(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムと、未硬化の感光性樹脂組成物層とが積層されてなる光導波路形成用ドライフィルムであって、
上記感光性樹脂組成物層が、下記の（Ａ）成分〜（Ｄ）成分：
（Ａ）下記一般式（１）及び（２）で表される繰り返し単位を含む重合体、
0005309992.tif 000013
0005309992.tif 000014
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｘは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは重合性を有しない有機基である。）
（Ｂ）脂肪族ポリエーテルポリオールとポリイソシアネート化合物とが反応して生じる、ウレタン結合を繰り返し有する直鎖構造を含み、かつ、２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、
（Ｃ）分子内に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、並びに、
（Ｄ）光ラジカル重合開始剤、
を含有する感光性樹脂組成物であることを特徴とする光導波路形成用ドライフィルム。
【請求項２】
上記一般式（１）が、下記一般式（３）で表される構造である請求項１に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
0005309992.tif 000015
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｗ及びＺは各々独立して単結合又は２価の有機基である。）
【請求項３】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の上記（Ｂ）成分の数平均分子量が１，０００〜１００，０００である請求項１又は２に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
【請求項４】
上記（Ｂ）成分が、脂肪族ポリエーテルポリオール、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
【請求項５】
上記感光性樹脂組成物層の厚さが１〜２００μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
【請求項６】
上記感光性樹脂組成物層における上記ベースフィルムとは反対側の面に、カバーフィルムが積層されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
【請求項７】
下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路であって、少なくとも、下部クラッド層及び上部クラッド層が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層の硬化物からなることを特徴とする光導波路。
【請求項８】
下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路であって、少なくとも、下部クラッド層、コア部分、及び上部クラッド層のいずれか１つが、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層の硬化物からなり、かつ、該硬化物からなる部分以外の部分が、上記感光性樹脂組成物層と同様の（Ａ）成分〜（Ｄ）成分を含有する液状の感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする光導波路。
【請求項９】
上記下部クラッド層、コア部分及び上部クラッド層が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層の硬化物からなり、かつ、上記コア部分の屈折率が、上記下部クラッド層と上記上部クラッド層のいずれの屈折率よりも０．１％以上大きいことを特徴とする光導波路。
【請求項１０】
下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド層を形成する工程と、コア部分を形成する工程と、上部クラッド層を形成する工程とを含み、かつ、少なくとも、下部クラッド層を形成する工程、及び、上部クラッド層を形成する工程が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層を光照射して硬化させる工程を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項１１】
下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路の製造方法であって、
下部クラッド層を形成する工程と、コア部分を形成する工程と、上部クラッド層を形成する工程とを含み、
少なくとも、下部クラッド層を形成する工程、コア部分を形成する工程、及び、上部クラッド層を形成する工程のいずれか１つが、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層を光照射して硬化させる工程を含み、
上記感光性樹脂組成物層を光照射して硬化させる部分以外の部分を形成する工程が、上記感光性樹脂組成物層と同様の（Ａ）成分〜（Ｄ）成分を含有する液状の感光性樹脂組成物を光照射して硬化させる工程を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路形成用ドライフィルム、光導波路およびその製造方法に関する。より詳細には、形状の精度が高く、伝送特性が良好で、かつ屈曲抵抗性に優れた光導波路の各部（クラッド層等）を、簡易な製造プロセスによって形成することのできるドライフィルム、及び該ドライフィルムを用いて製造された光導波路、ならびに該光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。
このような光導波路としては、石英系導波路が代表的であり、一般に以下の工程により製造されている。
（１）シリコン基板上に、火炎堆積法（ＦＨＤ）やＣＶＤ法等の手法によりガラス膜よりなる下部クラッド層を形成する。
（２）下部クラッド層上に、これと屈折率の異なる無機質の薄膜を形成し、この薄膜を反応性イオンエッチング法（ＲＩＥ）を利用してパターニングすることによりコア部分を形成する。
（３）更に、火炎堆積法によって上部クラッド層を形成する。
【０００３】
しかしながら、このような石英系導波路の製造方法では、特殊な製造装置が必要であるとともに、製造時間が長くかかるなどの問題が見られた。
このような問題を解決するため、ベースフィルムと、未硬化の感光性樹脂組成物層とが積層されてなるドライフィルム（ドライフィルムレジスト等とも称される。）を用いて、光導波路を製造する方法が提案されている。
例えば、ベースフィルムと、硬化後の屈折率が異なる少なくとも２つの感光性樹脂層とからなるドライフィルムレジストを用いた光導波路の形成方法であって、基材上にドライフィルムレジストを積層した後、所望の光導波路パターンが描かれたフォトツールを用いて、所定の量の光をドライフィルムレジストに照射して、所定の場所を放射線硬化させ、次いで、現像剤を用いて未露光部分を除去して、コア層の上下にクラッド層が形成された光導波路を形成する方法が、提案されている（特許文献１）。
この方法によれば、従来の石英系導波路の製造方法と比較して、特定のドライフィルムレジストを基材に積層し、所定の量の光を照射し、次いで現像するだけで、短時間、かつ低コストで光導波路を形成することができる。
【０００４】
しかし、この方法で形成される光導波路は、サイドウォールが空気であり、コア層が露出しているため、光導波路の保護を目的として、液状レジスト等を用いた被覆層で被覆される。そのため、ドライフィルムレジスト以外に、液状レジスト等の他のレジストが必要であるとともに、前記の被覆層を形成するための追加の工程を要するという問題がある。
また、（ａ）カルボキシル基、重合性基及びそれ以外の有機基を有する重合体、（ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物、及び（ｃ）放射線重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物からなる層を有するドライフィルムが提案されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５８５３７号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者が見出した知見によると、上述の（ａ）〜（ｃ）成分を含む従来のドライフィルム（特許文献２）によれば、形状の精度が高くかつ優れた伝送特性を有する光導波路を製造することができる。
しかし、このドライフィルムを用いて形成した光導波路は、フィルム状の硬化物の状態で屈曲させると、クラックや破断が発生するという問題がある。
本発明は、上述の従来技術の問題を解消しようとするものであり、形状の精度が高く、伝送特性（導波路損失）が良好で、かつ屈曲抵抗性に優れた光導波路を、簡易な製造プロセスで形成することができるドライフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の化学構造を有する複数種の成分を含む感光性樹脂組成物からなる層を有するドライフィルムを用いることによって、形状の精度が高く、伝送特性が良好で、かつ屈曲抵抗性に優れた光導波路を、簡易な製造プロセスで形成することができることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［１１］を提供するものである。
