(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つまたは２つの整数倍個の流体運搬空間（４，２５）と該流体運搬空間（４，２５）に属するダイアフラム（３，２４）と、該ダイアフラム（３，２４）によって前記流体運搬空間（４，２５）から仕切られたダイアフラム制御空間（５，２３）を有する第１ダイアフラムポンプヘッド（２）と、
該第１ダイアフラムポンプヘッド（２）を駆動するための第２ダイアフラムポンプヘッド（８）であって、該第２ダイアフラムポンプヘッド（８）は、２つの付加的流体運搬空間（１０，１９）及び２つの関連付けられた付加的ダイアフラム（９，１８）を有していると共に、結合されたダイアフラム制御空間（１１，１７）を介して、前記第２ダイアフラムポンプヘッド（８）内に位置決めされた複動ピストン（１５）により駆動され得るものであり、
前記第１ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間（５，２３）と、前記第２ダイアフラムポンプヘッドの付加的流体運搬空間（１０，１９）とが液圧式結合しており、
前記第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間（１１，１７）のそれぞれに詰め替えバルブ（３８，４０）が接続され、該詰め替えバルブ（３８，４０）を使用する際に、前記第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間（１１，１７）に、前記ダイアフラムの位置によって制御される詰め替え工程の間、大気圧より大きいが系の圧力（ｐ１＋ｄｐ）よりも小さいダイアフラム制御圧（ｐ２）が一時的に加えられ、
前記第１ダイアフラムポンプヘッド（２）のダイアフラム制御空間（５，２３）内に、前記ダイアフラム（３，２４）の破損を検知するための伝導度センサまたは粘性センサ（２９，３０）が設けられている、
ことを特徴とするポンプ装置（１）。
【請求項２】
前記ダイアフラム制御圧（ｐ２）が、前記第１ダイアフラムポンプヘッド（２）の前記流体運搬空間（４，２５）の入り口（６，２６）の流体圧（ｐ１）にほぼ相当することを特徴とする請求項１に記載のポンプ装置（１）。
【請求項３】
前記ダイアフラム制御圧（ｐ２）が、関連付けられたセンサとアクチュエータとを有する制御回路により前記流体圧（ｐ１）に適応され得ることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のポンプ装置（１）。
【請求項４】
前記ダイアフラム制御圧（ｐ２）が、前記第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間（１１，１７）用の容器（３７，３９）と結合したポンプ（５０）により発生され、各容器（３７，３９）が前記詰め替えバルブ（３８，４０）の１つを有し、前記ポンプ（５０）により静止よどみ圧を加えられることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項５】
前記ダイアフラム制御圧（ｐ２）が、前記第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間（１１，１７）用の容器（３７，３９）と結合した圧力アキュムレータに圧力を供給する制御可能なポンプ（５０）により発生されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項６】
前記第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間（１１，１７）用にそれぞれ１つの容器（３７，３９）が設けられ、調整可能な絞り装置が、各容器（３７，３９）から下流で接続されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項７】
前記ピストン（１５）が、断面積が同じで対向しているピストンロッド（３３，３５）を有する複動円板ピストン（３１）として形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項８】
前記第１ダイアフラムポンプヘッド（２）の前記ダイアフラム（３，２４）が、それぞれ自由振動する金属ダイアフラム（３，２４）であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項９】
