(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１放出領域に第１蒸着物質を蒸着する第１蒸着源と、第２放出領域に第１蒸着物質とは異なる第２蒸着物質を蒸着する第２蒸着源とを準備する段階と、
前記第１放出領域と第２放出領域とが互いに重畳する第１重畳領域が設定されるように、第１蒸着源と第２蒸着源とを調整する段階と、
前記第１蒸着源および前記第２蒸着源の間に設置される第１角度調整部材と、前記第１蒸着源および前記第２蒸着源の上部に、横方向にせり出した部分的な屋根である第２角度調整部材とにより、前記第１放出領域および前記第２放出領域の蒸着角度を調整する段階と、
前記第１蒸着源と第２蒸着源とを稼動し、前記第１蒸着物質および第２蒸着物質を被処理体の一部に蒸着する段階と、
前記被処理体の一端を、第１放出領域から第１重畳領域を差し引いた第１蒸着領域、第１重畳領域、および第２放出領域から第１重畳領域を差し引いた第２蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源および第２蒸着源を被処理体の一端から他端まで移動させる段階と、
を含むことを特徴とする薄膜形成方法。
【請求項２】
前記移動させる段階は、前記被処理体の他端を、前記第２蒸着領域、第１重畳領域および第１蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源および第２蒸着源を被処理体の前記他端から前記一端まで移動させることをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜形成方法。
【請求項３】
前記第１蒸着源および第２蒸着源の移動速度が同じであることを特徴とする請求項１または２に記載の薄膜形成方法。
【請求項４】
前記準備する段階が、前記第１蒸着物質および第２蒸着物質と相異なる第３蒸着物質を第３放出領域に蒸着する第３蒸着源を準備することをさらに含み、
前記調整する段階は、第３放出領域が前記第１放出領域または第２放出領域と互いに重畳する第２重畳領域が設定されるように、第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を調整することをさらに含み、
前記蒸着する段階は、前記第３蒸着源を稼動し、前記第３蒸着物質を前記被処理体の一部に蒸着することをさらに含み、
前記移動させる段階は、前記被処理体の一端を、前記第１蒸着領域、第１重畳領域、第２蒸着領域、第２重畳領域および第３放出領域から第２重畳領域を差し引いた第３蒸着領域、または、前記第３蒸着領域、第２重畳領域、第１蒸着領域、第１重畳領域および第２蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の一端から他端まで移動させることを特徴とする請求項１に記載の薄膜形成方法。
【請求項５】
前記移動させる段階は、前記被処理体の他端を、前記第３蒸着領域、第２重畳領域、第２蒸着領域、第１重畳領域および第１蒸着領域、または、前記第２蒸着領域、第１重畳領域、第１蒸着領域、第２重畳領域および第３蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の前記他端から前記一端まで移動させることをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の薄膜形成方法。
【請求項６】
前記第１放出領域と前記第３放出領域との和は、前記第１重畳領域と前記第２重畳領域との和と同一であることを特徴とする請求項４または５に記載の薄膜形成方法。
【請求項７】
前記移動させる段階は、前記被処理体の一端を、前記第１重畳領域および第２重畳領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の前記一端から前記他端まで移動させることを特徴とする請求項６に記載の薄膜形成方法。
【請求項８】
前記移動させる段階は、前記被処理体の他端を、前記第２重畳領域および第１重畳領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の前記他端から前記一端まで移動させる移動させることをさらに含むことを特徴とする請求項６または７に記載の薄膜形成方法。
【請求項９】
