(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とシール部によって封止された内部に液晶を挟持した
液晶表示パネルと、前記ＴＦＴ基板に取り付けられたフレキシブル配線基板を有する液晶
表示装置において、
前記ＴＦＴ基板には横方向に延在して縦方向に配列した走査線と縦方向に延在して横方
向に配列したデータ信号線と、前記走査線と対応した端子部が形成され、前記端子部は前
記フレキシブル配線基板ごとにユニットとして形成されており、前記端子部と前記走査線
とは端子部から順に補助配線、接続線によって接続されており、前記ユニットの前記縦方向の中央部に対応する前記接続線は直線であり、前記ユニットの前記縦方向の周辺部に対応する前記接続線は、前記端子部から前記走査線に向かって広がるように折れ曲がっており、
前記接続線の折れ曲がり位置は、前記シール部よりもパネル外周側であり、
前記接続線は前記カラーフィルタ基板に覆われている領域に存在し、前記ユニットの前記縦方向の中央部に対応する前記接続線の幅よりも前記ユニットの前記縦方向の周辺部に対応する前記接続線の幅が大きく、
前記ユニットの前記縦方向の中央部に対応する前記補助配線は直線であり、前記ユニットの前記縦方向の周辺部に対応する前記補助配線は、前記端子部から前記接続線に向かって広がるように配線されており、前記補助配線の幅は２３μｍ以上であって、前記ユニットの前記縦方向の中央部に対応する前記接続線の幅よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記補助配線の幅は前記端子部の幅と同じであることを特徴とする請求項１に記載の
表示装置。
【請求項３】
ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とシール部によって封止された内部に液晶を挟持した
液晶表示パネルと、前記ＴＦＴ基板に取り付けられたフレキシブル配線基板を有する液晶
表示装置において、
前記ＴＦＴ基板には横方向に延在して縦方向に配列した走査線と縦方向に延在して横方
向に配列したデータ信号線と、前記データ信号線と対応した端子部が形成され、前記端子部は前記フレキシブル配線基板ごとにユニットとして形成されており、前記端子部と前記データ信号線とは端子部から順に補助配線、接続線によって接続されており、前記ユニットの前記横方向の中央部に対応する前記接続線は直線であり、前記ユニットの前記横方向の周辺部に対応する前記接続線は、前記端子部から前記データ信号線に向かって広がるように折れ曲がっており、
前記接続線の折れ曲がり位置は、前記シール部よりもパネル外周側であり、
前記接続線は前記カラーフィルタ基板に覆われている領域に存在し、前記ユニットの前記横方向の中央部に対応する前記接続線の幅よりも前記ユニットの前記横方向の周辺部に対応する前記接続線の幅が大きく、
前記ユニットの前記横方向の中央部に対応する前記補助配線は直線であり、前記ユニットの前記横方向の周辺部に対応する前記補助配線は、前記端子部から前記接続線に向かって広がるように配線されており、前記補助配線の幅は２３μｍ以上であって、前記ユニットの前記横方向の中央部に対応する前記接続線の幅よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
前記補助配線の幅は前記端子部の幅と同じであることを特徴とする請求項３に記載の
表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に係り、特に基板に形成された信号線の端子部の信頼性の向上に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置ではＴＦＴ基板、カラーフィルタ基板の２枚のガラス基板の間に液晶を狭持し、電気信号により画素を通過する光の量を制御することによって画像を形成する。画像を形成するための信号はＴＦＴ基板に形成された端子部を通して、走査線に走査信号、データ信号線に画像データ信号を供給する。走査信号によって、ＴＦＴが選択され、データ信号をＴＦＴが取り込んで画素の電圧を制御する。
【０００３】
端子部には一般にはフレキシブル配線基板等を介して外部から信号を供給する。走査線、データ信号線等は、画面の解像度、あるいは画素間隔によって決定される。一方フレキシブル配線基板は規格化されており、フレキシブル配線基板の端子間隔も規格化されている。また、端子間隔はフレキシブル配線基板のガラス基板への接続の条件も考慮して規格化されている。
