(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロスニコルに配置した第１及び第２偏光板の間にフィルムを挟んだ状態で、前記フィルムの欠陥を検出する欠陥検出装置において、
輝線を１つのみ有する光を、前記第１偏光板に向けて照射する投光器と、
前記第１偏光板、前記フィルム、及び前記第２偏光板を経た光のうち、７００nm以上の光を除去する除去光学系と、
前記除去光学系からの光を受光する撮像手段と、
前記撮像手段で得られた撮像信号に対して微分処理を施す微分処理手段と、
前記微分処理手段により得られる微分処理信号のうち、所定の画素範囲内で輝度値が最大となる極大信号と、前記所定の画素範囲内で輝度値が最小となる極小信号とを検出する信号検出手段と、
順次更新される基準信号の輝度値と前記極大信号の輝度値の差分を第１差分値として求めるとともに、前記基準信号の輝度値と前記極小信号の輝度値の差分を第２差分値として求める差分値算出手段と、
前記第１差分値と前記第２差分値を加算した加算値を求める加算手段と、
前記加算値が一定値以上である場合に、前記所定の画素範囲内の信号を欠陥信号として特定する欠陥信号特定手段を備えることを特徴とする欠陥検出装置。
【請求項２】
前記フィルムは位相差フィルムであり、前記第１及び第２の偏光板の偏光方向は前記位相差フィルムの遅相軸に対して４５°の方向に向けられていることを特徴とする請求項１記載の欠陥検出装置。
【請求項３】
クロスニコルに配置した第１及び第２偏光板の間にフィルムを挟んだ状態で、前記フィルムの欠陥を検出する欠陥検出方法において、
輝線を１つのみ有する光を、前記第１偏光板に向けて、投光器から照射し、
前記第１偏光板、前記フィルム、及び前記第２偏光板を経た光のうち、７００nm以上の光を除去光学系で除去し、
前記除去光学系からの光を撮像手段で受光し、
前記撮像手段で得られた撮像信号に対して微分処理を施し、
前記微分処理により得られる微分処理信号のうち、所定の画素範囲内で輝度値が最大となる極大信号と、前記所定の画素範囲内で輝度値が最小となる極小信号とを検出し、
順次更新される基準信号の輝度値と前記極大信号の輝度値の差分を第１差分値として求めるとともに、前記基準信号の輝度値と前記極小信号の輝度値の差分を第２差分値として求め、
前記第１差分値と前記第２差分値を加算した加算値を求め、
前記加算値が一定値以上である場合に、前記所定の画素範囲内の信号を欠陥信号として特定することを特徴とする欠陥検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムの撮像により得られる信号に基づいて、フィルムの欠陥部分の信号を欠陥信号として検出する欠陥検出装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学異方性のある液晶層を透明なフィルム上に形成することにより、液晶表示装置の視野角を改善することができる光学補償フィルム（以下「位相差フィルム」という）が知られている。この位相差フィルムは、長尺な透明フィルムに配向膜を形成する工程と、その上に液晶を塗布し乾燥して液晶層を形成する工程を経て製造される（例えば特許文献１参照）。各製造工程は厳格な品質管理の下に置かれているが、異物の混入・付着による分子配向ムラ、支持体となる透明フィルムの厚みムラ、液晶層の塗工ムラ等の欠陥を完全に無くすことは容易ではない。
【０００３】
これまで、このような欠陥を検出するために、検査対象のフィルムに対して投光器から光を照射し、その検査対象からの光を受光器で受光し、その受光器が受光した光の信号を解析することによって、欠陥の位置、大きさ、強さをオンラインで把握していた。さらに、投光器と検査対象との間に第１の偏光板を、検査対象と受光器との間に第２の偏光板を、それぞれの偏光板の偏光方向が直交（クロスニコル）するように配置することで、検査対象上の欠陥により散乱・拡散した光のみを、受光器に入るようにする検査方法が知られている（特許文献２参照）。加えて、受光器で得た撮像信号に対しては微分処理を行い、フィルム上の欠陥部分の信号（以下「欠陥信号」という）の傾きを際立たせるとともに、その欠陥以外の部分の信号（以下「ノイズ信号」という）の傾きを緩やかにする方法が一般的に知られている。
