(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンをパターニングデバイスから基板に転写するリソグラフィ装置であって、
第１音響振動を発生させるソースと、
前記リソグラフィ装置内の目的地にガスを誘導するガスダクトと、
前記ガスダクト内の前記第１音響振動を測定する音響センサと、
前記ガスダクト内に第２音響振動を発生させるアクチュエータと、
前記音響センサのセンサ信号を受信するセンサ入力部とアクチュエータ駆動信号を前記アクチュエータに与えるアクチュエータ出力部とを有する制御デバイスと
を備え、
前記制御デバイスは、前記第１音響振動を前記第２音響振動によって少なくとも部分的に打ち消すように前記センサ信号に応答して前記アクチュエータを駆動し、
前記アクチュエータは、前記ガスダクトの伝播方向に前記第２音響振動を向けるように配置される、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記アクチュエータは、前記ガスダクトの排出口領域に前記第２音響振動を発生させるように配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記アクチュエータは、音響振動ソースの前記ガスダクトの領域内に前記第２音響振動を発生させるように配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記アクチュエータは、前記ガスダクト内に配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、パターンをパターニングデバイスから基板に転写するように構成されたリソグラフィ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上に、通常は基板のターゲット部分上に付ける機械である。リソグラフィ装置は例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用できる。そうした場合に、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスが、ＩＣの個々の層上に形成されるべき回路パターンを生成するために使用できる。このパターンは、（例えばシリコンウェーハ）基板上の（例えば１つまたはいくつかのダイの部分を含む）ターゲット部分上に転写できる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層への結像によるものである。一般に、１枚の基板は、連続的にパターン形成された隣接するターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、全体のパターンをターゲット部分の上に一括して露光することによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるステッパと、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームを通してスキャンしこれに同期して基板をこの方向と平行または逆平行にスキャンさせることによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるスキャナとを含む。また、基板上にパターンをインプリントすることによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  現在、いくつかのトレンドをリソグラフィ分野に見ることができる。第一に、リソグラフィ装置に例えば或る時間内により大量のウェーハを処理させるために、リソグラフィ装置の処理能力の要求が増えつつある。
【０００４】
[0004]  第二に、精度についての要件が増える傾向にあり、これによって、基板上により詳細な、即ちより微細なパターンを投影するための高度化された能力と組み合わせて、より詳細なパターンを有する基板の製造が可能になる。スループットが高められる結果として、リソグラフィ装置の可動部分は、より高速度かつより高加速度で運動しがちになる。そのために、こうした運動によって引き起こされる音響的振動などの擾乱が増える傾向にある。第二に、精度の要求の高まりのために、リソグラフィ装置の部分のそうした音響振動に対する感度が、少なくとも結像精度に関連して、高まる傾向にある。さらにその上、リソグラフィ装置には、音響振動のもとになる多くの他のソース、例えば、リソグラフィ装置の可動素子、清浄なまたは清浄化されたガス混合体を供給するためのガスダクト、冷却デバイス、ファンなどがあり得る。任意のこうしたソースによる、または任意の他のソースによる音響振動は、投影システム、投影システムのレンズ素子またはミラー素子、サポート位置測定システムまたは基板テーブル位置測定システムの位置中心、アライメントシステム、あるいはリソグラフィ装置の任意の他の部分などの、しかしこれらに限定されないリソグラフィ装置の部分に対して、影響を有する可能性がある。
【０００５】
[0005]  本明細書において、音響振動という用語は、例えば正弦波、衝撃波、バースト、パルスなどの任意の振動パターンであって任意の周波数範囲内のものを含むことができる。したがって、音響振動という用語は、人間の耳に可聴である音波に限定されたものとして理解すべきでないことを強調しておきたい。音響振動は気体、液体または固体中に存在してよい。
