(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布物の表面に塗布液を塗布するために用いられる塗布装置であって、
塗布幅全体にわたり弾性変形するマニホールド本体と、
前記マニホールド本体と塗布幅方向の幅全体にわたって係合する圧縮ブロックと、
前記圧縮ブロックに圧力を印加する流体を溜める第１および第２の流体溜り部と、
前記第１の流体溜り部と前記第２の流体溜り部とを連通する流体流路と、
前記第１の流体溜り部に圧力を印加する加圧機構とを備え、
前記圧縮ブロックは、前記第２の流体溜り部と塗布幅方向の幅全体にわたって接していることを特徴とする
塗布装置。
【請求項２】
前記圧縮ブロックの表面もしくは内面の少なくとも一方の一部に、塗布幅方向と直交する凹部が形成されていることを特徴とする
請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
塗布液を貯蔵するタンクと、
前記タンクと前記マニホールド本体の間において塗布液を循環させる機構を備えた
請求項１または請求項２記載の塗布装置。
【請求項４】
被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布方法であって、
マニホールド本体に塗布液を充填し、
加圧機構により第１の流体溜り部内の流体に圧力を印加して第２の流体溜り部内の流体に圧力を印加し、
第２の流体溜り部内の圧力が印加された流体により圧縮ブロックを介して前記マニホールド本体を塗布幅全体にわたり弾性変形させて塗布液を吐出することを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は枚葉状の被塗布物および連続して走行する帯状の被塗布物の表面に塗布液を塗布するために用いられる塗布装置に関するものであり、例えば、ＰＤＰなどのディスプレイパネル、電池極板、磁気記録テープ、接着テープ、写真用印画紙、オフセット版材において用いるエクストルージョン型の塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
被塗布物の表面に均一に塗布液を塗布する方法として、エクストルージョン型ノズルを用いた塗布装置がある。図１７（ａ）（ｂ）はこの従来の塗布装置を示す。
上ブロック５と下ブロック６の間にはマニホールド１が形成されており、マニホールド１は塗布液供給口２から供給された塗布液を塗布幅方向に分配する。塗布幅方向に分配された塗布液は、スリット３で整流されながら吐出口３ａから吐出される。４はスリット３を形成するためのシムである。
【０００３】
粘性を有する塗布液の塗布においては、マニホールド１を流れるときの圧力損失のため、マニホールド１の塗布液供給口２の付近に対してマニホールド端部の塗布液圧力が低下（図１７（ａ）中Ｐａ＞Ｐｂ＞Ｐｃ＞Ｐｄ）し、マニホールド１の圧力は塗布幅方向に均一ではなくなる。
【０００４】
このため、塗布幅方向にわたってスリット３の吐出方向の長さが均一な塗布装置では、圧力の高い部分の塗布量が多く、圧力の低い部分の塗布量が少なくなり、塗布幅方向の塗布量バラツキが生じる。
【０００５】
実際には、マニホールド１で塗布液が塗布幅方向に分配される際、一部の塗布液がスリット３から吐出（図１７（ａ）中  Ｑａ、Ｑｂ、Ｑｃ、Ｑｄ）されつつ塗布幅方向に分配されていく（図１７（ａ）中  Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４）ため、塗布液供給口２からマニホールド１の端部に向かうに従い徐々に塗布幅方向の流量が低下していく（図１７（ａ）中  Ｑ２＞Ｑ３＞Ｑ４）。その結果、塗布幅方向でのマニホールド１内の圧力低下が促進されると共に、マニホールド１の端部での流速が低下してしまうため、沈降しやすい顔料粒子を含むような塗布液を塗布する場合には、マニホールド１の端部で沈降が生じ易くなり、均一な塗布が困難となる。
【０００６】
この問題に対して、塗布幅方向の塗布量分布を均一にするために特許文献１では、スリットの塗布液吐出方向の長さを塗布液の供給口側から反対側に向けて直線状または曲線状にテーパを持たせて短くする方法が示されている。
