(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルと、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤に置換された状態で保持するメンテナンス手段とを具備し、前記ノズルの吐出口から前記基板に処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記メンテナンス手段は、
前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段と、前記ノズルの吐出口との間に所定の間隙を形成する液保持面とを有し、
前記待機期間において、前記ノズルは、前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面は、前記ノズルの外面に形成されることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
所定量の前記溶剤を貯留すると共に、少なくとも前記ノズルの吐出口を挿入可能な上部開口を有するケーシングを備え、
前記液保持面は、前記ケーシング内に設けられ、
前記ケーシングの上部開口に前記ノズルの吐出口が挿入された状態で、前記吐出口と前記液保持面との間に所定の間隙が形成されることを特徴とする請求項１に記載された塗布装置。
【請求項３】
前記液保持面は、前記ケーシング内に設けられた板部材に形成されていることを特徴とする請求項２に記載された塗布装置。
【請求項４】
前記ケーシングの上部開口に前記ノズルの吐出口が挿入された状態で、前記ノズルの下方位置に対し、前記液保持面を進退移動させる進退移動手段を備えることを特徴とする請求項２または請求項３に記載された塗布装置。
【請求項５】
前記液保持面には、前記ノズルの吐出口の前後位置に、前記吐出口の長手方向に延びる一対の溝部が形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された塗布装置。
【請求項６】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルと、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤に置換された状態で保持するメンテナンス手段とを具備し、前記ノズルの吐出口から前記基板に処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記メンテナンス手段は、
前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段と、少なくとも前記吐出口を浸漬可能な所定量の溶剤を貯留するための貯留容器とを有し、
前記待機期間において、前記溶剤供給手段は前記ノズルに前記溶剤を供給し、前記ノズルは、その吐出口から前記貯留容器に溶剤を吐出して溜めると共に、前記貯留容器に貯留された溶剤に浸漬された状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面は、前記ノズルの外面に形成されることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
所定量の前記溶剤を貯留すると共に、少なくとも前記ノズルの吐出口を挿入可能な上部開口を有するケーシングを備え、
前記貯留容器は、前記ケーシング内に設けられ、
前記ケーシングの上部開口に前記ノズルの吐出口が挿入された状態で、前記吐出口は前記貯留容器に貯留された溶剤に浸漬されることを特徴とする請求項６に記載された塗布装置。
【請求項８】
前記貯留容器は、少なくとも前記ノズルの吐出口を挿入可能な上部開口を有し、
前記貯留容器の上部開口に前記ノズルの吐出口が挿入された状態で、前記吐出口は貯留された溶剤に浸漬されることを特徴とする請求項６に記載された塗布装置。
【請求項９】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルにおいて、
前記ノズルの待機期間に、前記ノズル内の流路を前記処理液から前記処理液の溶剤に置換し保持するノズルのメンテナンス方法であって、
前記ノズルに対し前記処理液に換えて前記溶剤を供給するステップと、
前記吐出口の下方に液保持面を配置し、前記吐出口と前記液保持面との間に所定の間隙を形成するステップと、
前記ノズルを、前記吐出口から前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持し、前記溶剤の前記ノズルに対する界面を、前記ノズルの外面に形成するステップとを含むことを特徴とするノズルのメンテナンス方法。
