(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高エネルギ放射線のビーム束の特性を取得および調整するための方法であって、プラズマから放射された放射線が、光軸に沿った収束ビーム束として、集光光学系によって焦点に導かれ、かつ前記焦点に関連する出射孔の後の遠視野面にて、前記光軸に沿った対称的で均一なビーム束として供給される、方法において、
−  前記放射線の強度分布が、前記出射孔（１７）の前で前記光軸（１３）に垂直な測定面（１５２）における前記収束ビーム束（１５）の断面にわたって取得されるステップと、
−  強度値が、前記光軸（１３）と同心の異なる半径を備えて整列された、測定装置（２）の複数の受信領域（２５）用に記録されるステップと、
−  座標系（２６）の座標原点が前記光軸（１３）によって貫通され、かつセクタ（２５１）が前記測定面（１５２）用に座標軸（２６１、２６２）によって画定されるようなやり方で設定される前記座標系（２６）に前記受信領域（２５）が割り当てられるステップと、
−  前記座標系（２６）に対して異なる測定位置用に、前記測定面（１５２）にて選択された２つのそれぞれ異なる受信領域（２５）の前記強度値が比較されるステップと、
−  測定量が、前記測定面（１５２）にて定義された、前記座標系（２６）に対する複数の強度値比較に基づいて生成されるステップと、
−  前記測定量が、前記集光光学系（１４）の調整装置（４）用の制御変数に変換されるステップと、
−  前記集光光学系（１４）が、決定された制御変数に基づいて整列されるステップと、
を特徴とする方法。
【請求項２】
前記収束ビーム（１５）の前記強度分布が、前記断面にわたってほぼ対称的で均一に前記光軸（１３）に対して整列されるように、強度値の測定および比較、測定量および制御変数の決定、ならびにそれらの、前記集光光学系（１４）を整列させるための適用が、選択された特定の許容値より目標値からの前記測定量の偏差が小さくなるまで繰り返されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光軸（１３）からの距離に対して前記強度分布を測定量として表すために、前記光軸（１３）と同心に整列された前記受信領域（２５）または受信領域グループ（２５）から取得された前記強度値が互いに比較されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記光軸（１３）と同心に整列された受信領域（２５）のセクタ（２５１）からのそれぞれの強度値であって、これらのセクタ（２５１）が、面積において等しく、かつ前記座標系（２６）のそれぞれの座標軸（２６１、２６２）に対して互いにミラー対称である強度値が、互いに比較され、そこから非対称係数が、前記それぞれの座標軸（２６１、２６２）に対して比較される前記強度値の和に基づいて、測定量として計算されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
測定量の第１の計算が、同心受信領域（２５）におけるミラー対称的に画定されたセクタ（２５１）からの強度値を比較することによって実行された後に、前記座標系（２６）が、決められた角度だけ前記光軸（１３）を中心に回転され、測定量の第２の計算が、このように変更された軸位置におけるミラー対称的に画定されたセクタ（２５１）からの強度値を比較することによって実行されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
第１および第２の座標軸（２６１、２６２）が前記測定面（１５２）にて互いに直角に選択され、かつ第３の座標軸（２６３）が常に前記光軸（１３）に沿って整列されるデカルト座標系（２６）が、座標系（２６）として選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記集光光学系（１４）の或る構造（１４２）によってのみ反射される放射線が、別個の強度値として前記受信領域にて取得されるように、前記受信領域が、円リング（２５）として、量および半径に関して選択されることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
前記強度値が、デカルト座標系（２６）の座標軸（２６１、２６２）によって細分される円リングセクタ（２５１）にて、円リング（２５）として形成された受信領域内でそれぞれ取得されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記測定量が、円リング（２５）のミラー対称的に画定されたセクタ（２５１）における比較された強度値の和に基づいて、非対称係数の形で計算され、かつ前記非対称係数が、前記測定面（１５２）にて考慮される各座標軸（２６１、２６２）に対して前記目標値ゼロから偏差する所定の許容値未満である場合に、前記集光光学系（１４）の整列が終了されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
高エネルギ放射線のビーム束の特性を取得および調整するための機構であって、プラズマから拡散的に放射された放射線が、収束ビーム束として、集光光学系により光軸に沿って放射線源ユニット内の焦点にて束ねられ、かつ前記放射線源ユニットの前記焦点に関連付けられた出射孔に続くアプリケーション装置に結合され、前記ビーム束の対称性および均一性に関して定義された特性が、遠視野面にて前記光軸に沿った前記焦点後に必要とされる、機構において、
−  前記放射線の強度分布の取得用の測定面（１５２）が、前記出射孔（１７）の前における前記放射線源ユニット（１）内で前記収束ビーム束（１５）における前記光軸（１３）に垂直に配置されていること、
−  測定装置（２）が、前記放射線の前記強度分布の空間分解記録用に設けられ、この測定装置（２）が、前記光軸（１３）と同心の異なる半径を備えて配置された複数の受信領域（２５）を有し、かつ前記収束ビーム束（１５）における前記測定面（１５２）内で前記強度分布を一時的に取得できるようにする手段である少なくとも１つの可動部（２１；２２）を有すること、
−  前記強度分布の空間分解記録用に前記測定装置（２）に接続された制御ユニット（３）であって、前記測定面（１５２）における前記受信領域（２５）の同心配置のために座標系（２６）を画定するための手段と、前記受信領域（２５）から取得された強度値間の比較に基づいて測定量を生成するための、および前記集光光学系（１４）を整列させるために前記測定量を制御変数に変換するための手段と、を有する制御ユニット（３）が設けられていること、および
