(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームを発生させる電子銃及び電子銃電源と、
電子ビームの周回軌道を真空に保持する真空チャンバーと、
励磁コイルにより電子ビームに作用する磁場を発生させる電磁石と、
前記励磁コイルを駆動する電磁石電源と、
電子ビームの周回軌道上に設置され衝突してくる電子ビームとの相互作用によりＸ線を発生するターゲットとを備えるＸ線発生装置において、
前記電子銃及び前記電子銃電源は、電子を放出するカソードと、前記カソードに対して高電位で電子を加速するアノードと、前記アノードに電圧を印加する電源と、前記カソードから熱電子を放出させるカソード加熱手段とを含む二極管であり、
前記電子銃から出射される電子ビーム電流又は、電子ビームにより発生したＸ線の強度を測定し測定値を得るモニターと、前記モニターで測定した測定値に基づいて前記電子銃電源を制御するコントローラとを備え、
前記コントローラにより、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、Ｘ線強度を一定にするようにしたＸ線発生装置。
【請求項２】
発生する電子ビームは電子ビームパルスであり、発生する電子ビームパルスの周期を制御して電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御し、Ｘ線強度を一定にするようにした請求項１記載のＸ線発生装置。
【請求項３】
発生する電子ビームは電子ビームパルスであり、発生する電子ビームパルスのパルス列の発生時間幅を制御して電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御し、Ｘ線強度を一定にするようにした請求項１記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
発生する電子ビームは電子ビームパルスであり、発生する電子ビームパルスのパルス時間幅を制御して電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御し、Ｘ線強度を一定にするようにした請求項１記載のＸ線発生装置。
【請求項５】
電子ビームを発生させる電子銃及び電子銃電源と、
電子ビームの周回軌道を真空に保持する真空チャンバーと、
励磁コイルにより電子ビームに作用する磁場を発生させる電磁石と、
前記励磁コイルを駆動する電磁石電源と、
電子ビームの周回軌道上に設置され衝突してくる電子ビームとの相互作用によりＸ線を発生するターゲットとを備えるＸ線発生装置において、
前記電子銃及び前記電子銃電源は、電子を放出するカソードと、前記カソードに対して高電位で電子を加速するアノードと、前記アノードに電圧を印加する電源と、前記カソードから熱電子を放出させるカソード加熱手段とを含む二極管であり、
前記電子銃から出射される電子ビームにより発生したＸ線の単位時間当たりの平均強度を測定し測定値を得るモニターと、前記モニターで測定した測定値に基づいてＸ線発生時間を制御して所定のＸ線強度を得るようにしたＸ線発生装置。
【請求項６】
前記電子銃のカソードは、電子ビーム発生部分にＬａＢ６を付着させたことを特徴とするもの請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。
【請求項７】
前記電子銃のカソードは、電子ビーム発生部分の形状が凹面形状であることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加速器内で円形の軌道を描きながら周回する電子により、Ｘ線を発生させるＸ線発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
円形加速器を利用した従来のＸ線発生装置として、ベータトロン加速原理による加速装置（ベータトロン加速装置と略称する）を利用したものがある。例えば、非特許文献１に開示されている。ベータトロン加速装置を使用したＸ線発生装置を評価する重要な性能の一つに、発生できるＸ線強度があり、高いほど望ましい。ベータトロン加速装置の大きさを同じと仮定した場合に、Ｘ線強度を決定するパラメータとしては、電子銃からのビーム発生量、加速器へのビーム入射効率、加速器におけるビーム生存率、ターゲットに照射されＸ線を発生する電子ビームの割合であるビーム利用効率、発生したＸ線を外部に取り出して利用する割合であるＸ線取出効率がある。中でも電子銃からのビーム発生量と加速器へのビーム入射効率はその他の効率に係らずＸ線発生量のベースを決めるパラメータであり最も重要である。
