(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるアルケニル置換ナジイミド(A)の少なくとも１種を含むインクジェット用インク。
【化１】
0005282415.tif 000065
（式（１）中、ｌは２〜６であり、ｍは０〜４であり、ｌ＋ｍ≦６を満たし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜８のアリールまたは炭素数７〜８のベンジルのいずれかであり、ｎは２〜４の整数であり、
ｎ＝２のとき、Ｒ３は炭素数１〜１４０の有機基または下記一般式（３）で表される基であり、
【化２】
0005282415.tif 000066
式（３）中、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
ｎ＝３のとき、Ｒ３は下記一般式（４）又は（４’）で表される基であり、
【化３】
0005282415.tif 000067
式（４）中、Ｒは、水素、フッ素、塩素、−ＯＨ、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−ＣＦＨ2、−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ、−ＯＣＦ2ＣＦＨＣＦ3、または炭素数１〜１０のアルキルであり、
式（４）および（４’）中、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
ｎ＝４のとき、Ｒ３は下記一般式（５）で表される基である。
【化４】
0005282415.tif 000068
式（５）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。）
【請求項２】
前記一般式（１）におけるＲ１およびＲ２が、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜６のアルキルまたは炭素数３〜６のアルケニルである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
前記一般式（１）におけるｍが０であり、Ｒ１が、水素である、請求項１または２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
前記一般式（１）におけるｎが２であり、Ｒ３が、炭素数２〜２０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、炭素数５〜８のシクロアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ５０）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５１−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ５０及びＲ５１はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−または−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−｛ただし、Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ２−であり、Ｔ’は−ＣＨ２−または−Ｏ−である。｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基、下記一般式（３）で表される基または下記式（６）で表される基である、請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化５】
0005282415.tif 000069
（式（３）中、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。）
【化６】
0005282415.tif 000070
【請求項５】
前記一般式（１）におけるｎが２であり、Ｒ３が下記式（９）または（１０）で示される基である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化７】
0005282415.tif 000071
【請求項６】
前記一般式（１）におけるｎが４であり、Ｒ３が下記式（１１）で示される基である、請求項１から３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【化８】
0005282415.tif 000072
【請求項７】
重量平均分子量が１００００以上の高分子化合物（B）をさらに含む、請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
前記高分子化合物（B）がポリアミド酸またはポリイミドの少なくとも１種である、請求項７に記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
溶媒（C）をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
前記溶媒（C）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、ブチルセロソロブおよびγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる少なくとも１つ以上である、請求項９に記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成し、該塗膜を加熱処理して得られるポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および該塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を含むポリイミド膜の形成方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載されたポリイミド膜の形成方法によって基板上にポリイミド膜が形成されたフィルム基板。
【請求項１４】
請求項１３に記載されたフィルム基板を有する電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば電子部品製作において絶縁膜層を形成するための特定のアルケニル置換ナジイミド化合物を含むインクジェット用インクに関し、更に、該インクジェット用インクを用いて形成されるポリイミド膜、該ポリイミド膜が形成されたフィルム基板、および該フィルム基板を有する電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリイミドは耐熱性、電気絶縁性に優れるため、電子通信分野で広く用いられている材料である［例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３を参照］。
ポリイミドを所望のパターン膜として使用する場合、従来はエッチングや感光性ポリイミドを用いてパターンを形成することが一般的であったが、近年、インクジェットにより所望のパターン膜を形成する方法が検討されている。
【０００３】
インクジェット用インクは各種提案されているが［例えば、特許文献４、特許文献５を参照］、ポリイミド系のインクジェットインクを調製しようとすると、比較的高分子であるため、インクジェットインクとして最適な粘度のインクを調製するためには、溶媒の割合を増やしてインク中のポリアミド酸やポリイミド含有量を少なくする必要がある。これによって、１回のインクジェッティングで得られる膜の厚さが薄くなってしまうという問題があった。
【０００４】
マレイミド型、アセチレン型、ナジック酸型等の熱硬化性ポリイミドは、末端に不飽和基を有する低分子量、低粘性の化合物の三次元架橋で得られるため、比較的高濃度でも粘度が低く、従来の線状のポリイミドよりも加工が容易である。良好な耐熱性を示し、硬化に際してボイドやクラックの発生が少ないため、成形材料や積層材料のマトリックス樹脂として優れた特性を有しているうえに、１回のインクジェッティングで得られる膜が従来よりも厚くなるというメリットがある。
【０００５】
上記のナジック酸型の熱硬化性ポリイミドにアルケニルを一つのみ置換したモノアルケニル置換ナジイミド化合物も加熱することによって重合し、イミド結合を有する固体生成物（ポリイミド）となり得る熱硬化性の化合物である［例えば、特許文献６、特許文献７、特許文献８、特許文献９を参照］。
モノアルケニル置換ナジイミド化合物は熱硬化性ポリイミドの形成材料であり、嵩高い構造を有した低分子量のイミドモノマーであるため、脂肪族炭化水素を除くほとんどの有機溶剤に可溶であり、溶液状態で長期間保存しても結晶の析出やゲル化が起こらず安定して使用できる。そして、詳細な硬化機構については不明だが、加熱することでアルケニルおよびノルボルネン骨格中の二重結合のＥｎｅ反応やＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応が進行し、三次元架橋構造を形成する。このように汎用溶剤への溶解性を示し、硬化物が良好な耐熱性、機械的特性、電気的特性、耐薬品性を示すことから、樹脂改質剤、耐熱塗料、および各種コーティング材料、耐熱接着剤などへの用途展開が検討されている。
【０００６】
しかし、モノアルケニル置換ナジイミド化合物を含んだインクは加熱中に融解、流動しながら硬化するために、にじみやバルジといったムラが生じ印刷性が十分とは言えない。特にプリント配線板など異なる物質表面が交互に出現する基板上にインクを塗布し、硬化させる場合に均一な膜が製膜できないことがある。
さらに、モノアルケニル置換ナジイミドを加熱硬化し形成した樹脂膜は比較的脆く、線膨張係数が比較的高いことがあるため、用途が限られていた。
【０００７】
アルケニル置換ナジイミド化合物（本願明細書では、モノアルケニル置換ナジイミド化合物と区別するために、アルケニルが２以上置換されたもの（前記一般式（１）におけるｌが２以上のもの）を「アルケニル置換ナジイミド化合物」と呼ぶ。）はモノアルケニル置換ナジイミド化合物と同様に熱硬化性ポリイミドの形成材料であり、樹脂改質剤などへの用途展開が検討されている[例えば、特許文献１０、特許文献１１、特許文献１２、特許文献１３を参照]。しかしこれらの文献中には、インクジェットを用いた樹脂のパターン描画におけるにじみやバルジといった印刷性の悪さの向上にアルケニルを増加させたアルケニル置換ナジイミド化合物を使用するといった記述は存在しない。さらに、アルケニルを増加させることにより、加熱硬化させた樹脂膜が強靭になり、操作性が向上し、低線膨張率で高汎用性になるといった記述も存在しない。
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−０３９７１４号公報
【特許文献２】特開２００３−２３８６８３号公報
【特許文献３】特開２００４−０９４１１８号公報
【特許文献４】特開２００３−２１３１６５号公報
【特許文献５】特開２００６−１３１７３０号公報
【特許文献６】特開昭５９−０８０６６２号公報
【特許文献７】特開昭６０−１２４６１９号公報
【特許文献８】特開昭６１−０１８７６１号公報
【特許文献９】特開平０５−３０１９４８号公報
【特許文献１０】特開平２−２５６６６２号公報
【特許文献１１】特開平３−５２９５４号公報
【特許文献１２】特開２００３−５０９４９２号公報
【特許文献１３】特開平７−２７５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
熱硬化の際に樹脂が流動せず、にじみやバルジといったムラが無いために印刷性の良好なポリイミド膜が生成できるような樹脂が求められている。さらに、加熱硬化で形成された樹脂膜に関し、強靭で作業性がよく、低線膨張率で汎用性の高い樹脂が求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記状況に鑑みて、特定の構造を有するアルケニル置換ナジイミドを含むインクジェット用インクによって、上記課題の少なくとも１つを解決することができることを見出した。
【００１１】
[１]  本発明の一実施形態は、下記一般式（１）で示されるアルケニル置換ナジイミド(A)の少なくとも１種を含むインクジェット用インクである。
【化１０】
0005282415.tif 000002
（式（１）中、ｌは２〜６であり、ｍは０〜４であり、ｌ＋ｍ≦６を満たし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜８のアリールまたは炭素数７〜８のベンジルのいずれかであり、ｎは１〜４の整数であり、
【００１２】
ｎ＝１のとき、Ｒ３は炭素数１〜３０の有機基または下記一般式（２）で表されるシリコン化合物であり、
【化１１】
0005282415.tif 000003
式（２）中、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に、水素、ハロゲンまたは一価の有機基で、それらは同一または異なっていてもよい。Ｙは、炭素数１〜２０の有機基である。
【００１３】
ｎ＝２のとき、Ｒ３は炭素数１〜１４０の有機基または下記一般式（３）で表される基であり、
【化１２】
0005282415.tif 000004
式（３）中、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。ここで、より好ましいｙは１〜１５の整数である。
【００１４】
ｎ＝３のとき、Ｒ３は下記一般式（４）又は（４’）で表される基であり、
【化１３】
0005282415.tif 000005
式（４）中、Ｒは、水素、フッ素、塩素、−ＯＨ、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−ＣＦＨ2、−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ、−ＯＣＦ2ＣＦＨＣＦ3、または炭素数１〜１０のアルキルであり、
式（４）および（４’）中、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【００１５】
ｎ＝４のとき、Ｒ３は下記一般式（５）で表される基である。
【化１４】
0005282415.tif 000006
式（５）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。）
【００１６】
[２]  本発明の好ましい実施形態は、上記一般式（１）におけるＲ１およびＲ２が、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜６のアルキルまたは炭素数３〜６のアルケニルである、上記[１]に記載のインクジェット用インクである。
[３]  本発明の別の好ましい実施形態は、上記一般式（１）におけるｍが０であり、Ｒ１が、水素である、上記[１]または[２]に記載のインクジェット用インクである。
【００１７】
[４]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、上記一般式（１）におけるｎが２であり、Ｒ３が、炭素数２〜２０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、炭素数５〜８のシクロアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ５０）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５１−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ５０及びＲ５１はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−または−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−｛ただし、Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ２−であり、Ｔ’は−ＣＨ２−または−Ｏ−である。｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基、下記一般式（３）で表される基または下記式（６）で表される基である、上記[１]〜[３]のいずれかに記載のインクジェット用インクである。
【００１８】
【化１５】
0005282415.tif 000007
（式（３）中、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。)
【化１６】
0005282415.tif 000008
【００１９】