−  前記それぞれの測定量が、所定の許容値を超えて目標量から偏差する限りにおいて、前記制御ユニット（３）により供給される制御変数によって前記集光光学系（１４）を全ての自由度で操作できるように、前記制御ユニット（３）に接続された調整装置（４）が、前記集光光学系（１４）に配置されていること、
を特徴とする機構。
【請求項１１】
前記集光光学系（１４）が、前記集光光学系（１４）の前後軸（１４１）を中心に回転対称に配置される複数のシェル（１４２）であって、前記測定装置（２）の別々の受信領域（２５）がそれぞれ割り当てられる複数のシェル（１４２）を有し、その結果、前記それぞれの受信領域（２５）が、シェル（１４２）にて反射される放射線の各事例に対し、位置およびサイズに関して合わせて変えられることを特徴とする、請求項１０に記載の機構。
【請求項１２】
前記測定装置（２）が、同心に連続するように配置された円リング（２５）であって、強度値の取得のために、前記座標系（２６）の前記座標軸（２６１、２６２）によって少なくとも４つの円リングセクタ（２５１）に分割される円リング（２５）の形態をした受信領域を有することを特徴とする、請求項１０に記載の機構。
【請求項１３】
前記強度値を取得するための前記測定装置（２）が、前記測定面（１５２）へ移動できる少なくとも１つのスクリーン（２１）と、前記スクリーン（２１）上に伝送された前記強度分布の二次元画像の空間分解捕捉用の堅固に装着されたカメラ（２３）と、を有することを特徴とする、請求項１０に記載の機構。
【請求項１４】
前記スクリーン（２１）が、前記放射線源（１１）により放射され前記集光光学系（１４）により束ねられる高エネルギ放射線を可視光に変換するルミネッセントスクリーン（２１）であり、前記カメラ（２３）が、可視光に反応する従来のカメラであることを特徴とする、請求項１３に記載の機構。
【請求項１５】
前記測定装置（２）が、前記測定面（１５２）にて前記スクリーン（２１）に対して斜めに向けられ、かつ既知のシャインプルーフ（Scheimpflug）の条件に従って対物レンズ／センサ調整を備えて構成されるカメラ（２３）を有することを特徴とする、請求項１４に記載の機構。
【請求項１６】
前記測定装置（２）が、前記スクリーン（２１）の下流側に配置され、かつ前記スクリーン（２１）とともに移動可能で、かつ前記スクリーン（２１）によって伝送された前記強度分布を前記カメラ（２３）へ偏向させる偏向ミラー（２２）を有することを特徴とする、請求項１４に記載の機構。
【請求項１７】
前記測定装置（２）が、前記スクリーン（２１）の下流側に配置されたカメラ（２３）であって、前記スクリーン（２１）とともに前記光軸（１３）の中へ旋回可能なように前記スクリーン（２１）と堅固に結合されたカメラ（２３）を有することを特徴とする、請求項１４に記載の機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に半導体リソグラフィにおける利用のため、プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性を調整するための方法および機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体リソグラフィ用の放射線源には、狭く限局されているが点形状ではない線源位置から拡散的に放射された放射線を集め、光軸に沿って、集中されたビーム束に集光する集光光学系が通常含まれる。ビーム束は、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）またはレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）から生じ得る。ビーム束は、通常、中間焦点（ＩＦ）における画定された開口部に合焦され、その開口部を、具体的な利用のための（例えば半導体リソグラフィにおけるスキャナ用の）放射線源位置として提供する。
【０００３】
この目的のために、線源箇所の位置と隣接する利用／アプリケーション光学システムの位置とによって画定された軸に対して、線源モジュール内における集光光学系の光軸を整列させることが必要である。これらの２つの軸は、対応し、かつＩＦ開口部の中心を通過しなければならない。さもなければ、ビーム束の一部は、放射線源のＩＦ開口絞りにおいて反射されることになり、したがって、透過ビーム束は、遮断されることになろう。同時に、総強度に加えて、ビーム束の断面内における均一性もまた、中間焦点後に最大化されるべきである。
【０００４】
しかしながら、軸の必要な整列における困難は、計測測定モジュールの取り付け位置が厳しく制限されることと、アプリケーション（例えばリソグラフィスキャナ）が直接続くという事実ゆえに、アプリケーションから放射線源モジュールを完全に分離するか、またはアプリケーション内のビーム経路を妨害することもなしには、中間焦点の後ろに空きスペースがないことと、に存する。これらの選択肢の両方とも望ましくない。
【０００５】
軟Ｘ線放射線（ＥＵＶ）を生成するための放射線源は、数パスカル（１．．．３０Ｐａ）の低圧で動作され、真空チャンバ内においてプラズマ生成モジュールは、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）またはレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）のいずれかを発生し、かつ集中された放射線源位置（すなわち、空間的には広範囲であるが、第一近似において点形状のプラズマ）をもたらす。この線源位置によって等方的に放射される放射線は、放射線源またはこの目的に用いられる真空チャンバの出射孔（ＩＦ開口部）のすぐ近くの中間焦点（ＩＦ）における集光光学系によって結像される。ＩＦ開口部は、放射線源モジュール（集光−コンデンサ光学系を含む）と下流のアプリケーション光学システムとの間のインターフェースを構成することが多い。
【０００６】
中間焦点において供給されるビーム束の質は、その下流のアプリケーションにとって重要である。この理由で、放射線源位置（プラズマ）、集光−コンデンサ光学系（以下では集光光学系と略記される）およびＩＦ開口部の整列における最適な調整および簡単な補正は、放射線源モジュール内で最も重要である。集光光学系を整列させるための調整手段は、通常、放射線源位置とＩＦ開口部との間の放射線源モジュールに設けられ、集光光学系が、その６つの自由度で移動できるようにする。
【０００７】