【０００７】
また、マニホールド内での沈降を防止するために、特許文献２にはマニホールド１の端部に向かってマニホールド相当だけ直径を小さくすることで、マニホールド１内の流速を増加させることが示されている。
【特許文献１】特開平６−３３５６５３号公報
【特許文献２】特開２００３−７１３５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１，特許文献２の方法では、ある特定の粘度特性を有する塗布液のみに有効であっても、粘度特性の異なる塗布液を用いる場合や、塗布液の粘度にバラツキがある場合には、均一な塗布の実現は困難となる。
【０００９】
本発明は、上記の課題を解決するもので、被塗布物の表面に塗布液を均一に塗布できる塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の請求項１記載の塗布装置は、被塗布物の表面に塗布液を塗布するために用いられる塗布装置であって、塗布幅全体にわたり弾性変形するマニホールド本体と、前記マニホールド本体と塗布幅方向の幅全体にわたって係合する圧縮ブロックと、前記圧縮ブロックに圧力を印加する流体を溜める第１および第２の流体溜り部と、前記第１の流体溜り部と前記第２の流体溜り部とを連通する流体流路と、前記第１の流体溜り部に圧力を印加する加圧機構とを備え、前記圧縮ブロックは、前記第２の流体溜り部と塗布幅方向の幅全体にわたって接していることを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項２記載の塗布装置は、請求項１において、前記圧縮ブロックの表面もしくは内面の少なくとも一方の一部に、塗布幅方向と直交する凹部が形成されていることを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項３記載の塗布装置は、請求項１または請求項２において、塗布液を貯蔵するタンクと、前記タンクと前記マニホールド本体の間において塗布液を循環させる機構を備えたことを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項４記載の塗布方法は、被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布方法であって、マニホールド本体に塗布液を充填し、加圧機構により第１の流体溜り部内の流体に圧力を印加して第２の流体溜り部内の流体に圧力を印加し、第２の流体溜り部内の圧力が印加された流体により圧縮ブロックを介して前記マニホールド本体を塗布幅全体にわたり弾性変形させて塗布液を吐出することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
この構成によれば、マニホールド本体内への塗布液充填後、マニホールド本体の弾性変形により塗布液吐出を行う。そのため、吐出時の吐出量分布に、従来法のように圧力損失や流量低下を伴うマニホールド内幅方向流れが影響することはなくなる。また、マニホールド本体を塗布幅全体にわたり弾性変形させて塗布液を加圧し吐出させるため、マニホールド本体端部でも十分な内部圧力を得ることが可能となり、塗布幅方向で均一な吐出量による精密塗布が可能になる。
【００１５】
また、吐出時に幅方向流れを介さないことから、吐出時にマニホールド端部で流速低下が生じて沈降することがなく、沈降しやすい顔料粒子を含むような塗布液を塗布する場合にも、均一な塗布が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
（実施の形態１）
図１〜図８は本発明の実施の形態１を示す。
【００１７】
図１と図２に示すこのエクストルージョン型塗布装置は、塗布液が供給されるホース状のマニホールド本体１Ａに、上ブロック５と下ブロック６ならびに側板４１ａ，４１ｂで構成されたノズル本体４２がセットされており、上ブロック５と下ブロック６の内側には、マニホールド本体１Ａを取り巻く第２の流体溜り部１３と、流体流路１４を介して第２の流体溜り部１３に連通する第１の流体溜り部１２が形成されている。第１の流体溜り部１２にはピストン９が設けられている。マニホールド本体１Ａには供給側の一端４３から塗料液が供給される。