前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源の移動速度が同一であることを特徴とする請求項４〜８のいずれか一項に記載の薄膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は薄膜形成方法に係り、さらに詳細には、被処理体に各層が多様な物質からなる積層膜を簡便に形成できる薄膜形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示（ＯＬＥＤ）装置のような平板表示装置において、発光層を含む有機膜は、通常、真空雰囲気で有機膜を構成する物質を蒸着する薄膜蒸着工程によって製造される。
【０００３】
かような薄膜蒸着工程は、従来、単一の蒸着工程によって単一の薄膜が形成されるだけである。そのため、ＯＬＥＤ装置の発光層を含む有機膜のように、何層かが複合的に積層されている場合には、積層する層の数に対応する数の薄膜蒸着工程が必要になる。それぞれが異なる物質で複数層が積層される構造の製品を製造する際には、工程が複雑であり製造時間も長時間亘ることとなる。したがって、蒸着工程によって異なる物質で複数層を簡便に形成することのできる薄膜形成方法が求められている。
【０００４】
かような問題を解決するために、下記特許文献１には、２つの蒸着源を利用し、それらの蒸着源を成膜対象物の下部に順に移動させ、有機薄膜を順次に積層形成させる有機薄膜の形成方法が開示されている。
【０００５】
しかし、特許文献１に記載の方法の場合には、１つのチャンバ内で１つの蒸着源を用いる蒸着工程が終われば、続いて他の蒸着源を用いる蒸着がなされるために、２つのチャンバで行われる工程を１つのチャンバで行うという効果が得られるのみである。すなわち、この場合には、チャンバとチャンバとの間を移動する時間を短縮することはできるが、結局、２回の蒸着工程を実施しなければならないために、蒸着時間全体を短縮することはできない。さらに、例えばホスト物質およびドーパント物質など、共に２つの相異なる蒸着物質を混合して成膜する場合には、最初の蒸着工程後に、チャンバ内部に最初の蒸着工程時の蒸着物質のガスが残っていることがある。そのために、最初の蒸着工程時の残留蒸着物質ガスによって、２回目の蒸着工程の成膜物質が汚染される恐れがある。したがって、これによって、最初の蒸着工程と２回目の蒸着工程のとの間に、チャンバ内部を換気しなければならないという問題も生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１１１３０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、前記の問題を解決するためのものであり、複数を積層した有機膜を単一の工程で形成できる薄膜形成方法を提供するところにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するために、本発明は、第１放出領域に第１蒸着物質を蒸着する第１蒸着源と、第２放出領域に第１蒸着物質とは異なる第２蒸着物質を蒸着する第２蒸着源とを準備する段階と、前記第１放出領域と第２放出領域とが互いに重畳する第１重畳領域が設定されるように、第１蒸着源と第２蒸着源とを調整する段階と、前記第１蒸着源と第２蒸着源とを稼動し、前記第１蒸着物質および第２蒸着物質を被処理体の一部に蒸着する段階と、前記被処理体の一端を、第１放出領域から第１重畳領域を差し引いた第１蒸着領域、第１重畳領域、および第２放出領域から第１重畳領域を差し引いた第２蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源および第２蒸着源を被処理体の一端から他端まで移動させる段階と、を含むことを特徴とする薄膜形成方法を提供する。
【０００９】
前記移動させる段階は、前記被処理体の他端を、前記第２蒸着領域、第１重畳領域および第１蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源および第２蒸着源を被処理体の前記他端から前記一端まで移動させることをさらに含むことができる。
【００１０】
前記第１蒸着源および第２蒸着源の移動速度が同一になるようにできる。
【００１１】
