(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、
前記基材フィルム上に形成されたクラッド層と、
前記クラッド層上にクラッド部形成用光硬化性樹脂を塗布して形成された未硬化のクラッド部形成用組成物層とを有する光導波路用ドライフィルム。
【請求項２】
前記クラッド部形成用組成物層は、光硬化性樹脂層であることを特徴とする請求項１に記載の光導波路用ドライフィルム。
【請求項３】
光を伝播するコア部と、前記コア部の周りを囲むように配設されたクラッド部とを有する光導波路の製造方法であって、
第１の基材フィルムと、該第１の基材フィルム上に形成された第１のクラッド層と、該第１のクラッド層上に形成され前記第１のクラッド層よりも屈折率が高いコア部とを有する第１の積層フィルム、及び、
第２の基材フィルムと、該第２の基材フィルム上に形成された第２のクラッド層と、該第２のクラッド層上にクラッド部形成用光硬化性樹脂を塗布して形成されクラッド形成用の硬化性樹脂で構成される硬化性樹脂層とを有するドライフィルムよりなる第２の積層フィルムを、
前記第１の積層フィルムのコア部と前記第２の積層フィルムの硬化性樹脂層とが対向するように貼り合わせ、
前記硬化性樹脂層を硬化させることを特徴とする、光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記硬化性樹脂を硬化させるのに、前記基材フィルムを透過した光を用いることを特徴とする請求項３に記載の光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記クラッド層と前記コア部との比屈折率差は、１％以上であることを特徴とする、請求項３に記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記クラッド層と前記コア部とは、組成比を変化させた同じ構成物質で作成されることを特徴とする請求項３に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路用ドライフィルム及びそのドライフィルムを用いた光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチックなどの光硬化性樹脂を用いた光導波路は、他の材料を用いた光導波路と比較して、光を照射することによって硬化することから、温度変化によるコア部とクラッド部の歪みや、コア部の欠損等がおこることがない。また、光導波路が光硬化性樹脂であるので、プロセスを用いて複雑な光導波路の形成を容易に行うことができるという長所がある。これらのことから、低価格で高機能の光導波路部品への応用が期待され、検討が進められている。【０００３】
従来の光導波路の製造方法を図４Ａ〜図４Ｃに示す。まず、下部基材フィルム９１上に下部クラッド層９２を積層させた下部基板９３を準備する。下部基板９３上には、コア９４が設けられている。また、上部基材フィルム９５上に硬化性樹脂層９６を積層させた上部基板９７を準備する。その後、この下部基板９３の上から上部基板９７を押圧する。このとき、硬化性樹脂層９６は柔らかいために変形し、コア９４の周辺を囲むような形状に変化する。
その後に、光を照射することによって、硬化性樹脂層９６はクラッド層９８に変化する。このようにすることによって、コア９４の周りを囲むようにクラッド層９２、９８が形成された光導波路装置９０が形成される（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２００５−１１５０４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上部基板９７を下部基板９３の上から押圧する際に、フィルム自体がやわらかいものであるために、コア９４と上部基材フィルム９５との距離を一定にすることができない。コア９４の周辺のクラッド層の厚みが変化してしまうと、コア９４内を伝播する光学的特性に影響を及ぼすことになる。また、コア９４のクラッド層内での位置が決定されないために、この光導波路を実装するときの位置決めが困難になってしまう。本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、光導波路用ドライフィルム及びそのドライフィルムを用いた光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の形態に係る光導波路用ドライフィルムにおいては、基材フィルムと、前記基材フィルム上に形成され、硬化したクラッド層と、前記クラッド層上に形成され、未硬化のコア部形成用組成物層とを有するものである。本発明の第２の態様に係る光導波路用ドライフィルムにおいては、上述の光導波路用ドライフィルムであって、前記コア部形成用組成物層は、光硬化性樹脂層であることを特徴とするものである。【０００６】
本発明の第３の態様に係る光導波路用ドライフィルムにおいては、基材フィルムと、前記基材フィルム上に形成され、硬化したクラッド層と、前記クラッド層上に形成され、未硬化のクラッド部形成用組成物層とを有するものである。本発明の第４の態様に係る光導波路用ドライフィルムにおいては、上述の光導波路用ドライフィルムであって、前記クラッド部形成用組成物層は、光硬化性樹脂層であることを特徴とするものである。【０００７】
