(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機ガラスを主成分とする基礎釉薬に、フェライト粉末を含有し、前記フェライト粉末を電磁波の吸収で発熱する三酸化第二鉄でなる酸化鉄粉末及び酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化銅でなる非磁性酸化金属粉末を含んで組成してなり、
鋼板でなる基材の表面に対して、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末が分散され、前記無機ガラスで前記フェライト粉末を被覆する発熱琺瑯層を形成する発熱琺瑯釉薬であって、
（１）前記基礎釉薬：１５０ｇに対して、前記フェライト粉末：５０ｇを添加して作成され、
（２）前記フェライト粉末の配合比率は、
三酸化第二鉄：４９．５４ｍｏｌ％
酸化亜鉛：２３．３０ｍｏｌ％
酸化ニッケル：２０．９１ｍｏｌ％
酸化銅：６．２５ｍｏｌ％
であり、
（３）前記基材である前記鋼板の表面に、膜厚：６５〜１７６μｍの前記発熱琺瑯層を形成すると共に、
前記鋼板表面の前記発熱琺瑯層に、周波数：２４５０ＭＨｚの電磁波を３分間照射した後の照射後温度は、１５８．２〜１８６．３℃である
ことを特徴する発熱琺瑯釉薬。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波で発熱する発熱琺瑯層を形成する発熱琺瑯釉薬、発熱琺瑯層を有する電磁誘導加熱装置、及び発熱琺瑯層を形成してなる発熱琺瑯製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、食材を調理する調理容器等の金属製品は、耐蝕性及び耐錆性を図るため、調理容器の表面にガラス質の琺瑯層を形成する。ガラス質の琺瑯層は、調理容器の表面に琺瑯釉薬を塗布（施釉）して、焼成することで形成される。
【０００３】
琺瑯釉薬の技術として、特許文献１に開示する技術は、無機ガラス、電解質物質及び金属アルミニウム粉末を含有する組成を開示する。
特許文献１に開示する技術では、琺瑯釉薬と金属製品（調理容器）の密着性を向上して、琺瑯層を効率良く形成できる。
【０００４】
特許文献１に開示する技術において、琺瑯層は、無機ガラス及び金属アルミニウム粉末（非磁性体）で形成しているので、電磁波（マイクロ波）の照射で食材を加熱調理できる温度まで発熱し難いものである。
従って、琺瑯層の調理容器内の食材を電子レンジで加熱調理する際には、電磁波（マイクロ波）で食材中の水分子を振動させる現象を利用して食材を加熱することになるので、琺瑯層の調理容器を使用しても、琺瑯層の発熱では十分に食材を加熱できず、しかも食材を加熱する調理時間も長くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−３０２４８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、電磁波を吸収して急激に発熱する発熱琺瑯層を形成する発熱琺瑯釉薬、発熱琺瑯層を有する電磁誘導加熱装置、及び発熱琺瑯層を形成してなる発熱琺瑯製品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１に係る発明は、無機ガラスを主成分とする基礎釉薬に、フェライト粉末を含有し、前記フェライト粉末を電磁波の吸収で発熱する三酸化第二鉄でなる酸化鉄粉末及び酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化銅でなる非磁性酸化金属粉末を含んで組成してなり、鋼でなる基材の表面に対して、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末が分散され、前記無機ガラスで前記フェライト粉末を被覆する発熱琺瑯層を形成する発熱琺瑯釉薬であって、（１）前記基礎釉薬：１５０ｇに対して、前記フェライト粉末：５０ｇを添加して作成され、（２）前記フェライト粉末の配合比率は、三酸化第二鉄：４９．５４ｍｏｌ％、酸化亜鉛：２３．３０ｍｏｌ％、酸化ニッケル：２０．９１ｍｏｌ％、酸化銅：６．２５ｍｏｌ％であり、（３）前記基材である前記鋼板の表面に、膜厚：６５〜１７６μｍの前記発熱琺瑯層を形成すると共に、前記鋼板表面の前記発熱琺瑯層に、周波数：２４５０ＭＨｚの電磁波を３分間照射した後の照射後温度は、１５８．２〜１８６．３℃であることを特徴する発熱琺瑯釉薬である。
【０００８】
本発明の請求項２に係る発明は、電磁波を発振する電磁波発振手段と、被加熱体を収納して、前記電磁波の照射で前記被加熱体を加熱する加熱空間と、基材で形成され、前記加熱空間内で前記被加熱体を支持する支持体を含んで構成される電磁誘導加熱装置であって、前記支持体の基材の表面に、前記電磁波の照射で発熱する発熱琺瑯層を形成し、前記発熱琺瑯層は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末を分散させて形成され、前記フェライト粉末は、前記電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成されることを特徴とする電磁誘導加熱装置である。
【０００９】
本発明の請求項３に係る発明は、前記加熱空間は、基材で区画され、前記基材の表面に、前記発熱琺瑯層を形成してなることを特徴とする請求項２に記載の電磁誘導加熱装置である。
【００１０】
本発明の請求項４に係る発明は、前記基材は、前記発熱琺瑯層を被覆するガラス質の保護琺瑯層を有してなることを特徴とする請求項２又は３に記載の電磁誘導加熱装置である。
【００１１】
本発明の請求項５に係る発明は、製品形状の形成される基材を備え、前記基材の表面に、電磁波の照射で発熱する発熱琺瑯層を形成してなる発熱琺瑯製品であって、前記発熱琺瑯層は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有し、前記無機ガラス中に前記フェライト粉末を分散させて形成され、前記フェライト粉末は、前記電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成されることを特徴とする発熱琺瑯製品である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明によれば、発熱琺瑯釉薬は、無機ガラスにフェライト粉末を含有し、フェライト粉末を電磁波の吸収で発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成しており、しかも基材の表面に対して、無機ガラス中にフェライト粉末が分散する発熱琺瑯層を形成する。
これにより、無機ガラス中に分散するフェライト粉末は、電磁波（マイクロ波）を吸収すると、急激に発熱して、発熱琺瑯層を急激に温度上昇させる。特に、フェライト粉末は、酸化鉄、及び非磁性酸化金属を含んで組成されるので、酸化鉄の発熱、非磁性酸化金属の発熱による相乗効果で、急激な発熱特性を得られる。
フェライト粉末を無機ガラス中に分散すると、フェライト粉末の発熱は無機ガラスで抑制でき、電磁波を照射しても、発熱琺瑯層は、一定温度まで上昇し、その後一定温度以上に昇温することが抑制される。
基材は、発熱琺瑯層の無機ガラスで被覆されるので、耐蝕性及び耐錆性に優れたものにされる。
フェライト粉末は、無機ガラス中に分散され、無機ガラスで被覆されるので、発熱琺瑯層に電磁波を照射しても、空気（酸素）に触れることなく、発火を防止できる。
フェライト粉末として、第一のフェライト粉末（酸化金属粉末）は、三酸化第二鉄、非磁性酸化金属である酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム及び酸化クロムで組成され、第二のフェライト粉末は、三酸化第二鉄、非磁性酸化粉末である酸化亜鉛及び酸化マグネシウムで組成され、第三のフェライト属粉末は、三酸化第二鉄（磁性酸化鉄）、非磁性酸化金属である酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅で組成される。
第一〜第三のフェライト粉末の酸化鉄、非磁性酸化金属の配合比率を適宜選択すると、無機発熱琺瑯層の温度、温度上昇幅を制御できる。
琺瑯用基材は、鋼、ステンレス鋼、アルミニウム、銀、金、セラミックス（陶磁）等である。
【００１３】
本発明の請求項２に係る発明によれば、電磁誘導加熱装置の支持体の基材表面に発熱琺瑯層を形成したので、支持体の発熱琺瑯層において、フェライト粉末は、電磁波（マイクロ波）を吸収して急激に発熱する。支持体に支持される被加熱体は、支持体の発熱琺瑯層から直接的に伝達される熱によって急激に加熱される。これにより、被加熱体は、短時間で急激に加熱され、例えば、食材を加熱する調理時間を短縮できる。
【００１４】
本発明の請求項３に係る発明によれば、加熱空間を区画する基材の表面に発熱琺瑯層を形成したので、加熱空間を区画する基材の発熱琺瑯層において、フェライト粉末は、電磁波を吸収して急激に発熱する。支持体に支持される被加熱体は、加熱空間を区画する基材の発熱琺瑯層から加熱空間を通して伝搬される熱によって急激に加熱される。これにより、加熱空間内に収納される被加熱体の全体は、均一に加熱される。
【００１５】
本発明の請求項４に係る発明によれば、発熱琺瑯層を無機ガラス質の琺瑯層で被覆しているので、発熱琺瑯層のフェライト粉末は、無機ガラス中に閉じ込められ、各琺瑯層から露出することが防止され、フェライト粉末が空気（酸素）に触れて発火することを防止できる。
【００１６】
本発明の請求項５に係る発明によれば、発熱琺瑯製品の無機ガラス中に分散するフェライト粉末は、電磁波（マイクロ波）を吸収すると、急激に発熱して、発熱琺瑯層を急激に温度上昇させる。特に、フェライト粉末は、電磁波を吸収して発熱する酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成されるので、酸化鉄と非磁性酸化金属の発熱による相乗効果によって、急激な発熱特性を得られる。特に、食材を加熱する発熱琺瑯製品において、発熱琺瑯製品の発熱琺瑯層は急激に発熱して、発熱琺瑯層の熱を直接的に食材に伝達して加熱でき、加熱する時間を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】発熱特性試験１において、実施例Ａ〜Ｆ及び比較例１〜１１の温度上昇幅を示すグラフ図である。
【図２】発熱特性試験２において、実施例Ｂ１〜Ｂ５及び実施例Ｃ１〜Ｃ４の温度上昇幅を示すグラフ図である。
【図３】発熱特性試験２において、実施例Ｂ１〜Ｂ３及び実施例Ｃ３の照射後温度（１８０Ｔ）を示すグラフ図である。
【図４】発熱特性試験３において、実施例Ｃ６の各照射後温度を示すグラフ図である。
