(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁フィルムと、
前記絶縁フィルム上に配置される第１金属層と、
前記第１金属層上に配置される第２金属層と、
前記第２金属層上に配置される第３金属層と、
を含み、
前記絶縁フィルムの表面が改質処理されることにより、２乃至２５％の濁度を有しており、
前記第１金属層が、ニッケルとクロムとの合金を含み、厚み７乃至４０ｎｍの、スパッタリングにより形成された金属層であり、
前記第２金属層が、銅を含み、厚み８０乃至３００ｎｍの、スパッタリングにより形成された金属層であり、
前記第３金属層が、金または銅を含み、厚み４乃至１３μｍの、電解めっきにより形成された金属層であることを特徴とする軟性フィルム。
【請求項２】
前記絶縁フィルムは、ポリイミド、ポリエステル、及び液晶ポリマーのうち、少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の軟性フィルム。
【請求項３】
前記金属層の厚みは、前記絶縁フィルムの厚みと１：３乃至１：１０の割合を有することを特徴とする請求項１に記載の軟性フィルム。
【請求項４】
絶縁フィルムと、
前記絶縁フィルム上に配置される第１金属層と、
前記第１金属層上に配置される第２金属層と、
前記第２金属層上に配置される第３金属層と、
を含み、その上に形成される回路パターンとを含む金属層と、
前記金属層上に配置される集積回路チップと、を含み、
前記絶縁フィルムの表面が改質処理されることにより、２乃至２５％の濁度を有しており、
前記第１金属層が、ニッケルとクロムとの合金を含み、厚み７乃至４０ｎｍの、スパッタリングにより形成された金属層であり、
前記第２金属層が、銅を含み、厚み８０乃至３００ｎｍの、スパッタリングにより形成された金属層であり、
前記第３金属層が、金または銅を含み、厚み４乃至１３μｍの、電解めっきにより形成された金属層であり、
前記集積回路チップが前記回路パターンに連結されたことを特徴とする軟性フィルム。
【請求項５】
前記絶縁フィルムは、ポリイミド、ポリエステル、及び液晶ポリマーのうち、少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項４に記載の軟性フィルム。
【請求項６】
前記集積回路チップが配置される領域に形成されたデバイスホールをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の軟性フィルム。
【請求項７】
前記集積回路チップと前記回路パターンとを連結する金バンプをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の軟性フィルム。
【請求項８】
前記金属層の厚みは、前記絶縁フィルムの厚みと１：３乃至１：１０の割合を有することを特徴とする請求項４に記載の軟性フィルム。
【請求項９】
パネルと、
駆動部と、
前記パネルと前記駆動部との間に配置される軟性フィルムと、を含み、
前記軟性フィルムは、
絶縁フィルムと、
前記絶縁フィルム上に配置される第１金属層と、
前記第１金属層上に配置される第２金属層と、
前記第２金属層上に配置される第３金属層と、
を含み、その上に形成される回路パターンとを含む金属層と、
前記金属層上に配置される集積回路チップと、を含み、
前記絶縁フィルムの表面が改質処理されることにより、２乃至２５％の濁度を有しており、
前記第１金属層が、ニッケルとクロムとの合金を含み、厚み７乃至４０ｎｍの、スパッタリングにより形成された金属層であり、
前記第２金属層が、銅を含み、厚み８０乃至３００ｎｍの、スパッタリングにより形成された金属層であり、
前記第３金属層が、金または銅を含み、厚み４乃至１３μｍの、電解めっきにより形成された金属層であり、
前記集積回路チップが前記回路パターンに連結されたことを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
前記パネルは、
第１電極と、
前記第１電極と交差する方向に形成された第２電極とを含み、
前記第１電極と前記第２電極は、前記回路パターンに連結されたことを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記パネルと前記駆動部のうち、少なくとも１つを前記軟性フィルムに連結する導電性フィルムをさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記導電性フィルムは異方性導電フィルムであることを特徴とする請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記導電性フィルムに接触している前記軟性フィルムの一部分を封入する樹脂をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の表示装置。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、軟性フィルムに関し、より詳しくは、濁度が２乃至２５％になるように表面が改質処理される絶縁フィルム上に金属層を形成することによって、耐熱性、寸法安定性、及び引張強度などを向上させることができる軟性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
平板ディスプレイ技術が発達するにつれて、液晶表示装置（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、有機電界発光表示装置（Organic Light Emitting Device：ＯＬＥＤ）のような種々の平板ディスプレイ装置が開発されている。平板ディスプレイは駆動部及びパネルを含み、駆動部から伝達する画像信号がパネルに含まれる多数の電極に伝達されることにより画像を表示する。
【０００３】
平板ディスプレイに含まれる駆動部は、印刷回路基板（Printed Circuit Board：ＰＣＢ）であることができ、パネルに含まれる多数の電極に画像信号を印加してパネルに画像を表示する。駆動部から印加する画像信号は、ＣＯＧ（Chip-On-Glass）方式などによりパネルの電極に伝達される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、濁度が２乃至２５％の値を有するように表面が改質処理される絶縁フィルム上に金属層及び回路パターンを形成することによって、剥離強度が優れると共に、回路パターンを容易に検査できる軟性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するために、本発明に係る軟性フィルムは、絶縁フィルム、及び上記絶縁フィルム上に形成される金属層を含み、上記絶縁フィルムの濁度（Haze）は２乃至２５％であることを特徴とする。
【０００６】