【発明の概要】
【０００６】
[0006]  リソグラフィ装置の性能を高度化することが望まれている。
【０００７】
[0007]  本発明の実施形態によると、パターンをパターニングデバイスから基板に転写するリソグラフィ装置が設けられ、このリソグラフィ装置は、第１音響振動を発生させるソースと、リソグラフィ装置の少なくとも関心領域に第２音響振動を発生させるアクチュエータと、アクチュエータにアクチュエータ駆動信号を供給するアクチュエータ出力部を有する制御デバイスとを含み、この制御デバイスは、関心領域の第１音響振動を第２音響振動によって少なくとも部分的に打ち消すようにアクチュエータを駆動する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
[0008]  次に、本発明の実施形態を、対応する参照記号が対応する部分を表す添付の概略図面を参照して例としてのみ説明する。
【０００９】
【図１】[0009]本発明の実施形態が設けられてよいリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0010]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置の部分の概略図である。
【図３】[0011]本発明の他の実施形態によるリソグラフィ装置の部分を概略的に示す図である。
【図４】[0012]本発明のさらなる他の実施形態によるリソグラフィ装置の部分を概略的に示す図である。
【図５】[0013]本発明の他の実施形態によるリソグラフィ装置の部分を概略的に示す図である。
【図６】[0014]本発明のさらなる実施形態によるリソグラフィ装置の部分の概略図である。
【図７】[0015]本発明の再びさらなる実施形態によるリソグラフィ装置の部分の概略図である。
【図８Ａ】[0016]本発明のさらなる他の実施形態によるリソグラフィ装置の部分の概略図である。
【図８Ｂ】[0016]本発明のさらなる他の実施形態によるリソグラフィ装置の部分の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
[0017]  図１に本発明の１つの実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。本装置は、放射ビームＢ（例えば紫外放射または任意の他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構築され、かつ、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１位置決めデバイスＰＭに連結されたパターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、を含む。また、本装置は、基板（例えば、レジストコートされたウェーハ）Ｗを保持するように構築され、かつ、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２位置決めデバイスＰＷに連結された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴ即ち「基板サポート」も含む。さらに、本装置は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃの上に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折式投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１１】
[0018]  照明システムは、放射を誘導し、整形し、または制御するために、屈折式、反射式、磁気式、電磁式、静電式または他のタイプの光学コンポーネント、あるいはこれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含んでよい。
【００１２】
[0019]  パターニングデバイスサポートまたはサポート構造は、パターニングデバイスの方向と、リソグラフィ装置の設計と、例えばパターニングデバイスが真空環境に保持されているか否かなどの他の条件と、に依存する方法でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートまたはサポート構造は、パターニングデバイスを保持するために機械式、真空式、静電式、または他のクランプ技法を使用してよい。パターニングデバイスサポートまたはサポート構造は、例えば要求に応じて固定されまたは移動可能とされるフレームまたはテーブルであってよい。パターニングデバイスサポートまたはサポート構造によって、パターニングデバイスを例えば投影システムに関して確実に所望の位置に置くことができる。本明細書で「レチクル」または「マスク」という用語の任意の使用は、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義であると考えてよい。
【００１３】
[0020]  本明細書で使用される用語「パターニングデバイス」は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用できる任意のデバイスを参照するものと広く解釈されるべきである。例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合には、放射ビームに付与されたパターンは、基板のターゲット部分内の所望のパターンに厳密には対応しないことがあることに留意すべきである。一般に、放射ビームに付与されたパターンは、集積回路などのターゲット部分に形成されたデバイス内の特定の機能層に対応する。
