(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向を有する複数の画素領域と、前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有する基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に機能膜を形成する方法であって、
前記基板の第１の画素領域と、前記第１の画素領域の前記長手方向の両端に隣接する第１の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、
前記第１の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、前記第１の画素領域内に設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、
前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第２の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、
を含む塗布方法。
【請求項２】
前記第１の撥液部に着弾させたインク液滴と前記第１の画素領域とを含む画像を撮像するステップをさらに含み、前記撮像画像に基づいて前記差を求める、請求項１記載の塗布方法。
【請求項３】
前記第１の画素領域は、一つまたは複数の副画素を配置した領域である、請求項１記載の塗布方法。
【請求項４】
前記第１の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布される、請求項１記載の製造方法。
【請求項５】
前記第１の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、
前記第１の撥液部のうちの一方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置と、他方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置との差を求め、当該差に基づいてノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正するステップをさらに含む、請求項１記載の塗布方法。
【請求項６】
長手方向を有する複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有するディスプレイパネル基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に有機機能膜を形成して有機ＥＬディスプレイを製造する方法であって、
前記基板の第１の画素領域と、前記第１の画素領域の前記長手方向の両端に隣接する第１の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、
前記第１の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、前記第１の画素領域内に設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、
前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第２の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、
を含む有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能膜を塗布形成する方法、および有機電界発光ディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」と略称）の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイは、有機発光層の形成方法によって、以下の２つに大別されうる。一つは、有機発光層を蒸着により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料からなる場合に用いられる。他の一つは、有機発光層を溶媒塗布法により形成する方法であり、有機発光層が低分子有機材料の場合はもちろん、高分子有機材料からなる場合にも用いられることが多い。
【０００３】
溶液塗布法により有機発光層を形成する代表的な手段の一つに、インクジェット装置を用いて、有機発光材料を含むインクの液滴をディスプレイ基板の画素領域に吐出して、有機発光層を形成する方法がある（例えば、特許文献１参照）。このとき、吐出されるインクの液滴には、有機発光材料と溶媒が含まれる。
【０００４】
インクジェット装置は、複数のノズルを有するインクジェットヘッドを有し、インクジェットヘッドのノズルと基板との位置関係を制御しながら、ノズルからインクを吐出させる（例えば、特許文献２参照）。特許文献２には、基板に着滴した液滴が等方向に広がって、所定の線幅を有する画素を形成することが開示されている。
【０００５】
一方、液滴を吐出されるディスプレイ基板の画素領域は、バンクと称される隔壁で規定されていることが多い。吐出されたインクが画素領域に位置選択的に留まるようにするためである。バンクは、画素領域毎に、それぞれを区画しても良いが、列状に配列された同一色（例えば、Ｒ：レッド，Ｇ：グリーン、Ｂ：ブルー）の複数の画素領域を規定してもよい（例えば、特許文献３を参照）。列状に配列された複数の画素領域を規定するバンクを、ライン状バンクと称することがある。つまり、ライン状バンクが規定する領域（以下、「ライン領域」とも言う）毎に、Ｒ、ＧまたはＢの有機発光層が形成されている。
【０００６】
ところで、インクを塗布する画素領域の寸法は、４０μｍ〜６０μｍであり、精度良く塗布しなければ、塗布の位置ずれが発生する。塗布の位置ずれは、隣接する画素領域との混色や、膜厚の不均一を引き起こす。精度良くインクジェット塗布する方法として、事前に液滴を吐出する全ノズルからインクをテスト塗布して吐出パターンを得て、インク液滴の着弾位置を測定し、吐出位置を補正する方法が開示されている（例えば、特許文献４参照）。
【０００７】
特許文献４について、図１５を用いて説明する。図１５には、マイクロアレイ製造装置９０が示され；撮像手段１２０と、駆動制御手段１１０と、基台５０と、キャリッジ（ヘッド）６０と、テーブル７０と、カートリッジ８０とを有する。テーブル７０に、塗布対象である基板１００を複数載置する。複数の基板１００には検査用の基板が含まれる。マイクロアレイ製造装置９０における全ノズルから、事前に検査用の基板に液滴を吐出して、吐出テストパターン３００を作成（描画）し；吐出テストパターン３００の液滴の着弾位置を測定し；測定結果に基づいて吐出位置を補正して、基板１００にマイクロアレイを作成する。
【０００８】
さらに、精度良くインクジェット塗布する方法として、塗布対象とは別個の撥水性シートに着弾位置ずれ調整用パターンを形成して；前記パターンを読み取って；その読み取り結果に基づいて、塗布対象である基板の塗布を補正する方法が知られている（特許文献５を参照）。
【０００９】
また、精度良くインクジェット塗布する方法として、塗布対象である基板の塗布領域の脇の非塗布領域に、アライメントマークを配置しておくことも知られている（特許文献６および７を参照）。そして、基板に配置されたアライメントマークをカメラで認識し、アライメントマーク位置から塗布位置を算出し、基板にインクを塗布する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−３６２８１８号公報
【特許文献２】特開２００３−２６６６６９号公報
【特許文献３】特開２００５−２１８９１８号公報
【特許文献４】特開２００４−１０１２１８号公報
【特許文献５】特開２００８−２２９９１７号公報
【特許文献６】特開２００４−３３７７２５号公報