【図５】発熱特性試験３において、実施例Ｃ７〜Ｃ１０の照射後温度を示すグラフ図である。
【図６】発熱特性試験４において、比較例１０〜１５及び実施例Ｃ１１の照射後温度を示すグラフ図である。
【図７】発熱特性試験５において、比較例１６、１７及び実施例Ｃ１２の各照射後温度を示すグラフ図である。
【図８】発熱特性試験６において、実施例Ｂ６〜Ｂ９の温度上昇幅を示すグラフ図である。
【図９】発熱特性試験７において、実施例Ｂ１０〜Ｂ１２及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１６の温度上昇幅を示すグラフ図である。
【図１０】電磁誘導加熱装置（電子レンジ）を示す正面図である。
【図１１】図１０のＡ−Ａ断面図である。
【図１２】図１０のＢ−Ｂ断面図である。
【図１３】基材、発熱琺瑯層及び保護琺瑯層の構成を示す拡大断面図である。
【図１４】発熱琺瑯製品を示す図である。
【図１５】発熱琺瑯製品、耐熱樹脂を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に係る発熱琺瑯釉薬について説明する。発熱琺瑯釉薬は、無機ガラスを主成分として、フェライト粉末を含有する。フェライト粉末は、電磁波を吸収して発熱する酸化鉄、及び電磁波を吸収して発熱する非磁性酸化金属を含んで組成される。フェライト粉末の具体例として、第一のフェライト粉末Ａは、三酸化第二鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化マンガン（ＭｎＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）及び酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）で組成する。
第二のフェライト粉末Ｂは、三酸化第二鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び酸化マンガン（ＭｎＯ）で組成する。
第三のフェライト粉末Ｃは、三酸化第二鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ニッケル（ＮｉＯ）及び酸化銅（ＣｕＯ）で組成する。
発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬に１種類のフェライト粉末を添加・撹拌して作成される。基礎釉薬は、無機ガラス粉末を水に撹拌して作成され、無機ガラス粉末を水中に懸濁するため、粘土（例：カオリン）や電解質物質（例：亜硝酸ナトリウム、酸化マグネシウム）を添加（配合）することもでき、更に耐火物（例：二酸化ケイ素）や顔料を添加（配合）することもできる。
発熱琺瑯釉薬は、基材の表面に施釉（塗布）され、焼成によって基材の表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末を分散・含有してなる。
基材は、鋼、ステンレス鋼、アルミニウム、銀、金及びセラミックス（陶磁）等である。
【００１９】
発熱琺瑯釉薬の発熱特性試験１〜７について、表１乃至表８、及び図１乃至図９を参照して説明する。
【００２０】
＜発熱特性試験１＞
発熱特性試験１は、各種の金属粉末を含有する琺瑯層（又は発熱琺瑯層）の関係において、琺瑯層（又は発熱琺瑯層）の温度変化を計測する。
【００２１】
（１）試料板片
本発明の実施例Ａ〜Ｆの試料板片、及び比較例１〜９の試料板片である（表１参照）。
【００２２】
（比較例１の試料板片）
比較例１において、基礎釉薬に三酸化第二鉄（Ｆｅ２Ｏ３）粉末を添加・撹拌して試料釉薬１を作成する。
比較例１の試料板片は、試料釉薬１を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例１の琺瑯層は、無機ガラス中に三酸化第二鉄粉末：１．６ｇ／０．０１ｍｏｌを分散・含有する。
【００２３】
■基礎釉薬の組成及び配合比率は、
無機ガラス：１００
粘土：７
電解質物質：０．６
顔料：３
水：５０
である。
基礎釉薬の配合比率は、無機ガラス：１００に対して、粘土：１〜１０、電解質物質：０．１〜３、顔料：０．１〜１５、及び水：３５〜７５の範囲で選択することもできる。
【００２４】
（比較例２の試料板片）
比較例２において、基礎釉薬に酸化亜鉛（ＺｎＯ）粉末を添加・撹拌して試料釉薬２を作成する。
比較例２の試料板片は、試料釉薬２を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例２の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化亜鉛粉末：０．８ｇ／０．０１ｍｏｌを分散・含有する。
【００２５】
（比較例３の試料板片）
比較例３において、基礎釉薬に二酸化錫（ＳｎＯ２）粉末を添加・撹拌して試料釉薬３を作成する。
比較例３の試料板片は、試料釉薬３を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例３の琺瑯層は、無機ガラス中に二酸化錫粉末：１．５ｇ／０．０１ｍｏｌを分散・含有する。
【００２６】
（比較例４の試料板片）
比較例４において、基礎釉薬に酸化錫（ＳｎＯ）粉末を添加・撹拌して試料釉薬４を作成する。
比較例４の試料板片は、試料釉薬４を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例４の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化錫粉末：１．３ｇ／０．０１ｍｏｌを分散・含有する。
【００２７】
（比較例５の試料板片）
比較例５において、基礎釉薬に酸化銅（ＣｕＯ）粉末を添加・撹拌して試料釉薬５を作成する。
比較例５の試料板片は、試料釉薬５を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例５の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化銅粉末：０．８ｇ／０．０１ｍｏｌを分散・含有する。
【００２８】
（比較例６の試料板片）
比較例６において、基礎釉薬に二酸化銅（ＣｕＯ２）粉末を添加・撹拌して試料釉薬６を作成する。
比較例６の試料板片は、試料釉薬６を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例６の琺瑯層は、無機ガラス中に二酸化銅粉末：１．４ｇ／０．０１ｍｏｌを分散・含有する。
【００２９】
（比較例７の試料板片）
比較例７において、基礎釉薬に酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末を添加・撹拌して試料釉薬７を作成する。
比較例７の試料板片は、試料釉薬７を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例７の琺瑯層は、無機ガラス中に酸化アルミニウム粉末：１．０ｇを分散・含有する。
【００３０】
（比較例８の試料板片）
比較例８において、基礎釉薬に銅（Ｃｕ）粉末を添加・撹拌して試料釉薬８を作成する。
比較例８の試料板片は、試料釉薬８を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例８の琺瑯層は、無機ガラス中に銅粉末：１．０ｇを分散・含有する。
【００３１】
（比較例９の試料板片）
比較例９において、基礎釉薬にゲルマニウム（Ｇｅ）粉末を添加・撹拌して試料釉薬９を作成する。
比較例９の試料板片は、試料釉薬９を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
比較例９の琺瑯層は、無機ガラス中にゲルマニウム粉末：１．０ｇを分散・含有する。
【００３２】
（実施例Ａの試料板片）
実施例Ａにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Ａを添加・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ａを作成する。
実施例Ａの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ａを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ａの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ａ：１ｇを分散・含有する。
■フェライト粉末Ａの組成及び配合比率（ｍａｓｓ％）は、
三酸化第二鉄：８０
酸化ケイ素：１０
酸化亜鉛：５．９
酸化マンガン：２．７
酸化ストロンチウム：０．６
酸化クロム：０．３
である。
【００３３】
（実施例Ｂの試料板片）
実施例Ｂにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Ｂを添付・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｂを作成する。
実施例Ｂの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｂを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｂ：１ｇを分散・含有する。
■フェライト粉末Ｂの組成及び配合比率（ｍｏｌ％）は、
三酸化第二鉄：５２．８５
酸化亜鉛：１１．９２
酸化マンガン：３５．２３
である。
【００３４】
（実施例Ｃの試料板片）
実施例Ｃにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Ｃを添付・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｃを作成する。
実施例Ｃの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｃを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｃ：１ｇを分散・含有する。
■フェライト粉末Ｃの組成及び配合比率（ｍｏｌ％）は、
三酸化第二鉄：４９．５４
酸化亜鉛：２３．３０
酸化ニッケル：２０．９１
酸化銅：６．２５
である。
【００３５】
（実施例Ｄの試料板片）
実施例Ｄにおいて、基礎釉薬にフェライト粉末Ｄを添加・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｄを作成する。
実施例Ｄの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｄを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｄの発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｄ：１ｇを分散・含有する。