【００１４】
[0021]  パターニングデバイスは透過式または反射式であってよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイおよびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィでよく知られており、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフト、およびハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの例は微小ミラーのマトリックス配列を使用し、入射する放射ビームが異なる方向に反射するように、それらそれぞれを個別に傾けることができる。傾けられたミラーは、ミラーマトリックスによって反射された放射ビームにパターンを付与する。
【００１５】
[0022]  本明細書で使用する用語「投影システム」は、使用される露光放射に適した、あるいは液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適した、屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁式および静電式光学システムまたはそれらの任意の組合せを含む、任意のタイプの投影システムを包含するものと広く解釈されるべきである。本明細書中の用語「投影レンズ」の任意の使用は、より一般的な用語「投影システム」と同義であると考えてよい。
【００１６】
[0023]  本明細書に開示されるように、本装置は（例えば透過型マスクを使用した）透過型のものである。代替として、本装置は、（例えば上記で参照したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用した、または反射型マスクを使用した）反射型のものであってもよい。
【００１７】
[0024]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）あるいはそれ以上の基板テーブル即ち「基板サポート」（および／または、２以上のマスクテーブル即ち「マスクサポート」）を有するタイプのものであってよい。こうした「マルチステージ」マシンでは、追加のテーブルまたはサポートを並行して使用でき、あるいは、予備工程を１つまたは複数のテーブルまたはサポートの上で行ない同時に１つまたは複数の他のテーブルまたはサポートを露光に使用することができる。
【００１８】
[0025]  また、リソグラフィ装置は、少なくとも基板の一部分が、投影システムと基板との間の空間を充填するように相対的に高屈折率を有する液体、例えば水、に覆われるタイプのものであってもよい。また、液浸液が、リソグラフィ装置の他の空間に、例えばマスクと投影システムとの間に、適用されてもよい。液浸技法は投影システムの開口数を高めるために使用できる。本明細書で使用される「液浸」という用語は、基板などの構造体が液体に沈められているべきということを意味しているのではなく、液体が露光中に投影システムと基板との間に配置されることを単に意味しているだけである。
【００１９】
[0026]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受光する。例えば、放射源がエキシマレーザであるときは、放射源とリソグラフィ装置とは別々のものであってよい。このような場合は、放射源はリソグラフィ装置の部分を構成するものとは考えられずに、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを用いて放射源ＳＯからイルミネータＩＬまで送られる。他の場合には、例えば放射源が水銀ランプである場合は、放射源はリソグラフィ装置の一体化された部分であってよい。放射源ＳＯとイルミネータＩＬとは、ビームデリバリシステムＢＤと共に、必要であるなら放射システムと呼ばれてもよい。
【００２０】
[0027]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタＡＤを含んでよい。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（一般に、それぞれ、σ−outerおよびσ−innerと呼ばれる）は、調節可能である。さらに、イルミネータＩＬはインテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの様々な他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使用して、放射ビームに所望の均一性と強度分布とをその断面に持たせるように調整することができる。
【００２１】
