(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
角型の基板を処理液により処理する液処理装置において、
前記基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部によって保持された基板を、鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
前記基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
回転する基板の周縁部から外側上方へ飛散した処理液をその下面で受け止めて基板の外側方向へ排出するために、基板の辺に沿って形成されると共に外縁部が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する液受け部と、
前記液受け部を囲むように設けられ、その上縁部が当該液受け部との間に排気空間を形成するように液受け部の上方側に屈曲すると共にその内周縁が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する円筒状の回転カップと、
前記排気空間を介して前記液受け部の上方側の雰囲気を排気するための排気機構と、を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記回転カップを囲むように設けられ、その上縁部が当該回転カップとの間に排気空間を形成するように回転カップの上縁部の上方側に屈曲する外側カップを備え、
前記排気機構は、前記回転カップと外側カップとの間の排気空間を排気することを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
前記外側カップは円筒状に形成されていることを特徴とする請求項２記載の液処理装置。
【請求項４】
前記液受け部は周方向に分割された分割片により構成され、各分割片を基板の液受け部の径方向に移動させる駆動機構を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項５】
基板を基板保持部に受け渡すときに前記分割片の内縁は基板の外縁より外側に位置し、基板の回転時に前記分割片の内縁は、基板の外縁より内側に位置することを特徴とする請求項４記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、角型の基板に処理液を供給して、当該基板に対し液処理を行う液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フォトマスクを製造するための角型の基板（以下、単に基板と記載する）に対してレジスト除去などの液処理を行う場合、前記基板を水平に保持すると共に基板の中心軸を回転軸として鉛直軸回りに回転させる基板保持部と、基板に処理液を吐出するノズルとを備えた液処理装置が用いられる。前記ノズルから回転する基板の中心に供給された処理液は、遠心力により基板の周縁部へと広げられる。また、この液処理装置には、基板から飛散した処理液をその内周面で受け止めて除去するために、基板の側方を囲むと共にその内部が排気されるカップが設けられている。
【０００３】
しかし、基板から飛散した処理液は、前記カップに当って跳ね返ったり、前記ノズルやノズルを支持するアームに付着した後に落下したりすることにより、基板に再付着するおそれがある。基板に再付着した処理液は、それ自体が異物となったり、ウォーターマークを発生させたりしてマスクの欠陥の原因となる。また、前記液処理装置では、ノズルから基板に吐出された処理液がミストとなって基板上に飛散する。このミスト化した処理液が基板に付着した場合もそれが異物となり、マスクの欠陥となってしまうので、このミストを基板の周囲から効率的に除去することが求められている。
【０００４】
特許文献１では、カップ内において角型基板の外側に当該角型基板の外縁に沿って設けられた液受け部材を備えた液処理装置について記載されており、前記液受け部材は基板と共に回転するように構成されている。しかし、この液処理装置では、ミスト化した処理液の問題については記載されておらず、上記の欠陥の発生を防ぐためには不十分である。また、特許文献２では基板の外方に設けられ、基板と共に回転可能なリング状のカップが上下に複数段に設けられた液処理装置について記載されている。しかし、特許文献２の液処理装置は、角型基板ではなくウエハの処理装置であり、また、上記のように遠心力により回転する基板から飛散した処理液の問題については記載されておらず、この問題を解決できるものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１０６４（図２、図３及び段落００１９〜段落００２２）