【０００４】
したがって、走査線間隔、あるいはデータ信号線間隔と端子間隔は異なり、一般には端子間隔のほうが小さい。したがって、フレキシブル配線基板の中央部に対応する端子とフレキシブル配線基板の周辺部に対応する端子と走査線あるいはデータ信号線とを接続する接続部の長さが異なってくる。そすると、走査線あるいはデータ信号線等の場所によって、走査線あるいはデータ信号線の抵抗が異なることになり、走査信号の遅延、データ信号の歪等が場所によって異なってくることにあり、問題である。
【０００５】
「特許文献１」には、このような走査線あるいはデータ信号線の場所による抵抗値の差を無くするために、走査線等と端子部を接続する配線抵抗を同じようにする技術が記載されている。すなわち、「特許文献１」に記載の技術では、例えば、フレキシブル配線基板の中央部に対応する端子部と走査線等を結ぶ接続部の幅をフレキシブル配線基板の周辺部に対応する端子と走査線等を結ぶ接続部の幅よりも小さくしている。
【０００６】
一方、液晶表示パネルは大きなマザーガラスに複数個の液晶表示パネルを形成し、このマザーガラスを切断して個々の液晶表示パネルを形成する。この切断はスクライビング等によって行われる。ガラスをスクライビングによって切断するとガラス屑が発生する。このガラス屑が端子付近に付着して外部から圧力が加わったような場合は、端子付近の配線を断線させる危険がある。このような、外部からの異物によって配線が断線することを防止する技術として「特許文献２」のような技術がある。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−１１７２１号公報
【特許文献２】特開平９−９０３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
図７は液晶表示パネルの端子付近の拡大模式図である。図７（ａ）は端子部１００付近の拡大平面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ−Ａ断面図である。図７（ａ）において、ＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０が一定ギャップを隔てて対向し、この間に液晶が挟持されている。液晶はＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０とシール部１５によって封着されている。
【０００９】
図７（ａ）において、フレキシブル配線基板３０と接続する端子部１００は一定間隔でＴＦＴ基板１０の端部に形成されている。図７（ａ）に示す端子部１００は走査線１１と接続すると仮定する。液晶表示パネルの表示領域に形成された走査線１１の間隔は端子部１００の間隔よりも大きいので、フレキシブル配線基板３０の周辺から走査線１１と接続する線は外側に広がり、フレキシブル配線基板３０の中央に対応する線は真っすぐに伸びている。走査線１１の抵抗を一定にするために、フレキシブル配線基板３０の中央部に位置する端子と接続する線は細く、フレキシブル配線基板３０の周辺に対応する端子と接続する線は太く形成される。
【００１０】
液晶表示パネルは大きなマザーガラスから個々の表示パネルに切り出す。図７（ｂ）はこの様子を示す液晶表示パネルの断面図である。図７（ｂ）において、カラーフィルタ基板２０は切断線ＣＦＣで、ＴＦＴ基板１０は切断線ＴＦＴＣで切断される。ＴＦＴ基板１０には端子部１００が形成されるために、カラーフィルタ基板２０よりも面積が大きくなっている。このときの切断はスクライブ等で行なうために、ガラス屑ＰＧが発生する。
【００１１】
このガラス屑ＰＧが走査線１１と接続線１１１の特に細い部分に接触し、外部から圧力が加わったりするとこの部分が断線する。そうすると、表示領域の１行が不良になるので、液晶表示パネル全体が不良になる。このような断線が工場出荷前に生ずれば、検査によって市場に出荷されることは免れる。しかし、細い接続線１１１が半断線になる場合がある。半断線となった部分が出荷後に市場において動作中に断線すると製品使用中に不良が発生してしまうことになる。
【００１２】
特許文献２に記載の技術では、接続線１１１の断線を防止するために、端子と端子の間にカラーフィルタと同様な層を形成して、端子の両側に凸部を形成して、ガラス屑等が端子に接触する確率を小さくする技術が記載されている。しかし、この技術は端子間に凸部を形成するためのプロセスが必要となり、コストアップの要因になる。
【００１３】