■フェライト粉末Ｄの組成及び配合比率（ｍｏｌ％）は、
三酸化第二鉄：４９．３９
酸化亜鉛：３２．１４
酸化ニッケル：１２．７０
酸化銅：５．７７
である。
フェライト粉末Ｄの組成は、上記フェライト粉末Ｃと同一組成である。
【００３６】
（実施例Ｅの試料板片）
実施例Ｅにおいて、上記フェライト粉末Ｃを１３００℃で二時間過熱して過熱・フェライト粉末Ｅを作成する。基礎釉薬に過熱・フェライト粉末Ｅを添加・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｅを作成する。
実施例Ｅの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｅを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｅの発熱琺瑯層は、無機ガラス中に過熱・フェライト粉末Ｅ：１ｇを分散・含有する。
【００３７】
（実施例Ｆの試料板片）
実施例Ｆにおいて、上記フェライト粉末Ｄを１３００℃で二時間過熱して過熱・フェライト粉末Ｆを作成する。基礎釉薬に過熱・フェライト粉末Ｆを添加・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｆを作成する。
実施例Ｆの試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｆを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｆの発熱琺瑯層は、無機ガラス中に過熱・フェライト粉末Ｆ：１ｇを分散・含有する。
【００３８】
（２）試験条件
比較例１〜９の試料板片、実施例Ａ〜Ｆの試料板片を、電子レンジ（電磁誘導加熱装置）内に装着し、マイクロ波（電磁波）を試料板片の琺瑯層（又は発熱琺瑯層）に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚとする。
マイクロ波の照射後、比較例１〜９の琺瑯層の温度、及び実施例Ａ〜Ｆの発熱琺瑯層の温度を計測する。
琺瑯層、発熱琺瑯層の温度は、マイクロ波を照射する前の照射前温度（ＳＴ）、及びマイクロ波を３分間照射した後の照射後温度（１８０ＦＴ）を計測する。
【００３９】
（３）発熱特性試験１の結果
発熱特性試験１の結果について、表１、及び図１のグラフに示し、説明する。
表１は、比較例１〜９、及び実施例Ａ〜Ｆにおいて、金属粉末の配合重量（ｇ）、照射前温度（ＳＴ）、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示している。図１のグラフは、照射前温度（ＳＴ）及び照射後温度（１８０ＦＴ）の温度差である温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示している。
【００４０】
【表１】
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【００４１】
上記表１において、比較例１〜７の琺瑯層は、１種類の酸化金属粉末を分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：４３．３℃〜１４１．５℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１７．２℃〜１１５．３℃の温度値を示している。１種類の酸化金属粉末を分散・含有する琺瑯層は、酸化銅又は二酸化銅を分散・含有すると、照射後温度（１８０ＦＴ）：１４０℃前後、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１１５℃前後の温度値を示す発熱特性にできる（図１参照）。
比較例８の琺瑯層は、１種類の銅粉末を分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：２９９．７℃、温度上昇幅（１８０Ｈ）：２７１．４℃の温度値を示し、比較例９の琺瑯層は、１種類のゲルマニウム粉末を分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：１６２．１℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１３４．７℃の温度値を示している。
比較例８の銅粉末は、マイクロ波を吸収して繰り返し発熱すると酸化され、比較例５、６の酸化銅粉末、二酸化銅粉末の照射後温度（１８０ＦＴ）：１４０℃前後、及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１１５℃前後の温度値を示す発熱特性になる。
１種類の金属粉末を分散・含有する琺瑯層は、ゲルマニウム粉末を分散・含有すると、照射後温度（１８０ＦＴ）：１６２℃前後、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１３５℃前後の温度値を示す発熱特性を得られる。
発熱特性試験１において、１種類の酸化金属粉末、又は１種類の金属粉末を分散・含有する琺瑯層（比較例１〜９）は、比較例９において、最高の照射後温度（１８０ＦＴ）：１６２℃前後及び最高の温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１１５℃前後の温度値を示す発熱特性を得られる。
上記表１において、実施例Ａの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Ａを分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：２８６．３℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：２５９．８℃の温度値を示す発熱特性を得ている（図１参照）。
実施例Ｂの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Ｂを分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：２００．３℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１６１．３℃の温度値を示す発熱特性を得ている。実施例Ｃの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Ｃを分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：２１８．３℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１７９．１℃の温度値を示す発熱特性を得ている。実施例Ｅの発熱琺瑯層は、過熱・フェライト粉末Ｅを分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：２４５．５℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：２１６．０℃の温度値を示す発熱特性を得ている（図１参照）。
実施例Ａ〜Ｃ、Ｅの発熱特性は、比較例１〜９の発熱特性よりも、高温域の照射後温度（１８０ＦＴ）の温度値を示し、温度上昇幅（１８０ＨＴ）も大きい温度上昇幅を示している。これにより、実施例Ａ〜Ｃ、Ｅのフェライト粉末Ａ〜Ｃ、Ｅは、マイクロ波を吸収して急激に発熱し、発熱琺瑯層を２００℃程度の照射後温度（１８０ＦＴ）まで温度上昇している。２００℃の温度は、食材等を加熱、又は加熱調理するのに適した温度であり、実施例Ａ〜Ｃ、Ｅの発熱琺瑯層は、急激に温度上昇して２００℃の温度領域に達し、食材等の加熱を短時間で実施できる。
実施例Ａのフェライト粉末Ａは、磁性酸化鉄（三酸化第二鉄）粉末、非磁性酸化金属（酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム、酸化クロム）粉末、及び酸化ケイ素粉末で組成され、実施例Ｂのフェライト粉末Ｂは、磁性酸化鉄（三酸化第二鉄）粉末、及び非磁性酸化金属（酸化亜鉛、酸化マンガン）粉末で組成され、実施例Ｃ、Ｅのフェライト粉末Ｃ、Ｅは、磁性酸化鉄（三酸化第二鉄）粉末、及び非磁性酸化金属（酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化銅）粉末で組成される。酸化鉄粉末及び非磁性酸化金属粉末を分散・含有する発熱琺瑯層は、酸化鉄粉末の発熱及び非磁性酸化金属の発熱による相乗効果に加えて、無機ガラスの影響によって、マイクロ波を効率的、急速に吸収して、発熱量を飛躍的に増大していると考えられる。実施例Ａ〜Ｃ、Ｅにおいて、フェライト粉末Ａ〜Ｃ、Ｅは、発熱琺瑯層の無機ガラス中に分散することで、粉末粒子の接触、重なりを最小限にでき、マイクロ波を効率的に吸収していると考えられる。
このように、実施例Ａ〜Ｃ、Ｅの発熱琺瑯層では、フェライト粉末を酸化鉄粉末おｙ美非磁性酸化金属粉末で組成することで、急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ることができる。
上記表１において、実施例Ｄ、Ｆの発熱琺瑯層は、フェライト粉末Ｄ、過熱・フェライト粉末Ｆを分散・含有し、照射後温度（１８０ＦＴ）：１３１．２℃、１１０．２℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１０３．３℃、８２．０℃の温度値を示す発熱特性を得ている（図１参照）。実施例Ｄ、Ｆの発熱特性は、比較例６の二酸化銅粉末と同程度の温度値（発熱特性）を示している。実施例Ｄ、Ｆのフェライト粉末Ｄ、Ｆは、実施例Ｃ、Ｅのフェライト粉末Ｃ、Ｅと同一組成でなり、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅の配合比率（ｍｏｌ％）を異にする。
フェライト粉末Ｄ、Ｆの配合比率（ｍｏｌ％）と、フェライト粉末Ｃ、Ｅの配合比率（ｍｏｌ％）を対比すると、三酸化第二鉄の配合比率は同程度（４９．５４ｍｏｌ％／４９．３９ｍｏｌ％）であり、酸化亜鉛の配合比率及び酸化ニッケルの配合比率は９（ｍｏｌ％）前後で相異している。
従って、フェライト粉末Ｃ〜Ｄでは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル、及び酸化銅の配合比率（ｍｏｌ％）に基づいて、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）も変動し、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）の温度値に影響を与える要因になる。