［１］  ベースフィルムと、未硬化の感光性樹脂組成物層とが積層されてなる光導波路形成用ドライフィルムであって、上記感光性樹脂組成物層が、下記の（Ａ）成分〜（Ｄ）成分：
（Ａ）下記一般式（１）及び（２）で表される繰り返し単位を含む重合体、
0005309992.tif 000002
0005309992.tif 000003
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｘは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは重合性を有しない有機基である。）
（Ｂ）脂肪族ポリエーテルポリオールとポリイソシアネート化合物とが反応して生じる、ウレタン結合を繰り返し有する直鎖構造を含み、かつ、２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、
（Ｃ）分子内に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、並びに、
（Ｄ）光ラジカル重合開始剤、
を含有する感光性樹脂組成物からなることを特徴とする光導波路形成用ドライフィルム。
［２］  上記一般式（１）が、下記一般式（３）で表される構造である上記［１］に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
0005309992.tif 000004
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｗ及びＺは各々独立して単結合又は２価の有機基である。）
［３］  ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の上記（Ｂ）成分の数平均分子量が１，０００〜１００，０００である上記［１］又は［２］に記載の光導波路形成用ドライフィルム。
［４］  上記（Ｂ）成分が、脂肪族ポリエーテルポリオール、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物である上記［１］〜［３］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルム。
［５］  上記感光性樹脂組成物層の厚さが１〜２００μｍである上記［１］〜［４］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルム。
［６］  上記感光性樹脂組成物層における上記ベースフィルムとは反対側の面に、カバーフィルムが積層されている上記［１］〜［５］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルム。
［７］  下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路であって、少なくとも、下部クラッド層及び上部クラッド層が、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層の硬化物からなることを特徴とする光導波路。
［８］  下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路であって、少なくとも、下部クラッド層、コア部分、及び上部クラッド層のいずれか１つが、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層の硬化物からなり、かつ、該硬化物からなる部分以外の部分が、上記感光性樹脂組成物層と同様の（Ａ）成分〜（Ｄ）成分を含有する液状の感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする光導波路。
［９］  上記下部クラッド層、コア部分及び上部クラッド層が、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層の硬化物からなり、かつ、上記コア部分の屈折率が、上記下部クラッド層と上記上部クラッド層のいずれの屈折率よりも０．１％以上大きいことを特徴とする光導波路。
［１０］  下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド層を形成する工程と、コア部分を形成する工程と、上部クラッド層を形成する工程とを含み、かつ、少なくとも、下部クラッド層を形成する工程、及び、上部クラッド層を形成する工程が、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層を光照射して硬化させる工程を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
［１１］  下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド層を形成する工程と、コア部分を形成する工程と、上部クラッド層を形成する工程とを含み、少なくとも、下部クラッド層を形成する工程、コア部分を形成する工程、及び、上部クラッド層を形成する工程のいずれか１つが、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光導波路形成用ドライフィルムの感光性樹脂組成物層を光照射して硬化させる工程を含み、上記感光性樹脂組成物層を光照射して硬化させる部分以外の部分を形成する工程が、上記感光性樹脂組成物層と同様の（Ａ）成分〜（Ｄ）成分を含有する液状の感光性樹脂組成物を光照射して硬化させる工程を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の特定の感光性樹脂組成物層を有するドライフィルムによれば、形状の精度が高く、伝送特性（導波路損失）が良好で、かつ屈曲抵抗性に優れた光導波路を、簡易な製造プロセスで効率的に短時間で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のドライフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明のドライフィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のベースフィルムと、特定の成分を含む未硬化の感光性樹脂組成物層とが積層されてなるものである。
なお、本明細書中において、「ドライフィルム」とは、少なくとも、感光性樹脂組成物層の支持体であるベースフィルムと、該ベースフィルムの片面に積層される未硬化の感光性樹脂組成物層を備えたフィルムとして定義される。
本発明のドライフィルムの感光性樹脂組成物層を構成する（Ａ）〜(Ｄ)成分及びその他の任意成分について、以下に詳しく説明する。
【００１２】
［（Ａ）成分］
本発明で用いられる（Ａ）成分は、下記一般式（１）及び（２）で表される繰り返し単位を含む重合体（例えば、ランダム共重合体）である。
0005309992.tif 000005
0005309992.tif 000006
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｘは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは重合性を有しない有機基である。）
【００１３】
一般式（１）、（２）中のＲ１及びＲ２は、各々独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、好ましくは、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子又はメチル基である。
一般式（１）で表される繰り返し単位の好適な例としては、下記の一般式（３）で表される繰り返し単位が挙げられる。
0005309992.tif 000007
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｗ及びＺは各々独立して単結合又は２価の有機基である。）
【００１４】
ここで、一般式（３）中のＷ（２価の有機基）の例としては、下記一般式（４）で表される構造や、フェニレン基等が挙げられる。
0005309992.tif 000008
（式中、Ｒ４はメチレンまたは炭素数２〜８のアルキレン基である。）
一般式（３）中のＺ（２価の有機基）の例としては、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（式中、ｎは１〜８の整数である。）等が挙げられる。
【００１５】
一般式（２）中のＹの例としては、下記一般式（５）で表される構造、フェニル基、環状アミド基、ピリジル基等が挙げられる。
0005309992.tif 000009
（式中、Ｒ５は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の炭素鎖を有する基である。）
【００１６】
（Ａ）成分のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは８，０００〜７０，０００、特に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。該値が５，０００未満では、組成物の粘度が小さくなり、ドライフィルムを作製する際に一定の厚さの感光性樹脂組成物層を形成させるのが困難になることがある。該値が１００，０００を超えると、組成物の粘度が大きくなり、ドライフィルムを作製する際に感光性樹脂組成物の塗布性が悪くなる等の欠点がある。
【００１７】
（Ａ）成分の製造方法としては、例えば、（ａ）水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び（ｂ）成分（一般式（２）に対応するラジカル重合性化合物）を、溶媒中でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、（ｃ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネートを付加させる方法が挙げられる。
