(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
電荷発生層と、
膜形成ポリマーバインダ及び該バインダー中に分散された電荷輸送成分から構成される電荷輸送層と、
を備え、
前記電荷輸送層は、
第１の濃度の前記電荷輸送成分を含有し、前記電荷発生層上に形成される第１の層と、
第２の濃度の前記電荷輸送成分を含有し、前記第１の層上に形成される第２の層と、
第３の濃度の前記電荷輸送成分を含有し、前記第２の層上に形成される第３の層と、
を含んで構成され、
前記第２の濃度は、前記第１の濃度及び前記第３の濃度よりも高いイメージング部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書では、電子写真において使用される複数の濃度の電荷輸送成分を有する電荷輸送層を備えたイメージング部材について開示する。
【背景技術】
【０００２】
典型的な電子写真イメージング部材は、電子写真イメージング部材のイメージング表面上に静電荷を均一に堆積させ、その後、イメージング部材を活性化電磁放射線、例えば光に曝露させ、選択的にイメージング部材の照射領域の電荷を消失させ、非照射領域では静電潜像を残すことにより、画像形成させる。その後、微粉化されたエレクトロスコピックなマーキングトナー粒子をイメージング部材表面に堆積させることによりこの静電潜像を現像し、視認可能な画像を形成させてもよい。その後、得られた視認可能なトナー画像は、適した受容部材、例えば紙に転写することができる。多くの現在の電子写真イメージング部材は多層フォトレセプタであり、これらのフォトレセプタは、負帯電システムにおいて、基板支持体と、導電層と、必要に応じて用いる電荷ブロッキング層と、必要に応じて用いる接着層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、必要に応じて用いる保護またはオーバーコート層と、を備える。
【０００３】
約５〜約２００μｍとサイズが様々な、局在化した微小欠陥（ｍｉｃｒｏｄｅｆｅｃｔ）が時に、そのようなイメージング部材の製造において生じることがある。そのような微小欠陥は、最終的な画像形成したコピーにおいて印刷欠陥（微小欠陥）、例えば白色または暗色スポットとして現れる。これらの微小欠陥は、過度に大きな暗減衰（ｄａｒｋ  ｄｅｃａｙ）を示し、電荷不足スポット（ＣＤＳ）と呼ばれる。微小欠陥部位はフォトレセプタ内に固定されるので、スポットがベルト回転の１サイクルから次のサイクルへ残ってしまう。
【０００４】
【特許文献１】米国特許第６，００８，６５３号明細書
【特許文献２】米国特許第６，１１９，５３６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＣＤＳが少なく、良好な電気特性を有するイメージング部材を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
例示的な実施形態の１つの観点では、電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）とを含むイメージング部材が提供される。ＣＴＬはＣＧＬと接触する第１の表面と第２の表面とを含む。ＣＴＬは膜形成ポリマーバインダとその中に分散された電荷輸送成分（ＣＴＣ）を含む。ＣＴＬ中のＣＴＣの濃度は、ＣＴＬの第１および第２の表面の中間にある電荷輸送領域でピークとなる。
【０００７】
第１の表面に隣接するＣＴＬの第１の領域でのＣＴＣの濃度は、ＣＴＣのピーク濃度の約５％〜約９５％、例えば、ピーク濃度の約１０％〜約８０％としてもよい。ＣＴＬにおけるＣＴＣの濃度は、ＣＴＬの第２の表面に隣接するＣＴＬの第２の領域では、ＣＴＣのピーク濃度より低くしてもよい。ＣＴＬの第２の領域は、電荷成分のピーク濃度が存在する領域により第１の領域から分離してもよい。第２の領域におけるＣＴＣの濃度はピークＣＴＣの濃度の約５％〜約９５％としてもよい。第２の領域におけるＣＴＣの濃度はＣＴＣのピーク濃度の約１０％〜約８０％としてもよい。ＣＴＬはさらに、安定化ヒンダードフェノールを含んでもよい。ヒンダードフェノールの濃度は電荷発生層から最も遠いＣＴＬの表面に向かってＣＴＣの濃度に反比例して増加してもよい。ＣＴＣの濃度は第１の表面から次第に増加してもよく、ピークからＣＴＬの第２の表面に向かって減少する。ＣＴＬは、第１の層および第２の層を含んでもよく、第１の層では、ＣＴＣの濃度は、第１の層の総重量に対し、約５〜約３５重量％であり、第２の層では、ＣＴＣの濃度は、第２の層の総重量に対し、約３５〜約９０重量％である。
【０００８】
ＣＴＬは第１の層および第２の層を含んでもよく、第１の層は第２の層よりも厚さが薄い。第２の層はピーク濃度の電荷輸送成分を含んでもよい。第１の層は厚さが約５μｍ〜約１５μｍであってもよく、第２の層は厚さが約１０μｍ〜約３５μｍであってもよい。
【０００９】
電荷輸送成分は、膜形成ポリマー中に分子分散されてもよく、固体溶液が形成される。ＣＴＣはジフェニルジアミン類、トリフェニルアミン類、テルフェニルジアミン類、およびそれらの組み合わせからなる群より選択されるアリールアミンを含んでもよい。ＣＴＣは（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス［３−メチルフェニル］−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン）を含んでもよい。ＣＴＣはＣＴＬ全体で同じであってもよい。ＣＧＬは光発生材料を含んでもよく、実質的に光発生材料を含まなくてもよい。
【００１０】
電子写真印刷システムは、本明細書で記述したイメージング部材を含んでもよい。
【００１１】
別の観点では、方法は、ＣＧＬ上に第１の層を堆積させる工程を含む、電荷発生層（ＣＧＬ）上に電荷輸送層（ＣＴＬ）を形成する工程を有する。第１の層は膜形成ポリマーバインダと、必要に応じてこの中に分散されるＣＴＣとを含む。方法はさらに、第１の層上に直接または間接的に少なくとも１つの第２の層を堆積させる工程を含み、そのため、少なくとも１つの第２の層は、第１の層によりＣＧＬから分離され、少なくとも１つの第２の層は、膜形成ポリマーバインダと、その中に分散されたＣＴＣとを含み、少なくとも１つの第２の層中のＣＴＣ濃度は、乾燥させると、第１の層中のＣＴＣの濃度よりも高い。第３の層は必要に応じて、少なくとも１つの第２の層上に堆積され、第３の層は膜形成ポリマーバインダと、必要に応じて、その中に分散されるＣＴＣを含み、第３の層中のＣＴＣの濃度は、乾燥させると、隣接する第２の層中のＣＴＣの濃度よりも低い。オーバーコート層が必要に応じて、ＣＴＬ上に堆積される。
