジスト塗布前の予備吐出動作等のノズル先端管理を行うのが望ましい。このような予備吐出動作は安定なノズル先端を連続的に得るため、レジスト塗布後の予備吐出面の洗浄処理、及び定期的なメンテナンス処理を行うのが望ましい。しかしながら、上記従来技術ではノズル先端管理を行っていないため、予備吐出面の洗浄性及びメンテナンス性について考慮されていなかった。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、予備吐出面におけるメンテナンス性に優れた、予備吐出装置、及び予備吐出方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の予備吐出装置は、塗布装置における予備吐出動作において液状体が塗布される予備吐出面を有する予備吐出板を備える予備吐出装置において、前記予備吐出板は、前記予備吐出面を含む板状部材とベース部材とが真空吸着により着脱可能に接合され、前記板状部材及び前記ベース部材における接合面の少なくとも一方には、内部が真空状態とされて前記板状部材及び前記ベース部材同士を真空吸着により接合させる真空溝が設けられていることを特徴とする。
【０００７】
本発明の予備吐出装置によれば、例えば板状部材をベース部材から分離することで予備吐出面のメンテナンスを行うことができる。よって、予備吐出面におけるメンテナンス性に優れたものとなる。このような予備吐出装置を用いることで常に予備吐出面を良好な状態に保つことができ、予備吐出動作を良好に行うことにより均一性の高い塗布膜を形成することができる。
【０００８】
また、上記予備吐出装置においては、前記板状部材及び前記ベース部材は、真空吸着により接合されてなるのが好ましい。
この構成によれば、吸着を解除することで板状部材及びベース部材間を容易に着脱可能とすることができ、予備吐出面のメンテナンス性を向上させることができる。また、接着層等を用いることなく板状部材間を接合できるので、接合面が平坦化されて高い密着性を得ることができる。
さらに、前記板状部材及び前記ベース部材における接合面の少なくとも一方には、内部が真空状態とされて前記板状部材及び前記ベース部材同士を真空吸着により接合させる真空溝が設けられているのがより好ましい。
このようにすれば、前記板状部材及び前記ベース部材の接合面に形成した真空溝により簡便且つ確実に各部材同士を真空吸着によって接合することができる。
【０００９】
また、上記予備吐出装置においては、前記板状部材及び前記ベース部材における前記接合面の少なくとも一方は、前記板状部材の洗浄処理時に用いられる廃液が前記板状部材の接合界面から前記予備吐出板の内部に侵入した際に回収可能とする排出溝を平面視した状態で真空溝の外側に備えるのが好ましい。なお、上記真空溝は廃液が回収される側に設けられるのが望ましい。
【００１０】
この構成によれば、例えば、洗浄処理時における予備吐出面上の廃液（洗浄液及び液状体）が、予備吐出面上から側面部に回り込み板状部材の接合界面から予備吐出板の内部に侵入した場合でも、排出溝に回収できる。よって、真空溝内に廃液が入り込むことで接合性が低下するといった不具合が発生するのを防止できる。
【００１１】
また、上記予備吐出装置においては、前記真空溝及び前記排出溝は、前記板状部材及び前記ベース部材における接合面の同一側に設けられているのが好ましい。
この構成によれば、板状部材及びベース部材の一方における接合面を平面とすることができ、この部材の構造を単純化できる。
ここで、上記予備吐出装置においては、前記真空溝及び前記排出溝が前記ベース部材における前記接合面に設けられるのが望ましい。
このようにすれば、前記予備吐出面をなす最上層における前記板状部材が１枚の板で構成されるため、予備吐出面をなす板状部材の加工コストを抑えることができる。
【００１２】
また、上記予備吐出装置においては、前記排出溝の幅及び深さは、１ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定されるのが好ましい。
このようにすれば、上述したような廃液の排出を良好に行うことが可能となる。
【００１３】
また、上記予備吐出装置においては、前記真空溝は前記板状部材及び前記ベース部材における前記接合面の一方向に沿って延在する主部と、該主部の延在方向に交差する方向に沿って延在する枝状部とを含むのが好ましい。
この構成によれば、真空溝が接合面に対して広域に配置されたものとなり、部材間の接合信頼性をより高めることができる。
【００１４】
また、上記予備吐出装置においては、前記板状部材の厚みは０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定されるのが好ましい。
予備吐出面をなす最上層における板状部材における厚みが０．１ｍｍよりも小さくなると、部材の加工性が悪く、耐久性に問題が生じる。また、板状部材における厚みが５ｍｍよりも大きくなると、部材が重くなりすぎてしまい取り扱いが困難となることでメンテナンス性が悪くなってしまう。そこで、本発明によって規定される板状部材を備えることで高い洗浄性、及びメンテナンス性を得ることができる。
【００１５】
また、上記予備吐出装置においては、前記板状部材の形成材料として、石材、ステンレス、及びガラスのいずれかが用いられるのが好ましい。
このような材料を用いれば、高い平面粗度を得ることができ洗浄性に優れたものとなり、予備吐出面を構成する材料として最適である。
【００１６】
本発明の予備吐出方法は、塗布装置における塗布動作に先立つ予備吐出方法であって、予備吐出処理時に液状体が塗布される予備吐出面を含む板状部材及びベース部材が真空吸着により着脱可能に接合されてなる予備吐出板に対し、前記液状体を塗布するステップと、該予備吐出面上に塗布された前記液状体を洗浄するステップと、前記真空吸着を解除して前記板状部材を前記ベース部材から取り外し、前記予備吐出面のメンテナンスを行うステップと、を含むことを特徴とする。
【００１７】
本発明の予備吐出方法によれば、ベース部材から板状部材のみを取り外すことで予備吐出面のメンテナンスを行うことができる。よって、予備吐出面におけるメンテナンス性を向上させることができる。このような予備吐出装置を用いることで常に予備吐出面を良好な状態に保つことができ、予備吐出動作を良好に行うことにより均一性の高い塗布膜を形成することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ベース部材から板状部材が着脱可能に構成されることで予備吐出面の高いメンテナンス性を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。以下の説明では予備吐出装置を備える塗布装置を参照にしつつ、予備吐出装置の一実施形態について説明する。
塗布装置１は、図１１に示すように、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、予備吐出面上にレジストの予備吐出を行い、当該予備吐出面の良好な洗浄を可能とするものである。このようなレジストの予備吐出及び予備吐出面の洗浄時に図４に示される予備吐出面洗浄ユニット（洗浄装置）が用いられる。塗布装置１は、基板搬送部２と、塗布部３と、管理部４とを主要な構成要素とし、基板搬送部２によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部３によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部４によって塗布部３の状態が管理されるようになっている。