[５]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、上記一般式（１）におけるｎが２であり、Ｒ３が下記式（９）または（１０）で示される基である、上記[１]〜[４]のいずれかに記載のインクジェット用インクである。
【化１７】
0005282415.tif 000009
【００２０】
[６]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、上記一般式（１）におけるｎが４であり、Ｒ３が下記式（１１）で示される基である、上記[１]〜[３]のいずれかに記載のインクジェット用インクである。
【化１８】
0005282415.tif 000010
【００２１】
[７]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、重量平均分子量が１００００以上の高分子化合物（B）をさらに含む、上記[１]〜[６]のいずれかに記載のインクジェット用インクである。
[８]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、上記高分子化合物（B）がポリアミド酸またはポリイミドの少なくとも１種である、上記[７]に記載のインクジェット用インクである。
[９]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、溶媒（C）をさらに含む、上記[１]〜[８]のいずれかに記載のインクジェット用インクである。
[１０]  本発明の更に別の好ましい実施形態は、上記溶媒（C）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、ブチルセロソロブおよびγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる少なくとも１つ以上である、上記[９]に記載のインクジェット用インクである。
【００２２】
[１１]  本発明の別の実施形態は、上記[１]〜[１０]のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成し、該塗膜を加熱処理して得られるポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜である。
[１２]  本発明の更に別の実施形態は、上記[１]〜[１０]のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および該塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を含むポリイミド膜形成方法である。
[１３]  本発明の更に別の実施形態は、上記[１２]に記載されたポリイミド膜形成方法によって基板上にポリイミド膜が形成されたフィルム基板である。
[１４]  本発明の更に別の実施形態は、上記[１３]に記載されたフィルム基板を有する電子部品である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いると、架橋点が多く、分子量が大きくなっているので、樹脂が加熱、硬化の際に流動しにくく、にじみやバルジといったムラが生じにくい。そのため印刷性が良好で、均一なポリイミド膜を形成できる。形成した膜は架橋点が多いため線膨張係数が低く、強靭で作業性がよい。また、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクから形成されたポリイミド膜は、例えば、耐熱性、電気絶縁性が高く、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の一実施形態は、上記一般式（１）で示されるアルケニル置換ナジイミド(A)の少なくとも１種を含むインクジェット用インクである。また、本発明の好ましい態様では、さらに高分子化合物（B）および溶媒（C）を含むインクジェット用インクである。
【００２５】
本発明においては、上述したように、モノアルケニル置換ナジイミドとアルケニル置換ナジイミドを区別して使用している。モノアルケニル置換ナジイミドとは置換基であるアルケニルを１つ有する化合物を指し、アルケニル置換ナジイミドとは置換基であるアルケニルを２〜６つ有する化合物（一般式（１）におけるｌが２〜６のもの）とその混合物を指す。
本発明で使用されるアルケニル置換ナジイミド(A)は、以下の一般式（１）で表される。
【００２６】
【化１９】
0005282415.tif 000011
式（１）中、ｌは２〜６であり、ｍは０〜４であり、ｌ＋ｍ≦６を満たし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜８のアリールまたは炭素数７〜８のベンジルのいずれかであり、ｎは１〜４の整数である。
炭素数１〜１２のアルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１−メチルプロピル、ｔｅｒｔ-ブチル、ｎ−ペンチル、３−メチルブチル、２−メチルブチル、１−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１―エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３−エチルブチル、２−エチルブチル、１−エチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，３―ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシルなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１−メチルプロピル、ｔｅｒｔ-ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ドデシルなどの基が挙げられる。
炭素数３〜６のアルケニルとしては、例えば、１−メチルエテニル、プロペニル、ブチリル、ペンテニル、ヘキセニルなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、１−メチルエテニル、１−メチルプロペニル、１−メチルブチリル、１−メチルペンテニル、２−プロペニル、３−ブチリル、４−ペンテニル、５−ヘキセニルなどの基が挙げられる。
炭素数５〜８のシクロアルキルとしては、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチルが挙げられる。
炭素数６〜８のアリールとしては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ｐ−エチルフェニル、ｍ−エチルフェニル、ｏ−エチルフェニルなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、フェニル、トリル、キシリルが挙げられる。
炭素数７〜８のベンジルとしては、例えば、ベンジル、ｐ−メチルベンジル、ｍ−メチルベンジル、ｏ−メチルベンジルなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、ベンジルが挙げられる。
Ｒ１またはＲ２で表される上記の置換基は、更に別の置換基によって置換されていてもよい。
そのような置換基としては、例えば、水酸基、フッ素や塩素等のハロゲンなどの基が挙げられる。
【００２７】
本発明においては、上記一般式（１）におけるＲ１およびＲ２が、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜６のアルキルまたは炭素数３〜６のアルケニルを表すことが好ましい。
また、本発明においては、上記一般式（１）におけるｍが０であり、Ｒ１が水素であることが好ましい。
【００２８】
本発明に使用されるアルケニル置換ナジイミド（A）は種々の幾何異性体として存在するし得ることが理解される。従って本発明は、個々の異性体及びかかる異性体の混合物のいずれをも含むインクジェット用インクに関する。
【００２９】
１  アルケニル置換ナジイミド（A）
アルケニル置換ナジイミド（A）には、ｎが１であるアルケニル置換ナジイミド化合物（A−１：以下、単に「アルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）、ｎが２であるアルケニル置換ナジイミド化合物（A−２：以下、単に「ビスアルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）、ｎが３であるアルケニル置換ナジイミド化合物（A−３：以下、単に「トリスアルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）、ｎが４であるアルケニル置換ナジイミド化合物（A−４：以下、単に「テトラキスアルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）がある。
【００３０】
１．１  アルケニル置換ナジイミド（A−１）
上記一般式（１）において、ｎ＝１のとき、Ｒ３は水素、水酸基、炭素数１〜３０の有機基または下記一般式（２）で表されるシリコン化合物である。
炭素数１〜３０の有機基としては、例えば、メチル、２−エチルへキシル、アリル、イソプロペニル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、２−ヒドロキシエチル、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル、２，３−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシ−１−プロペニル、４−ヒドロキシ−シクロへキシル、４−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、ｐ−ヒドロキシベンジル、３−トリメトキシシリルプロピル、３−トリエトキシシリルプロピル、３−メチルジメトキシシリルプロピル、３−メチルジエトキシシリルプロピル、４−トリメトキシシリルブチル、４−トリエトキシシリルブチル、４−メチルジメトキシシリルブチル、４−メチルジエトキシシリルブチル、ｐ−トリメトキシシリルフェニル、ｐ−トリエトキシシリルフェニル、ｐ−メチルジメトキシシリルフェニル、ｐ−メチルジエトキシシリルフェニル、ｍ−トリメトキシシリルフェニル、ｍ−トリエトキシシリルフェニル、ｍ−メチルジメトキシシリルフェニル、ｍ−メチルジエトキシシリルフェニル、アリルフェニル、ジアリルフェニル、トリアリルフェニル、ベンゼンスルホニルオキシ、２−ベンゼンスルホニルオキシエチル、メタンスルホニルオキシ、２，２−ジメチル−３−メタンスルホニルオキシプロピル、２−(２−ｐ−トルエンスルホニルオキシエトキシ)エチル、４−メタンスルホニルオキシフェニル、２−メタンスルホニルオキシエチルなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、メチル、２−エチルへキシル、アリル、イソプロペニル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、３−トリメトキシシリルプロピル、３−トリエトキシシリルプロピル、３−メチルジメトキシシリルプロピル、３−メチルジエトキシシリルプロピル、４−トリメトキシシリルブチル、４−トリエトキシシリルブチル、ｐ−トリメトキシシリルフェニル、ｐ−トリエトキシシリルフェニル、ｍ−トリメトキシシリルフェニル、ｍ−トリエトキシシリルフェニル、アリルフェニル、ジアリルフェニル、トリアリルフェニル、ベンゼンスルホニルオキシ、２−ベンゼンスルホニルオキシエチル、メタンスルホニルオキシ、２，２−ジメチル−３−メタンスルホニルオキシプロピル、２−(２’’−ｐ−トルエンスルホニルオキシエトキシ)エチル、４−メタンスルホニルオキシフェニル、２−メタンスルホニルオキシエチルなどの基が挙げられる。
【化２０】
0005282415.tif 000012
式（２）中、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に、水素、ハロゲンまたは一価の有機基で、それらは同一または異なっていてもよい。Ｙは、炭素数１〜２０の有機基である。
一価の有機基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソシキなどのアルコキシ、エテノキシ、プロペノキシ、ブテノキシなどのアルケノキシ、アセトキシ、メチル、エチルなどのアルキル、フェニル、ナフチル、トシルなどのアリールなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくはメトキシ、エトキシ、プロポキシなどのアルコキシ、メチルなどのアルキル、フェニルなどのアリールなどの基が挙げられる。
炭素数１〜２０の有機基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、フェニレン、ベンジレンなどの基が挙げられ、これらのうち好ましくは、プロピレン、フェニレンが挙げられる。
【００３１】
本発明で用いられるｎが１であるアルケニル置換ナジイミド化合物の合成方法としては、例えば以下の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。モノアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物１．０〜３．０モルを非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。別の方法としては、例えば上記モノアミンとマレイン酸無水物を非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌し、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い得られたモノマレイミド１．０モルに対してアルケニル置換シクロペンタジエン１．０〜３．０モルを混合させ、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。
本発明で用いられるｎが１であるアルケニル置換ナジイミド化合物としては、以下のものが挙げられる。
【００３２】
アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３３】
また、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３４】
また、
Ｎ−フェニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３５】
また、
Ｎ−（２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，３−ジヒドロキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，３−ジヒドロキシプロピル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−ヒドロキシ−１−プロペニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシ−シクロヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３６】
また、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−ヒドロキシベンジル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３７】
また、
Ｎ−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２−｛２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３８】
Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−メチルジメトキシシリルプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−メチルジエトキシシリルプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−トリメトキシシリルブチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−トリエトキシシリルブチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−メチルジメトキシシリルブチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−メチルジエトキシシリルブチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−トリメトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−トリエトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−メチルジメトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−メチルジエトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｍ−トリメトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｍ−トリエトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｍ−メチルジメトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｍ−メチルジエトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００３９】
Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ベンゼンスルホニルオキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（メタンスルホニルオキシ）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，２−ジメチル−３−メタンスルホニルオキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−(２’−ｐ−トルエンスルホニルオキシエトキシ)エチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−メタンスルホニルオキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−メタンスルホニルオキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ベンゼンスルホニルオキシエチル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（メタンスルホニルオキシ）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’， ２’ジメチル−３’−メタンスルホニルオキシプロピル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−(２’’−ｐ−トルエンスルホニルオキシエトキシ)エチル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−メタンスルホニルオキシフェニル）−メタリルルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−メタンスルホニルオキシエチル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ベンゼンスルホニルオキシエチル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（メタンスルホニルオキシ）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，２−ジメチル−３−メタンスルホニルオキシプロピル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−(２−ｐ−トルエンスルホニルオキシエトキシ)エチル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−メタンスルホニルオキシフェニル）−メタリルメチルルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−メタンスルホニルオキシエチル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００４０】
上記のアルケニル置換ナジイミド（Ａ−１）として、好ましいものは、
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。
【００４１】
また、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。
【００４２】
また、
Ｎ−フェニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。
【００４３】
Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−トリメトキシシリルブチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４−トリエトキシシリルブチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−トリメトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−トリエトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｍ−トリメトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｍ−トリエトキシシリルフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。
【００４４】
アルケニル置換ナジイミド（A−１）として、更に好ましいものは、
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。
【００４５】
また、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。
【００４６】
Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−ベンゼンスルホニルオキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（メタンスルホニルオキシ）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，２−ジメチル−３−メタンスルホニルオキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’−(２−ｐ−トルエンスルホニルオキシエトキシ)エチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４’−メタンスルホニルオキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−メタンスルホニルオキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、等が挙げられる。
【００４７】
また、これらのアルケニル置換ナジイミド（A−１）は、単独で用いてもよいし、これらの混合物として用いてもよい。
【００４８】
１．２  ビスアルケニル置換ナジイミド（A−２）
上記一般式（１）において、ｎ＝２のとき、Ｒ３は炭素数１〜１４０の有機基または下記一般式（３）で表される基である。
炭素数１〜１４０の有機基としては、例えば、炭素数１〜１４０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ２−で置き換えられてもよい｝、炭素数１〜１４０のシクロアルキレン、炭素数１〜１４０のアリーレン｛芳香族炭化水素基の芳香環に直結する水素が水酸基、フッ素で置き換えられてもよい｝、およびこれらのアルキレン、シクロアルキレン、アリーレン基の繰り返し構造をふくむ炭素数１〜１４０の有機基などが挙げられ、これらのうち好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、炭素数３〜８のシクロアルキレン、炭素数４〜１２のシクロアルキレンを含んだ炭化水素基、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ５０）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５１−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ５０及びＲ５１はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−または−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−｛ただし、Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ２−であり、Ｔ’は−ＣＨ２−または−Ｏ−である。｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基が挙げられる。
【化２１】
0005282415.tif 000013
式（３）中、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。ここで、より好ましいｙは１〜１５の整数である。
【００４９】
本発明においては、好ましくは、一般式（１）におけるＲ３が、炭素数２〜２０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、炭素数５〜８のシクロアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ５０）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５１−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ５０及びＲ５１はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−または−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−Ｔ’−Ｃ６Ｈ４−｛ただし、Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ２−であり、Ｔ’は−ＣＨ２−または−Ｏ−である。｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基、上記一般式（３）で表される基または下記式（６）で表される基であることが好ましい。
【化２２】
0005282415.tif 000014
また、本発明においては、上記一般式（１）におけるＲ３が、下記式（９）または（１０）で示される基であることも好ましい。
【化２３】
0005282415.tif 000015
【００５０】
さらに、本発明においては、上記一般式（１）におけるＲ３が、下記のような非対称なアルキレン、フェニレンを含むようなものでもよい。
【化２４】
0005282415.tif 000016
【００５１】
本発明で用いられるｎが２であるビスアルケニル置換ナジイミド化合物の合成例としては、例えば以下の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ジアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物２．０〜４．０モルを非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。別の方法としては、例えば上記ジアミンとマレイン酸無水物を非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌し、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い得られたビスマレイミド１．０モルに対してアルケニル置換シクロペンタジエン２．０〜４．０モルを混合させ、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。
また、本発明で用いられるｎが２であるビスアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。
【００５２】
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５３】
また、
１，２−ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、
１，２−ビス｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、
１，２−ビス｛３−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、
ビス〔２−｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
ビス〔２−｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
１，４−ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、
１，４−ビス｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５４】
また、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５５】
また、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
１，２−ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エタン、
１，２−ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エタン、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５６】
また、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５７】
また、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
１，６−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−３−ヒドロキシ−ヘキサン、
１，１２−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−３，６−ジヒドロキシ−ドデカン、
１，３−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−５−ヒドロキシ−シクロヘキサン、
１，５−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝−３−ヒドロキシ−ペンタン、
１，４−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−ベンゼン、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５８】
また、
１，４−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２，５−ジヒドロキシ−ベンゼン、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルメチルシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２，３−ジヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００５９】
また、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−フェニル｝メタン、
ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−４−ヒドロキシ−フェニル｝エーテル、
ビス｛３−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−５−ヒドロキシ−フェニル｝スルホン、
及びこれらのオリゴマーが挙げられる。
【００６０】
また、これらのビスアルケニル置換ナジイミド（A−２）は、単独で用いてもよいし、これらの混合物として用いてもよい。
【００６１】
上記のビスアルケニル置換ナジイミド（Ａ−２）として、好ましいものは