【００１２】
第１の層はさらに溶媒を含んでもよい。方法はさらに、第１の層を完全に乾燥させる前に少なくとも１つの第２の層を堆積させる工程を含んでもよい。第１の層は、堆積させた時に、実質的にＣＴＣを含まなくてもよく、輸送成分は、第１の層が完全に乾燥する前に、第２の層から第１の層中に拡散する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本明細書で開示した電子写真イメージング部材は、フレキシブルベルト構造または剛性ドラム形態であってもよい。
【００１４】
本明細書で開示した例示的な実施形態の観点では、光発生（電荷発生）層と、その上に配置された電荷輸送層（ＣＴＬ）を備えるイメージング部材が提供される。ＣＴＬは、ＣＧＬと接触する下面と、上面とを有する。さらに、ＣＴＬは膜形成バインダと、その中に分子分散された、または溶解された電荷輸送成分（ＣＴＣ）、例えば正孔輸送分子とを有し、固体溶液が形成される。ＣＧＬに近接するＣＴＬの第１の層は、ＣＴＬから分離された第２の層より低い濃度のＣＴＣを有する。ＣＴＬ中のＣＴＣの濃度は段階的に、または徐々に、例えば、下面から上面に向かって濃度勾配を増加させることにより、増加させてもよい。ＣＴＣの濃度は、光発生層に近接する領域から次第に増加してもよく、その後、ＣＴＬの上方領域に向かって減少してもよい。異なる濃度のＣＴＣの２またはそれ以上の層を備えるものとしてＣＴＬについて特に言及しているが、これらの層は、別個の層である必要はなく、異なる濃度のＣＴＣを有する一般的に平行なＣＴＬ領域を含んでもよいことを認識すべきである。
【００１５】
固体溶液ＣＴＬは、異なる濃度のＣＴＣの複数の領域を有してもよい。ＣＴＬは異なる濃度のＣＴＣと、膜形成ポリマーバインダ類／樹脂類と、他の化合物との固体溶液を含んでもよく、２またはそれ以上の領域が形成される。
【００１６】
ＣＴＬは、異なる濃度のＣＴＣを含む膜形成ポリマーバインダの固体溶液の異なる領域または層を含んでもよく、この場合、最大濃度のＣＴＣの層は、ＣＴＬの底面から離れており、より低い濃度のＣＴＣが、ＣＴＬの上面およびは底面に存在する。
【００１７】
ＣＴＬは、膜形成ポリマーバインダとＣＴＣとの固体溶液を含む第１または底部ＣＴＬと、その上に第１の層と接触させて形成され、第１の層により光発生層から分離された第２の固体溶液を含む１または複数のＣＴＬ層と、から構成される複数の電荷輸送層を含むことができ、第２の層は第１の層よりも高い濃度のＣＴＣを有し、必要に応じて、１または複数の追加の固体溶液ＣＴＬが備えられる。第２の層および次の追加のＣＴＬはそれぞれ、第１のＣＴＬと同じまたは異なる膜形成ポリマーバインダおよび同じまたは異なるＣＴＣを含むことができる。しかしながら、追加の層では、ＣＴＣの量は、段階的に減少し、または徐々に変化し、第２の層から上層または最上層に向かって濃度勾配が存在する。追加のＣＴＬは１〜約１５の層、より特定的には１〜約５層を有することができる。
【００１８】
光発生層などの源から、ＣＴＬへの電荷注入は、近傍の電荷輸送分子の数（濃度）により影響されることがわかっている。ＣＧＬからＣＴＬへの電荷の移動速度を抑制する層を提供することにより、イメージング部材により生成する画像中のＣＤＳスポットを著しく減少させることができる。どちらの型のＣＤＳスポットも減少させることができる。白色バックグラウンド上で微小黒色スポットとして現れる放電現像スポット、および暗バックグラウンド上で微小白色スポットとして現れる充電現像スポットは、電荷発生層に隣接する層のＣＴＣ濃度を低下させることにより抑制することができる。注入電荷の移動度は、また、ＣＴＣの濃度を減少させることにより抑制される。したがって、例えば、より高濃度のＣＴＣを組み入れることにより、電荷発生層から分離された、より高い電荷移動度を提供する第２の層を提供すると、ＣＴＬ全体を通る電荷の移動が容易になる。電荷移動度は、イメージング部材の単位場あたりの単位面積を通過する電荷の平均速度で表すことができる。追加の利点としては、ＣＴＬクラッキングの初期発生の回避抑制が挙げられる。
【００１９】
デジタル印刷を含むイメージング、とりわけ電子写真イメージングおよび印刷プロセス、特に高速カラーコピーおよび印刷プロセスは、例えば、約５００〜約９００ｎｍ、例えば約６５０〜８５０ｎｍの波長領域で感度が高く、そのため、光源としてダイオードレーザを選択することができる。
【００２０】
別の観点では、イメージング部材は、必要に応じて用いる基板と、電荷源と、電荷源から電荷を受容するＣＴＬと、を含む。ＣＴＬは膜形成ポリマーバインダと、その中に分散されたＣＴＣを含む。ＣＴＬは第１の領域と第２の領域とを含む。第２の領域は第１の領域により電荷源から分離される。第１の領域は第２の領域よりも低い電荷移動度を有し、これにより、第１の領域を有さずに形成されたイメージング部材と比較すると、電荷不足スポットが減少する。
【００２１】
フレキシブルベルト構造の多層電子写真イメージング部材の例示的な実施形態を図１に示す。例示的なイメージング部材は、必要に応じて用いる１つまたは複数の導電性表面層１２を有する必要に応じて用いる支持基板１０と、必要に応じて用いる正孔ブロッキング層１４と、必要に応じて用いる接着層１６と、電荷発生層１８と、必要に応じて、少なくとも第１の電荷輸送層２２と、第２の電荷輸送層２４と、第３の輸送層２６とから構成される２またはそれ以上の層またはサブ層を有する電荷輸送層２０と、必要に応じて用いる１または複数のオーバーコートおよび／または保護層２８と、を含む。イメージング部材の他の層は、例えば、正孔ブロッキンキング層１４を介して導電層１２との電気連続性を促進するようにイメージング部材の１つの縁に適用される、必要に応じて用いるグラウンドストリップ（ｇｒｏｕｎｄ  ｓｔｒｉｐ）層３０を含んでもよい。フレキシブル支持基板の裏側にアンチカールバックコーティング層３２を形成してもよい。層１４，１６，１６，１８，２２，２４，２６，２８は、基板１０上に、溶媒を含む溶液として別個に、および連続して堆積させてもよく、各層は次の層が堆積される前に乾燥させられる。代わりに、または加えて、１または複数の層２４，２６，２８を、前の層の乾燥前に適用すると、隣接層との境界での部分混合、および／または１つの層から隣接層への１または複数の成分の浸出拡散が起きることがある。
