(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動式ユニットが備えられた調製装置であって、
前記移動式ユニットには、
移動式基台と、
前記移動式基台に配設され、攪拌装置を有する調製タンクと、
前記移動式基台に配設される濾過装置と、
前記移動式基台に配設され、前記調製タンク内の内容物を前記濾過装置まで運ぶための第１ラインと、
前記移動式基台に配設され、前記濾過装置を通過した内容物を前記調製タンクまで運ぶための第２ラインと、が備えられており、
前記調製タンク内に原料を供給するための原料供給部が、前記調製タンク、前記第１ライン又は前記第２ラインに配設されており、
調製物を前記移動式ユニット内から前記移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部が、前記調製タンク、前記第１ライン又は前記第２ラインに配設されており、
充填容器に前記調製物を充填するための充填ユニットを更に備えており、
前記充填ユニットは、Ｃｌａｓｓ１０００以下のクリーンル−ムに設置されており、
前記移動式ユニットにおける前記調製物排出部が、前記充填ユニットにおける調製物を供給するための調製物供給部に接続されることによって、前記充填ユニットに調製物が供給されることを特徴とする調製装置。
【請求項２】
前記移動式ユニットに原料を供給するための原料供給ユニットを備え、
前記移動式ユニットにおける前記原料供給部が、前記原料供給ユニットにおける原料排出部に接続されることによって、前記調製タンク内に原料が供給される請求項１に記載の調製装置。
【請求項３】
前記原料供給ユニットが、Ｃｌａｓｓ１０００００以下のクリーンルームに設置されている請求項２に記載の調製装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調製装置に関する。更に詳しくは、本発明は、原料供給ユニットが設置される原料供給室と充填ユニットが設置される調製物充填室との間等を、自由に移動可能な移動式ユニットを備えており、生産設備に必要な配管を大幅に短くすることができ、配管内の残液を低減することがき、且つ調製物（製品）中の異物を低減することができる調製装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野では、より高い集積度を得るために、より微細な加工が可能なリソグラフィー技術が必要とされている。例えば、０．１０μｍ以下のレベルでの微細加工を可能とするために、より波長の短い放射線の利用及び液浸露光が検討されている。この用途に適した樹脂組成物が数多く提案され、使用されている。例えば、レジスト形成用の感放射線性樹脂組成物を含むレジスト組成物及び多層レジストにおける上層膜を形成するための樹脂組成物を含む液浸用上層膜形成用組成物が使用されている。
【０００３】
また、これらの組成物を使用する微細化方法においては、更なる高解像度のパターンニングが要求されるようになっており、これらの組成物を用いて得られるパターン表面に生じるディフェクト（現像後のレジストパターンを上部から観察した際に検知される不具合全般のこと。）を無視することができなくなってきている。そのため、その改善が試みられている。
このディフェクト要因の１つには、レジスト樹脂を含有する溶液中に、樹脂の重合の際に副生するオリゴマーや低分子量のポリマー、また生産設備の配管及びバルブ等から混入するゴミ、微粒子等といった固形状の異物が存在することが挙げられる。
【０００４】
これらディフェクト要因になり得る異物のうち、樹脂の重合の際に副生するオリゴマーや低分子量のポリマーにおいては、樹脂溶液に対する貧溶媒を用いた沈殿精製法（特許文献１参照）や、沈殿工程及び／又は洗浄ろ過工程による精製方法（特許文献２参照）等が提案されている。
一方、配管及びバルブ等から混入するゴミ、微粒子等といった固形状の異物の低減法としては、フィルターが設置された閉鎖系内でレジスト組成物を循環させることにより、レジスト組成物中の微粒子の量を低減する方法（特許文献３参照）が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１６１０５２号公報
【特許文献２】特開２００５−１３２９７号公報