【特許文献７】特開２００７−４１７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
インクジェット法によって塗布対象にインクを塗布するときに、所望の位置とは異なる位置にインク液滴が着弾する原因は、以下の二点が考えられる。１つ目は、塗布対象である塗布基板に由来する原因であり、ロット毎に寸法誤差を有していたり、熱膨張によって寸法誤差が生じたりするためである。特に、塗布対象である塗布基板の塗布面積が大きいほど、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差が大きくなる。２つ目は、インクジェット装置自体に由来する原因であり、基板やヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりするためである。
【００１２】
上述の特許文献４および５の方法では、塗布対象物にインクを塗布する前に、検査領域に吐出テストパターンを作成したり、別個の検査シートに着弾位置ずれ調整用パターンを形成したりし；これらのパターンをもとに補正を加えてから、塗布対象物にインクを塗布（本塗布）する。つまり、本塗布の前に、補正を行う。したがって、特許文献４および５の方法では、本塗布を行っている間に生じる塗布ズレを補正することができない。
【００１３】
同様に、特許文献６および７の方法のように、基板にアラインメントマークを設けておいても、塗布対象である基板毎のずれや、塗布装置のずれに基づく塗布ずれを補正することはできない。すなわち、基板の中心とアライメントマークとの位置関係が、基板の温度変化などにより変動したり、装置自体のずれが生じたりしてしまうと、塗布ずれを補正することができない。
【００１４】
事実、３７０ｍｍ×４７０ｍｍの基板をインクジェット塗布しようとすると、所定の塗布位置と実際の塗布位置とが、十数ミクロンずれることがある。今後の塗布基板の大面積化に伴い、さらに大きな誤差が発生すると予測される。
【００１５】
そこで本発明は、上記従来の課題を解決すべく、塗布対象である基板のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に基づく塗布ずれや、インクジェット装置自体のずれに基づく塗布ずれをも補正することができるインクジェット塗布方法を提供することを目的とする。特に、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差が大きくなる大面積基板にも、高精度に塗布できる塗布方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明に係る第１の観点の塗布方法［１］は、長手方向を有する複数の画素領域と、前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有する基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に機能膜を形成する方法であって、
前記基板の第１の画素領域と、前記第１の画素領域の前記長手方向の両端に隣接する第１の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、
前記第１の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、前記第１の画素領域内に設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、
前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第２の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、
を含む塗布方法である。
【００１７】
このように構成された第１の観点の塗布方法［１］によれば、精度よく画素領域にインクを塗布することができる。
【００１８】
本発明に係る第２の観点の塗布方法［２］は、前記第１の撥液部に着弾させたインク液滴と前記第１の画素領域とを含む画像を撮像するステップをさらに含み、前記撮像画像に基づいて前記差を求める、［１］に記載の塗布方法である。
【００１９】
本発明に係る第３の観点の塗布方法［３］は、前記第１の画素領域は、一つまたは複数の副画素を配置した領域である、［１］に記載の塗布方法である。
【００２０】
本発明に係る第４の観点の塗布方法［４］は、前記第１の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、前記第１の撥液部は、前記第１の画素領域の長手方向の端部に隣接している、［１］に記載の製造方法である。
【００２１】
本発明に係る第５の観点の塗布方法［５］は、前記第１の画素領域は、複数の副画素が配列したライン状領域であって、同一のインクが塗布され、前記第１の撥液部は、前記第１の画素領域の長手方向の両端部に隣接しており、かつ前記第１の撥液部のうちの一方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置と、他方の撥液部に吐出されたインク液滴の着弾位置との差を求め、当該差に基づいてノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正するステップをさらに含む、［１］に記載の塗布方法である。
【００２３】
また、本発明は、長手方向を有する複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有するディスプレイパネル基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に有機機能膜を形成して有機ＥＬディスプレイを製造する方法であって、
前記基板の第１の画素領域と、前記第１の画素領域の前記長手方向の両端に隣接する第１の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、
前記第１の撥液部に着弾させた前記インク液滴の着弾位置と、前記第１の画素領域内に設定されていたインク液滴の設定位置との差を求めるステップと、
前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第２の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、
を含む有機ＥＬディスプレイの製造方法である。
【発明の効果】
【００２４】
以上のように、本発明の塗布方法によれば、第１の画素領域と、それに隣接する第１の撥液部とにインク液滴をインクジェット法で吐出し、第１の撥液部に塗布されたインク液滴の着弾位置と、設定された着弾位置との差に基づいて吐出タイミングを補正して、第２の画素領域にインク液滴をインクジェット法で塗布する。その結果、万が一、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の基板やヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域にインクを塗布することができる。その結果、混色のない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】有機ＥＬディスプレイの発光素子の積層構成の概略を示す図
【図２】有機ＥＬディスプレイの製造プロセスを示す図
【図３】実施の形態１の塗布対象物である基板（有機ＥＬディスプレイパネル）の平面図
【図４】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイパネルの断面図であり、図３におけるＡ−Ａ線による断面図（４Ａ）と、図３におけるＢ−Ｂ線による断面図（４Ｂ）
【図５】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法におけるインクジェットヘッド５と基板１との位置関係と、インクジェットヘッド５の走査方向を示す図