また、本発明に係る軟性フィルムは、絶縁フィルム、上記絶縁フィルム上に形成される金属層、及び上記金属層上に配置される集積回路チップを含み、上記絶縁フィルムの濁度は２乃至２５％であり、上記集積回路チップは上記金属層に形成される回路パターンと連結される。
【０００７】
また、本発明に係る表示装置は、画像を表示するパネル、パネルに画像信号を印加する駆動部、パネルと駆動部とを連結する軟性フィルムを含み、金属層の厚みと上記絶縁フィルムの厚みは１：１．５乃至１：１０の割合を有する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、絶縁フィルムの濁度が２乃至２５％になるように絶縁フィルムの表面を改質処理することによって、金属層と絶縁フィルムの剥離強度を増加し、軟性フィルムに形成される回路パターンを容易に検査することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の好ましい実施形態に対して図面を参照しつつ説明する。
【００１０】
図１ａ乃至図１ｆは、本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。軟性フィルム１００ａ、１００ｂは、ＴＡＢ（Tape Automated Bonding）方式の表示装置が含む駆動部から印加する画像信号をパネルの電極に伝達する。
【００１１】
軟性フィルム１００ａ、１００ｂは、絶縁性を有するフィルム上に金属層を形成し、金属層に回路パターンを印刷することで、駆動部から印加する画像信号をパネルの電極に伝達する。したがって、ＴＡＢ方式に使われる軟性フィルムの回路パターンは、駆動部の回路及びパネルの電極と連結されて駆動部から印加する信号をパネルに伝達する。
【００１２】
図１ａ及び図１ｂは、１層の金属層１２０ａ、１２０ｂを含む軟性フィルム１００ａ、１００ｂを図示する。図１ａ及び図１ｂを参照すると、本実施形態に係る軟性フィルム１００ａ、１００ｂは、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ上に配置される金属層１２０ａ、１２０ｂを含む。
【００１３】
絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂは軟性フィルム１００ａ、１００ｂのベースフィルムであって、電気絶縁性を有するポリイミド（Polyimide）、ポリエステル（Polyester）、または液晶ポリマー（Liquid Crystal Polymer）などの高分子物質を含むことができる。絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの厚みは１５乃至４０μｍであることができ、より好ましくは、３５乃至３８μｍであることができる。上記の数値は金属層１２０ａ、１２０ｂとの剥離強度を考慮して決定される数値であって、一実施形態として、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂと金属層１２０ａ、１２０ｂの剥離強度を高めるために、金属層１２０ａ、１２０ｂが配置される絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂを改質処理することができる。
【００１４】
絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂは、プラズマ、イオンビーム、またはアルカリエッチングなどを利用して改質処理することができる。プラズマを利用する改質処理は、所定の内部圧力を有するチャンバー内に絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂを配置し、電源を利用して２０乃至１０００Ｗの電力を１０秒乃至９００秒程加えることにより遂行することができる。
【００１５】
イオンビームを利用する場合、数百ｋｅＶ乃至数ＭｅＶのエネルギーを有するイオンを絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂに照射する。照射されたイオンが絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂに衝突しながら絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの温度が上昇し、イオンが照射された表面１１５ａ、１１５ｂには多くの欠陥（defect）が生じることによって改質処理される。アルカリエッチングは水酸化イオン（−ＯＨ）を含む溶液、例えば水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの溶液で絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂをエッチングすることにより改質処理する方法である。
【００１６】
次の表１は、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの濁度に従う金属層との剥離強度と金属層に形成される回路パターンのテストの容易の可否に関する実験結果である。
【００１７】
【表１】
0005253912.tif 000002
【００１８】
表１を参考にすると、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂは、２乃至２５％の濁度（Haze）を有することができる範囲内で改質処理することが好ましい。絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの濁度が２％より小さければ、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの光透過性（Luminous Transmittance）が増加することによって、金属層１２０ａ〜１３０ａ、１２０ｂ〜１３０ｂに形成される回路パターンのテストが容易になる一方、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂの欠陥（defect）が減少して金属層１２０ａ、１２０ｂとの剥離強度が減少することがある。反対に、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの濁度が２５％より大きくなれば、剥離強度は増加する一方、光透過性が減少して回路パターンのテスト工程の効率性が低下することがある。
【００１９】