ビーム束の整列のための条件は、２つの平面、すなわち、線源モジュールの出射孔（すなわち中間焦点の開口部）の平面および中間焦点の後ろの遠視野面用に定義される。アプリケーション装置／ユニットの光軸に対するビーム束の正確な整列に加えて、これらの条件にはまた、所望の波長における強度、およびビーム束の断面にわたる強度の均一な分布が含まれる。それに応じて、集光光学系および線源位置（プラズマ）の整列におけるチェックおよび補正には、測定装置によって供給されるデータを必要とするが、この測定装置は、遠視野面用のビーム束の特性を長期にわたって安定した方法で忠実に監視できるようにし、かつアプリケーション装置のビーム経路を妨害することなく、これらの測定データを取得する。しかしながら、この点において、開口部の前におけるビーム束の特性が、例えば放射線の一部が開口部を通らないという理由で開口部の後ろの特性と異なることは問題である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＵＳ ６，８９４，２９８ Ｂ２
【特許文献２】ＵＳ ６，８８２，７０４ Ｂ２
【特許文献３】ＵＳ ７，５９９，４７０ Ｂ２
【特許文献４】ＵＳ ６，８９４，２８５ Ｂ２
【特許文献５】ＵＳ ６，８２９，２６１ Ｂ２
【特許文献６】ＵＳ ６，８６５，２１２ Ｂ２
【特許文献７】ＵＳ ６，９１４，９２０ Ｂ２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明の目的は、プラズマから放射される高エネルギ放射線のビーム束における特性を取得および調整するための新しい可能性であって、それによって、（焦点位置内において）線源モジュールの出口の前で、すなわち中間焦点の前で代表的測定値を取得できるようにする、かつそれに基づいて、ビーム束の特性が（焦点位置外で）遠視野において規定された方法で調整されるような方法で、集光光学系を整列させることができる新しい可能性を見つけることである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
高エネルギ放射線のビーム束の特性を取得および調整するための方法であって、プラズマから放射された放射線が、光軸に沿った収束ビーム束として、集光光学系によって焦点に導かれ、かつ焦点に関連する出射孔の後の遠視野面において、光軸に沿った対称的で均一なビーム束として供給される方法において、上記の目的は、
−  放射線の強度分布が、出射孔の前において光軸に垂直な測定面における収束ビーム束の断面にわたって取得されるステップと、
−  強度値が、光軸と同心の異なる半径を備えて整列された、測定装置の複数の受信領域用に記録されるステップと、
−  座標系の座標原点が光軸によって貫通され、かつセクタが測定面用に座標軸によって画定されるような方法で設定される座標系に受信領域が割り当てられるステップと、
−  座標系に対して異なる測定位置用に、測定面において選択された２つのそれぞれの異なる受信領域の強度値が比較されるステップと、
−  測定量が、測定面において定義された、座標系に対する複数の強度値比較に基づいて生成されるステップと、
−  測定量が、集光光学系の調整装置用の制御変数に変換されるステップと、
−  集光光学系が、決められた制御変数に基づいて整列されるステップと、
を介して達成される。
【００１１】
有利な方法において、収束ビームの強度分布が、断面にわたり光軸に対してほぼ対称的および均一に整列されるように、強度値の測定および比較、測定量および制御変数の決定、ならびにそれらの、集光光学系を整列させるための適用は、目標値からの測定量の偏差が、選択された特定の許容値より小さくなるまで繰り返される。
【００１２】
光軸からの距離に対して強度分布を測定量として表すために、光軸と同心に整列された受信領域または受信領域グループから取得された強度値を互いに比較することが望ましいと分かる。
【００１３】
好ましくは、光軸と同心に整列された受信領域のセクタからの強度値であって、セクタが、面積において等しく、かつ座標系のそれぞれの座標軸に対して互いにミラー対称である強度値が、互いに比較され、そこから非対称係数が、それぞれの座標軸に対して比較される強度値の和に基づいて測定量として計算される。
【００１４】
測定量の第１の計算が、同心受信領域におけるミラー対称的に画定されたセクタからの強度値を比較することによって実行された後で、座標系は、有利には、決められた角度だけ光軸を中心に回転することができ、測定量の第２の計算は、このように変更された軸位置におけるミラー対称的に画定されたセクタからの強度値を比較することによって実行することができる。
【００１５】
選択される座標系は、望ましくは、デカルト座標系、すなわち第１および第２の座標軸が、測定面において互いに直角に選択され、第３の座標軸が、常に光軸に沿って整列されるデカルト座標系である。
【００１６】
受信領域は、集光光学系のある一定の構造によってのみ反射される放射線を別個の強度値として受信領域において取得できるように、円リングとして量および半径に関して選択されるのが有利である。
【００１７】
さらに、強度値が、デカルト座標系の座標軸によって細分される円リングセクタにおける円リング形状の受信領域内でそれぞれ取得されることが望ましいと分かる。
【００１８】
測定量は、円リングのミラー対称的に画定されたセクタにおける比較された強度値の和に基づいて、非対称係数の形で計算されるのが有利であり、集光光学系の整列は、これらの非対称係数が、測定面において考慮される各座標軸に対して、目標値ゼロから偏差する所定の許容値未満である場合に終了される。
【００１９】
さらに、高エネルギ放射線のビーム束の特性を取得および調整するための機構であって、プラズマから拡散的に放射された放射線が、収束ビーム束として、集光光学系により光軸に沿って放射線源ユニット内の焦点において束ねられ、かつ放射線源ユニットの出射孔に続くアプリケーション装置に結合され、この出射孔が焦点に関連付けられ、ビーム束の対称性および均一性に対する定義された特性が、遠視野面において光軸に沿った焦点後に必要とされる機構において、上記の目的は、以下の点で、すなわち、放射線の強度分布の取得用の測定面が、出射孔の前における放射線源ユニット内で収束ビーム束における光軸に垂直に配置される点と、測定装置が、放射線の強度分布の空間分解記録用に設けられ、この測定装置が、光軸と同心の異なる半径を備えて配置された複数の受信領域を有し、かつ収束ビーム束における測定面内で強度分布を一時的に取得できるようにする手段である少なくとも１つの可動部を有する点と、強度分布の空間分解記録用に測定装置に接続された制御ユニットであって、測定面における受信領域の同心配置のために座標系を決定するための手段と、受信領域から取得された強度値間の比較に基づいて測定量を生成するための、および集光光学系を整列させるために測定量を制御変数に変換するための手段と、を有する制御ユニットが設けられる点と、それぞれの測定量が、所定の許容値を超えてそれぞれの目標量から偏差する限りにおいて、制御ユニットにより供給される制御変数によって集光光学系を全ての自由度で操作できるように、制御ユニットと通信する調整装置が、集光光学系に配置される点と、において達成される。
