(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する帯状の基板を長手方向に搬送する基板搬送部を備え、前記基板を搬送しつつ前記基板の上表面に付着した薬液の液切りを行う薬液処理装置において、
前記基板搬送部は、前記基板を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組として前記長手方向に沿ってその順に有し、
上ローラと下ローラとによって前記基板を挟む挟持位置について、前記第２のローラ組の前記挟持位置が前記第１及び第３のローラ組の前記挟持位置よりも低い位置にあることを特徴とする薬液処理装置。
【請求項２】
前記第２のローラ組における上ローラの外径が、他の上ローラ及び下ローラの外径よりも大きいことを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
【請求項３】
前記第２のローラ組における上ローラの質量が、他の上ローラ及び下ローラの質量よりも大きいことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の薬液処理装置。
【請求項４】
前記第２のローラ組の上ローラと前記基板の上表面とが、互いに付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触し、前記所定角度範囲における、前記挟持位置に対する前記搬送方向の上流側の角度が、下流側の角度以上とされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の薬液処理装置。
【請求項５】
可撓性を有する帯状の基板を長手方向に搬送する基板搬送部によって前記基板を搬送しつつ前記基板の上表面に付着した薬液の液切りを行う薬液処理方法において、
前記基板搬送部を、前記基板を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組として前記長手方向に沿ってその順に有するものとし、
前記上表面に薬液が付着した基板を前記第２のローラ組を通過させる際に、前記第２のローラ組における上ローラと下ローラとによって前記基板を挟む挟持位置を、前記第１及び第３のローラ組における前記挟持位置よりも低くしてあることを特徴とする薬液処理方法。
【請求項６】
前記第２のローラ組における上ローラの外径が、他の上ローラ及び下ローラの外径よりも大きいことを特徴とする請求項５記載の薬液処理方法。
【請求項７】
前記第２のローラ組における上ローラの質量が、他の上ローラ及び下ローラの質量よりも大きいことを特徴とする請求項５又は請求項６記載の薬液処理方法。
【請求項８】
前記第２のローラ組の上ローラと前記基板の上表面とが、互いに付勢しつつ前記上ローラの軸線まわりの所定角度範囲で前記挟持位置を含み面接触し、前記所定角度範囲における、前記挟持位置に対する前記搬送方向の上流側の角度が、下流側の角度以上とされていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の薬液処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液処理装置及び薬液処理方法に係り、特に、フレキシブルな回路基板の製造における薬液処理工程での使用に好適な薬液処理装置及び薬液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
回路基板の製造工程には、例えばエッチング工程などの薬液処理工程がある。
薬液処理工程では、基板素材（以下、単に基板とも称する）を搬送する基板搬送装置及び薬液を基板に供給する薬液供給装置を有する薬液処理装置が用いられる。
例えば、基板がロールから供給されるフレキシブルな帯状の場合、その基板を、基板搬送装置が備えるローラ群によって厚さ方向に挟時しつつ長手方向に搬送し、搬送中の基板に対し、薬液を薬液供給装置によってスプレーや滴下等で供給する。
