(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるピレン化合物を含有する発光素子材料；
【化１】
0005326280.tif 000029
ここで、Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基、シリル基および−Ｐ(＝Ｏ)−Ｒ１１からなる群から選ばれた基である。Ｒ１１はアリール基およびヘテロアリール基の中から選ばれた基である。ただし、Ｒ１〜Ｒ１０は、そのうちいずれか一つが下記一般式（２）で表される基であるか、またはそのうちいずれか１〜２個が下記一般式（３）で表される基である；
【化２】
0005326280.tif 000030
ここで、Ｒ１２〜Ｒ２１は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基およびシリル基からなる群から選ばれた基である。Ｂはホウ素原子である。Ｘは酸素原子および−ＮＲ２２−の中から選ばれた基である。Ｒ２２は水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基およびアミノ基の中から選ばれた基である。Ｒ２２はＲ１７と結合し環を形成してもよい。
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６およびＲ８のうちいずれか１つが一般式（２）で表される置換基である請求項１記載の発光素子材料。
【請求項３】
Ｒ１２、Ｒ１４およびＲ１６がメチル基である請求項１または２記載の発光素子材料。
【請求項４】
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６およびＲ８のうち少なくとも１つが一般式（３）で表される置換基である請求項１記載の発光素子材料。
【請求項５】
Ｒ１〜Ｒ１０の少なくとも１つがアルキル基またはアリール基である請求項１〜４のいずれかに記載の発光素子材料。
【請求項６】
一般式（１’）で表されるピレン化合物を含有する発光素子材料；
【化３】
0005326280.tif 000031
ここで、Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基、シリル基および−Ｐ(＝Ｏ)−Ｒ１１からなる群から選ばれた基である。Ｒ１１はアリール基およびヘテロアリール基の中から選ばれた基である。ただし、Ｒ１が一般式（２）または（３）で表される置換基であり、かつ、Ｒ３およびＲ８がアリール基またはヘテロアリール基である；
【化４】
0005326280.tif 000032
ここで、Ｒ１２〜Ｒ２１は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基およびシリル基からなる群から選ばれた基である。Ｂはホウ素原子である。Ｘは酸素原子、硫黄原子および−ＮＲ２２−の中から選ばれた基である。Ｒ２２は水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基およびアミノ基の中から選ばれた基である。Ｒ２２はＲ１７と結合し環を形成してもよい。
【請求項７】
陽極、陰極および該陽極と該陰極の間に存在する有機層を有し、該有機層は少なくとも発光層を含み、該発光層が電気エネルギーにより発光する発光素子であって、該有機層が請求項１〜６のいずれかに記載の発光素子材料を含有する発光素子。
【請求項８】
発光層がホスト材料とドーパント材料を含み、かつ、ドーパント材料が一般式（１）または一般式（１’）で表されるピレン化合物である請求項７に記載の発光素子。
【請求項９】
発光層と陰極の間にさらに電子輸送層が存在し、該電子輸送層が、電子受容性窒素を含み、さらに炭素、水素、窒素、酸素、ケイ素およびリンの中から選ばれる元素で構成されるヘテロアリール環構造を有する化合物を含有する請求項７または８に記載の発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蛍光色素や電荷輸送材として有用な発光素子材料およびこれを用いた発光素子に関する。本発明の発光素子は、表示素子、フラットパネルディスプレイ、バックライト、照明、インテリア、標識、看板、電子写真機および光信号発生器などの分野に利用可能である。
【背景技術】
【０００２】
陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔が両極に挟まれた有機発光体内で再結合する際に発光するという有機薄膜発光素子の研究が、近年活発に行われている。この発光素子は、薄型で、低駆動電圧下で高輝度発光が可能であり、かつ、発光材料を選ぶことにより多色発光が可能なことが特徴であり、注目を集めている。【０００３】
イーストマンコダック社のＣ．Ｗ．Ｔａｎｇらによって有機薄膜発光素子が高輝度に発光することが示されて以来、この技術について、多くの研究機関が検討を行っている。コダック社の研究グループが提示した有機薄膜発光素子の代表的な構成は、ＩＴＯガラス基板上に、正孔輸送性のジアミン化合物、発光層であるトリス（８−キノリノラート）アルミニウム（III）、そして陰極としてＭｇ：Ａｇ（合金）を順次設けたものであり、１０Ｖ程度の駆動電圧で１,０００ｃｄ／ｍ２の緑色発光が可能であった（非特許文献１参照）。【０００４】
また、有機薄膜発光素子は、発光層に種々の蛍光材料を用いることにより、多様な発光色を得ることが可能であることから、ディスプレイなどへの実用化研究が盛んである。三原色の発光材料の中では緑色発光材料の研究が最も進んでおり、現在は赤色発光材料と青色発光材料の特性向上を目指して鋭意研究がなされている。【０００５】
有機薄膜発光素子における最大の課題の１つは、素子の発光効率、色純度および耐久性の両立である。特に青色発光素子に関しては、色純度および耐久性に優れ、信頼性の高い素子を提供する青色発光材料は少ない。例えば、青色ゲスト材料として、スチリルアミン誘導体（特許文献１参照）、ペリレン誘導体（特許文献２参照）、アントラセン誘導体（特許文献３参照）を用いる技術が開示されている。また、ピレン化合物を青色発光素子に用いる技術が開示されている（特許文献４、５参照）。また、ピレン骨格にジアリールボリル基を導入した化合物（特許文献６〜８参照）を発光素子に用いた例が報告されている。しかしながら、いずれも色純度および耐久性が不十分であった。
【特許文献１】特開平５−１７７６５号公報
【特許文献２】特開２００３−８６３８０号公報
【特許文献３】国際公開第００／４０５８６号パンフレット
【特許文献４】特開平５−２１１６１号公報
【特許文献５】特開２００１−１１８６８２号公報
【特許文献６】特開２０００−２９４３７３号公報
【特許文献７】特開２０００−２９０６４５号公報
【特許文献８】特表２００５−５０１３７２号公報
【非特許文献１】アプライド  フィジックス  レターズ（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）（米国）１９８７年、５１巻、１２号、９１３〜９１５頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで本発明は、かかる従来技術の問題を解決し、発光効率が高く、色純度および耐久性に優れた発光素子を可能にする発光素子材料およびこれを用いた発光素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は一般式（１）で表されるピレン化合物を含有する発光素子材料である。【０００８】
【化１】
0005326280.tif 000002
【０００９】
ここで、Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基、シリル基および−Ｐ(＝Ｏ)−Ｒ１１からなる群から選ばれた基である。Ｒ１１はアリール基およびヘテロアリール基の中から選ばれた基である。ただし、Ｒ１〜Ｒ１０は、そのうちいずれか一つが下記一般式（２）で表される基であるか、またはそのうちいずれか１〜２個が下記一般式（３）で表される基である。
【００１０】
【化２】
0005326280.tif 000003
【００１１】
ここで、Ｒ１２〜Ｒ２１は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基およびシリル基からなる群から選ばれた基である。Ｂはホウ素原子である。Ｘは酸素原子および−ＮＲ２２−の中から選ばれた基である。Ｒ２２は水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基およびアミノ基の中から選ばれた基である。Ｒ２２はＲ１７と結合し環を形成してもよい。
また本発明は一般式（１’）で表されるピレン化合物を含有する発光素子材料である。
【化３】
0005326280.tif 000004
ここで、Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基、シリル基および−Ｐ(＝Ｏ)−Ｒ１１からなる群から選ばれた基である。Ｒ１１はアリール基およびヘテロアリール基の中から選ばれた基である。ただし、Ｒ１が一般式（２）または（３）で表される置換基であり、かつ、Ｒ３およびＲ８がアリール基またはヘテロアリール基である；
【化４】
0005326280.tif 000005
ここで、Ｒ１２〜Ｒ２１は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基およびシリル基からなる群から選ばれた基である。Ｂはホウ素原子である。Ｘは酸素原子、硫黄原子および−ＮＲ２２−の中から選ばれた基である。Ｒ２２は水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基およびアミノ基の中から選ばれた基である。Ｒ２２はＲ１７と結合し環を形成してもよい。
【００１２】
また、本発明は、少なくとも陽極、陰極および発光層を有し、該陽極と該陰極の間に該発光層が存在し、該発光層が電気エネルギーにより発光する発光素子であって、該発光層が一般式（１）で表されるピレン化合物を含有する発光素子である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の発光素子材料は、発光素子等に利用可能な、発光性能の高い発光素子材料を提供できる。本発明によれば、発光効率が高く、色純度および耐久性に優れた発光素子が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