前記準備する段階が、前記第１蒸着物質および第２蒸着物質と相異なる第３蒸着物質を第３放出領域に蒸着する第３蒸着源を準備することをさらに含み、前記調整する段階は、第３放出領域が前記第１放出領域または第２放出領域と互いに重畳する第２重畳領域が設定されるように、第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を調整することをさらに含み、前記蒸着する段階は、前記第３蒸着源を稼動し、前記第３蒸着物質を前記被処理体の一部に蒸着することをさらに含み、前記移動させる段階は、前記被処理体の一端を、前記第１蒸着領域、第１重畳領域、第２蒸着領域、第２重畳領域および第３放出領域から第２重畳領域を差し引いた第３蒸着領域、または、前記第３蒸着領域、第２重畳領域、第１蒸着領域、第１重畳領域および第２蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の一端から他端まで移動させることができる。
【００１２】
前記移動させる段階は、前記被処理体の他端を、前記第３蒸着領域、第２重畳領域、第２蒸着領域、第１重畳領域および第１蒸着領域、または、前記第２蒸着領域、第１重畳領域、第１蒸着領域、第２重畳領域および第３蒸着領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の前記他端から前記一端まで移動させることをさらに含むことができる。
【００１３】
前記第１放出領域と第３放出領域との和は、前記第１重畳領域と第２重畳領域との和と同一になるようにすることができる。
【００１４】
前記移動させる段階は、前記被処理体の一端を、前記第１重畳領域および第２重畳領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の前記一端から前記他端まで移動させることができる。
【００１５】
前記移動させる段階は、前記被処理体の他端を、前記第２重畳領域および第１重畳領域がこの順に通過するように、前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源を被処理体の前記他端から前記一端まで移動させる移動させることをさらに含むことができる。
【００１６】
前記第１蒸着源、第２蒸着源および第３蒸着源の移動速度を同一にできる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、多様な物質で複数層が積層される多層有機膜を、１回の蒸着工程で同時に形成できる。
【００１８】
また１回の蒸着工程で複数層が積層されることによって、各薄膜の積層工程間に時間ロスがなくなり、連続的な多層積層が可能である。
【００１９】
そして本発明は、多層有機膜の各層が連続的に形成されるために、各薄膜の積層工程間に、チャンバ内部を排気せずとも良質の膜品質を得ることができる。
【００２０】
また本発明の方法は、大型基板への適用がさらに容易である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の望ましい一実施形態による蒸着装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】図１の蒸着源およびこれに係る角度制限部材の構成を説明するための概略的な模式図である。
【図３】図１に示した装置によって成膜された薄膜の積層構造の一例の断面図である。
【図４】図１に示した装置によって成膜された薄膜の積層構造の他の一例の断面図である。
【図５】本発明の望ましい他の一実施形態による蒸着装置の概略構成を示す模式図である。
【図６】図５に示した装置によって成膜された薄膜の積層構造の一例の断面図である。
【図７】図５に示した装置によって成膜された薄膜の積層構造の他の一例の断面図である。
【図８】本発明の望ましいさらに他の一実施形態による蒸着装置の概略構成を示した模式図である。
【図９】図８に示した装置によって成膜された薄膜の積層構造の一例の断面図である。
【図１０】図８に示した装置によって成膜された薄膜の積層構造の他の一例の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、添付した図面を参照し、本発明による好ましい一実施形態について詳細に説明する。
【００２３】
図１は、本発明の好ましい一実施形態による薄膜形成方法を実施するための蒸着装置の概略構成を図示したものである。