【０００３】
薬液処理工程の最終段では、利用に供された薬液が基板に付着したまま次工程に持ち出されないように液切りをする必要がある。
液切りが良好に行われないと、薬液を再利用する場合は再利用できる薬液量が早く減るので補充が頻繁に必要になり、次工程で基板洗浄を行う場合は洗浄効率が低下するなどの不具合が生じる。
そのため、従来、液切りを良好に行うための種々の工夫が提案されており、その一例が特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４３８３８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載された技術は、基板の搬送経路における液切りが必要な位置に、搬送高さを他の部位よりも高くした高位部を設けるものである。これにより、基板が高位部に向かう際に、薬液が自重によって搬送元側に戻るので液切りが良好に行える、とされている。
【０００６】
しかしながら、この技術では、液切り効果をより高めたい場合、高位部の高さをより増加させることになるため、薬液処理装置の大型化が避けられないという問題がある。
また、搬送元側に戻る薬液の多くが基板を伝って戻るため、高位部に向かう基板上に薬液が累積しやすく、結果として良好な液切りがされ難いという問題がある。
【０００７】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置及び薬液処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は次の構成を有する。
１）  可撓性を有する帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え、前記基板(1)を搬送しつつ前記基板(1)の上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う薬液処理装置において、
前記基板搬送部(51)は、前記基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組(R3〜R5)として前記長手方向(AR1)に沿ってその順に有し、
上ローラと下ローラとによって前記基板(1)を挟む挟持位置について、前記第２のローラ組(R4)の前記挟持位置(KP4)が前記第１及び第３のローラ組の前記挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にあることを特徴とする薬液処理装置(YS)である。
２）  前記第２のローラ組(R4)における上ローラ(R4t)の外径(D4t)が、他の上ローラ(R3t,R5t)及び下ローラ(R3b〜R5b)の外径(Db)よりも大きいことを特徴とする１）に記載の薬液処理装置(51)である。
３）  前記第２のローラ組(R4)における上ローラ(R4t)の質量が、他の上ローラ(R3t,R5t)及び下ローラ(R3b〜R5b)の質量よりも大きいことを特徴とする１）又は２）に記載の薬液処理装置(YS)である。
４）  前記第２のローラ組(R4)の上ローラ(R4t)と前記基板(1)の上表面(1u)とが、互いに付勢しつつ前記上ローラ(R4t)の軸線(CL4t)まわりの所定角度範囲(θA+θB)で前記挟持位置(KP4)を含み面接触し、前記所定角度範囲(θA+θB)における、前記挟持位置(KP4)に対する前記搬送方向(DR1)の上流側の角度(θA)が、下流側の角度(θB)以上とされていることを特徴とする１）〜３）のいずれか一つに記載の薬液処理装置(YS)である。
５）  可撓性を有する帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)によって前記基板(1)を搬送しつつ前記基板(1)の上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う薬液処理方法において、