一般式（１）で表されるピレン化合物について詳細に説明する。【００１５】
【化５】
0005326280.tif 000006
【００１６】
Ｒ１〜Ｒ１０は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基、シリル基および−Ｐ(＝Ｏ)−Ｒ１１からなる群から選ばれた基である。隣接する置換基が互いに結合して環構造を形成していても良い。Ｒ１１はアリール基およびヘテロアリール基の中から選ばれた基である。【００１７】
ただし、Ｒ１〜Ｒ１０は、そのうちいずれか一つが下記一般式（２）で表される基であるか、またはそのうちいずれか１〜４個が下記一般式（３）で表される基である。【００１８】
【化６】
0005326280.tif 000007
【００１９】
ここで、Ｒ１２〜Ｒ２１は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、アミノ基、シアノ基およびシリル基からなる群から選ばれた基である。隣接する置換基が互いに結合して環構造を形成していても良い。Ｂはホウ素原子である。Ｘは酸素原子、硫黄原子および−ＮＲ２２−の中から選ばれた基である。Ｒ２２は水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基およびアミノ基の中から選ばれた基である。Ｒ２２はＲ１７と結合し環を形成してもよい。【００２０】
これらの置換基のうち、アルキル基とは、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などの飽和脂肪族炭化水素基を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。置換されている場合の追加の置換基には特に制限は無く、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基等を挙げることができ、この点は、以下の記載にも共通する。また、アルキル基の炭素数は特に限定されないが、入手の容易性やコストの点から、通常１以上２０以下が好ましく、より好ましくは１以上８以下の範囲である。【００２１】
シクロアルキル基とは、例えば、シクロプロピル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの飽和脂環式炭化水素基を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。シクロアルキル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、３以上２０以下の範囲である。【００２２】
複素環基とは、例えば、ピラン環、ピペリジン環、環状アミドなどの炭素以外の原子を環内に有する脂肪族環を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。複素環基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、２以上２０以下の範囲である。【００２３】
アルケニル基とは、例えば、ビニル基、アリル基、ブタジエニル基などの二重結合を含む不飽和脂肪族炭化水素基を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。アルケニル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、２〜２０の範囲である。【００２４】
シクロアルケニル基とは、例えば、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基などの二重結合を含む不飽和脂環式炭化水素基を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。シクロアルケニル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、３以上２０以下の範囲である。【００２５】
アルキニル基とは、例えば、エチニル基などの三重結合を含む不飽和脂肪族炭化水素基を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。アルキニル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、２〜２０の範囲である。【００２６】
アルコキシ基とは、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのエーテル結合を介して脂肪族炭化水素基が結合した官能基を示し、この脂肪族炭化水素基は置換基を有していても有していなくてもよい。アルコキシ基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、１以上２０以下の範囲である。【００２７】
アルキルチオ基とは、アルコキシ基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子に置換されたものである。アルキルチオ基の炭化水素基は置換基を有していても有していなくてもよい。アルキルチオ基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、１以上２０以下の範囲である。【００２８】
アリールエーテル基とは、例えば、フェノキシ基など、エーテル結合を介した芳香族炭化水素基が結合した官能基を示し、芳香族炭化水素基は置換基を有していても有していなくてもよい。アリールエーテル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、６以上４０以下の範囲である。【００２９】
アリールチオエーテル基とは、アリールエーテル基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子に置換されたものである。アリールエーテル基における芳香族炭化水素基は置換基を有していても有していなくてもよい。アリールチオエーテル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、６以上４０以下の範囲である。【００３０】
アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、ターフェニル基、ピレニル基などの芳香族炭化水素基を示す。アリール基は、置換基を有していても有していなくてもよい。アリール基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、６〜４０の範囲である。【００３１】
ヘテロアリール基とは、フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリニル基などの炭素以外の原子を一個または複数個環内に有する環状芳香族基を示し、これは無置換でも置換されていてもかまわない。ヘテロアリール基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、２〜３０の範囲である。
【００３２】
ハロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭素、およびヨウ素を示す。【００３３】
アミノ基、シアノ基、−Ｐ(＝Ｏ)−Ｒ１１は、置換基を有していても有していなくてもよい。置換基としては例えば上記のようなアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基などが挙げられる。【００３４】
Ｒ１１は、アリール基またはヘテロアリール基の中から選ばれた基である。【００３５】
シリル基とは、例えば、トリメチルシリル基などのケイ素原子への結合を有する官能基を示し、これは置換基を有していても有していなくてもよい。シリル基の炭素数は特に限定されないが、通常好ましくは、３〜２０の範囲である。また、ケイ素数は、通常好ましくは、１〜６である。【００３６】
また、任意の隣接する２置換基（例えば一般式（１）のＲ１とＲ２）が互いに結合して、共役または非共役の縮合環を形成していてもよい。縮合環の構成元素としては、炭素以外にも窒素、酸素、硫黄、リンおよびケイ素から選ばれる元素を含んでいてもよい。また、縮合環がさらに別の環と縮合してもよい。【００３７】
本発明におけるピレン化合物の第１の態様は、分子中にピレン骨格および電子受容性ホウ素化合物である上記一般式（２）のジアリールボリル基１つを有する。このようなピレン化合物を含む発光素子材料は、高い発光効率と優れた耐久性を有する。【００３８】
一般式（２）で表されるジアリールボリル基を２つ以上導入すると、耐熱性が低下し、例えば真空蒸着で成膜する際に分解しやすい。従って、一般式（２）で表されるジアリールボリル基はピレン骨格に対し、１つだけ導入することが蛍光量子収率と耐熱性の両立の点で好ましい。【００３９】
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６およびＲ８のうちいずれか１つが一般式（２）で表される基であり、該置換基がピレン骨格と結合していると、蛍光量子収率が向上するため、好ましい。【００４０】
Ｒ１２、Ｒ１４およびＲ１６がメチル基であると、ホウ素原子のまわりが立体的に嵩高くなり、空気中においても安定で、耐熱性に優れるため、好ましい。【００４１】
本発明におけるピレン化合物の第２の態様は、分子中にピレン骨格および電子供与性縮合芳香族である上記一般式（３）のベンゾフラン骨格（Ｘが酸素原子の場合）およびベンゾチオフェン骨格（Ｘが硫黄原子の場合）またはインドール骨格（Ｘが−ＮＲ２２−の場合）から選ばれた構造を有する基を１〜４個有する。一般式（３）で表される基を１〜４個有することによって、ピレン化合物の蛍光量子収率と色純度が優れるので好ましい。中でも、一般式（３）で表される基が１〜２個の範囲であると、蛍光量子収率と色純度がより優れるため、さらに好ましい。このようなピレン化合物を含む発光素子材料は、高い発光効率と優れた色純度を有する。【００４２】
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６およびＲ８のうち少なくとも１つが、一般式（３）で表される基であり、該置換基がピレン骨格と結合していると、蛍光量子収率が優れるので好ましい。一般式（３）で表される基が２個以上ある場合、少なくともＲ１およびＲ６が一般式（３）で表される基であると、より好ましい。【００４３】