【００２２】
図示した実施形態では、層２０は、ＣＧＬ１８の上面と直接接触する下面３２と、上面３４とを有する。上面は、オーバーコート層２８が存在しない場合、イメージング部材の露出表面となる可能性があり、または、オーバーコート層２８または層が使用されると、上面３４はオーバーコート層２８と直接接触する。
【００２３】
フォトレセプタ支持基板１０は、不透明であっても、実質的に透明であってもよく、必要な機械特性を有する任意の適した有機または無機材料を含んでもよい。基板全体が、導電性表面の材料と同じ材料を含むことができ、または導電性表面は基板上の単なるコーティングとすることができる。任意の適した導電性材料を使用することができる。典型的な導電性材料としては、銅、黄銅、ニッケル、亜鉛、クロム、ステンレス鋼、などが挙げられる。
【００２４】
導電層１２は、存在する場合、厚さが約２０Å〜約７５０Åの例えば、チタンおよび／またはジルコニウム導電層としてもよい。基板全体が、導電性金属である場合、その外側表面は導電層の機能を果たすことができ、別個の導電層を省略してもよい。正電荷（正孔）ブロッキング層１４をその後、必要に応じて、基板１０または層１２（存在すれば）に適用してもよい。一般に、正に帯電したフォトレセプタに対する電子ブロッキング層により、フォトレセプタの表面のＣＧＬ１８中の光発生した正孔が、電子写真イメージングプロセス中に、下の電荷（正孔）輸送層に向かって移動し、底導電層に到達することができる。隣接導電層１２から光導電性または光発生層への正孔注入に対する効果的なバリヤを形成することができる任意の適した正孔ブロッキング層を使用してもよく、例えば、ポリビニルブチラール、窒素含有シロキサン類もしくはシラン類、または窒素含有チタンもしくはジルコニウム化合物、例えばチタン酸塩およびジルコン酸塩が挙げられる。正孔ブロッキング層は、約５０Å（０．００５μｍ）〜約１０μｍ、例えば約０．００５μｍ〜約２μｍの広範囲にわたる厚さを有する。
【００２５】
必要に応じて用いる接着層１６は、正孔ブロッキング層１４に溶媒、例えばテトラヒドロフランを含むコーティング溶液の形態で適用してもよい。任意の適した接着層を使用してもよい。接着層は、４つの二酸およびエチレングリコールの直鎖飽和コポリエステル反応生成物を含んでもよく、さらに、コポリエステル樹脂を含んでもよい。接着層は正孔ブロッキング層に直接適用される。このように、実施形態における接着層は、下に存在する正孔ブロッキング層と上に存在するＣＧＬの両方に直接接触し、接着性が増強し、結合が提供される。実施形態では、接着層は連続的である。
【００２６】
接着層１６の厚さは、乾燥後、約０．０１〜９００μｍとしてもよい。
【００２７】
その後、光発生（電荷発生）層１８をブロッキング層１４または接着層１６（使用した場合）に適用してもよい。機能的ＣＴＬを生成するために、電荷輸送分子をポリマーマトリクスに添加し電気的に活性にしてもよい。ポリマー材料はそれ自体、本質的に光発生した正孔の注入をサポートすることができず、これらの正孔を通過させて輸送することができないからである。粒子の形態で、不活性樹脂などの膜形成バインダに分散させてもよい、光発生／光導電性材料を含む、任意の適した電荷発生バインダ層１８を使用してもよい。光発生材料の例としては、膜形成ポリマーバインダに分散された、アモルファスセレン、三方晶セレン、およびセレン合金などの無機光導電性材料、およびフタロシアニン顔料、ベンズイミダゾールペリレン、置換２，４−ジアミノ−トリアジン類、多核芳香族キノン類、などの有機導電性材料が挙げられる。セレン、セレン合金、ベンズイミダゾールペリレンなど、およびそれらの混合物は、連続の、均一な光発生層として形成させてもよい。選択した光発生材料は、電子写真イメージングプロセスにおける画像様（ｉｍａｇｅｗｉｓｅ）照射線露光工程中、約６００〜４５０ｎｍと約７００〜８５０ｎｍとの間の波長を有する活性化照射線に対し感度が高く、静電潜像が形成される。
【００２８】
光発生層１８において任意の適した不活性樹脂材料、例えば、有機樹脂バインダ、例えば、１または複数のポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアミド類などの熱可塑性および熱硬化性樹脂類を使用してもよい。光発生材料は樹脂バインダ組成物中に、約１０〜約９５体積％の樹脂バインダ（例えば、約７０〜８０ｖｏｌ．％）中に分散させた約５〜約９０体積％の量（例えば、約２０〜３０ｖｏｌ．％）で存在することができる。
【００２９】
光発生層１８の厚さは、乾燥させると、約０．１μｍ〜約５μｍ、例えば、約０．３〜３μｍとすることができる。
【００３０】
その後、ＣＴＬ２０をＣＧＬ１８上に適用するが、ＣＴＬ２０は、ＣＧＬ１８からの光発生正孔または電子の注入をサポートすることができ、これらの正孔を、ＣＴＬを通過させて輸送し、イメージング部材表面上の表面電荷を選択的に放電させることができる、任意の適した透明な有機ポリマーまたは非ポリマー材料を含んでもよい。ＣＴＬ２０は、実質的に非光導電性材料とすることができるが、電荷発生層１８からの光発生正孔の注入をサポートするものである。ＣＴＬは光発生材料を含まない、または実質的に含まなくてもよい（例えば、層２２，２４，および２６はそれぞれ、１％未満の濃度の、ＣＧＬ１８中の光発生材料を含み、１つの実施形態では０．０１％未満のものを含む）。ＣＴＬ２０全体の複数の層またはサブ層２２，２４，２６は通常、電子写真イメージング部材が使用される一定の波長領域で透明であり、この場合、これらを通して露光が実行されると、確実に、入射照射線の大部分が、下のＣＧＬ１８により利用される。各ＣＴＬは、電子写真で使用される光の波長、例えば４０００〜９０００Åに露光されると、優れた光透過性を示すべきであり、光吸収はわずかであり、電荷発生も放電もない。フォトレセプタが透明基板１０と透明導電層１２とを使用して調製される場合、画像様露光または消去は基板１０を通して実施されてもよく、全ての光が基板の裏側を通過する。この場合、層またはサブ層２２，２４，２６の材料は、ＣＧＬ１８が基板とＣＴＬ２０との間に挟まれると、使用される波長領域の光を透過させる必要はない。ＣＴＬ２０はＣＧＬ１８と共に、ＣＴＬ上に置かれた静電荷が、照射無しでは伝導されない程度まで絶縁体である。第１または底のＣＴＬ２２および中間または最上ＣＴＬ２４，２６は場合によっては、それを通過するわずかな電荷をトラップすべきである。