[0028]  放射ビームＢは、パターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴの上に保持されるパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡの上に入射し、このパターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを通った後で、放射ビームＢは、基板Ｗのターゲット部分Ｃの上にビームを合焦させる投影システムＰＳを通過する。第２位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサ）を用いて、基板テーブルＷＴを、例えば異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの光路内に位置決めするように正確に移動させることができる。同様に、第１位置決めデバイスＰＭおよび（図１に明確に示されていない）他の位置センサを使用して、例えばマスクライブラリからの機械検索の後でまたはスキャン中に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを放射ビームＢの光路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、パターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴの移動は、第１位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現できる。同様に、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の移動は、第２ポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現できる。（スキャナとは対照的に）ステッパの場合には、パターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴは、ショートストロークアクチュエータだけに連結されてよく、または固定されてもよい。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡと基板Ｗとは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用してアライメントされてよい。図示した基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占めているが、これらはターゲット部分の間の空間に配置されてもよい（これらは、スクライブラインアライメントマークとして知られている）。同様に、２つ以上のダイがパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に設けられる状況では、マスクアライメントマークはこれらのダイの間に配置されてもよい。
【００２２】
[0029]  示した装置は以下の少なくとも１つのモードで使用することができる。
【００２３】
[0030]  １）ステップモードでは、パターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」と、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」とは、基本的に静止状態に保持され、その間に放射ビームに付与された全体のパターンがターゲット部分Ｃの上に一括して投影される（即ち単一静的露光）。次いで、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」は、異なるターゲット部分Ｃが露光され得るようにＸおよび／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズを限定する。
【００２４】
[0031]  ２）スキャンモードでは、パターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」と、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」とは同期してスキャンされながら、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃの上に投影される（即ち、単一動的露光）。パターニングデバイスサポートまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの（逆）倍率および像反転特性によって決定されてよい。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャン方向における）を限定し、他方では、スキャン運動の長さがターゲット部分の高さ（スキャン方向における）を決定する。
【００２５】
[0032]  ３）他のモードでは、パターニングデバイスまたはサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」は、プログラマブルパターニングデバイスを保持したまま基本的に静止状態に保たれ、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」は移動またはスキャンされ、その間に放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃの上に投影される。一般に、このモードではパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の各移動の後で、またはスキャン期間中の逐次的な放射パルスの間に、必要に応じて更新される。動作のこのモードは、上記で参照したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用したマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