前記第２ダイアフラムポンプヘッド（８）の前記付加的ダイアフラム（９，１８）が、プラスチックから形成されていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項１０】
前記第２ダイアフラムポンプヘッドの前記付加的ダイアフラム（９，１８）がそれぞれ多層に形成され、位置制御部と破損信号発生部とが設けられていることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【請求項１１】
前記第１ダイアフラムポンプヘッド（２）と前記第２ダイアフラムポンプヘッド（８）との間の液圧式結合が、水または油を有する制御流体により行われることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載のポンプ装置（１）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は第１ダイアフラムポンプヘッドと、それに液圧式に結合された第２ダイアフラムポンプヘッドとを有するポンプ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
２００ｂａｒ以上の高圧と３００℃以上の高温における固体成分（懸濁）の多い粘着性の媒体の運搬若しくは再循環には、ピストンポンプを使うことができる。しかしながらピストンポンプは、この種の用途には限定的な場合にしか適していない。なぜなら、固体成分が比較的短時間でピストンの付属シール（associated seals）を破壊し、ピストン表面上でのスコアリング（scoring）を生じるからである。
【０００３】
これらの困難に取り組む可能性の１つは、ダイアフラムポンプを使うことである。上記圧力における運搬を実現するためには、液圧式駆動ダイアフラムを有する構造だけが使用され得る。他方、ダイアフラムポンプは相当な設計上、材料技術上の投入（outlay）をしてのみ、全温度範囲におけるより安全かつ支障のない作動用に構想され得る。
【０００４】
例えばＰＴＦＥからなるプラスチックダイアフラムの使用は、上記高圧と高温においてプラスチックがかなりの量流れ始めるため、不可能である。金属ダイアフラムの使用は原理的には可能であるが、破損信号発生部（fracture signaling）を備えた多層ダイアフラム、及び位置制御を備えた製品空間内を自由振動するダイアフラムとしての構成といった技術的諸要求は多大な努力を払わないと実現できないものである特許文献１参照）。
【０００５】
高温負荷対策としては今まで、いわゆるリモートバルブヘッドを有するポンプが使用されてきた。かような構造においては、ダイアフラムポンプは上流側の脈動部（pulsator）として動作し、冷却ゾーンとして作用する管路を介して運搬される流体に支援されてポンプの下流側のリモートバルブヘッド内の動作弁を駆動している。これにより、当該ダイアフラムポンプは約１５０℃までの条件的に厳しくない低温度範囲において作動できるようになる。しかし、被運搬流体に存在し得る固体成分が、上流側の脈動ポンプとリモートバルブヘッドとの間の管路を塞ぐ場合があり、それにより運搬効果が劣化されることが欠点である。
【０００６】
被運搬流体の高い圧力は更なる問題を生む。振動変位ポンプ（oscillating displacement pumps）のピストンロッドの力は圧力と面積の積により生じるのであるが、特定の場合には、非常に大きいポンプ駆動アセンブリの使用を必要とする。これは必要とされる用途にとって２つの観点から不経済であろう。第１に多大な投資費用、及び第２に多大なライフサイクルコストが重畳して発生し、とりわけエネルギーコストと、損耗部品及び交換部品の費用が突出するであろう。上述したような境界条件を有する、再循環用ポンプシステムの経済的考察は、特にバイオごみからエネルギー回収する方法において多大なる意義を有する。
【特許文献１】欧州特許出願公開第００８５７２５号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の課題は、２００ｂａｒ以上の高圧と３００℃以上の高温における固体成分の多い粘着性の媒体を確実かつ有利なコストで運搬できるポンプ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は独立請求項１の諸特徴により解決される。本発明の好適な実施形態は下位請求項に記載される。
【０００９】