【００３１】
ＣＴＬ２０は、電気的に不活性なポリマー材料に分子分散された添加剤として有益な任意の適した電荷輸送成分または活性化化合物を含んでもよく、固体溶液が形成され、これによりこの材料は電気的に活性となる。ＣＴＣを、そうでなければ、発生材料からの光発生正孔の注入をサポートすることができず、これらの正孔を通過させて輸送することができない膜形成ポリマー材料に添加してもよい。これにより、電気的に不活性なポリマー材料が、電荷発生層１８からの光発生正孔の注入をサポートすることができ、これらの正孔を、ＣＴＬ２０を通して輸送することができる材料に変換され、ＣＴＬ上の表面電荷が放電される。ＣＴＣは典型的には、有機化合物の小分子を含み、これらの小分子は協働し、分子間で、最終的にはＣＴＬの表面まで電荷を輸送する。
【００３２】
１つの実施形態では、使用した膜形成ポリマーバインダは、異なるＣＴＬ２２，２４，２６において異なっていてもよいが、１つの実施形態では、ＣＴＬ２０全体で同一のポリマーバインダが使用され、サブ層２２，２４，２６間での界面接着結合が改善される傾向がある。塩化メチレン、クロロベンゼン、または他の適した溶媒に溶解可能な任意の適した不活性樹脂バインダを、ＣＴＬ２０で使用してもよい。例示的なバインダ類としては、ポリエステル類、ポリビニルブチラール類、ポリカーボネート類、ポリスチレン、ポリビニルホルマール類、およびそれらの組み合わせが挙げられる。ＣＴＬのために使用されるポリマーバインダは、例えば、ポリカーボネート類、ポリエステル、ポリアリーレート、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルホン、それらの組み合わせなどからなる群より選択されてもよい。
【００３３】
例示的な電荷輸送成分としては、芳香族ジアミン類、例えばアリールジアミン類が挙げられる。単独で、または組み合わせて電荷輸送成分として使用するのに適した例示的なジフェニルジアミン類は、下記分子式１で表され：
【化１】
0005221853.tif 000002
式において、
各Ｘはそれぞれ、アルキル、ヒドロキシ、ハロゲンからなる群より選択される。典型的には、ハロゲンはクロリドである。Ｘがアルキルである場合、Ｘは１〜約１０の炭素原子、例えば、１〜５の炭素原子を含むことができ、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどである。この型の例示的な芳香族ジアミン類としては、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４−ジアミン類、例えば、化学式（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス［３−メチルフェニル］−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン）を有するｍＴＢＤ、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（クロロフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、およびＮ，Ｎ’−ビス−（４−メチルフェニル），Ｎ，Ｎ’−ビス（４−エチルフェニル）−１，１’−３，３’ジメチルビフェニル）−４，４−ジアミン（Ａｅ−１６）およびそれらの組み合わせが挙げられる。
【００３４】
所望であれば、従来のグラウンドストリップ（ｇｒｏｕｎｄ  ｓｔｒｉｐ）層３０およびオーバーコート層２８などの他の層も、使用してもよい。
【００３５】
１つの実施形態では、ＣＴＬ２０は膜形成ポリマーバインダと、分子式１の１または複数の芳香族アミン正孔輸送化合物または本明細書で開示した型の任意の他の適した芳香族アミンを含むＣＴＣとを有する二成分固体溶液の複数の濃度領域を備える。ＣＧＬ１８に最も近い第１の層２２は、層２４よりも低い濃度のＣＴＣを有し、例えば、少なくとも約５重量％、最大約４０重量％までのＣＴＣを含んでもよく、例えば約１０〜約３５ｗｔ％であってもよい。ＣＴＣ濃度は、特に記載がなければ、乾燥層の重量により表される。第１の層により電荷発生層から分離された第２の層２４は、第１の層よりも高い濃度のＣＴＣを有し、そのため、第２の層における電荷移動度は第１の層よりも高い。第２の層２４は、例えば、少なくとも約３０重量％、最大約９０重量％のＣＴＣを含んでもよく、例えば約３５〜約５０ｗｔ％であってもよい。第１の層中のＣＴＣ濃度は、重量で表すと、第２の層中のＣＴＣの濃度の約１％〜約９５％とすることができる。１つの実施形態では、第１の層中のＣＴＣ濃度は第２の層の濃度の少なくとも約５％であり、別の実施形態では、少なくとも約２０％であり、さらに別の実施形態では、少なくとも３０％である。第１の層中のＣＴＣ濃度は、第２の層の約９０％未満、例えば、約８０％未満、または約６０％もしくはそれ以下としてもよい。
【００３６】
第２の層２４における電荷移動度の第１の層２２における電荷移動度に対する比は、例えば、約５：１〜約１００：１とすることができる。
【００３７】
第１の層２２の厚さは約２〜約１５μｍとしてもよく、第２の層の総厚は約１０μｍ〜約３５μｍとすることができる。
【００３８】
第１の層２２の厚さは第２の層２４の厚さより小さくしてもよい。第２の層２４の厚さの第１の層２２の厚さに対する比は、例えば、少なくとも約１．２：１、例えば、少なくとも１．５：１、または少なくとも約１．８：１とすることができる。比は約１０：１、またはそれ以上までとすることができる。
【００３９】