【特許文献１】特開平９−７３０８１号公報
【特許文献２】特開平６−１４８０９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述のように、一対の偏光板をクロスニコルに配置した欠陥検査では、受光器で検出するフィルムの幅方向の撮像信号は、フィルムの光学的特性や受光器の感度特性から、中央部の輝度が高く、その中央部から両端部にかけて輝度が徐々に低くなる。このような撮像信号に対して微分処理を行った場合には、欠陥信号は、その周辺のノイズ信号の傾きに影響されてしまう。
【０００５】
例えば、同程度の欠陥がフィルム上に複数存在し、各欠陥で散乱・錯乱する光の輝度が同じである場合に微分処理を行うと、ノイズ信号の傾きが負の領域にある欠陥信号は、その傾きが正の領域にある欠陥信号よりも小さくなってしまう（図７（Ｂ）参照）。そのため、欠陥検出のための閾値が一定の輝度値Ｔｈ（図７（Ｂ）参照）に設定されている場合には、ノイズ信号の傾きが正の領域にある欠陥信号はＴｈ以上であるため検出される一方、ノイズ信号の傾きが負の領域にある欠陥信号はＴｈ未満であるため検出されない。したがって、散乱・錯乱した光の輝度が同じあるにもかかわらず、欠陥部分の信号が検出されないという問題がある。
【０００６】
本発明は、欠陥部分の信号を漏れなく検出することができる欠陥検出装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、クロスニコルに配置した第１及び第２偏光板の間にフィルムを挟んだ状態で、フィルムの欠陥を検出する欠陥検出装置において、輝線を１つのみ有する光を、第１偏光板に向けて照射する投光器と、第１偏光板、フィルム、及び第２偏光板を経た光のうち、７００nm以上の光を除去する除去光学系と、除去光学系からの光を受光する撮像手段と、撮像手段で得られた撮像信号に対して微分処理を施す微分処理手段と、微分処理手段により得られる微分処理信号のうち、所定の画素範囲内で輝度値が最大となる極大信号と、所定の画素範囲内で輝度値が最小となる極小信号とを検出する信号検出手段と、順次更新される基準信号の輝度値と前記極大信号の輝度値の差分を第１差分値として求めるとともに、基準信号の輝度値と極小信号の輝度値の差分を第２差分値として求める差分値算出手段と、第１差分値と第２差分値を加算した加算値を求める加算手段と、加算値が一定値以上である場合に、所定の画素範囲内の信号を欠陥信号として特定する欠陥信号特定手段を備えることを特徴とする。
【０００８】
フィルムは位相差フィルムであり、第１及び第２の偏光板の偏光方向は位相差フィルムの遅相軸に対して４５°の方向に向けられていることが好ましい。
【０００９】
本発明は、クロスニコルに配置した第１及び第２偏光板の間にフィルムを挟んだ状態で、フィルムの欠陥を検出する欠陥検出方法において、輝線を１つのみ有する光を、第１偏光板に向けて、投光器から照射し、第１偏光板、フィルム、及び第２偏光板を経た光のうち、７００nm以上の光を除去光学系で除去し、除去光学系からの光を撮像手段で受光し、撮像手段で得られた撮像信号に対して微分処理を施し、微分処理により得られる微分処理信号のうち、所定の画素範囲内で輝度値が最大となる極大信号と、所定の画素範囲内で輝度値が最小となる極小信号とを検出し、順次更新される基準信号の輝度値と極大信号の輝度値の差分を第１差分値として求めるとともに、基準信号の輝度値と極小信号の輝度値の差分を第２差分値として求め、第１差分値と第２差分値を加算した加算値を求め、加算値が一定値以上である場合に、所定の画素範囲内の信号を欠陥信号として特定することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、フィルムの欠陥部分の信号を欠陥信号として検出する際に、所定の画素範囲内で輝度値が最大となる極大信号と最小となる極小信号を求め、基準信号の輝度値と極大信号の輝度値の差分から得られる第１差分値に、基準信号の輝度値と極大信号の輝度値の差分から得られる第２差分値を加算した加算値を求め、この加算値が一定以上である場合に、所定の画素範囲内の信号を欠陥信号として特定することで、欠陥信号を漏れなく確実に検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１に示すように、位相差フィルム製造ライン１０は、配向膜形成装置１１、液晶層形成装置１２、欠陥検出装置１３、及び巻取装置１４を備えている。