【特許文献３】特開２００２−６２６６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、急速に微細化が進行している半導体素子や液晶表示素子の製造分野等においては、前述のような方法を用いた場合であっても、前記ディフェクト発生の抑制効果が十分であるとはいえなかった。
更には、電子材料やディスプレイ材料等の高機能化が急速に進むなか、これら高機能性を十分に発揮する上で、組成物を安全に且つ高収率で生産することが要求されている。特に、これら電子材料に用いられる組成物は、少量多品種の生産が要求されるので、上述のような高機能性に加えて、生産する上では、より効率的なことも必須となり、収率の低減は大きな問題となる。
【０００７】
特に、収率を低下させる原因としては、配管中に残った組成物溶液が挙げられる。これら配管中の残液を回収する方法としては窒素による加圧回収が考えられるが、回収率が十分でないこと、及び回収された組成物溶液中の溶存窒素量が多くなり、半導体基板のフォトレジスト膜上に塗布する際、組成物に溶け込んでいた気体が塗布前のフィルターを通過する際の圧力変動により分離し、気体が生じてしまう。このような気体が発生すると、この気泡はフォトレジスト膜上に付着し、パターン欠陥などの原因となる。
また、配管中の残液を少なくするために、配管直径を出来るだけ小さくする試みを実施したが、単位時間当たりの送液量に制限が生じることによる生産性の低下、及び設備運営上の最短配管長が予め決まってしまう為に、十分な回収率は得られなかった。
【０００８】
本発明は、前記実情に鑑みてなされたものであり、生産設備に必要な配管を大幅に短くすることができ、配管内の残液を低減することがき、且つ調製物（製品）中の異物を低減することができる調製装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、以下のとおりである。
［１］移動式ユニットが備えられた調製装置であって、
前記移動式ユニットには、
移動式基台と、
前記移動式基台に配設され、攪拌装置を有する調製タンクと、
前記移動式基台に配設される濾過装置と、
前記移動式基台に配設され、前記調製タンク内の内容物を前記濾過装置まで運ぶための第１ラインと、
前記移動式基台に配設され、前記濾過装置を通過した内容物を前記調製タンクまで運ぶための第２ラインと、が備えられており、
前記調製タンク内に原料を供給するための原料供給部が、前記調製タンク、前記第１ライン又は前記第２ラインに配設されており、
調製物を前記移動式ユニット内から前記移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部が、前記調製タンク、前記第１ライン又は前記第２ラインに配設されており、
充填容器に前記調製物を充填するための充填ユニットを更に備えており、
前記充填ユニットは、Ｃｌａｓｓ１０００以下のクリーンル−ムに設置されており、
前記移動式ユニットにおける前記調製物排出部が、前記充填ユニットにおける調製物を供給するための調製物供給部に接続されることによって、前記充填ユニットに調製物が供給されることを特徴とする調製装置。
［２］前記移動式ユニットに原料を供給するための原料供給ユニットを備え、
前記移動式ユニットにおける前記原料供給部が、前記原料供給ユニットにおける原料排出部に接続されることによって、前記調製タンク内に原料が供給される前記［１］に記載の調製装置。
［３］前記原料供給ユニットが、Ｃｌａｓｓ１０００００以下のクリーンルームに設置されている前記［２］に記載の調製装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の調製装置によれば、原料供給ユニットが設置される原料供給室と充填ユニットが設置される調製物充填室との間等を、自由に移動可能な移動式ユニットを備えているため、生産設備の配管長さを従来の固定式の調製装置では達成できない程度にまで短くすることができる。そのため、生産設備の配管及びバルブから混入するディフェクト発生の要因となり得る異物の量を大幅に低減することができる。更には、配管内に残留する調製物の量を最小限に抑えることができるため、収率を大幅に向上することができる。
従って、本発明の調製装置は、フォトレジスト材料等の電子材料分野に用いられる組成物や、ディスプレイ材料に用いられる配向膜組成物や着色レジスト組成物等の、異物混入に対する管理が厳しく且つ高価な組成物の製造分野において好適に用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
［１］移動式ユニット