層２６は、層２２および層２４により、ＣＧＬ１８から分離される。このように、層２４は層２２と層２６の間に挟まれ、層２６はＣＴＬ２０の上面３４を提供する。層２６は層２４と接触してもよく、または複数の層２４を使用する場合、最上層２４と接触してもよい。
【００４０】
層２６は層２２および層２４に対し、ＣＴＣ、例えば層２２および層２４に対し使用されているもの、または異なるＣＴＣを含むという点で同様に形成されてもよく、ＣＴＣは電気的に不活性なポリマー材料に分子分散される添加剤として有益な任意の適したＣＴＣとしてもよく、固体溶液が形成され、これにより、この材料が電気的に活性となる。第３の層２６は層２４よりも低い濃度のＣＴＣを有する。このように、層２６における電荷移動度は層２４においてよりも低い場合がある。濃度は、層２４中のＣＴＣ濃度と同じ、またはそれよりも幾分高いもしくは低いものとすることができる。第３の層中のＣＴＣ濃度は第２の層中のＣＴＣ濃度の約１％〜約９５％（または、層２４中の濃度が変動する場合、層２４中の最大濃度の約１％〜約９５％）とすることができる。１つの実施形態では、第３の層中のＣＴＣ濃度は、第２の層２４の濃度の少なくとも約５％であり、別の実施形態では、少なくとも約２０％、さらに別の実施形態では、少なくとも３０％である。１つの実施形態では、第３の層２６中のＣＴＣ濃度は第２の層の濃度の約９０％未満であり、別の実施形態では、約８０％未満、さらに別の実施形態では、第２の層の濃度の約６０％もしくはそれ以下である。第３の層中のＣＴＣ濃度は、第１の層の濃度と大体同じ、または幾分高いもしくは低いものとすることができ、例えば、第１の層の濃度の約５０％〜約３００％とすることができる。この実施形態では、ＣＴＬ２０中のＣＴＣ濃度は、電荷発生層１８からの距離と共に増加し、その後、電荷発生層の上面に向かって再び減少する。
【００４１】
第３の層２６の厚さは、第２の層の厚さよりも小さくすることができ、約２μｍ〜約１０μｍとすることができる。
【００４２】
第３の層２６は、例えば、少なくとも約５重量％、最大約５０重量％までのＣＴＣを含んでもよく、例えば、約５〜約４５ｗｔ％である。
【００４３】
１つの例示的な実施形態では、ＣＴＬは、ＣＴＣとして、１０〜３５重量％のｍＴＢＤを含む層２２と、４０〜６０％のｍＴＢＤを含む層２４と、必要に応じて、５〜５０％のｍＴＢＤを含む層２６と、を備える。この実施形態では、層２２は約１０μｍの厚さを有し、層２４は約２０μｍの厚さを有し、層２６は約１０μｍの厚さを有してもよい。しかしながら、層２２，２４，２６の厚さは変動することがあること、層２２および層２４は等しい厚さである可能性があることは理解される。図１に従い形成された例示的なＣＴＬは、ＣＴＣとして約３０％のｍＴＢＤを含む第１の層２２と、第１の層２２よりも厚さが大きく、ＣＴＣとして約５０％のｍＴＢＤを含む第２の層２４と、５０％未満のｍＴＢＤ、例えば約４０％またはそれ以下を含む第３の層を有してもよい。
【００４４】
別の例示的な実施形態では、層２２は５〜１０重量％のｍＴＢＤを含み、層２４は２０〜６０％のｍＴＢＤを含む。この実施形態では、層２２は約８μｍの厚さを有してもよく、層２４は約２２μｍの厚さを有してもよい。
【００４５】
図１に従い形成された別の例示的なＣＴＬは、ＣＴＣとして約２０％のｍＴＢＤを含む第１の層２２と、第１の層２２よりも厚さが大きく、ＣＴＣとして約５５％のｍＴＢＤを含む第２の層２４と、第２の層よりも厚さが小さく、ＣＴＣとして約３０％のｍＴＢＤを含む第３の層２６を有してもよい。
【００４６】
図２に示した、イメージング部材の別の実施形態は、ＣＴＬ２０に関し、ＣＴＣ濃度が電荷発生層１８から離れるにつれ増加し、ＣＴＬ２０の上面と下面との中間でピーク濃度値に到達するということを除き、図１の実施形態と同様に構成することができる。この実施形態では、層２２，２４，２６は徐々に変化する濃度の隣接する領域の形態で存在する。濃度変化は、図２の濃度対ＣＴＬに隣接する深さのグラフに示されるように、連続して増加し、その後減少してもよく、または段階的に増加し、減少してもよい。濃度は、表面３２で、またはその付近で約２〜８％（または、表面３２からＣＴＬ中へ、少なくともいくらかの電荷移動が許容されるのに十分であればどんなレベルでも）から、ピーク４２で最大４０〜９０％、例えば、約５０％まで変動可能であり、表面３４で、またはその付近で約２〜８％（または、表面３４への少なくともいくらかの電荷移動が許容されるのに十分であればどんなレベルでも）まで降下する。
【００４７】
図２のＣＴＬ２０は、電荷発生層１８上での複数のサブ層の逐次堆積により形成させてもよい。例えば、３〜約１５のサブ層、例えば、３，５，６，８，またはそれ以上のサブ層が存在してもよい。１つの実施形態では、サブ層は、次のサブ層が適用される前に、乾燥されず、または部分的にのみ乾燥される。その結果、サブ層間の境界で部分混合が起き、および／またはサブ層間の境界を横切ってＣＴＣの拡散が起き、ＣＴＣ濃度の段階的な変動ではなくより緩やかな変動が達成される。例えば、図４に示されるように、イメージング部材がダイ６０に対し矢印Ｄの方向に移動するにつれ、スロット押出ダイ６０中のスロット５０，５２，５４，５６，５８などを介して異なる濃度の溶液が堆積され、それぞれ、電荷発生層１８上でサブ層６２，６４，６６，６８，７０が形成される。スロット５０，５２および５４は連続様式で配列され、そのため、イメージング部材ウエブストックが矢印Ｄの方向に移動すると、スロット５０は低（または０）濃度のＣＴＣの溶液を運搬し、この溶液は乾燥された電荷発生層１８上に直接押し出され、一方、スロット５２およびスロット５４はそれぞれ、増加したＣＴＣ濃度の溶液を押し出し、それぞれ、続いてウエットコーティングサブ層が個々の前のウエットコーティングサブ層の上に分注される。スロット５６およびスロット５８は、減少するＣＴＣ濃度の溶液を押し出す。前のサブ層が部分的に乾燥された状態（５重量％以上の溶媒を含むものとして規定してもよい）にあるうちに、続いて各サブ層が塗布される。この配列およびプロセスにより界面ＣＴＣ拡散が促進され、これらの層は、図３に示される結果として得られる乾燥ＣＴＬ２０において、増加その後減少するＣＴＣ濃度勾配プロファイルを含む統合したＣＴＬ２０に最終的に収束される。最も高い濃度は底サブ層６２と最上サブ層７０の中間、例えば、中間領域２４を規定するサブ層６４，６６および６８のうちの１つのまたは複数に存在する。また、ＣＴＬコーティングは、複数のコーティングダイを用いて適用することができ、同様の結果が得られる。