【００２６】
[0033]  また、上述のモードの使用または全く異なるモードの使用についての組合せおよび／または変形を利用することも可能である。
【００２７】
[0034]  図２に、本発明の実施形態が施されるリソグラフィ装置のガスダクトＧＤを極めて概略化した図を示す。案内ダクトＧＣにガス混合体を送り込むためにファンＦＡまたは任意の他の推進装置が設けられる。出力開口部ＯＡが、例えば投影システムの下流のレンズの場所などのリソグラフィ装置の任意の適切な位置に設けられてよい。図２では、案内ダクトＧＤは直線として描かれているが任意の適切な形状が与えられてよい。また、複数の出力開口部ＯＡが設けられてもよく、ガスダクトＧＤは複数のガスダクト等に分岐されてもよい。図２の極めて概略化し単純化した表現は単純化のためだけに選ばれたものである。ファンＦＡまたは任意の他の原因によって、第１音響振動ＦＡＶで概略的に示されたような音響振動が案内ダクトＧＤの内部に生じることがある。センサＳＥが第１音響振動ＦＡＶを感知するために案内ダクトＧＤ内に設けられてよい。センサの出力信号が、アクチュエータＡＣＴを駆動するための信号をそこから導出する制御デバイスＣＯＮに供給され、この制御デバイスＣＯＮは案内ダクトＧＤの排出口領域ＯＡ近傍に配置される。制御デバイスＣＯＮにより駆動されるアクチュエータＡＣＴは、その結果第２音響振動ＳＡＶを発生させる。第２音響振動ＳＡＶは第１音響振動ＲＡＶと相互に作用し、これは排出口領域ＯＡでの全体の音響振動の減衰をもたらすことができ、その結果、ガスダクトＧＤ排出口領域ＯＡでの第１音響振動ＦＡＶの影響を少なくとも部分的に打ち消すことができる。それに関して、第２音響振動ＳＡＶを第１音響振動ＦＡＶに対して逆位相とすることができる。この結果、ガスダクトが設けられるリソグラフィ装置の部分に及ぼす第１音響振動ＦＡＶの影響を少なくとも低減することができる。また、第１音響振動は同様にまたは付加的に任意の他の原因によって生じることがあり、例えば、案内ダクトのリブ付構造、乱流または他の影響によって音響振動は起こり得る。第２音響振動は、アクチュエータなどの音源によって、または、リソグラフィ装置の構造体の励起によって間接的に生じることがある。センサは、第１音響振動を直接的に、または、リソグラフィ装置の構造体に及ぼす第１音響振動の衝撃を測定することによって間接的に測定可能である。ガスは、清浄空気、乾燥空気、人工的空気、窒素等または任意の他のガスまたはガス混合体などの、リソグラフィ装置に与えられる任意のガスまたはガス混合体を含んでよい。図２ではセンサおよびアクチュエータは案内ダクトＧＤの空気内および排出口領域ＯＡに配置されているが、また、センサおよび／またはアクチュエータは、ファンＦＡの近傍に配置されることも可能である。この結果、ファンＦＡによって生じた任意の振動を案内ダクトＧＤの内部で直接抑制できる。しかし、図２に示した配置で、案内ダクトのリブ付き表面からなどの第１音響振動に対する他の寄与も考慮されてもよい。
【００２８】
[0035]  案内ダクトがガスを投影システムの下流のレンズに供給する上記に参照した実施例では、第１音響振動がそれら下流のレンズ素子の振動に転化する恐れがあり、これが結果として、基板ステージＷＴによって保持されている基板の上への投影システムによる投影の不正確さになる。第２音響振動を発生させるアクチュエータＡＣＴを使用して第１音響振動を少なくとも部分的に打ち消すことによって、第１音響振動の影響は少なくとも低減され、それによって、投影システムの下流のレンズへのそうした振動の影響を少なくとも低減させ、投影システムによる離れた基板への投影の精度向上に転化させることができる。図２では、アクチュエータＡＣＴは、第２音響振動を案内ダクトの方向に対して概ね垂直に発生させるように向けられているが、他の構成を施すこともまた可能である。例えば、アクチュエータＡＣＴは、例えば音響ガイドによりガスダクトＧＤの伝播方向に第２音響振動ＳＡＶを向けるようにアクチュエータＡＣＴを配置することによって、または任意の他の適切なデバイスによって、音波の指向性放射を定めることができる。制御デバイスＣＯＮは、アナログ素子（例えば増幅器、アナログフィルタなど、デジタル信号プロセッサなどのデジタル処理デバイス、または任意の他のデジタルフィルタリングデバイスまたはフィルタ等）などの任意の適切な制御システムまたはコントローラを含んでよい。制御デバイスはリソグラフィ装置内の個別の制御デバイスであってよいが、リソグラフィ装置の任意の他の適切な制御デバイスに含まれてもよい。
【００２９】