【請求項１０】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルにおいて、
前記ノズルの待機期間に、前記ノズル内の流路を前記処理液から前記処理液の溶剤に置換し保持するノズルのメンテナンス方法であって、
前記ノズルに対し前記処理液に換えて前記溶剤を供給するステップと、
少なくとも前記吐出口を浸漬可能な所定量の溶剤を前記ノズルから吐出し貯留容器に貯留するステップと、
前記ノズルの吐出口を、前記貯留容器に貯留された溶剤に浸漬した状態で保持し、前記溶剤の前記ノズルに対する界面を、前記ノズルの外面に形成するステップとを含むことを特徴とするノズルのメンテナンス方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理基板に対して処理液を塗布する塗布装置、及びこれに搭載されたスリット状の吐出口を有するノズルのメンテナンス方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する方法として、スリット状のノズル吐出口からレジスト液を帯状に吐出し、レジストを基板上に塗布する方法がある。
この方法を用いた従来のレジスト塗布装置について、図１２を用いて簡単に説明する。
図１２に示すレジスト塗布装置２００は、基板Ｇを載置するステージ２０１と、このステージ２０１の上方に配設されるレジスト供給ノズル２０２と、このノズル２０２を移動させるノズル移動手段２０３とを具備している。
レジスト供給ノズル２０２には、基板の幅方向に延びる微小隙間を有するスリット状の吐出口２０２ａが設けられ、レジスト液供給源２０４から供給されたレジスト液Ｒを吐出口２０２ａから吐出するようになされている。
【０００４】
ところで、スリット状の吐出口２０２ａは、微小な隙間により形成されているため、ノズル待機時においてノズル先端のメンテナンス処理を施さなければ、レジスト液の乾燥等により目詰まりが生じる。このため、レジスト塗布装置２００は、図１２に示すようにノズル先端を洗浄するためのノズルメンテナンス手段２０８を具備している。
このノズルメンテナンス手段２０８は、例えば、ノズル吐出口２０２ａに洗浄液（シンナー）を吹きつけてノズル先端を洗浄するノズル洗浄部２０８ａと、待機時において吐出口２０２ａが乾燥しないように吐出口２０２ａを溶剤の蒸気雰囲気下で保持するためのノズルバス２０８ｂとを有する。更に、基板Ｇへの塗布処理前において、回転自在な円柱形状のプライミングローラの表面にレジスト液Ｒを吐出し、ノズル先端に付着したレジスト液Ｒを均一化（プライミング処理）するプライミング処理部２０８ｃを有している。
【０００５】
この構成において、基板Ｇへのレジスト塗布処理時にあっては、ノズル２０２をノズル移動手段２０３によって水平移動させながら、スリット状の吐出口２０２ａからレジスト液Ｒを基板の表面全体に帯状に吐出することにより、レジスト液Ｒの塗布処理がなされる。
また、ノズル２０２の待機時にあっては、前記ノズルメンテナンス手段２０８によるノズルのメンテナンス処理が行われる。このメンテナンス処理では、先ずノズル２０２がノズル移動手段２０３によってノズル洗浄部２０８ａに移動される。そして、ノズル洗浄部２０８ａにおいてノズル先端に対する洗浄処理が施され、次いで、図１３に示すようにノズルバス２０８ｂにおいてノズル吐出口２０２ａが乾燥しないようにノズル２０２が保持される。
また、次の基板Ｇへの塗布処理を行う前には、ノズル２０２はプライミング処理部２０８ｃに移動され、プライミングローラへのレジスト液吐出が行われることによって、ノズル先端のプライミング処理が施される。
尚、このようなメンテナンス処理を行う装置構成については特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４０４００２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記したように、ノズル待機期間におけるノズル２０２のメンテナンス処理にあっては、ノズル２０２は、その先端部（吐出口２０２ａ）がノズル洗浄部２０８ａによって洗浄され、図１３に示すようにノズルバス２０８ｂにおいてノズル吐出口２０２ａが乾燥しないようにノズル２０２が保持される。
ここで、同一ロット内で連続的に処理される基板間の待機期間であれば、次の基板Ｇの塗布処理までに長時間空くことがないため、ノズル２０２内の流路２０２ｂには処理液であるレジスト液が充填されたままである。