この方法で用いられる化合物（ａ）〜（ｃ）について説明する。
【００１８】
化合物（ａ）（水酸基を有するラジカル重合性化合物）は、該化合物中の水酸基と化合物（ｃ）中のイソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）とを反応させて、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯＯ−）及び化合物（ｃ）に由来する（メタ）アクリロイルオキシ基を含む側鎖部分を有する構成単位を、成分（Ａ）中に導入するために用いられる。
化合物（ａ）の例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
化合物（ａ）は、１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ａ）成分中の化合物（ａ）の含有率は、好ましくは３〜８０質量％、より好ましくは７〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
該含有率が３質量％未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が８０質量％を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
【００１９】
化合物（ｂ）（一般式（２）の構造に対応する化合物）は、主として、（Ａ）成分の機械的特性や屈折率を適度にコントロールするために用いられる。
化合物（ｂ）の例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と環状炭化水素化合物とのエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチレングリコールアクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；トリブロモフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等のハロゲン化（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物；酢酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等が挙げられる。
中でも、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等が好ましく用いられる。
化合物（ｂ）は、１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ａ）成分中の化合物（ｂ）の含有率は、好ましくは１５〜９２質量％、より好ましくは２５〜８４質量％、特に好ましくは３５〜７８質量％である。
該含有率が１５質量％未満であると、屈折率の調整が困難となる場合がある。該含有率が９２質量％を超えると、硬化が不十分となりやすい。
【００２０】
化合物（ｃ）（（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート）の例としては、２−メタクリロキシエチルイソシアネート、Ｎ−メタクリロイルイソシアネート、メタクリロキシメチルイソシアネート、２−アクリロキシエチルイソシアネート、Ｎ−アクリロイルイソシアネート、アクリロキシメチルイソシアネート等が挙げられる。
（Ａ）成分中の化合物（ｃ）の含有率は、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは  ９〜６０質量％、特に好ましくは１２〜４５質量％である。
該含有率が５質量％未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が８０質量％を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
【００２１】
（Ａ）成分には、一般式（１）及び（２）に記載されていない構成単位を含めることもできる。このような構成単位を導入するための化合物（以下、化合物（ｄ）という。）の例としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル類；塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物等が挙げられる。（Ａ）成分中の化合物（ｄ）の含有率は、好ましくは０〜２０質量％、より好ましくは０〜１０質量％である。
【００２２】
（Ａ）成分の製造過程において、化合物（ｃ）の付加反応の際に、熱重合禁止剤、保存安定剤、硬化触媒等の各種添加剤を添加することができる。
熱重合禁止剤は、熱による重合反応を抑えるために配合される。熱重合禁止剤の例としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メトキシフェノール、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル等が挙げられる。
保存安定剤の例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ベンゾキノン、ｐ−トルキノン、ｐ−キシロキノン、フェニル−α−ナフチルアミン等が挙げられる。
硬化触媒の例としては、ジラウリル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジオクチル錫、ジオレイン酸ジブチル錫、二酢酸ジブチル錫、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン等が挙げられる。
これらの各種添加剤の合計の配合量は、化合物（ａ）〜（ｃ）の合計量１００質量部に対して通常、１０質量部以下、好ましくは５質量部以下である。
【００２３】
（Ａ）成分の製造における、化合物（ａ）、化合物（ｂ）、及び必要に応じて使用される化合物（ｄ）のラジカル重合に使用できる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル等のエステル類が挙げられる。
中でも、環状エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類等が好ましい。
【００２４】
一方、（Ａ）成分の製造における、化合物（ｃ）の付加反応時に使用される溶媒として、分子内に水酸基を有するものを使用すると、化合物（ｃ）が溶媒と反応してしまうため、好ましくない。したがって、化合物（ｃ）の付加反応に用いる溶媒は、好ましくは、水酸基を有しないものである。水酸基を有しない溶媒の例としては、前記のラジカル重合に使用される溶媒のうち、水酸基を有しないものが挙げられる。
【００２５】
また、（Ａ）成分の製造に用いられるラジカル重合用の触媒としては、通常のラジカル重合開始剤が使用できる。ラジカル重合開始剤の例としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；及び過酸化水素等を挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を使用する場合、還元剤を組み合わせてレドックス型の開始剤としてもよい。
【００２６】
上記手法にて得られる（Ａ）成分のガラス転移温度は２０℃以上１５０℃以下であることが好ましい。この際、ガラス転移温度は通常行われている、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて定義される。（Ａ）成分のガラス転移温度が２０℃未満であると、ベースフィルム上に感光性樹脂組成物層を形成することが困難となったり、あるいは、感光性樹脂組成物層にべたつきが生じて、ドライフィルムを基板上に積層する際の作業性が悪くなるなどの不都合がある。また、逆に、（Ａ）成分のガラス転移温度が１５０℃を超えると、ドライフィルムの感光性樹脂組成物層が硬くなったり、脆さが生じたりして、ドライフィルムを基板に積層させたときの密着性が悪くなることがある。
【００２７】
［（Ｂ）成分］
（Ｂ）成分は、脂肪族ポリエーテルポリオールとポリイソシアネート化合物とが反応して生じる、ウレタン結合を繰り返し有する直鎖構造を含み、かつ、２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
（Ｂ）成分は、例えば、脂肪族ポリエーテルポリオールと、ポリイソシアネート化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる。
（Ｂ）成分の製造方法として、例えば、以下の製法１〜４が挙げられる。
製法１：脂肪族ポリエーテルポリオール、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法２：脂肪族ポリエーテルポリオール及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法３：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いで脂肪族ポリエーテルポリオールを反応させる方法。
製法４：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いで脂肪族ポリエーテルポリオールを反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法１〜４の中でも、製法２〜４が、分子量分布を制御する上で好ましい。
【００２８】
（１）脂肪族ポリエーテルポリオール
本発明の（Ｂ）成分の原料の一つは、脂肪族ポリエーテルポリオール（以下、ポリオール化合物と称することがある。）である。