【００２０】
（管理部）
まず管理部４の構成について図１１〜１５を参照して説明する。
管理部４は、基板Ｓに吐出されるレジスト（液状体）の吐出量が一定になるようにノズル３２を管理する部位であり、基板搬送部２に平面視で重なるように塗布部３に対して−Ｘ方向側（基板搬送方向の上流側）に設けられている。この管理部４は、予備吐出機構（予備吐出装置）４２と、ディップ槽４１と、ノズル洗浄装置４３と、これらを収容する収容部４４と、当該収容部４４を保持する保持部材４５とを有している。保持部材４５は、移動機構４５ａに接続されている。当該移動機構４５ａにより、収容部４４がＸ方向に移動可能になっている。
【００２１】
予備吐出機構４２、ディップ槽４１及びノズル洗浄装置４３は、−Ｘ方向側へこの順で配列されている。これら予備吐出機構４２、ディップ槽４１及びノズル洗浄装置４３のＹ方向の各寸法は上記門型フレーム３１の支柱部材３１ａ間の距離よりも小さくなっており、上記門型フレーム３１が各部位を跨いでアクセスできるようになっている（図１６参照）。
ディップ槽４１は、内部にシンナーなどの溶剤が貯留された液体槽である。ノズル洗浄装置４３は、ノズル３２の開口部３２ａの周辺領域をリンス洗浄する装置である。
【００２２】
以下、予備吐出機構４２の構成について図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は予備吐出機構４２の概略構成を説明するための図である。
図１に示されるように、予備吐出機構４２はノズル３２（塗布部３）の予備吐出動作に用いられるものであって、レジストの予備吐出を行うための予備吐出ユニット１０３と、この予備吐出面８１を洗浄する予備吐出面洗浄ユニット（洗浄装置）１００とを有している。
【００２３】
予備吐出ユニット１０３は、塗布装置１における予備吐出動作においてレジストが塗布される予備吐出面８１を有する予備吐出プレート（予備吐出板）８０を備えている。
【００２４】
ここで、図面を参照しつつ予備吐出プレート８０の構成について説明する。図２は予備吐出プレートの概略図を示すものである。本実施形態に係る予備吐出プレート８０は、図２に示されるように、ベース部材８２と板状部材８３とが真空吸着により着脱可能に接合されている。具体的には、ベース部材８２は、内側は真空ポンプ等を接続することで真空吸着するための溝が形成されており、外周部に沿って例えばゴム等の弾性材料が設けられている。すなわち、ベース部材８２は、一部の面において板状部材８３に吸着されたものとなっている。
【００２５】
これらベース部材８２及び板状部材８３は、それぞれ平面視矩形状の板状部材からなり、板状部材８３における一方の面（ベース部材８２との接合面の反対側）が上記予備吐出面８１を構成している。なお、予備吐出プレート８０（ベース部材８２及び板状部材８３）はその長手方向がノズルの長手方向に一致している。
【００２６】
上記予備吐出プレート８０の厚みは所望の値に設定される。なお、予備吐出面８１をなす板状部材８３の厚みは後述する点において重要である。板状部材８３の厚みが１ｍｍよりも小さくなると、部材の加工性が悪く、耐久性に問題が生じる。また、板状部材８３の厚みが５ｍｍよりも大きくなると、部材が重くなりすぎてしまい取り扱いが困難となることでメンテナンス性が悪くなってしまう。
【００２７】
そこで、本実施形態においては、予備吐出面８１をなす板状部材８３の厚みは、０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定することで、予備吐出面８１における洗浄性、及びメンテナンス性に優れたものとなっている。具体的に本実施形態では板状部材８３として厚みが３ｍｍのものを用いた。
【００２８】
予備吐出プレート８０を構成するベース部材８２及び板状部材８３における構成材料としては、石材、ステンレス（ＳＵＳ）、及びガラスのいずれかを用いるのが好ましい。このような材料は高い平面粗度を得ることができることから洗浄性に優れたものとなり、予備吐出面８１を構成する材料として最適である。
【００２９】
石材からなる板状部材は、平面粗度に劣るものの平面度が優れている。また、ガラスからなる板状部材は、平面度を得るためにはコスト高となってしまうものの、石材に比べて重量が小さいことからメンテナンス性に優れている。ここで、メンテナンス性とは、予備吐出面８１が劣化した際の板状部材８３の交換作業性等の人間が行う作業性を意味している。
【００３０】
また、ステンレス（ＳＵＳ）は平面度、メンテナンス性において、石材及びガラスに比べて優れている。したがって、予備吐出面８１を構成する板状部材８３の構成材料としてはステンレス（ＳＵＳ）を用いるのが特に望ましく、このようにステンレス（ＳＵＳ）を用いて予備吐出面８１を構成することで高い洗浄性、及びメンテナンス性を得ることができる。また、ステンレス（ＳＵＳ）は加工性が容易、又は破損し難い等といった利点も有している。
【００３１】
図３（ａ）は予備吐出プレート８０における予備吐出面８１側から視た平面図、図３（ｂ）は予備吐出プレート８０における断面構成図に対応するものである。なお、図３（ａ）中においては、簡単のため、板状部材８３の図示を省略している。
【００３２】
図３（ａ）に示されるように、ベース部材８２における板状部材８３との接合面８２ａには、内部が真空状態とされてベース部材８２及び板状部材８３を真空吸着により接合させる真空溝８４が設けられている。
【００３３】
なお、真空溝８４はベース部材８２における面（接合面８２ａ）内に閉じられた状態に形成されており、真空溝８４はベース部材８２と板状部材８３とが貼り合わされた際に閉空間をなす。そして、真空溝８４には、例えば不図示の真空ポンプ等に接続されており、ポンプのＯＮ／ＯＦＦを切り替えることでベース部材８２及び板状部材８３が容易に着脱可能となる。なお、吸着時の圧力としては、−７０ＫＰａ程度とされる。
【００３４】
したがって、この構成によれば後述するように予備吐出面８１におけるメンテナンス性を高めている。
また、真空吸着により接着層等を用いることなくベース部材８２及び板状部材８３同士を接合できるので、接合面が平坦化されて高い密着性を得ることができる。
【００３５】
上記真空溝８４は、図３（ａ）に示されるようにベース部材８２の長辺方向（一方向）に沿って延在する主部８４ａと、この主部８４ａの延在方向に交差する方向（本実施形態ではベース部材８２の短辺方向）に沿って延在する枝状部８４ｂとを含んで構成されている。これにより、真空溝８４がベース部材８２の接合面８２ａに対して広域に配置されたものとなり、ベース部材８２及び板状部材８３同士の接合信頼性をより高めることが可能となっている。
【００３６】
ところで、予備吐出面８１上にレジストの予備吐出を行った後には、詳細については後述する予備吐出面洗浄ユニット１００によって予備吐出面８１の洗浄処理が行われる。この洗浄処理時には、予備吐出面８１上に洗浄液が供給される。すると、予備吐出面８１上に供給された洗浄液及びレジストから構成される廃液の一部が予備吐出面８１上から板状部材８３（予備吐出プレート８０）の側面を伝わってベース部材８２及び板状部材８３の接合界面に到達する可能性がある。特に、上述したようにベース部材８２及び板状部材８３は真空吸着されたものとなっているため、接合界面から予備吐出プレート８０の内部に廃液（レジスト及び洗浄液の混合液）が引き込まれるおそれがある。
【００３７】
そこで、本実施形態では、ベース部材８２は、図３に示されるように、前記廃液がベース部材８２及び板状部材８３の接合界面から予備吐出プレート８０の内部に侵入した際に回収可能とする排出溝８５を備えている。