【０００８】
一方、異なるロット間での待機期間では、長時間の待機となることもあり、ノズル２０２内の流路２０２ｂは、レジストの乾燥付着防止、流路洗浄等の目的により、レジスト液Ｒから溶剤Ｔ（シンナー）に置換されている。
しかしながら、ノズル流路２０２ｂが溶剤Ｔに置換された状態で長時間放置されると、待機中の時間経過に伴い、ノズル先端（吐出口２０２ａ）まで充填されていた溶剤Ｔの蒸発が進行し、図１４に示すように溶剤Ｔに溶け出したレジスト成分が溶剤Ｔの界面Ｔ１付近において析出し、流路２０２ｂ内において異物Ｄとなって固着するという課題があった。
また、そのように流路２０２ｂに異物Ｄが付着したままであると、吐出口２０２ａからのレジスト吐出状態が不均一となり、基板Ｇへのレジスト液Ｒの塗布処理において塗布膜に筋斑が生じる虞があった。
また、流路２０２ｂ内を傷つけることなく異物Ｄを除去するには、ノズル２０２を分解して洗浄する必要があり、手間と時間を要するという課題があった。
また、流路２０２ｂ内を溶剤Ｔに置換後、吐出口２０２ａ付近の乾燥を防止するために溶剤Ｔを吐出する、所謂ダミーディスペンスを行う方法があるが、多量の溶剤Ｔを吐出し破棄する必要があるため、コストが嵩張るという課題があった。
【０００９】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板に処理液を塗布する塗布装置において、ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出することのできる塗布装置及びノズルのメンテナンス方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布装置は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルと、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤に置換された状態で保持するメンテナンス手段とを具備し、前記ノズルの吐出口から前記基板に処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置であって、前記メンテナンス手段は、前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段と、前記ノズルの吐出口との間に所定の間隙を形成する液保持面とを有し、前記待機期間において、前記ノズルは、前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面は、前記ノズルの外面に形成されることに特徴を有する。
【００１１】
或いは、本発明に係る塗布装置は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルと、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤に置換された状態で保持するメンテナンス手段とを具備し、前記ノズルの吐出口から前記基板に処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置であって、前記メンテナンス手段は、前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段と、少なくとも前記吐出口を浸漬可能な所定量の溶剤を貯留するための貯留容器とを有し、前記待機期間において、前記溶剤供給手段は前記ノズルに前記溶剤を供給し、前記ノズルは、その吐出口から前記貯留容器に溶剤を吐出して溜めると共に、前記貯留容器に貯留された溶剤に浸漬された状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面は、前記ノズルの外面に形成されることに特徴を有する。
【００１２】
このように構成することにより、溶剤に溶け出した処理液の成分が、溶剤の蒸発により界面付近で析出したとしても、析出した異物の流路内への付着を防止することができる。
即ち、流路内を清浄な状態とし、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出することができる。
また、溶剤から析出した処理液成分からなる異物は、ノズル外面に付着するため、ノズルを分解することなく、その除去作業を容易に行うことができる。
【００１３】