【図６】実施の形態１の有機電界発光ディスプレイの製造方法において用いられるインクジェットヘッド５のノズル６の配置を示す図
【図７】画素領域４に隣接する領域にインク液滴を着弾させた様子を示す有機電界発光ディスプレイの基板の平面図
【図８】インク液滴１１の着弾位置と、本来着弾すべき位置１３との位置関係を示した基板の平面図
【図９】認識カメラ１４を有するインクジェット装置を上方から見た概略平面図
【図１０Ａ】画素領域４同士の間にインク液滴を着弾させた様子を示す有機電界発光ディスプレイの基板の平面図
【図１０Ｂ】画素領域４同士の間にインク液滴を着弾させた様子を示す有機電界発光ディスプレイの基板の平面図
【図１１】１つの基板から、２つの有機ＥＬディスプレイ（αとβ）を製造する場合にインクを塗布する様子を示す図
【図１２】ピクセル型の画素領域４を有する基板に、インクを塗布した様子を示す図
【図１３】非発光領域１９Ａを有する基板の平面図
【図１４Ａ】インクジェット装置による基板への塗布操作を示す図
【図１４Ｂ】塗布操作が完了した基板の塗布を検査する様子を示す図
【図１５】従来のインクジェット塗布装置の概略斜視図
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の機能膜の塗布方法は、複数の画素領域と前記画素領域それぞれに隣接した撥液部とを有する基板に、機能材料を含むインク液滴をノズルから吐出することで、前記画素領域に機能膜を形成する方法である。
【００２７】
塗布対象である基板は、その表面に複数の画素領域と、前記画素領域のそれぞれに隣接した撥液部とを有する。画素領域は、バンクで区画された領域であることが好ましく、バンクの材質は絶縁性を有する材料であれば任意であり、樹脂またはガラスなどの無機物でありうる。バンクの材料である樹脂は、耐熱性、溶媒に対する耐性を有する絶縁性樹脂であることが好ましく、例えばポリイミド樹脂である。
【００２８】
基板とは、典型的にはディスプレイパネル基板、好ましくは有機ＥＬディスプレイパネル基板を意味する。ディスプレイパネル基板には、例えば各副画素に対応するＴＦＴ素子などが内蔵されていることもある。
【００２９】
１の画素領域には、１つまたは複数の副画素が配置されている。１つの副画素が配置された画素領域を、ピクセル型の画素領域という。２以上の副画素が配列された画素領域をライン型の画素領域という。画素領域には、インクジェット法によってインクの液滴が吐出されて、インクで塗布される。画素領域の塗布面は親水性を示し、インクに対する接触角は５度以下であることが好ましい。
【００３０】
塗布対象である基板は、画素領域とともに、それに隣接する撥液部を有する。撥液部とは、画素領域を区画するバンクの表面などであってもよい。後述するように、撥液部にもインク液滴が吐出されるが、撥液部に着弾したインクはぬれ広がらずに、着弾した状態を保つことが好ましい。インク液滴が着弾した状態を保つことができれば、撥液部に着弾したインクが画素領域に混入したりすることが抑制され、かつ撥液部へのインク液滴の着弾位置を正確に確認することができる。よって、撥液部のインク液滴に対する接触角は、３０度以上であることが好ましく、例えば４０度とする。
【００３１】
撥液部は、画素領域に隣接していればよい。画素領域がピクセル型である場合には、ピクセル型の画素領域を区画するバンク上であって、画素領域のすぐ脇を撥液部とすればよい。画素領域がライン型である場合には、１）画素領域の長手（ライン）方向の端部（一方の端部または両端部）に隣接したバンク上を撥液部としてもよいし、２）画素領域の短手方向の端部に隣接したバンク上を撥液部としてもよい。
【００３２】
基板の画素領域に塗布されるインクには、機能材料が含まれており、例えば有機機能材料が含まれている。本発明を有機ＥＬディスプレイの製造に適用しようとする場合には、インクは有機発光材料または電荷移動材料などを含む溶液であり、本発明によって有機ＥＬディスプレイの有機発光層や電荷移動層を形成することができる。
【００３３】
インクに含まれうる有機発光材料は、低分子系材料であっても、高分子系発光材料であってもよい。一般的に、高分子系発光材料を含むインクは、インクジェット法によって精度よく塗布することが困難であるため、本発明の方法が効果的に奏される。高分子系発光材料の例には、ポリフェニレンビニレン（Poly Phenylene  Vinylene（PPV））及びその誘導体、ポリアセチレン（Poly Acetylene）及びその誘導体、ポリフェニレン（Polyphenylene）及びその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Poly para-Phenylene Ethylene）及びその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Poly 3-Hexyl Thiophene  （P3HT））及びその誘導体、ポリフルオレン（Poly Fluorine  （PF））及びその誘導体等が含まれる。
【００３４】
本発明の機能膜を形成するための塗布方法は、１）前記基板の第１の画素領域と前記第１の画素領域とに隣接した第１の撥液部とに前記インク液滴を着弾させるステップと、２）前記第１の撥液部に着弾した前記インク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の着弾位置との差を求めるステップと、３）前記差に基づいて、ノズルから吐出するインクの吐出タイミングを補正して、前記基板の第２の画素領域にインク液滴を吐出するステップと、を含むことを特徴とする。
【００３５】
本発明の塗布方法は、インクジェット装置のヘッドを走査しながら、走査方向に沿って、基板にある複数の画素領域を順番に塗布する。つまり、第１の画素領域にインクを塗布した後、ヘッドを走査方向に沿って移動させて、第２の画素領域にインクを塗布する。
【００３６】
ステップ１）では、第１の画素領域にインクを塗布するときに、第１の画素領域に隣接した第１の撥液部にもインク液滴を着弾させる。撥液部に着弾するインク液滴は、画素領域と２０〜１５０μｍほど離間させることが好ましい。撥液部に着弾したインク液滴と画素領域との間隔が過剰に狭いと、撥液部に着弾したインク液滴が画素領域に混入する恐れがある。前記間隔は過剰に広いと、後述の補正が適切にできなくなる恐れがある。
【００３７】
第１の撥液部に着弾させるインク液滴の滴数は、特に限定されず、１滴以上であればよく、２滴以上であってもよい。
【００３８】
このように、基板の画素領域にインクを塗布するときに、それに隣接した撥液部にもインク液滴を着弾させるが、基板の全ての画素領域の撥液部にインク液滴を着弾させてもよいし、一部の画素領域の撥液部にインク液滴を着弾させてもよい。
【００３９】
インクジェット法によるインク液滴の吐出は、インクジェット装置を用いて行えばよい。インクジェット装置のインクジェットヘッドのノズルからインクが吐出される吐出周波数は特に限定されず、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば１０ｋＨｚである。
【００４０】
吐出されるインクの粘度は特に限定されないが、約５〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましく、例えば１０ｍＰａ・ｓである。
【００４１】
また、インクのドット密度も特に制限されず；例えば走査方向のドット密度は、４８００ｄｐｉとされうるが、製造される有機ＥＬディスプレイの仕様等に応じて適宜設定される。
【００４２】
インクジェットヘッドの各ノズルから塗布されるインクの液適量は同じであることが好ましい。各ノズルから吐出するインクの液適量は、特に限定されないが、１ｐｌ〜１５ｐｌの範囲内であることが好ましく、例えば５ｐｌ（ピコリットル）である。
【００４３】
ステップ２）では、第１の撥液部に着弾したインク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の着弾位置との差を求める。前記差を求めるには、例えば、第１の撥液部に着弾したインク液滴と第１の画素領域とを含む画像を撮像して、第１の画素領域を基準にしてインク液滴の着弾位置のずれを求めればよい。
