(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース系ナノファイバーからなる基板と、
該基板内に含浸して配置された低融点ガラスとを備え、
前記低融点ガラスは、前記セルロース系ナノファイバーのガラス転移温度より低いガラス転移温度を有することを特徴とするフレキシブル基板。
【請求項２】
セルロース系ナノファイバーからなる基板と、
該基板の一方の主面に接合された低融点ガラスとを備え、
前記低融点ガラスは、前記セルロース系ナノファイバーのガラス転移温度より低いガラス転移温度を有することを特徴とするフレキシブル基板。
【請求項３】
前記基板の他方の主面に接合された低融点ガラスを更に備えたことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル基板。
【請求項４】
前記基板の両端面に接合された低融点ガラスを更に備えたことを特徴とする請求項３に記載のフレキシブル基板。
【請求項５】
前記基板と前記低融点ガラスは、水素結合乃至ファンデルワールス結合で接合されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
【請求項６】
前記低融点ガラスの表面に接合され、前記低融点ガラスのガラス転移温度より高いガラス転移温度を有する高融点ガラスを更に備えたことを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
【請求項７】
前記低融点ガラスのガラス転移温度は、３００℃以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
【請求項８】
前記基板と前記低融点ガラスは、前記基板のセルロース系ナノファイバーの有するＣＨ２ＯＨ基と前記低融点ガラスの有するＳｉＯＨ基とから形成されるＣＨ２Ｏ−Ｓｉの結合で接合されていることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル基板。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のフレキシブル基板は、光を透過可能であることを特徴とするフレキシブル基板。
【請求項１０】
植物繊維を高圧ホモジナイザー処理及び磨砕処理をすることにより、セルロース系ナノファイバーからなる基板を形成する工程と、
前記基板を液状若しくはゲル状であって前記セルロース系ナノファイバーのガラス転移温度より低いガラス転移温度を有する低融点ガラスの中に浸漬して、前記基板内に前記低融点ガラスを含浸させる工程と
を有するフレキシブル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブル基板及びその製造方法に関し、特に、セルロース系ナノファイバーを用いたフレキシブル基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブル基板は、ＦＰＤ（Flat Panel Display）等のデバイスに用いられる基板や柔軟性を持ったＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）とも称されるプリント基板等に用いられ、特に、基板の折り曲げが可能なことから、携帯電話やデジタルカメラ、有機ＥＬ（Electroluminescence）ディスプレイ等に多用されている。
【０００３】
従来、フレキシブル基板としては、プラスチックを基材としたものが知られている。
【０００４】
プラスチックからなるフレキシブル基板は、軽量で、頑丈で、かつフレキシブル性に優れている。しかし、ガスバリア性に乏しく、また耐熱温度が低いため寸法安定性が低く、信頼性が低い。このため、プラスチック基板に有機ＥＬを形成して有機ＥＬディスプレイとして利用した場合、水や酸素に対する耐性が低いため、デバイスの寿命が非常に短くなるといった問題があった。
【０００５】
プラスチックからなるフレキシブル基板に極薄のガラス基板や金属基板を片側若しくは両面に接着剤等で貼り合わせたフレキシブル基板が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。これは、貼り合わせる基板によりガスバリア性が決まり、高いガスバリア性を確保することが可能である。しかし、接着剤を含めた各基材の熱膨張係数が大きく異なるため、寸法安定性に乏しいといった問題があった。
【０００６】