【００１２】
配向膜形成装置１１は、フィルムロール１８から送り出された透明樹脂フィルム１５の表面に、配向膜形成用樹脂が含まれる塗布液を塗布して加熱乾燥する。これにより、透明樹脂フィルム１５の表面に配向膜形成用樹脂層が形成される。そして、配向膜形成装置１１は、配向膜形成用樹脂層に対してラビング処理を施して配向膜を形成する。
【００１３】
液晶層形成装置１２は、透明樹脂フィルム１５の配向膜上に液晶化合物を含む塗布液を塗布し、塗布後に加熱乾燥して液晶層を形成する。そして、液晶層に対して紫外線を照射して、液晶層を架橋する。これにより、透明樹脂フィルム１５の上に配向膜及び液晶層が形成された位相差フィルム１６（以下「フィルム」という）が製造される。フィルム１６は、以下で詳しく述べる欠陥検出装置１３を経た後に、巻取装置１４により巻き取られる。ここで、フィルムロール１８を出て巻取装置１４に巻き取られるまでのフィルム１６の搬送方向を、Ｘ方向とする。また、Ｘ方向はフィルム１６の遅相軸方位と一致している。
【００１４】
欠陥検出装置１３はフィルム１６上に発生した欠陥を検出する。欠陥としては、例えば、傷、厚みムラ、塗工ムラ、分子配向ムラなどが挙げられる。なお、検査対象とするフィルムは位相差フィルムに限る必要はなく、透明体や半透明体などの光を透過する部材であればよく、例えば反射防止フィルムなどがある。
【００１５】
欠陥検出装置１３は、ガイドローラ２０，２１、ハロゲンランプ２２、光量調整部２３、受光器２４、第１及び第２偏光板２５，２６、除去光学系２７、コントローラ２８を備えている。ガイドローラ２０，２１はフィルム１６の搬送路に一定の間隔で離間して配置されている。これらガイドローラ２０，２１は回動自在であり、フィルム１６の搬送に従動して回転する。また、フィルム１６は、ガイドローラ２０，２１への掛け渡しによって平面状に保持されている。また、ガイドローラ２１にはエンコーダ３０が接続されており、このエンコーダ３０はフィルム１６が一定長搬送されるごとにエンコーダパルス信号を発生する。エンコーダパルス信号はコントローラ２８に送信され、欠陥位置を特定する際に用いられる。
【００１６】
ハロゲンランプ２２はフィルム１６の搬送路の下方に設置されている。ハロゲンランプ２２は、図２に示すように、波長が６００ｎｍと８００ｎｍとの間で輝線を１つのみ有する。そのため、フィルム１６上に干渉縞が生じることはほとんどない。また、仮に、干渉縞が生じた場合であっても、干渉縞のうち光が強まりあった明るい部分の輝度は、ハロゲンランプ２２から発する光の輝度よりもほんのわずか大きい程度である。したがって、干渉縞が欠陥検出の精度に影響を与えることはない。なお、輝線を有さない又は１つのみ有する投光器であれば、ハロゲンランプに限る必要はない。
【００１７】
光量調整部２３は、ハロゲンランプ２２の近傍に設置されたセンサ（図示省略）で検出した光量検出信号に基づき、光量が一定になるようにハロゲンランプ２２を制御している。これにより、光量が均一な光をフィルム１６に対して照射することができるため、常に同じ感度で欠陥検出を行うことができる。
【００１８】
受光器２４はＣＣＤカメラから構成されており、フィルム１６の搬送路の上方に設置されている。受光器２４は、フィルム１６の幅方向にライン状に並べられた多数の撮像素子を備えており、フィルム１６が一定長搬送されるごとに、フィルム１６をその幅方向に１ラインずつ撮像する。撮像で得られる信号には、フィルム１６上の欠陥により散乱・錯乱した光の信号（以下「欠陥信号」という）と、第１及び第２偏光板２５，２６からわずかに透過する光などの信号（以下「ノイズ信号」という）が含まれている。これら信号はコントローラ２８に送信される。なお、受光器は１台に限らず２台以上であってもよい。
【００１９】
第１及び第２偏光板２５，２６はヨウ素系偏光板から構成されており、図３に示すように、第１偏光板２５はハロゲンランプ２２とフィルム１６との間に、第２偏光板２６はフィルム１６と受光器２４との間に設置されている。また、第１及び第２偏光板２５，２６は、互いの偏光方向２５ａ，２６ａが直交（クロスニコル）するように配置されている。なお、性能と価格の面からヨウ素系偏光板を用いているが、これに限らず、染料系偏光板、金属偏光子、方解石などからなる偏光板を用いてもよい。