【００４４】
また、ライン型の画素領域である場合に、画素領域の長手（ライン）方向の両端部に隣接した撥液部（撥液部ＸとＹとする）にインク液滴を着弾させた場合には、それぞれの撥液部について、着弾したインク液滴の着弾位置と、設定されていたインク液滴の着弾位置との差を求める。撥液部Ｘでの着弾位置のずれ量と、撥液部Ｙでの着弾位置のずれ量とが、相違している場合には、インクジェットヘッドのノズル列が、画素領域の配列とずれていることを意味する。そこで、インクジェットヘッドの取付けを調整することが好ましい。
【００４５】
ステップ３）では、インクジェットヘッドを第１の画素領域から第２の画素領域に移動させて、第２の画素領域にインク液滴を吐出してインクを塗布する。ここで、第１の撥液部に着弾したインク液滴の着弾位置が、設定した着弾位置と一致している場合には、吐出タイミングを補正することなく、第２の画素領域にインクを吐出すればよい。一方で、第１の画素領域に隣接した撥液部に着弾したインク液滴の着弾位置が、設定した通着弾位置とずれている場合には、第２の画素領域にインクを吐出するタイミングを補正する。例えば、第１の撥液部においてインク液滴の着弾位置が、設定した着弾位置よりも走査方向に関して上流側にある場合には、第２の画素領域を塗布するときに、インクの吐出タイミングを遅らせればよい。それにより、第２の画素領域に、精度よくインクを塗布することができる。
【００４６】
さらに、第２の画素領域にインクを塗布するときにも、それに隣接する第２の撥液部にインク液滴を着弾させて、設定位置との差を求めてもよい。求めた差に基づいて、第３の画素領域にインクを吐出するタイミングを補正してもよい。この操作を繰り返すことで、基板の全ての画素領域に、精度よくインクを塗布することができる。
【００４７】
以下において、図面を参照しつつ、本発明に係る好適な実施の形態の機能膜の塗布方法を説明する。具体的には、有機発光膜（機能層）を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法を例にして、本発明を説明する。
【００４８】
（実施の形態１）
前述の通り、本発明の塗布方法は、有機ＥＬディスプレイパネルの製造に適用されうる。まず、典型的な有機ＥＬディスプレイパネルにおける有機ＥＬ素子の積層構成の概略を図１に示す。図１に示す各層の相対的な膜厚及び形状は、実際の膜厚及び形状を示すものではなく、便宜上模式的に示している。
【００４９】
図１に示す有機ＥＬ素子は、ベース基板にある平坦化膜４０上に反射陽極４５、正孔注入層２４が形成されており、その正孔注入層２４上に画素規制層１０およびバンク３が形成されている。また、画素規制層１０を成膜した後に、正孔注入層２４を全面成膜し、その後にバンク３を形成してもよい。画素規制層１０は、通常のフォトリソグラフィ技術により形成される。すなわち、画素規制層１０は、レジスト塗布処理、マスク露光処理、現像処理、ドライエッチング処理、レジスト除去処理の手順で形成される。
【００５０】
反射陽極４５は、副画素（図３にける副画素Ｒ，ＧまたはＢ）毎に分離して作製されており、副画素はディスプレイの発光単位となる。バンク３により区画される領域にインターレイヤー（ＩＬ）２５および有機発光層２６が形成されている。そして、電子輸送層２７、陰極２８、封止層２９および樹脂層３０が、有機発光層２６およびバンク３を覆うように配置されている。そして、樹脂層３０の上部にはガラス基板３１及び偏光板３２などが設けられて、有機ＥＬディスプレイが構成されている。
【００５１】
図１に示される有機ＥＬディスプレイは、図２のプロセスフローチャートに示すフローで製造されうる。即ち、平坦化膜形成、反射陽極形成、正孔注入層形成、画素規制層形成、バンク形成、ＩＬ層形成、有機発光層形成、電子輸送層形成、陰極形成、封止層形成、樹脂層形成の順に製造される。
【００５２】
本発明の塗布方法は、図２に示すインターレイヤー（ＩＬ）や、有機発光層を形成するためのインク塗布に用いられることが好ましい。
【００５３】
図３は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法における、有機発光材料を含むインクを塗布すべき基板１（塗布対象となる有機ＥＬディスプレイパネル基板）を上方から見た平面図である。図４ＡＢは、図３に示した基板１の拡大断面図である。図４Ａは、図３に示した基板１のＡ−Ａ線による断面図であり；図４Ｂは、図３に示した基板１のＢ−Ｂ線による断面図である。
【００５４】
基板１の副画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、画素電極（反射陽極）や、正孔注入層などの有機ＥＬディスプレイとして必要な要素を含むが（図１参照）、図４ＡおよびＢにおいて省略されている。
【００５５】
図３及び図４ＡＢに示すように、基板１は、ベース基板と、ベース基板に配置された画素領域４Ｒと画素領域４Ｇと画素領域４Ｂと、それらを区画するためのバンク３を含む。
【００５６】
図３に示すように、バンク３は、直線的に延設（図１の左右方向に延設）された複数のライン状バンク３Ａを有しており、これらのライン状バンク３Ａは互いに平行である。ライン状バンク３Ａ同士で挟まれたライン状領域が、画素領域４となる。画素領域４は、画素領域４Ｒ（レッド），画素領域４Ｇ（グリーン），画素領域４Ｂ（ブルー）とで構成される。画素領域４Ｒと、画素領域４Ｇと、画素領域４Ｂとが、基板１において繰り返して配置されている。実施の形態１における複数の隣り合うライン状バンク３Ａ間の間隔は、６０μｍである。
【００５７】
画素領域４Ｒには、レッドの光を発する副画素Ｒが複数配列されており；画素領域４Ｇには、グリーンの光を発する副画素Ｇが複数配列されており；画素領域４Ｂには、ブルーの副画素Ｂが複数配列されている。画素領域４Ｒと、画素領域４Ｇと、画素領域４Ｂを、総称して画素領域４という。
【００５８】
図３に示されるように、画素領域４の領域内において、副画素Ｒ同士、副画素Ｇ同士、副画素Ｂ同士の間には、画素規制層１０が配置されている。平坦化膜４０からの画素規制層１０の高さは、バンク３の高さよりも低く設定されている。特に限定されないが、平坦化膜４０からのバンク３の高さは、例えば約１μｍであり；画素規制層１０の高さは、例えば約１００ｎｍである。したがって、バンク３で区画された画素領域４に吐出された液状のインク９（図４Ａ参照）は、画素規制層１０に規制されることなく、画素領域４の内部を移動することができる。つまり、画素領域４には、画素規制層１０の層厚を超える量のインク９が供給され、画素領域４内で液状のインク９が移動できる。
【００５９】
画素規制層１０は、ライン状バンク３Ａと直交する方向にライン状に延設形成されている。図３に示されるように、複数のライン状バンク３Ａと複数のライン状の画素規制層１０とで格子を形成している。画素規制層１０は無機材料で形成されており、無機材料とは、例えばＳｉＯＮである。画素規制層１０の上にもインクが塗布され、機能膜が形成される。
【００６０】
バンク３の断面形状は、図４ＡＢに示すように順テーパ型であっても良く、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。バンク３は、フォトリソグラフィ技術などを用いてパターニング形成される。例えば、バンク３は、バンク材料を塗布した後、ベーク処理、マスク露光処理、現像処理等の手順で所望の形状に形成される。
【００６１】
図４Ａに示すように、バンク３により区画される画素領域４には、インク９が吐出されインク塗布される。バンク３の表面のうち、塗布されたインク９と接触する表面は撥水性を有する。バンク３の表面を撥水性とするには、当該表面に酸素系ガスプラズマを照射したり、フッ素系ガスプラズマを照射するなどしてフッ素化処理したりすればよい。バンク３が撥水性を有するため、図４Ａに示されるように、画素領域４を満たすインク９はバンク３で確実に保持されて、画素領域４に収納される。