【００２４】
図１には説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１に示すあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配置されることが望ましい。チャンバ内には、不活性ガスを使用した不活性雰囲気が維持されていてもよい。
【００２５】
かようなチャンバ内には、被処理体である基板１０が配置される。基板１０として、本発明の方法は平板表示装置用の基板に適用し得るが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板に適用することもできる。
【００２６】
基板１０に対向して、すなわち、図１においては基板１０の下側に、第１蒸着源２２および第２蒸着源２３が配置される。第１蒸着源２２および第２蒸着源２３は、ベース２０に設置され、ベース２０は、チャンバ内に配設されているガイドレール２１上に載置される。ベース２０は、ガイドレール２１に沿って往復動を行うように設置される。したがってベース２０は、別途の駆動部（図示せず）と連結されてレール上を移動する。第１蒸着源２２および第２蒸着源２３は、図１から分かるように、互いに所定の間隔をあけて離隔されており、同時に同一方向に移動するようにベース２０上に配置される。同一のベース２０に第１蒸着源２２および第２蒸着源２３を設置することにより、両者の移動速度は同じになる。
【００２７】
第１蒸着源２２は、図１から分かるように、図１において所定の角度を有する扇形で示される第１放出空間Ｃ１を形成するように第１蒸着物質を放出し、基板１０に第１蒸着物質を蒸着する。第２蒸着源２３も、図１において所定の角度を有する扇形で示される第２放出空間Ｃ２を形成するように第２蒸着物質を放出し、基板１０に第２蒸着物質を蒸着する。このとき、第１放出空間Ｃ１と第２放出空間Ｃ２は、互いに一定の部分で重なるように角度等を調整することにより、基板１０には、第１蒸着物質のみ蒸着される第１蒸着領域Ａ１、第２蒸着物質のみ蒸着される第２蒸着領域Ａ２が、蒸着される領域の両端よりの部分に形成され、中間に第１蒸着物質と第２蒸着物質とが混合して蒸着される第１重畳領域Ｂ１が形成される。基板１０上に、第１放出空間を反映して、第１蒸着物質が蒸着される基板１０上の全体の領域を第１放出領域と称すると、第１放出領域から第１重畳領域Ｂ１を除いた領域が第１蒸着領域Ａ１となる。また、同様に第２放出空間を反映して、第２蒸着物質が蒸着される基板上１０の全体の領域を第２放出領域と称すると、第２放出領域から第１重畳領域Ｂ１を除いた領域が第２蒸着領域Ａ２となる。
【００２８】
図２には、かような第１蒸着源２２と第２蒸着源２３との第１放出領域および第２放出領域の蒸着角度を調節する機構を示す。図２から分かるように、それらの角度調整は、第１角度制限部材２５および第２角度制限部材２６によってなされうる。図２から分かるように、第１蒸着源２２と第２蒸着源２３との間には、第１角度制限部材２５が設置されており、第１蒸着源２２および第２蒸着源２３の外郭には、それぞれ第２角度制限部材２６が設置されている。第１角度制限部材は、第１蒸着源２２および第２蒸着源２３の間に壁をなし、両者を離隔する。第２角度制限部材は、第１蒸着源２２および第２蒸着源２３の上部に、蒸着粒子の流れを遮るように、それぞれ横方向にせり出した部分的な屋根を備えている。
【００２９】
図２中扇形で示される第１放出空間Ｃ１および第２放出空間Ｃ２の蒸着角度は、第１角度制限部材および第２角度制限部材によって決まる。すなわち、第１角度制限部材２５の縦方向の長さ（高さ）によって、第１重畳領域Ｂ１の面積が決定され、二つの第２角度制限部材２６の横方向の長さによって、それぞれ第１蒸着領域Ａ１および第２蒸着領域Ａ２の面積が決定される。したがって、第１角度制限部材２５および第２角度制限部材２６の部分的な長さを調整することによって、後述のように成膜される膜厚の調整も可能である。
【００３０】
これら第１角度制限部材２５および第２角度制限部材２６は、蒸着源２２、２３の進行方向に対して直角になる方向に長く伸長した構造としてもよい。
【００３１】
第１蒸着源２２および第２蒸着源２３は、それぞれ直線上に配設されている複数の蒸着用ルツボを備えていてもよい。直線上に配設する際には、複数の蒸着用ルツボをレールに沿って配置する。このように蒸着源を複数備えることにより、さらに多層の積層体を単一工程で製造することが可能になるためである。