本発明の調製装置には、移動式ユニットが備えられている。この移動式ユニットには、移動式基台（以下、単に「基台」ともいう。）と、攪拌装置を有する調製タンクと、濾過装置と、調製タンク内の内容物を濾過装置まで運ぶための第１ラインと、濾過装置を通過した内容物を調製タンクまで運ぶための第２ラインと、が備えられている。
具体的には、例えば、図１に示すように、基台１１に、攪拌装置１３を有する調製タンク１２と濾過装置１４とが配設されている。そして、循環濾過が可能となるように、第１ライン１５及び第２ライン１６によって、調製タンク１２と濾過装置１４とが接続されている。
【００１２】
前記移動式基台の駆動方式は特に限定されず、一般的な方法を適用することができる。具体的には、例えば、（１）圧縮空気を床面に噴きつけて基台を床面から浮かせることで移動可能にする方法、（２）床面側に車輪を配設することで移動可能にする方法、（３）前記（１）及び（２）の手段を併用して移動可能にする方法等が好ましく用いられる。このような駆動方式である場合、移動式ユニットの移動時における振動が十分に抑制されるため、高品質の組成物を調製することができる。更には、移動式ユニットの移動により発生する異物量を抑制できるため、クリーンルーム内で取り扱われ、異物混入の管理が厳しい電子材料用組成物やディスプレイ材料用の組成物を調製することができる。
【００１３】
また、前記移動式ユニットには、前記調製タンク内に、後述の原料供給ユニット等から原料を供給するための原料供給部が配設されている。
前記原料供給部の構成は、原料の供給が可能であれば特に限定されない。具体的には、例えば、図１に示すように、原料供給ユニット等に接続可能な接続部３１と、バルブ３２を備える配管と、原料供給ノズル３３と、を備える形態等を挙げることができる。
この原料供給部は、前記調製タンク、前記第１ライン又は前記第２ラインに配設され、調製タンクに配設されていることがより好ましい。
【００１４】
また、前記移動式ユニットには、調製物を移動式ユニット内から、移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部が配設されている。
前記調製物排出部の構成は、後述の充填ユニット等への調製物の供給が可能であれば特に限定されない。具体的には、例えば、図１に示すように、後述の充填ユニット等に接続可能な接続部４１と、バルブ４３を備える配管と、を備える形態等を挙げることができる。特に、接続部４１につながる配管は、動作自由度の高いものが好ましい（図１におけるフレキシブルライン４２参照）。この場合、充填ユニット等の設備における接合部との脱着が容易となる。また、充填ユニットが比較的クリーン度の高いクリーンルーム（調製物充填室）に設置されている場合、充填工程時に動作自由度の高い配管（フレキシブルライン４２）と接続部４１のみをクリーンルームの内部に入れて充填操作を行えるため、移動式ユニット全体をクリーンルーム内に入れて充填操作を行う場合よりも、クリーン度の低下を最小限に抑えることができる。更に、クリーンルームをより省スペース化することができ、設備コストを大幅に低減できる。
この調製物排出部は、前記調製タンク、前記第１ライン又は前記第２ラインに配設され、第２ラインに配設されていることがより好ましい。
【００１５】
前記濾過装置は、濾材が配設された濾過部を備える。この濾過部は、１カ所のみに形成されていてもよいし、複数箇所に形成されていてもよい。
前記濾材は特に限定されないが、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）、ポリアミド系合成繊維（例えば、ナイロン６、ナイロン６６等）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、及び、ＰＥとポリアミド系合成繊維との複合膜等からなるフィルターを用いることが好ましい。これらのフィルターを用いた場合には、調製物等が触れることによるフィルター成分の溶出を抑制することができ、フォトレジスト組成物やディスプレイ材料用の組成物を調製する際に、ディフェクト（欠陥）の原因となる異物の混入を十分に抑制することができる。
また、前記濾過部が複数箇所に形成されている場合、各濾過部に配設される濾材の種類は同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００１６】