【特許文献２】特開２０１０−４０８６３（図１及び段落００４０、段落００４１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、液処理装置において、角型の基板から飛散する処理液が基板に付着することを防ぐことができる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液処理装置は、角型の基板を処理液により処理する液処理装置において、
前記基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部によって保持された基板を、鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、
前記基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
回転する基板の周縁部から外側上方へ飛散した処理液をその下面で受け止めて基板の外側方向へガイドするために、基板の辺に沿って形成されると共に外縁部が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する液受け部と、
前記液受け部を囲むように設けられ、その上縁部が当該液受け部との間に排気空間を形成するように液受け部の上方側に屈曲すると共にその内周縁が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する円筒状の回転カップと、
前記排気空間を介して前記液受け部の上方側の雰囲気を排気するための排気機構と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
前記液処理装置の具体的な態様としては、例えば以下の通りである。
（１）前記回転カップを囲むように設けられ、その上縁部が当該回転カップとの間に排気空間を形成するように回転カップの上縁部の上方側に屈曲する外側カップを備え、前記排気機構は、前記回転カップと外側カップとの間の排気空間を排気する。
（２）前記外側カップは円筒状に形成されている。
（３）前記液受け部は周方向に分割された分割片により構成され、各分割片を基板の液受け部の径方向に移動させる駆動機構を備える。
（４）基板を基板保持部に受け渡すときに前記分割片の内縁は基板の外縁より外側に位置し、基板の回転時に前記分割片の内縁は、基板の外縁より内側に位置する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の液処理装置は、角型の基板の辺に沿って形成されると共に外縁部が円形に形成され、基板と共に回転する液受け部と、前記液受け部を囲むように設けられ、その上縁部が当該液受け部との間に排気空間を形成するように液受け部の上方側に屈曲すると共にその内周縁が円形に形成され、基板と共に回転する円筒状の回転カップと、を備えている。これにより回転カップの内外で排気流の淀みを抑え、周方向に均一性高く排気流を形成すると共に液受け部により受け止められた処理液を基板の外側方向へと排出することができる。従って、基板の周囲から効率良く処理液を排出できるので、当該処理液が基板に付着して欠陥が発生することを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施の形態に係る液処理装置を構成する洗浄装置の縦断側面図である。
【図２】前記の洗浄装置の平面図である。
【図３】前記洗浄装置の斜視図である。
【図４】前記洗浄装置の基板の端部の側面の拡大図である。
【図５】前記洗浄理装置に形成される気流を示す説明図である。
【図６】前記洗浄装置を用いた洗浄処理時の基板端部周辺の処理液の挙動を示す説明図である。
【図７】前記洗浄装置を用いた洗浄処理時の基板端部周辺の処理液の挙動を示す説明図である。
【図８】前記洗浄装置を用いた洗浄処理時の基板端部周辺の処理液の挙動を示す説明図である。
【図９】前記洗浄装置の変形例を示す平面図である。
【図１０】前記洗浄装置の縦断側面図である。
【図１１】前記洗浄装置の平面図である。
【図１２】前記洗浄装置の縦断側面図である。
【図１３】洗浄装置の他の変形例を示す縦断側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の液処理装置の実施形態である洗浄装置１について、縦断側面図である図１を夫々参照しながら説明する。この洗浄装置１は表面にレジスト膜が形成された角型の基板Ｂに洗浄液としてＳＰＭを供給し、当該レジスト膜を剥離して基板Ｂを洗浄する。基板Ｂは、半導体ウエハに形成されたレジストに回路パターンを転写するために用いられるパターンマスクを製造するためのマスク基板である。また、前記ＳＰＭは、硫酸と過酸化水素水との混合液である。