[0036]  図３に、リソグラフィ装置の投影システムＰＳ、ならびに、投影システムＰＳまたはその部分への音響振動の影響を少なくとも低減させるための本発明の態様によるシステムを示す。より詳細には、複数のセンサＳＥが投影システムＰＳに向けて伝播してくる音響振動を感知するために設けられる。１つまたは複数のセンサＳＥの出力信号が制御デバイスＣＯＮに供給される。制御デバイスは、１つまたは複数のセンサＳＥによって感知された音響振動に従って複数のアクチュエータＡＣＴを駆動する。アクチュエータＡＣＴおよびセンサＳＥは、例えば投影システムＰＳを取り囲む冷却構造体ＧＳＴなどの任意の適切な構造体に連結されてよい。１つのセンサＳＥと１つのアクチュエータＡＣＴとが設けられた図２に示した実施例に反して、図３は複数センサ複数アクチュエータシステムを示している。１つまたは複数のアクチュエータＡＣＴは１つまたは複数のセンサＳＥによって供給される信号に従って駆動されてよく、したがって、例えば、マルチインプットマルチアウトプット制御システムを形成する。冷却構造体ＧＳＴまたは任意の他の適切な構造体は、第１音響振動ＦＡＶを投影システムＰＳに向けて直接、通過可能にする閉じた構造体または開いた構造体によって形成されてよいことを理解されよう。複数のアクチュエータを使用することによって、アクチュエータのそれぞれを制御デバイスによって適切な信号で個別に駆動できる。したがって、例えば進行してきた距離の差のために、投影システムＰＳの１つのアクチュエータの領域に到達する第１音響振動ＦＡＶの位相が他の１つのアクチュエータの領域に到達する位相とは異なる位相差を、例えば計数することができる。アクチュエータはこれらの位相差を考慮して駆動されてよく、減衰が求められているそれぞれの領域での第１音響振動を少なくとも低減させるために第２の音波を供給する。説明したアクチュエータの代替としてまたはそれらに加えて、アクチュエータは、例えば本明細書に示した実施例では冷却構造体ＧＳＴを揺さぶるように構成され、したがってアクチュエータとして作用し第２音響振動の効果的な放射をもたらすことができる、シェーカーなどの構造的励振体(excitator)を含んでよい。
【００３０】
[0037]  図４に、本実施例ではリソグラフィ装置のメトロロジーフレームＭＦである基準フレームによって保持された投影システムＰＳを示す。第１音響振動ＦＡＶはメトロロジーフレームＭＦに向けて擾乱を与え、この擾乱は投影システムＰＳに伝達される可能性があり、したがって、投影システムＰＳの１つまたは複数のレンズ素子またはミラー素子の起こり得る振動あるいは他の変位あるいは不正確さをもたらす恐れがある。上記に示した実施形態と同様に、第１音響振動を測定するセンサが設けられ、アクチュエータＡＣＴはセンサＳＥの出力信号に従って制御デバイスＣＯＮにより駆動される。この結果、アクチュエータはメトロロジーフレームに進行してくる第１音響振動を少なくとも部分的に打ち消すために第２音響振動ＳＡＶを生成し、これによってメトロロジーフレームＭＦに及ぼす第１音響振動の影響を少なくとも部分的に打ち消す。
【００３１】
[0038]  図５に、メトロロジーフレームＭＦに取り付けられた投影システムＰＳを示す。位置センサＰＳＥ（例えば干渉計、エンコーダなど）が、基板Ｗを保持するための基板テーブルＷＴの位置をメトロロジーフレームに対して、したがって投影システムＰＳに対して測定する。第１音響振動ＦＡＶは位置センサＰＳＥの振動または他の位置エラーをもたらす恐れがあり、したがって位置センサＰＳＥによる測定エラーの結果となる。こうした第１音響振動の影響は、位置センサＰＳＥの場所での第１音響振動を少なくとも部分的に打ち消すように第２音響振動ＳＡＶを放出するアクチュエータＡＣＴによって少なくも低減できる。上記の実施形態と同様に、アクチュエータＡＣＴはセンサＳＥによって制御デバイスＣＯＮに与えられた信号に従って制御デバイスＣＯＮによって駆動される。センサＳＥは第１音響振動ＦＡＶを感知する。また、音響センサは、位置センサＰＳＥの振動を検出するための例えば振動センサによっても形成されることを述べておく。
【００３２】
[0039]  図６にメトロロジーフレームＭＦによって保持された投影システムＰＳを示す。ウェーハＷを保持している基板ステージＷＴの位置は、センサヘッドＳＨおよびセンサターゲットＳＴＡを含む位置測定システムによって測定される。センサヘッドＳＨは例えばエンコーダヘッド、干渉計測定ヘッドなどを含んでよく、センサターゲットＳＴＡは１次元または２次元のグレード、ミラー、ミラー位置での格子の組合せ、格子とミラーとの組合せなどを含んでよい。センサターゲットＳＴＡに向かう第１音響振動ＦＡＶは、センサターゲットＳＴＡの振動または他の位置の不正確さをもたらす恐れがあり、これが、センサヘッドＳＨおよびセンサターゲットＳＴＡにより形成される位置測定システムによる測定エラーに転化する恐れがある。センサターゲットＳＴＡに及ぼす第１音響振動の影響は、第１音響振動ＦＡＶを少なくとも部分的に打ち消すために第２音響振動ＳＡＶを発生させるアクチュエータＡＣＴによって、少なくとも部分的に打ち消すことができる。アクチュエータＡＣＴは、第１音響振動ＦＡＶを測定するセンサＳＥのセンサ信号によって動作する制御デバイスＣＯＮによって駆動される。
【００３３】
[0040]  図７に、投影システムＰＳおよびパターニングデバイスＭＡを保持しているサポートＭＴを示す。投影システムＰＳに及ぼすサポートＭＴの運動による音響振動の影響を低減するために、シールドＳＨＤがパターニングデバイスサポートＭＴと投影システムＰＳとの間に設けられる。パターニング付きビームを投影システムへ向けて通過させるようにシールドＳＨＤに開口部ＡＰＴが設けられる。この開口部ＡＰＴを介して投影システムに至る（パターニングデバイスサポートＭＴの運動によって引き起こされるなどの）振動の通過は、そうした振動を１つまたは複数のセンサＳＥによって感知し、それらセンサの信号を制御デバイスＣＯＮに与え、１つまたは複数のアクチュエータＡＣＴを駆動することによって、少なくとも低減できる。開口部ＡＰＴの場所でその開口部ＡＰＴに向けて第２音響振動を供給するためのアクチュエータまたは複数のアクチュエータは、パターニングデバイスサポートＭＴの運動によって引き起こされるなどの振動を少なくとも部分的に打ち消す。代替の実施形態で、シールドＳＨＤを振動させるためにシェーカーまたは他のアクチュエータをシールドＳＨＤに付与し、それによって効果的に第２音響振動を放射させてもよい。