【００４８】
図４では、５つのサブ層が図示されているが、５より少ない、または多いサブ層を使用してもよいことは理解されるであろう。スロット５０，５２，５４，５６，５８，６０は間隔を空けてもよく、次の層を適用する前に、溶媒を蒸発させることにより、部分的に乾燥させることができる。また、サブ層に隣接して１または複数のヒータを配置してもよく、乾燥が補助される。最下サブ層６２がかなり薄い、例えば乾燥させると約２μｍ〜約２０μｍ、例えば約１０〜約１５μｍであると、適用する溶液中のＣＴＣ濃度は０または０に近いものとしてもよい。次に適用した第２のサブ層６４からこの薄層６２中への電荷輸送成分移動により、十分なＣＴＣが提供され、乾燥されると、層６２を通過する電荷移動が可能となる。使用時には、サブ層６２は、サブ層を通って電荷（正孔）を移動させるのに十分な、少なくとも最小濃度のＣＴＣを含むことは認識されるであろう。同様に、最上サブ層７０を形成するように適用される溶液中のＣＴＣ濃度は、スロット５８から押し出された時に０または０に近いものとしてもよく、部分的に乾燥した、前に塗布されたサブ層６８から薄層７０内への電荷輸送成分の移動により、サブ層７０において十分なＣＴＣが提供され、乾燥させると、サブ層７０を通る電荷移動が可能になる。図１および図２の実施形態で、同様のアプローチを使用してもよく、この場合、最下層２２が、十分薄い層として適用されるならば、最下層２２はＣＴＣをほとんどまたは全く含まないようにできる。層２４から部分的に乾燥した層２２内へのＣＴＣの移動により十分なＣＴＣが提供され、乾燥させると、層２２を通る電荷移動が可能となるからである。
【００４９】
第１または底電荷輸送サブ層６２の厚さは、乾燥させると、約０．５〜約１０μｍ、例えば約３〜７μｍとすることができる。その後のサブ層は、使用したサブ層の数によって、同様の厚さ、またはより大きなもしくはより小さな厚さを有してもよい。ＣＴＬ２０の全体の厚さは約５μｍ〜約２００μｍとすることができ、一般的に、約１０〜約４０μｍであり、より特定的には２０〜３５μｍである。
【００５０】
所望であれば、上記実施形態で記述したフォトレセプタの各々における最上ＣＴＬ２６の組成はまた、例えば、抗酸化剤、レベリング剤、界面活性剤、耐摩耗性フィラー、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）粒子およびシリカ粒子の分散物、光衝撃耐性または軽減剤、などを添加してもよく、特にオーバーコート層２８が使用されない場合、さらなる光−電気、機械、およびコピープリントアウト品質の向上が達成される。
【００５１】
ＣＤＳは、層２２により抑制され、露光表面付近の最上層２６中のＣＴＣ濃度が低いことにより、周囲の雰囲気におけるコロナ廃液（ｃｏｒｏｎａ  ｅｆｆｌｕｅｎｔ）および溶媒から生じる問題、例えばクラッキングおよび横方向の電荷移動（ＬＣＭ）が減少する。電荷輸送成分、例えばｍＴＢＤはこれらの廃液により酸化される傾向がある。このように、上層４０中の濃度が低いとこれらの効果が軽減される。ＣＴＬ２０は、様々な量の抗酸化剤、例えはヒンダードフェノールを含んでもよい。
【００５２】
ＣＴＬの上層またはオーバーコート層２８は、分散物としてナノ粒子、例えば、シリカ、金属酸化物、蝋ポリエチレン粒子、ＰＴＦＥ、などを含んでもよい。
【００５３】
ＣＴＬ２０は、ＣＴＬ上に置かれた静電荷が、照射がないと、その上での静電潜像の形成および保持を阻止するのに十分な速度で伝導されない程度まで、絶縁体である。一般に、ＣＴＬ２０の電荷発生層１８に対する厚さの比は、約２：１から約２００：１まで維持され、場合によっては、約４００：１もの大きさで維持される。
【００５４】
１つの特異的な実施形態では、ＣＴＬ２０は、ポリカーボネートバインダーに分子溶解されたＣＴＣ、例えばｍＴＢＤを含む固体溶液である。バインダーはポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニルカーボネート）またはポリ（４，４’−ジフェニル−１，１’−シクロヘキサンカーボネート）のいずれかである。
【００５５】
オーバーコート層２８を使用する場合、オーバーコート２８層はＣＴＬで使用した同様の樹脂または異なる樹脂を含んでもよく、厚さは約１〜約２μｍとしてもよい。アンチカールバックコーティング３２を、基板支持体１０の裏側（電気的に活性なコーティング層を有する側とは反対の側）に適用し、平坦にすることができる。例えば、熱可塑性樹脂、例えば、ＣＴＬ２０で使用されるバインダポリマーから形成され、光学的に透明であってもよい。
【００５６】
本明細書で記述されている実施形態に従い製造されたＣＴＬを有する多層フレキシブル電子写真イメージング部材ウエブストックは長方形シートに切断してもよい。各カットシートは、任意の適した手段、例えば超音波溶接、グルーイング、テーピング、ステープリング、または圧力および熱融合により、端で重ねられ、一緒にされ、連続イメージング部材継ぎ目ベルト、スリーブまたはシリンダが形成される。
【００５７】
調製したフレキシブルイメージングベルトはその後、活性化電磁放射線に画像様露光する前に均一帯電を使用する任意の適した、従来の電子写真イメージングプロセスにおいて使用されてもよい。電子写真部材のイメージング表面が静電荷で均一に帯電され、画像様に活性化電磁放射線に露光されると、従来のポジティブ現像またはリバーサル現像技術を使用して、電子写真イメージング部材のイメージング表面上にマーキング材料画像を形成させてもよい。このように、適した電気バイアスを印加し、適当な電荷極性を有するトナーを選択することにより、電気写真イメージング部材のイメージング表面上の帯電領域または放電領域でトナー画像が形成される。例えば、ポジティブ現像では、帯電トナー粒子がイメージング表面の逆帯電した静電領域に引き付けられ、リバーサル現像では、帯電トナー粒子がイメージング表面の放電領域に引き付けられる。
【実施例】
【００５８】
