(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線吸収性のクリア塗膜が形成された基材の塗装面に向けて光源から紫外線を照射し、前記塗装面の所定の計測領域からの反射光の強度を計測器によって計測し、その計測結果に基づいて、前記クリア塗膜が形成されていることによる反射光の強度低減の有無を判別して前記クリア塗膜の塗装不良を検出する塗装不良検査方法であって、
前記基材が下地材の表面に有機塗膜が形成されたものであり、前記クリア塗膜が紫外線吸収剤を含有する無機質塗膜であり、
前記計測領域が、基材への紫外線の入射角の変化に起因するクリア塗膜が形成されている状態とクリア塗膜が形成されていない状態との間での反射光の強度の大小の逆転が生じていない計測可能領域と重なるようにするものであり、
前記クリア塗膜の塗装不良の検査後の前記基材の前記塗装面に、前記クリア塗膜より紫外線吸収性が低い外層クリア塗膜を形成し、前記塗装面からの反射光の強度を計測器によって計測し、その計測結果に基づいて、前記外層クリア塗膜が形成されていることによる反射光の強度増大の有無を判別して前記外層クリア塗膜の塗装不良を検出することを特徴とする塗装不良検査方法。
【請求項２】
上記光源から基材へ照射され、基材上の計測領域で整反射して上記計測器に到達する紫外線の基材へ入射角が６０°以下となるような位置に、上記光源と計測器とを配置することを特徴とする請求項１に記載の塗装不良検査方法。
【請求項３】
上記外層クリア塗膜が光触媒を含有する無機質塗膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗装不良検査方法。
【請求項４】
基材の温度の変化によって生じる反射光の強度変化に応じて、塗装不良を判別するための反射光の強度の閾値を変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の塗装不良検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に表面に有機塗膜が形成された基材の表面に紫外線吸収剤を含有する無機質塗膜を形成した場合の塗装不良を検出するために好適に用いることができる、塗装不良検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、窯業系基板等の適宜の下地材に塗装を施して有機塗膜を形成する場合、塗膜の耐候性を向上する等の目的のために、紫外線吸収剤を含有する無機質塗膜等のような紫外線吸収性のクリア塗膜が設けられている。このクリア塗膜は下地の有機塗膜等によって現出される基材の意匠性を損なわないようにするため、通常は透明な薄膜に形成する必要がある。
【０００３】
このようなクリア塗膜の形成後は、クリア塗膜の塗装不良の有無を検査する必要がある。しかし、クリア塗膜は上記のように透明な薄膜であるので、目視等により不良の有無を確認することは困難である。
【０００４】
そこで、従来、塗装後の基材に紫外線を照射し、クリア塗膜に基づく反射光の強度低減の有無を判別して塗装不良を検出することが行われている（特許文献１参照）
【特許文献１】特開２００３−４３１６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、紫外線吸収性のあるクリア塗膜を形成すると、必ず紫外線の反射光の強度が低減するとは限らず、クリア塗膜における紫外線の散乱成分によって逆に反射光の強度が増大する場合もある。特に無機質塗膜は一般的に有機塗膜よりも散乱成分が大きく、反射光の大小関係の逆転が生じやすい。このため、このような事態を考慮せずに塗装不良を検出しようとしても、正確な検査は困難なものであった。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、紫外線吸収性のクリア塗膜の塗装不良を検出するにあたり、前記塗装不良を確実に検出することができる塗装不良検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に係る発明は、紫外線吸収性のクリア塗膜が形成された基材１の塗装面に向けて光源２から紫外線を照射し、前記塗装面の所定の計測領域５からの反射光の強度を計測器３によって計測し、その計測結果に基づいて、前記クリア塗膜が形成されていることによる反射光の強度低減の有無を判別して前記クリア塗膜の塗装不良を検出する塗装不良検査方法であって、前記計測領域５が、基材１への紫外線の入射角の変化に起因するクリア塗膜が形成されている状態とクリア塗膜が形成されていない状態との間での反射光の強度の大小の逆転が生じていない計測可能領域４と重なるようにすることを特徴とする。