【００３８】
図３（ａ）に示されるように、排出溝８５は真空溝８４の外側に設けられている。具体的には、上記排出溝８５は、予備吐出プレート８０の一方の長辺（同図中上側）に対応する側面部を貫通し、予備吐出プレート８０の一方の短辺（同図中右側）に沿って延びる２本の短辺部と、予備吐出プレート８０の他方の長辺（同図中下側）に沿って延びて予備吐出プレート８０の他方の短辺（同図中左側）を貫通した状態に形成される２本の長辺部と、を含み、これら短辺部と長辺部とが交差するようにして形成される。また、上記短辺部及び長辺部の底部は外部に向かって落差を有する傾斜面となっており、排出溝８５に収容された洗浄液及びレジストを含む廃液が外部に排出されるようになっている。なお、上記長辺部は、後述する洗浄工程において廃液が回収される側に設けられるのが望ましい。
【００３９】
排出溝８５の幅及び深さは、１ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定されるのが望ましく、３ｍｍに設定するのが特に好ましい。なお、本実施形態では、排出溝８５の幅及び深さを３ｍｍに設定した。このような幅及び深さに設定された排出溝８５は、上述したような廃液の排出を良好に行うことができる。
【００４０】
このような排出溝８５を設けることで、ベース部材８２及び板状部材８３の接合界面から予備吐出プレート８０の内部に侵入した廃液を確実に回収することができ、真空溝８４内に洗浄液が入り込むことで接合性が低下するといった不具合が発生するのを防止することができる。
【００４１】
本実施形態では、図３（ｂ）に示すように、真空溝８４及び排出溝８５が、それぞれベース部材８２の接合面８２ａ側に形成されている。これにより、板状部材８３の構造を単純化できる。さらに、予備吐出面８１をなす板状部材８３が１枚の板から構成されることで、板状部材８３の加工コストが抑えられたものとすることができる。
【００４２】
（予備吐出面洗浄ユニット）
予備吐出面洗浄ユニット１００は、レジストＲが塗布された上記予備吐出面８１上を移動することで洗浄処理を行うもので予備吐出面８１上を摺動してレジストＲを掻き取るスキージ１１０を有している。
【００４３】
以下、図面を参照しつつ予備吐出面洗浄ユニット１００の概略構成について説明する。図４は予備吐出面洗浄ユニット１００の概略図を示すものである。なお、図４は予備吐出面洗浄ユニット１００が予備吐出面８１上に配置された状態を図示するものである。
【００４４】
図４に示されるように、予備吐出面洗浄ユニット１００は、スキージヘッド部１０５と、当該スキージヘッド部１０５を支持するとともに当該スキージヘッド部１０５を予備吐出面８１に対して移動可能にするアーム部１０１とを備えている。さらに、予備吐出面８１に向けて空気（気体）を噴出する乾燥部（乾燥機構）と、上記予備吐出面８１に残存する液状体を吸引する吸引部（吸引機構）とを設けるようにしてもよい。
【００４５】
上記スキージヘッド部１０５は、上記予備吐出面８１に洗浄液を吐出する少なくとも１つの吐出口１０２と、レジストが塗布された予備吐出面８１上を摺動して洗浄液を掻き取る３つのスキージ１１０と、上記各吐出口１０２から吐出される洗浄液の吐出量を制御する制御部１４０とを備えて構成される。
【００４６】
以下の説明を分かり易くするため、上記スキージ１１０について、摺動方向側から順に第一スキージ１１０ａ、第二スキージ１１０ｂ、及び仕上げスキージ１１０ｃと称す。
これらスキージ１１０（１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃ）は、平面視矩形状の板状部材から構成されており、その構成材料としては予備吐出面８１上に塗布されるレジストを掻き取ることができれば種々のものを採用でき、本実施形態では例えばポリエステルが用いられる。スキージ１１０の長さは予備吐出面８１の幅と同等以上に設定され、これによりスキージ１１０が予備吐出面８１上に塗布されたレジストを掻き取ることができる。
【００４７】
またスキージ１１０は、予備吐出面８１に対して１５°以上５０°以下傾いた状態（より好ましくは４５°傾いた状態）にスキージヘッド部１０５に取り付けるのが望ましく、このような角度範囲に設定することで予備吐出面８１上を摺動するスキージ１１０によって高い洗浄性が得られるようになっている。具体的に本実施形態では上記傾き角度を４５°とした。本実施形態ではスキージヘッド部１０５の最後尾に予備吐出プレートの側方（図９参照）に流れたレジスト及び洗浄液を掻き取るための側方用スキージ１１０ｄを有している。ここで、側方用スキージ１１０ｄは平面視略Ｌ字状に形成されており、スキージヘッド部１０５の移動に伴って予備吐出面８１上を摺動するとともに予備吐出プレート８１の側面上も摺動するようになっている。これにより、予備吐出プレート８１の側面に付着したレジスト及び洗浄液を良好に除去することが可能となっている。
【００４８】
図１に示したように、予備吐出面洗浄ユニット１００は予備吐出面８１上を移動可能であり、スキージヘッド部１０５に保持されたスキージ１１０は上記予備吐出面８１上を摺動するようになっている。図５はスキージヘッド部１０５におけるスキージ１１０の取付状態を示すものである。同図に示されるスキージ１１０は予備吐出面８１に対する接触端である。
【００４９】
図５に示されるように、上記スキージ１１０は、予備吐出面８１との接触端の長さ方向をスキージ１１０の摺動方向に対して斜めに向けた姿勢でスキージヘッド部１０５に支持される。具体的には、接触端の長さ方向とスキージ１１０の摺動方向との交差角度を８５°以下とするのが望ましい（本実施形態では８０°に設定した）。したがって、各スキージ１１０は互いが略平行の姿勢で摺動方向に配置されたものとなっている。
【００５０】
図４に示したようにスキージヘッド部１０５には、第一スキージ１１０ａ、第二スキージ１１０ｂ、及び仕上げスキージ１１０ｃとの間に空隙１０７が形成されるようになっている。さらにスキージヘッド部１０５には上記空隙１０７に連通し、一端側に不図示のポンプが接続されるエア供給管１０６ａが設けられている。
【００５１】
図６に示されるように、上記エア供給管１０６ａは、スキージヘッド部１０５の長手方向に沿って形成されており、本実施形態では例えば等間隔で配置される１０個の孔が形成されており、この孔からエアが供給されるようになっている。この孔は、スキージに対してエアをパージ状に噴射させる。なお、上記孔数はこれに限定されることはなく、適宜変更可能である。またスキージヘッド部１０５の側部（同図中、右側）には、洗浄液供給手段１０６が設けられている。この洗浄液供給手段１０６は、例えばシンナー等の洗浄液が充填された洗浄液槽（不図示）から洗浄液を吸引するとともに上記スキージ１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃの長手方向（図中矢印Ａ方向）に沿って洗浄液を供給するものである。具体的に本実施形態では、スキージ１１０のうち、第一スキージ１１０ａ、第二スキージ１１０ｂ、仕上げスキージ１１０ｃに対応して、第一噴射口１０２ａ、第二噴射口１０２ｂ、第三噴射口１０２ｃとがそれぞれ１０個ずつ設けられている。
【００５２】
したがって、エア供給手段１０６によりエア供給管１０６ａを介して各噴射口１０２からエアを噴射することで上記スキージ１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃの長手方向に沿って流れる洗浄液がスキージ１１０の摺動方向側の面を伝って予備吐出面８１上に供給（吐出）されるようになる。