【００１２】
洗浄装置１はチャンバ１１を備えており、チャンバ１１内には、当該チャンバ１１の内側から外側へ鉛直下方に伸長した回転筒２１と、基板Ｂを支持するための支持プレート３１と、当該支持プレート３１に支持される基板Ｂの側周を囲む複合カップ体４１と、を備えている。
【００１３】
図２はチャンバ１１内の平面図であり、この図２も参照しながら説明を続ける。回転筒２１の上端には水平なフランジ２２が設けられ、フランジ２２の表面には基板Ｂの周方向に沿って４つの昇降ピン２３が設けられている。基板Ｂの端部の表面側、裏面側には、夫々基板Ｂの外側に向かって下る下降傾斜面、当該基板Ｂの外側に向かって上る上昇傾斜面が形成されており、昇降ピン２３は前記上昇傾斜面を支持して、基板Ｂの搬送機構（不図示）と、支持プレート３１との間で基板Ｂを受け渡す役割を有する。また、フランジ２２の下面にはフランジ２２の周方向に間隔をおいて凹部２４が設けられている。
【００１４】
チャンバ１１の外側にはプーリ２５が設けられ、このプーリ２５とチャンバ１１の外部に突出した回転筒２１とにベルト２６が巻き掛けられている。回転駆動機構２７によりプーリ２５が回転し、ベルト２６を介して回転筒２１が鉛直軸回りに回転する。図中２８は支持台であり、回転筒２１及び回転駆動機構２７を支持し、昇降機構２９により昇降する。これによって回転筒２１が昇降し、前記搬送機構との間で基板Ｂの受け渡しが行えるようになっている。
【００１５】
回転筒２１内には、ノズルシャフト１２が設けられている。ノズルシャフト１２はＮ2ガス供給機構１３に接続されており、基板Ｂの裏面中央部にＮ2ガスを供給して、基板Ｂ表面に供給されたＳＰＭが基板Ｂの裏面へ回り込むことを防ぐ役割を有する。また、図１中１４は回転筒２１の外周に設けられたベアリングである。
【００１６】
続いて、基板保持部である支持プレート３１について説明する。支持プレート３１は水平な円形のリング板状に形成されており、その内縁部３２は前記フランジ２２の下方に食い込むように形成されている。当該内縁部３２の表面にはフランジ２２の凹部２４に対応した突部３３が設けられ、回転筒２１が下降したときに突部３３は凹部２４に係合し、回転筒２１と共に支持プレート３１が鉛直軸回りに回転する。回転筒２１の上昇時には前記係合が解除される。
【００１７】
また、支持プレート３１において前記内縁部３２の外側の本体部３０の表面には、上方へ向かう支持ピン３４が設けられている。支持ピン３４は下側が拡径され、基板Ｂの縁部を支持し、上側が当該基板Ｂの横方向の位置を規制する。基板Ｂは、支持ピン３４を介してその中心が図１に鎖線で示す基板Ｂの回転軸Ａと一致するように支持プレート３１に載置される。
【００１８】
図中３５は、支持プレート３１の下方空間を内側領域３６と外側領域３７に区画する壁部であり、壁部３５は支持プレート３１とわずかに離間している。外側領域３７には排気口３８が開口しており、排気口３８は真空ポンプなどにより構成される排気機構３９に接続されている。排気口３８には排気と排液とが共に流入し、排気機構３９に至るまでの流路中に設けられた分離機構（不図示）により排液が分離されるようになっている。
【００１９】
また、支持プレート３１の端部には周方向に間隔をおいて後述の液受け部４３を支持する複数の支持部４２が上方に向かい突設されている。支持部４２及び支持プレート３１は、ＳＰＭに対して高い耐腐食性を得るために、例えばＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン）または石英により構成される。
【００２０】
続いて、複合カップ体４１について図３の斜視図も参照して説明する。複合カップ体４１は、液受け部４３と、回転カップ５１と、外側カップ６１とにより構成されている。液受け部４３は板状に形成され、支持プレート３１と対向するように設けられており、支持プレート３１に載置された基板Ｂの辺に沿って形成されている。図２に示すように液受け部４３は、基板Ｂと相似形の角型開口部４４を備えている。角型開口部４４は、基板Ｂを受け渡す際に基板Ｂが液受け部４３に干渉しないように、基板Ｂよりも若干大きく形成されている。また、回転カップ５１内の気流を周方向に均一性高く形成するために、液受け部４３の外縁は円形であり、回転カップ５１との距離は周方向の各部で均一に構成されている。支持プレート３１と液受け部４３との間は、排気空間４５として構成され、前記排気口３８が開口した外側領域３７に連通している。
【００２１】