前記基板搬送部(51)を、前記基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組(R3〜R5)として前記長手方向(DR1)に沿ってその順に有するものとし、
前記上表面(1u)に薬液(LQ)が付着した基板(1)を前記第２のローラ組(R4)を通過させる際に、前記第２のローラ組(R4)における上ローラ(R4t)と下ローラ(R4b
)とによって前記基板(1)を挟む挟持位置(KP4)を、前記第１及び第３のローラ組(R3,R5)における前記挟持位置(KP3,KP5)よりも低くし、かつ、前記第２のローラ組(R4)の上ローラ(R4t)によって前記基板(1)の上表面(1u)を付勢しつつ前記上ローラ(R4t)の軸線(CL4t)まわりの所定角度範囲(θA+θB) で前記挟持位置(KP4)を含み面接触させることを特徴とする薬液処理方法である。
６）  前記第２のローラ組(R4)における上ローラ(R4t)の外径(D4t)が、他の上ローラ(R3t,R5t)及び下ローラ(R3b〜R5b)の外径(Db)よりも大きいことを特徴とする５）に記載の薬液処理方法である。
７）  前記第２のローラ組(R4)における上ローラ(R4t)の質量が、他の上ローラ(R3t,R5t)及び下ローラ(R3b〜R5b)の質量よりも大きいことを特徴とする５）又は６）に記載の薬液処理方法である。
８）  前記第２のローラ組(R4)の上ローラ(R4t)と前記基板(1)の上表面(1u)とが、互いに付勢しつつ前記上ローラ(R4t)の軸線(CL4t)まわりの所定角度範囲(θA+θB)で前記挟持位置(KP4)を含み面接触し、前記所定角度範囲(θA+θB)における、前記挟持位置(KP4)に対する前記搬送方向(DR1)の上流側の角度(θA)が、下流側の角度(θB)以上とされていることを特徴とする５）〜７）のいずれか一つに記載の薬液処理方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える、という効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の薬液処理装置の実施例を説明する側面図である。
【図２】本発明の薬液処理装置の実施例を説明する断面図である。
【図３】本発明の薬液処理装置の実施例における要部を説明する側面図である。
【図４】本発明の薬液処理装置の実施例における液切り状態を説明する側面図である。
【図５】本発明の薬液処理装置の実施例における液切り状態を説明する断面図である。
【図６】本発明の薬液処理装置の実施例に適用される基板例を説明するための斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施の形態を、好ましい実施例により図１〜図６を用いて説明する。
【００１２】
図１は、薬液処理装置ＹＳが基板１を搬送している状態を示した側面図である。
実施例の薬液処理装置ＹＳは、ロールＲＬなどから引き出された可撓性を有する帯状の基板１をその長手方向に搬送しながら、基板１の表面１ｕに薬液ＬＱを供給しその後液切りを行うものとして構成されている。
ここで、基板１は、例えば、基板の素材又は完成基板の作成途中の中間体である。
【００１３】
薬液処理装置ＹＳは、基板１を矢印ＤＲ１で示される左方側（上流側）から右方側（下流側）に搬送する基板搬送装置５１と、基板搬送装置５１で搬送されている基板１に対して薬液ＬＱをスプレーなどで供給する薬液供給装置５２と、を有している。
【００１４】
また、薬液処理装置ＹＳは、基板１の搬送方向の上流側から下流側に向け、薬液供給部ＹＳ１，液切り部ＹＳ２，及び洗浄部ＹＳ３の三つのブロックを有して構成されている。洗浄部ＹＳ３は別の装置として分離されていてもよい。
【００１５】
＜基板搬送装置５１について＞
基板搬送装置５１は、基板１を厚さ方向に対向挟持するローラ組Ｒ１〜Ｒ６と、各ローラ組を回転駆動させる駆動部（図示せず）と、を有している。
基板１に対する上方側のローラ（上ローラ）については、符号に添字ｔを付し、下方側のローラ（下ローラ）については、符号に添字ｂを付して区別する。