【００１８】
先端がピストン９に接続されたステム４４にはボールナット１６が取り付けられており、ボールナット１６にはモータ１１によって正逆回転させることが出来るボールねじ１０が螺合している。
【００１９】
第２の流体溜り部１３には、第２の流体溜り部１３の流体で圧縮されて弾性変形する圧縮ブロック７の一部が露出して設けられている。圧縮ブロック７の基端部の内側通路７ａには、弾性材料で形成されたホース状の前記マニホールド本体１Ａが挿通されている。
【００２０】
圧縮ブロック７には、マニホールド本体１Ａの外側に係合する内側通路７ａとは別に、マニホールド本体１Ａに形成されている吐出口４５から放出された塗料液を塗布の幅方向に導くスリット部３Ａが形成されている。４はスリット部３Ａを形成するためのシムである。
【００２１】
さらに、マニホールド本体１Ａの前記上ブロック５と下ブロック６で挟まれる前の位置には供給側バルブ１５Ａが設けられ、前記上ブロック５と下ブロック６の間を通過した後の位置には排出側バルブ１５Ｂが設けられている。
【００２２】
圧縮ブロック７としては、フッ素樹脂であるＰＦＡ（テトラフルオロエチレンパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）を用いることができる。しかしながら弾性変形可能な材料であれば良く、これに限るものではない。
【００２３】
なお、マニホールド本体１Ａに形成されている吐出口４５は、供給側バルブ１５Ａと排出側バルブ１５Ｂとで挟まれたマニホールド本体１Ａの内部圧力が規定値を超えたときに、マニホールド本体１Ａ自身の弾性に抗して開放され、内部圧力が規定値をを下回るとマニホールド本体１Ａ自身の弾性によって閉塞するものとして説明する。
【００２４】
ここで、塗布液の吐出工程を図３（ａ）（ｂ）および図４（ａ）（ｂ）を用いて説明する。
図３（ａ）はマニホールド本体１Ａ内に塗布液が充填されている状態の側方断面図、図３（ｂ）はその状態を上ブロック６の側から見た断面図を示している。
【００２５】
マニホールド本体１Ａ内に塗布液が充填され、供給側バルブ１５Ａおよび排出側バルブ１５Ｂが閉じられた状態から、モータ１１によりボールねじ１０を第２の流体溜り部１３の内圧を上昇させる回転方向に駆動することにより、加圧ピストン９により流体８が圧縮され流体８の圧力が上昇する。流体８としては、ＰＧ（プロピレングリコール）を用いることができる。しかしながら、同様の非圧縮性の性質をもつ流体であれば良く、これに限るものではない。
【００２６】
その結果、図４（ａ）（ｂ）に示すように、流体８の圧力により圧縮ブロック７が弾性変形して収縮し、マニホールド本体１Ａの内部圧力が規定値を超えて吐出口４５が開放されて、圧縮ブロック７のスリット部３Ａから塗布液が吐出される。
【００２７】
塗布液の吐出終了後には、図５（ａ）に示すように供給側バルブ１５Ａを開放するとともに、塗布液を供給しながら、モータ１１によりボールねじ１０を吐出時と逆方向に回転駆動させる。これにより流体８が圧縮状態から解放されるため、その圧力が低下し、その結果、圧縮ブロック７の内側通路７ａの弾性変形が復元する。
【００２８】
圧縮ブロック７の弾性変形が復元し、マニホールド本体１Ａ内に塗布液が充填された時点で、供給側バルブ１５Ａを閉じることで図３に示した状態に戻り、塗布の準備状態となる。
【００２９】
ここで、本動作中にマニホールド内部の塗布液が負圧になってスリット部３Ａからエアーが混入することを防ぐため、塗布液の単位時間あたりの供給量が、マニホールド本体１Ａの弾性変形が復元する際の単位時間あたりのマニホールド内体積増加量と同じになるよう、マニホールド本体１Ａへの塗布液供給手段としてのポンプおよび加圧ピストン９の動作条件を設定すると良い。
【００３０】