【００５３】
本実施形態では、上記第一〜第三噴射口１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃがそれぞれ等間隔で配置されており、これによりスキージ１１０の摺動方向側の面に洗浄液を均一に配置させることができるようになっている。さらに各噴射口１０２から噴射されるエアは、図７に示すように隣接する噴射口１０２に対応する位置のスキージ１１０の面上を伝う洗浄液同士がスキージ１１０の先端に至って一体化するように設定される。これにより、洗浄液は噴射口からレジストを押し出すように流れる。
【００５４】
次に、スキージヘッド部１０５を支持するアーム部１０１の構成について説明する。図４に示したようにアーム部１０１はステンレス（ＳＵＳ）等の金属プレートを主体として構成されるもので、上記スキージヘッド部１０５を支持するクロスローラベアリング（揺動機構）１５０が設けられている。クロスローラベアリング１５０は、内輪と外輪の間に、ころを直交させて配列し、上記スキージヘッド部１０５を揺動自在に支持できるものである。なお、揺動機構としては、上記クロスローラベアリング１５０に限定されず、例えばスキージヘッド部１０５を所定方向（スキージ１１０の長手方向）に揺動可能とする軸受機構であれば種々のものを用いることができる。
【００５５】
図８はアーム部１０１の周辺構造を示す拡大図である。
図８に示すように、アーム部１０１には開口部１０８が形成されており、この開口部１０８に挿入されることでクロスローラベアリング１５０はアーム部１０１の下面（予備吐出面８１に対向する面）側から上面側に通りぬけた状態となっている。
クロスローラベアリング１５０は、アーム部１０１の上面側に固定配置された軸部１５２に支持されている。したがって、クロスローラベアリング１５０は、軸部１５２に沿って回転可能となりアーム部１０１に対して揺動自在となっている。
【００５６】
クロスローラベアリング１５０には、スキージヘッド部１０５の取付用の取付板１５１が設けられている。スキージヘッド部１０５は、アーム部１０１の下面側に配置された上記取付板１５１にボルトＢ２によって固定されている。したがって、スキージヘッド部１０５は、上記クロスローラベアリング１５０によって揺動自在に設けられたものとなっている。
この構成により、スキージヘッド部１０５が回転（揺動）することでスキージ１１０を予備吐出面８１上に確実に接触させることができ、良好に摺動できるようになっている。
【００５７】
このとき、予備吐出面８１上の廃液の一部が予備吐出面８１を含む予備吐出プレート８０の接合界面に侵入するおそれがあるが、本実施形態によれば、排出溝８５によって接合界面に侵入した廃液を外部に排出することが可能となっている。
【００５８】
（予備吐出ユニット）
次に上記予備吐出ユニット１０３の構成について説明する。図９は予備吐出ユニット１０３の概略構成を示し、図９（ａ）は平面図、図９（ｂ）は側面図である。
図９（ａ）、（ｂ）に示されるように、予備吐出ユニット１０３は、ノズル３２（塗布部３）の予備吐出動作によってレジストが塗布される予備吐出面８１を有する予備吐出プレート８０を主体として構成され、上記予備吐出面８１が水平となるように上記予備吐出プレート８０が保持されている。そして、予備吐出面洗浄ユニット１００のスキージ１１０が予備吐出面８１上を摺動するようになっている。
【００５９】
本実施形態では、上述したように予備吐出面洗浄ユニット１００は、予備吐出面８１との接触端の長さ方向を摺動方向に対して斜めに傾けた姿勢でスキージ１１０を保持している（図５参照）。そのため、レジストが塗布された予備吐出面８１上をスキージ１１０が摺動すると、スキージ１１０によって掻き取られたレジストはスキージ１１０の長さ方向における摺動方向後方（図９（ａ）参照）に概ね押し退けられる。本実施形態に係る予備吐出ユニット１０３は、スキージ１１０の摺動動作によりスキージ１１０の側端側に流出したレジストを排出する側方排出部９３を備えている。この側方排出部９３は、スキージ１１０の摺動方向に延在するスリット状の側溝部９３ａを有しており、予備吐出プレート８０の側方に設けられている。
【００６０】
図９（ｂ）に示すように、側方排出部９３にはレジストを回収する不図示のドレインパンが設けられている。上記側溝部９３ａは、ドレインパンに向かって下降する傾斜面９３ｂを有する４つの領域が、スキージ１１０の摺動方向に沿って配列されることで構成されている。この構成により、側方排出部９３は側溝部９３ａに排出されたレジスト及び洗浄液を含む廃液を傾斜面９３ｂに沿ってドレインパン側に流れ易くするとともに、外部に良好に排出できるようになっている。
【００６１】
さらに予備吐出ユニット１０３は、予備吐出面８１の側方（摺動方向の後方）に予備吐出面洗浄ユニット１００を載置する待機部９１が設けられている。待機部９１は、予備吐出面８１上にノズル３２からレジストが予備吐出されている間、予備吐出面洗浄ユニット１００を待機させておく部材である。具体的に本実施形態では、スキージ１１０の摺動方向後方に待機部９１が設けられており、予備吐出面８１の洗浄時に予備吐出ユニット１０３を待機部９１から予備吐出面８１まで短時間で移動できるようにしている。
【００６２】
待機部９１は、上記予備吐出面洗浄ユニット１００を載置させる載置面９１ａを有している（図１参照）。載置面９１ａは、例えば予備吐出面８１と同等或いはそれよりも低い位置に予備吐出面洗浄ユニット１００を待機させるようになっている。特に載置面９１ａが予備吐出面８１よりも低い位置に予備吐出洗浄ユニット１００を待機させることで、予備吐出動作時に伴って予備吐出面８１上に移動してくるノズル３２と予備吐出面洗浄ユニット１００との干渉を防止することができる。
【００６３】
上記待機部９１では、予備吐出面８１の洗浄後、スキージ１１０に付着したレジストの除去が行われるようになっている。具体的には、洗浄液供給手段からスキージ１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃの側面に洗浄液を供給しつつ、洗浄液を吸引し、エアーで乾燥させる。これにより、スキージを良好に保つことができ、予備吐出面８１上における洗浄品質を安定させるようになっている。また、待機部９１には上記スキージ１１０の洗浄を行った際の廃液を吸引する吸引部９５が設けられている。
【００６４】
（塗布装置）
次に、本実施形態に係る塗布装置１について図面を参照して説明する。本実施形態に係る塗布装置１は、予備吐出機構（予備吐出装置）４２を備えている。図１０は塗布装置１の斜視図、図１１は塗布装置１の平面図、図１２は塗布装置１の平面図、図１３は塗布装置１の側面図である。
【００６５】
図１０〜１３に示されるように、塗布装置１は、基板搬送部２と、塗布部３と、上記管理部４とを主要な構成要素とし、基板搬送部２によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部３によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、上記管理部４によって塗布部３の状態を管理するものである。
【００６６】
（基板搬送部）
次に基板搬送部２の構成を説明する。
基板搬送部２は、基板搬入領域２０と、塗布処理領域２１と、基板搬出領域２２と、搬送機構２３と、これらを支持するフレーム部２４とを有している。この基板搬送部２では、搬送機構２３によって基板Ｓが基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構２３は、基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