例えば、ローラ組Ｒ１は、上ローラＲ１ｔと下ローラＲ１ｂとの組である。
【００１６】
ローラ組Ｒ１，Ｒ２は、薬液供給部ＹＳ１に配置され、ローラ組Ｒ３〜Ｒ５は、液切り部ＹＳ２に配置され、ローラ組Ｒ６は、洗浄部ＹＳ３に配置されている。
ローラ組Ｒ１〜Ｒ６の内、ローラ組Ｒ４を除いたローラ組Ｒ１〜Ｒ３，Ｒ５，Ｒ６は、基板１を所定の水平面ＬＳ内で搬送するように位置決めされている。
すなわち、基板１は、ローラ組Ｒ４以外のローラ組Ｒ１〜Ｒ３，Ｒ５，Ｒ６において、傾斜することなく水平に搬送される。
薬液処理工程における基板１の搬送速度は、例えば、０．５ｍ〜５．０ｍ／秒程度である。
【００１７】
薬液処理装置ＹＳが設置されている床面ＧＬから、基板１が搬送される所定の水平面ＬＳの位置までの距離（高さ）を、搬送の基準高さとして図１に示すようにＬＶ１とする。
【００１８】
上ローラＲ１ｔ〜Ｒ６ｔ及び下ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂ（以下、ローラ群とも称する）の少なくとも外周面を含む外周面側の所定厚さの部分は、弾性を有するゴム材で形成されている。このゴム材に替えて弾性を有するエラストマ材や発泡材としてもよく、いずれであっても薬液を吸収しない材料であることが望ましい。
これは、薬液を吸収する材料とした場合、不使用時に特別な保管が必要になる、経時劣化が速く定期交換が頻繁に必要になる、液切りが良好に行われにくくなる（詳細は後述する）、などデメリットが多いことによる。
【００１９】
下ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂは、駆動部からの動力が伝達されて回転駆動される。
上ローラＲ１ｔ〜Ｒ６ｔは、駆動部とは非連結状態となっており、それぞれの自重によって下方側に付勢しつつ下ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂとの間で基板１を挟み、下ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂの回転に伴う基板１の移動によって従動的に回転するようになっている。
下ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂの軸は所定の位置で固定されており、上ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂの軸は、上下方向に移動可能となっている。
【００２０】
また、全ローラ組Ｒ１〜Ｒ６の各上下ローラの内、ローラ組Ｒ４の上ローラＲ４ｔのみが、他の上下ローラと外径が異なっている。
実施例では、上ローラＲ４ｔ以外の上下ローラはすべて同じ仕様のものが用いられている。
詳しくは、上ローラＲ４ｔを除く他のすべての上ローラＲ１ｔ〜Ｒ３ｔ，Ｒ５ｔ，Ｒ６ｔ及びすべての下ローラＲ１ｂ〜Ｒ６ｂの外径及び長さ（図１の紙面表裏方向の長さ）は同じとされている。
上ローラＲ４ｔを除くローラ群の中に、外径又は長さが異なるローラを含んでいてもよいが、用いるローラの種類が増えると共に駆動機構が複雑になるので、コストアップを抑える観点から、上ローラＲ４ｔを除くローラ群で用いるローラはすべて同じであることが望ましい。
【００２１】
基板搬送装置５１は、各ローラ組Ｒ１〜Ｒ６において、上ローラと下ローラとが、鉛直方向（図１における上下方向）に対向するように配置されている。
図２は、図１におけるローラ組Ｒ４の軸線ＣＬ４ｔ，ＣＬ４ｂを含む鉛直平面位置に相当するＡ−Ａ断面図であり、理解容易のため、ローラＲ４ｔ，Ｒ４ｂは外形線のみ示している。
ローラＲ４ｔ，Ｒ４ｂの幅Ｗｂは、基板１の幅Ｗａに対してＷａ＜Ｗｂとなるように設定されている。
また、ローラＲ４ｔ，Ｒ４ｂは、基板１の搬送位置に対し幅方向において中心が一致するように配設されている。
この幅Ｗａ，Ｗｂの大小関係と幅方向の中心の一致については、ローラ組Ｒ１〜Ｒ３，Ｒ５，Ｒ６についてもこのローラ組Ｒ４と同様に設定されている。