前記した課題を解決するために、本発明に係るノズルのメンテナンス方法は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルにおいて、前記ノズルの待機期間に、前記ノズル内の流路を前記処理液から前記処理液の溶剤に置換し保持するノズルのメンテナンス方法であって、前記ノズルに対し前記処理液に換えて前記溶剤を供給するステップと、前記吐出口の下方に液保持面を配置し、前記吐出口と前記液保持面との間に所定の間隙を形成するステップと、前記ノズルを、前記吐出口から前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持し、前記溶剤の前記ノズルに対する界面を、前記ノズルの外面に形成するステップとを含むことに特徴を有する。
【００１４】
或いは、本発明に係るノズルのメンテナンス方法は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口から処理液を吐出するノズルにおいて、前記ノズルの待機期間に、前記ノズル内の流路を前記処理液から前記処理液の溶剤に置換し保持するノズルのメンテナンス方法であって、前記ノズルに対し前記処理液に換えて前記溶剤を供給するステップと、少なくとも前記吐出口を浸漬可能な所定量の溶剤を前記ノズルから吐出し貯留容器に貯留するステップと、前記ノズルの吐出口を、前記貯留容器に貯留された溶剤に浸漬した状態で保持し、前記溶剤の前記ノズルに対する界面を、前記ノズルの外面に形成するステップとを含むことに特徴を有する。
【００１５】
このような方法によれば、溶剤に溶け出した処理液の成分が、溶剤の蒸発により界面付近で析出したとしても、析出した異物の流路内への付着を防止することができる。
即ち、流路内を清浄な状態とし、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出することができる。
また、溶剤から析出した処理液成分からなる異物は、ノズル外面に付着するため、ノズルを分解することなく、その除去作業を容易に行うことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、被処理基板に処理液を塗布する塗布装置において、ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出することのできる塗布装置及びノズルのメンテナンス方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明にかかる一実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる一実施形態の全体概略構成を示す側面図である。
【図３】図３は、図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】図４は、本発明に係る塗布装置が具備する待機部の断面図である。
【図５】図５は、図４のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図６】図６は、図４の待機部が有するノズルバスの一部拡大断面図である。
【図７】図７は、本発明にかかる塗布装置の動作の流れを示すフロー図である。
【図８】図８（ａ），（ｂ）は、本発明にかかる塗布装置の他の形態を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明にかかる塗布装置の他の形態を示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明にかかる塗布装置の他の形態を示す断面図である。
【図１１】図１１（ａ），図１１（ｂ）は、本発明にかかる塗布装置の他の形態を示す断面図である。
【図１２】図１２は、従来の塗布処理ユニットの概略構成を説明するための斜視図である。
【図１３】図１３は、従来の塗布処理ユニットが具備するノズルバスの断面図である。
【図１４】図１４は、図１３のノズルバスに配置されたノズルの先端部の状態を示す一部拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の塗布装置及びノズルのメンテナンス方法にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、塗布装置を、被処理基板であるガラス基板を浮上搬送しながら、前記基板に対し処理液であるレジスト液の塗布処理を行うレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明する。
【００１９】
図１、図２に示すように、このレジスト塗布処理ユニット１は、ガラス基板Ｇを枚様式に一枚ずつ浮上搬送するための浮上搬送部２Ａと、前記浮上搬送部２Ａから基板Ｇを受け取り、コロ搬送するコロ搬送部２Ｂとを備え、基板Ｇが所謂平流し搬送されるように構成されている。