【００３２】
第１蒸着源２２および第２蒸着源２３は、図１において、同時に矢印方向に移動しつつ蒸着を行う。このとき各蒸着源は、基板１０の最も左の一端の外側から移動して蒸着を行い、これによって基板１０には、その一端から第１蒸着領域Ａ１、第１重畳領域Ｂ１、第２蒸着領域Ａ２の順に蒸着がなされる。図３には、このときに蒸着によって形成される積層構造を示す。基板１０の下面には、図３から分かるように、まず、第１蒸着領域Ａ１によって第１蒸着物質からなる第１膜１１が成膜され、続いて、基板１０の同じ位置を第１重畳領域Ｂ１が通過するので、第１膜１１の下面には、第１蒸着物質と第２蒸着物質とが混合された第２膜１２が成膜される。すぐ次には、基板１０の同じ位置を第２蒸着領域Ａ２が通過するので、第２膜１２の下面には、第２蒸着物質からなる第３膜１３が成膜される。
【００３３】
本発明によれば、かような順番の第１膜１１〜第３膜１３の積層は、１回の蒸着源移動によって同時になされうる。したがって、従来の方法に比較して工程がさらに簡単であって全体の蒸着時間が短くなる。
【００３４】
第１膜１１、第２膜１２および第３膜１３の厚さは、第１蒸着領域Ａ１、第１重畳領域Ｂ１および第２蒸着領域Ａ２の面積によって決定されうる。それらの面積は、図２から分かるように、第１角度制限部材２５および第２角度制限部材２６の部分的な長さによって決定されうる。例えば、第１角度制限部材の高さを低くすれば、第１放出空間Ｃ１と第２放出空間Ｃ２の重なりが増えるため、当初の高さに比較して第１重畳領域Ｂ１の面積がより広くなる。すなわち、第１蒸着領域Ａ１および第２蒸着領域Ａ２に対して、第１重畳領域Ｂ１の面積比が増加することになる。したがって、蒸着源の移動速度が同じであれば、蒸着源の移動と共に基板上の一点を第１重畳領域Ｂ１が通過する時間がより長くなるため、第１蒸着源２２および第２蒸着源２３の物質が混合した第２膜１２の厚さが増加する。相対的に、面積比の減少した第１蒸着領域Ａ１および第２蒸着領域Ａ２の形成する第１膜１１および第３膜１３の厚さは減少する。
【００３５】
図４は、蒸着源がレール上を戻ってくる、すなわち上記と逆向きに移動して蒸着を行った場合の積層構造を示した断面図である。図４から分かるように、図１で進行した方向に再び戻ってくることによって再度蒸着工程を行う場合、第１膜１１、第２膜１２、第３膜１３、新第３膜１３’、新第２膜１２’および新第１膜１１’が順に成膜される積層構造を製造することができる。もちろん、かような構造をなすために、図１において、第２蒸着源２３が基板１０の右端部の外側まで抜け出て、再び左側に移動させることが望ましい。
【００３６】
図５は、本発明の望ましい他の一実施形態による薄膜形成方法を実施するための蒸着装置の概略構成を図示したものである。
【００３７】
図５の蒸着装置は、図１の蒸着装置とは異なり、第２蒸着源２３の横に第３蒸着物質を放出する第３蒸着源２４をさらに配設したものである。第３蒸着源２４は、第１蒸着源２２の横に設置することもできる。図５から分かるように、第３蒸着源２４は、図５において所定角度を有する扇形で表わされる第３放出空間Ｃ３を形成するように第３蒸着物質を放出し、基板１０に第３蒸着物質を蒸着する。このとき第３放出空間Ｃ３は、第２放出空間Ｃ２と一定の大きさで互いに重なる。そのため、基板１０上に第３蒸着物質のみ蒸着される第３蒸着領域Ａ３、第２蒸着物質と第３蒸着物質とが混合して蒸着される第２重畳領域Ｂ２を形成する。したがって、基板１０には、図５の右手から第１蒸着物質のみ蒸着される第１蒸着領域Ａ１、第１蒸着物質と第２蒸着物質とが混合して蒸着される第１重畳領域Ｂ１、第２蒸着物質のみ蒸着される第２蒸着領域Ａ２、第２蒸着物質と第３蒸着物質とが混合して蒸着される第２重畳領域Ｂ２、および第３蒸着物質のみ蒸着される第３蒸着領域Ａ３がこの順に位置することになる。なお、第３蒸着源２４は、第１蒸着源２２の横に設置することもできる。
【００３８】