また、スリット部３Ａからエアーが混入することを防ぐため、図６に示すように、スリット部３Ａをリップシール材１７で封止して本動作を行っても良い。このリップシール材１７としては、フッ素樹脂を用いることができる。しかしながら、塗布液による腐食・変形などが無く、スリット先端部を傷つけずに封止できるものであればよく、これに限るものではない。
【００３１】
また、図７に示すように、マニホールド本体１Ａ内への塗布液充填と共に、塗布前の準備動作も兼ねたスリット部３Ａの内部やスリット３Ａの先端部の洗浄（存在する異物や凝集物を取り除く）を行うことを目的とし、本動作中の塗布液の単位時間あたりの供給量を意図的にマニホールドの弾性変形が復元する際の単位時間あたりのマニホールド内体積増加量よりも多くし、スリット部３Ａから吐出させつつ塗布液をマニホールド本体１Ａに充填させても良い。
【００３２】
ところで勿論、塗布終了後に上記の充填動作を行わず、更に加圧ピストン９を流体８の圧力が上昇する方向に駆動させることで吐出動作を繰り返しても良いが、その場合、圧縮ブロック７の弾性変形量が大きくなる。その結果、圧縮ブロック７の劣化を促進する可能性があるため、できる限り微少な弾性変形での動作を繰り返すことが望ましい。
【００３３】
また、特に塗布液に沈降しやすい物質を含んでいる場合には、塗布液の吐出終了後に、図８に示すように供給側バルブ１５Ａおよび排出側バルブ１５Ｂを開いた状態にして塗布液を供給・排出してマニホールド本体１Ａ内の塗布液を循環させることが好ましい。
【００３４】
これにより、マニホールド本体１Ａ内で生じた沈降物、および沈降により濃度が低下したマニホールド本体１Ａ内の塗布液を押し出して新鮮な塗布液に入替えることが可能となるため、沈降物がスリット部３Ａから吐出され、すじムラや特異点などの不良の原因となったり、低濃度の塗布液が吐出されて塗布面内で均一に所定の固形分の分布が得られないということがなくなり、安定した塗布が可能になる。
【００３５】
塗布幅方向での均一な吐出を実現するために、図２（ｂ）に示すように、流体８が第１の流体溜り部１２から、流路の狭い第１と第２の流体溜り部を繋ぐ流体流路１４を介して第２の流体溜り部１３へ流れこむ構造としている。第１の流体溜り部で加圧された流体８を流路の狭い第１と第２の流体溜り部を繋ぐ流体流路１４に通過させることで塗布幅方向に均一に整流できるため、第２の流体溜り部１３内を塗布幅方向に均一に加圧できるようになる。その結果、弾性変形可能な圧縮ブロック７に対しても塗布幅方向に均一に圧力が伝達され、塗布幅方向での弾性変形量も均一となった結果、塗布幅方向で均一な塗布液の吐出量分布が得られる。
【００３６】
（実施例１）（比較例１）
具体的な実施例と従来の塗布装置を比較例として比較して説明する。
図９はこの実施の形態１の塗布装置の全体構成を示している。この実施例１では、塗布液が、塗布液タンク３４から３方バルブ３２と供給側バルブ１５Ａを介してマニホールド本体１Ａに供給され、吸着ステージ３５上の被塗布物３１に塗布を実行した。３３はマニホールド本体１Ａへの塗布液供給用ポンプとしての注射器型のプランジャーポンプである。所望の流量を安定して供給できるものであれば良く、プランジャーポンプ３３に限るものではない。
【００３７】
図１０は従来の塗布装置の全体構成を示している。この比較例１は、ノズルのみを従来のエクストルージョン型ノズル１０２に変更しただけが実施例１とは異なっている。
実施例１と比較例１について、吐出される塗布液の幅方向吐出量分布および幅方向固形分濃度分布について数値解析を行った。
【００３８】
塗布液としてＧｅＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３を含むガラス組成物を５０重量％、バインダー樹脂としてエチルセルローズを５重量％、溶剤としてα−テルピネオールを４５重量％含有し、粘土がせん断速度４（１／ｓ）の場合は５００（Ｐ）であり、せん断速度０．１（１／ｓ）の場合は８００（Ｐ）であるＰＤＰ前面板パネル用の誘電体ペーストを用い、電極付ガラス基板上に幅５５０ｍｍ×長さ９５０ｍｍの範囲を、塗布速度５０ｍｍ／ｓで、焼成後厚み３０μｍ狙いで塗布する場合を想定し、解析を行った。