また、特許文献２に記載の技術では、端子部１００と走査線１１部の間に凸部を形成する技術に加えて端子部１００と走査線１１の間の線幅を広くする技術も記載されている。なお、特許文献２には走査線１１またはデータ信号線１２の抵抗を一定にするために、端子部１００と走査線１１またはデータ信号線１２との接続線１１１の線幅を変える技術は記載されていない。
【００１４】
ここで、特許文献２に記載の技術を走査線１１またはデータ信号線１２の抵抗を一定にするために、接続線１１１の線幅を変える技術に適用しようとすると、図８に示すような問題が生ずる。図８は、図７（ａ）と同様な平面図である。図８において、フレキシブル配線基板３０の中央部における走査線１１と接続線１１１と端子部１００の幅は同じとしている。走査線１１の抵抗を一定にするために、フレキシブル配線基板３０の周辺に対応する接続線１１１の幅を大きくすると、図８に示すように、接続線１１１間の間隔ｄが小さくなり、線間のショートの危険が生ずる。
【００１５】
このような線間のショートを防止するため、特許文献２に記載のように、接続線１１１の線間にカラーフィルタ等による凸部を形成することが考えられるが、製造コストの増加につながる。さらに、端子間の間隔は決まっているので、フレキシブル配線基板３０の周辺に対応する接続線１１１の幅は一定以上には出来ないことになり、走査線１１の抵抗を一定にすることが事実上不可能になってしまう。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は以上に述べた問題点を解決するためになされたもので、ＴＦＴ基板部分で、カラーフィルタ基板に覆われていない部分の端子部と走査線等とを結ぶ接続配線を一定以上の幅とする。そして、ＴＦＴ基板がカラーフィルタ基板に覆われた部分では走査線等の抵抗を一定にするために、接続配線の線幅を端子部の幅よりも小さい範囲から端子部の幅よりも大きい範囲まで、自由に変化させることである。具体的な手段は次のとおりである。
【００１７】
（１）ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とシール部によって封止された内部に液晶を挟持した液晶表示パネルと、前記ＴＦＴ基板に取り付けられたフレキシブル配線基板を有する液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板には横方向に延在して縦方向に配列した走査線と縦方向に延在して横方向に配列したデータ信号線と、前記走査線と対応した端子部が形成され、前記端子部は前記フレキシブル配線基板ごとにユニットとして形成されており、前記端子部と前記走査線とは端子部から順に補助配線、接続線によって接続されており、前記接続線は前記カラーフィルタ基板に覆われている領域に存在し、前記接続線の幅は前記ユニットの中央部よりも前記ユニットの周辺部において幅が大きく、記端子部と前記接続線の間の前記補助配線は直線であり、前記補助配線の幅は２０μｍ以上であって、前記接続線の前記ユニットの中央部の幅よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
（２）前記補助配線の幅は２３μｍ以上であることを特徴とする（１）に記載の表示装置。
（３）前記補助配線の幅は前記端子部の幅と同じであることを特徴とする（１）に記載の表示装置。
【００１８】
（４）ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とシール部によって封止された内部に液晶を挟持した液晶表示パネルと、前記ＴＦＴ基板に取り付けられたフレキシブル配線基板を有する液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板には横方向に延在して縦方向に配列した走査線と縦方向に延在して横方向に配列したデータ信号線と、前記データ信号線と対応した端子部が形成され、前記端子部は前記フレキシブル配線基板ごとにユニットとして形成されており、前記端子部と前記データ信号線とは端子部から順に補助配線、接続線によって接続されており、前記接続線は前記カラーフィルタ基板に覆われている領域に存在し、前記接続線の幅は前記ユニットの中央部よりも前記ユニットの周辺部において幅が大きく、前記端子部と前記接続線の間の前記補助配線は直線であり、前記補助配線の幅は２０μｍ以上であって、前記接続線の前記ユニットの中央部の幅よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