セルロース系ナノファイバーの基板に母材としてポリマーを含浸させたフレキシブル基板が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。これは、セルロース系ナノファイバーの基板が、ポリマーで含浸されるので、熱膨張係数は単一で定義でき、低熱膨張係数を示すセルロース系ナノファイバーの比率で制御することが可能である。これによりガラス並みの低熱膨張係数を得ることができる。しかしながら、ポリマーはガスバリア性に乏しく、信頼性の低下をもたらすおそれがある。なお、セルロース系ナノファイバーは、植物繊維を用いた高圧ホモジナイザー処理及び磨砕処理等による方法、あるいはバクテリアセルロースを用いた方法等により得られることが記載されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００７】
一方、低温で軟化する低融点ガラスの開発が進められている。例えば、常温〜約２００℃以下のガラス転移温度をもった（ＣＨ３）２ＳｉＯ２−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスは、窒素雰囲気下においてリン酸とクロロシランを直接反応させ、そこに塩化スズを加えて加熱することにより得られることが開示されている（例えば、特許文献３参照。）。
【特許文献１】特開平５−２５９５９１号公報
【特許文献２】特開２００５−６０６８０号公報
【特許文献３】特開２００４−４３２４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述した低融点ガラスは、ガラス転移温度を塩化スズの添加量によって変えることができるので、所望のガラス転移温度を有する低融点ガラスの調製が可能となる。したがって、透明で、ガスバリア性に優れた、セルロース系ナノファイバーの基板の母材として適用できることが期待される。
【０００９】
本発明の目的は、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性の向上した、光透過が可能なフレキシブル基板及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するための本発明の一態様によれば、セルロース系ナノファイバーからなる基板と、該基板内に含浸して配置された低融点ガラスとを備え、前記低融点ガラスは、前記セルロース系ナノファイバーのガラス転移温度より低いガラス転移温度を有することを特徴とするフレキシブル基板が提供される。
【００１１】
上記目的を達成するための本発明の他の態様によれば、セルロース系ナノファイバーからなる基板と、該基板の一方の主面に接合された低融点ガラスとを備え、前記低融点ガラスは、前記セルロース系ナノファイバーのガラス転移温度より低いガラス転移温度を有することを特徴とするフレキシブル基板が提供される。
【００１２】
上記目的を達成するための本発明の他の態様によれば、植物繊維を高圧ホモジナイザー処理及び磨砕処理をすることにより、セルロース系ナノファイバーからなる基板を形成する工程と、前記基板を液状若しくはゲル状であって前記セルロース系ナノファイバーのガラス転移温度より低いガラス転移温度を有する低融点ガラスの中に浸漬して、前記基板内に前記低融点ガラスを含浸させる工程とを有するフレキシブル基板の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性の向上した、光を透過可能なフレキシブル基板及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態によるフレキシブル基板を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、現実のものとは異なり、また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることに留意すべきである。
【００１５】
[第１の実施の形態]
（フレキシブル基板の構造）
本発明の第１の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図１を参照して説明する。
【００１６】
図１に示すように、フレキシブル基板１０は、セルロース系ナノファイバーからなる基板１と、基板１内に含浸して配置された低融点ガラス２とを備える。
【００１７】
基板１は、セルロース系ナノファイバーからなり、三次元網目状構造を有する。線熱膨張係数は、例えば、約０．１〜１０×１０−６Ｋ−１程度、好ましくは、例えば、約１〜５×１０−６Ｋ−１程度である。厚さは、例えば、約２０〜７００μｍ程度、好ましくは、例えば、約３０〜３００μｍ程度、より好ましくは、例えば、約３０〜１００μｍ程度であるのがよい。
【００１８】
セルロース系ナノファイバーとしては、例えば、植物繊維をセルロースミクロフィブリルまで解繊して得られるミクロフィブリルセルロース（ＭＦＣ：Microfibrillated Cellulose）やある種の酢酸菌が産出するセルロースミクロフィブリルから得られるバクテリアセルロース等が挙げられる。
【００１９】
ここに、セルロースミクロフィブリルは、繊維分子（セルロースなどの高分子）が束になったナノファイバーを基本単位とするものであり、束の平均径が、例えば、約５〜１００ｎｍ程度であり、三次元網目状構造を有する。