【００２０】
第１及び第２偏光板２５，２６をクロスニコルに配置することで、欠陥がないフィルム１６が位置するときには、第１偏光板２５により特定の偏光面に偏光した光はもう一方の第２偏光板２６において遮られるため、その光は受光器２４にほとんど入らない。即ち、受光器２４は暗視野状態となる。一方、欠陥があるフィルム１６が位置するときには、第１偏光板２５により特定の偏光面に偏光した光は欠陥により散乱・錯乱し、その偏光面が変化する。このように偏光面が変化すると、もう一方の第２偏光板２６から光が出るようになる。即ち、受光器２４は受光状態となる。
【００２１】
また、第１偏光板の偏光方向２５ａはＸ方向（フィルム１６の遅相軸方向）に対する角度θが４５°となるように設定されており、第２偏光板の偏光方向２６ａはＸ方向に対する角度（９０°−θ）が４５°になるように設定されている。
【００２２】
図４は、角度θに対して、第１偏光板２５に入射する入射光の光量と第２偏光板２６を透過する透過光の光量との比率（透過光量比（％））がどのように変化するかを示すグラフである。また、図５は、フィルム１６の位相差に対して透過光量比がどのように変化するかを示すグラフであり、「○」は角度θが０°のときの透過光量比を、「□」は角度θが１５°のときの透過光量比を、「△」は角度θが３０°のときの透過光量比を、「◇」は角度θが４５°のときの透過光量比を示している。
【００２３】
図４に示すように、角度θが４５°のときに、透過光量比が最も高くなる。したがって、角度θを４５°とすることで、傷などの欠陥により散乱・錯乱する光の光量が増加するため、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。また、図５に示すように、角度θが０°から４５°にかけて徐々に透過光量比の位相差依存性が強くなり、角度θが４５°のときに最も位相差依存性が強くなる。塗布ムラなどの位相差欠陥はその位相差欠陥で散乱・錯乱する光の光量が少ないため検出されないこともあったが、角度θを４５°とすることで、位相差欠陥の部分の透過光量比が大きくなるため、傷などの欠陥だけでなく位相差欠陥も確実に検出することができる。
【００２４】
除去光学系２７は赤外線カットフィルタから構成されており、受光器２４の直前に設置されている。除去光学系２７は、第２偏光板２６からの光のうち、波長が７００ｎｍ以上の光を除去する。これにより、波長が７００ｎｍ未満の光のみが受光器２４に入射するため、以下に示す理由から、高いＳ／Ｎ比で精度良く欠陥を検出することができる。
【００２５】
図６は、欠陥検出装置１３から除去光学系２７を除いた状態で、第１偏光板の偏光方向２５ａの角度θを４５°にした場合における第１及び第２偏光板２５，２６の光の透過率を示しており、これら第１及び第２偏光板２５，２６は、波長が７００ｎｍまでの光をほぼ遮光するが、波長が７００ｎｍを超える光については高い透過率で透過してしまう。一方、受光器２４は、波長が７００ｎｍを超える光に対しても感度を有している。そのため、波長が７００ｎｍを超える光が受光器２４のノイズ信号に含まれてしまう。
【００２６】
そこで、波長が７００ｎｍ以上の光（ハッチングエリア３５内の光）を除去光学系２７により除去することで、波長が７００ｎｍ未満の光のみが受光器２４に入射する。そのため、波長が７００ｎｍ以上の光が、受光器２４のノイズ信号に含まれることがなくなる。これにより、ノイズ信号を最小限に抑えることができるため、十分に大きいＳ／Ｎ比を得ることができる。なお、欠陥である塗布スジを検出したときのＳ／Ｎ比は、波長が７００ｎｍ以上の光を除去しない場合には１．５であるのに対して、波長が７００ｎｍ以上の光を除去した場合には２．１に向上する。
【００２７】
除去光学系２７として、赤外線カットフィルタを用いたが、その他、誘電体多層膜を使用したバンドパスフィルタ、モノクロメータ、波長カットフィルタ、色ガラスフィルタ、回折格子などを用いてもよい。また、除去光学系２７で除去する光の波長域は７００ｎｍ以上に限る必要はなく、欠陥検出に使用する偏光板の種類に応じて適宜変更してもよい。また、波長６００ｎｍ以上の光を除去する除去光学系を、ハロゲンランプ２２と第１偏光板２５との間に設置して、ハロゲンランプ２２の光から輝線を除去してもよい。