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）等が挙げられる。
【００６２】
また、
ビス〔２−｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
ビス〔２−｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
１，４−ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、
１，４−ビス｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン等が挙げられる。
【００６３】
また、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
１，２−ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エタン、
１，２−ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エタン
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン等が挙げられる。
【００６４】
また、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン等が挙げられる。
【００６５】
また、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン等が挙げられる。
【００６６】
ビスアルケニル置換ナジイミド（Ａ−２）として、更に好ましいものは、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）等が挙げられる。
【００６７】
また、
ビス〔２−｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
ビス〔２−｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
１，４−ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、
１，４−ビス｛３−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン等が挙げられる。
【００６８】
また、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）等が挙げられる。
【００６９】
また、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス〔４−｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
１，２−ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エタン、
１，２−ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エタン
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン等が挙げられる。
【００７０】
また、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン等が挙げられる。
【００７１】
１．３  トリスアルケニル置換ナジイミド（A−３）
上記一般式（１）において、ｎ＝３のとき、Ｒ３は下記一般式（４）又は（４’）で表される基である。
【化２５】
0005282415.tif 000017
式（４）中、Ｒは、水素、フッ素、塩素、−ＯＨ、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−ＣＦＨ2、−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ、−ＯＣＦ2ＣＦＨＣＦ3、または炭素数１〜１０のアルキルであり、
式（４）および（４’）中、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【００７２】
本発明で用いられるｎが３であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物の合成例としては、例えば以下の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。トリアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物３．０〜５．０モルを非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。別の方法としては、例えば上記トリアミンとマレイン酸無水物を非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌し、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い得られたトリマレイミド１．０モルに対してアルケニル置換シクロペンタジエン３．０〜５．０モルを混合させ、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。
【００７３】
本発明で用いられるｎが３であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）エチル｝アミン、
トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）ブチル｝アミン、
トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝ヒドロキシメタン、
トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタンが挙げられる。
【００７４】
１．４  テトラキスアルケニル置換ナジイミド（A−４）
上記一般式（１）において、ｎ＝４のとき、Ｒ３は下記一般式（５）で表される基である。
【化２６】
0005282415.tif 000018
式（５）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、アルキレン中またはアルキレン中のメチレンが−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられた基中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
本発明においては、上記一般式（１）におけるＲ３が下記式（１１）で示される基であることが好ましい。
【化２７】
0005282415.tif 000019
【００７５】
本発明で用いられるｎが４であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物の合成例としては、例えば以下の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。テトラアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物４．０〜６．０モルを非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。別の方法としては、例えば上記トリアミンとマレイン酸無水物を非プロトン性極性溶媒、例えばＴＨＦ、酢酸エチル等中で混合、攪拌し、減圧乾燥しアミド酸を得る。その後、アミド酸を加熱または溶媒中にて化学的に脱水閉環を行い得られたテトラマレイミド１．０モルに対してアルケニル置換シクロペンタジエン４．０〜６．０モルを混合させ、シリカゲルカラムにより精製した後、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＰＣで目的のイミド化合物であることを確認する。
【００７６】
本発明で用いられるｎが４であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、テトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタンが挙げられる。
【００７７】
本発明の好ましいアルケニル置換ナジイミド化合物（A）は、嵩高い構造を有した低分子量のイミドモノマーであるため、ほとんどの有機溶剤に可溶であり、溶液状態で長期間保存しても結晶の析出やゲル化が起こらず安定して使用できる。また、加熱の際には流動せず、印刷性の高い三次元架橋構造のポリイミドを形成し、該ポリイミド硬化物は良好な可とう性、耐熱性、機械的特性、電気的特性、耐薬品性を示す。
【００７８】
２  高分子化合物（B）
本発明のインクジェット用インクにさらに含むことができる高分子化合物（B）は、ポリアミド酸、可溶性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸エステル、ポリエステル、ポリプロピレン、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン等の高分子化合物であるが、これに限定されるものではない。好ましくは重量平均分子量が１００００以上の高分子化合物であり、より好ましくは重量平均分子量が５００００以上のポリアミド酸または可溶性ポリイミド等のポリイミド系高分子化合物であり、例えば特願2006-235336号に記載されている、ポリアミド酸、或いはそのイミド化重合体を好ましく挙げることができるが、これに限定されるものではない。
該ポリアミド酸は、少なくとも、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）とを用いて得ることができるが、当該製法で得られたポリアミド酸に限定されるものではない。
【００７９】
以下に、高分子化合物（B）の好ましい態様の一つであるポリアミド酸を得るために用いることができる、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）を説明する。
【００８０】
２．１  酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）
本発明で用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）の具体例としては、スチレン−無水マレイン酸共重合体、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸共重合体等の無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体や下記一般式（ｂ１）で表されるテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。一般式（ｂ１）において、Ｒ１は、４価の有機基である。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、エタンテトラカルボン酸二無水物、４−(２,５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル)−１,２,３,４−テトラヒドロナフタレン−１,２−ジカルボン酸無水物、５−（２,５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸無水物、下記式ｂ１−１〜ｂ１−７３で表される化合物等のテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００８１】
【化２８】
0005282415.tif 000020
【００８２】
【化２９】
0005282415.tif 000021
【００８３】
【化３０】
0005282415.tif 000022
【００８４】
【化３１】
0005282415.tif 000023
【００８５】
【化３２】
0005282415.tif 000024
【００８６】
【化３３】
0005282415.tif 000025
【００８７】
酸無水物基を２つ以上有する化合物の上記具体例の中でも、スチレン−無水マレイン酸共重合体、式ｂ１−１、ｂ１−５、ｂ１−６、ｂ１−７、ｂ１−８、ｂ１−９、ｂ１−１４、ｂ１−１８、ｂ１−２０で表される化合物が溶媒への溶解性が高く高濃度のインクを調製できるので好ましい。また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされるが、このような場合には、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ｂ１−６、ｂ１−７、ｂ１−８、ｂ１−９、ｂ１−１４、ｂ１−１８等で表される化合物を用いることが特に好ましい。
【００８８】
また、上記記載の酸無水物基を有する化合物は一種単独でも、または二種以上組み合わせて使用してもよい。
【００８９】
２．２  ジアミン（ｂ２）
本発明において用いられるジアミン（ｂ２）はアミノ基を２つ有していれば特に限定されるものではないが、例えば下記一般式（II）〜（VIII）で表される化合物が挙げられる。
【化３４】
0005282415.tif 000026
［式（II）中、
Ａ１は、−（ＣＨ２）ｍ−であり、ここでｍは１〜６の整数であり、
式（IV）、（VI）及び（VIII）中、
Ａ１は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−（ＣＨ２）ｍ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ２）ｍ−Ｓ−であり、ここでｍは１〜６の整数であり、
Ａ２は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−または炭素数１〜３のアルキレンであり、
シクロヘキサン環またはベンゼン環に結合している水素は、フッ素、−ＣＨ３と置き換えられていてもよい。］
【００９０】
一般式（II）で表されるジアミンとしては、例えば式（II−１）〜（II−３）で表されるジアミンが挙げられる。
【００９１】
【化３５】
0005282415.tif 000027
【００９２】
一般式（III）で表されるジアミンとしては、例えば式（III−１）、（III−２）で表されるジアミンが挙げられる。
【化３６】
0005282415.tif 000028
【００９３】
一般式（IV）で表されるジアミンとしては、例えば式（IV−１）〜（IV−３）で表されるジアミンが挙げられる。
【化３７】
0005282415.tif 000029
【００９４】
一般式（V）で表されるジアミンとしては、例えば式（V−１）〜（V−５）で表されるジアミンが挙げられる。
【化３８】
0005282415.tif 000030
【００９５】
一般式（VI）で表されるジアミンとしては、例えば式（VI−１）〜（VI−３０）で表されるジアミンが挙げられる。
【化３９】
0005282415.tif 000031
【化４０】
0005282415.tif 000032
【化４１】
0005282415.tif 000033
【化４２】
0005282415.tif 000034
【００９６】
一般式（VII）で表されるジアミンとしては、例えば式（ＶＩＩ−１）〜（ＶＩＩ−６）で表されるジアミンが挙げられる。
【化４３】
0005282415.tif 000035
【００９７】
一般式（VIII）で表されるジアミンとしては、例えば式（VIII−１）〜（VIII−１１）で表されるジアミンが挙げられる。
【化４４】
0005282415.tif 000036
【００９８】
一般式（II）〜（VIII）で表されるジアミン（ｂ２）の上記具体例の中でも、より好ましくは、式（V−１）〜（V−５）、式（VI−１）〜（VI−１２）、式（VI−２６）、式（VI−２７）、式（VII−１）、式（VII−２）、式（VII−６）、式（VIII−１）〜（VIII−５）で表されるジアミンが挙げられ、さらに好ましくは式（V−６）、式（V−７）、式（VI−１）〜（VI−１２）で表されるジアミンが挙げられる。
【００９９】
本発明において用いられるジアミン（ｂ２）としては、さらに一般式（IX）で表されるジアミンが挙げられる。
【化４５】
0005282415.tif 000037
［式（IX）中、
Ａ３は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−または−（ＣＨ２）ｍ−（式中、ｍは１〜６の整数である）であり、
Ｒ６は、ステロイド骨格を有する基、下記式（Ｘ）で表される基、または、ベンゼン環に結合している２つのアミノ基の位置関係がパラ位のときは炭素数１〜２０のアルキル、もしくは該位置関係がメタのときは炭素数１〜１０のアルキルまたはフェニルであり、