【００６７】
以下、塗布装置１の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、図中の方向をＸＹＺ座標系を用いて説明する。基板搬送部２の長手方向であって基板の搬送方向をＸ方向と表記する。平面視でＸ方向（基板搬送方向）に直交する方向をＹ方向と表記する。Ｘ方向軸及びＹ方向軸を含む平面に垂直な方向をＺ方向と表記する。なお、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとする。
【００６８】
基板搬入領域２０は、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを搬入する部位であり、搬入側ステージ２５と、リフト機構２６とを有している。
搬入側ステージ２５は、フレーム部２４の上部に設けられており、例えばステンレス（ＳＵＳ）などからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ２５は、Ｘ方向が長手になっている。搬入側ステージ２５には、エア噴出孔２５ａと、昇降ピン出没孔２５ｂとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔２５ａ及び昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５を貫通するように設けられている。
【００６９】
エア噴出孔２５ａは、搬入側ステージ２５のステージ表面２５ｃ上にエアを噴出する孔であり、例えば搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの通過する領域に平面視マトリクス状に配置されている。このエア噴出孔２５ａには図示しないエア供給源が接続されている。この搬入側ステージ２５では、エア噴出孔２５ａから噴出されるエアによって基板Ｓを＋Ｚ方向に浮上させることができるようになっている。
【００７０】
昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの搬入される領域に設けられている。当該昇降ピン出没孔２５ｂは、ステージ表面２５ｃに供給されたエアが漏れ出さない構成になっている。
【００７１】
この搬入側ステージ２５のうちＹ方向の両端部には、アライメント装置２５ｄが１つずつ設けられている。アライメント装置２５ｄは、搬入側ステージ２５に搬入された基板Ｓの位置を合わせる装置である。各アライメント装置２５ｄは長孔と当該長孔内に設けられた位置合わせ部材（図示しない）を有しており、搬入ステージ２５に搬入される基板を両側から機械的に挟持するようになっている。
【００７２】
リフト機構２６は、搬入側ステージ２５の裏面側に基板搬入位置に対応する位置に設けられている。このリフト機構２６は、昇降部材２６ａと、複数の昇降ピン２６ｂとを有している。昇降部材２６ａは、図示しない駆動機構に接続されており、当該駆動機構の駆動によって昇降部材２６ａがＺ方向に移動するようになっている。複数の昇降ピン２６ｂは、昇降部材２６ａの上面から搬入側ステージ２５へ向けて立設されている。各昇降ピン２６ｂは、それぞれ上記の昇降ピン出没孔２５ｂに平面視で重なる位置に配置されている。昇降部材２６ａがＺ方向に移動することで、各昇降ピン２６ｂが昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃ上に出没するようになっている。各昇降ピン２６ｂの＋Ｚ方向の端部はそれぞれＺ方向上の位置が揃うように設けられており、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを水平な状態で保持することができるようになっている。
【００７３】
塗布処理領域２１は、レジストの塗布が行われる部位であり、基板Ｓを浮上支持する処理ステージ２７が設けられている。
処理ステージ２７は、ステージ表面２７ｃが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ２５に対して＋Ｘ方向側に設けられている。処理ステージ２７のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ２７は、Ｙ方向が長手になっている。処理ステージ２７のＹ方向の寸法は、搬入側ステージ２５のＹ方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ２７には、ステージ表面２７ｃ上にエアを噴出する複数のエア噴出孔２７ａと、ステージ表面２７ｃ上のエアを吸引する複数のエア吸引孔２７ｂとが設けられている。これらエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂは、処理ステージ２７を貫通するように設けられている。
【００７４】
処理ステージ２７では、エア噴出孔２７ａのピッチが搬入側ステージ２５に設けられるエア噴出孔２５ａのピッチよりも狭く、搬入側ステージ２５に比べてエア噴出孔２７ａが密に設けられている。このため、この処理ステージ２７では他のステージに比べて基板の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基板の浮上量が例えば１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下となるように制御することが可能になっている。
【００７５】
基板搬出領域２２は、レジストが塗布された基板Ｓを装置外部へ搬出する部位であり、搬出側ステージ２８と、リフト機構２９とを有している。この搬出側ステージ２８は、処理ステージ２７に対して＋Ｘ方向側に設けられており、基板搬入領域２０に設けられた搬入側ステージ２５とほぼ同様の材質、寸法から構成されている。搬出側ステージ２８には、搬入側ステージ２５と同様、エア噴出孔２８ａ及び昇降ピン出没孔２８ｂが設けられている。リフト機構２９は、搬出側ステージ２８の裏面側に基板搬出位置に対応する位置に設けられている。リフト機構２９の昇降部材２９ａ及び昇降ピン２９ｂは、基板搬入領域２０に設けられたリフト機構２６の各部位と同様の構成になっている。このリフト機構２９は、搬出側ステージ２８上の基板Ｓを外部装置へと搬出する際に、基板Ｓの受け渡しのため昇降ピン２９ｂによって基板Ｓを持ち上げることができるようになっている。
【００７６】
搬送機構２３は、搬送機２３ａと、真空パッド２３ｂと、レール２３ｃとを有している。搬送機２３ａは内部に例えばリニアモータが設けられた構成になっており、当該リニアモータが駆動することによって搬送機２３ａがレール２３ｃ上を移動可能になっている。この搬送機２３ａは、所定の部分２３ｄが平面視で基板Ｓの−Ｙ方向端部に重なるように配置されている。この基板Ｓに重なる部分２３ｄは、基板Ｓを浮上させたときの基板裏面の高さ位置よりも低い位置に設けられている。
【００７７】
真空パッド２３ｂは、搬送機２３ａのうち上記基板Ｓに重なる部分２３ｄに複数配列されている。この真空パッド２３ｂは、基板Ｓを真空吸着させる吸着面を有しており、当該吸着面が上方を向くように配置されている。真空パッド２３ｂは、吸着面が基板Ｓの裏面端部を吸着することで当該基板Ｓを保持可能になっている。各真空パッド２３ｂは搬送機２３ａの上面からの高さ位置が調節可能になっており、例えば基板Ｓの浮上量に応じて真空パッド２３ｂの高さ位置を上下させることができるようになっている。レール２３ｃは、搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８の側方に各ステージに跨って延在しており、当該レール２３ｃを摺動することで搬送機２３ａが当該各ステージに沿って移動できるようになっている。
