(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給ガス導管経路中に設けられる付臭剤添加装置であって、  付臭剤を貯留するための貯液タンクと、  貯液タンクと供給ガス導管とを結び、貯液タンク内の付臭剤を供給ガス導管内に導くための付臭剤注入系統と、  付臭剤注入系統内に配管を介して設けられた付臭剤ポンプと、注入弁と、注入ノズルと、  付臭剤ポンプと注入弁とを結ぶ配管から分岐して、付臭剤注入系統内の滞留付臭剤を貯液タンクに戻すための付臭剤還流系統と、  付臭剤還流系統内に配管を介して設けられた還流弁と、 前記注入弁と前記還流弁とを結ぶ配管に、運転停止時における付臭剤ガスの滞留を防止するための、ガス溜り防止手段と、を備えて成ることを特徴とする付臭剤添加装置。
【請求項２】
前記ガス溜り防止手段が、前記注入弁から前記還流弁に向う上り勾配配管であることを特徴とする請求項１に記載の付臭剤添加装置。
【請求項３】
前記ガス溜り防止手段が、前記注入弁と前記還流弁とを結ぶ配管内に嵌入される狭窄部材であることを特徴とする請求項１又は２に記載の付臭剤添加装置。
【請求項４】
前記狭窄部材が、複数の溝部を備えた丸棒であることを特徴とする請求項３に記載の付臭剤添加装置。
【請求項５】
前記ガス溜り防止手段が、前記注入弁と前記還流弁とを結ぶ配管を、前記注入弁又は前記還流弁のメンテナンスに必要な最短長さに構成したものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の付臭剤添加装置。
【請求項６】
前記注入弁と前記注入ノズルとを結ぶ配管に、運転停止時の液溜り防止手段を備えて成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の付臭剤添加装置。
【請求項７】
前記液溜り防止手段が、前記注入弁から前記注入ノズルに向う下り勾配配管であることを特徴とする請求項６に記載の付臭剤添加装置。
【請求項８】
前記液溜り防止手段が、前記注入弁と前記注入ノズルとを結ぶ配管を、運転終了時に付臭剤液が配管内に滞留しない配管長に構成したものであることを特徴とする請求項６又は７に記載の付臭剤添加装置。
【請求項９】
前記液溜り防止手段が、前記注入ノズルについて、運転終了時に付臭剤液がノズル内に滞留しない内径に構成したものであることを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の付臭剤添加装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の付臭剤添加装置において、  起動時に、付臭剤添加運転に先立って、前記付臭剤注入系統から前記付臭剤還流系統に付臭剤を循環して、前記付臭剤注入系統配管内に滞留する付臭剤ガスのガス抜き運転を行こうことを特徴とする付臭剤添加装置の運転方法。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、都市ガス等、燃料ガスに付臭するための付臭剤添加装置及びその運転方法に係り、特に起動、停止が頻繁に繰り返される燃料ガス供給設備に好適な付臭剤添加装置及びその運転方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
都市ガス、ＬＰＧ等については、漏洩時の検出容易化のために付臭剤が添加されて供給されるのが一般的であるが、送ガス量に対する付臭剤添加量は微量であるため、付臭剤を一定量に添加制御することは容易ではない。付臭剤濃度が低すぎる場合には漏洩時の検出に支障をきたすという問題があり、他方、過付臭の場合には需要家等からのクレームの原因ともなる。