本発明の第５の態様に係る光導波路用ドライフィルムにおいては、上述の光導波路用ドライフィルムであって、前記基材フィルムは、前記硬化性樹脂を硬化させるための光を５０％以上透過させることを特徴とするものである。この基材フィルムを用いることによって、基材フィルムから光をドライフィルムに入射し、未硬化の硬化性樹脂を硬化させることができる。本発明の第６の態様に係る光導波路用ドライフィルムにおいては、上述の光導波路用ドライフィルムであって、さらに剥離フィルムを積層してなるものである。このようにすることによって、未硬化の層における扱いを容易にすることができる。【０００８】
本発明の第７の態様に係る光導波路の製造方法においては、光を伝播するコア部と、前記コア部の周りを囲むように配設されたクラッド部とを有する光導波路の製造方法であって、第１の基材フィルムと、該第１の基材フィルム上に形成された第１のクラッド層と、該第１のクラッド層の上に形成され、前記クラッド層よりも屈折率が高いコア部とを有する第１の積層フィルム、及び、第２の基材フィルムと、該第２の基材フィルム上に形成された第２のクラッド層とを有する第２の積層フィルムを、前記第１の積層フィルムの前記コア部と、前記第２の積層フィルムの前記第２のクラッド層とが対向するように、クラッド部形成用の硬化性樹脂層を介在させて貼り合わせ、前記第１の積層フィルムと前記第２の積層フィルムに挟持されたクラッド形成用の硬化性樹脂層を硬化させることを特徴とする光導波路の製造方法である。このようにすることによって、光導波路におけるクラッド層の厚みを均一にすることができる。【０００９】
本発明の第８の態様に係る光導波路の製造方法においては、光を伝播するコア部と、前記コア部の周りを囲むように配設されたクラッド部とを有する光導波路の製造方法であって、第１の基材フィルムと、該第１の基材フィルム上に形成された第１のクラッド層と、該第１のクラッド層上に形成され前記第１のクラッド層よりも屈折率が高いコア部とを有する第１の積層フィルム、及び、第２の基材フィルムと、該第２の基材フィルム上に形成された第２のクラッド層と、該第２のクラッド層上に形成されクラッド形成用の硬化性樹脂で構成される硬化性樹脂層とを有するドライフィルムよりなる第２の積層フィルムを、前記第１の積層フィルムのコア部と前記第２の積層フィルムの硬化性樹脂層とが対向するように貼り合わせ、前記硬化性樹脂層を硬化させることを特徴とする、光導波路の製造方法である。このようにすることによって、光導波路におけるクラッド層の厚みを一定にすることができる。【００１０】
本発明の第９の態様に係る光導波路の製造方法においては、上述の光導波路の製造方法であって、前記硬化性樹脂を硬化させるのに、前記基材フィルムを透過した光を用いることを特徴とする光導波路の製造方法である。このようにすることによって、基材フィルムから光を入射することで光硬化性樹脂を容易に硬化することができる。【００１１】
本発明の第１０の態様に係る光導波路の製造方法においては、上述の光導波路の製造方法であって、前記クラッド層と前記コア層との比屈折率差は、１％以上であることを特徴とする光導波路の製造方法である。このことによって、効率良く光を導波する光導波路を作成することができる。【００１２】
本発明の第１１の態様に係る光導波路の製造方法においては、前記クラッド層と前記コア層とは、組成比を変化させた同じ構成物質で作成されることを特徴とする光導波路の製造方法である。組成比を変化させた同じ構成物質で作成されることにより、コア部とクラッド層との接着性を良くすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る光導波路の製造方法によれば、コア部の周辺のクラッド層の厚みを一定にすることができる。このことによって、光導波路における光学特性を良くすることが可能となる。また、クラッド膜厚が均一なため、光学部品との位置あわせが容易であり、また、フィルム導波路としての屈曲耐久性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１Ａ】本発明における光導波路の下部基板の製造方法の第１工程を示す図である。
【図１Ｂ】本発明における光導波路の下部基板の製造方法の第２工程を示す図である。
【図１Ｃ】本発明における光導波路の下部基板の製造方法の第３工程を示す図である。
【図１Ｄ】本発明における光導波路の下部基板の製造方法の第４工程を示す図である。
【図１Ｅ】本発明における光導波路の下部基板の製造方法の第５工程を示す図である。
【図２Ａ】本発明における光導波路の上部基板の製造方法の第１工程を示す図である。
【図２Ｂ】本発明における光導波路の上部基板の製造方法の第２工程を示す図である。
【図２Ｃ】本発明における光導波路の上部基板の製造方法の第３工程を示す図である。
【図２Ｄ】本発明における光導波路の上部基板の製造方法の第４工程を示す図である。
【図３Ａ】本発明における光導波路の製造方法の第１工程を示す図である。
【図３Ｂ】本発明における光導波路の製造方法の第２工程を示す図である。
【図３Ｃ】本発明における光導波路の製造方法の第３工程を示す図である。
【図４Ａ】従来における光導波路の製造方法の第１工程を示す図である。