【００２０】
有利には、集光光学系は、集光光学系の前後軸を中心に回転対称に配置される複数のシェルであって、測定装置の別個の受信領域がそれぞれ割り当てられる複数のシェルを有し、それにより、それぞれの受信領域は、シェルにおいて反射される放射線の各事例に対し、位置およびサイズに関して適合される。
【００２１】
測定装置が、同心に連続的方法で配置された円リングであって、強度値の空間分解取得のために、座標系の座標軸によって少なくとも４つの円リングセクタに分割される円リングの形態をした受信領域を有することが、特に望ましいと分かる。
【００２２】
有利には、強度値を取得するための測定装置は、測定面へ移動できる少なくとも１つのスクリーンと、スクリーンによって伝送された強度分布の二次元画像の空間分解捕捉用の堅固に装着されたカメラと、を有する。
【００２３】
有利には、スクリーンは、ルミネッセントスクリーン、すなわち、それによって、放射線源により放射されて集光光学系により束ねられる高エネルギ放射線が可視光に変換されるルミネッセントスクリーンであり、次にカメラは、可視光に敏感な従来のカメラとして構成される。
【００２４】
第１の実施形態において、有利には、測定装置は、測定面に位置するスクリーンに対して斜めに向けられた、かつ周知のシャインプルーフ（Scheimpflug）の条件に従って対物レンズ／センサ調整装置を備えて構成されるカメラを有する。
【００２５】
第２の構成的変形において、望ましくは、測定装置は、スクリーンの下流に配置された、かつスクリーンと一緒に移動可能である、かつスクリーンによって伝送された強度分布をカメラへ偏向させる偏向ミラーを有する。
【００２６】
測定装置の第３の実施形態は、スクリーンの下流に配置されたカメラであって、スクリーンと一緒に光軸の中へ旋回可能なようにスクリーンと堅固に結合されたカメラを有する。
【００２７】
本発明の根本的な考えは、次の考察に基づいている。すなわち、アプリケーション装置用に放射線源モジュールによって供給されるビーム束の（焦点位置外）遠視野の特性は、放射線源モジュールの出射孔の前、つまり中間焦点（焦点位置内）の前で、ビーム束の一部における特性から確実に決定して、放射線源ユニット内の放射線源の束特性の調整および補正を実行するように、かつしたがって下流アプリケーションの障害を回避するかまたは分解された放射線源ユニットの外部試験を回避するようにしなければならないという考察に基づいている。
【００２８】
本発明は、この問題を次の点において解決する。すなわち、ビーム断面全体にわたる強度測定に加えて、強度値がまた、個別領域において取得可能であり、かつ集光器の整列を操作した場合に強度分布およびそれに対してなされた変化を評価できるように、測定装置が、中間焦点にできるだけ近い平面で焦点位置内に配置され、この平面が、好ましくは、光軸に直角であり、かつビーム断面内における強度値のセグメント化された取得を可能にする点において解決する。
【００２９】
この点において、光軸は、放射線源位置の統計的中心点（または基準位置）を通る、および放射線源モジュールの出射孔の中心を通る直線として定義される。「放射線源位置の統計的中心点」の概念は、プラズマからの放射線放射が、（ＬＰＰにおいてと同じくＤＰＰにおいて）パルスからパルスへと変動し、したがって経時的に平均して、中心点、すなわち統計的中心点のまわりで変化することを考慮する。光軸が測定装置を貫通する点は、放射線源モジュールの出射孔に対して機械的基準によって決定され、測定装置のホルダまたはガイドは、対応する方法で再現可能に調整される。
【００３０】
セグメント化された（空間分解された）方法で取得される強度値は、空間分解能の程度が、ビーム束の整列における質的要件に適合されるような方法で、適切な手段を介して記録される。この点で、測定面が、測定面を通る（理想的）光軸の貫通点に原点が位置するデカルト座標系の２つの座標軸によって囲まれ、かつ光軸が、座標系の第３の座標軸に割り当てられる場合には有利である。測定面において画定される円リングは、セグメント化された強度値用に、座標軸を介して適切な円リングセクタに細分することができるが、円リングセクタは、それらのために取得される強度値を、集光光学系の決められた構造に割り当てることができるような方法で選択されるのが好ましい。測定面において極座標を用いることもまた可能である。
【００３１】
測定量は、円リングセクタから形成された測定値が互いに個別にかまたはグループで比較されるという点で、測定装置の強度値から生成される。比較は、数学的な割り当て規則、すなわち、画定された円リングまたは円リングセクタの取得強度値を互いに関連づけ、かつ結果として、集光光学系を操作（整列）するために用いられる測定量を提供する数学的な割り当て規則によって実行されるのが好ましい。そうする際に、対称的分布からの偏差を、選択された座標系の各軸に対して決定することができる。
【００３２】
集光光学系の整列は、ビーム束の対称軸の方向が、（理想的）光軸の方向に対して最適に調整された場合に終了する。なぜなら、割り当て規則によって比較された強度値の偏差が、所定の許容値（中止基準）未満であるからである。
【００３３】
本発明によって、プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束の特性を取得および調整することが、次の点において可能になる。すなわち、代表的な測定値が、放射線源モジュールからの出口の前、つまり中間焦点の前において（焦点位置内で）で取得され、この測定値に基づき、ビーム束の特性が、定義されたやり方で遠視野（焦点位置外）において調整されるような方法で、集光光学系が整列され得るという点で可能になる。
【００３４】
実施形態例および図面に関連して以下でより完全に本発明を説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明による機構の実施形態例である。
【図２】ビーム束の断面にわたる円リングセクタの分布の概略図である。