【０００３】
従来のベータトロン加速装置における電子銃は、非特許文献１にあるようにKerst型電子銃が用いられている。これは、高温加熱のためのフィラメントを兼ねたカソードと、カソードの直近に設置されたグリッド電極と、最外に設置されカソードからの電子ビームを加速するアノード電極から構成されている。
【０００４】
【非特許文献１】「実験物理学講座２８  加速器」，初版３刷，共立出版株式会社，１９８８年９月１０日，ｐ．５４７−５６４
【特許文献１】特開２００４−２９６３０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
電子銃からのビーム発生量はカソード面積を同じとすれば、高温であるほど多くなる。これに対して、従来装置の電子銃では、Ｘ線強度を安定させるためにビーム電流を一定に保つ必要があり、グリッド電極によりビーム電流を制限する構成となっている。この構成では、取り出されるビーム電流値はグリッドを設けない場合に比べて少なくなる方向に制御されるので、二極管の場合に比較して電子銃からのビーム電流が小さくなるという問題がある。
また、その他の例として、特許文献１に示されるような電子銃も提案されているが、これも、上記文献と同様、ビーム電流安定化のためにグリッドを用いており、二極管の場合に比較して電子銃からのビーム電流が小さくなるという問題がある。
【０００６】
電子銃からのビームを加速器に入射させると、ビームは概ね円軌道で周回し加速されていくが、このとき周回ビームが電子銃を構成する構造体、特に、アノードに衝突してしまうことで入射損失となる。実際は、1周回後のビーム軌道が出来るだけ内側軌道をとりアノードに衝突しないよう磁場を制御しているが、電子銃構造においてもカソードとアノードの距離を出来るだけ接近させる設計にしなければならない。
【０００７】
これに対して従来装置の電子銃では、アノードとカソードの間にグリッドがあり、グリッドの電位はアノードとカソード間電位差に比較すると、カソード電位に近い値に設定される。従って、グリッドとアノードの間が高電位差となるため、グリッドとアノード間の距離を十分にとる必要がある。これに、グリッドとカソード間の距離が加算されるので、二極管の場合に比較して、カソードとアノード間が広くなって入射ビームがアノードで損失となる割合が多くなる結果、入射効率が低くなるという問題がある。このように、従来のＸ線発生装置では、電子銃のビーム性能を最大限利用することができなかったので、発生できるＸ線量が少ないという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記のような問題点を解消するためになされたもので、Ｘ線強度安定性において、高強度のＸ線を発生するＸ線発生装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係わるＸ線発生装置は、電子ビームを発生させる電子銃及び電子銃電源と、電子ビームの周回軌道を真空に保持する真空チャンバーと、励磁コイルにより電子ビームに作用する磁場を発生させる電磁石と、前記励磁コイルを駆動する電磁石電源と、電子ビームの周回軌道上に設置され衝突してくる電子ビームとの相互作用によりＸ線を発生するターゲットとを備えるＸ線発生装置において、前記電子銃及び前記電子銃電源は、電子を放出するカソードと、前記カソードに対して高電位で電子を加速するアノードと、前記アノードに電圧を印加する電源と、前記カソードから熱電子を放出させるカソード加熱手段とを含む二極管であり、前記電子銃から出射される電子ビーム電流又は、電子ビームにより発生したＸ線の強度を測定し測定値を得るモニターと、前記モニターで測定した測定値に基づいて前記電子銃電源を制御するコントローラとを備え、前記コントローラにより、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、Ｘ線強度を一定にするようにしたものである。
【００１０】
また、本発明に係わるＸ線発生装置は、電子ビームを発生させる電子銃及び電子銃電源と、電子ビームの周回軌道を真空に保持する真空チャンバーと、励磁コイルにより電子ビームに作用する磁場を発生させる電磁石と、前記励磁コイルを駆動する電磁石電源と、
