(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浮上させた状態で搬送しつつ基板表面に塗布液を供給する浮上搬送塗布装置において、前記塗布処理部の上流側には基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側には基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるためのエア噴出孔を上面に形成したテーブルが設けられ、また前記基板搬入部と基板搬出部の間に塗布液を供給する塗布処理部が設けられ、前記基板搬入部、塗布処理部及び基板搬出部の両側にレールが配置され、このレールに基板を移動させる搬送機構が設けられ、更に前記塗布処理部には基板の搬送方向と直交する方向に配置されたスリットノズルが昇降可能に設けられ、このスリットノズルの直下には塗布の際に基板の下面を支持する１本のサポートローラが前記スリットノズルと平行に配置されており、
前記サポートローラは、上端が前記テーブルの上面よりも高い位置に配置されるように上下方向に位置調整可能である
ことを特徴とする浮上搬送塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の浮上搬送塗布装置において、前記搬送機構はレールに対し非接触の状態で移動可能で吸着パッドを備え、この吸着パッドは高さ位置の調整が可能で且つ戻り行程での基板と干渉を避けるべく下がった状態となることが可能であることを特徴とする浮上搬送塗布装置。
【請求項３】
請求項１に記載の浮上搬送塗布装置において、前記基板搬入部及び基板搬出部に設けられたテーブルのうち前記塗布処理部寄りの部分にはエア噴出孔の他にエア吸引孔も形成されていることを特徴とする浮上搬送塗布装置。
【請求項４】
請求項１に記載の浮上搬送塗布装置において、前記基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるための静電力発生部材が備えられていることを特徴とする浮上搬送塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板などの基板をテーブルから浮上させた状態で搬送しつつ塗布を行う浮上搬送塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板の表面にレジスト液などの塗布液を塗布する装置として、テーブル上にガラス基板を吸着固定し、このガラス基板上をスリットノズルを移動させつつスリットノズルからガラス基板上面にカーテン状に塗布液を供給するタイプと、スリットノズルを固定し、その下をガラス基板が移動するようにしたタイプとがある。
【０００３】
特許文献１には、基板搬入部と塗布処理部と基板搬出部を基板を浮上させて搬送する搬送方向に沿って設けた搬送塗布装置が開示されている。この搬送塗布装置にあっては、エアを噴出して基板を浮上させるステージ（テーブル）の両側に吸着パッドなどからなる基板搬送機構を移動可能に配置し、基板の両側を吸着した状態で搬送するようにしている。
【０００４】
特許文献２には、基板を浮上させて搬送しつつ基板上面に塗布液を塗布する装置として、第１の基板搬送部と第２の基板搬送部を設け、第１の基板搬送部によって基板を基板搬入部から塗布処理部まで搬送し、塗布処理部では第１の基板搬送部と第２の基板搬送部とで基板の両側を保持した状態で塗布を行い、塗布終了後は第１の基板搬送部は元の位置に戻り、第２の基板搬送部で塗布後の基板を塗布処理部から基板搬出部まで搬送するようにした装置が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２４３６７０号公報
【特許文献２】特開２００６−２３７４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１および特許文献２のいずれも基板の側端は吸着パッドなどによって支えられているが、側端部を除いた部分は何も支持されていない。
このような状態で、図４に示すように、想像線の高さまで浮上して搬送されてきた基板の表面に、塗布処理部において上方のスリットノズルから塗布液が供給されると、塗布液が供給されたことによる衝撃や重量変化によって基板の高さが低くなったり、歪んだりし、塗膜の厚さが不均一になる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解消するため、本発明に係る浮上搬送塗布装置は、基板を浮上させた状態で搬送しつつ基板表面に塗布液を供給する浮上搬送塗布装置において、前記塗布処理部の上流側には基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側には基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるためのエア噴出孔を上面に形成したテーブルが設けられ、また前記基板搬入部と基板搬出部の間に塗布液を供給する塗布処理部が設けられ、前記基板搬入部、塗布処理部及び基板搬出部の両側にレールが配置され、このレールに基板を移動させる搬送機構が設けられ、更に前記塗布処理部には基板の搬送方向と直交する方向に配置されたスリットノズルが昇降可能に設けられ、このスリットノズルの直下には塗布の際に基板の下面を支持する１本のサポートローラが前記スリットノズルと平行に配置されており、前記サポートローラは、上端が前記テーブルの上面よりも高い位置に配置されるように上下方向に位置調整可能であることを特徴とする構成とした。