このため、付臭剤の安定的添加に関する種々の技術が提案されている。例えば、付臭剤タンク内より定量ポンプにて送出する付臭剤を、付臭剤供給管を経由して供給導管内に注入する際に、経路途中に設けた流量制御弁の弁開度を制御して、一次側と二次側の差圧を一定に保持することにより、所望の注入量を維持する技術が提案されている（特許文献１）。この技術によれば付臭剤の安定的注入は可能となるが、装置構成が複雑であり、コストアップを免れないという問題がある。
【０００３】
また、付臭剤注入ノズルの構造の工夫により、注入量を制御する技術も提案されている（例えば特許文献２）。図８は、当該付臭剤添加装置１００を示すものである。これは、注入ノズル１０５の上端部を取り囲む位置に付臭剤注入室１０４を設け、且つ付臭剤注入室内のノズル側壁に複数の小孔１０５ａを上下方向に複数段穿設し、付臭剤注入室１０４に導入した付臭剤を小孔１０５ａからオーバーフローさせて、付臭剤注入ノズル１０５を介して供給ガス導管１０６内に注入するものである。
付臭剤添加装置１００によれば、定量ポンプ１０２の運転により、付臭剤タンク１０１内の付臭剤は、付臭剤供給管１０７を介して付臭剤注入室１０４に一旦溜められる。注入室内の液面が上昇して最下段小孔の位置に達すると、付臭剤注入ノズル１０５内にオーバーフローする。付臭剤導入量が１段目の小孔からだけでは処理しきれない流量の場合には、室内液面が上昇して、順次、２段目、３段目の小孔からもオーバーフローする。当該技術は、このように簡易な構成により、付臭剤の安定的注入を可能とする特長を有する。
【特許文献１】特開２００４−１７４４６２号公報
【特許文献２】特開２００４-７５７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、付臭剤添加装置１００においては、付臭剤注入室及びノズル部に滞留する液が、運転停止時に蒸発して供給ガス導管内に拡散し、配管内ガスの付臭剤濃度が異常に高くなってしまい、運転開始時に一時的に過付臭のガスが供給されてしまうという問題がある。このため、起動、停止が頻繁に繰り返されるガス供給設備には、上記技術の適用は困難である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、このような課題を解決するためのものであって、起動、停止が頻繁に繰り返されるガス供給設備にも適用可能な付臭剤添加装置を提供するものである。本発明は、以下の内容を要旨とする。すなわち、
（１）供給ガス導管経路中に設けられる付臭剤添加装置であって、付臭剤を貯留するための貯液タンクと、貯液タンクと供給ガス導管とを結び、貯液タンク内の付臭剤を供給ガス導管内に導くための付臭剤注入系統と、付臭剤注入系統内に配管を介して設けられた付臭剤ポンプと、注入弁と、注入ノズルと、付臭剤ポンプと注入弁とを結ぶ配管から分岐して、付臭剤注入系統内の滞留付臭剤を貯液タンクに戻すための付臭剤還流系統と、付臭剤還流系統内に配管を介して設けられた還流弁と、を備えて成ることを特徴とする付臭剤添加装置である。
【０００６】
（２）上記発明において、注入弁と還流弁とを結ぶ配管に、運転停止時における付臭剤ガスの滞留を防止するための、ガス溜り防止手段を備えて成ることを特徴とする。
（３）上記各発明において、ガス溜り防止手段が、注入弁から還流弁に向う上り勾配配管であることを特徴とする。
（４）上記各発明において、ガス溜り防止手段が、注入弁と還流弁とを結ぶ配管内に嵌入される狭窄部材であることを特徴とする。
（５）上記発明において、狭窄部材が、複数の溝部を備えた丸棒であることを特徴とする。
（６）上記各発明において、ガス溜り防止手段が、注入弁と還流弁とを結ぶ配管を、注入弁又は還流弁のメンテナンスに必要な最短長さに構成したものであることを特徴とする。
（７）上記各発明において、注入弁と注入ノズルとを結ぶ配管に、運転停止時の液溜り防止手段を備えて成ることを特徴とする。
（８）上記発明において、液溜り防止手段が、注入弁から注入ノズルに向う下り勾配配管であることを特徴とする。
（９）上記各発明において、液溜り防止手段が、注入弁と注入ノズルとを結ぶ配管を、運転終了時に付臭剤液が配管内に滞留しない配管長に構成したものであることを特徴とする。