該アルキルにおいては、任意の−ＣＨ２−が−ＣＦ２−、−ＣＨＦ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、−ＣＨ３が−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２または−ＣＦ３で置き換えられていてもよく、
該フェニルの環形成炭素に結合している水素は、フッ素、−ＣＨ３、−ＯＣＨ３、−ＯＣＨ２Ｆ、−ＯＣＨＦ２または−ＯＣＦ３と置き換えられていてもよい。］
【０１００】
【化４６】
0005282415.tif 000038
［式（Ｘ）中、
Ａ４およびＡ５はそれぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または炭素数１〜１２のアルキレンであり、
Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して、フッ素または−ＣＨ３であり、
環Ｓは１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイルまたはアントラセン−９，１０−ジイルであり、
Ｒ９は水素、フッ素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のフッ素置換アルキル、炭素数１〜１２のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ２Ｆ、−ＯＣＨＦ２または−ＯＣＦ３であり、
ａおよびｂはそれぞれ独立して０〜４の整数を表し、
ｃ、ｄおよびｅはそれぞれ独立して０〜３の整数を表し、ｅが２または３であるとき複数の環Ｓは同一の基であっても異なる基であってもよく、
ｆおよびｇはそれぞれ独立して０〜２の整数を表し、かつ
ｃ＋ｄ＋ｅ≧１である。］
【０１０１】
一般式（IX）において、２つのアミノ基はフェニル環炭素に結合しているが、好ましくは、２つのアミノ基の結合位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。さらに２つのアミノ基はそれぞれ、「Ｒ６−Ａ３−」の結合位置を１位としたときに３位と５位、または２位と５位に結合していることが好ましい。
一般式（IX）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（IX−１）〜（IX−１１）で表されるジアミンが挙げられる。
【化４７】
0005282415.tif 000039
【化４８】
0005282415.tif 000040
【０１０２】
上記式（IX−１）、（IX−２）、（IX−７）および（IX−８）中、Ｒ１８は炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシが好ましく、炭素数５〜１２のアルキルまたは炭素数５〜１２のアルコキシがさらに好ましい。また、上記式（IX−３）〜（IX−６）および（IX−９）〜（IX−１１）中、Ｒ１９は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシが好ましく、炭素数３〜１０のアルキルまたは炭素数３〜１０のアルコキシがさらに好ましい。
【０１０３】
一般式（IX）で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記式（IX−１２）〜（IX−１７）で表されるジアミンが挙げられる。
【化４９】
0005282415.tif 000041
【０１０４】
上記式（ＩＸ-１２）〜（ＩＸ-１５）においてＲ２０は炭素数４〜１６のアルキルが好ましく、炭素数６〜１６のアルキルがさらに好ましい。式（ＩＸ-１６）と式（ＩＸ-１７）においてＲ２１は炭素数６〜２０のアルキルが好ましく、炭素数８〜２０のアルキルがさらに好ましい。
【０１０５】
一般式（IX）で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記式（IX−１８）〜（IX−３８）で表されるジアミンが挙げられる。
【０１０６】
【化５０】
0005282415.tif 000042
【化５１】
0005282415.tif 000043
【化５２】
0005282415.tif 000044
【０１０７】
上記式（IX-１８）、（IX-１９）、（IX-２２）、（IX-２４）、（IX-２５）、（IX-２８）、（IX-３０）、（IX-３１）、（IX-３６）および（IX-３７）において、Ｒ２２は炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシが好ましく、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシがさらに好ましい。また、上記式（IX-２０）、（IX-２１）、（IX-２３）、（IX-２６）、（IX-２７）、（IX-２９）、（IX-３２）〜（IX-３５）および（IX-３８）において、Ｒ２３は水素、フッ素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ２Ｆ、−ＯＣＨＦ２または−ＯＣＦ３であり、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシがさらに好ましい。上記式（IX-３３）と（IX-３４）において、Ａ９は炭素数１〜１２のアルキレンである。
【０１０８】
一般式（IX）で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記式（IX−３９）〜（IX−４８）で表されるジアミンが挙げられる。
【化５３】
0005282415.tif 000045
【化５４】
0005282415.tif 000046
【０１０９】
一般式（IX）で表されるジアミン（ｂ２）のうち、式（IX−１）〜式（IX−１１）で表されるジアミンが好ましく、式（IX−２）、式（IX−４）、式（IX−５）、式（IX−６）で表されるジアミンがさらに好ましい。
【０１１０】
本発明において用いられるジアミン（ｂ２）は、さらに下記一般式（XI）及び（XII）で表される化合物が挙げられる。
【化５５】
0005282415.tif 000047
［式（XI）と（XII）中、
Ｒ１０は−Ｈまたは−ＣＨ３であり、Ｒ１１はそれぞれ独立して、水素または炭素数１〜２０のアルキルもしくはアルケニルであり、
Ａ６はそれぞれ独立して、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＨ２−であり、
式（XII）中、
Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立して、水素、炭素数１〜２０のアルキルまたはフェニルである。］
【０１１１】
前記一般式（XI）において、２つの「ＮＨ２−Ｐｈ−Ａ６−Ｏ−」（ここで、−Ｐｈ−はフェニレンを示す）の一方はステロイド核の３位に結合し、もう一方は６位に結合していることが好ましい。また、２つのアミノ基はそれぞれ、フェニル環炭素に結合しており、Ａ６の結合位置に対して、メタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式（XI）で表されるジアミンとしては、例えば式（XI−１）〜（XI−４）で表されるジアミンが挙げられる。
【化５６】
0005282415.tif 000048
【０１１２】
一般式（XII）において、２つの「ＮＨ２−（Ｒ１４−）Ｐｈ−Ａ６−Ｏ−」（ここで、−Ｐｈ−はフェニレンを示す）は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、好ましくはステロイド核が結合している炭素に対してメタ位またはパラ位の炭素に結合している。また、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ６に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式（XII）で表されるジアミンとしては、例えば式（XII−１）〜（XII−８）で表されるジアミンが挙げられる。
【化５７】
0005282415.tif 000049
【化５８】
0005282415.tif 000050
【０１１３】
本発明において用いられるジアミン（ｂ２）は、さらに一般式（XIII）、（XIV）で表される化合物が挙げられる。
【化５９】
0005282415.tif 000051
［式（XIII）中、
Ｒ１５は水素または炭素数１〜２０のアルキルであり、該アルキルのうち炭素数２〜２０のアルキルの任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、
Ａ７はそれぞれ独立して−Ｏ−または炭素数１〜６のアルキレンであり、
Ａ８は単結合または炭素数１〜３のアルキレンであり、
環Ｔは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロヘキシレンであり、
ｈは０または１である。］
【化６０】
0005282415.tif 000052
［式（XIV）中、
Ｒ１６は炭素数６〜２２のアルキルであり、
Ｒ１７は水素または炭素数１〜２２のアルキルであり、
Ａ７はそれぞれ独立して−Ｏ−または炭素数１〜６のアルキレンである。］
【０１１４】
前記一般式（XIII）において、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ７に対してメタ位またはパラに結合していることが好ましい。
一般式（XIII）で表されるジアミンとしては、例えば式（XIII−１）〜（XIII−９）で表されるジアミンが挙げられる。
【化６１】
0005282415.tif 000053
【化６２】
0005282415.tif 000054
上記式（XIII-１）〜（XIII-３）において、Ｒ２４は水素、炭素数１〜２０のアルキルが好ましく、（XIII-４）〜（XIII-９）において、Ｒ２５は水素、炭素数１〜１０のアルキルがさらに好ましい。
【０１１５】
前記一般式（XIV）において、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ７に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式（XIV）で表されるジアミンとしては、例えば（XIV−１）〜（XIV−３）で表されるジアミンが挙げられる。
【化６３】
0005282415.tif 000055
【０１１６】
（XIV−１）〜（XIV−３）式中、Ｒ２６は炭素数２〜３０の有機基であり、これらの中でも炭素数６〜２０のアルキルが好ましく、Ｒ２７は炭素数２〜３０の有機基であり、これらの中でも水素または炭素数１〜１０のアルキルがさらに好ましい。
【０１１７】
上述のとおり、本発明において用いられるジアミン（ｂ２）は、例えば、一般式（II）〜（XIV）で表されるジアミンを用いることができるが、これらのジアミン以外のジアミンも用いることができる。例えば、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、またはシロキサン結合を有するシロキサン系ジアミンなどを単独または他のジアミンと混合して用いることができる。
【０１１８】
シロキサン系ジアミンは特に限定されるものではないが、下記式（１２）で表されるものが本発明において、好ましく使用できる。
【化６４】
0005282415.tif 000056
式中、Ｒ１４およびＲ１５は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ１６は独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。ここで、より好ましいｙは１〜１５の整数である。
【０１１９】
さらに、好ましくは、本発明において用いられるジアミン（ｂ２）として、下記式（１３）〜（２０）で表されるジアミンが使用できる。
【化６５】
0005282415.tif 000057
（式中、Ｒ３０およびＲ３１は独立して炭素数３〜２０のアルキルである。）
【０１２０】
なお、本発明で用いることができるジアミン（ｂ２）は、本明細書に記載されたジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミンを用いることができる。
また、本発明で用いることができるジアミン（ｂ２）は、単独で、または、２種以上を組み合わせて用いることができる。すなわち、２種以上の組み合わせとしては、上記ジアミン同士、上記ジアミンとそれ以外のジアミン、または、上記ジアミン以外のジアミン同士を用いることができる。
【０１２１】
また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされるが、そのような場合には、３，３’−ジアミノジフェニルスルホンおよび一般式（１２）においてｙ＝１〜１５の整数であるジアミンを用いることが特に好ましい。
【０１２２】
２．３  モノアミン（ｂ３）
本発明において用いられるモノアミン（ｂ３）は、特に限定されないが、具体例としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシランおよびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸、モノエタノールアミン、ｎ−ブチルアミン、アニリンを挙げることができる。
これらの中でも、得られる膜の耐久性が優れるという点から、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシランが好ましく、３−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
これらのモノアミンは単独で、または二種以上組み合わせても使用できる。
【０１２３】
２．４  ポリアミド酸の反応条件
本発明で用いることのできるポリアミド酸は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）が１モルに対して、ジアミン（ｂ２）が０．０５〜０．８モル、モノアミン（ｂ３）が０．４〜１．９モル反応させて得られることが好ましい。また、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）が１モルに対して、ジアミン（ｂ２）が０．１〜０．６モル、モノアミン（ｂ３）が０．８〜１．８モル反応させて得られることがさらに好ましい。
【０１２４】
２．４．１  反応溶媒
少なくとも、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）とを用いてポリアミド酸を得るために用いられる溶媒は、当該化合物が合成できれば特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを挙げることができる。
これらの中でもプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルまたはジエチレングリコールジメチルエーテルを用いると、インクジェットヘッドへのダメージが少ないインクとすることができるので好ましい。
これらの反応溶媒は単独でも、２種以上の混合溶媒としても使用できる。また、上記反応溶媒以外に他の溶媒を混合して用いることもできる。
【０１２５】
反応溶媒は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は０℃〜１００℃で、０．２〜２０時間反応させるのが好ましい。
【０１２６】
２．４．２  反応系への添加順序
また、反応原料の反応系への添加順序は特に限定されない。すなわち、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）とを同時に反応溶媒に加える、ジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）を添加する、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とモノアミン（ｂ３）をあらかじめ反応させた後にジアミン（ｂ２）を添加する、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とをあらかじめ反応させて共重合体を合成した後に、その共重合体にモノアミン（ｂ３）を添加する、などいずれの方法も用いることができる。
【０１２７】
２．５  高分子化合物（B）の重量平均分子量