【０００８】
具体的な構成としては、塗布処理部の上流側に基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側に基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるためのエア噴出孔を上面に形成したテーブルが設けられる。また、別の構成では、これら基板搬入部及び基板搬出部に設けられたテーブルのうち前記塗布処理部寄りの部分にはエア噴出孔の他にエア吸引孔も形成された構成が考えられる。
【０００９】
基板を不定させる手段としては、エアに限らず、例えば静電気を利用して、電気的に基板を浮上させるようにしてもよい。
【００１０】
また、前記サポートローラはその上端が前記テーブルの上面と同一高さになるか、テーブルの上面よりも若干高い位置にすることが好ましい。そのために、サポートローラについては高さ調整可能とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る浮上搬送塗布装置によれば、浮上搬送中に塗布を行っても基板が沈み込んだり撓んだりすることがなく、安定した状態で塗布を行うことができるので、均一な厚さの塗膜を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る浮上搬送塗布装置の全体斜視図、図２は同浮上搬送塗布装置の平面図、図３は同浮上搬送塗布装置の要部の正面図である。
【００１３】
浮上搬送塗布装置は、基板の搬送方向に沿って、基板搬入部Ｓ１、塗布処理部Ｓ２及び基板搬出部Ｓ３が連続して配置されている。基板搬入部Ｓ１には基板を浮上搬送するテーブル１，２が連続して設けられ、基板搬出部Ｓ３には浮上搬送するテーブル３，４が連続して設けられている。
【００１４】
前記テーブル１，２の上面には基板Ｗを浮上させるためのエア噴出孔５が形成され、特に塗布処理部Ｓ２寄りのテーブル２上面には基板Ｗの浮上量をコントロールするためのエア吸引孔６が形成されている。これらエア噴出孔３とエア吸引孔４は交互に配置されている。
【００１５】
また、前記テーブル３，４の上面には基板Ｗを浮上させるためのエア噴出孔５が形成され、特に塗布処理部Ｓ２寄りのテーブル３上面にもテーブル２と同様に前記基板Ｗの浮上量をコントロールするためのエア吸引孔６が形成されている。
【００１６】
前記テーブル２，３の間にはスペースが設けられ、このスペースの外側に門型フレーム７が固定されている。この門型フレーム７の内側面にはレール８が設けられ、このレール８に基板Ｗの搬送方向と直交する方向に配置されたスリットノズル９が係合し、モータの駆動などによって昇降可能とされている。
【００１７】
前記スリットノズル９の直下には、サポートローラ１０がスリットノズル９と平行に配置されている。このサポートローラ１０は好ましくは上下方向に位置調整可能とされ、その上端は前記テーブル１〜４の上面と同一高さになるか、テーブルの上面よりも若干高い位置にする。このような構成とすることで塗布の際に基板Ｗの下面をサポートローラ１０で支持するため、基板Ｗが沈み込んだり撓んだりしない。
【００１８】
また前記基板搬入部Ｓ１、塗布処理部Ｓ２及び基板搬出部Ｓ３の両側にレール１１，１２を設け、レール１１には搬送機構１３を移動可能に係合し、レール１２には搬送機構１４を移動可能に係合している。
【００１９】
前記搬送機構１３，１４はリニアモータによってレールに非接触状態で移動するとともに、基板の側縁下面を保持する吸着パッド１３ａ，１４ａを備えている。これら吸着パッド１３ａ，１４ａは高さ位置を調整可能とされ、空の状態で戻るときには，処理中の基板Ｗとの干渉を避けるため、吸着パッドを下げた状態で戻るようにしている。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る浮上搬送塗布装置の全体斜視図
【図２】同浮上搬送塗布装置の平面図
【図３】同浮上搬送塗布装置の要部の正面図
【図４】従来の装置の問題点を説明した図
【符号の説明】
【００２１】
１，２，３，４…テーブル、５…エア噴出孔、６…エア吸引孔、７…門型フレーム、８…レール、９…スリットノズル、１０…サポートローラ、１１，１２…レール、１３，１４…搬送機構、１３ａ，１４ａ…吸着パッド、Ｓ１…基板搬入部、Ｓ２…塗布処理部、Ｓ３…基板搬出部、Ｗ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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