中でも、基板と光導波路との更なる接着性の向上を図るためには、アルキレンオキシ構造を含むポリエーテルポリオール化合物を用いることが好ましい。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも１種の化合物を開環（共）重合することにより得られるもの等を挙げることができる。具体例としては、ポリエチレングリコール、１，２−ポリプロピレングリコール、１，３−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキシドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと１，２−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
【００２９】
脂肪族ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えばユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂社製）；ＰＰＴＧ４０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ１０００、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧＬ２０００、ＰＴＧＬ１０００（以上、保土谷化学社製）；ＥＸＥＮＯＬ４０２０、ＥＸＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＥＮＯＬ１０２０（以上、旭硝子社製）；ＰＢＧ３０００、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ１０００、Ｚ３００１（以上、第一工業製薬社製）；ＡＣＣＬＡＩＭ  ２２００、３２０１、４２００、６３００、８２００（以上、住化バイエルウレタン社製）；ＮＰＭＬ−２００２、３００２、４００２、８００２（以上、旭硝子社製）等が挙げられる。
【００３０】
前記のポリオール化合物のうち、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド共重合ジオール、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオール、プロピレンオキサイド／テトラヒドロフラン共重合ジオールが好ましく、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオールがより好ましい。
ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは４００〜１０，０００であり、さらに好ましくは１，０００〜８，０００であり、最も好ましくは１，５００〜５，０００である。該数平均分子量が４００未満であると、硬化物の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、充分な屈曲抵抗性が得られ難くなる。一方、数平均分子量が１０，０００を超えると、組成物の粘度が上昇して、基材に組成物を被覆する際の塗工性が悪化することがある。
【００３１】
（２）ポリイソシアネート化合物
本発明の（Ｂ）成分の原料の一つであるポリイソシアネート化合物は、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物である。この様な化合物としては、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。これらポリイソシアネート化合物は単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３２】
（３）水酸基含有（メタ）アクリレート
本発明の（Ｂ）成分の原料の一つである水酸基含有（メタ）アクリレートは、分子内に水酸基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。この様な化合物としては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等の、グリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。
中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００３３】
本発明の（Ｂ）成分を構成する各原料の配合割合は、例えば、水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、ポリオール化合物０．５〜２モル、ポリイソシアネート化合物１〜２．５モルである。
本発明の（Ｂ）成分の数平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算値）は、好ましくは１，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜６０，０００、特に好ましくは５，０００〜３０，０００である。数平均分子量が１，０００未満であると、感光性樹脂組成物層の硬化物（例えば、クラッド層）について充分な屈曲抵抗性を得ることが困難となる。また、数平均分子量が１００，０００を超えると、感光性樹脂組成物の粘度が高くなり過ぎて、ベースフィルム上に感光性樹脂組成物を塗布して組成物層を形成させる際の塗工性が悪化することがある。
【００３４】
本発明の組成物中の（Ｂ）成分の配合量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは１０〜１００質量部、より好ましくは２０〜８０質量部、特に好ましくは３０〜７０質量部である。該量が１０質量部未満であると、感光性樹脂組成物層の硬化物（例えば、クラッド層）について十分な屈曲抵抗性が得られないことがあり、該量が１００質量部を超えると、（Ａ）成分との相溶性が悪くなり、感光性樹脂組成物層の硬化物（例えば、クラッド層）の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。
【００３５】
［（Ｃ）成分］
（Ｃ）成分は、分子内にエチレン性不飽和基を１個以上有する化合物である。
ここで、エチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。
（Ｃ）成分の分子量は、好ましくは２，０００未満、より好ましくは１，０００未満である。また、（Ｃ）成分の０．１ＭＰａにおける沸点は、１３０℃以上であることが好ましい。
分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を有する（Ｃ）成分の好ましい例としては、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基及び／又はビニル基を有し、分子量１，０００未満の化合物が挙げられる。
この場合、分子内のエチレン性不飽和基は、その全てがアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基のいずれか１種のみでもよいし、あるいは、アクリロイル基とメタクリロイル基、アクリロイル基とビニル基、メタクリロイル基とビニル基のいずれかの２種の組み合わせでもよいし、あるいは、アクリロイル基とメタクリロイル基とビニル基の３種の組み合わせでもよい。
【００３６】
分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートの例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン化ビスフェノールＡのジアクリレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン等が挙げられる。
分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートの例としては、３個以上の水酸基を有する多価アルコールに３モル以上の（メタ）アクリル酸がエステル結合した化合物、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、主鎖にポリエーテル、ポリエステルを有するポリエーテルアクリルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴマー、あるいはポリエポキシアクリルオリゴマーも使用することができる。
【００３７】
分子内に１個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートの例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、アルキルアルコール（炭素数１〜８）のエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、フェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、トリブロモフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３８】
これらの市販品としては、ユピマーＵＶ