なお、フェライト粉末Ａ、Ｂにおいても、フェライト粉末Ｃ、Ｄと同様であり、フェライト粉末Ａ、Ｂの配合比率は、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）の温度値に影響を与える要因になる。
上記表１において、実施例Ｃ、Ｅのフェライト粉末Ｃ、Ｅは、同一組成及び同一の配合比率（ｍｏｌ％）で構成され、過熱処理によって、実施例Ｅの発熱琺瑯層は、実施例Ｃと比較して、高い照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）を示しており、フェライト粉末を過熱することは、電磁波を吸収して発熱する発熱量に影響を与える要因となる。
【００４２】
＜発熱特性試験２＞
発熱特性試験２は、発熱琺瑯層に分散・含有するフェライト粉末Ｂ、Ｃの重量（ｇ）の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を計測する。
【００４３】
（１）試料板片
本発明の実施例Ｂ１〜Ｂ５の試料板片、及び本発明の実施例Ｃ１〜Ｃ４の試料板片である（表２参照）
【００４４】
（実施例Ｂ１〜Ｂ５の試料板片）
実施例Ｂ１〜Ｂ５の試料板片は、上記実施例Ｂと同様で、発熱琺瑯釉薬Ｂで鋼板片（基材）表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ１の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｂ：１ｇを分散・含有する。
実施例Ｂ２の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｂ：３ｇを分散・含有する。
実施例Ｂ３の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｂ：６ｇを分散・含有する。
実施例Ｂ４の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｂ：９ｇを分散・含有する。
実施例Ｂ５の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｂ：１２ｇを分散・含有する。
【００４５】
（実施例Ｃ１〜Ｃ４の試料板片）
実施例Ｃ１〜Ｃ４の試料板片は、上記実施例Ｃと同様で、発熱琺瑯釉薬Ｃで鋼板片（基材）表面に無機ガラス質の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃ１の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｃ：１ｇを分散・含有する。
実施例Ｃ２の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｃ：３ｇを分散・含有する。
実施例Ｃ３の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｃ：６ｇを分散・含有する。
実施例Ｃ４の発熱琺瑯層は、無機ガラス中にフェライト粉末Ｃ：９ｇを分散・含有する。
【００４６】
（２）試験条件
実施例Ｂ１〜Ｂ５の試料板片、実施例Ｃ１〜Ｃ４の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚとする。
マイクロ波照射後、実施例Ｂ１〜Ｂ５の発熱琺瑯層の温度、及び実施例Ｃ１〜Ｃ４の発熱琺瑯層の温度を計測する。
実施例Ｂ１〜Ｂ３、及び実施例Ｃ３の発熱琺瑯層は、照射前温度（ＳＴ）、マイクロ波を３０秒間照射した後の照射後温度（３０ＦＴ）、マイクロ波を１分間照射した後の照射後温度（６０ＦＴ）、マイクロ波を２分間照射した後の照射後温度（１２０ＦＴ）、マイクロ波を３分間照射した後の照射後時間（１８０ＦＴ）、マイクロ波を４分間照射した後の照射後温度（２４０ＦＴ）、マイクロ波を５分間照射した後の照射後温度（３００ＦＴ）及びマイクロ波を６分間照射した後の照射後温度（３６０ＦＴ）を計測する。
実施例Ｂ４、Ｂ５、及び実施例Ｃ１、Ｃ２、Ｃ４の発熱琺瑯層は、照射前温度（ＳＴ）及び照射後温度（１８０ＦＴ）を計測する。
【００４７】
（３）発熱特性試験２の結果
発熱特性試験２の結果について、表２、表３及び図２のグラフ、図３のグラフに示し、説明する。
表２は、実施例Ｂ１〜Ｂ５、及び実施例Ｃ１〜Ｃ４について、照射前温度（ＳＴ）、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＦＴ）を表示する。図２のグラフは、表２の照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、温度上昇幅（１８０ＦＴ）を表示する。
表３は、実施例Ｂ１〜Ｂ３、及び実施例Ｃ３について、照射前温度（ＳＴ）、及び各照射後時間（３０ＦＴ）〜（３６０ＦＴ）を表示し、更に各照射後時間（３０ＦＴ）〜（３６０ＦＴ）に関する温度上昇幅（３０ＨＴ）〜（３６０ＨＴ）を表示する。図３のグラフは、表３の温度前温度を２５℃に補正して、実施例Ｂ１〜Ｂ３、Ｃ３の各照射後温度（３０ＦＴ）〜（３６０ＦＴ）を表示する。
【００４８】
【表２】
0005318146.tif 000003
【００４９】
【表３】
0005318146.tif 000004
【００５０】
上記表２において、実施例Ｂ１〜Ｂ５の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１８１．１℃〜２２８．８℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１５８．１℃〜２０５．９℃の温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている（図２参照）。実施例Ｂ１〜Ｂ５の発熱琺瑯層は、無機ガラス中に分散・含有するフェライト粉末Ｂの重量（ｇ）に起因して、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）の温度値が変動している。従って、発熱琺瑯層に分散・含有するフェライト粉末Ｂの重量（ｇ）は、照射後温度及び温度上昇幅の温度値に影響を与える要因となる。特に、フェライト粉末Ｂの重量（ｇ）の増加に従って、発熱及び温度上昇の発熱特性は急激になる（図２参照）。また、実施例Ｂ１〜Ｂ５の発熱琺瑯層で、食材等の加熱に適した温度：２００℃程度の温度領域まで加熱できる。
実施例Ｃ１〜Ｃ４の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１９２．６℃〜２０９．３℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１６９．１℃〜１８４．５℃の温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例Ｃ１〜Ｃ４の発熱琺瑯層は、無機ガラス中に分散・含有するフェライト粉末Ｃの重量（ｇ）に起因して、照射後温度（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）の温度値が変動している。従って、発熱琺瑯層に分散・含有するフェライト粉末Ｃの重量（ｇ）は、照射後温度及び温度上昇幅の温度値に影響を与える要因となる。また、実施例Ｃ１〜Ｃ４の発熱琺瑯層は、食材等の加熱に適した温度：２００℃程度の温度領域まで加熱できる。
【００５１】
上記表３において、実施例Ｂ１の発熱琺瑯層は、照射後温度（６０ＦＴ）：１６１．３℃の温度値を示し、照射時間：１分間で急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている。
実施例Ｂ２の発熱琺瑯層は、照射後時間（６０ＦＴ）：１７５．６℃の温度値を示し、照射時間０〜１分間で急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ている。
実施例Ｂ３の発熱琺瑯層は、照射後温度（６０ＦＴ）：１９０．７℃の温度値を示し、照射時間０〜３分間で急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ている。
実施例Ｂ１〜Ｂ３の発熱特性を比較すると、図３のグラフに示すように、照射時間：１分間のグラフ温度勾配値（ΔＴ１）は、急激な温度勾配値を示し、実施例Ｂ１＜実施例Ｂ２＜実施例Ｂ３の関係になる。
従って、発熱琺瑯層の温度上昇は、実施例Ｂ１＜実施例Ｂ２＜実施例Ｂ３の関係で急激になり、発熱琺瑯層に分散・含有するフェライト粉末Ｂの重量（ｇ）は、照射後温度の温度値に影響を与える要因となる。
実施例Ｂ１の発熱琺瑯層は、照射後温度（１２０ＦＴ〜３６０ＦＴ）：１８１．３℃、１８１．３℃、１８６．２℃、１８８．０℃、１９５．０℃の温度値を示し、照射時間：2分間を経過すると、図３のグラフに示すように、グラフ温度勾配値（ΔＴ２）は、緩やかな温度勾配値を示しており、一定温度範囲（１８５℃〜２００℃）の温度値を示すと考えられる。
実施例Ｂ２の発熱琺瑯層は、照射後温度（１２０ＦＴ〜３６０ＦＴ）：１９１．３℃、２０３．５℃、２０４．６℃、１９８．７℃、１９９．３℃の温度値を示し、照射時間：２分間を経過すると、図３のグラフに示すように、グラフ温度勾配値（ΔＴ２）は、緩やかな温度勾配値を示しており、一定温度範囲（１９５℃〜２１０℃）の温度値を示すと考えられる。
実施例Ｂ３の発熱琺瑯層は、照射後温度（１２０ＦＴ〜３６０ＦＴ）：２０３．１℃、２１０．７℃、２２０．１℃、２２３．８℃、２３６．２℃の温度値を示し、照射時間：2分間を経過すると、図３のグラフに示すように、グラフ温度勾配値（ΔＴ２）は、緩やかな温度勾配値を示しており、一定温度範囲（２２５℃〜２４０℃）の温度値を示すと考えられる。従って、マイクロ波照射時間は、照射後温度の温度値に影響を与える要因となる。
上記表３において、実施例Ｃ３の発熱琺瑯層は、照射後温度（１２０ＦＴ）：１９７．３℃、温度上昇幅（１２０ＨＴ）：１７３．７℃の温度値を示し、照射時間：２分間で急激な発熱、急激な温度上昇の発熱特性を得ている。
実施例Ｃ３の発熱特性と、実施例Ｂ３の発熱特性を比較すると、図３に示すように、グラフ温度勾配値（ΔＴ１）は、実施例Ｃ３＜実施例Ｂ３の関係になる。
実施例Ｃ３、実施例Ｂ３において、フェライト粉末Ｂ、Ｃを発熱琺瑯層に分散・含有する重量（ｇ）は同一重量（６ｇ）であるものの、グラフ温度勾配値（ΔＴ１）は相異し、発熱及び温度上昇の発熱特性も異なる。この発熱特性の相異は、フェライト粉末Ｂ、Ｃの組成の相異によるものである。
実施例Ｂ１〜Ｂ３、及び実施例Ｃ３によれば、図３に示すように、発熱琺瑯層は、短時間のマイクロ波照射で１８０℃〜２００℃範囲に急激に発熱し、その後は一定温度範囲：２００℃前後に収束すると考えられ、２００℃前後の温度領域で食材等を加熱することができる。
【００５２】