電子ビームの周回軌道上に設置され衝突してくる電子ビームとの相互作用によりＸ線を発生するターゲットとを備えるＸ線発生装置において、前記電子銃及び前記電子銃電源は、電子を放出するカソードと、前記カソードに対して高電位で電子を加速するアノードと、前記アノードに電圧を印加する電源と、前記カソードから熱電子を放出させるカソード加熱手段とを含む二極管であり、前記電子銃から出射される電子ビームにより発生したＸ線の単位時間当たりの平均強度を測定し測定値を得るモニターと、前記モニターで測定した測定値に基づいてＸ線発生時間を制御して所定のＸ線強度を得るようにしたものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のＸ線発生装置によれば、電子銃として、カソードとアノードを有し、カソードから放出される電流をコントロールするグリッド電極を含んでいない二極管を使用して、電子ビーム電流の増大と電子ビーム入射効率の増大を実現するとともに、二極管の欠点である電子ビーム電流値の不安定に対しては、電子ビーム電流又は、電子ビームにより発生したＸ線の強度を測定し測定値を得るモニターを設け、この測定値が一定になるように、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、Ｘ線強度を安定化させて、高強度のＸ線を発生するＸ線発生装置を得ることができる。
【００１２】
また、本発明のＸ線発生装置によれば、電子銃として、カソードとアノードを有し、カソードから放出される電流をコントロールするグリッド電極を含んでいない二極管を使用して、電子ビーム電流の増大と電子ビーム入射効率の増大を実現するとともに、二極管の欠点である電子ビーム電流値の不安定に対しては、前記電子銃から出射される電子ビームにより発生したＸ線の単位時間当たりの平均強度を測定し測定値を得、測定した測定値に基づいてＸ線発生時間を制御して所定のＸ線強度を得ることができ、Ｘ線強度を安定化させて、高強度のＸ線を発生するＸ線発生装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
実施の形態１．
図１は本発明の実施の形態１における電子線誘導加速器を使用したＸ線発生装置を示す構成図である。図２は実施の形態１におけるＸ線発生装置の電磁石部の構成を示す図である。Ｘ線発生装置は、図１及び図２に示すように、電子ビーム１を発生させる電子銃２及び電子銃電源３（パルス電源、ヒータ電源）と、電子ビーム１の周回軌道を真空に保つ真空チャンバー４、電子ビーム１に作用する磁場を発生させる電磁石５、電磁石５を励磁する主励磁コイル６、電磁石５を励磁して電子ビーム１の軌道を制御する制御コイル７、電磁石５のヨーク１３、主励磁コイル６及ぶ制御コイル７を駆動する電磁石電源８、電子ビーム１の周回軌道上に設置され衝突してくる電子ビーム１との相互作用によりＸ線１２を発生するターゲット９、発生したＸ線１２の強度を測定するＸ線モニター１０、測定したＸ線強度に基づいて電子銃電源３を制御するコントローラ１１により構成されている。
【００１４】
図３は実施の形態１における電子銃部の構成を示す図である。図４は実施の形態１における電子銃電源３の構成を示す図である。電子銃２及び電子銃電源３は、電子を放出する箇所に酸化物２３を塗布したカソード２１と、電子を加速するときはカソード２１に対して高電位になるアノード２２、そのアノード２２に高電圧を印加する高圧電源２５を有しパルス電圧を印加するパルス電源３１、カソード２１から熱電子放出させるためにこれを加熱するヒータ２４、安定化回路１４を有するヒータ電源３２を含み、電子銃２はカソード２１から放出される電流をコントロールする、いわゆるグリッド電極は含んでいない二極管電子銃である。
【００１５】
カソード２１はタングステンもしくはモリブデン等の高融点金属で本体を作成し、その一部に塗布された酸化物は電子放出に適した低仕事関数の材料を使用していおり、例えば、ＢａＯ，ＳｒＯである。コントローラ（制御器）１１はＸ線モニタ１０で検出されるＸ線強度の入力に反比例的に変化するアナログ電圧信号もしくはデジタル信号を発生させる電子回路からなり、この信号は電子銃電源３におけるパルス電源３１に入力されている。
【００１６】