【図３】集光光学系のシェルの操作用に制御変数を決定するために円リングセクタから決定された相対的な非対称係数の実例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
図１から分かるように、本発明による機構の基本構成における本質的な要素には、高温高密度プラズマ（ＧＤＰまたはＬＰＰ）の形態の放射線源１１を有する、高エネルギ放射線を供給するための放射線源ユニット１と、放射線源１１によって放射されたビーム束１２と、第２の線源位置として焦点１６を結像するために放射線源ユニット１の出射孔１７の方向に放射線源１１から進む光軸１３と、出射孔１７の近くで焦点１６に放射線源１１を結像するための前後軸１４１を有する集光光学系１４と、集光光学系１４から来る収束ビーム束１５の断面における特性の空間分解測定用の測定装置２と、空間分解測定値を記憶および評価するための、および集光光学系１４の整列用の制御変数を決定するための制御ユニット３と、集光光学系１４を整列させるための調整装置４と、出射孔１７に続くアプリケーション装置５であって、放射線源ユニット１の（理想的）光軸１３を予め決定することになるアプリケーション装置５の光学システム用に最適な方法で、遠視野面が焦点１６の後で調整されるアプリケーション装置５と、が含まれる。
【００３７】
光軸１３は、放射線源１１の統計的中心点から出射孔１７の中心に延び、そこにおいて、焦点１６は、放射線源ユニット１の画定された第２の線源位置として機能するように結像される。
【００３８】
例えばガス放電プラズマ（ＤＰＰ）から生成され、放射線源１１によって放射される、１３．５ｎｍの波長を有する放射線は、拡散して放射されたビーム束１２として集光光学系１４によって集光され、光軸１３に沿って収束ビーム束１５として束ねられ、かつアプリケーション装置５に対するインターフェースとして働く焦点１６において、全体的システムの中間焦点（ＩＦ）として合焦される。このアプリケーション装置５は、例えば、半導体チップ製造用のＥＵＶリソグラフィスキャナである。放射線源１１は、ガス放電プラズマであるのが好ましいが、しかしまたレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）またはそれらの組み合わせ（いわゆるハイブリッド線源）によっても形成することができる。
【００３９】
放射線源ユニット１が理想的に調整された場合に、光軸１３、集光光学系１４の前後軸１４１、および収束ビーム束１５の対称軸１５１は、一致し、かつ収束ビーム束１５の断面において均一で対称的な強度分布に帰着する。しかしながら、これは、一般に、すれすれ反射を用いる多重シェル入れ子式集光光学系１４を使用する場合には当てはまらない。
【００４０】
図１における選択された構成によれば、集光光学系１４は、５つの入れ子式シェル１４２で形成されたウォルタ光学系であり、これらの入れ子式シェル１４２は、別個の調整装置４を介して個別に制御、すなわち整列に関して機械的に変位させることができる。各シェル１４２は、異なる直径の環状部分束が、それぞれ、集光光学系１４の各シェル１４２によって集光され、反射され、かつ焦点１６へ導かれるような方法で、配置される。そうする際に、収束ビーム束１５の断面における測定面１５２のちょうど１つの決められた空間セクション（図２にのみ示す円リング２５）を、集光光学系１４の各シェル１４２に割り当てることができ、この空間セクションにおいて排他的に、放射線は、検討中のそれぞれのシェル１４２によって反射される。シェル１４２は、調整装置４によって別々に、したがってまた互いに対して非対称的に制御することができる。
【００４１】
特定の実施形態において、シェル１４２はまた、部分シェル（例えば、前後軸１４１に同軸で分割されたハーフシェルまたは１／４シェル（図示せず））として構成することもでき、そのときこれらの部分シェルは、別個の調整装置４をそれぞれ有する。
【００４２】
光軸１３に垂直に向けられた測定面１５２が、収束ビーム束１５のビーム経路において画定され、測定装置２は、それが測定面１５２へ旋回できるように配置される。測定装置２における旋回またはスライドのために、測定装置２は、駆動装置２４と結合される。
【００４３】
測定装置２には、測定面１５２に配置され、かつ放射線源１１によって放射された高エネルギ放射線を減衰された二次放射線に変換するスクリーン２１が含まれ、これにより、収束ビーム束１５の断面における強度を、従来のマトリックス形状の放射線受信器（例えばＣＣＤカメラまたはＣＭＯＳカメラ）によって検出することが可能になる。
【００４４】
普遍性を制限するわけではないが、図１では次のように仮定されている。すなわち、１３ｎｍの領域におけるＥＵＶ放射線が、スクリーン２１を介して可視光に変換され（ルミネッセントスクリーン）、スクリーン２１の後ろに配置された偏向ミラー２２が、収束ビーム束１５の外部に配置された、可視光に敏感なカメラ２３へ、低エネルギ可視光（ＶＩＳ放射線）を偏向させるようにすると、仮定されている。この例において、カメラ２３は、少なくとも０．２メガピクセル、好ましくは最大５メガピクセルの分解能を備えたＣＣＤマトリックスカメラである。
【００４５】
追加の光学手段を、ミラー２２とカメラ２３との間のビーム経路に設けることができ、この光学手段を介して、ルミネッセントスクリーン２１からカメラ２３に送信された強度プロファイルの歪みが補償される。しかしながら、歪みはまた、続いて、電子的に表示された画像において補正することができる。さらに、波長領域を制限する追加のフィルタ（いわゆる純度フィルタ）を、スクリーン２１の前でビーム束１５に配置することができる。
【００４６】
本発明の修正実施形態において、測定装置２はまた、センサアレイとして構成することができるが、このセンサアレイは、収束ビーム束１５の中へ直接旋回させることができ、かつその前にＥＵＶスペクトル帯域フィルタ（ＥＵＶ純度フィルタ）、および代替として吸収フィルタなどの放射線減衰装置、放射モジュレータ、ポイントごとにビーム断面を走査する走査絞り（図示せず）またはルミネッセントもしくは他のタイプの放射線変換スクリーン２１を配置する。
【００４７】
測定面１５２を通る光軸１３の貫通点と原点が一致するデカルト座標系２６（図２にだけ示されている）が、カメラ２３によって記録されるビーム束１５のビーム断面に割り当てられる。デカルト座標系２６の直交座標軸２６１および２６２（ｘ軸およびｙ軸）によって等しいサイズの４つの円リングセクタ２５１にそれぞれ分割される同心円リング２５は、原点を中心に画定される。
【００４８】