本発明のポンプ装置は、２つまたは２つの整数倍個の流体運搬空間と該流体運搬空間に属するダイアフラムとを有する第１ダイアフラムポンプヘッドであって、該第１ダイアフラムポンプヘッドの駆動用第２ポンプヘッドと液圧式結合された第１ダイアフラムポンプヘッドを備えたポンプ装置において、前記第２ポンプヘッドが、２つの付加的流体運搬空間及び関連付けられた（associated）付加的ダイアフラムを有していると共に、関連付けられたダイアフラム制御空間を介して、複動ピストンにより駆動され得るものであり、前記ダイアフラム制御空間のそれぞれに詰め替えバルブが接続され、該詰め替えバルブを使用する際に、前記ダイアフラム制御空間に、大気圧より大きいダイアフラム圧が一時的に加えられることを特徴とするものである。
【００１０】
かようなポンプ装置はメリットがある。なぜなら、詰め替えバルブが制御流体の不可避な漏れを補償するためにダイアフラム制御空間を制御流体で詰め替える時点で、ダイアフラム制御空間内における、例えば位置制御されたダイアフラムでは今までは通常短時間の圧力降下が、大気圧より大きい重畳したダイアフラム制御圧により、大気圧にまで制限され得るからである。
【００１１】
本発明のポンプ装置を使用することにより、ピストンの運動が随時点において先行技術における解決より少ない力で可能になるため、吐出圧力が第２ダイアフラムポンプヘッドの各ダイアフラム制御空間内に交互に導かれ、そこから流体を、第１ダイアフラムポンプヘッドを通して移送するために、第１ダイアフラムポンプヘッドへ導かれ得る。流体運搬用の第１ダイアフラムポンプヘッド内の全圧は比較的高いかもしれないが、ピストンに及ぼされた比較的小さい力と、それにより発生した圧力差でポンプ工程を行うことが可能である。それにより、ピストンがあたかも圧力上昇を第１ダイアフラムポンプヘッド内で直接果たすかのような状況が発生する。本発明のポンプ装置により、従来技術よりもずっと小さい力で済むように設計され得る駆動アセンブリによりピストン駆動ができるため、第１ダイアフラムポンプヘッド内における高圧、高温下での運搬を著しく低廉に行うことができる。
【００１２】
ダイアフラム制御圧が第１ダイアフラムポンプヘッドの流体運搬空間の入り口における流体圧にほぼ相当するようにポンプ装置が形成されていると好適である。それにより第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間内の上記短時間圧力降下がほぼ完全に補償できる。第２ダイアフラムポンプヘッドのピストンの複動構成と組み合わせれば、結果としてピストン用駆動アセンブリが、第１ダイアフラムポンプヘッドの流体運搬空間の入口と出口の間の圧力差にほぼ相当する力を発生するように設計すればよいこととなる。
【００１３】
本発明のポンプ装置でダイアフラム制御圧が関連付けられたセンサとアクチュエータを有する制御回路により流体圧に適応されると好適である。これはとりわけ電子制御回路において、上記圧力降下の最適に同調された補償を可能とし、よって駆動アセンブリに不利な反作用を与え得る圧力サージを防止できる。
【００１４】
ダイアフラム制御圧はダイアフラム制御空間用のそれぞれ１個の容器と結合したポンプにより発生できるが、その際各容器が詰め替えバルブの１つを有し、各容器にポンプにより静止よどみ圧を加えられる。かような実施形態においては、ポンプは常時稼動される。
【００１５】
他の実施形態では、ダイアフラム制御圧は、ダイアフラム制御空間用のそれぞれ１つの容器と結合した圧力アキュムレータにフィードする制御可能なポンプにより生成され得る。この場合容器は詰め替え貯蔵部としての役自を果たす。この実施形態では、ポンプは圧力アキュムレータ内の所定下限圧を下回るときにのみ稼動することが可能である。するとポンプは、圧力アキュムレータ内に再び上限圧が到達されるまで作動する（２点調整）。
【００１６】
なお、第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間用にそれぞれ１つの容器を制御流体の詰め替えバルブとして設けることが可能であり、その際、各容器に調整可能な絞り装置が後接続されている。この場合、ポンプは常に稼動され得るため、制御流体の連続的再循環が結果として生じる。
【００１７】
ポンプ装置の構造とその作動モードは、ピストンが複動円板ピストンとして対向ピストンロッドを有するように形成されていると、比較的対称的である。この場合、ピストン面は円板ピストンの両面において同一の大きさであるため、吸い上げ行程または加圧行程においてそれぞれ同じ圧力変化及び同じ液量変位が発生する。