（１０）上記各発明において、液溜り防止手段が、注入ノズルについて、運転終了時に付臭剤液がノズル内に滞留しない内径に構成したものであることを特徴とする。
【０００７】
（１１）上記記載の各付臭剤添加装置において、起動時に、付臭剤添加運転に先立って、付臭剤注入系統から付臭剤還流系統に付臭剤を循環して、付臭剤注入系統配管内に滞留する付臭剤ガスのガス抜き運転を行こうことを特徴とする付臭剤添加装置の運転方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、起動、停止が頻繁に繰り返されるガス供給設備の場合であっても、一定濃度の付臭剤添加が可能となるという効果がある。
また、注入弁と還流弁とを結ぶ配管にガス溜り防止機構を設けた発明によれば、運転停止時間帯における付臭剤ガスの配管内滞留を防止できる。これにより、起動時に円滑なポンプ昇圧ができ、安定的に付臭剤の注入が可能となるという効果がある。
また、注入弁と注入ノズルとを結ぶ配管に液溜り防止機構を設けた発明によれば、付臭剤注入停止時間帯におけるノズル部からガス導管内への「液だれ」、ノズル部「液だまり」を防止できるため、配管内に滞留する供給ガスの付臭剤濃度が異常に高くなることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】  以下、本発明の実施形態について、図１乃至５を参照してさらに詳細に説明する。なお、本発明の範囲は特許請求の範囲記載のものであって、以下の実施形態に限定されないことはいうまでもない。  図１は、本実施形態に係る付臭剤添加装置１の全体構成を示す図である。付臭剤添加装置１は、付臭剤タンク２と、付臭剤タンク２とガス導管５とを結び、付臭剤タンク２中の付臭剤をガス導管５に導くための付臭剤注入系統３と、付臭剤注入系統３の経路中のＡ点から分岐して、注入系統配管内の付臭剤を付臭剤タンク２に戻すための付臭剤還流系統４により構成されている。  付臭剤注入系統３は、付臭剤注入配管Ｌ１乃至Ｌ４と、Ｌ１、Ｌ２間に介在する付臭剤ポンプ７と、Ｌ３、Ｌ４間に介在する注入弁Ｖ１と、Ｌ４先端部に配設され、ガス導管５内部に取り付けられる注入ノズル６と、を主要構成として備えている。  また、付臭剤還流系統４は、還流配管Ｌ５、Ｌ６と、Ｌ５、Ｌ６間に介在する還流弁Ｖ２と、を主要構成として備えている。 【００１０】  配管Ｌ５→Ｌ３間は、この順に下り勾配となるように構成されており、後述の狭窄部材１０による効果と相俟って、運転停止時に配管内に付臭剤ガスが滞留しないように構成されている。なお、配管Ｌ５、Ｌ３は便宜上分割して示しているが、実際には一の直管で形成されており、Ａ点においてこれに配管Ｌ２が合流している。  次に、図２は付臭剤注入配管Ｌ３の管内構成を示す図である。配管Ｌ３内には、管内容積を極小化するための狭窄部材１０が管内に嵌め込まれている。但し、配管Ｌ３の両端部（Ａ点及び注入弁Ｖ１近傍）は狭窄されておらず、付臭剤の配管Ｌ２からの流入又は注入弁Ｖ１への流出に支障を来たさないように構成されている。狭窄部材１０は、配管Ｌ５、Ｌ３の内径より僅かに小さな外径の丸棒により構成されている。狭窄部材１０の上部及び下部には、それぞれ上溝１１ａ、下溝１１ｂが設けられている。付臭剤液は上溝１１ａ、下溝１１ｂを流通し、また、運転停止時等に発生する付臭剤ガスは上溝１１ａに溜まり、さらに配管Ｌ３→Ｌ５の傾斜に沿って上部に導かれる。さらに、還流系統運転時（後述）に付臭剤タンク２に戻されるように構成されている。配管Ｌ５についても同一に構成されている。 【００１１】
次に、図３は注入ノズル６近傍の詳細構成を示す図である。ノズル先端部６ａはフランジ６ｂによりガス導管５内に固定されている。ノズル６の内径ｄは、運転終了時に付臭剤液が表面張力のためにノズル内に滞留せず、導管内に完全に滴下する径に設定されている。また、配管Ｌ３→Ｌ４は下り勾配で、かつ、配管内に滞留することのないよう、極力短く構成されている。