前記フィルターの孔径は０．００５〜１μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．００５〜０．１μｍである。この孔径が０．００５〜１μｍである場合には、異物を十分に捕集することができる。また、この孔径が０．００５μｍ未満の場合、圧力損失が大きく、生産性が著しく低下するおそれがある。一方、この孔径が１μｍより大きい場合、要求される異物捕集能力が得られないおそれがある。
尚、ここでいうフィルターの「孔径」とは、孔径が３０ｎｍを超える場合には、標準粒子〔ポリスチレンラテックス粒子（ＰＳＬ）〕の除去率（９０％以上）によって決定された平均孔径をいい、孔径が３０ｎｍ以下の場合には、バブルポイント法等により推定した値である。
【００１７】
［２］原料供給ユニット
本発明の調製装置は、前記移動式ユニットにおける調製タンクに原料を供給するための原料供給ユニットを備えていてもよい。尚、本調製装置が備える原料供給ユニットの数は特に限定されず、１つのみであってもよいし、２つ以上であってもよい。また、複数の原料供給ユニットを備える場合、各ユニットは、同一のクリーンルーム等の原料供給室に設置されていてもよいし、異なる原料供給室に設置されていてもよい。
前記原料供給ユニットの構成は、前記移動式ユニットにおける調製タンク内へ原料の供給が可能であれば特に限定されない。具体的には、例えば、図２に示すように、原料タンク５１と、バルブ５２を備える配管５４と、配管５４の先端に形成され且つ移動式ユニットの原料供給部における接続部と接続可能な原料排出部５３と、を備える形態等を挙げることができる。また、原料排出部５３につながる配管は、動作自由度の高いものとすることもできる。
【００１８】
前記原料供給ユニットは、クリーンルーム内に設置されることが好ましい。尚、原料供給ユニットの設置数は特に限定されず、用いられる原料の種類に応じて適宜選択される。  前記クリーンルームのクリーン度は、Ｃｌａｓｓ１０００００以下であることが好ましく、より好ましくはＣｌａｓｓ１００００以下、このクリーン度がＣｌａｓｓ１０００００以下である場合には、フォトレジスト材料等の電子材料分野に用いられる組成物や、ディスプレイ材料に用いられる配向膜組成物や着色レジスト組成物等の、異物混入に対する管理が厳しく且つ高価な組成物の製造分野において、本調製装置を好適に用いることができる。
尚、このクリーン度における「Ｃｌａｓｓ」は、クリーンルームにおいて、どの程度の塵埃を許容するかの指標に規定される規格であって、１立方フィート当たりの空気中に、粒径０．５μｍ以上の塵埃数（粒子数）を意味する（米国連邦規格、ＦＥＤ−ＳＴＤ−２０９Ｄ参照）。
【００１９】
［３］充填ユニット
本発明の調製装置は、前記移動式ユニットにおいて調製された調製物を充填容器等に充填するための充填ユニットを備えている。尚、本調製装置が備える充填ユニットの数は特に限定されず、１つのみであってもよいし、２つ以上であってもよい。また、複数の充填ユニットを備える場合、各ユニットは、同一のクリーンルーム等の調製物充填室に設置されていてもよいし、異なる調製物充填室に設置されていてもよい。
前記充填ユニットの構成は、前記移動式ユニットから排出される調製物を供給でき、充填容器等に充填可能であれば特に限定されない。具体的には、例えば、図３に示すように、移動式ユニットの調製物排出部における接続部と接続可能な調製物供給部７１と、バルブ７２を備える配管７４と、配管７４の先端に形成された充填ノズル７３と、充填容器７５と、重量計７６と、を備える形態等を挙げることができる。
【００２０】
前記充填ユニットは、クリーンルーム内に設置される。尚、充填ユニットの設置数は特に限定されず、適宜選択される。
前記クリーンルームのクリーン度は、Ｃｌａｓｓ１０００以下であり、更に好ましくはＣｌａｓｓ１００以下である。このクリーン度がＣｌａｓｓ１０００以下である場合には、フォトレジスト材料等の電子材料分野に用いられる組成物や、ディスプレイ材料に用いられる配向膜組成物や着色レジスト組成物等の、異物混入に対する管理が厳しく且つ高価な組成物の製造分野において、本調製装置を好適に用いることができる。
【実施例】
【００２１】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。
【００２２】
［１］調製装置の構成