【００１８】
第１ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラムがそれぞれ自由振動する金属ダイアフラムであると、材料が金属であることから高温下では流体が移送され得る。第１ダイアフラムポンプヘッドと第２ダイアフラムポンプヘッドが管を介して制御流体と結合しているため、これらの管は冷却ゾーンとして作用できる。それにより、この好適な実施形態では第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラムはプラスチック、とりわけＰＴＦＥから形成できるため、これらのプラスチックダイアフラムが過度の高温のために顕著な流れを示す恐れはない。
【００１９】
第２ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラムがそれぞれ多層に形成され、位置制御と破損信号発生部を有していると、流体運搬時の安全性を高めることができる。第１ダイアフラムポンプヘッドのダイアフラム制御空間内に伝導度または粘性センサが設けられていると、より安全性が高まる。第１ダイアフラムポンプヘッド内の金属ダイアフラムが破れることがあるようならば、被搬送流体は隣接するダイアフラム制御空間に到達する可能性があるため、運搬流体と制御流体の混合が起こり得る。かような混合は混合物の電気伝導度または粘度を、制御流体の値と比較して変更し得るため、金属ダイアフラムの破損はセンサで検出される。
【００２０】
第１ダイアフラムポンプヘッドと第２ダイアフラムポンプヘッドの間の液圧式結合は水と油を有する制御流体により行うことができる。油としては、高温下で流体搬送用にポンプ装置を使用するときは、例えば特殊熱伝達オイルを使用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下本発明を図面の実施例を参照して詳述する。
【００２２】
図１に第１ダイアフラムポンプヘッド２と第２ダイアフラムポンプヘッド８とを有するポンプ装置１を示す。第１ダイアフラムポンプヘッド２は、第１流体運搬空間４を第１ダイアフラム制御空間５と分ける第１ダイアフラム３を有する。第１流体運搬空間４により運搬すべき流体は、流体圧ｐ１を有する（矢印７参照）供給管６０により、吸上げ弁６１を有する入口開口６へ供給される。流体は第１流体運搬空間４による第１ダイアフラム３の隆起時に、流体運搬空間４の端部の送り出し弁６２へ移送され得る。ダイアフラム３の隆起は第１ダイアフラム制御空間５の圧力供給により行われる。そこにｄｐ分高い圧力が供給されると、送り出し弁６２における圧力はｐ１＋ｄｐであり、それにより流体は排出管６３へ移送される。
【００２３】
圧力ｐ１＋ｄｐは、第２ダイアフラムポンプヘッド８の第１管１３により供給される。第２ダイアフラムポンプヘッド８は第２ダイアフラム９を有し、それは第２流体運搬空間１０を第２ダイアフラム制御空間１１から分ける。第２流体運搬空間１０は、第１制御流体１２により第１ダイアフラム制御空間５と結合している。第２ダイアフラム９の隆起においては、この第１制御流体１２は、第１管１３により第１ダイアフラム制御空間５に導かれるため、第１ダイアフラム３が隆起する。第１制御流体１２のかような変位はピストン１５により達成され、これは図１に示された実施形態においては下方へ向けられた動きをする。第２ダイアフラム制御空間１１にある第２制御流体１４は、関連付けられた下部ピストン空間３２内における体積変化の担体媒体としての役目を果たす。第２ダイアフラム制御空間１１はピストン１５の円板ピストン３１まで延びるので、下部ピストン空間３２は第２ダイアフラム制御空間１１の一部である。
【００２４】
図１に示された実施形態では、下を向いている方向への円板ピストン３１の動きは、第１ピストンロッド３３によるポンプ駆動アセンブリ５１により引き起こされる。円板ピストン３１には第１ピストンロッド３３に対向して第２ピストンロッド３５が設けられている。それにより円板ピストン３１は対称的に構成されているので、円板ピストン３１の対向両端面に同じ面が存在する。この結果、下部ピストン空間３２内へのピストンストロークの際に、対向している上部ピストン空間３４内へのピストンストロークの際と同量の圧力変化及び体積変化が達成される。
【００２５】