上ローラＲ４ｔ及び下ローラＲ４ｂの外周部は、弾性を有する材料で形成されている。基板１は十分に薄いので、外周部は、図２において基板１を挟んでいる部分は弾性変形して凹み、基板１を挟んでいない部分ＡＲ４も、互いに密着した状態になっている。
【００２２】
上述のように、ローラＲ４ｔの外径Ｄ４ｔは、ローラＲ４ｂの外径Ｄｂと異なっており、具体的にはＤｂ＜Ｄ４ｔとなっている。
幅及び外径の寸法例は、Ｗａ＝５００ｍｍ，Ｗｂ＝７３０ｍｍ，Ｄ４ｔ＝４０ｍｍ，Ｄｂ＝３０ｍｍである。
ローラＲ４ｔは、外径が他のローラよりも大きいこともあって他のローラよりも質量が大きくなっている。
質量の例は、ローラＲ４ｔが２．０ｋｇ、ローラＲ４ｂが１．５ｋｇである。
ローラＲ４ｔの質量調整（増加）は、外径拡大に加え内部にウエイトを具備することで行ってもよい。
【００２３】
ローラ組Ｒ４における上ローラＲ４ｔ及び下ローラＲ４ｂの各軸線ＣＬ４ｔ，ＣＬ４ｂの位置は、他のローラ組の上下ローラの軸線の位置と比較して地面ＧＬからの高さが異なっている。
また、上ローラＲ４ｔの外周面Ｒ４ｓは、溝や凹凸などがない平坦な円筒外周面として形成されている。
これらの詳しい内容を含め、液切り部ＹＳ２のローラ組Ｒ３〜Ｒ５の詳細は後述する。
【００２４】
＜薬液供給装置５２について＞
薬液供給装置５２は、薬液ＬＱを基板１に供給する。薬液の例はエッチング液である。
具体的には、図１に示されるように、薬液供給装置５２は、薬液供給部ＹＳ１において、基板１の上方側と下方側とにそれぞれ薬液を噴出する噴出部２ｔ，２ｂを備えている。薬液ＬＱｂの噴出は、例えばスプレー状に行われる。
噴出部２ｔ，２ｂは、それぞれ基板１の上表面１ｕ及び下表面１ｄに対して薬液ＬＱを満遍なく付着させる。
【００２５】
基板１の下表面１ｄに付着した薬液ＬＱは、自重の作用もあり、ロール組Ｒ１，Ｒ２を通過することで製造に支障がない程度に排除される。
基板１の上表面１ｕに付着した薬液ＬＱは、液切り部ＹＳにおいて基板１の表面からの排除（液切り）が行われる。
液切り部ＹＳ２の底面２１は、底面２１に落下してきた薬液ＬＱが自重により薬液供給部ＹＳ１に向かって流れるように傾斜している。
また、薬液供給部ＹＳ１と液切り部ＹＳ２とを隔てる壁面２２の底面２１側端部には孔２３が形成されている。
従って、液切り部ＹＳ２で液切りされた薬液ＬＱは、孔２３を介して薬液供給部ＹＳ１に集められる。
薬液供給装置５２は、集められた薬液ＬＱを、図示しない回収装置により回収して噴出部２ｔ，２ｂから再び噴出させて再利用する。
【００２６】
＜液切りについて＞
図３は、液切り部ＹＳ２に配設されたローラ組Ｒ３〜Ｒ５の拡大図である。
【００２７】
液切り部ＹＳ２において、ローラ組Ｒ３とローラ組Ｒ４との搬送方向ピッチＰ１と、ローラ組Ｒ４とローラ組Ｒ５との搬送方向ピッチＰ２とは同じに、すなわちＰ１＝Ｐ２に設定されている。
上述のように、上ローラＲ４ｔを除く、上ローラＲ３ｔ，Ｒ５ｔ及び下ローラＲ３ｂ〜Ｒ５ｂは、外径Ｄｂが等しいローラである。
ここで、ローラ組Ｒ４は、搬送される基板１を挟持する挟持位置である挟持点ＫＰ４の高さ位置が、基準高さＬＶ１に対して距離Ｈａだけ低い位置となるように、外径Ｄｂなる下ローラＲ４の軸線ＣＬ４ｂ位置が設定されている。
すなわち、この実施例では、各下ローラＲ３ｂ〜Ｒ５ｂが同じ外径とされているので、軸線ＣＬ４ｂの位置は、他の下ローラＲ３ｂ，Ｒ５ｂの軸線ＣＬ３ｂ，ＣＬ５ｂの位置に対してＨａだけ低い位置に設定されている。
【００２８】
図３に示されるように、基板１は、搬送元の上流側からローラ組Ｒ３による挟持点ＫＰ３に至る迄、基準高さＬＶ１の位置で搬送される。
挟持点ＫＰ３からローラ組Ｒ４による挟持点ＫＰ４迄については、挟持点ＫＰ４が基準高さＬＶ１から距離Ｈａだけ低い位置に設定されているので、基板１は、基準高さＬＶ１の水平面ＬＳに対して角度θＡなる傾斜角度で下降するように搬送される。