下記実施例では、２つの電荷輸送層を備えるイメージング部材を調製し、電荷発生層に隣接した電荷輸送分子の濃度がより低い層を使用することにより、ＣＤＳが減少することを証明した。これらのイメージング部材は３つの輸送層を用いて、または勾配層を用いて調製することができ、電荷発生層に接触する表面と電荷輸送層の上面の中間でピーク濃度が提供される。
【００５９】
〔実施例１〕
３．５ミル（０．０９ミリメートル）の厚さの二軸延伸ポリエチレンナフタレート基板（カレデックス（ＫＡＬＥＤＥＸ、商標）２０００）上に０．０２μｍの厚さのチタン層をコートすることにより、イメージング部材を調製した。グラビアアプリケータを用いて、その上に、５０ｇの３−アミノ−プロピルトリエトキシシランと、４１．２ｇの水と、１５ｇの酢酸と、６８４．３ｇの２００プルーフ変性アルコールと、２００ｇのヘプタンとを含む溶液を適用した。この層をその後、約２分間１２０℃で、コーターの強制空気乾燥機内で乾燥させた。得られたブロッキング層は５００Åの乾燥厚を有した。
【００６０】
その後、グラビアアプリケータを用い、ブロッキング層上に、テトラヒドロフラン／モノクロロベンゼン／塩化メチレンの体積比６０：３０：１０の混合物に溶解したポリアリーレート接着剤（トヨタスツ社（Ｔｏｙｏｔａ  Ｈｓｕｔｓｕ  Ｉｎｃ．）から入手可能なアドレル（Ａｒｄｅｌ）Ｄ１００）の溶液の総重量に基づき０．２重量％含むウエットコーティングを適用することにより接着層を調製した。その後、接着層を約２分間、１２０℃で、コーターの強制空気乾燥機内で乾燥させた。得られた接着層は２００Åの乾燥厚を有した。
【００６１】
０．４５ｇの、三菱ガス化学社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ  Ｇａｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐ）から入手可能なルピロン（ｌｕｐｉｌｏｎ２００、商標）（ＰＣ−Ｚ２００）と、５０ｍｌのテトラヒドロフランを１００ｇｍのガラス瓶に導入することにより光発生層分散物を調製した。この溶液に、２．４ｇのヒドロキシガリウムフタロシアニンと、３００ｇの１／８インチ（３．２ミリメートル）直径のステンレス鋼ショットを添加した。その後、この混合物をボールミル上に８時間置いた。その後、２．２５ｇのＰＣ−Ｚ  ２００をテトラヒドロフラン４６．１ｇｍに溶解し、このＯＨＧａＰｃスラリーに添加した。その後、このスラリーを振盪機上に１０分間置いた。その後、得られたスラリーを、バード（Ｂｉｒｄ）アプリケータを用いて接着界面に塗布し、湿厚が０．２５ｍｉｌ（約６μｍ）の電荷発生層を形成させた。しかしながら、ブロッキング層と接着層とを有する基板ウエブの１つの縁に沿った幅約１０ｍｍのストリップは意図的に未コートのままとし、光発生層材料が無く、その後に適用したグラウンドストリップ層により十分な電気接触が促進された。電荷発生層を、強制空気オーブン中、１２０℃で１分間乾燥させ、厚さ０．４μｍの乾燥電荷発生層を形成させた。
【００６２】
この光発生層を、第１の電荷輸送層でオーバーコートした。第１の電荷輸送層は、アンバーガラス瓶に、２０：８０の重量比のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン（Ｍａｋｒｏｌｏｎ）５７０５（ファーベンファブリケン  バイヤー（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ）Ａ．Ｇ．から市販されている約５０，０００〜１００，０００の分子量を有するポリカーボネート樹脂）を導入することにより調製した。得られた混合物を塩化メチレンに溶解し、１５重量％の固体を含む溶液を形成させた。この溶液を、バードアプリケータを用いて光発生層上に塗布し、コーティングを形成させた。コーティングは乾燥させると、１４．５μｍの厚さを有した。このコーティングプロセス中、湿度は１５％またはそれ以下であった。
【００６３】
この第１の電荷輸送層を、第２の電荷輸送層でオーバーコートした。第２の電荷輸送層は、アンバーガラス瓶に、５０：５０の重量比のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−ビフェニル−４，４−ジアミンとマクロロン５７０５を導入することにより調製した。得られた混合物を塩化メチレンに溶解し、１５重量％の固体を含む溶液を形成させた。この溶液を、バードアプリケータを用いて光発生層上に塗布し、コーティングを形成させた。コーティングは乾燥させると、１４．５μｍの厚さを有した。このコーティングプロセス中、湿度は１５％またはそれ以下であった。
【００６４】
〔実施例２〕
第１の電荷輸送層を、重量比３０：７０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製し、第２の電荷輸送層を、重量比５０：５０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製したことを除き、実施例１のようにフォトレセプタを調製した。両方の層の厚さは同じであった（１４．５μｍ）。
【００６５】
〔実施例３〕
第１の電荷輸送層を、重量比４０：６０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製し、第２の電荷輸送層を、重量比５０：５０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製したことを除き、実施例１のようにフォトレセプタを調製した。両方の層の厚さは同じであった（４．５μｍ）。
【００６６】
〔実施例４〕
第１の電荷輸送層を、重量比５０：５０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製し、第２の電荷輸送層を、重量比４０：６０で調製したことを除き、実施例１のようにフォトレセプタを調製した。両方の層の厚さは同じであった（１４．５μｍ）。
【００６７】
〔実施例５〕
第１の電荷輸送層を、重量比５０：５０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製し、第２の電荷輸送層を、重量比３０：７０のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製したことを除き、実施例１のようにフォトレセプタを調製した。両方の層の厚さは同じであった（１４．５μｍ）。