【００２０】
セルロース系ナノファイバーの大きさが、可視光波長に対して十分小さいので、セルロース系ナノファイバーからなる基板１は、後述する低融点ガラス２との複合基板とした場合においても、光の散乱が低減され、ガラスの透明性を保持することができる。
【００２１】
低融点ガラス２は、基板１の３次元網目状構造の間隙に含浸され、基板１と接合して配置されている。
【００２２】
「低融点ガラス」とは、約７００℃程度以下で軟化するガラス材料の総称をいう。
【００２３】
本発明に係る低融点ガラス２は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、例えば、約２０〜３００℃程度以下、好ましくは、例えば、約５０〜２６０℃程度、さらに好ましくは、例えば、約１００〜２３０℃程度であるのがよい。更に、セルロース系ナノファイバーのＴｇより低いことが好ましい。Ｔｇが約２０℃未満では室温において変形するするおそれがあり、また約３００℃を超えると、後述する製造工程において低融点ガラス２を含浸する際、セルロース系ナノファイバーが変性するおそれがあるので、好ましくない。
【００２４】
低融点ガラス２としては、Ｔｇが、例えば、約３００℃程度以下のものであれば、特に限定されない。例えば、ＰｂＦ２−ＳｎＦ２−Ｐ２Ｏ５系のフツリン酸塩ガラス、リン酸等の酸と金属及び有機ケイ素の塩化物等の塩基との酸塩基反応を利用して得られるＭｅ２ＳｉＯ２−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラス、ゾル−ゲル法を利用して得られるＰｈＳｉＯ３/２系ガラス等が挙げられる。なお、上記で、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基等、を表す。
【００２５】
なお、Ｔｇは、ＤＳＣ（Differential Scanning Calorimetry：示差走査型熱量計）を用いて測定することができる。
【００２６】
（製造方法）
本発明の第１の実施の形態に係るフレキシブル基板の製造方法は、植物繊維を高圧ホモジナイザー処理及び磨砕処理をすることにより、セルロース系ナノファイバーからなる基板１を形成する工程と、基板１を液状若しくはゲル状の低融点ガラス２の中に浸漬して、基板１内に低融点ガラス２を含浸させる工程とを有する。
【００２７】
以下に、製造工程を詳述する。
【００２８】
（ａ）まず、パルプ等の植物繊維を原料として、これを超高圧ホモジナイザーにより処理を行い、強力な機械的剪断力を加えてミクロフィブリル化する。この処理により、原料の繊維は引き裂かれて、繊維の太さは、例えば、約０．１〜１０μm程度まで微細化される。次いで、ミクロフィブリル化した微小繊維をスラリーとし、高速グラインダー等の磨砕機によりさらに磨砕処理をして、平均径が、例えば、約５〜１００ｎｍ程度のＭＦＣを得る。このＭＦＣをガラスフィルター等でろ過してシート状の基板１を得ることができる。
【００２９】
微細化により表面積が飛躍的に増大し、微小繊維の絡み合いによる三次元網目構造が形成される。
【００３０】
（ｂ）次に、大気圧以下、好ましくは、例えば、約０．１〜１００ｋＰａ程度の減圧条件下で、例えば、Ｔｇが、例えば、約１００℃程度であるＭｅ２ＳｉＯ２−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系ガラスからなる低融点ガラス２を用いて、液状にした低融点ガラス２中に基板１を、例えば、約８〜１５時間程度浸漬させる。これにより、セルロース系ナノファイバーの有するＯＨ基やＣＨ２ＯＨ基と低融点ガラス３の有するＳｉＯＨ基との間における水素結合やセルロース系ナノファイバーと低融点ガラス３間のファンデルワールス結合等により、セルロース系ナノファイバーと低融点ガラス３とが強く接合される。浸漬の際、酸、例えば、塩酸（ＨＣｌ）等を加えることが好ましい。これにより、ＨＣｌ等が触媒となって、セルロース系ナノファイバーの有するＣＨ２ＯＨ基と低融点ガラス２の有するＳｉＯＨ基とから水（Ｈ２Ｏ）がとれ、ＣＨ２Ｏ−Ｓｉの結合が形成されるので、セルロース系ナノファイバーと低融点ガラス３とが一層強く接合される。
【００３１】
液状の低融点ガラス２の温度（例えば、約２００℃程度）がセルロース系ナノファイバーのＴｇ（例えば、約２３０℃程度）以下であるので、セルロース系ナノファイバーからなる基板１を変性させることなく、低融点ガラス２を含浸させることができる。また、低融点ガラス２の含浸を上述の減圧条件下で行うことにより、基板１内の間隙に空気が残存しないよう低融点ガラス２を効率よく含浸させることができる。
【００３２】
（ｃ）次に、浸漬させた基板１を取り出し、例えば、数時間程度乾燥する。次いで、乾燥した基板１を加熱プレスして、厚さが、例えば、約３０〜６０μｍ程度、低融点ガラス２の含有率が、例えば、約３０〜４０％程度である、図１に示すフレキシブル基板１０が得られる。