【００２０】
前記浮上搬送部２Ａにおいては、基板搬送方向であるＸ方向に延長された浮上ステージ３が設けられている。浮上ステージ３の上面には、図示するように多数のガス噴出口３ａとガス吸気口３ｂとがＸ方向とＹ方向に一定間隔で交互に設けられ、ガス噴出口３ａからの不活性ガスの噴出量と、ガス吸気口３ｂからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Ｇを浮上させている。
尚、この実施形態では、ガスの噴出及び吸気により基板Ｇを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
【００２１】
また、コロ搬送部２Ｂにおいては、ステージ３の後段に、コロ駆動部４０によって回転駆動される複数本のコロ軸４１が並列に設けられている。各コロ軸４１には、複数の搬送コロ４２が取り付けられ、これら搬送コロ４２の回転によって基板Ｇを搬送する構成となされている。
【００２２】
浮上搬送部２Ａにおける浮上ステージ３の幅方向（Ｙ方向）の左右側方には、Ｘ方向に平行に延びる一対のガイドレール５が設けられている。この一対のガイドレール５には、ガラス基板Ｇの四隅の縁部を下方から吸着保持してガイドレール５上を移動する４つの基板キャリア６が設けられている。これら基板キャリア６により浮上ステージ３上に浮上したガラス基板Ｇを搬送方向（Ｘ方向）に沿って移動される。
尚、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂへの基板引き渡しを円滑に行うために、ガイドレール５は、浮上ステージ３の左右側方だけでなく、コロ搬送部２Ｂの側方にまで延設されている。
【００２３】
各基板キャリア６は、図３（図１のＡ−Ａ矢視断面）に示すように、ガイドレール５に沿って移動可能に設けられたスライド部材６ａと、基板Ｇの下面に対し吸引・開放動作により吸着可能な吸着部材６ｂと、吸着部材６ｂを昇降移動させる昇降駆動部６ｃとを有する。
尚、吸着部材６ｂには、吸引ポンプ（図示せず）が接続され、基板Ｇとの接触領域の空気を吸引して真空状態に近づけることにより、基板Ｇに吸着するようになされている。
また、前記スライド部材６ａと昇降駆動部６ｃと前記吸引ポンプとは、それぞれコンピュータからなる制御部５０によって、その駆動が制御される。
【００２４】
また、図１、図２に示すように、浮上搬送部２Ａの浮上ステージ３上には、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル１６が設けられている。ノズル１６は、Ｙ方向に向けて例えば長い略直方体形状に形成され、ガラス基板ＧのＹ方向の幅よりも長く形成されている。図２、図３に示すようにノズル１６の下端部には、浮上ステージ３の幅方向に長いスリット状の吐出口１６ａが形成されている。
【００２５】
また、このノズル１６には、レジスト液供給源３０から送出ポンプ３１及び切換バルブ３２を介してレジスト液が供給される。
一方、ノズル１６のメンテナンス時（待機時）においては、溶剤供給部３３から送出ポンプ３４及び切換バルブ３２を介してレジストの溶剤（シンナー液）が供給されるようになされている。即ち、溶剤供給部３３及び送出ポンプ３４により溶剤供給手段が構成される。
【００２６】
また、図１に示すようにノズル１６の両側には、Ｘ方向に延びる一対のガイドレール１０が設けられている。このガイドレール１０に沿ってスライド移動可能な一対のスライド部材１７が設けられ、図３に示すように各スライド部材１７の上に垂直にシャフト１８が立設されている。前記シャフト１８には、このシャフト１８に沿って昇降移動可能な昇降駆動部１９が設けられ、Ｙ方向に対向する一対の昇降駆動部１９の間にノズル１６を保持する直棒状のノズルアーム１１が架設されている。
かかる構成によりノズル１６は、昇降移動可能、且つガイドレール１０に沿ってＸ方向に移動可能となされている。
【００２７】
また、ステージ３上方において、ノズル１６よりも上流側には、ノズル１６のメンテナンス手段として、ノズル先端（吐出口１６ａ）を洗浄し、ノズル１６を所定時間待機させる待機部１４と、塗布処理前においてノズル先端に付着したレジスト液を均一化するためのプライミング処理部２０とが設けられている。
待機部１４は、ノズル１６の吐出口１６ａに付着した余分なレジスト液を洗浄し除去するノズル洗浄部２４と、待機時において吐出口１６ａが乾燥しないように吐出口１６ａを溶剤（シンナー）の蒸気雰囲気下で保持するためのノズルバス２６とを有している。