本発明に用いられる高分子化合物（B）は、重量平均分子量が１００００以上であることが好ましい。特に、重量平均分子量が65,000〜500,000であるポリアミド酸を用いると、均一な膜厚のポリイミド膜が得られ、得られるポリイミド膜の特性、例えば機械的強度や屈曲性が良好であるためインクジェット用インクとして好ましい。65,000以上の重量平均分子量を有するポリアミド酸を用いると、得られるポリイミド膜の機械的強度が強固で、クラックが発生することなく屈曲性が良好であり、均一な膜厚のポリイミド膜が得られることから、インクジェット用インクとして好ましく用いることができる。一方、500,000以下の重量平均分子量を有するポリアミド酸を用いると、安定したインクジェット印刷が可能である。インクジェット用インクのインクジェット印刷性、及び得られるポリイミド膜の機械的強度をさらに向上させるために、ポリアミド酸の重量平均分子量は70,000〜210,000であることがより好ましく、80,000〜180,000であることが特に好ましい。
【０１２８】
高分子化合物（B）の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することができる。具体的には、得られた高分子化合物（B）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等で濃度が約１重量％になるように希釈し、東ソー株式会社製カラムＧ４０００ＨＸＬ、Ｇ３０００ＨＸＬ、Ｇ２５００ＨＸＬおよびＧ２０００ＨＸＬを用いて、ＴＨＦを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。
【０１２９】
３  溶媒（C）
本発明のインクジェット用インクは、例えば、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）、必要により高分子化合物（B）を溶媒（C）に溶解して得ることができる。したがって、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒は、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）、必要により高分子化合物（B）を溶解することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独ではアルケニル置換ナジイミド化合物（Ａ）、必要により高分子化合物（B）を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって、インクジェット用インクに含まれる溶媒（C）として用いることが可能である。
【０１３０】
インクジェット用インクに含まれる溶媒（C）の具体例としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、マロン酸ジエチル、エタノール、２−プロパノール、ジオキサン、エチレングリコール、ブチルセルソロブ等を挙げることができる。
【０１３１】
前記の通り、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒について特に制限はないが、インクジェット印刷機のインクヘッドの仕様によっては、その接合部材や内在するフィルター素材が使用する溶媒の種類によって腐食や膨潤する場合がある。あるいは、乾燥速度が速い溶剤ではインクヘッドの目詰まりが起こったりするので溶媒（C）の選択は非常に重要である。
本発明者が鋭意検討した結果、インクジェットヘッドの耐久性向上やヘッド目詰まり、インク吐出性の点で、乳酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン、およびブチルセルソロブ等が溶媒（C）として特に好ましいことを見出した。
さらに、インクジェット用インクの塗布性にインクの表面張力が大きく影響するため、インクの表面張力を２０〜４５ｍＮ／ｍ、好ましくは３０〜４０ｍＮ／ｍに調整する。
表面張力が４５ｍＮ／ｍより大きくなるとインク吐出口におけるインクメニスカスが不安定化してインクが吐出できなくなることがあり、２０ｍＮ／ｍより小さくなると塗布した液滴が濡れ広がってしまい塗布パターンの形状が大きく悪化する。
表面張力を２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲に調整するには、溶剤選定が重要である。表張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲にある一種の溶剤を用いても良いが、表面張力の大きな溶剤（例えば、γ−ブチロラクトン：４３ｍＮ／ｍ）および表面張力の小さな溶剤（例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル：２４ｍＮ／ｍ、あるいはエチレングリコールモノブチルエーテル：３２ｍＮ／ｍ）を混合して用いると溶剤組成で表面張力を微調整できるので好ましい。
【０１３２】
また、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルカプロラクタム、カルバミド酸エステル等のアミド系の溶媒は、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）や高分子化合物（B）の良溶媒であることから好ましく用いることができるが、その一方でインクジェットヘッドの耐久性に難があり注意が必要である。
従って、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒（C）において、前述の特に好ましい溶媒を溶媒（Ｃ）の８０重量％以上、更には９０重量％以上含むことが好ましい。
【０１３３】
これらの溶媒は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
【０１３４】
４  本発明のインクジェット用インクにおけるアルケニル置換ナジイミド化合物（A）、高分子化合物（B）および溶媒（Ｃ）の濃度
本発明においてインクジェット用インク中のアルケニル置換ナジイミド化合物（A）の濃度は特に限定されないが１〜９９重量％が好ましく、１０〜８０重量％がさらに好ましく、２２〜７０重量％が特に好ましい。これらの濃度範囲であると、ジェッティング精度が高いので好ましい。
本発明においてインクジェット用インク中の高分子化合物（B）の濃度は特に限定されないが、粘度を低く抑えるため、０〜５０重量％が好ましく、０〜２５重量％がさらに好ましく、０〜１２．５重量％が特に好ましい。
本発明においてインクジェット用インク中の溶媒（Ｃ）の濃度は特に限定されないが１〜９９重量％が好ましく、２０〜９０重量％がさらに好ましく、３０〜７８重量％が特に好ましい。これらの濃度範囲であると、ジェッティング精度が高いので好ましい。
インクジェット用インクとして用いる場合、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）および高分子化合物（B）の濃度は高いほど得られるポリイミド膜の膜厚が厚くなるため好ましいが、その一方で粘度も高くなる傾向にあるため、場合によってはインクジェット印刷機で吐出できなくなるという問題が生じる。本発明者らが鋭意検討した結果、特に上記の濃度範囲であれば膜厚の大きなポリイミド膜を形成可能なインクジェット用インクとして好ましく用いることができることを見出した。
【０１３５】
５  本発明のインクジェット用インクに添加される添加剤
本発明のインクジェット用インクは、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）、必要により高分子化合物（B）、必要により溶媒（C）とを混合して得られる。
さらに、目的とする特性によっては、本発明のインクジェット用インクは、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、トリメリット酸等のエポキシ硬化剤、アミノシリコン化合物、溶媒、ｐＨ調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー等の添加剤を必要により選択して添加し、それらを均一に混合溶解することにより得ることができる。
【０１３６】
（１）エポキシ樹脂
本発明のインクジェット用インクは、エポキシ樹脂をさらに含んでもよい。本発明のインクジェット用インクに含まれるエポキシ樹脂は、オキシランを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。
【０１３７】
本発明においてインクジェット用インク中のエポキシ樹脂の濃度は特に限定されないが、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１３８】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキシランを有するモノマーの重合体、および、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
【０１３９】
オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、およびメチルグリシジル（メタ）アクリレートを挙げることができる。
また、オキシランを有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドおよびＮ−フェニルマレイミドを挙げることができる。
【０１４０】
オキシランを有するモノマーの重合体およびオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ｎ−ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体およびスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体を挙げることができる。本発明のインクジェット用インクがこれらのエポキシ樹脂を含有すると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性が良好となるため好ましい。
【０１４１】
本発明のインクジェット用インクに含まれ得るエポキシ樹脂の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「セロキサイド３０００」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラグリシジル−４,４’−ジアミノジフェニルメタンを挙げることができる。
これらの中でも、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」、商品名「エピコート８２８」は、得られるポリイミド膜の平坦性が特に良好であるため好ましい。
【０１４２】
エポキシ樹脂は一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
【０１４３】
（２）アクリル樹脂
インクジェット用インクは、アクリル樹脂をさらに含んでもよい。インクジェット用インクに含まれるアクリル樹脂は、アクリル基やメタクリル基を有すれば特に限定されない。
【０１４４】
インクジェット用インク中のアクリル樹脂の濃度は特に限定されないが、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１４５】
アクリル樹脂としては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能（メタ）アクリレート、及び、三官能以上の多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１４６】
ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートを挙げることができる。中でも形成される膜が柔軟である点から、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが特に好ましい。
【０１４７】
ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、（メタ）アクリルアミド、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル] 、マレイン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、またはシクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]を挙げることができる。
【０１４８】
二官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、またはジペンタエリスリトールジアクリレートを挙げることができる。
【０１４９】
三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、またはウレタン（メタ）アクリレートを挙げることができる。
これらのアクリル樹脂は１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１５０】
（３）界面活性剤
インクジェット用インクの塗布性の向上を望むときには、かかる目的に沿った界面活性剤を添加できる。本発明のインクジェット用インクに添加される界面活性剤の具体例としては、商品名「Ｂｙｋ−３００」、「Ｂｙｋ−３０６」、「Ｂｙｋ−３３５」、「Ｂｙｋ−３１０」、「Ｂｙｋ−３４１」、「Ｂｙｋ−３４４」、「Ｂｙｋ−３７０」（ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤；商品名「Ｂｙｋ−３５４」、「ＢｙＫ−３５８」、「Ｂｙｋ−３６１」（ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、商品名「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」（ネオス（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
界面活性剤は、下地基板への濡れ性、レベリング性、または塗布性を向上させるために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１５１】
（４）帯電防止剤
本発明のインクジェット用インクに添加される帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等が挙げられる。
これらの帯電防止剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１５２】
（５）カップリング剤
本発明のインクジェット用インクに添加されるカップリング剤は、特に限定されるものではなく、公知のカップリング剤を用いることができる。添加されるカップリング剤はシランカップリング剤が好ましく、具体的には、トリアルコキシシラン化合物またはジアルコキシシラン化合物等を挙げることができる。好ましくは、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等が例示できる。これらの中でも、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランなどが好ましく挙げられる。
【０１５３】
これらのカップリング剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
カップリング剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜３重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１５４】
（６）エポキシ硬化剤
本発明のインクジェット用インクに添加されるエポキシ硬化剤は、特に限定されるものではなく、公知のエポキシ硬化剤を用いることができる。具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾールおよびその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物等が挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチルイミダゾリル−(１’)］−エチルトリアジン、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物等の酸無水物等が挙げられる。
中でも透明性が良好なトリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物が好ましい。
【０１５５】
これらのエポキシ硬化剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