一般式（３）において、Ｘが酸素原子の場合、硫黄原子および−ＮＲ２２−に比べて、より高い発光効率が得られ、また、ストークスシフトが狭くなり、色純度が優れるので特に好ましい。【００４４】
いずれの態様においても、Ｒ１〜Ｒ１０の少なくとも１つがアルキル基またはアリール基であることにより、ピレン化合物同士の相互作用による濃度消光が抑制され、高い蛍光量子収率が可能となるため、好ましい。さらに、Ｒ１が一般式（２）または（３）で表される基であり、Ｒ３がアルキル基またはアリール基であり、Ｒ７がアルキル基である場合は、ピレン化合物同士の相互作用抑制効果が高くなり、高効率発光が可能となるため、好ましい。また、Ｒ１が一般式（２）または（３）で表される基であり、Ｒ６またはＲ８がアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基である場合も、ピレン化合物同士の相互作用が抑制され、高効率発光が可能となるため、好ましい。特に、Ｒ６もしくはＲ８がアリール基またはヘテロアリール基であることにより、固体または薄膜状態で強い蛍光強度を維持し、高効率発光が可能となるため好ましい。Ｒ３およびＲ８の両方がアリール基またはヘテロアリール基であると、さらに効果が高くなるため好ましい。【００４５】
上記のようなピレン化合物として、特に限定されるものではないが、具体的には以下のような例が挙げられる。【００４６】
【化７】
0005326280.tif 000008
【００４７】
【化８】
0005326280.tif 000009
【００４８】
【化９】
0005326280.tif 000010
【００４９】
【化１０】
0005326280.tif 000011
【００５０】
【化１１】
0005326280.tif 000012
【００５１】
【化１２】
0005326280.tif 000013
【００５２】
【化１３】
0005326280.tif 000014
【００５３】
【化１４】
0005326280.tif 000015
【００５４】
【化１５】
0005326280.tif 000016
【００５５】
【化１６】
0005326280.tif 000017
【００５６】
【化１７】
0005326280.tif 000018
【００５７】
【化１８】
0005326280.tif 000019
【００５８】
【化１９】
0005326280.tif 000020
【００５９】
一般式（１）で表されるピレン化合物の合成には、公知の方法を使用することができる。ピレン骨格へ、ジアリールボリル基（一般式（２））を導入する方法は、例えば、ハロゲン化ピレンをｎ−ブチルリチウム等でリチオ化し、ジアリールフルオライドと反応させる方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ピレン骨格へ、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基またはインドリル基（一般式（３））を導入する方法は、例えば、パラジウムやニッケル触媒下でのハロゲン化ピレン誘導体とベンゾフラニル金属錯体、ベンゾチオフェニル金属錯体またはインドリル金属錯体とのカップリング反応を用いる方法、パラジウムやニッケル触媒下でのピレニル金属錯体とハロゲン化ベンゾフラン誘導体、ハロゲン化ベンゾチオフェン誘導体またはハロゲン化インドール誘導体とのカップリング反応を用いる方法などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。【００６０】
次に、本発明における発光素子の実施形態について例をあげて詳細に説明する。本発明の発光素子は、陽極、陰極、および該陽極と該陰極の間に存在する有機層を有し、該有機層は少なくとも発光層を含み、該発光層が電気エネルギーにより発光する。【００６１】
有機層は、発光層のみからなる構成の他に、１）正孔輸送層／発光層／電子輸送層、２）発光層／電子輸送層、３）正孔輸送層／発光層などの積層構成が挙げられる。また、上記各層は、それぞれ単一層、複数層のいずれでもよい。正孔輸送層および電子輸送層が複数層をからなる場合、電極に接する側の層をそれぞれ正孔注入層および電子注入層と呼ぶことがあるが、以下の説明では、正孔注入材料は正孔輸送材料に、電子注入材料は電子輸送材料にそれぞれ含まれる。【００６２】
本発明の発光素子は、一般式（１）で表されるピレン化合物を含む本発明の発光素子材料が有機層に含まれる。ここで、発光素子材料とは、発光素子における発光に関与している化合物を指すものであり、自ら発光するもの、およびその発光を助けるもののいずれかに該当する。具体的には、正孔輸送材料、発光材料および電子輸送材料などが発光素子材料に該当する。【００６３】
本発明の発光素子材料は、正孔輸送材料や電子輸送材料として用いてもよいが、高い発光性能を有することから発光材料として好適に用いられる。また、本発明の発光素子材料は、青色領域に強い発光を示すことから、青色発光材料として好適に用いられるが、緑色〜赤色発光素子や白色発光素子用の材料としても用いることができる。【００６４】
陽極は、正孔を有機層に効率よく注入できる材料であれば特に限定されないが、比較的仕事関数の大きい材料を用いるのが好ましい。陽極の材料としては、例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）などの導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロムなどの金属、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリチオフェン、ポリピロールおよびポリアニリンなどの導電性ポリマーなどが挙げられる。これらの電極材料は、単独で用いてもよいが、複数の材料を積層または混合して用いてもよい。【００６５】
陽極の抵抗は、発光素子の発光に十分な電流が供給できればよいが、発光素子の消費電力の点からは低抵抗であることが望ましい。例えば、抵抗が３００Ω／□以下であれば電極として機能するが、現在では１０Ω／□程度のＩＴＯ基板の供給も可能になっていることから、１００Ω／□以下の低抵抗品を使用することが特に望ましい。陽極の厚みは抵抗値に合わせて任意に選ぶことができるが、通常１００〜３００ｎｍの間で用いられることが多い。【００６６】
また、発光素子の機械的強度を保つために、陽極を基板上に形成することが好ましい。基板は、ソーダガラスや無アルカリガラスなどのガラス基板が好適に用いられる。ガラス基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分な厚みがあればよいので、０．５ｍｍ以上あれば十分である。ガラスの材質については、ガラスからの溶出イオンが少ない方がよいので無アルカリガラスの方が好ましいが、ＳｉＯ２などのバリアコートを施したソーダライムガラスも市販されているのでこれを使用することもできる。さらに、陽極が安定に機能するのであれば、基板はガラスである必要はなく、例えば、プラスチック基板上に陽極を形成しても良い。陽極の形成方法は、特に制限されず、例えば、電子線ビーム法、スパッタリング法および化学反応法などを用いることができる。【００６７】
陰極に用いられる材料は、電子を有機層に効率良く注入できる物質であれば特に限定されないが、白金、金、銀、銅、鉄、錫、亜鉛、アルミニウム、インジウム、クロム、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウムおよびマグネシウムならびにこれらの合金などが挙げられる。電子注入効率をあげて素子特性を向上させるためには、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、マグネシウムまたはこれら低仕事関数金属を含む合金が有効である。しかしながら、これらの低仕事関数金属は、一般に大気中で不安定であることが多いため、有機層に微量（真空蒸着の膜厚計表示で１ｎｍ以下）のリチウムやマグネシウムをドーピングして安定性の高い電極を得る方法が好ましい例として挙げることができる。また、フッ化リチウムのような無機塩の使用も可能である。さらに、電極保護のために白金、金、銀、銅、鉄、錫、アルミニウムおよびインジウムなどの金属、またはこれら金属を用いた合金、シリカ、チタニアおよび窒化ケイ素などの無機物、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、炭化水素系高分子化合物などの有機高分子化合物を積層することが、好ましい例として挙げられる。陰極の形成方法は、特に制限されず、例えば、抵抗加熱、電子線ビーム、スパッタリング、イオンプレーティングおよびコーティングなどを用いることができる。【００６８】
正孔輸送層は、正孔輸送材料の一種または二種以上を積層または混合する方法、もしくは、正孔輸送材料と高分子結着剤の混合物を用いる方法により形成される。また、正孔輸送材料に塩化鉄（III）のような無機塩を添加して正孔輸送層を形成してもよい。正孔輸送材料は、薄膜を形成でき、陽極から正孔が注入できて、さらに正孔を輸送できる化合物であれば特に限定されない。例えば、４，４’−ビス（Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニル（フェニル）アミノ）トリフェニルアミンなどのトリフェニルアミン誘導体、ビス（Ｎ−アリルカルバゾール）またはビス（Ｎ−アルキルカルバゾール）などのビスカルバゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ベンゾフラン誘導体、チオフェン誘導体、オキサジアゾール誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体などの複素環化合物、ポリマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカーボネートやスチレン誘導体、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリフルオレン、ポリビニルカルバゾールおよびポリシランなどが好ましい。【００６９】