【００３９】
実施例１および比較例１でそれぞれ解析した幅方向吐出量分布（塗布幅方向で５分割し、分割された各部分の平均値をそれぞれ算出）を幅方向塗布膜厚分布に換算した結果を表１および図１１（ａ）（ｂ）に示す。スリット部３Ａの塗布幅方向の中央がＣ、それよりも右側の位置がＲ１、Ｒ１よりもさらに右側の位置がＲ２である。スリット部３Ａの塗布幅方向の中央がＣよりも左側の位置がＬ１、Ｌ１よりもさらに左側の位置がＬ２である。
【００４０】
今回の評価基準として、塗布幅方向膜厚バラツキが０．５μｍ以下を◎、０．５μｍを超え１μｍ以下を○、１μｍを超え１．５μｍ以下を△、１．５μｍを超えるものを×として評価し、表１に示した。
【００４１】
【表１】
0005300318.tif 000002
表１および図１１（ａ）（ｂ）から分かるように、比較例１では、マニホールド内幅方向流れにおける圧力損失や流量低下により、塗布幅端部の吐出量が低下し塗布幅方向バラツキが大きくなる。これに対して、実施例１では、塗布幅全体にわたりマニホールドの弾性変形により塗布液吐出を行うため、吐出量分布に従来法のような圧力損失や流量低下を伴うマニホールド内幅方向流れが影響することが無くなり、塗布幅方向バラツキが非常に小さい均一な塗布が実現できていることが分かる。
【００４２】
（実施例２）（比較例２）
実施例２では図９に示した塗布装置を使用して、塗布液として、体積累積平均径Ｄ５０＝２μｍのＭｇＯ粒子を分子量６００のアセチレングリコールに濃度５重量％で分散させた粘度が８（ｃｐｓ）のものを用い、被塗布物としては電極・誘電体・ＭｇＯ層が形成されたＰＤＰ前面板パネル用のガラス基板を用い、そのＭｇＯ層表面の幅５５０ｍｍ×長さ９５０ｍｍの範囲を、塗布速度５０ｍｍ／ｓで、乾燥後にガラス基板に対して塗布面上方から垂直に塗布範囲を見た場合の投影面積として、ＭｇＯ単結晶粉体の占める面積の割合（被覆率）が平均２０％となる狙いで塗布することを想定し、解析を行った。
【００４３】
比較例２では、図１０に示した塗布装置を使用して、実施例２と同様に塗布することを想定し、解析を行った。
実施例２および比較例２でそれぞれ解析した、粒子を含んだ塗布液の幅方向での吐出量分布および粒子濃度分布（それぞれ塗布幅方向で５分割し、分割された各部分の平均値をそれぞれ算出）を幅方向被覆率分布に換算した結果を表２および図１２（ａ）（ｂ）に示す。塗布幅方向被覆率バラツキが０．５％以下を◎、０．５％を超え１％以下を○、１％を超え１．５％以下を△、１．５％を超えるものを×として評価し、表２に示した。
【００４４】
【表２】
0005300318.tif 000003
表２および図１２（ａ）（ｂ）から分かるように、比較例２では、マニホールド内幅方向流れにおける圧力損失や流量低下により、塗布幅端部の吐出量が低下するため、塗布幅方向中央部に比べて塗布幅方向両端部の被覆率が低くなってしまう。また、マニホールド両端部での流速低下によりマニホールド両端部での塗布液の滞留（フレッシュな塗布液が塗布液供給口から供給されなくなる）が生じ、マニホールド端部でＭｇＯ粒子の沈降が発生することも、塗布幅両端部での被覆率が低下する原因となる。これに対して、実施例１では、塗布幅全体にわたりマニホールドの弾性変形により塗布液吐出を行うため、塗布毎に塗布幅両端部においても十分なマニホールド内圧力を得ることができるため、塗布幅方向での被覆率バラツキが非常に小さい。また、実施例１では、マニホールドを収縮して塗布液を吐出した後、塗布毎にマニホールドを膨張させつつ塗布液を充填する動作を入れることで、塗布動作中においてマニホールド量端部においても十分な塗布液の流れを生じさせることができるため、比較例２の場合のようなマニホールド両端部での塗布液の滞留が生じることはなくマニホールド端部でＭｇＯ粒子が沈降することはなくなる。その結果、実施例２では塗布幅両端部の被覆率が低下するようなことはなくなる。
【００４５】
このように、実施の形態１の塗布装置では、塗布幅方向被覆率バラツキが非常に小さい均一な塗布が実現できることが分かる。
（実施例３）（比較例３）