図４に示すように、本調製装置１は、クリーンルームＡ（原料供給室）内に設置された原料供給ユニット５０、６０（図２参照）と、クリーンルームＢ（調製物充填室）内に設置された充填ユニット７０（図３参照）と、これらのクリーンルームＡ及びＢの間を自由に移動可能な移動式ユニット１０（図１参照）と、を備えている。
【００２３】
（１）移動式ユニットの構成
図１に示すように、移動式ユニット１０は、移動式基台１１と、調製タンク１２と、濾過装置１４と、調製タンク１２内の内容物を濾過装置１４まで運ぶための第１ライン１５と、濾過装置１４を通過した内容物を調製タンク１２まで運ぶための第２ライン１６と、調製タンク１２内に原料を供給するための原料供給部３と、調製物を移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部４と、を備えている。
基台１１は、床面に向けて圧縮エアーを噴出可能に構成されており、エアー浮上式となっている。更に、基台１１の床面側には車輪（図示せず）が配設されており、エアーにより浮上している移動式ユニットを下方に押しつけて移動させることによって、移動式ユニットの動きが制御される。
【００２４】
調製タンク１２は基台１１に配設されており、攪拌装置１３と、原料供給部３とを備えている。この原料供給部３は、原料供給ユニット５０、６０（図２参照）に接続される接続部３１と、バルブ３２と、原料供給ノズル３３と、を備えている。
濾過装置１４は基台１１に配設されており、内部に濾材を備えている。
第１ライン１５は、調製タンク１２の下部と濾過装置１４とを接続するように配設されている。更に、この第１ライン１５には、バルブ１７と、送液ポンプ１８とが配設されている。
また、第２ライン１６は、濾過装置１４と調製タンク１２の上部とを接続するように配設されている。更に、この第２ライン１６には、調製物排出部４が配設されている。この調製物排出部４は、充填ユニット７０（図３参照）に接続される接続部４１と、動作自由度の高いフレキシブルライン４２と、バルブ４３と、を備えている。
【００２５】
（２）原料供給ユニットの構成
図２に示すように、原料供給ユニット５０は、原料タンク５１と、バルブ５２を備える配管５４と、配管５４の先端に形成され且つ移動式ユニット１０における接続部３１と接続可能な原料排出部５３と、を備えている。また、同様に、原料供給ユニット６０は、原料タンク６１と、バルブ６２を備える配管６４と、配管６４の先端に形成され且つ移動式ユニット１０における接続部３１と接続可能な原料排出部６３と、を備えている。
【００２６】
（３）充填ユニットの構成
図３に示すように、充填ユニット７０は、移動式ユニット１０における接続部４１と接続可能な調製物供給部７１と、バルブ７２を備える配管７４と、配管７４の先端に形成された充填ノズル７３と、充填容器７５と、重量計７６と、を備えている。
【００２７】
［２］調製装置の作用
図１〜４を参照して、本調製装置１を用いて組成物を調製する際の作用を説明する。
まず、原料供給ユニット５０、６０の設置されたクリーンルームＡ（原料供給室）内に、移動式ユニット１０を移動させる。
次いで、移動式ユニット１０における原料供給部３の接続部３１と、原料供給ユニット５０における原料排出部５３とを接続し、バルブ３２、５２を開放し、予め原料タンク５１に仕込まれた原料を、調製タンク１２内に供給し、バブル３２、５２を閉じる。その後、移動式ユニット１０における原料供給部３の接続部３１と、原料供給ユニット６０における原料排出部６３とを接続し、バルブ３２、６２を開放し、予め原料タンク６１に仕込まれた他の原料を、調製タンク１２内に供給し、バルブ３２、６２を閉じる。
そして、全ての原料の供給が完了した後、調製タンク１２内の原料を撹拌装置１３により、所要時間、撹拌する。撹拌終了後、バルブ１７を開放して、送液ポンプ１８を作動させ、調製タンク１２内の組成物が第１ライン１５、濾過装置１４、第２ライン１６、調製タンク１２の順に循環するように、所要時間、循環濾過を行う。
循環濾過が終了した後、移動式ユニット１０を、充填ユニット７０の設置されたクリーンルームＢ（調製物充填室）近くに移動させる。次いで、移動式ユニット１０に備え付けられた動作自由度の高い配管（フレキシブルライン４２）と充填ユニット等に接続可能な接続部４１のみをクリーンルームＢ（調製物充填室）に入れて、充填ユニット７０における調製物供給部７１と接続部４１とを接続し、バルブ４３、７２を開放し、重量計７６に載置された充填容器７５に組成物を充填する。尚、この充填工程は、移動式ユニット１０全体をクリーンルームＢ内に入れて行ってもよい。