【００７８】
（塗布部）
次に、塗布部３の構成を説明する。
塗布部３は、基板Ｓ上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム３１と、ノズル３２とを有している。
門型フレーム３１は、支柱部材３１ａと、架橋部材３１ｂとを有しており、処理ステージ２７をＹ方向に跨ぐように設けられている。支柱部材３１ａは処理ステージ２７のＹ方向側に１つずつ設けられており、各支柱部材３１ａがフレーム部２４のＹ方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材３１ａは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材３１ｂは、各支柱部材３１ａの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材３１ａに対して昇降可能となっている。
【００７９】
この門型フレーム３１は移動機構３１ｃに接続されており、Ｘ方向に移動可能になっている。この移動機構３１ｃによって門型フレーム３１が管理部４との間で移動可能になっている。すなわち、門型フレーム３１に設けられたノズル３２が管理部４との間で移動可能になっている。
【００８０】
ノズル３２は、一方向が長手の長尺状に構成されており、門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの−Ｚ方向側の面に設けられている。このノズル３２のうち−Ｚ方向の先端には、自身の長手方向に沿ってスリット状の開口部３２ａが設けられており、当該開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。ノズル３２は、開口部３２ａの長手方向がＹ方向に平行になると共に、当該開口部３２ａが処理ステージ２７に対向するように配置されている。開口部３２ａの長手方向の寸法は搬送される基板ＳのＹ方向の寸法よりも小さくなっており、基板Ｓの周辺領域にレジストが塗布されないようになっている。ノズル３２の内部にはレジストを開口部３２ａに流通させる図示しない流通路が設けられており、この流通路には図示しないレジスト供給源が接続されている。このレジスト供給源は例えば図示しないポンプを有しており、当該ポンプでレジストを開口部３２ａへと押し出すことで開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。架橋部材３１ａには不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によって架橋部材３１ａに保持されたノズル３２がＺ方向に移動可能になっている。門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの下面には、ノズル３２の開口部３２ａ、すなわち、ノズル３２の先端と当該ノズル開口部３２ａに対向する対向面との間のＺ方向上の距離を測定するセンサ３３が取り付けられている。
【００８１】
（塗布装置の動作）
次に、上記のように構成された塗布装置１の動作を説明する。
図１５〜図１８は、塗布装置１の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Ｓにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Ｓを基板搬入領域２０に搬入し、当該基板Ｓを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域２１でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Ｓを基板搬出領域２２から搬出する。図１５〜図１８には門型フレーム３１及び管理部４の輪郭のみを破線で示し、ノズル３２及び処理ステージ２７の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
【００８２】
基板搬入領域２０に基板を搬入する前に、塗布装置１をスタンバイさせておく。具体的には、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の−Ｙ方向側に搬送機２３ａを配置させ、真空パッド２３ｂの高さ位置を基板の浮上高さ位置に合わせておくと共に、搬入側ステージ２５のエア噴出孔２５ａ、処理ステージ２７のエア噴出孔２７ａ、エア吸引孔２７ｂ及び搬出側ステージ２８のエア噴出孔２８ａからそれぞれエアを噴出又は吸引し、各ステージ表面に基板が浮上する程度にエアが供給された状態にしておく。
【００８３】
この状態で、例えば図示しない搬送アームなどによって外部から図１５に示す基板搬入位置に基板Ｓが搬送されてきたら、昇降部材２６ａを＋Ｚ方向に移動させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃに突出させる。そして、昇降ピン２６ｂによって基板Ｓが持ち上げられ、当該基板Ｓの受け取りが行われる。また、アライメント装置２５ｄの長孔から位置合わせ部材をステージ表面２５ｃに突出させておく。
【００８４】
基板Ｓを受け取った後、昇降部材２６ａを下降させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂ内に収容する。このとき、ステージ表面２５ｃにはエアの層が形成されているため、基板Ｓは当該エアによりステージ表面２５ｃに対して浮上した状態で保持される。基板Ｓがエア層の表面に到達した際、アライメント装置２５ｄの位置合わせ部材によって基板Ｓの位置合わせが行われ、基板搬入位置の−Ｙ方向側に配置された搬送機２３ａの真空パッド２３ｂを基板Ｓの−Ｙ方向側端部に真空吸着させる。基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された状態を図１５に示す。真空パッド２３ｂによって基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された後、搬送機２３ａをレール２３ｃに沿って移動させる。基板Ｓが浮上した状態になっているため、搬送機２３ａの駆動力を比較的小さくしても基板Ｓはレール２３ｃに沿ってスムーズに移動する。
【００８５】
基板Ｓの搬送方向先端がノズル３２の開口部３２ａの位置に到達したら、図１６に示すように、ノズル３２の開口部３２ａから基板Ｓへ向けてレジストを吐出する。レジストの吐出は、ノズル３２の位置を固定させ搬送機２３ａによって基板Ｓを搬送させながら行う。基板Ｓの移動に伴い、図１７に示すように基板Ｓ上にレジスト膜Ｒが塗布されていく。基板Ｓがレジストを吐出する開口部３２ａの下を通過することにより、基板Ｓの所定の領域にレジスト膜Ｒが形成される。
【００８６】
レジスト膜Ｒの形成された基板Ｓは、搬送機２３ａによって搬出側ステージ２８へと搬送される。搬出側ステージ２８では、ステージ表面２８ｃに対して浮上した状態で、図１８に示す基板搬出位置まで基板Ｓが搬送される。
【００８７】