【００１２】  付臭剤添加装置１は以上のように構成されており、次に図４〜図７を参照して、付臭剤添加装置１の運転開始時及び停止時における運転制御方法について説明する。なお、本制御は、各アクチュエータを制御する不図示の制御部により行われる。  図４を参照して、初期状態においては、注入系統３及び還流系統４ともに停止状態、すなわち、付臭剤ポンプ７→停止、Ｖ１→閉、Ｖ２→開である（Ｓ１０１）。この状態で制御部から運転開始指令が送られると（Ｓ１０２）、）まず還流系統４が稼動状態（付臭剤ポンプ７→運転、Ｖ１→閉、Ｖ２→開）となる（Ｓ１０３）。これにより、図５に示すように還流系統４内を付臭剤が循環し、配管内の残留ガスがパージされる。ガスパージに必要な所定時間経過後（Ｓ１０４においてＹＥＳ）、還流系統４を停止して注入系統の昇圧操作を開始する。この場合、付臭ポンプ７→運転、Ｖ１→閉、Ｖ２→閉となる（Ｓ１０５）。付臭剤注入に必要な圧力に昇圧後（Ｓ１０６においてＹＥＳ）、注入系統３を稼動可能状態とする。この場合、付臭剤ポンプ７→運転、Ｖ１→開、Ｖ２→閉となる（Ｓ１０７）。これにより、図６に示すように付臭剤は注入系統３を流れ、注入ノズル６から供給ガス導管５内への注入が開始される（Ｓ１０８）。 【００１３】  次に図７をも参照して、運転停止時における制御方法について説明する。運転継続時においては、還流系統４が停止状態、注入系統３が稼動状態であり（図６参照）、付臭剤ポンプ７→運転、Ｖ１→開、Ｖ２→閉である（Ｓ２０１）。この状態において制御部から運転停止指令が送られると（Ｓ２０２）、注入系統３及び還流系統４ともに停止状態となる。すなわち、付臭剤ポンプ７→停止、Ｖ１→閉、Ｖ２→開となる（Ｓ２０３）。なお、本実施形態においては、狭窄部材として溝部を有する丸棒を注入配管に嵌入する形態としたが、これに限らず配管内部に付臭剤ガス及び液の流通が確保され、かつ、内容積を極小にする部材、例えば配管に内接する断面多角形の棒材を用いることもできる。 
【産業上の利用可能性】
【００１４】
本発明は、燃料ガスに限らず、ガス供給に際して付臭を必要とする付臭剤添加に広く利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る付臭剤添加装置１の構成を示す図である。
【図２】付臭剤注入配管Ｌ３の管内構成を示す図である。
【図３】注入ノズル６の詳細構成を示す図である。
【図４】付臭剤添加装置１の運転開始時における制御フローを示す図である。
【図５】還流系統稼動時における付臭剤の流路を示す図である。
【図６】注入系統稼動時における付臭剤の流路を示す図である。
【図７】付臭剤添加装置１の運転停止時における制御フローを示す図である。
【図８】従来の付臭剤添加装置１００の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００１６】１・・・・付臭剤添加装置２・・・・付臭剤タンク３・・・・付臭剤注入系統４・・・・付臭剤還流系統５・・・・ガス導管６・・・・注入ノズル７・・・・付臭剤ポンプ１０・・・狭窄部材Ｌ１〜Ｌ４・・・付臭剤注入配管Ｌ５、Ｌ６・・・付臭剤還流配管Ｖ１・・・注入弁Ｖ２・・・還流弁 
【図１】
0005270130.tif 000002
【図２】
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【図３】
0005270130.tif 000004
【図４】
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【図５】
0005270130.tif 000006
【図６】
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【図７】
0005270130.tif 000008
【図８】
0005270130.tif 000009