図９と図１０では、吸着ステージ３５上の被塗布物３１に対して塗布を実行したが、ロール上の被塗布物３１に対して塗布を実行する場合も同様である。実施例３と比較例３では、ロール上の被塗布物３１に対して塗布することを想定し、解析を行った。
【００４６】
実施例３では、塗布液として、活物質であるコバルト酸リチウムと、導電材であるカーボン粒子と、樹脂であるポリフルオロビニリデン（ＰＶＤＦ）、溶媒としてＮ−メチル−ピロリドン（ＮＭＰ）をそれぞれ、活物質：カーボン：（樹脂＋溶媒）の割合を６０重量％：１０重量％：３０重量％で含む、粘度が８０００（ｃｐ）のリチウム２次電池正極用ペーストを用い、被塗布物としては、幅５００ｍｍ、厚み１０μｍのアルミ箔を用い、塗布幅４８０ｍｍの範囲を１０００ｍｍ長さで間欠塗布することを想定すると共に、塗布速度は１００ｍｍ／ｓとし、乾燥後塗布厚みが平均１００μｍとなる狙いで塗布することを想定し、解析を行った。
【００４７】
比較例３では、実施例３と同様に塗布することを想定し、解析を行った。
実施例３および比較例３でそれぞれ解析した幅方向吐出量分布（塗布幅方向で５分割し、分割された各部分の平均値をそれぞれ算出）を幅方向塗布膜厚分布に換算した結果を表３および図１３に示す。塗布幅方向膜厚バラツキが０．５μｍ以下を◎、０．５μｍを超え１．５μｍ以下を○、１．５μｍを超え２．５μｍ以下を△、２．５μｍを超えるものを×として評価し表３に示した。
【００４８】
【表３】
0005300318.tif 000004
表３および図１３から分かるように、比較例３では、マニホールド内幅方向流れにおける圧力損失や流量低下により、塗布幅端部の吐出量が低下し塗布幅方向バラツキが大きくなる。これに対して、実施例３では、塗布幅全体にわたりマニホールドの弾性変形により塗布液吐出を行うため、吐出量分布に従来法のような圧力損失や流量低下を伴うマニホールド内幅方向流れが影響することが無くなった結果、塗布幅方向バラツキが非常に小さい均一な塗布が実現できていることが分かる。
【００４９】
この実施の形態の塗布装置では、マニホールド内幅方向流れを伴うマニホールド内への塗布液充填後、塗布幅全体にわたりマニホールド本体１Ａの弾性変形により塗布液吐出を行うため、吐出量分布に、従来法のように圧力損失や流量低下を伴うマニホールド内幅方向流れが影響することはなくなることから、特に広幅大面積での均一塗布が可能となる。また、吐出時に幅方向流れを介さないことから、吐出時にマニホールド端部で流速低下が生じて沈降することがなく、沈降しやすい顔料粒子を含むような塗布液を塗布する場合にも、均一な塗布が可能となる。
【００５０】
（実施の形態２）
ここで、図４（ａ）および図４（ｂ）で示したマニホールドが弾性変形し塗布液を吐出する状態の具体例を、図１４，図１５に基づいて説明する。
【００５１】
図１４（ａ）は、マニホールド本体１Ａ内に塗布液が充填されている状態の上ブロック側からの断面図であり、図１４（ｂ）は、図１４（ａ）中の右端部の丸囲み内を拡大した図を示す。この実施の形態２では、圧縮ブロック７の表面の一部に凹部１８を形成して、図１５（ａ）（ｂ）に示すように僅かの力で圧縮ブロック７の内側通路７ａが大きく弾性変形するように構成されている。
【００５２】
（実施の形態３）
上記の各実施の形態では、流体８により圧縮ブロック７を介してマニホールド本体１Ａを弾性変形させる場合を例に挙げて説明したが、図１６に示すように、加圧ピストン９によってマニホールド本体１Ａを弾性変形させても良い。この場合に、圧縮ブロック７の表面に、実施の形態２で示したように凹部１８を設けても良い。特に塗布幅方向の両端部の付近は、流体により加圧される部分と、より外側の流体により加圧されない部分との境界にあたるため、塗布幅方向の中央部に比べて変形しにくくなる。このような場合、塗布幅方向で変形量に差が生じてしまい、その結果、塗布幅方向の吐出量分布も悪化してしまう。そこで、前記のような圧縮ブロック７の表面に凹部１８を設けると、塗布幅量端部付近の柔軟性が高まり容易に変形し易くなる。その結果、塗布幅方向の中央部と両端部での吐出バラツキの小さい均一な塗布を実現できる。