基板Ｓが基板搬出位置に到達したら、真空パッド２３ｂの吸着を解除し、リフト機構２９の昇降部材２９ａを＋Ｚ方向に移動させる。すると、昇降ピン２９ｂが昇降ピン出没孔２８ｂから基板Ｓの裏面へ突出し、基板Ｓが昇降ピン２９ｂによって持ち上げられる。この状態で、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側に設けられた外部の搬送アームが搬出側ステージ２８にアクセスし、基板Ｓを受け取る。基板Ｓを搬送アームに渡した後、搬送機２３ａを再び搬入側ステージ２５の基板搬入位置まで戻し、次の基板Ｓが搬送されるまで待機させる。
【００８８】
次の基板Ｓが搬送されてくるまでの間、塗布部３は管理部４においてノズル３２の状態が管理される。図１９に示すように門型フレーム３１を管理部４の位置まで移動させた後、門型フレーム３１の位置を調整（移動及び降下）してノズル３２をノズル洗浄装置４３にアクセスさせ、当該ノズル洗浄装置４３によってノズル３２を洗浄する（図１４参照）。ノズル３２の洗浄処理を行う頻度としては、ユーザによって適宜設定され、１枚の基板Ｓ毎に洗浄処理を行ってもよいし、数枚に１回の割合で洗浄処理を行うようにしてもよい。
【００８９】
なお、長時間レジスト塗布を行わない場合には、ノズル３２をディップ槽４１内に配し、このディップ槽４１に貯留された溶剤（シンナー）の蒸気雰囲気に曝すことでノズル３２が乾燥するのを防止する。
【００９０】
ノズル３２の洗浄後、塗布部３を予備吐出機構４２にアクセスさせ、ノズル３２の吐出状態を保持するための予備吐出処理を行う。この予備吐出処理は上記予備吐出機構（予備吐出装置）４２を用いることで行われる。予備吐出機構４２内では予備吐出面８１上にレジストの予備吐出が行われると、予備吐出面洗浄ユニット１００が予備吐出面８１の洗浄処理を行う。
【００９１】
（予備吐出動作）
以下、予備吐出機構４２の動作方法について図面を参照しつつ説明する。
予備吐出面８１上にレジストを塗布した後、待機部９１上に載置されている予備吐出面洗浄ユニット１００のスキージ１１０を予備吐出面８１の高さに配置する。これにより、予備吐出面洗浄ユニット１００は予備吐出面８１上の洗浄開始位置に配置されることとなる（図１参照）。
【００９２】
続いて、アーム部１０１を介して予備吐出面洗浄ユニット１００を移動させことで複数のスキージ１１０を予備吐出面８１上に摺動させ、予備吐出面８１上に塗布されたレジストＲを掻き取る。
【００９３】
このとき、予備吐出面洗浄ユニット１００は、洗浄液供給手段からスキージ１１０の長手方向に対して洗浄液を供給するとともに噴射口１０２からエアを供給することにより、スキージ１１０の摺動方向側の面に洗浄液を供給する。この洗浄液（シンナー）は予備吐出面８１上に塗布されたレジストＲを希釈させ、予備吐出面８１上からレジストＲの除去性を向上させることができる。このように洗浄液が供給された予備吐出面８１上を摺動するスキージ１１０によって、レジストＲを予備吐出面８１から良好に掻き取ることができる。
【００９４】
具体的には、予備吐出面洗浄ユニット１００は、第一スキージ１１０ａの摺動方向前方側の予備吐出面８１上に洗浄液を供給し、希釈化されたレジストＲを第一スキージ１１０ａによって掻き取る。
したがって、第一スキージ１１０ａによって予備吐出面８１の粗洗浄処理を行うことができる。
【００９５】
予備吐出面洗浄ユニット１００は、第一スキージ１１０ａが通過した予備吐出面８１における第二スキージ１１０ｂの摺動方向前方に洗浄液を供給し、希釈化されたレジストＲを第二スキージ１１０ｂによって掻き取る。したがって、第二スキージ１１０ｂによって予備吐出面８１の本洗浄処理を行うことができる。
さらに、第二スキージ１１０ｂが通過した予備吐出面８１における仕上げスキージ１１０ｃの摺動方向前方に洗浄液を供給し、希釈化されたレジストＲを仕上げスキージ１１０ｃによって掻き取る。
【００９６】
予備吐出面洗浄ユニット１００は、仕上げスキージ１１０ｃが通過した予備吐出面８１上に側方スキージ１１０ｄ（図４参照）を摺動させる。これにより、第一スキージ１１０ａ、第二スキージ１１０ｂ、仕上げスキージ１１０ｃにおける洗浄処理の残渣（洗浄液及びレジストＲ）を掻き取ることができ、高い洗浄性を得ることができる。さらに、予備吐出プレート８１の側面に付着したレジスト及び洗浄液を良好に除去することが可能となる。
【００９７】
これらスキージ１１０（１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃ）は、図５に示したように予備吐出面８１との接触端の長さ方向をスキージ１１０の摺動方向に対して斜めに向けた姿勢でスキージヘッド部１０５に支持されている。よって、図９（ａ）に示したようにスキージ１１０によって掻き取られたレジストＲはスキージ１１０の長さ方向における摺動方向後方に押し退けられ側方排出部９３に収容され、側方排出部９３に設けられるドレインパン（不図示）にレジストを良好に排出できる。
【００９８】
本実施形態では、予備吐出プレート８０がベース部材８２と板状部材８３とを接合して構成されており、予備吐出面８１を構成する板状部材８３がステンレス（ＳＵＳ）から構成されている。このようなステンレス（ＳＵＳ）から構成される予備吐出面８１は、平面度、メンテナンス性に優れたものとなり、高い洗浄性を得ることができる。
【００９９】
また、予備吐出面８１の洗浄処理時には、廃液の一部が予備吐出面８１上から板状部材８３（予備吐出プレート８０）の側面を伝わってベース部材８２及び板状部材８３の接合界面から予備吐出プレート８０の内部に入り込むおそれがある。そこで、本実施形態では、ベース部材８２及び板状部材８３の接合界面（廃液が回収される側）に設けた排出溝８５によって仮に内部に廃液が浸入した場合においても確実に回収することができ、真空溝８４内に廃液が入り込むことで予備吐出プレート８０を構成する部材間の接合性が低下することを防止できる。
【０１００】
予備吐出面洗浄ユニット１００が予備吐出プレート８０の前方まで到達すると、予備吐出面８１の洗浄処理が終了となる（図１参照）。
洗浄処理の終了後、予備吐出機構４２は予備吐出面洗浄ユニット１００を待機部９１に載置する。以上のフローにより、予備吐出面洗浄ユニット１００における予備吐出面８１の洗浄処理が終了する。なお、載置部９１ａに載置された予備吐出面洗浄ユニット１００に対し、必要に応じてスキージ１１０の洗浄処理を行ってもよい。これにより、スキージを良好な状態に保つことができ、予備吐出面上における洗浄品質を安定させることができる。
【０１０１】
ところで、スキージ１１０は予備吐出面８１上を摺動することで経時的な磨耗が生じる。本実施形態に係る予備吐出面洗浄ユニット１００は、図８に示したようにスキージ１１０を保持するスキージヘッド部１０５がクロスローラベアリング１５０によりスキージ１１０の長手方向に対して揺動自在となっている。
【０１０２】
そのため、スキージ１１０に磨耗が生じた場合でもスキージ１１０が予備吐出面８１に追従して動くので、スキージ１１０を予備吐出面８１に対して良好に摺動させることができる。このように、スキージ１１０は予備吐出面８１に対して常に一定の状態で当接したものとなるので、予備吐出面洗浄ユニット１００は安定した洗浄性を得ることができる。
【０１０３】
（予備吐出面のメンテナンス処理）
また、スキージ１１０と同様に、予備吐出面８１にも経時的な磨耗が生じる。このような場合、予備吐出面８１のメンテナンス処理を行う。本実施形態に係る予備吐出プレート８０は、ベース部材８２と板状部材８３とが真空吸着により接合されることで構成されている。そのため、予備吐出面８１を含む板状部材８３をベース部材８２から着脱可能となっている。
【０１０４】
板状部材８３とベース部材８２とを分離するには、例えば予備吐出プレート８０を図２０（ａ）に示すように不図示の真空ポンプをＯＮ状態からＯＦＦ状態とする。これにより、図２０（ｂ）に示されるようにベース部材８２から板状部材８３を容易に分離することができる。