ＳＡ１００２、ＳＡ２００７（以上、三菱化学社製）、ビスコート＃１５０、＃１５５、＃１６０、＃１９０、＃１９２、＃１９５、＃２３０、＃２１５、＃２６０、＃２９５、＃３００、＃３３５ＨＰ、＃３６０、＃４００、＃５４０、＃７００、３Ｆ、３ＦＭ、４Ｆ、８Ｆ、８ＦＭ、２−ＭＴＡ、２−ＥＴＡ、Ｖ−ＭＴＧ、３ＰＡ、ＧＰＴ、ＨＥＡ、ＨＰＡ、４−ＨＢＡ、ＡＩＢ、ＩＯＡＡ、ＬＡ、ＳＴＡ、（以上、大阪有機化学工業社製）、ライトエステルＭ、Ｅ、ＮＢ、ＩＢ、ＥＨ、ＩＤ、Ｌ、Ｌ−７、ＴＤ、Ｌ−８、Ｓ、１３０ＭＡ、０４１ＭＡ、ＣＨ、ＴＨＦ、ＢＺ、ＰＯ、ＩＢ−Ｘ、ＨＯ、ＨＯＰ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＢ、ＤＭ、ＤＥ、ＨＯ−ＭＳ、ＥＧ、２ＥＧ、１．４ＢＧ、１．６ＨＸ、１．９ＮＤ、１．１０ＤＣ、ＴＭＰ、Ｇ−１０１Ｐ、Ｇ−２０１Ｐ、ＢＰ−２ＥＭ、ＢＰ−４ＥＭ、ＢＰ−６ＥＭ、ＭＴＧ、ＢＯ、ＢＣ、３ＥＧ、４ＥＧ、９ＥＧ、１４ＥＧ、ＮＰ、ＦＭ−１０８、Ｇ−２０１Ｐ、ライトアクリレートＩＯ−Ａ、ＨＯＢ−Ａ、ＴＭＰ−３ＥＯ−Ａ、ＦＡ−１０８、ＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、１３０Ａ、ＤＰＭ−Ａ、ＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、ＮＰ−４ＥＡ、ＮＰ−８ＥＡ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、Ｍ−６００Ａ、ＨＯＡ−ＭＳ、３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、１４ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、ＭＰＤ−Ａ、１．６ＨＸ−Ａ、ＢＥＰＧ−Ａ、１．９ＮＤ−Ａ、ＭＯＤ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ、ＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、ＢＰ−１０ＥＡ、ＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＢＡ−１０４、ＢＡ−１３４（以上、共栄社化学社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ
ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＣＡ−２０、−３０、−６０、−１２０（以上、日本化薬社製）、アロニックスＭ２０８、Ｍ２１０、Ｍ２１５、Ｍ２２０、Ｍ２４０、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２５、Ｍ４００、Ｍ１２００、Ｍ６１００、Ｍ６２００、Ｍ６２５０、Ｍ７１００、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０（以上、東亞合成社製）、ＮＫエステル＃４０１P、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ、ＮＫエステルＡ−ＣＭＰ−１Ｅ（以上、新中村化学工業社製）、ニューフロンティアＢＲ−３１（以上、第一工業製薬社製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０（以上、昭和高分子社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ８１、８３、６００、６２９、６４５、７４５、７５４、７６７、７０１、７５５、７０５、７７０、８００、８０５、８１０、８３０、４５０、１８３０、１８７０（以上、ダイセルＵＣＢ社製）、ビームセット５７５、５５１Ｂ、５０２Ｈ、１０２（以上、荒川化学社製）、アダマンテートＨＡ、ＨＭ（以上、出光興産社製）等が挙げられる。
【００３９】
（Ｃ）成分は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ｃ）成分の配合量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは５〜１００質量部、より好ましくは１０〜７０質量部、特に好ましくは１５〜５０質量部である。該量が５質量部未満であると、光導波路を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがあり、該量が１００質量部を超えると、（Ａ）成分との相溶性が悪くなり、硬化物の表面に膜荒れを生じることがある。
【００４０】
［（Ｄ）成分］
（Ｄ）成分は、エチレン性不飽和基を重合しうる活性種（ラジカル種）を光の照射によって発生することのできる光ラジカル重合開始剤である。
ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びＸ線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
【００４１】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ１１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ、ＴＰＯ−Ｌ（以上、ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
本発明の感光性樹脂組成物中の（Ｄ）成分の含有率は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％である。該含有率が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、該含有率が１０質量％を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
【００４２】
本発明においては、上述の光重合開始剤と共に光増感剤を配合することができる。光増感剤を併用すれば、光等のエネルギー線をより効果的に吸収することができる。
光増感剤としては、例えば、チオキサントン、ジエチルチオキサントン及びチオキサントンの誘導体；アントラキノン、ブロムアントラキノン及びアントラキノンの誘導体；アントラセン、ブロムアントラセン及びアントラセン誘導体；ペリレン及びペリレンの誘導体；キサントン、チオキサントン及びチオキサントンの誘導体；クマリン及びケトクマリン等を挙げることができる。光増感剤の種類は、光重合開始剤の種類に応じて選択すればよい。
【００４３】
本発明の樹脂組成物には、前記の（Ａ）〜（Ｄ）成分以外に必要に応じて、本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、分子中に１個の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂（例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー）等を配合することができる。
さらにまた、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。
【００４４】
ここで酸化防止剤としては、例えばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ａｎｔｉｇｅｎｅ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、スミライザー（住友化学工業社製）等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成社製）等が挙げられる。光安定剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、サノールＬＳ７７０（三共社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業社製）等が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、市販品として、ＳＨ６０６２、ＳＺ６０３０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業社製）等が挙げられる。塗面改良剤としては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤が挙げられ、市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウコーニング社製）、ＳＨ一２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業社製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー社製）等が挙げられる。
感光性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
【００４５】
以下、図面を参照しながら、本発明のドライフィルムについて説明する。図１は、本発明のドライフィルムの一例を模式的に示す断面図、図２は、本発明のドライフィルムを用いた光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
図１中、本発明のドライフィルム１は、ベースフィルム２と、感光性樹脂組成物層３と、カバーフィルム４とが、この順に積層してなるものである。
ベースフィルム２の材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。ベースフィルム２は、光の透過性の観点から透明なものが好ましい。
ベースフィルム２の厚さは、感光性樹脂組成物層３の支持体としての機械的強度、及び、材料コストの節減などの観点から、好ましくは５〜５００μｍ、より好ましくは１０〜３００μｍ、特に好ましくは１２〜１００μｍである。
ベースフィルム２は、必要に応じてドライフィルム１の使用時に感光性樹脂組成物層３の硬化物から容易に剥離しうるように、感光性樹脂組成物層３との接触面を表面処理しておくことができる。表面処理の方法としては、例えば、シリコーン系離型剤の塗布が挙げられる。
感光性樹脂組成物層３の厚さは、該組成物層３によって形成されるコア部分やクラッド層の厚さに対応するものであり、通常、１〜２００μｍである。