発光層は、ホスト材料とドーパント材料との混合物であっても、ホスト材料単独であっても、いずれでもよい。ホスト材料とドーパント材料は、それぞれ一種類であっても、複数の組み合わせであってもよい。ドーパント材料はホスト材料の全体に含まれていても、部分的に含まれていても、いずれでもよい。ドーパント材料はホスト材料と積層されていても、ホスト材料中に分散されていても、いずれでもよい。ドーパント材料の量は、多すぎると濃度消光現象が起きるため、ホスト材料とドーパント材料の合計に対して２０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。ドーピング方法は、ドーパント材料をホスト材料との共蒸着法によって形成してもよいし、ホスト材料とドーパント材料を予め混合してから蒸着しても良い。本発明のピレン化合物はホスト材料として用いてもよいが、蛍光量子収率が高いことから、ドーパント材料として好適に用いられる。【００７０】
本発明のピレン化合物のイオン化ポテンシャルは、特に限定されないが、好ましくは４．５ｅＶ以上７．０ｅＶ以下であり、より好ましくは５．４ｅＶ以上６．４ｅＶ以下である。なお、イオン化ポテンシャルの絶対値は測定方法により異なる場合がある。本発明のイオン化ポテンシャルは、大気雰囲気型紫外線光電子分析装置（ＡＣ−１、理研機器（株）製）を用いて、ＩＴＯガラス基板上に３０ｎｍ〜１００ｎｍの厚さに蒸着した薄膜を測定した値である。【００７１】
ドーパント材料は、一般式（１）で表されるピレン化合物一種のみを用いても、複数のピレン化合物を混合して用いてもよい。また、その他のドーパント材料の一種類以上を一般式（１）で表されるピレン化合物と混合して用いてもよい。混合しうるドーパント材料としては、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレン、トリフェニレン、ペリレン、フルオレン、インデンなどのアリール環を有する化合物やその誘導体（例えば２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−９，１０−ジフェニルアントラセンや５，６，１１，１２−テトラフェニルナフタセンなど）、フラン、ピロール、チオフェン、シロール、９−シラフルオレン、９，９’−スピロビシラフルオレン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、インドール、ジベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、イミダゾピリジン、フェナントロリン、ピラジン、ナフチリジン、キノキサリン、ピロロピリジン、チオキサンテンなどのヘテロアリール環を有する化合物やその誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、４，４’−ビス（２−（４−ジフェニルアミノフェニル）エテニル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（スチルベン−４−イル）−Ｎ−フェニルアミノ）スチルベンなどのアミノスチリル誘導体、芳香族アセチレン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、スチルベン誘導体、アルダジン誘導体、ピロメテン誘導体、ジケトピロロ［３，４−ｃ］ピロール誘導体、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−９−（２’−ベンゾチアゾリル）キノリジノ［９，９ａ，１−ｇｈ］クマリンなどのクマリン誘導体、イミダゾール、チアゾール、チアジアゾール、カルバゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾールなどのアゾール誘導体およびその金属錯体およびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミンに代表される芳香族アミン誘導体などが挙げられる。【００７２】
発光材料に含有されるホスト材料は、特に限定されないが、アントラセンやピレンなどの縮合アリール環を有する化合物やその誘導体、Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミンなどの芳香族アミン誘導体、トリス（８−キノリナート）アルミニウム（III）をはじめとする金属キレート化オキシノイド化合物、ジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、インデン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、オキサジアゾール誘導体、カルバゾール誘導体、ピロロピロール誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体などが好適に用いられる。中でも、電子供与性または中性置換基を有する縮合芳香環誘導体をホストとして用いると、本発明のピレン化合物が有する高発光効率の効果がより顕著になるため、好ましい。具体的には、アントラセン化合物、ピレン化合物およびジスチリルベンゼン誘導体から選ばれた化合物をホスト材料として用いると、本発明のピレン化合物と組み合わせた際により高効率となり、好ましい。【００７３】
電子輸送層は、陰極から電子が注入され、さらに電子を輸送する層である。電子輸送層には、電子注入効率が高く、かつ、注入された電子を効率良く輸送することが望まれる。そのため電子輸送層は、電子親和力が大きく、電子移動度が大きく、安定性に優れ、かつ、トラップとなる不純物が製造時および使用時に発生しにくい物質で構成されることが望ましい。しかしながら、正孔と電子の輸送バランスを考えた場合に、電子輸送層が陽極からの正孔が再結合せずに陰極側へ流れるのを効率よく阻止できる役割を主に果たすならば、電子輸送能力がそれ程高くない材料で構成されていても、発光効率を向上させる効果は電子輸送能力が高い材料で構成されている場合と同等となる。【００７４】
電子輸送層に用いられる電子輸送材料は、特に限定されないが、ナフタレン、アントラセンなどの縮合アリール環を有する化合物やその誘導体、４，４’−ビス（ジフェニルエテニル）ビフェニルに代表されるスチリル系芳香環誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、クマリン誘導体、ナフタルイミド誘導体、アントラキノンやジフェノキノンなどのキノン誘導体、リンオキサイド誘導体、カルバゾール誘導体およびインドール誘導体、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム（III）などのキノリノール錯体やヒドロキシフェニルオキサゾール錯体などのヒドロキシアゾール錯体、アゾメチン錯体、トロポロン金属錯体およびフラボノール金属錯体が挙げられる。駆動電圧を低減できることから、電子輸送材料は、炭素、水素、窒素、酸素、ケイ素およびリンの中から選ばれる元素で構成され、電子受容性窒素を含むヘテロアリール環構造を有する化合物を用いることが好ましい。【００７５】
電子受容性窒素とは、隣接原子との間に多重結合を形成している窒素原子を表す。窒素原子が高い電子陰性度を有することから、該多重結合は電子受容的な性質を有し、電子輸送能に優れ、電子輸送層に用いることで発光素子の駆動電圧を低減できる。それゆえ、電子受容性窒素を含むヘテロアリール環は、高い電子親和性を有する。電子受容性窒素を含むヘテロアリール環としては、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、キノリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、ピリミドピリミジン環、ベンゾキノリン環、フェナントロリン環、イミダゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズイミダゾール環、フェナンスロイミダゾール環などが挙げられる。【００７６】
これらのヘテロアリール環構造を有する化合物としては、例えば、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ピラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、キノキサリン誘導体、キノリン誘導体、ベンゾキノリン誘導体、ビピリジンやターピリジンなどのオリゴピリジン誘導体、キノキサリン誘導体およびナフチリジン誘導体などが好ましい化合物として挙げられる。中でも、トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼンなどのイミダゾール誘導体、１，３−ビス［（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）１，３，４−オキサジアゾリル］フェニレンなどのオキサジアゾール誘導体、Ｎ−ナフチル−２，５−ジフェニル−１，３，４−トリアゾールなどのトリアゾール誘導体、バソクプロインや１，３−ビス（１，１０−フェナントロリン−９−イル）ベンゼンなどのフェナントロリン誘導体、２，２’−ビス（ベンゾ［ｈ］キノリン−２−イル）−９，９’−スピロビフルオレンなどのベンゾキノリン誘導体、２，５−ビス（６’−（２’，２”−ビピリジル））−１，１−ジメチル−３，４−ジフェニルシロールなどのビピリジン誘導体、１，３−ビス（４’−（２，２’：６’２”−ターピリジニル））ベンゼンなどのターピリジン誘導体、ビス（１−ナフチル）−４−（１，８−ナフチリジン−２−イル）フェニルホスフィンオキサイドなどのナフチリジン誘導体が、電子輸送能の点から好ましく用いられる。さらに、１，３−ビス（１，１０−フェナントロリン−９−イル）ベンゼン、２，７−ビス（１，１０−フェナントロリン−９−イル）ナフタレン、１，３−ビス（２−フェニル−１，１０−フェナントロリン−９−イル）ベンゼンなどのフェナントロリン二量体、および２，５−ビス（６’−（２’，２”−ビピリジル））−１，１−ジメチル−３，４−ジフェニルシロールなどのビピリジン二量体は、一般式（１）で表されるピレン化合物を含む発光層と組み合わせた際の耐久性向上効果が著しく高く、特に好ましい例として挙げられる。【００７７】
上記電子輸送材料は単独でも用いられるが、上記電子輸送材料の２種以上を混合して用いたり、その他の電子輸送材料の一種以上を上記の電子輸送材料に混合して用いても構わない。また、アルカリ金属やアルカリ土類金属などの金属と混合して用いることも可能である。電子輸送層のイオン化ポテンシャルは、特に限定されないが、好ましくは５．８ｅＶ以上８．０ｅＶ以下であり、より好ましくは６．０ｅＶ以上７．５ｅＶ以下である。【００７８】