【００２８】
このように、本調製装置１によれば、クリーンルームＡに設置された原料供給ユニット５０、６０と、クリーンルームＢに設置された充填ユニット７０との間を、移動式ユニット１０が移動することによって、生産設備の配管長さを従来の固定式の調製装置では達成できない程度にまで短くすることができる。そのため、生産設備の配管及びバルブから混入するディフェクト発生の要因となり得る異物の量を大幅に低減することができる。更には、配管内に残留する調製物の量を最小限に抑えることができるため、収率を大幅に向上することができる。
更に、本調製装置１によれば、原料供給ユニット５０、６０から調製タンク１２に原料を供給した後、移動式ユニット１０での撹拌操作や循環濾過等の調製工程や充填ユニット７０での充填工程中に、原料供給ユニット５０、６０の洗浄を平行して行うことができる。更には、連続して次の生産を行う場合に、原料供給ユニット５０、６０からの調製タンク１２への原料供給工程や移動式ユニット１０での調製工程中に、充填ユニット７０における前バッチ品を平行して洗浄することができる。これによって、複数バッチを生産する場合の単位バッチ当たりに要する平均の生産時間を短くすることができ、より生産性を向上することができる。
また、充填工程時に動作自由度の高い配管（フレキシブルライン４２）と接続部４１のみをクリーンルームの内部に入れて充填操作を行う場合には、充填ユニット７０がクリーン度の比較的高いクリーンルーム（例えば、Ｃｌａｓｓ１０００以下）に設置されていても、クリーン度の低下を最小限に抑えることができる。更には、移動式ユニット全体をクリーンルーム内に入れて充填操作を行う場合よりも、クリーンルームに必要な面積をより省スペース化することができ、設備コストを大幅に低減できる。
【００２９】
［３］組成物の調製
（１）実施例１（液浸用組成物溶液の調製）
まず、図４に示すように、クリーンルームＡ（原料供給室）内に設置された原料供給ユニット５０、６０（図２参照）と、クリーンルームＢ（調製物充填室）内に設置された充填ユニット７０（図３参照）と、これらのクリーンルームＡ及びＢの間を自由に移動可能な移動式ユニット１０（図１参照）と、を備える調製装置１を組み立てた。
この際、クリーンルームＡにおけるクリーン度をＣｌａｓｓ１０００とし、クリーンルームＢにおけるクリーン度をＣｌａｓｓ１００とした。また、原料供給ユニット５０における原料タンク５１（容量；５０Ｌ）には、原料Ａとして、液浸用組成物〔２−メチル−アクリル酸４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ブチルとビニルスルホン酸との共重合体（重量平均分子量（Ｍｗ）：１０５００）を２０質量％含む４−メチル−２−ペンタノール〕を仕込んだ。更に、原料供給ユニット６０における原料タンク６１（容量；５０Ｌ）には、原料Ｂとして、４−メチル−２−ペンタノールを仕込んだ。また、移動式ユニット１０における濾過装置１４の濾材としては、ＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）フィルター（孔径；０．１μｍ）を用いた。
【００３０】
次いで、原料供給ユニット５０、６０の設置されたクリーンルームＡ（原料室）内に、移動式ユニット１０を移動させた。移動後、移動式ユニット１０における調製タンク１２（容量；１００Ｌ）内に、原料供給ユニット５０から原料Ａを３０ｋｇ供給し、更に、原料供給ユニット６０から原料Ｂを３０ｋｇ供給した。
その後、クリーンルームＡ内で、調製タンク１２内の各原料を３時間撹拌した後、４時間かけて循環濾過を行って、調製物（液浸用組成物溶液）を再び調製タンク１２内に戻した。
次いで、移動式ユニット１０を、充填ユニット７０の設置されたクリーンルームＢ（調製物充填室）近くに移動させた。移動後、移動式ユニット１０における動作自由度の高い配管（フレキシブルライン４２）と充填ユニット等に接続可能な接続部４１のみをクリーンルームＢ（調製物充填室）に入れて、調製タンク１２内の液浸用組成物溶液を、充填ユニット７０における充填容器７５に充填した。
そして、この方法により得られた液浸用組成物溶液の回収率を測定したところ、その回収率は９２質量％と非常に高かった。尚、この実施例１と同量の組成物を、移動式ユニット１０を備える調製装置１を用いず、従来の固定式の調製装置で生産する場合、調製タンクや、充填ユニットと調製タンクとをつなぐ配管中における組成物溶液の残留量が多く、その回収率は、通常８０質量％程度である。