【００３４】
[0041]  アクチュエータとセンサとは、例えばアナログ線による、または通信バス、多重化バスなどのデジタル通信接続によるなどの任意の適切なデバイスによって、あるいは任意の他の適切な手段によって、制御デバイスＣＯＮに接続されてよい。
【００３５】
[0042]  図２〜図４において、第１音響振動ＦＡＶを測定するための音響センサＳＥと、リソグラフィ装置の少なくとも問題とする領域に第２音響振動ＳＡＶを発生させるためのアクチュエータＡＣＴと、音響センサのセンサ信号を受信するためのセンサ入力部とアクチュエータにアクチュエータ駆動信号を与えるためのアクチュエータ出力部とを有する制御デバイスＣＯＮと、を有するリソグラフィ装置の様々な実施形態を示してきた。制御デバイスは、第２音響振動に問題とする領域で第１音響振動を少なくとも部分的に打消させるようにアクチュエータを駆動するように構成されている。上記の実施例では、問題にしている領域は、ガスダクトの出力領域と、投影システムＰＳの周辺と、メトロロジーフレームＭＦの表面と、基板テーブル位置測定システムの位置センサＰＳＥと、基板テーブル位置測定システムの静止ターゲットＳＴＡと、パターニングデバイスサポートＭＴと投影システムＰＳとの間のシールドＳＨＤの開口部ＡＰＴと、によって形成されてよい。多くの他の実施例および用途がリソグラフィ装置で考えられることを理解されよう。
【００３６】
[0043]  図２〜図７による実施形態において、第１音響振動の影響を表現できる信号を備えた制御デバイスを用意するために、第１音響振動を感知するためのセンサを適用する代わりに任意の他のデバイスを適用してもよい。１つの実施例として、制御デバイスには、動作中に第１音響振動を発生させる可能性がある、リソグラフィ装置の可動デバイスの運動を表す信号が与えられてもよい。可動デバイスの運動を表す信号は、例えば、可動デバイスの所望の位置を与える設定点信号であってよい。ここで、本発明のこうした実施形態の様々な実施例について図８Ａおよび図８Ｂを参照して説明しよう。
【００３７】
[0044]  図８Ａに、リソグラフィ装置のパターニングデバイスサポートＭＴの極めて概略的な上面図を示す。パターニングデバイスサポートは、上記で図１を参照して説明したようにパターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートは、ＭＴＣによって概略的に示したサポートステージコンパートメント内に配置される。また、例えばマスクテーブルまたはマスクステージとしても示されるパターニングデバイスサポートは、図８Ａの矢印で示された方向に可動である。例えば、ロングストローク（粗動）アクチュエータおよびショートストローク（微動）アクチュエータのデュアルアクチュエータが設けられてよい。パターニングデバイスサポートの移動は、パターニングデバイスサポートＭＴを取り囲んでいるガスに圧力波、圧力衝撃、ガスの流れ、または（一般的に音響的振動と呼ばれる）他の擾乱を結果として生じさせ、これらが今度は、投影システムＰＳまたはその部分などのリソグラフィ装置の他の構成コンポーネントを擾乱する可能性がある。例えばリソグラフィ装置の投影システムまたは他の関連する部分に及ぼす移動の影響を少なくとも低減させるために、１つまたは複数のアクチュエータを設けて、投影システムの場所などの問題にしている領域内の第１音響振動を少なくとも部分的に打ち消すために他の音響振動を発生させることができる。アクチュエータは、パターニングデバイスサポートによって発生された擾乱を測定するためのセンサのセンサ信号、またはパターニングデバイスサポートセットポイントの設定点信号（例えば、ステージコントローラに与えられる位置設定点信号）などの適切な入力を与えられる制御デバイス（図示せず）によって駆動されてよい。第１の実施例として、アクチュエータＡ１がパターニングデバイスサポートＭＴの運動方向から見てパターニングデバイスサポートの前端および後端に配置される。第２の実施例として、アクチュエータＡ２がリソグラフィ装置のパターニングデバイスサポートコンパートメントＭＴＣ内に配置される。パターニングデバイスサポートＭＴの移動によって引き起こされる擾乱に対する効果的な相殺を達成するために、アクチュエータＡ２をサポートの移動方向から見てサポートステージコンパートメントの端部に配置することができる。第３の実施例として、図８Ｂの概略側面図に示すように、アクチュエータＡ３がリソグラフィ装置のレンズコンパートメントＰＬＣの中に配置される。第４の実施例として、アクチュエータはサポートステージコンパートメントＭＴＣ内に配置されたベローＡ４を含む。制御デバイスは、パターニングデバイスサポートＭＴの移動に同期してベローを駆動するように構成でき、それによって流れの平衡化を達成できる。第５の実施例では、アクチュエータは、パターニングデバイスサポートＭＴと同じ移動方向に運動可能な作動構造体Ａ５を含む。制御デバイスは、作動構造体をサポートの移動と概ね反対方向に運動させるように構成されてよく、それによって流れの平衡化が達成できる。作動構造体Ａ５は、パターニングデバイスＭＡの側面に、例えばその上方または下方に配置されてよい。アクチュエータＡ１〜Ａ５のそれぞれは、図７を参照して上記で説明したように���パターニングデバイスサポートＭＴと投影システムＰＳとの間の流れシールドＳＨＤを有する実施形態に適用されてよいことを理解されたい。アクチュエータＡ１〜Ａ３を比較すると、Ａ１は起こり得る擾乱源の最も近くにある一方、Ａ３は擾乱源によっておそらく擾乱される部分に最も近く、したがってＡ１〜Ａ３のそれぞれはそれらの特定の影響を受けてよいことを述べておく。