図５に示す実施形態の場合には、図示していないが、第１蒸着源２２と第２蒸着源２３との間および第２蒸着源と第３蒸着源との間にそれぞれ、図２に示した第１角度制限部材と同様の角度制限部材を配置してもよい。これらの角度制限部材の高さを変えることにより、第１重畳領域、第２蒸着領域または第２重畳領域の各面積を変更できることは、図２に示し他実施形態の場合と同様である。また、第１蒸着源２２および第３蒸着源の外郭には、それぞれ、図２に示した第２角度制限部材と同様の角度制限部材が配置される。これらの角度制限部材の、各蒸着源の上部に位置する屋根部分の横方向の長さを変えることにより、第１蒸着領域と第３蒸着領域の面積を変更できることも、上記図２の実施形態の場合と同様である。
【００３９】
第１蒸着源２２、第２蒸着源２３および第３蒸着源２４は、図５に示すように、同時に矢印方向に移動しつつ蒸着を行う。このとき各蒸着源は、基板１０の最も左側の一端の外側から蒸着を行い、これによって基板１０には、その一端から第１蒸着領域Ａ１、第１重畳領域Ｂ１、第２蒸着領域Ａ２、第２重畳領域Ｂ２および第３蒸着領域Ａ３の順に蒸着がなされる。このようにして各蒸着物質が積層された基板を図６に示す。図６から分かるように、基板１０の下面には、第１蒸着物質からなる第１膜１１、第１蒸着物質と第２蒸着物質とが混合された第２膜１２、第２蒸着物質からなる第３膜１３、第２蒸着物質と第３蒸着物質とが混合された第４膜１４および第３蒸着物質からなる第５膜１５が順に積層される。そして、図５において矢印方法に移動した各蒸着源が、そのまま戻って来ることにより逆方向に移動しつつ蒸着工程を行うこともできる。図７は、このように基板１０の一端から他端まで一度移動した各蒸着源が戻りつつ蒸着を行った際に各蒸着物質が基板１０上に積層された構造を示す。図７から分かるように、基板１０上には、第１膜１１、第２膜１２、第３膜１３、第４膜１４、第５膜１５、新第５膜１５’、新第４膜１４’、新第３膜１３’、新第２膜１２’および新第１膜１１’がこの順に積層される。
【００４０】
図８は、本発明の望ましい他の一実施形態による薄膜形成方法を実施するための蒸着装置の概略構成を図示したものである。
【００４１】
図８に示す実施形態の場合は、第１放出空間Ｃ１、第２放出空間Ｃ２および第３放出空間Ｃ３の重なり具合を調節し、基板１０に第１重畳領域Ｂ１および第２重畳領域Ｂ２のみが現れるようにしたものである。したがって、図８に図示されていないが、第１蒸着物質が付着している第１放出領域と第３蒸着物質が付着している第３放出領域との和が第１重畳領域Ｂ１と第２重畳領域Ｂ２との和と同一になるようにしている。このように、第１放出領域と第３放出領域との和が第１重畳領域Ｂ１と第２重畳領域Ｂ２との和と同一になるようにするには、第１蒸着源２２と第２蒸着源２３との間および第２蒸着源と第３蒸着源との間にそれぞれ、図２に示した第１角度制限部材と同様の角度制限部材を配置し、かつ、第１蒸着源２２および第３蒸着源の外郭に、それぞれ、図２に示した第２角度制限部材と同様の角度制限部材を配置し、それら角度制限部材の部分的な長さを調整することができる。各角度制限部材の高さまたは横方向の長さを図２において説明したように適宜調製し、また、角度制限部材を設置する際の各蒸着源との位置関係を、適宜調整することもできる。
【００４２】
図８に示すように、第１蒸着源２２、第２蒸着源２３および第３蒸着源２４は、矢印方向に移動しつつ基板１０に蒸着を行う。この場合には、前述の通り、蒸着源を稼動して基板１０の最左端の外側から右に向けて蒸着を始める。このようにして積層された蒸着膜の構造を図９に示す。図９から分かるように、第１蒸着物質と第２蒸着物質とが混合された第２膜１２がまず基板１０の下面に形成され、第２蒸着物質と第３蒸着物質とが混合された第４膜１４が第２膜１２の下面にこの順に成膜される。
【００４３】
図８において矢印方向右端に移動した各蒸着源は、逆方向に戻りつつ再び蒸着を行うことができる。この場合に形成された薄膜の積層構造を図１０に示す。図１０から分かるように、第２蒸着物質と第３蒸着物質とが混合した新第４膜１４’が第４膜１４の下面にさらに成膜された後、第１蒸着物質と第２蒸着物質とが混合した新第２膜１２’が新第４膜１４’の下面に順に形成される。
【００４４】
前記のような本発明の薄膜形成方法は、ドーパント物質とホスト物質とを同時に蒸着する薄膜成膜工程でさらに有用である。
【００４５】
すなわち、図１に示す実施形態の場合、第１蒸着源２２からホスト物質を、第２蒸着源２３からドーパント物質を同時に蒸着させることができる。この場合には、図３において、第１膜１１はホスト層、第２膜１２はホストとドーパントとの混合層、第３膜１３はドーパント層として構成されうる。