一実施形態として、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの表面１１５ａ、１１５ｂの改質処理に従う濁度は、ＡＳＴＭ（America Society for Testing Material）のＤ１００３規格に従い測定することができる。上記ＡＳＴＭ Ｄ１００３規格に従い絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂを５０ｍｍまたは１００ｍｍのサイズを有するサンプルで抽出して濁度を測定する。絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの改質処理を容易にし、金属層１２０ａ、１２０ｂとの剥離強度を考慮して、ポリイミドまたは液晶ポリマーフィルムなどの高分子フィルムで絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂを形成することが好ましい。
【００２０】
液晶ポリマーは、ｐ−ヒドロキシベンゾ酸（p-hydroxybenzoic acid；以下、“ＨＢＡ”と称する）、及び６−ヒドロキシ−２−ナフト酸（6-hydroxy-2-naphthoic acid；以下、“ＨＮＡ”と称する）の結合により形成されることができる。ＨＢＡは１つのベンゼン環を有するヒドロキシベンゾ酸の異性質体の中の１つであって、無色の固体結晶であり、ＨＮＡは２つのベンゼン環を有する物質である。ＨＢＡは化学式１に表した通りであり、ＨＮＡは化学式２に表したような構造を有する。
【００２１】
【化１】
0005253912.tif 000003
【００２２】
【化２】
0005253912.tif 000004
【００２３】
【化３】
0005253912.tif 000005
【００２４】
化学式３は、ＨＢＡとＨＮＡとが結合して液晶ポリマーを形成する化学反応を表した構造式である。液晶ポリマーの形成過程で、ＨＮＡのカルボキシ基（−ＯＨ）がＨＢＡのアセチル基（ＣＨ３ＣＨＯ）と結合してアセト酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）を形成する。上記脱アセト酸反応は、ＨＮＡとＨＢＡの混合物を約２００℃位に加熱する反応でありうる。
【００２５】
液晶ポリマーは、ＪＩＳ Ｃ６４７１規格に従い剥離強度をテストする場合、１。１ｋＮ／ｍ値を表し、ポリイミドは０．３乃至０．９ｋＮ／ｍの剥離強度を有する。したがって、液晶ポリマーまたはポリイミドを含む高分子フィルムで絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂを形成し、表面１１５ａ、１１５ｂを改質処理した後、金属層１２０ａ、１２０ｂを形成することによって、より優れる剥離強度を有する軟性フィルム１００ａ、１００ｂが得られる。
【００２６】
金属層１２０ａ、１２０ｂは、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ上に形成される導電性金属薄膜層であって、本実施形態では１層構造の金属層が形成されることと仮定する。金属層１２０ａ、１２０ｂは、ラミネーティング方式、またはキャスティング方式により形成することができる。
【００２７】
キャスティング方式を利用する場合、所定の金属薄膜上に液状の絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂを塗布し、高温のオーブンで乾燥して硬化させることによって、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ上に金属層１２０ａ、１２０ｂを形成することができる。一方、ラミネーティング方式を利用して絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ上に接着剤を塗布し、オーブンに焼いて接着層を固定した後、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ上に金属層１２０ａ、１２０ｂを位置させ、プレス加工して軟性フィルム１００ａ、１００ｂを製造することができる。金属層１２０ａ、１２０ｂは、ニッケル、クロム、金、または銅を含むことができる。
【００２８】
金属層１２０ａ、１２０ｂの厚みは絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの厚みと関連して決定することが好ましく、次の表２は絶縁フィルムの厚みが３８μｍである場合を基準にして金属層の厚みに従う効果を実験した結果である。
【００２９】
【表２】
0005253912.tif 000006
【００３０】
表２を参照すると、金属層１２０ａ〜１３０ａ、１２０ｂ〜１３０ｂの厚みが絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの厚みの１／１０より薄く形成されると、金属層１２０ａ〜１３０ａ、１２０ｂ〜１３０ｂの剥離強度が低くなり、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂと容易に分離されるか、金属層１２０ａ〜１３０ａ、１２０ｂ〜１３０ｂに形成される回路パターンの寸法安定性が低下することがある。一方、金属層１２０ａ〜１３０ａ、１２０ｂ〜１３０ｂの厚みが絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの厚みの２／３より大きければ、軟性フィルム１００ａの軟性が低下したり、めっき時間が長くなることによって、めっき溶液の副成分により金属層１２０ａ〜１３０ａ、１２０ｂ〜１３０ｂが損傷されることができる。
【００３１】
一実施形態として、４乃至１３μｍの厚みを有するように金属層１２０ａ、１２０ｂを形成することができ、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂが１５乃至４０μｍの厚みを有することができるので、金属層１２０ａ、１２０ｂの厚みと絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂの厚みは１：１．５乃至１：１０の割合を有することができる。
【００３２】
図１ｃ及び図１ｄは、２層の金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄを含む軟性フィルム１００ｃ、１００ｄを図示する。図１ｃ及び図１ｄを参照すると、本実施形態に係る軟性フィルム１００ｃ、１００ｄは、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄ、絶縁フィルム１１０ａ、１１０ｂ上に配置される第１金属層１２０ｃ、１２０ｄ、及び第１金属層１２０ｃ、１２０ｄ上に配置される第２金属層１３０ｃ、１３０ｄを含む。
【００３３】
第１金属層１２０ｃ、１２０ｄは、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄ上にスパッタリングまたは無電解めっき方式により形成されることができ、ニッケル、クロム、金、または銅などを含むことができる。スパッタリング方式を利用する場合、ニッケルとクロムとの合金で第１金属層１２０ｃ、１２０ｄを形成することができ、第１金属層１２０ｃ、１２０ｄは９３乃至９７％の割合でニッケルを含むことができる。