【００６２】
図５は、図３に示す基板１に、インクジェット装置でインクを塗布する様子を示す図である。図５に示される３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇおよび５Ｂ（これらを総称してインクジェットヘッド５と称する）は、基板１に隣接して配置される。また、インクジェットヘッド５は、基板１のライン状バンク３Ａのライン方向の側部に隣接して配置される。インクジェットヘッド５のノズルから吐出されたインク液滴が、バンク３で区画された画素領域４に着弾するように、インクジェットヘッド５を配置する。
【００６３】
インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇおよび５Ｂには、それぞれＲインク，Ｇインク，Ｂインクが収容されている。各インクジェットヘッドには、インク液滴を吐出するための複数のノズル６（図６参照）が設けられている。図５に示すように、３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを別個に配置してもよいし；Ｒインク，ＧインクおよびＢインクのいずれをも収容する１つのインクジェットヘッドを配置してもよい。図５に示される３つのインクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇおよび５Ｂは、それぞれ同じ構成である。
【００６４】
図６は、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）の基板対向面を示す図であり、複数のノズル６が形成されている。インクジェットヘッド５における複数のノズル６は、互いに平行な複数の列に沿って配置されている。
【００６５】
複数のノズル６の配置列を、基板１に対する走査方向（図５における矢印Ｘ方向）に対して、傾けて配置する。このように、インクジェットヘッド５における複数のノズル６の配置列を、走査方向に対して傾けて配置することで、走査方向に直交する方向のノズル６のピッチを短くすることができる。走査方向に直交する方向に関するノズル６のピッチは、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、例えば、約２０μｍ（例えば、２１．１６６６６μｍ）であるが、特に限定されない。
【００６６】
このようにして、走査方向に直交する方向のノズル６のピッチを短くすることで、各ノズル６から吐出されたインク液滴が、親水性である画素領域４の塗布面に着弾したときに、互いに連結することができる。このようにして、バンク３で区画された画素領域４内にインクを均一に塗布することができる。
【００６７】
図５に示されるように、基板１にインクを塗布するために、基板１に対してインクジェットヘッド５を相対的に走査する。具体的にインクジェットヘッド５は、基板１のライン状バンクのライン方向と直交する方向（符号Ｘの矢印で示す方向）に走査される。実施の形態１のインクジェット装置によれは、一回の走査動作で、基板１の全面にインクを塗布することができる。
【００６８】
実施の形態１のインクジェット装置は、走査方向のドット密度が４８００ｄｐｉ（ドット・パー・インチ）であるため、走査方向に最小塗布ピッチ５．２９１６６７μｍで塗布することができる。
【００６９】
インクＲ，インクＧ，インクＢは順番に基板１に塗布されるが、その塗布順序は特に限定されない。例えばＲ，Ｇ，Ｂの順に塗布する。画素領域４に塗布形成される乾燥後の有機発光層の厚みは、約５０〜１００ｎｍ（例えば７０ｎｍ）であることが好ましい。
【００７０】
図７は、図３に示される基板１に、インクジェットヘッド５（インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを含む）を走査して、インクを塗布した状態を示す図である。インクは、画素領域４（画素領域４Ｒ、４Ｇ，４Ｂを含む）とともに、画素領域４の長手方向の端部に隣接したバンク３（撥液部）にも吐出されている。図７におけるインク液滴１１は、撥液部に着弾した液滴である。図７に示されるように、１つの画素領域４にインクを塗布するときに、当該１の画素領域４に隣接したバンク３（撥液部）にもインク液滴を着弾させる。
【００７１】
図８は、図７のインク液滴１１の付近を示す図である。点線１３は、撥液部であるバンク３に着弾したインク液滴１１の走査方向の位置を示している。一方、点線１２は、インク液滴が本来着弾すべき走査方向の位置（設定位置）を示している。点線１２と点線１３とは、一致していない、つまり塗布ズレが生じていることがわかる。
【００７２】
以下において、基板１に、インクジェットヘッド５の各ノズル６からインク液滴を吐出して、画素領域４に機能層を形成するときに、この塗布ズレを抑制するフローを説明する。
【００７３】
基板１の画素領域４にインクをインクジェット塗布するために、インクジェットヘッド５を基板１に対して走査しながら、ノズル６からインク液滴を吐出する。このときの走査方向は、図５の矢印Ｘで示されるように、基板１のライン状バンク３Ａのライン方向に直交する。画素領域４（４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）に、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）のノズル６から、所定のインク９が吐出されるように、インクジェットヘッド５を基板１に対して走査する。
【００７４】
図７および図８に示すように、各画素領域４にインクを塗布するときに、それに隣接するバンク領域である撥液部にも、インク液滴１１を吐出させて着弾させる。２つのインキ液滴が、画素領域４に隣接するバンク領域に着弾している。バンク３上に２滴以上のインク液滴を塗布すると、走査方向の塗布位置をより把握しやすい。
【００７５】
バンク３は、インク９に対して撥液性であるため、着弾したインク液滴１１は、濡れ広がらずに、着弾した位置にとどまることができる。そのため、画素領域４に隣接するバンク領域に存在するインク液滴１１の位置は、そのインク液滴が着弾した位置である。
【００７６】
ある１の画素領域４にインクを塗布し、かつそれに隣接する領域（撥液部）にインク液滴１１を着弾させたら、その様子（図８参照）を観察する。観察は、顕微鏡により行えばよく、顕微鏡写真を撮像してもよい。当該観察により、インク液滴の着弾位置１３が、設定されていた設定位置１２にあるかどうかを確認する。より具体的には、例えば、着弾位置１３と設定位置１２とで、走査方向Ｘに関してずれている量（ずれ量）を測定する。
【００７７】
着弾位置１３と設定位置１２とがずれていることが確認されたら、次に塗布すべき画素領域４にインクを塗布するときに、インクジェットヘッドのノズルからインクを吐出するタイミングを補正する。それにより、全ての画素領域４に、精度よくインクを塗布することができる。
【００７８】
図７および図８に示すように、画素領域４の長手方向の両端部に隣接するバンク３に、インク液滴１１をそれぞれ着弾させている。このように、画素領域４の長手方向の両端部にインク液滴を着弾させた場合には、一方に着弾させたインク液滴１１の着弾位置と設定位置とのずれαと、他方に着弾させたインク液滴１１の着弾位置と設定位置とのずれβとの両方を測定し；ずれαとずれβとの違いを確認してもよい。ずれαとずれβとに差がある場合には、ヘッドのノズル列がライン方向に平行に配置されていないことを意味するので、ヘッドのノズル列の角度を調整するように補正をすることが可能となる。
【００７９】
以上のように、実施の形態１のインクジェット塗布方法においては、画素領域４にインクを塗布し、かつそれに隣接する領域にもインク液滴１１を着弾させて；インク液滴１１の着弾位置と、設定位置とのずれ量を測定する。特に、走査方向に関して、実際の着弾位置と設定されていた着弾位置との差を把握することができる。そして、測定されたずれ量に基づいて、次に塗布する画素領域４にインクを吐出するタイミングを補正する。この作業を繰り返すことで、基板に配置された全ての画素領域４に、精度よくインクを塗布することができる。