換言すると、基板１の搬送経路において、挟持点ＫＰ３と挟持点ＫＰ４との間で、基板１の上表面１uは水平面ＬＳに対して角度θＡで傾斜する傾斜面１ＫＡとなる。
【００２９】
ここで、角度θＡは、挟持点ＫＰ３と挟持点ＫＰ４とを繋ぐ線分と水平面ＬＳとの角度ではなく、下ローラＲ３ｂの外周面と上ローラＲ４ｔの外周面とを繋ぐ接線ＬＮ１（図３において二点鎖線）のなす角度である。
すなわち、角度θＡは、接線ＬＮ１と下ローラＲ３ｂとの接点ＳＰ３と、接線ＬＮ１と上ローラＲ４ｔとの接点ＳＰ４Ａとを繋ぐ線分と水平面ＬＳとのなす角度である。
【００３０】
一方、基板１は、ローラ組Ｒ４の挟持点ＫＰ４から下流側のローラ組Ｒ５による挟持点ＫＰ５に至る迄、水平面ＬＳに対して角度θＢなる傾斜角度で上昇するように搬送される。
換言するならば、搬送経路において、挟持点ＫＰ４と挟持点ＫＰ５との間で、基板１の上表面１ｕは、水平面ＬＳに対して角度θＢで傾斜する傾斜面１ＫＢとなる。
【００３１】
ここで、角度θＢは、挟持点ＫＰ４と挟持点ＫＰ５とを繋ぐ線分と水平面ＬＳとの角度ではなく、上ローラＲ４ｔの外周面と下ローラＲ５ｂの外周面とを繋ぐ接線ＬＮ２（図３において二点鎖線）のなす角度である。
すなわち、角度θＢは、接線ＬＮ２と上ローラＲ４ｔとの接点ＳＰ４Ｂと、接線ＬＮ２と下ローラＲ５ｂとの接点ＳＰ５とを繋ぐ線分と水平面ＬＳとのなす角度である。
【００３２】
実施例では、ピッチＰ１とピッチＰ２を等しく設定し、かつ、ローラ組Ｒ３とローラ組Ｒ５の各ローラの外径を等しく設定しているので、θＡ＝θＢとなっている。
【００３３】
各寸法を、例えば、Ｄｂ＝３０ｍｍ，Ｄ４ｔ＝４０ｍｍ，Ｈａ＝１５ｍｍ，Ｐ１＝Ｐ２＝５０ｍｍとすると、角度θＡ（＝θＢ）は、約１９°となる。
【００３４】
このように構成されたローラ組Ｒ３〜Ｒ５における薬液ＬＱの具体的な液切り状態について、更に図４及び図５を用いて詳述する。
図４は、図３で説明したローラ組Ｒ３〜Ｒ５に対し、薬液ＬＱを合わせて記載した図である。
図５は、図４におけるＢ−Ｂ断面図である。
図４及び図５において、基板１の表面に付着した薬液の量（厚さ）は、理解容易のため一部誇張して描いている。
【００３５】
基板１が上ローラＲ４ｔと接触している、搬送方向に沿う長さ（接触長Ｌと称する）に注目すると、図４に示されるように、接触長Ｌは、接点ＳＰ４Ａと接点ＳＰ４Ｂとの間の外周長に相当する。
下ローラＲ４ｂは、図示しない駆動部から伝達された力でＲＴ１方向に回転する。
上ローラＲ４ｔは、下ローラＲ４ｂとの間に通された基板１を重力による付勢力Ｆ４で付勢する。
【００３６】
一方、基板１は、ローラ組Ｒ４以外のローラ組Ｒ１〜Ｒ３，Ｒ５,Ｒ６によって矢印ＤＲ１の方向に搬送されており、その搬送に伴って付与される張力に応じた反発力Ｆ１で上ローラＲ４ｔを付勢する。
上ローラＲ４ｔの質量は、その付勢力Ｆ４が反発力Ｆ１に対して十分勝って基板１を下方に付勢できるように設定されている。
従って、上ローラＲ４は、下ローラＲ４ｂに対して基板１を押しつけると共に、基板１の搬送に伴い、軸線ＣＬ４ｔまわりを矢印ＲＴ２方向に従動する。
この構成において、基板１とローラＲ４ｔとは、接触長Ｌの範囲において、付勢力Ｆ４と反発力Ｆ１との合力で互いに付勢し合いながら接触する。
接触長Ｌは、上ローラＲ４ｔにおけるθＡ＋θＢ分の周長である。
すなわち、θＡ＝θＢ＝１９°，Ｄ４ｔ＝４０ｍｍの場合、Ｌ＝１３．３ｍｍである。
【００３７】
ところで、薬液供給部ＹＳ１によって基板１に供給された薬液ＬＱは、主として自重では落下しにくい上表面１ｕに付着して基板１と共に搬送される。
ローラ組Ｒ１〜Ｒ３をそれぞれ通過する際には、上ローラＲ１ｔ〜Ｒ３ｔが上表面１ｕに密着して薬液ＬＱの通過が阻止されるも、上ローラＲ１ｔ〜Ｒ３ｔと上表面１ｕとの密着は、ほぼ挟持点ＫＰ３のみの点接触（実際は図４の紙面表裏方向の奥行きがあるので線接触）でしかない。
従って、各ローラ組Ｒ１〜Ｒ３を通過する度に薬液ＬＱは減少するものの、十分には排除されない。
【００３８】
上述のように、上表面１ｕは上ローラＲ４ｔと接触長Ｌの範囲で互いに付勢し合って密着している。