【００３３】
このようなフレキシブル基板１０は、熱膨張係数がセルロース系ナノファイバーからなる基板１で決まるので、低熱膨張係数を有することができる。これにより、製造プロセス耐性に優れ、寸法安定性の高いデバイスを製造することが可能となり、歩留まりが向上する。
【００３４】
また、基板１内の間隙に低融点ガラス２が含浸して配置されているので、ガスバリア性に優れる。これにより、有機発光素子等の有機ＥＬデバイスの寿命の向上が可能となり、信頼性を高めることが可能となる。
【００３５】
また、ＭＦＣの大きさが可視光波長に対して十分小さいので、低融点ガラス２の透明性を保持することが可能となる。
【００３６】
本発明の第１の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００３７】
[第２の実施の形態]
本発明の第２の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図２を参照して説明する。なお、第２の実施の形態において、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の参照符号を付して、重複した説明は省略する。
【００３８】
フレキシブル基板１０Ａは、図２に示すように、セルロース系ナノファイバーからなる基板１と、基板１の一方の主面に接合された低融点ガラス３とを備える。その他の構成は、第１の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
【００３９】
低融点ガラス３は、基板１の一方の主面に接合して配置されている。
【００４０】
フレキシブル基板１０Ａの製造方法は、低融点ガラス３を基板１の一方の主面に接合して形成する方法が第１の実施の形態における製造方法と異なる点であり、他は第１の実施の形態と同様であるので、重複した説明は省略する。
【００４１】
フレキシブル基板１０Ａの製造方法において、液状若しくはゲル状の低融点ガラス３を、基板１の一方の主面に塗布する。これにより、基板１と低融点ガラス３との界面において、毛細管現象により低融点ガラス３が基板１内の間隙の表層近傍に浸透し、セルロース系ナノファイバーの有するＯＨ基やＣＨ２ＯＨ基と低融点ガラス３の有するＳｉＯＨ基との間における水素結合や、セルロース系ナノファイバーと低融点ガラス３間のファンデルワールス結合等により、低融点ガラス３と基板１とが接合され、図２に示すフレキシブル基板１０Ａを製造することができる。
【００４２】
なお、セルロース系ナノファイバーのＯＨ基やＣＨ２ＯＨ基、若しくは低融点ガラス３のＳｉＯＨ基を予めフッ素基等で置換処理をした上で、低融点ガラス３と基板１とを接合してもよい。これにより、一層強い水素結合が生じるので、低融点ガラス３と基板１間に親和性及び密着性に優れた界面を形成することができる。
【００４３】
本発明の第２の実施の形態によれば、低融点ガラス３が、基板１の一方の主面に接合して配置されているので、ガスバリア性を高めると共に、基板１の強度を高めることができる。
【００４４】
本発明の第２の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００４５】
[第３の実施の形態]
本発明の第３の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図３を参照して説明する。なお、第３の実施の形態において、第１及び第２の実施の形態と同一の部分については、同一の参照符号を付して、重複した説明は省略する。
【００４６】
フレキシブル基板１０Ｂは、図３に示すように、基板１の他方の主面に接合された低融点ガラス４を更に備える。その他の構成は、第２の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
【００４７】
低融点ガラス４は、基板１の他方の主面に接合して更に配置されている。
【００４８】
フレキシブル基板１０Ｂの製造方法は、低融点ガラス４を基板１の他方の主面に接合して形成する方法が第２の実施の形態における製造方法と異なる点であり、他は第２の実施の形態と同様であるので、重複した説明は省略する。
【００４９】
フレキシブル基板１０Ｂの製造方法において、液状若しくはゲル状の低融点ガラス３を、基板１の一方の主面に塗布した後、液状若しくはゲル状の低融点ガラス４を基板１の他方の主面に塗布する。これにより、基板１と低融点ガラス４との界面において、毛細管現象により低融点ガラス４が基板１内の間隙の表層近傍に浸透し、セルロース系ナノファイバーと低融点ガラス４間における水素結合乃至ファンデルワールス結合等により、低融点ガラス４と基板１とが接合され、図３に示すフレキシブル基板１０Ｂを製造することができる。
【００５０】
本発明の第３の実施の形態によれば、低融点ガラス４が、基板１の他方の主面に接合して更に配置されているので、ガスバリア性及び基板１の強度を一層高めることができる。