また、前記基材１が下地材の表面に有機塗膜が形成されたものであり、前記クリア塗膜が紫外線吸収剤を含有する無機質塗膜であることを特徴とする。
また、前記クリア塗膜の塗装不良の検査後の前記基材１の前記塗装面に、前記クリア塗膜より紫外線吸収性が低い外層クリア塗膜を形成し、前記塗装面からの反射光の強度を計測器３によって計測し、その計測結果に基づいて、前記外層クリア塗膜が形成されていることによる反射光の強度増大の有無を判別して前記外層クリア塗膜の塗装不良を検出することを特徴とする。
【０００８】
請求項２に係る発明は、請求項１において、上記光源２から基材１へ照射され、基材１上の計測領域５で整反射して上記計測器３に到達する紫外線の基材１へ入射角が６０°以下となるような位置に、上記光源２と計測器３とを配置することを特徴とする。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項１又は２において、上記外層クリア塗膜が光触媒を含有する無機質塗膜であることを特徴とする。
【００１２】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか一項において、基材１の温度の変化によって生じる反射光の強度変化に応じて、塗装不良を判別するための反射光の強度の閾値を変更することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に係る発明によれば、紫外線吸収性のクリア塗膜が形成されていない箇所で紫外線の反射光の強度が増大することを検出することで、目視による検査が困難な場合であってもクリア塗膜の塗装不良を検出することができ、このとき紫外線の入射角の違いによってクリア塗膜が形成されていない基材表面とクリア塗膜との間の拡散反射の違い等に起因する反射光の強度の大小の逆転の影響を排除して、確実にクリア塗膜の塗装不良を検出することができる。
また、有機塗膜の保護や耐候性向上等のために紫外線吸収剤を含有する無機質塗膜を形成する場合の塗装不良の検査を行うことができる。
また、クリア塗膜の外層に外層クリア塗膜を形成する場合の外層クリア塗膜の塗装不良を検出することができる。
【００１４】
請求項２に係る発明によれば、整反射成分の入射角が大きくなりすぎることによってクリア塗膜からの反射光の強度が大きくなることを防ぐことができるものである。
【００１７】
請求項３に係る発明によれば、有機塗膜の保護や耐候性向上等のために紫外線吸収剤を含有する無機質塗膜を形成した後、更に防汚性向上等のために光触媒を含有する無機質塗膜を形成する場合の塗装不良の検査を行うことができる。
【００１８】
請求項４に係る発明によれば、基材１の温度変化により反射光の強度が変動した場合にも、確実にクリア塗膜の塗装不良を検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００２０】
本発明における塗装の対象である基材１としては適宜のものを用いることができるが、好適な例として、セメント系の無機質板等の下地材の表面に有機塗膜を形成したものを挙げることができる。
【００２１】
有機塗膜を形成するための有機塗料は特に制限されないが、例えばアクリルエマルション系塗料を挙げることができる。この有機塗料は無色透明のクリア塗料であるほか、適宜の顔料や染料等を配合した着色塗料であっても良い。顔料としては、特に限定はされないが、たとえば、カーボンブラック、キナクリドン、ナフトールレッド、シアニンブルー、シアニングリーン、ハンザイエロー等の有機顔料；酸化チタン、硫酸バリウム、弁柄、複合金属酸化物等の無機顔料を挙げることができ、これらの群から選ばれる一種を用いるほか、二種以上を併用することもできる。
【００２２】