図４で、１５はコンデンサ、１６は高電圧ＦＥＴスイッチでダイオード１８を有している。１７は抵抗である。カソード２１のヒータ２４はヒータ電源３２で加熱されており、カソード２１から電子ビームを放出できる状態にしてある。コンデンサ１５は高圧電源２５で充電されており、コントローラ１１の制御信号により、高電圧ＦＥＴスイッチ１６がＴＴＬ制御されてＯＮされると、マイナスの高電圧がカソード２１側に印加される。つまり、カソード２１に対してアノード２２が高電圧になり、電子ビームがアノード２２側に加速されて電子ビールが出射される。コントローラ１１の制御信号により、高電圧ＦＥＴスイッチ１６がＴＴＬ制御されてＯＦＦされると、カソード２１側の電荷は抵抗１７を通って流れ、カソード２１側のマイナスの高電圧は解消する。なお、カソード側２１に流れる電流は、ヒータ電源３２による定電流と、高圧電源２５の印加時（ＯＮ時）の電流と、高圧電源２５のＯＦＦ時の電流（ＯＮ時電流の逆向きの電流）であり、これらより電子ビーム電流を測定することができる。
【００１７】
次に動作について説明する。図５は実施の形態１における電子の軌道を説明する模式図である。Ｘ線１２は、電子銃カソード２１からの電子ビーム１が真空チャンバー４内を周回後、ターゲット９に衝突して発生する。電子銃２のカソード２１がヒータ電源３２により昇温され、熱電子のエネルギーが材料の仕事関数を越え始めると、熱電子放出が始まるが、カソード２１に本体材質より低仕事関数の酸化物２３を塗布しているので、酸化物２３の部分からだけ熱電子が放出される。放出された熱電子は、アノードに印加されたパルス電圧により加速され、アノード２２に設けた空隙を通過して電子銃２から出射され電子ビーム１となる。
【００１８】
次に電子ビーム１は電磁石５により発生する磁場の作用により加速されると共に真空チャンバー４内を周回するが、出射直後のタイミングでは電磁石電源８により周回軌道径が小さくなるように制御して電子ビーム１がアノード２２に衝突する損失を抑えるように制御する。その後、ビーム加速を継続し、所定のビームエネルギーまで加速した後、ターゲット９に衝突するタイミングで再び周回軌道径を小さくするように制御して、軌道の内側部分に設けられたターゲット９に衝突させる。この結果、ビームエネルギー及びターゲット９に衝突する電子ビーム電流量に応じた電磁波であるＸ線１２が発生する。
【００１９】
これを、真空チャンバー４に設けたＸ線取り出し窓から取り出して、Ｘ線撮像等に使用する。取り出されたＸ線の一部をＸ線モニター１０に取り込み、Ｘ線強度の変化を測定する。この測定結果はコントローラ１１に入力され、Ｘ線強度が所定の値より増大している場合には、反比例的に変化するアナログ電圧信号を発生させ、電子銃電源３のパルス電源３１に対して高電圧ＦＥＴスイッチ１６をＯＮ・ＯＦＦし、電子ビームパルス発生周期を長くし、逆の場合は短くするフィードバック制御を行う。これにより、１回数秒のＸ線照射におけるＸ線照射量が一定に保たれ安定化される。
【００２０】
また、電子銃から出射される電子ビームにより発生したＸ線の単位時間当たりの平均強度をＸ線モニター１０で測定し測定値を得、この測定値に基づいてコントローラ１１でＸ線発生時間を制御して所定のＸ線強度を得るようにしてもよい。Ｘ線発生時間は、高電圧ＦＥＴスイッチ１６の所定ＯＮ・ＯＦＦ制御の継続時間で制御する。
【００２１】
図６は実施の形態１における繰返し周波数ｆが１５００Ｈｚと１０００Ｈｚの場合のパルス列の比較を示す図である。ｔは時間を示す。１５００Ｈｚのほうが、単位時間当たりのパルス数が多くなり、従って、発生X線量が多くなる。これにより、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御してＸ線強度を一定にする。
【００２２】
次にビーム電流を多く取れる理由を説明する。実施の形態１では以上のような構成と動作により、電子銃２の性能を最大限に利用することができる。電子銃カソード２１から放出される電子の電流値は一般に次の式で与えられる。
Ｊ = Ａ Ｔ２ exp(−φ／（ｋＴ）)
ここで、Ｊは電流密度、Tは絶対温度、ｋはボルツマンの定数、φは仕事関数である。いま、仮にカソード材料から決まる最高温度Ｔ＝１２７３Ｋ、
酸化物陰極の仕事関数φ＝１．６[ｅＶ]、係数Ａ＝１５[Ａ／（ｃｍ２Ｋ２）]とすると、
Ｊ ＝ １１．３[Ａ／ｃｍ２]＝ ０．１１３[Ａ／ｍｍ２]
と計算される。
【００２３】