（５）前記補助配線の幅は２３μｍ以上であることを特徴とする（４）に記載の表示装置。
（６）前記補助配線の幅は前記端子部の幅と同じであることを特徴とする（４）に記載の表示装置。
【００１９】
（７）ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とシール部によって封止された内部に液晶を挟持した液晶表示パネルと、前記ＴＦＴ基板に取り付けられたフレキシブル配線基板を有する液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板には横方向に延在して縦方向に配列した走査線と縦方向に延在して横方向に配列したデータ信号線と、前記走査線と対応した端子部が形成され、前記端子部は前記フレキシブル配線基板ごとにユニットとして形成されており、前記端子部と前記走査線とは端子部から順に補助配線、接続線によって接続されており、前記接続線は前記カラーフィルタ基板に覆われている領域に存在し、前記接続線の幅は前記ユニットの中央部よりも前記ユニットの周辺部において幅が大きく、前記補助配線は前記ユニットの中央部においては直線であり、前記ユニットの周辺部においては外側に配線される形状を有しており、前記補助配線の幅は２０μｍ以上であることを特徴とする液晶表示装置。
（８）前記補助配線の幅は２３μｍ以上であることを特徴とする（７）に記載の表示装置。
（９）前記補助配線の幅は前記端子部の幅と同じであることを特徴とする（７）に記載の表示装置。
【００２０】
（１０）ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とシール部によって封止された内部に液晶を挟持した液晶表示パネルと、前記ＴＦＴ基板に取り付けられたフレキシブル配線基板を有する液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板には横方向に延在して縦方向に配列した走査線と縦方向に延在して横方向に配列したデータ信号線と、前記データ信号線と対応した端子部が形成され、前記端子部は前記フレキシブル配線基板ごとにユニットとして形成されており、前記端子部と前記データ信号線とは端子部から順に補助配線、接続線によって接続されており、前記接続線は前記カラーフィルタ基板に覆われている領域に存在し、前記接続線の幅は前記ユニットの中央部よりも前記ユニットの周辺部において幅が大きく、前記補助配線は前記ユニットの中央部においては直線であり、前記ユニットの周辺部においては外側に配線される形状を有しており、前記補助配線の幅は２０μｍ以上であることを特徴とする液晶表示装置。
（１１）前記補助配線の幅は２３μｍ以上であることを特徴とする（１０）に記載の表示装置。
（１２）前記補助配線の幅は前記端子部の幅と同じであることを特徴とする（１０）に記載の表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、端子部をフレキシブル配線基板毎にユニットとして纏め、端子部と走査線を接続する部分に端子部から順に補助配線、接続線を形成しているので、走査線の配線抵抗を均一にすることが出来るとともに、端子部と走査線の間の断線を防止することが出来る。すなわち、補助配線の線幅をＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板が重なる範囲以外では２０μｍ以上とすることによって、ガラス屑等による傷が配線についても、このような傷による断線を防止することが出来る。
【００２２】
また、走査線の抵抗を均一に出来るように、接続線を前記ユニットの中央では直線とし、かつユニットの周辺では外側に広がるような配線とし、かつ、接続線の配線の幅をユニットの中央よりもユニットの周辺で大きくすることが出来る。これは補助配線の幅をユニットの中央における接続線の幅よりも小さくすることによって可能となる。
【００２３】
さらに、補助配線をユニットの中央で直線とし、ユニットの周辺では外側に広がるような配線とすることによって、走査線の抵抗の均一化がより容易とすることが出来る。この場合も、補助配線の幅を２０μｍ以上とすることによってガラス屑等による断線を防止することが出来る。
【００２４】
以上のような効果は走査線の端子部分のみでなく、データ信号線の端子部分においても同様に得ることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