【００３４】
無電解めっき方式を利用する場合、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄを所定の金属イオンを含む無電解めっき液に浸漬し、還元剤を添加して上記金属イオンを金属に析出することで、第１金属層１２０ｃ、１２０ｄを形成することができる。一実施形態として、硫酸銅水溶液に絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄを浸漬し、還元剤としてホルムアルデヒド（ＨＣＨＯ）を追加して銅イオンを銅に析出することで、銅を含む第１金属層１２０ｃ、１２０ｄを形成することができる。他の実施形態として、硫酸ニッケル水溶液に絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄを浸漬し、還元剤として次亜リン酸ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ２）を利用することで、ニッケルを含む第１金属層１２０ｃ、１２０ｄを形成することができる。
【００３５】
第２金属層１３０ｃ、１３０ｄは第１金属層１２０ｃ、１２０ｄ上に形成され、金または銅などを含むことができる。一実施形態として、第２金属層１３０ｃ、１３０ｄは、電流を印加して金属イオンを金属に析出する電解めっき方式を利用して形成することができる。電解めっき方式を利用する場合、印加する電流の量及び電流を印加する時間を調節して第２金属層１３０ｃ、１３０ｄの厚みを調節することができる。
【００３６】
金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄの厚みに特別な制限はないが、剥離強度及び軟性フィルム１００ｃ、１００ｄの特性を絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの厚みの２／３倍乃至１／１０倍のものが好ましい。絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの厚みが３５乃至３８μｍである場合、金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄを４乃至１３μｍの厚みで形成することができ、一実施形態として、第１金属層１２０ｃ、１２０ｄは１００ｎｍ内外、第２金属層１３０ｃ、１３０ｄは９μｍ内外の厚みで形成することができる。
【００３７】
金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄと絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの剥離強度を高めるために、金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄが配置される絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの表面１１５ｃ、１１５ｄを改質処理することができる。一実施形態として、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの濁度（Haze）が２乃至２５％になるように表面１１５ｃ、１１５ｄを改質処理することができ、前述したプラズマ、イオンビーム、またはアルカリエッチングなどの方法により改質処理することができる。
【００３８】
絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの濁度が２％より小さければ、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの光透過性（Luminous Transmittance）が増加するにつれて金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄに形成される回路パターンのテストが容易になる一方、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの表面１１５ｃ、１１５ｄの欠陥（defect）が減少して金属層１２０ｃ〜１３０ｃ、１２０ｄ〜１３０ｄとの剥離強度が減少することがある。反対に、絶縁フィルム１１０ｃ、１１０ｄの濁度が２５％より大きくなれば、剥離強度は増加する一方、光透過性が減少して回路パターンのテスト工程の効率性が低下することがある。
【００３９】
図１ｅ及び図１ｆは、３層の金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆを含む軟性フィルム１００ｅ、１００ｆを図示する。図１ｅ及び図１ｆを参照すると、本実施形態に係る軟性フィルム１００ｅ、１００ｆは、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆ、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆ上に配置される第１金属層１２０ｅ、１２０ｆ、第１金属層１２０ｅ、１２０ｆ上に配置される第２金属層１３０ｅ、１３０ｆ、及び第２金属層１３０ｅ、１３０ｆ上に配置される第３金属層１４０ｅ、１４０ｆを含む。
【００４０】
第１金属層１２０ｅ、１２０ｆは、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆ上にスパッタリングまたは無電解めっき方式により形成されることができ、ニッケル、クロム、金、または銅などを含むことができる。スパッタリング方式を利用する場合、ニッケルとクロムとの合金で第１金属層１２０ｅ、１２０ｆを形成することができ、第１金属層１２０ｅ、１２０ｆは９３乃至９７％の割合でニッケルを含むことができる。
【００４１】
無電解めっき方式を利用する場合、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆを所定の金属イオンを含む無電解めっき液に浸漬し、還元剤を添加して上記金属イオンを金属に析出することで、第１金属層１２０ｅ、１２０ｆを形成することができる。一実施形態として、硫酸銅水溶液に絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆを浸漬し、還元剤としてホルムアルデヒド（ＨＣＨＯ）を追加して銅イオンを銅に析出することで、銅を含む第１金属層１２０ｅ、１２０ｆを形成することができる。他の実施形態として、硫酸ニッケル水溶液に絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆを浸漬し、還元剤として次亜リン酸ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ２）を利用することで、ニッケルを含む第１金属層１２０ｅ、１２０ｆを形成することができる。