【００５３】
上記の各実施の形態では、圧縮ブロック７の両端部にのみに凹部１８を設けたが、位置や個数によらず、塗布幅方向の中央部も含めた両端部以外の場所にも複数個の凹部１８を設けても良い。それにより、マニホールド本体の柔軟性が高まり吐出動作のレスポンスが向上するため、間欠塗布動作における始終端の液切れ性が向上するなどの効果が得られる。
【００５４】
上記の各実施の形態では、圧縮ブロック７の表面に凹部１８を設けたが、圧縮ブロック７の内面に設けても同様の効果が得られる。
上記の各実施の形態では、塗布幅と同じ幅にわたり流体によりマニホールド本体１Ａを弾性変形させたが、上記のような塗布幅方向中央部と両端部での変形量の差を小さくする効果が得られるため、塗布幅より広い幅にわたりマニホールドを弾性変形させても良い。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は、近年更なる塗布の高精度化が求められてきている、ディスプレイパネル、電池極板、磁気記録テープ、接着テープ、写真用印画紙、オフセット版材などに塗布形成される膜の品質向上に有効である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の実施の形態１の塗布装置のノズル部分の斜視図
【図２】同実施の形態のノズル部分を上ブロック側から見た断面図と側方断面図
【図３】同実施の形態においてマニホールド内に塗布液が充填されている状態の側方断面図と上ブロック側からの断面図
【図４】同実施の形態においてマニホールドが弾性変形し塗布液を吐出している状態の側方断面図と上ブロック側からの断面図
【図５】同実施の形態においてマニホールド本体１Ａ内に塗布液を充填している状態の側方断面図と上ブロック側からの断面図
【図６】同実施の形態においてリップシール材でスリット先端を封止した状態でマニホールド内に塗布液を充填している状態の上ブロック側からの断面図
【図７】同実施の形態においてスリット部から塗布液を吐出しながらマニホールド内に塗布液を充填している状態の上ブロック側からの断面図
【図８】同実施の形態においてマニホールド本体１Ａ内の塗布液を循環している状態の側方断面図と上ブロック側からの断面図
【図９】本発明の実施の形態１の塗布装置の全体構成図
【図１０】従来のエクストルージョン型ノズルを用いた比較例の塗布装置の全体構成図
【図１１】実施例１および比較例１の膜厚評価結果の説明図
【図１２】実施例２および比較例２の被覆率評価結果の説明図
【図１３】実施例３および比較例３の膜厚評価結果の説明図
【図１４】本発明の実施の形態２においてマニホールド内に塗布液が充填されている状態の上ブロック側からの断面図とその要部の拡大図
【図１５】同実施の形態においてマニホールドが弾性変形し塗布液を吐出している状態の上ブロック側からの断面図とその要部の拡大図
【図１６】本発明の実施の形態３のノズル部分を上ブロック側から見た断面図と側方断面図
【図１７】従来のエクストルージョン型ノズルの上ブロック側からの断面図と側方断面図
【符号の説明】
【００５７】
１Ａ    マニホールド本体
２    塗布液供給口
３Ａ    スリット部
４    シム
５    上ブロック
６    下ブロック
７    圧縮ブロック
７ａ    内部通路
８    流体
９    ピストン
１０    ボールねじ
１１    モータ
１２    第１の流体溜り部
１３    第２の流体溜り部
１４    流体流路
１５Ａ    供給側バルブ
１５Ｂ    排出側バルブ
１６    ボールナット
１７    リップシール材
１８    凹部
３１    被塗布物
３２    ３方バルブ
３３    プランジャーポンプ
３４    塗布液タンク
３５    吸着ステージ
４１ａ，４１ｂ    側板
４２    ノズル本体
４５    吐出口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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