【００４６】
感光性樹脂組成物層３は、未硬化の感光性樹脂組成物である。感光性樹脂組成物層３は、ベースフィルム２上に、一定の厚さを有しかつ加圧により変形可能な塑性を有する層として形成されている。
カバーフィルム４は、必要に応じて設けられる部材である。したがって、本発明のドライフィルムは、ベースフィルムおよび感光性樹脂組成物層のみによって形成することもできる。
カバーフィルム４の材料の例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
カバーフィルム４の厚さは、特に限定されないが、通常、５〜１００μｍである。
カバーフィルム４は、必要に応じてドライフィルム１の使用時に感光性樹脂組成物層３の硬化物から容易に剥離しうるように、感光性樹脂組成物層３との接触面を表面処理しておくことができる。表面処理の方法としては、例えば、シリコーン系離型剤の塗布が挙げられる。
【００４７】
ベースフィルム２上に、感光性樹脂組成物層４を形成する方法としては、ベースフィルム２上に直接、感光性樹脂組成物を塗布する方法、又は、感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、又はインクジェット法等の方法を用いて塗布した後、乾燥機等を用いて溶剤を飛散させる方法が挙げられる。
この場合の有機溶剤としては、前記（Ａ）成分の共重合体の調製時に使用される有機溶剤を用いることができ、特に、沸点が８０〜１６０℃の範囲内であり、かつ、各成分を均一に溶解させうるものが好ましい。これら有機溶剤は、単独であるいは２種以上を混合して使用することができる。有機溶剤を飛散させるときの温度条件は、好ましくは３０〜１５０℃、より好ましくは５０〜１４０℃である。
有機溶剤の配合量は、前記の（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して、好ましくは、１０〜１５０質量部である。また、乾燥後に残留する有機溶剤の量は、有機溶剤を飛散させた後の感光性樹脂組成物と有機溶剤の合計量を１００質量部として、２０質量部以下であることが好ましい。
なお、本発明のドライフィルムにおいては、必要に応じて、ベースフィルム上に前記の感光性樹脂組成物層を２層以上、積層することもできる。
【００４８】
次に、図２を参照しつつ、本発明のドライフィルムを用いた光導波路の製造方法の一例を説明する。
本発明の光導波路３７の製造方法は、基板１０上に下部クラッド層１６を形成する工程（図２中の（ａ）〜（ｅ））と、コア部分２７を形成する工程（図２中の（ｆ）〜（ｉ））と、上部クラッド層３６を形成する工程（図２中の（ｊ）〜（ｍ））とを含む。
本発明においては、これらの３つの工程のうち、少なくとも、下部クラッド層１６を形成する工程、コア部分２７を形成する工程、および上部クラッド層３６を形成する工程のいずれか１つは、前記の感光性樹脂組成物層を有するドライフィルムを用いて、硬化物（下部クラッド層１６等）を形成する工程である。また、この場合、前記のドライフィルムを用いずに形成される他の部分（下部クラッド層１６、コア部分２７または上部クラッド層３６）は、液状の前記の（Ａ）〜（Ｄ）成分を含む感光性樹脂組成物によって形成されることが好ましい。
ただし、図２は、下部クラッド層１６、コア部分２７、上部クラッド層３６のすべてを、ドライフィルムを用いて形成させた場合の実施形態例を示す。
なお、下部クラッド層１６、コア部分２７、及び上部クラッド層３６の各部を形成するために調製される感光性樹脂組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物、及び上層用組成物と称する。また、下層用組成物、コア用組成物、及び上層用組成物から形成された感光性樹脂組成物層を有するドライフィルムを、各々、下層用ドライフィルム、コア用ドライフィルム、及び上層用ドライフィルムと称する。
【００４９】
（１）感光性樹脂組成物の調製及びドライフィルムの作製
下層用組成物、コア用組成物、及び上層用組成物の各々の成分組成は、下部クラッド層１６、コア部分２７及び上部クラッド層３６の各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような２種又は３種の感光性樹脂組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える感光性樹脂組成物をコア用組成物とし、他の感光性樹脂組成物を下層用組成物及び上層用組成物として用いる。
なお、下層用組成物と上層用組成物は、同一の感光性樹脂組成物であることが、経済上及び製造管理上、好ましい。
下層用組成物、コア用組成物、及び上層用組成物のうち少なくとも１つは、上述した方法によってベースフィルム上に塗布され、ドライフィルムの感光性組成物層として用いられる。すなわち、（ｉ）コア部分のみを前記のドライフィルムを用いて形成し、かつ、下部クラッド層及び上部クラッド層を液状の感光性樹脂組成物によって形成する方法、（ｉｉ）下部クラッド層およびコア部分をドライフィルムを用いて形成し、かつ、上部クラッド層を液状の感光性樹脂組成物によって形成する方法、（ｉｉｉ）下部クラッド層、コア部分、及び上部クラッド層をドライフィルムを用いて形成する方法、（ｉｖ）下部クラッド層及び上部クラッド層をドライフィルムを用いて形成し、かつ、コア部分を液状の感光性樹脂組成物によって形成する方法、等を採用することができる。
【００５０】
（２）基板の準備
まず、図２の（ａ）に示すように、平坦な上面を有する基板１０を用意する。基板１０の種類としては、特に限定されないが、例えば、シリコン基板、ガラス基板、ガラスエポキシ樹脂、ポリイミド基板等を用いることができる。
（３）下部クラッド層の形成工程
基板１０の上面に、下部クラッド層１６を形成する工程である。具体的には、図２の（ｂ）に示すように、下層用ドライフィルム１１（ベースフィルム１２、感光性樹脂組成物層１３、及びカバーフィルム１４からなるもの）を準備した後、下層用ドライフィルム１１からカバーフィルム１４を剥離し、次いで、基板１０の上面に、感光性樹脂組成物層１３の側を下方に向けた状態で、ベースフィルム１２と感光性樹脂組成物層１３とからなる積層体を積層させる（図２の（ｃ））。その後、必要に応じてプリベークして、下層用薄膜を形成する。この下層用薄膜に光（紫外線）１５を照射して硬化させ、基板１０上に、感光性樹脂組成物層１３の硬化物である下部クラッド層１６を形成させる（図２の（ｄ））。下部クラッド層１６の形成後、必要に応じて、加熱処理（ポストベーク）を行い、次いで、ベースフィルム１２を剥離して、基板１０上に下部クラッド層１６が形成されてなる積層体を得る（図２の（ｅ））。
ここで、ドライフィルム１１の積層方法（転写方法）としては、常圧熱ロール圧着法、真空熱ロール圧着法、真空熱プレス圧着法等の圧着手法を用いて、適当な熱と圧力を加えながら、基板１０上に転写する方法が挙げられる。
ベースフィルム１２と感光性樹脂組成物層１３とからなる積層体（図２の（ｃ））のプリベークは、硬化の促進と残存溶剤を除去する目的で、５０〜１５０℃の温度で行なわれる。
下部クラッド層１６を形成する際の光１５の照射量については、特に制限されるものでは無いが、波長２００〜３９０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ２の光を、照射量が１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して、露光することが好ましい。
照射する光１５の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。そして、光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。なお、下部クラッド層１６の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
露光後に、塗膜全面が十分硬化するように、さらに加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。この加熱条件は、感光性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃で、例えば５分間〜３時間の加熱条件とすれば良い。
なお、下部クラッド層の形成工程におけるプリベークの条件や、光の照射量、種類、及び光の照射装置等は、後述するコア部分の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においても同様である。
【００５１】
（４）コア部分の形成工程
下部クラッド層１６の上面に、コア部分２７を形成する工程である。具体的には、図２の（ｆ）に示すように、コア用ドライフィルム２１（ベースフィルム２２、感光性樹脂組成物層２３、及びカバーフィルム２４からなるもの）を準備した後、コア用ドライフィルム２１からカバーフィルム２４を剥離し、次いで、下部クラッド層１６の上面に、感光性樹脂組成物層２３の側を下方に向けた状態で、ベースフィルム２２と感光性樹脂組成物層２３とからなる積層体を積層させる（図２の（ｇ））。その後、必要に応じてプリベークして、コア用薄膜を形成する。
その後、このコア用薄膜の上面に対して、所定のパターン形成手段（例えば、所定のラインパターンを有するフォトマスク２６）を介して、光（紫外線）２５の照射を行う（図２の（ｈ））。その結果、コア用薄膜を構成する感光性樹脂組成物層２３において、光が照射された箇所のみが硬化し、それ以外の部分は未硬化のままとなる。その後、ベースフィルム２２を剥離し、未硬化の部分を現像処理して除去することにより、下部クラッド層１６上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分２７を形成することができる（図２の（ｉ））。