実施例にしたがって、本発明の詳細な内容を開示する。
【実施例１】
【００２６】
図１は液晶表示装置のモジュールの概観図である。図１において液晶表示パネルはＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０から構成されている。
【００２７】
ＴＦＴ基板１０には、後述する図２に示すように、横方向に延在し、縦方向に配列した多数の走査線１１が形成されている。また、ＴＦＴ基板１０には縦方向に延在し、横方向に配列した多数のデータ信号線１２が形成されている。走査線１１とデータ信号線１２で囲まれた領域（画素領域）には薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と画素電極が形成されている。カラーフィルタ基板２０には、カラー画像を形成するためのカラーフィルタが画素電極と対応して形成されている。ＴＦＴ基板１０には端子部１００が形成されているので、カラーフィルタ基板２０よりも大きく形成されている。
【００２８】
図１において、左側短辺からは走査信号が供給され、上側長辺からはデータ信号が供給される。前記走査線１１或いはデータ信号線１２と接続する端子は前記フレキシブル配線基板３０毎にユニットとして纏まっている。
【００２９】
ＴＦＴ基板１０の左側短辺部にはフレキシブル配線基板３０がヒートシール等によって取り付けられている。フレキシブル配線基板３０には端子が一定間隔で形成されている。フレキシブル配線基板３０の端子部１００の間隔は液晶表示パネルの表示領域５０の走査線１１の間隔よりも小さい。ＴＦＴ基板１０の短辺部にとりつけられたフレキシブル配線基板３０には走査線ドライバ３１が取り付けられている。これらのフレキシブル配線基板３０はさらに電源回路等が形成されたプリント回路基板（ＰＣＢ）に接続される。フレキシブル配線基板３０は図１の点線部分で折り返され、ＰＣＢは液晶表示パネルの裏側に配置される。尚、走査線側のＰＣＢは接続されない場合もある。この場合、走査線ドライバ３１への信号や電力の供給は、データ信号線側のＰＣＢを介して行なわれる。
【００３０】
ＴＦＴ基板１０の上側長辺部には前記データ信号線１２に電気信号を供給するための端子部１００が形成されている。この端子部１００には、フレキシブル配線基板３０がヒートシール等によって取り付けられている。前記データ信号線１２と接続する端子は前記フレキシブル配線基板３０毎にユニットとしてまとまっている。フレキシブル配線基板３０にはデータ信号線ドライバ３２が取り付けられている。これらのフレキシブル配線基板３０は、タイミングコントローラ、ラダー抵抗等が取り付けられた或いは別基板に設けられたタイミングコントローラへの接続配線が形成されたＰＣＢと接続する。このＰＣＢは折り返されて液晶表示パネルの裏側に設置されることは短辺側と同様である。
【００３１】
図２は図１からフレキシブル配線基板３０等を省略し、走査線１１あるいはデータ信号線１２と端子部１００の形状を示す模式図である。図２にはフレキシブル配線基板３０毎にまとまった端子部１００の半分が描かれている。図２（ａ）は平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ断面図である。図２（ａ）において、ＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０とはシール部１５によってシールされており、シール部１５の内部には液晶が充填されている。
【００３２】
図２（ａ）に示す配線はフレキシブル配線基板３０の半分の配線を拡大して示したものである。図２（ａ）において、ＴＦＴ基板１０の端部にはフレキシブル配線基板３０と接続するための端子が形成されている。また、図２（ａ）における５０は表示領域である。
【００３３】
ＴＦＴ基板１０の短辺部には走査信号を供給するための端子部１００が形成されている。端子部１００の間隔は表示領域５０に形成された走査線１１の間隔よりも小さい。したがって、端子部１００と走査線１１をつなぐ接続線１１１は部分的に斜め配線となっている。また、ＴＦＴ基板１０の長辺部にはデータ信号を供給するための端子部１００が形成されている。端子部１００の間隔は表示領域５０に形成されたデータ信号線１２の間隔よりも小さい。したがって、端子部１００とデータ信号線１２をつなぐ接続線１１１は部分的に斜め配線となっていることは走査線１１側と同様である。
【００３４】