【図４Ｂ】従来における光導波路の製造方法の第２工程を示す図である。
【図４Ｃ】従来における光導波路の製造方法の第３工程を示す図である。
【符号の説明】
【００１５】
１０  下部基板部  １１  下部基材フィルム  １２  クラッド形成用光硬化樹脂層  １３  下部クラッド層  ２１  コア部形成用光硬化性樹脂層  ２２  コア部  ３０  上部基板部  ３１  上部基材フィルム  ３２  クラッド形成用光硬化樹脂層  ３３  上部クラッド層  ３４  クラッド形成用光硬化樹脂層  ３５  剥離フィルム  ３６  クラッド層  ９０  光導波路装置  ９１  下部基材フィルム  ９２  下部クラッド層  ９３  下部基板  ９４  コア  ９５  上部基材フィルム  ９６  硬化性樹脂層  ９７  上部基板  ９８  クラッド層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。この実施の形態は、本発明を、光導波路用ドライフィルム及びそのドライフィルムを用いた光導波路の製造方法に適用したものである。本実施の形態に係る光導波路の製造方法においては、予め硬化したクラッド層をコアの上下に形成し、そのクラッド層でコアを挟み込むようにすることによって、コア周辺部のクラッド層の厚みを均一化することができる。なお、本実施の形態においては、硬化性樹脂層として光硬化性樹脂層を用いた場合を例として説明している。【００１７】
光導波路用の硬化性組成物の例としては、エチレン性不飽和基等の重合性官能基を有する樹脂および／またはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、重合性モノマー、光重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。コア用の組成物は、前記エチレン性不飽和基等の重合性官能基を有する樹脂をアルカリ可溶性にすることで、組成物をアルカリ現像可能にすることができる。【００１８】
ここで、エチレン性不飽和基等の重合性官能基を有する樹脂は、例えば、カルボキシル基や水酸基を有するポリ（メタ）アクリレートに、グリシジル基とエチレン性不飽和基を含有する化合物、イソシアネート基とエチレン性不飽和基を含有する化合物、あるいはアクリル酸クロライドを付加反応させることにより得ることができる。このとき、アクリル酸やメタクリル酸を共重合させ、樹脂中にカルボキシル基を導入することでアルカリ現像が可能な樹脂とすることができる。また、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造や、ウレタン結合を繰り返し有する直鎖構造を含み、かつ、２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を使用することもできる。【００１９】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、ポリエステルポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレートの反応物である。
ポリオール化合物としては、分子内に２個以上の水酸基を有する化合物である。この様な化合物としては、芳香族ポリエーテルポリオール、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。中でも、基板と光導波路との更なる接着性の向上を図るためには、アルキレンオキシ構造を含むポリエーテルポリオール化合物を用いることが好ましい。
ポリイソシアネート化合物としては、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物である。
また、水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、分子内に水酸基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
本発明のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、ポリオール化合物０．５〜２モル、ポリイソシアネート化合物１〜２．５モルである。
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算値）は、好ましくは１，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜６０，０００、特に好ましくは５，０００〜３０，０００である。数平均分子量が１，０００未満であると、フィルム状の硬化物について充分な屈曲抵抗性を得ることが困難となる。また、数平均分子量が１００，０００を超えると、組成物の粘度が高くなり過ぎ、塗工性が悪化することがある。
また、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの製造方法として、例えば、以下の製法１〜４が挙げられる。