発光素子を構成する上記各層の形成方法は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタリング、分子積層法、コーティング法、インクジェット法、印刷法、レーザー誘起熱転写法など特に限定されないが、通常は、素子特性の点から抵抗加熱蒸着または電子ビーム蒸着が好ましい。【００７９】
有機層の厚みは、発光物質の抵抗値にもよるので限定することはできないが、１〜１０００ｎｍの間から選ばれる。発光層、電子輸送層および正孔輸送層の膜厚はそれぞれ、好ましくは１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。【００８０】
本発明の発光素子は、電気エネルギーを光に変換できる機能を有する。ここで電気エネルギーとしては主に直流電流が使用されるが、パルス電流や交流電流を用いることも可能である。電流値および電圧値は特に制限はないが、素子の消費電力や寿命を考慮すると、できるだけ低いエネルギーで最大の輝度が得られるよう選ばれることが好ましい。【００８１】
本発明の発光素子は、例えば、マトリクスおよび／またはセグメント方式で表示するディスプレイとして好適に用いられる。【００８２】
マトリクス方式では、表示のための画素が格子状やモザイク状など二次元的に配置され、画素の集合で文字や画像を表示する。画素の形状やサイズは用途によって決まる。例えば、パソコン、モニター、テレビの画像および文字表示には、通常一辺が３００μｍ以下の四角形の画素が用いられ、また、表示パネルのような大型ディスプレイの場合は、一辺がｍｍオーダーの画素を用いることになる。モノクロ表示の場合は、同じ色の画素を配列すればよいが、カラー表示の場合には、赤、緑および青の画素を並べて表示させる。カラー表示の場合、その配列方式は、典型的にはデルタタイプとストライプタイプがある。そして、このマトリクスの駆動方法は、線順次駆動およびアクティブマトリクスのどちらでもよい。線順次駆動は、発光素子の構造が簡単であるが、動作特性を考慮した場合、アクティブマトリクスの方が優れる場合がある。駆動方法は、用途によって使い分ける。【００８３】
セグメント方式とは、予め決められた情報を表示するようにパターンを形成し、このパターンの配置によって決められた領域を発光させる方式である。例えば、デジタル時計や温度計における時刻や温度表示、オーディオ機器や電磁調理器などの動作状態表示および自動車のパネル表示などが挙げられる。そして、マトリクス表示とセグメント表示は同じパネルの中に共存していてもよい。【００８４】
本発明の発光素子は、各種機器等のバックライトとしても好ましく用いられる。バックライトは、主に自発光しない表示装置の視認性を向上させる目的に使用され、液晶表示装置、時計、オーディオ装置、自動車パネル、表示板および標識などに使用される。特に、液晶表示装置、中でも薄型化が検討されているパソコン用途のバックライトに、本発明の発光素子は好ましく用いられる。本発明の発光素子により、従来のものより薄型で軽量なバックライトを提供できる。
【実施例】
【００８５】
以下、実施例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されない。なお、下記の各実施例にある化合物の番号は上の化学式に記載した化合物の番号を指す。また構造分析に関する評価方法を下記に示す。【００８６】
１Ｈ−ＮＭＲは超伝導ＦＴＮＭＲ  ＥＸ−２７０（日本電子（株）製）を用い、重クロロホルム溶液にて測定を行った。【００８７】
ＨＰＬＣは、高速液体クロマトグラフ  ＬＣ−１０（（株）島津製作所製）を用い、０．１ｇ／Ｌのクロロホルム溶液にて測定した。カラムの展開溶媒としては、０．１％リン酸水溶液とアセトニトリルの混合溶液を用いた。【００８８】
実施例１
化合物［１］の合成
１−ブロモピレン１ｇをジエチルエーテル４０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、０℃でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ  ヘキサン溶液）２．３ｍｌを滴下した。混合溶液を室温で１０分撹拌した後、ジメシチルボロンフルオライド９６５ｍｇをジエチルエーテル１２ｍｌに溶解したものを滴下し、さらに１０分間加熱還流した。溶液を室温に冷却した後、ろ過した。得られた固体を酢酸エチルから再結晶し、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、淡黄色結晶０．５２ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた淡黄色結晶が化合物〔１〕であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：1.95(s, 12H), 2.32(s, 6H) , 6.81(s, 4H) , 7.85-8.19(m, 9H)。【００８９】
なお、この化合物〔１〕は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約１８０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．９％、昇華精製後が９９．９％であった。【００９０】
実施例２
化合物［１４］の合成
１，６−ジブロモピレン２ｇ、４−メチルフェニルボロン酸１ｇ、リン酸三カリウム２．４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．４ｇ、酢酸パラジウム２２ｍｇおよびジメチルホルムアミド６０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、１３０℃で６時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ジクロロメタン１００ｍｌで抽出した。有機層を水５０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、１−ブロモ−６−（４−メチルフェニル）ピレン０．７ｇを得た。【００９１】
次に、１−ブロモ−６−（４−メチルフェニル）ピレン６３４ｍｇをジエチルエーテル２０ｍｌに縣濁し、窒素雰囲気下、０℃でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ  ヘキサン溶液）１．１ｍｌを滴下した。溶液を室温で１０分撹拌した後、ジメシチルボロンフルオライド４６４ｍｇをジエチルエーテル６ｍｌに溶解したものを滴下し、さらに１０分間加熱還流した。溶液を室温に冷却した後、水１０ｍｌを注入し、ジクロロメタン３０ｍｌで抽出した。有機層を水１０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、淡黄色結晶０．７０ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた淡黄色結晶が化合物〔１４〕であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：1.96(s, 12H), 2.33(s, 6H) , 2.50(s, 3H) , 6.82(s, 4H) , 7.36-7.53(m, 4H) , 7.86-8.25(m, 8H)。【００９２】
なお、この化合物化合物〔１４〕は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２００℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．５％、昇華精製後が９９．６％であった。【００９３】
実施例３
化合物［１３］の合成
４−メチルフェニルボロン酸の代わりにフェニルボロン酸を用いた以外は実施例２と同様の方法で合成し、淡黄色結晶０．４７ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた淡黄色結晶が化合物［１３］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：1.96(s, 12H), 2.33(s, 6H) , 6.82(s, 4H) , 7.45-7.63(m, 5H) , 7.87-8.22(m, 8H)。【００９４】
なお、この化合物化合物〔１３〕は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２００℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．８％、昇華精製後が９９．９％であった。【００９５】
実施例４
化合物［１９］の合成
１−ブロモピレン７．０ｇ、２−ナフタレンボロン酸４．７ｇ、リン酸三カリウム１１．６ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド１．８ｇ、酢酸パラジウム０．１１ｇおよびジメチルホルムアミド２４８ｍｌの混合溶液を窒素気流下、１３０℃で５時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３００ｍｌを注入し、室温で０．５ｈ撹拌した。析出した固体をろ取し、水１００ｍｌで２回洗浄した。得られた固体をジクロロメタン２００ｍｌに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥後、セライトを用いてろ過した。ろ液をエバポレートし、残さをメタノール１００ｍｌで２回洗浄し、析出した固体をろ取した。真空乾燥した後、１−（２−ナフチル）ピレン７．５ｇを得た。【００９６】
次に、１−（２−ナフチル）ピレン７．５ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド４．１ｇおよびジメチルホルムアミド１１５ｍｌの混合溶液を窒素気流下、５０℃で７．５時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却後、水１００ｍｌを注入し、室温で０．５ｈ撹拌した。析出した固体をろ取し、水１００ｍｌで２回、メタノール１００ｍｌで２回洗浄した。固体を１，２−ジメトキシエタン５０ｍｌで３回洗浄し、真空乾燥した後、１−ブロモ−６−（２−ナフチル）ピレン２．０ｇを得た。【００９７】