また、プライミング処理部２０は、基板幅方向（Ｙ方向）に細長い上部開口２１ａを有する箱状のケーシング２１と、ケーシング２１内においてモータ等の回転駆動部２２により軸周りに回転可能に設けられた円筒または円柱形状のプライミングローラ２３とを備えている。図２に示すようにプライミングローラ２３の上部は、ケーシング２１の上部開口２１ａから突出した状態に設けられている。
【００２８】
前記のようにノズル１６は、昇降移動可能、且つガイドレール１０に沿ってＸ方向に移動可能となされており、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にあるプライミング処理部２０及び待機部１４との間を移動することができる。
即ち、ノズル待機時において、ノズル１６は待機部１４に移動されて、そこでノズル洗浄等が行われ、塗布処理前にはプライミング処理部２０に移動されて、プライミング処理が施されるように構成されている。
【００２９】
前記待機部１４について、更に詳しく説明する。
図４の断面図に示すようにノズル洗浄部２４は、ノズル洗浄ヘッド２５を備える。
ノズル洗浄ヘッド２５は、ノズル吐出口１６ａ近傍に向けてシンナー等の洗浄液を吐出するシンナー吐出ノズル２５ａと、洗浄使用後のシンナーを吸引回収するシンナー排出管２５ｂと、ノズル吐出口１６ａ近傍に向けて窒素ガス等の所定のガスを噴射するガス噴射ノズル２５ｃとを有する
このノズル洗浄ヘッド２５は、ヘッドスキャン機構（図示せず）によって、基板幅方向（Ｙ方向）にスキャン移動し、これによりノズル吐出口１６ａの一端から他端まで洗浄可能となされている。
【００３０】
また、ノズルバス２６は、基板幅方向（Ｙ方向）に細長い上部開口２７ａを有する箱状のケーシング２７を有し、このケーシング２７内に所定量の溶剤Ｔ（シンナー）が貯留されている。ケーシング２７の側部には排出管２７ｂが設けられ、貯留された溶剤Ｔが所定の容量を越えないようになされている。
図４に示すように、ノズル待機時には、ノズル先端部（吐出口１６ａ）が前記上部開口２７ａからケーシング２７内に挿入された状態で保持される。
【００３１】
また、図４、図５（図４のＢ−Ｂ矢視断面）に示すように、ケーシング２７内において、貯留されている溶剤Ｔの上方には、基板幅方向に延びる長方形板状の液保持板２８（板部材）が、例えば棒状の支持部材３６に下方から支持されて設けられている。この液保持板２８の上面には面一の液保持面２８ａが形成され、この液保持面２８ａは耐薬品性（耐レジスト性、耐溶剤性）、低摩擦係数を有する材質からなる。
【００３２】
また、この液保持板２８は、ロット間の待機期間において用いられるが、その待機期間では、制御部５０の制御により、ノズル１６内の流路１６ｂが、レジスト液から溶剤Ｔ（シンナー）に置換される。更に、ノズル吐出口１６ａから液保持板２８（液保持面２８ａ）上に所定量の溶剤Ｔが吐出されるようになされている。
これにより、図６（ノズル先端部の拡大図）に示すように、ノズル吐出口１６ａと液保持板２８との間には、溶剤Ｔが、その表面張力により形状維持された状態で保持される。そして、溶剤Ｔのノズル１６に対する界面Ｔ１が、ノズル１６の流路１６ｂ内ではなく、ノズル１６の外面に形成されるようになされている。
【００３３】
続いて、このように構成されたレジスト塗布処理ユニット１において、基板Ｇへのレジスト液の塗布から待機時におけるノズルのプライミング処理を含む一連の流れについて、更に図７を用いて説明する。
レジスト塗布処理ユニット１において、浮上ステージ３上に新たにガラス基板Ｇが搬入されると、基板Ｇはステージ３上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア６により保持される（図７のステップＳ１）。
そして、制御部５０の制御により基板キャリア６が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される（図７のステップＳ２）。
【００３４】
また、レジストノズル１６の吐出口１６ａから処理液であるレジスト液が吐出され、ノズル１６の下方を通過する基板Ｇに対し塗布処理が施される（図７のステップＳ３）。
基板Ｇ上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル１６からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Ｇは、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される（図７のステップＳ４）。