製法１：ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法２：ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法３：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法４：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法１〜４の中でも、製法２〜４が、分子量分布を制御する上で好ましい。【００２０】
ここで、重合性モノマーの例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングルコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングルコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングルコールジ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、及びこれらの化合物を製造する際の出発アルコール類のエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物のポリ（メタ）アクリレート類、分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート類、オリゴエーテル（メタ）アクリレート類、オリゴウレタン（メタ）アクリレート類、及びオリゴエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。【００２１】
光重合開始剤の例としては、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノン等が挙げられる。【００２２】
前記「エチレン性不飽和基等の重合性官能基を有する樹脂および／またはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、重合性モノマー、光重合開始剤等を含む組成物層」をフィルム上に形成する方法は、前記各成分を、メチルイソブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、トルエン、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の溶媒に溶解させた組成物を、ロールコート、グラビアコート、ダイコート等の方法でフィルムに塗布した後、溶媒を除去（乾燥）することで、感光性を有する組成物層を形成することができる。このとき、ドライフィルムとしての特性を損なわない範囲で、例えば５質量％程度の溶媒が残存していても構わない。【００２３】
また、上記光重合開始剤に替えて、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビス（４−メトキシ−２'−ジメチルバレロニトリル）、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート等、熱分解性ラジカル発生剤を使用することにより、熱硬化性組成物とすることもできる。【００２４】
本実施の形態に係る光導波路の製造方法における下部基板とコア部の製造方法を図１Ａ〜図１Ｅに示す。まず、図１Ａに示されるように、下部基材フィルム１１上に第１の光硬化性樹脂を溶媒に溶かした溶液を塗布する。そして、溶媒を蒸発させることによってクラッド形成用光硬化樹脂層１２を下部基材フィルム１１上に積層する。クラッド形成用光硬化樹脂層１２は、光が照射されることによって下部クラッド層１３に変化する。これで、下部基材フィルム１１上に下部クラッド層１３が積層された下部基板部１０が形成される（図１Ｂ参照）。【００２５】
下部基板部１０上には下部クラッド層１３よりも屈折率が高い層になるように調整された第２の光硬化性樹脂の溶液を塗布する。そして、溶媒を蒸発させることによってコア部形成用光硬化性樹脂層２１が積層される（図１Ｃ参照）。コア部形成用光硬化性樹脂層２１において、コア部となる位置以外の部分をマスクして光を照射することによって、コア部２２を形成する（図１Ｄ参照）。コア部２２以外の部分は、現像されることにより除去される。このようにしてコア部が形成される（図１Ｅ参照）。【００２６】
次に、本実施の形態に係る光導波路の製造方法における上部基板の製造方法を図２Ａ〜図２Ｄに示す。上部基材フィルム３１上に第１の光硬化性樹脂を溶媒に溶かした溶液を塗布する。そして、溶媒を蒸発させることによってクラッド形成用光硬化樹脂層３２を上部基材フィルム３１上に積層させる（図２Ａ参照）。クラッド形成用光硬化樹脂層３２は、光が照射されることによって上部クラッド層３３に変化する（図２Ｂ参照）。【００２７】
上部クラッド層３３上に再び第１の光硬化性樹脂層を溶媒に溶かした溶液を塗布する。そして、溶媒を蒸発させることによってクラッド形成用光硬化樹脂層３４を上部クラッド層３３上に積層する（図２Ｃ参照）。クラッド形成用光硬化樹脂層３４及び上部クラッド層３３を形成する組成物については、同一の組成物を用いても良いし、異なる組成物を用いても良い。このとき、クラッド形成用光硬化樹脂層３４は、上記コア部２２の高さに対して、１〜１．２倍の膜厚にするのが好ましい。クラッド形成用光硬化樹脂層３４の膜厚がコア部２２の高さより薄い場合は、その後の、コア部２２が形成された積層体との張り合わせのときに、下部クラッド層１３とクラッド形成用光硬化樹脂層３４の間に空隙を生じるおそれがあるためである。一方、クラッド形成用光硬化樹脂層３４の膜厚がコア部２２の高さの１．２を超えると、コア部２２が形成された積層体と貼り合わせる際の作業性が悪化するためである。クラッド形成用光硬化樹脂層３４上には、ドライフィルムとしてのハンドリングを容易にするための剥離フィルム３５を形成することもできる（図２Ｄ参照）。このようにして、上部基板部３０が形成される。【００２８】