換言するならば、ローラ組Ｒ４の上ローラＲ４ｔと基板１の上表面１ｕとが、互いに付勢しつつ上ローラＲ４ｔの軸線ＣＬ４ｔまわりの所定角度範囲（θＡ＋θＢ）で挟持位置ＫＰ４を含み面接触している。
このため、基板１がローラ組Ｒ４を通過する際、上ローラＲ４ｔの外周面Ｒ４ｓと基板１の上表面１ｕとの間に薬液ＬＱは介在することができない。すなわち、基板１は通過するものの薬液ＬＱは上ローラＲ４ｔを通過することができない。
そのため、上ローラＲ４ｔの接点ＳＰ４Ａから上流側には、通過できない薬液ＱＬが溜まって薬液溜まりＬＱＴが形成される。
【００３９】
図５は、薬液溜まりＬＱＴが形成された状態における図４のＢ−Ｂ断面図である。
図４及び図５に示されるように、薬液溜まりＬＱＴは、上ローラＲ４ｔの外周面Ｒ４ｓに沿って上方に向け溜まると共に、基板１の幅方向には溢れて縁部１ｅから下方に液流（又は液滴）ＬＱＥとして落下する。図４及び図５では理解し易いように液滴として記載してある。
上ローラＲ４ｔの外周面Ｒ４ｓにおける基板１を挟んでいない部分ＡＲ４は、下ローラＲ４ｂの外周面と密着しているので、この部分ＡＲ４からも薬剤ＬＱは通過できない。
このように、薬液処理装置ＹＳは、ローラ組４Ｒにおいて、接触長Ｌに対応した周面で上表面１ｕと外周面Ｒ４ｓとが密着しているので、薬液ＬＱのローラ組Ｒ４の通過をより確実に阻止することができる。
液流ＬＱＥなどとして落下した薬液ＬＱは、図１に示されるように、液切り部ＹＳ２の底面２１を介して回収され再利用される。
【００４０】
また、搬送経路において、ローラ組Ｒ３とローラ組Ｒ４との間は、基板１の上表面１ｕは傾斜面１ｋとなっている。
このため、上表面１ｕに付着した薬液ＬＱは、自重によって図４の矢印ＤＲ３方向に移動しようとする。
従って、薬液溜まりＬＱＴには、上表面１ｕに付着した薬液ＬＱがより多く集まるので、その分基板１の縁部１ｅからより多くの薬液が液流ＬＱＥなどとして落下する。
すなわち、液切れがより良好に行われる。
【００４１】
実施例の基板搬送装置５１では、ロール組Ｒ４とロール組Ｒ５との間において、基板１は、ロール組Ｒ５に向け上昇する傾斜面１ＫＢとされている。
上表面１ｕに付着したほとんどの薬液ＬＱの液切りがロール組Ｒ４によって行われるが、仮にロール組Ｒ４を基板１と共に通過した薬液ＬＱが存在したとしても、その薬液ＬＱは基板１に付着したまま上がることはできず、自重によりロール組Ｒ４に向け移動する。
そのため、薬液ＬＱは、ロール組Ｒ４を通過したとしてもロール組Ｒ５に到達することはほとんどできない。
従って、ロール組Ｒ３〜Ｒ５により、薬液ＬＱの液切りが極めて良好に行える。
実施例における液切り部ＹＳ２を通過し洗浄部ＹＳ３に供給された基板１は、薬液ＬＱをほとんど伴っていないので、洗浄がより確実に、高効率で行われる。
【００４２】
ところで、フレキシブルの基板５１を最初に通すセッティング作業において、基板５１は柔軟で腰がないため、基板搬送装置５１の経路によっては各ロール組を通過させる際にその先端を人為的に誘導しなければならない。
【００４３】
そこで、図６に示されるように、基板５１の先端に堅い板２４を繋いでセッティング作業を行う場合がある。板２４は例えばＧＥ（ガラスエポキシ）樹脂で形成される。
ロール組Ｒ４の下方側へのシフト量（距離Ｈａ）を、下ローラＲ３ｂの半径以下とし、傾斜角度θＡ＝１９°程度と設定した場合、板２４の長さＬｔをピッチＰ１に応じて最適（例えばＰ１の半分程度）にしておけば、ロール組Ｒ３を通過した後、ロール組Ｒ４の上下ローラＲ４ｔ，Ｒ４ｂ間に自然に誘導される。
従って、基板５１のセッティングが容易に行える。
すなわち、Ｈａ≦Ｄｂ／２とすると、基板１の搬送経路に対する基板１の初期通しが比較的容易に行えるようになるので好ましい。
【００４４】
上述から明らかなように、液切れは、接触長Ｌが長いほど良好に行われる
また、液切れは、上ローラＲ４ｔと基板１とが互いに付勢し合う力が大きい程、良好に行われる。
従って、上ローラＲ４ｔの外径はより大きい方が好ましい。