【００３８】
[0045]  上記の実施例において、ファン、ガスの供給、リソグラフィ装置の基板ステージまたはウェーハステージなどの可動部分、などの音響振動の多くの源を示してきた。実際、本明細書の範囲内で、例えば、意図的に振動を発生させる源ならびに意図しないまたは望ましくない（寄生的）振動を発生させる源を含む音響振動の任意の源を想定することができる。
【００３９】
[0046]  本明細書ではＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して特に言及されているかもしれないが、本明細書で説明するリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用の誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他の用途を有することもできることを理解されたい。当業者は、こうした代替の用途の文脈において、本明細書中の用語「ウェーハ」または「ダイ」の任意の使用は、より一般的な用語である「基板」または「ターゲット部分」とそれぞれ同義であると考えてよいことを理解されよう。本明細書で参照される基板は、露光の前または後で、例えばトラック（通常、レジスト層を基板に付け、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツールおよび／またはインスペクションツールで処理されてよい。適用可能であるなら、本明細書の開示はこうしたまたは他の基板処理ツールに適用してもよい。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために２回以上処理されてもよく、これにより、本明細書で使用される基板という用語は、複数の処理された層をすでに含んでいる基板をも参照可能である。
【００４０】
[0047]  上記において、光リソグラフィの文脈で本発明の実施形態の使用についてなされてきたかもしれないが、本発明は、例えばインプリントリソグラフィなどの他の用途にも使用でき、文脈が許すならば光学リソグラフィに限定されないことを理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板上に生成されるパターンを規定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、電磁放射、熱、圧力またはこれらの組合せを加えることによってレジストがその上に硬化される基板に供給されるレジスト層にプレスされてよい。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後でパターンをその中に残したままレジストから取り外される。
【００４１】
[0048]  本明細書で使用される用語「放射」および「ビーム」は、（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、もしくは１２６ｎｍ、またはその辺りの波長を有する）紫外（ＵＶ）放射および（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）極紫外（ＥＵＶ）放射、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含む全てのタイプの電磁放射を包含する。
【００４２】
[0049]  用語「レンズ」は、文脈が許すなら、屈折式、反射式、磁気式、電磁式および静電式光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントの任意の１つまたはその組合せを参照することができる。
【００４３】
[0050]  本発明の特定の実施形態を上記で説明してきたが、本発明は、説明したこととは別の方法で実施可能であることを理解されよう。例えば、本発明は、上記で開示した方法を記述している１つまたは複数の機械読取可能な命令のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはこうしたコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００４４】
[0051]  上記の説明は例示的であることが意図され、限定することを意図していない。したがって、以下に記載する特許請求の範囲から逸脱することなく、説明した本発明に対する変更を行なうことができることは当業者にとって明らかであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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