次に、本実施の形態に係る光導波路の製造方法を図３Ａ〜図３Ｃに示す。上部基板部３０の状態においては、クラッド形成用光硬化樹脂層３４はまだ硬化されていない。そのため、クラッド形成用光硬化樹脂層３４は柔らかい状態になっている。そこで、図３Ａに示すように、下部基板部１０のコア部２２が形成されている側と、上部基板部３０のクラッド形成用光硬化樹脂層３４側とを貼り合わせる。このとき、クラッド形成用光硬化樹脂層３４上に剥離フィルム３５が形成されているときには、剥離フィルム３５を剥がす必要がある。【００２９】
上述のように貼り合わせることによって、クラッド形成用光硬化樹脂層３４は、図３Ｂに示すように、コア部２２の周りに位置するようになる。このとき、クラッド形成用光硬化樹脂層３４は、下部クラッド層１３上からはみ出る可能性があるが、このはみ出た部分は除去する。また、下部基板部１０と上部基板部３０とを貼り合わせるときには、コア部２２と上部クラッド層３３とが接触するように貼り合わせるようにする。その後、光を照射することによって、クラッド形成用光硬化樹脂層３４は硬化され、クラッド層３６に変化する（図３Ｃ参照）。【００３０】
このようにすることによって、クラッド形成用光硬化樹脂層３４は、硬化されている上部クラッド層３３と硬化されている下部クラッド層１３に挟まれることになり、また上部クラッド層３３と下部クラッド層１３とに狭持されたコア部２２はスペーサーとして機能する。つまり、上部基材フィルム３１と下部基材フィルム１１との間のクラッド層の厚みを一定にすることができる。さらに、コア部２２と上部基材フィルム３１との間隔とコア部２２と下部基材フィルム１１との間は、予め硬化されたクラッド層１３、３３であるので、コア部２２の上下に位置するクラッド層の厚みを均一にすることが可能となる。このことから、コア部２２の周辺におけるクラッド層の厚みを均一にすることができるために、コア部２２を伝播する光の光学特性を良化することが可能となる。【００３１】
また、下部基材フィルム１１又は上部基材フィルム３１は、上述の製造方法で用いている光硬化性樹脂を硬化させるための光を透過するものを用いると良い。これは、光硬化性樹脂を硬化させるための光を、基材フィルムを透過させることによって入射することができるようになるからである。このようにすることによって、光硬化性樹脂を容易に硬化させることができる。【００３２】
さらに、クラッド層１３、３３、３６とコア部２２との比屈折率差Δは、１％以上であることが好適である。この比屈折率差Δとは下式で表せる値である。
Δ＝（ｎ１−ｎ２）／ｎ１
ここで、ｎ１はコア部２２の屈折率、ｎ２はクラッド層１３、３３、３６の屈折率である。このようにすることによって、コア部２２内に光を閉じ込めることができるために、良好な光導波路を作成することが可能となる。【００３３】
さらにまた、コア部２２とクラッド層１３、３３、３６とを組成比を変化させた同じ構成物質で作成することが望ましい。これは、組成比を変化させた同じ構成物質で作成されることにより、コア部２２とクラッド層１３、３３、３６との接着性を良くすることができる。また、光硬化性樹脂を硬化させるための光に紫外光を用いるとよい。これは、紫外光を用いることによって、透明な基材フィルム及び樹脂を用いることができるからである。【００３４】
以上のような光導波路の製造方法においては、硬化された下部クラッド層１３と硬化された上部クラッド層３３との間にクラッド形成用光硬化樹脂層３４が位置することによって、コア部２２をクラッド形成用光硬化樹脂層３４によって囲むことができる。また、剥離フィルム３５をはがした上部基板部３０を、コア部２２が作成された下部基板部１０上に押圧するときには、硬化された上部クラッド層３３とコア部２２とが接触することによって、下部基材フィルム１１と上部基材フィルム３１との間の厚みが一意に決定されることになる。【００３５】
また、コア部２２の上部基材フィルム３１側の上部クラッド層３３の厚みも、下部基材フィルム１１側の下部クラッド層１３の厚みも、予め光硬化されているため、一定の厚みにすることが可能である。これらのことから、コア部２２のクラッド層の中における位置を均一にすることができる。そのため、光学部品との位置あわせが容易であり、また、フィルム導波路としての屈曲耐久性が向上する。【００３６】
なお、本発明は上述した実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることは勿論である。また、硬化性樹脂は、光硬化性樹脂のみに限られるものでなく、熱硬化性樹脂を用いてもよい。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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