図２（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板１０およびカラーフィルタ基板２０は大きな基板から切断される。ＴＦＴ基板１０の切断線はＴＦＴＣであり、カラーフィルタ基板２０の切断線はＣＦＣである。カラーフィルタ基板２０およびＴＦＴ基板１０を切断したときに生ずる端材ＣＴは破棄されるが、切断時にガラス屑ＰＧが発生し、これが端子部１００と走査線１１或いはデータ信号線１２とをつなぐ接続線１１１に付着すると断線を引き起こす可能性がある。
【００３５】
図２（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０とのギャップｇ１は６μｍ程度であり、この中に入りこむガラス屑は小さいために、断線に対しては深刻な問題とはならない。一方、図２（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板１０でカラーフィルタ基板２０に覆われていない部分には大きなガラス屑が付着する恐れがあり、このような大きなガラス屑ＰＧによる配線への傷は断線不良を生ずる危険がある。
【００３６】
図３はＴＦＴ基板１０の短辺側の端子部１００付近を示す詳細図である。図３はフレキシブル配線基板３０の一枚分に対応する端子部１００のユニットを示している。図３（ａ）は平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ断面図である。図３（ａ）において、端子は特定間隔で配列されている。走査線間隔は端子間隔よりも大きいので走査線１１を端子部１００を接続する接続線１１１は端子部１００周辺においては斜め配線となっている。また、端子部１００からの走査線１１の抵抗を一定とするために、斜め配線部の線幅は異なっている。すなわち、中央部においては接続線１１１の長さが小さいので、配線幅は小さく、周辺に行くにしたがって、配線幅は大きくなっている。
【００３７】
図４は図３のＢ−Ｂ断面図で、端子部１００の構造を示すものである。この端子部１００の構造はボトムゲートタイプのＴＦＴを形成する場合に対応する端子部１００の断面構造である。図４において、ガラス基板上にはゲート配線（走査線１１）と同一の下地金属膜１１０が形成されている。一般にはこの層はＭｏ−Ａｌ−Ｍｏの３層構造となっている。Ａｌが電気伝導の主体となるが、Ａｌのヒロックを防止するため、あるいはＩＴＯ１０５とＡｌの接触によってＡｌが酸化されることを防止するため等の理由から、ＭｏでＡｌを被覆している。
【００３８】
図４において、下地金属膜１１０はゲート絶縁膜１０２およびパッシベーション膜１０４で保護されている。フレキシブル配線基板３０と接続するために、ゲート絶縁膜１０２およびパッシベーション膜１０４にスルーホールを形成し、スルーホール部を化学的に安定な透明導電膜であるＩＴＯ１０５によって覆う。端子部１００のＩＴＯ１０５の形成は表示領域５０内の画素電極の形成と同時に行なわれる。ＩＴＯ１０５部分はフレキシブル配線基板３０で覆われるので、ＩＴＯ１０５部分よりも表示領域５０側である領域ＤＡにおいて、ガラス屑等による断線の区間が生ずる。下地金属膜１１０はゲート絶縁膜１０２、パッシベーション膜１０４等によって保護されているが、これらの膜は２００ｎｍから３００ｎｍ程度なので、ガラス屑が付着し、外部から圧力が加わったりすると破壊し、下地金属膜１１０を保護することが出来ない。
【００３９】
図３に戻り、本発明の特徴を説明する。本発明の主たる特徴は、端子部１００からカラーフィルタ基板２０に覆われる部分までの領域ＤＡについて、接続線１１１の幅を大きくした補助配線１１２の領域を設けた点である。図３（ａ）では、領域ＤＡにおける補助配線１１２の線幅は端子部１００の幅と同じにしている。
【００４０】
本発明者らは、補助配線１１２の線幅について様々な実験を行なった。この実験によると、領域ＤＡにおける線幅ｗを２０μｍ以上とすると、断線不良はゼロとすることが出来ることが分かった。ガラス屑ＰＧによって半断線は市場において不良を生ずる恐れがあるので、深刻である。ガラス屑等による配線に対する傷は避けられないが、ある程度の線幅を確保できれば、たとえ、配線に傷が生じても残りの部分で必要な電流を流すことが出来、市場での断線は防止することが出来る。本発明者らの実験によれば、補助配線１１２の線幅ｗが２０μｍを超えれば、ガラス屑ＰＧが発生している状況でも、市場において断線不良が発生する可能性がほぼゼロとなることが確認された。さらに、線幅ｗが２３μｍを超えると、不良率は確実にゼロとすることが出来ることが確認された。
【００４１】