＜発熱特性試験３＞
発熱特性試験３は、発熱琺瑯層の膜厚の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を測定する。
【００５３】
（１）試料板片
本発明の実施例Ｃ６〜Ｃ１０の試料板片である（表４及び表５参照）。
【００５４】
（実施例Ｃ６〜Ｃ１０の試料板片）
実施例Ｃ６〜Ｃ１０において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｃ：５０ｇを添加し、更に水：２０ｇを追加・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｇを作成する。
実施例Ｃ６〜Ｃ１０の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｇを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に各種膜厚の発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃ６において、発熱琺瑯層の膜厚は、９４マイクロメータ
実施例Ｃ７において、発熱琺瑯層の膜厚は、６５マイクロメータ
実施例Ｃ８において、発熱琺瑯層の膜厚は、１００マイクロメータ
実施例Ｃ９において、発熱琺瑯層の膜厚は、１５９マイクロメータ
実施例Ｃ１０において、発熱琺瑯層の膜厚は、１７６マイクロメータ
である。
なお、鋼板片（基材）寸法は、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚：０．６ｍｍである。
【００５５】
（２）試験条件
実施例Ｃ６〜Ｃ１０の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚとする。
マイクロ波照射後、実施例Ｃ６〜Ｃ１０の発熱琺瑯層の温度を計測する。
実施例Ｃ６において、照射前温度（ＳＴ）、照射後温度（６０ＦＴ）、照射後温度（１２０ＦＴ）、照射後温度（１８０ＦＴ）及び照射後温度（２４０ＦＴ）を計測する。
実施例Ｃ７〜Ｃ１０において、照射前温度（ＳＴ）及び照射後温度（１８０ＦＴ）を計測する。
【００５６】
（３）発熱特性試験３の結果
発熱特性試験３の結果について、表４、表５及び図４のグラフ、図５のグラフに示し、説明する。
表４は、実施例Ｃ６について、照射前温度（ＳＴ）、照射後時間（６０ＦＴ）、（１２０ＦＴ）、（１８０ＦＴ）、（２４０ＦＴ）を表示し、更に各照射後時間（６０ＦＴ）〜（２４０ＦＴ）に関する温度上昇幅（６０ＨＴ）、（１２０ＨＴ）、（１８０ＨＴ）、（２４０ＨＴ）を表示する。図４のグラフは、表４の照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、照射後温度（６０ＨＴ）〜（２４０ＨＴ）を表示する。
表５は、実施例Ｃ７〜Ｃ１０について、照射前温度（ＳＴ）及び照射後温度（１８０ＦＴ）を表示し、更に照射後温度（１８０ＦＴ）に関する温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示する。図５のグラフは、表５の照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、照射後温度（１８０ＦＴ）を表示す。
【００５７】
【表４】
0005318146.tif 000005
【００５８】
【表５】
0005318146.tif 000006
【００５９】
上記表４において、実施例Ｃ６の発熱琺瑯層は、照射後温度（６０ＦＴ）：１７７．４℃の温度値を示し、照射時間：１分間で急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている（図４参照）。
上記表４において、実施例Ｃ６の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１８６．３℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１６５．１℃の温度値を示す発熱特性を得ている。
上記表５において、実施例Ｃ７の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１５８．２℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１３６．１℃の温度値を示す発熱特性を得ており、実施例Ｃ８の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＨＴ）：１６６．２℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１４２．６℃の温度値を示す発熱特性を得ている。実施例Ｃ９の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１７２．８℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１５２．６℃の温度値を示す発熱特性を得ており、実施例Ｃ１０の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１８０．８℃、温度上昇幅（１８０ＦＴ）：１６１．３℃の温度値を示す発熱特性を得ている（図５参照）。
実施例Ｃ６〜Ｃ１０において、発熱琺瑯層の膜厚は、実施例Ｃ７（６５マイクロメータ）＜実施例Ｃ６（９４マイクロメータ）＜実施例Ｃ８（１００マイクロメータ）＜実施例Ｃ９（１５９マイクロメータ）＜実施例Ｃ１０（１７６マイクロメータ）の関係にあり、発熱琺瑯層の膜厚に起因して、照射後温度及び温度上昇幅の温度値に影響を与える要因となる。
実施例Ｃ７〜Ｃ９において、照射後温度（１８０ＨＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）は、表５、及び図５のグラフに示すように、発熱琺瑯層の膜厚の増加に従って、高い温度値を示している。特に、発熱琺瑯層の膜厚：６５マイクロメータ〜１５９マイクロメータの範囲において、照射後温度（１８０ＦＴ）は、図５に示すように、比例直線的な温度値の関係を示している。
【００６０】
＜発熱特性試験４＞
発熱特性試験４は、金属材料、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の関係において、金属材料、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の温度変化を測定する。
【００６１】
（１）試料板片
比較例１０〜１５の試料板片、及び本発明の実施例Ｃ１１の試料片である。
【００６２】
（比較例１０〜１５の試料板片）
比較例１０の試料片は、鋼板片（琺瑯層、発熱琺瑯層：無）である
比較例１１の試料板片は、酸洗、ニッケル鍍金処理した鋼板片（琺瑯層、発熱琺瑯層：無）である。
比較例１２の試料板片は、酸洗して鋼板片（琺瑯層、発熱琺瑯層：無）である。
比較例１３の試料板片は、ＳＵＳ３０４ステンレス鋼板片（琺瑯層、発熱琺瑯層：無）である。
比較例１４の試料板片は、ＳＵＳ４３０ステンレス鋼板片（琺瑯層、発熱琺瑯層：無）である。
比較例１５の試料板片は、基礎釉薬を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
【００６３】
（実施例Ｃ１１の試料板片）
実施例Ｃ１１の試料板片は、発熱特性試験３の発熱琺瑯釉薬Ｇを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に発熱琺瑯層を形成する。
【００６４】
（２）試験条件
比較例１０〜１５の試料板片、及び実施例Ｃ１１の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を比較例１０〜１４の試料板片、比較例１５の試料板片の琺瑯層、及び実施例Ｃ１１の試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚである。
マイクロ波照射後、比較例１０〜１４の試料板片の温度、比較例１５の琺瑯層の温度、及び実施例Ｃ１１の発熱琺瑯層の温度を計測する。
比較例１０〜１５、及び実施例Ｃ１１において、マイクロ波を３分間照射した後の照射後温度（１８０ＦＴ）を計測する。
【００６５】
（３）発熱特性試験４の結果
発熱特性試験４の結果について、図６グラフに示し、説明する。
図６のグラフは、照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、照射後温度（１８０ＦＴ）を表示する。
【００６６】
図６のグラフにおいて、実施例Ｃ１１は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１８０℃前後の温度値を示し、比較例１０〜１５の照射後温度（１８０ＦＴ）よりも、高い温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている。実施例Ｃ１１の発熱琺瑯層は、食材等の加熱、加熱調理に適した温度：１８０℃〜２００℃まで加熱できる。
【００６７】
＜発熱特性試験５＞
発熱特性試験５は、鋼板、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の関係において、鋼板、及び琺瑯層、発熱琺瑯層の温度変化を計測する。
【００６８】
（１）試料板片
比較例１６、１７の試料板片、及び本発明の実施例Ｃ１２の試料板片である（表６参照）。
【００６９】
（比較例１６、１７の試料板片）
比較例１６の試料板片は、鋼板片（琺瑯層、発熱琺瑯層：無）である。
比較例１７の試料板片は、基礎釉薬を鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して無機ガラス質の琺瑯層を形成する。
なお、鋼板片寸法は、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚：０．６ｍｍである。
【００７０】
（実施例Ｃ１２の試料板片）
実施例Ｃ１２の試料板片は、発熱特性試験３の発熱琺瑯釉薬Ｇを鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して鋼板片表面に発熱琺瑯層を形成する。
なお、鋼板片（基材）寸法は、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚：０．６ｍｍである。
【００７１】
（２）試験条件
比較例１６、１７の試料板片、及び実施例Ｃ１２の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を比較例１６の試料板片、比較例１７の試料板片の琺瑯層、及び実施例Ｃ１２の試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚである。