下地材に有機塗膜を形成するにあたっては、例えば下地材に対して有機塗料をスプレー等にて塗布した後、有機塗料の組成に応じた適宜の条件、例えば１００〜１５０℃で３０秒以上加熱乾燥することにより成膜して、有機塗膜を形成することができる。有機塗膜の厚みは特に制限されないが、５〜１００μｍの範囲であることが好ましい。
【００２３】
この基材１に形成する紫外線吸収性のクリア塗膜としては、紫外線吸収剤を含有する無機塗膜を挙げることができる。このクリア塗膜は、有機塗膜の表面に紫外線吸収剤を含有する無機質塗料を塗布成膜することで形成することができ、例えば基材１の表面保護や耐候性の向上のために設けられる。
【００２４】
無機質塗料としては適宜のものを用いることができるが、例えばオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液に、ポリオルガノシロキサンや、アルキルチタン酸塩等の縮合反応触媒を加え、或いは更にシリカを加えたケイ素アルコキシド系塗料等を用いることができる。
【００２５】
具体的には、例えば下記式〔１〕で表わされる加水分解性オルガノシランを有機溶媒または水に分散されたコロイダルシリカ中で、Ｘ１モルに対し水０．００１〜０．５モルを使用する条件下で部分加水分解してなる、オルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液（Ａ成分）と、下記式〔２〕で表わされ、この式〔２〕中のＲ２にフェニル基を全Ｒ２基に対して１〜３０モル％含有するポリオルガノシロキサン（Ｂ成分）と、このＡ成分とＢ成分との縮合反応を促進する触媒とを必須成分とし、Ａ成分においてシリカを固形分として５〜９５重量％含有し、加水分解性オルガノシランの少なくとも５０モル％がｎ＝１のオルガノシランで、Ａ成分１〜９９重量部に対してＢ成分９９〜１重量部が配合されている無機質塗料を用いることができる。
【００２６】
Ｒ１ｎＳｉＸ４−ｎ…〔１〕
（式中、Ｒ１は同一または異種の、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ハロゲン置換炭化水素基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基およびγ−メルカプトプロピル基からなる群より選ばれる、炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ｎは０〜３の整数、Ｘはアルコキシ基、アセトキシ基、オキシム基、エノキシ基、アミノ基、アミノキシ基およびアミド基からなる群より選ばれる加水分解性基を示す。）
Ｒ２ａＳｉ（ＯＨ）ｂＯ（４−ａ−ｂ）／２…〔２〕
（式中、Ｒ２は同一または異種の、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ハロゲン置換炭化水素基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基およびγ−メルカプトプロピル基からなる群より選ばれる、炭素数１〜８の１価炭化水素基を示し、ａおよびｂはそれぞれ０．２≦ａ≦２、０．０００１≦ｂ≦３、ａ＋ｂ＜４の関係を満たす数である。）
また、この無機質塗料に含有される紫外線吸収剤としては、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウム等を挙げることができる。この紫外線吸収剤は、好ましくは無機質塗料中の固形分（クリア塗膜を形成する成分）に対して０．１〜２０重量％の範囲で含有させる。
【００２７】
このような無機質塗料を静電塗装等して塗布した後、例えば６０〜１２０℃で焼き付け乾燥等することにより成膜することにより、クリア塗膜を形成することができる。このクリア塗膜の厚みは特に制限されないが、通常は１〜１０μｍの範囲の薄膜に形成される。
【００２８】
また、このクリア塗膜に積層して形成される、クリア塗膜より紫外線吸収性が低い外層クリア塗膜としては、光触媒を含有する無機塗膜を挙げることができる。この外層クリア塗膜は、クリア塗膜の表面に光触媒を含有する無機質塗料を塗布成膜することで形成することができ、例えば基材１の防汚性を向上する目的で形成される。
【００２９】
光触媒を含有する無機質塗料としては適宜のものを用いることができるが、例えば上記クリア塗膜を形成するために使用されるケイ素アルコキシド系塗料に酸化チタン等の光触媒を加えたもの等を用いることができる。
【００３０】