尚、図３では、補助配線１１２は中央部も周辺も同じ幅ｗとしているが、本実施例は同じとする必要は無い。線間ショートを生じない範囲で補助配線１１２の幅を大きくすることが出来る。
【００４２】
本実施例の特徴は、ＴＦＴ基板１０の端子部１００からＴＦＴ基板１０がカラーフィルタ基板２０によって覆われるまでの領域ＤＡの補助配線１１２を端子部１００から直線で延ばし、その後、走査線１１の抵抗を一定とするために、接続線１１１の線幅を変えている。このような構成とすることによって、線幅ｗが一定の領域ＤＡを過ぎた領域では、走査線１１と接続する接続線１１１の幅を補助配線１１２の幅あるいは端子幅よりも小さくすることが出来る。
【００４３】
したがって、本構成によれば、図３（ａ）における領域ＤＡでの補助配線１１２の線幅ｗを一定値以上、例えば、２０ミクロン以上として、断線に対する危険を防止した場合でも、その後の接続線１１１の幅を小さくすることが出来るので、従来と同じように、斜め配線の線幅を変えることによって走査線１１の抵抗を均一に揃えることが出来る。
【００４４】
なお、図３における領域ＤＡの長さは１ｍｍ程度であるから、走査線１１全体の抵抗に対してはほとんど影響が無い。一方、領域ＤＡにおいて、一定線幅ｗの領域を形成したことによる表示領域５０への影響、つまり額縁の大きさに影響が出る可能性がある。しかし、接続線１１１の中央部と周辺部の線幅の比を変化することによって調整することが出来る。  すなわち、走査線１１との接続線１１１において、カラーフィルタ基板２０によって覆われていて断線の危険の無い部分のみの線幅によって抵抗を調整しているので、従来よりもさらに線幅に差をつけることが出来る。そうすると、額縁を大きくしなくとも、走査線１１の抵抗値の調整が可能になる。
【００４５】
また、本実施例においては、図３における領域ＤＡの線幅ｗは、２０μｍ以上であれば断線のリスクを回避することことが出来るが、線幅ｗを更に大きくしても問題は無い。図３（ａ）に示すように、端子部１００の幅と同一にしても良いし、端子部１００の幅よりも小さくしても良い。（端子部１００の線幅は、TFT基板１０の長辺側で７５μｍ、短辺側で３０μｍ程度である。）
図３において、ガラス屑ＰＧはＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０とのギャップｇ１よりも大きいのでギャップｇ１には入り込まない。ギャップｇ１に入り込むような小さなガラス屑による傷は断線の原因にはならない。但し、接続線１１１には配線が細い部分が存在するので、この部分がシール部１５よりも外側だと小さなガラス屑PGの影響を受ける可能性もある。このような場合は、接続線１１１をシール部１５の下かシール部よりも内側にくるようにすれば良い。
【００４６】
以上は図２におけるTFT基板１０の短辺側に形成された走査線１１用の端子部１００の部分について説明した。同じことは図２におけるTFT基板１０の長辺側に形成されたデータ信号線１２用の端子部１００についても同様に適用することが出来る。データ信号線用端子部１００は図４に示すように、走査線１１用端子部１００の構成を使用することが出来る。すなわち、層形成のプロセスにおいて、走査線１１用の端子を形成するときに、同時に同じ構成の端子をデータ信号線１２用の端子として長辺側に形成することが出来る。そして、製造プロセスの途中において、データ信号線１２と長辺側に形成された端子部１００とを接続すればよい。
【００４７】
一方、データ信号線１２用の端子部１００を走査線１１用の端子部１００とは別構成に形成することも出来る。この場合の例を図５に示す。図５において、下地金属膜１１０にはデータ信号線１２と同一の層構成を持つ積層金属が延在している。この下地金属膜１１０もＡｌ膜を主体として、Ａｌ膜がＣｒあるいはＭｏ等の薄い金属膜で被覆されている構成となっている。Ａｌのヒロック防止あるいはＩＴＯ１０５との接触において、Ａｌが酸化されて導通不良を起こすことを防止するためである。
【００４８】
図５において、下地金属膜１１０はパッシベーション膜１０４によって覆われているが、端子部１００においては、電気的導通をとるためにスルーホールが形成されている。そして、このスルーホールを覆って透明導電膜であるＩＴＯ１０５が形成されている。このような端子部１００の構成であっても本発明を適用することにはなんら問題は無い。
【００４９】
以上のように、端子部１００の断面構造が違う場合であっても、図２の長辺側に形成されたデータ信号線１２用の端子部１００付近の平面の構成は図２の短辺側に形成された端子部１００付近の構成と同様な構成とすることが出来る。したがって、長辺側の端子部１００付近での断線も短辺側と同様に防止することが出来る。