なお、プリベークや、光の照射等の条件は、下部クラッド層を形成する場合と同様である。
次いで、コア部分２７をさらに硬化させるために、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置により、例えば３０〜１５０℃の温度で５〜１８０分間ポストベークする。
【００５２】
図２の（ｈ）において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスクを用いる方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法が挙げられる。
ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用した、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とよりなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
ｃ．レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を走査させながら照射する方法。
このようにして所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対しては、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像処理することができる。したがって、パターン露光後、未硬化部分を除去するとともに、硬化部分を残存させることにより、結果として、コア部分２７を形成することができる。
【００５３】
現像処理に用いる現像液としては、有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の例としては、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
現像時間は、通常３０〜６００秒間である。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法等の公知の方法を採用することができる。現像後、そのまま風乾することによって、有機溶媒が除去されて、パターン状の薄膜が形成される。
【００５４】
（５）上部クラッド層の形成
下部クラッド層１６およびコア部分２７の上面に、上部クラッド層３６を形成し、光導波路３７を完成させる工程である。具体的には、図２の（ｊ）に示すように、上層用ドライフィルム３１（ベースフィルム３２、感光性樹脂組成物層３３、及びカバーフィルム３４からなるもの）を準備した後、上層用ドライフィルム３１からカバーフィルム３４を剥離し、次いで、下部クラッド層１６およびコア部分２７の上面に、感光性樹脂組成物層３３の側を下方に向けた状態で、ベースフィルム３２と感光性樹脂組成物層３３とからなる積層体を積層させる（図２の（ｋ））。その後、必要に応じてプリベークして、上層用薄膜を形成する。この上層用薄膜に光（紫外線）３５を照射して硬化させ、下部クラッド層１６およびコア部分２７の上に、感光性樹脂組成物層３３の硬化物である上部クラッド層３６を形成させる（図２の（ｌ））。下部クラッド層３６の形成後、必要に応じて、加熱処理（ポストベーク）を行い、次いで、ベースフィルム３２を剥離すれば、光導波路３７を得ることができる（図２の（ｍ））。
なお、プリベークや、光の照射や、ポストベーク等の条件は、下部クラッド層を形成する場合と同様である。
【００５５】
図２に示す方法におけるドライフィルム１１、２１、３１のいずれか１つまたは２つに代えて、本発明のドライフィルムに用いる感光性樹脂組成物と同様の成分組成を有する液状の感光性樹脂組成物を用いることもできる。
この場合、下層用組成物、コア用組成物、又は上層用組成物をスピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等のいずれかの方法を用いて塗布し、乾燥又はプリベークさせて薄膜を形成し、光を照射した後、必要に応じて、ポストベークすることが好ましい。
液状の感光性樹脂組成物を用いる場合、光の照射方法としては、波長２００〜４５０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ２の光を、照射量が１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して、露光することが好ましい。光の種類及び照射装置としては、上記の下部クラッド層の形成工程において例示されたものと同様のものが挙げられる。
液状の感光性樹脂組成物を用いる場合、上部及び下部クラッド層の形成工程におけるポストベークの条件は、感光性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃、より好ましくは８０〜１５０℃で、例えば５分間〜３時間の加熱時間とすればよい。また、コア部分の形成工程におけるポストベークの条件は、３０〜２００℃、より好ましくは５０〜１５０℃で５〜１８０分である。ポストベークすることにより、硬度及び耐熱性に優れた硬化物（下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層）を得ることができる。
【００５６】
図２の（ｍ）に示す光導波路３７は、フィルム状の光導波路（導波路フィルム）の一部の断面を示すものであり、基板１０上に固着されている下部クラッド層１６と、下部クラッド層１６の上面に形成された、特定の幅を有するコア部分２７と、コア部分２７及び下部クラッド層１６の上に積層して形成された上部クラッド層３６とから構成されている。なお、コア部分２７は、光導波路３７の外形を形成する下部クラッド層１６及び上部クラッド層３６の中に埋設されている。
下部クラッド層１６、コア部分２７、及び上部クラッド層３６の厚さは、特に限定されないが、例えば、下部クラッド層１６の厚さが１〜２００μｍ、コア部分２７の厚さが３〜２００μｍ、上部クラッド層３６の厚さ（上部クラッド層３６の上面とコア部分２７の上面の間の距離）が１〜２００μｍとなるように定められる。
コア部分２７の幅は、特に限定されないが、例えば、１〜２００μｍである。
コア部分２７の屈折率は、下部クラッド層１６及び上部クラッド層３６のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長４００〜１，６００ｎｍの光に対して、コア部分２７の屈折率が１．４２０〜１．６５０、下部クラッド層１６及び上部クラッド層３６の屈折率が１．４００〜１．６４８であり、かつ、コア部分２７の屈折率が、２つのクラッド層１６、３６のいずれの屈折率よりも少なくとも０．１％大きな値であることが好ましい。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
［１．材料の用意］
（Ａ）〜（Ｄ）成分として、以下の材料を用意した。
［（Ａ）成分］
調製例１
ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３ｇ、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１１５ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート３０ｇ、スチレン２５ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート２５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１３ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７ｇを温度が６０℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ａ−１を得た。
【００５８】
調製例２
ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル３ｇ、有機溶剤として乳酸エチル１５０ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、メタクリル酸２０ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート３０ｇ、スチレン２５ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート２５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート１０．５ｇ、テトラブチルアンモニウムブロマイド０．８ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．１ｇを添加し、８０℃で７時間攪拌することで、側鎖にアクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ａ−２を得た。
【００５９】
調製例３
ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１．５ｇ、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１１５ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート２５ｇ、メチルメタクリレート４０ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート１５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１２ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７ｇを温度が６０℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ａ−３を得た。