【００４２】
第２金属層１３０ｅ、１３０ｆは、第１金属層１２０ｅ、１２０ｆ上にスパッタリング方式により形成することができる。特に、第１金属層１２０ｅ、１２０ｆがニッケルとクロムとの合金で形成される場合、電気抵抗の低い銅で第２金属層１３０ｅ、１３０ｆを形成することによって、第３金属層１４０ｅ、１４０ｆを形成する電解めっき工程の効率を高めることができる。
【００４３】
第３金属層１４０ｅ、１４０ｆは、電解めっき工程を利用して形成することができ、電気導電性が優れる金または銅を含むことができる。金属イオンを含む電解めっき溶液に所定の電流を印加して上記金属イオンを金属に析出することで、第３金属層１４０ｅ、１４０ｆを形成することができる。
【００４４】
金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆの厚みは、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの厚みと１：３乃至１：１０の割合を有することが好ましい。上記の割合は、軟性フィルム１００ｅ、１００ｆの製品特性、剥離強度などを考慮して決定できる数値であり、第３金属層１４０ｅ、１４０ｆまで形成すると、金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆをエッチングして回路パターンを形成し、上記回路パターン上に所定の接合層を形成する。
【００４５】
一実施形態として、第１金属層１２０ｅ、１２０ｆは７乃至４０ｎｍ、第２金属層１３０ｅ、１３０ｆは８０乃至３００ｎｍの厚みで形成することができる。第３金属層１４０ｅ、１４０ｆは、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆとの剥離強度及び軟性フィルム１００ｅ、１００ｆの軟性を考慮して金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆの全体厚みが４乃至１３μｍになるように形成することが好ましい。
【００４６】
金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆと絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの剥離強度を高めるために、金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆが配置される絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの表面１１５ｅ、１１５ｆを改質処理することができる。一実施形態として、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの濁度（Haze）が２乃至２５％になるように表面１１５ｅ、１１５ｆを改質処理することができ、前述したプラズマ、イオンビーム、またはアルカリエッチングなどの方法により改質処理することができる。
【００４７】
絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの濁度が２％より小さければ、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの光透過性（Luminous Transmittance）が増加するにつれて、金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆに形成される回路パターンのテストが容易になる一方、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの表面１１５ｅ、１１５ｆの欠陥（defect）が減少して金属層１２０ｅ〜１４０ｅ、１２０ｆ〜１４０ｆとの剥離強度が減少することができる。反対に、絶縁フィルム１１０ｅ、１１０ｆの濁度が２５％より大きくなれば、剥離強度は増加する一方、光透過性が減少して回路パターンのテスト工程の効率性が低下することがある。
【００４８】
図２ａ及び図２ｂは、本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むＴＣＰ（Tape-Carrier-Package）を示す図である。図２ａを参照すると、本実施形態に係るＴＣＰ２００は、軟性フィルム２１０、軟性フィルム２１０に形成される回路パターン２２０、及び軟性フィルム２１０上に配置されて回路パターン２２０と連結される集積回路チップ２３０を含む。
【００４９】
軟性フィルム２１０は、絶縁フィルム及び絶縁フィルム上に形成される金属層を含む。絶縁フィルムは軟性フィルム２１０のベースフィルムであって、絶縁性を有するポリイミド、ポリエステル、または液晶ポリマーなどの高分子物質を含むことができる。絶縁フィルムは軟性フィルム２１０が表示装置の駆動部及びパネルと連結されて曲がる特性を考慮して金属層との剥離強度が優れなければならない。
【００５０】
絶縁フィルムと金属層の剥離強度を高めるために、金属層を形成する前に絶縁フィルムを改質処理して絶縁フィルムの表面に欠陥（defect）を形成することができる。絶縁フィルムの表面に欠陥が形成される程度は、ＡＳＴＭ Ｄ１００３規格に従い絶縁フィルムの濁度を測定することにより決定することができ、絶縁フィルムの濁度が２乃至２５％の値を有するように絶縁フィルムの表面に欠陥を形成することが好ましい。
【００５１】
絶縁フィルムの濁度が２％より小さければ、絶縁フィルムの表面に欠陥が十分に形成されなくて絶縁フィルムと金属層の剥離強度が低下することがある。一方、絶縁フィルムの濁度が２５％より大きければ、絶縁フィルムの光透過性が低下して金属層に形成される回路パターン２２０のテスト工程の効率性が低下するので、絶縁フィルムの濁度が２乃至２５％になるように絶縁フィルムの表面を改質処理することが好ましい。
【００５２】
特に、ＪＩＳ Ｃ６４７１規格に従い剥離強度を測定する場合、ポリイミドが金属層と０．３乃至０．９ｋＮ／ｍの剥離強度を有することに比べて、液晶ポリマーは１．１ｋＮ／ｍの剥離強度値を表す。したがって、より好ましくは、液晶ポリマーで絶縁フィルムを形成することができる。
【００５３】
金属層は、絶縁フィルム上に形成される第１金属層、及び第１金属層上に形成される第２金属層を含むことができる。第１金属層は無電解めっき方式またはスパッタリング方式により形成されることができ、第２金属層は電解めっき方式により形成されることができる。
【００５４】
第１金属層は、ニッケル、クロム、金、または銅などを含むことができ、第２金属層を形成する電解めっき工程の効率性を考慮して電気導電性が優れる金または銅などの金属で形成することが好ましい。スパッタリング方式により第１金属層を形成する場合は、ニッケルとクロムとの合金で形成することができ、この際、第２金属層を形成する電解めっき工程の効率性を高めるために、第１金属層上に電気抵抗の低い銅薄膜層を配置して３層構造で金属層を形成することもできる。