マイクロ波照射後、比較例１６の試料板片の温度、比較例１７の琺瑯層の温度、及び実施例Ｃ１２の発熱琺瑯層の温度を計測する。
比較例１６、１７及び実施例Ｃ１２において、照射前温度（ＳＴ）、マイクロ波を３０秒間照射した後の照射後温度（３０ＦＴ）、マイクロ波を１分間照射した後の照射後温度（６０ＦＴ）、マイクロ波を２分間照射した後の照射後温度（１２０ＦＴ）、マイクロ波を３分間照射した後の照射後温度（１８０ＦＴ）、マイクロ波を４分間照射した後の照射後温度（２４０ＦＴ）、マイクロ波を５分間照射した後の照射後温度（３００ＦＴ）、及びマイクロ波を6分間照射した後の照射後温度（３６０ＦＴ）を計測する。
【００７２】
（３）発熱特性試験５の結果
発熱特性試験５の結果について、表６及び図７のグラフに示し、説明する。
表６は、比較例１６の試料板片（鋼板）、比較例１７の琺瑯層、及び実施例Ｃ１２の発熱琺瑯層について、照射前温度（ＳＴ）、各照射後温度（３０ＦＴ）〜（３６０ＦＴ）を表示し、更に照射後温度（３０ＦＴ）〜（３６０ＦＴ）に関する温度上昇幅（３０ＨＴ）〜（３６０ＨＴ）を表示する。図７のグラフは、表７の照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、照射後温度（３０ＦＴ）〜（３６０ＦＴ）を表示する。
【００７３】
【表６】
0005318146.tif 000007
【００７４】
上記表６において、実施例Ｃ１２は、照射後温度（６０ＦＴ）：１２４．１℃、温度上昇幅（６０ＨＴ）：１０１．４℃の温度値を示し、比較例１６．１７の照射後温度（６０ＦＴ）及び温度上昇幅（６０ＦＴ）よりも、高い温度値の発熱特性を得ている。これにより、実施例Ｃ１２の発熱琺瑯層は、比較例１６の鋼板、比較例１７の琺瑯層よりも、図７に示すように、グラフ温度勾配値（ΔＴ３）は急激に傾斜しており、急激に発熱、及び急激に温度上昇する。
上記表６において、実施例Ｃ１２の発熱琺瑯層は、照射後時間（３６０ＦＴ）：２００．４℃の温度値を示し、比較例１６、１７の照射後温度（３６０ＦＴ）よりも、高い温度値を示す発熱特性を得ている。
比較例１６の鋼板片は、照射後温度（３００ＦＴ）：１７７．８℃、照射後温度（３６０ＦＴ）：１７７．３℃の温度値を示し、比較例１７の琺瑯層は、照射後温度（３００ＦＴ）：１４９．６℃、照射後温度（３６０ＦＴ）：１３９、２℃の温度値を示している。比較例１６の鋼板片では、照射時間：５分を超えると、照射後温度（３００ＦＴ）、（３６０ＦＴ）の温度上昇はなく、比較例１７の琺瑯層も同様に、照射後温度（３００ＦＴ）、（３６０ＦＴ）の温度上昇はなくなるので、１９０℃以上の温度域することは困難であると考えられる。
【００７５】
＜発熱特性試験６＞
発熱特性試験６は、発熱琺瑯釉薬に添加する磁性酸化粉末の重量（ｇ）と、発熱琺瑯層の膜厚の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を計測する。
【００７６】
（１）試料板片
実施例Ｂ６〜Ｂ９の試料板片である（表７参照）。
実施例Ｂ６〜Ｂ９において、発熱琺瑯層の膜厚は、同程度の膜厚になるように、１００マイクロメート前後に調整している。
なお、鋼板片（基材）寸法は、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚：０．５ｍｍである。
【００７７】
（実施例Ｂ６の試料板片）
実施例Ｂ６において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｂ：２０ｇを添加・撹拌して発熱琺瑯釉薬Ｈを作成する。
実施例Ｂ６の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｈを鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して発熱鋼層を形成する。
実施例Ｂ６において、発熱琺瑯層の膜厚は１０８マイクロメータである。
【００７８】
（実施例Ｂ７の試料板片）
実施例Ｂ７において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｂ：５０ｇを添加して発熱琺瑯釉薬Ｉを作成する。
実施例Ｂ７の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｉを鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ７において、発熱琺瑯層の膜厚は、８９マイクロメータである。
【００７９】
（実施例Ｂ８の試料板片）
実施例Ｂ８において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｂ：１００ｇを添加して発熱琺瑯釉薬Ｊを作成する。
実施例Ｂ８の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｊを鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ８において、発熱琺瑯層の膜厚は、９７マイクロメータである。
【００８０】
（実施例Ｂ９の試料板片）
実施例Ｂ９において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｂ：１５０ｇを添加して発熱琺瑯釉薬Ｋを作成する。
実施例Ｂ９の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｋを鋼板片に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ９において、発熱琺瑯層の膜厚は、１０９マイクロメータである。
【００８１】
（２）試験条件
実施例Ｂ６〜Ｂ９の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚである。
マイクロ波照射後、実施例Ｂ６〜Ｂ９の発熱琺瑯層の温度を計測する。
実施例Ｂ６〜Ｂ９において、照射前温度（ＳＴ）、及びマイクロ波を３分間照射した後の照射後温度（１８０ＦＴ）を計測する。
【００８２】
（３）発熱特性試験６の結果
発熱特性試験６の結果について、表７、及び図８のグラフに示し、説明する。
表７は、実施例Ｂ６〜Ｂ９において、照射前温度（ＳＴ）、及び照射後温度（１８０ＦＴ）を表示し、更に照射後温度（１８０ＦＴ）に関する温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示する。図８のグラフは、表７の照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示する。
【００８３】
【表７】
0005318146.tif 000008
【００８４】
上記表７において、実施例Ｂ６〜Ｂ９の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１６１．７℃〜１６８．３℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１４２．８℃〜１４９．０℃の温度値を示し、急激に発熱、及び急激に温度上昇の発熱特性を得ている（図８参照）。
実施例Ｂ６〜Ｂ９において、同程度の膜厚であって、基礎釉薬に添加するフェライト粉末Ｂの重量（ｇ）が相異しても、図８のグラフに示すように、温度上昇幅（１８ＨＴ）は１４２℃〜１４９℃の温度値を示し、同程度の発熱特性を得ている。
【００８５】
＜発熱特性試験７＞
発熱特性試験７は、発熱琺瑯層の膜厚、金属板片（試料板片）の表面積の関係において、発熱琺瑯層の温度変化を測定する。
【００８６】
（１）試料板片
実施例Ｂ１０〜１２の試料板片、及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１６の試料板片である（表８参照）。
実施例Ｂ１０〜Ｂ１２、及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１６において、発熱琺瑯層の膜厚は、同程度の膜厚になるように、１００マイクロメート前後に調整している。
実施例Ｂ１０〜Ｂ１２において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｂ：５０ｇを添加して発熱琺瑯釉薬Ｉを作成する。
実施例Ｃ１３〜Ｃ１６において、基礎釉薬：１５０ｇにフェライト粉末Ｃ：５０ｇを添加して発熱琺瑯釉薬Ｌを作成する。
なお、鋼板片（基材）寸法は、厚：０．５ｍｍである。
【００８７】
（実施例Ｂ１０の試料板片）
実施例Ｂ１０の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｉを、表面積：２５ｃｍ２（５ｃｍ×５ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ１０において、発熱琺瑯層の膜厚は、９８マイクロメータである。
【００８８】
（実施例Ｂ１１の試料板片）
実施例Ｂ１１の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｉを、表面積：４９ｃｍ２（７ｃｍ×７ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ１０において、発熱琺瑯層の膜厚は、１０８マイクロメータである。
【００８９】
（実施例Ｂ１２の試料板片）
実施例Ｂ１２の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｉを、表面積：１６９ｃｍ２（１３ｃｍ×１３ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｂ１２において、発熱琺瑯層の膜厚は、１０１マイクロメータである。
【００９０】
（実施例Ｃ１３の試料板片）
実施例Ｃ１３の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｌを、表面積：２５ｃｍ２（５ｃｍ×５ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃ１３において、発熱琺瑯層の膜厚は、１０４マイクロメータである。
【００９１】
（実施例Ｃ１４の試料板片）
実施例Ｃ１４の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｌを、表面積：４９ｃｍ２（７ｃｍ×７ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃ１４において、発熱琺瑯層の膜厚は、１０１マイクロメータである。
【００９２】
（実施例Ｃ１５の試料板片）