【００８０】
このような方法によれば、塗布対象である基板１が、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差を有していたり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く基板の画素領域にインクを塗布することができる。  また、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層等の膜の位置ずれがないため、混色のない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【００８１】
（実施の形態２）
次に、本発明に係る実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法では、図９に示すように、インクジェット装置に認識カメラ１４を設けて、基板１に着弾したインク液滴１１の着弾位置を検査する。その他の点は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法と同一である。そこで、実施の形態１において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付して、その説明は実施の形態１の説明を援用することで、実施の形態２においては省略する。
【００８２】
図９は、インクジェット装置を上方から見た概略平面図である。認識カメラ１４は、スライダー部１６で保持されており、かつスライダー部１６に沿って移動可能である。認識カメラ１４は、駆動系（図示せず）で駆動される。ステージ１５は、インク塗布される基板１を移動させる。架台１７は、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）や、認識カメラ１４を保持する。架台１８は、インクジェット装置全体を支える。
【００８３】
実施の形態２では、インクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）からインク９を基板１上に塗布するときに、基板１が載置しているステージ１５が相対移動する機構になっている。図９における矢印は、ステージ１５に対するインクジェットヘッド５の相対的な移動（走査）方向である。
【００８４】
実施の形態２における塗布対象である基板１の構成は、実施の形態１と同じである。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）との位置関係、およびインクジェットヘッド５の走査方向も実施の形態１と同様である。さらに、インクジェットヘッド５のノズル６の配置態様も実施の形態１と同様である。
【００８５】
実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法においても、実施の形態１と同様に、基板１の画素領域４にインクを塗布するとともに、それに隣接する領域にインク液滴１１を着弾させる（図７および図８を参照）。そして、実施の形態２では、着弾したインク液滴１１の着弾位置１３を認識カメラ１４（図９参照）で認識する。認識カメラ１４で認識した着弾位置１３と、本来着弾すべき位置（設定位置１２）との差を求める。具体的には、例えば、着弾位置１３と設定位置１２との、走査方向に沿ったずれ量を求める。
【００８６】
インク液滴の着弾位置１３と設定位置１２との差に基づいて、次にインク塗布するべき画素領域４をインク塗布するためのインクの吐出タイミングを補正する。この動作を繰り返すことで、基板１の全ての画素領域４に、精度よくインクを塗布することができる。その結果、塗布対象である基板１が、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差を有していたり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く基板の画素領域にインクを塗布することができる。さらに、認識カメラ１４でズレ量を測定したことで、迅速かつ正確に吐出タイミングを補正することができる。
【００８７】
（実施の形態３および４）
以下、本発明に係る実施の形態３および４の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態３および４の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、図１０Ａおよび図１０Ｂに示すように、液滴１１を、基板１の画素領域４を規定するライン状バンク３Ａの短手方向の端部に隣接するバンク３に塗布する。その他の点は、実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法と同一である。そこで、実施の形態１および２において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付して、その説明は実施の形態１及び２の説明を援用することで、実施の形態３および４においては省略する。
【００８８】
具体的に、実施の形態３では、画素領域４Ｒ，画素領域４Ｇ，画素領域４Ｂを一つのグループとしたときに、各グループ間にあるバンク領域（バンクと同じ材料からなるバンク領域）２０である撥液部に、インク液滴２１を着弾させる（図１０Ａ）。一方、実施の形態４では、画素領域４と画素領域４同士の間にあるバンク領域である撥液部に、インク液滴２１を着弾させる（図１０Ｂ）。
【００８９】
図１０Ａおよび図１０Ｂに示されるように、基板１の画素領域４同士の間には、バンク材料からなるバンク領域２０がある。バンク領域２０には、インク液滴２１が、着弾位置２３に沿って着弾している。インク液滴２１は、Ｒインク、ＧインクまたはＢインクの液滴のいずれでもよい。一方、図１０Ａおよび図１０Ｂには、インク液滴２１が着弾すべき位置である設定位置２２も示されている。図１０Ａおよび図１０Ｂにおいて、着弾位置２３と設定位置２２とは、走査方向についてずれていることがわかる。
【００９０】
実施の形態３および４における塗布対象である基板１の構成は、実施の形態１と同じである。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）との位置関係およびインクジェットヘッド５走査方向も、実施の形態１と同様である。さらに、インクジェットヘッド５のノズル６配置態様も、実施の形態１と同様である。インクジェット装置は、実施の形態２と同様に、認識カメラ１４を有する（図９）。
【００９１】
実施の形態３および４の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、画素領域４（４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）に、インク（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を、インクジェットヘッド５の走査方向に沿って順に塗布する。第１の画素領域４にインクを塗布した後、第２の画素領域４を塗布する前に、図１０Ａまたは図１０Ｂに示すように、インク液滴２１を１ラインに沿ってバンク領域２０に着弾させる。１ラインに沿って着弾したインク液滴２１を、図９に示すような認識カメラ１４で撮像し、インク液滴２１の着弾位置２３を認識する。そして、着弾位置２３と、インク液滴が着弾すべき位置（設定位置２２）との差を求める。例えば、走査方向についての差を求め、これをズレ量とする。
【００９２】
次に、前述のズレ量があると確認された場合には、次に塗布すべき第２の画素領域４にインクを塗布するときに、そのズレ量に基づいてインクの吐出タイミングを補正する。このように、塗布対象である基板１にインクを塗布しながら吐出タイミングを補正する。そのため、基板１のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域４にインクを塗布することができる。その結果、混色のない所定の機能膜を形成することができる。