エポキシ硬化剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．２〜５重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１５６】
（７）アミノシリコン化合物
本発明のインクジェット用インクにおいてアミノシリコン化合物を添加することができる。アミノシリコン化合物としては、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
これらのアミノシリコン化合物は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
アミノシリコン化合物は、基板への密着性をよくするために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０５〜２重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１５７】
６  インクジェット用インクの粘度
本発明においてインクジェット用インクの粘度は特に限定されないが、常温でジェッティングを行う場合は、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する点で好ましくは１〜５０ｍＰａ・ｓ（２５℃）であり、より好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ（２５℃）、さらに好ましくは８〜２０ｍＰａ・ｓ（２５℃）である。
インクヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度(アルケニル置換ナジイミド化合物が硬化しない温度、好ましくは４０〜１２０℃）において、１〜５０ｍＰａ・ｓ、好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは８〜２０ｍＰａ・ｓであればよい。
【０１５８】
７  ポリイミド膜
本発明のインクジェット用インクを、基板表面にインクジェットにより塗布し、ホットプレート、またはオーブンなどで加熱処理して全面または所定のパターン状（ライン状等）のポリイミド膜を形成することができる。
従来、パターン状のポリイミド膜を形成する場合はフォトリソグラフィ技術を用いているが、フォトレジスト、現像液、エッチング液、剥離液などの多種大量の薬液が必要であり、さらに煩雑な工程を要するものであった。これに対して、本発明のインクジェット用インクを用いて形成されたパターン状ポリイミド膜は、インクジェット印刷により必要な部分のみに描画するため材料使用量は圧倒的に少なく、フォトマスクを使用しないので多品種大量生産が可能であり、且つ製造に要する工程数が少ないといった特徴を有するものである。
【０１５９】
７．１  インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
インクジェット塗布方法には、インクの吐出方法により各種のタイプがある。例えば、圧電素子型、バブルジェット（登録商標）型、連続噴射型、静電誘導型などが挙げられる。本発明にかかるインクは、インクに含まれる各成分を適正に選択することにより、様々な吐出方法でジェッティングが可能であり、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。
【０１６０】
本発明にかかるインクを用いて塗布を行うのにより好ましい吐出方法は圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。
【０１６１】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となったものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
また、塗布ヘッドに対し好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用するばね部とを有した形態などを採用することができる。塗布装置は、上述のようにシリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。
【０１６２】
７．２  溶媒乾燥
インクジェット塗布方法を用いて、基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェットによって塗布した後、ホットプレート、またはオーブンなどでの加熱により溶媒（C）を気化等させて除去する、すなわち乾燥することによって、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）の膜を形成することができる。インクジェット用インクが、さらに高分子化合物（B）を含む場合は、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）と高分子化合物（B）の複合膜を形成することができる。
加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、アルケニル置換ナジイミド化合物（A）が硬化しない温度が好ましく、通常７０〜１８０℃、より好ましくは８０〜１２０℃で、オーブンを用いた場合５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合１〜５分間で膜が形成される。
【０１６３】
７．３  ポリイミドの膜の形成
アルケニル置換ナジイミド化合物（A）の膜、あるいはアルケニル置換ナジイミド化合物（Ａ）と高分子化合物（B）の複合膜を形成した後、アルケニル置換ナジイミド化合物を硬化させるために、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃で、加熱処理することによってポリイミド膜を得ることができる（オーブンを用いた場合は、３０〜９０分間、ホットプレートを用いた場合は、５〜３０分間である）。なお、高分子化合物（B）がポリアミド酸やポリアミド酸エステル等である場合は、加熱処理によるイミド化反応も同時に進行する。
膜がパターン状に形成されている場合には、パターン状のポリイミド膜が形成される。本明細書では、特に言及のない限り、ポリイミド膜は、パターン状のポリイミド膜を含むものとする。
【０１６４】
このようにして得られた本発明の好ましい形態であるポリイミド膜は印刷性、作業性、耐熱性、電気絶縁性、寸法安定性に優れた絶縁膜である。また、原料のインクジェット用インクがエポキシ樹脂を含む場合、比較的強靭で、耐薬品性、平坦性、密着性および耐スパッタ性に優れた絶縁膜となるので好ましい。
【０１６５】
８  フィルム基板
本発明のフィルム基板は、例えば、インクジェット等の方法により配線が形成されたポリイミドフィルム等の基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状（ライン状等）に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱してポリイミド膜が形成されて得られる。
【０１６６】
９  電子部品
例えば、予め配線が形成されたポリイミドフィルム等のフィルム基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布し、その後、当該フィルム基板を乾燥し、さらに加熱することによって、絶縁性を有するポリイミド膜で被覆されたフレキシブルな電子部品が得られる。
【実施例】
【０１６７】
以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
下記実施例で使用されるビスアルケニル置換ナジイミド（ａ１）およびテトラキスアルケニル置換ナジイミド（ａ２）は、以下の構造式で表されるようにアルケニル基が２以上置換されており（一般式（１）におけるｌが２以上）、一方、下記比較例で使用されるビスモノアルケニル置換ナジイミド(ａ３)およびテトラキスモノアルケニル置換ナジイミド(ａ４)は、アルケニル基が１つだけ置換された化合物（一般式（１）におけるｌが１に相当）である。なお、下記構造式中に記載したアルケニル基の数は、後述するように混合物の平均値（測定値）を記載したものである。
【０１６８】
ビスアルケニル置換ナジイミド（ａ１）
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン（以下、「ＢＰＡＮＩ‐Ｍ」と略す。）
【化６６】
0005282415.tif 000058
【０１６９】
Ｎ、Ｎ‘−ドデカン‐ビス‐（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）（以下、「ＢＰＡＮＩ‐１２ＤＡ」と略す。）
【化６７】
0005282415.tif 000059
【０１７０】
テトラキスアルケニル置換ナジイミド（ａ２）
テトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン（以下、「ＴＰＡＮＩ‐ＴＡＭ」と略す。）
【化６８】
0005282415.tif 000060
【０１７１】
ビスモノアルケニル置換ナジイミド（ａ３）
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン（以下、「ＢＡＮＩ‐Ｍ」と略す。）
Ｎ、Ｎ’−ドデカン‐ビス‐（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）（以下、「ＢＡＮＩ‐１２ＤＡ」と略す。）
【０１７２】
テトラキスモノアルケニル置換ナジイミド（ａ４）
テトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン（以下、「ＴＡＮＩ‐ＴＡＭ」と略す。）
【０１７３】
［合成例１］アルケニル置換シクロペンタジエンの合成
水素化ナトリウム（４９．２ ｇ、１．２３ ｍｏｌ）と１８-クラウンエーテル（０．０４２８ｇ，０．１６２ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）に溶解した。この溶液に、０℃で、塩化アリル（１１０ｇ、１．４５８ｍｏｌ）を加えた。続いて、シクロペンタジエン（１０ｇ，１６２ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。０℃で２時間攪拌後に、室温で４８時間攪拌して、更に５０℃で４時間攪拌した。反応液を水に加えて、トルエン抽出後、減圧下で濃縮して、アルケニル置換シクロペンタジエンを得た。
【０１７４】
［合成例２］アルケニル置換ナジック酸無水物の合成
得られたアルケニル置換シクロペンタジエンを精製せずに、その溶液に、トルエン（５０ｍL）およびマレイン酸無水物（１２．２１８ｇ、１２４．６ｍｍｏｌ）を加えて、８０℃で２時間攪拌した。更に、室温で終夜攪拌の後、減圧濃縮を行い、黄色の溶液を得た。溶液を静置後、２層に分かれるので、下層を分離して４３ｇ、９７％の収率で目的物粗アルケニル置換ナジック酸無水物を得た。得られた粗アルケニル置換ナジック酸無水物はＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣ、Ｈ１ＮＭＲで確認した。
【０１７５】
終夜という用語が使用される場合は、約１２〜１８時間という時間を指し、「室温」が使用される場合、約２０〜２５℃という温度を指す。
【０１７６】
［合成例３］アルケニル置換ナジイミド(ＢＰＡＮＩ‐Ｍ)の合成（実施例化合物の合成）
攪拌子を入れ、ガラス栓をした２００ｍｌのナス型フラスコをスターラー上に用意し、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で終夜攪拌した後、室温減圧（真空計圧力０．１Ｐａ）下で、溶媒を蒸発させ、アミック酸を得た。このアミック酸４．９９１２ｇをｎ‐ヘキサンで再沈殿させ、アミック酸粉末３．０７３４ｇを得た。このアミック酸をシャーレに移し、１８０℃に加熱されたオーブンに３０分間入れ、脱水閉環させ固体のイミド化物であるＢＰＡＮＩ−Ｍ  ２．８６５５ｇを得た。イミド化物の同定はＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣ、Ｈ１ＮＭＲを用いて行った。ＦＴ−ＩＲによる赤外吸収スペクトルはイミド環カルボニル基の伸縮振動１７１０ｃｍ−１、１７７６ｃｍ−１であった。ＧＰＣにより測定した数平均分子量Ｍｎは７４８であり、後述するモノアルケニル置換ナジイミドであるＢＡＮＩ−Ｍ（前記式（１）中ｌ＝１の化合物：数平均分子量Ｍｎ＝４７９）に帰属するピークは観測されなかったことから、前記式（１）中ｌ＝１の化合物は含まれていないことを確認した。Ｈ１ＮＭＲ（ケミカルシフトを図１に示す。）を測定したところ、一分子中にアルケニル置換基を平均４．４含んでいた。
アルケニル置換ナジック酸無水物            ７．８６６３ｇ
４，４−ジアミノジフェニルメタン          ２．１３６５ｇ
テトラヒドロフラン                        １０．０ｇ
【０１７７】
［合成例４］アルケニル置換ナジイミド（ＢＰＡＮＩ−１２ＤＡ）の合成（実施例化合物の合成）
攪拌子を入れ、ガラス栓をした２００ｍｌのナス型フラスコをスターラー上に用意し、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で終夜攪拌した後、室温減圧（真空計圧力０．１Ｐａ）下で、溶媒を蒸発させ、アミック酸を得た。このアミック酸をシャーレに移し、１８０℃に加熱されたオーブンに３０分間入れ、脱水閉環させ褐色液体のイミド化物であるＢＰＡＮＩ−１２ＤＡ  ８．３８６３ｇを得た。このイミド化合物を体積比で酢酸エチル：ヘキサン＝３：１の展開溶媒でカラム精製し、精製イミド化物６．３８２１ｇを得た。イミド化合物の同定はＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣ、Ｈ１ＮＭＲを用いて行った。ＦＴ−ＩＲによる赤外吸収スペクトルはイミド環カルボニル基の伸縮振動１６９６ｃｍ−１、１７６６ｃｍ−１であった。ＧＰＣにより測定した数平均分子量Ｍｎは８５４であり、後述するモノアルケニル置換ナジイミドであるＢＡＮＩ−１２ＤＡ（前記式（１）中ｌ＝１の化合物：数平均分子量Ｍｎ＝５８５）に帰属するピークは観測されなかったことから、前記式（１）中ｌ＝１の化合物は含まれていないことを確認した。Ｈ１ＮＭＲ（ケミカルシフトを図２に示す。）を測定したところ一分子中にアルケニル置換基を平均５．４含んでいた。
アルケニル置換ナジック酸無水物            ７．８５０７ｇ
１，１２−ドデカンジアミン                ２．１５５２ｇ
テトラヒドロフラン                        １０．０ｇ
【０１７８】
［合成例５］アルケニル置換ナジイミド（ＴＰＡＮＩ‐ＴＡＭ）の合成（実施例化合物の合成）
攪拌子を入れ、ガラス栓をした２００ｍｌのナス型フラスコをスターラー上に用意し、以下に示すとおりに原料を仕込み、室温で終夜攪拌した後、室温減圧（真空計圧力０．１Ｐａ）下で、溶媒を蒸発させ、アミック酸を得た。このアミック酸の入ったナスフラスコにディーンスターク管とコンデンサーを取り付け、トルエン４０ｇに入れ、１１６℃にて３時間リフラックスさせ、脱水閉環させ褐色固体の粗イミド化物であるＴＰＡＮＩ−ＴＡＭ  １１．１６４８ｇを得た。このイミド化合物を体積比でクロロホルム：メタノール＝１：１の展開溶媒でカラム精製し、精製イミド化物３．８７３７ｇを得た。イミド化合物の同定はＦＴ−ＩＲ、ＧＰＣ、Ｈ１ＮＭＲを用いて行った。ＦＴ−ＩＲによる赤外吸収スペクトルはイミド環カルボニル基の伸縮振動１７１２ｃｍ−１、１７７６ｃｍ−１であった。ＧＰＣによる数平均分子量Ｍｎは１５１７であり、後述するモノアルケニル置換ナジイミドであるＴＡＮＩ−ＴＡＭ（前記式（１）中ｌ＝１の化合物：数平均分子量Ｍｎ＝８８５）に帰属するピークは観測されなかったことから、前記式（１）中ｌ＝１の化合物は含まれていないことを確認した。Ｈ１ＮＭＲ（ケミカルシフトを図３に示す。）を測定したところ一分子中に平均１２．５のアルケニル置換基を含んでいた。
アルケニル置換ナジック酸無水物            ９．５４０２ｇ
テトラキスアミノフェニルメタン            ２．４８７８ｇ
テトラヒドロフラン                        １０．０ｇ
【０１７９】
［合成例６］モノアルケニル置換ナジイミド（ＢＡＮＩ−Ｍ）としては、市販品（丸善石油化学（株）製品）を用いた。
【０１８０】
［合成例７］モノアルケニル置換ナジイミド（ＢＡＮＩ−１２ＤＡ）の合成（比較化合物の合成）
攪拌子を入れた３００ｍｌのナス型フラスコをスターラー上に用意し、以下に示すとおりに原料を仕込み、オーブンの加熱温度が１６０℃であること以外は合成例４と同様の方法を経て、粘調な液体のイミド化物であるＢＡＮＩ−１２ＤＡ  ５．９３ｇを得た。なお、イミド化物の同定はＦＴ−ＩＲを用いて赤外吸収スペクトル（イミド環カルボニル基の伸縮振動１６９２ｃｍ−１、１７６６ｃｍ−１）で確認した。数平均分子量Ｍｎは５８５であった。