【００５５】
一方、無電解めっき方式により第１金属層を形成する場合、硫酸銅水溶液成分を含む無電解めっき溶液に絶縁フィルムを浸漬し、還元剤を利用して銅イオンを銅に析出することで、第１金属層を無電解めっきすることができる。上記還元剤としては、ホルムアルデヒド（Formaldehyde：ＨＣＨＯ）系列の物質が使われることができる。他の実施形態として、硫酸ニッケル水溶液成分を含む無電解めっき溶液に絶縁フィルムを浸漬し、次亜リン酸ナトリウムを還元剤として利用して第１金属層をニッケルで形成することができる。
【００５６】
第２金属層は、硫酸銅水溶液成分を含む電解めっき溶液に所定の電流を印加して銅イオンを銅に析出することにより形成することができる。印加される電流の量は形成しようとする第２金属層の厚みによって調節することができる。第２金属層が形成されると、第１金属層及び第２金属層をエッチングすることで、回路パターン２２０を形成する。
【００５７】
軟性フィルム２１０に形成される回路パターン２２０は、集積回路チップ２３０と連結されるインナーリード（Inner Lead）２２０ａ、及び表示装置の駆動部またはパネルと連結されるアウターリード（Outer Lead）２２０ｂを含むことができる。回路パターン２２０のピッチは、ＴＣＰ２００が適用される表示装置の解像度などによって変わることができるが、通常的にインナーリード（Inner Lead）２２０ａは４０μｍ内外、アウターリード（Outer Lead）２２０ｂは６０μｍ内外のピッチを有する。
【００５８】
図２ｂは、図２ａに示すＴＣＰの２−２’方向の断面を示す断面図である。図２ｂを参照すると、本実施形態に係るＴＣＰ２００は、軟性フィルム２１０、集積回路チップ２３０、及び軟性フィルム２１０と集積回路チップ２３０とを連結する金バンプ２４０を含むことができる。
【００５９】
軟性フィルム２１０は、絶縁フィルム２１２、及び絶縁フィルム２１２上に形成される金属層２１４を含む。絶縁フィルム２１２は軟性フィルム２１０を構成する基本フィルム（Base film）であって、絶縁性を有するポリイミド、ポリエステル、または液晶ポリマーなどの物質を含むことができる。絶縁フィルム２１２は、軟性フィルム２１０の金属層２１４との剥離強度及び回路パターン２２０のテスト工程の効率性を考慮して２乃至２５％の濁度を有するように改質処理されるポリイミドまたは液晶ポリマーで形成することが好ましい。
【００６０】
金属層２１４は電気導電性を有するニッケル、クロム、金、または銅などの金属を含む薄膜層であって、第１金属層及び第２金属層を含む２層構造で形成されることができる。第１金属層はニッケル、金、クロム、または銅などで無電解めっき方式により形成されることができ、第２金属層は金、または銅などで電解めっき方式により形成されることができる。この際、第２金属層を形成する電解めっき工程の効率性を考慮して第１金属層をニッケルまたは銅で形成することが好ましい。
【００６１】
集積回路チップ２３０は、金属層２１４をエッチングすることにより形成される回路パターン２２０と連結されるように軟性フィルム２１０上に配置される。本実施形態では、集積回路チップ２３０が配置される軟性フィルム２１０の領域にデバイスホール（Device Hole）２５０が形成される。集積回路チップ２３０が配置される領域にデバイスホール２５０を形成し、集積回路チップ２３０と連結される回路パターン２２０にフライングリード（Flying Lead）という電極を形成した後、集積回路チップ２３０の金バンプ２４０と上記フライングリードとを連結する。上記フライングリードにはスズがめっきされることができ、熱または超音波を利用してスズがめっきされたフライングリードと金バンプ２４０との間にＡｕ−Ｓｎ結合を形成することができる。
【００６２】
図３ａ及び図３ｂは、本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むＣＯＦ（Chip-On-Film）を示す図である。図３ａを参照すると、本実施形態に係るＣＯＦ３００は、軟性フィルム３１０、軟性フィルム３１０上に印刷される回路パターン３２０、及び回路パターン３２０と連結されるように軟性フィルム３１０上に付着される集積回路チップ３３０を含む。
【００６３】
軟性フィルム３１０は、絶縁フィルム、及び絶縁フィルム上に形成される金属層を含む。絶縁フィルムは軟性フィルム３１０のベースフィルムであって、絶縁性を有するポリイミド、ポリエステル、または液晶ポリマーなどを含むことができる。絶縁フィルムは軟性フィルム２１０が表示装置の駆動部及びパネルと連結されて曲がる特性を考慮して金属層との剥離強度が優れなければならない。
【００６４】
絶縁フィルムと金属層の剥離強度を高めるために、金属層を形成する前に絶縁フィルムを改質処理して絶縁フィルムの表面に欠陥（defect）を形成することができる。絶縁フィルムの表面に欠陥が形成される程度は、ＡＳＴＭ Ｄ１００３規格によって絶縁フィルムの濁度を測定することで決定することができ、絶縁フィルムの濁度が２乃至２５％の値を有するように欠陥を形成することが好ましい。
【００６５】
絶縁フィルムの濁度が２％より小さければ、絶縁フィルムの表面に欠陥が十分に形成されなくて絶縁フィルムと金属層の剥離強度が低下することがある。一方、絶縁フィルムの濁度が２５％より大きければ、絶縁フィルムの光透過性が低下して金属層に形成される回路パターン３２０テスト工程の効率性が低下するので、絶縁フィルムの濁度が２乃至２５％になるように絶縁フィルムの表面を改質処理することが好ましい。
【００６６】
特に、ＪＩＳ Ｃ６４７１規格に従い剥離強度を測定する場合、ポリイミドは金属層と０．３乃至０．９ｋＮ／ｍの剥離強度を有し、液晶ポリマーは１．１ｋＮ／ｍの剥離強度値を表す。したがって、絶縁フィルムが含む高分子物質の種類によって絶縁フィルムの表面に欠陥が形成される領域を異なるようにすることができる。
【００６７】
絶縁フィルム上に、スパッタリング方式、無電解めっき方式、または電解めっき方式などを利用して金属層を形成する。上記金属層をエッチングすることにより回路パターン３２０が形成され、回路パターン３２０は表示装置の駆動部またはパネルと連結されるアウターリード（Outer Lead）３２０ｂ及び集積回路チップ３３０と連結されるインナーリード（Inner Lead）３２０ａを含む。アウターリード（Outer Lead）３２０ｂは、上記駆動部またはパネルと異方性導電フィルム（Anisotropic Conductive Film：ＡＣＦ）を通じて連結されることができる。
【００６８】