【００２８】
除去光学系２７の設置位置は、受光器２４の直前（以下「本発明の設置位置」という）以外に、以下のような６つの設置位置が考えられる。第１の設置位置はハロゲンランプ２２と第１偏光板２５との間、第２の設置位置は受光器２４と第２偏光板２６との間、第３の設置位置は第２偏光板２６とフィルム１６との間、第４の設置位置はフィルム１６と第１偏光板２５との間、第５の設置位置はハロゲンランプ２２の内部、第６の設置位置はハロゲンランプ２２との一体型である。
【００２９】
上記第１〜第６の設置位置のうちいずれの設置位置が最適であるかを以下検討する。一般的に偏光板はハロゲンランプ２２の光や熱に対して弱いことから第２〜第４の設置位置は好ましくない。これに対して、第１の設置位置では、ハロゲンランプ２２からの光が除去光学系２７を介して間接的に偏光板に当たるため、光や熱により偏光板の性能を劣化させることがない。したがって、第１の設置位置は好ましい。
【００３０】
また、受光器２４のフォーカスはフィルムに合わせていることから、除去光学系２７とフィルム１６との距離はできるだけ離れているほうがよい。そのため、第３及び第４の設置位置は好ましくない。また、第６の設置位置については、ハロゲンランプ２２を交換する度に欠陥の検出精度が変わってしまうため好ましくない。これに対して、除去光学系２７をハロゲンランプ２２内に配置すると、その除去光学系２７は小さいもので済むため、安価となる。よって、第５の設置位置は好ましい。
【００３１】
以上から、本発明の設置位置、第１の設置位置、及び第５の設置位置のいずれかに除去光学系２７を設置することが好ましいが、本発明の設置位置に除去光学系２７を設置したときに最もＳ／Ｎ比が高くなる。したがって、本発明の設置位置に除去光学系２７を設置することが最も好ましい。
【００３２】
コントローラ２８は、受光器２４で得られた撮像信号に基づき欠陥信号を検出する欠陥信号検出部２８ａと、欠陥信号とエンコーダ３０からのエンコーダパルス信号とに基づきフィルム１６上の欠陥の位置を特定する欠陥位置特定部２８ａとを備えている。欠陥信号検出部２８ａでは、まず、図７（Ａ）に示す撮像信号４０に対して微分処理を施す。これにより、図７（Ｂ）に示すように、輝度値の変化が大きい部分を際立たせた信号４２（以下「微分処理信号」という）が得られる。なお、図７及び下記で示す図８の信号は一例であり、これに限られない。
【００３３】
次に、図８に示すように、微分処理信号４２の中から、一定の画素範囲内で輝度値が最大となる極大信号５０ａ，５１ａ，５２ａと、一定の画素範囲内で輝度値が最小となる極小信号５０ｂ，５１ｂ，５２ｂを特定する。そして、予め設定した基準信号５５の輝度値と極大信号５０ａ，５１ａ，５２ａの輝度値との差分ＬＡ１，ＬＢ１，ＬＣ１（以下「第１差分値」という）を求めるとともに、基準信号４５の輝度値と極小信号５０ｂ，５１ｂ，５２ｂの輝度値との差分ＬＡ２，ＬＢ２，ＬＣ２（以下「第２差分値」という）を求める。ここで、基準信号５５は、数秒前に受光器２４で検出したノイズ信号を平均化したものであり、順次更新される。
【００３４】
次に、第１差分値ＬＡ１，ＬＢ１，ＬＣ１と第２差分値ＬＡ２，ＬＢ２，ＬＣ２とを加算した加算値ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを求める。そして、加算値ＬＡ，ＬＢ，ＬＣが一定値以上であるか否かを判定する。判定の結果、加算値ＬＡ，ＬＢ，ＬＣが一定値以上である場合には、その加算値を求めた画素範囲内の信号５０，５１，５２が欠陥信号であると判定される。図８では、加算値ＬＡ，ＬＢ，ＬＣは全て同じ値であるため、それら加算値ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを求めた画素範囲内の信号５０，５１，５２を欠陥信号として特定する。
【００３５】
従来では、図７（Ｂ）に示すように、微分処理信号４２に対して一定の閾値Ｔｈを設定し、その閾値Ｔｈを超える信号を欠陥信号と判定していた場合には、輝度の変化が大きい信号であっても閾値Ｔｈ以下の信号の場合には、欠陥信号として判定されなかった。これに対して、本発明では、閾値Ｔｈに代えて、上述のように、輝度値の変化量を示す加算値に基づき欠陥信号の検出を行うことで、閾値Ｔｈ以下であっても輝度の変化が大きい信号であれば、欠陥信号として漏れなく確実に検出することができる。