また、上ローラＲ４ｔの質量はより大きい方が好ましい。
また、基板１の搬送における張力はより大きい方が好ましい。
【００４５】
液切れをより良好に行うために、上ローラＲ４ｔの基板１の上表面１ｕに接触する部位の材質は、弾性を有していると密着性が高まるので好ましい。その材質がゴム材であることは好ましい。
また、搬送経路において、上ローラＲ４ｔ直前の基板１は、搬送方向に対して下り勾配で傾斜していることが好ましい。
また、搬送経路において、上ローラＲ４ｔ直後の基板１は、搬送方向に対して登り勾配で傾斜していることが好ましい。
【００４６】
実施例によれば、液切りを更に強力に実施したい場合、一つの方法として、上ローラ４Ｒｔの質量を増加させればよく、装置の大型化を伴わずに実現することができる。
実施例によれば、ローラ組Ｒ４において溢れた薬液ＬＱは基板１を伝って上流側に移動することなく下方へ落下するので、薬液溜まりＬＱＴに薬液ＬＱが滞留することはない。
従って、良好な液切りが実行できる。
【００４７】
本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。
【００４８】
搬送される基板１は、精度よく水平面上を搬送されていなくてもよく、概ね水平面上で搬送されていればよい。
【００４９】
実施例では、所角度範囲について、挟持点ＰＫ４に対し上流側の角度θＡと下流側の角度θＢとがそれぞれ等しく設定されたものを説明したが、これに限るものではない。
上流側の角度θＡをより大きくすることで、より多くの薬液ＬＱが自重によって薬液溜まりＬＱＴを形成し、基板１から溢れて落下する液流ＬＱＥの量が増加する。その結果、液切りがより良好に行われる。
すなわち、挟持点ＰＫ４に対する上流側と下流側との基板１の搬送面（搬送高さ）を一致させる場合、所定角度範囲（θＡ＋θＢ）は、上流側の角度θＡと下流側の角度θＢとの関係が、θＡ≧θＢ  （ただし、θＢ≠０°）であるとよりよい。
挟持点ＰＫ４に対する上流側と下流側との基板１の搬送面（搬送高さ）を一致させなくてもよい場合は、θＢが０（ゼロ）°であってもよい。従って、その場合は、θＡ≧θＢ  （ただし、θＡ≠０°，Ｂ≧０°）であるとよりよい。
【００５０】
搬送経路上の基板１を、少なくともローラ組Ｒ４を通過する際に、搬送方向ＤＲ１に対して左右いずれかに傾斜するようにしてもよい。
具体的には、上ローラ４Ｒｔ及び下ローラ４Ｒｂを円錐台形状に形成し、大径側が互いに逆方向となるように配置する。
あるいは、上ローラ４Ｒｔ及び下ローラ４Ｒｂは円筒形状のままで、各軸線ＣＬ４ｔ，ＣＬ４ｂを傾斜させる。
これらの方法により、上ローラ４Ｒｔと下ローラ４Ｒｂとによる基板１の挟持線は水平に対して傾斜する。
この傾斜により、薬液溜まりＬＱＴの薬液ＬＱが基板１からさらに良好に落下し易くなるので、液切れがさらに良好に実行できる。
【符号の説明】
【００５１】
１  フレキシブル基板（基板）
１ｅ  縁部、１ＫＡ，１ＫＢ  傾斜面、１ｕ  上表面、１ｄ  下表面
２ｔ，２ｂ  噴出部
２１  底面、２２  壁面、２３  孔
５１  基板搬送装置、５２  薬液供給装置
ＣＬ４ｔ，ＣＬ４ｂ  軸線
Ｄｂ，Ｄｔ，Ｄ４ｔ  外径
Ｆ１  反発力、Ｆ４  付勢力
ＧＬ  床面
Ｈａ  距離
ＫＰ３，ＫＰ４  挟持点
Ｌ  接触長
ＬＮ１，ＬＮ２  接線
ＬＳ  水平面
ＬＶ１  距離（基準高さ）
ＬＱ  薬液、ＬＱＴ  薬液溜まり、ＬＱＥ  液流（液滴）
Ｐ１，Ｐ２  ピッチ
Ｒ１〜Ｒ６  ローラ組
Ｒ１ｔ〜Ｒ６ｔ  上ローラ、Ｒ１ｂ〜Ｒ６ｂ  下ローラ、Ｒ４ｓ  外周面
ＳＰ３，ＳＰ４Ａ，ＳＰ４Ｂ  接点
ＹＳ  薬液処理装置
ＹＳ１  薬液供給部、ＹＳ２  液切り部、ＹＳ３  洗浄部
θＡ，θＢ  角度（傾斜角）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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