この温度で、この材料で得られる電流密度はこの値が上限となり、飽和電流密度と呼ばれる。これに対して、従来例にあるようなグリッドを使用して空間電荷制限領域で使用する電子銃では、電界の値によって電流量を制御するために、図１１に示す領域Ｉ以上の空間電荷制限領域ＩＩのグリッド電圧[Ｖ]を印加して使用しているので、飽和電流密度（カソード温度Ｔ１，Ｔ２の飽和電流密度、即ち陽極電流[Ａ]）より低い電流密度しか得られないが、この実施の形態の電子銃では、グリッドがなく、飽和電流密度一杯まで電流を利用でき、従来より大きい電流密度が得られる。別の観点からは、従来と同じ電流密度設定ならば、より電子銃を小型化することができる。なお、図１１は従来のＸ線発生装置の電子銃のグリッドの動作を示す説明図である。
【００２４】
電子銃２からの電子ビーム１を加速器に入射後、その一部がアノード２２に衝突して入射損失となるが、これはカソード２１とアノード２２の間隔を最接近させた設計にすることにより、最小限に抑えることができる。この実施の形態では、従来装置における三極管にあるグリッド電極がないので、カソード・アノード間隔はカソード・アノード間電圧に対する放電耐電圧ぎりぎりまで接近させることができるので、従来より入射損失を低減することができ、入射効率を高めることができる。
【００２５】
この実施の形態の二極管構造電子銃では、上記のような効果が得られるが、一方で、微妙な温度変化等の影響によりビーム電流値が変動するという問題がある。これに対して、Ｘ線発生装置の場合、最終的に必要なのは１回数秒程度の照射の間のＸ線照射強度の積分値、すなわちＸ線照射量を一定に制御すれば良いことに着目し、実施の形態１では、ビーム電流制御よりも簡便な手段として、電子ビームパルスの発生周期を制御してＸ線照射量を一定に制御するようにしている。
【００２６】
以上のように、この実施の形態によれば、Ｘ線照射量の安定性を維持しながら、電子銃からの電子ビーム電流を増大させ、加速器に対する電子ビーム入射効率も向上させ、発生Ｘ線量を増大させることができたので、これを医療検診や非破壊検査等に使用すれば、撮像時間を短縮することができ、患者に対する負担の軽減や、製品検査のスループットを向上できるという効果がある。
【００２７】
なお、実施の形態１では、カソード過熱のためにヒータ及びヒータ電源を使用しているが、カソードそのものに通電し過熱してもよい。また、カソードに対して電子衝撃を与えるなど、他の加熱手段を使用しても同様の効果が得られる。
さらに、実施の形態１では、電子ビームにより発生したＸ線の強度を測定し測定値を得ているが、前記電子銃から出射される電子ビーム電流を測定し測定値を得て、その測定値に基づいて電子銃電源を制御するコントローラとを備え、前記コントローラにより、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、Ｘ線強度を一定にするようにしてもよい。
【００２８】
実施の形態２．
実施の形態２のＸ線発生装置は、概ね実施の形態１の構成と同様であるが、コントローラ１１からの信号が入力される電子銃電源３は制御用の入力信号に基づいて、発生する電子ビームパルスの周期を変化させるのではなく、パルス周期は一定で、パルス列を発生させる時間幅を変化させるものである。パルス幅は通常数マイクロ秒程度で、これを１回の照射時間が数ｍｓ〜数秒の間に、数ｋＨｚから数十ｋＨｚのパルス列として発生させている。従って、この１回の照射時間を制御することで、Ｘ線照射量を所定の値に制御することができる。図７は実施の形態２におけるパルスの繰返し周波数を１０００Ｈｚに一定とした場合に、照射時間幅ｗを８ｍｓと４ｍｓにしたときのパルス波形を示す図である。照射時間幅に比例して単位時間あたりのパルス数が増加し、従って、X線発生量が多くなる。
【００２９】
実施の形態２では、パルス列発生時間幅ｗでＸ線強度の安定化を図っており、つまり電子ビーム発生パルスの単位時間あたりの平均電流を制御しているので、実施の形態１のパルス周期制御に比べて回路構成が単純化し、低コスト化できるという効果がある。
【００３０】
実施の形態３． 
実施の形態３のＸ線発生装置は、概ね実施の形態２の構成と同様であるが、電子銃電源の動作が、発生する電子ビームパルスのパルス時間幅を制御している点が異なっている。Ｘ線照射量の制御は、１回の照射時間幅を制御して行う点も実施の形態２と同様である。図８は実施の形態３における照射時間幅に対応して、電子銃電圧を変化させた波形を示す図である。照射時間幅を変化させると、単位時間当たりのX線量を変化させることが出来、制御することができる。
【００３１】