次に、１−ブロモ−６−（２−ナフチル）ピレン１．０ｇをジエチルエーテル２５ｍｌに縣濁し、窒素雰囲気下、０℃でｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ  ヘキサン溶液）１．７ｍｌを滴下した。溶液を室温で１０分撹拌した後、ジメシチルボロンフルオライド７４６ｍｇをジエチルエーテル８ｍｌに溶解したものを滴下し、さらに１０分間加熱還流した。溶液を室温に冷却した後、水１０ｍｌを注入し、ジクロロメタン３０ｍｌで抽出した。有機層を水１０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、淡黄色結晶０．６３ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた淡黄色結晶が化合物〔１９〕であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：1.96(s, 12H), 2.33(s, 6H) , 6.82(s, 4H) , 7.54-7.60(m, 2H) , 7.74-7.78(m, 1H) , 7.89-8.26(m, 12H)。【００９８】
なお、この化合物化合物〔１９〕は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２１０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．６％、昇華精製後が９９．９％であった。【００９９】
実施例５
化合物［６１］の合成
１−ブロモピレン１．１ｇ、２−ベンゾフランボロン酸０．８ｇ、リン酸三カリウム２．１ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２９８ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド１５ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１３０℃で３時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ジクロロメタン５０ｍｌで抽出した。有機層を水５０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、黄色結晶０．３４ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［６１］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：7.25-7.41(m, 3H), 7.65-7.74(m, 2H), 8.02-8.27(m, 7H), 8.40-8.43(m, 1H), 8.80(d, 1H)。【０１００】
なお、この化合物［６１］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約１８０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．０％、昇華精製後が９９．４％であった。【０１０１】
実施例６
化合物［１５６］の合成
１，６−ジブロモピレン０．７２ｇ、２−ベンゾフランボロン酸０．８ｇ、リン酸三カリウム２．１ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２９８ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド１５ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１３０℃で４時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をエタノール３０ｍｌで洗浄した後、ジメチルホルムアミドから再結晶し、真空乾燥した後、黄色結晶０．５１ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［１５６］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：7.26-7.42(m, 6H), 7.66-7.75(m, 4H), 8.18-8.30(m, 4H), 8.42-8.45(m, 2H), 8.84(d, 2H)。【０１０２】
なお、この化合物［１５６］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２２０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．２％、昇華精製後が９９．３％であった。【０１０３】
実施例７
化合物［７９］の合成
１，６−ジブロモピレン２ｇ、４−メチルフェニルボロン酸１．９ｇ、リン酸三カリウム５．９ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．９ｇ、酢酸パラジウム１５ｍｇおよびジメチルホルムアミド３０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、１３０℃で６時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をエタノール３０ｍｌで洗浄した後、トルエンから再結晶し、真空乾燥した後、１，６−ビス（４−メチルフェニル）ピレン１．３ｇを得た。【０１０４】
次に、１，６−ビス（４−メチルフェニル）ピレン１．３ｇとＮ−ブロモスクシンイミド０．６ｇとジメチルホルムアミド３０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、６０℃で５時間撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ジクロロメタン１００ｍｌで抽出した。有機層を水５０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた固体をトルエンから再結晶し、真空乾燥した後、３−ブロモ−１，６−ビス（４−メチルフェニル）ピレン１．０ｇを得た。【０１０５】
次に、３−ブロモ−１，６−ビス（４−メチルフェニル）ピレン１．０ｇ、２−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾ［ｂ］フラン１．６ｇ、リン酸三カリウム２．８ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２５７ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド２５ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１００℃で４時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をメタノール３０ｍｌで洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、黄色結晶０．３４ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［７９］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：2.51(ss, 6H), 7.24-7.42(m, 7H), 7.55-7.70(m, 6H), 7.99-8.40(m, 6H), 8.74(d, 1H)。【０１０６】
なお、この化合物［７９］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２２０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．４％、昇華精製後が９９．５％であった。【０１０７】
実施例８
化合物［８７］の合成
１，６−ジブロモピレン２ｇ、４−フルオロフェニルボロン酸２．３ｇ、リン酸三カリウム７．０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド１．１ｇ、酢酸パラジウム７４ｍｇおよびジメチルホルムアミド５０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、１３０℃で６時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水５０ｍｌを注入し、ジクロロメタン１００ｍｌで抽出した。有機層を水５０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた固体をメタノール３０ｍｌで洗浄し、真空乾燥した後、１，６−ビス（４−フルオロフェニル）ピレン１．８ｇを得た。【０１０８】
次に、１，６−ビス（４−フルオロフェニル）ピレン１．８ｇとＮ−ブロモスクシンイミド８３５ｍｇとジメチルホルムアミド６０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、８０℃で５時間撹拌した。溶液を室温に冷却した後、得られた沈殿物をろ過し、固体をメタノール３０ｍｌで洗浄し、真空乾燥した後、３−ブロモ−１，６−ビス（４−フルオロフェニル）ピレン９５１ｍｇを得た。【０１０９】
次に、３−ブロモ−１，６−ビス（４−フルオロフェニル）ピレン９５１ｍｇ、２−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾ［ｂ］フラン１．６ｇ、リン酸三カリウム２．８ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２５７ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド２５ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１００℃で４時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水３０ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をメタノール３０ｍｌで洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、さらにトルエンから再結晶を行った。真空乾燥した後、黄色結晶０．２２ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［８７］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：7.24-7.39(m, 7H), 7.58-7.71(m, 6H), 7.98-8.38(m, 6H), 8.77(d, 1H)。【０１１０】