実施例Ｃ１５の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｌを、表面積：６４ｃｍ２（８ｃｍ×８ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃ１５において、発熱琺瑯層の膜厚は、１１７マイクロメータである。
【００９３】
（実施例Ｃ１６の試料板片）
実施例Ｃ１６の試料板片は、発熱琺瑯釉薬Ｌを、表面積：１６９ｃｍ２（１３ｃｍ×１３ｃｍ）の鋼板片（基材）に施釉（塗布）し、焼成して発熱琺瑯層を形成する。
実施例Ｃ１６において、発熱琺瑯層の膜厚は、１０５マイクロメータである。
【００９４】
（２）試験条件
実施例Ｂ１０〜Ｂ１２、及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１６の試料板片を、電子レンジ内に装着し、マイクロ波を試料板片の発熱琺瑯層に照射する。マイクロ波の周波数は、２４５０ＭＨｚである。
マイクロ波照射後、実施例Ｂ１０〜Ｂ１２、及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１6の発熱琺瑯層の温度を計測する。
実施例Ｂ１０〜Ｂ１２、及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１６において、照射前温度（ＳＴ）、及びマイクロ波を３分間照射した後の照射後温度（１８０ＦＴ）を計測する。
【００９５】
（３）発熱特性試験７の結果
発熱特性試験７の結果について、表８、及び図９のグラフに示し、説明する。
表８は、実施例Ｂ１０〜Ｂ１２、及び実施例Ｃ１３〜Ｃ１６において、照射前温度（ＳＴ）、及び照射後温度（１８０ＦＴ）を表示し、更に照射後温度（１８０ＦＴ）に関する温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示する。図９のグラフは、表８の照射前温度（ＳＴ）を２５℃に補正して、温度上昇幅（１８０ＨＴ）を表示する。
【００９６】
【表８】
0005318146.tif 000009
【００９７】
上記表８において、実施例Ｂ１０〜Ｂ１２の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１８０．５℃、１７７．０℃、１７２．０℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１６１．８℃、１５７．８℃、１５３．７℃の温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている（図９参照）。
実施例Ｂ１０〜Ｂ１２において、上記表８、及び図９のグラフに示すように、照射後温度（１８０ＦＴ）は、実施例Ｂ１０の発熱琺瑯層＜実施例Ｂ１１の発熱琺瑯層＜実施例Ｂ１２の関係にある温度値を示し、温度上昇幅（１８０ＨＴ）は、実施例Ｂ１０の発熱琺瑯層＜実施例Ｂ１１の発熱琺瑯層＜実施例Ｂ１２の関係にある温度幅を示している。
これは、試料板片に形成される発熱琺瑯層の表面積に起因するもので、表面積が小さくなるに従って、フェライト粉末Ｂは無機ガラス中に多く分散・含有され、単位面積当たりの無機ガラス中に分散するフェライト粉末Ｂの重量の相異であると考えられる。
上記表８において、実施例Ｃ１３〜Ｃ１９の発熱琺瑯層は、照射後温度（１８０ＦＴ）：１６７．８℃、１６２．３℃、１６８．３℃、１６５．８℃、温度上昇幅（１８０ＨＴ）：１５０．４℃、１４４．９℃、１５１．０℃、１４７．０℃の温度値を示し、急激な発熱、及び急激な温度上昇の発熱特性を得ている（図９参照）。
実施例Ｂ１０〜Ｂ１２と、実施例Ｃ１３〜Ｃ１６を比較すると、実施例Ｂ１０〜Ｂ１２の照射後温度：（１８０ＦＴ）及び温度上昇幅（１８０ＨＴ）は、実施例Ｃ１３〜Ｃ１６よりも高い温度値を示しており、フェライト粉末Ｂは、フェライト粉末Ｃよりも高い発熱量を放出する特性を有している。
【００９８】
以上、発熱特性試験１〜７に示した通り、本発明の発熱琺瑯釉薬は、電磁波の照射で急激に発熱する発熱琺瑯層を形成でき、比較例１〜１７で得られない発熱特性を得られる。
発熱琺瑯釉薬による急激な発熱は、基礎釉薬に添加されるフェライト粉末によるもので、フェライト粉末は効率良く、急速に電磁波を吸収して発熱しており、一定温度まで発熱琺瑯層を温度上昇させる。これは、フェライト粉末を組成する酸化鉄の発熱、及び非磁性酸化金属の発熱によるもので、しかもフェライト粉末を無機ガラス中に分散することで、無機ガラスによりある程度の温度上昇を抑制されていると考えられる。
従って、フェライト粉末を無機ガラス中に分散・含有する発熱琺瑯層は、マイクロ波の照射によって、食材等の加熱、又は加熱調理に適した１８０℃〜２５０℃に急激に温度上昇し、食材等を急速に加熱でき、食材等を加熱する発熱体として好適であると言える。しかも、発熱琺瑯層は、マイクロ波照射時間が長くなっても、２００℃〜２５０℃程度の温度に収束するもので、食材等を最適に加熱（加熱調理）できる。
そして、発熱琺瑯層を電磁波の照射で急激に加熱するため、
ｉ）発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬にフェライト粉末Ａ〜Ｃの１種類を添加・撹拌し、酸化鉄及び非磁性酸化金属の配合比率を調整して作成することが好ましい。
ｉｉ）発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬：１５０に対して、１種類のフェライト粉末：２０〜１５０添加・撹拌して作成し、発熱琺瑯層の膜厚を５０マイクロメータ〜１８０マイクロメータにすることが好ましい。
ｉｉｉ）発熱琺瑯釉薬は、単位面積当たりの発熱琺瑯層に分散・含有されるフェライト粉末の重量を適宜調整することで、急激な発熱の発熱特性を得ることが好ましい。
【００９９】
＜発熱琺瑯釉薬（発熱琺瑯層）を適用した具体例＞
次に、発熱琺瑯釉薬（発熱琺瑯層）を適用した具体例について、図１０乃至図１５を参照して説明する。図１０乃至図１３では電磁誘導加熱装置を説明し、図１４及び図１５では発熱琺瑯製品を説明する。
【０１００】
＜電磁誘導加熱装置＞
図１０乃至図１２において、電磁誘導加熱装置（Ｘ）は、例えば、マイクロ波（電磁波）で被加熱体（Ｚ）を加熱する電子レンジで構成される。なお、電磁誘導加熱装置（Ｘ）として、電子レンジについて説明するが、これに限定されるものでない。
電磁誘導加熱装置（Ｘ：以下「電子レンジ（Ｘ）」と称する）は、装置本体（１）、電磁波発振手段（２）、加熱空間（３）及び支持体（５）を含んで構成される。被加熱体は、例えば、食材、液体、及び食材や液体の調理容器（発熱琺瑯層：無）を意味する。
【０１０１】
電磁波発振手段（２）は、図１０に示すように、マイクロ波を発振するマイクロ波発振装置（マグネトロン）で構成されている。電磁波発振手段（２：以下「マイクロ波発振装置（２）」と称する）は、装置本体（１）内に設置されている。
【０１０２】
加熱空間（３）は、被加熱体（Ｚ）を収納して、マイクロ波の照射で被加熱体（Ｚ）を加熱する。加熱空間（３）は、装置本体（１）内に形成され、装置本体（１）前方に開口（３Ａ）する。加熱空間（３）の開口（３Ａ）は、開閉扉（図示しない）で開閉され、開閉扉は装置本体（１）に回転自在に支持されている。
加熱空間（３）は、左右の側基材（８Ａ）、（８Ｂ）、上基材（８Ｃ）、下基材（８Ｄ）及び後基材（８Ｅ）で装置本体（１）内に区画されている。各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）は、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板又はセラミックス等で形成される。
加熱空間（３）とマイクロ波発振装置（２）は、マイクロ波伝送路（９）を通して連通されている。マイクロ波伝送路（９）は、装置本体（１）内に形成され、加熱空間（３）の上基材（８Ｃ）に開口している。
マイクロ波発振装置（２）のマイクロ波は、マイクロ波伝送路（９）を通して上基材（８Ｃ）の開口から加熱空間（３）内に照射される。
【０１０３】
支持体（５）は、加熱空間（３）内で被加熱体（Ｚ）を支持して回転する。支持体（５）は、例えば、ターンテーブルで構成され、回転軸（１０）に支持される。回転軸（１０）は、加熱空間（３）内に配置され、加熱空間（３）の下基材（８Ｄ）側に回転自在として軸支されている。回転軸（１０）は、駆動モータ（図示しない）に連結され、駆動モータは装置本体（１）内に設置されている。
【０１０４】
支持体（５）は、図１１に示すように、基材（１１）で円形板状に形成され、基材（１１）の表面にマイクロ波の照射で発熱する発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成している。発熱琺瑯層（ＨＲ）は、図１１に示すように、無機ガラスを主成分として、マイクロ波を吸収して発熱するフェライト粉末を含有し、無機ガラス中にフェライト粉末を分散・含有している。基材（１１）は、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板又はセラミックス等で形成される。
発熱琺瑯層（ＨＲ）は、発熱琺瑯釉薬を基材（１１）の表面に施釉（塗布）し、焼成して支持体（５）の基材（１１）表面に形成される。
発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬に１種類のフェライト粉末を添加・撹拌して作成される。基礎釉薬は、例えば、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料及び水で組成され、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料を水に添加・撹拌して作成する（上記発熱特性試験１の基礎釉薬参照）。
フェライト粉末は、酸化鉄及び非磁性酸化金属を含んで組成され、第一のフェライト粉末Ａは、三酸化第二鉄、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム及び酸化クロムで組成される。第一のフェライト粉末Ａの配合比率（ｍａｓｓ％）は、例えば、上記発熱特性試験１の実施例Ａを同一配合比率にする。
第二のフェライト粉末Ｂは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛及び酸化マンガンで組成される。第二のフェライト粉末Ｂの配合比率（ｍｏｌ％）は、例えば、上記発熱特性試験１の実施例Ｂと同一配合比率にする。
第三のフェライト粉末Ｃは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅で組成される。第三のフェライト粉末Ｃの配合比率（ｍｏｌ％）は、例えば、上記発熱特性試験１の実施例Ｃと同一配合比率にする。
【０１０５】