実施の形態３では、モニターで測定した測定値により、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、つまり、発生する電子ビームパルスのパルス時間幅を制御してＸ線強度を一定にするようにしたので、より大電流の電子ビームが得られ、大強度のＸ線発生装置が得られるという効果がある。
【００３２】
実施の形態４．
実施の形態４のＸ線発生装置は、概ね、実施の形態１の構成と同様であるが、カソード２１本体に酸化物を塗布するのではなく、他の低仕事関数の材料２３を組み込む構成としている。図９は実施の形態４における他の低仕事関数の材料を組み込んだ場合の構造の一例を示す図で、（ａ）はカソード２１の側面図、（ｂ）はカソード２１の正面図ある。組み込む材料は、ＬａＢ６等の電子ビーム加工機等に使用されるものを使用する。動作も実施の形態１と同様であるが、実施の形態４の効果は、酸化物塗布の場合は、電子銃を一度真空中にいれてエージング等の処理を行った後は、大気中に戻しての修理、再生が出来なかったが、実の形態４では、大気中に戻して修理、再利用することが出来るので、装置のランニングコスト低減の効果がある。
【００３３】
実施の形態５．
実施の形態５のＸ線発生装置は、概ね、実施の形態１の構成と同様であるが、カソード２１本体の、酸化物２３塗布部もしくは低仕事関数材料２３組み込み部表面の、電子ビーム取り出し位置の構造を、凹面形状としたことが特徴である。図１０は実施の形態５におけるカソード構造を示す断面図である。動作もほぼ実施の形態１と同様であるが、凹面構造としたことにより、出射直後の電子ビームの軌道を収束する働きがあるので、図１０に示すようにビームの発散をおさえ、真空チャンバー等に衝突する損失を低減することができる。この結果、高Ｘ線強度のＸ線発生装置が得られるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態１における電子線誘導加速器を使用したＸ線発生装置を示す構成図である。
【図２】実施の形態１におけるＸ線発生装置の電磁石部の構成を示す図である。
【図３】実施の形態１における電子銃部の構成を示す図である。
【図４】実施の形態１における電子銃電源の構成を示す図である。
【図５】実施の形態１における電子の軌道を説明する模式図である。
【図６】実施の形態１における繰返し周波数ｆが１５００Ｈｚと１０００Ｈｚの場合のパルス列の比較を示す図である。
【図７】実施の形態２におけるパルスの繰返し周波数を１０００Ｈｚに一定とした場合に、照射時間幅ｗを８ｍｓと４ｍｓにしたときのパルス波形を示す図である。
【図８】実施の形態３における照射時間幅に対応して、電子銃電圧を変化させた波形を示す図である。
【図９】実施の形態４における他の低仕事関数の材料を組み込んだ場合の構造を示す図で、（ａ）はカソードの側面図、（ｂ）はカソードの正面図ある。
【図１０】実施の形態５におけるカソード構造を示す断面図である。
【図１１】従来のＸ線発生装置の電子銃のグリッドの動作を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  電子ビーム                          ２  電子銃
３  電子銃電源                          ４  真空チャンバー
５  電磁石                              ６  主励磁コイル
７  制御コイル                          ８  電磁石電源
９  ターゲット                        １０  Ｘ線モニター
１１  コントローラ                      １２  Ｘ線
１３  ヨーク                            １４  安定化回路
１５  コンデンサ                        １６  高電圧ＦＥＴスイッチ
１７  抵抗                              １８  ダイオード
２１  カソード                          ２２  アノード
２３  酸化物                            ２４  ヒータ
２５  高圧電源                          ３１  パルス電源
３２  ヒータ電源
【図１】
0005183115.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
0005183115.tif 000012