なお、この化合物［８７］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２１０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．３％、昇華精製後が９９．４％であった。【０１１１】
実施例９
化合物［９７］の合成
１−ブロモピレン５ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド７．９ｇおよびジメチルホルムアミド１４０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、８０℃で１０時間撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水４００ｍｌを注入し、析出物をろ過した。ろ別した固体を水５０ｍｌ、メタノール１００ｍｌおよびジクロロメタン２００ｍｌでそれぞれ洗浄した後、真空乾燥して、１，３，６−トリブロモピレン６．１ｇを淡黄土色粉末として得た。【０１１２】
次に、１，３，６−トリブロモピレン２．０ｇ、４−メチルフェニルボロン酸２．５ｇ、リン酸三カリウム５．８ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．８８ｇ、酢酸パラジウム６１ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド１３７ｍｌとの混合溶液を、窒素気流下、１３０℃で９時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水８００ｍｌを注入し、ジクロロメタン２００ｍｌで抽出した。有機層を水１００ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートにより濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、真空乾燥して、１，３，６−トリ（４−メチルフェニル）ピレン１．８ｇを淡黄色粉末として得た。【０１１３】
次に、１，３，６−トリ（４−メチルフェニル）ピレン１．５ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．６８ｇおよびジメチルホルムアミド３０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、６０℃で６時間撹拌した。室温に冷却した後、水５０ｍｌを注入し、ジクロロメタン１００ｍｌで抽出した。有機層を水５０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートにより濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、真空乾燥して、１−ブロモ−３，６，８−トリ（４−メチルフェニル）ピレン１．５ｇを淡黄色粉末として得た。【０１１４】
次に、１−ブロモ−３，６，８−トリ（４−メチルフェニル）ピレン１．５ｇ、２−ベンゾフランボロン酸０．６６ｇ、リン酸三カリウム１．７４ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２７３ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド３０ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１００℃で４時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水５０ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をエタノール６０ｍｌで洗浄した後、トルエンから再結晶し、真空乾燥して、黄色結晶１．０ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた橙色結晶が化合物［９７］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：2.48-2.50(m, 9H), 7.26-7.71(m, 17H), 8.01-8.40(m, 5H), 8.75(d, 1H)。【０１１５】
なお、この化合物［９７］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２５０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．３％、昇華精製後が９９．７％であった。【０１１６】
実施例１０
化合物［１３７］の合成
１−ブロモピレン４５．０ｇ、４−メチルフェニルボロン酸２１．７ｇ、リン酸三カリウム３４．０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド１０．３ｇ、酢酸パラジウム０．７１ｇおよびジメチルホルムアミド１．６Ｌの混合溶液を窒素気流下、１２０℃で５時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水１．６Ｌを注入し、室温で０．５ｈ撹拌した。析出した固体をろ取し、水２００ｍｌで２回洗浄した。得られた固体をジクロロメタン５００ｍｌに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥後、セライトを用いてろ過した。ろ液をエバポレートし、残さをメタノール２００ｍｌで２回洗浄し、析出した固体をろ取し、真空乾燥して、１−（４−メチルフェニル）ピレン４０．０ｇを得た。【０１１７】
次に、１−（４−メチルフェニル）ピレン４０．０ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド２４．４ｇおよびジメチルホルムアミド１．４Ｌの混合溶液を窒素気流下、４０℃で７時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却後、水１．０Ｌを注入し、ジクロロメタン５００ｍｌで抽出した。有機層を水２００ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、セライトを用いてろ過した。ろ液をエバポレートし、残さを酢酸エチル２００ｍｌで２回洗浄し、析出した固体をろ取し、真空乾燥して、１−ブロモ−６−（４−メチルフェニル）ピレン１１．４ｇを得た。【０１１８】
次に、１−ブロモ−６−（４−メチルフェニル）ピレン４．６ｇ、２−（３−ｔ−ブチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル１，３，２−ジオキサボロラン４．９ｇ、リン酸三カリウム８．０ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２３０６ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド７５ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１００℃で６時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水１００ｍｌを注入し、ジクロロメタン１００ｍｌで抽出した。有機層を水５０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥して、１−（３−ｔ−ブチルフェニル）−６−（４−メチルフェニル）ピレン４．３ｇを得た。【０１１９】
次に、１−（３−ｔ−ブチルフェニル）−６−（４−メチルフェニル）ピレン４．３ｇとＮ−ブロモスクシンイミド７．３ｇおよびジメチルホルムアミド６０ｍｌの混合溶液を窒素気流下、９０℃で７時間撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水６０ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をエタノール６０ｍｌで洗浄した後、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンから再結晶し、真空乾燥して、１，６−ジブロモ−３−（３−ｔ−ブチルフェニル）−８−（４−メチルフェニル）ピレン４．４ｇを得た。【０１２０】
次に、１，６−ジブロモ−３−（３−ｔ−ブチルフェニル）−８−（４−メチルフェニル）ピレン４．４ｇ、２−ベンゾフランボロン酸３．９ｇ、リン酸三カリウム１０．３ｇ、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２３７２ｍｇと脱気したジメチルホルムアミド７７ｍｌとの混合溶液を窒素気流下、１００℃で４時間加熱撹拌した。溶液を室温に冷却した後、水１００ｍｌを注入し、ろ過した。得られた固体をエタノール６０ｍｌで洗浄した後、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンから再結晶し、真空乾燥して、黄色結晶４．８ｇを得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［１３７］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：1.44(s, 9H), 2.52(s, 3H), 7.25-7.71(18m, H), 8.27-8.33(m, 2H), 8.43-8.45(m, 2H), 8.79(d, 2H)。【０１２１】
なお、この化合物［１３７］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２６０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．７％、昇華精製後が９９．８％であった。【０１２２】
実施例１１