【００３５】
待機期間になると、制御部５０は、ノズル１６をレール１０に沿って待機部１４の上方へと移動させる（図７のステップＳ５）。
そして、先ず待機部１４のノズル洗浄部２４において、ノズル１６の先端部に対しノズル洗浄ヘッド２５がスキャンされ、洗浄液（シンナー）を用いた洗浄処理が行われる（図７のステップＳ６）。
【００３６】
次いで、ノズル１６はノズルバス２６に移動され、ノズル先端部がケーシング２７の上部開口２７ａからケーシング２７内に挿入された状態で保持される（図７のステップＳ７）。
ここで、ロット内の全ての基板Ｇに対する塗布処理が完了していない場合（図７のステップＳ８）、ノズル１６はそのまま所定時間保持され、その間、吐出口１６ａは、乾燥しないように溶剤Ｔの蒸気に曝される（図７のステップＳ９）。
【００３７】
ノズルバス２６における所定時間の待機後、ノズル１６はプライミング処理部２０の上方に移動される。そして、吐出口１６ａから所定量のレジスト液がプライミングローラ２３の表面に吐出されると共に、プライミングローラ２３が所定方向に回転することによってノズル先端のプライミング処理が施される（図７のステップＳ１０）。
また、プライミング処理が施されたノズル１６は、基板Ｇに対するレジスト液の塗布処理位置まで移動され、次の基板Ｇに対する塗布処理が行われる（図７のステップＳ３）。
【００３８】
一方、ステップＳ８において、ロット内の全ての基板Ｇに対する塗布処理が完了した場合、制御部５０は切換バルブ３２の切換制御を行い、ノズル１６に対し溶剤供給部３３から溶剤Ｔ（シンナー）を供給する。これにより、ノズル１６内の流路１６ｂは、レジスト液から溶剤Ｔに置換され、溶剤Ｔが充填された状態となされる（図７のステップＳ１１）。また、更に、ノズル吐出口１６ａから液保持板２８に対し、所定量の溶剤Ｔが吐出される（図７のステップＳ１２）。これにより、図６に示すように吐出口１６ａと液保持板２８（液保持面２８ａ）との間には、溶剤Ｔが、その表面張力により形状維持した状態となされ、その状態で所定時間保持される（図７のステップＳ１３）。
また、その状態において、ノズル１６に対する溶剤Ｔの界面Ｔ１は、ノズル１６の外面に形成される。このため、溶剤Ｔに溶け出したレジスト成分が、溶剤Ｔの蒸発により界面Ｔ１付近で析出したとしても、析出した異物の流路１６ｂ内への付着を防止することができる。
【００３９】
また、レジスト塗布処理ユニット１において新たに塗布処理を行うロットがある場合（図７のステップＳ１４）、ノズル１６はプライミング処理部２０の上方に移動される。
そして、制御部５０は切換バルブ３２の切換制御を行い、ノズル１６に対しレジスト供給部３０からレジスト液を供給する。これにより、ノズル１６内の流路１６ｂは、溶剤Ｔから再びレジスト液に置換される（図７のステップＳ１５）。
そして、吐出口１６ａから所定量のレジスト液がプライミングローラ２３の表面に吐出されると共に、プライミングローラ２３が所定方向に回転することによってプライミング処理が施される（図７のステップＳ１０）。
また、プライミング処理が施されたノズル１６は、基板Ｇに対するレジスト液の塗布処理位置まで移動され、次のロットの基板Ｇに対する塗布処理が行われることとなる（図７のステップＳ３）。
【００４０】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、ノズル１６を用いた塗布処理が実施されないロット間の待機期間において、ノズル内の流路１６ｂがレジスト液から溶剤Ｔに置換されると共に、ノズル１６に対する溶剤Ｔの界面Ｔ１がノズル１６の外面に形成される状態で保持される。
これにより、溶剤Ｔに溶け出したレジスト成分が、溶剤Ｔの蒸発により界面Ｔ１付近で析出したとしても、析出した異物の流路１６ｂ内への付着を防止することができる。
即ち、流路１６ｂ内を清浄な状態とし、基板Ｇに対するレジスト液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口１６ａからレジスト液を均一に吐出することができる。
また、溶剤Ｔから析出したレジスト成分からなる異物は、ノズル外面に付着するため、ノズル１６を分解することなく、その除去作業を容易に行うことができる。
【００４１】
尚、前記実施の形態においては、ノズルバス２６のケーシング２７内の所定位置に、液保持板２８を常に配置した構成を示したが、その形態に限定されず、必要に応じてノズル１６（吐出口１６ａ）の下方に液保持板２８を配置する構成としてもよい。