アウターリード（Outer Lead）３２０ｂは、ＯＬＢ（Outer Lead Bonding）パッドを介して表示装置の駆動部またはパネルと連結され、インナーリード（Inner Lead）３２０ａは、ＩＬＢ（Inner Lead Bonding）パッドを介して集積回路チップ３３０と連結されることができる。特に、インナーリード（Inner Lead）３２０ａ上にスズ層をめっきし、集積回路チップ３３０の金バンプと上記スズ層に熱または超音波を加えてＡｕ−Ｓｎ結合を形成することによって、集積回路チップ３３０とインナーリード（Inner Lead）３２０ａとを連結することができる。
【００６９】
一方、金属層は第１金属層及び第２金属層を含む２層構造を有することができる。第１金属層はスパッタリング方式または無電解めっき方式により形成することができ、ニッケル、クロム、金、または銅などを含む。第２金属層は電解めっき方式により形成することができ、金、または銅などを含む。第２金属層を形成する電解めっき工程の効率性を高めるために、電気抵抗の低い銅またはニッケルなどで第１金属層を形成することができる。
【００７０】
図３ｂは、図３ａに示すＣＯＦの３−３’方向の断面を示す断面図である。図３ｂを参照すると、本実施形態に係るＣＯＦ３００は、絶縁フィルム３１２と絶縁フィルム３１２上に形成される金属層３１４とを含む軟性フィルム３１０、金属層３１４に形成される回路パターン３２０と連結される集積回路チップ３３０、及び集積回路チップ３３０と回路パターン３２０とを連結する金バンプ３４０を含む。
【００７１】
絶縁フィルム３１２は軟性フィルム３１０に含まれる基本フィルムであって、絶縁性を有するポリイミド、ポリエステル、または液晶ポリマーなどを含むことができる。絶縁フィルム３１２の表面は、金属層３１４との剥離強度を向上するために、イオンビーム、プラズマ、またはアルカリエッチングなどの方法を利用して改質処理される欠陥（defect）を含むことができ、特に絶縁フィルム３１２の濁度が２乃至２５％の範囲内で改質処理されることが好ましい。
【００７２】
金属層３１４は電気導電性を有する金属で形成される薄膜層であって、絶縁フィルム３１２上に形成される第１金属層、及び第１金属層上に形成される第２金属層を含むことができる。第１金属層は、スパッタリング方式または無電解めっき方式を利用して、ニッケル、クロム、金、または銅で形成することができ、第２金属層は電解めっき方式を利用して金または銅で形成することができる。
【００７３】
第１金属層をスパッタリング方式により形成する場合、ニッケルとクロムとの合金で形成することができ、無電解めっき方式を利用して第１金属層を形成する場合、銅で第１金属層を形成することができる。第１金属層の厚みに制限はないが、ニッケルとクロムとの合金で形成する場合は３０ｎｍ内外、銅で形成する場合は０．１μｍ内外の厚みで形成することが好ましい。
【００７４】
無電解めっき方式は、絶縁フィルム３１２を金属イオンを含む無電解めっき液に浸漬し、化学還元剤を追加して金属イオンを析出することにより金属層を形成する方式である。絶縁フィルム３１２を無電解めっき液に浸漬する時間を調節することによって、第１金属層の厚みを調節することができる。
【００７５】
第２金属層は、電解めっき液に所定の電流を印加して電解めっき液に含まれた金属イオンを析出する電解めっき方式により形成されることができる。電流の強さ及び電流を印加する時間を調節して第２金属層の厚みを調節することができ、第１金属層の厚みと合わせて４乃至１３μｍの厚みを有するように第２金属層を形成することができる。
【００７６】
集積回路チップ３３０は、回路パターン３２０のインナーリード（Inner Lead）３２０ａと連結されて表示装置の駆動部から伝達する画像信号をパネルに転送する。インナーリード（Inner Lead）３２０ａは、ＣＯＦ３００と連結される表示装置の解像度によって異なるピッチを有することができる。最近は、表示装置の解像度の増加によって３０μｍ内外のピッチでインナーリード（Inner Lead）３２０ａを形成する。集積回路チップ３３０は、金バンプ３４０を通じてインナーリード（Inner Lead）３２０ａと連結されることができる。
【００７７】
図３ｂを参照すると、ＣＯＦ３００にはＴＣＰ２００とは異なり、デバイスホール２５０が形成されない。デバイスホール２５０を形成しないことによって、ＣＯＦ３００はＴＣＰ２００のフライングリードの存在に従うファインピッチ（Fine Pitch）対応の問題点を克服することができ、軟性が優れてベンディング（Bending）のための別途のスリットを形成する必要がないので、製造工程の効率を高めることができる。一実施形態として、ＴＣＰ２００で４０μｍ内外のピッチを有するリード（Lead）を形成することに比べて、ＣＯＦ３００では３０μｍ内外のピッチを有するリード（Lead）を形成することができるので、解像度の高い表示装置に適用することに有利である。
【００７８】
図４は、本発明の一実施形態に係る表示装置を示す図である。図４を参照すると、本実施形態に係る表示装置４００は、画像を表示するパネル４１０、パネル４１０に画像信号を印加する駆動部４２０、４３０、パネル４１０と駆動部４２０、４３０とを連結する軟性フィルム４４０、及び軟性フィルム４４０をパネル４１０または駆動部４２０、４３０と付着する導電性フィルム４５０を含む。
【００７９】
本実施形態に係る表示装置４００は平面表示装置（Flat Panel Display：ＦＰＤ）であって、液晶表示装置（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、または有機電界発光表示装置（Organic Light Emitting Device）でありうる。
【００８０】
パネル４１０は画像を表示する多数の画素を含む。パネル４１０には駆動部４２０、４３０と連結される多数の電極が配置され、上記電極が交差する領域に画素が形成される。上記電極は、第１電極４１０ａ、及び第１電極４１０ａと交差する方向に形成される第２電極４１０ｂを含むことができ、一実施形態として、第１電極４１０ａは水平方向、第２電極４１０ｂは垂直方向に形成されることができる。
【００８１】
駆動部４２０、４３０は、スキャンドライバ４２０、及びデータドライバ４３０を含むことができ、パネル４１０に形成された第１電極４１０ａ及び第２電極４１０ｂと連結されることができる。
【００８２】
スキャンドライバ４２０は、第１電極４１０ａにスキャン信号を印加してデータドライバ４３０が垂直方向に配列された第２電極４１０ｂにデータ信号を転送できるようにする。スキャンドライバ４２０が第１電極４１０ａにスキャン信号を印加すると、スキャン信号が印加された第１電極４１０ａにデータ信号を印加できるようになり、データドライバ４３０から転送するデータ信号に従って画像がパネル４００に表示される。スキャンドライバ４２０及びデータドライバ４３０から転送する信号は軟性フィルム４４０を通じてパネル４００の電極に伝達される。
【００８３】