このような無機質塗料をスプレー塗装等して塗布した後、例えば６０〜１２０℃で焼き付け乾燥等することにより成膜して、外層クリア塗膜を形成することができる。この外層クリア塗膜の厚みは特に制限されないが、例えば０．２〜１．０μｍの範囲に形成される。
【００３１】
このようにして基材１に塗装を施すにあたり、クリア塗膜を形成した後、外層クリア層を形成する前に、クリア塗膜の塗装不良検査を行う。
【００３２】
図１，２は、塗装不良検査を行うための装置構成の一例を示す。この検査装置は、クリア塗膜が形成された基材１を搬送するベルトコンベア等の搬送装置６、紫外線光を照射する光源２、反射光を計測する計測器３にて構成されている。
【００３３】
光源２はブラックライト等の適宜の紫外線ランプにて構成することができる。この光源２は搬送装置６における基材１の搬送路の上方に、基材１の搬送方向に間隔をあけて二つ設けられている。各光源２は、搬送路上の基材１の一側端から他側端に亘って紫外線を照射するように形成されている。
【００３４】
計測器３は紫外線を受光してその強度を計測する機能を有し、例えばＣＣＤ紫外線カメラ等で構成することができる。この計測器３は、搬送装置６における基材１の搬送路の上方において、二つの光源２の間の位置の直上に配置される。この計測器３は、その視野内に計測領域５を含む。計測領域５は、二つの光源２の間の領域に設定される。このとき、計測器３は計測領域５からの反射光を受光してその強度を計測し、計測領域５における反射光の強度が一定の閾値を超えた場合に塗装不良が生じていることを判定するものである。
【００３５】
このようにして塗装不良の検査を行うにあたり、上記計測領域５を、基材１への紫外線の入射角の変化に起因するクリア塗膜が形成されている状態とクリア塗膜が形成されていない状態との間で反射光の強度の大小の逆転が生じていない領域（計測可能領域４）と重なるように、設定する。
【００３６】
図３は、計測器３と光源２の位置を固定した状態での、基材１への紫外線の入射角に対する反射光の強度の変化を模式的に示したものである。横軸は基材１への紫外線の入射角を示すが、基材１上の光源２から近い位置ほど入射角が小さくなり、遠い位置ほど入射角は大きくなるため、基材１上の光源２からの距離と入射角とは相関関係にある。縦軸は反射光の強度を示し、「クリア塗装なし」はクリア塗膜が形成されておらず、有機塗膜のみが形成されている基材１からの反射光の強度を、「クリア塗膜形成」はクリア塗膜が形成されている基材１からの反射光の強度を、「外層クリア塗膜形成」は更に外層クリア塗膜が形成されている基材１からの反射光の強度を、それぞれ示す。
【００３７】
図示の例では、入射角が小さいと、「クリア塗膜形成」の場合での反射光の強度は、「クリア塗装なし」の場合での反射光の強度よりも低くなる。これは、紫外線吸収性のクリア塗膜が紫外線を吸収することにより、紫外線の反射強度が低減するためのである。しかし、クリア塗膜が無機質塗膜である場合のようにクリア塗膜からの散乱成分が大きい場合には、入射角の変化に応じて反射光の強度の大小関係が逆転し、「クリア塗膜形成」の場合での反射光の強度の方が「クリア塗装なし」の場合よりも高くなる領域が生じる。
【００３８】
そこで、本発明では、計測器３における計測領域５が、基材１上の、上記反射光の強度の大小関係の逆転が生じていない計測可能領域４と重なるように設定するものである。
【００３９】
このためには、例えば予めクリア塗膜が形成されていない状態と、クリア塗膜が形成されている状態とで、それぞれ基材１からの紫外線の入射角に対する反射光の強度の変化を計測し、これに基づいて上記計測可能領域４の範囲を導出する。この計測可能領域４は、光源２の長手方向に沿って生じる。また、上記のように二つの光源２を並列に配置すると、一方の光源２と他方の光源２とにそれぞれ起因して生じる計測可能領域４が一体化し、又は連続することになることで、光源２が一つの場合よりも広い計測可能領域４が形成される。このとき、二つの光源２の間の間隔や各光源２の基材１に対する上下方向位置を調整するなどして、計測可能領域４を一体化させることができる。
【００４０】
そして、この計測可能領域４の上方に、計測器３を配置すると共に、この計測器３による計測領域５が前記計測可能領域４と重なるようにする。
【００４１】