電子レンジ（Ｘ）において、操作者は、加熱空間（３）の開口（３Ａ）から被加熱体（Ｚ）を加熱空間（３）に収納し、支持体（５）上に載置する。
操作者は、上記開閉扉で加熱空間（３）の開口（３Ａ）を閉じ、マイクロ波照射時間（加熱時間：例えば、３分間）を設定して、スタートボタン（７）を操作する。
電子レンジ（Ｘ）は、スタートボタン（７）の操作を受けると、マイクロ波発振装置（２）を作動し、上記駆動モータを駆動させる。
マイクロ波発振装置（２）は、マイクロ波を発振させる。マイクロ波は、マイクロ波伝送路（９）を通して上基体（８Ｃ）の開口から加熱空間（３）内に照射される。加熱空間（３）に照射されるマイクロ波は、直接、又は各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）で反射されて、支持体（５）に照射される。支持体（５）の発熱琺瑯層（ＨＲ）において、フェライト粉末は、マイクロ波を吸収して急激に発熱する。支持体（５）に支持される被加熱体（Ｚ）は、支持体（５）の発熱琺瑯層（ＨＲ）から直接的に伝達される熱によって急激に加熱される。
上記駆動モータは、回転軸（１０）及び支持体（５）を回転させて、支持体（５）上の被加熱体（Ｚ）も回転させる。
【０１０６】
電磁誘導加熱装置（Ｘ）は、支持体（５）の基材（１１）表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成し、発熱琺瑯層（１１）にフェライト粉末を含有するので、フェライト粉末はマイクロ波を吸収して急激に発熱する（上記発熱特性試験１〜７参照）。
これにより、被加熱体（Ｚ）を急激に加熱することができ、被加熱体（Ｚ）を加熱する時間（調理時間）を短縮できる。特に、支持体（５）の発熱琺瑯層（ＨＲ）は、食材等の加熱、加熱調理に適した１８０〜２００℃まで急激に発熱し、食材等を加熱できる。
支持体（５）の表面は、無機ガラス質の発熱琺瑯層（ＨＧ）で被覆されているので、基材（１１）の腐蝕、錆等を防止でき、発熱琺瑯層（ＨＧ）に付着した汚れも容易に除去できる。
【０１０７】
電磁誘導加熱装置（Ｘ）において、加熱空間（３）を区画する各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）の表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成する構成を採用できる（図１１参照）。
これにより、各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）は、加熱空間（８）内に照射されるマイクロ波を吸収して急激に発熱する。支持体（５）に支持される被加熱体（Ｚ）は、基材（８Ａ）〜（８Ｅ）の発熱琺瑯層（ＨＲ）から加熱空間（３）を通して伝搬される熱によって急激に加熱される。
支持体（５）の基材（１１）の表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成し、更に各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）の表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成すると、加熱空間（３）内での発熱琺瑯層（ＨＲ）の面積を最大にでき、更に被加熱体（Ｚ）の加熱時間（調理時間）の短縮を図れる。
【０１０８】
電磁誘導加熱装置（Ｘ）において、図１３に示すように、支持体（５）の基材（１１）、各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）は、発熱琺瑯層（ＨＲ）を被覆するガラス質の保護琺瑯層（ＧＲ）を有する構成を採用できる。保護琺瑯層（ＧＨ）は、上記基礎釉薬を各基材（１１）、（８Ａ）〜（８Ｅ）の発熱琺瑯層（ＨＲ）に施釉し、焼成して形成する。
これにより、発熱琺瑯層（ＨＲ）は、ガラス質の保護琺瑯層（ＧＨ）で被覆され、フェライト粉末は無機ガラス中に閉じ込められ、各琺瑯層（ＨＧ）、（ＧＨ）から露出することが防止され、マイクロ波を吸収して発熱するフェライト粉末の発火を抑制できる。
電磁誘導加熱装置（Ｘ）において、支持体（５）は、ターンテーブルに限定されず、回転されず、加熱空間（３）に設置される受皿、ターンテーブル上に設置される受皿であって良く、各受皿の表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成し、必要に応じて、発熱琺瑯層（ＨＲ）を保護琺瑯層（ＧＲ）で被覆する構成も採用できる。
【０１０９】
＜発熱琺瑯製品＞
図１４において、発熱琺瑯製品（Ｙ）は、調理用鍋を例示している。発熱琺瑯製品（Ｙ：以下「調理用鍋（Ｙ）」と称する）は、鍋本体（５１）及び鍋蓋（５２）を備え、鍋本体（５１）及び鍋蓋（５２）は、製品形状に形成される基材（５３）で構成される。鍋本体（５１）及び鍋蓋（５２）は、基材（５３）の表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成してなる。
【０１１０】
発熱琺瑯層（ＨＲ）は、図１４に示すように、無機ガラスを主成分として、マイクロ波を吸収して発熱するフェライト粉末を含有し、無機ガラス中にフェライト粉末を分散・含有している。基材（５３）は、鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板又はセラミックス（陶磁）等で形成される。
発熱琺瑯層（ＨＲ）は、発熱琺瑯釉薬を鍋本体（５１）及び鍋蓋（５２）の基材（５３）の表面に施釉（塗布）し、焼成して鍋本体（５１）及び鍋蓋（５２）の基材（５３）表面に形成される。
発熱琺瑯釉薬は、基礎釉薬に１種類のフェライト粉末を添加・撹拌して作成される。基礎釉薬は、例えば、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料及び水で組成され、無機ガラス、粘土、電解質物質、顔料を水に混入して撹拌する（上記発熱特性試験１の基礎釉薬参照）。
フェライト粉末は、磁性酸化鉄及び複数種の酸化金属を含んで構成され、第一のフェライト粉末Ａは、三酸化第二鉄、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ストロンチウム及び酸化クロムで組成される。第一のフェライト粉末Ａの配合比率（ｍａｓｓ％）は、例えば、上記発熱特性試験１の実施例Ａを同一配合比率にする。
第二のフェライト粉末Ｂは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛及び酸化マンガンで組成される。第二のフェライト粉末Ｂの配合比率（ｍｏｌ％）は、例えば、上記発熱特性試験１の実施例Ｂと同一配合比率にする。
第三のフェライト粉末Ｃは、三酸化第二鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅で組成される。第三のフェライト粉末Ｃの配合比率（ｍｏｌ％）は、例えば、上記発熱特性試験１の実施例Ｃと同一配合比率にする。
【０１１１】
図１４において、食材等の被加熱体（Ｚ）を調理用鍋（Ｙ）の鍋本体（５１）内に収納し、鍋本体（５１）を鍋蓋（５２）で閉塞する。
図１０乃至図１２の電子レンジ（Ｘ）において、操作者は、加熱空間（３）の開口（３Ａ）から調理用鍋（Ｙ）を加熱空間（３）内に収納し、支持体（５）上に載置する。
操作者は、開閉扉で加熱空間（３）の開口（３Ａ）を閉じ、マイクロ波照射時間（加熱時間：例えば、３分間）を設定して、スタートボタン（７）を操作する。電子レンジ（Ｘ）は、スタートボンタン（７）の操作を受けると、マイクロ波発振装置（２）を作動し、駆動モータを駆動させる。
マイクロ波発振装置（２）は、マイクロ波を発振させる。マイクロ波は、マイクロ波伝送路（９）を通して上基材（８Ｃ）の開口から加熱空間（３）に照射される。加熱空間（３）内に照射されるマイクロ波は、直接、又は各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）で反射されて、調理用鍋（Ｙ）に照射される。調理用鍋（Ｙ）の発熱琺瑯層（ＨＲ）において、フェライト粉末は、マイクロ波を吸収して急激に発熱する。調理用鍋（Ｙ）内に収納されている被加熱体（Ｚ）は、鍋本体（５１）の発熱琺瑯層（ＨＲ）から直接的に伝達される熱、及び鍋蓋（５２）の発熱琺瑯層（ＨＲ）から伝搬される熱によって急激に加熱される。
【０１１２】
発熱琺瑯製品（Ｙ）は、基材（５３）の表面に発熱琺瑯層（ＨＲ）を形成し、発熱琺瑯層（ＨＲ）にフェライト粉末を含有するので、フェライト粉末はマイクロ波（電磁波）を吸収して急激に発熱する（上記発熱特性試験１〜７参照）。
これにより、被加熱体（Ｚ）を急激に加熱することができ、被加熱体を加熱する時間を短縮できる。特に、調理用鍋（Ｙ）の発熱琺瑯層（ＨＲ）は、食材等の加熱、加熱調理に適した１８０〜２００℃まで急激に発熱し、食材等を加熱できる。
【０１１３】
発熱琺瑯製品（Ｙ）は、調理用鍋に限定されず、例えば、食材等の皿、コップ等で被加熱体を電磁波で加熱する各種容器、又は電磁加熱誘導装置（Ｘ）を構成する各基材（８Ａ）〜（８Ｅ）、（１１）等も含まれる。
発熱琺瑯製品（Ｙ）において、発熱琺瑯層の破損等を防止するため、図１６に示すように、発熱琺瑯製品（Ｙ）をシリコン等の耐熱樹脂で被覆して、発熱琺瑯製品（Ｙ）に電磁波を照射する構成も採用できる。
発熱琺瑯製品（Ｙ）の発熱琺瑯層（ＨＲ）をガラス質の保護琺瑯層（ＧＲ）で被覆して、発熱琺瑯層（ＨＲ）を保護する構成も採用できる。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明は、電磁波を吸収して発熱する発熱体に好適である。
【符号の説明】
【０１１５】
８Ａ〜８Ｅ  基材
１１  基材
５５  基材
Ｘ  電磁誘導加熱装置
Ｙ  発熱琺瑯製品
Ｚ  被加熱体
ＨＲ  発熱琺瑯層
ＧＲ  保護琺瑯層
【図１】
0005318146.tif 000010
【図２】
0005318146.tif 000011
【図３】
0005318146.tif 000012
【図４】
0005318146.tif 000013
【図５】
0005318146.tif 000014
【図６】
0005318146.tif 000015
【図７】
0005318146.tif 000016
【図８】
0005318146.tif 000017
【図９】
0005318146.tif 000018
【図１０】
0005318146.tif 000019
【図１１】
0005318146.tif 000020
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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