【実施例２】
【００５０】
図６は本発明の第２の実施例である。図６（ａ）は図２の短辺部に形成された走査線１１の端子部１００の詳細図であり、フレキシブル配線基板３０一枚分に対応する端子のユニットおよびその付近の配線の形状である。図６（ｂ）は図６（ａ）のＡ−Ａ断面図である。図６（ｂ）においては、断線を生じさせるガラス屑ＰＧはＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０の間には入りこまない。図６におけるＴＦＴ基板１０、カラーフィルタ基板２０、シール部１５等については、実施例１の図３と同様である。また、端子部１００の断面構造も実施例１の図４と同様である。
【００５１】
本実施例の特徴は、端子部１００から走査線１１に対する接続線１１１までの接続を線幅ｗが一定の補助配線１１２を用いていることであるが、この補助配線１１２は周辺に行くにしたがって、斜め配線としている。図６に示すように補助配線１１２を外側に広げることによって、走査線１１の抵抗を一定にするための斜め配線の引き回しの自由度を大きくすることが出来る。
【００５２】
補助配線１１２の太さは、実施例１と同様に２０μｍ以上とする必要がある。また、補助配線１１２の太さは好ましくは２３μｍ以上である。図６においては、補助配線１１２の幅は端子部１００の幅と同じとしているが、２０μｍ以上であれば、必ずしも端子部１００の幅と同じとしなくとも良い。すなわち、線間ショートの危険が無い範囲で線幅を太くしても良いし、ＤＡの範囲を更に小さくするために、線幅を小さくしても良い。また一本の補助配線１１２は一定の幅としたが、この場合も２０μｍ以上であれば、必ずしも一定とする必要は無い。
【００５３】
すなわち、接続線１１１が補助配線１１２と接続する部分はすでに広がっているので、周辺の斜め配線の線幅を大きくすることが出来る。周辺の斜め配線の幅を大きくすることが出来るということは、額縁の大きさを小さくすることが出来るということである。一方、周辺の斜め配線を大きくすることが出来るので、中央部での接続線１１１の配線の太さを大きくすることができる。このような場合は、ＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０とのギャップｇ１に小さなガラス屑が入り込んだ場合でも接続線１１１の細い部分が無いので、断線を生じることは無い。図６は補助配線１１２がシール部１５より外側で終わっているが、補助配線１１２はシール部１５の下、あるいはシール部１５よりも内側まで延びてもよいことは言うまでもない。
【００５４】
以上の説明は図２におけるTFT基板１０の短辺部に形成された走査線１１用の端子部１００を例にとって説明したが、図２におけるTFT基板１０の長辺部に形成されたデータ信号線１２用の端子部１００についても同様に適用することが出来る。データ信号線１２用の端子部１００が走査線１１用の端子部１００と同じ構造か否かに関わらず本実施例を適用することが出来る。
【００５５】
以上にように本実施例によれば、ガラス屑等の異物による端子部１００付近の断線を防止することが出来、信頼性の高い液晶表示装置を実現することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】液晶表示装置の概観図である。
【図２】本発明を説明する端子部の配線形状である。
【図３】実施例１の端子部付近の配線構造である。
【図４】端子部の断面構造である。
【図５】端子部の他の断面構造である。
【図６】実施例２の端子部付近の配線構造である。
【図７】従来例による端子部付近の配線構造である。
【図８】端子部の周辺部で線間距離が小さくなる場合の例である。
【符号の説明】
【００５７】
１０…ＴＦＴ基板、  １１…走査線、  １２…データ信号線、  １５…シール部、  ２０…カラーフィルタ基板、  ３０…フレキシブル配線基板、  ３１…走査線ドライバ、  ３２…信号線ドライバ、  １００…端子部、  １０２…ゲート絶縁膜、  １０４…パッシベーション膜、  １０５…ＩＴＯ、  １１０…下地金属膜、  １１１…接続線、  １１２…補助配線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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