上部ピストン空間３４は、第３ダイアフラム１８により第３流体運搬空間１９から分けられた第３ダイアフラム制御空間１７の一部である。円板ピストン３１の下方へ向けられたストローク運動の際には、上部ピストン空間３４の体積が大きくなるため、第３ダイアフラム１８が収縮または圧縮される。第３ダイアフラム制御空間１７内の第３制御流体１６は、伝達媒体（transmission medium）として使用される。
【００２６】
圧力ｐ１で第１流体運搬空間４に導かれた流体の移送は、圧力ｐ１＋ｄｐが管１３を介して第１ダイアフラム制御空間５に伝達された場合に達成される。従って、第２流体運搬空間１０においてもこの圧力ｐ１＋ｄｐが存在している。これは、第２ダイアフラム制御空間１１内においてかような圧力が蓄積する場合にのみ可能である。先行技術によって目的を達成する際には、通常、駆動アセンブリが、この全圧ｐ１＋ｄｐを１つまたは２つの単動するプランジャのピストンに加える。これに対して、本発明による実施形態においては、これはもはや不要である。この目的のために、図１から明らかなように、圧力ｐ１はダイアフラム３及び２４、制御流体１２及び２１、ダイアフラム９及び１８、並びに制御流体１４及び１６を介して、吸上げ行程を実行するピストン空間３２若しくは３４に交互に伝達される。制御流体１４及び１６の不可避な漏れが、ダイアフラム位置制御により作動される詰め替えバルブ３８及び４０により補償された場合、特定のダイアフラム制御空間内において、原理的に生じる短時間の大気圧までの圧力降下が生じる。本発明のポンプ装置では、ダイアフラム制御空間１１及び１７内に存在する圧力に圧力ｐ２が重畳するため、圧力降下の補償がされ得る。
【００２７】
第２ダイアフラムポンプヘッドのピストンが複動ピストンとして構成され、圧力ｐ２がほぼｐ１に等しいと、ポンプ駆動アセンブリ５１ではかような力がピストンロッド３３に加えられるだけでよいから、ピストン１５は差圧ｄｐだけを発生する。例えばｐ１＝２５０ｂａｒであると、差圧ｄｐ＝２０ｂａｒで第１流体搬送空間４を通る流体の移送が達成できる。それにより、ポンプ駆動アセンブリ５１はもはやｐ１＋ｄｐ＝２７０ｂａｒ用に設計しなくても、２０ｂａｒ用にのみ設計すればよい。これにより、経済的にずっと有利な流体運搬が可能となる。
【００２８】
圧力ｐ２は、ポンプ５０により供給管３６を介して容器３７，３９に供給される。ダイアフラム位置により制御される詰め替え工程の場合は、圧力ｐ２がダイアフラム制御空間１１，１７に送られる。過剰な制御流体は空気逃し弁４２若しくは４４を介して容器４１若しくは４３内に排出され、復帰ライン５３により制御流体貯蔵部５２内へ導かれる。
【００２９】
円板ピストン３１の下方へ向けられたストロークを行う際に、上部ピストン空間３４は拡大されるため、第３ダイアフラム１８が圧縮される。それにより、第４制御流体２１及び第２管２２を介して第４ダイアフラム制御空間２３と結合した、第３流体運搬空間１９の体積も拡大する。図１に示された実施形態においては、第４ダイアフラム制御空間２３は第１ダイアフラム制御ヘッド２内にあり、第４ダイアフラム２４により第４流体運搬空間２５から隔てられている。これは第１ダイアフラム３、第１流体運搬空間４及び第１ダイアフラム制御空間５を有する構成に鏡像的な（mirror symmetric）構成である。第３流体運搬空間１９が拡大すると、第４流体運搬空間２５の体積も増すため、吸込弁６４による入口開口２６を介した吸上げ、若しくは流体供給が行われる。円板ピストンが上に向けられた行程で移動すると、上記諸関係が逆転する。すると、第４流体運搬空間２５が、第１流体運搬空間４が充填される間、空気逃し弁６５により出口開口２８を通して排出管６３内に流体を搬送する。
【００３０】
第１ダイアフラム３及び第４ダイアフラム２４は自由振動金属ダイアフラムである。多層構成とダイアフラム位置制御は省略可能である。金属ダイアフラムの破損が起きたか否かのチェックは伝導度または粘度センサ２９若しくは３０により間接的に行うことができる。例えばダイアフラム３の破損時には、第１流体搬送空間４と第１ダイアフラム制御空間５内の流体とが混合することとなるため、電気伝導度または粘度が変更する。これはセンサ２９若しくは３０で検出できる。
【００３１】
第２ダイアフラムポンプヘッド８内のポンプ装置において例えば第３ダイアフラム１８が円板ピストン３１の吸上げ行程中圧縮され、その結果後方装置に到達するときは、上記のように、第３ダイアフラム制御空間１７内の圧力が大気圧まで、若しくは、大気圧以下にまで降下しかねない。これは、この場合ピストン１５の明らかなせん断力の増加が衝撃的に行われ、ポンプ駆動アセンブリに多大な負担がかかるため望ましくない。これは本発明のポンプ装置ではｐ１にほぼ相当するｐ２で容器３７，３９により永久圧力（permanent pressure）をかけることにより回避できる。