【００６８】
〔実施例６〕
第１の電荷輸送層を、重量比３５：６５のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製し、第２の電荷輸送層を、重量比４３：５７のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンとマクロロン５７０５を用いて調製したことを除き、実施例１のようにフォトレセプタを調製した。両方の層の厚さは同じであった（１４．５μｍ）。
【００６９】
〔実施例７〕
実施例１〜６において記述したように調製したフレキシブルフォトレセプタシートについて、スキャナで電子写真感度およびサイクル安定性を試験した。スキャナでは、評価すべき各フォトレセプタシートを円筒アルミニウムドラム基板上に載置し、これを軸に対して回転させた。装置を、ドラムの周囲に沿って配置させたコロトロンにより帯電させた。表面電位を、軸の周りの異なる位置に配置した容量結合させた電圧プローブにより、時間の関数として測定した。ドラム基板に公知の電位を印加することによりプローブを較正した。ドラム上の各フォトレセプタシートを、コロトロンから下流にあるドラムの近くの位置に配置した光源に露光させた。ドラムを回転させ、第１の電圧プローブにより、初期（露光前）帯電電位（Ｖｄｄｐ）を測定した。さらに回転させ露光ステーションに導き、そこで、フォトレセプタ装置を、３．５ｅｒｇｓ／ｃｍ２の公知の強度の単色光に露光させ、Ｖｂｇを得た。装置を帯電の上流位置に配置した光源により消去し、Ｖｒを得た。下記表１に示した測定値は、一定電流または電圧モードでの各光導電装置の帯電を含む。装置は、負極性コロナに帯電させた。露光後の表面電位（Ｖｂｇ）を、第２の電圧プローブにより測定した。設計では、露光は一定のサイクルで切ることができた。第２のプローブで測定した電圧はＶｄｄｐである。一般に電圧は帯電ステーションでより高くなる。帯電ステーションでの帯電電圧とＶｄｄｐとの間の差は暗減衰である。最後に、装置を適当な強度の消去ランプに曝露させ、残留電位（Ｖｒ）を第３の電圧プローブで測定した。１０，０００帯電−消去サイクル後、Ｖｂｇを測定し、第１のサイクルのＶｂｇとサイクル１０，０００のＶｂｇとの差（△Ｖｂｇ  １０Ｋ）を計算した。
【００７０】
表１は６つの例示的なシート構造に対する、乾燥後の電荷輸送層の各々におけるｍＴＢＤ濃度を、上記で記述した測定電気特性と共に示す。第１のパスは第１の層２２であり、第２のパスは第２の層２４である。
【表１】
0005221853.tif 000003
【００７１】
このように形成させたシートについて、米国特許第６，００８，６５３号および米国特許第６，１１９，５３６号（参照により本明細書に組み入れられる）において記述されているのと同様に、ＣＤＳに対し浮動プローブスキャナ（ＦＰＳスキャナ）を用いて試験した。全てのサンプルの幅２３ｃｍ、長さ２８ｃｍのシートを切断し、一つずつＦＰＳのスキャナのドラム上に載置した。ドラムを連続して回転させ、スコロトロン下、７００ボルトまで帯電させた。その後、微小欠陥を測定した。この測定は、フォトレセプタの帯電表面に容量結合された空気力学的浮動プローブによる５０〜１００μｍ分解能の高分解能電圧測定から構成された。プローブを、サンプル表面の全走査中、５０μｍの一定距離で維持した。この後、フォトレセプタを消去ランプで放電させた後、次のサイクルを開始させた。各サイクルにおいて、ドラムは２５〜５０μｍの小さな段階で並進した。その後、浮動プローブスキャナは約１００〜１５０ｃｍ２の面積上でＣＤＳを計数し、平均値／ｃｍ２を提供した。図５は浮動プローブスキャナで得られた結果を示す。表１は電気特性を示す。
【００７２】
図５からわかるように、ＣＤＳ／ｃｍ２の観点では、６つの実施例に対する最も良好な結果は実施例１および実施例２において見られた。この場合、第１の層（電荷発生層に最も近接）は、第２の層よりもかなり低い濃度のｍＴＢＤを有した。一般に、２〜３ＣＤＳ／ｃｍ２またはそれ以下のカウントでは、ベルトは当フィールドへの放出（ｒｅｌｅａｓｅ  ｔｏ  ｔｈｅ  ｆｉｅｌｄ）に適している。このように、典型的に高いＣＤＳ発生率のために選択された電荷発生層と共に用いる場合であっても、実際に申請された用途に適したシートが達成される。
【００７３】
表１から明らかなように、ｍＴＢＤ添加を減少させると、バックグラウンド電位（Ｖｂｇ）が上昇する。実施例１および実施例２（および、推論では、その２つの間のｍＴＢＤ濃度値）はこのように、ＣＤＳが低いが、依然として良好な電気特性を提供するイメージング部材を提供する。第１の層の厚さを低くすることにより、電気特性の観点でさらなる恩典が得られることも予測される。
【００７４】
様々な上記で開示した、および他の特徴および機能、またはそれらの代案を望ましくは組み合わせて、多くの他の異なるシステムまたは用途としてもよいことは認識されるであろう。また、様々な、現在予測できない、または予期しない代案、改変、変更または改良が、当業者によりその後なされるかもしれないが、これらもまた下記請求の範囲に含まれるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】第１の実施形態による例示的なイメージング部材の概略断面図である。
【図２】第２の実施形態による例示的なイメージング部材の上層の概略断面図である。
【図３】図２の層２０を通る電荷輸送成分の濃度を示す図である。
【図４】例示的なイメージング部材の電荷輸送層のサブ層を形成するプロセスにおける、スロットに入れた染料の概略図である。
【図５】多層フォトレセプタにおけるＣＤＳに対する電荷輸送成分濃度の効果を示した棒グラフである。
【符号の説明】
【００７６】
１０  支持基板、１２  導電層、１４  ブロッキング層、  １６  接着層、１８  電荷発生層、２０  電荷輸送層、２８  オーバーコート層、３４  上面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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