【０１０５】
このように予備吐出プレート８０から板状部材８３のみを取り外すことで予備吐出面８１のメンテナンス処理を行うことができる。このとき、板状部材８３は、ステンレス（ＳＵＳ）から構成されているので、取り扱い性が容易であることから良好なメンテナンス性を得ることができる。
【０１０６】
このように予備吐出面洗浄ユニット１００による予備吐出面８１の洗浄処理が終了した後、次の基板Ｓが搬送されてきたら、図２１に示すように移動機構３２ｂによってノズル３２を所定の位置に移動させる。このように、基板ＳにレジストＲを塗布する塗布動作と予備吐出動作とを繰り返し行わせることで、基板Ｓには良質なレジストＲが形成されることとなる。
【０１０７】
以上述べたように上記実施形態によれば、予備吐出面８１を洗浄する場合においても、スキージ１１０の摺動前方に洗浄液を供給するとともに予備吐出面８１上を複数のスキージ１１０が摺動することで予備吐出面８１を良好に洗浄することができる。すなわち、塗布装置における予備吐出動作に用いられる予備吐出装置において、従来のようなプライミングローラに代わる予備吐出面８１を用いた構成においても、良好な洗浄を行うことができる。
【０１０８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、ベース部材８２が複数の板状の部材を接合することで構成されていてもよく、各接合面に上記真空溝８４及び排出溝８５が形成されていてもよい。
また、上記実施形態では、真空溝８４及び排出溝８５をベース部材８２側に形成していたが、いずれか一方を板状部材８３側に形成する構成としてもよい。また、真空溝８４及び排出溝８５をベース部材８２及び板状部材８３の両方に形成するようにしてもよい。
【０１０９】
また、上記実施形態では、第一噴射口１０２ａ、及び第二噴射口１０２ｂをそれぞれ１０個形成したが、本発明はこれに限定されることはない。例えば、摺動方向先頭の第一スキージ１１０ａに対応する第一噴射口１０２ａの数を、摺動方向後方の第二スキージ１１０ｂに対応する第二噴射口１０２ｂの数よりも多くしてもよく、このようにすればレジストが多く付着している摺動方向先頭側における洗浄性を向上させつつ、レジストの付着量が少ない摺動方向後方側での洗浄液吐出量を抑えることで洗浄液の使用量を抑えることができる。
【０１１０】
また、上記実施形態では３つのスキージ１１０が予備吐出面８１に対して４５°傾いた状態にスキージヘッド部１０５に取り付けられた構成となっていたが、３つのスキージ１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃにおける取付角度を１５°以上５０°以下の範囲でそれぞれ異ならせてもよい。
例えば、高い洗浄性が必要となる摺動方向先頭側の第一スキージ１１０ａの取付角度を予備吐出面８１に対する接触抵抗が大きくなる４５°近傍に設定し、仕上げ処理を行う仕上げスキージ１１０ｃの取付角度を予備吐出面８１に対する接触抵抗が小さくなる２０°近傍に設定してもよい。
【０１１１】
また、上記実施形態では予備吐出面洗浄ユニット１００が予備吐出プレート８０上を移動することでスキージ１１０を予備吐出面８１上に摺動させる構成としたがこれに限定されない。例えば、予備吐出プレート８０を上記予備吐出面洗浄ユニット１００に対して移動させることで、スキージ１１０を予備吐出面８１上に摺動させるようにしてもよい。すなわち、スキージ１１０が予備吐出面８１に対し相対移動させることのできる構成であれば、種々のものを採用することができる。
なお、本実施形態では予備吐出洗浄ユニット１００の洗浄処理を待機部９１により行っている。そのため、予備吐出洗浄ユニット１００を上記実施形態における右端部（図９参照）まで移動した後、載置部９１に戻る過程において予備吐出面８１上の洗浄処理を行うようにしてもよい。この場合、スキージの取付角度は上記実施形態と反対になるのはもちろんである。
【０１１２】
上記実施形態では塗布装置１の全体構成について搬送機構２３を各ステージの−Ｙ方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構２３を各ステージの＋Ｙ方向側に配置する構成であっても構わない。また、図２２に示すように、各ステージの−Ｙ方向側には上記の搬送機構２３（搬送機２３ａ、真空パッド２３ｂ、レール２３ｃ）を配置し、＋Ｙ方向側には当該搬送機構２３と同一の構成の搬送機構５３（搬送機５３ａ、真空パッド５３ｂ、レール５３ｃ）を配置して、搬送機構２３と搬送機構５３とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構２３には基板Ｓ１を搬送させ、搬送機構５３には基板Ｓ２を搬送させるようにする。この場合、搬送機構２３と搬送機構５３とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板Ｓ、Ｓ１、Ｓ２の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構２３と搬送機構５３とで１枚ずつ保持し、搬送機構２３と搬送機構５３とを＋Ｘ方向に並進させることによって、２枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】予備吐出機構の概略構成を説明するための図である。
【図２】予備吐出プレートの概略図である。
【図３】予備吐出プレートの構成を示す図である。
【図４】予備吐出面洗浄ユニットの概略構成図である。
【図５】スキージヘッド部におけるスキージの取付状態を示す簡略図である。
【図６】スキージヘッド部の正面構造の概略図である。
【図７】吐出口から吐出される洗浄液の状態を示す図である。
【図８】アーム部の周辺構成を示す拡大図である。
【図９】予備吐出ユニットの概略構成を示す図である。
【図１０】スキージ洗浄機構の構成を示す図である。
【図１１】塗布装置の正面図である。
【図１２】塗布装置の平面図である。
【図１３】塗布装置の側面図である。
【図１４】管理部の概略構成を示す図である。
【図１５】塗布装置の動作過程を示す平面図である。
【図１６】図１３に続く動作過程を示す平面図である。
【図１７】図１４に続く動作過程を示す平面図である。
【図１８】図１５に続く動作過程を示す平面図である。
【図１９】塗布部の動作を説明するための図である。
【図２０】予備吐出面のメンテナンス処理を説明するための図である。
【図２１】塗布部の動作を説明するための図である。
【図２２】塗布装置の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【０１１４】
Ｒ…レジスト、１…塗布装置、４２…予備吐出機構（予備吐出装置）、８０…予備吐出プレート（予備吐出板）、８１…予備吐出面、８２…ベース部材、８２ａ…接合面、８３…板状部材、８４…真空溝、８５…排出溝、８６…吸引部、１００…予備吐出面洗浄ユニット（洗浄装置）、１０２…吐出口、１０２ａ…第一吐出口（吐出口）、１０２ｂ…第二吐出口（吐出口）、１１０…スキージ、１１０ａ…第一スキージ（スキージ）、１１０ｂ…第二スキージ（スキージ）、１１０ｃ…仕上げスキージ（スキージ）、１２０…乾燥部（乾燥機構）、１３０…吸引部（吸引機構）、１４０…制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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