収束ビーム束１５の断面において測定フィールドを分割するこの方法は、カメラ２３の画像面２３１用に図２に示されている。セグメント化された強度値を取得するための受信領域が、集光光学系１４（図１にのみ示す）におけるシェル１４２の反射ゾーンに対応する円リングとして図２において選択され、かつ円リング２５を円リングセクタ２５１に分割する象限に、座標軸２６１および２６２によって細分される。
【００４９】
さらに、第一象限に破線が示されているが、この破線は、（残りの象限に引き継がれるが）センサ受信領域が８つの円リングセクタ２５１にセグメント化されるように、外側の３つの円リングセクタ２５１をさらに細分する。これによって、ビーム束１５の不均一性および非対称性に対して、強度値をより正確に評価することが可能になる。
【００５０】
しかしながら、同様に繊細な評価はまた、次の点において、すなわち円リング２５の４分割が維持されるが、しかし評価の目的で、強度値が、座標軸２６１および２６２の２つの異なる方向において記録されるという点において、行うことができる。この目的のために、座標系２６の方向は、（座標系２６のｚ軸として不変に維持される）光軸１３の貫通点を中心に４５°だけ回転される。
【００５１】
この場合のために、座標系２６は、計算手段によりカメラ２３の取得画像において画定されるのが好ましく、かつ強度値の第２のセットを記録するために相応して切り替えられる。
【００５２】
しかしながら、代替実施形態において、カメラ２３のセンサチップのソフトウェアコンフィギュレーションとして図２において画定される座標系２６はまた、スクリーン２１とカメラ２３との間のビーム経路においてルミネッセントスクリーン２１上、例えば偏向ミラー２２上か、またはカメラ２３、例えばカメラ対物レンズ上に配置することができる。
【００５３】
カメラ２３、その制御部、および制御ユニット３のコンフィギュレーションは、ビーム断面における強度値およびその分布が空間分解法で取得され、かつ全ての取得された強度値が、円リングセクタ２５１の１つにそれぞれ一意に割り当てられるような方法で、配置される。
【００５４】
機構を較正するために、制御ユニット３と通信する遠視野センサ２７は、アプリケーション（例えばリソグラフィ装置）における放射線源の取り付けに先立って、出射孔１７の後ろで拡散して伝播するビーム束１８のビーム経路において、好ましくは一度配置することができる。遠視野センサ２７は、焦点１６および出射孔１７を越えた遠視野において、焦点位置外拡散ビーム束１８の特性を取得するために用いられ、かつ焦点位置内測定装置２と同じ方法でセグメント化される任意の適切な空間分解センサユニットとして構成することができ、かつ上流に配置されたビーム減衰および／またはビーム変換要素によって補足することができる。遠視野センサ２７は、例えばＥＵＶリソグラフィ用の装置などのアプリケーション装置５が、出射孔１７の後ろに配置されないという条件でのみ用いることができる。それは、焦点位置内測定装置２の測定値から取得される測定量および制御変数であって、それらのために、対応する較正係数が制御ユニット３の記憶装置３１に記憶される測定量および制御変数を較正するために用いられる。
【００５５】
本発明に従って強度分布を取得および制御するために、高エネルギ放射線が、放射線源１１としての放射プラズマから、例えば１３．５ｎｍの中心波長を備えたＥＵＶ領域において周知の方法で生成される。この目的のために、特許文献１、特許文献２または特許文献３に記載されたコンフィギュレーションを用いることができる。プラズマ１１の相対的位置およびパルス対パルス安定性は、例えば特許文献４、特許文献５、特許文献６および特許文献７から知られたものなど、周知の制御手段および方法によって一定に維持される。
【００５６】
放射されたビーム束１２は、集光光学系１４によって集光され、かつ画定された（理想的）光軸１３に沿って、収束ビーム１５として焦点１６において束ねられる。プラズマ生成装置（参照番号では示されず、一点鎖線のボックスとして単に概略的に示されている）の一定した動作モードに達した後で、測定装置２は、収束ビーム１５の断面が測定手段２の少なくとも一部において結像されるような方法で、光軸１３に垂直な測定面１５２へ挿入される。断面がルミネッセントスクリーン２１に衝突すると、収束ビーム束１５の高エネルギ放射線の結像は、別の波長およびより低い放射エネルギの放射線において取得することができ、さらに処理することができる。
【００５７】
ルミネッセントスクリーン２１は、衝突する高エネルギ放射線によって励起されて可視光を発する。この可視光は、スペクトルに関して適切なセンサへ導かれる。図１による実施形態例において、ミラー２２およびカメラ２３が、この目的のために設けられる。
【００５８】
カメラ２３によって取得された画像は、デジタル化され、かつ取得した強度値に関する、および取得した画像における画素の相対的位置に関する情報をピクチャエレメント（画素）ごとに含む。
【００５９】
カメラ２３によって生成された画像において、デカルト座標系２６は、図２に従い周知の計算手段によって、次のような方法で画定される。すなわち、デカルト座標系２６の原点は、光軸１３が測定面１５２を通過する点と一致し、かつ座標軸２６１、２６２によって囲まれたｘ−ｙ平面が、測定面１５２に投影されるような方法で画定される。座標系２６のｚ座標軸２６３は、光軸１３に割り当てられる。
【００６０】
座標原点の正確な調整は、例えば位置決め動作または熱負荷の結果として測定装置の意図せざる調整損失の場合に、マーク、エンコーダ位置、リミットスイッチなどの適切な補助手段を介して保証される。測定面は、出射孔のすぐ前に、理想的には（スペースの検討が許せば）ＩＦ自体にさえも配置される。この位置は、線源位置のサイズおよび／または安定性、ならびに倍率および収差などの集光光学系の特性に依存して、事例ごとに最適化することができる。
【００６１】
放射線源モジュールにおけるスペース条件が許せば、出射孔１７の前における追加的な第２の焦点位置内測定手段の配置が、実際の（第１の）測定装置２の不完全な調整を検出するための、および光軸１３に対する収束ビーム１５の角度に関する追加情報を得るための意味のある選択肢であり、したがって測定および調整プロセスの精度を全体として向上させる。
【００６２】
有利な代替実施形態において、デカルト座標系２６は、堅固に固定されたカメラ２３内に前もって確立された座標原点の位置によって画定される。
【００６３】
別の代替実施形態において、ルミネッセントスクリーン２１がビーム束１５に単に挿入され、かつ堅固に固定されたカメラ２３がスクリーン２１に斜めに向けられ、かつシャインプルーフ（Scheimpflug）の条件（カメラ対物レンズに対してセンサ面が斜めに向けられる）を考慮して、スクリーン２１の傾斜位置（およびしたがって透視画像歪み）が補正され、かつスクリーン２１によって放射された光が空間分解法で記録される。