【００５１】
本発明の第３の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００５２】
[第４の実施の形態]
本発明の第４の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図４を参照して説明する。なお、第４の実施の形態において、第１及び第３の実施の形態と同一の部分については、同一の参照符号を付して、重複した説明は省略する。
【００５３】
フレキシブル基板１０Ｃは、図４に示すように、基板１の両端面に接合された低融点ガラス５，６を更に備える。その他の構成は、第３の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
【００５４】
低融点ガラス５，６は、基板１の両端面に接合して更に配置されている。
【００５５】
フレキシブル基板１０Ｃの製造方法は、低融点ガラス５，６を基板１の両端面に接合して形成する方法が第３の実施の形態における製造方法と異なる点であり、他は第３の実施の形態と同様であるので、重複した説明は省略する。
【００５６】
フレキシブル基板１０Ｃの製造方法において、液状若しくはゲル状の低融点ガラス５，６を、フレキシブル基板１０Ｂの両端面に塗布若しくはディップにより形成する。これにより、低融点ガラス５，６がフレキシブル基板１０Ｂの両端面に被覆され、図４に示すフレキシブル基板１０Ｃを製造することができる。
【００５７】
本発明の第４の実施の形態によれば、低融点ガラス５，６が、フレキシブル基板１０Ｂの両端面に接合して更に配置されているので、ガスバリア性を一層高めることができる。
【００５８】
本発明の第４の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００５９】
[第５の実施の形態]
本発明の第５の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図５を参照して説明する。なお、第５の実施の形態において、第１及び第２の実施の形態と同一の部分については、同一の参照符号を付して、重複した説明は省略する。
【００６０】
フレキシブル基板１０Ｄは、図５に示すように、低融点ガラス３の表面に接合され、低融点ガラス３のガラス転移温度より高いガラス転移温度を有する高融点ガラス７を更に備える。その他の構成は、第２の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
【００６１】
高融点ガラス７は、低融点ガラス３の表面に接合して更に配置されている。
【００６２】
高融点ガラス７としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。
【００６３】
フレキシブル基板１０Ｄの製造方法は、高融点ガラス７を低融点ガラス３の表面に接合して形成する方法が第２の実施の形態における製造方法と異なる点であり、他は第２の実施の形態と同様であるので、重複した説明は省略する。
【００６４】
フレキシブル基板１０Ｄの製造方法において、液状若しくはゲル状の低融点ガラス３を、基板１の一方の主面に塗布した後、低融点ガラス３の表面に高融点ガラス７を貼り合わせることにより、図５に示すフレキシブル基板１０Ｄを製造することができる。
【００６５】
本発明の第５の実施の形態によれば、高融点ガラス７が低融点ガラス３の表面に接合して更に配置されているので、耐熱性を向上させることができる。
【００６６】
本発明の第５の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００６７】
[第６の実施の形態]
本発明の第６の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図６を参照して説明する。なお、第６の実施の形態において、第１及び第５の実施の形態と同一の部分については、同一の参照符号を付して、重複した説明は省略する。
【００６８】
フレキシブル基板１０Ｅは、図６に示すように、低融点ガラス４の表面に接合され、低融点ガラス４のガラス転移温度より高いガラス転移温度を有する高融点ガラス８を更に備える。その他の構成は、第５の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
【００６９】
高融点ガラス８は、低融点ガラス４の表面に接合して更に配置されている。
【００７０】
フレキシブル基板１０Ｅの製造方法は、高融点ガラス８を低融点ガラス４の表面に接合して形成する方法が第５の実施の形態における製造方法と異なる点であり、他は第５の実施の形態と同様であるので、重複した説明は省略する。
【００７１】