液受け部４３は、その内縁から水平に外側に向かう内側部４６と、内側部４６の外縁から下方に傾斜する傾斜部４７と、傾斜部４７の外縁から外側に水平に向かう外側部４８とにより構成されている。外側部４８には前記支持部４２が接続されており、この支持部４２によって、支持プレート３１の回転時に液受け部４３も回転する。後述のように内側部４６は基板Ｂの処理時に基板Ｂの端部から外側上方へ飛散した処理液は、内側部４６の下面にトラップされる。このように処理液をトラップするために内側部４６は基板Ｂの外周に、その下面が基板Ｂよりも高い位置に設けられている。図４にはより詳細に支持プレート３１に載置された基板Ｂと、液受け部４３との位置関係を示している。図中の鎖線１５は基板Ｂの表面から面方向に伸びた延長線であり、図中の鎖線の矢印１６は液滴の動線を示している。この矢印１６と鎖線１５とのなす角θは４５°であり、この例では前記矢印１６を遮るように前記内側部４６が設けられている。
【００２２】
内側部４６にトラップされた処理液は、遠心力により当該内側部４６、傾斜部４７及び外側部４８の下面にガイドされて、液受け部４３の外側へと除去される。このように処理液の除去を速やかに行うために液受け部４３は高い疎水性を有する材質、例えばＰＣＴＦＥにより構成されている。
【００２３】
回転カップ５１は円筒状に形成され、基板Ｂの回転軸Ａの軸回りに設けられている。支持プレート３１及び液受け部４３の外側を囲むように形成された垂直円筒部５２を備えており、この垂直円筒部５２の上縁から液受け部４３の上方へ、内側方向に斜めに伸び出した傾斜部５３が設けられている。傾斜部５３の内周面及び外周面に付着した処理液は、傾斜部５３を伝わって垂直円筒部５２にガイドされ、垂直円筒部５２により当該垂直円筒部５２の下方へとさらにガイドされる。傾斜部５３の先端に囲まれる領域は、前記回転軸Ａを中心とする円形開口部５４として形成されており、基板Ｂの支持プレート３１への受け渡しを妨げないように、前記傾斜部５３の先端は液受け部４３の内縁よりも外側に位置している。
【００２４】
前記傾斜部５３と液受け部４３との間は前記外側領域３７及び排気空間４５に連通する排気空間５５として構成されており、この排気空間５５には周方向に間隔をおいて複数の支持部５６が設けられている。支持部５６により、液受け部４３に回転カップ５１が支持されると共に、回転カップ５１が基板Ｂ及び液受け部４３と共に回転軸Ａ回りに回転する。回転カップ５１は、基板Ｂの処理時に当該回転カップ５１に付着するミスト化した処理液（以下ミストという）を弾いて効率良く除去するために、液受け部４３と同様に疎水性の高い材質、例えばＰＣＴＦＥにより構成されている。
【００２５】
回転カップ５１を上記のように円筒形に形成している理由を説明すると、基板Ｂを処理する際には、円形開口部５４から回転カップ５１内に供給されたエアが、基板Ｂの中心側から外方側に向かって流れる排気流を形成する。開口部が角型であり、且つ筒内が角型に形成された回転カップを用いる場合に比べて、上記の回転カップ５１の構成によれば、円形開口部５４から回転カップ５１内に、当該回転カップ５１の周方向に均一性高くエアを導入することができ、且つ、筒内において角部における気流の淀みが発生しないので、上記の基板Ｂの中心側から外方側に向かう排気流を効率よく流すことができる。また、外形が角型のカップを用いる場合に比べて、回転カップ５１の外周では角部が無いため周方向に均一性高く排気流を形成できるので、回転カップ５１の外側においても排気流を効率良く流すことができる。従って、排気流と共に流れるミストを効率良く回転カップ５１の周囲から除去することができる。なお、回転カップ５１の外形、開口部及び内部空間の形状は正円であることに限られず、楕円であっても本発明の権利範囲に含まれる。
【００２６】
続いて外側カップ６１について説明する。外側カップ６１は円筒状に形成され、基板Ｂの回転軸Ａの軸回りにチャンバ１１に固定されて設けられている。外側カップ６１は、回転カップ５１の垂直円筒部５２の外側に設けられる垂直円筒部６２を備えている。垂直円筒部６２の上端は内方側へと屈曲し、回転カップ５１の傾斜部５３上方に形成された内突部６３を構成している。内突部６３に囲まれる領域は円形の開口部６４として形成されている。
【００２７】
内突部６３の下面は、付着した処理液が垂直円筒部６２へ案内されて除去されるように外側方向に向かって下る傾斜面６５として構成されている。この内突部６３は、例えばＰＣＴＦＥにより構成されており、処理液の除去を速やかに行うために、より疎水性の高い材質を用いて構成してもよい。内突部６３と、回転カップ５１との間は前記外側領域３７に連通した排気空間６６として構成されている。この外側カップ６１は、基板Ｂの処理時に浮遊するミストを、当該排気空間６６を介して吸引して除去する役割を有する。
【００２８】