【００６４】
数量Ｎの同心円リング２５が、座標系２６の原点のまわりに画定される。全ての円リング２５の外径と内径との間の差として表現される円リング２５の厚さは、全ての円リング２５用に同一であるか、または個別集光シェル１４２によって伝達されたリング状放射線成分に適合される。円リング２５は、半径方向において互いに直接隣接する。しかしながら、それらはまた、ギャップを有するか、または連続して測定される場合に一部重複することができる。
【００６５】
円リング２５は、座標軸２６１および２６２に沿って延びる仕切りによって少なくとも分割され、かつそれに応じて、円リング２５の全てにわたり同一のセクタ方向を有する少なくとも４つの円リングセクタ２５１を円リング２５ごとに形成する。等しいサイズ、好ましくは８または１６の円リング２５１にさらに細分することが可能であり、その結果座標軸２６１および２６２に沿った分割は保持される。そうする際に、内側円リング２５は、円リングセクタ２５１が含む表面積の一致を達成するために、外側円リング２５より分割を少なくすることができる。図２において、この種の配置が、右上象限、すなわち象限ごとに外側の３つの円リング２５が再び細分され（円リング２５の１／８）、かつ内側の円リングが１／４の円リングセクタ２５１として形成される右上象限に示されている。象限ごとに円リング２５を何度も細分することによって、４重分割、すなわち１／１６の円リングセクタ（図示せず）がまた、少なくとも外側円リング２５において、収束ビーム束１５のエッジ領域における非対称または不等強度曲線を検出するのに有用になり得る。
【００６６】
収束ビーム束１５における焦点位置内測定装置２用の上記したようなカメラ２３の画像面２３１におけるセンサ素子のこの構成または相互接続はまた、放射線源ユニット１の少なくとも第１のまたは標準較正用に適用される遠視野センサ２７用の焦点位置外拡散ビーム束１８において、類似した方法で用いることができる。
【００６７】
各円リングセクタ２５１は、それによって取得された強度値を割り当てられる。それぞれの割り当てられた強度値は、問題の円リングセクタ２５１にわたって合計され、それぞれの円リングセクタ２５１の部分強度Ｉｉｊｋとして記憶される。円リングセクタ２５１用の部分強度Ｉｉｊｋは、名称Ｉｉｊｋによって、座標軸２６１、２６２（ｘ座標軸およびｙ座標軸）に対するそれらの位置に関して明示的に識別され、ここでインデックスｉは、１から既存の円リング２５の数量Ｎまでの連続するインデックスであり、内側から外側へ放射状に増加する。インデックスｊは、水平に延びる座標軸２６１（ｘ座標軸）に対して、それぞれの円リングセクタ２５１の垂直位置を示し、ここでｊは、値１（座標軸２６１より上の位置）または２（座標軸２６１より下の位置）を取ることができる。インデックスｊに似て、インデックスｋは、垂直に延びる座標軸２６２（ｙ座標軸）に対して円リングセクタ２５１の水平位置を示し、ここで１＝左の円リングセクタであり、２＝右の円リングセクタ２５１である。この例（四象限志向の円リングセクタを備えた）において、Ｉ３１２は、第３の円リング２５の（座標系２６の第一象限における）右上円リングセクタ２５１の部分強度を示す。
【００６８】
特に円リングが８または１６セクタにさえに分割される場合に、当然、インデックスはまた、対応する方法で修正し、かつ他の数値と共に用いることができる。
【００６９】
測定装置２によって全体的に取得される総強度Ｉｔｏｔａｌは、以下の一般式によって、全ての部分強度Ｉｉｊｋの和として計算することができる。
【数１】
0005282152.tif 000002
【００７０】
座標軸２６１、２６２の１つに対して非対称強度分布を決定および評価するために、各座標軸２６１、２６２の一側に位置する円リングセクタ２５１の部分強度Ｉｉｊｋは、座標軸２６１、２６２の反対側（すなわちミラー反転位置）に位置する円リングセクタ２５１の部分強度Ｉｉｊｋと比較される。さらに、座標軸２６３（ｚ軸）に対して中心対称である円リングセクタ２５１の部分強度Ｉｉｊｋもまた、互いに比較することができる。さらに、このように計算された全ての非対称インデックスは、合計で取得される総強度Ｉｔｏｔａｌに拡大される。
【００７１】
ｘ座標軸２６１に対して、非対称インデックスＡＳＹＸは、以下のように定義される。
【数２】
0005282152.tif 000003
この式で、集光光学系１４の各領域におけるミラー組み合わせのタイプに依存して、ａｉ＝１または−１である。
【００７２】
それに応じて、以下の式は、ｙ座標軸に当てはまる。
【数３】
0005282152.tif 000004
この式で、集光光学系１４の各領域におけるミラー組み合わせのタイプに依存して、ｂｉ＝１または−１である。
【００７３】
ｚ座標軸２６３のまわりの強度値の非対称性は、ｚ座標軸２６３の近くに位置する（内側）円リング２５の部分強度Ｉｉｊｋが、ｚ座標軸２６３から遠隔の（外側）円リング２５の部分強度Ｉｉｊｋと比較されるような方法で生じ得る。以下の式は、この目的に使用される。
【数４】
0005282152.tif 000005
この式で、集光光学系１４の各領域におけるミラー組み合わせのタイプに依存して、ｃｉ＝１または−１である。
【００７４】
Ｎが偶数、例えばＮ＝４である場合に、（ｚ座標軸２６３から数えられた）第１および第２の円リング２５の部分強度Ｉｉｊｋは、第３および第４の円リング２５の部分強度Ｉｉｊｋと比較される。
【００７５】
それぞれの座標軸２６１および２６２に対して、取得された強度値の分布に非対称が存在しない場合に、非対称インデックスは、理想的にはゼロの値を有する。実際には、ゼロから偏差する許容値（閾値）は、この許容値に到達して集光光学系１４の補正が開始されるまでは許される。過度の偏差のために補正調整が既に実行された場合に、再調整は、許容値に達した場合に中止される（いわゆる中止基準）。
【００７６】
上に示す式（１）〜（４）は、異なって定式化することができる。さらに、これらの式には、次の場合を考慮できる補正関数を含むことができる。すなわち、デカルト座標系２６の原点からさらに離れて位置する円リングセクタ２５１の部分強度Ｉｉｊｋが、座標原点に一層近く位置する円リングセクタ２５１の部分強度Ｉｉｊｋより多くの個別値から構成される場合である。
【００７７】