また、基材１、光源２及び計測器３の位置関係は、紫外線が光源２から基材１へ照射され、基材１への入射角θと同じ角度で整反射して計測器３に到達する整反射成分について、この整反射成分が基材１上の計測領域５で反射するように設計し、更に前記入射角θが６０°以下となるような位置に、上記光源２と計測器３とを配置することが好ましい（図７参照）。無機質塗膜からなるクリア塗膜は光沢が少ないものであるが、図８に示すように入射角θが大きくなるとクリア塗膜を形成した基材１からの反射光の強度が大きくなり、この入射角θが６０°を超えると反射光の強度が飽和してしまう。このため、前記入射角θを６０°以下とすることが好ましいものである。この入射角θの下限は適宜設定されるが、計測器３の直下に光源２が配置されないようにする必要がある。
【００４２】
基材１、光源２及び計測器３の位置関係は、好ましくは上記関係を満たすように適宜設定されるが、例えば、基材１の表面からの光源２の高さ寸法Ｈ1が２００ｍｍ、基材１の表面からの計測器３の高さ寸法Ｈ2が２０００ｍｍ、光源２と基材１との間の、基材１の搬送方向の間隔Ｗが５０ｍｍの寸法になるようにすることができる。
【００４３】
塗装不良の判定のための反射光の強度の閾値は、上記のように計測可能領域４と重なった状態の計測領域５からの、クリア塗膜が形成されている状態での反射光の強度と、クリア塗膜が形成されていない状態での反射光の強度との間の、適宜の値に設定することができる。この場合、計測器３で計測される反射光の強度が閾値に達しない場合には塗装不良が生じていないと判定することができ、この反射光の強度が閾値を超える場合には塗装不良が生じていると判定することができて、塗装不良の判定を確実に行うことができる。このような判定は、例えば反射光の強度の計測結果を計測器３にて画像データとして取り込み、この画像データを画像処理することで行うことができる。
【００４４】
このような塗装不良検査により塗装不良が発見された場合には、その不良箇所にクリア塗膜を形成するための紫外線吸収剤を含有する無機質塗料等を塗布成膜するなどして補修することができる。その後、次工程に送られて、外層クリア塗膜が形成される。
【００４５】
また、外層クリア塗膜を形成した後にも、この外層クリア塗膜の塗装不良検査を行うことができる。この塗装不良検査の場合も、上記クリア塗膜の塗装不良検査の場合と同様の検査装置を用いることができる。
【００４６】
外層クリア塗膜の塗装不良検査の場合も、外層クリア塗膜が形成された基材１を搬送装置６にて搬送しながら、計測器３にて計測することができる。このとき、計測器３は計測領域５からの反射光を受光してその強度を計測し、この強度が一定の閾値に達しない場合に塗装不良が生じていることを判定するものである。
【００４７】
ここで、クリア塗膜と外層クリア塗膜とが共に無機質塗膜である場合のように同種の塗料である場合には、散乱成分の大きさに大きな相違は生じず、反射光の強度は主として各塗膜の紫外線吸収性に依存することとなる。このような場合は、図３に示されているように、入射角が変化しても、外層クリア塗膜が形成されている状態での反射光の強度は、クリア塗膜のみが形成されている状態での反射光の強度よりも、常に高くなる。このような場合には、上記クリア塗膜の塗装不良検査の場合のような、計測可能領域４と計測領域５との重なりを考慮する必要はなくなる。
【００４８】
また、塗装不良の判定のための閾値は、計測領域５からの、外層クリア塗膜が形成されている状態での反射光の強度と、外層クリア塗膜が形成されていない状態での反射光の強度との間の、適宜の値に設定することができる。
【００４９】
このようにすると、計測器３で計測される反射光の強度が閾値を超える場合には塗装不良が生じていないと判定することができ、この反射光の強度が閾値に達しない場合には塗装不良が生じていると判定することができて、塗装不良の判定を確実に行うことができる。このような判定は、例えば反射光の強度の計測結果を計測器３にて画像データとして取り込み、この画像データを画像処理することで行うことができる。
【００５０】
このような塗装不良検査により塗装不良が発見された場合には、その不良箇所に外層クリア塗膜を形成するための光触媒を含有する無機質塗料等を塗布成膜するなどして補修することができる。
【００５１】