【００３１】
（２）実施例２（フォトレジスト用組成物溶液の調製）
まず、実施例１と同様に、クリーンルームＡ（原料供給室）内に設置された原料供給ユニット５０、６０と、クリーンルームＢ（調製物充填室）内に設置された充填ユニット７０と、これらのクリーンルームＡ及びＢの間を自由に移動可能な移動式ユニット１０と、を備える調製装置１を組み立てた（図１〜４参照）。
この際、クリーンルームＡにおけるクリーン度をＣｌａｓｓ１００００とし、クリーンルームＢにおけるクリーン度をＣｌａｓｓ１００とした。また、原料供給ユニット５０における原料タンク５１（容量；５０Ｌ）には、原料Ａとして、フォトレジスト用樹脂含有溶液〔ヒドロキシスチレンとｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルヒドロキシスチレンとの共重合体（Ｍｗ：１３０００）を３０質量％含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液〕を仕込んだ。更に、原料供給ユニット６０における原料タンク６１（容量；５０Ｌ）には、原料Ｂとして、酸発生剤（トリフェニルスルホニウムトリフレートを２０質量％含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）を仕込んだ。また、移動式ユニット１０における濾過装置１４の濾材としては、ＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）フィルター（孔径；０．２μｍ）を用いた。
【００３２】
次いで、原料供給ユニット５０、６０の設置されたクリーンルームＡ（原料室）内に、移動式ユニット１０を移動させた。移動後、移動式ユニット１０における調製タンク１２（容量；１００Ｌ）内に、原料供給ユニット５０から原料Ａを３０ｋｇ供給し、更に、原料供給ユニット６０から原料Ｂを１０ｋｇ供給した。
その後、クリーンルームＡ内で、調製タンク１２内の各原料を４時間撹拌した後、３時間かけて循環濾過を行って、調製物（フォトレジスト用組成物溶液）を再び調製タンク１２内に戻した。
次いで、移動式ユニット１０を、充填ユニット７０の設置されたクリーンルームＢ（調製物充填室）近くに移動させた。移動後、移動式ユニット１０における動作自由度の高い配管（フレキシブルライン４２）と充填ユニット等に接続可能な接続部４１のみをクリーンルームＢ（調製物充填室）に入れて、調製タンク１２内のフォトレジスト用組成物溶液を、充填ユニット７０における充填容器７５に充填した。
そして、この方法により得られたフォトレジスト用組成物溶液の回収率を測定したところ、その回収率は９３質量％と非常に高かった。尚、この実施例２と同量の組成物を、移動式ユニット１０を備える調製装置１を用いず、従来の固定式の調製装置で生産する場合、調製タンクや、充填ユニットと調製タンクとをつなぐ配管中における組成物溶液の残留量が多く、その回収率は、通常８０質量％程度である。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】移動式ユニットの構成を説明する模式図である。
【図２】原料供給ユニットの構成を説明する模式図である。
【図３】充填ユニットの構成を説明する模式図である。
【図４】調製装置の構成を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００３４】
１；調製装置、１０；移動式ユニット、１１；移動式基台、１２；調製タンク、１３；撹拌装置、１４；濾過装置、１５；第１ライン、１６；第２ライン、１７；バルブ、１８；送液ポンプ、３；原料供給部、３１；接続部、３２；バルブ、３３；原料供給ノズル、４；調製物排出部、４１；接続部、４２；フレキシブルライン、４３；バルブ、５０；原料供給ユニット、５１；原料タンク、５２；バルブ、５３；原料排出部、５４；配管、６０；原料供給ユニット、６１；原料タンク、６２；バルブ、６３；原料排出部、６４；配管、７０；充填ユニット、７１；調製物供給部、７２；バルブ、７３；充填ノズル、７４；配管、７５；充填容器、７６；重量計、Ａ、Ｂ；クリーンルーム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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