【００３６】
上述したように、フィルム１６の遅相軸に対する第１偏光板の偏光方向の角度θを４５°とすることで、フィルム１６の位相差に従って透過光量比が大きくなるため、位相差欠陥などの検出が可能となる。しかしながら、フィルム１６は、幅方向の中央部が位相差が高く、その中央部から端部にかけて位相差が徐々に低くなるという位相差分布を有してるため、上記一定の閾値Ｔｈで欠陥判定を行った場合には、確実に欠陥検出が行われない場合がある。これに対して、本発明では、上記一定の閾値Ｔｈの代わりに、輝度値の変化量に基づき欠陥検出を行うことで、フィルム１６の位相差分布にかかわらず、確実に欠陥検出を行うことができる。
【００３７】
次に、本発明の欠陥検出装置の作用について説明する。欠陥検出装置１３には、配向膜形成装置１１及び液晶層形成装置１２で製造されたフィルム１６が送り込まれる。フィルム１６は第１偏光板２５と第２偏光板２６の間を走行する。それら第１及び第２偏光板２５，２６に対しては、ハロゲンランプ２２から光が発せられている。
【００３８】
ハロゲンランプ２２からの光は、第１偏光板２５により特定の偏光面に偏光する。ここで、フィルム１６上に欠陥がない場合には偏光した光は第２偏光板２６により遮られ、一方フィルム１６上に欠陥がある場合には、偏光した光は欠陥により散乱・錯乱し、その散乱・錯乱した光が第２偏光板２６から出るようになる。第２偏光板２６から出た光は、除去光学系２７により波長が７００ｎｍ以上の光が除去される。そして、除去光学系２７を経た光は、受光器２４で受光される。
【００３９】
受光器２４は、フィルム１６が一定長送られるごとに１ライン分の撮像を行う。欠陥信号検出部２８ａでは、受光器２４で得られた撮像信号に対して微分処理を施し、微分処理信号を生成する。そして、微分処理信号から極大信号と極小信号を検出する。そして、基準信号の輝度値と極大信号の輝度値との差分値を第１差分値として求めるとともに、基準信号の輝度値と極小信号の輝度値との差分値を第２差分値として求める。そして、第１差分値と第２差分値を加算した加算値が一定値以上である場合には、その加算値を求めた画素範囲内の信号を欠陥信号として特定する。そして、欠陥位置特定部２８ｂは、欠陥信号とエンコーダパルス信号とに基づきフィルム１６上の欠陥位置を特定する。コントローラ２８での結果は、ディスプレイ（図示省略）に表示される。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】位相差フィルム製造ラインの概略図である。
【図２】ハロゲンランプの分光放射強度を示すグラフである。
【図３】欠陥検出装置の斜視図である。
【図４】角度θと透過光量比との関係を示すグラフである。
【図５】フィルムの位相差と透過光量比との関係を示すグラフである。
【図６】クロスニコルに配置した一対の偏光板の分光透過率を示すグラフである。
【図７】（Ａ）は撮像信号を示すグラフであり、（Ｂ）は微分処理信号を示すグラフである。
【図８】輝度値の変化を示す加算値を求める方法を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１３  欠陥検出装置
１６  フィルム
２４  受光器
２８  コントローラ
２８ａ  欠陥信号検出部
２８ｂ  欠陥位置特定部
４０  撮像信号
４２  微分処理信号
５０ａ，５１ａ，５２ａ  極大信号
５０ｂ，５１ｂ，５２ｂ  極小信号
５５  基準信号
ＬＡ１，ＬＢ１，ＬＣ１  第１差分値
ＬＡ２，ＬＢ２，ＬＣ２  第２差分値
ＬＡ，ＬＢ，ＬＣ  加算値
【図１】
0005258349.tif 000002
【図２】
0005258349.tif 000003
【図３】
0005258349.tif 000004
【図４】
0005258349.tif 000005
【図５】
0005258349.tif 000006
【図６】
0005258349.tif 000007
【図７】
0005258349.tif 000008
【図８】
0005258349.tif 000009