軟性フィルム４４０は所定の回路パターンが印刷された軟性を有するフィルムであって、絶縁性を有する絶縁フィルム、上記絶縁フィルム上に形成される金属層、及び上記金属層に形成される回路パターンと連結される集積回路チップなどを含むことができる。駆動部４２０、４３０から印加する画像信号は、軟性フィルム４４０の回路パターン及び集積回路チップを通じてパネル４１０の電極に伝達される。軟性フィルム４４０は、パネル４１０及び駆動部４２０、４３０と導電性フィルム４５０で連結することができる。
【００８４】
導電性フィルム４５０は接着性を有する薄膜形態のフィルムであって、軟性フィルム４４０とパネルとの間、及び駆動部４２０、４３０と軟性フィルム４４０との間に配置される。一実施形態として、導電性フィルム４５０は異方性導電フィルム（Anisotropic Conductive Film：ＡＣＦ）でありうる。
【００８５】
図５は、図４に示す表示装置のＡ−Ａ’の断面を示す断面図である。
【００８６】
図５を参照すると、本実施形態に係る表示装置５００は、画像を表示するパネル５１０、パネル５１０に画像信号を印加する駆動部５３０、駆動部５３０とパネル５１０とを連結する軟性フィルム５４０、及び軟性フィルム５４０を駆動部５４０及びパネル５１０と電気的に連結する導電性フィルム５５０を含む。
【００８７】
また、本実施形態に係る表示装置５００は、軟性フィルム５４０と導電性フィルム５５０とが連結される領域を封入する樹脂５６０をさらに含むことができる。樹脂５６０は絶縁物質で形成されることができ、軟性フィルム５４０と導電性フィルム５５０とが連結される領域に流入できる不純物を遮断することによって、パネル５１０と連結される軟性フィルム５４０の信号ラインの損傷を防止し、寿命を延長する。
【００８８】
本図面に図示してはいないが、パネル５１０は横方向に配置される多数のスキャン電極及び上記スキャン電極と交差するように配置される多数のデータ電極を含むことができる。Ａ−Ａ’方向に配置されるデータ電極は、図５に図示された導電性フィルム５５０を通じて軟性フィルム５４０と連結されて、データドライバ５３０から印加する画像信号を受信し、それによって画像を表示する。
【００８９】
データドライバ５３０は、基板５３０ａ上に形成される駆動ＩＣ５３０ｂ、及び駆動ＩＣ５３０ｂを保護する保護樹脂５３０ｃを含む。保護樹脂５３０ｃは絶縁性を有する物質で形成されることができ、基板５３０ａ上に形成される回路パターン（図示せず）及び駆動ＩＣ５３０ｂを外部から流入できる不純物から遮断する。駆動ＩＣ５３０ｂは、表示装置５００の制御部（図示せず）から転送する制御信号に従って画像信号を軟性フィルム５４０を通じてパネル５１０に印加する。
【００９０】
パネル５１０とデータドライバ５３０との間に配置される軟性フィルム５４０は、絶縁性を有するポリイミドなどで形成されるベースフィルム５４０ａ、ベースフィルム５４０ａ上に形成される金属薄膜５４０ｂ、金属薄膜に形成される所定の回路パターンと連結されるＩＣ５４０ｃ、及び上記回路パターンとＩＣ５４０ｃを封入して保護するレジン（Resin）保護膜５４０ｄを含む。
【００９１】
図６は、本発明の他の実施形態に係る表示装置を示す図である。
【００９２】
導電性フィルム６５０を通じて軟性フィルム６４０がパネル６１０及び駆動部６２０、６３０と付着されると、導電性フィルム６５０と付着された軟性フィルム６４０を樹脂６６０で封入することができる。図６を参照すると、導電性フィルム６５０に付着された軟性フィルム６４０の領域を樹脂６６０で封入して連結された領域の破損を防止し、外部から流入する不純物を遮断することができる。
【００９３】
以上、本発明の好ましい実施形態に対して図示及び説明したが、本発明は前述した特定の実施形態に限定されず、請求範囲で請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該発明が属する技術分野で通常の知識を有する者により多様な変形実施が可能であることは勿論であり、このような変形実施は本発明の技術的思想や展望から個別的に理解されてはならない。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１ａ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。
【図１ｂ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。
【図１ｃ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。
【図１ｄ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。
【図１ｅ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。
【図１ｆ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムの断面を示す図である。
【図２ａ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むＴＣＰを示す図である。
【図２ｂ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むＴＣＰを示す図である。
【図３ａ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むＣＯＦを示す図である。
【図３ｂ】本発明の一実施形態に係る軟性フィルムを含むＣＯＦを示す図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る表示装置を示す図である。
【図５】図４の表示装置のＡ−Ａ’断面を示す図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る表示装置を示す図である。
【符号の説明】
【００９５】
１００ａ〜１００ｆ    軟性フィルム
１１０ａ〜１１０ｆ    絶縁フィルム
１２０ａ〜１２０ｆ    第１金属層
１３０ｃ〜１３０ｆ    第２金属層
１４０ｅ〜１４０ｆ    第３金属層
２００    ＴＣＰ
３００    ＣＯＦ
４００    表示装置
【図１ａ】
0005253912.tif 000007
【図１ｂ】
0005253912.tif 000008
【図１ｃ】
0005253912.tif 000009
【図１ｄ】
0005253912.tif 000010
【図１ｅ】
0005253912.tif 000011
【図１ｆ】
0005253912.tif 000012
【図２ａ】
0005253912.tif 000013
【図２ｂ】
0005253912.tif 000014
【図３ａ】
0005253912.tif 000015
【図３ｂ】
0005253912.tif 000016
【図４】
0005253912.tif 000017
【図５】
0005253912.tif 000018
【図６】
0005253912.tif 000019