垂直円筒部６２の下端には、当該垂直円筒部６２から外側領域３７を内側方向に突出した第１の規制部６７と、第１の規制部６７からさらに内側方向に突出すると共に下方側に屈曲した第２の規制部６８とが設けられている。これら第１の規制部６７及び第２の規制部６８は、外側領域３７における排気流の流れを規制する。
【００２９】
チャンバ１１内にはノズル７１が設けられている。図２に示すようにノズル７１は当該ノズル７１を支持するアーム７２の一端に接続されており、アーム７２の他端は駆動機構７３に接続されている。この駆動機構７３はガイドレール７４に沿って水平方向に移動自在に構成されており、駆動機構７３の移動により前記基板の回転中心上と複合カップ体４１の外側の待機部７５との間で移動自在に構成されている。ノズル７１は、硫酸供給機構７６と過酸化水素水供給機構７７とに接続されており、これら供給機構７６及び７７から供給された硫酸及び過酸化水素は、例えばミキシングバルブなどを備えた混合部７８にて混合されてＳＰＭを生成し、ノズル７１からＳＰＭが基板Ｂに供給される。なお、アーム７２の基端は複合カップ体４１の外側に設けられた鉛直軸回りに回転する回転軸に接続され、この回転軸が回転することでノズル７１が当該回転軸回りに回動して、基板Ｂの回転中心上と前記待機部７５との間で移動自在に構成されていてもよい。
【００３０】
図２に示すように、チャンバ１１の側面にはチャンバ１１内に基板Ｂを搬送するための搬送口８１が形成されている。図２中８２は、搬送口８１を開閉するシャッタであり、基板Ｂの受け渡しを行う際に搬送口８２を開放し、この受け渡し時以外は搬送口８１を閉鎖する。また、搬送口８１の上方側には図１に示すように清浄なエアの導入口８３が形成され、導入口８３はチャンバ１１内の上方側に設けられた空間８４に連通している。空間８４の下方には多数の通気口８５を面方向に備えた仕切り板８６が設けられ、通気口８５から前記エアが下方に向けて供給される。
【００３１】
この洗浄装置１による基板Ｂの処理工程について説明する。搬送機構により、基板Ｂがチャンバ１１内に搬送され、上昇した回転筒２１の昇降ピン２３が基板Ｂの裏面の端部を支持する。然る後、回転筒２１が下降し、基板Ｂが支持プレート３１に受け渡され、ノズル７１が複合カップ体４１の外側から基板Ｂの回転中心上に移動すると共に予め設定された排気量で排気口３８から排気が行われる。続いて支持プレート３１、液受け部４３及び回転カップ５１が回転し、ノズル７１から前記回転中心にＳＰＭが吐出され、基板Ｂの回転中心から遠心力により基板Ｂの周縁部へと広げられる。また、ノズルシャフト１２からは基板Ｂの裏面に向けてＮ2ガスが吐出される。
【００３２】
図５では点線の矢印で、このときに複合カップ体４１の周囲に形成される排気流を示している。既述のように回転カップ５１内に流れ込んだエアは回転カップ５１の中央部から端部へと速やかに流れて排気されると共に、回転カップ５１の内外で周方向に均一性高く気流が形成される。また、処理液（ＳＰＭ）Ｌが基板Ｂに衝突し、処理液から生じたミストがこの排気流に乗って排気口３８へと向かう。ここで、基板Ｂの端部付近の処理液及びミストの挙動について、図６〜図８を参照しながら説明する。これらの各図中で点線の矢印は排気の流れを示している。基板Ｂの端部では、遠心力により処理液Ｌの盛り上がりが生じ、この盛り上がりから、基板Ｂの外側上方へ向けて液滴Ｄが飛散する（図６）。また、ミストＭが液受け部４３、回転カップ５１及び外側カップ６１の表面に衝突して付着する。
【００３３】
飛散した前記液滴Ｄは液受け部４３にトラップされて付着する（図７）。このように液受け部４３に付着した液滴Ｄについては、排気流から受ける圧力と回転する液受け部４３の遠心力の作用を受け、図中実線の矢印で示すように液受け部４３を外側へと伝わり、液受け部４３の外端から回転カップ５１の垂直円筒部５２へ振り切られる。そして、排気流から受ける圧力と重力とによりこの垂直円筒部５２を下方へ流れ落ちた後（図８）、排気口３８へと伝わって当該排気口３８から除去される。また、液受け部４３及び回転カップ５１に付着したミストＭは、前記遠心力の作用と、排気流から受ける圧力とにより図８に実線の矢印で示すように外方へ弾かれ、排気流に乗って排気口３８から速やかに除去される。
【００３４】
処理液Ｌの供給開始から予め設定された時間が経過し、基板Ｂ表面のレジスト膜が除去されると、ＳＰＭの供給が停止し、ノズル７１が複合カップ体４１の外側に退避する。基板Ｂの回転速度が上昇し、基板Ｂに残留したＳＰＭが除去された後、基板Ｂの回転が停止する。その後、回転筒２１が上昇して基板Ｂが支持プレート３１から押し上げられ、チャンバ１１内に進入した搬送機構に受け渡されると、搬送機構が基板Ｂを洗浄装置１の外部へと搬送する。
【００３５】