化合物［１３４］の合成
２−（３−ｔ−ブチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル１，３，２−ジオキサボロランの代わりに３−メチルフェニルボロン酸を用いた以外は実施例１０と同様の方法で合成し、黄色結晶を得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［１３４］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：2.52(ss, 6H), 7.27-7.71(18m, H), 8.28-8.33(m, 2H), 8.44(ss, 2H), 8.80(d, 2H)。【０１２３】
なお、この化合物［１３４］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２６０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．８％、昇華精製後が９９．９％であった。【０１２４】
実施例１２
化合物［１３６］の合成
２−（３−ｔ−ブチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル１，３，２−ジオキサボロランの代わりに４−ｔ−ブチルフェニルボロン酸を用いた以外は実施例１０と同様の方法で合成し、黄色結晶を得た。得られた粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた黄色結晶が化合物［１３６］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣl３（d=ppm））：1.46(s, 9H), 2.52(s, 3H), 7.26-7.71(18m, H), 8.28-8.36(m, 2H), 8.43-8.46(m, 2H), 8.77-8.82(m, 2H)。【０１２５】
なお、この化合物［１３６］は、油拡散ポンプを用いて１×１０−３Ｐａの圧力下、約２７０℃で昇華精製を行ってから発光素子材料として使用した。ＨＰＬＣ純度（測定波長２５４ｎｍにおける面積％）は昇華精製前が９９．６％、昇華精製後が９９．９％であった。【０１２６】
実施例１３
化合物［１４］を用いた発光素子を次のように作製した。３０×４０ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）製、１５Ω／□、電子ビーム蒸着品）上にＩＴＯ導電膜をガラス基板中央部分に１５０ｎｍの厚さで３０×１３ｍｍの大きさに形成し、陽極とした。陽極が形成された基板を“セミコクリン（登録商標）５６”（フルウチ化学（株）製）で１５分間超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。続いて、この基板をイソプロピルアルコールで１５分間超音波洗浄してから、熱メタノールに１５分間浸漬させた後、乾燥させた。素子を作製する直前にこの基板を１時間ＵＶ−オゾン処理し、さらに真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が５×１０−５Ｐａ以下になるまで排気した。【０１２７】
前記基板のＩＴＯ膜上に、抵抗加熱法によって、まず正孔注入材料として、銅フタロシアニンを１０ｎｍ、正孔輸送材料として、４，４’−ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニルを５０ｎｍ蒸着した。次に、発光材料として、ホスト材料として、下記式に示すＨ−１を、またドーパント材料として化合物［１４］を、ドープ濃度が２％になるように３５ｎｍの厚さに蒸着した。次に、電子輸送材料として、下記式に示すＥ−１を２０ｎｍの厚さに積層した。以上のように形成した有機層上に、フッ化リチウムを０．５ｎｍの厚さに蒸着した後、アルミニウムを１０００ｎｍ蒸着して陰極とし、５×５ｍｍ角の素子を作製した。ここで言う膜厚は、水晶発振式膜厚モニターの表示値である。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動したところ、発光効率３．９ｍ／Ｗの高効率青色発光が得られた。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２の直流で連続駆動したところ、輝度半減時間は４０００時間であった。【０１２８】
【化２０】
0005326280.tif 000021
【０１２９】
実施例１４〜２３、比較例１〜５
ドーパント材料として表１〜２に記載した材料を用いた以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。各実施例の結果は表１〜２に示した。【０１３０】
【表１】
0005326280.tif 000022
【０１３１】
【表２】
0005326280.tif 000023
【０１３２】
なお表２のＤ−１〜Ｄ−３は下記式で表される化合物である。【０１３３】
【化２１】
0005326280.tif 000024
【０１３４】
実施例２４〜２７
ホスト材料として表３に記載した材料を用いた以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。各実施例の結果は表３に示した。【０１３５】
【表３】
0005326280.tif 000025
【０１３６】
なお、表３のＨ−２〜Ｈ−３は下記式で表される化合物である。【０１３７】
【化２２】
0005326280.tif 000026
【０１３８】
実施例２８〜３４
電子輸送材料として表４に記載した材料を用いた以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。各実施例の結果は表４に示した。【０１３９】
【表４】
0005326280.tif 000027
【０１４０】
なお、表４のＥ−２〜Ｅ−８は下記式で表される化合物である。【０１４１】
【化２３】
0005326280.tif 000028
【０１４２】
実施例３５
ドーパント材料として化合物［１３７］をドープ濃度が２％となるように用いた以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動したところ、発光効率５．２ｌｍ／Ｗの高効率発光と、Ｃ．Ｉ．Ｅ色度座標で（０．３４，０．６６）と高色純度の緑色発光が得られた。【０１４３】
実施例３６
ドーパント材料として化合物［１３４］をドープ濃度が２％となるように用いた以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動したところ、発光効率５．８ｌｍ／Ｗの高効率発光と、C.I.E色度座標で（０．３５，０．６５）と高色純度の緑色発光が得られた。【０１４４】
実施例３７
ドーパント材料として化合物［１３６］をドープ濃度が２％となるように用いた以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動したところ、発光効率６．０ｌｍ／Ｗの高効率発光と、C.I.E色度座標で（０．３４，０．６６）と高色純度の緑色発光が得られた。【０１４５】
実施例３８
発光材料として、ホスト材料としてＨ−１を、ドーパント材料としてＤ−３をドープ濃度が５％になるように５ｎｍの厚さに蒸着したのち、さらに発光材料として、ホスト材料としてＨ−１を、ドーパント材料として化合物［１４］をドープ濃度が２％になるように３０ｎｍの厚さに積層した以外は、実施例１３と同様にして発光素子を作製した。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動したところ、発光効率６．２ｌｍ／Ｗの高効率白色発光が得られた。この発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２の直流で連続駆動したところ、輝度半減時間は１００００時間であった。【０１４６】
実施例３９
３０×４０ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）製、１５Ω／□、電子ビーム蒸着品）上にＩＴＯ導電膜をガラス基板中央部分に１５０ｎｍの厚さで３０×１３ｍｍの大きさに形成し、陽極とした。陽極が形成された基板をアセトンおよび“セミコクリン（登録商標）５６”（フルウチ化学（株）製）で各々１５分間超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。続いて、基板をイソプロピルアルコールで１５分間超音波洗浄してから、熱メタノールに１５分間浸漬させた後、乾燥させた。この基板を素子を作製する直前に１時間ＵＶ−オゾン処理し、さらに真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が５×１０−４Ｐａ以下になるまで排気した。【０１４７】
前記基板のＩＴＯ膜上に、抵抗加熱法によって、まず正孔輸送材料として４，４’−ビス（Ｎ−（ｍ−トリル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニルを１５０ｎｍ蒸着した。次に、ホスト材料としてＨ−１を、またドーパント材料として化合物［７９］をドープ濃度が２％になるように３５ｎｍの厚さに蒸着した。次に、電子輸送材料として、Ｅ−１を２０ｎｍの厚さに積層した。ここで言う膜厚は、水晶発振式膜厚モニターの表示値である。次に、厚さ５０μｍのコバール板にウエットエッチングによって１６本の２５０μｍ開口部（残り幅５０μｍ、３００μｍピッチに相当）を設けたマスクを、真空中でＩＴＯストライプに直交するように配置し、マスクとＩＴＯ基板が密着するように、基板の裏面から磁石をあてて固定した。そして有機層にリチウムを０．５ｎｍドーピングした後、アルミニウムを２００ｎｍ蒸着して３２×１６ドットマトリクス素子を作製した。本素子をマトリクス駆動させたところ、クロストークなく文字表示できた。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明の発光素子材料は、発光素子等に利用可能であり、蛍光量子収率の優れた発光素子材料を提供できる。本発明によれば、発光効率が高く、色純度および耐久性に優れた発光素子が得られる。本発明の発光素子は、表示素子、フラットパネルディスプレイ、バックライト、照明、インテリア、標識、看板、電子写真機および光信号発生器などの分野に利用可能である。