【００６０】
調製例４
ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１ｇ、有機溶剤として乳酸エチル１５０ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、メタクリル酸２０ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート２５ｇ、メチルメタクリレート３５ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート２０ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート３１．４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロマイド２．２ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．１ｇを添加し、８０℃で７時間攪拌することで、側鎖にアクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ａ−４を得た。
【００６１】
共重合体Ａ−１〜Ａ−４の製造に用いた前記の原料名及び配合量を、表１に示す。
【表１】
0005309992.tif 000010
【００６２】
［（Ｂ）成分］
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート１３．６質量部、数平均分子量が２，０００のポリプロピレングリコール８１．７質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０１質量部を仕込み、５〜１０℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０５質量部を加え、温度が３０℃以下に保たれるように調整しながら２時間撹拌した後、５０℃まで昇温しさらに２時間撹拌した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート４．７質量部（以上の合計量１００質量部）を滴下し、滴下終了後、５０〜７０℃で１時間反応させた。残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、化合物Ｂ−１を得た。
【００６３】
［（Ｃ）成分］
トリメチロールプロパントリアクリレート（０．１ＭＰａにおける沸点：３１５℃、大阪有機化学工業社製）
トリブロモフェノールエトキシアクリレート（融点：約５０℃、第一工業製薬社製、ニューフロンティアＢＲ−３１）
テトラフルオロプロピルアクリレート（沸点：１０６℃／２１ｋＰａ、大阪有機化学工業社製、ビスコート４Ｆ）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
［（Ｄ）成分］
光ラジカル重合開始剤（商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
［（Ｅ）成分（有機溶剤）］
乳酸エチル
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【００６４】
［２．ドライフィルムの作製］
表２に示す配合割合で、上述の（Ａ）成分（共重合体Ａ−１〜Ａ−４）、及び（Ｂ）〜（Ｅ）成分を混合して均一な溶液を得た。次いで、得られた溶液をベースフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルム（膜厚：５０μｍ）上にスピンコートにて塗布した後、１２０℃で１０分乾燥し、さらに乾燥後の塗膜の表面に、カバーフィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム（膜厚：２５μｍ）を常圧常温ロール圧着することによって、感光性樹脂組成物層の厚さが５０μｍのコア用ドライフィルムＪ−１〜Ｊ−４を得た。また同様の方法で下層用及び上層用のドライフィルムＪ−５〜Ｊ−１０を、それぞれ、感光性樹脂組成物層の厚さが２０μｍ及び７０μｍとなるように作製した。
【００６５】
【表２】
0005309992.tif 000011
【００６６】
［３．光導波路の形成］
［実施例１］
（ａ）下部クラッド層の形成
下層用ドライフィルムＪ−５（感光性樹脂組成物層の厚さ：２０μｍ）のカバーフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、シリコン基板の表面に、ラミネーターを用いてドライフィルムＪ−５を常温常圧熱ロール圧着法により転写した。次いで、ドライフィルムＪ−５からなる膜に、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１００秒間照射して、光硬化させた。硬化後、ベースフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、この硬化膜を１５０℃、１時間の条件でポストベークをすることにより、厚さ２０μｍの下部クラッド層を得た。
【００６７】
（ｂ）コア部分の形成
次に、カバーフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムを予め剥がしたコア用ドライフィルムＪ−１（感光性樹脂組成物層の厚さ：５０μｍ）を、下部クラッド層の上に、ラミネーターを用いて常温常圧熱ロール圧着法により転写し、その後、ドライフィルムＪ−１からなる膜に、幅５０μｍのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１００秒間照射して、膜を硬化させた。次いで、ベースフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がした後、感光性樹脂組成物層を部分的に硬化させてなる膜を有する基板を、アセトンからなる現像液中に浸漬して、膜の未露光部を溶解させた。その後、１５０℃、１時間の条件でポストベークを行い、幅５０μｍのライン状パターンを有するコア部分を形成した。
【００６８】
（ｃ）上部クラッド層の形成
次いで、コア部分を有する下部クラッド層の上面に、カバーフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムを予め剥がした上層用ドライフィルムＪ−５（感光性樹脂組成物層の厚さ：７０μｍ）を、常圧熱ロール圧着法（温度：８０℃）により転写した。その後、ドライフィルムＪ−５からなる膜に、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１００秒間照射し、ベースフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、厚さ７０μｍ（下部クラッド層の上面と上部クラッド層の上面の間の距離）の上部クラッド層を形成した。
【００６９】
［実施例２〜６、比較例１〜２］
ドライフィルムを表３のように変えた以外は実施例１と同様にして光導波路を形成した。
【００７０】
［４．光導波路の評価］
光導波路（実施例１〜６、比較例１〜２）を次のようにして評価した。
（１）光導波路の形状の精度
設計上のコア形状（高さ５０μｍ×ライン幅５０μｍ）に対して、実際に形成されたコア部分の高さ及び幅が共に、５０±５μｍの寸法を有する場合を「○」、それ以外の場合を「×」とした。
（２）導波路損失
光導波路について、波長８５０ｎｍの光を一端から入射させた。そして、他端から出射する光量を測定することにより、単位長さ当たりの導波路損失をカットバック法により求めた。導波路損失が０．５ｄＢ／ｃｍ以下の場合を「○」とし、０．５ｄＢ／ｃｍを超える場合を「×」とした。
（３）屈曲抵抗性
下部クラッド層の高さが２０μｍ、コア部分の高さが５０μｍ、コア部分の上面から上部クラッド層の上面までの高さが２０μｍとなるように作製された光導波路を、基板から剥離し、幅１ｃｍ、長さ１０ｃｍ、厚み９０μｍの導波路フィルムとした。この導波路フィルムを温度２３℃、湿度５０％の条件下で半径２ｍｍの金属棒に巻きつけた時に、クラック又は破断が発生しない場合を「○」とし、発生する場合を「×」とした。
【００７１】
以上の結果を表３に示す
【表３】
0005309992.tif 000012
【００７２】
表３から、本発明の特定の感光性樹脂組成物からなる層を有するドライフィルムを用いて形成した光導波路（実施例１〜６）は、コア部分の形状の精度が高く、光学特性が良好（導波路損失が小さい）であり、かつ、屈曲抵抗性が優れていることがわかる。一方、本発明に属さない感光性樹脂組成物からなる層を有するドライフィルムを、光導波路全体またはクラッド層の材料として用いて形成した光導波路（比較例１〜２）は、屈曲によってクラック又は破断が発生し、屈曲抵抗性に劣ることがわかる。
【符号の説明】
【００７３】
１    ドライフィルム
２    ベースフィルム
３    感光性樹脂組成物層
４    カバーフィルム
１０    基板
１１    下層用ドライフィルム
１２    ベースフィルム
１３    感光性樹脂組成物層
１４    カバーフィルム
１５    光（紫外線）
１６    下部クラッド層
２１    コア用ドライフィルム
２２    ベースフィルム
２３    感光性樹脂組成物層
２４    カバーフィルム
２５    光（紫外線）
２６    フォトマスク
２７    コア部分
３１    上層用ドライフィルム
３２    ベースフィルム
３３    感光性樹脂組成物層
３４    カバーフィルム
３５    光（紫外線）
３６    上部クラッド層
３７    光導波路
【図１】
0005309992.tif 000016
【図２】
0005309992.tif 000017