この洗浄装置１によれば、基板Ｂの辺に沿って形成された液受け部４３と、液受け部４３を囲み、その周面で受けた処理液を垂直円筒部５２にガイドする傾斜部５３を備えた回転カップ５１とが設けられ、これら液受け部４３及び回転カップ５１が基板Ｂと共に基板の中心軸回りに回転する。回転カップ５１の内外で、回転カップ５１の回転中心から外方に向かう排気流が、周方向に均一性高く形成され、排気流に淀みが生じることが抑えられると共に遠心力により回転カップ５１に付着するミスト化した処理液を弾くことができるので、前記処理液を効率良く除去することができる。また、液受け部４３により基板Ｂから飛散した処理液をトラップして基板Ｂの外側方向へと除去することができる。従って、処理液が基板Ｂに付着して欠陥が発生することを抑えることができる。
【００３６】
また、この洗浄装置１では外側カップ６１が設けられているため、回転カップ５１よりも高く舞い上がったミストを外側カップ６１と回転カップ５１との間から吸引して除去することができる。従って、より確実に処理液が基板Ｂに付着することを抑えることができる。
【００３７】
続いて、洗浄装置１の変形例について説明する。この変形例では図９に示すように液受け部４３及び回転カップ５１が周方向に２つに分割されている。これら液受け部４３及び回転カップ５１の各分割片を第１の分割部９１、第２の分割部９２と呼ぶことにする。図１０は、このように構成された複合カップ体４１の縦断側面図である。第１の分割部９１、第２の分割部９２の各々における液受け部４３は支持部４２を介して支持プレート３１上に設けられた駆動機構９４に接続されている。
【００３８】
各図９、図１０は基板Ｂを支持プレート３１に受け渡す際の第１の分割部９１及び第２の分割部９２の位置を示している。これら図９及び図１０の状態から駆動機構９４が、支持部４２を介して第１の分割部９１、第２の分割部９２を、これら分割部９１、９２の径方向に沿って基板Ｂの回転中心へ向けて移動させることで、図１１のように第１の分割部９１及び第２の分割部９２を合わせて、先の実施形態と同様の液受け部４３及び回転カップ５１を形成することができる。このとき、図１２の縦断側面図に示すように、液受け部４３の内縁は、基板Ｂの辺よりも内側に位置するように構成される。このように液受け部４３及び回転カップ５１が構成されることにより、基板Ｂの受け渡し時に基板Ｂが液受け部４３に干渉せず、且つ基板Ｂの処理時にはより確実に基板Ｂから飛散した処理液をトラップすることができる。なお、この例では液受け部４３及び回転カップ５１を分割しているが、液受け部４３だけが分割された構造としてもよい。また、これら液受け部４３及び回転カップ５１の分割数としては２つに限られず、より多く分割してもよい。
【００３９】
基板に供給する処理液は、ＳＰＭに限られない。例えば、上記の実施形態のようにレジストを除去する目的で洗浄装置１を使用する場合、有機溶剤、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、アセトン、アルコールを用いてもよいし、アンモニアと過酸化水素との混合液体（ＡＰＭ）などアルカリ水溶液を用いてもよいし、オゾン水などの酸化力を有する薬液など種々の薬液が利用可能である。
【００４０】
ところで、液受け部４３により受け止められた処理液は、液受け部４３の外方に振り切られて排出されることに限られない。図１３に示した例では液受け部４３を支持する支持部４２が基板Ｂの全周を囲むようにリング状に形成されている。そして、支持プレート３１には下方へ向けて排出口９５が設けられており、液受け部４３に受け止められた液受け部４３は、当該液受け部４３、支持部４２を順に伝わって、この排出口９５から排出される。
【符号の説明】
【００４１】
Ａ                  回転軸
Ｂ                  基板
１                  洗浄装置
２１                回転筒
３１                支持プレート
３７                外側領域
３８                排気口
３９                排気手段
４１                複合カップ体
４３                液受け部
４４                角型開口部
５１                回転カップ
５２                円筒部
５３                傾斜部
５４                円形開口部
５５                排気空間
６１                外側カップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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