モノアルケニル置換ナジック酸無水物      ４．０３ｇ
１，１２−ドデカンジアミン              １．９７ｇ
テトラヒドロフラン                      ２００．０ｍｌ
【０１８１】
［合成例８］モノアルケニル置換ナジイミド（ＴＡＮＩ−ＴＡＭ）の合成（比較化合物の合成）
攪拌子を入れた１００ｍｌのナス型フラスコをスターラー上に用意し、以下に示すとおりに原料を仕込み、オーブンの加熱温度が１６０℃であること以外は合成例５と同様の方法を経て、固体のイミド化物であるＴＡＮＩ−ＴＡＭ  ２．９７ｇを得た。イミド化物の同定はＦＴ−ＩＲを用いて赤外吸収スペクトル（イミド環カルボニル基の伸縮振動１７０６ｃｍ−１、１７７６ｃｍ−１）で確認した。数平均分子量Ｍｎは８８５であった。
モノアルケニル置換ナジック酸無水物        ２．０４ｇ
テトラキスアミノフェニルメタン            ０．９６ｇ
テトラヒドロフラン                        ７．０ｇ
【０１８２】
［合成例９］  ポリアミド酸溶液の合成
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下２５℃で５ｈｒ攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸の１２％重量溶液を得た。この溶液の粘度は５１００ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。ＧＰＣで測定した重量平均分子量は１１７,０００であった。この溶液をポリアミド酸（ＰＯＬＹ−１）溶液とした。
３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物    １．０３ｇ
２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン      １．３７ｇ
γ−ブチロラクトン                                                １７．６０ｇ
【０１８３】
［実施例１］インクジェット用インク（１）
攪拌子を入れたスクリュー管瓶（アズワン株式会社製ラボランパック）６ｃｃをスターラー上に用意し、以下に示すとおりに原料を仕込み、合成例３で得られたＢＰＡＮＩ−Ｍの固形分が完全に溶解するまで攪拌し、黄色透明なＢＰＡＮＩ−Ｍの３０重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１９ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。
ＢＰＡＮＩ−Ｍ（実施例化合物）              ０．６０ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル    ０．７０ｇ
γ−ブチロラクトン                          ０．７０ｇ
【０１８４】
［実施例２］インクジェット用インク（２）
実施例１で用いたビンに、以下に示すとおりに原料を仕込み、固形分が完全に溶解するまで攪拌し、合成例４で得られたＢＰＡＮＩ−１２ＤＡの５０重量％溶液を得た。この溶液の粘度は２０ｍＰ・ｓ（２５℃）であった。
ＢＰＡＮＩ−１２ＤＡ（実施例化合物）      ０．６０ｇ
γ−ブチロラクトン                        ０．７０ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル  ０．７０ｇ
【０１８５】
［実施例３］インクジェット用インク（３）
実施例１で用いたビンに、以下に示すとおりに原料を仕込み、合成例５で得られたＴＰＡＮＩ−ＴＡＭの固形分が完全に溶解するまで攪拌し、黄色透明なＴＰＡＮＩ−ＴＡＭの３０重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１４ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。
ＴＰＡＮＩ−ＴＡＭ（実施例化合物）          ０．６０ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル    ０．７０ｇ
γ−ブチロラクトン                          ０．７０ｇ
【０１８６】
［実施例４］インクジェット用インク（４）
実施例１で用いたビンに、以下に示すとおりに合成例９で得られたＰＯＬＹ−１以外の原料を仕込み、合成例３で得られたＢＰＡＮＩ−Ｍの固形分が完全に溶解するまで攪拌し、さらにアミド酸溶液ＰＯＬＹ−１を混ぜ、褐色透明なインクジェット用インクを得た。この溶液の粘度は３２ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。
ＢＰＡＮＩ−Ｍ（実施例化合物）                ０．３３ｇ
ＰＯＬＹ−１（アミド酸溶液）                  ０．３６ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル      ０．３８ｇ
γ−ブチロラクトン                            ０．６７ｇ
【０１８７】
［比較例１］インクジェット用インク（５）
実施例１で用いたビンに、以下に示すとおりに原料を仕込み、合成例６で得られたＢＡＮＩ−Ｍの固形分が完全に溶解するまで攪拌し、黄色透明なＢＡＮＩ−Ｍの４０重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１５．２ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。
ＢＡＮＩ−Ｍ（丸善石油化学（株）製品）（比較化合物）   ４．００ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル          ３．００ｇ
γ−ブチロラクトン                                ３．００ｇ
【０１８８】
［比較例２］インクジェット用インク（６）
スクリュー管瓶２０ｃｃを使用したこと以外は実施例１と同様に瓶を用意した。以下に示すとおりに原料を仕込み、合成例７で得られたＢＡＮＩ−１２ＤＡの固形分が完全に混合するまで攪拌し、褐色透明なＢＡＮＩ−１２ＤＡの５０重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１５．８ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。
ＢＡＮＩ−１２ＤＡ（比較化合物）                  ６．００ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル          ３．００ｇ
γ−ブチロラクトン                                ３．００ｇ
【０１８９】
［比較例３］インクジェット用インク（７）
スクリュー管瓶２０ｃｃを使用したこと以外は実施例１と同様に瓶を用意した。以下に示すとおりに原料を仕込み、合成例８で得られたＴＡＮＩ−ＴＡＭの固形分が完全に溶解するまで攪拌し、褐色透明なＴＡＮＩ−ＴＡＭの３０重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１３．８ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。
ＴＡＮＩ−ＴＡＭ（比較化合物）              ３．６０ｇ
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル    ４．２０ｇ
γ−ブチロラクトン                          ４．２０ｇ
【０１９０】
［実施例５］インクジェット塗布（１）
実施例１で調製されたインクジェット用インク（１）をインクジェットインクとして使用し、ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製インクジェット塗布装置ＤＭＰ−２８３１で０．７５ｍｍ厚のガラス基板上に１ドット幅でドットピッチ２０ミクロンに設定し、長さ２ｃｍのライン塗布を行った。インクジェットヘッドのヒーターの設定を４０℃とし、ピエゾ電圧は２１Ｖ、駆動周波数は５ｋＨｚとした。基板を８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、２３０℃のオーブンで３０分間加熱し、ライン状に形成されたポリイミドの絶縁膜を得た。
得られたポリイミド膜のライン幅、ライン幅の均一性を光学顕微鏡で観察し、膜厚を測定した。膜厚はＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｊａｐａｎ株式会社製の触針式膜厚計αステップ２００を使用し、３箇所の測定値の平均値を膜厚とした。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。
【０１９１】
［実施例６］インクジェット塗布（２）
実施例２で調製されたインクジェット用インク（２）をインクジェットインクとして使用し、ヘッドヒーターを３０℃、ピエゾ電圧を１９Ｖである以外は実施例５と同様な条件の下、ライン塗布および焼成し、得られたポリイミドの絶縁膜の評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。
【０１９２】
［実施例７］インクジェット塗布（３）
実施例３で調製されたインクジェット用インク（３）をインクジェットインクとして使用し、ヘッドヒーターを３０℃、ピエゾ電圧を１９Ｖである以外は実施例５と同様な条件の下、ライン塗布および焼成し、得られたポリイミドの絶縁膜の評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。
【０１９３】
［実施例８］インクジェット塗布（４）
実施例４で調製されたインクジェット用インク（４）をインクジェットインクとして使用し、ヘッドヒーターを６０℃、ピエゾ電圧を２０Ｖである以外は実施例５と同様な条件の下、ライン塗布および焼成し、得られたポリイミドの絶縁膜の評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。
【０１９４】
［比較例４］インクジェット塗布（５）
比較例１で調製されたインクジェット用インク（５）をインクジェットインクとして使用し、ヘッドヒーターを３０℃、ピエゾ電圧を２３Ｖである以外は実施例５と同様な条件の下、ライン塗布および焼成し、得られたポリイミドの絶縁膜の評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していたが、樹脂膜にバルジが生じ、印刷ムラができていた。
【０１９５】
【表１】
0005282415.tif 000061
この結果より、本発明によるインクはインクジェットで吐出可能であり、バルジなどが生じないので、印刷ムラがなく、印刷性がよいことがわかった。
【０１９６】
［実施例９］膜の流動試験および耐熱性試験
実施例１および比較例１のインクジェット用インクの耐熱性試験を行った。インクジェット用インク１ｍｌをガラス基板上に滴下し、スピンコートを行った。基板を８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、ナイフにて樹脂表面を一部削り、２３０℃のオーブンで３０分間加熱し、更に２５０℃に加熱したオーブンで３０分間加熱した。８０℃の乾燥後、２３０℃の加熱後、および２５０℃の加熱後に、それぞれ削られた膜の形状を観察することで加熱時の膜の流動（リフロー）の有無を調べた。また、同時に得られたポリイミドの絶縁膜の膜厚を測定し、減少率を算出した。この減少率を耐熱性とみなした。その結果を表２に示す。
【０１９７】
【表２】
0005282415.tif 000062
表２の結果から、実施例１で得られたインクジェット用インクは、耐熱性に優れていることがわかる。また、表１の結果とあわせて膜の流動（リフロー）がなく、にじみやバルジといった印刷性が良好であることがわかる。これらの結果より、アルケニル置換ナジック酸無水物のアルケニル基を増加させることで、耐熱性とにじみやバルジといった印刷性を向上させることができることがわかった。
【０１９８】
［実施例１０］線膨張係数の測定および樹脂膜の脆さ
合成例４、７から得られたイミド化合物および実施例１、３、４、比較例１，３から得られたポリイミド膜の線膨張係数測定を行った。液体のイミド化物およびインクをアルミ箔上に塗布し、２３０℃のオーブンで３０分間加熱してポリイミド膜を得た。ただし、実施例８のみは３００℃、３０分で焼成した。この膜をアルミ箔から剥離し、ＴＭＡ１００(ＳＥＩＫＯ  Ｉ＆Ｅ社製)を用いて、１００℃から２００℃の線膨張係数を測定した。その結果を表３に示す。
また、脆さは折り曲げても破断せず測定が可能であれば○、膜が脆く測定前に破断したため測定不可能であれば×とした。
【０１９９】
【表３】
0005282415.tif 000063
表３の結果から、本発明のインク（実施例１、３）より得られたポリイミド膜は、同じジアミンを用いた比較例のインク（比較例１、３）より得られたポリイミド膜に比べ脆さが改善されていることがわかる。また、合成例４の実施例化合物より得られたポリイミド膜は同じジアミンを用いた合成例７の比較化合物より得られたポリイミド膜に比べ線膨張係数が約半減していることがわかる。これらの結果より、アルケニル置換ナジック酸無水物のアルケニル基を増加させることで膜の機械的強度を向上させ、線膨張係数を低下させることができることがわかった。
以上のことから、本発明の化合物は機械的特性に優れていることがわかった。
更に、アミド酸溶液（ＰＯＬＹ−１）を加えた実施例４のインクより得られたポリイミド膜は、アミド酸溶液（ＰＯＬＹ−１）を加えていない実施例１のインクより得られたポリイミド膜に比べ、線膨張係数が大きくなっていることがわかる。このことより高分子化合物を混入させることで膜の機械的特性を変化させることができることがわかった。
【０２００】
［実施例１１］ポリイミド膜の電気的特性
実施例１〜３、比較例１〜３より得られたポリイミド膜の電気的特性を測定した。インクをクロム基板上に１ｍＬ塗布し、スピンコートにより薄膜を形成後、８０℃で５分間ホットプレート上で乾燥させ、２３０℃で３０分間オーブンに入れて硬化させた。その後、ポリイミド樹脂膜状にアルミを蒸着させ電極を作成した。誘電率、誘電正接はＬＣＲ ＭＥＴＥＲ（ＨＥＷＬＥＴＴ ＰＡＣＫＥＲＤ社製）を用いて、体積抵抗率、耐電圧、絶縁耐力はＵＬＴＲＡＨＩＧＨ  ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ  ＭＥＴＥＲ  ４２６３Ｂ（ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ社製）を用いて行った。得られた結果を表４に示す。
【０２０１】
【表４】
0005282415.tif 000064
表４から明らかなように、実施例１および２より得られたポリイミドの絶縁膜は、耐電圧に優れていることがわかった。実施例１、実施例２および実施例３より得られたポリイミドの絶縁膜は、比較例１、比較例２および比較例３より得られたポリイミド膜に比べ、誘電率を低下させることができた。
以上のことから、本発明の化合物は電気的特性に関しても優れていることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０２０２】
本発明の活用法として、例えば、フレキシブル配線基板用絶縁膜、それを用いた電子部品を挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【０２０３】
【図１】図１は、合成例３で調製したビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタンのＨ１ＮＭＲである。
【図２】図２は、合成例４で調製したＮ、Ｎ‘−ドデカン‐ビス‐（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）のＨ１ＮＭＲである。
【図３】図３は、合成例５で調製したテトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタンのＨ１ＮＭＲである。
【図１】
0005282415.tif 000073
【図２】
0005282415.tif 000074
【図３】
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