【００４６】
また、図５に示す実施形態の場合には、第１蒸着源２２から第１ホスト物質を、第２蒸着源２３からドーパント物質を、第３蒸着源２４から第２ホスト物質を同時に蒸着させる。この場合には、図６に示すように、第１膜１１は第１ホスト層、第２膜１２は第１ホストとドーパントとの混合層、第３膜１３はドーパント層、第４膜１４は第２ホストとドーパントとの混合層、第５膜１５は第２ホスト層として構成されうる。この積層構造の場合は、第１ホスト物質と第２ホスト物質とがドーパントを共有でき、１つのドーパント蒸着源のみを利用して蒸着可能であるので、工程がさらに簡単になる。
【００４７】
もちろん、これとは反対に、第１ドーパントおよび第２ドーパントがホスト物質を共有できる場合にも、同じ実施形態によって蒸着が可能である。
【００４８】
図８に示す実施形態の場合には、第１蒸着源２２で第１ホスト物質を、第２蒸着源２３でドーパント物質を、第３蒸着源２４で第２ホスト物質を同時に蒸着させることができる。得られる蒸着膜の構造は、図９に示すように、第２膜１２には第１ホスト物質とドーパント物質との混合物が、第４膜１４には第２ホスト物質とドーパント物質との混合物が順次積層される。この場合には、連続して積層された第２膜１２と第４膜１４とで異なるホストを使用しドーパントを共通とすることができる。したがって、ホストを別物質としドーパントを共通とする２層をさらに簡単に形成できることになる。
【００４９】
もちろん、図８の実施形態において、第１蒸着源２２から第１ドーパント物質を、第２蒸着源２３からホスト物質を、第３蒸着源２４から第２ドーパント物質を同時に蒸着させることもできる。この場合には、図９においては、第２膜１２にはホスト物質と第１ドーパント物質との混合物が、第４膜１４にはホスト物質と第２ドーパント物質との混合物が順次積層される。
【００５０】
上記説明してきたように、本発明によれば、ホストとドーパントとを多様に組み合わせて多層有機膜を成膜でき、有機発光表示（ＯＬＥＤ）装置の有機層、特に発光層形成にさらに有用である。
【００５１】
本明細書では、本発明について好ましい実施形態を中心に説明したが、本発明の範囲内で上記の実施形態を変更した多様な実施形態が可能である。また、説明していないにしても、均等な手段もまた本発明にそのまま含まれるものである。よって、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲によって決まるものである。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の薄膜形成方法は、例えば、ＯＬＥＤ装置関連の技術分野に効果的に適用が可能である。
【符号の説明】
【００５３】
１０        基板
１１        第１膜
１１’      新第１膜
１２        第２膜
１２’      新第２膜
１３        第３膜
１３’      新第３膜
１４        第４膜
１４’      新第４膜
１５        第５膜
１５’      新第５膜
２０        ベース
２１        ガイドレール
２２        第１蒸着源
２３        第２蒸着源
２４        第３蒸着源
２５        第１角度制限部材
２６        第２角度制限部材
Ａ１        第１蒸着領域
Ａ２        第２蒸着領域
Ａ３        第３蒸着領域
Ｂ１        第１重畳領域
Ｂ２        第２重畳領域
Ｃ１        第１放出空間
Ｃ２        第２放出空間
Ｃ３        第３放出空間
【図１】
0005160459.tif 000002
【図２】
0005160459.tif 000003
【図３】
0005160459.tif 000004
【図４】
0005160459.tif 000005
【図５】
0005160459.tif 000006
【図６】
0005160459.tif 000007
【図７】
0005160459.tif 000008
【図８】
0005160459.tif 000009
【図９】
0005160459.tif 000010
【図１０】
0005160459.tif 000011