【００９３】
また、実施の形態３および４では、塗布ズレ量を求めるためのインク液滴２１を、画素領域４同士の間のバンク領域２０に着弾させるため、実施の形態１および２と異なり、基板面積を有効に使うことができる。特に、有機ＥＬディスプレイにおいて、画素領域４Ｒ，画素領域４Ｇ，画素領域４Ｂを一つのグループとしたときに、各グループ間にあるバンク領域を一般的に広く設計することがある。実施の形態３（図１０Ａ）によれば、その広く設計されたバンク領域２０にインク液滴２１を着弾させればよいので、基板面積をより有効に使うことができる。
【００９４】
（実施の形態５）
実施の形態５では、１つの基板から、複数の有機ＥＬディスプレイを製造する。１つの基板から複数のディスプレイを得る手法を「多面どり」と称することがある。
【００９５】
図１１には、１つの基板１に２つの有機ＥＬディスプレイ（αとβ）を製造する様子を示す。図１１における基板１の左半分と右半分とで、それぞれ有機ＥＬディスプレイを製造する。図１１には、各ディスプレイの画素領域４にインクを塗布した状態を示す。各ディスプレイの画素領域４（４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）は、ライン状の画素領域である。各画素領域４Ｒ，４Ｇまたは４Ｂには、同一色（Ｒ，ＧまたはＢ）を発光する複数の副画素が配列している。一方の有機ＥＬディスプレイαの画素領域４Ｒ，４Ｇまたは４Ｂの長手方向と、他方の有機ＥＬディスプレイβの画素領域４Ｒ，４Ｇまたは４Ｂの長手方向とは一致している。
【００９６】
図１１に示された基板は、インクジェットヘッド５を、矢印の方向に走査しながら、インクを基板１の各画素領域４に順に塗布して得る。このとき、一方の有機ＥＬディスプレイαの画素領域４の長手方向の片端部に隣接するバンクにインク液滴１１αを着弾させ、他方の有機ＥＬディスプレイβの画素領域４の長手方向の片端部に隣接するバンクにインク液滴１１βを着弾させた。このように、各有機ＥＬディスプレイの画素領域の長手方向の両端部に隣接するバンクにインク液滴１１を着弾させる必要はない。
【００９７】
（実施の形態６）
実施の形態６の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態１〜５における画素領域４は、ライン状バンク３Ａによって規定されたライン状領域であって、その内部に複数の副画素（Ｒ，ＧまたはＢ）を含んでいるが；実施の形態５における画素領域４（４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）は、バンク３によって区切られている領域（ピクセル状領域）であって、その内部に１つの副画素を含む（図１２）。
【００９８】
図１２に示されるように、実施の形態６における画素領域４は、副画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）ごとにバンク２０によって区画されている。図１２に示される基板１には、Ｒ発光する副画素Ｒを有する画素領域４Ｒが配列する画素ラインＬＲと、Ｇ発光する副画素Ｇを有する画素領域４Ｇが配列する画素ラインＬＧと、Ｂ発光する副画素Ｂを有する画素領域４Ｂが配列する画素ラインＬＢとがある。
【００９９】
実施の形態６では、インクジェットヘッド５を、矢印Ｘの方向に走査しながら、各画素領域４に順にインクを塗布する。そして、ある画素ラインＬ（ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ）に沿って配置された画素領域４にインクを塗布するときに、各画素領域４に隣接したバンク領域にもインク液滴１１を着弾させる。そして、インク液滴１１の着弾位置と、着弾すべき位置である設定位置との差を求める。
【０１００】
そして、次の画素ラインＬに沿って配置された画素領域４にインクを塗布するときに、前記差に基づいて、インクを吐出するタイミングを補正する。それにより、画素領域４に精度よくインクを塗布することができる。この操作を繰り返すことで、基板１のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域４にインクを塗布することができる。その結果、混色のない所定の機能膜を形成することができる。
【０１０１】
（実施の形態７）
実施の形態７の有機ＥＬディスプレイの製造方法について添付の図面を参照しつつ説明する。実施の形態７の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、図１３に示すように、塗布対照である基板に、発光領域１９Ｂと、非発光領域１９Ａとを設ける。その他の点は、前述の実施の形態１および２の有機ＥＬディスプレイの製造方法と同一である。そこで、実施の形態１および２において説明したものと同じ構成を有するものには同じ符号を付して、その説明は実施の形態１及び２の説明を援用することで、実施の形態７においては省略する。
【０１０２】
図１３は、複数の画素領域４（４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）を含む発光領域１９Ｂと、ダミー画素領域４'（４'Ｒ，４'Ｇ，４'Ｂ）を含む非発光領域１９Ａとを有する基板１の平面図である。非発光領域１９Ａは、発光領域１９Ｂよりも基板１の外周側にある。より具体的には、非発光領域１９Ａは、発光領域１９Ｂよりもインクジェットヘッドの走査方向Ｘの上流側にある。
【０１０３】
基板１に含まれる有機ＥＬ素子の構成は、実施の形態１における基板１の有機ＥＬ素子の構成と同様である。インクジェット装置の構成は、前述の実施の形態１および２と同じである。また、基板１とインクジェット装置におけるインクジェットヘッド５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）との位置関係およびインクジェットヘッド５走査方向も、実施の形態１と同様である。さらに、インクジェットヘッド５のノズル６配置態様も、実施の形態１と同様である。インクジェット装置は、実施の形態２と同様に、認識カメラ１４を有する（図９）。
【０１０４】
実施の形態７における塗布のプロセスでは、まず基板１の非発光領域１９Ａにあるダミー画素領域４'（４'Ｒ，４'Ｇ，４'Ｂ）にインクを塗布し；次に、発光領域１９Ｂにある画素領域４（４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）にインクを塗布する。
【０１０５】
ダミー画素領域４'にインクを塗布するときに、ダミー画素領域４’の両端部に隣接するバンク３にインク液滴１１を着弾させる（図８参照）。ダミー画素領域４’の領域外に着弾したインク液滴１１を、図９に示すような認識カメラ１４で撮像し、インク液滴１１の着弾位置１３を認識する。そして、着弾位置１３と、インク液滴１１が着弾すべき設定位置１２との差を求める（図８参照）。例えば、走査方向についての差を求め、これをズレ量とする。
【０１０６】
次に、前述のズレ量があると確認された場合には、発光領域１９Ｂの画素領域４を塗布するときに、そのズレ量に基づいて、インクの吐出タイミングを補正する。このように、塗布対象である基板１にインクを塗布しながら吐出タイミングを補正する。そのため、基板１のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差があったり、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、ヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く画素領域４にインクを塗布することができる。そして、実施の形態７の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、機能膜である有機発光層などの膜の位置ずれがないため、混色のない高品質の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【０１０７】