その場合、例えば図８（ａ）、図８（ｂ）に示すようにケーシング２７上に配置されたノズル１６の下方位置に対し、液保持板２８を側方から進退移動自在に設け、ボールねじ機構、ステッピングモータ等からなる進退移動手段２９により液保持板２８を進退移動させてもよい。
このように構成することにより、ロット内の待機期間においては図８（ａ）に示すようにノズル１６下方から液保持板２８を退避させておくことで、溶剤Ｔの蒸気を効率よくノズル１６の吐出口１６ａに供給し、その乾燥を防止することができる。
【００４２】
また、ロット間の待機期間になるとノズル１６内の流路１６ｂが溶剤Ｔに置換されるが、置換完了までは図８（ａ）に示すようにノズル１６下方から液保持板２８を退避させておくことにより、液置換時に排出されるレジスト液を下方に貯留されている溶剤Ｔに直接排出することができる。即ち、ノズル１６から排出されたレジスト液が液保持板２８に付着しないため、液置換後に図８（ｂ）に示すようにノズル１６下方に液保持板２８を配置することで、溶剤Ｔの表面張力により界面Ｔ１をより確実に形成することができる。
【００４３】
或いは、前記実施形態にように液保持板２８を用いるのではなく、プライミングローラ２３のローラ面を液保持面として用いてもよい。
その場合、ロット間の待機期間において、例えば、ノズル洗浄部２４におけるノズル洗浄後、ノズル１６がプライミング処理部２０の上方に移動される。
そして、ノズル１６の流路１６ｂ内が溶剤Ｔに置換され、プライミングローラ２３の回転が停止された状態で、吐出口１６ａから所定量の溶剤Ｔがローラ面に吐出される。これにより吐出口１６ａとローラ面との間において、溶剤Ｔが、その表面張力により形状維持した状態となされ、溶剤Ｔのノズル１６に対する界面がノズル外面に形成される。
したがって、次のロットの塗布処理前に行うプライミング処理までは、その状態を保持すればよい。
【００４４】
また、前記実施形態においては、液保持面２８ａは面一の状態としたが、図９に示すように、液保持面２８ａにおいて、吐出口１６ａの前後位置に、基板幅方向に延びる一対の溝部２８ｂを設けてもよい。
この溝部２８ｂを設けることによって、ノズル１６から吐出された溶剤Ｔの液保持板２８に対する界面の位置が強制的に決定され、それに伴い、液保持板２８に所定量が吐出された溶剤Ｔのノズル１６に対する界面Ｔ１をより確実にノズル１６の外面に形成することができる。
【００４５】
また、前記した実施形態においては、ノズル１６から液保持板２８に対し所定量の溶剤Ｔを吐出することによって、溶剤Ｔのノズル１６に対する界面Ｔ１をノズル１６の外面に形成するようにした。
しかしながら、本発明にあっては、それに限定されず、貯留した溶剤Ｔの中にノズル先端を浸漬させることによって、溶剤Ｔのノズル１６に対する界面Ｔ１をノズル外面に形成するようにしてもよい。
その場合、例えば、図１０に示すように断面Ｙ字形の貯留容器３５に吐出口１６ａから溶剤Ｔを吐出して溜めると共に、ノズル先端を溶剤Ｔに浸漬させ、界面Ｔ１をノズル外面に形成するようにしてもよい。
【００４６】
或いは、図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示すように、ノズル先端がケーシング２７（貯留容器）に貯留された溶剤Ｔに触れないように設けられた排出管２７ｂと、それよりも上方に設けられた排出管２７ｃとを有するノズルバス２６の構成としてもよい。
その場合、バルブ切換により、ロット内の待機期間においては、図１１（ａ）に示すように排出管２７ｂのみを使用するものとし、ロット間の待機期間においては、図１１（ｂ）に示すように排出管２７ｃのみを使用するものとなされる。また、排出管２７ｃが設けられる高さは、図１１（ｂ）に示すように、少なくともノズル先端が溶剤Ｔに浸漬されるよう溶剤Ｔが貯留可能な高さとなされる。
このように構成することによっても、図１１（ｂ）に示すように溶剤Ｔのノズル１６に対する界面Ｔ１をノズル外面に形成することができる。
【符号の説明】
【００４７】
１          レジスト塗布処理ユニット（塗布装置）
１６        ノズル
１６ａ      吐出口
１６ｂ      流路
２６        ノズルバス（メンテナンス手段）
２８ａ      液保持面
３３        溶剤供給部（溶剤供給手段）
３４        送出ポンプ（溶剤供給手段）
Ｇ          ガラス基板（被処理基板）
Ｔ          溶剤
Ｔ１        界面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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