フレキシブル基板１０Ｅの製造方法において、液状若しくはゲル状の低融点ガラス４を、基板１の他方の主面にそれぞれ塗布した後、低融点ガラス４の表面に高融点ガラス８を貼り合わせることにより、図６に示すフレキシブル基板１０Ｅを製造することができる。
【００７２】
本発明の第６の実施の形態によれば、高融点ガラス８が低融点ガラス４の表面に接合して更に配置されているので、耐熱性を一層向上させることができる。
【００７３】
本発明の第６の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００７４】
[第７の実施の形態]
本発明の第７の実施の形態に係るフレキシブル基板について、図７を参照して説明する。なお、第７の実施の形態において、第１及び第４の実施の形態と同一の部分については、同一の参照符号を付して、重複した説明は省略する。
【００７５】
フレキシブル基板１０Ｆは、図７に示すように、低融点ガラス３，４の表面に接合され、低融点ガラス３，４のガラス転移温度より高いガラス転移温度を有する高融点ガラス７，８を更に備える。その他の構成は、第４の実施の形態と同様であるので説明は省略する。
【００７６】
高融点ガラス７，８は、低融点ガラス３，４の表面に接合して更に配置されている。
【００７７】
フレキシブル基板１０Ｆの製造方法は、高融点ガラス７，８を低融点ガラス３，４の表面に接合して形成する方法が第４の実施の形態における製造方法と異なる点であり、他は第４の実施の形態と同様であるので、重複した説明は省略する。
【００７８】
フレキシブル基板１０Ｆの製造方法において、液状若しくはゲル状の低融点ガラス３を、基板１の一方の主面に塗布した後、低融点ガラス３の表面に高融点ガラス７を貼り合わせ、次いで、液状若しくはゲル状の低融点ガラス４を、基板１の他方の主面に塗布した後、低融点ガラス４の表面に高融点ガラス８を貼り合わせ、次いで、低融点ガラス５，６を基板１の両端面に塗布若しくはディップにより形成することにより、図７に示すフレキシブル基板１０Ｆを製造することができる。
【００７９】
本発明の第７の実施の形態によれば、高融点ガラス７，８が低融点ガラス３，４の表面に接合して更に配置されているので、耐熱性を一層向上させることができる。
【００８０】
本発明の第７の実施の形態に係るフレキシブル基板及びその製造方法によれば、熱膨張係数が低く、かつガスバリア性が向上し、光透過が可能となる。
【００８１】
[その他の実施の形態]
以上、上述した第１乃至第７の実施の形態によって本発明を詳細に説明したが、当業者にとっては、本発明が本明細書中に説明した第１乃至第７の実施の形態に限定されるものではないということは明らかである。本発明は、特許請求の範囲の記載により定まる本発明の趣旨及び範囲を逸脱することなく修正及び変更形態として実施することができる。従って、本明細書の記載は、例示説明を目的とするものであり、本発明に対して何ら制限的な意味を有するものではない。以下、上述した第１乃至第７の実施の形態を一部変更した変更形態について説明する。
【００８２】
例えば、上述した第１の実施の形態に係るフレキシブル基板の製造方法において、セルロース系ナノファイバーは植物繊維を原料として作製する説明を行ったが、バクテリアセルロースを用いて作製してもよい。この方法においても、第１乃至第７の実施の形態と同様の効果が得られる。
【００８３】
また、上述した第１乃至第７の実施の形態に係るフレキシブル基板は、有機ＥＬ等のディスプレイ、集積回路、微小電気機械素子を搭載したＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）、各種センサー等の基板として適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【図２】本発明の第２の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【図３】本発明の第３の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【図４】本発明の第４の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【図５】本発明の第５の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【図６】本発明の第６の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【図７】本発明の第７の実施の形態に係るフレキシブル基板の模式的断面構造図。
【符号の説明】
【００８５】
１・・・・基板
２〜６・・低融点ガラス
７，８・・高融点ガラス
１０・・・フレキシブル基板
１０Ａ〜１０Ｆ・・・フレキシブル基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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