【００３２】
他の好適な実施形態では（図１では図示されず）第２ダイアフラムポンプヘッド８は、特許文献１に開示されているように第２ダイアフラム９及び第３ダイアフラム１８のそれぞれ用に別個のダイアフラム位置制御を有する。特定の詰め替えバルブ３８及び４０が、ばね支承された制御プランジャにより置き換えられ、この制御プランジャは、周囲面に回し込んだ円錐面と制御プランジャに作用的に連結されている保持ロッドを備えている。この保持ロッドは、ばね支承された詰め替えバルブを解放またはブロックしている。ばね支承された支持プレートは、制御プランジャに作用的に連結され、且つ、特定のダイアフラム１８若しくは９の方向へ抜け落ちないように固定されていると共に、この支持プレートには、特定の制御流体１６若しくは１４用の貫通穴が設けられており、ダイアフラム制御空間１７または１１それぞれの領域内に位置決めされている。制御流体１６若しくは１４が喪失すると、ダイアフラム１８若しくは９の、ダイアフラム制御空間１７若しくは１１の方向へ向かう最終位置が変位するため、支持プレートが、支持プレートを支持するバネ力及びプランジャを支持するバネに抗して動かされる。従って、支持プレートの動きが制御プランジャを動かすため、その円錐周囲部分が保持ロッドを解放し、その際これが例えば重力が原因で制御プランジャ直軸の方向へ落下させる。代替的に、例えばバネで保持ロッドを制御プランジャの方向へ強制することもできる。その結果、詰め替えバルブが保持ロッドにより解放されるので、特定のダイアフラム制御空間１７若しくは１１に存在している部分的な真空状態により、詰め替えバルブがそれを支持するバネ力に反して開けられ、制御流体１６若しくは１４がダイアフラム制御空間１７若しくは１１内に流入できる。再び正常な制御圧がダイアフラム制御空間１７若しくは１１に発生し次第、該当のダイアフラム１８若しくは９のその前は変位していた最終位置が正しい最終位置に戻り、それにより再び支持プレートを解放し、それが制御プランジャを解放し、それにより保持ロッドを再びロック位置に押し戻し、それにより弁がブロックされ、当該弁はまたそれを支持するバネによる圧力補償により再び閉鎖される。
【００３３】
更に本発明の他の実施形態においては、複動ピストン１５を第２ダイアフラムポンプヘッド８の外部に設けることが可能である。その際、円板ピストン３１とピストンロッド３３，３５を有するピストン１５は、ダイアフラムポンプヘッド８から分離した制御流体を通さないハウジングに設けられ、それがピストン１５を収容するピストン空間３２，３４及び制御流体１６，１４用のたわみ管または据え付け管を包含する。これらの管はそれぞれのピストン空間３２，３４をダイアフラム制御空間１６，１１と結合する。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明のポンプ装置の実施形態の説明図である。
【符号の説明】
【００３５】
１    ポンプ装置
２    第１ダイアフラムポンプヘッド
３    第１ダイアフラム
４    第１流体運搬空間
５    第１ダイアフラム制御空間 
６   入口開口
８    第２ダイアフラムポンプヘッド
９    第２ダイアフラム
１０  第２流体運搬空間
１２  第１制御流体
１３  第１管
１４  第２制御流体
１５  ピストン
１６  第３ダイアフラム制御流体
１７  第３ダイアフラム制御空間
１８  第３ダイアフラム
１９  第３流体運搬空間
２１  制御流体
２２  第２管
２３  第４ダイアフラム制御空間
２４  第４ダイアフラム
２５  第４流体運搬空間
２６  入口開口
２８  出口開口
２９，３０  伝導度センサまたは粘度センサ
３１  円板ピストン
３２  下部ピストン空間
３３  第１ピストンロッド
３４  上部ピストン空間
３５  第２ピストンロッド
３６  供給管
３７，３９  容器
３８，４０  詰め替えバルブ
４１，４３  容器
４２，４４  空気逃し弁
５０  ポンプ
５１  ポンプ駆動アセンブリ
５２  制御流体貯蔵部
５３  復帰ライン
６０  供給管
６１  吸上げ弁
６２  送り出し弁
６３  排出管
６４  吸込弁
６５  空気逃し弁
ｐ１，ｐ２ 圧力
ｄｐ 差圧
【図１】
0005221085.tif 000002