また、実施の形態７の有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、まず非発光領域１９Ａのダミー画素領域４’にインクを塗布し、そのときにダミー画素領域４’に隣接する領域にインク液滴１１を着弾させる。その着弾位置に基づいて、インクの吐出タイミングを補正しながら発光領域１９Ｂの画素領域４にインクを塗布するので、他の実施形態と比較して、画素領域４へのインク塗布がより精度よく実現されうる。
【０１０８】
（実施の態様８）
実施の形態８では、インク塗布操作が完了した基板を検査して、インク液滴の着弾位置と設定位置とのズレ量を求めた後；そのズレ量に基づいて、他の基板をインク塗布操作するときのインク吐出タイミングを補正することを特徴とする。
【０１０９】
図１４Ａには、インクジェットヘッド５を具備するインクジェット装置で基板１−２を塗布する様子が示され；図１５Ｂには、認識カメラ１４を有する検査装置で、塗布操作が完了した基板１−１のインク塗布状態を観察している様子が示される。
【０１１０】
まず、実施の形態１と同様にして、インクジェット装置を用いて基板１−１の画素領域４にインクを塗布し、画素領域４に隣接するバンク領域にインク液滴１１を着弾させる。そして、塗布操作が完了したら、図１４Ｂに示されるように、インクジェット装置とは別個の検査装置（認識カメラ１４を具備する）を用いて、塗布操作が完了した基板１−１におけるインク液滴１１の着弾位置１３と、設定位置１２とのずれ量を求める（図８参照）。認識カメラ１４は、インク液滴１１を撮像する。
【０１１１】
図１４Ｂに示す検査装置によって求めたズレ量を、塗布操作が完了していない基板１−２の画素領域４にインクを塗布するインクジェット装置（図１４Ａ参照）にフィードバックする。基板１−２は、基板１−１と同一形態の基板とする。図１４Ａに示されるインクジェット装置は、フィードバックされた情報に基づいて、インクジェットヘッド５からインクを吐出するタイミングを補正して、基板１−２の画素領域４にインクを塗布する。それにより、基板１−２の画素領域４に、精度よくインクを塗布することができる。
【０１１２】
実施の形態８の方法で、基板１−１と基板１−２とのロットごとの差に基づく塗布ズレは解消されにくいが、インクジェット装置の作動中にヘッドの搬送機構が使用時にばらついたり、インクジェットヘッドの取り付け部が使用時に熱膨張によってずれたりしても、精度良く基板の画素領域にインクを塗布することができる。
【０１１３】
また、インクジェット装置でインク塗布された複数の基板のうち、一部の基板をサンプリングして、検査装置で検査してもよい。全ての基板を検査するよりも、多数の基板を迅速に精度よく塗布することができる。
【０１１４】
本発明に係る好適な実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態の構成や製造工程を示す内容に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく様々な変更が可能である。
【０１１５】
例えば、各実施の形態において、基板１の全ての画素領域４に隣接する領域にインク液滴を着弾させたが、一部の画素領域４に隣接する領域にインク液滴を着弾させてもよい。例えば、インクジェットヘッドの走査方向の上流側にある画素領域４についてのみ、それに隣接する領域にインク液滴を着弾させてもよい。または、インクジェットヘッドの走査方向の上流にある画素領域４と、中流にある画素領域４と、下流にある画素領域４とを選択して、選択された画素領域についてのみ、それに隣接する領域にインク液滴を着弾させてもよい。
【０１１６】
例えば、実施の形態１などでは、ライン状の画素領域４の長手方向の両端部に隣接する領域にインク液滴１１を着弾させているが；ライン状の画素領域４の長手方向の片端部に隣接する領域にのみ、インク液滴１１を着弾させてもよい。特に、インクジェットヘッド５のノズル配置列と、基板１のライン状バンク３Ａのラインの平行度が精度よく調整できている場合には、片端部に隣接する領域にのみ、インク液滴１１を着弾させればよく、それにより十分な効果が得られる。
【０１１７】
また、実施の形態においては、インクジェットヘッド５の一回の走査動作によって、基板１の全ての画素領域４にインクを塗布できるように説明したが、インクジェットヘッド５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの長手方向の寸法が基板１より小さい場合には、基板１をインクジェットヘッド５の走査を複数回繰り返して、基板１の全ての画素領域４にインクを塗布してもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明のインクジェット法による塗布方法によれば、塗布対象である基板のロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に基づく塗布ずれや、インクジェット装置自体のずれに基づく塗布ずれをも補正することができる。特に、本発明のインクジェット法による塗布方法によれば、ロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差が大きくなる大面積基板にも、高精度に塗布できる。そのため、本発明のインクジェット法による塗布方法は、機能層を塗布法で形成するステップに好適に適用され、高画質の大型有機ＥＬディスプレイの提供に寄与する。
【符号の説明】
【０１１９】
Ｘ  走査方向
１，１−１，１−２  基板
２  ベース基板
３  バンク
３Ａ  ライン状バンク
４，４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ  画素領域
５，５Ｒ，５Ｇ，５Ｇ  インクジェットヘッド
６  ノズル
９  インク
１０  画素規制層
１１，１１α，１１β  インク液滴
１２  設定されたインク液滴の着弾位置
１３  実際のインク液滴の着弾位置
１４  認識カメラ
１５  ステージ
１６  スライダー部
１７  架台
１８  架台
１９Ａ  非発光領域
１９Ｂ  発光領域
２０  バンク領域
２１  インク液滴の着弾位置
２２  設定されたインク液滴の着弾位置
２３  実際のインク液滴の着弾位置
２４  正孔注入層
２５  インターレイヤー
２６  有機発光層
２７  電子輸送層
２８  陰極
２９  封止層
３０  樹脂層
３１  ガラス基板
３２  偏光板
４０  平坦化膜
４５  反射陽極
５０  基台
６０  キャリッジ
７０  テーブル
８０  カートリッジ
９０  マイクロアレイ製造装置
１００  基板
１１０  駆動制御手段
１２０  撮像手段
３００  吐出テストパターン
【図１】
0005320430.tif 000002
【図２】
0005320430.tif 000003
【図３】
0005320430.tif 000004
【図４】
0005320430.tif 000005
【図５】
0005320430.tif 000006
【図６】
0005320430.tif 000007
【図７】
0005320430.tif 000008
【図８】
0005320430.tif 000009
【図９】
0005320430.tif 000010
【図１０Ａ】
0005320430.tif 000011
【図１０Ｂ】
0005320430.tif 000012
【図１１】
0005320430.tif 000013
【図１２】
0005320430.tif 000014
【図１３】
0005320430.tif 000015
【図１４Ａ】
0005320430.tif 000016
【図１４Ｂ】
0005320430.tif 000017
【図１５】
0005320430.tif 000018