図３は、（理想的）光軸１３の位置からの放射線源１１の偏差ＸおよびＹに対する非対称係数ＡＳＹＸおよびＡＳＹＹの結果をそれぞれ示す。破線は、ＡＳＹＸ（ｄＸ）依存関係であり、一点鎖線は、ＡＳＹＹ（ｄＹ）依存関係に対応する。（例えばＺピンチプラズマによって発生された）１３．５ｎｍ放射波長を備えた放射線源１１用の依存関係が、密に配置された線パターンによって表されるのに対して、６７０ｎｍを備えた放射線源（ＬＥＤ放射線源）用の依存関係は、（同じタイプの）広く伸ばされた線パターンを有する。
【００７８】
設備において方法の実際の適用に先立って、測定量として決定された非対称インデックスＡＳＹＸおよびＡＳＹＹと、光軸１３からの放射線源１１の偏差との間の数学的関係が、経験的分析に基づいて決定され、割り当て規則として記憶される。遠視野センサ２７の上記の焦点位置外配置は、この目的に使用することができる。
【００７９】
放射線源１１および集光光学系１４は、遠視野センサ２７によって取得される拡散ビーム束１６の特性が、焦点位置外領域において所望の特性と一致するような方法で、互いに対して整列される。そうする際に、基準状態と実際の状態との間の規定された偏差が許される。
【００８０】
光軸１３から離れるある方向におけるある量だけの、放射線源１１の制御された変位後に、変位によって引き起こされる測定量の変化が決定される。これらの変化を補償するために、集光光学系１４は、調整装置４によって制御される。特定の変位を補償するために必要とされる制御変数が決定されて記憶される。恐らく、関連する信頼域の計算を伴って線形または非線形回帰などの周知の数学的手順の適用を通じて、測定量と制御変数との間の割り当て規則が、測定量によって示された変位の補償に必要な測定量および制御変数の関係から導き出されて記憶される。
【００８１】
非対称インデックスＡＳＹＺもまた、割り当て規則に入れることができる。インデックスＡＳＹＺは、ビーム直径（内側および外側）ならびに光学伝送の基準値を達成するために制御される。この目的のために、光学伝送とＺにおける位置との間に相関が存在する。
【００８２】
割り当て規則は、各事例において新たに決定され、かつ機構、および焦点位置外領域におけるビーム束１８の所望の特性における異なるコンフィギュレーション用に記憶されて、集光光学系１４を再調整するための適切な補正を、収束ビーム束１５の焦点位置内領域における測定装置２の排他的測定値を用いて実行できるようにしなければならない。
【００８３】
放射線源ユニット１の動作中に、光軸１３に沿った焦点位置外ビーム束１８の正確な整列は、必要ならば、提案された方法を用いて監視および補正することができる。測定装置２による測定期間にわたって、出射孔１７の後で利用できる放射線または使用可能放射線は存在しない。すなわち、ビーム束１８を補正するための収束ビーム束１５における監視測定は、アプリケーション装置５の露光の合間の期間中にもっぱら実行される。
【００８４】
測定の目的で、測定装置２は、駆動装置２４によって、測定面１５２の中へと挿入または旋回され、強度分布は、収束ビーム束１５の断面内において（焦点位置内で）取得される。円リングセクタ２５１への個別強度値（部分強度Ｉｉｊｋ）の割り当て後に、非対称インデックスＡＳＹは、計算されて制御ユニット３の記憶装置３１に記憶される。
【００８５】
決定および記憶された測定量は、同様に記憶された割り当て規則を用いて制御変数に変換され、それに応じて集光光学系１４の調整装置４は、制御ユニット３によって制御される。
【００８６】
調整装置４の調整（再調整または位置決め）が実行された後で、円リングセクタ２５１用の測定値（部分強度Ｉｉｊｋ）、および非対称インデックスＡＳＹが再び決定され、それらが、許された許容値を超えて偏差しているかどうかが確認される。許された許容値が遵守されている場合に、測定および補正プロセスは終了される。許容値を超過した場合に、集光光学系１４の調整装置４は、最後に決定された測定量（非対称インデックスＡＳＹ）を用いて調整される。
【００８７】
集光光学系１４の補正が完了した後で測定を繰り返すことが可能であるが、しかしそうする際に、画定される座標軸２６１、２６２は、光軸１３（ｚ座標軸２６３として維持される）を中心に、決められた角度、例えば４５°回転される。このように、座標軸２６１、２６２の第１の位置において、座標軸２６１、２６２に対して対称に形成された、かつしたがって非対称インデックスの許容値を遵守した所望の強度分布からの偏差を見つけることが可能である。しかしながら、これらの許容値は、もはや回転された座標系に対して維持されない。これは、例えば収束ビーム束１５の楕円断面に関して当てはまり得る。
【００８８】
しかしながら、収束ビーム束１５の断面における一層小さなセクション間の比較が、より高い空間分解能のより大きな量の測定値を生じるように、円リング２５が８つ以上の円リングセクタ２５１に細分されるときに座標軸２６１、２６２の位置が不変のままである場合に、同じ測定結果および補正結果もまた達成可能である。
【００８９】
提案の方法および関連する機構によって、プラズマ１１から生成された高エネルギ放射線束の実際の特性を放射線源ユニット１内の焦点位置内測定を介して監視すること、および必要ならば、アプリケーション装置５の追加的技術的コンポーネントの複雑な機構から放射線源ユニット１を分離する必要なしに特性を補正することが可能になる。
【００９０】
提案の解決法によって、プラズマ１１から放射された高エネルギ放射線が、定義された特性を備えた焦点位置外ビーム束１８において、非常に効率的で質的に一定した方法で供給されることが保証される。
【００９１】
本発明による方法および機構は、定義されたビーム特性および一定した質を備えた高エネルギ放射線を、例えばＥＵＶリソグラフィ、レーザ溶接およびレーザ切断などのために供給しなければならない全ての分野において、類似した方法で用いることができる。
【符号の説明】
【００９２】
１  放射線源ユニット
１１  放射線源（プラズマ）
１２  放射されたビーム束
１３  光軸
１４  集光光学系
１４１  前後軸
１４２  シェル
１５  収束ビーム束（焦点位置内）
１５１  （収束ビーム束の）対称軸
１５２  測定面
１６  焦点
１７  出射孔
１８  拡散束（焦点位置外）
２  測定装置
２１  スクリーン
２２  ミラー
２３  カメラ
２４  駆動装置
２５  円リング（受信領域）
２５１  （円リング）セクタ
２６  座標系（デカルト）
２６１〜２６３  座標軸
２７  遠視野センサ
３  制御ユニット
３１  記憶装置
４  調整装置
５  アプリケーション装置
【図１】
0005282152.tif 000006
【図２】
0005282152.tif 000007
【図３】
0005282152.tif 000008