このような塗装不良検査は、同一の基材１を用いて同一組成の塗膜を形成する限りは、クリア塗膜の塗装不良検査時の計測可能領域４及び計測領域５の設定を変更せずに行うことができる。また、基材１の種類や塗膜の組成を変更する場合には、それに応じて計測可能領域４及び計測領域５を設定し直して、塗装不良検査を行うことができる。
【００５２】
また、基材１の種類や塗膜の組成を変更する場合には、必要に応じて閾値を変更する。図４は、基材１における有機塗膜に含有させる顔料の種類を変更して、グレー、ベージュ、ホワイトの各色の有機塗膜を形成した場合の、クリア塗装が施されていない基材１からの反射光と強度と、クリア塗膜が形成された場合の反射光の強度の変化を模式的に示すものである。このように反射光の強度が変化した場合には、それに応じてクリア塗膜が形成されている状態での反射光の強度と、クリア塗膜が形成されていない状態での反射光の強度との間の適宜の値に、閾値を設定し直すものである。
【００５３】
また、反射光の強度は基材１の温度にも依存するため、正確な塗装不良検査を行うためには、基材１の温度を一定に保った状態で検査を行うことが好ましい。
【００５４】
また、塗装不良検査中に基材１の温度に変化が生じる場合には、基材１の温度に応じて閾値を変更することも好ましい。ここで、クリア塗装が施されていない基材１からの反射光の強度、クリア塗膜が形成された場合の反射光の強度、更に外層塗膜が形成された場合の反射光の強度は、図５に示すように、基材１の温度が上昇するに従って減少し、このとき各場合につき反射光の強度はほぼ同様の変化を示すため、計測可能領域４や計測領域５の設定を変更することなく、閾値のみを変更すれば、正確な塗装不良検査を行うことができる。また、このとき、基材１の温度が変化する場合の一定の温度範囲ごとの閾値を予め設定しておき、塗装不良検査を行いながら基材１の温度をモニターして、その温度変化に応じて閾値を変更することも好ましい。
【００５５】
また、光源２から照射される紫外線の強度を変動させた場合にも、反射光の強度は変動する。このため、光源２からの紫外線の強度を変更する場合にも、それに応じて閾値を変更する。図６は、光源２としてブラックライトを用い、照射される紫外線の強度を高強度（０．５ｍＷ／ｃｍ2）、中強度（０．４ｍＷ／ｃｍ2）、低強度（０．３ｍＷ／ｃｍ2）とした場合の、反射光の強度を比較したものの一例である。このようにクリア塗装が施されていない基材１からの反射光の強度、クリア塗膜が形成された場合の反射光の強度、更に外層塗膜が形成された場合の反射光の強度は、光源２からの紫外線の強度の変化に応じて、同様に増減するため、光源２からの紫外線の強度を変更した場合には、計測可能領域４や計測領域５の設定を変更することなく、閾値を変更することで、正確な塗装不良検査を行うことができる。
【００５６】
尚、図示はしないが、反射光の強度は基材１の表面の凹凸形状にも依存するため、基材１の凹凸形状に応じて閾値を設定することも好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。
【図２】同上の概略の斜視図である。
【図３】入射角と反射光の強度との関係を示すグラフである。
【図４】基材の種類を変更した場合の反射光の強度の変化を示すグラフである。
【図５】基材の温度を変更した場合の反射光の強度の変化を示すグラフである。
【図６】入射する紫外線の強度を変更した場合の反射光の強度の変化を示すグラフである。
【図７】基材、光源及び計測器の間の位置関係を説明するための概略図である。
【図８】整反射成分の入射角と反射光の強度との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５８】
１    基材
２    光源
３    計測器
４    計測可能領域
５    計測領域
【図１】
0005297007.tif 000002
【図２】
0005297007.tif 000003
【図３】
0005297007.tif 000004
【図４】
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【図５】
0005297007.tif 000006
【図６】
0005297007.tif 000007
【図７】
0005297007.tif 000008
【図８】
0005297007.tif 000009